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JP7537573B2 - Electronic component mounting substrate and electronic device using same - Google Patents
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JP7537573B2 - Electronic component mounting substrate and electronic device using same - Google Patents

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JP7537573B2 JP2023141909A JP2023141909A JP7537573B2 JP 7537573 B2 JP7537573 B2 JP 7537573B2 JP 2023141909 A JP2023141909 A JP 2023141909A JP 2023141909 A JP2023141909 A JP 2023141909A JP 7537573 B2 JP7537573 B2 JP 7537573B2
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Description

本発明は、保護層を有する電子部品搭載基板に関する。また前記電子部品搭載基板が搭載された電子機器に関する。 The present invention relates to an electronic component mounting substrate having a protective layer. It also relates to an electronic device equipped with the electronic component mounting substrate.

スマートフォン、ウェアラブル機器をはじめとする端末系の電子機器は多種多様な環境で使用されることから、過酷な条件下でも誤作動を生じることの無いよう、高い信頼性が求められている。これら電子機器には半導体素子等の電子部品が搭載されている。半導体素子等の電子部品は通常、基板上に形成され外部からの物理的ダメージ、熱や光、湿度による劣化を防止するため、予めエポキシ樹脂等で封止された状態で電子機器に用いられている。 Smartphones, wearable devices, and other terminal electronic devices are used in a wide variety of environments, so they require high reliability to prevent malfunctions even under harsh conditions. These electronic devices are equipped with electronic components such as semiconductor elements. Electronic components such as semiconductor elements are usually formed on a substrate and are used in electronic devices in a state where they are pre-encapsulated with epoxy resin or the like to prevent physical damage from the outside and deterioration due to heat, light, and humidity.

特開2003-145687号公報JP 2003-145687 A

特許文献1には電子部品の湿度による劣化を抑制するための電子機器部品用防湿シートが開示されている。上記シートでは、例えばプレッシャークッカーテスト(以下、「PCT」と略記することもある。)のような厳しい環境試験では電子部品や基板の樹脂成分が劣化し、シートが剥離する問題があった(以下、PCT後の密着性のことを「PCT密着性」と表記することがある。)。また基板の劣化に伴い反りが発生するといった問題があった(以下、前記基板の反りにくさのことを「基板保護性」と表記することがある。)。
さらに、後工程であるダイシング工程や実装工程の際に当該電子部品をダイシングテープで固定、剥離するための最適な表面特性が求められていた。(以下、前記ダイシングテープで固定した後、剥離する際の適性のことを「工程作業性」と表記することがある。)。
Patent Document 1 discloses a moisture-proof sheet for electronic components for preventing deterioration of electronic components due to humidity. The sheet has a problem that the resin components of electronic components and substrates deteriorate and the sheet peels off in severe environmental tests such as pressure cooker tests (hereinafter, sometimes abbreviated as "PCT"). (Hereinafter, adhesion after PCT may be referred to as "PCT adhesion".) In addition, there is a problem that warping occurs as the substrate deteriorates (hereinafter, the resistance of the substrate to warping may be referred to as "substrate protection".).
Furthermore, there was a demand for optimal surface properties for fixing and peeling the electronic components with dicing tape during the subsequent dicing and mounting processes. (Hereinafter, the suitability for peeling after fixing with dicing tape may be referred to as "process workability.")

本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、PCT密着性、基板保護性、工程作業性に優れ、信頼性の高い電子部品搭載基板、及びそれを用いた電子機器を提供することを目的とする。 The present invention was made in consideration of the above problems, and aims to provide a highly reliable electronic component mounting substrate that has excellent PCT adhesion, substrate protection, and process operability, and an electronic device using the same.

本発明者らが鋭意検討を重ねたところ、以下の態様において、本発明の課題を解決し得ることを見出し、本発明を完成するに至った。即ち、 After extensive research, the inventors discovered that the problems of the present invention could be solved in the following manner, and thus completed the present invention.

本発明は、
基板と、
前記基板の少なくとも一方の面に搭載された電子部品と、
前記基板および前記電子部品の少なくとも一部を被覆した保護層と、
を備え、
前記保護層は、バインダー樹脂と鱗片状金属フィラーとを含み、
135℃、85%RH、0.23MPa、96時間のプレッシャークッカーテスト後の前記保護層表面の水との接触角が90~130°である電子部品搭載基板に関する。
The present invention relates to
A substrate;
An electronic component mounted on at least one surface of the substrate;
a protective layer covering at least a portion of the substrate and the electronic component;
Equipped with
the protective layer contains a binder resin and a flaky metal filler,
The electronic part mounting substrate has a contact angle of 90 to 130° with water on the surface of the protective layer after a pressure cooker test at 135° C., 85% RH, 0.23 MPa for 96 hours.

前記保護層のマルテンス硬さは、50~250N/mm2であることが好ましい。 The protective layer preferably has a Martens hardness of 50 to 250 N/mm 2 .

また、前記保護層のガラス転移温度は、20~100℃であることが好ましい。 The glass transition temperature of the protective layer is preferably 20 to 100°C.

また、前記保護層は、ISO 25178-2:2012に準拠して求めた展開界面面積率(Sdr)が1.0%~4.0%であり、かつ最大谷深さ(Sv)が1.5μm~4.5μmであることが好ましい。 The protective layer preferably has a developed interface area ratio (Sdr) of 1.0% to 4.0% and a maximum valley depth (Sv) of 1.5 μm to 4.5 μm, as determined in accordance with ISO 25178-2:2012.

また、前記保護層は、更に、
デンドライト状金属フィラーまたは針状金属フィラーを含むことが好ましい。
The protective layer further comprises:
It is preferred that the filler metal is dendritic or acicular.

さらに、本発明は、前記電子部品搭載基板が搭載された、電子機器に関する。 The present invention also relates to an electronic device equipped with the electronic component mounting board.

上記構成の本発明によれば、PCT後でも基板や電子部品の劣化が少なく、長期信頼性に優れた電子部品搭載基板、及びそれを用いた電子機器を提供できるという優れた効果を奏する。 The present invention, configured as described above, has the excellent effect of providing an electronic component mounting substrate with excellent long-term reliability and an electronic device using the same, with little deterioration of the substrate or electronic components even after PCT.

電子部品搭載基板の一例を示す模式的斜視図。FIG. 1 is a schematic perspective view showing an example of an electronic component mounting board. 図1のII-II切断部断面図。FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line II-II of FIG. 電子部品搭載基板の別の一例を示す模式的断面図。FIG. 11 is a schematic cross-sectional view showing another example of an electronic component mounting board. 積層体の一例を示す模式的断面図。FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing an example of a laminate. 電子部品搭載基板の製造工程の一例を示す模式的断面図。Schematic cross-sectional views showing an example of a manufacturing process for an electronic component mounting board. 電子部品搭載基板の製造工程の一例を示す模式的断面図。Schematic cross-sectional views showing an example of a manufacturing process for an electronic component mounting board. 電子部品搭載基板の製造工程の一例を示す模式的断面図。Schematic cross-sectional views showing an example of a manufacturing process for an electronic component mounting board. 実施例で使用した試験基板を示す模式的断面図Schematic cross-sectional view showing a test substrate used in the examples.

以下、本発明を適用した実施形態の一例について説明する。なお、本明細書において特定する数値は、実施形態または実施例に開示した方法により求められる値である。また、本明細書におけるシートとは、JISにおいて定義されるシートのみならず、フィルムも含むものとする。説明を明確にするため、以下の記載および図面は、適宜、簡略化されている。本明細書中に記載される各種成分は特に注釈しない限り、それぞれ独立に一種単独で使用してもよく、二種以上を併用してもよい。 An example of an embodiment to which the present invention is applied is described below. The numerical values specified in this specification are values determined by the methods disclosed in the embodiments or examples. Furthermore, the sheet in this specification includes not only sheets as defined in JIS, but also films. In order to clarify the explanation, the following description and drawings have been appropriately simplified. Unless otherwise noted, the various components described in this specification may be used independently, either alone or in combination of two or more types.

<電子部品搭載基板>
図1に、本発明に係る電子部品搭載基板の一例を示す模式的斜視図を、図2に図1のI
I-II切断部断面図を示す。電子部品搭載基板51は、基板20、電子部品30および保護層1等を有する。
<Electronic component mounting board>
FIG. 1 is a schematic perspective view showing an example of an electronic component mounting board according to the present invention, and FIG.
The electronic component mounting board 51 includes a substrate 20, an electronic component 30, a protective layer 1, and the like.

<基板>
基板20は、電子部品30を搭載可能であり、且つ後述する熱圧着工程に耐え得るものであればよく、任意に選択できる。例えば銅箔等からなる導電パターンが表面又は内部に形成されたワークボード、実装モジュール基板、プリント配線板またはビルドアップ法等により形成されたビルドアップ基板が挙げられる。また、フィルムやシート状のフレキシブル基板を用いてもよい。前記導電パターンは、例えば、電子部品30と電気的に接続するための電極・配線パターン(不図示)、保護層1と電気的に接続するためのグランドパターン22である。基板内部には電極・配線パターン、ビア(不図示)等を任意に設けることができる。基板20はリジッド基板のみならず、フレキシブル基板であってもよい。
<Substrate>
The substrate 20 can be selected arbitrarily as long as it can mount the electronic component 30 and can withstand the thermocompression bonding process described later. For example, a work board on which a conductive pattern made of copper foil or the like is formed on or inside, a mounting module board, a printed wiring board, or a build-up board formed by a build-up method or the like can be mentioned. A film or sheet-like flexible substrate may also be used. The conductive pattern is, for example, an electrode/wiring pattern (not shown) for electrically connecting with the electronic component 30, and a ground pattern 22 for electrically connecting with the protective layer 1. An electrode/wiring pattern, a via (not shown), and the like can be arbitrarily provided inside the substrate. The substrate 20 may be not only a rigid substrate but also a flexible substrate.

<電子部品>
電子部品30は、図1の例においては基板20上に5×4個アレイ状に配置されている。そして、基板20および電子部品30の露出面を被覆するように保護層1が設けられている。即ち、保護層1は、電子部品30により形成される凹凸に追従するように被覆されている。保護層1により、電子部品30または基板20を高温高湿環境や物理的衝撃から保護する。また、保護層1が導電性を有する場合、電子部品30または基板20に内蔵された信号配線等から発生する不要輻射を遮蔽し、また、外部からの磁場や電波による誤動作を防止できる。
<Electronic Components>
In the example of Fig. 1, the electronic components 30 are arranged in a 5 x 4 array on the substrate 20. A protective layer 1 is provided to cover the exposed surfaces of the substrate 20 and the electronic components 30. That is, the protective layer 1 is coated so as to conform to the unevenness formed by the electronic components 30. The protective layer 1 protects the electronic components 30 or the substrate 20 from high temperature and high humidity environments and physical shocks. In addition, when the protective layer 1 is conductive, it can block unnecessary radiation generated from signal wiring and the like built into the electronic components 30 or the substrate 20, and can prevent malfunctions due to external magnetic fields and radio waves.

電子部品30の個数、配置、形状および種類は任意である。アレイ状に電子部品30を配置する態様に代えて、電子部品30を任意の位置に配置してもよい。電子部品搭載基板51を単位モジュールに個片化する場合、図2に示すように、基板上面から基板の厚み方向に単位モジュールを区画するように基板20中にハーフダイシング溝25を設けてもよい。なお、本発明における電子部品搭載基板は、単位モジュールに個片化する前の基板、および単位モジュールに個片化した後の基板の両方を含む。即ち、図1、図2のような複数の単位モジュール(電子部品30)が搭載された電子部品搭載基板51の他、図3のような単位モジュールに個片化した後の電子部品搭載基板52も含む。本発明においては、図3に示すように1つのみの単位モジュールを含むように個片化されてもよく、2つ以上の単位モジュールを含むように個片化されてもよい(不図示)。無論、個片化工程を経ずに、基板20上に1つの電子部品30を搭載し、保護層1で被覆した電子部品搭載基板も含まれる。即ち、本発明に係る電子部品搭載基板は、基板上に少なくとも1つの電子部品が搭載されており、電子部品の搭載により形成された段差部の少なくとも一部を保護層1が被覆した構造を包括する。 The number, arrangement, shape and type of electronic components 30 are arbitrary. Instead of arranging the electronic components 30 in an array, the electronic components 30 may be arranged in any position. When the electronic component mounting substrate 51 is singulated into unit modules, as shown in FIG. 2, a half dicing groove 25 may be provided in the substrate 20 so as to partition the unit modules from the upper surface of the substrate in the thickness direction of the substrate. The electronic component mounting substrate in the present invention includes both the substrate before singulation into unit modules and the substrate after singulation into unit modules. That is, in addition to the electronic component mounting substrate 51 on which a plurality of unit modules (electronic components 30) are mounted as shown in FIG. 1 and FIG. 2, the electronic component mounting substrate 52 after singulation into unit modules as shown in FIG. 3 is also included. In the present invention, the substrate may be singulated to include only one unit module as shown in FIG. 3, or may be singulated to include two or more unit modules (not shown). Of course, the electronic component mounting substrate also includes an electronic component mounting substrate in which one electronic component 30 is mounted on the substrate 20 and covered with a protective layer 1 without undergoing a singulation process. That is, the electronic component mounting substrate according to the present invention includes a structure in which at least one electronic component is mounted on the substrate, and at least a portion of the step formed by mounting the electronic component is covered with a protective layer 1.

電子部品30は、半導体集積回路等の電子素子がエポキシ樹脂等の絶縁体により一体的に被覆された部品全般を含む。例えば、集積回路(不図示)が形成された半導体チップ31(図3参照)が封止材(モールド樹脂32)によりモールド成型されている態様がある。基板20と半導体チップ31は、これらの当接領域を介して、又はボンディングワイヤ33、はんだボール(不図示)等を介して基板20に形成された配線又は電極21と電気的に接続される。電子部品は、半導体チップの他、インダクタ、サーミスタ、キャパシタおよび抵抗等が例示できる。 The electronic component 30 includes all components in which electronic elements such as semiconductor integrated circuits are integrally coated with an insulator such as epoxy resin. For example, a semiconductor chip 31 (see FIG. 3) on which an integrated circuit (not shown) is formed is molded with a sealing material (molding resin 32). The substrate 20 and the semiconductor chip 31 are electrically connected to wiring or electrodes 21 formed on the substrate 20 via their contact area, or via bonding wires 33, solder balls (not shown), etc. Examples of electronic components include semiconductor chips, inductors, thermistors, capacitors, resistors, etc.

電子部品30および基板20は、公知の態様に対して広く適用できる。図3の例においては、半導体チップ31は、インナービア23を介して基板20の裏面にはんだボール24が接続されている。また、基板20内には、保護層1が導電性を有する場合、保護層1と電気的に接続するためのグランドパターン22が形成されていてもよい。また、電子部品30内には、単数又は複数の電子素子等を搭載できる。 The electronic component 30 and the substrate 20 can be widely applied to known embodiments. In the example of FIG. 3, the semiconductor chip 31 has solder balls 24 connected to the rear surface of the substrate 20 through inner vias 23. In addition, in the substrate 20, a ground pattern 22 for electrically connecting to the protective layer 1 may be formed if the protective layer 1 is conductive. In addition, one or more electronic elements can be mounted in the electronic component 30.

<保護層>
保護層は、バインダー樹脂と鱗片状金属フィラーとを含み、135℃、85%RH、0.23MPa、96時間のプレッシャークッカーテスト後の前記保護層表面の水との接触角(以後、「PCT後の水接触角」と略記することがある。)が90~130°である。保護層は保護シートから形成される。保護シートは鱗片状金属フィラーと、熱硬化性樹脂とを含有する組成物(以後、この組成物を「保護シート形成用組成物」とも表記する。)を混合攪拌し、離形性基材上に塗工し、溶剤などを含んでいる場合には必要に応じて乾燥することで形成することができる。また後述する離形性クッション部材3に直接塗工し、溶剤などを含んでいる場合には必要に応じて乾燥する方法でも形成することができる。
<Protective Layer>
The protective layer contains a binder resin and a flaky metal filler, and the contact angle of the protective layer surface with water after a pressure cooker test at 135°C, 85% RH, 0.23 MPa for 96 hours (hereinafter, sometimes abbreviated as "water contact angle after PCT") is 90 to 130°. The protective layer is formed from a protective sheet. The protective sheet can be formed by mixing and stirring a composition containing a flaky metal filler and a thermosetting resin (hereinafter, this composition is also referred to as a "composition for forming a protective sheet"), applying it onto a releasable substrate, and drying it as necessary if it contains a solvent or the like. It can also be formed by directly applying it to a releasable cushion member 3 described later, and drying it as necessary if it contains a solvent or the like.

《バインダー樹脂》
本発明におけるバインダー樹脂は、熱硬化性樹脂が硬化したものである。熱硬化性樹脂
は、反応性官能基を有する。上記に加え硬化剤を併用できる。また、自己架橋性樹脂や互いに架橋する複数の樹脂を用いてもよい。また、これらの樹脂に加えて、保護シート形成用組成物中で反応性を有しない熱可塑性樹脂を併用してもよい。
なお、保護シートの段階で架橋が一部形成されてBステージ(半硬化した状態)となっていてもよい。例えば、熱硬化性樹脂と硬化剤の一部が反応して半硬化した状態が含まれていてもよい。
<Binder resin>
The binder resin in the present invention is a cured thermosetting resin. The thermosetting resin has a reactive functional group. In addition to the above, a curing agent can be used in combination. A self-crosslinking resin or a plurality of resins that crosslink with each other may be used. In addition to these resins, a thermoplastic resin that does not have reactivity in the protective sheet forming composition may be used in combination.
Note that the protective sheet may be in a B-stage (semi-cured state) due to partial crosslinking. For example, the thermosetting resin and the curing agent may be in a semi-cured state due to partial reaction.

熱硬化性樹脂の好適な例は、反応性官能基を有するポリウレタン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリスチレン系樹脂系、フェノキシ系樹脂、ポリウレタンウレア系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリカーボネートイミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、エポキシ系樹脂、エポキシエステル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリエステルアミド系樹脂およびポリエーテルエステル系樹脂が挙げられる。 Suitable examples of thermosetting resins include polyurethane resins having reactive functional groups, polycarbonate resins, polystyrene resins, phenoxy resins, polyurethane urea resins, polyamide resins, polyimide resins, polycarbonate imide resins, polyamide imide resins, epoxy resins, epoxy ester resins, acrylic resins, polyester resins, polyester amide resins, and polyether ester resins.

これらの中でも、リフロー時における過酷な条件で使用する場合の熱硬化性樹脂としては、ポリウレタン系樹脂、ポリウレタンウレア系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、フェノキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、エポキシ系樹脂、エポキシエステル系樹脂のうち少なくとも一つを含んでいることが好ましい。また、ポリカーボネート骨格を有する樹脂を用いることにより耐PCT密着性(プレッシャークッカーテスト後における保護層と基板との密着性)が向上する。
熱硬化性樹脂は、1種単独で用いても良く、または任意の比率で2種以上を混合して用いてもよい。
Among these, when used under harsh conditions during reflow, the thermosetting resin preferably contains at least one of polyurethane resin, polyurethane urea resin, polycarbonate resin, polystyrene resin, phenoxy resin, polyamide resin, polyimide resin, epoxy resin, and epoxy ester resin. Furthermore, by using a resin having a polycarbonate skeleton, PCT adhesion resistance (adhesion between the protective layer and the substrate after a pressure cooker test) is improved.
The thermosetting resin may be used alone or in combination of two or more kinds at any ratio.

ポリカーボネート骨格を有する樹脂としては、ポリカーボネート樹脂の他、ポリカーボネート骨格を有するポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂およびポリイミド樹脂が例示できる。例えば、ポリカーボネートイミド樹脂によれば、ポリイミド骨格を有することにより、耐熱性、絶縁性および耐薬品性を高めることができる。一方、ポリカーボネート骨格を有することにより、PCT密着性と基板保護性を効果的に高めることができる 。 In addition to polycarbonate resin, examples of resins having a polycarbonate skeleton include polyurethane resins, polyamide resins, and polyimide resins having a polycarbonate skeleton. For example, polycarbonate-imide resins can improve heat resistance, insulating properties, and chemical resistance by having a polyimide skeleton. On the other hand, by having a polycarbonate skeleton, PCT adhesion and substrate protection can be effectively improved.

ポリカーボネートウレタン樹脂に用いるポリオール成分として、1,6-ヘキサンジオール、3-メチル-1,5-ペンタンジオール、1,4-シクロヘキサンジメタノール、1,9-ノナンジオール、又は2-メチル-1,8-オクタンジオール等のジオールが好ましい。上記ポリオールは、1種のみを用いてもよく、又は2種以上を併用してもよい。 As the polyol component used in the polycarbonate urethane resin, diols such as 1,6-hexanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, 1,9-nonanediol, or 2-methyl-1,8-octanediol are preferred. The above polyols may be used alone or in combination of two or more kinds.

上記熱硬化性樹脂として、加熱による架橋反応に利用できる官能基を複数有していてもよい。反応性官能基は、例えば、水酸基、フェノール性水酸基、カルボキシル基、アミノ基、エポキシ基、オキセタニル基、オキサゾリン基、オキサジン基、アジリジン基、チオール基、イソシアネート基、ブロック化イソシアネート基、シラノール基等が挙げられる。 The thermosetting resin may have multiple functional groups that can be used in a crosslinking reaction by heating. Examples of reactive functional groups include hydroxyl groups, phenolic hydroxyl groups, carboxyl groups, amino groups, epoxy groups, oxetanyl groups, oxazoline groups, oxazine groups, aziridine groups, thiol groups, isocyanate groups, blocked isocyanate groups, and silanol groups.

硬化剤は、熱硬化性樹脂の反応性官能基と架橋可能な官能基を有している。架橋することで密着性をより強固にし、PCT密着性を向上させることができる。硬化剤は、エポキシ化合物、酸無水物基含有化合物、イソシアネート化合物、ポリカルボジイミド化合物、アジリジン化合物、ジシアンジアミド化合物、イミダゾール化合物、芳香族ジアミン化合物等のアミン化合物、フェノールノボラック樹脂等のフェノール化合物、有機金属化合物等が好ましい。硬化剤は、樹脂であってもよい。この場合、熱硬化性樹脂と硬化剤との区別は、含有量の多い方を熱硬化性樹脂とし、含有量の少ない方を硬化剤として区別する。 The curing agent has a functional group that can crosslink with the reactive functional group of the thermosetting resin. Crosslinking can further strengthen adhesion and improve PCT adhesion. The curing agent is preferably an epoxy compound, an acid anhydride group-containing compound, an isocyanate compound, a polycarbodiimide compound, an aziridine compound, a dicyandiamide compound, an imidazole compound, an amine compound such as an aromatic diamine compound, a phenolic compound such as a phenol novolac resin, an organometallic compound, or the like. The curing agent may be a resin. In this case, the thermosetting resin and the curing agent are distinguished by the one with a higher content being the thermosetting resin and the one with a lower content being the curing agent.

上記エポキシ化合物は、1分子中に2個以上のエポキシ基を有する化合物である。エポキシ化合物の性状としては、液状および固形状を問わない。エポキシ化合物としては、例えば、グリジシルエーテル型エポキシ化合物、グリジシルアミン型エポキシ化合物、グリ
シジルエステル型エポキシ化合物、環状脂肪族(脂環型)エポキシ化合物等が好ましい。
The epoxy compound is a compound having two or more epoxy groups in one molecule. The epoxy compound may be liquid or solid. As the epoxy compound, for example, glycidyl ether type epoxy compound, glycidyl amine type epoxy compound, glycidyl ester type epoxy compound, cyclic aliphatic (alicyclic) epoxy compound, etc. are preferable.

グリシジルエーテル型エポキシ化合物としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ化合物、ビスフェノールF型エポキシ化合物、ビスフェノールS型エポキシ化合物、ビスフェノールAD型エポキシ化合物、クレゾールノボラック型エポキシ化合物、フェノールノボラック型エポキシ化合物、α-ナフトールノボラック型エポキシ化合物、ビスフェノールA型ノボラック型エポキシ化合物、ジシクロペンタジエン型エポキシ化合物、テトラブロムビスフェノールA型エポキシ化合物、臭素化フェノールノボラック型エポキシ化合物、トリス(グリシジルオキシフェニル)メタン、テトラキス(グリシジルオキシフェニル)エタン等が挙げられる。 Examples of glycidyl ether type epoxy compounds include bisphenol A type epoxy compounds, bisphenol F type epoxy compounds, bisphenol S type epoxy compounds, bisphenol AD type epoxy compounds, cresol novolac type epoxy compounds, phenol novolac type epoxy compounds, α-naphthol novolac type epoxy compounds, bisphenol A type novolac type epoxy compounds, dicyclopentadiene type epoxy compounds, tetrabromobisphenol A type epoxy compounds, brominated phenol novolac type epoxy compounds, tris(glycidyloxyphenyl)methane, tetrakis(glycidyloxyphenyl)ethane, etc.

グリシジルアミン型エポキシ化合物としては、例えば、テトラグリシジルジアミノジフェニルメタン、トリグリシジルパラアミノフェノール、トリグリシジルメタアミノフェノール、テトラグリシジルメタキシリレンジアミン等が挙げられる。 Examples of glycidylamine type epoxy compounds include tetraglycidyldiaminodiphenylmethane, triglycidyl paraaminophenol, triglycidyl meta-aminophenol, and tetraglycidyl meta-xylylenediamine.

グリシジルエステル型エポキシ化合物としては、例えば、ジグリシジルフタレート、ジグリシジルヘキサヒドロフタレート、ジグリシジルテトラヒドロフタレート等が挙げられる。 Examples of glycidyl ester type epoxy compounds include diglycidyl phthalate, diglycidyl hexahydrophthalate, and diglycidyl tetrahydrophthalate.

環状脂肪族(脂環型)エポキシ化合物としては、例えば、エポキシシクロヘキシルメチル-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビス(エポキシシクロヘキシル)アジペート等が挙げられる。また、液状のエポキシ化合物を好適に用いることができる。 Examples of cyclic aliphatic (alicyclic) epoxy compounds include epoxycyclohexylmethyl-epoxycyclohexanecarboxylate, bis(epoxycyclohexyl)adipate, etc. Liquid epoxy compounds can also be used.

イミダゾール化合物は、2-メチルイミダゾール、2-エチル-4-メチルイミダゾール、2-フェニル-4-メチルイミダゾール、2,4-ジメチルイミダゾール、2-フェニルイミダゾール等のイミダゾール化合物が挙げられ、更にはイミダゾール化合物とエポキシ樹脂を反応させて溶剤に不溶化したタイプ、またはイミダゾール化合物をマイクロカプセルに封入したタイプ等の保存安定性を改良した潜在性硬化促進剤が挙げられるが、これらの中でも、保護シートの熱溶融後に硬化を開始させる観点から潜在性硬化促進剤が好ましい。 Examples of imidazole compounds include imidazole compounds such as 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 2,4-dimethylimidazole, and 2-phenylimidazole. Further examples include latent curing accelerators with improved storage stability, such as a type insoluble in a solvent by reacting an imidazole compound with an epoxy resin, or a type in which an imidazole compound is encapsulated in a microcapsule. Among these, latent curing accelerators are preferred from the viewpoint of initiating curing after the protective sheet is thermally melted.

硬化剤の構造、分子量は用途に応じて適宜選択できる。保護シートの柔軟性を向上させる観点からは、分子量の異なる2種類以上の硬化剤を用いることが好ましい。2種以上の硬化剤を用いることにより、保護層内で十分な3次元架橋構造が構築され、PCT密着性が向上できる。 The structure and molecular weight of the curing agent can be selected appropriately depending on the application. From the viewpoint of improving the flexibility of the protective sheet, it is preferable to use two or more types of curing agents with different molecular weights. By using two or more types of curing agents, a sufficient three-dimensional crosslinking structure is established within the protective layer, and PCT adhesion can be improved.

硬化剤は、熱硬化性樹脂100質量部に対して1~70質量部含むことが好ましく、3~65質量部がより好ましく、3~60質量部が更に好ましい。硬化剤を2種以上併用する場合には、主となる硬化剤を熱硬化性樹脂100質量部に対して5~60質量部含むことが好ましく、10~60質量部含むことがより好ましく、20~60質量部含むことが更に好ましい。 The hardener is preferably contained in an amount of 1 to 70 parts by mass, more preferably 3 to 65 parts by mass, and even more preferably 3 to 60 parts by mass, per 100 parts by mass of the thermosetting resin. When two or more types of hardeners are used in combination, the main hardener is preferably contained in an amount of 5 to 60 parts by mass, more preferably 10 to 60 parts by mass, and even more preferably 20 to 60 parts by mass, per 100 parts by mass of the thermosetting resin.

保護シート形成用組成物中で反応性を有しない熱可塑性樹脂の好適な例は、ポリエステル、アクリル系樹脂、ポリエーテル、ウレタン系樹脂、ポリスチレン、ポリカーボネート、ブタジエンゴム、ポリアミド、エステルアミド系樹脂、ポリイソプレン、およびセルロースが例示できる。粘着付与樹脂としては、ロジン系樹脂、テルペン系樹脂、脂環式系石油樹脂、および芳香族系石油樹脂等が例示できる。また、導電性ポリマーを用いることができる。導電性ポリマーとしては、ポリエチレンジオキシチオフェン、ポリアセチレン、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリアニリンが例示できる。 Suitable examples of thermoplastic resins that are not reactive in the protective sheet-forming composition include polyester, acrylic resin, polyether, urethane resin, polystyrene, polycarbonate, butadiene rubber, polyamide, esteramide resin, polyisoprene, and cellulose. Examples of tackifier resins include rosin resin, terpene resin, alicyclic petroleum resin, and aromatic petroleum resin. Conductive polymers can also be used. Examples of conductive polymers include polyethylenedioxythiophene, polyacetylene, polypyrrole, polythiophene, and polyaniline.

《鱗片状金属フィラー》
鱗片状金属フィラーは、鱗片状の金属粉であって、本発明においてはプレート状、薄片状、板状と称されるものも含む。フィラーの周囲に切れ込み等が存在してもよい。
鱗片状金属フィラーの平均粒子径D50は、0.1μm~100μmが好ましく、0.5μm~70μmがより好ましく、1.0μm~40μmが更に好ましい。鱗片状金属フィラーの厚みは、0.05μm~3μmが好ましく、0.07μm~1.5μmがより好ましく、0.1μm~1μmが更に好ましい。ここで鱗片状金属フィラーの厚みは電子顕微鏡で千倍~5万倍程度に拡大した画像を元に異なる粒子を約10~20個を測定し、その平均値を使用したものである。
<<Flake-like metal filler>>
The flake-like metal filler is a flake-like metal powder, and in the present invention includes what are called plate-like, thin flake-like, and plate-like. There may be notches or the like around the filler.
The average particle diameter D50 of the scaly metal filler is preferably 0.1 μm to 100 μm, more preferably 0.5 μm to 70 μm, and even more preferably 1.0 μm to 40 μm. The thickness of the scaly metal filler is preferably 0.05 μm to 3 μm, more preferably 0.07 μm to 1.5 μm, and even more preferably 0.1 μm to 1 μm. Here, the thickness of the scaly metal filler is measured using an image magnified about 1,000 to 50,000 times with an electron microscope, and the average value of the measurements is used.

鱗片状金属フィラーの好適な金属の種類としては、金、銀、銅、ニッケル等の金属粉、ハンダ等の合金粉、銀コート銅粉、金コート銅粉、銀コートニッケル粉、金コートニッケル粉等のコアシェル型フィラーが例示できる。優れた導電特性を得る観点から、銀又は銅を含有する鱗片状金属フィラーが好ましい。コストの観点からは、銅粉を銀で被覆した銀コート銅粉が特に好ましい。 Suitable types of metal for the flake metal filler include metal powders such as gold, silver, copper, and nickel, alloy powders such as solder, and core-shell type fillers such as silver-coated copper powder, gold-coated copper powder, silver-coated nickel powder, and gold-coated nickel powder. From the viewpoint of obtaining excellent conductive properties, flake metal fillers containing silver or copper are preferred. From the viewpoint of cost, silver-coated copper powder in which copper powder is coated with silver is particularly preferred.

銀コート銅粉における銀の含有量は、銀および銅の合計100質量%中、3~20質量%が好ましく、より好ましくは8~17質量%であり、更に好ましくは10~15質量%である。コアシェル型フィラーの場合、コア部に対するコート層の被覆率は、平均で60%以上が好ましく、70%以上がより好ましく、80%以上がさらに好ましい。コア部は非金属でもよいが、導電性の観点からは導電性物質が好ましく、金属であることがより好ましい。 The silver content in the silver-coated copper powder is preferably 3 to 20 mass%, more preferably 8 to 17 mass%, and even more preferably 10 to 15 mass%, based on 100 mass% of the total of silver and copper. In the case of a core-shell type filler, the coverage of the coating layer with respect to the core is preferably 60% or more on average, more preferably 70% or more, and even more preferably 80% or more. The core may be non-metallic, but from the viewpoint of electrical conductivity, a conductive material is preferred, and a metal is more preferred.

鱗片状金属フィラーとして、電磁波吸収フィラーを用いてもよい。例えば、鉄、Fe-Ni合金、Fe-Co合金、Fe-Cr合金、Fe-Si合金、Fe-Al合金、Fe-Cr-Si合金、Fe-Cr-Al合金、Fe-Si-Al合金等の鉄合金、Mg-Znフェライト、Mn-Znフェライト、Mn-Mgフェライト、Cu-Znフェライト、Mg-Mn-Srフェライト、Ni-Znフェライト等のフェライト系物質などが挙げられる。 As the flake-like metal filler, an electromagnetic wave absorbing filler may be used. For example, iron alloys such as iron, Fe-Ni alloy, Fe-Co alloy, Fe-Cr alloy, Fe-Si alloy, Fe-Al alloy, Fe-Cr-Si alloy, Fe-Cr-Al alloy, and Fe-Si-Al alloy, and ferrite-based materials such as Mg-Zn ferrite, Mn-Zn ferrite, Mn-Mg ferrite, Cu-Zn ferrite, Mg-Mn-Sr ferrite, and Ni-Zn ferrite can be used.

保護層は更に、デンドライト(樹枝)状フィラー、針状フィラー、ブドウ状フィラー、繊維状フィラー、球状フィラーなどといった他の形状の金属フィラーを含有させることが好ましい。より好ましくは針状フィラーまたはデンドライト状フィラーを含有させる。鱗片状金属フィラーとデンドライト状金属フィラーを併用することにより、表面形状度を最適化し、工程作業性を高めることができる。
ここで、針状とは長径が短径の3倍以上のものをいい、いわゆる針形状の他、紡錘形状、円柱形状等も含む。また、デンドライト状とは、電子顕微鏡(500~20、000倍)で観察した際に、棒状の主軸から複数の分岐枝が2次元的または3次元的に延在した形状をいう。デンドライト状は、前記分岐枝が折れ曲がったり、分岐枝から更に分岐枝が延在していてもよい。
The protective layer preferably further contains metal fillers of other shapes, such as dendritic (branch)-like fillers, needle-like fillers, botryoid fillers, fibrous fillers, spherical fillers, etc. More preferably, it contains needle-like fillers or dendritic fillers. By using both scale-like and dendritic metal fillers, the surface shape can be optimized and the process workability can be improved.
Here, the term "acicular" refers to a shape in which the major axis is three or more times the minor axis, and includes not only a so-called needle shape, but also a spindle shape, a cylindrical shape, and the like. The term "dendritic" refers to a shape in which a plurality of branches extend two-dimensionally or three-dimensionally from a rod-like main axis when observed under an electron microscope (500 to 20,000 times magnification). In the dendritic shape, the branches may be bent, or further branches may extend from each other.

これら金属フィラーは、単独で、または2種類以上を混合して用いられる。例えば、鱗片状金属フィラーと球状金属フィラーとの組み合わせ、鱗片状金属フィラーとデンドライト状金属フィラーとの組み合わせ、鱗片状金属フィラーと針状金属フィラーとの組み合わせ、鱗片状金属フィラー、デンドライト状金属フィラーおよび針状金属フィラーの組み合わせが例示できる。これらに更にナノサイズの球状金属フィラーを併用してもよい。 These metal fillers may be used alone or in combination of two or more. Examples include a combination of a scaly metal filler and a spherical metal filler, a combination of a scaly metal filler and a dendritic metal filler, a combination of a scaly metal filler and a needle-shaped metal filler, and a combination of a scaly metal filler, a dendritic metal filler, and a needle-shaped metal filler. Nano-sized spherical metal fillers may also be used in combination with these.

鱗片状金属フィラーを用いると保護層表面の硬度が高くなる傾向にあり、球状、デンドライト状フィラーはマルテンス硬さが低くなる傾向にある。また、鱗片状金属フィラーの含有量が多くなるとマルテンス硬さが高くなる傾向にある。更に、保護層内に鱗片状金属
フィラーが存在することで保護層表面の撥水性が向上し、基板保護性が向上する。
銀や銅からなる導電性の高い鱗片状金属フィラーや、電磁波吸収フィラーを含有させることで電磁波シールド性を付与できる。
The use of scaly metal fillers tends to increase the hardness of the protective layer surface, while spherical and dendritic fillers tend to decrease the Martens hardness. In addition, the Martens hardness tends to increase as the content of scaly metal fillers increases. Furthermore, the presence of scaly metal fillers in the protective layer improves the water repellency of the protective layer surface, improving the substrate protection.
Electromagnetic wave shielding properties can be imparted by including highly conductive flake metal fillers made of silver or copper, or electromagnetic wave absorbing fillers.

導電性の高い鱗片状金属フィラーを含有する場合、保護層の抵抗値は200mΩ以下であることが好ましく、100mΩ以下がより好ましく、50mΩ以下がさらに好ましい。上記数値範囲とすることで、優れた電磁波シールド性を発現させることができる。 When highly conductive flake-like metal filler is contained, the resistance value of the protective layer is preferably 200 mΩ or less, more preferably 100 mΩ or less, and even more preferably 50 mΩ or less. By keeping the value within the above numerical range, excellent electromagnetic wave shielding properties can be achieved.

また、鱗片状金属フィラーと、デンドライト状金属フィラーまたは針状金属フィラーとを併用することによって、金属フィラー同士の接触点を多くし、電磁波シールド性を向上させることができる。 In addition, by using flake-like metal filler in combination with dendritic or needle-like metal filler, the number of contact points between the metal fillers can be increased, improving the electromagnetic wave shielding properties.

鱗片状金属フィラーの含有量は、保護層の固形分(100質量%)中、40~85質量%であることが好ましく、50~80質量%がより好ましい。 The content of the flake metal filler is preferably 40 to 85% by mass, and more preferably 50 to 80% by mass, of the solid content (100% by mass) of the protective layer.

保護層中の金属フィラーの合計100質量%に対して、針状金属フィラーまたはデンドライト状金属フィラーは、両者の合計で0.5~50質量%含有させることが好ましい。より好ましくは1~40質量%、更に好ましくは2~35質量%、特に好ましくは3~30質量%である。0.5~50%質量以下含有させることで、PCT後の膜強度がより優れた保護シートを提供することができる。 The total amount of acicular metal fillers or dendritic metal fillers in the protective layer is preferably 0.5 to 50 mass% relative to 100 mass% of the total metal fillers in the protective layer. More preferably, it is 1 to 40 mass%, even more preferably 2 to 35 mass%, and particularly preferably 3 to 30 mass%. By containing 0.5 to 50% or less by mass, a protective sheet with superior film strength after PCT can be provided.

針状金属フィラーの平均粒子径D50は2~100μmが好ましく、2~80μmがより好ましい。更に好ましくは3~50μmであり、特に好ましくは5~20μmである。デンドライト状金属フィラーの平均粒子径D50の好ましい範囲も同様に、2~100μmが好ましく、2~80μmがより好ましい。更に好ましくは3~50μmであり、特に好ましくは5~20μmである。 The average particle diameter D50 of the acicular metal filler is preferably 2 to 100 μm, more preferably 2 to 80 μm, even more preferably 3 to 50 μm, and particularly preferably 5 to 20 μm. Similarly, the average particle diameter D50 of the dendritic metal filler is preferably in the range of 2 to 100 μm, more preferably 2 to 80 μm, even more preferably 3 to 50 μm, and particularly preferably 5 to 20 μm.

平均粒子径D50は、レーザー回折・散乱法により測定できる。具体的には、例えば、レーザー回折・散乱法粒度分布測定装置LS 13320(ベックマン・コールター社製)を使用し、トルネードドライパウダーサンプルモジュールにて、各導電性フィラーを測定して得た数値であり、フィラーの積算値が50%である粒度の直径である。なお、屈折率の設定は1.6として測定する。 The average particle diameter D50 can be measured by a laser diffraction/scattering method. Specifically, for example, it is a value obtained by measuring each conductive filler with a laser diffraction/scattering method particle size distribution measuring device LS 13320 (manufactured by Beckman Coulter) using a Tornado dry powder sample module, and is the diameter of the particle size at which the integrated value of the filler is 50%. The refractive index is set to 1.6 for measurement.

保護層は、さらに着色剤、難燃剤、無機添加剤、滑剤、ブロッキング防止剤等を含んでいてもよい。 The protective layer may further contain colorants, flame retardants, inorganic additives, lubricants, anti-blocking agents, etc.

着色剤としては、例えば、有機顔料、カーボンブラック、群青、弁柄、亜鉛華、酸化チタン、黒鉛等が挙げられる。品質安定性の観点から有機顔料が好ましい。着色力と分散安定性の観点からは、カーボンブラックが特に好ましい。 Colorants include, for example, organic pigments, carbon black, ultramarine, red iron oxide, zinc oxide, titanium oxide, graphite, etc. From the viewpoint of quality stability, organic pigments are preferred. From the viewpoints of coloring power and dispersion stability, carbon black is particularly preferred.

難燃剤としては、例えば、ハロゲン含有難燃剤、りん含有難燃剤、窒素含有難燃剤、無機難燃剤等が挙げられる。 Examples of flame retardants include halogen-containing flame retardants, phosphorus-containing flame retardants, nitrogen-containing flame retardants, inorganic flame retardants, etc.

無機添加剤としては、例えば、ガラス繊維、シリカ、タルク、セラミック等が挙げられる。 Examples of inorganic additives include glass fiber, silica, talc, ceramics, etc.

滑剤としては、例えば、脂肪酸エステル、炭化水素樹脂、パラフィン、高級脂肪酸、脂肪酸アミド、脂肪族アルコール、金属石鹸、変性シリコーン等が挙げられる。 Examples of lubricants include fatty acid esters, hydrocarbon resins, paraffin, higher fatty acids, fatty acid amides, fatty alcohols, metal soaps, and modified silicones.

ブロッキング防止剤としては、例えば、炭酸カルシウム、シリカ、ポリメチルシルセス
キオサン、ケイ酸アルミニウム塩等が挙げられる。
Examples of the anti-blocking agent include calcium carbonate, silica, polymethylsilsesquioxane, and aluminum silicate.

数十nmから数百nm程度の粒径の小さな添加剤を用いるとバインダー樹脂が補強され、硬化後の硬度が増すことでよりPCT密着性に優れる保護層を提供できる。 The use of small additives with particle sizes of several tens to several hundreds of nanometers reinforces the binder resin, increasing the hardness after curing and providing a protective layer with better PCT adhesion.

<水接触角>
本願における保護層は、PCT後の水接触角が90~130°である。PCT後の水接触角は95~125°が好ましく、100~120°がより好ましい。90°以上では保護層の撥水性が向上しPCT密着性が向上する。また、130°以下ではダイシングテープとの密着性が向上し工程作業性が向上する。
<Water contact angle>
The protective layer in the present application has a water contact angle after PCT of 90 to 130°. The water contact angle after PCT is preferably 95 to 125°, and more preferably 100 to 120°. When the water contact angle is 90° or more, the water repellency of the protective layer is improved and the PCT adhesion is improved. When the water contact angle is 130° or less, the adhesion to the dicing tape is improved and the process workability is improved.

PCTは高圧、高温、高湿下での耐性試験であり、PCT後の保護層表面の水の接触角を90°以上に保つことで、保護層内の電子部品や基板への水の浸透を抑制できる。その結果これら電子部品や基板の劣化を著しく抑制すると考えられる。 PCT is a resistance test under high pressure, high temperature, and high humidity, and by maintaining the contact angle of water on the protective layer surface after PCT at 90° or more, it is possible to prevent water from penetrating into the electronic components and boards inside the protective layer. As a result, it is believed that deterioration of these electronic components and boards is significantly suppressed.

PCT後の水接触角を90~130°とするためにはバインダー樹脂の疎水性と親水性のバランスを調整する。また使用する鱗片状金属フィラー表面の疎水性と親水性のバランスを調整する。 To achieve a water contact angle of 90 to 130° after PCT, the balance between the hydrophobicity and hydrophilicity of the binder resin is adjusted. Also, the balance between the hydrophobicity and hydrophilicity of the surface of the scaly metal filler used is adjusted.

保護シートに耐水性、耐熱性の高い熱硬化性樹脂や硬化剤を含有させることで、また疎水処理された金属フィラーや着色剤等を添加することで、熱硬化後の保護層の耐加水分解性、耐吸湿性が高まりPCT後の水接触角が低下しにくくなる。 By incorporating highly water-resistant and heat-resistant thermosetting resins and curing agents into the protective sheet, and by adding hydrophobically treated metal fillers and colorants, the hydrolysis resistance and moisture absorption resistance of the protective layer after thermal curing are improved, and the water contact angle after PCT is less likely to decrease.

<マルテンス硬さ>
保護層のマルテンス硬さは、50~250N/mmが好ましく、80~240N/mmがより好ましく、105~230N/mmがさらに好ましい。50N/mmより小さい場合には保護層の耐傷性が悪く、また密着性が低い。250N/mmを超える場合、加工後に衝撃によるクラックが発生することがある。
<Martens hardness>
The Martens hardness of the protective layer is preferably 50 to 250 N/ mm2 , more preferably 80 to 240 N/ mm2 , and even more preferably 105 to 230 N/ mm2 . If it is less than 50 N/ mm2 , the protective layer has poor scratch resistance and low adhesion. If it exceeds 250 N/ mm2 , cracks may occur due to impact after processing.

マルテンス硬さは、フィッシャースコープH100C(フィッシャー・インストルメンツ社製)型硬度計を用いて測定する。マルテンス硬さは耐傷性やPCT後の電子部品搭載基板の反りに影響する。
保護層のマルテンス硬さは、バインダー成分の硬さ、および金属フィラーの種類、添加量により調整が可能である。バインダー成分の硬さは、その構成材料である熱硬化性樹脂の硬化物の硬さが反映されるため、樹脂種の選択により所望のマルテンス硬さが得られやすい。さらに、金属フィラーの含有量が多いほどマルテンス硬さは高くなるが、その効果は鱗片状金属フィラーにおいて特に顕著に見られ、球状金属フィラー、デンドライト状金属フィラーについては、その効果は、鱗片状金属フィラーよりは劣る。
The Martens hardness is measured using a Fischerscope H100C hardness tester (manufactured by Fisher Instruments Co., Ltd.) The Martens hardness affects the scratch resistance and warpage of the electronic component mounting board after PCT.
The Martens hardness of the protective layer can be adjusted by the hardness of the binder component and the type and amount of metal filler added. The hardness of the binder component reflects the hardness of the cured product of the thermosetting resin that is its constituent material, so the desired Martens hardness can be easily obtained by selecting the type of resin. Furthermore, the higher the content of metal filler, the higher the Martens hardness, but this effect is particularly noticeable in scaly metal filler, and the effect of spherical metal filler and dendritic metal filler is inferior to that of scaly metal filler.

<ガラス転移温度>
保護層のガラス転移温度は、20℃~100℃が好ましく、30℃~80℃がより好ましく、40℃~60℃が更に好ましい。保護層のガラス転移温度を上記範囲に調整することで、高い密着性と基板保護性を両立することができる。ガラス転移温度が20℃以上では保護層の膜の強度が確保され、PCT後においても硬度が維持される。ガラス転移温度が100℃以下では保護層は熱収縮が少なく、保護層の剥離が抑制される。
<Glass transition temperature>
The glass transition temperature of the protective layer is preferably 20°C to 100°C, more preferably 30°C to 80°C, and even more preferably 40°C to 60°C. By adjusting the glass transition temperature of the protective layer within the above range, both high adhesion and substrate protection can be achieved. When the glass transition temperature is 20°C or higher, the strength of the protective layer is ensured, and the hardness is maintained even after PCT. When the glass transition temperature is 100°C or lower, the protective layer has little thermal shrinkage, and peeling of the protective layer is suppressed.

<展開界面面積率(Sdr)、最大谷深さ(Sv)>
展開界面面積率(Sdr)は、定義領域の展開面積(表面積)が、定義領域の面積に対してどれだけ増大しているかを表すパラメーターである。Sdrは完全な平面、すなわち凹凸がまったく無い状態において値は0を示し、表面が荒れているほど高い値を示す。Sd
rは鱗片状金属フィラーの粒子径及び含有量を変更することで調整できる。
<Developed interface area ratio (Sdr), maximum valley depth (Sv)>
The developed interface area ratio (Sdr) is a parameter that indicates how much the developed area (surface area) of a defined region has increased relative to the area of the defined region. Sdr has a value of 0 for a completely flat surface, i.e., a state in which there are no irregularities at all, and has a higher value as the surface becomes rougher.
The value of r can be adjusted by changing the particle size and content of the flaky metal filler.

最大谷深さ(Sv)は、表面の平均面からの高さの最小値の絶対値であり、凹凸の深さを示すパラメーターである。Svは金属フィラーの形状と平均粒子径D50およびその配合量、並びに熱硬化性樹脂の加熱軟化時の粘度を変更することによって調整できる。金属フィラーは、鱗片状金属フィラーとデンドライト状金属フィラーや針状金属フィラーを併用することが好ましい。 The maximum valley depth (Sv) is the absolute value of the minimum height from the average surface of the surface, and is a parameter indicating the depth of the unevenness. Sv can be adjusted by changing the shape and average particle diameter D50 of the metal filler and its blending amount, as well as the viscosity of the thermosetting resin when softened by heating. It is preferable to use a combination of a scale-like metal filler, a dendritic metal filler, and a needle-like metal filler as the metal filler.

保護層の表面のSdrは1.0%~4.0%が好ましく、1.5%~3.5%がより好ましく、2.0%~3.0%が更に好ましい。最大谷深さ(Sv)は、1.5μm~4.5μmが好ましく、2.0μm~4.0μmがより好ましく、2.5μm~3.5μmが更に好ましい。 The Sdr of the surface of the protective layer is preferably 1.0% to 4.0%, more preferably 1.5% to 3.5%, and even more preferably 2.0% to 3.0%. The maximum valley depth (Sv) is preferably 1.5 μm to 4.5 μm, more preferably 2.0 μm to 4.0 μm, and even more preferably 2.5 μm to 3.5 μm.

SdrおよびSvを上記範囲とすることで、工程作業性が向上する。即ち、保護層の凹凸の深さと表面積が適度に調整されることで、ダイシングテープとの適度な密着性を付与し、ピックアップ時やダイシング工程時においても剥がれることなく、上記工程後には保護層を傷つけず剥がすことができる。 By setting Sdr and Sv within the above ranges, process operability is improved. In other words, by appropriately adjusting the depth and surface area of the unevenness of the protective layer, it is possible to provide appropriate adhesion to the dicing tape, and it will not peel off during pick-up or dicing processes, and the protective layer can be peeled off after the above processes without being damaged.

<電子部品搭載基板の製造方法>
以下、電子部品搭載基板の製造方法の一例について図面を用いて説明する。但し、本発明の電子部品搭載基板の製造方法は、以下の製造方法に限定されるものではない。
<Method of manufacturing electronic component mounting substrate>
An example of a method for manufacturing an electronic component mounting substrate will be described below with reference to the drawings. However, the method for manufacturing an electronic component mounting substrate of the present invention is not limited to the following manufacturing method.

電子部品搭載基板の製造方法は、[a]基板20に電子部品30を 搭載する工程と、[b]電子部品30が搭載された基板20上に保護シート2を載置する工程と、[c]電子部品30の搭載により形成された段差部の側面および基板20の露出面の少なくとも一部に追従するように熱圧着によって保護シート2を接合する工程と、[d]離形性クッション部材3を剥離する工程と、[e]電子部品搭載基板51を個片化する工程を備える。以下、各工程について説明する。 The method for manufacturing the electronic component mounting substrate includes the steps of: [a] mounting electronic components 30 on substrate 20; [b] placing protective sheet 2 on substrate 20 on which electronic components 30 have been mounted; [c] bonding protective sheet 2 by thermocompression bonding so as to conform to the side of the step formed by mounting electronic components 30 and at least a part of the exposed surface of substrate 20; [d] peeling off releasable cushion member 3; and [e] singulating electronic component mounting substrate 51. Each step is described below.

[a]基板に電子部品を搭載する工程:
まず、基板20に電子部品30を搭載する。例えば、基板20上に半導体チップ(不図示)を搭載し、半導体チップが形成されている基板20上を封止樹脂によりモールド成形し、電子部品30を得、当該電子部品30間の上方から基板20内部まで到達するように、モールド樹脂および基板20をダイシング等によりハーフカットする。予めハーフカットされた基板20上に電子部品30をアレイ状に配置する方法でもよい。これらの工程を経て、例えば、図5に示すような電子部品30が搭載された基板20が得られる。なお、電子部品30とは、図5の例においては半導体チップをモールド成形した一体物をいい、絶縁体により保護された電子素子全般をいう。ハーフカットは、基板20内部まで到達させる態様の他、基板20の表面までカットする態様がある。また、基板20全体をこの段階でカットしてもよい。この場合には、粘着テープ付き基体上に基板20を載置して位置ずれが生じないようにしておくことが好ましい。モールド成形する場合のモールド樹脂の材料は特に限定されないが、熱硬化性樹脂が通常用いられる。モールド樹脂の形成方法は特に限定されず、印刷、ラミネート、トランスファー成形、コンプレッション、注型等が挙げられる。モールド成形は任意であり、電子部品30の搭載方法も任意に変更できる。
[a] Mounting electronic components on a substrate:
First, the electronic components 30 are mounted on the substrate 20. For example, a semiconductor chip (not shown) is mounted on the substrate 20, and the substrate 20 on which the semiconductor chip is formed is molded with a sealing resin to obtain the electronic components 30, and the mold resin and the substrate 20 are half-cut by dicing or the like so as to reach the inside of the substrate 20 from above the electronic components 30. A method of arranging the electronic components 30 in an array on the substrate 20 that has been half-cut in advance may also be used. Through these steps, for example, the substrate 20 on which the electronic components 30 are mounted as shown in FIG. 5 is obtained. In the example of FIG. 5, the electronic components 30 refer to an integrated body formed by molding a semiconductor chip, and generally refer to electronic elements protected by an insulator. The half-cutting may be performed not only in a mode in which the semiconductor chip is molded to reach the inside of the substrate 20, but also in a mode in which the electronic components 30 are cut to the surface of the substrate 20. The entire substrate 20 may also be cut at this stage. In this case, it is preferable to place the substrate 20 on a base with an adhesive tape to prevent misalignment. The material of the mold resin used in molding is not particularly limited, but a thermosetting resin is usually used. The method of forming the mold resin is not particularly limited, and examples thereof include printing, lamination, transfer molding, compression, casting, etc. The molding method is optional, and the mounting method of the electronic component 30 can also be changed as desired.

[b]基板上に保護シートを載置する工程:
次いで、電子部品30が搭載された基板20を熱圧着により溶融させて被覆させる、積層体4を用意する(図4参照)。積層体4の保護シート2が電子部品30側になるように電子部品30の天面上に積層体4を載置する。製造設備あるいは基板20のサイズ等に応じて、基板20の領域毎に複数の積層体4を用いてもよい。また、電子部品30毎に積層
体4を用いてもよい。製造工程の簡略化の観点からは、基板20上に搭載された複数の電子部品30全体に1枚の積層体4を用いることが好ましい。
[b] Step of placing a protective sheet on a substrate:
Next, a laminate 4 is prepared, which is melted by thermocompression to cover the substrate 20 on which the electronic components 30 are mounted (see FIG. 4). The laminate 4 is placed on the top surface of the electronic components 30 so that the protective sheet 2 of the laminate 4 faces the electronic components 30. Depending on the manufacturing equipment or the size of the substrate 20, a plurality of laminates 4 may be used for each region of the substrate 20. Also, a laminate 4 may be used for each electronic component 30. From the viewpoint of simplifying the manufacturing process, it is preferable to use one laminate 4 for all the electronic components 30 mounted on the substrate 20.

[c]保護層を形成する工程:
続いて、一対のプレス基板40間に挟持し、熱圧着する(図6参照)。積層体4は、保護シート2および離形性クッション部材3が熱により溶融され、押圧によって製造基板に設けられたハーフカット溝に沿うように延伸され、電子部品30および基板20に追従して被覆する。保護シート2が電子部品30や基板20と接合されると共に熱圧着により熱硬化して保護層1として機能する。熱圧着後に、熱硬化をさらに促すこと等を目的として別途加熱処理を行うこともできる。
[c] Step of forming a protective layer:
Next, the laminate 4 is sandwiched between a pair of press substrates 40 and thermocompression bonded (see FIG. 6). The protective sheet 2 and the releasable cushion member 3 are melted by heat and stretched by pressing so as to follow the half-cut grooves provided in the manufactured substrate, and cover the electronic component 30 and the substrate 20. The protective sheet 2 is bonded to the electronic component 30 and the substrate 20, and is thermoset by thermocompression bonding to function as the protective layer 1. After thermocompression bonding, a separate heat treatment can be performed for the purpose of further promoting thermosetting, etc.

積層体4を加熱プレスする際に、この積層体4とプレス基板40との間に、必要に応じて、熱軟化性部材やクッション紙等を用いてもよい。 When the laminate 4 is hot-pressed, a heat-softening material, cushion paper, or the like may be used between the laminate 4 and the press substrate 40, if necessary.

熱圧着工程の温度および圧力は、電子部品30の耐熱性、耐久性、製造設備あるいはニーズに応じて、保護シート2の被覆性が確保できる範囲においてそれぞれ独立に任意に設定できる。圧力範囲としては限定されないが、0.1~15MPa程度が好ましく、0.5~10MPaの範囲がより好ましい。プレス基板40をリリースすることにより図7に示すような製造基板が得られる。このようにして、保護層1により電子部品の天面および側面と基板の露出面とが被覆される。 The temperature and pressure of the thermocompression bonding process can be set independently and arbitrarily within a range that ensures the coverage of the protective sheet 2, depending on the heat resistance and durability of the electronic component 30, the manufacturing equipment, or needs. The pressure range is not limited, but is preferably about 0.1 to 15 MPa, and more preferably 0.5 to 10 MPa. Releasing the pressed substrate 40 gives a manufactured substrate as shown in FIG. 7. In this way, the top and side surfaces of the electronic component and the exposed surface of the substrate are covered with the protective layer 1.

熱圧着工程の加熱温度は60℃以上であることが好ましく、より好ましくは80℃以上、さらに好ましくは100℃以上である。また、上限値としては、電子部品30の耐熱性に依存するが、220℃であることが好ましく、200℃であることがより好ましく、180℃であることがさらに好ましい。 The heating temperature in the thermocompression bonding process is preferably 60°C or higher, more preferably 80°C or higher, and even more preferably 100°C or higher. The upper limit depends on the heat resistance of the electronic component 30, but is preferably 220°C, more preferably 200°C, and even more preferably 180°C.

熱圧着時間は電子部品30の耐熱性、保護シート2に用いる熱硬化性樹脂、および生産工程等に応じて設定できるが、1分~2時間程度の範囲が好適である。なお、熱圧着時間は1分~1時間程度がより好ましい。この熱圧着により熱硬化性樹脂は、硬化し保護層1が形成される。但し、熱硬化性樹脂は、流動が可能であれば熱圧着前に部分的に硬化あるいは実質的に硬化が完了していてもよい。 The thermocompression bonding time can be set depending on the heat resistance of the electronic component 30, the thermosetting resin used in the protective sheet 2, the production process, etc., but is preferably in the range of about 1 minute to 2 hours. The thermocompression bonding time is more preferably about 1 minute to 1 hour. This thermocompression bonding hardens the thermosetting resin to form the protective layer 1. However, the thermosetting resin may be partially hardened or substantially hardened before thermocompression bonding as long as it is capable of flowing.

保護シート2の厚みは、電子部品30の天面および側面および基板20の露出面に被覆して、保護層1を形成することが可能な厚みとする。用いる熱硬化性樹脂の流動性や、電子部品30間の距離およびサイズにより変動し得るが、通常、10~200μm程度が好ましく、15~100μm程度がより好ましく、20~70μm程度がさらに好ましい。これにより、電子部品および基板への被覆性を良好にし、PCT密着性を効果的に発揮することができる。 The thickness of the protective sheet 2 is set to a thickness that allows it to cover the top and side surfaces of the electronic components 30 and the exposed surface of the substrate 20 to form the protective layer 1. This can vary depending on the fluidity of the thermosetting resin used and the distance and size between the electronic components 30, but is usually preferably about 10 to 200 μm, more preferably about 15 to 100 μm, and even more preferably about 20 to 70 μm. This improves coverage of the electronic components and substrate, and effectively exerts PCT adhesion.

離形性クッション部材3は、軟化して保護シート2の被覆を促し、電子部品30の天面および側面並びに基板20の露出面を被覆する機能を有すると共に、剥離工程において離形性に優れる材料を用いることができる。離形性クッション部材3の上層に、必要に応じて、クッション材として機能する熱軟化性部材を用いてもよい。保護層が導電性を有する場合、保護層1の被覆により、基板20内に形成されたグランドパターン22と保護層1とが電気的に接続される(図7参照)。 The releasable cushion member 3 softens to promote the covering of the protective sheet 2, and has the function of covering the top and side surfaces of the electronic components 30 and the exposed surface of the substrate 20, and a material with excellent releasability can be used in the peeling process. If necessary, a heat-softening material that functions as a cushioning material may be used for the upper layer of the releasable cushion member 3. If the protective layer is conductive, the covering of the protective layer 1 electrically connects the ground pattern 22 formed in the substrate 20 to the protective layer 1 (see FIG. 7).

[d]離形性クッション部材を剥離する工程:
保護層1の上層に積層されている離形性クッション部材3を剥離する。これにより、電子部品30を被覆する保護層1を有する電子部品搭載基板51を得る(図1、図2参照)。例えば、離形性クッション部材3の剥離は端部から人力で剥がしてもよく、離形性クッ
ション部材3の外面を吸引して保護層1から引き剥がしてもよい。自動化による歩留まり向上の観点から吸引による剥離が好ましい。
[d] Step of peeling off the releasable cushion member:
The releasable cushion member 3 laminated on the upper layer of the protective layer 1 is peeled off. In this way, an electronic component mounting substrate 51 having the protective layer 1 covering the electronic components 30 is obtained (see FIGS. 1 and 2). For example, the releasable cushion member 3 may be peeled off manually from the end, or the outer surface of the releasable cushion member 3 may be sucked and peeled off from the protective layer 1. Peeling by suction is preferred from the viewpoint of improving yield through automation.

[e]個片化する工程:
ダイシングブレード等の切削工具を用いて、電子部品搭載基板51の個品の製品エリアをダイシングして個片化する。これらの工程を経て、電子部品30が保護層1で被覆され、個片化された電子部品搭載基板が得られる。ダイシングの方法は、保護層1の表面側を
ダイシングテープで固定し基板20側から行われる。これは基板側には半田ボールが付着している場合が多いためである。ダイシングが終了すると個片化した電子部品搭載基板をダイシングテープから剥離して各々の電子機器に実装する。
[e] Slicing step:
Using a cutting tool such as a dicing blade, the individual product areas of the electronic component mounting substrate 51 are diced into individual pieces. Through these steps, the electronic components 30 are covered with the protective layer 1, and an individualized electronic component mounting substrate is obtained. The dicing method is to fix the front side of the protective layer 1 with a dicing tape and perform dicing from the substrate 20 side. This is because solder balls are often attached to the substrate side. Once dicing is completed, the individualized electronic component mounting substrates are peeled off from the dicing tape and mounted in the respective electronic devices.

ダイシングテープは、微粘着タイプ、UVによる粘着力低下タイプを用いることができる。 Dicing tape can be of the low adhesive type or the type that loses adhesiveness when exposed to UV light.

以下、実施例、比較例を挙げて本発明を詳細に説明するが、本発明は以下の実施例のみに限定されるものではない。なお、以下の「部」及び「%」は、それぞれ「質量部」及び「質量%」に基づく値である。 The present invention will be described in detail below with reference to examples and comparative examples, but the present invention is not limited to the following examples. Note that the "parts" and "%" below are values based on "parts by mass" and "% by mass", respectively.

(試験基板の作製)
ガラスエポキシからなる基板(1)上に、モールド封止された電子部品(1cm×1cm)を5×5個アレイ状に搭載した基板を用意した。基板の厚みは300μmであり、モールド封止厚、即ち基板(1)上面からモールド封止材の頂面までの高さ(部品高さ)は700μmである。その後、部品同士の間隙である溝に添ってハーフダイシングを行い、試験基板を得た(図8参照)。ハーフカット溝深さは800μm(基板20のカット溝深さは100μm)、ハーフカット溝幅は200μmとした。
(Preparation of test substrate)
A substrate was prepared in which 5 x 5 mold-sealed electronic components (1 cm x 1 cm) were mounted in an array on a substrate (1) made of glass epoxy. The thickness of the substrate was 300 μm, and the mold sealing thickness, i.e., the height from the top surface of the substrate (1) to the top surface of the mold sealing material (component height), was 700 μm. Then, half dicing was performed along the grooves between the components to obtain a test substrate (see FIG. 8). The half-cut groove depth was 800 μm (the cut groove depth of the substrate 20 was 100 μm), and the half-cut groove width was 200 μm.

実施例で使用した材料を以下に示す。
〈熱硬化性樹脂〉
・熱硬化性樹脂1(ポリカーボネート樹脂):トーヨーケム株式会社製、酸価=10mgKOH/g、アミン価=0.1mgKOH/g
・熱硬化性樹脂2(ポリウレタンウレア樹脂):トーヨーケム株式会社製、酸価=10mgKOH/g、アミン価=0.1mgKOH/g
・熱硬化性樹脂3(フェノキシ樹脂):トーヨーケム株式会社製、酸価=10mgKOH/g、アミン価=0.1mgKOH/g
〈硬化剤〉
・硬化剤1:ビスフェノールA型エポキシ樹脂「jER828」(エポキシ当量=189g/eq)三菱ケミカル社製
・硬化剤2:変性ビスフェノールA型エポキシ樹脂「EXA4850-150」(エポキシ当量=450g/eq)DIC社製
・硬化剤3:ビスフェノールF型エポキシ樹脂「JER806H」(エポキシ当量=171g/eq)三菱ケミカル社製
・硬化剤4:アジリジン化合物「ケミタイトPZ-33」日本触媒社製
〈金属フィラー〉
・鱗片状金属フィラー:鱗片状銀粉(平均粒子径D50、11.0μm)福田金属箔粉
工業社製
・デンドライト状金属フィラー:デンドライト状銀コート銅粉(平均粒子径D50、4.2μm)福田金属箔粉工業社製
・球状金属フィラー:球状銀粉(平均粒子径D50、5.0μm)福田金属箔粉工業社製
・剥離性シート:表面にシリコーン離型剤をコーティングした厚みが50μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム
・離形性クッション部材:厚みが150μmの3層TPX「オピュラン CR1040
」三井化学東セロ社製
The materials used in the examples are shown below.
<Thermosetting resin>
Thermosetting resin 1 (polycarbonate resin): manufactured by Toyochem Co., Ltd., acid value = 10 mg KOH/g, amine value = 0.1 mg KOH/g
Thermosetting resin 2 (polyurethane urea resin): manufactured by Toyochem Co., Ltd., acid value = 10 mg KOH/g, amine value = 0.1 mg KOH/g
Thermosetting resin 3 (phenoxy resin): manufactured by Toyochem Co., Ltd., acid value = 10 mg KOH/g, amine value = 0.1 mg KOH/g
<Hardening agent>
Curing agent 1: Bisphenol A type epoxy resin "jER828" (epoxy equivalent = 189 g/eq) manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation. Curing agent 2: Modified bisphenol A type epoxy resin "EXA4850-150" (epoxy equivalent = 450 g/eq) manufactured by DIC Corporation. Curing agent 3: Bisphenol F type epoxy resin "JER806H" (epoxy equivalent = 171 g/eq) manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation. Curing agent 4: Aziridine compound "Chemitite PZ-33" manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd. (metal filler).
・Scaly metal filler: scaly silver powder (average particle diameter D50 , 11.0 μm) manufactured by Fukuda Metal Foil & Powder Co., Ltd. ・Dendrite-shaped metal filler: dendritic silver-coated copper powder (average particle diameter D50 , 4.2 μm) manufactured by Fukuda Metal Foil & Powder Co., Ltd. ・Spherical metal filler: spherical silver powder (average particle diameter D50 , 5.0 μm) manufactured by Fukuda Metal Foil & Powder Co., Ltd. ・Releasable sheet: polyethylene terephthalate (PET) film with a thickness of 50 μm, the surface of which is coated with a silicone release agent. ・Releasable cushioning material: 3-layer TPX "Opulant CR1040" with a thickness of 150 μm.
" Mitsui Chemicals Tocello

[実施例1]
(保護シートの作製)
熱硬化性樹脂1を100部、鱗片状金属フィラーを265部、デンドライト状金属フィラーを53部容器に仕込み、硬化剤1を50部、硬化剤4を0.5部加え不揮発分濃度が32%になるようトルエンを加え調製した。ディスパーで10分攪拌し、保護シート形成用組成物を得、この組成物を剥離性シートに、乾燥厚みが30μmになるようにドクターブレードを使用して塗工し、120℃の電気オーブンで2分間乾燥することで実施例1に係る保護シートを得た。
[Example 1]
(Preparation of protective sheet)
A container was charged with 100 parts of thermosetting resin 1, 265 parts of scaly metal filler, and 53 parts of dendritic metal filler, and 50 parts of curing agent 1 and 0.5 parts of curing agent 4 were added, followed by adding toluene so that the non-volatile concentration became 32%. The mixture was stirred with a disperser for 10 minutes to obtain a composition for forming a protective sheet, and this composition was applied to a release sheet using a doctor blade so that the dry thickness became 30 μm, and then dried in an electric oven at 120° C. for 2 minutes to obtain a protective sheet according to Example 1.

(積層体の作製)
その後、離形性クッション部材を用意し、前記保護シート面と離形性クッション部材とをラミネートすることにより実施例1に係る積層体を得た。
(Preparation of Laminate)
Thereafter, a releasable cushion member was prepared, and the protective sheet surface and the releasable cushion member were laminated to obtain a laminate according to Example 1.

(電子部品搭載基板の作製)
次に、この積層体を8cm×3.5cmにカットし、離形性シートを剥離した後、8cm×3.5cmの前記試験基板(図8参照)に対して、積層体の保護シート側が接するように載置し仮貼付した。そして、この積層体の上方から基板面に対し10MPa、170℃の条件で5分熱圧着した。熱圧着後、離形性クッション部材を剥離し、さらに180℃で2時間加熱し、実施例1に係る電子部品搭載基板を作製した。
(Preparation of electronic component mounting board)
Next, this laminate was cut to 8 cm x 3.5 cm, and after peeling off the release sheet, the laminate was placed on the 8 cm x 3.5 cm test substrate (see FIG. 8) so that the protective sheet side of the laminate was in contact with the substrate and temporarily attached. Then, the laminate was thermocompressed from above to the substrate surface at 10 MPa and 170° C. for 5 minutes. After thermocompression, the release cushioning member was peeled off and the substrate was further heated at 180° C. for 2 hours to produce the electronic component mounting substrate according to Example 1.

[実施例2~11、比較例1~3]
実施例1の保護シート形成用組成物の、トルエン以外の成分を表1に記載した種類および配合量に変更した以外は実施例1と同様に行うことで得た(なお表1中、トルエンは表記していない)。
[Examples 2 to 11, Comparative Examples 1 to 3]
This was obtained in the same manner as in Example 1, except that the components other than toluene in the protective sheet-forming composition of Example 1 were changed to the types and amounts shown in Table 1 (note that toluene is not shown in Table 1).

<保護層のマルテンス硬さの測定>
上記の電子部品搭載基板について、ISO14577-1に準拠して、フィッシャースコープH100C型硬度計(フィッシャー・インストルメンツ社製)にてマルテンス硬さを測定した。測定は、保護層に対して、ビッカース圧子(100φの先端が球形のダイアモンド圧子)を用い、25℃の恒温室にて試験力0.3N、試験力の保持時間20秒、試験力の付加所要時間5秒の条件で行った。同一硬化膜面をランダムに10箇所繰り返し測定して得た値の平均値をマルテンス硬さとした。なお、試験力は保護層厚みに応じて調整する。具体的には最大押し込み深さが保護シートの厚みの10分の1程度になるように試験力を調整した。
<Measurement of Martens Hardness of Protective Layer>
The Martens hardness of the electronic component-mounted substrate was measured using a Fischerscope H100C hardness tester (manufactured by Fisher Instruments) in accordance with ISO14577-1. The measurement was performed on the protective layer using a Vickers indenter (a diamond indenter with a spherical tip of 100φ) in a thermostatic chamber at 25°C under the conditions of a test force of 0.3 N, a test force holding time of 20 seconds, and a test force application time of 5 seconds. The average value of the values obtained by repeatedly measuring 10 random locations on the same cured film surface was taken as the Martens hardness. The test force was adjusted according to the thickness of the protective layer. Specifically, the test force was adjusted so that the maximum indentation depth was about one-tenth of the thickness of the protective sheet.

<PCT後の水接触角>
上記の電子部品搭載基板を135℃、湿度85%RH、0.23MPaのプレッシャークッカー試験を96時間実施した。試験機から取り出して直ちに以下の方法で水接触角の測定を行った。即ち、保護層の表面に対して、協和界面科学(株)製「自動接触角計DM‐501/解析ソフトウェアFAMAS」を用いて保護層の水接触角を測定した。測定は液滴法により行った。測定は1cmずつ間隔をおいて7点について行い、それらの平均値を記録した。
<Water contact angle after PCT>
The above electronic component mounting board was subjected to a pressure cooker test at 135°C, 85% RH, and 0.23 MPa for 96 hours. Immediately after removing from the tester, the water contact angle was measured by the following method. That is, the water contact angle of the protective layer was measured using an automatic contact angle meter DM-501/analysis software FAMAS manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd. The measurement was performed by the sessile drop method. The measurement was performed at seven points with 1 cm intervals, and the average value was recorded.

<保護層の硬化後のガラス転移温度>
各実施例および比較例の保護シートを180℃で2時間加熱し、JIS K7198に
準拠して、銅的粘弾性測定装置DVA-200(アイティー計測制御株式会社製)にてガラス転移温度を測定した。測定は、各保護シートを0.5cm×3cmにカットし、180℃で2時間加熱し、剥離性シートを剥がしたものを用いた。変形様式は引張で、歪み0.08%、周波数10Hz、昇温速度10℃/minで測定される損失正接(tanδ)の主分散ピークの現れる温度をもってガラス転移温度とした。
<Glass Transition Temperature of Protective Layer After Curing>
The protective sheets of each Example and Comparative Example were heated at 180°C for 2 hours, and the glass transition temperature was measured in accordance with JIS K7198 using a copper viscoelasticity measuring device DVA-200 (manufactured by IT Measurement & Control Co., Ltd.). For the measurement, each protective sheet was cut to 0.5 cm x 3 cm, heated at 180°C for 2 hours, and the release sheet was peeled off. The deformation mode was tensile, and the glass transition temperature was determined as the temperature at which the main dispersion peak of the loss tangent (tan δ) appeared, measured at a strain of 0.08%, a frequency of 10 Hz, and a heating rate of 10°C/min.

<抵抗値>
各実施例および比較例の電子部品搭載基板の抵抗値を以下の方法で測定した。
即ち、JIS K 7194に則り、抵抗計 RM3544(日置電機株式会社製)にピン型リード L2103(日置電機株式会社製)を接続し、表層上5mm幅間隔で測定をした。
<Resistance value>
The resistance value of the electronic component mounting board of each of the examples and comparative examples was measured by the following method.
That is, according to JIS K 7194, pin-type leads L2103 (manufactured by Hioki E.E. Corporation) were connected to a resistance meter RM3544 (manufactured by Hioki E.E. Corporation) and measurements were taken at 5 mm intervals on the surface layer.

<展開界面面積率(Sdr)及び最大谷深さ(Sv)>
各実施例および比較例の電子部品搭載基板について、電子部品30上の上面にあたる部分に対して以下の方法を用いて表面形状の測定を行った。
即ち、ISO 25178-2:2012に準拠し、デジタルマイクロスコープVHX-7000(KEYENCE社製)を用いて、倍率50倍にて保護層の真上から測定した。異なる箇所で5回測定した平均値から展開界面面積率(Sdr)及び最大谷深さ(Sv)を得た。
<Development interface area ratio (Sdr) and maximum valley depth (Sv)>
For each of the electronic component mounting boards of the examples and comparative examples, the surface shape of the portion corresponding to the upper surface of electronic component 30 was measured using the following method.
That is, in accordance with ISO 25178-2:2012, measurements were taken from directly above the protective layer at a magnification of 50x using a digital microscope VHX-7000 (manufactured by KEYENCE Corporation). The developed interface area ratio (Sdr) and maximum valley depth (Sv) were obtained from the average values of five measurements taken at different locations.

<PCT密着性>
実施例および比較例の電子部品搭載基板について135℃、湿度85%RH、0.23MPaのプレッシャークッカー試験(PCT)を96時間実施した。そして、JISK5600に準じてクロスカットガイドを使用し、間隔が1mmの碁盤目を保護層面に100個作製した後、粘着テープを圧着させ、テープの端を45°の角度で一気に引き剥がしてクロスカット試験を行った。粘着テープは、幅18mmのニチバン製粘着テープを用いた。保護層の碁盤目のうち、FR4(ガラス繊維にエポキシ樹脂をしみ込ませ熱硬化処理を施し板状にしたガラスエポキシのうち、厚み1mmのもの)上に残った保護層の状態(クロスカット残存率)を、以下の基準で評価した。
◎:100/100の残存率を示す。(極めて良好)
〇:95~99/100の残存率を示す。(良好)
△:85~94/100の残存率を示す。(実用下限)
×:85/100の残存率未満である。(不良)
<PCT Adhesion>
The electronic component mounting boards of the examples and comparative examples were subjected to a pressure cooker test (PCT) at 135°C, 85% RH, and 0.23 MPa for 96 hours. Then, using a cross-cut guide in accordance with JIS K5600, 100 grids with a spacing of 1 mm were made on the protective layer surface, and then an adhesive tape was pressed and the end of the tape was peeled off at a 45° angle in one go to perform a cross-cut test. The adhesive tape used was a 18 mm wide adhesive tape made by Nichiban. The state (cross-cut remaining rate) of the protective layer remaining on FR4 (a glass epoxy plate made by impregnating glass fiber with epoxy resin and subjecting it to a heat-curing treatment, with a thickness of 1 mm) was evaluated according to the following criteria.
◎: Remaining rate is 100/100 (very good)
◯: Shows a residual rate of 95 to 99/100 (good)
△: Remaining rate is 85 to 94/100 (lower practical limit)
×: The remaining rate is less than 85/100 (poor).

<基板保護性>
厚み1mmのFR4を5×6cmにカットし基板とした。一方、各実施例、比較例に係る保護シートの積層体を5cm×6cmにカットし、剥離性シートを剥離した後、前記基板に対して、積層体の保護シート側が接するように載置し仮貼付した。そして、この積層体の上方から基板面に対し10MPa、170℃の条件で5分熱圧着した。熱圧着後、離形性クッション部材を剥離し、180℃で2時間加熱し、試験基板を作製した。その後試験基板について、135℃、湿度85%RH、0.23MPaのプレッシャークッカー試験(PCT)を96時間実施した。試験基板の1辺を固定し、その反対の端辺の反り量を測定した。反り量の測定は4辺それぞれについて行い平均をとり、PCT前とPCT後の反り量の平均値をそれぞれ算出し、その差(PCT後-PCT前)をもって評価した。評価基準は下記の通りである。
◎:差が1mm未満 (極めて良好)
〇:差が1mm以上、2mm未満 (良好)
△:差が2mm以上、3mm未満 (実用下限)
×:差が3mm以上 (不良)
<Substrate protection>
A 1 mm thick FR4 was cut to 5 x 6 cm to prepare a substrate. On the other hand, a laminate of protective sheets according to each of the Examples and Comparative Examples was cut to 5 cm x 6 cm, and after peeling off the release sheet, the laminate was placed on the substrate so that the protective sheet side of the laminate was in contact with the substrate and temporarily attached. Then, the laminate was thermocompressed from above to the substrate surface at 10 MPa and 170°C for 5 minutes. After thermocompression, the release cushion member was peeled off and heated at 180°C for 2 hours to prepare a test substrate. Then, a pressure cooker test (PCT) was performed on the test substrate at 135°C, humidity 85% RH, and 0.23 MPa for 96 hours. One side of the test substrate was fixed, and the amount of warping on the opposite side was measured. The amount of warping was measured for each of the four sides and the average was taken, and the average amount of warping before and after PCT was calculated, and the difference (after PCT - before PCT) was used for evaluation. The evaluation criteria are as follows.
◎: Difference is less than 1 mm (very good)
◯: Difference is 1 mm or more and less than 2 mm (good)
△: Difference is 2 mm or more and less than 3 mm (lower practical limit)
×: Difference is 3 mm or more (defective)

<工程作業性>
作業工程性に関する評価は、ダイシングテープの剥離力試験を行って評価した。
各実施例、比較例に係る電子部品搭載基板の保護層に幅2.5cmにカットしたダイシングテープを圧着させ、23℃湿度50%の恒温室にて30分間静置させた後、UV照射機にてダイシングテープをUV硬化させ、以下の方法を用いてピール試験を行った。
即ち、JIS Z 0237:2009に準拠し、TENSILON シングルコラム型材料試験機STB-1225S(A&D社製)を用いて、300mm/secにて180°剥離試験を行った。ダイシングテープは、デンカ社製のダイシングテープ UHP-110AT(UVタイプ、基材PET、総厚み110μm(粘着層厚10μmを含む))を用いた。測定は2回行った平均値を記録し、結果を以下の基準で評価した。
<Process workability>
The workability was evaluated by carrying out a peel strength test of a dicing tape.
A dicing tape cut to a width of 2.5 cm was adhered to the protective layer of the electronic component mounting substrate in each of the Examples and Comparative Examples, and allowed to stand for 30 minutes in a temperature-controlled room at 23°C and 50% humidity. The dicing tape was then UV-cured using a UV irradiator, and a peel test was performed using the following method.
That is, a 180° peel test was performed at 300 mm/sec using a TENSILON single column type material testing machine STB-1225S (manufactured by A&D Co., Ltd.) in accordance with JIS Z 0237:2009. The dicing tape used was dicing tape UHP-110AT (UV type, PET substrate, total thickness 110 μm (including adhesive layer thickness 10 μm)) manufactured by Denka Co., Ltd. The measurement was performed twice, and the average value was recorded, and the results were evaluated according to the following criteria.

◎:4.0N<剥離力≦5.5N(極めて良好)
○:3.5N<剥離力≦4.0N、または5.5N<剥離力≦6.0N(良好)
△:3.0N<剥離力≦3.5N、または6.0N<剥離力≦7.0N(実用下限)
×:剥離力≦3.0N、または7.0N<剥離力(不良)
◎: 4.0N<peel force≦5.5N (very good)
○: 3.5N<peel force≦4.0N, or 5.5N<peel force≦6.0N (good)
△: 3.0N<peeling force≦3.5N, or 6.0N<peeling force≦7.0N (lower practical limit)
×: Peel strength ≦ 3.0 N, or 7.0 N < peel strength (bad)

Figure 0007537573000001
Figure 0007537573000001

1 保護層
2 保護シート
3 離形性クッション部材
4 積層体
20 基板
21 電極
22 グランドパターン
23 インナービア
24 はんだボール
25 ハーフダイシング溝
30 電子部品
31 半導体チップ
32 モールド樹脂
33 ボンディングワイヤ
40 プレス基板
51、52 電子部品搭載基板
REFERENCE SIGNS LIST 1 Protective layer 2 Protective sheet 3 Release cushion member 4 Laminate 20 Substrate 21 Electrode 22 Ground pattern 23 Inner via 24 Solder ball 25 Half dicing groove 30 Electronic component 31 Semiconductor chip 32 Molding resin 33 Bonding wire 40 Press substrate 51, 52 Electronic component mounting substrate

Claims (5)

基板と、
前記基板の少なくとも一方の面に搭載された電子部品と、
前記基板および前記電子部品の少なくとも一部を被覆した保護層と、
を備える電子搭載基板の保護層を形成するための保護シートであって、
前記保護シートから形成した保護層は、バインダー樹脂と鱗片状金属フィラーとを含み、
135℃、85%RH、0.23MPa、96時間のプレッシャークッカーテスト後の前記保護層表面の水との接触角が90~130°である保護シート。
A substrate;
An electronic component mounted on at least one surface of the substrate;
a protective layer covering at least a portion of the substrate and the electronic component;
A protective sheet for forming a protective layer of an electronic mounting board, comprising:
the protective layer formed from the protective sheet contains a binder resin and a flaky metal filler,
A protective sheet, wherein the contact angle of the protective layer surface with water after a pressure cooker test at 135° C., 85% RH, 0.23 MPa for 96 hours is 90 to 130°.
前記保護シートから形成した保護層のマルテンス硬さが、50~250N/mm2である請求項1に記載の保護シート 2. The protective sheet according to claim 1, wherein the protective layer formed from the protective sheet has a Martens hardness of 50 to 250 N/ mm2 . 前記保護シートから形成した保護層のガラス転移温度が、20~100℃である請求項1または2に記載の保護シート 3. The protective sheet according to claim 1, wherein the protective layer formed from the protective sheet has a glass transition temperature of 20 to 100°C. 前記保護シートから形成した保護層は、ISO 25178-2:2012に準拠して求めた展開界面面積率(Sdr)が1.0%~4.0%であり、かつ最大谷深さ(Sv)が1.5μm~4.5μmである請求項1~3いずれかに記載の保護シート The protective layer formed from the protective sheet has a developed interface area ratio (Sdr) of 1.0% to 4.0% and a maximum valley depth (Sv) of 1.5 μm to 4.5 μm , as determined in accordance with ISO 25178-2:2012. 前記保護シートから形成した保護層は、更に、
デンドライト状金属フィラーまたは針状金属フィラーを含む請求項1~4いずれかに記載の保護シート
The protective layer formed from the protective sheet further comprises:
The protective sheet according to any one of claims 1 to 4, which contains dendritic metal filler or needle-like metal filler.
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