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JP7540164B2 - Encapsulating resin composition and electronic device - Google Patents
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Description

本発明は、封止用樹脂組成物および電子装置に関する。より具体的には、特定の組成の封止用樹脂組成物、および、その組成物の硬化物である封止材を備える電子装置に関する。 The present invention relates to an encapsulating resin composition and an electronic device. More specifically, the present invention relates to an encapsulating resin composition having a specific composition, and an electronic device having an encapsulant that is a cured product of the composition.

主として電子装置の封止を行うための封止用樹脂組成物として、エポキシ樹脂を含むものが様々に知られている。 Various types of encapsulating resin compositions containing epoxy resins are known, primarily for encapsulating electronic devices.

通信情報の大容量化、多様化に伴い、通信の基地局用プリント基板、サーバ用プリント基板、ルータ用プリント基板などは通信速度の高速化が進んでいる。通信速度の高速化に対応するためには、信号を高周波化する必要がある。 As communication information becomes larger and more diverse, communication speeds are increasing for printed circuit boards for communication base stations, servers, routers, and the like. In order to keep up with the increased communication speeds, signals need to be made higher frequency.

一方、信号の品質を確保するためには、伝送損失の低減が重要となる。伝送損失は、主に、電子装置に用いられている樹脂に起因する誘電体損失と、導体に起因する導体損失が挙げられる。前者の誘電体損失は、電子装置に用いられている樹脂の誘電率及び誘電正接が小さくなるほど減少する傾向がある。 On the other hand, reducing transmission loss is important to ensure signal quality. Transmission loss is mainly classified into dielectric loss caused by the resin used in electronic devices and conductor loss caused by the conductor. The former dielectric loss tends to decrease as the dielectric constant and dielectric loss tangent of the resin used in electronic devices become smaller.

そこで、低誘電率、低誘電正接を実現可能な材料として、例えば、特許文献1には、ジシクロペンタジエン型フェノール樹脂と塩化ベンゾイルおよびビス(クロロカルボニル)ベンゼンとを反応させて得られる活性エステル化合物をエポキシ樹脂用硬化剤として用いる技術が開示されている。 As a material capable of achieving low dielectric constant and low dielectric tangent, for example, Patent Document 1 discloses a technology in which an active ester compound obtained by reacting dicyclopentadiene-type phenolic resin with benzoyl chloride and bis(chlorocarbonyl)benzene is used as a curing agent for epoxy resin.

特開2004-169021号公報JP 2004-169021 A

しかしながら、特許文献1などに記載のような従来の封止用樹脂組成物においては、近年の高周波化に十分対応することはできなかった。 However, conventional encapsulating resin compositions such as those described in Patent Document 1 have not been able to adequately meet the increasing frequency demands of recent years.

本発明者らは、鋭意検討の結果、エポキシ樹脂と、硬化剤と、無機充填材と、着色剤と、を含む封止用樹脂組成物であっても、高周波に対する誘電体損失が低減される場合とそうでない場合とがあることを知見した。そして、さらに検討を行った結果、当該封止用樹脂組成物について新たな指標を考案し、当該封止用樹脂組成物がかかる指標を満たすことで、高周波に対する誘電体損失が低減できることを見出し、本発明を完成させた。 After extensive research, the inventors discovered that even with an encapsulating resin composition containing an epoxy resin, a curing agent, an inorganic filler, and a colorant, dielectric loss at high frequencies may be reduced in some cases and not in other cases. As a result of further research, they devised a new index for the encapsulating resin composition and found that dielectric loss at high frequencies can be reduced by the encapsulating resin composition satisfying this index, thereby completing the present invention.

本発明によれば、
エポキシ樹脂と、
硬化剤と、
無機充填材と、
着色剤と、
を含み、以下の条件を満たす、封止用樹脂組成物が提供される。
条件:当該封止用樹脂組成物を用いて、175℃、2分で硬化させた硬化物の5GHz、23℃の誘電正接(Tanδ)が0.008未満である。
According to the present invention,
Epoxy resin,
A hardener;
An inorganic filler;
A colorant;
and satisfying the following conditions:
Condition: the encapsulating resin composition is used and cured at 175° C. for 2 minutes, and the cured product has a dielectric loss tangent (Tan δ) at 5 GHz and 23° C. of less than 0.008.

また、本発明によれば、
電子部品と、前記電子部品を封止する封止材とを備える電子装置であって、
前記封止材が、上記の封止用樹脂組成物の硬化物で構成される、電子装置が提供される。
Further, according to the present invention,
An electronic device comprising an electronic component and a sealant that seals the electronic component,
There is provided an electronic device, wherein the encapsulant is formed from a cured product of the encapsulating resin composition.

本発明によれば、封止用樹脂組成物の硬化物の誘電正接を低減できる。 According to the present invention, the dielectric tangent of the cured product of the encapsulating resin composition can be reduced.

電子装置の構造の一例を説明するための断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating an example of a structure of an electronic device.

以下、本発明の実施形態について、図面を参照しつつ、詳細に説明する。
すべての図面において、同様な構成要素には同様の符号を付し、適宜説明を省略する。
煩雑さを避けるため、(i)同一図面内に同一の構成要素が複数ある場合には、その1つのみに符号を付し、全てには符号を付さない場合や、(ii)特に図2以降において、図1と同様の構成要素に改めては符号を付さない場合がある。
すべての図面はあくまで説明用のものである。図面中の各部材の形状や寸法比などは、必ずしも現実の物品と対応するものではない。
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
In all drawings, similar components are given similar symbols and descriptions thereof are omitted where appropriate.
In order to avoid complexity, (i) when there are multiple identical components in the same drawing, only one of them will be given a reference symbol, and not all of them will be given a reference symbol, and (ii) particularly in Figure 2 and subsequent figures, components similar to those in Figure 1 will not be given a reference symbol again.
All drawings are for illustrative purposes only. The shapes and dimensional ratios of each component in the drawings do not necessarily correspond to the actual objects.

本明細書中、「略」という用語は、特に明示的な説明の無い限りは、製造上の公差や組立て上のばらつき等を考慮した範囲を含むことを表す。
本明細書中、数値範囲の説明における「a~b」との表記は、特に断らない限り、a以上b以下のことを表す。例えば、「1~5質量%」とは「1質量%以上5質量%以下」を意味する。
In this specification, the term "approximately" means that a range taking into consideration manufacturing tolerances, assembly variations, and the like, is included unless otherwise specified explicitly.
In this specification, the expression "a to b" in the description of a numerical range means from a to b, unless otherwise specified. For example, "1 to 5% by mass" means "1% by mass to 5% by mass."

本明細書における基(原子団)の表記において、置換か無置換かを記していない表記は、置換基を有しないものと置換基を有するものの両方を包含するものである。例えば「アルキル基」とは、置換基を有しないアルキル基(無置換アルキル基)のみならず、置換基を有するアルキル基(置換アルキル基)をも包含するものである。
本明細書における「(メタ)アクリル」との表記は、アクリルとメタクリルの両方を包含する概念を表す。「(メタ)アクリレート」等の類似の表記についても同様である。
本明細書における「有機基」の語は、特に断りが無い限り、有機化合物から1つ以上の水素原子を除いた原子団のことを意味する。例えば、「1価の有機基」とは、任意の有機化合物から1つの水素原子を除いた原子団のことを表す。
本明細書における「電子装置」の語は、半導体チップ、半導体素子、プリント配線基板、電気回路ディスプレイ装置、情報通信端末、発光ダイオード、物理電池、化学電池など、電子工学の技術が適用された素子、デバイス、最終製品等を包含する意味で用いられる。
In the description of groups (atomic groups) in this specification, when a notation does not specify whether the group is substituted or unsubstituted, the notation includes both groups having no substituents and groups having a substituent. For example, an "alkyl group" includes not only an alkyl group having no substituents (unsubstituted alkyl group) but also an alkyl group having a substituent (substituted alkyl group).
In this specification, the term "(meth)acrylic" refers to a concept that includes both acrylic and methacrylic. The same applies to similar terms such as "(meth)acrylate."
In this specification, unless otherwise specified, the term "organic group" refers to an atomic group obtained by removing one or more hydrogen atoms from an organic compound. For example, a "monovalent organic group" refers to an atomic group obtained by removing one hydrogen atom from any organic compound.
In this specification, the term "electronic device" is used to include elements, devices, final products, etc. to which electronic engineering technology is applied, such as semiconductor chips, semiconductor elements, printed wiring boards, electric circuit display devices, information and communication terminals, light-emitting diodes, physical batteries, and chemical batteries.

<封止用樹脂組成物>
本実施形態の封止用樹脂組成物は、エポキシ樹脂と、硬化剤と、無機充填材と、着色剤と、を含み、以下の条件を満たすものである。
条件:当該封止用樹脂組成物を用いて、175℃、2分で硬化させた硬化物の5GHz、23℃の誘電正接(Tanδ)が0.008未満である。
これにより、封止用樹脂組成物の硬化物の誘電正接をより高度に低減できる。
<Sealing resin composition>
The encapsulating resin composition of the present embodiment contains an epoxy resin, a curing agent, an inorganic filler, and a colorant, and satisfies the following conditions.
Condition: the encapsulating resin composition is used and cured at 175° C. for 2 minutes, and the cured product has a dielectric loss tangent (Tan δ) at 5 GHz and 23° C. of less than 0.008.
This makes it possible to reduce the dielectric tangent of the cured product of the encapsulating resin composition to a greater extent.

ここで、本発明者の知見によれば、誘電正接は、封止用樹脂組成物に含まれる水酸基量が多くなると上昇する傾向があるため、封止用樹脂組成物中の水酸基の量を低減することが誘電正接の低減に有効である。また、従来カーボンブラックは、黒色の成形体を得るために封止用樹脂組成物に含まれるが、これにより導電性が発生し、低誘電正接を実現しにくくなる。そこで、本実施形態の封止用樹脂組成物においては、以下のような公知の方法の組み合わせにより、上記の条件を満たす封止用樹脂組成物を得ることができ、かかる条件を満たすことによって、低誘電正接を実現できると考えられる。本実施形態の封止用樹脂組成物は、特定の成分のみが寄与するのではなく、封止用樹脂組成物全体に対し、公知の方法を適切に組み合わせることにより得られる。
・封止用樹脂組成物のエポキシ樹脂、硬化剤、無機充填材および着色剤について、それぞれの特性に応じて適切に組み合わせる。
・封止用樹脂組成物のエポキシ樹脂、硬化剤、無機充填材および着色剤の含有量を組み合わせに応じて、調整する。
例えば、水酸基の量が少ないエポキシ樹脂や硬化剤を選択したり、表面に水酸基を有する無機充填材を選択した場合は事前に表面処理を行ったり、着色剤の種類に応じてその含有量を調整する等が挙げられる。だたし、かかる記載はあくまでも一例であり、本実施形態の封止用樹脂組成物は、これに限定されるものではない。
以下、各成分について詳細を説明する。
Here, according to the findings of the present inventors, the dielectric loss tangent tends to increase as the amount of hydroxyl groups contained in the encapsulating resin composition increases, so reducing the amount of hydroxyl groups in the encapsulating resin composition is effective in reducing the dielectric loss tangent. Conventionally, carbon black has been included in the encapsulating resin composition to obtain a black molded body, but this generates electrical conductivity, making it difficult to achieve a low dielectric loss tangent. Therefore, in the encapsulating resin composition of this embodiment, a combination of the following known methods can be used to obtain an encapsulating resin composition that satisfies the above conditions, and it is believed that satisfying such conditions can achieve a low dielectric loss tangent. The encapsulating resin composition of this embodiment is obtained by appropriately combining known methods with the entire encapsulating resin composition, rather than relying on the contribution of only a specific component.
The epoxy resin, hardener, inorganic filler, and colorant of the encapsulating resin composition are appropriately combined according to their respective properties.
The contents of the epoxy resin, the curing agent, the inorganic filler and the colorant in the encapsulating resin composition are adjusted according to the combination.
For example, it is possible to select an epoxy resin or a curing agent with a small amount of hydroxyl groups, to perform a surface treatment in advance when an inorganic filler having hydroxyl groups on the surface is selected, to adjust the content of the colorant depending on the type of colorant, etc. However, such descriptions are merely examples, and the encapsulating resin composition of the present embodiment is not limited thereto.
Each component will be described in detail below.

[エポキシ樹脂]
本実施形態の封止用樹脂組成物は、エポキシ樹脂を含む。
エポキシ樹脂は、具体的には、1分子内にエポキシ基を2個以上有するモノマー、オリゴマー、ポリマー全般でありうる。エポキシ樹脂の分子量や分子構造などは特に限定されない。
[Epoxy resin]
The encapsulating resin composition of the present embodiment contains an epoxy resin.
Specifically, the epoxy resin may be a monomer, oligomer, or polymer having two or more epoxy groups in one molecule. The molecular weight and molecular structure of the epoxy resin are not particularly limited.

本実施形態の封止用樹脂組成物に用いられるエポキシ樹脂としては、半導体封止用エポキシ封止用樹脂組成物に一般に使用されているものを使用できる。これらの例としては、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂を含むフェノール;クレゾール、キシレノール、レゾルシン、カテコール、ビスフェノールA、ビスフェノールF等のフェノール類および/またはα-ナフトール、β-ナフトール、ジヒドロキシナフタレン等のナフトール類と、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ベンズアルデヒド、サリチルアルデヒド等のアルデヒド基を有する化合物とを酸性触媒下で縮合または共縮合させて得られるノボラック樹脂をエポキシ化することにより得られるエポキシ樹脂;ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、ビスフェノールA/D等のジグリシジルエーテル;アルキル置換または非置換のビフェノールのジグリシジルエーテルであるビフェニル型エポキシ樹脂;フェノール類および/またはナフトール類とジメトキシパラキシレンまたはビス(メトキシメチル)ビフェニルから合成されるフェノールアラルキル樹脂のエポキシ化物;スチルベン型エポキシ樹脂、ハイドロキノン型エポキシ樹脂、フタル酸、ダイマー酸等の多塩基酸とエピクロルヒドリンの反応により得られるグリシジルエステル型エポキシ樹脂;ジアミノジフェニルメタン、イソシアヌル酸等のポリアミンとエピクロルヒドリンの反応により得られるグリシジルアミン型エポキシ樹脂;ジシクロペンタジエンとフェノ-ル類の共縮合樹脂のエポキシ化物であるジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂;ナフタレン環を有するエポキシ樹脂;トリフェノールメタン型エポキシ樹脂;トリメチロールプロパン型エポキシ樹脂;トリスヒドロキシフェニルメタン型エポキシ樹脂;ビフェノール型エポキシ樹脂;テルペン変性エポキシ樹脂;オレフィン結合を過酢酸等の過酸で酸化して得られる線状脂肪族エポキシ樹脂;脂環族エポキシ樹脂;およびこれらのエポキシ樹脂をシリコーン、アクリロニトリル、ブタジエン、イソプレン系ゴム、ポリアミド系樹脂等により変性したエポキシ樹脂などが挙げられ、これらを単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
なかでも、ノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、およびフェノールアラルキル樹脂、トリスヒドロキシフェニルメタン型エポキシ樹脂、およびビフェノール型エポキシ樹脂から選ばれる1種または2種以上を含むことが好ましい。
As the epoxy resin used in the encapsulating resin composition of the present embodiment, any epoxy resin that is generally used in epoxy encapsulating resin compositions for semiconductor encapsulation can be used. Examples of these include phenols including phenol novolac type epoxy resins and orthocresol novolac type epoxy resins; epoxy resins obtained by epoxidizing novolac resins obtained by condensing or co-condensing phenols such as cresol, xylenol, resorcin, catechol, bisphenol A, bisphenol F, etc. and/or naphthols such as α-naphthol, β-naphthol, dihydroxynaphthalene, etc. with compounds having an aldehyde group such as formaldehyde, acetaldehyde, propionaldehyde, benzaldehyde, salicylaldehyde, etc. under an acidic catalyst; diglycidyl ethers of bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, bisphenol A/D, etc.; biphenyl type epoxy resins which are diglycidyl ethers of alkyl-substituted or unsubstituted biphenols; epoxidized products of phenol aralkyl resins synthesized from phenols and/or naphthols and dimethoxy-para-xylene or bis(methoxymethyl)biphenyl; stilbenes, etc. glycidyl ester type epoxy resins obtained by reacting epichlorohydrin with polybasic acids such as diaminodiphenylmethane and isocyanuric acid; dicyclopentadiene type epoxy resins which are epoxidized products of co-condensation resins of dicyclopentadiene and phenols; epoxy resins having a naphthalene ring; triphenolmethane type epoxy resins; trimethylolpropane type epoxy resins; trishydroxyphenylmethane type epoxy resins; biphenol type epoxy resins; terpene-modified epoxy resins; linear aliphatic epoxy resins obtained by oxidizing olefin bonds with peracids such as peracetic acid; alicyclic epoxy resins; and epoxy resins modified with silicone, acrylonitrile, butadiene, isoprene-based rubber, polyamide-based resin, or the like. These may be used alone or in combination of two or more.
Among these, it is preferable to use one or more selected from the group consisting of novolac type epoxy resins, biphenyl type epoxy resins, phenol aralkyl resins, trishydroxyphenylmethane type epoxy resins, and biphenol type epoxy resins.

封止用樹脂組成物は、エポキシ樹脂を一種のみ含んでもよいし、二種以上含んでもよい。
エポキシ樹脂の含有量は、成形時に好適な流動性を得て充填性や成形性の向上を図る観点から、封止用樹脂組成物全体に対して、例えば2質量%以上、好ましくは3質量%以上、より好ましくは4質量%以上である。
別観点として、封止用樹脂組成物を用いて得られる封止材の絶縁特性向上の観点からエポキシ樹脂の含有量は、封止用樹脂組成物全体に対して、例えば40質量%以下、好ましくは30質量%以下、より好ましくは15質量%以下、さらに好ましくは10質量%以下である。
The encapsulating resin composition may contain only one type of epoxy resin, or may contain two or more types of epoxy resin.
The content of the epoxy resin is, for example, 2 mass % or more, preferably 3 mass % or more, and more preferably 4 mass % or more, based on the entire encapsulating resin composition, from the viewpoint of obtaining suitable fluidity during molding and improving filling property and moldability.
From another viewpoint, from the viewpoint of improving the insulating properties of an encapsulating material obtained using the encapsulating resin composition, the content of the epoxy resin is, for example, 40 mass % or less, preferably 30 mass % or less, more preferably 15 mass % or less, and even more preferably 10 mass % or less, relative to the entire encapsulating resin composition.

[硬化剤]
硬化剤としては、例えば、ジアミノジフェニルメタン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、ジアミノジフェニルスルホン、イソホロンジアミン、イミダゾ-ル、BF3-アミン錯体、グアニジン誘導体等のアミン化合物;ジシアンジアミド、リノレン酸の2量体とエチレンジアミンとより合成されるポリアミド樹脂等のアミド化合物;無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、無水マレイン酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水メチルナジック酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸等の酸無水物;フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂変性フェノール樹脂、ジシクロペンタジエンフェノール付加型樹脂、フェノールアラルキル樹脂、ナフトールアラルキル樹脂、トリメチロールメタン樹脂、テトラフェニロールエタン樹脂、ナフトールノボラック樹脂、ナフトール-フェノール共縮ノボラック樹脂、ナフトール-クレゾール共縮ノボラック樹脂、ビフェニル変性フェノール樹脂(ビスメチレン基でフェノール核が連結された多価フェノール化合物)、ビフェニル変性ナフトール樹脂(ビスメチレン基でフェノール核が連結された多価ナフトール化合物)、アミノトリアジン変性フェノール樹脂(メラミンやベンゾグアナミンなどでフェノール核が連結された多価フェノール化合物)等の多価フェノール化合物が挙げられる。これらは、1種単独で用いてもよいし、2種以上を混合して用いてもよい。
高度な低誘電正接を実現する観点から、硬化剤の種類は、エポキシ樹脂の種類に応じて、選択されることが望ましい。
[Curing agent]
Examples of the curing agent include amine compounds such as diaminodiphenylmethane, diethylenetriamine, triethylenetetramine, diaminodiphenylsulfone, isophoronediamine, imidazole, BF3-amine complex, and guanidine derivatives; amide compounds such as dicyandiamide and polyamide resins synthesized from a dimer of linoleic acid and ethylenediamine; acid anhydrides such as phthalic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, maleic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, methylnadic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, and methylhexahydrophthalic anhydride; phenol novolac resins, cresol novolac resins, and aromatic hydrocarbon formaldehyde resins. Examples of polyhydric phenol compounds include modified phenol resins, dicyclopentadiene phenol addition type resins, phenol aralkyl resins, naphthol aralkyl resins, trimethylolmethane resins, tetraphenylolethane resins, naphthol novolak resins, naphthol-phenol co-condensed novolak resins, naphthol-cresol co-condensed novolak resins, biphenyl-modified phenol resins (polyhydric phenol compounds in which phenol nuclei are linked via bismethylene groups), biphenyl-modified naphthol resins (polyhydric naphthol compounds in which phenol nuclei are linked via bismethylene groups), and aminotriazine-modified phenol resins (polyhydric phenol compounds in which phenol nuclei are linked via melamine, benzoguanamine, etc.). These may be used alone or in combination of two or more.
From the viewpoint of realizing a highly low dielectric tangent, it is desirable to select the type of curing agent according to the type of epoxy resin.

硬化剤の含有量は、電子装置を封止する際の優れた流動性、充填性、成形性などの向上を図る観点から、組成物全体に対して、好ましくは1質量%以上、より好ましくは2質量%以上、さらに好ましくは3質量%以上である。
一方、電子装置の耐湿信頼性や耐リフロー性向上の観点から、硬化剤の含有量は、組成物全体に対して、好ましくは25質量%以下、より好ましくは15質量%以下、さらに好ましくは10質量%以下である。
The content of the curing agent is preferably 1 mass % or more, more preferably 2 mass % or more, and even more preferably 3 mass % or more, based on the total mass of the composition, from the viewpoint of improving excellent fluidity, filling property, moldability, and the like when sealing an electronic device.
On the other hand, from the viewpoint of improving the moisture resistance reliability and reflow resistance of electronic devices, the content of the curing agent is preferably 25 mass % or less, more preferably 15 mass % or less, and even more preferably 10 mass % or less, based on the total mass of the composition.

なお、エポキシ樹脂と硬化剤の量については、当量比が適当な値となるようにすることが好ましい。当量比を適切に調整することで、低誘電正接を実現しやすくなり、より良好な成形性、封止材としたときの一層の信頼性向上などの効果が得られる傾向がある。
例えば、硬化剤がフェノール系硬化剤である場合、エポキシ樹脂と硬化剤との当量比、すなわち、エポキシ樹脂中のエポキシ基モル数/硬化剤中のフェノール性水酸基モル数の比は、例えば0.5~2、好ましくは0.6~1.8、より好ましくは0.8~1.5である。
硬化剤がアミン系硬化剤である場合は、アミノ基(-NH)は2つの活性水素を有するため、エポキシ樹脂中のエポキシ基モル数/硬化剤中のアミノ基のモル数の比は、例えば1~4、好ましくは1.2~3.6、より好ましくは1.6~3である。
It is preferable to adjust the amount of epoxy resin and curing agent so that the equivalent ratio is an appropriate value. By appropriately adjusting the equivalent ratio, it becomes easier to realize a low dielectric tangent, and there is a tendency to obtain effects such as better moldability and further improved reliability when used as a sealing material.
For example, when the curing agent is a phenol-based curing agent, the equivalent ratio between the epoxy resin and the curing agent, i.e., the ratio of the number of moles of epoxy groups in the epoxy resin/the number of moles of phenolic hydroxyl groups in the curing agent, is, for example, 0.5 to 2, preferably 0.6 to 1.8, and more preferably 0.8 to 1.5.
When the curing agent is an amine-based curing agent, since the amino group (-NH 2 ) has two active hydrogens, the ratio of the number of moles of epoxy groups in the epoxy resin to the number of moles of amino groups in the curing agent is, for example, 1 to 4, preferably 1.2 to 3.6, and more preferably 1.6 to 3.

[無機充填材]
本実施形態の封止用樹脂組成物は、無機充填材を含む。無機充填材としては、一般的に電子装置封止用の封止用樹脂組成物に使用されているものを用いることができる。
[Inorganic filler]
The encapsulating resin composition of the present embodiment contains an inorganic filler. As the inorganic filler, any inorganic filler that is generally used in encapsulating resin compositions for encapsulating electronic devices can be used.

無機充填材として具体的には、溶融破砕シリカ、溶融球状シリカ、結晶シリカ、2次凝集シリカ等のシリカ(二酸化ケイ素);アルミナ;チタンホワイト;水酸化アルミニウム;タルク;クレー;マイカ;ガラス繊維等が挙げられる。これらの中でもシリカが好ましく、特に溶融球状シリカが好ましい。また、高度な低誘電正接を実現する観点から、表面処理が施されたものであってもよい。 Specific examples of inorganic fillers include silica (silicon dioxide) such as fused crushed silica, fused spherical silica, crystalline silica, and secondary agglomerated silica; alumina; titanium white; aluminum hydroxide; talc; clay; mica; and glass fiber. Among these, silica is preferred, and fused spherical silica is particularly preferred. In addition, from the viewpoint of achieving a highly low dielectric tangent, the filler may be surface-treated.

無機充填材の粒子形状は、略真球状であることが好ましい。
無機充填材のメジアン径は、特に限定されない。典型的には0.01~100μm、好ましくは0.05~50μm、より好ましくは0.5~30μmである。メジアン径が適当であることにより、成形時の流動性の一層の向上等を図ることができたり、電子装置の峡部に対する組成物の充填性を高めたりすることができる。
また、粒度分布において、0.01~10μmと、10~100μmの間にそれぞれピークを有するものでもよい。すなわち、異なる平均粒径の無機充填材を混合して用いてもよい。
The particle shape of the inorganic filler is preferably approximately spherical.
The median diameter of the inorganic filler is not particularly limited. It is typically 0.01 to 100 μm, preferably 0.05 to 50 μm, and more preferably 0.5 to 30 μm. By having an appropriate median diameter, it is possible to further improve the flowability during molding, and to increase the filling ability of the composition into narrow spaces of electronic devices.
In addition, the particle size distribution may have peaks between 0.01 and 10 μm and between 10 and 100 μm, respectively. In other words, inorganic fillers having different average particle sizes may be mixed and used.

無機充填材の含有量は、封止用樹脂組成物全体に対して、好ましくは60質量%以上、より好ましくは70質量%以上、さらに好ましくは80質量%以上である。
また、封止用樹脂組成物の成形時における流動性や充填性をより効果的に向上させる観点から、無機充填材の含有量は、封止用樹脂組成物全体に対して、好ましくは95質量%以下、より好ましくは90質量%以下である。
無機充填材の含有量を適切に調整することで、高度な低誘電正接を実現しつつ、封止材の低吸湿性や低熱膨張性の一層の向上、得られる電子装置の耐湿信頼性や耐リフロー性の一層の向上、成形時の流動性や充填性の一層の向上などの効果を得ることができる。
The content of the inorganic filler is preferably 60% by mass or more, more preferably 70% by mass or more, and further preferably 80% by mass or more, based on the entire encapsulating resin composition.
In addition, from the viewpoint of more effectively improving the fluidity and filling property of the encapsulating resin composition during molding, the content of the inorganic filler is preferably 95 mass % or less, and more preferably 90 mass % or less, based on the entire encapsulating resin composition.
By appropriately adjusting the content of the inorganic filler, it is possible to achieve a highly low dielectric tangent while also obtaining effects such as further improving the low moisture absorption and low thermal expansion of the encapsulant, further improving the moisture resistance reliability and reflow resistance of the resulting electronic device, and further improving the fluidity and filling properties during molding.

[着色剤]
着色剤は、誘電正接を低減しつつ、最終的な封止材を所望の色味にするために用いられる。着色剤としては、オレンジ染料、黄色染料、黒色染料、カーボンブラックおよび酸化チタンなどが挙げられる。なかでも、誘電正接を低減しつつ、適度な黒色を得る観点から、黒色酸化チタンおよび黒色染料の少なくとも一方を含むことが好ましい。
上記の黒色酸化チタンとしては、TiO(ただし、Xは1以上、2未満を示す)で表される化合物を含むことがより好ましい。
上記の黒色染料としては、アンスラキノン系染料、アジン系染料、アゾ系染料、ジスアゾ系染料およびクロム錯塩系染料からなる群より選択される一種または二種以上が挙げられる。これら染料は、分解温度が比較的高いために硬化時の変質や変色が抑えられる、電子材料として望ましくないハロゲン系不純物が少ないものを入手しやすい、等の点で好ましい。
[Coloring agent]
The colorant is used to give the final sealing material a desired color while reducing the dielectric loss tangent. Examples of the colorant include orange dye, yellow dye, black dye, carbon black, and titanium oxide. Among them, it is preferable to include at least one of black titanium oxide and black dye from the viewpoint of obtaining a suitable black color while reducing the dielectric loss tangent.
The black titanium oxide more preferably contains a compound represented by TiO x (wherein x is 1 or more and less than 2).
The black dye may be one or more selected from the group consisting of anthraquinone dyes, azine dyes, azo dyes, disazo dyes, and chromium complex dyes. These dyes are preferred because they have a relatively high decomposition temperature, so that deterioration or discoloration during curing is suppressed, and dyes with less halogen-based impurities that are undesirable for electronic materials are easily available.

市場で入手可能な黒色染料(d1)としては、NUBIAN BLACK PC-5857(アンスラキノン系、オリエント化学工業社)、SEP-L-0040(アンスラキノン系、オリエント化学工業社)、NUBIAN BLACK PC-8550(アンスラキノン系およびアジン系の混合、オリエント化学工業社)、SOL-L-0693(アンスラキノン系およびアゾ系の混合、オリエント化学工業社)、VALIFAST BLACK 1821(アジン系、オリエント化学工業社)、OIL BLACK BS(アジン系、オリエント化学工業社)、ORIPACS B-35(アジン系、オリエント化学工業社)、OIL BLACK 860(ジスアゾ系、オリエント化学工業社)、OIL BLACK 803(アゾ系、オリエント化学工業社)、VALIFAST BLACK 3830(クロム錯塩、オリエント化学工業社)、VALIFAST BLACK 3877(クロム錯塩、オリエント化学工業社)等を挙げることができる。
ここで、「NUBIAN」、「ORIPACS」および「VARIFAST」は、オリエント化学工業社の登録商標である。
Commercially available black dyes (d1) include NUBIAN BLACK PC-5857 (anthraquinone type, Orient Chemical Industry Co., Ltd.), SEP-L-0040 (anthraquinone type, Orient Chemical Industry Co., Ltd.), NUBIAN BLACK PC-8550 (mixture of anthraquinone type and azine type, Orient Chemical Industry Co., Ltd.), SOL-L-0693 (mixture of anthraquinone type and azo type, Orient Chemical Industry Co., Ltd.), VALIFAST BLACK 1821 (azine type, Orient Chemical Industry Co., Ltd.), OIL BLACK BS (azine type, Orient Chemical Industry Co., Ltd.), ORIPACS B-35 (azine type, Orient Chemical Industry Co., Ltd.), OIL BLACK 860 (disazo type, Orient Chemical Industry Co., Ltd.), OIL BLACK Examples of the VALIFAST BLACK 3830 include VALIFAST BLACK 3877 (chromium complex salt, Orient Chemical Industry Co., Ltd.), and the like.
Here, "NUBIAN", "ORIPACS" and "VARIFAST" are registered trademarks of Orient Chemical Industries Co., Ltd.

着色剤の含有量は、封止用樹脂組成物全体に対して、0.01質量%以上、3.0質量%以下であることが好ましく、0.05質量%以上、2.0質量%以下がより好ましく、0.1質量%以上、1.0質量%以下がさらに好ましい。
着色剤の含有量を上記下限値以上とすることにより、封止体を所望の色味にしやすくなる。一方、着色剤の含有量を上記上限値以下とすることにより、所望の色味を得つつ、低誘電正接を実現できる。
ただし、着色剤として、カーボンブラックを含む場合、誘電正接が高くなることを抑制するため、その含有量は、封止用樹脂組成物全体に対して、0.1質量%未満が好ましく、実質的に含まないことがより好ましい。
The content of the colorant is preferably 0.01 mass % or more and 3.0 mass % or less, more preferably 0.05 mass % or more and 2.0 mass % or less, and even more preferably 0.1 mass % or more and 1.0 mass % or less, based on the entire encapsulating resin composition.
By setting the content of the colorant to be equal to or greater than the above lower limit, the sealing body can be easily given a desired color, whereas by setting the content of the colorant to be equal to or less than the above upper limit, a low dielectric tangent can be achieved while obtaining a desired color.
However, when carbon black is contained as a colorant, in order to suppress an increase in the dielectric tangent, the content is preferably less than 0.1 mass % based on the entire encapsulating resin composition, and it is more preferable that carbon black is substantially not contained.

[活性エステル樹脂]
本実施形態の封止用樹脂組成物は、さらに活性エステル樹脂を含んでもよい。活性エステル樹脂は、以下の式(1)で表される活性エステル基を有する。エポキシ樹脂と活性エステル樹脂との硬化反応において、活性エステル樹脂の活性エステル基はエポキシ樹脂のエポキシ基と反応して2級の水酸基を生じる。この2級の水酸基は、活性エステル樹脂のエステル残基により封鎖される。そのため、硬化物の誘電率と誘電正接が低減される。
[Active ester resin]
The encapsulating resin composition of the present embodiment may further include an active ester resin. The active ester resin has an active ester group represented by the following formula (1). In the curing reaction between the epoxy resin and the active ester resin, the active ester group of the active ester resin reacts with the epoxy group of the epoxy resin to generate a secondary hydroxyl group. This secondary hydroxyl group is blocked by the ester residue of the active ester resin. Therefore, the dielectric constant and dielectric loss tangent of the cured product are reduced.

Figure 0007540164000001
Figure 0007540164000001

(式(1)において、Aは、脂肪族環状炭化水素基を介して連結された置換または非置換のアリーレン基であり、Ar'は、置換または非置換のアリール基であり、kは、繰り返し単位の平均値であり、0.25~3.5の範囲であり、Bは、以下の式(2)で表される構造である。) (In formula (1), A is a substituted or unsubstituted arylene group linked via an aliphatic cyclic hydrocarbon group, Ar' is a substituted or unsubstituted aryl group, k is the average value of the repeating units and is in the range of 0.25 to 3.5, and B is a structure represented by the following formula (2).)

Figure 0007540164000002
Figure 0007540164000002

(式(2)中、Arは、置換または非置換のアリーレン基であり、Yは、単結合、炭素原子数2~6の直鎖または環式のアルキレン基、エーテル結合、カルボニル基、カルボニルオキシ基、スルフィド基、あるいはスルホン基である。) (In formula (2), Ar is a substituted or unsubstituted arylene group, and Y is a single bond, a linear or cyclic alkylene group having 2 to 6 carbon atoms, an ether bond, a carbonyl group, a carbonyloxy group, a sulfide group, or a sulfone group.)

上記式(2)で表される構造は、以下の式(2-1)~式(2-6)から選択される少なくとも1つであることが好ましい。 The structure represented by the above formula (2) is preferably at least one selected from the following formulas (2-1) to (2-6).

Figure 0007540164000003
Figure 0007540164000003

式(2-1)~(2-6)において、
はそれぞれ独立に水素原子、炭素原子数1~4のアルキル基、炭素原子数1~4のアルコキシ基、フェニル基、アラルキル基の何れかであり、
はそれぞれ独立に炭素原子数1~4のアルキル基、炭素原子数1~4のアルコキシ基、フェニル基の何れかであり、Xは炭素原子数2~6の直鎖のアルキレン基、エーテル結合、カルボニル基、カルボニルオキシ基、スルフィド基、スルホン基のいずれかであり、
n、pは1~4の整数である。
In formulas (2-1) to (2-6),
R 1 's each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl group, or an aralkyl group;
R2 is independently any one of an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, and a phenyl group; X is any one of a linear alkylene group having 2 to 6 carbon atoms, an ether bond, a carbonyl group, a carbonyloxy group, a sulfide group, and a sulfone group;
n and p are integers from 1 to 4.

上記式(2-1)~(2-6)で表される構造は、いずれも配向性が高い構造であることから、これを含む活性エステル樹脂を用いた場合、得られる封止用樹脂組成物の硬化物は、低誘電率および低誘電正接を有するとともに、金属に対する密着性に優れ、そのため半導体封止材料として好適に用いることができる。中でも、低誘電率および低誘電正接の観点から、式(2-3)または(2-5)で表される構造を有する活性エステル樹脂が好ましく、さらに式(2-3)のXがエーテル結合である構造、または式(2-5)において二つのカルボニルオキシ基が4,4'-位にある構造を有する活性エステル樹脂がより好ましい。また各式中のRはすべて水素原子であることが好ましい。 Since the structures represented by the above formulas (2-1) to (2-6) are all highly oriented structures, when an active ester resin containing such an active ester resin is used, the resulting cured product of the encapsulating resin composition has a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent, and is excellent in adhesion to metals, and therefore can be suitably used as a semiconductor encapsulating material. Among these, from the viewpoint of low dielectric constant and low dielectric loss tangent, an active ester resin having a structure represented by formula (2-3) or (2-5) is preferred, and an active ester resin having a structure in which X in formula (2-3) is an ether bond, or a structure in which two carbonyloxy groups are at the 4,4'-position in formula (2-5) is more preferred. In addition, it is preferable that all R 1s in each formula are hydrogen atoms.

式(1)における「Ar'」はアリール基であり、例えば、フェニル基、o-トリル基、m-トリル基、p-トリル基、3,5-キシリル基、o-ビフェニル基、m-ビフェニル基、p-ビフェニル基、2-ベンジルフェニル基、4-ベンジルフェニル基、4-(α-クミル)フェニル基、1-ナフチル基、2-ナフチル基等であり得る。中でも、特に誘電率および誘電正接の低い硬化物が得られることから、1-ナフチル基または2-ナフチル基であることが好ましい。 In formula (1), "Ar'" is an aryl group, and may be, for example, a phenyl group, an o-tolyl group, an m-tolyl group, a p-tolyl group, a 3,5-xylyl group, an o-biphenyl group, an m-biphenyl group, a p-biphenyl group, a 2-benzylphenyl group, a 4-benzylphenyl group, a 4-(α-cumyl)phenyl group, a 1-naphthyl group, or a 2-naphthyl group. Among these, a 1-naphthyl group or a 2-naphthyl group is preferable, since a cured product having a particularly low dielectric constant and dielectric dissipation factor can be obtained.

本実施形態において、式(1)で表される活性エステル樹脂における「A」は、脂肪族環状炭化水素基を介して連結された置換または非置換のアリーレン基であり、このようなアリーレン基としては、例えば、1分子中に二重結合を2個含有する不飽和脂肪族環状炭化水素化合物と、フェノール性化合物とを重付加反応させて得られる構造が挙げられる。 In this embodiment, "A" in the active ester resin represented by formula (1) is a substituted or unsubstituted arylene group linked via an aliphatic cyclic hydrocarbon group. Examples of such arylene groups include a structure obtained by polyaddition reaction of an unsaturated aliphatic cyclic hydrocarbon compound containing two double bonds in one molecule with a phenolic compound.

前記1分子中に二重結合を2個含有する不飽和脂肪族環状炭化水素化合物は、例えば、ジシクロペンタジエン、シクロペンタジエンの多量体、テトラヒドロインデン、4-ビニルシクロヘキセン、5-ビニル-2-ノルボルネン、リモネン等が挙げられ、これらはそれぞれ単独で用いてもよいし、2種類以上を併用してもよい。これらの中でも、耐熱性に優れる硬化物が得られることからジシクロペンタジエンが好ましい。尚、ジシクロペンタジエンは石油留分中に含まれることから、工業用ジシクロペンタジエンにはシクロペンタジエンの多量体や、他の脂肪族或いは芳香族性ジエン化合物等が不純物として含有されることがあるが、耐熱性、硬化性、成形性等の性能を考慮すると、ジシクロペンタジエンの純度90質量%以上の製品を用いることが望ましい Examples of the unsaturated aliphatic cyclic hydrocarbon compounds containing two double bonds in one molecule include dicyclopentadiene, cyclopentadiene polymers, tetrahydroindene, 4-vinylcyclohexene, 5-vinyl-2-norbornene, limonene, etc., which may be used alone or in combination of two or more. Among these, dicyclopentadiene is preferred because it gives a cured product with excellent heat resistance. Since dicyclopentadiene is contained in petroleum fractions, industrial dicyclopentadiene may contain cyclopentadiene polymers and other aliphatic or aromatic diene compounds as impurities. However, considering the performance such as heat resistance, curing property, and moldability, it is desirable to use a product with a purity of 90% by mass or more of dicyclopentadiene.

一方、前記フェノール性化合物は、例えば、フェノール、クレゾール、キシレノール、エチルフェノール、イソプロピルフェノール、ブチルフェノール、オクチルフェノール、ノニルフェノール、ビニルフェノール、イソプロペニルフェノール、アリルフェノール、フェニルフェノール、ベンジルフェノール、クロルフェノール、ブロムフェノール、1-ナフトール、2-ナフトール、1,4-ジヒドロキシナフタレン、2,3-ジヒドロキシナフタレン、2,3-ジヒドロキシナフタレン、2,6-ジヒドロキシナフタレン、2,7-ジヒドロキシナフタレン等が挙げられ、それぞれ単独で用いても良いし、2種類以上を併用しても良い。これらの中でも、硬化性が高く硬化物における誘電特性に優れる活性エステル樹脂となることからフェノールが好ましい。 On the other hand, examples of the phenolic compound include phenol, cresol, xylenol, ethylphenol, isopropylphenol, butylphenol, octylphenol, nonylphenol, vinylphenol, isopropenylphenol, allylphenol, phenylphenol, benzylphenol, chlorophenol, bromophenol, 1-naphthol, 2-naphthol, 1,4-dihydroxynaphthalene, 2,3-dihydroxynaphthalene, 2,3-dihydroxynaphthalene, 2,6-dihydroxynaphthalene, 2,7-dihydroxynaphthalene, etc., and each may be used alone or two or more types may be used in combination. Among these, phenol is preferred because it is highly curable and becomes an active ester resin with excellent dielectric properties in the cured product.

好ましい実施形態において、式(1)で表される活性エステル樹脂における「A」は、以下の式(3)で表される構造を有する。式(1)における「A」が以下の構造である活性エステル樹脂を含む封止用樹脂組成物は、その硬化物が低誘電率、低誘電正接であり、インサート品に対する密着性に優れる。 In a preferred embodiment, "A" in the active ester resin represented by formula (1) has a structure represented by the following formula (3). The encapsulating resin composition containing the active ester resin in which "A" in formula (1) has the following structure has a cured product with a low dielectric constant and a low dielectric tangent, and has excellent adhesion to the insert product.

Figure 0007540164000004
Figure 0007540164000004

式(3)において、Rはそれぞれ独立に水素原子、炭素原子数1~4のアルキル基、炭素原子数1~4のアルコキシ基、フェニル基、アラルキル基の何れかであり、lは0または1であり、mは1以上の整数である。 In formula (3), R3 is independently any one of a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl group, and an aralkyl group, l is 0 or 1, and m is an integer of 1 or more.

式(1)で表される活性エステル樹脂のうち、特に好ましいものとして、下記式(1-1)および式(1-2)で表される樹脂が挙げられる。 Among the active ester resins represented by formula (1), particularly preferred are the resins represented by the following formulas (1-1) and (1-2).

Figure 0007540164000005
Figure 0007540164000005

(式(1-1)中、R及びRはそれぞれ独立に水素原子、炭素原子数1~4のアルキル基、炭素原子数1~4のアルコキシ基、フェニル基、アラルキル基の何れかであり、Zはフェニル基、ナフチル基、又は、芳香核上に炭素原子数1~4のアルキル基を1~3個有するフェニル基或いはナフチル基であり、lは0又は1であり、kは繰り返し単位の平均であり、0.25~3.5である。)。 (In formula (1-1), R 1 and R 3 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl group, or an aralkyl group; Z represents a phenyl group, a naphthyl group, or a phenyl group or naphthyl group having 1 to 3 alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms on the aromatic nucleus; l represents 0 or 1; and k represents the average of the repeating units and is 0.25 to 3.5.)

Figure 0007540164000006
Figure 0007540164000006

(式(1-2)中、R及びRはそれぞれ独立に水素原子、炭素原子数1~4のアルキル基、炭素原子数1~4のアルコキシ基、フェニル基、アラルキル基の何れかであり、Zはフェニル基、ナフチル基、又は、芳香核上に炭素原子数1~4のアルキル基を1~3個有するフェニル基或いはナフチル基であり、lは0又は1であり、kは繰り返し単位の平均であり、0.25~3.5である。)。 (In formula (1-2), R 1 and R 3 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl group, or an aralkyl group; Z represents a phenyl group, a naphthyl group, or a phenyl group or naphthyl group having 1 to 3 alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms on the aromatic nucleus; l is 0 or 1; and k is the average of the repeating units and is 0.25 to 3.5.)

本発明で用いられる活性エステル樹脂は、脂肪族環状炭化水素基を介してフェノール性水酸基を有するアリール基が複数結節された構造を有するフェノール性化合物(a)と、芳香核含有ジカルボン酸又はそのハライド(b)と、芳香族モノヒドロキシ化合物(c)とを反応させる、公知の方法により製造することができる。 The active ester resin used in the present invention can be produced by a known method in which a phenolic compound (a) having a structure in which multiple aryl groups having phenolic hydroxyl groups are bonded via an aliphatic cyclic hydrocarbon group, an aromatic nucleus-containing dicarboxylic acid or its halide (b), and an aromatic monohydroxy compound (c) are reacted.

上記フェノール性化合物(a)と、芳香核含有ジカルボン酸又はそのハライド(b)と、芳香族モノヒドロキシ化合物(c)との反応割合は、所望の分子設計に応じて適宜調整することができるが、中でも、より硬化性の高い活性エステル樹脂が得られることから、芳香核含有ジカルボン酸又はそのハライド(b)が有するカルボキシル基又は酸ハライド基の合計1モルに対し、前記フェノール性化合物(a)が有するフェノール性水酸基が0.25~0.90モルの範囲となり、かつ、前記芳香族モノヒドロキシ化合物(c)が有するヒドロキシル基が0.10~0.75モルの範囲となる割合で各原料を用いることが好ましく、前記フェノール性化合物(a)が有するフェノール性水酸基が0.50~0.75モルの範囲となり、かつ、前記芳香族モノヒドロキシ化合物(c)が有するヒドロキシル基が0.25~0.50モルの範囲となる割合で各原料を用いることがより好ましい。 The reaction ratio of the phenolic compound (a), aromatic nucleus-containing dicarboxylic acid or its halide (b), and aromatic monohydroxy compound (c) can be adjusted appropriately according to the desired molecular design. Among them, since an active ester resin with higher curing properties can be obtained, it is preferable to use each raw material in a ratio such that the phenolic hydroxyl group of the phenolic compound (a) is in the range of 0.25 to 0.90 moles and the hydroxyl group of the aromatic monohydroxy compound (c) is in the range of 0.10 to 0.75 moles per 1 mole of the total of carboxyl groups or acid halide groups of the aromatic nucleus-containing dicarboxylic acid or its halide (b), and it is more preferable to use each raw material in a ratio such that the phenolic hydroxyl group of the phenolic compound (a) is in the range of 0.50 to 0.75 moles and the hydroxyl group of the aromatic monohydroxy compound (c) is in the range of 0.25 to 0.50 moles.

また、活性エステル樹脂の官能基当量は、樹脂構造中に有するアリールカルボニルオキシ基およびフェノール性水酸基の合計を樹脂の官能基数とした場合、硬化性に優れ、誘電率及び誘電正接の低い硬化物が得られることから、200g/eq以上230g/eq以下の範囲であることが好ましく、210g/eq以上220g/eq以下の範囲であることがより好ましい。 In addition, the functional group equivalent of the active ester resin, when the total number of arylcarbonyloxy groups and phenolic hydroxyl groups in the resin structure is taken as the number of functional groups of the resin, is preferably in the range of 200 g/eq to 230 g/eq, more preferably in the range of 210 g/eq to 220 g/eq, since this gives a cured product with excellent curability and low dielectric constant and dielectric loss tangent.

本実施形態の封止用樹脂組成物において、活性エステル樹脂を含む場合、活性エステル樹脂とエポキシ樹脂との配合量は、硬化性に優れ、誘電率及び誘電正接の低い硬化物が得られることから、活性エステル樹脂中の活性基の合計1当量に対して、エポキシ樹脂中のエポキシ基が0.8~1.2当量となる割合であることが好ましい。ここで、活性エステル樹脂中の活性基とは、樹脂構造中に有するアリールカルボニルオキシ基及びフェノール性水酸基を指す。 When the encapsulating resin composition of this embodiment contains an active ester resin, the amount of the active ester resin and the epoxy resin is preferably such that the epoxy groups in the epoxy resin are 0.8 to 1.2 equivalents per equivalent of the total active groups in the active ester resin, since this gives a cured product with excellent curing properties and low dielectric constant and dielectric tangent. Here, the active groups in the active ester resin refer to the arylcarbonyloxy groups and phenolic hydroxyl groups in the resin structure.

本実施形態の組成物において、活性エステル樹脂は、封止用樹脂組成物の固形分全体に対して、1質量%以上15質量%以下、好ましくは、3質量%以上10質量%以下の量で用いられる。 In the composition of this embodiment, the active ester resin is used in an amount of 1% by mass or more and 15% by mass or less, and preferably 3% by mass or more and 10% by mass or less, based on the total solid content of the encapsulating resin composition.

[その他の成分]
本実施形態の封止用樹脂組成物は、上記のいずれにも該当しないその他の成分を含んでもよい。その他の成分として具体的には、他の熱硬化性樹脂、硬化促進剤、カップリング剤、離型剤、イオン捕捉剤、難燃剤、酸化防止剤、および低応力剤等を挙げることができる。封止用樹脂組成物がその他の成分を含む場合は、一種のみを含んでもよいし、二種以上を含んでもよい。
[Other ingredients]
The encapsulating resin composition of the present embodiment may contain other components that do not fall under any of the above. Specific examples of other components include other thermosetting resins, curing accelerators, coupling agents, mold release agents, ion scavengers, flame retardants, antioxidants, and stress reducing agents. When the encapsulating resin composition contains other components, it may contain only one type, or may contain two or more types.

上記の他の熱硬化性樹脂としては、シアネートエステル化合物、ビニルベンジル化合物、アクリル化合物、マレイミド化合物、スチレンとマレイン酸無水物の共重合物などが挙げられる。中でも、得られる封止用樹脂組成物の流動性が良好であることから、アクリル化合物を用いることが好ましい。上記した他の熱硬化性樹脂を使用する場合、その使用量は本発明の効果を阻害しなければ特に制限をうけないが、封止用樹脂組成物の固形分全体に対して、1質量%以上50質量%の範囲であることが好ましい。 The other thermosetting resins mentioned above include cyanate ester compounds, vinylbenzyl compounds, acrylic compounds, maleimide compounds, copolymers of styrene and maleic anhydride, etc. Among them, it is preferable to use acrylic compounds because the resulting encapsulating resin composition has good fluidity. When using the other thermosetting resins mentioned above, there is no particular restriction on the amount used as long as it does not inhibit the effects of the present invention, but it is preferable that the amount is in the range of 1% by mass to 50% by mass based on the total solid content of the encapsulating resin composition.

上記の硬化促進剤としては、有機ホスフィン、テトラ置換ホスホニウム化合物、ホスホベタイン化合物、ホスフィン化合物とキノン化合物との付加物、ホスホニウム化合物とシラン化合物との付加物等のリン原子含有化合物;1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセン、ベンジルジメチルアミン、2-メチルイミダゾール等のアミジンまたは3級アミン、アミジンまたはアミンの4級塩、などの窒素原子含有化合物を挙げることができる。
これらの中でも、硬化性の向上の点からは、リン原子含有化合物が好ましい。また、成形性と硬化性のバランスを向上させる観点からは、テトラ置換ホスホニウム化合物、ホスホベタイン化合物、ホスフィン化合物とキノン化合物との付加物、ホスホニウム化合物とシラン化合物との付加物等の潜伏性を有するものを含むことがより好ましい。
硬化促進剤を用いる場合、その量は、他の成分とのバランス等を考慮し、封止用樹脂組成物全体に対してに対して、下限は好ましくは0.01質量%以上、より好ましくは0.05質量%以上であり、上限は好ましくは2.0質量%以下、より好ましくは1.0質量%以下である。
Examples of the curing accelerator include phosphorus atom-containing compounds such as organic phosphines, tetra-substituted phosphonium compounds, phosphobetaine compounds, adducts of phosphine compounds and quinone compounds, and adducts of phosphonium compounds and silane compounds; and nitrogen atom-containing compounds such as amidines or tertiary amines such as 1,8-diazabicyclo[5.4.0]-7-undecene, benzyldimethylamine, and 2-methylimidazole, and quaternary salts of amidines or amines.
Among these, from the viewpoint of improving the curability, phosphorus atom-containing compounds are preferred.Moreover, from the viewpoint of improving the balance between moldability and curability, it is more preferred to include compounds having latency, such as tetra-substituted phosphonium compounds, phosphobetaine compounds, adducts of phosphine compounds and quinone compounds, and adducts of phosphonium compounds and silane compounds.
When a curing accelerator is used, the amount thereof is, taking into consideration the balance with other components, etc., preferably 0.01 mass % or more, and more preferably 0.05 mass % or more, and preferably 2.0 mass % or less, and more preferably 1.0 mass % or less, based on the entire encapsulating resin composition.

上記のカップリング剤としては、エポキシシラン、メルカプトシラン、フェニルアミノシラン等のアミノシラン、アルキルシラン、ウレイドシラン、ビニルシラン、メタクリルシラン等の各種シラン系化合物、チタン系化合物、アルミニウムキレート類、アルミニウム/ジルコニウム系化合物等の公知のカップリング剤を挙げることができる。
これらの中でも、流動性等の観点から、エポキシシランまたはアミノシランを含むことがより好ましく、2級アミノシランを含むことがさらに好ましい。好ましいカップリング剤として具体的には、例えばフェニルアミノプロピルトリメトキシシランが挙げられる。
Examples of the coupling agent include known coupling agents such as aminosilanes such as epoxysilane, mercaptosilane, and phenylaminosilane; various silane-based compounds such as alkylsilane, ureidosilane, vinylsilane, and methacrylsilane; titanium-based compounds; aluminum chelates; and aluminum/zirconium-based compounds.
Among these, it is more preferable to contain an epoxy silane or an amino silane, and it is even more preferable to contain a secondary amino silane, from the viewpoint of flowability, etc. A specific example of a preferable coupling agent is phenylaminopropyltrimethoxysilane.

上記のカップリング剤を用いる場合、その含有量は、他の成分とのバランス等を考慮し、封止用樹脂組成物全体に対してに対して、下限は好ましくは0.01質量%以上、より好ましくは0.05質量%以上であり、上限は好ましくは2.0質量%以下、より好ましくは1.0質量%以下である。 When the above coupling agent is used, the content of the coupling agent is, taking into consideration the balance with other components, preferably 0.01% by mass or more, more preferably 0.05% by mass or more, and preferably 2.0% by mass or less, more preferably 1.0% by mass or less, based on the total encapsulating resin composition.

上記の離型剤としては、カルナバワックス等の天然ワックス、酸化ポリエチレンワックス、モンタン酸エステルワックス等の合成ワックス、ステアリン酸亜鉛等の高級脂肪酸およびその金属塩類、パラフィン、等を挙げることができる。
離型剤を用いる場合、その含有量は、他の成分とのバランス等を考慮し、封止用樹脂組成物全体に対して、下限は好ましくは0.01質量%以上、より好ましくは0.05質量%以上であり、上限は好ましくは2.0質量%以下で、より好ましくは1.0質量%以下である。
Examples of the release agent include natural waxes such as carnauba wax, synthetic waxes such as oxidized polyethylene wax and montanic acid ester wax, higher fatty acids such as zinc stearate and metal salts thereof, and paraffin.
When a release agent is used, the content thereof, taking into consideration the balance with other components, etc., is preferably such that the lower limit is 0.01 mass % or more, more preferably 0.05 mass % or more, and the upper limit is preferably 2.0 mass % or less, more preferably 1.0 mass % or less, based on the entire encapsulating resin composition.

上記のイオン捕捉剤としては、たとえば、ハイドロタルサイトを挙げることができる。
イオン捕捉剤を用いる場合、封止用樹脂組成物中のイオン捕捉剤の含有量は、電子装置の信頼性を向上させる観点から、封止用樹脂組成物全体に対して、下限は好ましくは0.03質量%以上、より好ましくは0.05質量%以上であり、上限は好ましくは2.0質量%以下、より好ましくは1.0質量%以下である。
An example of the ion scavenger is hydrotalcite.
When an ion scavenger is used, the content of the ion scavenger in the encapsulating resin composition, from the viewpoint of improving the reliability of the electronic device, is preferably such that the lower limit is 0.03 mass % or more, more preferably 0.05 mass % or more, and the upper limit is preferably 2.0 mass % or less, more preferably 1.0 mass % or less, based on the entire encapsulating resin composition.

上記の難燃剤としては、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、ホウ酸亜鉛、モリブデン酸亜鉛、ホスファゼンなどを挙げることができる。
難燃剤を用いる場合、封止用樹脂組成物中の難燃剤の含有量は、難燃性の向上と他の性能とのバランスの点から、封止用樹脂組成物全体に対して、例えば0.1~20質量%、好ましくは1~15質量%、より好ましくは3~10質量%である。
Examples of the flame retardant include aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, zinc borate, zinc molybdate, and phosphazene.
When a flame retardant is used, the content of the flame retardant in the encapsulating resin composition is, for example, 0.1 to 20 mass %, preferably 1 to 15 mass %, and more preferably 3 to 10 mass %, based on the entire encapsulating resin composition, from the viewpoint of a balance between improving flame retardancy and other performance properties.

上記の低応力剤としては、シリコーンオイル、シリコーンゴム、カルボキシル基末端ブタジエンアクリロニトリルゴム等を挙げることができる。
低応力剤を用いる場合、封止用樹脂組成物中の低応力剤の含有量は、他の性能とのバランスの点から、封止用樹脂組成物全体に対して、例えば0.1~5質量%、好ましくは0.15~3質量%、より好ましくは0.2~1質量%である。
Examples of the above-mentioned low stress agent include silicone oil, silicone rubber, and carboxyl-terminated butadiene acrylonitrile rubber.
When a low stress agent is used, the content of the low stress agent in the encapsulating resin composition is, for example, 0.1 to 5 mass %, preferably 0.15 to 3 mass %, and more preferably 0.2 to 1 mass %, based on the entire encapsulating resin composition in terms of balance with other performances.

上記の酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系化合物、ヒンダードアミン系化合物、チオエーテル系化合物などを挙げることができる。
酸化防止剤を用いる場合、封止用樹脂組成物中の酸化防止剤の含有量は、他の性能とのバランスの点から、封止用樹脂組成物全体に対して、例えば0.1~5質量%、好ましくは0.15~3質量%、より好ましくは0.2~1質量%である。
Examples of the antioxidant include hindered phenol compounds, hindered amine compounds, and thioether compounds.
When an antioxidant is used, the content of the antioxidant in the encapsulating resin composition is, for example, 0.1 to 5 mass %, preferably 0.15 to 3 mass %, and more preferably 0.2 to 1 mass %, based on the entire encapsulating resin composition in terms of balance with other performances.

[封止用樹脂組成物の性状]
本実施形態の封止用樹脂組成物の形状は、特に限定されない。形状は、例えば粒子状、顆粒状、タブレット状またはシート状が挙げられる。
封止用樹脂組成物がタブレット状である場合は、例えばトランスファー成形法を用いて封止用樹脂組成物を成形することができる。封止用樹脂組成物が粉粒体である場合には、例えば、圧縮成形法を用いて封止用樹脂組成物を成形することができる。ここで、封止用樹脂組成物が粉粒体であるとは、粉末状または顆粒状のいずれかである場合を指す。
[Properties of the encapsulating resin composition]
The shape of the encapsulating resin composition of the present embodiment is not particularly limited, and examples of the shape include particles, granules, tablets, and sheets.
When the encapsulating resin composition is in a tablet form, the encapsulating resin composition can be molded, for example, by a transfer molding method. When the encapsulating resin composition is in a powder form, the encapsulating resin composition can be molded, for example, by a compression molding method. Here, the encapsulating resin composition being in a powder form refers to the case where the encapsulating resin composition is in either a powder form or a granular form.

本実施形態の封止用樹脂組成物は、以下の手順により算出される熱伝導率が、2W/mK以上、50W/mK以下である。
手順:金型温度175℃、注入圧力6.9MPa、硬化時間120秒の条件で封止用樹脂組成物の成形体(1.0×1.0mm、厚さ1.0mm)を作製し、175℃、2時間で後硬化し、試験片を得る。得られた試験片を用いて、レーザーフラッシュ法で熱拡散率を測定し、さらに、比重および比熱を測定し、得られた各測定値から、当該試験片の厚さ方向の熱伝導率を算出する。
これにより、より安定的に誘電正接を低減できる。
The encapsulating resin composition of the present embodiment has a thermal conductivity of 2 W/mK or more and 50 W/mK or less, as calculated by the following procedure.
Procedure: A molded body (1.0×1.0 mm, thickness 1.0 mm) of the encapsulating resin composition is produced under conditions of a mold temperature of 175° C., an injection pressure of 6.9 MPa, and a curing time of 120 seconds, and then post-cured at 175° C. for 2 hours to obtain a test piece. Using the obtained test piece, the thermal diffusivity is measured by a laser flash method, and further, the specific gravity and specific heat are measured, and the thermal conductivity in the thickness direction of the test piece is calculated from the obtained measured values.
This makes it possible to reduce the dielectric tangent more stably.

すなわち、所定の条件で測定され、算出された熱伝導率を0.1W/mK以上、20W/mK以下の範囲内に制御することによって、封止用樹脂組成物の用途に適した放熱性が得られる。当該熱伝導率は、好ましくは0.2W/mK以上、より好ましくは0.5W/mK以上である。一方、当該熱伝導率は、好ましくは15W/mK以下、より好ましくは8W/mK以下、さらに好ましくは2W/mK以下、ことさら好ましくは1W/mK以下である。
当該熱伝導率を、上記下限値以上とすることにより、上記下限値以上とすることにより、低誘電正接を保持しつつ、放熱性が良好になる。一方、当該熱伝導率を、上記上限値以下とすることにより、生産安定性が良好になる。
That is, by controlling the thermal conductivity measured and calculated under predetermined conditions to within a range of 0.1 W/mK or more and 20 W/mK or less, heat dissipation suitable for the application of the encapsulating resin composition can be obtained. The thermal conductivity is preferably 0.2 W/mK or more, more preferably 0.5 W/mK or more. On the other hand, the thermal conductivity is preferably 15 W/mK or less, more preferably 8 W/mK or less, even more preferably 2 W/mK or less, and particularly preferably 1 W/mK or less.
By setting the thermal conductivity to be equal to or higher than the lower limit, the heat dissipation property is improved while maintaining a low dielectric tangent, whereas by setting the thermal conductivity to be equal to or lower than the upper limit, the production stability is improved.

本実施形態において、当該熱伝導率は、材料の選択、または製法上の工夫を施すことにより、実現することができる。例えば、エポキシ樹脂の種類に応じて硬化剤を選択したり、無機充填材の種類の選択、含有量の調整、無機充填材として平均粒子径が互いに異なる2種以上の粒子を用いること、または、封止樹脂組成物の製造時の混練条件を制御することなどが挙げられる。ただし、本実施形態の封止樹脂組成物は、かかる材料や製造方法に限定されるものではない。 In this embodiment, the thermal conductivity can be achieved by selecting the material or by devising a manufacturing method. For example, the curing agent can be selected according to the type of epoxy resin, the type of inorganic filler can be selected, the content can be adjusted, two or more types of particles with different average particle sizes can be used as the inorganic filler, or the kneading conditions can be controlled during the manufacture of the encapsulating resin composition. However, the encapsulating resin composition of this embodiment is not limited to such materials or manufacturing methods.

[硬化物]
また、本実施形態の封止用樹脂組成物の硬化物(成形温度175℃、硬化時間100秒、成形圧力8MPa)は、L色座標において、Lの値が、24~30であり、aの値が、-2.0~-0.1であり、bの値が、-5.0~-2.5であることが好ましい。
硬化物のL、aおよびbが上記数値範囲となるように封止用樹脂組成物を設計することで、カーボンブラックを含む従来の封止用樹脂組成物と同程度の色味(黒色性)を得つつも、誘電特性を低減できる。
、aおよびbの数値は、公知の方法によって制御でき、着色剤の種類を選択したり、含有量を調整することによって、制御できる。
[Cured product]
In addition, it is preferable that the cured product of the encapsulating resin composition of the present embodiment (molding temperature 175° C., curing time 100 seconds, molding pressure 8 MPa) has an L * value of 24 to 30, an a * value of −2.0 to −0.1, and a b * value of −5.0 to −2.5 in the L * a * b * color coordinates.
By designing the encapsulating resin composition so that the L * , a * and b * of the cured product are within the above numerical ranges, it is possible to reduce the dielectric properties while obtaining a color (blackness) similar to that of conventional encapsulating resin compositions containing carbon black.
The values of L * , a * and b * can be controlled by known methods, for example, by selecting the type of colorant or adjusting the content.

ここで、L、aおよびbの値は、国際照明委員(CIE)の1976年の定義下での値である。L、aおよびbは、市販の測色計を用いることで測定することができる。 Here, the values of L * , a * , and b * are values according to the definition of the Commission Internationale de l'Eclairage (CIE) in 1976. L * , a * , and b * can be measured using a commercially available colorimeter.

[封止用樹脂組成物の製造方法]
本実施形態の封止用樹脂組成物の製造方法は特に限定されない。
例えば、上述の各成分を、公知の手段で混合し、さらにロール、ニーダーまたは押出機等の混練機で溶融混練し、冷却し、その後に粉砕する方法により得ることができる。
必要に応じて、粉砕後にタブレット状に打錠成形してもよい。
必要に応じて、粉砕後に例えば真空ラミネート成形または圧縮成形によりシート状にしてもよい。あるいは、本実施形態の封止用樹脂組成物は、有機溶剤に溶かして液状の封止材料として使用することができる。この場合、液状封止用樹脂組成物を板またはフィルム上に薄く塗布し、樹脂の硬化反応が余り進まないような条件で有機溶剤を飛散させることによって得られるシートあるいはフィルム状の材料として使用することもできる。
必要に応じて、得られた封止用樹脂組成物の分散度や流動性等を調整してもよい。
[Method of producing encapsulating resin composition]
The method for producing the encapsulating resin composition of the present embodiment is not particularly limited.
For example, the above-mentioned components are mixed by a known means, melt-kneaded in a kneading machine such as a roll, a kneader or an extruder, cooled, and then pulverized to obtain the toner.
If necessary, the powder may be compressed into tablets.
If necessary, after pulverization, the resin composition may be formed into a sheet shape by, for example, vacuum lamination or compression molding. Alternatively, the encapsulating resin composition of the present embodiment may be dissolved in an organic solvent and used as a liquid encapsulating material. In this case, the liquid encapsulating resin composition may be thinly applied onto a plate or film, and the organic solvent may be evaporated under conditions that do not allow the resin curing reaction to proceed very much, to obtain a sheet or film-like material.
If necessary, the degree of dispersion, flowability, etc. of the resulting encapsulating resin composition may be adjusted.

<半導体装置>
次に、本実施形態の半導体装置について説明する。本実施形態の半導体装置は、電子部品と、前記電子部品を封止する封止材とを備え、当該封止材が、上述の封止用樹脂組成物の硬化物で構成されている。すなわち、半導体装置は、上述の封止用樹脂組成物により半導体素子を封止することにより得られる。
このような半導体装置としては、銅リードフレームの支持部材に、半導体チップ、トランジスタ、ダイオード、サイリスタ等の能動素子、コンデンサ、抵抗体、コイル等の受動素子等の素子を搭載し、必要な部分を本発明の半導体封止用エポキシ封止用樹脂組成物で封止した、半導体装置などが挙げられる。また、このような半導体装置としては、例えば、銅リードフレーム上に半導体素子を固定し、ボンディングパッド等の素子の端子部とリード部をワイヤーボンディングやバンプで接続した後、本発明の半導体封止用エポキシ封止用樹脂組成物を用いてトランスファー成形などにより封止してなる、DIP(Dual Inline Package)、PLCC(Plastic Leaded Chip Carrier)、QFP(Quad Flat Package)、SOP(Small Outline Package)、SOJ(Small Outlaine J-lead package)、TSOP(Thin Small Outline Package)、TQFP(Thin Quad Flat Package)等の一般的な樹脂封止型ICが挙げられる。また、MCP(Multi Chip Stacked Package)等の半導体チップが多段に積層された半導体パッケージも挙げられる。
<Semiconductor Device>
Next, the semiconductor device of this embodiment will be described. The semiconductor device of this embodiment includes an electronic component and an encapsulant that encapsulates the electronic component, and the encapsulant is composed of a cured product of the encapsulating resin composition described above. That is, the semiconductor device is obtained by encapsulating a semiconductor element with the encapsulating resin composition described above.
Examples of such semiconductor devices include semiconductor devices in which elements such as active elements such as semiconductor chips, transistors, diodes, and thyristors, and passive elements such as capacitors, resistors, and coils are mounted on a supporting member such as a copper lead frame, and necessary parts are encapsulated with the epoxy encapsulating resin composition for semiconductor encapsulation of the present invention. Examples of such semiconductor devices include general resin-sealed ICs such as DIP (Dual Inline Package), PLCC (Plastic Leaded Chip Carrier), QFP (Quad Flat Package), SOP (Small Outline Package), SOJ (Small Outline J-lead package), TSOP (Thin Small Outline Package), and TQFP (Thin Quad Flat Package), which are produced by fixing a semiconductor element onto a copper lead frame, connecting the terminal portion of the element, such as a bonding pad, and the lead portion by wire bonding or bumps, and then sealing the semiconductor element by transfer molding or the like using the epoxy encapsulating resin composition for semiconductor encapsulation of the present invention. Another example is a semiconductor package in which semiconductor chips are stacked in multiple stages, such as an MCP (Multi Chip Stacked Package).

図1は、本発明に係る封止用樹脂組成物を用いた半導体装置の一例について、断面構造を示した図である。図1において、ダイパッド3上に、ダイボンド材硬化体2を介して半導体素子1が2段に積層されて固定されている。半導体素子1の電極パッドとリードフレーム5との間は金線4によって接続されている。半導体素子1は、上述の封止用樹脂組成物の硬化体からなる封止材6によって封止されている。半導体素子1は、誘電特性に優れ、インサート品に対して優れた密着性を有する上述の封止用樹脂組成物の硬化物により封止されているため、信頼性に優れた半導体装置を得ることができる。 Figure 1 is a diagram showing the cross-sectional structure of an example of a semiconductor device using the encapsulating resin composition according to the present invention. In Figure 1, a semiconductor element 1 is stacked in two stages and fixed on a die pad 3 via a hardened die bond material 2. The electrode pads of the semiconductor element 1 are connected to a lead frame 5 by gold wires 4. The semiconductor element 1 is encapsulated with an encapsulant 6 made of a hardened product of the above-mentioned encapsulating resin composition. Since the semiconductor element 1 is encapsulated with the hardened product of the above-mentioned encapsulating resin composition, which has excellent dielectric properties and excellent adhesion to the insert product, a semiconductor device with excellent reliability can be obtained.

本発明の封止用樹脂組成物を用いて素子を封止する方法としては、低圧トランスファー成形法が最も一般的であるが、インジェクション成形法、圧縮成形法等を用いてもよい。封止用樹脂組成物が常温で液状またはペースト状の場合は、ディスペンス方式、注型方式、印刷方式等が挙げられる。 The most common method for encapsulating elements using the encapsulating resin composition of the present invention is low-pressure transfer molding, but injection molding, compression molding, etc. may also be used. When the encapsulating resin composition is in a liquid or paste form at room temperature, methods such as a dispense method, a casting method, and a printing method may be used.

また、素子を直接樹脂封止する一般的な封止方法ばかりではなく、素子に直接封止用樹脂組成物が接触しない形態である中空パッケージの方式もあり、中空パッケージ用の封止用樹脂組成物としても好適に使用できる。 In addition to the general sealing method of directly sealing the element with resin, there is also a hollow package method in which the sealing resin composition does not come into direct contact with the element, and the resin composition can also be suitably used as a sealing resin composition for hollow packages.

以上、本発明の実施形態について述べたが、これらは本発明の例示であり、上記以外の様々な構成を採用することができる。また、本発明は上述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれる。
以下、参考形態の例を付記する。
1. エポキシ樹脂と、
硬化剤と、
無機充填材と、
着色剤と、
を含み、以下の条件を満たす、封止用樹脂組成物。
条件:当該封止用樹脂組成物を用いて、175℃、2分で硬化させた硬化物の5GHz、23℃の誘電正接が0.008未満である。
2. 前記着色剤の含有量を、前記封止用樹脂組成物全体に対して、0.01質量%以上、3.0質量%以下とする、1.に記載の封止用樹脂組成物。
3. 前記着色剤が、黒色酸化チタンおよび黒色染料の少なくとも一方を含む、1.または2.に記載の封止用樹脂組成物。
4. 前記黒色酸化チタンは、TiOx(ただし、Xは1以上、2未満を示す)で表される化合物を含む、3.に記載の封止用樹脂組成物。
5. 前記黒色染料は、アンスラキノン系染料、アジン系染料、アゾ系染料、ジスアゾ系染料およびクロム錯塩系染料からなる群より選択される一種または二種以上を含む、3.または4.に封止用樹脂組成物。
6. 以下の手順により算出される熱伝導率が、0.1W/mK以上、20W/mK以下である、1.乃至5.いずれか一つに記載の封止用樹脂組成物。
手順:金型温度175℃、注入圧力6.9MPa、硬化時間120秒の条件で当該封止用樹脂組成物の成形体(1.0×1.0mm、厚さ1.0mm)を作製し、175℃、2時間で後硬化し、試験片を得る。得られた試験片を用いて、レーザーフラッシュ法で熱拡散率を測定し、さらに、比重および比熱を測定し、得られた各測定値から、当該試験片の厚さ方向の熱伝導率を算出する。
7. 当該封止用樹脂組成物の硬化物のL 色座標において、
明度L の値が、24~30であり、
の値が、-2.0~-0.1であり、
の値が、-5.0~-2.5である、1.乃至6.いずれか一つに記載の封止用樹脂組成物。
8. 活性エステル樹脂をさらに含む、1.乃至7.いずれか一つに記載の封止用樹脂組成物。
9. 粒子状、顆粒状、タブレット状またはシート状である、1.乃至8.いずれか一つに記載の封止用樹脂組成物。
10. 電子部品と、前記電子部品を封止する封止材とを備える電子装置であって、
前記封止材が、1.乃至9.いずれか一つに記載の封止用樹脂組成物の硬化物で構成される、電子装置。
Although the embodiments of the present invention have been described above, these are merely examples of the present invention, and various configurations other than those described above can be adopted. Furthermore, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and modifications and improvements within the scope of the present invention are included in the present invention.
Below, examples of reference forms are given.
1. An epoxy resin;
A hardener;
An inorganic filler;
A colorant;
and satisfying the following conditions:
Condition: the encapsulating resin composition is used and cured at 175° C. for 2 minutes, and the cured product has a dielectric loss tangent at 5 GHz and 23° C. of less than 0.008.
2. The encapsulating resin composition according to 1., wherein the content of the colorant is 0.01% by mass or more and 3.0% by mass or less with respect to the entire encapsulating resin composition.
3. The encapsulating resin composition according to 1. or 2., wherein the colorant contains at least one of black titanium oxide and a black dye.
4. The encapsulating resin composition according to 3., wherein the black titanium oxide contains a compound represented by TiOx (wherein X is 1 or more and less than 2).
5. The encapsulating resin composition according to 3. or 4., wherein the black dye comprises one or more dyes selected from the group consisting of anthraquinone dyes, azine dyes, azo dyes, disazo dyes, and chromium complex dyes.
6. The encapsulating resin composition according to any one of 1. to 5., wherein the thermal conductivity calculated by the following procedure is 0.1 W/mK or more and 20 W/mK or less.
Procedure: A molded body (1.0×1.0 mm, thickness 1.0 mm) of the encapsulating resin composition is produced under conditions of a mold temperature of 175° C., an injection pressure of 6.9 MPa, and a curing time of 120 seconds, and a test piece is obtained by post-curing at 175° C. for 2 hours. The thermal diffusivity of the obtained test piece is measured by a laser flash method, and further, the specific gravity and specific heat are measured, and the thermal conductivity of the test piece in the thickness direction is calculated from the measured values.
7. In the L * a * b * color coordinates of the cured product of the encapsulating resin composition ,
The lightness L * value is 24 to 30;
the value of a * is −2.0 to −0.1;
7. The encapsulating resin composition according to any one of 1. to 6., wherein the b * value is −5.0 to −2.5.
8. The encapsulating resin composition according to any one of 1. to 7., further comprising an active ester resin.
9. The encapsulating resin composition according to any one of 1. to 8., which is in the form of particles, granules, tablets or sheets.
10. An electronic device comprising an electronic component and a sealing material that seals the electronic component,
10. An electronic device, wherein the encapsulant is a cured product of the encapsulating resin composition according to any one of 1. to 9.

本発明の実施態様を、実施例および比較例に基づき詳細に説明する。なお、本発明は実施例に限定されるものではない。 The embodiments of the present invention will be described in detail based on examples and comparative examples. Note that the present invention is not limited to the examples.

<封止用樹脂組成物の調製>
以下のようにして、実施例、比較例および参考例の封止用樹脂組成物を調製した。
まず、後掲の表1、2に記載の各成分を、ミキサーを用いて混合した。次いで、得られた混合物を、ロール混練し、その後冷却し、さらに粉砕した。これにより、粉粒体である封止用樹脂組成物を得た。
<Preparation of Encapsulating Resin Composition>
The encapsulating resin compositions of the Examples, Comparative Examples, and Reference Examples were prepared as follows.
First, the components shown in Tables 1 and 2 were mixed using a mixer. The mixture was then roll-kneaded, cooled, and pulverized to obtain a powdered encapsulating resin composition.

用いた各成分の詳細は下記のとおりである。 Details of each component used are as follows:

(エポキシ樹脂)
エポキシ樹脂1:ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂「NC3000」日本化薬社製
エポキシ樹脂2:ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂「NC3000L」日本化薬社製
エポキシ樹脂3:オルトクレゾールノボラック型エポキシ樹脂「EOCN-1020-55」Chang Chun Plastics社製
エポキシ樹脂4:トリスヒドロキシフェニルメタン型+ビフェノール型エポキシ樹脂「YL6677」三菱化学社製
(Epoxy resin)
Epoxy resin 1: Biphenylaralkyl type epoxy resin "NC3000" manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. Epoxy resin 2: Biphenylaralkyl type epoxy resin "NC3000L" manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. Epoxy resin 3: Orthocresol novolac type epoxy resin "EOCN-1020-55" manufactured by Chang Chun Plastics Co., Ltd. Epoxy resin 4: Trishydroxyphenylmethane type + biphenol type epoxy resin "YL6677" manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation

(硬化剤)
硬化剤1:ビフェニルアラルキル型硬化剤「MEH-7851SS」明和化成社製
硬化剤2:エステル型硬化剤「EXB-8」DIC社製
硬化剤3:フェノール・P-キシレングリコールジメチルエーテル重縮合物、エア・ウォーター社製
硬化剤4:フェノールヒドロキシベンズアルデヒド型硬化剤「MEH-7500」明和化成社製
(Hardening agent)
Curing agent 1: Biphenyl aralkyl type curing agent "MEH-7851SS" manufactured by Meiwa Kasei Co., Ltd. Curing agent 2: Ester type curing agent "EXB-8" manufactured by DIC Corporation Curing agent 3: Phenol-p-xylene glycol dimethyl ether polycondensate, manufactured by Air Water Co., Ltd. Curing agent 4: Phenol hydroxybenzaldehyde type curing agent "MEH-7500" manufactured by Meiwa Kasei Co., Ltd.

(無機充填材)
無機充填材1:二酸化ケイ素「SC-2500-SQ」アドマ社製、平均粒径0.5μm
無機充填材2:二酸化ケイ素「TS-6021」マイクロン社製、平均粒径10μm
無機充填材3:二酸化ケイ素「レオロシ-ルCP102」トクヤマ社製、平均粒径<1μm
無機充填材4:二酸化ケイ素、東海ミネラル社製、平均粒径25μm
無機充填材5:二酸化ケイ素、「SC-2500-SQ」アドマ社製、粒径0.5μm
(Inorganic filler)
Inorganic filler 1: Silicon dioxide "SC-2500-SQ" manufactured by Adma, average particle size 0.5 μm
Inorganic filler 2: Silicon dioxide "TS-6021" manufactured by Micron, average particle size 10 μm
Inorganic filler 3: silicon dioxide "Rheolosil CP102" manufactured by Tokuyama Corporation, average particle size <1 μm
Inorganic filler 4: silicon dioxide, manufactured by Tokai Mineral Co., Ltd., average particle size 25 μm
Inorganic filler 5: silicon dioxide, "SC-2500-SQ" manufactured by Adma Co., Ltd., particle size 0.5 μm

(着色剤)
着色剤1:黒色酸化チタン、赤穂化成社製、平均粒径0.5μm
着色剤2:カーボンブラック、東海カーボン社製
(Coloring Agent)
Colorant 1: Black titanium oxide, manufactured by Ako Kasei Co., Ltd., average particle size 0.5 μm
Colorant 2: Carbon black, manufactured by Tokai Carbon Co., Ltd.

(カップリング剤)
カップリング剤1:フェニルアミノプロピルトリメトキシシラン「CF-4083」東レダウコーニング社製
カップリング剤2:γ-グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン「KE-6137」九州住友ベークライト社製
(Coupling Agent)
Coupling agent 1: Phenylaminopropyltrimethoxysilane "CF-4083" manufactured by Dow Corning Toray Co., Ltd. Coupling agent 2: γ-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane "KE-6137" manufactured by Kyushu Sumitomo Bakelite Co., Ltd.

(その他調整成分)
離型剤1:低分子量エチレン、三洋化成社製、粘度(140℃)3500~5100mPa・s
離型剤2:グリセリントリモンタン酸エステル「リコルブ WE-4」クラリアントジャパン社製
離型剤3:酸化ポリエチレン「リコワックス PED191」クラリアントジャパン社製
イオン捕捉剤1:マグネシウム・アルミニウム系化合物、東亜合成社製
イオン捕捉剤2:マグネシウム・アルミニウム系化合物「DHT-4H」協和化学社製
触媒1:4-ヒドロキシ-2-(トリフェニルホスホニウム)フェノラート、ケイ・アイ化成社製
触媒2:2,3-ヒドロキシナフタレン、エア・ウォーター社製
難燃剤1:水酸化アルミニウム「CL-303」住友化学社製
添加剤1:フェノール・ビフェニレン樹脂と4,4-スルフォニルジフェノラートの混合物「MC11AC」九州住友ベークライト社製
添加剤2:フェノール・ビフェニレン樹脂と4,4-スルフォニルジフェノラートの混合物「MC70E」九州住友ベークライト社製
添加剤3:シリコーン「特許第5157473号公報の段落0068に記載される溶融反応物A」九州住友ベークライト社製
低応力剤1:カルボキシル基末端ブタジエン・アクリロニトリル共重合体「CTBN1008SP」ピイ・ティ・アイ・ジャパン社製
低応力剤2:エポキシ化ポリブタジエン、日本曹達社製
(Other adjusting ingredients)
Release agent 1: low molecular weight ethylene, manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd., viscosity (140°C) 3500 to 5100 mPa·s
Release agent 2: Glycerol trimontanic acid ester "Licorb WE-4" manufactured by Clariant Japan Release agent 3: Oxidized polyethylene "Licowax PED191" manufactured by Clariant Japan Ion scavenger 1: Magnesium-aluminum compound, manufactured by Toagosei Ion scavenger 2: Magnesium-aluminum compound "DHT-4H" manufactured by Kyowa Chemical Industry Catalyst 1: 4-hydroxy-2-(triphenylphosphonium)phenolate, manufactured by Kei-I Chemical Industry Catalyst 2: 2,3-hydroxynaphthalene, manufactured by Air Water Inc. Flame retardant 1: Aluminum hydroxide "CL-303" manufactured by Sumitomo Chemical Industry Additive 1: Phenol-biphenylene resin and 4,4-sulfonyldiphenol Additive 1: Mixture of phenol-biphenylene resin and 4,4-sulfonyldiphenolate "MC11AC" manufactured by Kyushu Sumitomo Bakelite Co., Ltd. Additive 2: Mixture of phenol-biphenylene resin and 4,4-sulfonyldiphenolate "MC70E" manufactured by Kyushu Sumitomo Bakelite Co., Ltd. Additive 3: Silicone "Melted reaction product A described in paragraph 0068 of Japanese Patent No. 5157473" manufactured by Kyushu Sumitomo Bakelite Co., Ltd. Stress reducing agent 1: Carboxyl-terminated butadiene-acrylonitrile copolymer "CTBN1008SP" manufactured by PTI Japan Co., Ltd. Stress reducing agent 2: Epoxidized polybutadiene, manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.

得られた封止用樹脂組成物を用いて、以下の評価・測定を行った。結果を表1,2に示す。 The following evaluations and measurements were carried out using the obtained encapsulating resin composition. The results are shown in Tables 1 and 2.

<誘電特性の測定>
得られた樹脂組成物を、金型温度175℃、注入圧力10MPa、硬化時間2分間で成型し、100×3.8×0.8mmの硬化物作製した。得られた硬化物について、JIS-C-6481に準拠し、株式会社エーイーティ製「ASMS01Oc1」により、絶乾後23℃、湿度50%の室内に24時間保管した後に試験片の5GHz、23℃での誘電率(Dk)および誘電正接(Df)を測定した。
<Measurement of dielectric properties>
The obtained resin composition was molded at a mold temperature of 175°C, injection pressure of 10 MPa, and curing time of 2 minutes to produce a cured product of 100 x 3.8 x 0.8 mm. The obtained cured product was stored in a room at 23°C and 50% humidity for 24 hours after drying, and the dielectric constant (Dk) and dielectric loss tangent (Df) of the test piece at 5 GHz and 23°C were measured using "ASMS01Oc1" manufactured by AET Corporation in accordance with JIS-C-6481.

<色味の評価>
各組成物を、圧縮成形法により、成形温度175℃、硬化時間100秒、成形圧力8MPaの条件で硬化させて、短冊形状の硬化物を得た。
硬化物の表面のL値、a値およびbを、カラーリーダーCR-13(コニカミノルタセンシング社製)を用いて測定した。
<Evaluation of color>
Each composition was cured by compression molding under conditions of a molding temperature of 175° C., a curing time of 100 seconds, and a molding pressure of 8 MPa to obtain a rectangular cured product.
The L * value, a * value and b * value of the surface of the cured product were measured using a Color Reader CR-13 (manufactured by Konica Minolta Sensing Co., Ltd.).

<熱伝導率の評価>
得られた封止樹脂組成物を、低圧トランスファー成形機(コータキ精機株式会社製「KTS-30」)に対し、金型温度175℃、注入圧力6.9MPa、硬化時間120秒間で注入成形し、幅10mm、厚み1mm、長さ10mmの成形体を得た。次いで、得られた成形体を175℃、2時間で後硬化し、試験片を得た。得られた試験片について、レーザーフラッシュ法(NETZSCH製のキセノンフラッシュアナライザーLFA447)を用いて熱拡散率を測定した。また、アルファーミラージュ株式会社製の電子比重計SD-200Lを用いて、熱伝導率測定に用いた試験片の比重を測定し、更に、株式会社リガク製の示差走査熱量計DSC8230を用いて、熱伝導率及び比重測定に用いた試験片の比熱を測定した。測定した熱拡散率、比重及び比熱の各測定値から、当該試験片の厚さ方向の熱伝導率を算出した。
<Evaluation of thermal conductivity>
The obtained encapsulating resin composition was injected into a low pressure transfer molding machine ("KTS-30" manufactured by Kotaki Seiki Co., Ltd.) at a mold temperature of 175°C, an injection pressure of 6.9 MPa, and a curing time of 120 seconds to obtain a molded body having a width of 10 mm, a thickness of 1 mm, and a length of 10 mm. The obtained molded body was then post-cured at 175°C for 2 hours to obtain a test piece. The thermal diffusivity of the obtained test piece was measured using a laser flash method (Xenon Flash Analyzer LFA447 manufactured by NETZSCH). In addition, the specific gravity of the test piece used for the thermal conductivity measurement was measured using an electronic specific gravity meter SD-200L manufactured by Alpha Mirage Co., Ltd., and further, the specific heat of the test piece used for the thermal conductivity and specific gravity measurement was measured using a differential scanning calorimeter DSC8230 manufactured by Rigaku Corporation. The thermal conductivity in the thickness direction of the test piece was calculated from the measured values of thermal diffusivity, specific gravity, and specific heat.

封止用樹脂組成物の組成と、評価結果を、まとめて表1に示す。 The composition of the encapsulating resin composition and the evaluation results are shown in Table 1.

Figure 0007540164000007
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Figure 0007540164000008
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1 半導体素子
2 ダイボンド材硬化体
3 ダイパッド
4 金線
5 リードフレーム
6 封止材(封止用樹脂組成物の硬化体)
1 Semiconductor element 2 Hardened die bond material 3 Die pad 4 Gold wire 5 Lead frame 6 Encapsulating material (hardened product of encapsulating resin composition)

Claims (10)

エポキシ樹脂と、
硬化剤と、
無機充填材と、
着色剤と、
を含む、封止用樹脂組成物であって、
前記エポキシ樹脂が、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、トリスヒドロキシフェニルメタン型エポキシ樹脂、およびビフェノール型エポキシ樹脂から選ばれる1種または2種以上を含み、前記エポキシ樹脂の含有量が、前記封止用樹脂組成物全体に対し、7.18質量%以下であり、
前記無機充填材の含有量が、前記封止用樹脂組成物全体に対し、60質量%以上、95質量%以下であり、
前記着色剤が、黒色酸化チタンおよび黒色染料の少なくとも一方を含み、前記着色剤の含有量が、前記封止用樹脂組成物全体に対して、0.01質量%以上、3.0質量%以下であって、
以下の条件を満たす、封止用樹脂組成物。
条件:当該封止用樹脂組成物を用いて、175℃、2分で硬化させた硬化物の5GHz、23℃の誘電正接が0.008未満である。
Epoxy resin,
A hardener;
An inorganic filler;
A colorant;
An encapsulating resin composition comprising:
the epoxy resin comprises one or more selected from a biphenyl aralkyl type epoxy resin, a novolac type epoxy resin, a trishydroxyphenylmethane type epoxy resin, and a biphenol type epoxy resin, and the content of the epoxy resin is 7.18 mass% or less based on the entire encapsulating resin composition;
The content of the inorganic filler is 60% by mass or more and 95% by mass or less with respect to the entire encapsulating resin composition,
the colorant contains at least one of black titanium oxide and a black dye, and the content of the colorant is 0.01% by mass or more and 3.0% by mass or less with respect to the entire encapsulating resin composition,
An encapsulating resin composition that satisfies the following conditions:
Condition: the encapsulating resin composition is used and cured at 175° C. for 2 minutes, and the cured product has a dielectric loss tangent at 5 GHz and 23° C. of less than 0.008.
前記着色剤が、カーボンブラックを含む、請求項1に記載の封止用樹脂組成物。 The encapsulating resin composition according to claim 1, wherein the colorant comprises carbon black. 前記黒色酸化チタンは、TiOx(ただし、Xは1以上、2未満を示す)で表される化合物を含む、請求項1または2に記載の封止用樹脂組成物。 The encapsulating resin composition according to claim 1 or 2, wherein the black titanium oxide contains a compound represented by TiOx (wherein X is 1 or more and less than 2). 前記黒色染料は、アンスラキノン系染料、アジン系染料、アゾ系染料、ジスアゾ系染料およびクロム錯塩系染料からなる群より選択される一種または二種以上を含む、請求項1乃至3いずれか一項に封止用樹脂組成物。 The encapsulating resin composition according to any one of claims 1 to 3, wherein the black dye includes one or more selected from the group consisting of anthraquinone dyes, azine dyes, azo dyes, disazo dyes, and chromium complex dyes. 以下の手順により算出される熱伝導率が、0.1W/mK以上、20W/mK以下である、請求項1乃至4いずれか一項に記載の封止用樹脂組成物。
手順:金型温度175℃、注入圧力6.9MPa、硬化時間120秒の条件で当該封止用樹脂組成物の成形体(1.0×1.0mm、厚さ1.0mm)を作製し、175℃、2時間で後硬化し、試験片を得る。得られた試験片を用いて、レーザーフラッシュ法で熱拡散率を測定し、さらに、比重および比熱を測定し、得られた各測定値から、当該試験片の厚さ方向の熱伝導率を算出する。
The encapsulating resin composition according to claim 1 , wherein the thermal conductivity calculated by the following procedure is 0.1 W/mK or more and 20 W/mK or less.
Procedure: A molded body (1.0×1.0 mm, thickness 1.0 mm) of the encapsulating resin composition is produced under conditions of a mold temperature of 175° C., an injection pressure of 6.9 MPa, and a curing time of 120 seconds, and a test piece is obtained by post-curing at 175° C. for 2 hours. The thermal diffusivity of the obtained test piece is measured by a laser flash method, and further, the specific gravity and specific heat are measured, and the thermal conductivity of the test piece in the thickness direction is calculated from the measured values.
当該封止用樹脂組成物の硬化物のL色座標において、
明度Lの値が、24~30であり、
の値が、-2.0~-0.1であり、
の値が、-5.0~-2.5である、請求項1乃至5いずれか一項に記載の封止用樹脂組成物。
In the L * a * b * color coordinates of the cured product of the encapsulating resin composition,
The lightness L * value is 24 to 30;
the value of a * is −2.0 to −0.1;
The encapsulating resin composition according to any one of claims 1 to 5, wherein the value of b * is -5.0 to -2.5.
活性エステル樹脂をさらに含む、請求項1乃至6いずれか一項に記載の封止用樹脂組成物。 The encapsulating resin composition according to any one of claims 1 to 6, further comprising an active ester resin. 前記硬化剤が、エステル型硬化剤、ビフェニルアラルキル型硬化剤、フェノールアラルキル樹脂、および芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂変性フェノール樹脂の中から選ばれる一種または二種以上を含む、請求項1乃至7いずれか一項に封止用樹脂組成物。 The encapsulating resin composition according to claim 1 , wherein the curing agent comprises one or more selected from the group consisting of an ester type curing agent, a biphenyl aralkyl type curing agent , a phenol aralkyl resin, and an aromatic hydrocarbon formaldehyde resin-modified phenol resin. 粒子状、顆粒状、タブレット状またはシート状である、請求項1乃至8いずれか一項に記載の封止用樹脂組成物。 The encapsulating resin composition according to any one of claims 1 to 8, which is in the form of particles, granules, tablets or sheets. 電子部品と、前記電子部品を封止する封止材とを備える電子装置であって、
前記封止材が、請求項1乃至9いずれか一項に記載の封止用樹脂組成物の硬化物で構成される、電子装置。
An electronic device comprising an electronic component and a sealant that seals the electronic component,
An electronic device, comprising an encapsulant comprising a cured product of the encapsulating resin composition according to claim 1 .
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