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JP7525872B2 - Detection system and chip - Google Patents
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Description

本発明は、検出システム、検出デバイス、及びチップに関する。 The present invention relates to a detection system, a detection device, and a chip.

T細胞を抗原提示細胞と接触させて、抗原提示細胞とT細胞との特異的な相互作用を検出する装置が提案されている。例えば、特許文献1には、マルチウェルプレートの複数のウェルにそれぞれT細胞を沈降させることにより、マルチウェルプレートの各ウェルにおいて培養されている抗原提示細胞のそれぞれにT細胞を接触させることが開示されている。 A device has been proposed that brings T cells into contact with antigen-presenting cells and detects specific interactions between the antigen-presenting cells and T cells. For example, Patent Document 1 discloses that T cells are precipitated in each of multiple wells of a multi-well plate, thereby bringing the T cells into contact with each of the antigen-presenting cells cultured in each well of the multi-well plate.

特開2018-179709号公報JP 2018-179709 A

しかしながら、2種類の検査対象(例えば、T細胞と抗原提示細胞)のうちの一方が培養されているマルチウェルプレートのウェルに他方の検査対象を沈降させる方法では、2種類の検査対象を効率よく接触させることができない。 However, the method of precipitating one of two types of test subjects (e.g., T cells and antigen-presenting cells) into a well of a multi-well plate in which the other test subject is cultured does not allow efficient contact between the two types of test subjects.

本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、2種類の検査対象を効率よく接触させることができる検出システム、検出デバイス、及びチップを提供することにある。 The present invention has been made in consideration of the above problems, and its purpose is to provide a detection system, detection device, and chip that can efficiently bring two types of test objects into contact.

本発明の一態様によれば、検出システムは、チップと、ステージと、支持台とを備える。前記チップは、第1検査対象及び第2検査対象を収容する。前記ステージは、中心軸を中心に回転する。前記支持台は、前記ステージ上に配置されて、前記チップを支持する。前記支持台は、前記チップが配置される傾斜面を有する。前記傾斜面は、前記中心軸から遠い側が前記中心軸に近い側と比べて前記ステージから遠くなるように傾斜する。 According to one aspect of the present invention, the detection system includes a chip, a stage, and a support base. The chip accommodates a first test object and a second test object. The stage rotates about a central axis. The support base is placed on the stage and supports the chip. The support base has an inclined surface on which the chip is placed. The inclined surface is inclined so that the side farther from the central axis is farther from the stage than the side closer to the central axis.

ある実施形態において、前記支持台は、前記チップを着脱可能に支持する支持部を有する。 In one embodiment, the support base has a support portion that removably supports the chip.

ある実施形態において、前記チップは、枠部と、床部とを有する。前記枠部は、前記第1検査対象及び前記第2検査対象が導入される収容空間を形成する。前記床部は、前記収容空間の床面を構成する。前記床部は、前記第1検査対象を収容する凹部を有する。 In one embodiment, the chip has a frame and a floor. The frame forms a storage space into which the first test object and the second test object are introduced. The floor constitutes the floor surface of the storage space. The floor has a recess that stores the first test object.

本発明の別の態様によれば、検出デバイスは、ステージと、支持台とを備える。前記ステージは、中心軸を中心に回転する。前記支持台は、前記ステージ上に配置されて、チップを支持する。前記チップは、第1検査対象及び第2検査対象を収容する。前記支持台は、前記チップが配置される傾斜面を有する。前記傾斜面は、前記中心軸から遠い側が前記中心軸に近い側と比べて前記ステージから遠くなるように傾斜する。 According to another aspect of the present invention, the detection device includes a stage and a support base. The stage rotates around a central axis. The support base is placed on the stage and supports a chip. The chip contains a first test object and a second test object. The support base has an inclined surface on which the chip is placed. The inclined surface is inclined so that the side farther from the central axis is farther from the stage than the side closer to the central axis.

本発明の別の態様によれば、チップは、ベースと、枠部と、蓋部とを備える。前記ベースは、第1検査対象をそれぞれ収容する複数の凹部を有する。前記枠部は、前記ベースに配置されて前記複数の凹部を囲む。前記枠部は、前記第1検査対象及び第2検査対象が導入される収容空間を形成する。前記蓋部は、前記収容空間を覆う。前記蓋部は、前記収容空間の上面を開放可能に前記枠部に配置される。 According to another aspect of the present invention, the chip includes a base, a frame, and a lid. The base has a plurality of recesses each accommodating a first test object. The frame is disposed on the base and surrounds the plurality of recesses. The frame forms a storage space into which the first test object and the second test object are introduced. The lid covers the storage space. The lid is disposed on the frame so as to be able to open the top surface of the storage space.

本発明に係る検出システム、検出デバイス、及びチップによれば、2種類の検査対象を効率よく接触させることができる。 The detection system, detection device, and chip of the present invention allow efficient contact between two types of test subjects.

本発明の実施形態に係る検出システムを示す側面図である。FIG. 1 is a side view illustrating a detection system according to an embodiment of the present invention. 本発明の実施形態に係る検出システムを示す斜視図である。1 is a perspective view of a detection system according to an embodiment of the present invention; 支持台及びチップを示す図である。FIG. 2 is a diagram showing a support base and a chip. 本発明の実施形態に係るチップを示す平面図である。FIG. 2 is a plan view showing a chip according to an embodiment of the present invention. 本発明の実施形態に係るチップの断面を示す図である。FIG. 2 is a cross-sectional view of a chip according to an embodiment of the present invention. 本発明の実施形態に係るチップの別の断面を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing another cross section of a chip according to an embodiment of the present invention. 作業者収容空間を蓋部で覆う手順を示す図である。11A to 11C are diagrams showing a procedure for covering the operator accommodation space with a lid portion. 本発明の実施形態に係るチップの一部を拡大して示す平面図である。FIG. 2 is an enlarged plan view showing a portion of a chip according to an embodiment of the present invention. トラップ部を示す斜視図である。FIG. トラップ部において接触している第1検査対象及び第2検査対象を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing a first test target and a second test target in contact with each other at a trap portion; (a)及び(b)は、抗原提示細胞とT細胞との相互作用を示す図である。(a) and (b) are diagrams showing the interaction between antigen-presenting cells and T cells. 回転中のチップにおける第2検査対象の動きを示す図である。FIG. 13 illustrates the movement of a second test object on a rotating chip. チップを支持台に再配置する手順を示す図である。1A to 1C are diagrams showing a procedure for repositioning a chip on a support table. 本発明の実施形態に係る検出システムを用いた検査方法の手順を示すフローチャートである。4 is a flowchart showing the procedure of an inspection method using the detection system according to the embodiment of the present invention. 抗原提示細胞とT細胞とのペアリング率を示すグラフである。1 is a graph showing the pairing rate between antigen-presenting cells and T cells. 支持台及びチップの変形例を示す図である。13A and 13B are diagrams showing modified examples of the support base and the chip.

以下、図面(図1~図16)を参照して本発明に係る検出システム、検出デバイス及びチップの実施形態を説明する。ただし、本発明は以下の実施形態に限定されない。なお、説明が重複する箇所については、適宜説明を省略する場合がある。また、図中、同一又は相当部分については同一の参照符号を付して説明を繰り返さない。 Below, embodiments of the detection system, detection device, and chip according to the present invention will be described with reference to the drawings (Figs. 1 to 16). However, the present invention is not limited to the following embodiments. Note that where explanations overlap, they may be omitted as appropriate. Also, in the drawings, the same or equivalent parts will be given the same reference symbols and explanations will not be repeated.

まず、図1及び図2を参照して本実施形態の検出システム1及び検出デバイス2を説明する。図1は、本実施形態に係る検出システム1を示す側面図である。図2は、本実施形態に係る検出システム1を示す斜視図である。図1及び図2に示すように、検出システム1は、検出デバイス2と、チップ6とを備える。 First, the detection system 1 and the detection device 2 of this embodiment will be described with reference to Figs. 1 and 2. Fig. 1 is a side view showing the detection system 1 according to this embodiment. Fig. 2 is a perspective view showing the detection system 1 according to this embodiment. As shown in Figs. 1 and 2, the detection system 1 includes a detection device 2 and a chip 6.

検出システム1は、第1検査対象C1と第2検査対象C2とを接触させるために用いられる。より具体的には、検出システム1は、第1検査対象C1と第2検査対象C2とを接触させて、第1検査対象C1と第2検査対象C2との特異的な相互作用による第2検査対象C2の活性化を検出するために用いられる。 The detection system 1 is used to bring the first test subject C1 and the second test subject C2 into contact with each other. More specifically, the detection system 1 is used to bring the first test subject C1 and the second test subject C2 into contact with each other and detect activation of the second test subject C2 due to a specific interaction between the first test subject C1 and the second test subject C2.

第1検査対象C1は、例えば、免疫刺激因子を有する細胞である。具体的には、第1検査対象C1は、抗原提示細胞であり得る。第2検査対象C2は、例えば、免疫細胞である。換言すると、第2検査対象C2は、免疫刺激因子により活性化する細胞である。具体的には、第2検査対象C2は、T細胞であり得る。特異的な相互作用は、例えば免疫反応である。例えば、検出システム1は、抗原提示細胞とT細胞とが特異的に相互作用するか否かを検査するために用いられる。換言すると、検出システム1は、抗原提示細胞が提示する抗原ペプチドに特異的に反応するT細胞を検出するために用いられる。なお、抗原提示細胞が提示する抗原ペプチドに特異的に反応するT細胞の割合は、100万分の1である。 The first test subject C1 is, for example, a cell having an immune stimulating factor. Specifically, the first test subject C1 may be an antigen presenting cell. The second test subject C2 is, for example, an immune cell. In other words, the second test subject C2 is a cell activated by an immune stimulating factor. Specifically, the second test subject C2 may be a T cell. The specific interaction is, for example, an immune reaction. For example, the detection system 1 is used to test whether or not an antigen presenting cell and a T cell specifically interact with each other. In other words, the detection system 1 is used to detect a T cell that specifically reacts to an antigen peptide presented by an antigen presenting cell. The proportion of T cells that specifically react to an antigen peptide presented by an antigen presenting cell is one in a million.

検出デバイス2は、中心軸AXを中心としてチップ6を回転(旋回)させることができる。チップ6は、検出デバイス2により、中心軸AXのまわりを回転(旋回)する。チップ6は、第1検査対象C1及び第2検査対象C2を収容可能である。より具体的には、チップ6は、複数の第1検査対象C1及び複数の第2検査対象C2を収容可能である。 The detection device 2 can rotate (pivot) the chip 6 around the central axis AX. The chip 6 rotates (pivots) around the central axis AX by the detection device 2. The chip 6 can accommodate a first test object C1 and a second test object C2. More specifically, the chip 6 can accommodate a plurality of first test objects C1 and a plurality of second test objects C2.

図1及び図2に示すように、検出デバイス2は、ステージ3と、2つの支持台4と、回転機構5とを備える。なお、図2では、図面の簡略化のため、回転機構5を省略している。 As shown in Figs. 1 and 2, the detection device 2 includes a stage 3, two support bases 4, and a rotation mechanism 5. Note that in Fig. 2, the rotation mechanism 5 is omitted to simplify the drawing.

ステージ3は、中心軸AXを中心に回転可能である。本実施形態において、ステージ3は円盤状である。ステージ3の直径は、例えば200mmである。但し、ステージ3の形状は円盤状に限定されない。ステージ3は、少なくとも1つの支持台4を配置できる形状であればよい。 The stage 3 is rotatable around the central axis AX. In this embodiment, the stage 3 is disk-shaped. The diameter of the stage 3 is, for example, 200 mm. However, the shape of the stage 3 is not limited to a disk shape. The stage 3 may have any shape that allows at least one support base 4 to be placed thereon.

2つの支持台4は、ステージ3の上面に配置される。2つの支持台4はそれぞれチップ6を支持可能である。より詳しくは、各支持台4は、中心軸AXから離れた位置にチップ6が配置されるようにチップ6を支持する。各支持台4の長さL1(図2)は、例えば80mmである。本実施形態において、2つの支持台4は、中心軸AXを挟んで互いに対向する。具体的には、2つの支持台4は、ステージ3が略水平状態を保ちながら回転できる位置に配置されている。但し、2つの支持台4が配置される位置は、中心軸AXを挟んで互いに対向する位置に限定されない。各支持台4は、中心軸AXから離れた位置にチップ6が配置されるようにチップ6を支持することができる位置に配置されていればよい。なお、2つの支持台4の位置によっては、ステージ3が回転時に略水平状態を保てない場合がある。その場合は、ステージ3が略水平状態を保ちながら回転できるように、ステージ3に他の部材を設けてもよい。 The two support bases 4 are arranged on the upper surface of the stage 3. Each of the two support bases 4 can support a chip 6. More specifically, each support base 4 supports the chip 6 so that the chip 6 is located at a position away from the central axis AX. The length L1 (FIG. 2) of each support base 4 is, for example, 80 mm. In this embodiment, the two support bases 4 face each other across the central axis AX. Specifically, the two support bases 4 are arranged at positions where the stage 3 can rotate while maintaining a substantially horizontal state. However, the positions at which the two support bases 4 are arranged are not limited to positions where they face each other across the central axis AX. Each support base 4 may be arranged at a position where it can support the chip 6 so that the chip 6 is located at a position away from the central axis AX. Depending on the positions of the two support bases 4, the stage 3 may not be able to maintain a substantially horizontal state when rotating. In that case, other members may be provided on the stage 3 so that the stage 3 can rotate while maintaining a substantially horizontal state.

各支持台4は、チップ6が配置される傾斜面41を有する。傾斜面41は、中心軸AXから遠い側が中心軸AXに近い側と比べてステージ3から遠くなるように傾斜する。したがって、チップ6は、傾斜面41に配置された状態において、中心軸AXから遠い側が中心軸AXに近い側と比べてステージ3から遠くなるように傾斜する。 Each support base 4 has an inclined surface 41 on which the chip 6 is placed. The inclined surface 41 is inclined so that the side farther from the central axis AX is farther from the stage 3 than the side closer to the central axis AX. Therefore, when the chip 6 is placed on the inclined surface 41, the side farther from the central axis AX is inclined so that the side farther from the central axis AX is farther from the stage 3 than the side closer to the central axis AX.

ステージ3の上面に対する傾斜面41の角度θは、例えば45°である(図1)。なお、ステージ3の上面に対する傾斜面41の角度θは、図6を参照して後述する床面611aに沿って第2検査対象C2が移動できる角度であればよく、45°に限定されるものではない。 The angle θ of the inclined surface 41 with respect to the upper surface of the stage 3 is, for example, 45° (FIG. 1). Note that the angle θ of the inclined surface 41 with respect to the upper surface of the stage 3 is not limited to 45° as long as it allows the second inspection object C2 to move along the floor surface 611a described later with reference to FIG. 6.

回転機構5(図1)は、中心軸AXを中心にステージ3を回転させる。例えば、回転機構5は、500rpm以上1000rpm以下の回転速度でステージ3を回転させる。回転機構5は、駆動源51と、回転軸52とを有する。回転軸52は、中心軸AXに沿って延びる。回転軸52の一端はステージ3に結合している。駆動源51は、回転力を発生させて、中心軸AXを中心に回転軸52を回転させる。その結果、ステージ3が回転する。駆動源51は、例えばモータを含む。 The rotation mechanism 5 (FIG. 1) rotates the stage 3 around the central axis AX. For example, the rotation mechanism 5 rotates the stage 3 at a rotation speed of 500 rpm or more and 1000 rpm or less. The rotation mechanism 5 has a drive source 51 and a rotation shaft 52. The rotation shaft 52 extends along the central axis AX. One end of the rotation shaft 52 is coupled to the stage 3. The drive source 51 generates a rotational force to rotate the rotation shaft 52 around the central axis AX. As a result, the stage 3 rotates. The drive source 51 includes, for example, a motor.

続いて、図3を参照して支持台4を更に説明する。図3は、支持台4及びチップ6を示す図である。図3に示すように、支持台4は、チップ6を着脱自在に支持する支持部42を有する。本実施形態において、支持部42は、傾斜面41に設けられる。 Next, the support base 4 will be further described with reference to FIG. 3. FIG. 3 is a diagram showing the support base 4 and the chip 6. As shown in FIG. 3, the support base 4 has a support portion 42 that detachably supports the chip 6. In this embodiment, the support portion 42 is provided on the inclined surface 41.

より具体的には、支持部42は、複数の突出部421を含む。複数の突出部421はそれぞれ傾斜面41から突出する。複数の突出部421は、チップ6を囲むように配置される。より詳しくは、複数の突出部421は、チップ6の縁に接触するように配置される。複数の突出部421がチップ6を囲むことにより、チップ6が傾斜面41及び複数の突出部421によって支持される。また、複数の突出部421を用いることにより、傾斜面41にチップ6を着脱自在に配置することができる。 More specifically, the support portion 42 includes a plurality of protrusions 421. The plurality of protrusions 421 each protrude from the inclined surface 41. The plurality of protrusions 421 are arranged so as to surround the chip 6. More specifically, the plurality of protrusions 421 are arranged so as to contact the edge of the chip 6. The plurality of protrusions 421 surround the chip 6, so that the chip 6 is supported by the inclined surface 41 and the plurality of protrusions 421. Furthermore, by using the plurality of protrusions 421, the chip 6 can be detachably arranged on the inclined surface 41.

続いて、図4~図10を参照して本実施形態のチップ6を説明する。図4は、本実施形態に係るチップ6を示す平面図である。図4に示すように、チップ6は、ベース61と、収容部62と有する。 Next, the chip 6 of this embodiment will be described with reference to Figures 4 to 10. Figure 4 is a plan view showing the chip 6 according to this embodiment. As shown in Figure 4, the chip 6 has a base 61 and a housing portion 62.

ベース61は、板状である。本実施形態において、ベース61の外形は矩形状である。ベース61(チップ6)の長手方向の長さL2は、例えば76mmである。ベース61(チップ6)の幅方向(長手方向に直交する方向)の長さL3は、例えば26mmである。但し、ベース61の外形は矩形状に限定されるものではない。例えば、ベース61の外形は円形であってもよい。 The base 61 is plate-shaped. In this embodiment, the outer shape of the base 61 is rectangular. The length L2 of the base 61 (chip 6) in the longitudinal direction is, for example, 76 mm. The length L3 of the base 61 (chip 6) in the width direction (direction perpendicular to the longitudinal direction) is, for example, 26 mm. However, the outer shape of the base 61 is not limited to a rectangular shape. For example, the outer shape of the base 61 may be circular.

収容部62は、ベース61に設けられる。収容部62は、第1検査対象C1及び第2検査対象C2を収容可能である。より詳しくは、収容部62は、複数の第1検査対象C1、複数の第2検査対象C2及び液体を収容可能である。液体は、例えば、リン酸緩衝生理食塩水(Phosphate-buffered saline;PBS)のような生理食塩水、又は培地である。具体的には、複数の第1検査対象C1を含有する懸濁液と、複数の第2検査対象C2を含有する懸濁液とが、収容部62に注入される。本実施形態において、収容部62は、ベース61の中央部に設けられる。但し、収容部62が配置される位置は特に限定されない。 The storage unit 62 is provided on the base 61. The storage unit 62 can store a first test target C1 and a second test target C2. More specifically, the storage unit 62 can store a plurality of first test targets C1, a plurality of second test targets C2, and a liquid. The liquid is, for example, a physiological saline solution such as phosphate-buffered saline (PBS), or a culture medium. Specifically, a suspension containing a plurality of first test targets C1 and a suspension containing a plurality of second test targets C2 are injected into the storage unit 62. In this embodiment, the storage unit 62 is provided in the center of the base 61. However, the position at which the storage unit 62 is disposed is not particularly limited.

なお、以下の説明において、複数の第1検査対象C1を含有する懸濁液を、「第1懸濁液」と記載し、複数の第2検査対象C2を含有する懸濁液を、「第2懸濁液」と記載する場合がある。 In the following description, the suspension containing multiple first test objects C1 may be referred to as the "first suspension," and the suspension containing multiple second test objects C2 may be referred to as the "second suspension."

図5は、本実施形態に係るチップ6の断面を示す図である。詳しくは、図5は、図4のV-V線に沿った断面を示す。また、図5は、チップ6の断面の一部を拡大して示す。 Figure 5 is a diagram showing a cross section of chip 6 according to this embodiment. In particular, Figure 5 shows a cross section taken along line V-V in Figure 4. Figure 5 also shows an enlarged view of a portion of the cross section of chip 6.

図5に示すように、収容部62は、枠部621を含む。枠部621は、ベース61に配置される。枠部621は矩形状である(図4参照)。枠部621は、収容空間63を形成する。具体的には、枠部621の内側の空間が収容空間63である。収容空間63の一方側(ベース61とは反対の側)は、開放されている。 As shown in FIG. 5, the storage section 62 includes a frame section 621. The frame section 621 is disposed on the base 61. The frame section 621 is rectangular (see FIG. 4). The frame section 621 forms the storage space 63. Specifically, the space inside the frame section 621 is the storage space 63. One side of the storage space 63 (the side opposite the base 61) is open.

収容空間63の一方側から、収容空間63に、複数の第1検査対象C1及び第2検査対象C2が導入される。より具体的には、収容空間63の一方側から、収容空間63に、第1懸濁液及び第2懸濁液が注入される。 A plurality of first test objects C1 and second test objects C2 are introduced into the storage space 63 from one side of the storage space 63. More specifically, a first suspension and a second suspension are injected into the storage space 63 from one side of the storage space 63.

より詳しくは、図5に示すように、チップ6は、チップ本体6Aと、底板6Bとを含む。底板6Bは、チップ本体6Aを支持する。チップ本体6Aは、枠部621を含む。 More specifically, as shown in FIG. 5, the chip 6 includes a chip body 6A and a bottom plate 6B. The bottom plate 6B supports the chip body 6A. The chip body 6A includes a frame portion 621.

チップ本体6Aは、底板6Bに接合される。例えば、チップ本体6Aのうち、枠部621が配置される側とは反対側の面である一側面を表面改質するとともに、底板6Bの一側面を表面改質して、チップ本体6Aの一側面と底板6Bの一側面とを貼り合わせることにより、チップ本体6Aと底板6Bとを接合することができる。チップ本体6Aの一側面及び底板6Bの一側面は、例えば、酸素プラズマを用いて表面改質される。 The chip body 6A is bonded to the bottom plate 6B. For example, one side of the chip body 6A, which is the side opposite to the side on which the frame portion 621 is arranged, is surface-modified, one side of the bottom plate 6B is surface-modified, and one side of the chip body 6A and one side of the bottom plate 6B are bonded together, thereby bonding the chip body 6A and the bottom plate 6B. The one side of the chip body 6A and one side of the bottom plate 6B are surface-modified, for example, using oxygen plasma.

チップ本体6Aは、微細な構造を形成することが可能な材料からなる。例えば、チップ本体6Aの材料として、ポリジメチルシロキサン(PDMS)、PDMSとガラスとの複合体、又はシクロオレフィンポリマー(COP)のような合成樹脂を用いることができる。底板6Bの材料には、例えばガラス又はポリカーボネート樹脂を用いることができる。 The chip body 6A is made of a material capable of forming a fine structure. For example, the material of the chip body 6A can be polydimethylsiloxane (PDMS), a composite of PDMS and glass, or a synthetic resin such as cycloolefin polymer (COP). The material of the bottom plate 6B can be, for example, glass or polycarbonate resin.

図6は、本実施形態に係るチップ6の別の断面を示す図である。詳しくは、図6は、図4のVI-VI線に沿った断面を示す。図6に示すように、収容部62は、蓋部64と、トラップ部65とを有する。具体的には、収容部62は、複数のトラップ部65を有する。 Figure 6 is a diagram showing another cross section of the chip 6 according to this embodiment. Specifically, Figure 6 shows a cross section taken along line VI-VI in Figure 4. As shown in Figure 6, the storage section 62 has a lid section 64 and a trap section 65. Specifically, the storage section 62 has a plurality of trap sections 65.

蓋部64は、収容空間63を覆う。詳しくは、蓋部64は、収容空間63の上面を覆う。蓋部64は、収容空間63の上面を開放可能に枠部621に配置される。蓋部64は、例えばガラス製である。具体的には、蓋部64は、スライドガラスであり得る。あるいは、蓋部64は、COPのような合成樹脂によって形成されてもよい。 The lid portion 64 covers the storage space 63. More specifically, the lid portion 64 covers the upper surface of the storage space 63. The lid portion 64 is arranged on the frame portion 621 so that the upper surface of the storage space 63 can be opened. The lid portion 64 is made of, for example, glass. More specifically, the lid portion 64 may be a glass slide. Alternatively, the lid portion 64 may be formed of a synthetic resin such as COP.

複数のトラップ部65は、ベース61に設けられる。換言すると、ベース61は、複数のトラップ部65を有する。より詳しくは、複数のトラップ部65は、チップ本体6Aに設けられる。 The multiple trap portions 65 are provided on the base 61. In other words, the base 61 has multiple trap portions 65. More specifically, the multiple trap portions 65 are provided on the chip body 6A.

複数のトラップ部65は、枠部621の内側に配置される。より具体的には、ベース61は、収容空間63の床面611aを構成する床部611を有する。収容部62は、床部611を含む。複数のトラップ部65は、床部611に設けられる。したがって、枠部621は、複数のトラップ部65を囲む。ベース61に対する枠部621の高さH1は、例えば3mmである。 The multiple trap portions 65 are disposed inside the frame portion 621. More specifically, the base 61 has a floor portion 611 that constitutes the floor surface 611a of the storage space 63. The storage portion 62 includes the floor portion 611. The multiple trap portions 65 are provided on the floor portion 611. Thus, the frame portion 621 surrounds the multiple trap portions 65. The height H1 of the frame portion 621 relative to the base 61 is, for example, 3 mm.

続いて、図7を参照して蓋部64を説明する。図7は、作業者が収容空間63を蓋部64で覆う手順を示す図である。図5を参照して説明したように、収容空間63は液体を収容可能である。作業者は、収容空間63が液体を収容している状態において、収容空間63を蓋部64で覆う。 Next, the lid portion 64 will be described with reference to FIG. 7. FIG. 7 is a diagram showing the procedure by which an operator covers the storage space 63 with the lid portion 64. As described with reference to FIG. 5, the storage space 63 is capable of containing liquid. The operator covers the storage space 63 with the lid portion 64 when the storage space 63 contains liquid.

詳しくは、収容空間63を蓋部64で覆う前段階として、作業者は、収容空間63を液体(第2検査対象C2を含有する懸濁液)で満たす。作業者は、枠部621の上面621aに蓋部64を接触させつつ、枠部621の上面621aに沿って蓋部64を横方向(枠部621の外方から内方に向かう方向)に少しずつ移動させて、収容空間63の上面を蓋部64で覆う。このとき、液体(懸濁液の溶媒)の界面張力により、収容空間63内の液体の一部が、蓋部64と枠部621の上面621aとの隙間に浸入する。そして、液体(懸濁液の溶媒)の界面張力により、蓋部64が枠部621の上面621aに保持される。 In more detail, as a preliminary step of covering the storage space 63 with the lid portion 64, the operator fills the storage space 63 with liquid (suspension containing the second test target C2). While bringing the lid portion 64 into contact with the upper surface 621a of the frame portion 621, the operator moves the lid portion 64 little by little in the lateral direction (from the outside to the inside of the frame portion 621) along the upper surface 621a of the frame portion 621 to cover the upper surface of the storage space 63 with the lid portion 64. At this time, due to the interfacial tension of the liquid (solvent of the suspension), part of the liquid in the storage space 63 penetrates into the gap between the lid portion 64 and the upper surface 621a of the frame portion 621. Then, due to the interfacial tension of the liquid (solvent of the suspension), the lid portion 64 is held on the upper surface 621a of the frame portion 621.

本実施形態によれば、液体の界面張力を利用して蓋部64を枠部621に保持させるため、枠部621に対して蓋部64は着脱自在である。したがって、蓋部64は、収容空間63の上面を開放可能である。 In this embodiment, the lid 64 is held to the frame 621 by utilizing the interfacial tension of the liquid, so the lid 64 can be freely attached and detached from the frame 621. Therefore, the lid 64 can open the top surface of the storage space 63.

なお、作業者は、収容空間63の上面を開放する際も、収容空間63の上面を蓋部64で覆う手順と同様に、枠部621の上面621aに沿って蓋部64を横方向(枠部621の内方から外方に向かう方向)に少しずつ移動させて、蓋部64を枠部621から取り外す。 When opening the top surface of the storage space 63, the worker also removes the lid portion 64 from the frame portion 621 by gradually moving the lid portion 64 laterally (from the inside to the outside of the frame portion 621) along the top surface 621a of the frame portion 621 in the same manner as when covering the top surface of the storage space 63 with the lid portion 64.

続いて、図8を参照してトラップ部65を説明する。図8は、本実施形態に係るチップ6の一部を拡大して示す平面図である。詳しくは、図8は、床部611の一部を拡大して示す。 Next, the trap portion 65 will be described with reference to FIG. 8. FIG. 8 is a plan view showing an enlarged portion of the chip 6 according to this embodiment. In particular, FIG. 8 shows an enlarged portion of the floor portion 611.

図8に示すように、複数のトラップ部65が床部611に設けられる。複数のトラップ部65は、規則的に配列される。複数のトラップ部65はそれぞれ、第1隙間65aと、第2隙間65bとを有する。第1隙間65aは、第2隙間65bよりも広い。チップ6は、第1隙間65aと第2隙間65bとが並ぶ方向が、図1及び図2を参照して説明した傾斜面41が延びる方向と平行となるように、傾斜面41に配置される。 As shown in FIG. 8, a plurality of trap portions 65 are provided on the floor portion 611. The plurality of trap portions 65 are arranged regularly. Each of the plurality of trap portions 65 has a first gap 65a and a second gap 65b. The first gap 65a is wider than the second gap 65b. The chip 6 is placed on the inclined surface 41 so that the direction in which the first gap 65a and the second gap 65b are aligned is parallel to the direction in which the inclined surface 41 described with reference to FIG. 1 and FIG. 2 extends.

続いて、図9を参照してトラップ部65を説明する。図9は、トラップ部65を示す斜視図である。図9に示すように、トラップ部65は、凹部66と、第1壁部67と、第2壁部68とを備える。 Next, the trap portion 65 will be described with reference to FIG. 9. FIG. 9 is a perspective view showing the trap portion 65. As shown in FIG. 9, the trap portion 65 includes a recess 66, a first wall portion 67, and a second wall portion 68.

凹部66は、第1検査対象C1を収容可能である。凹部66は、図6を参照して説明したベース61の床部611に形成される。詳しくは、凹部66は、図6を参照して説明した床面611aから凹む。 The recess 66 is capable of accommodating the first test object C1. The recess 66 is formed in the floor portion 611 of the base 61 described with reference to FIG. 6. More specifically, the recess 66 is recessed from the floor surface 611a described with reference to FIG. 6.

凹部66の床面611aからの深さD1は、図1及び図2を参照して説明した検出デバイス2がチップ6を回転(旋回)させている間に、第1検査対象C1が遠心力によって凹部66から抜け出ることが困難な寸法に設定されている。凹部66の床面611aからの深さD1は、例えば15μmである。 The depth D1 of the recess 66 from the floor surface 611a is set to a dimension that makes it difficult for the first test object C1 to escape from the recess 66 due to centrifugal force while the detection device 2 described with reference to Figures 1 and 2 is rotating (pivoting) the chip 6. The depth D1 of the recess 66 from the floor surface 611a is, for example, 15 μm.

本実施形態において、凹部66は、円筒形状を有する。凹部66の直径D2は、例えば15μmである。なお、凹部66の形状は円筒形状に限定されない。凹部66は、第1検査対象C1を収容可能な形状であればよい。 In this embodiment, the recess 66 has a cylindrical shape. The diameter D2 of the recess 66 is, for example, 15 μm. Note that the shape of the recess 66 is not limited to a cylindrical shape. The recess 66 may have any shape that can accommodate the first test object C1.

第1壁部67及び第2壁部68は、図6を参照して説明した床面611aに設けられる。具体的には、第1壁部67及び第2壁部68は、床面611aに立設される。第1壁部67及び第2壁部68は、第1壁部67と第2壁部68との間の空間に第2検査対象C2を誘導する。 The first wall portion 67 and the second wall portion 68 are provided on the floor surface 611a described with reference to FIG. 6. Specifically, the first wall portion 67 and the second wall portion 68 are erected on the floor surface 611a. The first wall portion 67 and the second wall portion 68 guide the second test object C2 into the space between the first wall portion 67 and the second wall portion 68.

第1壁部67及び第2壁部68の床面611aからの高さH2は、例えば25μmである。なお、第1壁部67及び第2壁部68の床面611aからの高さH2は、床面611aに沿って移動する第2検査対象C2を、第1壁部67と第2壁部68との間の空間に誘導できる高さであればよく、25μmに限定されるものではない。 The height H2 of the first wall portion 67 and the second wall portion 68 from the floor surface 611a is, for example, 25 μm. Note that the height H2 of the first wall portion 67 and the second wall portion 68 from the floor surface 611a need only be a height that can guide the second inspection target C2 moving along the floor surface 611a into the space between the first wall portion 67 and the second wall portion 68, and is not limited to 25 μm.

第1壁部67及び第2壁部68は、凹部66を挟んで互いに対向する。第1壁部67は、凹部66の縁の一部に沿って延びる。第2壁部68は、凹部66の縁の他の一部に沿って延びる。本実施形態では、第1壁部67及び第2壁部68は円弧状に延びる。 The first wall portion 67 and the second wall portion 68 face each other across the recess 66. The first wall portion 67 extends along a portion of the edge of the recess 66. The second wall portion 68 extends along another portion of the edge of the recess 66. In this embodiment, the first wall portion 67 and the second wall portion 68 extend in an arc shape.

第1壁部67の一方の端部671と、第2壁部68の一方の端部681とは互いに対向する。第1壁部67の一方の端部671と第2壁部68の一方の端部681との間に、第1隙間65aが形成される。第1壁部67の他方の端部672と、第2壁部68の他方の端部682とは互いに対向する。第1壁部67の他方の端部672と第2壁部68の他方の端部682との間に、第2隙間65bが形成される。 One end 671 of the first wall portion 67 and one end 681 of the second wall portion 68 face each other. A first gap 65a is formed between one end 671 of the first wall portion 67 and one end 681 of the second wall portion 68. The other end 672 of the first wall portion 67 and the other end 682 of the second wall portion 68 face each other. A second gap 65b is formed between the other end 672 of the first wall portion 67 and the other end 682 of the second wall portion 68.

第1隙間65aの横方向の寸法(第1壁部67の一方の端部671と第2壁部68の一方の端部681との間の距離)は、第1壁部67と第2壁部68との間の空間に第1検査対象C1及び第2検査対象C2が進入し易い寸法に設定されている。第2隙間65bの横方向の寸法(第1壁部67の他方の端部672と第2壁部68の他方の端部682との間の距離)は、第2検査対象C2が通り抜けることが可能な寸法に設定されている。また、第2隙間65bの横方向の寸法は、第1検査対象C1が通り抜けることが困難な寸法に設定されている。 The horizontal dimension of the first gap 65a (the distance between one end 671 of the first wall portion 67 and one end 681 of the second wall portion 68) is set to a dimension that allows the first test object C1 and the second test object C2 to easily enter the space between the first wall portion 67 and the second wall portion 68. The horizontal dimension of the second gap 65b (the distance between the other end 672 of the first wall portion 67 and the other end 682 of the second wall portion 68) is set to a dimension that allows the second test object C2 to pass through. In addition, the horizontal dimension of the second gap 65b is set to a dimension that makes it difficult for the first test object C1 to pass through.

続いて、図10を参照してトラップ部65を説明する。図10は、トラップ部65において接触している第1検査対象C1及び第2検査対象C2を示す図である。図10に示すように、第1検査対象C1は、トラップ部65の凹部66に捕捉される。したがって、第1検査対象C1は、凹部66に収容される。凹部66の上方の空間は、図5を参照して説明した収容空間63であり、第1壁部67及び第2壁部68は収容空間63に位置する。 Next, the trap portion 65 will be described with reference to FIG. 10. FIG. 10 is a diagram showing the first test object C1 and the second test object C2 that are in contact with each other in the trap portion 65. As shown in FIG. 10, the first test object C1 is captured in the recess 66 of the trap portion 65. Therefore, the first test object C1 is accommodated in the recess 66. The space above the recess 66 is the accommodation space 63 described with reference to FIG. 5, and the first wall portion 67 and the second wall portion 68 are located in the accommodation space 63.

第1壁部67及び第2壁部68は、収容空間63を床面611a(図8)に沿って移動する第2検査対象C2を、第1壁部67と第2壁部68との間の空間に誘導する。第1壁部67及び第2壁部68によって誘導された第2検査対象C2は、凹部66に収容されてもよい。第1壁部67及び第2壁部68が第2検査対象C2を誘導することにより、第1検査対象C1と第2検査対象C2とがより効率よく接触する。 The first wall portion 67 and the second wall portion 68 guide the second test object C2, which moves along the floor surface 611a (FIG. 8) in the storage space 63, into the space between the first wall portion 67 and the second wall portion 68. The second test object C2 guided by the first wall portion 67 and the second wall portion 68 may be accommodated in the recess 66. The first wall portion 67 and the second wall portion 68 guide the second test object C2, so that the first test object C1 and the second test object C2 come into contact with each other more efficiently.

なお、第1検査対象C1に接触した第2検査対象C2は、第1検査対象C1と強固に接着し得る。例えば、T細胞が抗原提示細胞に接触すると、T細胞は抗原提示細胞に結合して活性化し得る。以下、第1検査対象C1と第2検査対象C2とが強固に接着することを、「ペアを形成する」等と記載する場合がある。 The second test subject C2 that comes into contact with the first test subject C1 may adhere firmly to the first test subject C1. For example, when a T cell comes into contact with an antigen-presenting cell, the T cell may bind to the antigen-presenting cell and become activated. Hereinafter, the strong adhesion between the first test subject C1 and the second test subject C2 may be referred to as "forming a pair" or the like.

続いて、図11(a)及び図11(b)を参照して、抗原提示細胞とT細胞との相互作用について説明する。図11(a)及び図11(b)は、抗原提示細胞とT細胞との相互作用を示す図である。詳しくは、図11(a)及び図11(b)は、抗原提示細胞とT細胞との相互作用を時系列的に示す。 Next, the interaction between antigen-presenting cells and T cells will be described with reference to Figures 11(a) and 11(b). Figures 11(a) and 11(b) are diagrams showing the interaction between antigen-presenting cells and T cells. In detail, Figures 11(a) and 11(b) show the interaction between antigen-presenting cells and T cells in a time series.

図11(a)は、T細胞(第2検査対象C2)が抗原提示細胞(第1検査対象C1)に対して特異的に反応している状態を示す。図11(b)は、T細胞(第2検査対象C2)が抗原提示細胞(第1検査対象C1)に対して特異的に反応していない状態を示す。以下、特異的に相互作用する第1検査対象C1と第2検査対象C2との組み合わせ(ペア)を、「特異的ペア」と記載する場合がある。また、特異的に相互作用しない第1検査対象C1と第2検査対象C2との組み合わせ(ペア)を、「非特異的ペア」と記載する場合がある。 Figure 11(a) shows a state in which T cells (second test subject C2) react specifically to antigen-presenting cells (first test subject C1). Figure 11(b) shows a state in which T cells (second test subject C2) do not react specifically to antigen-presenting cells (first test subject C1). Hereinafter, a combination (pair) of the first test subject C1 and the second test subject C2 that specifically interact with each other may be referred to as a "specific pair." Also, a combination (pair) of the first test subject C1 and the second test subject C2 that do not specifically interact with each other may be referred to as a "non-specific pair."

図11(a)及び図11(b)に示すように、抗原提示細胞(第1検査対象C1)とT細胞(第2検査対象C2)とが接触すると、抗原提示細胞から提示される抗原ペプチドによってT細胞の免疫反応が刺激されて、T細胞が活性化する。T細胞には、Fluo4のような活性化指示薬が予め加えられており、T細胞が活性化すると、T細胞から蛍光シグナルが発生する。具体的には、T細胞は緑色の蛍光を発する。なお、蛍光シグナルの色は、活性化指示薬の種類によって異なる。 As shown in Figures 11(a) and 11(b), when an antigen-presenting cell (first test subject C1) comes into contact with a T cell (second test subject C2), an immune response of the T cell is stimulated by an antigen peptide presented by the antigen-presenting cell, and the T cell is activated. An activation indicator such as Fluo4 is added to the T cell in advance, and when the T cell is activated, a fluorescent signal is generated from the T cell. Specifically, the T cell emits green fluorescence. The color of the fluorescent signal differs depending on the type of activation indicator.

抗原提示細胞(第1検査対象C1)とT細胞(第2検査対象C2)とのペアが特異的ペアである場合、換言すると、T細胞が抗原提示細胞に対して特異的に反応する場合、図11(a)に示すように、T細胞の発光が40分間以上継続する割合が高くなる。これに対して、抗原提示細胞(第1検査対象C1)とT細胞(第2検査対象C2)とのペアが非特異的ペアである場合、図11(b)に示すように、T細胞の発光は40分間以上継続しない。具体的には、T細胞の発光の継続時間は、20分以下、あるいは30分以下となる。 When the pair of antigen-presenting cells (first test subject C1) and T cells (second test subject C2) is a specific pair, in other words, when the T cells react specifically to the antigen-presenting cells, there is a high percentage of T cells that continue to emit light for 40 minutes or more, as shown in FIG. 11(a). In contrast, when the pair of antigen-presenting cells (first test subject C1) and T cells (second test subject C2) is a non-specific pair, as shown in FIG. 11(b), the T cells do not emit light for 40 minutes or more. Specifically, the duration of T cell emission is 20 minutes or less, or 30 minutes or less.

したがって、第1検査対象C1と第2検査対象C2とを接触させて、第1検査対象C1と第2検査対象C2とを観察することにより、第1検査対象C1と第2検査対象C2とが特異的に相互作用するか否かを判定することができる。 Therefore, by bringing the first test subject C1 and the second test subject C2 into contact with each other and observing the first test subject C1 and the second test subject C2, it is possible to determine whether the first test subject C1 and the second test subject C2 specifically interact with each other.

続いて、図12を参照して本実施形態の検出システム1を説明する。図12は、回転中のチップ6における第2検査対象C2の動きを示す図である。なお、図面を簡略化するために、図12では、第1壁部67及び第2壁部68を省略している。 Next, the detection system 1 of this embodiment will be described with reference to FIG. 12. FIG. 12 is a diagram showing the movement of the second test object C2 on the rotating chip 6. Note that, in order to simplify the drawing, the first wall portion 67 and the second wall portion 68 are omitted in FIG. 12.

図1及び図2を参照して説明したように、検出デバイス2は、中心軸AXを中心としてチップ6を回転(旋回)させる。その結果、チップ6に収容されている第2検査対象C2に対し、図1及び図2を参照して説明したステージ3の径方向外側に向かう遠心力が作用して、第2検査対象C2がステージ3の径方向外側に向かって移動する。 As described with reference to Figs. 1 and 2, the detection device 2 rotates (pivots) the chip 6 around the central axis AX. As a result, the centrifugal force toward the radially outward direction of the stage 3 described with reference to Figs. 1 and 2 acts on the second test object C2 housed in the chip 6, and the second test object C2 moves toward the radially outward direction of the stage 3.

具体的には、チップ6は傾斜しているため、第2検査対象C2に遠心力が作用すると、第2検査対象C2は、床面611aに向かって移動する。そして、第2検査対象C2は、床面611aに近づいた後に、床面611aに沿って移動(上昇)する。換言すると、第2検査対象C2は、支持台4の傾斜面41に沿って移動する。その結果、第2検査対象C2は、図9及び図10を参照して説明した第1壁部67及び第2壁部68の間の空間に誘導され易くなり、凹部66に収容(捕捉)されている第1検査対象C1と接触し易くなる。 Specifically, because the chip 6 is inclined, when centrifugal force acts on the second test object C2, the second test object C2 moves toward the floor surface 611a. After approaching the floor surface 611a, the second test object C2 moves (rises) along the floor surface 611a. In other words, the second test object C2 moves along the inclined surface 41 of the support base 4. As a result, the second test object C2 is more likely to be guided into the space between the first wall portion 67 and the second wall portion 68 described with reference to Figures 9 and 10, and more likely to come into contact with the first test object C1 accommodated (captured) in the recess 66.

したがって、本実施形態によれば、第1検査対象C1と第2検査対象C2とを効率よく接触させることができる。すなわち、第1検査対象C1と第2検査対象C2とが接触する頻度を高めることができる。 Therefore, according to this embodiment, the first test object C1 and the second test object C2 can be brought into contact with each other efficiently. In other words, the frequency with which the first test object C1 and the second test object C2 come into contact with each other can be increased.

続いて、図13を参照して、チップ6を支持台4に再配置する手順を説明する。図13は、チップ6を支持台4に再配置する手順を示す図である。チップ6の再配置は、検出デバイス2を用いてチップ6を所定時間回転(旋回)させた後に行われる。以下、検出デバイス2を用いてチップ6を所定時間回転(旋回)させる処理を、「回転処理」と記載する場合がある。なお、図13では、図面の簡略化のため、回転機構5を省略している。 Next, the procedure for rearranging the chip 6 on the support base 4 will be described with reference to FIG. 13. FIG. 13 is a diagram showing the procedure for rearranging the chip 6 on the support base 4. The rearrangement of the chip 6 is performed after rotating (turning) the chip 6 for a predetermined time using the detection device 2. Hereinafter, the process of rotating (turning) the chip 6 for a predetermined time using the detection device 2 may be referred to as the "rotation process." Note that the rotation mechanism 5 has been omitted from FIG. 13 to simplify the drawing.

図3を参照して説明したように、チップ6は、傾斜面41に着脱自在に配置される。したがって、図13に示すように、作業者は、回転処理の実行後、傾斜面41からチップ6を取り外し、チップ6を上下反転させて(180°回転させて)、支持台4の傾斜面41に再度配置することができる。 As described with reference to FIG. 3, the chip 6 is detachably placed on the inclined surface 41. Therefore, as shown in FIG. 13, after performing the rotation process, the operator can remove the chip 6 from the inclined surface 41, turn the chip 6 upside down (rotate it 180°), and place it again on the inclined surface 41 of the support table 4.

作業者は、チップ6を支持台4に再配置した後、検出デバイス2を用いて、再度、回転処理を実行する。この結果、前回の回転処理時にトラップ部65において第1検査対象C1とペアを形成せずに、収容空間63の一端(上端)側まで移動した第2検査対象C2を、床面611aに沿って再度移動させることができる。以下、チップ6の再配置前の回転処理を、「第1回転処理」と記載し、チップ6の再配置後の回転処理を、「第2回転処理」と記載する場合がある。 After rearranging the chip 6 on the support base 4, the operator uses the detection device 2 to perform the rotation process again. As a result, the second test object C2, which moved to one end (upper end) of the storage space 63 without forming a pair with the first test object C1 in the trap section 65 during the previous rotation process, can be moved again along the floor surface 611a. Hereinafter, the rotation process before rearranging the chip 6 may be referred to as the "first rotation process", and the rotation process after rearranging the chip 6 may be referred to as the "second rotation process".

本実施形態では、チップ6は、第1回転処理時に第1隙間65aが第2隙間65bに対して下側に位置するように傾斜面41に配置される。したがって、チップ6の再配置後に、検出デバイス2を用いて第2回転処理を実行することにより、第1回転処理時にトラップ部65において第1検査対象C1とペアを形成できなかった第2検査対象C2を、収容空間63の他端(上端)側まで移動させることができる。換言すると、第1検査対象C1とペアを形成できなかった第2検査対象C2は、収容空間63を往復する。 In this embodiment, the chip 6 is positioned on the inclined surface 41 so that the first gap 65a is located below the second gap 65b during the first rotation process. Therefore, by performing the second rotation process using the detection device 2 after rearranging the chip 6, the second test object C2 that was unable to form a pair with the first test object C1 in the trap section 65 during the first rotation process can be moved to the other end (upper end) of the storage space 63. In other words, the second test object C2 that was unable to form a pair with the first test object C1 travels back and forth in the storage space 63.

作業者は、第2検査対象C2を往復させた後に、チップ6を上下反転させて、支持台4に再度配置し、検出デバイス2を用いて、再度、回転処理を実行する。この結果、第1壁部67と第2壁部68との間の空間に第2検査対象C2を誘導する機会が増える。よって、前回第1検査対象C1とペアを形成することができなかった第2検査対象C2がトラップ部65において第1検査対象C1と接触できる可能性が高くなる。したがって、第1検査対象C1と第2検査対象C2とがトラップ部65においてペアを形成できる可能性が高くなる。 After the operator moves the second test object C2 back and forth, he or she turns the chip 6 upside down, places it again on the support table 4, and uses the detection device 2 to perform the rotation process again. As a result, there are more opportunities to guide the second test object C2 into the space between the first wall portion 67 and the second wall portion 68. This increases the likelihood that the second test object C2, which was unable to form a pair with the first test object C1 last time, will be able to come into contact with the first test object C1 in the trap portion 65. This increases the likelihood that the first test object C1 and the second test object C2 will be able to form a pair in the trap portion 65.

なお、本実施形態では、第1回転処理時に第1隙間65aが第2隙間65bに対して下側に位置するようにチップ6を傾斜面41に配置するが、第1回転処理時に第1隙間65aが第2隙間65bに対して上側に位置するようにチップ6を傾斜面41に配置してもよい。 In this embodiment, the chip 6 is placed on the inclined surface 41 so that the first gap 65a is located below the second gap 65b during the first rotation process, but the chip 6 may also be placed on the inclined surface 41 so that the first gap 65a is located above the second gap 65b during the first rotation process.

続いて図14を参照して、本実施形態の検出システム1を用いた検査方法の手順を説明する。図14は、本実施形態の検出システム1を用いた検査方法の手順を示すフローチャートである。本実施形態において、検査方法の手順は、工程S1~工程S10を含む。 Next, the procedure of the inspection method using the detection system 1 of this embodiment will be described with reference to FIG. 14. FIG. 14 is a flowchart showing the procedure of the inspection method using the detection system 1 of this embodiment. In this embodiment, the procedure of the inspection method includes steps S1 to S10.

まず、作業者は、チップ6に第1検査対象C1及び第2検査対象C2を導入する(工程S1)。具体的には、作業者は、まず、収容空間63の上面から第1懸濁液を収容空間63に注入して、各トラップ部65の凹部66に第1検査対象C1を沈降させる。その後、作業者は、第1懸濁液の溶媒と同じ液体を収容空間63に注入し、例えばマイクロシリンジを用いて、収容空間63から上澄み液を吸い出す。次に、作業者は、収容空間63の上面から第2懸濁液を収容空間63に注入する。具体的には、作業者は、第2懸濁液によって収容空間63が満たされるように、収容空間63に第2懸濁液を注入する。なお、第2懸濁液の溶媒は、第1懸濁液と同じ溶媒である。 First, the operator introduces the first test object C1 and the second test object C2 into the chip 6 (step S1). Specifically, the operator first injects the first suspension into the storage space 63 from the upper surface of the storage space 63, and causes the first test object C1 to settle in the recess 66 of each trap portion 65. After that, the operator injects a liquid that is the same as the solvent of the first suspension into the storage space 63, and sucks out the supernatant liquid from the storage space 63 using, for example, a microsyringe. Next, the operator injects the second suspension into the storage space 63 from the upper surface of the storage space 63. Specifically, the operator injects the second suspension into the storage space 63 so that the storage space 63 is filled with the second suspension. The solvent of the second suspension is the same as that of the first suspension.

作業者は、チップ6に第1検査対象C1及び第2検査対象C2を導入した後、図7を参照して説明したように、収容空間63の上面を蓋部64で閉塞する(工程S2)。 After the operator introduces the first test target C1 and the second test target C2 into the chip 6, the operator closes the upper surface of the storage space 63 with the lid portion 64 as described with reference to FIG. 7 (step S2).

作業者は、収容空間63の上面を蓋部64で閉塞した後、チップ6を支持台4の傾斜面41に配置する(工程S3)。 After closing the top surface of the storage space 63 with the lid 64, the worker places the chip 6 on the inclined surface 41 of the support base 4 (step S3).

作業者は、チップ6を支持台4の傾斜面41に配置した後、検出デバイス2を用いて、第1回転処理を実行する(工程S4)。なお、第1回転処理に要する時間は、例えば5分間である。 After placing the chip 6 on the inclined surface 41 of the support table 4, the operator uses the detection device 2 to perform the first rotation process (step S4). The time required for the first rotation process is, for example, 5 minutes.

第1回転処理の実行後、作業者は、図13を参照して説明したように、支持台4の傾斜面41からチップ6を取り外し(工程S5)、チップ6を180°回転させて、チップ6を再配置する(工程S6)。そして、作業者は、検出デバイス2を用いて、第2回転処理を実行する(工程S7)。この結果、トラップ部65で第1検査対象C1とペアを形成できなかった第2検査対象C2が、収容空間63を往復する。なお、第2回転処理に要する時間は、例えば5分間である。 After the first rotation process is performed, the operator removes the chip 6 from the inclined surface 41 of the support table 4 (step S5), rotates the chip 6 180°, and repositions the chip 6 (step S6), as described with reference to FIG. 13. Then, the operator performs the second rotation process using the detection device 2 (step S7). As a result, the second test object C2, which was not able to form a pair with the first test object C1 in the trap section 65, travels back and forth in the storage space 63. The time required for the second rotation process is, for example, 5 minutes.

第1回転処理及び第2回転処理の実行回数が所定回数以上でない場合(工程S8のNo)、作業者は、工程S4~工程S7の操作を再度実行する。所定回数は、例えば、3回である。 If the first rotation process and the second rotation process have not been performed the predetermined number of times (No in step S8), the worker repeats steps S4 to S7. The predetermined number of times is, for example, three times.

第1回転処理及び第2回転処理の実行回数が所定回数以上である場合(工程S8のYes)、作業者は、支持台4の傾斜面41からチップ6を取り外す(工程S9)。 If the number of times the first rotation process and the second rotation process have been performed is equal to or greater than the predetermined number (Yes in step S8), the worker removes the chip 6 from the inclined surface 41 of the support table 4 (step S9).

その後、作業者、トラップ部65において接触している第1検査対象C1及び第2検査対象C2が特異的に相互作用しているか否かを検査する(工程S10)。具体的には、作業者は、撮像装置を用いて、収容空間63の上方から、顕微鏡を介して、複数のトラップ部65を経時的に撮像する。撮像装置は、例えばCMOSカメラである。撮像時間は、例えば、60分間である。作業者は、撮像装置で撮像した画像から、第2検査対象C2の発光が継続する時間を測定する。そして、作業者は、第2検査対象C2の発光が継続する時間に基づいて、第1検査対象C1と第2検査対象C2とが特異的に相互作用しているか否かを判定する。 Then, the worker checks whether or not the first test subject C1 and the second test subject C2 that are in contact with each other in the trap section 65 are specifically interacting with each other (step S10). Specifically, the worker uses an imaging device to capture images of the multiple trap sections 65 over time through a microscope from above the storage space 63. The imaging device is, for example, a CMOS camera. The imaging time is, for example, 60 minutes. The worker measures the duration of the emission of light from the second test subject C2 from the image captured by the imaging device. Then, the worker determines whether or not the first test subject C1 and the second test subject C2 are specifically interacting with each other based on the duration of the emission of light from the second test subject C2.

なお、図14を参照して説明した検査方法の手順では、最後の第1回転処理の後に、チップ6を再配置して、第2回転処理(最後の第2回転処理)を実行したが、最後の第2回転処理は省略されてもよい。具体的には、作業者は、最後の第1回転処理の後に、工程S9及び工程S10を実行してもよい。 In the procedure of the inspection method described with reference to FIG. 14, after the final first rotation process, the chip 6 is repositioned and the second rotation process (final second rotation process) is performed, but the final second rotation process may be omitted. Specifically, the operator may perform steps S9 and S10 after the final first rotation process.

続いて、図15を参照して抗原提示細胞(第1検査対象C1)とT細胞(第2検査対象C2)とのペアリング率を説明する。図15は、抗原提示細胞とT細胞とのペアリング率を示すグラフである。具体的には、図15は、特異ペアのペアリング率を示す。ここで、ペアリング率は、捕捉された抗原提示細胞の数に対する、特異的に相互作用した抗原提示細胞とT細胞とのペアの数の割合を示す。 Next, the pairing rate between antigen-presenting cells (first test subject C1) and T cells (second test subject C2) will be described with reference to FIG. 15. FIG. 15 is a graph showing the pairing rate between antigen-presenting cells and T cells. Specifically, FIG. 15 shows the pairing rate of specific pairs. Here, the pairing rate indicates the ratio of the number of pairs of antigen-presenting cells and T cells that have specifically interacted to the number of captured antigen-presenting cells.

図15において、縦軸は、ペアリング率を示す。図15は、T細胞を1往復させることによって得たペアリング率と、T細胞を2往復させることによって得たペアリング率と、T細胞を3往復させることによって得たペアリング率とを示す。以下、T細胞を1往復させることによって得たペアリング率を、「1往復のペアリング率」と記載する。同様に、T細胞を2往復させることによって得たペアリング率を、「2往復のペアリング率」と記載し、T細胞を3往復させることによって得たペアリング率を、「3往復のペアリング率」と記載する。 In FIG. 15, the vertical axis indicates the pairing rate. FIG. 15 shows the pairing rate obtained by one round trip of T cells, two round trips of T cells, and three round trips of T cells. Hereinafter, the pairing rate obtained by one round trip of T cells will be referred to as the "pairing rate after one round trip." Similarly, the pairing rate obtained by two round trips of T cells will be referred to as the "pairing rate after two round trips," and the pairing rate obtained by three round trips of T cells will be referred to as the "pairing rate after three round trips."

図15において、1往復のペアリング率は、実際の1往復のペアリング率を10%に換算して示している。2往復のペアリング率は、換算後の1往復のペアリング率を基準に、実際の2往復のペアリング率を正規化した値を示している。同様に、3往復のペアリング率は、換算後の1往復のペアリング率を基準に、実際の3往復のペアリング率を正規化した値を示している。 In Figure 15, the pairing rate for one round trip is the actual pairing rate for one round trip converted to 10%. The pairing rate for two round trips is the actual pairing rate for two round trips normalized based on the converted pairing rate for one round trip. Similarly, the pairing rate for three round trips is the actual pairing rate for three round trips normalized based on the converted pairing rate for one round trip.

図15に示すように、T細胞の往復回数が増加するほど、ペアリング率が増加した。換言すると、T細胞の往復回数を増加させることにより、抗原提示細胞とT細胞とが接触する頻度が増加した。したがって、抗原提示細胞とT細胞とを効率よく接触させることができた。 As shown in Figure 15, the pairing rate increased as the number of round trips of T cells increased. In other words, by increasing the number of round trips of T cells, the frequency of contact between antigen-presenting cells and T cells increased. Therefore, it was possible to efficiently bring antigen-presenting cells and T cells into contact.

続いて、図16を参照して支持台4及びチップ6の変形例を説明する。図16は、支持台4及びチップ6の変形例を示す図である。図16に示すように、チップ6は、複数の突出部421がそれぞれ挿入される複数の貫通穴612を有してもよい。チップ6の複数の貫通穴612に支持台4の複数の突出部421をそれぞれ挿入することにより、傾斜面41にチップ6を着脱自在に配置することができる。 Next, modified examples of the support base 4 and the chip 6 will be described with reference to FIG. 16. FIG. 16 is a diagram showing modified examples of the support base 4 and the chip 6. As shown in FIG. 16, the chip 6 may have a plurality of through holes 612 into which a plurality of protrusions 421 are respectively inserted. By inserting the plurality of protrusions 421 of the support base 4 into the plurality of through holes 612 of the chip 6, the chip 6 can be detachably positioned on the inclined surface 41.

以上、図面(図1~図16)を参照して本発明の実施形態について説明した。本実施形態によれば、第2検査対象C2を床面611aに沿って移動させることができるため、第2検査対象C2が第1壁部67及び第2壁部68の上方を通過し難くなる。したがって、2種類の検査対象(第1検査対象C1と第2検査対象C2)を効率よく接触させることができる。換言すると、2種類の検査対象の接触頻度を増加させることができる。その結果、例えば、抗原提示細胞を特異的に認識するT細胞を効率よく検出することができる。あるいは、特異的に相互作用する抗原提示細胞とT細胞との組み合わせを効率よく検出することができる。 The above describes an embodiment of the present invention with reference to the drawings (FIGS. 1 to 16). According to this embodiment, the second test subject C2 can be moved along the floor surface 611a, so that the second test subject C2 is less likely to pass above the first wall portion 67 and the second wall portion 68. Therefore, the two types of test subjects (the first test subject C1 and the second test subject C2) can be efficiently brought into contact with each other. In other words, the frequency of contact between the two types of test subjects can be increased. As a result, for example, T cells that specifically recognize antigen-presenting cells can be efficiently detected. Alternatively, a combination of antigen-presenting cells and T cells that specifically interact with each other can be efficiently detected.

また、本実施形態によれば、枠部621に対して蓋部64が着脱自在である。したがって、収容部62に収容した第1検査対象C1及び第2検査対象C2を回収することができる。例えば、収容部62からT細胞を回収して、T細胞のDNA又はRNAを解析することができる。 In addition, according to this embodiment, the lid 64 is detachable from the frame 621. Therefore, the first test subject C1 and the second test subject C2 stored in the storage section 62 can be collected. For example, T cells can be collected from the storage section 62 and the DNA or RNA of the T cells can be analyzed.

また、本実施形態によれば、収容空間63を液体で満たした後に回転処理を実行する。したがって、回転処理時に液体は流動し難い。その結果、液体の流動に起因する第2検査対象C2の泳動が発生し難い。よって、第2検査対象C2が第1検査対象C1とよりペアを形成し易くなる。具体的には、液体の流動が発生すると、第2検査対象C2は、トラップ部65(第1壁部67及び第2壁部68)を避けるように泳動する可能性がある。これに対し、本実施形態によれば、液体の流動が発生し難いため、トラップ部65(第1壁部67及び第2壁部68)を避けるように第2検査対象C2が泳動する可能性を低減することができる。 In addition, according to this embodiment, the rotation process is performed after filling the storage space 63 with liquid. Therefore, the liquid is less likely to flow during the rotation process. As a result, migration of the second test object C2 due to the flow of the liquid is less likely to occur. Therefore, the second test object C2 is more likely to form a pair with the first test object C1. Specifically, when the flow of the liquid occurs, the second test object C2 may migrate to avoid the trap portion 65 (the first wall portion 67 and the second wall portion 68). In contrast, according to this embodiment, the flow of the liquid is less likely to occur, so that the possibility of the second test object C2 migrating to avoid the trap portion 65 (the first wall portion 67 and the second wall portion 68) can be reduced.

なお、本発明は、上記の実施形態に限られるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々の態様において実施できる。また、上記の実施形態に開示される複数の構成要素は適宜改変可能である。例えば、ある実施形態に示される全構成要素のうちのある構成要素を別の実施形態の構成要素に追加してもよく、又は、ある実施形態に示される全構成要素のうちのいくつかの構成要素を実施形態から削除してもよい。 The present invention is not limited to the above-described embodiments, and can be implemented in various forms without departing from the spirit of the present invention. In addition, the components disclosed in the above-described embodiments can be modified as appropriate. For example, some of the components shown in one embodiment may be added to the components of another embodiment, or some of the components shown in one embodiment may be deleted from the embodiment.

図面は、発明の理解を容易にするために、それぞれの構成要素を主体に模式的に示しており、図示された各構成要素の厚さ、長さ、個数、間隔等は、図面作成の都合上から実際とは異なる場合もある。また、上記の実施形態で示す各構成要素の構成は一例であって、特に限定されるものではなく、本発明の効果から実質的に逸脱しない範囲で種々の変更が可能であることは言うまでもない。 The drawings are primarily schematic illustrations of each component to facilitate understanding of the invention, and the thickness, length, number, spacing, etc. of each component shown may differ from the actual configuration due to the convenience of creating the drawings. Furthermore, the configuration of each component shown in the above embodiment is merely an example and is not particularly limited, and it goes without saying that various modifications are possible within a range that does not substantially deviate from the effects of the present invention.

例えば、図1~図16を参照して説明した実施形態において、検出デバイス2は2つの支持台4を備えたが、検出デバイス2は、1つの支持台4を備えてもよいし、3つ以上の支持台4を備えてもよい。 For example, in the embodiment described with reference to Figures 1 to 16, the detection device 2 has two support bases 4, but the detection device 2 may have one support base 4 or three or more support bases 4.

また、図1~図16を参照して説明した実施形態において、チップ6は、2つの部材(チップ本体6A及び底板6B)を用いて構成されたが、チップ6は単一の部材を用いて構成されてもよい。この場合、チップ6の材料として、例えばポリジメチルシロキサン(PDMS)、PDMSとガラスとの複合体、又はシクロオレフィンポリマー(COP)のような合成樹脂を用いることができる。 In the embodiment described with reference to Figures 1 to 16, the chip 6 is constructed using two members (the chip body 6A and the bottom plate 6B), but the chip 6 may be constructed using a single member. In this case, the material of the chip 6 may be, for example, polydimethylsiloxane (PDMS), a composite of PDMS and glass, or a synthetic resin such as cycloolefin polymer (COP).

また、図1~図16を参照して説明した実施形態において、蓋部64は、液体の界面張力によって枠部621に保持されたが、チップ6は、枠部621に蓋部64を着脱自在に結合させるための構造を有してもよい。例えば、枠部621が、蓋部64の縁部に係合する係合部を有してもよい。 In the embodiment described with reference to Figures 1 to 16, the lid 64 is held to the frame 621 by the interfacial tension of the liquid, but the chip 6 may have a structure for removably connecting the lid 64 to the frame 621. For example, the frame 621 may have an engagement portion that engages with the edge of the lid 64.

また、図1~図16を参照して説明した実施形態において、トラップ部65は第1壁部67及び第2壁部68を備えたが、第1壁部67及び第2壁部68は省略され得る。換言すると、トラップ部65は、凹部66のみを備え得る。 In the embodiment described with reference to Figures 1 to 16, the trap portion 65 includes the first wall portion 67 and the second wall portion 68, but the first wall portion 67 and the second wall portion 68 may be omitted. In other words, the trap portion 65 may include only the recess 66.

また、第1検査対象C1として抗原提示細胞を例示したが、第1検査対象C1はT細胞であってもよい。同様に、第2検査対象C2としてT細胞を例示したが、第2検査対象C2は抗原提示細胞であってもよい。 In addition, although antigen-presenting cells are exemplified as the first test subject C1, the first test subject C1 may be T cells. Similarly, although T cells are exemplified as the second test subject C2, the second test subject C2 may be antigen-presenting cells.

また、第1検査対象C1として、免疫刺激因子を有する細胞を例示し、第2検査対象C2として免疫細胞を例示したが、第1検査対象C1及び第2検査対象C2は、接触することで相互作用する物質であればよい。 In addition, although cells having an immune stimulating factor are exemplified as the first test subject C1 and immune cells are exemplified as the second test subject C2, the first test subject C1 and the second test subject C2 may be any substances that interact with each other when they come into contact with each other.

本発明は、例えば、T細胞の応答性を解析する分野に有用である。 The present invention is useful, for example, in the field of analyzing T cell responsiveness.

1 :検出システム
2 :検出デバイス
3 :ステージ
4 :支持台
6 :チップ
41 :傾斜面
42 :支持部
61 :ベース
63 :収容空間
64 :蓋部
66 :凹部
611 :床部
611a :床面
621 :枠部
AX :中心軸
C1 :第1検査対象
C2 :第2検査対象
1: detection system 2: detection device 3: stage 4: support base 6: chip 41: inclined surface 42: support portion 61: base 63: storage space 64: lid portion 66: recess 611: floor portion 611a: floor surface 621: frame portion AX: central axis C1: first inspection object C2: second inspection object

Claims (7)

第1検査対象及び第2検査対象を収容するチップと、
中心軸を中心に回転するステージと、
前記ステージ上に配置されて、前記チップを支持する支持台と
を備え、
前記支持台は、前記チップが配置される傾斜面を有し、
前記傾斜面は、前記中心軸から遠い側が前記中心軸に近い側と比べて前記ステージから遠くなるように傾斜
前記チップは、
前記第1検査対象及び前記第2検査対象が導入される収容空間を形成する枠部と、
前記収容空間の床面を構成する床部と、
互いに対向する第1壁部及び第2壁部と
を有し、
前記床部は、凹部を有し、
前記凹部は、前記第1検査対象を収容可能な形状を有し、
前記第1壁部及び前記第2壁部は前記凹部を囲み、
前記第1壁部の一方側の端部と前記第2壁部の一方側の端部との間の隙間は、前記第1壁部の他方側の端部と前記第2壁部の他方側の端部との間の隙間よりも大きい、検出システム。
a chip that accommodates a first test object and a second test object;
A stage that rotates around a central axis;
a support table disposed on the stage and supporting the chip;
the support base has an inclined surface on which the chip is placed,
the inclined surface is inclined such that a side farther from the central axis is farther from the stage than a side closer to the central axis,
The chip comprises:
a frame portion that forms an accommodation space into which the first inspection object and the second inspection object are introduced;
A floor portion that constitutes a floor surface of the storage space;
A first wall portion and a second wall portion opposed to each other;
having
The floor portion has a recess,
the recess has a shape capable of accommodating the first test object,
The first wall portion and the second wall portion surround the recessed portion,
A detection system, wherein a gap between one end of the first wall portion and one end of the second wall portion is larger than a gap between the other end of the first wall portion and the other end of the second wall portion.
前記支持台は、前記チップを着脱可能に支持する支持部を有する、請求項1に記載の検出システム。 The detection system according to claim 1, wherein the support base has a support portion that detachably supports the chip. 前記第1壁部の一方側の端部と前記第2壁部の一方側の端部との間の隙間の大きさは、前記第1検査対象及び前記第2検査対象よりも大きい、請求項1又は請求項2に記載の検出システム。The detection system according to claim 1 or 2, wherein a size of a gap between one end of the first wall portion and one end of the second wall portion is larger than the first inspection object and the second inspection object. 前記第1壁部の他方側の端部と前記第2壁部の他方側の端部との間の隙間の大きさは、前記第1検査対象よりも小さい、請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の検出システム。The detection system according to claim 1 , wherein a size of a gap between the other end of the first wall portion and the other end of the second wall portion is smaller than a size of the first inspection target. 数の凹部を有するベースと、
前記ベースに配置されて前記複数の凹部を囲み、第1検査対象及び第2検査対象が導入される収容空間を形成する枠部と、
前記凹部ごとに設けられて、対応する前記凹部を囲む第1壁部及び第2壁部と
を備え、
前記凹部の各々は、前記第1検査対象を収容可能な形状を有し、
前記第1壁部及び前記第2壁部は互いに対向し、
前記第1壁部の一方側の端部と前記第2壁部の一方側の端部との間の隙間は、前記第1壁部の他方側の端部と前記第2壁部の他方側の端部との間の隙間よりも大きい、チップ。
a base having a plurality of recesses;
a frame portion disposed on the base , surrounding the plurality of recesses, and forming an accommodation space into which a first inspection object and a second inspection object are introduced;
a first wall portion and a second wall portion provided for each of the recesses and surrounding the corresponding recesses;
Equipped with
each of the recesses has a shape capable of accommodating the first test object;
The first wall portion and the second wall portion face each other,
A chip, wherein a gap between one end of the first wall portion and one end of the second wall portion is larger than a gap between the other end of the first wall portion and the other end of the second wall portion.
前記第1壁部の一方側の端部と前記第2壁部の一方側の端部との間の隙間の大きさは、前記第1検査対象及び前記第2検査対象よりも大きい、請求項5に記載のチップ。The chip according to claim 5 , wherein a size of a gap between one end of the first wall portion and one end of the second wall portion is larger than the first test target and the second test target. 前記第1壁部の他方側の端部と前記第2壁部の他方側の端部との間の隙間の大きさは、前記第1検査対象よりも小さい、請求項5又は請求項6に記載のチップ。7. The chip according to claim 5, wherein a size of a gap between the other end of the first wall portion and the other end of the second wall portion is smaller than a size of the first inspection target.
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第64回応用物理学会春季学術講演会 講演予稿集,2017年,16a-514-5
第65回応用物理学会春季学術講演会 講演予稿集,2018年,17p-P11-24

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