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JP7528972B2 - Manufacturing method and device for manufacturing electronic components - Google Patents
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Description

本発明は、本体部に外部電極が設けられた電子部品の製造方法および製造装置に関する。 The present invention relates to a manufacturing method and manufacturing apparatus for electronic components having external electrodes on the main body.

本体部の表面に外部電極が設けられた積層セラミックコンデンサ等の電子部品が知られている。そのような電子部品を製造するため、特許文献1には、本体部の所定の面に導電性ペーストを塗布し、導電性ペーストが塗布された面(以下、塗布面と呼ぶ)をホットプレートの表面に押さえつけて平坦化する工程を経て、外部電極を形成する方法が開示されている。この外部電極の形成方法によれば、外部電極の表面を平坦化して薄く形成することができるとされている。 Electronic components such as multilayer ceramic capacitors are known in which external electrodes are provided on the surface of the main body. In order to manufacture such electronic components, Patent Document 1 discloses a method for forming external electrodes by applying a conductive paste to a predetermined surface of the main body and pressing the surface to which the conductive paste has been applied (hereinafter referred to as the "applied surface") against the surface of a hot plate to flatten it. This method for forming external electrodes is said to enable the surface of the external electrodes to be flattened and formed thin.

特開2011-166030号公報JP 2011-166030 A

しかしながら、特許文献1に記載の外部電極の形成方法では、導電性ペーストの塗布面をホットプレートの表面に押さえつけたときに、導電性ペーストの一部がホットプレートの表面に付着するとともに、塗布面の外側に導電性ペーストが広がって固まることによって、所望の形状の外部電極が得られない場合がある。 However, in the method of forming external electrodes described in Patent Document 1, when the coated surface of the conductive paste is pressed against the surface of the hot plate, some of the conductive paste adheres to the surface of the hot plate and the conductive paste spreads and hardens outside the coated surface, which may result in an external electrode not being formed in the desired shape.

本発明は、上記課題を解決するものであり、表面が平坦で、所望の形状の外部電極を形成することができる電子部品の製造方法および製造装置を提供することを目的とする。 The present invention aims to solve the above problems and provide a manufacturing method and manufacturing apparatus for electronic components that can form external electrodes with flat surfaces and desired shapes.

本発明の電子部品の製造方法は、本体部に外部電極が設けられた電子部品の製造方法であって、
外部電極形成領域に導電性ペーストを塗工する工程と、
前記外部電極形成領域に塗工された前記導電性ペーストを、前記導電性ペーストに含まれる溶媒に対して撥液性を有する液体、および、前記液体が固化した固体の少なくとも一方を含む撥液層に接触させる工程と、
前記導電性ペーストを前記撥液層に接触させた状態で停止させる工程と、
前記本体部を前記撥液層から引き離す工程と、
を備えることを特徴とする。
The method for manufacturing an electronic component of the present invention is a method for manufacturing an electronic component having an external electrode provided on a main body portion, comprising the steps of:
applying a conductive paste to an external electrode formation region;
bringing the conductive paste applied to the external electrode formation region into contact with a liquid-repellent layer including at least one of a liquid that is liquid-repellent to a solvent contained in the conductive paste and a solid formed by solidifying the liquid;
stopping the conductive paste in a state of contact with the liquid repellent layer;
a step of separating the main body portion from the liquid repellent layer;
The present invention is characterized by comprising:

本発明の電子部品の製造装置は、本体部に外部電極が設けられた電子部品の製造装置であって、
外部電極形成領域に導電性ペーストが塗工された前記本体部を保持するための保持具と、
その上に、前記導電性ペーストに含まれる溶媒に対して撥液性を有する液体、および、前記液体が固化した固体の少なくとも一方を含む撥液層を形成するための定盤と、
前記外部電極形成領域に塗工された前記導電性ペーストを前記定盤上に形成される前記撥液層と接触させるため、前記本体部を保持した前記保持具を移動させることが可能な移動機構と、
を備えることを特徴とする。
The electronic component manufacturing apparatus of the present invention is an electronic component manufacturing apparatus having an external electrode provided on a main body portion,
a holder for holding the main body having an external electrode forming region coated with a conductive paste;
a surface plate for forming a liquid-repellent layer thereon, the liquid-repellent layer including at least one of a liquid having liquid-repellency to a solvent contained in the conductive paste and a solid formed by solidifying the liquid;
a moving mechanism capable of moving the holder holding the main body portion so that the conductive paste applied to the external electrode formation region comes into contact with the liquid repellent layer formed on the base plate; and
The present invention is characterized by comprising:

本発明の電子部品の製造方法によれば、外部電極形成領域に塗工された導電性ペーストを、導電性ペーストに含まれる溶媒に対して撥液性を有する液体、および、液体が固化した固体の少なくとも一方を含む撥液層に接触させて停止させた後、本体部を撥液層から引き離すので、表面が平坦で、所望の形状の外部電極を形成することができる。すなわち、導電性ペーストを撥液層に接触させて停止させることによって、表面を平坦化させることができ、本体部を撥液層から引き離すときに、導電性ペーストの糸引きの発生を抑制することができるので、平坦化された状態を維持することができる。 According to the method for manufacturing electronic components of the present invention, the conductive paste applied to the external electrode formation region is brought into contact with a liquid-repellent layer containing at least one of a liquid that is liquid-repellent to the solvent contained in the conductive paste and a solidified liquid, and then the main body is separated from the liquid-repellent layer, so that an external electrode with a flat surface and a desired shape can be formed. In other words, by bringing the conductive paste into contact with the liquid-repellent layer and stopping it, the surface can be flattened, and when the main body is separated from the liquid-repellent layer, the occurrence of stringiness of the conductive paste can be suppressed, so that the flattened state can be maintained.

本発明の電子部品の製造装置によれば、表面が平坦で、所望の形状の外部電極を形成することができる。すなわち、外部電極形成領域に導電性ペーストが塗工された本体部を保持具によって保持し、導電性ペーストを、定盤上に形成される撥液層と接触させることによって、導電性ペーストの表面を平坦化させることができる。また、移動機構によって、本体部を撥液層から引き離すように保持具を移動させたときに、導電性ペーストの糸引きの発生を抑制することができるので、導電性ペーストが平坦化された状態を維持することができる。 The electronic component manufacturing device of the present invention can form external electrodes with a flat surface and a desired shape. That is, the body part with the conductive paste applied to the external electrode formation area is held by a holder, and the conductive paste is brought into contact with a liquid-repellent layer formed on a base plate, thereby flattening the surface of the conductive paste. In addition, when the holder is moved by the moving mechanism so as to pull the body part away from the liquid-repellent layer, the occurrence of stringing of the conductive paste can be suppressed, and the flattened state of the conductive paste can be maintained.

電子部品の一例である積層セラミックコンデンサの構成を模式的に示す斜視図である。1 is a perspective view illustrating a schematic configuration of a multilayer ceramic capacitor, which is an example of an electronic component. 図1に示す積層セラミックコンデンサをII-II線に沿って切断したときの構成を模式的に示す断面図である。2 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of the multilayer ceramic capacitor shown in FIG. 1 cut along line II-II. 図1に示す積層セラミックコンデンサをIII-III線に沿って切断したときの構成を模式的に示す断面図である。3 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of the multilayer ceramic capacitor shown in FIG. 1 taken along line III-III. 第1の実施形態における電子部品の製造方法を説明するためのフローチャートである。4 is a flowchart for explaining a method for manufacturing an electronic component according to the first embodiment. 第1の実施形態における電子部品の製造装置の構成を模式的に示す図である。1 is a diagram illustrating a schematic configuration of an electronic component manufacturing apparatus according to a first embodiment; 外部電極形成領域に導電性ペーストを塗工して外部電極を形成する方法を説明するための図であって、(a)は、保持具で本体部を保持し、定盤上に撥液層を形成した状態を示す図、(b)は、外部電極形成領域に塗工された導電性ペーストを撥液層に接触させた状態を示す図、(c)は、本体部を撥液層から引き離した状態を示す図である。FIG. 11 is a diagram for explaining a method of forming an external electrode by applying a conductive paste to the external electrode formation region, in which (a) shows a state in which the main body is held by a holder and a liquid-repellent layer is formed on a base plate, (b) shows a state in which the conductive paste applied to the external electrode formation region is in contact with the liquid-repellent layer, and (c) shows a state in which the main body has been pulled away from the liquid-repellent layer. (a)は、第1の実施形態における製造方法によって製造された積層セラミックコンデンサの外部電極の形状を模式的に示す断面図であり、(b)は、本体部を導電性ペーストに浸漬して引き上げた後、乾燥させる工程を経て製造された従来の積層セラミックコンデンサの外部電極の形状を模式的に示す断面図である。FIG. 1A is a cross-sectional view showing a schematic shape of an external electrode of a multilayer ceramic capacitor manufactured by the manufacturing method of the first embodiment, and FIG. 1B is a cross-sectional view showing a schematic shape of an external electrode of a conventional multilayer ceramic capacitor manufactured through a process of immersing a body portion in a conductive paste, pulling it up, and then drying it. 第2の実施形態における電子部品の製造方法を説明するためのフローチャートである。10 is a flowchart for explaining a method for manufacturing an electronic component according to a second embodiment. 第2の実施形態における電子部品の製造装置の構成を模式的に示す図である。FIG. 13 is a diagram illustrating a schematic configuration of an electronic component manufacturing apparatus according to a second embodiment. 外部電極形成領域に塗工された導電性ペーストを、撥液層に含まれる固体層に接触させた状態を示す図である。13 is a diagram showing a state in which the conductive paste applied to the external electrode formation region is brought into contact with a solid layer included in the liquid-repellent layer. FIG. 外部電極形成領域に塗工された導電性ペーストを、固体層である撥液層に接触させた状態を示す図である。13 is a diagram showing a state in which the conductive paste applied to the external electrode formation region is brought into contact with a liquid-repellent layer, which is a solid layer. FIG.

以下に本発明の実施形態を示して、本発明の特徴を具体的に説明する。 The following describes an embodiment of the present invention and explains its features in detail.

初めに、本発明の電子部品の製造方法によって製造される電子部品の一例として、積層セラミック電子部品である積層セラミックコンデンサの構造について説明した後、電子部品の製造方法および電子部品の製造装置について説明する。積層セラミック電子部品とは、積層された複数の内部電極を本体部が有する電子部品である。ただし、本発明の電子部品の製造方法によって製造される電子部品が積層セラミックコンデンサに限定されることはなく、サーミスタ、インダクタ等、本体部に外部電極が設けられた電子部品であれば、その種類に特に制約はない。 First, the structure of a multilayer ceramic capacitor, which is a multilayer ceramic electronic component, will be described as an example of an electronic component manufactured by the electronic component manufacturing method of the present invention, and then a manufacturing method and an apparatus for manufacturing electronic components will be described. A multilayer ceramic electronic component is an electronic component whose main body has multiple stacked internal electrodes. However, electronic components manufactured by the electronic component manufacturing method of the present invention are not limited to multilayer ceramic capacitors, and there are no particular restrictions on the type of electronic component, such as thermistors and inductors, as long as the main body has external electrodes.

(電子部品)
図1は、電子部品の一例である積層セラミックコンデンサ10の構成を模式的に示す斜視図である。図2は、図1に示す積層セラミックコンデンサ10をII-II線に沿って切断したときの構成を模式的に示す断面図である。図3は、図1に示す積層セラミックコンデンサ10をIII-III線に沿って切断したときの構成を模式的に示す断面図である。
(Electronic Components)
Fig. 1 is a perspective view showing a schematic configuration of a multilayer ceramic capacitor 10, which is an example of an electronic component. Fig. 2 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of the multilayer ceramic capacitor 10 shown in Fig. 1 when cut along line II-II. Fig. 3 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of the multilayer ceramic capacitor 10 shown in Fig. 1 when cut along line III-III.

積層セラミックコンデンサ10は、全体として直方体状の形状を有しており、本体部11と、本体部11の表面に設けられた外部電極とを備える。外部電極には、第1の外部電極14aと第2の外部電極14bが含まれる。 The multilayer ceramic capacitor 10 has an overall rectangular parallelepiped shape and includes a body 11 and external electrodes provided on the surface of the body 11. The external electrodes include a first external electrode 14a and a second external electrode 14b.

ここでは、後述する誘電体層12と内部電極13a、13bとが積層されている方向を積層セラミックコンデンサ10の積層方向Tと定義し、一対の外部電極14a、14bが対向する方向を長さ方向Lと定義し、長さ方向Lおよび積層方向Tのいずれの方向にも直交する方向を幅方向Wと定義する。長さ方向L、積層方向T、および、幅方向Wのうちの任意の2つの方向は、互いに直交する方向である。なお、積層方向Tを厚さ方向と呼ぶこともある。 Here, the direction in which the dielectric layers 12 and the internal electrodes 13a, 13b described below are stacked is defined as the stacking direction T of the multilayer ceramic capacitor 10, the direction in which the pair of external electrodes 14a, 14b face each other is defined as the length direction L, and the direction perpendicular to both the length direction L and the stacking direction T is defined as the width direction W. Any two directions among the length direction L, stacking direction T, and width direction W are mutually perpendicular. The stacking direction T is sometimes referred to as the thickness direction.

積層セラミックコンデンサ10のサイズは、例えば、長さ方向L、幅方向W、積層方向Tの寸法がそれぞれ、3.2mm、1.6mm、1.6mmである。ただし、積層セラミックコンデンサ10のサイズが上述した数値に限定されることはなく、例えば、0.25mm、0.125mm、0.125mmのように小さいサイズでもよいし、5.7mm、5.0mm、5.0mmのように大きいサイズでもよい。 The size of the multilayer ceramic capacitor 10 is, for example, 3.2 mm, 1.6 mm, and 1.6 mm in the length direction L, width direction W, and stacking direction T, respectively. However, the size of the multilayer ceramic capacitor 10 is not limited to the above-mentioned numerical values, and may be, for example, small sizes such as 0.25 mm, 0.125 mm, and 0.125 mm, or large sizes such as 5.7 mm, 5.0 mm, and 5.0 mm.

本体部11は、長さ方向Lに相対する第1の端面15aおよび第2の端面15bと、積層方向Tに相対する第1の主面16aおよび第2の主面16bと、幅方向Wに相対する第1の側面17aおよび第2の側面17bとを有する。 The main body 11 has a first end face 15a and a second end face 15b that face each other in the length direction L, a first main surface 16a and a second main surface 16b that face each other in the stacking direction T, and a first side surface 17a and a second side surface 17b that face each other in the width direction W.

図2および図3に示すように、本体部11は、積層された複数の誘電体層12と複数の内部電極13a、13bとを含む。内部電極13a、13bには、第1の内部電極13aと第2の内部電極13bとが含まれている。より詳細には、本体部11は、第1の内部電極13aと第2の内部電極13bとが積層方向Tにおいて、誘電体層12を介して交互に複数積層された構造を有する。 As shown in Figures 2 and 3, the main body 11 includes a plurality of laminated dielectric layers 12 and a plurality of internal electrodes 13a, 13b. The internal electrodes 13a, 13b include a first internal electrode 13a and a second internal electrode 13b. More specifically, the main body 11 has a structure in which the first internal electrodes 13a and the second internal electrodes 13b are alternately laminated in the lamination direction T with the dielectric layers 12 interposed therebetween.

第1の内部電極13aおよび第2の内部電極13bは、例えば、Ni、Ag、Pd、Au、Cu、Ti、または、Cr等の金属、または、上述した金属を主成分とする合金等を含有している。第1の内部電極13aおよび第2の内部電極13bは、共材として、誘電体層12に含まれる誘電体セラミックと同じセラミック材料を含むことが好ましい。 The first internal electrode 13a and the second internal electrode 13b contain, for example, a metal such as Ni, Ag, Pd, Au, Cu, Ti, or Cr, or an alloy mainly composed of the above-mentioned metal. It is preferable that the first internal electrode 13a and the second internal electrode 13b contain, as a common material, the same ceramic material as the dielectric ceramic contained in the dielectric layer 12.

第1の内部電極13aは、本体部11の第1の端面15aに引き出されている。また、第2の内部電極13bは、本体部11の第2の端面15bに引き出されている。 The first internal electrode 13a is extended to the first end surface 15a of the main body 11. The second internal electrode 13b is extended to the second end surface 15b of the main body 11.

本実施形態において、第1の外部電極14aは、本体部11の第1の端面15aの全体に設けられているとともに、第1の端面15aから、第1の主面16a、第2の主面16b、第1の側面17a、および、第2の側面17bに回り込むように設けられている。第1の外部電極14aは、第1の端面15aに露出した第1の内部電極13aと電気的に接続されている。 In this embodiment, the first external electrode 14a is provided over the entire first end face 15a of the main body 11, and is provided so as to extend from the first end face 15a to the first main face 16a, the second main face 16b, the first side face 17a, and the second side face 17b. The first external electrode 14a is electrically connected to the first internal electrode 13a exposed on the first end face 15a.

本実施形態において、第2の外部電極14bは、本体部11の第2の端面15bの全体に設けられているとともに、第2の端面15bから、第1の主面16a、第2の主面16b、第1の側面17a、および、第2の側面17bに回り込むように設けられている。第2の外部電極14bは、第2の端面15bに露出した第2の内部電極13bと電気的に接続されている。 In this embodiment, the second external electrode 14b is provided over the entire second end face 15b of the main body 11, and is provided so as to extend from the second end face 15b around the first main face 16a, the second main face 16b, the first side face 17a, and the second side face 17b. The second external electrode 14b is electrically connected to the second internal electrode 13b exposed on the second end face 15b.

第1の外部電極14aおよび第2の外部電極14bはそれぞれ、後述するように、外部電極形成領域に導電性ペーストを塗工する工程を経て形成される。例えば、本体部11の外部電極形成領域に導電性ペーストを塗工する工程を経て、第1の外部電極14aおよび第2の外部電極14bを形成する。ただし、第1の外部電極14aおよび第2の外部電極14bが複数層からなる場合、導電性ペーストを塗工する工程は、複数層のうちの任意の層を形成するために行うことが可能である。ここでは、導電性ペーストを塗工する領域を外部電極形成領域と呼ぶ。 The first external electrode 14a and the second external electrode 14b are each formed through a process of applying a conductive paste to the external electrode formation area, as described below. For example, the first external electrode 14a and the second external electrode 14b are formed through a process of applying a conductive paste to the external electrode formation area of the main body 11. However, if the first external electrode 14a and the second external electrode 14b are made up of multiple layers, the process of applying the conductive paste can be performed to form any of the multiple layers. Here, the area where the conductive paste is applied is referred to as the external electrode formation area.

本実施形態において、第1の外部電極14aおよび第2の外部電極14bはそれぞれ、下地電極層とめっき層とを備える。 In this embodiment, the first external electrode 14a and the second external electrode 14b each include a base electrode layer and a plating layer.

下地電極層は、例えば、Ni、Cu、Ag、Pd、Au、Ti、および、Cr等の金属、またはそれらの金属を含む合金等を含む。下地電極層は、誘電体層12に含まれる材料と同じまたは類似する材料からなる共材、または、ガラスを含有していてもよい。下地電極層が共材またはガラスを含有する場合、その含有割合は、外部電極全体の30体積%以上70体積%以下であることが好ましい。 The base electrode layer contains, for example, metals such as Ni, Cu, Ag, Pd, Au, Ti, and Cr, or alloys containing these metals. The base electrode layer may contain a common material made of a material that is the same as or similar to the material contained in the dielectric layer 12, or glass. When the base electrode layer contains a common material or glass, the content is preferably 30 volume % or more and 70 volume % or less of the entire external electrode.

下地電極層は、導電性ペーストを塗工して焼き付けることによって形成することが可能である。図1~図3に示す積層セラミックコンデンサ10では、第1の端面15aおよび第2の端面15bの全体と、第1の主面16a、第2の主面16b、第1の側面17a、および、第2の側面17bの一部の領域とが、外部電極形成領域を構成する。 The base electrode layer can be formed by applying and baking a conductive paste. In the multilayer ceramic capacitor 10 shown in Figures 1 to 3, the entire first end face 15a and the entire second end face 15b, as well as partial areas of the first main face 16a, the second main face 16b, the first side face 17a, and the second side face 17b, constitute the external electrode formation area.

めっき層は、例えば、Cu、Ni、Ag、Pd、Ti、Cr、または、Au等の金属、または、それらの金属を主成分とする合金を含む。めっき層は、1層であってもよいし、複数層であってもよい。ただし、めっき層は、Niめっき層とSnめっき層の2層構造とすることが好ましい。Niめっき層は、下地電極層が積層セラミックコンデンサ10を実装する際のはんだによって侵食されるのを防止する機能を果たす。また、Snめっき層は、積層セラミックコンデンサ10を実装する際のはんだの濡れ性を向上させる機能を果たす。 The plating layer contains, for example, a metal such as Cu, Ni, Ag, Pd, Ti, Cr, or Au, or an alloy mainly composed of such a metal. The plating layer may be a single layer or multiple layers. However, it is preferable that the plating layer has a two-layer structure of a Ni plating layer and a Sn plating layer. The Ni plating layer prevents the base electrode layer from being eroded by solder when mounting the multilayer ceramic capacitor 10. The Sn plating layer improves the wettability of the solder when mounting the multilayer ceramic capacitor 10.

(電子部品の製造方法)
<第1の実施形態>
図4は、第1の実施形態における電子部品の製造方法を説明するためのフローチャートである。ここでは、電子部品の本体部を用意しておき、外部電極形成領域に導電性ペーストを塗工して外部電極を形成する方法について説明する。本体部は、既知の方法によって作製することができる。
(Electronic component manufacturing method)
First Embodiment
4 is a flow chart for explaining a method for manufacturing an electronic component according to the first embodiment. Here, a method is explained in which a main body of an electronic component is prepared, and a conductive paste is applied to an external electrode formation region to form external electrodes. The main body can be produced by a known method.

ステップS1では、外部電極形成領域に導電性ペーストを塗工する。電子部品が図1~図3に示す積層セラミックコンデンサ10である場合、外部電極形成領域を構成する本体部11の第1の端面15aの全体と、第1の主面16a、第2の主面16b、第1の側面17a、および、第2の側面17bの一部の領域に導電性ペーストを塗工する。本体部11は、焼成後のものであるが、焼成前のものであってもよい。本体部11が焼成前のものである場合、後述する方法で外部電極形成領域に導電性ペーストを塗工して焼き付けるときに、未焼成の本体部11も同時に焼成すればよい。 In step S1, a conductive paste is applied to the external electrode formation region. When the electronic component is the multilayer ceramic capacitor 10 shown in Figures 1 to 3, the conductive paste is applied to the entire first end face 15a of the body portion 11 constituting the external electrode formation region, and to parts of the first main surface 16a, the second main surface 16b, the first side surface 17a, and the second side surface 17b. The body portion 11 is fired, but may be unfired. When the body portion 11 is unfired, the unfired body portion 11 may be fired at the same time that the conductive paste is applied to the external electrode formation region and fired as described below.

導電性ペーストは、例えば、Cu、Ni、Ag、Pd、Ti、Cr、または、Au等の金属、または、それらの金属を主成分とする合金の粒子と溶媒とを含む。溶媒は、例えば、ターピネオール等の非水溶性の有機溶媒である。なお、導電性ペーストは、外部電極を形成するために用いられている一般的なものを使用することが可能である。 The conductive paste contains particles of a metal such as Cu, Ni, Ag, Pd, Ti, Cr, or Au, or an alloy mainly composed of such a metal, and a solvent. The solvent is, for example, a water-insoluble organic solvent such as terpineol. Note that the conductive paste may be any commonly used paste for forming external electrodes.

導電性ペーストは、例えば、本体部11を導電性ペーストに浸漬することによって塗工する。ただし、導電性ペーストの塗工方法が浸漬に限定されることはなく、任意の方法で行うことが可能である。 The conductive paste is applied, for example, by immersing the main body 11 in the conductive paste. However, the method of applying the conductive paste is not limited to immersion, and any method can be used.

ステップS1に続くステップS2では、外部電極形成領域に塗工された導電性ペーストを、導電性ペーストに含まれる溶媒に対して撥液性を有する液体、および、そのような液体が固化した固体の少なくとも一方を含む撥液層に接触させる。本実施形態において、撥液層は、上述した液体からなる液体層である。液体は、例えば、水または水溶液である。導電性ペーストを撥液層に接触させる方法の一例を以下で説明する。 In step S2 following step S1, the conductive paste applied to the external electrode formation region is brought into contact with a liquid-repellent layer that contains at least one of a liquid that is liquid-repellent to the solvent contained in the conductive paste and a solid formed from such a liquid. In this embodiment, the liquid-repellent layer is a liquid layer made of the liquid described above. The liquid is, for example, water or an aqueous solution. An example of a method for bringing the conductive paste into contact with the liquid-repellent layer is described below.

図5は、本発明の第1の実施形態における電子部品の製造装置100の構成を模式的に示す図である。第1の実施形態における電子部品の製造装置100は、保持具20と、定盤30と、移動機構40とを備える。 Figure 5 is a diagram showing a schematic configuration of an electronic component manufacturing apparatus 100 according to a first embodiment of the present invention. The electronic component manufacturing apparatus 100 according to the first embodiment includes a holder 20, a platen 30, and a moving mechanism 40.

保持具20は、外部電極形成領域に導電性ペーストが塗工された本体部11を保持するためのものである。保持具20は、外部電極形成領域に塗工された導電性ペーストを露出させた状態で本体部11を保持する。例えば、上述した積層セラミックコンデンサ10において、本体部11の第1の端面15a側に導電性ペーストが塗工されている場合、保持具20は、図5に示すように、本体部11の第2の端面15bを保持する。保持具20による本体部11の保持は、任意の方法で行うことが可能である。複数の本体部11に対して一度に外部電極を形成するため、保持具20は、図5に示すように、複数の本体部11を保持することが好ましい。なお、図5では、本体部11のうち、導電性ペーストが塗工された外部電極形成領域を黒塗りで示している。 The holder 20 is for holding the main body 11 in which the conductive paste is applied to the external electrode formation region. The holder 20 holds the main body 11 in a state in which the conductive paste applied to the external electrode formation region is exposed. For example, in the above-mentioned laminated ceramic capacitor 10, when the conductive paste is applied to the first end face 15a side of the main body 11, the holder 20 holds the second end face 15b of the main body 11 as shown in FIG. 5. The holder 20 can hold the main body 11 in any manner. In order to form external electrodes for multiple main body parts 11 at once, it is preferable that the holder 20 holds multiple main body parts 11 as shown in FIG. 5. In FIG. 5, the external electrode formation region of the main body 11 in which the conductive paste is applied is shown in black.

定盤30は、その上に、導電性ペーストに含まれる溶媒に対して撥液性を有する液体、および、そのような液体が固化した固体の少なくとも一方を含む撥液層31を形成するためのものである。定盤30は、例えば、セラミック、御影石、金属等からなる。撥液層31と接する定盤30の定盤面30aは、水平な平面であることが好ましい。 The surface plate 30 is used to form a liquid-repellent layer 31 thereon, the liquid containing at least one of a liquid that is liquid-repellent to the solvent contained in the conductive paste and a solid formed from such a liquid. The surface plate 30 is made of, for example, ceramic, granite, metal, etc. The surface plate surface 30a of the surface plate 30 that contacts the liquid-repellent layer 31 is preferably a horizontal plane.

移動機構40は、外部電極形成領域に塗工された導電性ペーストを定盤30上に形成される撥液層31と接触させるため、本体部11を保持した保持具20を移動させることが可能に構成されている。例えば、移動機構40は、保持具20と接続された移動軸を備えており、移動軸を回転させることによって、保持具20を下降または上昇させることによって、保持具20を定盤30に近づけたり、遠ざけたりすることが可能である。ただし、移動機構40が保持具20を移動させる方法が上述した方法に限定されることはなく、任意の方法で移動させることが可能である。 The moving mechanism 40 is configured to be able to move the holder 20 holding the main body 11 so that the conductive paste applied to the external electrode formation region comes into contact with the liquid-repellent layer 31 formed on the base plate 30. For example, the moving mechanism 40 has a moving shaft connected to the holder 20, and can move the holder 20 closer to or farther away from the base plate 30 by lowering or raising the holder 20 by rotating the moving shaft. However, the method by which the moving mechanism 40 moves the holder 20 is not limited to the above-mentioned method, and it can be moved by any method.

電子部品の製造装置100によって、外部電極形成領域に塗工された導電性ペーストを撥液層31に接触させる方法を以下で説明する。 The method for bringing the conductive paste applied to the external electrode formation area into contact with the liquid-repellent layer 31 using the electronic component manufacturing device 100 is described below.

まず、図6(a)に示すように、定盤30上に撥液層31を形成するとともに、外部電極形成領域に導電性ペーストが塗工された本体部11を保持具20で保持する。 First, as shown in FIG. 6(a), a liquid-repellent layer 31 is formed on a base plate 30, and the main body 11, on which a conductive paste is applied in the external electrode formation area, is held by a holder 20.

続いて、移動機構40によって保持具20を移動させることによって、図6(b)に示すように、外部電極形成領域に塗工された導電性ペーストを撥液層31に接触させる。具体的には、移動機構40によって、本体部11を保持した保持具20を下降させることによって、外部電極形成領域に塗工された導電性ペーストを撥液層31に接触させる。ただし、保持具20が撥液層31の上方の位置にいない場合には、撥液層31の上方の位置まで移動させた後、下降させる。本体部11を撥液層31内に突入させるときの速度は、例えば、1μm/s以上1000μm/s以下である。外部電極形成領域に塗工された導電性ペーストを撥液層31に接触させても、導電性ペーストに含まれる溶媒は、撥液層31を構成する液体とは混ざらない。 Then, the moving mechanism 40 moves the holder 20, so that the conductive paste applied to the external electrode formation region comes into contact with the liquid-repellent layer 31, as shown in FIG. 6(b). Specifically, the moving mechanism 40 lowers the holder 20 holding the main body 11, so that the conductive paste applied to the external electrode formation region comes into contact with the liquid-repellent layer 31. However, if the holder 20 is not located above the liquid-repellent layer 31, it is moved to a position above the liquid-repellent layer 31 and then lowered. The speed at which the main body 11 enters the liquid-repellent layer 31 is, for example, 1 μm/s or more and 1000 μm/s or less. Even if the conductive paste applied to the external electrode formation region comes into contact with the liquid-repellent layer 31, the solvent contained in the conductive paste does not mix with the liquid that constitutes the liquid-repellent layer 31.

なお、外部電極形成領域に塗工された導電性ペーストは、定盤30の定盤面30aとは接触させない。導電性ペーストを定盤30の定盤面30aと接触させると、定盤面30aに導電性ペーストが付着し、形成する外部電極の平坦化が困難になるからである。 The conductive paste applied to the external electrode formation area is not allowed to come into contact with the surface 30a of the surface plate 30. If the conductive paste comes into contact with the surface 30a of the surface plate 30, the conductive paste will adhere to the surface 30a, making it difficult to flatten the external electrodes to be formed.

ステップS2に続くステップS3では、導電性ペーストを撥液層31に接触させた状態で停止させる。すなわち、図6(b)に示すように、外部電極形成領域に塗工された導電性ペーストが撥液層31に接触した状態を所定時間維持する。所定時間は、例えば、1秒以上5秒以下である。導電性ペーストを撥液層31に接触させた状態で停止させることにより、導電性ペーストには、撥液層31を構成する液体から均一の圧力が加わるため、表面を平坦化させることができる。ここでは、導電性ペーストが溶媒を含むウェットな状態で、導電性ペーストの表面の平坦化を行うことができる。 In step S3 following step S2, the conductive paste is stopped in contact with the liquid-repellent layer 31. That is, as shown in FIG. 6(b), the conductive paste applied to the external electrode formation area is maintained in contact with the liquid-repellent layer 31 for a predetermined time. The predetermined time is, for example, 1 second or more and 5 seconds or less. By stopping the conductive paste in contact with the liquid-repellent layer 31, a uniform pressure is applied to the conductive paste from the liquid that constitutes the liquid-repellent layer 31, so that the surface can be flattened. Here, the surface of the conductive paste can be flattened while the conductive paste is in a wet state containing a solvent.

ステップS3に続くステップS4では、図6(c)に示すように、本体部11を撥液層31から引き離す。具体的には、移動機構40によって保持具20を引き上げることによって、撥液層31の外側に本体部11を移動させる。本体部11を撥液層31の外側へと引き上げるときの速度は、例えば、1μm/s以上1000μm/s以下である。 In step S4 following step S3, as shown in FIG. 6(c), the main body 11 is pulled away from the liquid-repellent layer 31. Specifically, the main body 11 is moved to the outside of the liquid-repellent layer 31 by lifting the holder 20 with the moving mechanism 40. The speed at which the main body 11 is lifted to the outside of the liquid-repellent layer 31 is, for example, 1 μm/s or more and 1000 μm/s or less.

上述したように、撥液層31は、導電性ペーストに含まれる溶媒に対して撥液性を有する。したがって、本体部11を撥液層31の外側に引き上げる際、導電性ペーストの糸引きの発生を抑制することができ、導電性ペーストの表面を平坦化した状態を維持することができる。 As described above, the liquid-repellent layer 31 is liquid-repellent to the solvent contained in the conductive paste. Therefore, when the main body 11 is pulled up to the outside of the liquid-repellent layer 31, the occurrence of stringiness of the conductive paste can be suppressed, and the surface of the conductive paste can be kept flat.

上述したステップS1~S4の工程の処理は、本体部11の第1の端面15aと相対する第2の端面15bについても行う。ただし、撥液層31の粘度が高い等の場合には、第2の端面15bに対する処理を行う前に、スキージ等によって撥液層31の表面を平坦化させることが好ましい。 The above-mentioned steps S1 to S4 are also performed on the second end face 15b opposite the first end face 15a of the main body 11. However, if the viscosity of the liquid-repellent layer 31 is high, it is preferable to flatten the surface of the liquid-repellent layer 31 with a squeegee or the like before performing the process on the second end face 15b.

この後、導電性ペーストを乾燥させて焼き付けを行う。導電性ペーストの乾燥過程でも導電性ペーストの形状は維持される。導電性ペーストを焼き付けることによって、外部電極のうちの下地電極層が形成される。外部電極の表面にめっき層が設けられている場合には、下地電極層の形成後にめっき処理を施す。上述した工程により、外部電極形成領域に外部電極が設けられた電子部品が製造される。 After this, the conductive paste is dried and baked. The shape of the conductive paste is maintained even during the drying process. By baking the conductive paste, the base electrode layer of the external electrode is formed. If a plating layer is provided on the surface of the external electrode, a plating process is performed after the formation of the base electrode layer. Through the above-mentioned process, an electronic component is manufactured in which an external electrode is provided in the external electrode formation area.

なお、上述したように、外部電極が複数層からなる場合に、上述した導電性ペーストを塗工する工程を、複数層のうちの任意の層を形成するために行うことが可能である。 As mentioned above, when the external electrode is made up of multiple layers, the process of applying the conductive paste described above can be performed to form any of the multiple layers.

本実施形態における電子部品の製造方法によれば、外部電極形成領域に塗工された導電性ペーストを撥液層31に接触させて停止させた後、本体部11を撥液層31から引き離すので、表面が平坦で、所望の形状の外部電極を形成することができる。すなわち、導電性ペーストを撥液層31に接触させて停止させたときに、導電性ペーストには、撥液層31を構成する液体から均一の圧力が加わるため、表面を平坦化させることができる。また、本体部11を撥液層31から引き離すときに、導電性ペーストの糸引きの発生を抑制することができるので、糸引きに起因して外部電極形成領域を構成する端面の中央部の膜厚が厚く、かつ、角部の膜厚が薄くなることを抑制することができる。これにより、表面が平坦で薄い外部電極を形成することが可能となる。 According to the manufacturing method of electronic components in this embodiment, the conductive paste applied to the external electrode formation region is brought into contact with the liquid-repellent layer 31 and stopped, and then the main body 11 is pulled away from the liquid-repellent layer 31, so that an external electrode with a flat surface and a desired shape can be formed. That is, when the conductive paste is brought into contact with the liquid-repellent layer 31 and stopped, a uniform pressure is applied to the conductive paste from the liquid constituting the liquid-repellent layer 31, so that the surface can be flattened. In addition, when the main body 11 is pulled away from the liquid-repellent layer 31, the occurrence of stringing of the conductive paste can be suppressed, so that the thickness of the central part of the end face constituting the external electrode formation region becomes thick and the thickness of the corners can be suppressed from becoming thin due to stringing. This makes it possible to form an external electrode with a flat surface and a thin surface.

図7(a)は、本実施形態における製造方法によって製造された積層セラミックコンデンサ10の外部電極14の形状を模式的に示す断面図である。図7(b)は、本体部11Xを導電性ペーストに浸漬して引き上げた後、乾燥させる工程を経て製造された従来の積層セラミックコンデンサ10Xの外部電極14Xの形状を模式的に示す断面図である。なお、図7(a)、(b)では、内部電極は省略している。 Figure 7(a) is a cross-sectional view showing a schematic shape of the external electrode 14 of a multilayer ceramic capacitor 10 manufactured by the manufacturing method of this embodiment. Figure 7(b) is a cross-sectional view showing a schematic shape of an external electrode 14X of a conventional multilayer ceramic capacitor 10X manufactured by immersing a main body 11X in a conductive paste, lifting it up, and then drying it. Note that the internal electrodes are omitted in Figures 7(a) and (b).

図7(b)に示すように、従来の積層セラミックコンデンサ10Xは、本体部11Xを導電性ペーストに浸漬して引き上げる際に糸引きが生じるため、外部電極14Xの中央部の膜厚が厚くなり、角部や稜線部等の端部の膜厚が薄くなる。 As shown in FIG. 7(b), in the conventional multilayer ceramic capacitor 10X, stringiness occurs when the main body 11X is immersed in the conductive paste and then pulled up, resulting in a thicker film thickness at the center of the external electrode 14X and a thinner film thickness at the corners, ridges, and other end portions.

これに対して、本実施形態における電子部品の製造方法によって製造された積層セラミックコンデンサ10は、上述したように、外部電極形成領域に塗工された導電性ペーストの表面を平坦化して、その状態を維持することができるので、外部電極14の表面の平坦化、および、膜厚の均一化を実現することができる。また、中央部の膜厚の膨らみを抑制することができるので、角部や稜線部等の端部において一定の膜厚を確保しつつ、薄い外部電極14を形成することができる。 In contrast, as described above, the multilayer ceramic capacitor 10 manufactured by the electronic component manufacturing method of this embodiment can flatten the surface of the conductive paste applied to the external electrode formation area and maintain that state, thereby achieving a flat surface and a uniform film thickness for the external electrode 14. In addition, since the expansion of the film thickness in the center can be suppressed, a thin external electrode 14 can be formed while maintaining a constant film thickness at the ends such as corners and ridges.

また、撥液層31を構成する液体の温度を変えて、製造される電子部品の外部電極の形状を確認したところ、液体の温度が10℃以下である場合に、外部電極の膜厚がより平坦化されることが分かった。したがって、撥液層31を構成する液体の温度は、10℃以下であることが好ましい。 In addition, when the temperature of the liquid that constitutes the liquid-repellent layer 31 was changed and the shape of the external electrodes of the manufactured electronic components was checked, it was found that the film thickness of the external electrodes was more flat when the temperature of the liquid was 10°C or less. Therefore, it is preferable that the temperature of the liquid that constitutes the liquid-repellent layer 31 be 10°C or less.

<第2の実施形態>
図8は、第2の実施形態における電子部品の製造方法を説明するためのフローチャートである。図4に示すフローチャートの工程と同じ工程については、同じステップ番号を付して詳しい説明は省略する。図8に示すフローチャートでは、図4に示すフローチャートに対して、導電性ペーストを撥液層に接触させる工程(ステップS2)の前に、導電性ペーストに含まれる溶媒に対して撥液性を有する液体を凝固させることによって固体層を形成する工程(ステップS11)が追加されている。
Second Embodiment
Fig. 8 is a flowchart for explaining a method for manufacturing an electronic component according to the second embodiment. The same steps as those in the flowchart shown in Fig. 4 are given the same step numbers and detailed explanations are omitted. In the flowchart shown in Fig. 8, a step (step S11) of forming a solid layer by solidifying a liquid that is liquid repellent with respect to a solvent contained in the conductive paste is added to the flowchart shown in Fig. 4 before the step (step S2) of bringing the conductive paste into contact with the liquid repellent layer.

図9は、本発明の第2の実施形態における電子部品の製造装置100Aの構成を模式的に示す図である。第2の実施形態における電子部品の製造装置100Aは、第1の実施形態における電子部品の製造装置100に対して、定盤30上に配置される液体を冷却して凝固させるための冷却機構50をさらに備える。定盤30上に配置される液体とは、導電性ペーストに含まれる溶媒に対して撥液性を有する液体である。 Figure 9 is a diagram showing a schematic configuration of an electronic component manufacturing apparatus 100A in a second embodiment of the present invention. The electronic component manufacturing apparatus 100A in the second embodiment is further equipped with a cooling mechanism 50 for cooling and solidifying the liquid placed on the base plate 30 compared to the electronic component manufacturing apparatus 100 in the first embodiment. The liquid placed on the base plate 30 is a liquid that is liquid repellent with respect to the solvent contained in the conductive paste.

冷却機構50は、定盤30上に配置される液体の温度を凝固点以下の温度まで冷却できるものであればどのようなものでもよい。冷却機構50は、例えば、ペルチェ素子を備えるものでもよいし、チラー(冷却水循環装置)であってもよい。 The cooling mechanism 50 may be any mechanism capable of cooling the temperature of the liquid placed on the base plate 30 to a temperature below the freezing point. The cooling mechanism 50 may be, for example, a mechanism equipped with a Peltier element or a chiller (cooling water circulation device).

図9に示すように、本実施形態において、撥液層31は、導電性ペーストに含まれる溶媒に対して撥液性を有する液体からなる液体層31aと、液体層31aよりも深層側に位置し、液体層31aを構成する液体が固化した固体からなる固体層31bとを含む。液体は、例えば、水または水溶液である。 As shown in FIG. 9, in this embodiment, the liquid-repellent layer 31 includes a liquid layer 31a made of a liquid that is liquid-repellent to the solvent contained in the conductive paste, and a solid layer 31b located deeper than the liquid layer 31a and made of a solid that is a solidified version of the liquid that constitutes the liquid layer 31a. The liquid is, for example, water or an aqueous solution.

図8に示すフローチャートにおいて、ステップS1に続くステップS11では、定盤30上に配置される液体を凝固させることによって固体層を形成する。すなわち、第1の実施形態と同様に、定盤30上に、導電性ペーストに含まれる溶媒に対して撥液性を有する液体からなる液体層を形成した後、冷却機構50によって液体層を冷却することによって、液体層の一部を凝固させて固体層31bを形成する。これにより、定盤30側に固体層31bが形成され、固体層31bの上に液体層31aが形成される。 In the flow chart shown in FIG. 8, in step S11 following step S1, a solid layer is formed by solidifying the liquid placed on the base plate 30. That is, similar to the first embodiment, a liquid layer made of a liquid that is liquid repellent with respect to the solvent contained in the conductive paste is formed on the base plate 30, and then the liquid layer is cooled by the cooling mechanism 50, thereby solidifying a portion of the liquid layer to form a solid layer 31b. As a result, a solid layer 31b is formed on the base plate 30 side, and a liquid layer 31a is formed on the solid layer 31b.

なお、ステップS11の工程は、ステップS1の工程よりも前に行ってもよい。 Note that step S11 may be performed before step S1.

ステップS11に続くステップS2では、外部電極形成領域に塗工された導電性ペーストを撥液層31に接触させる。本実施形態では、図10に示すように、外部電極形成領域に塗工された導電性ペーストを、撥液層31に含まれる固体層31bに接触させる。導電性ペーストを固体層31bに接触させることにより、導電性ペーストの表面をより平坦にすることができる。 In step S2 following step S11, the conductive paste applied to the external electrode formation region is brought into contact with the liquid-repellent layer 31. In this embodiment, as shown in FIG. 10, the conductive paste applied to the external electrode formation region is brought into contact with the solid layer 31b included in the liquid-repellent layer 31. By bringing the conductive paste into contact with the solid layer 31b, the surface of the conductive paste can be made flatter.

なお、固体層31bのうち、導電性ペーストと接触した部分は、導電性ペーストからの熱が伝わって、液体となる場合がある。 The portion of solid layer 31b that comes into contact with the conductive paste may become liquid due to the heat transferred from the conductive paste.

ステップS3およびステップS4の工程は、図4に示すフローチャートのステップS3およびステップS4の工程と同じである。ステップS4で本体部11を撥液層31から引き離したときに、撥液層31の固体層31bに導電性ペーストは付着しないので、外部電極形成領域に塗工された導電性ペーストの表面の形状を維持することができる。また、本実施形態でも、本体部11を撥液層31から引き離すときに導電性ペーストの糸引きの発生を抑制することができるので、導電性ペーストの表面を平坦化した状態を維持することができる。 The steps S3 and S4 are the same as the steps S3 and S4 in the flowchart shown in FIG. 4. When the main body 11 is separated from the liquid-repellent layer 31 in step S4, the conductive paste does not adhere to the solid layer 31b of the liquid-repellent layer 31, so the shape of the surface of the conductive paste applied to the external electrode formation area can be maintained. Also, in this embodiment, the occurrence of stringing of the conductive paste can be suppressed when the main body 11 is separated from the liquid-repellent layer 31, so the surface of the conductive paste can be maintained in a flattened state.

なお、外部電極形成領域である第1の端面15aに塗工されている導電性ペーストを固体層31bに接触させた際、第1の端面15aに塗工されている導電性ペーストの一部が第1の端面15aの外側へとはみ出る場合がある。しかしながら、導電性ペーストは、溶媒を含むウェットな状態であるため、乾燥過程で第1の端面15a側に戻り、はみ出た状態で固まることはない。 When the conductive paste applied to the first end face 15a, which is the external electrode formation region, is brought into contact with the solid layer 31b, some of the conductive paste applied to the first end face 15a may overflow outside the first end face 15a. However, since the conductive paste is in a wet state containing a solvent, it returns to the first end face 15a side during the drying process and does not harden in the overflowing state.

<第3の実施形態>
第2の実施形態において、撥液層31は、導電性ペーストに含まれる溶媒に対して撥液性を有する液体からなる液体層31aと、液体層31aよりも深層側に位置し、液体層31aを構成する液体が固化した固体からなる固体層31bとを含む構成である。
Third Embodiment
In the second embodiment, the liquid-repellent layer 31 includes a liquid layer 31a made of a liquid that is liquid-repellent to the solvent contained in the conductive paste, and a solid layer 31b located deeper than the liquid layer 31a and made of a solid that is a solidified version of the liquid that constitutes the liquid layer 31a.

これに対して、第3の実施形態において、撥液層31は、導電性ペーストに含まれる溶媒に対して撥液性を有する液体が固化した固体からなる固体層である。 In contrast, in the third embodiment, the liquid-repellent layer 31 is a solid layer made of a solidified liquid that is liquid-repellent to the solvent contained in the conductive paste.

第3の実施形態における電子部品の製造装置の構成は、図9に示す電子部品の製造装置100Aの構成と同じである。ただし、冷却機構50は、定盤30上に形成される液体層の一部を凝固させるのではなく、全てを凝固させることによって固体層を形成する。 The configuration of the electronic component manufacturing apparatus in the third embodiment is the same as the configuration of the electronic component manufacturing apparatus 100A shown in FIG. 9. However, the cooling mechanism 50 forms a solid layer by solidifying the entire liquid layer formed on the base plate 30, rather than solidifying only a portion of it.

第3の実施形態における電子部品の製造方法は、図8に示すフローチャートを用いて説明した第2の実施形態における電子部品の製造方法と同じである。ただし、図8に示すフローチャートのステップS11では、上述したように、定盤30上に形成される液体層の一部を凝固させるのではなく、全てを凝固させることによって固体層を形成する。 The method for manufacturing electronic components in the third embodiment is the same as the method for manufacturing electronic components in the second embodiment described using the flowchart shown in FIG. 8. However, in step S11 of the flowchart shown in FIG. 8, as described above, a solid layer is formed by solidifying the entire liquid layer formed on the base plate 30, rather than solidifying only a portion of it.

また、ステップS2では、外部電極形成領域に塗工された導電性ペーストを撥液層31に接触させるが、本実施形態において撥液層31は固体層であるため、図11に示すように、導電性ペーストは、撥液層31の表面に接触させる。 In addition, in step S2, the conductive paste applied to the external electrode formation area is brought into contact with the liquid-repellent layer 31. In this embodiment, since the liquid-repellent layer 31 is a solid layer, the conductive paste is brought into contact with the surface of the liquid-repellent layer 31, as shown in FIG. 11.

本実施形態でも、第2の実施形態と同様、導電性ペーストを固体層である撥液層31に接触させるので、導電性ペーストの表面をより平坦にすることができる。また、本体部11を撥液層31から引き離すときに導電性ペーストの糸引きの発生を抑制することができるので、導電性ペーストの表面を平坦化した状態を維持することができる。 In this embodiment, as in the second embodiment, the conductive paste is brought into contact with the liquid-repellent layer 31, which is a solid layer, so that the surface of the conductive paste can be made flatter. In addition, since the occurrence of stringiness of the conductive paste can be suppressed when the main body 11 is separated from the liquid-repellent layer 31, the surface of the conductive paste can be maintained in a flattened state.

本発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の範囲内において、種々の応用、変形を加えることが可能である。 The present invention is not limited to the above embodiment, and various applications and modifications are possible within the scope of the present invention.

10 電子部品
11 本体部
12 誘電体層
13a 第1の内部電極
13b 第2の内部電極
14a 第1の外部電極
14b 第2の外部電極
20 保持具
30 定盤
31 撥液層
31a 液体層
31b 固体層
40 移動機構
50 冷却機構
100、100A 電子部品の製造装置
REFERENCE SIGNS LIST 10 Electronic component 11 Main body 12 Dielectric layer 13a First internal electrode 13b Second internal electrode 14a First external electrode 14b Second external electrode 20 Holder 30 Surface plate 31 Liquid-repellent layer 31a Liquid layer 31b Solid layer 40 Movement mechanism 50 Cooling mechanism 100, 100A Manufacturing apparatus for electronic components

Claims (11)

本体部に外部電極が設けられた電子部品の製造方法であって、
外部電極形成領域に導電性ペーストを塗工する工程と、
前記外部電極形成領域に塗工された前記導電性ペーストを、前記導電性ペーストに含まれる溶媒に対して撥液性を有する液体、および、前記液体が固化した固体の少なくとも一方を含む撥液層に接触させる工程と、
前記導電性ペーストを前記撥液層に接触させた状態で停止させる工程と、
前記本体部を前記撥液層から引き離す工程と、
を備えることを特徴とする電子部品の製造方法。
A method for manufacturing an electronic component having an external electrode provided on a main body, comprising the steps of:
applying a conductive paste to an external electrode formation region;
bringing the conductive paste applied to the external electrode formation region into contact with a liquid-repellent layer including at least one of a liquid that is liquid-repellent to a solvent contained in the conductive paste and a solid formed by solidifying the liquid;
stopping the conductive paste in a state of contact with the liquid repellent layer;
a step of separating the main body portion from the liquid repellent layer;
A method for manufacturing an electronic component, comprising:
前記撥液層は、前記液体からなる液体層であることを特徴とする請求項1に記載の電子部品の製造方法。 The method for manufacturing electronic components according to claim 1, characterized in that the liquid-repellent layer is a liquid layer made of the liquid. 前記液体の温度は、10℃以下であることを特徴とする請求項2に記載の電子部品の製造方法。 The method for manufacturing electronic components according to claim 2, characterized in that the temperature of the liquid is 10°C or less. 前記撥液層は、前記液体からなる液体層と、前記液体層よりも深層側に位置し、前記固体からなる固体層とを含み、
前記導電性ペーストを前記撥液層に接触させる工程では、前記導電性ペーストを前記固体層に接触させることを特徴とする請求項1に記載の電子部品の製造方法。
the liquid-repellent layer includes a liquid layer made of the liquid, and a solid layer made of the solid and located deeper than the liquid layer,
2. The method for manufacturing an electronic component according to claim 1, wherein in the step of bringing the conductive paste into contact with the liquid repellent layer, the conductive paste is brought into contact with the solid layer.
前記撥液層は、前記固体からなる固体層であることを特徴とする請求項1に記載の電子部品の製造方法。 The method for manufacturing electronic components according to claim 1, characterized in that the liquid-repellent layer is a solid layer made of the solid. 前記導電性ペーストを前記撥液層に接触させる工程の前に、前記液体を凝固させることによって前記固体層を形成する工程をさらに備えることを特徴とする請求項4または5に記載の電子部品の製造方法。 The method for manufacturing electronic components according to claim 4 or 5, further comprising a step of forming the solid layer by solidifying the liquid before the step of contacting the conductive paste with the liquid-repellent layer. 前記液体は、水または水溶液であることを特徴とする請求項2~6のいずれか一項に記載の電子部品の製造方法。 The method for manufacturing electronic components according to any one of claims 2 to 6, characterized in that the liquid is water or an aqueous solution. 前記電子部品は、積層された複数の内部電極を前記本体部が有する積層セラミック電子部品であることを特徴とする請求項1~7のいずれか一項に記載の電子部品の製造方法。 The method for manufacturing an electronic component according to any one of claims 1 to 7, characterized in that the electronic component is a multilayer ceramic electronic component in which the main body has multiple stacked internal electrodes. 本体部に外部電極が設けられた電子部品の製造装置であって、
外部電極形成領域に導電性ペーストが塗工された前記本体部を保持するための保持具と、
その上に、前記導電性ペーストに含まれる溶媒に対して撥液性を有する液体、および、前記液体が固化した固体の少なくとも一方を含む撥液層を形成するための定盤と、
前記外部電極形成領域に塗工された前記導電性ペーストを前記定盤上に形成される前記撥液層と接触させるため、前記本体部を保持した前記保持具を移動させることが可能な移動機構と、
を備えることを特徴とする電子部品の製造装置。
An apparatus for manufacturing electronic components having external electrodes provided on a main body, comprising:
a holder for holding the main body having an external electrode forming region coated with a conductive paste;
a surface plate for forming a liquid-repellent layer thereon, the liquid-repellent layer including at least one of a liquid having liquid-repellency to a solvent contained in the conductive paste and a solid formed by solidifying the liquid;
a moving mechanism capable of moving the holder holding the main body portion so that the conductive paste applied to the external electrode formation region comes into contact with the liquid repellent layer formed on the base plate; and
An apparatus for manufacturing electronic components comprising:
前記撥液層は、前記固体からなる固体層を含み、
前記定盤上に配置される前記液体を冷却して凝固させるための冷却機構をさらに備えることを特徴とする請求項9に記載の電子部品の製造装置。
the liquid-repellent layer includes a solid layer made of the solid,
The electronic component manufacturing apparatus according to claim 9, further comprising a cooling mechanism for cooling and solidifying the liquid placed on the platen.
前記電子部品は、積層された複数の内部電極を前記本体部が有する積層セラミック電子部品であることを特徴とする請求項9または10に記載の電子部品の製造装置。 The electronic component manufacturing apparatus according to claim 9 or 10, characterized in that the electronic component is a multilayer ceramic electronic component in which the main body has multiple stacked internal electrodes.
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