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JP7567156B2 - Workpiece dividing device - Google Patents
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Description

本発明はワーク分割装置に係り、特にワークのダイシング加工後にダイシングテープを拡張してワークを個々のチップに分割するワーク分割装置に関する。 The present invention relates to a workpiece dividing device, and in particular to a workpiece dividing device that expands a dicing tape after dicing the workpiece to divide the workpiece into individual chips.

従来、半導体チップの製造にあたり、例えば、予めレーザ照射等によりその内部に分断予定ラインが形成された半導体ウェーハをダイシングテープに貼付して、このダイシングテープを拡張(エキスパンド)することにより、半導体ウェーハを個々のチップに分割するワーク分割装置が知られている(例えば、特許文献1参照)。 Conventionally, in the manufacture of semiconductor chips, a workpiece dividing device is known that divides a semiconductor wafer into individual chips by, for example, attaching the semiconductor wafer, inside which a dividing line has been formed in advance by laser irradiation or the like, to a dicing tape and expanding the dicing tape (see, for example, Patent Document 1).

ダイシングテープのうちワーク分割装置によって拡張された部分は、ワーク分割後においても拡張して弛んだ状態のままである。このような状態でワークを搬送した場合、ダイシングテープ上で個片化されたチップ同士が互いに接触したり、過度の曲げ応力を受けたりすることがある。 The portion of the dicing tape that is expanded by the workpiece dividing device remains in an expanded and loose state even after the workpiece is divided. If the workpiece is transported in this state, the individual chips on the dicing tape may come into contact with each other or may be subjected to excessive bending stress.

そこで、特許文献1のワーク分割装置は、上記の問題を解消するために、拡張によって弛んだダイシングテープを選択的に加熱して再度緊張させる選択的加熱手段を備えている。また、上記のワーク分割装置では、選択的加熱手段の一例として、ハロゲンランプヒータが採用されている。 Therefore, in order to solve the above problem, the workpiece dividing device of Patent Document 1 is equipped with a selective heating means that selectively heats the dicing tape that has become loose due to expansion and re-tensions it. In addition, the above-mentioned workpiece dividing device employs a halogen lamp heater as an example of the selective heating means.

特開2017-123476号公報JP 2017-123476 A

しかしながら、特許文献1のワーク分割装置では、以下の問題が発生する。 However, the workpiece dividing device in Patent Document 1 has the following problems:

すなわち、上記の選択的加熱手段として、ハロゲンランプヒータを採用した場合であって、ダイシングテープとして赤外光の透過率が高いものが採用された場合、ハロゲンランプヒータからの熱を弛んだ部分に十分に伝えることができず、弛んだ部分を効率よく加熱することができない場合がある。このように、特許文献1のワーク分割装置では、弛んだ部分を効率よく加熱することができない場合があるので、弛んだ部分を確実に緊張させることができない場合がある。 In other words, when a halogen lamp heater is used as the selective heating means and a dicing tape with high infrared light transmittance is used, the heat from the halogen lamp heater may not be sufficiently transferred to the loosened portion, and the loosened portion may not be heated efficiently. In this way, the workpiece dividing device of Patent Document 1 may not be able to heat the loosened portion efficiently, and therefore may not be able to reliably tension the loosened portion.

本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであり、ダイシングテープの弛んだ部分を効率よく加熱して確実に緊張させることができるワーク分割装置を提供することを目的とする。 The present invention was made in consideration of these circumstances, and aims to provide a workpiece dividing device that can efficiently heat loosened parts of the dicing tape and reliably tension them.

本発明のワーク分割装置は、本発明の目的を達成するために、ダイシングテープをエキスパンドし、ダイシングテープに貼付されたワークを個々のチップに分割するワーク分割装置において、ダイシングテープをエキスパンドするエキスパンド手段と、エキスパンドによりダイシングテープの弛んだ部分を加熱する加熱手段と、を備え、加熱手段は、弛んだ部分に向けて赤外光を照射する光照射手段と、弛んだ部分を挟んで光照射手段と対向配置され、弛んだ部分を透過した赤外光を弛んだ部分に向けて反射する光反射手段と、を有する。 In order to achieve the object of the present invention, the workpiece dividing device of the present invention expands a dicing tape and divides a workpiece attached to the dicing tape into individual chips. The workpiece dividing device includes an expanding means for expanding the dicing tape and a heating means for heating the slackened portion of the dicing tape due to the expansion. The heating means includes a light irradiating means for irradiating infrared light toward the slackened portion, and a light reflecting means arranged opposite the light irradiating means across the slackened portion, and for reflecting the infrared light that has passed through the slackened portion toward the slackened portion.

本発明の一形態によれば、光照射手段は、赤外光を出射する光源と、光源から出射された赤外光を弛んだ部分に照射させる光学部材と、を有し、光反射手段は、凹面鏡を含むことが好ましい。 According to one embodiment of the present invention, the light irradiating means has a light source that emits infrared light and an optical member that irradiates the slackened portion with the infrared light emitted from the light source, and the light reflecting means preferably includes a concave mirror.

本発明の一形態によれば、光照射手段は、赤外光を出射する光源と、光源から出射された赤外光を弛んだ部分に照射させる光学部材と、を有し、光反射手段は、ワークの外周部に沿う円環状に対応して形成された半円管形状に構成され、光照射手段は、リフレクタ部材を有し、リフレクタ部材は、光反射手段で反射した赤外光を光源に向けて反射する反射面を含むことが好ましい。 According to one embodiment of the present invention, the light irradiating means has a light source that emits infrared light and an optical member that irradiates the slackened portion with the infrared light emitted from the light source, the light reflecting means is configured in a semicircular tube shape formed to correspond to the annular shape along the outer periphery of the work, and the light irradiating means has a reflector member, and the reflector member preferably includes a reflective surface that reflects the infrared light reflected by the light reflecting means toward the light source.

本発明の一形態によれば、リフレクタ部材は、光反射手段で反射した赤外光を内部に取り込む開口部と、開口部から取り込んだ赤外光を光源に向けて反射する反射面としての内周鏡面と、を有する中空の円錐台形状に構成され、開口部は、円環状に対応した方向の開口幅が他の方向に沿った開口幅よりも長い、ことが好ましい。 According to one embodiment of the present invention, the reflector member is configured in a hollow truncated cone shape having an opening for taking in the infrared light reflected by the light reflecting means and an inner mirror surface as a reflective surface for reflecting the infrared light taken in from the opening toward the light source, and it is preferable that the opening width in the direction corresponding to the annular shape is longer than the opening width in other directions.

本発明によれば、ダイシングテープの弛んだ部分を効率よく加熱して確実に緊張させることができる。 According to the present invention, loosened parts of the dicing tape can be efficiently heated and reliably tensioned.

本発明に係るワーク分割装置の第1実施形態を示す要部断面図FIG. 1 is a cross-sectional view showing a main part of a first embodiment of a workpiece dividing device according to the present invention; 図1に示した光照射部材を含むその近傍の要部拡大図FIG. 2 is an enlarged view of the main part including the light irradiation member shown in FIG. 1 and its vicinity; 図1に示した光照射部材の構成を模式的に示した説明図FIG. 2 is an explanatory diagram showing a schematic configuration of the light irradiation member shown in FIG. 図1に示したワーク分割装置の動作を示すフローチャートA flowchart showing the operation of the work division device shown in FIG. 図1に示したワーク分割装置が拡張動作実行している状態を示す断面図FIG. 2 is a cross-sectional view showing a state in which the work division device shown in FIG. 1 is performing an expanding operation. ウェーハカバーを下降させた状態を示す断面図Cross-sectional view showing the wafer cover lowered ダイシングテープを降下した状態を示す断面図Cross-sectional view showing the state where the dicing tape is lowered 弛んだ部分を加熱装置で加熱している状態を示す断面図A cross-sectional view showing the state in which the loosened portion is being heated by a heating device. 第2実施形態のワーク分割装置の要部斜視図FIG. 13 is a perspective view of a main part of a workpiece dividing device according to a second embodiment; 図9に示した光反射部材の長手軸に沿った断面図10 is a cross-sectional view taken along the longitudinal axis of the light reflecting member shown in FIG. 図9に示した光反射部材の短手軸に沿った断面図10 is a cross-sectional view taken along the short axis of the light reflecting member shown in FIG. 図9に示したリフレクタ部材の構成を示す斜視図FIG. 10 is a perspective view showing a configuration of a reflector member shown in FIG.

以下、添付図面に従って本発明に係るワーク分割装置の実施形態を説明する。なお、本明細書では、同一の構成要素には同一の符号を付すことにより、重複する説明は適宜省略する。 Below, an embodiment of the workpiece dividing device according to the present invention will be described with reference to the attached drawings. Note that in this specification, the same components are given the same reference numerals, and duplicated descriptions will be omitted as appropriate.

〈第1実施形態のワーク分割装置〉
図1は、第1実施形態のワーク分割装置1の要部断面図である。
<Workpiece dividing device of the first embodiment>
FIG. 1 is a cross-sectional view of a main part of a workpiece dividing device 1 according to a first embodiment.

図1に示すように、第1実施形態のワーク分割装置1は、冷凍チャックテーブル10、突上げ用リング12、リング昇降機構14、フレーム固定機構16、ウェーハカバー18、カバー昇降機構20、光照射部材22、ヒータ昇降機構24及び光反射部材26等を備えている。 As shown in FIG. 1, the workpiece dividing device 1 of the first embodiment includes a freezing chuck table 10, a push-up ring 12, a ring lifting mechanism 14, a frame fixing mechanism 16, a wafer cover 18, a cover lifting mechanism 20, a light irradiation member 22, a heater lifting mechanism 24, and a light reflecting member 26.

図1に示すように、冷凍チャックテーブル10の上面には、分割対象の半導体ウェーハWがマウントされたワーク2が載置される。 As shown in FIG. 1, a workpiece 2 on which a semiconductor wafer W to be divided is mounted is placed on the upper surface of the frozen chuck table 10.

ワーク2は、上記の半導体ウェーハWがダイシングテープSを介してフレームFにマウントされることにより構成される。半導体ウェーハWは、予めレーザ照射等によりその内部に分断予定ラインが格子状に形成されたものであり、半導体ウェーハWの下面が、DAF(Die Attach Film)D(以下、DAF(D)と表示する。)を介してダイシングテープSに貼付されている。ここで、半導体ウェーハWの厚さは、例えば50μm程度であり、DAF(D)及びダイシングテープSの厚さは、それぞれ数μmから100μm程度である。また、半導体ウェーハWの基材としては、シリコーン製のものを例示することができ、ダイシングテープS及びDAF(D)としては、PO(Poly Olefine)製又はPVC(polyvinyl chloride)製のものを例示することができる。また、本例のダイシングテープSは、赤外光の透過率が高いものが採用されている。 The workpiece 2 is constructed by mounting the semiconductor wafer W on the frame F via the dicing tape S. The semiconductor wafer W has a grid-like dividing line formed in advance inside it by laser irradiation or the like, and the underside of the semiconductor wafer W is attached to the dicing tape S via a DAF (Die Attach Film) D (hereinafter referred to as DAF (D)). Here, the thickness of the semiconductor wafer W is, for example, about 50 μm, and the thicknesses of the DAF (D) and the dicing tape S are each about several μm to 100 μm. In addition, the substrate of the semiconductor wafer W can be made of silicone, and the dicing tape S and the DAF (D) can be made of PO (Poly Olefine) or PVC (Polyvinyl Chloride). In addition, the dicing tape S in this example has a high infrared light transmittance.

冷凍チャックテーブル10は、ダイシングテープSとDAF(D)とを介してウェーハWの下面を真空吸着する。また、冷凍チャックテーブル10は、ダイシングテープSを介して熱伝達によりDAF(D)を冷却する。その冷却温度は、0℃以下、例えば-5℃から-10℃程度であることが好ましい。これにより、常温で粘性の高いDAF(D)は、低温になることで脆性化する。このようにDAF(D)を脆性化することにより、DAF(D)の分断性が向上するので、ダイシングテープSを拡張(エキスパンド)したときに、半導体ウェーハWが分割されると同時にDAF(D)が分断される(図5参照)。なお、冷凍チャックテーブル10を冷凍にする方式としては、冷凍チャックテーブル10の内部に冷媒を供給して冷凍チャックテーブル10の全体を冷却する方式であってもよく、ペルチェ効果を利用して冷凍チャックテーブル10の上面のみを冷却する方式であってもよい。 The frozen chuck table 10 vacuum-adsorbs the lower surface of the wafer W through the dicing tape S and the DAF (D). The frozen chuck table 10 also cools the DAF (D) by heat transfer through the dicing tape S. The cooling temperature is preferably 0°C or lower, for example, about -5°C to -10°C. As a result, the DAF (D), which has high viscosity at room temperature, becomes brittle at low temperatures. By making the DAF (D) brittle in this way, the divisibility of the DAF (D) is improved, so that when the dicing tape S is expanded, the semiconductor wafer W is divided and the DAF (D) is simultaneously divided (see FIG. 5). The method of freezing the frozen chuck table 10 may be a method of supplying a refrigerant to the inside of the frozen chuck table 10 to cool the entire frozen chuck table 10, or a method of cooling only the upper surface of the frozen chuck table 10 by utilizing the Peltier effect.

突上げ用リング12は、冷凍チャックテーブル10の周りを囲むように配置され、リング昇降機構14によって昇降動作される。突上げリング12の上部には、ダイシングテープSとの間の摩擦力を低減するための複数のローラ28が所定の間隔をもって設けられている。この突上げ用リング12は、エキスパンド手段として機能する。なお、図1では、突上げ用リング12は、下降位置(待機位置)に位置されており、ダイシングテープSを拡張する際にはリング昇降機構14によって上昇される(図5参照)。 The push-up ring 12 is arranged to surround the freezing chuck table 10, and is raised and lowered by a ring lifting mechanism 14. A plurality of rollers 28 are provided at a predetermined interval on the upper portion of the push-up ring 12 to reduce the frictional force between the push-up ring 12 and the dicing tape S. This push-up ring 12 functions as an expanding means. In FIG. 1, the push-up ring 12 is positioned in a lowered position (standby position), and is raised by the ring lifting mechanism 14 when expanding the dicing tape S (see FIG. 5).

フレーム固定機構16は、ワーク2のフレームFの外周部を固定する機能を備えている。ワークWは、フレーム固定機構16にフレームFが固定された場合に、ダイシングテープSの下面が冷凍チャックテーブル10の上面に接触するように配置される。 The frame fixing mechanism 16 has the function of fixing the outer periphery of the frame F of the workpiece 2. When the frame F is fixed to the frame fixing mechanism 16, the workpiece W is positioned so that the lower surface of the dicing tape S contacts the upper surface of the frozen chuck table 10.

ウェーハカバー18は、有底の高さの低い円筒形状をしており、底板18aと側板18bとからなり、底板18aは半導体ウェーハWの直径よりもその直径が大きく形成されている。また、ウェーハカバー18は、カバー昇降機構20によって昇降動作され、下降した位置において、半導体ウェーハWを覆うように構成される(図6参照)。また、側板18bの下端面18cは、上昇した突上げ用リング12の上端面12aにDAF(D)とダイシングテープSとローラ28とを介して突き合わされる(図6参照)。 The wafer cover 18 has a low cylindrical shape with a bottom, and is made up of a bottom plate 18a and a side plate 18b, with the bottom plate 18a having a diameter larger than that of the semiconductor wafer W. The wafer cover 18 is raised and lowered by a cover lifting mechanism 20, and is configured to cover the semiconductor wafer W in the lowered position (see FIG. 6). The lower end surface 18c of the side plate 18b is butted against the upper end surface 12a of the raised push-up ring 12 via the DAF (D), dicing tape S, and roller 28 (see FIG. 6).

次に、光照射部材22について説明する。 Next, we will explain the light irradiation member 22.

図1に示すように、光照射部材22は、ウェーハカバー18の外側でワーク2の直径方向の対称的な位置に配置され、ヒータ昇降機構24によって昇降動作される。詳しくは後述するように、光照射部材22は、下降した位置においてダイシングテープSの周辺部、すなわち、拡張によって弛んだ部分Eを選択的に加熱するように構成されている(図7参照)。この光照射部材22は、加熱手段を構成する光照射手段として機能する。なお、図1では、光照射部材22は、ワーク2の直径方向の対称的な位置に2台配置されているが、光照射部材22の台数は2台に限定されるものではない。例えば、ワーク2の周囲に90度の間隔で4台、又は45度の間隔で8台配置するようにしてもよく、それ以上であってもよい、また、光照射部材22は、ダイシングテープSの周辺部に沿ったリング状の形状を有していてもよい。 1, the light irradiation members 22 are arranged at symmetrical positions in the diametric direction of the work 2 outside the wafer cover 18, and are raised and lowered by the heater lifting mechanism 24. As will be described in detail later, the light irradiation members 22 are configured to selectively heat the peripheral portion of the dicing tape S, i.e., the portion E that has loosened due to expansion, when in the lowered position (see FIG. 7). This light irradiation member 22 functions as a light irradiation means constituting a heating means. In FIG. 1, two light irradiation members 22 are arranged at symmetrical positions in the diametric direction of the work 2, but the number of light irradiation members 22 is not limited to two. For example, four light irradiation members 22 may be arranged at 90 degree intervals around the work 2, or eight light irradiation members 22 may be arranged at 45 degree intervals, or more. The light irradiation members 22 may also have a ring-shaped shape along the peripheral portion of the dicing tape S.

図2は、光照射部材22を含むその近傍の要部拡大図であり、図3は、光照射部材22と後述する光反射部材26の構成を模式的に示した説明図である。 Figure 2 is an enlarged view of the main parts including the light irradiation member 22 and its vicinity, and Figure 3 is an explanatory diagram showing the schematic configuration of the light irradiation member 22 and the light reflection member 26 described later.

図2では、拡張後の弛んだ部分Eを含むダイシングテープSが示されており、その弛んだ部分Eの上方位置に光照射部材22が配置されている。また、弛んだ部分Eの下方位置には、光反射部材26が配置されており、光照射部材22と光反射部材26とは、弛んだ部分Eを挟んで対向配置されている。なお、上記の弛んだ部分Eとは、ダイシングテープSのうち、半導体ウェーハWの外周部とフレームFの内周部との間に位置するリング状の周辺部を指す。 In FIG. 2, the dicing tape S including the expanded loose portion E is shown, with the light irradiation member 22 disposed above the loose portion E. Also, the light reflection member 26 is disposed below the loose portion E, with the light irradiation member 22 and the light reflection member 26 disposed opposite each other with the loose portion E in between. Note that the loose portion E refers to the ring-shaped peripheral portion of the dicing tape S located between the outer periphery of the semiconductor wafer W and the inner periphery of the frame F.

図3に示すように、光照射部材22は、赤外光を出射する光源30と、光源30から出射された赤外光を集光点Pに集光させる光学部材32と、を有している。この光学部材32は、光源30がその焦点位置f1に装着され、かつ、光源30からの赤外光を集光点Pに集光させる楕円面鏡34を有している。なお、本例の集光点Pの位置は、図2の二点鎖線に示すように、弛んだ部分Eが生じていない拡張前のダイシングテープSの上面(半導体ウェーハW側の面)から上方に2~3mm程度の位置に設定されている。また、光学部材32としては、光源30がその焦点位置f1に装着された放物面鏡と、この放物面鏡によって平行光とされた赤外光を集光点Pに集光させる集光レンズと、を有するものを適用してもよい。 3, the light irradiation member 22 has a light source 30 that emits infrared light and an optical member 32 that focuses the infrared light emitted from the light source 30 at a focusing point P. The optical member 32 has the light source 30 attached at its focal position f1 and an ellipsoidal mirror 34 that focuses the infrared light from the light source 30 at the focusing point P. The position of the focusing point P in this example is set at a position about 2 to 3 mm above the upper surface (the surface on the semiconductor wafer W side) of the dicing tape S before expansion where no loosened portion E occurs, as shown by the two-dot chain line in FIG. 2. In addition, the optical member 32 may be a parabolic mirror attached to the light source 30 at its focal position f1 and a focusing lens that focuses the infrared light collimated by the parabolic mirror at the focusing point P.

上記のように、第1実施形態のワーク分割装置1では、弛んだ部分Eを加熱する加熱手段として、赤外光を集光点Pに集光させるスポットタイプの光照射部材22が採用されている。このようなスポットタイプの光照射部材22を採用することにより、弛んだ部分Eのうち加熱したい部分のみを選択的(局所的)に加熱することができ、それ以外の部分への熱ストレスを最小限に抑制することができる。 As described above, in the workpiece dividing device 1 of the first embodiment, a spot-type light irradiation member 22 that focuses infrared light at a focal point P is used as a heating means for heating the loosened portion E. By using such a spot-type light irradiation member 22, it is possible to selectively (locally) heat only the portion of the loosened portion E that is to be heated, and it is possible to minimize the thermal stress on the other portions.

ここで、光照射部材22のみを使用して弛んだ部分Eを加熱する場合、以下の問題がある。 Here, if the loosened portion E is heated using only the light irradiation member 22, the following problems arise:

すなわち、本例のように、ダイシングテープSとして赤外光の透過率が高いものが採用された場合、光照射部材22からの赤外光による熱を弛んだ部分Eに十分に伝えることができなくなるので、弛んだ部分Eを効率よく加熱することができない場合がある。また、上記の場合において、弛んだ部分Eが光照射部材22の集光点Pから離れるに従って、弛んだ部分Eに光照射部材22からの熱が伝わり難くなるので、弛んだ部分Eを加熱することが難しくなる場合がある。このように、光照射部材22のみを使用した場合、弛んだ部分Eを効率よく加熱することができない場合があるので、弛んだ部分を確実に緊張させることができない場合がある。 That is, when a dicing tape S with high infrared light transmittance is used as in this example, the heat from the infrared light from the light irradiation member 22 cannot be sufficiently transmitted to the loosened portion E, and therefore the loosened portion E may not be heated efficiently. Also, in the above case, as the loosened portion E moves away from the focal point P of the light irradiation member 22, it becomes more difficult for the heat from the light irradiation member 22 to be transmitted to the loosened portion E, and therefore it may become difficult to heat the loosened portion E. In this way, when only the light irradiation member 22 is used, the loosened portion E may not be heated efficiently, and therefore the loosened portion may not be reliably tensioned.

そこで、図1に示す第1実施形態のワーク分割装置1では、上記の問題を解決するために、加熱手段として、上記の光照射部材22に加え、光反射部材26を備えている。この光反射部材26は、加熱手段を構成する光反射手段として機能する。 In order to solve the above problem, the workpiece dividing device 1 of the first embodiment shown in FIG. 1 is provided with a light reflecting member 26 as a heating means in addition to the light irradiating member 22. This light reflecting member 26 functions as a light reflecting means constituting the heating means.

図2に示すように、光照射部材22と光反射部材26とは、弛んだ部分Eを挟んで互いに上下に対向配置されており、光照射部材22は、前述したように弛んだ部分Eに向けて赤外光を出射する。そして、光反射部材26は、弛んだ部分Eを透過した上記の赤外光を弛んだ部分Eに向けて反射するために以下の機能を備えている。 As shown in FIG. 2, the light irradiation member 22 and the light reflection member 26 are arranged vertically facing each other with the loosened portion E in between, and the light irradiation member 22 emits infrared light toward the loosened portion E as described above. The light reflection member 26 has the following functions to reflect the infrared light that has passed through the loosened portion E toward the loosened portion E.

すなわち、光反射部材26は、図3に示すように、上記の機能を有する凹面鏡38を含んでおり、この凹面鏡38によって上記の赤外光を弛んだ部分Eに向けて反射する。また、凹面鏡38は、好ましい態様として、図2及び図3に示すように、凹面鏡38の焦点位置f2が集光点Pに設定されている。なお、第1実施形態で採用される光反射部材26については、光反射部材26の全体が凹面鏡38で構成されているものとして説明する。 That is, as shown in FIG. 3, the light reflecting member 26 includes a concave mirror 38 having the above-mentioned function, and the concave mirror 38 reflects the above-mentioned infrared light toward the slackened portion E. As shown in FIG. 2 and FIG. 3, in a preferred embodiment, the focal position f2 of the concave mirror 38 is set to the light-converging point P. Note that the light reflecting member 26 employed in the first embodiment will be described as being entirely composed of the concave mirror 38.

上記のように構成されたワーク分割装置1では、光照射部材22からの赤外光によって弛んだ部分Eを上方側から加熱することができる。そして、弛んだ部分Eを透過した赤外光は、光反射部材26によって弛んだ部分Eに向けて反射されるので、その反射した赤外光(以下、「戻り赤外光」と言う。)によって弛んだ部分Eを下方側から再加熱することが可能となる。 In the workpiece dividing device 1 configured as described above, the loosened portion E can be heated from above by the infrared light from the light irradiation member 22. The infrared light that passes through the loosened portion E is reflected by the light reflecting member 26 toward the loosened portion E, so that the reflected infrared light (hereinafter referred to as "return infrared light") can reheat the loosened portion E from below.

特に上記のワーク分割装置1では、光反射部材26が、光照射部材22の集光点Pに焦点位置f2をもつ凹面鏡38によって構成されるので、凹面鏡38で反射された戻り赤外光は、図3に示した楕円面鏡34を介して光源30に戻され、その後、光源30から照射される赤外光と共に楕円面鏡34を介して弛んだ部分Eに向けて再度出射される。これにより、光源30から出射された赤外光を、弛んだ部分Eを挟んで凹面鏡38と光源30との間で往復させることが可能となる。したがって、戻り赤外光を拡散させることなく弛んだ部分Eを効率的に加熱することが可能となる。 In particular, in the above-mentioned workpiece dividing device 1, the light reflecting member 26 is composed of a concave mirror 38 having a focal position f2 at the focusing point P of the light irradiating member 22, so that the returning infrared light reflected by the concave mirror 38 is returned to the light source 30 via the ellipsoidal mirror 34 shown in FIG. 3, and then emitted again toward the loosened portion E via the ellipsoidal mirror 34 together with the infrared light irradiated from the light source 30. This makes it possible for the infrared light emitted from the light source 30 to travel back and forth between the concave mirror 38 and the light source 30, sandwiching the loosened portion E between them. Therefore, it becomes possible to efficiently heat the loosened portion E without diffusing the returning infrared light.

以下、図5から図8に示すワーク分割装置1の動作説明図を参照しながら図4に示すフローチャートを説明する。 The flowchart shown in Figure 4 will be explained below with reference to the operation diagrams of the work division device 1 shown in Figures 5 to 8.

まず、図4のステップS100において、ワーク2のフレームFをフレーム固定機構16に固定する(図1参照)。そして、半導体ウェーハWが存在する領域が冷凍チャックテーブル10の上面に位置するようにワーク2を配置する。なお、半導体ウェーハWには、予めレーザ照射等によりその内部に分断予定ラインが格子状に形成されている。 First, in step S100 of FIG. 4, the frame F of the workpiece 2 is fixed to the frame fixing mechanism 16 (see FIG. 1). Then, the workpiece 2 is placed so that the area in which the semiconductor wafer W is present is located on the upper surface of the frozen chuck table 10. Note that the semiconductor wafer W has been previously formed with a grid-like pattern of dividing lines formed therein by laser irradiation or the like.

次に、図4のステップS110において、冷凍チャックテーブル10によってダイシングテープSを真空吸着により吸着して冷凍チャックテーブル10の上面に確実に接触させる。このとき、冷凍チャックテーブル10は低温状態にあるので、この接触により熱伝達でワーク2は冷却される。例えば、DAF(D)は、-5℃から-10℃程度に冷却され、これによりDAF(D)は脆性化し、外力を加えることにより容易に割れるようになる。冷凍チャックテーブル10は、所定時間真空吸着を行い、DAF(D)が上記の所定温度になるまでワーク2の冷却を行う。その後、冷凍チャックテーブル10は、真空吸着を解除する。 Next, in step S110 of FIG. 4, the dicing tape S is vacuum-adsorbed by the frozen chuck table 10, so that it is securely in contact with the top surface of the frozen chuck table 10. At this time, the frozen chuck table 10 is in a low-temperature state, so this contact cools the workpiece 2 through heat transfer. For example, the DAF (D) is cooled to about -5°C to -10°C, which makes the DAF (D) brittle and makes it easy to break when an external force is applied. The frozen chuck table 10 performs vacuum adsorption for a predetermined time, cooling the workpiece 2 until the DAF (D) reaches the above-mentioned predetermined temperature. The frozen chuck table 10 then releases the vacuum adsorption.

次に、図4のステップS120において、図5に示すように、リング昇降機構14によって突上げ用リング12を上昇させて、ダイシングテープSを拡張(エキスパンド)する。 Next, in step S120 of FIG. 4, the push-up ring 12 is raised by the ring lifting mechanism 14 to expand the dicing tape S, as shown in FIG. 5.

これにより、ダイシングテープSがワーク2の中心から放射状に拡張されて半導体ウェーハWが分断予定ラインに沿ってDAF(D)と共に、各チップTに分割される。 As a result, the dicing tape S expands radially from the center of the workpiece 2, and the semiconductor wafer W is divided into each chip T along the intended cutting line together with the DAF (D).

次に、図4のステップS130において、図6に示すように、ウェーハカバー18及び光照射部材22を、それぞれカバー昇降機構20及びヒータ昇降機構24によって下降させ、ウェーハカバー18でワーク2の半導体ウェーハWを被覆する。このとき、図6に示すように、ウェーハカバー18の側板18bの下端面18cと、突上げ用リング12の上端面12aとが、ダイシングテープSを介して突き合わされるので、ウェーハカバー18と突上げ用リング12との間でダイシングテープSが把持される。 Next, in step S130 of FIG. 4, as shown in FIG. 6, the wafer cover 18 and the light irradiation member 22 are lowered by the cover lifting mechanism 20 and the heater lifting mechanism 24, respectively, and the semiconductor wafer W of the workpiece 2 is covered with the wafer cover 18. At this time, as shown in FIG. 6, the lower end surface 18c of the side plate 18b of the wafer cover 18 and the upper end surface 12a of the push-up ring 12 are butted against each other via the dicing tape S, so that the dicing tape S is gripped between the wafer cover 18 and the push-up ring 12.

次に、図4のステップS140において、図7に示すように、ウェーハカバー18と突上げ用リング12との間でダイシングテープSを把持した状態で、ウェーハカバー18と突上げ用リング12を、ダイシングテープSの下面が冷凍チャックテーブル10の上面に接触する位置まで下降させる。これにより、ダイシングテープSのうち、半導体ウェーハWの外周部とフレームFの内周部との間に位置するリング状の周辺部が弛緩し、その周辺部に弛んだ部分Eが発生する。 Next, in step S140 of FIG. 4, as shown in FIG. 7, while the dicing tape S is being held between the wafer cover 18 and the push-up ring 12, the wafer cover 18 and the push-up ring 12 are lowered to a position where the bottom surface of the dicing tape S contacts the top surface of the frozen chuck table 10. This causes the ring-shaped peripheral portion of the dicing tape S located between the outer periphery of the semiconductor wafer W and the inner periphery of the frame F to relax, creating a slackened portion E in the peripheral portion.

上記の弛んだ部分Eを弛んだままの状態でワーク2を搬送した場合、ダイシングテープS上で個片化されたチップT同士が互いに接触したり、過度の曲げ応力を受けたりすることがある。このため、後述するように、弛んだ部分Eを加熱して緊張させる工程が必要となる。 If the workpiece 2 is transported while the loosened portion E remains loose, the individual chips T on the dicing tape S may come into contact with each other or may be subjected to excessive bending stress. For this reason, a process of heating and tensioning the loosened portion E is required, as described below.

ここで、上記の弛んだ部分Eは、図7に示すように、下方に向けて凸状に弛んでおり、つまり、光照射部材22の集光点Pから下方に遠ざかる方向に弛んでいる。また、ダイシングテープSは、前述したように赤外光の透過率が高いものが採用されている。すなわち、図7に示す弛んだ部分Eの態様は、光照射部材22のみでは効率よく加熱することが困難な態様の一つとなっている。 As shown in FIG. 7, the loosened portion E is loosened downward in a convex shape, that is, it is loosened in a direction moving downward away from the focal point P of the light irradiation member 22. As described above, the dicing tape S used has a high transmittance for infrared light. In other words, the state of the loosened portion E shown in FIG. 7 is one of the states that is difficult to efficiently heat using only the light irradiation member 22.

そこで、第1実施形態のワーク分割装置1では、図4のステップS150において、図8に示すように、光照射部材22から弛んだ部分Eに赤外光を出射する。 Therefore, in the workpiece dividing device 1 of the first embodiment, in step S150 of FIG. 4, infrared light is emitted from the light irradiation member 22 to the loosened portion E, as shown in FIG. 8.

そうすると、弛んだ部分Eは、まず、光照射部材22からの赤外光によって上方側から加熱される。そして、弛んだ部分Eは、弛んだ部分Eを透過して光反射部材26によって反射された戻り赤外光によって下方側から再度加熱される(図3参照)。つまり、弛んだ部分Eは、光照射部材22からの赤外光だけではなく、光反射部材26からの戻り赤外光によっても加熱される。これにより、加熱することが困難な上記の態様の弛んだ部分Eであっても、弛んだ部分Eは効率よく加熱されていく。そして、弛んだ部分Eは、上記の加熱によって弛みが次第に解消して緊張する。以上で弛んだ部分Eを緊張させる工程が終了する。 In this way, the loosened portion E is first heated from above by the infrared light from the light irradiation member 22. The loosened portion E is then heated again from below by the returning infrared light that passes through the loosened portion E and is reflected by the light reflecting member 26 (see FIG. 3). In other words, the loosened portion E is heated not only by the infrared light from the light irradiation member 22, but also by the returning infrared light from the light reflecting member 26. As a result, even if the loosened portion E is difficult to heat in the above manner, it is efficiently heated. The loosened portion E gradually becomes taut as it is heated as described above. This completes the process of tautening the loosened portion E.

次に、図4のステップS160において、ウェーハカバー18及び光照射部材22を、それぞれカバー昇降機構20及びヒータ昇降機構24によって上昇させると共に、突上げ用リング12をリング昇降機構14によって下降させて、ダイシングテープSの把持を解除する。以上が、第1実施形態のワーク分割装置1の動作である。 Next, in step S160 of FIG. 4, the wafer cover 18 and the light irradiation member 22 are raised by the cover lifting mechanism 20 and the heater lifting mechanism 24, respectively, and the push-up ring 12 is lowered by the ring lifting mechanism 14 to release the grip of the dicing tape S. This completes the operation of the workpiece dividing device 1 of the first embodiment.

第1実施形態のワーク分割装置1によれば、弛んだ部分Eに向けて赤外光を照射する光照射部材22と、弛んだ部分Eを透過した赤外光を弛んだ部分Eに向けて反射する光反射部材26とを、弛んだ部分Eを挟んで互いに対向配置したので、ダイシングテープSの弛んだ部分Eを効率よく加熱して確実に緊張させることができる。 According to the first embodiment of the workpiece dividing device 1, the light irradiating member 22 that irradiates infrared light toward the loosened portion E and the light reflecting member 26 that reflects the infrared light that has passed through the loosened portion E toward the loosened portion E are arranged opposite each other with the loosened portion E in between, so that the loosened portion E of the dicing tape S can be efficiently heated and reliably tensioned.

特に、第1実施形態のワーク分割装置1では、光反射部材26が凹面鏡38によって構成されているので、戻り赤外光を拡散させることなく弛んだ部分Eに反射することができる。これにより、弛んだ部分Eを短時間で効率よく加熱することができる。 In particular, in the workpiece dividing device 1 of the first embodiment, the light reflecting member 26 is configured with a concave mirror 38, so that the returning infrared light can be reflected to the loosened portion E without being diffused. This allows the loosened portion E to be heated efficiently in a short time.

更に、上記の凹面鏡38は、光照射部材22の集光点Pに焦点位置f2が設定されているので、凹面鏡38で反射された戻り赤外光は、図3に示した楕円面鏡34を介して光源30に戻され、その後、光源30から照射される赤外光と共に楕円面鏡34を介して弛んだ部分Eに向けて再度出射される。これにより、光源30から出射された赤外光を、弛んだ部分Eを挟んで凹面鏡38と光源30との間で往復させることが可能となるので、戻り赤外光を拡散させることなく弛んだ部分Eを更に効率的に加熱することが可能となる。このような構成を採用することにより、低出力の光源30であっても採用可能となる。 Furthermore, since the focal position f2 of the concave mirror 38 is set at the focal point P of the light irradiation member 22, the returning infrared light reflected by the concave mirror 38 is returned to the light source 30 via the ellipsoidal mirror 34 shown in FIG. 3, and then is emitted again toward the loosened portion E via the ellipsoidal mirror 34 together with the infrared light emitted from the light source 30. This allows the infrared light emitted from the light source 30 to travel back and forth between the concave mirror 38 and the light source 30, sandwiching the loosened portion E between them, making it possible to heat the loosened portion E more efficiently without diffusing the returning infrared light. By adopting such a configuration, even a low-output light source 30 can be used.

更にまた、光照射部材22と光反射部材26とによって弛んだ部分Eを加熱する場合、光照射部材22を起動させてからその加熱状態が安定した後、光照射部材22と光反射部材26とをウェーハカバー18の周囲に沿って一定の速度で回転させることが好ましい。これにより、弛んだ部分Eの全域を均等に緊張させることが可能となる。この場合、ワーク分割装置1に、光照射部材22をウェーハカバー18の周囲に沿って回転させる照射用駆動機構と、光反射部材26をウェーハカバー18の周囲に沿って回転させる反射用駆動機構とをそれぞれ設け、照射用駆動機構及び反射用駆動機構による光照射部材22と光反射部材26の移動速度を制御する速度制御部を備えることが好ましい。 Furthermore, when the loosened portion E is heated by the light irradiation member 22 and the light reflection member 26, it is preferable to rotate the light irradiation member 22 and the light reflection member 26 at a constant speed along the periphery of the wafer cover 18 after the light irradiation member 22 is activated and the heated state stabilizes. This makes it possible to uniformly tension the entire area of the loosened portion E. In this case, it is preferable to provide the workpiece dividing device 1 with an irradiation drive mechanism that rotates the light irradiation member 22 along the periphery of the wafer cover 18 and a reflection drive mechanism that rotates the light reflection member 26 along the periphery of the wafer cover 18, and a speed control unit that controls the moving speed of the light irradiation member 22 and the light reflection member 26 by the irradiation drive mechanism and the reflection drive mechanism.

なお、第1実施形態のワーク分割装置1では、光反射手段として、凹面鏡38によって構成された光反射部材26を例示したが、これに限定されるものではなく、例えば、平面鏡によって構成された光反射部材を採用してもよい。つまり、弛んだ部分Eを透過した赤外光を弛んだ部分Eに向けて反射可能な光反射部材であれば、光反射手段として適用できる。但し、戻り赤外光の拡散を防止でき、また、戻り赤外光を再利用可能な観点から、凹面鏡38によって構成された光反射部材26を光反射手段として採用することが好ましい。 In the first embodiment of the workpiece dividing device 1, the light reflecting means is exemplified as the light reflecting member 26 formed by the concave mirror 38, but this is not limited thereto, and for example, a light reflecting member formed by a plane mirror may be used. In other words, any light reflecting member that can reflect the infrared light that has passed through the loosened portion E toward the loosened portion E can be used as the light reflecting means. However, from the viewpoint of preventing the diffusion of the returning infrared light and enabling the returning infrared light to be reused, it is preferable to use the light reflecting member 26 formed by the concave mirror 38 as the light reflecting means.

また、第1実施形態のワーク分割装置1では、図2に示すように、拡張前のダイシングテープSの上面から上方に2~3mm程度の位置に集光点Pを設定したが、集光点Pの位置は、上記の位置に限定されず、弛んだ部分Eの付近であればよい。集光点Pに関しては、例えば、拡張によりダイシングテープSの弛みがどの程度生じるかを実験的に求めて、ダイシングテープSの弛んだ部分Eの解消度合い(緊張度合い)と集光点Pの位置との関係から、効率的に加熱が可能と判断される集光点Pの範囲を特定しておき、この範囲に集光点Pが設定されることが好ましい。 In the first embodiment of the workpiece dividing device 1, as shown in FIG. 2, the focal point P is set at a position about 2 to 3 mm above the top surface of the dicing tape S before expansion, but the position of the focal point P is not limited to the above position and may be near the loosened portion E. It is preferable to determine the extent to which the dicing tape S loosens due to expansion through experimentation, for example, and specify the range of the focal point P in which efficient heating is possible based on the relationship between the degree of elimination (degree of tension) of the loosened portion E of the dicing tape S and the position of the focal point P, and set the focal point P within this range.

〈第2実施形態のワーク分割装置〉
図9は、第2実施形態のワーク分割装置50の要部斜視図である。ここで、ワーク分割装置50を説明するに際し、図1から図8に示した第1実施形態のワーク分割装置1と同一若しくは類似する部材については同一の符号を付して説明する。
<Workpiece dividing device according to the second embodiment>
9 is a perspective view of a main part of a work division device 50 of the second embodiment. In describing the work division device 50, the same or similar members as those of the work division device 1 of the first embodiment shown in FIGS. 1 to 8 are denoted by the same reference numerals.

第2実施形態のワーク分割装置50と、第1実施形態のワーク分割装置1との構成の相違点は、ワーク分割装置50の光反射部材52が半円管形状に構成されている点と、ワーク分割装置50の光照射部材22にリフレクタ部材54が備えられている点とにある。それ以外の構成は同一であるので、ここでは説明を適宜省略する。 The difference between the configuration of the work division device 50 of the second embodiment and the work division device 1 of the first embodiment is that the light reflecting member 52 of the work division device 50 is configured in a semicircular tube shape, and that the light irradiation member 22 of the work division device 50 is provided with a reflector member 54. The rest of the configuration is the same, so the description will be omitted here as appropriate.

まず、上記の光反射部材52について説明すると、この光反射部材52は、半導体ウェーハWの外周部に沿う円環状に対応して形成された半円管形状に構成される。すなわち、光反射部材52は、図中一点鎖線で示す円環状の軸(以下、「円環軸」とも言う。)Jに沿って形成されている。ここで、図9において、円環軸Jの中心Qと、円環軸Jと光照射部材22の光軸Lとの交点Rとを結ぶ方向を光反射部材52の幅方向Kという。この場合、幅方向Kに沿った光反射部材52の断面形状は、光照射部材22の集光点Pに曲率中心C(図12参照)をもつ円弧状に形成されている。なお、図9では、複数の光反射部材52が、円環軸Jに沿って間隔をもって配置された配置例が示されている。また、図9では、1個の光照射部材22のみが図示されているが、光照射部材22は、各々の光反射部材52に対応して複数配置されている。 First, the light reflecting member 52 is described. The light reflecting member 52 is configured in a semicircular tube shape formed in correspondence with the annular shape along the outer periphery of the semiconductor wafer W. That is, the light reflecting member 52 is formed along the axis J of the annular shape shown by the dashed line in the figure (hereinafter also referred to as the "annular axis"). Here, in FIG. 9, the direction connecting the center Q of the annular axis J and the intersection R of the annular axis J and the optical axis L of the light irradiation member 22 is called the width direction K of the light reflecting member 52. In this case, the cross-sectional shape of the light reflecting member 52 along the width direction K is formed in an arc shape having a center of curvature C (see FIG. 12) at the light focusing point P of the light irradiation member 22. Note that FIG. 9 shows an example of an arrangement in which multiple light reflecting members 52 are arranged at intervals along the annular axis J. Also, in FIG. 9, only one light irradiation member 22 is shown, but multiple light irradiation members 22 are arranged in correspondence with each light reflecting member 52.

ここで、図10は、図9の円環軸Jに沿った光反射部材52の断面図であって、図9の一点鎖線で示す仮想平面Aに沿った断面図である。また、図11は、幅方向Kに沿った光反射部材52の断面図であって、図9の一点鎖線で示す仮想平面Bに沿った断面図である。なお、仮想平面A、Bは、それぞれ光照射部材22の光軸Lを含む平面である。また、図10及び図11においても、光照射部材22の構成が模式的に示されている。 Here, FIG. 10 is a cross-sectional view of the light reflecting member 52 along the circular axis J in FIG. 9, and is a cross-sectional view along imaginary plane A shown by the dashed line in FIG. 9. Also, FIG. 11 is a cross-sectional view of the light reflecting member 52 along the width direction K, and is a cross-sectional view along imaginary plane B shown by the dashed line in FIG. 9. Note that imaginary planes A and B are planes that each include the optical axis L of the light irradiation member 22. Also, in FIG. 10 and FIG. 11, the configuration of the light irradiation member 22 is shown typically.

図10に示すように、光照射部材22から照射された赤外光のうち、円環軸Jに沿った方向の成分の赤外光成分(以下、「第1赤外光」と言う。)は、光照射部材22から集光点Pに集光される。そして、光反射部材52に入射した第1赤外光は、光反射部材52で反射される。その際、光反射部材52に入射する入射角度に応じて、第1赤外光は戻り赤外光として各種方向に拡散される。一方、図11に示すように、光照射部材22から照射された赤外光のうち、幅方向Kに沿った方向の成分の赤外光成分(以下、「第2赤外光」と言う。)は、光照射部材22から集光点Pに集光される。そして、光反射部材52に入射した第2赤外光は、光反射部材52で反射される。その際、光反射部材52に入射する入射角度に応じて、第2赤外光は戻り赤外光として集光点Pに集光される。 As shown in FIG. 10, among the infrared light irradiated from the light irradiation member 22, the infrared light component of the component in the direction along the circular axis J (hereinafter referred to as "first infrared light") is condensed from the light irradiation member 22 to the condensing point P. Then, the first infrared light incident on the light reflection member 52 is reflected by the light reflection member 52. At that time, the first infrared light is diffused in various directions as return infrared light depending on the incident angle at which it is incident on the light reflection member 52. On the other hand, as shown in FIG. 11, among the infrared light irradiated from the light irradiation member 22, the infrared light component of the component in the direction along the width direction K (hereinafter referred to as "second infrared light") is condensed from the light irradiation member 22 to the condensing point P. Then, the second infrared light incident on the light reflection member 52 is reflected by the light reflection member 52. At that time, the second infrared light is condensed at the condensing point P as return infrared light depending on the incident angle at which it is incident on the light reflection member 52.

上記のように、図11に示した第2赤外光の戻り赤外光は集光点Pに集光するので再利用可能である。これに対し、図10に示した第1赤外光の戻り赤外光のほとんどは、集光点Pに向かう戻り赤外光G(光軸L上に位置する光反射部材52から反射した戻り赤外光)から外れた戻り赤外光(以下、「外れ戻り赤外光D」と言う。)となるので、再利用することができないという問題がある。 As described above, the returning infrared light of the second infrared light shown in FIG. 11 is focused at the focusing point P and can be reused. In contrast, most of the returning infrared light of the first infrared light shown in FIG. 10 is returning infrared light (hereinafter referred to as "diverged returning infrared light D") that deviates from the returning infrared light G (returning infrared light reflected from the light reflecting member 52 located on the optical axis L) that is directed toward the focusing point P, and therefore cannot be reused.

そこで、第2実施形態のワーク分割装置50では、上記の「外れ戻り赤外光D」を再利用するために、光照射部材22にリフレクタ部材54が備えられている。以下、リフレクタ部材54の一例について説明する。 Therefore, in the workpiece dividing device 50 of the second embodiment, a reflector member 54 is provided on the light irradiating member 22 in order to reuse the above-mentioned "lost and returned infrared light D." An example of the reflector member 54 is described below.

図12は、リフレクタ部材54の全体構成を示した斜視図である。 Figure 12 is a perspective view showing the overall configuration of the reflector member 54.

このリフレクタ部材54は、第1赤外光による「外れ戻り赤外光D」を図10に示す光源30に向けて反射する機能を有している。 This reflector member 54 has the function of reflecting the "returned infrared light D" caused by the first infrared light toward the light source 30 shown in FIG. 10.

具体的に説明すると、リフレクタ部材54は、図12に示すように、外周面60と、内周面62と、一端側に形成された楕円形状の開口部64と、他端側に形成された円形状の開口部66と、を有する中空の円錐台形状に構成される。 Specifically, as shown in FIG. 12, the reflector member 54 is configured in a hollow truncated cone shape having an outer peripheral surface 60, an inner peripheral surface 62, an elliptical opening 64 formed at one end, and a circular opening 66 formed at the other end.

また、第2実施形態のワーク分割装置50では、上記のリフレクタ部材54を以下のように配置することにより、「外れ戻り赤外光D」を効果的に取り込むことが可能となる。 In addition, in the workpiece dividing device 50 of the second embodiment, the reflector member 54 is positioned as follows, making it possible to effectively capture the "returned infrared light D."

すなわち、図12に示す楕円形状の開口部64の長軸64Aを、図9に示す円環軸Jに沿って配置し、開口部64の短軸64Bを幅方向Kに沿って配置している。 That is, the long axis 64A of the elliptical opening 64 shown in FIG. 12 is arranged along the circular axis J shown in FIG. 9, and the short axis 64B of the opening 64 is arranged along the width direction K.

上記のリフレクタ部材54は、開口部66の側の端部が光照射部材22に取り付けられることにより光照射部材22に固定され、これによって楕円形状の開口部64が、図9に示すように光反射部材52に対向配置される。この開口部64は、光反射部材52で反射した戻り赤外光をリフレクタ部材54の内部に取り込む開口部として機能する。そして、リフレクタ部材54の内周面62は、内周面62を反射面として機能させるために反射コーティングが施されて内周鏡面として形成されている。この内周面62は、図10に示すように、開口部64から取り込んだ戻り赤外光のうち、上記の「外れ戻り赤外光D」を光源30に向けて反射する反射面を含んでいる。これにより、「外れ戻り赤外光D」は、光源30に戻された後、光源30から照射される赤外光と共に楕円面鏡34を介して再度出射される。なお、上記の反射面とは、「外れ戻り赤外光D」を光源30に向けて直接反射させる反射面、又は「外れ戻り赤外光D」を楕円面鏡34とを介して光源30に向けて反射させる反射面を指す。 The reflector member 54 is fixed to the light irradiation member 22 by attaching the end on the opening 66 side to the light irradiation member 22, and the elliptical opening 64 is disposed opposite the light reflection member 52 as shown in FIG. 9. This opening 64 functions as an opening that takes in the return infrared light reflected by the light reflection member 52 into the reflector member 54. The inner peripheral surface 62 of the reflector member 54 is formed as an inner peripheral mirror surface by applying a reflective coating to make the inner peripheral surface 62 function as a reflective surface. As shown in FIG. 10, the inner peripheral surface 62 includes a reflective surface that reflects the above-mentioned "return infrared light D" of the return infrared light taken in from the opening 64 toward the light source 30. As a result, the "return infrared light D" is returned to the light source 30 and then emitted again via the elliptical mirror 34 together with the infrared light irradiated from the light source 30. The above-mentioned reflective surface refers to a reflective surface that directly reflects the "returned infrared light D" toward the light source 30, or a reflective surface that reflects the "returned infrared light D" toward the light source 30 via the ellipsoidal mirror 34.

したがって、第2実施形態のワーク分割装置50によれば、上記のリフレクタ部材54を光照射部材22に備えることにより、「外れ戻り赤外光D」を再利用することができる。よって、光反射手段として「外れ戻り赤外光D」が発生する半円管形状の光反射部材52を採用したワーク分割装置50であっても、第1実施形態のワーク分割装置1と同様に、弛んだ部分Eを効率よく加熱することが可能となる。 Therefore, according to the workpiece dividing device 50 of the second embodiment, the above-mentioned reflector member 54 is provided on the light irradiating member 22, so that the "lost and returned infrared light D" can be reused. Therefore, even if the workpiece dividing device 50 employs the semicircular tubular light reflecting member 52 that generates the "lost and returned infrared light D" as the light reflecting means, it is possible to efficiently heat the loosened portion E, as with the workpiece dividing device 1 of the first embodiment.

特に第2実施形態のワーク分割装置50によれば、リフレクタ部材54の開口部64の長軸64Aを、円環軸Jに沿って配置しているので、図10に示した「外れた戻り赤外光D」を、開口部64を介して広範囲で取り込むことが可能となる。これにより、上記の「外れ戻り赤外光D」を効果的に取り込むことが可能となるので、弛んだ部分Eをより一層効率よく加熱することが可能となる。 In particular, according to the second embodiment of the workpiece dividing device 50, the long axis 64A of the opening 64 of the reflector member 54 is arranged along the annular axis J, so that the "lost return infrared light D" shown in FIG. 10 can be taken in over a wide area through the opening 64. This makes it possible to effectively take in the above-mentioned "lost return infrared light D," so that the loosened portion E can be heated even more efficiently.

一方、第2実施形態のワーク分割装置50では、図9に示すように、ローラ28に近接した近接位置に光反射部材52が配置されている。 On the other hand, in the workpiece dividing device 50 of the second embodiment, as shown in FIG. 9, a light reflecting member 52 is disposed in close proximity to the roller 28.

具体的に説明すると、光反射部材52の円環軸Jに平行な一対の縁部のうち、ローラ28側に位置する縁部52Cがローラ28の水平方向側方に近接されている。このときのローラ28の位置は、弛んだ部分Eを加熱する図8に示した位置である。 Specifically, of the pair of edges of the light reflecting member 52 parallel to the circular axis J, the edge 52C located on the roller 28 side is brought close to the horizontal side of the roller 28. The position of the roller 28 at this time is the position shown in Figure 8 where the loosened portion E is heated.

図8の位置において、例えば、上記の光反射部材52がローラ28から離間して配置されている場合、又は光反射部材52が存在しない場合、下方側に弛んだ弛み部分Eは、ローラ28に巻き付いてしまう場合があり、この場合、弛み部分Eが更に下方に弛んでしまう。この結果、弛み部分Eが集光点Pから下方側に更に離れてしまうので、弛み部分Eの加熱に影響を与える場合がある。 In the position shown in FIG. 8, for example, if the light reflecting member 52 is positioned away from the roller 28, or if the light reflecting member 52 is not present, the slack portion E that has loosened downward may wrap around the roller 28, in which case the slack portion E will slacken further downward. As a result, the slack portion E will be further away from the focal point P downward, which may affect the heating of the slack portion E.

そこで、第2実施形態のワーク分割装置50では、ローラ28の水平方向側方において、光反射部材52の縁部52Cをローラ28に近接配置したので、弛んだ部分Eは、ローラ28に巻き付く前に縁部52Cに接触する。これにより、弛んだ部分Eがローラ28に巻き付くことを防止することができる。また、例えば、図7に示したように、突上げ用リング12を下降させる最中に弛んだ部分Eがローラ28に巻き付いてしまったとしても、ローラ28に巻き付いた弛んだ部分Eは、突上げ用リング12が下降した図8の位置で、縁部52Cによってローラ28から剥離される。この場合も弛んだ部分Eがローラ28に巻き付くことを防止することができる。 Therefore, in the second embodiment of the workpiece dividing device 50, the edge 52C of the light reflecting member 52 is disposed close to the roller 28 on the horizontal side of the roller 28, so that the loose portion E comes into contact with the edge 52C before wrapping around the roller 28. This makes it possible to prevent the loose portion E from wrapping around the roller 28. Also, for example, as shown in FIG. 7, even if the loose portion E wraps around the roller 28 while the push-up ring 12 is being lowered, the loose portion E that has wrapped around the roller 28 is peeled off from the roller 28 by the edge 52C at the position shown in FIG. 8 where the push-up ring 12 has been lowered. In this case as well, it is possible to prevent the loose portion E from wrapping around the roller 28.

したがって、第2実施形態のワーク分割装置50によれば、ローラ28の水平方向側方において、光反射部材52の縁部52Cをローラ28に近接配置する構成を採用したので、弛んだ部分Eが下方に弛むことを抑制することができ、これにより、弛んだ部分Eを効率よく加熱することが可能となる。ここで、上記の縁部52Cの配置位置に関しては、例えば、拡張によりダイシングテープSの弛みがどの程度生じるかを実験的に求めて、ダイシングテープSの弛んだ部分Eと光反射部材52の縁部52Cの位置との関係から、弛んだ部分Eが下方に弛むことを効果的に抑制可能と判断される上記の縁部52Cの範囲を特定しておき、この範囲に縁部52Cが設定されている。 Therefore, according to the second embodiment of the workpiece dividing device 50, a configuration is adopted in which the edge 52C of the light reflecting member 52 is disposed close to the roller 28 on the horizontal side of the roller 28, so that the slackened portion E can be prevented from slackening downward, and the slackened portion E can be heated efficiently. Here, with regard to the position of the edge 52C, for example, the extent to which the dicing tape S slackens due to expansion is experimentally determined, and the range of the edge 52C is determined to be capable of effectively preventing the slackened portion E from slackening downward from the relationship between the position of the slackened portion E of the dicing tape S and the edge 52C of the light reflecting member 52, and the edge 52C is set within this range.

なお、第2実施形態のワーク分割装置50では、リフレクタ部材54として円錐台形状に構成されたものを例示したが、リフレクタ部材54は、これに限定されるものではなく、上記の「外れ戻り赤外光D」を光源30に向けて反射可能な反射面を含むものであれば適用できる。また、上記のリフレクタ部材54では、開口部64の形状として楕円形状を例示したが、これに限定されるものではない。この開口部64は、円環軸Jに沿う開口幅が他の方向(例えば、幅方向K)に沿った開口幅よりも長い形状の開口部であればよく、例えば長円形又は長方形であってもよい。 In the second embodiment of the workpiece dividing device 50, the reflector member 54 is exemplified as being configured in a truncated cone shape, but the reflector member 54 is not limited to this, and any reflector member including a reflective surface capable of reflecting the above-mentioned "returned infrared light D" toward the light source 30 can be used. In addition, in the above-mentioned reflector member 54, an elliptical shape is exemplified as the shape of the opening 64, but this is not limited. This opening 64 may be an opening whose opening width along the circular axis J is longer than the opening width along other directions (e.g., the width direction K), and may be, for example, an ellipse or a rectangle.

また、第2実施形態のワーク分割装置50では、光反射部材52の配置例として、複数の光反射部材52を半導体ウェーハWの外周部に沿って間隔をもって配置した配置例を示したが、これに限定されるものではない。例えば、上記のような光反射部材52を半導体ウェーハWの外周部全体に沿ったリング形状に構成してもよい。 In addition, in the second embodiment of the workpiece dividing device 50, an example of the arrangement of the light reflecting members 52 is shown in which multiple light reflecting members 52 are arranged at intervals along the outer periphery of the semiconductor wafer W, but the arrangement is not limited to this. For example, the light reflecting member 52 as described above may be configured in a ring shape along the entire outer periphery of the semiconductor wafer W.

また、第1実施形態及び第2実施形態で説明したワーク分割装置1、50は、光照射部材22から照射されて弛んだ部分Eを透過した赤外光を、光反射部材26、52によって弛んだ部分Eの再加熱に利用したので、弛んだ部分Eを透過した赤外光に起因するワーク分割装置1、50の温度上昇を抑制することが可能になる。 In addition, the workpiece dividing device 1, 50 described in the first and second embodiments utilizes the infrared light irradiated from the light irradiating member 22 and transmitted through the loosened portion E to reheat the loosened portion E by the light reflecting member 26, 52, making it possible to suppress the temperature rise of the workpiece dividing device 1, 50 caused by the infrared light transmitted through the loosened portion E.

また、光源30としてハロゲンランプを適用した場合、ハロゲンランプは紫外から可視を含む赤外まで帯域の広い光を照射するものである。この場合、弛み部分Eの加熱に寄与する光は赤外光のみに限定されず、他の帯域の光も赤外光と共に加熱に寄与する。 When a halogen lamp is used as the light source 30, the halogen lamp emits light in a wide band from ultraviolet to infrared, including visible light. In this case, the light that contributes to heating the slack portion E is not limited to infrared light alone, and light in other bands also contributes to heating together with the infrared light.

以上、本発明の実施形態を説明したが、本発明は実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能である。 Although an embodiment of the present invention has been described above, the present invention is not limited to the embodiment, and various modifications are possible without departing from the spirit of the invention.

1…ワーク分割装置、2…ワーク、10…冷凍チャックテーブル、12…突上げ用リング、14…リング昇降機構、16…フレーム固定機構、18…ウェーハカバー、20…カバー昇降機構、22…光照射部材、24…ヒータ昇降機構、26…光反射部材、28…ローラ、30…光源、32…光学部材、34…楕円面鏡、38…凹面鏡、50…ワーク分割装置、52…光反射部材、54…リフレクタ部材、60…外周面、62…内周面、64…開口部、66…開口部 1...workpiece dividing device, 2...workpiece, 10...freezing chuck table, 12...push-up ring, 14...ring lifting mechanism, 16...frame fixing mechanism, 18...wafer cover, 20...cover lifting mechanism, 22...light irradiating member, 24...heater lifting mechanism, 26...light reflecting member, 28...roller, 30...light source, 32...optical member, 34...ellipsoidal mirror, 38...concave mirror, 50...workpiece dividing device, 52...light reflecting member, 54...reflector member, 60...outer peripheral surface, 62...inner peripheral surface, 64...opening, 66...opening

Claims (5)

ダイシングテープをエキスパンドし、前記ダイシングテープに貼付されたワークを個々のチップに分割するワーク分割装置において、
前記ダイシングテープをエキスパンドするエキスパンド手段と、
前記エキスパンドにより前記ダイシングテープの弛んだ部分を加熱する加熱手段と、を備え、
前記加熱手段は、
前記弛んだ部分のみに赤外光を照射する光照射手段と、
前記ダイシングテープを挟んで前記光照射手段と対向配置され、前記弛んだ部分を透過した前記赤外光の少なくとも一部を前記弛んだ部分のみに反射する光反射手段と、
を有する、ワーク分割装置。
A workpiece dividing device that expands a dicing tape and divides a workpiece attached to the dicing tape into individual chips,
an expanding means for expanding the dicing tape;
a heating means for heating the portion of the dicing tape that has been loosened by the expanding,
The heating means is
a light irradiation means for irradiating infrared light only onto the loosened portion;
a light reflecting means disposed opposite the light irradiating means with the dicing tape interposed therebetween, the light reflecting means reflecting at least a portion of the infrared light transmitted through the loosened portion only to the loosened portion;
A workpiece dividing device having the above structure.
前記光照射手段は、
前記赤外光を出射する光源と、
前記光源から出射された前記赤外光を前記弛んだ部分のみ選択的に照射させる光学部材と、を有し、
前記光反射手段は、凹面鏡を含む、
請求項1に記載のワーク分割装置。
The light irradiation means is
A light source that emits the infrared light;
an optical member that selectively irradiates the infrared light emitted from the light source only onto the loosened portion,
The light reflecting means includes a concave mirror.
The workpiece dividing device according to claim 1 .
前記光照射手段は、前記赤外光を前記ダイシングテープから離間した集光点に集光し、The light irradiation means focuses the infrared light at a focusing point spaced apart from the dicing tape,
前記光反射手段は、前記赤外光が前記集光点に集光するように前記弛んだ部分を透過した前記赤外光の少なくとも一部を反射する、the light reflecting means reflects at least a portion of the infrared light that has passed through the loosened portion so that the infrared light is focused at the focusing point;
請求項1又は2に記載のワーク分割装置。The workpiece dividing device according to claim 1 or 2.
前記光照射手段は、
前記赤外光を出射する光源と、
前記光源から出射された前記赤外光を前記弛んだ部分のみ選択的に照射させる光学部材と、を有し、
前記光反射手段は、前記ワークの外周部に沿う円環状に対応して形成された半円管形状に構成され、
前記光照射手段は、リフレクタ部材を有し、
前記リフレクタ部材は、前記光反射手段で反射した前記弛んだ部分を透過した前記赤外光の一部を前記光源に向けて反射する反射面を含む、
請求項1に記載のワーク分割装置。
The light irradiation means is
A light source that emits the infrared light;
an optical member that selectively irradiates the infrared light emitted from the light source only onto the loosened portion,
The light reflecting means is configured in a semicircular tube shape formed in correspondence with a circular ring shape along an outer periphery of the workpiece,
The light irradiation means has a reflector member,
the reflector member includes a reflecting surface that reflects a portion of the infrared light that has been reflected by the light reflecting means and transmitted through the loosened portion toward the light source.
The workpiece dividing device according to claim 1 .
前記リフレクタ部材は、前記光反射手段で反射した前記赤外光の一部を内部に取り込む開口部と、前記開口部から取り込んだ前記赤外光の一部を前記光源に向けて反射する前記反射面としての内周鏡面と、を有する中空の円錐台形状に構成され、
前記開口部は、前記円環状に対応した方向の開口幅が他の方向に沿った開口幅よりも長い、
請求項に記載のワーク分割装置。
the reflector member is configured in a hollow truncated cone shape having an opening for taking in a portion of the infrared light reflected by the light reflecting means, and an inner peripheral mirror surface as the reflecting surface for reflecting a portion of the infrared light taken in from the opening toward the light source,
The opening has a width in a direction corresponding to the annular shape that is longer than a width in other directions.
The workpiece dividing device according to claim 4 .
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