JP7565097B2 - Conductive paste and conductive film - Google Patents
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Description
本開示は、導電性ペースト及び導電膜に関し、詳しくは、タンニン酸及びタンニン酸誘導体の少なくとも一方(A)と、銅粉(B)と、熱硬化性樹脂(C)と、溶剤(D)とを含有する導電性ペースト、及びこの導電性ペーストの硬化物を含む導電膜に関する。The present disclosure relates to a conductive paste and a conductive film, and more particularly to a conductive paste containing at least one of tannic acid and a tannic acid derivative (A), copper powder (B), a thermosetting resin (C), and a solvent (D), and a conductive film containing a cured product of this conductive paste.
導電性ペーストを各種基材に印刷することで配線を形成する技術が用いられている。従来の導電性ペーストとしては、主に銀ペースト、銅ペーストが知られている。銀ペーストは導電性が良好であるが、高価であり、高湿下でマイグレーションが生じやすく、それによって起こるショートが問題となっている。そのため、銀ペーストの代わりに銅ペーストを使用することが検討されているが、銅ペーストは銀ペーストと比べて酸化されやすく、そのため、比抵抗値が経時的に上昇し、導電性が低下しやすいという問題があった。A technology is used to form wiring by printing a conductive paste on various substrates. The main conductive pastes known so far are silver paste and copper paste. Silver paste has good conductivity, but is expensive and prone to migration in high humidity conditions, which can lead to problems with short circuits. For this reason, the use of copper paste instead of silver paste has been considered, but copper paste is more susceptible to oxidation than silver paste, which causes problems such as an increase in resistivity over time and a tendency for conductivity to decrease.
このような銅ペーストの酸化を抑制する方法として、予め銅粉の表面を有機物で処理する方法や、銅粉が含まれる組成物中に銅の酸化を抑制する添加剤を混在させる方法が提案されている。 As methods for inhibiting the oxidation of such copper pastes, methods have been proposed in which the surface of the copper powder is preliminarily treated with an organic substance, or an additive that inhibits the oxidation of copper is mixed into a composition containing copper powder.
特許文献1には、有機酸を含有する水系表面処理剤で金属微粒子を予め処理することにより、易酸化性金属粒子表面に形成された酸化膜を効果的に除去し、さらに処理された銅粉が含まれる組成物中に銅の酸化を抑制する添加剤として有機カルボン酸を添加する方法が開示されている。特許文献2には、銅粉を含む導電性銅ペースト中、有機カルボン酸化合物を添加することにより、銅粉表面の酸化膜に対して、プロトンを供与し、溶出させることにより、銅粉の酸化を抑制する方法が開示されている。Patent Document 1 discloses a method of effectively removing the oxide film formed on the surface of easily oxidizable metal particles by pretreating metal fine particles with an aqueous surface treatment agent containing an organic acid, and then adding an organic carboxylic acid as an additive to suppress the oxidation of copper to a composition containing the treated copper powder. Patent Document 2 discloses a method of suppressing the oxidation of copper powder by adding an organic carboxylic acid compound to a conductive copper paste containing copper powder, thereby donating protons to the oxide film on the copper powder surface and dissolving it.
銅粉を有機酸で処理する方法は、原料として用いる銅粉にすでに存在する酸化銅被膜を除去する効果が認められ、初期の導電性を発現する面では有効であるが、経時的な酸化を抑制するには十分ではない。また、有機カルボン酸化合物を添加する方法は、銅粉の酸化を抑制するには十分ではない。そのため、銅粉に対してさらに効果的な還元力を発現する材料が求められており、銅本来の導電性を初期に発現できると共に、さらにその導電性を長期間維持して製品の信頼性を確保できることが求められている。 Treating copper powder with an organic acid has been shown to be effective in removing the copper oxide film already present on the copper powder used as raw material, and is effective in terms of developing initial conductivity, but is not sufficient to inhibit oxidation over time. Furthermore, the method of adding an organic carboxylic acid compound is not sufficient to inhibit the oxidation of copper powder. For this reason, there is a demand for a material that develops a more effective reducing power for copper powder, one that can develop copper's inherent conductivity at an early stage, and that can maintain that conductivity over a long period of time to ensure product reliability.
本開示の課題は、初期の導電性に優れ、この優れた導電性を長期にわたって維持できる導電性ペースト、及び導電膜を提供することにある。The objective of the present disclosure is to provide a conductive paste and a conductive film that have excellent initial conductivity and can maintain this excellent conductivity over a long period of time.
本開示の一態様に係る導電性ペーストは、タンニン酸及びタンニン酸誘導体の少なくとも一方(A)と、銅粉(B)と、熱硬化性樹脂(C)と、溶剤(D)とを含有する。The conductive paste according to one embodiment of the present disclosure contains at least one of tannic acid and a tannic acid derivative (A), copper powder (B), a thermosetting resin (C), and a solvent (D).
本開示の一態様に係る導電膜は、前記導電性ペーストの硬化物を含む。 The conductive film according to one embodiment of the present disclosure includes a hardened product of the conductive paste.
<導電性ペースト>
本実施形態の導電性ペースト(以下、導電性ペースト(X)ともいう)は、タンニン酸及びタンニン酸誘導体の少なくとも一方(A)(以下、成分(A)ともいう)と、銅粉(B)と、熱硬化性樹脂(C)と、溶剤(D)とを含有する。導電性ペースト(X)は、熱硬化して導電膜を形成するために好適に用いることができる。
<Conductive paste>
The conductive paste of this embodiment (hereinafter, also referred to as conductive paste (X)) contains at least one of tannic acid and a tannic acid derivative (A) (hereinafter, also referred to as component (A)), copper powder (B), a thermosetting resin (C), and a solvent (D). The conductive paste (X) can be suitably used for forming a conductive film by thermal curing.
本発明者らは、金属粉として銅粉を用いる導電性ペーストにおいて、タンニン酸又はその誘導体を用いることにより、初期の導電性に優れ、かつ優れた導電性を長期にわたって維持することが可能となることを見出した。すなわち、導電性ペースト(X)は、初期の低比抵抗値化を実現でき、かつ湿熱試験などで評価されるように、経時的に酸化を抑制することができ、その結果、長期にわたって導電性を維持することができる。その理由は必ずしも明確ではないが、例えばタンニン酸及びタンニン酸誘導体は、銅粉(B)の導電性ペースト(X)中における分散性を高めることができると共に、その還元性により、銅粉(B)の酸化を抑制し、かつ銅の酸化により生じた酸化銅を元の銅に還元して導電性を回復させることができるためであると推察することができる。特に、成分(A)は、熱硬化性樹脂(C)を熱硬化させる時に高い還元力を発揮すると考えられ、導電性ペースト(X)は、高い初期の導電性を発揮することができ、加えてこの高い導電性は、成分(A)の還元力により、長期にわたって維持することができると考えられる。このように、導電性ペースト(X)は、初期の導電性に優れ、この優れた導電性を長期にわたって維持することができる。The present inventors have found that the use of tannic acid or a derivative thereof in a conductive paste using copper powder as the metal powder makes it possible to achieve excellent initial conductivity and maintain excellent conductivity for a long period of time. That is, the conductive paste (X) can achieve a low initial resistivity and can suppress oxidation over time as evaluated by a moist heat test, etc., and as a result, can maintain conductivity for a long period of time. The reason for this is not necessarily clear, but it can be inferred that, for example, tannic acid and tannic acid derivatives can increase the dispersibility of copper powder (B) in the conductive paste (X), and can suppress the oxidation of copper powder (B) due to their reducing properties, and can reduce copper oxide generated by the oxidation of copper to the original copper to restore conductivity. In particular, it is believed that component (A) exerts a high reducing power when thermosetting resin (C) is thermally cured, and the conductive paste (X) can exhibit high initial conductivity, and in addition, it is believed that this high conductivity can be maintained for a long period of time due to the reducing power of component (A). Thus, the conductive paste (X) has excellent initial conductivity and can maintain this excellent conductivity for a long period of time.
[成分(A)]
成分(A)は、タンニン酸及びタンニン酸誘導体の少なくとも一方である。「タンニン酸」とは、広義のタンニン酸と、狭義のタンニン酸であるm-ガロイル没食子酸の両方を含む。広義のタンニン酸とは、多数のフェノール性水酸基を有する芳香族化合物の総称であり、例えばフラバノールの誘導体である縮合型タンニンや、1個以上の没食子酸と糖(通常グルコース)がエステル結合した加水分解型タンニンなどが挙げられる。タンニン酸1分子中のフェノール性水酸基の数は、通常3以上100以下であり、10以上50以下であることが好ましく、20以上30以下であることがより好ましい。タンニン酸の分子量は、通常300以上15000以下であり、500以上5000以下であることが好ましく、1000以上2500以下であることがより好ましい。
[Component (A)]
Component (A) is at least one of tannic acid and a tannic acid derivative. "Tannic acid" includes both tannic acid in the broad sense and m-galloyl gallic acid, which is tannic acid in the narrow sense. Tannic acid in the broad sense is a general term for aromatic compounds having a large number of phenolic hydroxyl groups, such as condensed tannins, which are derivatives of flavanols, and hydrolyzed tannins in which one or more gallic acids are ester-bonded to sugars (usually glucose). The number of phenolic hydroxyl groups in one molecule of tannic acid is usually 3 to 100, preferably 10 to 50, and more preferably 20 to 30. The molecular weight of tannic acid is usually 300 to 15,000, preferably 500 to 5,000, and more preferably 1,000 to 2,500.
「タンニン酸誘導体」とは、例えばタンニン酸のフェノール性水酸基中の一部又は全部の水素原子を置換基(以下、置換基(S)ともいう)で置換したものをいう。タンニン酸誘導体は、タンニン酸を疎水化したものである。 "Tannic acid derivative" refers to, for example, tannic acid in which some or all of the hydrogen atoms in the phenolic hydroxyl group are replaced with a substituent (hereinafter also referred to as the substituent (S)). Tannic acid derivatives are tannic acid that has been hydrophobized.
成分(A)は、タンニン酸誘導体を含むことが好ましい。成分(A)として、タンニン酸を疎水化したタンニン酸誘導体を用いることにより、導電性ペースト(X)は、経時的に酸化を抑制する効果がより大きくなり、特に、耐湿熱性試験(例えば85℃、85%RH、100Hrなど)において、比抵抗値の上昇をより抑制することができる。 Component (A) preferably contains a tannic acid derivative. By using a tannic acid derivative obtained by hydrophobizing tannic acid as component (A), the conductive paste (X) has a greater effect of suppressing oxidation over time, and in particular, in a moist heat resistance test (e.g., 85°C, 85% RH, 100 hours, etc.), the increase in the resistivity can be further suppressed.
タンニン酸誘導体は、タンニン酸の一部又は全部のフェノール性水酸基がイソシアネートを有する化合物との反応によりウレタン結合を形成したものを含むことが好ましい。タンニン酸誘導体にウレタン結合を導入することにより、導電性ペースト(X)から形成した導電膜の柔軟性がより高くなるため、フィルム基材等のフレキシブル基材への適用が期待される。The tannic acid derivative preferably includes a tannic acid derivative in which some or all of the phenolic hydroxyl groups of the tannic acid are reacted with a compound having an isocyanate to form a urethane bond. By introducing a urethane bond into the tannic acid derivative, the flexibility of the conductive film formed from the conductive paste (X) is increased, and it is expected that the conductive film will be applicable to flexible substrates such as film substrates.
また、タンニン酸誘導体は、タンニン酸のフェノール性水酸基の一部又は全部が、シランカップリング剤との反応により-Si-O-結合を形成したものであることが好ましい。タンニン酸誘導体に-Si-O-結合を導入することにより、銅粉(B)の分散性のさらなる向上、及び導電性ペースト(X)から形成される導電膜と基材との密着性の向上が期待される。In addition, the tannic acid derivative is preferably one in which some or all of the phenolic hydroxyl groups of tannic acid have formed -Si-O- bonds by reaction with a silane coupling agent. By introducing -Si-O- bonds into the tannic acid derivative, it is expected that the dispersibility of the copper powder (B) will be further improved, and the adhesion between the conductive film formed from the conductive paste (X) and the substrate will be improved.
置換基(S)としては、例えばメチル基等のアルキル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基、フェニル基等のアリール基、ベンジル基等のアラルキル基などの炭化水素基;この炭化水素基の水素原子の一部又は全部を他の置換基で置換した基;-CONHR(Rは、炭素数1~20の1価の有機基である);-Si(OR’)2R”(R’は炭素数1~10の1価の炭化水素基、R”は炭素数1~20の1価の有機基である)などが挙げられる。「有機基」とは、少なくとも1個の炭素原子を含む基をいう。 Examples of the substituent (S) include hydrocarbon groups such as alkyl groups such as methyl groups, cycloalkyl groups such as cyclohexyl groups, aryl groups such as phenyl groups, and aralkyl groups such as benzyl groups; groups in which some or all of the hydrogen atoms of these hydrocarbon groups have been substituted with other substituents; -CONHR (wherein R is a monovalent organic group having 1 to 20 carbon atoms); -Si(OR') 2R " (wherein R' is a monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and R" is a monovalent organic group having 1 to 20 carbon atoms). An "organic group" refers to a group containing at least one carbon atom.
置換基(S)は、重合性基を有する基を含むことが好ましい。この場合、導電性ペースト(X)の熱硬化時の硬化収縮をより大きくすることができ、その結果、導電性をより向上させることができる。重合性基としては、例えば(メタ)アクリロイル基、ビニル基、エポキシ基、グリシジル基、アミノ基、メルカプト基等が挙げられる。It is preferable that the substituent (S) contains a group having a polymerizable group. In this case, the curing shrinkage during thermal curing of the conductive paste (X) can be made larger, and as a result, the conductivity can be further improved. Examples of the polymerizable group include a (meth)acryloyl group, a vinyl group, an epoxy group, a glycidyl group, an amino group, and a mercapto group.
置換基(S)としての-CONHRは、タンニン酸にイソシアネート基を有する化合物を反応させることにより形成される。Rで表される有機基としては、例えば置換又は非置換のブチル基等の1価の炭化水素基、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、グリシジル基等の重合性基を含む基などが挙げられる。Rを重合性基を含む基とすることにより、導電性ペースト(X)の熱硬化時の硬化収縮をより大きくし、導電性をより向上させることができる。 The -CONHR substituent (S) is formed by reacting tannic acid with a compound having an isocyanate group. Examples of the organic group represented by R include monovalent hydrocarbon groups such as substituted or unsubstituted butyl groups, and groups containing polymerizable groups such as (meth)acryloyl groups, vinyl groups, and glycidyl groups. By making R a group containing a polymerizable group, the cure shrinkage of the conductive paste (X) during thermal curing can be increased, and the conductivity can be further improved.
置換基(S)としての-Si(OR’)2R”は、タンニン酸にシランカップリング剤を反応させることにより形成される。R’で表される炭化水素基としては、例えばメチル基、エチル基等のアルキル基などが挙げられる。R”で表される有機基としては、例えば置換又は非置換の1価の炭化水素基、グリシジル基、エポキシ基、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、アミノ基、メルカプト基等の重合性基を含む基などが挙げられる。R”を重合性基を含む基とすることにより、導電性ペースト(X)の熱硬化時の硬化収縮をより大きくし、導電性をより向上させることができる。 The -Si(OR') 2R " as the substituent (S) is formed by reacting tannic acid with a silane coupling agent. Examples of the hydrocarbon group represented by R' include alkyl groups such as methyl and ethyl groups. Examples of the organic group represented by R" include substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon groups, and groups containing a polymerizable group such as a glycidyl group, epoxy group, (meth)acryloyl group, vinyl group, amino group, and mercapto group. By using a group containing a polymerizable group as R", the cure shrinkage during thermal curing of the conductive paste (X) can be made larger, and the conductivity can be further improved.
タンニン酸誘導体における置換率(置換前のタンニン酸1分子中のフェノール性水酸基の数に対するタンニン酸誘導体1分子中の置換基(S)の数の比率)は、10%以上であることが好ましい。この場合、導電性ペースト(X)の耐湿熱性をより効果的に向上させることができる。置換率は15%以上であることがより好ましく、20%以上であることがさらに好ましく、30%以上であることが特に好ましい。タンニン酸誘導体における置換率は、65%以下であることが好ましい。この場合、導電性ペースト(X)における酸化抑制効果をより高めることができる。置換率は60%以下であることがより好ましく、55%以下であることがさらに好ましく、50%以下であることが特に好ましい。The substitution rate in the tannic acid derivative (the ratio of the number of substituents (S) in one molecule of the tannic acid derivative to the number of phenolic hydroxyl groups in one molecule of tannic acid before substitution) is preferably 10% or more. In this case, the moist heat resistance of the conductive paste (X) can be more effectively improved. The substitution rate is more preferably 15% or more, even more preferably 20% or more, and particularly preferably 30% or more. The substitution rate in the tannic acid derivative is preferably 65% or less. In this case, the oxidation inhibition effect in the conductive paste (X) can be further enhanced. The substitution rate is more preferably 60% or less, even more preferably 55% or less, and particularly preferably 50% or less.
成分(A)の割合は、銅粉(B)100質量部に対して、0.05質量部以上5.0質量部以下であることが好ましい。この場合、導電性ペースト(X)の導電性及びその継続性をより向上させることができる。成分(A)の割合は、銅粉(B)100質量部に対して、0.1質量部以上3.0質量部以下であることがより好ましく、0.4質量部以上2.0質量部以下であることがさらに好ましく、0.5質量部以上1.2質量部以下であることが特に好ましい。The ratio of component (A) is preferably 0.05 parts by mass or more and 5.0 parts by mass or less relative to 100 parts by mass of copper powder (B). In this case, the conductivity and continuity of the conductive paste (X) can be further improved. The ratio of component (A) is more preferably 0.1 parts by mass or more and 3.0 parts by mass or less relative to 100 parts by mass of copper powder (B), more preferably 0.4 parts by mass or more and 2.0 parts by mass or less, and particularly preferably 0.5 parts by mass or more and 1.2 parts by mass or less.
成分(A)の割合は、導電性ペースト(X)に対して、0.01質量%以上10質量%以下であることが好ましく、0.05質量%以上5質量%以下であることがより好ましく、0.1質量%以上3質量%以下であることがさらに好ましく、0.4質量%以上1.5質量%以下であることが特に好ましい。The proportion of component (A) in the conductive paste (X) is preferably 0.01% by mass or more and 10% by mass or less, more preferably 0.05% by mass or more and 5% by mass or less, even more preferably 0.1% by mass or more and 3% by mass or less, and particularly preferably 0.4% by mass or more and 1.5% by mass or less.
[銅粉(B)]
銅粉(B)は、銅を主成分とする金属粒子であり、粒子表面に銅が露出しているものである。
[Copper powder (B)]
The copper powder (B) is metal particles containing copper as a main component, with copper exposed on the particle surface.
銅粉(B)の形状としては、例えば球形、扁平形(鱗片形)、樹枝形、不定形等が挙げられる。銅粉(B)は、これらの形状を2種以上組み合わせたものであってもよい。導電性ペースト(X)の優れた導電性と酸化耐性は、成分(A)の銅に対する優れた還元力に起因するものであり、銅粉(B)の形状及び粒子径は特に限定されない。The shape of the copper powder (B) may be, for example, spherical, flat (scale-shaped), dendritic, or amorphous. The copper powder (B) may be a combination of two or more of these shapes. The excellent conductivity and oxidation resistance of the conductive paste (X) are due to the excellent reducing power of component (A) against copper, and the shape and particle size of the copper powder (B) are not particularly limited.
銅粉(B)の平均粒子径は、印刷適正の観点から、0.1μm以上30μm以下であることが好ましく、0.5μm以上20μm以下であることがより好ましく、1μm以上10μm以下であることがさらに好ましい。平均粒子径とは、メジアン径であって、銅粉(B)の粒度分布(体積基準)を計測し、その累積分布50体積%における粒径を示す。From the viewpoint of printability, the average particle diameter of the copper powder (B) is preferably 0.1 μm or more and 30 μm or less, more preferably 0.5 μm or more and 20 μm or less, and even more preferably 1 μm or more and 10 μm or less. The average particle diameter is the median diameter, and indicates the particle diameter at 50 volume percent of the cumulative distribution obtained by measuring the particle size distribution (volume basis) of the copper powder (B).
銅粉(B)の割合は、導電性ペースト(X)に対して、50質量%以上99質量%以下であることが好ましく、60質量%以上98質量%以下であることがより好ましく、70質量%以上95質量%以下であることがさらに好ましく、80質量%以上90質量%以下であることが特に好ましい。The proportion of copper powder (B) in the conductive paste (X) is preferably 50% by mass or more and 99% by mass or less, more preferably 60% by mass or more and 98% by mass or less, even more preferably 70% by mass or more and 95% by mass or less, and particularly preferably 80% by mass or more and 90% by mass or less.
[熱硬化性樹脂(C)]
導電性ペースト(X)は、熱硬化性樹脂(C)を含有する。これにより、加熱により、導電性ペースト(X)を硬化させ、導電膜を形成することができる。
[Thermosetting resin (C)]
The conductive paste (X) contains a thermosetting resin (C), which allows the conductive paste (X) to be cured by heating to form a conductive film.
熱硬化性樹脂(C)としては、例えばアミノ樹脂、ウレタン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、シアネート樹脂、アクリル樹脂;ノボラック型フェノール樹脂、レゾール型フェノール樹脂等のフェノール樹脂などが挙げられる。熱硬化性樹脂(C)には、タンニン酸及びタンニン酸誘導体は含まれない。 Examples of thermosetting resins (C) include amino resins, urethane resins, unsaturated polyester resins, epoxy resins, cyanate resins, acrylic resins, phenolic resins such as novolac-type phenolic resins and resol-type phenolic resins. Thermosetting resins (C) do not include tannic acid and tannic acid derivatives.
熱硬化性樹脂(C)は、フェノール性水酸基を有するものを含むことが好ましい。この場合、熱硬化性樹脂(C)の熱硬化による硬化収縮をより大きくすることができ、その結果、導電性ペースト(X)の導電性をより向上させることができる。フェノール性水酸基を有する熱硬化性樹脂(C)としては、例えばフェノール樹脂等が挙げられる。It is preferable that the thermosetting resin (C) contains one having a phenolic hydroxyl group. In this case, the cure shrinkage due to thermal curing of the thermosetting resin (C) can be made larger, and as a result, the conductivity of the conductive paste (X) can be further improved. Examples of the thermosetting resin (C) having a phenolic hydroxyl group include phenolic resins.
熱硬化性樹脂(C)の割合は、導電性ペースト(X)に対して、1質量%以上30質量%以下であることが好ましく、3質量%以上20質量%以下であることがより好ましく、5質量%以上15質量%以下であることがさらに好ましい。The proportion of thermosetting resin (C) relative to the conductive paste (X) is preferably 1% by mass or more and 30% by mass or less, more preferably 3% by mass or more and 20% by mass or less, and even more preferably 5% by mass or more and 15% by mass or less.
また、導電性ペースト(X)は、熱硬化性樹脂(C)の硬化を促進させるため、例えば硬化剤、硬化促進剤などを含有していてもよい。In addition, the conductive paste (X) may contain, for example, a curing agent, a curing accelerator, etc. to promote the curing of the thermosetting resin (C).
硬化剤としては、熱硬化性樹脂(C)を硬化させることができるものであれば用いることができ、例えばノボラック樹脂;ジシアンジアミド、イミダゾール、BF3-アミン錯体、グアニジン誘導体等の潜在性アミン系硬化剤;メタフェニレンジアミン、ジアミノジフェニルメタン、ジアミノジフェニルスルホンなどの芳香族アミン類;シクロホスファゼンオリゴマー等の窒素原子を含有する硬化剤;ポリアミド樹脂、無水マレイン酸、無水フタル酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、無水ピロメリット酸等の酸無水物系硬化剤などが挙げられる。硬化剤の割合は、熱硬化性樹脂(C)に対して、通常0.1質量%以上10質量%以下であり、0.5質量%以上5質量%以下であることが好ましい。 As the curing agent, any agent capable of curing the thermosetting resin (C) can be used, and examples thereof include novolac resins; latent amine-based curing agents such as dicyandiamide, imidazole, BF 3 -amine complexes, and guanidine derivatives; aromatic amines such as metaphenylenediamine, diaminodiphenylmethane, and diaminodiphenylsulfone; curing agents containing nitrogen atoms such as cyclophosphazene oligomers; and acid anhydride-based curing agents such as polyamide resins, maleic anhydride, phthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, and pyromellitic anhydride. The proportion of the curing agent relative to the thermosetting resin (C) is usually 0.1% by mass or more and 10% by mass or less, and preferably 0.5% by mass or more and 5% by mass or less.
硬化促進剤としては、例えばベンジルジメチルアミン等の第3級アミン、イミダゾール、有機酸金属塩、ルイス酸、アミン錯塩等が挙げられる。硬化促進剤の割合は、熱硬化性樹脂(C)に対して、通常0.01質量%以上10質量%以下であり、0.1質量%以上5質量%以下であることが好ましい。Examples of the curing accelerator include tertiary amines such as benzyldimethylamine, imidazole, organic acid metal salts, Lewis acids, amine complex salts, etc. The ratio of the curing accelerator to the thermosetting resin (C) is usually 0.01% by mass or more and 10% by mass or less, and preferably 0.1% by mass or more and 5% by mass or less.
[溶剤(D)]
導電性ペースト(X)は、溶剤(D)を含有する。これにより、導電性ペースト(X)は、粘度をより適度に調整することができ、スクリーン印刷等に好適に用いることができる。
[Solvent (D)]
The conductive paste (X) contains a solvent (D), which allows the viscosity of the conductive paste (X) to be adjusted more appropriately, making it suitable for use in screen printing and the like.
溶剤(D)としては、例えばエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール等のジオール、グリセリン等のトリオールなどの多価アルコール類;糖アルコール類;エタノール、メタノール、ブタノール、プロパノール、イソプロパノール等の低級アルコール類;1-メチル-1-メトキシブタノール;エチレングリコールモノメチルエーテル(メチルセロソルブ)、エチレングリコールモノエチルエーテル(エチルセロソルブ)、エチレングリコールモノ-iso-プロピルエーテル(iso-プロピルセロソルブ)、エチレングリコールモノ-n-ブチルエーテル(n-ブチルセロソルブ)、エチレングリコールモノ-t-ブチルエーテル(t-ブチルセロソルブ)等のセロソルブ類;ジエチレングリコールモノメチルエーテル(メチルカルビトール)、ジエチレングリコールモノエチルエーテル(エチルカルビトール)、ジエチレングリコールモノ-n-プロピルエーテル(n-プロピルカルビトール)、ジエチレングリコールモノ-iso-プロピルエーテル(iso-プロピルカルビトール)、エチレングリコールモノ-n-ブチルエーテル(n-ブチルカルビトール)、ジエチレングリコールモノ-t-ブチルエーテル(t-ブチルカルビトール)等のカルビトール類;トリエチレングリコールモノエチルエーテル(エチルトリグリコール)等のトリグリコール類;プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ-t-ブチルエーテル、プロピレングリコールモノ-n-プロピルエーテル、プロピレングリコールモノ-iso-プロピルエーテル等のプロピレングリコールモノエーテル類;ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ-n-プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ-iso-プロピルエーテル等のジプロピレングリコールモノエーテル類;トリプロピレングリコールモノメチルエーテル等のトリプロピレングリコールモノエーテル類などのグリコールエーテル類;エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のセロソルブカルボキシレート類などのグリコールエーテルカルボキシレート類;エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアルカノールアミン類などが挙げられる。Examples of the solvent (D) include polyhydric alcohols such as diols such as ethylene glycol, propylene glycol, and dipropylene glycol, and triols such as glycerin; sugar alcohols; lower alcohols such as ethanol, methanol, butanol, propanol, and isopropanol; 1-methyl-1-methoxybutanol; cellosolves such as ethylene glycol monomethyl ether (methyl cellosolve), ethylene glycol monoethyl ether (ethyl cellosolve), ethylene glycol mono-iso-propyl ether (iso-propyl cellosolve), ethylene glycol mono-n-butyl ether (n-butyl cellosolve), and ethylene glycol mono-t-butyl ether (t-butyl cellosolve); diethylene glycol monomethyl ether (methyl carbitol), diethylene glycol monoethyl ether (ethyl carbitol), diethylene glycol mono-n-propyl ether (n-propyl carbitol), diethylene glycol mono-iso-propyl ether (iso-propyl carbitol), ethylene glycol mono-n-butyl ether (n-butyl carbitol), and diethylene glycol mono carbitols such as triethylene glycol mono-t-butyl ether (t-butyl carbitol); triglycols such as triethylene glycol monoethyl ether (ethyl triglycol); propylene glycol monoethers such as propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol mono-t-butyl ether, propylene glycol mono-n-propyl ether, and propylene glycol mono-iso-propyl ether; dipropylene glycol monoethers such as dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol mono-n-propyl ether, and dipropylene glycol mono-iso-propyl ether; glycol ethers such as tripropylene glycol monoethers such as tripropylene glycol monomethyl ether; glycol ether carboxylates such as cellosolve carboxylates such as ethylene glycol monomethyl ether acetate; and alkanolamines such as ethanolamine, diethanolamine, and triethanolamine.
溶剤(D)は、アルコール性水酸基を有するものを含むことが好ましい。この場合、溶媒(D)は、成分(A)を良好に溶解することができ、その結果、成分(A)による酸化抑制効果をより向上させることができる。また、アルコール性水酸基を有する溶剤(D)は、加熱硬化時に還元性を示すため、成分(A)による酸化抑制効果をさらに向上させることができる。It is preferable that the solvent (D) contains one having an alcoholic hydroxyl group. In this case, the solvent (D) can dissolve the component (A) well, and as a result, the oxidation inhibitory effect of the component (A) can be further improved. In addition, the solvent (D) having an alcoholic hydroxyl group exhibits reducing properties when cured by heating, and therefore the oxidation inhibitory effect of the component (A) can be further improved.
溶剤(D)は、タンニン酸の溶解性、印刷適正等の観点から、低級アルコール類及びグリコールエーテル類からなる群より選択される少なくとも一種を含むことが好ましく、メタノール、エタノール及びエチルカルビトールからなる群より選択される少なくとも一種を含むことがより好ましい。From the viewpoints of solubility of tannic acid, printability, etc., it is preferable that the solvent (D) contains at least one selected from the group consisting of lower alcohols and glycol ethers, and it is more preferable that the solvent (D) contains at least one selected from the group consisting of methanol, ethanol, and ethyl carbitol.
溶剤(D)の割合は、導電性ペースト(X)の粘度をより適度に調整する観点から、導電性ペースト(X)に対して、0.1質量%以上10質量%以下であることが好ましく、1質量%以上8質量%以下であることがより好ましく、3質量%以上7質量%以下であることがさらに好ましい。From the viewpoint of adjusting the viscosity of the conductive paste (X) more appropriately, the proportion of the solvent (D) is preferably 0.1% by mass or more and 10% by mass or less, more preferably 1% by mass or more and 8% by mass or less, and even more preferably 3% by mass or more and 7% by mass or less, relative to the conductive paste (X).
[ホウ酸]
ホウ酸としては、オルトホウ酸(H3BO3)以外にも、この縮合物であるメタホウ酸、四ホウ酸等も含まれる。導電性ペースト(X)は、ホウ酸を含有することが好ましい。これにより、導電性ペースト(X)のさらなる低比抵抗値化を実現できる。また、熱硬化性樹脂(C)が水酸基を有する場合、その水酸基とホウ酸とが水素結合を形成することにより、さらなる低比抵抗値化を実現することができる。また、ホウ酸は、成分(A)のフェノール性水酸基とも水素結合を形成するため、熱硬化性樹脂(C)-ホウ酸-タンニン酸のネットワークが形成されることにより、さらに良好な導電性を実現することができる。
[Boric acid]
Boric acid includes not only orthoboric acid (H 3 BO 3 ) but also metaboric acid, tetraboric acid, and the like, which are condensates of orthoboric acid. The conductive paste (X) preferably contains boric acid. This allows the conductive paste (X) to have a further low resistivity. In addition, when the thermosetting resin (C) has a hydroxyl group, the hydroxyl group and boric acid form a hydrogen bond, thereby allowing the conductive paste (X) to have a further low resistivity. In addition, boric acid also forms a hydrogen bond with the phenolic hydroxyl group of the component (A), and thus a network of the thermosetting resin (C)-boric acid-tannic acid is formed, thereby allowing the conductive paste (X) to have a further good conductivity.
ホウ酸の割合は、成分(A)及び熱硬化性樹脂(C)(硬化剤及び硬化促進剤を含む)の合計に対して、1.0質量%以上40質量%以下であることが好ましく、2質量%以上20質量%以下であることがより好ましい。The proportion of boric acid is preferably 1.0% by mass or more and 40% by mass or less, and more preferably 2% by mass or more and 20% by mass or less, based on the total of component (A) and thermosetting resin (C) (including the curing agent and curing accelerator).
ホウ酸の割合は、導電性ペースト(X)に対して、0.1質量%以上4質量%以下であることが好ましく、0.2質量%以上2質量%以下であることがより好ましい。The proportion of boric acid in the conductive paste (X) is preferably 0.1% by mass or more and 4% by mass or less, and more preferably 0.2% by mass or more and 2% by mass or less.
[その他の成分]
導電性ペースト(X)は、その他の成分として、例えば防錆剤、酸化防止剤、密着性付与剤、分散剤、キレート剤、レベリング剤、チクソ調整剤、消泡剤などを含有していてもよい。その他の成分の割合は、導電性ペースト(X)に対して、例えば2質量%以下である。
[Other ingredients]
The conductive paste (X) may contain, as other components, for example, a rust inhibitor, an antioxidant, an adhesion imparting agent, a dispersant, a chelating agent, a leveling agent, a thixotropic agent, an antifoaming agent, etc. The ratio of the other components to the conductive paste (X) is, for example, 2 mass% or less.
(粘度)
導電性ペースト(X)の25℃における粘度は、5.0Pa・s以上200Pa・s以下であることが好ましい。この場合、導電性ペースト(X)は、印刷しやすく、スクリーン印刷の作業性を損なうことがなく、また、良好なパターンを有する配線が形成されやすい。導電性ペースト(X)のチクソ比(Ti値)は、1.0以上3.0以下であることが好ましい。この場合、導電性ペースト(X)は、スクリーン印刷の作業性を損なうことがなく、また、良好なパターンを有する配線が形成されやすい。チクソ比は、25℃、0.5rpmでの粘度と、25℃、5rpmでの粘度との比率で表される(チクソ比=(25℃、0.5rpmでの粘度)/(25℃、5rpmでの粘度))。
(viscosity)
The viscosity of the conductive paste (X) at 25°C is preferably 5.0 Pa·s or more and 200 Pa·s or less. In this case, the conductive paste (X) is easy to print, does not impair the workability of screen printing, and is easy to form wiring having a good pattern. The thixotropic ratio (Ti value) of the conductive paste (X) is preferably 1.0 or more and 3.0 or less. In this case, the conductive paste (X) does not impair the workability of screen printing, and is easy to form wiring having a good pattern. The thixotropic ratio is expressed as the ratio of the viscosity at 25°C and 0.5 rpm to the viscosity at 25°C and 5 rpm (thixotropic ratio = (viscosity at 25°C and 0.5 rpm) / (viscosity at 25°C and 5 rpm)).
<導電膜>
本実施形態の導電膜は、前述の導電性ペースト(X)の硬化物を含む。本実施形態の導電膜は、導電性ペースト(X)から形成されるので、初期の導電性に優れ、かつ優れた導電性を長期にわたって維持することができる。また、導電性ペースト(X)がホウ酸を含有し、かつタンニン酸誘導体がウレタン結合を有する場合、導電膜は、耐折り曲げ性にも優れている。
<Conductive film>
The conductive film of this embodiment includes a cured product of the conductive paste (X). Since the conductive film of this embodiment is formed from the conductive paste (X), it has excellent initial conductivity and can maintain excellent conductivity for a long period of time. In addition, when the conductive paste (X) contains boric acid and the tannic acid derivative has a urethane bond, the conductive film also has excellent bending resistance.
本実施形態の導電膜は、例えばスクリーン印刷法などにより、ガラス板、PETフィルム等の基材上に塗布した後、加熱して硬化させることにより形成される。加熱温度及び加熱時間は、熱硬化性樹脂(C)の種類等に応じて適宜選択されるが、加熱温度は、通常100℃以上250℃以下であり、130℃以上200℃以下であることが好ましい。加熱時間は、通常1分以上5時間以下であり、10分以上1時間以下であることが好ましい。導電膜の形状は、特に限定されず、回路パターン等の平面視線形状又は帯形状の他、円形、四角形等の平面視面形状などが挙げられる。導電膜の厚さは、例えば1μm以上1mm以下であり、5μm以上100μm以下であることが好ましく、10μm以上50μm以下であることがより好ましい。The conductive film of this embodiment is formed by applying the conductive film to a substrate such as a glass plate or a PET film by, for example, a screen printing method, and then heating and curing the conductive film. The heating temperature and heating time are appropriately selected depending on the type of thermosetting resin (C), etc., but the heating temperature is usually 100°C to 250°C, and preferably 130°C to 200°C. The heating time is usually 1 minute to 5 hours, and preferably 10 minutes to 1 hour. The shape of the conductive film is not particularly limited, and examples include a planar line-of-sight shape or band shape such as a circuit pattern, as well as a planar view shape such as a circle or a rectangle. The thickness of the conductive film is, for example, 1 μm to 1 mm, preferably 5 μm to 100 μm, and more preferably 10 μm to 50 μm.
以下、本開示を実施例によって具体的に説明する。 Below, this disclosure is explained in detail using examples.
<タンニン酸誘導体の合成>
還流冷却器、温度計、窒素導入管、及び撹拌機を取り付けた四ツ口フラスコに、タンニン酸(富士化学工業社製、商品名:「タンニン酸」、タンニン酸1分子中の水酸基の総数は25個である)100g、及びメチルエチルケトン100gを入れて混合し溶解させた。得られた溶液にイソシアネート化合物としてのアクリル酸イソシアネートエチル(昭和電工社製、商品名「カレンズAOI」)82gを混合し、60℃で5時間反応させた。得られた溶液からメチルエチルケトンを蒸発、乾燥させ、タンニン酸誘導体(1)を得た。
<Synthesis of tannic acid derivatives>
In a four-neck flask equipped with a reflux condenser, a thermometer, a nitrogen inlet tube, and a stirrer, 100 g of tannic acid (manufactured by Fuji Chemical Industry Co., Ltd., product name: "Tannic Acid", the total number of hydroxyl groups in one molecule of tannic acid is 25) and 100 g of methyl ethyl ketone were added and mixed to dissolve. 82 g of ethyl acrylate isocyanate (manufactured by Showa Denko KK, product name: "Kalends AOI") as an isocyanate compound was mixed into the resulting solution, and the mixture was reacted at 60°C for 5 hours. Methyl ethyl ketone was evaporated from the resulting solution, followed by drying to obtain a tannic acid derivative (1).
同様にして、イソシアネート化合物141gを反応させてタンニン酸誘導体(2)を得、イソシアネート化合物24gを反応させてタンニン酸誘導体(3)を得、イソシアネート化合物160gを反応させてタンニン酸誘導体(4)を得、イソシアネート化合物としてのイソシアン酸ブチル65gを反応させてタンニン酸誘導体(5)を得、シランカップリング剤(東レ・ダウ社製、商品名「Xiameter OFS-6040 Silane」、グリシドキシプロピルトリメトキシシラン)36gを反応させてタンニン酸誘導体(6)を得た。得られたタンニン酸誘導体の重量平均分子量を、下記に示すGPC測定法により測定した。Similarly, tannic acid derivative (2) was obtained by reacting 141 g of an isocyanate compound, tannic acid derivative (3) was obtained by reacting 24 g of an isocyanate compound, tannic acid derivative (4) was obtained by reacting 160 g of an isocyanate compound, tannic acid derivative (5) was obtained by reacting 65 g of butyl isocyanate as an isocyanate compound, and tannic acid derivative (6) was obtained by reacting 36 g of a silane coupling agent (Toray Dow Co., Ltd., product name "Xiameter OFS-6040 Silane", glycidoxypropyltrimethoxysilane). The weight average molecular weight of the obtained tannic acid derivative was measured by the GPC measurement method shown below.
(重量平均分子量の測定)
重量平均分子量は、GPC法により標準ポリスチレン換算で求めた。測定条件を以下に示す。
・装置:島津製作所社製、「Prominence LC-20AD」
・カラム:昭和電工社製、「GPC KF-801,GPC KF-803,GPC KF-805」計3本
・ガードカラム:昭和電工社製、「GPC-KF-G 4A」
・サンプル濃度:タンニン酸又はタンニン酸誘導体の濃度が0.5質量%になるようにテトラヒドロフランで希釈した。
・移動相溶媒:テトラヒドロフラン
・流量:1.0mL/分
・カラム温度:40℃
(Measurement of weight average molecular weight)
The weight average molecular weight was determined by a GPC method using standard polystyrene as the standard. The measurement conditions are shown below.
Equipment: Shimadzu Corporation, "Prominence LC-20AD"
Column: Showa Denko K.K., "GPC KF-801, GPC KF-803, GPC KF-805" (total of 3) Guard column: Showa Denko K.K., "GPC-KF-G 4A"
Sample concentration: The sample was diluted with tetrahydrofuran so that the concentration of tannic acid or a tannic acid derivative was 0.5% by mass.
Mobile phase solvent: tetrahydrofuran Flow rate: 1.0 mL/min Column temperature: 40° C.
下記表1に、合成したタンニン酸誘導体及びタンニン酸の重量平均分子量、タンニン酸誘導体におけるフェノール性水酸基の水素原子の置換率を合わせて示す。Table 1 below shows the weight average molecular weight of the synthesized tannic acid derivatives and tannic acid, as well as the substitution rate of hydrogen atoms of the phenolic hydroxyl groups in the tannic acid derivatives.
<導電性ペーストの調製>
(実施例1)
タンニン酸誘導体(1)0.40g、エポキシ樹脂(DIC社製、EPICLON EXA4816)4.6g、硬化促進剤(四国化成社製、キュアゾール2PHZ-PW)0.02g、及びホウ酸0.5gを配合して、溶剤エチルカルビトール3.0gに溶解させた。得られた樹脂溶液に、銅粒子(福田金属箔粉工業社製、商品名「Cu-HWF-4」)48.0gを配合し、ハイブリッドミキサーで混合した後、ロールミルにより混錬を行い、導電性ペースト1(DP-1)を得た。
<Preparation of Conductive Paste>
Example 1
0.40 g of tannic acid derivative (1), 4.6 g of epoxy resin (EPICLON EXA4816, manufactured by DIC Corporation), 0.02 g of curing accelerator (Curesol 2PHZ-PW, manufactured by Shikoku Kasei Corporation), and 0.5 g of boric acid were mixed and dissolved in 3.0 g of ethyl carbitol solvent. 48.0 g of copper particles (manufactured by Fukuda Metal Foil and Powder Co., Ltd., product name "Cu-HWF-4") were mixed with the obtained resin solution and mixed with a hybrid mixer, and then kneaded with a roll mill to obtain a conductive paste 1 (DP-1).
(実施例2)
ホウ酸を配合しないこと以外は、実施例1と同様にして導電性ペースト2(DP-2)を得た。
Example 2
A conductive paste 2 (DP-2) was obtained in the same manner as in Example 1, except that boric acid was not added.
(実施例3)
タンニン酸誘導体(1)の代わりに、タンニン酸を用いた以外は、実施例1と同様にして導電性ペースト3(DP-3)を得た。
Example 3
Conductive paste 3 (DP-3) was obtained in the same manner as in Example 1, except that tannic acid was used instead of the tannic acid derivative (1).
(実施例4)
タンニン酸誘導体(6)を用いた以外は、実施例1と同様にして導電性ペースト4(DP-4)を得た。
Example 4
A conductive paste 4 (DP-4) was obtained in the same manner as in Example 1, except that the tannic acid derivative (6) was used.
(実施例5)
熱硬化性樹脂として、エポキシ樹脂及び硬化促進剤に代えて、レゾール型フェノール樹脂(明和化成社製、商品名:「MWF-2620」、固形分70質量%)を用いた以外は、実施例2と同様にして導電性ペースト5(DP-5)を得た。
Example 5
A conductive paste 5 (DP-5) was obtained in the same manner as in Example 2, except that a resol-type phenolic resin (manufactured by Meiwa Kasei Co., Ltd., product name: "MWF-2620", solid content 70% by mass) was used as the thermosetting resin instead of the epoxy resin and the curing accelerator.
(実施例6)
タンニン酸誘導体(2)を用いた以外は、実施例1と同様にして導電性ペースト6(DP-6)を得た。
Example 6
A conductive paste 6 (DP-6) was obtained in the same manner as in Example 1, except that the tannic acid derivative (2) was used.
(実施例7)
溶剤をエチルカルビトールアセテートに代えた以外は、実施例1と同様にして導電性ペースト7(DP-7)を得た。
(Example 7)
Conductive paste 7 (DP-7) was obtained in the same manner as in Example 1, except that the solvent was changed to ethyl carbitol acetate.
(実施例8)
タンニン酸誘導体(3)を用いた以外は、実施例1と同様にして導電性ペースト8(DP-8)を得た。
(Example 8)
A conductive paste 8 (DP-8) was obtained in the same manner as in Example 1, except that the tannic acid derivative (3) was used.
(実施例9)
タンニン酸誘導体(4)を用いた以外は、実施例1と同様にして導電性ペースト9(DP-9)を得た。
Example 9
A conductive paste 9 (DP-9) was obtained in the same manner as in Example 1, except that the tannic acid derivative (4) was used.
(実施例10)
タンニン酸誘導体(5)を用いた以外は、実施例1と同様にして導電性ペースト10(DP-10)を得た。
Example 10
A conductive paste 10 (DP-10) was obtained in the same manner as in Example 1, except that the tannic acid derivative (5) was used.
(比較例1)
タンニン酸及びタンニン酸誘導体を添加しなかった以外は、実施例1と同様にして導電性ペースト11(DP-11)を得た。
(Comparative Example 1)
Conductive paste 11 (DP-11) was obtained in the same manner as in Example 1, except that tannic acid and tannic acid derivatives were not added.
[導電性ペーストの評価]
(粘度、Ti値の測定)
実施例1~9及び比較例1で得られた各導電性ペーストの25℃における粘度(5rpm及び0.5rpm)をコーンプレート型粘度計(東機産業社製)にて測定した。また、これらの測定値から、Ti値(=0.5rpmでの粘度/5rpmでの粘度)を求めた。
[Evaluation of Conductive Paste]
(Measurement of Viscosity and Ti Value)
The viscosity (5 rpm and 0.5 rpm) at 25° C. of each of the conductive pastes obtained in Examples 1 to 9 and Comparative Example 1 was measured using a cone-plate type viscometer (manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd.) In addition, the Ti value (=viscosity at 0.5 rpm/viscosity at 5 rpm) was calculated from these measured values.
(銅粉の分散性評価)
得られた導電性ペースト中の銅粉の分散性を評価するため、グラインドゲージ(太佑機材社製、「GM-7470」、0~25μm)を用いて、JIS K5600-2-5(分散度)を参照して、粗粒の確認を行った。
(Evaluation of copper powder dispersibility)
In order to evaluate the dispersibility of the copper powder in the obtained conductive paste, a grind gauge (manufactured by Taiyu Kizai Co., Ltd., "GM-7470", 0 to 25 μm) was used to check the coarse particles with reference to JIS K5600-2-5 (degree of dispersion).
粗粒の確認結果から、銅粉の分散性を以下の基準で評価した。
A:グラインドゲージ判定結果が7.5μm以下であった。
B:グラインドゲージ判定結果が10.0μmであった。
C:グラインドゲージ判定結果が12.5μm以上であった。
Based on the results of confirming the coarse particles, the dispersibility of the copper powder was evaluated according to the following criteria.
A: The grind gauge result was 7.5 μm or less.
B: The grind gauge result was 10.0 μm.
C: The grind gauge judgment result was 12.5 μm or more.
下記表2に、ペースト粘度(Pa・s)(5rpm、0.5rpm)の測定値及びTi値、並びに銅粉の分散性の評価結果について合わせて示す。Table 2 below shows the measured paste viscosity (Pa·s) (5 rpm, 0.5 rpm), Ti value, and evaluation results of copper powder dispersibility.
<導電膜の形成>
前記得られた導電性ペースト1~11(DP-1~DP-11)をそれぞれ、スクリーン印刷法により、PETフィルム上に、幅1mm、長さ50mm、厚さ20μmの帯状の配線形状に塗布した後、150℃で30分間加熱して硬化させ、導電膜1~11(DM-1~11)を有する導電膜付き基材1~11を得た。
<Formation of Conductive Film>
The obtained conductive pastes 1 to 11 (DP-1 to DP-11) were each applied to a PET film by a screen printing method in the form of a strip-shaped wiring having a width of 1 mm, a length of 50 mm, and a thickness of 20 μm, and then heated at 150° C. for 30 minutes to be cured, thereby obtaining substrates 1 to 11 with conductive films having conductive films 1 to 11 (DM-1 to 11).
[導電膜の評価]
(導電膜の抵抗値の測定)
得られた導電膜1~11(DM-1~DM-11)の抵抗値(Ω)を、四探針抵抗測定値計(日置社製、RESISTANCE METER RM3544-01)を用いて測定した。
[Evaluation of Conductive Film]
(Measurement of the resistance value of the conductive film)
The resistance values (Ω) of the obtained conductive films 1 to 11 (DM-1 to DM-11) were measured using a four-probe resistance measuring meter (RESISTANCE METER RM3544-01, manufactured by Hioki Corporation).
(耐久性試験)
導電膜付き基材1~11について、高温高湿の環境下での耐久性試験を行った。すなわち、導電膜1~11(DM-1~DM-11)付き基材を、85℃、85%RHの高温高湿とした槽内で100時間保持した後、導電膜1~11(DM-1~DM-11)の抵抗値を測定し、耐久性試験後比抵抗値を算出した。
(Durability test)
A durability test was carried out under a high temperature and high humidity environment for the substrates with conductive film 1 to 11. That is, the substrates with conductive films 1 to 11 (DM-1 to DM-11) were held in a high temperature and high humidity chamber at 85° C. and 85% RH for 100 hours, and then the resistance values of the conductive films 1 to 11 (DM-1 to DM-11) were measured and the specific resistance values after the durability test were calculated.
(耐折り曲げ性評価)
得られた導電膜1~11(DM-1~DM-11)を、折り曲げ試験機を用い、2mmΦの鉄芯に巻き付けて折り曲げ、折り曲げを戻した後に、比抵抗値を測定した。耐折り曲げ性を、以下の基準により評価した。
S:折り曲げ前後の比抵抗値の上昇率が20%以下である。
A:折り曲げ前後の比抵抗値の上昇率が20%超40%以下である。
B:折り曲げ前後の比抵抗値の上昇率が40%超100%以下である。
C:折り曲げ前後の比抵抗値の上昇率が100%超である。
(Evaluation of bending resistance)
The obtained conductive films 1 to 11 (DM-1 to DM-11) were wrapped around a 2 mmΦ iron core using a bending tester, bent, and then the resistivity was measured after unfolding. The bending resistance was evaluated according to the following criteria.
S: The increase in resistivity before and after bending is 20% or less.
A: The rate of increase in resistivity before and after bending is more than 20% and 40% or less.
B: The rate of increase in resistivity before and after bending is more than 40% and 100% or less.
C: The increase in resistivity before and after bending is more than 100%.
下記表3に、導電膜の抵抗値(Ω)、導電膜の膜厚(μm)、抵抗値と膜厚から算出される比抵抗値(体積抵抗率)(μΩ・cm)、耐久性試験後比抵抗値(μΩ・cm)、耐久性試験変化率(=(耐久性試験後比抵抗値/耐久性試験前比抵抗値-1)×100(%))、及び耐折り曲げ性の評価結果について合わせて示す。Table 3 below shows the resistance value (Ω) of the conductive film, the film thickness (μm), the resistivity (volume resistivity) (μΩ·cm) calculated from the resistance value and film thickness, the resistivity value after the durability test (μΩ·cm), the rate of change after the durability test (= (resistivity value after durability test/resistivity value before durability test-1)×100(%)), and the evaluation results of bending resistance.
表2及び表3の結果から分かるように、実施例の導電性ペーストによれば、形成した導電膜が、初期の導電性に優れ、かつ優れた導電性を長期にわたって維持することができる。特に、実施例1~5の導電性ペーストは銅粉の分散性に優れ、実施例1、3、4及び5においては特に、約100μΩ・cm程度の低い比抵抗値を有し、かつ優れた導電膜を得ることができる。さらに、置換率10~65%のタンニン酸誘導体を使用した実施例1、2、4、5、6、7、8及び10においては耐久性に優れた導電膜を得ることができる。比較例1の導電性ペーストは銅粉の分散性が悪く、導電膜の比抵抗値が初期から高く、導電性ペースト調製の工程で酸化されていると考えられ、また、耐湿試験でも比抵抗値が上昇している。As can be seen from the results of Tables 2 and 3, the conductive pastes of the examples form conductive films that are excellent in initial conductivity and can maintain excellent conductivity for a long period of time. In particular, the conductive pastes of Examples 1 to 5 have excellent copper powder dispersibility, and Examples 1, 3, 4, and 5 in particular have low resistivity values of about 100 μΩ·cm, and excellent conductive films can be obtained. Furthermore, in Examples 1, 2, 4, 5, 6, 7, 8, and 10, which use tannic acid derivatives with substitution rates of 10 to 65%, conductive films with excellent durability can be obtained. The conductive paste of Comparative Example 1 has poor copper powder dispersibility, and the resistivity value of the conductive film is high from the beginning, which is thought to be due to oxidation during the conductive paste preparation process, and the resistivity value also increases in the moisture resistance test.
また、表3の結果から分かるように、ウレタン結合を有するタンニン酸誘導体とホウ酸とを組み合わせた導電性ペーストから形成された実施例1、6、7、9及び10の導電膜は、耐折り曲げ性が良好である。 Furthermore, as can be seen from the results in Table 3, the conductive films of Examples 1, 6, 7, 9 and 10 formed from a conductive paste combining a tannic acid derivative having a urethane bond and boric acid have good bending resistance.
フェノール性水酸基の水素原子の置換率が一定値を超えるタンニン酸誘導体を使用した実施例9の導電性ペーストは、初期の比抵抗値が上昇し、銅粉の分散性の低下及び耐久性試験後の比抵抗値の上昇率が高くなっていることから、タンニン酸誘導体の効果が低下していると考えられる。実施例7の導電性ペーストは、水酸基を有する溶剤を使用していないため、ペースト作成時のタンニン酸誘導体の防錆効果が低下していると考えられる。The conductive paste of Example 9, which uses a tannic acid derivative in which the substitution rate of hydrogen atoms in phenolic hydroxyl groups exceeds a certain value, shows an increase in the initial resistivity, a decrease in the dispersibility of copper powder, and a high rate of increase in resistivity after durability testing, which suggests that the effect of the tannic acid derivative is reduced. The conductive paste of Example 7 does not use a solvent with a hydroxyl group, which suggests that the rust-preventive effect of the tannic acid derivative is reduced when the paste is made.
(まとめ)
以上から明らかなように、本開示に係る第一の態様の導電性ペーストは、タンニン酸及びタンニン酸誘導体の少なくとも一方(A)と、銅粉(B)と、熱硬化性樹脂(C)と、溶剤(D)とを含有する。
(summary)
As is apparent from the above, the conductive paste of the first aspect according to the present disclosure contains at least one of tannic acid and a tannic acid derivative (A), copper powder (B), a thermosetting resin (C), and a solvent (D).
第一の態様によれば、導電性ペーストは、初期の導電性に優れ、この優れた導電性を長期にわたって維持することができる。According to the first aspect, the conductive paste has excellent initial conductivity and can maintain this excellent conductivity for a long period of time.
第二の態様の導電性ペーストは、第一の態様において、前記(A)成分がタンニン酸誘導体を含み、前記タンニン酸誘導体がタンニン酸の一部のフェノール性水酸基中の水素原子が置換基で置換されたものであり、その置換率が10%以上65%以下である。The conductive paste of the second embodiment is the first embodiment, in which the (A) component contains a tannic acid derivative, and the tannic acid derivative is a tannic acid derivative in which hydrogen atoms in some of the phenolic hydroxyl groups of tannic acid are replaced with substituents, and the replacement rate is 10% or more and 65% or less.
第二の態様によれば、導電性ペーストの経時的に酸化を抑制する効果をより高めることができ、特に、耐湿熱性試験において、比抵抗性の上昇をより抑制することができ、耐湿熱性をより効果的に向上させることができる。 According to the second aspect, the effect of suppressing oxidation of the conductive paste over time can be further enhanced, and in particular, in a moist heat resistance test, the increase in resistivity can be further suppressed, and moist heat resistance can be more effectively improved.
第三の態様の導電性ペーストは、第一の態様において、前記(A)成分がタンニン酸誘導体を含み、前記タンニン酸誘導体がタンニン酸の一部又は全部のフェノール性水酸基がイソシアネート基を有する化合物との反応によりウレタン結合を形成したものである。The third aspect of the conductive paste is the first aspect, in which the component (A) contains a tannic acid derivative, and the tannic acid derivative forms a urethane bond by reacting some or all of the phenolic hydroxyl groups of the tannic acid with a compound having an isocyanate group.
第三の態様によれば、経時的に酸化を抑制する効果がより大きくなり、特に、耐湿熱性試験において、比抵抗性の上昇をより抑制することができ、また、タンニン酸誘導体にウレタン結合を導入することにより、導電性ペーストから形成した導電膜の柔軟性がより高くなるため、フィルム基材等のフレキシブル基材への適用が期待される。 According to the third aspect, the effect of inhibiting oxidation over time is greater, and in particular, the increase in resistivity can be further inhibited in moist heat resistance tests. Furthermore, by introducing urethane bonds into the tannic acid derivative, the flexibility of the conductive film formed from the conductive paste is increased, which is expected to enable application to flexible substrates such as film substrates.
第四の態様の導電性ペーストは、第一から第三のいずれか一つの態様において、ホウ酸をさらに含有する。The conductive paste of the fourth aspect, in any one of the first to third aspects, further contains boric acid.
第四の態様によれば、導電性ペーストのさらなる低比抵抗値化を実現できる。また、熱硬化性樹脂(C)が水酸基を有する場合、その水酸基とホウ酸とが水素結合を形成することにより、さらなる低比抵抗値化を実現することができる。また、ホウ酸は、成分(A)のフェノール性水酸基とも水素結合を形成するため、熱硬化性樹脂(C)-ホウ酸-タンニン酸のネットワークが形成されることにより、さらに良好な導電性を実現することができる。 According to the fourth aspect, it is possible to achieve a further reduction in the resistivity of the conductive paste. Furthermore, when the thermosetting resin (C) has a hydroxyl group, the hydroxyl group forms a hydrogen bond with boric acid, thereby achieving a further reduction in the resistivity. Furthermore, since boric acid also forms a hydrogen bond with the phenolic hydroxyl group of component (A), a network of thermosetting resin (C)-boric acid-tannic acid is formed, thereby achieving even better conductivity.
第五の態様の導電性ペーストは、第一から第四のいずれか一つの態様において、前記溶剤(D)がアルコール性水酸基を有する。The fifth aspect of the conductive paste is any one of the first to fourth aspects, in which the solvent (D) has an alcoholic hydroxyl group.
第五の態様によれば、溶剤(D)が成分(A)を良好に溶解することができるので、成分(A)による酸化抑制効果をより向上させることができる。また、アルコール性水酸基を有する溶剤(D)は、加熱硬化時に還元性を示すため、成分(A)による酸化抑制効果をさらに向上させることができる。According to the fifth aspect, the solvent (D) can dissolve the component (A) well, so that the oxidation inhibitory effect of the component (A) can be further improved. In addition, the solvent (D) having an alcoholic hydroxyl group exhibits reducing properties when cured by heating, so that the oxidation inhibitory effect of the component (A) can be further improved.
第六の態様の導電性ペーストは、第一から第五のいずれか一つの態様において、前記熱硬化性樹脂(C)がフェノール性水酸基を有する。The sixth aspect of the conductive paste is any one of the first to fifth aspects, in which the thermosetting resin (C) has a phenolic hydroxyl group.
第六の態様によれば、熱硬化性樹脂(C)の熱硬化による硬化収縮をより大きくすることができ、その結果、導電性ペーストの導電性をより向上させることができる。According to the sixth aspect, the cure shrinkage due to thermal curing of the thermosetting resin (C) can be made larger, and as a result, the conductivity of the conductive paste can be further improved.
第七の態様の導電膜は、第一から第六のいずれか一つの態様の導電性ペーストの硬化物を含む。The conductive film of the seventh aspect includes a hardened product of a conductive paste of any one of the first to sixth aspects.
第七の態様によれば、導電膜は、初期の導電性に優れ、かつ優れた導電性を長期にわたって維持することができる。 According to the seventh aspect, the conductive film has excellent initial conductivity and can maintain excellent conductivity for a long period of time.
本開示に係る導電性ペーストによれば、不活性ガス等を必要とする特別な設備を用いることを要せずに、熱硬化により、初期の導電性に優れ、耐湿性に優れ、かつ長期にわたってこの優れた導電性を維持することが可能な導電膜を形成することが可能となる。 The conductive paste disclosed herein makes it possible to form a conductive film that has excellent initial conductivity, excellent moisture resistance, and is capable of maintaining this excellent conductivity for a long period of time through thermal curing, without the need for special equipment that requires inert gas or the like.
Claims (6)
前記タンニン酸誘導体(A)がタンニン酸の一部のフェノール性水酸基中の水素原子が置換基で置換されたものであり、その置換率が10%以上65%以下である導電性ペースト。 The composition contains a tannic acid derivative ( A), copper powder (B), a thermosetting resin (C), and a solvent (D) ,
The conductive paste is characterized in that the tannic acid derivative (A) is a tannic acid in which some of the hydrogen atoms in the phenolic hydroxyl groups are substituted with substituents, and the substitution rate is 10% or more and 65% or less .
前記タンニン酸誘導体(A)がタンニン酸の一部又は全部のフェノール性水酸基がイソシアネート基を有する化合物との反応によりウレタン結合を形成したものである導電性ペースト。The conductive paste is one in which the tannic acid derivative (A) is obtained by reacting a part or all of the phenolic hydroxyl groups of tannic acid with a compound having an isocyanate group to form a urethane bond.
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