JP7524582B2 - Molded body, transfer sheet, and method for producing molded body - Google Patents
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Description
本発明は、成形体、転写シート及び成形体の製造方法に関する。 The present invention relates to a molded body, a transfer sheet, and a method for manufacturing a molded body.
任意の被着体の表面に防眩性の機能を付与することが求められる場合がある。このような場合、例えばインサート成形が行われている。
インサート成形とは、基材上に防眩層を有する防眩フィルムを射出成形の金型内に配置し、基材側に射出樹脂を流し込み、防眩フィルムの基材側と、被着体である射出樹脂とを一体化して、成形体を得る手段である。
There are cases where it is required to impart antiglare properties to the surface of an arbitrary adherend. In such cases, for example, insert molding is carried out.
Insert molding is a method of obtaining a molded body by placing an anti-glare film having an anti-glare layer on a substrate inside an injection molding die, pouring injected resin into the substrate side, and integrating the substrate side of the anti-glare film with the injected resin as the adherend.
しかし、インサート成形の場合、被着体と防眩層との間に、比較的厚みの厚い基材が存在するため、成形体全体の厚みが増したり、被着体の風合いが損なわれたりするという問題がある。 However, with insert molding, there is a problem that a relatively thick substrate is present between the adherend and the anti-glare layer, which increases the overall thickness of the molded product and impairs the texture of the adherend.
一方、インサート成形以外の手段として、転写シートを用いたインモールド成形によって、被着体上に防眩層を形成する手段が提案されている(特許文献1)。 On the other hand, as a means other than insert molding, a means has been proposed in which an anti-glare layer is formed on an adherend by in-mold molding using a transfer sheet (Patent Document 1).
しかし、転写シートを用いたインモールド成形によって得られた成形体は、所望の防眩性が得られない事例が頻発した。 However, there were many cases where the molded products obtained by in-mold molding using transfer sheets did not have the desired anti-glare properties.
本発明は、所望の防眩性を備えた成形体を提供することを目的とする。また、本発明は、当該成形体を簡易に製造し得る転写シート及び成形体の製造方法を提供することを目的とする。 The present invention aims to provide a molded article with the desired anti-glare properties. It also aims to provide a transfer sheet that can easily produce the molded article, and a method for producing the molded article.
上記課題を解決する本発明は、以下の[1]~[3]を提供する。
[1]被着体上に転写層を有する成形体であって、前記転写層は、少なくとも、前記被着体に接するヒートシール層と、前記ヒートシール層の前記被着体とは反対側に位置する防眩層とを有し、前記ヒートシール層のインデンテーション硬さが290MPa以上である、成形体。
[2]第一離型基材上に転写層及び第二離型基材を有してなり、前記転写層は、少なくとも、前記第一離型基材に接するインデンテーション硬さが290MPa以上のヒートシール層と、前記ヒートシール層の前記第一離型基材とは反対側に位置する防眩層とを有する、転写シート。
[3]下記(1)~(2)の工程を順に行う、成形体の製造方法。
(1)前記[2]に記載の転写シートの前記第一離型基材を剥離し、露出した前記転写層のヒートシール層側の面と被着体とを加熱圧着した積層体を得る工程。
(2)前記積層体から前記第二離型基材を剥離し、被着体上に転写層を有する成形体を得る工程。
The present invention, which solves the above problems, provides the following [1] to [3].
[1] A molded article having a transfer layer on an adherend, the transfer layer having at least a heat seal layer in contact with the adherend and an antiglare layer located on the opposite side of the heat seal layer from the adherend, and the indentation hardness of the heat seal layer is 290 MPa or more.
[2] A transfer sheet having a transfer layer and a second release substrate on a first release substrate, the transfer layer having at least a heat seal layer having an indentation hardness of 290 MPa or more in contact with the first release substrate, and an antiglare layer located on the opposite side of the heat seal layer from the first release substrate.
[3] A method for producing a molded body, comprising carrying out the following steps (1) and (2) in order:
(1) A process for obtaining a laminate by peeling off the first release substrate of the transfer sheet described in [2] above and heat-pressing the exposed surface of the transfer layer on the heat seal layer side to an adherend.
(2) A step of peeling off the second release substrate from the laminate to obtain a molded article having a transfer layer on an adherend.
本発明の成形体は、成形体の表面に所望の防眩性を備えたものとすることができる。また、本発明の転写シート及び成形体の製造方法は、防眩性が良好な成形体を簡易に製造することができる。 The molded article of the present invention can have the desired anti-glare properties on the surface of the molded article. Furthermore, the transfer sheet and molded article manufacturing method of the present invention can easily manufacture molded articles with good anti-glare properties.
[成形体]
本発明の成形体は、被着体上に転写層を有する成形体であって、前記転写層は、少なくとも、前記被着体に接するヒートシール層と、前記ヒートシール層の前記被着体とは反対側に位置する防眩層とを有し、前記ヒートシール層のインデンテーション硬さが290MPa以上であるものである。
[Molded body]
The molded article of the present invention is a molded article having a transfer layer on an adherend, the transfer layer having at least a heat seal layer in contact with the adherend and an antiglare layer located on the opposite side of the heat seal layer from the adherend, and the indentation hardness of the heat seal layer is 290 MPa or more.
図1は、本発明の成形体の一実施形態を示す断面図である。
図1の成形体100は、被着体10上に転写層20を有している。また、図1の成形体の転写層20は、被着体に接するヒートシール層21と、ヒートシール層21の被着体10とは反対側に位置する防眩層23とを有している。さらに、図1の成形体の転写層20は、ヒートシール層21と防眩層23との間にマイグレーション抑制層22を有するとともに、防眩層23のヒートシール層21とは反対側に位置する低屈折率層24を有している。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing one embodiment of the molded article of the present invention.
The molded body 100 in Fig. 1 has a transfer layer 20 on an adherend 10. The transfer layer 20 of the molded body in Fig. 1 also has a heat seal layer 21 in contact with the adherend, and an antiglare layer 23 located on the opposite side of the heat seal layer 21 from the adherend 10. The transfer layer 20 of the molded body in Fig. 1 also has a migration-inhibiting layer 22 between the heat seal layer 21 and the antiglare layer 23, and a low refractive index layer 24 located on the opposite side of the antiglare layer 23 from the heat seal layer 21.
<被着体>
被着体の材質は特に限定されず、ガラス及びセラミック等の無機物、樹脂から選ばれる1種、又はこれらの混合物等が挙げられる。
<Adherend>
The material of the adherend is not particularly limited, and examples thereof include inorganic materials such as glass and ceramics, resins, or mixtures thereof.
本発明の成形体は、被着体が樹脂を含むことが好ましい。また、当該樹脂は、射出樹脂であることが好ましい。
本発明の成形体は、例えば、転写層のヒートシール層側の面と、被着体とを加熱圧着することにより得ることができる。一般的な加熱圧着のプロセスでは、被着体側に生じた力がヒートシール層を介して防眩層に伝わる場合がある。特に、インモールド成形による加熱圧着の場合には、型内に射出した溶融樹脂が転写層のヒートシール層側にぶつかった際の圧力は大きく、当該大きな圧力がヒートシール層を介して防眩層に伝わることになる。この際、圧力によってヒートシール層が変形すると、当該変形によるひずみが防眩層に伝わり、防眩層が変形しやすくなると考えられる。
本発明の成形体は、ヒートシール層のインデンテーション硬さを290MPa以上とすることにより、ヒートシール層の変形を抑制し、ひいては防眩層の変形を抑制し、成形体の表面に所望の防眩性を備えたものとすることができるという効果を奏する。
なお、被着体側から転写層側に向かう圧力は、被着体が樹脂を含む場合に生じやすい。このため、被着体が樹脂を含む場合には、ヒートシール層のインデンテーション硬さを290MPa以上とする効果をより際立ったものとすることができる点で好適である。
所望の防眩性を備えるか否かは、例えば、転写前の転写層の透過像鮮明度と、成形体の透過像鮮明度との変化率で評価することができる。
In the molded article of the present invention, the adherend preferably contains a resin. Moreover, the resin is preferably an injected resin.
The molded article of the present invention can be obtained, for example, by thermocompression bonding the surface of the transfer layer on the heat seal layer side to the adherend. In a general thermocompression process, the force generated on the adherend side may be transmitted to the antiglare layer through the heat seal layer. In particular, in the case of thermocompression bonding by in-mold molding, the pressure when the molten resin injected into the mold hits the heat seal layer side of the transfer layer is large, and the large pressure is transmitted to the antiglare layer through the heat seal layer. In this case, if the heat seal layer is deformed by the pressure, the strain due to the deformation is transmitted to the antiglare layer, and it is considered that the antiglare layer is easily deformed.
By setting the indentation hardness of the heat seal layer to 290 MPa or more, the molded article of the present invention has the effect of suppressing deformation of the heat seal layer, and thus suppressing deformation of the antiglare layer, thereby providing the surface of the molded article with the desired antiglare properties.
In addition, the pressure from the adherend side toward the transfer layer side is likely to occur when the adherend contains a resin. Therefore, when the adherend contains a resin, it is preferable in that the effect of making the indentation hardness of the heat seal layer 290 MPa or more can be more prominent.
Whether or not a desired antiglare property is provided can be evaluated, for example, by the rate of change between the transmitted image clarity of the transfer layer before transfer and the transmitted image clarity of the molded article.
インモールド成形を行う場合には、被着体として、射出成形可能な熱可塑性樹脂もしくは熱硬化性樹脂を用いることが好ましく、その中でも熱可塑性樹脂がより好ましい。
熱可塑性樹脂としては、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ABS樹脂(耐熱ABS樹脂を含む)、AS樹脂、AN樹脂、ポリフェニレンオキサイド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアセタール系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエチレンテレフタレート系樹脂、ポリブチレンテフタレート系樹脂、ポリスルホン系樹脂、およびポリフェニレンサルファイド系樹脂等が挙げられる。
これらの中でも、透明性及び耐候性の観点からはアクリル系樹脂が好適であり、耐衝撃性の観点からはポリカーボネート系樹脂が好ましい。
When in-mold molding is performed, it is preferable to use an injection-moldable thermoplastic resin or thermosetting resin as the adherend, and among these, a thermoplastic resin is more preferable.
Examples of thermoplastic resins include polystyrene-based resins, polyolefin-based resins, ABS resins (including heat-resistant ABS resins), AS resins, AN resins, polyphenylene oxide-based resins, polycarbonate-based resins, polyacetal-based resins, acrylic-based resins, polyethylene terephthalate-based resins, polybutylene terephthalate-based resins, polysulfone-based resins, and polyphenylene sulfide-based resins.
Among these, acrylic resins are preferred from the viewpoints of transparency and weather resistance, and polycarbonate resins are preferred from the viewpoint of impact resistance.
なお、インモールド成形を行う場合には、射出材料は、射出成形可能な樹脂の他に、添加剤(例えば、紫外線吸収剤、酸化防止剤等)を含んでいてもよい。 When performing in-mold molding, the injection material may contain additives (e.g., ultraviolet absorbers, antioxidants, etc.) in addition to the injection moldable resin.
被着体の形状も特に限定されず、平板状のものであってもよいし、三次元形状を有するものであってもよい。また、被着体の厚みも特に限定されない。
また、被着体は予め成形されたものであってもよいし、インモールド成形のように工程の最中に成形されるものであってもよい。
The shape of the adherend is not particularly limited, and may be a flat plate or may have a three-dimensional shape. The thickness of the adherend is also not particularly limited.
The adherend may be one that has been molded in advance, or one that is molded during the process, such as in-mold molding.
<転写層>
転写層は、少なくとも、前記被着体に接するヒートシール層と、前記ヒートシール層の前記被着体とは反対側に位置する防眩層とを有する。
転写層は、ヒートシール層及び防眩層以外の層(その他の層)を有していてもよい。その他の層としては、例えば、ヒートシール層と防眩層との間に位置するマイグレーション抑制層、防眩層のヒートシール層とは反対側に位置する反射防止層が挙げられる。
<Transfer Layer>
The transfer layer has at least a heat seal layer in contact with the adherend, and an antiglare layer located on the opposite side of the heat seal layer from the adherend.
The transfer layer may have layers (other layers) other than the heat seal layer and the antiglare layer, such as a migration-suppressing layer located between the heat seal layer and the antiglare layer, and an antireflection layer located on the opposite side of the antiglare layer to the heat seal layer.
《ヒートシール層》
ヒートシール層は、転写層を構成する層のうち最も被着体側に位置してなり、被着体に接する層である。
<Heat seal layer>
The heat seal layer is the layer that is located closest to the adherend among the layers constituting the transfer layer, and is the layer that comes into contact with the adherend.
ヒートシール層のインデンテーション硬さは290MPa以上であることを要する。ヒートシール層のインデンテーション硬さが290MPa未満の場合、被着体側から転写層側に向けて圧力が生じた際に、当該圧力がヒートシール層を介して防眩層に伝わることを抑制できず、所望の防眩性を得ることができない。通常、被着体との密着性を良好にするため、ヒートシール層は柔らかく設計する。本発明では、あえてヒートシール層のインデンテーション硬さを硬めにすることにより、所望の防眩性を得ることを可能としている。
なお、ヒートシール層のインデンテーション硬さが硬すぎる場合、被着体との密着性が低下する傾向がある。このため、ヒートシール層のインデンテーション硬さは290~480MPaであることが好ましく、300~460MPaであることがより好ましく、330~430MPaであることがさらに好ましく、350~400MPaであることがよりさらに好ましい。
The indentation hardness of the heat seal layer must be 290 MPa or more. If the indentation hardness of the heat seal layer is less than 290 MPa, when pressure is generated from the adherend side toward the transfer layer side, the pressure cannot be prevented from being transmitted to the antiglare layer through the heat seal layer, and the desired antiglare properties cannot be obtained. Usually, the heat seal layer is designed to be soft in order to improve the adhesion with the adherend. In the present invention, the indentation hardness of the heat seal layer is intentionally made hard, thereby making it possible to obtain the desired antiglare properties.
If the indentation hardness of the heat seal layer is too high, the adhesion to the adherend tends to decrease. Therefore, the indentation hardness of the heat seal layer is preferably 290 to 480 MPa, more preferably 300 to 460 MPa, even more preferably 330 to 430 MPa, and even more preferably 350 to 400 MPa.
ヒートシール層は、少なくとも熱可塑性樹脂を含むことが好ましい。
ヒートシール層の熱可塑性樹脂としては、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、スチレン系樹脂及びアミド系樹脂等が挙げられる。
The heat seal layer preferably contains at least a thermoplastic resin.
Examples of the thermoplastic resin for the heat seal layer include acrylic resins, polyester resins, urethane resins, styrene resins, and amide resins.
また、ヒートシール層は、熱可塑性樹脂に加えて、硬化性樹脂組成物の硬化物を含むことが好ましい。ヒートシール層が硬化性樹脂組成物の硬化物を含むことにより、ヒートシール層のインデンテーション硬さを290MPa以上にしやすくできる。
なお、通常は、被着体との密着性を良好にするため、ヒートシール層は柔らかく設計する。言い換えると、通常は、ヒートシール層に硬化性樹脂組成物の硬化物を積極的に含ませる構成は採用しない。
In addition, the heat seal layer preferably contains a cured product of a curable resin composition in addition to the thermoplastic resin. By containing the cured product of the curable resin composition in the heat seal layer, the indentation hardness of the heat seal layer can be easily set to 290 MPa or more.
In addition, the heat seal layer is usually designed to be soft in order to improve adhesion to the adherend. In other words, a configuration in which the heat seal layer is intentionally made to contain a cured product of a curable resin composition is usually not adopted.
ヒートシール層が熱可塑性樹脂及び硬化性樹脂組成物の硬化物を含む場合、熱可塑性樹脂と硬化性樹脂組成物の硬化物との配合比は、質量基準で40:60~95:5であることが好ましく、50:50~90:10であることがより好ましく、60:40~85:15であることがさらに好ましい。
熱可塑性樹脂95に対して、硬化性樹脂組成物の硬化物の配合量を5以上とすることにより、ヒートシール層のインデンテーション硬さを290MPa以上にしやすくできる。また、熱可塑性樹脂40に対して、硬化性樹脂組成物の硬化物の配合量を60以下とすることにより、ヒートシール層のインデンテーション硬さが硬くなりすぎることを抑制したり、熱可塑性樹脂に基づくヒートシール層の接着性を維持しやすくできる。
When the heat seal layer contains a thermoplastic resin and a cured product of a curable resin composition, the blending ratio of the thermoplastic resin to the cured product of the curable resin composition is preferably 40:60 to 95:5, more preferably 50:50 to 90:10, and even more preferably 60:40 to 85:15, on a mass basis.
The indentation hardness of the heat seal layer can be easily set to 290 MPa or more by making the blending amount of the cured product of the curable resin composition 5 or more relative to the thermoplastic resin 95. Also, by making the blending amount of the cured product of the curable resin composition 60 or less relative to the thermoplastic resin 40, the indentation hardness of the heat seal layer can be prevented from becoming too hard, and the adhesiveness of the heat seal layer based on the thermoplastic resin can be easily maintained.
硬化性樹脂組成物は、熱硬化性樹脂組成物及び電離放射線硬化性樹脂組成物が挙げられる。 Curable resin compositions include thermosetting resin compositions and ionizing radiation curable resin compositions.
熱硬化性樹脂組成物は、少なくとも熱硬化性樹脂を含む組成物であり、加熱により、硬化する樹脂組成物である。
熱硬化性樹脂としては、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、尿素メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂等が挙げられる。熱硬化性樹脂組成物には、必要に応じて硬化剤が添加される。
The thermosetting resin composition is a composition that contains at least a thermosetting resin, and is a resin composition that is cured by heating.
Examples of the thermosetting resin include acrylic resin, urethane resin, phenol resin, urea melamine resin, epoxy resin, unsaturated polyester resin, silicone resin, etc. A curing agent is added to the thermosetting resin composition as necessary.
電離放射線硬化性樹脂組成物は、電離放射線硬化性官能基を有する化合物(以下、「電離放射線硬化性化合物」ともいう)を含む組成物である。電離放射線硬化性官能基としては、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和結合基、及びエポキシ基、オキセタニル基等が挙げられる。電離放射線硬化性化合物としては、エチレン性不飽和結合基を有する化合物が好ましく、エチレン性不飽和結合基を2つ以上有する化合物がより好ましく、中でも、エチレン性不飽和結合基を2つ以上有する、多官能性(メタ)アクリレート系化合物が更に好ましい。多官能性(メタ)アクリレート系化合物としては、モノマー及びオリゴマーのいずれも用いることができる。
なお、電離放射線とは、電磁波又は荷電粒子線のうち、分子を重合あるいは架橋し得るエネルギー量子を有するものを意味し、通常、紫外線(UV)又は電子線(EB)が用いられるが、その他、X線、γ線などの電磁波、α線、イオン線などの荷電粒子線も使用可能である。
本明細書において、(メタ)アクリレートとは、アクリレート又はメタクリレートを意味し、(メタ)アクリル酸とは、アクリル酸又はメタクリル酸を意味し、(メタ)アクリロイル基とは、アクリロイル基又はメタクリロイル基を意味する。
The ionizing radiation curable resin composition is a composition containing a compound having an ionizing radiation curable functional group (hereinafter also referred to as "ionizing radiation curable compound"). Examples of the ionizing radiation curable functional group include ethylenically unsaturated bond groups such as (meth)acryloyl group, vinyl group, and allyl group, as well as epoxy group, oxetanyl group, and the like. As the ionizing radiation curable compound, a compound having an ethylenically unsaturated bond group is preferred, a compound having two or more ethylenically unsaturated bond groups is more preferred, and among them, a polyfunctional (meth)acrylate-based compound having two or more ethylenically unsaturated bond groups is even more preferred. As the polyfunctional (meth)acrylate-based compound, either a monomer or an oligomer can be used.
The ionizing radiation refers to electromagnetic waves or charged particle beams that have an energy quantum capable of polymerizing or crosslinking molecules. Usually, ultraviolet rays (UV) or electron beams (EB) are used, but other types of radiation such as electromagnetic waves, such as X-rays and gamma rays, and charged particle beams, such as alpha rays and ion beams, can also be used.
In this specification, (meth)acrylate means acrylate or methacrylate, (meth)acrylic acid means acrylic acid or methacrylic acid, and (meth)acryloyl group means acryloyl group or methacryloyl group.
多官能性(メタ)アクリレート系化合物のうち、2官能(メタ)アクリレート系モノマーとしては、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAテトラエトキシジアクリレート、ビスフェノールAテトラプロポキシジアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジアクリレート等が挙げられる。
3官能以上の(メタ)アクリレート系モノマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸変性トリ(メタ)アクリレート等が挙げられる。
また、上記(メタ)アクリレート系モノマーは、分子骨格の一部を変性しているものでもよく、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、カプロラクトン、イソシアヌル酸、アルキル、環状アルキル、芳香族、ビスフェノール等による変性がなされたものも使用することができる。
Among the polyfunctional (meth)acrylate compounds, examples of bifunctional (meth)acrylate monomers include ethylene glycol di(meth)acrylate, bisphenol A tetraethoxydiacrylate, bisphenol A tetrapropoxydiacrylate, and 1,6-hexanediol diacrylate.
Examples of trifunctional or higher (meth)acrylate monomers include trimethylolpropane tri(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, dipentaerythritol tetra(meth)acrylate, and isocyanuric acid-modified tri(meth)acrylate.
The (meth)acrylate monomer may have a part of its molecular skeleton modified, and may be modified with ethylene oxide, propylene oxide, caprolactone, isocyanuric acid, an alkyl, a cyclic alkyl, an aromatic, a bisphenol, or the like.
また、多官能性(メタ)アクリレート系オリゴマーとしては、ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレート等のアクリレート系重合体等が挙げられる。
ウレタン(メタ)アクリレートは、例えば、多価アルコール及び有機ジイソシアネートとヒドロキシ(メタ)アクリレートとの反応によって得られる。
また、好ましいエポキシ(メタ)アクリレートは、3官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等と(メタ)アクリル酸とを反応させて得られる(メタ)アクリレート、2官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等と多塩基酸と(メタ)アクリル酸とを反応させて得られる(メタ)アクリレート、及び2官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等とフェノール類と(メタ)アクリル酸とを反応させて得られる(メタ)アクリレートである。
上記電離放射線硬化性化合物は1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて用いることができる。上記電離放射線硬化性化合物の中でも、多官能性(メタ)アクリレート系オリゴマーが好ましく、その中でも、多官能性ウレタン(メタ)アクリレート系オリゴマーがより好ましい。
Examples of the polyfunctional (meth)acrylate oligomer include acrylate polymers such as urethane (meth)acrylate, epoxy (meth)acrylate, polyester (meth)acrylate, and polyether (meth)acrylate.
The urethane (meth)acrylate can be obtained, for example, by reacting a polyhydric alcohol and an organic diisocyanate with a hydroxy (meth)acrylate.
In addition, preferred epoxy (meth)acrylates are (meth)acrylates obtained by reacting a tri- or higher functional aromatic epoxy resin, alicyclic epoxy resin, aliphatic epoxy resin, or the like with (meth)acrylic acid, (meth)acrylates obtained by reacting a di- or higher functional aromatic epoxy resin, alicyclic epoxy resin, aliphatic epoxy resin, or the like with a polybasic acid and (meth)acrylic acid, and (meth)acrylates obtained by reacting a di- or higher functional aromatic epoxy resin, alicyclic epoxy resin, aliphatic epoxy resin, or the like with a phenol and (meth)acrylic acid.
The ionizing radiation curable compounds may be used alone or in combination of two or more. Among the ionizing radiation curable compounds, polyfunctional (meth)acrylate oligomers are preferred, and polyfunctional urethane (meth)acrylate oligomers are more preferred.
電離放射線硬化性化合物が紫外線硬化性化合物である場合には、電離放射線硬化性組成物は、光重合開始剤や光重合促進剤等の添加剤を含むことが好ましい。
光重合開始剤としては、アセトフェノン、ベンゾフェノン、α-ヒドロキシアルキルフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾイン、ベンジルジメチルケタール、ベンゾイルベンゾエート、α-アシルオキシムエステル、チオキサントン類等から選ばれる1種以上が挙げられる。
また、光重合促進剤は、硬化時の空気による重合阻害を軽減させ硬化速度を速めることができるものであり、例えば、p-ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、p-ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル等から選ばれる1種以上が挙げられる。
When the ionizing radiation curable compound is an ultraviolet ray curable compound, the ionizing radiation curable composition preferably contains additives such as a photopolymerization initiator and a photopolymerization accelerator.
The photopolymerization initiator may be one or more selected from acetophenone, benzophenone, α-hydroxyalkylphenone, Michler's ketone, benzoin, benzyl dimethyl ketal, benzoyl benzoate, α-acyloxime ester, thioxanthones, and the like.
The photopolymerization accelerator can reduce polymerization inhibition caused by air during curing and increase the curing speed, and examples of the accelerator include one or more types selected from p-dimethylaminobenzoic acid isoamyl ester, p-dimethylaminobenzoic acid ethyl ester, and the like.
ヒートシール層は、本発明の効果を阻害しない範囲で、レベリング剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤及び帯電防止剤等の添加剤を含んでいてもよい。 The heat seal layer may contain additives such as leveling agents, UV absorbers, antioxidants, and antistatic agents, as long as they do not impair the effects of the present invention.
ヒートシール層の厚みは、0.5~5.0μmであることが好ましく、0.6~4.0μmであることがより好ましく、0.7~2.0μmであることがさらに好ましく、0.8~1.6μmであることがさらに好ましい。
ヒートシール層の厚みを0.5μm以上とすることにより、ヒートシール層と被着体との密着力を良好にしやすくできる。
また、ヒートシール層の厚みを5.0μm以下とすることにより、防眩層の変形を抑制し、成形体の表面に所望の防眩性を備えたものとしやすくできる。ヒートシール層の厚みが薄い方が、ヒートシール層の変形の絶対量が小さくなり、防眩層に伝わるひずみも小さくなるためである。
The thickness of the heat seal layer is preferably 0.5 to 5.0 μm, more preferably 0.6 to 4.0 μm, even more preferably 0.7 to 2.0 μm, and even more preferably 0.8 to 1.6 μm.
By making the thickness of the heat seal layer 0.5 μm or more, it is possible to easily improve the adhesive strength between the heat seal layer and the adherend.
In addition, by setting the thickness of the heat seal layer to 5.0 μm or less, the deformation of the antiglare layer can be suppressed, and the surface of the molded article can be easily provided with the desired antiglare properties. This is because the thinner the heat seal layer, the smaller the absolute amount of deformation of the heat seal layer and the smaller the strain transmitted to the antiglare layer.
ヒートシール層及び防眩層等の各層は、例えば、各層を構成する成分を含む塗布液を塗布、乾燥し、必要に応じて電離放射線を照射することにより形成できる。これらの塗布液には、各層を構成する成分を溶解すること、塗布液の粘度を調整することなどを目的として、溶剤を含むことが好ましい。また、各層を構成する成分、及び、目的とする粘度に応じて、溶剤の種類及び量を調製することが好ましい。 Each layer, such as the heat seal layer and the antiglare layer, can be formed, for example, by applying a coating liquid containing the components constituting each layer, drying it, and irradiating it with ionizing radiation as necessary. These coating liquids preferably contain a solvent for the purposes of dissolving the components constituting each layer and adjusting the viscosity of the coating liquid. In addition, it is preferable to adjust the type and amount of the solvent according to the components constituting each layer and the desired viscosity.
-インデンテーション硬さの測定方法-
ヒートシール層のインデンテーション硬さを測定するためには、ヒートシール層の断面が露出した測定用のサンプルを作製する必要がある。該サンプルは例えば、下記(A1)~(A2)の工程で作製できる。
- Indentation hardness measurement method -
In order to measure the indentation hardness of the heat seal layer, it is necessary to prepare a measurement sample in which the cross section of the heat seal layer is exposed. The sample can be prepared, for example, by the following steps (A1) to (A2).
(A1)成形体を任意の大きさ(例えば、縦10mm×横3mmの短冊状)に切断してなるカットサンプルを作製した後、該カットサンプルを樹脂で包埋してなる包埋サンプルを作製する。包埋用の樹脂はエポキシ樹脂が好ましい。
包埋サンプルは、例えば、シリコン包埋板(シリコンカプセル)内にカットサンプルを配置した後に包埋用の樹脂を流し込み、さらに、包埋用の樹脂を硬化させた後(以下に例示するストルアス社製のエポキシ樹脂の場合、常温で12時間放置して硬化することが好ましい)、シリコン包埋板(シリコンカプセル)から、カットサンプル及びこれを包む包埋用の樹脂を取り出すことにより得ることができる。シリコン包埋板(シリコンカプセル)は、例えば、堂阪イーエム社製のものが挙げられる。包埋用のエポキシ樹脂は、例えば、ストルアス社製の商品名「エポフィックス」と、同社製の商品名「エポフィックス用硬化剤」とを10:1.2で混合したものを用いることができる。
(A1) The molded product is cut into a desired size (for example, a rectangular shape of 10 mm length × 3 mm width) to prepare a cut sample, and then the cut sample is embedded in a resin to prepare an embedded sample. The embedding resin is preferably an epoxy resin.
The embedded sample can be obtained, for example, by placing the cut sample in a silicon embedding plate (silicon capsule), pouring in embedding resin, hardening the embedding resin (in the case of the epoxy resin manufactured by Struers, which is exemplified below, it is preferable to leave it at room temperature for 12 hours to harden), and then removing the cut sample and the embedding resin that encases it from the silicon embedding plate (silicon capsule). Examples of the silicon embedding plate (silicon capsule) include those manufactured by Dosaka EM. The epoxy resin for embedding can be, for example, a mixture of Struers' product name "Epofix" and the same company's product name "Epofix Hardener" in a ratio of 10:1.2.
(A2)包埋サンプルをダイヤモンドナイフでサンプルを垂直に切断し、成形体の断面が露出してなる、インデンテーション硬さ測定用のサンプルを作製する。包埋サンプルは、カットサンプルの中心を通るように切断することが好ましい。
包埋サンプルを切断する装置としては、例えば、ライカマイクロシステムズ社製の商品名「ウルトラミクロトーム EM UC7」が挙げられる。
(A2) The embedded sample is cut vertically with a diamond knife to expose the cross section of the molded body, thereby preparing a sample for indentation hardness measurement. The embedded sample is preferably cut so as to pass through the center of the cut sample.
An example of an apparatus for cutting an embedded sample is the product name "Ultramicrotome EM UC7" manufactured by Leica Microsystems.
ヒートシール層の断面のインデンテーション硬さは、上述したサンプルの切断面に対して、バーコビッチ圧子(材質:ダイヤモンド三角錐)を垂直に押し込んで測定する。ここで、バーコビッチ圧子を押し込む位置は、ヒートシール層の厚み方向の略中心とすることが好ましい。略中心とは、ヒートシール層の厚みをT[μm]と定義した際に、ヒートシール層の厚み方向の中心からのズレが±0.1T以内であることを意味する。 The indentation hardness of the cross section of the heat seal layer is measured by pressing a Berkovich indenter (material: diamond triangular pyramid) vertically into the cut surface of the above-mentioned sample. Here, it is preferable that the position where the Berkovich indenter is pressed is approximately the center in the thickness direction of the heat seal layer. Approximately the center means that when the thickness of the heat seal layer is defined as T [μm], the deviation from the center in the thickness direction of the heat seal layer is within ±0.1 T.
インデンテーション硬さは、下記の条件で測定することが好ましい。
<測定条件>
・使用圧子:バーコビッチ圧子(型番:TI-0039、BRUKER社製)
・押し込み条件:荷重制御方式
・最大荷重:50μN
・荷重印加時間:10秒間(荷重変化率:5μN/sec)
・保持時間:5秒間
・保持荷重:50μN
・荷重除荷時間:10秒間(荷重変化率:-5μN/sec)
The indentation hardness is preferably measured under the following conditions.
<Measurement conditions>
Indenter used: Berkovich indenter (model number: TI-0039, manufactured by BRUKER)
Pressing conditions: Load control method Maximum load: 50 μN
Load application time: 10 seconds (load change rate: 5 μN/sec)
Holding time: 5 seconds Holding load: 50 μN
Load removal time: 10 seconds (load change rate: -5 μN/sec)
インデンテーション硬さは、下記のようにして算出することができる。
まず、押し込み荷重F(N)に対応する押し込み深さh(nm)を連続的に測定し、荷重-変位曲線を作成する。作成した荷重-変位曲線を解析し、最大押し込み荷重Fmax(N)を、圧子とプラスチックフィルムとが接している投影面積Ap(mm2)で除した値として、インデンテーション硬さHITを算出することができる(下記式(1))。
HIT=Fmax/Ap …(1)
ここで、Apは標準試料の溶融石英(BRUKER社製の5-0098)を用いてOliver-Pharr法で圧子先端曲率を補正した接触投影面積である。
The indentation hardness can be calculated as follows.
First, the indentation depth h (nm) corresponding to the indentation load F (N) is continuously measured to create a load-displacement curve. The created load-displacement curve is analyzed, and the indentation hardness HIT can be calculated as the maximum indentation load F max (N) divided by the projected area A p (mm 2 ) where the indenter is in contact with the plastic film (the following formula (1)).
HIT = Fmax / Ap ...(1)
Here, A p is the contact projected area corrected for the indenter tip curvature by the Oliver-Pharr method using a standard sample of fused quartz (5-0098 manufactured by BRUKER).
本明細書において、ヒートシール層のインデンテーション硬さは、10個のサンプルの測定値の平均値を意味する。 In this specification, the indentation hardness of the heat seal layer means the average value of the measurements of 10 samples.
本明細書において、インデンテーション硬さ、並びに後述する表面形状等の各種の測定の雰囲気は、特に断りのない限り、温度23℃±5℃、湿度40~65%とする。また、測定の前に、前記雰囲気にサンプルを30分以上晒すものとする。 In this specification, the atmosphere for the measurements of indentation hardness and surface shape, which will be described later, is a temperature of 23°C ± 5°C and a humidity of 40 to 65%, unless otherwise specified. Furthermore, the sample is exposed to the above atmosphere for at least 30 minutes before the measurements.
《防眩層》
防眩層は、ヒートシール層の被着体とは反対側に位置する層である。防眩層は、転写層の表面(≒成形体の表面)を凹凸化し、成形体に防眩性を付与する役割を有する。
防眩層は、バインダー樹脂及び粒子を含むことが好ましい。
<Anti-glare layer>
The antiglare layer is a layer located on the opposite side of the heat seal layer to the adherend. The antiglare layer makes the surface of the transfer layer (≒ surface of the molded article) uneven, and serves to impart antiglare properties to the molded article.
The antiglare layer preferably contains a binder resin and particles.
防眩層のバインダー樹脂は、硬化性樹脂組成物の硬化物及び熱可塑性樹脂が挙げられる。
防眩層のバインダー樹脂は、硬化性樹脂組成物の硬化物を主成分として含むことが好ましい。また、防眩層のバインダー樹脂の実施形態としては、硬化性樹脂組成物の硬化物及び熱可塑性樹脂を含むものも挙げられる。
バインダー樹脂として、硬化性樹脂組成物の硬化物を主成分として含む場合、防眩層の硬度を上げ、防眩層の変形を抑制しやすくできる。一方、バインダー樹脂として、硬化性樹脂組成物の硬化物及び熱可塑性樹脂を含む場合、硬化性樹脂組成物の硬化物により所定の硬度を付与しつつ、ヒートシール層に生じたひずみを熱可塑性樹脂で緩和し、防眩層の変形を抑制しやすくできる。
Examples of the binder resin for the antiglare layer include a cured product of a curable resin composition and a thermoplastic resin.
The binder resin of the antiglare layer preferably contains a cured product of a curable resin composition as a main component. In addition, an embodiment of the binder resin of the antiglare layer may contain a cured product of a curable resin composition and a thermoplastic resin.
When the binder resin contains a cured product of a curable resin composition as a main component, the hardness of the antiglare layer can be increased, and deformation of the antiglare layer can be easily suppressed. On the other hand, when the binder resin contains a cured product of a curable resin composition and a thermoplastic resin, the cured product of the curable resin composition can impart a predetermined hardness, while the thermoplastic resin can alleviate distortion generated in the heat seal layer, and deformation of the antiglare layer can be easily suppressed.
防眩層のバインダー樹脂の主成分が硬化性樹脂組成物の硬化物である場合、硬化性樹脂組成物の硬化物の含有量は、全バインダー樹脂の50質量%以上であることが好ましく、より好ましくは70質量%以上、より好ましくは90質量%以上、より好ましくは95質量%以上、より好ましくは99質量%以上である。 When the main component of the binder resin in the antiglare layer is a cured product of a curable resin composition, the content of the cured product of the curable resin composition is preferably 50% by mass or more of the total binder resin, more preferably 70% by mass or more, more preferably 90% by mass or more, more preferably 95% by mass or more, and more preferably 99% by mass or more.
防眩層のバインダー樹脂として、硬化性樹脂組成物の硬化物と熱可塑性樹脂とを含む場合、硬化性樹脂組成物の硬化物と熱可塑性樹脂との配合比は、99:1~70:30であることが好ましく、95:5~85:15であることがより好ましい。 When the binder resin of the antiglare layer contains a cured product of a curable resin composition and a thermoplastic resin, the blending ratio of the cured product of the curable resin composition to the thermoplastic resin is preferably 99:1 to 70:30, and more preferably 95:5 to 85:15.
硬化性樹脂組成物は、熱硬化性樹脂組成物及び電離放射線硬化性樹脂組成物が挙げられ、変形抑制の観点から、電離放射線硬化性樹脂組成物が好ましい。
防眩層のバインダー樹脂としての、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂組成物及び電離放射線硬化性樹脂組成物は、汎用の材料を用いることができ、例えば、ヒートシール層で例示したものが挙げられる。
Examples of the curable resin composition include a heat curable resin composition and an ionizing radiation curable resin composition. From the viewpoint of suppressing deformation, the ionizing radiation curable resin composition is preferred.
The thermoplastic resin, the thermosetting resin composition, and the ionizing radiation curable resin composition as the binder resin of the antiglare layer may be a general-purpose material, and examples thereof include those exemplified for the heat seal layer.
粒子は、有機粒子及び無機粒子から選ばれる1種又は2種以上を用いることができる。
有機粒子としては、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリル-スチレン共重合体、メラミン樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ベンゾグアナミン-メラミン-ホルムアルデヒド縮合物、シリコーン、フッ素系樹脂及びポリエステル系樹脂等からなる粒子が挙げられる。無機粒子としては、シリカ、アルミナ、アンチモン、ジルコニア及びチタニア等からなる粒子が挙げられる。
粒子は、球形、円盤状、ラグビーボール状、不定形等の形状が挙げられ、また、これら形状の中空粒子、多孔質粒子及び中実粒子等が挙げられる。これらの中でも、凹凸形状の制御しやすさの観点からは、球形の中実粒子が好適である。
The particles may be one or more types selected from organic particles and inorganic particles.
Examples of organic particles include particles made of polymethyl methacrylate, polyacrylic-styrene copolymer, melamine resin, polycarbonate, polystyrene, polyvinyl chloride, benzoguanamine-melamine-formaldehyde condensate, silicone, fluorine-based resin, polyester resin, etc. Examples of inorganic particles include particles made of silica, alumina, antimony, zirconia, titania, etc.
Examples of the particles include spherical, disc-like, rugby ball-like, amorphous, and other shapes, and also include hollow particles, porous particles, and solid particles of these shapes. Among these, spherical solid particles are preferred from the viewpoint of ease of controlling the uneven shape.
防眩層中の粒子の平均粒子径は、防眩層の厚みにより異なるため一概には言えないが、0.1~10.0μmが好ましく、0.2~5.0μmであることがより好ましい。粒子は、平均粒子径の異なる2種以上の粒子を用いることもできる。 The average particle size of the particles in the antiglare layer cannot be generalized because it varies depending on the thickness of the antiglare layer, but is preferably 0.1 to 10.0 μm, and more preferably 0.2 to 5.0 μm. Two or more types of particles with different average particle sizes can also be used.
粒子の平均粒子径は、以下の(i)~(iii)の作業により算出できる。
(i)防眩フィルムを光学顕微鏡にて透過観察画像を撮像する。倍率は500~2000倍が好ましい。
(ii)観察画像から任意の10個の大粒子を抽出し、個々の粒子の粒子径を算出する。粒子径は、粒子の断面を任意の平行な2本の直線で挟んだとき、該2本の直線間距離が最大となるような2本の直線の組み合わせにおける直線間距離として測定される。
(iii)同じサンプルの別画面の観察画像において同様の作業を5回行って、合計50個分の粒子径の数平均から得られる値を粒子の平均粒子径とする。
The average particle size of the particles can be calculated by the following steps (i) to (iii).
(i) A transmitted observation image of the antiglare film is taken using an optical microscope, preferably at a magnification of 500 to 2000 times.
(ii) Randomly extract 10 large particles from the observed image, and calculate the particle diameter of each particle. The particle diameter is measured as the distance between two parallel lines that is the maximum distance between the two lines when the cross section of the particle is sandwiched between the two lines.
(iii) The same procedure is repeated five times on a separate observation image of the same sample, and the value obtained from the number average of the particle diameters of a total of 50 particles is regarded as the average particle diameter of the particles.
ただし、光学的に粒子が観察できないときは以下の(iv)~(vi)による。
(iv)防眩フィルムから、粒子の中心を通る断面となるような切片をミクロトームにて作製する。切片の厚さは70nm~100nmが好ましい。中心を通る断面となる切片を得るためには、1つの粒子につき連続で複数の切片を作製し、各切片から(v)の作業により算出した粒子径が極大となる切片を、中心を通る断面となる切片とすることができる。
(v)得られた切片を走査型電子顕微鏡(STEM)にて観察して粒子径を算出する。粒子径の算出方法は(ii)と同様とする。倍率は5000~20000倍が好ましい。
(vi)この作業を20個分の粒子に対して行って、20個分の粒子径の数平均から得られる値を粒子の平均粒子径とする。
However, when the particles cannot be observed optically, the following (iv) to (vi) shall apply.
(iv) A slice is prepared from the antiglare film using a microtome, the slice being a cross section passing through the center of the particle. The thickness of the slice is preferably 70 nm to 100 nm. In order to obtain a slice that is a cross section passing through the center, multiple slices are prepared continuously for one particle, and the slice that has the maximum particle diameter calculated by the operation (v) from each slice can be used as the slice that is a cross section passing through the center.
(v) The obtained slice is observed under a scanning electron microscope (STEM) to calculate the particle size. The method for calculating the particle size is the same as in (ii). The magnification is preferably 5,000 to 20,000 times.
(vi) This procedure is carried out for 20 particles, and the value obtained by averaging the particle diameters of the 20 particles is regarded as the average particle diameter of the particles.
防眩層中の粒子の含有量は、目的とする防眩性の程度により異なるため一概にはいえないが、バインダー樹脂100質量部に対して、0.5~50質量部であることが好ましく、1.0~25質量部であることがより好ましく、1.5~20質量部であることがさらに好ましい。 The amount of particles contained in the antiglare layer cannot be generalized because it varies depending on the desired level of antiglare properties, but it is preferably 0.5 to 50 parts by mass, more preferably 1.0 to 25 parts by mass, and even more preferably 1.5 to 20 parts by mass, per 100 parts by mass of binder resin.
防眩層は、本発明の効果を阻害しない範囲で、レベリング剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤及び帯電防止剤等の添加剤を含んでいてもよい。 The antiglare layer may contain additives such as leveling agents, ultraviolet absorbers, antioxidants, and antistatic agents, as long as they do not impair the effects of the present invention.
防眩層の厚みは、1~30μmであることが好ましく、2~15μmであることがより好ましく、3~7μmであることがさらに好ましい。 The thickness of the antiglare layer is preferably 1 to 30 μm, more preferably 2 to 15 μm, and even more preferably 3 to 7 μm.
《マイグレーション抑制層》
転写層は、ヒートシール層と防眩層との間に位置するマイグレーション抑制層を有していてもよい。
マイグレーション抑制層は、ヒートシール層の成分が防眩層に移行(マイグレーション)することを抑制する役割を有する。防眩層中にヒートシール層の成分が移行した場合、防眩層の防眩性が変化する場合がある。このため、ヒートシール層と防眩層との間にマイグレーション抑制層を配置することによって、成形体の表面に所望の防眩性を付与しやすくできる。なお、ヒートシール層の成分は、「熱」及び「被着体側から転写層側に向かう圧力」により、防眩層側に移行しやすくなると考えられる。
Migration Suppression Layer
The transfer layer may have a migration-inhibiting layer located between the heat seal layer and the antiglare layer.
The migration-inhibiting layer has the role of inhibiting the components of the heat-sealing layer from migrating to the anti-glare layer. If the components of the heat-sealing layer migrate into the anti-glare layer, the anti-glare properties of the anti-glare layer may change. For this reason, by disposing the migration-inhibiting layer between the heat-sealing layer and the anti-glare layer, it is possible to easily impart the desired anti-glare properties to the surface of the molded article. It is considered that the components of the heat-sealing layer are more likely to migrate to the anti-glare layer side due to "heat" and "pressure from the adherend side toward the transfer layer side."
マイグレーション抑制層は、主成分として、硬化性樹脂組成物の硬化物を含むことが好ましい。主成分とは、マイグレーション抑制層の全固形分の50質量%以上を意味し、好ましくは60質量%以上、より好ましくは70質量%以上である。 The migration-suppressing layer preferably contains a cured product of a curable resin composition as a main component. The main component means 50% by mass or more of the total solid content of the migration-suppressing layer, preferably 60% by mass or more, and more preferably 70% by mass or more.
マイグレーション抑制層の硬化性樹脂組成物は、熱硬化性樹脂組成物及び電離放射線硬化性樹脂組成物が挙げられ、電離放射線硬化性樹脂組成物が好ましい。
マイグレーション抑制層の熱硬化性樹脂組成物及び電離放射線硬化性樹脂組成物は、汎用の材料を用いることができ、例えば、ヒートシール層で例示したものが挙げられる。
The curable resin composition of the migration-preventing layer may be a heat-curable resin composition or an ionizing radiation-curable resin composition, with the ionizing radiation-curable resin composition being preferred.
The thermosetting resin composition and ionizing radiation curable resin composition of the migration-inhibiting layer may be general-purpose materials, and examples thereof include those exemplified for the heat seal layer.
マイグレーション抑制層は、硬化性樹脂組成物の硬化物に加えて、熱可塑性樹脂を含んでいてもよい。 The migration-inhibiting layer may contain a thermoplastic resin in addition to the cured product of the curable resin composition.
マイグレーション抑制層は、本発明の効果を阻害しない範囲で、レベリング剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤及び帯電防止剤等の添加剤を含んでいてもよい。
なお、マイグレーション抑制層は、マイグレーション抑制の観点から粒子を実質的に含有しないことが好ましい。実質的に含有しないとは、マイグレーション抑制層の全固形分の0.1質量%以下であることを意味し、好ましくは0.01質量%以下、より好ましくは0質量%である。
The migration-inhibiting layer may contain additives such as a leveling agent, an ultraviolet absorbing agent, an antioxidant, and an antistatic agent, as long as the effects of the present invention are not impaired.
From the viewpoint of suppressing migration, it is preferable that the migration-suppressing layer does not substantially contain particles. "Substantially not containing" means that the amount of particles is 0.1% by mass or less of the total solid content of the migration-suppressing layer, preferably 0.01% by mass or less, and more preferably 0% by mass.
マイグレーション抑制層の厚みは、0.5~5.0μmであることが好ましく、0.7~4.0μmであることがより好ましく、1.0~3.0μmであることがさらに好ましい。
マイグレーション抑制層の厚みを0.5μm以上とすることにより、マイグレーションを抑制しやすくできる。また、マイグレーション抑制層の厚みを5.0μm以下とすることにより、成形性を良好にしやすくできる。
The thickness of the migration-suppressing layer is preferably 0.5 to 5.0 μm, more preferably 0.7 to 4.0 μm, and even more preferably 1.0 to 3.0 μm.
By making the thickness of the migration-suppressing layer 0.5 μm or more, it is possible to easily suppress migration, and by making the thickness of the migration-suppressing layer 5.0 μm or less, it is possible to easily improve moldability.
《反射防止層》
転写層は、成形体に反射防止性を付与する観点から、防眩層のヒートシール層とは反対側に位置する反射防止層を有していてもよい。
反射防止層は、例えば、低屈折率層の単層構造、高屈折率層と低屈折率層との積層構造が挙げられる。
<Anti-reflection layer>
From the viewpoint of imparting anti-reflection properties to the molded article, the transfer layer may have an anti-reflection layer located on the opposite side of the anti-glare layer to the heat seal layer.
The antireflection layer may have, for example, a single-layer structure of a low refractive index layer, or a laminate structure of a high refractive index layer and a low refractive index layer.
-低屈折率層-
低屈折率層は、転写層を構成する層のうち、最も被着体から離れた位置に配置することが好ましい。すなわち、低屈折率層は、成形体の最表面に配置することが好ましい。
なお、低屈折率層よりも防眩層側に後述する高屈折率層を低屈折率層に隣接して形成することで、反射防止性をより高めることができる。
-Low refractive index layer-
The low refractive index layer is preferably disposed at a position farthest from the adherend among the layers constituting the transfer layer, that is, the low refractive index layer is preferably disposed on the outermost surface of the molded article.
In addition, by forming a high refractive index layer (described later) adjacent to the low refractive index layer on the antiglare layer side of the low refractive index layer, the antireflection properties can be further improved.
低屈折率層の屈折率は、1.10~1.48が好ましく、1.20~1.45がより好ましく、1.26~1.40がより好ましく、1.28~1.38がより好ましく、1.30~1.35がより好ましい。
また、低屈折率層の厚みは、80~120nmが好ましく、85~110nmがより好ましく、90~105nmがより好ましい。また、低屈折率層の厚みは、中空粒子等の低屈折率粒子の平均粒子径よりも大きいことが好ましい。
The refractive index of the low refractive index layer is preferably from 1.10 to 1.48, more preferably from 1.20 to 1.45, more preferably from 1.26 to 1.40, more preferably from 1.28 to 1.38, and even more preferably from 1.30 to 1.35.
The thickness of the low refractive index layer is preferably 80 to 120 nm, more preferably 85 to 110 nm, and even more preferably 90 to 105 nm. The thickness of the low refractive index layer is preferably larger than the average particle size of the low refractive index particles such as hollow particles.
低屈折率粒子は、中空粒子及び非中空粒子が挙げられる。
中空粒子及び非中空粒子の材質は、シリカ及びフッ化マグネシウム等の無機化合物、有機化合物のいずれであってもよいが、低屈折率化及び強度の観点からシリカが好ましい。以下、中空シリカ粒子及び非中空シリカ粒子を中心として説明する。
The low refractive index particles include hollow particles and non-hollow particles.
The material of the hollow particles and non-hollow particles may be either an inorganic compound such as silica or magnesium fluoride, or an organic compound, but silica is preferred from the viewpoint of low refractive index and strength. Hereinafter, the hollow silica particles and non-hollow silica particles will be mainly described.
中空シリカ粒子とは、シリカからなる外殻層を有し、当該外殻層に囲まれた粒子内部が空洞であり、該空洞内部に空気を含む粒子をいう。中空シリカ粒子は、空気を含むことにより、シリカ本来の屈折率に比べて気体の占有率に比例して屈折率が低下する粒子である。非中空シリカ粒子とは、中空シリカ粒子のように内部が空洞となっていない粒子である。非中空シリカ粒子は、例えば中実のシリカ粒子である。
中空シリカ粒子及び非中空シリカ粒子の形状は、特に限定はなく、真球状、回転楕円体状、及び、球体に近似できる多面体形状等の略球状などであってもよい。なかでも、耐擦傷性を考慮すると、真球状、回転楕円体状または略球状であることが好ましい。
Hollow silica particles refer to particles that have a shell layer made of silica, the inside of the particle surrounded by the shell layer is hollow, and the inside of the cavity contains air.Hollow silica particles are particles that contain air, and the refractive index is reduced in proportion to the occupancy rate of gas compared to the refractive index of silica itself.Non-hollow silica particles are particles that are not hollow like hollow silica particles.Non-hollow silica particles are, for example, solid silica particles.
The shape of the hollow silica particles and non-hollow silica particles is not particularly limited, and may be a perfect sphere, a spheroid, or a nearly spherical shape such as a polyhedron that can approximate a sphere, etc. Among these, in consideration of scratch resistance, a perfect sphere, a spheroid, or a nearly spherical shape is preferable.
中空シリカ粒子は、内部に空気を含むことから、低屈折率層全体の屈折率を低下させる役割を果たす。空気の比率を高めた粒子径の大きい中空シリカ粒子を用いることにより、低屈折率層の屈折率をより低下させることができる。一方で、中空シリカ粒子は、機械的強度に劣る傾向がある。特に、空気の比率を高めた粒子径の大きい中空シリカ粒子を用いた場合、低屈折率層の耐擦傷性を低下させやすい傾向がある。
非中空シリカ粒子は、バインダー樹脂中に分散することにより、低屈折率層の耐擦傷性を向上させる役割を果たす。
Since hollow silica particles contain air inside, they play a role in lowering the refractive index of the entire low refractive index layer. By using hollow silica particles with a large particle size and a high ratio of air, the refractive index of the low refractive index layer can be further lowered. On the other hand, hollow silica particles tend to have poor mechanical strength. In particular, when hollow silica particles with a large particle size and a high ratio of air are used, the scratch resistance of the low refractive index layer tends to be easily reduced.
The non-hollow silica particles, when dispersed in the binder resin, play a role in improving the scratch resistance of the low refractive index layer.
中空シリカ粒子の平均粒子径は、50nm以上100nm以下であることが好ましく、60nm以上80nm以下であることがより好ましい。
また、非中空シリカ粒子の平均粒子径は、5nm以上20nm以下であることが好ましく、10nm以上15nm以下であることがより好ましい。
The average particle size of the hollow silica particles is preferably 50 nm or more and 100 nm or less, and more preferably 60 nm or more and 80 nm or less.
The average particle size of the non-hollow silica particles is preferably 5 nm or more and 20 nm or less, and more preferably 10 nm or more and 15 nm or less.
中空シリカ粒子及び非中空シリカ粒子は、表面がシランカップリング剤で被覆されていることが好ましい。(メタ)アクリロイル基又はエポキシ基を有するシランカップリング剤を用いることがより好ましい。
シリカ粒子にシランカップリング剤による表面処理を施すことにより、シリカ粒子とバインダー樹脂との親和性が向上し、シリカ粒子の凝集が生じにくくなる。シランカップリング剤は汎用のものを用いることができる。
The surfaces of the hollow silica particles and non-hollow silica particles are preferably coated with a silane coupling agent, and it is more preferable to use a silane coupling agent having a (meth)acryloyl group or an epoxy group.
By subjecting the silica particles to a surface treatment with a silane coupling agent, the affinity between the silica particles and the binder resin is improved, and the silica particles are less likely to aggregate. A general-purpose silane coupling agent can be used.
中空シリカ粒子の含有量が多くなるほど、バインダー樹脂中の中空シリカ粒子の充填率が高くなり、低屈折率層の屈折率が低下する。このため、中空シリカ粒子の含有量は、バインダー樹脂100質量部に対して100質量部以上であることが好ましく、150質量部以上であることがより好ましい。
一方で、バインダー樹脂に対する中空シリカ粒子の含有量が多すぎると、バインダー樹脂から露出する中空シリカ粒子が増加する上、粒子間を結合するバインダー樹脂が少なくなる。このため、中空シリカ粒子が損傷したり、脱落したりしやすくなって、低屈折率層の耐擦傷性等の機械的強度が低下する傾向がある。このため、中空シリカ粒子の含有量は、バインダー樹脂100質量部に対して400質量部以下であることが好ましく、300質量部以下であることがより好ましい。
The higher the content of the hollow silica particles, the higher the filling rate of the hollow silica particles in the binder resin, and the lower the refractive index of the low refractive index layer. Therefore, the content of the hollow silica particles is preferably 100 parts by mass or more, more preferably 150 parts by mass or more, relative to 100 parts by mass of the binder resin.
On the other hand, if the content of hollow silica particles relative to binder resin is too high, the hollow silica particles exposed from the binder resin increase, and the binder resin that bonds between particles decreases.As a result, the hollow silica particles tend to be easily damaged or fall off, and the mechanical strength of the low refractive index layer, such as scratch resistance, tends to decrease.For this reason, the content of hollow silica particles is preferably 400 parts by mass or less, more preferably 300 parts by mass or less, relative to 100 parts by mass of binder resin.
非中空シリカ粒子の含有量が少ないと、低屈折率層の表面に非中空シリカ粒子が存在していても硬度上昇に影響を及ぼさないことがある。また、非中空シリカ粒子を多量に含有すると、バインダー樹脂の重合による収縮ムラを抑制することができる。このため、非中空シリカ粒子の含有量は、バインダー樹脂100質量部に対して10質量部以上であることが好ましく、20質量部以上であることがより好ましい。
一方で、非中空シリカ粒子の含有量が多すぎると、非中空シリカが凝集しやすくなり、バインダー樹脂の収縮ムラが生じる場合がある。このため、非中空シリカ粒子の含有量は、バインダー樹脂100質量部に対して150質量部以下であることが好ましく、100質量部以下であることがより好ましく、70質量部以下であることがさらに好ましい。
When the content of non-hollow silica particles is small, even if non-hollow silica particles are present on the surface of low refractive index layer, it may not affect hardness increase.In addition, when non-hollow silica particles are contained in a large amount, shrinkage unevenness caused by polymerization of binder resin can be suppressed.Therefore, the content of non-hollow silica particles is preferably 10 parts by mass or more, more preferably 20 parts by mass or more, relative to 100 parts by mass of binder resin.
On the other hand, if the content of the non-hollow silica particles is too high, the non-hollow silica particles tend to aggregate, which may cause uneven shrinkage of the binder resin. Therefore, the content of the non-hollow silica particles is preferably 150 parts by mass or less, more preferably 100 parts by mass or less, and even more preferably 70 parts by mass or less, relative to 100 parts by mass of the binder resin.
低屈折率層のバインダー樹脂は、電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物を含むことが好ましい。低屈折率層の電離放射線硬化性樹脂組成物は、汎用の材料を用いることができ、例えば、ヒートシール層で例示したものが挙げられる。 The binder resin of the low refractive index layer preferably contains a cured product of an ionizing radiation curable resin composition. The ionizing radiation curable resin composition of the low refractive index layer may be a general-purpose material, such as those exemplified for the heat seal layer.
-高屈折率層-
高屈折率層は、低屈折率層よりも防眩層側に必要に応じて形成される。なお、後述するハードコート層を有する場合、高屈折率層は、ハードコート層と低屈折率層との間に形成することが好ましい。
-High refractive index layer-
The high refractive index layer is formed on the antiglare layer side of the low refractive index layer as necessary. When a hard coat layer described later is provided, the high refractive index layer is preferably formed between the hard coat layer and the low refractive index layer.
高屈折率層は、屈折率が1.53~1.85が好ましく、1.54~1.80がより好ましく、1.55~1.75がより好ましく、1.56~1.70がより好ましい。
また、高屈折率層の厚みは、200nm以下が好ましく、50~180nmがより好ましく、70~150nmがさらに好ましい。なお、高屈折率ハードコート層とする場合には、ハードコート層の厚みに準じることが好ましい。
The high refractive index layer has a refractive index of preferably 1.53 to 1.85, more preferably 1.54 to 1.80, more preferably 1.55 to 1.75, and even more preferably 1.56 to 1.70.
The thickness of the high refractive index layer is preferably 200 nm or less, more preferably 50 to 180 nm, and even more preferably 70 to 150 nm. When a high refractive index hard coat layer is used, the thickness is preferably similar to that of the hard coat layer.
高屈折率層は、例えば、バインダー樹脂組成物及び高屈折率粒子を含む高屈折率層形成用塗布液から形成することができる。該バインダー樹脂組成物としては、例えば、後述するハードコート層で例示する硬化性樹脂組成物が挙げられる。 The high refractive index layer can be formed, for example, from a coating liquid for forming a high refractive index layer that contains a binder resin composition and high refractive index particles. Examples of the binder resin composition include the curable resin composition exemplified in the hard coat layer described below.
高屈折率粒子としては、五酸化アンチモン(1.79)、酸化亜鉛(1.90)、酸化チタン(2.3~2.7)、酸化セリウム(1.95)、スズドープ酸化インジウム(1.95~2.00)、アンチモンドープ酸化スズ(1.75~1.85)、酸化イットリウム(1.87)及び酸化ジルコニウム(2.10)等が挙げられる。 High refractive index particles include antimony pentoxide (1.79), zinc oxide (1.90), titanium oxide (2.3-2.7), cerium oxide (1.95), tin-doped indium oxide (1.95-2.00), antimony-doped tin oxide (1.75-1.85), yttrium oxide (1.87) and zirconium oxide (2.10).
高屈折率粒子の平均粒子径は、2nm以上が好ましく、5nm以上がより好ましく、10nm以上がさらに好ましい。また、高屈折率粒子の平均粒子径は、白化抑制及び透明性の観点から、200nm以下が好ましく、100nm以下がより好ましく、80nm以下がより好ましく、60nm以下がより好ましく、30nm以下がより好ましい。高屈折率粒子の平均粒子径が小さいほど透明性が良好であり、特に、60nm以下とすることにより透明性を極めて良好にすることができる。 The average particle size of the high refractive index particles is preferably 2 nm or more, more preferably 5 nm or more, and even more preferably 10 nm or more. From the viewpoint of suppressing whitening and transparency, the average particle size of the high refractive index particles is preferably 200 nm or less, more preferably 100 nm or less, more preferably 80 nm or less, more preferably 60 nm or less, and even more preferably 30 nm or less. The smaller the average particle size of the high refractive index particles, the better the transparency, and by making it 60 nm or less, the transparency can be made extremely good.
高屈折率粒子又は低屈折率粒子の平均粒子径は、以下の(y1)~(y3)の作業により算出できる。
(y1)高屈折率層又は低屈折率層の断面をTEM又はSTEMで撮像する。TEM又はSTEMの加速電圧は10kv~30kV、倍率は5万~30万倍とすることが好ましい。
(y2)観察画像から任意の10個の粒子を抽出し、個々の粒子の粒子径を算出する。粒子径は、粒子の断面を任意の平行な2本の直線で挟んだとき、該2本の直線間距離が最大となるような2本の直線の組み合わせにおける直線間距離として測定される。粒子が凝集している場合、凝集した粒子を一個の粒子とみなして測定する。
(y3)同じサンプルの別画面の観察画像において同様の作業を5回行って、合計50個分の粒子径の数平均から得られる値を、高屈折率粒子又は低屈折率粒子の平均粒子径とする。
The average particle size of the high refractive index particles or the low refractive index particles can be calculated by the following steps (y1) to (y3).
(y1) A cross section of the high refractive index layer or the low refractive index layer is imaged by a TEM or STEM. The acceleration voltage of the TEM or STEM is preferably 10 kV to 30 kV, and the magnification is preferably 50,000 to 300,000.
(y2) Randomly extract 10 particles from the observed image, and calculate the particle diameter of each particle. The particle diameter is measured as the distance between two parallel lines that is the maximum distance between the two lines when the cross section of the particle is sandwiched between the two lines. When the particles are aggregated, the aggregated particles are regarded as one particle and measured.
(y3) The same procedure is repeated five times on a separate observation image of the same sample, and the value obtained from the number average of the particle diameters of a total of 50 particles is regarded as the average particle diameter of the high refractive index particles or low refractive index particles.
高屈折率層及び低屈折率層は、本発明の効果を阻害しない範囲で、レベリング剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤及び帯電防止剤等の添加剤を含んでいてもよい。 The high refractive index layer and the low refractive index layer may contain additives such as leveling agents, UV absorbers, antioxidants, and antistatic agents, as long as they do not impair the effects of the present invention.
<表面物性>
本発明の成形体は、成形体の転写層側の表面の、カットオフ値0.25mmにおけるJIS B0601:1994の算術平均粗さRa(Ra0.25)が0.02~0.30μmであることが好ましい。Raは、0.04~0.20μmであることがより好ましく、0.06~0.10μmであることがさらに好ましい。
Ra0.25を0.02μm以上とすることにより、防眩性を付与しやすくできる。また、Ra0.25を0.30μm以下とすることにより、成形体が白っぽく見えることを抑制しやすくできる。
<Surface properties>
The molded article of the present invention preferably has an arithmetic average roughness Ra (Ra0.25) of 0.02 to 0.30 μm at a cutoff value of 0.25 mm according to JIS B0601:1994 on the surface of the molded article on the transfer layer side, more preferably 0.04 to 0.20 μm, and even more preferably 0.06 to 0.10 μm.
By making Ra0.25 0.02 μm or more, it is possible to easily impart antiglare properties, and by making Ra0.25 0.30 μm or less, it is possible to easily prevent the molded article from appearing whitish.
成形体のRa0.25及び反射率は、任意の10箇所の測定値の最小値及び最大値を除外した8箇所の測定値の平均値として算出することが好ましい。成形体のRa0.25の測定条件は、後述する第一離型基材のRa0.25の測定条件とすることが好ましい。 The Ra0.25 and reflectance of the molded body are preferably calculated as the average of the measured values at 8 locations excluding the minimum and maximum values of the measured values at any 10 locations. The measurement conditions for the Ra0.25 of the molded body are preferably the same as the measurement conditions for the Ra0.25 of the first release substrate described below.
本発明の成形体は、成形体の転写層側の表面の反射率が2.0%以下であることが好ましく、1.5%以下であることがより好ましく、1.0%以下であることがさらに好ましい。 The molded article of the present invention preferably has a reflectance of the surface on the transfer layer side of the molded article of 2.0% or less, more preferably 1.5% or less, and even more preferably 1.0% or less.
本明細書において、反射率とは、CIE1931標準表色系の視感反射率Y値のことをいう。
また、反射率を測定する際は、成形体の被着体側の面に、透明粘着剤層を介して黒色板を貼り合わせたサンプルを作製し、該サンプルの離型層側から入射角5°で光を入射させて測定するものとする。反射率を測定する際の光源はD65とすることが好ましい。
サンプルの透明粘着剤層と接する部材(例えば透明プラスチックフィルム)と、透明粘着剤層との屈折率差は0.15以内とすることが好ましく、0.10以内とすることがより好ましい。また、黒色板は、JIS K7361-1:1997の全光線透過率が1%以下のものが好ましく、0%のものがより好ましい。また、黒色板を構成する樹脂の屈折率と、透明粘着剤層との屈折率差は0.15以内とすることが好ましく、0.10以内とすることがより好ましい。
In this specification, the reflectance refers to the luminous reflectance Y value of the CIE 1931 standard color system.
In addition, when measuring the reflectance, a sample is prepared by attaching a black plate to the adherend side of the molded article via a transparent adhesive layer, and light is made incident from the release layer side of the sample at an incident angle of 5° to measure the reflectance. It is preferable to use D65 as a light source when measuring the reflectance.
The refractive index difference between the transparent adhesive layer and a member (e.g., a transparent plastic film) in contact with the sample's transparent adhesive layer is preferably within 0.15, more preferably within 0.10. The black plate preferably has a total light transmittance of 1% or less, more preferably 0%, according to JIS K7361-1:1997. The refractive index difference between the resin constituting the black plate and the transparent adhesive layer is preferably within 0.15, more preferably within 0.10.
[転写シート]
本発明の転写シートは、第一離型基材上に転写層及び第二離型基材を有してなり、前記転写層は、少なくとも、前記第一離型基材に接するインデンテーション硬さが290MPa以上のヒートシール層と、前記ヒートシール層の前記第一離型基材とは反対側に位置する防眩層とを有するものである。
[Transfer sheet]
The transfer sheet of the present invention has a transfer layer and a second release substrate on a first release substrate, and the transfer layer has at least a heat seal layer having an indentation hardness of 290 MPa or more in contact with the first release substrate, and an antiglare layer located on the opposite side of the heat seal layer from the first release substrate.
本発明の転写シートは、第一離型基材上に転写層を形成し、その後、転写層上に第二離型基材を積層することにより製造してなるものであることが好ましい。さらに、本発明の転写シートは、第二離型基材と転写層との剥離強度(以下、「剥離強度2」と称する。)が、第一離型基材と転写層との剥離強度(以下、「剥離強度1」と称する。)よりも大きいことが好ましい。
転写シートを上記のように構成することにより、被着体に転写層を転写した際に、転写層の機能を発揮しやすくできる。理由を以下に示す。
The transfer sheet of the present invention is preferably manufactured by forming a transfer layer on a first release substrate, and then laminating a second release substrate on the transfer layer. Furthermore, the transfer sheet of the present invention is preferably such that the peel strength between the second release substrate and the transfer layer (hereinafter referred to as "peel strength 2") is greater than the peel strength between the first release substrate and the transfer layer (hereinafter referred to as "peel strength 1").
By configuring the transfer sheet as described above, the transfer layer can easily exhibit its function when transferred to an adherend, for the following reasons.
任意の基材に機能層を形成した場合、機能層の厚み方向において機能が略均一である場合もあるが、多くの場合は、機能層の厚み方向において機能が偏在する。言い換えると、機能層の表面側と、機能層の基材側とでは、機能が異なる場合が多い。そして、通常の機能性塗料は機能層の表面側で十分に機能を発揮するように設計されている。
上記のように構成した転写シートを用いて、後述する本発明の成形体の製造方法の工程(1)~(2)に沿って成形体を製造することにより、機能層の製造時の厚み方向の上下と、成形体に転写された際の機能層の厚み方向の上下とを同一にすることができるため、転写層に含まれる機能層(防眩層等)の機能を発揮しやすくできる。
When a functional layer is formed on an arbitrary substrate, the function may be substantially uniform in the thickness direction of the functional layer, but in many cases, the function is unevenly distributed in the thickness direction of the functional layer. In other words, the function is often different between the surface side of the functional layer and the substrate side of the functional layer. And, a typical functional coating material is designed to fully exert its function on the surface side of the functional layer.
By using the transfer sheet configured as described above to manufacture a molded body in accordance with steps (1) to (2) of the method for manufacturing a molded body of the present invention described below, the top and bottom in the thickness direction of the functional layer when manufactured can be made the same as the top and bottom in the thickness direction of the functional layer when transferred to the molded body, making it easier for the functional layer (anti-glare layer, etc.) contained in the transfer layer to exhibit its function.
<第一離型基材>
第一離型基材は、転写層と剥離可能であるものであれば特に制限されることなく使用でき、プラスチックフィルムが好適に用いられる。第一離型基材は転写の前に剥離して転写時には残存しないものである。
<First release substrate>
The first release substrate can be any substrate that can be peeled off from the transfer layer without any particular limitation, and a plastic film is preferably used. The first release substrate is peeled off before the transfer and does not remain at the time of the transfer.
第一離型基材として用いるプラスチックフィルムとしては、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、エチレン・酢酸ビニル共重合体、エチレン・ビニルアルコール共重合体等のビニル系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル系樹脂、ポリ(メタ)アクリル酸メチル、ポリ(メタ)アクリル酸エチル等のアクリル系樹脂、ポリスチレン等のスチレン系樹脂、ナイロン6又はナイロン66等のポリアミド系樹脂、トリアセチルセルロース等のセルロース系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリイミド系樹脂の1種又は2種以上から形成したプラスチックフィルムが挙げられる。 Examples of plastic films used as the first release substrate include plastic films formed from one or more of the following: polyolefin resins such as polyethylene and polypropylene; vinyl resins such as polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, ethylene-vinyl acetate copolymer, and ethylene-vinyl alcohol copolymer; polyester resins such as polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, and polybutylene terephthalate; acrylic resins such as polymethyl (meth)acrylate and polyethyl (meth)acrylate; styrene resins such as polystyrene; polyamide resins such as nylon 6 or nylon 66; cellulose resins such as triacetyl cellulose; polycarbonate resins; and polyimide resins.
第一離型基材は、転写層との剥離性を良好にする観点、及び、剥離強度2を剥離強度1よりも大きくする観点から、表面がフッ素系離型剤及びシリコーン系離型剤等の離型剤で離型処理されたものであることが好ましい。
また、前述した2つの観点から、第一離型基材の表面形状は略平滑であることが好ましい。具体的には、第一離型基材の転写層を形成する側の表面は、カットオフ値0.25mmにおけるJIS B0601:1994の算術平均粗さRa(Ra0.25)が0.02μm未満であることが好ましい。第一離型基材のRa0.25は、例えば、100mm×100mmにカットした第一離型基材の転写層を積層しない側の面に、透明粘着剤(日立化成工業社製、商品名「DA-1000」)を介して黒色アクリル板(クラレ製、商品名「コモグラス 502K」)を貼り合わせた評価用サンプルを作製し、該サンプルを水平面に置き、下記の測定条件で測定できる。第一離型基材のRa0.25は、任意の10箇所の測定値の最小値及び最大値を除外した8箇所の測定値の平均値として算出することが好ましい。
From the viewpoint of improving the releasability from the transfer layer and from the viewpoint of making peel strength 2 greater than peel strength 1, it is preferable that the surface of the first release substrate is release-treated with a release agent such as a fluorine-based release agent or a silicone-based release agent.
In addition, from the above-mentioned two viewpoints, it is preferable that the surface shape of the first release substrate is substantially smooth. Specifically, the surface of the first release substrate on which the transfer layer is formed preferably has an arithmetic average roughness Ra (Ra0.25) of JIS B0601:1994 at a cutoff value of 0.25 mm of less than 0.02 μm. The Ra0.25 of the first release substrate can be measured, for example, by preparing an evaluation sample by bonding a black acrylic plate (manufactured by Kuraray, product name "COMOGLAS 502K") via a transparent adhesive (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd., product name "DA-1000") to the side of the first release substrate cut to 100 mm x 100 mm on which the transfer layer is not laminated, placing the sample on a horizontal surface, and measuring under the following measurement conditions. It is preferable that the Ra0.25 of the first release substrate is calculated as the average value of the measured values at 8 points excluding the minimum and maximum values of the measured values at any 10 points.
<Ra0.25の測定条件>
・基準長さ(粗さ曲線のカットオフ値λc):0.25mm
・評価長さ(基準長さ(カットオフ値λc)×5):1.25mm
・触針の送り速さ:0.1mm/s
・縦倍率:10000倍
・横倍率:50倍
・スキッド:用いない(測定面に接触なし)
・カットオフフィルタ種類:ガウシャン
・JISモード:JIS1994
<Measurement conditions for Ra 0.25>
Reference length (cutoff value λc of roughness curve): 0.25 mm
Evaluation length (reference length (cutoff value λc) × 5): 1.25 mm
Stylus feed speed: 0.1 mm/s
Vertical magnification: 10,000 times Horizontal magnification: 50 times Skid: Not used (no contact with the measurement surface)
Cutoff filter type: Gaussian JIS mode: JIS 1994
第一離型基材は、剥離帯電を抑制する観点から帯電防止層を有するものであってもよい。 The first release substrate may have an antistatic layer to suppress peeling static electricity.
第一離型基材の厚みは特に限定されないが、取り扱い性の観点から、10~500μmであることが好ましく、20~400μmであることがより好ましく、30~300μmであることがさらに好ましい。
なお、第一離型基材の厚みをT1、第二離型基材の厚みをT2とした場合、第一離型基材を剥離した後の取り扱い性の観点から、T2/T1は、1.00超であることが好ましく、1.10以上であることがより好ましく、1.20以上であることがさらに好ましい。また、転写シートのカール抑制の観点から、T2/T1は、2.00以下であることが好ましく、1.80以下であることがより好ましく、1.60以下であることがさらに好ましい。
The thickness of the first release substrate is not particularly limited, but from the viewpoint of ease of handling, it is preferably from 10 to 500 μm, more preferably from 20 to 400 μm, and even more preferably from 30 to 300 μm.
In addition, when the thickness of the first release substrate is T1 and the thickness of the second release substrate is T2, from the viewpoint of handling after peeling off the first release substrate, T2/T1 is preferably more than 1.00, more preferably 1.10 or more, and even more preferably 1.20 or more. In addition, from the viewpoint of suppressing curling of the transfer sheet, T2/T1 is preferably 2.00 or less, more preferably 1.80 or less, and even more preferably 1.60 or less.
<転写層>
転写シートの転写層を構成する層(ヒートシール層及び防眩層、並びに、必要に応じて有するマイグレーション抑制層及び反射防止層)の実施の形態は、成形体で述べた通りである。
なお、上述したように、転写層は、第一離型基材上に形成することが好ましい。
<Transfer Layer>
The embodiments of the layers constituting the transfer layer of the transfer sheet (the heat seal layer and the antiglare layer, and the migration suppression layer and the antireflection layer, if necessary) are as described above for the molded article.
As described above, the transfer layer is preferably formed on the first release substrate.
<第二離型基材>
第二離型基材は転写時に残存するものである。
第二離型基材は、転写層と剥離可能であるものであれば特に制限されることなく使用でき、プラスチックフィルムが好適に用いられる。
第二離型基材として用いるプラスチックフィルムとしては、第一離型基材のプラスチックフィルムで例示したものと同様のものを用いることができる。
<Second release substrate>
The second release substrate is what remains upon transfer.
The second release substrate can be any substrate that can be peeled off from the transfer layer without any particular limitation, and a plastic film is preferably used.
As the plastic film used as the second release substrate, the same materials as those exemplified as the plastic film of the first release substrate can be used.
第二離型基材の転写層側の表面は略平滑であることが好ましい。具体的には、第二離型基材の転写層側の表面は、カットオフ値0.25mmにおけるJIS B0601:1994の算術平均粗さRa(Ra0.25)が0.02μm未満であることが好ましい。第二離型基材のRa0.25は、第一離型基材のRa0.25と同様の手法により測定できる。 It is preferable that the surface of the second release substrate on the transfer layer side is substantially smooth. Specifically, it is preferable that the surface of the second release substrate on the transfer layer side has an arithmetic mean roughness Ra (Ra0.25) of less than 0.02 μm according to JIS B0601:1994 at a cutoff value of 0.25 mm. The Ra0.25 of the second release substrate can be measured by the same method as the Ra0.25 of the first release substrate.
第二離型基材は転写時に残存するため、被着体への形状追従性が良好であることが好ましい。具体的には、第二離型基材は、JIS K7127:1999に準じた引張特性試験による破断時の伸び率が70%以上であることが好ましく、80%以上であることがより好ましい。なお、第二離型基材が伸びやすい場合、転写層上に第二離型基材を積層した後に、第二離型基材に縮もうとする力が生じ、転写層から第一離型基材が剥がれやすくなる。このため、第二離型基材として伸びやすいものを用いた場合、剥離強度1を大きくすることが好ましい(剥離強度1は、好ましくは40mN/25mm以上、より好ましくは50mN/25mm以上)。 Since the second release substrate remains during transfer, it is preferable that it has good conformability to the shape of the substrate. Specifically, the second release substrate preferably has an elongation at break of 70% or more, more preferably 80% or more, in a tensile property test conforming to JIS K7127:1999. If the second release substrate is stretchable, a shrinking force is generated in the second release substrate after laminating the second release substrate on the transfer layer, and the first release substrate is easily peeled off from the transfer layer. For this reason, when a second release substrate that is stretchable is used, it is preferable to increase the peel strength 1 (peel strength 1 is preferably 40 mN/25 mm or more, more preferably 50 mN/25 mm or more).
第二離型基材は、剥離強度2を剥離強度1よりも大きくしつつ、転写層と剥離可能とする観点から、表面に接着力の弱い接着剤層を有することが好ましい。
第二離型基材の表面の接着剤層に含まれる接着剤は、剥離強度2が後述する範囲となるような接着力の弱い接着剤を用いることが好ましい。
From the viewpoint of making the peel strength 2 larger than the peel strength 1 while enabling peeling from the transfer layer, the second release substrate preferably has an adhesive layer with weak adhesive strength on its surface.
The adhesive contained in the adhesive layer on the surface of the second release substrate is preferably an adhesive having a weak adhesive strength such that the peel strength 2 falls within the range described below.
第二離型基材は、剥離帯電を抑制する観点から帯電防止層を有するものであってもよい。
第二離型基材の厚みは特に限定されないが、第一離型基材を剥離した後の取り扱い性及び被着体への形状追従性の観点から、5~100μmであることが好ましく、10~80μmであることがより好ましく、20~70μmであることがさらに好ましい。
The second release substrate may have an antistatic layer from the viewpoint of suppressing peeling static electricity.
The thickness of the second release substrate is not particularly limited, but from the viewpoints of handleability after peeling off the first release substrate and conformability to the shape of the adherend, it is preferably 5 to 100 μm, more preferably 10 to 80 μm, and even more preferably 20 to 70 μm.
<剥離強度>
転写シートに含まれる2枚の離型基材のうち、第一離型基材は転写の前に剥離して転写時には残存しないものの、第二離型基材は転写時に残存するものである。転写前に第一離型基材のみを剥離可能とするため、転写シートは、第二離型基材と転写層との剥離強度(剥離強度2)を、第一離型基材と転写層との剥離強度(剥離強度1)よりも大きくすることが好ましい。
<Peel strength>
Of the two release substrates included in the transfer sheet, the first release substrate is peeled off before transfer and does not remain at the time of transfer, while the second release substrate remains at the time of transfer. In order to enable only the first release substrate to be peeled off before transfer, it is preferable that the transfer sheet has a peel strength (peel strength 2) between the second release substrate and the transfer layer greater than the peel strength (peel strength 1) between the first release substrate and the transfer layer.
剥離強度2と剥離強度1との差(剥離強度2-剥離強度1)は、転写前に第一離型基材のみを剥離しやすくする観点から、15mN/25mm以上であることが好ましく、40mN/25mm以上であることがより好ましく、100mN/25mm以上であることがさらに好ましい。なお、該差が大き過ぎると、転写後に第二離型基材を剥離しにくくなる場合があることから、該差は450mN/25mm以下であることが好ましく、更には350mN/25mm以下であることが好ましい。
剥離強度1は、第一離型基材の脱落を抑制する観点から、10mN/25mm以上であることが好ましく、20mN/25mm以上であることがより好ましく、30mN/25mm以上であることがさらに好ましい。また、剥離強度1は、剥離強度2との差を出しやすくする観点から、90mN/25mm以下であることが好ましく、70mN/25mm以下であることがより好ましい。
剥離強度2は、剥離強度1との差を出しやすくする観点から、100mN/25mm以上であることが好ましく、120mN/25mm以上であることがより好ましく、140mN/25mm以上であることがさらに好ましい。また、剥離強度2は、第二離型基材を剥離する際に、第二離型基材が有する接着剤層及び転写層が凝集破壊することを抑制する観点から、600mN/25mm以下であることが好ましく、500mN/25mm以下であることがより好ましく、更には400mN/25mm以下であることが好ましい。
本明細書において、剥離強度は、JIS Z0237:2009の180度はく離試験に準拠して測定することができる。なお、剥離強度を測定する雰囲気は、23℃、湿度40~65%とすることが好ましい。また、剥離強度を測定する前に、サンプルを前記雰囲気に30分馴染ませることが好ましい。測定は、1サンプルにつき3回実施し、その平均値を剥離強度とする。
From the viewpoint of facilitating peeling of only the first release substrate before transfer, the difference between the peel strength 2 and the peel strength 1 (peel strength 2 - peel strength 1) is preferably 15 mN/25 mm or more, more preferably 40 mN/25 mm or more, and even more preferably 100 mN/25 mm or more. If the difference is too large, it may be difficult to peel the second release substrate after transfer, so the difference is preferably 450 mN/25 mm or less, and more preferably 350 mN/25 mm or less.
From the viewpoint of suppressing the detachment of the first release substrate, the peel strength 1 is preferably 10 mN/25 mm or more, more preferably 20 mN/25 mm or more, and even more preferably 30 mN/25 mm or more. From the viewpoint of easily achieving a difference from the peel strength 2, the peel strength 1 is preferably 90 mN/25 mm or less, and more preferably 70 mN/25 mm or less.
From the viewpoint of easily achieving a difference from the peel strength 1, the peel strength 2 is preferably 100 mN/25 mm or more, more preferably 120 mN/25 mm or more, and even more preferably 140 mN/25 mm or more. Moreover, from the viewpoint of suppressing cohesive failure of the adhesive layer and the transfer layer of the second release substrate when the second release substrate is peeled off, the peel strength 2 is preferably 600 mN/25 mm or less, more preferably 500 mN/25 mm or less, and even more preferably 400 mN/25 mm or less.
In this specification, the peel strength can be measured in accordance with the 180-degree peel test of JIS Z0237:2009. The atmosphere in which the peel strength is measured is preferably 23°C and humidity 40 to 65%. In addition, it is preferable to allow the sample to acclimate to the above atmosphere for 30 minutes before measuring the peel strength. The measurement is performed three times for each sample, and the average value is taken as the peel strength.
[成形体の製造方法]
本発明の成形体の製造方法は、下記(1)~(2)の工程を順に行うものである。
(1)上述した本発明の転写シートの前記第一離型基材を剥離し、露出した前記転写層のヒートシール層側の面と被着体とを加熱圧着した積層体を得る工程。
(2)前記積層体から前記第二離型基材を剥離し、被着体上に転写層を有する成形体を得る工程。
[Method of manufacturing molded body]
The method for producing a molded article of the present invention involves sequentially carrying out the following steps (1) and (2).
(1) A step of peeling off the first release substrate from the transfer sheet of the present invention described above, and heat-pressing the exposed surface of the transfer layer on the heat seal layer side to an adherend to obtain a laminate.
(2) A step of peeling off the second release substrate from the laminate to obtain a molded article having a transfer layer on an adherend.
<工程(1)>
工程(1)は、上述した本発明の転写シートの前記第一離型基材を剥離し、露出した前記転写層のヒートシール層側の面と被着体とを加熱圧着した積層体を得る工程である。
<Step (1)>
Step (1) is a step of peeling off the first release substrate of the transfer sheet of the present invention described above, and heat-pressing the exposed surface of the transfer layer on the heat seal layer side to an adherend to obtain a laminate.
《被着体》
被着体の材質は特に限定されず、ガラス及びセラミック等の無機物並びに樹脂から選ばれる1種、又はこれらの混合物等が挙げられる。
《Substrate》
The material of the adherend is not particularly limited, and examples thereof include one selected from inorganic materials such as glass and ceramics, and resins, or a mixture thereof.
インモールド成形を行う場合には、被着体として、射出成形可能な熱可塑性樹脂もしくは熱硬化性樹脂を用いることが好ましく、その中でも熱可塑性樹脂がより好ましい。
熱可塑性樹脂としては、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ABS樹脂(耐熱ABS樹脂を含む)、AS樹脂、AN樹脂、ポリフェニレンオキサイド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアセタール系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエチレンテレフタレート系樹脂、ポリブチレンテフタレート系樹脂、ポリスルホン系樹脂、およびポリフェニレンサルファイド系樹脂等が挙げられる。
これらの中でも、透明性及び耐候性の観点からはアクリル系樹脂が好適であり、耐衝撃性の観点からはポリカーボネート系樹脂が好ましい。
When in-mold molding is performed, it is preferable to use an injection-moldable thermoplastic resin or thermosetting resin as the adherend, and among these, a thermoplastic resin is more preferable.
Examples of thermoplastic resins include polystyrene-based resins, polyolefin-based resins, ABS resins (including heat-resistant ABS resins), AS resins, AN resins, polyphenylene oxide-based resins, polycarbonate-based resins, polyacetal-based resins, acrylic-based resins, polyethylene terephthalate-based resins, polybutylene terephthalate-based resins, polysulfone-based resins, and polyphenylene sulfide-based resins.
Among these, acrylic resins are preferred from the viewpoints of transparency and weather resistance, and polycarbonate resins are preferred from the viewpoint of impact resistance.
また、被着体の形状も特に限定されず、平板状のものであってもよいし、三次元形状を有するものであってもよい。また、被着体の厚みも特に限定されない。
また、被着体は予め成形されたものであってもよいし、インモールド成形のように工程(1)の最中に成形されるものであってもよい。
The shape of the adherend is not particularly limited, and may be a flat plate or may have a three-dimensional shape. The thickness of the adherend is also not particularly limited.
The adherend may be one that has been molded in advance, or one that is molded during step (1) such as in-mold molding.
《加熱圧着》
工程(1)における加熱圧着は、ロール転写機による加熱圧着、インモールド成形時の射出樹脂による加熱圧着が挙げられる。
<Heat compression bonding>
The heat-pressure bonding in the step (1) may be performed by heat-pressure bonding using a roll transfer machine or by heat-pressure bonding using an injected resin during in-mold molding.
本発明の成形体の製造方法は、工程(1)として、下記(a)~(c)の工程を有することが好ましい。
工程(1)として、下記(a)~(c)の工程を行い、その後工程(2)を行うことは、いわゆる「インモールド成形」を意味する。インモールド成形の場合、被着体側から転写層側に向かって大きな圧力がかかりやすいため、ヒートシール層のインデンテーション硬さを290MPa以上とする効果をより際立ったものとすることができる。
The method for producing a molded article of the present invention preferably includes, as step (1), the following steps (a) to (c):
Carrying out the following steps (a) to (c) as step (1) and then carrying out step (2) means so-called "in-mold molding." In the case of in-mold molding, since a large pressure is likely to be applied from the adherend side toward the transfer layer side, the effect of making the indentation hardness of the heat seal layer 290 MPa or more can be more prominent.
(a)上述した本発明の転写シートの前記第一離型基材を剥離し、露出した前記転写層のヒートシール層側の面をインモールド成形用金型の内側に向けて配置する工程。
(b)前記インモールド成形用金型内に樹脂を射出注入する工程。
(c)前記転写層のヒートシール層側の面と、前記樹脂とを一体化させた積層体を得る工程。
(a) A step of peeling off the first release substrate of the transfer sheet of the present invention described above, and placing the exposed surface of the transfer layer facing the heat seal layer side toward the inside of an in-mold molding die.
(b) A step of injecting a resin into the in-mold molding die.
(c) A step of obtaining a laminate by integrating the surface of the transfer layer facing the heat seal layer with the resin.
<工程(2)>
工程(2)は、前記積層体から前記第二離型基材を剥離し、被着体上に転写層を有する成形体を得る工程である。
<Step (2)>
Step (2) is a step of peeling the second release substrate from the laminate to obtain a molded article having a transfer layer on an adherend.
以下、実施例及び比較例を挙げて本発明を具体的に説明する。なお、本発明は、実施例に記載の形態に限定されるものではない。 The present invention will be specifically described below with reference to examples and comparative examples. Note that the present invention is not limited to the embodiments described in the examples.
1.測定及び評価
1-1.成形体のヒートシール層のインデンテーション硬さ
明細書本文の(A1)及び(A2)に例示した好適な手法に沿って、ヒートシール層の断面が露出した測定用のサンプルを作製した。
包埋サンプルを切断する装置は、ライカマイクロシステムズ社製の商品名「ウルトラミクロトーム EM UC7」を用いた。また、包埋サンプル中のカットサンプルの中心を通るように切断した。なお、切断の際は、最初は大まかに切断し(粗トリミング)、最終的には、「SPEED:1.00mm/s」、「FEED:70nm」の条件で精密にトリミングし、サンプルの中心を通る切断面が略平坦となるようにした。また、精密トリミング後に、切断面に、異物及び凹凸等の測定の障害になるものがないことを顕微鏡で確認した。
次いで、測定用サンプルを用いて、露出したヒートシール層の断面にバーコビッチ圧子(材質:ダイヤモンド三角錐)を垂直に押し込み、下記の測定条件でインデンテーション硬さを測定した。バーコビッチ圧子を押し込む位置は、ヒートシール層の厚み方向の略中心とした。10個のサンプルの測定値の平均値を、各実施例及び比較例のインデンテーション硬さとした。結果を表1に示す。
<測定条件>
・使用圧子:バーコビッチ圧子(型番:TI-0039、BRUKER社製)
・押し込み条件:荷重制御方式
・最大荷重:50μN
・荷重印加時間:10秒間(荷重変化率:5μN/sec)
・保持時間:5秒間
・保持荷重:50μN
・荷重除荷時間:10秒間(荷重変化率:-5μN/sec)
1. Measurement and Evaluation 1-1. Indentation Hardness of Heat Seal Layer of Molded Article According to the preferred methods exemplified in (A1) and (A2) of the present specification, a measurement sample in which the cross section of the heat seal layer was exposed was prepared.
The embedded sample was cut using a Leica Microsystems Ultramicrotome EM UC7. The embedded sample was cut so as to pass through the center of the cut sample. The cutting was performed roughly at first (rough trimming), and then precisely under the conditions of "SPEED: 1.00 mm/s" and "FEED: 70 nm" so that the cut surface passing through the center of the sample was approximately flat. After precise trimming, the cut surface was checked with a microscope to ensure that there were no foreign objects or irregularities that would hinder the measurement.
Next, a Berkovich indenter (material: diamond triangular pyramid) was pressed vertically into the cross section of the exposed heat seal layer using the measurement sample, and the indentation hardness was measured under the following measurement conditions. The position where the Berkovich indenter was pressed was approximately the center in the thickness direction of the heat seal layer. The average value of the measured values of 10 samples was taken as the indentation hardness of each Example and Comparative Example. The results are shown in Table 1.
<Measurement conditions>
Indenter used: Berkovich indenter (model number: TI-0039, manufactured by BRUKER)
Pressing conditions: Load control method Maximum load: 50 μN
Load application time: 10 seconds (load change rate: 5 μN/sec)
Holding time: 5 seconds Holding load: 50 μN
Load removal time: 10 seconds (load change rate: -5 μN/sec)
1-2.透過像鮮明度(JIS K7374:2007の透過像鮮明度)
実施例及び比較例の転写シートに関して、第一離型基材上に転写層を形成した段階(転写層上に第二離型基材を積層していない段階)の透過像鮮明度を測定した。光入射面は低屈折率層側(第一離型基材とは反対側)とした。測定装置は、スガ試験機社製の写像性測定器(商品名:ICM-1T)を用いた。4つの光学櫛の幅(0.25mm、0.5mm、1.0mm及び2.0mm)の透過像鮮明度の合計を表1に示す。
実施例及び比較例の成形体の透過像鮮明度を測定した。光入射面は低屈折率層側(被着体とは反対側)とした。測定装置は転写シートの測定と同じのものを用いた。4つの光学櫛の幅(0.25mm、0.5mm、1.0mm及び2.0mm)の透過像鮮明度の合計を表1に示す。
また、転写シートの透過像鮮明度の合計と、成形体の透過像鮮明度の合計との比を表1に示す。「成形体の透過像鮮明度/転写シートの透過像鮮明度」が1.50以下であれば合格レベルである。表1中に、該比が1.50以下のものを「〇」、1.50超のものを「×」と記載した。
1-2. Transmitted image clarity (JIS K7374:2007 Transmitted image clarity)
For the transfer sheets of the Examples and Comparative Examples, the transmitted image clarity was measured at the stage where a transfer layer was formed on the first release substrate (at the stage where a second release substrate was not laminated on the transfer layer). The light incident surface was the low refractive index layer side (opposite side to the first release substrate). The measurement device used was an image clarity measuring device (product name: ICM-1T) manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd. The total transmitted image clarity for the four optical comb widths (0.25 mm, 0.5 mm, 1.0 mm, and 2.0 mm) is shown in Table 1.
The transmitted image clarity of the molded bodies of the examples and comparative examples was measured. The light incident surface was the low refractive index layer side (opposite to the adherend). The measuring device used was the same as that used to measure the transfer sheet. The total transmitted image clarity of the four optical comb widths (0.25 mm, 0.5 mm, 1.0 mm, and 2.0 mm) is shown in Table 1.
The ratio of the total transmitted image clarity of the transfer sheet to the total transmitted image clarity of the molded body is shown in Table 1. If the "transmitted image clarity of the molded body/transfer image clarity" is 1.50 or less, it is at the pass level. In Table 1, the ratio of 1.50 or less is marked as "good", and the ratio exceeding 1.50 is marked as "poor".
1-3.密着性
実施例及び比較例の成形体の転写層側の面に1mm角碁盤目カットを100マス入れ、ニチバン製セロテープ(登録商標)No.405(産業用24mm)を貼り、ヘラで擦って密着させ90度方向に3回急速剥離を行った。残っている升目を目視確認し、表1に%表示した。
1-3. Adhesion A grid of 1 mm squares was cut into 100 squares on the transfer layer side of the molded articles of the Examples and Comparative Examples, and Nichiban Cellotape (registered trademark) No. 405 (industrial use 24 mm) was attached, rubbed with a spatula to adhere, and then rapidly peeled off three times in a 90 degree direction. The remaining squares were visually confirmed and shown in Table 1 as a percentage.
2.転写シート及び成形体の作製
[実施例1]
表面が離型処理されてなる厚み38μm、サイズ200mm×600mmのポリエチレンテレフタレートフィルム(第一離型基材)上に、下記処方のヒートシール層形成用塗布液1を塗布、乾燥(100℃、60秒)、紫外線照射し、厚み0.8μmのヒートシール層を形成した。
次いで、ヒートシール層上に、下記処方のマイグレーション抑制層形成用塗布液1を塗布、乾燥(70℃、30秒)、紫外線照射し、厚み2.0μmのマイグレーション抑制層を形成した。
次いで、マイグレーション抑制層上に、下記処方の防眩層形成用塗布液1を塗布、乾燥(70℃、30秒)、紫外線照射し、厚み5.0μmの防眩層を形成した。
次いで、防眩層上に、下記処方の低屈折率層形成用塗布液1を塗布、乾燥(50℃、60秒)、紫外線照射し、厚み100nm、屈折率1.30の低屈折率層を形成した。
次いで、厚み50μmのポリエチレンテレフタレートフィルム上に感圧接着剤層を有してなる第二離型基材(サンエー化研社製、商品名「SAT TS1050TRL」)を準備し、低屈折率層上に該第二離型基材の接着剤層側の面を貼り合わせ、実施例1の転写シートを得た。実施例1の転写シートは、第一離型基材、ヒートシール層、マイグレーション抑制層、防眩、低屈折率層及び第二離型基材をこの順に有している。
2. Preparation of transfer sheet and molded product [Example 1]
A coating solution 1 for forming a heat seal layer having the following formulation was applied onto a polyethylene terephthalate film (first release substrate) having a thickness of 38 μm and a size of 200 mm × 600 mm, the film having a release-treated surface, dried (100°C, 60 seconds), and irradiated with ultraviolet light to form a heat seal layer having a thickness of 0.8 μm.
Next, migration-inhibiting layer forming coating solution 1 having the following formulation was applied onto the heat seal layer, dried (70° C., 30 seconds), and irradiated with ultraviolet light to form a migration-inhibiting layer having a thickness of 2.0 μm.
Next, coating solution 1 for forming an antiglare layer having the following formulation was applied onto the migration-inhibiting layer, dried (70° C., 30 seconds), and irradiated with ultraviolet light to form an antiglare layer having a thickness of 5.0 μm.
Next, low refractive index layer forming coating solution 1 having the following formulation was applied onto the antiglare layer, dried (50° C., 60 seconds), and irradiated with ultraviolet light to form a low refractive index layer having a thickness of 100 nm and a refractive index of 1.30.
Next, a second release substrate (manufactured by San-A Chemical Industries, Ltd., product name "SAT TS1050TRL") having a pressure-sensitive adhesive layer on a 50 μm thick polyethylene terephthalate film was prepared, and the adhesive layer side of the second release substrate was bonded to the low refractive index layer to obtain a transfer sheet of Example 1. The transfer sheet of Example 1 has a first release substrate, a heat seal layer, a migration suppression layer, an antiglare layer, a low refractive index layer, and a second release substrate in this order.
次いで、転写シートの第一離型基材を剥離し、ヒートシール層を露出させた。第二離型基材を残存させて転写シートから第一離型基材を剥離できるため、実施例1の転写シートは、剥離強度1よりも剥離強度2の方が大きいことを示している。
次いで、インモールド成形用金型内に、ヒートシール層を露出させた転写シートを配置した。その際、ヒートシール層側の面が金型の内側(射出樹脂と接する側)を向くように配置した。
次いで、金型を締め、金型内に射出樹脂(ポリカーボネート樹脂)を注入し、転写シートのヒートシール層側の面と、射出樹脂からなる被着体(厚み1.3mm)とを加熱圧着してなる積層体を得た。
次いで、積層体から第二離型基材を剥離し、被着体上に転写層を有する実施例1の成形体を得た。実施例1の成形体は、被着体、ヒートシール層、マイグレーション抑制層、防眩及び低屈折率層をこの順に有している。
Next, the first release substrate of the transfer sheet was peeled off to expose the heat seal layer. Since the first release substrate can be peeled off from the transfer sheet while leaving the second release substrate, the transfer sheet of Example 1 shows that the peel strength 2 is greater than the peel strength 1.
Next, the transfer sheet with the heat seal layer exposed was placed in an in-mold molding die such that the surface on the heat seal layer side faced the inside of the die (the side in contact with the injected resin).
Next, the mold was clamped, and an injection resin (polycarbonate resin) was injected into the mold, and the heat seal layer side of the transfer sheet and an adherend (thickness 1.3 mm) made of the injection resin were heated and pressed together to obtain a laminate.
Next, the second release substrate was peeled off from the laminate to obtain a molded article having a transfer layer on the adherend of Example 1. The molded article of Example 1 has an adherend, a heat seal layer, a migration suppression layer, an antiglare layer, and a low refractive index layer in this order.
<ヒートシール層形成用塗布液1>
・熱可塑性樹脂 18.6質量部
(ポリエステル系ウレタン樹脂、東洋紡社製、商品名:バイロンUR8210)
・紫外線硬化性化合物 1.48質量部
(多官能ウレタンアクリレートオリゴマー、大成ファインケミカル社製、商品名:8UX-015A)
・フッ素系レベリング剤 0.07質量部
(DIC社製、商品名:MEGAFACE F-568)
・光重合開始剤 0.15質量部
(IGM Resins B.V.社、商品名:Omnirad 184)
・希釈溶剤 79.7質量部
(MEK単独)
<Coating solution 1 for forming heat seal layer>
Thermoplastic resin: 18.6 parts by mass (polyester-based urethane resin, manufactured by Toyobo Co., Ltd., product name: Vylon UR8210)
UV-curable compound: 1.48 parts by mass (polyfunctional urethane acrylate oligomer, manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd., product name: 8UX-015A)
Fluorine-based leveling agent: 0.07 parts by mass (manufactured by DIC Corporation, product name: MEGAFACE F-568)
・Photopolymerization initiator 0.15 parts by mass (IGM Resins BV, trade name: Omnirad 184)
Dilution solvent: 79.7 parts by weight (MEK alone)
<マイグレーション抑制層形成用塗布液1>
・紫外線硬化性化合物 40.8質量部
(アクリルポリマー、大成ファインケミカル社製、商品名:8KX-077)
・紫外線硬化性化合物 4.1質量部
(多官能ウレタンアクリレート、第一工業製薬社製、商品名:GX-8871A(70))
・フッ素系レベリング剤 0.15質量部
(DIC社製、商品名:MEGAFACE F-560)
・光重合開始剤 0.77質量部
(IGM Resins B.V.社、商品名:Omnirad 184)
・希釈溶剤 54.2質量部
(MEK/IPA=70/30の混合液)
<Migration-Suppressing Layer-Forming Coating Solution 1>
UV-curable compound: 40.8 parts by mass (acrylic polymer, manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd., product name: 8KX-077)
UV-curable compound: 4.1 parts by mass (polyfunctional urethane acrylate, manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd., product name: GX-8871A (70))
Fluorine-based leveling agent: 0.15 parts by mass (manufactured by DIC Corporation, product name: MEGAFACE F-560)
・Photopolymerization initiator 0.77 parts by mass (IGM Resins BV, product name: Omnirad 184)
Dilution solvent: 54.2 parts by weight (MEK/IPA = 70/30 mixture)
<防眩層形成用塗布液1>
・紫外線硬化性化合物 25.1質量部
(アクリルポリマー、大成ファインケミカル社製、商品名:8KX-077)
・紫外線硬化性化合物 25.4質量部
(多官能アクリレート、日本化薬社製、商品名:PET-30)
・光重合開始剤 1.0質量部
(IGM Resins B.V.社、商品名:Omnirad 184)
・有機粒子 1.4質量部
(スチレンアクリル粒子、平均粒子径3.9μm)
・有機粒子 6.6質量部
(スチレンアクリル粒子、平均粒子径3.5μm)
・無機粒子 2.8質量部
(ヒュームドシリカ、平均粒子径250μm)
・シリコーン系レベリング剤 0.30質量部
(モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製、商品名:TSF4460)
・希釈溶剤 37.4質量部
(トルエン/IPA/ PMA=47/33/20混合液)
<Coating liquid 1 for forming anti-glare layer>
UV-curable compound: 25.1 parts by mass (acrylic polymer, manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd., product name: 8KX-077)
UV-curable compound: 25.4 parts by mass (polyfunctional acrylate, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., product name: PET-30)
・Photopolymerization initiator 1.0 parts by mass (IGM Resins BV, trade name: Omnirad 184)
Organic particles: 1.4 parts by mass (styrene acrylic particles, average particle size 3.9 μm)
Organic particles: 6.6 parts by mass (styrene acrylic particles, average particle size 3.5 μm)
Inorganic particles: 2.8 parts by mass (fumed silica, average particle size 250 μm)
Silicone leveling agent: 0.30 parts by mass (manufactured by Momentive Performance Materials, product name: TSF4460)
Dilution solvent: 37.4 parts by weight (toluene/IPA/PMA = 47/33/20 mixed solution)
<低屈折率層形成用塗布液1>
・紫外線硬化性化合物 0.6質量部
(3~4官能のアルコキシ化ペンタエリスリトールアクリレート、新中村化学工業社製、商品名:NKエステル ATM-4PL)
・光重合開始剤 0.1質量部
(IGM Resins B.V.社、商品名:Omnirad 127)
・中空シリカ 1.88質量部
(平均粒子径60nm)
・中実シリカ 0.3質量部
(平均粒子径12nm)
・フッ素系防汚剤 1.16質量部
(DIC社製、商品名:MEGAFACE F-568)
・希釈溶剤 92.7質量部(メチルイソブチルケトンとプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートとの90/10の混合液)
<Coating solution 1 for forming low refractive index layer>
UV-curable compound: 0.6 parts by mass (tri- to tetrafunctional alkoxylated pentaerythritol acrylate, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., product name: NK Ester ATM-4PL)
・Photopolymerization initiator 0.1 part by mass (IGM Resins BV, product name: Omnirad 127)
Hollow silica 1.88 parts by mass (average particle size 60 nm)
Solid silica 0.3 parts by mass (average particle size 12 nm)
Fluorine-based antifouling agent: 1.16 parts by mass (manufactured by DIC Corporation, product name: MEGAFACE F-568)
Dilution solvent: 92.7 parts by mass (a 90/10 mixture of methyl isobutyl ketone and propylene glycol monomethyl ether acetate)
[実施例2]
ヒートシール層の厚みを2.4μmに変更した以外は、実施例1と同様にして、実施例2の転写シート及び成形体を得た。
[Example 2]
A transfer sheet and a molded product of Example 2 were obtained in the same manner as in Example 1, except that the thickness of the heat seal layer was changed to 2.4 μm.
[実施例3]
防眩層形成用塗布液1を、下記の防眩層形成用塗布液2に変更した以外は、実施例1と同様にして、実施例3の転写シート及び成形体を得た。
[Example 3]
A transfer sheet and a molded product of Example 3 were obtained in the same manner as in Example 1, except that the coating liquid 1 for forming an antiglare layer was changed to the coating liquid 2 for forming an antiglare layer described below.
<防眩層形成用塗布液2>
・紫外線硬化性化合物 23.7質量部
(多官能ウレタンアクリレート、DIC社製、商品名:ルクシディアERS-543)
・紫外線硬化性化合物 18.5質量部
(アクリルポリマー、DIC社製、商品名:ルクシディアEKS-796)
・紫外線吸収剤 0.74質量部
(ヒドロキシフェニルトリアジン系、BASFジャパン株式会社製、商品名:Tinuvin477)
・紫外線硬化性化合物 1.85質量部
(アクリル樹脂、荒川化学社製、商品名:DSR-1)
・光重合開始剤 0.84質量部
(IGM Resins B.V.社、商品名:Omnirad 184)
・有機粒子 5.17質量部
(スチレン粒子、平均粒子径2.0μm)
・有機粒子 0.72質量部
(ヒュームドシリカ、平均粒子径200nm)
・シリコーン系レベリング剤 0.27質量部
(モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製、商品名:TSF4460)
・希釈溶剤 48.3質量部
(トルエン/IPA=60/40の混合液)
<Coating liquid 2 for forming anti-glare layer>
UV-curable compound: 23.7 parts by mass (multifunctional urethane acrylate, manufactured by DIC Corporation, product name: Luxidia ERS-543)
UV-curable compound: 18.5 parts by mass (acrylic polymer, manufactured by DIC Corporation, product name: Luxidia EKS-796)
Ultraviolet absorber: 0.74 parts by mass (hydroxyphenyltriazine type, manufactured by BASF Japan Ltd., product name: Tinuvin 477)
UV-curable compound: 1.85 parts by mass (acrylic resin, manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd., product name: DSR-1)
・Photopolymerization initiator 0.84 parts by mass (IGM Resins BV, product name: Omnirad 184)
Organic particles: 5.17 parts by mass (styrene particles, average particle size 2.0 μm)
Organic particles: 0.72 parts by mass (fumed silica, average particle size 200 nm)
Silicone leveling agent: 0.27 parts by mass (manufactured by Momentive Performance Materials, product name: TSF4460)
Dilution solvent: 48.3 parts by mass (mixture of toluene/IPA = 60/40)
[実施例4]
ヒートシール層形成用塗布液1を、下記のヒートシール層形成用塗布液2に変更した以外は、実施例1と同様にして、実施例4の転写シート及び成形体を得た。
[Example 4]
A transfer sheet and a molded product of Example 4 were obtained in the same manner as in Example 1, except that the heat-sealing layer forming coating liquid 1 was changed to the heat-sealing layer forming coating liquid 2 described below.
<ヒートシール層形成用塗布液2>
・熱可塑性樹脂 10質量部
(ポリエステル系樹脂、東洋紡社製、商品名:バイロン-UR4800)
・フッ素系レベリング剤 0.15質量部
(DIC社製、商品名:MEGAFACE F‐560)
・希釈溶剤 90質量部
(MEK単独)
<Coating solution 2 for forming heat seal layer>
Thermoplastic resin: 10 parts by mass (polyester resin, manufactured by Toyobo Co., Ltd., product name: Vylon-UR4800)
Fluorine-based leveling agent: 0.15 parts by mass (manufactured by DIC Corporation, product name: MEGAFACE F-560)
Dilution solvent: 90 parts by weight (MEK alone)
[比較例1]
ヒートシール層形成用塗布液1を、下記のヒートシール層形成用塗布液3に変更した以外は、実施例1と同様にして、比較例1の転写シート及び成形体を得た。
[Comparative Example 1]
A transfer sheet and a molded product of Comparative Example 1 were obtained in the same manner as in Example 1, except that the heat seal layer forming coating liquid 1 was changed to the heat seal layer forming coating liquid 3 described below.
<ヒートシール層形成用塗布液3>
・熱可塑性樹脂 10質量部
(ポリエステル系ウレタン樹脂、東洋紡社製、商品名:バイロンUR8210)
・フッ素系レベリング剤 0.15質量部
(DIC社製、商品名:MEGAFACE F‐560)
・希釈溶剤 90質量部
(MEK単独)
<Coating solution 3 for forming heat seal layer>
Thermoplastic resin: 10 parts by mass (polyester-based urethane resin, manufactured by Toyobo Co., Ltd., product name: Vylon UR8210)
Fluorine-based leveling agent: 0.15 parts by mass (manufactured by DIC Corporation, product name: MEGAFACE F-560)
Dilution solvent: 90 parts by weight (MEK alone)
表1の結果から、実施例1~4のようにヒートシール層のインデンテーション硬さを290MPa以上とすることにより、透過像鮮明度の変化が小さいことが確認できる。このことは、ヒートシール層のインデンテーション硬さを290MPa以上とすることにより、成形体の表面に所望の防眩性を付与し得ることを意味している。 From the results in Table 1, it can be seen that by setting the indentation hardness of the heat seal layer to 290 MPa or more, as in Examples 1 to 4, the change in transmitted image clarity is small. This means that by setting the indentation hardness of the heat seal layer to 290 MPa or more, it is possible to impart the desired antiglare properties to the surface of the molded article.
10:被着体
20:転写層
21:ヒートシール層
22:マイグレーション抑制層
23:防眩層
24:低屈折率層
30:第一離型基材
40:第二離型基材
41:基材
42:剥離可能な接着剤層
100:成形体
200:転写シート
10: Adherend 20: Transfer layer 21: Heat seal layer 22: Migration inhibitor layer 23: Antiglare layer 24: Low refractive index layer 30: First release substrate 40: Second release substrate 41: Substrate 42: Peelable adhesive layer 100: Molded body 200: Transfer sheet
Claims (9)
前記ヒートシール層は、熱可塑性樹脂及び硬化性樹脂組成物の硬化物を含み、
前記防眩層は、バインダー樹脂及び粒子を含み、
前記ヒートシール層のインデンテーション硬さが290MPa以上480MPa以下である、成形体。 A molded article having a transfer layer on an adherend, the transfer layer having at least a heat seal layer in contact with the adherend and an antiglare layer located on the opposite side of the heat seal layer from the adherend,
The heat seal layer contains a thermoplastic resin and a cured product of a curable resin composition,
The antiglare layer contains a binder resin and particles,
The molded article, wherein the indentation hardness of the heat seal layer is 290 MPa or more and 480 MPa or less .
前記マイグレーション抑制層は、硬化性樹脂組成物の硬化物を前記マイグレーション抑制層の全固形分に対して50質量%以上含む、請求項1又は2に記載の成形体。 the transfer layer has a migration-inhibiting layer between the heat seal layer and the antiglare layer,
The molded article according to claim 1 , wherein the migration-inhibiting layer contains a cured product of a curable resin composition in an amount of 50 mass % or more based on a total solid content of the migration-inhibiting layer.
前記ヒートシール層は、熱可塑性樹脂及び硬化性樹脂組成物の硬化物を含み、
前記防眩層は、バインダー樹脂及び粒子を含む、転写シート。 A transfer layer and a second release substrate are provided in this order on a first release substrate, the transfer layer having at least a heat seal layer contacting the first release substrate and having an indentation hardness of 290 MPa or more and 480 MPa or less , and an antiglare layer located on the opposite side of the heat seal layer to the first release substrate ,
The heat seal layer contains a thermoplastic resin and a cured product of a curable resin composition,
The transfer sheet , wherein the antiglare layer contains a binder resin and particles .
(1)請求項6又は7に記載の転写シートの前記第一離型基材を剥離し、露出した前記転写層のヒートシール層側の面と被着体とを加熱圧着した積層体を得る工程。
(2)前記積層体から前記第二離型基材を剥離し、被着体上に転写層を有する成形体を得る工程。 A method for producing a molded body, comprising the steps of (1) to (2) below in sequence:
(1) A process for obtaining a laminate by peeling off the first release substrate of the transfer sheet according to claim 6 or 7 and heat-pressing the exposed surface of the transfer layer on the heat seal layer side to an adherend.
(2) A step of peeling off the second release substrate from the laminate to obtain a molded article having a transfer layer on an adherend.
(a)請求項6又は7に記載の転写シートの前記第一離型基材を剥離し、露出した前記転写層のヒートシール層側の面をインモールド成形用金型の内側に向けて配置する工程。
(b)前記インモールド成形用金型内に樹脂を射出注入する工程。
(c)前記転写層のヒートシール層側の面と、前記樹脂とを一体化させた積層体を得る工程。 The method for producing a molded body according to claim 8, wherein the step (1) comprises the following steps (a) to (c):
(a) A step of peeling off the first release substrate of the transfer sheet according to claim 6 or 7, and arranging the exposed surface of the transfer layer on the heat seal layer side facing the inside of an in-mold molding die.
(b) A step of injecting a resin into the in-mold molding die.
(c) A step of obtaining a laminate by integrating the surface of the transfer layer facing the heat seal layer with the resin.
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