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JP7528604B2 - Display panel substrate and method for manufacturing the display panel - Google Patents
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JP7528604B2 - Display panel substrate and method for manufacturing the display panel - Google Patents

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Description

本実施形態は、表示パネルが実装される表示パネル基板及び表示パネルの製造方法に関する。 This embodiment relates to a display panel substrate on which a display panel is mounted and a method for manufacturing the display panel.

液晶パネルは1対の透明基板の間に液晶を封入することで製造される。液晶パネルの製造方法として、複数の液晶パネル用の電極等が作り込まれたマザー基板と呼ばれる2枚のガラス基板をシールによって貼り合わせ、マザー基板を複数の液晶パネルの単位に分断し、それぞれの液晶パネルに液晶を封入することによって複数の液晶パネルを同時に生成する方法が知られている。このような液晶パネルの製造方法において、隣接する2枚の液晶パネルのカットライン上にシールパターンを配置し、シールパターンの中央でこれらの隣接する2枚の液晶パネルを分断する方法がある。以後、この方法をシール分断と呼称する。シール分断を用いることでそれぞれの液晶パネルの狭額縁化が可能となる。 Liquid crystal panels are manufactured by sealing liquid crystal between a pair of transparent substrates. A known method of manufacturing liquid crystal panels is to bond two glass substrates called mother substrates, which have electrodes for multiple liquid crystal panels built in, together with a seal, divide the mother substrate into multiple liquid crystal panel units, and seal liquid crystal into each liquid crystal panel to simultaneously produce multiple liquid crystal panels. One method of manufacturing such liquid crystal panels is to place a seal pattern on the cut line of two adjacent liquid crystal panels, and then separate these two adjacent liquid crystal panels in the center of the seal pattern. Hereinafter, this method will be referred to as seal separation. Using seal separation makes it possible to narrow the frame of each liquid crystal panel.

中国特許第101118334号明細書Chinese Patent No. 101118334

シール分断を用いてマザー基板をカットする際に、シール分断の起点部、終点部といったシール分断でない箇所において、基板の斜め割れ、ガラス欠け、微小なガラス片の飛散発生等が発生することがある。 When cutting the motherboard using seal cutting, diagonal cracks in the board, chipping of the glass, and tiny pieces of glass flying off can occur at points where the seal is not cut, such as the start and end points of the seal cutting.

実施形態は、シール分断の際の割れ等が抑制される表示パネル基板及び表示パネルの製造方法を提供する。 The embodiment provides a manufacturing method for a display panel substrate and a display panel that suppresses cracks and other defects that occur when the seal is severed.

第1の態様の表示パネル基板は、第1の基板と、第1の基板に対して対向して配置される第2の基板と、第1の基板と第2の基板とで第1の表示パネルを形成するように第1の基板と第2の基板との間に形成される第1のシールと、第1の基板と第2の基板とで第2の表示パネルを形成するように第1の基板と第2の基板との間に形成される第2のシールと、第1の表示パネルを形成する第1の基板と第2の基板とを導電接続するトランスファとを備えている。第1のシールと第2のシールとは、第1の表示パネルと第2の表示パネルとのカットラインにおいて共通化されている。トランスファは、第1の基板における第1のシールの外側であって、カットラインよりも第1の表示パネルの側の位置に形成されている。カットラインに対してトランスファと対称な位置には第1の基板と第2の基板とを導電接続しない構造物が形成されている。 The display panel substrate of the first aspect includes a first substrate, a second substrate disposed opposite the first substrate, a first seal formed between the first substrate and the second substrate so that the first substrate and the second substrate form a first display panel, a second seal formed between the first substrate and the second substrate so that the first substrate and the second substrate form a second display panel, and a transfer that conductively connects the first substrate and the second substrate that form the first display panel. The first seal and the second seal are common to the cut line between the first display panel and the second display panel. The transfer is formed outside the first seal on the first substrate and on the first display panel side of the cut line. A structure that does not conductively connect the first substrate and the second substrate is formed at a position symmetrical to the transfer with respect to the cut line.

第2の態様の表示パネル基板は、第1の基板と、第1の基板に対して対向して配置される第2の基板と、第1の基板と第2の基板とで第1の表示パネルを形成するように第1の基板と第2の基板との間に形成される第1のシールと、第1の基板と第2の基板とで第2の表示パネルを形成するように第1の基板と第2の基板との間に形成される第2のシールと、第1の表示パネルを形成する第1の基板と第2の基板とを導電接続するトランスファとを備える。トランスファは、第1の基板における第1のシールよりも内側の位置に形成されている。第1のシールと第2のシールとは、第1の表示パネルと第2の表示パネルとのカットラインにおいて共通化され、カットラインに対して対称に形成されている。 The display panel substrate of the second aspect includes a first substrate, a second substrate disposed opposite to the first substrate, a first seal formed between the first substrate and the second substrate so as to form a first display panel together with the first substrate, a second seal formed between the first substrate and the second substrate so as to form a second display panel together with the first substrate, and a transfer conductively connecting the first substrate and the second substrate forming the first display panel. The transfer is formed at a position on the first substrate that is more inward than the first seal. The first seal and the second seal are common to the cut line between the first display panel and the second display panel, and are formed symmetrically with respect to the cut line.

第3の態様の表示パネルの製造方法は、第1の基板を形成することと、第2の基板を形成することと、第1の表示パネルと第2の表示パネルとをそれぞれ形成するためのシールであって、第1の表示パネルと第2の表示パネルのカットラインにおいて共通化されている第1のシールと第2のシールとを含むシールパターンを第1の基板に形成することと、第1の基板における、第1のシールの外側であって、カットラインよりも第1の表示パネルの側の位置に、第1の表示パネルを形成する第1の基板と第2の基板とを導電接続するトランスファを形成することと、カットラインに対してトランスファと対称な位置に第1の基板と第2の基板とを導電接続しない構造物を形成することと、第1の基板と第2の基板とを貼り合わせることによって第1の表示パネルと第2の表示パネルを形成することと、カットラインにおいて第1の表示パネルと第2の表示パネルとを分断することとを備える。 The manufacturing method of the display panel of the third aspect includes forming a first substrate, forming a second substrate, forming a seal pattern on the first substrate, the seal pattern including a first seal and a second seal that are common to the cut line of the first display panel and the second display panel, forming a transfer conductively connecting the first substrate and the second substrate that form the first display panel at a position on the first substrate outside the first seal and on the first display panel side of the cut line, forming a structure that does not conductively connect the first substrate and the second substrate at a position symmetrical to the transfer with respect to the cut line, forming the first substrate and the second substrate by bonding the first substrate and the second substrate together, and dividing the first substrate and the second display panel at the cut line.

第4の態様の表示パネルの製造方法は、第1の基板を形成することと、第2の基板を形成することと、第1の表示パネルと第2の表示パネルとをそれぞれ形成するためのシールであって、第1の表示パネルと第2の表示パネルのカットラインにおいて共通化され、かつ、カットラインに対して対称な第1のシールと第2のシールとを含むシールパターンを第1の基板に形成することと、第1の基板における、第1のシールの内側の位置に、第1の表示パネルを形成する第1の基板と第2の基板とを導電接続するトランスファを形成することと、第1の基板と第2の基板とを貼り合わせることによって第1の表示パネルと第2の表示パネルを形成することと、カットラインにおいて第1の表示パネルと第2の表示パネルとを分断することとを備える。 The fourth aspect of the manufacturing method of the display panel includes forming a first substrate, forming a second substrate, forming a seal pattern on the first substrate for forming the first display panel and the second display panel, the seal pattern including a first seal and a second seal that are common to the cut line of the first display panel and the second display panel and are symmetrical with respect to the cut line, forming a transfer conductively connecting the first substrate and the second substrate that form the first display panel at a position inside the first seal on the first substrate, forming the first display panel and the second substrate by bonding the first substrate and the second substrate together, and dividing the first display panel and the second display panel at the cut line.

実施形態によれば、シール分断の際の割れ等が抑制される表示パネル基板及び表示パネルの製造方法を提供することができる。 According to the embodiment, it is possible to provide a display panel substrate and a manufacturing method for a display panel that suppresses cracks and other defects when the seal is severed.

図1Aは、各実施形態に係る表示パネルの構成を示す平面図である。FIG. 1A is a plan view showing the configuration of a display panel according to each embodiment. 図1Bは、図1Aの1B-1B線断面図である。FIG. 1B is a cross-sectional view taken along line 1B-1B of FIG. 1A. 図2は、表示パネルを製造するための各実施形態に係る表示パネル基板を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing a display panel substrate according to each embodiment for manufacturing a display panel. 図3は、第1の実施形態における、図2に示すカットラインの端付近の領域の拡大図である。FIG. 3 is an enlarged view of a region near the end of the cut line shown in FIG. 2 in the first embodiment. 図4は、第1の実施形態に係る表示パネルの製造方法の一例を示すフローチャートである。FIG. 4 is a flowchart showing an example of a manufacturing method of the display panel according to the first embodiment. 図5Aは、表示パネルにダミートランスファが形成されていない状態でのシール分断について示す図である。FIG. 5A is a diagram showing seal separation in a state where a dummy transfer is not formed on a display panel. 図5Bは、表示パネルにダミートランスファが形成されている状態でのシール分断について示す図である。FIG. 5B is a diagram showing how the seal breaks when a dummy transfer is formed on the display panel. 図6は、第1の変形例の構造物を示す図である。FIG. 6 is a diagram showing a structure of the first modified example. 図7は、第2の変形例の構造物を示す図である。FIG. 7 is a diagram showing a structure of the second modified example. 図8は、第2の実施形態における、図2に示すカットラインの端付近の領域の拡大図である。FIG. 8 is an enlarged view of a region near the end of the cut line shown in FIG. 2 in the second embodiment.

以下、実施形態について図面を参照して説明する。
[第1の実施形態]
図1Aは、各実施形態に係る表示パネルの構成を示す平面図である。図1Bは、図1Aの1B-1B線断面図である。図1Aに示すように、表示パネル1は、液晶パネルであって、第1の基板10と、第2の基板20とを有する。第1の基板10及び第2の基板20は、例えばガラス基板である。図1Bに示すように、第1の基板10と第2の基板20との間には液晶層30が介在されている。シール40は、例えば樹脂によって構成され、液晶層30の液晶が漏れ出さないように封止しつつ、第1の基板10と第2の基板20とを貼り合わせる。第1の基板10と第2の基板20との間隔であるセルギャップは、図示しないスペーサによって一定に保たれている。ここで、表示パネル1には、表示エリアaが設定されている。表示エリアaは、表示パネル1において実際に画像の表示に用いられるエリアである。
Hereinafter, an embodiment will be described with reference to the drawings.
[First embodiment]
FIG. 1A is a plan view showing the configuration of a display panel according to each embodiment. FIG. 1B is a cross-sectional view taken along line 1B-1B of FIG. 1A. As shown in FIG. 1A, the display panel 1 is a liquid crystal panel, and has a first substrate 10 and a second substrate 20. The first substrate 10 and the second substrate 20 are, for example, glass substrates. As shown in FIG. 1B, a liquid crystal layer 30 is interposed between the first substrate 10 and the second substrate 20. The seal 40 is made of, for example, a resin, and bonds the first substrate 10 and the second substrate 20 while sealing the liquid crystal of the liquid crystal layer 30 so that it does not leak out. The cell gap, which is the distance between the first substrate 10 and the second substrate 20, is kept constant by a spacer (not shown). Here, a display area a is set in the display panel 1. The display area a is an area actually used to display an image in the display panel 1.

第1の基板10の表示エリアaには、走査線11と、信号線12と、画素13とが形成されている。走査線11は、表示エリアaの水平方向に沿って形成され、図示しない走査線駆動回路に接続される。信号線12は、表示エリアaの垂直方向に走査線11と交差するように形成され、図示しない信号線駆動回路に接続される。画素13は、走査線11と信号線12との交点付近に形成される。画素13は、画素電極と、スイッチング素子とを含む。画素電極とスイッチング素子とは、配向膜によって覆われている。画素電極は、ITO等の透明電極である。スイッチング素子は、例えば薄膜トランジスタ(TFT)であり、走査線11と信号線と12と画素電極とに接続されている。スイッチング素子は、走査線駆動回路から走査線11を介して送られてくる走査信号に応じてオン又はオフされる。スイッチング素子がオンされたとき、信号線駆動回路から信号線12を介して送られてくる階調電圧が画素電極に印加される。 In the display area a of the first substrate 10, scanning lines 11, signal lines 12, and pixels 13 are formed. The scanning lines 11 are formed along the horizontal direction of the display area a, and are connected to a scanning line driving circuit (not shown). The signal lines 12 are formed so as to intersect with the scanning lines 11 in the vertical direction of the display area a, and are connected to a signal line driving circuit (not shown). The pixels 13 are formed near the intersections of the scanning lines 11 and the signal lines 12. The pixels 13 include pixel electrodes and switching elements. The pixel electrodes and the switching elements are covered with an alignment film. The pixel electrodes are transparent electrodes such as ITO. The switching elements are, for example, thin film transistors (TFTs), and are connected to the scanning lines 11, the signal lines 12, and the pixel electrodes. The switching elements are turned on or off in response to a scanning signal sent from the scanning line driving circuit via the scanning line 11. When the switching elements are turned on, a gradation voltage sent from the signal line driving circuit via the signal line 12 is applied to the pixel electrodes.

第2の基板20の表示エリアaには、共通電極21が形成されている。共通電極21は、第1の基板10のそれぞれの画素13と対向するように形成され、図示しない共通電極駆動回路に接続されている。共通電極21は、配向膜によって覆われている。共通電極21には、共通電極駆動回路によって共通電圧が印加される。 A common electrode 21 is formed in the display area a of the second substrate 20. The common electrode 21 is formed to face each pixel 13 of the first substrate 10, and is connected to a common electrode driving circuit (not shown). The common electrode 21 is covered with an alignment film. A common voltage is applied to the common electrode 21 by the common electrode driving circuit.

スイッチング素子がオンされたとき、画素13の画素電極には階調電圧が印加される。一方で、共通電極21には共通電圧が印加されている。したがって、画素13の画素電極と共通電極21との間に介在している液晶層30には、階調電圧と共通電圧との差に応じた電圧が印加される。液晶は、電圧の印加によって光の透過率を変化させる特性を有する。例えば、表示パネル1の裏面等に光源を配しておき、光源からの光が液晶層30を通過する際の透過率が変化されることにより、画素13毎の階調表示が行われ得る。 When the switching element is turned on, a gradation voltage is applied to the pixel electrode of pixel 13. Meanwhile, a common voltage is applied to the common electrode 21. Therefore, a voltage corresponding to the difference between the gradation voltage and the common voltage is applied to the liquid crystal layer 30 interposed between the pixel electrode of pixel 13 and the common electrode 21. Liquid crystal has the property of changing the light transmittance by applying a voltage. For example, a light source is arranged on the back surface of the display panel 1, and the transmittance of light from the light source when it passes through the liquid crystal layer 30 is changed, thereby enabling gradation display for each pixel 13.

図2は、表示パネルを製造するための各実施形態に係る表示パネル基板を示す図である。実施形態では、表示パネル基板100は、図1で示した構成を有する複数の表示パネルが同時に形成された基板である。図2では、表示パネル基板100において2つの表示パネル1a、1bが形成されている例が示されている。例えば、表示パネルの水平方向に沿った方向を行方向、垂直方向に沿った方向を列方向としたとき、表示パネル1a、1bは、行方向に隣接して形成される。表示パネル1aと表示パネル1bとの行方向の境界部にはカットラインCLが設定される。表示パネル1aと表示パネル1bとの形成が完了した後、表示パネル1aと表示パネル1bとはカットラインCLにおいて分断される。 Figure 2 is a diagram showing a display panel substrate according to each embodiment for manufacturing a display panel. In the embodiment, the display panel substrate 100 is a substrate on which multiple display panels having the configuration shown in Figure 1 are simultaneously formed. Figure 2 shows an example in which two display panels 1a and 1b are formed in the display panel substrate 100. For example, when the direction along the horizontal direction of the display panel is the row direction and the direction along the vertical direction is the column direction, the display panels 1a and 1b are formed adjacent to each other in the row direction. A cut line CL is set at the boundary between the display panels 1a and 1b in the row direction. After the formation of the display panels 1a and 1b is completed, the display panels 1a and 1b are separated at the cut line CL.

ここで、図2に示すように、表示パネル1aのシール40aと表示パネル1bのシール40bとは、カットラインCLにおいて共通化されるように形成される。この場合において、表示パネル1aと表示パネル1bとはカットラインCLにおいてシールごと分断される。このようなシール分断では、それぞれの表示パネルのシールの形成位置をカットラインの位置にまで移動させることができる。このため、表示パネルの狭額縁化が図られ得る。 As shown in FIG. 2, the sticker 40a of the display panel 1a and the sticker 40b of the display panel 1b are formed so as to be common to each other at the cut line CL. In this case, the display panels 1a and 1b are separated from each other along the cut line CL. When the stickers are separated in this manner, the positions at which the stickers of each display panel are formed can be moved to the position of the cut line. This allows the display panels to have a narrower frame.

図3は、第1の実施形態における、図2に示すカットラインCLの端付近の領域Rの拡大図である。液晶パネルでは、第1の基板10と第2の基板20とを導電接続するためにトランスファが形成される。図3では、表示パネル1aのトランスファ50aは、シール40aとカットラインCLとで構成される表示パネル1aの右上隅の空き領域に形成されている。トランスファ50aには、例えば銀ペースト、カーボンペーストといった導電ペーストが用いられる。トランスファ50aは、第1の基板10及び第2の基板20を、例えば表示パネル1aの外部の走査線駆動回路、信号線駆動回路、共通電極駆動回路といった回路に接続するための引き出し配線に接続され得る。図3では示されていないが、トランスファは、表示パネル1bの右上隅の空き領域にも形成され得る。 3 is an enlarged view of the region R near the end of the cut line CL shown in FIG. 2 in the first embodiment. In the liquid crystal panel, a transfer is formed to electrically connect the first substrate 10 and the second substrate 20. In FIG. 3, the transfer 50a of the display panel 1a is formed in an empty area in the upper right corner of the display panel 1a, which is composed of the seal 40a and the cut line CL. The transfer 50a is made of a conductive paste such as silver paste or carbon paste. The transfer 50a can be connected to a lead-out wiring for connecting the first substrate 10 and the second substrate 20 to a circuit such as a scanning line driving circuit, a signal line driving circuit, or a common electrode driving circuit outside the display panel 1a. Although not shown in FIG. 3, the transfer can also be formed in the empty area in the upper right corner of the display panel 1b.

ここで、実施形態では、カットラインCLに対してトランスファ50aと対称な位置に構造物としてのダミートランスファ50bが形成される。つまり、図3では、表示パネル1bのダミートランスファ50bは、シール40bとカットラインCLとで構成される表示パネル1bの左上隅の空き領域に形成される。ダミートランスファ50bは、トランスファ50aと同一の材料、同一の構造で形成されてよい。しかしながら、ダミートランスファ50bは、トランスファ50aとは異なり、走査線駆動回路、信号線駆動回路、共通電極駆動回路といった回路には接続されない。 Here, in the embodiment, a dummy transfer 50b is formed as a structure at a position symmetrical to the transfer 50a with respect to the cut line CL. That is, in FIG. 3, the dummy transfer 50b of the display panel 1b is formed in the empty area in the upper left corner of the display panel 1b, which is composed of the seal 40b and the cut line CL. The dummy transfer 50b may be formed of the same material and with the same structure as the transfer 50a. However, unlike the transfer 50a, the dummy transfer 50b is not connected to circuits such as the scanning line driving circuit, the signal line driving circuit, or the common electrode driving circuit.

図4は、第1の実施形態に係る表示パネルの製造方法の一例を示すフローチャートである。以下、説明を簡単にするために図2で示した表示パネル1a及び表示パネル1bの製造方法を説明する。 Figure 4 is a flowchart showing an example of a method for manufacturing a display panel according to the first embodiment. Below, for the sake of simplicity, a method for manufacturing the display panel 1a and the display panel 1b shown in Figure 2 will be described.

ステップS1において、第1の基板10を構成するための第1のマザー基板に、表示パネル1aを構成する走査線11、信号線12、画素13及び表示パネル1bを構成する走査線11、信号線12、画素13が形成される。走査線11、信号線12、画素13の形成は、任意の手法で行われ得る。 In step S1, the scanning lines 11, signal lines 12, and pixels 13 constituting the display panel 1a, and the scanning lines 11, signal lines 12, and pixels 13 constituting the display panel 1b are formed on a first mother substrate for forming the first substrate 10. The formation of the scanning lines 11, signal lines 12, and pixels 13 can be performed by any method.

ステップS2において、第2の基板20を構成するための第2のマザー基板に、表示パネル1aを構成する共通電極21及び表示パネル1bを構成する共通電極21が形成される。共通電極21の形成は、任意の手法で行われ得る。 In step S2, a common electrode 21 constituting the display panel 1a and a common electrode 21 constituting the display panel 1b are formed on a second mother substrate for forming the second substrate 20. The common electrode 21 can be formed by any method.

ステップS3において、第1のマザー基板にシールパターンが形成される。前述したように、シールパターンは、表示パネル1aと表示パネル1bとのカットラインにおいて表示パネル1aのシールと表示パネル1bのシールとが共通化されるように形成される。また、シールパターンは、後の工程において液晶が注入されるための注入口をそれぞれの表示パネルが有するように形成される。シールパターンは、第2のマザー基板に形成されてもよい。 In step S3, a seal pattern is formed on the first mother substrate. As described above, the seal pattern is formed so that the seal of display panel 1a and the seal of display panel 1b are common to each other at the cut line between display panel 1a and display panel 1b. The seal pattern is also formed so that each display panel has an injection port for injecting liquid crystal in a later process. The seal pattern may be formed on the second mother substrate.

ステップS4において、第1のマザー基板にトランスファが形成される。トランスファは、第2のマザー基板に形成されてもよい。 In step S4, a transfer is formed on the first mother substrate. The transfer may also be formed on the second mother substrate.

ステップS5において、第1のマザー基板にダミートランスファが形成される。前述したように、ダミートランスファは、表示パネル1aと表示パネル1bとのカットラインに対してトランスファと対称な位置に形成される。ダミートランスファは、第2のマザー基板に形成されてもよい。また、ステップS4のトランスファの形成とステップS5のダミートランスファの形成とは、同一工程で行われてもよい。 In step S5, a dummy transfer is formed on the first mother substrate. As described above, the dummy transfer is formed in a position symmetrical to the transfer with respect to the cut line between display panel 1a and display panel 1b. The dummy transfer may be formed on the second mother substrate. Also, the formation of the transfer in step S4 and the formation of the dummy transfer in step S5 may be performed in the same process.

ステップS6において、第1のマザー基板と第2のマザー基板とが貼り合わされる。 In step S6, the first mother substrate and the second mother substrate are bonded together.

ステップS7において、第1のマザー基板と第2のマザー基板とがダイヤモンドカッター、ガラスカッター等を用いたスクライバによってシールごと分断される。これによって、表示パネル1aを構成する第1の基板10及び第2の基板20、表示パネル1bを構成する第1の基板10及び第2の基板20がそれぞれ形成される。 In step S7, the first mother substrate and the second mother substrate are cut together with the seal by a scriber such as a diamond cutter or a glass cutter. This forms the first substrate 10 and the second substrate 20 that make up the display panel 1a, and the first substrate 10 and the second substrate 20 that make up the display panel 1b.

ステップS8において、表示パネル1a及び表示パネル1bのそれぞれのシールに形成されている注入口を介して表示パネル1a及び表示パネル1bに液晶が注入される。液晶の注入後、それぞれの注入口が封止される。これにより、表示パネル1a、1bの製造が完了する。 In step S8, liquid crystal is injected into display panel 1a and display panel 1b through injection ports formed in the seals of each of display panels 1a and 1b. After the liquid crystal is injected, each injection port is sealed. This completes the manufacture of display panels 1a and 1b.

以上説明したように第1の実施形態によれば、表示パネル1aと表示パネル1bとの境界部に設定されるカットラインCLに対して対称な位置関係となるようにトランスファ50aとダミートランスファ50bとが形成される。これにより、カットラインCLに対して対称な位置における表示パネル1aと表示パネル1bとの縦構造が一致する。このため、カットラインCLにおいて表示パネル1aと表示パネル1bとが分断される際の、基板の斜め割れ、ガラス欠け、微小なガラス片の飛散発生等が抑制される。 As described above, according to the first embodiment, the transfer 50a and the dummy transfer 50b are formed so as to be symmetrical with respect to the cut line CL set at the boundary between the display panels 1a and 1b. This causes the vertical structures of the display panels 1a and 1b to match at positions symmetrical with respect to the cut line CL. This prevents the substrate from cracking diagonally, the glass from chipping, tiny pieces of glass from scattering, and the like when the display panels 1a and 1b are separated at the cut line CL.

以下、第1の実施形態の効果についてさらに説明する。図5Aは、表示パネル1bにダミートランスファが形成されていない状態でのシール分断について示す図である。 The effects of the first embodiment are further described below. Figure 5A is a diagram showing seal rupture when no dummy transfer is formed on the display panel 1b.

表示パネル1bにダミートランスファ50bが形成されていないとき、カットラインCLに対して対称な位置における表示パネル1aと表示パネル1bとの縦構造は、トランスファ50aの有無の違いのために一致しない。 When the dummy transfer 50b is not formed on the display panel 1b, the vertical structures of the display panels 1a and 1b at positions symmetrical to the cut line CL do not match due to the difference in the presence or absence of the transfer 50a.

ここで、ダイヤモンドカッター及びガラスカッター等を用いたスクライバによるシール分断では、カットラインCLに沿ってスクライブ刃200が押し当てられながらマザー基板がシールごと分断される。このとき、スクライブ刃200の押し当てによって第2のマザー基板と第1のマザー基板とには、重力方向の押し当て力が働く。ここで、図5Aの例では、カットラインCLに対して対称な位置における表示パネル1aと表示パネル1bとの縦構造は一致していない。このため、スクライブ刃200からの押し当て力の加わり方がカットラインCLを境にして異なることになる。つまり、表示パネル1aの側の第2のマザー基板である第2の基板20aは、トランスファ50aによって支持されているためにスクライブ刃200からの押し当て力がトランスファ50aによって受けられる。これに対し、表示パネル1bの側の第2のマザー基板である第2の基板20bは支持されていないため、第2の基板20bだけがスクライブ刃200からの押し当て力によって重力方向に変形し得る。このような変形が生じた場合、スクライブ刃200がカットラインCLに沿って垂直に降りてきたとしても、スクライブ刃200は、第2の基板20bに対して斜めに侵入する。したがって、第2の基板20bは、破線Cで示すようにして斜めに切断される。このようにしてシール分断の際の基板の斜め割れ、ガラス欠け、微小なガラス片の飛散発生等が発生する。 Here, in the seal cutting by a scriber using a diamond cutter, a glass cutter, or the like, the mother substrate is cut together with the seal while the scribe blade 200 is pressed along the cut line CL. At this time, a pressing force in the direction of gravity acts on the second mother substrate and the first mother substrate by pressing the scribe blade 200. Here, in the example of FIG. 5A, the vertical structures of the display panel 1a and the display panel 1b at positions symmetrical to the cut line CL do not match. Therefore, the way in which the pressing force from the scribe blade 200 is applied differs on either side of the cut line CL. In other words, the second substrate 20a, which is the second mother substrate on the display panel 1a side, is supported by the transfer 50a, so the pressing force from the scribe blade 200 is received by the transfer 50a. In contrast, the second substrate 20b, which is the second mother substrate on the display panel 1b side, is not supported, so only the second substrate 20b can be deformed in the direction of gravity by the pressing force from the scribe blade 200. If such deformation occurs, even if the scribe blade 200 descends vertically along the cut line CL, the scribe blade 200 will enter the second substrate 20b at an angle. Therefore, the second substrate 20b is cut at an angle as shown by the dashed line C. In this way, the substrate may crack diagonally when the seal is severed, the glass may chip, and tiny pieces of glass may fly off.

図5Bは、表示パネル1bにダミートランスファが形成されている状態でのシール分断について示す図である。 Figure 5B shows the seal breaking when a dummy transfer is formed on the display panel 1b.

表示パネル1bにダミートランスファ50bが形成されているとき、カットラインCLに対して対称な位置における表示パネル1aと表示パネル1bとの縦構造は一致する。このため、スクライブ刃200からの押し当て力の加わり方がカットラインCLを境にして異なることはない。したがって、スクライブ刃200がカットラインCLに沿って垂直に降りてくれば、スクライブ刃200は、破線Cで示すようにして第2の基板20a及び第2の基板20bの何れに対しても垂直に侵入する。このようにしてシール分断の際の、基板の斜め割れ、ガラス欠け、微小なガラス片の飛散発生等が抑制される。 When the dummy transfer 50b is formed on the display panel 1b, the vertical structures of the display panels 1a and 1b match at positions symmetrical to the cut line CL. Therefore, the way in which the pressing force from the scribe blade 200 is applied does not differ across the cut line CL. Therefore, when the scribe blade 200 descends vertically along the cut line CL, the scribe blade 200 penetrates vertically into both the second substrate 20a and the second substrate 20b as shown by the dashed line C. In this way, diagonal cracking of the substrate, glass chipping, scattering of tiny glass fragments, etc., when the seal is cut are suppressed.

ここで、第1の実施形態では、表示パネル基板100には、2つの表示パネル1a、1bのみが形成されているように示されている。しかしながら、表示パネル基板100には、互いに隣接する3つ以上の表示パネルが同時に形成されてもよい。例えば、3つ以上の表示パネルが行方向に互いに隣接して形成されてもよい。この場合においても、互いに隣接する表示パネルのシールは、カットラインにおいて共通化されるように形成されてよい。表示パネル基板100には、さらに、列方向に隣接するように表示パネルが形成されてもよい。列方向に互いに隣接する表示パネルのシールは、カットラインにおいて共通化されていてもよいし、共通化されていなくてもよい。 Here, in the first embodiment, only two display panels 1a, 1b are shown formed on the display panel substrate 100. However, three or more display panels adjacent to each other may be formed simultaneously on the display panel substrate 100. For example, three or more display panels may be formed adjacent to each other in the row direction. Even in this case, the stickers of the adjacent display panels may be formed so as to be common at the cut line. Display panels may further be formed on the display panel substrate 100 so as to be adjacent in the column direction. The stickers of the display panels adjacent to each other in the column direction may or may not be common at the cut line.

[変形例]
第1の実施形態の変形例を説明する。第1の実施形態では、カットラインCLに対してトランスファ50aと対称な位置に構造物としてのダミートランスファ50bが形成される。これに対し、トランスファ50aと対称な位置に形成される構造物は、必ずしもダミートランスファでなくてもよい。
[Modification]
A modified example of the first embodiment will be described. In the first embodiment, a dummy transfer 50b is formed as a structure at a position symmetrical to the transfer 50a with respect to the cut line CL. However, the structure formed at a position symmetrical to the transfer 50a does not necessarily have to be a dummy transfer.

図6は、第1の変形例の構造物を示す図である。図6の構造物は、シール構造物60bである。シール構造物60bは、ダミートランスファ50bと同様にカットラインCLに対してトランスファ50aと対称な位置に形成される。このシール構造物60bは、トランスファ50aと類似な縦構造を有し、シール40bを形成するためのシールパターンの形成時にシール40bと一体的に形成される。 Figure 6 is a diagram showing a structure of a first modified example. The structure in Figure 6 is a seal structure 60b. The seal structure 60b is formed in a position symmetrical to the transfer 50a with respect to the cut line CL, similar to the dummy transfer 50b. This seal structure 60b has a vertical structure similar to that of the transfer 50a, and is formed integrally with the seal 40b when forming the seal pattern for forming the seal 40b.

図6のようなシール構造物60bが形成されることでも、カットラインCLに対して対称な位置における表示パネル1aと表示パネル1bとの縦構造はほぼ一致する。このため、シール分断の際の基板の斜め割れ、ガラス欠け、微小なガラス片の飛散発生等が抑制される。 Even when the seal structure 60b shown in FIG. 6 is formed, the vertical structures of the display panels 1a and 1b at positions symmetrical to the cut line CL are almost identical. This prevents the substrate from cracking diagonally, the glass from chipping, and tiny pieces of glass from scattering when the seal is severed.

また、シール構造物60bは、シールパターンの形成時に同時に形成することができる。このため、シール構造物60bは、ダミートランスファ50bに比べて安価にかつ簡易に形成され得る。 In addition, the seal structure 60b can be formed at the same time as the seal pattern is formed. Therefore, the seal structure 60b can be formed more inexpensively and easily than the dummy transfer 50b.

図7は、第2の変形例の構造物を示す図である。図7の構造物は、スペーサ70bである。スペーサ70bは、ダミートランスファ50bと同様にカットラインCLに対してトランスファ50aと対称な位置に形成される。このスペーサ70bは、表示パネル1bのセルギャップを形成するためのスペーサであって、トランスファ50aと類似な縦構造を有する柱状スペーサである。スペーサ70bは、有機物で形成されてもよいし、無機物で形成されてもよい。 Figure 7 is a diagram showing a structure of a second modified example. The structure in Figure 7 is a spacer 70b. Like the dummy transfer 50b, the spacer 70b is formed at a position symmetrical to the transfer 50a with respect to the cut line CL. This spacer 70b is a spacer for forming a cell gap in the display panel 1b, and is a columnar spacer having a vertical structure similar to that of the transfer 50a. The spacer 70b may be formed of an organic material or an inorganic material.

図7のようなスペーサ70bが形成されることでも、カットラインCLに対して対称な位置における表示パネル1aと表示パネル1bとの縦構造はほぼ一致する。このため、シール分断の際の基板の斜め割れ、ガラス欠け、微小なガラス片の飛散発生等が抑制される。 Even with the formation of the spacer 70b as shown in FIG. 7, the vertical structures of the display panels 1a and 1b at positions symmetrical to the cut line CL are almost identical. This prevents the substrate from cracking diagonally, the glass from chipping, and tiny pieces of glass from scattering when the seal is severed.

また、スペーサ70bは、セルギャップを形成するためのスペーサの形成時に同時に形成することができる。このため、スペーサ70bは、ダミートランスファ50bに比べて安価にかつ簡易に形成され得る。 The spacer 70b can be formed at the same time as the spacer for forming the cell gap. Therefore, the spacer 70b can be formed more cheaply and easily than the dummy transfer 50b.

[第2の実施形態]
次に、第2の実施形態を説明する。ここで、第2の実施形態において第1の実施形態と同一の部分については説明を省略する。第1の実施形態では、カットラインCLに対してトランスファ50aと対称な位置に構造物が形成されることによって、カットラインCLに対して対称な位置における表示パネル1aと表示パネル1bとの縦構造が一致している。これに対し、第2の実施形態は、カットラインCLに対してトランスファ50aと対称な位置に構造物が形成されることなく、カットラインCLに対して対称な位置における表示パネル1aと表示パネル1bとの縦構造とが一致される例である。
Second Embodiment
Next, a second embodiment will be described. Here, the description of the same parts of the second embodiment as those of the first embodiment will be omitted. In the first embodiment, a structure is formed at a position symmetrical to the transfer 50a with respect to the cut line CL, so that the vertical structures of the display panels 1a and 1b at the positions symmetrical to the cut line CL match. In contrast, the second embodiment is an example in which the vertical structures of the display panels 1a and 1b at the positions symmetrical to the cut line CL match without a structure being formed at a position symmetrical to the transfer 50a with respect to the cut line CL.

図8は、第2の実施形態における、図2に示すカットラインCLの端付近の領域Rの拡大図である。図8では、表示パネル1aのトランスファ50aが、シール40aの内側に形成されている。トランスファ50aがシール40aの内側に形成されていることにより、カットラインCLに対して対称な位置における表示パネル1aと表示パネル1bとの縦構造は一致する。このため、カットラインCLにおいて表示パネル1aと表示パネル1bとが分断される際の、基板の斜め割れ、ガラス欠け、微小なガラス片の飛散発生等が抑制される。 Figure 8 is an enlarged view of region R near the end of cut line CL shown in Figure 2 in the second embodiment. In Figure 8, transfer 50a of display panel 1a is formed inside seal 40a. Because transfer 50a is formed inside seal 40a, the vertical structures of display panel 1a and display panel 1b match at positions symmetrical to cut line CL. This prevents diagonal cracking of the substrate, glass chipping, and scattering of tiny glass fragments when display panel 1a and display panel 1b are separated at cut line CL.

第2の実施形態に係る表示パネルの製造方法は、基本的には図4で示した流れに従っている。第2の実施形態と第1の実施形態とで異なる点は、ステップS4におけるトランスファの形成位置と、ステップS5のダミートランスファの形成が省略される点である。 The manufacturing method of the display panel according to the second embodiment basically follows the flow shown in FIG. 4. The second embodiment differs from the first embodiment in the position where the transfer is formed in step S4, and in that the formation of the dummy transfer in step S5 is omitted.

第2の実施形態では、表示パネル1aのシール40aと表示パネル1bのシール40bの共通化されている部分が可能な限りカットラインCLの端にあることがより好ましい。例えば、図8において、シールが共通化されている部分とカットラインCLの端部との距離をdとしたとき、dは、例えば0.7mm以内であることが望ましい。dが短いことにより、スクライブ刃200からの押し当て力の加わり方が表示パネル1aと表示パネル1bとで同じになりやすくなる。このため、表示パネル1aと表示パネル1bとが分断される際の、基板の斜め割れ、ガラス欠け、微小なガラス片の飛散発生等がより抑制される。 In the second embodiment, it is more preferable that the common portion of the seal 40a of the display panel 1a and the seal 40b of the display panel 1b be as close to the edge of the cut line CL as possible. For example, in FIG. 8, when the distance between the common portion of the seal and the edge of the cut line CL is d, it is preferable that d is, for example, within 0.7 mm. By making d short, the pressing force from the scribe blade 200 is more likely to be applied to the display panels 1a and 1b in the same way. This further reduces the occurrence of diagonal cracks in the substrate, glass chipping, and scattering of tiny glass fragments when the display panels 1a and 1b are separated.

本発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で種々に変形することが可能である。また、各実施形態は適宜組み合わせて実施してもよく、その場合組み合わせた効果が得られる。更に、上記実施形態には種々の発明が含まれており、開示される複数の構成要件から選択された組み合わせにより種々の発明が抽出され得る。例えば、実施形態に示される全構成要件からいくつかの構成要件が削除されても、課題が解決でき、効果が得られる場合には、この構成要件が削除された構成が発明として抽出され得る。 The present invention is not limited to the above-described embodiments, and can be modified in various ways in the implementation stage without departing from the gist of the invention. The embodiments may also be implemented in appropriate combination, in which case the combined effects can be obtained. Furthermore, the above-described embodiments include various inventions, and various inventions can be extracted by combinations selected from the multiple constituent elements disclosed. For example, if the problem can be solved and an effect can be obtained even if some constituent elements are deleted from all the constituent elements shown in the embodiments, the configuration from which these constituent elements are deleted can be extracted as an invention.

1,1a,1b…表示パネル、10…第1の基板、11…走査線、12…信号線、13…画素、20,20a,20b…第2の基板、21…共通電極、30…液晶層、40,40a,40b…シール、50a…トランスファ、50b…ダミートランスファ、60b…シール構造物、70b…スペーサ、100…表示パネル基板、200…スクライブ刃。 1, 1a, 1b...display panel, 10...first substrate, 11...scanning line, 12...signal line, 13...pixel, 20, 20a, 20b...second substrate, 21...common electrode, 30...liquid crystal layer, 40, 40a, 40b...seal, 50a...transfer, 50b...dummy transfer, 60b...seal structure, 70b...spacer, 100...display panel substrate, 200...scriber blade.

Claims (7)

第1の基板と、
前記第1の基板に対して対向して配置される第2の基板と、
前記第1の基板と前記第2の基板とで第1の表示パネルを形成するように前記第1の基板と前記第2の基板との間に形成される第1のシールと、
前記第1の基板と前記第2の基板とで第2の表示パネルを形成するように前記第1の基板と前記第2の基板との間に形成される第2のシールと、
前記第1の表示パネルを形成する前記第1の基板と前記第2の基板とを導電接続するトランスファと、
を具備し、
前記第1のシールと前記第2のシールとは、前記第1の表示パネルと前記第2の表示パネルとのカットラインにおいて共通化されており、
前記トランスファは、第1の基板における前記第1のシールの外側であって、前記カットラインよりも前記第1の表示パネルの側の位置に形成され、
前記カットラインに対して前記トランスファと対称な位置には前記第1の基板と前記第2の基板とを導電接続しない構造物が形成されている、
表示パネル基板。
A first substrate;
a second substrate disposed opposite to the first substrate;
a first seal formed between the first substrate and the second substrate such that the first substrate and the second substrate form a first display panel;
a second seal formed between the first substrate and the second substrate such that the first substrate and the second substrate form a second display panel;
a transfer conductively connecting the first substrate and the second substrate forming the first display panel;
Equipped with
the first seal and the second seal are made common to a cut line between the first display panel and the second display panel,
the transfer is formed at a position outside the first seal on the first substrate and on a side of the first display panel relative to the cut line;
a structure that does not electrically connect the first substrate and the second substrate is formed at a position symmetrical to the transfer with respect to the cut line;
Display panel board.
前記構造物は、前記第1の基板と前記第2の基板とを導電接続しないダミーのトランスファである、請求項1に記載の表示パネル基板。 2. The display panel substrate according to claim 1 , wherein the structure is a dummy transfer that does not electrically connect the first substrate and the second substrate. 前記構造物は、前記第2のシールによって形成された構造物である、請求項1に記載の表示パネル基板。 The display panel substrate according to claim 1 , wherein the structure is a structure formed by the second seal. 前記構造物は、柱状スペーサである、請求項1に記載の表示パネル基板。 The display panel substrate according to claim 1 , wherein the structure is a columnar spacer. 第1の基板と、
前記第1の基板に対して対向して配置される第2の基板と、
前記第1の基板と前記第2の基板とで第1の表示パネルを形成するように前記第1の基板と前記第2の基板との間に形成される第1のシールと、
前記第1の基板と前記第2の基板とで第2の表示パネルを形成するように前記第1の基板と前記第2の基板との間に形成される第2のシールと、
前記第1の表示パネルを形成する前記第1の基板と前記第2の基板とを導電接続するトランスファと、
を具備し、
前記トランスファは、前記第1の基板における前記第1のシールよりも内側の位置に形成され、
前記第1のシールと前記第2のシールとは、前記第1の表示パネルと前記第2の表示パネルとのカットラインにおいて共通化され、かつ、前記カットラインに対して対称に形成されている、
表示パネル基板。
A first substrate;
a second substrate disposed opposite to the first substrate;
a first seal formed between the first substrate and the second substrate such that the first substrate and the second substrate form a first display panel;
a second seal formed between the first substrate and the second substrate such that the first substrate and the second substrate form a second display panel;
a transfer conductively connecting the first substrate and the second substrate forming the first display panel;
Equipped with
the transfer is formed at a position on the first substrate that is inward of the first seal;
the first seal and the second seal are formed in common at a cut line between the first display panel and the second display panel, and are formed symmetrically with respect to the cut line;
Display panel board.
第1の基板を形成することと、
第2の基板を形成することと、
第1の表示パネルと第2の表示パネルとをそれぞれ形成するためのシールであって、前記第1の表示パネルと前記第2の表示パネルのカットラインにおいて共通化されている第1のシールと第2のシールとを含むシールパターンを前記第1の基板に形成することと、
前記第1の基板における、前記第1のシールの外側であって、前記カットラインよりも前記第1の表示パネルの側の位置に、前記第1の表示パネルを形成する前記第1の基板と前記第2の基板とを導電接続するトランスファを形成することと、
前記カットラインに対して前記トランスファと対称な位置に前記第1の基板と前記第2の基板とを導電接続しない構造物を形成することと、
前記第1の基板と前記第2の基板とを貼り合わせることによって前記第1の表示パネルと前記第2の表示パネルを形成することと、
前記カットラインにおいて前記第1の表示パネルと前記第2の表示パネルとを分断することと、
を具備する表示パネルの製造方法。
Providing a first substrate;
Providing a second substrate;
forming a seal pattern on the first substrate, the seal pattern including a first seal and a second seal for forming a first display panel and a second display panel, the first seal and the second seal being common to each other at a cut line of the first display panel and the second display panel;
forming a transfer conductively connecting the first substrate and the second substrate that form the first display panel at a position on the first substrate that is outside the first seal and is closer to the first display panel than the cut line;
forming a structure that does not electrically connect the first substrate and the second substrate at a position symmetrical to the transfer with respect to the cut line;
forming the first display panel and the second display panel by bonding the first substrate and the second substrate together;
dividing the first display panel and the second display panel at the cut line;
A method for manufacturing a display panel comprising the steps of:
第1の基板を形成することと、
第2の基板を形成することと、
第1の表示パネルと第2の表示パネルとをそれぞれ形成するためのシールであって、前記第1の表示パネルと前記第2の表示パネルのカットラインにおいて共通化され、かつ、前記カットラインに対して対称な第1のシールと第2のシールとを含むシールパターンを前記第1の基板に形成することと、
前記第1の基板における、前記第1のシールの内側の位置に、前記第1の表示パネルを形成する前記第1の基板と前記第2の基板とを導電接続するトランスファを形成することと、
前記第1の基板と前記第2の基板とを貼り合わせることによって前記第1の表示パネルと前記第2の表示パネルを形成することと、
前記カットラインにおいて前記第1の表示パネルと前記第2の表示パネルとを分断することと、
を具備する表示パネルの製造方法。
Providing a first substrate;
Providing a second substrate;
forming a seal pattern on the first substrate, the seal pattern being for forming a first display panel and a second display panel, the seal pattern including a first seal and a second seal that are common to a cut line of the first display panel and the second display panel and are symmetrical with respect to the cut line;
forming a transfer conductively connecting the first substrate and the second substrate, the first substrate forming the first display panel, at a position inside the first seal on the first substrate;
forming the first display panel and the second display panel by bonding the first substrate and the second substrate together;
dividing the first display panel and the second display panel at the cut line;
A method for manufacturing a display panel comprising the steps of:
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