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JP7536686B2 - Wiring Board - Google Patents
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Description

本発明は、配線基板に関する。 The present invention relates to a wiring board.

例えば、特許文献1に記載のような従来の配線基板において、電子部品と配線基板との間で電気信号を伝送する信号用配線(信号用導体)は、電子部品と配線基板とを電気的に接続するパッドのうち信号用パッドと、信号用パッドの直下に位置する信号用ビアホール導体を介して接続されている。 For example, in a conventional wiring board as described in Patent Document 1, the signal wiring (signal conductor) that transmits electrical signals between the electronic component and the wiring board is connected to a signal pad, which is one of the pads that electrically connects the electronic component and the wiring board, via a signal via hole conductor located directly below the signal pad.

配線基板に実装される半導体素子の大型化や多機能化に伴い、実装領域において、信号用接続パッドが、格子状に配置された接続パッド群の周縁部(外側)から中央部に近い領域にかけて位置している配線基板が存在する。 As the semiconductor elements mounted on wiring boards become larger and more multifunctional, there are wiring boards in which the signal connection pads are located from the periphery (outside) of a group of connection pads arranged in a grid pattern in the mounting area to an area close to the center.

特開平10-335532号公報Japanese Patent Application Publication No. 10-335532

このような配線基板では、実装領域の中央部に近い領域に位置する信号用接続パッドの一部と、配線基板の内層における実装領域の下方に位置する電源用導体層とが、平面透視で重なるものがある。この場合、信号用接続パッドと同軸上のビアホール導体を介して繋がるビアランド、および一端がビアランドに繋がり他端が実装領域外のビアランドに繋がる引き出し配線が、電源用導体層を横切ってしまう場合がある。このため、電荷の供給経路を阻害してしまい半導体素子の性能が低下するおそれがある。 In such wiring boards, some of the signal connection pads located near the center of the mounting area overlap with the power supply conductor layer located below the mounting area in the inner layer of the wiring board in a planar perspective view. In this case, a via land connected to the signal connection pad through a via hole conductor on the same axis as the signal connection pad, and a pull-out wiring with one end connected to the via land and the other end connected to a via land outside the mounting area, may cross the power supply conductor layer. This may obstruct the charge supply path and reduce the performance of the semiconductor element.

本開示の課題は、実装される半導体素子の性能を低下させない配線基板を提供することである。 The objective of this disclosure is to provide a wiring board that does not degrade the performance of the semiconductor elements mounted on it.

本開示に係る配線基板は、複数のスルーホール導体を有するコア用絶縁層と、コア用絶縁層上に位置し、上面に実装領域を有する積層体とを備える。積層体は、導体層および複数のビアホール導体を有するビルドアップ用絶縁層が交互に位置している。導体層は、実装領域に位置する接続パッドと、ビアホール導体を介して接続パッドに繋がるビアランドと、二つの端部を有しており、一端が実装領域内の前記ビアランドに繋がり他端が実装領域外のビアランドに繋がる引き出し配線と、ビルドアップ用絶縁層を介して引き出し配線の上下に位置するプレーン導体と、コア用絶縁層に接する最下層のビルドアップ用絶縁層上に、平面透視で実装領域内に位置する電源用導体層とを有する。接続パッドは、平面透視で、電源用導体層に重ならない領域に位置する第1信号用接続パッド、および電源用導体層に重なる領域に位置する第2信号用接続パッドを有する。ビアランドは、平面透視で、第1信号用接続パッドと同軸上で繋がる第1ビアランドと、第2信号用接続パッドと同軸上で繋がる第2ビアランドとを有する。積層体は、第2ビアランドと、平面透視における電源用導体層に重なる領域外に位置する中継ぎビアランドとを、中継ぎ配線で繋いでいる中継ぎ配線保有層を有している。 The wiring board according to the present disclosure includes a core insulating layer having a plurality of through-hole conductors, and a laminate located on the core insulating layer and having a mounting area on its upper surface. The laminate has a conductor layer and a build-up insulating layer having a plurality of via hole conductors alternately located. The conductor layer has a connection pad located in the mounting area, a via land connected to the connection pad via a via hole conductor, a lead-out wiring having two ends, one end connected to the via land in the mounting area and the other end connected to a via land outside the mounting area, a plane conductor located above and below the lead-out wiring via the build-up insulating layer, and a power supply conductor layer located in the mounting area in planar perspective on the bottom build-up insulating layer in contact with the core insulating layer. The connection pad has a first signal connection pad located in an area that does not overlap the power supply conductor layer in planar perspective, and a second signal connection pad located in an area that overlaps the power supply conductor layer. The via land has a first via land connected coaxially to the first signal connection pad and a second via land connected coaxially to the second signal connection pad in planar perspective. The laminate has a relay wiring-containing layer that connects the second via land and a relay via land that is located outside the area that overlaps with the power supply conductor layer in a planar perspective with a relay wiring.

本開示に係る配線基板は、実装される半導体素子の性能を低下させない。 The wiring board disclosed herein does not degrade the performance of the semiconductor element mounted on it.

本開示の第1の実施形態に係る配線基板の一部を示す断面図である。1 is a cross-sectional view showing a portion of a wiring board according to a first embodiment of the present disclosure. 図1に示す配線基板の一部において、最上層に位置する導体層を平面視した場合を示す説明図である。2 is an explanatory diagram showing a plan view of a conductor layer located at the top layer in a part of the wiring board shown in FIG. 1 ; 図1に示す配線基板の一部において、最上層に位置する導体層から1層内側に位置する導体層を平面視した場合を示す説明図である。2 is an explanatory diagram showing a plan view of a conductor layer located one layer inward from a conductor layer located in a top layer in a part of the wiring board shown in FIG. 1 . FIG. 図1に示す配線基板の一部において、最上層に位置する導体層から2層内側に位置する導体層を平面視した場合を示す説明図である。2 is an explanatory diagram showing a plan view of a conductor layer located two layers inside a conductor layer located in a top layer in a part of the wiring board shown in FIG. 1 ; FIG. 図1に示す配線基板の一部において、最上層に位置する導体層から3層内側に位置する導体層を平面視した場合を示す説明図である。2 is an explanatory diagram showing a plan view of a conductor layer located three layers inside the uppermost conductor layer in a part of the wiring board shown in FIG. 1 ; FIG. 図1に示す配線基板の一部において、最上層に位置する導体層から4層内側に位置する導体層を平面視した場合を示す説明図である。2 is an explanatory diagram showing a plan view of a conductor layer located four layers inside a conductor layer located in a top layer in a part of the wiring board shown in FIG. 1 ; FIG. 図1に示す配線基板の一部において、最上層に位置する導体層から5層内側に位置する導体層を平面視した場合を示す説明図である。2 is an explanatory diagram showing a plan view of a conductor layer located five layers inside the uppermost conductor layer in a part of the wiring board shown in FIG. 1 ; 図1に示す配線基板の一部において、最上層に位置する導体層から6層内側に位置する導体層(コア用絶縁層の上面に位置する導体層)を平面視した場合を示す説明図である。2 is an explanatory diagram showing a plan view of a conductor layer (a conductor layer located on the upper surface of a core insulating layer) located six layers inside the uppermost conductor layer in a portion of the wiring board shown in FIG. 1 . FIG. 本開示の第2の実施形態に係る配線基板の一部において、最上層に位置する導体層から1層内側に位置する導体層を平面視した場合を示す説明図である。13 is an explanatory diagram showing a plan view of a conductor layer located one layer inward from a conductor layer located in the uppermost layer in a part of a wiring board according to a second embodiment of the present disclosure. FIG. 本開示の第2の実施形態に係る配線基板の一部において、最上層に位置する導体層から2層内側に位置する導体層を平面視した場合を示す説明図である。13 is an explanatory diagram showing a plan view of a conductor layer located two layers inward from a topmost conductor layer in a portion of a wiring board according to a second embodiment of the present disclosure. FIG. 本開示の第2の実施形態に係る配線基板の一部において、最上層に位置する導体層から3層内側に位置する導体層を平面視した場合を示す説明図である。13 is an explanatory diagram showing a plan view of a conductor layer located three layers inward from the uppermost conductor layer in a portion of a wiring board according to a second embodiment of the present disclosure. FIG. 本開示の第2の実施形態に係る配線基板の一部において、最上層に位置する導体層から4層内側に位置する導体層を平面視した場合を示す説明図である。13 is an explanatory diagram showing a plan view of a conductor layer located four layers inward from the uppermost conductor layer in a portion of a wiring board according to a second embodiment of the present disclosure. FIG. 本開示の第3の実施形態に係る配線基板の一部において、最上層に位置する導体層を平面視した場合を示す説明図である。13 is an explanatory diagram showing a plan view of a conductor layer located at the top layer in a part of a wiring board according to a third embodiment of the present disclosure. FIG. 本開示の第3の実施形態に係る配線基板の一部において、最上層に位置する導体層から1層内側に位置する導体層を平面視した場合を示す説明図である。13 is an explanatory diagram showing a plan view of a conductor layer located one layer inward from a conductor layer located in the uppermost layer in a part of a wiring board according to a third embodiment of the present disclosure. FIG. 本開示の第3の実施形態に係る配線基板の一部において、最上層に位置する導体層から2層内側に位置する導体層を平面視した場合を示す説明図である。13 is an explanatory diagram showing a plan view of a conductor layer located two layers inward from the uppermost conductor layer in a portion of a wiring board according to a third embodiment of the present disclosure. FIG. 本開示の第3の実施形態に係る配線基板の一部において、最上層に位置する導体層から3層内側に位置する導体層を平面視した場合を示す説明図である。13 is an explanatory diagram showing a plan view of a conductor layer located three layers inward from the uppermost conductor layer in a portion of a wiring board according to a third embodiment of the present disclosure. FIG.

本開示の第1の実施形態に係る配線基板を、図1~8に基づいて説明する。図1は、本開示の第1の実施形態に係る配線基板1の断面の右半分を示す説明図である。第1の実施形態に係る配線基板1は、コア用絶縁層2、積層体3およびソルダーレジスト6を含む。 A wiring board according to a first embodiment of the present disclosure will be described with reference to Figures 1 to 8. Figure 1 is an explanatory diagram showing the right half of a cross section of a wiring board 1 according to a first embodiment of the present disclosure. The wiring board 1 according to the first embodiment includes a core insulating layer 2, a laminate 3, and a solder resist 6.

コア用絶縁層2は、絶縁性を有する素材であれば特に限定されない。絶縁性を有する素材としては、例えば、エポキシ樹脂、ビスマレイミド-トリアジン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂などの樹脂が挙げられる。これらの樹脂は2種以上を混合して用いてもよい。コア用絶縁層2の厚みは特に限定されず、例えば200μm以上800μm以下である。 The core insulating layer 2 is not particularly limited as long as it is made of an insulating material. Examples of insulating materials include resins such as epoxy resin, bismaleimide-triazine resin, polyimide resin, and polyphenylene ether resin. Two or more of these resins may be mixed for use. There is no particular limit to the thickness of the core insulating layer 2, and it is, for example, 200 μm or more and 800 μm or less.

コア用絶縁層2には、補強材が含まれていてもよい。補強材としては、例えば、ガラス繊維、ガラス不織布、アラミド不織布、アラミド繊維、ポリエステル繊維などの絶縁性布材が挙げられる。補強材は2種以上を併用してもよい。さらに、コア用絶縁層2には、シリカ、硫酸バリウム、タルク、クレー、ガラス、炭酸カルシウム、酸化チタンなどの無機絶縁性フィラーが分散されていてもよい。 The core insulating layer 2 may contain a reinforcing material. Examples of reinforcing materials include insulating cloth materials such as glass fiber, glass nonwoven fabric, aramid nonwoven fabric, aramid fiber, and polyester fiber. Two or more types of reinforcing materials may be used in combination. Furthermore, the core insulating layer 2 may contain inorganic insulating fillers dispersed therein, such as silica, barium sulfate, talc, clay, glass, calcium carbonate, and titanium oxide.

コア用絶縁層2は、コア用絶縁層2の上下面を電気的に接続するために、スルーホール導体21を有している。スルーホール導体21は、コア用絶縁層2の上下面を貫通するスルーホール内に位置している。スルーホール導体21は、例えば、銅めっきなどの金属めっきからなる導体で形成されている。スルーホール導体21は、コア用絶縁層2の上下面に位置する導体層4に接続されている。スルーホール導体21は、図1に示すようにスルーホールの内壁面のみに位置していてもよく、スルーホール内に充填されていてもよい。 The core insulating layer 2 has a through-hole conductor 21 to electrically connect the upper and lower surfaces of the core insulating layer 2. The through-hole conductor 21 is located in a through-hole that penetrates the upper and lower surfaces of the core insulating layer 2. The through-hole conductor 21 is formed of a conductor made of metal plating such as copper plating. The through-hole conductor 21 is connected to the conductor layer 4 located on the upper and lower surfaces of the core insulating layer 2. The through-hole conductor 21 may be located only on the inner wall surface of the through-hole as shown in FIG. 1, or may be filled in the through-hole.

スルーホール導体21は、接続される導体層4に応じて、グランド用スルーホール導体21a、電源用スルーホール導体21bおよび信号用スルーホール導体21cを含んでいる。すなわち、グランド用スルーホール導体21aは、後述するグランド用導体層4aに接続され、電源用スルーホール導体21bは、後述する電源用導体層4bに接続され、信号用スルーホール導体21cは、後述する信号用導体層4cに接続されている。スルーホール導体21は、厚みの大きいコア用絶縁層2に位置しているため、後述するビアホール導体41に比べて電気抵抗が大きい場合が多い。このため、特に電荷の供給経路として機能する電源用スルーホール導体21bは、数量を多くしてもよい。 The through-hole conductors 21 include ground through-hole conductors 21a, power through-hole conductors 21b, and signal through-hole conductors 21c, depending on the conductor layer 4 to which they are connected. That is, the ground through-hole conductors 21a are connected to the ground conductor layer 4a, which will be described later, the power through-hole conductors 21b are connected to the power conductor layer 4b, which will be described later, and the signal through-hole conductors 21c are connected to the signal conductor layer 4c, which will be described later. Because the through-hole conductors 21 are located in the thick core insulating layer 2, they often have a higher electrical resistance than the via-hole conductors 41, which will be described later. For this reason, the number of power through-hole conductors 21b, which function as a charge supply path in particular, may be increased.

コア用絶縁層2の上面および下面には、積層体3が位置している。積層体3は、導体層4とビルドアップ用絶縁層5とが交互に積層された構造を有している。積層体3は、上面に電子部品を実装するための実装領域Xを含んでいる。実装領域Xが位置している積層体3の上面とは、コア用絶縁層2から遠い側の面を指す。積層体3に含まれる導体層4は、例えば銅箔や銅めっきから成る導体で形成されている。導体層4の厚みは特に限定されず、例えば5μm以上25μm以下である。導体層4には、グランド用導体層4a、電源用導体層4bおよび信号用導体層4cが含まれている。 The laminate 3 is located on the upper and lower surfaces of the core insulating layer 2. The laminate 3 has a structure in which conductor layers 4 and build-up insulating layers 5 are alternately laminated. The laminate 3 includes a mounting area X for mounting electronic components on its upper surface. The upper surface of the laminate 3 on which the mounting area X is located refers to the surface farther from the core insulating layer 2. The conductor layer 4 included in the laminate 3 is formed of a conductor made of, for example, copper foil or copper plating. The thickness of the conductor layer 4 is not particularly limited and is, for example, 5 μm or more and 25 μm or less. The conductor layer 4 includes a ground conductor layer 4a, a power conductor layer 4b, and a signal conductor layer 4c.

グランド用導体層4aは、信号用導体層4cのインピーダンスの整合、および信号用導体層4cへのノイズ混入の低減のために機能する。 The ground conductor layer 4a functions to match the impedance of the signal conductor layer 4c and to reduce noise interference with the signal conductor layer 4c.

電源用導体層4bは、電荷の供給経路として機能する。このため、電源用導体層4bは、電子部品に近い実装領域Xの直下およびその周囲に配置しておくと電気抵抗が小さくなるため有利である。したがって、電源用導体層4bにつながる電源用スルーホール導体21bも、実装領域Xの直下およびその周囲に配置しておくと電荷供給の観点から有利である。 The power supply conductor layer 4b functions as a charge supply path. For this reason, it is advantageous to place the power supply conductor layer 4b directly under and around the mounting area X close to the electronic components, as this reduces electrical resistance. Therefore, it is also advantageous from the standpoint of charge supply to place the power supply through-hole conductor 21b connected to the power supply conductor layer 4b directly under and around the mounting area X.

信号用導体層4cは、信号を伝送する機能を有している。信号用導体層4cは、配線基板1全体にわたりできるだけインピーダンスの値を整合するように調整されている。これにより、信号が信号用導体層4cを伝送するときの損失を低減することができる。 The signal conductor layer 4c has the function of transmitting signals. The signal conductor layer 4c is adjusted to match the impedance value as much as possible across the entire wiring board 1. This makes it possible to reduce loss when a signal is transmitted through the signal conductor layer 4c.

積層体3に含まれるビルドアップ用絶縁層5は、コア用絶縁層2と同様、絶縁性を有する素材であれば特に限定されない。絶縁性を有する素材としては、例えば、エポキシ樹脂、ビスマレイミド-トリアジン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂などの樹脂が挙げられる。これらの樹脂は2種以上を混合して用いてもよい。積層体3にビルドアップ用絶縁層5が2層以上存在する場合、それぞれのビルドアップ用絶縁層5は、同じ樹脂で形成されていてもよく、異なる樹脂で形成されていてもよい。積層体3に含まれるビルドアップ用絶縁層5とコア用絶縁層2とは、同じ樹脂であってもよく、異なる樹脂であってもよい。 The build-up insulating layer 5 included in the laminate 3 is not particularly limited as long as it is made of an insulating material, like the core insulating layer 2. Examples of insulating materials include resins such as epoxy resin, bismaleimide-triazine resin, polyimide resin, and polyphenylene ether resin. Two or more of these resins may be mixed together. When two or more build-up insulating layers 5 are present in the laminate 3, the respective build-up insulating layers 5 may be formed of the same resin or different resins. The build-up insulating layer 5 and the core insulating layer 2 included in the laminate 3 may be formed of the same resin or different resins.

さらに、積層体3に含まれるビルドアップ用絶縁層5には、シリカ、硫酸バリウム、タルク、クレー、ガラス、炭酸カルシウム、酸化チタンなどの無機絶縁性フィラーが、分散されていてもよい。積層体3に含まれるビルドアップ用絶縁層5の厚みは特に限定されず、例えば20μm以上40μm以下である。積層体3にビルドアップ用絶縁層5が2層以上存在する場合、それぞれのビルドアップ用絶縁層5は同じ厚みを有していてもよく、異なる厚みを有していてもよい。 Furthermore, the build-up insulating layer 5 contained in the laminate 3 may have inorganic insulating fillers dispersed therein, such as silica, barium sulfate, talc, clay, glass, calcium carbonate, and titanium oxide. The thickness of the build-up insulating layer 5 contained in the laminate 3 is not particularly limited, and is, for example, 20 μm or more and 40 μm or less. When the laminate 3 has two or more build-up insulating layers 5, the build-up insulating layers 5 may have the same thickness or different thicknesses.

積層体3に含まれるビルドアップ用絶縁層5は、層間を電気的に接続するためのビアホール導体41を有している。ビアホール導体41は、積層体3に含まれるビルドアップ用絶縁層5の上下面を貫通するビアホール内に位置している。ビアホール導体41は、例えば、銅めっきなどの金属めっきからなる導体で形成されている。ビアホール導体41は、積層体3に含まれるビルドアップ用絶縁層5の上下面に位置する導体層4に接続されている。ビアホール導体41は、図1に示すようにビアホール内に充填されていてもよく、ビアホールの内壁面のみに位置していてもよい。 The build-up insulating layer 5 included in the laminate 3 has a via hole conductor 41 for electrically connecting between layers. The via hole conductor 41 is located in a via hole that penetrates the upper and lower surfaces of the build-up insulating layer 5 included in the laminate 3. The via hole conductor 41 is formed of a conductor made of metal plating such as copper plating. The via hole conductor 41 is connected to the conductor layer 4 located on the upper and lower surfaces of the build-up insulating layer 5 included in the laminate 3. The via hole conductor 41 may be filled in the via hole as shown in FIG. 1, or may be located only on the inner wall surface of the via hole.

ビアホール導体41は、接続される導体層4に応じて、グランド用ビアホール導体41a、電源用ビアホール導体41bおよび信号用ビアホール導体41cを含んでいる。すなわち、グランド用ビアホール導体41aはグランド用導体層4aに接続され、電源用ビアホール導体41bは電源用導体層4bに接続され、信号用ビアホール導体41cは信号用導体層4cに接続されている。 The via-hole conductors 41 include ground via-hole conductors 41a, power via-hole conductors 41b, and signal via-hole conductors 41c, depending on the conductor layer 4 to which they are connected. That is, the ground via-hole conductors 41a are connected to the ground conductor layer 4a, the power via-hole conductors 41b are connected to the power conductor layer 4b, and the signal via-hole conductors 41c are connected to the signal conductor layer 4c.

第1の実施形態に係る配線基板1の両表面の一部には、ソルダーレジスト6が位置している。ソルダーレジスト6は、例えば、アクリル変性エポキシ樹脂で形成されている。ソルダーレジスト6は、例えば実装領域Xに電子部品を実装するときの熱から導体層4を保護する機能を有している。 Solder resist 6 is located on a portion of both surfaces of wiring board 1 according to the first embodiment. Solder resist 6 is formed, for example, from acrylic modified epoxy resin. Solder resist 6 has the function of protecting conductor layer 4 from heat, for example, when mounting electronic components in mounting area X.

第1の実施形態に係る配線基板1において、電子部品(図示せず)と配線基板1との間で電気信号を伝送する信号用導体層4cは、その上面および下面にビルドアップ用絶縁層5を介してグランド用導体層4aまたは電源用導体層4bが対向するように位置している第1引き出し配線44および第2引き出し配線45を含んでいる。すなわち、第1引き出し配線44および第2引き出し配線45とグランド用導体層4aまたは電源用導体層4bとは、ストリップ線路構造を有している。 In the wiring board 1 according to the first embodiment, the signal conductor layer 4c, which transmits electrical signals between electronic components (not shown) and the wiring board 1, includes a first outgoing wiring 44 and a second outgoing wiring 45, which are positioned on the upper and lower surfaces thereof so as to face the ground conductor layer 4a or the power conductor layer 4b via the build-up insulating layer 5. In other words, the first outgoing wiring 44 and the second outgoing wiring 45 and the ground conductor layer 4a or the power conductor layer 4b have a strip line structure.

ストリップ線路構造は、信号用導体層4cの上面および下面の両面に、ビルドアップ用絶縁層5を介してグランド用導体層4aまたは電源用導体層4bが対向するように位置している構造である。信号用導体層4cのインピーダンスを整合するために、この構造が採用される。ノイズの混入を防止するためにも、ストリップ線路構造を採用するのがよい。 The stripline structure is a structure in which a ground conductor layer 4a or a power conductor layer 4b is positioned to face both the top and bottom surfaces of a signal conductor layer 4c via a build-up insulating layer 5. This structure is adopted to match the impedance of the signal conductor layer 4c. It is also advisable to adopt a stripline structure to prevent noise from being introduced.

第1の実施形態に係る配線基板1において、電子部品が実装される実装領域Xには、積層体3の最表層に位置する導体層4の一部である接続パッド42が位置している。接続パッド42は、配線基板1に電子部品を電気的に接続するために使用される。接続パッド42は、接続される導体層4に応じて、グランド用接続パッド42a、電源用接続パッド42bおよび信号用接続パッド(第1信号用接続パッド42c1および第2信号用接続パッド42c2)を含んでいる。すなわち、グランド用接続パッド42aはグランド用導体層4aに接続され、電源用接続パッド42bは電源用導体層4bに接続され、第1信号用接続パッド42c1および第2信号用接続パッド42c2は信号用導体層4cに接続されている。 In the wiring board 1 according to the first embodiment, in the mounting area X where the electronic components are mounted, connection pads 42, which are part of the conductor layer 4 located on the outermost layer of the laminate 3, are located. The connection pads 42 are used to electrically connect the electronic components to the wiring board 1. The connection pads 42 include a ground connection pad 42a, a power supply connection pad 42b, and a signal connection pad (a first signal connection pad 42c1 and a second signal connection pad 42c2) according to the conductor layer 4 to be connected. That is, the ground connection pad 42a is connected to the ground conductor layer 4a, the power supply connection pad 42b is connected to the power supply conductor layer 4b, and the first signal connection pad 42c1 and the second signal connection pad 42c2 are connected to the signal conductor layer 4c.

本明細書において、第1信号用接続パッド42c1は、平面透視で、電源用導体層4bに重ならない領域に位置する信号用接続パッド42cを意味する。第2信号用接続パッド42c2は、平面透視で、電源用導体層4bに重なる領域に位置する信号用接続パッド42cを意味する。 In this specification, the first signal connection pad 42c1 refers to the signal connection pad 42c located in an area that does not overlap the power supply conductor layer 4b in a planar perspective. The second signal connection pad 42c2 refers to the signal connection pad 42c located in an area that overlaps the power supply conductor layer 4b in a planar perspective.

以下、導体層4を、図2~8を参照して具体的に説明する。図2は、第1の実施形態に係る配線基板1の一部において、最上層に位置する導体層4を平面視した場合を示す説明図である。図2は、実装領域Xを十字に4分割した内の1つとその近傍とを示す平面図である。後述の図3~8についても同様である。 The conductor layer 4 will now be described in detail with reference to Figures 2 to 8. Figure 2 is an explanatory diagram showing a plan view of the conductor layer 4 located on the top layer of a portion of the wiring board 1 according to the first embodiment. Figure 2 is a plan view showing one of the four cross-shaped divisions of the mounting area X and its vicinity. The same applies to Figures 3 to 8 described below.

図2に示すように、実装領域Xには、グランド用接続パッド42a、電源用接続パッド42b、第1信号用接続パッド42c1および第2信号用接続パッド42c2の各接続パッド42が、格子状に位置している。この接続パッド42を囲むように、プレーン導体層4pの一部であるグランド用導体層4aが位置している。格子状とは、複数の接続パッド42が、それぞれ間隔をあけて縦横の並びに配置されている状態を示す。 As shown in FIG. 2, in the mounting area X, the connection pads 42, namely the ground connection pad 42a, the power connection pad 42b, the first signal connection pad 42c1, and the second signal connection pad 42c2, are arranged in a grid pattern. The ground conductor layer 4a, which is part of the plane conductor layer 4p, is positioned so as to surround the connection pads 42. The grid pattern refers to a state in which multiple connection pads 42 are arranged vertically and horizontally at intervals from each other.

格子状に位置している接続パッド42のうち、最外周側から少なくとも2列には、第1信号用接続パッド42c1が位置している。第1信号用接続パッド42c1の内周側において、第1信号用接続パッド42c1側から少なくとも1列には、電源用接続パッド42bおよびグランド用接続パッド42aが位置している。電源用接続パッド42bおよびグランド用接続パッド42aの内周側において、電源用接続パッド42bおよびグランド用接続パッド42a側から少なくとも2列には、第2信号用接続パッド42c2が位置している。 Of the connection pads 42 arranged in a grid pattern, the first signal connection pads 42c1 are located in at least two rows from the outermost side. On the inner side of the first signal connection pads 42c1, the power supply connection pads 42b and the ground connection pads 42a are located in at least one row from the first signal connection pads 42c1 side. On the inner side of the power supply connection pads 42b and the ground connection pads 42a, the second signal connection pads 42c2 are located in at least two rows from the power supply connection pads 42b and the ground connection pads 42a side.

図3は、第1の実施形態に係る配線基板1の一部において、最上層に位置する導体層4から1層内側に位置する導体層4を平面視した場合を示す説明図である。最上層に位置する導体層4から1層内側に位置する導体層4の一部は、ビアランド43を含んでいる。このビアランド43は、ビアホール導体41を介して接続パッド42に接続されている。これらのビアランド43のうち、第1ビアランド431は、信号用ビアホール導体41cを介して第1信号用接続パッド42c1に接続されている。第2ビアランド432は、信号用ビアホール導体41cを介して第2信号用接続パッド42c2に接続されている。 FIG. 3 is an explanatory diagram showing a plan view of a conductor layer 4 located one layer inside the conductor layer 4 located in the topmost layer in a part of the wiring board 1 according to the first embodiment. A part of the conductor layer 4 located one layer inside the conductor layer 4 located in the topmost layer includes a via land 43. This via land 43 is connected to a connection pad 42 through a via hole conductor 41. Of these via lands 43, the first via land 431 is connected to a first signal connection pad 42c1 through a signal via hole conductor 41c. The second via land 432 is connected to a second signal connection pad 42c2 through a signal via hole conductor 41c.

最上層に位置する導体層4から1層内側に位置する導体層4は、導体層4の一部であり二つの端部を有する複数の引き出し配線を含む引き出し導体層である。この複数の引き出し配線は、第1引き出し配線44であり、信号用導体層4cとして機能している。 The conductor layer 4 located one layer inward from the conductor layer 4 located in the top layer is a lead-out conductor layer that is part of the conductor layer 4 and includes multiple lead-out wirings with two ends. These multiple lead-out wirings are the first lead-out wirings 44 and function as the signal conductor layer 4c.

図3に示すように、複数の第1引き出し配線44の各々の一端は、第1ビアランド431に接続されている。第1引き出し配線44の各々の他端は、実装領域Xよりも外側に位置するビアホール導体41(信号用ビアホール導体41c)と接続されている。 As shown in FIG. 3, one end of each of the first draw-out wirings 44 is connected to the first via land 431. The other end of each of the first draw-out wirings 44 is connected to a via hole conductor 41 (signal via hole conductor 41c) located outside the mounting area X.

第1引き出し配線44においてストリップ線路構造を採れない部分の長さは限定されず、例えば、信号用導体層4cが伝送する信号の波長の4分の1以下であるのがよい。第1引き出し配線44において、ストリップ線路構造を採れない部分をこのような長さにすることによって、信号用導体層におけるインピーダンス整合への影響を小さくすることができる。すなわち、第1引き出し配線44は、この部分ではグランド用導体層4aによってインピーダンス調整が行われていないものの、上記の長さ以下にすることで第1信号用接続パッド42c1、第1引き出し配線44、第1ビアランド431および下層の信号用導体層4cとの間で、インピーダンスの不整合を無視することができる。その結果、信号は第1引き出し配線44による影響を受けることなく伝送することができる。 The length of the portion of the first outgoing wiring 44 where the strip line structure cannot be adopted is not limited, and may be, for example, less than one-fourth the wavelength of the signal transmitted by the signal conductor layer 4c. By making the portion of the first outgoing wiring 44 where the strip line structure cannot be adopted have such a length, the effect on impedance matching in the signal conductor layer can be reduced. That is, although impedance adjustment is not performed by the ground conductor layer 4a in this portion of the first outgoing wiring 44, by making it less than the above length, the impedance mismatch between the first signal connection pad 42c1, the first outgoing wiring 44, the first via land 431, and the lower signal conductor layer 4c can be ignored. As a result, the signal can be transmitted without being affected by the first outgoing wiring 44.

信号用導体層4cを伝送する一般的な信号の波長を考慮すると、第1引き出し配線44においてストリップ線路構造を採れない部分の長さは、例えば1000μm程度となることが多い。接続パッド42の配置間隔を考慮すると、第1引き出し配線44においてストリップ線路構造を採れない部分の長さは、例えば250μm以上の長さとなることが多い。第1引き出し配線44においてストリップ線路構造を採れない部分の長さは、例えば、金属顕微鏡観察などにより測定が可能である。 Considering the wavelength of a typical signal transmitted through the signal conductor layer 4c, the length of the portion of the first outgoing wiring 44 where the strip line structure cannot be used is often, for example, about 1000 μm. Considering the spacing of the connection pads 42, the length of the portion of the first outgoing wiring 44 where the strip line structure cannot be used is often, for example, 250 μm or more. The length of the portion of the first outgoing wiring 44 where the strip line structure cannot be used can be measured, for example, by observation with a metallurgical microscope.

上述のように、第1引き出し配線44の各々の一端は、第1ビアランド431に接続されるように形成されている。そのため、図4に示すように、最上層に位置する導体層4から2層内側に位置する導体層4には、第2ビアランド432と、グランド用接続パッド42aまたは電源用接続パッド42bに接続されるビアランド43(図4では、電源用接続パッド42bに接続されるビアランド43)とが残る。 As described above, one end of each of the first outgoing wirings 44 is formed to be connected to the first via land 431. Therefore, as shown in FIG. 4, the second via land 432 and the via land 43 connected to the ground connection pad 42a or the power supply connection pad 42b (in FIG. 4, the via land 43 connected to the power supply connection pad 42b) remain in the conductor layer 4 located two layers inside from the conductor layer 4 located in the top layer.

図5は、第1の実施形態に係る配線基板1の一部において、最上層に位置する導体層4から3層内側に位置する導体層4を平面視した場合を示す説明図である。最上層に位置する導体層4から3層内側に位置する導体層4は、導体層4の一部であり二つの端部を有する複数の引き出し配線を含む引き出し導体層である。この引き出し配線は、第2引き出し配線45であり、信号用導体層4cとして機能している。 Figure 5 is an explanatory diagram showing a plan view of a conductor layer 4 located three layers inside the conductor layer 4 located in the topmost layer in a part of the wiring board 1 according to the first embodiment. The conductor layer 4 located three layers inside the conductor layer 4 located in the topmost layer is a lead-out conductor layer that is part of the conductor layer 4 and includes multiple lead-out wirings with two ends. This lead-out wiring is the second lead-out wiring 45 and functions as the signal conductor layer 4c.

図5に示すように、第2引き出し配線45の各々の一端は第2ビアランド432に接続されている。第2引き出し配線45に接続されるビアランド43は、第2ビアランド432に含まれるビアランド43のうち、図5に示すように最外側に位置するビアランド43であってもよく、最外側以外に位置するビアランド43であってもよく、最外側および最外側以外の両方のビアランド43が混ざっていてもよい。第2引き出し配線45が、間隔の狭いビアランド43間を通る箇所を少なくして絶縁性を確保する点で、図5に示すように、第2ビアランド432に含まれるビアランド43のうち、最外側に位置するビアランド43が第2引き出し配線45に接続されるのがよい。第2引き出し配線45の各々の他端は、実装領域Xよりも外側に位置するビアホール導体41(信号用ビアホール導体41c)と接続されている。 5, one end of each of the second draw-out wirings 45 is connected to the second via land 432. The via land 43 connected to the second draw-out wiring 45 may be the via land 43 located on the outermost side as shown in FIG. 5 among the via lands 43 included in the second via land 432, or may be a via land 43 located other than the outermost side, or may be a mixture of both the outermost and the other via lands 43. In order to ensure insulation by reducing the number of places where the second draw-out wiring 45 passes between closely spaced via lands 43, it is preferable that the via land 43 located on the outermost side among the via lands 43 included in the second via land 432 is connected to the second draw-out wiring 45 as shown in FIG. The other end of each of the second draw-out wirings 45 is connected to a via hole conductor 41 (signal via hole conductor 41c) located outside the mounting area X.

図6は、第1の実施形態に係る配線基板1の一部において、最上層に位置する導体層4から4層内側に位置する導体層4を平面視した場合を示す説明図である。最上層に位置する導体層4から4層内側に位置する導体層4には、中継ぎビアランド47が位置している。中継ぎビアランド47は、平面透視で、プレーン導体層4pの一部である電源用導体層4bと重なる領域外に位置している。この中継ぎビアランド47は、第2ビアランド432に含まれるビアランド43のうち、第2引き出し配線45と接続されていないビアランド43と、中継ぎ配線46を介して接続されている。この中継ぎ配線46を含んでいる層が、中継ぎ配線保有層に相当する。中継ぎ配線保有層は、例えば、図6に示すように、第2信号用接続パッド42c2のうち最も内側の列に位置する接続パッド42と同軸上(下方)で繋がる第2ビアランド432と、中継ぎビアランド47とを、中継ぎ配線46で繋いでいるのがよい。このように繋ぐことによって、絶縁信頼性が向上する。 FIG. 6 is an explanatory diagram showing a plan view of the conductor layer 4 located four layers inside the conductor layer 4 located in the top layer in a part of the wiring board 1 according to the first embodiment. A relay via land 47 is located in the conductor layer 4 located four layers inside the conductor layer 4 located in the top layer. The relay via land 47 is located outside the area overlapping with the power supply conductor layer 4b, which is a part of the plane conductor layer 4p, in a planar perspective view. This relay via land 47 is connected to the via land 43 not connected to the second draw-out wiring 45 among the via lands 43 included in the second via land 432 through the relay wiring 46. The layer including this relay wiring 46 corresponds to the relay wiring holding layer. For example, as shown in FIG. 6, the relay wiring holding layer may connect the second via land 432 connected coaxially (below) to the connection pad 42 located in the innermost row of the second signal connection pads 42c2 and the relay via land 47 through the relay wiring 46. Connecting them in this way improves insulation reliability.

このように、中継ぎビアランド47と中継ぎ配線46とを含むことによって、平面透視で、第2信号用接続パッド42c2と重なる領域に位置するプレーン導体層4pの一部である電源用導体層4b内に、信号用導体層4c(引き出し配線)を存在させないようにすることができる。具体的には、図7に示すように、最上層に位置する導体層4から5層内側に位置する導体層4(最下層のビルドアップ用絶縁層5の上面に位置する導体層4)において、プレーン導体層4pの一部である電源用導体層4bと重なる領域外に位置している中継ぎビアランド47が、実装領域Xよりも外側に位置するビアホール導体41(信号用ビアホール導体41c)と、信号用導体層4cを介して接続されている。図6に示す中継ぎビアランド47と図7に示す中継ぎビアランド47とは、ビアホール導体を介して電気的に接続されている。 In this way, by including the intermediate via land 47 and the intermediate wiring 46, it is possible to prevent the signal conductor layer 4c (drawing wiring) from being present in the power conductor layer 4b, which is a part of the plane conductor layer 4p located in the area overlapping with the second signal connection pad 42c2 in a planar perspective view. Specifically, as shown in FIG. 7, in the conductor layer 4 (the conductor layer 4 located on the upper surface of the build-up insulation layer 5 of the lowest layer) located five layers inside from the conductor layer 4 located in the uppermost layer, the intermediate via land 47 located outside the area overlapping with the power conductor layer 4b, which is a part of the plane conductor layer 4p, is connected to the via hole conductor 41 (signal via hole conductor 41c) located outside the mounting area X through the signal conductor layer 4c. The intermediate via land 47 shown in FIG. 6 and the intermediate via land 47 shown in FIG. 7 are electrically connected through the via hole conductor.

その結果、プレーン導体層4pの一部である電源用導体層4bが、信号用導体層4c(引き出し配線)によって挟まれる狭小領域を含まず、電荷の供給経路が確保できる。これにより、半導体素子の性能を低下させることなく作動させることができる。図8は、最上層に位置する導体層4から6層内側に位置する導体層4(コア用絶縁層2の上面に位置する導体層4)を平面視した場合を示す説明図である。 As a result, the power supply conductor layer 4b, which is part of the plane conductor layer 4p, does not include a narrow area sandwiched between the signal conductor layer 4c (drawing wiring), and a charge supply path can be secured. This allows the semiconductor element to operate without degrading its performance. Figure 8 is an explanatory diagram showing a plan view of the conductor layer 4 (the conductor layer 4 located on the top surface of the core insulating layer 2) located six layers inside the conductor layer 4 located in the topmost layer.

次に、図9~12を参照して、第2の実施形態に係る配線基板について、具体的に説明する。第2の実施形態に係る配線基板において、第1の実施形態に係る配線基板1と同じ部材については同じ符号を付しており、詳細な説明については省略する。 Next, the wiring board according to the second embodiment will be described in detail with reference to Figures 9 to 12. In the wiring board according to the second embodiment, the same components as those in the wiring board 1 according to the first embodiment are given the same reference numerals, and detailed descriptions thereof will be omitted.

第2の実施形態に係る配線基板は、第1の実施形態に係る配線基板1と同様、中継ぎ配線46および中継ぎビアランド47を含むものの、中継ぎ配線46および中継ぎビアランド47が位置している層(中継ぎ配線保有層)が異なる。 The wiring board according to the second embodiment includes relay wiring 46 and relay via land 47, like the wiring board 1 according to the first embodiment, but the layer in which the relay wiring 46 and relay via land 47 are located (relay wiring-containing layer) is different.

まず、最上層に位置する導体層4については、図2に示すように、第1の実施形態に係る配線基板1と同じである。この最上層に位置する導体層4が位置しているビルドアップ用絶縁層5を、便宜上、第1ビルドアップ用絶縁層とする。図9は、第2の実施形態に係る配線基板の一部において、最上層に位置する導体層4から1層内側に位置する導体層4を平面視した場合を示す説明図である。 First, the conductor layer 4 located in the uppermost layer is the same as that in the wiring board 1 according to the first embodiment, as shown in FIG. 2. The build-up insulating layer 5 on which the conductor layer 4 located in the uppermost layer is located is referred to as the first build-up insulating layer for convenience. FIG. 9 is an explanatory diagram showing a plan view of the conductor layer 4 located one layer inward from the conductor layer 4 located in the uppermost layer in a part of the wiring board according to the second embodiment.

図9に示すように、複数の第1引き出し配線44の各々の一端は、第1ビアランド431に含まれるビアランド43に接続されている。第1引き出し配線44の各々の他端は、実装領域Xよりも外側に位置するビアホール導体41(信号用ビアホール導体41c)と接続されている。最上層に位置する導体層4から1層内側に位置する導体層4には、第1信号用接続パッド42c1と同じ配列の第1ビアランド431および第2信号用接続パッド42c2と同じ配列の第2ビアランド432が位置している。この図9に示す導体層4は、第1引き出し配線44を含む引き出し導体層である。 As shown in FIG. 9, one end of each of the multiple first draw-out wirings 44 is connected to a via land 43 included in the first via land 431. The other end of each of the first draw-out wirings 44 is connected to a via hole conductor 41 (signal via hole conductor 41c) located outside the mounting area X. In the conductor layer 4 located one layer inside from the conductor layer 4 located in the uppermost layer, the first via land 431 arranged in the same manner as the first signal connection pads 42c1 and the second via land 432 arranged in the same manner as the second signal connection pads 42c2 are located. The conductor layer 4 shown in FIG. 9 is a draw-out conductor layer including the first draw-out wirings 44.

さらに、この層において、中継ぎビアランド47が位置している。中継ぎビアランド47は、平面透視で、プレーン導体層4pの一部である電源用導体層4bと重なる領域外に位置している。この中継ぎビアランド47は、第2ビアランド432に含まれる一部のビアランド43と、中継ぎ配線46を介して接続されている。この中継ぎ配線46を含んでいる層が、中継ぎ配線保有層に相当する。この中継ぎ配線保有層が位置しているビルドアップ用絶縁層5を、便宜上、第2ビルドアップ用絶縁層とする。 Furthermore, in this layer, a relay via land 47 is located. In a plan view, the relay via land 47 is located outside the area that overlaps with the power supply conductor layer 4b, which is part of the plain conductor layer 4p. This relay via land 47 is connected to a part of the via land 43 included in the second via land 432 via a relay wiring 46. The layer that includes this relay wiring 46 corresponds to the relay wiring-containing layer. For convenience, the build-up insulating layer 5 in which this relay wiring-containing layer is located is referred to as the second build-up insulating layer.

中継ぎ配線46に接続されるビアランド43は、第2ビアランド432に含まれるビアランド43のうち、図9に示すように最外側に位置するビアランド43であってもよく、最外側以外に位置するビアランド43であってもよく、最外側および最外側以外の両方のビアランド43が混ざっていてもよい。ストリップ構造をとれない中継ぎ配線46の長さを短くしてインピーダンスの不整合を防ぐという点、および中継ぎ配線46が、間隔の狭いビアランド43間を通る箇所を少なくして絶縁性を確保する点で、図9に示すように、第2ビアランド432に含まれるビアランド43のうち、最外側に位置するビアランド43が中継ぎ配線46に接続されるのがよい。 The via land 43 connected to the relay wiring 46 may be the via land 43 located on the outermost side among the via lands 43 included in the second via land 432 as shown in FIG. 9, may be a via land 43 located other than the outermost side, or may be a mixture of both the outermost and the other than the outermost via lands 43. In order to prevent impedance mismatch by shortening the length of the relay wiring 46 that cannot have a strip structure, and to ensure insulation by reducing the number of places where the relay wiring 46 passes between closely spaced via lands 43, it is preferable that the via land 43 located on the outermost side among the via lands 43 included in the second via land 432 be connected to the relay wiring 46 as shown in FIG. 9.

中継ぎ配線保有層は、例えば、図9に示すように、第2信号用接続パッド42c2のうち最も外側の列に位置する接続パッド42と同軸上(下方)で繋がる第2ビアランド432と、中継ぎビアランド47とを、中継ぎ配線46で繋いでいるのがよい。このように繋ぐことによって、信号を伝送する際の損失がより低減される。 As shown in FIG. 9, the relay wiring layer may be configured to connect the second via land 432, which is connected coaxially (below) to the connection pad 42 located in the outermost row of the second signal connection pads 42c2, and the relay via land 47 with the relay wiring 46. By connecting in this manner, the loss during signal transmission is further reduced.

上述のように、第1引き出し配線44の各々の一端は、第1ビアランド431に接続されるように形成されている。そのため、図10に示すように、最上層に位置する導体層4から2層内側に位置する導体層4には、第2ビアランド432に含まれるビアランド43のうち中継ぎ配線46に接続されていないビアランド43と、電源用ビアホール導体41bに接続されるビアランド43とが残る。 As described above, one end of each of the first extraction wirings 44 is formed to be connected to the first via land 431. Therefore, as shown in FIG. 10, in the conductor layer 4 located two layers inside the conductor layer 4 located in the top layer, the via land 43 included in the second via land 432 that is not connected to the relay wiring 46 and the via land 43 connected to the power supply via hole conductor 41b remain.

平面透視で、プレーン導体層4pの一部である電源用導体層4bと重なる領域外に位置している中継ぎビアランド47は、図10に示す第1補助ビアランド471と、ビアホール導体を介して電気的に接続されている。この第1補助ビアランド471は、第1補助ビアランド471よりもさらに外側に位置する第2補助ビアランド472と、第1補助配線461を介して接続されている。この第1補助ビアランド471、第2補助ビアランド472および第1補助配線461が位置しているビルドアップ用絶縁層5を、便宜上、第3ビルドアップ用絶縁層とする。 In a plan view, the intermediate via land 47, which is located outside the area overlapping with the power supply conductor layer 4b, which is part of the plane conductor layer 4p, is electrically connected to the first auxiliary via land 471 shown in FIG. 10 via a via hole conductor. This first auxiliary via land 471 is connected to the second auxiliary via land 472, which is located further outboard than the first auxiliary via land 471, via the first auxiliary wiring 461. For convenience, the build-up insulating layer 5 on which this first auxiliary via land 471, second auxiliary via land 472, and first auxiliary wiring 461 are located is referred to as the third build-up insulating layer.

図11は、第2の実施形態に係る配線基板の一部において、最上層に位置する導体層4から3層内側に位置する導体層4を平面視した場合を示す説明図である。図11に示すように、最上層に位置する導体層4から3層内側に位置する導体層4は、第2引き出し配線45を含み信号用導体層4cとして機能している。 Figure 11 is an explanatory diagram showing a plan view of a conductor layer 4 located three layers inward from the conductor layer 4 located in the topmost layer in a part of a wiring board according to the second embodiment. As shown in Figure 11, the conductor layer 4 located three layers inward from the conductor layer 4 located in the topmost layer includes a second lead-out wiring 45 and functions as a signal conductor layer 4c.

第2引き出し配線45の各々の一端は、第2ビアランド432のうち、中継ぎ配線46に接続されていないビアランド43に接続されている。第2引き出し配線45の各々の他端は、実装領域Xよりも外側に位置するビアホール導体41(信号用ビアホール導体41c)と接続されている。 One end of each of the second outgoing wirings 45 is connected to a via land 43 of the second via land 432 that is not connected to the relay wiring 46. The other end of each of the second outgoing wirings 45 is connected to a via hole conductor 41 (signal via hole conductor 41c) located outside the mounting area X.

信号用導体層4cの各々の一端は、第2補助ビアランド472に接続されている。信号用導体層4cの各々の他端は、実装領域Xよりも外側に位置するビアホール導体41(信号用ビアホール導体41c)と接続されている。図10に示す第2補助ビアランド472と図11に示す第2補助ビアランド472とは、ビアホール導体41を介して電気的に接続されている。 One end of each of the signal conductor layers 4c is connected to the second auxiliary via land 472. The other end of each of the signal conductor layers 4c is connected to a via hole conductor 41 (signal via hole conductor 41c) located outside the mounting area X. The second auxiliary via land 472 shown in FIG. 10 and the second auxiliary via land 472 shown in FIG. 11 are electrically connected via the via hole conductor 41.

その結果、図12に示す導体層4には、いずれの引き出し配線も存在していない。そのため、プレーン導体層4pの一部である電源用導体層4bが、信号用導体層4c(引き出し配線)によって挟まれる狭小領域を含まず、電荷の供給経路が確保できる。これにより、半導体素子の性能を低下させることなく作動させることができる。図12は、第2の実施形態に係る配線基板の一部において、最上層に位置する導体層4から4層内側に位置する導体層4を平面視した場合を示す説明図である。この導体層4は、積層体3において最下層に位置するビルドアップ用絶縁層5の表面に位置している。図12に示す導体層4の1層内層に位置する導体層4は、図8に示すコア用絶縁層2の上面に位置する導体層4と同様であり、詳細な説明は省略する。第2の実施形態では、第1の実施形態よりもビルドアップ用絶縁層5を1層少なくできる点で有利である。 As a result, the conductor layer 4 shown in FIG. 12 does not have any lead wiring. Therefore, the power supply conductor layer 4b, which is a part of the plane conductor layer 4p, does not include a narrow area sandwiched by the signal conductor layer 4c (lead wiring), and a charge supply path can be secured. This allows the semiconductor element to operate without degrading its performance. FIG. 12 is an explanatory diagram showing a plan view of the conductor layer 4 located four layers inside the conductor layer 4 located in the uppermost layer in a part of the wiring board according to the second embodiment. This conductor layer 4 is located on the surface of the build-up insulating layer 5 located in the lowermost layer in the laminate 3. The conductor layer 4 located in the layer one inside the conductor layer 4 shown in FIG. 12 is similar to the conductor layer 4 located on the upper surface of the core insulating layer 2 shown in FIG. 8, and detailed description will be omitted. The second embodiment is advantageous in that the number of build-up insulating layers 5 can be reduced by one compared to the first embodiment.

次に、図13~16を参照して、第3の実施形態に係る配線基板について、具体的に説明する。第3の実施形態に係る配線基板において、第1の実施形態に係る配線基板1と同じ部材については同じ符号を付しており、詳細な説明については省略する。 Next, the wiring board according to the third embodiment will be described in detail with reference to Figures 13 to 16. In the wiring board according to the third embodiment, the same components as those in the wiring board 1 according to the first embodiment are given the same reference numerals, and detailed descriptions thereof will be omitted.

第3の実施形態に係る配線基板は、第1の実施形態に係る配線基板1と同様、中継ぎ配線46および中継ぎビアランド47を含むものの、中継ぎ配線46および中継ぎビアランド47が位置している層(中継ぎ配線保有層)が異なる。 The wiring board according to the third embodiment includes relay wiring 46 and relay via land 47, similar to the wiring board 1 according to the first embodiment, but the layer in which the relay wiring 46 and relay via land 47 are located (the layer containing the relay wiring) is different.

図13に示すように、実装領域Xには、グランド用接続パッド42a、電源用接続パッド42b、第1信号用接続パッド42c1および第2信号用接続パッド42c2の各接続パッド42が、格子状に位置している。この接続パッド42を囲むように、プレーン導体層4pの一部であるグランド用導体層4aが位置している。格子状とは、複数の接続パッド42が、それぞれ間隔をあけて縦横の並びに配置されている状態を示す。 As shown in FIG. 13, in the mounting area X, the connection pads 42, namely the ground connection pad 42a, the power connection pad 42b, the first signal connection pad 42c1, and the second signal connection pad 42c2, are arranged in a grid pattern. The ground conductor layer 4a, which is part of the plane conductor layer 4p, is positioned so as to surround the connection pads 42. The grid pattern refers to a state in which multiple connection pads 42 are arranged vertically and horizontally with a gap between each other.

格子状に位置している接続パッド42のうち、最外周側から複数列で信号用接続パッド42cが位置している。信号用接続パッド42cのうち、最外周側から少なくとも2列には、第1信号用接続パッド42c1が位置している。残りの信号用接続パッド42cが、第2信号用接続パッド42c2である。上記のように、平面透視で、第1信号用接続パッド42c1は、電源用導体層4bに重ならない領域に位置する。一方、第2信号用接続パッド42c2は、平面透視で、電源用導体層4bに重なる領域に位置している。信号用接続パッド42cの内周側には、グランド用接続パッド42aおよび電源用接続パッド42bが位置している。この最上層に位置する導体層4が位置しているビルドアップ用絶縁層5を、便宜上、第1ビルドアップ用絶縁層とする。 Among the connection pads 42 arranged in a grid pattern, the signal connection pads 42c are arranged in multiple rows from the outermost side. The first signal connection pads 42c1 are arranged in at least two rows from the outermost side of the signal connection pads 42c. The remaining signal connection pads 42c are the second signal connection pads 42c2. As described above, in a planar perspective, the first signal connection pads 42c1 are arranged in an area that does not overlap the power supply conductor layer 4b. On the other hand, the second signal connection pads 42c2 are arranged in an area that overlaps the power supply conductor layer 4b in a planar perspective. On the inner side of the signal connection pads 42c, the ground connection pads 42a and the power supply connection pads 42b are arranged. For convenience, the build-up insulation layer 5 on which the conductor layer 4 located at the top layer is arranged is referred to as the first build-up insulation layer.

図14は、第3の実施形態に係る配線基板の一部において、最上層に位置する導体層4から1層内側に位置する導体層4を平面視した場合を示す説明図である。図14に示すように、複数の第1引き出し配線44の各々の一端は、第1ビアランド431に接続されている。第1引き出し配線44の各々の他端は、実装領域Xよりも外側に位置するビアホール導体41(信号用ビアホール導体41c)と接続されている。最上層に位置する導体層4から1層内側に位置する導体層4には、第1信号用接続パッド42c1と同じ配列の第1ビアランド431および第2信号用接続パッド42c2と同じ配列の第2ビアランド432が位置している。この図14に示す導体層4は、第1引き出し配線44を含む引き出し導体層である。 14 is an explanatory diagram showing a plan view of the conductor layer 4 located one layer inside the conductor layer 4 located in the top layer in a part of the wiring board according to the third embodiment. As shown in FIG. 14, one end of each of the multiple first outgoing wirings 44 is connected to the first via land 431. The other end of each of the first outgoing wirings 44 is connected to the via hole conductor 41 (signal via hole conductor 41c) located outside the mounting area X. In the conductor layer 4 located one layer inside the conductor layer 4 located in the top layer, the first via land 431 arranged in the same manner as the first signal connection pad 42c1 and the second via land 432 arranged in the same manner as the second signal connection pad 42c2 are located. The conductor layer 4 shown in FIG. 14 is an outgoing conductor layer including the first outgoing wiring 44.

図14に示すように、第2ビアランド432の一部は、第1ビアランド431の配列と第2ビアランド432の配列との間に位置する第3補助ビアランド473と、第2補助配線462を介して接続されている。この第3補助ビアランド473および第2補助配線462が位置しているビルドアップ用絶縁層5を、便宜上、第2ビルドアップ用絶縁層とする。 As shown in FIG. 14, a portion of the second via land 432 is connected to a third auxiliary via land 473 located between the arrangement of the first via lands 431 and the arrangement of the second via lands 432 via a second auxiliary wiring 462. For convenience, the build-up insulating layer 5 in which the third auxiliary via land 473 and the second auxiliary wiring 462 are located is referred to as the second build-up insulating layer.

図15は、第3の実施形態に係る配線基板の一部において、最上層に位置する導体層4から2層内側に位置する導体層4を平面視した場合を示す説明図である。図15に示すように、一層上の導体層4において、第3補助ビアランド473と接続されていない第2ビアランド432が、中継ぎビアランド47と、中継ぎ配線46を介して接続されている。中継ぎビアランド47は、平面透視で、プレーン導体層4pの一部である電源用導体層4bと重なる領域外に位置している。この中継ぎ配線46を含んでいる層が、中継ぎ配線保有層に相当する。この中継ぎ配線保有層が位置しているビルドアップ用絶縁層5を、便宜上、第3ビルドアップ用絶縁層とする。 Figure 15 is an explanatory diagram showing a plan view of a conductor layer 4 located two layers inside the conductor layer 4 located in the top layer in a part of a wiring board according to the third embodiment. As shown in Figure 15, in the conductor layer 4 one layer above, the second via land 432 that is not connected to the third auxiliary via land 473 is connected to the relay via land 47 through the relay wiring 46. In a planar perspective view, the relay via land 47 is located outside the area that overlaps with the power supply conductor layer 4b, which is part of the plain conductor layer 4p. The layer that includes this relay wiring 46 corresponds to the relay wiring-containing layer. For convenience, the build-up insulating layer 5 in which this relay wiring-containing layer is located is referred to as the third build-up insulating layer.

さらに、この中継ぎ配線保有層において、第4補助ビアランド474が第5補助ビアランド475と、第3補助配線463を介して接続されている。図15に示す第4補助ビアランド474と図14に示す第3補助ビアランド473とは、ビアホール導体41を介して電気的に接続されている。第5補助ビアランド475は、中継ぎビアランド47よりも外側に位置している。 Furthermore, in this relay wiring-containing layer, the fourth auxiliary via land 474 is connected to the fifth auxiliary via land 475 via the third auxiliary wiring 463. The fourth auxiliary via land 474 shown in FIG. 15 and the third auxiliary via land 473 shown in FIG. 14 are electrically connected via the via hole conductor 41. The fifth auxiliary via land 475 is located outside the relay via land 47.

中継ぎ配線保有層は、例えば、図15に示すように、第2信号用接続パッド42c2のうち最も外側の列に位置する接続パッド42と同軸上(下方)で繋がる第2ビアランド432と、中継ぎビアランド47とを、中継ぎ配線46で繋いでいるのがよい。このように繋ぐことによって、信号を伝送する際の損失がより低減される。 As shown in FIG. 15, the relay wiring layer may be configured to connect the second via land 432, which is connected coaxially (below) to the connection pad 42 located in the outermost row of the second signal connection pads 42c2, and the relay via land 47 with the relay wiring 46. By connecting in this manner, the loss during signal transmission is further reduced.

次いで、図16は、第3の実施形態に係る配線基板の一部において、最上層に位置する導体層4から3層内側に位置する導体層4を平面視した場合を示す説明図である。図16に示すように、最上層に位置する導体層4から3層内側に位置する導体層4は、信号用導体層4cとして機能している。 Next, FIG. 16 is an explanatory diagram showing a plan view of a conductor layer 4 located three layers inward from the conductor layer 4 located in the topmost layer in a part of a wiring board according to the third embodiment. As shown in FIG. 16, the conductor layer 4 located three layers inward from the conductor layer 4 located in the topmost layer functions as a signal conductor layer 4c.

信号用導体層4cの各々の一端は、中継ぎビアランド47に接続されている。信号用導体層4cの各々の他端は、実装領域Xよりも外側に位置するビアホール導体41(信号用ビアホール導体41c)と接続されている。図16に示す中継ぎビアランド47は、図15に示す1層上の中継ぎビアランド47または第5補助ビアランド475のいずれかと、ビアホール導体41を介して電気的に接続されている。 One end of each of the signal conductor layers 4c is connected to a relay via land 47. The other end of each of the signal conductor layers 4c is connected to a via hole conductor 41 (signal via hole conductor 41c) located outside the mounting area X. The relay via land 47 shown in FIG. 16 is electrically connected to either the relay via land 47 on the first layer shown in FIG. 15 or the fifth auxiliary via land 475 via the via hole conductor 41.

その結果、図16に示すように、平面透視で、第2信号用接続パッド42c2と重なる領域に位置するプレーン導体層4pの一部である電源用導体層4b内に、信号用導体層4c(引き出し配線)を存在させないようにすることができる。そのため、プレーン導体層4pの一部である電源用導体層4bが、信号用導体層4c(引き出し配線)によって挟まれる狭小領域を含まず、電荷の供給経路が確保できる。これにより、半導体素子の性能を低下させることなく作動させることができる。図16は、第3の実施形態に係る配線基板の一部において、最上層に位置する導体層4から3層内側に位置する導体層4を平面視した場合を示す説明図である。この導体層4は、積層体3において最下層に位置するビルドアップ用絶縁層5の表面に位置している。図16に示す導体層4の1層内層に位置する導体層4は、図8に示すコア用絶縁層2の上面に位置する導体層4と同様であり、詳細な説明は省略する。 As a result, as shown in FIG. 16, the signal conductor layer 4c (drawing wiring) can be prevented from being present in the power conductor layer 4b, which is a part of the plane conductor layer 4p located in the area overlapping with the second signal connection pad 42c2 in a planar perspective view. Therefore, the power conductor layer 4b, which is a part of the plane conductor layer 4p, does not include a narrow area sandwiched by the signal conductor layer 4c (drawing wiring), and a charge supply path can be secured. This allows the semiconductor element to operate without degrading its performance. FIG. 16 is an explanatory diagram showing a plan view of the conductor layer 4 located three layers inside the conductor layer 4 located in the uppermost layer in a part of the wiring board according to the third embodiment. This conductor layer 4 is located on the surface of the build-up insulating layer 5 located in the lowermost layer in the laminate 3. The conductor layer 4 located in the layer one inside the conductor layer 4 shown in FIG. 16 is the same as the conductor layer 4 located on the upper surface of the core insulating layer 2 shown in FIG. 8, and detailed description will be omitted.

さらに、第3の実施形態に係る配線基板によれば、第2の実施形態よりもビルドアップ用絶縁層5を1層少なくできる点で有利である。つまり、第1信号用接続パッド42c1の数(列数)および第2信号用接続パッド42c2の数(列数)が同じ場合、引き出し配線層の層数を少なくして薄型化された配線基板を提供することができる。 Furthermore, the wiring board according to the third embodiment has the advantage that the number of build-up insulating layers 5 can be reduced by one compared to the second embodiment. In other words, when the number (number of rows) of first signal connection pads 42c1 and the number (number of rows) of second signal connection pads 42c2 are the same, it is possible to provide a thinner wiring board by reducing the number of layers of the lead-out wiring layers.

特許文献1に示すような従来の配線基板には、図7、図12および図16に相当する導体層において、プレーン導体層の一部である電源用導体内に、電流経路を阻害する信号用導体(引き出し配線)が存在していた。そのため、電源用導体は、引き出し配線によって挟まれる狭小領域によって電荷の供給が阻害され、実装される半導体素子の性能を低下させていた。 In a conventional wiring board such as that shown in Patent Document 1, in the conductor layers corresponding to Figures 7, 12, and 16, a signal conductor (drawing wiring) that blocks the current path is present in the power conductor, which is part of the plane conductor layer. As a result, the supply of charge to the power conductor is blocked by the narrow area sandwiched between the drawing wiring, degrading the performance of the semiconductor element mounted thereon.

第1の実施形態に係る配線基板1においては、図7に示すように、最下層のビルドアップ用絶縁層5の上面に位置する導体層4には、第1信号用接続パッド42c1よりも内側の領域に、電源用接続パッド42bとビアホール導体41(電源用ビアホール導体41b)を介して接続されるプレーン導体層4pの一部である電源用導体層4bが位置している。図12および図16に示すように、第2の実施形態に係る配線基板および第3の実施形態に係る配線基板についても同様である。 In the wiring board 1 according to the first embodiment, as shown in FIG. 7, the conductor layer 4 located on the top surface of the lowermost build-up insulating layer 5 has a power supply conductor layer 4b located in an area inside the first signal connection pad 42c1, which is part of the plane conductor layer 4p connected to the power supply connection pad 42b via the via hole conductor 41 (power supply via hole conductor 41b). As shown in FIG. 12 and FIG. 16, the same is true for the wiring board according to the second embodiment and the wiring board according to the third embodiment.

しかし、本開示の配線基板においては、プレーン導体層4pであれば、電源用導体に限定されない。広い面積を有するプレーン導体層4pを実装領域の直下に確保することによって、半導体素子への電源/グランド供給経路のインダクタンスを低くすることができる。特に、図7、図12および図16に示すように、プレーン導体層4pが、電源用導体層4bであれば、実装領域Xに搭載される半導体素子に、短距離かつ低インダクタンスで電荷を供給することができる。そのため、半導体素子をより安定に作動させることができる。 However, in the wiring board of the present disclosure, the plane conductor layer 4p is not limited to a power conductor. By providing a wide-area plane conductor layer 4p directly below the mounting area, the inductance of the power/ground supply path to the semiconductor element can be reduced. In particular, as shown in Figures 7, 12, and 16, if the plane conductor layer 4p is a power conductor layer 4b, charge can be supplied to the semiconductor element mounted in the mounting area X over a short distance with low inductance. This allows the semiconductor element to operate more stably.

第1の実施形態に係る配線基板1においては、図7に示すように、最下層のビルドアップ用絶縁層5の上面に位置する導体層4には、第1信号用接続パッド42c1よりも内側の領域に、プレーン導体層4pとして電源用導体層4bが単独で位置している。図12および16に示すように、第2の実施形態に係る配線基板および第3の実施形態に係る配線基板についても同様である。 In the wiring board 1 according to the first embodiment, as shown in FIG. 7, the conductor layer 4 located on the top surface of the lowermost build-up insulating layer 5 has a power supply conductor layer 4b located alone as a plane conductor layer 4p in an area inside the first signal connection pad 42c1. As shown in FIGS. 12 and 16, the same is true for the wiring board according to the second embodiment and the wiring board according to the third embodiment.

しかし、本開示の配線基板においては、プレーン導体層4pとして、互いに電気的に独立した複数のプレーン導体層4pが含まれていてもよい。複数のプレーン導体層4pが含まれていると、複数チャンネルの電源/グランドを設けることができる。さらに、アナログ信号およびデジタル信号の両信号用の半導体素子に対応することもできる。 However, in the wiring board of the present disclosure, the plane conductor layer 4p may include multiple plane conductor layers 4p that are electrically independent from each other. If multiple plane conductor layers 4p are included, it is possible to provide multiple channels of power/ground. Furthermore, it is also possible to accommodate semiconductor elements for both analog and digital signals.

本開示の配線基板は、上述の第1の実施形態に係る配線基板1、第2の実施形態に係る配線基板および第3の実施形態に係る配線基板に限定されない。例えば、第1の実施形態に係る配線基板1、第2の実施形態に係る配線基板および第3の実施形態に係る配線基板の実装領域Xにおいて、第1信号用接続パッド42c1および第2信号用接続パッド42c2は、それぞれ2列位置している。しかし、本開示の配線基板において、第1信号用接続パッド42c1は3列以上位置していてもよい。同様に、第2信号用接続パッド42c2は3列以上位置していてもよい。 The wiring board of the present disclosure is not limited to the wiring board 1 according to the first embodiment, the wiring board according to the second embodiment, and the wiring board according to the third embodiment described above. For example, in the mounting area X of the wiring board 1 according to the first embodiment, the wiring board according to the second embodiment, and the wiring board according to the third embodiment, the first signal connection pads 42c1 and the second signal connection pads 42c2 are each located in two rows. However, in the wiring board of the present disclosure, the first signal connection pads 42c1 may be located in three or more rows. Similarly, the second signal connection pads 42c2 may be located in three or more rows.

第1の実施形態に係る配線基板1および第2の実施形態に係る配線基板の実装領域Xにおいて、1列の電源用接続パッド42bおよび1列のグランド用接続パッド42aが位置している。しかし、本開示の配線基板において、電源用接続パッド42bおよびグランド用接続パッド42aが、それぞれ複数列存在していてもよく、電源用接続パッド42bおよびグランド用接続パッド42aが合わせて1列に位置していてもよい。 In the mounting area X of the wiring board 1 according to the first embodiment and the wiring board according to the second embodiment, one row of power supply connection pads 42b and one row of ground connection pads 42a are located. However, in the wiring board of the present disclosure, there may be multiple rows of power supply connection pads 42b and ground connection pads 42a, or the power supply connection pads 42b and ground connection pads 42a may be located together in one row.

第1の実施形態に係る配線基板1において、ビルドアップ層を形成している積層体3は、6層のビルドアップ用絶縁層5と6層の導体層4とが、交互に積層された構造を有している。第2の実施形態に係る配線基板において、ビルドアップ層を形成している積層体3は、5層のビルドアップ用絶縁層5と5層の導体層4とが、交互に積層された構造を有している。第3の実施形態に係る配線基板において、ビルドアップ層を形成している積層体3は、4層のビルドアップ用絶縁層5と4層の導体層4とが、交互に積層された構造を有している。しかし、本開示の配線基板において、ビルドアップ用絶縁層および導体層の層数は、ビルドアップ構造を有していれば限定されない。層数は、例えば、第1信号用接続パッド42c1の列数および第2信号用接続パッド42c2の列数などに応じて、適宜設定すればよい。 In the wiring board 1 according to the first embodiment, the laminate 3 forming the build-up layer has a structure in which six build-up insulating layers 5 and six conductor layers 4 are alternately stacked. In the wiring board according to the second embodiment, the laminate 3 forming the build-up layer has a structure in which five build-up insulating layers 5 and five conductor layers 4 are alternately stacked. In the wiring board according to the third embodiment, the laminate 3 forming the build-up layer has a structure in which four build-up insulating layers 5 and four conductor layers 4 are alternately stacked. However, in the wiring board of the present disclosure, the number of layers of the build-up insulating layers and conductor layers is not limited as long as it has a build-up structure. The number of layers may be set appropriately depending on, for example, the number of rows of the first signal connection pads 42c1 and the number of rows of the second signal connection pads 42c2.

第1の実施形態に係る配線基板1、第2の実施形態に係る配線基板および第3の実施形態に係る配線基板において、各引き出し配線(信号用導体層4c)は、シングルラインである。しかし、各引き出し配線は、差動線路(ペアライン)であっても構わない。差動線路は、高周波伝送における電気的ロスの少ない形態であり、高周波信号を伝送する伝送路として有用である。 In the wiring board 1 according to the first embodiment, the wiring board according to the second embodiment, and the wiring board according to the third embodiment, each lead-out wiring (signal conductor layer 4c) is a single line. However, each lead-out wiring may be a differential line (pair line). A differential line is a form of high-frequency transmission with little electrical loss, and is useful as a transmission line for transmitting high-frequency signals.

さらに、本開示の配線基板において、実装領域Xに実装される半導体素子は、一般的に配線基板に搭載される半導体素子であれば限定されない。このような半導体素子としては、例えば、半導体集積回路素子、オプトエレクトロニクス素子などが挙げられる。 Furthermore, in the wiring board of the present disclosure, the semiconductor element mounted in the mounting area X is not limited as long as it is a semiconductor element that is generally mounted on a wiring board. Examples of such semiconductor elements include semiconductor integrated circuit elements and optoelectronic elements.

1 配線基板
2 コア用絶縁層
21 スルーホール導体
21a グランド用スルーホール導体
21b 電源用スルーホール導体
21c 信号用スルーホール導体
3 積層体
4 導体層
4a グランド用導体層
4b 電源用導体層
4c 信号用導体層
4p プレーン導体層
41 ビアホール導体
41a グランド用ビアホール導体
41b 電源用ビアホール導体
41c 信号用ビアホール導体
42 接続パッド
42a グランド用接続パッド
42b 電源用接続パッド
42c1 第1信号用接続パッド
42c2 第2信号用接続パッド
43 ビアランド
431 第1ビアランド
432 第2ビアランド
44 第1引き出し配線
45 第2引き出し配線
46 中継ぎ配線
46’ 第2中継ぎ配線
461 第1補助配線
462 第2補助配線
463 第3補助配線
47 中継ぎビアランド
471 第1補助ビアランド
472 第2補助ビアランド
473 第3補助ビアランド
474 第4補助ビアランド
475 第5補助ビアランド
5 ビルドアップ用絶縁層
6 ソルダーレジスト
REFERENCE SIGNS LIST 1 wiring board 2 core insulating layer 21 through-hole conductor 21a ground through-hole conductor 21b power supply through-hole conductor 21c signal through-hole conductor 3 laminate 4 conductor layer 4a ground conductor layer 4b power supply conductor layer 4c signal conductor layer 4p plane conductor layer 41 via-hole conductor 41a ground via-hole conductor 41b power supply via-hole conductor 41c signal via-hole conductor 42 connection pad 42a ground connection pad 42b power supply connection pad 42c1 first signal connection pad 42c2 second signal connection pad 43 via land 431 first via land 432 second via land 44 first lead-out wiring 45 second lead-out wiring 46 intermediate wiring 46' second intermediate wiring 461 first auxiliary wiring 462 second auxiliary wiring 463 third auxiliary wiring 47 Intermediate via land 471 First auxiliary via land 472 Second auxiliary via land 473 Third auxiliary via land 474 Fourth auxiliary via land 475 Fifth auxiliary via land 5 Build-up insulating layer 6 Solder resist

Claims (7)

複数のスルーホール導体を有するコア用絶縁層と、
該コア用絶縁層上に位置し、上面に実装領域を有する積層体と、
を備え、
該積層体は、導体層および複数のビアホール導体を有するビルドアップ用絶縁層が交互に位置しており、
前記導体層は、前記実装領域に位置する接続パッドと、平面透視で前記実装領域内に位置し、前記ビアホール導体を介して前記接続パッドに繋がるビアランドと、二つの端部を有しており、一端が前記ビアランドに繋がり、他端が前記実装領域よりも外側に位置する前記ビアホール導体に繋がる引き出し配線と、前記ビルドアップ用絶縁層を介して前記引き出し配線の上下に位置するプレーン導体と、前記コア用絶縁層に接する最下層のビルドアップ用絶縁層上に、平面透視で前記実装領域内に位置する電源用導体層と、を有し、
前記接続パッドは、平面透視で、前記電源用導体層に重ならない領域に位置する第1信号用接続パッド、および前記電源用導体層に重なる領域に位置する第2信号用接続パッドを有し、
前記ビアランドは、平面透視で、前記第1信号用接続パッドと同軸上で繋がる第1ビアランドと、前記第2信号用接続パッドと同軸上で繋がる第2ビアランドと、前記電源用導体層に重ならない領域に位置する中継ぎビアランドと、を有しており、
前記積層体は、前記第2ビアランドと前記中継ぎビアランドとを中継ぎ配線で繋いでいる中継ぎ配線保有層を有している、配線基板。
a core insulating layer having a plurality of through-hole conductors;
a laminate located on the core insulating layer and having a mounting area on an upper surface thereof;
Equipped with
The laminate has conductor layers and build-up insulating layers having a plurality of via-hole conductors arranged alternately,
the conductor layer includes a connection pad located in the mounting area, a via land located within the mounting area in a planar perspective and connected to the connection pad via the via hole conductor, a lead-out wiring having two ends, one end connected to the via land and the other end connected to the via hole conductor located outside the mounting area, a plane conductor located above and below the lead-out wiring via the build-up insulating layer, and a power supply conductor layer located within the mounting area in a planar perspective on a lowermost build-up insulating layer in contact with the core insulating layer,
the connection pads include a first signal connection pad located in an area not overlapping the power supply conductor layer in a planar perspective view, and a second signal connection pad located in an area overlapping the power supply conductor layer;
the via land includes, in a planar perspective view, a first via land coaxially connected to the first signal connection pad, a second via land coaxially connected to the second signal connection pad, and a relay via land located in an area not overlapping the power supply conductor layer,
The laminate includes a relay-wire-retaining layer that connects the second via land and the relay via land with a relay wire.
前記接続パッドは、前記実装領域に格子配列で位置しており、
前記第1信号用接続パッドは、前記格子配列の最外周から少なくとも2列に位置し、
前記第1信号用接続パッドより内側の少なくとも1列には電源用接続パッドおよびグランド用接続パッドが位置し、
前記第2信号用接続パッドは、平面透視における前記電源用導体層に重なる領域から内側の少なくとも2列に位置しており、
前記中継ぎ配線保有層が、前記最下層のビルドアップ用絶縁層に接する上層の前記ビルドアップ用絶縁層上に位置する、
請求項1に記載の配線基板。
The connection pads are positioned in a grid array in the mounting area;
the first signal connection pads are located in at least two rows from the outermost periphery of the lattice array;
power supply connection pads and ground connection pads are located in at least one row on the inner side of the first signal connection pads;
the second signal connection pads are located in at least two rows on the inside from a region overlapping with the power supply conductor layer in a planar perspective view,
the relay-wire-retaining layer is located on the upper build-up insulating layer in contact with the lowermost build-up insulating layer;
The wiring board according to claim 1 .
前記中継ぎ配線保有層において、最も内側の列に位置する前記第2信号用接続パッドと同軸上で繋がる前記第2ビアランドが、前記中継ぎビアランドと前記中継ぎ配線で繋がっている、請求項2に記載の配線基板。 The wiring board according to claim 2, wherein the second via land, which is coaxially connected to the second signal connection pad located in the innermost row in the intermediate wiring-containing layer, is connected to the intermediate via land by the intermediate wiring. 前記接続パッドは、前記実装領域に格子配列で位置しており、
前記第1信号用接続パッドは、前記格子配列の最外周から少なくとも2列に位置し、
前記第1信号用接続パッドより内側の少なくとも1列には電源用接続パッドおよびグランド用接続パッドが位置し、
前記第2信号用接続パッドは、平面透視における前記電源用導体層に重なる領域から内側の少なくとも2列に位置しており、
前記積層体は、前記実装領域を有する第1ビルドアップ用絶縁層、第2ビルドアップ用絶縁層および第3ビルドアップ用絶縁層を上から順に有しており、
前記第2ビルドアップ用絶縁層上には、前記第1信号用接続パッドと同じ配列の前記第1ビアランドおよび前記第2信号用接続パッドと同じ配列の前記第2ビアランドが位置しており、
前記第2ビルドアップ用絶縁層上の前記導体層は、前記中継ぎ配線保有層であり、
前記第2ビルドアップ用絶縁層上における前記第1ビアランドは、前記引き出し配線と繋がっており、
前記第2ビルドアップ用絶縁層上における前記第2ビアランドの一部は、前記中継ぎ配線によって前記中継ぎビアランドに繋がっており、
前記第3ビルドアップ用絶縁層上には、前記中継ぎビアランドと前記ビアホール導体によって繋がる第1補助ビアランドと、該第1補助ビアランドよりも前記第3ビルドアップ用絶縁層の外周の近くに位置し、前記第3ビルドアップ用絶縁層の下層の前記導体層と前記ビアホール導体で繋ぐ第2補助ビアランドと、前記第1補助ビアランドおよび前記第2補助ビアランドを繋ぐ第1補助配線とを有している、請求項1に記載の配線基板。
The connection pads are positioned in a grid array in the mounting area;
the first signal connection pads are located in at least two rows from the outermost periphery of the lattice array;
power supply connection pads and ground connection pads are located in at least one row on the inner side of the first signal connection pads;
the second signal connection pads are located in at least two rows on the inside from a region overlapping with the power supply conductor layer in a planar perspective view,
the laminate includes, in order from above, a first build-up insulating layer having the mounting region, a second build-up insulating layer, and a third build-up insulating layer;
the first via lands are arranged in the same manner as the first signal connection pads and the second via lands are arranged in the same manner as the second signal connection pads on the second build-up insulating layer,
the conductor layer on the second build-up insulating layer is the relay-wire-retaining layer,
the first via land on the second build-up insulating layer is connected to the lead-out wiring,
a portion of the second via land on the second build-up insulating layer is connected to the relay via land by the relay wiring,
2. The wiring board according to claim 1, further comprising: a first auxiliary via land on the third build-up insulating layer, the first auxiliary via land being connected to the intermediate via land by the via hole conductor; a second auxiliary via land located closer to the outer periphery of the third build-up insulating layer than the first auxiliary via land and connecting to the conductor layer below the third build-up insulating layer by the via hole conductor; and a first auxiliary wiring connecting the first auxiliary via land and the second auxiliary via land.
前記中継ぎ配線保有層において、最も外側の列に位置する前記第2信号用接続パッドと同軸上で繋がる前記第2ビアランドが、前記中継ぎビアランドと前記中継ぎ配線で繋がっている、請求項4に記載の配線基板。 The wiring board according to claim 4, wherein the second via land, which is coaxially connected to the second signal connection pad located in the outermost row in the intermediate wiring-containing layer, is connected to the intermediate via land by the intermediate wiring. 前記接続パッドは、前記実装領域に格子配列で位置しており、
前記第1信号用接続パッドは、前記格子配列の最外周から少なくとも2列に位置し、
前記第2信号用接続パッドは、前記第1信号用接続パッドより内側に隣接する少なくとも2列に位置し、
前記第2信号用接続パッドより内側の少なくとも1列には電源用接続パッドおよびグランド用接続パッドが位置しており、
前記積層体は、前記実装領域を有する第1ビルドアップ用絶縁層、第2ビルドアップ用絶縁層および第3ビルドアップ用絶縁層を上から順に有しており、
前記第2ビルドアップ用絶縁層上には、前記第1信号用接続パッドと同じ配列の前記第1ビアランドおよび前記第2信号用接続パッドと同じ配列の前記第2ビアランドが位置しており、
前記第2ビルドアップ用絶縁層上の前記第1ビアランドは、前記引き出し配線と繋がっており、
前記第2ビルドアップ用絶縁層上の前記第2ビアランドの一部は、前記第1ビアランドの配列と前記第2ビアランドの配列との間に位置する第3補助ビアランドと、第2補助配線によって繋がっており、
前記第3ビルドアップ用絶縁層上の前記導体層は、前記中継ぎ配線保有層であり、
前記第3ビルドアップ用絶縁層上の前記第2ビアランドは、前記中継ぎ配線によって前記中継ぎビアランドに繋がっており、
前記第3補助ビアランドと前記ビアホール導体によって繋がっている第4補助ビアランドと、平面透視における前記電源用導体層に重なる領域外に位置する第5補助ビアランドとが第3補助配線によって繋がっている、請求項1に記載の配線基板。
The connection pads are positioned in a grid array in the mounting area;
the first signal connection pads are located in at least two rows from the outermost periphery of the lattice array;
the second signal connection pads are located in at least two rows adjacent to the inside of the first signal connection pads,
power supply connection pads and ground connection pads are located in at least one row on the inner side of the second signal connection pads,
the laminate includes, in order from above, a first build-up insulating layer having the mounting region, a second build-up insulating layer, and a third build-up insulating layer;
the first via lands are arranged in the same manner as the first signal connection pads and the second via lands are arranged in the same manner as the second signal connection pads on the second build-up insulating layer;
the first via land on the second build-up insulating layer is connected to the lead-out wiring,
a part of the second via land on the second build-up insulating layer is connected to a third auxiliary via land located between the arrangement of the first via lands and the arrangement of the second via lands by a second auxiliary wiring;
the conductor layer on the third build-up insulating layer is the relay-wire-retaining layer,
the second via land on the third build-up insulating layer is connected to the relay via land by the relay wiring,
2. The wiring board according to claim 1, wherein a fourth auxiliary via land connected to the third auxiliary via land by the via hole conductor and a fifth auxiliary via land located outside the area overlapping the power supply conductor layer in a planar perspective are connected by a third auxiliary wiring.
前記中継ぎ配線保有層は、最も外側の列に位置する前記第2信号用接続パッドと同軸上で繋がる前記第2ビアランドと前記中継ぎビアランドとを前記中継ぎ配線で繋いでいる、請求項6に記載の配線基板。 The wiring board according to claim 6, wherein the intermediate wiring holding layer connects the second via land and the intermediate via land, which are coaxially connected to the second signal connection pads located in the outermost row, with the intermediate wiring.
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