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JP7561166B2 - Skin treatment device and program - Google Patents
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JP7561166B2 JP2022127649A JP2022127649A JP7561166B2 JP 7561166 B2 JP7561166 B2 JP 7561166B2 JP 2022127649 A JP2022127649 A JP 2022127649A JP 2022127649 A JP2022127649 A JP 2022127649A JP 7561166 B2 JP7561166 B2 JP 7561166B2
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Description

本開示は、肌処理装置及びプログラムに関する。 This disclosure relates to a skin treatment device and program.

4つの同心状の円環状の電極を利用して低周波の出力波形と高周波の出力波形とを肌に印加する技術が知られている。 A technique is known that uses four concentric, annular electrodes to apply low-frequency and high-frequency output waveforms to the skin.

国際公開第2021/167109号パンフレットInternational Publication No. 2021/167109

ところで、出力波形を肌に印加する場合、肌処理装置を当てる部位ごとに最適な出力波形を印加できると有用である。 When applying an output waveform to the skin, it is useful to be able to apply the optimal output waveform to each area where the skin treatment device is placed.

そこで、本開示は、肌処理装置を当てる部位ごとに最適な出力波形を印加可能とすることを含む。 Therefore, this disclosure includes making it possible to apply an optimal output waveform for each area to which the skin treatment device is applied.

1つの側面では、ユーザの肌に当接可能な複数の電極と、
前記複数の電極に電気的に接続される電源と、
前記電源に基づいて、前記複数の電極の少なくとも一部を介して肌に印加可能な1つ以上の出力波形を生成する電気回路部とを含み、
前記1つ以上の出力波形は、前記複数の電極が当たる部位又は前記複数の電極を当てるべき肌の部位である処理対象部位が、第1部位である場合と、前記第1部位とは異なる第2部位である場合とで、異なる、肌処理装置が提供される。
In one aspect, a device includes a plurality of electrodes that can be brought into contact with a user's skin;
a power source electrically connected to the plurality of electrodes;
and an electrical circuitry that generates, based on the power source, one or more output waveforms that can be applied to the skin via at least a portion of the plurality of electrodes;
A skin treatment device is provided in which the one or more output waveforms are different depending on whether the treatment target area, which is the area where the multiple electrodes contact or the area of the skin to which the multiple electrodes should be contacted, is a first area or a second area different from the first area.

本開示によれば、肌処理装置を当てる部位ごとに最適な出力波形を印加可能となる。 According to this disclosure, it is possible to apply the optimal output waveform for each area where the skin treatment device is applied.

本実施形態の肌処理装置の外観を示す斜視図である。1 is a perspective view showing the appearance of a skin treatment device according to an embodiment of the present invention; 肌処理装置のヘッド部の説明図であり、電極配置を示す正面図である。FIG. 2 is an explanatory diagram of a head portion of the skin treatment device, and is a front view showing the electrode arrangement. 一例による制御系の概略的な構成図である。FIG. 2 is a schematic diagram of a control system according to an example. 異なる深さで肌に作用する2種類の出力波形の概念的な説明図である。1A and 1B are conceptual explanatory diagrams of two types of output waveforms acting on the skin at different depths. 高周波出力生成部により生成される出力波形の変化パターンの説明図である。5 is an explanatory diagram of a change pattern of an output waveform generated by a high-frequency output generating unit. FIG. 高周波出力生成部により生成される出力波形の変化パターンの他の例の説明図である。11 is an explanatory diagram of another example of a change pattern of an output waveform generated by the high-frequency output generating unit. FIG. 動作モードの一例の説明図であり、横軸を時間とした時系列で、出力波形のパターン(変化パターン)が示されている。1 is an explanatory diagram of an example of an operation mode, in which the output waveform pattern (change pattern) is shown in time series with time on the horizontal axis. 図6の動作モードの効果の説明図である。FIG. 7 is an explanatory diagram of the effect of the operation mode of FIG. 6 . 他の動作モードの一例の説明図である。FIG. 11 is an explanatory diagram of an example of another operation mode. 顔部の複数の部位の区分の説明図である。FIG. 2 is an explanatory diagram of a division of a plurality of parts of a face. 顔部の各種筋肉の説明図である。FIG. 2 is an explanatory diagram of various facial muscles. 特定の対象部位ごとに高周波の出力波形及び低周波等の出力波形を同時に印加可能とする動作モードの説明図である。FIG. 13 is an explanatory diagram of an operation mode in which a high-frequency output waveform and a low-frequency output waveform can be simultaneously applied to each specific target area. リアルタイムの画像処理との連携の説明図である。FIG. 13 is an explanatory diagram of cooperation with real-time image processing. 変形例による電極配置を示す説明図である。FIG. 13 is an explanatory diagram showing an electrode arrangement according to a modified example. 他の変形例による電極配置を示す説明図である。FIG. 13 is an explanatory diagram showing an electrode arrangement according to another modified example.

以下、添付図面を参照しながら各実施形態について詳細に説明する。 Each embodiment will be described in detail below with reference to the attached drawings.

図1は、本実施形態の肌処理装置1の外観を示す斜視図であり、図2は、肌処理装置1のヘッド部3の説明図であり、電極配置を示す正面図である。 Figure 1 is a perspective view showing the appearance of the skin treatment device 1 of this embodiment, and Figure 2 is an explanatory diagram of the head unit 3 of the skin treatment device 1, and a front view showing the electrode arrangement.

本実施形態の肌処理装置1は、美顔器の形態であり、ユーザの顔部の肌に美容関連効果を付与するように構成される。ただし、変形例では、肌処理装置1は、ユーザの顔部に加えて又は代えて、ユーザの顔部以外に同様の美容関連効果を付与するように構成されてもよい。また、肌処理装置1は、美容関連効果とは異なる効果(例えば医薬品の経皮吸収の促進効果)を付与するために利用されてもよい。 The skin processing device 1 of this embodiment is in the form of a facial beautifying device and is configured to impart beauty-related effects to the skin on the user's face. However, in a modified example, the skin processing device 1 may be configured to impart a similar beauty-related effect to parts of the user's face other than the user's face, in addition to or instead of the user's face. The skin processing device 1 may also be used to impart an effect other than the beauty-related effect (for example, the effect of promoting transdermal absorption of medicines).

美容関連効果は、任意であり、たるみの解消や、引き締め、脂肪燃焼、リフトアップ、小顔化、肌のハリやツヤ、潤いの向上又はその類の1つ以上の任意の組み合わせを含んでよい。また、美容関連効果は、数値化可能な効果であってもよいし、数値化可能でない効果であってもよい。 The beauty-related effect is optional and may include any combination of one or more of the following: elimination of sagging, tightening, fat burning, lifting, face slimming, skin firmness, radiance, and moisture improvement. Furthermore, the beauty-related effect may be a quantifiable effect or a non-quantifiable effect.

本実施形態の肌処理装置1は、ユーザの肌に当接する複数の電極を介して各種出力を付与することで、ユーザの肌に美容関連効果を付与するように構成される。 The skin treatment device 1 of this embodiment is configured to impart beauty-related effects to the user's skin by applying various outputs through multiple electrodes that contact the user's skin.

本実施形態の肌処理装置1は、ユーザの手により把持可能な携帯型であるが、固定機器にアーム等を介して可動に支持される可動式に適用されてもよい。 The skin treatment device 1 of this embodiment is a portable type that can be held by the user's hand, but it may also be applied as a movable type that is movably supported on a fixed device via an arm or the like.

肌処理装置1は、把持部2と、ヘッド部3とを含む。この場合、ユーザは、把持部2を挟持して、ヘッド部3を自身の顔部や他人(例えば患者)の顔部における所望の部位に当てることで、所望の部位に対して肌処理装置1からの各種出力を付与できる。 The skin treatment device 1 includes a grip portion 2 and a head portion 3. In this case, the user can apply various outputs from the skin treatment device 1 to a desired area by holding the grip portion 2 and placing the head portion 3 on the desired area of the user's own face or the face of another person (e.g., a patient).

把持部2は、ユーザの手で把持されやすい形態を有する。把持部2には、電源のオン/オフボタンやモード切替ボタン、強さ調整ボタン等のような各種ボタンを含むユーザインターフェイス20を含んでよい。なお、各種ボタンは、機械式のボタンであってもよいし、タッチスイッチであってもよい。また、把持部2には、肌処理装置1の状態等を表示する表示部(図示せず)が設けられてもよい。また、把持部2は、ユーザの手に触れる電極(図示せず)が設けられてもよい。 The grip portion 2 has a shape that is easy to grip in the user's hand. The grip portion 2 may include a user interface 20 including various buttons such as a power on/off button, a mode switching button, an intensity adjustment button, etc. The various buttons may be mechanical buttons or touch switches. The grip portion 2 may also be provided with a display unit (not shown) that displays the status of the skin treatment device 1, etc. The grip portion 2 may also be provided with an electrode (not shown) that comes into contact with the user's hand.

ヘッド部3は、把持部2の端部に設けられる。なお、ヘッド部3は、把持部2に対して固定されてもよいし、取り外し可能であってもよいし、把持部2に対して可動であってもよい。 The head portion 3 is provided at the end of the grip portion 2. The head portion 3 may be fixed to the grip portion 2, may be removable, or may be movable relative to the grip portion 2.

ヘッド部3は、ユーザの肌に当接可能であり、ユーザの肌に当接されるのに適した形態を有する。例えば、ヘッド部3は、略平面状(比較的大きい曲率半径の曲面状を含む)の当接面3aを有してよい。当接面3aは、側面視で略直線に近似できる平面である。正面視での当接面3aの形態(当接面3aに対して垂直な方向に視たときの形態)は、矩形や円形、楕円形、多角形等のような任意であり、本実施形態では、一例として、図2に示すように、円形である。 The head portion 3 can come into contact with the user's skin and has a shape suitable for being in contact with the user's skin. For example, the head portion 3 may have a contact surface 3a that is substantially planar (including a curved surface with a relatively large radius of curvature). The contact surface 3a is a plane that can be approximated as a substantially straight line in a side view. The shape of the contact surface 3a in a front view (the shape when viewed in a direction perpendicular to the contact surface 3a) can be any shape such as a rectangle, a circle, an ellipse, a polygon, etc., and in this embodiment, as an example, it is a circle as shown in FIG. 2.

ヘッド部3は、当接面3aに配置される複数の電極30を有する。複数の電極30は、ユーザの肌に当接しやすいように、ヘッド部3の当接面3aの基本面よりも僅かに突出した形態であってもよい。 The head unit 3 has a plurality of electrodes 30 arranged on the contact surface 3a. The plurality of electrodes 30 may be slightly protruding from the base surface of the contact surface 3a of the head unit 3 so that they can easily contact the user's skin.

本実施形態では、複数の電極30は、ヘッド部3の当接面3aの中心Cを中心として、円環状に配置される。以下、径方向及び周方向に係る用語は、当接面3aを正面視したとき(当接面3aに対して垂直な方向に視たとき)の、当接面3aの中心Cを中心とした円形を基準とする。例えば、径方向内側とは、径方向で当接面3aの中心Cに近い側を表す。また、以下では、複数の電極30の個数や一の電極の単位は、連続した形態を1つとする。 In this embodiment, the multiple electrodes 30 are arranged in an annular shape centered on the center C of the contact surface 3a of the head portion 3. Hereinafter, terms related to the radial and circumferential directions are based on a circle centered on the center C of the contact surface 3a when the contact surface 3a is viewed from the front (when viewed in a direction perpendicular to the contact surface 3a). For example, the radial inner side refers to the side closer to the center C of the contact surface 3a in the radial direction. In addition, hereinafter, the number of multiple electrodes 30 and the unit of one electrode are defined as one continuous form.

本実施形態では、複数の電極30は、第1電極31、第2電極32、第3電極33、第4電極34、及び第5電極35を含む。 In this embodiment, the multiple electrodes 30 include a first electrode 31, a second electrode 32, a third electrode 33, a fourth electrode 34, and a fifth electrode 35.

第1電極31、第2電極32及び第3電極33は、後述するように、加温作用(又は加熱作用、以下同様)を有する高周波の出力波形を、ユーザの肌に印加するための電極群(以下、「高周波出力波形用の電極群」とも称する)を形成する。 As described below, the first electrode 31, the second electrode 32, and the third electrode 33 form an electrode group (hereinafter also referred to as the "electrode group for the high-frequency output waveform") for applying a high-frequency output waveform having a warming effect (or heating effect, the same applies below) to the user's skin.

第1電極31は、円形の形態であってよい。第1電極31は、中心Cに中心が一致する態様で配置されてよい。 The first electrode 31 may be circular. The first electrode 31 may be arranged so that its center coincides with the center C.

第2電極32及び第3電極33は、それぞれ、円環状の形態であってよい。第2電極32及び第3電極33は、中心Cに対して同心状に配置されてよい。なお、図2に示す例では、第2電極32及び第3電極33は、それぞれ、周方向で連続した円環状の形態であるが、周方向で局所的に分断された円環状の形態(例えばU字状の形態)であってもよい。 The second electrode 32 and the third electrode 33 may each have a circular ring shape. The second electrode 32 and the third electrode 33 may be arranged concentrically with respect to the center C. In the example shown in FIG. 2, the second electrode 32 and the third electrode 33 each have a circular ring shape that is continuous in the circumferential direction, but they may also have a circular ring shape that is locally divided in the circumferential direction (e.g., a U-shaped shape).

第2電極32は、第1電極31の径方向外側に配置され、第3電極33は、第2電極32の径方向外側に配置される。この場合、第1電極31、第2電極32及び第3電極33は、径方向内側から順に、第1電極31、第2電極32、及び第3電極33となる関係で、中心Cに対して同心状に配置されてよい。 The second electrode 32 is disposed radially outward of the first electrode 31, and the third electrode 33 is disposed radially outward of the second electrode 32. In this case, the first electrode 31, the second electrode 32, and the third electrode 33 may be disposed concentrically with respect to the center C in the order of the first electrode 31, the second electrode 32, and the third electrode 33 from the radially inner side.

径方向で第1電極31と第2電極32との間の距離d1と、径方向で第3電極33と第2電極32との間の距離d2との間の差分は、好ましくは、距離d1の10%以下である。本実施形態では、好ましい例として、径方向で第1電極31と第2電極32との間の距離d1は、径方向で第3電極33と第2電極32との間の距離d2と等しい(すなわち距離d1と距離d2の差分は0である)。なお、距離d1は、中心Cを基準とした第1電極31の外径と、中心Cを基準とした第2電極32の内径との間の差分に対応する。同様に、距離d2は、中心Cを基準とした第2電極32の外径と、中心Cを基準とした第3電極33の内径との間の差分に対応する。 The difference between the distance d1 between the first electrode 31 and the second electrode 32 in the radial direction and the distance d2 between the third electrode 33 and the second electrode 32 in the radial direction is preferably 10% or less of the distance d1. In this embodiment, as a preferred example, the distance d1 between the first electrode 31 and the second electrode 32 in the radial direction is equal to the distance d2 between the third electrode 33 and the second electrode 32 in the radial direction (i.e., the difference between the distance d1 and the distance d2 is 0). Note that the distance d1 corresponds to the difference between the outer diameter of the first electrode 31 based on the center C and the inner diameter of the second electrode 32 based on the center C. Similarly, the distance d2 corresponds to the difference between the outer diameter of the second electrode 32 based on the center C and the inner diameter of the third electrode 33 based on the center C.

第4電極34及び第5電極35は、筋電気刺激作用を有する低周波の出力波形を、ユーザの肌に印加するための対の電極(以下、「低周波出力波形用の電極群」とも称する)を形成する。 The fourth electrode 34 and the fifth electrode 35 form a pair of electrodes (hereinafter also referred to as the "electrode group for the low-frequency output waveform") for applying a low-frequency output waveform having an electrical muscular stimulation effect to the user's skin.

第4電極34及び第5電極35は、それぞれ、円環状の形態であってよい。第4電極34及び第5電極35は、中心Cに対して同心状に配置されてよい。なお、図2に示す例では、第4電極34及び第5電極35は、それぞれ、周方向で連続した円環状の形態であるが、周方向で局所的に分断された円環状の形態であってもよい。 The fourth electrode 34 and the fifth electrode 35 may each have a circular ring shape. The fourth electrode 34 and the fifth electrode 35 may be arranged concentrically with respect to the center C. In the example shown in FIG. 2, the fourth electrode 34 and the fifth electrode 35 each have a circular ring shape that is continuous in the circumferential direction, but may also have a circular ring shape that is locally divided in the circumferential direction.

第4電極34は、第1電極31の径方向外側かつ第2電極32の径方向内側に配置される。すなわち、第4電極34は、径方向で第1電極31と第2電極32の間に配置される。第5電極35は、第2電極32の径方向外側かつ第3電極33の径方向内側に配置される。すなわち、第5電極35は、径方向で第2電極32と第3電極33の間に配置される。 The fourth electrode 34 is disposed radially outside the first electrode 31 and radially inside the second electrode 32. That is, the fourth electrode 34 is disposed radially between the first electrode 31 and the second electrode 32. The fifth electrode 35 is disposed radially outside the second electrode 32 and radially inside the third electrode 33. That is, the fifth electrode 35 is disposed radially between the second electrode 32 and the third electrode 33.

本実施形態では、径方向で第4電極34及び第5電極35との間の距離d3は、上述した距離d1や距離d2と同様であってもよいし、上述した距離d1や距離d2とは有意に異なってもよい。なお、距離d3は、中心Cを基準とした第4電極34の外径と、中心Cを基準とした第5電極35の内径との間の差分に対応する。 In this embodiment, the distance d3 between the fourth electrode 34 and the fifth electrode 35 in the radial direction may be the same as the distance d1 and the distance d2 described above, or may be significantly different from the distance d1 and the distance d2 described above. Note that the distance d3 corresponds to the difference between the outer diameter of the fourth electrode 34 based on the center C and the inner diameter of the fifth electrode 35 based on the center C.

図3は、一例による制御系100の概略的な構成図である。図4は、異なる深さで肌に作用する2種類の出力波形の概念的な説明図である。図5は、高周波出力生成部112により生成される出力波形の変化パターンの説明図である。図3には、制御系100に加えて、出力側の第1電極31から第5電極35とともに、入力側のユーザインターフェイス20が併せて示されている。図4には、模式的なヘッド部3の断面とともに、ヘッド部3に接触する肌の断面が模式的に示されている。また、図4には、第1電極31、第2電極32及び第3電極33から肌に印加される出力波形(後述するローレンジRF波形W1及びハイレンジRF波形W2)が模式的に示されている。図5には、横軸を時間として、出力波形の変化パターンが示されている。 Figure 3 is a schematic diagram of an example of the control system 100. Figure 4 is a conceptual explanatory diagram of two types of output waveforms acting on the skin at different depths. Figure 5 is an explanatory diagram of the change pattern of the output waveform generated by the high-frequency output generating unit 112. In addition to the control system 100, Figure 3 also shows the first electrode 31 to the fifth electrode 35 on the output side, as well as the user interface 20 on the input side. Figure 4 shows a schematic cross-section of the head unit 3 and a cross-section of the skin in contact with the head unit 3. Figure 4 also shows schematic output waveforms (low-range RF waveform W1 and high-range RF waveform W2 described later) applied to the skin from the first electrode 31, the second electrode 32, and the third electrode 33. Figure 5 shows the change pattern of the output waveform with the horizontal axis representing time.

制御系100は、制御装置110と、高周波出力生成部112と、低周波出力生成部114を含む。制御装置110は、マイクロコンピュータのようなコンピュータにより形成されてもよい。高周波出力生成部112及び低周波出力生成部114は、電源(図示せず)に電気的に接続される電気回路により形成されてよい。なお、電源は、肌処理装置1に内蔵される電源であってよいし、外部電源であってもよい。 The control system 100 includes a control device 110, a high-frequency output generating unit 112, and a low-frequency output generating unit 114. The control device 110 may be formed by a computer such as a microcomputer. The high-frequency output generating unit 112 and the low-frequency output generating unit 114 may be formed by an electric circuit electrically connected to a power source (not shown). The power source may be a power source built into the skin treatment device 1, or may be an external power source.

制御装置110は、ユーザインターフェイス20からのユーザ入力に基づいて、高周波出力生成部112及び低周波出力生成部114を制御することで、第1電極31から第5電極35を介して各種出力波形を生成する。 The control device 110 generates various output waveforms via the first electrode 31 to the fifth electrode 35 by controlling the high-frequency output generating unit 112 and the low-frequency output generating unit 114 based on user input from the user interface 20.

なお、ユーザインターフェイス20は、上述した各種ボタンのようなユーザインターフェイスを含んでよい。なお、ユーザインターフェイス20は、その他のユーザインターフェイスとして、ジェスチャー入力及び/又は音声入力が可能な入力装置を含んでもよい。また、ユーザインターフェイス20は、ユーザ端末(例えばスマートフォン)におけるユーザインターフェイスを含んでよい。この場合、制御装置110は、ユーザ端末との間で、例えばBluetooth(登録商標)等に準拠した通信を介してユーザ入力を取得してよい。この場合、ユーザは、ユーザ端末を介して肌処理装置1を操作できる。 The user interface 20 may include a user interface such as the various buttons described above. The user interface 20 may include an input device capable of gesture input and/or voice input as another user interface. The user interface 20 may also include a user interface in a user terminal (e.g., a smartphone). In this case, the control device 110 may acquire user input between the user terminal and the control device 110 via communication compliant with, for example, Bluetooth (registered trademark). In this case, the user can operate the skin processing device 1 via the user terminal.

高周波出力生成部112は、第1電極31、第2電極32及び第3電極33に電気的に接続される。高周波出力生成部112は、制御装置110による制御下で、第1電極31、第2電極32及び第3電極33を介して、加温作用を有する高周波の出力波形であって、ユーザの肌に印加可能な出力波形(以下、単に「高周波出力波形」とも称する)を生成する。 The high-frequency output generating unit 112 is electrically connected to the first electrode 31, the second electrode 32, and the third electrode 33. Under the control of the control device 110, the high-frequency output generating unit 112 generates an output waveform (hereinafter also simply referred to as the "high-frequency output waveform") that has a high-frequency output waveform having a heating effect and that can be applied to the user's skin via the first electrode 31, the second electrode 32, and the third electrode 33.

この場合、高周波出力生成部112は、好ましくは、第1電極31と第2電極32を第1対として、高周波出力波形を生成するとともに、第2電極32と第3電極33を第2対として、高周波出力波形を生成する。すなわち、高周波出力生成部112は、好ましくは、第2電極32を共用する態様での2組の対を利用して、それぞれの対を介して高周波出力波形を同時に生成する。この場合、高周波出力波形は、第2電極32での位相に対して第1電極31及び第3電極33のそれぞれでの位相が反転する態様で形成される。すなわち、第2電極32での高周波出力波形の極性は、第1電極31及び第3電極33のそれぞれでの極性と逆となる。これにより、第1電極31、第2電極32及び第3電極33が配置される比較的広い範囲に対応して、ユーザの肌の比較的広い範囲に対して加温作用を同時に及ぼすことができる。 In this case, the high frequency output generating unit 112 preferably generates a high frequency output waveform using the first electrode 31 and the second electrode 32 as a first pair, and generates a high frequency output waveform using the second electrode 32 and the third electrode 33 as a second pair. That is, the high frequency output generating unit 112 preferably uses two pairs in a manner in which the second electrode 32 is shared, and simultaneously generates a high frequency output waveform through each pair. In this case, the high frequency output waveform is formed in a manner in which the phase at the first electrode 31 and the third electrode 33 is inverted with respect to the phase at the second electrode 32. That is, the polarity of the high frequency output waveform at the second electrode 32 is opposite to the polarity at the first electrode 31 and the third electrode 33. This allows a heating effect to be simultaneously exerted on a relatively wide area of the user's skin in response to the relatively wide area in which the first electrode 31, the second electrode 32, and the third electrode 33 are arranged.

また、本実施形態では、上述したように径方向で第1電極31と第2電極32との間の距離d1が、径方向で第3電極33と第2電極32との間の距離d2と等しい。このような第2電極32を中心とした第1電極31及び第3電極33のそれぞれまでの距離の対称性によって、ユーザの肌の比較的広い範囲に対して加温作用を均一に及ぼすことができる。 In addition, in this embodiment, as described above, the distance d1 between the first electrode 31 and the second electrode 32 in the radial direction is equal to the distance d2 between the third electrode 33 and the second electrode 32 in the radial direction. Due to this symmetry of the distances to the first electrode 31 and the third electrode 33 with the second electrode 32 at the center, it is possible to apply a uniform heating effect to a relatively wide area of the user's skin.

高周波出力生成部112は、周波数の異なる2種類以上の高周波出力波形を生成する。本実施形態では、一例として、高周波出力生成部112は、第1周波数の高周波出力波形(第1交流波形の一例)と、第2周波数の高周波出力波形(第2交流波形の一例)を含む2種類以上の高周波出力波形を生成する。以下、区別のため、第1周波数の高周波出力波形は、「ローレンジRF波形W1」とも称し、第2周波数の高周波出力波形は、「ハイレンジRF波形W2」と称する。 The radio frequency output generating unit 112 generates two or more types of radio frequency output waveforms with different frequencies. In the present embodiment, as an example, the radio frequency output generating unit 112 generates two or more types of radio frequency output waveforms including a radio frequency output waveform of a first frequency (an example of a first AC waveform) and a radio frequency output waveform of a second frequency (an example of a second AC waveform). Hereinafter, for the sake of distinction, the radio frequency output waveform of the first frequency is also referred to as the "low range RF waveform W1", and the radio frequency output waveform of the second frequency is referred to as the "high range RF waveform W2".

本実施形態では、第1周波数は、20kHzよりも高く、第2周波数は、第1周波数よりも有意に高い。 In this embodiment, the first frequency is greater than 20 kHz, and the second frequency is significantly greater than the first frequency.

ところで、20kHzよりも高い周波数帯の高周波出力波形の場合、周波数の相違に応じて、加温作用が実効的に及ぶ肌の深さが異なる傾向がある。具体的には、図4にローレンジRF波形W1で模式的に示すように、比較的低い周波数の高周波出力波形の場合、肌の比較的深い領域(例えば真皮)に対して加温作用が及ぶ傾向がある。これに対して、図4にハイレンジRF波形W2で模式的に示すように、比較的高い周波数の高周波出力波形の場合、肌の比較的浅い領域(例えば表皮)に対して加温作用が及ぶ傾向がある。 However, when using a high-frequency output waveform in a frequency band higher than 20 kHz, the depth to which the skin effectively receives the heating effect tends to vary depending on the frequency. Specifically, as shown diagrammatically in FIG. 4 by the low-range RF waveform W1, a relatively low-frequency high-frequency output waveform tends to provide a heating effect on relatively deep areas of the skin (e.g., the dermis). In contrast, as shown diagrammatically in FIG. 4 by the high-range RF waveform W2, a relatively high-frequency output waveform tends to provide a heating effect on relatively shallow areas of the skin (e.g., the epidermis).

従って、本実施形態によれば、上述したように、周波数の異なる2種類以上の高周波出力波形を生成することで、ユーザの肌の深さ方向(厚さ方向)における広い範囲にわたって、加温作用を及ぼすことができる。この結果、例えば一定の周波数の高周波出力波形のみを用いて特定の深さだけに加温作用を及ぼす場合に比べて、ユーザの肌に対する加温作用を効果的に高めることができる。 Therefore, according to this embodiment, as described above, by generating two or more types of high-frequency output waveforms with different frequencies, it is possible to provide a heating effect over a wide range in the depth direction (thickness direction) of the user's skin. As a result, it is possible to effectively increase the heating effect on the user's skin compared to, for example, a case in which a heating effect is provided only at a specific depth using only a high-frequency output waveform of a constant frequency.

このような観点から、第1周波数は、好ましくは、100kHzから1.5MHzの間であり、より好ましくは、200kHzから1.0MHzの間である。この場合、ローレンジRF波形W1は、肌の比較的深い領域(例えば真皮)に対して加温作用を効果的に及ぼすことができる。 From this perspective, the first frequency is preferably between 100 kHz and 1.5 MHz, and more preferably between 200 kHz and 1.0 MHz. In this case, the low-range RF waveform W1 can effectively apply a heating effect to a relatively deep region of the skin (e.g., the dermis).

他方、第2周波数は、好ましくは、600kHzから5.0MHzの間であり、より好ましくは、1.0MHzから3.0MHzの間である。この場合、ハイレンジRF波形W2は、肌の比較的浅い領域(例えば表皮)に対して加温作用を効果的に及ぼすことができる。 On the other hand, the second frequency is preferably between 600 kHz and 5.0 MHz, and more preferably between 1.0 MHz and 3.0 MHz. In this case, the high-range RF waveform W2 can effectively exert a heating effect on a relatively shallow region of the skin (e.g., the epidermis).

高周波出力生成部112は、制御装置110による制御下で、図5に示すように、ローレンジRF波形W1及びハイレンジRF波形W2を、所定周期ΔTごとに切り替わる態様で、交互に繰り返し発生する。これにより、肌の比較的深い領域(例えば真皮)に対する加温作用と、肌の比較的浅い領域(例えば表皮)に対する加温作用とを、交互に肌に及ぼすことができる。この結果、加温作用を効果的に高めることができる。 Under the control of the control device 110, the high-frequency output generating unit 112 alternately and repeatedly generates a low-range RF waveform W1 and a high-range RF waveform W2, with the waveforms switching every predetermined period ΔT, as shown in FIG. 5. This allows the skin to be alternately heated in a relatively deep region (e.g., the dermis) and a relatively shallow region (e.g., the epidermis). As a result, the heating effect can be effectively enhanced.

所定周期ΔTは、任意であるが、上述した異なる肌深さに作用する2種類の加温作用の双方が、実質的に常時維持されるように、好ましくは、10秒以下の比較的短い時間であり、より好ましくは、2秒以下であり、最も好ましくは、1秒以下である。所定周期ΔTを短くすることで、上述した異なる肌深さに作用する2種類の加温作用を、実質的に同時に肌に及ぼすことができ、その結果、加温作用を効果的に高めることができる。 The predetermined period ΔT is arbitrary, but is preferably a relatively short time of 10 seconds or less, more preferably 2 seconds or less, and most preferably 1 second or less, so that both of the two types of heating effects acting on the different skin depths described above are substantially constantly maintained. By shortening the predetermined period ΔT, the two types of heating effects acting on the different skin depths described above can be applied to the skin substantially simultaneously, and as a result, the heating effects can be effectively enhanced.

図5に示す例では、1回あたりのローレンジRF波形W1の持続時間と1回あたりのハイレンジRF波形W2の持続時間は、それぞれ、所定周期ΔTと同じ時間であるが、変形例では、異なってもよい。また、図5に示す例では、所定周期ΔTは一定で繰り返されるが、所定周期ΔTは変化してもよい。例えば、初回のローレンジRF波形W1及びハイレンジRF波形W2だけ、比較的長い持続時間が実現されてもよい。 In the example shown in FIG. 5, the duration of each low-range RF waveform W1 and each high-range RF waveform W2 is the same as the predetermined period ΔT, but in modified examples, they may be different. Also, in the example shown in FIG. 5, the predetermined period ΔT is repeated at a constant rate, but the predetermined period ΔT may be changed. For example, a relatively long duration may be achieved only for the initial low-range RF waveform W1 and high-range RF waveform W2.

また、図5に示す動作モードでは、ローレンジRF波形W1及びハイレンジRF波形W2は、所定周期ΔTごとに切り替わる態様で、交互に連続して発生するが、ローレンジRF波形W1及びハイレンジRF波形W2は、所定周期ΔTごとに切り替わる態様で、交互に、不連続な態様で発生してもよい。例えば、ローレンジRF波形W1とハイレンジ波形W2との間に、他の周波数の高周波出力波形が発生してもよい。この場合、他の周波数は、第1周波数よりも高くかつ第2周波数よりも低い範囲内の中間周波数であってよい。この場合、ローレンジRF波形W1及びハイレンジRF波形W2は、所定周期ΔTごとに切り替わる態様で、交互に、中間周波数の高周波出力波形を介して発生する。これにより、第1周波数と第2周波数との差が比較的大きい場合でも、ローレンジRF波形W1に係る第1周波数とハイレンジRF波形W2に係る第2周波数との間の切り替えを中間周波数を介して実現できるので、高周波出力生成部112に係る電気回路部の負荷を効果的に低減できる。この場合、1回あたりの中間周波数の高周波出力波形は、上述した所定周期ΔTと同じ時間であるが、変形例では、異なってもよい。また、中間周波数は、第1周波数よりも高くかつ第2周波数よりも低い範囲内で、複数設定されてもよい。この場合、第1周波数と第2周波数との差が比較的大きい場合でも、第1周波数と第2周波数の間の切り替えを、複数の中間周波数を介して実現できる。例えば、第1中間周波数>第2中間周波数>第3中間周波数の関係を有する3つの中間周波数を利用する場合、図5Aに示すように、ハイレンジRF波形W2から、第1中間周波数の高周波出力波形(図5Aでは、「第1中間レンジ」と表記)、第2中間周波数の高周波出力波形(図5Aでは、「第2中間レンジ」と表記)、及び第3中間周波数の高周波出力波形(図5Aでは、「第3中間レンジ」と表記)を介して、ローレンジRF波形W1へと変化する態様で、高周波出力波形の周波数が、上述した所定周期ΔTごとに変化してもよい。この場合、第2周波数から第1周波数への急激な切り替えを回避できるので、高周波出力生成部112に係る電気回路部の負荷を効果的に低減できる。なお、図5Aに示す例では、ハイレンジRF波形W2から第1中間周波数の高周波出力波形、第2中間周波数の高周波出力波形、及び第3中間周波数の高周波出力波形を介してローレンジRF波形W1へと変化する態様を繰り返すため、ローレンジRF波形W1からハイレンジRF波形W2への直接的な切り替わりが生じる。これに対して更なる変形例では、ハイレンジRF波形W2から第1中間周波数の高周波出力波形、第2中間周波数の高周波出力波形、第3中間周波数の高周波出力波形を介してローレンジRF波形W1へと変化した後、第3中間周波数の高周波出力波形、第2中間周波数の高周波出力波形、第1中間周波数の高周波出力波形を介して、ハイレンジRF波形W2に戻る態様で、ローレンジRF波形W1からハイレンジRF波形W2への切り替わりについて中間周波数を介して実現してもよい。この場合、第1周波数から第2周波数への急激な切り替えを回避できるので、高周波出力生成部112に係る電気回路部の負荷を効果的に低減できる。 In addition, in the operation mode shown in FIG. 5, the low-range RF waveform W1 and the high-range RF waveform W2 are generated alternately and continuously in a manner in which they are switched every predetermined period ΔT, but the low-range RF waveform W1 and the high-range RF waveform W2 may be generated alternately and discontinuously in a manner in which they are switched every predetermined period ΔT. For example, a high-frequency output waveform of another frequency may be generated between the low-range RF waveform W1 and the high-range waveform W2. In this case, the other frequency may be an intermediate frequency in a range higher than the first frequency and lower than the second frequency. In this case, the low-range RF waveform W1 and the high-range RF waveform W2 are generated alternately via a high-frequency output waveform of an intermediate frequency in a manner in which they are switched every predetermined period ΔT. As a result, even if the difference between the first frequency and the second frequency is relatively large, switching between the first frequency related to the low-range RF waveform W1 and the second frequency related to the high-range RF waveform W2 can be realized via the intermediate frequency, so that the load on the electric circuit unit related to the high-frequency output generating unit 112 can be effectively reduced. In this case, the high frequency output waveform of the intermediate frequency per time has the same time as the above-mentioned predetermined period ΔT, but in a modified example, it may be different. In addition, a plurality of intermediate frequencies may be set within a range higher than the first frequency and lower than the second frequency. In this case, even if the difference between the first frequency and the second frequency is relatively large, switching between the first frequency and the second frequency can be realized via a plurality of intermediate frequencies. For example, when three intermediate frequencies having a relationship of first intermediate frequency > second intermediate frequency > third intermediate frequency are used, as shown in FIG. 5A, the frequency of the high frequency output waveform may change for each of the above-mentioned predetermined periods ΔT in a manner changing from a high range RF waveform W2 to a low range RF waveform W1 via a high frequency output waveform of the first intermediate frequency (indicated as "first intermediate range" in FIG. 5A), a high frequency output waveform of the second intermediate frequency (indicated as "second intermediate range" in FIG. 5A), and a high frequency output waveform of the third intermediate frequency (indicated as "third intermediate range" in FIG. 5A). In this case, since abrupt switching from the second frequency to the first frequency can be avoided, the load on the electric circuitry associated with the high frequency output generating unit 112 can be effectively reduced. In the example shown in Fig. 5A, the mode of changing from the high range RF waveform W2 to the low range RF waveform W1 via the high frequency output waveform of the first intermediate frequency, the high frequency output waveform of the second intermediate frequency, and the high frequency output waveform of the third intermediate frequency is repeated, so that a direct switching from the low range RF waveform W1 to the high range RF waveform W2 occurs. In contrast, in a further modified example, the switching from the low range RF waveform W1 to the high range RF waveform W2 may be realized via the intermediate frequency in such a manner that the high range RF waveform W2 changes to the low range RF waveform W1 via the high frequency output waveform of the first intermediate frequency, the high frequency output waveform of the second intermediate frequency, and the high frequency output waveform of the third intermediate frequency, and then returns to the high range RF waveform W2 via the high frequency output waveform of the third intermediate frequency, the high frequency output waveform of the second intermediate frequency, and the high frequency output waveform of the first intermediate frequency. In this case, a sudden switch from the first frequency to the second frequency can be avoided, effectively reducing the load on the electrical circuitry associated with the high-frequency output generating unit 112.

低周波出力生成部114は、第4電極34及び第5電極35に電気的に接続される。低周波出力生成部114は、制御装置110による制御下で、第4電極34及び第5電極35を介して、筋電気刺激作用を有する低周波の出力波形であって、ユーザの肌に印加可能な出力波形(以下、単に「低周波出力波形W3」とも称する)を生成する。具体的には、低周波出力生成部114は、第3周波数の低周波出力波形W3(第3交流波形の一例)を含む1種類以上の低周波出力波形を生成する。第3周波数は、20kHzよりも低い。 The low-frequency output generating unit 114 is electrically connected to the fourth electrode 34 and the fifth electrode 35. Under the control of the control device 110, the low-frequency output generating unit 114 generates an output waveform (hereinafter also simply referred to as "low-frequency output waveform W3") that has a low-frequency output waveform having a muscular electrical stimulation effect and that can be applied to the user's skin via the fourth electrode 34 and the fifth electrode 35. Specifically, the low-frequency output generating unit 114 generates one or more types of low-frequency output waveforms including a low-frequency output waveform W3 of a third frequency (an example of a third AC waveform). The third frequency is lower than 20 kHz.

図6は、動作モードの一例の説明図であり、横軸を時間とした時系列で、出力波形のパターン(出力モードの変化パターン)が示されている。図7は、図6の動作モードの効果の説明図である。図7には、前出の図4と同様、模式的なヘッド部3の断面とともに、ヘッド部3に接触する肌の断面が模式的に示されている。また、図7には、第1電極31、第2電極32及び第3電極33から肌に印加される高周波出力波形とともに、第4電極34及び第5電極35から肌に印加される低周波出力波形W3が模式的に示されている。 Figure 6 is an explanatory diagram of an example of an operating mode, showing the output waveform pattern (output mode change pattern) in a time series with time on the horizontal axis. Figure 7 is an explanatory diagram of the effect of the operating mode of Figure 6. As with Figure 4 above, Figure 7 shows a schematic cross-section of the head unit 3 as well as a schematic cross-section of the skin in contact with the head unit 3. Figure 7 also shows a schematic low-frequency output waveform W3 applied to the skin from the fourth electrode 34 and fifth electrode 35, along with the high-frequency output waveforms applied to the skin from the first electrode 31, the second electrode 32, and the third electrode 33.

図6に示す動作モードは、初期区間A1を含む。初期区間A1では、第1電極31、第2電極32及び第3電極33に係る初期動作として、出力モードM11が持続時間T11、出力モードM12が持続時間T12、及び出力モードM11が持続時間T13、それぞれ、実行される。この場合、出力モードM11では、高周波出力波形の周波数は例えば2MHz程度であり、出力モードM12では、高周波出力波形の周波数は例えば1MHz程度であってよい。そして、持続時間T11、T12及びT13は、それぞれ、30秒、10秒、及び10秒程度であってよい。 The operation modes shown in FIG. 6 include an initial section A1. In the initial section A1, as initial operations related to the first electrode 31, the second electrode 32, and the third electrode 33, output mode M11 is executed for duration T11, output mode M12 is executed for duration T12, and output mode M11 is executed for duration T13. In this case, in output mode M11, the frequency of the high-frequency output waveform may be, for example, about 2 MHz, and in output mode M12, the frequency of the high-frequency output waveform may be, for example, about 1 MHz. Furthermore, durations T11, T12, and T13 may be, for example, about 30 seconds, 10 seconds, and 10 seconds, respectively.

また、初期区間A1では、第4電極34及び第5電極35に係る初期動作として、出力モードM21が持続時間T21、出力モードM22が持続時間T22、及び出力モードM21が持続時間T23、それぞれ、実行される。この場合、出力モードM21では、低周波出力波形W3の周波数は例えば71Hzから100Hzの間であってよい。また、出力モードM22では、低周波出力波形W3の周波数は例えば1kHz程度であってよい。この際、出力モードM22では、低周波出力波形W3は、持続時間T22の間、例えば10Hz程度の周波数で、断続的に生成されてもよい。そして、持続時間T21、T22及びT23は、それぞれ、30秒、10秒、及び10秒程度であってよい。 In addition, in the initial section A1, as the initial operation related to the fourth electrode 34 and the fifth electrode 35, the output mode M21 is executed for duration T21, the output mode M22 is executed for duration T22, and the output mode M21 is executed for duration T23. In this case, in the output mode M21, the frequency of the low-frequency output waveform W3 may be, for example, between 71 Hz and 100 Hz. In the output mode M22, the frequency of the low-frequency output waveform W3 may be, for example, about 1 kHz. In this case, in the output mode M22, the low-frequency output waveform W3 may be generated intermittently for the duration T22, for example, at a frequency of about 10 Hz. And the durations T21, T22, and T23 may be about 30 seconds, 10 seconds, and 10 seconds, respectively.

図6に示す動作モードは、初期区間A1が終了すると、それに後続してメイン区間A2を含む。メイン区間A2では、第1電極31、第2電極32及び第3電極33に係るメイン動作として、出力モードM14が継続的に実行される。出力モードM14では、図5を参照して上述した態様で高周波出力波形が生成される。すなわち、ローレンジRF波形W1及びハイレンジRF波形W2が、所定周期ΔTごとに切り替わる態様で、交互に繰り返し発生される。なお、出力モードM14は、ユーザからの停止指示が入力されるまで持続されてもよいし、所定の持続時間の経過により自動的に停止されてもよい。 The operation mode shown in FIG. 6 includes a main section A2 following the initial section A1. In the main section A2, the output mode M14 is continuously executed as the main operation related to the first electrode 31, the second electrode 32, and the third electrode 33. In the output mode M14, a high-frequency output waveform is generated in the manner described above with reference to FIG. 5. That is, the low-range RF waveform W1 and the high-range RF waveform W2 are repeatedly generated alternately in a manner that switches every predetermined period ΔT. Note that the output mode M14 may be continued until a stop command is input from the user, or may be automatically stopped after a predetermined duration has elapsed.

また、メイン区間A2では、第4電極34及び第5電極35に係るメイン動作として、出力モードM22が持続時間T24、出力モードM21が持続時間T25、それぞれ、実行される。この場合、出力モードM21及び出力モードM22は、上述したとおりである。そして、持続時間T24及びT25は、それぞれ、2秒及び3秒程度であってよい。出力モードM21及び出力モードM22は、メイン区間A2が継続する間、繰り返し実行されてもよい。 In addition, in the main section A2, as the main operations related to the fourth electrode 34 and the fifth electrode 35, output mode M22 is executed for duration T24, and output mode M21 is executed for duration T25. In this case, output mode M21 and output mode M22 are as described above. Duration times T24 and T25 may be about 2 seconds and 3 seconds, respectively. Output mode M21 and output mode M22 may be executed repeatedly while main section A2 continues.

このような図6に示す動作モードによれば、メイン区間A2において、図7に模式的に示すように、図4及び図5を参照して上述した加温作用とともに、第4電極34及び第5電極35を介した低周波出力波形W3による筋電気刺激作用を同時に、肌に及ぼすことができる。 According to the operating mode shown in FIG. 6, in the main section A2, as shown diagrammatically in FIG. 7, in addition to the heating effect described above with reference to FIGS. 4 and 5, the muscle electrical stimulation effect by the low-frequency output waveform W3 via the fourth electrode 34 and the fifth electrode 35 can be simultaneously applied to the skin.

特に本実施形態によれば、上述したように、第4電極34が、第1電極31及び第2電極32の間に配置され、かつ、第5電極35が、第2電極32及び第3電極33の間に配置される。従って、本実施形態によれば、第4電極34及び第5電極35を介した低周波出力波形W3による筋電気刺激作用が及ぶ範囲が、第1電極31、第2電極32及び第3電極33を介した高周波出力波形による加温作用が肌に及ぶ範囲内に包含される。これにより、筋電気刺激作用と加温作用とを、より効果的に肌に及ぼすことができる。ただし、変形例では、第5電極35は、第3電極33よりも径方向外側に配置されてもよい。かかる変形例では、第4電極34は、第2電極32と第3電極33の間に配置されてもよい。あるいは、あるいは、他の変形例では、低周波出力波形用の電極群を形成する追加の電極(図示せず)が、第3電極33よりも径方向外側に配置されてもよい。 In particular, according to this embodiment, as described above, the fourth electrode 34 is disposed between the first electrode 31 and the second electrode 32, and the fifth electrode 35 is disposed between the second electrode 32 and the third electrode 33. Therefore, according to this embodiment, the range of the muscular electrical stimulation effect by the low-frequency output waveform W3 via the fourth electrode 34 and the fifth electrode 35 is included in the range of the warming effect on the skin by the high-frequency output waveform via the first electrode 31, the second electrode 32, and the third electrode 33. This makes it possible to more effectively apply the muscular electrical stimulation effect and the warming effect to the skin. However, in a modified example, the fifth electrode 35 may be disposed radially outward from the third electrode 33. In such a modified example, the fourth electrode 34 may be disposed between the second electrode 32 and the third electrode 33. Alternatively, in another modified example, an additional electrode (not shown) forming an electrode group for the low-frequency output waveform may be disposed radially outward from the third electrode 33.

なお、図6は、肌処理装置1が備えてよい動作モードの一例を示すが、肌処理装置1は、かかる動作モードに代えて又は加えて、他の動作モードを有してもよい。 Note that FIG. 6 shows an example of an operation mode that the skin processing device 1 may have, but the skin processing device 1 may have other operation modes instead of or in addition to the operation modes.

図8は、他の動作モードの一例の説明図であり、横軸を時間とした時系列で、出力モードの変化パターンが示されている。図9Aは、顔部の複数の部位の区分の説明図であり、図9Bは、顔部の各種筋肉の説明図である。また、図8では、各出力モードに対応付けられる対象部位が図示されている。 Figure 8 is an explanatory diagram of an example of another operating mode, showing the change pattern of the output mode in a time series with the horizontal axis representing time. Figure 9A is an explanatory diagram of the division of multiple parts of the face, and Figure 9B is an explanatory diagram of various muscles in the face. Figure 8 also illustrates the target parts associated with each output mode.

図8に示す動作モードでは、出力モードM30から出力モードM34まで順に、それぞれ、持続時間T30から持続時間T34で、実行される。出力モードM30から出力モードM34の各出力モードは、顔部の特定の対象部位のいずれか、又は、顔部の特定の対象筋肉に対応付けられる。各対象部位は、図9Aに示すように、顔部の複数の部位を含み、具体的には、額、目尻、鼻、目袋、ほうれい線(正確には、ほうれい線が形成される部位)、フェイスライン(頬)、あご(顎)の7部位を含む。なお、変形例では、これらの7部位の一部(例えば、目尻や、鼻、フェイスライン、あご等)が省略されてもよいし、他の対象部位が追加されてもよいし、より粗い又はより細かい粒度の分類が利用されてもよい。また、目尻、目袋、ほうれい線、及びフェイスライン(頬)については、左右で別々の部位として扱われてもよく、この場合、顔部は、合計11部位に分類される。各対象筋肉は、図9Bに示すように、顔部の複数種類の筋肉を含み、具体的には、咬筋、オトガイ筋、及び眼輪筋の3種類を含む。なお、変形例では、これら3種類のうちの一部が省略されてもよいし、他の種類の対象筋肉が追加されてもよい。 In the operation modes shown in FIG. 8, output modes M30 to M34 are executed in order, with durations T30 to T34, respectively. Each of output modes M30 to M34 is associated with a specific target part of the face or a specific target muscle of the face. As shown in FIG. 9A, each target part includes multiple parts of the face, specifically, the forehead, the corners of the eyes, the nose, the eye bags, the nasolabial fold (more precisely, the part where the nasolabial fold is formed), the face line (cheeks), and the chin (jaw). In addition, in a modified example, some of these seven parts (e.g., the corners of the eyes, the nose, the face line, the chin, etc.) may be omitted, other target parts may be added, or a coarser or finer granularity classification may be used. In addition, the corners of the eyes, the eye bags, the nasolabial fold, and the face line (cheeks) may be treated as separate parts on the left and right, in which case the face is classified into a total of 11 parts. As shown in FIG. 9B, each target muscle includes multiple types of facial muscles, specifically, three types: the masseter muscle, the mentalis muscle, and the orbicularis oculi muscle. In a modified example, some of these three types may be omitted, or other types of target muscles may be added.

図8に示す例では、出力モードM30から出力モードM34は、順に、フェイスライン、ほうれい線、咬筋、目袋、及び額にそれぞれ対応付けられ、それぞれに適合した出力波形が生成される。なお、図8に示す例では、出力モードM32だけが、特定の対象筋肉(すなわち咬筋)に対応付けられ、その他の出力モードが、特定の対象部位に対応付けられている。なお、各対象部位には、あらかじめ出力モードが対応付けられてよく、及び/又は、各対象筋肉には、あらかじめ出力モードが対応付けられてよい。また、ユーザが、適宜、対象部位及び/又は対象筋肉を変更可能であってもよい。 In the example shown in FIG. 8, output modes M30 to M34 are associated with the face line, nasolabial folds, masseter muscles, eye bags, and forehead, respectively, and output waveforms suitable for each are generated. Note that in the example shown in FIG. 8, only output mode M32 is associated with a specific target muscle (i.e., masseter muscles), and the other output modes are associated with specific target parts. Note that an output mode may be associated with each target part in advance, and/or an output mode may be associated with each target muscle in advance. Also, the user may be able to change the target parts and/or target muscles as appropriate.

持続時間T30から持続時間T34は、それぞれ、任意であり、ユーザが適宜変更可能であってもよい。持続時間T30から持続時間T34のそれぞれの経過は、肌処理装置1からの通知音及び/又は振動による出力によりユーザに伝達されてもよい。この場合、ユーザは、通知音等に応答して、肌処理装置1を当てる顔部の位置を容易に変更させることができる。 The durations T30 to T34 may each be arbitrary and may be changeable by the user as appropriate. The passage of each of the durations T30 to T34 may be communicated to the user by a notification sound and/or vibration output from the skin processing device 1. In this case, the user can easily change the position of the face where the skin processing device 1 is placed in response to the notification sound, etc.

このようにして、図8に示す例では、顔の部位ごとに、各部位に合わせた出力モードが形成されるように、出力モードの切り替えを時間で制御する動作モードが実現される。なお、変形例では、肌処理装置1が当てられている部位を特定(検出)する手段が設けられ、出力モードの切り替わりが、各部位の特定結果に応じて自動的に実現されてもよい。 In this way, in the example shown in FIG. 8, an operating mode is realized in which output mode switching is controlled by time so that an output mode suited to each part of the face is formed. In a modified example, a means is provided for identifying (detecting) the part to which the skin processing device 1 is applied, and output mode switching may be automatically achieved according to the identification result for each part.

なお、図8に示す例では、出力モードM30から出力モードM34が開示されているが、多様な変更が可能である。例えば、出力モードM31及び出力モードM32に代えて、他の出力モードが実現されてもよい。この場合、出力モードM30の持続時間T30は、60秒程度であってよく、出力モードM31及び出力モードM32に代わる他のモードの持続時間は、110秒程度であってよく、出力モードM33の持続時間T33は、70秒程度であってよく、出力モードM34の持続時間T34は、60秒程度であってよい。 In the example shown in FIG. 8, output modes M30 to M34 are disclosed, but various modifications are possible. For example, other output modes may be realized instead of output modes M31 and M32. In this case, the duration T30 of output mode M30 may be about 60 seconds, the duration of other modes replacing output modes M31 and M32 may be about 110 seconds, the duration T33 of output mode M33 may be about 70 seconds, and the duration T34 of output mode M34 may be about 60 seconds.

図10は、特定の対象部位ごとに高周波の出力波形及び低周波等の出力波形を同時に印加可能とする動作モードの説明図である。 Figure 10 is an explanatory diagram of an operating mode that allows high-frequency output waveforms and low-frequency output waveforms to be applied simultaneously to each specific target area.

図10において、上段の出力モードM40からM45は、高周波の出力波形に係るモードであり、下段の出力モードM50からM57は、低周波の出力波形又はそれよりも高い中周波若しくは高周波の出力波形に係るモード(すなわち、筋電気刺激用の出力波形に係るモード)である。 In FIG. 10, the output modes M40 to M45 in the upper row are modes related to high-frequency output waveforms, and the output modes M50 to M57 in the lower row are modes related to low-frequency output waveforms or higher medium-frequency or high-frequency output waveforms (i.e., modes related to output waveforms for electrical muscle stimulation).

出力モードM40、及び出力モードM50、M51は、フェイスラインに対応付けられる。出力モードM40は、フェイスラインにおける加温作用を高めるように適合される。例えば、出力モードM40での周波数は1MHzから3MHz程度であってよく、出力モードM40の持続時間T40は、60秒±20%であってもよい。 The output mode M40, and the output modes M50 and M51 are associated with the face line. The output mode M40 is adapted to enhance the heating effect on the face line. For example, the frequency in the output mode M40 may be about 1 MHz to 3 MHz, and the duration T40 of the output mode M40 may be 60 seconds ± 20%.

出力モードM50、M51は、フェイスラインにおける筋電気刺激作用を高めるように適合される。例えば、出力モードM50は、周波数が50Hzから100Hz程度であってよく、出力モードM50の持続時間は、3秒±20%であってもよい。また、出力モードM51は、周波数が1kHzから10kHz程度であってよく、出力モードM51の持続時間は、3秒±20%であってもよい。出力モードM50、M51は、出力モードM40と同期して実行され、持続時間T40内で交互に実行される。出力モードM50、M51は、それぞれの1回の持続時間内又は持続時間ごとに周波数が上述した範囲内で変動してよい。また、出力モードM51では、5Hzから20Hz程度のリズム(間隔周波数)で、出力波形の印加が断続的に実行されてもよい。この場合、間隔周波数の調整(可変)によりフェイスラインに対する肌処理効果の向上が期待できる。 The output modes M50 and M51 are adapted to enhance the muscular electrical stimulation action on the face line. For example, the frequency of the output mode M50 may be about 50 Hz to 100 Hz, and the duration of the output mode M50 may be 3 seconds ± 20%. The frequency of the output mode M51 may be about 1 kHz to 10 kHz, and the duration of the output mode M51 may be 3 seconds ± 20%. The output modes M50 and M51 are executed in synchronization with the output mode M40, and are executed alternately within the duration T40. The frequency of the output modes M50 and M51 may vary within the above-mentioned range within each duration or for each duration. In the output mode M51, the application of the output waveform may be executed intermittently with a rhythm (interval frequency) of about 5 Hz to 20 Hz. In this case, the adjustment (variability) of the interval frequency can be expected to improve the skin treatment effect on the face line.

出力モードM41、及び出力モードM52、M53は、頬の一部(例えば、フェイスラインとほうれい線の間)に対応付けられる。出力モードM41は、頬の一部における加温作用を高めるように適合される。例えば、出力モードM41での周波数は1MHzから3MHz程度であってよく、出力モードM41の持続時間T41は、110秒±20%であってもよい。 Output mode M41, and output modes M52 and M53 are associated with a portion of the cheek (e.g., between the jaw line and the nasolabial fold). Output mode M41 is adapted to enhance the heating effect in the portion of the cheek. For example, the frequency in output mode M41 may be about 1 MHz to 3 MHz, and the duration T41 of output mode M41 may be 110 seconds ± 20%.

出力モードM52、M53は、頬の一部における筋電気刺激作用を高めるように適合される。この場合、出力モードM52、M53は、頬の一部に含まれる対象筋肉である咬筋又は頬骨筋に対する筋電気刺激作用を高めるように適合されてよい。例えば、出力モードM52は、周波数が1kHzから10kHz程度であってよく、出力モードM52の持続時間は、5秒±20%であってもよい。また、出力モードM53は、周波数が50Hzから100Hz程度であってよく、出力モードM53の持続時間は、4秒±20%であってもよい。出力モードM52、M53は、出力モードM41と同期して実行され、持続時間T41内で交互に実行される。出力モードM52、M53は、それぞれの1回の持続時間内又は持続時間ごとに周波数が上述した範囲内で変動してよい。また、出力モードM52では、10Hz程度のリズム(間隔周波数)で、出力波形の印加が断続的に実行されてもよい。 The output modes M52 and M53 are adapted to enhance the electrical myoelectrical stimulation action in a part of the cheek. In this case, the output modes M52 and M53 may be adapted to enhance the electrical myoelectrical stimulation action on the masseter or zygomatic muscles, which are target muscles included in a part of the cheek. For example, the frequency of the output mode M52 may be about 1 kHz to 10 kHz, and the duration of the output mode M52 may be 5 seconds ± 20%. Also, the frequency of the output mode M53 may be about 50 Hz to 100 Hz, and the duration of the output mode M53 may be 4 seconds ± 20%. The output modes M52 and M53 are executed in synchronization with the output mode M41, and are executed alternately within the duration T41. The frequency of the output modes M52 and M53 may vary within the above-mentioned range within each duration or for each duration. Also, in the output mode M52, the application of the output waveform may be executed intermittently with a rhythm (interval frequency) of about 10 Hz.

出力モードM43、M44、及び出力モードM54、M55は、目元に対応付けられる。出力モードM43、M44は、目元における加温作用を高めるように適合される。例えば、出力モードM43での周波数は1MHzから3MHz程度であってよく、出力モードM43の持続時間は、1秒±20%であってもよい。また、出力モードM44は、出力波形の印加を停止させるモードであってよい。この場合、出力モードM44の持続時間は、出力モードM43の持続時間よりも有意に長く、6秒±20%であってもよい。これにより、熱を感じやすいユーザが多い傾向にある目元特有の特性を考慮した加温作用を実現できる。 Output modes M43, M44, and output modes M54, M55 are associated with the eyes. Output modes M43, M44 are adapted to enhance the heating effect around the eyes. For example, the frequency in output mode M43 may be about 1 MHz to 3 MHz, and the duration of output mode M43 may be 1 second ±20%. Output mode M44 may be a mode that stops the application of the output waveform. In this case, the duration of output mode M44 may be significantly longer than the duration of output mode M43, and may be 6 seconds ±20%. This allows for a heating effect that takes into account the unique characteristics of the eyes, where many users tend to be sensitive to heat.

出力モードM54、M55は、目元の一部における筋電気刺激作用を高めるように適合される。この場合、出力モードM54、M55は、目元に含まれる対象筋肉である眼輪筋に対する筋電気刺激作用を高めるように適合されてよい。例えば、出力モードM54は、出力波形の印加を停止させるモードであってよく、出力モードM55は、周波数が10k
Hzから200kHz程度であってよい。出力モードM54、M55は、出力モードM43、M44と同期して実行され、持続時間T42内で交互に実行される。この場合、持続時間T42は、70秒±20%であってもよい。また、出力モードM54、M55は、好ましくは、出力モードM43、M44のそれぞれと同期する態様(出力モードM43及びM54が対をなし、かつ、出力モードM44及びM55が対をなす態様)で、実行される。これにより、出力モードM44により熱くなりすぎないようにしつつ、温感のある刺激の印加が可能となる。出力モードM55は、それぞれの1回の持続時間内又は持続時間ごとに周波数が上述した範囲内で変動してよい。また、出力モードM55では、5Hzから100Hz程度のリズム(間隔周波数)で、出力波形の印加が断続的に実行されてもよい。この場合、間隔周波数の調整(可変)により目元に対する肌処理効果の向上が期待できる。
The output modes M54 and M55 are adapted to enhance the electrical muscle stimulation effect in a part of the eye area. In this case, the output modes M54 and M55 may be adapted to enhance the electrical muscle stimulation effect on the orbicularis oculi, which is a target muscle included in the eye area. For example, the output mode M54 may be a mode that stops the application of the output waveform, and the output mode M55 may be a mode that stops the application of the output waveform at a frequency of 10k.
Hz to 200 kHz. The output modes M54 and M55 are executed in synchronization with the output modes M43 and M44, and are executed alternately within the duration T42. In this case, the duration T42 may be 70 seconds ± 20%. The output modes M54 and M55 are preferably executed in a manner in which they are synchronized with the output modes M43 and M44, respectively (the output modes M43 and M54 form a pair, and the output modes M44 and M55 form a pair). This makes it possible to apply a warming stimulus while preventing the output mode M44 from becoming too hot. The frequency of the output mode M55 may vary within the above-mentioned range within each duration or for each duration. In the output mode M55, the application of the output waveform may be executed intermittently with a rhythm (interval frequency) of about 5 Hz to 100 Hz. In this case, the adjustment (variability) of the interval frequency can be expected to improve the skin treatment effect on the eyes.

出力モードM45、及び出力モードM56、M57は、おでこに対応付けられている。出力モードM45は、おでこにおける加温作用を高めるように適合される。例えば、出力モードM45での周波数は1MHzから3MHz程度であってよく、出力モードM45の持続時間T43は、60秒±20%であってもよい。 Output mode M45, and output modes M56 and M57 are associated with the forehead. Output mode M45 is adapted to enhance the heating effect on the forehead. For example, the frequency in output mode M45 may be about 1 MHz to 3 MHz, and the duration T43 of output mode M45 may be 60 seconds ± 20%.

出力モードM56、M57は、おでこにおける筋電気刺激作用を高めるように適合される。例えば、出力モードM56は、周波数が1kHzから10kHz程度であってよく、出力モードM56の持続時間は、16秒±20%であってもよい。また、出力モードM57は、周波数が50Hzから100Hz程度であってよく、出力モードM57の持続時間は、4秒±20%であってもよい。出力モードM56、M57は、出力モードM45と同期して実行され、持続時間T43内で交互に実行される。出力モードM56、M57は、それぞれの1回の持続時間内又は持続時間ごとに周波数が上述した範囲内で変動してよい。また、出力モードM56では、5Hzから10Hz程度のリズム(間隔周波数)で、出力波形の印加が断続的に実行されてもよい。 The output modes M56 and M57 are adapted to enhance the electrical muscle stimulation action in the forehead. For example, the frequency of the output mode M56 may be about 1 kHz to 10 kHz, and the duration of the output mode M56 may be 16 seconds ± 20%. The frequency of the output mode M57 may be about 50 Hz to 100 Hz, and the duration of the output mode M57 may be 4 seconds ± 20%. The output modes M56 and M57 are executed in synchronization with the output mode M45, and are executed alternately within the duration T43. The frequency of the output modes M56 and M57 may vary within the above-mentioned range within each duration or for each duration. In the output mode M56, the application of the output waveform may be executed intermittently with a rhythm (interval frequency) of about 5 Hz to 10 Hz.

なお、図10に示す動作モードに関して、出力モードM40からM45のうちの少なくともいずれかにおいては、図4や図5等を参照して上述したローレンジRF波形W1及びハイレンジRF波形W2の組み合わせが利用されてもよい。また、出力モードM40からM45では、出力モードM43を除いて、1MHzから3MHz程度の同じ周波数となりうるが、1MHzから3MHzの範囲内で、一部の出力モードの周波数が他の出力モードの周波数と異なってもよい。 Note that, with respect to the operating modes shown in FIG. 10, at least any of the output modes M40 to M45 may utilize a combination of the low-range RF waveform W1 and the high-range RF waveform W2 described above with reference to FIG. 4, FIG. 5, etc. Also, the output modes M40 to M45 may have the same frequency of about 1 MHz to 3 MHz except for the output mode M43, but the frequency of some output modes may be different from the frequency of other output modes within the range of 1 MHz to 3 MHz.

ここで、図10に示す動作モードの場合も、図8を参照して上述した動作モードの場合と同様、持続時間T40から持続時間T43のそれぞれの経過は、肌処理装置1からの通知音及び/又は振動による出力によりユーザに伝達されてもよい。この場合、ユーザは、通知音等に応答して、肌処理装置1を当てる顔部の位置を容易に変更させることができる。 Here, in the case of the operation mode shown in FIG. 10, as in the case of the operation mode described above with reference to FIG. 8, the passage of each of the durations T40 to T43 may be communicated to the user by output of a notification sound and/or vibration from the skin processing device 1. In this case, the user can easily change the position of the face where the skin processing device 1 is placed in response to the notification sound, etc.

あるいは、ユーザは、ユーザ端末2のカメラ(例えばインカメラ)を利用して、図11に示すように、ユーザ端末2の画面の自身の顔を見ながら、美容デバイス4を利用してよい。この場合、顔画像は、美容デバイス4の利用中に、ユーザ端末2のカメラによりリアルタイムに生成される。顔画像は、ユーザ端末2内のコンピュータ又は外部サーバ(図示せず)で画像処理されることで、肌処理装置1を当てている顔部の位置の特定に利用されてよい。この際、肌処理装置1を当てている位置の特定結果に基づいて、出力モードが自動的に変更されてもよい。また、ユーザ端末2の画面上の顔画像又はその類の画像には、持続時間T40から持続時間T43のそれぞれの経過に応じて、次の動作モードで肌処理装置1を当てる顔部の位置を案内する案内表示が出力(重畳表示)されてもよい。 Alternatively, the user may use the beauty device 4 while viewing his/her own face on the screen of the user terminal 2 using a camera (e.g., an in-camera) of the user terminal 2, as shown in FIG. 11. In this case, a facial image is generated in real time by the camera of the user terminal 2 while the beauty device 4 is being used. The facial image may be processed by a computer in the user terminal 2 or an external server (not shown) and used to identify the position of the face to which the skin processing device 1 is applied. At this time, the output mode may be automatically changed based on the result of identifying the position to which the skin processing device 1 is applied. In addition, a guide display may be output (superimposed) on the facial image or a similar image on the screen of the user terminal 2, in accordance with the lapse of each of the durations T40 to T43, to guide the user to the position of the face to which the skin processing device 1 is applied in the next operating mode.

以上、各実施形態について詳述したが、特定の実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された範囲内において、種々の変形及び変更が可能である。また、前述した実施形態の構成要素を全部又は複数を組み合わせることも可能である。 Although each embodiment has been described in detail above, it is not limited to a specific embodiment, and various modifications and changes are possible within the scope of the claims. It is also possible to combine all or some of the components of the above-mentioned embodiments.

例えば、上述した実施形態では、第1電極31、第2電極32、及び第3電極33は、ローレンジRF波形W1等の高周波出力波形を生成するが、他の動作モードにおいては、低周波出力波形や他の直流波形等を生成してもよい。例えば、径方向で比較的大きく離れている第1電極31と第3電極33とを介して低周波出力波形が生成されてもよい。これは、第4電極34及び第5電極35も同様である。また、第1電極31、第2電極32、及び第3電極33は、第4電極34及び第5電極35と多様な組み合わせで対の電極を形成してもよい。 For example, in the above-described embodiment, the first electrode 31, the second electrode 32, and the third electrode 33 generate a high-frequency output waveform such as a low-range RF waveform W1, but in other operating modes, a low-frequency output waveform or other DC waveforms may be generated. For example, a low-frequency output waveform may be generated via the first electrode 31 and the third electrode 33, which are relatively far apart in the radial direction. The same applies to the fourth electrode 34 and the fifth electrode 35. In addition, the first electrode 31, the second electrode 32, and the third electrode 33 may form paired electrodes with the fourth electrode 34 and the fifth electrode 35 in various combinations.

また、上述した実施形態では、第1電極31、第2電極32及び第3電極33を介して、一定の第1周波数のローレンジRF波形W1と、一定の第2周波数のハイレンジRF波形W2の2種類の高周波出力波形を生成しているが、これに限られない。例えば、上述した好ましい範囲内で変動する第1周波数のローレンジRF波形W1と、上述した好ましい範囲内かつ第1周波数の変動幅の最大値よりも高い範囲で変動する第2周波数のハイレンジRF波形W2とが、生成されてもよい。すなわち、3種類以上の周波数で高周波出力波形が生成されてもよい。例えば、N(N≧3)種類の場合、1周期をN個に分割した時間内で、対応する各周波数の高周波出力波形が生成される態様で、周期ごとの出力が繰り返されてもよい。 In the above embodiment, two types of high-frequency output waveforms, a low-range RF waveform W1 of a constant first frequency and a high-range RF waveform W2 of a constant second frequency, are generated through the first electrode 31, the second electrode 32, and the third electrode 33, but this is not limited to the above. For example, a low-range RF waveform W1 of a first frequency that fluctuates within the above-mentioned preferred range and a high-range RF waveform W2 of a second frequency that fluctuates within the above-mentioned preferred range and in a range higher than the maximum value of the fluctuation range of the first frequency may be generated. That is, high-frequency output waveforms may be generated at three or more types of frequencies. For example, in the case of N types (N≧3), output for each period may be repeated in a manner in which high-frequency output waveforms of each corresponding frequency are generated within a time in which one period is divided into N portions.

また、上述した実施形態では、同心状に配置された5重の第1電極31から第5電極35が利用されているが、電極の数や配置は多様に変更可能である。例えば第3電極33に対して径方向外側に、更なる1つ以上の環状の電極が配置されてもよい。なお、更なる1つ以上の環状の電極は、周方向で連続した円環状の形態であってもよいし、周方向で局所的に分断された円環状の形態であってもよい。更なる1つ以上の環状の電極は、第1電極31等に対して同心状に配置されてもよい。更なる1つ以上の環状の電極は、第1電極31、第2電極32及び第3電極33と協動して、上述した高周波出力波形用の電極群を形成してよい。例えば、更なる1つ環状の電極が第3電極33の径方向外側に配置される場合、第3電極33での高周波出力波形の極性は、第2電極32及び第3電極33のそれぞれでの極性と逆とされてよい。このようにして、更なる1つ以上の環状の電極が径方向外側に追加されてもよい。この場合、第5電極35は、更なる1つ以上の環状の電極のうちの、最も外側の電極よりも径方向外側に配置されてもよい。この場合、低周波出力波形用の電極群における径方向の離間距離を効率的に広げることができる。あるいは、第5電極35は、更なる1つ以上の環状の電極のうちの、最も外側の電極よりも径方向内側に配置されてもよい。また、更なる2つ以上の環状の電極が追加される場合、上述した実施例と同様に、低周波出力波形用の電極群を形成する各電極と、高周波出力波形用の電極群を形成する各電極は、径方向で交互に配置されてもよい。これらの変形例の場合も、低周波出力波形用の電極群を形成する各電極の一部が、他のモードでは、高周波出力波形用の電極群を形成してもよいし、他の直流波形等を生成してもよい。また、高周波出力波形用の電極群を形成する各電極の一部が、他のモードでは、低周波出力波形用の電極群を形成してもよいし、他の直流波形等を生成してもよい。 In the above embodiment, the first electrode 31 to the fifth electrode 35 are used in a concentric arrangement of five layers, but the number and arrangement of the electrodes can be changed in various ways. For example, one or more additional annular electrodes may be arranged radially outward from the third electrode 33. The one or more additional annular electrodes may be in the form of a continuous annular shape in the circumferential direction, or in the form of a locally divided annular shape in the circumferential direction. The one or more additional annular electrodes may be arranged concentrically with the first electrode 31, etc. The one or more additional annular electrodes may cooperate with the first electrode 31, the second electrode 32, and the third electrode 33 to form an electrode group for the above-mentioned high-frequency output waveform. For example, when one additional annular electrode is arranged radially outward from the third electrode 33, the polarity of the high-frequency output waveform at the third electrode 33 may be opposite to the polarity at the second electrode 32 and the third electrode 33. In this way, one or more additional annular electrodes may be added radially outward. In this case, the fifth electrode 35 may be disposed radially outward from the outermost electrode of the one or more additional annular electrodes. In this case, the radial separation distance in the electrode group for the low-frequency output waveform can be efficiently increased. Alternatively, the fifth electrode 35 may be disposed radially inward from the outermost electrode of the one or more additional annular electrodes. In addition, when two or more additional annular electrodes are added, the electrodes forming the electrode group for the low-frequency output waveform and the electrodes forming the electrode group for the high-frequency output waveform may be disposed alternately in the radial direction, as in the above-mentioned embodiment. In these modified examples, a part of each electrode forming the electrode group for the low-frequency output waveform may form an electrode group for the high-frequency output waveform in another mode, or may generate another DC waveform, etc. In addition, a part of each electrode forming the electrode group for the high-frequency output waveform may form an electrode group for the low-frequency output waveform in another mode, or may generate another DC waveform, etc.

また、上述した実施形態では、第1電極31から第5電極35は、円環状の形態であるが、楕円状や多角形状のような他の形態であってもよいし、多様な形態の組み合わせであってよい。例えば、第1電極31から第5電極35は、図12Aに示すように、互いに平行に直線状に配置された第1電極31Aから第5電極35Aとして実現されてもよい。なお、図12A(後出の図12Bも同様)には、ヘッド部3の当接面3aに対して垂直な方向で視たときの電極構成が概略的に示されている。あるいは、高周波出力波形用の電極群を形成する第1電極31、第2電極32及び第3電極33は、図12Bに示すように、互いに平行に直線状に配置された第1電極31B、第2電極32B及び第3電極33Bとして実現されてもよい。なお、図12Bに示す例では、第1電極31Bを中心として、両側に(第1電極31Bの長手方向に垂直な方向の両側に)、第2電極32B及び第3電極33Bが配置されている。この場合も、第4電極34及び第5電極35のような、低周波出力波形用の電極群を形成する1つ以上の電極は、第1電極31B、第2電極32B及び第3電極33Bの間等に配置されてもよい。また、これらの図12A又は図12Bに示す変形例の場合も、高周波出力波形用の電極群を形成する各電極の一部が、他のモードでは、低周波出力波形用の電極群を形成してもよいし、他の直流波形等を生成してもよい。また、低周波出力波形用の電極群を形成する各電極の一部が、他のモードでは、高周波出力波形用の電極群を形成してもよいし、他の直流波形等を生成してもよい。 In the above embodiment, the first electrode 31 to the fifth electrode 35 are in the form of a ring, but may be in other forms such as an ellipse or a polygon, or may be a combination of various forms. For example, the first electrode 31 to the fifth electrode 35 may be realized as the first electrode 31A to the fifth electrode 35A arranged in a straight line parallel to each other, as shown in FIG. 12A. Note that FIG. 12A (as well as FIG. 12B described later) shows a schematic diagram of the electrode configuration when viewed in a direction perpendicular to the contact surface 3a of the head unit 3. Alternatively, the first electrode 31, the second electrode 32, and the third electrode 33 forming the electrode group for the high frequency output waveform may be realized as the first electrode 31B, the second electrode 32B, and the third electrode 33B arranged in a straight line parallel to each other, as shown in FIG. 12B. In the example shown in FIG. 12B, the second electrode 32B and the third electrode 33B are arranged on both sides of the first electrode 31B (on both sides in a direction perpendicular to the longitudinal direction of the first electrode 31B). In this case, one or more electrodes forming an electrode group for a low-frequency output waveform, such as the fourth electrode 34 and the fifth electrode 35, may be arranged between the first electrode 31B, the second electrode 32B, and the third electrode 33B. In addition, in the case of the modified example shown in FIG. 12A or FIG. 12B, a part of each electrode forming an electrode group for a high-frequency output waveform may form an electrode group for a low-frequency output waveform in another mode, or may generate another DC waveform, etc. In addition, a part of each electrode forming an electrode group for a low-frequency output waveform may form an electrode group for a high-frequency output waveform in another mode, or may generate another DC waveform, etc.

1 肌処理装置
2 把持部
3 ヘッド部
3a 当接面
20 ユーザインターフェイス
30 電極
31 第1電極
32 第2電極
33 第3電極
34 第4電極
35 第5電極
100 制御系
110 制御装置
112 高周波出力生成部
114 低周波出力生成部
Reference Signs List 1 Skin treatment device 2 Grip unit 3 Head unit 3a Contact surface 20 User interface 30 Electrode 31 First electrode 32 Second electrode 33 Third electrode 34 Fourth electrode 35 Fifth electrode 100 Control system 110 Control device 112 High-frequency output generating unit 114 Low-frequency output generating unit

Claims (6)

ユーザの肌に当接可能な複数の電極と、
前記複数の電極に電気的に接続される電源と、
前記電源に基づいて、前記複数の電極の少なくとも一部を介して肌に印加可能な1つ以上の出力波形を生成する電気回路部とを含み、
処理対象部位が第1部位である場合に時分割で2種類以上の出力波形を印加し、かつ、前記処理対象部位が前記第1部位とは異なる第2部位である場合に時分割で2種類以上の出力波形を印加し、
前記第1部位に印加される前記2種類以上の出力波形は、前記第2部位に印加される前記2種類以上の出力波形に含まれない種類の出力波形を含み、かつ、前記第2部位に印加される前記2種類以上の出力波形は、前記第1部位に印加される前記2種類以上の出力波形に含まれない種類の出力波形を含む、肌処理装置。
A plurality of electrodes that can be brought into contact with the skin of a user;
a power source electrically connected to the plurality of electrodes;
and an electrical circuitry that generates, based on the power source, one or more output waveforms that can be applied to the skin via at least a portion of the plurality of electrodes;
applying two or more types of output waveforms in a time-division manner when the treatment target area is a first area, and applying two or more types of output waveforms in a time-division manner when the treatment target area is a second area different from the first area;
A skin treatment device, wherein the two or more types of output waveforms applied to the first portion include an output waveform type that is not included in the two or more types of output waveforms applied to the second portion, and the two or more types of output waveforms applied to the second portion include an output waveform type that is not included in the two or more types of output waveforms applied to the first portion.
前記第1部位に印加される前記2種類以上の出力波形を印加する持続時間は、前記処理対象部位が、前記第1部位である場合と、前記第2部位である場合とで、異なる、請求項1に記載の肌処理装置。 The skin treatment device according to claim 1, wherein the duration of application of the two or more types of output waveforms to the first region differs when the treatment target region is the first region and when the treatment target region is the second region. 前記第1部位に印加される前記2種類以上の出力波形は、筋電気刺激用の出力波形を含み、前記筋電気刺激用の出力波形は、前記処理対象部位に含まれる筋肉の特性に応じて適合される、請求項1に記載の肌処理装置。 The skin treatment device according to claim 1, wherein the two or more types of output waveforms applied to the first area include an output waveform for electrical muscle stimulation, and the output waveform for electrical muscle stimulation is adapted according to the characteristics of the muscle included in the treatment target area. 前記第1部位及び前記第2部位に印加される前記2種類以上の出力波形は、高周波の出力波形と筋電気刺激用の出力波形とを含み、
前記高周波の出力波形及び前記筋電気刺激用の出力波形は、互いに同期する態様で、前記処理対象部位の変化に応じて、それぞれ異なる特性の出力波形へと変化するよう制御される、請求項1に記載の肌処理装置。
The two or more types of output waveforms applied to the first and second parts include a high-frequency output waveform and an output waveform for electrical muscular stimulation,
The skin treatment device according to claim 1 , wherein the high-frequency output waveform and the output waveform for electrical muscle stimulation are controlled to change to output waveforms with different characteristics in a manner synchronized with each other in response to changes in the treatment target area.
前記第2部位に印加される前記2種類以上の出力波形は、前記複数の電極のうちの共通の電極を介して出力されるの出力波形を含む、請求項1から4のうちのいずれか1項に記載の肌処理装置。 The skin treatment device according to claim 1 , wherein the two or more types of output waveforms applied to the second portion include one output waveform output via a common electrode among the plurality of electrodes. ユーザの肌に当接可能な複数の電極を有する肌処理装置を制御するプログラムであって、
前記肌処理装置の動作を制御するコンピュータに、
前記複数の電極が当たる部位又は前記複数の電極を当てるべき肌の部位である処理対象部位を特定し、
前記処理対象部位が第1部位である場合に時分割で2種類以上の出力波形を印加し、かつ、前記処理対象部位が前記第1部位とは異なる第2部位である場合に時分割で2種類以上の出力波形を印加する
処理を実行させ、
前記第1部位に印加される前記2種類以上の出力波形は、前記第2部位に印加される前記2種類以上の出力波形に含まれない種類の出力波形を含み、かつ、前記第2部位に印加される前記2種類以上の出力波形は、前記第1部位に印加される前記2種類以上の出力波形に含まれない種類の出力波形を含む、プログラム。
A program for controlling a skin treatment device having a plurality of electrodes that can be brought into contact with a user's skin,
A computer that controls the operation of the skin treatment device
Identifying a treatment target area, which is an area where the plurality of electrodes contact or a skin area where the plurality of electrodes should be contacted;
executing a process of applying two or more types of output waveforms in a time-division manner when the treatment target area is a first area, and applying two or more types of output waveforms in a time-division manner when the treatment target area is a second area different from the first area;
A program, wherein the two or more types of output waveforms applied to the first portion include an output waveform type that is not included in the two or more types of output waveforms applied to the second portion, and the two or more types of output waveforms applied to the second portion include an output waveform type that is not included in the two or more types of output waveforms applied to the first portion.
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