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JP7563019B2 - Coverslips - Google Patents
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Description

本発明は、アンチグレア機能を有するカバーガラスに関する。 The present invention relates to a cover glass with anti-glare function.

カバーガラスは、携帯電話機、タブレット端末、テレビ等のディスプレイに広く用いられている。このようなディスプレイの視認性は、外光の映り込みなどにより低下することがある。ディスプレイの映り込みを低減し、視認性を向上させる方法として、表面に凹凸構造を有するアンチグレア層を設ける方法が知られている。さらに、防眩効果とコントラストを向上させる方法として、反射防止膜を設ける方法が知られている。 Cover glass is widely used in displays for mobile phones, tablet devices, televisions, etc. The visibility of such displays can be reduced due to reflections of external light, etc. A method for reducing reflections on displays and improving visibility is known to provide an anti-glare layer with an uneven surface structure. Furthermore, a method for improving anti-glare effects and contrast is known to provide an anti-reflection film.

例えば、下記の特許文献1には、透明基体の表面に凹凸形状を形成することにより、防眩加工を施す方法や、低反射膜を設ける方法が開示されている。低反射膜としては、高屈折率層と低屈折率層とを積層した積層体が記載されている。 For example, the following Patent Document 1 discloses a method of forming an uneven shape on the surface of a transparent substrate to provide an anti-glare treatment and a method of providing a low-reflection film. The low-reflection film described is a laminate in which a high-refractive index layer and a low-refractive index layer are laminated together.

特許第5839134号公報Patent No. 5839134

近年、スマートフォンやデジタルサイネージ等のディスプレイにおいては、外光の映り込みをさらに一層低減させ、視認性をさらに一層向上させることが求められている。しかしながら、特許文献1のカバーガラスにおいても、外光の映り込みを十分には低減することはできず、視認性をなお十分に向上させることができないという問題がある。 In recent years, there has been a demand for displays such as smartphones and digital signage to further reduce the reflection of external light and to further improve visibility. However, even the cover glass of Patent Document 1 cannot sufficiently reduce the reflection of external light, and there is a problem in that it is still not possible to sufficiently improve visibility.

本発明の目的は、視認性を効果的に向上させることができる、カバーガラスを提供することにある。 The object of the present invention is to provide a cover glass that can effectively improve visibility.

本願の第1の発明に係るカバーガラスは、ガラス基板と、前記ガラス基板上に設けられている、凹凸構造を有するアンチグレア層と、前記アンチグレア層上に設けられている、反射防止膜と、を備え、前記反射防止膜側から光を入射させたときに、正反射光の視感反射率が、反射散乱光の視感反射率よりも小さいことを特徴とする。 The cover glass according to the first invention of the present application comprises a glass substrate, an anti-glare layer having a concave-convex structure provided on the glass substrate, and an anti-reflection film provided on the anti-glare layer, and is characterized in that when light is incident from the anti-reflection film side, the luminous reflectance of the regular reflected light is smaller than the luminous reflectance of the reflected scattered light.

本願の第2の発明に係るカバーガラスは、ガラス基板と、前記ガラス基板上に設けられている、アンチグレア層と、前記アンチグレア層上に設けられている、反射防止膜と、を備え、前記ガラス基板と前記アンチグレア層との組成が異なっていることを特徴とする。 The cover glass according to the second invention of the present application comprises a glass substrate, an anti-glare layer provided on the glass substrate, and an anti-reflection film provided on the anti-glare layer, and is characterized in that the glass substrate and the anti-glare layer have different compositions.

以下、第1の発明と第2の発明を総称して、本発明と称する場合があるものとする。 Hereinafter, the first and second inventions may be collectively referred to as the present invention.

本発明においては、前記ガラス基板の屈折率と前記アンチグレア層の屈折率との差の絶対値が、0.02以上であることが好ましい。 In the present invention, it is preferable that the absolute value of the difference between the refractive index of the glass substrate and the refractive index of the anti-glare layer is 0.02 or more.

本発明においては、前記アンチグレア層が、平坦部及び非平坦部を有することが好ましい。 In the present invention, it is preferable that the anti-glare layer has flat and non-flat portions.

本発明においては、前記平坦部の厚みが、5nm以上、500nm以下であることが好ましい。 In the present invention, it is preferable that the thickness of the flat portion is 5 nm or more and 500 nm or less.

本発明においては、前記ガラス基板上に前記アンチグレア層の平坦部及び前記反射防止膜がこの順に設けられてなる第1の積層体の構造による反射光の視感反射率が、前記アンチグレア層の非平坦部上に前記反射防止膜が設けられてなる第2の積層体の構造による視感反射率よりも小さいことが好ましい。 In the present invention, it is preferable that the luminous reflectance of reflected light from a first laminate structure in which the flat portion of the anti-glare layer and the anti-reflection film are provided in this order on the glass substrate is smaller than the luminous reflectance of a second laminate structure in which the anti-reflection film is provided on the non-flat portion of the anti-glare layer.

本発明においては、前記ガラス基板と前記アンチグレア層との間に、前記ガラス基板とは屈折率が異なっている、光学調整層が設けられていることが好ましい。 In the present invention, it is preferable that an optical adjustment layer having a refractive index different from that of the glass substrate is provided between the glass substrate and the anti-glare layer.

本発明においては、前記光学調整層の屈折率と前記アンチグレア層の屈折率との差の絶対値が、0.2以上であることが好ましい。 In the present invention, it is preferable that the absolute value of the difference between the refractive index of the optical adjustment layer and the refractive index of the anti-glare layer is 0.2 or more.

本発明によれば、視認性を効果的に向上させることができる、カバーガラスを提供することができる。 The present invention provides a cover glass that can effectively improve visibility.

本発明の第1の実施形態に係るカバーガラスを示す模式的断面図である。1 is a schematic cross-sectional view showing a cover glass according to a first embodiment of the present invention. (a)及び(b)は、正反射光の視感反射率の測定方法を説明するための模式的断面図である。5A and 5B are schematic cross-sectional views for explaining a method for measuring the luminous reflectance of specularly reflected light. (a)及び(b)は、反射散乱光の視感反射率の測定方法を説明するための模式的断面図である。5A and 5B are schematic cross-sectional views for explaining a method for measuring the luminous reflectance of reflected scattered light. ガラス基板上にアンチグレア層の平坦部及び反射防止膜がこの順に積層されてなる第1の積層体を説明するための模式的断面図である。1 is a schematic cross-sectional view illustrating a first laminate in which a flat portion of an anti-glare layer and an anti-reflection film are laminated in this order on a glass substrate. FIG. アンチグレア層上の非平坦部に反射防止膜が積層されてなる第2の積層体を説明するための模式的断面図である。4 is a schematic cross-sectional view illustrating a second laminate formed by laminating an anti-reflection film on a non-flat portion on an anti-glare layer. FIG. 本発明の第2の実施形態に係るカバーガラスを示す模式的断面図である。FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing a cover glass according to a second embodiment of the present invention. ガラス基板上に、光学調整層、アンチグレア層、及び反射防止膜がこの順に積層されてなる第3の積層体を説明するための模式的断面図である。11 is a schematic cross-sectional view illustrating a third laminate in which an optical adjustment layer, an anti-glare layer, and an anti-reflection film are laminated in this order on a glass substrate. FIG.

以下、好ましい実施形態について説明する。但し、以下の実施形態は単なる例示であり、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。また、各図面において、実質的に同一の機能を有する部材は同一の符号で参照する場合がある。なお、以下の図面において、Aは入射光であり、Bは正反射光であり、Cは反射散乱光である。 The following describes preferred embodiments. However, the following embodiments are merely examples, and the present invention is not limited to the following embodiments. In addition, in each drawing, components having substantially the same function may be referred to by the same reference numerals. In the following drawings, A is incident light, B is specularly reflected light, and C is reflected scattered light.

(第1の実施形態)
図1は、本発明の第1の実施形態に係るカバーガラスを示す模式的断面図である。図1に示すように、カバーガラス1は、ガラス基板2と、アンチグレア層3と、反射防止膜4とを備える。ガラス基板2の上に、アンチグレア層3が設けられている。また、アンチグレア層3の上に、反射防止膜4が設けられている。
First Embodiment
Fig. 1 is a schematic cross-sectional view showing a cover glass according to a first embodiment of the present invention. As shown in Fig. 1, the cover glass 1 includes a glass substrate 2, an anti-glare layer 3, and an anti-reflection film 4. The anti-glare layer 3 is provided on the glass substrate 2. In addition, the anti-reflection film 4 is provided on the anti-glare layer 3.

本実施形態において、ガラス基板2は、略矩形板状の形状を有する。もっとも、ガラス基板2は、例えば、略円板状等の形状を有していてもよく、その形状は特に限定されない。 In this embodiment, the glass substrate 2 has a substantially rectangular plate shape. However, the glass substrate 2 may have a shape such as a substantially circular plate shape, and the shape is not particularly limited.

ガラス基板2の厚みは、特に限定されず、光透過率などに応じて適宜設定することができる。ガラス基板2の厚みは、例えば、0.1mm~3mm程度とすることができる。 The thickness of the glass substrate 2 is not particularly limited and can be set appropriately depending on factors such as light transmittance. The thickness of the glass substrate 2 can be, for example, about 0.1 mm to 3 mm.

ガラス基板2に用いられるガラスとしては、特に限定されず、例えば、ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラス、アルミノシリケートガラス、化学強化ガラス等を用いることができる。 The glass used for the glass substrate 2 is not particularly limited, and examples that can be used include borosilicate glass, alkali-free glass, aluminosilicate glass, and chemically strengthened glass.

また、ガラス基板2は、第1の主面2a及び第2の主面2bを有する。第1の主面2a及び第2の主面2bは、対向し合っている。ガラス基板2の第1の主面2a上に、アンチグレア層3が設けられている。また、アンチグレア層3は、凹凸構造を有する。アンチグレア層3は、外光の映り込み等を抑制する、いわゆる防眩効果を付与するために設けられている。 The glass substrate 2 has a first main surface 2a and a second main surface 2b. The first main surface 2a and the second main surface 2b face each other. An anti-glare layer 3 is provided on the first main surface 2a of the glass substrate 2. The anti-glare layer 3 has an uneven structure. The anti-glare layer 3 is provided to provide a so-called anti-glare effect, which suppresses reflection of external light, etc.

本実施形態において、アンチグレア層3は、無機膜である。このようなアンチグレア層3は、ガラス基板2上に、無機塗料を塗布し、乾燥させることにより形成することができる。本実施形態において、アンチグレア層3は、無機塗料をスプレーコート法によって塗布し、乾燥させることにより形成されている。なお、無機塗料の塗布方法は、スプレーコート法に限定されず、他の塗布方法により塗布してもよい。 In this embodiment, the anti-glare layer 3 is an inorganic film. Such an anti-glare layer 3 can be formed by applying an inorganic paint to the glass substrate 2 and drying it. In this embodiment, the anti-glare layer 3 is formed by applying the inorganic paint by a spray coating method and drying it. Note that the method of applying the inorganic paint is not limited to the spray coating method, and other application methods may be used.

本実施形態において、無機塗料は、シリカ前駆体により構成されている。もっとも、無機塗料は、例えば、アルミナ前駆体、ジルコニア前駆体、チタニア前駆体等により構成されていてもよい。これらの前駆体は、1種を単独で用いてもよく、複数種を併用してもよい。また、無機塗料の溶媒としては、例えば、水、アルコール等を用いることができる。 In this embodiment, the inorganic paint is composed of a silica precursor. However, the inorganic paint may be composed of, for example, an alumina precursor, a zirconia precursor, a titania precursor, or the like. These precursors may be used alone or in combination. In addition, the solvent for the inorganic paint may be, for example, water, alcohol, or the like.

シリカ前駆体としては、テトラエトキシシラン、テトラメトキシシラン等のアルコキシシラン、アルコキシシランの加水分解縮合物(ゾルゲルシリカ)、シラザン等が挙げられる。防眩効果をより一層高める観点からは、テトラエトキシシラン、テトラメトキシシラン等のアルコキシシラン、それらの加水分解縮合物であることが好ましく、テトラエトキシシランの加水分解縮合物であることがより好ましい。 Examples of silica precursors include alkoxysilanes such as tetraethoxysilane and tetramethoxysilane, hydrolysis condensates of alkoxysilanes (sol-gel silica), and silazanes. From the viewpoint of further enhancing the anti-glare effect, alkoxysilanes such as tetraethoxysilane and tetramethoxysilane, and hydrolysis condensates thereof are preferred, and a hydrolysis condensate of tetraethoxysilane is more preferred.

アルミナ前駆体としては、アルミニウムアルコキシド、アルミニウムアルコキシドの加水分解縮合物、水溶性アルミニウム塩、アルミニウムキレート等が挙げられる。 Alumina precursors include aluminum alkoxides, hydrolysis condensates of aluminum alkoxides, water-soluble aluminum salts, aluminum chelates, etc.

ジルコニア前駆体としては、ジルコニウムアルコキシド、ジルコニウムアルコキシドの加水分解縮合物等が挙げられる。 Examples of zirconia precursors include zirconium alkoxides and hydrolysis condensates of zirconium alkoxides.

チタニア前駆体としては、チタンアルコキシド、チタンアルコキシドの加水分解縮合物等が挙げられる。 Titania precursors include titanium alkoxides and hydrolysis condensates of titanium alkoxides.

また、無機塗料は、無機粒子を含んでいてもよい。無機粒子としては、例えば、シリカ粒子、アルミナ粒子、ジルコニア粒子、チタニア粒子、ハフニア粒子、イットリア粒子等が挙げられる。 The inorganic coating may also contain inorganic particles. Examples of inorganic particles include silica particles, alumina particles, zirconia particles, titania particles, hafnia particles, and yttria particles.

アンチグレア層3の平均厚みは、特に限定されない。もっとも、防眩効果をより一層高める観点からは、アンチグレア層3の平均厚みは、0.1μm以上、2μm以下であることが好ましく、0.15μm以上、1.75μm以下であることがより好ましく、0.2μm以上、1μm以下であることがさらに好ましい。 The average thickness of the anti-glare layer 3 is not particularly limited. However, from the viewpoint of further enhancing the anti-glare effect, the average thickness of the anti-glare layer 3 is preferably 0.1 μm or more and 2 μm or less, more preferably 0.15 μm or more and 1.75 μm or less, and even more preferably 0.2 μm or more and 1 μm or less.

反射防止膜4は、誘電体多層膜であることが好ましい。この場合、ディスプレイ等における画像鮮明度をより一層向上させることができる。本実施形態において、反射防止膜4は、相対的に屈折率が高い高屈折率膜5と、相対的に屈折率が低い低屈折率膜6とが、この順に交互に積層された誘電体多層膜である。なお、反射防止膜4は、相対的に屈折率が低い低屈折率膜6と、相対的に屈折率が高い高屈折率膜5とが、この順に交互に積層された誘電体多層膜であってもよい。 The anti-reflection film 4 is preferably a dielectric multilayer film. In this case, the image clarity on a display or the like can be further improved. In this embodiment, the anti-reflection film 4 is a dielectric multilayer film in which a high refractive index film 5 with a relatively high refractive index and a low refractive index film 6 with a relatively low refractive index are alternately laminated in this order. The anti-reflection film 4 may also be a dielectric multilayer film in which a low refractive index film 6 with a relatively low refractive index and a high refractive index film 5 with a relatively high refractive index are alternately laminated in this order.

高屈折率膜5の材料としては、例えば、本実施形態のような酸化ニオブ、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム、酸化タンタル、窒化ケイ素、酸化アルミニウム、窒化アルミニウムが挙げられる。 Examples of materials for the high refractive index film 5 include niobium oxide, titanium oxide, zirconium oxide, hafnium oxide, tantalum oxide, silicon nitride, aluminum oxide, and aluminum nitride, as in this embodiment.

低屈折率膜6の材料としては、例えば、酸化ケイ素や、酸化アルミニウム等が挙げられる。 Examples of materials for the low refractive index film 6 include silicon oxide and aluminum oxide.

反射防止膜4を構成する各層の厚みは、1nm以上、500nm以下であることが好ましく、2nm以上、300nm以下であることがより好ましく、5nm以上、200nm以下であることがさらに好ましい。 The thickness of each layer constituting the anti-reflection film 4 is preferably 1 nm or more and 500 nm or less, more preferably 2 nm or more and 300 nm or less, and even more preferably 5 nm or more and 200 nm or less.

反射防止膜4を構成する層の総数は、2層以上、7層以下であることが好ましい。このような範囲内にすることにより、効果的で、かつ簡易に形成可能な膜にすることができる。 The total number of layers constituting the anti-reflective coating 4 is preferably 2 to 7 inclusive. By keeping it within this range, it is possible to produce an effective and easily formed film.

反射防止膜4の全体の厚みは、50nm以上、1000nm以下であることが好ましく、75nm以上、750nm以下であることがより好ましく、100nm以上、500nm以下であることがさらに好ましい。 The total thickness of the anti-reflection film 4 is preferably 50 nm or more and 1000 nm or less, more preferably 75 nm or more and 750 nm or less, and even more preferably 100 nm or more and 500 nm or less.

反射防止膜4は、例えば、スパッタリング法、CVD法、又は真空蒸着法等により形成することができる。 The anti-reflective coating 4 can be formed, for example, by a sputtering method, a CVD method, or a vacuum deposition method.

本実施形態のカバーガラス1では、反射防止膜4側から入射光Aを入射させたときに、正反射光Bの視感反射率が、反射散乱光Cの視感反射率よりも小さい。このため、カバーガラス1では、外光の映り込みを効果的に抑制することができ、ディスプレイ等における視認性を効果的に向上させることができる。以下、図2及び図3を参照しつつ、カバーガラス1における正反射光Bの視感反射率及び反射散乱光Cの視感反射率の測定方法を説明する。 In the cover glass 1 of this embodiment, when incident light A is incident from the anti-reflection film 4 side, the luminous reflectance of the specularly reflected light B is smaller than the luminous reflectance of the reflected scattered light C. Therefore, the cover glass 1 can effectively suppress the reflection of external light, and can effectively improve visibility in displays, etc. Below, a method for measuring the luminous reflectance of the specularly reflected light B and the luminous reflectance of the reflected scattered light C in the cover glass 1 will be described with reference to Figures 2 and 3.

図2(a)及び(b)は、正反射光の視感反射率の測定方法を説明するための模式的断面図である。まず、図2(a)に示すカバーガラス1における正反射光Bの反射光強度X1を測定する。なお、正反射光Bの反射光強度X1を測定する際には、カバーガラス1の裏面反射が測定に影響しないように裏面反射を抑制する処理を行う。次に、図2(b)に示すように、カバーガラス1の反射防止膜4の上面にアルミニウム膜8(膜厚約300nm)を形成した状態で、正反射光Bの反射光強度Y1を測定する。そして、これらの反射光強度の比X1/Y1から正反射光Bの反射スペクトルを測定することができる。なお、正反射光Bの反射光強度X1,Y1は、例えば、分光光度計により、入射光の入射角は8°、受光する反射光の角度は8°、測定波長は380nm~800nm、測定波長間隔は1nmとして、測定することができる。そして、測定された反射スペクトルから、JIS Z8722:2009に準拠し、D65光源に対する正反射光Bの視感反射率を求めることができる。 2(a) and (b) are schematic cross-sectional views for explaining a method for measuring the luminous reflectance of specular light. First, the reflected light intensity X1 of the specularly reflected light B in the cover glass 1 shown in FIG. 2(a) is measured. When measuring the reflected light intensity X1 of the specularly reflected light B, a process is performed to suppress the back surface reflection of the cover glass 1 so that the back surface reflection does not affect the measurement. Next, as shown in FIG. 2(b), the reflected light intensity Y1 of the specularly reflected light B is measured in a state in which an aluminum film 8 (thickness: about 300 nm) is formed on the upper surface of the anti-reflection film 4 of the cover glass 1. Then, the reflection spectrum of the specularly reflected light B can be measured from the ratio X1/Y1 of these reflected light intensities. The reflected light intensities X1 and Y1 of the specularly reflected light B can be measured, for example, by a spectrophotometer with an incident angle of the incident light of 8°, an angle of the reflected light received of 8°, a measurement wavelength of 380 nm to 800 nm, and a measurement wavelength interval of 1 nm. From the measured reflection spectrum, the luminous reflectance of specularly reflected light B for a D65 light source can be calculated in accordance with JIS Z8722:2009.

図3(a)及び(b)は、反射散乱光の視感反射率の測定方法を説明するための模式的断面図である。まず、図3(a)に示すカバーガラス1における反射散乱光Cの反射光強度X2を測定する。なお、反射散乱光Cの反射光強度X2を測定する際には、カバーガラス1の裏面反射が測定に影響しないように裏面反射を抑制する処理を行う。次に、図3(b)に示すように、カバーガラス1の反射防止膜4の上面にアルミニウム膜8を形成した状態で、反射散乱光Cの反射光強度Y2を測定する。そして、これらの反射光強度の比X2/Y2から反射散乱光Cの反射スペクトルを測定することができる。なお、反射散乱光Cの反射光強度X2,Y2は、例えば、分光光度計により、入射光の入射角は8°、受光する反射光の角度は11°、測定波長は380nm~800nm、測定波長間隔は1nmとして、測定することができる。そして、測定された反射スペクトルから、JIS Z8722:2009に準拠し、D65光源に対する反射散乱光Cの視感反射率を求めることができる。 Figures 3(a) and (b) are schematic cross-sectional views for explaining a method for measuring the visual reflectance of reflected scattered light. First, the reflected light intensity X2 of the reflected scattered light C in the cover glass 1 shown in Figure 3(a) is measured. When measuring the reflected light intensity X2 of the reflected scattered light C, a process is performed to suppress the back surface reflection of the cover glass 1 so that the back surface reflection does not affect the measurement. Next, as shown in Figure 3(b), the reflected light intensity Y2 of the reflected scattered light C is measured in a state in which an aluminum film 8 is formed on the upper surface of the anti-reflection film 4 of the cover glass 1. Then, the reflection spectrum of the reflected scattered light C can be measured from the ratio X2/Y2 of these reflected light intensities. The reflected light intensities X2 and Y2 of the reflected scattered light C can be measured, for example, by a spectrophotometer with the incident angle of the incident light being 8°, the angle of the received reflected light being 11°, the measurement wavelength being 380 nm to 800 nm, and the measurement wavelength interval being 1 nm. From the measured reflectance spectrum, the luminous reflectance of reflected scattered light C for a D65 light source can be calculated in accordance with JIS Z8722:2009.

従来、ガラス基板上に、アンチグレア層や、反射防止膜を設けた場合、各界面で反射が生じ、その反射特性は複雑なものとなっていた。これに対して、本発明者は、正反射光B及び反射散乱光Cの反射スペクトルに着目し、正反射光Bの視感反射率を反射散乱光Cの視感反射率よりも小さくすることにより、外光の映り込みを効果的に抑制することができ、視認性を効果的に向上できることを見出した。 Conventionally, when an anti-glare layer or anti-reflection film is provided on a glass substrate, reflection occurs at each interface, resulting in complex reflection characteristics. In response to this, the inventors have focused on the reflection spectrum of specularly reflected light B and reflected scattered light C, and discovered that by making the visual reflectance of specularly reflected light B smaller than the visual reflectance of reflected scattered light C, it is possible to effectively suppress the glare of external light and effectively improve visibility.

また、本発明者は、正反射光Bの反射スペクトルが図4に示す第1の積層体10、すなわちガラス基板2上にアンチグレア層3の平坦部及び反射防止膜4がこの順に積層されてなる積層体の構造によって生じることを見出した。また、反射散乱光Cの反射スペクトルが図5に示す第2の積層体11、すなわちアンチグレア層3の非平坦部上に反射防止膜4が積層されてなる積層体の構造によって生じることを見出した。 The inventors also discovered that the reflection spectrum of the regular reflection light B is generated by the structure of the first laminate 10 shown in FIG. 4, that is, the laminate structure in which the flat portion of the anti-glare layer 3 and the anti-reflection film 4 are laminated in this order on the glass substrate 2. The inventors also discovered that the reflection spectrum of the reflected scattered light C is generated by the structure of the second laminate 11 shown in FIG. 5, that is, the laminate structure in which the anti-reflection film 4 is laminated on the non-flat portion of the anti-glare layer 3.

従って、正反射光Bの視感反射率は、ガラス基板2上にアンチグレア層3の平坦部及び反射防止膜4がこの順に積層されてなる第1の積層体10の構造による反射光の視感反射率により求めることができる。また、反射散乱光Cの視感反射率は、アンチグレア層3の非平坦部上に反射防止膜4が積層されてなる第2の積層体11の構造による視感反射率により求めることができる。 Therefore, the luminous reflectance of the regular reflected light B can be determined from the luminous reflectance of the reflected light due to the structure of the first laminate 10 in which the flat portion of the anti-glare layer 3 and the anti-reflection film 4 are laminated in this order on the glass substrate 2. The luminous reflectance of the reflected scattered light C can be determined from the luminous reflectance due to the structure of the second laminate 11 in which the anti-reflection film 4 is laminated on the non-flat portion of the anti-glare layer 3.

よって、ガラス基板2上にアンチグレア層3の平坦部及び反射防止膜4がこの順に積層されてなる第1の積層体10の設計により、正反射光Bの視感反射率を調整することができる。正反射光Bの視感反射率は、各層の屈折率、特に各層を構成する材料、各層の厚み等により調整することができる。 Therefore, the luminous reflectance of the specularly reflected light B can be adjusted by designing the first laminate 10, which is formed by laminating the flat portion of the anti-glare layer 3 and the anti-reflection film 4 in this order on the glass substrate 2. The luminous reflectance of the specularly reflected light B can be adjusted by the refractive index of each layer, in particular the material constituting each layer, the thickness of each layer, etc.

また、アンチグレア層3の非平坦部上に反射防止膜4が積層されてなる第2の積層体11の設計により、反射散乱光Cの視感反射率を調整することができる。反射散乱光Cの視感反射率は、各層の屈折率、特に各層を構成する材料、各層の厚み等により調整することができる。 The luminous reflectance of the reflected scattered light C can be adjusted by designing the second laminate 11, which is formed by laminating the anti-reflection film 4 on the non-flat portion of the anti-glare layer 3. The luminous reflectance of the reflected scattered light C can be adjusted by the refractive index of each layer, particularly the material constituting each layer, the thickness of each layer, etc.

第1の積層体10における視感反射率ができる限り低くなるように、反射防止膜4の厚み、特に高屈折率膜5及び低屈折率膜6の厚みや材料を設計することにより、正反射光Bの視感反射率を反射散乱光Cの視感反射率よりも小さくすることができる。 By designing the thickness of the anti-reflection film 4, and in particular the thickness and material of the high refractive index film 5 and low refractive index film 6, so that the visual reflectance of the first laminate 10 is as low as possible, the visual reflectance of the regular reflected light B can be made smaller than the visual reflectance of the reflected scattered light C.

本実施形態のカバーガラス1では、反射散乱光Cの視感反射率と正反射光Bの視感反射率との差は、好ましくは0.01%以上であり、より好ましくは0.05%以上である。この場合、外光の映り込みをより効果的に抑制することができ、視認性をより効果的に向上することができる。なお、反射散乱光Cの視感反射率と正反射光Bの視感反射率との差の上限値は、例えば、1%とすることができる。 In the cover glass 1 of this embodiment, the difference between the visual reflectance of the reflected scattered light C and the visual reflectance of the specularly reflected light B is preferably 0.01% or more, and more preferably 0.05% or more. In this case, the reflection of external light can be more effectively suppressed, and visibility can be more effectively improved. The upper limit of the difference between the visual reflectance of the reflected scattered light C and the visual reflectance of the specularly reflected light B can be, for example, 1%.

本実施形態のカバーガラス1の別の局面では、ガラス基板2とアンチグレア層3の組成が異なっている。この場合においても、外光の映り込みを効果的に抑制することができ、視認性を効果的に向上することができる。 In another aspect of the cover glass 1 of this embodiment, the composition of the glass substrate 2 and the anti-glare layer 3 are different. Even in this case, the reflection of external light can be effectively suppressed, and visibility can be effectively improved.

本発明において、ガラス基板2の屈折率とアンチグレア層3の屈折率との差の絶対値は、好ましくは0.02以上であり、より好ましくは0.05以上である。この場合、外光の映り込みをより効果的に抑制することができ、視認性をより効果的に向上することができる。また、視認性をより効果的に向上する観点から、アンチグレア層3の屈折率は、ガラス基板2の屈折率より小さいことが好ましい。 In the present invention, the absolute value of the difference between the refractive index of the glass substrate 2 and the refractive index of the anti-glare layer 3 is preferably 0.02 or more, and more preferably 0.05 or more. In this case, the reflection of external light can be more effectively suppressed, and visibility can be more effectively improved. In addition, from the viewpoint of more effectively improving visibility, it is preferable that the refractive index of the anti-glare layer 3 is smaller than the refractive index of the glass substrate 2.

また、反射防止膜4の厚み、特に高屈折率膜5及び低屈折率膜6の厚みや材料を調整することによっても、外光の映り込みをより効果的に抑制することができ、視認性をより効果的に向上することができる。 In addition, by adjusting the thickness of the anti-reflection film 4, and in particular the thickness and materials of the high refractive index film 5 and low refractive index film 6, it is possible to more effectively suppress reflections of external light and more effectively improve visibility.

アンチグレア層3は、平坦部を有していることが好ましい。ここで、平坦部とは、アンチグレア層3の表面の凹凸高さの頻度分布を求め、最も頻度が高い高さ±20nm以内となる箇所のことをいう。この場合、外光の映り込みをより効果的に抑制することができ、視認性をより効果的に向上することができる。この場合、平坦部の厚みは、好ましくは5nm以上、より好ましくは10nm以上、好ましくは500nm以下、より好ましくは200nm以下とすることができる。また、平面視において、アンチグレア層3全体の面積に対する平坦部の面積は、例えば、15%以上、60%以下とすることができる。なお、非平坦部とは、平坦部以外の箇所のことをいう。また、アンチグレア層3の表面の凹凸高さの頻度分布において、最も頻度が高い高さから50nm低い高さでの負荷面積率が0.9以下、かつ、最も頻度が高い高さから50nm高い高さでの負荷面積率が0.1以上である場合、アンチグレア層3は、平坦部を有していないものとする。 The anti-glare layer 3 preferably has a flat portion. Here, the flat portion refers to a portion where the frequency distribution of the height of the unevenness on the surface of the anti-glare layer 3 is within ±20 nm of the most frequent height. In this case, the reflection of external light can be more effectively suppressed, and visibility can be more effectively improved. In this case, the thickness of the flat portion can be preferably 5 nm or more, more preferably 10 nm or more, preferably 500 nm or less, and more preferably 200 nm or less. In addition, in a plan view, the area of the flat portion relative to the area of the entire anti-glare layer 3 can be, for example, 15% or more and 60% or less. Note that the non-flat portion refers to a portion other than the flat portion. In addition, in the frequency distribution of the height of the unevenness on the surface of the anti-glare layer 3, if the load area ratio at a height 50 nm lower than the most frequent height is 0.9 or less, and the load area ratio at a height 50 nm higher than the most frequent height is 0.1 or more, the anti-glare layer 3 is considered to have no flat portion.

(第2の実施形態)
図6は、本発明の第2の実施形態に係るカバーガラスを示す模式的断面図である。図6に示すように、カバーガラス21では、ガラス基板2とアンチグレア層3との間に、光学調整層7が設けられている。本実施形態では、光学調整層7が、相対的に屈折率が高い高屈折率層である。もっとも、光学調整層7は、相対的に屈折率が低い低屈折率層であってもよく、ガラス基板2と屈折率の異なる層であればよい。その他の点は、第1の実施形態と同様である。
Second Embodiment
6 is a schematic cross-sectional view showing a cover glass according to a second embodiment of the present invention. As shown in FIG. 6, in the cover glass 21, an optical adjustment layer 7 is provided between the glass substrate 2 and the anti-glare layer 3. In this embodiment, the optical adjustment layer 7 is a high refractive index layer having a relatively high refractive index. However, the optical adjustment layer 7 may be a low refractive index layer having a relatively low refractive index, as long as it is a layer having a refractive index different from that of the glass substrate 2. Other points are the same as those of the first embodiment.

カバーガラス21においても、正反射光Bの視感反射率が、反射散乱光Cの視感反射率よりも小さいので、外光の映り込みを効果的に抑制することができ、ディスプレイ等の視認性を効果的に向上させることができる。 Even in the cover glass 21, the luminous reflectance of the regular reflected light B is smaller than the luminous reflectance of the reflected scattered light C, so that the reflection of external light can be effectively suppressed, and the visibility of displays, etc. can be effectively improved.

なお、この場合、図7に示すように、ガラス基板2上に、光学調整層7、アンチグレア層3、及び反射防止膜4がこの順に積層されてなる第3の積層体30の設計により、正反射光Bの視感反射率を調整することができる。正反射光Bの視感反射率は、各層の屈折率、特に各層を構成する材料、各層の厚み等により調整することができる。 In this case, as shown in FIG. 7, the luminous reflectance of the specularly reflected light B can be adjusted by designing the third laminate 30 in which an optical adjustment layer 7, an anti-glare layer 3, and an anti-reflection film 4 are laminated in this order on a glass substrate 2. The luminous reflectance of the specularly reflected light B can be adjusted by the refractive index of each layer, particularly the material constituting each layer, the thickness of each layer, etc.

また、アンチグレア層3上に反射防止膜4が積層されてなる第2の積層体11の設計により、反射散乱光Cの視感反射率を調整することができる。反射散乱光Cの視感反射率は、各層の屈折率、特に各層を構成する材料、各層の厚み等により調整することができる。 The luminous reflectance of the reflected scattered light C can be adjusted by designing the second laminate 11, which is formed by laminating the anti-reflection film 4 on the anti-glare layer 3. The luminous reflectance of the reflected scattered light C can be adjusted by the refractive index of each layer, in particular the material constituting each layer, the thickness of each layer, etc.

アンチグレア層3の屈折率と光学調整層7の屈折率との差の絶対値は、好ましくは0.2以上であり、より好ましくは1.0以上である。この場合、外光の映り込みをより効果的に抑制することができ、視認性をより効果的に向上することができる。また、視認性をより効果的に向上する観点から、アンチグレア層3の屈折率は、光学調整層7の屈折率より小さいことが好ましい。 The absolute value of the difference between the refractive index of the anti-glare layer 3 and the refractive index of the optical adjustment layer 7 is preferably 0.2 or more, and more preferably 1.0 or more. In this case, the reflection of external light can be more effectively suppressed, and visibility can be more effectively improved. In addition, from the viewpoint of more effectively improving visibility, it is preferable that the refractive index of the anti-glare layer 3 is smaller than the refractive index of the optical adjustment layer 7.

なお、本発明は、第1の実施形態及び第2の実施形態の構成に限定されない。例えば、反射防止膜4の上に他の層が設けられていてもよい。他の層としては、例えば、防汚層が挙げられる。防汚層は、有機ケイ素化合物を含むことが好ましい。有機ケイ素化合物を含むことにより、反射防止膜4との密着性をより一層高めることができる。これにより、長期間の使用によっても、防汚層が剥離し難い。 The present invention is not limited to the configurations of the first and second embodiments. For example, other layers may be provided on the anti-reflection film 4. Examples of other layers include an anti-fouling layer. The anti-fouling layer preferably contains an organosilicon compound. By containing an organosilicon compound, the adhesion to the anti-reflection film 4 can be further improved. This makes it difficult for the anti-fouling layer to peel off even after long-term use.

有機ケイ素化合物としては、例えば、シランカップリング剤、シリコーンオイル、シリコーンレジン、シリコーンゴム、疎水性シリカ、及びフッ素含有有機ケイ素化合物から選択される1つ以上の化合物を挙げることができる。 The organosilicon compound may be, for example, one or more compounds selected from a silane coupling agent, a silicone oil, a silicone resin, a silicone rubber, hydrophobic silica, and a fluorine-containing organosilicon compound.

防汚層の厚みは、0.5nm以上、20nm以下であることが好ましく、0.75nm以上、15nm以下であることがより好ましく、1nm以上、10nm以下であることがさらに好ましい。 The thickness of the antifouling layer is preferably 0.5 nm or more and 20 nm or less, more preferably 0.75 nm or more and 15 nm or less, and even more preferably 1 nm or more and 10 nm or less.

防汚層の形成方法は、特に限定されるものではなく、例えば、有機ケイ素化合物等の希釈液をスプレーコート法などにより塗布することにより形成することができる。 The method for forming the antifouling layer is not particularly limited, and it can be formed, for example, by applying a diluted solution of an organosilicon compound or the like by a spray coating method or the like.

以下、本発明について、具体的な実施例に基づいて、さらに詳細に説明する。本発明は、以下の実施例に何ら限定されるものではなく、その要旨を変更しない範囲において適宜変更して実施することが可能である。 The present invention will be described in more detail below based on specific examples. The present invention is not limited to the following examples, and can be modified as appropriate within the scope of the gist of the invention.

(実施例1)
まず、ガラス基板(日本電気硝子株式会社製、品番「T2X-1」、屈折率:1.50)を用意した。次に、ガラス基板上に、シリカ前駆体を含むコーティング剤を、スプレーコート法により塗布し、厚み20nmのアンチグレア層(屈折率:1.44)を形成した。なお、コーティング剤の塗布量は、35ml/mとした。また、ガラス基板の屈折率とアンチグレア層の屈折率との差は、0.06であった。平坦部の面積割合は47%であった。
Example 1
First, a glass substrate (manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd., product number "T2X-1", refractive index: 1.50) was prepared. Next, a coating agent containing a silica precursor was applied onto the glass substrate by a spray coating method to form an anti-glare layer (refractive index: 1.44) having a thickness of 20 nm. The amount of the coating agent applied was 35 ml/ m2 . The difference between the refractive index of the glass substrate and the refractive index of the anti-glare layer was 0.06. The area ratio of the flat portion was 47%.

次に、アンチグレア層上に、スパッタリング法により、厚み12.73nmの酸化ニオブ(Nb)からなる高屈折率膜を形成した。次に、スパッタリング法により、厚み34.84nmの酸化ケイ素(SiO)からなる低屈折率膜を形成した。次に、スパッタリング法により、厚み113.44nmの酸化ニオブ(Nb)からなる高屈折率膜を形成した。次に、スパッタリング法により、厚み85.45nmの酸化ケイ素(SiO)からなる低屈折率膜を形成した。これにより、高屈折率膜と低屈折率膜とが交互に合計4層積層されてなる誘電体多層膜を作製し、カバーガラスを得た。 Next, a high refractive index film made of niobium oxide (Nb 2 O 5 ) having a thickness of 12.73 nm was formed on the anti-glare layer by a sputtering method. Next, a low refractive index film made of silicon oxide (SiO 2 ) having a thickness of 34.84 nm was formed by a sputtering method. Next, a high refractive index film made of niobium oxide (Nb 2 O 5 ) having a thickness of 113.44 nm was formed by a sputtering method. Next, a low refractive index film made of silicon oxide (SiO 2 ) having a thickness of 85.45 nm was formed by a sputtering method. As a result, a dielectric multilayer film in which high refractive index films and low refractive index films were alternately stacked in a total of four layers was produced, and a cover glass was obtained.

(実施例2)
まず、ガラス基板(日本電気硝子株式会社製、品番「T2X-1」、屈折率:1.50)を用意した。次に、アンチグレア層上に、スパッタリング法により、厚み2.36nmの酸化ニオブ(Nb)からなる光学調整層(屈折率:2.35)を形成した。
Example 2
First, a glass substrate (manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd., product number "T2X-1", refractive index: 1.50) was prepared. Next, an optical adjustment layer (refractive index: 2.35) made of niobium oxide (Nb 2 O 5 ) having a thickness of 2.36 nm was formed on the anti-glare layer by a sputtering method.

次に、ガラス基板上に、シリカ前駆体を含むコーティング剤を、スプレーコート法により塗布し、厚み54nmのアンチグレア層(屈折率:1.44)を成膜した。なお、無機塗料の塗布量は、70ml/mとした。また、光学調整層の屈折率とアンチグレア層の屈折率との差は、0.85であった。平坦部の面積割合は21%であった。 Next, a coating agent containing a silica precursor was applied onto the glass substrate by spray coating to form an anti-glare layer (refractive index: 1.44) having a thickness of 54 nm. The amount of inorganic coating material applied was 70 ml/ m2 . The difference between the refractive index of the optical adjustment layer and the refractive index of the anti-glare layer was 0.85. The area ratio of the flat portion was 21%.

次に、アンチグレア層上に、スパッタリング法により、厚み16.13nmの酸化ニオブ(Nb)からなる高屈折率膜を形成した。次に、スパッタリング法により、厚み36.77nmの酸化ケイ素(SiO)からなる低屈折率膜を形成した。次に、スパッタリング法により、厚み114.61nmの酸化ニオブ(Nb)からなる高屈折率膜を形成した。次に、スパッタリング法により、厚み86.09nmの酸化ケイ素(SiO)からなる低屈折率膜を形成した。これにより、高屈折率膜と低屈折率膜とが交互に合計4層積層されてなる反射防止膜を作製し、カバーガラスを得た。 Next, a high refractive index film made of niobium oxide (Nb 2 O 5 ) having a thickness of 16.13 nm was formed on the anti-glare layer by a sputtering method. Next, a low refractive index film made of silicon oxide (SiO 2 ) having a thickness of 36.77 nm was formed by a sputtering method. Next, a high refractive index film made of niobium oxide (Nb 2 O 5 ) having a thickness of 114.61 nm was formed by a sputtering method. Next, a low refractive index film made of silicon oxide (SiO 2 ) having a thickness of 86.09 nm was formed by a sputtering method. As a result, an anti-reflection film consisting of a total of four layers of high refractive index films and low refractive index films alternately stacked was produced, and a cover glass was obtained.

(比較例1)
実施例1と同様にしてガラス基板上にアンチグレア層を形成した。次に、アンチグレア層上に、スパッタリング法により、厚み45nmの酸化ケイ素(SiO)からなる低屈折率膜、厚み10.37nmの酸化ニオブ(Nb)からなる高屈折率膜、厚み36.21nmの酸化ケイ素(SiO)からなる低屈折率膜、厚み109.45nmの酸化ニオブ(Nb)からなる高屈折率膜、及び厚み81.44nmの酸化ケイ素(SiO)からなる低屈折率膜がこの順に交互に合計5層積層されてなる反射防止膜を作製し、カバーガラスを得た。
(Comparative Example 1)
An anti-glare layer was formed on a glass substrate in the same manner as in Example 1. Next, an anti-reflection film was prepared by sputtering on the anti-glare layer, which was a total of five layers of a low refractive index film made of silicon oxide (SiO 2 ) having a thickness of 45 nm, a high refractive index film made of niobium oxide (Nb 2 O 5 ) having a thickness of 10.37 nm, a low refractive index film made of silicon oxide (SiO 2 ) having a thickness of 36.21 nm, a high refractive index film made of niobium oxide (Nb 2 O 5 ) having a thickness of 109.45 nm, and a low refractive index film made of silicon oxide (SiO 2 ) having a thickness of 81.44 nm, which were alternately laminated in this order, to obtain a cover glass.

(比較例2)
反射防止膜を設けなかったこと以外は、実施例1と同様にしてカバーガラスを得た。
(Comparative Example 2)
A cover glass was obtained in the same manner as in Example 1, except that no anti-reflection film was provided.

(比較例3)
ガラス基板(日本電気硝子株式会社製、品番「T2X-1」、屈折率:1.50)をエッチングすることにより、アンチグレア処理を施した。次に、アンチグレア処理したガラス基板上に、スパッタリング法により、厚み10.3nmの酸化ニオブ(Nb)からなる高屈折率膜、厚み36.21nmの酸化ケイ素(SiO)からなる低屈折率膜、厚み109.45nmの酸化ニオブ(Nb)からなる高屈折率膜、及び厚み81.44nmの酸化ケイ素(SiO)からなる低屈折率膜がこの順に交互に合計4層積層されてなる反射防止膜を作製し、カバーガラスを得た。
(Comparative Example 3)
A glass substrate (manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd., product number "T2X-1", refractive index: 1.50) was etched to perform an anti-glare treatment. Next, on the anti-glare treated glass substrate, an anti-reflection film was produced by a sputtering method, which was composed of a total of four layers of a high refractive index film made of niobium oxide (Nb 2 O 5 ) having a thickness of 10.3 nm, a low refractive index film made of silicon oxide (SiO 2 ) having a thickness of 36.21 nm, a high refractive index film made of niobium oxide (Nb 2 O 5 ) having a thickness of 109.45 nm, and a low refractive index film made of silicon oxide (SiO 2 ) having a thickness of 81.44 nm, alternately stacked in this order, to obtain a cover glass.

(比較例4)
ガラス基板(日本電気硝子株式会社製、品番「T2X-1」、屈折率:1.50)をエッチングすることにより、アンチグレア処理を施し、カバーガラスを得た。
(Comparative Example 4)
A glass substrate (manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd., product number "T2X-1", refractive index: 1.50) was etched to perform an anti-glare treatment, thereby obtaining a cover glass.

(比較例5)
ガラス基板(日本電気硝子株式会社製、品番「T2X-1」、屈折率:1.50)をそのまま素ガラスとして使用した。
(Comparative Example 5)
A glass substrate (manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd., product number "T2X-1", refractive index: 1.50) was used as it was as raw glass.

<評価>
(視感反射率)
分光光度計(日立ハイテクサイエンス社製、品番「U-4000」)を用いて、正反射光及び反射散乱光の視感反射率を測定した。具体的には、正反射光の視感反射率測定は、光の入射角度は8°とし、受光角度は8°とし、測定波長は380nm~800nmとし、測定間隔は1nmとし、測定された反射スペクトルから、JIS Z8722:2009に準拠し、D65光源に対する正反射光の視感反射率を求めた。反射散乱光の視感反射率測定は、入射角度は8°とし、受光角度は11°とし、測定波長は380nm~800nmとし、測定間隔は1nmとし、測定された反射スペクトルから、JIS Z8722:2009に準拠し、D65光源に対する反射散乱光の視感反射率を求めた。結果を下記の表1に示す。なお、下記の表1では、素ガラス基準正反射反射率も併せて示した。素ガラス基準正反射反射率は、正反射光の反射スペクトルから、測定波長域の反射率の平均値(平均反射率)を求め、素ガラス(比較例5)の平均反射率に対する比から求めた。
<Evaluation>
(Luminous reflectance)
The luminous reflectance of the regular reflected light and the reflected scattered light was measured using a spectrophotometer (Hitachi High-Tech Science Corporation, product number "U-4000"). Specifically, the luminous reflectance of the regular reflected light was measured at an incident angle of 8°, a receiving angle of 8°, a measurement wavelength of 380 nm to 800 nm, and a measurement interval of 1 nm, and the luminous reflectance of the regular reflected light with respect to the D65 light source was obtained from the measured reflection spectrum in accordance with JIS Z8722:2009. The luminous reflectance of the reflected scattered light was measured at an incident angle of 8°, a receiving angle of 11°, a measurement wavelength of 380 nm to 800 nm, and a measurement interval of 1 nm, and the luminous reflectance of the reflected scattered light with respect to the D65 light source was obtained from the measured reflection spectrum in accordance with JIS Z8722:2009. The results are shown in Table 1 below. In Table 1 below, the standard regular reflectance of the raw glass is also shown. The reference specular reflectance of plain glass was calculated by calculating the average value (average reflectance) of the reflectance in the measurement wavelength range from the reflection spectrum of specular light, and calculating the ratio to the average reflectance of plain glass (Comparative Example 5).

(平坦部の面積割合)
KEYENCE社製、レーザー顕微鏡VK-X260を用い、150倍対物レンズにて、アンチグレア層の凹凸高さを95μm×71μmの測定範囲で測定した。次に、測定した高さデータの頻度分布を求め、最も頻度が大きい高さが0となるようにシフト補正した。補正した高さが-20nm以上+20nm以下である領域の面積を求め、これを平坦部の面積とした。得られた平坦部の面積をレーザー顕微鏡の測定範囲の面積で割ることで平坦部の面積割合とした。
(Flat area ratio)
Using a laser microscope VK-X260 manufactured by KEYENCE, the height of the unevenness of the anti-glare layer was measured in a measurement range of 95 μm × 71 μm with a 150x objective lens. Next, the frequency distribution of the measured height data was obtained, and the most frequent height was shifted and corrected to 0. The area of the region where the corrected height was -20 nm or more and +20 nm or less was obtained, and this was taken as the area of the flat part. The area of the obtained flat part was divided by the area of the measurement range of the laser microscope to obtain the area ratio of the flat part.

(映り込み指標値)
映り込み指標値C:Clarityは、SMS-1000(Display-Messtechnik&Systeme社製)を用いて、反射分布測定モードにより測定した。なお、焦点距離16mmのレンズを用い、入射光の入射角を3°、実施例及び比較例のカバーガラス上の照射位置からレンズまでの距離を410mmに設定し、実施例及び比較例のカバーガラスの裏面に屈折率1.53の浸液を付けた状態で黒板ガラスと貼り付けて測定した。
(Reflection index value)
The reflection index value C: Clarity was measured in a reflection distribution measurement mode using an SMS-1000 (manufactured by Display-Messtechnik & Systeme). A lens with a focal length of 16 mm was used, the angle of incidence of the incident light was set to 3°, and the distance from the irradiation position on the cover glass of the examples and comparative examples to the lens was set to 410 mm. The cover glass of the examples and comparative examples was attached to a blackboard glass with an immersion liquid with a refractive index of 1.53 applied to the back surface thereof, and the measurement was performed.

(官能試験)
防眩性については、ライン光源を映り込ませた状態で、映り込んだライン光源の輪郭が認識できないものを「A」、輪郭をかろうじて認識できるものを「B」、輪郭をある程度認識できるものを「C」、輪郭がはっきり認識できるものを「D」として評価した。
(Sensory Test)
Regarding anti-glare properties, when a line light source was reflected, those in which the outline of the reflected line light source was not discernible were rated as "A," those in which the outline was barely discernible were rated as "B," those in which the outline was discernible to some extent were rated as "C," and those in which the outline was clearly discernible were rated as "D."

画像鮮明度については、解像度264ppiの表示装置上に任意の写真画像を表示させ、その半分を覆うように評価サンプルを置き、写真画像と評価サンプル越しの写真画像を比較しその差が判別できなかったものを「A」、その差がわずかながらに確認できたものを「B」、評価サンプル越しの写真画像の劣化を少し感じたものを「C」、評価サンプル越しの写真画像の劣化を感じたものを「D」、評価サンプル越しの写真画像の劣化を大きく感じたものを「E」として評価した。 Regarding image clarity, an arbitrary photographic image was displayed on a display device with a resolution of 264 ppi, and an evaluation sample was placed so as to cover half of it. The photographic image and the photographic image viewed through the evaluation sample were compared. Those in which no difference could be discerned were given an "A", those in which the difference was slight but discernible were given a "B", those in which slight degradation of the photographic image viewed through the evaluation sample was felt were given a "C", those in which degradation of the photographic image viewed through the evaluation sample was felt were given a "D", and those in which significant degradation of the photographic image viewed through the evaluation sample was felt were given an "E".

結果を下記の表1に示す。 The results are shown in Table 1 below.

Figure 0007563019000001
Figure 0007563019000001

表1より、実施例1~2では、官能試験の評価がいずれも「A」又は「B」であり、視認性が向上されていることが確認できた。一方、比較例1~5では、官能試験の評価のうちいずれかが、「C」、「D」、又は「E」であり、視認性を十分に向上させることができなかった。 From Table 1, it can be seen that in Examples 1 and 2, the sensory test evaluation was either "A" or "B," and it was confirmed that visibility was improved. On the other hand, in Comparative Examples 1 to 5, the sensory test evaluation was either "C," "D," or "E," and visibility could not be sufficiently improved.

1,21…カバーガラス
2…ガラス基板
2a…第1の主面
2b…第2の主面
3…アンチグレア層
4…反射防止膜
5…高屈折率膜
6…低屈折率膜
7…光学調整層
8…アルミニウム膜
10…第1の積層体
11…第2の積層体
30…第3の積層体
Reference Signs List 1, 21... Cover glass 2... Glass substrate 2a... First main surface 2b... Second main surface 3... Anti-glare layer 4... Anti-reflection film 5... High refractive index film 6... Low refractive index film 7... Optical adjustment layer 8... Aluminum film 10... First laminate 11... Second laminate 30... Third laminate

Claims (5)

ガラス基板と、
前記ガラス基板上に設けられている、凹凸構造を有するアンチグレア層と、
前記アンチグレア層上に設けられている、反射防止膜と、
前記ガラス基板と前記アンチグレア層との間に設けられており、前記ガラス基板とは屈折率が異なっている、光学調整層と、
を備え、
前記アンチグレア層が、平坦部及び非平坦部を有し、
平面視において、前記アンチグレア層全体の面積に対する前記平坦部の面積の割合が、15%以上、60%以下であり、
前記光学調整層の屈折率は、前記アンチグレア層の屈折率より大きく、
前記光学調整層の屈折率と前記アンチグレア層の屈折率との差の絶対値が、0.2以上であり、
前記反射防止膜側から光を入射させたときに、正反射光の視感反射率が、反射散乱光の視感反射率よりも小さい、カバーガラス。
A glass substrate;
an anti-glare layer having a concave-convex structure provided on the glass substrate;
an anti-reflection film provided on the anti-glare layer;
an optical adjustment layer provided between the glass substrate and the anti-glare layer and having a refractive index different from that of the glass substrate;
Equipped with
the anti-glare layer has a flat portion and a non-flat portion,
In a plan view, a ratio of an area of the flat portion to an area of the entire anti-glare layer is 15% or more and 60% or less,
The refractive index of the optical adjustment layer is greater than the refractive index of the anti-glare layer,
an absolute value of a difference between a refractive index of the optical adjustment layer and a refractive index of the antiglare layer is 0.2 or more;
A cover glass, in which when light is incident from the antireflection film side, the luminous reflectance of regular reflected light is smaller than the luminous reflectance of reflected scattered light.
前記ガラス基板の屈折率と前記アンチグレア層の屈折率との差の絶対値が、0.02以上である、請求項1に記載のカバーガラス。 The cover glass according to claim 1, wherein the absolute value of the difference between the refractive index of the glass substrate and the refractive index of the anti-glare layer is 0.02 or more. 前記平坦部の厚みが、5nm以上、500nm以下である、請求項1または請求項2に記載のカバーガラス。 The cover glass according to claim 1 or 2 , wherein the flat portion has a thickness of 5 nm or more and 500 nm or less. 前記ガラス基板上に前記アンチグレア層の平坦部及び前記反射防止膜がこの順に設けられてなる第1の積層体の構造による反射光の視感反射率が、前記アンチグレア層の非平坦部上に前記反射防止膜が設けられてなる第2の積層体の構造による視感反射率よりも小さい、請求項1~請求項3のいずれか1項に記載のカバーガラス。 The cover glass according to any one of claims 1 to 3, wherein the luminous reflectance of reflected light due to a first laminate structure in which a flat portion of the anti-glare layer and the anti-reflection film are provided in this order on the glass substrate is smaller than the luminous reflectance due to a second laminate structure in which the anti- reflection film is provided on a non-flat portion of the anti-glare layer. 前記光学調整層が、酸化ニオブにより構成されている、請求項1~請求項のいずれか1項に記載のカバーガラス。 The cover glass according to any one of claims 1 to 4 , wherein the optical adjustment layer is made of niobium oxide.
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