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JP7523372B2 - Conductive polymer dispersion, conductive laminate and method for producing same - Google Patents
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JP7523372B2 - Conductive polymer dispersion, conductive laminate and method for producing same - Google Patents

Conductive polymer dispersion, conductive laminate and method for producing same Download PDF

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Description

本発明は、導電性高分子分散液、導電性積層体及びその製造方法に関する。 The present invention relates to a conductive polymer dispersion, a conductive laminate, and a method for producing the same.

電子デバイスの製造に関する技術として、樹脂基材の表面に導電層を形成することがある。π共役系導電性高分子は、導電性及び透明性に優れるので、導電層を形成する材料として注目されている。また、導電層の表面にシリコーンを含む離型層がさらに積層されて使用されることがある。このような導電性離型フィルムが特許文献1に開示されている。 One technique for manufacturing electronic devices is to form a conductive layer on the surface of a resin substrate. π-conjugated conductive polymers have been attracting attention as materials for forming conductive layers because of their excellent conductivity and transparency. In addition, a release layer containing silicone may be further laminated on the surface of the conductive layer. Such a conductive release film is disclosed in Patent Document 1.

特開2020-204009号公報JP 2020-204009 A

特許文献1の導電性高分子分散液はポリオレフィン系樹脂を含むので、ポリオレフィン系基材に対する密着性が特に優れている。ポリオレフィンは加工性に優れるので多様な用途に展開できる利点がある。一方、ポリエステルはPETに代表されるように結晶性のものが多く、熱膨張収縮特性や機械特性に優れる。このため、ポリエステル系基材に対する密着性がより向上した導電層が求められている。また、その導電層の表面にシリコーンを含む離型層がさらに積層された場合、その導電層には、ポリエステル系基材に対する密着性が高いことと、積層した離型層に対する密着性が高いことの両方が求められる。 The conductive polymer dispersion of Patent Document 1 contains a polyolefin resin, and therefore has particularly excellent adhesion to polyolefin substrates. Polyolefins have excellent processability, which has the advantage of allowing them to be used in a variety of applications. On the other hand, polyesters, such as PET, are often crystalline and have excellent thermal expansion and contraction properties and mechanical properties. For this reason, a conductive layer with improved adhesion to polyester substrates is required. In addition, when a release layer containing silicone is further laminated on the surface of the conductive layer, the conductive layer is required to have both high adhesion to polyester substrates and high adhesion to the laminated release layer.

本発明は、基材/導電層/離型層の順で積層された導電性積層体において、基材に対する密着性と、離型層に対する密着性の両方が優れた導電層を形成可能な導電性高分子分散液、及び導電性積層体及びその製造方法を提供する。 The present invention provides a conductive polymer dispersion capable of forming a conductive layer having excellent adhesion to both the substrate and the release layer in a conductive laminate having a substrate/conductive layer/release layer laminated therein, and a conductive laminate and a method for producing the same.

[1] π共役系導電性高分子及びポリアニオンを含む導電性複合体と、アルコキシシリル基含有アクリル系樹脂と、ポリエステル樹脂と、分散媒と、を含有する導電性高分子分散液。
[2] 前記分散媒が水を含み、前記導電性複合体1質量部に対する前記水の含有量が40質量部以上である、[1]に記載の導電性高分子分散液。
[3] 前記アルコキシシリル基含有アクリル系樹脂における、アルコキシシリル基を有する繰り返し単位の炭素数が、6以上20以下である、[1]又は[2]に記載の導電性高分子分散液。
[4] 前記ポリエステル樹脂がスルホ基若しくはその塩、カルボキシ基若しくはその塩及び水酸基から選択される1種以上を有する、[1]~[3]の何れか一項に記載の導電性高分子分散液。
[5] (前記アルコキシシリル基含有アクリル系樹脂/前記ポリエステル樹脂)で表す含有比が、固形分の質量基準で80/20~20/80である、[1]~[4]の何れか一項に記載の導電性高分子分散液。
[6] 前記π共役系導電性高分子がポリ(3,4-エチレンジオキシチオフェン)であるか、または、前記ポリアニオンがポリスチレンスルホン酸である、[1]~[5]の何れか一項に記載の導電性高分子分散液。
[7] 基材と、前記基材の少なくとも一部の面に形成された導電層とを備え、前記導電層が[1]~[6]の何れか一項に記載された導電性高分子分散液の硬化物である、導電性積層体。
[8] 前記基材がPETフィルムである、[7]に記載の導電性積層体。
[9] 前記導電層の表面に、シリコーン系化合物を含む離型層がさらに積層された、[7]又は[8]に記載の導電性積層体。
[10] 基材の少なくとも一部の面に、[1]~[6]の何れか一項に記載の導電性高分子分散液を塗工し、導電層を形成することを含む、導電性積層体の製造方法。
[1] A conductive polymer dispersion liquid containing a conductive complex containing a π-conjugated conductive polymer and a polyanion, an alkoxysilyl group-containing acrylic resin, a polyester resin, and a dispersion medium.
[2] The conductive polymer dispersion according to [1], wherein the dispersion medium contains water, and the content of the water per 1 part by mass of the conductive composite is 40 parts by mass or more.
[3] The conductive polymer dispersion liquid according to [1] or [2], wherein the number of carbon atoms of a repeating unit having an alkoxysilyl group in the alkoxysilyl group-containing acrylic resin is 6 or more and 20 or less.
[4] The conductive polymer dispersion liquid according to any one of [1] to [3], wherein the polyester resin has one or more groups selected from a sulfo group or a salt thereof, a carboxy group or a salt thereof, and a hydroxyl group.
[5] The conductive polymer dispersion according to any one of [1] to [4], wherein a content ratio represented by (the alkoxysilyl group-containing acrylic resin/the polyester resin) is 80/20 to 20/80 based on the mass of the solid content.
[6] The conductive polymer dispersion according to any one of [1] to [5], wherein the π-conjugated conductive polymer is poly(3,4-ethylenedioxythiophene) or the polyanion is polystyrenesulfonic acid.
[7] A conductive laminate comprising a substrate and a conductive layer formed on at least a part of a surface of the substrate, the conductive layer being a cured product of the conductive polymer dispersion according to any one of [1] to [6].
[8] The conductive laminate according to [7], wherein the substrate is a PET film.
[9] The conductive laminate according to [7] or [8], wherein a release layer containing a silicone compound is further laminated on a surface of the conductive layer.
[10] A method for producing a conductive laminate, comprising: applying the conductive polymer dispersion according to any one of [1] to [6] to at least a part of a surface of a substrate to form a conductive layer.

本発明によれば、基材/導電層/離型層の順で積層された導電性積層体において、基材に対する密着性と、離型層に対する密着性の両方が優れた導電層を形成することができる。 According to the present invention, in a conductive laminate in which a substrate/conductive layer/release layer are laminated in this order, a conductive layer that has excellent adhesion to both the substrate and the release layer can be formed.

本発明はSDGs目標12「つくる責任 つかう責任」に資すると考えられる。 This invention is believed to contribute to SDG Goal 12, "Responsible Consumption and Production."

本明細書及び特許請求の範囲において、「~」で示す数値範囲の下限値及び上限値はその数値範囲に含まれるものとする。 In this specification and claims, the lower and upper limits of the numerical ranges indicated with "~" are considered to be included in the numerical range.

≪導電性高分子分散液≫
本発明の第一態様は、π共役系導電性高分子及びポリアニオンを含む導電性複合体と、アルコキシシリル基含有アクリル系樹脂と、ポリエステル樹脂と、分散媒と、を含有する導電性高分子分散液である。
≪Conductive polymer dispersion liquid≫
A first aspect of the present invention is a conductive polymer dispersion liquid containing a conductive complex containing a π-conjugated conductive polymer and a polyanion, an alkoxysilyl group-containing acrylic resin, a polyester resin, and a dispersion medium. It is a liquid.

[導電性複合体]
本態様の導電性高分子分散液に含まれる導電性複合体は、π共役系導電性高分子とポリアニオンとを含む。導電性複合体中のポリアニオンはπ共役系導電性高分子にドープして、導電性を有する導電性複合体を形成している。
ポリアニオンにおいては、一部のアニオン基のみがπ共役系導電性高分子にドープしており、ドープに関与しない余剰のアニオン基を有している。余剰のアニオン基は親水基であるため、導電性複合体は水分散性を有する。
[Conductive composite]
The conductive complex contained in the conductive polymer dispersion of this embodiment contains a π-conjugated conductive polymer and a polyanion. The polyanion in the conductive complex is doped into the π-conjugated conductive polymer to form a conductive complex having electrical conductivity.
In the polyanion, only a part of the anionic groups is doped into the π-conjugated conductive polymer, and there are excess anionic groups that are not involved in the doping. Since the excess anionic groups are hydrophilic groups, the conductive composite has water dispersibility.

(π共役系導電性高分子)
π共役系導電性高分子としては、主鎖がπ共役系で構成されている有機高分子であればよく、例えば、ポリピロール系導電性高分子、ポリチオフェン系導電性高分子、ポリアセチレン系導電性高分子、ポリフェニレン系導電性高分子、ポリフェニレンビニレン系導電性高分子、ポリアニリン系導電性高分子、ポリアセン系導電性高分子、ポリチオフェンビニレン系導電性高分子、及びこれらの共重合体等が挙げられる。空気中での安定性の点からは、ポリピロール系導電性高分子、ポリチオフェン類及びポリアニリン系導電性高分子が好ましく、透明性の面から、ポリチオフェン系導電性高分子がより好ましい。
(π-conjugated conductive polymer)
The π-conjugated conductive polymer may be an organic polymer whose main chain is composed of a π-conjugated system, and examples thereof include polypyrrole-based conductive polymers, polythiophene-based conductive polymers, polyacetylene-based conductive polymers, polyphenylene-based conductive polymers, polyphenylenevinylene-based conductive polymers, polyaniline-based conductive polymers, polyacene-based conductive polymers, polythiophenevinylene-based conductive polymers, and copolymers thereof. From the viewpoint of stability in air, polypyrrole-based conductive polymers, polythiophenes, and polyaniline-based conductive polymers are preferred, and from the viewpoint of transparency, polythiophene-based conductive polymers are more preferred.

ポリチオフェン系導電性高分子としては、ポリチオフェン、ポリ(3-メチルチオフェン)、ポリ(3-エチルチオフェン)、ポリ(3-プロピルチオフェン)、ポリ(3-ブチルチオフェン)、ポリ(3-ヘキシルチオフェン)、ポリ(3-ヘプチルチオフェン)、ポリ(3-オクチルチオフェン)、ポリ(3-デシルチオフェン)、ポリ(3-ドデシルチオフェン)、ポリ(3-オクタデシルチオフェン)、ポリ(3-ブロモチオフェン)、ポリ(3-クロロチオフェン)、ポリ(3-ヨードチオフェン)、ポリ(3-シアノチオフェン)、ポリ(3-フェニルチオフェン)、ポリ(3,4-ジメチルチオフェン)、ポリ(3,4-ジブチルチオフェン)、ポリ(3-ヒドロキシチオフェン)、ポリ(3-メトキシチオフェン)、ポリ(3-エトキシチオフェン)、ポリ(3-ブトキシチオフェン)、ポリ(3-ヘキシルオキシチオフェン)、ポリ(3-ヘプチルオキシチオフェン)、ポリ(3-オクチルオキシチオフェン)、ポリ(3-デシルオキシチオフェン)、ポリ(3-ドデシルオキシチオフェン)、ポリ(3-オクタデシルオキシチオフェン)、ポリ(3,4-ジヒドロキシチオフェン)、ポリ(3,4-ジメトキシチオフェン)、ポリ(3,4-ジエトキシチオフェン)、ポリ(3,4-ジプロポキシチオフェン)、ポリ(3,4-ジブトキシチオフェン)、ポリ(3,4-ジヘキシルオキシチオフェン)、ポリ(3,4-ジヘプチルオキシチオフェン)、ポリ(3,4-ジオクチルオキシチオフェン)、ポリ(3,4-ジデシルオキシチオフェン)、ポリ(3,4-ジドデシルオキシチオフェン)、ポリ(3,4-エチレンジオキシチオフェン)、ポリ(3,4-プロピレンジオキシチオフェン)、ポリ(3,4-ブチレンジオキシチオフェン)、ポリ(3-メチル-4-メトキシチオフェン)、ポリ(3-メチル-4-エトキシチオフェン)、ポリ(3-カルボキシチオフェン)、ポリ(3-メチル-4-カルボキシチオフェン)、ポリ(3-メチル-4-カルボキシエチルチオフェン)、ポリ(3-メチル-4-カルボキシブチルチオフェン)が挙げられる。
ポリピロール系導電性高分子としては、ポリピロール、ポリ(N-メチルピロール)、ポリ(3-メチルピロール)、ポリ(3-エチルピロール)、ポリ(3-n-プロピルピロール)、ポリ(3-ブチルピロール)、ポリ(3-オクチルピロール)、ポリ(3-デシルピロール)、ポリ(3-ドデシルピロール)、ポリ(3,4-ジメチルピロール)、ポリ(3,4-ジブチルピロール)、ポリ(3-カルボキシピロール)、ポリ(3-メチル-4-カルボキシピロール)、ポリ(3-メチル-4-カルボキシエチルピロール)、ポリ(3-メチル-4-カルボキシブチルピロール)、ポリ(3-ヒドロキシピロール)、ポリ(3-メトキシピロール)、ポリ(3-エトキシピロール)、ポリ(3-ブトキシピロール)、ポリ(3-ヘキシルオキシピロール)、ポリ(3-メチル-4-ヘキシルオキシピロール)が挙げられる。
ポリアニリン系導電性高分子としては、ポリアニリン、ポリ(2-メチルアニリン)、ポリ(3-イソブチルアニリン)、ポリ(2-アニリンスルホン酸)、ポリ(3-アニリンスルホン酸)が挙げられる。
これらのπ共役系導電性高分子のなかでも、導電性、透明性、耐熱性に優れることから、ポリ(3,4-エチレンジオキシチオフェン)が特に好ましい。
導電性複合体に含まれるπ共役系導電性高分子は、1種類でもよいし、2種類以上でもよい。
Examples of polythiophene-based conductive polymers include polythiophene, poly(3-methylthiophene), poly(3-ethylthiophene), poly(3-propylthiophene), poly(3-butylthiophene), poly(3-hexylthiophene), poly(3-heptylthiophene), poly(3-octylthiophene), poly(3-decylthiophene), poly(3-dodecylthiophene), poly(3-octadecylthiophene), poly(3-bromothiophene), poly(3-chlorothiophene), and poly(3-iodothiophene). thiophene), poly(3-cyanothiophene), poly(3-phenylthiophene), poly(3,4-dimethylthiophene), poly(3,4-dibutylthiophene), poly(3-hydroxythiophene), poly(3-methoxythiophene), poly(3-ethoxythiophene), poly(3-butoxythiophene), poly(3-hexyloxythiophene), poly(3-heptyloxythiophene), poly(3-octyloxythiophene), poly(3-decyloxythiophene), poly(3-dodecyloxythiophene), oxythiophene), poly(3-octadecyloxythiophene), poly(3,4-dihydroxythiophene), poly(3,4-dimethoxythiophene), poly(3,4-diethoxythiophene), poly(3,4-dipropoxythiophene), poly(3,4-dibutoxythiophene), poly(3,4-dihexyloxythiophene), poly(3,4-diheptyloxythiophene), poly(3,4-dioctyloxythiophene), poly(3,4-didecyloxythiophene), poly(3,4-di dodecyloxythiophene), poly(3,4-ethylenedioxythiophene), poly(3,4-propylenedioxythiophene), poly(3,4-butylenedioxythiophene), poly(3-methyl-4-methoxythiophene), poly(3-methyl-4-ethoxythiophene), poly(3-carboxythiophene), poly(3-methyl-4-carboxythiophene), poly(3-methyl-4-carboxyethylthiophene), and poly(3-methyl-4-carboxybutylthiophene).
Examples of polypyrrole-based conductive polymers include polypyrrole, poly(N-methylpyrrole), poly(3-methylpyrrole), poly(3-ethylpyrrole), poly(3-n-propylpyrrole), poly(3-butylpyrrole), poly(3-octylpyrrole), poly(3-decylpyrrole), poly(3-dodecylpyrrole), poly(3,4-dimethylpyrrole), poly(3,4-dibutylpyrrole), poly(3-carboxypyrrole), poly(3-methyl-4-carboxypyrrole), poly(3-methyl-4-carboxyethylpyrrole), poly(3-methyl-4-carboxybutylpyrrole), poly(3-hydroxypyrrole), poly(3-methoxypyrrole), poly(3-ethoxypyrrole), poly(3-butoxypyrrole), poly(3-hexyloxypyrrole), and poly(3-methyl-4-hexyloxypyrrole).
Examples of polyaniline-based conductive polymers include polyaniline, poly(2-methylaniline), poly(3-isobutylaniline), poly(2-anilinesulfonic acid), and poly(3-anilinesulfonic acid).
Among these π-conjugated conductive polymers, poly(3,4-ethylenedioxythiophene) is particularly preferred because of its excellent conductivity, transparency and heat resistance.
The conductive composite may contain one type of π-conjugated conductive polymer, or two or more types of polymers.

(ポリアニオン)
ポリアニオンは、アニオン基を有するモノマー単位を、分子内に2つ以上有する重合体である。このポリアニオンのアニオン基は、π共役系導電性高分子に対するドーパントとして機能して、π共役系導電性高分子の導電性を向上させる。
ポリアニオンのアニオン基としては、スルホ基、またはカルボキシ基であることが好ましい。
このようなポリアニオンの具体例としては、ポリスチレンスルホン酸、ポリビニルスルホン酸、ポリアリルスルホン酸、スルホ基を有するポリアクリル酸エステル、スルホ基を有するポリメタクリル酸エステル(例えば、ポリ(4-スルホブチルメタクリレート、ポリスルホエチルメタクリレート、ポリメタクリロイルオキシベンゼンスルホン酸)、ポリ(2-アクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸)、ポリイソプレンスルホン酸等のスルホ基を有する高分子や、ポリビニルカルボン酸、ポリスチレンカルボン酸、ポリアリルカルボン酸、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリ(2-アクリルアミド-2-メチルプロパンカルボン酸)、ポリイソプレンカルボン酸等のカルボキシ基を有する高分子が挙げられる。ポリアニオンは、単一のモノマーが重合した単独重合体であってもよいし、2種以上のモノマーが重合した共重合体であってもよい。
これらポリアニオンのなかでも、導電性をより高くできることから、スルホ基を有する高分子が好ましく、ポリスチレンスルホン酸がより好ましい。
前記ポリアニオンは1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
ポリアニオンの質量平均分子量は2万以上100万以下であることが好ましく、10万以上50万以下であることがより好ましい。質量平均分子量は、ゲルろ過クロマトグラフィを用いて測定し、プルラン換算で求めた質量基準の平均分子量である。
(Polyanion)
A polyanion is a polymer having two or more monomer units each having an anionic group in the molecule. The anionic group of the polyanion functions as a dopant for a π-conjugated conductive polymer, thereby improving the conductivity of the π-conjugated conductive polymer.
The anion group of the polyanion is preferably a sulfo group or a carboxy group.
Specific examples of such polyanions include polymers having a sulfo group, such as polystyrene sulfonic acid, polyvinyl sulfonic acid, polyallyl sulfonic acid, polyacrylic acid esters having a sulfo group, polymethacrylic acid esters having a sulfo group (e.g., poly(4-sulfobutyl methacrylate, polysulfoethyl methacrylate, polymethacryloyloxybenzenesulfonic acid), poly(2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid), and polyisoprene sulfonic acid; and polymers having a carboxy group, such as polyvinyl carboxylic acid, polystyrene carboxylic acid, polyallyl carboxylic acid, polyacrylic acid, polymethacrylic acid, poly(2-acrylamido-2-methylpropanecarboxylic acid), and polyisoprene carboxylic acid. The polyanion may be a homopolymer in which a single monomer is polymerized, or a copolymer in which two or more monomers are polymerized.
Among these polyanions, polymers having a sulfo group are preferred, and polystyrene sulfonic acid is more preferred, since they can provide higher electrical conductivity.
The polyanions may be used alone or in combination of two or more kinds.
The mass average molecular weight of the polyanion is preferably from 20,000 to 1,000,000, and more preferably from 100,000 to 500,000. The mass average molecular weight is an average molecular weight based on mass measured by gel filtration chromatography and calculated in terms of pullulan.

導電性複合体中の、ポリアニオンの含有割合は、π共役系導電性高分子100質量部に対して1質量部以上1000質量部以下の範囲であることが好ましく、10質量部以上700質量部以下であることがより好ましく、100質量部以上500質量部以下の範囲であることがさらに好ましい。ポリアニオンの含有割合が前記下限値以上であれば、π共役系導電性高分子へのドーピング効果が強くなる傾向にあり、導電性がより高くなる。一方、ポリアニオンの含有量が前記上限値以下であれば、π共役系導電性高分子を充分に含有させることができるので、充分な導電性を確保できる。 The content of the polyanion in the conductive complex is preferably in the range of 1 to 1000 parts by mass, more preferably 10 to 700 parts by mass, and even more preferably 100 to 500 parts by mass, per 100 parts by mass of the π-conjugated conductive polymer. If the content of the polyanion is equal to or greater than the lower limit, the doping effect on the π-conjugated conductive polymer tends to be stronger, and the conductivity becomes higher. On the other hand, if the content of the polyanion is equal to or less than the upper limit, the π-conjugated conductive polymer can be sufficiently contained, so that sufficient conductivity can be ensured.

本態様の導電性高分子分散液に含まれる導電性複合体の含有量としては、導電性高分子分散液の総質量に対して、0.01質量%以上5質量%以下が好ましく、0.1質量%以上2質量%以下がより好ましく、0.2質量%以上1.0質量%以下がさらに好ましい。
上記範囲の下限値以上であると、導電性高分子分散液を塗布して形成する導電層の導電性をより向上させることができる。
上記範囲の上限値以下であると、導電性高分子分散液における導電性複合体の分散性を高め、均一な導電層を形成することができる。
The content of the conductive complex contained in the conductive polymer dispersion of this embodiment is preferably 0.01 mass % or more and 5 mass % or less, more preferably 0.1 mass % or more and 2 mass % or less, and even more preferably 0.2 mass % or more and 1.0 mass % or less, relative to the total mass of the conductive polymer dispersion.
When the content is at least as high as the lower limit of the above range, the conductivity of the conductive layer formed by coating the conductive polymer dispersion can be further improved.
When it is equal to or less than the upper limit of the above range, the dispersibility of the conductive complex in the conductive polymer dispersion can be improved, and a uniform conductive layer can be formed.

[アルコキシシリル基含有アクリル系樹脂]
アルコキシシリル基含有アクリル系樹脂は、アルコキシシリル基を有する(メタ)アクリル酸エステルの単独重合体、或いは、共重合可能な他のラジカル重合性モノマーとの共重合体である。
ここで、「(メタ)アクリル」の表記は「アクリル又はメタクリル」を意味する。
[Alkoxysilyl Group-Containing Acrylic Resin]
The alkoxysilyl group-containing acrylic resin is a homopolymer of a (meth)acrylic acid ester having an alkoxysilyl group, or a copolymer with another radically polymerizable monomer that is copolymerizable therewith.
Here, the term "(meth)acrylic" means "acrylic or methacrylic".

アルコキシシリル基を有する(メタ)アクリル酸エステルとしては、下記式(Y)で表されるものが好ましい。
(R11-Si-R12-O-C(=O)-C(-R13)=CH ・・・(Y)
式中、3つのR11は、それぞれ独立に、炭素数1~3のアルコキシ基、炭素数1~3のアルキル基又は水素原子であり、3つのR11のうち少なくとも1つが上記アルコキシ基である。式中、R12は、炭素数1~6のアルキレン基又は単結合であり、R13は、水素原子又はメチル基である。式中、(R11-Si-R12-がアルコキシシリル基に該当する。
The (meth)acrylic acid ester having an alkoxysilyl group is preferably one represented by the following formula (Y).
(R 11 ) 3 -Si-R 12 -OC(=O)-C(-R 13 )=CH 2 ...(Y)
In the formula, the three R 11 are each independently an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, or a hydrogen atom, and at least one of the three R 11 is the above alkoxy group. In the formula, R 12 is an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms or a single bond, and R 13 is a hydrogen atom or a methyl group. In the formula, (R 11 ) 3 -Si-R 12 - corresponds to an alkoxysilyl group.

アルコキシシリル基を有する(メタ)アクリル酸エステルの具体例としては、3-メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3-アクリロキシプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
アルコキシシリル基含有アクリル系樹脂の繰り返し単位を構成する、アルコキシシリル基を有する上記のモノマーは、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。
Specific examples of (meth)acrylic acid esters having an alkoxysilyl group include 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, and 3-acryloxypropyltrimethoxysilane.
The above-mentioned monomer having an alkoxysilyl group constituting the repeating unit of the alkoxysilyl group-containing acrylic resin may be of only one type, or of two or more types.

アルコキシシリル基含有アクリル系樹脂における、アルコキシシリル基を有する繰り返し単位(モノマー単位)が有する炭素数は、6以上20以下が好ましく、7以上17以下がより好ましく、8以上14以下がさらに好ましい。
上記範囲であると、上述のポリエステル樹脂との自己架橋性が高まり、本態様の導電性高分子分散液を用いて形成される導電層の基材に対する密着性及び離型層に対する密着性がさらに向上する。
In the alkoxysilyl group-containing acrylic resin, the repeating unit (monomer unit) having an alkoxysilyl group preferably has 6 or more and 20 or less carbon atoms, more preferably 7 or more and 17 or less carbon atoms, and even more preferably 8 or more and 14 or less carbon atoms.
When the content is within the above range, the self-crosslinking property with the polyester resin described above is enhanced, and the adhesiveness of the conductive layer formed using the conductive polymer dispersion of this embodiment to the substrate and the adhesiveness to the release layer are further improved.

アルコキシシリル基含有アクリル系樹脂における、前記アルコキシシリル基を有する繰り返し単位(モノマー単位)の含有割合は、アルコキシシリル基を有する前記モノマーとこのモノマーと共重合可能な他のラジカル重合性モノマーの合計質量に対して10質量%以上100質量%以下が好ましく、50質量%以上100質量%以下がより好ましく、80質量%以上100質量%以下がさらに好ましい。なお、この割合が100質量%であるとは、アルコキシシリル基を有する前記モノマーの単独重合体であることを意味する。 In the alkoxysilyl group-containing acrylic resin, the content of the repeating unit (monomer unit) having the alkoxysilyl group is preferably 10% by mass or more and 100% by mass or less, more preferably 50% by mass or more and 100% by mass or less, and even more preferably 80% by mass or more and 100% by mass or less, based on the total mass of the monomer having the alkoxysilyl group and other radically polymerizable monomers copolymerizable with this monomer. Note that this percentage of 100% by mass means that it is a homopolymer of the monomer having an alkoxysilyl group.

前記他のラジカル重合性モノマーとしては、例えば、ビニルエステル、不飽和カルボン酸エステル、不飽和カルボン酸アミド、不飽和ニトリル、不飽和カルボン酸、アリル化合物、含窒素系ビニルモノマー、炭化水素ビニルモノマーまたはビニルシラン化合物等が挙げられる。これらの1種以上を共重合可能なモノマーとして使用し得る。 Examples of the other radical polymerizable monomers include vinyl esters, unsaturated carboxylic acid esters, unsaturated carboxylic acid amides, unsaturated nitriles, unsaturated carboxylic acids, allyl compounds, nitrogen-containing vinyl monomers, hydrocarbon vinyl monomers, and vinyl silane compounds. One or more of these may be used as copolymerizable monomers.

(製造方法)
アルコキシシリル基含有アクリル系樹脂の製造方法は特に制限されず、例えば、乳化重合によって製造することができる。
乳化重合を適用する場合、例えば、反応槽にイオン交換水10~1000質量部、重合開始剤1~10質量部、界面活性剤1~20質量部を加える。一方、滴下槽にイオン交換水10~1000質量部と界面活性剤1~20質量部を加え、アルコキシシリル基含有アクリル系樹脂を構成するモノマー100質量部を加えて乳化物を作製した後、この乳化物を反応槽に滴下して加えることによって乳化ラジカル重合させる。反応温度は使用するモノマーの反応性にもよるが、60~100℃が好ましく、反応時間は4~10時間が好ましい。
(Production method)
The method for producing the alkoxysilyl group-containing acrylic resin is not particularly limited, and it can be produced, for example, by emulsion polymerization.
When emulsion polymerization is applied, for example, 10 to 1000 parts by mass of ion-exchanged water, 1 to 10 parts by mass of a polymerization initiator, and 1 to 20 parts by mass of a surfactant are added to a reaction tank. On the other hand, 10 to 1000 parts by mass of ion-exchanged water and 1 to 20 parts by mass of a surfactant are added to a dropping tank, and 100 parts by mass of a monomer constituting an alkoxysilyl group-containing acrylic resin are added to prepare an emulsion, and then this emulsion is added dropwise to the reaction tank to carry out emulsion radical polymerization. The reaction temperature depends on the reactivity of the monomer used, but is preferably 60 to 100° C., and the reaction time is preferably 4 to 10 hours.

乳化重合に使用する界面活性剤としては、アニオン系界面活性剤、ノニオン系反応性界面活性剤及び非反応性界面活性剤の1種もしくは2種以上を使用することができる。アニオン系界面活性剤を使用することが好ましい。 As the surfactant used in the emulsion polymerization, one or more of anionic surfactants, nonionic reactive surfactants, and non-reactive surfactants can be used. It is preferable to use anionic surfactants.

乳化重合に使用する重合開始剤としては一般的なラジカル重合性開始剤、例えば過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム、過酸化水素等の水溶性過酸化物、又は過酸化ベンゾイルやt-ブチルハイドロパーオキサイド等の油溶性過酸化物、あるいはアゾビスイソブチロニトリル等のアゾ化合物などが挙げられる。 Polymerization initiators used in emulsion polymerization include general radical polymerization initiators, such as water-soluble peroxides such as potassium persulfate, ammonium persulfate, and hydrogen peroxide, oil-soluble peroxides such as benzoyl peroxide and t-butyl hydroperoxide, and azo compounds such as azobisisobutyronitrile.

乳化重合で得たアルコキシシリル基含有アクリル系樹脂は、水等の分散媒に添加して分散体としてもよい。固形分濃度が高くなると、均一な分散体が得られにくくなるため、分散体の総質量に対して、アルコキシシリル基含有アクリル系樹脂の固形分(不揮発成分)の質量は30質量%以下が好ましい。 The alkoxysilyl group-containing acrylic resin obtained by emulsion polymerization may be added to a dispersion medium such as water to form a dispersion. If the solids concentration becomes high, it becomes difficult to obtain a uniform dispersion, so the mass of the solids (non-volatile components) of the alkoxysilyl group-containing acrylic resin is preferably 30 mass% or less relative to the total mass of the dispersion.

導電性高分子分散液におけるアルコキシシリル基含有アクリル系樹脂の含有量は、導電性複合体100質量部に対して、100質量部以上50000質量部以下が好ましく、100質量部以上10000質量部以下がより好ましく、200質量部以上1000質量部以下がさらに好ましい。
上記の下限値以上であれば、基材及び離型層に対する導電層の密着性がより向上し、上記の上限値以下であれば、導電性複合体の含有量が少なくなることによる導電性の低下を防ぐことができる。
The content of the alkoxysilyl group-containing acrylic resin in the conductive polymer dispersion is preferably 100 parts by mass or more and 50,000 parts by mass or less, more preferably 100 parts by mass or more and 10,000 parts by mass or less, and even more preferably 200 parts by mass or more and 1,000 parts by mass or less, relative to 100 parts by mass of the conductive composite.
When the content is equal to or greater than the above lower limit, the adhesion of the conductive layer to the substrate and the release layer is further improved, and when the content is equal to or less than the above upper limit, a decrease in conductivity due to a decrease in the content of the conductive complex can be prevented.

[ポリエステル樹脂]
本態様の導電性高分子分散液に含まれるポリエステル樹脂は多価カルボン酸とポリアルコールが重縮合してなるエステル結合を有する樹脂である。本態様で用いるポリエステル樹脂は、水分散性を高める観点から酸基を有することが好ましい。酸基は塩を形成していてもよい。また、本態様で用いるポリエステル樹脂は、導電層の耐候性を高める観点から、反応性の二重結合を含まない飽和ポリエステル樹脂であることが好ましい。
[Polyester resin]
The polyester resin contained in the conductive polymer dispersion of this embodiment is a resin having an ester bond formed by polycondensation of a polyvalent carboxylic acid and a polyalcohol. The polyester resin used in this embodiment preferably has an acid group from the viewpoint of improving water dispersibility. The acid group may form a salt. In addition, the polyester resin used in this embodiment is preferably a saturated polyester resin that does not contain a reactive double bond from the viewpoint of improving the weather resistance of the conductive layer.

酸基を有するポリエステル樹脂としては、ジカルボン酸成分とジグリコール成分との重縮合物であって、酸基(スルホ基、カルボキシ基、リン酸基等)のアルカリ金属塩を有するポリエステル樹脂(以下、「ポリエステル樹脂(1)」という。)が挙げられる。
このポリエステル樹脂(1)は極性が大きいため、水分散性に優れ、乳化剤や安定剤を使用しなくても水中に安定に分散できる。
An example of a polyester resin having an acid group is a polyester resin (hereinafter referred to as “polyester resin (1)”) which is a polycondensation product of a dicarboxylic acid component and a diglycol component and has an alkali metal salt of an acid group (such as a sulfo group, a carboxy group, or a phosphate group).
This polyester resin (1) has a high polarity and therefore has excellent water dispersibility, and can be stably dispersed in water without the use of an emulsifier or stabilizer.

ジカルボン酸成分としては、フタル酸、テレフタル酸、テレフタル酸ジメチル、イソフタル酸、イソフタル酸ジメチル、2,5-ジメチルテレフタル酸、2,6-ナフタレンジカルボン酸、ビフェニルジカルボン酸、オルソフタル酸等の芳香族ジカルボン酸、コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸及び、ドデカンジカルボン酸等の脂肪族ジカルボン酸、並びにシクロヘキサンジカルボン酸等の脂環族ジカルボン酸等が挙げられる。
ジカルボン酸は1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
ジカルボン酸成分は、スルホ基がアルカリ金属によって中和されたスルホン酸アルカリ金属塩型の置換基(-SO3-、(Xはアルカリ金属イオン))を有するジカルボン酸を含むことが好ましい。
Examples of the dicarboxylic acid component include aromatic dicarboxylic acids such as phthalic acid, terephthalic acid, dimethyl terephthalate, isophthalic acid, dimethyl isophthalate, 2,5-dimethylterephthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, biphenyldicarboxylic acid, and orthophthalic acid; aliphatic dicarboxylic acids such as succinic acid, adipic acid, azelaic acid, sebacic acid, and dodecanedicarboxylic acid; and alicyclic dicarboxylic acids such as cyclohexanedicarboxylic acid.
The dicarboxylic acids may be used alone or in combination of two or more.
The dicarboxylic acid component preferably contains a dicarboxylic acid having an alkali metal sulfonate type substituent (—SO 3− X + , (X + is an alkali metal ion)) in which the sulfo group is neutralized with an alkali metal.

スルホン酸アルカリ金属塩型の置換基を有するジカルボン酸は、スルホ基を有するジカルボン酸におけるスルホ基がアルカリ金属塩にされた化合物である。
スルホ基を有するジカルボン酸としては、スルホテレフタル酸、5-スルホイソフタル酸、4-スルホイソフタル酸、4-スルホナフタレン酸-2,7-ジカルボン酸、又はそれらの誘導体等が挙げられる。アルカリ金属としては、ナトリウム、カリウム等が挙げられる。
スルホン酸アルカリ金属塩型の置換基を有するジカルボン酸としては、5-スルホイソフタル酸のナトリウム塩及びその誘導体が好ましい。
A dicarboxylic acid having an alkali metal sulfonate type substituent is a compound in which the sulfo group in a dicarboxylic acid having a sulfo group is converted into an alkali metal salt.
Examples of the dicarboxylic acid having a sulfo group include sulfoterephthalic acid, 5-sulfoisophthalic acid, 4-sulfoisophthalic acid, 4-sulfonaphthalene-2,7-dicarboxylic acid, and derivatives thereof, etc. Examples of the alkali metal include sodium and potassium.
As the dicarboxylic acid having an alkali metal sulfonate type substituent, the sodium salt of 5-sulfoisophthalic acid and its derivatives are preferred.

ジカルボン酸成分における、スルホン酸アルカリ金属塩型の置換基を有するジカルボン酸以外のジカルボン酸成分としては、芳香族ジカルボン酸が好ましく、テレフタル酸、イソフタル酸がより好ましい。芳香族ジカルボン酸の芳香核は、疎水性のプラスチックとの親和性が大きく、また、耐加水分解性に優れる。 As the dicarboxylic acid component other than the dicarboxylic acid having an alkali metal sulfonate type substituent, aromatic dicarboxylic acids are preferred, and terephthalic acid and isophthalic acid are more preferred. The aromatic nucleus of aromatic dicarboxylic acids has a high affinity with hydrophobic plastics and is excellent in hydrolysis resistance.

スルホン酸アルカリ金属塩型の置換基を有するジカルボン酸の含有割合は、全ジカルボン酸成分中に5モル%以上30モル%以下であることが好ましく、10モル%以上20モル%以下であることがより好ましい。
上記範囲であると導電層中における自己架橋性樹脂の架橋が適度となり、基材及び離型層に対する導電層の密着性がより向上する。
The content of the dicarboxylic acid having an alkali metal sulfonate type substituent in the total dicarboxylic acid component is preferably from 5 mol % to 30 mol %, and more preferably from 10 mol % to 20 mol %.
When the content is within the above range, crosslinking of the self-crosslinking resin in the conductive layer becomes appropriate, and the adhesion of the conductive layer to the substrate and the release layer is further improved.

ポリエステル樹脂(1)を形成するジグリコール成分としては、ジエチレングリコール、炭素数2以上8以下の脂肪族又は炭素数6以上12以下の脂環族グリコール等が挙げられる。炭素数2以上8以下の脂肪族又は炭素数6以上12以下の脂環族グリコールの具体例としては、エチレングリコール、1,3-プロパンジオール、1,2-プロピレングリ
コール、ネオペンチルグリコール、1,4-ブタンジオール、1,4-シクロヘキサンジメタノール、1,3-シクロヘキサンジメタノール、1,2-シクロヘキサンジメタノール、1,6-ヘキサンジオール、p-キシリレングリコール、トリエチレングリコールなどが挙げられる。ジグリコール成分は1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
Examples of the diglycol component forming the polyester resin (1) include diethylene glycol, aliphatic glycols having from 2 to 8 carbon atoms, and alicyclic glycols having from 6 to 12 carbon atoms. Specific examples of the aliphatic glycols having from 2 to 8 carbon atoms, and alicyclic glycols having from 6 to 12 carbon atoms, include ethylene glycol, 1,3-propanediol, 1,2-propylene glycol, neopentyl glycol, 1,4-butanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, 1,3-cyclohexanedimethanol, 1,2-cyclohexanedimethanol, 1,6-hexanediol, p-xylylene glycol, and triethylene glycol. One type of diglycol component may be used alone, or two or more types may be used in combination.

ポリエステル樹脂(1)の数平均分子量は2,000以上30,000以下であることが好ましく、10,000以上27,000以下であることがより好ましい。ポリエステル樹脂(1)の数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)を用いて溶出時間を測定し、分子量既知のポリスチレン標準物質から予め得た、溶出時間対分子量の校正曲線に基づいて求めた数基準の分子量のことである。
ポリエステル樹脂(1)の数平均分子量が前記下限値以上であれば、導電層の密着性がより高くなり、前記上限値以下であれば、ポリエステル樹脂(1)の水分散性がより高くなる。
The number average molecular weight of the polyester resin (1) is preferably from 2,000 to 30,000, and more preferably from 10,000 to 27,000. The number average molecular weight of the polyester resin (1) is a numerical molecular weight determined based on a calibration curve of elution time vs. molecular weight obtained in advance by measuring the elution time using gel permeation chromatography (GPC) and using polystyrene standard substances with known molecular weights.
When the number average molecular weight of the polyester resin (1) is equal to or more than the lower limit, the adhesion of the conductive layer is increased, and when it is equal to or less than the upper limit, the water dispersibility of the polyester resin (1) is increased.

ポリエステル樹脂(1)の製造方法は特に制限されず、例えば、ジカルボン酸成分とジグリコール成分とを130℃以上200℃以下でエステル化あるいはエステル交換反応させ、次に減圧条件下において200℃以上250℃以下で重縮合反応させる方法が挙げられる。ポリエステル樹脂(1)の製造方法において用いられる反応触媒としては、酢酸亜鉛、酢酸マンガン等の酢酸金属塩、酸化アンチモン、酸化ゲルマニウム等の金属酸化物、チタン化合物などが挙げられる。
得られたポリエステル樹脂(1)は、水に添加して水分散体としてもよい。ポリエステル樹脂(1)の水分散体は、固形分(不揮発成分)濃度が高くなると、均一分散体が得られにくくなるため、固形分濃度は30質量%以下が好ましい。
The method for producing polyester resin (1) is not particularly limited, and examples thereof include a method in which a dicarboxylic acid component and a diglycol component are subjected to an esterification or transesterification reaction at 130° C. or more and 200° C. or less, and then a polycondensation reaction is carried out under reduced pressure at 200° C. or more and 250° C. or less. Examples of reaction catalysts used in the method for producing polyester resin (1) include metal acetates such as zinc acetate and manganese acetate, metal oxides such as antimony oxide and germanium oxide, and titanium compounds.
The polyester resin (1) thus obtained may be added to water to form an aqueous dispersion. When the solid content (non-volatile component) concentration of the aqueous dispersion of the polyester resin (1) is high, it becomes difficult to obtain a uniform dispersion, so the solid content concentration is preferably 30% by mass or less.

導電性高分子分散液におけるポリエステル樹脂の含有量は、導電性複合体100質量部に対して、100質量部以上50000質量部以下が好ましく、100質量部以上10000質量部以下がより好ましく、200質量部以上1000質量部以下がさらに好ましい。
上記の下限値以上であれば、基材及び離型層に対する導電層の密着性がより向上し、上記の上限値以下であれば、導電性複合体の含有量が少なくなることによる導電性の低下を防ぐことができる。
The content of the polyester resin in the conductive polymer dispersion is preferably 100 parts by mass or more and 50,000 parts by mass or less, more preferably 100 parts by mass or more and 10,000 parts by mass or less, and even more preferably 200 parts by mass or more and 1,000 parts by mass or less, relative to 100 parts by mass of the conductive composite.
When the content is equal to or greater than the above lower limit, the adhesion of the conductive layer to the substrate and the release layer is further improved, and when the content is equal to or less than the above upper limit, a decrease in conductivity due to a decrease in the content of the conductive complex can be prevented.

[自己架橋性樹脂]
アルコキシシリル基含有アクリル系樹脂は、ポリエステル樹脂(1)と組み合わせて、導電性複合体とともに含まれることによって、導電層の形成時に自己架橋し、自己架橋性樹脂となる。導電性複合体のポリアニオンが有するドープに関与しない余剰のアニオン基は、上記の自己架橋を促進する触媒として機能し得る。
[Self-crosslinking resin]
The alkoxysilyl group-containing acrylic resin is combined with the polyester resin (1) and contained in the conductive complex, and self-crosslinks during the formation of the conductive layer to become a self-crosslinking resin. The excess anion groups of the polyanion of the conductive complex that are not involved in the doping can function as a catalyst to promote the self-crosslinking.

適度な自己架橋を得るためには、(アルコキシシリル基含有アクリル系樹脂/ポリエステル樹脂(1))で表す含有比が、固形分の質量基準で、20/80~80/20が好ましく、30/70~70/30がより好ましく、40/60~60/40がさらに好ましい。
上記範囲であると、形成される導電層の機械的強度がより向上し、基材及び離型層に対する導電層の密着性がより向上する。
In order to obtain a suitable degree of self-crosslinking, the content ratio represented by (alkoxysilyl group-containing acrylic resin/polyester resin (1)) is preferably 20/80 to 80/20, more preferably 30/70 to 70/30, and even more preferably 40/60 to 60/40, based on the mass of the solid content.
When the content is within the above range, the mechanical strength of the conductive layer formed is further improved, and the adhesiveness of the conductive layer to the substrate and the release layer is further improved.

[分散媒]
本態様の導電性高分子分散液に含まれる分散媒としては、水、有機溶剤、水と有機溶剤との混合液が挙げられる。
[Dispersion medium]
Examples of the dispersion medium contained in the conductive polymer dispersion of this embodiment include water, an organic solvent, and a mixture of water and an organic solvent.

有機溶剤としては、例えば、アルコール系溶剤、エーテル系溶剤、ケトン系溶剤、エステル系溶剤、芳香族炭化水素系溶剤等が挙げられる。
アルコール系溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、1-プロパノール、2-プロパノール、2-メチル-2-プロパノール、1-ブタノール、2-ブタノール、2-メチル-1-プロパノール、アリルアルコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル等の一価アルコール;エチレングリコール、プロピレングリコール、1,3-プロパンジオール、1,2-ブタンジオール、1,3-ブタンジオール、1,4-ブタンジオール等の二価アルコールが挙げられる。
エーテル系溶剤としては、例えば、ジエチルエーテル、ジメチルエーテル、プロピレングリコールジアルキルエーテル等が挙げられる。
ケトン系溶剤としては、例えば、ジエチルケトン、メチルプロピルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルアミルケトン、ジイソプロピルケトン、メチルエチルケトン、アセトン、ジアセトンアルコール等が挙げられる。
エステル系溶剤としては、例えば、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等が挙げられる。
芳香族炭化水素系溶剤としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、プロピルベンゼン、イソプロピルベンゼン等が挙げられる。
上記に分類されない溶剤としては、例えば、ジメチルスルホキシドが挙げられる。
有機溶剤は1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
Examples of the organic solvent include alcohol-based solvents, ether-based solvents, ketone-based solvents, ester-based solvents, and aromatic hydrocarbon-based solvents.
Examples of alcohol-based solvents include monohydric alcohols such as methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, 2-methyl-2-propanol, 1-butanol, 2-butanol, 2-methyl-1-propanol, allyl alcohol, propylene glycol monomethyl ether, and ethylene glycol monomethyl ether; and dihydric alcohols such as ethylene glycol, propylene glycol, 1,3-propanediol, 1,2-butanediol, 1,3-butanediol, and 1,4-butanediol.
Examples of the ether solvent include diethyl ether, dimethyl ether, and propylene glycol dialkyl ether.
Examples of the ketone solvent include diethyl ketone, methyl propyl ketone, methyl butyl ketone, methyl isopropyl ketone, methyl isobutyl ketone, methyl amyl ketone, diisopropyl ketone, methyl ethyl ketone, acetone, and diacetone alcohol.
Examples of the ester solvent include ethyl acetate, propyl acetate, and butyl acetate.
Examples of aromatic hydrocarbon solvents include benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, propylbenzene, and isopropylbenzene.
An example of a solvent not classified into the above categories is dimethyl sulfoxide.
The organic solvents may be used alone or in combination of two or more kinds.

本態様の導電性高分子分散液の分散媒としては、導電性複合体の分散性を高める観点から、水、水溶性有機溶剤、又は水と水溶性有機溶剤の混合溶剤が好ましい。
ここで、水溶性有機溶剤は、20℃の水100gに対する溶解量が1g以上の有機溶剤であり、非水溶性有機溶剤は、20℃の水100gに対する溶解量が1g未満の有機溶剤である。
水溶性有機溶剤としては、アルコール系溶剤から選択される1種以上が好ましい。
導電性複合体の分散性をより一層高める観点から、アルコール系溶剤は、水と組み合わせて含まれることが好ましい。
From the viewpoint of enhancing the dispersibility of the conductive composite, the dispersion medium of the conductive polymer dispersion of this embodiment is preferably water, a water-soluble organic solvent, or a mixed solvent of water and a water-soluble organic solvent.
Here, a water-soluble organic solvent is an organic solvent that dissolves in an amount of 1 g or more in 100 g of water at 20°C, and a water-insoluble organic solvent is an organic solvent that dissolves in an amount of less than 1 g in 100 g of water at 20°C.
The water-soluble organic solvent is preferably one or more selected from alcohol-based solvents.
From the viewpoint of further enhancing the dispersibility of the conductive composite, the alcohol-based solvent is preferably contained in combination with water.

導電性複合体は水に対する分散性が高いので、本態様の導電性高分子分散液の分散媒は水を含有する水系分散媒であることが好ましい。
本態様の導電性高分子分散液の分散媒の総質量に対する水の含有割合は、例えば、10質量%以上50質量%以下が好ましく、20質量%以上40質量%以下がより好ましい。
また、本態様の導電性高分子分散液の分散媒が水を含み、導電性複合体1質量部に対する水の含有量が、40質量部以上が好ましく、50質量部以上1000質量部以下がより好ましく、80質量部以上800質量部以下がさらに好ましく、90質量部以上400質量部以下が特に好ましい。
水以外の分散媒としては、前述した水溶性有機溶剤が好ましい。
Since the conductive complex has high dispersibility in water, the dispersion medium of the conductive polymer dispersion of this embodiment is preferably an aqueous dispersion medium containing water.
The content of water relative to the total mass of the dispersion medium in the conductive polymer dispersion of this embodiment is, for example, preferably from 10 mass % to 50 mass %, and more preferably from 20 mass % to 40 mass %.
Furthermore, the dispersion medium of the conductive polymer dispersion of this embodiment contains water, and the content of water per 1 part by mass of the conductive composite is preferably 40 parts by mass or more, more preferably 50 parts by mass or more and 1,000 parts by mass or less, even more preferably 80 parts by mass or more and 800 parts by mass or less, and particularly preferably 90 parts by mass or more and 400 parts by mass or less.
As the dispersion medium other than water, the above-mentioned water-soluble organic solvents are preferable.

本態様の導電性高分子分散液の分散媒の総質量に対する水溶性有機溶剤の含有割合は、例えば、50質量%以上95質量%以下が好ましく、60質量%以上90質量%以下がより好ましく、70質量%以上80質量%以下がさらに好ましい。 The content ratio of the water-soluble organic solvent to the total mass of the dispersion medium of the conductive polymer dispersion liquid of this embodiment is, for example, preferably 50% by mass or more and 95% by mass or less, more preferably 60% by mass or more and 90% by mass or less, and even more preferably 70% by mass or more and 80% by mass or less.

[その他の添加剤]
導電性高分子分散液には、その他の添加剤が含まれてもよい。
添加剤としては、本発明の効果が得られる限り特に制限されず、例えば、界面活性剤、無機導電剤、消泡剤、カップリング剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤などを使用できる。
界面活性剤としては、ノニオン系、アニオン系、カチオン系の界面活性剤が挙げられるが、保存安定性の面からノニオン系が好ましい。また、ポリビニルピロリドンなどのポリマー系界面活性剤を添加してもよい。
無機導電剤としては、金属イオン類、導電性カーボン等が挙げられる。なお、金属イオンは、金属塩を水に溶解させることにより生成させることができる。
消泡剤としては、シリコーン樹脂、ポリジメチルシロキサン、シリコーンオイル等が挙げられる。
カップリング剤としては、エポキシ基、ビニル基又はアミノ基を有するシランカップリング剤等が挙げられる。
酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤、糖類等が挙げられる。
紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、サリシレート系紫外線吸収剤、シアノアクリレート系紫外線吸収剤、オキサニリド系紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系紫外線吸収剤、ベンゾエート系紫外線吸収剤等が挙げられる。
[Other additives]
The conductive polymer dispersion may contain other additives.
The additives are not particularly limited as long as the effects of the present invention can be obtained. For example, surfactants, inorganic conductive agents, antifoaming agents, coupling agents, antioxidants, ultraviolet absorbing agents, etc. can be used.
The surfactant may be a nonionic, anionic or cationic surfactant, with the nonionic surfactant being preferred from the standpoint of storage stability. A polymer surfactant such as polyvinylpyrrolidone may also be added.
Examples of the inorganic conductive agent include metal ions, conductive carbon, etc. Metal ions can be generated by dissolving a metal salt in water.
The antifoaming agent includes silicone resin, polydimethylsiloxane, silicone oil, and the like.
The coupling agent may be a silane coupling agent having an epoxy group, a vinyl group or an amino group.
Examples of the antioxidant include phenol-based antioxidants, amine-based antioxidants, phosphorus-based antioxidants, sulfur-based antioxidants, and sugars.
Examples of the ultraviolet absorber include benzotriazole-based ultraviolet absorbers, benzophenone-based ultraviolet absorbers, salicylate-based ultraviolet absorbers, cyanoacrylate-based ultraviolet absorbers, oxanilide-based ultraviolet absorbers, hindered amine-based ultraviolet absorbers, and benzoate-based ultraviolet absorbers.

導電性高分子分散液が前記添加剤を含有する場合、その含有割合は、添加剤の種類に応じて適宜決められるが、例えば、導電性複合体100質量部に対して、0.001質量部以上10質量部以下の範囲とすることができる。 When the conductive polymer dispersion contains the additive, the content ratio is appropriately determined depending on the type of additive, but can be, for example, in the range of 0.001 parts by mass to 10 parts by mass per 100 parts by mass of the conductive composite.

<導電性高分子分散液の製造方法>
本態様の導電性高分子分散液を製造する方法としては、例えば、導電性複合体の水分散液に、分散媒、上述のポリエステル樹脂及びアルコキシシリル基含有アクリル系樹脂を添加する方法が挙げられる。
導電性複合体の水分散液は、ポリアニオンの水溶液中でπ共役系導電性高分子を形成するモノマーを公知方法によって化学酸化重合させて得てもよいし、市販のものを使用しても構わない。
調製した導電性高分子分散液において、導電性複合体は自己架橋性樹脂の自己架橋を促進する触媒として機能するので、ポリエステル樹脂及びアルコキシシリル基含有アクリル系樹脂を予め混合した自己架橋樹脂として調製しておき、塗工の直前に導電性複合体を自己架橋性樹脂に混合して導電性高分子分散液を得ることが好ましい。
<Method of producing conductive polymer dispersion>
An example of a method for producing the conductive polymer dispersion of this embodiment is a method in which a dispersion medium, the above-mentioned polyester resin, and an alkoxysilyl group-containing acrylic resin are added to an aqueous dispersion of a conductive complex.
The aqueous dispersion of the conductive complex may be obtained by chemically oxidizing and polymerizing a monomer that forms a π-conjugated conductive polymer in an aqueous solution of a polyanion by a known method, or a commercially available product may be used.
In the prepared conductive polymer dispersion, the conductive complex functions as a catalyst that promotes self-crosslinking of the self-crosslinking resin. Therefore, it is preferable to prepare a self-crosslinking resin by previously mixing the polyester resin and the alkoxysilyl group-containing acrylic resin, and to mix the conductive complex with the self-crosslinking resin immediately before coating to obtain the conductive polymer dispersion.

≪導電性積層体≫
本発明の第二態様は、基材と、前記基材の少なくとも一部の面に形成された導電層と、を備える導電性積層体であり、前記導電層は、第一態様の導電性高分子分散液の硬化物からなる。
<Conductive laminate>
A second aspect of the present invention is a conductive laminate comprising a substrate and a conductive layer formed on at least a partial surface of the substrate, the conductive layer comprising a cured product of the conductive polymer dispersion of the first aspect.

[導電層]
前記導電層の形成範囲は、基材が有する任意の面の全体でもよいし、一部でもよい。導電性フィルムにおいては、フィルム基材の一方の面又は他方の面のほぼ全体にほぼ均一な厚さの導電層が形成されていることが好ましい。基材が有する面の一部のみに導電層が形成されている場合、例えば、当該導電層は回路や電極などの微細な導電パターンであってもよいし、導電層が設けられた領域と設けられていない領域とが同じ面に存在して大まかに区分けされただけであってもよい。
[Conductive layer]
The conductive layer may be formed over the entire surface of any surface of the substrate, or over a portion of the entire surface. In the conductive film, it is preferable that a conductive layer of substantially uniform thickness is formed over substantially the entire surface of one surface or the other surface of the film substrate. When a conductive layer is formed only over a portion of the surface of the substrate, the conductive layer may be, for example, a fine conductive pattern such as a circuit or an electrode, or the conductive layer may be provided on the same surface and the conductive layer may be not provided on the same surface and may be roughly divided.

前記導電層の平均厚みとしては、例えば、10nm以上100μm以下が好ましく、20nm以上50μm以下がより好ましく、30nm以上30μm以下がさらに好ましい。
導電層の平均厚さが前記下限値以上であれば、高い導電性を発揮でき、前記上限値以下であれば、導電層の基材及び後述の離型層に対する密着性がより向上する。
The average thickness of the conductive layer is, for example, preferably from 10 nm to 100 μm, more preferably from 20 nm to 50 μm, and even more preferably from 30 nm to 30 μm.
When the average thickness of the conductive layer is equal to or greater than the lower limit, high conductivity can be exhibited, and when the average thickness is equal to or less than the upper limit, the adhesion of the conductive layer to the substrate and the release layer described below is further improved.

(作用効果)
前記導電層は、前記導電性複合体に加えて前記自己架橋性樹脂を含有するので、基材及び後述の離型層に対する密着性が向上している。このメカニズムの詳細は未解明であるが、アルコキシシリル基含有アクリル系樹脂及びポリエステル樹脂のうち、何れか一方を欠くと密着性が向上しないことから(後述の比較例参照)、これらの共存下で起こる物理化学的な相互作用が、導電層の密着性の向上に寄与していると考えられる。また、後述の比較例で示す様に、アルコキシシリル基含有アクリル系樹脂及びポリエステル樹脂が単に共存しているだけでは足りず、これらが自己架橋するための触媒として働く導電性複合体の共存が、密着性の向上に必要である。
(Action and Effect)
The conductive layer contains the self-crosslinking resin in addition to the conductive complex, and therefore the adhesion to the substrate and the release layer described below is improved. Although the details of this mechanism are not yet clear, the lack of either the alkoxysilyl group-containing acrylic resin or the polyester resin does not improve the adhesion (see the comparative example described below), so it is considered that the physicochemical interaction occurring in the coexistence of these contributes to the improvement of the adhesion of the conductive layer. In addition, as shown in the comparative example described below, it is not enough for the alkoxysilyl group-containing acrylic resin and the polyester resin to simply coexist, and the coexistence of the conductive complex that acts as a catalyst for the self-crosslinking of these is necessary to improve the adhesion.

[基材]
前記基材は、絶縁性材料からなる基材であってもよいし、導電性材料からなる基材であってもよい。基材の形状は特に制限されず、例えば、フィルム、基板等の平面を主体とする形状が挙げられる。
絶縁性材料としては、ガラス、合成樹脂、セラミックス等が挙げられる。
導電性材料としては、金属、導電性金属酸化物、カーボン等が挙げられる。
[Base material]
The substrate may be a substrate made of an insulating material or a substrate made of a conductive material. The shape of the substrate is not particularly limited, and examples thereof include a shape mainly having a flat surface, such as a film or a substrate.
Examples of insulating materials include glass, synthetic resin, and ceramics.
The conductive material may be a metal, a conductive metal oxide, carbon, or the like.

(フィルム基材)
前記基材としてフィルム基材を用いると、導電性積層体は導電性フィルムとなる。
前記フィルム基材としては、例えば、合成樹脂からなるプラスチックフィルムが挙げられる。前記合成樹脂としては、例えば、エチレン-メチルメタクリレート共重合樹脂、エチレン-酢酸ビニル共重合樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアルコール、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリフッ化ビニリデン、ポリアリレート、スチレン系エラストマー、ポリエステル系エラストマー、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルイミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリフェニレンスルフィド、ポリイミド、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネートなどが挙げられる。
フィルム基材と導電層との密着性を高める観点から、フィルム基材用の合成樹脂はポリエステル樹脂であることが好ましく、なかでも、ポリエチレンテレフタレートが好ましい。
(Film substrate)
When a film substrate is used as the substrate, the conductive laminate becomes a conductive film.
The film substrate may be, for example, a plastic film made of a synthetic resin, such as ethylene-methyl methacrylate copolymer resin, ethylene-vinyl acetate copolymer resin, polyethylene, polypropylene, polystyrene, polyvinyl chloride, polyvinyl alcohol, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyacrylate, polycarbonate, polyvinylidene fluoride, polyarylate, styrene-based elastomer, polyester-based elastomer, polyethersulfone, polyetherimide, polyetheretherketone, polyphenylene sulfide, polyimide, cellulose triacetate, and cellulose acetate propionate.
From the viewpoint of improving the adhesion between the film substrate and the conductive layer, the synthetic resin for the film substrate is preferably a polyester resin, and among these, polyethylene terephthalate is preferable.

フィルム基材用の合成樹脂は、非晶性でもよいし、結晶性でもよい。
フィルム基材は、未延伸のものでもよいし、延伸されたものでもよい。
フィルム基材には、前記導電層の密着性をさらに向上させるために、コロナ放電処理、プラズマ処理、火炎処理等の表面処理が施されてもよい。
The synthetic resin for the film substrate may be either amorphous or crystalline.
The film substrate may be either unstretched or stretched.
The film substrate may be subjected to a surface treatment such as a corona discharge treatment, a plasma treatment, or a flame treatment in order to further improve the adhesion of the conductive layer.

フィルム基材の平均厚みは、5μm以上500μm以下が好ましく、20μm以上200μm以下がより好ましい。フィルム基材の平均厚みが前記下限値以上であれば、破断しにくくなり、前記上限値以下であれば、フィルムとして充分な可撓性を確保できる。
フィルム基材の平均厚みは、無作為に選択される10箇所について厚さを測定し、その測定値を平均した値である。
The average thickness of the film substrate is preferably 5 μm to 500 μm, more preferably 20 μm to 200 μm. If the average thickness of the film substrate is equal to or more than the lower limit, the film is less likely to break, and if the average thickness is equal to or less than the upper limit, the film can have sufficient flexibility.
The average thickness of the film substrate is determined by measuring the thickness at 10 randomly selected points and averaging the measured values.

(ガラス基材)
ガラス基材としては、例えば、無アルカリガラス基材、ソーダ石灰ガラス基材、ホウケイ酸ガラス基材、石英ガラス基材等が挙げられる。基材にアルカリ成分が含まれると、導電層の導電性が低下する傾向にあるため、前記ガラス基材のなかでも、無アルカリガラスが好ましい。ここで、無アルカリガラスとは、アルカリ成分の含有量がガラス組成物の総質量に対し、0.1質量%以下のガラス組成物のことである。
(Glass substrate)
Examples of the glass substrate include an alkali-free glass substrate, a soda-lime glass substrate, a borosilicate glass substrate, and a quartz glass substrate. If the substrate contains an alkali component, the conductivity of the conductive layer tends to decrease, so among the above glass substrates, an alkali-free glass is preferred. Here, the alkali-free glass refers to a glass composition in which the content of the alkali component is 0.1 mass% or less with respect to the total mass of the glass composition.

ガラス基材の平均厚みとしては、100μm以上3000μm以下であることが好ましく、100μm以上1000μm以下であることがより好ましい。ガラス基材の平均厚みが前記下限値以上であれば、破損しにくくなり、前記上限値以下であれば、導電性積層体の薄型化に寄与できる。
ガラス基材の平均厚みは、無作為に選択される10箇所について厚さを測定し、その測定値を平均した値である。
The average thickness of the glass substrate is preferably 100 μm or more and 3000 μm or less, and more preferably 100 μm or more and 1000 μm or less. If the average thickness of the glass substrate is equal to or more than the lower limit, the glass substrate is less likely to break, and if the average thickness is equal to or less than the upper limit, the conductive laminate can be made thinner.
The average thickness of the glass substrate is determined by measuring the thickness at 10 randomly selected points and averaging the measured values.

[離型層]
本態様の導電性積層体において、前記導電層の表面に、シリコーン系化合物を含む離型層がさらに積層されていてもよい。導電性フィルムが有する導電層の表面に離型層が積層されたものは、導電性離型フィルムと呼ばれることがある。
[Release layer]
In the conductive laminate of this embodiment, a release layer containing a silicone compound may be further laminated on the surface of the conductive layer. A conductive film having a release layer laminated on the surface of the conductive layer is sometimes called a conductive release film.

前記離型層は、公知の離型フィルムが備える離型層と同様の構成を取り得る。離型層に含まれるシリコーン系化合物が離型性(易剥離性)の発揮に寄与する。 The release layer may have a similar structure to that of a release layer provided in a known release film. The silicone-based compound contained in the release layer contributes to the exertion of releasability (easy peelability).

前記シリコーン系化合物として、公知の離型剤に含まれるシリコーン系化合物を適用することができる。ここでシリコーンとは、シロキサン結合に有機基(例えばアルキル基やフェニル基など)が結合した主鎖(シリコーン骨格)を有する、オルガノポリシロキサンと総称されるポリマーである。オルガノポリシロキサンとしては、ポリジメチルシロキサン(PDMS)が好ましく、ポリジメチルシロキサンの一部に反応性官能基又は非反応性官能基を有するものも好ましい。また、オルガノポリシロキサンを側鎖に有するアクリル樹脂やアルキッド樹脂なども前記シリコーン系化合物として適用できる。 As the silicone-based compound, a silicone-based compound contained in a known mold release agent can be used. Here, silicone is a polymer collectively called organopolysiloxane, which has a main chain (silicone skeleton) in which an organic group (e.g., an alkyl group or a phenyl group) is bonded to a siloxane bond. As the organopolysiloxane, polydimethylsiloxane (PDMS) is preferable, and polydimethylsiloxane having a reactive functional group or a non-reactive functional group in part is also preferable. In addition, acrylic resins and alkyd resins having organopolysiloxane in the side chain can also be used as the silicone-based compound.

前記離型層に含まれるシリコーン系化合物としては、安定した離型性と、製造時の優れた製膜性とを発揮することから、硬化型シリコーンの硬化物が好ましい。
硬化型シリコーンは、付加硬化型シリコーン、縮合硬化型シリコーンのいずれであってもよい。硬化型シリコーンは、反応すると三次元架橋構造を形成して硬化する。
付加硬化型シリコーンとしては、シロキサン結合を有する直鎖状ポリマーであって、前記直鎖の両方の末端にビニル基を有するポリジメチルシロキサンと、ハイドロジェンシランとを有するものが挙げられる。硬化を促進させるために白金系硬化触媒を用いてもよい。
付加硬化型シリコーンの具体例としては、KS-3703T、KS-847T、KM-3951、X-52-151、X-52-6068、X-52-6069(信越化学工業社製)等が挙げられる。
付加硬化型シリコーンは有機溶剤に溶解又は分散しているものが好適に使用される。
The silicone compound contained in the release layer is preferably a cured product of a curable silicone, since it exhibits stable releasability and excellent film-forming properties during production.
The curable silicone may be either an addition curable silicone or a condensation curable silicone. When the curable silicone reacts, it forms a three-dimensional crosslinked structure and cures.
The addition curing silicone may be a linear polymer having a siloxane bond, and may include a polydimethylsiloxane having vinyl groups at both ends of the linear chain, and a hydrogen silane. A platinum-based curing catalyst may be used to accelerate the curing.
Specific examples of addition curing silicones include KS-3703T, KS-847T, KM-3951, X-52-151, X-52-6068, and X-52-6069 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.).
The addition curing type silicone is preferably dissolved or dispersed in an organic solvent.

本態様の離型層に含まれるシリコーン系化合物の含有量は、離型層の総質量に対して、例えば、20質量%以上100質量%とすることができ、80質量%以上100質量%以下の範囲が好ましい。
本態様の離型層には、導電層の離型層に対する密着性が損なわれず、離型層の離型性が損なわれない範囲であれば、シリコーン系化合物以外のバインダ成分や、密着性向上剤、帯電防止剤等の公知の添加剤を含んでもよい。
The content of the silicone-based compound in the release layer of this embodiment can be, for example, 20% by mass or more and 100% by mass or less, and is preferably in the range of 80% by mass or more and 100% by mass or less, based on the total mass of the release layer.
The release layer of this embodiment may contain binder components other than silicone-based compounds, as well as known additives such as adhesion improvers and antistatic agents, as long as the adhesion of the conductive layer to the release layer is not impaired and the releasability of the release layer is not impaired.

離型層の平均厚さは、例えば、10nm以上5000nm以下が好ましく、20nm以上1000nm以下がより好ましく、30nm以上500nm以下がさらに好ましい。
前記離型層の平均厚さが前記下限値以上であれば、より高い離型性を発揮でき、前記上限値以下であれば、導電層に対する密着性がより向上する。
The average thickness of the release layer is, for example, preferably 10 nm or more and 5000 nm or less, more preferably 20 nm or more and 1000 nm or less, and even more preferably 30 nm or more and 500 nm or less.
When the average thickness of the release layer is equal to or greater than the lower limit, higher releasability can be exhibited, and when it is equal to or less than the upper limit, adhesion to the conductive layer is further improved.

本態様の導電性離型フィルムの離型層は、導電層の全面を覆っていてもよいし、導電層の一部のみを覆い、導電層の残部が表面に露出していてもよい。 The release layer of the conductive release film of this embodiment may cover the entire surface of the conductive layer, or may cover only a portion of the conductive layer, with the remainder of the conductive layer being exposed on the surface.

(作用効果)
前記離型層が積層された前記導電層には、アルコキシシリル基含有アクリル系樹脂及びポリエステル樹脂が含まれるので、導電層は、シリコーン系化合物を含む離型層に対しても充分な密着性(接着性)を発揮し得る。この結果、前記離型層は、本体である導電性積層体から剥離することなく、離型層に貼付された物に対する優れた離型性を発揮することができる。
前記離型層は、基本的には絶縁層である。このため、離型層が覆うことにより導電層が露出していない表面は、基本的には導電性を示さないが、内部に導電層が存在することにより、導電性積層体自体の帯電を防止することができる。
(Action and Effect)
Since the conductive layer on which the release layer is laminated contains an alkoxysilyl group-containing acrylic resin and a polyester resin, the conductive layer can exhibit sufficient adhesion (adhesiveness) even to the release layer containing a silicone compound. As a result, the release layer can exhibit excellent releasability with respect to an object attached to the release layer without peeling off from the conductive laminate, which is the main body.
The release layer is basically an insulating layer, and therefore the surface covered with the release layer and not exposed to the conductive layer does not exhibit conductivity basically, but the presence of the conductive layer inside makes it possible to prevent the conductive laminate itself from being charged.

≪導電性積層体の製造方法≫
本発明の第三態様は、基材の少なくとも一部の面に、第一態様の導電性高分子分散液を塗工し、導電層を形成することを含む、導電性積層体の製造方法である。本態様の製造方法により、第二態様の導電性積層体を製造することができる。
<Method for manufacturing conductive laminate>
A third aspect of the present invention is a method for producing a conductive laminate, the method comprising: applying the conductive polymer dispersion of the first aspect to at least a part of a surface of a substrate to form a conductive layer. The conductive laminate of the second aspect can be produced by the production method of this aspect.

導電性高分子分散液を基材の任意の面に塗工(塗布)する方法としては、例えば、グラビアコーター、ロールコーター、カーテンフローコーター、スピンコーター、バーコーター、リバースコーター、キスコーター、ファウンテンコーター、ロッドコーター、エアドクターコーター、ナイフコーター、ブレードコーター、キャストコーター、スクリーンコーター等のコーターを用いた方法、エアスプレー、エアレススプレー、ローターダンプニング等の噴霧器を用いた方法、ディップ等の浸漬方法等を適用することができる。 Methods for applying the conductive polymer dispersion to any surface of a substrate include, for example, methods using a coater such as a gravure coater, roll coater, curtain flow coater, spin coater, bar coater, reverse coater, kiss coater, fountain coater, rod coater, air doctor coater, knife coater, blade coater, cast coater, or screen coater; methods using a sprayer such as an air spray, airless spray, or rotor dampening; and immersion methods such as dipping.

導電性高分子分散液の基材への塗布量は特に制限されないが、均一にムラなく塗工することと、導電性と膜強度を勘案して、固形分として、0.01g/m以上10.0g/m以下の範囲であることが好ましい。 The amount of the conductive polymer dispersion applied to the substrate is not particularly limited, but in consideration of uniform and even application and the electrical conductivity and film strength, the amount is preferably in the range of 0.01 g/ m2 or more and 10.0 g/ m2 or less in terms of solid content.

基材上に塗工した導電性高分子分散液からなる塗膜を乾燥させて、分散媒を除去することが好ましい。この乾燥処理において、自己架橋性樹脂の自己架橋が促進され、形成される導電層の機械的強度が高まるとともに、基材及び離型層に対する密着性が向上する。
塗膜を乾燥する方法としては、加熱乾燥、真空乾燥等が挙げられる。加熱乾燥としては、例えば、熱風加熱や、赤外線加熱などの方法を採用できる。
加熱乾燥を適用する場合、加熱温度は、使用する分散媒に応じて適宜設定されるが、通常は、50℃以上200℃以下の範囲内である。ここで、加熱温度は、乾燥装置の設定温度である。上記加熱温度の範囲における好適な乾燥時間としては、0.5分以上30分以下が好ましく、1分以上15分以下がより好ましい。
It is preferable to remove the dispersion medium by drying the coating film made of the conductive polymer dispersion applied onto the substrate. In this drying treatment, the self-crosslinking of the self-crosslinking resin is promoted, the mechanical strength of the formed conductive layer is increased, and the adhesion to the substrate and the release layer is improved.
Methods for drying the coating film include heat drying, vacuum drying, etc. Examples of heat drying that can be used include hot air heating and infrared heating.
When applying heat drying, the heating temperature is appropriately set depending on the dispersion medium used, but is usually within the range of 50° C. to 200° C. Here, the heating temperature is the set temperature of the drying device. A suitable drying time within the above heating temperature range is preferably 0.5 minutes to 30 minutes, more preferably 1 minute to 15 minutes.

前記塗膜が乾燥することにより、前記塗膜に含まれる自己架橋性樹脂が自己架橋し、前記塗膜が硬化してなる導電層(導電膜)が形成された導電性積層体を得ることができる。 When the coating film dries, the self-crosslinking resin contained in the coating film self-crosslinks, and the coating film hardens to form a conductive layer (conductive film), resulting in a conductive laminate.

前記導電層の表面にさらに前記離型層を積層する方法は特に制限されず、例えば、前記導電層の表面に、シリコーン系化合物を含む離型剤組成物を塗布し、形成した塗膜を乾燥することにより離型層を得る方法が挙げられる。 There are no particular limitations on the method for laminating the release layer on the surface of the conductive layer, and an example of such a method is to coat the surface of the conductive layer with a release agent composition containing a silicone compound and dry the resulting coating to obtain a release layer.

前記離型剤組成物はシリコーン系化合物を含む。シリコーン系化合物の説明は第二態様の説明と同様であるので、ここでは説明を省略する。
離型剤組成物には、シリコーン系化合物以外に、必要に応じて、有機溶剤、硬化触媒、シリコーン系化合物以外のバインダ成分や、密着性向上剤、帯電防止剤等の添加剤を配合してもよい。シリコーン系化合物として付加硬化型シリコーンを用いる場合、有機溶剤として、トルエン及びメチルエチルケトンのうち少なくとも一方を配合することが好ましい。離型剤組成物に含まれる各材料の配合割合や配合方法については常法が適用される。
離型剤組成物を導電層に塗布する方法、塗布した塗膜を乾燥し、硬化させる方法は、導電層を形成する際の塗布方法及び乾燥・硬化方法と同様に行うことができる。
以上の方法により、本発明にかかる導電性積層体を製造することができる。
The release agent composition contains a silicone-based compound. The description of the silicone-based compound is the same as that of the second embodiment, and therefore will not be repeated here.
In addition to the silicone-based compound, the release agent composition may contain additives such as an organic solvent, a curing catalyst, a binder component other than the silicone-based compound, an adhesion improver, and an antistatic agent, if necessary. When an addition curing type silicone is used as the silicone-based compound, it is preferable to add at least one of toluene and methyl ethyl ketone as the organic solvent. The mixing ratio and mixing method of each material contained in the release agent composition are determined by conventional methods.
The method of applying the release agent composition to the conductive layer and the method of drying and curing the applied coating film can be the same as the application method and drying/curing method used when forming the conductive layer.
By the above-mentioned method, the conductive laminate according to the present invention can be produced.

(製造例1)
1000mlのイオン交換水に206gのスチレンスルホン酸ナトリウムを溶解し、80℃で攪拌しながら、予め10mlの水に溶解した1.14gの過硫酸アンモニウム酸化剤溶液を20分間滴下し、この溶液を12時間攪拌した。
得られたポリスチレンスルホン酸ナトリウム含有溶液に10質量%に希釈した硫酸を1000ml添加し、ポリスチレンスルホン酸含有溶液を得た。次に、限外ろ過法によりポリスチレンスルホン酸含有溶液の約1000mlの溶媒を除去し、残液に2000mlのイオン交換水を加え、限外ろ過法により約2000mlの溶媒を除去して、ポリスチレンスルホン酸を水洗した。この水洗操作を3回繰り返した。
得られた溶液中の水を減圧除去して、無色の固形状のポリスチレンスルホン酸を得た。
(Production Example 1)
206 g of sodium styrenesulfonate was dissolved in 1000 ml of ion-exchanged water, and while stirring at 80° C., 1.14 g of an oxidizing agent solution of ammonium persulfate previously dissolved in 10 ml of water was added dropwise over 20 minutes, and the solution was stirred for 12 hours.
1000ml of sulfuric acid diluted to 10% by mass was added to the obtained sodium polystyrene sulfonate-containing solution to obtain a polystyrene sulfonic acid-containing solution. Next, about 1000ml of the solvent was removed from the polystyrene sulfonic acid-containing solution by ultrafiltration, 2000ml of ion-exchanged water was added to the remaining liquid, and about 2000ml of the solvent was removed by ultrafiltration to wash the polystyrene sulfonic acid with water. This water washing operation was repeated three times.
Water in the resulting solution was removed under reduced pressure to obtain colorless solid polystyrene sulfonic acid.

(製造例2)
0.5gの3,4-エチレンジオキシチオフェンと、1.5gのポリスチレンスルホン酸を15.0gのイオン交換水に溶かした溶液を20℃で混合した。次に、イオン交換水89.5gを添加した。
得られた混合溶液を20℃に保ち、掻き混ぜながら、0.03gの硫酸第二鉄を4.97gのイオン交換水に溶かした溶液と、1.1gの過硫酸アンモニウムを8.9gのイオン交換水に溶かした溶液とをゆっくり添加し、得られた反応液を24時間攪拌して反応させた。
上記反応により、π共役系導電性高分子であるポリ(3,4-エチレンジオキシチオフェン)及びポリスチレンスルホン酸を含む導電性複合体(PEDOT-PSS)と、分散媒である水とを含むPEDOT-PSS水分散液を得た。
この分散液にデュオライトC255LFH(住化ケムテックス社製、陽イオン交換樹脂)13.2gとデュオライトA368S(住化ケムテックス社製、陰イオン交換樹脂)13.2gを加え、濾過してイオン交換樹脂を除き、前記酸化剤及び前記触媒が除去されたPEDOT-PSS水分散液(固形分1.3質量%)を得た。
(Production Example 2)
A solution of 0.5 g of 3,4-ethylenedioxythiophene and 1.5 g of polystyrene sulfonic acid dissolved in 15.0 g of ion-exchanged water was mixed at 20° C. Next, 89.5 g of ion-exchanged water was added.
The resulting mixed solution was kept at 20° C., and while stirring, a solution of 0.03 g of ferric sulfate dissolved in 4.97 g of ion-exchanged water and a solution of 1.1 g of ammonium persulfate dissolved in 8.9 g of ion-exchanged water were slowly added, and the resulting reaction solution was stirred for 24 hours to cause a reaction.
By the above reaction, a PEDOT-PSS aqueous dispersion was obtained, which contains a conductive complex (PEDOT-PSS) containing poly(3,4-ethylenedioxythiophene) and polystyrenesulfonic acid, which are π-conjugated conductive polymers, and water, which is a dispersion medium.
To this dispersion, 13.2 g of Duolite C255LFH (a cation exchange resin manufactured by Sumika Chemtex Corporation) and 13.2 g of Duolite A368S (anion exchange resin manufactured by Sumika Chemtex Corporation) were added, and the ion exchange resin was removed by filtration to obtain an aqueous dispersion of PEDOT-PSS (solid content 1.3% by mass) from which the oxidant and the catalyst had been removed.

(製造例3)ポリエステル樹脂Aの調製
留出管、窒素導入管、温度計、撹拌機を備えた四つロフラスコにテレフタル酸ジメチル854g、5-ソジウムスルホイソフタル酸355g、エチレングリコール186g、ジエチレングリコール742g及び、反応触媒として、酢酸亜鉛1gを仕込んだ。その後、フラスコ内を130℃から170℃まで2時間かけて昇温して、エステル交換反応させた後、イソフタル酸730g、三酸化アンチモン1gを添加し、170℃から200℃まで2時間かけて昇温してエステル化反応を行った。次いで、徐々に昇温、減圧し、最終的に反応温度を250℃、真空度5mmHg以下で1時間重縮合反応を行った。その後、冷却し、常圧下でイオン交換水を加えて、不揮発分(固形分)が25質量%のポリエステル樹脂Aを得た。
(Production Example 3) Preparation of polyester resin A 854 g of dimethyl terephthalate, 355 g of 5-sodium sulfoisophthalic acid, 186 g of ethylene glycol, 742 g of diethylene glycol, and 1 g of zinc acetate as a reaction catalyst were charged into a four-neck flask equipped with a distillation tube, a nitrogen inlet tube, a thermometer, and a stirrer. The temperature in the flask was then raised from 130°C to 170°C over 2 hours to carry out an ester exchange reaction, after which 730 g of isophthalic acid and 1 g of antimony trioxide were added, and the temperature was raised from 170°C to 200°C over 2 hours to carry out an esterification reaction. Next, the temperature was gradually raised and the pressure was reduced, and finally the reaction temperature was set to 250°C and the degree of vacuum was set to 5 mmHg or less to carry out a polycondensation reaction for 1 hour. After that, the mixture was cooled and ion-exchanged water was added under normal pressure to obtain a polyester resin A having a non-volatile content (solid content) of 25% by mass.

(製造例4)アルコキシシリル基含有アクリル系樹脂Bの調製
ビーカーにイオン交換水18g、界面活性剤としてエレミノールRS-3000(三洋化成工業株式会社製、アニオン系界面活性剤、有効成分50質量%)3gを仕込んだ。その後、ビーカー内を撹拌しつつ、3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン40gを投入し、モノマー乳化液を作製した。
次に、コンデンサー、モノマー滴下用ロート、温度計、撹拌機を備えた四つロフラスコに、イオン交換水37.5g、界面活性剤(エレミノールRS-3000)1g、過硫酸カリウム0.5gを仕込んだ。その後、フラスコ内を撹拌しつつ窒素置換後、加熱を始め、75℃で前記モノマー乳化液を4時間かけて摘下した。滴下終了後も液温を75~85℃に維持することで反応を進め、滴下終了後から4時間後に冷却した。冷却後、さらにイオン交換水を加えて、不揮発分(固形分)25質量%のアルコキシシリル基含有アクリル系樹脂Bを得た。
(Production Example 4) Preparation of Alkoxysilyl Group-Containing Acrylic Resin B 18 g of ion-exchanged water and 3 g of Eleminol RS-3000 (manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd., anionic surfactant, active ingredient 50% by mass) were placed in a beaker. Then, 40 g of 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane was added while stirring the contents of the beaker to prepare a monomer emulsion.
Next, 37.5 g of ion-exchanged water, 1 g of surfactant (Eleminol RS-3000), and 0.5 g of potassium persulfate were charged into a four-bottom flask equipped with a condenser, a monomer dropping funnel, a thermometer, and a stirrer. After that, the flask was purged with nitrogen while stirring, heating was started, and the monomer emulsion was dropped at 75°C over 4 hours. The reaction was allowed to proceed by maintaining the liquid temperature at 75 to 85°C even after the dropwise addition was completed, and the mixture was cooled 4 hours after the dropwise addition was completed. After cooling, ion-exchanged water was further added to obtain an alkoxysilyl group-containing acrylic resin B having a non-volatile content (solid content) of 25% by mass.

(製造例5)アルコキシシリル基含有アクリル系樹脂Cの調製
3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン40gを3-アクリロキシプロピルトリメトキシシラン40gにしたこと以外は、製造例4と同様にして、不揮発分25質量%のアルコキシシリル基含有アクリル系樹脂Cを得た。
(Production Example 5) Preparation of Alkoxysilyl Group-Containing Acrylic Resin C Alkoxysilyl group-containing acrylic resin C having a nonvolatile content of 25 mass % was obtained in the same manner as in Production Example 4, except that 40 g of 3-acryloxypropyltrimethoxysilane was used instead of 40 g of 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane.

(製造例6)アルコキシシリル基含有アクリル系樹脂Dの調製
3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン40gを3-メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン40gにしたこと以外は、製造例4と同様にして、不揮発分25質量%のアルコキシシリル基含有アクリル系樹脂Dを得た。
(Production Example 6) Preparation of Alkoxysilyl Group-Containing Acrylic Resin D Alkoxysilyl group-containing acrylic resin D having a nonvolatile content of 25 mass % was obtained in the same manner as in Production Example 4, except that 40 g of 3-methacryloxypropyltriethoxysilane was used instead of 40 g of 3-methacryloxypropyltriethoxysilane.

(製造例7)アルコキシシリル基含有アクリル系樹脂Eの調製
3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン40gを3-アクリロキシプロピルトリエトキシシラン40gにしたこと以外は、製造例4と同様にして、不揮発分25質量%のアルコキシシリル基含有アクリル系樹脂Dを得た。
(Production Example 7) Preparation of Alkoxysilyl Group-Containing Acrylic Resin E An alkoxysilyl group-containing acrylic resin D having a nonvolatile content of 25 mass% was obtained in the same manner as in Production Example 4, except that 40 g of 3-acryloxypropyltriethoxysilane was used instead of 40 g of 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane.

(製造例8)自己架橋性樹脂Fの調製
製造例3で得たポリエステル樹脂Aと、製造例4で得たアルコキシシリル基含有アクリル系樹脂Bとを固形分質量比50/50で配合して、不揮発分(固形分)25質量%の自己架橋性樹脂Fを得た。
(Production Example 8) Preparation of self-crosslinking resin F The polyester resin A obtained in Production Example 3 and the alkoxysilyl group-containing acrylic resin B obtained in Production Example 4 were blended in a solid content mass ratio of 50/50 to obtain a self-crosslinking resin F having a non-volatile content (solid content) of 25 mass%.

(製造例9)自己架橋性樹脂Gの調製
製造例3で得たポリエステル樹脂Aと、製造例5で得たアルコキシシリル基含有アクリル系樹脂Cとを固形分質量比50/50で配合して、不揮発分(固形分)25質量%の自己架橋性樹脂Gを得た。
(Production Example 9) Preparation of self-crosslinking resin G The polyester resin A obtained in Production Example 3 and the alkoxysilyl group-containing acrylic resin C obtained in Production Example 5 were blended in a solid content mass ratio of 50/50 to obtain a self-crosslinking resin G having a non-volatile content (solid content) of 25 mass%.

(製造例10)自己架橋性樹脂Hの調製
製造例3で得たポリエステル樹脂Aと、製造例6で得たアルコキシシリル基含有アクリル系樹脂Dとを固形分質量比50/50で配合して、不揮発分(固形分)25質量%の自己架橋性樹脂Hを得た。
(Production Example 10) Preparation of self-crosslinking resin H The polyester resin A obtained in Production Example 3 and the alkoxysilyl group-containing acrylic resin D obtained in Production Example 6 were blended in a solid content mass ratio of 50/50 to obtain a self-crosslinking resin H having a non-volatile content (solid content) of 25 mass%.

(製造例11)自己架橋性樹脂Iの調製
製造例3で得たポリエステル樹脂Aと、製造例7で得たアルコキシシリル基含有アクリル系樹脂Eとを固形分質量比50/50で配合して、不揮発分(固形分)25質量%の自己架橋性樹脂Iを得た。
(Production Example 11) Preparation of self-crosslinking resin I The polyester resin A obtained in Production Example 3 and the alkoxysilyl group-containing acrylic resin E obtained in Production Example 7 were blended in a solid content mass ratio of 50/50 to obtain a self-crosslinking resin I having a non-volatile content (solid content) of 25 mass%.

(製造例12)自己架橋性樹脂Jの調製
製造例3で得たポリエステル樹脂Aと、製造例4で得たアルコキシシリル基含有アクリル系樹脂Bとを固形分質量比25/75で配合して、不揮発分(固形分)25質量%の自己架橋性樹脂Jを得た。
(Production Example 12) Preparation of self-crosslinking resin J The polyester resin A obtained in Production Example 3 and the alkoxysilyl group-containing acrylic resin B obtained in Production Example 4 were blended in a solid content mass ratio of 25/75 to obtain a self-crosslinking resin J having a non-volatile content (solid content) of 25 mass%.

(製造例13)自己架橋性樹脂Kの調製
製造例3で得たポリエステル樹脂Aと、製造例4で得たアルコキシシリル基含有アクリル系樹脂Bとを固形分質量比75/25で配合して、不揮発分(固形分)25質量%の自己架橋性樹脂Kを得た。
(Production Example 13) Preparation of self-crosslinking resin K The polyester resin A obtained in Production Example 3 and the alkoxysilyl group-containing acrylic resin B obtained in Production Example 4 were blended in a solid content mass ratio of 75/25 to obtain a self-crosslinking resin K having a non-volatile content (solid content) of 25 mass%.

(製造例14)自己架橋性樹脂Lの調製
製造例3で得たポリエステル樹脂Aと製造例4で得たアルコキシシリル基含有アクリル系樹脂Bとを固形分質量比10/90で配合して、不揮発分(固形分)25質量%の自己架橋性樹脂Lを得た。
(Production Example 14) Preparation of self-crosslinking resin L The polyester resin A obtained in Production Example 3 and the alkoxysilyl group-containing acrylic resin B obtained in Production Example 4 were blended in a solid content mass ratio of 10/90 to obtain a self-crosslinking resin L having a non-volatile content (solid content) of 25 mass%.

(製造例15)自己架橋性樹脂Mの調製
製造例3で得たポリエステル樹脂Aと製造例4で得たアルコキシシリル基含有アクリル系樹脂Bとを固形分質量比90/10で配合して、不揮発分(固形分)25質量%の自己架橋性樹脂M を得た。
(Production Example 15) Preparation of Self-Crosslinking Resin M The polyester resin A obtained in Production Example 3 and the alkoxysilyl group-containing acrylic resin B obtained in Production Example 4 were blended in a solid content mass ratio of 90/10 to obtain a self-crosslinking resin M having a non-volatile content (solid content) of 25 mass%.

(実施例1)
製造例2で得たPEDOT-PSS水分散液20gと、メタノール70gと、自己架橋性樹脂Fの10gを混合して導電性高分子分散液を得た。
#4のバーコーターを用いて導電性高分子分散液をPETフィルムに塗布し、120℃で1分間乾燥して導電性フィルムを得た。この導電性フィルムの表面抵抗値を測定した結果を表1に示す。
次に、付加硬化型シリコーンであるKS-3703T(信越化学工業社製、固形分30質量%、トルエン溶液)1.5gと、トルエン25.5gと、メチルエチルケトン63gと、白金触媒であるCAT-PL-50T(信越化学工業社製)0.03gと、を混合して塗料を得た。
#8のバーコーターを用いて上記の途料を上記の導電性フィルムの導電層の表面に塗布し、150℃で2分問乾燥し、導電層の上に離型層が積層された導電性離型フィルムを得た。この導電性離型フィルムの表面抵抗値と密着性と剥離力を測定した結果を表1に示す。
Example 1
20 g of the PEDOT-PSS aqueous dispersion obtained in Production Example 2, 70 g of methanol, and 10 g of the self-crosslinking resin F were mixed together to obtain a conductive polymer dispersion.
The conductive polymer dispersion was applied to a PET film using a #4 bar coater and dried for 1 minute at 120° C. to obtain a conductive film. The surface resistance of this conductive film was measured and the results are shown in Table 1.
Next, 1.5 g of addition-curing silicone KS-3703T (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., solid content 30 mass%, toluene solution), 25.5 g of toluene, 63 g of methyl ethyl ketone, and 0.03 g of platinum catalyst CAT-PL-50T (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) were mixed to obtain a coating material.
The above-mentioned material was applied to the surface of the conductive layer of the above-mentioned conductive film using a #8 bar coater and dried for 2 minutes at 150° C. to obtain a conductive release film in which a release layer was laminated on the conductive layer. The results of measuring the surface resistance, adhesion, and peel strength of this conductive release film are shown in Table 1.

(実施例2)
実施例1において自己架橋性樹脂Fの10gを、自己架橋性樹脂Fの5gに変更し、メタノールを75gにしたこと以外は、実施例1と同様にして導電性フィルム及び導電性離型フィルムを作製し、各測定を行った。結果を表1に示す。
Example 2
A conductive film and a conductive release film were produced in the same manner as in Example 1, except that the amount of self-crosslinking resin F was changed from 10 g to 5 g and the amount of methanol was changed to 75 g, and the respective measurements were carried out. The results are shown in Table 1.

(実施例3)
実施例1において自己架橋性樹脂Fの10gを、自己架橋性樹脂Fの15gに変更し、メタノールを65gにしたこと以外は、実施例1と同様にして導電性フィルム及び導電性離型フィルムを作製し、各測定を行った。結果を表1に示す。
Example 3
A conductive film and a conductive release film were produced in the same manner as in Example 1, except that the amount of self-crosslinking resin F was changed from 10 g to 15 g and the amount of methanol was changed to 65 g, and the respective measurements were carried out. The results are shown in Table 1.

(実施例4)
実施例1において自己架橋性樹脂Fの10gを、自己架橋性樹脂Gの10gに変更したこと以外は、実施例1と同様にして導電性フィルム及び導電性離型フィルムを作製し、各測定を行った。結果を表1に示す。
Example 4
A conductive film and a conductive release film were produced and each measurement was carried out in the same manner as in Example 1, except that 10 g of the self-crosslinking resin F in Example 1 was changed to 10 g of the self-crosslinking resin G. The results are shown in Table 1.

(実施例5)
実施例1において自己架橋性樹脂Fの10gを、自己架橋性樹脂Hの10gに変更したこと以外は、実施例1と同様にして導電性フィルム及び導電性離型フィルムを作製し、各測定を行った。結果を表1に示す。
Example 5
A conductive film and a conductive release film were produced and each measurement was carried out in the same manner as in Example 1, except that 10 g of the self-crosslinking resin F in Example 1 was changed to 10 g of the self-crosslinking resin H. The results are shown in Table 1.

(実施例6)
実施例1において自己架橋性樹脂Fの10gを、自己架橋性樹脂Iの10gに変更したこと以外は、実施例1と同様にして導電性フィルム及び導電性離型フィルムを作製し、各測定を行った。結果を表1に示す。
Example 6
A conductive film and a conductive release film were produced and each measurement was carried out in the same manner as in Example 1, except that 10 g of the self-crosslinking resin F in Example 1 was changed to 10 g of the self-crosslinking resin I. The results are shown in Table 1.

(実施例7)
実施例1において自己架橋性樹脂Fの10gを、自己架橋性樹脂Jの10gに変更したこと以外は、実施例1と同様にして導電性フィルム及び導電性離型フィルムを作製し、各測定を行った。結果を表1に示す。
(Example 7)
A conductive film and a conductive release film were produced and each measurement was carried out in the same manner as in Example 1, except that 10 g of the self-crosslinking resin F in Example 1 was changed to 10 g of the self-crosslinking resin J. The results are shown in Table 1.

(実施例8)
実施例1において自己架橋性樹脂Fの10gを、自己架橋性樹脂Kの10gに変更したこと以外は、実施例1と同様にして導電性フィルム及び導電性離型フィルムを作製し、各測定を行った。結果を表1に示す。
(Example 8)
A conductive film and a conductive release film were produced and each measurement was carried out in the same manner as in Example 1, except that 10 g of the self-crosslinking resin F in Example 1 was changed to 10 g of the self-crosslinking resin K. The results are shown in Table 1.

(実施例9)
実施例1において自己架橋性樹脂F10gを自己架橋性樹脂L10gにしたこと以外は、実施例1と同様にして導電性フィルム及び導電性離型フィルムを作製し、各測定を行った。結果を表1に示す。
Example 9
A conductive film and a conductive release film were produced and each measurement was carried out in the same manner as in Example 1, except that 10 g of the self-crosslinking resin F was changed to 10 g of the self-crosslinking resin L in Example 1. The results are shown in Table 1.

(実施例10)
実施例1において自己架橋性樹脂F10gを自己架橋性樹脂M10gにしたこと以外は、実施例1と同様にして導電性フィルム及び導電性離型フィルムを作製し、各測定を行った。結果を表1に示す。
Example 10
A conductive film and a conductive release film were produced and each measurement was carried out in the same manner as in Example 1, except that 10 g of the self-crosslinking resin F in Example 1 was changed to 10 g of the self-crosslinking resin M. The results are shown in Table 1.

(実施例11)
実施例1においてKS-3703Tを、付加硬化型シリコーンであるKS-847T(信越化学工業社製、固形分30質量%、トルエン溶液)にしたこと以外は、実施例1と同様にして導電性フィルム及び導電性離型フィルムを作製し、各測定を行った。結果を表1に示す。
(Example 11)
A conductive film and a conductive release film were produced and each measurement was carried out in the same manner as in Example 1, except that KS-3703T in Example 1 was replaced with KS-847T (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., solid content 30 mass%, toluene solution), which is an addition curing type silicone. The results are shown in Table 1.

(比較例1)
実施例1において自己架橋性樹脂Fの10gを、ポリエステル樹脂Aの10gに変更したこと以外は、実施例1と同様にして導電性フィルム及び導電性離型フィルムを作製し、各測定を行った。結果を表1に示す。
(Comparative Example 1)
A conductive film and a conductive release film were produced and each measurement was carried out in the same manner as in Example 1, except that 10 g of the self-crosslinking resin F in Example 1 was changed to 10 g of the polyester resin A. The results are shown in Table 1.

(比較例2)
実施例1において自己架橋性樹脂Fの10gを、アルコキシシリル基含有アクリル系樹脂Bの10gに変更したこと以外は、実施例1と同様にして導電性フィルム及び導電性離型フィルムを作製し、各測定を行った。結果を表1に示す。
(Comparative Example 2)
A conductive film and a conductive release film were prepared and each measurement was carried out in the same manner as in Example 1, except that the 10 g of the self-crosslinking resin F in Example 1 was changed to 10 g of the alkoxysilyl group-containing acrylic resin B. The results are shown in Table 1.

(比較例3)
実施例1において自己架橋性樹脂Fの10gを、アルコキシシリル基含有アクリル系樹脂Cの10gに変更したこと以外は、実施例1と同様にして導電性フィルム及び導電性離型フィルムを作製し、各測定を行った。結果を表1に示す。
(Comparative Example 3)
A conductive film and a conductive release film were produced and each measurement was carried out in the same manner as in Example 1, except that 10 g of the self-crosslinking resin F in Example 1 was changed to 10 g of the alkoxysilyl group-containing acrylic resin C. The results are shown in Table 1.

(比較例4)
実施例1において自己架橋性樹脂Fの10gを、アルコキシシリル基含有アクリル系樹脂Dの10gに変更したこと以外は、実施例1と同様にして導電性フィルム及び導電性離型フィルムを作製し、各測定を行った。結果を表1に示す。
(Comparative Example 4)
A conductive film and a conductive release film were produced and each measurement was carried out in the same manner as in Example 1, except that 10 g of the self-crosslinking resin F in Example 1 was changed to 10 g of the alkoxysilyl group-containing acrylic resin D. The results are shown in Table 1.

(比較例5)
実施例1において自己架橋性樹脂Fの10gを、アルコキシシリル基含有アクリル系樹脂Eの10gに変更したこと以外は、実施例1と同様にして導電性フィルム及び導電性離型フィルムを作製し、各測定を行った。結果を表1に示す。
(Comparative Example 5)
A conductive film and a conductive release film were produced and each measurement was carried out in the same manner as in Example 1, except that the 10 g of the self-crosslinking resin F in Example 1 was changed to 10 g of the alkoxysilyl group-containing acrylic resin E. The results are shown in Table 1.

(比較例6)
実施例1においてPEDOT-PSS水分散液20gを、水20gに変更したこと以外は、実施例1の導電性フィルム及び導電性離型フィルムの作製と同様に、フィルム試料を作製し、測定を行った。結果を表1に示す。
(Comparative Example 6)
Except for changing the amount of PEDOT-PSS aqueous dispersion (20 g) to water (20 g) in Example 1, a film sample was prepared and measured in the same manner as in the preparation of the conductive film and conductive release film in Example 1. The results are shown in Table 1.

<評価>
[表面抵抗値]
各例の導電性フィルムについて、導電層の表面抵抗値を、抵抗率計(日東精工アナリテック社製、ハイレスタ)を用い、印加電圧10Vの条件で測定した。表面抵抗値の測定結果を表1に示す。
各例の導電性離型フィルムについて、離型層の上にプローブを載置し、離型層を介在した状態の表面抵抗値を、抵抗率計(日東精工アナリテック社製、ハイレスタ)を用い、印加電圧10Vの条件で測定した。表面抵抗値の測定結果を表1に示す。なお、表中の「Ω/□」はオームパースクエアの意味である。「1.0E+07」は、「1.0×10」を表し、他も同様である。「OVER」は測定限界を超えて高い数値であることを表す。
<Evaluation>
[Surface resistance value]
For the conductive film of each example, the surface resistance value of the conductive layer was measured using a resistivity meter (Hiresta, manufactured by Nitto Seiko Analytech Co., Ltd.) under the condition of an applied voltage of 10 V. The measurement results of the surface resistance value are shown in Table 1.
For each example of conductive release film, a probe was placed on the release layer, and the surface resistance with the release layer interposed was measured using a resistivity meter (Hiresta, manufactured by Nitto Seiko Analytech Co., Ltd.) under the condition of an applied voltage of 10 V. The measurement results of the surface resistance are shown in Table 1. In the table, "Ω/□" means ohms per square. "1.0E+07" means "1.0×10 7 ," and the same applies to the others. "OVER" indicates a high value exceeding the measurement limit.

[剥離力]
各例の導電性離型フィルムについて、下記の方法により剥離力を測定し、離型層の離型性を評価した。
導電性離型フィルムの離型層の表面に幅25mmポリエステル粘着テープ(日東電工社製、No.31B)を貼り付け、その粘着テープの上から1976Paの荷重をかけて25℃で20時間加圧処理した。次に、JIS Z0237に従い、引張試験機を用いて、離型層に貼った上記粘着テープを180°の角度で剥離(剥離速度0.3m/分)して、剥離力(単位:N)を測定した。測定結果を表1に示す。剥離力が小さいほど、離型層の離型性が高いことを意味する。
[Peeling force]
For the conductive release film of each example, the peel force was measured by the following method, and the releasability of the release layer was evaluated.
A 25 mm wide polyester adhesive tape (Nitto Denko Corporation, No. 31B) was attached to the surface of the release layer of the conductive release film, and a load of 1976 Pa was applied from above the adhesive tape and pressure treatment was performed at 25°C for 20 hours. Next, in accordance with JIS Z0237, the adhesive tape attached to the release layer was peeled off at an angle of 180° (peel speed 0.3 m/min) using a tensile tester to measure the peel force (unit: N). The measurement results are shown in Table 1. The smaller the peel force, the higher the releasability of the release layer.

[密着性]
各例の導電性離型フィルムについて、離型層の表面を指で10回擦り、離型層の損傷の程度を下記基準で評価した。結果を表1に示す。
(評価1): 指擦り5回目までに離型層が完全に脱落し、易剥離性が無くなる。つまり、離型層と導電層の密着性が悪い。
(評価2): 指擦り5回目までは離型層が残存するが、その後、指擦り10回目までに離型層が完全に脱落し、易剥離性が無くなる。 つまり、離型層と導電層の密着性が劣る。
(評価3): 指擦り10回までに離型層は脱落せず、 離型層の色に大きな変化が見られ、易剥離性が低下した。つまり、離型層と導電層の密着性は普通である。
(評価4): 指擦り10回までに離型層は脱落せず、離型層の色に小さな変化が見られるが、易剥離性はほとんど低下していない。つまり、離型層と導電層の密着性は優れる。
(評価5): 指擦り10回までに離型層は脱落せず、離型層の色に変化は見られず、易剥離性は低下していない。つまり、離型層と導電層の密着性は特に優れる。
上記の5段階の評価基準において、易剥離性(離型性)は、指擦りした表面に粘着テープを貼付した後、これを剥がす際の容易さを試験した結果に基づく。離型層の色の変色は、離型層と導電層の界面における剥離の程度を表している。この界面が部分的に剥離している場合、離型層の表面に貼付した粘着テープを剥離する際に界面が浮き上がり、剥離性が低下する。
[Adhesion]
For each conductive release film, the surface of the release layer was rubbed with a finger 10 times, and the degree of damage to the release layer was evaluated according to the following criteria. The results are shown in Table 1.
(Rating 1): The release layer completely falls off within the fifth finger rub, and the easy peeling property is lost. In other words, the adhesion between the release layer and the conductive layer is poor.
(Evaluation 2): The release layer remains until the fifth finger rub, but thereafter, by the tenth finger rub, the release layer falls off completely and the easy peeling property is lost. In other words, the adhesion between the release layer and the conductive layer is poor.
(Evaluation 3): The release layer did not fall off within 10 finger rubs, but the color of the release layer changed significantly and the ease of peeling decreased. In other words, the adhesion between the release layer and the conductive layer was normal.
(Evaluation 4): The release layer did not fall off within 10 finger rubs, and a small change was observed in the color of the release layer, but the peelability was hardly decreased. In other words, the adhesion between the release layer and the conductive layer was excellent.
(Evaluation 5): The release layer did not fall off within 10 finger rubs, the color of the release layer did not change, and the peelability did not decrease. In other words, the adhesion between the release layer and the conductive layer was particularly excellent.
In the above five-level evaluation criteria, the ease of peeling (releasability) is based on the results of testing the ease of peeling off an adhesive tape applied to a surface rubbed with a finger. The discoloration of the release layer represents the degree of peeling at the interface between the release layer and the conductive layer. If this interface is partially peeled off, the interface will rise when peeling off the adhesive tape applied to the surface of the release layer, and the peelability will decrease.

Figure 0007523372000001
Figure 0007523372000001

実施例1~11の導電性高分子分散液は、アルコキシシリル基含有アクリル系樹脂及びポリエステル樹脂を含むので、その塗膜から形成された導電層の導電性は良好であり、その導電層の基材及び離型層に対する密着性が優れている。
比較例1の導電性高分子分散液は、アルコキシシリル基含有アクリル系樹脂を含まないので、形成された導電層の基材及び離型層に対する密着性が劣っている。
比較例2~5の導電性高分子分散液は、ポリエステル樹脂を含まないので、形成された導電層の基材及び離型層に対する密着性が劣っている。
比較例6の導電性高分子分散液は、導電性複合体を含まないので、形成された導電層の導電性と、基材及び離型層に対する密着性とが劣っている。比較例6で密着性が劣っていた理由として、自己架橋性樹脂の自己架橋が導電性複合体の触媒作用によって促進されることがなかったからだと考えられる。
なお、実施例9,10は比較例である。
Since the conductive polymer dispersions of Examples 1 to 11 contain an alkoxysilyl group-containing acrylic resin and a polyester resin, the conductive layer formed from the coating film has good conductivity and excellent adhesion to the substrate and release layer.
The conductive polymer dispersion of Comparative Example 1 does not contain an alkoxysilyl group-containing acrylic resin, and therefore the conductive layer formed has poor adhesion to the substrate and the release layer.
The conductive polymer dispersions of Comparative Examples 2 to 5 did not contain a polyester resin, and therefore the conductive layers formed were inferior in adhesion to the substrate and the release layer.
The conductive polymer dispersion of Comparative Example 6 does not contain a conductive complex, and therefore the conductive layer formed has poor conductivity and poor adhesion to the substrate and release layer. The reason for the poor adhesion in Comparative Example 6 is believed to be that the self-crosslinking of the self-crosslinking resin was not promoted by the catalytic action of the conductive complex.
Examples 9 and 10 are comparative examples.

Claims (8)

π共役系導電性高分子及びポリアニオンを含む導電性複合体と、アルコキシシリル基含有アクリル系樹脂と、ポリエステル樹脂と、分散媒と、を含有する導電性高分子分散液であり、
(前記アルコキシシリル基含有アクリル系樹脂/前記ポリエステル樹脂)で表す含有比が、固形分の質量基準で80/20~20/80であり、
下記の導電性積層体が有する導電層を形成する用途で使用される、導電性高分子分散液。
<導電性積層体>
導電性積層体は、基材と、前記基材の少なくとも一部の面に形成された導電層と、前記導電層の表面にさらに積層されたシリコーン系化合物を含む離型層と、を有するものであり、前記導電層は前記導電性高分子分散液の硬化物である。
A conductive polymer dispersion liquid containing a conductive complex containing a π-conjugated conductive polymer and a polyanion, an alkoxysilyl group-containing acrylic resin, a polyester resin, and a dispersion medium,
the content ratio represented by (the alkoxysilyl group-containing acrylic resin/the polyester resin) is 80/20 to 20/80 based on the mass of the solid content,
A conductive polymer dispersion liquid used for forming a conductive layer of the conductive laminate described below .
<Conductive laminate>
The conductive laminate has a substrate, a conductive layer formed on at least a portion of the surface of the substrate, and a release layer containing a silicone-based compound further laminated on the surface of the conductive layer, and the conductive layer is a cured product of the conductive polymer dispersion.
前記分散媒が水を含み、前記導電性複合体1質量部に対する前記水の含有量が40質量部以上である、請求項1に記載の導電性高分子分散液。 The conductive polymer dispersion according to claim 1, wherein the dispersion medium contains water, and the content of the water per 1 part by mass of the conductive composite is 40 parts by mass or more. 前記アルコキシシリル基含有アクリル系樹脂における、アルコキシシリル基を有する繰り返し単位の炭素数が、6以上20以下である、請求項1又は2に記載の導電性高分子分散液。 The conductive polymer dispersion according to claim 1 or 2, wherein the number of carbon atoms of the repeating unit having an alkoxysilyl group in the alkoxysilyl group-containing acrylic resin is 6 or more and 20 or less. 前記ポリエステル樹脂がスルホ基若しくはその塩、カルボキシ基若しくはその塩及び水酸基から選択される1種以上を有する、請求項1~3の何れか一項に記載の導電性高分子分散液。 The conductive polymer dispersion according to any one of claims 1 to 3, wherein the polyester resin has one or more groups selected from a sulfo group or a salt thereof, a carboxy group or a salt thereof, and a hydroxyl group. 前記π共役系導電性高分子がポリ(3,4-エチレンジオキシチオフェン)であるか、または、前記ポリアニオンがポリスチレンスルホン酸である、請求項1~の何れか一項に記載の導電性高分子分散液。 The conductive polymer dispersion according to any one of claims 1 to 4 , wherein the π-conjugated conductive polymer is poly(3,4-ethylenedioxythiophene), or the polyanion is polystyrenesulfonic acid. 基材と、前記基材の少なくとも一部の面に形成された導電層と、前記導電層の表面にさらに積層されたシリコーン系化合物を含む離型層と、を備え、
前記導電層が請求項1~の何れか一項に記載された導電性高分子分散液の硬化物である、導電性積層体。
The present invention comprises a substrate, a conductive layer formed on at least a portion of the surface of the substrate , and a release layer including a silicone-based compound further laminated on the surface of the conductive layer,
A conductive laminate, wherein the conductive layer is a cured product of the conductive polymer dispersion according to any one of claims 1 to 5 .
前記基材がPETフィルムである、請求項に記載の導電性積層体。 The conductive laminate according to claim 6 , wherein the substrate is a PET film. 基材の少なくとも一部の面に、請求項1~の何れか一項に記載の導電性高分子分散液を塗工し、導電層を形成する工程と、前記導電層の表面にシリコーン系化合物を含む離型層を積層する工程と、を含む、導電性積層体の製造方法。 A method for producing a conductive laminate, comprising: a step of applying the conductive polymer dispersion according to any one of claims 1 to 5 to at least a part of a surface of a substrate to form a conductive layer; and a step of laminating a release layer containing a silicone-based compound on a surface of the conductive layer.
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