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JP7541556B2 - A kimono having a cut-out pattern attached thereto, and a method for attaching the cut-out pattern to the kimono fabric. - Google Patents
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JP7541556B2 - A kimono having a cut-out pattern attached thereto, and a method for attaching the cut-out pattern to the kimono fabric. - Google Patents

A kimono having a cut-out pattern attached thereto, and a method for attaching the cut-out pattern to the kimono fabric. Download PDF

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Description

この発明は、任意の形で切り抜かれた切り抜き模様地が取り付けられている着物と、この切り抜き模様地を着物地に取り付けする方法に関する。This invention relates to a kimono having a cut-out pattern fabric that is cut out in any shape attached thereto, and a method for attaching this cut-out pattern fabric to a kimono fabric.

着物は、絹糸またはポリエステル等の化学繊維の着物地に、染色(手描や型染めなど)またはプリント(インクジェットプリントや転写など)によって柄付けする工程と、この着物地を着物の各構成部位を構成する裁断線に従って裁断する工程と、裁断された着物地の各構成部位を縫製する仕立て工程とを経て出来上がる。
一方、着物地もしくは着物地とは別な他の生地または、合成シートや皮革などを任意の形に切り抜いて、この切り抜き模様地を着物地に取り付けるような新たな美的表現を付加することで着物の価値を高めることができる。
また、前記切り抜き模様地を、着物地の絵柄と意匠的に整合性があるようにすることで、尚一層の美的効果が発揮される。
而して、前記切り抜き模様地の着物地への取り付けにおいて、切り抜き模様地の取り付け想定個所から逸脱せずに取り付けられること、また、切り抜き模様地の取り付け想定個所に絵柄が形成されている場合は、絵柄と逸脱せずに取り付けられること、また、着物地が刺繍枠に取り付けられた状態で切り抜き模様地が縫着される場合においても、絵柄から逸脱せずに取り付けられることで、切り抜き模様地の取り付けによる付加価値および美的効果が始めて発揮される。
また、着物地は各構成部位ごとに裁断されて、これらを繋ぎ合せて縫製して着物に仕立てられるが、当該構成部位が隣接する個所に切り抜き模様地が取り付けられる場合、切り抜き模様地の模様の連続性が確保されるようにして取り付けられることで、同様に美的効果が発揮される。
この発明は上記に鑑みてなされたもので、上記の従来問題点を解決することを目的としている。
前述に関連する文献としては、以下の特許文献1と、特許文献2と、特許文献3とがある。
Kimonos are made through a process in which a pattern is applied to kimono fabric made of silk or synthetic fibers such as polyester by dyeing (hand painting or stencil dyeing, etc.) or printing (inkjet printing or transfer printing, etc.), a process in which the fabric is cut along the cutting lines that will form each component part of the kimono, and a tailoring process in which each component part of the cut kimono fabric is sewn together.
On the other hand, the value of a kimono can be increased by adding a new aesthetic expression such as cutting out kimono fabric or other fabrics other than kimono fabric, synthetic sheets, leather, etc. into any shape and attaching this cut-out pattern to the kimono fabric.
Furthermore, by making the cut-out pattern consistent with the design of the kimono fabric, an even more aesthetic effect can be achieved.
Thus, when the cut-out pattern fabric is attached to the kimono fabric, it must be attached without deviating from the intended attachment location, and if a pattern is formed at the intended attachment location of the cut-out pattern fabric, it must be attached without deviating from the pattern. Also, even if the cut-out pattern fabric is sewn on with the kimono fabric attached to an embroidery frame, it must be attached without deviating from the pattern, so that the added value and aesthetic effect of the attachment of the cut-out pattern fabric can be realized for the first time.
In addition, kimono fabric is cut into each component part, which are then joined and sewn together to make a kimono. When cut-out pattern fabric is attached to the parts where the components are adjacent, the cut-out pattern fabric is attached in such a way that the continuity of its design is ensured, thereby achieving a similar aesthetic effect.
The present invention has been made in view of the above, and has as its object to solve the above-mentioned problems in the conventional art.
Documents related to the above include the following Patent Documents 1, 2, and 3.

特開平6-287848号 特開2011-68130号 特許第3734873号 前記[特許文献1]は、前述の観点でなされたもので、カラー複写機により所望の図案を生地に転写して切離し、この転写図案生地を着物の所定位置に重合状態で縫着した、飾り着物の製造方法を示している。
また、[特許文献2]は、裏面に粘着材を備えた基材であって、織物シール、織物シート、シールまたは接着性のシート及びその製造方法を示している。
また、[特許文献3]は、着物などの模様地および模様地のプリント方法であり、模様地が隣接する個所を縫製したときに、各単位模様が一致するように、各単位模様が、模様地の端辺から内側に所定の巾で模様が互いに対称に形成するようにして、隣接する模様地を縫製したときに、各単位模様が一致するようにしている。
JP 6-287848 A JP 2011-68130 A Patent No. 3734873 The aforementioned [Patent Document 1] was made from the above-mentioned viewpoint, and shows a method for manufacturing a decorative kimono in which a desired design is transferred onto fabric using a color copier, then cut off, and the transferred fabric is sewn onto a predetermined position of the kimono in an overlapping state.
Furthermore, [Patent Document 2] discloses a substrate having an adhesive material on the back surface, which is a woven seal, woven sheet, seal or adhesive sheet, and a method for manufacturing the same.
Furthermore, Patent Document 3 discloses a patterned fabric for kimonos and the like and a printing method for the patterned fabric, in which each unit pattern is formed symmetrically to each other at a specified width inward from the edge of the patterned fabric so that when adjacent patterned fabrics are sewn together, the unit patterns match up.

発明が解決する課題Problem to be solved by the invention

前記[特許文献1]の転写図案生地は、紙等に描画した図案をコピーして作成され、この転写図案生地を着物に縫着して着物の価値を高めるようにしている。
一方、着物の美的表現手段として別素材の切り抜き模様地を取り付けるにあたり、コンピュータ画像処理システムによって、ディスプレイ画面上に絵柄の画像データを作成し、次いでこの画像データを切り抜き形成データに変換し、コンピュータに接続しているNCカッター装置等で、前記切り抜き形成データに基づいて切り抜き模様地を作成する手法が一般的である。
然しながら、着物地は、図柄や模様が染色またはプリントされた後に、色止めや発色のための蒸し工程と、染料やインク以外の不純物や汚れを除去する洗い工程、そして乾燥の工程を経て製品化されるので、当該処理工程で全体的に収縮し、また、この収縮率は縦糸方向と横糸方向の着物地の向きや材質によって異なる。
一方、前記切り抜き模様地は、着物地に対する取り付け位置を事前に想定して形成されるものであり、この取り付け位置が着物地の無地の個所で想定されている時は、着物地の各構成部位(下記に詳述)において、切り抜き模様地の取り付け位置を目検討で決めるようにしていると、着物の各構成部位における収縮の影響で、着物に仕立てた後に、想定した取り付け位置からズレて想定した美的効果が逆に損なわれたり、商品の統一性が損なわれたりすることが多い。
The transfer pattern fabric of the above-mentioned [Patent Document 1] is made by copying a pattern drawn on paper or the like, and this transfer pattern fabric is sewn onto a kimono to increase the value of the kimono.
On the other hand, when attaching a cut-out pattern fabric of a different material as an aesthetic means for expressing the kimono, a common method is to create image data of the pattern on a display screen using a computer image processing system, then convert this image data into cut-out formation data, and create the cut-out pattern fabric based on the cut-out formation data using an NC cutter device or the like connected to a computer.
However, after a kimono fabric has been dyed or printed with a design or pattern, it goes through a steaming process to fix the color and bring out the color, a washing process to remove impurities and dirt other than the dye or ink, and a drying process before being made into a finished product. As a result, the fabric shrinks overall during these processing steps, and the rate of shrinkage varies depending on the orientation of the warp and weft threads in the kimono fabric and on the material.
On the other hand, the cut-out pattern fabric is formed with the attachment position on the kimono fabric in mind in advance, and when this attachment position is assumed to be a plain part of the kimono fabric, if the attachment position of the cut-out pattern fabric is decided by eye for each component part of the kimono fabric (described in detail below), then due to the influence of shrinkage of each component part of the kimono, the attachment position may shift from the assumed attachment position after the kimono is made, which may result in the intended aesthetic effect being lost or the uniformity of the product being lost.

また、着物地の各構成部位が刺繍枠に取り付けられた状態で、切り抜き模様地が縫着される場合は、着物地が伸展されて刺繍枠に取り付けられることと、着物地の縦糸方向と横糸方向の伸び率が異なって着物地の模様や絵柄が変形するので、前記のズレは一層顕著に現れる。Furthermore, when the cut-out pattern fabric is sewn onto the kimono fabric while each component part of the kimono fabric is attached to an embroidery frame, the kimono fabric is stretched before being attached to the embroidery frame, and the kimono fabric's elongation rates in the warp and weft directions differ, distorting the pattern or design of the kimono fabric, making the above-mentioned misalignment even more noticeable.

また、[特許2]のように、切り抜き模様地がシールやシートであって、この裏面に粘着材が設けられていて着物地に貼着して取り付けられる場合、着物地が伸縮していると取り付け想定個所に的確に取り付けられない。
また、シールの材質や厚みが着物地と同質のものであると、着物地に取り付けられても際立った対比効果が少ない。
従って、切り抜き模様地は材質の厚みや肌合い、または光反射などが着物地と相違して対比効果が顕著な材質とすることが望ましい。
Furthermore, as in Patent 2, when the cut-out pattern is a sticker or sheet with an adhesive on the back side that is attached to the kimono fabric, if the kimono fabric stretches, it will not be possible to attach it accurately to the intended location.
Also, if the material and thickness of the sticker are the same as the kimono fabric, there will be less of a noticeable contrast effect when attached to the kimono fabric.
Therefore, it is desirable that the cut-out pattern material be made of a material that is different from the kimono fabric in terms of thickness, texture, or light reflection, etc., to create a striking contrast effect.

また、[特許3]の着物生地は、着物の各構成部位ごとに裁断されて、これを繋ぎ合せて縫製して着物に仕立てられるが、一方、この各構成部位の隣接する個所の模様に切り抜き模様地が取り付けられる場合、着物地が前記処理工程よる収縮によって隣接する模様がズレたり変形することで、切り抜き模様地の外形が連続しないので、想定していた美的効果が逆に大きく損なわれることになる。
また、着物地の各構成部位が隣接する個所に切り抜き模様地を縫着するにあたり、隣接する個所で裁断されていると、裁断部からほつれが生じる恐れがあり、その一方、裁断部をかがり縫いや刺繍等で縫着すると、切り抜き模様地の形の連続性が損なわれる。
In addition, the kimono fabric in [Patent 3] is cut into each component part of the kimono, which is then joined and sewn together to make a kimono. However, when cut-out patterns are attached to adjacent patterns on each of these components, the shrinkage of the kimono fabric during the processing process causes adjacent patterns to shift or deform, and the outline of the cut-out patterns is no longer continuous, which results in a significant loss of the intended aesthetic effect.
Furthermore, when sewing a cut-out pattern to adjacent parts of the kimono fabric, if the parts are cut at adjacent points, there is a risk of fraying at the cut parts, and on the other hand, if the cut parts are sewn together with an overlock or embroidery, the continuity of the shape of the cut-out pattern will be lost.

課題を解決するための手段Means for solving the problem

前記課題を解決するため、この発明の切抜き模様地が取り付けられている着物、および切抜き模様地を着物地に取り付けする方法は、任意の形の切り抜き模様地が、着物地に取り付けられている着物であって、前記着物地は、前記切り抜き模様地の取り付け想定個所にアタリが染色またはプリントされており、前記切り抜き模様地は、前記染色またはプリント後の色止めの処理工程を終えた前記着物地のアタリの読み撮り画像に基づいて切り抜き形成されており、前記切り抜き模様地を、前記アタリに合せて前記着物地に取り付けることで、前記着物地が前記処理工程において収縮や変形していても、前記切り抜き模様地が取り付け想定個所から逸脱せずに取り付けられるようにした。 In order to solve the above-mentioned problems, the kimono to which the cut-out pattern fabric of the present invention is attached and the method of attaching the cut-out pattern fabric to the kimono fabric are a kimono in which a cut-out pattern fabric of any shape is attached to the kimono fabric, the kimono fabric has a rough outline dyed or printed on it at the intended location for attaching the cut-out pattern fabric, and the cut-out pattern fabric is cut out based on a read-out image of the rough outline of the kimono fabric that has completed the color-fixing processing process after dyeing or printing, and by attaching the cut-out pattern fabric to the kimono fabric in line with the rough outline, the cut-out pattern fabric can be attached without deviating from the intended location for attachment even if the kimono fabric shrinks or deforms during the processing process.

任意の形の切り抜き模様地が、着物地に取り付けられている着物であって、前記着物地における、前記切り抜き模様地の取り付け想定個所の絵柄には、該絵柄の外形と同一または相似するようにしてアタリ兼用絵柄が染色またはプリントされており、前記切り抜き模様地は、前記染色またはプリント後の色止めの処理工程を終えた前記着物地における前記アタリ兼用絵柄の読み撮り画像に基づいて切り抜き形成されており、前記切り抜き模様地を、前記アタリ兼用絵柄に合せて前記着物地に取り付けることで、前記切り抜き模様地は、前記着物地が前記処理工程において収縮や変形していても、前記着物地の前記取り付け想定個所から逸脱せずに取り付けられるようにした。 This kimono has a cut-out pattern fabric of any shape attached to a kimono fabric, and a pattern that also serves as a rough guide is dyed or printed on the pattern of the kimono fabric at the intended attachment location of the cut-out pattern fabric so as to be identical or similar to the outer shape of the pattern, and the cut-out pattern fabric is cut out based on a read-out image of the rough guide pattern on the kimono fabric that has undergone a color-fixing treatment process after the dyeing or printing, and the cut-out pattern fabric is attached to the kimono fabric in accordance with the rough guide pattern, so that the cut-out pattern fabric can be attached without deviating from the intended attachment location of the kimono fabric even if the kimono fabric shrinks or deforms during the treatment process.

また、前記着物地の前記取り付け想定個所の絵柄の一部としてアタリが染色またはプリントされており、前記切り抜き模様地は、前記染色またはプリント後の色止めの処理工程を終えた前記着物地における前記アタリの読み撮り画像に基づいて切り抜き形成されており、前記切り抜き模様地を、前記アタリに合せて前記着物地に取り付けることで、前記着物地が前記処理工程において収縮や変形していても、前記切り抜き模様地が前記着物地の前記取り付け想定個所から逸脱せずに取り付けられているようにした。 In addition, a marking is dyed or printed as part of the design of the intended attachment location of the kimono fabric, and the cut-out pattern fabric is cut out based on a read-out image of the marking on the kimono fabric that has completed the color-fixing processing step after the dyeing or printing, and the cut-out pattern fabric is attached to the kimono fabric in accordance with the marking, so that even if the kimono fabric shrinks or deforms during the processing step, the cut-out pattern fabric is attached to the kimono fabric without deviating from the intended attachment location.

また、前記切り抜き模様地は、前記着物地が刺繍枠に伸展して取り付けられた状態における、前記アタリの読み撮り画像に基づいて切り抜き形成されており、前記切り抜き模様地を、前記アタリに合せて前記着物地に取り付けることで、前記着物地の前記アタリが、前記刺繍枠に対する取り付けによって伸展や変形していても、前記切り抜き模様地が前記アタリから逸脱せずに取り付けられるようにした。
また、前記切り抜き模様地は、前記着物地が刺繍枠に伸展して取り付けられた状態における、前記アタリ兼用絵柄の読み撮り画像に基づいて切り抜き形成されており、前記切り抜き模様地を、前記アタリ兼用絵柄に合せて前記着物地に取り付けることで、前記着物地の前記アタリ兼用絵柄が、前記刺繍枠に対する取り付けによって伸展や変形していても、前記切り抜き模様地が前記アタリ兼用絵柄から逸脱せずに取り付けられているようにした。
The cut-out pattern fabric is cut out based on a read-out image of the atari when the kimono fabric is stretched and attached to the embroidery frame, and the cut-out pattern fabric is attached to the kimono fabric in accordance with the atari, so that the cut-out pattern fabric can be attached without deviating from the atari even if the atari of the kimono fabric is stretched or deformed by attachment to the embroidery frame.
The cut-out pattern ground is cut out based on a read-out image of the outline pattern when the kimono fabric is stretched and attached to the embroidery frame, and the cut-out pattern ground is attached to the kimono fabric in accordance with the outline pattern, so that even if the outline pattern of the kimono fabric is stretched or deformed by attachment to the embroidery frame, the cut-out pattern ground is attached without deviating from the outline pattern.

また、前記着物地は、着物の各構成部位を形成する裁断線に従って裁断されており、前記各構成部位は、外側に縫い代が形成されているとともに、該縫い代の内側に仮想する縫製線を基準に縫製して着物に仕立てられるものであり、前記切り抜き模様地の取り付け想定個所が、前記着物地における前記構成部位の隣接個所である場合、前記アタリまたは前記アタリ兼用絵柄は、隣接する前記構成部位の縫製状態において、隣接する前記構成部位で連続するように形成されているとともに、前記仮想する縫製線から前記縫い代に延長するようにして前記着物地に染色またはプリントされており、前記切り抜き模様地は、染色またはプリント後の色止めの処理工程を終えた前記着物地の構成部位が隣接する個所の前記アタリまたは前記アタリ兼用絵柄の読み撮り画像に基づいて切り抜き形成されており、前記切り抜き模様地における、前記構成部位の隣接する前記アタリまたは前記アタリ兼用絵柄に対する取り付けにおいて、前記着物地が前記処理工程において収縮や変形していても、隣り合う前記切り抜き模様地の形の連続性が確保されて前記着物地に取り付けられているようにした。 The kimono fabric is cut according to cutting lines that form each component part of the kimono, and each component part has a seam on the outside, and is sewn into a kimono based on an imaginary sewing line on the inside of the seam. When the intended location for attaching the cut-out pattern fabric is an adjacent part of the kimono fabric to the component parts, the atari or the atari/combined pattern is formed so as to be continuous on the adjacent component parts when the adjacent component parts are sewn together, and is extended from the imaginary sewing line to the seam. The cut-out pattern fabric is cut out based on a read-out image of the atari or the atari combined pattern at an adjacent portion of the constituent parts of the kimono fabric that have undergone a color fixing process after dyeing or printing, and when the cut-out pattern fabric is attached to the adjacent atari or the atari combined pattern at the constituent parts, even if the kimono fabric is shrunk or deformed in the process, the adjacent cut-out pattern fabrics are attached to the kimono fabric while ensuring the continuity of their shapes.

また、前記アタリまたは前記アタリ兼用絵柄は、前記切り抜き模様地の取り付け位置を示す線や破線、または、取り付け範囲を示す印、または、ベタ塗りされた絵柄、または濃淡を変えた絵柄のようにして、前記着物地に染色またはプリントされているようにした。
また、前記切り抜き模様地は、前記着物地に縫着または、接着によって前記着物地に取り付けられているようにした。
また、前記切り抜き模様地は、前記着物地に縫着によって取り付けられており、該縫着巾の増減によって縫着模様が形成されるようにして、前記着物地に取り付けられているようにした。
また、前記切り抜き模様地は、起毛地とした。
The atari or the pattern serving as atari is dyed or printed on the kimono fabric in the form of a line or a broken line indicating the attachment position of the cut-out pattern fabric, or a mark indicating the attachment range, or a solid painted pattern, or a pattern with different shading.
The cut-out pattern fabric is attached to the kimono fabric by sewing or gluing.
The cut-out pattern fabric is attached to the kimono fabric by sewing, and the sewing pattern is formed by increasing or decreasing the sewing width, and the cut-out pattern fabric is attached to the kimono fabric.
The cutout pattern fabric was a raised fabric.

また、任意の形の切り抜き模様地を着物地に取り付けする方法が、前記着物地における、前記切り抜き模様地の取り付け想定個所または前記切り抜き模様地の取り付け想定個所の絵柄に、アタリまたはアタリ兼用絵柄を染色またはプリントする工程と染色またはプリント後の前記着物地を色止めの処理をする工程と前記処理工程後における前記着物地の前記アタリまたは前記アタリ兼用絵柄を、コンピュータに接続した読み取り装置で読み取る工程と前記アタリまたは前記アタリ兼用絵柄の読み撮りデータを、前記切り抜き模様地の切り抜き形成データに変換する工程と前記切り抜き形成データに基づいて、前記切り抜き模様地をコンピュータに接続した切り抜き装置で切り抜き形成する工程と前記切り抜き形成された前記切り抜き模様地を、前記着物地における取り付け想定個所または取り付けを想定する絵柄に取り付ける工程とよりなり、前記切り抜き模様地の前記着物地に対する取り付けにおいて、前記着物地が前記処理工程において収縮や変形していても、前記切り抜き模様地が取り付け想定個所および取り付け想定個所の絵柄とズレたり逸脱せずに取り付けされるようにした。 A method for attaching a cut-out pattern fabric of any shape to a kimono fabric includes the steps of dyeing or printing an atari or a combination atari pattern on a supposed attachment location of the cut-out pattern fabric or a pattern on the supposed attachment location of the cut-out pattern fabric , subjecting the kimono fabric after dyeing or printing to a color fixing process , reading the atari or the combination atari pattern of the kimono fabric after the processing process with a reading device connected to a computer , and recording the read and photographed data of the atari or the combination atari pattern on the cut-out pattern fabric. The method comprises a step of converting the cut-out pattern fabric into a composition data , a step of cutting out and forming the cut-out pattern fabric by a cutting device connected to a computer based on the cut-out formation data , and a step of attaching the cut-out pattern fabric formed by the cut-out formation data to an intended attachment location on the kimono fabric or to a picture intended to be attached , so that when attaching the cut-out pattern fabric to the kimono fabric, even if the kimono fabric is shrunk or deformed in the processing step, the cut-out pattern fabric is attached without shifting or deviating from the intended attachment location and the picture on the intended attachment location.

また、任意の形の切り抜き模様地を着物地に取り付けする方法が、前記着物地における、前記切り抜き模様地の取り付け想定個所または前記切り抜き模様地の取り付け想定個所の絵柄に、アタリまたはアタリ兼用絵柄を染色またはプリントする工程と染色またはプリント後の前記着物地を色止め等の処理をする工程と前記処理後の着物地を刺繍枠に取り付ける工程と前記刺繍枠に取り付けられた前記着物地の前記アタリまたは前記アタリ兼用絵柄を、コンピュータに接続した読み取り装置で読み取る工程と前記アタリまたは前記アタリ兼用絵柄の読み撮りデータを、前記切り抜き模様地の切り抜き形成データに変換する工程と前記切り抜き形成データに基づいて、前記切り抜き模様地をコンピュータに接続した切り抜き装置で切り抜き形成する工程と前記切り抜き形成された前記切り抜き模様地を、前記刺繍枠に取り付けられている前記着物地における前記アタリまたは前記アタリ兼用絵柄に合わせて仮止めする工程と前記着物地に仮止めされている前記切り抜き模様地を、前記着物地の前記アタリまたは前記アタリ兼用絵柄に合わせて縫着する工程と、よりなり、前記切り抜き模様地の前記着物地に対する取り付けにおける、前記刺繍枠への取り付けによって前記切り抜き模様地が取り付け想定個所および取り付け想定個所の絵柄とズレたり逸脱せずに取り付けされるようにした。 A method of attaching a cut-out pattern fabric of any shape to a kimono fabric includes the steps of dyeing or printing an atari or a pattern that can be used as both an atari and a shim on a place on the kimono fabric where the cut- out pattern fabric is supposed to be attached or a pattern on the place where the cut-out pattern fabric is supposed to be attached , a step of treating the kimono fabric after dyeing or printing such as color fixing , a step of attaching the treated kimono fabric to an embroidery frame , a step of reading the atari or the pattern that can be used as both an atari and a shim on the kimono fabric attached to the embroidery frame with a reading device connected to a computer , a step of converting the read and photographed data of the atari or the pattern that can be used as both an atari and a shim on the cut-out pattern fabric into cut-out formation data , and a step of converting the cut-out pattern fabric into cut-out formation data. The method comprises the steps of cutting out and forming the cut-out pattern fabric by a cutting device connected to a computer based on forming data , temporarily fixing the cut-out pattern fabric formed by the cutting out in accordance with the outline or the pattern used for the outline on the kimono fabric attached to the embroidery frame , and sewing the cut-out pattern fabric temporarily fixed to the kimono fabric in accordance with the outline or the pattern used for the outline on the kimono fabric, so that the cut-out pattern fabric is attached to the embroidery frame without being misaligned or deviating from the intended attachment location and the pattern at the intended attachment location when the cut-out pattern fabric is attached to the kimono fabric.

発明の効果Effect of the Invention

この発明の切り抜き模様地が取り付けられている着物、および切り抜き模様地を着物地に取り付けする方法は、
前記切り抜き模様地が、着物地における染色またはプリント後の色止め等の処理工程を終えた前記着物地のアタリの読み撮り画像に基づいて切り抜き形成されているので、着物が前記処理工程において収縮や変形していても、切り抜き模様地が、着物地の取り付け想定個所からズレたり逸脱せずに取り付けられる。
The kimono to which the cut-out pattern fabric of the present invention is attached and the method for attaching the cut-out pattern fabric to the kimono fabric are as follows:
The cut-out pattern ground is cut out and formed based on a read and photographed image of the outline of the kimono ground after the processing step such as color fixing after dyeing or printing on the kimono ground, so that even if the kimono ground is shrunk or deformed in the processing step, the cut-out pattern ground can be attached without shifting or deviating from the intended attachment position of the kimono ground.

また、前記切り抜き模様地の取り付け想定個所の絵柄と、略同一または相似するようにしてアタリ兼用絵柄が染色またはプリントされているので、他の絵柄と識別でき、特に絵柄が小紋柄の場合は他の絵柄と混同せずに切り抜き模様地が着物地に取り付けることができる。
また、切り抜き模様地が、色止め等の処理工程後の着物地におけるアタリ兼用絵柄の読み撮り画像に基づいて切り抜き形成されているので、着物地が前記処理工程において収縮や変形していても、着物地の取り付け想定個所の絵柄からズレたり逸脱せずに取り付けられる。
また、切り抜き模様地は、他の絵柄と同じ大きさで形成されているので、特に小紋柄の場合に他の絵柄と調和状態で着物地に取り付けられる。
In addition, the pattern that doubles as a base pattern is dyed or printed so as to be approximately the same as or similar to the pattern of the intended location for attaching the cut-out pattern fabric, so that it can be distinguished from other patterns, and particularly when the pattern is a small pattern, the cut-out pattern fabric can be attached to the kimono fabric without being confused with other patterns.
In addition, since the cut-out pattern is cut out based on a read-out image of the pattern on the kimono fabric after processing such as color fixing, the pattern can be attached without shifting or deviating from the pattern on the intended attachment location of the kimono fabric even if the kimono fabric shrinks or deforms during the processing.
Furthermore, since the cut-out pattern is formed to be the same size as the other designs, it can be attached to the kimono fabric in a harmonious manner with the other designs, particularly in the case of small patterns.

また、前記着物地の絵柄の一部としてアタリが染色またはプリントされている場合、前記切り抜き模様地は、前記着物地の前記アタリの読み撮り画像に基づいて切り抜き形成されているので、前記着物地が染色またはプリント加工において収縮変形していても、切り抜き模様地が、取り付け想定個所の絵柄からズレたり逸脱せずに取り付けられる。Furthermore, when the outline is dyed or printed as part of the pattern of the kimono fabric, the cut-out pattern is cut out based on a read-out image of the outline of the kimono fabric, so that even if the kimono fabric shrinks and deforms during the dyeing or printing process, the cut-out pattern can be attached without shifting or deviating from the pattern at the intended attachment location.

また、前記着物地が刺繍枠に伸展して取り付けられた状態で切り抜き模様地が縫着される場合、着物地が刺繍枠に取り付けられた状態のアタリまたはアタリ兼用絵柄の読み撮り画像に基づいて、切り抜き模様地が切り抜き形成されているので、着物地が刺繍枠に対する取り付けによって伸展変形していても、着物地における取り付け想定個所または、取り付け想定個所の絵柄からズレたり逸脱せずに取り付けられる。Furthermore, when the cut-out pattern fabric is sewn on while the kimono fabric is stretched and attached to the embroidery frame, the cut-out pattern fabric is cut out based on a read-out image of the outline or the pattern that serves as the outline while the kimono fabric is attached to the embroidery frame, so that even if the kimono fabric is stretched and deformed by being attached to the embroidery frame, it can be attached without shifting or deviating from the intended attachment location on the kimono fabric or the pattern at the intended attachment location.

また、前記着物地における、切り抜き模様地の取り付け想定個所が、着物地の構成部位の隣接個所である場合、アタリまたはアタリ兼用絵柄が、隣接する構成部位の縫製状態において、隣接する構成部位で連続するとともに、仮想する縫製線から縫い代に延長するようにして着物地に染色またはプリントされており、また、切り抜き模様地は、隣接するアタリまたはアタリ兼用絵柄の読み撮り画像に基づいて、切り抜き形成されるので、隣り合う切り抜き模様地は、形の連続性が確保されて着物地に取り付けられる。
また、切り抜き模様地は、構成部位の隣接個所でほつれが生じることがない。
また、アタリまたはアタリ兼用絵柄は、切り抜き模様地の取り付け位置を示す線や破線、または、取り付け範囲を示す印、または、ベタ塗りされた絵柄、または濃淡を変えた絵柄のようにして、着物地に染色またはプリントしたので、切り抜き模様地が着物地の取り付け想定個所からズレたり逸脱しない。
また、切り抜き模様地は、前記着物地に縫着または、接着によって前記着物地に取り付けられているようにしたので、切り抜き模様地の材質によって取り付け手段を選択することで、切り抜き模様地を着物地に確実に取り付けできる。
Furthermore, when the intended location of the cut-out pattern fabric on the kimono fabric is an adjacent location of a constituent part of the kimono fabric, the atari or combined atari pattern is dyed or printed on the kimono fabric so that it continues on the adjacent constituent parts when the adjacent constituent parts are sewn together and extends from the imaginary sewing line to the seam allowance, and the cut-out pattern fabric is cut out based on a read-and-taken image of the adjacent atari or combined atari pattern, so that adjacent cut-out pattern fabrics are attached to the kimono fabric with continuity of shape ensured.
Additionally, the cut-out pattern does not fray at adjacent component parts.
Also, the guide or the pattern that can be used as both is dyed or printed on the kimono fabric as a line or a broken line indicating the attachment position of the cut-out pattern fabric, or a mark indicating the attachment range, or a solid painted pattern, or a pattern with varying shades, so that the cut-out pattern fabric does not shift or deviate from the intended attachment position of the kimono fabric.
In addition, since the cut-out pattern fabric is attached to the kimono fabric by sewing or gluing, the cut-out pattern fabric can be securely attached to the kimono fabric by selecting an attachment means according to the material of the cut-out pattern fabric.

また、切り抜き模様地を着物地に縫着する場合、縫着巾を増減することで、多様な縫着模様を形成することができ、切り抜き模様地の取り付けにおいて着物の価値を高めることができる。
また、切り抜き模様地を起毛地としたので、肌合いや厚み、または、光反射などが着物地と相違しこの比較効果によって、切り抜き模様地の取り付けにおいて着物の価値が高められる。
Furthermore, when sewing a cut-out pattern fabric onto a kimono fabric, a variety of sewing patterns can be created by increasing or decreasing the sewing width, and the attachment of the cut-out pattern fabric can increase the value of the kimono.
In addition, since the cut-out pattern fabric is made of a raised fabric, the texture, thickness, and light reflection are different from those of kimono fabric, and this comparative effect increases the value of the kimono when the cut-out pattern fabric is attached.

また、任意の形の切り抜き模様地を着物地に取り付けする方法が、着物地の色止め等の処理工程後のアタリまたはアタリ兼用絵柄を読み取り、この読み撮りデータを切り抜き模様地の切り抜き形成データに変換し、この切り抜き形成データに基づいて切り抜き模様地を形成して、この切り抜き模様地を着物地着物地の取り付け想定個所または取り付けを想定する絵柄に取り付ける工程よりなるので、着物地が処理工程において収縮や変形していても、切り抜き模様地が取り付け想定個所および、取り付け想定個所の絵柄とズレたり逸脱せずに取り付けされる。Further, the method of attaching a cut-out pattern of any shape to a kimono fabric comprises the steps of reading the rough outline or a pattern that serves as the rough outline after a processing step such as color fixing of the kimono fabric, converting this read-out data into cut-out formation data for the cut-out pattern fabric, forming the cut-out pattern fabric based on this cut-out formation data, and attaching this cut-out pattern fabric to the intended attachment location on the kimono fabric or to the intended attachment pattern, so that even if the kimono fabric shrinks or deforms during the processing step, the cut-out pattern fabric is attached without shifting or deviating from the intended attachment location and the pattern of the intended attachment location.

また、任意の形の切り抜き模様地を着物地に取り付けする方法が、着物地の色止め等の処理工程後のアタリまたはアタリ兼用絵柄を読み取り、この読み撮りデータを切り抜き模様地の切り抜き形成データに変換し、この切り抜き形成データに基づいて切り抜き模様地を形成して、この切り抜き模様地を、刺繍枠に取り付けられている着物地のアタリまたはアタリ兼用絵柄に合わせて仮止めして、個の切り抜き模様地の取り付け想定個所または取り付けを想定する絵柄に縫着する工程よりなるので、着物地が処理工程において収縮や変形していても、切り抜き模様地が、取り付け想定個所および取り付け想定個所の絵柄とズレたり逸脱せず、また着物地が刺繍枠に対する取り付けによって伸展していても、取り付け想定個所および取り付け想定個所の絵柄とズレたり逸脱せずに縫着される。Further, the method of attaching a cut-out pattern fabric of any shape to a kimono fabric comprises the steps of reading the outline or a pattern that can be used as the outline after a processing step such as color fixing of the kimono fabric, converting this read and captured data into cut-out formation data for the cut-out pattern fabric, forming the cut-out pattern fabric based on this cut-out formation data, temporarily fixing this cut-out pattern fabric in accordance with the outline or the pattern that can be used as the outline of the kimono fabric attached to the embroidery frame, and sewing the individual cut-out pattern fabric to the intended attachment location or the pattern that is intended to be attached, so that even if the kimono fabric shrinks or deforms in the processing step, the cut-out pattern fabric will not shift or deviate from the intended attachment location and the pattern at the intended attachment location, and even if the kimono fabric stretches due to attachment to the embroidery frame, it will be sewn without shifting or deviating from the intended attachment location and the pattern at the intended attachment location.

切り抜き模様地が取り付けられている着物の正面図。Front view of the kimono with the cut-out pattern attached. 切り抜き模様地が取り付けられている着物の背面図。A back view of the kimono with the cut-out pattern attached. (a)反物としての着物地を示す。(b)着物地の各構成部位のうち、右身頃を示す。(a) Shows the kimono fabric as a roll of cloth. (b) Shows the right body of the kimono fabric. (a)アタリが面状に形成されている着物地を示す。(b)アタリが線状に形成されている着物地を示す。(c)アタリが破線状に形成されている着物地を示す。(b)アタリが印状に形成されている着物地を示す。(e)アタリ兼用絵柄が形成されている着物地を示す。(a) Kimono fabric with a surface-shaped atari. (b) Kimono fabric with a line-shaped atari. (c) Kimono fabric with a dashed line-shaped atari. (b) Kimono fabric with a mark-shaped atari. (e) Kimono fabric with a pattern that doubles as an atari. (a)切り抜き模様地を示す。(b)アタリより縮小されている切り抜き模様地を示す。(c)着物地における、隣接する右の構成部位に縫着される切り抜き模様地を示す。(d)着物地における、隣接する左の構成部位に縫着される切り抜き模様地を示す。(e)アタリ兼用絵柄に取り付けられる切り抜き抜き模様地を示す。(a) shows a cut-out pattern. (b) shows a cut-out pattern that is smaller than the outline. (c) shows a cut-out pattern that is sewn to the adjacent right component of the kimono fabric. (d) shows a cut-out pattern that is sewn to the adjacent left component of the kimono fabric. (e) shows a cut-out pattern that is attached to a pattern that also serves as the outline. (a)着物地に縫着されている切り抜き模様地を示す。(b)着物地の各構成部位のうち、隣接する構成部位に縫着されている切り抜き模様地を示す。(c)着物地に接着によって取り付けられている切り抜き模様地を示す。(d)着物地の各構成部位のうち、隣接する構成部位に接着によって取り付けられている切り抜き模様地を示す。(e)上記(a)の着物地が刺繍枠に取り付けられた状態を示す斜視図。(a) shows a cutout pattern sewn to a kimono fabric. (b) shows a cutout pattern sewn to adjacent components of the kimono fabric. (c) shows a cutout pattern attached to the kimono fabric by gluing. (d) shows a cutout pattern attached to adjacent components of the kimono fabric by gluing. (e) is a perspective view showing the kimono fabric of (a) attached to an embroidery frame. (a)切り抜き模様地が、接着シートを介在して着物地に取り付けられる状態を示す分解図。(b)切り抜き模様地が、着物地に接着して取り付けられる状態を示す分解図。1A is an exploded view showing the state in which the cut-out pattern fabric is attached to the kimono fabric via an adhesive sheet, and FIG. 1B is an exploded view showing the state in which the cut-out pattern fabric is attached to the kimono fabric by adhering it thereto. 切り抜き模様地が、刺繍で着物地に縫着されている状態を示す。This shows the cut-out pattern being sewn onto the kimono fabric using embroidery. (a)図6(a)のA-A線に沿う断面図。(b)図6(c)のC-C線に沿う断面図。6(a) is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. 6(a), and (b) is a cross-sectional view taken along line CC in FIG. (a)着物地における、隣接する左の構成部位に取り付けられている切り抜き模様地を示す。(b)着物地における、隣接する右の構成部位に取り付けられている切り抜き模様地を示す。(a) shows a cutout pattern attached to the adjacent left component part of the kimono fabric, (b) shows a cutout pattern attached to the adjacent right component part of the kimono fabric. (a)着物地における、隣接する左右の構成部位が縫製された時の、切り抜き起き模様地の取り付け状態を示す。(b)上記(a)の着物地が刺繍枠に取り付けられた状態を示す斜視図。1A shows the state in which the cut-out pattern fabric is attached when adjacent left and right component parts of the kimono fabric are sewn together, and FIG. 1B is a perspective view showing the state in which the kimono fabric in FIG. 1A is attached to an embroidery frame. (a)図11のB-B線に沿う断面図。(b)図11の切り抜き模様地が、接着によって着物地に取り付けられている状態を示す断面図。(a) is a cross-sectional view taken along the line BB in Fig. 11. (b) is a cross-sectional view showing the state in which the cut-out pattern fabric in Fig. 11 is attached to a kimono fabric by adhesion. 切り抜き模様地を、着物地に取り付ける工程のフローチャート。A flow chart of the process of attaching cut-out patterns to kimono fabric. 切り抜き模様地を、着物地に取り付ける工程のフローチャート。A flow chart of the process of attaching cut-out patterns to kimono fabric.

この発明は、切り抜き模様地が取り付けられている着物、および切り抜き模様地を着物地に取り付けする方法に関し、以下、図1~図14を参照してこの発明を説明する。The present invention relates to a kimono having a cut-out pattern attached thereto and a method for attaching the cut-out pattern to a kimono fabric, and the present invention will be described below with reference to FIGS. 1 to 14.

着物1は、絹糸またはポリエステル糸などの、天然繊維または化学繊維よりなる着物地2で構成されており、この着物地2には絵柄3が染色またはプリントで形成されている。
図1は、着物1の正面の一例を示し、この着物地2には絵柄3が長尺方向に間隔的に連続して形成されている。
前記絵柄3は小紋柄を例示し、一方、図2は、着物1の背面の一例を示し、この絵柄3は非連続の絵羽柄を例示している。
また、この発明の着物1は、全体意匠の要部に切り抜き模様地4が取り付けられている。
The kimono 1 is made of a kimono fabric 2 made of natural or chemical fibers such as silk or polyester threads, and a pattern 3 is formed on the kimono fabric 2 by dyeing or printing.
FIG. 1 shows an example of the front of a kimono 1, and a pattern 3 is formed continuously at intervals in the longitudinal direction on the kimono fabric 2.
The pattern 3 is an example of a small pattern, while FIG. 2 shows an example of the back of the kimono 1, in which the pattern 3 is an example of a discontinuous pattern.
In addition, the kimono 1 of this invention has a cutout pattern ground 4 attached to a key part of the overall design.

着物1は、図3(a)で示したように長尺な反物5よりなり、この反物5は、着物1の各構成部位6が印や線で区画されており、この各構成部位6は、右身頃6a、左身頃6b、右袖6c、左袖6d、右おくみ6e、左おくみ6f、本衿6g、掛け衿6hとで構成され、また、各構成部位6には絵柄3が形成されており、裁断線7に従って裁断される。
図3(b)は、各構成部位6のうちの左身頃6bの詳細を示し、この左身頃6bは、外側に縫い代8が形成されており、図1および図2のように、各構成部位6を所定の配置にした状態で、縫い代8の内側に仮想する縫製線9を規準として縫製して着物1に仕立てられる。
また、仮想する縫製線9は、左身頃6bの四隅の印(フ)を規準として着物地2に筋付けなどで形成されており、また、仮想線10は着物1の肩山11を示している。
また、(b)では各構成部位6の隣接個所に絵柄3が形成されているが、この実施例では隣接する構成部位6の縫製状態において、絵柄3が連続するように、仮想する縫製線9から裁断線7にまで延長して形成されている。
着物地2の絵柄3のうち切り抜き模様地4の取り付け想定個所の絵柄3には、アタリ兼用絵柄13が染色またはがプリントされている。
また、前記実施例のように構成部位6の隣接個所に形成されるアタリ兼用絵柄13は、前記絵柄3と同様に、隣接する構成部位6の縫製状態において、アタリ絵柄13が連続するように、仮想する縫製線9から裁断線7にまで延長して形成されている。
前記アタリ兼用絵柄3は、前述のように特に絵柄3のうち切り抜き模様地4の取り付け想定個所の絵柄3について、絵柄3の外形や内形と略同一にして絵柄3と兼用して形成されるものであり、着物地の2における切り抜き模様地4の他の取り付け想定個所が無地であったり、図2のように絵羽柄3aの場合は、切り抜き抜き模様地4の外形や内形と略同一のアタリ12が形成される。
As shown in FIG. 3(a), the kimono 1 is made of a long roll of cloth 5, and on this roll of cloth 5, each component part 6 of the kimono 1 is divided by marks and lines. Each component part 6 is made up of a right body part 6a, a left body part 6b, a right sleeve 6c, a left sleeve 6d, a right hem 6e, a left hem 6f, a main collar 6g, and a hanging collar 6h. Each component part 6 has a pattern 3 formed thereon, and is cut along cutting lines 7.
FIG. 3(b) shows the details of the left body 6b of each component part 6. This left body part 6b has a seam allowance 8 formed on the outside. With each component part 6 in a predetermined position as shown in FIGS. 1 and 2, it is sewn into a kimono 1 by using an imaginary sewing line 9 on the inside of the seam allowance 8 as a guide.
In addition, an imaginary sewing line 9 is formed by scoring the kimono fabric 2 using the marks (F) at the four corners of the left body 6b as reference points, and an imaginary line 10 indicates the shoulder 11 of the kimono 1.
In addition, in (b), the pattern 3 is formed in adjacent portions of each component part 6, but in this embodiment, when adjacent component parts 6 are sewn together, the pattern 3 is formed to extend from an imaginary sewing line 9 to a cutting line 7 so that the pattern 3 is continuous.
Among the patterns 3 on the kimono fabric 2, the pattern 3 at the intended location for attaching the cut-out pattern ground 4 has a pattern 13 used as a base and dyed or printed thereon.
In addition, the pattern 13 which also serves as a base pattern and is formed in adjacent parts of the component parts 6 as in the above embodiment is formed, like the pattern 3, to extend from the imaginary sewing line 9 to the cutting line 7 so that the base pattern 13 is continuous when the adjacent component parts 6 are sewn together.
As described above, the pattern 3 that can also be used as a base is formed by making the outer and inner shapes of the pattern 3 approximately identical to those of the pattern 3 at the intended location of attachment of the cut-out pattern ground 4, and is used in combination with the pattern 3. In cases where other intended locations of attachment of the cut-out pattern ground 4 on the kimono fabric 2 are plain, or in the case of a pattern 3a as shown in Figure 2, a base 12 that is approximately identical to the outer and inner shapes of the cut-out pattern ground 4 is formed.

図4は、アタリ12またはアタリ兼用絵柄の一例を示し、(b)、(c)は切り抜き模様地4の取り付け位置を示す線や破線、(d)は取り付け範囲を示す印、(a)はベタ塗りされた絵柄3、または濃淡を変えた絵柄3または、外径や内形が絵柄3と相似するようにして、前記着物地2に染色またはプリントされている。
絵柄3およびアタリ12、アタリ兼用絵柄13は、コンピュータ画像処理システムによって、ディスプレイ画面上で描画し、この絵柄3またはアタリ12、アタリ兼用絵柄13を、図1または図2の着物1の各構成部位6の外形線の画像に基づいて配置し、次いで、各構成部位6に分解した後に、図3のように反物5に配置して染色またはプリント画像データを作成する。
前記画像データによって、捺染の型や転写紙を作成して着物地2に染色、または、インクジェットプリンターで着物地2にプリントし、次いで、各構成部位6に裁断した着物地2を縫着して着物1が仕立てられる。
FIG. 4 shows an example of an atari 12 or a pattern that can be used as both an atari and a pattern, in which (b) and (c) are lines or dashed lines indicating the attachment position of the cut-out pattern ground 4, (d) is a mark indicating the attachment range, and (a) is a solid pattern 3, or a pattern 3 with varying shades, or the outer diameter and inner shape are dyed or printed on the kimono ground 2 so as to resemble the pattern 3.
The pattern 3, the outline 12, and the pattern 13 that can be used as both an outline and a pattern are drawn on a display screen by a computer image processing system, and the pattern 3 or the outline 12 and the pattern 13 that can be used as both an outline and a pattern are arranged based on an image of the outline of each component part 6 of the kimono 1 in Figure 1 or Figure 2. Next, after the component parts 6 are disassembled, they are arranged on the cloth 5 as shown in Figure 3 to create dyeing or printing image data.
Using the image data, a printing pattern or transfer paper is created and used to dye the kimono fabric 2, or the kimono fabric 2 is printed on by an inkjet printer. Next, the kimono fabric 2 is cut and sewn to each component part 6 to complete the kimono 1.

また、着物地2に切り抜き模様地4が取り付けられた着物1を提供するにあたり、切り抜き模様地4は、図1および図2で示したように、着物1が仕立てられた時に最も美的効果が発揮できる個所に、経済合理性も考慮して取り付けられる。
また、着物地2における切り抜き模様地4の取り付け個所は、事前に想定されるものであり、この取り付け想定個所に前記アタリ12またはアタリ兼用絵柄13が形成されているので、着物地2における、切り抜き模様地4の取り付け想定個所が無地であっても、切り抜き模様地4が取り付け想定個所から逸脱せずに取り付けることができる。
また、着物地2が、一定のパターンで連続する小紋柄であって、前記切り抜き模様地4がいずれかの絵柄3に取り付けされる場合、アタリ兼用絵柄13を形成することで切り抜き模様地4の取り付け位置が他の絵柄3と識別できる。
In providing the kimono 1 having the cutout pattern fabric 4 attached to the kimono fabric 2, the cutout pattern fabric 4 is attached in a location that will produce the most aesthetic effect when the kimono 1 is made, taking into consideration economic rationality, as shown in Figures 1 and 2.
The attachment location of the cut-out pattern ground 4 on the kimono fabric 2 is presumed, and the atari 12 or the pattern 13 serving as atari and the like is formed at this assumed attachment location, so that even if the assumed attachment location of the cut-out pattern ground 4 on the kimono fabric 2 is a plain pattern, the cut-out pattern ground 4 can be attached without deviating from the assumed attachment location.
When the kimono fabric 2 has a small pattern continuing in a certain pattern and the cut-out pattern ground 4 is attached to any of the designs 3, the attachment position of the cut-out pattern ground 4 can be distinguished from the other designs 3 by forming a pattern 13 which also serves as a base.

前記切り抜き模様地4は、着物地2と同じ、または、異なる素材であり、天然繊維、合成繊維、合成シール、合成皮革、天然皮革等が利用でき、または、着物地2との対比効果を考慮して立体的な起毛地4aでもあり、ベルヘット、フェルト、フロッキング加工生地および、シート状のシール4b、または金属箔である。
また、前記切り抜き模様地4は、着物地2のアタリ12、または、アタリ兼用絵柄13に合わせて取り付けられるので、コンピュータによる切り抜き形成データの作成は、アタリ12またはアタリ兼用絵柄13の画像の外形もしくは内径を、切り抜き形成データに変換して、この切り抜き形成データを、コンピュータに接続しているNCカッター装置等で着物地2を切り抜き形成して製作できる。
The cut-out pattern fabric 4 may be made of the same or different material as the kimono fabric 2, and may be made of natural fibers, synthetic fibers, synthetic seals, synthetic leather, natural leather, etc. Alternatively, it may be made of a three-dimensional raised fabric 4a in consideration of the contrast with the kimono fabric 2, or it may be made of velvet, felt, flocked fabric, sheet-like seals 4b, or metal foil.
Since the cut-out pattern ground 4 is attached to the outline 12 of the kimono ground 2 or the outline/pattern 13, the cut-out data can be created by converting the outer shape or inner diameter of the image of the outline 12 or the outline/pattern 13 into cut-out data, and the cut-out data can be used to cut out the kimono ground 2 using an NC cutter device or the like connected to the computer.

而して、前述のように着物地2は、染色またはプリント加工後の、蒸し工程や洗い工程及び乾燥等の処理工程で収縮し、例えば反物の平均長さ11.4mに対して3cm~5cm程度、巾36cmに対して2~3cm程度収縮し(素材や処理加減で増減がある)また、乾燥後に引張って補正されるにしても相対的に収縮するので、アタリ12もしくはアタリ兼用絵柄13は収縮及び変形する。
従って、切り抜き模様地4が、アタリ12またはアタリ兼用絵柄13の画像データに基づいて切り抜き形成されていると、前述の着物地2のアタリ12またはアタリ兼用絵柄13に取り付けられる時に、図6の(a)に2点鎖線で示したように、アタリ12またはアタリ兼用絵柄14が縮小しているので切り抜き模様地4が偏った位置に取り付けられたり、また、図6(c)に示したようにアタリ12またはアタリ兼用絵柄13が変形していると、アタリ12またはアタリ兼用絵柄13が切り抜き模様地4の外形からはみ出したりする。
前記のように、切り抜き模様地4が取り付け想定個所の絵柄3に取り付けられる時に、他の絵柄3より大きいために他の絵柄3と違和感が生じ、一方、切り抜き模様地4の取り付け位置が偏っていても他の絵柄3とのバランスが損なわれる。
また、図4(e)で示したように絵柄3が、花柄等の複雑形状の時は、アタリ兼用絵柄13は絵柄3の外形線と内部を区画した内径線とで形成され、切り抜き模様地4は前記区画された範囲に合わせて取り付けられる、
前記図4(e)のように、前記切り抜き模様地4が複数の組み合わせであると、アタリ兼用絵柄13とのズレや逸脱が一層顕在化する。
As mentioned above, the kimono fabric 2 shrinks during processing such as steaming, washing and drying after dyeing or printing; for example, it shrinks by about 3 cm to 5 cm for an average length of 11.4 m of a roll of fabric, and by about 2 to 3 cm for a width of 36 cm (this amount varies depending on the material and the degree of processing). Even if the fabric is stretched to correct the shrinkage after drying, it still shrinks relatively, so the atari 12 or the atari/pattern 13 will shrink and deform.
Therefore, if the cut-out pattern ground 4 is cut out based on image data of the outline 12 or the outline/combined pattern 13, when it is attached to the outline 12 or the outline/combined pattern 13 of the kimono ground 2, the outline 12 or the outline/combined pattern 14 will be shrunk as shown by the two-dot chain line in Figure 6(a) so that the cut-out pattern ground 4 will be attached in an offset position, or if the outline 12 or the outline/combined pattern 13 is deformed as shown in Figure 6(c), the outline 12 or the outline/combined pattern 13 will protrude from the outer shape of the cut-out pattern ground 4.
As described above, when the cutout pattern ground 4 is attached to the picture 3 at the intended attachment location, it is larger than the other pictures 3, so it creates a sense of incongruity with the other pictures 3, and on the other hand, if the attachment position of the cutout pattern ground 4 is biased, the balance with the other pictures 3 is lost.
Also, as shown in FIG. 4(e), when the pattern 3 has a complicated shape such as a floral pattern, the pattern 13 serving as a guide is formed by the outline of the pattern 3 and the inner diameter line dividing the interior, and the cutout pattern ground 4 is attached to fit the divided range.
As shown in FIG. 4(e), when the cut-out pattern ground 4 is a combination of a plurality of ground patterns, the deviation or misalignment from the pattern 13 serving as a guide becomes more apparent.

また、図3(b)のように着物地2の各構成部位6が隣接する個所にアタリ12、または、アタリ兼用絵柄13が形成されている場合、隣接するアタリ12またはアタリ兼用絵柄13を相対した時に連続するように形成したとしても、着物地2の収縮が素材や処理の程度で異なり、さらに反物5の端部や中央部でも異なるので、隣接する縫製線7を相対して縫製されると、隣接するアタリ3またはアタリ兼用絵柄13相互にズレが生じる。Furthermore, when an atari 12 or a pattern 13 that doubles as a atari 12 is formed at the adjacent locations of each component part 6 of the kimono fabric 2 as shown in Figure 3 (b), even if adjacent atari 12 or patterns 13 that double as atari 12 are formed so as to be continuous when placed face to face, the shrinkage of the kimono fabric 2 differs depending on the material and the degree of processing, and also differs at the ends and center of the roll of cloth 5, so that when adjacent sewing lines 7 are placed face to face and sewn, adjacent atari 3 or patterns 13 will be misaligned.

また、図6(e)、図11(b)に示すように、着物地2を刺繍枠15、16に取り付けて、切り抜き模様地4をコンピュータミシン等で縫製および刺繍する場合、着物地2自体が引っ張られて取り付けられるので、アタリ12またはアタリ兼用絵柄13が伸展および変形する。
上述のように切り抜き模様地4が、アタリ12またはアタリ兼用絵柄13とズレたり逸脱して着物地2に取り付けられていると、切り抜き模様地4を取り付けることで、着物1の美的効果および価値を高めるという本来の目的が達成されない。
Furthermore, as shown in Figures 6(e) and 11(b), when the kimono fabric 2 is attached to an embroidery frame 15, 16 and the cut-out pattern fabric 4 is sewn and embroidered with a computer sewing machine or the like, the kimono fabric 2 itself is pulled when attached, so that the outline 12 or the outline/picture 13 stretches and deforms.
As described above, if the cutout pattern ground 4 is attached to the kimono ground 2 in a manner that is misaligned or deviates from the atari 12 or the atari/combined pattern 13, the original purpose of attaching the cutout pattern ground 4, which is to enhance the aesthetic effect and value of the kimono 1, will not be achieved.

この発明は、前記切り抜き模様地4が、着物地2の取り付け想定個所または取り付け想定個所の絵柄3とズレたり逸脱しないように取り付けられるようにしたものであり、着物地2が染色またはプリント後の色止めなどの処理工程を終えた状態で、当該アタリ12またはアタリ兼用図柄13を読み取り、この読み取りデータを切り抜き形成データに変換して、この切り抜き形成データによって切り抜き模様地4を形成するようにした。
また、前記処理工程を終えた後の着物地2に、切り抜き模様地4を縫着する場合は、着物地2が刺繍枠15、16に取り付けられた状態で、アタリ12またはアタリ兼用絵柄13を読み取って、この読み取りデータを切り抜き形成データに変換して、この切り抜き形成データによって切り抜き模様地4を形成するようにした。
前記読み取り手段は、固定スキャナもしくはハンドスキャナもしくはコピー機などのスキャニングやコピー手段、またはスマホやカメラによる撮影手段であり、これらの読み取り手段をコンピュータに接続して、ディスプレイの画面上で前記読み取りデータを切り抜き形成データに変換して、コンピュータに接続したNCカッター装置等の切抜き形成装置で、切り抜き模様4を形成する。
In this invention, the cut-out pattern ground 4 is attached so as not to deviate from or deviate from the intended attachment location of the kimono ground 2 or the picture 3 at the intended attachment location, and when the kimono ground 2 has completed processing such as color fixing after dyeing or printing, the atari 12 or the pattern 13 which also serves as the atari is read, the read data is converted into cut-out formation data, and the cut-out pattern ground 4 is formed by the cut-out formation data.
When a cut-out pattern fabric 4 is sewn onto the kimono fabric 2 after the above-mentioned processing steps, the kimono fabric 2 is attached to the embroidery frames 15, 16, and the outline 12 or the pattern 13 used as the outline is read, the read data is converted into cut-out forming data, and the cut-out pattern fabric 4 is formed by the cut-out forming data.
The reading means is a scanning or copying means such as a fixed scanner, a hand scanner, or a copier, or a photographing means such as a smartphone or a camera. These reading means are connected to a computer, and the read data is converted into cut-out forming data on a display screen, and a cut-out pattern 4 is formed by a cut-out forming device such as an NC cutter device connected to the computer.

図5は、色止め等の前記処理工程後の着物地2の読み取りデータに基づいて切り抜き形成された切り抜き模様地4を示し、(a)はアタリ12またはアタリ絵柄13の外形と一致するようにした例、(b)は切り抜き模様地4をアタリ12またはアタリ兼用絵柄13より小さくして、アタリ12またはアタリ兼用絵柄13の内側を目途にして切り抜き模様地4が取り付け易くした例を示し、(c)、(b)は各構成部位6の隣接個所に取り付けられる切り抜き模様地4を示し、この切り抜き模様地4は、前記アタリ12またはアタリ兼用絵柄13と同様に、仮想する縫製線9から外側に延長して形成され、また(e)はアタリ12またはアタリ兼用絵柄13の外形線と内形線で区画された個所に取り付けられる切り抜き模様地4を示している。FIG. 5 shows a cut-out pattern fabric 4 formed by cutting out based on the read data of the kimono fabric 2 after the processing steps such as color fixing, in which (a) shows an example in which the pattern fabric 4 is made to match the outer shape of the atari 12 or atari pattern 13, (b) shows an example in which the cut-out pattern fabric 4 is made smaller than the atari 12 or atari combined pattern 13 to make it easier to attach the cut-out pattern fabric 4 to the inside of the atari 12 or atari combined pattern 13, (c) and (b) show cut-out pattern fabrics 4 attached to adjacent parts of each component part 6, and this cut-out pattern fabric 4 is formed by extending outward from the imaginary sewing line 9, like the atari 12 or atari combined pattern 13, and (e) shows a cut-out pattern fabric 4 attached to a part defined by the outer and inner outlines of the atari 12 or atari combined pattern 13.

図6は着物地2に取り付けられている切り抜き模様地4を示し、図6(a)および図9(a)は、糸17で縫着されている例を示し、図6(b)は着物地2の構成部位が隣接する個所に縫着されている例を示し、図6(c)および図9(b)は、切り抜き模様地4がシール4bであって接着されている例を示し、図6(d)は、切り抜き模様地4がシール4bであって、着物地2の構成部位が隣接する個所に接着されている例を示している。
図7(a)は、着物地2に切り抜き模り様地4を縫着する場合に、切り抜き模様地4を仮止めして縫製するために、接着シール18を介在してアイロンなどで加圧および加熱して仮止めする例を示し、(b)は切り抜き模様地4が起毛地4aまたはシール4bであって、起毛地4aの場合は裏側に少量の糊等の接着剤を付けて仮止めする例を示し、切り抜き模様地4がシール4bの場合は裏側接着層が形成されていて、剥離紙を剥いで接着する例を示している。
FIG. 6 shows the cutout pattern fabric 4 attached to the kimono fabric 2, FIGS. 6(a) and 9(a) show an example where it is sewn with thread 17, FIG. 6(b) shows an example where parts of the kimono fabric 2 are sewn to adjacent parts, FIGS. 6(c) and 9(b) show an example where the cutout pattern fabric 4 is a sticker 4b and is adhered to adjacent parts of the kimono fabric 2, and FIG. 6(d) shows an example where the cutout pattern fabric 4 is a sticker 4b and parts of the kimono fabric 2 are adhered to adjacent parts.
FIG. 7(a) shows an example in which, when sewing a cut-out pattern fabric 4 to a kimono fabric 2, the cut-out pattern fabric 4 is temporarily fixed by applying pressure and heat with an iron or the like via an adhesive seal 18 in order to temporarily secure the cut-out pattern fabric 4 and sew it. FIG. 7(b) shows an example in which the cut-out pattern fabric 4 is a napped fabric 4a or a seal 4b. In the case of the napped fabric 4a, the cut-out pattern fabric 4 is temporarily fixed by applying a small amount of adhesive such as glue to the back side. In the case of the cut-out pattern fabric 4 being a seal 4b, an adhesive layer is formed on the back side and the fabric is adhered by peeling off the release paper.

図8は着物地2に切り抜き模様地4が刺繍で縫着されている例を示し、設定したプログラムでコンピュータミシン等によって刺繍の縫い巾を増減することで、切り抜き模様地4に刺繍模様を付加して取り付けることができる。FIG. 8 shows an example in which a cut-out pattern fabric 4 is sewn onto a kimono fabric 2 by embroidery. By increasing or decreasing the width of the embroidery stitches using a computer sewing machine or the like in accordance with a set program, an embroidery pattern can be added and attached to the cut-out pattern fabric 4.

図10、図11、図12は、着物地2の各構成部位が隣接する個所に切り抜き模様地4が縫着されている例を示し、図10(a)、(b)は、切り抜き模様地4がアタリ12またはアタリ兼用絵柄13と同様にして、仮想する縫製線9から外側に延長している状態で縫着されているので、図(11)、(a)および図12(a)のように着物地2が仕立てられた時に、隣接個所で切断されずに縫製されるので隣接個所が毛羽立ったりほつれることがなく、また、隣接個所の起毛地4aは起毛を押し潰して縫製できるので、切り抜き模様地4と着物地2との接合個所に隙間が生じることはない。
図12(b)は、切り抜き模様地4がシール4bの場合を示し、前記同様にシール4bが隣接個所で剥がれたり立ち上がったりすることがない。
Figures 10, 11 and 12 show examples in which a cutout pattern fabric 4 is sewn to adjacent portions of the kimono fabric 2. In Figures 10(a) and (b), the cutout pattern fabric 4 is sewn to the outside from the imaginary sewing line 9, in the same way as the atari 12 or the atari combined pattern 13. Therefore, when the kimono fabric 2 is tailored as shown in Figures (11), (a) and 12(a), the adjacent portions are sewn without being cut, so that the adjacent portions do not become fuzzy or frayed. Also, the raised fabric 4a in the adjacent portions can be sewn with the raised nap pressed down, so that no gaps are generated at the joints between the cutout pattern fabric 4 and the kimono fabric 2.
FIG. 12(b) shows a case where the cutout pattern base 4 is a sticker 4b, and similarly to the above, the sticker 4b does not peel off or stand up at adjacent portions.

前記切り抜き模様地4を着物地2に取り付けする方法を図13および図14に示している。
図13は、STEP1、着物地における、前記切り抜き模様地4の取り付け想定個所または前記切り抜き模様地4の取り付け想定個所の絵柄3に、アタリ12またはアタリ兼用絵柄13を染色またはプリントする工程。
STEP2、染色またはプリント後の着物地2を色止め等の処理をする工程。
STEP3、処理工程後における着物地2のアタリ12またはアタリ兼用絵柄13を、コンピュータに接続した読み取り装置で読み取る工程。
STEP4、アタリ12またはアタリ兼用絵柄13の読み撮りデータを、切り抜き模様地4の切り抜き形成データに変換する工程。
STEP5、切り抜き模様地4を、切り抜き形成データに基づいてコンピュータに接続した切り抜き装置で切り抜き加工する工程。
STEP6、切り抜きされた切抜き模様地4を、着物地2における取り付け想定個所または取り付け想定絵柄に取り付けする工程。
以上の方法によって着物地2に切り抜き模様地4を、取り付け想定個所または取り付け想定個所の絵柄3とズレたり逸脱せずに取り付けることができる。
A method for attaching the cut-out pattern fabric 4 to the kimono fabric 2 is shown in FIG. 13 and FIG.
FIG. 13 shows STEP 1, a process of dyeing or printing an atari 12 or a pattern 13 that doubles as an atari on the intended location of the cut-out pattern ground 4 or a picture 3 on the intended location of the cut-out pattern ground 4 on the kimono fabric.
STEP 2: A process for treating the kimono fabric 2 after dyeing or printing, such as color fixing.
STEP 3: A process of reading the atari 12 or the atari/pattern 13 of the kimono fabric 2 after the processing process by a reading device connected to a computer.
STEP 4: A process of converting the read and photographed data of the rough guide 12 or the rough guide and picture 13 into cut-out formation data of the cut-out pattern ground 4.
STEP 5: A process of cutting out the cut-out pattern ground 4 by a cutting device connected to a computer based on the cut-out forming data.
STEP 6: A process of attaching the cut-out pattern fabric 4 to the intended attachment location or to the intended attachment pattern on the kimono fabric 2.
By the above method, the cut-out pattern ground 4 can be attached to the kimono ground 2 at the intended location or without deviation from the picture 3 at the intended location.

図14は、STEP1、着物地2における、切り抜き模様地4の取り付け想定個所または切り抜き模様地4の取り付け想定個所の絵柄3に、アタリ12またはアタリ兼用絵柄13を染色またはプリントする工程。
STEP2、染色またはプリント後の着物地2を色止め等の処理をする工程。
STEP3、処理工程後における着物地2のアタリ12またはアタリ兼用絵柄13の形成個所を、刺繍枠15、16に伸展して取り付ける工程。
STEP4、刺繍枠15、16に取り付けられている着物地2のアタリ12またはアタリ兼用絵柄13を、コンピュータに接続した読み取り装置で読み取る工程。
STEP5、アタリ12またはアタリ兼用絵柄13の読み撮りデータを、切り抜き模様地4を切り抜き形成データに変換する工程。
STEP6、切り抜き形成データに基づいてコンピュータに接続した切り抜き装置で、切り抜き模様地4を切り抜き形成する工程。
STEP7、切り抜き形成された切り抜き模様地4を、刺繍枠15、16に取り付けられている着物地2におけるアタリ12またはアタリ兼用絵柄13に合わせて仮止めする工程。
STEP8、着物地2に仮止めされている切抜き模様地4を、着物地2に縫着する工程。
以上の方法によって、切り抜き模様地4を、着物地2における、取り付け想定個所および取り付け想定個所の絵柄3とズレたり逸脱せずに取付けることができる。
FIG. 14 shows STEP 1, a process of dyeing or printing an atari 12 or a pattern 13 that can be used as an atari and a pattern on a kimono fabric 2 at a location where a cutout pattern fabric 4 is to be attached or on a pattern 3 at a location where the cutout pattern fabric 4 is to be attached.
STEP 2: A process for treating the kimono fabric 2 after dyeing or printing, such as color fixing.
STEP 3: A process of extending and attaching the portion of the kimono fabric 2 where the atari 12 or the atari/picture pattern 13 is to be formed after the processing process to an embroidery frame 15, 16.
STEP 4: A step of reading the outline 12 or the outline/pattern 13 of the kimono fabric 2 attached to the embroidery frames 15, 16 with a reading device connected to a computer.
STEP 5: A process of converting the read and photographed data of the rough guide 12 or the rough guide and picture 13 into cut-out forming data for the cut-out pattern ground 4.
STEP 6: A process of cutting out and forming the cut-out pattern ground 4 by a cutting device connected to a computer based on the cut-out forming data.
STEP 7: A step of temporarily fixing the cut-out pattern fabric 4 formed by cutting out the pattern to the atari 12 or the atari/pattern 13 of the kimono fabric 2 attached to the embroidery frames 15 and 16.
STEP 8: A process of sewing the cut-out pattern fabric 4, which is temporarily attached to the kimono fabric 2, to the kimono fabric 2.
By the above method, the cut-out pattern ground 4 can be attached to the kimono ground 2 at the intended location and without deviation from the picture 3 at the intended location.

1・・・着物
2・・・着物地
3・・・絵柄
4・・・切り抜き模様地
4a・・・起毛地
4b・・・シール
5・・・反物
6・・・構成部位
7・・・裁断線
8・・・縫い代
9・・・縫製線
12・・・アタリ
13・・・アタリ兼用絵柄
15、16・・・刺繍枠
Reference Signs List 1: Kimono 2: Kimono fabric 3: Pattern 4: Cut-out pattern fabric 4a: Fleece fabric 4b: Sticker 5: Roll of fabric 6: Components 7: Cutting line 8: Seam allowance 9: Sewing line 12: Atari 13: Atari and pattern 15, 16: Embroidery frame

Claims (12)

任意の形の切り抜き模様地が、着物地に取り付けられている着物であって、
前記着物地は、前記切り抜き模様地の取り付け想定個所にアタリが染色またはプリントされており、
前記切り抜き模様地は、前記染色またはプリント後の色止めの処理工程を終えた前記着物地のアタリの読み撮り画像に基づいて切り抜き形成されており、
前記切り抜き模様地を、前記アタリに合せて前記着物地に取り付けることで、
前記着物地が前記処理工程において収縮や変形していても、前記切り抜き模様地が取り付け想定個所から逸脱せずに取り付けられていることを特徴とする着物。
A kimono in which a cut-out pattern of any shape is attached to the kimono fabric,
The kimono fabric has a pattern dyed or printed on it at the intended attachment location of the cut-out pattern fabric,
The cut-out pattern is cut out based on a photographed image of the outline of the kimono fabric that has been subjected to a color fixing process after the dyeing or printing,
The cut-out pattern is attached to the kimono fabric in accordance with the atari,
The kimono is characterized in that the cut-out pattern fabric is attached without deviating from the intended attachment location even if the kimono fabric shrinks or deforms during the processing step.
任意の形の切り抜き模様地が、着物地に取り付けられている着物であって、
前記着物地における、前記切り抜き模様地の取り付け想定個所の絵柄には、該絵柄の外形と同一または相似するようにしてアタリ兼用絵柄が染色またはプリントされており、
前記切り抜き模様地は、前記染色またはプリント後の色止めの処理工程を終えた前記着物地における前記アタリ兼用絵柄の読み撮り画像に基づいて切り抜き形成されており、
前記切り抜き模様地を、前記アタリ兼用絵柄に合せて前記着物地に取り付けることで、
前記切り抜き模様地は、前記着物地が前記処理工程において収縮や変形していても、前記着物地の前記取り付け想定個所から逸脱せずに取り付けられていることを特徴とする着物。
A kimono in which a cut-out pattern of any shape is attached to the kimono fabric,
A pattern for use as a base pattern is dyed or printed on the pattern of the kimono fabric at the intended location for attaching the cut-out pattern fabric so as to be identical or similar to the outline of the pattern;
The cut-out pattern ground is cut out based on a read-out image of the outline/pattern of the kimono ground material that has been subjected to a color fixing process after the dyeing or printing,
The cut-out pattern is attached to the kimono fabric in accordance with the atari/pattern,
The kimono is characterized in that the cut-out pattern fabric is attached without deviating from the intended attachment location of the kimono fabric even if the kimono fabric shrinks or deforms during the processing step.
前記着物地の前記取り付け想定個所の絵柄の一部としてアタリが染色またはプリントされており、
前記切り抜き模様地は、前記染色またはプリント後の色止めの処理工程を終えた前記着物地における前記アタリの読み撮り画像に基づいて切り抜き形成されており、
前記切り抜き模様地を、前記アタリに合せて前記着物地に取り付けることで、
前記着物地が前記処理工程において収縮や変形していても、前記切り抜き模様地が前記着物地の前記取り付け想定個所から逸脱せずに取り付けられていることを特徴とする前記請求項2記載の着物。
The kimono fabric is dyed or printed with a pattern at the intended attachment location,
The cut-out pattern is cut out based on a read-out image of the outline of the kimono fabric that has been subjected to a color fixing process after the dyeing or printing,
The cut-out pattern is attached to the kimono fabric in accordance with the atari,
3. The kimono according to claim 2, wherein even if the kimono fabric shrinks or deforms during the processing step, the cut-out pattern fabric is attached without deviating from the intended attachment location on the kimono fabric.
前記切り抜き模様地は、前記着物地が刺繍枠に伸展して取り付けられた状態における、前記アタリの読み撮り画像に基づいて切り抜き形成されており、
前記切り抜き模様地を、前記アタリに合せて前記着物地に取り付けることで、
前記着物地の前記アタリが、前記刺繍枠に対する取り付けによって伸展や変形していても、前記切り抜き模様地が前記アタリから逸脱せずに取り付けられていることを特徴とする前記請求項1と請求項3に記載の着物。
The cut-out pattern is cut out based on a read-out image of the outline when the kimono fabric is stretched and attached to an embroidery frame,
The cut-out pattern is attached to the kimono fabric in accordance with the atari ,
A kimono as described in claims 1 and 3, characterized in that even if the atari of the kimono fabric is stretched or deformed by attachment to the embroidery frame, the cut-out pattern fabric is attached without deviating from the atari.
前記切り抜き模様地は、前記着物地が刺繍枠に伸展して取り付けられた状態における、前記アタリ兼用絵柄の読み撮り画像に基づいて切り抜き形成されており、The cut-out pattern is cut out based on a read-out image of the outline/pattern when the kimono fabric is stretched and attached to an embroidery frame,
前記切り抜き模様地を、前記アタリ兼用絵柄に合せて前記着物地に取り付けることで、The cut-out pattern is attached to the kimono fabric in accordance with the atari/pattern,
前記着物地の前記アタリ兼用絵柄が、前記刺繍枠に対する取り付けによって伸展や変形していても、前記切り抜き模様地が前記アタリ兼用絵柄から逸脱せずに取り付けられていることを特徴とする前記請求項2に記載の着物。3. The kimono according to claim 2, characterized in that even if the outline/picture of the kimono fabric is stretched or deformed by attachment to the embroidery frame, the cut-out pattern fabric is attached without deviating from the outline/picture.
前記着物地は、着物の各構成部位を形成する裁断線に従って裁断されており、The kimono fabric is cut along cutting lines that form each component part of the kimono,
前記各構成部位は、外側に縫い代が形成されているとともに、該縫い代の内側に仮想する縫製線を基準に縫製して着物に仕立てられるものであり、Each of the components has a seam on the outside, and is sewn into a kimono by following an imaginary sewing line on the inside of the seam,
前記切り抜き模様地の取り付け想定個所が、前記着物地における前記構成部位の隣接個所である場合、When the intended attachment location of the cutout pattern fabric is an adjacent location of the component part on the kimono fabric,
前記アタリは、隣接する前記構成部位の縫製状態において、隣接する前記構成部位で連続するように形成されているとともに、前記仮想する縫製線から前記縫い代に延長するようにして前記着物地に染色またはプリントされており、The atari is formed so as to be continuous between the adjacent component parts when the adjacent component parts are sewn together, and is dyed or printed on the kimono fabric so as to extend from the imaginary sewing line to the seam allowance,
前記切り抜き模様地は、染色またはプリント後の色止めの処理工程を終えた前記着物地の構成部位が隣接する個所の前記アタリの読み撮り画像に基づいて切り抜き形成されており、The cut-out pattern is cut out based on a read-out image of the atari of the adjacent portion of the constituent part of the kimono fabric that has undergone a color fixing process after dyeing or printing,
前記切り抜き模様地における、前記構成部位の隣接する前記アタリに対する取り付けにおいて、前記着物地が前記処理工程において収縮や変形していても、In the attachment of the component parts to the adjacent atari in the cut-out pattern fabric, even if the fabric shrinks or deforms during the processing step,
隣り合う前記切り抜き模様地の形の連続性が確保されて前記着物地に取り付けられていることを特徴とする前記請求項1と、請求項3に記載の着物。The kimono according to claims 1 and 3, characterized in that adjacent cut-out patterns are attached to the kimono fabric while ensuring continuity of their shapes.
前記アタリは、前記切り抜き模様地の取り付け位置を示す線や破線、または、取り付け範囲を示す印、または、ベタ塗りされた絵柄、または濃淡を変えた絵柄のようにして、前記着物地に染色またはプリントされていることを特徴とする前記請求項1と、請求項3に記載の着物。The kimono according to claims 1 and 3, characterized in that the atari is dyed or printed on the kimono fabric in the form of a line or a dashed line indicating the attachment position of the cut-out pattern fabric, or a mark indicating the attachment range, or a solid pattern or a pattern with varying shades. 前記切り抜き模様地は、前記着物地に縫着または、接着によって前記着物地に取り付けられていることを特徴とする前記請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の着物。4. The kimono according to claim 1, wherein the cut-out pattern is attached to the kimono fabric by sewing or gluing. 前記切り抜き模様地は、前記着物地に縫着によって取り付けられており、The cut-out pattern fabric is attached to the kimono fabric by sewing,
該縫着巾の増減によって縫着模様が形成されるようにして、前記着物地に取り付けられていることを特徴とする前記請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の着物。4. The kimono according to claim 1, wherein the sewing pattern is formed by increasing or decreasing the sewing width and is attached to the kimono fabric.
前記切り抜き模様地は、起毛地としたことを特徴とする前記請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の着物。4. The kimono according to claim 1, wherein the cut-out pattern fabric is a brushed fabric. 任意の形の切り抜き模様地を着物地に取り付けする方法が、A method for attaching a cut-out pattern of any shape to kimono fabric is
前記着物地における、前記切り抜き模様地の取り付け想定個所または前記切り抜き模様地の取り付け想定個所の絵柄に、アタリまたはアタリ兼用絵柄を染色またはプリントする工程と、A step of dyeing or printing a pattern for use as a daub or a pattern for use as a daub on the intended location of the cut-out pattern fabric or the design of the intended location of the cut-out pattern fabric in the kimono fabric;
染色またはプリント後の前記着物地を色止めの処理をする工程と、A step of subjecting the kimono fabric after dyeing or printing to a color fixing treatment;
前記処理工程後における前記着物地の前記アタリまたは前記アタリ兼用絵柄を、読み取り装置で読み取る工程と、a step of reading the outline or the outline/combined pattern of the kimono fabric after the processing step by a reading device;
前記アタリまたは前記アタリ兼用絵柄の読み撮りデータを、前記切り抜き模様地の切り抜き形成データに変換する工程と、A step of converting the read-and-take data of the outline or the outline combined pattern into cut-out formation data of the cut-out pattern ground;
前記切り抜き形成データに基づいて、前記切り抜き模様地を切り抜き装置で切り抜き形成する工程と、a step of cutting out and forming the cutout pattern ground by a cutting device based on the cutout forming data;
前記切り抜き形成された前記切り抜き模様地を、前記着物地における取り付け想定個所または取り付けを想定する絵柄に取り付ける工程と、a step of attaching the cut-out pattern fabric formed by the cut-out to a place on the kimono fabric where the cut-out pattern fabric is intended to be attached or to a pattern on the kimono fabric where the cut-out pattern fabric is intended to be attached;
よりなり、前記切り抜き模様地の前記着物地に対する取り付けにおいて、前記着物地が前記アタリまたは前記アタリ兼用絵柄を染色またはプリントする工程において収縮や変形していても、前記切り抜き模様地が取り付け想定個所および取り付け想定個所の絵柄と逸脱せずに取り付けされるようにしたことを特徴とする、切り抜き模様地を着物地に取り付けする方法。and a method for attaching the cut-out pattern fabric to the kimono fabric, characterized in that, even if the kimono fabric shrinks or deforms in the process of dyeing or printing the atari or the atari combined pattern, the cut-out pattern fabric is attached without deviating from the intended attachment location and the pattern at the intended attachment location.
任意の形の切り抜き模様地を着物地に取り付けする方法が、A method for attaching a cut-out pattern of any shape to kimono fabric is
前記着物地における、前記切り抜き模様地の取り付け想定個所または前記切り抜き模様地の取り付け想定個所の絵柄に、アタリまたはアタリ兼用絵柄を染色またはプリントする工程と、A step of dyeing or printing a pattern for use as a daub or a pattern for use as a daub on the intended location of the cut-out pattern fabric or the design of the intended location of the cut-out pattern fabric in the kimono fabric;
染色またはプリント後の前記着物地を色止めの処理をする工程と、A step of subjecting the kimono fabric after dyeing or printing to a color fixing treatment;
前記処理後の着物地を刺繍枠に取り付ける工程と、a step of attaching the treated kimono fabric to an embroidery frame;
前記刺繍枠に取り付けられた前記着物地の前記アタリまたは前記アタリ兼用絵柄を、読み取り装置で読み取る工程と、a step of reading the outline or the outline/pattern combination of the kimono fabric attached to the embroidery frame by a reading device;
前記アタリまたは前記アタリ兼用絵柄の読み撮りデータを、前記切り抜き模様地の切り抜き形成データに変換する工程と、A step of converting the read-and-take data of the outline or the outline combined pattern into cut-out formation data of the cut-out pattern ground;
前記切り抜き形成データに基づいて、前記切り抜き模様地を切り抜き装置で切り抜き形成する工程と、a step of cutting out and forming the cutout pattern ground by a cutting device based on the cutout forming data;
前記切り抜き形成された前記切り抜き模様地を、前記刺繍枠に取り付けられている前記着物地における前記アタリまたは前記アタリ兼用絵柄に合わせて仮止めする工程と、a step of temporarily fixing the cut-out pattern fabric formed by the cut-out in accordance with the atari or the atari combined pattern on the kimono fabric attached to the embroidery frame;
前記着物地に仮止めされている前記切り抜き模様地を、前記着物地の前記アタリまたは前記アタリ兼用絵柄に合わせて縫着する工程と、a step of sewing the cut-out pattern fabric temporarily attached to the kimono fabric in accordance with the atari or the pattern used for the atari and the combined pattern of the kimono fabric;
よりなり、前記切り抜き模様地が前記刺繍枠に対する取り付けによって伸展していても、前記切り抜き模様地が取り付け想定個所および取り付け想定個所の絵柄と逸脱せずに取り付けされるようにしたことを特徴とする、切り抜き模様地を着物地に取り付けする方法。The method for attaching the cut-out pattern fabric to the kimono fabric is characterized in that even if the cut-out pattern fabric is stretched by being attached to the embroidery frame, the cut-out pattern fabric is attached without deviating from the intended attachment location and the picture at the intended attachment location.
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