JP7549817B2 - Decorative sheet, display device with decorative sheet, and method for manufacturing decorative sheet - Google Patents
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Description
本発明は、加飾シート、加飾シートを有する加飾シート付き表示装置及び加飾シートの製造方法に関する。 The present invention relates to a decorative sheet, a display device with a decorative sheet having the decorative sheet, and a method for manufacturing the decorative sheet.
例えば特許文献1に記載されているように、背面から光を照明される加飾シートが公知である。この加飾シートは、背面から光を照明されていない状態において、その表面をなす層に設けられた絵柄を表示する。一方、加飾シートには光が透過できるように微小な開口部が形成されていてもよいとされている。加飾シートの背面に投射された光は、開口部が形成された位置において加飾シートを透過する。したがって、加飾シートが所定のパターンで光を照明される場合、加飾シートは所定のパターンを表示することができる。 For example, as described in Patent Document 1, a decorative sheet illuminated with light from behind is known. When this decorative sheet is not illuminated with light from behind, it displays a pattern provided on a layer forming its surface. Meanwhile, it is said that the decorative sheet may be formed with minute openings to allow light to pass through. Light projected onto the rear surface of the decorative sheet passes through the decorative sheet at the positions where the openings are formed. Therefore, when the decorative sheet is illuminated with light in a predetermined pattern, the decorative sheet can display the predetermined pattern.
このような加飾シートによれば、加飾シートを背面から照明することで表示を行うことができる一方、表示を行っていない時には特定の絵柄を表示することができる。したがって、背面から照明されていない時、加飾シートの絵柄によって加飾シートを周囲と調和させることができる。これにより、何らかの表示を行う装置に、優れた表品価値を付与することも可能となる。 With such a decorative sheet, a display can be made by illuminating the decorative sheet from behind, while a specific pattern can be displayed when no display is being made. Therefore, when not illuminated from behind, the pattern on the decorative sheet allows the decorative sheet to blend in with its surroundings. This makes it possible to impart excellent display value to devices that display some kind of information.
ところで、加飾シートの開口部は、加飾シートを形成するようになるシート状材料の一部をレーザー光によって溶融除去することで形成され得る。ただし、開口部は視認されないように微細となっていることから、レーザー光を加飾シートの一部分のみに照射して、高精細な配置で開口部を形成することは困難である。このため、従来の加飾シートでは、多くの場合、その全域が透過領域として開口部を形成されていた。すなわち、従来の加飾シートでは、背面から照明された場合における意匠表現を開口部の配置パターンによってより優れたものとすることは実現できておらず、例えば、加飾シートの絵柄による意匠と、背面から照明することで表示される意匠を高い精度で対応させるような表現は困難であった。 The openings in the decorative sheet can be formed by melting and removing a portion of the sheet-like material that will form the decorative sheet with laser light. However, since the openings are so minute that they are not visible, it is difficult to form openings in a highly precise arrangement by irradiating only a portion of the decorative sheet with laser light. For this reason, in many cases, conventional decorative sheets have openings formed with the entire area as a transparent region. In other words, conventional decorative sheets have not been able to improve the design expression when illuminated from behind by changing the arrangement pattern of the openings, and it has been difficult, for example, to express a high degree of correspondence between the design of the pattern on the decorative sheet and the design displayed by illuminating it from behind.
本発明は以上の点を考慮してなされたものであり、背面から照明される加飾シートの意匠性を改善することを目的とする。 The present invention was made in consideration of the above points, and aims to improve the design of decorative sheets that are illuminated from behind.
本発明による第1の加飾シートは、
面光源装置に対面して配置される加飾シートであって、
ベース意匠層と、
前記ベース意匠層の一部分上に設けられたパターン層と、を備え、
前記ベース意匠層を貫通して前記パターン層に到達した開口部が設けられ、
前記パターン層の赤外線の吸収率は、前記ベース意匠層の赤外線の吸収率より高い。
The first decorative sheet according to the present invention comprises:
A decorative sheet disposed opposite a surface light source device,
A base design layer;
A pattern layer provided on a portion of the base design layer;
An opening is provided that penetrates the base design layer and reaches the pattern layer,
The infrared ray absorptivity of the pattern layer is higher than that of the base design layer.
本発明による第1の加飾シートにおいて、前記パターン層の吸収スペクトルは、赤外線領域にピークを有するようにしてもよい。 In the first decorative sheet according to the present invention, the absorption spectrum of the pattern layer may have a peak in the infrared region.
本発明による第2の加飾シートは、
面光源装置に対面して配置される加飾シートであって、
ベース意匠層と、
前記ベース意匠層の一部分上に設けられたパターン層と、を備え、
前記ベース意匠層を貫通して前記パターン層に到達した開口部が設けられ、
前記パターン層の吸収スペクトルは、赤外線領域にピークを有する。
The second decorative sheet according to the present invention is
A decorative sheet disposed opposite a surface light source device,
A base design layer;
A pattern layer provided on a portion of the base design layer;
An opening is provided that penetrates the base design layer and reaches the pattern layer,
The absorption spectrum of the patterned layer has a peak in the infrared region.
本発明による第1又は第2の加飾シートにおいて、前記パターン層の吸収スペクトルは、900nm以上1300nm以下の波長にピークを有するようにしてもよい。 In the first or second decorative sheet according to the present invention, the absorption spectrum of the pattern layer may have a peak at a wavelength of 900 nm or more and 1300 nm or less.
本発明による第1又は第2の加飾シートにおいて、前記パターン層の赤外線領域での吸収スペクトルのピークは、3%以上であるようにしてもよい。 In the first or second decorative sheet according to the present invention, the peak of the absorption spectrum of the pattern layer in the infrared region may be 3% or more.
本発明による第1又は第2の加飾シートにおいて、前記パターン層の赤外線領域での吸収スペクトルのピークは、前記ベース意匠層の赤外線領域での吸収スペクトルのピークよりも高くなるようにしてもよい。 In the first or second decorative sheet according to the present invention, the peak of the absorption spectrum in the infrared region of the pattern layer may be higher than the peak of the absorption spectrum in the infrared region of the base design layer.
本発明による第3の加飾シートは、
面光源装置に対面して配置される加飾シートであって、
ベース意匠層と、
前記ベース意匠層の一部分上に設けられたパターン層と、を備え、
前記ベース意匠層を貫通して前記パターン層に到達した開口部が設けられ、
前記パターン層の赤外線領域での吸収スペクトルのピークは、前記ベース意匠層の赤外線領域での吸収スペクトルのピークより高い。
The third decorative sheet according to the present invention is
A decorative sheet disposed opposite a surface light source device,
A base design layer;
A pattern layer provided on a portion of the base design layer;
An opening is provided that penetrates the base design layer and reaches the pattern layer,
The peak of the absorption spectrum of the pattern layer in the infrared region is higher than the peak of the absorption spectrum of the base design layer in the infrared region.
本発明による第1~第3の加飾シートにおいて、前記パターン層が設けられている領域での可視光透過率は、前記パターン層が設けられていない領域での可視光透過率より高くなるようにしてもよい。 In the first to third decorative sheets according to the present invention, the visible light transmittance in the area where the pattern layer is provided may be higher than the visible light transmittance in the area where the pattern layer is not provided.
本発明による第4の加飾シートは、
面光源装置に対面して配置される加飾シートであって、
ベース意匠層と、
前記ベース意匠層の一部分上に設けられたパターン層と、を備え、
前記パターン層が設けられている領域での可視光透過率は、前記パターン層が設けられていない領域での可視光透過率より高く、
前記パターン層の赤外線の吸収率は、前記ベース意匠層の赤外線の吸収率より高い。
A fourth decorative sheet according to the present invention is
A decorative sheet disposed opposite a surface light source device,
A base design layer;
A pattern layer provided on a portion of the base design layer;
a visible light transmittance in a region where the pattern layer is provided is higher than a visible light transmittance in a region where the pattern layer is not provided;
The infrared ray absorptivity of the pattern layer is higher than that of the base design layer.
本発明による第5の加飾シートは、
面光源装置に対面して配置される加飾シートであって、
ベース意匠層と、
前記ベース意匠層の一部分上に設けられたパターン層と、を備え、
前記パターン層が設けられている領域での可視光透過率は、前記パターン層が設けられていない領域での可視光透過率より高く、
前記パターン層の吸収スペクトルは、赤外線領域にピークを有する。
A fifth decorative sheet according to the present invention is
A decorative sheet disposed opposite a surface light source device,
A base design layer;
A pattern layer provided on a portion of the base design layer;
a visible light transmittance in a region where the pattern layer is provided is higher than a visible light transmittance in a region where the pattern layer is not provided;
The absorption spectrum of the patterned layer has a peak in the infrared region.
本発明による第6の加飾シートは、
面光源装置に対面して配置される加飾シートであって、
ベース意匠層と、
前記ベース意匠層の一部分上に設けられたパターン層と、を備え、
前記パターン層が設けられている領域での可視光透過率は、前記パターン層が設けられていない領域での可視光透過率より高く、
前記パターン層の赤外線領域での吸収スペクトルのピークは、前記ベース意匠層の赤外線領域での吸収スペクトルのピークより高い。
A sixth decorative sheet according to the present invention is
A decorative sheet disposed opposite a surface light source device,
A base design layer;
A pattern layer provided on a portion of the base design layer;
a visible light transmittance in a region where the pattern layer is provided is higher than a visible light transmittance in a region where the pattern layer is not provided;
The peak of the absorption spectrum of the pattern layer in the infrared region is higher than the peak of the absorption spectrum of the base design layer in the infrared region.
本発明による第1~第6の加飾シートにおいて、前記パターン層が設けられている領域での開口率は、前記パターン層が設けられていない領域での開口率より高くなるようにしてもよい。 In the first to sixth decorative sheets according to the present invention, the aperture ratio in the area where the pattern layer is provided may be higher than the aperture ratio in the area where the pattern layer is not provided.
本発明による第1~第6の加飾シートにおいて、前記パターン層は有色であるようにしてもよい。 In the first to sixth decorative sheets of the present invention, the pattern layer may be colored.
本発明による第1~第6の加飾シートにおいて、前記パターン層は無色透明であるようにしてもよい。 In the first to sixth decorative sheets of the present invention, the pattern layer may be colorless and transparent.
本発明による第1~第6の加飾シートにおいて、前記ベース意匠層のうちの前記パターン層が設けられていない領域に、凹部が設けられていてもよい。 In the first to sixth decorative sheets according to the present invention, a recess may be provided in an area of the base design layer where the pattern layer is not provided.
本発明による第1~第6の加飾シートにおいて、前記ベース意匠層は無機材料を含むようにしてもよい。 In the first to sixth decorative sheets according to the present invention, the base design layer may contain an inorganic material.
本発明による第1~第6の加飾シートにおいて、前記無機材料はフレーク状であるようにしてもよい。 In the first to sixth decorative sheets according to the present invention, the inorganic material may be in the form of flakes.
本発明による第1~第6の加飾シートにおいて、前記無機材料の最大長さは5μm以上であるようにしてもよい。 In the first to sixth decorative sheets according to the present invention, the maximum length of the inorganic material may be 5 μm or more.
本発明による第1~第6の加飾シートにおいて、前記パターン層が粒子を含み、前記粒子の最大長さが前記フレーク状の無機材料の最大長さより小さくなるようにしてもよい。 In the first to sixth decorative sheets according to the present invention, the pattern layer may contain particles, and the maximum length of the particles may be smaller than the maximum length of the flake-like inorganic material.
本発明による第1~第6の加飾シートにおいて、前記無機材料は、アルミニウム、酸化チタン、雲母のいずれかを含むようにしてもよい。 In the first to sixth decorative sheets according to the present invention, the inorganic material may contain any one of aluminum, titanium oxide, and mica.
本発明による第1~第6の加飾シートにおいて、前記ベース意匠層の可視光反射率は、5%以上であるようにしてもよい。 In the first to sixth decorative sheets according to the present invention, the visible light reflectance of the base design layer may be 5% or more.
本発明による第1~第6の加飾シートにおいて、前記ベース意匠層の可視光吸収率は、3%以下であるようにしてもよい。 In the first to sixth decorative sheets according to the present invention, the visible light absorptance of the base design layer may be 3% or less.
本発明による第1~第6の加飾シートが、
前記ベース意匠層の前記パターン層とは反対側に設けられた遮光層を、更に備え、
前記遮光層の可視光透過率は、前記ベース意匠層の可視光透過率より低くなるようにしてもよい。
The first to sixth decorative sheets according to the present invention are
Further comprising a light-shielding layer provided on the opposite side of the base design layer to the pattern layer,
The visible light transmittance of the light-shielding layer may be lower than the visible light transmittance of the base design layer.
本発明による加飾シート付き表示装置は、
面光源装置と、
上述した本発明による第1~第6の加飾シートのいずれかであって、前記面光源装置に対面するよう配置された加飾シートと、を備える。
The display device with a decorative sheet according to the present invention comprises:
A surface light source device;
The decorative sheet according to any one of the first to sixth decorative sheets of the present invention described above is disposed so as to face the surface light source device.
本発明による加飾シートの製造方法は、
上述した本発明による第1~第6の加飾シートのいずれかの製造方法であって、
前記パターン層を形成するようになる第1膜及びベース意匠層を形成するようになる第2膜を作製する工程と、
前記第2膜の側からレーザー光を照射することで、前記第1膜及び前記第2膜の一部を除去して、開口部を形成する工程と、を備える。
The method for producing a decorative sheet according to the present invention includes the steps of:
A method for producing any one of the first to sixth decorative sheets according to the present invention,
preparing a first film which will form the pattern layer and a second film which will form the base design layer;
and removing a portion of the first film and the second film by irradiating the second film with laser light to form an opening.
本発明による加飾シートの製造方法において、前記レーザー光の波長における前記第1膜の吸収率は、前記レーザー光の波長における前記第2膜の吸収率より高くなるようにしてもよい。 In the method for manufacturing a decorative sheet according to the present invention, the absorptivity of the first film at the wavelength of the laser light may be higher than the absorptivity of the second film at the wavelength of the laser light.
本発明による加飾シートの製造方法において、前記レーザー光の波長における前記第1膜の吸収率は、3%以上であるようにしてもよい。 In the method for manufacturing a decorative sheet according to the present invention, the absorptance of the first film at the wavelength of the laser light may be 3% or more.
本発明による加飾シートの製造方法において、前記レーザー光の波長は、900nm以上1300nm以下であるようにしてもよい。 In the method for manufacturing a decorative sheet according to the present invention, the wavelength of the laser light may be 900 nm or more and 1300 nm or less.
本発明によれば、背面から照明される加飾シートの意匠性を改善することを目的とする。 The objective of the present invention is to improve the design of decorative sheets that are illuminated from behind.
以下、図面を参照して本発明の一実施の形態について説明する。なお、本件明細書に添付する図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺および縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張してある。 One embodiment of the present invention will now be described with reference to the drawings. Note that in the drawings accompanying this specification, the scale and aspect ratios have been appropriately altered and exaggerated from those of the actual product for the sake of ease of illustration and understanding.
なお、本明細書において、「層」、「シート」及び「フィルム」の用語は、呼称の違いのみに基づいて互いから区別されるものではない。例えば「層」という用語は、シート或いはフィルムと呼ばれ得るような部材も含む概念である。 In this specification, the terms "layer," "sheet," and "film" are not distinguished from one another solely on the basis of differences in name. For example, the term "layer" is a concept that includes members that may be called sheets or films.
また、本明細書において用いる、形状や幾何学的条件ならびにそれらの程度を特定する、例えば、「平行」、「直交」、「同一」等の用語や長さや角度の値等については、厳密な意味に縛られることなく、同様の機能を期待し得る程度の範囲を含めて解釈することとする。 In addition, terms used in this specification that specify shapes, geometric conditions, and the degree of those conditions, such as "parallel," "orthogonal," and "same," as well as values of lengths and angles, are to be interpreted without being bound by strict meanings, but rather to include the range in which similar functions can be expected.
図1は、本発明による一実施の形態の加飾シート付き表示装置1を概略的に示す分解斜視図である。図1に示されるように、加飾シート付き表示装置1は、発光面11を有する面光源装置10と、発光面11に対面して配置された加飾シート20と、を有している。加飾シート付き表示装置1において、加飾シート20は、後述する遮光層24が設けられた側が面光源装置10に対面するよう配置されている。なお、図示されている例では、加飾シート付き表示装置1は、平板状に示されているが、加飾シート付き表示装置1の各構成要素が湾曲することで、加飾シート付き表示装置1が湾曲形状を有するようにしてもよい。 Figure 1 is an exploded perspective view showing a schematic diagram of a display device with a decorative sheet 1 according to an embodiment of the present invention. As shown in Figure 1, the display device with a decorative sheet 1 has a surface light source device 10 having a light-emitting surface 11, and a decorative sheet 20 arranged facing the light-emitting surface 11. In the display device with a decorative sheet 1, the decorative sheet 20 is arranged so that the side on which a light-shielding layer 24 (described later) is provided faces the surface light source device 10. Note that, in the example shown in the figure, the display device with a decorative sheet 1 is shown in a flat plate shape, but the display device with a decorative sheet 1 may have a curved shape by curving each component of the display device with a decorative sheet 1.
面光源装置10は、面状に光を発光する装置である。面光源装置10として、特に限定されることなく、種々の型式、例えばエッジライト型や直下型の装置を用いることができる。図示された面光源装置10は、加飾シート20に対面する前面に発光面11を有している。また、面光源装置10の加飾シート20に対面する前面のうち、発光面11を周囲から取り囲む領域は、枠体(ベゼル)によって構成された非発光面12となっている。すなわち、面光源装置10の加飾シート20に対面する前面は、発光面11と、発光面11の周囲に位置する非発光面12と、を含んでいる。 The surface light source device 10 is a device that emits light in a planar manner. The surface light source device 10 is not particularly limited, and various types, such as edge light type and direct type devices, can be used. The illustrated surface light source device 10 has a light emitting surface 11 on the front surface facing the decorative sheet 20. In addition, of the front surface of the surface light source device 10 facing the decorative sheet 20, the area surrounding the light emitting surface 11 is a non-light emitting surface 12 formed by a frame (bezel). In other words, the front surface of the surface light source device 10 facing the decorative sheet 20 includes the light emitting surface 11 and the non-light emitting surface 12 located around the light emitting surface 11.
加飾シート20は、面光源装置10の発光面11に対面して配置され、発光面11が外部から直接観察されないよう、少なくとも発光面11の全体を覆っている。加飾シート20は、面光源装置10の発光面11の全体を覆うことができるよう、発光面11の寸法以上の寸法を有している。図示された加飾シート20は、発光面11と、発光面11の周囲に位置する非発光面12と、を含む面光源装置10の前面の全領域を覆う寸法を有している。すなわち、加飾シート20は、面光源装置10の全体を隠蔽している。図1に示す例において、加飾シート20は、全体として面光源装置10の発光面11と同一の方向に広がる平板状の部材となっている。加飾シート20の厚さは、例えば20μm以上550μm以下とすることができる。 The decorative sheet 20 is disposed facing the light-emitting surface 11 of the surface light source device 10, and covers at least the entire light-emitting surface 11 so that the light-emitting surface 11 is not directly observed from the outside. The decorative sheet 20 has dimensions equal to or larger than the light-emitting surface 11 so as to cover the entire light-emitting surface 11 of the surface light source device 10. The illustrated decorative sheet 20 has dimensions covering the entire front area of the surface light source device 10, including the light-emitting surface 11 and the non-light-emitting surface 12 located around the light-emitting surface 11. In other words, the decorative sheet 20 conceals the entire surface light source device 10. In the example shown in FIG. 1, the decorative sheet 20 is a flat member that extends in the same direction as the light-emitting surface 11 of the surface light source device 10 as a whole. The thickness of the decorative sheet 20 can be, for example, 20 μm or more and 550 μm or less.
加飾シート20は、意匠を表示して、加飾シート付き表示装置1に意匠性を付与する。本実施の形態において、加飾シート20は、ベース意匠層22と、ベース意匠層22の一部分上に設けられたパターン層23と、を有している。ベース意匠層22は、いわゆるベタ層として形成され、二次元的に広がる層、さらに言い換えると面状に広がる層として、形成されている。一方、パターン層23は、ベース意匠層22上の一部分に形成されている。例えば、パターン層23は、ベース意匠層22の一方の面上に所定のパターンで設けられている。 The decorative sheet 20 displays a design and imparts design to the display device 1 with the decorative sheet. In this embodiment, the decorative sheet 20 has a base design layer 22 and a pattern layer 23 provided on a portion of the base design layer 22. The base design layer 22 is formed as a so-called solid layer, which is a layer that extends two-dimensionally, or in other words, a layer that extends in a planar shape. On the other hand, the pattern layer 23 is formed on a portion of the base design layer 22. For example, the pattern layer 23 is provided in a predetermined pattern on one surface of the base design layer 22.
図2及び図3に示すように、加飾シート20は、第1領域A1及び第2領域A2を含んでいる。図示された加飾シート20は、第1領域A1と第2領域A2とに平面分割されている。そして、パターン層23は、第1領域A1に設けられ、第1領域A1外となる第2領域A2には設けられていない。図示された例において、第1領域A1は、図3に示すように、加飾シート20の中央に設けられ、アルファベットの「D」のパターンをなす領域となっている。 As shown in Figs. 2 and 3, the decorative sheet 20 includes a first region A1 and a second region A2. The illustrated decorative sheet 20 is divided into a first region A1 and a second region A2. The pattern layer 23 is provided in the first region A1, but not in the second region A2 outside the first region A1. In the illustrated example, the first region A1 is provided in the center of the decorative sheet 20, as shown in Fig. 3, and is an area that forms the pattern of the alphabet "D."
また、図示された加飾シート20は、図2に示すように、ベース意匠層22及びパターン層23に加え、基材フィルム21及び遮光層24を更に有している。図2に示された加飾シート20では、基材フィルム21の一方の面上のうちの第1領域A1に、パターン層23が設けられている。ベース意匠層22は、基材フィルム21の一方の面及びパターン層23の全域を覆うように形成されている。すなわち、図示されたベース意匠層22は、基材フィルム21の全域に広がっている。遮光層24は、ベース意匠層22のパターン層23とは反対側に積層されている。遮光層24は、ベース意匠層22の全域に広がっている。以下、加飾シート20に含まれる各構成要素について順に説明する。 The illustrated decorative sheet 20 further includes a base film 21 and a light-shielding layer 24 in addition to the base design layer 22 and the pattern layer 23, as shown in FIG. 2. In the decorative sheet 20 shown in FIG. 2, the pattern layer 23 is provided in a first region A1 on one side of the base film 21. The base design layer 22 is formed so as to cover one side of the base film 21 and the entire area of the pattern layer 23. In other words, the illustrated base design layer 22 extends over the entire area of the base film 21. The light-shielding layer 24 is laminated on the side of the base design layer 22 opposite the pattern layer 23. The light-shielding layer 24 extends over the entire area of the base design layer 22. Below, each component included in the decorative sheet 20 will be described in order.
基材フィルム21は、基材フィルム21上に積層されたベース意匠層22、パターン層23および遮光層24を支持する。基材フィルム21は、透明なフィルム状の部材である。基材フィルム21としては、可視光を透過し、ベース意匠層22、パターン層23及び遮光層24を適切に支持し得るものであればいかなる材料でもよいが、例えば、ポリメタクリル酸メチル、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリスチレン、環状ポリオレフィン、ABS(アクリロニトリル ブタジエン スチレン共重合体)等を挙げることができる。また、基材フィルム21は、可視光透過性や、ベース意匠層22、パターン層23及び遮光層24の適切な支持性等を考慮すると、10μm以上500μm以下の厚さを有していることが好ましい。 The substrate film 21 supports the base design layer 22, the pattern layer 23, and the light-shielding layer 24 laminated thereon. The substrate film 21 is a transparent film-like member. The substrate film 21 may be any material that transmits visible light and can adequately support the base design layer 22, the pattern layer 23, and the light-shielding layer 24, and examples of such materials include polymethylmethacrylate, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polycarbonate, polystyrene, cyclic polyolefin, and ABS (acrylonitrile butadiene styrene copolymer). In addition, the substrate film 21 preferably has a thickness of 10 μm or more and 500 μm or less, taking into consideration visible light transmittance and adequate support for the base design layer 22, the pattern layer 23, and the light-shielding layer 24.
なお、透明とは、分光光度計((株)島津製作所製「UV-3100PC」、JIS K 0115準拠品)を用いて測定波長380nm~780nmの範囲内で測定したときの、各波長における透過率の平均値として特定される可視光透過率が、80%以上であることを意味する。 Transparent means that the visible light transmittance, specified as the average value of the transmittance at each wavelength, is 80% or more when measured using a spectrophotometer (Shimadzu Corporation's UV-3100PC, compliant with JIS K 0115) in the measurement wavelength range of 380 nm to 780 nm.
ベース意匠層22は、パターン層23とともに加飾シート20が表示する意匠を形成する。ベース意匠層22は、図形、パターン、デザイン、色彩、絵、写真、キャラクター、マーク、文字や数字などの絵柄を、意匠として形成することができる。また、ベース意匠層22とは別途にパターン層23が設けられる本実施の形態において、ベース意匠層22は、パターン層23の背景として意匠表現を行うこともできる。例えば、加飾シート付き表示装置1が設けられる周辺環境と調和させることができる意匠として、木目調や大理石調の絵柄や幾何学模様を、ベース意匠層22が表示するようにしてもよい。ベース意匠層22が形成する意匠は、単一の色によって表されていてもよいし、複数の色によって表されていてもよい。また、ベース意匠層22は、外部の観察者に観察された際にパターン層23との混色によりパターン層23が形成する絵柄の意匠性を害さない色を有しており、例えば混色を避けやすい白色や銀色であることが好ましい。 The base design layer 22, together with the pattern layer 23, forms the design displayed by the decorative sheet 20. The base design layer 22 can form designs such as figures, patterns, designs, colors, pictures, photographs, characters, marks, letters, and numbers. In addition, in this embodiment in which the pattern layer 23 is provided separately from the base design layer 22, the base design layer 22 can also express the design as the background of the pattern layer 23. For example, the base design layer 22 may display a wood grain or marble pattern or a geometric pattern as a design that can harmonize with the surrounding environment in which the display device 1 with the decorative sheet is provided. The design formed by the base design layer 22 may be represented by a single color or multiple colors. In addition, the base design layer 22 has a color that does not impair the design of the pattern formed by the pattern layer 23 by mixing with the pattern layer 23 when observed by an external observer, and is preferably, for example, white or silver, which is easy to avoid color mixing.
ベース意匠層22は、図2Aに示すように、無機材料を含んだ層とすることができる。図2Aに示されたベース意匠層22は、バインダー樹脂22aと、バインダー樹脂22a中に分散した無機材料22bと、を有している。ベース意匠層22に含まれる無機材料は、特に限定されないが、アルミニウム、酸化チタン、雲母のいずれかとすることができる。これらの無機材料を含むベース意匠層22は、例えば白色または銀色として、パターン層23の色味の変化を効果的に抑制することができる。アルミニウムや雲母からなる無機材料は、最大長さが5μm以上となるフレーク状の材料とすることができる。このような大型のフレーク状の無機材料によれば、ベース意匠層22によって積極的な意匠表現を行うことができる。 The base design layer 22 can be a layer containing an inorganic material, as shown in FIG. 2A. The base design layer 22 shown in FIG. 2A has a binder resin 22a and an inorganic material 22b dispersed in the binder resin 22a. The inorganic material contained in the base design layer 22 is not particularly limited, but can be any of aluminum, titanium oxide, and mica. The base design layer 22 containing these inorganic materials can be, for example, white or silver, and can effectively suppress changes in the color of the pattern layer 23. The inorganic material made of aluminum or mica can be a flake-shaped material with a maximum length of 5 μm or more. Such large flake-shaped inorganic materials allow the base design layer 22 to provide an active design expression.
また、ベース意匠層22が形成する意匠を明るく表示するため、ベース意匠層22の可視光反射率は、5%以上であることが好ましく、10%以上であることがより好ましい。可視光反射率は、紫外・可視・近赤外分光光度計(島津製作所UV-3600)および積分球付属装置(ISR-3100)を用いて、入射角8°で可視領域380nm以上780nm以下での反射率(全反射率)を測定し、その平均反射率として、特定することができる。 In order to brightly display the design formed by the base design layer 22, the visible light reflectance of the base design layer 22 is preferably 5% or more, and more preferably 10% or more. The visible light reflectance can be determined by measuring the reflectance (total reflectance) in the visible range of 380 nm to 780 nm at an incident angle of 8° using an ultraviolet/visible/near-infrared spectrophotometer (Shimadzu UV-3600) and an integrating sphere accessory (ISR-3100), and determining the average reflectance.
さらに、ベース意匠層22による意匠表現をより有効とする観点から、ベース意匠層22の可視光吸収率は3%以下としてもよい。ベース意匠層22の可視光吸収率は3%以下となる場合、ベース意匠層22が白色または白に近い白色系の色を表示することが可能になり、ベース意匠層22によって形成される意匠の意匠性を高めることができる。可視光吸収率は、例えば紫外可視近赤外分光光度計(例えば、日本分光株式会社製「V-770」)を用いて測定波長380nm~780nmの範囲内で測定したときの各波長における吸収率の平均値として、特定することができる。 Furthermore, from the viewpoint of making the design expression by the base design layer 22 more effective, the visible light absorptance of the base design layer 22 may be 3% or less. When the visible light absorptance of the base design layer 22 is 3% or less, the base design layer 22 can display a white color or a white color close to white, and the design quality of the design formed by the base design layer 22 can be improved. The visible light absorptance can be determined as the average value of the absorptance at each wavelength when measured within the measurement wavelength range of 380 nm to 780 nm using, for example, an ultraviolet-visible-near infrared spectrophotometer (for example, "V-770" manufactured by JASCO Corporation).
その一方で、可視光の波長と赤外線の波長とは近いことから、一般に、可視光吸収率が低い材料は、赤外線吸収率も低くなる。ベース意匠層22の可視光吸収率が低い場合、ベース意匠層22の赤外線吸収率も低くなる。具体的には、ベース意匠層22の赤外線吸収率は3%以下となる傾向が生じる。 On the other hand, since the wavelengths of visible light and infrared light are close, materials with low visible light absorptance generally also have low infrared absorptance. If the visible light absorptance of the base design layer 22 is low, the infrared absorptance of the base design layer 22 will also be low. Specifically, the infrared absorptance of the base design layer 22 tends to be 3% or less.
パターン層23は、上述したように、加飾シート20の第1領域A1のみに設けられている。パターン層23は、ベース意匠層22の一部分上に設けられることで、パターンを形成している。パターン層23のパターンをなす第1領域A1の形状は、特に限定されることなく、適宜選択することができる。パターン層23は、そのパターン自体によって、図形、デザイン、色彩、絵、キャラクター、マーク、ピクトグラム、文字や数字などを表示するようにしてもよい。また、パターン層23は、当該パターン層23が設けられている第1領域A1内において、図形、デザイン、色彩、絵、キャラクター、マーク、ピクトグラム、文字や数字などの絵柄を表示するようにしてもよい。 As described above, the pattern layer 23 is provided only in the first region A1 of the decorative sheet 20. The pattern layer 23 is provided on a portion of the base design layer 22 to form a pattern. The shape of the first region A1 forming the pattern of the pattern layer 23 is not particularly limited and can be selected as appropriate. The pattern layer 23 may display figures, designs, colors, pictures, characters, marks, pictograms, letters, numbers, etc., by the pattern itself. Furthermore, the pattern layer 23 may display images such as figures, designs, colors, pictures, characters, marks, pictograms, letters, numbers, etc., within the first region A1 in which the pattern layer 23 is provided.
図示された一具体例において、パターン層23は、図3に示すように、加飾シート20の中央に位置するアルファベットの「D」をなす領域に形成されている。図示されたパターン層23は、単色の層となっている。つまり、このパターン層23は、単一の色にてアルファベットの「D」を表示している。一方、図示されたベース意匠層22は、パターン層23とは異なる単色の層となっている。つまり、ベース意匠層22は、パターン層23とは異なる色で、アルファベットの「D」の背景を表示している。 In one illustrated specific example, the pattern layer 23 is formed in an area forming the letter "D" located in the center of the decorative sheet 20, as shown in FIG. 3. The illustrated pattern layer 23 is a monochromatic layer. In other words, this pattern layer 23 displays the letter "D" in a single color. On the other hand, the illustrated base design layer 22 is a monochromatic layer different from the pattern layer 23. In other words, the base design layer 22 displays the background of the letter "D" in a color different from that of the pattern layer 23.
また、パターン層23は、赤外線を吸収する特性を有している。後述するように、加飾シート20の製造工程においてパターン層23を形成するようになる第1膜31は、ベース意匠層22を形成するようになる第2膜32で吸収されなかった赤外線領域のレーザー光を吸収する。このため、パターン層23は、ベース意匠層22より赤外線を吸収しやすくなっている。言い換えると、パターン層23の赤外線の吸収率は、ベース意匠層22の赤外線の吸収率より高くなっている。また、ここで、赤外線の吸収率とは、波長900nm以上1300nm以下の赤外線の平均吸収率を意味している。このような波長は、一般的に安価に入手可能で十分な出力の赤外線レーザー光源から照射されるレーザー光の波長であり、加飾シート20の製造工程において用いられるレーザー光の波長に適している。また、赤外線の吸収率は、例えば日本分光株式会社製の紫外可視近赤外分光光度計V-770を用いて測定波長900nm~1300nmの範囲内で測定したときの各波長における吸収率の平均値として、特定することができる。 The pattern layer 23 also has the property of absorbing infrared rays. As described later, the first film 31 that will form the pattern layer 23 in the manufacturing process of the decorative sheet 20 absorbs laser light in the infrared region that is not absorbed by the second film 32 that will form the base design layer 22. For this reason, the pattern layer 23 is more likely to absorb infrared rays than the base design layer 22. In other words, the infrared absorption rate of the pattern layer 23 is higher than that of the base design layer 22. Here, the infrared absorption rate means the average absorption rate of infrared rays with wavelengths of 900 nm to 1300 nm. Such wavelengths are the wavelengths of laser light irradiated from an infrared laser light source that is generally available at low cost and has sufficient output, and are suitable for the wavelengths of laser light used in the manufacturing process of the decorative sheet 20. The infrared absorption rate can be specified as the average value of the absorption rate at each wavelength when measured within the measurement wavelength range of 900 nm to 1300 nm using, for example, an ultraviolet-visible-near infrared spectrophotometer V-770 manufactured by JASCO Corporation.
パターン層23が赤外線を吸収しやすいよう、パターン層23の吸収スペクトルは、赤外線領域(780nm以上15000nm以下の波長域)に吸収率のピークを有している。具体的には、パターン層23の吸収スペクトルは、780nm以上15000nm以下の波長に吸収率のピークを有していることが好ましく、800nm以上10000nm以下の波長に吸収率のピークを有していることがより好ましく、900nm以上1300nm以下の波長に吸収率のピークを有していることがさらに好ましい。また、パターン層23の吸収スペクトルの吸収率のピークは、3%以上であることが好ましく、5%以上であることがより好ましい。ここで、吸収スペクトルとは、各波長〔nm〕における光の吸収率〔%〕の分布を意味している。また、パターン層23が赤外線を吸収しやすいよう、パターン層23の赤外線領域での吸収スペクトルのピークは、ベース意匠層22の赤外線領域での吸収スペクトルのピークよりも高くなっていることが好ましい。 In order for the pattern layer 23 to easily absorb infrared rays, the absorption spectrum of the pattern layer 23 has an absorptivity peak in the infrared region (wavelength range of 780 nm to 15,000 nm). Specifically, the absorption spectrum of the pattern layer 23 preferably has an absorptivity peak at a wavelength of 780 nm to 15,000 nm, more preferably has an absorptivity peak at a wavelength of 800 nm to 10,000 nm, and even more preferably has an absorptivity peak at a wavelength of 900 nm to 1,300 nm. In addition, the absorptivity peak of the absorption spectrum of the pattern layer 23 is preferably 3% or more, and more preferably 5% or more. Here, the absorption spectrum means the distribution of the absorptivity [%] of light at each wavelength [nm]. In addition, in order for the pattern layer 23 to easily absorb infrared rays, it is preferable that the absorption spectrum peak of the pattern layer 23 in the infrared region is higher than the absorption spectrum peak of the base design layer 22 in the infrared region.
ベース意匠層22及びパターン層23は、バインダー樹脂中に顔料等を含んだ層として形成することができる。また上述したように、ベース意匠層22及びパターン層23は、バインダー樹脂中に、アルミニウム、酸化チタン、雲母等の無機材料を含んだ層とすることもできる。 The base design layer 22 and the pattern layer 23 can be formed as layers containing pigments and the like in a binder resin. As described above, the base design layer 22 and the pattern layer 23 can also be layers containing inorganic materials such as aluminum, titanium oxide, and mica in a binder resin.
ベース意匠層22の厚さ及びパターン層23の厚さは、十分な意匠表現を行うことができる厚さ以上となっていることが好ましい。その一方で、ベース意匠層22の厚さ及びパターン層23の厚さは、後述するレーザー光による除去を可能にする厚さ以下となっていることが好ましい。具体的には、ベース意匠層22の厚さを1μm以上40μm以下とすることができる。パターン層23の厚さを1μm以上20μm以下とすることができる。なお、図示された例において、第2領域A2におけるベース意匠層22の厚さは、第1領域A1におけるベース意匠層22の厚さと第1領域A1におけるパターン層23の厚さとを足し合わせた厚さとなっている。 The thickness of the base design layer 22 and the pattern layer 23 is preferably at least as thick as sufficient design expression can be achieved. On the other hand, the thickness of the base design layer 22 and the pattern layer 23 is preferably at most as thick as sufficient for removal by laser light, as described below. Specifically, the thickness of the base design layer 22 can be 1 μm or more and 40 μm or less. The thickness of the pattern layer 23 can be 1 μm or more and 20 μm or less. In the illustrated example, the thickness of the base design layer 22 in the second region A2 is the sum of the thickness of the base design layer 22 in the first region A1 and the thickness of the pattern layer 23 in the first region A1.
遮光層24は、面光源装置10に対面する側からベース意匠層22を覆うように設けられている。遮光層24は、面光源装置10からの可視光がベース意匠層22に入射しないよう、可視光遮光性を有している。したがって、遮光層24の可視光透過率は、ベース意匠層22の可視光透過率よりも低くなっていることが好ましい。遮光層24は、例えば光吸収粒子をバインダー樹脂中に含み得る。光吸収粒子としては、カーボンブラックやチタンブラック等の黒色顔料を例示することができる。十分な厚さの遮光層24がベース意匠層22を覆っていると、ベース意匠層22によって形成される意匠を濃く明確に形成することができる。具体的な例として、遮光層24の厚さを、1μm以上20μm以下とすることができる。 The light-shielding layer 24 is provided so as to cover the base design layer 22 from the side facing the surface light source device 10. The light-shielding layer 24 has a visible light-shielding property so that visible light from the surface light source device 10 does not enter the base design layer 22. Therefore, it is preferable that the visible light transmittance of the light-shielding layer 24 is lower than the visible light transmittance of the base design layer 22. The light-shielding layer 24 may contain, for example, light-absorbing particles in a binder resin. Examples of light-absorbing particles include black pigments such as carbon black and titanium black. When the light-shielding layer 24 is sufficiently thick to cover the base design layer 22, the design formed by the base design layer 22 can be formed thick and clear. As a specific example, the thickness of the light-shielding layer 24 may be 1 μm or more and 20 μm or less.
なお、上述したように、可視光透過率は、分光光度計((株)島津製作所製「UV-3100PC」、JIS K 0115準拠品)を用いて測定波長380nm~780nmの範囲内で測定したときの、各波長における透過率の平均値として特定することができる。 As mentioned above, the visible light transmittance can be determined as the average value of the transmittance at each wavelength when measured using a spectrophotometer (Shimadzu Corporation's "UV-3100PC", compliant with JIS K 0115) in the measurement wavelength range of 380 nm to 780 nm.
ところで、図2に示すように、加飾シート20は、パターン層23が設けられている領域、すなわち第1領域A1に、遮光層24及びベース意匠層22を貫通してパターン層23に到達する開口部Hが形成されている。このような開口部Hの形成によって、加飾シート20は、第1領域A1において光の透過を促進させることができる。可視光を透過させる観点から、開口部Hの深さDHは、加飾シート20の第1領域A1における基材フィルム21を除いた厚さT1の90%以上であることが好ましく、典型的には、開口部Hはパターン層23を貫通して基材フィルム21に達している(図5参照)。すなわち、典型的には、遮光層24、パターン層23及びベース意匠層22を貫通した開口部(貫通孔)Hが形成されている。この開口部Hは、面光源装置10によって背面から照明された際に、面光源装置10で発光された光の透過部28として機能する。図5に示すように、図示された例において、第1領域A1における開口部Hは、加飾シート20を貫通する貫通孔として形成されている。 2, the decorative sheet 20 has an opening H formed in the region where the pattern layer 23 is provided, i.e., the first region A1, which penetrates the light-shielding layer 24 and the base design layer 22 to reach the pattern layer 23. By forming such an opening H, the decorative sheet 20 can promote the transmission of light in the first region A1. From the viewpoint of transmitting visible light, the depth DH of the opening H is preferably 90% or more of the thickness T1 excluding the base film 21 in the first region A1 of the decorative sheet 20, and typically, the opening H penetrates the pattern layer 23 to reach the base film 21 (see FIG. 5). That is, typically, an opening (through hole) H is formed that penetrates the light-shielding layer 24, the pattern layer 23, and the base design layer 22. This opening H functions as a transmission section 28 for light emitted by the surface light source device 10 when illuminated from behind by the surface light source device 10. As shown in FIG. 5, in the illustrated example, the opening H in the first area A1 is formed as a through hole that penetrates the decorative sheet 20.
貫通した開口部Hからなる透過部28は、図4に示すように、加飾シート20の正面からの観察において、ベース意匠層22、パターン層23及び遮光層24の非形成部となっている。面光源装置10で発光された光を十分に透過させるため、加飾シート20の第1領域A1の面積のうちの貫通した開口部Hが占める面積の割合、すなわち開口率は、10%以上となっていることが好ましく、15%以上であることがより好ましく、20%以上であることがさらに好ましい。その一方で、面光源装置10の消灯時におけるパターン層23の視認性を十分に確保するため、第1領域A1における開口率は、50%以下であることが好ましい。 As shown in FIG. 4, the transmissive portion 28 consisting of the through openings H is a non-formed portion of the base design layer 22, the pattern layer 23, and the light-shielding layer 24 when the decorative sheet 20 is observed from the front. In order to sufficiently transmit the light emitted by the surface light source device 10, the ratio of the area of the through openings H to the area of the first region A1 of the decorative sheet 20, i.e., the aperture ratio, is preferably 10% or more, more preferably 15% or more, and even more preferably 20% or more. On the other hand, in order to sufficiently ensure the visibility of the pattern layer 23 when the surface light source device 10 is turned off, the aperture ratio in the first region A1 is preferably 50% or less.
なお、図4は、図3の領域Zを拡大して示している。 Note that Figure 4 shows an enlarged view of area Z in Figure 3.
このように、加飾シート20の第1領域A1では、面光源装置10の点灯時に光の透過が促進される。一方、加飾シート20の第2領域A2では、面光源装置10の点灯時に光の透過が規制される。このため、貫通した開口部Hが占める面積の割合である開口率は、第1領域A1において、第2領域A2よりも大きくなる。結果として、パターン層23が設けられている第1領域A1での可視光透過率は、パターン層23が設けられていない第2領域A2での可視光透過率より高くなる。すなわち、貫通した開口部Hは、加飾シート20のうちの第1領域A1に集中的に形成されている。 In this way, in the first region A1 of the decorative sheet 20, light transmission is promoted when the surface light source device 10 is turned on. On the other hand, in the second region A2 of the decorative sheet 20, light transmission is restricted when the surface light source device 10 is turned on. For this reason, the aperture ratio, which is the proportion of the area occupied by the through-hole openings H, is greater in the first region A1 than in the second region A2. As a result, the visible light transmittance in the first region A1 where the pattern layer 23 is provided is higher than the visible light transmittance in the second region A2 where the pattern layer 23 is not provided. In other words, the through-hole openings H are concentrated in the first region A1 of the decorative sheet 20.
図4及び図5に示された加飾シート20において、パターン層23が設けられていない領域、すなわち第2領域A2に、ベース意匠層22を貫通する開口部Hは形成されていない。図示された例において、加飾シート20の第2領域A2には、貫通孔が設けられていない。したがって、図示された加飾シート20の第2領域A2における開口率は0%となり、加飾シート20の第2領域A2における可視光の透過は有効に規制される。 In the decorative sheet 20 shown in Figures 4 and 5, in the area where the pattern layer 23 is not provided, i.e., the second area A2, no openings H penetrating the base design layer 22 are formed. In the illustrated example, no through holes are provided in the second area A2 of the decorative sheet 20. Therefore, the opening ratio in the illustrated second area A2 of the decorative sheet 20 is 0%, and the transmission of visible light in the second area A2 of the decorative sheet 20 is effectively restricted.
なお、図5に示すように、加飾シート20の第2領域A2に、ベース意匠層22を貫通しない凹部(貫通しない開口部)Rが形成されていてもよい。後述するように、この凹部Rは、第1領域A1への開口部Hの作製にともなって、第2領域A2に形成される。面光源装置10によって背面から照明された際に、面光源装置10で発光された光の透過を有効に遮蔽する観点から、凹部Rの深さDRは、加飾シート20の第2領域A2における凹部Rが形成されていない位置での基材フィルム21を除いた厚さT2の80%以下であることが好ましく、70%以下であることがさらに好ましい。第2領域A2に凹部Rを形成し且つその深さDRを調節することで、加飾シート20の点灯時における第2領域A2の明るさを制御することができる。これにより、第1領域A1及び第2領域A2の明るさバランスにより、パターン層23による表示コントラストを調節して多様な意匠表現を可能とすることができる。 As shown in FIG. 5, a recess (opening that does not penetrate) R that does not penetrate the base design layer 22 may be formed in the second region A2 of the decorative sheet 20. As described later, this recess R is formed in the second region A2 in conjunction with the creation of the opening H in the first region A1. From the viewpoint of effectively blocking the transmission of light emitted by the surface light source device 10 when illuminated from behind by the surface light source device 10, the depth DR of the recess R is preferably 80% or less of the thickness T2 excluding the base film 21 at the position where the recess R is not formed in the second region A2 of the decorative sheet 20, and more preferably 70% or less. By forming the recess R in the second region A2 and adjusting its depth DR, the brightness of the second region A2 when the decorative sheet 20 is turned on can be controlled. As a result, the brightness balance between the first region A1 and the second region A2 can be adjusted to adjust the display contrast of the pattern layer 23, enabling a variety of design expressions.
図4に示された例において、第1領域A1に設けられた複数の開口部Hは互いに離間して配置されている。また、第1領域A1に設けられた複数の開口部Hは、規則的に配列されている。透過部28を形成する開口部Hが規則的に配列されることで、面光源装置10で発光された光が、概ね均一な明るさで、加飾シート20の第1領域A1を透過することができる。同様に、第2領域A2に設けられた複数の凹部Rは互いに離間して配置されている。また、第2領域A2に設けられた複数の凹部Rは、規則的に配列されている。凹部Rが規則的に配列されることで、面光源装置10が点灯して可視光を射出している際に、加飾シート20の第2領域A2を均一な明るさとすることができる。 In the example shown in FIG. 4, the multiple openings H provided in the first region A1 are spaced apart from each other. The multiple openings H provided in the first region A1 are also regularly arranged. By regularly arranging the openings H that form the transmission portion 28, the light emitted by the surface light source device 10 can be transmitted through the first region A1 of the decorative sheet 20 with a generally uniform brightness. Similarly, the multiple recesses R provided in the second region A2 are spaced apart from each other. The multiple recesses R provided in the second region A2 are also regularly arranged. By regularly arranging the recesses R, the second region A2 of the decorative sheet 20 can be made uniformly bright when the surface light source device 10 is turned on and emitting visible light.
さらに、加飾シート20において、開口部H及び凹部Rは、まとまて、規則的に配列されている。図示された例において、複数の開口部Hおよび複数の凹部Rは、それぞれ、正方配列にて配置されているが、これに限られず、ハニカム配列や千鳥配列で配列されてもよいし、或いは、不規則に配列されてもよい。複数の開口部Hの配列と複数の凹部Rの配列が異なっていてもよい。 Furthermore, in the decorative sheet 20, the openings H and recesses R are arranged regularly together. In the illustrated example, the multiple openings H and multiple recesses R are arranged in a square array, but this is not limited thereto, and they may be arranged in a honeycomb array or a staggered array, or may be arranged irregularly. The arrangement of the multiple openings H and the arrangement of the multiple recesses R may be different.
また、図4に示された例において、第1領域A1に設けられた複数の開口部Hは互いに同一な平面視形状を有している。具体的には、各開口部Hは、平面視において円形形状を有している。透過部28を形成する複数の開口部Hが一定の形状を有することで、面光源装置10で発光された光が、概ね均一な明るさで、加飾シート20の第1領域A1を透過することができる。同様に、図4に示された例において、第2領域A2に設けられた複数の凹部Rは互いに同一の平面視形状を有している。具体的には、各凹部Rは、平面視において円形形状を有している。凹部Rが一定の形状を有することで、面光源装置10が点灯して可視光を射出している際に、加飾シート20の第2領域A2を均一な明るさとすることができる。 In the example shown in FIG. 4, the multiple openings H provided in the first region A1 have the same shape in plan view. Specifically, each opening H has a circular shape in plan view. By having the multiple openings H forming the transmission portion 28 have a uniform shape, the light emitted by the surface light source device 10 can be transmitted through the first region A1 of the decorative sheet 20 with approximately uniform brightness. Similarly, in the example shown in FIG. 4, the multiple recesses R provided in the second region A2 have the same shape in plan view. Specifically, each recess R has a circular shape in plan view. By having the recesses R have a uniform shape, the second region A2 of the decorative sheet 20 can be made uniformly bright when the surface light source device 10 is turned on and emitting visible light.
さらに、図4に示された例において、開口部Hと凹部Rとが、平面視において同一の形状を有している。しかしながら、図示された例に限られず、複数の開口部Hの間で、開口部Hの平面視形状が異なるようにしてもよい。また、複数の凹部Rの間で、凹部Rの平面視形状が異なるようにしてもよい。さらに、開口部Hの平面視形状が凹部Rの平面視形状と異なるようにしてもよい。 In addition, in the example shown in FIG. 4, the openings H and the recesses R have the same shape in a plan view. However, this is not limited to the illustrated example, and the plan view shapes of the openings H may be different among the multiple openings H. Also, the plan view shapes of the recesses R may be different among the multiple recesses R. Furthermore, the plan view shape of the openings H may be different from the plan view shape of the recesses R.
なお、加飾シート20の意匠性の観点から、個々の開口部Hは視認されないことが好ましい。同様に、個々の凹部Rも視認されないことが好ましい。この観点から、複数の開口部Hの配列ピッチPHを、60μm以上160μm以下とすることができる。各開口部Hの最大幅WHを、30μm以上130μm以下とすることができる。各開口部Hの面積を、900μm2以上16900μm2以下とすることができる。また、複数の凹部Rの配列ピッチPRを、60μm以上160μm以下とすることができる。各凹部Rの最大幅WRを、30μm以上130μm以下とすることができる。各凹部Rの面積を、900μm2以上16900μm2以下とすることができる。 From the viewpoint of the design of the decorative sheet 20, it is preferable that each opening H is not visible. Similarly, it is preferable that each recess R is not visible. From this viewpoint, the arrangement pitch PH of the multiple openings H can be set to 60 μm or more and 160 μm or less. The maximum width WH of each opening H can be set to 30 μm or more and 130 μm or less. The area of each opening H can be set to 900 μm 2 or more and 16900 μm 2 or less. In addition, the arrangement pitch PR of the multiple recesses R can be set to 60 μm or more and 160 μm or less. The maximum width WR of each recess R can be set to 30 μm or more and 130 μm or less. The area of each recess R can be set to 900 μm 2 or more and 16900 μm 2 or less.
次に、本実施の形態の加飾シート付き表示装置1の作用について説明する。 Next, we will explain the operation of the display device 1 with decorative sheet of this embodiment.
面光源装置10が消灯して発光面11から可視光が発光されていない状態では、図3に示すように、加飾シート20のベース意匠層22の色とパターン層23の色との相違により、パターン層23が形成された第1領域A1のパターンが視認される。すなわち、パターン層23のパターンが視認されるようになる。また、加飾シート20によって、面光源装置10を隠蔽することができる。さらに、ベース意匠層22自体の意匠性によって、加飾シート付き表示装置1が設置されている周囲環境と、加飾シート20との調和を図ることもできる。 When the surface light source device 10 is turned off and no visible light is emitted from the light-emitting surface 11, as shown in FIG. 3, the pattern of the first area A1 in which the pattern layer 23 is formed is visible due to the difference in color between the base design layer 22 and the pattern layer 23 of the decorative sheet 20. In other words, the pattern of the pattern layer 23 becomes visible. The decorative sheet 20 can also conceal the surface light source device 10. Furthermore, the design of the base design layer 22 itself can harmonize the decorative sheet 20 with the surrounding environment in which the display device with decorative sheet 1 is installed.
一方、面光源装置10が点灯して発光面11から可視光が発光されている状態では、開口部Hが形成された第1領域A1の可視光透過率が、第2領域A2の可視光透過率よりも高くなる。結果として、面光源装置10の消灯時よりも、図6に示すようにパターン層23が形成された第1領域A1のパターンは明るく確認され得る。一方、第2領域A2には開口部Hが形成されていないので、面光源装置10で発光された可視光は、高い透過率で、第2領域A2において加飾シート20を透化することはない。このため、ベース意匠層22は、環境光の反射によって視認されるだけなので、パターン層23ほど明るくは観察されない。すなわち、パターン層23を高コントラストで明瞭に視認することができる。 On the other hand, when the surface light source device 10 is turned on and visible light is emitted from the light-emitting surface 11, the visible light transmittance of the first region A1 in which the openings H are formed is higher than that of the second region A2. As a result, the pattern of the first region A1 in which the pattern layer 23 is formed can be seen brighter than when the surface light source device 10 is turned off, as shown in FIG. 6. On the other hand, since the openings H are not formed in the second region A2, the visible light emitted by the surface light source device 10 does not penetrate the decorative sheet 20 in the second region A2 with high transmittance. For this reason, the base design layer 22 is only visible due to the reflection of ambient light, and is not observed as brightly as the pattern layer 23. In other words, the pattern layer 23 can be clearly seen with high contrast.
なお、ベース意匠層22は、遮光層24によって面光源装置10の側から覆われている。したがって、遮光層24によって、面光源装置10で発光された可視光がベース意匠層22へ入射することを効果的に規制することができる。このため、第1領域A1において、ベース意匠層22及びパターン層23を可視光が透過して、ベース意匠層22とパターン層23との混色によって意図しない色味でパターン層23が視認されることを効果的に回避することができる。さらに、図示された例では、面光源装置10の発光面11と非発光面12との境界Bが、加飾シート20の第2領域A2内に位置するが、可視光が第2領域A2を積極的に透過しないので、この境界Bを不可視化することができる。 The base design layer 22 is covered from the side of the surface light source device 10 by the light-shielding layer 24. Therefore, the light-shielding layer 24 can effectively restrict the visible light emitted by the surface light source device 10 from entering the base design layer 22. Therefore, in the first region A1, it is possible to effectively prevent the pattern layer 23 from being viewed in an unintended color due to the mixing of the base design layer 22 and the pattern layer 23 by visible light passing through the base design layer 22 and the pattern layer 23. Furthermore, in the illustrated example, the boundary B between the light-emitting surface 11 and the non-light-emitting surface 12 of the surface light source device 10 is located within the second region A2 of the decorative sheet 20, but since visible light does not actively pass through the second region A2, this boundary B can be made invisible.
次に、加飾シート20の製造方法の一例について、説明する。 Next, we will explain an example of a manufacturing method for the decorative sheet 20.
まず、図8に示すように、基材フィルム21の第1領域A1に、パターン層23を形成するようになる第1膜31を形成する。次に、図9に示すように、基材フィルム21及び第1膜31を覆うようにして、ベース意匠層22を形成するようになる第2膜32を形成する。その後、図10に示すように、第2膜32を覆うようにして、遮光層24を形成するようになる第3膜33を形成する。第1膜31、第2膜32及び第3膜33は、対応する各層に含まれるようになる無機材料や顔料等を含んだ樹脂組成物を塗布および乾燥することによって形成され得る。なお、樹脂組成物の塗布は公知のコーティング技術を用いることで実施することができる。この際、第1膜31をなす樹脂組成物を基材フィルム21上の第1領域A1のみに塗布することも公知技術を用いて、極めて容易、迅速、且つ、精度良く実施することができる。 First, as shown in FIG. 8, a first film 31 that will form the pattern layer 23 is formed in the first region A1 of the base film 21. Next, as shown in FIG. 9, a second film 32 that will form the base design layer 22 is formed so as to cover the base film 21 and the first film 31. Thereafter, as shown in FIG. 10, a third film 33 that will form the light-shielding layer 24 is formed so as to cover the second film 32. The first film 31, the second film 32, and the third film 33 can be formed by applying and drying a resin composition that contains inorganic materials, pigments, etc. that will be contained in each corresponding layer. The application of the resin composition can be carried out using a known coating technique. At this time, the resin composition that forms the first film 31 can also be applied only to the first region A1 on the base film 21 using a known technique, very easily, quickly, and accurately.
このようにして形成された積層物34において、第1膜31の赤外線の吸収率は、第2膜32の赤外線の吸収率より高くなっていることが好ましい。第1膜31の吸収スペクトルのピークは、第2膜32の吸収スペクトルのピークよりも高くなっていることが好ましい。第1膜31の吸収スペクトルは、赤外線領域にピークを有することが好ましい。第1膜31の吸収スペクトルは、900nm以上1300nm以下の波長にピークを有するようにしてもよい。第1膜31の赤外線領域での吸収スペクトルのピークは、3%以上であるようにしてもよい。 In the laminate 34 thus formed, the infrared absorption rate of the first film 31 is preferably higher than that of the second film 32. The peak of the absorption spectrum of the first film 31 is preferably higher than that of the second film 32. The absorption spectrum of the first film 31 preferably has a peak in the infrared region. The absorption spectrum of the first film 31 may have a peak at a wavelength of 900 nm or more and 1300 nm or less. The peak of the absorption spectrum of the first film 31 in the infrared region may be 3% or more.
次に、図11に示すように、開口部Hを形成すべき位置にレーザー装置40からレーザー光Lxを照射する。レーザー光は、基材フィルム21側とは逆側、すなわち第2膜32及び第3膜33の側から照射される。レーザー光Lxの波長は、赤外線領域の波長780nm以上1300nm以下であり、例えば900nm以上1300nm以下である。レーザー光Lxの具体的な例として、波長1064nmのNd:YAGレーザーのレーザー光を用いることができる。レーザー装置40から発振されるレーザー光Lxを赤外線とすることで、ベース意匠層22やパターン層23の色や柄の影響を弱めて、ベース意匠層22をなす第2膜32でのレーザー光Lxの吸収率よりもパターン層23をなす第1膜31でのレーザー光Lxの吸収率を高く設定し易くなる。 Next, as shown in FIG. 11, the laser device 40 irradiates the laser light Lx at the position where the opening H is to be formed. The laser light is irradiated from the opposite side to the base film 21 side, that is, from the side of the second film 32 and the third film 33. The wavelength of the laser light Lx is 780 nm or more and 1300 nm or less in the infrared region, for example, 900 nm or more and 1300 nm or less. As a specific example of the laser light Lx, a laser light of an Nd:YAG laser with a wavelength of 1064 nm can be used. By making the laser light Lx emitted from the laser device 40 infrared, the influence of the color and pattern of the base design layer 22 and the pattern layer 23 is weakened, and it becomes easier to set the absorption rate of the laser light Lx in the first film 31 that forms the pattern layer 23 higher than the absorption rate of the laser light Lx in the second film 32 that forms the base design layer 22.
図11に示す例では、レーザー装置40の射出部を一定のピッチでずらしながら、レーザー光Lxを積層物34に第3膜33の側から照射する。このとき、積層物34の第3膜33上におけるレーザー光Lxの照射領域は、特に煩雑な制御を行うことなく、第3膜33のほぼ全域、或いは、第3膜33のうちの明らかに第1領域A1外となる周縁領域以外の領域に、レーザー光Lxを照射すればよい。すなわち、微細な開口部を形成することから極めて微細なスポット径を有するようになるレーザー光Lxの照射領域を高精度に制御することなく、例えば第1領域A1のみに限定されるように制御することなく、レーザー装置40のピッチおよび出力のみを制御して、レーザー装置40からレーザー光Lxを照射していく。第1領域A1を示す第1膜31は第3膜33で隠蔽されていることから、レーザー光Lxを第1領域A1のみに照射する位置決め制御は煩雑となることが想定されるが、このような煩雑な作業を省略し得ることで生産性を大幅に向上させることができる。 In the example shown in FIG. 11, the laser light Lx is irradiated from the third film 33 side to the laminate 34 while shifting the emission part of the laser device 40 at a certain pitch. At this time, the irradiation area of the laser light Lx on the third film 33 of the laminate 34 can be irradiated with the laser light Lx without performing any particularly complicated control, and the laser light Lx can be irradiated to almost the entire area of the third film 33 or to an area of the third film 33 other than the peripheral area that is clearly outside the first area A1. In other words, the irradiation area of the laser light Lx, which has an extremely fine spot diameter because it forms a fine opening, is not controlled with high precision, for example, without being controlled so as to be limited to only the first area A1, but the laser light Lx is irradiated from the laser device 40 by controlling only the pitch and output of the laser device 40. Since the first film 31 indicating the first area A1 is hidden by the third film 33, it is expected that the positioning control for irradiating the laser light Lx only to the first area A1 will be complicated, but by being able to omit such complicated work, productivity can be significantly improved.
なお、レーザー装置40から発振されるレーザー光Lxの出力は、第2領域A2において、第2膜32をすべて溶融除去しない程度とする。すなわち、レーザー装置40の出力を抑えて、第2領域A2では第3膜33及び第2膜32を貫通する開口部が形成されないようにする。図11に示された例では、第2領域A2において、第3膜33及び第2膜32の合計厚みの半分程度まで第3膜33及び第2膜32を除去している。この結果、第3膜33を貫通して第2膜32の途中まで延びる凹部Rが形成されている。 The output of the laser light Lx emitted from the laser device 40 is set to a level that does not melt and remove all of the second film 32 in the second region A2. In other words, the output of the laser device 40 is suppressed so that an opening penetrating the third film 33 and the second film 32 is not formed in the second region A2. In the example shown in FIG. 11, the third film 33 and the second film 32 are removed to about half of the total thickness of the third film 33 and the second film 32 in the second region A2. As a result, a recess R is formed that penetrates the third film 33 and extends partway through the second film 32.
一方、第1領域A1においては、レーザー光Lxが照射された位置において、第3膜33、第2膜32及び第1膜31がすべて除去されて、基材フィルム21まで通じる貫通した開口部29が形成される。第1領域A1では、レーザー光Lxの入射側から最も離間した位置に配置された第1膜31が、レーザー装置40から投射される波長域のレーザー光Lxを高吸収率(例えば3%以上、さらに好ましくは5%以上の吸収率)で吸収することができる。したがって、第1膜31上の第2膜32が完全に除去され得ない程度の出力でレーザー光Lxが照射されている場合でも、図12に示すように、レーザー光Lxの一部が第1膜31に到達して第1膜31に効率良く吸収されることで、第1膜31が溶融する。これにともなって、まず、溶融した第1膜31に隣接する第2膜32も溶融する。更に、溶融した第1膜31の蒸発にともなって、溶融した第2膜32も蒸発する。 On the other hand, in the first region A1, the third film 33, the second film 32, and the first film 31 are all removed at the position where the laser light Lx is irradiated, and a through opening 29 leading to the base film 21 is formed. In the first region A1, the first film 31 arranged at the position farthest from the incident side of the laser light Lx can absorb the laser light Lx in the wavelength range projected from the laser device 40 with a high absorption rate (for example, an absorption rate of 3% or more, more preferably 5% or more). Therefore, even if the laser light Lx is irradiated with an output that does not completely remove the second film 32 on the first film 31, as shown in FIG. 12, a part of the laser light Lx reaches the first film 31 and is efficiently absorbed by the first film 31, melting the first film 31. Accordingly, first, the second film 32 adjacent to the melted first film 31 also melts. Furthermore, the melted second film 32 also evaporates with the evaporation of the melted first film 31.
以上にようにして、レーザー光Lxの照射によって、積層物34の第2領域A2に凹部Rを形成し、第1膜31が設けられた積層物34の第1領域A1に開口部Hを形成することできる。この製造方法では、第1領域A1に照射する際のレーザー光Lxの照射条件と、第2領域A2に照射する際のレーザー光Lxの照射条件とを同一とすることができる。したがって、積層物34のうちの第1領域A1の領域を特定する必要がない。なお、第1膜31を隠蔽し得る第3膜33の側からレーザー光Lxを照射することから、第1膜31が設けられた第1領域A1を特定して第1領域A1のみにレーザー光Lxを照射すること煩雑である。この点において、上述した製造方法では、第1領域A1の特定を省略して、一定の照射条件で第3膜33の全域にレーザー光Lxを照射することで、第1領域A1に選択的に開口部Hを形成し、第2領域A2に選択的に凹部Rを形成することができる。したがって、優れた意匠性を奏する加飾シート20の製造を大幅に単純化することができる。 In this manner, by irradiating the laser light Lx, a recess R can be formed in the second region A2 of the laminate 34, and an opening H can be formed in the first region A1 of the laminate 34 where the first film 31 is provided. In this manufacturing method, the irradiation conditions of the laser light Lx when irradiating the first region A1 and the irradiation conditions of the laser light Lx when irradiating the second region A2 can be made the same. Therefore, it is not necessary to specify the region of the first region A1 of the laminate 34. Since the laser light Lx is irradiated from the side of the third film 33 that can hide the first film 31, it is complicated to specify the first region A1 where the first film 31 is provided and irradiate only the first region A1 with the laser light Lx. In this respect, in the above-mentioned manufacturing method, the specification of the first region A1 is omitted, and the laser light Lx is irradiated to the entire area of the third film 33 under certain irradiation conditions, so that an opening H can be selectively formed in the first region A1 and a recess R can be selectively formed in the second region A2. This greatly simplifies the manufacture of the decorative sheet 20, which has excellent design qualities.
レーザー光Lxが照射されずに除去されなかった第3膜33、第2膜32及び第1膜31が、それぞれ、遮光層24、ベース意匠層22及びパターン層23を形成するようになる。以上の工程によって、加飾シート20が製造される。 The third film 33, the second film 32, and the first film 31 that were not irradiated with the laser light Lx and thus not removed form the light-shielding layer 24, the base design layer 22, and the pattern layer 23, respectively. Through the above steps, the decorative sheet 20 is manufactured.
ところで、パターン層23を含まない加飾シート120は、図15に示すように、基材フィルム121上に第2膜132及び第3膜133を積層し、透過部128を形成すべき位置に出力を調整したレーザー光Lyを照射することで製造され得る。このようにして加飾シート120が製造されると、図16に示すように、ベース意匠層122を形成するようになる第2膜132が十分に除去されずに、一部の透過部128内に第2膜132の残留物132rが残ることがある。このような残留物132rが残った透過部128と残留物132rが残っていない透過部128との間では意匠性に違いが生じ得る。具体的には、残留物132rによって表示すべき意匠より意匠が濃く表示されてしまうことがある。この意匠性の違いに起因して、加飾シート120が表示する意匠に濃淡の模様が生じてしまい、加飾シート120が表示すべき意匠が損なわれ、加飾シート120によって付与される意匠性が悪化し得る。 The decorative sheet 120 not including the pattern layer 23 can be manufactured by laminating the second film 132 and the third film 133 on the base film 121 and irradiating the position where the transparent portion 128 is to be formed with laser light Ly with adjusted output, as shown in FIG. 15. When the decorative sheet 120 is manufactured in this manner, as shown in FIG. 16, the second film 132 that will form the base design layer 122 may not be sufficiently removed, and residues 132r of the second film 132 may remain in some of the transparent portions 128. There may be a difference in design between the transparent portion 128 with such residues 132r remaining and the transparent portion 128 without residues 132r remaining. Specifically, the residues 132r may cause the design to be displayed darker than the design that should be displayed. Due to this difference in design, a shading pattern will appear in the design displayed by the decorative sheet 120, which may impair the design that the decorative sheet 120 is intended to display and deteriorate the design provided by the decorative sheet 120.
本件発明者らが鋭意検討した結果、このような残留物132rは、第2膜132がレーザー光Lyを十分に吸収しないことが原因となっていることが知見された。具体的には、第2膜132がレーザー光Lyを十分に吸収しないことに起因して、第2膜132が十分に溶融蒸発せず、一部の第2膜132が残留して透過部128に残ってしまう。レーザー光Lyを吸収する第2膜132とレーザー光Lyを十分に吸収しない第2膜132とは、例えば各位置における第2膜132によって形成されるようになるベース意匠層122の各位置の色や柄の違いに起因して生じ得ることも確認された。 As a result of careful investigation by the inventors of the present invention, it was found that such residue 132r is caused by the second film 132 not absorbing the laser light Ly sufficiently. Specifically, due to the second film 132 not absorbing the laser light Ly sufficiently, the second film 132 does not melt or evaporate sufficiently, and some of the second film 132 remains in the transparent portion 128. It was also confirmed that the second film 132 that absorbs the laser light Ly and the second film 132 that does not absorb the laser light Ly sufficiently can be caused by, for example, differences in color and pattern at each position of the base design layer 122 that is formed by the second film 132 at each position.
一方、本実施の形態の加飾シート20は、開口部Hを形成すべき第1領域A1において、基材フィルム21とベース意匠層22との間に赤外線を吸収するパターン層23が配置されている。すなわち、加飾シート20の製造工程において、基材フィルム21と第2膜32との間に、パターン層23を形成するようになる第1膜31が配置されている。パターン層23の赤外線の吸収率は、ベース意匠層22の赤外線の吸収率より高くなっている。すなわち、加飾シート20の製造工程において、第1膜31の赤外線の吸収率は、第2膜32の赤外線の吸収率より高くなっている。このため、第2膜32において開口部Hを形成するレーザー光が十分に吸収されなくても、第1膜31においてレーザー光を十分に吸収することができる。レーザー光を吸収した第1膜31が溶融蒸発することで、第1膜31上に積層された第2膜32及び第3膜33を、残留物をほとんど残さずに除去することができる。すなわち、加飾シート20の第1領域A1において、開口部Hに残留物を残りにくくさせることができる。 On the other hand, in the decorative sheet 20 of this embodiment, in the first region A1 where the opening H is to be formed, a pattern layer 23 that absorbs infrared rays is arranged between the base film 21 and the base design layer 22. That is, in the manufacturing process of the decorative sheet 20, a first film 31 that will form the pattern layer 23 is arranged between the base film 21 and the second film 32. The infrared absorption rate of the pattern layer 23 is higher than that of the base design layer 22. That is, in the manufacturing process of the decorative sheet 20, the infrared absorption rate of the first film 31 is higher than that of the second film 32. For this reason, even if the laser light that forms the opening H is not sufficiently absorbed in the second film 32, the laser light can be sufficiently absorbed in the first film 31. The first film 31 that absorbs the laser light melts and evaporates, so that the second film 32 and the third film 33 stacked on the first film 31 can be removed with almost no residue left behind. In other words, in the first area A1 of the decorative sheet 20, it is possible to make it difficult for residue to remain in the opening H.
また、パターン層23の吸収スペクトルは、赤外線領域に吸収率のピークを有している。すなわち、加飾シート20の製造工程において、第1膜31の吸収スペクトルは、赤外線領域に吸収率のピークを有している。このため、第1膜31は、ピークとなる波長の赤外線を効率よく吸収することができる。第1膜31のピークとなる波長が開口部Hを形成するレーザー光Lxの波長に近いと、第1膜31においてレーザー光が効率よく吸収される。レーザー光を吸収した第1膜31が溶融蒸発することで、第1膜31上に積層された第2膜32及び第3膜33を、残留物をほとんど残さずに除去して、加飾シート20の第1領域A1に形成される開口部Hの内部に残留物を残りにくくさせることができる。 The absorption spectrum of the pattern layer 23 has a peak absorptivity in the infrared region. That is, in the manufacturing process of the decorative sheet 20, the absorption spectrum of the first film 31 has a peak absorptivity in the infrared region. Therefore, the first film 31 can efficiently absorb infrared rays at the peak wavelength. When the peak wavelength of the first film 31 is close to the wavelength of the laser light Lx that forms the opening H, the laser light is efficiently absorbed in the first film 31. The first film 31 that absorbs the laser light melts and evaporates, so that the second film 32 and the third film 33 stacked on the first film 31 can be removed with almost no residue left behind, making it difficult for residue to remain inside the opening H formed in the first area A1 of the decorative sheet 20.
さらに、パターン層23の赤外線領域での吸収スペクトルのピークは、ベース意匠層22の赤外線領域での吸収スペクトルのピークより高くなっている。すなわち、加飾シート20の製造工程において、第1膜31の赤外線領域での吸収スペクトルのピークは、第2膜32の赤外線領域での吸収スペクトルのピークよりも高くなっている。このため、第1膜31は、第2膜32よりも赤外線を効率よく吸収することができる。言い換えると、第1膜31は、第2膜32よりもレーザー光を効率よく吸収することができる。レーザー光を吸収した第1膜31が溶融蒸発することで、第1膜31上に積層された第2膜32及び第3膜33を、残留物をほとんど残さずに除去して、加飾シート20の第1領域A1に形成される開口部Hの内部に残留物を付着残りにくくさせることができる。 Furthermore, the peak of the absorption spectrum of the pattern layer 23 in the infrared region is higher than the peak of the absorption spectrum of the base design layer 22 in the infrared region. That is, in the manufacturing process of the decorative sheet 20, the peak of the absorption spectrum of the first film 31 in the infrared region is higher than the peak of the absorption spectrum of the second film 32 in the infrared region. Therefore, the first film 31 can absorb infrared rays more efficiently than the second film 32. In other words, the first film 31 can absorb laser light more efficiently than the second film 32. By melting and evaporating the first film 31 that absorbs the laser light, the second film 32 and the third film 33 stacked on the first film 31 can be removed with almost no residue left behind, and residue is less likely to remain inside the opening H formed in the first area A1 of the decorative sheet 20.
パターン層23の吸収スペクトルは、900nm以上1300nm以下の波長に吸収率のピークを有している。すなわち、加飾シート20の製造工程において、第1膜31の吸収スペクトルは、900nm以上1300nm以下の波長に吸収率のピークを有している。このため、第1膜31は、この波長の赤外線を効率よく吸収することができる。開口部Hを形成するレーザー光Lxが900nm以上1300nm以下となる波長であると、第1膜31においてレーザー光Lxがより効率よく吸収される。レーザー光Lxを吸収した第1膜31が溶融蒸発することで、第1膜31上に積層された第2膜32及び第3膜33を、残留物をほとんど残さずに除去して、加飾シート20の第1領域A1に形成される開口部Hに残留物を残りにくくさせることができる。 The absorption spectrum of the pattern layer 23 has a peak absorptivity at a wavelength of 900 nm or more and 1300 nm or less. That is, in the manufacturing process of the decorative sheet 20, the absorption spectrum of the first film 31 has a peak absorptivity at a wavelength of 900 nm or more and 1300 nm or less. Therefore, the first film 31 can efficiently absorb infrared rays of this wavelength. When the laser light Lx forming the opening H has a wavelength of 900 nm or more and 1300 nm or less, the laser light Lx is absorbed more efficiently in the first film 31. By melting and evaporating the first film 31 that absorbs the laser light Lx, the second film 32 and the third film 33 laminated on the first film 31 can be removed with almost no residue left behind, and residue is less likely to remain in the opening H formed in the first area A1 of the decorative sheet 20.
また、パターン層23の吸収スペクトルの吸収率のピークは、3%以上である。すなわち、加飾シート20の製造工程において、第1膜31の吸収スペクトルの吸収率のピークは、3%以上である。このため、第1膜31の吸収スペクトルの吸収率のピークにおける赤外線をより効率よく吸収することができる。開口部Hを形成するレーザー光が第1膜31のピークまたはその近傍となる波長であると、第1膜31においてレーザー光がより効率よく吸収される。レーザー光を吸収した第1膜31が溶融蒸発することで、第1膜31上に積層された第2膜32及び第3膜33を、残留物をほとんど残さずに除去して、加飾シート20の第1領域A1に形成される開口部Hに残留物を残りにくくさせることができる。 The peak of the absorption rate of the absorption spectrum of the pattern layer 23 is 3% or more. That is, in the manufacturing process of the decorative sheet 20, the peak of the absorption rate of the absorption spectrum of the first film 31 is 3% or more. Therefore, infrared rays at the peak of the absorption rate of the absorption spectrum of the first film 31 can be absorbed more efficiently. If the laser light forming the opening H has a wavelength at or near the peak of the first film 31, the laser light is absorbed more efficiently in the first film 31. By melting and evaporating the first film 31 that absorbs the laser light, the second film 32 and the third film 33 laminated on the first film 31 can be removed with almost no residue left behind, and residue is less likely to remain in the opening H formed in the first area A1 of the decorative sheet 20.
また、ベース意匠層22は、酸化チタン等の無機材料を含んでいる。無機材料は第2膜32においてレーザー光を十分に吸収しないと、残留物として残って開口部Hに残留しやすい。しかしながら、本実施の形態のように、基材フィルム21とベース意匠層22との間に赤外線を吸収するパターン層23が配置されていると、加飾シート20の製造工程において、パターン層23を形成するようになる第1膜31が赤外線を十分に吸収するため、第2膜32がこのような無機材料を含んでいたとしても、レーザー光Lxを吸収した第1膜31が溶融蒸発することで、残留物をほとんど残さずに第2膜32を除去することができる。すなわち、加飾シート20の第1領域A1に形成される開口部Hに残留物を残りにくくさせることができる。 The base design layer 22 also contains an inorganic material such as titanium oxide. If the second film 32 does not sufficiently absorb the laser light, the inorganic material will remain as a residue and will tend to remain in the opening H. However, as in this embodiment, when a pattern layer 23 that absorbs infrared rays is disposed between the base film 21 and the base design layer 22, the first film 31 that will form the pattern layer 23 will sufficiently absorb infrared rays in the manufacturing process of the decorative sheet 20. Therefore, even if the second film 32 contains such an inorganic material, the first film 31 that absorbs the laser light Lx will melt and evaporate, and the second film 32 can be removed with almost no residue. In other words, it is possible to make it difficult for residue to remain in the opening H formed in the first area A1 of the decorative sheet 20.
とりわけ、無機材料は、アルミニウム、酸化チタン、雲母のいずれかを含んでいる。このような材料を含む場合、ベース意匠層22の可視光反射率は、5%以上になり得る。このようなベース意匠層22は赤外線も吸収しにくくなる傾向があり、レーザー光を照射しても除去されにくい。このため、第2膜32にレーザー光を照射することによって開口部Hを形成することは困難であった。一方、本実施の形態のように、基材フィルム21とベース意匠層22との間に赤外線を吸収するパターン層23が配置されていると、加飾シート20の製造工程において、パターン層23を形成するようになる第1膜31が赤外線Lxを十分に吸収するため、第2膜32が赤外線を吸収しにくくても、レーザー光を吸収した第1膜31が溶融蒸発することで、残留物をほとんど残さずに第2膜32を除去することができる。すなわち、加飾シート20の第1領域A1に形成される開口部Hに残留物を残りにくくさせることができる。 In particular, the inorganic material includes aluminum, titanium oxide, or mica. When such materials are included, the visible light reflectance of the base design layer 22 can be 5% or more. Such a base design layer 22 also tends to be less resistant to absorbing infrared rays, and is difficult to remove even when irradiated with laser light. For this reason, it was difficult to form the opening H by irradiating the second film 32 with laser light. On the other hand, if a pattern layer 23 that absorbs infrared rays is disposed between the substrate film 21 and the base design layer 22 as in the present embodiment, in the manufacturing process of the decorative sheet 20, the first film 31 that will form the pattern layer 23 sufficiently absorbs infrared rays Lx, so that even if the second film 32 does not easily absorb infrared rays, the first film 31 that absorbs the laser light melts and evaporates, and the second film 32 can be removed with almost no residue. In other words, it is possible to make it difficult for residue to remain in the opening H formed in the first area A1 of the decorative sheet 20.
以上に説明してきた一実施の形態において、加飾シートの製造方法は、基材フィルム21上にパターン層23を形成するようになる第1膜31及びベース意匠層22を形成するようになる第2膜32を積層する工程と、第2膜32の側からレーザー光を照射することで、第1膜31及び第2膜32の一部を除去して、開口部Hを形成する工程と、を含んでいる。このような加飾シートの製造方法によれば、ベース意匠層22を形成するようになる第2膜32において開口部Hを形成するためのレーザー光Lxが十分に吸収されず、その一方で、パターン層23を形成するようになる第1膜31においてレーザー光Lxが十分に吸収されるようにすることができる。したがって、第1膜31が設けられている第1領域A1では、レーザー光Lxを吸収した第1膜31が溶融蒸発することで、第1膜31上に積層された第2膜32を除去して、可視光が十分に透過し得る開口部Hを形成することができる。一方、第1膜31が設けられていない第2領域A2では、レーザー光Lxが第2膜32に吸収されにくいことから、深さDRの浅い凹部Rが形成されるようにすることができる。すなわち、第2膜32の全域にレーザー光Lxを照射してとしても、パターン層23を形成する第1膜31が設けられている第1領域A1のみに、可視光が十分に透過し得る開口部Hが形成されるようにすることができる。つまり、本実施の形態によれば、第1膜31の形成領域を調節することによって、可視光が十分に透過し得る開口部Hの形成領域を制御することができる。第1膜31の形成領域の調節は、レーザー光Lxの照射領域を調節することと比較して格段に容易である。したがって、優れた意匠性を有する加飾シート20を容易且つ安価に作製することができる。 In the embodiment described above, the manufacturing method of the decorative sheet includes a step of laminating the first film 31, which will form the pattern layer 23, and the second film 32, which will form the base design layer 22, on the base film 21, and a step of removing a part of the first film 31 and the second film 32 by irradiating laser light from the side of the second film 32 to form an opening H. According to this manufacturing method of the decorative sheet, the laser light Lx for forming the opening H is not sufficiently absorbed in the second film 32, which will form the base design layer 22, while the laser light Lx can be sufficiently absorbed in the first film 31, which will form the pattern layer 23. Therefore, in the first region A1 where the first film 31 is provided, the first film 31 that absorbs the laser light Lx melts and evaporates, thereby removing the second film 32 laminated on the first film 31, and forming an opening H through which visible light can be sufficiently transmitted. On the other hand, in the second region A2 where the first film 31 is not provided, the laser light Lx is not easily absorbed by the second film 32, so that a recess R with a shallow depth DR can be formed. That is, even if the entire area of the second film 32 is irradiated with the laser light Lx, the opening H through which visible light can be sufficiently transmitted can be formed only in the first region A1 where the first film 31 forming the pattern layer 23 is provided. In other words, according to this embodiment, by adjusting the formation area of the first film 31, the formation area of the opening H through which visible light can be sufficiently transmitted can be controlled. Adjusting the formation area of the first film 31 is much easier than adjusting the irradiation area of the laser light Lx. Therefore, the decorative sheet 20 with excellent design can be easily and inexpensively produced.
上述した一実施の形態の一具体例において、レーザー光Lxの波長における第1膜31の吸収率は、レーザー光Lxの波長における第2膜32の吸収率より高くしている。この例によれば、レーザー光Lxを吸収した第1膜31が溶融蒸発することで、第1膜31上に積層された第2膜32を安定して除去することができる。したがって、可視光の透過を十分に促進し得る開口部Hを第1領域A1に安定して形成することができる。その一方で、第1膜31が設けられていない第2領域A2では、可視光の透過を十分に促進し得る開口部Hに代えて、深さの浅い凹部Rを形成することができる。すなわち、開口部Hの形成領域を、第1膜31のパターンによって高精度に制御することが可能となる。 In one specific example of the embodiment described above, the absorptance of the first film 31 at the wavelength of the laser light Lx is higher than the absorptance of the second film 32 at the wavelength of the laser light Lx. According to this example, the first film 31 that absorbs the laser light Lx melts and evaporates, so that the second film 32 stacked on the first film 31 can be stably removed. Therefore, the opening H that can sufficiently promote the transmission of visible light can be stably formed in the first region A1. On the other hand, in the second region A2 where the first film 31 is not provided, a shallow recess R can be formed instead of the opening H that can sufficiently promote the transmission of visible light. In other words, it is possible to control the formation region of the opening H with high precision by the pattern of the first film 31.
上述した一実施の形態の一具体例において、開口部H形成のために用いられるレーザー光Lxの波長における第1膜31の吸収率は、3%以上としている。このような例によれば、パターン層23を形成するようになる第1膜31においてレーザー光Lxを十分に吸収することができる。したがって、パターン層23が設けられている第1領域A1では、レーザー光Lxを吸収した第1膜31が溶融蒸発することで、第1膜31上に積層された第2膜32を安定して除去し、可視光の透過を十分に促進し得る開口部Hを第1領域A1に安定して形成することができる。すなわち、開口部Hの形成領域を、第1膜31のパターンによって高精度に制御することが可能となる。 In one specific example of the embodiment described above, the absorption rate of the first film 31 at the wavelength of the laser light Lx used to form the opening H is 3% or more. According to this example, the first film 31 that will form the pattern layer 23 can sufficiently absorb the laser light Lx. Therefore, in the first region A1 where the pattern layer 23 is provided, the first film 31 that absorbs the laser light Lx melts and evaporates, so that the second film 32 stacked on the first film 31 can be stably removed, and the opening H that can sufficiently promote the transmission of visible light can be stably formed in the first region A1. In other words, it is possible to control the formation region of the opening H with high precision by the pattern of the first film 31.
以上に説明してきた一実施の形態において、面光源装置10に対面して配置される加飾シート20は、ベース意匠層22と、ベース意匠層22の一部分上に設けられたパターン層23と、を有している。パターン層23が設けられている第1領域A1では、ベース意匠層22を貫通してパターン層23まで到達した開口部Hが設けられている。そして、パターン層23が設けられている第1領域A1での可視光透過率は、パターン層23が設けられていない第1領域A1での可視光透過率より高くなっている。ここで、パターン層23の赤外線の吸収率はベース意匠層22の赤外線の吸収率より高くなっている、パターン層23の吸収スペクトルは赤外線領域にピークを有している、或いは、パターン層23の赤外線領域での吸収スペクトルのピークはベース意匠層22の赤外線領域での吸収スペクトルのピークよりも高くなっている。このような加飾シート20では、レーザー光の照射により形成された開口部Hは、パターン層23が設けられている第1領域A1において、より高い透過率で可視光を透過させ得るようになる。言い換えるとパターン層23が設けられている第1領域A1にレーザー光Lxの照射により形成された開口部Hは、パターン層23が設けられていない第2領域A2にレーザー光Lxの照射により形成された凹部Rと比較して、加飾シート20の可視光透過率向上に寄与することができる。したがって、加飾シート20を背面から照明した際に、パターン層23が設けられている第1領域A1を、パターン層23が設けられていない第2領域A2よりも明るく表示することができる。したがって、パターン層23とベース意匠層22との組み合わせにより、意匠性を効果的に改善して、意匠性に優れた表示を行うことができる。 In the embodiment described above, the decorative sheet 20 arranged facing the surface light source device 10 has a base design layer 22 and a pattern layer 23 provided on a part of the base design layer 22. In the first region A1 where the pattern layer 23 is provided, an opening H is provided that penetrates the base design layer 22 and reaches the pattern layer 23. The visible light transmittance in the first region A1 where the pattern layer 23 is provided is higher than the visible light transmittance in the first region A1 where the pattern layer 23 is not provided. Here, the infrared absorption rate of the pattern layer 23 is higher than the infrared absorption rate of the base design layer 22, the absorption spectrum of the pattern layer 23 has a peak in the infrared region, or the peak of the absorption spectrum of the pattern layer 23 in the infrared region is higher than the peak of the absorption spectrum of the base design layer 22 in the infrared region. In such a decorative sheet 20, the opening H formed by irradiation with laser light can transmit visible light with a higher transmittance in the first region A1 where the pattern layer 23 is provided. In other words, the openings H formed by irradiating the first area A1 with the pattern layer 23 with the laser light Lx can contribute to improving the visible light transmittance of the decorative sheet 20, compared to the recesses R formed by irradiating the second area A2 with no pattern layer 23 with the laser light Lx. Therefore, when the decorative sheet 20 is illuminated from behind, the first area A1 with the pattern layer 23 can be displayed brighter than the second area A2 with no pattern layer 23. Therefore, the combination of the pattern layer 23 and the base design layer 22 can effectively improve the design and provide a display with excellent design.
上述した一実施の形態の一具体例において、パターン層23が設けられている第1領域A1での開口率は、パターン層23が設けられていない第2領域A2での開口率より高くなっている。これにより、パターン層23が設けられている第1領域A1での可視光透過率を、パターン層23が設けられていない第2領域A2の透過率より安定して高くすることができる。 In one specific example of the embodiment described above, the aperture ratio in the first region A1 where the pattern layer 23 is provided is higher than the aperture ratio in the second region A2 where the pattern layer 23 is not provided. This allows the visible light transmittance in the first region A1 where the pattern layer 23 is provided to be stably higher than the transmittance in the second region A2 where the pattern layer 23 is not provided.
上述した一実施の形態の一具体例において、パターン層23は有色の層となっている。この例によれば、加飾シート20を背面から照明していない場合に、パターン層23の色によって、パターンを表示することができる。さらに、加飾シート20を背面から照明することで、パターン層23によって表示されていたパターンを、可視光を用いて明るく表示することができる。これにより、パターンの表示に変化を付けることが可能となり、意匠性を向上させることができる。 In one specific example of the embodiment described above, the pattern layer 23 is a colored layer. According to this example, when the decorative sheet 20 is not illuminated from behind, the pattern can be displayed by the color of the pattern layer 23. Furthermore, by illuminating the decorative sheet 20 from behind, the pattern displayed by the pattern layer 23 can be displayed brightly using visible light. This makes it possible to add variation to the display of the pattern, improving the design.
上述した一実施の形態の一具体例において、ベース意匠層22のうちのパターン層23が設けられていない第2領域A2に、パターン層23が設けられている側とは反対側から、凹部Rが設けられている。凹部Rの深さDRは、第2領域A2内の凹部Rが設けられていない位置における、基材フィルム21を除いた加飾シート20の厚さの80%以下となっている。この例によれば、背面から照射された可視光の一部が、有底孔としての凹部Rが形成されている部分において、加飾シート20の第2領域A2を透過することができる。すなわち、貫通していない凹部Rの深さDRによって、パターン層23が設けられていない第2領域A2の明るさを調整することができる。これにより、意匠性をさらに向上させることが可能となる。 In one specific example of the embodiment described above, a recess R is provided in the second region A2 of the base design layer 22 where the pattern layer 23 is not provided, from the side opposite to the side where the pattern layer 23 is provided. The depth DR of the recess R is 80% or less of the thickness of the decorative sheet 20 excluding the base film 21 at the position where the recess R is not provided in the second region A2. According to this example, a part of the visible light irradiated from the back surface can pass through the second region A2 of the decorative sheet 20 in the part where the recess R is formed as a bottomed hole. In other words, the brightness of the second region A2 where the pattern layer 23 is not provided can be adjusted by the depth DR of the recess R that does not penetrate. This makes it possible to further improve the design.
上述した一実施の形態の一具体例において、ベース意匠層22は無機材料を含んでいる。この例によれば、ベース意匠層22が無機材料を含むことで、さらに豊かな意匠表現を行うことができる。その一方で、無機材料を含むベース意匠層22には、レーザー光の照射によって貫通した開口部Hを安定して形成することが難しくなる。したがって、パターン層23を設けて孔形状を安定化させることができる本実施の形態は、無機材料を含むベース意匠層22を有した加飾シート20に好適と言える。 In one specific example of the embodiment described above, the base design layer 22 contains an inorganic material. According to this example, the base design layer 22 contains an inorganic material, which allows for even richer design expression. On the other hand, it becomes difficult to stably form a penetrating opening H by irradiating laser light on the base design layer 22 that contains an inorganic material. Therefore, this embodiment, which can stabilize the hole shape by providing a pattern layer 23, can be said to be suitable for a decorative sheet 20 having a base design layer 22 that contains an inorganic material.
上述した一実施の形態の一具体例において、無機材料は、酸化チタンを含んでいる。酸化チタンを無機材料として用いることで、パターン層との組み合わせにおいて、加飾シート20の意匠性を大幅に向上させることができる。その一方で、このような酸化チタンを含むベース意匠層22の可視光吸収率は3%以下程度まで低下し、併せて、酸化チタンを含むベース意匠層22の赤外線吸収率も3%以下程度まで低下してしまう。結果として、このようなベース意匠層22には、レーザー光の照射によって貫通した開口部Hを安定して形成することは難しくなる。このため、パターン層23を設けて孔形状を安定化させることができる本実施の形態は、酸化チタンを無機材料として含むベース意匠層22を有した加飾シート20に好適と言える。 In one specific example of the embodiment described above, the inorganic material contains titanium oxide. By using titanium oxide as an inorganic material, the design of the decorative sheet 20 can be significantly improved in combination with the pattern layer. On the other hand, the visible light absorptance of the base design layer 22 containing such titanium oxide is reduced to about 3% or less, and the infrared absorptance of the base design layer 22 containing titanium oxide is also reduced to about 3% or less. As a result, it is difficult to stably form a penetrating opening H in such a base design layer 22 by irradiating it with laser light. For this reason, this embodiment, which can stabilize the hole shape by providing a pattern layer 23, can be said to be suitable for a decorative sheet 20 having a base design layer 22 containing titanium oxide as an inorganic material.
上述した一実施の形態の一具体例において、ベース意匠層22の可視光反射率は、5%以上となっている。高反射率のベース意匠層22は豊かな意匠表現が可能である一方、このようなベース意匠層22には貫通した開口部Hを安定して形成することが難しい。したがって、パターン層23を設けて孔形状を安定化させることができる本実施の形態は、無機材料を含むベース意匠層22を有した加飾シート20に好適と言える。 In one specific example of the embodiment described above, the visible light reflectance of the base design layer 22 is 5% or more. While a base design layer 22 with high reflectance allows for rich design expression, it is difficult to stably form a penetrating opening H in such a base design layer 22. Therefore, this embodiment, in which the hole shape can be stabilized by providing a pattern layer 23, can be said to be suitable for a decorative sheet 20 having a base design layer 22 containing an inorganic material.
一実施の形態を具体例に基づいて説明してきたが、上述の具体例が一実施の形態を限定することを意図していない。上述した一実施の形態は、その他の様々な具体例で実施されることが可能であり、その要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更、追加を行うことができる。 Although one embodiment has been described based on a specific example, the above-mentioned specific example is not intended to limit the one embodiment. The above-mentioned one embodiment can be implemented with various other specific examples, and various omissions, substitutions, modifications, and additions can be made without departing from the spirit of the embodiment.
以下、図面を参照しながら、変形の一例について説明する。以下の説明および以下の説明で用いる図面では、上述した具体例と同様に構成され得る部分について、上述の具体例における対応する部分に対して用いた符号と同一の符号を用いるとともに、重複する説明を省略する。 Below, an example of a modification will be described with reference to the drawings. In the following description and the drawings used in the following description, parts that can be configured similarly to the above-mentioned specific example will be designated by the same reference numerals as those used for the corresponding parts in the above-mentioned specific example, and duplicated descriptions will be omitted.
上述した一具体例において、パターン層23を有色の層としたが、この例に限られず、パターン層23を無色透明の層としてもよい。例えば、パターン層23の可視光透過率を80%以上とし、更には85%以上とすることができる。この例によれば、面光源装置10が消灯して可視光を射出していない状態において、図12及び図13に示すように、パターン層23が視認されない。したがって、加飾シート20の第1領域A1及び第2領域A2を区分けすることができず、ベース意匠層22のみが視認される。ここで図13は、図4に対応する図であって、図12中の領域Zを拡大して示している。その一方で、面光源装置10が点灯して可視光を射出している状態では、図6に示すように、パターン層23のパターンを明るく明瞭に表示することが可能となる。このような例によれば、加飾シート20は、背面から照明されることで、それまで視認されていなかったパターンを表示することができる。すなわち、意外性のある表示を行うことができ、これにより、意匠性を向上させることができる。 In the above-mentioned specific example, the pattern layer 23 is a colored layer, but the present invention is not limited to this example, and the pattern layer 23 may be a colorless and transparent layer. For example, the visible light transmittance of the pattern layer 23 can be 80% or more, and even 85% or more. According to this example, when the surface light source device 10 is turned off and does not emit visible light, the pattern layer 23 is not visible as shown in Figs. 12 and 13. Therefore, the first area A1 and the second area A2 of the decorative sheet 20 cannot be separated, and only the base design layer 22 is visible. Here, Fig. 13 corresponds to Fig. 4, and shows an enlarged view of the area Z in Fig. 12. On the other hand, when the surface light source device 10 is turned on and emits visible light, it is possible to display the pattern of the pattern layer 23 brightly and clearly as shown in Fig. 6. According to this example, the decorative sheet 20 can display a pattern that has not been visible until then by being illuminated from behind. In other words, a display with a sense of surprise can be performed, thereby improving the design.
また、上述した一具体例において、加飾シート20が、ベース意匠層22を一層だけ含む例を示したが、これに限られない。図14に示すように、加飾シート20が、ベース意匠層22に加えて、一以上の更なるベース意匠層を含むようにしてもよい。更なるベース意匠層は、上述したベース意匠層22と同様に構成され得る。更なるベース意匠層は、ベース意匠層22と同様にベタ層として、加飾シート20の全域に広がっていてもよい。 In addition, in the specific example described above, the decorative sheet 20 includes only one base design layer 22, but this is not limited to this. As shown in FIG. 14, the decorative sheet 20 may include one or more further base design layers in addition to the base design layer 22. The further base design layer may be configured in the same manner as the base design layer 22 described above. The further base design layer may extend across the entire area of the decorative sheet 20 as a solid layer, similar to the base design layer 22.
図14に示された例において、加飾シート20は、ベース意匠層22の基材フィルム21とは反対側に設けられた第2ベース意匠層22Bを有している。図14に示された例において、ベース意匠層22は、図形、パターン、デザイン、色彩、絵、写真、キャラクター、マーク、文字や数字などの絵柄、とりわけ木目調や大理石調の絵柄や幾何学模様を表示する絵柄層として形成される。第2ベース意匠層22Bは、ベース意匠層22の絵柄を引き立たせるための無機材料を含んだ層や金属を含んだメタリック層として形成される。第2ベース意匠層22Bを設けることでベース意匠層22の意匠性を引き立たせることができる。このような加飾シート20は、第2ベース意匠層22Bを形成するようになる第4膜を、ベース意匠層22を形成するようになる第2膜32と遮光層33を形成するようになる第3膜33との間に有した積層物34を準備し、この積層物34にレーザー光を照射することで作製され得る。 In the example shown in FIG. 14, the decorative sheet 20 has a second base design layer 22B provided on the opposite side of the base design layer 22 from the substrate film 21. In the example shown in FIG. 14, the base design layer 22 is formed as a pattern layer that displays figures, patterns, designs, colors, pictures, photographs, characters, marks, letters and numbers, in particular wood grain and marble patterns and geometric patterns. The second base design layer 22B is formed as a layer containing an inorganic material or a metallic layer containing a metal to enhance the pattern of the base design layer 22. By providing the second base design layer 22B, the design of the base design layer 22 can be enhanced. Such a decorative sheet 20 can be produced by preparing a laminate 34 having a fourth film that will form the second base design layer 22B between the second film 32 that will form the base design layer 22 and the third film 33 that will form the light-shielding layer 33, and irradiating this laminate 34 with laser light.
更なるベース意匠層22Bを有する加飾シート20においても、パターン層23の赤外線の吸収率が、パターン層に隣接するベース意匠層22の赤外線の吸収率より高くなっている、或いは、パターン層23の赤外線領域での吸収スペクトルのピークが、パターン層に隣接するベース意匠層22の赤外線領域での吸収スペクトルのピークよりも高くなっていることで、上述した作用効果を奏することができる。すなわち、このような加飾シート20よれば、レーザー光の照射により形成された開口部Hは、パターン層23が設けられている第1領域A1において、より高い透過率で可視光を透過させ得るようになる。言い換えるとパターン層23が設けられている第1領域A1にレーザー光Lxの照射により形成された開口部Hは、パターン層23が設けられていない第2領域A2にレーザー光Lxの照射により形成された凹部Rと比較して、加飾シート20の可視光透過率向上に寄与することができる。したがって、加飾シート20を背面から照明した際に、パターン層23が設けられている第1領域A1を、パターン層23が設けられていない第2領域A2よりも明るく表示することができる。そして、パターン層23とベース意匠層22との組み合わせにより、意匠性を効果的に改善して、意匠性に優れた表示を行うことができる。 Even in the decorative sheet 20 having the additional base design layer 22B, the infrared absorption rate of the pattern layer 23 is higher than that of the base design layer 22 adjacent to the pattern layer, or the peak of the absorption spectrum in the infrared region of the pattern layer 23 is higher than the peak of the absorption spectrum in the infrared region of the base design layer 22 adjacent to the pattern layer, so that the above-mentioned action and effect can be achieved. That is, according to such a decorative sheet 20, the opening H formed by irradiation with laser light can transmit visible light with a higher transmittance in the first region A1 where the pattern layer 23 is provided. In other words, the opening H formed by irradiation of the laser light Lx in the first region A1 where the pattern layer 23 is provided can contribute to improving the visible light transmittance of the decorative sheet 20 compared to the recess R formed by irradiation of the laser light Lx in the second region A2 where the pattern layer 23 is not provided. Therefore, when the decorative sheet 20 is illuminated from behind, the first area A1 where the pattern layer 23 is provided can be displayed brighter than the second area A2 where the pattern layer 23 is not provided. Furthermore, the combination of the pattern layer 23 and the base design layer 22 effectively improves the design, allowing for a display with excellent design.
さらに、更なるベース意匠層22Bを有する加飾シート20においては、パターン層23の赤外線の吸収率が、更なるベース意匠層(第2ベース意匠層22B)の赤外線の吸収率より高くなっている、或いは、パターン層23の赤外線領域での吸収スペクトルのピークが、更なるベース意匠層(第2ベース意匠層22B)の赤外線領域での吸収スペクトルのピークよりも高くなっていることで、上述した作用効果をより顕著に奏することができる。 Furthermore, in the decorative sheet 20 having the further base design layer 22B, the infrared absorption rate of the pattern layer 23 is higher than the infrared absorption rate of the further base design layer (second base design layer 22B), or the peak of the absorption spectrum in the infrared region of the pattern layer 23 is higher than the peak of the absorption spectrum in the infrared region of the further base design layer (second base design layer 22B), thereby making it possible to more significantly achieve the above-mentioned action and effect.
また、上述した一具体例において、ベース意匠層22に含まれる無機材料はフレーク状(薄片状)であってもよい。フレーク状の無機材料は高い反射率を有するため、ベース意匠層22によって光沢の高い意匠を表現することができる。フレーク状の無機材料としては、アルミニウム、雲母等が挙げられる。フレーク状の無機材料の最大長さは5μm以上であってもよい。光輝性のある意匠を表示する観点から、無機材料の最大長さは、例えば20μm以上であることが好ましい。また、耐サーキュレーション性の観点から無機材料の最大長さは、例えば60μm以下であることが好ましい。 In addition, in the specific example described above, the inorganic material contained in the base design layer 22 may be flake-shaped (thin). Since flake-shaped inorganic materials have high reflectivity, a highly glossy design can be expressed by the base design layer 22. Examples of flake-shaped inorganic materials include aluminum and mica. The maximum length of the flake-shaped inorganic material may be 5 μm or more. From the viewpoint of displaying a lustrous design, it is preferable that the maximum length of the inorganic material is, for example, 20 μm or more. From the viewpoint of circulation resistance, it is preferable that the maximum length of the inorganic material is, for example, 60 μm or less.
この変形例において、図2Bに示すように、パターン層23をバインダー樹脂23a中に粒子23bを含んだ層として形成するとともに、パターン層23に含まれる粒子23bの最大長さが、ベース意匠層22のバインダー樹脂22a中に含まれるフレーク状の無機材料22bの最大長さよりも小さくなるようにしてもよい。とりわけ、パターン層23に含まれる粒子の最大長さは、ベース意匠層22に含まれる無機材料の最大長さの2分の1以下であることが好ましく、5分の1以下であることがより好ましい。具体的には、パターン層23に含まれる粒子の最大長さは5μm以下であってもよい。最大長さの長いフレーク状の無機材料を含むベース意匠層22はレーザー光を照射してもバインダー樹脂の全体に熱が伝わらず蒸発しにくい。一方で最大長さの短い粒子が用いられたパターン層23はバインダー樹脂全体に熱が伝わりやすく蒸発しやすくなっており、蒸発時にベース意匠層22を巻き込んで開口部Hを形成することができる。これにより、パターン層23が形成された領域に選択的に開口部Hを形成し、パターン層23による意匠と、背面から照明されることで開口部Hを通して表示される意匠を対応させることができる。パターン層22に含まれる粒子の材料としては、シアニン加工物、フタロシアニン化合物、ジチオール金属錯体、六ホウ化ランタン、セシウムドープ酸化タングステン、ナフトキノン化合物、ジイモニウム化合物等を例示できる。 In this modified example, as shown in FIG. 2B, the pattern layer 23 may be formed as a layer containing particles 23b in the binder resin 23a, and the maximum length of the particles 23b contained in the pattern layer 23 may be smaller than the maximum length of the flake-shaped inorganic material 22b contained in the binder resin 22a of the base design layer 22. In particular, the maximum length of the particles contained in the pattern layer 23 is preferably less than half the maximum length of the inorganic material contained in the base design layer 22, and more preferably less than one-fifth. Specifically, the maximum length of the particles contained in the pattern layer 23 may be 5 μm or less. When the base design layer 22 contains a flake-shaped inorganic material with a long maximum length, heat is not transferred to the entire binder resin even when irradiated with laser light, and it is difficult to evaporate. On the other hand, the pattern layer 23 using particles with a short maximum length is easily evaporable because heat is easily transferred to the entire binder resin, and the opening H can be formed by involving the base design layer 22 during evaporation. This allows selective formation of openings H in the areas where the pattern layer 23 is formed, and allows the design of the pattern layer 23 to correspond to the design displayed through the openings H by illumination from behind. Examples of the material of the particles contained in the pattern layer 22 include cyanine processed products, phthalocyanine compounds, dithiol metal complexes, lanthanum hexaboride, cesium-doped tungsten oxide, naphthoquinone compounds, and diimonium compounds.
なお、ベース意匠層22に含まれるフレーク状の無機顔料、及びパターン層23に含まれる粒子の最大長さは、例えば、各層の厚み方向の断面を走査型電子顕微鏡(日立製作所製 S-4500)を用いて加速電圧15kV、観察倍率2万倍の条件で観察し、無機顔料または粒子の100個の最大長さの平均値として算出することができる。観察のために各層の断面を露出させる際には、ミクロトームで切断してもよいし、液体窒素中で急速に凍結させた後にダイヤモンドナイフやイオンビームで切削してもよい。 The maximum length of the flake-like inorganic pigment contained in the base design layer 22 and the particles contained in the pattern layer 23 can be calculated, for example, by observing the cross section of each layer in the thickness direction using a scanning electron microscope (Hitachi S-4500) at an accelerating voltage of 15 kV and an observation magnification of 20,000 times, and calculating it as the average of the maximum lengths of 100 inorganic pigments or particles. When exposing the cross section of each layer for observation, it may be cut with a microtome, or it may be rapidly frozen in liquid nitrogen and then cut with a diamond knife or ion beam.
また、上述した一具体例において、面光源装置10は矩形形状の発光面11を有していたが、この例に限られず、面光源装置10の発光面11が矩形形状以外の形状を有するようにしてもよいし。また、加飾シート付き表示装置1が、パターン遮光フィルムを更に備え、パターン遮光フィルムが、面光源装置10の発光面11から射出した光の一部を遮光することで、加飾シート20を所定のパターンを照明するようにしてもよい。 In the specific example described above, the surface light source device 10 has a rectangular light-emitting surface 11, but this is not limited to the example, and the light-emitting surface 11 of the surface light source device 10 may have a shape other than a rectangle. In addition, the display device 1 with the decorative sheet may further include a patterned light-shielding film, which may block a portion of the light emitted from the light-emitting surface 11 of the surface light source device 10, thereby illuminating the decorative sheet 20 in a predetermined pattern.
1 加飾シート付き表示装置
10 面光源装置
11 発光面
12 非発光面
20 加飾シート
21 基材フィルム
22 ベース意匠層
23 パターン層
24 遮光層
28 透過部
31 第1膜
32 第2膜
33 第3膜
34 積層物
40 レーザー装置
A1 第1領域
A2 第2領域
H 開口部
R 凹部
Lx レーザー光
Reference Signs List 1 Display device with decorative sheet 10 Surface light source device 11 Light-emitting surface 12 Non-light-emitting surface 20 Decorative sheet 21 Substrate film 22 Base design layer 23 Pattern layer 24 Light-shielding layer 28 Transmitting portion 31 First film 32 Second film 33 Third film 34 Laminate 40 Laser device A1 First region A2 Second region H Opening R Recess Lx Laser light
Claims (23)
ベース意匠層と、
前記ベース意匠層の一部分上に設けられたパターン層と、を備え、
前記パターン層が設けられている領域での可視光透過率は、前記パターン層が設けられていない領域での可視光透過率より高く、
前記パターン層の赤外線の吸収率は、前記ベース意匠層の赤外線の吸収率より高い、加飾シート。 A decorative sheet disposed opposite a surface light source device,
A base design layer;
A pattern layer provided on a portion of the base design layer;
a visible light transmittance in a region where the pattern layer is provided is higher than a visible light transmittance in a region where the pattern layer is not provided;
A decorative sheet, wherein the infrared absorptivity of the pattern layer is higher than the infrared absorptivity of the base design layer.
ベース意匠層と、
前記ベース意匠層の一部分上に設けられたパターン層と、を備え、
前記パターン層が設けられている領域での可視光透過率は、前記パターン層が設けられていない領域での可視光透過率より高く、
前記パターン層の赤外線領域での吸収スペクトルのピークは、前記ベース意匠層の赤外線領域での吸収スペクトルのピークより高い、加飾シート。 A decorative sheet disposed opposite a surface light source device,
A base design layer;
A pattern layer provided on a portion of the base design layer;
a visible light transmittance in a region where the pattern layer is provided is higher than a visible light transmittance in a region where the pattern layer is not provided;
A decorative sheet, wherein the peak of the absorption spectrum of the pattern layer in the infrared region is higher than the peak of the absorption spectrum of the base design layer in the infrared region.
前記遮光層の可視光透過率は、前記ベース意匠層の可視光透過率より低い、請求項1~16のいずれか一項に記載の加飾シート。 Further comprising a light-shielding layer provided on the opposite side of the base design layer to the pattern layer,
The decorative sheet according to any one of claims 1 to 16, wherein the visible light transmittance of the light-shielding layer is lower than the visible light transmittance of the base design layer.
前記面光源装置に対面するよう配置された請求項1~18のいずれか一項に記載の加飾シートと、を備える、加飾シート付き表示装置。 A surface light source device;
A display device with a decorative sheet comprising: the decorative sheet according to any one of claims 1 to 18 , which is arranged to face the surface light source device.
前記パターン層を形成するようになる第1膜及びベース意匠層を形成するようになる第2膜を作製する工程と、
前記第2膜の側からレーザー光を照射することで、前記第1膜及び前記第2膜の一部を除去して、開口部を形成する工程と、を備える、加飾シートの製造方法。 A method for producing the decorative sheet according to any one of claims 1 to 18 ,
preparing a first film which will form the pattern layer and a second film which will form the base design layer;
and removing a portion of the first film and the second film by irradiating a laser beam from a side of the second film to form an opening.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2023174518A JP7549817B2 (en) | 2019-09-09 | 2023-10-06 | Decorative sheet, display device with decorative sheet, and method for manufacturing decorative sheet |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2019163915A JP7365576B2 (en) | 2019-09-09 | 2019-09-09 | Decorative sheet, display device with decorative sheet, and method for manufacturing the decorative sheet |
| JP2023174518A JP7549817B2 (en) | 2019-09-09 | 2023-10-06 | Decorative sheet, display device with decorative sheet, and method for manufacturing decorative sheet |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2019163915A Division JP7365576B2 (en) | 2019-09-09 | 2019-09-09 | Decorative sheet, display device with decorative sheet, and method for manufacturing the decorative sheet |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2023168628A JP2023168628A (en) | 2023-11-24 |
| JP7549817B2 true JP7549817B2 (en) | 2024-09-12 |
Family
ID=74864508
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2019163915A Active JP7365576B2 (en) | 2019-09-09 | 2019-09-09 | Decorative sheet, display device with decorative sheet, and method for manufacturing the decorative sheet |
| JP2023174518A Active JP7549817B2 (en) | 2019-09-09 | 2023-10-06 | Decorative sheet, display device with decorative sheet, and method for manufacturing decorative sheet |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2019163915A Active JP7365576B2 (en) | 2019-09-09 | 2019-09-09 | Decorative sheet, display device with decorative sheet, and method for manufacturing the decorative sheet |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (2) | JP7365576B2 (en) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2023086596A (en) * | 2021-12-10 | 2023-06-22 | 株式会社川口電機製作所 | lighting equipment |
| WO2024096668A1 (en) * | 2022-11-04 | 2024-05-10 | 미래나노텍(주) | Decoration film for hidden display |
| CN120265459A (en) * | 2022-11-09 | 2025-07-04 | 大日本印刷株式会社 | Decorative outer covering, decorative component, display system, method for manufacturing decorative outer covering, and method for manufacturing decorative component |
| JP2026000379A (en) * | 2024-06-17 | 2026-01-05 | 株式会社小糸製作所 | Resin molded product, vehicle lamp, and method for manufacturing resin molded product |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004299200A (en) | 2003-03-31 | 2004-10-28 | Nissha Printing Co Ltd | Manufacturing method for decorating article |
| JP2012250539A (en) | 2012-08-23 | 2012-12-20 | Dainippon Printing Co Ltd | Insert molding decorative sheet and decorative resin molding |
| JP2019020637A (en) | 2017-07-20 | 2019-02-07 | 株式会社増田清商店 | Graphics display |
| WO2019044847A1 (en) | 2017-08-31 | 2019-03-07 | 大日本印刷株式会社 | Display device with panel, interior/exterior member, moving body, panel, decorative sheet, display device with decorative sheet, and display device with panel |
-
2019
- 2019-09-09 JP JP2019163915A patent/JP7365576B2/en active Active
-
2023
- 2023-10-06 JP JP2023174518A patent/JP7549817B2/en active Active
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004299200A (en) | 2003-03-31 | 2004-10-28 | Nissha Printing Co Ltd | Manufacturing method for decorating article |
| JP2012250539A (en) | 2012-08-23 | 2012-12-20 | Dainippon Printing Co Ltd | Insert molding decorative sheet and decorative resin molding |
| JP2019020637A (en) | 2017-07-20 | 2019-02-07 | 株式会社増田清商店 | Graphics display |
| WO2019044847A1 (en) | 2017-08-31 | 2019-03-07 | 大日本印刷株式会社 | Display device with panel, interior/exterior member, moving body, panel, decorative sheet, display device with decorative sheet, and display device with panel |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP7365576B2 (en) | 2023-10-20 |
| JP2021043280A (en) | 2021-03-18 |
| JP2023168628A (en) | 2023-11-24 |
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| A621 | Written request for application examination |
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| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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