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JP7562201B2 - Hot melt curable silicone composition, sealant, film, optical semiconductor element - Google Patents
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JP7562201B2 - Hot melt curable silicone composition, sealant, film, optical semiconductor element - Google Patents

Hot melt curable silicone composition, sealant, film, optical semiconductor element Download PDF

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Description

本発明は硬化性シリコーン組成物に関し、より具体的には、光半導体素子を封止、被覆、または接着するために用いられる硬化性シリコーン組成物に関する。また、本発明は、こうした硬化性シリコーン組成物からなる封止剤、この封止剤を含む光半導体素子にも関する。また、本発明は、硬化性シリコーン組成物を固化したフィルムにも関する。 The present invention relates to a curable silicone composition, and more specifically, to a curable silicone composition used to seal, cover, or adhere an optical semiconductor element. The present invention also relates to a sealant made of such a curable silicone composition, and an optical semiconductor element containing this sealant. The present invention also relates to a film formed by solidifying the curable silicone composition.

硬化性シリコーン組成物は、硬化して優れた耐熱性、耐寒性、電気絶縁性、耐候性、援水性、透明性を有する硬化物を形成することから、幅広い産業分野で利用されている。特に、その硬化物は、他の有機材料と比較し変色しにくく、また、物理的物性の低下が小さいため、光学材料用に適している。 Curable silicone compositions are used in a wide range of industrial fields because they cure to form cured products with excellent heat resistance, cold resistance, electrical insulation, weather resistance, water resistance, and transparency. In particular, the cured products are less susceptible to discoloration than other organic materials, and the deterioration of physical properties is minimal, making them suitable for use as optical materials.

例えば、特許文献1~3には、一分子中に2個以上の非共有結合性二重結合基を有するオルガノポリシロキサンと、一分子中に珪素原子に結合した水素原子を2個以上有するオルガノハイドロジェンポリシロキサンと、触媒量の白金系触媒とを含む硬化型シリコーン樹脂組成物を用いる、光半導体素子封止用または光学レンズ用の樹脂組成物が記載されている。また、特許文献4および5には、25°Cにおいて非流動性で、表面粘着性が低く、加熱により容易に溶融するホットメル卜性のシリコーン樹脂組成物が記載されている。 For example, Patent Documents 1 to 3 describe resin compositions for sealing optical semiconductor elements or for optical lenses, which use a curable silicone resin composition containing an organopolysiloxane having two or more non-covalent double bond groups in one molecule, an organohydrogenpolysiloxane having two or more hydrogen atoms bonded to silicon atoms in one molecule, and a catalytic amount of a platinum-based catalyst. Patent Documents 4 and 5 also describe hot-melt silicone resin compositions that are non-flowable at 25°C, have low surface adhesion, and melt easily when heated.

特開2006-299099号公報JP 2006-299099 A 特開2007-246894号公報JP 2007-246894 A 特開2006-324596号公報JP 2006-324596 A 特開2013-001794号公報JP 2013-001794 A 国際公開第2015/194158号公報International Publication No. 2015/194158

しかしながら、従来のシリコーン樹脂組成物でホットメルト性フィルムを作製した場合、フィルムの機械特性、特にフィルム強度および伸びが不十分であるという問題があった。そのため、例えば、半導体パッケージを製造する際のフィルム状またはシート状の封止剤およびラミネーション用フィルムの形成に用いた場合、得られたフィルムが破れやすく、その取り扱い作業性が不十分であるという問題があった。 However, when hot melt films are made from conventional silicone resin compositions, there is a problem that the mechanical properties of the film, particularly film strength and elongation, are insufficient. For example, when used to form film- or sheet-like sealants and lamination films in the manufacture of semiconductor packages, the resulting films tend to tear easily and are therefore insufficient in terms of workability.

本発明の目的は、フィルムまたはシート形状に成形した場合であっても、優れた機械特性、特に強度および伸びを示すことができるホットメルト性硬化性シリコーン組成物を提供することにある。より具体的には、取り扱い作業性に優れ、効率よく半導体パッケージを製造することができる、シート状またはフィルム状封止剤およびラミネーション用フィルムを形成できる、ホットメルト性硬化性シリコーン組成物を提供することにある。 The object of the present invention is to provide a hot-melt curable silicone composition that exhibits excellent mechanical properties, particularly strength and elongation, even when molded into a film or sheet shape. More specifically, the object of the present invention is to provide a hot-melt curable silicone composition that can be used to form a sheet- or film-like sealant and a lamination film that are easy to handle and can be used to efficiently manufacture semiconductor packages.

上記課題を解決すべく、本件発明者は、鋭意検討した結果、
(A)一分子中にアルケニル基を少なくとも2個有するオルガノポリシロキサン、
(B)組成物の総質量に対して0.1~5質量%の、一分子中にケイ素原子結合水素原子を少なくとも2個有するレジン状オルガノハイドロジェンポリシロキサン、
(C)平均単位式(C-1):
(R SiO1/2)(R SiO2/2)(RSiO3/2)
(式中、Rは同じかまたは異なる、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アラルキル基、もしくはエポキシ基含有有機基であり、ただし、少なくとも1つのRはアルケニル基であり、且つ、少なくとも1つのRはエポキシ基含有有機基であり、a、b、およびcは、それぞれ、0≦a≦1.0、0≦b≦1.0、0≦c<0.9、且つa+b+c=1を満たす数である。)
で表される添加剤
(D)ヒドロシリル化反応用触媒、および
(E)シリカ
を含む無溶剤系のホットメルト性硬化性シリコーン組成物により、上記課題を解決できることを見出し、本発明に到達した。
In order to solve the above problems, the present inventors have conducted extensive research and have come to the conclusion that
(A) an organopolysiloxane having at least two alkenyl groups in one molecule;
(B) 0.1 to 5 mass %, based on the total mass of the composition, of a resin-like organohydrogenpolysiloxane having at least two silicon-bonded hydrogen atoms in each molecule;
(C) Average unit formula (C-1):
(R 1 3 SiO 1/2 ) a (R 1 2 SiO 2/2 ) b (R 1 SiO 3/2 ) c
(In the formula, R 1s are the same or different and are alkyl groups, aryl groups, alkenyl groups, aralkyl groups, or epoxy group-containing organic groups, with the proviso that at least one R 1 is an alkenyl group and at least one R 1 is an epoxy group-containing organic group, and a, b, and c are numbers that satisfy 0≦a≦1.0, 0≦b≦1.0, 0≦c<0.9, and a+b+c=1.)
The present inventors have discovered that the above problems can be solved by a solventless hot-melt curable silicone composition containing additives (D) a hydrosilylation reaction catalyst represented by the formula: and (E) silica, and have arrived at the present invention.

本発明の一実施形態において、(A)成分は、少なくとも1つの(ArSiO2/2)単位を含むレジン状オルガノポリシロキサンを含む。 In one embodiment of the present invention, component (A) comprises a resinous organopolysiloxane containing at least one (Ar 2 SiO 2/2 ) unit.

本発明の一実施形態において、(B)成分は、(B-1)平均単位式:
(R SiO1/2(R SiO2/2(RSiO3/2(SiO4/2(XO1/2
(式中、Rは水素原子または同じかもしくは異なるハロゲン置換または非置換の一価炭化水素基であり、ただし、少なくとも2つのRは水素原子であり、Xは水素原子またはアルキル基であり、a、b、c、d、およびeは、0≦a≦1.0、0≦b≦1.0、0≦c<0.9、0≦d<0.5、0≦e<0.4であり、a+b+c+d=1.0であり、かつc+d>0を満たす数である。)で表される。
In one embodiment of the present invention, the component (B) is represented by the average unit formula (B-1):
(R 3 3 SiO 1/2 ) a (R 3 2 SiO 2/2 ) b (R 3 SiO 3/2 ) c (SiO 4/2 ) d (XO 1/2 ) e
(wherein R3 is a hydrogen atom or the same or different halogen-substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon groups, with the proviso that at least two R3 are hydrogen atoms, X is a hydrogen atom or an alkyl group, and a, b, c, d, and e are numbers that satisfy 0≦a≦1.0, 0≦b≦1.0, 0≦c<0.9, 0≦d<0.5, 0≦e<0.4, a+b+c+d=1.0, and c+d>0.)

前記した平均単位式(B-1)において、aが0.1≦a≦0.9の範囲であり、bが0≦b≦0.8の範囲であり、cが0.1≦c≦0.9の範囲であり、dが0≦d≦0.4の範囲であり、eが0≦e≦0.3の範囲であり得る。 In the above average unit formula (B-1), a may be in the range of 0.1≦a≦0.9, b may be in the range of 0≦b≦0.8, c may be in the range of 0.1≦c≦0.9, d may be in the range of 0≦d≦0.4, and e may be in the range of 0≦e≦0.3.

前記した平均単位式(C-1)において、aが0≦a≦0.9の範囲であり、bが0.1≦b≦0.9の範囲であり、cが0.01≦c≦0.8の範囲であり得る。 In the above average unit formula (C-1), a may be in the range of 0≦a≦0.9, b may be in the range of 0.1≦b≦0.9, and c may be in the range of 0.01≦c≦0.8.

(C)成分中に含まれるアルケニル基の含有量は、Rの合計の5モル%以上であり得る。 The content of alkenyl groups in component (C) may be 5 mol % or more of the total of R1 .

(C)成分中に含まれるエポキシ基含有有機基の含有量は、Rの合計の5モル%以上であり得る。 The content of the epoxy group-containing organic group in component (C) may be 5 mol % or more of the total of R1 .

本発明の一実施形態において、(A)成分は、直鎖状、分岐鎖状、および環状のオルガノポリシロキサンを含む。 In one embodiment of the present invention, component (A) includes linear, branched, and cyclic organopolysiloxanes.

本発明はまた、本発明に係るホットメルト性硬化性シリコーン組成物を固化してなるフィルムにも関する。 The present invention also relates to a film obtained by solidifying the hot-melt curable silicone composition of the present invention.

本発明はまた、本発明に係るホットメルト性硬化性シリコーン組成物からなる、封止剤にも関する。 The present invention also relates to a sealant comprising the hot-melt curable silicone composition of the present invention.

本発明はまた、本発明に係る封止剤を含む光半導体素子にも関する。 The present invention also relates to an optical semiconductor element containing the encapsulant of the present invention.

本発明の半導体素子は、好ましくは発光ダイオードである。 The semiconductor element of the present invention is preferably a light-emitting diode.

本発明に係るホットメルト性硬化性シリコーン組成物によれば、フィルムまたはシート形状に成形した場合であっても、優れた機械特性、特に強度および伸びを示すことができる。そのため、本発明のホットメルト性硬化性シリコーン組成物は、取り扱い作業性に優れ、効率よく半導体パッケージを製造することができる、シート状またはフィルム状封止剤およびラミネーション用フィルムを形成できる。 The hot-melt curable silicone composition of the present invention can exhibit excellent mechanical properties, particularly strength and elongation, even when molded into a film or sheet shape. Therefore, the hot-melt curable silicone composition of the present invention can be used to form sheet- or film-like sealants and lamination films that are easy to handle and can be used to efficiently manufacture semiconductor packages.

また、本発明の封止剤によれば、本発明のホットメルト性硬化性シリコーン組成物から形成されているので、優れた機械特性、特に強度および伸びを示すことができ、その結果、取り扱い作業性に優れる。そのため、効率よく半導体パッケージを製造することができる。 In addition, the sealant of the present invention is formed from the hot-melt curable silicone composition of the present invention, and therefore exhibits excellent mechanical properties, particularly strength and elongation, resulting in excellent handling and workability. This allows for efficient production of semiconductor packages.

以下、本発明について詳細に説明する。 The present invention will be described in detail below.

[ホットメルト性硬化性シリコーン組成物]
本発明は、無溶剤系ホットメルト性硬化性シリコーン組成物に関し、
(A)一分子中にアルケニル基を少なくとも2個有するオルガノポリシロキサン、
(B)組成物の総質量に対して0.1~5質量%の、一分子中にケイ素原子結合水素原子を少なくとも2個有するレジン状オルガノハイドロジェンポリシロキサン、
(C)平均単位式(C-1):
(R SiO1/2)(R SiO2/2)(RSiO3/2)
(式中、Rは同じかまたは異なる、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アラルキル基、もしくはエポキシ基含有有機基であり、ただし、少なくとも1つのRはアルケニル基であり、且つ、少なくとも1つのRはエポキシ基含有有機基であり、a、b、およびcは、それぞれ、0≦a≦1.0、0≦b≦1.0、0≦c<0.9、且つa+b+c=1を満たす数である。)
で表される添加剤
(D)ヒドロシリル化反応用触媒、および
(E)シリカ
を含む。
[Hot-melt curable silicone composition]
The present invention relates to a solventless hot-melt curable silicone composition,
(A) an organopolysiloxane having at least two alkenyl groups in one molecule;
(B) 0.1 to 5 mass %, based on the total mass of the composition, of a resin-like organohydrogenpolysiloxane having at least two silicon-bonded hydrogen atoms in each molecule;
(C) Average unit formula (C-1):
(R 1 3 SiO 1/2 ) a (R 1 2 SiO 2/2 ) b (R 1 SiO 3/2 ) c
(In the formula, R 1s are the same or different and are alkyl groups, aryl groups, alkenyl groups, aralkyl groups, or epoxy group-containing organic groups, with the proviso that at least one R 1 is an alkenyl group and at least one R 1 is an epoxy group-containing organic group, and a, b, and c are numbers that satisfy 0≦a≦1.0, 0≦b≦1.0, 0≦c<0.9, and a+b+c=1.)
and (E) silica.

本発明のシリコーン組成物は、溶剤を含まず、また、加熱処理によりフィルム形状、シート形状、などに成形した時にホットメルト性を示す。本明細書において、「ホットメルト性」とは、25℃において非流動性であるが、加熱により容易に溶融して流動性を示す特性を言う。例えば、本発明のホットメルト性シリコーン組成物は、100℃の溶融弾性率が10Pa~1MPaの範囲内である。ここで、非流動性とは、無負荷の状態で流動しないことを意味し、例えば、JIS K 6863-1994「ホットメルト接着剤の軟化点試験方法」で規定されるホットメルト接着剤の環球法による軟化点試験方法で測定される軟化点未満での状態を示す。すなわち、本発明のホットメルト性シリコーン組成物は、好ましくは軟化点が25℃よりも高い。なお、100℃の溶融弾性率は、温度制御のできるフラットプレート型粘弾性測定器により測定できる。また、本発明のシリコーン組成物は、ホットメルト性と硬化性を併せ持つ、ホットメルト性硬化性シリコーン組成物である。 The silicone composition of the present invention does not contain a solvent, and exhibits hot melt properties when molded into a film shape, sheet shape, or the like by heat treatment. In this specification, "hot melt properties" refers to a property that is non-fluid at 25°C, but easily melts and exhibits fluidity when heated. For example, the hot melt silicone composition of the present invention has a melt modulus of elasticity at 100°C in the range of 10 Pa to 1 MPa. Here, non-fluidity means that it does not flow under no load, and indicates a state below the softening point measured by the ring and ball method for the softening point test method of hot melt adhesives specified in JIS K 6863-1994 "Softening Point Test Method for Hot Melt Adhesives". In other words, the hot melt silicone composition of the present invention preferably has a softening point higher than 25°C. The melt modulus of elasticity at 100°C can be measured by a flat plate type viscoelasticity measuring instrument capable of controlling the temperature. In addition, the silicone composition of the present invention is a hot melt curable silicone composition that has both hot melt properties and curability.

こうした本発明に係るホットメルト性硬化性シリコーン組成物によれば、フィルムまたはシート形状に成形した場合であっても、優れた機械特性、特に強度および伸びを示すことができる。そのため、本発明のホットメルト性硬化性シリコーン組成物は、取り扱い作業性に優れ、効率よく半導体パッケージを製造することができる、半導体パッケージを製造するための封止剤およびラミネーション用フィルムを形成できる。 The hot-melt curable silicone composition of the present invention can exhibit excellent mechanical properties, particularly strength and elongation, even when molded into a film or sheet shape. Therefore, the hot-melt curable silicone composition of the present invention can be used to form a sealant and lamination film for manufacturing semiconductor packages that are easy to handle and can efficiently manufacture semiconductor packages.

以下、各成分について詳細に説明する。 Each ingredient is explained in detail below.

(A)アルケニル基含有オルガノポリシロキサン
(A)成分は、本発明の硬化性シリコーン組成物の主剤である、一分子中に少なくとも2個のケイ素原子結合アルケニル基を有するアルケニル基含有オルガノポリシロキサンである。
(A) Alkenyl-Containing Organopolysiloxane Component (A) is the main component of the curable silicone composition of the present invention, and is an alkenyl-containing organopolysiloxane that contains at least two silicon-bonded alkenyl groups per molecule.

(A)成分に含まれるアルケニル基としては、ビニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基、ノネニル基、デセニル基、ウンデセニル基、ドデセニル基等の炭素数が2~12個のアルケニル基が例示され、好ましくは、ビニル基である。 Examples of the alkenyl group contained in component (A) include alkenyl groups having 2 to 12 carbon atoms, such as vinyl groups, allyl groups, butenyl groups, pentenyl groups, hexenyl groups, heptenyl groups, octenyl groups, nonenyl groups, decenyl groups, undecenyl groups, and dodecenyl groups, with vinyl groups being preferred.

(A)成分の分子構造としては、直鎖状、一部分岐を有する直鎖状、分岐鎖状、環状、および三次元網状構造が例示される。(A)成分は、これらの分子構造を有する1種のオルガノポリシロキサンであるか、あるいはこれらの分子構造を有する2種以上のオルガノポリシロキサンの混合物であってもよい。本発明の硬化性シリコーン組成物は、好ましくは、(A)成分として直鎖状のオルガノポリシロキサンと分岐鎖状のレジン状オルガノポリシロキサンの両方を含む。 Examples of the molecular structure of component (A) include linear, partially branched linear, branched, cyclic, and three-dimensional network structures. Component (A) may be one organopolysiloxane having these molecular structures, or a mixture of two or more organopolysiloxanes having these molecular structures. The curable silicone composition of the present invention preferably contains both a linear organopolysiloxane and a branched resin-like organopolysiloxane as component (A).

本発明の一実施形態において、(A)成分は、
(A-1)平均単位式:R SiO(R SiO)SiR
(式中、Rは同じかまたは異なるハロゲン置換または非置換の一価炭化水素基であり、ただし、一分子中、少なくとも2個のRはアルケニル基であり、mは4~1,000の整数である。)で表される直鎖状のオルガノポリシロキサン、および/または、
(A-2)平均単位式:(R SiO1/2(R SiO2/2(RSiO3/2(SiO4/2(XO1/2
(式中、Rは前記と同じであり、ただし、一分子中、少なくとも2個のRはアルケニル基であり、Xは水素原子またはアルキル基であり、a、b、c、dおよびeは、0≦a≦1.0、0≦b≦1.0、0≦c<0.9、0≦d<0.5、0≦e<0.4であり、a+b+c+d+e=1.0であり、かつc+d>0を満たす数である。)で表される分岐鎖状のオルガノポリシロキサン、および/または、
(A-3)平均単位式:(RSiO2/2
(式中、Rは前記と同じであり、ただし、一分子中、少なくとも2個のRはアルケニル基であり、nは3~50の整数である。)で表される環状のオルガノポリシロキサンであり得る。
In one embodiment of the present invention, the component (A) is
(A-1) Average unit formula: R 2 3 SiO(R 2 2 SiO) m SiR 2 3
(wherein R 2 is the same or different, a halogen-substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group, with the proviso that in one molecule, at least two R 2 are alkenyl groups, and m is an integer of 4 to 1,000), and/or
(A-2) Average unit formula: (R 2 3 SiO 1/2 ) a (R 2 2 SiO 2/2 ) b (R 2 SiO 3/2 ) c (SiO 4/2 ) d (XO 1/2 ) e
(wherein R2 is the same as defined above, with the proviso that in one molecule, at least two R2 's are alkenyl groups, X is a hydrogen atom or an alkyl group, and a, b, c, d, and e are numbers that satisfy 0≦a≦1.0, 0≦b≦1.0, 0≦c<0.9, 0≦d<0.5, 0≦e<0.4, a+b+c+d+e=1.0, and c+d>0), and/or
(A-3) Average unit formula: (R 2 SiO 2/2 ) n
(wherein R 2 is the same as defined above, with the proviso that at least two R 2 in one molecule are alkenyl groups, and n is an integer of 3 to 50).

好ましくは、本発明のホットメルト性硬化性シリコーン組成物は、(A)成分として直鎖状および分岐鎖状のオルガノポリシロキサンの両方を含む。より好ましくは、本発明のホットメルト性硬化性シリコーン組成物は、(A)成分として直鎖状、分岐鎖状、および環状のオルガノポリシロキサンを含む。なお、分岐鎖状のオルガノポリシロキサンとは、レジン状のオルガノポリシロキサンのことであり、一般式:RSiO1/2で表されるシロキサン単位(M単位)、一般式:RSiO2/2で表されるシロキサン単位(D単位)、一般式:RSiO3/2で表されるシロキサン単位(T単位)、および式:SiO4/2で表されるシロキサン単位(Q単位)のうち、一分子中に少なくとも1つのT単位またはQ単位を含むオルガノポリシロキサンを意味する。 Preferably, the hot melt curable silicone composition of the present invention contains both linear and branched organopolysiloxanes as component (A).More preferably, the hot melt curable silicone composition of the present invention contains linear, branched and cyclic organopolysiloxanes as component (A).Note that the branched organopolysiloxane refers to a resin-like organopolysiloxane, and refers to an organopolysiloxane that contains at least one T unit or Q unit in one molecule among the siloxane units (M units) represented by the general formula: R3SiO1 / 2 , the siloxane units (D units) represented by the general formula: R2SiO2/ 2 , the siloxane units (T units) represented by the general formula: RSiO3 /2 and the siloxane units (Q units) represented by the formula: SiO4 /2 .

上記式中のRのハロゲン置換または非置換の一価炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基等の炭素数が1~12個のアルキル基;フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等の炭素数が6~20個のアリール基;ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基等の炭素数が7~20個のアラルキル基;ビニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基、ノネニル基、デセニル基、ウンデセニル基、ドデセニル基等の炭素数が2~12個のアルケニル基;これらの基の水素原子の一部または全部をフッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子で置換した基が例示される。Rは、本発明の目的を損なわない範囲で、少量の水酸基やメトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基であってもよい。 Examples of the halogen-substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group for R2 in the above formula include alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms, such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, tert-butyl, pentyl, neopentyl, hexyl, cyclohexyl, heptyl, octyl, nonyl, decyl, undecyl, and dodecyl groups; alkyl groups having 6 to 20 carbon atoms, such as phenyl, tolyl, xylyl, and naphthyl groups; aryl groups, aralkyl groups having 7 to 20 carbon atoms such as benzyl, phenethyl, and phenylpropyl groups, alkenyl groups having 2 to 12 carbon atoms such as vinyl, allyl, butenyl, pentenyl, hexenyl, heptenyl, octenyl, nonenyl, decenyl, undecenyl, and dodecenyl groups, and groups in which some or all of the hydrogen atoms of these groups have been substituted with halogen atoms such as fluorine, chlorine, and bromine atoms. R2 may also be a small amount of hydroxyl groups or alkoxy groups such as methoxy and ethoxy groups, within the scope of the present invention.

は、好ましくは、フェニル基、炭素原子数1~6のアルキル基もしくはシクロアルキル基、または炭素原子数2~6のアルケニル基から選択される。 R2 is preferably selected from a phenyl group, an alkyl or cycloalkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms.

(A)成分に含まれるアルケニル基の含有量は、特に限定されないが、ただし、Rの合計の0.01~50モル%、0.05~40モル%、あるいは0.09~32モル%がアルケニル基であることが好ましい。なお、アルケニル基の含有量は、例えば、フーリエ変換赤外分光光度計(FT-IR)、核磁気共鳴(NMR)等の分析によって求めることができる。 The content of alkenyl groups in component (A) is not particularly limited, but it is preferable that alkenyl groups account for 0.01 to 50 mol %, 0.05 to 40 mol %, or 0.09 to 32 mol % of the total of R 2. The content of alkenyl groups can be determined, for example, by analysis using a Fourier transform infrared spectrophotometer (FT-IR), nuclear magnetic resonance (NMR), or the like.

(A)成分は、好ましくは、少なくとも1つの(ArSiO2/2)単位を含むレジン状オルガノポリシロキサンを含む。 Component (A) preferably comprises a resinous organopolysiloxane containing at least one (Ar 2 SiO 2/2 ) unit.

本発明の(A)成分としての少なくとも1つの(ArSiO2/2)単位を含むレジン状オルガノポリシロキサンは、好ましくは、分子構造中のT単位の割合が、0.1以上であり、より好ましくは0.2以上であり、さらに好ましくは0.3以上である。好適な実施形態において、本発明のレジン状オルガノポリシロキサンは、分子構造中のT単位の割合が、0.9以下であり、好ましくは0.85以下であり、より好ましくは0.8以下である。別の好適な実施形態において、本発明のレジン状オルガノポリシロキサンは、分子構造中のQ単位の割合が0.2以下であり、好ましくは0.1以下であり、さらに好ましくはQ単位を含まない。なお、上記T単位およびQ単位の割合は、レジン状オルガノポリシロキサンの一般式:RSiO1/2で表されるシロキサン単位(M単位)、一般式:RSiO2/2で表されるシロキサン単位(D単位)、一般式:RSiO3/2で表されるシロキサン単位(T単位)、および式:SiO4/2で表されるシロキサン単位(Q単位)の量に基づいて計算できる。 The resin-like organopolysiloxane containing at least one ( Ar2SiO2 /2 ) unit as component (A) of the present invention preferably has a ratio of T units in the molecular structure of 0.1 or more, more preferably 0.2 or more, and even more preferably 0.3 or more. In a preferred embodiment, the resin-like organopolysiloxane of the present invention has a ratio of T units in the molecular structure of 0.9 or less, preferably 0.85 or less, and even more preferably 0.8 or less. In another preferred embodiment, the resin-like organopolysiloxane of the present invention has a ratio of Q units in the molecular structure of 0.2 or less, preferably 0.1 or less, and even more preferably does not contain Q units. The proportions of the T units and Q units can be calculated based on the amounts of siloxane units (M units) represented by the general formula: R3SiO1 / 2 , siloxane units (D units) represented by the general formula: R2SiO2 / 2 , siloxane units (T units) represented by the general formula: RSiO3 /2 , and siloxane units (Q units) represented by the formula: SiO4 /2 in the resinous organopolysiloxane.

(ArSiO2/2)単位において、Arはアリール基を意味する。アリール基は、無置換でも置換されていてもよく、好ましくは炭素数6~20のアリール基であり、例えば、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、アントラセニル基、フェナントリル基、ピレニル基、およびこれらのアリール基の水素原子をメチル基、エチル基等のアルキル基;メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基;塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子で置換した基が例示される。特に好ましくは、アリール基はフェニル基である。 In the (Ar 2 SiO 2/2 ) unit, Ar represents an aryl group. The aryl group may be unsubstituted or substituted, and is preferably an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, such as a phenyl group, a tolyl group, a xylyl group, a naphthyl group, an anthracenyl group, a phenanthryl group, a pyrenyl group, and groups in which the hydrogen atoms of these aryl groups are substituted with alkyl groups such as a methyl group or an ethyl group; alkoxy groups such as a methoxy group or an ethoxy group; or halogen atoms such as a chlorine atom or a bromine atom. The aryl group is particularly preferably a phenyl group.

本発明の(A)成分としてのレジン状オルガノポリシロキサンは、好ましくは、分子構造中の(ArSiO2/2)単位の割合が0.05以上であり、より好ましくは0.1以上であり、さらに好ましくは0.15以上であり、優先的には0.2以上である。好適な実施形態において、本発明のレジン状オルガノポリシロキサンは、分子構造中の(ArSiO2/2)単位の割合が0.5以下であり、好ましくは0.45以下であり、より好ましくは0.4以下である。 The resinous organopolysiloxane of the present invention as component (A) preferably has a ratio of ( Ar2SiO2 / 2) units in its molecular structure of 0.05 or more, more preferably 0.1 or more, even more preferably 0.15 or more, and preferentially 0.2 or more. In a preferred embodiment, the resinous organopolysiloxane of the present invention has a ratio of ( Ar2SiO2 /2 ) units in its molecular structure of 0.5 or less, preferably 0.45 or less, and more preferably 0.4 or less.

少なくとも1つの(ArSiO2/2)単位を含む(A)成分としてのレジン状オルガノポリシロキサンは、好ましくは、ケイ素原子に結合する一価炭化水素基の40モル%以上がアリール基であり、より好ましくは50モル%以上、特に60モル%以上がアリール基であり得る。 In the resinous organopolysiloxane as component (A) containing at least one ( Ar2SiO2 /2 ) unit, preferably 40 mol % or more of the monovalent hydrocarbon groups bonded to silicon atoms are aryl groups, more preferably 50 mol % or more, and especially 60 mol % or more of the monovalent hydrocarbon groups bonded to silicon atoms are aryl groups.

(A)成分のレジン状オルガノポリシロキサンは、好ましくは、以下の平均単位式(A-4)で表され得る:
(A-4)(R SiO1/2(R SiO2/2(ArSiO2/2b‘(RSiO3/2(SiO4/2(XO1/2
(式中、RおよびArは前記と同じであり、ただし、一分子中、少なくとも2個のRはアルケニル基であり、Xは水素原子またはアルキル基であり、R SiO2/2は、ArSiO2/2以外の単位を示し、a、b、b’、c、d、およびeは、0≦a≦1.0、0≦b≦1.0、0<b’≦1.0、0≦c<0.9、0≦d<0.5、0≦e<0.4であり、a+b+b’+c+d=1.0であり、かつc+d>0を満たす数である。)
The resinous organopolysiloxane of component (A) can preferably be represented by the following average unit formula (A-4):
(A-4) (R 2 3 SiO 1/2 ) a (R 2 2 SiO 2/2 ) b (Ar 2 SiO 2/2 ) b' (R 2 SiO 3/2 ) c (SiO 4/2 ) d (XO 1/2 ) e
(In the formula, R2 and Ar are the same as above, with the proviso that in one molecule, at least two R2 's are alkenyl groups, X is a hydrogen atom or an alkyl group, R22SiO2 /2 represents a unit other than Ar2SiO2 /2 , and a, b, b', c, d, and e are numbers that satisfy 0≦a≦1.0, 0 b≦1.0, 0<b'≦1.0, 0≦c<0.9, 0≦d<0.5, 0≦e<0.4, a+b+b'+c+d=1.0, and c+d>0.)

平均単位式(A-4)において、aは、好ましくは、0≦a≦0.5の範囲であり、より好ましくは0≦a≦0.3の範囲であり、優先的には0≦a≦0.2の範囲であり、特に0≦a≦0.1の範囲である。平均単位式(A-4)において、bは、好ましくは、0≦b≦0.8の範囲であり、より好ましくは0.1≦b≦0.7の範囲であり、特に0.15≦b≦0.6の範囲である。平均単位式(A-4)において、b’は、好ましくは、0.1≦b’≦0.7の範囲であり、より好ましくは0.2≦b’≦0.6の範囲であり、特に0.25≦b’≦0.5の範囲である。平均単位式(A-4)において、cは、好ましくは、0.1≦c≦0.9の範囲であり、より好ましくは0.2≦c≦0.85の範囲であり、特に0.3≦c≦0.8の範囲である。平均単位式(A-4)において、dは、好ましくは、0≦d≦0.4の範囲であり、より好ましくは0≦d≦0.3の範囲であり、特に0≦d≦0.2の範囲である。平均単位式(A-4)において、eは、好ましくは、0≦e≦0.3の範囲であり、より好ましくは0≦e≦0.2の範囲であり、特に0≦e≦0.1の範囲である。 In the average unit formula (A-4), a is preferably in the range of 0≦a≦0.5, more preferably in the range of 0≦a≦0.3, and preferentially in the range of 0≦a≦0.2, and in particular in the range of 0≦a≦0.1. In the average unit formula (A-4), b is preferably in the range of 0≦b≦0.8, more preferably in the range of 0.1≦b≦0.7, and in particular in the range of 0.15≦b≦0.6. In the average unit formula (A-4), b' is preferably in the range of 0.1≦b'≦0.7, more preferably in the range of 0.2≦b'≦0.6, and in particular in the range of 0.25≦b'≦0.5. In the average unit formula (A-4), c is preferably in the range of 0.1≦c≦0.9, more preferably in the range of 0.2≦c≦0.85, and in particular in the range of 0.3≦c≦0.8. In the average unit formula (A-4), d is preferably in the range of 0≦d≦0.4, more preferably in the range of 0≦d≦0.3, and particularly in the range of 0≦d≦0.2. In the average unit formula (A-4), e is preferably in the range of 0≦e≦0.3, more preferably in the range of 0≦e≦0.2, and particularly in the range of 0≦e≦0.1.

本発明の硬化性シリコーン組成物は、(A)成分として、好ましくは、少なくとも1つの(ArSiO2/2)単位を含むレジン状オルガノポリシロキサンを、組成物の総質量に基づいて、10質量%以上で含み、好ましくは20質量%以上、より好ましくは30質量%以上、さらに好ましくは40質量%以上で含む。好適な実施形態において、本発明の硬化性シリコーン組成物は、少なくとも1つの(ArSiO2/2)単位を含むレジン状オルガノポリシロキサンを、組成物の総質量に基づいて、90質量%以下で含み、好ましくは80質量%以下で含み、より好ましくは70質量%以下で含む。 The curable silicone composition of the present invention preferably contains, as component (A), a resinous organopolysiloxane containing at least one ( Ar2SiO2 /2 ) unit in an amount of 10 mass% or more, preferably 20 mass% or more, more preferably 30 mass% or more, and even more preferably 40 mass% or more, based on the total mass of the composition. In a preferred embodiment, the curable silicone composition of the present invention contains, based on the total mass of the composition, 90 mass% or less, preferably 80 mass% or less, and more preferably 70 mass% or less of the resinous organopolysiloxane containing at least one ( Ar2SiO2 /2 ) unit.

(A)成分は、本発明の組成物の総質量に基づいて、好ましくは30質量%以上、より好ましくは40質量%以上、さらに好ましくは50質量%以上、優先的には60質量%以上で含まれ、好ましくは90質量%以下、より好ましくは85質量%以下、特に80質量%以下で含まれ得る。 The (A) component is preferably contained in an amount of 30% by mass or more, more preferably 40% by mass or more, even more preferably 50% by mass or more, and preferentially 60% by mass or more, based on the total mass of the composition of the present invention, and is preferably contained in an amount of 90% by mass or less, more preferably 85% by mass or less, and particularly preferably 80% by mass or less.

(B)レジン状オルガノハイドロジェンポリシロキサン
(B)成分の一分子中に少なくとも2個のケイ素原子結合水素原子を有するレジン状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(すなわち、分岐鎖状オルガノハイドロジェンポリシロキサン)は、ヒドロシリル化反応硬化型である硬化性シリコーン組成物の架橋剤として作用するものである。好ましくは、(B)成分は、少なくとも分子鎖両末端にケイ素原子結合水素原子を含有するレジン状のオルガノハイドロジェンポリシロキサンである。(B)成分は1種のみのオルガノポリシロキサンを用いてもよく、2種以上のオルガノポリシロキサンを組み合わせて用いてもよい。
(B) Resin-like organohydrogenpolysiloxane The resin-like organohydrogenpolysiloxane (i.e., branched-chain organohydrogenpolysiloxane) having at least two silicon-bonded hydrogen atoms in one molecule of the component (B) acts as a crosslinking agent for the hydrosilylation reaction curable curable silicone composition.Preferably, the component (B) is a resin-like organohydrogenpolysiloxane containing silicon-bonded hydrogen atoms at least at both ends of the molecular chain.The component (B) may be a single organopolysiloxane, or may be a combination of two or more organopolysiloxanes.

(B)成分のケイ素原子結合水素原子は、好ましくは、少なくとも分子鎖両末端に含有しており、また、分子鎖の側鎖にケイ素原子結合水素原子が含有されていてもよく、分子鎖両末端にのみケイ素原子結合水素原子が含有されていてもよい。この(B)成分中の水素原子以外のケイ素原子に結合する基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基等の炭素数が1~12個のアルキル基;フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等の炭素数が6~20個のアリール基;ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基等の炭素数が7~20個のアラルキル基;これらの基の水素原子の一部または全部をフッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子で置換した基が例示される。なお、(B)成分中のケイ素原子には、本発明の目的を損なわない範囲で、少量の水酸基やメトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基を有していてもよい。 The silicon-bonded hydrogen atoms of component (B) are preferably contained at least at both ends of the molecular chain, and may also be contained in side chains of the molecular chain, or may only be contained at both ends of the molecular chain. Examples of groups bonded to silicon atoms other than hydrogen atoms in component (B) include alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms, such as methyl groups, ethyl groups, propyl groups, isopropyl groups, butyl groups, isobutyl groups, tert-butyl groups, pentyl groups, neopentyl groups, hexyl groups, cyclohexyl groups, heptyl groups, octyl groups, nonyl groups, decyl groups, undecyl groups, and dodecyl groups; aryl groups having 6 to 20 carbon atoms, such as phenyl groups, tolyl groups, xylyl groups, and naphthyl groups; aralkyl groups having 7 to 20 carbon atoms, such as benzyl groups, phenethyl groups, and phenylpropyl groups; and groups in which some or all of the hydrogen atoms of these groups are replaced with halogen atoms, such as fluorine atoms, chlorine atoms, and bromine atoms. The silicon atoms in component (B) may contain small amounts of hydroxyl groups or alkoxy groups such as methoxy and ethoxy groups, as long as the purpose of the present invention is not impaired.

本発明の一実施形態において、(B-1)平均単位式:
(R SiO1/2(R SiO2/2(RSiO3/2(SiO4/2(XO1/2
(式中、Rは水素原子または同じかもしくは異なるハロゲン置換または非置換の一価炭化水素基であり、ただし、少なくとも2つのRは水素原子であり、Xは水素原子またはアルキル基であり、a、b、c、d、およびeは、0≦a≦1.0、0≦b≦1.0、0≦c<0.9、0≦d<0.5、0≦e<0.4であり、a+b+c+d=1.0であり、かつc+d>0を満たす数である。)で表されるレジン状オルガノハイドロジェンポリシロキサンであり得る。
In one embodiment of the present invention, (B-1) an average unit formula:
(R 3 3 SiO 1/2 ) a (R 3 2 SiO 2/2 ) b (R 3 SiO 3/2 ) c (SiO 4/2 ) d (XO 1/2 ) e
(wherein R3 is a hydrogen atom or the same or different halogen-substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon groups, with the proviso that at least two R3 's are hydrogen atoms, X is a hydrogen atom or an alkyl group, and a, b, c, d, and e are numbers that satisfy 0≦a≦1.0, 0≦b≦1.0, 0≦c<0.9, 0≦d<0.5, 0≦e<0.4, a+b+c+d=1.0, and c+d>0).

上記式B-1中のRのハロゲン置換または非置換の一価炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基等の炭素数が1~12個のアルキル基;フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等の炭素数が6~20個のアリール基;ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基等の炭素数が7~20個のアラルキル基;ビニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基、ノネニル基、デセニル基、ウンデセニル基、ドデセニル基等の炭素数が2~12個のアルケニル基;これらの基の水素原子の一部または全部をフッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子で置換した基が例示される。Rは、本発明の目的を損なわない範囲で、少量の水酸基やメトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基であってもよい。 Examples of the halogen-substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group for R 3 in the above formula B-1 include alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms, such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, a neopentyl group, a hexyl group, a cyclohexyl group, a heptyl group, an octyl group, a nonyl group, a decyl group, an undecyl group, or a dodecyl group; and alkyl groups having 6 to 20 carbon atoms, such as a phenyl group, a tolyl group, a xylyl group, or a naphthyl group. aryl groups, aralkyl groups having 7 to 20 carbon atoms such as benzyl, phenethyl, and phenylpropyl groups, alkenyl groups having 2 to 12 carbon atoms such as vinyl, allyl, butenyl, pentenyl, hexenyl, heptenyl, octenyl, nonenyl, decenyl, undecenyl, and dodecenyl groups, and groups in which some or all of the hydrogen atoms of these groups have been substituted with halogen atoms such as fluorine, chlorine, and bromine atoms. R3 may also be a small amount of hydroxyl groups or alkoxy groups such as methoxy and ethoxy groups, within the scope of the present invention.

上記式B-1において、aは、好ましくは、0.1≦a≦0.9の範囲であり、より好ましくは0.2≦a≦0.8の範囲であり、特に0.4≦a≦0.7の範囲である。上記式B-1において、bは、好ましくは、0≦b≦0.8の範囲であり、より好ましくは0≦b≦0.5の範囲であり、特に0≦b≦0.2の範囲である。上記式B-1において、cは、好ましくは、0.1≦c≦0.9の範囲であり、より好ましくは0.2≦c≦0.7の範囲であり、特に0.3≦c≦0.5の範囲である。上記式B-1において、dは、好ましくは、0≦d≦0.4の範囲であり、より好ましくは0≦d≦0.3の範囲であり、特に0≦d≦0.2の範囲である。上記B-1において、eは、好ましくは、0≦e≦0.3の範囲であり、より好ましくは0≦e≦0.2の範囲であり、特に0≦e≦0.1の範囲である。 In the above formula B-1, a is preferably in the range of 0.1≦a≦0.9, more preferably in the range of 0.2≦a≦0.8, and particularly in the range of 0.4≦a≦0.7. In the above formula B-1, b is preferably in the range of 0≦b≦0.8, more preferably in the range of 0≦b≦0.5, and particularly in the range of 0≦b≦0.2. In the above formula B-1, c is preferably in the range of 0.1≦c≦0.9, more preferably in the range of 0.2≦c≦0.7, and particularly in the range of 0.3≦c≦0.5. In the above formula B-1, d is preferably in the range of 0≦d≦0.4, more preferably in the range of 0≦d≦0.3, and particularly in the range of 0≦d≦0.2. In the above formula B-1, e is preferably in the range of 0≦e≦0.3, more preferably in the range of 0≦e≦0.2, and particularly in the range of 0≦e≦0.1.

(B-1)成分は、本発明の組成物の総質量に基づいて、0.1~5質量%の量で本発明のホットメルト性硬化性シリコーン組成物中に含まれる。(B)成分は、本発明の組成物の総質量に基づいて、好ましくは0.5質量%以上、より好ましくは1質量%以上の量で本発明のホットメルト性硬化性シリコーン組成物中に含まれ、例えば4.5質量%以下の量で本発明のホットメルト性硬化性シリコーン組成物中に含まれる。 The (B-1) component is contained in the hot-melt curable silicone composition of the present invention in an amount of 0.1 to 5 mass % based on the total mass of the composition of the present invention. The (B) component is preferably contained in the hot-melt curable silicone composition of the present invention in an amount of 0.5 mass % or more, more preferably 1 mass % or more, based on the total mass of the composition of the present invention, for example, in an amount of 4.5 mass % or less.

本発明の一実施形態において、(B)成分は、(A)成分中のケイ素原子結合アルケニル基1モルに対して、本成分中のケイ素原子結合水素原子が0.001~5モルとなる量であることが好ましく、より好ましくは0.01~2モルとなる量であり、特に、0.05~1モルとなる量であり得る。 In one embodiment of the present invention, component (B) is preferably present in an amount such that there are 0.001 to 5 moles, more preferably 0.01 to 2 moles, and particularly preferably 0.05 to 1 mole of silicon-bonded hydrogen atoms per mole of silicon-bonded alkenyl groups in component (A).

ホットメルト性硬化性シリコーン組成物は、上記(B)成分以外に、(B’)成分として、ヒドロシリル化反応硬化型である硬化性シリコーン組成物の架橋剤として作用するオルガノハイドロジェンポリシロキサンを含んでいてもよい。こうした(B’)成分としては、好ましくは、直鎖状のオルガノハイドロジェンポリシロキサンが挙げられる。(B’)成分は1種のみのオルガノポリシロキサンを用いてもよく、2種以上のオルガノポリシロキサンを組み合わせて用いてもよい。 In addition to the above-mentioned component (B), the hot-melt curable silicone composition may contain, as component (B'), an organohydrogenpolysiloxane that acts as a crosslinking agent for the hydrosilylation reaction-curable curable silicone composition. Such component (B') is preferably a linear organohydrogenpolysiloxane. As component (B'), only one type of organopolysiloxane may be used, or two or more types of organopolysiloxanes may be used in combination.

(B’)成分のケイ素原子結合水素原子は、好ましくは、少なくとも分子鎖両末端に含有しており、また、分子鎖の側鎖にケイ素原子結合水素原子が含有されていてもよく、分子鎖両末端にのみケイ素原子結合水素原子が含有されていてもよい。この(B)成分中の水素原子以外のケイ素原子に結合する基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基等の炭素数が1~12個のアルキル基;フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等の炭素数が6~20個のアリール基;ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基等の炭素数が7~20個のアラルキル基;これらの基の水素原子の一部または全部をフッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子で置換した基が例示される。なお、(B’)成分中のケイ素原子には、本発明の目的を損なわない範囲で、少量の水酸基やメトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基を有していてもよい。 The silicon-bonded hydrogen atoms of component (B') are preferably contained at least at both ends of the molecular chain, and may also be contained in side chains of the molecular chain, or may only be contained at both ends of the molecular chain. Examples of groups bonded to silicon atoms other than hydrogen atoms in component (B) include alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms, such as methyl groups, ethyl groups, propyl groups, isopropyl groups, butyl groups, isobutyl groups, tert-butyl groups, pentyl groups, neopentyl groups, hexyl groups, cyclohexyl groups, heptyl groups, octyl groups, nonyl groups, decyl groups, undecyl groups, and dodecyl groups; aryl groups having 6 to 20 carbon atoms, such as phenyl groups, tolyl groups, xylyl groups, and naphthyl groups; aralkyl groups having 7 to 20 carbon atoms, such as benzyl groups, phenethyl groups, and phenylpropyl groups; and groups in which some or all of the hydrogen atoms of these groups are replaced with halogen atoms, such as fluorine atoms, chlorine atoms, and bromine atoms. The silicon atoms in component (B') may contain small amounts of hydroxyl groups or alkoxy groups such as methoxy and ethoxy groups, as long as the purpose of the present invention is not impaired.

本発明の一実施形態において、(B’)成分は、(B-2)平均組成式:
(R SiO1/2(R SiO2/2(XO1/2
(式中、RおよびXは上記と同じであり、a、b、およびeは、0≦a≦1.0、0≦b≦1.0、0≦e<0.4、かつa+b=1.0を満たす数である。)で表される直鎖状オルガノハイドロジェンポリシロキサンであり得る。
In one embodiment of the present invention, the component (B') is represented by the average composition formula (B-2):
(R 3 3 SiO 1/2 ) a (R 3 2 SiO 2/2 ) b (XO 1/2 ) e
(wherein R3 and X are the same as above, and a, b, and e are numbers satisfying 0≦a≦1.0, 0≦b≦1.0, 0≦e<0.4, and a+b=1.0).

本発明の一実施形態において、(B’)成分は、以下の構造式で表され得る:
[HR SiO1/2[R SiO2/2
式中、Rは同じかまたは異なるハロゲン置換または非置換の一価炭化水素基であり、yは1~100、好ましくは1~10の範囲の数である。Rのハロゲン置換または非置換の一価炭化水素基としては、Rで説明したものと同じものを適用できる。
In one embodiment of the present invention, the (B') component may be represented by the following structural formula:
[HR 4 2 SiO 1/2 ] 2 [R 4 2 SiO 2/2 ] y
In the formula, R 4 is the same or different halogen-substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group, and y is a number ranging from 1 to 100, preferably from 1 to 10. As the halogen-substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group for R 4 , the same ones as those described for R 3 can be applied.

(B’)成分は、本発明の組成物の総質量に基づいて、好ましくは1質量%以上、より好ましくは5質量%以上、優先的には10質量%以上、特に15質量%以上の量で本発明のホットメルト性硬化性シリコーン組成物中に含まれ、好ましくは50質量%以下、より好ましくは40質量%以下、特に30質量%以下の量で本発明のホットメルト性硬化性シリコーン組成物中に含まれ得る。 The (B') component is preferably contained in the hot-melt curable silicone composition of the present invention in an amount of 1 mass % or more, more preferably 5 mass % or more, preferentially 10 mass % or more, and especially 15 mass % or more, based on the total mass of the composition of the present invention, and may be contained in the hot-melt curable silicone composition of the present invention in an amount of preferably 50 mass % or less, more preferably 40 mass % or less, and especially 30 mass % or less.

(B)成分と(B’)の合計の含有量は、(A)成分中のケイ素原子結合アルケニル基1モルに対して、本成分中のケイ素原子結合水素原子が0.1~10モルとなる量であることが好ましく、より好ましくは0.5~5モルとなる量であり、特に、0.5~1.5モルとなる量であり得る。また、(B)成分と(B’)の合計の含有量は、本発明の組成物の総質量に基づいて、好ましくは1質量%以上、より好ましくは5質量%以上、優先的には10質量%以上、特に15質量%以上の量で本発明のホットメルト性硬化性シリコーン組成物中に含まれ、好ましくは50質量%以下、より好ましくは40質量%以下、特に30質量%以下の量で本発明のホットメルト性硬化性シリコーン組成物中に含まれ得る。 The total content of components (B) and (B') is preferably such that the number of silicon-bonded hydrogen atoms in this component is 0.1 to 10 moles per mole of silicon-bonded alkenyl groups in component (A), more preferably 0.5 to 5 moles, and particularly 0.5 to 1.5 moles. The total content of components (B) and (B') is preferably 1 mass% or more, more preferably 5 mass% or more, preferentially 10 mass% or more, and particularly 15 mass% or more, based on the total mass of the composition of the present invention, and is preferably 50 mass% or less, more preferably 40 mass% or less, and particularly 30 mass% or less.

(C)添加剤
本発明の(C)成分である添加剤は、(C-1)平均単位式:
(R SiO1/2)(R SiO2/2)(RSiO3/2)
(式中、Rは同じかまたは異なる、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アラルキル基、もしくはエポキシ基含有有機基または、アルコキシ基であり、ただし、少なくとも1つのRはアルケニル基であり、且つ、少なくとも1つのRはエポキシ基含有有機基であり、a、b、およびcは、それぞれ、0≦a≦1.0、0≦b≦1.0、0≦c<0.9、且つa+b+c=1を満たす数である。)
で表されるシロキサン化合物である。すなわち、(C)成分は、ケイ素原子に結合した少なくとも1つのアルケニル基と、少なくとも1つのエポキシ基含有有機基を含む。
(C) Additive The additive which is the component (C) of the present invention has the average unit formula (C-1):
(R 1 3 SiO 1/2 ) a (R 1 2 SiO 2/2 ) b (R 1 SiO 3/2 ) c
(In the formula, R 1 's are the same or different and are an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, an aralkyl group, an epoxy group-containing organic group, or an alkoxy group, with the proviso that at least one R 1 is an alkenyl group and at least one R 1 is an epoxy group-containing organic group, and a, b, and c are numbers that satisfy 0≦a≦1.0, 0≦b≦1.0, 0≦c<0.9, and a+b+c=1.)
That is, component (C) contains at least one alkenyl group bonded to a silicon atom and at least one epoxy group-containing organic group.

本明細書において、「エポキシ基含有基」は、例えば、2-グリシドキシエチル基、3-グリシドキシプロピル基、4-グリシドキシブチル基等のグリシドキシアルキル基;2-(3,4-エポキシシクロヘキシル)-エチル基、3-(3,4-エポキシシクロヘキシル)-プロピル基等のエポキシシクロアルキルアルキル基;3,4-エポキシブチル基、7,8-エポキシオクチル基等のエポキシアルキル基が例示され、好ましくは、グリシドキシアルキル基であり、特に好ましくは、3-グリシドキシプロピル基である。 In this specification, examples of "epoxy group-containing groups" include glycidoxyalkyl groups such as 2-glycidoxyethyl, 3-glycidoxypropyl, and 4-glycidoxybutyl groups; epoxycycloalkylalkyl groups such as 2-(3,4-epoxycyclohexyl)-ethyl and 3-(3,4-epoxycyclohexyl)-propyl groups; and epoxyalkyl groups such as 3,4-epoxybutyl and 7,8-epoxyoctyl groups, with glycidoxyalkyl groups being preferred and 3-glycidoxypropyl being particularly preferred.

本明細書において、「アルコキシ基」は、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、フェノキシ基、ペンチルオキシ基、アリルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ベンジルオキシ基、ナフチルオキシ基、アセトキシ基などがあり、好ましくは、メトキシ基、エトキシ基であり、特に好ましくはメトキシ基である。 In this specification, the term "alkoxy group" refers to, for example, a methoxy group, an ethoxy group, a butoxy group, a phenoxy group, a pentyloxy group, an allyloxy group, a cyclohexyloxy group, a benzyloxy group, a naphthyloxy group, an acetoxy group, etc., and is preferably a methoxy group or an ethoxy group, and particularly preferably a methoxy group.

(C)成分に含まれるアルケニル基としては、ビニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基、ノネニル基、デセニル基、ウンデセニル基、ドデセニル基等の炭素数が2~12個のアルケニル基が例示され、好ましくは、ビニル基である。 Examples of the alkenyl group contained in component (C) include alkenyl groups having 2 to 12 carbon atoms, such as vinyl groups, allyl groups, butenyl groups, pentenyl groups, hexenyl groups, heptenyl groups, octenyl groups, nonenyl groups, decenyl groups, undecenyl groups, and dodecenyl groups, with vinyl groups being preferred.

上記式C-1のRは、好ましくは、炭素数1~12のアルキル基、炭素数6~20のアリール基、もしくは炭素数7~20のアラルキル基から選択される。具体的には、上記式C-1のRとして、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基等のアルキル基;ビニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基、ノネニル基、デセニル基、ウンデセニル基、ドデセニル基等のアルケニル基;フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、アントラセニル基、フェナントリル基、ピレニル基等のアリール基;ナフチルエチル基、ナフチルプロピル基、アントラセニルエチル基、フェナントリルエチル基、ピレニルエチル基等のアラルキル基;およびこれらのアリール基またはアラルキル基の水素原子の一部または全部をメチル基、エチル基等のアルキル基;メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基;塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子で置換した基が例示され、好ましくは、メチル基、ビニル基、フェニル基である。 R 1 in the above formula C-1 is preferably selected from an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, or an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms. Specifically, R 1 in the above formula C-1 is preferably an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group, a nonyl group, a decyl group, an undecyl group, or a dodecyl group; an alkenyl group such as a vinyl group, an allyl group, a butenyl group, a pentenyl group, a hexenyl group, a heptenyl group, an octenyl group, a nonenyl group, a decenyl group, an undecenyl group, or a dodecenyl group; a phenyl group, a tolyl group, a xylyl group, a naphthyl group, an anthracenyl group, or a phenanthryl group. , pyrenyl group, and other aryl groups; naphthylethyl group, naphthylpropyl group, anthracenylethyl group, phenanthrylethyl group, pyrenylethyl group, and other aralkyl groups; and groups in which some or all of the hydrogen atoms of these aryl groups or aralkyl groups have been substituted with alkyl groups such as methyl group, ethyl group, and other alkoxy groups such as methoxy group, ethoxy group, and other halogen atoms such as chlorine atom, bromine atom, and more preferably, methyl group, vinyl group, and phenyl group.

上記式C-1において、aは、好ましくは、0≦a≦0.9の範囲であり、より好ましくは0≦a≦0.5の範囲であり、特に0≦a≦0.3の範囲である。上記式C-1において、bは、好ましくは、0.1≦b≦0.9の範囲であり、より好ましくは0.2≦b≦0.8の範囲であり、特に0.25≦b≦0.7の範囲である。上記式C-1において、cは、好ましくは、0.01≦c≦0.8の範囲であり、より好ましくは0.1≦c≦0.7の範囲であり、特に0.2≦c≦0.6の範囲である。 In the above formula C-1, a is preferably in the range of 0≦a≦0.9, more preferably in the range of 0≦a≦0.5, and particularly in the range of 0≦a≦0.3. In the above formula C-1, b is preferably in the range of 0.1≦b≦0.9, more preferably in the range of 0.2≦b≦0.8, and particularly in the range of 0.25≦b≦0.7. In the above formula C-1, c is preferably in the range of 0.01≦c≦0.8, more preferably in the range of 0.1≦c≦0.7, and particularly in the range of 0.2≦c≦0.6.

(C)成分中に含まれるアルケニル基の含有量は、特に限定されないが、例えば、Rの合計の1モル%以上であり、好ましくは5モル%以上であり、より好ましくは8モル%以上であり、例えば40モル%以下であり、好ましくは30モル%以下であり、より好ましくは30モル%以下である。なお、アルケニル基の含有量は、例えば、フーリエ変換赤外分光光度計(FT-IR)、核磁気共鳴(NMR)等の分析によって求めることができる。 The content of alkenyl groups in component (C) is not particularly limited, but is, for example, 1 mol % or more, preferably 5 mol % or more, more preferably 8 mol % or more, and for example, 40 mol % or less, preferably 30 mol % or less, more preferably 30 mol % or less, of the total of R 1. The content of alkenyl groups can be determined, for example, by analysis using a Fourier transform infrared spectrophotometer (FT-IR), nuclear magnetic resonance (NMR), or the like.

(C)成分中に含まれるエポキシ基含有有機基の含有量は、特に限定されないが、例えば、Rの合計の1モル%以上であり、好ましくは5モル%以上であり、より好ましくは10モル%以上であり、例えば50モル%以下であり、好ましくは40モル%以下であり、より好ましくは35モル%以下である。なお、エポキシ基含有有機基の含有量は、例えば、フーリエ変換赤外分光光度計(FT-IR)、核磁気共鳴(NMR)等の分析によって求めることができる。 The content of the epoxy group-containing organic group in component (C) is not particularly limited, but is, for example, 1 mol % or more, preferably 5 mol % or more, more preferably 10 mol % or more, and for example, 50 mol % or less, preferably 40 mol % or less, more preferably 35 mol % or less, of the total of R 1. The content of the epoxy group-containing organic group can be determined, for example, by analysis using a Fourier transform infrared spectrophotometer (FT-IR), nuclear magnetic resonance (NMR), or the like.

(C)成分は、本発明の組成物の総質量に基づいて、好ましくは0.01質量%以上、より好ましくは0.1質量%以上、優先的には0.3質量%以上、特に0.5質量%以上の量で本発明のホットメルト性硬化性シリコーン組成物中に含まれ、好ましくは20質量%以下、より好ましくは15質量%以下、優先的には10質量%以下の量で本発明のホットメルト性硬化性シリコーン組成物中に含まれる。 The (C) component is preferably contained in the hot-melt curable silicone composition of the present invention in an amount of 0.01 mass% or more, more preferably 0.1 mass% or more, preferentially 0.3 mass% or more, and particularly 0.5 mass% or more, based on the total mass of the composition of the present invention, and is preferably contained in the hot-melt curable silicone composition of the present invention in an amount of 20 mass% or less, more preferably 15 mass% or less, and preferentially 10 mass% or less.

(D)ヒドロシリル化反応用触媒
(D)成分のヒドロシリル化反応用触媒は、本発明のホットメルト性硬化性シリコーン組成物の硬化を促進するための触媒である。このような(D)成分としては、例えば、塩化白金酸、塩化白金酸のアルコール溶液、白金とオレフィンの錯体、白金と1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサンの錯体、白金を担持した粉体等の白金系触媒;テトラキス(トリフェニルフォスフィン)パラジウム、パラジウム黒、トリフェニルフォスフィンとの混合物等のパラジウム系触媒;さらに、ロジウム系触媒が挙げられ、特に、白金系触媒であることが好ましい。
(D) Hydrosilylation Catalyst The hydrosilylation catalyst of component (D) is a catalyst for accelerating the curing of the hot-melt curable silicone composition of the present invention. Examples of this component (D) include platinum-based catalysts such as chloroplatinic acid, an alcohol solution of chloroplatinic acid, a complex of platinum and an olefin, a complex of platinum and 1,3-divinyl-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane, and a powder carrying platinum; palladium-based catalysts such as tetrakis(triphenylphosphine)palladium, palladium black, and a mixture with triphenylphosphine; and rhodium-based catalysts, with platinum-based catalysts being particularly preferred.

(D)成分の配合量は、触媒量であり、(D)成分として白金系触媒を用いた場合、この白金系触媒に含まれる白金金属量は、本発明のホットメルト性硬化性シリコーン組成物中に重量単位で0.01~1000ppmの範囲内となる量であることが実用上好ましく、特に、0.1~500ppmの範囲内となる量であることが好ましい。 The amount of component (D) is a catalytic amount. When a platinum catalyst is used as component (D), the amount of platinum metal contained in this platinum catalyst is preferably in the range of 0.01 to 1000 ppm by weight in the hot-melt curable silicone composition of the present invention, and more preferably in the range of 0.1 to 500 ppm.

(E)シリカ
(E)成分のシリカとしては、例えば、ヒュームドシリカ、湿式シリカ、結晶性シリカ、沈降性シリカ等が挙げられる。また、シリカは、オルガノアルコキシシラン化合物、オルガノクロロシラン化合物、オルガノシラザン化合物、低分子量シロキサン化合物等の有機ケイ素化合物若しくはシランカップリング剤、チタネート系カップリング剤等で表面疎水化処理されていてもよい。
(E) Silica Examples of the silica of component (E) include fumed silica, wet silica, crystalline silica, precipitated silica, etc. In addition, the silica may be surface-hydrophobized with an organosilicon compound such as an organoalkoxysilane compound, an organochlorosilane compound, an organosilazane compound, or a low-molecular-weight siloxane compound, or a silane coupling agent, a titanate coupling agent, or the like.

(E)成分の配合量は、本発明の組成物の総質量に基づいて、好ましくは0.01質量%以上、より好ましくは0.1質量%以上、優先的には0.5質量%以上、特に1質量%以上の量で本発明のホットメルト性硬化性シリコーン組成物中に含まれ、好ましくは20質量%以下、より好ましくは15質量%以下、優先的には10質量%以下の量で本発明のホットメルト性硬化性シリコーン組成物中に含まれる。 The amount of component (E) contained in the hot-melt curable silicone composition of the present invention is preferably 0.01% by mass or more, more preferably 0.1% by mass or more, preferentially 0.5% by mass or more, and particularly 1% by mass or more, based on the total mass of the composition of the present invention, and is preferably 20% by mass or less, more preferably 15% by mass or less, and preferentially 10% by mass or less.

本発明のホットメルト性硬化性シリコーン組成物は、本発明の目的を損なわない範囲で任意成分を配合することができる。この任意成分としては、例えば、アセチレン化合物、有機リン化合物、ビニル基含有シロキサン化合物、ヒドロシリル化反応抑制剤;粉砕石英、酸化チタン、炭酸マグネシウム、酸化亜鉛、酸化鉄、ケイ藻土等の(E)シリカ以外の無機充填剤(「無機充填材」ともいう)、こうした無機充填剤の表面を有機ケイ素化合物により疎水処理してなる無機充填剤、ケイ素原子結合水素原子およびケイ素原子結合アルケニル基を含有しないオルガノポリシロキサン、接着性付与剤、耐熱性付与剤、耐寒性付与剤、熱伝導性充填剤、難燃性付与剤、チクソ性付与剤、蛍光体、カーボンブラック等の顔料および染料などの着色成分、溶剤等が挙げられる。 The hot-melt curable silicone composition of the present invention may contain optional components within the scope of the present invention. Examples of optional components include acetylene compounds, organic phosphorus compounds, vinyl group-containing siloxane compounds, hydrosilylation reaction inhibitors, inorganic fillers other than (E) silica such as crushed quartz, titanium oxide, magnesium carbonate, zinc oxide, iron oxide, and diatomaceous earth (also referred to as "inorganic fillers"); inorganic fillers obtained by subjecting the surface of such inorganic fillers to hydrophobic treatment with an organic silicon compound; organopolysiloxanes that do not contain silicon-bonded hydrogen atoms and silicon-bonded alkenyl groups; adhesive agents, heat resistance agents, cold resistance agents, thermally conductive fillers, flame retardant agents, thixotropic agents, fluorescent materials, pigments such as carbon black, and coloring components such as dyes; and solvents.

ヒドロシリル化反応抑制剤は、シリコーン組成物のヒドロシリル化反応を抑制するための成分であって、具体的には、例えば、1‐エチニル‐2‐シクロヘキサノールのようなアセチレン系、アミン系、カルボン酸エステル系、亜リン酸エステル系等の反応抑制剤が挙げられる。反応抑制剤の添加量は、通常、シリコーン組成物全体の0.001~5質量%である。 The hydrosilylation reaction inhibitor is a component for inhibiting the hydrosilylation reaction of the silicone composition. Specific examples include acetylene-based inhibitors such as 1-ethynyl-2-cyclohexanol, amine-based inhibitors, carboxylate-based inhibitors, and phosphite-based inhibitors. The amount of reaction inhibitor added is usually 0.001 to 5% by mass of the entire silicone composition.

(E)シリカ以外の無機充填剤としては、例えば、中空フィラー、シルセスキオキサン、ヒュームド二酸化チタン、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化鉄、水酸化アルミニウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸亜鉛、層状マイカ、ケイ藻土、ガラス繊維等の無機充填剤;これらの充填剤をオルガノアルコキシシラン化合物、オルガノクロロシラン化合物、オルガノシラザン化合物、低分子量シロキサン化合物等の有機ケイ素化合物で表面疎水化処理した充填剤等が挙げられる。また、シリコーンゴムパウダー、シリコーンレジンパウダー等を配合してもよい。但し、無機充填剤の配合量は、具体的には、シリコーン組成物の20質量%以下、特に10質量%以下の量であるのが好ましい。 (E) Examples of inorganic fillers other than silica include inorganic fillers such as hollow fillers, silsesquioxane, fumed titanium dioxide, magnesium oxide, zinc oxide, iron oxide, aluminum hydroxide, magnesium carbonate, calcium carbonate, zinc carbonate, layered mica, diatomaceous earth, and glass fibers; and fillers obtained by subjecting these fillers to a surface hydrophobic treatment with an organosilicon compound such as an organoalkoxysilane compound, an organochlorosilane compound, an organosilazane compound, or a low molecular weight siloxane compound. Silicone rubber powder, silicone resin powder, and the like may also be blended. However, the amount of inorganic filler blended is preferably 20% by mass or less, and particularly 10% by mass or less, of the silicone composition.

蛍光体としては、発光ダイオード(LED)に広く利用されている、酸化物系蛍光体、酸窒化物系蛍光体、窒化物系蛍光体、硫化物系蛍光体、酸硫化物系蛍光体、フッ化物系蛍光体等からなる黄色、赤色、緑色、青色発光蛍光体、およびこれらの少なくとも2種の混合物が例示される。酸化物系蛍光体としては、セリウムイオンを包含するイットリウム、アルミニウム、ガーネット系のYAG系緑色~黄色発光蛍光体、セリウムイオンを包含するテルビウム、アルミニウム、ガーネット系のTAG系黄色発光蛍光体、および、セリウムやユーロピウムイオンを包含するシリケート系緑色~黄色発光蛍光体が例示される。酸窒化物系蛍光体としては、ユーロピウムイオンを包含するケイ素、アルミニウム、酸素、窒素系のサイアロン系赤色~緑色発光蛍光体が例示される。窒化物系蛍光体としては、ユーロピウムイオンを包含するカルシウム、ストロンチウム、アルミニウム、ケイ素、窒素系のカズン系赤色発光蛍光体が例示される。硫化物系蛍光体としては、銅イオンやアルミニウムイオンを包含するZnS系緑色発色蛍光体が例示される。酸硫化物系蛍光体としては、ユーロピウムイオンを包含するYS系赤色発光蛍光体が例示される。フッ化物系蛍光体としては、KSF蛍光体(KSiF:Mn4+)などが挙げられる。 Examples of phosphors include yellow, red, green, and blue light-emitting phosphors made of oxide-based phosphors, oxynitride-based phosphors, nitride-based phosphors, sulfide-based phosphors, oxysulfide-based phosphors, fluoride-based phosphors, and the like, which are widely used in light-emitting diodes (LEDs), and mixtures of at least two of these. Examples of oxide-based phosphors include yttrium, aluminum, and garnet-based YAG-based green to yellow light-emitting phosphors containing cerium ions, terbium, aluminum, and garnet-based TAG-based yellow light-emitting phosphors containing cerium ions, and silicate-based green to yellow light-emitting phosphors containing cerium and europium ions. Examples of oxynitride-based phosphors include silicon, aluminum, oxygen, and nitrogen-based sialon-based red to green light-emitting phosphors containing europium ions. Examples of nitride-based phosphors include calcium, strontium, aluminum, silicon, and nitrogen-based Cazn-based red light-emitting phosphors containing europium ions. Examples of sulfide phosphors include ZnS-based green-emitting phosphors containing copper ions or aluminum ions. Examples of oxysulfide phosphors include Y2O2S - based red-emitting phosphors containing europium ions. Examples of fluoride phosphors include KSF phosphors ( K2SiF6 : Mn4 + ).

着色成分としては、有機または無機の顔料および染料を1種類単独または2種以上の組合せを用いることができる。蛍光体を用いる場合、配合量としては、シリコーン組成物の90質量%以下、好ましくは80質量%以下、特に好ましくは70質量%以下の量である。また、ディスプレイにおける、光の干渉防止やカラーコントラスト向上の観点から黒色顔料を用いることもできる。黒色顔料としては、たとえば、酸化鉄、アニリンブラック、活性炭、グラファイト、カーボンナノチューブ、カーボンブラック等を挙げることができる。着色成分の配合量は、具体的には、シリコーン組成物の30質量%以下、好ましくは15質量%以下、特に好ましくは5質量%以下の量である。 As the coloring component, organic or inorganic pigments and dyes can be used alone or in combination of two or more. When a phosphor is used, the amount is 90% by mass or less of the silicone composition, preferably 80% by mass or less, and particularly preferably 70% by mass or less. In addition, a black pigment can be used from the viewpoint of preventing light interference and improving color contrast in a display. Examples of black pigments include iron oxide, aniline black, activated carbon, graphite, carbon nanotubes, and carbon black. The amount of the coloring component is specifically 30% by mass or less of the silicone composition, preferably 15% by mass or less, and particularly preferably 5% by mass or less.

本発明のホットメルト性硬化性シリコーン組成物は、各成分を混合することにより調製できる。各成分の混合方法は、従来公知の方法でよく特に限定されないが、通常、単純な攪拌により均一な混合物となる。また、任意成分として無機充填剤等の固体成分を含む場合は、混合装置を用いた混合がより好ましい。こうした混合装置としては特に限定がなく、一軸または二軸の連続混合機、二本ロール、ロスミキサー、ホバートミキサー、デンタルミキサー、プラネタリミキサー、ニーダーミキサー、ヘンシェルミキサー等が例示される。 The hot-melt curable silicone composition of the present invention can be prepared by mixing the various components. The method for mixing the various components may be any conventional method known in the art and is not particularly limited, but usually a homogeneous mixture is obtained by simple stirring. Furthermore, when solid components such as inorganic fillers are included as optional components, mixing using a mixing device is more preferable. There are no particular limitations on such mixing devices, and examples include single- or double-screw continuous mixers, twin roll mixers, Ross mixers, Hobart mixers, dental mixers, planetary mixers, kneader mixers, and Henschel mixers.

本発明のホットメルト性硬化性シリコーン組成物は、フィルムまたはシート形状に成形した場合であっても、優れた機械特性、特に強度および伸びを示すことができる。そのため、本発明のホットメルト性硬化性シリコーン組成物は、取り扱い作業性に優れ、効率よく半導体パッケージを製造することができる、半導体パッケージを製造するための封止剤およびラミネーション用フィルムを形成できる。そのため、本発明のホットメルト性硬化性シリコーン組成物は、半導体パッケージを製造する際のシート状またはフィルム状封止剤およびラミネーション用フィルム用途に有用である。 The hot-melt curable silicone composition of the present invention can exhibit excellent mechanical properties, particularly strength and elongation, even when molded into a film or sheet shape. Therefore, the hot-melt curable silicone composition of the present invention can form a sealant and lamination film for manufacturing semiconductor packages that are easy to handle and can efficiently manufacture semiconductor packages. Therefore, the hot-melt curable silicone composition of the present invention is useful for sheet- or film-like sealants and lamination films when manufacturing semiconductor packages.

[封止剤、フィルム]
本発明は、本発明のホットメルト性硬化性シリコーン組成物を用いる半導体用の封止剤にも関する。本発明の封止剤の形状は、特に限定されないが、好ましくはフィルム状またはシート状である。そのため、本発明はまた、本発明のホットメルト性硬化性シリコーン組成物を固化して得られるフィルムにも関する。本発明のフィルムは、半導体素子を封止するためのフィルム状封止剤およびラミネーション用フィルムに好ましく用いられ得る。本発明の封止剤またはフィルムにより封止される半導体は特に限定されず、例えば、SiC、GaN等の半導体、特にパワー半導体または発光ダイオードなどの光半導体が挙げられる。
[Sealants, films]
The present invention also relates to a semiconductor sealant using the hot-melt curable silicone composition of the present invention. The shape of the sealant of the present invention is not particularly limited, but is preferably a film or sheet. Therefore, the present invention also relates to a film obtained by solidifying the hot-melt curable silicone composition of the present invention. The film of the present invention can be preferably used as a film sealant for sealing semiconductor elements and a film for lamination. The semiconductor sealed by the sealant or film of the present invention is not particularly limited, and examples thereof include semiconductors such as SiC and GaN, particularly optical semiconductors such as power semiconductors or light-emitting diodes.

本発明の封止剤またはフィルムによれば、フィルムまたはシート形状であっても優れた機械特性、特に強度および伸びを示すので、取り扱い作業性に優れるとともに、効率よく半導体パッケージを製造することができる。 The sealant or film of the present invention exhibits excellent mechanical properties, particularly strength and elongation, even in the form of a film or sheet, making it easy to handle and allowing semiconductor packages to be manufactured efficiently.

[光半導体素子]
本発明はまた、本発明の封止剤を含む光半導体素子にも関する。光半導体素子としては、発光ダイオード(LED)、半導体レーザ、フォトダイオード、フォトトランジスタ、固体撮像、フォトカプラー用発光体と受光体が例示され、特に、発光ダイオード(LED)であることが好ましい。
[Optical semiconductor element]
The present invention also relates to an optical semiconductor element comprising the encapsulant of the present invention. Examples of the optical semiconductor element include light-emitting diodes (LEDs), semiconductor lasers, photodiodes, phototransistors, solid-state imaging devices, and light emitters and photoreceivers for photocouplers, and light-emitting diodes (LEDs) are particularly preferred.

発光ダイオード(LED)は、光半導体素子の上下左右から発光が起きるので、発光ダイオード(LED)を構成する部品は、光を吸収するものは好ましくなく、光透過率が高いか、反射率の高い材料が好ましい。そのため、光半導体素子が搭載される基板も、光透過率が高いか、反射率の高い材料が好ましい。こうした光半導体素子が搭載される基板としては、例えば、銀、金、および銅等の導電性金属;アルミニウム、およびニッケル等の非導電性の金属;PPA、およびLCP等の白色顔料を混合した熱可塑性樹脂;エポキシ樹脂、BT樹脂、ポリイミド樹脂、およびシリコーン樹脂等の白色顔料を含有する熱硬化性樹脂;アルミナ、および窒化アルミナ等のセラミックスが例示される。 Since light-emitting diodes (LEDs) emit light from the top, bottom, left and right of the optical semiconductor element, it is preferable that the components that make up the light-emitting diode (LED) are not light-absorbing, and that they are made of materials with high light transmittance or high reflectance. Therefore, it is preferable that the substrate on which the optical semiconductor element is mounted is also made of materials with high light transmittance or high reflectance. Examples of substrates on which such optical semiconductor elements are mounted include conductive metals such as silver, gold, and copper; non-conductive metals such as aluminum and nickel; thermoplastic resins mixed with white pigments such as PPA and LCP; thermosetting resins containing white pigments such as epoxy resin, BT resin, polyimide resin, and silicone resin; and ceramics such as alumina and alumina nitride.

本発明の光半導体素子は、本発明の取り扱い作業性に優れるとともに、効率よく半導体パッケージを製造できる封止剤を含むので、信頼性に優れる。 The optical semiconductor element of the present invention is easy to handle and contains a sealant that allows for efficient production of semiconductor packages, making it highly reliable.

本発明のホットメルト性硬化性シリコーン組成物を以下の実施例および比較例により詳細に説明する。 The hot-melt curable silicone composition of the present invention will be described in more detail with reference to the following examples and comparative examples.

[実施例1~22および比較例1~5]
各成分を表1~4に示す組成(重量部)で混合し、ホットメルト性硬化性シリコーン組成物を調製した。なお、以下でMeはメチル基を表し、Viはビニル基を表し、Phはフェニル基を表し、Epは3-グリシドキシプロピル基を表す。
[Examples 1 to 22 and Comparative Examples 1 to 5]
Hot-melt curable silicone compositions were prepared by mixing the components in the amounts (parts by weight) shown in Tables 1 to 4. Note that below, Me represents a methyl group, Vi represents a vinyl group, Ph represents a phenyl group, and Ep represents a 3-glycidoxypropyl group.

成分a-1:平均単位式(ViMeSiO2/225(PhSiO2/230(PhSiO3/245で表されるレジン状アルケニル基含有オルガノポリシロキサン
成分a-2:平均単位式(ViMeSiO1/225(PhSiO3/275で表されるレジン状アルケニル基含有オルガノポリシロキサン
成分a-3:一般式(ViMeSiO1/2)(PhMeSiO2/220(ViMeSiO1/2)で表される、直鎖状アルケニル基含有オルガノポリシロキサン
成分a-4:一般式(ViMeSiO2/2で表される環状アルケニル基含有オルガノポリシロキサン
成分a-5:一般式(ViMeSiO1/2(PhSiO3/2)で表される、レジン状アルケニル基含有オルガノポリシロキサン
成分b-1:平均単位式(HMeSiO1/260(PhSiO3/240で表される、レジン状オルガノハイドロジェンポリシロキサン
成分b-2:一般式(HMeSiO1/2)(PhSiO2/2)(HMeSiO1/2)で表される、直鎖状オルガノハイドロジェンポリシロキサン
成分c-1:平均単位式(ViMeSiO1/225(PhSiO3/275(EpMeSiO2/240で表される、添加剤
成分c-2:構造式(MeSiO2/2)(ViMeSiO2/2)(EpSiO3/2)で表される、添加剤
成分c-3:平均単位式(EpMeSiO2/248(ViSiO3/221(PhSiO3/231で表される、添加剤
成分c-4:一般式(ViMeSiO1/2)(MeSiO2/2Si(OMe)で表される、添加剤
成分c-5:平均単位式(ViMeSiO1/215(MeSiO2/235(PhSiO3/250で表される、添加剤
成分d:白金濃度が4.0質量%である白金と1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサンの錯体
成分e:1‐エチニル‐2‐シクロヘキサノール(白金触媒抑制剤)
成分f:ヒュームドシリカ
成分g:カーボンブラック
Component a-1: resin-like alkenyl group-containing organopolysiloxane represented by the average unit formula (ViMeSiO 2/2 ) 25 (Ph 2 SiO 2/2 ) 30 (PhSiO 3/2 ) 45 Component a-2: resin-like alkenyl group-containing organopolysiloxane represented by the average unit formula (ViMe 2 SiO 1/2 ) 25 (PhSiO 3/2 ) 75 Component a-3: linear alkenyl group-containing organopolysiloxane represented by the general formula (ViMe 2 SiO 1/2 ) (PhMeSiO 2/2 ) 20 (ViMe 2 SiO 1/2 ) Component a-4: general formula (ViMeSiO 2/2 ) Component a-5: a resin-like alkenyl-containing organopolysiloxane represented by the general formula (ViMe 2 SiO 1/2 ) 3 (PhSiO 3/2 ); Component b-1: a resin-like organohydrogenpolysiloxane represented by the average unit formula (HMe 2 SiO 1/2 ) 60 (PhSiO 3/2 ) 40 ; Component b-2: a linear organohydrogenpolysiloxane represented by the general formula (HMe 2 SiO 1/2 ) (Ph 2 SiO 2/2 ) (HMe 2 SiO 1/2 ); Component c-1: an average unit formula (ViMe 2 SiO 1/2 ) 25 (PhSiO 3/2 ) 75 Component c-2: an additive represented by the structural formula (Me 2 SiO 2/2 ) (ViMeSiO 2/2 ) (EpSiO 3/2 ); Component c-3: an additive represented by the average unit formula (EpMeSiO 2/2 ) 48 (ViSiO 3/2 ) 21 (PhSiO 3/2 ) 31 ; Component c-4: an additive represented by the general formula (ViMe 2 SiO 1/2 ) (Me 2 SiO 2/2 ) 3 Si(OMe) 3 ; Component c-5: an additive represented by the average unit formula ( ViMe 2 SiO 1/2 ) 15 (Me 2 SiO 2/2 ) 35 (PhSiO 3/2 ) 50 Component d: A complex of platinum and 1,3-divinyl-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane having a platinum concentration of 4.0% by mass. Component e: 1-ethynyl-2-cyclohexanol (platinum catalyst inhibitor).
Component f: fumed silica Component g: carbon black

[評価]
JIS K 6251に基づいて、得られた実施例1~22および比較例1~5のホットメルト性硬化性シリコーン組成物の硬化物の引張強度(MPa)および破断伸び(%)を測定した。具体的には、実施例1~22および比較例1~5のホットメルト性硬化性シリコーン組成物を120℃で5~10分間加熱エージングし、ホットメルト性硬化物を得た。これらのホットメルト性硬化物は、100℃での溶融弾性率が粘弾性計(アントンパール社製MCR302)で測定して30~300Paであった。厚さ180μmのダンベル状3号形に準じた形状で試験片を作製した。この試験片を用いて、引張速度500mm/分で引張強度(MPa)および破断伸び(%)を計測した。結果を表1~4に示す。引張強度が1MPa以上であり、破断伸びが200%以上であるものが、封止剤フィルムまたはラミネートフィルムとして優れた取り扱い作業性を有していると言える。
[evaluation]
The tensile strength (MPa) and breaking elongation (%) of the cured products of the hot-melt curable silicone compositions of Examples 1 to 22 and Comparative Examples 1 to 5 were measured based on JIS K 6251. Specifically, the hot-melt curable silicone compositions of Examples 1 to 22 and Comparative Examples 1 to 5 were heat-aged at 120°C for 5 to 10 minutes to obtain hot-melt cured products. The melt elastic modulus of these hot-melt cured products at 100°C was 30 to 300 Pa as measured by a viscoelastic meter (MCR302 manufactured by Anton Paar). A test piece was prepared in a shape similar to a dumbbell-shaped No. 3 with a thickness of 180 μm. The tensile strength (MPa) and breaking elongation (%) were measured using this test piece at a pulling speed of 500 mm/min. The results are shown in Tables 1 to 4. It can be said that a film having a tensile strength of 1 MPa or more and a breaking elongation of 200% or more has excellent handling and workability as a sealant film or a laminate film.

Figure 0007562201000001
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本発明のホットメルト性硬化性シリコーン組成物は、優れた取り扱い作業性を有するフィルムまたはシートを形成できるので、半導体パッケージを製造する際のシート状またはフィルム状封止剤およびラミネーション用フィルム用途に有用である。 The hot-melt curable silicone composition of the present invention can be formed into a film or sheet that has excellent handling and workability, making it useful for use as a sheet- or film-like sealant and lamination film in the manufacture of semiconductor packages.

Claims (7)

(A)一分子中にアルケニル基を少なくとも2個有するアルケニル基含有オルガノポリシロキサンであって、アルケニル基及び少なくとも1つの(ArSiO2/2)単位(式中、Arはアリール基を意味する)を含み、成分(A)の分子構造中のシロキサン単位の総量に対する(Ar SiO 2/2 )単位の割合が0.05以上0.5以下であるレジン状オルガノポリシロキサンを含む、アルケニル基含有オルガノポリシロキサン、
(B)組成物の総質量に対して0.1~5質量%の、一分子中にケイ素原子結合水素原子を少なくとも2個有するレジン状オルガノハイドロジェンポリシロキサン、
(B’)一分子中にケイ素原子結合水素原子を少なくとも2個有する直鎖状のオルガノハイドロジェンポリシロキサン、
(C)平均単位式(C-1):
(R SiO1/2)(R SiO2/2)(RSiO3/2)
(式中、Rは同じかまたは異なる、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アラルキル基、もしくはエポキシ基含有有機基または、アルコキシ基であり、ただし、少なくとも1つのRはアルケニル基であり、且つ、少なくとも1つのRはエポキシ基含有有機基であり、a、b、およびcは、それぞれ、0≦a≦1.0、0≦b≦1.0、0≦c<0.9、且つa+b+c=1を満たす数である。)
で表される添加剤、および
(D)ヒドロシリル化反応用触媒、および
(E)組成物の総質量に対して20質量%以下の、シリカ
を含み、
(E)シリカ以外の無機充填剤の配合量が、組成物の総質量に対して20質量%以下である
無溶剤系ホットメルト性硬化性シリコーン組成物。
(A) an alkenyl-containing organopolysiloxane having at least two alkenyl groups in one molecule, the alkenyl-containing organopolysiloxane including a resin-like organopolysiloxane that contains an alkenyl group and at least one (Ar 2 SiO 2/2 ) unit (wherein Ar represents an aryl group), and in which the ratio of the (Ar 2 SiO 2/2 ) unit to the total amount of siloxane units in the molecular structure of component (A) is 0.05 or more and 0.5 or less ;
(B) 0.1 to 5 mass %, based on the total mass of the composition, of a resin-like organohydrogenpolysiloxane having at least two silicon-bonded hydrogen atoms in each molecule;
(B') a linear organohydrogenpolysiloxane having at least two silicon-bonded hydrogen atoms in each molecule;
(C) Average unit formula (C-1):
(R 1 3 SiO 1/2 ) a (R 1 2 SiO 2/2 ) b (R 1 SiO 3/2 ) c
(In the formula, R 1 's are the same or different and are an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, an aralkyl group, an epoxy group-containing organic group, or an alkoxy group, with the proviso that at least one R 1 is an alkenyl group and at least one R 1 is an epoxy group-containing organic group, and a, b, and c are numbers that satisfy 0≦a≦1.0, 0≦b≦1.0, 0≦c<0.9, and a+b+c=1.)
(D) a hydrosilylation reaction catalyst; and (E) silica in an amount of 20% by mass or less based on the total mass of the composition,
(E) the amount of inorganic fillers other than silica is 20% by mass or less based on the total mass of the composition ;
A solvent-free hot-melt curable silicone composition.
(A)成分が、アルケニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサンをさらに含む、請求項1に記載のホットメルト性硬化性シリコーン組成物。 The hot-melt curable silicone composition according to claim 1, wherein component (A) further comprises an alkenyl-group-containing linear organopolysiloxane. (B)成分が、(B-1)平均単位式:
(R SiO1/2(R SiO2/2(RSiO3/2(SiO4/2(XO1/2
(式中、Rは同じかまたは異なる水素原子又はハロゲン置換または非置換の一価炭化水素基であり、ただし、少なくとも2つのRは水素原子であり、Xは水素原子またはアルキル基であり、a、b、c、d、およびeは、0≦a≦1.0、0≦b≦1.0、0≦c<0.9、0≦d<0.5、0≦e<0.4であり、a+b+c+d=1.0であり、かつc+d>0を満たす数である。)で表される、請求項1又は2に記載のホットメルト性硬化性シリコーン組成物。
The component (B) has the average unit formula (B-1):
(R 3 3 SiO 1/2 ) a (R 3 2 SiO 2/2 ) b (R 3 SiO 3/2 ) c (SiO 4/2 ) d (XO 1/2 ) e
3. The hot-melt curable silicone composition according to claim 1, represented by the formula: (wherein R3 's are the same or different hydrogen atoms or halogen-substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon groups, with the proviso that at least two R3 's are hydrogen atoms, X is a hydrogen atom or an alkyl group, and a, b, c, d, and e are numbers that satisfy 0≦a≦1.0, 0≦b≦1.0, 0≦c<0.9, 0≦d<0.5, 0≦e<0.4, a+b+c+d=1.0, and c+d>0).
(A)成分として環状のオルガノポリシロキサンを含む、請求項1~3のいずれか一項に記載の硬化性シリコーン組成物。 The curable silicone composition according to any one of claims 1 to 3, comprising a cyclic organopolysiloxane as component (A). 請求項1~4のいずれか1項に記載のホットメルト性硬化性シリコーン組成物を固化してなるフィルム。 A film obtained by solidifying the hot-melt curable silicone composition according to any one of claims 1 to 4. 請求項1~4のいずれか1項に記載のホットメルト性硬化性シリコーン組成物からなる封止剤。 A sealant comprising the hot-melt curable silicone composition according to any one of claims 1 to 4. 請求項6の封止剤を含む光半導体素子。 An optical semiconductor element containing the encapsulant of claim 6.
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