JP7567255B2 - Cured film and laminate, and methods for producing the same - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title description 41
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 151
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 124
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 71
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 53
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 44
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 31
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 claims description 31
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 claims description 23
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 20
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 claims description 15
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 claims description 14
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 claims description 14
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 claims description 13
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 11
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 7
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 2
- 125000002467 phosphate group Chemical group [H]OP(=O)(O[H])O[*] 0.000 claims 2
- -1 alkyl diol Chemical class 0.000 description 120
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 103
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 49
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 49
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 43
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 40
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 38
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 38
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 35
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 31
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 31
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 30
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 27
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 239000000463 material Substances 0.000 description 21
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 20
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 20
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 17
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 15
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 15
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 14
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 14
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 13
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 13
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 13
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 12
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 12
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 12
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 12
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 12
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 11
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 11
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 11
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 11
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 11
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 11
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 10
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 10
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 10
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 10
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 10
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 10
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 9
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 9
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 9
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 9
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 125000003504 2-oxazolinyl group Chemical group O1C(=NCC1)* 0.000 description 8
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 8
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 8
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 8
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 8
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 8
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 8
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 8
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 8
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 8
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 7
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 7
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 7
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 7
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- 239000004970 Chain extender Substances 0.000 description 6
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 6
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 6
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 6
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 6
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 6
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 6
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 6
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N sebacic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 5
- 239000002585 base Substances 0.000 description 5
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 5
- 150000001718 carbodiimides Chemical class 0.000 description 5
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 5
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 5
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 5
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 5
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 5
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 5
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 5
- 235000019422 polyvinyl alcohol Nutrition 0.000 description 5
- YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N propane-1,3-diol Chemical compound OCCCO YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 5
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 4
- 239000005058 Isophorone diisocyanate Substances 0.000 description 4
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 4
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 4
- YIMQCDZDWXUDCA-UHFFFAOYSA-N [4-(hydroxymethyl)cyclohexyl]methanol Chemical compound OCC1CCC(CO)CC1 YIMQCDZDWXUDCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 4
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 4
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 4
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 4
- OSGAYBCDTDRGGQ-UHFFFAOYSA-L calcium sulfate Chemical compound [Ca+2].[O-]S([O-])(=O)=O OSGAYBCDTDRGGQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- CREMABGTGYGIQB-UHFFFAOYSA-N carbon carbon Chemical compound C.C CREMABGTGYGIQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 4
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 4
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 4
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 4
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 4
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 4
- NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N isophorone diisocyanate Chemical compound CC1(C)CC(N=C=O)CC(C)(CN=C=O)C1 NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 4
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 4
- 229920005906 polyester polyol Polymers 0.000 description 4
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 4
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 4
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 4
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 4
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 4
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 4
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 4
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MTZUIIAIAKMWLI-UHFFFAOYSA-N 1,2-diisocyanatobenzene Chemical compound O=C=NC1=CC=CC=C1N=C=O MTZUIIAIAKMWLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZXHZWRZAWJVPIC-UHFFFAOYSA-N 1,2-diisocyanatonaphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=C(N=C=O)C(N=C=O)=CC=C21 ZXHZWRZAWJVPIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VZXPHDGHQXLXJC-UHFFFAOYSA-N 1,6-diisocyanato-5,6-dimethylheptane Chemical compound O=C=NC(C)(C)C(C)CCCCN=C=O VZXPHDGHQXLXJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ALVZNPYWJMLXKV-UHFFFAOYSA-N 1,9-Nonanediol Chemical compound OCCCCCCCCCO ALVZNPYWJMLXKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XLPJNCYCZORXHG-UHFFFAOYSA-N 1-morpholin-4-ylprop-2-en-1-one Chemical compound C=CC(=O)N1CCOCC1 XLPJNCYCZORXHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PTBDIHRZYDMNKB-UHFFFAOYSA-N 2,2-Bis(hydroxymethyl)propionic acid Chemical compound OCC(C)(CO)C(O)=O PTBDIHRZYDMNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WYGWHHGCAGTUCH-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-cyano-4-methylpentan-2-yl)diazenyl]-2,4-dimethylpentanenitrile Chemical compound CC(C)CC(C)(C#N)N=NC(C)(C#N)CC(C)C WYGWHHGCAGTUCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- AOBIOSPNXBMOAT-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)ethoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCOCC1CO1 AOBIOSPNXBMOAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Diphenylmethane Diisocyanate Chemical compound C1=CC(N=C=O)=CC=C1CC1=CC=C(N=C=O)C=C1 UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OMRDSWJXRLDPBB-UHFFFAOYSA-N N=C=O.N=C=O.C1CCCCC1 Chemical compound N=C=O.N=C=O.C1CCCCC1 OMRDSWJXRLDPBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HDONYZHVZVCMLR-UHFFFAOYSA-N N=C=O.N=C=O.CC1CCCCC1 Chemical compound N=C=O.N=C=O.CC1CCCCC1 HDONYZHVZVCMLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical group OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 3
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical compound C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000007513 acids Chemical group 0.000 description 3
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 3
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 3
- 239000005456 alcohol based solvent Substances 0.000 description 3
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 3
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 3
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N butane-1,1-diol Chemical compound CCCC(O)O CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 3
- 238000004945 emulsification Methods 0.000 description 3
- 239000003759 ester based solvent Substances 0.000 description 3
- FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N ethenoxyethane Chemical compound CCOC=C FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 3
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 3
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 3
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 3
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 3
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 description 3
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 239000005453 ketone based solvent Substances 0.000 description 3
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 3
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 3
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical group NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000007974 melamines Chemical class 0.000 description 3
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- RXOHFPCZGPKIRD-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,6-dicarboxylic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C=CC2=CC(C(=O)O)=CC=C21 RXOHFPCZGPKIRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011146 organic particle Substances 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 3
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 3
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 3
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical group 0.000 description 3
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N trimellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229960000834 vinyl ether Drugs 0.000 description 3
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrachloroethane Chemical compound ClC(Cl)C(Cl)Cl QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DXBHBZVCASKNBY-UHFFFAOYSA-N 1,2-Benz(a)anthracene Chemical compound C1=CC=C2C3=CC4=CC=CC=C4C=C3C=CC2=C1 DXBHBZVCASKNBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FKTHNVSLHLHISI-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(isocyanatomethyl)benzene Chemical compound O=C=NCC1=CC=CC=C1CN=C=O FKTHNVSLHLHISI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZGDSDWSIFQBAJS-UHFFFAOYSA-N 1,2-diisocyanatopropane Chemical compound O=C=NC(C)CN=C=O ZGDSDWSIFQBAJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UAJRSHJHFRVGMG-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4-methoxybenzene Chemical compound COC1=CC=C(C=C)C=C1 UAJRSHJHFRVGMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIVRKSLMUAURGI-UHFFFAOYSA-N 1-isocyanato-1-[2-(1-isocyanatocyclohexyl)propan-2-yl]cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1(N=C=O)C(C)(C)C1(N=C=O)CCCCC1 QIVRKSLMUAURGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QWDQYHPOSSHSAW-UHFFFAOYSA-N 1-isocyanatooctadecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCN=C=O QWDQYHPOSSHSAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 1-methylsulfonylpiperidin-4-one Chemical compound CS(=O)(=O)N1CCC(=O)CC1 RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WMYINDVYGQKYMI-UHFFFAOYSA-N 2-[2,2-bis(hydroxymethyl)butoxymethyl]-2-ethylpropane-1,3-diol Chemical compound CCC(CO)(CO)COCC(CC)(CO)CO WMYINDVYGQKYMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAXFZZHBFXRZMT-UHFFFAOYSA-N 2-[3-(2-hydroxyethoxy)phenoxy]ethanol Chemical compound OCCOC1=CC=CC(OCCO)=C1 IAXFZZHBFXRZMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DSKYSDCYIODJPC-UHFFFAOYSA-N 2-butyl-2-ethylpropane-1,3-diol Chemical compound CCCCC(CC)(CO)CO DSKYSDCYIODJPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 2
- SVTBMSDMJJWYQN-UHFFFAOYSA-N 2-methylpentane-2,4-diol Chemical compound CC(O)CC(C)(C)O SVTBMSDMJJWYQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LPIQIQPLUVLISR-UHFFFAOYSA-N 2-prop-1-en-2-yl-4,5-dihydro-1,3-oxazole Chemical compound CC(=C)C1=NCCO1 LPIQIQPLUVLISR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SXFJDZNJHVPHPH-UHFFFAOYSA-N 3-methylpentane-1,5-diol Chemical compound OCCC(C)CCO SXFJDZNJHVPHPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 6-phenyl-1,3,5-triazine-2,4-diamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(C=2C=CC=CC=2)=N1 GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005995 Aluminium silicate Substances 0.000 description 2
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 2
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FZERHIULMFGESH-UHFFFAOYSA-N N-phenylacetamide Chemical compound CC(=O)NC1=CC=CC=C1 FZERHIULMFGESH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ALQSHHUCVQOPAS-UHFFFAOYSA-N Pentane-1,5-diol Chemical compound OCCCCCO ALQSHHUCVQOPAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002873 Polyethylenimine Polymers 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 2
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 2
- KXBFLNPZHXDQLV-UHFFFAOYSA-N [cyclohexyl(diisocyanato)methyl]cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1C(N=C=O)(N=C=O)C1CCCCC1 KXBFLNPZHXDQLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 2
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Chemical compound CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000012211 aluminium silicate Nutrition 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 2
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O ammonium group Chemical class [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 2
- JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N anhydrous glutaric acid Natural products OC(=O)CCCC(O)=O JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- AYJRCSIUFZENHW-DEQYMQKBSA-L barium(2+);oxomethanediolate Chemical compound [Ba+2].[O-][14C]([O-])=O AYJRCSIUFZENHW-DEQYMQKBSA-L 0.000 description 2
- 125000002511 behenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- QMKYBPDZANOJGF-UHFFFAOYSA-N benzene-1,3,5-tricarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(C(O)=O)=CC(C(O)=O)=C1 QMKYBPDZANOJGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002981 blocking agent Substances 0.000 description 2
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 2
- WQAQPCDUOCURKW-UHFFFAOYSA-N butanethiol Chemical compound CCCCS WQAQPCDUOCURKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001506 calcium phosphate Substances 0.000 description 2
- 229910000389 calcium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000011010 calcium phosphates Nutrition 0.000 description 2
- 235000011132 calcium sulphate Nutrition 0.000 description 2
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- WDECIBYCCFPHNR-UHFFFAOYSA-N chrysene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=C3C4=CC=CC=C4C=CC3=C21 WDECIBYCCFPHNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 2
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEZUQRBDRNJBJY-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone oxime Chemical compound ON=C1CCCCC1 VEZUQRBDRNJBJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007405 data analysis Methods 0.000 description 2
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 2
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004177 diethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- KIQKWYUGPPFMBV-UHFFFAOYSA-N diisocyanatomethane Chemical compound O=C=NCN=C=O KIQKWYUGPPFMBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N epsilon-caprolactam Chemical compound O=C1CCCCCN1 JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N ethenyl propanoate Chemical compound CCC(=O)OC=C UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical group 0.000 description 2
- 125000005448 ethoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical class OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N germanium dioxide Chemical compound O=[Ge]=O YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 2
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 150000002440 hydroxy compounds Chemical class 0.000 description 2
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000003010 ionic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N lactic acid Chemical compound CC(O)C(O)=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 2
- 229940097364 magnesium acetate tetrahydrate Drugs 0.000 description 2
- ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L magnesium carbonate Chemical compound [Mg+2].[O-]C([O-])=O ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000001095 magnesium carbonate Substances 0.000 description 2
- 229910000021 magnesium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- GVALZJMUIHGIMD-UHFFFAOYSA-H magnesium phosphate Chemical compound [Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O GVALZJMUIHGIMD-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 2
- 239000004137 magnesium phosphate Substances 0.000 description 2
- 229910000157 magnesium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- 229960002261 magnesium phosphate Drugs 0.000 description 2
- 235000010994 magnesium phosphates Nutrition 0.000 description 2
- XKPKPGCRSHFTKM-UHFFFAOYSA-L magnesium;diacetate;tetrahydrate Chemical compound O.O.O.O.[Mg+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O XKPKPGCRSHFTKM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- AYLRODJJLADBOB-QMMMGPOBSA-N methyl (2s)-2,6-diisocyanatohexanoate Chemical compound COC(=O)[C@@H](N=C=O)CCCCN=C=O AYLRODJJLADBOB-QMMMGPOBSA-N 0.000 description 2
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 2
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N nonanedioic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCC(O)=O BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IXQGCWUGDFDQMF-UHFFFAOYSA-N o-Hydroxyethylbenzene Natural products CCC1=CC=CC=C1O IXQGCWUGDFDQMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OEIJHBUUFURJLI-UHFFFAOYSA-N octane-1,8-diol Chemical compound OCCCCCCCCO OEIJHBUUFURJLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- AFEQENGXSMURHA-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethanamine Chemical class NCC1CO1 AFEQENGXSMURHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N phenanthrene Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3C=CC2=C1 YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- WLJVNTCWHIRURA-UHFFFAOYSA-N pimelic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCC(O)=O WLJVNTCWHIRURA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUWHAWMETYGRKB-UHFFFAOYSA-N piperidin-2-one Chemical compound O=C1CCCCN1 XUWHAWMETYGRKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 2
- 229920006289 polycarbonate film Polymers 0.000 description 2
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 description 2
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 2
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 2
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- BBEAQIROQSPTKN-UHFFFAOYSA-N pyrene Chemical compound C1=CC=C2C=CC3=CC=CC4=CC=C1C2=C43 BBEAQIROQSPTKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N pyromellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(C(O)=O)=C(C(O)=O)C=C1C(O)=O CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- SKRWFPLZQAAQSU-UHFFFAOYSA-N stibanylidynetin;hydrate Chemical compound O.[Sn].[Sb] SKRWFPLZQAAQSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TYFQFVWCELRYAO-UHFFFAOYSA-N suberic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCC(O)=O TYFQFVWCELRYAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 2
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 2
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 2
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 2
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 2
- QORWJWZARLRLPR-UHFFFAOYSA-H tricalcium bis(phosphate) Chemical compound [Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O QORWJWZARLRLPR-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 2
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N (+)-borneol Chemical group C1C[C@@]2(C)[C@@H](O)C[C@@H]1C2(C)C DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N 0.000 description 1
- DNIAPMSPPWPWGF-VKHMYHEASA-N (+)-propylene glycol Chemical compound C[C@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-VKHMYHEASA-N 0.000 description 1
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZCWBURCISJFEZ-UHFFFAOYSA-N (3-hydroxy-2,2-dimethylpropyl) 3-hydroxy-2,2-dimethylpropanoate Chemical compound OCC(C)(C)COC(=O)C(C)(C)CO SZCWBURCISJFEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LTQBNYCMVZQRSD-UHFFFAOYSA-N (4-ethenylphenyl)-trimethoxysilane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=C(C=C)C=C1 LTQBNYCMVZQRSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZENGILVLUJGJX-NSCUHMNNSA-N (E)-acetaldehyde oxime Chemical compound C\C=N\O FZENGILVLUJGJX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- GHKBRNPRJNJGIM-SNAWJCMRSA-N (e)-4-butoxy-4-oxobut-2-eneperoxoic acid Chemical compound CCCCOC(=O)\C=C\C(=O)OO GHKBRNPRJNJGIM-SNAWJCMRSA-N 0.000 description 1
- SCEFCWXRXJZWHE-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-tribromo-4-(2,3,4-tribromophenyl)sulfonylbenzene Chemical compound BrC1=C(Br)C(Br)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(Br)C(Br)=C1Br SCEFCWXRXJZWHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZXHDVRATSGZISC-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenoxy)ethane Chemical compound C=COCCOC=C ZXHDVRATSGZISC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZDKZFUFMNSQCJ-UHFFFAOYSA-N 1,2-diethoxyethane Chemical compound CCOCCOCC LZDKZFUFMNSQCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenyl-2-propan-2-yloxyethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC(C)C)C(=O)C1=CC=CC=C1 MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCHXZXKMYCGVFA-UHFFFAOYSA-N 1,3-diazetidine-2,4-dione Chemical compound O=C1NC(=O)N1 PCHXZXKMYCGVFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGZQGDTEZPERC-UHFFFAOYSA-N 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCC(C(O)=O)CC1 PXGZQGDTEZPERC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOSFJABFAXRZJQ-UHFFFAOYSA-N 1,6-bis(ethenoxy)hexane Chemical compound C=COCCCCCCOC=C JOSFJABFAXRZJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWGJDPKCLMLPJW-UHFFFAOYSA-N 1,8-diaminooctane Chemical compound NCCCCCCCCN PWGJDPKCLMLPJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWFRVQVNYNPBEF-UHFFFAOYSA-N 1-(2,4-dimethylphenyl)propan-1-one Chemical compound CCC(=O)C1=CC=C(C)C=C1C UWFRVQVNYNPBEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMCRQYHCDSXNLW-UHFFFAOYSA-N 1-(4-tert-butylphenyl)-2,2-dichloroethanone Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C(C(=O)C(Cl)Cl)C=C1 VMCRQYHCDSXNLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTZVZZJJVJQZHV-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-4-ethenylbenzene Chemical compound ClC1=CC=C(C=C)C=C1 KTZVZZJJVJQZHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTEHOZMYMCEYRM-UHFFFAOYSA-N 1-chlorodecane Chemical compound CCCCCCCCCCCl ZTEHOZMYMCEYRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OACXFSZVCDOBKF-UHFFFAOYSA-N 1-chlorodocosane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCl OACXFSZVCDOBKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YAYNEUUHHLGGAH-UHFFFAOYSA-N 1-chlorododecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCl YAYNEUUHHLGGAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MLRVZFYXUZQSRU-UHFFFAOYSA-N 1-chlorohexane Chemical compound CCCCCCCl MLRVZFYXUZQSRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VUQPJRPDRDVQMN-UHFFFAOYSA-N 1-chlorooctadecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCl VUQPJRPDRDVQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNDHHGUSRIZDSL-UHFFFAOYSA-N 1-chlorooctane Chemical compound CCCCCCCCCl CNDHHGUSRIZDSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JWYVGKFDLWWQJX-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylazepan-2-one Chemical compound C=CN1CCCCCC1=O JWYVGKFDLWWQJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-ethoxyethoxy)ethane Chemical compound CCOCCOCCOCC RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XFEWMFDVBLLXFE-UHFFFAOYSA-N 1-isocyanatodecane Chemical compound CCCCCCCCCCN=C=O XFEWMFDVBLLXFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODDFKRTWSQGENK-UHFFFAOYSA-N 1-isocyanatodocosane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCN=C=O ODDFKRTWSQGENK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIDSTEJLDQMWBR-UHFFFAOYSA-N 1-isocyanatododecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCN=C=O YIDSTEJLDQMWBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DYQFCTCUULUMTQ-UHFFFAOYSA-N 1-isocyanatooctane Chemical compound CCCCCCCCN=C=O DYQFCTCUULUMTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CSCSROFYRUZJJH-UHFFFAOYSA-N 1-methoxyethane-1,2-diol Chemical compound COC(O)CO CSCSROFYRUZJJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBXOZIGKCLFPQZ-UHFFFAOYSA-N 1-n,1-n,3-n,3-n-tetrakis(oxiran-2-ylmethyl)cyclohexane-1,3-diamine Chemical compound C1OC1CN(C1CC(CCC1)N(CC1OC1)CC1OC1)CC1CO1 DBXOZIGKCLFPQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCTXKRPTIMZBJT-UHFFFAOYSA-N 2,2,4-trimethylpentane-1,3-diol Chemical compound CC(C)C(O)C(C)(C)CO JCTXKRPTIMZBJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUFSXWBMZQUYOC-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(ethenoxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound C=COCC(CO)(CO)COC=C SUFSXWBMZQUYOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JVYDLYGCSIHCMR-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(hydroxymethyl)butanoic acid Chemical compound CCC(CO)(CO)C(O)=O JVYDLYGCSIHCMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHGGYGMFCRSWIZ-UHFFFAOYSA-N 2,2-dichloro-1-(4-phenoxyphenyl)ethanone Chemical compound C1=CC(C(=O)C(Cl)Cl)=CC=C1OC1=CC=CC=C1 JHGGYGMFCRSWIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERJZAHSUZVMCH-UHFFFAOYSA-N 2,2-dichloro-1-phenylethanone Chemical compound ClC(Cl)C(=O)C1=CC=CC=C1 CERJZAHSUZVMCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIZHFBODNLEQBL-UHFFFAOYSA-N 2,2-diethoxy-1-phenylethanone Chemical compound CCOC(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 PIZHFBODNLEQBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LTMRRSWNXVJMBA-UHFFFAOYSA-L 2,2-diethylpropanedioate Chemical compound CCC(CC)(C([O-])=O)C([O-])=O LTMRRSWNXVJMBA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DDHUNHGZUHZNKB-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethylpropane-1,3-diamine Chemical compound NCC(C)(C)CN DDHUNHGZUHZNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PUGOMSLRUSTQGV-UHFFFAOYSA-N 2,3-di(prop-2-enoyloxy)propyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(OC(=O)C=C)COC(=O)C=C PUGOMSLRUSTQGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 2,4-diethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC(CC)=C3SC2=C1 BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNFRKUNAXTXJEN-UHFFFAOYSA-N 2,4-diisocyanato-1-methylbenzene ethyl carbamate [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound NC(=O)OCC.CC=1C(=CC(=CC1)N=C=O)N=C=O.C(C=C)(=O)OCC(COC(C=C)=O)(COC(C=C)=O)CO SNFRKUNAXTXJEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWNMRZQYWRLGMM-UHFFFAOYSA-N 2,5-dimethylhexane-2,5-diol Chemical compound CC(C)(O)CCC(C)(C)O ZWNMRZQYWRLGMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YAAYJRKCGZQWCB-UHFFFAOYSA-N 2-(1-cyanopropyldiazenyl)butanenitrile Chemical compound CCC(C#N)N=NC(CC)C#N YAAYJRKCGZQWCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-dinitroanilino)-4-methylpentanoic acid Chemical compound CC(C)CC(C(O)=O)NC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BBBUAWSVILPJLL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-ethylhexoxymethyl)oxirane Chemical compound CCCCC(CC)COCC1CO1 BBBUAWSVILPJLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWLALWYNXFYRGW-UHFFFAOYSA-N 2-Ethyl-1,3-hexanediol Chemical compound CCCC(O)C(CC)CO RWLALWYNXFYRGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PFHOSZAOXCYAGJ-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-cyano-4-methoxy-4-methylpentan-2-yl)diazenyl]-4-methoxy-2,4-dimethylpentanenitrile Chemical compound COC(C)(C)CC(C)(C#N)N=NC(C)(C#N)CC(C)(C)OC PFHOSZAOXCYAGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HDPLHDGYGLENEI-UHFFFAOYSA-N 2-[1-(oxiran-2-ylmethoxy)propan-2-yloxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COC(C)COCC1CO1 HDPLHDGYGLENEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-hydroxypropoxy)propoxy]propan-1-ol Chemical compound CC(O)COC(C)COC(C)CO LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WTYYGFLRBWMFRY-UHFFFAOYSA-N 2-[6-(oxiran-2-ylmethoxy)hexoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCCCCCOCC1CO1 WTYYGFLRBWMFRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUAUJXBLDYVELT-UHFFFAOYSA-N 2-[[2,2-dimethyl-3-(oxiran-2-ylmethoxy)propoxy]methyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCC(C)(C)COCC1CO1 KUAUJXBLDYVELT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JTXMVXSTHSMVQF-UHFFFAOYSA-N 2-acetyloxyethyl acetate Chemical compound CC(=O)OCCOC(C)=O JTXMVXSTHSMVQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DZZAHLOABNWIFA-UHFFFAOYSA-N 2-butoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCCCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 DZZAHLOABNWIFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDXNCTAJOQSKIO-UHFFFAOYSA-N 2-butyl-2-ethylpentane-1,5-diamine Chemical compound CCCCC(CC)(CN)CCCN NDXNCTAJOQSKIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TUQYFIFPADMJFJ-UHFFFAOYSA-N 2-butyl-2-hexylpropane-1,3-diol Chemical compound CCCCCCC(CO)(CO)CCCC TUQYFIFPADMJFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 2-chlorothioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(Cl)=CC=C3SC2=C1 ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQBSIHIZDSHADD-UHFFFAOYSA-N 2-ethenyl-4,5-dihydro-1,3-oxazole Chemical compound C=CC1=NCCO1 BQBSIHIZDSHADD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PBYIFPWEHGSUEY-UHFFFAOYSA-N 2-ethenyl-4-methyl-4,5-dihydro-1,3-oxazole Chemical compound CC1COC(C=C)=N1 PBYIFPWEHGSUEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HMEVYZZCEGUONQ-UHFFFAOYSA-N 2-ethenyl-5-methyl-4,5-dihydro-1,3-oxazole Chemical compound CC1CN=C(C=C)O1 HMEVYZZCEGUONQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IPJGPNZOIMZKEK-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-4-hydroxy-2-(2-hydroxyethyl)butanoic acid Chemical compound OCCC(CC)(CCO)C(O)=O IPJGPNZOIMZKEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUODQIKUTGWMPT-UHFFFAOYSA-N 2-fluoro-5-(trifluoromethyl)pyridine Chemical compound FC1=CC=C(C(F)(F)F)C=N1 UUODQIKUTGWMPT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QPXVRLXJHPTCPW-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-(4-propan-2-ylphenyl)propan-1-one Chemical compound CC(C)C1=CC=C(C(=O)C(C)(C)O)C=C1 QPXVRLXJHPTCPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JVZZUPJFERSVRN-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-2-propylpropane-1,3-diol Chemical compound CCCC(C)(CO)CO JVZZUPJFERSVRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SDQROPCSKIYYAV-UHFFFAOYSA-N 2-methyloctane-1,8-diol Chemical compound OCC(C)CCCCCCO SDQROPCSKIYYAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JZUHIOJYCPIVLQ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpentane-1,5-diamine Chemical compound NCC(C)CCCN JZUHIOJYCPIVLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AAAWJUMVTPNRDT-UHFFFAOYSA-N 2-methylpentane-1,5-diol Chemical compound OCC(C)CCCO AAAWJUMVTPNRDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWGRWMMWNDWRQN-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropane-1,3-diol Chemical compound OCC(C)CO QWGRWMMWNDWRQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYISVPVWAQRUTL-UHFFFAOYSA-N 2-methylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C)=CC=C3SC2=C1 MYISVPVWAQRUTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXYQEGMSGMXGGK-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C(C=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 AXYQEGMSGMXGGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AGBXYHCHUYARJY-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C=CC1=CC=CC=C1 AGBXYHCHUYARJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RAADBCJYJHQQBI-UHFFFAOYSA-N 2-sulfoterephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(S(O)(=O)=O)=C1 RAADBCJYJHQQBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMRCTEPOPAZMMN-UHFFFAOYSA-N 2-undecylpropanedioic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCC(C(O)=O)C(O)=O WMRCTEPOPAZMMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNLHGQLZWXBQNY-UHFFFAOYSA-N 3-(aminomethyl)-3,5,5-trimethylcyclohexan-1-amine Chemical compound CC1(C)CC(N)CC(C)(CN)C1 RNLHGQLZWXBQNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MBNRBJNIYVXSQV-UHFFFAOYSA-N 3-[diethoxy(methyl)silyl]propane-1-thiol Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCS MBNRBJNIYVXSQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKYAJDOSWUATPI-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propane-1-thiol Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCS IKYAJDOSWUATPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SDOFNQUTVKJYKH-UHFFFAOYSA-N 3-butoxycarbonylbut-3-eneperoxoic acid Chemical compound C(C(=C)CC(=O)OO)(=O)OCCCC SDOFNQUTVKJYKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ILRVMZXWYVQUMN-UHFFFAOYSA-N 3-ethenoxy-2,2-bis(ethenoxymethyl)propan-1-ol Chemical compound C=COCC(CO)(COC=C)COC=C ILRVMZXWYVQUMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCS DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NEQFBGHQPUXOFH-UHFFFAOYSA-N 4-(4-carboxyphenyl)benzoic acid Chemical compound C1=CC(C(=O)O)=CC=C1C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 NEQFBGHQPUXOFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YMRDPCUYKKPMFC-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-2,2,5,5-tetramethylhexan-3-one Chemical compound CC(C)(C)C(O)C(=O)C(C)(C)C YMRDPCUYKKPMFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNFUJUFGVPNZMP-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-2-(2-hydroxyethyl)-2-methylbutanoic acid Chemical compound OCCC(C)(CCO)C(O)=O DNFUJUFGVPNZMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXIFAEWFOJETOA-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-butyl Chemical group [CH2]CCCO SXIFAEWFOJETOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MBLQIMSKMPEILU-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-2-prop-1-en-2-yl-4,5-dihydro-1,3-oxazole Chemical compound CC1COC(C(C)=C)=N1 MBLQIMSKMPEILU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PRKPGWQEKNEVEU-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-n-(3-triethoxysilylpropyl)pentan-2-imine Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN=C(C)CC(C)C PRKPGWQEKNEVEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IRHWINGBSHBXAD-UHFFFAOYSA-N 5-ethyl-2-prop-1-en-2-yl-4,5-dihydro-1,3-oxazole Chemical compound CCC1CN=C(C(C)=C)O1 IRHWINGBSHBXAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GLBHAWAMATUOBB-UHFFFAOYSA-N 6,6-dimethylheptane-1,1-diamine Chemical compound CC(C)(C)CCCCC(N)N GLBHAWAMATUOBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 6-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCCOC(=O)C=C FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N Acetamide Chemical compound CC(N)=O DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N Aziridine Chemical compound C1CN1 NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZRPIZSSEMKEEW-UHFFFAOYSA-N C1CO1.O=C1NC(=O)NC(=O)N1 Chemical compound C1CO1.O=C1NC(=O)NC(=O)N1 HZRPIZSSEMKEEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N C[CH]O Chemical group C[CH]O GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N D-Glucitol Natural products OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N 0.000 description 1
- SJIXRGNQPBQWMK-UHFFFAOYSA-N DEAEMA Natural products CCN(CC)CCOC(=O)C(C)=C SJIXRGNQPBQWMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSJXEFYPDANLFS-UHFFFAOYSA-N Diacetyl Chemical group CC(=O)C(C)=O QSJXEFYPDANLFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OIFBSDVPJOWBCH-UHFFFAOYSA-N Diethyl carbonate Chemical compound CCOC(=O)OCC OIFBSDVPJOWBCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMTRUDSVKNLOMY-UHFFFAOYSA-N Ethylene carbonate Chemical compound O=C1OCCO1 KMTRUDSVKNLOMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N Methanethiol Chemical compound SC LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BWPYBAJTDILQPY-UHFFFAOYSA-N Methoxyphenone Chemical compound C1=C(C)C(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC(C)=C1 BWPYBAJTDILQPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WRQNANDWMGAFTP-UHFFFAOYSA-N Methylacetoacetic acid Chemical compound COC(=O)CC(C)=O WRQNANDWMGAFTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N Methylacrylonitrile Chemical compound CC(=C)C#N GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUAKHGWARZSWIH-UHFFFAOYSA-N N,N‐diethylformamide Chemical compound CCN(CC)C=O SUAKHGWARZSWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N N-Methylolacrylamide Chemical compound OCNC(=O)C=C CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNULGOSSPWDTMD-UHFFFAOYSA-N NC(=O)OCC.C(CCCCCN=C=O)N=C=O.C(C=C)(=O)OCC(COC(C=C)=O)(COC(C=C)=O)CO Chemical compound NC(=O)OCC.C(CCCCCN=C=O)N=C=O.C(C=C)(=O)OCC(COC(C=C)=O)(COC(C=C)=O)CO GNULGOSSPWDTMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930192627 Naphthoquinone Natural products 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQYUMYWMJTYZTK-UHFFFAOYSA-N Phenyl glycidyl ether Chemical compound C1OC1COC1=CC=CC=C1 FQYUMYWMJTYZTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 1
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N Sulfurous acid Chemical class OS(O)=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002433 Vinyl chloride-vinyl acetate copolymer Polymers 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GKXVJHDEWHKBFH-UHFFFAOYSA-N [2-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical compound NCC1=CC=CC=C1CN GKXVJHDEWHKBFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMUZQOKACOLCSS-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)phenyl]methanol Chemical compound OCC1=CC=CC=C1CO XMUZQOKACOLCSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QLBRROYTTDFLDX-UHFFFAOYSA-N [3-(aminomethyl)cyclohexyl]methanamine Chemical compound NCC1CCCC(CN)C1 QLBRROYTTDFLDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BWVAOONFBYYRHY-UHFFFAOYSA-N [4-(hydroxymethyl)phenyl]methanol Chemical compound OCC1=CC=C(CO)C=C1 BWVAOONFBYYRHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MZVQCMJNVPIDEA-UHFFFAOYSA-N [CH2]CN(CC)CC Chemical group [CH2]CN(CC)CC MZVQCMJNVPIDEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MARDFMMXBWIRTK-UHFFFAOYSA-N [F].[Ar] Chemical compound [F].[Ar] MARDFMMXBWIRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJSBGAIKEORPFG-UHFFFAOYSA-N [[6-amino-1,2,3,4-tetramethoxy-4-(methoxyamino)-1,3,5-triazin-2-yl]-methoxyamino]methanol Chemical compound CONC1(N(C(N(C(=N1)N)OC)(N(CO)OC)OC)OC)OC BJSBGAIKEORPFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RMKZLFMHXZAGTM-UHFFFAOYSA-N [dimethoxy(propyl)silyl]oxymethyl prop-2-enoate Chemical compound CCC[Si](OC)(OC)OCOC(=O)C=C RMKZLFMHXZAGTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001413 acetanilide Drugs 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXAJQJMDEXJWFB-UHFFFAOYSA-N acetone oxime Chemical compound CC(C)=NO PXAJQJMDEXJWFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004018 acid anhydride group Chemical group 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001253 acrylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 229920006243 acrylic copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007754 air knife coating Methods 0.000 description 1
- 150000007824 aliphatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000004183 alkoxy alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 239000002519 antifouling agent Substances 0.000 description 1
- 229910000410 antimony oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004984 aromatic diamines Chemical class 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000003849 aromatic solvent Substances 0.000 description 1
- 125000000751 azo group Chemical group [*]N=N[*] 0.000 description 1
- TUAHORSUHVUKBD-UHFFFAOYSA-N benzo[c]phenanthrene Chemical compound C1=CC=CC2=C3C4=CC=CC=C4C=CC3=CC=C21 TUAHORSUHVUKBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- VYHBFRJRBHMIQZ-UHFFFAOYSA-N bis[4-(diethylamino)phenyl]methanone Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(CC)CC)C=C1 VYHBFRJRBHMIQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004566 building material Substances 0.000 description 1
- YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N butan-1-olate;titanium(4+) Chemical compound [Ti+4].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-] YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMRWNKZVCUKKSR-UHFFFAOYSA-N butane-1,2-diol Chemical compound CCC(O)CO BMRWNKZVCUKKSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OWBTYPJTUOEWEK-UHFFFAOYSA-N butane-2,3-diol Chemical compound CC(O)C(C)O OWBTYPJTUOEWEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006226 butoxyethyl group Chemical group 0.000 description 1
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L calcium difluoride Chemical compound [F-].[F-].[Ca+2] WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001634 calcium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011088 calibration curve Methods 0.000 description 1
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N carbonic acid Chemical compound OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002843 carboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 235000010980 cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000006757 chemical reactions by type Methods 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- PMMYEEVYMWASQN-IMJSIDKUSA-N cis-4-Hydroxy-L-proline Chemical compound O[C@@H]1CN[C@H](C(O)=O)C1 PMMYEEVYMWASQN-IMJSIDKUSA-N 0.000 description 1
- HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N citraconic acid Chemical compound OC(=O)C(/C)=C\C(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N 0.000 description 1
- 229940018557 citraconic acid Drugs 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- PDXRQENMIVHKPI-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,1-diol Chemical compound OC1(O)CCCCC1 PDXRQENMIVHKPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VKIRRGRTJUUZHS-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,4-diamine Chemical compound NC1CCC(N)CC1 VKIRRGRTJUUZHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YQLZOAVZWJBZSY-UHFFFAOYSA-N decane-1,10-diamine Chemical compound NCCCCCCCCCCN YQLZOAVZWJBZSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FOTKYAAJKYLFFN-UHFFFAOYSA-N decane-1,10-diol Chemical compound OCCCCCCCCCCO FOTKYAAJKYLFFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N di-tert-butyl peroxide Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)C LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KORSJDCBLAPZEQ-UHFFFAOYSA-N dicyclohexylmethane-4,4'-diisocyanate Chemical compound C1CC(N=C=O)CCC1CC1CCC(N=C=O)CC1 KORSJDCBLAPZEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEIQPMUPONZJJH-UHFFFAOYSA-N dicyclohexylmethanediamine Chemical compound C1CCCCC1C(N)(N)C1CCCCC1 KEIQPMUPONZJJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 1
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 1
- OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCOCC1CO1 OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940019778 diethylene glycol diethyl ether Drugs 0.000 description 1
- GPLRAVKSCUXZTP-UHFFFAOYSA-N diglycerol Chemical compound OCC(O)COCC(O)CO GPLRAVKSCUXZTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- WHGNXNCOTZPEEK-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOCC1CO1 WHGNXNCOTZPEEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEJIGPNLZYLLBP-UHFFFAOYSA-N dimethyl carbonate Chemical compound COC(=O)OC IEJIGPNLZYLLBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BEPAFCGSDWSTEL-UHFFFAOYSA-N dimethyl malonate Chemical compound COC(=O)CC(=O)OC BEPAFCGSDWSTEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N dimethylbenzylamine Chemical compound CN(C)CC1=CC=CC=C1 XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- ROORDVPLFPIABK-UHFFFAOYSA-N diphenyl carbonate Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC(=O)OC1=CC=CC=C1 ROORDVPLFPIABK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GUUVPOWQJOLRAS-UHFFFAOYSA-N diphenyl disulphide Natural products C=1C=CC=CC=1SSC1=CC=CC=C1 GUUVPOWQJOLRAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZZTCPWRAHWXWCH-UHFFFAOYSA-N diphenylmethanediamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(N)(N)C1=CC=CC=C1 ZZTCPWRAHWXWCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WNAHIZMDSQCWRP-UHFFFAOYSA-N dodecane-1-thiol Chemical compound CCCCCCCCCCCCS WNAHIZMDSQCWRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000003995 emulsifying agent Substances 0.000 description 1
- PTQOIJLMVNBXPI-UHFFFAOYSA-N ethene;2-phenylphenol Chemical group C=C.OC1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 PTQOIJLMVNBXPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 1
- 238000006266 etherification reaction Methods 0.000 description 1
- 229940052303 ethers for general anesthesia Drugs 0.000 description 1
- 125000006232 ethoxy propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- XYIBRDXRRQCHLP-UHFFFAOYSA-N ethyl acetoacetate Chemical compound CCOC(=O)CC(C)=O XYIBRDXRRQCHLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 238000007765 extrusion coating Methods 0.000 description 1
- GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N fluoranthrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=C22)=C3C2=CC=CC3=C1 GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 description 1
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- XUCNUKMRBVNAPB-UHFFFAOYSA-N fluoroethene Chemical compound FC=C XUCNUKMRBVNAPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004088 foaming agent Substances 0.000 description 1
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 1
- 229940119177 germanium dioxide Drugs 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-N glycine betaine Chemical class C[N+](C)(C)CC([O-])=O KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003827 glycol group Chemical group 0.000 description 1
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012760 heat stabilizer Substances 0.000 description 1
- SXCBDZAEHILGLM-UHFFFAOYSA-N heptane-1,7-diol Chemical compound OCCCCCCCO SXCBDZAEHILGLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SYECJBOWSGTPLU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,1-diamine Chemical compound CCCCCC(N)N SYECJBOWSGTPLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ANJPRQPHZGHVQB-UHFFFAOYSA-N hexyl isocyanate Chemical compound CCCCCCN=C=O ANJPRQPHZGHVQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 229920000554 ionomer Polymers 0.000 description 1
- JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N isopropanol acetate Natural products CC(C)OC(C)=O JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940011051 isopropyl acetate Drugs 0.000 description 1
- GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-M isovalerate Chemical compound CC(C)CC([O-])=O GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000007759 kiss coating Methods 0.000 description 1
- 229910052743 krypton Inorganic materials 0.000 description 1
- DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N krypton atom Chemical compound [Kr] DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003951 lactams Chemical class 0.000 description 1
- 239000004310 lactic acid Substances 0.000 description 1
- 235000014655 lactic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 1
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical compound CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N methyl vinyl ether Chemical compound COC=C XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LAQFLZHBVPULPL-UHFFFAOYSA-N methyl(phenyl)silicon Chemical compound C[Si]C1=CC=CC=C1 LAQFLZHBVPULPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- PYLWMHQQBFSUBP-UHFFFAOYSA-N monofluorobenzene Chemical compound FC1=CC=CC=C1 PYLWMHQQBFSUBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- INJVFBCDVXYHGQ-UHFFFAOYSA-N n'-(3-triethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCNCCN INJVFBCDVXYHGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N n'-(3-trimethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCN PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N n'-[3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCNCCN MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMNKZBIFPJNNIO-UHFFFAOYSA-N n-(2-methyl-4-oxopentan-2-yl)prop-2-enamide Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)NC(=O)C=C OMNKZBIFPJNNIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIBWSLLLJZULCP-UHFFFAOYSA-N n-(3-triethoxysilylpropyl)aniline Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCNC1=CC=CC=C1 LIBWSLLLJZULCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N n-(3-trimethoxysilylpropyl)aniline Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNC1=CC=CC=C1 KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJPFBRJHYRBAGV-UHFFFAOYSA-N n-[[3-[[bis(oxiran-2-ylmethyl)amino]methyl]phenyl]methyl]-1-(oxiran-2-yl)-n-(oxiran-2-ylmethyl)methanamine Chemical compound C1OC1CN(CC=1C=C(CN(CC2OC2)CC2OC2)C=CC=1)CC1CO1 SJPFBRJHYRBAGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHIVNJATOVLWBW-UHFFFAOYSA-N n-butan-2-ylidenehydroxylamine Chemical compound CCC(C)=NO WHIVNJATOVLWBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DFFZOPXDTCDZDP-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,5-dicarboxylic acid Chemical compound C1=CC=C2C(C(=O)O)=CC=CC2=C1C(O)=O DFFZOPXDTCDZDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VAWFFNJAPKXVPH-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,6-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC2=CC(C(=O)O)=CC=C21 VAWFFNJAPKXVPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WPUMVKJOWWJPRK-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,7-dicarboxylic acid Chemical compound C1=CC(C(O)=O)=CC2=CC(C(=O)O)=CC=C21 WPUMVKJOWWJPRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002791 naphthoquinones Chemical class 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXJVFQLYZSNZBT-UHFFFAOYSA-N nonane-1,9-diamine Chemical compound NCCCCCCCCCN SXJVFQLYZSNZBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006284 nylon film Polymers 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 150000004812 organic fluorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000002923 oximes Chemical class 0.000 description 1
- RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1CO1 RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoyttriooxy)yttrium Chemical compound O=[Y]O[Y]=O SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N oxoantimony Chemical compound [Sb]=O VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 1
- DLRJIFUOBPOJNS-UHFFFAOYSA-N phenetole Chemical compound CCOC1=CC=CC=C1 DLRJIFUOBPOJNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N phenyl(114C)methanol Chemical compound O[14CH2]C1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N 0.000 description 1
- FAQJJMHZNSSFSM-UHFFFAOYSA-N phenylglyoxylic acid Chemical compound OC(=O)C(=O)C1=CC=CC=C1 FAQJJMHZNSSFSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003003 phosphines Chemical class 0.000 description 1
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N phosphonic acid group Chemical group P(O)(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004714 phosphonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 235000011007 phosphoric acid Nutrition 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920000233 poly(alkylene oxides) Polymers 0.000 description 1
- 229920001610 polycaprolactone Polymers 0.000 description 1
- 239000004632 polycaprolactone Substances 0.000 description 1
- 229920000223 polyglycerol Polymers 0.000 description 1
- 229920000909 polytetrahydrofuran Polymers 0.000 description 1
- 229920000166 polytrimethylene carbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920001289 polyvinyl ether Polymers 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 159000000001 potassium salts Chemical class 0.000 description 1
- VUDCQRVTUKBZGG-UHFFFAOYSA-M potassium;3-hydroxy-2-(hydroxymethyl)-2-methylpropanoate Chemical compound [K+].OCC(C)(CO)C([O-])=O VUDCQRVTUKBZGG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylbenzene Chemical compound C=CCC1=CC=CC=C1 HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- AOHJOMMDDJHIJH-UHFFFAOYSA-N propylenediamine Chemical compound CC(N)CN AOHJOMMDDJHIJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 238000007763 reverse roll coating Methods 0.000 description 1
- 238000007761 roller coating Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 150000003384 small molecules Chemical class 0.000 description 1
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 1
- LMIYOXCFQPAFTN-UHFFFAOYSA-M sodium;3-hydroxy-2-(hydroxymethyl)propane-1-sulfonate Chemical compound [Na+].OCC(CO)CS([O-])(=O)=O LMIYOXCFQPAFTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000000600 sorbitol Substances 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010345 tape casting Methods 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium bromide Chemical compound [Br-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RKHXQBLJXBGEKF-UHFFFAOYSA-M tetrabutylphosphanium;bromide Chemical compound [Br-].CCCC[P+](CCCC)(CCCC)CCCC RKHXQBLJXBGEKF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CCIYPTIBRAUPLQ-UHFFFAOYSA-M tetrabutylphosphanium;iodide Chemical compound [I-].CCCC[P+](CCCC)(CCCC)CCCC CCIYPTIBRAUPLQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- IFLREYGFSNHWGE-UHFFFAOYSA-N tetracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC4=CC=CC=C4C=C3C=C21 IFLREYGFSNHWGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YMBCJWGVCUEGHA-UHFFFAOYSA-M tetraethylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CC[N+](CC)(CC)CC YMBCJWGVCUEGHA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- VOZKAJLKRJDJLL-UHFFFAOYSA-N tolylenediamine group Chemical group CC1=C(C=C(C=C1)N)N VOZKAJLKRJDJLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- DWWMSEANWMWMCB-UHFFFAOYSA-N tribromomethylsulfonylbenzene Chemical compound BrC(Br)(Br)S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 DWWMSEANWMWMCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TUQOTMZNTHZOKS-UHFFFAOYSA-N tributylphosphine Chemical compound CCCCP(CCCC)CCCC TUQOTMZNTHZOKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOCC1CO1 JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SRPWOOOHEPICQU-UHFFFAOYSA-N trimellitic anhydride Chemical compound OC(=O)C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 SRPWOOOHEPICQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009966 trimming Methods 0.000 description 1
- ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N triphenylamine Chemical compound C1=CC=CC=C1N(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 238000004383 yellowing Methods 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004711 α-olefin Substances 0.000 description 1
- PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N ε-Caprolactone Chemical compound O=C1CCCCCO1 PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Description
本発明は、硬化膜及び積層体、並びにこれらの製造方法に関する。 The present invention relates to a cured film and a laminate, as well as a method for producing the same.
壁紙等の建築建材、ディスプレイ用部材、加飾フィルム等の部材に、艶消し性等を付与するために、基材の表面に微細な凹凸を付与することがある。またこれらの部材には帯電防止性が求められることがある。
特許文献1には、磁気記録媒体に用いられる二軸配向熱可塑性樹脂フィルムの表面にエキシマレーザー光を照射して微細な凹凸を形成する方法が開示されている。
特許文献2には、反射防止フィルムに用いられるハードコート層を有するフィルム表面への凹凸形成方法として、ハードコート樹脂及び無機微粒子を含むハードコート層が形成されたフィルムにエキシマ光を照射することで、表層のハードコート樹脂の部分を分解する方法が開示されている。
In order to impart a matte finish to building materials such as wallpaper, display members, decorative films, and other members, fine irregularities are sometimes imparted to the surface of a substrate. In addition, these members are sometimes required to have antistatic properties.
Patent Document 1 discloses a method for forming fine projections and recesses by irradiating the surface of a biaxially oriented thermoplastic resin film used in a magnetic recording medium with excimer laser light.
Patent Document 2 discloses a method for forming irregularities on the surface of a film having a hard coat layer used in an antireflection film, in which a film having a hard coat layer containing a hard coat resin and inorganic fine particles is irradiated with excimer light to decompose the hard coat resin portion of the surface layer.
しかし、特許文献1に記載の方法では、十分な艶消し効果が得られない特定の凹凸構造しか得られない。また、二軸配向熱可塑性樹脂フィルムに直接凹凸を形成しているので、耐擦傷性や帯電防止性などの各種の表面特性を付与して使用するディスプレイ用途などに適用するのは困難である。
特許文献2に記載の方法では、ハードコート層のハードコート樹脂だけを分解して無機微粒子を表面に露出させるので、当該粒子が脱落しやすくなり、ディスプレイ等に使用する場合に視認性に支障をきたすことがある。また、表面凹凸構造が粒子の形状や分布により限定されるという問題がある。
本発明は、艶消し性に優れる硬化膜及び積層体、並びにこのような硬化膜及び積層体の製造方法を提供することを目的とする。
However, the method described in Patent Document 1 can only obtain a specific uneven structure that does not provide a sufficient matte effect. In addition, since the unevenness is formed directly on the biaxially oriented thermoplastic resin film, it is difficult to apply the method to display applications in which various surface properties such as scratch resistance and antistatic properties are imparted.
In the method described in Patent Document 2, only the hard coat resin of the hard coat layer is decomposed to expose inorganic fine particles on the surface, so that the particles tend to fall off, which may impair visibility when used in a display, etc. In addition, there is a problem that the surface uneven structure is limited by the shape and distribution of the particles.
An object of the present invention is to provide a cured film and a laminate having excellent matte properties, and a method for producing such a cured film and a laminate.
本発明は、以下の態様を有する。
[1] 相分離に由来する凹凸構造を表面に有する硬化膜であって、当該凹凸構造はその凹部および/または凸部により形成されているしわ状の凹凸構造を含む、硬化膜。
[2] 前記硬化膜が相分離する硬化性組成物を硬化してなる硬化膜である、前記[1]に記載の硬化膜。
[3] 前記凹凸構造のJIS B0601:2013に従う粗さ曲線要素の平均長さ(RSm)が1μm以上である、前記[1]又は[2]に記載の硬化膜。
[4] 前記凹凸構造のISO25178で定義される算術平均高さ(Sa)が0.1μm以上である、前記[1]~[3]のいずれかに記載の硬化膜。
[5] 前記凹凸構造の局部傾斜角度の平均値(θa)が2°以上である、前記[1]~[4]のいずれかに記載の硬化膜。
[6] 表面の60°グロスが50以下である、前記[1]~[5]のいずれかに記載の硬化膜。
[7] 前記相分離する硬化性組成物は、(メタ)アクリレートを含有する、前記[2]~[6]のいずれかに記載の硬化膜。
[8] 前記相分離する硬化性組成物は、水酸基、アミノ基、アミド基、スルホニル基、リン酸エステル基、チオール基から選ばれる少なくとも1種の極性基を有する化合物を含有する、前記[2]~[7]のいずれかに記載の硬化膜。
[9] 前記相分離する硬化性組成物は、水酸基、アミノ基、アミド基、スルホニル基、リン酸エステル基、チオール基から選ばれる少なくとも1種の極性基を含有しない化合物を含有する、前記[2]~[8]のいずれかに記載の硬化膜。
[10] 前記相分離する硬化性組成物は、SP値が1.0以上離れている2種類の化合物を含有する、前記[2]~[9]のいずれかに記載の硬化膜。
[11] 相分離する硬化性組成物を相分離させて表面に凹凸構造を形成した後、真空紫外線を照射して硬化させる、前記[1]~[10]のいずれかに記載の硬化膜の製造方法。
[12] 基材上に前記[1]~[10]のいずれかに記載の硬化膜が基材上に積層されてなる積層体。
[13] 前記基材がフィルムである、前記[12]に記載の積層体。
[14] 基材上に相分離する硬化性組成物を積層し、相分離による凹凸構造を形成した後、真空紫外線を照射する、前記[12]又は[13]に記載の積層体の製造方法。
The present invention has the following aspects.
[1] A cured film having a concave-convex structure on its surface resulting from phase separation, the concave-convex structure including a wrinkled concave-convex structure formed by the concaves and/or convexities.
[2] The cured film according to [1] above, which is obtained by curing a curable composition that undergoes phase separation.
[3] The cured film according to [1] or [2], wherein the uneven structure has a mean length (RSm) of roughness curve elements according to JIS B0601:2013 of 1 μm or more.
[4] The cured film according to any one of [1] to [3] above, wherein the uneven structure has an arithmetic mean height (Sa) defined by ISO 25178 of 0.1 μm or more.
[5] The cured film according to any one of the above [1] to [4], wherein the average value (θa) of the local inclination angle of the uneven structure is 2° or more.
[6] The cured film according to any one of the above [1] to [5], wherein the 60° gloss of the surface is 50 or less.
[7] The cured film according to any one of [2] to [6] above, wherein the phase-separating curable composition contains a (meth)acrylate.
[8] The cured film according to any one of [2] to [7] above, wherein the phase-separating curable composition contains a compound having at least one polar group selected from a hydroxyl group, an amino group, an amide group, a sulfonyl group, a phosphate ester group, and a thiol group.
[9] The cured film according to any one of [2] to [8] above, wherein the phase-separating curable composition contains a compound that does not contain at least one polar group selected from a hydroxyl group, an amino group, an amide group, a sulfonyl group, a phosphate ester group, and a thiol group.
[10] The cured film according to any one of the above [2] to [9], wherein the phase-separating curable composition contains two types of compounds whose SP values are separated by 1.0 or more.
[11] The method for producing a cured film according to any one of the above [1] to [10], comprising: subjecting a phase-separating curable composition to phase separation to form a concave-convex structure on a surface thereof; and then curing the composition by irradiating the composition with vacuum ultraviolet light.
[12] A laminate comprising a substrate and the cured film according to any one of [1] to [10] above laminated thereon.
[13] The laminate according to [12] above, wherein the substrate is a film.
[14] The method for producing a laminate according to [12] or [13] above, comprising laminating a curable composition that undergoes phase separation on a substrate to form a relief structure by phase separation, and then irradiating the substrate with vacuum ultraviolet rays.
本発明の硬化膜及び積層体は、艶消し性に優れる。本発明の硬化膜及び積層体の製造方法によれば、艶消し性に優れる硬化膜及び積層体が得られる。 The cured film and laminate of the present invention have excellent matt properties. According to the manufacturing method of the cured film and laminate of the present invention, a cured film and laminate with excellent matt properties can be obtained.
以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
本発明において、「(メタ)アクリレート」は、アクリレート又はメタクリレートの総称である。「(メタ)アクリル」は、アクリル及びメタクリルの総称である。数値範囲を示す「~」は、その前後に記載された数値を下限値及び上限値として含むことを意味する。
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described in detail.
In the present invention, "(meth)acrylate" is a general term for acrylate or methacrylate. "(meth)acrylic" is a general term for acrylic and methacrylic. The "to" symbol indicating a range of values means that the values before and after the symbol are included as the lower and upper limits.
〔硬化膜〕
本発明の硬化膜(以下、単に「硬化膜」という)は、相分離に由来する凹凸構造を表面に有するものである。本発明の硬化膜は、艶消し性に優れることから、防眩膜として好適である。
[Cured film]
The cured film of the present invention (hereinafter simply referred to as "cured film") has an uneven surface structure resulting from phase separation. The cured film of the present invention has excellent matte properties and is therefore suitable as an anti-glare film.
(粗さ曲線要素の平均長さ)
硬化膜の凹凸構造における粗さ曲線要素の平均長さは、JIS B0601:2013に従う粗さ曲線要素の平均長さ(RSm、以下単に「RSm」ともいう)である。RSmを算出する際の評価長さは236.87μmとした。RSmの好ましい範囲は1μm以上、より好ましくは2~100μm、さらに好ましくは3~60μm、特に好ましくは4~50μm、最も好ましくは5~35μmの範囲である。上記範囲であると艶消し性に優れ、ディスプレイ等に用いた時の視認性に優れる。
(average length of roughness curve element)
The average length of the roughness curve element in the uneven structure of the cured film is the average length of the roughness curve element (RSm, hereinafter also simply referred to as "RSm") according to JIS B0601:2013. The evaluation length when calculating RSm was 236.87 μm. The preferred range of RSm is 1 μm or more, more preferably 2 to 100 μm, even more preferably 3 to 60 μm, particularly preferably 4 to 50 μm, and most preferably 5 to 35 μm. When within the above range, excellent matte properties are obtained, and excellent visibility is obtained when used in a display or the like.
(算術平均高さ)
硬化膜の凹凸構造における算術平均高さは、ISO25178で定義される算術平均高さ(Sa、以下単に「Sa」ともいう)である。Saを算出する際の評価領域は177.86μm×236.87μmとした。Saは、好ましくは0.1μm以上、より好ましくは0.15~20μm、さらに好ましくは0.2~10μm、特に好ましくは0.3~5μm、最も好ましくは0.4~3μmの範囲である。上記範囲であると艶消し性に優れ、ディスプレイ等に用いた時の視認性に優れる。
(arithmetic mean height)
The arithmetic mean height of the uneven structure of the cured film is the arithmetic mean height (Sa, hereinafter also simply referred to as "Sa") defined in ISO25178. The evaluation area for calculating Sa was 177.86 μm × 236.87 μm. Sa is preferably 0.1 μm or more, more preferably 0.15 to 20 μm, even more preferably 0.2 to 10 μm, particularly preferably 0.3 to 5 μm, and most preferably in the range of 0.4 to 3 μm. When it is in the above range, it has excellent matte properties and excellent visibility when used in a display or the like.
(凹凸構造の傾斜角の平均値)
硬化膜の凹凸構造における局部傾斜角度の平均値(θa、以下単に「θa」ともいう)は、後述する実施例の記載の方法により測定することができる。θaを算出する際の評価長さは236.87μmとした。θaは、好ましくは2°以上、より好ましくは4°以上、さらに好ましくは5°以上、特に好ましくは7°以上、最も好ましくは10°以上の範囲であり、上限としては、90°でもよい。この範囲にあると良好な艶消し性を備える。
(Average value of the inclination angle of the uneven structure)
The average value of the local inclination angle (θa, hereinafter also simply referred to as "θa") in the uneven structure of the cured film can be measured by the method described in the Examples described later. The evaluation length for calculating θa was 236.87 μm. θa is preferably 2° or more, more preferably 4° or more, even more preferably 5° or more, particularly preferably 7° or more, and most preferably 10° or more, and the upper limit may be 90°. When it is in this range, it has good matte properties.
(厚み)
硬化膜(凹凸層)の厚みは、艶消し性向上の観点から、好ましくは0.1~100μm、より好ましくは1~80μm、さらに好ましくは2~50μm、特に好ましくは4~30μmの範囲である。硬化膜の厚みは、凹凸層の最大厚みを示し、電子顕微鏡による断面観察により求められる。
(Thickness)
From the viewpoint of improving the matte property, the thickness of the cured film (concave-convex layer) is preferably in the range of 0.1 to 100 μm, more preferably 1 to 80 μm, further preferably 2 to 50 μm, and particularly preferably 4 to 30 μm. The thickness of the cured film indicates the maximum thickness of the concave-convex layer, and is determined by cross-sectional observation using an electron microscope.
(グロス)
後述する実施例に記載の方法により測定される硬化膜の表面の60°グロス(60°鏡面光沢度)は、好ましくは50以下、より好ましくは30以下、さらに好ましくは20以下、特に好ましくは15以下、最も好ましくは12以下の範囲であり、低いほど好ましい。60°グロス値は小さいほど艶消し性に優れる。
また、同様に20°グロスは、好ましくは20以下、より好ましくは10以下、さらに好ましくは5以下、特に好ましくは2以下の範囲であり、低いほど好ましい。20°グロス値は小さいほど艶消し性に優れる。
(Gross)
The 60° gloss (60° specular gloss) of the surface of the cured film measured by the method described in the Examples below is preferably 50 or less, more preferably 30 or less, even more preferably 20 or less, particularly preferably 15 or less, and most preferably 12 or less, with the lower the better. The smaller the 60° gloss value, the better the matte property.
Similarly, the 20° gloss is preferably 20 or less, more preferably 10 or less, further preferably 5 or less, and particularly preferably 2 or less, with the lower the better. The smaller the 20° gloss value, the more excellent the matte property.
(鉛筆硬度)
後述する実施例に記載の方法により測定される硬化膜の鉛筆硬度は、F以上であることが好ましく、より好ましくはH以上、さらに好ましくは2H以上である。上記範囲であると耐擦傷性に優れ、ディスプレイ用等、視認性を重視する用途に適したものとなる。
(Pencil hardness)
The pencil hardness of the cured film measured by the method described in the Examples below is preferably F or more, more preferably H or more, and further preferably 2H or more. When the hardness is in the above range, the film has excellent scratch resistance and is suitable for applications where visibility is important, such as displays.
〔硬化膜及び積層体の製造方法〕
本発明の硬化膜およびこれを有する本発明の積層体(以下、単に「積層体」という)は、例えば、基材上に相分離する硬化性組成物の塗膜を積層し、相分離による凹凸構造を形成した後、当該塗膜の表面側(基材と反対側)から活性エネルギー線を照射することで基材の表面に硬化膜を形成する方法で製造できる。
硬化性組成物の塗膜の表面側からに活性エネルギー線を照射することにより、塗膜の表面側が先に硬化して硬化被膜が形成される。その後、塗膜の内部が硬化すると、先に硬化した表面側の硬化被膜が座屈するので、表面にしわ状の凹凸構造を有する硬化膜が形成される。すなわち、硬化膜の表面には、相分離による凹凸構造に加えて、しわ状の凹凸構造が表面に形成されるので、艶消し性が向上する。
[Method for producing cured film and laminate]
The cured film of the present invention and the laminate of the present invention having the same (hereinafter simply referred to as "laminate") can be produced, for example, by a method in which a coating film of a curable composition that undergoes phase separation is laminated on a substrate to form a concave-convex structure due to phase separation, and then active energy rays are irradiated from the surface side of the coating film (the side opposite to the substrate) to form a cured film on the surface of the substrate.
By irradiating the surface side of the coating film of the curable composition with active energy rays, the surface side of the coating film is cured first to form a cured coating. Then, when the inside of the coating film is cured, the cured coating on the surface side that has cured first buckles, so that a cured film having a wrinkled uneven structure on the surface is formed. That is, in addition to the uneven structure due to phase separation, a wrinkled uneven structure is formed on the surface of the cured film, so that the matte property is improved.
(相分離する硬化性組成物)
硬化膜の形成に用いる相分離する硬化性組成物は、活性エネルギー線硬化性の化合物を含有する。硬化性組成物は、必要に応じて、水酸基、アミノ基、アミド基、スルホニル基、リン酸エステル基、チオール基から選ばれる少なくとも1種の極性基を含有する化合物をさらに含むことができる。硬化性組成物は、必要に応じて、前記極性基を含有しない化合物をさらに含むことができる。硬化性組成物は、必要に応じて、有機溶剤、光重合開始剤、その他の成分をさらに含むことができる。
(Phase-separating curable composition)
The phase-separating curable composition used to form the cured film contains an active energy ray curable compound. The curable composition may further contain a compound containing at least one polar group selected from a hydroxyl group, an amino group, an amide group, a sulfonyl group, a phosphate ester group, and a thiol group, as necessary. The curable composition may further contain a compound not containing the polar group, as necessary. The curable composition may further contain an organic solvent, a photopolymerization initiator, and other components, as necessary.
活性エネルギー線硬化性の化合物としては、例えば、(メタ)アクリレートが挙げられる。(メタ)アクリレートとしては特に限定はなく、単官能(メタ)アクリレート、二官能(メタ)アクリレート、多官能(メタ)アクリレートを一種類以上混合したもの、活性エネルギー線硬化性樹脂材として市販されているもの、あるいはこれら以外に本実施形態の目的を損なわない範囲において、その他の成分をさらに添加したものを用いることができる。これらの中でも、しわ状の凹凸構造を形成しやすいという観点から、単官能あるいは二官能(メタ)アクリレートが好ましい。また耐擦傷性が必要な用途には、二官能(メタ)アクリレートがより好ましい。多官能(メタ)アクリレートを使用することで耐擦傷性や硬度が向上するという点では好ましい形態であるが、使用する化合物によっては、しわ状の凹凸構造が形成しにくくなる場合があるため、使用する化合物種や配合割合には注意を要する。 Examples of active energy ray curable compounds include (meth)acrylates. There are no particular limitations on the (meth)acrylates, and a mixture of one or more monofunctional (meth)acrylates, bifunctional (meth)acrylates, and polyfunctional (meth)acrylates, products commercially available as active energy ray curable resin materials, or products to which other components have been added as long as the purpose of this embodiment is not impaired can be used. Among these, monofunctional or bifunctional (meth)acrylates are preferred from the viewpoint of ease of forming a wrinkled uneven structure. Furthermore, for applications requiring scratch resistance, bifunctional (meth)acrylates are more preferred. The use of polyfunctional (meth)acrylates is a preferred form in that scratch resistance and hardness are improved, but depending on the compound used, it may be difficult to form a wrinkled uneven structure, so attention must be paid to the type of compound used and the blending ratio.
二官能の多官能(メタ)アクリレートとしては、例えば1,4-ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサンジオールジ(メタ) アクリレート、1,9-ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメチロールジ(メタ)アクリレート等のアルカンジオールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAエチレンオキサイド変性ジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールFエチレンオキサイド変性ジ(メタ)アクリレート等のビスフェノール変性ジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ウレタンジ(メタ)アクリレート、エポキシジ(メタ)アクリレートが挙げられる。これらの中でもしわ状の凹凸構造の形成のしやすさを考慮すると分岐のない構造であることが好ましく、アルキルジオールジ(メタ)アクリレートがより好ましく、炭素数が4~18であるアルキルジオールジ(メタ)アクリレートがさらに好ましい。 Examples of bifunctional polyfunctional (meth)acrylates include alkanediol di(meth)acrylates such as 1,4-butanediol di(meth)acrylate, neopentyl glycol di(meth)acrylate, 1,6-hexanediol di(meth)acrylate, 1,9-nonanediol di(meth)acrylate, tricyclodecanedimethylol di(meth)acrylate, bisphenol-modified di(meth)acrylates such as bisphenol A ethylene oxide-modified di(meth)acrylate and bisphenol F ethylene oxide-modified di(meth)acrylate, polyethylene glycol di(meth)acrylate, polypropylene glycol di(meth)acrylate, urethane di(meth)acrylate, and epoxy di(meth)acrylate. Among these, in consideration of the ease of forming a wrinkled uneven structure, a structure without branches is preferable, alkyl diol di(meth)acrylate is more preferable, and alkyl diol di(meth)acrylate having 4 to 18 carbon atoms is even more preferable.
単官能(メタ)アクリレートとしては、例えば、メチル(メタ)アクリレート、n-ブチル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート等のアルキル(メタ)アクリレート、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、メトキシエチル(メタ)アクリート、エトキシエチル(メタ)アクリレート、メトキシプロピル(メタ)アクリレート、エトキシプロピル(メタ)アクリレート等のアルコキシアルキル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート等の芳香族(メタ)アクリレート、ジアミノエチル(メタ)アクリレート、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート等のアミノ基含有(メタ)アクリレート、メトキシエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシポリエチレングリール(メタ)アクリレート、フェニルフェノールエチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート等のエチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル等が挙げられる。 Examples of monofunctional (meth)acrylates include alkyl (meth)acrylates such as methyl (meth)acrylate, n-butyl (meth)acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, lauryl (meth)acrylate, stearyl (meth)acrylate, cyclohexyl (meth)acrylate, and isobornyl (meth)acrylate, hydroxyalkyl (meth)acrylates such as hydroxyethyl (meth)acrylate, hydroxypropyl (meth)acrylate, and hydroxybutyl (meth)acrylate, methoxyethyl (meth)acrylate, ethoxyethyl (meth)acrylate, methoxypropyl (meth)acrylate, and ethoxypropyl (meth)acrylate. Examples of such alkoxyalkyl (meth)acrylates include benzyl (meth)acrylate and other aromatic (meth)acrylates such as phenoxyethyl (meth)acrylate, diaminoethyl (meth)acrylate and other amino group-containing (meth)acrylates such as diethylaminoethyl (meth)acrylate, and other ethylene oxide-modified (meth)acrylates such as methoxyethylene glycol (meth)acrylate, phenoxypolyethylene glycol (meth)acrylate, and phenylphenol ethylene oxide-modified (meth)acrylate, glycidyl (meth)acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth)acrylate, and (meth)acrylic.
三官能以上の多官能(メタ)アクリレートとしては、例えば、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート等のエチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキサイド変性トリ(メタ)アクリレート、ε-カプロラクトン変性トリス(アクロキシエチル)イソシアヌレート等のイソシアヌル酸変性トリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ペンタエリスリトールトリアクリレートトルエンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー等のウレタンアクリレート等が挙げられる。これらの中でも、しわ状の凹凸構造の形成のしやすさを考慮するとエチレンオキサイド変性タイプや、三官能(メタ)アクリレートが好ましい。 Examples of trifunctional or higher polyfunctional (meth)acrylates include ethylene oxide-modified (meth)acrylates such as dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, ditrimethylolpropane tetra(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, ethylene oxide-modified dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, and ethylene oxide-modified pentaerythritol tetra(meth)acrylate. Examples of suitable urethane acrylates include isocyanuric acid modified tri(meth)acrylates such as isocyanuric acid ethylene oxide modified tri(meth)acrylates and ε-caprolactone modified tris(acryloxyethyl)isocyanurate, and urethane acrylates such as pentaerythritol triacrylate hexamethylene diisocyanate urethane prepolymers, pentaerythritol triacrylate toluene diisocyanate urethane prepolymers, and dipentaerythritol pentaacrylate hexamethylene diisocyanate urethane prepolymers. Among these, ethylene oxide modified types and trifunctional (meth)acrylates are preferred in terms of the ease of forming a wrinkled uneven structure.
相分離による凹凸構造は、相溶性の異なる材料からなる組成が、塗布、乾燥、硬化の過程で相分離を起こし、それにより表面に凹凸形状を成すものである。相分離を起こす材料として、従来公知の材料を使うことができる。特にフィルムへのコーティングによる方法で形成しやすいことから、極性の異なる材料同士からなる組成が好ましい。例えば、水酸基、アミノ基、アミド基、スルホニル基、リン酸エステル基、チオール基から選ばれる少なくとも1種の極性基を含有する化合物(X)と、それらの極性基を含有しない化合物(Y)の組み合わせが挙げられる。また、形成された凹凸形状を保持し各種の用途に用いるためには、ハードコート用の硬化性組成物であることが好ましい。 The uneven structure caused by phase separation is a structure in which a composition made of materials with different compatibility undergoes phase separation during the process of application, drying, and curing, resulting in an uneven surface. Conventionally known materials can be used as the material that causes phase separation. A composition made of materials with different polarities is preferable, as it is particularly easy to form by a method of coating a film. For example, a combination of a compound (X) containing at least one polar group selected from a hydroxyl group, an amino group, an amide group, a sulfonyl group, a phosphate ester group, and a thiol group and a compound (Y) containing no such polar group can be mentioned. In addition, in order to maintain the uneven shape formed and use it for various applications, it is preferable to use a curable composition for hard coating.
水酸基、アミノ基、アミド基、スルホニル基、リン酸エステル基、チオール基から選ばれる少なくとも1種の極性基を含有する化合物(X)の特徴としては、水素結合であり、それにより相分離による凹凸構造を形成することができる。これらの水素結合性基の中でも、相分離による凹凸構造を形成しやすいことから、水酸基、アミノ基、アミド基が好ましく、水酸基、アミノ基、アミド基が材料を混合したときの安定性や、凹凸形成のしやすさの観点からより好ましく、水酸基が特に好ましい。また化合物中には1種類ではなく、複数種の極性基を持たせることも可能である。 Compound (X) containing at least one polar group selected from hydroxyl, amino, amide, sulfonyl, phosphate, and thiol groups is characterized by hydrogen bonding, which allows the formation of an uneven structure due to phase separation. Among these hydrogen-bonding groups, hydroxyl, amino, and amide groups are preferred because they are more likely to form an uneven structure due to phase separation, and hydroxyl, amino, and amide groups are more preferred from the standpoint of stability when materials are mixed and ease of uneven formation, with hydroxyl groups being particularly preferred. It is also possible for the compound to have not one type of polar group, but multiple types.
また、相分離による凹凸構造の形成のしやすさを考慮すると、化合物(X)は低分子化合物より高分子化合物であることが好ましい。高分子化合物として、(メタ)アクリル系重合体、ポリビニルアルコール類、セルロース類がより多数の極性基を導入することができるため好ましく、特に様々な官能基を導入でき、性能をコントロールしやすいという観点において、(メタ)アクリル系重合体がより好ましい。 In addition, in consideration of the ease of forming a concave-convex structure by phase separation, it is preferable that compound (X) is a polymeric compound rather than a low molecular weight compound. As polymeric compounds, (meth)acrylic polymers, polyvinyl alcohols, and celluloses are preferred because they can introduce a larger number of polar groups, and (meth)acrylic polymers are more preferred in terms of being able to introduce various functional groups and making it easier to control performance.
さらに凹凸構造の硬化膜の硬度を高めるために、上記の化合物(X)中に炭素-炭素不飽和結合を含有させることが好ましい。炭素-炭素不飽和結合の含有量によって、形成する硬化膜の硬度を調節することができる。なお、炭素-炭素不飽和結合とは、炭素-炭素二重結合又は炭素-炭素三重結合を意味し、炭素-炭素二重結合であることが好ましく、また、炭素-炭素二重結合が(メタ)アクリロイル基であることがより好ましく、特に炭素-炭素不飽和結合の反応性を考慮するとアクリロイル基であることがさらに好ましい。 To further increase the hardness of the cured film having the uneven structure, it is preferable to include a carbon-carbon unsaturated bond in the compound (X). The hardness of the cured film to be formed can be adjusted by adjusting the content of the carbon-carbon unsaturated bond. Note that the carbon-carbon unsaturated bond means a carbon-carbon double bond or a carbon-carbon triple bond, and is preferably a carbon-carbon double bond, and more preferably the carbon-carbon double bond is a (meth)acryloyl group, and particularly considering the reactivity of the carbon-carbon unsaturated bond, is even more preferably an acryloyl group.
(メタ)アクリル系重合体において、水酸基、アミノ基、アミド基、スルホニル基、リン酸エステル基、チオール基から選ばれる少なくとも1種の極性基を含有する化合物(X)は、それらの極性基を含有する(メタ)アクリレート系モノマーと他の(メタ)アクリレート系モノマーとの共重合により作成することもできるし、エポキシ基を含有する(メタ)アクリレートと他の(メタ)アクリレート系モノマーとを共重合させて得られた重合体のエポキシ基部分に酸や塩基等を反応させて水酸基を生成させることもできる。特にグリシジル(メタ)アクリレートを使用する方法は水酸基の量をコントロールしやすいため有用である。 In the (meth)acrylic polymer, compound (X) containing at least one polar group selected from hydroxyl, amino, amide, sulfonyl, phosphate, and thiol groups can be prepared by copolymerizing a (meth)acrylate monomer containing such a polar group with another (meth)acrylate monomer, or by reacting an acid or base with the epoxy group portion of a polymer obtained by copolymerizing an epoxy group-containing (meth)acrylate with another (meth)acrylate monomer to generate hydroxyl groups. The method of using glycidyl (meth)acrylate is particularly useful because it is easy to control the amount of hydroxyl groups.
エポキシ基を含有する(メタ)アクリレートとしては、例えば、グリシジル(メタ)アクリレート、3,4-エポキシシクロヘキシル(メタ)アクリレート、3,4-エポキシシクロヘキシル(メタ)アクリレート、3,4-エポキシシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート、3,4-エポキシシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレートが挙げられる。これらの中でも、特に反応性の良好性、材料の使用のしやすさを考慮するとグリシジル(メタ)アクリレートが好ましく、グリシジルアクリレートが特に好ましい。 Examples of (meth)acrylates containing epoxy groups include glycidyl (meth)acrylate, 3,4-epoxycyclohexyl (meth)acrylate, 3,4-epoxycyclohexyl (meth)acrylate, 3,4-epoxycyclohexylmethyl (meth)acrylate, and 3,4-epoxycyclohexylmethyl (meth)acrylate. Among these, glycidyl (meth)acrylate is preferred, with glycidyl acrylate being particularly preferred, in consideration of its good reactivity and ease of use as a material.
エポキシ基を含有する(メタ)アクリレートを使用して水酸基を導入する場合において、(メタ)アクリレート重合体中に占めるエポキシ基を含有する(メタ)アクリレートの割合としては、好ましくは10質量%以上、より好ましくは30質量%以上、さらに好ましくは50質量%以上、特に好ましくは80質量%以上の範囲であり、上限としては100質量%である。当該範囲で使用することで、重合体の極性のコントロールがしやすくなり、相分離による凹凸構造が形成しやすくなる。 When a hydroxyl group is introduced using a (meth)acrylate containing an epoxy group, the proportion of the (meth)acrylate containing an epoxy group in the (meth)acrylate polymer is preferably 10% by mass or more, more preferably 30% by mass or more, even more preferably 50% by mass or more, and particularly preferably 80% by mass or more, with the upper limit being 100% by mass. By using within this range, it becomes easier to control the polarity of the polymer, and it becomes easier to form an uneven structure due to phase separation.
水酸基形成のためにエポキシ基を含有する(メタ)アクリレート重合体に使用する化合物としては、酸や塩基があるが、(メタ)アクリレート重合体の安定性を考慮すると酸が好ましく、その中でも特にカルボン酸であることが好ましい。カルボン酸の中でも、さらに(メタ)アクリル酸を使用することで、二重結合を導入することが可能であり、より好ましい形態となる。(メタ)アクリル酸の中でも、エポキシ基とカルボン酸の反応性や導入した二重結合の反応性を考慮するとアクリル酸が最適である。また、より多くの水酸基を導入するために乳酸等のヒドロキシカルボン酸を使用することも好ましい形態である。さらに、2種類以上の構造を形成するために、2種類以上のカルボン酸をエポキシ基と反応させることも可能である。 Compounds used in the (meth)acrylate polymer containing epoxy groups to form hydroxyl groups include acids and bases, but considering the stability of the (meth)acrylate polymer, acids are preferred, and among them, carboxylic acids are particularly preferred. Among carboxylic acids, the use of (meth)acrylic acid is more preferred because it is possible to introduce double bonds. Among (meth)acrylic acids, acrylic acid is the most suitable, considering the reactivity of the epoxy group with the carboxylic acid and the reactivity of the introduced double bond. It is also a preferred embodiment to use a hydroxycarboxylic acid such as lactic acid to introduce more hydroxyl groups. Furthermore, it is also possible to react two or more types of carboxylic acids with the epoxy group to form two or more types of structures.
反応させるエポキシ基は、通常1質量%以上、好ましくは20質量%以上、より好ましくは50質量%以上、さらに好ましくは80質量%以上の範囲であり、上限としては100質量%であっても良い。当該範囲で反応させることで、水酸基を生成させ、相分離による凹凸を形成しやすい形態となる。 The amount of epoxy groups to be reacted is usually 1% by mass or more, preferably 20% by mass or more, more preferably 50% by mass or more, and even more preferably 80% by mass or more, and may be up to 100% by mass. By reacting within this range, hydroxyl groups are generated, resulting in a form that is easy to form unevenness due to phase separation.
化合物(X)にアミド基を含有させるための(メタ)アクリルアミド系モノマーとしては、(メタ)アクリロイルモルホリン、ヒドロキシルメチル(メタ)アクリルアミド、ヒドロキシルエチル(メタ)アクリルアミド 、ジメチル(メタ)アクリルアミド、ジエチル(メタ)アクリルアミド、N-イソプロピル(メタ)アクリルアミド等が挙げられる。導入のしやすさを考慮するとメタクリルアミドモノマーより、アクリルアミドモノマーの方が好ましい。また上記中でも重合体の安定性や極性の強さを考慮すると、特に(メタ)アクリロイルモルホリンが好ましく、アクリロイルモルホリンがさらに好ましい。また、これらの(メタ)アクリルアミド系モノマーは1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。 (Meth)acrylamide monomers for incorporating an amide group into compound (X) include (meth)acryloylmorpholine, hydroxylmethyl(meth)acrylamide, hydroxylethyl(meth)acrylamide, dimethyl(meth)acrylamide, diethyl(meth)acrylamide, and N-isopropyl(meth)acrylamide. Considering ease of introduction, acrylamide monomers are more preferred than methacrylamide monomers. Furthermore, among the above, in consideration of the stability of the polymer and the strength of polarity, (meth)acryloylmorpholine is particularly preferred, and acryloylmorpholine is even more preferred. Furthermore, these (meth)acrylamide monomers may be used alone or in combination of two or more.
また、化合物(X)として(メタ)アクリル系重合体を使用する場合、上述した化合物群以外にも重合可能な各種の(メタ)アクリレートを使用することができる。例えば、(メタ)アクリル酸、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、エトキシエチル(メタ)アクリレート、メトキシエチル(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート等のアルキル(メタ)アクリレートモノマー;
パーフルオロヘキシルエチル(メタ)アクリレート、1H,1H,7H-ドデカフルオロヘプチル(メタ)アクリレート、1H,1H,9H-ヘキサデカフルオロノニル(メタ)アクリレート等のフルオロアルキル基を有する(メタ)アクリレートモノマー;
N,N-ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、N,N-ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート等のアミノ基を有する(メタ)アクリレートモノマー;
2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサンジオールモノ(メタ)アクリレート等の水酸基を有する(メタ)アクリレートモノマー;
(メタ)アクリル酸誘導体以外の原料として、スチレン、p-クロロスチレン、p-メトキシスチレン、ジビニルベンゼン、N-ビニルピロリドン、N-ビニルカプロラクタム、アクリロニトリル、エチレングリコールジビニルエーテル、ペンタエリスリトールジビニルエーテル、1,6-ヘキサンジオールジビニルエーテル、トリメチロールプロパンジビニルエーテル、エチレンオキサイド変性ヒドロキノンジビニルエーテル、エチレンオキサイド変性ビスフェノールAジビニルエーテル、ペンタエリスリトールトリビニルエーテル、ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテル、ジトリメチロールプロパンポリビニルエーテル等のビニル基を有する炭化水素系モノマーが挙げられる。
In addition, when a (meth)acrylic polymer is used as the compound (X), various polymerizable (meth)acrylates can be used in addition to the above-mentioned compound groups. For example, alkyl (meth)acrylate monomers such as (meth)acrylic acid, methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, butyl (meth)acrylate, stearyl (meth)acrylate, phenoxyethyl (meth)acrylate, ethoxyethyl (meth)acrylate, methoxyethyl (meth)acrylate, butoxyethyl (meth)acrylate, benzyl (meth)acrylate, cyclohexyl (meth)acrylate, dicyclopentenyl (meth)acrylate, and dicyclopentenyloxyethyl (meth)acrylate;
(meth)acrylate monomers having a fluoroalkyl group, such as perfluorohexylethyl (meth)acrylate, 1H,1H,7H-dodecafluoroheptyl (meth)acrylate, and 1H,1H,9H-hexadecafluorononyl (meth)acrylate;
(meth)acrylate monomers having an amino group, such as N,N-diethylaminoethyl (meth)acrylate and N,N-dimethylaminoethyl (meth)acrylate;
(meth)acrylate monomers having a hydroxyl group, such as 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, and 1,6-hexanediol mono(meth)acrylate;
Examples of raw materials other than the (meth)acrylic acid derivatives include hydrocarbon monomers having a vinyl group, such as styrene, p-chlorostyrene, p-methoxystyrene, divinylbenzene, N-vinylpyrrolidone, N-vinylcaprolactam, acrylonitrile, ethylene glycol divinyl ether, pentaerythritol divinyl ether, 1,6-hexanediol divinyl ether, trimethylolpropane divinyl ether, ethylene oxide-modified hydroquinone divinyl ether, ethylene oxide-modified bisphenol A divinyl ether, pentaerythritol trivinyl ether, dipentaerythritol hexavinyl ether, and ditrimethylolpropane polyvinyl ether.
なお、使用する原料は1種類に限られず、2種類以上を併用して(メタ)アクリル系重合体を調製してもよく、2種類以上を併用して(メタ)アクリル系重合体を調製することが好ましい。 The raw material used is not limited to one type, and two or more types may be used in combination to prepare the (meth)acrylic polymer, and it is preferable to use two or more types in combination to prepare the (meth)acrylic polymer.
(メタ)アクリル系重合体を製造するための重合条件は特に限定されず、公知の方法を適宜選択することができる。通常、(メタ)アクリル系重合体を得る反応はラジカル重合反応であり、有機溶媒中でラジカル重合開始剤の存在下、原料モノマーを重合させることにより、(メタ)アクリル系重合体を得ることができる。 The polymerization conditions for producing the (meth)acrylic polymer are not particularly limited, and a known method can be appropriately selected. Usually, the reaction for obtaining the (meth)acrylic polymer is a radical polymerization reaction, and the (meth)acrylic polymer can be obtained by polymerizing the raw material monomers in an organic solvent in the presence of a radical polymerization initiator.
有機溶媒としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒;エタノール、メタノール、イソプロピルアルコール、イソブタノール等のアルコール系溶媒;エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のエーテル系溶媒;酢酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、2-エトキシエチルアセテート等のエステル系溶媒;トルエン等の芳香族炭化水素溶媒が挙げられる。これらの有機溶媒は1種のみを用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。 Examples of organic solvents include ketone-based solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone; alcohol-based solvents such as ethanol, methanol, isopropyl alcohol, and isobutanol; ether-based solvents such as ethylene glycol dimethyl ether and propylene glycol monomethyl ether; ester-based solvents such as ethyl acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, and 2-ethoxyethyl acetate; and aromatic hydrocarbon solvents such as toluene. These organic solvents may be used alone or in combination of two or more.
ラジカル重合開始剤としては、例えば、ベンゾイルパーオキサイド、ジ-t-ブチルパーオキシド等の有機過酸化物、2,2’-アゾビスブチロニトリル、2,2’-アゾビス(2,4-ジメチルバレロニトリル)、2,2’-アゾビス(4-メトキシ-2,4-ジメチルバレロニトリル)等のアゾ化合物が挙げられる。これらのラジカル重合開始剤は1種のみを用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。 Examples of radical polymerization initiators include organic peroxides such as benzoyl peroxide and di-t-butyl peroxide, and azo compounds such as 2,2'-azobisbutyronitrile, 2,2'-azobis(2,4-dimethylvaleronitrile), and 2,2'-azobis(4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile). These radical polymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.
重合温度は、通常20~150℃、好ましくは50~100℃である。また、重合時間は、通常1~72時間、好ましくは3~36時間である。 The polymerization temperature is usually 20 to 150°C, preferably 50 to 100°C. The polymerization time is usually 1 to 72 hours, preferably 3 to 36 hours.
また、上述したエポキシ基とカルボン酸化合物との反応条件は特に限定されず、公知の方法を適宜選択することができる。当該反応は、無触媒又は触媒存在下の何れでもよいが、触媒としては、トリエチルアミン、ベンジルジメチルアミン等の3級アミン類、テトラエチルアンムニウムクロライド、テトラブチルアンモニウムブロマイド等のアンモニウム塩、トリフェニルホスフィン、トリブチルホスフィン等のホスフィン類、テトラブチルホスホニウムブロマイド、テトラブチルホスホニウムアイオダイド等のホスホニウム塩類が挙げられる。なお、触媒の使用量は、重合体の重量に対して、通常0.5質量%以上、好ましくは1.0質量%以上であり、通常5.0質量%以下、好ましくは3.5質量%以下である。 The reaction conditions between the epoxy group and the carboxylic acid compound are not particularly limited, and a known method can be appropriately selected. The reaction may be carried out without or in the presence of a catalyst. Examples of the catalyst include tertiary amines such as triethylamine and benzyldimethylamine, ammonium salts such as tetraethylammonium chloride and tetrabutylammonium bromide, phosphines such as triphenylphosphine and tributylphosphine, and phosphonium salts such as tetrabutylphosphonium bromide and tetrabutylphosphonium iodide. The amount of the catalyst used is usually 0.5% by mass or more, preferably 1.0% by mass or more, and usually 5.0% by mass or less, preferably 3.5% by mass or less, based on the weight of the polymer.
反応温度は、通常20~200℃、好ましくは50~150℃である。また、反応時間は、通常1~72時間、好ましくは3~20時間である。 The reaction temperature is usually 20 to 200°C, preferably 50 to 150°C. The reaction time is usually 1 to 72 hours, preferably 3 to 20 hours.
(メタ)アクリル系重合体の重量平均分子量(Mw)は、硬化性組成物の用途に応じて適宜選択されるべきであるが、通常、5000以上であり、好ましくは7000以上であり、より好ましくは9000以上であり、通常200000以下であり、好ましくは100000以下であり、より好ましくは70000以下であり、さらに好ましくは50000以下である。上記範囲内であると、塗布後の表面に相分離による凹凸を形成し易くなる。なお、(メタ)アクリル系重合体の重量平均分子量(Mw)は、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー(GPC)を用いて、ポリスチレン標準による換算値として決定することができる。具体的な測定条件は後掲の実施例に示す。 The weight average molecular weight (Mw) of the (meth)acrylic polymer should be appropriately selected depending on the application of the curable composition, but is usually 5,000 or more, preferably 7,000 or more, more preferably 9,000 or more, and usually 200,000 or less, preferably 100,000 or less, more preferably 70,000 or less, and even more preferably 50,000 or less. If it is within the above range, it becomes easier to form unevenness due to phase separation on the surface after application. The weight average molecular weight (Mw) of the (meth)acrylic polymer can be determined as a polystyrene standard converted value using gel permeation chromatography (GPC). Specific measurement conditions are shown in the examples below.
化合物(X)の(メタ)アクリル系重合体は、形成される硬化膜の耐傷付き性向上の点から、(メタ)アクリロイル当量((メタ)アクリロイル基の導入量)が0.1mmol/g以上であることが好ましく、0.5mmol/g以上であることがより好ましく、1.0mmol/g以上であることがさらに好ましく、2.0mmol/g以上であることが特に好ましく、2.5mmol/g以上であることが最も好ましい。また、ゲル化防止の点から、(メタ)アクリロイル当量は10.0mmol/g以下であることが好ましく、8.0mmol/g以下であることがより好ましく、6.0mmol/g以下であることが特に好ましい。(メタ)アクリロイル当量は用いる原料に基づいて算出されるものとし、(メタ)アクリロイル当量が上記範囲となるようにエポキシ基とカルボン酸の反応を選択することが好ましい。 From the viewpoint of improving the scratch resistance of the cured film formed, the (meth)acrylic polymer of compound (X) preferably has a (meth)acryloyl equivalent (amount of (meth)acryloyl groups introduced) of 0.1 mmol/g or more, more preferably 0.5 mmol/g or more, even more preferably 1.0 mmol/g or more, particularly preferably 2.0 mmol/g or more, and most preferably 2.5 mmol/g or more. From the viewpoint of preventing gelation, the (meth)acryloyl equivalent is preferably 10.0 mmol/g or less, more preferably 8.0 mmol/g or less, and particularly preferably 6.0 mmol/g or less. The (meth)acryloyl equivalent is calculated based on the raw materials used, and it is preferable to select the reaction of the epoxy group and the carboxylic acid so that the (meth)acryloyl equivalent is in the above range.
水酸基、アミノ基、アミド基、スルホニル基、リン酸エステル基、チオール基を含有しない化合物(Y)としては、例えば、(メタ)アクリル系重合体や、各種の(メタ)アクリレートが挙げられる。すなわち、前述した活性エネルギー線硬化性の化合物を化合物(Y)として使用することも可能である。 Examples of compounds (Y) that do not contain hydroxyl groups, amino groups, amide groups, sulfonyl groups, phosphate ester groups, or thiol groups include (meth)acrylic polymers and various (meth)acrylates. In other words, it is also possible to use the active energy ray-curable compounds described above as compound (Y).
なお、本発明において、「(メタ)アクリル系重合体」とは、(メタ)アクリル酸及び/又は(メタ)アクリル酸誘導体を含む原料から合成される重合体を意味し、この重合体を更に変性した重合体も含む意味で用いられる。(メタ)アクリル酸若しくは(メタ)アクリル酸誘導体を少なくとも1種の原料((メタ)アクリレートモノマー)を使用した重合体であれば、その他については特に限定されない。例えば、(メタ)アクリレートモノマー以外の、ビニル基を有する炭化水素系モノマー等の公知の重合性モノマーを使用した共重合体であってもよい。また、「(メタ)アクリル酸誘導体」とは、(メタ)アクリル酸の金属塩、(メタ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリル酸アミド等の(メタ)アクリル酸と類似した構造を有する化合物を意味するものとする。 In the present invention, the term "(meth)acrylic polymer" refers to a polymer synthesized from a raw material containing (meth)acrylic acid and/or a (meth)acrylic acid derivative, and is used to include a polymer obtained by further modifying this polymer. As long as the polymer uses at least one raw material ((meth)acrylate monomer) containing (meth)acrylic acid or a (meth)acrylic acid derivative, there is no particular limitation on the other raw materials. For example, the polymer may be a copolymer using a known polymerizable monomer such as a hydrocarbon monomer having a vinyl group other than a (meth)acrylate monomer. In addition, the term "(meth)acrylic acid derivative" refers to a compound having a structure similar to that of (meth)acrylic acid, such as a metal salt of (meth)acrylic acid, a (meth)acrylic acid ester, or an (meth)acrylic acid amide.
(メタ)アクリル系重合体としては、上述した水酸基、アミノ基、アミド基、スルホニル基、リン酸エステル基、チオール基を含有しない(メタ)アクリレートやそれらと重合反応するモノマーから形成されるものが挙げられる。 Examples of (meth)acrylic polymers include those formed from the above-mentioned (meth)acrylates that do not contain hydroxyl groups, amino groups, amide groups, sulfonyl groups, phosphate ester groups, or thiol groups, and monomers that undergo polymerization reactions with these.
また、水酸基、アミノ基、アミド基、スルホニル基、リン酸エステル基、チオール基を含有しない(メタ)アクリレートとしては、例えば、前述した(メタ)アクリレートが挙げられる。また、化合物(Y)として使用する場合には、極性が低い方が好ましいため、エチレンオキシド構造などエーテルなどの水素結合基が少ないもの、あるいはないものが好ましい。 Examples of (meth)acrylates that do not contain hydroxyl groups, amino groups, amide groups, sulfonyl groups, phosphate ester groups, or thiol groups include the (meth)acrylates described above. When used as compound (Y), it is preferable that the polarity is low, so it is preferable to use compounds with few or no hydrogen bonding groups such as ethers, such as ethylene oxide structures.
化合物(X)と化合物(Y)は相分離させるための化合物である。そのため、溶解性パラメーター(SP値、Solubility Parameter)の観点からすると両者は違いが大きいことが好ましい。 Compound (X) and compound (Y) are compounds for phase separation. Therefore, from the viewpoint of solubility parameters (SP values, Solubility Parameter), it is preferable that the difference between the two is large.
化合物(X)のSP値としては、好ましくは15.1以上、より好ましくは16.0~22.0、さらに好ましくは16.5~20.0、特に好ましくは17.0~19.5の範囲である。当該範囲で使用することで、相分離による凹凸構造の形成のしやすさと塗工性を両立させることが可能となる。 The SP value of compound (X) is preferably 15.1 or more, more preferably 16.0 to 22.0, even more preferably 16.5 to 20.0, and particularly preferably 17.0 to 19.5. By using it within this range, it is possible to achieve both the ease of forming an uneven structure by phase separation and coatability.
化合物(Y)のSP値としては、好ましくは15.0以下、より好ましくは7.0~14.5、さらに好ましくは8.0~14.0、特に好ましくは9.0~13.5の範囲である。当該範囲で使用することで、化合物(X)との相分離による凹凸構造を形成しやすくなる。 The SP value of compound (Y) is preferably 15.0 or less, more preferably 7.0 to 14.5, even more preferably 8.0 to 14.0, and particularly preferably in the range of 9.0 to 13.5. By using compound (Y) within this range, it becomes easier to form an uneven structure due to phase separation with compound (X).
また、化合物(X)と化合物(Y)のSP値の差は、好ましくは0.5以上、より好ましくは1.0~9.0、さらに好ましくは2.0~8.0、特に好ましくは3.0~7.0の範囲である。当該範囲の差であれば相分離による凹凸構造を形成しやすくなる。 The difference in SP value between compound (X) and compound (Y) is preferably 0.5 or more, more preferably 1.0 to 9.0, even more preferably 2.0 to 8.0, and particularly preferably 3.0 to 7.0. If the difference is within this range, it becomes easier to form an uneven structure due to phase separation.
化合物(X)の合計量と、化合物(Y)の合計量の質量比としては、好ましくは10:90~80:20、さらに好ましくは12:88~60:40、特に好ましくは15:85~50:50、最も好ましくは20:80~40:60の範囲である。当該範囲にすることで相分離による凹凸構造を形成しやすくなる。 The mass ratio of the total amount of compound (X) to the total amount of compound (Y) is preferably in the range of 10:90 to 80:20, more preferably 12:88 to 60:40, particularly preferably 15:85 to 50:50, and most preferably 20:80 to 40:60. By setting it in this range, it becomes easier to form an uneven structure due to phase separation.
活性エネルギー線硬化性の化合物の含有量は、不揮発性分に対して、好ましくは5~99質量%、より好ましくは25~95質量%、さらに好ましくは35~70質量%の範囲である。上記範囲の場合、相分離による凹凸構造、およびしわ状の凹凸構造が形成しやすくなり、また硬度にも優れる硬化膜を形成することができる。
硬化性組成物の不揮発分とは、有機溶剤等の溶媒以外の成分の合計質量である。硬化性組成物の不揮発分は、従来公知の方法で測定することができ、例えば、1gの組成物を広げて、100℃で1時間加熱することで有機溶剤を揮発させたときの重さの変化により測定される。
The content of the active energy ray-curable compound is preferably in the range of 5 to 99 mass %, more preferably 25 to 95 mass %, and further preferably 35 to 70 mass %, based on the nonvolatile content. When in the above range, an uneven structure due to phase separation and a wrinkled uneven structure are easily formed, and a cured film having excellent hardness can be formed.
The non-volatile content of the curable composition is the total mass of components other than the solvent such as the organic solvent, etc. The non-volatile content of the curable composition can be measured by a conventionally known method, for example, by measuring the change in weight when 1 g of the composition is spread and heated at 100° C. for 1 hour to volatilize the organic solvent.
硬化膜の形成において、水酸基、アミノ基、アミド基、スルホニル基、リン酸エステル基、チオール基から選ばれる少なくとも1種の極性基を含有する化合物(X)を使用する場合、硬化性組成物中の樹脂の含有量は、不揮発性分に対して、好ましくは1~95質量%、より好ましくは5~70質量%、さらに好ましくは10~60質量%の範囲である。上記範囲の場合、相分離による凹凸構造が形成しやすくなる。 When a compound (X) containing at least one polar group selected from a hydroxyl group, an amino group, an amide group, a sulfonyl group, a phosphate ester group, and a thiol group is used in forming a cured film, the content of the resin in the curable composition is preferably in the range of 1 to 95% by mass, more preferably 5 to 70% by mass, and even more preferably 10 to 60% by mass, based on the non-volatile content. When in the above range, it becomes easier to form an uneven structure due to phase separation.
硬化膜の形成において、水酸基、アミノ基、アミド基、スルホニル基、リン酸エステル基、チオール基から選ばれる少なくとも1種の極性基を含有しない化合物(Y)として、(メタ)アクリル系重合体を使用する場合、硬化性組成物中の樹脂の含有量は、不揮発性分に対して、好ましくは80質量%以下、より好ましくは1~70質量%、さらに好ましくは3~30質量%の範囲である。上記範囲の場合、相分離による凹凸構造が形成しやすくなる。 In forming a cured film, when a (meth)acrylic polymer is used as compound (Y) that does not contain at least one polar group selected from hydroxyl groups, amino groups, amide groups, sulfonyl groups, phosphate ester groups, and thiol groups, the content of the resin in the curable composition is preferably 80% by mass or less, more preferably 1 to 70% by mass, and even more preferably 3 to 30% by mass, based on the non-volatile content. When within the above range, an uneven structure due to phase separation is easily formed.
(粒子)
硬化膜のしわ状の凹凸構造による艶消し性をさらに向上させるため、硬化性組成物に粒子を配合することも可能である。粒子は特に限定されず、例えば、シリカ、中空シリカ、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸バリウム、硫酸カルシウム、リン酸カルシウム、リン酸マグネシウム、カオリン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン等の無機粒子、アクリル樹脂、スチレン樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ベンゾグアナミン樹脂等の有機粒子が挙げられる。無機粒子は(メタ)アクリロイル基等の反応性基を有するシランカップリング剤で表面修飾された粒子であってもよい。有機粒子は形状維持のために架橋タイプが好ましく、架橋アクリル樹脂粒子、架橋スチレン樹脂粒子がより好ましい。これらの粒子は2種以上を併用してもよい。
粒子の平均一次粒子径としては、好ましくは0.01~30μm、より好ましくは0.05~10μm、さらに好ましくは0.1~5μm、特に好ましくは0.5~3μmの範囲である。当該範囲の場合、艶消し性の向上に優れる。
粒子を配合する場合、その含有量は、艶消し性の向上の観点から、硬化性組成物中の不揮発分に対して、好ましくは30質量%以下、より好ましくは20質量%以下、さらに好ましくは10質量%以下、特に好ましくは8質量%以下の範囲である。
(particle)
In order to further improve the matte property due to the wrinkled uneven structure of the cured film, it is also possible to blend particles into the curable composition. The particles are not particularly limited, and examples thereof include inorganic particles such as silica, hollow silica, calcium carbonate, magnesium carbonate, barium carbonate, calcium sulfate, calcium phosphate, magnesium phosphate, kaolin, aluminum oxide, zirconium oxide, and titanium oxide, and organic particles such as acrylic resin, styrene resin, urea resin, phenol resin, epoxy resin, and benzoguanamine resin. The inorganic particles may be particles surface-modified with a silane coupling agent having a reactive group such as a (meth)acryloyl group. The organic particles are preferably crosslinked type in order to maintain their shape, and crosslinked acrylic resin particles and crosslinked styrene resin particles are more preferred. Two or more of these particles may be used in combination.
The average primary particle size of the particles is preferably in the range of 0.01 to 30 μm, more preferably 0.05 to 10 μm, further preferably 0.1 to 5 μm, and particularly preferably 0.5 to 3 μm. When the average primary particle size is in this range, the matte property is excellently improved.
When particles are blended, the content thereof is preferably 30% by mass or less, more preferably 20% by mass or less, further preferably 10% by mass or less, and particularly preferably 8% by mass or less, based on the non-volatile content in the curable composition, from the viewpoint of improving matte properties.
(光重合開始剤)
硬化性組成物の硬化性促進のために光重合開始剤を配合してもよい。光重合開始剤の分子量は1000以下が好ましい。具体例としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン-n-ブチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル、ベンジルジフェニルジスルフィド、ジベンジル、ジアセチル、アントラキノン、ナフトキノン、3,3’-ジメチル-4-メトキシベンゾフェノン、ベンゾフェノン、p,p’-ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4’-ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、ピバロインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、1,1-ジクロロアセトフェノン、p-t-ブチルジクロロアセトフェノン、2-クロロチオキサントン、2-メチルチオキサントン、2,4-ジエチルチオキサントン、2,2-ジエトキシアセトフェノン、2,2-ジメトキシ-2-フェニルアセトフェノン、2,2-ジクロロ-4-フェノキシアセトフェノン、フェニルグリオキシレート、α-ヒドロキシイソブチルフェノン、ジベンゾスパロン、1-(4-イソプロピルフェニル)-2-ヒドロキシ-2-メチル-1-プロパノン、2-メチル-[4-(メチルチオ)フェニル]-2-モルフォリノ-1-プロパノン、トリブロモフェニルスルホン、トリブロモメチルフェニルスルホンが挙げられる。これらの光重合開始剤は1種を単独で用いても2種以上を併用してもよい。
光重合開始剤を配合する場合、その含有量は、硬化性促進や硬化膜の硬度の観点から、不揮発分に対して、好ましくは20質量%以下、より好ましくは10質量%以下、さらに好ましくは8質量%以下、特に好ましくは5質量%以下の範囲である。
(Photopolymerization initiator)
A photopolymerization initiator may be added to promote the curing of the curable composition. The molecular weight of the photopolymerization initiator is preferably 1000 or less. Specific examples include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin-n-butyl ether, benzoin phenyl ether, benzyl diphenyl disulfide, dibenzyl, diacetyl, anthraquinone, naphthoquinone, 3,3'-dimethyl-4-methoxybenzophenone, benzophenone, p,p'-bis(dimethylamino)benzophenone, 4,4'-bis(diethylamino)benzophenone, pivaloin ethyl ether, benzyl dimethyl ketal, 1,1-dichloroacetophenone, and p-t-butyl dichloroacetophenone. Examples of the photopolymerization initiator include phenone, 2-chlorothioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,2-diethoxyacetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2-dichloro-4-phenoxyacetophenone, phenyl glyoxylate, α-hydroxyisobutylphenone, dibenzosparone, 1-(4-isopropylphenyl)-2-hydroxy-2-methyl-1-propanone, 2-methyl-[4-(methylthio)phenyl]-2-morpholino-1-propanone, tribromophenyl sulfone, and tribromomethylphenyl sulfone. These photopolymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.
When a photopolymerization initiator is blended, the content thereof is preferably 20% by mass or less, more preferably 10% by mass or less, even more preferably 8% by mass or less, and particularly preferably 5% by mass or less, based on the non-volatile content, from the viewpoints of promoting curability and the hardness of the cured film.
(レベリング剤)
硬化膜の外観を向上させるため、硬化性組成物にレベリング剤を配合することができる。レベリング剤としては、例えば、アクリル系レベリング剤、シリコーン系レベリング剤、フッ素系レベリング剤が挙げられる。これらのレベリング剤は1種を単独で用いても2種以上を併用してもよい。
レベリング剤を配合する場合、その含有量は、硬化膜の外観向上の観点から、不揮発性分に対して、好ましくは10質量%以下、より好ましくは8質量%以下、さらに好ましくは5質量%以下の範囲である。
(Leveling Agent)
In order to improve the appearance of the cured film, a leveling agent can be added to the curable composition. Examples of the leveling agent include acrylic leveling agents, silicone leveling agents, and fluorine leveling agents. These leveling agents may be used alone or in combination of two or more.
When a leveling agent is blended, the content thereof is preferably 10% by mass or less, more preferably 8% by mass or less, and even more preferably 5% by mass or less, based on the nonvolatile content, from the viewpoint of improving the appearance of the cured film.
(各種添加剤)
硬化性組成物には、本発明の効果を損なわない範囲で、チオール基を含有する化合物等の重合促進剤、防汚剤、帯電防止剤、可塑剤、界面活性剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤等の各種添加剤を配合してもよい。
(Various additives)
The curable composition may contain various additives, such as a polymerization accelerator such as a compound containing a thiol group, an antifouling agent, an antistatic agent, a plasticizer, a surfactant, an antioxidant, and an ultraviolet absorber, within the scope of not impairing the effects of the present invention.
(有機溶剤)
硬化性組成物を基材に塗布する際の作業性を向上させる目的で、硬化性組成物に有機溶剤を必要に応じて配合することもできる。
有機溶剤としては、例えば、トルエン、キシレン等の芳香族系溶剤;メチルエチルケトン、アセトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤;ジエチルエーテル、イソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、アニソール、フェネトール等のエーテル系溶剤;酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソプロピル、エチレングリコールジアセテート等のエステル系溶剤;ジメチルホルムアミド、ジエチルホルムアミド、N-メチルピロリドン等のアミド系溶剤;メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等のセロソルブ系溶剤;メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール等のアルコール系溶剤;ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン系溶剤;等が挙げられる。これらの有機溶剤は1種を単独で使用してもよく2種以上を併用してもよい。これらの有機溶剤のうち、塗布における作業性を向上させやすい点で、エステル系溶剤、エーテル系溶剤、アルコール系溶剤及びケトン系溶剤が好ましい。
硬化性組成物に有機溶剤を配合する場合、その含有量は、塗布操作における操作性の向上の観点から、不揮発分100質量部に対して、10質量部以上1900質量部以下が好ましく、40質量部以上400質量部以下がより好ましい。
(Organic Solvent)
For the purpose of improving the workability when applying the curable composition to a substrate, an organic solvent may be added to the curable composition as necessary.
Examples of organic solvents include aromatic solvents such as toluene and xylene; ketone-based solvents such as methyl ethyl ketone, acetone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone; ether-based solvents such as diethyl ether, isopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, anisole, and phenetole; ester-based solvents such as ethyl acetate, butyl acetate, isopropyl acetate, and ethylene glycol diacetate; amide-based solvents such as dimethylformamide, diethylformamide, and N-methylpyrrolidone; cellosolve-based solvents such as methyl cellosolve, ethyl cellosolve, and butyl cellosolve; alcohol-based solvents such as methanol, ethanol, propanol, isopropanol, and butanol; halogen-based solvents such as dichloromethane and chloroform; and the like. These organic solvents may be used alone or in combination of two or more. Among these organic solvents, ester-based solvents, ether-based solvents, alcohol-based solvents and ketone-based solvents are preferred in that they can easily improve workability during coating.
When an organic solvent is blended in the curable composition, the content thereof is preferably from 10 parts by mass to 1,900 parts by mass, and more preferably from 40 parts by mass to 400 parts by mass, per 100 parts by mass of nonvolatile matter, from the viewpoint of improving operability in a coating operation.
(塗膜の形成)
硬化性組成物の塗膜を形成する方法としては、例えば、硬化性組成物を基材又は物品の面上に塗布して塗膜を形成し、必要に応じて乾燥する方法が挙げられる。塗布する方法は特に限定されないが、例えば、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、スピンコート法、ローラーコート法、バーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、スプレーコート等の公知の方法が挙げられる。
硬化性組成物が有機溶剤を含む場合、活性エネルギー線を照射する前に予め加熱乾燥することが好ましい。予め加熱乾燥することにより、塗膜中の溶媒を効果的に除去することができる。加熱乾燥の乾燥温度は、30℃以上200℃以下が好ましく、40℃以上150℃以下がより好ましい。乾燥時間は、0.01分以上30分以下が好ましく、0.1分以上10分以下がより好ましい。
(Formation of coating film)
Examples of the method for forming a coating film of the curable composition include a method in which the curable composition is applied onto a surface of a substrate or an article to form a coating film, and then dried as necessary. The coating method is not particularly limited, and examples thereof include known methods such as dip coating, air knife coating, curtain coating, spin coating, roller coating, bar coating, wire bar coating, gravure coating, and spray coating.
When the curable composition contains an organic solvent, it is preferable to heat-dry the composition before irradiating the composition with active energy rays. By heating and drying the composition beforehand, the solvent in the coating film can be effectively removed. The drying temperature of the heat-drying is preferably 30° C. or more and 200° C. or less, more preferably 40° C. or more and 150° C. or less. The drying time is preferably 0.01 minutes or more and 30 minutes or less, more preferably 0.1 minutes or more and 10 minutes or less.
(活性エネルギー線の照射)
基材又は物品の表面に形成した硬化性組成物の塗膜に活性エネルギー線を照射して硬化膜とし、基材又は物品に硬化膜が積層された積層体を形成する。活性エネルギー線としては、塗膜の表面を効果的に硬化できるエネルギーが高いもの(波長の短いもの)が好ましく、真空紫外線(波長200nm以下の紫外線)がより好ましい。真空紫外線の中でも半値幅が50nm以下であるエキシマ光が最適である。エキシマ光としては、例えば、アルゴンエキシマ光(126nm)、クリプトンエキシマ光(146nm)、キセノンエキシマ光(172nm)、アルゴン・フッ素エキシマ光(193nm)が挙げられる。これらの中でも、使用のしやすさや、硬化膜に効果的な凹凸構造が形成できること、硬化性組成物の硬化性等を考慮すると、キセノンエキシマ光が好適である。
(Irradiation with active energy rays)
The coating film of the curable composition formed on the surface of the substrate or article is irradiated with active energy rays to form a cured film, and a laminate in which the cured film is laminated on the substrate or article is formed. As the active energy rays, those with high energy (short wavelength) that can effectively cure the surface of the coating film are preferable, and vacuum ultraviolet rays (ultraviolet rays with a wavelength of 200 nm or less) are more preferable. Among the vacuum ultraviolet rays, excimer light with a half-width of 50 nm or less is optimal. Examples of excimer light include argon excimer light (126 nm), krypton excimer light (146 nm), xenon excimer light (172 nm), and argon-fluorine excimer light (193 nm). Among these, xenon excimer light is preferable in consideration of ease of use, the ability to form an effective uneven structure in the cured film, and the curability of the curable composition.
真空紫外線を用いる場合、照射する積算光量は、好ましくは1~3000mJ/cm2、より好ましくは3~1000mJ/cm2、さらに好ましくは5~500mJ/cm2、特に好ましくは10~100mJ/cm2の範囲である。また、照度としては好ましくは1~500mW/cm2、より好ましくは2~300mW/cm2、さらに好ましくは3~100mW/cm2の範囲である。
また、真空紫外線照射時の雰囲気として、窒素雰囲気下など酸素が少ない環境で行うことが好ましい。雰囲気中の酸素濃度は、好ましくは10%以下、より好ましくは5%以下、さらに好ましくは3%以下、特に好ましくは1%以下の範囲である。
When vacuum ultraviolet rays are used, the cumulative amount of light to be irradiated is preferably in the range of 1 to 3000 mJ/cm 2 , more preferably 3 to 1000 mJ/cm 2 , even more preferably 5 to 500 mJ/cm 2 , and particularly preferably 10 to 100 mJ/cm 2. The illuminance is preferably in the range of 1 to 500 mW/cm 2 , more preferably 2 to 300 mW/cm 2 , and even more preferably 3 to 100 mW/cm 2 .
In addition, the vacuum ultraviolet irradiation is preferably performed in an environment with a low oxygen content, such as a nitrogen atmosphere. The oxygen concentration in the atmosphere is preferably 10% or less, more preferably 5% or less, further preferably 3% or less, and particularly preferably 1% or less.
〔積層体〕
本発明の積層体は、基材からなる層と、硬化性組成物の硬化膜からなる層(凹凸層)を有する。積層体はさらに、基材と硬化膜との間にプライマー層を有していてもよい。また、基材の硬化膜側とは反対側の面上に裏面機能層を有してもよい。本発明の効果を損なわないものであれば、硬化膜の基材とは反対側の面上に表面機能層を有してもよい。
[Laminate]
The laminate of the present invention has a layer made of a substrate and a layer (uneven layer) made of a cured film of a curable composition. The laminate may further have a primer layer between the substrate and the cured film. In addition, a back functional layer may be provided on the surface of the substrate opposite to the cured film side. As long as the effect of the present invention is not impaired, a surface functional layer may be provided on the surface of the cured film opposite to the substrate.
(基材)
基材としては、公知のものを使用でき、例えば、樹脂基材、金属基材、紙基材が挙げられる。これらの中では、加工性の観点から、樹脂基材が好ましい。樹脂基材は、単層構成であっても2層以上の多層構成であってもよく、特に限定されるものではない。樹脂基材を2層以上の多層構成とし、それぞれの層に特徴を持たせ、多機能化を図ることが好ましい。
樹脂基材としては、各種の樹脂フィルム(シート)を使用でき、例えば、ポリエステルフィルム、ポリ(メタ)アクリレートフィルム、ポリオレフィンフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリイミドフィルム、トリアセチルセルロースフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、ナイロンフィルムが挙げられる。
積層体をディスプレイ用途へ展開する場合には、ポリエステルフィルム、ポリ(メタ)アクリレートフィルム、ポリオレフィンフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリイミドフィルム、トリアセチルセルロースフィルムが好ましい。これらの中でも、アンチグレア用途においては、ポリエステルフィルム、ポリ(メタ)アクリレートフィルム、ポリオレフィンフィルムが好ましく、さらに透明性や成形性、汎用性を考慮すると、ポリエステルフィルムがより好ましい。
(Substrate)
The substrate may be a known one, for example, a resin substrate, a metal substrate, or a paper substrate. Among these, the resin substrate is preferred from the viewpoint of processability. The resin substrate may be a single-layer structure or a multi-layer structure of two or more layers, and is not particularly limited. It is preferred that the resin substrate is a multi-layer structure of two or more layers, each layer having its own characteristics, and multi-functional.
As the resin substrate, various resin films (sheets) can be used, for example, a polyester film, a poly(meth)acrylate film, a polyolefin film, a polycarbonate film, a polyimide film, a triacetyl cellulose film, a polystyrene film, a polyvinyl chloride film, a polyvinyl alcohol film, and a nylon film.
When the laminate is used for a display, polyester films, poly(meth)acrylate films, polyolefin films, polycarbonate films, polyimide films, and triacetyl cellulose films are preferred. Among these, polyester films, poly(meth)acrylate films, and polyolefin films are preferred for anti-glare applications, and polyester films are more preferred in terms of transparency, formability, and versatility.
ポリエステルフィルムは、無延伸フィルムであっても延伸フィルムであってもよく、延伸フィルムが好ましい。中でも、一軸方向に延伸された一軸延伸フィルム、又は二軸方向に延伸された二軸延伸フィルムが好ましく、力学特性のバランスや平面性に優れる観点から、二軸延伸フィルムがより好ましい。
基材として用いられうるポリエステルフィルムを構成するポリエステルは、ホモポリエステルであっても共重合ポリエステルであってもよい。
ホモポリエステルとしては、芳香族ジカルボン酸と脂肪族グリコールとを重縮合させて得られたものが好ましい。芳香族ジカルボン酸としては、例えば、テレフタル酸、2,6-ナフタレンジカルボン酸が挙げられる。脂肪族グリコールとしては、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、1,4-シクロヘキサンジメタノールが挙げられる。芳香族ジカルボン酸、脂肪族グリコールはそれぞれ1種を単独で用いても2種以上を併用してもよい。
共重合ポリエステルのジカルボン酸成分としては、例えば、イソフタル酸、フタル酸、テレフタル酸、2,6-ナフタレンジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、オキシカルボン酸が挙げられる。グリコール成分として、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、4-シクロヘキサンジメタノール、ネオペンチルグリコールが挙げられる。ジカルボン酸成分、グリコール成分はそれぞれ1種を単独で用いても2種以上を併用してもよい。
代表的なポリエステルとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートが例示される。
ポリエステルフィルムとしては、機械的強度や耐熱性を考慮すると、前記の中でも、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレートから形成されたフィルムがより好ましく、製造のしやすさ、表面保護フィルム等の用途としての取扱い性を考慮すると、ポリエチレンテレフタレートから形成されたフィルムが特に好ましい。
The polyester film may be a non-stretched film or a stretched film, and a stretched film is preferable. Among them, a uniaxially stretched film stretched in one direction or a biaxially stretched film stretched in two directions is preferable, and a biaxially stretched film is more preferable from the viewpoint of excellent balance of mechanical properties and flatness.
The polyester constituting the polyester film that can be used as the substrate may be either a homopolyester or a copolymer polyester.
The homopolyester is preferably one obtained by polycondensation of an aromatic dicarboxylic acid and an aliphatic glycol. Examples of the aromatic dicarboxylic acid include terephthalic acid and 2,6-naphthalenedicarboxylic acid. Examples of the aliphatic glycol include ethylene glycol, diethylene glycol, and 1,4-cyclohexanedimethanol. The aromatic dicarboxylic acid and the aliphatic glycol may each be used alone or in combination of two or more.
Examples of the dicarboxylic acid component of the copolymer polyester include isophthalic acid, phthalic acid, terephthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, adipic acid, sebacic acid, and oxycarboxylic acid. Examples of the glycol component include ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, butanediol, 4-cyclohexanedimethanol, and neopentyl glycol. The dicarboxylic acid component and the glycol component may each be used alone or in combination of two or more.
Representative examples of polyester include polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate.
As the polyester film, from among the above, films formed from polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate are more preferable in consideration of mechanical strength and heat resistance, and from the viewpoint of ease of production and handleability for applications such as surface protection films, films formed from polyethylene terephthalate are particularly preferable.
基材として用いられうるポリ(メタ)アクリレートフィルムを構成するポリ(メタ)アクリレートとしては、(メタ)アクリレートに基づく単位を有するものであればよく、各種のアクリル樹脂を使用することができる。(メタ)アクリレートとしては、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート等の炭素数が1~4のアルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレート、より炭素数が多いアルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレートが挙げられる。
ポリ(メタ)アクリレートは、透明性、加工性、耐薬品性を考慮すると、炭素数が1~4のアルキル(メタ)アクリレートに基づく単位を主成分とすることが好ましく、メチル(メタ)アクリレートに基づく単位及びエチル(メタ)アクリレートに基づく単位からなる群から選ばれる少なくとも1種を主成分とすることがより好ましく、メチル(メタ)アクリレートに基づく単位を主成分とすることが特に好ましい。
ポリ(メタ)アクリレートに、アルキル(メタ)アクリレート以外の(メタ)アクリレートに基づく単位や、その他の単量体に基づく単位を含有させて柔軟性等の特性を付与することも可能である。
ポリ(メタ)アクリレートの総質量に対する炭素数が1~4のアルキル(メタ)アクリレートに基づく単位の割合は、好ましくは50質量%以上、より好ましくは80質量%以上である。
The poly(meth)acrylate constituting the poly(meth)acrylate film that can be used as the substrate may be any poly(meth)acrylate having a unit based on (meth)acrylate, and various acrylic resins can be used. Examples of the (meth)acrylate include alkyl (meth)acrylates having an alkyl group with 1 to 4 carbon atoms, such as methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, propyl (meth)acrylate, and butyl (meth)acrylate, and alkyl (meth)acrylates having an alkyl group with a larger number of carbon atoms.
In consideration of transparency, processability, and chemical resistance, the poly(meth)acrylate preferably contains as a main component a unit based on an alkyl(meth)acrylate having 1 to 4 carbon atoms, more preferably contains as a main component at least one selected from the group consisting of units based on methyl(meth)acrylate and units based on ethyl(meth)acrylate, and particularly preferably contains as a main component a unit based on methyl(meth)acrylate.
It is also possible to impart properties such as flexibility to the poly(meth)acrylate by incorporating units based on (meth)acrylates other than alkyl (meth)acrylates or units based on other monomers.
The proportion of units based on alkyl (meth)acrylate having 1 to 4 carbon atoms relative to the total mass of the poly(meth)acrylate is preferably 50% by mass or more, more preferably 80% by mass or more.
基材は、易滑性の付与、各工程での傷発生防止、耐ブロッキング特性の向上を目的として、粒子を含むことができる。
粒子の種類は、目的に応じて適宜選定でき、特に限定されない。具体例としては、シリカ、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸バリウム、硫酸カルシウム、リン酸カルシウム、リン酸マグネシウム、カオリン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン等の無機粒子、アクリル樹脂、スチレン樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ベンゾグアナミン樹脂等の有機粒子等が挙げられる。さらに、基材層がポリエステルフィルムを含む場合、ポリエステル製造工程で触媒等の金属化合物の一部を析出させた析出粒子を用いることもできる。これらの中でも特に少量で効果が出やすいという点で、シリカ粒子や炭酸カルシウム粒子が好ましい。
粒子の形状は特に限定されるものではなく、球状、塊状、棒状、扁平状等のいずれを用いてもよい。また、その硬度、比重、色等についても特に制限はない。
これらの粒子は、必要に応じて2種類以上を併用してもよい。
粒子の平均一次粒子径は、好ましくは10μm以下、より好ましくは0.01~5μm、さらに好ましくは0.01~3μmの範囲である。平均一次粒子径が10μm以下であれば、基材の透明性の低下による不具合が生じにくい。
粒子の平均一次粒子径は、遠心沈降式粒度分布測定装置により測定される等価球形分布における積算50%(質量基準)の値である。
基材が粒子を含む場合、その含有量は、粒子の平均一次粒子径との兼ね合いもあるので一概にはいえないが、基材の総質量(基材が複数の層で構成される場合は粒子を含有する層の総質量)に対し、好ましくは5質量%以下、より好ましくは0.0003~3質量%の範囲、さらに好ましくは0.0005~1質量%の範囲である。粒子の含有量が5質量%以下であれば、粒子の脱落や基材の透明性の低下等の不具合が生じにくい。
The substrate may contain particles for the purposes of imparting slipperiness, preventing scratches during each process, and improving blocking resistance.
The type of particles can be appropriately selected according to the purpose, and is not particularly limited. Specific examples include inorganic particles such as silica, calcium carbonate, magnesium carbonate, barium carbonate, calcium sulfate, calcium phosphate, magnesium phosphate, kaolin, aluminum oxide, zirconium oxide, and titanium oxide, and organic particles such as acrylic resin, styrene resin, urea resin, phenol resin, epoxy resin, and benzoguanamine resin. Furthermore, when the base layer includes a polyester film, precipitated particles obtained by precipitating a part of a metal compound such as a catalyst during the polyester manufacturing process can also be used. Among these, silica particles and calcium carbonate particles are preferred because they are particularly effective in small amounts.
The shape of the particles is not particularly limited, and any of spherical, block, rod-like, flat, etc. is acceptable. There are also no particular limitations on the hardness, specific gravity, color, etc.
Two or more kinds of these particles may be used in combination, if necessary.
The average primary particle size of the particles is preferably 10 μm or less, more preferably 0.01 to 5 μm, and even more preferably 0.01 to 3 μm. If the average primary particle size is 10 μm or less, problems due to a decrease in the transparency of the substrate are unlikely to occur.
The average primary particle size of the particles is the cumulative 50% (mass basis) value in the equivalent sphericity distribution measured by a centrifugal sedimentation type particle size distribution measuring device.
When the substrate contains particles, the content of the particles is not necessarily limited since it depends on the average primary particle diameter of the particles, but is preferably 5% by mass or less, more preferably in the range of 0.0003 to 3% by mass, and even more preferably in the range of 0.0005 to 1% by mass, based on the total mass of the substrate (the total mass of the layers containing the particles when the substrate is composed of multiple layers). If the particle content is 5% by mass or less, defects such as particle dropout and reduced transparency of the substrate are unlikely to occur.
基材は、必要に応じて、上述の粒子以外の添加剤を含むことができる。添加剤としては、紫外線吸収剤、酸化防止剤、帯電防止剤、熱安定剤、潤滑剤、染料、顔料等の公知の添加剤を用いることができる。
基材がフィルムの場合、その厚みは、製膜可能な範囲であれば特に限定されるものではないが、好ましくは2~350μm、より好ましくは5~250μm、さらに好ましくは10~100μmの範囲である。
The substrate may contain additives other than the above-mentioned particles as necessary. Examples of the additives that can be used include known additives such as ultraviolet absorbers, antioxidants, antistatic agents, heat stabilizers, lubricants, dyes, and pigments.
When the substrate is a film, the thickness is not particularly limited as long as it is within a range that allows film formation, but is preferably in the range of 2 to 350 μm, more preferably 5 to 250 μm, and even more preferably 10 to 100 μm.
(プライマー層)
プライマー層は、基材と硬化膜(凹凸層)との間に各種の機能を付与するために適宜設けられる。プライマー層は、一層で単一又は複数の機能を有していてもよく、複数の層で構成されていてもよい。
好ましい一態様において、プライマー層は密着向上層である。基材と凹凸層との密着性が不十分であると、用途によっては積層体を使用できない場合がある。密着向上層を有することで、基材と凹凸層との密着性が向上し、積層体を種々の用途に使用できる。密着性向上等の観点から、密着向上層には樹脂及び架橋剤由来の化合物のいずれか一方又は両方を含有することが好ましい。
好ましい他の一態様において、プライマー層は帯電防止層である。プライマー層が帯電防止層であれば、積層体の最表面、特に基材に対して凹凸層が存在する側の最表面に対する、剥離帯電や摩擦帯電による塵埃等の付着を軽減できる。
プライマー層を帯電防止層とするには、例えば、プライマー層に帯電防止剤を含有させればよい。
(Primer layer)
The primer layer is appropriately provided between the substrate and the cured film (concave-convex layer) in order to impart various functions. The primer layer may be a single layer having a single or multiple functions, or may be composed of multiple layers.
In a preferred embodiment, the primer layer is an adhesion improving layer. If the adhesion between the substrate and the uneven layer is insufficient, the laminate may not be usable depending on the application. By having the adhesion improving layer, the adhesion between the substrate and the uneven layer is improved, and the laminate can be used for various applications. From the viewpoint of improving adhesion, it is preferable that the adhesion improving layer contains either one or both of a resin and a compound derived from a crosslinking agent.
In another preferred embodiment, the primer layer is an antistatic layer. When the primer layer is an antistatic layer, adhesion of dust and the like due to peeling electrification or frictional electrification can be reduced to the outermost surface of the laminate, particularly to the outermost surface on the side where the uneven layer is present relative to the substrate.
In order to make the primer layer an antistatic layer, for example, an antistatic agent may be contained in the primer layer.
プライマー層に含まれる樹脂としては、従来公知の樹脂を使用することができる。樹脂の具体例としては、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、ポリビニル樹脂(ポリビニルアルコール、塩化ビニル-酢酸ビニル共重合体等)等が挙げられる。その中でも、密着性能やコーティング性を考慮すると、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂が好ましい。
基材が樹脂フィルムである場合、基材との親和性の観点から、プライマー層に含まれる樹脂は樹脂フィルムと同種の樹脂が好ましい。例えば基材がポリエステルフィルムの場合、プライマー層はポリエステル樹脂を含有することが好ましい。基材がポリ(メタ)アクリレートフィルムの場合、プライマー層はアクリル樹脂を含有することが好ましい。
The resin contained in the primer layer may be a conventionally known resin. Specific examples of the resin include polyester resin, acrylic resin, urethane resin, polyvinyl resin (polyvinyl alcohol, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, etc.), etc. Among these, polyester resin, acrylic resin, and urethane resin are preferred in consideration of adhesion performance and coating properties.
When the substrate is a resin film, the resin contained in the primer layer is preferably the same type of resin as that of the resin film from the viewpoint of affinity with the substrate. For example, when the substrate is a polyester film, the primer layer preferably contains a polyester resin. When the substrate is a poly(meth)acrylate film, the primer layer preferably contains an acrylic resin.
ポリエステル樹脂としては、主な構成成分が多価カルボン酸及び多価ヒドロキシ化合物からなるものが挙げられる。
多価カルボン酸としては、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、オルトフタル酸、4,4’-ジフェニルジカルボン酸、2,5-ナフタレンジカルボン酸、1,5-ナフタレンジカルボン酸及び、2,6-ナフタレンジカルボン酸、2,7-ナフタレンジカルボン酸、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸、2-カリウムスルホテレフタル酸、5-ソジウムスルホイソフタル酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸、グルタル酸、コハク酸、トリメリット酸、トリメシン酸、ピロメリット酸、無水トリメリット酸、無水フタル酸、トリメリット酸モノカリウム塩及びそれらのエステル形成性誘導体が挙げられる。
多価ヒドロキシ化合物としては、例えば、エチレングリコール、1,2-プロピレングリコール、1,3-プロピレングリコール、1,3-プロパンジオール、1,4-ブタンジオール、1,6-ヘキサンジオール、2-メチル-1,5-ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、1,4-シクロヘキサンジメタノール、p-キシリレングリコール、ビスフェノールA-エチレングリコール付加物、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、ポリテトラメチレンオキシドグリコール、ジメチロールプロピオン酸、グリセリン、トリメチロールプロパン、ジメチロールエチルスルホン酸ナトリウム、ジメチロールプロピオン酸カリウムが挙げられる。
これらの化合物の中から、それぞれ1つ以上を適宜選択し、常法の重縮合反応によりポリエステル樹脂を合成すればよい。
The polyester resin may be one whose main components are a polyvalent carboxylic acid and a polyvalent hydroxy compound.
Examples of polyvalent carboxylic acids include terephthalic acid, isophthalic acid, orthophthalic acid, 4,4'-diphenyldicarboxylic acid, 2,5-naphthalenedicarboxylic acid, 1,5-naphthalenedicarboxylic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 2,7-naphthalenedicarboxylic acid, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, 2-potassium sulfoterephthalic acid, 5-sodium sulfoisophthalic acid, adipic acid, azelaic acid, sebacic acid, dodecanedicarboxylic acid, glutaric acid, succinic acid, trimellitic acid, trimesic acid, pyromellitic acid, trimellitic anhydride, phthalic anhydride, trimellitic acid monopotassium salt, and ester-forming derivatives thereof.
Examples of polyhydric hydroxy compounds include ethylene glycol, 1,2-propylene glycol, 1,3-propylene glycol, 1,3-propanediol, 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, 2-methyl-1,5-pentanediol, neopentyl glycol, 1,4-cyclohexanedimethanol, p-xylylene glycol, bisphenol A-ethylene glycol adduct, diethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol, polypropylene glycol, polytetramethylene glycol, polytetramethylene oxide glycol, dimethylolpropionic acid, glycerin, trimethylolpropane, sodium dimethylolethylsulfonate, and potassium dimethylolpropionate.
One or more of these compounds may be appropriately selected and subjected to a conventional polycondensation reaction to synthesize a polyester resin.
アクリル樹脂とは、(メタ)アクリル系モノマーを含む重合性モノマーの重合体である。アクリル樹脂としては、例えば、(メタ)アクリル系モノマーの単独重合体及び共重合体、(メタ)アクリル系モノマーと(メタ)アクリル系モノマー以外の重合性モノマーとの共重合体等が挙げられる。
アクリル樹脂は、それら重合体と他のポリマー(例えばポリエステル、ポリウレタン等)との共重合体であってもよい。このような共重合体は、例えば、ブロック共重合体、グラフト共重合体である。又は、ポリエステルの溶液又は分散液中で重合性モノマーを重合して得られたポリマー(場合によってはポリマーの混合物)も含まれる。同様に、ポリウレタンの溶液又は分散液中で重合性モノマーを重合して得られたポリマー(場合によってはポリマーの混合物)も含まれる。同様に、他のポリマーの溶液又は分散液中で重合性モノマーを重合して得られたポリマー(場合によってはポリマー混合物)も含まれる。
上記重合性モノマーとしては、特に限定されないが、特に代表的な化合物としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、フマル酸、マレイン酸、シトラコン酸等のカルボキシル基含有モノマー及びそれらの塩;2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、モノブチルヒドロキルフマレート、モノブチルヒドロキシイタコネート等の水酸基含有モノマー;メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2-エチルへキシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート等のアルキル(メタ)アクリレート;(メタ)アクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、N-メチロールアクリルアミド、(メタ)アクリロニトリル等の窒素含有モノマー;スチレン、α-メチルスチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン等のスチレン系化合物、プロピオン酸ビニル、酢酸ビニル等のビニルエステル;γ-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン等の珪素含有モノマー;燐含有ビニル系モノマー;塩化ビニル、塩化ビリデン等のハロゲン化ビニル;ブタジエン等の共役ジエンが挙げられる。
The acrylic resin is a polymer of a polymerizable monomer including a (meth)acrylic monomer. Examples of the acrylic resin include a homopolymer or copolymer of a (meth)acrylic monomer, and a copolymer of a (meth)acrylic monomer and a polymerizable monomer other than a (meth)acrylic monomer.
The acrylic resin may be a copolymer of such a polymer with another polymer (e.g., polyester, polyurethane, etc.). Such a copolymer is, for example, a block copolymer or a graft copolymer. Alternatively, a polymer (or a mixture of polymers, as the case may be) obtained by polymerizing a polymerizable monomer in a solution or dispersion of a polyester is also included. Similarly, a polymer (or a mixture of polymers, as the case may be) obtained by polymerizing a polymerizable monomer in a solution or dispersion of a polyurethane is also included. Similarly, a polymer (or a mixture of polymers, as the case may be) obtained by polymerizing a polymerizable monomer in a solution or dispersion of another polymer is also included.
The polymerizable monomer is not particularly limited, but particularly representative compounds include, for example, carboxyl group-containing monomers such as acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, itaconic acid, fumaric acid, maleic acid, and citraconic acid, and salts thereof; hydroxyl group-containing monomers such as 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 4-hydroxybutyl (meth)acrylate, monobutyl hydroxyl fumarate, and monobutyl hydroxy itaconate; methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, propyl (meth)acrylate, butyl (meth)acrylate, 2-ethyl Examples of suitable monomers include alkyl (meth)acrylates such as diethylhexyl (meth)acrylate and lauryl (meth)acrylate; nitrogen-containing monomers such as (meth)acrylamide, diacetone acrylamide, N-methylolacrylamide and (meth)acrylonitrile; styrene-based compounds such as styrene, α-methylstyrene, divinylbenzene and vinyltoluene, vinyl esters such as vinyl propionate and vinyl acetate; silicon-containing monomers such as γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane and vinyltrimethoxysilane; phosphorus-containing vinyl monomers; vinyl halides such as vinyl chloride and vinylidene chloride; and conjugated dienes such as butadiene.
ウレタン樹脂とは、ウレタン結合を分子内に有する高分子化合物のことであり、典型的には、ポリオールとポリイソシアネート化合物との反応により合成される。ウレタン樹脂を合成する際に鎖延長剤を使用してもよい。ウレタン樹脂を得るために使用されるポリオールとしては、ポリカーボネートポリオール、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリオレフィンポリオール、アクリルポリオール等が挙げられる。これらの化合物は1種を単独で用いても2種以上を併用してもよい。 A urethane resin is a polymeric compound having a urethane bond in the molecule, and is typically synthesized by the reaction of a polyol with a polyisocyanate compound. A chain extender may be used when synthesizing the urethane resin. Examples of polyols used to obtain the urethane resin include polycarbonate polyols, polyether polyols, polyester polyols, polyolefin polyols, and acrylic polyols. These compounds may be used alone or in combination of two or more.
ポリカーボネートポリオールは、多価アルコールとカーボネート化合物との反応(脱アルコール反応)により得られる。多価アルコールとしては、例えば、エチレングリコール、1,2-プロピレングリコール、1,3-プロピレングリコール、1,2-ブタンジオール、1,3-ブタンジオール、1,4-ブタンジオール、1,5-ペンタンジオール、1,6-ヘキサンジオール、1,4-シクロヘキサンジオール、1,4-シクロヘキサンジメタノール、1,7-ヘプタンジオール、1,8-オクタンジオール、1,9-ノナンジオール、1,10-デカンジオール、ネオペンチルグリコール、3-メチル-1,5-ペンタンジオール、3,3-ジメチロールヘプタンが挙げられる。カーボネート化合物としては、例えば、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ジフェニルカーボネート、エチレンカーボネートが挙げられる。ポリカーボネートポリオールの具体例としては、ポリ(1,6-ヘキシレン)カーボネート、ポリ(3-メチル-1,5-ペンチレン)カーボネートが挙げられる。 Polycarbonate polyols are obtained by the reaction (de-alcoholization reaction) of polyhydric alcohols with carbonate compounds. Examples of polyhydric alcohols include ethylene glycol, 1,2-propylene glycol, 1,3-propylene glycol, 1,2-butanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, 1,4-cyclohexanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, 1,7-heptanediol, 1,8-octanediol, 1,9-nonanediol, 1,10-decanediol, neopentyl glycol, 3-methyl-1,5-pentanediol, and 3,3-dimethylolheptane. Examples of carbonate compounds include dimethyl carbonate, diethyl carbonate, diphenyl carbonate, and ethylene carbonate. Specific examples of polycarbonate polyols include poly(1,6-hexylene) carbonate and poly(3-methyl-1,5-pentylene) carbonate.
ポリエーテルポリオールとしては、例えば、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリエチレンプロピレングリコール、ポリテトラメチレンエーテルグリコール、ポリヘキサメチレンエーテルグリコールが挙げられる。 Examples of polyether polyols include polyethylene glycol, polypropylene glycol, polyethylene propylene glycol, polytetramethylene ether glycol, and polyhexamethylene ether glycol.
ポリエステルポリオールとしては、例えば、多価カルボン酸又はその酸無水物と、多価アルコールとの反応により得られるもの、ポリカプロラクトン等のラクトン化合物の誘導体ユニットを有するものが挙げられる。
多価カルボン酸としては、例えば、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、セバシン酸、フマル酸、マレイン酸、テレフタル酸、イソフタル酸が挙げられる。
多価アルコールとしては、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ブタンジオール、1,3-ブタンジオール、1,4-ブタンジオール、2,3-ブタンジオール、2-メチル-1,3-プロパンジオール、1,5-ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、1,6-ヘキサンジオール、3-メチル-1,5-ペンタンジオール、2-メチル-2,4-ペンタンジオール、2-メチル-2-プロピル-1,3-プロパンジオール、1,8-オクタンジオール、2,2,4-トリメチル-1,3-ペンタンジオール、2-エチル-1,3-ヘキサンジオール、2,5-ジメチル-2,5-ヘキサンジオール、1,9-ノナンジオール、2-メチル-1,8-オクタンジオール、2-ブチル-2-エチル-1,3-プロパンジオール、2-ブチル-2-ヘキシル-1,3-プロパンジオール、シクロヘキサンジオール、ビスヒドロキシメチルシクロヘキサン、ジメタノールベンゼン、ビスヒドロキシエトキシベンゼン、アルキルジアルカノールアミン、ラクトンジオールが挙げられる。
Examples of polyester polyols include those obtained by reacting a polyvalent carboxylic acid or an acid anhydride thereof with a polyhydric alcohol, and those having a derivative unit of a lactone compound such as polycaprolactone.
Examples of polyvalent carboxylic acids include malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, sebacic acid, fumaric acid, maleic acid, terephthalic acid, and isophthalic acid.
Examples of polyhydric alcohols include ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, butanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 2,3-butanediol, 2-methyl-1,3-propanediol, 1,5-pentanediol, neopentyl glycol, 1,6-hexanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 2-methyl-2,4-pentanediol, and 2-methyl-2-propyl-1,3-propanediol. , 1,8-octanediol, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol, 2-ethyl-1,3-hexanediol, 2,5-dimethyl-2,5-hexanediol, 1,9-nonanediol, 2-methyl-1,8-octanediol, 2-butyl-2-ethyl-1,3-propanediol, 2-butyl-2-hexyl-1,3-propanediol, cyclohexanediol, bishydroxymethylcyclohexane, dimethanolbenzene, bishydroxyethoxybenzene, alkyldialkanolamines, and lactone diols.
ポリオールとしては、密着性能を考慮すると、ポリエステルポリオール及びポリカーボネートポリオールが好ましく、ポリエステルポリオールが特に好ましい。 As polyols, polyester polyols and polycarbonate polyols are preferred in terms of adhesion performance, with polyester polyols being particularly preferred.
ウレタン樹脂を得るために使用されるポリイソシアネート化合物としては、例えば、トリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、メチレンジフェニルジイソシアネート、フェニレンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、トリジンジイソシアネート等の芳香族ジイソシアネート;α,α,α’,α’-テトラメチルキシリレンジイソシアネート等の芳香環を有する脂肪族ジイソシアネート;メチレンジイソシアネート、プロピレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート等の脂肪族ジイソシアネート;シクロヘキサンジイソシアネート、メチルシクロヘキサンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、イソプロピリデンジシクロヘキシルジイソシアネート等の脂環族ジイソシアネートが挙げられる。これらは1種を単独で用いても2種以上を併用してもよい。
鎖延長剤としては、イソシアネート基と反応する活性基を2個以上有するものであれば特に制限はなく、一般的には、水酸基又はアミノ基を2個有する鎖延長剤を主に用いることができる。
水酸基を2個有する鎖延長剤としては、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール等の脂肪族グリコール、キシリレングリコール、ビスヒドロキシエトキシベンゼン等の芳香族グリコール、ネオペンチルグリコールヒドロキシピバレート等のエステルグリコール等のグリコール化合物が挙げられる。
アミノ基を2個有する鎖延長剤としては、例えば、トリレンジアミン、キシリレンジアミン、ジフェニルメタンジアミン等の芳香族ジアミン、エチレンジアミン、プロピレンジアミン、ヘキサンジアミン、2,2-ジメチル-1,3-プロパンジアミン、2-メチル-1,5-ペンタンジアミン、トリメチルヘキサンジアミン、2-ブチル-2-エチル-1,5-ペンタンジアミン、1,8-オクタンジアミン、1,9-ノナンジアミン、1,10-デカンジアミン等の脂肪族ジアミン、1-アミノ-3-アミノメチル-3,5,5-トリメチルシクロヘキサン、ジシクロヘキシルメタンジアミン、イソプロビリチンシクロヘキシル-4,4’-ジアミン、1,4-ジアミノシクロヘキサン、1,3-ビスアミノメチルシクロヘキサン等の脂環族ジアミンが挙げられる。
Examples of polyisocyanate compounds used to obtain urethane resins include aromatic diisocyanates such as tolylene diisocyanate, xylylene diisocyanate, methylene diphenyl diisocyanate, phenylene diisocyanate, naphthalene diisocyanate, and tolidine diisocyanate; aliphatic diisocyanates having an aromatic ring such as α,α,α',α'-tetramethyl xylylene diisocyanate; aliphatic diisocyanates such as methylene diisocyanate, propylene diisocyanate, lysine diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, and hexamethylene diisocyanate; and alicyclic diisocyanates such as cyclohexane diisocyanate, methylcyclohexane diisocyanate, isophorone diisocyanate, dicyclohexylmethane diisocyanate, and isopropylidenedicyclohexyl diisocyanate. These may be used alone or in combination of two or more.
There are no particular limitations on the chain extender as long as it has two or more active groups that react with an isocyanate group, and generally, a chain extender having two hydroxyl groups or two amino groups can be mainly used.
Examples of chain extenders having two hydroxyl groups include glycol compounds such as aliphatic glycols such as ethylene glycol, propylene glycol, and butanediol; aromatic glycols such as xylylene glycol and bishydroxyethoxybenzene; and ester glycols such as neopentyl glycol hydroxypivalate.
Examples of chain extenders having two amino groups include aromatic diamines such as tolylenediamine, xylylenediamine, and diphenylmethanediamine; aliphatic diamines such as ethylenediamine, propylenediamine, hexanediamine, 2,2-dimethyl-1,3-propanediamine, 2-methyl-1,5-pentanediamine, trimethylhexanediamine, 2-butyl-2-ethyl-1,5-pentanediamine, 1,8-octanediamine, 1,9-nonanediamine, and 1,10-decanediamine; and alicyclic diamines such as 1-amino-3-aminomethyl-3,5,5-trimethylcyclohexane, dicyclohexylmethanediamine, isopropylidincyclohexyl-4,4'-diamine, 1,4-diaminocyclohexane, and 1,3-bisaminomethylcyclohexane.
ウレタン樹脂は、典型的には、分散液又は溶液の形態で使用される。分散液又は溶液の媒体としては、溶剤であってもよいが、水が好ましい。
ウレタン樹脂の水分散液又は水溶液としては、乳化剤を用いた強制乳化型、ウレタン樹脂の構造中に親水性基を導入した自己乳化型又は水溶型等がある。特に、ウレタン樹脂の構造中にイオン基を導入しアイオノマー化した自己乳化型が、液の貯蔵安定性や、得られるプライマー層の耐水性、透明性に優れており好ましい。
ウレタン樹脂の構造中に導入されるイオン基としては、例えば、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基、ホスホン酸基、第4級アンモニウム塩基等、種々のものが挙げられるが、カルボキシル基が好ましい。
カルボキシル基はアンモニア、アミン、アルカリ金属類、無機アルカリ類等の中和剤で中和した塩の形にするのが好ましい。特に好ましい中和剤は、アンモニア、トリメチルアミン、トリエチルアミンである。中和剤で中和されたカルボキシル基を有するウレタン樹脂は、塗布後の乾燥工程において中和剤が外れたカルボキシル基を、架橋剤による架橋反応点として用いることができる。これにより、コーティング前の液の状態での安定性に優れる上、得られるプライマー層の耐久性、耐溶剤性、耐水性、耐ブロッキング性等を向上させることが可能となる。
ウレタン樹脂にカルボキシル基を導入する方法としては、重合反応の各段階の中で種々の方法が取り得る。例えば、プレポリマー合成時にカルボキシル基を持つ樹脂を共重合成分として用いる方法や、ポリオールやポリイソシアネート化合物、鎖延長剤等の一成分としてカルボキシル基を持つ成分を用いる方法が挙げられる。特に、カルボキシル基含有ジオールを用い、この成分の仕込み量によって所望の量のカルボキシル基を導入する方法が好ましい。例えば、ウレタン樹脂の合成に用いるジオールに対してカルボキシル基含有ジオールを共重合させることができる。
カルボキシル基含有ジオールとしては、例えば、ジメチロールプロピオン酸、ジメチロールブタン酸、ビス-(2-ヒドロキシエチル)プロピオン酸、ビス-(2-ヒドロキシエチル)ブタン酸、それらのカルボキシル基が中和剤で中和された塩が挙げられる。
The urethane resin is typically used in the form of a dispersion or solution. The medium for the dispersion or solution may be a solvent, but is preferably water.
The aqueous dispersion or solution of the urethane resin may be a forced emulsification type using an emulsifier, a self-emulsification type in which a hydrophilic group is introduced into the structure of the urethane resin, or a water-soluble type, etc. In particular, a self-emulsification type in which an ionic group is introduced into the structure of the urethane resin to form an ionomer is preferred, since it has excellent storage stability of the liquid and excellent water resistance and transparency of the resulting primer layer.
Examples of the ionic group to be introduced into the structure of the urethane resin include a variety of groups such as a carboxyl group, a sulfonic acid group, a phosphoric acid group, a phosphonic acid group, and a quaternary ammonium salt group, with the carboxyl group being preferred.
The carboxyl group is preferably in the form of a salt neutralized with a neutralizing agent such as ammonia, amine, alkali metals, or inorganic alkalis. Particularly preferred neutralizing agents are ammonia, trimethylamine, and triethylamine. In the urethane resin having a carboxyl group neutralized with a neutralizing agent, the carboxyl group from which the neutralizing agent is removed in the drying process after application can be used as a crosslinking reaction point with a crosslinking agent. This not only provides excellent stability in the liquid state before coating, but also makes it possible to improve the durability, solvent resistance, water resistance, blocking resistance, etc. of the obtained primer layer.
As a method for introducing carboxyl groups into urethane resin, various methods can be used in each stage of polymerization reaction. For example, a method using a resin having carboxyl groups as a copolymerization component during prepolymer synthesis, or a method using a component having carboxyl groups as one component of polyol, polyisocyanate compound, chain extender, etc. is mentioned. In particular, a method using a carboxyl group-containing diol and introducing a desired amount of carboxyl groups by the amount of this component is preferred. For example, a carboxyl group-containing diol can be copolymerized with the diol used in synthesizing the urethane resin.
Examples of the carboxyl group-containing diol include dimethylolpropionic acid, dimethylolbutanoic acid, bis-(2-hydroxyethyl)propionic acid, bis-(2-hydroxyethyl)butanoic acid, and salts of these acids in which the carboxyl group has been neutralized with a neutralizing agent.
プライマー層をより強固にして密着性等の性能を向上させるため、プライマー層には架橋剤由来の化合物を含有することが好ましい。
架橋剤としては、公知の材料を使用することができ、例えば、メラミン化合物、イソシアネート系化合物、オキサゾリン化合物、エポキシ化合物、カルボジイミド系化合物、シランカップリング化合物、ヒドラジド化合物、アジリジン化合物が挙げられる。それらの中でも、メラミン化合物、イソシアネート系化合物、エポキシ化合物、オキサゾリン化合物、カルボジイミド系化合物、シランカップリング化合物が好ましく、密着性及び耐久性をさらに向上させる観点からは、メラミン化合物、オキサゾリン化合物、イソシアネート系化合物やエポキシ化合物がより好ましく、メラミン化合物、オキサゾリン化合物やイソシアネート系化合物が特に好ましい。これらの架橋剤は1種を単独で用いても2種以上を併用してもよい。2種以上を併用することでさらに密着性や耐久性が向上する場合がある。
In order to make the primer layer stronger and improve its performance such as adhesion, the primer layer preferably contains a compound derived from a crosslinking agent.
As the crosslinking agent, a known material can be used, for example, a melamine compound, an isocyanate compound, an oxazoline compound, an epoxy compound, a carbodiimide compound, a silane coupling compound, a hydrazide compound, and an aziridine compound. Among them, a melamine compound, an isocyanate compound, an epoxy compound, an oxazoline compound, a carbodiimide compound, and a silane coupling compound are preferred, and from the viewpoint of further improving adhesion and durability, a melamine compound, an oxazoline compound, an isocyanate compound, and an epoxy compound are more preferred, and a melamine compound, an oxazoline compound, and an isocyanate compound are particularly preferred. These crosslinking agents may be used alone or in combination of two or more. By using two or more types in combination, adhesion and durability may be further improved.
メラミン化合物とは、化合物中にメラミン骨格を有する化合物のことであり、例えば、アルキロール化メラミン誘導体、アルキロール化メラミン誘導体にアルコールを反応させて部分的又は完全にエーテル化した化合物、及びこれらの混合物が挙げられる。エーテル化に用いるアルコールとしては、例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、n-ブタノール、イソブタノールが挙げられる。メラミン化合物としては、単量体、又は2量体以上の多量体のいずれであってもよく、又はこれらの混合物を用いてもよい。さらに、メラミンの一部に尿素等を共縮合したものも使用できるし、メラミン化合物の反応性を上げるために触媒を使用することも可能である。メラミン化合物としては、各種化合物との反応性を考慮すると、水酸基を有するものが好ましい。 A melamine compound is a compound having a melamine skeleton in the compound, and examples thereof include alkylolated melamine derivatives, compounds obtained by reacting an alkylolated melamine derivative with an alcohol to partially or completely etherify the derivative, and mixtures thereof. Examples of alcohols used for etherification include methyl alcohol, ethyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butanol, and isobutanol. The melamine compound may be either a monomer or a dimer or higher polymer, or a mixture of these may be used. Furthermore, melamine partially co-condensed with urea or the like may also be used, and a catalyst may be used to increase the reactivity of the melamine compound. Considering the reactivity with various compounds, melamine compounds having a hydroxyl group are preferable.
イソシアネート系化合物とは、イソシアネート化合物、又はブロックイソシアネート化合物に代表されるイソシアネート誘導体構造を有する化合物のことである。
イソシアネート化合物としては、例えば、トリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、メチレンジフェニルジイソシアネート、フェニレンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート等の芳香族イソシアネート化合物;α,α,α’,α’-テトラメチルキシリレンジイソシアネート等の芳香環を有する脂肪族イソシアネート化合物;メチレンジイソシアネート、プロピレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート等の脂肪族イソシアネート化合物;シクロヘキサンジイソシアネート、メチルシクロヘキサンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、メチレンビス(4-シクロヘキシルイソシアネート)、イソプロピリデンジシクロヘキシルジイソシアネート等の脂環族イソシアネート化合物が挙げられる。また、これらイソシアネート化合物のビュレット化物、イソシアヌレート化物、ウレトジオン化物、カルボジイミド変性体等の重合体や誘導体も挙げられる。これらは1種を単独で用いても2種以上を併用してもよい。上記イソシアネート化合物の中でも、紫外線による黄変を避ける観点から、芳香族イソシアネート化合物よりも脂肪族イソシアネート化合物又は脂環族イソシアネート化合物が好ましい。
ブロックイソシアネート化合物としては、上記イソシアネート化合物のイソシアネート基がブロック剤でブロックされたものが挙げられる。ブロック剤としては、例えば、重亜硫酸塩類、フェノール、クレゾール、エチルフェノール等のフェノール系化合物、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコール、ベンジルアルコール、メタノール、エタノール等のアルコール系化合物、マロン酸ジメチル、マロン酸ジエチル、イソブタノイル酢酸メチル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセチルアセトン等の活性メチレン系化合物、ブチルメルカプタン、ドデシルメルカプタン等のメルカプタン系化合物、ε-カプロラクタム、δ-バレロラクタム等のラクタム系化合物、ジフェニルアニリン、アニリン、エチレンイミン等のアミン系化合物、アセトアニリド、酢酸アミド等の酸アミド化合物、ホルムアルデヒド、アセトアルドオキシム、アセトンオキシム、メチルエチルケトンオキシム、シクロヘキサノンオキシム等のオキシム系化合物が挙げられる。これらは1種を単独で用いても2種以上を併用してもよい。
ブロックイソシアネート化合物としては、プライマー層が破壊されにくいという観点から、活性メチレン系化合物によりブロックされたイソシアネート化合物が好ましい。
イソシアネート系化合物は単体で用いてもよいし、各種ポリマーとの混合物や結合物として用いてもよい。イソシアネート系化合物の分散性や架橋性を向上させるという意味において、ポリエステル樹脂やウレタン樹脂との混合物や結合物を用いることが好ましい。
The isocyanate compound refers to a compound having an isocyanate derivative structure, such as an isocyanate compound or a blocked isocyanate compound.
Examples of the isocyanate compound include aromatic isocyanate compounds such as tolylene diisocyanate, xylylene diisocyanate, methylene diphenyl diisocyanate, phenylene diisocyanate, and naphthalene diisocyanate; aliphatic isocyanate compounds having an aromatic ring such as α,α,α',α'-tetramethylxylylene diisocyanate; aliphatic isocyanate compounds such as methylene diisocyanate, propylene diisocyanate, lysine diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, and hexamethylene diisocyanate; and alicyclic isocyanate compounds such as cyclohexane diisocyanate, methylcyclohexane diisocyanate, isophorone diisocyanate, methylene bis(4-cyclohexyl isocyanate), and isopropylidenedicyclohexyl diisocyanate. Further, polymers and derivatives such as biuretized products, isocyanurate products, uretdione products, and carbodiimide modified products of these isocyanate compounds are also included. These may be used alone or in combination of two or more. Among the above isocyanate compounds, aliphatic isocyanate compounds or alicyclic isocyanate compounds are preferred over aromatic isocyanate compounds from the viewpoint of avoiding yellowing due to ultraviolet rays.
Examples of the blocked isocyanate compound include compounds in which the isocyanate group of the isocyanate compound is blocked with a blocking agent. Examples of the blocking agent include bisulfites, phenol-based compounds such as phenol, cresol, and ethylphenol, alcohol-based compounds such as propylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol, benzyl alcohol, methanol, and ethanol, active methylene-based compounds such as dimethyl malonate, diethyl malonate, isobutanoyl methyl acetate, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, and acetylacetone, mercaptan-based compounds such as butyl mercaptan and dodecyl mercaptan, lactam-based compounds such as ε-caprolactam and δ-valerolactam, amine-based compounds such as diphenylaniline, aniline, and ethyleneimine, acid amide compounds such as acetanilide and acetic acid amide, and oxime-based compounds such as formaldehyde, acetaldoxime, acetoneoxime, methyl ethyl ketoneoxime, and cyclohexanoneoxime. These may be used alone or in combination of two or more.
As the blocked isocyanate compound, an isocyanate compound blocked with an active methylene compound is preferred from the viewpoint that the primer layer is less likely to be destroyed.
The isocyanate compound may be used alone or as a mixture or bond with various polymers. In terms of improving the dispersibility and crosslinking property of the isocyanate compound, it is preferable to use a mixture or bond with a polyester resin or a urethane resin.
オキサゾリン化合物とは、分子内にオキサゾリン基を有する化合物である。オキサゾリン化合物としては、オキサゾリン基を含有する重合体が好ましい。オキサゾリン基を含有する重合体は、付加重合性オキサゾリン基含有モノマー単独又は他のモノマーとの重合によって得られる。
付加重合性オキサゾリン基含有モノマーとしては、例えば、2-ビニル-2-オキサゾリン、2-ビニル-4-メチル-2-オキサゾリン、2-ビニル-5-メチル-2-オキサゾリン、2-イソプロペニル-2-オキサゾリン、2-イソプロペニル-4-メチル-2-オキサゾリン、2-イソプロペニル-5-エチル-2-オキサゾリンが挙げられる。これらは1種を単独で用いても2種以上を併用してもよい。これらの中でも2-イソプロペニル-2-オキサゾリンが、工業的にも入手しやすく好適である。
他のモノマーとしては、付加重合性オキサゾリン基含有モノマーと共重合可能なモノマーであれば特に制限はなく、例えば、アルキル(メタ)アクリレート(アルキル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、t-ブチル基、2-エチルヘキシル基、シクロヘキシル基)等の(メタ)アクリレート;アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマール酸、クロトン酸、スチレンスルホン酸及びその塩(ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩、第三級アミン塩等)等の不飽和カルボン酸;アクリロニトリル、メタクリロニトリル等の不飽和ニトリル;(メタ)アクリルアミド、N-アルキル(メタ)アクリルアミド、N,N-ジアルキル(メタ)アクリルアミド、(アルキル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、t-ブチル基、2-エチルヘキシル基、シクロヘキシル基等)等の不飽和アミド;酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル等のビニルエステル;メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル等のビニルエーテル;エチレン、プロピレン等のα-オレフィン;塩化ビニル、塩化ビニリデン、フッ化ビニル等の含ハロゲンα,β-不飽和モノマー;スチレン、α-メチルスチレン、等のα,β-不飽和芳香族モノマーが挙げられる。これらは1種を単独で用いても2種以上を併用してもよい。
オキサゾリン化合物1g当たりのオキサゾリン基量は、好ましくは0.5~10mmol/g、より好ましくは1~9mmol/g、さらに好ましくは3~8mmol/g、特に好ましくは4~6mmol/gの範囲である。オキサゾリン基量が上記範囲内であれば、塗膜の耐久性が向上し、密着性の調整がしやすくなる。
The oxazoline compound is a compound having an oxazoline group in the molecule. The oxazoline compound is preferably a polymer containing an oxazoline group. The polymer containing an oxazoline group is obtained by polymerization of an addition polymerizable oxazoline group-containing monomer alone or with other monomers.
Examples of the addition-polymerizable oxazoline group-containing monomer include 2-vinyl-2-oxazoline, 2-vinyl-4-methyl-2-oxazoline, 2-vinyl-5-methyl-2-oxazoline, 2-isopropenyl-2-oxazoline, 2-isopropenyl-4-methyl-2-oxazoline, and 2-isopropenyl-5-ethyl-2-oxazoline. These may be used alone or in combination of two or more. Among these, 2-isopropenyl-2-oxazoline is preferred because it is easily available industrially.
The other monomer is not particularly limited as long as it is a monomer that can be copolymerized with the addition-polymerizable oxazoline group-containing monomer, and examples thereof include (meth)acrylates such as alkyl (meth)acrylates (the alkyl group is a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a t-butyl group, a 2-ethylhexyl group, and a cyclohexyl group); unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, crotonic acid, styrenesulfonic acid, and salts thereof (sodium salts, potassium salts, ammonium salts, tertiary amine salts, and the like); unsaturated nitriles such as acrylonitrile and methacrylonitrile; (meth)acrylonitrile; Examples of such monomers include unsaturated amides such as acrylamide, N-alkyl(meth)acrylamide, and N,N-dialkyl(meth)acrylamide (alkyl groups include methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, t-butyl, 2-ethylhexyl, and cyclohexyl groups); vinyl esters such as vinyl acetate and vinyl propionate; vinyl ethers such as methyl vinyl ether and ethyl vinyl ether; α-olefins such as ethylene and propylene; halogen-containing α,β-unsaturated monomers such as vinyl chloride, vinylidene chloride, and vinyl fluoride; and α,β-unsaturated aromatic monomers such as styrene and α-methylstyrene. These monomers may be used alone or in combination of two or more.
The amount of oxazoline groups per 1 g of the oxazoline compound is preferably in the range of 0.5 to 10 mmol/g, more preferably 1 to 9 mmol/g, further preferably 3 to 8 mmol/g, and particularly preferably 4 to 6 mmol/g. When the amount of oxazoline groups is within the above range, the durability of the coating film is improved and the adhesion can be easily adjusted.
エポキシ化合物とは、分子内にエポキシ基を有する化合物である。エポキシ化合物としては、例えば、エピクロロヒドリンと水酸基又はアミノ基を有する化合物(エチレングリコール、ポリエチレングリコール、グリセリン、ポリグリセリン、ビスフェノールA等)との縮合物が挙げられ、ポリエポキシ化合物、ジエポキシ化合物、モノエポキシ化合物、グリシジルアミン化合物等がある。ポリエポキシ化合物としては、例えば、ソルビトールポリグリシジルエーテル、ポリグリセロールポリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールポリグリシジルエーテル、ジグリセロールポリグリシジルエーテル、トリグリシジルトリス(2-ヒドロキシエチル)イソシアネート、グリセロールポリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテルが挙げられる。ジエポキシ化合物としては、例えば、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、1,6-ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、レゾルシンジグリシジルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリテトラメチレングリコールジグリシジルエーテルが挙げられる。モノエポキシ化合物としては、例えば、アリルグリシジルエーテル、2-エチルヘキシルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテルが挙げられる。グリシジルアミン化合物としては、例えば、N,N,N’,N’-テトラグリシジル-m-キシリレンジアミン、1,3-ビス(N,N-ジグリシジルアミノ)シクロヘキサンが挙げられる。 An epoxy compound is a compound having an epoxy group in the molecule. Examples of epoxy compounds include condensates of epichlorohydrin and compounds having a hydroxyl group or an amino group (ethylene glycol, polyethylene glycol, glycerin, polyglycerin, bisphenol A, etc.), polyepoxy compounds, diepoxy compounds, monoepoxy compounds, glycidylamine compounds, etc. Examples of polyepoxy compounds include sorbitol polyglycidyl ether, polyglycerol polyglycidyl ether, pentaerythritol polyglycidyl ether, diglycerol polyglycidyl ether, triglycidyl tris(2-hydroxyethyl)isocyanate, glycerol polyglycidyl ether, and trimethylolpropane polyglycidyl ether. Examples of diepoxy compounds include neopentyl glycol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, resorcinol diglycidyl ether, ethylene glycol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether, and polytetramethylene glycol diglycidyl ether. Examples of monoepoxy compounds include allyl glycidyl ether, 2-ethylhexyl glycidyl ether, and phenyl glycidyl ether. Examples of glycidylamine compounds include N,N,N',N'-tetraglycidyl-m-xylylenediamine and 1,3-bis(N,N-diglycidylamino)cyclohexane.
カルボジイミド系化合物とは、分子内にカルボジイミド構造又はカルボジイミド誘導体構造を1つ以上有する化合物である。カルボジイミド系化合物としては、プライマー層の強度の観点から、分子内にカルボジイミド構造又はカルボジイミド誘導体構造を2つ以上有するポリカルボジイミド系化合物がより好ましい。
カルボジイミド系化合物は、公知の方法で合成することができ、一般的には、ジイソシアネート化合物の縮合反応が用いられる。ジイソシアネート化合物としては、特に限定されるものではなく、芳香族系、脂肪族系いずれも使用することができ、例えば、トリレンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、フェニレンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、シクロヘキサンジイソシアネート、メチルシクロヘキサンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ジシクロヘキシルジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネートが挙げられる。
ポリカルボジイミド系化合物の水溶性や水分散性を向上させるために、本発明の効果を消失させない範囲において、界面活性剤を添加してもよいし、ポリアルキレンオキシド、ジアルキルアミノアルコールの四級アンモニウム塩、ヒドロキシアルキルスルホン酸塩等の親水性モノマーを添加してもよい。
The carbodiimide compound is a compound having one or more carbodiimide structures or carbodiimide derivative structures in the molecule. As the carbodiimide compound, from the viewpoint of the strength of the primer layer, a polycarbodiimide compound having two or more carbodiimide structures or carbodiimide derivative structures in the molecule is more preferable.
Carbodiimide compounds can be synthesized by known methods, and generally, condensation reaction of diisocyanate compounds is used. The diisocyanate compounds are not particularly limited, and both aromatic and aliphatic compounds can be used, such as tolylene diisocyanate, xylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, phenylene diisocyanate, naphthalene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, cyclohexane diisocyanate, methylcyclohexane diisocyanate, isophorone diisocyanate, dicyclohexyl diisocyanate, and dicyclohexylmethane diisocyanate.
In order to improve the water solubility or water dispersibility of the polycarbodiimide compound, a surfactant may be added, or a hydrophilic monomer such as a polyalkylene oxide, a quaternary ammonium salt of a dialkylamino alcohol, or a hydroxyalkylsulfonate may be added, within a range that does not impair the effects of the present invention.
シランカップリング化合物とは、1つの分子中に有機官能基とアルコキシ基等の加水分解基を有する有機ケイ素化合物である。シランカップリング化合物としては、例えば、3-グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、2-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン等のエポキシ基含有化合物、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン等のビニル基含有化合物、p-スチリルトリメトキシシラン、p-スチリルトリエトキシシラン等のスチリル基含有化合物、3-(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3-(メタ)アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3-(メタ)アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3-(メタ)アクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン等の(メタ)アクリロイル基含有化合物、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリエトキシシラン、N-2-(アミノエチル)-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-2-(アミノエチル)-3-アミノプロピルトリエトキシシラン、N-2-(アミノエチル)-3-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N-2-(アミノエチル)-3-アミノプロピルメチルジエトキシシラン、3-トリエトキシシリル-N-(1,3-ジメチルブチリデン)プロピルアミン、N-フェニル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-フェニル-3-アミノプロピルトリエトキシシラン等のアミノ基含有化合物、トリス(トリメトキシシリルプロピル)イソシアヌレート、トリス(トリエトキシシリルプロピル)イソシアヌレート等のイソシアヌレート基含有化合物、3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリエトキシシラン、3-メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、3-メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン等のメルカプト基含有化合物が挙げられる。
シランカップリング化合物としては、上記化合物の中でも、プライマー層の強度の観点から、エポキシ基含有シランカップリング化合物、ビニル基や(メタ)アクリル基等の二重結合含有シランカップリング化合物、アミノ基含有シランカップリング化合物が好ましい。
The silane coupling compound is an organosilicon compound having an organic functional group and a hydrolyzable group such as an alkoxy group in one molecule. Examples of silane coupling compounds include epoxy group-containing compounds such as 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, and 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane; vinyl group-containing compounds such as vinyltrimethoxysilane and vinyltriethoxysilane; styryl group-containing compounds such as p-styryltrimethoxysilane and p-styryltriethoxysilane; (meth)acryloxypropyltrimethoxysilane, 3-(meth)acryloxypropyltriethoxysilane, 3-(meth)acryloxypropylmethyldimethoxysilane, and 3-(meth)acryloxypropylmethyldiethoxysilane; (meth)acryloyl group-containing compounds such as 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, N-2 -(aminoethyl)-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-2-(aminoethyl)-3-aminopropyltriethoxysilane, N-2-(aminoethyl)-3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-2-(aminoethyl)-3-aminopropylmethyldiethoxysilane, 3-triethoxysilyl-N-(1,3-dimethylbutylidene)propylamine, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-phenyl-3-aminopropyltriethoxysilane and other amino group-containing compounds; isocyanurate group-containing compounds such as tris(trimethoxysilylpropyl)isocyanurate and tris(triethoxysilylpropyl)isocyanurate; and mercapto group-containing compounds such as 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltriethoxysilane, 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane and 3-mercaptopropylmethyldiethoxysilane.
As the silane coupling compound, among the above compounds, from the viewpoint of the strength of the primer layer, epoxy group-containing silane coupling compounds, double bond-containing silane coupling compounds such as vinyl groups and (meth)acrylic groups, and amino group-containing silane coupling compounds are preferred.
なお、これら架橋剤は、乾燥過程や製膜過程において反応し、プライマー層の性能を向上させる。形成されるプライマー層中には、架橋剤由来の化合物として、架橋剤の未反応物、反応後の化合物、又はそれらの混合物が存在しているものと推測できる。 These crosslinking agents react during the drying and film-forming processes, improving the performance of the primer layer. It can be assumed that the crosslinking agent-derived compounds present in the formed primer layer include unreacted crosslinking agents, reacted compounds, or mixtures thereof.
プライマー層に含有させる帯電防止剤としては、特に制限はなく、公知の帯電防止剤を使用することが可能であり、例えば、アンモニウム基を有する化合物、ポリエーテル化合物、スルホン酸基を有する化合物、ベタイン化合物、導電性有機高分子が挙げられる。
プライマー層は、ブロッキングや滑り性改良のために粒子を含有していてもよい。
プライマー層は、本発明の主旨を損なわない範囲において、必要に応じて、消泡剤、塗布性改良剤、増粘剤、有機系潤滑剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、発泡剤、染料、顔料等の添加剤を含有していてもよい。
The antistatic agent contained in the primer layer is not particularly limited, and any known antistatic agent can be used. Examples of the antistatic agent include compounds having an ammonium group, polyether compounds, compounds having a sulfonic acid group, betaine compounds, and conductive organic polymers.
The primer layer may contain particles to improve blocking and slip properties.
The primer layer may contain additives such as antifoaming agents, coatability improvers, thickeners, organic lubricants, ultraviolet absorbers, antioxidants, foaming agents, dyes, and pigments, as necessary, within the scope of the present invention.
プライマー層100質量%中の樹脂の割合は、例えば5質量%以上、好ましくは10~99質量%、より好ましくは20~95質量%、さらに好ましくは30~90質量%の範囲である。樹脂の割合が上記範囲内であれば、密着性能、プライマー層の外観がより優れる。
プライマー層100質量%中の架橋剤由来の化合物の割合は、例えば80質量%以下、好ましくは0.5~65質量%、より好ましくは3~50質量%、さらに好ましくは5~40質量%の範囲である。架橋剤由来の化合物の割合が上記範囲内であれば、密着性能、プライマー層の強度がより優れる。
プライマー層の厚みは、プライマー層に使用する材料や発現させる性能にも依存するため一概にはいえないが、好ましくは0.001~10μm、より好ましくは0.01~4μm、さらに好ましくは0.02~1μmの範囲である。
プライマー層は、公知の方法で形成できる。
The proportion of the resin in 100% by mass of the primer layer is, for example, 5% by mass or more, preferably 10 to 99% by mass, more preferably 20 to 95% by mass, and even more preferably 30 to 90% by mass. If the proportion of the resin is within the above range, the adhesion performance and the appearance of the primer layer are more excellent.
The proportion of the compound derived from the crosslinking agent in 100% by mass of the primer layer is, for example, 80% by mass or less, preferably 0.5 to 65% by mass, more preferably 3 to 50% by mass, and even more preferably 5 to 40% by mass. If the proportion of the compound derived from the crosslinking agent is within the above range, the adhesion performance and strength of the primer layer are more excellent.
The thickness of the primer layer depends on the material used in the primer layer and the performance to be achieved, so cannot be generally determined, but is preferably in the range of 0.001 to 10 μm, more preferably 0.01 to 4 μm, and even more preferably 0.02 to 1 μm.
The primer layer can be formed by a known method.
(表面機能層)
表面機能層は、硬化膜(凹凸層)の基材層とは反対側の面に各種の機能を付与するために設けられる層である。表面機能層としては、例えば、防汚層、帯電防止層、屈折率調整層(反射防止層、低反射層等)、赤外線吸収層、紫外線吸収層、色補正層が挙げられる。表面機能層は、一層で単一又は複数の機能を有していてもよく、複数の層で構成されていてもよい。
(Surface functional layer)
The surface functional layer is a layer provided on the surface of the cured film (uneven layer) opposite to the substrate layer to impart various functions. Examples of the surface functional layer include an antifouling layer, an antistatic layer, a refractive index adjustment layer (antireflection layer, low reflection layer, etc.), an infrared absorbing layer, an ultraviolet absorbing layer, and a color correction layer. The surface functional layer may be a single layer having a single or multiple functions, or may be composed of multiple layers.
防汚層は、硬化膜に撥水性や撥油性を付与することで防汚性能を向上させるために設けるものである。防汚層に用いられる材料としては、シリコーン化合物、フッ素化合物、長鎖アルキル基含有化合物等、従来公知のものを用いることができる。これらの中でもより強力な防汚性能の発現には、シリコーン化合物やフッ素化合物が好ましく、また、防汚層が接触する相手を汚染しないという観点からはフッ素化合物や長鎖アルキル基含有化合物が好ましい。 The antifouling layer is provided to improve the antifouling performance by imparting water repellency and oil repellency to the cured film. Materials used for the antifouling layer include conventionally known materials such as silicone compounds, fluorine compounds, and compounds containing long-chain alkyl groups. Among these, silicone compounds and fluorine compounds are preferred for achieving stronger antifouling performance, and fluorine compounds and compounds containing long-chain alkyl groups are preferred from the viewpoint of not contaminating the object with which the antifouling layer comes into contact.
シリコーン化合物としては、分子内にシリコーン構造を有する化合物のことであり、例えば、ジメチルシリコーン、ジエチルシリコーン等のアルキルシリコーン、また、フェニル基を有するフェニルシリコーン、メチルフェニルシリコーンが挙げられる。シリコーンには各種の官能基を有するものも使用することができ、例えば、エーテル基、水酸基、アミノ基、エポキシ基、カルボン酸基、フッ素等のハロゲン基、パーフルオロアルキル基、各種アルキル基や各種芳香族基等の炭化水素基が挙げられる。他の官能基として、ビニル基を有するシリコーンや水素原子が直接ケイ素原子に結合したハイドロゲンシリコーンも一般的で、両者を併用して、付加型(ビニル基とハイドロゲンシランの付加反応による型)のシリコーンとして使用することも可能である。また、アクリロイル基等の二重結合を導入し、当該二重結合部で反応させる方法も好ましい。
また、シリコーン化合物として、アクリルグラフトシリコーン、シリコーングラフトアクリル、アミノ変性シリコーン、パーフルオロアルキル変性シリコーン等の変性シリコーンを使用することも可能である。耐熱性、汚染性を考慮すると、硬化型シリコーン樹脂を使用することが好ましく、硬化型の種類としては、縮合型、付加型、活性エネルギー線硬化型等いずれの硬化反応タイプでも用いることができる。
Silicone compounds refer to compounds having a silicone structure in the molecule, and examples thereof include alkyl silicones such as dimethyl silicone and diethyl silicone, and also phenyl silicone and methylphenyl silicone having a phenyl group. Silicones having various functional groups can also be used, and examples thereof include ether groups, hydroxyl groups, amino groups, epoxy groups, carboxylic acid groups, halogen groups such as fluorine, perfluoroalkyl groups, various alkyl groups, and various aromatic groups and other hydrocarbon groups. As other functional groups, silicones having vinyl groups and hydrogen silicones in which hydrogen atoms are directly bonded to silicon atoms are also common, and both can be used in combination to form silicones of addition type (types obtained by the addition reaction of vinyl groups and hydrogen silane). In addition, a method of introducing a double bond such as an acryloyl group and reacting at the double bond is also preferred.
In addition, as the silicone compound, modified silicones such as acrylic grafted silicone, silicone grafted acrylic, amino modified silicone, perfluoroalkyl modified silicone, etc. are also usable. In consideration of heat resistance and contamination, it is preferable to use a curable silicone resin, and as the type of curable type, any curing reaction type such as condensation type, addition type, active energy ray curable type, etc. can be used.
フッ素化合物は、フッ素原子を含有している化合物である。フッ素化合物としては、有機系フッ素化合物が好適に用いられ、例えば、パーフルオロアルキル基含有化合物、フッ素原子を含有するオレフィン化合物の重合体、フルオロベンゼン等の芳香族フッ素化合物が挙げられる。離型性の観点からパーフルオロアルキル基を有する化合物であることが好ましい。さらにフッ素化合物には後述するような長鎖アルキル化合物を含有している化合物も使用することができる。
パーフルオロアルキル基を有する化合物とは、例えば、パーフルオロアルキル(メタ)アクリレート、パーフルオロアルキルメチル(メタ)アクリレート、2-パーフルオロアルキルエチル(メタ)アクリレート、3-パーフルオロアルキルプロピル(メタ)アクリレート、3-パーフルオロアルキル-1-メチルプロピル(メタ)アクリレート、3-パーフルオロアルキル-2-プロペニル(メタ)アクリレート等のパーフルオロアルキル基含有(メタ)アクリレートやその重合物、パーフルオロアルキルメチルビニルエーテル、2-パーフルオロアルキルエチルビニルエーテル、3-パーフルオロプロピルビニルエーテル、3-パーフルオロアルキル-1-メチルプロピルビニルエーテル、3-パーフルオロアルキル-2-プロペニルビニルエーテル等のパーフルオロアルキル基含有ビニルエーテルやその重合物が挙げられる。耐熱性、汚染性を考慮すると重合物であることが好ましい。重合物は単一化合物のみでも複数化合物の重合物でもよい。また、防汚性の観点からパーフルオロアルキル基は炭素原子数が3~11であることが好ましい。さらに後述するような長鎖アルキル化合物を含有している化合物との重合物であってもよい。
The fluorine compound is a compound containing fluorine atoms. As the fluorine compound, an organic fluorine compound is preferably used, for example, a perfluoroalkyl group-containing compound, a polymer of an olefin compound containing a fluorine atom, an aromatic fluorine compound such as fluorobenzene, etc. From the viewpoint of mold releasability, a compound having a perfluoroalkyl group is preferable. Furthermore, the fluorine compound can also be a compound containing a long chain alkyl compound as described later.
Examples of the compound having a perfluoroalkyl group include perfluoroalkyl group-containing (meth)acrylates such as perfluoroalkyl (meth)acrylate, perfluoroalkyl methyl (meth)acrylate, 2-perfluoroalkyl ethyl (meth)acrylate, 3-perfluoroalkyl propyl (meth)acrylate, 3-perfluoroalkyl-1-methylpropyl (meth)acrylate, and 3-perfluoroalkyl-2-propenyl (meth)acrylate, and polymers thereof; and perfluoroalkyl group-containing vinyl ethers such as perfluoroalkyl methyl vinyl ether, 2-perfluoroalkyl ethyl vinyl ether, 3-perfluoropropyl vinyl ether, 3-perfluoroalkyl-1-methylpropyl vinyl ether, and 3-perfluoroalkyl-2-propenyl vinyl ether, and polymers thereof. In consideration of heat resistance and contamination, a polymer is preferable. The polymer may be a single compound or a polymer of multiple compounds. In addition, from the viewpoint of antifouling properties, the perfluoroalkyl group preferably has 3 to 11 carbon atoms. Furthermore, it may be a polymer with a compound containing a long-chain alkyl compound as described below.
長鎖アルキル化合物とは、炭素原子数が通常6以上、好ましくは8以上、さらに好ましくは12以上の直鎖または分岐のアルキル基を有する化合物のことである。アルキル基としては、例えば、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ラウリル基、オクタデシル基、ベヘニル基等が挙げられる。アルキル基を有する化合物とは、例えば、各種の長鎖アルキル基含有高分子化合物、長鎖アルキル基含有アミン化合物、長鎖アルキル基含有エーテル化合物、長鎖アルキル基含有4級アンモニウム塩等が挙げられる。耐熱性、汚染性を考慮すると高分子化合物であることが好ましい。また、効果的に防汚性を得られるという観点から、長鎖アルキル基を側鎖に持つ高分子化合物であることがより好ましい。
長鎖アルキル基を側鎖に持つ高分子化合物は、反応性基を有する高分子と、当該反応性基と反応可能なアルキル基を有する化合物とを反応させて得ることができる。前記反応性基としては、例えば、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、酸無水物基が挙げられる。これらの反応性基を有する化合物としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリエチレンイミン、ポリエチレンアミン、反応性基含有ポリエステル樹脂、反応性基含有ポリ(メタ)アクリル樹脂が挙げられる。これらの中でも防汚性や取り扱い易さを考慮するとポリビニルアルコールが好ましい。
上記の反応性基と反応可能なアルキル基を有する化合物としては、例えば、ヘキシルイソシアネート、オクチルイソシアネート、デシルイソシアネート、ラウリルイソシアネート、オクタデシルイソシアネート、ベヘニルイソシアネート等の長鎖アルキル基含有イソシアネート、ヘキシルクロライド、オクチルクロライド、デシルクロライド、ラウリルクロライド、オクタデシルクロライド、ベヘニルクロライド等の長鎖アルキル基含有酸クロライド、長鎖アルキル基含有アミン、長鎖アルキル基含有アルコールが挙げられる。これらの中でも離型性や取り扱い易さを考慮すると長鎖アルキル基含有イソシアネートが好ましく、オクタデシルイソシアネートが特に好ましい。
また、長鎖アルキル基を側鎖に持つ高分子化合物は、長鎖アルキル(メタ)アクリレートの重合物や長鎖アルキル(メタ)アクリレートと他のビニル基含有モノマーとの共重合によって得ることもできる。長鎖アルキル(メタ)アクリレートとしては、例えば、ヘキシル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、オクタデシル(メタ)アクリレート、ベヘニル(メタ)アクリレートが挙げられる。
The long-chain alkyl compound is a compound having a straight-chain or branched alkyl group having usually 6 or more carbon atoms, preferably 8 or more, more preferably 12 or more. Examples of the alkyl group include a hexyl group, an octyl group, a decyl group, a lauryl group, an octadecyl group, and a behenyl group. Examples of the compound having an alkyl group include various long-chain alkyl group-containing polymer compounds, long-chain alkyl group-containing amine compounds, long-chain alkyl group-containing ether compounds, and long-chain alkyl group-containing quaternary ammonium salts. Considering heat resistance and stain resistance, a polymer compound is preferable. In addition, from the viewpoint of effectively obtaining antifouling properties, a polymer compound having a long-chain alkyl group in the side chain is more preferable.
The polymer compound having a long-chain alkyl group in the side chain can be obtained by reacting a polymer having a reactive group with a compound having an alkyl group capable of reacting with the reactive group. Examples of the reactive group include a hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group, and an acid anhydride group. Examples of the compound having these reactive groups include polyvinyl alcohol, polyethyleneimine, polyethyleneamine, a polyester resin containing a reactive group, and a poly(meth)acrylic resin containing a reactive group. Among these, polyvinyl alcohol is preferred in terms of antifouling properties and ease of handling.
Examples of compounds having an alkyl group capable of reacting with the reactive group include long-chain alkyl group-containing isocyanates such as hexyl isocyanate, octyl isocyanate, decyl isocyanate, lauryl isocyanate, octadecyl isocyanate, and behenyl isocyanate, long-chain alkyl group-containing acid chlorides such as hexyl chloride, octyl chloride, decyl chloride, lauryl chloride, octadecyl chloride, and behenyl chloride, long-chain alkyl group-containing amines, and long-chain alkyl group-containing alcohols. Among these, in consideration of releasability and ease of handling, long-chain alkyl group-containing isocyanates are preferred, and octadecyl isocyanate is particularly preferred.
Furthermore, polymeric compounds having a long-chain alkyl group in the side chain can also be obtained by polymerization of a long-chain alkyl (meth)acrylate or copolymerization of a long-chain alkyl (meth)acrylate with another vinyl group-containing monomer. Examples of long-chain alkyl (meth)acrylates include hexyl (meth)acrylate, octyl (meth)acrylate, decyl (meth)acrylate, lauryl (meth)acrylate, octadecyl (meth)acrylate, and behenyl (meth)acrylate.
表面機能層中の防汚性能を発現するための上述した防汚材料の含有量は、使用する材料にも依存するので一概にはいえないが、シリコーン化合物やフッ素化合物の場合は通常0.01質量%以上、より好ましくは0.1質量%以上、さらに好ましくは0.2質量%以上の範囲であり、上限は100質量%であってもかまわない。また、長鎖アルキル基含有化合物を使用する場合は、通常0.1質量%以上、好ましくは1質量%以上、さらに好ましくは3質量%以上の範囲であり、上限は100質量%であってもかまわない。上記範囲で使用することで効果的な防汚性能を有することができる。 The content of the above-mentioned antifouling material for achieving antifouling performance in the surface functional layer depends on the material used and cannot be generalized, but in the case of silicone compounds and fluorine compounds, it is usually 0.01% by mass or more, more preferably 0.1% by mass or more, and even more preferably 0.2% by mass or more, and the upper limit may be 100% by mass. In addition, when a long-chain alkyl group-containing compound is used, it is usually 0.1% by mass or more, preferably 1% by mass or more, and even more preferably 3% by mass or more, and the upper limit may be 100% by mass. By using it in the above range, effective antifouling performance can be obtained.
表面機能層として帯電防止層を形成する際に使用する帯電防止剤としては、従来公知の各種の帯電防止剤を使用することができる。また、例えばアンモニウム基を有する化合物にアクリロイル基等の二重結合を導入し、当該二重結合部で反応させる方法も好ましい。 As the antistatic agent used when forming the antistatic layer as the surface functional layer, various conventionally known antistatic agents can be used. In addition, a method in which a double bond such as an acryloyl group is introduced into a compound having an ammonium group and the double bond is reacted is also preferred.
屈折率調整層としては、例えば、高屈折率層、低屈折率層及びそれらの積層物が挙げられる。
高屈折率化を目的とする場合の屈折率調整層の材料としては、従来公知の材料を使用することができ、例えば、ベンゼン構造、ビスフェノールA構造、メラミン構造、フルオレン構造のような芳香族含有化合物、また、芳香族の中でも高屈折率化合物と考えられるナフタレン、アントラセン、フェナントレン、ナフタセン、ベンゾ[a]アントラセン、ベンゾ[a]フェナントレン、ピレン、ベンゾ[c]フェナントレン、ペリレン構造のような縮合多環式芳香族化合物、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化アンチモン、酸化イットリウム、酸化インジウム、酸化セリウム、ATO(アンチモン・スズ酸化物)、ITO(インジウム・スズ酸化物)等の金属酸化物や、チタンキレートやジルコニウムキレート等の金属キレート化合物等の金属含有化合物、硫黄元素を含有する化合物、ハロゲン元素を含有する化合物が挙げられる。
金属酸化物は、使用形態によっては密着性が低下する懸念があるため、粒子の状態で使用することが好ましく、また、その平均一次粒子径は塗布外観等の観点から、好ましくは100nm以下、より好ましくは50nm以下、さらに好ましくは25nm以下の範囲である。
低屈折率化を目的とする場合の屈折率調整層の材料としては、従来公知の材料を使用することができ、例えば、低屈折率のアクリル樹脂、ウレタン樹脂が挙げられる。また、特にフッ素原子が樹脂の中に組み込まれた化合物、例えば、フッ素樹脂や、主種骨格にフッ素樹脂を含有する化合物、側鎖にパーフルオロアルキル基を含有する化合物が挙げられる。また、無機材料としては、例えば、中空シリカ粒子や、フッ化マグネシウムやフッ化カルシウム等フッ素原子含有無機化合物や、それらの中空粒子やナノポーラス粒子も挙げられる。
Examples of the refractive index adjusting layer include a high refractive index layer, a low refractive index layer, and a laminate thereof.
When the objective is to increase the refractive index, materials that are conventionally known can be used as the material for the refractive index adjusting layer. Examples of such materials include aromatic-containing compounds such as a benzene structure, a bisphenol A structure, a melamine structure, and a fluorene structure; condensed polycyclic aromatic compounds such as naphthalene, anthracene, phenanthrene, naphthacene, benzo[a]anthracene, benzo[a]phenanthrene, pyrene, benzo[c]phenanthrene, and perylene structures, which are considered to be high refractive index compounds among aromatic compounds; metal oxides such as zirconium oxide, titanium oxide, zinc oxide, tin oxide, antimony oxide, yttrium oxide, indium oxide, cerium oxide, ATO (antimony tin oxide), and ITO (indium tin oxide); metal-containing compounds such as metal chelate compounds such as titanium chelate and zirconium chelate; compounds containing a sulfur element; and compounds containing a halogen element.
Metal oxides are preferably used in the form of particles since there is a concern that their adhesion may decrease depending on the form of use, and the average primary particle diameter thereof is preferably 100 nm or less, more preferably 50 nm or less, and even more preferably 25 nm or less, from the viewpoint of coating appearance and the like.
When the refractive index adjustment layer is intended to have a low refractive index, the material of the refractive index adjustment layer can be a conventionally known material, for example, low refractive index acrylic resin or urethane resin.In addition, in particular, compounds in which fluorine atoms are incorporated in the resin, such as fluororesins, compounds containing fluororesins in the main skeleton, and compounds containing perfluoroalkyl groups in the side chain, can be mentioned.In addition, inorganic materials can be, for example, hollow silica particles, fluorine atom-containing inorganic compounds such as magnesium fluoride and calcium fluoride, and hollow particles or nanoporous particles thereof.
表面機能層の厚みは、硬化膜の凹凸構造の凹部から凸部までの高さの5倍以下であることが好ましく、2倍以下がより好ましい。この倍率は小さいほど硬化膜の艶消し性能が低下しにくくなる傾向がある。表面機能層の厚みは、硬化膜の凹凸構造の凹部から凸部までの高さによるので一概にはいえないが、通常0.001~3μm、好ましくは0.005~2μm、より好ましくは0.01~1μm、さらに好ましくは0.02~0.5μm、特に好ましくは0.03~0.2μmの範囲である。上記範囲で使用することで、表面機能層による機能の発現と、硬化膜の艶消し性の両立が可能となる。
表面機能層は、公知の方法で形成できる。
The thickness of the surface functional layer is preferably 5 times or less, more preferably 2 times or less, the height from the concave to the convex of the uneven structure of the cured film. The smaller this ratio is, the less likely the matte performance of the cured film is to decrease. The thickness of the surface functional layer depends on the height from the concave to the convex of the uneven structure of the cured film, so it cannot be generally stated, but is usually in the range of 0.001 to 3 μm, preferably 0.005 to 2 μm, more preferably 0.01 to 1 μm, even more preferably 0.02 to 0.5 μm, and particularly preferably 0.03 to 0.2 μm. By using within the above range, it is possible to achieve both the expression of the function of the surface functional layer and the matte property of the cured film.
The surface functional layer can be formed by a known method.
(裏面機能層)
裏面機能層は、基材層の硬化膜(凹凸層)とは反対側の面に各種の機能を付与するために設けられる層である。裏面機能層としては、例えば、粘着層、帯電防止層、屈折率調整層、アンチブロッキング層が挙げられる。裏面機能層は、一層で単一又は複数の機能を有していてもよく、複数の層で構成されていてもよい。
(Back functional layer)
The back functional layer is a layer provided on the surface opposite to the cured film (uneven layer) of the base layer to impart various functions. Examples of the back functional layer include an adhesive layer, an antistatic layer, a refractive index adjustment layer, and an antiblocking layer. The back functional layer may be a single layer having a single or multiple functions, or may be composed of multiple layers.
粘着層は、積層体を各種の被着体に接合するために設けられる。帯電防止層は、積層体の最表面、特に基材層の凹凸層側とは反対側の最表面における剥離帯電や摩擦帯電によるゴミ等の付着、それによる欠陥等を防止するために設けられる。屈折率調整層は、例えば、積層体の全光線透過率を向上させるために設けられる。アンチブロッキング層は、積層体のブロッキングを軽減するために設けられる。
粘着層を形成する粘着剤としては、例えば、アクリル系、ポリエステル系、ウレタン系、ゴム系の公知の粘着剤が挙げられる。それらの中でも汎用性を考慮すると、アクリル系粘着剤が好ましい。
帯電防止層、屈折率調整層を形成する成分は、表面機能層においてそれぞれ説明したものと同様である。
The adhesive layer is provided to bond the laminate to various adherends. The antistatic layer is provided to prevent adhesion of dust and the like due to peeling charge or friction charge on the outermost surface of the laminate, particularly on the outermost surface opposite to the uneven layer side of the base layer, and to prevent defects and the like caused thereby. The refractive index adjustment layer is provided, for example, to improve the total light transmittance of the laminate. The antiblocking layer is provided to reduce blocking of the laminate.
Examples of the adhesive for forming the adhesive layer include known adhesives such as acrylic, polyester, urethane and rubber adhesives. Among these, acrylic adhesives are preferred in view of versatility.
The components forming the antistatic layer and the refractive index adjusting layer are the same as those explained for the surface functional layer.
裏面機能層の厚みは、裏面機能層に使用する材料や発現させる性能にも依存するため一概にはいえないが、例えば0.001~30μmである。裏面機能層が粘着層である場合は、好ましくは0.01~30μm、より好ましくは0.1~20μmである。裏面機能層が帯電防止層である場合は、好ましくは0.001~10μm、より好ましくは0.01~5μmである。
裏面機能層は、公知の方法で形成できる。
The thickness of the back functional layer depends on the material used in the back functional layer and the performance to be achieved, and cannot be generally determined, but is, for example, 0.001 to 30 μm. When the back functional layer is an adhesive layer, the thickness is preferably 0.01 to 30 μm, more preferably 0.1 to 20 μm. When the back functional layer is an antistatic layer, the thickness is preferably 0.001 to 10 μm, more preferably 0.01 to 5 μm.
The back surface functional layer can be formed by a known method.
(表面機能層および裏面機能層の形成)
表面機能層および裏面機能層は、例えば、上述の一連の成分を溶液または溶媒の分散体として、固形分濃度が0.1~80質量%程度を目安に調整した液を所定の面にコーティングし、乾燥、硬化することで形成できる。
コーティングする方法としては、例えば、グラビアコート、リバースロールコート、ダイコート、エアドクターコート、ブレードコート、ロッドコート、バーコート、カーテンコート、ナイフコート、トランスファロールコート、スクイズコート、含浸コート、キスコート、スプレーコート、カレンダコート、押出コート等の従来公知のコーティング方式が挙げられる。
表面機能層および裏面機能層を形成する際の乾燥および硬化条件は特に限定されるものではないが、コーティング液に使用している水等の溶媒の乾燥に関しては、通常50~150℃、好ましくは80~130℃、さらに好ましくは90~120℃の範囲である。乾燥の時間の目安としては、3~200秒、好ましくは5~120秒の範囲である。また、表面機能層および裏面機能層の強度を向上させるため、乾燥後に、通常150~270℃、好ましくは170~230℃、さらに好ましくは180~210℃の範囲の熱処理することが好ましい。熱処理の時間の目安としては、3~200秒、好ましくは5~120秒の範囲である。このような熱処理は、積層体がフィルムである場合に好適である。
(Formation of surface functional layer and back functional layer)
The front surface functional layer and the back surface functional layer can be formed, for example, by coating a liquid prepared by dispersing the above-mentioned components in a solution or a solvent so that the solid content is approximately 0.1 to 80% by mass onto a specified surface, followed by drying and curing.
Examples of the coating method include conventionally known coating methods such as gravure coating, reverse roll coating, die coating, air doctor coating, blade coating, rod coating, bar coating, curtain coating, knife coating, transfer roll coating, squeeze coating, impregnation coating, kiss coating, spray coating, calendar coating, and extrusion coating.
The drying and curing conditions when forming the surface functional layer and the back functional layer are not particularly limited, but the drying temperature of the solvent such as water used in the coating liquid is usually in the range of 50 to 150 ° C, preferably 80 to 130 ° C, and more preferably 90 to 120 ° C. The drying time is generally in the range of 3 to 200 seconds, preferably 5 to 120 seconds. In addition, in order to improve the strength of the surface functional layer and the back functional layer, it is preferable to perform a heat treatment after drying at a temperature of usually 150 to 270 ° C, preferably 170 to 230 ° C, and more preferably 180 to 210 ° C. The heat treatment time is generally in the range of 3 to 200 seconds, preferably 5 to 120 seconds. Such a heat treatment is suitable when the laminate is a film.
(全光線透過率)
積層体は透過性を有することが好ましい。後述する実施例に記載の方法により測定される全光線透過率が、好ましくは50%以上、より好ましくは60%以上、さらに好ましくは70%以上、特に好ましくは80%以上、最も好ましくは90%以上の範囲であり、高いほど好ましい(上限値は100%である)。
(Total light transmittance)
The laminate preferably has transparency. The total light transmittance measured by the method described in the Examples below is preferably 50% or more, more preferably 60% or more, even more preferably 70% or more, particularly preferably 80% or more, and most preferably 90% or more, and the higher the transmittance, the more preferable (the upper limit is 100%).
(ヘイズ)
後述する実施例に記載の方法により測定される積層体のヘイズ(haze)は、好ましくは1%以上、より好ましくは3%以上、さらに好ましくは5%以上、特に好ましくは10%以上、最も好ましくは20%以上の範囲であり、上限としては、例えば99%である。ヘイズは高いほど艶消し性が良好になる傾向がある。
また、特に各種ディスプレイのアンチグレア用に使用する場合は、好ましくは40%以上、より好ましくは50%以上、さらに好ましくは60%以上、特に好ましくは70%以上、最も好ましくは80%以上の範囲であり、上限としては、例えば99%である。また用途によっては、高いほど好ましい用途もある。
(Hayes)
The haze of the laminate measured by the method described in the Examples below is preferably 1% or more, more preferably 3% or more, even more preferably 5% or more, particularly preferably 10% or more, and most preferably 20% or more, with the upper limit being, for example, 99%. The higher the haze, the better the matte property tends to be.
In particular, when used for anti-glare applications in various displays, the content is preferably 40% or more, more preferably 50% or more, even more preferably 60% or more, particularly preferably 70% or more, and most preferably 80% or more, with the upper limit being, for example, 99%.
以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明はその要旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。
本発明で用いた測定方法及び評価方法は次のとおりである。
The present invention will be described in more detail below with reference to examples. However, the present invention is not limited to the following examples as long as it does not depart from the gist of the present invention.
The measurement and evaluation methods used in the present invention are as follows.
(1)ポリエステルの極限粘度
ポリエステルに非相溶な成分を除去したポリエステル1gを精秤し、フェノール/テトラクロロエタン=50/50(重量比)の混合溶媒100mlを加えて溶解させ、30℃で測定した。
(1) Intrinsic Viscosity of Polyester 1 g of polyester from which components incompatible with the polyester had been removed was precisely weighed, dissolved in 100 ml of a mixed solvent of phenol/tetrachloroethane = 50/50 (weight ratio), and measured at 30°C.
(2)平均一次粒子径(d50:μm)
島津製作所社製、遠心沈降式粒度分布測定装置 SA-CP3型を使用して測定した等価球形分布における積算(重量基準)50%の値を平均一次粒子径とした。
(2) Average primary particle diameter (d50: μm)
The cumulative 50% value (by weight) in the equivalent sphericity distribution measured using a centrifugal sedimentation type particle size distribution measuring device SA-CP3 manufactured by Shimadzu Corporation was taken as the average primary particle size.
(3)重合体(X)の重量平均分子量(Mw)
アクリル系重合体の重量平均分子量(Mw)は、ゲル透過クロマトグラフィー(GPC)「HLC-8120」(東ソー社製)を用いて測定した。カラムとしては、TSKgel G5000HXL*GMHXL-L(東ソー社製)を使用した。また、標準ポリスチレンとして、F288/F80/F40/F10/F4/F1/A5000/A1000/A500(東ソー社製)及びスチレンを使用して検量線を作成した。測定は、重合体をテトラヒドロフランに濃度が0.4%になるように溶解した溶液100μlを使用してカラムオーブン温度40℃で行った。重量平均分子量(Mw)は標準ポリスチレン換算にて算出した。
(3) Weight average molecular weight (Mw) of polymer (X)
The weight average molecular weight (Mw) of the acrylic polymer was measured using a gel permeation chromatography (GPC) "HLC-8120" (manufactured by Tosoh Corporation). As the column, TSKgel G5000HXL*GMHXL-L (manufactured by Tosoh Corporation) was used. In addition, a calibration curve was created using F288/F80/F40/F10/F4/F1/A5000/A1000/A500 (manufactured by Tosoh Corporation) and styrene as standard polystyrene. The measurement was performed at a column oven temperature of 40°C using 100 μl of a solution in which the polymer was dissolved in tetrahydrofuran to a concentration of 0.4%. The weight average molecular weight (Mw) was calculated in terms of standard polystyrene.
(4)SP値
SP値は次の方法により測定した。サンプル0.5gを100mlビーカーに秤量し、アセトン10mlを加えて樹脂を溶解させる。ここへ、マグネチックスターラーで攪拌しながら、ヘキサンを滴下していき、溶液に濁りが生じた点(濁点)のヘキサンの滴下量(vh)を求める。次に、ヘキサンの代わりに脱イオン水を使用したときの、濁点における脱イオン水の滴下量(vd)を求める。vh、vdより、SP値は参考文献:SUH、CLARKE、J.P.S.A-1、5、1671~1681(1967)により示された式を用いて求める。また、サンプルがアセトンに溶解しない等、溶解性パラメーターが上記の方法により求めることができない場合には、Fedorsらが提案した方法によって推算する。具体的には「POLYMER ENGINEERING AND SCIENCE,FEBRUARY,1974,Vol.14,No.2,ROBERT F.FEDORS.(147~154頁)」を参照して求める。
(4) SP value The SP value was measured by the following method. 0.5 g of a sample was weighed into a 100 ml beaker, and 10 ml of acetone was added to dissolve the resin. Hexane was added dropwise to the solution while stirring with a magnetic stirrer, and the amount of hexane added (vh) at the point where the solution became turbid (cloudy point) was determined. Next, the amount of deionized water added (vd) at the cloudy point when deionized water was used instead of hexane was determined. From vh and vd, the SP value was determined using the formula given in the reference: SUH, CLARKE, J. P. S. A-1, 5, 1671-1681 (1967). In addition, when the solubility parameter cannot be determined by the above method, such as when the sample is not dissolved in acetone, it is estimated by the method proposed by Fedors et al. Specifically, the value is determined by referring to "POLYMER ENGINEERING AND SCIENCE, FEBRUARY, 1974, Vol. 14, No. 2, ROBERT F. FEDORS. (pp. 147-154)".
(5)RSm、Sa及び傾斜角(θa)
表面形状計測システム(日立ハイテクサイエンス社製 走査型白色干渉顕微鏡「VS1330」)を用い、硬化膜の表面の177.60μm×236.87μmの領域について、表面形状を光干渉法にて測定し、データ解析を行った。RSm、θaの算出に用いた評価長さは236.87μmである。測定時における対物レンズの倍率は20倍に設定して測定した。なお、本評価にてしわ状の凹凸構造の有無も確認した。
データ解析に用いた処理条件は以下の通りである。
面補正:4次
補間:完全補間
フィルタ:メジアン3×3ピクセル
境界処理:対称拡張してエッジ部を補間
トリミング:無し
(5) RSm, Sa and inclination angle (θa)
Using a surface shape measurement system (Hitachi High-Tech Science Corporation's scanning white light interference microscope "VS1330"), the surface shape of the cured film was measured by optical interference method in an area of 177.60 μm × 236.87 μm, and data analysis was performed. The evaluation length used to calculate RSm and θa was 236.87 μm. The magnification of the objective lens during measurement was set to 20 times. In addition, the presence or absence of a wrinkled uneven structure was also confirmed in this evaluation.
The processing conditions used for data analysis are as follows.
Surface correction: 4th order Interpolation: Fully interpolated Filter: Median 3 x 3 pixels Boundary processing: Symmetrical expansion to interpolate edges Trimming: None
(6)全光線透過率・ヘイズ
基材上に硬化膜を形成した積層体を測定対象とした。全光線透過率及びヘイズは、JIS Z8722:2009(透過物体の照射及び受光の幾何条件)及びJIS K7361-1:1997(プラスチック-透明材料の全光線透過率の試験方法)JIS K7136:2000(プラスチック-透明材料のヘ-ズの求め方)に準拠し、日本電色工業製ヘーズメーター「SH7000」を用いて測定した。
(6) Total light transmittance and haze A laminate having a cured film formed on a substrate was used as the measurement subject. The total light transmittance and haze were measured using a haze meter "SH7000" manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. in accordance with JIS Z8722:2009 (geometric conditions of irradiation and reception of a transparent object), JIS K7361-1:1997 (test method for total light transmittance of plastic-transparent material), and JIS K7136:2000 (method of determining haze of plastic-transparent material).
(7)20°および60°グロス・艶消し性
基材上に硬化膜を形成した積層体を測定対象とした。20°および60°グロス(20°および60°鏡面光沢度)を、JIS Z 8741-1997に準拠し、日本電色工業社製グロスメーター「VG2000」を用いて測定した。グロスの値が低いほど艶消し性に優れる。
(7) 20° and 60° Gloss/Matteness A laminate having a cured film formed on a substrate was used as the measurement subject. The 20° and 60° gloss (20° and 60° specular gloss) was measured using a gloss meter "VG2000" manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. in accordance with JIS Z 8741-1997. The lower the gloss value, the better the matteness.
(8)鉛筆硬度
JIS K5600-5-4:1999 塗料一般試験法-第5部:塗膜の機械的性質-第4節:引っかき硬度(鉛筆法)に従って、硬化膜の鉛筆硬度を測定した。
(8) Pencil Hardness The pencil hardness of the cured film was measured in accordance with JIS K5600-5-4:1999 General testing methods for paints-Part 5: Mechanical properties of coating films-Section 4: Scratch hardness (pencil method).
(9)艶消し性
白色で直線状の蛍光灯を灯した室内に、積層体を設置し、蛍光灯と積層体の距離を2.5mに設定して目視外観にて凹凸層側の艶消し性(蛍光灯の映り込み)を以下の評価基準A~Dで評価した。評価A~Cにおいては艶消し性が確認できる判定である。
A:蛍光灯の反射像が強くぼやけており、蛍光灯の輪郭が確認できない。
B:蛍光灯の反射像がぼやけているが、うっすらと輪郭を確認することができる。
C:蛍光灯の反射像が少しぼやけており、輪郭を確認することもできるが、波打った形状で観察され、暗い白色に映る。
D:蛍光灯の反射像が鮮明ではっきりと輪郭を確認することができ、また直線状で白色に映る。
(9) Matte Property The laminate was placed in a room illuminated by a white linear fluorescent lamp, and the distance between the fluorescent lamp and the laminate was set at 2.5 m. The matte property of the uneven layer side (reflection of the fluorescent lamp) was evaluated by visual observation according to the following evaluation criteria A to D. Evaluations A to C are judgments in which the matte property can be confirmed.
A: The reflected image of the fluorescent light is very blurred and the outline of the fluorescent light cannot be seen.
B: The reflected image of the fluorescent light is blurred, but you can faintly see the outline.
C: The reflected image of the fluorescent light is slightly blurred, and although the outline can be seen, it appears wavy and appears dark white.
D: The reflected image of the fluorescent light is clear and the outline can be clearly seen, and it appears linear and white.
実施例および比較例において使用した材料は、以下の通りである。
(基材)
・ポリエステル(S1):重合触媒として酢酸マグネシウム・四水和物およびテトラブチルチタネートを用いて得られる、極限粘度が0.63dl/gのポリエチレンテレフタレートホモポリマー。
・ポリエステル(S2):重合触媒として酢酸マグネシウム・四水和物、正リン酸および二酸化ゲルマニウムを用いて得られる、極限粘度が0.64dl/gのポリエチレンテレフタレートホモポリマー。
・ポリエステル(S3):平均一次粒子径2μmのシリカ粒子を0.3質量%含有する、ポリエチレンテレフタレートホモポリマー。
The materials used in the examples and comparative examples are as follows.
(Substrate)
Polyester (S1): A polyethylene terephthalate homopolymer having an intrinsic viscosity of 0.63 dl/g, obtained using magnesium acetate tetrahydrate and tetrabutyl titanate as polymerization catalysts.
Polyester (S2): A polyethylene terephthalate homopolymer having an intrinsic viscosity of 0.64 dl/g, obtained using magnesium acetate tetrahydrate, orthophosphoric acid and germanium dioxide as polymerization catalysts.
Polyester (S3): A polyethylene terephthalate homopolymer containing 0.3% by mass of silica particles having an average primary particle size of 2 μm.
(相分離する硬化性組成物)
以下に示す各材料を表1に示す量(質量部、不揮発分換算)で混合した。ついで、プロピレングリコールモノメチルエーテル(以下、PGM)とメチルエチルケトン(以下、MEK)の混合溶剤(PGM:MEK(質量比)が7:3)を固形分濃度が30質量%になるように添加し、均一になるまで撹拌して各実施例及び比較例で使用する相分離する硬化性組成物(塗布液)を得た。
・(メタ)アクリレート(B1):1,6-ヘキサンジオールジアクリレート(2官能)(SP値:9.6)
・(メタ)アクリレート(B2):グリセリントリアクリレート(3官能)(SP値:11.0)
・水酸基を有する化合物(化合物(X))(X):下記に示す方法で製造した(メタ)アクリル系重合体。
温度計、攪拌機及び還流冷却管を備えたフラスコに、プロピレングリコールモノメチルエーテル(157質量部)、グリシジルメタクリレート(98質量部)、メチルメタクリレート(1.0質量部)、エチルアクリレート(1.0質量部)、メルカプトプロピルトリメトキシシラン(1.9質量部)、及び2,2'-アゾビス(2,4-ジメチルバレロニトリル)(1.0質量部)、γ-トリメトキシシリルプロパンチオール(信越化学工業社製 KBM-803)を1.9質量部加えて、65℃で3時間反応させた。その後、さらに2,2'-アゾビス(2,4-ジメチルバレロニトリル)(0.5質量部)を加えて3時間反応させた後、プロピレングリコールモノメチルエーテル(138質量部)とp-メトキシフェノール(0.45質量部)を加え100℃まで加熱した。次に、アクリル酸(51質量部)、及びトリフェニルホスフィン(3.1質量部)を添加して、110℃で6時間反応させることで、不飽和二重結合量(アクリロイル当量(アクリロイル基の導入量))4.6mmol/gの(メタ)アクリロイル共重合体(C)を得た。得られた(メタ)アクリロイル共重合体(C)のSP値は17.4、アクリル酸の消費率は94%であった。この溶液(固形分30質量%)の25℃における粘度は100mPa・sで、重量平均分子量(Mw)は17700であった。
・(メタ)アクリル系重合体(化合物(Y))(Y):三菱ケミカル社製 アクリル系共重合体「BR-80」(SP値:13.4)
・光重合開始剤(I):IGM Resins B.V.社製 Omnirad 184
(Phase-separating curable composition)
The materials shown below were mixed in the amounts (parts by mass, calculated as non-volatile content) shown in Table 1. Then, a mixed solvent of propylene glycol monomethyl ether (hereinafter, PGM) and methyl ethyl ketone (hereinafter, MEK) (PGM:MEK (mass ratio) 7:3) was added so that the solid content concentration became 30 mass%, and the mixture was stirred until it became uniform, to obtain a phase-separated curable composition (coating liquid) used in each of the Examples and Comparative Examples.
(Meth)acrylate (B1): 1,6-hexanediol diacrylate (bifunctional) (SP value: 9.6)
(Meth)acrylate (B2): Glycerin triacrylate (trifunctional) (SP value: 11.0)
Compound having a hydroxyl group (compound (X)) (X): a (meth)acrylic polymer produced by the method shown below.
A flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a reflux condenser was charged with propylene glycol monomethyl ether (157 parts by mass), glycidyl methacrylate (98 parts by mass), methyl methacrylate (1.0 part by mass), ethyl acrylate (1.0 part by mass), mercaptopropyl trimethoxysilane (1.9 parts by mass), and 2,2'-azobis(2,4-dimethylvaleronitrile) (1.0 part by mass), γ-trimethoxysilylpropanethiol (KBM-803, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) (1.9 parts by mass) and reacted for 3 hours at 65 ° C. Thereafter, 2,2'-azobis(2,4-dimethylvaleronitrile) (0.5 parts by mass) was further added and reacted for 3 hours, after which propylene glycol monomethyl ether (138 parts by mass) and p-methoxyphenol (0.45 parts by mass) were added and heated to 100 ° C. Next, acrylic acid (51 parts by mass) and triphenylphosphine (3.1 parts by mass) were added and reacted at 110° C. for 6 hours to obtain a (meth)acryloyl copolymer (C) having an unsaturated double bond amount (acryloyl equivalent (amount of acryloyl group introduced)) of 4.6 mmol/g. The SP value of the obtained (meth)acryloyl copolymer (C) was 17.4, and the consumption rate of acrylic acid was 94%. The viscosity of this solution (solid content 30% by mass) at 25° C. was 100 mPa·s, and the weight average molecular weight (Mw) was 17,700.
(Meth)acrylic polymer (compound (Y)) (Y): acrylic copolymer "BR-80" (SP value: 13.4) manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation
- Photopolymerization initiator (I): IGM Resins B. V. Manufactured by Omnirad 184
(プライマー層形成用組成物)
以下に示すポリエステル樹脂(P1)、ウレタン樹脂(P2)、メラミン化合物(P3)、粒子(P4)をポリエステル樹脂(P1)/ウレタン樹脂(P2)/メラミン化合物(P3)/粒子(P4)(固形分質量比)=60/25/10/5で混合してプライマー層形成用組成物を得た。
・ポリエステル樹脂(P1):下記組成からなるポリエステル樹脂の水分散体
モノマー組成:(酸成分)テレフタル酸/イソフタル酸/5-ソジウムスルホイソフタル酸//(ジオール成分)エチレングリコール/1,4-ブタンジオール/ジエチレングリコール=56/40/4//70/20/10(mol%)
・ウレタン樹脂(P2):下記組成からなるポリエステル系ウレタン樹脂の水分散体
イソホロンジイソシアネート:テレフタル酸:イソフタル酸:エチレングリコール:ジエチレングリコール:ジメチロールプロパン酸=12:19:18:21:25:5(mol%)
・メラミン化合物(P3):ヘキサメトキシメチロールメラミン
・粒子:(P4):平均一次粒子径0.07μmのシリカ粒子
(Composition for forming primer layer)
The polyester resin (P1), urethane resin (P2), melamine compound (P3), and particles (P4) shown below were mixed in a polyester resin (P1)/urethane resin (P2)/melamine compound (P3)/particles (P4) (solid The components were mixed in a mass ratio of 60/25/10/5 to obtain a composition for forming a primer layer.
Polyester resin (P1): Aqueous dispersion of polyester resin having the following composition Monomer composition: (acid component) terephthalic acid/isophthalic acid/5-sodium sulfoisophthalic acid // (diol component) ethylene glycol/1,4- Butanediol/diethylene glycol=56/40/4//70/20/10 (mol%)
Urethane resin (P2): Aqueous dispersion of polyester-based urethane resin having the following composition: Isophorone diisocyanate: terephthalic acid: isophthalic acid: ethylene glycol: diethylene glycol: dimethylolpropanoic acid = 12: 19: 18: 21: 25: 5 ( mol%)
Melamine compound (P3): hexamethoxymethylolmelamine Particles: (P4): silica particles with an average primary particle size of 0.07 μm
(ポリエステルフィルム基材)
ポリエステル(S1)、(S2)、(S3)をそれぞれ91質量%、3質量%、6質量%の割合で混合した原料を最外層(表層)の原料とし、ポリエステル(S1)、(S2)をそれぞれ97質量%、3質量%の割合で混合した原料を中間層の原料として、2台の押出機に各々を供給し、各々285℃で溶融した後、40℃に設定した冷却ロール上に、2種3層(表層/中間層/表層=1:8:1の吐出量)の層構成で共押出し冷却固化させて未延伸シートを得た。
次いで、ロール周速差を利用してフィルム温度85℃で縦方向に3.1倍延伸した後、この縦延伸フィルムの片面に、プライマー層形成用組成物を塗布し、テンターに導き、95℃で10秒間乾燥させた後、横方向に120℃で4.2倍延伸し、230℃で10秒間熱処理を行った後、横方向に2%弛緩し、片面に厚み0.1μmのプライマー層を有する厚み(乾燥後)50μmのポリエステルフィルム基材を得た。
(Polyester film substrate)
A raw material obtained by mixing polyesters (S1), (S2), and (S3) in proportions of 91 mass%, 3 mass%, and 6 mass%, respectively, was used as the raw material for the outermost layer (surface layer), and a raw material obtained by mixing polyesters (S1) and (S2) in proportions of 97 mass% and 3 mass%, respectively, was used as the raw material for the intermediate layer. Each of these raw materials was supplied to two extruders and melted at 285°C. After that, the raw materials were co-extruded onto a cooling roll set at 40°C in a layer structure of two types and three layers (extrusion amount of surface layer/intermediate layer/surface layer = 1:8:1), and then cooled and solidified to obtain an unstretched sheet.
Next, the film was stretched 3.1 times in the longitudinal direction at a film temperature of 85°C using the difference in roll peripheral speed, and then a composition for forming a primer layer was applied to one side of this longitudinally stretched film, which was then introduced into a tenter and dried at 95°C for 10 seconds.Then, the film was stretched 4.2 times in the transverse direction at 120°C, heat-treated at 230°C for 10 seconds, and then relaxed by 2% in the transverse direction to obtain a polyester film substrate having a thickness (after drying) of 50 μm and a 0.1 μm-thick primer layer on one side.
[実施例1~5]
ポリエステルフィルムのプライマー層上に、表1に示す塗布液を塗布し、70℃で1分間乾燥し、相分離による凹凸構造を形成後、キセノン(波長172nm)によるエキシマ光(半値幅14nm)を照射量15mJ/cm2、照度5mW/cm2(ウシオ電機社製 キセノンエキシマ172nm光照射機、ランプユニット型式:SUS05(ランプハウス型式:H0011、点灯電源型式:B0005)、窒素フロー(酸素濃度1%以下))で表1の塗布液からなる塗膜に照射し、さらに空気雰囲気中にて高圧水銀灯で積算光量400mJ/cm2、照度200mW/cm2(アイグラフィックス社製 高出力UV装置(型式:US5-X1802-X1202)のUVコンベア)にて紫外線を照射し、表2に示す膜厚(乾燥後)の硬化膜を有する積層体を得た。
この積層体の硬化膜は、しわ状の凹凸構造を有しており、艶消し性が良好であった。この積層体に関する評価結果を下記表2に示す。
[Examples 1 to 5]
A coating solution shown in Table 1 was applied onto the primer layer of a polyester film and dried at 70°C for 1 minute to form an uneven structure by phase separation. The coating film made of the coating solution shown in Table 1 was then irradiated with excimer light (half width 14 nm) from xenon (wavelength 172 nm) at an irradiation dose of 15 mJ/ cm2 and an illuminance of 5 mW/ cm2 (Ushio Inc. xenon excimer 172 nm light irradiator, lamp unit type: SUS05 (lamp house type: H0011, lighting power supply type: B0005), nitrogen flow (oxygen concentration 1% or less)), and further irradiated with a high-pressure mercury lamp in an air atmosphere at an accumulated light dose of 400 mJ/ cm2 and an illuminance of 200 mW/ cm2 (I-Graphics Inc. The coating was irradiated with ultraviolet light using a UV conveyor of a high-output UV device (model: US5-X1802-X1202) to obtain a laminate having a cured film with the thickness (after drying) shown in Table 2.
The cured film of this laminate had a wrinkled uneven structure and had good matte properties. The evaluation results of this laminate are shown in Table 2 below.
[比較例1~5]
実施例1において、塗布液の組成を表1に示す組成に変更し、エキシマ光を使用せず、高圧水銀灯による紫外線照射のみで硬化したこと以外は、実施例1と同様にして製造し、硬化膜を有する積層体を得た。得られた積層体を評価したところ、下記表2に示す通り、エキシマ光を使用した同組成、同膜厚の実施例と比べると艶消し性が低かった。
なお、エキシマ光を使用しないと、硬化が不十分で鉛筆硬度が低いものがあった。このようなものについては、高圧水銀灯による紫外線照射量を増やして鉛筆硬度が実施例と同程度になるようにすることも行ったが、しわ状の凹凸構造は形成されず、艶消し性などの物性は改善されなかった。
[Comparative Examples 1 to 5]
A laminate having a cured film was obtained by manufacturing in the same manner as in Example 1, except that the composition of the coating solution in Example 1 was changed to the composition shown in Table 1, and curing was performed only by irradiation with ultraviolet light from a high-pressure mercury lamp without using excimer light. When the obtained laminate was evaluated, as shown in Table 2 below, it had lower matte properties compared to examples of the same composition and film thickness using excimer light.
In addition, when excimer light was not used, some of the products were insufficiently cured and had low pencil hardness. For such products, the amount of ultraviolet light irradiated by the high-pressure mercury lamp was increased to make the pencil hardness comparable to that of the examples, but the wrinkled uneven structure was not formed, and physical properties such as matte finish were not improved.
Claims (8)
硬化性組成物は、相分離させるための、水酸基、アミノ基、アミド基、スルホニル基、リン酸エステル基、チオール基から選ばれる少なくとも1種の極性基を含有する化合物(X)と、水酸基、アミノ基、アミド基、スルホニル基、リン酸エステル基、チオール基から選ばれる極性基をいずれも含有しない化合物(Y)とを含み、二官能(メタ)アクリレート及び三官能(メタ)アクリレートの少なくとも一方の(メタ)アクリレートをさらに含み、
前記化合物(X)は(メタ)アクリロイル基を有するSP値が15.1以上の高分子化合物であり、
前記化合物(Y)は(メタ)アクリル系重合体であり、
前記硬化性組成物中の不揮発分に対して、前記化合物(X)の割合が10~62質量%、前記化合物(Y)の割合が3~55質量%、前記(メタ)アクリレートの割合が35~87質量%であり、
前記凹凸構造の局部傾斜角度の平均値(θa)が2°以上であり、
前記凹凸構造のJIS B0601:2013に従う粗さ曲線要素の平均長さ(RSm)が21μm以上である、硬化膜。 a cured film obtained by curing a phase-separating curable composition, the cured film having a concave-convex structure on its surface resulting from phase separation and also having a concave-convex structure on its surface resulting from irradiation with excimer light,
The curable composition contains, for phase separation, a compound (X) containing at least one polar group selected from a hydroxyl group, an amino group, an amide group, a sulfonyl group, a phosphate group, and a thiol group, and a compound (Y) containing no polar group selected from a hydroxyl group, an amino group, an amide group, a sulfonyl group , a phosphate group, and a thiol group, and further contains at least one (meth)acrylate of a difunctional (meth)acrylate and a trifunctional (meth)acrylate,
the compound (X) is a polymeric compound having a (meth)acryloyl group and an SP value of 15.1 or more;
The compound (Y) is a (meth)acrylic polymer,
a ratio of the compound (X) to a non-volatile content in the curable composition is 10 to 62 mass%, a ratio of the compound (Y) to a non-volatile content in the curable composition is 3 to 55 mass%, and a ratio of the (meth)acrylate to a non-volatile content in the curable composition is 35 to 87 mass%,
The average value (θa) of the local inclination angle of the uneven structure is 2° or more,
The uneven structure has a mean length (RSm) of roughness curve elements according to JIS B0601:2013 of 21 μm or more.
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2020128537A JP7567255B2 (en) | 2020-07-29 | 2020-07-29 | Cured film and laminate, and methods for producing the same |
| JP2024038373A JP2024084758A (en) | 2020-07-29 | 2024-03-12 | Hardened Film |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2020128537A JP7567255B2 (en) | 2020-07-29 | 2020-07-29 | Cured film and laminate, and methods for producing the same |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2024038373A Division JP2024084758A (en) | 2020-07-29 | 2024-03-12 | Hardened Film |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2022025617A JP2022025617A (en) | 2022-02-10 |
| JP7567255B2 true JP7567255B2 (en) | 2024-10-16 |
Family
ID=80264595
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2020128537A Active JP7567255B2 (en) | 2020-07-29 | 2020-07-29 | Cured film and laminate, and methods for producing the same |
| JP2024038373A Withdrawn JP2024084758A (en) | 2020-07-29 | 2024-03-12 | Hardened Film |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2024038373A Withdrawn JP2024084758A (en) | 2020-07-29 | 2024-03-12 | Hardened Film |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (2) | JP7567255B2 (en) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP7578036B2 (en) * | 2021-03-25 | 2024-11-06 | 大日本印刷株式会社 | Transfer sheet and method for producing decorative material using same |
| WO2026083690A1 (en) * | 2024-10-15 | 2026-04-23 | セーレン株式会社 | Article having resin film |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2009128488A (en) | 2007-11-21 | 2009-06-11 | Sharp Corp | Functional film and display device |
| US20140371384A1 (en) | 2011-12-20 | 2014-12-18 | Allnex IP S.à.r.I | Method For Producing Homogeneously Matted Coatings By Radiation Curing |
| JP2019131682A (en) | 2018-01-31 | 2019-08-08 | 三菱ケミカル株式会社 | Curable polymer composition and laminate |
| JP2020111715A (en) | 2019-01-17 | 2020-07-27 | 三菱ケミカル株式会社 | Cured product |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR102331112B1 (en) * | 2018-09-14 | 2021-11-26 | (주)엘엑스하우시스 | Low gloss non-foaming decorative sheet having excellent texture |
-
2020
- 2020-07-29 JP JP2020128537A patent/JP7567255B2/en active Active
-
2024
- 2024-03-12 JP JP2024038373A patent/JP2024084758A/en not_active Withdrawn
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2019131682A (en) | 2018-01-31 | 2019-08-08 | 三菱ケミカル株式会社 | Curable polymer composition and laminate |
| JP2020111715A (en) | 2019-01-17 | 2020-07-27 | 三菱ケミカル株式会社 | Cured product |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2022025617A (en) | 2022-02-10 |
| JP2024084758A (en) | 2024-06-25 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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