JP7544121B2 - Manufacturing method of the joint body - Google Patents
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Description
本発明は、異種材を容易にかつ強固に接合する用途に好適な、接合体の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing a bonded body that is suitable for applications in which dissimilar materials are easily and firmly bonded.
近年、製品の軽量化及び高性能化等の観点より、自動車部品、医療機器、家電製品等、各種分野で部品のマルチマテリアル化が進んでいる。マルチマテリアル化とは、機能や材質の異なる材料(以下、異種材という)を併用することで材料の軽量化や高強度化を図る手法である。マルチマテリアル化の実現には、異種材を強固に接合する技術が不可欠である。 In recent years, with the aim of reducing product weight and improving performance, the use of multi-material parts has been progressing in various fields, including automobile parts, medical equipment, and home appliances. Multi-materialization is a method of reducing the weight and increasing the strength of materials by combining materials with different functions and properties (hereinafter referred to as dissimilar materials). To achieve multi-materialization, technology that can firmly join dissimilar materials is essential.
異種材を強固に接合する手段として、液状型接着剤である熱硬化型エポキシ樹脂系接着剤(特許文献1等)が広く使用されている。
液状型接着剤を用いた接合は、液状の樹脂組成物を塗布する塗布工程と、塗布後に前記樹脂組成物を重合反応させて硬化させる硬化工程が必要となる。
このため、液状型接着剤を用いて接合を行う場合、塗布工程においては樹脂組成物の塗布に時間がかかり、硬化工程においては重合反応に時間がかかり(すなわち、接合プロセス時間が長く)、利便性に欠けるという問題がある。
本明細書において、接合プロセス時間とは、接合体を構成する少なくとも一種の基材と接合剤の接触時を始点、接合体の作製の完了時を終点として、始点から終点までの時間を意味する。例えば基材に対して液状接着剤を塗布する工程や乾燥工程、もしくは固形接合剤を載せる工程、基材同士を接着する(例えば、接着層を硬化させる)のに要する時間を含む。
As a means for firmly joining different materials, a liquid adhesive, such as thermosetting epoxy resin adhesive (Patent Document 1, etc.), is widely used.
Bonding using a liquid adhesive requires a coating step of coating a liquid resin composition and a curing step of curing the resin composition by polymerization reaction after coating.
For this reason, when bonding is performed using a liquid adhesive, there is a problem that it takes a long time to apply the resin composition in the application process, and the polymerization reaction takes a long time in the curing process (i.e., the bonding process takes a long time), resulting in a lack of convenience.
In this specification, the bonding process time means the time from the start point when the bonding agent contacts at least one of the substrates constituting the bonded body to the end point when the fabrication of the bonded body is completed, including, for example, the time required for the step of applying a liquid adhesive to the substrates, the step of drying the adhesive, the step of placing a solid bonding agent, and the time required for bonding the substrates together (for example, curing the adhesive layer).
エポキシ樹脂組成物を基材に含浸または塗工後、半硬化(Bステージ化)させ、Bステージ状の接着剤層付き積層体として、接合体の製造に用いる技術も開示されている(特許文献2等)。
しかし、Bステージ状の接着剤を用いた接合も、半硬化状態の接着剤層を重合反応させて硬化させる硬化工程が必要となり、接合プロセス時間が長いという問題がある。
また、Bステージ状の接着剤は、貯蔵安定性が悪く、常温での長期保管ができず、低温での保管が必要であり、オープンタイムが短く利便性に欠けるという問題がある。
本明細書においてオープンタイムとは、基材Aの上に接合剤を塗布もしくは載せた後、基材Bを載せ終えるまでの制限時間を意味する。オープンタイム内であれば、接合剤の接着力が低下せず、十分な接着力で基材Aと基材Bを貼り合わせることができる。オープンタイムが長いほど、基材Aの上に接合剤を塗布もしくは載せた後、基材Bを載せ終えるまでの制限時間が長くなり、利便性が高い。
A technique has also been disclosed in which an epoxy resin composition is impregnated into or coated on a substrate, and then semi-cured (B-staged), to produce a laminate with an adhesive layer in the B-stage state, which is then used for producing a bonded body (Patent Document 2, etc.).
However, bonding using a B-stage adhesive also requires a curing step in which the adhesive layer in a semi-cured state is cured by polymerization reaction, and this poses the problem of a long bonding process time.
Furthermore, B-stage adhesives have problems in that they have poor storage stability, cannot be stored for long periods at room temperature, must be stored at low temperatures, and have a short open time, making them inconvenient.
In this specification, the open time means the time limit from when a bonding agent is applied or placed on substrate A until when substrate B is completely placed. Within the open time, the adhesive strength of the bonding agent does not decrease, and substrate A and substrate B can be bonded with sufficient adhesive strength. The longer the open time, the longer the time limit from when a bonding agent is applied or placed on substrate A until when substrate B is completely placed, and the more convenient it is.
異種材を接合する手段として、熱可塑性接着剤組成物(以下、ホットメルト接着剤)も使用されている(特許文献3等)。ホットメルト接着剤を用いることにより、具体的には、ホットメルト接着剤は重合反応を伴わない相変化を利用して接着を行うものであるため、塗布工程は不要であって、硬化時間が早く(すなわち、接合プロセス時間が短く)、利便性に優れる。また、常温での長期保管も可能であって、オープンタイムが長い点においても利便性に優れる。 Thermoplastic adhesive compositions (hereafter referred to as hot melt adhesives) are also used as a means of joining dissimilar materials (Patent Document 3, etc.). By using hot melt adhesives, specifically, because hot melt adhesives use a phase change that does not involve a polymerization reaction to bond, no application process is required and the curing time is quick (i.e., the joining process time is short), making them highly convenient. In addition, they can be stored for long periods at room temperature, and are also convenient in that they have a long open time.
しかし、従来のホットメルト接着剤は、溶融粘度を低くするために、結晶性の樹脂からなるか、もしくは、結晶性の樹脂を含む樹脂からなるため、接着樹脂内の凝集力が高く、基材への十分な相互作用を持つことができない。また、溶融して接着する際に、高温においては低粘度になり、接着面から流出しやすく、また粘度の制御がしにくいので膜厚が安定しない。これらの要因により、従来のホットメルト接着剤では高い接着力を安定して得ることができないという問題がある。 However, conventional hot melt adhesives are made of crystalline resins or resins that contain crystalline resins in order to reduce the melt viscosity, which means that the adhesive resin has high cohesive forces and is unable to interact sufficiently with the substrate. Furthermore, when melted and bonded, the adhesive has low viscosity at high temperatures, making it prone to flowing out from the bonding surface, and the viscosity is difficult to control, resulting in an unstable film thickness. Due to these factors, there is a problem with conventional hot melt adhesives in that they are unable to stably obtain high adhesive strength.
上記のように、従来技術のうち、接着性に優れる熱硬化型エポキシ樹脂系接着剤では、液状型及びBステージ状の何れの形態でも、接合プロセス時間が長いという問題及びオープンタイムが短いという問題の少なくとも一種の問題があり、接合プロセス時間が短く、かつ、オープンタイムが長いホットメルト接着剤は高い接着力を安定して得ることができないという問題があった。 As described above, among the conventional technologies, thermosetting epoxy resin adhesives with excellent adhesive properties, whether in liquid or B-stage form, have at least one of the problems of a long bonding process time and a short open time, and hot melt adhesives with a short bonding process time and a long open time have the problem of being unable to stably obtain high adhesive strength.
本発明は、かかる技術的背景に鑑みてなされたものであって、磁性体基材である基材Aと、非磁性体基材である基材Bを接合する技術であって、接合プロセス時間が短く、オープンタイムが長く、かつ、接着性に優れた接合技術を提供することを目的とする。 The present invention was made in consideration of this technical background, and aims to provide a technology for joining a substrate A, which is a magnetic substrate, and a substrate B, which is a non-magnetic substrate, which has a short joining process time, a long open time, and excellent adhesion.
本発明は、前記目的を達成するために、以下の手段を提供する。
なお、本明細書において、接合とは、物と物を繋合わせることを意味し、接着及び溶着はその下位概念である。接着とは、テープや接着剤の様な有機材(熱硬化性樹脂や熱可塑性樹脂等)を介して、2つの被着材(接着しようとするもの)を接合状態とすることを意味し、溶着とは、熱可塑性樹脂等の表面を熱によって溶融し、接触加圧と冷却により分子拡散による絡み合いと結晶化で接合状態とすることを意味する。
In order to achieve the above object, the present invention provides the following means.
In this specification, bonding means joining two objects together, and adhesion and welding are subordinate concepts. Adhesion means joining two adherends (objects to be bonded) together using an organic material such as tape or adhesive (thermosetting resin, thermoplastic resin, etc.), while welding means melting the surface of a thermoplastic resin or the like by heat, and joining the objects by entanglement and crystallization due to molecular diffusion through contact pressure and cooling.
<接合体の製造方法_実施形態1>
[1]
磁性体基材である基材Aと、熱可塑性エポキシ樹脂及びフェノキシ樹脂から選択される少なくとも一種である非晶性熱可塑性樹脂を含む固形接合剤と、非磁性体基材である基材Bを、この順に配置して積層体を準備する接合前工程と、
前記積層体を加熱及び加圧して前記固形接合剤を溶融させ、前記基材Aと前記基材Bを接合する接合工程を有し、
前記非晶性熱可塑性樹脂のエポキシ当量が1,600以上もしくはエポキシ基を含まず、融解熱が15J/g以下である、接合体の製造方法。
[2]
前記加熱及び加圧を、100~400℃及び0.01~20MPaの条件で行う、[1]に記載の接合体の製造方法。
[3]
溶融前の固形接合剤が、フィルムの形状を有する、[1]又は[2]に記載の接合体の製造方法。
<Method of manufacturing bonded body - embodiment 1>
[1]
a pre-bonding process of preparing a laminate by arranging, in this order, a base material A which is a magnetic base material, a solid adhesive containing at least one amorphous thermoplastic resin selected from a thermoplastic epoxy resin and a phenoxy resin, and a base material B which is a non-magnetic base material;
a bonding step of heating and pressurizing the laminate to melt the solid bonding agent and bond the base material A and the base material B,
The method for producing a joined body, wherein the amorphous thermoplastic resin has an epoxy equivalent of 1,600 or more or does not contain an epoxy group and has a heat of fusion of 15 J/g or less.
[2]
The method for producing a bonded body according to [1], wherein the heating and pressurizing are carried out under conditions of 100 to 400° C. and 0.01 to 20 MPa.
[3]
The method for producing a bonded body according to [1] or [2], wherein the solid bonding agent before melting has a film shape.
<接合体の製造方法_実施形態2>
[4]
磁性体基材である基材Aと、熱可塑性エポキシ樹脂及びフェノキシ樹脂から選択される少なくとも一種である非晶性熱可塑性樹脂を含む固形接合剤と、非磁性体基材である基材Bを、この順で接合してなる接合体の製造方法であって、
前記固形接合剤を前記基材Aに接面させた状態で、前記固形接合剤を溶融後固化させることにより前記基材Aと前記固形接合剤を接合する、又は、前記固形接合剤を前記基材Bに接面させた状態で、前記固形接合剤を溶融後固化させることにより前記基材Bと前記固形接合剤を接合する、第1の接合工程と、
前記基材Aに接合した前固形接合剤を基材Bに接面させた状態で、前記固形接合剤を溶融後固化させることにより、前記基材Aと前記基材Bを接合する、又は、前記基材Bに接合した前固形接合剤を基材Aに接面させた状態で、前記固形接合剤を溶融後固化させることにより、前記基材Aと前記基材Bを接合する、第2の接合工程を有し、
前記非晶性熱可塑性樹脂が、エポキシ当量1,600g/eq.以上もしくはエポキシ基を含まず、かつ、融解熱が15J/g以下である、接合体の製造方法。
[5]
前記第1の接合工程において、前記固形接合剤の溶融を、加熱条件100~300℃で行う、[4]に記載の接合体の製造方法。
[6]
前記第2の接合工程において、前記固形接合剤の溶融を、接触加熱、温風加熱、熱プレス、赤外線加熱、熱板溶着、超音波溶着、振動溶着及び高周波誘導溶着からなる群より選ばれる少なくとも1種により行う、[4]又は[5]に記載の接合体の製造方法。
[7]
前記第2の接合工程において、前記固形接合剤の溶融を、加熱条件100~400℃、及び加圧条件0.01~20MPaで行う、[4]~[6]の何れかに記載の接合体の製造方法。
[8]
溶融前の固形接合剤が、フィルムの形状を有する、[1]~[7]の何れかに記載の接合体の製造方法。
<Method of manufacturing bonded body - embodiment 2>
[4]
A method for producing a bonded body, which is obtained by bonding, in this order, a base material A which is a magnetic base material, a solid bonding agent which contains at least one amorphous thermoplastic resin selected from a thermoplastic epoxy resin and a phenoxy resin, and a base material B which is a non-magnetic base material, the method comprising the steps of:
a first bonding step of bonding the base material A and the solid bonding agent together by melting and then solidifying the solid bonding agent in a state where the solid bonding agent is in contact with the base material A, or bonding the base material B and the solid bonding agent together by melting and then solidifying the solid bonding agent in a state where the solid bonding agent is in contact with the base material B;
a second bonding step of bonding the substrate A and the substrate B together by melting and then solidifying the solid bonding agent in a state where the pre-solid bonding agent bonded to the substrate A is brought into contact with the substrate B, or by melting and then solidifying the solid bonding agent in a state where the pre-solid bonding agent bonded to the substrate B is brought into contact with the substrate A,
The method for producing a bonded body, wherein the amorphous thermoplastic resin has an epoxy equivalent of 1,600 g/eq. or more or does not contain an epoxy group, and has a heat of fusion of 15 J/g or less.
[5]
The method for manufacturing a bonded body according to [4], wherein in the first bonding step, the melting of the solid bonding agent is performed under heating conditions of 100 to 300° C.
[6]
The method for producing a joined body according to [4] or [5], wherein in the second joining step, the solid joining agent is melted by at least one selected from the group consisting of contact heating, hot air heating, heat pressing, infrared heating, hot plate welding, ultrasonic welding, vibration welding, and high-frequency induction welding.
[7]
The method for manufacturing a bonded body according to any one of [4] to [6], wherein in the second bonding step, the melting of the solid bonding agent is performed under heating conditions of 100 to 400° C. and pressure conditions of 0.01 to 20 MPa.
[8]
The method for producing a bonded body according to any one of [1] to [7], wherein the solid bonding agent before melting has a film shape.
<接合体>
[9]
磁性体基材である基材Aと、非磁性体基材である基材Bを、接着層を介して接合してなる接合体であって、
前記接着層が、熱可塑性エポキシ樹脂及びフェノキシ樹脂から選択される少なくとも一種であって、エポキシ当量が1,600以上であり、融解熱が15J/g以下である、非晶性熱可塑性樹脂を含む固形接合剤を、前記基材Aと前記基材Bの間に配置し、加熱及び加圧して溶融させ、前記固形接合剤を固化させて形成されてなる、接合体。
[10]
前記加熱及び加圧を、100~400℃及び0.01~20MPaの条件で行う、[9]に記載の接合体。
<Joint>
[9]
A bonded body obtained by bonding a substrate A, which is a magnetic substrate, and a substrate B, which is a non-magnetic substrate, via an adhesive layer,
The adhesive layer is at least one selected from a thermoplastic epoxy resin and a phenoxy resin, and the adhesive layer is formed by disposing a solid adhesive agent containing an amorphous thermoplastic resin having an epoxy equivalent of 1,600 or more and a heat of fusion of 15 J/g or less between the base material A and the base material B, heating and pressurizing the solid adhesive agent to melt the solid adhesive agent, and solidifying the solid adhesive agent.
[10]
The bonded body according to [9], wherein the heating and pressurizing are performed under conditions of 100 to 400° C. and 0.01 to 20 MPa.
本発明によれば、磁性体基材である基材Aと、非磁性体基材である基材Bを接合する技術に関し、接合プロセス時間が短く、オープンタイムが長く、かつ、接着性に優れた接合技術を提供することができる。 The present invention provides a technology for joining a substrate A, which is a magnetic substrate, and a substrate B, which is a non-magnetic substrate, that has a short joining process time, a long open time, and excellent adhesion.
[接合体の製造方法_実施形態1]
実施形態1の接合体の製造方法は、磁性体基材である基材Aと、熱可塑性エポキシ樹脂及びフェノキシ樹脂から選択される少なくとも一種である非晶性熱可塑性樹脂を含む固形接合剤と、非磁性体基材である基材Bを、この順に配置して積層体を準備する接合前工程と、前記積層体を加熱及び加圧して前記固形接合剤を溶融させ、前記基材Aと前記基材Bを接合する接合工程を有する。
前記接合前工程では、基材Aと固形接合剤および基材Bと固形接合剤との接合は行わず、次の接合工程にて接合を行う。固形接合剤はタック性を有していても良く、その場合は接合前工程で固形接合剤が基材に対して仮固定される。
[Method of manufacturing a bonded body - embodiment 1]
The manufacturing method of the joined body of the first embodiment includes a pre-joining process of preparing a laminate by arranging, in this order, a base material A which is a magnetic base material, a solid adhesive containing at least one amorphous thermoplastic resin selected from a thermoplastic epoxy resin and a phenoxy resin, and a base material B which is a non-magnetic base material, and a joining process of heating and pressurizing the laminate to melt the solid adhesive and join the base material A and the base material B.
In the pre-bonding step, the substrate A and the solid adhesive and the substrate B and the solid adhesive are not bonded to each other, but are bonded to each other in the next bonding step. The solid adhesive may have tackiness, and in that case, the solid adhesive is temporarily fixed to the substrate in the pre-bonding step.
以下、各工程について説明する。 Each process is explained below.
<接合前工程>
接合前工程では、基材Aと、熱可塑性エポキシ樹脂及びフェノキシ樹脂から選択される少なくとも一種である非晶性熱可塑性樹脂を含む固形接合剤と、基材Bを、この順に配置して積層体を準備する。
前記積層体は、基材Aと固形接合剤、固形接合剤と基材Bの何れも、接合しておらず、それぞれ独立した部材を重ね合わせてなる。
前記固形接合剤の「固形」とは、常温で固体、即ち23℃の加圧のない状態下において流動性が無いことを意味する。
前記固形接合剤は、23℃の加圧のない状態下において30日以上変形せずに外形を保持でき、さらに変質しない特性を備えることが望ましい。
<Pre-bonding process>
In the pre-bonding process, a laminate is prepared by arranging a substrate A, a solid bonding agent containing at least one amorphous thermoplastic resin selected from a thermoplastic epoxy resin and a phenoxy resin, and a substrate B in this order.
In the laminate, neither the base material A nor the solid adhesive is bonded to the base material B, and the solid adhesive is not bonded to the base material B, and each of the laminates is formed by overlapping independent members.
The term "solid" in the solid binder means that the solid binder is solid at room temperature, that is, has no fluidity at 23° C. without pressure.
It is desirable that the solid adhesive has the property of being able to retain its shape without deformation for 30 days or more under no pressure at 23° C., and furthermore, not being deteriorated.
(固形接合剤)
固形接合剤は、熱可塑性エポキシ樹脂及びフェノキシ樹脂から選択される少なくとも一種である非晶性熱可塑性樹脂であって、エポキシ当量が1,600以上であり、融解熱が15J/g以下である非晶性熱可塑性樹脂を含む。
本発明における非晶性樹脂とは、示差走査熱量計(DSC)を用いた測定において、融点(Tm)を有するが、明確な融解に伴う吸熱ピーク(融点)を有しないもしくは非常に小さい樹脂である。融解熱はDSCの吸熱ピークの面積と、熱可塑性樹脂成分の重量から算出される。無機充填剤などが固形接合剤に含まれる場合は、無機充填剤は除いた、樹脂成分の重量から算出する。具体的には、本発明における非晶性熱可塑性樹脂とは、以下のものを指す。試料を2-10mg秤量し、アルミ製パンに入れ、DSC(株式会社リガク製DSC8231)で23℃から10℃/minで200℃以上まで昇温し、DSCカーブを得る。次いでそのDSCカーブから求めた融解時の吸熱ピークの面積と、前記秤量値から融解熱を算出したときに、融解熱が15J/g以下となる樹脂である。
(Solid adhesive)
The solid bonding agent includes at least one amorphous thermoplastic resin selected from a thermoplastic epoxy resin and a phenoxy resin, the amorphous thermoplastic resin having an epoxy equivalent of 1,600 or more and a heat of fusion of 15 J/g or less.
The amorphous resin in the present invention is a resin that has a melting point (Tm) in a measurement using a differential scanning calorimeter (DSC), but does not have a clear endothermic peak (melting point) associated with melting, or has a very small Tm. The heat of fusion is calculated from the area of the endothermic peak of the DSC and the weight of the thermoplastic resin component. When an inorganic filler or the like is contained in the solid bonding agent, it is calculated from the weight of the resin component excluding the inorganic filler. Specifically, the amorphous thermoplastic resin in the present invention refers to the following. 2-10 mg of a sample is weighed out, placed in an aluminum pan, and heated from 23°C to 200°C or higher at 10°C/min using a DSC (DSC8231 manufactured by Rigaku Corporation) to obtain a DSC curve. Next, when the heat of fusion is calculated from the area of the endothermic peak at the time of melting obtained from the DSC curve and the weighed value, the resin has a heat of fusion of 15 J/g or less.
固形接合剤に非晶性熱可塑性樹脂の特性を十分に付与する点から、前記非晶性熱可塑性樹脂の含有量は、固形接合剤中の樹脂成分のうち、好ましくは51質量%以上、より好ましくは60質量%以上、更に好ましくは70質量%以上、特に好ましくは80質量%以上、最も好ましくは90質量%以上である。本開示において「固形熱伝導材料中の樹脂成分」とは、固形熱伝導材中におけるフィラー以外の成分を意味する。 In order to fully impart the properties of an amorphous thermoplastic resin to the solid bonding agent, the content of the amorphous thermoplastic resin is preferably 51% by mass or more, more preferably 60% by mass or more, even more preferably 70% by mass or more, particularly preferably 80% by mass or more, and most preferably 90% by mass or more of the resin components in the solid bonding agent. In this disclosure, "resin components in a solid thermally conductive material" refers to components other than the filler in the solid thermally conductive material.
融解熱は、15J/g以下であり、11J/g以下であることが好ましく、7J/g以下であることがより好ましく、4J/g以下であることが更に好ましく、融解ピークが検出限界以下であることが最も好ましい。
エポキシ当量は、1,600以上であり、2,000以上であることが好ましく、5,000以上であることがより好ましく、9,000以上であることが更に好ましく、検出限界以上であってエポキシ基が実質的に検出されないことが最も好ましい。
The heat of fusion is 15 J/g or less, preferably 11 J/g or less, more preferably 7 J/g or less, even more preferably 4 J/g or less, and most preferably the melting peak is below the detection limit.
The epoxy equivalent is 1,600 or more, preferably 2,000 or more, more preferably 5,000 or more, and even more preferably 9,000 or more, and most preferably above the detection limit so that substantially no epoxy groups are detected.
エポキシ当量が1,600以上であり、融解熱が15J/g以下である非晶性熱可塑性樹脂を含む固形接合剤を用いることにより、加熱時に、従来のホットメルト接着剤で見られるような急激な粘度低下は起こらず、200℃を超える高温度領域においても低粘度(0.001~100Pa・s)状態には至らない。このため当該固形接合剤は溶融した状態でも積層体から流れ出すことはなく、接着層の厚みが安定して確保でき、高い接着力を安定して得ることができる。
ここで言うエポキシ当量(エポキシ基1モルが含まれる前記樹脂の重量)は、接合前の固形接合剤に含まれる熱可塑性エポキシ樹脂もしくはフェノキシ樹脂成分のエポキシ当量の値であり、JIS―K7236:2001に規定された方法で測定された値(単位「g/eq.」)である。具体的には、電位差滴定装置を用い、溶媒としてシクロヘキサノンを使用し、臭素化テトラエチルアンモニウム酢酸溶液を加え、0.1mol/L過塩素酸-酢酸溶液を用い、溶媒希釈品(樹脂ワニス)は、不揮発分から固形分換算値としての数値を算出した値である。なお、2種以上の樹脂の混合物の場合はそれぞれの含有量とエポキシ当量から算出することもできる。
By using a solid adhesive containing an amorphous thermoplastic resin with an epoxy equivalent of 1,600 or more and a heat of fusion of 15 J/g or less, the rapid viscosity drop seen in conventional hot melt adhesives does not occur when heated, and the adhesive does not reach a low viscosity (0.001 to 100 Pa·s) state even in a high temperature range exceeding 200° C. Therefore, the solid adhesive does not flow out of the laminate even in a molten state, the thickness of the adhesive layer can be stably secured, and high adhesive strength can be stably obtained.
The epoxy equivalent weight (weight of the resin containing 1 mole of epoxy groups) referred to here is the epoxy equivalent weight of the thermoplastic epoxy resin or phenoxy resin component contained in the solid adhesive before bonding, and is a value (unit: g/eq.) measured by the method specified in JIS-K7236:2001. Specifically, a potentiometric titration device was used, cyclohexanone was used as the solvent, brominated tetraethylammonium acetate solution was added, and a 0.1 mol/L perchloric acid-acetic acid solution was used, and the solvent-diluted product (resin varnish) was calculated as a solid content equivalent value from the non-volatile content. In the case of a mixture of two or more resins, it can also be calculated from the content and epoxy equivalent weight of each resin.
固形接合剤に含まれる非晶性熱可塑性樹脂の融点は50~400℃であることが好ましく、60℃~350℃であることがより好ましく、70℃~300℃であることが更に好ましい。50~400℃の範囲に融点があることにより、前記固形接合剤が加熱により効率よく変形、溶融し接着面に有効に濡れ広がるため高い接着力が得られる。
本明細書において、非晶性熱可塑性樹脂の融点とは、実質的に固体から軟化し、熱可塑性を帯び、溶融と接着が可能となる過程の温度範囲を意味する。
The melting point of the amorphous thermoplastic resin contained in the solid bonding agent is preferably 50 to 400° C., more preferably 60 to 350° C., and even more preferably 70 to 300° C. By having a melting point in the range of 50 to 400° C., the solid bonding agent is efficiently deformed and melted by heating and effectively wets and spreads over the bonding surface, resulting in high adhesive strength.
In this specification, the melting point of an amorphous thermoplastic resin means the temperature range in the process where the resin softens from a substantially solid state, acquires thermoplastic properties, and becomes meltable and adhesive.
従来の熱硬化性の接着剤では、接合体を解体することが困難であり、接合体を構成する異種材を分別してリサイクルすることが難しく(すなわち、リサイクル性に劣り)、また、接合体の製造工程において接合箇所のズレ等があった際や内容物や被着体に欠陥があり交換が必要な場合に貼り直しが難しく(すなわち、リペア性に劣り)、利便性に欠けるという問題があったが、前記固形接合剤は、熱で軟化・溶融させることができ、容易に剥離できるため、リサイクル性に優れる。また、前記固形接合剤は熱可塑性であるため、可逆的に軟化・溶融と硬化を繰り返すことができ、リペア性にも優れる。 Conventional thermosetting adhesives have problems in that it is difficult to dismantle the bonded body, making it difficult to separate and recycle the different materials that make up the bonded body (i.e., poor recyclability), and it is difficult to reattach the bonded body when there is a misalignment at the joint during the manufacturing process of the bonded body, or when the contents or adherend have a defect and need to be replaced (i.e., poor repairability), resulting in a lack of convenience. However, the solid adhesive can be softened and melted by heat and can be easily peeled off, making it highly recyclable. In addition, because the solid adhesive is thermoplastic, it can be reversibly softened, melted, and hardened repeatedly, making it highly repairable.
《熱可塑性エポキシ樹脂》
熱可塑性エポキシ樹脂は、(a)2官能エポキシ樹脂モノマーもしくはオリゴマーと(b)フェノール性水酸基、カルボキシル基、メルカプト基、イソシアネート基及びシアネートエステル基からなる群より選ばれる同一の又は異なる2つの官能基を有する2官能性化合物との重合体であることが好ましい。
かかる化合物を使用することにより、直鎖状のポリマーを形成する重合反応が優先的に進行して、所望の特性を具備する熱可塑性エポキシ樹脂を得ることが可能となる。
<Thermoplastic epoxy resin>
The thermoplastic epoxy resin is preferably a polymer of (a) a difunctional epoxy resin monomer or oligomer and (b) a difunctional compound having two identical or different functional groups selected from the group consisting of a phenolic hydroxyl group, a carboxyl group, a mercapto group, an isocyanate group, and a cyanate ester group.
By using such a compound, the polymerization reaction for forming a linear polymer proceeds preferentially, making it possible to obtain a thermoplastic epoxy resin having the desired properties.
前記(a)2官能エポキシ樹脂モノマーもしくはオリゴマーとは、分子内にエポキシ基を2個有するエポキシ樹脂モノマーもしくはオリゴマーをいう。
前記(a)の具体例として、例えばビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、2官能のフェノールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールAD型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、2官能のナフタレン型エポキシ樹脂、2官能の脂環式エポキシ樹脂、2官能のグリシジルエステル型エポキシ樹脂(例えばジグリシジルフタレート、ジグリシジルテトラヒドロフタレート、ダイマー酸ジグリシジルエステルなど)、2官能のグリシジルアミン型エポキシ樹脂(例えばジグリシジルアニリン、ジグリシジルトルイジンなど)、2官能の複素環式エポキシ樹脂、2官能のジアリールスルホン型エポキシ樹脂、ヒドロキノン型エポキシ樹脂(例えばヒドロキノンジグリシジルエーテル、2,5-ジ-tert-ブチルヒドロキノンジグリシジルエーテル、レゾルシンジグリシジルエーテルなど)、2官能のアルキレングリシジルエーテル系化合物(例えばブタンジオールジグリシジルエーテル、ブテンジオールジグリシジルエーテル、ブチンジオールジグリシジルエーテルなど)、2官能のグリシジル基含有ヒダントイン化合物(例えば1,3-ジグリシジル-5,5-ジアルキルヒダントイン、1-グリシジル-3-(グリシドキシアルキル)-5,5-ジアルキルヒダントインなど)、2官能のグリシジル基含有シロキサン(例えば1,3-ビス(3-グリシドキシプロピル)-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン、α,β-ビス(3-グリシドキシプロピル)ポリジメチルシロキサンなど)及びそれらの変性物などが挙げられる。これらのうち、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂が、反応性及び作業性の点から好ましい。
前記(b)のフェノール水酸基を持つ2官能性化合物としては、例えばカテコール、レゾルシン、ヒドロキノンなどのベンゼン環を1個有する一核体芳香族ジヒドロキシ化合物類、ビス(4-ヒドロキシフェニル)プロパン(ビスフェノールA)、ビス(4-ヒドロキシフェニル)メタン(ビスフェノールF)、ビス(4-ヒドロキシフェニル)エタン(ビスフェノールAD)などのビスフェノール類、ジヒドロキシナフタレンなどの縮合環を有する化合物、ジアリ
ルレゾルシン、ジアリルビスフェノールA、トリアリルジヒドロキシビフェニルなどのアリル基を導入した2官能フェノール化合物、ジブチルビスフェノールAなどが挙げられる。
前記(b)のカルボキシル基含有化合物の具体例としては、アジピン酸、コハク酸、マロン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、フタル酸、イソフタル酸、及びテレフタル酸などが挙げられる。
前記(b)のメルカプト基を持つ2官能性化合物としては、例えば、エチレングリコールビスチオグリコレート、エチレングリコールビスチオプロピオネ
ートなどが挙げられる。
前記(b)のイソシアネート基含有の2官能性化合物の具体例としては、ジフェニルメタンジイソシアネート(MDI)、イソホロンジイソシアネート(IPDI)、へキサメチレンジイソシアネート(HMDI)、及びトリレンジイソシアネート(TDI)などが挙げられる。
前記(b)のシアネートエステル基含有の2官能性化合物の具体例としては、2,2-ビス(4-シアナトフェニル)プロパン、1,1-ビス(4-シアナトフェニル)エタン、及びビス(4-シアナトフェニル)メタンなどが挙げられる。
前記(b)のなかでもフェノール水酸基を持つ2官能性化合物が熱可塑性の重合物を得る観点から好ましく、フェノール性水酸基を2つ持ち、ビスフェノール構造もしくはビフェニル構造を持つ2官能性化合物が耐熱性および接着性の観点から好ましく、ビスフェノールA、ビスフェノールFもしくはビスフェノールSが耐熱性およびコストの観点から好ましい。
The (a) bifunctional epoxy resin monomer or oligomer refers to an epoxy resin monomer or oligomer having two epoxy groups in the molecule.
Specific examples of the (a) include bisphenol A type epoxy resins, bisphenol F type epoxy resins, bifunctional phenol novolac type epoxy resins, bisphenol AD type epoxy resins, biphenyl type epoxy resins, bifunctional naphthalene type epoxy resins, bifunctional alicyclic epoxy resins, bifunctional glycidyl ester type epoxy resins (e.g., diglycidyl phthalate, diglycidyl tetrahydrophthalate, dimer acid diglycidyl ester, etc.), bifunctional glycidyl amine type epoxy resins (e.g., diglycidyl aniline, diglycidyl toluidine, etc.), bifunctional heterocyclic epoxy resins, bifunctional diarylsulfone type epoxy resins, hydroquinone type epoxy resins (e.g., hydroquinone diglycidyl ether, 2,5-di-tert-butyl ether, etc.), t-Butylhydroquinone diglycidyl ether, resorcin diglycidyl ether, etc.), bifunctional alkylene glycidyl ether compounds (e.g. butanediol diglycidyl ether, butenediol diglycidyl ether, butynediol diglycidyl ether, etc.), bifunctional glycidyl group-containing hydantoin compounds (e.g. 1,3-diglycidyl-5,5-dialkylhydantoin, 1-glycidyl-3-(glycidoxyalkyl)-5,5-dialkylhydantoin, etc.), bifunctional glycidyl group-containing siloxanes (e.g. 1,3-bis(3-glycidoxypropyl)-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane, α,β-bis(3-glycidoxypropyl)polydimethylsiloxane, etc.), and modified products thereof. Among these, bisphenol A type epoxy resins, bisphenol F type epoxy resins, and biphenyl type epoxy resins are preferred in terms of reactivity and workability.
Examples of the (b) bifunctional compound having a phenolic hydroxyl group include mononuclear aromatic dihydroxy compounds having one benzene ring, such as catechol, resorcin, and hydroquinone; bisphenols, such as bis(4-hydroxyphenyl)propane (bisphenol A), bis(4-hydroxyphenyl)methane (bisphenol F), and bis(4-hydroxyphenyl)ethane (bisphenol AD); compounds having a condensed ring, such as dihydroxynaphthalene; bifunctional phenol compounds having an allyl group introduced therein, such as diallyl resorcin, diallyl bisphenol A, and triallyl dihydroxybiphenyl; and dibutyl bisphenol A.
Specific examples of the carboxyl group-containing compound (b) include adipic acid, succinic acid, malonic acid, cyclohexanedicarboxylic acid, phthalic acid, isophthalic acid, and terephthalic acid.
Examples of the (b) bifunctional compound having a mercapto group include ethylene glycol bisthioglycolate and ethylene glycol bisthiopropionate.
Specific examples of the (b) isocyanate group-containing bifunctional compound include diphenylmethane diisocyanate (MDI), isophorone diisocyanate (IPDI), hexamethylene diisocyanate (HMDI), and tolylene diisocyanate (TDI).
Specific examples of the (b) cyanate ester group-containing bifunctional compound include 2,2-bis(4-cyanatophenyl)propane, 1,1-bis(4-cyanatophenyl)ethane, and bis(4-cyanatophenyl)methane.
Among the above (b), a bifunctional compound having a phenolic hydroxyl group is preferred from the viewpoint of obtaining a thermoplastic polymer, a bifunctional compound having two phenolic hydroxyl groups and a bisphenol structure or a biphenyl structure is preferred from the viewpoint of heat resistance and adhesiveness, and bisphenol A, bisphenol F or bisphenol S is preferred from the viewpoint of heat resistance and cost.
前記(a)がビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂であり、前記(b)がビスフェノールA、ビスフェノールFもしくはビスフェノールSである場合、前記(a)と(b)の重合により得られるポリマーは、パラフェニレン構造とエーテル結合を主骨格とし、それらをアルキレン基で連結した主鎖と、重付加により生成した水酸基が側鎖に配置された構造を有する。
パラフェニレン骨格からなる直鎖状の構造により、重合後のポリマーの機械的強度を高めることができるとともに、側鎖に配置された水酸基により、基材への密着性を向上させることができる。この結果、熱硬化性樹脂の作業性を維持しながら、高い接着強度を実現することができる。さらに、熱可塑性樹脂である場合は、熱で軟化・溶融させることによってリサイクルおよびリペアが可能となり、熱硬化性樹脂における問題点であるリサイクル性およびリペア性を改善することができる。
When the (a) is a bisphenol A type epoxy resin, a bisphenol F type epoxy resin, a bisphenol S type epoxy resin, or a biphenyl type epoxy resin, and the (b) is bisphenol A, bisphenol F, or bisphenol S, the polymer obtained by polymerization of the (a) and (b) has a main chain having a paraphenylene structure and an ether bond as a main skeleton, the main chain being linked by an alkylene group, and a structure in which a hydroxyl group generated by polyaddition is arranged in a side chain.
The linear structure of the paraphenylene skeleton can increase the mechanical strength of the polymer after polymerization, and the hydroxyl groups arranged in the side chains can improve adhesion to the substrate. As a result, high adhesive strength can be achieved while maintaining the workability of thermosetting resins. Furthermore, in the case of thermoplastic resins, recycling and repair are possible by softening and melting with heat, and the recyclability and repairability, which are problems with thermosetting resins, can be improved.
《フェノキシ樹脂》
フェノキシ樹脂は、ビスフェノール類と、エピクロルヒドリンより合成されるポリヒドロキシポリエーテルであり、熱可塑性を有する。フェノキシ樹脂の製造には、二価フェノール類とエピクロルヒドリンの直接反応による方法、二価フェノール類のジグリシジルエーテルと二価フェノール類の付加重合反応による方法が知られているが、本発明に用いられるフェノキシ樹脂はいずれの製法により得られるものであっても良い。二価フェノール類とエピクロルヒドリンの直接反応の場合は、二価フェノール類としては、例えば、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、ビフェノール、ビフェニレンジオール、フルオレンジフェニル等のフェノール類;エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール等の脂肪族グリコールが挙げられる。中でも、コストや接着性、粘度、耐熱性の観点から、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールSが好ましい。これらは、1種単独で用いても、2種以上を併用してもよい。
フェノキシ樹脂は、エポキシ樹脂に類似の化学構造をもち、パラフェニレン構造とエーテル結合を主骨格とし、それらを連結した主鎖と、水酸基が側鎖に配置された構造を有する。
Phenoxy resin
Phenoxy resin is a polyhydroxy polyether synthesized from bisphenols and epichlorohydrin, and has thermoplasticity. For the production of phenoxy resin, a method by direct reaction of dihydric phenols with epichlorohydrin and a method by addition polymerization reaction of diglycidyl ether of dihydric phenols with dihydric phenols are known, but the phenoxy resin used in the present invention may be obtained by either method. In the case of direct reaction of dihydric phenols with epichlorohydrin, examples of dihydric phenols include phenols such as bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, biphenol, biphenylenediol, and fluorenediphenyl; and aliphatic glycols such as ethylene glycol, propylene glycol, and diethylene glycol. Among them, bisphenol A, bisphenol F, and bisphenol S are preferred from the viewpoints of cost, adhesiveness, viscosity, and heat resistance. These may be used alone or in combination of two or more.
Phenoxy resin has a chemical structure similar to that of epoxy resin, with a paraphenylene structure and an ether bond as the main skeleton, a main chain connecting these, and a structure in which hydroxyl groups are arranged in the side chains.
《熱可塑性エポキシ樹脂及びフェノキシ樹脂の物性》
前記熱可塑性エポキシ樹脂およびフェノキシ樹脂は、GPC(ゲル・パーミエ―ション・クロマトグラフィー)測定によるポリスチレン換算の値である重量平均分子量が10,000~500,000であることが好ましく、18,000~300,000であることがより好ましく、20,000~200,000であることが更に好ましい。重量平均分子量はGPCによって検出される溶出ピーク位置から算出され、それぞれ標準ポリスチレン換算での分子量の値である。重量平均分子量がこの値の範囲であると熱可塑性と耐熱性のバランスが良く、効率よく溶融によって接合体が得られ、その耐熱性も高くなる。重量平均分子量が10,000以上であると耐熱性に優れ、500,000以下であると溶融時の粘度が低く、接着性が高くなる。
<Physical properties of thermoplastic epoxy resin and phenoxy resin>
The thermoplastic epoxy resin and the phenoxy resin preferably have a weight average molecular weight of 10,000 to 500,000, more preferably 18,000 to 300,000, and even more preferably 20,000 to 200,000, which is a value calculated in terms of polystyrene by GPC (gel permeation chromatography). The weight average molecular weight is calculated from the elution peak position detected by GPC, and each is a value of the molecular weight in terms of standard polystyrene. When the weight average molecular weight is within this range, the balance between thermoplasticity and heat resistance is good, and a bonded body can be efficiently obtained by melting, and the heat resistance is also high. When the weight average molecular weight is 10,000 or more, the heat resistance is excellent, and when it is 500,000 or less, the viscosity during melting is low and the adhesiveness is high.
《固形接合剤中における樹脂成分以外の成分》
必要に応じて、本発明の目的を阻害しない範囲で、固形接合剤は、樹脂成分以外の成分として、フィラーや添加剤を含有してもよい。
<Components other than resin components in solid adhesive>
If necessary, the solid bonding agent may contain fillers and additives as components other than the resin component, provided that the object of the present invention is not impaired.
フィラーとしては、無機フィラー及び有機フィラー(樹脂粉体)が挙げられる。
無機フィラーとしては、例えば、球状溶融シリカ、鉄などの金属の金属粉、珪砂、タルク、炭酸カルシウム、マイカ、酸性白土、珪藻土、カオリン、石英、酸化チタン、シリカ、フェノール樹脂マイクロバルーン、ガラスバルーン等が挙げられる。
フィラーを含有する場合、固形接合剤の全量100体積%中におけるフィラーの含有量は、50体積%以下であることが好ましく、30体積%以下であることがより好ましく、20体積%以下であることが更に好ましく、10体積%以下であることが最も好ましい。
フィラーの含有量(体積%)は、25℃における仕込み量から求められ、具体的には、フィラーの質量%に対し、フィラー以外の成分の比重と、フィラーの真比重を基に、下記(式1)によりに算出される。
(式1)
X=(MF/DF)÷(MF/DF+(100-MF)/DR)×100%
(式1)において、
X:フィラーの含有量(体積%)
MF:フィラーの仕込み量(質量%)
DR:樹脂成分を硬化した際の比重
DF:フィラーの真比重
である。
The filler includes an inorganic filler and an organic filler (resin powder).
Examples of inorganic fillers include spherical fused silica, metal powders such as iron, silica sand, talc, calcium carbonate, mica, acid clay, diatomaceous earth, kaolin, quartz, titanium oxide, silica, phenolic resin microballoons, and glass balloons.
When a filler is contained, the content of the filler in the total amount (100 volume %) of the solid bonding agent is preferably 50 volume % or less, more preferably 30 volume % or less, even more preferably 20 volume % or less, and most preferably 10 volume % or less.
The filler content (volume %) is determined from the amount charged at 25°C. Specifically, it is calculated by the following formula 1 based on the mass % of the filler, the specific gravity of the components other than the filler, and the true specific gravity of the filler.
(Equation 1)
X=(MF/DF)÷(MF/DF+(100-MF)/DR)×100%
In formula 1,
X: Filler content (volume%)
MF: Filler content (% by mass)
DR: Specific gravity of the resin component when hardened
DF: True specific gravity of the filler.
添加剤としては、例えば、消泡剤、シランカップリング剤等のカップリング剤、顔料等を挙げることができ、これらは1種又は2種以上含有していてもよい。
フィルム中における添加剤の含有量は、好ましくは10質量%以下、より好ましくは5質量%以下、更に好ましくは1質量%以下である。
フィルム中における樹脂成分の含有量は、好ましく10質量%以上、より好ましくは20質量%以上、更に好ましくは30質量%以上、より更に好ましくは50質量%以上、一態様では80質量%以上、別の態様では90質量%以上、別の態様では99質量%以上である。
Examples of the additives include antifoaming agents, coupling agents such as silane coupling agents, pigments, etc., and these may be contained alone or in combination of two or more.
The content of the additive in the film is preferably 10% by mass or less, more preferably 5% by mass or less, and further preferably 1% by mass or less.
The content of the resin component in the film is preferably 10% by mass or more, more preferably 20% by mass or more, even more preferably 30% by mass or more, and still more preferably 50% by mass or more, in one embodiment 80% by mass or more, in another embodiment 90% by mass or more, and in another embodiment 99% by mass or more.
《固形接合剤の製造方法》
固形接合剤の製造方法は特に限定されないが、例えば、2官能エポキシ化合物のモノマーもしくはオリゴマーを加熱して重合させることで得られる。重合の際に粘度を低減させて撹拌しやすくするために溶媒を加えても良い。溶媒を加える場合はその除去が必要であり、乾燥もしくは重合またはその両方を離型フィルムなどの上にて行うことで固形接合剤を得ても良い。
<<Method for manufacturing solid adhesive>>
The method for producing the solid adhesive is not particularly limited, but for example, it can be obtained by heating and polymerizing a monomer or oligomer of a bifunctional epoxy compound. A solvent may be added during polymerization to reduce the viscosity and facilitate stirring. If a solvent is added, it must be removed, and the solid adhesive may be obtained by drying or polymerization, or both, on a release film or the like.
上記添加剤としては、例えば、粘度調整剤、無機フィラー、有機フィラー(樹脂粉体)、消泡剤、シランカップリング剤等のカップリング剤、顔料等を挙げることができ、これらの1種又は2種以上を組み合わせて使用することができる。
粘度調整剤としては、例えば、反応性希釈剤等を使用することができる。
無機フィラーとしては、例えば、球状溶融シリカ、鉄などの金属の金属粉、珪砂、タルク、炭酸カルシウム、マイカ、酸性白土、珪藻土、カオリン、石英、酸化チタン、シリカ、フェノール樹脂マイクロバルーン、ガラスバルーン等が挙げられる。
このようにして得られた固形接合剤は、未反応のモノマーや末端エポキシ基含有量が少ないか実質的に含まれないため、貯蔵安定性に優れ、常温での長期保存も可能である。
Examples of the additives include viscosity adjusters, inorganic fillers, organic fillers (resin powders), antifoaming agents, coupling agents such as silane coupling agents, pigments, etc., and these can be used alone or in combination of two or more.
As the viscosity modifier, for example, a reactive diluent or the like can be used.
Examples of inorganic fillers include spherical fused silica, metal powders such as iron, silica sand, talc, calcium carbonate, mica, acid clay, diatomaceous earth, kaolin, quartz, titanium oxide, silica, phenolic resin microballoons, and glass balloons.
The solid bonding agent thus obtained has a small or substantially no content of unreacted monomers or terminal epoxy groups, and therefore has excellent storage stability and can be stored for long periods at room temperature.
固形接合剤の形態は特に限定されないが、フィルム、棒、ペレット及び粉体からなる群から選択される何れかの形状を有することが好ましい。特に、少なくとも外形の少なくとも1辺が5mm以下であることが好ましく、3mm以下であることがより好ましく、1mm以下であることが更に好ましく、0.5mm以下であることがより更に好ましく、0.3mm以下であることが最も好ましい。そのような範囲のサイズであると基材Aと基材Bの間に挟み、加熱加圧によって効率よく接着面に広がることができ、高い接着力が得られる。 The form of the solid adhesive is not particularly limited, but it is preferable that the adhesive has any shape selected from the group consisting of a film, a rod, a pellet, and a powder. In particular, it is preferable that at least one side of the outer shape is 5 mm or less, more preferably 3 mm or less, even more preferably 1 mm or less, even more preferably 0.5 mm or less, and most preferably 0.3 mm or less. If the size is within such a range, it can be sandwiched between substrate A and substrate B and efficiently spread over the bonding surface by heating and pressurization, resulting in high adhesive strength.
固形接合剤は、接着力やその耐熱性を阻害しない範囲で、タック性があっても良い。その場合、積層体準備工程においては基材に対して前記固形接合剤が仮固定される。 The solid adhesive may have tackiness to the extent that it does not impair the adhesive strength or heat resistance. In that case, the solid adhesive is temporarily fixed to the substrate in the laminate preparation process.
<接合工程>
接合工程では、前記積層体を加熱及び加圧して前記固形接合剤を溶融させ、その後、温度を下げることにより前記固形接合剤を固化させ、前記基材Aと前記基材Bを接合する。
<Joining process>
In the bonding step, the laminate is heated and pressurized to melt the solid bonding agent, and then the temperature is lowered to solidify the solid bonding agent, thereby bonding the base material A and the base material B together.
前記加熱及び加圧における温度は、100~400℃が好ましく、120~350℃がより好ましく、150℃~300℃が更に好ましい。100~400℃で加熱することにより、前記固形接合剤が効率よく変形、溶融し接着面に有効に濡れ広がるため高い接着力が得られる。
前記加熱及び加圧における加圧力は0.01~20MPaが好ましく、0.1~10MPaがより好ましく、0.2~5MPaが更に好ましい。このような圧力範囲であると、前記固形接合剤が効率よく変形し接着面に有効に濡れ広がるため高い接着力が得られる。基材AもしくはBの少なくともどちらか一方が熱可塑性樹脂の場合、0.01~20MPaで加圧することにより、固形接合剤と基材を相溶化させ、強い接着力を得ることができる。
The temperature for the heating and pressurization is preferably 100 to 400° C., more preferably 120 to 350° C., and even more preferably 150 to 300° C. By heating at 100 to 400° C., the solid adhesive is efficiently deformed and melted, and effectively wets and spreads over the bonding surface, resulting in high adhesive strength.
The pressure in the heating and pressing is preferably 0.01 to 20 MPa, more preferably 0.1 to 10 MPa, and even more preferably 0.2 to 5 MPa. Within this pressure range, the solid bonding agent is efficiently deformed and effectively wets and spreads over the bonding surface, resulting in high adhesive strength. When at least one of the substrates A and B is a thermoplastic resin, applying pressure at 0.01 to 20 MPa makes the solid bonding agent and the substrate compatible, resulting in high adhesive strength.
固形接合剤に含まれる非晶性熱可塑性樹脂は、樹脂内の凝集力が低く、かつ水酸基を有しているため、基材との相互作用が強く、従来の結晶性のホットメルト接着剤よりも高い接着力で異種材を接合することができる。 The amorphous thermoplastic resin contained in the solid adhesive has low cohesive strength within the resin and contains hydroxyl groups, which gives it strong interaction with the substrate and allows it to bond dissimilar materials with stronger adhesive strength than conventional crystalline hot melt adhesives.
本実施形態における前記基材Aと前記基材Bの接合は、固形接合剤の相変化(固体~液体~固体)を利用したものであり、化学反応を伴わないため、従来の熱硬化型のエポキシ樹脂よりも短時間で接合を完了することができる。 In this embodiment, the bonding of the substrate A and the substrate B utilizes the phase change (solid to liquid to solid) of the solid bonding agent, and does not involve a chemical reaction, so bonding can be completed in a shorter time than with conventional thermosetting epoxy resins.
[接合体の製造方法_実施形態2]
本実施形態に係る接合体の製造方法は、磁性体基材である基材Aと、熱可塑性エポキシ樹脂及びフェノキシ樹脂から選択される少なくとも一種である非晶性熱可塑性樹脂を含む固形接合剤と、非磁性体基材である基材Bを、この順で接合してなる接合体の製造方法であって、前記固形接合剤を前記基材Aに接面させた状態で、前記固形接合剤を溶融後固化させることにより前記基材Aと前記固形接合剤を接合する、又は、前記固形接合剤を前記基材Bに接面させた状態で、前記固形接合剤を溶融後固化させることにより前記基材Bと前記固形接合剤を接合する、第1の接合工程と、前記基材Aに接合した前固形接合剤を基材Bに接面させた状態で、前記固形接合剤を溶融後固化させることにより、前記基材Aと前記基材Bを接合する、又は、前記基材Bに接合した前固形接合剤を基材Aに接面させた状態で、前記固形接合剤を溶融後固化させることにより、前記基材Aと前記基材Bを接合する、第2の接合工程を有し、前記非晶性熱可塑性樹脂が、エポキシ当量1,600g/eq.以上もしくはエポキシ基を含まず、かつ、融解熱が15J/g以下である。
[Method of manufacturing joined body - embodiment 2]
The manufacturing method of the joined body according to the present embodiment is a manufacturing method of a joined body obtained by joining a base material A which is a magnetic base material, a solid adhesive containing at least one amorphous thermoplastic resin selected from a thermoplastic epoxy resin and a phenoxy resin, and a base material B which is a non-magnetic base material in this order, and in a state where the solid adhesive is brought into contact with the base material A, the solid adhesive is melted and then solidified to join the base material A and the solid adhesive, or in a state where the solid adhesive is brought into contact with the base material B, the solid adhesive is melted and then solidified to join the base material A and the solid adhesive. The method includes a first joining step of joining the base material B and the solid adhesive by melting and solidifying the solid adhesive in a state where the pre-solid adhesive bonded to the base material A is brought into contact with the base material B, and a second joining step of joining the base material A and the base material B by melting and solidifying the solid adhesive in a state where the pre-solid adhesive bonded to the base material B is brought into contact with the base material A, or by melting and solidifying the solid adhesive in a state where the pre-solid adhesive bonded to the base material B is brought into contact with the base material A, and the amorphous thermoplastic resin has an epoxy equivalent of 1,600 g/eq. or more or does not contain an epoxy group, and has a heat of fusion of 15 J/g or less.
本実施形態における前記基材Aと前記基材Bの接合も、実施形態1と同様に、固形接合剤の相変化(固体~液体~固体)を利用したものであり、化学反応を伴わないため、従来の熱硬化型のエポキシ樹脂よりも短時間で接合を完了することができ、また、オープンタイムも長い。また、熱可塑性エポキシ樹脂及びフェノキシ樹脂は、樹脂内の凝集力が低く、かつ水酸基を有しているため、基材との相互作用が強く、従来の結晶性のホットメルト接着剤よりも高い接合力で異種材を接合することができる。
また、当該製造方法は、第1の接合工程と第2の接合工程に工程を分けて接合する。このように分けることで、接合界面に適した温度で加熱して接合することができ、接合性に優れる接合体を製造することができる。また、加熱温度制御も工程を分けない場合に比べて容易となる。さらに、予め基材Aもしくは基材Bにフィルムを接合することで、基材Aと基材Bを精度よく接合することができ、接合箇所にズレが生じることを抑制することができる。
In this embodiment, the bonding of the substrate A and the substrate B is also achieved by utilizing the phase change (solid-liquid-solid) of the solid bonding agent, as in the first embodiment, and does not involve a chemical reaction, so that bonding can be completed in a shorter time than with conventional thermosetting epoxy resins, and the open time is also longer. In addition, thermoplastic epoxy resins and phenoxy resins have low cohesive strength within the resin and contain hydroxyl groups, so that they have strong interactions with the substrate and can bond different materials with a stronger bonding strength than conventional crystalline hot melt adhesives.
In addition, the manufacturing method is divided into a first bonding step and a second bonding step. By dividing the steps in this way, the bonding can be performed by heating at a temperature suitable for the bonding interface, and a bonded body with excellent bonding properties can be manufactured. In addition, the heating temperature control is also easier than when the steps are not divided. Furthermore, by bonding a film to the base material A or the base material B in advance, the base material A and the base material B can be bonded with high accuracy, and the occurrence of misalignment at the bonding point can be suppressed.
<第1の接合工程>
第1の接合工程は、前記固形接合剤を前記基材Aに接面させた状態で、前記固形接合剤を溶融後固化させることにより前記基材Aと前記固形接合剤を接合する工程、又は、前記固形接合剤を前記基材Bに接面させた状態で、前記固形接合剤を溶融後固化させることにより前記基材Bと前記固形接合剤を接合する工程である。
第1の接合工程で、基材Aもしくは基材Bと前記固形接合剤を予め接合することで、基材Aと基材Bを精度よく接合することができる。
なお、本明細書において、「固化」とは、常温で固体、即ち23℃の加圧のない状態下において流動性が無いことを意味する。ただし、第1の接合工程後のフィルムには、タック性があってもよい。
<First bonding step>
The first joining process is a process of joining the base material A and the solid adhesive by melting and solidifying the solid adhesive while the solid adhesive is in contact with the base material A, or a process of joining the base material B and the solid adhesive by melting and solidifying the solid adhesive while the solid adhesive is in contact with the base material B.
In the first bonding step, the base material A or the base material B is bonded to the solid bonding agent in advance, whereby the base material A and the base material B can be bonded with high precision.
In this specification, "solidified" means a solid at room temperature, that is, a non-fluid film in the absence of pressure at 23° C. However, the film after the first bonding step may have tackiness.
前記固形接合剤を溶融させる方法としては、接触加熱、温風加熱、熱プレス、熱板溶着、赤外線加熱、超音波溶着、振動溶着及び高周波誘導溶着からなる群より選ばれる少なくとも1種の方法が挙げられる。中でも、製造容易性及び接合プロセス短縮の観点から、赤外線加熱が好ましい。 The method for melting the solid adhesive may be at least one method selected from the group consisting of contact heating, hot air heating, heat pressing, hot plate welding, infrared heating, ultrasonic welding, vibration welding, and high-frequency induction welding. Among these, infrared heating is preferred from the viewpoints of ease of manufacturing and shortening the joining process.
固形接合剤を加熱により溶融させる場合、基材Aもしくは基材Bの固形接合剤との接合面の温度を、100~300℃に加熱して溶融させることが好ましく、より好ましくは120~250℃、更に好ましくは150℃~220℃である。100~300℃で加熱することにより、前記フィルムが効率よく変形、溶融し接合面に有効に濡れ広がるため高い接合力が得られる。
溶融した固形接合剤を固化させる方法としては、常温で放冷する方法又は冷却装置を用いて放冷する方法が挙げられる。なお、「常温」とは、5~30℃の範囲内の一般的な室温を意味する。中でも、製造容易性の観点から、常温で放冷する方法が好ましい。
When the solid adhesive is melted by heating, the temperature of the bonding surface of the substrate A or substrate B with the solid adhesive is preferably heated to 100 to 300° C., more preferably 120 to 250° C., and further preferably 150 to 220° C. By heating at 100 to 300° C., the film is efficiently deformed and melted, and effectively wets and spreads over the bonding surface, resulting in a high bonding strength.
Methods for solidifying the molten solid adhesive include a method of cooling at room temperature and a method of cooling using a cooling device. Note that "room temperature" means a general room temperature within the range of 5 to 30° C. Among these, the method of cooling at room temperature is preferred from the viewpoint of ease of production.
(固形接合剤)
固形接合剤は、上記実施形態1と同様であるが、本実施形態における固形接合剤はフィルムであることが好ましい。本開示において、フィルムとは、厚さが10μm~3mmのシート状物を意味する。
(Solid adhesive)
The solid adhesive is the same as that in the above-mentioned embodiment 1, but the solid adhesive in this embodiment is preferably a film. In the present disclosure, the film means a sheet-like material having a thickness of 10 μm to 3 mm.
《フィルムの形態》
フィルムの厚さは、短い接合プロセス時間で接合性に優れた接合体を得る観点から、1mm以下であることが好ましく、0.5mm以下であることがより好ましく、0.3mm以下であることが更に好ましく、0.2mm以下であることがより更に好ましく、0.1mm以下であることが最も好ましい。
そのような範囲のサイズであると基材Aと基材Bの間に挟み、加熱や加圧等によって効率よく接合面に広がることができ、高い接合力が得られる。
Film Form
From the viewpoint of obtaining a bonded body having excellent bondability in a short bonding process time, the thickness of the film is preferably 1 mm or less, more preferably 0.5 mm or less, even more preferably 0.3 mm or less, even more preferably 0.2 mm or less, and most preferably 0.1 mm or less.
When the size falls within this range, the adhesive can be sandwiched between base material A and base material B and efficiently spread across the bonding surface by application of heat, pressure, etc., resulting in a high bonding strength.
当該フィルムは単層であってもよく複数層からなる積層体であってもよいが、製造容易性の観点及び接合力の向上の観点から単層であることが好ましい。
また、フィルムは、接合力やその耐熱性を阻害しない範囲で、タック性があってもよい。
The film may be a single layer or a laminate made of multiple layers, but is preferably a single layer from the viewpoints of ease of production and improved bonding strength.
The film may also have tackiness to the extent that it does not impair its adhesive strength or heat resistance.
《フィルムの製造方法》
フィルムの製造方法は特に限定されないが、例えば、2官能エポキシ化合物のモノマーもしくはオリゴマーを加熱して重合させることで樹脂組成物を得、得られた樹脂組成物に必要に応じて溶媒を加え、離型フィルム等に塗布し、硬化・乾燥、必要に応じて加圧することによりフィルムを得てもよい。
<Film manufacturing method>
The method for producing the film is not particularly limited, but for example, a resin composition may be obtained by heating and polymerizing a monomer or oligomer of a bifunctional epoxy compound, adding a solvent to the obtained resin composition as necessary, applying the composition to a release film or the like, curing and drying, and applying pressure as necessary to obtain a film.
<第2の接合工程>
第2の接合工程は、前記基材Aに接合した前固形接合剤を基材Bに接面させた状態で、前記固形接合剤を溶融後固化させることにより、前記基材Aと前記基材Bを接合する工程、又は、前記基材Bに接合した前固形接合剤を基材Aに接面させた状態で、前記固形接合剤を溶融後固化させることにより、前記基材Aと前記基材Bを接合する工程である。
<Second bonding step>
The second bonding process is a process of bonding the substrates A and B by melting and solidifying the solid bonding agent while the pre-solid bonding agent bonded to the substrate A is brought into contact with the substrate B, or a process of bonding the substrates A and B by melting and solidifying the solid bonding agent while the pre-solid bonding agent bonded to the substrate B is brought into contact with the substrate A.
高い接合力を得る観点から、第2の接合工程では、フィルムの融点以上の温度で加熱してフィルムを溶融後固化させることが好ましい。 In order to obtain a high bonding strength, it is preferable that in the second bonding step, the film is heated to a temperature equal to or higher than its melting point to melt and then solidify the film.
前記フィルムを溶融させる方法としては、接触加熱、温風加熱、熱プレス、赤外線加熱、熱板溶着、超音波溶着、振動溶着及び高周波誘導溶着からなる群より選ばれる少なくとも1種の方法が挙げられる。中でも、熱プレス、超音波溶着、及び高周波誘導溶着が好ましい。 The method for melting the film may be at least one method selected from the group consisting of contact heating, hot air heating, heat pressing, infrared heating, hot plate welding, ultrasonic welding, vibration welding, and high-frequency induction welding. Among these, heat pressing, ultrasonic welding, and high-frequency induction welding are preferred.
熱プレスを行う場合の条件については特に限定はない。
例えば、温度は、100~400℃が好ましく、120~350℃がより好ましく、150℃~300℃が更に好ましい。100~400℃で加熱することにより、前記フィルムが効率よく変形、溶融し接合面に有効に濡れ広がるため高い接合力が得られる。
前記熱プレスにおける加圧力は0.01~20MPaが好ましく、0.1~10MPaがより好ましく、0.2~5MPaが更に好ましい。このような圧力範囲であると、前記フィルムが効率よく変形し接合面に有効に濡れ広がるため高い接合力が得られる。
高周波誘導溶着を行う場合の条件に付いては特に限定は無い。
例えば、発信周波数は、好ましくは0.1~3MHz、より好ましくは0.5~2MHzである。
高周波印可時間は、接着性と外観性の観点から、好ましくは0.1~120秒、より好ましくは1~60秒である。
高周波印可時に基材Aと基材Bとを加圧する場合、加圧力は0.01~20MPaが好ましく、0.1~10MPaがより好ましく、0.2~5MPaが更に好ましい。このような圧力範囲であると、前記固形接合剤が効率よく変形し接着面に有効に濡れ広がるため高い接着力が得られる。
The conditions for carrying out the heat press are not particularly limited.
For example, the temperature is preferably 100 to 400° C., more preferably 120 to 350° C., and even more preferably 150 to 300° C. By heating at 100 to 400° C., the film efficiently deforms and melts, and effectively wets and spreads over the bonding surface, resulting in high bonding strength.
The pressure in the heat press is preferably 0.01 to 20 MPa, more preferably 0.1 to 10 MPa, and even more preferably 0.2 to 5 MPa. Within this pressure range, the film is efficiently deformed and effectively wets and spreads over the joining surface, resulting in a high joining strength.
There are no particular limitations on the conditions for performing high-frequency induction welding.
For example, the transmission frequency is preferably 0.1 to 3 MHz, and more preferably 0.5 to 2 MHz.
From the viewpoints of adhesion and appearance, the application time of the high frequency is preferably 0.1 to 120 seconds, and more preferably 1 to 60 seconds.
When the substrate A and the substrate B are pressed together during application of the high frequency, the pressure is preferably 0.01 to 20 MPa, more preferably 0.1 to 10 MPa, and even more preferably 0.2 to 5 MPa. Within this pressure range, the solid adhesive is efficiently deformed and effectively wets and spreads over the bonding surface, resulting in high adhesive strength.
高周波誘導溶着を行う場合の条件に付いては特に限定は無い。
例えば、出力は、100~10000Wの範囲が挙げられる。
There are no particular limitations on the conditions for performing high-frequency induction welding.
For example, the output may be in the range of 100 to 10,000 W.
超音波溶着を行う場合の条件に付いては特に限定は無い。
例えば、発信周波数は、好ましくは10~70kHz、より好ましくは15~40kHzである。
超音波印可時間は、接着性と外観性の観点から、好ましくは0.1~3秒、より好ましくは0.2~2秒である。
超音波印可時に基材Aと基材Bとを加圧する場合、加圧力は0.01~20MPaが好ましく、0.1~10MPaがより好ましく、0.2~5MPaが更に好ましい。このような圧力範囲であると、前記固形接合剤が効率よく変形し接着面に有効に濡れ広がるため高い接着力が得られる。
There are no particular limitations on the conditions for ultrasonic welding.
For example, the transmission frequency is preferably 10 to 70 kHz, and more preferably 15 to 40 kHz.
From the viewpoints of adhesion and appearance, the ultrasonic application time is preferably 0.1 to 3 seconds, and more preferably 0.2 to 2 seconds.
When applying pressure to the substrate A and the substrate B during the application of ultrasonic waves, the pressure is preferably 0.01 to 20 MPa, more preferably 0.1 to 10 MPa, and even more preferably 0.2 to 5 MPa. Within this pressure range, the solid adhesive is efficiently deformed and effectively wets and spreads over the bonding surface, resulting in high adhesive strength.
超音波溶着を行う場合の条件に付いては特に限定は無い。
例えば、発振周波数は、1~1500kHzの範囲が挙げられる。基材A及び基材Bの大きさや種類に応じて、適切な発振周波数に調整すればよい。
出力は、100~5000Wの範囲が挙げられる。
発振時間は、基材A及び基材Bの大きさや種類に応じて調整すればよく、例えば、好ましくは1.0~10.0秒であり、より好ましくは1.5~8.0秒である。
There are no particular limitations on the conditions for ultrasonic welding.
For example, the oscillation frequency may be in the range of 1 to 1500 kHz. The oscillation frequency may be adjusted to an appropriate value depending on the size and type of the substrate A and the substrate B.
The output power may range from 100 to 5000W.
The oscillation time may be adjusted depending on the size and type of the substrate A and substrate B, and is, for example, preferably 1.0 to 10.0 seconds, and more preferably 1.5 to 8.0 seconds.
本実施形態における基材Aと基材Bの接合は、上述のとおり、固形接合剤の相変化(固体~液体~固体)を利用したものであり、化学反応を伴わないため、従来の熱硬化型のエポキシ樹脂よりも短時間で接合を完了することができる。 As described above, the bonding of substrate A and substrate B in this embodiment utilizes the phase change (solid - liquid - solid) of the solid bonding agent, and does not involve a chemical reaction, so bonding can be completed in a shorter time than with conventional thermosetting epoxy resins.
[接合体]
図1に、本発明の接合体の一実施形態を示す。図1に示す接合体1は、熱可塑性エポキシ樹脂及びフェノキシ樹脂から選択される少なくとも一種である非晶性熱可塑性樹脂からなるフィルムが溶融後固化した接合層2を介して、磁性体基材である基材A(3)と非磁性体基材である基材B(4)が、接合一体化されたものである。本発明の接合体は、異種材の接合体でも、優れた接合強度を示す。接合強度は、接合層と基材A及び接合層と基材Bとの間に働く界面相互作用の強さの他に、接合層の厚さ、フィルムを構成するポリマーの分子量や化学構造、力学的特性、粘弾性的特性など数多くの因子に影響を受けるため、本発明の接合体が優れた接合強度を示す機構の詳細は明らかではないが、接合層2を構成する非晶性熱可塑性樹脂内の凝集力が低いことと、樹脂内に水酸基が存在し、接合層と基材A、及び、接合層と基材Bの界面で水素結合やファンデルワールス力などの化学結合や分子間力を形成することが主な要因であると推測される。しかしながら、前記接合体において、前記接合体の前記界面の状態又は特性はナノメーターレベル以下のごく薄い化学構造であり、分析が困難であり、それを特定することにより、フィルムの使用によらないものと区別すべく表現することは、現時点の技術において、不可能又は非実際的である。
[Conjugate]
FIG. 1 shows one embodiment of the bonded body of the present invention. The bonded body 1 shown in FIG. 1 is a bonded body in which a substrate A (3) which is a magnetic substrate and a substrate B (4) which is a non-magnetic substrate are bonded and integrated through a bonding layer 2 which is formed by melting and solidifying a film made of at least one amorphous thermoplastic resin selected from a thermoplastic epoxy resin and a phenoxy resin. The bonded body of the present invention exhibits excellent bonding strength even when it is a bonded body of different materials. The bonding strength is affected by many factors such as the thickness of the bonding layer, the molecular weight and chemical structure of the polymer constituting the film, the mechanical properties, and the viscoelastic properties in addition to the strength of the interfacial interaction between the bonding layer and the substrate A and between the bonding layer and the substrate B. Therefore, the details of the mechanism by which the bonded body of the present invention exhibits excellent bonding strength are not clear, but it is speculated that the main factors are the low cohesive force in the amorphous thermoplastic resin constituting the bonding layer 2 and the presence of hydroxyl groups in the resin, which form chemical bonds and intermolecular forces such as hydrogen bonds and van der Waals forces at the interfaces between the bonding layer and the substrate A and between the bonding layer and the substrate B. However, in the above-mentioned bonded structure, the state or characteristics of the interface of the bonded structure is an extremely thin chemical structure at the nanometer level or less, making it difficult to analyze, and it is impossible or impractical with current technology to identify and express it in a way that distinguishes it from those that are not based on the use of a film.
接合層が熱可塑性樹脂からなる本発明の接合体は、リサイクル性及びリペア性に優れ、接合体を加熱することで、容易に基材Aと基材Bに解体することができる。 The bonded body of the present invention, in which the bonding layer is made of a thermoplastic resin, has excellent recyclability and repairability, and can be easily disassembled into substrate A and substrate B by heating the bonded body.
基材Aの磁性体としては、鉄等の磁性体金属の他、下記非磁性体よりも透磁率が大きい磁性セラミック、等が挙げられる。
基材Bの非磁性体としては、アルミニウム、セラミックスなどの他、非磁性フェライトセラミックスやアルミナおよびガラスを主成分とする絶縁性ガラスセラミックス等が挙げられる。本開示において、セラミックスは、陶器や磁器に限定されず、無機物を加熱処理し焼き固めた焼結体を意味する。
The magnetic material of the substrate A may be a magnetic metal such as iron, or a magnetic ceramic having a higher magnetic permeability than the non-magnetic material described below.
Examples of the non-magnetic material of the substrate B include aluminum, ceramics, non-magnetic ferrite ceramics, and insulating glass ceramics mainly composed of alumina and glass. In the present disclosure, ceramics is not limited to earthenware or porcelain, but refers to a sintered body obtained by heating and baking an inorganic material.
基材Aと基材Bの形状は特に限定されない。 The shapes of substrate A and substrate B are not particularly limited.
基材Aと基材Bに各基材に適した前処理をすることで高い接着力が得られることがある。
前処理としては、基材の表面を洗浄する前処理または表面に凹凸を付ける前処理が挙げられる。具体的には、脱脂処理、UVオゾン処理、ブラスト処理、研磨処理、プラズマ処理、コロナ放電処理、レーザー処理、エッチング処理、フレーム処理等が挙げられる。前処理は、1種のみであってもよく、2種以上を施してもよい。これらの前処理の具体的な方法としては、公知の方法を用いることができる。
High adhesive strength can be obtained by subjecting substrate A and substrate B to pretreatment appropriate for each substrate.
Examples of the pretreatment include a pretreatment for cleaning the surface of the substrate or a pretreatment for making the surface uneven.Specific examples of the pretreatment include a degreasing treatment, a UV ozone treatment, a blasting treatment, a polishing treatment, a plasma treatment, a corona discharge treatment, a laser treatment, an etching treatment, and a frame treatment.The pretreatment may be one type or two or more types.Specific methods of these pretreatments may be known methods.
前記脱脂処理とは、基材表面の油脂などの汚れをアセトン、トルエン等の有機溶剤等で溶かして除去する方法である。 The degreasing process is a method of removing dirt such as oil and grease from the surface of the substrate by dissolving it with an organic solvent such as acetone or toluene.
前記UVオゾン処理とは、低圧水銀ランプから発光する短波長の紫外線の持つエネルギーとそれにより発生するオゾン(O3)の力で、表面を洗浄したり改質する方法である。ガラスの場合、表面の有機系不純物の除去を行う表面洗浄法の一つとなる。一般に、低圧水銀ランプを用いた洗浄表面改質装置は、「UVオゾンクリーナー」、「UV洗浄装置」、「紫外線表面改質装置」などと呼ばれている。 The UV ozone treatment is a method of cleaning or modifying a surface by using the energy of short-wavelength ultraviolet light emitted from a low-pressure mercury lamp and the power of the ozone ( O3 ) generated by it. In the case of glass, it is one of the surface cleaning methods that removes organic impurities from the surface. In general, cleaning and surface modification equipment using a low-pressure mercury lamp is called "UV ozone cleaner", "UV cleaning equipment", "ultraviolet surface modification equipment", etc.
前記ブラスト処理としては、例えば、ウェットブラスト処理、ショットブラスト処理、サンドブラスト処理等が挙げられる。中でも、ウェットブラスト処理は、ドライブラスト処理と比べより緻密な面が得られるため、好ましい。 Examples of the blasting treatment include wet blasting, shot blasting, sand blasting, etc. Among them, wet blasting is preferred because it produces a denser surface than dry blasting.
前記研磨処理としては、例えば、研磨布を用いたバフ研磨や、研磨紙(サンドペーパー)を用いたロール研磨、電解研磨等が挙げられる。 Examples of the polishing process include buff polishing using an abrasive cloth, roll polishing using abrasive paper (sandpaper), and electrolytic polishing.
前記プラズマ処理とは、高圧電源とロッドでプラズマビームを作り素材表面にぶつけて分子を励起させて官能状態とするもので、素材表面に水酸基や極性基を付与できる大気圧プラズマ処理方法等が挙げられる。 The plasma treatment involves creating a plasma beam using a high-voltage power supply and a rod, which is then struck against the surface of the material to excite the molecules and put them into a functional state. Examples of such methods include atmospheric pressure plasma treatment, which can impart hydroxyl groups or polar groups to the surface of the material.
前記コロナ放電処理とは、高分子フィルムの表面改質に施される方法が挙げられ、電極から放出された電子が高分子表面層の高分子主鎖や側鎖を切断し発生したラジカルを起点に表面に水酸基や極性基を発生させる方法である。 The corona discharge treatment is a method used to modify the surface of a polymer film, in which electrons emitted from an electrode cleave the polymer main chain or side chain of the polymer surface layer, generating radicals that generate hydroxyl groups or polar groups on the surface.
前記レーザー処理とは、レーザー照射によって基材の表面のみを急速に加熱、冷却して、表面の特性を改善する技術で表面の粗面化に有効な方法である。公知のレーザー処理技術を使用することができる。 The laser treatment is a technique for improving the surface characteristics by rapidly heating and cooling only the surface of the substrate using laser irradiation, and is an effective method for roughening the surface. Any known laser treatment technique can be used.
前記エッチング処理としては、例えば、アルカリ法、リン酸-硫酸法、フッ化物法、クロム酸-硫酸法、塩鉄法等の化学的エッチング処理、また、電解エッチング法等の電気化学的エッチング処理等が挙げられる。 Examples of the etching process include chemical etching processes such as the alkali process, phosphoric acid-sulfuric acid process, fluoride process, chromic acid-sulfuric acid process, and iron salt process, as well as electrochemical etching processes such as the electrolytic etching process.
前記フレーム処理とは、燃焼ガスと空気の混合ガスを燃やすことで空気中の酸素をプラズマ化させ、酸素プラズマを処理対象物に付与することで表面の親水化を図る方法である。公知のフレーム処理技術を使用することができる。 The flame treatment is a method of converting oxygen in the air into plasma by burning a mixture of combustion gas and air, and applying the oxygen plasma to the object to be treated to make the surface hydrophilic. Publicly known flame treatment techniques can be used.
次に、本発明の具体的実施例について説明するが、本発明はこれら実施例のものに特に限定されるものではない。以下の実施例において、基材Aと基材Bをまとめて接合基材という。 Next, specific examples of the present invention will be described, but the present invention is not particularly limited to these examples. In the following examples, substrate A and substrate B are collectively referred to as the bonding substrate.
<接合基材>
以下の接合基材を使用した。
<Bonding material>
The following bonding materials were used:
基材A(磁性体):
《鉄》
SPCC-SDの表面をブラスト処理し、幅10mm、長さ45mm、厚さ2.3mmの試験片を得た。
Substrate A (magnetic material):
"iron"
The surface of the SPCC-SD was blasted to obtain a test piece having a width of 10 mm, a length of 45 mm and a thickness of 2.3 mm.
基材B(非磁性体):
《アルミニウム》
A6061-T6の表面をブラスト処理し、幅18mm、長さ45mm、厚さ1.5mmの試験片を得た。
《アルミナ》
アルミナ板(純度96%、焼放し)を切断し、幅18mm、長さ45mm、厚さ1.5mmの試験片を得た。表面処理はせずに使用した。
Base material B (non-magnetic material):
"aluminum"
The surface of A6061-T6 was blasted to obtain a test piece having a width of 18 mm, a length of 45 mm and a thickness of 1.5 mm.
"alumina"
An alumina plate (96% purity, as-fired) was cut to obtain a test piece having a width of 18 mm, a length of 45 mm, and a thickness of 1.5 mm. The test piece was used without surface treatment.
<重量平均分子量、融解熱及びエポキシ当量>
固形接合剤の重量平均分子量、融解熱及びエポキシ当量を、それぞれ以下のように求めた。
<Weight average molecular weight, heat of fusion and epoxy equivalent>
The weight average molecular weight, heat of fusion and epoxy equivalent of the solid bonding agent were determined as follows.
(重量平均分子量)
熱可塑性エポキシ樹脂およびフェノキシ樹脂をテトラヒドロフランに溶解し、Prominence 501(昭和サイエンス株式会社製、Detector:Shodex(登録商標) RI-501(昭和電工株式会社製))を用い、以下の条件で測定した。
カラム:昭和電工株式会社製 LF-804×2本
カラム温度:40℃
試料:樹脂の0.4質量%テトラヒドロフラン溶液
流量:1ml/分
溶離液:テトラヒドロフラン
較正法:標準ポリスチレンによる換算
(Weight average molecular weight)
The thermoplastic epoxy resin and the phenoxy resin were dissolved in tetrahydrofuran, and the properties were measured under the following conditions using Prominence 501 (manufactured by Showa Science Co., Ltd., Detector: Shodex (registered trademark) RI-501 (manufactured by Showa Denko K.K.)).
Column: Showa Denko LF-804 x 2 Column temperature: 40°C
Sample: 0.4% by mass solution of resin in tetrahydrofuran Flow rate: 1 ml/min Eluent: tetrahydrofuran Calibration method: Conversion using standard polystyrene
(融解熱)
熱可塑性エポキシ樹脂およびフェノキシ樹脂を2~10mg秤量し、アルミ製パンに入れ、DSC(株式会社リガク製DSC8231)で23℃から10℃/minで200℃まで昇温し、DSCカーブを得た。そのDSCカーブの融解時の吸熱ピークの面積と前記秤量値から融解熱を算出した。
(Heat of Fusion)
2 to 10 mg of the thermoplastic epoxy resin and the phenoxy resin were weighed out, placed in an aluminum pan, and heated from 23° C. to 200° C. at 10° C./min using a DSC (DSC8231 manufactured by Rigaku Corporation) to obtain a DSC curve. The heat of fusion was calculated from the area of the endothermic peak at the time of melting in the DSC curve and the weighed value.
(エポキシ当量)
JIS K-7236:2001で測定し、樹脂固形分としての値に換算した。また、反応を伴わない単純混合物の場合はそれぞれのエポキシ当量と含有量から算出した。
(epoxy equivalent)
The epoxy equivalent was calculated based on the epoxy content and the content of the epoxy resin in the case of a simple mixture not involving any reaction.
<実施例1-1>
(固形接合剤P-1)
撹拌機、環流冷却器、ガス導入管、及び温度計を付した反応装置に、jER(登録商標)1007(三菱ケミカル株式会社製、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、重量平均分子量約10,000)1.0等量(203g)、ビスフェノールS1.0等量(12.5g)、トリフェニルホスフィン2.4g、及びメチルエチルケトン1,000gを仕込み、窒素雰囲気下で撹拌しながら100℃まで昇温した。目視で溶解したことを確認し、40℃まで冷却して固形分約20質量%の樹脂組成物を得た。これから溶剤を除去して固体を得た。プレス機の上板及び下板に非粘着フッ素樹脂フィルム(ニトフロン(登録商標)No.900UL、日東電工株式会社製)を設置し、下板の非粘着フッ素樹脂フィルム上に上記固体を配置した後、上記プレス機を160℃に加熱し、上記樹脂組成物を2時間加熱圧縮して固形分100質量%の厚さ100μmのフィルム状の固形接合剤(P-1)を得た。重量平均分子量は約37,000であった。エポキシ当量は検出限界以上であった。DSCにおいて融解熱ピークは検出されなかった。
(接合体)
接合体は下記2種類を作製した。
また、オープンタイム評価用に、前記アルミニウム(基材B)の上に固形接合剤を配置した後に3日間静置し、その後に前記鉄(基材A)を載せた以外は下記《鉄・アルミニウム》と同様にして、オープンタイム評価用接合体も作製した。
《鉄・アルミニウム》
基材Bである前記アルミニウム基材の上に、10×15mmの大きさに裁断した前記固形接合剤P-1を配置し、その後速やかに、その上に基材Aとして前記鉄基材を前記三角形の突起が載るように配置した。これらの基材同士の重なりは幅10mm、奥行き5mmとした。前記固形接合剤P-1は前記基材同士の重なり領域をすべて覆うように配置した。つまり、前記基材Aと基材B同士は、直接触れず、その間に前記固形接合剤が介在した状態として、未接合の積層体を準備した。本明細書において「その後速やかに」とは、30分以内程度を目途に、を意味する。高周波誘導溶着機(精電舎電子工業株式会社製、発振器UH-2.5K、プレスJIIP30S)を用いて高周波誘導により鉄及びアルミニウムを発熱させ、加熱・加圧により試験片同士を接合した。加圧力は110N(圧力2.2MPa)、発振周波数は900kHzとした。発振時間は5秒とした。
《鉄・アルミナ》
基材Bとして前記アルミニウムの代わりにアルミナを用いた以外は前記《鉄・アルミニウム》と同様にして、接合体を得た。
<Example 1-1>
(Solid adhesive P-1)
In a reaction apparatus equipped with a stirrer, a reflux condenser, a gas inlet tube, and a thermometer, 1.0 equivalent (203 g) of jER (registered trademark) 1007 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, bisphenol A type epoxy resin, weight average molecular weight about 10,000), 1.0 equivalent (12.5 g) of bisphenol S, 2.4 g of triphenylphosphine, and 1,000 g of methyl ethyl ketone were charged, and the temperature was raised to 100° C. while stirring under a nitrogen atmosphere. After visually confirming that the mixture had dissolved, the mixture was cooled to 40° C. to obtain a resin composition with a solid content of about 20% by mass. The solvent was removed from the mixture to obtain a solid. A non-adhesive fluororesin film (Nitoflon (registered trademark) No. 900UL, manufactured by Nitto Denko Corporation) was placed on the upper and lower plates of a press, and the solid was placed on the non-adhesive fluororesin film of the lower plate. The press was then heated to 160°C, and the resin composition was heat-compressed for 2 hours to obtain a film-like solid bonding agent (P-1) having a thickness of 100 μm and a solid content of 100% by mass. The weight average molecular weight was about 37,000. The epoxy equivalent was above the detection limit. No heat of fusion peak was detected by DSC.
(Conjugate)
The following two types of bonded bodies were prepared.
In addition, for the open time evaluation, a bonded body for open time evaluation was also prepared in the same manner as described below in "Iron-Aluminum" except that a solid bonding agent was placed on the aluminum (substrate B) and left to stand for three days, and then the iron (substrate A) was placed on it.
Iron and aluminum
The solid adhesive P-1 cut to a size of 10 x 15 mm was placed on the aluminum base material as the base material B, and then the iron base material was placed on top of it as the base material A so that the triangular protrusion was placed on top of it. The overlapping between these base materials was 10 mm wide and 5 mm deep. The solid adhesive P-1 was placed so as to cover the entire overlapping area between the base materials. In other words, the base material A and the base material B were not in direct contact with each other, and an unbonded laminate was prepared with the solid adhesive interposed between them. In this specification, "promptly thereafter" means within about 30 minutes. The iron and aluminum were heated by high-frequency induction using a high-frequency induction welding machine (manufactured by Seidensha Denshi Kogyo Co., Ltd., oscillator UH-2.5K, press JIS P30S), and the test pieces were bonded to each other by heating and pressing. The pressure was 110 N (pressure 2.2 MPa), and the oscillation frequency was 900 kHz. The oscillation time was 5 seconds.
Iron and alumina
A bonded body was obtained in the same manner as in the above <<Iron-Aluminum>>, except that alumina was used as the base material B instead of aluminum.
<実施例1-2>
(接合体)
基材Aの上に前記固形接合剤P-1を配置し、200℃のホットプレート上に1分間置いて加熱することでフィルムを溶融させた後、常温にて1分放冷して、フィルムを固化し、金属基材Aとフィルムを接合した後に基材Bと接合材が接面するように積層させたたこと以外は、実施例1-1と同様にして《鉄・アルミニウム》と《鉄・アルミナ》の2種類の接合体を作製した。
<Example 1-2>
(Conjugate)
The solid adhesive P-1 was placed on the substrate A, and the film was melted by heating it on a hot plate at 200°C for 1 minute, and then cooled at room temperature for 1 minute to solidify the film. Two types of bonded bodies, "iron/aluminum" and "iron/alumina", were produced in the same manner as in Example 1-1, except that the solid adhesive P-1 was placed on the substrate A, and the film was melted by heating it on a hot plate at 200°C for 1 minute, and then the film was solidified by cooling it at room temperature for 1 minute. After the metal substrate A and the film were bonded, the substrate B and the bonding material were laminated so that their surfaces were in contact with each other.
<実施例1-3>
(接合体)
基材Bの上に前記固形接合剤P-1を配置し、200℃のホットプレート上に1分間置いて加熱することでフィルムを溶融させた後、常温にて1分放冷して、フィルムを固化し、金属基材Bとフィルムを接合した後に基材Aと接合材が接面するように積層させたたこと以外は実施例1-1と同様にして《鉄・アルミニウム》と《鉄・アルミナ》の2種類の接合体を作製した。
<Example 1-3>
(Conjugate)
The solid adhesive P-1 was placed on the substrate B, and the film was melted by heating it on a hot plate at 200°C for 1 minute, and then cooled at room temperature for 1 minute to solidify the film. Two types of bonded bodies, "iron/aluminum" and "iron/alumina", were produced in the same manner as in Example 1-1, except that the solid adhesive P-1 was placed on the substrate B, and the film was melted by heating it on a hot plate at 200°C for 1 minute, and then the film was solidified by cooling it at room temperature for 1 minute. The metal substrate B and the film were bonded, and then the substrate A and the bonding material were laminated so that their surfaces were in contact with each other.
<実施例2>
(固形接合剤P-2)
撹拌機、環流冷却器、ガス導入管、及び温度計を付した反応装置に、エノトート(登録商標)YP-50S(日鉄ケミカル&マテリアル株式会社製、フェノキシ樹脂、重量平均分子量約50,000)20g、シクロヘキサノン80gを仕込み、撹拌しながら60℃まで昇温し、目視で溶解したことを確認し、40℃まで冷却して固形分20質量%の樹脂組成物を得た。これから溶剤を除去して固形分100質量%の厚さ100μmのフィルム状の固形接合剤(P-2)を得た。重量平均分子量は50,000、エポキシ当量は検出限界以上であった。DSCにおいて融解熱ピークは検出されなかった。
(接合体)
固形接合剤としてP-2を用いること以外は実施例1-1と同様にして《鉄・アルミニウム》と《鉄・アルミナ》の2種類の接合体及びオープンタイム評価用接合体を作製した。
Example 2
(Solid adhesive P-2)
In a reaction apparatus equipped with a stirrer, a reflux condenser, a gas inlet tube, and a thermometer, 20 g of Enotote (registered trademark) YP-50S (manufactured by Nippon Steel Chemical & Material Co., Ltd., phenoxy resin, weight average molecular weight about 50,000) and 80 g of cyclohexanone were charged, and the temperature was raised to 60°C while stirring, and dissolution was confirmed visually, and the mixture was cooled to 40°C to obtain a resin composition with a solid content of 20% by mass. The solvent was removed from this to obtain a film-like solid bonding agent (P-2) with a thickness of 100 μm and a solid content of 100% by mass. The weight average molecular weight was 50,000, and the epoxy equivalent was above the detection limit. No heat of fusion peak was detected in DSC.
(Conjugate)
Two types of bonded bodies, "iron-aluminum" and "iron-alumina", and a bonded body for open time evaluation were prepared in the same manner as in Example 1-1, except that P-2 was used as the solid bonding agent.
<実施例3>
(固形接合剤P-3)
前記樹脂組成物P-2と結晶性エポキシ樹脂YSLV-80XY(日鉄ケミカル&マテリアル株式会社製)を98対2の質量比で混合し、固形接合剤(P-3)を得た。重量平均分子量は36,000、エポキシ当量は9600g/eq、融解熱は2J/gであった。
(接合体)
固形接合剤としてP-3を用いること以外は実施例1-1と同様にして《鉄・アルミニウム》と《鉄・アルミナ》の2種類の接合体及びオープンタイム評価用接合体を作製した。
Example 3
(Solid adhesive P-3)
The resin composition P-2 and a crystalline epoxy resin YSLV-80XY (manufactured by Nippon Steel Chemical & Material Co., Ltd.) were mixed in a mass ratio of 98:2 to obtain a solid bonding agent (P-3). The weight average molecular weight was 36,000, the epoxy equivalent was 9600 g/eq, and the heat of fusion was 2 J/g.
(Conjugate)
Two types of bonded bodies, "iron-aluminum" and "iron-alumina", and a bonded body for open time evaluation were prepared in the same manner as in Example 1-1, except that P-3 was used as the solid bonding agent.
<実施例4>
(固形接合剤P-4)
前記樹脂組成物P-2と結晶性エポキシ樹脂YSLV-80XY(日鉄ケミカル&マテリアル株式会社製)を94対6の質量比で混合し、固形接合剤(P-4)を得た。重量平均分子量は35,000、エポキシ当量は2100g/eq、融解熱は4J/gであった。
(接合体)
固形接合剤としてP-4を用いること以外は実施例1-1と同様にして《鉄・アルミニウム》と《鉄・アルミナ》の2種類の接合体及びオープンタイム評価用接合体を作製した。
Example 4
(Solid adhesive P-4)
The resin composition P-2 and a crystalline epoxy resin YSLV-80XY (manufactured by Nippon Steel Chemical & Material Co., Ltd.) were mixed in a mass ratio of 94 to 6 to obtain a solid bonding agent (P-4). The weight average molecular weight was 35,000, the epoxy equivalent was 2100 g/eq, and the heat of fusion was 4 J/g.
(Conjugate)
Two types of bonded bodies, "iron-aluminum" and "iron-alumina", and a bonded body for open time evaluation were prepared in the same manner as in Example 1-1, except that P-4 was used as the solid bonding agent.
<実施例5>
(固形接合剤P-5)
前記樹脂組成物P-2と結晶性エポキシ樹脂YSLV-80XY(日鉄ケミカル&マテリアル株式会社製)を89対11の質量比で混合し、固形接合剤(P-5)を得た。重量平均分子量は33,000、エポキシ当量は1700g/eq、融解熱は11J/gであった。
(接合体)
固形接合剤としてP-5を用いること以外は実施例1-1と同様にして《鉄・アルミニウム》と《鉄・アルミナ》の2種類の接合体及びオープンタイム評価用接合体を作製した。
Example 5
(Solid adhesive P-5)
The resin composition P-2 and a crystalline epoxy resin YSLV-80XY (manufactured by Nippon Steel Chemical & Material Co., Ltd.) were mixed in a mass ratio of 89 to 11 to obtain a solid bonding agent (P-5). The weight average molecular weight was 33,000, the epoxy equivalent was 1700 g/eq, and the heat of fusion was 11 J/g.
(Conjugate)
Two types of bonded bodies, "iron-aluminum" and "iron-alumina", and a bonded body for open time evaluation were prepared in the same manner as in Example 1-1, except that P-5 was used as the solid bonding agent.
<実施例6>
(固形接合剤P-6)
撹拌機、環流冷却器、ガス導入管、及び温度計を付した反応装置に、jER(登録商標)1007(三菱ケミカル株式会社株式会社製、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、分子量約4060)1.0等量(203g)、ビスフェノールS(分子量250)0.6等量(12.5g)、トリフェニルホスフィン2.4g、及びメチルエチルケトン1,000gを仕込み、窒素雰囲気下で撹拌しながら100℃まで昇温した。目視で溶解したことを確認し、40℃まで冷却して固形分約20質量%の樹脂組成物を得た。これから溶剤を除去して固体を得た。プレス機の上板及び下板に非粘着フッ素樹脂フィルム(ニトフロン(登録商標)No.900UL、日東電工株式会社製)を設置し、下板の非粘着フッ素樹脂フィルム上に上記固体を配置した後、上記プレス機を160℃に加熱し、上記樹脂組成物を2時間加熱圧縮して固形分100質量%の厚さ100μmのフィルム状の固形接合剤(P-6)を得た。重量平均分子量は約30,000、エポキシ当量は検出限界以上であった。DSCにおいて融解熱ピークは検出されなかった。
(接合体)
接合体の作成方法は、固形接合剤としてP-6を用いること以外は実施例1-1と同様にして《鉄・アルミニウム》と《鉄・アルミナ》の2種類の接合体及びオープンタイム評価用接合体を作製した。
Example 6
(Solid adhesive P-6)
In a reaction apparatus equipped with a stirrer, a reflux condenser, a gas inlet tube, and a thermometer, 1.0 equivalent (203 g) of jER (registered trademark) 1007 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, bisphenol A type epoxy resin, molecular weight about 4060), 0.6 equivalent (12.5 g) of bisphenol S (molecular weight 250), 2.4 g of triphenylphosphine, and 1,000 g of methyl ethyl ketone were charged, and the mixture was heated to 100° C. while stirring under a nitrogen atmosphere. After visually confirming that the mixture had dissolved, the mixture was cooled to 40° C. to obtain a resin composition with a solid content of about 20% by mass. The solvent was removed from the mixture to obtain a solid. A non-adhesive fluororesin film (Nitoflon (registered trademark) No. 900UL, manufactured by Nitto Denko Corporation) was placed on the upper and lower plates of a press, and the solid was placed on the non-adhesive fluororesin film of the lower plate. The press was then heated to 160°C, and the resin composition was heat-compressed for 2 hours to obtain a solid adhesive (P-6) in the form of a film having a thickness of 100 μm and a solid content of 100% by mass. The weight average molecular weight was about 30,000, and the epoxy equivalent was above the detection limit. No heat of fusion peak was detected by DSC.
(Conjugate)
The method for producing the bonded bodies was the same as in Example 1-1, except that P-6 was used as the solid bonding agent, to produce two types of bonded bodies, "iron-aluminum" and "iron-alumina", and a bonded body for open time evaluation.
<比較例1>
(固形接合剤Q-1)
熱硬化性液状エポキシ接着剤E-250(コニシ株式会社製、ビスフェノール型エポキシ樹脂とアミン硬化剤の2液タイプ)の2液を混合し、離型フィルムに塗布し、100℃で1時間硬化させたあと、冷却し、離型フィルムから剥がして厚さ100μmのフィルム状の固形接合剤(Q-1)を得た。DSCにおいて融解熱ピークは検出されなかった。エポキシ当量および重量平均分子量は溶媒に不溶の為測定できなかった。
(接合体)
固形接合剤としてQ-1を用いること以外は実施例1-1と同様にして《鉄・アルミニウム》と《鉄・アルミナ》の2種類の接合体及びオープンタイム評価用接合体を作製した。
<Comparative Example 1>
(Solid Adhesive Q-1)
Two liquids of thermosetting liquid epoxy adhesive E-250 (Konishi Co., Ltd., two-liquid type of bisphenol type epoxy resin and amine curing agent) were mixed, applied to a release film, cured at 100°C for 1 hour, cooled, and peeled off from the release film to obtain a film-like solid adhesive (Q-1) with a thickness of 100 μm. No heat of fusion peak was detected by DSC. The epoxy equivalent and weight average molecular weight could not be measured because it was insoluble in a solvent.
(Conjugate)
Two types of bonded bodies, "iron-aluminum" and "iron-alumina", and a bonded body for open time evaluation were prepared in the same manner as in Example 1-1, except that Q-1 was used as the solid bonding agent.
<比較例2>
(固形接合剤Q-2)
非晶性のポリカーボネートフィルム(ユーピロン(登録商標)FE2000、三菱エンジニアリングプラスチックス株式会社製、厚さ100μm)を固形接合体Q-2として用いた。DSCにおいて融解熱ピークは検出されなかった。
(接合体)
固形接合剤としてQ-2を用いること以外は実施例1-1と同様にして《鉄・アルミニウム》と《鉄・アルミナ》の2種類の接合体及びオープンタイム評価用接合体を作製した。
<Comparative Example 2>
(Solid adhesive Q-2)
An amorphous polycarbonate film (Iupilon (registered trademark) FE2000, manufactured by Mitsubishi Engineering Plastics Corporation, thickness 100 μm) was used as the solid joint body Q-2. No heat of fusion peak was detected by DSC.
(Conjugate)
Two types of bonded bodies, "iron-aluminum" and "iron-alumina", and a bonded body for open time evaluation were prepared in the same manner as in Example 1-1, except that Q-2 was used as the solid bonding agent.
<比較例3>
(固形接合剤Q-3)
結晶性エポキシ樹脂YSLV-80XY(日鉄ケミカル&マテリアル株式会社製)を固形接合剤(Q-3)として用いた。エポキシ当量は192g/eqであった。重量平均分子量は340であった。融解熱は70J/gであった。
(接合体)
固形接合剤としてQ-3を用いること以外は実施例1-1と同様にして《鉄・アルミニウム》と《鉄・アルミナ》の2種類の接合体及びオープンタイム評価用接合体を作製した。
<Comparative Example 3>
(Solid adhesive Q-3)
Crystalline epoxy resin YSLV-80XY (manufactured by Nippon Steel Chemical & Material Co., Ltd.) was used as a solid bonding agent (Q-3). The epoxy equivalent was 192 g/eq. The weight average molecular weight was 340. The heat of fusion was 70 J/g.
(Conjugate)
Two types of bonded bodies, "iron-aluminum" and "iron-alumina", and a bonded body for open time evaluation were prepared in the same manner as in Example 1-1, except that Q-3 was used as the solid bonding agent.
<比較例4>
(接合体)
熱硬化性液状エポキシ接着剤E-250(コニシ株式会社製、ビスフェノール型エポキシ樹脂とアミン硬化剤の2液タイプ)の2液を混合し、前記実施例1と同様のそれぞれ2種の基材Aと基材Bに塗布し、1分以内に貼り合わせをし、その後、クリップにて固定した状態で100℃のオーブン内に1時間静置することで接着成分を硬化させ、その後、室温まで冷却することで《鉄・アルミニウム》と《鉄・アルミナ》の2種類の接合体を作製した。
また、前記熱硬化性液状エポキシ接着剤E-250を基材Aと基材Bに塗布した後、3日間静置した後に貼り合わせをしたこと以外は上記と同様にして、オープンタイム評価用接合体も作製した。
<Comparative Example 4>
(Conjugate)
Two liquid components of thermosetting liquid epoxy adhesive E-250 (Konishi Corporation, a two-liquid type consisting of bisphenol-type epoxy resin and amine curing agent) were mixed and applied to two types of substrates A and B similar to those in Example 1, respectively, and bonded together within one minute. After that, the substrates were fixed with clips and left to stand in an oven at 100°C for one hour to cure the adhesive components, and then cooled to room temperature to produce two types of bonded bodies, "iron/aluminum" and "iron/alumina."
In addition, a bonded body for open time evaluation was also prepared in the same manner as above, except that the thermosetting liquid epoxy adhesive E-250 was applied to the substrate A and the substrate B, and then the substrates were left to stand for 3 days before bonding.
<比較例5>
フラスコに、jER(登録商標)1007(三菱ケミカル株式会社製、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、重量平均分子量約10,000)1.0等量(203g)、ビスフェノールS1.0等量(12.5g)、トリフェニルホスフィン2.4g、及びメチルエチルケトン1,000gを仕込み、常温で撹拌することで固形分約20質量%の液状樹脂組成物を得た。前記実施例1と同様のそれぞれ2種の基材Bの上に、前記液状樹脂組成物をバーコート塗布し、室温で30分乾燥させた後に、160℃のオーブンに2時間静置することで、厚さ100μmの固形の熱可塑性エポキシ樹脂重合物コーティング層を基材Bの表面上に形成した。コーティング層の重量平均分子量は約40,000であった。エポキシ当量は検出限界以上であった。DSCにおいて融解熱ピークは検出されなかった。
(接合体)
前記コーティング層を持つ基材Bの上に基材Aを直接配置したこと以外は実施例1-1と同様にして《鉄・アルミニウム》と《鉄・アルミナ》の2種類の接合体を作製した。
また、オープンタイム評価用に、熱可塑性エポキシ樹脂重合物コーティング層を基材Bの表面上に形成した後、3日間静置し、その後に基材Aと積層した以外は上記と同様にして、オープンタイム評価用接合体も作製した。
<Comparative Example 5>
In a flask, 1.0 equivalent (203 g) of jER (registered trademark) 1007 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, bisphenol A type epoxy resin, weight average molecular weight about 10,000), 1.0 equivalent (12.5 g) of bisphenol S, 2.4 g of triphenylphosphine, and 1,000 g of methyl ethyl ketone were charged and stirred at room temperature to obtain a liquid resin composition with a solid content of about 20 mass%. The liquid resin composition was bar-coated on two types of substrate B similar to those in Example 1, dried at room temperature for 30 minutes, and then left to stand in an oven at 160 ° C. for 2 hours to form a solid thermoplastic epoxy resin polymer coating layer with a thickness of 100 μm on the surface of the substrate B. The weight average molecular weight of the coating layer was about 40,000. The epoxy equivalent was above the detection limit. No heat of fusion peak was detected in DSC.
(Conjugate)
Two types of bonded bodies, "iron-aluminum" and "iron-alumina", were produced in the same manner as in Example 1-1, except that base material A was placed directly on base material B having the coating layer.
In addition, for the purpose of open time evaluation, a joint for open time evaluation was also prepared in the same manner as above, except that a thermoplastic epoxy resin polymer coating layer was formed on the surface of substrate B, allowed to stand for 3 days, and then laminated with substrate A.
<比較例6>
撹拌機、環流冷却器、ガス導入管、及び温度計を付した反応装置に、フエノトート(登録商標)YP-50S(日鉄ケミカル&マテリアル株式会社製、フェノキシ樹脂、重量平均分子量約50,000)20g、シクロヘキサノン80gを仕込み、撹拌しながら60℃まで昇温し、目視で溶解したことを確認し、40℃まで冷却して固形分20質量%の液状樹脂組成物を得た。前記実施例1と同様のそれぞれ2種の基材Bの上に、前記液状樹脂組成物をバーコート塗布し、70℃のオーブンに30分静置することで、厚さ100μmのフェノキシ樹脂コーティング層を基材Bの表面上に形成した。前記コーティング層の重量平均分子量は約50,000であった。エポキシ当量は検出限界以上であった。DSCにおいて融解熱ピークは検出されなかった。
(接合体)
前記フェノキシ樹脂コーティング層を持つ基材Bの上に基材Aを直接配置したこと以外は実施例1-1と同様にして《鉄・アルミニウム》と《鉄・アルミナ》の2種類の接合体を作製した。
また、オープンタイム評価用に、フェノキシ樹脂コーティング層を基材Bの表面上に形成した後、3日間静置し、その後に基材Aと積層した以外は上記と同様にして、オープンタイム評価用接合体も作製した。
<Comparative Example 6>
A reactor equipped with a stirrer, a reflux condenser, a gas inlet tube, and a thermometer was charged with 20 g of FENOTOTE (registered trademark) YP-50S (manufactured by Nippon Steel Chemical & Material Co., Ltd., phenoxy resin, weight average molecular weight about 50,000) and 80 g of cyclohexanone, and the temperature was raised to 60°C while stirring. Dissolution was confirmed by visual inspection, and the mixture was cooled to 40°C to obtain a liquid resin composition with a solid content of 20% by mass. The liquid resin composition was bar-coated on two types of substrate B similar to those in Example 1, and the substrate was left to stand in an oven at 70°C for 30 minutes to form a phenoxy resin coating layer with a thickness of 100 μm on the surface of the substrate B. The weight average molecular weight of the coating layer was about 50,000. The epoxy equivalent was above the detection limit. No heat of fusion peak was detected by DSC.
(Conjugate)
Two types of bonded bodies, "iron-aluminum" and "iron-alumina", were prepared in the same manner as in Example 1-1, except that the substrate A was placed directly on the substrate B having the phenoxy resin coating layer.
In addition, for the open time evaluation, a joint for open time evaluation was also prepared in the same manner as above, except that a phenoxy resin coating layer was formed on the surface of substrate B, which was then left to stand for 3 days and then laminated with substrate A.
<比較例7>
(接合体)
固形接合剤として結晶性のポリアミド系ホットメルト接着剤フィルムNT-120(日本マタイ株式会社製、厚さ100μm)を用いたこと実施例1-1と同様にして《鉄・アルミニウム》と《鉄・アルミナ》の2種類の接合体及びオープンタイム評価用接合体を作製した。融解熱は60J/gであった。
<Comparative Example 7>
(Conjugate)
Crystalline polyamide-based hot melt adhesive film NT-120 (manufactured by Nihon Matai Co., Ltd., thickness 100 μm) was used as the solid adhesive. Two types of bonded bodies, "iron-aluminum" and "iron-alumina", and a bonded body for open time evaluation were prepared in the same manner as in Example 1-1. The heat of fusion was 60 J/g.
[せん断接着力]
実施例1-1~実施例6、比較例1~比較例7で得られた接合体を測定温度(23℃もしくは80℃)で30分以上静置後、ISO19095に準拠して、引張試験機(万能試験機オートグラフ「AG-X plus」(株式会社島津製作所製);ロードセル10kN、引張速度10mm/min)にて、23℃および80℃雰囲気での引張りせん断接着強度試験を行い、接合強度を測定した。測定結果を表1-1及び表1-2に示す。
[Shear adhesive strength]
The bonded bodies obtained in Examples 1-1 to 6 and Comparative Examples 1 to 7 were allowed to stand at the measurement temperature (23° C. or 80° C.) for 30 minutes or more, and then subjected to a tensile shear adhesive strength test in an atmosphere of 23° C. and 80° C. in accordance with ISO 19095 using a tensile tester (Universal testing machine autograph "AG-X plus" (manufactured by Shimadzu Corporation); load cell 10 kN, tensile speed 10 mm/min) to measure the bond strength. The measurement results are shown in Tables 1-1 and 1-2.
[接合プロセス時間]
接合プロセス時間は下記のように測定した。
接合体を構成する少なくとも一種の基材と接合剤の接触時を始点、接合体の作製の完了時を終点として、始点から終点までの時間を測定した。加熱・加圧時間については、2種の接合体でのそれぞれ加熱・加圧時間を平均した。測定結果を表1-1及び表1-2に示す。
[Bonding process time]
The bonding process time was measured as follows.
The time from the start point when the bonding agent contacted at least one of the substrates that constitute the bonded body to the end point was measured, and the end point was when the fabrication of the bonded body was completed. The heating and pressing time was the average of the heating and pressing times for the two types of bonded bodies. The measurement results are shown in Tables 1-1 and 1-2.
[リサイクル性]
接合体を200℃のホットプレートに置いて1分加熱した後、1N以下の力で容易に剥離できるかで判断した。剥離できれば良好(A)で、剥離できなければ不適(B)とした。評価結果を表1-1及び表1-2に示す。
[Recyclability]
The bonded body was placed on a hot plate at 200°C and heated for 1 minute, and then it was judged whether it could be easily peeled off with a force of 1 N or less. If it could be peeled off, it was rated as good (A), and if it could not be peeled off, it was rated as unsatisfactory (B). The evaluation results are shown in Tables 1-1 and 1-2.
[リペア性]
前記引張りせん断強度試験の23℃での試験後の接着面が破断したそれぞれの試験片(基材AもしくはBまたはその両方の表面に接合固体の層が残存している)のうち基材Bの上に基材Aを配置し、前記実施例1と同様に接合体を作成することでリペア接合体を得た。前記リペア接合体の23℃のせん断接着力を前記試験方法と同様に測定し、1回目のせん断接着力の80%以上であれば良好(A)で、80%未満ならば不適(B)とした。評価結果を表1-1及び表1-2に示す。
[Repairability]
Of the test pieces (where a layer of the bonded solid remains on the surface of substrate A or B or both) whose adhesive surface broke after the tensile shear strength test at 23°C, substrate A was placed on substrate B, and a bonded structure was prepared in the same manner as in Example 1 to obtain a repair bonded structure. The shear adhesive strength of the repaired bonded structure at 23°C was measured in the same manner as in the test method, and if it was 80% or more of the first shear adhesive strength, it was judged as good (A), and if it was less than 80%, it was judged as unsatisfactory (B). The evaluation results are shown in Tables 1-1 and 1-2.
[オープンタイム評価]
オープンタイム評価用接合体を用いて、前記引張りせん断接着強度試験を23℃で実施した。前記実施例及び比較例の方法で作成した試験片と比べてせん断接着力が80%以上であれば良好(A)で、80%未満であれば不適(B)とした。オープンタイム評価が良好(A)とは、オープンタイムが長く、利便性に優れることを意味する。評価結果を表1-1及び表1-2に示す。
[Open time evaluation]
The tensile shear adhesive strength test was carried out at 23° C. using the bonded bodies for open time evaluation. If the shear adhesive strength was 80% or more compared to the test pieces prepared by the methods of the examples and comparative examples, it was rated as good (A), and if it was less than 80%, it was rated as unsatisfactory (B). A good open time rating (A) means that the open time is long and the convenience is excellent. The evaluation results are shown in Tables 1-1 and 1-2.
本発明の方製造法で得た接合体は、例えば、ドアサイドパネル、ボンネットルーフ、テールゲート、ステアリングハンガー、Aピラー、Bピラー、Cピラー、Dピラー、クラッシュボックス、パワーコントロールユニット(PCU)ハウジング、電動コンプレッサー部材(内壁部、吸入ポート部、エキゾーストコントロールバルブ(ECV)挿入部、マウントボス部等)、リチウムイオン電池(LIB)スペーサー、電池ケース、LEDヘッドランプ等の自動車用部品や、スマートフォン、ノートパソコン、タブレットパソコン、スマートウォッチ、大型液晶テレビ(LCD-TV)、屋外LED照明の構造体等として用いられるが、特にこれら例示の用途に限定されるものではない。 The joints obtained by the manufacturing method of the present invention are used, for example, as door side panels, bonnet roofs, tailgates, steering hangers, A-pillars, B-pillars, C-pillars, D-pillars, crash boxes, power control unit (PCU) housings, electric compressor components (inner wall parts, intake ports, exhaust control valve (ECV) insertion parts, mount boss parts, etc.), lithium ion battery (LIB) spacers, battery cases, LED headlamps and other automotive parts, as well as smartphones, notebook computers, tablet computers, smart watches, large liquid crystal televisions (LCD-TVs), outdoor LED lighting structures, etc., but are not limited to these illustrative uses.
1 接合体
2 接着層
3 基材A
4 基材B
1 Joined body 2 Adhesive layer 3 Base material A
4. Substrate B
Claims (4)
前記非晶性熱可塑性樹脂の含有量は、前記フィルム中の樹脂成分のうち、80質量%以上であり、
前記フィルム中における樹脂成分の含有量は、20質量%以上であり、
前記熱可塑性エポキシ樹脂が、(a)2官能エポキシ樹脂モノマーもしくはオリゴマーと(b)フェノール性水酸基、カルボキシル基、メルカプト基、イソシアネート基及びシアネートエステル基からなる群より選ばれる同一の又は異なる2つの官能基を有する2官能性化合物との重合体であり(ただし、ビスフェノール類と、エピクロルヒドリンより合成されるポリヒドロキシポリエーテルは除く)、
フェノキシ樹脂が、ビスフェノール類と、エピクロルヒドリンより合成されるポリヒドロキシポリエーテルであり、
前記フィルム、前記磁性体基材A及び前記非磁性体基材Bを、各々別々に準備し、
ここで準備された前記フィルムは、厚さが10μm~1mmであり、次いで、
前記フィルムを前記基材Aに接面させた状態で、前記フィルムを溶融後固化させることにより前記基材Aと前記フィルムを接合する、又は、前記フィルムを前記基材Bに接面させた状態で、前記フィルムを溶融後固化させることにより前記基材Bと前記フィルムを接合する、第1の接合工程と、
前記基材Aに接合した前記フィルムを基材Bに接面させた状態で、前記フィルムを溶融後固化させることにより、前記基材Aと前記基材Bを接合する、又は、前記基材Bに接合した前記フィルムを基材Aに接面させた状態で、前記フィルムを溶融後固化させることにより、前記基材Aと前記基材Bを接合する、第2の接合工程を有し、
前記樹脂成分が、エポキシ当量1,600g/eq.以上もしくはエポキシ基を含まず、かつ、融解熱が15J/g以下である、接合体の製造方法。 A method for producing a bonded body, which is obtained by bonding, in this order, a substrate A which is a magnetic substrate, a film which contains at least one amorphous thermoplastic resin selected from a thermoplastic epoxy resin and a phenoxy resin, and a substrate B which is a non-magnetic substrate, the method comprising the steps of:
The content of the amorphous thermoplastic resin in the resin components of the film is 80 mass% or more,
The content of the resin component in the film is 20% by mass or more,
The thermoplastic epoxy resin is a polymer of (a) a bifunctional epoxy resin monomer or oligomer and (b) a bifunctional compound having two identical or different functional groups selected from the group consisting of a phenolic hydroxyl group, a carboxyl group, a mercapto group, an isocyanate group, and a cyanate ester group (excluding bisphenols and polyhydroxy polyethers synthesized from epichlorohydrin),
The phenoxy resin is a polyhydroxy polyether synthesized from bisphenols and epichlorohydrin,
The film, the magnetic substrate A, and the non-magnetic substrate B are each prepared separately,
The film prepared here has a thickness of 10 μm to 1 mm, and then
a first joining step of joining the substrate A and the film by melting and solidifying the film in a state where the film is in contact with the substrate A, or joining the substrate B and the film by melting and solidifying the film in a state where the film is in contact with the substrate B;
a second joining step of joining the substrate A and the substrate B by melting and solidifying the film in a state where the film joined to the substrate A is in contact with the substrate B, or by melting and solidifying the film in a state where the film joined to the substrate B is in contact with the substrate A,
The resin component has an epoxy equivalent of 1,600 g/eq. or more or does not contain an epoxy group, and has a heat of fusion of 15 J/g or less.
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