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JP7555538B2 - METHOD FOR PRODUCING AROMATIC POLYCYCLIC FUNCTIONAL COMPOUND, NOVEL AROMATIC POLYCYCLIC FUNCTIONAL COMPOUND, ORGANIC SEMICONDUCTOR INK, AND ORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICE - Google Patents
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JP7555538B2 - METHOD FOR PRODUCING AROMATIC POLYCYCLIC FUNCTIONAL COMPOUND, NOVEL AROMATIC POLYCYCLIC FUNCTIONAL COMPOUND, ORGANIC SEMICONDUCTOR INK, AND ORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICE - Google Patents

METHOD FOR PRODUCING AROMATIC POLYCYCLIC FUNCTIONAL COMPOUND, NOVEL AROMATIC POLYCYCLIC FUNCTIONAL COMPOUND, ORGANIC SEMICONDUCTOR INK, AND ORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICE Download PDF

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JP7555538B2 JP2020130217A JP2020130217A JP7555538B2 JP 7555538 B2 JP7555538 B2 JP 7555538B2 JP 2020130217 A JP2020130217 A JP 2020130217A JP 2020130217 A JP2020130217 A JP 2020130217A JP 7555538 B2 JP7555538 B2 JP 7555538B2
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Description

本発明は、芳香族多環縮合環化合物の製造方法、新規芳香族多環縮合環化合物、有機半導体インクおよび有機半導体デバイスに関する。 The present invention relates to a method for producing an aromatic polycyclic fused ring compound, a novel aromatic polycyclic fused ring compound, an organic semiconductor ink, and an organic semiconductor device.

イメージセンサーに求められる役割は多様化しており、特に機械処理による作動認識、空間計測、空間マッピング、形状認識などで利用される機会が増加している。センサーによる認識としては、可視光のみならず人間が感知できない赤外光の反射光を処理することが行われているが、近赤外領域での光電変換効率が不十分であった(例えば非特許文献1、2参照)。 The roles required of image sensors are becoming more diverse, with increasing opportunities for their use in areas such as machine processing for motion recognition, spatial measurement, spatial mapping, and shape recognition. Recognition using sensors involves processing not only visible light, but also reflected infrared light that humans cannot sense, but photoelectric conversion efficiency in the near-infrared range has been insufficient (see, for example, non-patent documents 1 and 2).

近赤外領域での光電変換効率(外部量子効率)を向上させるため、これまでのところ,CMOSの光電変換の原理に基づき、光電変換層が光を吸収して励起子を発生させ電荷分離させるため、内部量子効率を向上させた吸光度の高い光電変換層とすること、或いは、光電変換層を厚膜化して吸光度を向上させること、が検討されてきている。 To improve photoelectric conversion efficiency (external quantum efficiency) in the near-infrared region, studies have been conducted so far on the principle of CMOS photoelectric conversion, in which the photoelectric conversion layer absorbs light to generate excitons and separate charges, thereby creating a photoelectric conversion layer with high absorbance and improved internal quantum efficiency, or on increasing the thickness of the photoelectric conversion layer to improve absorbance.

非特許文献3には、バンドギャップが狭められた非フラーレン化合物、及びその合成方法が記載されている。この非フラーレン化合物は、分子の中央に電子供与性部位をもち、両サイドに電子求引性部位を持つ骨格からなっている。近赤外領域での光電変換効率(外部量子効率)を向上させるため、CMOSの光電変換の原理に基づき、光電変換層が光を吸収して励起子を発生させ電荷分離させるため、内部量子効率を向上させた吸光度の高い光電変換層とすること、或いは、光電変換層を厚膜化して吸光度を向上させることが必要であるが、十分な電子供与性基となる部位の合成が困難であり、好ましい電子供与性部位の種類は限られていた(非特許文献3参照)。 Non-Patent Document 3 describes a non-fullerene compound with a narrowed band gap and a method for synthesizing the same. This non-fullerene compound has a skeleton with an electron-donating site in the center of the molecule and electron-withdrawing sites on both sides. In order to improve the photoelectric conversion efficiency (external quantum efficiency) in the near-infrared region, the photoelectric conversion layer absorbs light to generate excitons and separate charges based on the principle of CMOS photoelectric conversion, so it is necessary to make the photoelectric conversion layer have high absorbance with improved internal quantum efficiency, or to increase the thickness of the photoelectric conversion layer to improve absorbance, but it is difficult to synthesize a site that serves as a sufficient electron-donating group, and the types of preferred electron-donating sites are limited (see Non-Patent Document 3).

DOI:10.1021/acs.chemmater.9b00966,Chem.Mater.(2019)DOI:10.1021/acs. chemmater. 9b00966, Chem. Mater. (2019) ACS Appl.Mater.Interfaces 2018,10,11063-11069.ACS Appl. Mater. Interfaces 2018, 10, 11063-11069. Adv.Energy Mater.,2018,8,1801212.Adv. Energy Mater. , 2018, 8, 1801212.

より高い光電変換効率を有する半導体デバイスに使用するn型半導体の分子設計が行われているが、電子供与部位の骨格合成が難しかった。さらに、これらの電子供与部位は、貴金属を用いたカップリング反応を用いるため、貴金属が化合物に残存する問題もあった。近赤外センサーなどの有機半導体デバイスの外部量子効率を向上させるためには吸収領域の長波長化が必要であり、高い電子供与性を持った芳香族多環縮合環化合物の合成方法の確立が不可欠であった。本発明の課題は、高い電子供与性を持った芳香族多環縮合環化合物の新たな製造方法を提供することである。 Molecular design of n-type semiconductors for use in semiconductor devices with higher photoelectric conversion efficiency has been underway, but the synthesis of the electron-donating moiety skeleton has been difficult. Furthermore, these electron-donating moieties use coupling reactions that use precious metals, which poses the problem of precious metals remaining in the compound. In order to improve the external quantum efficiency of organic semiconductor devices such as near-infrared sensors, it is necessary to extend the wavelength of the absorption region, and it has been essential to establish a method for synthesizing aromatic polycyclic fused ring compounds with high electron-donating properties. The objective of the present invention is to provide a new method for producing aromatic polycyclic fused ring compounds with high electron-donating properties.

本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、貴金属を用いない、電子供与
性部位である芳香族多環縮合環の応用範囲の広い合成法を確立し、その合成法を用いて新規化合物を製造した。さらに、該電子供与性部位を組み込んだn型化合物を製造し、p型共役高分子と当該n型化合物を含有する活性層を備えた有機半導体デバイスを構築することにより、高い外部量子効率(EQE)を有する有機半導体デバイスが得られることを見出し、本発明に到達した。すなわち、本発明の要旨は以下の通りである。
As a result of intensive research to solve the above problems, the present inventors established a synthesis method for aromatic polycyclic fused rings, which are electron-donating moieties, with a wide range of applications without using precious metals, and produced novel compounds using the synthesis method. Furthermore, they found that an organic semiconductor device having a high external quantum efficiency (EQE) can be obtained by producing an n-type compound incorporating the electron-donating moiety and constructing an organic semiconductor device having an active layer containing a p-type conjugated polymer and the n-type compound, and arrived at the present invention. That is, the gist of the present invention is as follows.

(1)下記式(I)で表される化合物と、二価の鉄化合物と、三価のリン化合物と、マグネシウムと、を共存させ、酸化反応させる反応工程、を含む、下記式(II)で表される芳香族多環縮合環化合物の製造方法。

Figure 0007555538000001
(式(I)及び式(II)中、R、R、R、R、R、R、R、及びRは、それぞれ独立に置換基を有していてもよいアルキル基及び置換基を有していてもよい芳香族環基から選択され、Ar、及びArはそれぞれ独立に5員環または6員環を有する、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素及び芳香族複素環から選択される。式(I)中、Z、Z、Z、及びZは、それぞれ独立に置換基を有していてもよいシリル基またはメチル基から選択され、nは0以上の整数を示す。)
(2)前記反応工程において、マグネシウム環化体を形成する際に、ハロゲン化リチウムを共存させる、(1)に記載の製造方法。
(3)前記反応工程において、酸化反応が、空気、酸素、ハロゲン化合物、及び有機過酸化物からなる群より選ばれる少なくとも一つを酸化剤として用いる、(1)又は(2)に記載の製造方法。
(4)前記式(II)中、ArおよびArがチオフェン環である、(1)乃至(3)のいずれかに記載の製造方法。
(5)下記式(II)’で表される芳香族多環縮合環化合物。
Figure 0007555538000002
(式(II)’中、R、R、R、R、R、R、R、及びRは、それぞれ独立に置換基を有していてもよいアルキル基及び置換基を有していてもよい芳香族環基から選択され、Ar及びArはチオフェン環であり、nは0以上の整数を示す。)
(6)(5)に記載の化合物を中間体として用いて反応させ、製造される、下記一般式(III)で表されるn型半導体化合物の製造方法。
Figure 0007555538000003
(式(III)中、R、R、R、R、R、R、R、及びRは、上式(II)’と同義であり、R、R10は、それぞれ独立に置換基を有していてもよいアルキル基及び置換基を有していてもよい芳香族環基から選択され、X、Xは、それぞれ独立にハロゲン原子を示し、p、qは、それぞれ独立に0から4までの整数を示す。r、sは、それぞれ独立に0または1を示し、nは0以上の整数を示す。)
(7)p型共役高分子、および、下記一般式(III)で表されるn型化合物を含有する活性層、を備える有機半導体デバイス。
Figure 0007555538000004
(式(III)中、R、R、R、R、R、R、R、R、R、及びR10は、それぞれ独立に置換基を有していてもよいアルキル基及び置換基を有していてもよい芳香族環基から選択され、X、Xは、それぞれ独立にハロゲン原子を示し、p、qは、それぞれ独立に0から4までの整数を示す。r、sは、それぞれ独立に0または1を示し、nは0以上の整数を示す。)
(8)前記活性層は、[60]フラーレン、[70]フラーレン、[60]PCBM、[70]PCBM、bis[60]PCBM、bis[70]PCBM、[60]SIMEF、[70]SIMEF、[60]ICBA、[70]ICBA、[60]ICMA、および[70]ICMAからなる群より選択される少なくとも1種類のフラーレン化合物を含有する、(7)に記載の有機半導体デバイス。
(9)前記活性層は、多環芳香族化合物又は1,8-ジヨードオクタンを含有する、(7)又は(8)に記載の有機半導体デバイス。
(10)前記有機半導体デバイスが光電変換素子である(7)~(9)のいずれかに記載の有機半導体デバイス。
(11)波長940nmの光を照射した際の外部量子効率(EQE)が50%以上である、(7)乃至(10)のいずれかに記載の有機半導体デバイス。
(12)p型共役高分子と、式(III)で表されるn型化合物と、[60]フラーレン、[70]フラーレン、[60]PCBM、[70]PCBM、bis[60]PCBM、bis[70]PCBM、[60]SIMEF、[70]SIMEF、[60]ICBA、[70]ICBA、[60]ICMA、および[70]ICMAからなる群より選択される少なくとも1種類のフラーレン化合物と、溶剤と、を含み、前記n型化合物に対する前記フラーレン化合物の重量比が2.0以下である、有機半導体インク。
(13)多環芳香族化合物及び/又は1,8-ジヨードオクタンを含有する、(12)に記載の有機半導体インク。
(14)(7)~(11)のいずれかに記載の有機半導体デバイスを用いたフォトディテクタ。
(15)波長700~1200nmの光を検知するために用いる、(14)に記載のフォトディテクタ。 (1) A method for producing an aromatic polycyclic fused ring compound represented by the following formula (II), comprising a reaction step of causing an oxidation reaction between a compound represented by the following formula (I), a divalent iron compound, a trivalent phosphorus compound, and magnesium.
Figure 0007555538000001
(In formula (I) and formula (II), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , and R 8 are each independently selected from an alkyl group which may have a substituent and an aromatic ring group which may have a substituent, Ar 1 and Ar 2 are each independently selected from an aromatic hydrocarbon and an aromatic heterocycle having a 5- or 6-membered ring which may have a substituent. In formula (I), Z 1 , Z 2 , Z 3 , and Z 4 are each independently selected from a silyl group or a methyl group which may have a substituent, and n represents an integer of 0 or more.)
(2) The method according to (1), wherein in the reaction step, lithium halide is allowed to coexist when the magnesium cyclized product is formed.
(3) The method according to (1) or (2), wherein in the reaction step, the oxidation reaction uses at least one selected from the group consisting of air, oxygen, a halogen compound, and an organic peroxide as an oxidizing agent.
(4) The method according to any one of (1) to (3), wherein, in the formula (II), Ar 1 and Ar 2 are thiophene rings.
(5) An aromatic polycyclic fused ring compound represented by the following formula (II)′:
Figure 0007555538000002
(In formula (II)', R1 , R2 , R3 , R4 , R5 , R6 , R7 , and R8 are each independently selected from an alkyl group which may have a substituent and an aromatic ring group which may have a substituent, Ar1 and Ar2 are thiophene rings, and n is an integer of 0 or more.)
(6) A method for producing an n-type semiconductor compound represented by the following general formula (III), which is produced by reacting the compound according to (5) as an intermediate:
Figure 0007555538000003
(In formula (III), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , and R 8 are defined as in formula (II)′ above, R 9 and R 10 are each independently selected from an alkyl group which may have a substituent and an aromatic ring group which may have a substituent, X 1 and X 2 each independently represent a halogen atom, p and q each independently represent an integer from 0 to 4, r and s each independently represent 0 or 1, and n represents an integer of 0 or greater.)
(7) An organic semiconductor device comprising an active layer containing a p-type conjugated polymer and an n-type compound represented by the following general formula (III):
Figure 0007555538000004
(In formula (III), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , and R 10 are each independently selected from an alkyl group which may have a substituent and an aromatic ring group which may have a substituent; X 1 and X 2 each independently represent a halogen atom; p and q each independently represent an integer from 0 to 4; r and s each independently represent 0 or 1; and n represents an integer of 0 or greater.)
(8) The organic semiconductor device according to (7), wherein the active layer contains at least one fullerene compound selected from the group consisting of [60]fullerene, [70]fullerene, [60]PCBM, [70]PCBM, bis[60]PCBM, bis[70]PCBM, [60]SIMEF, [70]SIMEF, [60]ICBA, [70]ICBA, [60]ICMA, and [70]ICMA.
(9) The organic semiconductor device according to (7) or (8), wherein the active layer contains a polycyclic aromatic compound or 1,8-diiodooctane.
(10) The organic semiconductor device according to any one of (7) to (9), which is a photoelectric conversion element.
(11) The organic semiconductor device according to any one of (7) to (10), which has an external quantum efficiency (EQE) of 50% or more when irradiated with light having a wavelength of 940 nm.
(12) An organic semiconductor ink comprising: a p-type conjugated polymer; an n-type compound represented by formula (III); at least one fullerene compound selected from the group consisting of [60]fullerene, [70]fullerene, [60]PCBM, [70]PCBM, bis[60]PCBM, bis[70]PCBM, [60]SIMEF, [70]SIMEF, [60]ICBA, [70]ICBA, [60]ICMA, and [70]ICMA; and a solvent, wherein the weight ratio of the fullerene compound to the n-type compound is 2.0 or less.
(13) The organic semiconductor ink according to (12), which contains a polycyclic aromatic compound and/or 1,8-diiodooctane.
(14) A photodetector using the organic semiconductor device according to any one of (7) to (11).
(15) The photodetector according to (14), which is used to detect light having a wavelength of 700 to 1200 nm.

本発明によれば、高い電子供与性を持った芳香族多環縮合環化合物の新たな製造方法が提供される。また、当該製造方法で製造される芳香族多環縮合環化合物は、新規芳香族多環縮合環化合物を含む。さらに、当該製造方法で得られる化合物は、高い電子供与性部位を含む芳香族多環縮合環を有する、有機半導体デバイス用のn型低分子化合物として使用
できる。さらに、これを用いることで、外部量子効率(EQE)の高い有機半導体デバイスを提供することができる。
According to the present invention, a new method for producing an aromatic polycyclic fused ring compound having high electron donating properties is provided. The aromatic polycyclic fused ring compound produced by the method includes a novel aromatic polycyclic fused ring compound. Furthermore, the compound obtained by the method can be used as an n-type low molecular weight compound for an organic semiconductor device having an aromatic polycyclic fused ring containing a highly electron donating moiety. Furthermore, by using the compound, an organic semiconductor device having a high external quantum efficiency (EQE) can be provided.

以下、本発明を実施するための形態を説明するが、本発明の実施の形態は以下の形態に制限されるものではない。 The following describes the form for implementing the present invention, but the embodiment of the present invention is not limited to the form below.

本発明の一形態は、下記式(I)で表される化合物と、二価の鉄化合物と、三価のリン化合物と、マグネシウムと、を共存させ、系中でマグネシウム環化体を形成し、酸化反応させる反応工程、を含む、下記式(II)で表される芳香族多環縮合環化合物の製造方法である。

Figure 0007555538000005
One aspect of the present invention is a method for producing an aromatic polycyclic fused ring compound represented by formula (II) below, comprising a reaction step of causing a compound represented by formula (I) below, a divalent iron compound, a trivalent phosphorus compound, and magnesium to coexist, forming a magnesium cyclized product in a system, and carrying out an oxidation reaction.
Figure 0007555538000005

式(I)及び式(II)中、R、R、R、R、R、R、R、及びRは、それぞれ独立に置換基を有していてもよいアルキル基、及び置換基を有していてもよい芳香族環基から選択される。
上記アルキル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、n-ブチル基、2-メチルプロピル基、2-メチルブチル基、3-メチルブチル基、シクロヘキシルメチル基、ネオペンチル基、2-エチルブチル基、イソプロピル基、2-ブチル基、シクロヘキシル基、3-ペンチル基、tert-ブチル基、1,1-ジメチルプロピル基、2-エチルヘキシル基、2-ブチルオクチル基等の直鎖状、分岐鎖状若しくは環状のアルキル基が挙げられる。このうち好ましくは炭素数20以下のアルキル基である。
In formula (I) and formula (II), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , and R 8 are each independently selected from an alkyl group which may have a substituent, and an aromatic ring group which may have a substituent.
Examples of the alkyl group include linear, branched or cyclic alkyl groups such as methyl, ethyl, n-propyl, n-butyl, 2-methylpropyl, 2-methylbutyl, 3-methylbutyl, cyclohexylmethyl, neopentyl, 2-ethylbutyl, isopropyl, 2-butyl, cyclohexyl, 3-pentyl, tert-butyl, 1,1-dimethylpropyl, 2-ethylhexyl, 2-butyloctyl, etc. Among these, preferred are alkyl groups having 20 or less carbon atoms.

上記芳香族基としては,フェニル基、ナフチル基、アントラニル基、フルオレニル基、フェナンスレニル基、アズレニル基などのアリール基、チエニル基,イミダゾリル基,ピラゾリル基,チアゾリル基,などのヘテロアリール基が挙げられる。このうち好ましくは炭素数12以下の単環、2縮合環アリール基、又は単環ヘテロアリール基である。更に好ましくは、炭素数6以下の単環のアリール基、またはチエニル基である。 The aromatic group may be an aryl group such as a phenyl group, a naphthyl group, an anthranyl group, a fluorenyl group, a phenanthrenyl group, or an azulenyl group, or a heteroaryl group such as a thienyl group, an imidazolyl group, a pyrazolyl group, or a thiazolyl group. Of these, a monocyclic or two-condensed ring aryl group or a monocyclic heteroaryl group having 12 or less carbon atoms is preferred. A monocyclic aryl group having 6 or less carbon atoms or a thienyl group is even more preferred.

置換基を有してもよい基の置換基としては、例えば、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、アルキルチオ基、アリー
ルチオ基、ヘテロアリールチオ基、アミノ基、アシル基、アミノアシル基、ウレイド基、スルホンアミド基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルファモイルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ヘテロアリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ヘテロアリールスルホニル基、イミド基及びシリル基などが挙げられる。
Examples of the substituent of the optionally substituted group include a halogen atom, a hydroxyl group, a nitro group, a cyano group, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a heteroaryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, a heteroaryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group, a heteroarylthio group, an amino group, an acyl group, an aminoacyl group, a ureido group, a sulfonamide group, a carbamoyl group, a sulfamoyl group, a sulfamoylamino group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a heteroaryloxycarbonyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, a heteroarylsulfonyl group, an imido group, and a silyl group.

具体的にはメチル基、エチル基などの炭素数1~15程度のアルキル基;
エチニル基、プロピレニル基などの炭素数2~10程度のアルケニル基;
アセチレニル基など炭素数2~10程度のアルキニル基;
フェニル基、ナフチル基などの炭素数6~20程度のアリール基;
チエニル基、フリル基、ピリジル基などの炭素数3~20程度のヘテロアリール基;
メトキシ基,エトキシ基、プロポキシ基などの炭素数1~15程度のアルコキシ基;
フェノキシ基、ナフトキシ基などの炭素数6~20程度のアリールオキシ基;
ピリジルオキシ基、チエニルオキシ基などのなどの炭素数3~20程度のヘテロアリールオキシ基;
メチルチオ基、エチルチオ基などの炭素数1~15程度のアルキルチオ基;
フェニルチオ基、ナフチルチオ基などの炭素数6~20程度のアリールチオ基;
ピリジルチオ基、チエニルチオ基などのなどの炭素数3~20程度のヘテロアリールチオ基;
ジメチルアミノ基、ジフェニルアミノ基などの炭素数1~20程度の置換基を有していてもよいアミノ基;
アセチル基、ピバロイル基などの炭素数2~20程度のアシル基;
アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基などの炭素数2~20程度のアシルアミノ基;3-メチルウレイド基などの炭素数2~20程度のウレイド基;
メタンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基などの炭素数1~20程度のスルホンアミド基;
ジメチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基などの炭素数1~20程度のカルバモイル基;
エチルスルファモイル基などの炭素数1~20程度のスルファモイル基;
ジメチルスルファモイルアミノ基などの炭素数1~20程度のスルファモイルアミノ基;メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などの炭素数2~6程度のアルコキシカルボニル基;
フェノキシカルボニル基、ナフトキシカルボニル基などの炭素数7~20程度の芳香族炭化水素オキシカルボニル基;
ピリジルオキシカルボニル基などの炭素数6~20程度の芳香族複素環炭化水素オキシカルボニル基;
メタンスルホニル基、エタンスルホニル基、取りフルオロメタンスルホニル基などの炭素数1~6程度のアルキルスルホニル基;
ベンゼンスルホニル基、モノフルオロベンゼンスルホニル基などの炭素数6~20程度のアリールスルホニル基;
チエニルスルホニル基などの炭素数3~20程度のヘテロアリールオキシスルホニル基;フタルイミドなどの炭素数4~20程度のイミド基;
又は、アルキル基及びアリール基からなる群より選ばれる置換基で3置換されているシリル基などが挙げられる。
Specifically, alkyl groups having about 1 to 15 carbon atoms, such as methyl and ethyl groups;
Alkenyl groups having about 2 to 10 carbon atoms, such as an ethynyl group or a propylenyl group;
Alkynyl groups having about 2 to 10 carbon atoms, such as an acetylenyl group;
Aryl groups having about 6 to 20 carbon atoms, such as a phenyl group or a naphthyl group;
Heteroaryl groups having about 3 to 20 carbon atoms, such as a thienyl group, a furyl group, or a pyridyl group;
Alkoxy groups having about 1 to 15 carbon atoms, such as a methoxy group, an ethoxy group, or a propoxy group;
Aryloxy groups having about 6 to 20 carbon atoms, such as a phenoxy group or a naphthoxy group;
Heteroaryloxy groups having about 3 to 20 carbon atoms, such as a pyridyloxy group, a thienyloxy group, etc.;
Alkylthio groups having about 1 to 15 carbon atoms, such as a methylthio group or an ethylthio group;
Arylthio groups having about 6 to 20 carbon atoms, such as a phenylthio group and a naphthylthio group;
Heteroarylthio groups having about 3 to 20 carbon atoms, such as a pyridylthio group, a thienylthio group, etc.;
an amino group which may have a substituent having about 1 to 20 carbon atoms, such as a dimethylamino group or a diphenylamino group;
Acyl groups having about 2 to 20 carbon atoms, such as an acetyl group or a pivaloyl group;
Acylamino groups having about 2 to 20 carbon atoms, such as an acetylamino group or a propionylamino group; ureido groups having about 2 to 20 carbon atoms, such as a 3-methylureido group;
Sulfonamide groups having about 1 to 20 carbon atoms, such as a methanesulfonamide group or a benzenesulfonamide group;
Carbamoyl groups having about 1 to 20 carbon atoms, such as a dimethylcarbamoyl group and an ethylcarbamoyl group;
Sulfamoyl groups having about 1 to 20 carbon atoms, such as an ethylsulfamoyl group;
Sulfamoylamino groups having about 1 to 20 carbon atoms, such as a dimethylsulfamoylamino group; alkoxycarbonyl groups having about 2 to 6 carbon atoms, such as a methoxycarbonyl group and an ethoxycarbonyl group;
Aromatic hydrocarbon oxycarbonyl groups having about 7 to 20 carbon atoms, such as a phenoxycarbonyl group and a naphthoxycarbonyl group;
Aromatic heterocyclic hydrocarbon oxycarbonyl groups having about 6 to 20 carbon atoms, such as a pyridyloxycarbonyl group;
Alkylsulfonyl groups having about 1 to 6 carbon atoms, such as a methanesulfonyl group, an ethanesulfonyl group, or a trifluoromethanesulfonyl group;
Arylsulfonyl groups having about 6 to 20 carbon atoms, such as a benzenesulfonyl group or a monofluorobenzenesulfonyl group;
Heteroaryloxysulfonyl groups having about 3 to 20 carbon atoms, such as thienylsulfonyl groups; imido groups having about 4 to 20 carbon atoms, such as phthalimide groups;
Alternatively, a silyl group which is substituted with three substituents selected from the group consisting of an alkyl group and an aryl group can be mentioned.

、R、R、R、R、R、R、及びRとして特に好ましくは、総炭素数15以下の、置換基を有してもよいアルキル基、総炭素数20以下の、置換基を有してもよい単環アリール基、又は総炭素数15以下置換基を有してもよい単環ヘテロアリール基である。 Particularly preferred as R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , and R 8 are an alkyl group having a total of 15 or less carbon atoms which may have a substituent, a monocyclic aryl group having a total of 20 or less carbon atoms which may have a substituent, or a monocyclic heteroaryl group having a total of 15 or less carbon atoms which may have a substituent.

Ar、及びArはそれぞれ独立に5員環または6員環を有する、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素及び芳香族複素環から選択される。Ar、Arは、好ましくは、それぞれ独立に置換されていてもよいアリール基、または,置換されていてもよいヘテロアリール基である。 Ar 1 and Ar 2 are each independently selected from an aromatic hydrocarbon and an aromatic heterocycle having a 5- or 6-membered ring, which may have a substituent. Ar 1 and Ar 2 are preferably each independently an aryl group which may be substituted, or a heteroaryl group which may be substituted.

具体的には、上記R~Rの具体例であげた、アリール基及びヘテロアリール基が挙げられる。置換基を有してもよい基の置換基としては、上記R~Rであげたものと同様のものがあげられる.
Ar、Arとしてより好ましくは、総炭素数15以下の、置換基を有してもよい単環アリール基、または、総炭素数15以下置換基を有してもよい単環ヘテロアリール基である。特に好ましくは置換基を有してもよいチオフェン環である。置換基として、上記であげた中でも、さらに好ましくは炭素数1~15程度のアルキル基、炭素数1~15程度のアルコキル基及びハロゲン原子である。
Specific examples include the aryl and heteroaryl groups listed above as specific examples of R 1 to R 8. Examples of the substituents of the groups that may have a substituent include the same as those listed above for R 1 to R 8 .
More preferably, Ar 1 and Ar 2 are monocyclic aryl groups having a total of 15 or less carbon atoms which may have a substituent, or monocyclic heteroaryl groups having a total of 15 or less carbon atoms which may have a substituent. Particularly preferred is a thiophene ring which may have a substituent. Among the above-mentioned substituents, more preferred are alkyl groups having about 1 to 15 carbon atoms, alkoxy groups having about 1 to 15 carbon atoms, and halogen atoms.

式(1)中、Z、Z、Z、及びZは、それぞれ独立に置換基を有していてもよいシリル基またはメチル基から選択される。
シリル基としては,トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、t-ブチルジフェニルシリル基、n-ブチルジメチルシリル基、ジメチルエチルシリル基、ジメチルフェニルシリル基、ジメチルイソプロピルシリル基、トリイソプリピルシリル基,tert-ブチルジメチル基などがあげられるが、特に好ましくは、立体障害が小さいメトキシ基またはトリメチルシリル基である。
In formula (1), Z 1 , Z 2 , Z 3 and Z 4 are each independently selected from a silyl group or a methyl group which may have a substituent.
Examples of the silyl group include a trimethylsilyl group, a triethylsilyl group, a t-butyldiphenylsilyl group, a n-butyldimethylsilyl group, a dimethylethylsilyl group, a dimethylphenylsilyl group, a dimethylisopropylsilyl group, a triisopropylsilyl group, and a tert-butyldimethyl group. Particularly preferred are a methoxy group or a trimethylsilyl group, which have little steric hindrance.

nは0以上の整数を表し、好ましくは0から5の整数である。 n represents an integer of 0 or more, preferably an integer from 0 to 5.

(二価の鉄化合物)
本形態の反応工程で上記式(I)の化合物と共存させる「二価の鉄化合物」とは、化合物中の鉄が二価であることを意味する。
二価の鉄化合物としては、FeCl、FeBr、FeI、Fe(OAc)、Fe(acac)、などの化合物が挙げられる。反応工程で共存させる二価の鉄化合物の量は特に限定されないが、一般式(I)の化合物に対し二価の鉄化合物は1mol%から30mol%の範囲内であり、より好ましくは1mol%から20mol%の範囲内である。
(Divalent iron compounds)
The "divalent iron compound" that is allowed to coexist with the compound of formula (I) in the reaction step of this embodiment means that the iron in the compound is divalent.
Examples of the divalent iron compound include compounds such as FeCl 2 , FeBr 2 , FeI 2 , Fe(OAc) 2 , and Fe(acac) 2 . The amount of the divalent iron compound to be coexisted in the reaction step is not particularly limited, but the amount of the divalent iron compound relative to the compound of general formula (I) is within the range of 1 mol % to 30 mol %, and more preferably within the range of 1 mol % to 20 mol %.

(三価のリン化合物)
本形態の反応工程で上記式(I)の化合物と共存させる「三価のリン化合物」とは、化合物中のリンが三価であることを意味する。
三価のリン化合物としては、例えばシグマーアルドリッチ社の「Buchwald ポートフォリオ2019パラダサイクルと配位子」や「クロスカップリング反応のための Pd 触媒・配位子 アプリケーションガイド」に記載の三価のリン配位子から選ばれる。この中でもトリフェニルホスフィン及びトリ(オルトトリル)ホスフィンが、簡易的かつ安価に用いることのできる点で好ましく、トリtert-ブチルホスフィンが反応性をあげることができる点で好ましい。Buchwaldのリン配位子は、基質によって最適の配位子を選ぶことで本形態の反応による一般式(II)の化合物の収率を向上させることができる点で好ましい。二価の鉄化合物に対し三価のリン化合物をモル比で1:1~1:3の比率で用いることが好ましく、特に好ましくは1:1.5~1:2.5の比率である。
(Trivalent phosphorus compounds)
The "trivalent phosphorus compound" that is allowed to coexist with the compound of formula (I) in the reaction step of this embodiment means that phosphorus in the compound is trivalent.
The trivalent phosphorus compound is selected from the trivalent phosphorus ligands described in, for example, Sigma-Aldrich's "Buchwald Portfolio 2019 Palladacycles and Ligands" and "Pd Catalysts and Ligands Application Guide for Cross-Coupling Reactions". Among these, triphenylphosphine and tri(orthotolyl)phosphine are preferred because they can be used simply and inexpensively, and tri-tert-butylphosphine is preferred because it can increase reactivity. Buchwald phosphorus ligands are preferred because the yield of the compound of general formula (II) in the reaction of this embodiment can be improved by selecting the optimal ligand depending on the substrate. It is preferable to use a trivalent phosphorus compound in a molar ratio of 1:1 to 1:3 relative to the divalent iron compound, and particularly preferably in a ratio of 1:1.5 to 1:2.5.

(マグネシウム)
本形態の反応工程で上記式(I)の化合物と共存させるマグネシウムは特に限定されず、マグネシウム金属であってよく、マグネシウム含有化合物であってもよい。マグネシウ
ム含有化合物としては、アルドリッチ社製のRiekeマグネシウム、ターボマグネシウムなどがあげられる。共存させるマグネシウムの量は、一般式(I)の化合物1molに対し3モル~10モルが好ましいが、系中の撹拌効率を落とさないためには3モル~5モルが特に好ましい。
(magnesium)
The magnesium to be coexisted with the compound of formula (I) in the reaction step of this embodiment is not particularly limited, and may be magnesium metal or a magnesium-containing compound. Examples of the magnesium-containing compound include Rieke magnesium and turbo magnesium manufactured by Aldrich. The amount of magnesium to be coexisted is preferably 3 to 10 moles per mole of the compound of general formula (I), and is particularly preferably 3 to 5 moles in order not to reduce the stirring efficiency in the system.

(ハロゲン化リチウム)
本形態の反応工程では、ハロゲン化リチウムを更に共存させることが好ましい。ハロゲン化リチウムを更に共存させることで、マグネシウム試薬を活性化させることから好ましい。ハロゲン化リチウムとしては塩化リチウム、臭化リチウム、ヨウ化リチウムなどが挙げられ、これらのハロゲン化リチウムは、マグネシウムと等モル数共存させることが好ましい。具体的には、マグネシウム:ハロゲン化リチウムのモル比が1:0.5~1:1.5であることが好ましく、1:0.8~1:1.2であることがより好ましい。
(lithium halide)
In the reaction step of this embodiment, it is preferable to further coexist with lithium halide. By further coexisting with lithium halide, it is preferable to activate the magnesium reagent. Examples of lithium halide include lithium chloride, lithium bromide, and lithium iodide, and it is preferable to coexist these lithium halides in an equimolar amount with magnesium. Specifically, the molar ratio of magnesium:lithium halide is preferably 1:0.5 to 1:1.5, and more preferably 1:0.8 to 1:1.2.

(溶媒)
本形態の反応は、通常溶媒中で行う。その際に用いる溶媒としては、例えば
トルエン、クロロベンゼンなどの芳香族系溶媒;
エーテル、1,4-ジオキサン、THFなどのエーテル系溶媒;
ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族系溶媒;
塩化メチレン、クロロホルム、1,2-ジクロロエタンなどのハロゲン系溶媒;などから選択できる。このうちトルエン、テトラヒドロフランを用いることが好ましい。これらの溶媒は単独で用いても、2種以上を混合してもよく、例えば、基質等の溶解度が低い溶媒を用いる場合にはハロゲン系溶媒やエーテル系溶媒を組み合わせると反応成績が向上し、また、溶存酸素濃度の低い溶媒を用いる場合には非極性溶媒、より好ましくは炭化水素系溶媒を組み合わせると反応成績が向上する。
(solvent)
The reaction of this embodiment is usually carried out in a solvent. Examples of the solvent that can be used at that time include aromatic solvents such as toluene and chlorobenzene;
Ether solvents such as ether, 1,4-dioxane, and THF;
Aliphatic solvents such as hexane and heptane;
The solvent can be selected from halogen-based solvents such as methylene chloride, chloroform, and 1,2-dichloroethane. Of these, toluene and tetrahydrofuran are preferably used. These solvents may be used alone or in combination of two or more. For example, when a solvent having low solubility for the substrate is used, the reaction results are improved by combining it with a halogen-based solvent or an ether-based solvent, and when a solvent having a low dissolved oxygen concentration is used, the reaction results are improved by combining it with a non-polar solvent, more preferably a hydrocarbon-based solvent.

(酸化剤)
本形態の反応工程では、酸化剤を用いて酸化反応を行うことが好ましい。酸化剤としては、空気、酸素、ハロゲン化合物;例えば、ヨウ素、臭素、テトラブチルアンモニウムトリブロマイド、ブロミン-1,4-ジオキサン複合体、1,2-ジブロモ-1,1,2,2-テトラクロロエタン、1,2-ジクロロエタンピリジニウムブロマイドパーブロマイド、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセンハイドロゲントリブロマイド、NBS、5,5-ジブロモメルドラム酸、トリメチルシリルブロマイド、1-クロロ-2-イオドエタン、NIS、テトラメチルアンモニウムジクロロイオデート、ピリジンイオダインモノクロライド、TMSI、有機過酸化物;例えばジアシルパーオキサイド、アルキルパーオキシエステル、パーオキシジカーボネート、パーオキシカーボネート、パーオキシケタール、ジアルキルパーオキサイド、アルキルハイドロパーオキサイド、mCPBA、t-ブチルハイドロパーオキサイド、ビス(トリメチルシリル)パーオキサイド、ジ-t-ブチルパーオキサイド、2-ハイドロパーオキシ-4,5-ジフェニル-1,3,5-トリアジン、メチルエチルケトンパーオキサイド、が挙げられる。
副反応を抑える面から、求核性の弱い酸化剤が好ましい。
(Oxidizing Agent)
In the reaction step of this embodiment, it is preferable to carry out the oxidation reaction using an oxidizing agent. Examples of the oxidizing agent include air, oxygen, and halogen compounds; for example, iodine, bromine, tetrabutylammonium tribromide, bromine-1,4-dioxane complex, 1,2-dibromo-1,1,2,2-tetrachloroethane, 1,2-dichloroethane pyridinium bromide perbromide, 1,8-diazabicyclo[5.4.0]-7-undecene hydrogen tribromide, NBS, 5,5-dibromo Meldrum's acid, trimethylsilyl bromide, 1-chloro-2-iodoethane, NIS, and tetramethylammonium dichloroiodide. peroxide, pyridine iodine monochloride, TMSI, organic peroxides; for example, diacyl peroxide, alkyl peroxy ester, peroxydicarbonate, peroxycarbonate, peroxyketal, dialkyl peroxide, alkyl hydroperoxide, mCPBA, t-butyl hydroperoxide, bis(trimethylsilyl) peroxide, di-t-butyl peroxide, 2-hydroperoxy-4,5-diphenyl-1,3,5-triazine, and methyl ethyl ketone peroxide.
In order to suppress side reactions, an oxidizing agent having a weak nucleophilicity is preferred.

(反応温度)
本形態の反応工程における反応温度は、通常-5℃以上、好ましくは0℃以上、より好ましくは10℃以上で行われ、特に好ましくは25℃程度~溶媒の沸点程度の範囲で行われ、反応の進行速度に応じて、用いる溶媒の還流温度までの範囲で任意に設定可能である。酸化が遅いとき(つまり収率の悪いとき)は、反応溶液中に超音波、マイクロ波を照射することや、反応溶液をオートクレーブ処理すること、を併用することが好ましい。
(Reaction temperature)
The reaction temperature in the reaction step of this embodiment is usually −5° C. or higher, preferably 0° C. or higher, more preferably 10° C. or higher, and particularly preferably in the range of about 25° C. to the boiling point of the solvent, and can be arbitrarily set within the range up to the reflux temperature of the solvent used depending on the reaction proceeding speed. When the oxidation is slow (i.e., when the yield is poor), it is preferable to irradiate the reaction solution with ultrasound or microwaves or to autoclave the reaction solution.

反応時間は、通常30分以上24時間以下であるが、用いる溶媒の種類やその他の反応条件にも依存するので、任意に設定すればよい。また、反応の進行度合いは、高速液体ク
ロマトグラフィー(HPLC)を用いて確認することができる。反応終了後は、公知の単離・精製方法を用いて、目的とする一般式(II)の化合物を得ることができる。なお、鉄化合物を除去するために、更に希塩酸水溶液で抽出することが好ましい。
The reaction time is usually 30 minutes or more and 24 hours or less, but may be set arbitrarily since it depends on the type of solvent used and other reaction conditions. The progress of the reaction can be confirmed using high performance liquid chromatography (HPLC). After the reaction is completed, the target compound of general formula (II) can be obtained using a known isolation and purification method. In addition, it is preferable to further extract with a dilute hydrochloric acid aqueous solution to remove the iron compound.

以上の方法により一般式(II)で表される芳香族多環縮合環化合物を製造することができる。このような上記一般式(II)で表される化合物の好ましい具体例を以下に示す。 By the above method, an aromatic polycyclic fused ring compound represented by the general formula (II) can be produced. Specific examples of such a compound represented by the above general formula (II) are shown below.

Figure 0007555538000006
Figure 0007555538000006

Figure 0007555538000007
Figure 0007555538000007

Figure 0007555538000008
Figure 0007555538000008

本発明の別の形態は、下記式(II)’で表される芳香族多環縮合環化合物であり、新規化合物である。

Figure 0007555538000009

式(II)’中、R、R、R、R、R、R、R、及びRは、それぞれ独立に置換基を有していてもよいアルキル基及び置換基を有していてもよい芳香族環基から選択され、Ar、及びArはチオフェン環であり、nは0以上の整数を示す。 Another aspect of the present invention is a novel aromatic polycyclic fused ring compound represented by the following formula (II)'.
Figure 0007555538000009

In formula (II)', R1 , R2 , R3 , R4 , R5 , R6 , R7 , and R8 are each independently selected from an alkyl group which may have a substituent and an aromatic ring group which may have a substituent, Ar1 and Ar2 are thiophene rings, and n is an integer of 0 or more.

また、本発明の別の形態は、上記式(II)’で表される芳香族多環縮合間化合物を準備するステップ、及び上記化合物を中間体として、下記一般式(III)で表される化合物を製造するステップ、を含むn型半導体化合物の製造方法である。

Figure 0007555538000010
Another aspect of the present invention is a method for producing an n-type semiconductor compound, comprising the steps of preparing an aromatic polycyclic fused intercyclic compound represented by the above formula (II)', and producing a compound represented by the following general formula (III) using the above compound as an intermediate.
Figure 0007555538000010

式(III)中、R、R、R、R、R、R、R、及びRは、上式(II)と同義であり、R、R10は、それぞれ独立に置換基を有していてもよいアルキル基、及び置換基を有していてもよい芳香族環基から選択され、X、Xは、それぞれ独立にハロゲン原子を示し、p、qは、それぞれ独立に0から4までの整数を示す。r、sは、それぞれ独立に0または1を示し、nは0以上の整数を示す。 In formula (III), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , and R 8 are the same as those in formula (II), R 9 and R 10 are each independently selected from an alkyl group which may have a substituent and an aromatic ring group which may have a substituent, X 1 and X 2 each independently represent a halogen atom, and p and q each independently represent an integer from 0 to 4. r and s each independently represent 0 or 1, and n represents an integer of 0 or more.

及びR10で表されるアルキル基は、炭素数6以上20以下の直鎖又は分岐のアルキル基であることが好ましく、より好ましくは炭素数が7以上、更に好ましくは炭素数が8以上であり、また、より好ましくは炭素数が15以下であり、更に好ましくは炭素数が12以下である。 The alkyl group represented by R9 and R10 is preferably a linear or branched alkyl group having 6 to 20 carbon atoms, more preferably 7 or more carbon atoms, even more preferably 8 or more carbon atoms, and still more preferably 15 or less carbon atoms, even more preferably 12 or less carbon atoms.

炭素数6以上20以下の直鎖又は分岐の炭化水素基としては、n-オクチル基、n-デシル基、ラウリル基、ミリスチル基、パルミチル基等の直鎖アルキル基;2-エチルヘキシル基、2-ブチルオクチル基等の分岐を有する1級アルキル基;2-オクチル基、2-ノニル基、2-デシル基等の分岐を有する2級アルキル基;等が挙げられる。
これらのうち、R及びR10は、1級の分岐鎖炭化水素基であることが好ましい。
Examples of the linear or branched hydrocarbon group having from 6 to 20 carbon atoms include linear alkyl groups such as n-octyl, n-decyl, lauryl, myristyl, and palmityl groups; branched primary alkyl groups such as 2-ethylhexyl and 2-butyloctyl groups; and branched secondary alkyl groups such as 2-octyl, 2-nonyl, and 2-decyl groups.
Of these, R 9 and R 10 are preferably primary branched chain hydrocarbon groups.

及びXは、溶解性を向上させる観点からはフッ素原子であることが好ましく、活性層を形成したときの分子配列の面から、塩素原子であることが好ましい。 X1 and X2 are preferably fluorine atoms from the viewpoint of improving solubility, and are preferably chlorine atoms from the viewpoint of molecular arrangement when an active layer is formed.

r及びsは、1又は、片方は0であることが好ましい。p及びqは、1又は2であることが好ましい。nは、溶解度の観点から0又は1であることが好ましい。 It is preferable that r and s are 1 or one is 0. It is preferable that p and q are 1 or 2. It is preferable that n is 0 or 1 from the viewpoint of solubility.

一般式(III)で表されるn型化合物は、例えば,非特許文献3(Adv.Energy Mater.、8巻、1801212(2018年))に記載の方法により合成できる。 The n-type compound represented by general formula (III) can be synthesized, for example, by the method described in Non-Patent Document 3 (Adv. Energy Mater., Vol. 8, 1801212 (2018)).

(n型有機半導体化合物)
上記式(III)の化合物は、n型有機半導体化合物として、有機半導体デバイスの活性層に含有させることができる一般式(III)で表されるn型化合物は、溶液中の吸収極大が850nm以上1200nm以下の範囲にあり、赤外線フォトディテクタ用の光電変換素子として適切なバンドギャップを有する。
有機半導体デバイスの活性層には、上記n型有機半導体化合物のほか、n型フラーレン化合物及びp型共役高分子を含むことができる。このような有機半導体デバイスの活性層は、本発明の別の実施形態である。
(n-type organic semiconductor compound)
The compound of the above formula (III) can be contained in the active layer of an organic semiconductor device as an n-type organic semiconductor compound. The n-type compound represented by general formula (III) has an absorption maximum in a solution in the range of 850 nm or more and 1200 nm or less, and has a band gap suitable for use as a photoelectric conversion element for an infrared photodetector.
The active layer of the organic semiconductor device may contain, in addition to the n-type organic semiconductor compound, an n-type fullerene compound and a p-type conjugated polymer. Such an active layer of the organic semiconductor device is another embodiment of the present invention.

(n型フラーレン類)
本実施形態に係る有機半導体デバイスの活性層は、n型有機半導体として、n型フラーレン類を含有してもよい。n型フラーレン類は、1種単独又は2種以上を混合して用いることができる。本実施形態においては、p型共役高分子及びn型化合物を含有する活性層に、n型フラーレン類を加えることで、電子移動度の向上とn型化合物の近赤外領域の吸収とを両立させることができる。
(n-type fullerenes)
The active layer of the organic semiconductor device according to this embodiment may contain n-type fullerenes as an n-type organic semiconductor. The n-type fullerenes may be used alone or in combination of two or more. In this embodiment, by adding n-type fullerenes to the active layer containing a p-type conjugated polymer and an n-type compound, it is possible to improve the electron mobility and absorb the n-type compound in the near infrared region.

n型フラーレン類は、特に限定されず、n型半導体として公知のフラーレン類を用いることができる。公知のフラーレン類としては、フラーレン-C60、フラーレン-C70、フラーレン-C76、フラーレン-C78、フラーレン-C84、フラーレン-C240、フラーレン-C540、ミックスドフラーレン、フラーレンナノチューブ等の無修飾フラーレン;及びこれらの一部が水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロアリール基、シクロアルキル基、シリル基、エーテル基、アミノ基、シリル基等によって置換されたフラーレン誘導体;が挙げられる。 The n-type fullerenes are not particularly limited, and fullerenes known as n-type semiconductors can be used. Known fullerenes include unmodified fullerenes such as fullerene-C60, fullerene-C70, fullerene-C76, fullerene-C78, fullerene-C84, fullerene-C240, fullerene-C540, mixed fullerene, and fullerene nanotubes; and fullerene derivatives in which a portion of these is substituted with a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a heteroaryl group, a cycloalkyl group, a silyl group, an ether group, an amino group, a silyl group, or the like.

具体的なフラーレン誘導体としては、[60]PCBM、[70]PCBM、bis[60]PCBM、bis[70]PCBM、[60]SIMEF、[70]SIMEF、[60]ICBA、[70]ICBA、[60]ICMA、[70]ICMA、MP-C60、[60]PCBiB、[60]PCBH等が挙げられる。
これらのうち、無修飾フラーレンは、[60]フラーレン又は[70]フラーレンであることが好ましい。
Specific fullerene derivatives include [60]PCBM, [70]PCBM, bis[60]PCBM, bis[70]PCBM, [60]SIMEF, [70]SIMEF, [60]ICBA, [70]ICBA, [60]ICMA, [70]ICMA, MP-C60, [60]PCBiB, [60]PCBH, and the like.
Of these, the unmodified fullerene is preferably [60]fullerene or [70]fullerene.

また、フラーレン誘導体は、[60]PCBM、[70]PCBM、bis[60]PCBM、bis[70]PCBM、[60]SIMEF、[70]SIMEF、[60]ICBA、[70]ICBA、[60]ICMA、又は[70]ICMAであることが好ましく、[60]PCBM、[70]PCBM、又は[70]SIMEFであることがより好ましい。 The fullerene derivative is preferably [60]PCBM, [70]PCBM, bis[60]PCBM, bis[70]PCBM, [60]SIMEF, [70]SIMEF, [60]ICBA, [70]ICBA, [60]ICMA, or [70]ICMA, and more preferably [60]PCBM, [70]PCBM, or [70]SIMEF.

活性層中におけるn型化合物に対するn型フラーレン類の重量比は、特に限定されず、
通常0.2以上、好ましくは0.3以上、より好ましくは0.5以上、また、通常2.0以下、好ましくは1.5以下、より好ましくは1.0以下である。当該重量比を上記範囲内とすることにより、活性層の混合溶液中での溶解性を担保することができる。
The weight ratio of n-type fullerenes to the n-type compound in the active layer is not particularly limited,
The weight ratio is usually 0.2 or more, preferably 0.3 or more, more preferably 0.5 or more, and usually 2.0 or less, preferably 1.5 or less, more preferably 1.0 or less. By setting the weight ratio within the above range, the solubility of the active layer in the mixed solution can be ensured.

(p型共役高分子)
本実施形態に係る有機半導体デバイスの活性層は、p型有機半導体として、p型共役高分子を含有する。p型共役高分子としては、例えば正孔輸送性高分子が挙げられ、電子を供与しやすい性質がある構成単位を有する正孔輸送性高分子であることが好ましい。また、p型共役高分子は、n型有機半導体と混合して塗布により膜を形成できるものであることが好ましい。
(p-type conjugated polymer)
The active layer of the organic semiconductor device according to this embodiment contains a p-type conjugated polymer as a p-type organic semiconductor. For example, the p-type conjugated polymer may be a hole transporting polymer, and is preferably a hole transporting polymer having a structural unit that has a tendency to donate electrons. In addition, it is preferable that the p-type conjugated polymer is one that can be mixed with an n-type organic semiconductor and coated to form a film.

正孔輸送性高分子中、正孔輸送性に優れる部分構造としては、具体的には、ベンゾジチオフェン構造、チオフェン構造、カルバゾール構造、ジベンゾフラン構造、トリアリールアミン構造、ナフタレン構造、フェナントレン構造又はピレン構造が挙げられる。
具体的なp型共役高分子としては、例えば一般式(IV)で表されるp型共役高分子が挙げられる。なお、式(IV)中、nは正の数である。
In the hole transporting polymer, specific examples of a partial structure having excellent hole transporting properties include a benzodithiophene structure, a thiophene structure, a carbazole structure, a dibenzofuran structure, a triarylamine structure, a naphthalene structure, a phenanthrene structure, and a pyrene structure.
A specific example of the p-type conjugated polymer is a p-type conjugated polymer represented by general formula (IV): In formula (IV), n is a positive number.

Figure 0007555538000011
Figure 0007555538000011

活性層中、p型共役高分子に対するn型化合物の重量比は、通常0.5以上、好ましくは0.6以上、より好ましくは0.65以上、また、通常1.5以下、好ましくは1.3以下、より好ましくは1.0以下である。
また、活性層中、p型共役高分子に対するn型フラーレン類の重量比は、通常0.4以上、好ましくは0.5以上、より好ましくは0.6以上、また、通常2.0以下、好ましくは1.5以下、より好ましくは1.0以下である。
活性層の形成方法は、特に限定されず、既知の方法により成膜できるが、典型的には塗布法である。
In the active layer, the weight ratio of the n-type compound to the p-type conjugated polymer is usually 0.5 or more, preferably 0.6 or more, more preferably 0.65 or more, and usually 1.5 or less, preferably 1.3 or less, more preferably 1.0 or less.
In the active layer, the weight ratio of n-type fullerenes to p-type conjugated polymer is usually 0.4 or more, preferably 0.5 or more, more preferably 0.6 or more, and usually 2.0 or less, preferably 1.5 or less, more preferably 1.0 or less.
The method for forming the active layer is not particularly limited, and the active layer can be formed by a known method, but is typically a coating method.

塗布法で活性層を成膜する場合、有機溶媒に、有機半導体であるp型共役高分子,n型化合物、及びn型フラーレン類、に加え、添加物としてその他必要な物質を溶解して有機半導体インクを調製し、該有機半導体インクをスピンコート法などにより基板上に塗布し、乾燥することで形成する。スピンコートの条件は、有機半導体インクの粘度等を考慮して、定法に従い、適宜決定すればよい。乾燥の条件は、有機半導体インク中の有機溶媒を除去できる限り特に限定されず、例えば有機半導体インクを大気圧下、70℃~130℃で5分~20分間加熱アニールすることにより有機半導体インクを乾燥することができる。これらの有機半導体インクもまた、本発明の別の形態である。 When forming an active layer by a coating method, an organic semiconductor ink is prepared by dissolving the organic semiconductors, p-type conjugated polymers, n-type compounds, and n-type fullerenes, as well as other necessary substances as additives, in an organic solvent, and the organic semiconductor ink is applied to a substrate by a spin coating method or the like, and then dried to form the active layer. The spin coating conditions may be appropriately determined according to a standard method, taking into consideration the viscosity of the organic semiconductor ink, etc. The drying conditions are not particularly limited as long as the organic solvent in the organic semiconductor ink can be removed. For example, the organic semiconductor ink can be dried by heating and annealing the organic semiconductor ink at 70°C to 130°C for 5 to 20 minutes under atmospheric pressure. These organic semiconductor inks are also another aspect of the present invention.

有機半導体インク中のp型共役高分子、n型化合物及びn型フラーレン類の含有量は、塗布により活性層を形成できれば特段限定されない。
有機半導体インク中のp型共役高分子の含有量は、通常0.5質量%以上であり、0.7質量%以上であってもよく、また、通常1.5質量%以下であり、1.3質量%以下であってもよい。
有機半導体インク中のn型フラーレン類の含有量は、通常0.3質量%以上であり、0.4質量%以上であってもよく、また、通常1.5質量%以下であり、1.0質量%以下であってもよい。
The contents of the p-type conjugated polymer, the n-type compound, and the n-type fullerenes in the organic semiconductor ink are not particularly limited as long as an active layer can be formed by coating.
The content of the p-type conjugated polymer in the organic semiconductor ink is usually 0.5% by mass or more, and may be 0.7% by mass or more, and is usually 1.5% by mass or less, and may be 1.3% by mass or less.
The content of n-type fullerenes in the organic semiconductor ink is usually 0.3% by mass or more, and may be 0.4% by mass or more, and is usually 1.5% by mass or less, and may be 1.0% by mass or less.

また、有機半導体インク中のn型化合物の含有量は、通常0.7質量%以上であり、1.0質量%以上であってもよく、また、通常2.0質量%以下であり、1.8質量%以下であってもよい。
本実施形態において、有機半導体インク中のn型化合物に対するn型フラーレン類の重量比は、通常0.3以上、好ましくは0.5以上、より好ましくは0.6以上、また、通常2.0以下、好ましくは1.5以下、より好ましくは1.0以下である。当該重量比を上記範囲内とすることにより、n型フラーレンの高電子移動度によるEQE向上の効果がある。
Furthermore, the content of the n-type compound in the organic semiconductor ink is typically 0.7% by mass or more, and may be 1.0% by mass or more, and is typically 2.0% by mass or less, and may be 1.8% by mass or less.
In this embodiment, the weight ratio of n-type fullerenes to n-type compounds in the organic semiconductor ink is usually 0.3 or more, preferably 0.5 or more, more preferably 0.6 or more, and usually 2.0 or less, preferably 1.5 or less, more preferably 1.0 or less. By setting the weight ratio within the above range, there is an effect of improving the EQE due to the high electron mobility of the n-type fullerene.

有機半導体インクに用いられる有機溶媒としては、特に限定されず、一般的に有機半導体デバイスの活性層を形成するための塗布液に用いられる有機溶媒を使用することができる。具体的には、クロロホルム、ジクロロエタンなどのハロゲン溶媒、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンなどの芳香族炭化水素溶媒、THF、ジブチルエーテル等のエーテル溶媒の有機溶媒が挙げられる。一般に、有機半導体は、これらの有機溶媒への溶解性が高いためである。また、これらの有機溶媒を用いることで、光電変換効率の向上も期待できる。 The organic solvent used in the organic semiconductor ink is not particularly limited, and organic solvents generally used in coating liquids for forming active layers of organic semiconductor devices can be used. Specific examples include organic solvents such as halogenated solvents such as chloroform and dichloroethane, aromatic hydrocarbon solvents such as toluene, xylene, chlorobenzene and dichlorobenzene, and ether solvents such as THF and dibutyl ether. This is because organic semiconductors generally have high solubility in these organic solvents. Furthermore, the use of these organic solvents is expected to improve photoelectric conversion efficiency.

上記有機溶媒のうち、有機溶媒は、有機半導体の種類にもよるが、キシレン、クロロベンゼンまたはクロロホルムであることが好ましい。また、溶解性を調整する場合には、有機溶媒は、2種類以上の混合有機溶媒であってもよい。なお、含有比は特段限定されず、1:9~9:1の範囲であればよい。これらの有機溶媒は、沸点の差が、50℃以下が好ましく、40℃以下がより好ましく、30℃以下がさらに好ましい。 Of the above organic solvents, the organic solvent depends on the type of organic semiconductor, but is preferably xylene, chlorobenzene, or chloroform. In addition, when adjusting the solubility, the organic solvent may be a mixed organic solvent of two or more kinds. The content ratio is not particularly limited, and may be in the range of 1:9 to 9:1. The difference in boiling point between these organic solvents is preferably 50°C or less, more preferably 40°C or less, and even more preferably 30°C or less.

有機半導体インクは、p型共役高分子、n型化合物およびn型フラーレン類に加え、バルクへテロ構造を安定化する目的から、添加物を含有することが好ましい。
添加物としては、p型有機半導体の芳香族部位及びn型有機半導体の芳香族部位のスタッキングを促進し、またp型有機半導体とn型有機半導体とのバルクヘテロ構造形成を促進することができる化合物が挙げられ、例えば多環芳香族化合物、1、8-ジヨードオクタン等が挙げられる。
In addition to the p-type conjugated polymer, the n-type compound, and the n-type fullerene, the organic semiconductor ink preferably contains an additive for the purpose of stabilizing the bulk heterostructure.
The additives include compounds that can promote stacking of the aromatic moiety of a p-type organic semiconductor and the aromatic moiety of an n-type organic semiconductor, and can also promote the formation of a bulk heterostructure between a p-type organic semiconductor and an n-type organic semiconductor, such as polycyclic aromatic compounds and 1,8-diiodooctane.

多環芳香族化合物としては、ナフタレン、アントラセン、ピレンなどが挙げられる。これらのうち、添加物は、1-クロロナフタレンなどの2環式縮合環であることが好ましい。
有機半導体インク中の添加物の含有量は、インク中に通常1.5質量%以上、好ましくは2.0質量%以上、また、通常4.0質量%以下、好ましくは3.5質量%以下である。
Examples of polycyclic aromatic compounds include naphthalene, anthracene, pyrene, etc. Among these, the additive is preferably a bicyclic condensed ring such as 1-chloronaphthalene.
The content of additives in the organic semiconductor ink is usually 1.5% by mass or more, preferably 2.0% by mass or more, and usually 4.0% by mass or less, preferably 3.5% by mass or less.

さらに、有機半導体インクは、本発明の効果を阻害しない範囲でその他の成分を含有してもよい。その他成分の含有量は、通常、有機溶媒に対し2.0質量%以下である。 Furthermore, the organic semiconductor ink may contain other components to the extent that the effects of the present invention are not impaired. The content of other components is usually 2.0% by mass or less relative to the organic solvent.

(例示化合物)
以下、式(III)の化合物の具体例を例示する。
(Example Compound)
Specific examples of the compound of formula (III) are given below.

Figure 0007555538000012
Figure 0007555538000012

Figure 0007555538000013
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Figure 0007555538000014
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(デバイス)
有機半導体デバイスが光電変換素子の場合、光電変換素子の構造は、例えば特開2007-324587号公報の記載などを参照することができ、特段限定されず、例えば、透明基板上に、透明電極、電子輸送層、活性層(光電変換層)、正孔輸送層、及び金属電極の順に積層された構造であってよく、透明基板上に、透明電極、正孔輸送層、活性層(光電変換層)、電子輸送層、及び金属電極の順に積層された構造であってもよい。
(device)
When the organic semiconductor device is a photoelectric conversion element, the structure of the photoelectric conversion element can be, for example, reference to the description in JP 2007-324587 A and is not particularly limited. For example, the photoelectric conversion element may have a structure in which a transparent electrode, an electron transport layer, an active layer (photoelectric conversion layer), a hole transport layer, and a metal electrode are laminated in this order on a transparent substrate, or may have a structure in which a transparent electrode, a hole transport layer, an active layer (photoelectric conversion layer), an electron transport layer, and a metal electrode are laminated in this order on a transparent substrate.

透明電極は、450nm以上の可視光において、平均透過率が80%以上である材料からなる電極である。透明電極を形成する材料としては、透明電極を形成できれば特段の制限はないが、スズをドープしたインジウム酸化物(ITO)、亜鉛をドープしたインジウム酸化物(IZO)、タングステンをドープしたインジウム酸化物(IWO)、亜鉛とアルミニウムとの酸化物(AZO)、酸化インジウム(In)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化チタン(TiO)等があげられる。 The transparent electrode is an electrode made of a material having an average transmittance of 80% or more in visible light of 450 nm or more. There is no particular limitation on the material for forming the transparent electrode as long as it can form a transparent electrode, and examples of the material include tin-doped indium oxide (ITO), zinc-doped indium oxide (IZO), tungsten-doped indium oxide (IWO), zinc aluminum oxide (AZO), indium oxide (In 2 O 3 ), zinc oxide (ZnO), titanium oxide (TiO 2 ), etc.

金属電極は、上記透明電極と対をなす電極である。金属電極を構成する材料としては特段限定されず、金、白金、銀、アルミニウム、ニッケル、チタン、マグネシウム、カルシウム、バリウム、ナトリウム、クロム、銅、コバルトの等の金属又はその合金が挙げられる。
金属電極が透明電極である形態、すなわち一対の電極が透明電極であることが好ましい。この場合、金属電極は、上記透明電極を形成する材料で形成され、一対の電極が同じ材料から形成されていてもよく、異なっていてもよい。
金属電極の膜厚は、特に限定されず、透明性を出したい場合には通常10nm程度であればよい。一方、透明性を求めないのであれば、耐久性等を考慮して40nm以上、さらに好ましくは、100nm以上にしてもよい。
The metal electrode is an electrode that forms a pair with the transparent electrode. The material constituting the metal electrode is not particularly limited, and examples thereof include metals such as gold, platinum, silver, aluminum, nickel, titanium, magnesium, calcium, barium, sodium, chromium, copper, and cobalt, or alloys thereof.
It is preferable that the metal electrode is a transparent electrode, that is, the pair of electrodes are transparent electrodes. In this case, the metal electrode is formed from the material forming the transparent electrode, and the pair of electrodes may be formed from the same material or different materials.
The thickness of the metal electrode is not particularly limited, and if transparency is desired, it is usually about 10 nm, whereas if transparency is not required, the thickness may be 40 nm or more, more preferably 100 nm or more, taking durability and the like into consideration.

電子輸送層及び正孔輸送層の構成部材及びその製造方法について特段の制限はなく、周知技術を用いることができる。例えば、国際公開第2013/171517号、国際公開第2013/180230号又は特開2012-191194号公報等の公知文献に記載の部材及びその製造方法を使用することができる。 There are no particular limitations on the constituent members and manufacturing methods of the electron transport layer and hole transport layer, and well-known techniques can be used. For example, members and manufacturing methods described in publicly known documents such as WO 2013/171517, WO 2013/180230, or JP 2012-191194 can be used.

有機半導体デバイスが光電変換素子である場合、光電変換素子は、フォトディテクタとして光センサーや撮像素子に備えられ、使用される。その場合の光センサー及び撮像素子の構成は、既知のものを適用すればよい。
本実施形態に係る有機半導体デバイスは、p型有機半導体に適切なn型有機半導体と組み合わせて活性層を形成することで、700~1200nmにおける外部量子効率(EQE)を少なくともその一部の波長で50%以上とすることができ、より好ましくは波長940nmにおけるEQEが50%以上、さらに好ましくは700~1200nmの全ての波長でEQEを50%以上とすることができる。
When the organic semiconductor device is a photoelectric conversion element, the photoelectric conversion element is provided in an optical sensor or an image sensor as a photodetector and used. In this case, the optical sensor and the image sensor may have a known configuration.
In the organic semiconductor device according to this embodiment, by forming an active layer in combination with a p-type organic semiconductor appropriate for an n-type organic semiconductor, it is possible to make the external quantum efficiency (EQE) in the range of 700 to 1200 nm 50% or more at least for a part of the wavelengths, more preferably 50% or more for an EQE of 940 nm, and even more preferably 50% or more for all wavelengths in the range of 700 to 1200 nm.

このような活性層を有する有機半導体デバイス(光電変換素子)を用いることで、波長700~1200nmの光を検知するために用いるフォトディテクタを得ることができる。 By using an organic semiconductor device (photoelectric conversion element) with such an active layer, a photodetector can be obtained that can be used to detect light with wavelengths of 700 to 1200 nm.

以下に、実施例により本発明の実施態様を説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、これらに限定されるものではない。なお、反応式中の化合物の下部に付されている番号が化合物番号である。
化合物の同定は、マススペクトル(島津製作所製LCMS-IT-TOF)のAPCI法(大気圧化学イオン化法)により行った。
Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples as long as the gist of the present invention is not exceeded. Note that the numbers given below the compounds in the reaction formulas are the compound numbers.
The compounds were identified by APCI (atmospheric pressure chemical ionization) using a mass spectrometer (LCMS-IT-TOF, manufactured by Shimadzu Corporation).

<実験例1>

Figure 0007555538000015

化合物1(1.05g,4.0mmol)、化合物2(228.1mg,2.0mmol)、Pd(PPhCl(70.2mg,0.1mmol)、dppb(85.3mg,0.2mmol)をシュレンク管に入れ、窒素置換した。これに、DBU(609mg,4.0mmol)とDMSO(10mL)を加え、80℃で4時間加熱した。室温まで冷却後、飽和塩化アンモニウム水(15mL)を加え、エーテル(50mL×2回)で抽出した。有機層を飽和食塩水(50mL)で洗い、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥後、濾過した。有機層を減圧濃縮し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒;10%酢酸エチル/ヘキサン)で精製し、化合物3を69%の収率で得た。
MS (APCI+)294.1 <Experimental Example 1>
Figure 0007555538000015

Compound 1 (1.05 g, 4.0 mmol), compound 2 (228.1 mg, 2.0 mmol), Pd(PPh 3 ) 2 Cl 2 (70.2 mg, 0.1 mmol), and dppb (85.3 mg, 0.2 mmol) were placed in a Schlenk flask and substituted with nitrogen. DBU (609 mg, 4.0 mmol) and DMSO (10 mL) were added to the flask and heated at 80° C. for 4 hours. After cooling to room temperature, saturated ammonium chloride water (15 mL) was added and extracted with ether (50 mL x 2 times). The organic layer was washed with saturated saline (50 mL), dried over sodium sulfate, and then filtered. The organic layer was concentrated under reduced pressure, and the resulting crude product was purified by silica gel column chromatography (developing solvent: 10% ethyl acetate/hexane), and compound 3 was obtained in a yield of 69%.
MS (APCI+)294.1

<実験例2>

Figure 0007555538000016
フェニルマグネシウムブロマイドのTHF溶液(11.0mL,9.0mmol)をシュレンク管に入れ、0℃まで冷やした。これに、THF(2mL)に溶かした化合物3(588.6mg,2.0mmol)を5分かけて滴下した後、室温まで昇温し、12時間撹拌した。反応溶液を氷水に注ぎ、酢酸エチル(15mLx2)で抽出した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥後濾過した。有機層を減圧濃縮し、得られた粗生成物を酢酸エチル/ヘキサンに溶かして再結晶させ、化合物4を83%の収率で得た。
MS (APCI+)545.2 <Experimental Example 2>
Figure 0007555538000016
A THF solution of phenylmagnesium bromide (11.0 mL, 9.0 mmol) was placed in a Schlenk flask and cooled to 0°C. Compound 3 (588.6 mg, 2.0 mmol) dissolved in THF (2 mL) was added dropwise over 5 minutes, and then the mixture was warmed to room temperature and stirred for 12 hours. The reaction solution was poured into ice water and extracted with ethyl acetate (15 mL x 2). The organic layer was dried over sodium sulfate and filtered. The organic layer was concentrated under reduced pressure, and the resulting crude product was dissolved in ethyl acetate/hexane and recrystallized to obtain compound 4 in an 83% yield.
MS (APCI+)545.2

<実験例3>

Figure 0007555538000017
化合物4(545.6mg,1.0mmol)のメタノール(10mL)のサスペンシ
ョン溶液にCAN(219.3mg,0.4mmol)を加えた後、50℃まで昇温し、12時間撹拌した。室温まで冷却後、反応溶液を濾過し、沈殿をメタノールで懸洗し、化合物5を90%収率で得た。
MS (APCI+)570.3 <Experimental Example 3>
Figure 0007555538000017
CAN (219.3 mg, 0.4 mmol) was added to a suspension solution of compound 4 (545.6 mg, 1.0 mmol) in methanol (10 mL), and the mixture was heated to 50° C. and stirred for 12 hours. After cooling to room temperature, the reaction solution was filtered, and the precipitate was washed by suspending in methanol to obtain compound 5 in a 90% yield.
MS (APCI+)570.3

<実施例1>

Figure 0007555538000018
シュレンク管にLiCl(25.4mg,0.60mmol)を加え、加熱乾燥した後、これにFeCl(5.2mg,0.04mmol)、PPh(21.0mg,0.08mmol)、Mg粉末(14.6mg,0.60mmol)、化合物5(114.1mg,0.20mmol)を窒素気流下で加えた。この混合物にTHF(0.4mL)を加え、室温で7時間撹拌した後、1,2-ジクロロプロパン(39μL,0.40mmol)をゆっくり加え、さらに室温で12時間撹拌した。反応溶液をクロロホルム(30mL)で希釈し、有機層を1M塩酸(15mL)で洗い、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥後濾過した。有機層を減圧濃縮し、得られた粗生成物をクロロホルムーメタノールに溶かして再結晶させ、実施例1の化合物を92%の収率で得た。
MS (APCI+)508.7 Example 1
Figure 0007555538000018
LiCl (25.4 mg, 0.60 mmol) was added to a Schlenk flask, and the mixture was dried by heating. FeCl 2 (5.2 mg, 0.04 mmol), PPh 3 (21.0 mg, 0.08 mmol), Mg powder (14.6 mg, 0.60 mmol), and compound 5 (114.1 mg, 0.20 mmol) were then added to the mixture under a nitrogen stream. THF (0.4 mL) was added to the mixture, and the mixture was stirred at room temperature for 7 hours. Then, 1,2-dichloropropane (39 μL, 0.40 mmol) was slowly added, and the mixture was further stirred at room temperature for 12 hours. The reaction solution was diluted with chloroform (30 mL), and the organic layer was washed with 1 M hydrochloric acid (15 mL). The organic layer was dried over sodium sulfate and then filtered. The organic layer was concentrated under reduced pressure, and the resulting crude product was dissolved in chloroform-methanol and recrystallized to obtain the compound of Example 1 in a yield of 92%.
MS (APCI+)508.7

<実験例4>

Figure 0007555538000019
nBuLi(1.6M,66mL)とジイソプロピルアミン(10.6g)のTHF(40mL)から調製された、LDA(105mmol)に、化合物6(6.4g,50mmol)のTHF(50mL)溶液を-78℃で10分かけて滴下した。混合溶液をさらに-78℃で撹拌し、ヨウ素(13.9g,55mmol)のエーテル溶液(40mL)を10分かけて滴下した。反応溶液を室温まで昇温し、さらに1時間撹拌した後、エーテル(100mL)を加え、氷水(300mL)に注いだ。水層を1M塩酸で弱酸性にし、酢酸エチル(300mL)で抽出した。これらの有機層を合わせ、硫酸ナトリウムで乾燥後、濾過した。有機層を減圧濃縮し、得られた粗生成物をエタノール-水から再結晶させ,化合物7を84%の収率で得た。
MS (APCI+)253.9 <Experimental Example 4>
Figure 0007555538000019
A solution of compound 6 (6.4 g, 50 mmol) in THF (50 mL) was added dropwise to LDA (105 mmol) prepared from nBuLi (1.6 M, 66 mL) and diisopropylamine (10.6 g) in THF (40 mL) at -78 ° C. over 10 minutes. The mixed solution was further stirred at -78 ° C., and an ether solution (40 mL) of iodine (13.9 g, 55 mmol) was added dropwise over 10 minutes. The reaction solution was warmed to room temperature and further stirred for 1 hour, after which ether (100 mL) was added and poured into ice water (300 mL). The aqueous layer was made weakly acidic with 1 M hydrochloric acid and extracted with ethyl acetate (300 mL). These organic layers were combined, dried over sodium sulfate, and then filtered. The organic layer was concentrated under reduced pressure, and the resulting crude product was recrystallized from ethanol-water to obtain compound 7 in 84% yield.
MS (APCI+)253.9

<実験例5>

Figure 0007555538000020
化合物7(10.6g,41.7mmol)のメタノール(80mL)溶液に、濃硫酸1mLを加え、80℃で14時間撹拌した。室温まで冷却後、氷水(100mL)に注ぎ、炭酸水素ナトリウムを加え中和した。エーテル(100mL×2回)で抽出し、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥後、濾過した。有機層を減圧濃縮し、化合物8を定量的(収率100%)に得た。
MS (APCI+)267.9 <Experimental Example 5>
Figure 0007555538000020
To a solution of compound 7 (10.6 g, 41.7 mmol) in methanol (80 mL), 1 mL of concentrated sulfuric acid was added and stirred at 80° C. for 14 hours. After cooling to room temperature, the mixture was poured into ice water (100 mL) and neutralized by adding sodium bicarbonate. The mixture was extracted with ether (100 mL x 2), and the organic layer was dried over sodium sulfate and filtered. The organic layer was concentrated under reduced pressure to obtain compound 8 quantitatively (yield 100%).
MS (APCI+)267.9

<実験例6>

Figure 0007555538000021
化合物8(1.07g,4.0mmol)、化合物2(250.9mg,2.2mmol)、Pd(PPhCl(140.4mg,0.2mmol)、dppb(170.6mg,0.4mmol)をシュレンク管に入れ、窒素置換した。これにDMSO(40mL)を加え、DBU(1.22mg,8.0mmol)を5分で滴下した。この反応溶液を80℃で6時間加熱した。室温まで冷却後、飽和塩化アンモニウム水(60mL)を加え、酢酸エチル(60mL×2回)で抽出した。有機層を飽和食塩水(50mL)で洗い、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥後、濾過した。有機層を減圧濃縮し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒;10%酢酸エチル/ヘキサン)で精製し、化合物9を48%の収率で得た。
MS (APCI+)306.0 <Experimental Example 6>
Figure 0007555538000021
Compound 8 (1.07 g, 4.0 mmol), compound 2 (250.9 mg, 2.2 mmol), Pd(PPh 3 ) 2 Cl 2 (140.4 mg, 0.2 mmol), and dppb (170.6 mg, 0.4 mmol) were placed in a Schlenk flask and substituted with nitrogen. DMSO (40 mL) was added thereto, and DBU (1.22 mg, 8.0 mmol) was added dropwise over 5 minutes. This reaction solution was heated at 80° C. for 6 hours. After cooling to room temperature, saturated ammonium chloride water (60 mL) was added, and extraction was performed with ethyl acetate (60 mL x 2 times). The organic layer was washed with saturated saline (50 mL), dried over sodium sulfate, and then filtered. The organic layer was concentrated under reduced pressure, and the obtained crude product was purified by silica gel column chromatography (developing solvent: 10% ethyl acetate/hexane), and compound 9 was obtained in a yield of 48%.
MS (APCI+)306.0

<実験例7>

Figure 0007555538000022
フェニルマグネシウムブロマイドのTHF溶液(10.0mL,10mmol)をシュレンク管に入れ、0℃まで冷やした。これに、THF(5mL)に溶かした化合物9(612.7mg,2.0mmol)を5分かけて滴下した後、室温まで昇温し12時間撹拌した。反応溶液を氷水に注ぎ、酢酸エチル(15mL×2回)で抽出した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥後、濾過した。有機層を減圧濃縮し、得られた粗生成物を酢酸エチル/ヘキサンに溶かして再結晶させ、化合物10を49%の収率で得た。
MS (APCI+)554.1 <Experimental Example 7>
Figure 0007555538000022
A THF solution of phenylmagnesium bromide (10.0 mL, 10 mmol) was placed in a Schlenk flask and cooled to 0°C. Compound 9 (612.7 mg, 2.0 mmol) dissolved in THF (5 mL) was added dropwise over 5 minutes, and then the mixture was warmed to room temperature and stirred for 12 hours. The reaction solution was poured into ice water and extracted with ethyl acetate (15 mL x 2). The organic layer was dried over sodium sulfate and filtered. The organic layer was concentrated under reduced pressure, and the resulting crude product was dissolved in ethyl acetate/hexane and recrystallized to obtain compound 10 in a yield of 49%.
MS (APCI+)554.1

<実験例8>

Figure 0007555538000023
化合物10(443.8mg,0.8mmol)のメタノール(2mL)サスペンション溶液に、CAN(175.4mg,0.32mmol)を加えた後、40℃まで昇温し12時間撹拌した。室温まで冷却後、反応溶液を濾過し、沈殿をメタノールで懸洗し、化合物11を75%収率で得た。
MS (APCI+)582.2 <Experimental Example 8>
Figure 0007555538000023
CAN (175.4 mg, 0.32 mmol) was added to a suspension solution of compound 10 (443.8 mg, 0.8 mmol) in methanol (2 mL), and the mixture was heated to 40° C. and stirred for 12 hours. After cooling to room temperature, the reaction solution was filtered, and the precipitate was washed by suspending in methanol to obtain compound 11 in 75% yield.
MS (APCI+)582.2

<実施例2>

Figure 0007555538000024
シュレンク管に、LiCl(25.4mg,0.60mmol)を加え、加熱乾燥した後、これにFeCl(2.6mg,0.02mmol)、PPh(10.5mg,0.04mmol)、Mg粉末(14.6mg,0.60mmol)、化合物11(116.6mg,0.20mmol)を窒素気流下で加えた。この混合物に、THF(0.4mL)を加え、室温で7時間撹拌した後、1,2-ジクロロプロパン(39μL,0.40mmol)をゆっくり加え、さらに室温で12時間撹拌した。反応溶液をクロロホルム(20mL)で希釈し、有機層を1M塩酸(15mL)で洗い、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥後濾過した。有機層を減圧濃縮し、得られた粗生成物をクロロホルムーメタノールに溶かして再結晶させ、実施例2の化合物を93%の収率で得た。
MS (APCI+)520.1 Example 2
Figure 0007555538000024
LiCl (25.4 mg, 0.60 mmol) was added to a Schlenk flask, and the mixture was dried by heating. FeCl 2 (2.6 mg, 0.02 mmol), PPh 3 (10.5 mg, 0.04 mmol), Mg powder (14.6 mg, 0.60 mmol), and compound 11 (116.6 mg, 0.20 mmol) were then added to the mixture under a nitrogen stream. THF (0.4 mL) was added to the mixture, and the mixture was stirred at room temperature for 7 hours. Then, 1,2-dichloropropane (39 μL, 0.40 mmol) was slowly added, and the mixture was further stirred at room temperature for 12 hours. The reaction solution was diluted with chloroform (20 mL), and the organic layer was washed with 1 M hydrochloric acid (15 mL). The organic layer was dried over sodium sulfate and then filtered. The organic layer was concentrated under reduced pressure, and the obtained crude product was dissolved in chloroform-methanol and recrystallized to obtain the compound of Example 2 in a yield of 93%.
MS (APCI+)520.1

<実施例3~9>
実施例1及び2において、表1中の構造欄に示す実施例1及び2の化合物の置換基Arを、表1中の置換基欄に示す置換基に変更したもの、及び実施例1及び2の化合物の芳香環を増加させたもの、を合成した。
<Examples 3 to 9>
In Examples 1 and 2, the compounds in which the substituent Ar of the compounds in Examples 1 and 2 shown in the structure column in Table 1 was changed to the substituent shown in the substituent column in Table 1, and the compounds in which the aromatic rings of the compounds in Examples 1 and 2 were increased were synthesized.

Figure 0007555538000025
Figure 0007555538000025


Claims (10)

下記式(II)’で表される芳香族多環縮合環化合物。
Figure 0007555538000026

(式(II)’中、R、R、R、R、R、R、R、及びRは、それぞれ独立に置換基を有していてもよいアルキル基及び置換基を有していてもよい芳香族環基から選択され、Ar及びArはチオフェン環であり、nは0以上の整数を示す。)
An aromatic polycyclic fused ring compound represented by the following formula (II)'.
Figure 0007555538000026

(In formula (II)', R1 , R2 , R3 , R4 , R5 , R6 , R7 , and R8 are each independently selected from an alkyl group which may have a substituent and an aromatic ring group which may have a substituent, Ar1 and Ar2 are thiophene rings, and n is an integer of 0 or more.)
p型共役高分子、および、下記一般式(III)で表されるn型化合物を含有する活性層、を備える有機半導体デバイス。
Figure 0007555538000027

(式(III)中、R、R、R、R、R、R、R、R、R、及びR10は、それぞれ独立に置換基を有していてもよいアルキル基及び置換基を有していてもよい芳香族環基から選択され、X、Xは、それぞれ独立にハロゲン原子を示し、p、qは、それぞれ独立に0から4までの整数を示す。r、sは、それぞれ独立に0または1を示し、nは0以上の整数を示す。)
An organic semiconductor device comprising an active layer containing a p-type conjugated polymer and an n-type compound represented by the following general formula (III):
Figure 0007555538000027

(In formula (III), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , and R 10 are each independently selected from an alkyl group which may have a substituent and an aromatic ring group which may have a substituent; X 1 and X 2 each independently represent a halogen atom; p and q each independently represent an integer from 0 to 4; r and s each independently represent 0 or 1; and n represents an integer of 0 or greater.)
前記活性層は、[60]フラーレン、[70]フラーレン、[60]PCBM、[70]PCBM、bis[60]PCBM、bis[70]PCBM、[60]SIMEF、[70]SIMEF、[60]ICBA、[70]ICBA、[60]ICMA、および[70]ICMAからなる群より選択される少なくとも1種類のフラーレン化合物を含有する、請求項に記載の有機半導体デバイス。 3. The organic semiconductor device of claim 2, wherein the active layer contains at least one fullerene compound selected from the group consisting of [60]fullerene, [70]fullerene, [60]PCBM, [70]PCBM, bis[60]PCBM, bis[70]PCBM, [60]SIMEF, [ 70]SIMEF, [60]ICBA, [70]ICBA, [60]ICMA, and [70]ICMA. 前記活性層は、多環芳香族化合物又は1,8-ジヨードオクタンを含有する、請求項又はに記載の有機半導体デバイス。 4. The organic semiconductor device according to claim 2 , wherein the active layer contains a polycyclic aromatic compound or 1,8-diiodooctane. 前記有機半導体デバイスが光電変換素子である請求項のいずれか1項に記載の有機半導体デバイス。 The organic semiconductor device according to any one of claims 2 to 4 , which is a photoelectric conversion element. 波長940nmの光を照射した際の外部量子効率(EQE)が50%以上である、請求項乃至のいずれか1項に記載の有機半導体デバイス。 6. The organic semiconductor device according to claim 2 , which has an external quantum efficiency (EQE) of 50% or more when irradiated with light having a wavelength of 940 nm. p型共役高分子と、下記一般式(III)で表されるn型化合物と、[60]フラーレン、[70]フラーレン、[60]PCBM、[70]PCBM、bis[60]PCBM、bis[70]PCBM、[60]SIMEF、[70]SIMEF、[60]ICBA、[70]ICBA、[60]ICMA、および[70]ICMAからなる群より選択される少なくとも1種類のフラーレン化合物と、溶剤と、を含み、前記n型化合物に対する前記フラーレン化合物の重量比が2.0以下である、有機半導体インク。
Figure 0007555538000028

(式(III)中、R 、R 、R 、R 、R 、R 、R 、R 、R 、及びR 10 は、それぞれ独立に置換基を有していてもよいアルキル基及び置換基を有していてもよい芳香族環基から選択され、X 、X は、それぞれ独立にハロゲン原子を示し、p、qは、それぞれ独立に0から4までの整数を示す。r、sは、それぞれ独立に0または1を示し、nは0以上の整数を示す。)
1. An organic semiconductor ink comprising: a p-type conjugated polymer; an n-type compound represented by the following general formula (III); at least one fullerene compound selected from the group consisting of [60]fullerene, [70]fullerene, [60]PCBM, [70]PCBM, bis[60]PCBM, bis[70]PCBM, [60]SIMEF, [70]SIMEF, [60]ICBA, [70]ICBA, [60]ICMA, and [70]ICMA; and a solvent, wherein the weight ratio of the fullerene compound to the n-type compound is 2.0 or less.
Figure 0007555538000028

(In formula (III), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , and R 10 are each independently selected from an alkyl group which may have a substituent and an aromatic ring group which may have a substituent; X 1 and X 2 each independently represent a halogen atom; p and q each independently represent an integer from 0 to 4; r and s each independently represent 0 or 1; and n represents an integer of 0 or greater.)
多環芳香族化合物及び/又は1,8-ジヨードオクタンを含有する、請求項に記載の有機半導体インク。 8. The organic semiconductor ink according to claim 7 , which contains a polycyclic aromatic compound and/or 1,8-diiodooctane. 請求項のいずれか1項に記載の有機半導体デバイスを用いたフォトディテクタ。 A photodetector using the organic semiconductor device according to any one of claims 2 to 6 . 波長700~1200nmの光を検知するために用いる、請求項に記載のフォトディテクタ。 10. The photodetector according to claim 9 , which is used to detect light having a wavelength of 700 to 1200 nm.
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