JP7567352B2 - (Meth)acrylate resin, curable resin composition, cured product and article - Google Patents
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Description
本発明は、優れた伸度及び誘電特性を有する硬化物を形成可能な(メタ)アクリレート樹脂、これを含有する硬化性樹脂組成物、前記硬化性樹脂組成物の硬化物及びレジスト部材に関する。 The present invention relates to a (meth)acrylate resin capable of forming a cured product having excellent elongation and dielectric properties, a curable resin composition containing the same, a cured product of the curable resin composition, and a resist member.
近年、紫外線等の活性エネルギー線により硬化可能な活性エネルギー線硬化性組成物や、熱により硬化可能な熱硬化性組成物などの硬化性組成物は、インキ、塗料、コーティング剤、接着剤、光学部材等の分野において広く用いられている。なかでも、前記コーティング剤用途としては、一般に、各種基材表面へ意匠性を付与できるとともに、優れた硬化性を有しており、また、基材表面の劣化を防止可能な塗膜を形成できることが求められている。さらに、近年は、得られた硬化物の伸度や低誘電率、低誘電正接等の性能を備えた硬化塗膜を形成可能な材料が産業界から求められている。 In recent years, curable compositions such as active energy ray curable compositions that can be cured by active energy rays such as ultraviolet rays and heat curable compositions that can be cured by heat have been widely used in the fields of inks, paints, coating agents, adhesives, optical components, etc. In particular, for the above-mentioned coating agent applications, it is generally required that the coating agent can impart design to the surface of various substrates, has excellent curing properties, and can form a coating film that can prevent deterioration of the substrate surface. Furthermore, in recent years, the industrial world has been demanding materials that can form a cured coating film that has properties such as elongation, low dielectric constant, and low dielectric tangent of the obtained cured product.
従来の活性エネルギー線硬化性組成物としては、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂とアクリル酸と無水フタル酸とを反応させて得られる中間体に、更にテトラヒドロ無水フタル酸を反応させて得られるエポキシアクリレート樹脂を含む感光性樹脂組成物が知られているが(例えば、特許文献1参照。)、硬化物における伸度が十分ではなく、また、水酸基の生成により誘電率及び誘電正接が上昇するなど、誘電特性が十分ではない等の問題があった。 A known conventional active energy ray-curable composition is a photosensitive resin composition containing an epoxy acrylate resin obtained by further reacting tetrahydrophthalic anhydride with an intermediate obtained by reacting a cresol novolac epoxy resin with acrylic acid and phthalic anhydride (see, for example, Patent Document 1). However, there are problems with this composition, such as insufficient elongation in the cured product and insufficient dielectric properties, such as an increase in the dielectric constant and dielectric loss tangent due to the generation of hydroxyl groups.
そこで、伸度に加え、優れた誘電特性を有する材料が求められていた。 Therefore, there was a demand for a material that had excellent dielectric properties in addition to ductility.
本発明が解決しようとする課題は、優れた伸度及び誘電特性を有する硬化物を形成可能な(メタ)アクリレート樹脂、これを含有する硬化性樹脂組成物、前記硬化性樹脂組成物の硬化物及び物品を提供することである。 The problem that the present invention aims to solve is to provide a (meth)acrylate resin capable of forming a cured product having excellent elongation and dielectric properties, a curable resin composition containing the same, and a cured product and article of the curable resin composition.
本発明者らは、上記課題を解決するため鋭意検討を行った結果、原料としてフェノール性水酸基を有する化合物、エチレン性不飽和結合を少なくとも2つ有する芳香族化合物及びエピハロヒドリンを必須として用いたエポキシ樹脂と、不飽和一塩基酸とを必須原料とする(メタ)アクリレート樹脂を用いることによって、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成させた。 As a result of intensive research into solving the above problems, the present inventors discovered that the above problems could be solved by using an epoxy resin that uses as essential raw materials a compound having a phenolic hydroxyl group, an aromatic compound having at least two ethylenically unsaturated bonds, and epihalohydrin, and a (meth)acrylate resin that uses as essential raw materials an unsaturated monobasic acid, and thus completed the present invention.
すなわち、本発明は、エポキシ樹脂(A)と、不飽和一塩基酸(B)と、を必須原料とする(メタ)アクリレート樹脂であって、前記エポキシ樹脂(A)が、フェノール性水酸基を有する化合物(a1)、エチレン性不飽和結合を少なくとも2つ有する芳香族化合物(a2)及びエピハロヒドリン(a3)を必須原料とするものであることを特徴とする(メタ)アクリレート樹脂、これを含有する硬化性樹脂組成物、前記硬化性樹脂組成物の硬化物及び物品に関するものである。 That is, the present invention relates to a (meth)acrylate resin having, as essential raw materials, an epoxy resin (A) and an unsaturated monobasic acid (B), characterized in that the epoxy resin (A) has, as essential raw materials, a compound (a1) having a phenolic hydroxyl group, an aromatic compound (a2) having at least two ethylenically unsaturated bonds, and an epihalohydrin (a3), a curable resin composition containing the same, and a cured product and article of the curable resin composition.
本発明の(メタ)アクリレート樹脂は、優れた伸度及び誘電特性を有する硬化物を形成できることから、前記(メタ)アクリレート樹脂と光重合開始剤とを含有した硬化性樹脂組成物は、コーティング剤や接着剤として用いることができ、特にコーティング剤として好適に用いることができる。 The (meth)acrylate resin of the present invention can form a cured product having excellent elongation and dielectric properties, so that a curable resin composition containing the (meth)acrylate resin and a photopolymerization initiator can be used as a coating agent or adhesive, and is particularly suitable for use as a coating agent.
本発明の(メタ)アクリレート樹脂は、エポキシ樹脂(A)と、不飽和一塩基酸(B)とを必須原料とすることを特徴とする。 The (meth)acrylate resin of the present invention is characterized in that it contains an epoxy resin (A) and an unsaturated monobasic acid (B) as essential raw materials.
なお、本発明において、「(メタ)アクリレート」とは、アクリレート及び/又はメタクリレートを意味する。また、「(メタ)アクリロイル」とは、アクリロイル及び/又はメタクリロイルを意味する。さらに、「(メタ)アクリル」とは、アクリル及び/又はメタクリルを意味する。 In the present invention, "(meth)acrylate" means acrylate and/or methacrylate. Furthermore, "(meth)acryloyl" means acryloyl and/or methacryloyl. Furthermore, "(meth)acrylic" means acrylic and/or methacrylic.
前記エポキシ樹脂(A)としては、フェノール性水酸基を有する化合物(a1)、エチレン性不飽和結合を少なくとも2つ有する芳香族化合物(a2)及びエピハロヒドリン(a3)を必須原料とするものを用いる。 The epoxy resin (A) used is one whose essential raw materials are a compound (a1) having a phenolic hydroxyl group, an aromatic compound (a2) having at least two ethylenically unsaturated bonds, and epihalohydrin (a3).
前記フェノール性水酸基を有する化合物(a1)とは、分子内にフェノール性水酸基を少なくとも1つ有する化合物をいう。前記分子内にフェノール性水酸基を少なくとも1つ有する化合物としては、例えば、下記構造式(1-1)~(1-4)で表される化合物が挙げられる。 The compound (a1) having a phenolic hydroxyl group refers to a compound having at least one phenolic hydroxyl group in the molecule. Examples of the compound having at least one phenolic hydroxyl group in the molecule include compounds represented by the following structural formulas (1-1) to (1-4).
上記構造式(1-1)~(1-4)において、R1は、炭素原子数1~20のアルキル基、炭素原子数1~20のアルコキシ基、アリール基、ハロゲン原子の何れかであり、R2は、それぞれ独立して、水素原子又はメチル基である。また、pは、0又は1以上の整数であり、好ましくは0又は1~3の整数であり、より好ましくは0又は1であり、さらに好ましくは0である。qは、1以上の整数であり、好ましくは、2又は3である。なお、上記構造式における芳香環上の置換基の位置については、任意であり、例えば、構造式(1-2)のナフタレン環においてはいずれの環上に置換していてもよく、構造式(1-3)では、1分子中に存在するベンゼン環のいずれの環上に置換していてもよく、構造式(1-4)では、1分子中に存在するベンゼン環のいずれかの環上に置換していてもよいことを示し、1分子中における置換基の個数がp及びqであることを示している。 In the above structural formulas (1-1) to (1-4), R 1 is any of an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group, and a halogen atom, and R 2 is each independently a hydrogen atom or a methyl group. In addition, p is 0 or an integer of 1 or more, preferably 0 or an integer of 1 to 3, more preferably 0 or 1, and even more preferably 0. q is an integer of 1 or more, preferably 2 or 3. The position of the substituent on the aromatic ring in the above structural formula is arbitrary, and for example, in the naphthalene ring of structural formula (1-2), it may be substituted on any ring, in structural formula (1-3), it may be substituted on any ring of the benzene ring present in one molecule, and in structural formula (1-4), it may be substituted on any ring of the benzene ring present in one molecule, and the number of substituents in one molecule is p and q.
また、前記フェノール性水酸基を有する化合物としては、例えば、分子内にフェノール性水酸基を1つ有する化合物と下記構造式(x-1)~(x-5)の何れかで表される化合物とを必須の反応原料とする反応生成物なども用いることができる。また、分子内にフェノール性水酸基を少なくとも1つ有する化合物の1種又は2種以上を反応原料とするノボラック型フェノール樹脂なども用いることができる。 As the compound having a phenolic hydroxyl group, for example, a reaction product in which a compound having one phenolic hydroxyl group in the molecule and a compound represented by any one of the following structural formulas (x-1) to (x-5) are used as essential reaction raw materials can also be used. In addition, a novolac-type phenolic resin in which one or more compounds having at least one phenolic hydroxyl group in the molecule are used as reaction raw materials can also be used.
[式(x-1)中、hは0又は1である。式(x-2)~(x-5)中、R3は、炭素原子数1~20のアルキル基、炭素原子数1~20のアルコキシ基、アリール基、ハロゲン原子の何れかであり、iは、0又は1~4の整数である。式(x-2)、(x-3)及び(x-5)中、Zは、それぞれ独立してビニル基、ハロメチル基、ヒドロキシメチル基、アルキルオキシメチル基の何れかである。式(x-5)中、Yは、炭素原子数1~4のアルキレン基、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基の何れかであり、jは1~4の整数である。] [In formula (x-1), h is 0 or 1. In formulas (x-2) to (x-5), R 3 is any one of an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group, and a halogen atom, and i is 0 or an integer from 1 to 4. In formulas (x-2), (x-3), and (x-5), Z is each independently any one of a vinyl group, a halomethyl group, a hydroxymethyl group, and an alkyloxymethyl group. In formula (x-5), Y is any one of an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, an oxygen atom, a sulfur atom, and a carbonyl group, and j is an integer from 1 to 4.]
これらのフェノール性水酸基を有する化合物(a1)は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 These compounds (a1) having a phenolic hydroxyl group can be used alone or in combination of two or more.
前記芳香族化合物(a2)としては、エチレン性不飽和結合を少なくとも2つ有するものを用いる。例えば、ジビニルベンゼン、アルキルジビニルベンゼン、ジアリルフタレート、ジイソプロペニルベンゼン等の芳香族ジビニル化合物、グリセロールジアリルエーテル、トリメチロールプロパントリアクリレート等の脂肪族ジビニル化合物などが挙げられる。これらの芳香族化合物(a2)は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。また、優れた伸度及び誘電特性を有する硬化物を形成可能な(メタ)アクリレート樹脂が得られることから、芳香族ジビニル化合物が好ましく、なかでもジビニルベンゼン、ジイソプロペニルベンゼンが特に好ましい。 The aromatic compound (a2) used has at least two ethylenically unsaturated bonds. Examples include aromatic divinyl compounds such as divinylbenzene, alkyl divinylbenzene, diallyl phthalate, and diisopropenylbenzene, and aliphatic divinyl compounds such as glycerol diallyl ether and trimethylolpropane triacrylate. These aromatic compounds (a2) can be used alone or in combination of two or more. In addition, aromatic divinyl compounds are preferred because they can produce (meth)acrylate resins that can form cured products with excellent elongation and dielectric properties, and among these, divinylbenzene and diisopropenylbenzene are particularly preferred.
前記ジビニルベンゼンとしては、例えば、1,2-ジビニルベンゼン、1,3-ジビニルベンゼン、1,4-ジビニルベンゼン等が挙げられる。これらのジビニルベンゼンは、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 Examples of the divinylbenzene include 1,2-divinylbenzene, 1,3-divinylbenzene, and 1,4-divinylbenzene. These divinylbenzenes can be used alone or in combination of two or more.
前記ジイソプロペニルベンゼンとしては、例えば、1,2-ジイソプロペニルベンゼン、1,3-ジイソプロペニルベンゼン、1,4-ジイソプロペニルベンゼン等が挙げられる。これらのジイソプロペニルベンゼンは、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 Examples of the diisopropenylbenzene include 1,2-diisopropenylbenzene, 1,3-diisopropenylbenzene, and 1,4-diisopropenylbenzene. These diisopropenylbenzenes can be used alone or in combination of two or more.
また、前記芳香族化合物(a2)は、必要に応じて他の反応性第三成分を併用することができる。前記反応性第三成分としては、例えば、スチレン、メチルスチレン、エチルスチレン、モノブロモスチレン等の芳香族モノビニル化合物、(メタ)アクリル酸メチルエステル、(メタ)アクリル酸ステアリルエステル、(メタ)アクリル酸、N-メチロール(メタ)アクリルアミド、γ-メルカプトプロピルトリメトキシシラン等の脂肪族モノビニル化合物などが挙げられる。これらの反応性第三成分は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 The aromatic compound (a2) may be used in combination with other reactive third components as necessary. Examples of the reactive third components include aromatic monovinyl compounds such as styrene, methylstyrene, ethylstyrene, and monobromostyrene, and aliphatic monovinyl compounds such as (meth)acrylic acid methyl ester, (meth)acrylic acid stearyl ester, (meth)acrylic acid, N-methylol (meth)acrylamide, and γ-mercaptopropyltrimethoxysilane. These reactive third components may be used alone or in combination of two or more.
前記芳香族化合物(a2)の使用量は、優れた伸度及び誘電特性を有する硬化物を形成可能な(メタ)アクリレート樹脂が得られることから、前記フェノール性水酸基を有する化合物(a1)1モルに対して、前記芳香族化合物(a2)のモル数が、0.25~1の範囲が好ましい。 The amount of the aromatic compound (a2) used is preferably in the range of 0.25 to 1 mole of the aromatic compound (a2) per mole of the compound (a1) having a phenolic hydroxyl group, since this produces a (meth)acrylate resin capable of forming a cured product having excellent elongation and dielectric properties.
前記エピハロヒドリン(a3)としては、例えば、エピクロルヒドリン、エピブロモヒドリン等が挙げられる。これらのエピハロヒドリンは、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。また、これらの中でも、反応を制御しやすいことから、エピクロルヒドリンが好ましい。 Examples of the epihalohydrin (a3) include epichlorohydrin, epibromohydrin, and the like. These epihalohydrins can be used alone or in combination of two or more. Among these, epichlorohydrin is preferred because the reaction is easy to control.
また、本発明の(メタ)アクリレート樹脂は、優れた伸度及び誘電特性を有する硬化物を形成可能なことから、下記の構造で表されるものが好ましい。 In addition, the (meth)acrylate resin of the present invention is preferably one represented by the following structure, since it is capable of forming a cured product having excellent elongation and dielectric properties.
[式(2)中、環Aは、それぞれ独立してベンゼン環又はナフタレン環であり、R1は、それぞれ独立して水素原子、メチル基、エチル基又はプロピル基であり、R2は、それぞれ独立して水素原子、メチル基、エチル基又はプロピル基であり、Xは、それぞれ独立してグリシジル基、下記構造式(X-1)の何れかで表されるものであり、mは1~6の整数であり、nは1~20の整数である。なお、Xの少なくとも1つが下記構造式(X-1)で表されるものである。] [In formula (2), each ring A is independently a benzene ring or a naphthalene ring; each R 1 is independently a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, or a propyl group; each R 2 is independently a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, or a propyl group; each X is independently a glycidyl group or one represented by the following structural formula (X-1); m is an integer from 1 to 6; and n is an integer from 1 to 20. At least one of Xs is represented by the following structural formula (X-1).]
[式(X-1)中、R2は、水素原子又はメチル基である。] [In formula (X-1), R 2 is a hydrogen atom or a methyl group.]
前記エポキシ樹脂(A)の製造方法としては、特に制限されず、適宜公知の方法により製造することができる。例えば、反応原料の全てを一括で反応させる方法で製造してもよいし、反応原料を順次反応させる方法で製造してもよい。 The method for producing the epoxy resin (A) is not particularly limited, and it can be produced by any known method. For example, it may be produced by a method in which all of the reaction raw materials are reacted at once, or by a method in which the reaction raw materials are reacted sequentially.
前記反応原料を順次反応させる方法としては、例えば、前記フェノール性水酸基を有する化合物(a1)と前記芳香族化合物(a2)とを、酸性触媒の存在下、80~200℃の温度範囲で反応させ、次いで、前記フェノール性水酸基を有する化合物(a1)と前記芳香族化合物(a2)との反応物に含まれる水酸基1モルに対し、前記エピハロヒドリン(a3)を1~10モルを添加し、更に、原料の水酸基1モルに対し0.9~10モルの塩基性触媒を一括添加又は徐々に添加しながら20~120℃の温度で0.5~10時間反応させエポキシ化反応を行う方法等が挙げられる。この塩基性触媒は固形でもその水溶液を使用してもよく、水溶液を使用する場合は、連続的に添加すると共に、反応混合物中から減圧下、又は常圧下、連続的に水及びエピハロヒドリンを留出せしめ、更に分液して水は除去しエピハロヒドリンは反応混合物中に連続的に戻す方法でもよい。 As a method for reacting the reaction raw materials sequentially, for example, the compound (a1) having a phenolic hydroxyl group and the aromatic compound (a2) are reacted in the presence of an acid catalyst at a temperature range of 80 to 200°C, and then 1 to 10 moles of the epihalohydrin (a3) are added per mole of hydroxyl group contained in the reaction product of the compound (a1) having a phenolic hydroxyl group and the aromatic compound (a2), and further, 0.9 to 10 moles of a basic catalyst per mole of hydroxyl group of the raw material are added all at once or gradually while reacting at a temperature of 20 to 120°C for 0.5 to 10 hours to perform an epoxidation reaction. The basic catalyst may be a solid or an aqueous solution thereof. When an aqueous solution is used, it may be added continuously, and water and epihalohydrin may be continuously distilled from the reaction mixture under reduced pressure or normal pressure, and further separated to remove water and continuously return epihalohydrin to the reaction mixture.
なお、前記フェノール性水酸基を有する化合物(a1)と、前記芳香族化合物(a2)と、前記エピハロヒドリン(a3)の反応は、必要に応じて有機溶剤中で行うこともできる。 The reaction of the compound (a1) having a phenolic hydroxyl group, the aromatic compound (a2), and the epihalohydrin (a3) can also be carried out in an organic solvent, if necessary.
なお、工業生産を行う際、エポキシ樹脂生産の初バッチでは仕込みに用いるエピハロヒドリンの全てが新しいものであるが、次バッチ以降は、粗反応生成物から回収されたエピハロヒドリンと、反応で消費される分で消失する分に相当する新しいエピハロヒドリンとを併用することが好ましい。この際、グリシドール等、エピクロルヒドリンと水、有機溶剤等との反応により誘導される不純物を含有していても良い。 In industrial production, all of the epihalohydrin used in the first batch of epoxy resin production is new, but from the next batch onwards, it is preferable to use epihalohydrin recovered from the crude reaction product in combination with new epihalohydrin equivalent to the amount consumed and lost in the reaction. In this case, it may contain impurities such as glycidol that are derived from the reaction of epichlorohydrin with water, organic solvents, etc.
なお、得られたエポキシ樹脂(A)は、必要に応じて、水洗し、加熱減圧下、蒸留によって未反応のエピハロヒドリンや併用する有機溶媒を留去する。また、更に加水分解性ハロゲンの少ないエポキシ樹脂とするために、得られたエポキシ樹脂(A)を再びトルエン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン等の有機溶媒に溶解し、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物の水溶液を加えてさらに反応を行うこともできる。この際、反応速度の向上を目的として、4級アンモニウム塩やクラウンエーテル等の相関移動触媒を存在させてもよい。前記相関移動触媒を使用する場合のその使用量としては、用いるエポキシ樹脂に対して0.1~3質量%の範囲が好ましい。反応終了後、生成した塩を濾過、水洗などにより除去し、更に、加熱減圧下トルエン、メチルイソブチルケトンなどの溶剤を留去することにより高純度のエポキシ樹脂(A)を得ることができる。 The obtained epoxy resin (A) is washed with water as necessary, and unreacted epihalohydrin and the organic solvent used are removed by distillation under reduced pressure with heating. In order to obtain an epoxy resin with even less hydrolyzable halogen, the obtained epoxy resin (A) can be dissolved again in an organic solvent such as toluene, methyl isobutyl ketone, or methyl ethyl ketone, and an aqueous solution of an alkali metal hydroxide such as sodium hydroxide or potassium hydroxide can be added to further react. In this case, a phase transfer catalyst such as a quaternary ammonium salt or crown ether may be present in order to improve the reaction rate. When the phase transfer catalyst is used, the amount of the catalyst used is preferably in the range of 0.1 to 3 mass% based on the epoxy resin used. After the reaction is completed, the salt formed is removed by filtration, washing with water, or the like, and the solvent such as toluene or methyl isobutyl ketone is further removed by distillation under reduced pressure with heating to obtain a high-purity epoxy resin (A).
特に前記フェノール性水酸基を有する化合物(a1)と前記芳香族化合物(a2)との反応物とエピハロヒドリン(a3)とを反応させる際、溶媒中の水分濃度を5~25%とすることにより、効率的に目的とするエポキシ樹脂を得ることができる。 In particular, when reacting the reaction product of the compound (a1) having a phenolic hydroxyl group and the aromatic compound (a2) with epihalohydrin (a3), the water concentration in the solvent is set to 5 to 25%, making it possible to efficiently obtain the desired epoxy resin.
前記酸性触媒としては、例えば、塩酸、硫酸、リン酸等の無機酸、メタンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、シュウ酸等の有機酸、三フッ化ホウ素、無水塩化アルミニウム、塩化亜鉛等のルイス酸などが挙げられる。また、スルホニル基等の強酸を有する固体酸触媒等も用いることができる。これらの酸性触媒は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 Examples of the acid catalyst include inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, and phosphoric acid; organic acids such as methanesulfonic acid, paratoluenesulfonic acid, and oxalic acid; and Lewis acids such as boron trifluoride, anhydrous aluminum chloride, and zinc chloride. In addition, solid acid catalysts having strong acids such as sulfonyl groups can also be used. These acid catalysts can be used alone or in combination of two or more.
前記固体酸触媒の市販品としては、例えば、オルガノ株式会社製「アンバーリスト 15DRY」、「アンバーリスト 15JWET」、「アンバーリスト 16WET」、「アンバーリスト 35WET」、「アンバーリスト 33」、テイカ株式会社製「テイカキュア-6」、「テイカキュア-10」、「テイカキュア-15」などが挙げられる。 Examples of commercially available solid acid catalysts include "Amberlyst 15DRY", "Amberlyst 15JWET", "Amberlyst 16WET", "Amberlyst 35WET", and "Amberlyst 33" manufactured by Organo Corporation, and "Teikacure-6", "Teikacure-10", and "Teikacure-15" manufactured by Teika Corporation.
前記塩基性触媒としては、例えば、N-メチルモルフォリン、ピリジン、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン-7(DBU)、1,5-ジアザビシクロ[4.3.0]ノネン-5(DBN)、1,4-ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン(DABCO)、トリ-n-ブチルアミンもしくはジメチルベンジルアミン、ブチルアミン、オクチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、イミダゾール、1-メチルイミダゾール、2,4-ジメチルイミダゾール、1,4-ジエチルイミダゾール、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリエトキシシラン、3-(N-フェニル)アミノプロピルトリメトキシシラン、3-(2-アミノエチル)アミノプロピルトリメトキシシラン、3-(2-アミノエチル)アミノプロピルメチルジメトキシシラン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド等のアミン化合物;トリオクチルメチルアンモニウムクロライド、トリオクチルメチルアンモニウムアセテート等の四級アンモニウム塩;トリメチルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリフェニルホスフィン等のホスフィン化合物;テトラメチルホスホニウムクロライド、テトラエチルホスホニウムクロライド、テトラプロピルホスホニウムクロライド、テトラブチルホスホニウムクロライド、テトラブチルホスホニウムブロマイド、トリメチル(2-ヒドロキシルプロピル)ホスホニウムクロライド、トリフェニルホスホニウムクロライド、ベンジルホスホニウムクロライド等のホスホニウム塩;ジブチル錫ジラウレート、オクチル錫トリラウレート、オクチル錫ジアセテート、ジオクチル錫ジアセテート、ジオクチル錫ジネオデカノエート、ジブチル錫ジアセテート、オクチル酸錫、1,1,3,3-テトラブチル-1,3-ドデカノイルジスタノキサン等の有機錫化合物;オクチル酸亜鉛、オクチル酸ビスマス等の有機金属化合物;オクタン酸錫等の無機錫化合物;無機金属化合物などが挙げられる。また、アルカリ土類金属水酸化物、アルカリ金属炭酸塩及びアルカリ金属水酸化物等を用いることもできる。特にエポキシ樹脂合成反応の触媒活性に優れることからアルカリ金属水酸化物が好ましく、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムがより好ましい。これらの塩基性触媒は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。なお、前記塩基性触媒の使用に際しては、10質量%~55質量%程度の水溶液の形態で使用してもよいし、固形の形態で使用してもよい。 Examples of the basic catalyst include amine compounds such as N-methylmorpholine, pyridine, 1,8-diazabicyclo[5.4.0]undecene-7 (DBU), 1,5-diazabicyclo[4.3.0]nonene-5 (DBN), 1,4-diazabicyclo[2.2.2]octane (DABCO), tri-n-butylamine or dimethylbenzylamine, butylamine, octylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, imidazole, 1-methylimidazole, 2,4-dimethylimidazole, 1,4-diethylimidazole, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-(N-phenyl)aminopropyltrimethoxysilane, 3-(2-aminoethyl)aminopropyltrimethoxysilane, 3-(2-aminoethyl)aminopropylmethyldimethoxysilane, and tetramethylammonium hydroxide; trioctylmethylammonium chloride, ... Examples of the quaternary ammonium salts include octylmethylammonium acetate; phosphine compounds such as trimethylphosphine, tributylphosphine, and triphenylphosphine; phosphonium salts such as tetramethylphosphonium chloride, tetraethylphosphonium chloride, tetrapropylphosphonium chloride, tetrabutylphosphonium chloride, tetrabutylphosphonium bromide, trimethyl(2-hydroxypropyl)phosphonium chloride, triphenylphosphonium chloride, and benzylphosphonium chloride; organic tin compounds such as dibutyltin dilaurate, octyltin trilaurate, octyltin diacetate, dioctyltin diacetate, dioctyltin dineodecanoate, dibutyltin diacetate, tin octylate, and 1,1,3,3-tetrabutyl-1,3-dodecanoyldistannoxane; organic metal compounds such as zinc octylate and bismuth octylate; inorganic tin compounds such as tin octanoate; and inorganic metal compounds. In addition, alkaline earth metal hydroxides, alkali metal carbonates, and alkali metal hydroxides can also be used. In particular, alkali metal hydroxides are preferred because they have excellent catalytic activity in the epoxy resin synthesis reaction, and for example, sodium hydroxide and potassium hydroxide are more preferred. These basic catalysts can be used alone or in combination of two or more. When using the basic catalyst, it may be used in the form of an aqueous solution of about 10% by mass to 55% by mass, or in the form of a solid.
前記有機溶剤としては、例えば、メチルエチルケトン、アセトン、ジメチルホルムアミド、メチルイソブチルケトン等のケトン溶剤;テトラヒドロフラン、ジオキソラン等の環状エーテル溶剤;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル溶剤;トルエン、キシレン、ソルベントナフサ等の芳香族溶剤;シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の脂環族溶剤;カルビトール、セロソルブ、メタノール、イソプロパノール、ブタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのアルコール溶剤;アルキレングリコールモノアルキルエーテル、ジアルキレングリコールモノアルキルエーテル、ジアルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート等のグリコールエーテル溶剤;メトキシプロパノール、シクロヘキサノン、メチルセロソルブ、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等が挙げられる。これらの有機溶剤は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。また、前記有機溶剤の使用量は、反応効率が良好となることから、反応原料の合計質量に対し0.1~5倍量程度の範囲で用いることが好ましい。 Examples of the organic solvent include ketone solvents such as methyl ethyl ketone, acetone, dimethylformamide, and methyl isobutyl ketone; cyclic ether solvents such as tetrahydrofuran and dioxolane; ester solvents such as methyl acetate, ethyl acetate, and butyl acetate; aromatic solvents such as toluene, xylene, and solvent naphtha; alicyclic solvents such as cyclohexane and methylcyclohexane; alcohol solvents such as carbitol, cellosolve, methanol, isopropanol, butanol, and propylene glycol monomethyl ether; glycol ether solvents such as alkylene glycol monoalkyl ether, dialkylene glycol monoalkyl ether, and dialkylene glycol monoalkyl ether acetate; methoxypropanol, cyclohexanone, methyl cellosolve, diethylene glycol monoethyl ether acetate, and propylene glycol monomethyl ether acetate. These organic solvents can be used alone or in combination of two or more. In addition, the amount of the organic solvent used is preferably in the range of about 0.1 to 5 times the total mass of the reaction raw materials, since this improves the reaction efficiency.
また、前記エポキシ樹脂(A)の製造において、本発明の効果を損なわない範囲で、前記フェノール性水酸基を有する化合物(a1)以外のフェノール性水酸基を有する化合物を併用することもできる。 In addition, in the production of the epoxy resin (A), a compound having a phenolic hydroxyl group other than the compound (a1) having a phenolic hydroxyl group can be used in combination, as long as the effects of the present invention are not impaired.
前記不飽和一塩基酸(B)としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、桂皮酸、α-シアノ桂皮酸、β-スチリルアクリル酸、β-フルフリルアクリル酸等が挙げられる。また、前記不飽和一塩基酸のエステル化物、酸ハロゲン化物、酸無水物等も用いることができる。さらに、下記構造式(1)で表される化合物等も用いることができる。 Examples of the unsaturated monobasic acid (B) include acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, cinnamic acid, α-cyanocinnamic acid, β-styrylacrylic acid, and β-furfurylacrylic acid. Esters, acid halides, and acid anhydrides of the unsaturated monobasic acids can also be used. Furthermore, compounds represented by the following structural formula (1) can also be used.
前記ポリオキシアルキレン鎖としては、例えば、ポリオキシエチレン鎖、ポリオキシプロピレン鎖等が挙げられる。 Examples of the polyoxyalkylene chain include polyoxyethylene chains and polyoxypropylene chains.
前記(ポリ)エステル鎖としては、例えば、下記構造式(X-1)で表される(ポリ)エステル鎖が挙げられる。 The (poly)ester chain may be, for example, a (poly)ester chain represented by the following structural formula (X-1).
前記芳香族炭化水素鎖としては、例えば、フェニレン鎖、ナフチレン鎖、ビフェニレン鎖、フェニルナフチレン鎖、ビナフチレン鎖等が挙げられる。また、部分構造として、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環等の芳香環を有する炭化水素鎖も用いることができる。 Examples of the aromatic hydrocarbon chain include a phenylene chain, a naphthylene chain, a biphenylene chain, a phenylnaphthylene chain, and a binaphthylene chain. In addition, a hydrocarbon chain having an aromatic ring such as a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring, or a phenanthrene ring as a partial structure can also be used.
これらの不飽和一塩基酸(B)は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 These unsaturated monobasic acids (B) can be used alone or in combination of two or more.
また、前記不飽和一塩基酸(B)の使用量は、得られる(メタ)アクリレート樹脂が、エポキシ基及び(メタ)アクリロイル基を有するものとなり、優れた伸度及び誘電特性を発現することから、前記エポキシ樹脂(A)が有するエポキシ基1モルに対して、前記不飽和一塩基酸(B)が有する酸基のモル数が、0.2~0.8の範囲が好ましく、0.25~0.75の範囲がより好ましい。 The amount of the unsaturated monobasic acid (B) used is preferably in the range of 0.2 to 0.8 moles of acid groups in the unsaturated monobasic acid (B) per mole of epoxy groups in the epoxy resin (A), and more preferably in the range of 0.25 to 0.75 moles, since the resulting (meth)acrylate resin has epoxy groups and (meth)acryloyl groups and exhibits excellent elongation and dielectric properties.
本発明の(メタ)アクリレート樹脂の製造方法は、特に制限されず、適宜公知の方法により製造することができる。例えば、前記エポキシ樹脂(A)と、前記不飽和一塩基酸(B)と、を含有する反応原料の全てを一括で、酸性触媒又は塩基性触媒の存在下、70~140℃の温度範囲で反応させて製造する方法が好ましい。 The method for producing the (meth)acrylate resin of the present invention is not particularly limited, and the resin can be produced by any known method. For example, a method in which all of the reaction raw materials containing the epoxy resin (A) and the unsaturated monobasic acid (B) are reacted together in the presence of an acidic or basic catalyst at a temperature range of 70 to 140°C is preferred.
また、前記エポキシ樹脂(A)と、前記不飽和一塩基酸(B)との反応は、必要に応じて有機溶剤中で行うこともできる。 The reaction between the epoxy resin (A) and the unsaturated monobasic acid (B) can also be carried out in an organic solvent, if necessary.
前記酸性触媒としては、上述の酸性触媒として例示したものと同様のものを用いることができ、前記酸性触媒は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 The acid catalyst may be the same as those exemplified above, and the acid catalyst may be used alone or in combination of two or more.
前記塩基性触媒としては、上述の塩基性触媒として例示したものと同様のものを用いることができ、前記塩基性触媒は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。これらの中でも、優れた伸度及び誘電特性を有する硬化物を形成可能な(メタ)アクリレート樹脂が得られることから、ホスフィン化合物が好ましい。 As the basic catalyst, the same ones as those exemplified above as the basic catalyst can be used, and the basic catalyst can be used alone or in combination of two or more kinds. Among these, phosphine compounds are preferred because they can give a (meth)acrylate resin capable of forming a cured product having excellent elongation and dielectric properties.
前記有機溶剤としては、上述の有機溶剤として例示したものと同様のものを用いることができ、前記有機溶剤は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 The organic solvent may be the same as those exemplified above, and the organic solvent may be used alone or in combination of two or more kinds.
本発明の(メタ)アクリレート樹脂の製造において、必要に応じて、重合禁止剤、酸化防止剤等を用いることもできる。 In the production of the (meth)acrylate resin of the present invention, a polymerization inhibitor, an antioxidant, etc. can also be used as necessary.
前記重合禁止剤としては、例えば、p-メトキシフェノール、p-メトキシクレゾール、4-メトキシ-1-ナフトール、4,4’-ジアルコキシ-2,2’-ビ-1-ナフトール、3-(N-サリチロイル)アミノ-1,2,4-トリアゾール、N’1,N’12-ビス(2-ヒドロキシベンゾイル)ドデカンジヒドラジド、スチレン化フェノール、N-イソプロピル-N’-フェニルベンゼン-1,4-ジアミン、6-エトキシ-2,2,4-トリメチル-1,2-ジヒドロキノリン等のフェノール化合物、ヒドロキノン、メチルヒドロキノン、p-ベンゾキノン、メチル-p-ベンゾキノン、2,5-ジフェニルベンゾキノン、2-ヒドロキシ-1,4-ナフトキノン、アントラキノン、ジフェノキノン等のキノン化合物、メラミン、p-フェニレンジアミン、4-アミノジフェニルアミン、N.N’-ジフェニル-p-フェニレンジアミン、N-i-プロピル-N’-フェニル-p-フェニレンジアミン、N-(1.3-ジメチルブチル)-N’-フェニル-p-フェニレンジアミン、ジフェニルアミン、4,4’-ジクミル-ジフェニルアミン、4,4’-ジオクチル-ジフェニルアミン、ポリ(2,2,4-トリメチル-1,2-ジヒドロキノリン)、スチレン化ジフェニルアミン、スチレン化ジフェニルアミンと2,4,4-トリメチルペンテンの反応生成物、ジフェニルアミンと2,4,4-トリメチルペンテンの反応生成物等のアミン化合物、フェノチアジン、ジステアリルチオジプロピオネート、2,2-ビス({[3-(ドデシルチオ)プロピオニル]オキシ}メチル)-1,3-プロパンジイル=ビス[3-(ドデシルチオ)プロピオナート]、ジトリデカン-1-イル=3,3’-スルファンジイルジプロパノアート等のチオエーテル化合物、N-ニトロソジフェニルアミン、N-ニトロソフェニルナフチルアミン、p-ニトロソフェノール、ニトロソベンゼン、p-ニトロソジフェニルアミン、α-ニトロソ-β-ナフトール等、N、N-ジメチルp-ニトロソアニリン、p-ニトロソジフェニルアミン、p-ニトロンジメチルアミン、p-ニトロン-N、N-ジエチルアミン、N-ニトロソエタノールアミン、N-ニトロソジ-n-ブチルアミン、N-ニトロソ-N-n-ブチル-4-ブタノールアミン、N-ニトロソ-ジイソプロパノールアミン、N-ニトロソ-N-エチル-4-ブタノールアミン、5-ニトロソ-8-ヒドロキシキノリン、N-ニトロソモルホリン、N-二トロソーN-フェニルヒドロキシルアミンアンモニウム塩、二トロソベンゼン、N-ニトロソ-N-メチル-p-トルエンスルホンアミド、N-ニトロソ-N-エチルウレタン、N-ニトロソ-N-n-プロピルウレタン、1-ニトロソ-2-ナフトール、2-ニトロソ-1-ナフトール、1-ニトロソ-2-ナフトール-3,6-スルホン酸ナトリウム、2-ニトロソ-1-ナフトール-4-スルホン酸ナトリウム、2-ニトロソ-5-メチルアミノフェノール塩酸塩、2-ニトロソ-5-メチルアミノフェノール塩酸塩等のニトロソ化合物、リン酸とオクタデカン-1-オールのエステル、トリフェニルホスファイト、3,9-ジオクタデカン-1-イル-2,4,8,10-テトラオキサ-3,9-ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、トリスノニルフェニルホスフィト、亜リン酸-(1-メチルエチリデン)-ジ-4,1-フェニレンテトラ-C12-15-アルキルエステル、2-エチルヘキシル=ジフェニル=ホスフィット、ジフェニルイソデシルフォスファイト、トリイソデシル=ホスフィット、トリス(2,4-ジ-tert-ブチルフェニル)ホスファイト等のホスファイト化合物、ビス(ジメチルジチオカルバマト-κ(2)S,S’)亜鉛、ジエチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジブチル・ジチオカルバミン酸亜鉛等の亜鉛化合物、ビス(N,N-ジブチルカルバモジチオアト-S,S’)ニッケル等のニッケル化合物、1,3-ジヒドロ-2H-ベンゾイミダゾール-2-チオン、4,6-ビス(オクチルチオメチル)-o-クレゾール、2-メチル-4,6-ビス[(オクタン-1-イルスルファニル)メチル]フェノール、ジラウリルチオジプロピオン酸エステル、3,3’-チオジプロピオン酸ジステアリル等の硫黄化合物などが挙げられる。これらの重合禁止剤は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 Examples of the polymerization inhibitor include phenolic compounds such as p-methoxyphenol, p-methoxycresol, 4-methoxy-1-naphthol, 4,4'-dialkoxy-2,2'-bi-1-naphthol, 3-(N-salicyloyl)amino-1,2,4-triazole, N'1,N'12-bis(2-hydroxybenzoyl)dodecane dihydrazide, styrenated phenol, N-isopropyl-N'-phenylbenzene-1,4-diamine, and 6-ethoxy-2,2,4-trimethyl-1,2-dihydroquinoline; quinone compounds such as hydroquinone, methylhydroquinone, p-benzoquinone, methyl-p-benzoquinone, 2,5-diphenylbenzoquinone, 2-hydroxy-1,4-naphthoquinone, anthraquinone, and diphenoquinone; melamine, p-phenylenediamine, 4-aminodiphenylamine, and N. N'-diphenyl-p-phenylenediamine, N-i-propyl-N'-phenyl-p-phenylenediamine, N-(1.3-dimethylbutyl)-N'-phenyl-p-phenylenediamine, diphenylamine, 4,4'-dicumyl-diphenylamine, 4,4'-dioctyl-diphenylamine, poly(2,2,4-trimethyl-1,2-dihydroquinoline), styrenated diphenylamine, reaction product of styrenated diphenylamine and 2,4,4-trimethylpentene, reaction product of diphenylamine and 2,4,4-trimethylpentene, and other amine compounds, phenothiazine, distearyl thiodipropionate, 2,2-bis({[3-(dodecylthio)propionyl]oxy}methyl)-1,3-propanediyl=bis[3-(dodecylthio)propionate], ditridecane-1-yl= Thioether compounds such as 3,3'-sulfanediyl dipropanoate, N-nitrosodiphenylamine, N-nitrosophenylnaphthylamine, p-nitrosophenol, nitrosobenzene, p-nitrosodiphenylamine, α-nitroso-β-naphthol, N,N-dimethyl-p-nitrosoaniline, p-nitrosodiphenylamine, p-nitrosodimethylamine, p-nitroso-N,N-diethylamine, N-nitrosoethanolamine, N-nitrosodi-n-butylamine, N-nitroso-N-n-butyl-4-butanolamine, N-nitroso-diisopropanolamine, N-nitroso-N-ethyl-4-butanolamine, 5-nitroso-8-hydroxyquinoline, N-nitrosomorpholine, N-nitroso-N-phenylhydroxylamine ammonium salt, nitrosobenzene, N- Nitroso compounds such as nitroso-N-methyl-p-toluenesulfonamide, N-nitroso-N-ethylurethane, N-nitroso-N-n-propylurethane, 1-nitroso-2-naphthol, 2-nitroso-1-naphthol, 1-nitroso-2-naphthol-3,6-sodium sulfonate, 2-nitroso-1-naphthol-4-sodium sulfonate, 2-nitroso-5-methylaminophenol hydrochloride, and 2-nitroso-5-methylaminophenol hydrochloride; esters of phosphoric acid and octadecane-1-ol; triphenyl phosphite; 3,9-dioctadecan-1-yl-2,4,8,10-tetraoxa-3,9-diphosphaspiro[5.5]undecane; trisnonylphenyl phosphite; and (1-methylethylidene)-di-4,1-phenylenetetra-C12-15-alkyl phosphite. Examples of the polymerization inhibitor include phosphate compounds such as esters, 2-ethylhexyl diphenyl phosphite, diphenyl isodecyl phosphite, triisodecyl phosphite, and tris(2,4-di-tert-butylphenyl)phosphite, zinc compounds such as bis(dimethyldithiocarbamato-κ(2)S,S')zinc, zinc diethyldithiocarbamate, and zinc dibutyl dithiocarbamate, nickel compounds such as bis(N,N-dibutylcarbamodithioato-S,S')nickel, and sulfur compounds such as 1,3-dihydro-2H-benzimidazole-2-thione, 4,6-bis(octylthiomethyl)-o-cresol, 2-methyl-4,6-bis[(octan-1-ylsulfanyl)methyl]phenol, dilauryl thiodipropionate, and 3,3'-thiodipropionate distearyl. These polymerization inhibitors can be used alone or in combination of two or more.
前記酸化防止剤としては、前記重合禁止剤で例示した化合物と同様のものを用いることができ、前記酸化防止剤は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 The antioxidant may be the same as the compounds exemplified as the polymerization inhibitor, and the antioxidant may be used alone or in combination of two or more kinds.
また、前記重合禁止剤、及び前記酸化防止剤の市販品としては、例えば、和光純薬工業株式会社製「Q-1300」、「Q-1301」、住友化学株式会社製「スミライザーBBM-S」、「スミライザーGA-80が」等が挙げられる。 In addition, examples of commercially available products of the polymerization inhibitor and the antioxidant include "Q-1300" and "Q-1301" manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., and "Sumilizer BBM-S" and "Sumilizer GA-80" manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.
本発明の(メタ)アクリレート樹脂は、光重合開始剤を添加することにより硬化性樹脂組成物として用いることができる。 The (meth)acrylate resin of the present invention can be used as a curable resin composition by adding a photopolymerization initiator.
前記光重合開始剤としては、例えば、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、1-〔4-(2-ヒドロキシエトキシ)フェニル〕-2-ヒドロキシ-2-メチル-1-プロパン-1-オン、チオキサントン及びチオキサントン誘導体、2,2’-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン、ジフェニル(2,4,6-トリメトキシベンゾイル)ホスフィンオキシド、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、ビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキシド、2-メチル-1-(4-メチルチオフェニル)-2-モルフォリノプロパン-1-オン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルホリノフェニル)-1-ブタノン等の光ラジカル重合開始剤などが挙げられる。 Examples of the photopolymerization initiator include photoradical polymerization initiators such as 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-[4-(2-hydroxyethoxy)phenyl]-2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, thioxanthone and thioxanthone derivatives, 2,2'-dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-one, diphenyl(2,4,6-trimethoxybenzoyl)phosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)phenylphosphine oxide, 2-methyl-1-(4-methylthiophenyl)-2-morpholinopropan-1-one, and 2-benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-1-butanone.
前記その他の光重合開始剤の市販品としては、例えば、「Omnirad 1173」、「Omnirad 184」、「Omnirad 127」、「Omnirad 2959」、「Omnirad 369」、「Omnirad 379」、「Omnirad 907」、「Omnirad 4265」、「Omnirad 1000」、「Omnirad 651」、「Omnirad TPO」、「Omnirad 819」、「Omnirad 2022」、「Omnirad 2100」、「Omnirad 754」、「Omnirad 784」、「Omnirad 500」、「Omnirad 81」(IGM Resins社製);「KAYACURE DETX」、「KAYACURE MBP」、「KAYACURE DMBI」、「KAYACURE EPA」、「KAYACURE OA」(日本化薬株式会社製);「Vicure 10」、「Vicure 55」(Stoffa Chemical社製);「Trigonal P1」(Akzo Nobel社製)、「SANDORAY 1000」(SANDOZ社製);「DEAP」(Upjohn Chemical社製)、「Quantacure PDO」、「Quantacure ITX」、「Quantacure EPD」(Ward Blenkinsop社製);「Runtecure 1104」(Runtec社製)等が挙げられる。これらの光重合開始剤は、単独で用いることも、2種以上を併用することもできる。 Examples of commercially available photopolymerization initiators include, for example, "Omnirad 1173", "Omnirad 184", "Omnirad 127", "Omnirad 2959", "Omnirad 369", "Omnirad 379", "Omnirad 907", "Omnirad 4265", "Omnirad 1000", "Omnirad 651", "Omnirad TPO", "Omnirad 819", "Omnirad 2022", "Omnirad 2100", "Omnirad 754", "Omnirad 784", "Omnirad 500", "Omnirad 81" (IGM) Resins); "KAYACURE DETX", "KAYACURE MBP", "KAYACURE DMBI", "KAYACURE EPA", "KAYACURE OA" (Nippon Kayaku Co., Ltd.); "Vicure 10", "Vicure 55" (Stoffa Chemical Co.); "Trigonal P1" (Akzo Nobel Co., Ltd.), "SANDORAY 1000" (SANDOZ Co., Ltd.); "DEAP" (Upjohn Chemical Co., Ltd.), "Quantacure PDO", "Quantacure ITX", "Quantacure EPD" (Ward Blenkinsop Co., Ltd.); "Runtecure 1104" (manufactured by Runtec). These photopolymerization initiators can be used alone or in combination of two or more.
前記光重合開始剤の添加量は、例えば、前記硬化性樹脂組成物中に、0.5~20質量%の範囲で用いることが好ましい。 The amount of the photopolymerization initiator added is preferably in the range of 0.5 to 20% by mass in the curable resin composition.
本発明の硬化性樹脂組成物は、前述した(メタ)アクリレート樹脂以外の樹脂成分(以下、「その他の樹脂成分」と称することがある。)を含有しても良い。前記その他の樹脂成分としては、エポキシ樹脂、重合性不飽和基を有する樹脂、各種の(メタ)アクリレートモノマー等が挙げられる。 The curable resin composition of the present invention may contain resin components other than the (meth)acrylate resin described above (hereinafter, sometimes referred to as "other resin components"). Examples of the other resin components include epoxy resins, resins having polymerizable unsaturated groups, various (meth)acrylate monomers, etc.
前記エポキシ樹脂としては、上述のエポキシ樹脂(A)として例示したものと同様のものを用いることができ、前記エポキシ樹脂は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 The epoxy resin may be the same as those exemplified above as epoxy resin (A), and the epoxy resin may be used alone or in combination of two or more kinds.
前記重合性不飽和基を有する樹脂としては、樹脂中に重合性不飽和基を有するものであれば何れでもよく、例えば、重合性不飽和基を有するエポキシ樹脂、重合性不飽和基を有するウレタン樹脂、重合性不飽和基を有するアクリル樹脂、重合性不飽和基を有するアミドイミド樹脂、重合性不飽和基を有するアクリルアミド樹脂、重合性不飽和基を有するエステル樹脂等が挙げられる。 The resin having a polymerizable unsaturated group may be any resin having a polymerizable unsaturated group in the resin, and examples thereof include epoxy resins having a polymerizable unsaturated group, urethane resins having a polymerizable unsaturated group, acrylic resins having a polymerizable unsaturated group, amide-imide resins having a polymerizable unsaturated group, acrylamide resins having a polymerizable unsaturated group, and ester resins having a polymerizable unsaturated group.
前記重合性不飽和基を有するエポキシ樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂と不飽和一塩基酸、及び必要に応じて多塩基酸無水物とを反応させて得られたエポキシ(メタ)アクリレート樹脂や、エポキシ樹脂、不飽和一塩基酸、ポリイソシアネート化合物、及び水酸基を有する(メタ)アクリレート化合物、及び必要に応じて多塩基酸無水物とを反応させて得られたウレタン基を有するエポキシ(メタ)アクリレート樹脂などが挙げられる。 Examples of the epoxy resin having a polymerizable unsaturated group include an epoxy (meth)acrylate resin obtained by reacting an epoxy resin with an unsaturated monobasic acid and, if necessary, with a polybasic acid anhydride, and an epoxy (meth)acrylate resin having a urethane group obtained by reacting an epoxy resin, an unsaturated monobasic acid, a polyisocyanate compound, and a (meth)acrylate compound having a hydroxyl group and, if necessary, with a polybasic acid anhydride.
前記エポキシ樹脂としては、上述のエポキシ樹脂(A)として例示したものと同様のものを用いることができ、前記エポキシ樹脂は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 The epoxy resin may be the same as those exemplified above as epoxy resin (A), and the epoxy resin may be used alone or in combination of two or more kinds.
前記不飽和一塩基酸としては、上述の不飽和一塩基酸(B)として例示したものと同様のものを用いることができ、前記不飽和一塩基酸は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 The unsaturated monobasic acid may be the same as those exemplified as the unsaturated monobasic acid (B) described above, and the unsaturated monobasic acid may be used alone or in combination of two or more kinds.
前記多塩基酸無水物としては、例えば、脂肪族多塩基酸無水物、脂環式多塩基酸無水物、芳香族多塩基酸無水物等が挙げられる。 Examples of the polybasic acid anhydride include aliphatic polybasic acid anhydrides, alicyclic polybasic acid anhydrides, and aromatic polybasic acid anhydrides.
前記脂肪族多塩基酸無水物としては、例えば、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、イタコン酸、グルタコン酸、1,2,3,4-ブタンテトラカルボン酸の酸無水物等が挙げられる。また、前記脂肪族多塩基酸無水物としては、脂肪族炭化水素基は直鎖型及び分岐型のいずれでもよく、構造中に不飽和結合を有していてもよい。 Examples of the aliphatic polybasic acid anhydrides include anhydrides of oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, maleic acid, fumaric acid, citraconic acid, itaconic acid, glutaconic acid, and 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid. In addition, the aliphatic hydrocarbon group of the aliphatic polybasic acid anhydride may be either linear or branched, and may have an unsaturated bond in the structure.
前記脂環式多塩基酸無水物としては、本発明では、酸無水物基が脂環構造に結合しているものを脂環式多塩基酸無水物とし、それ以外の構造部位における芳香環の有無は問わないものとする。前記脂環式多塩基酸無水物としては、例えば、テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、メチルヘキサヒドロフタル酸、シクロヘキサントリカルボン酸、シクロヘキサンテトラカルボン酸、ビシクロ[2.2.1]ヘプタン-2,3-ジカルボン酸、メチルビシクロ[2.2.1]ヘプタン-2,3-ジカルボン酸、4-(2,5-ジオキソテトラヒドロフラン-3-イル)-1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-1,2-ジカルボン酸の酸無水物等が挙げられる。 In the present invention, the alicyclic polybasic acid anhydride is one in which an acid anhydride group is bonded to an alicyclic structure, and the presence or absence of aromatic rings in other structural parts is not important. Examples of the alicyclic polybasic acid anhydride include anhydrides of tetrahydrophthalic acid, hexahydrophthalic acid, methylhexahydrophthalic acid, cyclohexanetricarboxylic acid, cyclohexanetetracarboxylic acid, bicyclo[2.2.1]heptane-2,3-dicarboxylic acid, methylbicyclo[2.2.1]heptane-2,3-dicarboxylic acid, and 4-(2,5-dioxotetrahydrofuran-3-yl)-1,2,3,4-tetrahydronaphthalene-1,2-dicarboxylic acid.
前記芳香族多塩基酸無水物としては、例えば、フタル酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、ナフタレンジカルボン酸、ナフタレントリカルボン酸、ナフタレンテトラカルボン酸、ビフェニルジカルボン酸、ビフェニルトリカルボン酸、ビフェニルテトラカルボン酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸の酸無水物等が挙げられる。 Examples of the aromatic polybasic acid anhydrides include anhydrides of phthalic acid, trimellitic acid, pyromellitic acid, naphthalene dicarboxylic acid, naphthalene tricarboxylic acid, naphthalene tetracarboxylic acid, biphenyl dicarboxylic acid, biphenyl tricarboxylic acid, biphenyl tetracarboxylic acid, and benzophenone tetracarboxylic acid.
これらの多塩基酸無水物は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 These polybasic acid anhydrides can be used alone or in combination of two or more.
前記ポリイソシアネート化合物としては、例えば、ブタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、2,2,4-トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、2,4,4-トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等の脂肪族ジイソシアネート化合物;ノルボルナンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、水添ジフェニルメタンジイソシアネート等の脂環式ジイソシアネート化合物;トリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、1,5-ナフタレンジイソシアネート、4,4’-ジイソシアナト-3,3’-ジメチルビフェニル、o-トリジンジイソシアネート等の芳香族ジイソシアネート化合物;下記構造式(5)で表される繰り返し構造を有するポリメチレンポリフェニルポリイソシアネート;これらのイソシアヌレート変性体、ビウレット変性体、アロファネート変性体等が挙げられる。また、これらのポリイソシアネート化合物は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 Examples of the polyisocyanate compounds include aliphatic diisocyanate compounds such as butane diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, and 2,4,4-trimethylhexamethylene diisocyanate; alicyclic diisocyanate compounds such as norbornane diisocyanate, isophorone diisocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate, and hydrogenated diphenylmethane diisocyanate; tolylene diisocyanate, Examples of the polyisocyanate include aromatic diisocyanate compounds such as silylene diisocyanate, tetramethylxylylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, 1,5-naphthalene diisocyanate, 4,4'-diisocyanato-3,3'-dimethylbiphenyl, and o-tolidine diisocyanate; polymethylene polyphenyl polyisocyanate having a repeating structure represented by the following structural formula (5); and isocyanurate-modified, biuret-modified, and allophanate-modified versions of these compounds. These polyisocyanate compounds can be used alone or in combination of two or more types.
前記水酸基を有する(メタ)アクリレート化合物としては、例えば、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパン(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトール(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトール(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパン(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート等が挙げられる。また、前記各種の水酸基を有する(メタ)アクリレート化合物の分子構造中に(ポリ)オキシエチレン鎖、(ポリ)オキシプロピレン鎖、(ポリ)オキシテトラメチレン鎖等の(ポリ)オキシアルキレン鎖を導入した(ポリ)オキシアルキレン変性体や、前記各種の水酸基を有する(メタ)アクリレート化合物の分子構造中に(ポリ)ラクトン構造を導入したラクトン変性体等も用いることができる。これらの水酸基を有する(メタ)アクリレート化合物は、単独で用いることも、2種以上を併用することもできる。 Examples of the (meth)acrylate compound having a hydroxyl group include hydroxyethyl (meth)acrylate, hydroxypropyl (meth)acrylate, trimethylolpropane (meth)acrylate, trimethylolpropane di(meth)acrylate, pentaerythritol (meth)acrylate, pentaerythritol di(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, dipentaerythritol (meth)acrylate, dipentaerythritol di(meth)acrylate, dipentaerythritol tri(meth)acrylate, dipentaerythritol tetra(meth)acrylate, dipentaerythritol penta(meth)acrylate, ditrimethylolpropane (meth)acrylate, ditrimethylolpropane di(meth)acrylate, ditrimethylolpropane tri(meth)acrylate, etc. In addition, (poly)oxyalkylene modified compounds in which a (poly)oxyalkylene chain such as a (poly)oxyethylene chain, a (poly)oxypropylene chain, or a (poly)oxytetramethylene chain is introduced into the molecular structure of the various hydroxyl group-containing (meth)acrylate compounds, and lactone modified compounds in which a (poly)lactone structure is introduced into the molecular structure of the various hydroxyl group-containing (meth)acrylate compounds can also be used. These hydroxyl group-containing (meth)acrylate compounds can be used alone or in combination of two or more.
前記重合性不飽和基を有するエポキシ樹脂の製造方法としては、特に限定されず、どのような方法で製造してもよい。前記重合性不飽和基を有するエポキシ樹脂の製造においては、必要に応じて有機溶剤中で行ってもよく、また、必要に応じて塩基性触媒を用いてもよい。 The method for producing the epoxy resin having a polymerizable unsaturated group is not particularly limited, and any method may be used. The production of the epoxy resin having a polymerizable unsaturated group may be carried out in an organic solvent as necessary, and a basic catalyst may be used as necessary.
前記有機溶剤としては、上述の有機溶剤として例示したものと同様のものを用いることができ、前記有機溶剤は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 The organic solvent may be the same as those exemplified above, and the organic solvent may be used alone or in combination of two or more kinds.
前記塩基性触媒としては、上述の塩基性触媒として例示したものと同様のものを用いることができ、前記塩基性触媒は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 The basic catalyst may be the same as those exemplified above, and the basic catalyst may be used alone or in combination of two or more kinds.
前記重合性不飽和基を有するウレタン樹脂としては、例えば、ポリイソシアネート化合物、水酸基を有する(メタ)アクリレート化合物、及び必要に応じてポリオール化合物、多塩基酸無水物とを反応させて得られたもの等が挙げられる。 Examples of the urethane resin having a polymerizable unsaturated group include those obtained by reacting a polyisocyanate compound, a (meth)acrylate compound having a hydroxyl group, and, if necessary, a polyol compound and a polybasic acid anhydride.
前記ポリイソシアネート化合物としては、上述のポリイソシアネート化合物として例示したものと同様のものを用いることができ、前記ポリイソシアネート化合物は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 The polyisocyanate compound may be the same as the polyisocyanate compounds exemplified above, and the polyisocyanate compounds may be used alone or in combination of two or more.
前記水酸基を有する(メタ)アクリレート化合物としては、上述の水酸基を有する(メタ)アクリレート化合物として例示したものと同様のものを用いることができ、前記水酸基を有する(メタ)アクリレート化合物は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 As the (meth)acrylate compound having a hydroxyl group, the same compounds as those exemplified as the (meth)acrylate compound having a hydroxyl group described above can be used, and the (meth)acrylate compound having a hydroxyl group can be used alone or in combination of two or more kinds.
前記ポリオール化合物としては、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、ヘキサンジオール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ジトリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール等の脂肪族ポリオール化合物;ビフェノール、ビスフェノール等の芳香族ポリオール化合物;前記各種のポリオール化合物の分子構造中に(ポリ)オキシエチレン鎖、(ポリ)オキシプロピレン鎖、(ポリ)オキシテトラメチレン鎖等の(ポリ)オキシアルキレン鎖を導入した(ポリ)オキシアルキレン変性体;前記各種のポリオール化合物の分子構造中に(ポリ)ラクトン構造を導入したラクトン変性体、2,2-ジメチロールプロピオン酸、2,2-ジメチロールブタン酸、2,2-ジメチロール吉草酸等が挙げられる。前記ポリオール化合物は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 Examples of the polyol compounds include aliphatic polyol compounds such as ethylene glycol, propylene glycol, butanediol, hexanediol, glycerin, trimethylolpropane, ditrimethylolpropane, pentaerythritol, and dipentaerythritol; aromatic polyol compounds such as biphenol and bisphenol; (poly)oxyalkylene modified compounds in which (poly)oxyalkylene chains such as (poly)oxyethylene chains, (poly)oxypropylene chains, and (poly)oxytetramethylene chains have been introduced into the molecular structure of the various polyol compounds; lactone modified compounds in which (poly)lactone structures have been introduced into the molecular structure of the various polyol compounds, 2,2-dimethylolpropionic acid, 2,2-dimethylolbutanoic acid, and 2,2-dimethylolvaleric acid. The polyol compounds can be used alone or in combination of two or more.
前記多塩基酸無水物としては、上述の多塩基酸無水物として例示したものと同様のものを用いることができ、前記多塩基酸無水物は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 The polybasic acid anhydride may be the same as those exemplified above, and the polybasic acid anhydrides may be used alone or in combination of two or more kinds.
前記重合性不飽和基を有するウレタン樹脂の製造方法としては、特に限定されず、どのような方法で製造してもよい。前記重合性不飽和基を有するウレタン樹脂の製造においては、必要に応じて有機溶剤中で行ってもよく、また、必要に応じて塩基性触媒を用いてもよい。 The method for producing the urethane resin having a polymerizable unsaturated group is not particularly limited, and any method may be used. The production of the urethane resin having a polymerizable unsaturated group may be carried out in an organic solvent as necessary, and a basic catalyst may be used as necessary.
前記有機溶剤としては、上述の有機溶剤として例示したものと同様のものを用いることができ、前記有機溶剤は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 The organic solvent may be the same as those exemplified above, and the organic solvent may be used alone or in combination of two or more kinds.
前記塩基性触媒としては、上述の塩基性触媒として例示したものと同様のものを用いることができ、前記塩基性触媒は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 The basic catalyst may be the same as those exemplified above, and the basic catalyst may be used alone or in combination of two or more kinds.
前記重合性不飽和基を有するアクリル樹脂としては、例えば、水酸基やカルボキシル基、イソシアネート基、グリシジル基等の反応性官能基を有する(メタ)アクリレート化合物(α)を必須の成分として重合させて得られるアクリル樹脂中間体に、これらの官能基と反応し得る反応性官能基を有する(メタ)アクリレート化合物(β)をさらに反応させることにより(メタ)アクリロイル基を導入して得られる反応生成物や、必要に応じて前記反応生成物中の水酸基に多塩基酸無水物を反応させて得られるもの等が挙げられる。 Examples of the acrylic resin having a polymerizable unsaturated group include a reaction product obtained by polymerizing an acrylic resin intermediate obtained by polymerizing a (meth)acrylate compound (α) having a reactive functional group such as a hydroxyl group, a carboxyl group, an isocyanate group, or a glycidyl group as an essential component, and then reacting the acrylic resin intermediate with a (meth)acrylate compound (β) having a reactive functional group that can react with these functional groups to introduce a (meth)acryloyl group, and a reaction product obtained by reacting a polybasic acid anhydride with the hydroxyl group in the reaction product as necessary.
前記アクリル樹脂中間体は、前記(メタ)アクリレート化合物(α)の他、必要に応じてその他の重合性不飽和基を有する化合物を共重合させたものであってもよい。前記その他の重合性不飽和基を有する化合物は、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸アルキルエステル;シクロヘキシル(メタ)アクリレート、イソボロニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート等の脂環式構造含有(メタ)アクリレート;フェニル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、フェノキシエチルアクリレート等の芳香環含有(メタ)アクリレート;3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン等のシリル基を有する(メタ)アクリレート;スチレン、α-メチルスチレン、クロロスチレン等のスチレン誘導体等が挙げられる。これらは単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 The acrylic resin intermediate may be a copolymer of the (meth)acrylate compound (α) and, if necessary, other compounds having polymerizable unsaturated groups. Examples of the compounds having other polymerizable unsaturated groups include (meth)acrylic acid alkyl esters such as methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, propyl (meth)acrylate, butyl (meth)acrylate, and 2-ethylhexyl (meth)acrylate; alicyclic structure-containing (meth)acrylates such as cyclohexyl (meth)acrylate, isobornyl (meth)acrylate, and dicyclopentanyl (meth)acrylate; aromatic ring-containing (meth)acrylates such as phenyl (meth)acrylate, benzyl (meth)acrylate, and phenoxyethyl acrylate; silyl group-containing (meth)acrylates such as 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane; and styrene derivatives such as styrene, α-methylstyrene, and chlorostyrene. These may be used alone or in combination of two or more.
前記(メタ)アクリレート化合物(β)は、前記(メタ)アクリレート化合物(α)が有する反応性官能基と反応し得るものであれば特に限定されないが、反応性の観点から以下の組み合わせであることが好ましい。即ち、前記(メタ)アクリレート化合物(α)として水(メタ)アクリレートを用いた場合には、(メタ)アクリレート化合物(β)としてイソシアネート基を有する(メタ)アクリレートを用いることが好ましい。前記(メタ)アクリレート化合物(α)としてカルボキシル基を有する(メタ)アクリレートを用いた場合には、(メタ)アクリレート化合物(β)としてグリシジル基を有する(メタ)アクリレートを用いることが好ましい。前記(メタ)アクリレート化合物(α)としてイソシアネート基を有する(メタ)アクリレートを用いた場合には、(メタ)アクリレート化合物(β)として水(メタ)アクリレートを用いることが好ましい。前記(メタ)アクリレート化合物(α)としてグリシジル基を有する(メタ)アクリレートを用いた場合には、(メタ)アクリレート化合物(β)としてカルボキシル基を有する(メタ)アクリレートを用いることが好ましい。前記(メタ)アクリレート化合物(β)は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 The (meth)acrylate compound (β) is not particularly limited as long as it can react with the reactive functional group of the (meth)acrylate compound (α), but the following combinations are preferable from the viewpoint of reactivity. That is, when water (meth)acrylate is used as the (meth)acrylate compound (α), it is preferable to use a (meth)acrylate having an isocyanate group as the (meth)acrylate compound (β). When a (meth)acrylate having a carboxyl group is used as the (meth)acrylate compound (α), it is preferable to use a (meth)acrylate having a glycidyl group as the (meth)acrylate compound (β). When a (meth)acrylate having an isocyanate group is used as the (meth)acrylate compound (α), it is preferable to use water (meth)acrylate as the (meth)acrylate compound (β). When a (meth)acrylate having a glycidyl group is used as the (meth)acrylate compound (α), it is preferable to use a (meth)acrylate having a carboxyl group as the (meth)acrylate compound (β). The (meth)acrylate compound (β) can be used alone or in combination of two or more kinds.
前記多塩基酸無水物は、上述の多塩基酸無水物として例示したものと同様のものを用いることができ、前記多塩基酸無水物は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 The polybasic acid anhydride may be the same as those exemplified above, and the polybasic acid anhydride may be used alone or in combination of two or more kinds.
前記重合性不飽和基を有するアクリル樹脂の製造方法としては、特に限定されず、どのような方法で製造してもよい。前記重合性不飽和基を有するアクリル樹脂の製造においては、必要に応じて有機溶剤中で行ってもよく、また、必要に応じて塩基性触媒を用いてもよい。 The method for producing the acrylic resin having a polymerizable unsaturated group is not particularly limited, and any method may be used. The production of the acrylic resin having a polymerizable unsaturated group may be carried out in an organic solvent as necessary, and a basic catalyst may be used as necessary.
前記有機溶剤としては、上述の有機溶剤として例示したものと同様のものを用いることができ、前記有機溶剤は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 The organic solvent may be the same as those exemplified above, and the organic solvent may be used alone or in combination of two or more kinds.
前記塩基性触媒としては、上述の塩基性触媒として例示したものと同様のものを用いることができ、前記塩基性触媒は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 The basic catalyst may be the same as those exemplified above, and the basic catalyst may be used alone or in combination of two or more kinds.
前記重合性不飽和基を有するアミドイミド樹脂としては、例えば、酸基及び/又は酸無水物基を有するアミドイミド樹脂と、水酸基を有する(メタ)アクリレート化合物及び/又はエポキシ基を有する(メタ)アクリレート化合物と、必要に応じて、水酸基、カルボキシル基、イソシアネート基、グリシジル基、及び酸無水物基からなる群より選ばれる1種以上の反応性官能基を有する化合物を反応させて得られるものが挙げられる。なお、前記反応性官能基を有する化合物は、(メタ)アクリロイル基を有していてもよいし、有していなくてもよい。 The amide-imide resin having a polymerizable unsaturated group may be, for example, one obtained by reacting an amide-imide resin having an acid group and/or an acid anhydride group with a (meth)acrylate compound having a hydroxyl group and/or a (meth)acrylate compound having an epoxy group, and, if necessary, with a compound having one or more reactive functional groups selected from the group consisting of a hydroxyl group, a carboxyl group, an isocyanate group, a glycidyl group, and an acid anhydride group. The compound having a reactive functional group may or may not have a (meth)acryloyl group.
前記アミドイミド樹脂としては、酸基又は酸無水物基のどちらか一方のみを有するものであってもよいし、両方を有するものであってもよい。水酸基を有する(メタ)アクリレート化合物や(メタ)アクリロイル基を有するエポキシ化合物との反応性や反応制御の観点から、酸無水物基を有するものであることが好ましく、酸基と酸無水物基との両方を有するものであることがより好ましい。前記アミドイミド樹脂の固形分酸価は、中性条件下、即ち、酸無水物基を開環させない条件での測定値が60~350mgKOH/gの範囲であることが好ましい。他方、水の存在下等、酸無水物基を開環させた条件での測定値が61~360mgKOH/gの範囲であることが好ましい。 The amide-imide resin may have either an acid group or an acid anhydride group, or may have both. From the viewpoint of reactivity and reaction control with a (meth)acrylate compound having a hydroxyl group or an epoxy compound having a (meth)acryloyl group, it is preferable that the resin has an acid anhydride group, and it is more preferable that the resin has both an acid group and an acid anhydride group. The solid content acid value of the amide-imide resin is preferably in the range of 60 to 350 mg KOH/g measured under neutral conditions, i.e., conditions in which the acid anhydride group is not ring-opened. On the other hand, it is preferable that the measured value under conditions in which the acid anhydride group is ring-opened, such as in the presence of water, is in the range of 61 to 360 mg KOH/g.
前記アミドイミド樹脂としては、例えば、ポリイソシアネート化合物と、多塩基酸無水物とを反応原料として得られるものが挙げられる。 The amide-imide resin can be, for example, one obtained by reacting a polyisocyanate compound with a polybasic acid anhydride.
前記ポリイソシアネート化合物としては、上述のポリイソシアネート化合物として例示したものと同様のものを用いることができ、前記ポリイソシアネート化合物は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 The polyisocyanate compound may be the same as the polyisocyanate compounds exemplified above, and the polyisocyanate compounds may be used alone or in combination of two or more.
前記多塩基酸無水物としては、上述の多塩基酸無水物として例示したものと同様のものを用いることができ、前記多塩基酸無水物は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 The polybasic acid anhydride may be the same as those exemplified above, and the polybasic acid anhydrides may be used alone or in combination of two or more kinds.
また、前記アミドイミド樹脂は、必要に応じて、前記ポリイソシアネート化合物及び多塩基酸無水物以外に、多塩基酸を反応原料として併用することもできる。 In addition, if necessary, the amide-imide resin can be used in combination with a polybasic acid as a reaction raw material in addition to the polyisocyanate compound and polybasic acid anhydride.
前記多塩基酸としては、一分子中にカルボキシル基を2つ以上有する化合物であれば何れのものも用いることができる。例えば、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、マレイン酸、フマル酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、メチルヘキサヒドロフタル酸、シトラコン酸、イタコン酸、グルタコン酸、1,2,3,4-ブタンテトラカルボン酸、シクロヘキサントリカルボン酸、シクロヘキサンテトラカルボン酸、ビシクロ[2.2.1]ヘプタン-2,3-ジカルボン酸、メチルビシクロ[2.2.1]ヘプタン-2,3-ジカルボン酸、4-(2,5-ジオキソテトラヒドロフラン-3-イル)-1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-1,2-ジカルボン酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、ナフタレンジカルボン酸、ナフタレントリカルボン酸、ナフタレンテトラカルボン酸、ビフェニルジカルボン酸、ビフェニルトリカルボン酸、ビフェニルテトラカルボン酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸等が挙げられる。また、前記多塩基酸としては、例えば、共役ジエン系ビニルモノマーとアクリロニトリルとの共重合体であって、その分子中にカルボキシル基を有する重合体も用いることができる。これらの多塩基酸は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 As the polybasic acid, any compound having two or more carboxyl groups in one molecule can be used. For example, oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, maleic acid, fumaric acid, phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, tetrahydrophthalic acid, hexahydrophthalic acid, methylhexahydrophthalic acid, citraconic acid, itaconic acid, glutaconic acid, 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid, cyclohexanetricarboxylic acid, cyclohexanetetracarboxylic acid, bicyclo[2.2.1]heptane-2,3 -dicarboxylic acid, methylbicyclo[2.2.1]heptane-2,3-dicarboxylic acid, 4-(2,5-dioxotetrahydrofuran-3-yl)-1,2,3,4-tetrahydronaphthalene-1,2-dicarboxylic acid, trimellitic acid, pyromellitic acid, naphthalene dicarboxylic acid, naphthalene tricarboxylic acid, naphthalene tetracarboxylic acid, biphenyl dicarboxylic acid, biphenyl tricarboxylic acid, biphenyl tetracarboxylic acid, benzophenone tetracarboxylic acid, etc. In addition, as the polybasic acid, for example, a copolymer of a conjugated diene vinyl monomer and acrylonitrile, which has a carboxyl group in the molecule, can also be used. These polybasic acids can be used alone or in combination of two or more kinds.
前記水酸基を有する(メタ)アクリレート化合物としては、上述の水酸基を有する(メタ)アクリレート化合物として例示したものと同様のものを用いることができ、前記水酸基を有する(メタ)アクリレート化合物は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 As the (meth)acrylate compound having a hydroxyl group, the same compounds as those exemplified as the (meth)acrylate compound having a hydroxyl group described above can be used, and the (meth)acrylate compound having a hydroxyl group can be used alone or in combination of two or more kinds.
前記エポキシ基を有する(メタ)アクリレート化合物としては、例えば、グリシジル(メタ)アクリレート、4-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレートグリシジルエーテル、エポキシシクロへキシルメチル(メタ)アクリレート等のグリシジル基を有する(メタ)アクリレートモノマー;ジヒドロキシベンゼンジグリシジルエーテル、ジヒドロキシナフタレンジグリシジルエーテル、ビフェノールジグリシジルエーテル、ビスフェノールジグリシジルエーテル等のジグリシジルエーテル化合物のモノ(メタ)アクリレート化物等が挙げられる。これらのエポキシ基を有する(メタ)アクリレート化合物は、単独で用いることも、2種以上を併用することもできる。 Examples of the (meth)acrylate compound having an epoxy group include (meth)acrylate monomers having a glycidyl group, such as glycidyl (meth)acrylate, 4-hydroxybutyl (meth)acrylate glycidyl ether, and epoxycyclohexylmethyl (meth)acrylate; and mono(meth)acrylates of diglycidyl ether compounds, such as dihydroxybenzene diglycidyl ether, dihydroxynaphthalene diglycidyl ether, biphenol diglycidyl ether, and bisphenol diglycidyl ether. These (meth)acrylate compounds having an epoxy group can be used alone or in combination of two or more.
前記重合性不飽和基を有するアミドイミド樹脂の製造方法としては、特に限定されず、どのような方法で製造してもよい。前記重合性不飽和基を有するアミドイミド樹脂の製造においては、必要に応じて有機溶剤中で行ってもよく、また、必要に応じて塩基性触媒を用いてもよい。 The method for producing the amide-imide resin having a polymerizable unsaturated group is not particularly limited, and any method may be used. The production of the amide-imide resin having a polymerizable unsaturated group may be carried out in an organic solvent as necessary, and a basic catalyst may be used as necessary.
前記有機溶剤としては、上述の有機溶剤として例示したものと同様のものを用いることができ、前記有機溶剤は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 The organic solvent may be the same as those exemplified above, and the organic solvent may be used alone or in combination of two or more kinds.
前記塩基性触媒としては、上述の塩基性触媒として例示したものと同様のものを用いることができ、前記塩基性触媒は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 The basic catalyst may be the same as those exemplified above, and the basic catalyst may be used alone or in combination of two or more kinds.
前記重合性不飽和基を有するアクリルアミド樹脂としては、例えば、フェノール性水酸基を有する化合物と、アルキレンオキサイド又はアルキレンカーボネートと、N-アルコキシアルキル(メタ)アクリルアミド化合物と、必要に応じて多塩基酸無水物、不飽和一塩基酸とを反応させて得られたものが挙げられる。 Examples of the acrylamide resin having a polymerizable unsaturated group include those obtained by reacting a compound having a phenolic hydroxyl group, an alkylene oxide or an alkylene carbonate, an N-alkoxyalkyl (meth)acrylamide compound, and, if necessary, a polybasic acid anhydride and an unsaturated monobasic acid.
前記フェノール性水酸基を有する化合物としては、上述のフェノール性水酸基を有する化合物(a1)として例示したものと同様のものを用いることができ、前記フェノール性水酸基を有する化合物は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 As the compound having a phenolic hydroxyl group, the same compounds as those exemplified as the compound (a1) having a phenolic hydroxyl group described above can be used, and the compound having a phenolic hydroxyl group can be used alone or in combination of two or more kinds.
前記アルキレンオキサイドとしては、例えば、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキサイド、ペンチレンオキサイド等が挙げられる。これらの中でも、伸度及び誘電特性に優れた硬化物を形成可能な硬化性樹脂組成物が得られることから、エチレンオキサイド又はプロピレンオキサイドが好ましい。前記アルキレンオキサイドは、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 Examples of the alkylene oxide include ethylene oxide, propylene oxide, butylene oxide, and pentylene oxide. Among these, ethylene oxide or propylene oxide is preferred because it gives a curable resin composition capable of forming a cured product having excellent elongation and dielectric properties. The alkylene oxides can be used alone or in combination of two or more kinds.
前記アルキレンカーボネートとしては、例えば、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、ブチレンカーボネート、ペンチレンカーボネート等が挙げられる。これらの中でも、伸度及び誘電特性に優れた硬化物を形成可能な硬化性樹脂組成物が得られることから、エチレンカーボネート又はプロピレンカーボネートが好ましい。前記アルキレンカーボネートは、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 Examples of the alkylene carbonate include ethylene carbonate, propylene carbonate, butylene carbonate, and pentylene carbonate. Among these, ethylene carbonate or propylene carbonate is preferred because it can produce a curable resin composition capable of forming a cured product having excellent elongation and dielectric properties. The alkylene carbonates can be used alone or in combination of two or more kinds.
前記N-アルコキシアルキル(メタ)アクリルアミド化合物としては、例えば、N-メトキシメチル(メタ)アクリルアミド、N-エトキシメチル(メタ)アクリルアミド、N-ブトキシメチル(メタ)アクリルアミド、N-メトキシエチル(メタ)アクリルアミド、N-エトキシエチル(メタ)アクリルアミド、N-ブトキシエチル(メタ)アクリルアミド等が挙げられる。前記N-アルコキシアルキル(メタ)アクリルアミド化合物は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 Examples of the N-alkoxyalkyl (meth)acrylamide compounds include N-methoxymethyl (meth)acrylamide, N-ethoxymethyl (meth)acrylamide, N-butoxymethyl (meth)acrylamide, N-methoxyethyl (meth)acrylamide, N-ethoxyethyl (meth)acrylamide, and N-butoxyethyl (meth)acrylamide. The N-alkoxyalkyl (meth)acrylamide compounds can be used alone or in combination of two or more.
前記多塩基酸無水物としては、上述の多塩基酸無水物として例示したものと同様のものを用いることができ、前記多塩基酸無水物は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 The polybasic acid anhydride may be the same as those exemplified above, and the polybasic acid anhydrides may be used alone or in combination of two or more kinds.
前記不飽和一塩基酸としては、上述の不飽和一塩基酸として例示したものと同様を用いることができ、前記不飽和一塩基酸は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 The unsaturated monobasic acid may be the same as those exemplified above, and the unsaturated monobasic acid may be used alone or in combination of two or more kinds.
前記重合性不飽和基を有するアクリルアミド樹脂の製造方法としては、特に限定されず、どのような方法で製造してもよい。前記重合性不飽和基を有するアクリルアミド樹脂の製造においては、必要に応じて有機溶剤中で行ってもよく、また、必要に応じて塩基性触媒及び酸性触媒を用いてもよい。 The method for producing the acrylamide resin having a polymerizable unsaturated group is not particularly limited, and any method may be used. The production of the acrylamide resin having a polymerizable unsaturated group may be carried out in an organic solvent as necessary, and a basic catalyst and an acidic catalyst may be used as necessary.
前記有機溶剤としては、上述の有機溶剤として例示したものと同様のものを用いることができ、前記有機溶剤は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 The organic solvent may be the same as those exemplified above, and the organic solvent may be used alone or in combination of two or more kinds.
前記塩基性触媒としては、上述の塩基性触媒として例示したものと同様のものを用いることができ、前記塩基性触媒は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 The basic catalyst may be the same as those exemplified above, and the basic catalyst may be used alone or in combination of two or more kinds.
前記酸性触媒としては、上述の酸性触媒として例示したものと同様のものを用いることができ、前記酸性触媒は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 The acid catalyst may be the same as those exemplified above, and the acid catalyst may be used alone or in combination of two or more.
前記重合性不飽和基を有するエステル樹脂としては、例えば、フェノール性水酸基を有する化合物と、アルキレンオキサイド又はアルキレンカーボネートと、不飽和一塩基酸と、必要に応じて多塩基酸無水物を反応させて得られたものが挙げられる。 Examples of the ester resin having a polymerizable unsaturated group include those obtained by reacting a compound having a phenolic hydroxyl group, an alkylene oxide or an alkylene carbonate, an unsaturated monobasic acid, and, if necessary, a polybasic acid anhydride.
前記フェノール性水酸基を有する化合物としては、上述のフェノール性水酸基を有する化合物として例示したものと同様のものを用いることができ、前記フェノール性水酸基を有する化合物は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 The compound having a phenolic hydroxyl group may be the same as the compounds exemplified above as compounds having a phenolic hydroxyl group, and the compound having a phenolic hydroxyl group may be used alone or in combination of two or more kinds.
前記アルキレンオキサイドとしては、上述のアルキレンオキサイドとして例示したものと同様のものを用いることができる。これらの中でも、伸度及び誘電特性に優れた硬化物を形成可能な硬化性樹脂組成物が得られることから、エチレンオキサイド又はプロピレンオキサイドが好ましい。前記アルキレンオキサイドは、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 As the alkylene oxide, the same alkylene oxides as those exemplified above can be used. Among these, ethylene oxide or propylene oxide is preferred because it gives a curable resin composition capable of forming a cured product having excellent elongation and dielectric properties. The alkylene oxides can be used alone or in combination of two or more kinds.
前記アルキレンカーボネートとしては、上述のアルキレンカーボネートとして例示したものと同様のものを用いることができる。これらの中でも、伸度及び誘電特性に優れた硬化物を形成可能な硬化性樹脂組成物が得られることから、エチレンカーボネート又はプロピレンカーボネートが好ましい。前記アルキレンカーボネートは、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 As the alkylene carbonate, the same ones as those exemplified above as alkylene carbonates can be used. Among these, ethylene carbonate or propylene carbonate is preferred because it gives a curable resin composition capable of forming a cured product having excellent elongation and dielectric properties. The alkylene carbonates can be used alone or in combination of two or more kinds.
前記不飽和一塩基酸としては、上述の不飽和一塩基酸として例示したものと同様を用いることができ、前記不飽和一塩基酸は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 The unsaturated monobasic acid may be the same as those exemplified above, and the unsaturated monobasic acid may be used alone or in combination of two or more kinds.
前記多塩基酸無水物としては、上述の多塩基酸無水物として例示したものと同様のものを用いることができ、前記多塩基酸無水物は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 The polybasic acid anhydride may be the same as those exemplified above, and the polybasic acid anhydrides may be used alone or in combination of two or more kinds.
前記重合性不飽和基を有するエステル樹脂の製造方法としては、特に限定されず、どのような方法で製造してもよい。前記重合性不飽和基を有するエステル樹脂の製造においては、必要に応じて有機溶剤中で行ってもよく、また、必要に応じて塩基性触媒及び酸性触媒を用いてもよい。 The method for producing the ester resin having a polymerizable unsaturated group is not particularly limited, and any method may be used. The production of the ester resin having a polymerizable unsaturated group may be carried out in an organic solvent as necessary, and a basic catalyst and an acidic catalyst may be used as necessary.
前記有機溶剤としては、上述の有機溶剤として例示したものと同様のものを用いることができ、前記有機溶剤は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 The organic solvent may be the same as those exemplified above, and the organic solvent may be used alone or in combination of two or more kinds.
前記塩基性触媒としては、上述の塩基性触媒として例示したものと同様のものを用いることができ、前記塩基性触媒は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 The basic catalyst may be the same as those exemplified above, and the basic catalyst may be used alone or in combination of two or more kinds.
前記酸性触媒としては、上述の酸性触媒として例示したものと同様のものを用いることができ、前記酸性触媒は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 The acid catalyst may be the same as those exemplified above, and the acid catalyst may be used alone or in combination of two or more.
前記重合性不飽和基を有する樹脂の使用量は、本発明の(メタ)アクリレート樹脂100質量部に対して、10~900質量部の範囲が好ましい。 The amount of the resin having a polymerizable unsaturated group used is preferably in the range of 10 to 900 parts by mass per 100 parts by mass of the (meth)acrylate resin of the present invention.
前記各種の(メタ)アクリレートモノマーとしては、(メタ)アクリロイル基を有するものであれば特に制限されず、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート等の脂肪族モノ(メタ)アクリレート化合物;シクロヘキシル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、アダマンチルモノ(メタ)アクリレート等の脂環型モノ(メタ)アクリレート化合物;グリシジル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート等の複素環型モノ(メタ)アクリレート化合物;ベンジル(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、フェニルベンジル(メタ)アクリレート、フェノキシ(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、フェノキシエトキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、フェノキシベンジル(メタ)アクリレート、ベンジルベンジル(メタ)アクリレート、フェニルフェノキシエチル(メタ)アクリレート等の芳香族モノ(メタ)アクリレート化合物等のモノ(メタ)アクリレート化合物:前記各種のモノ(メタ)アクリレートモノマーの分子構造中に(ポリ)オキシエチレン鎖、(ポリ)オキシプロピレン鎖、(ポリ)オキシテトラメチレン鎖等のポリオキシアルキレン鎖を導入した(ポリ)オキシアルキレン変性モノ(メタ)アクリレート化合物;前記各種のモノ(メタ)アクリレート化合物の分子構造中に(ポリ)ラクトン構造を導入したラクトン変性モノ(メタ)アクリレート化合物;エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート等の脂肪族ジ(メタ)アクリレート化合物;1,4-シクロヘキサンジメタノールジ(メタ)アクリレート、ノルボルナンジ(メタ)アクリレート、ノルボルナンジメタノールジ(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニルジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ(メタ)アクリレート等の脂環型ジ(メタ)アクリレート化合物;ビフェノールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールジ(メタ)アクリレート等の芳香族ジ(メタ)アクリレート化合物;前記各種のジ(メタ)アクリレート化合物の分子構造中に(ポリ)オキシエチレン鎖、(ポリ)オキシプロピレン鎖、(ポリ)オキシテトラメチレン鎖等の(ポリ)オキシアルキレン鎖を導入したポリオキシアルキレン変性ジ(メタ)アクリレート化合物;前記各種のジ(メタ)アクリレート化合物の分子構造中に(ポリ)ラクトン構造を導入したラクトン変性ジ(メタ)アクリレート化合物;トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、グリセリントリ(メタ)アクリレート等の脂肪族トリ(メタ)アクリレート化合物;前記脂肪族トリ(メタ)アクリレート化合物の分子構造中に(ポリ)オキシエチレン鎖、(ポリ)オキシプロピレン鎖、(ポリ)オキシテトラメチレン鎖等の(ポリ)オキシアルキレン鎖を導入した(ポリ)オキシアルキレン変性トリ(メタ)アクリレート化合物;前記脂肪族トリ(メタ)アクリレート化合物の分子構造中に(ポリ)ラクトン構造を導入したラクトン変性トリ(メタ)アクリレート化合物;ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等の4官能以上の脂肪族ポリ(メタ)アクリレート化合物;前記脂肪族ポリ(メタ)アクリレート化合物の分子構造中に(ポリ)オキシエチレン鎖、(ポリ)オキシプロピレン鎖、(ポリ)オキシテトラメチレン鎖等の(ポリ)オキシアルキレン鎖を導入した4官能以上の(ポリ)オキシアルキレン変性ポリ(メタ)アクリレート化合物;前記脂肪族ポリ(メタ)アクリレート化合物の分子構造中に(ポリ)ラクトン構造を導入した4官能以上のラクトン変性ポリ(メタ)アクリレート化合物;ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパン(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトール(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトール(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパン(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート等の水酸基を有する(メタ)アクリレート化合物;前記水酸基を有する(メタ)アクリレート化合物の分子構造中に(ポリ)オキシエチレン鎖、(ポリ)オキシプロピレン鎖、(ポリ)オキシテトラメチレン鎖等の(ポリ)オキシアルキレン鎖を導入した(ポリ)オキシアルキレン変性体;前記水酸基を有する(メタ)アクリレート化合物の分子構造中に(ポリ)ラクトン構造を導入したラクトン変性体;2-アクリロイルオキシエチルイソシアネート、2-メタクリロイルオキシエチルイソシアネート、1,1-ビス(アクリロイルオキシメチル)エチルイソシアネート等のイソシアネート基を有する(メタ)アクリレート化合物;グリシジル(メタ)アクリレート、4-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレートグリシジルエーテル、エポキシシクロへキシルメチル(メタ)アクリレート等のグリシジル基を有する(メタ)アクリレートモノマーや、ドロキシベンゼンジグリシジルエーテル、ジヒドロキシナフタレンジグリシジルエーテル、ビフェノールジグリシジルエーテル、ビスフェノールジグリシジルエーテルのジグリシジルエーテル化合物のモノ(メタ)アクリレート化物等のエポキシ基を有する(メタ)アクリレート化合物などが挙げられる。前記各種の(メタ)アクリレートモノマーは、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 The various (meth)acrylate monomers are not particularly limited as long as they have a (meth)acryloyl group, and examples thereof include aliphatic mono(meth)acrylate compounds such as methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, propyl (meth)acrylate, butyl (meth)acrylate, pentyl (meth)acrylate, hexyl (meth)acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, and octyl (meth)acrylate; alicyclic mono(meth)acrylate compounds such as cyclohexyl (meth)acrylate, isobornyl (meth)acrylate, and adamantyl mono(meth)acrylate; heterocyclic mono(meth)acrylate compounds such as glycidyl (meth)acrylate and tetrahydrofurfuryl acrylate; benzoic acid mono(meth)acrylate compounds such as benzoic acid mono(meth)acrylate, benzoic acid mono(meth)acrylate, and benzoic acid mono(meth)acrylate; Mono(meth)acrylate compounds such as aromatic mono(meth)acrylate compounds, such as phenyl(meth)acrylate, phenylbenzyl(meth)acrylate, phenoxy(meth)acrylate, phenoxyethyl(meth)acrylate, phenoxyethoxyethyl(meth)acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl(meth)acrylate, phenoxybenzyl(meth)acrylate, benzylbenzyl(meth)acrylate, and phenylphenoxyethyl(meth)acrylate: (poly)oxyacrylates in which a polyoxyalkylene chain, such as a (poly)oxyethylene chain, a (poly)oxypropylene chain, or a (poly)oxytetramethylene chain, has been introduced into the molecular structure of the various mono(meth)acrylate monomers described above. alkylene-modified mono(meth)acrylate compounds; lactone-modified mono(meth)acrylate compounds in which a (poly)lactone structure has been introduced into the molecular structure of the various mono(meth)acrylate compounds described above; aliphatic di(meth)acrylate compounds such as ethylene glycol di(meth)acrylate, propylene glycol di(meth)acrylate, butanediol di(meth)acrylate, hexanediol di(meth)acrylate, and neopentyl glycol di(meth)acrylate; aliphatic di(meth)acrylate compounds such as 1,4-cyclohexanedimethanol di(meth)acrylate, norbornane di(meth)acrylate, norbornane dimethanol di(meth)acrylate, dicyclopentanyl di(meth)acrylate, and tricyclodecane dimethanol di(meth)acrylate. cyclic di(meth)acrylate compounds; aromatic di(meth)acrylate compounds such as biphenol di(meth)acrylate and bisphenol di(meth)acrylate; polyoxyalkylene-modified di(meth)acrylate compounds in which a (poly)oxyalkylene chain such as a (poly)oxyethylene chain, a (poly)oxypropylene chain, or a (poly)oxytetramethylene chain has been introduced into the molecular structure of the various di(meth)acrylate compounds; lactone-modified di(meth)acrylate compounds in which a (poly)lactone structure has been introduced into the molecular structure of the various di(meth)acrylate compounds; aliphatic tri(meth)acrylate compounds such as trimethylolpropane tri(meth)acrylate and glycerin tri(meth)acrylate; the aliphatic tri(meth)acrylate compounds (poly)oxyalkylene-modified tri(meth)acrylate compounds in which a (poly)oxyalkylene chain such as a (poly)oxyethylene chain, a (poly)oxypropylene chain, or a (poly)oxytetramethylene chain has been introduced into the molecular structure of the above-mentioned aliphatic tri(meth)acrylate compound; lactone-modified tri(meth)acrylate compounds in which a (poly)lactone structure has been introduced into the molecular structure of the above-mentioned aliphatic tri(meth)acrylate compound; tetrafunctional or higher aliphatic poly(meth)acrylate compounds such as pentaerythritol tetra(meth)acrylate, ditrimethylolpropane tetra(meth)acrylate, or dipentaerythritol hexa(meth)acrylate; (poly)oxyethylene chain, (poly)oxypropylene chain, (poly)oxytetramethylene chain, or the like has been introduced into the molecular structure of the above-mentioned aliphatic poly(meth)acrylate compound; (poly)oxyalkylene-modified poly(meth)acrylate compounds having 4 or more functional groups in which a (poly)oxyalkylene chain such as a methylene chain has been introduced; lactone-modified poly(meth)acrylate compounds having 4 or more functional groups in which a (poly)lactone structure has been introduced into the molecular structure of the aliphatic poly(meth)acrylate compound; hydroxyethyl (meth)acrylate, hydroxypropyl (meth)acrylate, trimethylolpropane (meth)acrylate, trimethylolpropane di(meth)acrylate, pentaerythritol (meth)acrylate, pentaerythritol di(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, dipentaerythritol (meth)acrylate, dipentaerythritol di(meth)acrylate, dipentaerythritol di(meth)acrylate, (Meth)acrylate compounds having a hydroxyl group, such as erythritol tri(meth)acrylate, dipentaerythritol tetra(meth)acrylate, dipentaerythritol penta(meth)acrylate, ditrimethylolpropane (meth)acrylate, ditrimethylolpropane di(meth)acrylate, and ditrimethylolpropane tri(meth)acrylate; (poly)oxyalkylene modified compounds obtained by introducing a (poly)oxyalkylene chain, such as a (poly)oxyethylene chain, a (poly)oxypropylene chain, or a (poly)oxytetramethylene chain, into the molecular structure of the (meth)acrylate compound having a hydroxyl group; lactone modified compounds obtained by introducing a (poly)lactone structure into the molecular structure of the (meth)acrylate compound having a hydroxyl group; 2-acryloyl (meth)acrylate compounds having an isocyanate group such as 2-methacryloyloxyethyl isocyanate, 2-methacryloyloxyethyl isocyanate, and 1,1-bis(acryloyloxymethyl)ethyl isocyanate; (meth)acrylate monomers having a glycidyl group such as glycidyl (meth)acrylate, 4-hydroxybutyl (meth)acrylate glycidyl ether, and epoxycyclohexylmethyl (meth)acrylate; and (meth)acrylate compounds having an epoxy group such as mono(meth)acrylates of diglycidyl ether compounds of hydroxybenzene diglycidyl ether, dihydroxynaphthalene diglycidyl ether, biphenol diglycidyl ether, and bisphenol diglycidyl ether. The above-mentioned various (meth)acrylate monomers can be used alone or in combination of two or more kinds.
また、本発明の硬化性樹脂組成物には、必要に応じて、硬化剤、硬化促進剤、紫外線吸収剤、有機溶剤、無機質充填材やポリマー微粒子、顔料、消泡剤、粘度調整剤、レベリング剤、難燃剤、保存安定化剤等の各種添加剤を含有することもできる。 The curable resin composition of the present invention may also contain various additives, such as a curing agent, a curing accelerator, an ultraviolet absorber, an organic solvent, an inorganic filler, polymer particles, a pigment, an antifoaming agent, a viscosity adjuster, a leveling agent, a flame retardant, and a storage stabilizer, as necessary.
前記硬化剤としては、例えば、エポキシ樹脂、多塩基酸、不飽和一塩基酸、アミン化合物、アミド化合物、アゾ化合物、有機過酸化物、ポリオール化合物、エポキシ樹脂等が挙げられる。 Examples of the curing agent include epoxy resins, polybasic acids, unsaturated monobasic acids, amine compounds, amide compounds, azo compounds, organic peroxides, polyol compounds, and epoxy resins.
前記エポキシ樹脂としては、上述のエポキシ樹脂として例示したものと同様のものを用いることができ、前記エポキシ樹脂は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 The epoxy resin may be the same as those exemplified above, and the epoxy resin may be used alone or in combination of two or more kinds.
前記多塩基酸としては、例えば、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、マレイン酸、フマル酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、メチルヘキサヒドロフタル酸、シトラコン酸、イタコン酸、グルタコン酸、1,2,3,4-ブタンテトラカルボン酸、シクロヘキサントリカルボン酸、シクロヘキサンテトラカルボン酸、ビシクロ[2.2.1]ヘプタン-2,3-ジカルボン酸、メチルビシクロ[2.2.1]ヘプタン-2,3-ジカルボン酸、4-(2,5-ジオキソテトラヒドロフラン-3-イル)-1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-1,2-ジカルボン酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、ナフタレンジカルボン酸、ナフタレントリカルボン酸、ナフタレンテトラカルボン酸、ビフェニルジカルボン酸、ビフェニルトリカルボン酸、ビフェニルテトラカルボン酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸等が挙げられる。また、前記多塩基酸としては、例えば、共役ジエン系ビニルモノマーとアクリロニトリルとの共重合体であって、その分子中にカルボキシル基を有する重合体も用いることができる。これらの多塩基酸は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 Examples of the polybasic acids include oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, maleic acid, fumaric acid, phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, tetrahydrophthalic acid, hexahydrophthalic acid, methylhexahydrophthalic acid, citraconic acid, itaconic acid, glutaconic acid, 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid, cyclohexanetricarboxylic acid, cyclohexanetetracarboxylic acid, bicyclo[2.2.1]hepta Examples of the polybasic acid include methylbicyclo[2.2.1]heptane-2,3-dicarboxylic acid, methylbicyclo[2.2.1]heptane-2,3-dicarboxylic acid, 4-(2,5-dioxotetrahydrofuran-3-yl)-1,2,3,4-tetrahydronaphthalene-1,2-dicarboxylic acid, trimellitic acid, pyromellitic acid, naphthalene dicarboxylic acid, naphthalene tricarboxylic acid, naphthalene tetracarboxylic acid, biphenyl dicarboxylic acid, biphenyl tricarboxylic acid, biphenyl tetracarboxylic acid, and benzophenone tetracarboxylic acid. Examples of the polybasic acid include copolymers of conjugated diene vinyl monomers and acrylonitrile, and polymers having carboxyl groups in the molecule. These polybasic acids can be used alone or in combination of two or more.
前記不飽和一塩基酸としては、上述の不飽和一塩基酸(B)として例示したものと同様のものを用いることができ、前記不飽和一塩基酸は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 The unsaturated monobasic acid may be the same as those exemplified as the unsaturated monobasic acid (B) described above, and the unsaturated monobasic acid may be used alone or in combination of two or more kinds.
前記アミン化合物としては、例えば、ジアミノジフェニルメタン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、ジアミノジフェニルスルホン、イソホロンジアミン、イミダゾ-ル、BF3-アミン錯体、グアニジン誘導体等が挙げられる。これらのアミン化合物は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 Examples of the amine compounds include diaminodiphenylmethane, diethylenetriamine, triethylenetetramine, diaminodiphenylsulfone, isophoronediamine, imidazole, BF3-amine complex, guanidine derivatives, etc. These amine compounds can be used alone or in combination of two or more kinds.
前記アミド系化合物としては、例えば、ジシアンジアミド、リノレン酸の2量体とエチレンジアミンとより合成されるポリアミド樹脂等が挙げられる。これらのアミド化合物は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 Examples of the amide-based compounds include dicyandiamide, polyamide resins synthesized from a dimer of linoleic acid and ethylenediamine, etc. These amide compounds can be used alone or in combination of two or more kinds.
前記アゾ化合物としては、例えば、アゾビスイソブチロニトリル等が挙げられる。 Examples of the azo compound include azobisisobutyronitrile.
前記有機過酸化物としては、例えば、ケトンパーオキサイド、パーオキシケタール、ハイドロパーオキサイド、ジアルキルパーオキサイド、ジアシルパーオキサイド、パーオキシエステル、パーオキシジカーボネート、アルキルパーオキシカーボネート等が挙げられる。これらの有機過酸化物は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 Examples of the organic peroxides include ketone peroxides, peroxyketals, hydroperoxides, dialkyl peroxides, diacyl peroxides, peroxy esters, peroxydicarbonates, alkyl peroxycarbonates, etc. These organic peroxides can be used alone or in combination of two or more kinds.
前記ポリオール化合物としては、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、1,3-プロパンジオール、1,4-ブタンジオール、1,3-ブタンジオール、3-メチル-1,3-ブタンジオール、1,5-ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、1,6-ヘキサンジオール、グリセリン、グリセリンモノ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタン、トリメチロールメタンモノ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパン、トリメチロールプロパンモノ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールモノ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート等のポリオールモノマー;前記ポリオールモノマーと、コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、テレフタル酸、イソフタル酸、オルソフタル酸、テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、イタコン酸、グルタコン酸、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸等のジカルボン酸との共縮合によって得られるポリエステルポリオール;前記ポリオールモノマーと、ε-カプロラクトン、δ-バレロラクトン、3-メチル-δ-バレロラクトン等の種々のラクトンとの重縮合反応によって得られるラクトン型ポリエステルポリオール;前記ポリオールモノマーと、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、テトラヒドロフラン、エチルグリシジルエーテル、プロピルグリシジルエーテル等の環状エーテル化合物との開環重合によって得られるポリエーテルポリオールなどが挙げられる。これらのポリオール化合物は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 Examples of the polyol compounds include polyol monomers such as ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, 1,3-propanediol, 1,4-butanediol, 1,3-butanediol, 3-methyl-1,3-butanediol, 1,5-pentanediol, neopentyl glycol, 1,6-hexanediol, glycerin, glycerin mono(meth)acrylate, trimethylolethane, trimethylolmethane mono(meth)acrylate, trimethylolpropane, trimethylolpropane mono(meth)acrylate, pentaerythritol mono(meth)acrylate, and pentaerythritol di(meth)acrylate; and mixtures of the polyol monomers with succinic acid, adipic acid, azelaic acid, sebacic acid, and the like. polyester polyols obtained by co-condensation with dicarboxylic acids such as terephthalic acid, isophthalic acid, orthophthalic acid, tetrahydrophthalic acid, hexahydrophthalic acid, maleic acid, fumaric acid, citraconic acid, itaconic acid, glutaconic acid, and 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid; lactone-type polyester polyols obtained by polycondensation reaction of the above polyol monomers with various lactones such as ε-caprolactone, δ-valerolactone, and 3-methyl-δ-valerolactone; polyether polyols obtained by ring-opening polymerization of the above polyol monomers with cyclic ether compounds such as ethylene oxide, propylene oxide, tetrahydrofuran, ethyl glycidyl ether, and propyl glycidyl ether. These polyol compounds can be used alone or in combination of two or more.
前記エポキシ樹脂としては、上述のエポキシ樹脂として例示したものと同様のものを用いることができ、前記エポキシ樹脂は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 The epoxy resin may be the same as those exemplified above, and the epoxy resin may be used alone or in combination of two or more kinds.
前記硬化促進剤としては、硬化反応を促進するものであり、例えば、リン系化合物、アミン系化合物、イミダゾール、有機酸金属塩、ルイス酸、アミン錯塩等が挙げられる。これらの硬化促進剤は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。また、前記硬化促進剤の添加量は、例えば、前記硬化性樹脂組成物の固形分中に0.01~10質量%の範囲で用いることが好ましい。 The curing accelerator accelerates the curing reaction, and examples of the accelerator include phosphorus compounds, amine compounds, imidazole, organic acid metal salts, Lewis acids, and amine complex salts. These accelerators can be used alone or in combination of two or more. The amount of the accelerator added is preferably in the range of 0.01 to 10% by mass based on the solid content of the curable resin composition.
前記紫外線吸収剤としては、例えば、2-[4-{(2-ヒドロキシ-3-ドデシルオキシプロピル)オキシ}-2-ヒドロキシフェニル]-4,6-ビス(2,4-ジメチルフェニル)-1,3,5-トリアジン、2-[4-{(2-ヒドロキシ-3-トリデシルオキシプロピル)オキシ}-2-ヒドロキシフェニル]-4,6-ビス(2,4-ジメチルフェニル)-1,3,5-トリアジン等のトリアジン誘導体、2-(2’-キサンテンカルボキシ-5’-メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2-(2’-o-ニトロベンジロキシ-5’-メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2-キサンテンカルボキシ-4-ドデシロキシベンゾフェノン、2-o-ニトロベンジロキシ-4-ドデシロキシベンゾフェノン等が挙げられる。これらの紫外線吸収剤は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 Examples of the ultraviolet absorber include triazine derivatives such as 2-[4-{(2-hydroxy-3-dodecyloxypropyl)oxy}-2-hydroxyphenyl]-4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazine and 2-[4-{(2-hydroxy-3-tridecyloxypropyl)oxy}-2-hydroxyphenyl]-4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazine, 2-(2'-xanthenecarboxy-5'-methylphenyl)benzotriazole, 2-(2'-o-nitrobenzyloxy-5'-methylphenyl)benzotriazole, 2-xanthenecarboxy-4-dodecyloxybenzophenone, and 2-o-nitrobenzyloxy-4-dodecyloxybenzophenone. These ultraviolet absorbers can be used alone or in combination of two or more.
前記有機溶剤としては、上述の有機溶剤として例示したものと同様のものを用いることができ、前記有機溶剤は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 The organic solvent may be the same as those exemplified above, and the organic solvent may be used alone or in combination of two or more kinds.
前記無機質充填材としては、例えば、溶融シリカ、結晶シリカ、アルミナ、窒化珪素、水酸化アルミ等が挙げられる。 Examples of the inorganic filler include fused silica, crystalline silica, alumina, silicon nitride, aluminum hydroxide, etc.
前記顔料としては、公知慣用の無機顔料や有機顔料を使用することができる。 The pigment may be any known inorganic or organic pigment.
前記無機顔料としては、例えば、白色顔料、アンチモンレッド、ベンガラ、カドミウムレッド、カドミウムイエロー、コバルトブルー、紺青、群青、カーボンブラック、黒鉛等が挙げられる。これらの無機顔料は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 Examples of the inorganic pigments include white pigments, antimony red, red iron oxide, cadmium red, cadmium yellow, cobalt blue, Prussian blue, ultramarine blue, carbon black, graphite, etc. These inorganic pigments can be used alone or in combination of two or more kinds.
前記白色顔料としては、例えば、酸化チタン,酸化亜鉛、酸化マグネシウム、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、硫酸バリウム、シリカ、タルク、マイカ、水酸化アルミニウム、ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、中空樹脂粒子、硫化亜鉛等が挙げられる。 Examples of the white pigment include titanium oxide, zinc oxide, magnesium oxide, zirconium oxide, aluminum oxide, barium sulfate, silica, talc, mica, aluminum hydroxide, calcium silicate, aluminum silicate, hollow resin particles, zinc sulfide, etc.
前記有機顔料としては、例えば、キナクリドン顔料、キナクリドンキノン顔料、ジオキサジン顔料、フタロシアニン顔料、アントラピリミジン顔料、アンサンスロン顔料、インダンスロン顔料、フラバンスロン顔料、ペリレン顔料、ジケトピロロピロール顔料、ペリノン顔料、キノフタロン顔料、アントラキノン顔料、チオインジゴ顔料、ベンツイミダゾロン顔料、アゾ顔料等が挙げられる。これらの有機顔料は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 Examples of the organic pigments include quinacridone pigments, quinacridonequinone pigments, dioxazine pigments, phthalocyanine pigments, anthrapyrimidine pigments, anthanthrone pigments, indanthrone pigments, flavanthrone pigments, perylene pigments, diketopyrrolopyrrole pigments, perinone pigments, quinophthalone pigments, anthraquinone pigments, thioindigo pigments, benzimidazolone pigments, azo pigments, etc. These organic pigments can be used alone or in combination of two or more.
前記難燃剤としては、例えば、赤リン、リン酸一アンモニウム、リン酸二アンモニウム、リン酸三アンモニウム、ポリリン酸アンモニウム等のリン酸アンモニウム、リン酸アミド等の無機リン化合物;リン酸エステル化合物、ホスホン酸化合物、ホスフィン酸化合物、ホスフィンオキシド化合物、ホスホラン化合物、有機系含窒素リン化合物、9,10-ジヒドロ-9-オキサ-10-ホスファフェナントレン-10-オキシド、10-(2,5―ジヒドロオキシフェニル)-10H-9-オキサ-10-ホスファフェナントレン-10-オキシド、10-(2,7-ジヒドロオキシナフチル)-10H-9-オキサ-10-ホスファフェナントレン-10-オキシド等の環状有機リン化合物、及びそれをエポキシ樹脂やフェノール樹脂等の化合物と反応させた誘導体等の有機リン化合物;トリアジン化合物、シアヌル酸化合物、イソシアヌル酸化合物、フェノチアジン等の窒素系難燃剤;シリコーンオイル、シリコーンゴム、シリコーン樹脂等のシリコーン系難燃剤;金属水酸化物、金属酸化物、金属炭酸塩化合物、金属粉、ホウ素化合物、低融点ガラス等の無機難燃剤などが挙げられる。これらの難燃剤は、単独でも用いることも2種以上を併用することもできる。また、これら難燃剤を用いる場合は、全樹脂組成物中0.1~20質量%の範囲であることが好ましい。 Examples of the flame retardant include inorganic phosphorus compounds such as red phosphorus, ammonium phosphates such as monoammonium phosphate, diammonium phosphate, triammonium phosphate, and ammonium polyphosphate, and phosphoric acid amides; phosphoric acid ester compounds, phosphonic acid compounds, phosphinic acid compounds, phosphine oxide compounds, phosphorane compounds, organic nitrogen-containing phosphorus compounds, 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide, 10-(2,5-dihydroxyphenyl)-10H-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxy Examples of suitable flame retardants include organic phosphorus compounds such as cyclic organic phosphorus compounds such as 10-(2,7-dihydroxynaphthyl)-10H-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide and derivatives thereof reacted with compounds such as epoxy resins and phenolic resins; nitrogen-based flame retardants such as triazine compounds, cyanuric acid compounds, isocyanuric acid compounds, and phenothiazine; silicone-based flame retardants such as silicone oil, silicone rubber, and silicone resin; and inorganic flame retardants such as metal hydroxides, metal oxides, metal carbonate compounds, metal powders, boron compounds, and low-melting glass. These flame retardants can be used alone or in combination of two or more. When using these flame retardants, the amount is preferably in the range of 0.1 to 20% by mass in the total resin composition.
本発明の硬化物は、前記硬化性樹脂組成物に、活性エネルギー線を照射することで得ることができる。前記活性エネルギー線としては、例えば、紫外線、電子線、α線、β線、γ線等の電離放射線が挙げられる。また、前記活性エネルギー線として、紫外線を用いる場合、紫外線による硬化反応を効率よく行う上で、窒素ガス等の不活性ガス雰囲気下で照射してもよく、空気雰囲気下で照射してもよい。 The cured product of the present invention can be obtained by irradiating the curable resin composition with active energy rays. Examples of the active energy rays include ionizing radiation such as ultraviolet rays, electron beams, α rays, β rays, and γ rays. When ultraviolet rays are used as the active energy rays, irradiation may be performed in an inert gas atmosphere such as nitrogen gas, or in an air atmosphere in order to efficiently carry out the curing reaction by ultraviolet rays.
紫外線発生源としては、実用性、経済性の面から紫外線ランプが一般的に用いられている。具体的には、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、ガリウムランプ、メタルハライドランプ、太陽光、LED等が挙げられる。 As a source of ultraviolet light, ultraviolet lamps are generally used from the standpoint of practicality and economy. Specific examples include low-pressure mercury lamps, high-pressure mercury lamps, ultra-high-pressure mercury lamps, xenon lamps, gallium lamps, metal halide lamps, sunlight, LEDs, etc.
前記活性エネルギー線の積算光量は、特に制限されないが、0.1~50kJ/m2であることが好ましく、0.5~10kJ/m2であることがより好ましい。積算光量が上記範囲であると、未硬化部分の発生の防止又は抑制ができることから好ましい。 The cumulative light amount of the active energy rays is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 50 kJ/m 2 , and more preferably 0.5 to 10 kJ/m 2. When the cumulative light amount is within the above range, it is preferable because the occurrence of uncured portions can be prevented or suppressed.
なお、前記活性エネルギー線の照射は、一段階で行ってもよいし、二段階以上に分けて行ってもよい。 The irradiation of the active energy rays may be carried out in one step or in two or more steps.
本発明の物品は、前記硬化物からなる塗膜を有するものである。前記物品としては、例えば、携帯電話、家電製品、自動車内外装材、OA機器等のプラスチック成形品や、半導体デバイス、表示デバイス、撮像デバイスなどが挙げられる。 The article of the present invention has a coating film made of the cured product. Examples of the article include plastic molded products such as mobile phones, home appliances, automobile interior and exterior materials, and office automation equipment, as well as semiconductor devices, display devices, and imaging devices.
以下、実施例と比較例とにより、本発明を具体的に説明する。なお、本発明は、以下に挙げた実施例に限定されるものではない。 The present invention will be specifically described below with reference to examples and comparative examples. Note that the present invention is not limited to the examples listed below.
(合成例1:エポキシ樹脂(1)の製造)
温度計、攪拌器、及び還流冷却器を備えたフラスコに、トルエン285質量部、レゾルシノール220質量部、パラトルエンスルホン酸2.2質量部を添加し、窒素雰囲気下で115℃に昇温した。1,4-ジビニルベンゼン208質量部を2時間で滴下し、115℃で5時間ホールドした。20質量%水酸化ナトリウム水溶液2.3質量部を添加し、170℃でトルエンを脱溶剤し、フェノール樹脂(1)を得た。このフェノール樹脂(1)の水酸基当量は、108g/当量であった。本発明にて規定するフェノール性水酸基を有する化合物(a1)に相当するレゾルシノール1モルに対する、本発明にて規定する芳香族化合物(a2)に相当する1,4-ジビニルベンゼンのモル数は0.8であった。
(Synthesis Example 1: Production of Epoxy Resin (1))
285 parts by mass of toluene, 220 parts by mass of resorcinol, and 2.2 parts by mass of paratoluenesulfonic acid were added to a flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a reflux condenser, and the mixture was heated to 115°C under a nitrogen atmosphere. 208 parts by mass of 1,4-divinylbenzene were added dropwise over 2 hours, and the mixture was held at 115°C for 5 hours. 2.3 parts by mass of a 20% by mass aqueous sodium hydroxide solution were added, and the toluene was removed at 170°C to obtain a phenolic resin (1). The hydroxyl group equivalent of this phenolic resin (1) was 108 g/equivalent. The number of moles of 1,4-divinylbenzene corresponding to the aromatic compound (a2) defined in the present invention relative to 1 mole of resorcinol corresponding to the compound (a1) having a phenolic hydroxyl group defined in the present invention was 0.8.
次いで、温度計、攪拌器、滴下ロート及び還流冷却器を備えたフラスコに、フェノール樹脂(1)108質量部をエピクロルヒドリン462.5質量部中に溶解した後、攪拌しながら80℃で20%質量水酸化ナトリウム水溶液1,000質量部を5時間かけて滴下し、更に1時間反応を継続した。次いで、分液操作によって水層を棄却し、有機層に存在する過剰のエピクロルヒドリンを蒸留によって回収し反応粗製物を得た。有機層をメチルイソブチルケトン250質量部加えて内容物を均一に溶解させた後、水洗した。次いで、有機層から共沸蒸留により水を除去し、濾過により析出する不溶解物を除去した後、メチルイソブチルケトンを留去して、目的のエポキシ樹脂(1)を得た。このエポキシ樹脂(1)のエポキシ当量は、195g/当量であった。 Next, 108 parts by mass of phenolic resin (1) was dissolved in 462.5 parts by mass of epichlorohydrin in a flask equipped with a thermometer, a stirrer, a dropping funnel and a reflux condenser, and then 1,000 parts by mass of a 20% aqueous sodium hydroxide solution was dropped at 80°C over 5 hours while stirring, and the reaction was continued for another hour. Next, the aqueous layer was discarded by a separation operation, and the excess epichlorohydrin present in the organic layer was recovered by distillation to obtain a crude reaction product. 250 parts by mass of methyl isobutyl ketone was added to the organic layer to dissolve the contents uniformly, and then the organic layer was washed with water. Next, water was removed from the organic layer by azeotropic distillation, and the precipitated insoluble matter was removed by filtration, and the methyl isobutyl ketone was distilled off to obtain the desired epoxy resin (1). The epoxy equivalent of this epoxy resin (1) was 195 g/equivalent.
(合成例2:エポキシ樹脂(2)の製造)
温度計、攪拌器、及び還流冷却器を備えたフラスコに、トルエン233質量部、レゾルシノール220質量部、パラトルエンスルホン酸2.2質量部を添加し、窒素雰囲気下で115℃に昇温した。1,4-ジビニルベンゼン130質量部を2時間で滴下し、115℃で3時間ホールドした。20質量%水酸化ナトリウム水溶液2.3質量部を添加し、170℃でトルエンを脱溶剤し、フェノール樹脂(2)を得た。このフェノール樹脂(2)の水酸基当量は、90g/当量であった。本発明にて規定するフェノール性水酸基を有する化合物(a1)に相当するレゾルシノール1モルに対する、本発明にて規定する芳香族化合物(a2)に相当する1,4-ジビニルベンゼンのモル数は0.5であった。
(Synthesis Example 2: Production of Epoxy Resin (2))
233 parts by mass of toluene, 220 parts by mass of resorcinol, and 2.2 parts by mass of paratoluenesulfonic acid were added to a flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a reflux condenser, and the mixture was heated to 115°C under a nitrogen atmosphere. 130 parts by mass of 1,4-divinylbenzene was added dropwise over 2 hours, and the mixture was held at 115°C for 3 hours. 2.3 parts by mass of a 20% by mass aqueous sodium hydroxide solution was added, and the toluene was removed at 170°C to obtain a phenolic resin (2). The hydroxyl group equivalent of this phenolic resin (2) was 90 g/equivalent. The number of moles of 1,4-divinylbenzene corresponding to the aromatic compound (a2) defined in the present invention relative to 1 mole of resorcinol corresponding to the compound (a1) having a phenolic hydroxyl group defined in the present invention was 0.5.
次いで、温度計、攪拌器、滴下ロート及び還流冷却器を備えたフラスコに、フェノール樹脂(2)90質量部をエピクロルヒドリン462.5質量部中に溶解した後、攪拌しながら80℃で20質量%水酸化ナトリウム水溶液1,000質量部を5時間かけて滴下し、更に1時間反応を継続した。次いで、分液操作によって水層を棄却し、有機層に存在する過剰のエピクロルヒドリンを蒸留によって回収し反応粗製物を得た。有機層をメチルイソブチルケトン250質量部加えて内容物を均一に溶解させた後、水洗した。次いで、有機層から共沸蒸留により水を除去し、濾過により析出する不溶解物を除去した後、メチルイソブチルケトンを留去して、目的のエポキシ樹脂(2)を得た。このエポキシ樹脂(2)のエポキシ当量は、178g/当量であった。 Next, 90 parts by mass of phenolic resin (2) was dissolved in 462.5 parts by mass of epichlorohydrin in a flask equipped with a thermometer, a stirrer, a dropping funnel, and a reflux condenser, and then 1,000 parts by mass of a 20% by mass aqueous sodium hydroxide solution was dropped at 80°C over 5 hours while stirring, and the reaction was continued for another hour. Next, the aqueous layer was discarded by a separation operation, and the excess epichlorohydrin present in the organic layer was recovered by distillation to obtain a crude reaction product. 250 parts by mass of methyl isobutyl ketone was added to the organic layer to dissolve the contents uniformly, and then the organic layer was washed with water. Next, water was removed from the organic layer by azeotropic distillation, and the precipitated insoluble matter was removed by filtration, and the methyl isobutyl ketone was distilled off to obtain the desired epoxy resin (2). The epoxy equivalent of this epoxy resin (2) was 178 g/equivalent.
(合成例3:エポキシ樹脂(3)の製造)
温度計、攪拌器、及び還流冷却器を備えたフラスコに、トルエン199質量部、レゾルシノール220質量部、パラトルエンスルホン酸2.2質量部を添加し、窒素雰囲気下で115℃に昇温した。1,4-ジビニルベンゼン78質量部を2時間で滴下し、115℃で3時間ホールドした。20質量%水酸化ナトリウム水溶液2.3質量部を添加し、170℃でトルエンを脱溶剤し、フェノール樹脂(3)を得た。このフェノール樹脂(3)の水酸基当量は、79g/当量であった。本発明にて規定するフェノール性水酸基を有する化合物(a1)に相当するレゾルシノール1モルに対する、本発明にて規定する芳香族化合物(a2)に相当する1,4-ジビニルベンゼンのモル数は0.3であった。
(Synthesis Example 3: Production of Epoxy Resin (3))
In a flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a reflux condenser, 199 parts by mass of toluene, 220 parts by mass of resorcinol, and 2.2 parts by mass of paratoluenesulfonic acid were added, and the mixture was heated to 115°C under a nitrogen atmosphere. 78 parts by mass of 1,4-divinylbenzene was added dropwise over 2 hours, and the mixture was held at 115°C for 3 hours. 2.3 parts by mass of a 20% by mass aqueous sodium hydroxide solution was added, and the toluene was removed at 170°C to obtain a phenolic resin (3). The hydroxyl group equivalent of this phenolic resin (3) was 79 g/equivalent. The number of moles of 1,4-divinylbenzene corresponding to the aromatic compound (a2) defined in the present invention relative to 1 mole of resorcinol corresponding to the compound (a1) having a phenolic hydroxyl group defined in the present invention was 0.3.
次いで、温度計、攪拌器、滴下ロート及び還流冷却器を備えたフラスコに、フェノール樹脂(3)79質量部をエピクロルヒドリン462.5質量部中に溶解した後、攪拌しながら80℃で20質量%水酸化ナトリウム水溶液1,000質量部を5時間かけて滴下し、更に1時間反応を継続した。次いで、分液操作によって水層を棄却し、有機層に存在する過剰のエピクロルヒドリンを蒸留によって回収し反応粗製物を得た。有機層をメチルイソブチルケトン250質量部加えて内容物を均一に溶解させた後、水洗した。次いで、有機層から共沸蒸留により水を除去し、濾過により析出する不溶解物を除去した後、メチルイソブチルケトンを留去して、目的のエポキシ樹脂(3)を得た。このエポキシ樹脂(3)のエポキシ当量は、164g/当量であった。 Next, 79 parts by mass of phenolic resin (3) was dissolved in 462.5 parts by mass of epichlorohydrin in a flask equipped with a thermometer, a stirrer, a dropping funnel, and a reflux condenser, and then 1,000 parts by mass of 20% by mass aqueous sodium hydroxide was dropped at 80°C over 5 hours while stirring, and the reaction was continued for another hour. Next, the aqueous layer was discarded by a separation operation, and the excess epichlorohydrin present in the organic layer was recovered by distillation to obtain a crude reaction product. 250 parts by mass of methyl isobutyl ketone was added to the organic layer to dissolve the contents uniformly, and then the organic layer was washed with water. Next, water was removed from the organic layer by azeotropic distillation, and the precipitated insoluble matter was removed by filtration, and the methyl isobutyl ketone was distilled off to obtain the desired epoxy resin (3). The epoxy equivalent of this epoxy resin (3) was 164 g/equivalent.
(合成例4:エポキシ樹脂(4)の製造)
温度計、攪拌器、及び還流冷却器を備えたフラスコに、トルエン181質量部、レゾルシノール220質量部、パラトルエンスルホン酸2.2質量部を添加し、窒素雰囲気下で115℃に昇温した。1,4-ジビニルベンゼン52質量部を2時間で滴下し、115℃で3時間ホールドした。20質量%水酸化ナトリウム水溶液2.3質量部を添加し、170℃でトルエンを脱溶剤し、フェノール樹脂(4)を得た。このフェノール樹脂(4)の水酸基当量は、72g/当量であった。本発明にて規定するフェノール性水酸基を有する化合物(a1)に相当するレゾルシノール1モルに対する、本発明にて規定する芳香族化合物(a2)に相当する1,4-ジビニルベンゼンのモル数は0.2であった。
(Synthesis Example 4: Production of Epoxy Resin (4))
In a flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a reflux condenser, 181 parts by mass of toluene, 220 parts by mass of resorcinol, and 2.2 parts by mass of paratoluenesulfonic acid were added, and the mixture was heated to 115°C under a nitrogen atmosphere. 52 parts by mass of 1,4-divinylbenzene were added dropwise over 2 hours, and the mixture was held at 115°C for 3 hours. 2.3 parts by mass of a 20% by mass aqueous sodium hydroxide solution was added, and the toluene was removed at 170°C to obtain a phenolic resin (4). The hydroxyl group equivalent of this phenolic resin (4) was 72 g/equivalent. The number of moles of 1,4-divinylbenzene corresponding to the aromatic compound (a2) defined in the present invention relative to 1 mole of resorcinol corresponding to the compound (a1) having a phenolic hydroxyl group defined in the present invention was 0.2.
次いで、温度計、攪拌器、滴下ロート及び還流冷却器を備えたフラスコに、フェノール樹脂(4)72質量部をエピクロルヒドリン462.5質量部中に溶解した後、攪拌しながら80℃で20質量%水酸化ナトリウム水溶液1,000質量部を5時間かけて滴下し、更に1時間反応を継続した。次いで、分液操作によって水層を棄却し、有機層に存在する過剰のエピクロルヒドリンを蒸留によって回収し反応粗製物を得た。有機層をメチルイソブチルケトン250質量部加えて内容物を均一に溶解させた後、水洗した。次いで、有機層から共沸蒸留により水を除去し、濾過により析出する不溶解物を除去した後、メチルイソブチルケトンを留去して、目的のエポキシ樹脂(4)を得た。このエポキシ樹脂(4)のエポキシ当量は、158g/当量であった。 Next, 72 parts by mass of phenolic resin (4) was dissolved in 462.5 parts by mass of epichlorohydrin in a flask equipped with a thermometer, a stirrer, a dropping funnel, and a reflux condenser, and then 1,000 parts by mass of 20% by mass aqueous sodium hydroxide was dropped at 80°C over 5 hours while stirring, and the reaction was continued for another hour. Next, the aqueous layer was discarded by a separation operation, and the excess epichlorohydrin present in the organic layer was recovered by distillation to obtain a crude reaction product. 250 parts by mass of methyl isobutyl ketone was added to the organic layer to dissolve the contents uniformly, and then the organic layer was washed with water. Next, water was removed from the organic layer by azeotropic distillation, and the precipitated insoluble matter was removed by filtration, and the methyl isobutyl ketone was distilled off to obtain the desired epoxy resin (4). The epoxy equivalent of this epoxy resin (4) was 158 g/equivalent.
(合成例5:エポキシ樹脂(5)の製造)
温度計、攪拌器、及び還流冷却器を備えたフラスコに、トルエン320質量部、レゾルシノール220質量部、パラトルエンスルホン酸4.4質量部を添加し、窒素雰囲気下で115℃に昇温した。1,4-ジビニルベンゼン260質量部を3時間で滴下し、115℃で7時間ホールドした。20質量%水酸化ナトリウム水溶液4.6質量部を添加し、170℃でトルエンを脱溶剤し、フェノール樹脂(5)を得た。このフェノール樹脂(5)の水酸基当量は、131g/当量であった。本発明にて規定するフェノール性水酸基を有する化合物(a1)に相当するレゾルシノール1モルに対する、本発明にて規定する芳香族化合物(a2)に相当する1,4-ジビニルベンゼンのモル数は1.0であった。
(Synthesis Example 5: Production of Epoxy Resin (5))
To a flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a reflux condenser, 320 parts by mass of toluene, 220 parts by mass of resorcinol, and 4.4 parts by mass of paratoluenesulfonic acid were added, and the mixture was heated to 115°C under a nitrogen atmosphere. 260 parts by mass of 1,4-divinylbenzene was added dropwise over 3 hours, and the mixture was held at 115°C for 7 hours. 4.6 parts by mass of a 20% by mass aqueous sodium hydroxide solution was added, and the toluene was removed at 170°C to obtain a phenolic resin (5). The hydroxyl group equivalent of this phenolic resin (5) was 131 g/equivalent. The number of moles of 1,4-divinylbenzene corresponding to the aromatic compound (a2) defined in the present invention relative to 1 mole of resorcinol corresponding to the compound (a1) having a phenolic hydroxyl group defined in the present invention was 1.0.
次いで、温度計、攪拌器、滴下ロート及び還流冷却器を備えたフラスコに、フェノール樹脂(5)131質量部をエピクロルヒドリン462.5質量部中に溶解した後、攪拌しながら80℃で20質量%水酸化ナトリウム水溶液1,000質量部を5時間かけて滴下し、更に1時間反応を継続した。次いで、分液操作によって水層を棄却し、有機層に存在する過剰のエピクロルヒドリンを蒸留によって回収し反応粗製物を得た。有機層をメチルイソブチルケトン250質量部加えて内容物を均一に溶解させた後、水洗した。次いで、有機層から共沸蒸留により水を除去し、濾過により析出する不溶解物を除去した後、メチルイソブチルケトンを留去して、目的のエポキシ樹脂(5)を得た。このエポキシ樹脂(5)のエポキシ当量は、219g/当量であった。 Next, 131 parts by mass of phenolic resin (5) was dissolved in 462.5 parts by mass of epichlorohydrin in a flask equipped with a thermometer, a stirrer, a dropping funnel and a reflux condenser, and then 1,000 parts by mass of 20% by mass aqueous sodium hydroxide was dropped at 80°C over 5 hours while stirring, and the reaction was continued for another hour. Next, the aqueous layer was discarded by a separation operation, and the excess epichlorohydrin present in the organic layer was recovered by distillation to obtain a crude reaction product. 250 parts by mass of methyl isobutyl ketone was added to the organic layer to dissolve the contents uniformly, and then the organic layer was washed with water. Next, water was removed from the organic layer by azeotropic distillation, and the precipitated insoluble matter was removed by filtration, and the methyl isobutyl ketone was distilled off to obtain the desired epoxy resin (5). The epoxy equivalent of this epoxy resin (5) was 219 g/equivalent.
(合成例6:エポキシ樹脂(6)の製造)
温度計、攪拌器、及び還流冷却器を備えたフラスコに、トルエン329質量部、レゾルシノール220質量部、パラトルエンスルホン酸4.4質量部を添加し、窒素雰囲気下で115℃に昇温した。1,4-ジビニルベンゼン273質量部を3時間で滴下し、115℃で7時間ホールドした。20質量%水酸化ナトリウム水溶液4.6質量部を添加し、170℃でトルエンを脱溶剤し、フェノール樹脂(6)を得た。このフェノール樹脂(6)の水酸基当量は、135g/当量であった。本発明にて規定するフェノール性水酸基を有する化合物(a1)に相当するレゾルシノール1モルに対する、本発明にて規定する芳香族化合物(a2)に相当する1,4-ジビニルベンゼンのモル数は1.05であった。
(Synthesis Example 6: Production of Epoxy Resin (6))
To a flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a reflux condenser, 329 parts by mass of toluene, 220 parts by mass of resorcinol, and 4.4 parts by mass of paratoluenesulfonic acid were added, and the mixture was heated to 115°C under a nitrogen atmosphere. 273 parts by mass of 1,4-divinylbenzene was added dropwise over 3 hours, and the mixture was held at 115°C for 7 hours. 4.6 parts by mass of a 20% by mass aqueous sodium hydroxide solution was added, and the toluene was removed at 170°C to obtain a phenolic resin (6). The hydroxyl group equivalent of this phenolic resin (6) was 135 g/equivalent. The number of moles of 1,4-divinylbenzene corresponding to the aromatic compound (a2) defined in the present invention relative to 1 mole of resorcinol corresponding to the compound (a1) having a phenolic hydroxyl group defined in the present invention was 1.05.
次いで、温度計、攪拌器、滴下ロート及び還流冷却器を備えたフラスコに、フェノール樹脂(6)135質量部をエピクロルヒドリン462.5質量部中に溶解した後、攪拌しながら80℃で20質量%水酸化ナトリウム水溶液1,000質量部を5時間かけて滴下し、更に1時間反応を継続した。次いで、分液操作によって水層を棄却し、有機層に存在する過剰のエピクロルヒドリンを蒸留によって回収し反応粗製物を得た。有機層をメチルイソブチルケトン250質量部加えて内容物を均一に溶解させた後、水洗した。次いで、有機層から共沸蒸留により水を除去し、濾過により析出する不溶解物を除去した後、メチルイソブチルケトンを留去して、目的のエポキシ樹脂(6)を得た。このエポキシ樹脂(6)のエポキシ当量は、223g/当量であった。 Next, 135 parts by mass of phenolic resin (6) was dissolved in 462.5 parts by mass of epichlorohydrin in a flask equipped with a thermometer, a stirrer, a dropping funnel, and a reflux condenser, and then 1,000 parts by mass of a 20% by mass aqueous sodium hydroxide solution was dropped at 80°C over 5 hours while stirring, and the reaction was continued for another hour. Next, the aqueous layer was discarded by a separation operation, and the excess epichlorohydrin present in the organic layer was recovered by distillation to obtain a crude reaction product. 250 parts by mass of methyl isobutyl ketone was added to the organic layer to dissolve the contents uniformly, and then the organic layer was washed with water. Next, water was removed from the organic layer by azeotropic distillation, and the precipitated insoluble matter was removed by filtration, and the methyl isobutyl ketone was distilled off to obtain the desired epoxy resin (6). The epoxy equivalent of this epoxy resin (6) was 223 g/equivalent.
(合成例7:エポキシ樹脂(7)の製造)
温度計、攪拌器、及び還流冷却器を備えたフラスコに、トルエン283質量部、オルソクレゾール216質量部、パラトルエンスルホン酸2.2質量部を添加し、窒素雰囲気下で115℃に昇温した。1,4-ジビニルベンゼン208質量部を2時間で滴下し、115℃で5時間ホールドした。20質量%水酸化ナトリウム水溶液2.3質量部を添加し、170℃でトルエンを脱溶剤し、フェノール樹脂(7)を得た。このフェノール樹脂(7)の水酸基当量は、219g/当量であった。本発明にて規定するフェノール性水酸基を有する化合物(a1)に相当するオルソクレゾール1モルに対する、本発明にて規定する芳香族化合物(a2)に相当する1,4-ジビニルベンゼンのモル数は0.8であった。
(Synthesis Example 7: Production of epoxy resin (7))
283 parts by mass of toluene, 216 parts by mass of orthocresol, and 2.2 parts by mass of paratoluenesulfonic acid were added to a flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a reflux condenser, and the temperature was raised to 115°C under a nitrogen atmosphere. 208 parts by mass of 1,4-divinylbenzene were added dropwise over 2 hours, and the mixture was held at 115°C for 5 hours. 2.3 parts by mass of a 20% by mass aqueous sodium hydroxide solution were added, and the toluene was removed at 170°C to obtain a phenolic resin (7). The hydroxyl group equivalent of this phenolic resin (7) was 219 g/equivalent. The number of moles of 1,4-divinylbenzene corresponding to the aromatic compound (a2) defined in the present invention relative to 1 mole of orthocresol corresponding to the compound (a1) having a phenolic hydroxyl group defined in the present invention was 0.8.
次いで、温度計、攪拌器、滴下ロート及び還流冷却器を備えたフラスコに、フェノール樹脂(7)219質量部をエピクロルヒドリン462.5質量部中に溶解した後、攪拌しながら80℃で20質量%水酸化ナトリウム水溶液1,000質量部を5時間かけて滴下し、更に1時間反応を継続した。次いで、分液操作によって水層を棄却し、有機層に存在する過剰のエピクロルヒドリンを蒸留によって回収し反応粗製物を得た。有機層をメチルイソブチルケトン250質量部加えて内容物を均一に溶解させた後、水洗した。次いで、有機層から共沸蒸留により水を除去し、濾過により析出する不溶解物を除去した後、メチルイソブチルケトンを留去して、目的のエポキシ樹脂(7)を得た。このエポキシ樹脂(7)のエポキシ当量は、300g/当量であった。 Next, 219 parts by mass of phenolic resin (7) was dissolved in 462.5 parts by mass of epichlorohydrin in a flask equipped with a thermometer, a stirrer, a dropping funnel and a reflux condenser, and then 1,000 parts by mass of 20% by mass aqueous sodium hydroxide was dropped at 80°C over 5 hours while stirring, and the reaction was continued for another hour. Next, the aqueous layer was discarded by a separation operation, and the excess epichlorohydrin present in the organic layer was recovered by distillation to obtain a reaction crude product. 250 parts by mass of methyl isobutyl ketone was added to the organic layer to dissolve the contents uniformly, and then the organic layer was washed with water. Next, water was removed from the organic layer by azeotropic distillation, and the precipitated insoluble matter was removed by filtration, and the methyl isobutyl ketone was distilled off to obtain the desired epoxy resin (7). The epoxy equivalent of this epoxy resin (7) was 300 g/equivalent.
(合成例8:エポキシ樹脂(8)の製造)
温度計、攪拌器、及び還流冷却器を備えたフラスコに、トルエン300質量部、1,6-ジヒドロキシナフタレン320質量部、パラトルエンスルホン酸3.2質量部を添加し、窒素雰囲気下で115℃に昇温した。1,4-ジビニルベンゼン130質量部を2時間で滴下し、115℃で5時間ホールドした。20質量%水酸化ナトリウム水溶液3.4質量部を添加し、170℃でトルエンを脱溶剤し、フェノール樹脂(8)を得た。このフェノール樹脂(8)の水酸基当量は、119g/当量であった。本発明にて規定するフェノール性水酸基を有する化合物(a1)に相当する1,6-ジヒドロキシナフタレン1モルに対する、本発明にて規定する芳香族化合物(a2)に相当する1,4-ジビニルベンゼンのモル数は0.5であった。
(Synthesis Example 8: Production of epoxy resin (8))
In a flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a reflux condenser, 300 parts by mass of toluene, 320 parts by mass of 1,6-dihydroxynaphthalene, and 3.2 parts by mass of paratoluenesulfonic acid were added, and the mixture was heated to 115°C under a nitrogen atmosphere. 130 parts by mass of 1,4-divinylbenzene was added dropwise over 2 hours, and the mixture was held at 115°C for 5 hours. 3.4 parts by mass of a 20% by mass aqueous sodium hydroxide solution was added, and the toluene was removed at 170°C to obtain a phenolic resin (8). The hydroxyl group equivalent of this phenolic resin (8) was 119 g/equivalent. The number of moles of 1,4-divinylbenzene corresponding to the aromatic compound (a2) defined in the present invention relative to 1 mole of 1,6-dihydroxynaphthalene corresponding to the compound (a1) having a phenolic hydroxyl group defined in the present invention was 0.5.
次いで、温度計、攪拌器、滴下ロート及び還流冷却器を備えたフラスコに、フェノール樹脂(8)119質量部をエピクロルヒドリン462.5質量部中に溶解した後、攪拌しながら80℃で20質量%水酸化ナトリウム水溶液1,000質量部を5時間かけて滴下し、更に1時間反応を継続した。次いで、分液操作によって水層を棄却し、有機層に存在する過剰のエピクロルヒドリンを蒸留によって回収し反応粗製物を得た。有機層をメチルイソブチルケトン250質量部加えて内容物を均一に溶解させた後、水洗した。次いで、有機層から共沸蒸留により水を除去し、濾過により析出する不溶解物を除去した後、メチルイソブチルケトンを留去して、目的のエポキシ樹脂(8)を得た。このエポキシ樹脂(8)のエポキシ当量は、206g/当量であった。 Next, 119 parts by mass of phenolic resin (8) was dissolved in 462.5 parts by mass of epichlorohydrin in a flask equipped with a thermometer, a stirrer, a dropping funnel and a reflux condenser, and then 1,000 parts by mass of 20% by mass aqueous sodium hydroxide was dropped at 80°C over 5 hours while stirring, and the reaction was continued for another hour. Next, the aqueous layer was discarded by a separation operation, and the excess epichlorohydrin present in the organic layer was recovered by distillation to obtain a reaction crude product. 250 parts by mass of methyl isobutyl ketone was added to the organic layer to dissolve the contents uniformly, and then the organic layer was washed with water. Next, water was removed from the organic layer by azeotropic distillation, and the precipitated insoluble matter was removed by filtration, and then the methyl isobutyl ketone was distilled off to obtain the desired epoxy resin (8). The epoxy equivalent of this epoxy resin (8) was 206 g/equivalent.
(合成例9:エポキシ樹脂(9)の製造)
温度計、攪拌器、及び還流冷却器を備えたフラスコに、トルエン285質量部、カテコール220質量部、パラトルエンスルホン酸2.2質量部を添加し、窒素雰囲気下で115℃に昇温した。1,4-ジビニルベンゼン208質量部を2時間で滴下し、115℃で5時間ホールドした。20質量%水酸化ナトリウム水溶液2.3質量部を添加し、170℃でトルエンを脱溶剤し、フェノール樹脂(9)を得た。このフェノール樹脂(9)の水酸基当量は、110g/当量であった。本発明にて規定するフェノール性水酸基を有する化合物(a1)に相当するカテコール1モルに対する、本発明にて規定する芳香族化合物(a2)に相当する1,4-ジビニルベンゼンのモル数は0.8であった。
(Synthesis Example 9: Production of epoxy resin (9))
285 parts by mass of toluene, 220 parts by mass of catechol, and 2.2 parts by mass of paratoluenesulfonic acid were added to a flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a reflux condenser, and the temperature was raised to 115°C under a nitrogen atmosphere. 208 parts by mass of 1,4-divinylbenzene were added dropwise over 2 hours, and the mixture was held at 115°C for 5 hours. 2.3 parts by mass of a 20% by mass aqueous sodium hydroxide solution were added, and the toluene was removed at 170°C to obtain a phenolic resin (9). The hydroxyl group equivalent of this phenolic resin (9) was 110 g/equivalent. The number of moles of 1,4-divinylbenzene corresponding to the aromatic compound (a2) defined in the present invention relative to 1 mole of catechol corresponding to the compound (a1) having a phenolic hydroxyl group defined in the present invention was 0.8.
次いで、温度計、攪拌器、滴下ロート及び還流冷却器を備えたフラスコに、フェノール樹脂(9)110質量部をエピクロルヒドリン462.5質量部中に溶解した後、攪拌しながら80℃で20質量%水酸化ナトリウム水溶液1,000質量部を5時間かけて滴下し、更に1時間反応を継続した。次いで、分液操作によって水層を棄却し、有機層に存在する過剰のエピクロルヒドリンを蒸留によって回収し反応粗製物を得た。有機層をメチルイソブチルケトン250質量部加えて内容物を均一に溶解させた後、水洗した。次いで、有機層から共沸蒸留により水を除去し、濾過により析出する不溶解物を除去した後、メチルイソブチルケトンを留去して、目的のエポキシ樹脂(9)を得た。このエポキシ樹脂(9)のエポキシ当量は、199g/当量であった。 Next, 110 parts by mass of phenolic resin (9) was dissolved in 462.5 parts by mass of epichlorohydrin in a flask equipped with a thermometer, a stirrer, a dropping funnel and a reflux condenser, and then 1,000 parts by mass of 20% by mass aqueous sodium hydroxide was dropped at 80°C over 5 hours while stirring, and the reaction was continued for another hour. Next, the aqueous layer was discarded by a separation operation, and the excess epichlorohydrin present in the organic layer was recovered by distillation to obtain a reaction crude product. 250 parts by mass of methyl isobutyl ketone was added to the organic layer to dissolve the contents uniformly, and then the organic layer was washed with water. Next, water was removed from the organic layer by azeotropic distillation, and the precipitated insoluble matter was removed by filtration, and the methyl isobutyl ketone was distilled off to obtain the desired epoxy resin (9). The epoxy equivalent of this epoxy resin (9) was 199 g/equivalent.
(合成例10:エポキシ樹脂(10)の製造)
温度計、攪拌器、及び還流冷却器を備えたフラスコに、トルエン409質量部、レゾルシノール220質量部、パラトルエンスルホン酸4.4質量部を添加し、窒素雰囲気下で115℃に昇温した。フタル酸ジアリル394質量部を3時間で滴下し、115℃で8時間ホールドした。20質量%水酸化ナトリウム水溶液2.3質量部を添加し、170℃でトルエンを脱溶剤し、フェノール樹脂(10)を得た。このフェノール樹脂(10)の水酸基当量は、161g/当量であった。本発明にて規定するフェノール性水酸基を有する化合物(a1)に相当するレゾルシノール1モルに対する、本発明にて規定する芳香族化合物(a2)に相当するフタル酸ジアリルのモル数は0.8であった。
(Synthesis Example 10: Production of epoxy resin (10))
To a flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a reflux condenser, 409 parts by mass of toluene, 220 parts by mass of resorcinol, and 4.4 parts by mass of paratoluenesulfonic acid were added, and the mixture was heated to 115°C under a nitrogen atmosphere. 394 parts by mass of diallyl phthalate were added dropwise over 3 hours, and the mixture was held at 115°C for 8 hours. 2.3 parts by mass of a 20% by mass aqueous sodium hydroxide solution were added, and the toluene was removed at 170°C to obtain a phenolic resin (10). The hydroxyl group equivalent of this phenolic resin (10) was 161 g/equivalent. The number of moles of diallyl phthalate corresponding to the aromatic compound (a2) defined in the present invention relative to 1 mole of resorcinol corresponding to the compound (a1) having a phenolic hydroxyl group defined in the present invention was 0.8.
次いで、温度計、攪拌器、滴下ロート及び還流冷却器を備えたフラスコに、フェノール樹脂(10)161質量部をエピクロルヒドリン462.5質量部中に溶解した後、攪拌しながら80℃で20質量%水酸化ナトリウム水溶液1,000質量部を5時間かけて滴下し、更に1時間反応を継続した。次いで、分液操作によって水層を棄却し、有機層に存在する過剰のエピクロルヒドリンを蒸留によって回収し反応粗製物を得た。有機層をメチルイソブチルケトン250質量部加えて内容物を均一に溶解させた後、水洗した。次いで、有機層から共沸蒸留により水を除去し、濾過により析出する不溶解物を除去した後、メチルイソブチルケトンを留去して、目的のエポキシ樹脂(10)を得た。このエポキシ樹脂(10)のエポキシ当量は、249g/当量であった。 Next, 161 parts by mass of phenolic resin (10) was dissolved in 462.5 parts by mass of epichlorohydrin in a flask equipped with a thermometer, a stirrer, a dropping funnel, and a reflux condenser, and then 1,000 parts by mass of a 20% by mass aqueous sodium hydroxide solution was dropped at 80°C over 5 hours while stirring, and the reaction was continued for another hour. Next, the aqueous layer was discarded by a separation operation, and the excess epichlorohydrin present in the organic layer was recovered by distillation to obtain a reaction crude product. 250 parts by mass of methyl isobutyl ketone was added to the organic layer to dissolve the contents uniformly, and then the organic layer was washed with water. Next, water was removed from the organic layer by azeotropic distillation, and the precipitated insoluble matter was removed by filtration, and the methyl isobutyl ketone was distilled off to obtain the desired epoxy resin (10). The epoxy equivalent of this epoxy resin (10) was 249 g/equivalent.
(合成例11:エポキシ樹脂(11)の製造)
温度計、攪拌器、及び還流冷却器を備えたフラスコに、トルエン315質量部、レゾルシノール220質量部、パラトルエンスルホン酸2.2質量部を添加し、窒素雰囲気下で115℃に昇温した。1,4-ジイソプロペニルベンゼン253質量部を2時間で滴下し、115℃で5時間ホールドした。20質量%水酸化ナトリウム水溶液2.3質量部を添加し、170℃でトルエンを脱溶剤し、フェノール樹脂(11)を得た。このフェノール樹脂(11)の水酸基当量は、123g/当量であった。本発明にて規定するフェノール性水酸基を有する化合物(a1)に相当するレゾルシノール1モルに対する、本発明にて規定する芳香族化合物(a2)に相当する1,4-ジイソプロペニルベンゼンのモル数は0.8であった。
(Synthesis Example 11: Production of epoxy resin (11))
To a flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a reflux condenser, 315 parts by mass of toluene, 220 parts by mass of resorcinol, and 2.2 parts by mass of paratoluenesulfonic acid were added, and the mixture was heated to 115°C under a nitrogen atmosphere. 253 parts by mass of 1,4-diisopropenylbenzene was added dropwise over 2 hours, and the mixture was held at 115°C for 5 hours. 2.3 parts by mass of a 20% by mass aqueous sodium hydroxide solution was added, and the toluene was removed at 170°C to obtain a phenolic resin (11). The hydroxyl group equivalent of this phenolic resin (11) was 123 g/equivalent. The number of moles of 1,4-diisopropenylbenzene corresponding to the aromatic compound (a2) defined in the present invention relative to 1 mole of resorcinol corresponding to the compound (a1) having a phenolic hydroxyl group defined in the present invention was 0.8.
次いで、温度計、攪拌器、滴下ロート及び還流冷却器を備えたフラスコに、フェノール樹脂(11)123質量部をエピクロルヒドリン462.5質量部中に溶解した後、攪拌しながら80℃で20質量%水酸化ナトリウム水溶液1,000質量部を5時間かけて滴下し、更に1時間反応を継続した。次いで、分液操作によって水層を棄却し、有機層に存在する過剰のエピクロルヒドリンを蒸留によって回収し反応粗製物を得た。有機層をメチルイソブチルケトン250質量部加えて内容物を均一に溶解させた後、水洗した。次いで、有機層から共沸蒸留により水を除去し、濾過により析出する不溶解物を除去した後、メチルイソブチルケトンを留去して、目的のエポキシ樹脂(11)を得た。このエポキシ樹脂(11)のエポキシ当量は、211g/当量であった。 Next, 123 parts by mass of phenolic resin (11) was dissolved in 462.5 parts by mass of epichlorohydrin in a flask equipped with a thermometer, a stirrer, a dropping funnel and a reflux condenser, and then 1,000 parts by mass of 20% by mass aqueous sodium hydroxide was dropped at 80°C over 5 hours while stirring, and the reaction was continued for another hour. Next, the aqueous layer was discarded by a separation operation, and the excess epichlorohydrin present in the organic layer was recovered by distillation to obtain a reaction crude product. 250 parts by mass of methyl isobutyl ketone was added to the organic layer to dissolve the contents uniformly, and then the organic layer was washed with water. Next, water was removed from the organic layer by azeotropic distillation, and the precipitated insoluble matter was removed by filtration, and then the methyl isobutyl ketone was distilled off to obtain the desired epoxy resin (11). The epoxy equivalent of this epoxy resin (11) was 211 g/equivalent.
(実施例1:アクリレート樹脂(1)の調製)
温度計、撹拌機、及び還流冷却器を備えたフラスコに、メチルイソブチルケトン58質量部、エポキシ樹脂(1)195質量部を仕込み、ジブチルヒドロキシトルエン0.1質量部、メトキノン0.1質量部加えた後、アクリル酸36質量部、トリフェニルホスフィン0.7質量部を添加し、空気を吹き込みながら100℃で12時間エステル化反応を行った。次いで、酸価が1mgKOH/g以下であることを確認した後、シュウ酸0.7質量部を添加し、70℃で3時間撹拌して、アクリレート樹脂(1)を得た。このアクリレート樹脂(1)の不揮発分は80質量%で、樹脂分のエポキシ当量は481g/当量であった。なお、酸価は、JIS K 0070(1992)の中和滴定法に基づいて測定した値である。また、エポキシ樹脂(1)が有するエポキシ基1モルに対するアクリル酸のモル数は0.5であった。
(Example 1: Preparation of acrylate resin (1))
A flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a reflux condenser was charged with 58 parts by mass of methyl isobutyl ketone and 195 parts by mass of epoxy resin (1), and then 0.1 parts by mass of dibutylhydroxytoluene and 0.1 parts by mass of methoquinone were added, followed by adding 36 parts by mass of acrylic acid and 0.7 parts by mass of triphenylphosphine, and an esterification reaction was carried out at 100°C for 12 hours while blowing in air. Next, after confirming that the acid value was 1 mgKOH/g or less, 0.7 parts by mass of oxalic acid was added and stirred at 70°C for 3 hours to obtain acrylate resin (1). The nonvolatile content of this acrylate resin (1) was 80% by mass, and the epoxy equivalent of the resin content was 481 g/equivalent. The acid value was measured based on the neutralization titration method of JIS K 0070 (1992). The number of moles of acrylic acid per mole of epoxy groups in epoxy resin (1) was 0.5.
(実施例2:アクリレート樹脂(2)の調製)
温度計、撹拌機、及び還流冷却器を備えたフラスコに、メチルイソブチルケトン53質量部、エポキシ樹脂(1)195質量部を仕込み、ジブチルヒドロキシトルエン0.1質量部、メトキノン0.1質量部加えた後、アクリル酸18質量部、トリフェニルホスフィン0.6質量部を添加し、空気を吹き込みながら100℃で9時間エステル化反応を行った。次いで、酸価が1mgKOH/g以下であることを確認した後、シュウ酸0.6質量部を添加し、70℃で3時間撹拌して、アクリレート樹脂(2)を得た。このアクリレート樹脂(2)の不揮発分は80質量%で、樹脂分のエポキシ当量は297g/当量であった。また、エポキシ樹脂(1)が有するエポキシ基1モルに対するアクリル酸のモル数は0.25であった。
(Example 2: Preparation of acrylate resin (2))
In a flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a reflux condenser, 53 parts by mass of methyl isobutyl ketone and 195 parts by mass of epoxy resin (1) were charged, and 0.1 parts by mass of dibutylhydroxytoluene and 0.1 parts by mass of methoquinone were added, followed by adding 18 parts by mass of acrylic acid and 0.6 parts by mass of triphenylphosphine, and esterification reaction was carried out at 100 ° C. for 9 hours while blowing air. Next, after confirming that the acid value was 1 mg KOH / g or less, 0.6 parts by mass of oxalic acid was added and stirred at 70 ° C. for 3 hours to obtain acrylate resin (2). The non-volatile content of this acrylate resin (2) was 80 mass%, and the epoxy equivalent of the resin was 297 g / equivalent. In addition, the number of moles of acrylic acid per mole of epoxy group in epoxy resin (1) was 0.25.
(実施例3:アクリレート樹脂(3)の調製)
温度計、撹拌機、及び還流冷却器を備えたフラスコに、メチルイソブチルケトン52質量部、エポキシ樹脂(1)195質量部を仕込み、ジブチルヒドロキシトルエン0.1質量部、メトキノン0.1質量部加えた後、アクリル酸10.8質量部、トリフェニルホスフィン0.6質量部を添加し、空気を吹き込みながら100℃で7時間エステル化反応を行った。次いで、酸価が1mgKOH/g以下であることを確認した後、シュウ酸0.6質量部を添加し、70℃で3時間撹拌して、アクリレート樹脂(3)を得た。このアクリレート樹脂(3)の不揮発分は80質量%で、樹脂分のエポキシ当量は253g/当量であった。また、エポキシ樹脂(1)が有するエポキシ基1モルに対するアクリル酸のモル数は0.15であった。
(Example 3: Preparation of acrylate resin (3))
In a flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a reflux condenser, 52 parts by mass of methyl isobutyl ketone and 195 parts by mass of epoxy resin (1) were charged, and 0.1 parts by mass of dibutylhydroxytoluene and 0.1 parts by mass of methoquinone were added, followed by adding 10.8 parts by mass of acrylic acid and 0.6 parts by mass of triphenylphosphine, and esterification reaction was carried out at 100 ° C. for 7 hours while blowing air. Next, after confirming that the acid value was 1 mg KOH / g or less, 0.6 parts by mass of oxalic acid was added and stirred at 70 ° C. for 3 hours to obtain acrylate resin (3). The non-volatile content of this acrylate resin (3) was 80 mass%, and the epoxy equivalent of the resin was 253 g / equivalent. In addition, the number of moles of acrylic acid per mole of epoxy group in epoxy resin (1) was 0.15.
(実施例4:アクリレート樹脂(4)の調製)
温度計、撹拌機、及び還流冷却器を備えたフラスコに、メチルイソブチルケトン62質量部、エポキシ樹脂(1)195質量部を仕込み、ジブチルヒドロキシトルエン0.1質量部、メトキノン0.1質量部加えた後、アクリル酸54質量部、トリフェニルホスフィン0.7質量部を添加し、空気を吹き込みながら100℃で15時間エステル化反応を行った。次いで、酸価が1mgKOH/g以下であることを確認した後、シュウ酸0.7質量部を添加し、70℃で3時間撹拌して、アクリレート樹脂(4)を得た。このアクリレート樹脂(4)の不揮発分は80質量%で、樹脂分のエポキシ当量は1015g/当量であった。また、エポキシ樹脂(1)が有するエポキシ基1モルに対するアクリル酸のモル数は0.75であった。
(Example 4: Preparation of acrylate resin (4))
In a flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a reflux condenser, 62 parts by mass of methyl isobutyl ketone and 195 parts by mass of epoxy resin (1) were charged, and 0.1 parts by mass of dibutylhydroxytoluene and 0.1 parts by mass of methoquinone were added, followed by adding 54 parts by mass of acrylic acid and 0.7 parts by mass of triphenylphosphine, and esterification reaction was carried out at 100 ° C. for 15 hours while blowing air. Next, after confirming that the acid value was 1 mg KOH / g or less, 0.7 parts by mass of oxalic acid was added and stirred at 70 ° C. for 3 hours to obtain acrylate resin (4). The non-volatile content of this acrylate resin (4) was 80 mass%, and the epoxy equivalent of the resin was 1015 g / equivalent. In addition, the number of moles of acrylic acid per mole of epoxy group in epoxy resin (1) was 0.75.
(実施例5:アクリレート樹脂(5)の調製)
温度計、撹拌機、及び還流冷却器を備えたフラスコに、メチルイソブチルケトン64質量部、エポキシ樹脂(1)195質量部を仕込み、ジブチルヒドロキシトルエン0.1質量部、メトキノン0.1質量部加えた後、アクリル酸61.2質量部、トリフェニルホスフィン0.8質量部を添加し、空気を吹き込みながら100℃で17時間エステル化反応を行った。次いで、酸価が1mgKOH/g以下であることを確認した後、シュウ酸0.8質量部を添加し、70℃で3時間撹拌して、アクリレート樹脂(5)を得た。このアクリレート樹脂(5)の不揮発分は80質量%で、樹脂分のエポキシ当量は1756g/当量であった。また、エポキシ樹脂(1)が有するエポキシ基1モルに対するアクリル酸のモル数は0.85であった。
(Example 5: Preparation of acrylate resin (5))
A flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a reflux condenser was charged with 64 parts by mass of methyl isobutyl ketone and 195 parts by mass of epoxy resin (1), and then 0.1 parts by mass of dibutylhydroxytoluene and 0.1 parts by mass of methoquinone were added, followed by adding 61.2 parts by mass of acrylic acid and 0.8 parts by mass of triphenylphosphine, and an esterification reaction was carried out at 100 ° C. for 17 hours while blowing air. Next, after confirming that the acid value was 1 mg KOH / g or less, 0.8 parts by mass of oxalic acid was added and stirred at 70 ° C. for 3 hours to obtain acrylate resin (5). The non-volatile content of this acrylate resin (5) was 80% by mass, and the epoxy equivalent of the resin was 1756 g / equivalent. In addition, the number of moles of acrylic acid per mole of epoxy group in epoxy resin (1) was 0.85.
(実施例6:アクリレート樹脂(6)の調製)
温度計、撹拌機、及び還流冷却器を備えたフラスコに、メチルイソブチルケトン54質量部、エポキシ樹脂(2)178質量部を仕込み、ジブチルヒドロキシトルエン0.1質量部、メトキノン0.1質量部加えた後、アクリル酸36質量部、トリフェニルホスフィン0.6質量部を添加し、空気を吹き込みながら100℃で12時間エステル化反応を行った。次いで、酸価が1mgKOH/g以下であることを確認した後、シュウ酸0.6質量部を添加し、70℃で3時間撹拌して、アクリレート樹脂(6)を得た。このアクリレート樹脂(6)の不揮発分は80質量%で、樹脂分のエポキシ当量は447g/当量であった。また、エポキシ樹脂(2)が有するエポキシ基1モルに対するアクリル酸のモル数は0.5であった。
(Example 6: Preparation of acrylate resin (6))
A flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a reflux condenser was charged with 54 parts by mass of methyl isobutyl ketone and 178 parts by mass of epoxy resin (2), and then 0.1 parts by mass of dibutylhydroxytoluene and 0.1 parts by mass of methoquinone were added, followed by adding 36 parts by mass of acrylic acid and 0.6 parts by mass of triphenylphosphine, and an esterification reaction was carried out at 100°C for 12 hours while blowing in air. Next, after confirming that the acid value was 1 mgKOH/g or less, 0.6 parts by mass of oxalic acid was added and stirred at 70°C for 3 hours to obtain an acrylate resin (6). The non-volatile content of this acrylate resin (6) was 80% by mass, and the epoxy equivalent of the resin was 447 g/equivalent. In addition, the number of moles of acrylic acid per mole of epoxy group in epoxy resin (2) was 0.5.
(実施例7:アクリレート樹脂(7)の調製)
温度計、撹拌機、及び還流冷却器を備えたフラスコに、メチルイソブチルケトン50質量部、エポキシ樹脂(3)164質量部を仕込み、ジブチルヒドロキシトルエン0.1質量部、メトキノン0.1質量部加えた後、アクリル酸36質量部、トリフェニルホスフィン0.6質量部を添加し、空気を吹き込みながら100℃で12時間エステル化反応を行った。次いで、酸価が1mgKOH/g以下であることを確認した後、シュウ酸0.6質量部を添加し、70℃で3時間撹拌して、アクリレート樹脂(7)を得た。このアクリレート樹脂(7)の不揮発分は80質量%で、樹脂分のエポキシ当量は421g/当量であった。また、エポキシ樹脂(3)が有するエポキシ基1モルに対するアクリル酸のモル数は0.5であった。
(Example 7: Preparation of acrylate resin (7))
A flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a reflux condenser was charged with 50 parts by mass of methyl isobutyl ketone and 164 parts by mass of epoxy resin (3), and then 0.1 parts by mass of dibutylhydroxytoluene and 0.1 parts by mass of methoquinone were added, followed by adding 36 parts by mass of acrylic acid and 0.6 parts by mass of triphenylphosphine, and an esterification reaction was carried out at 100°C for 12 hours while blowing in air. Next, after confirming that the acid value was 1 mgKOH/g or less, 0.6 parts by mass of oxalic acid was added and stirred at 70°C for 3 hours to obtain acrylate resin (7). The non-volatile content of this acrylate resin (7) was 80% by mass, and the epoxy equivalent of the resin was 421 g/equivalent. In addition, the number of moles of acrylic acid per mole of epoxy group in epoxy resin (3) was 0.5.
(実施例8:アクリレート樹脂(8)の調製)
温度計、撹拌機、及び還流冷却器を備えたフラスコに、メチルイソブチルケトン49質量部、エポキシ樹脂(4)158質量部を仕込み、ジブチルヒドロキシトルエン0.1質量部、メトキノン0.1質量部加えた後、アクリル酸36質量部、トリフェニルホスフィン0.6質量部を添加し、空気を吹き込みながら100℃で12時間エステル化反応を行った。次いで、酸価が1mgKOH/g以下であることを確認した後、シュウ酸0.6質量部を添加し、70℃で3時間撹拌して、アクリレート樹脂(8)を得た。このアクリレート樹脂(8)の不揮発分は80質量%で、樹脂分のエポキシ当量は401g/当量であった。また、エポキシ樹脂(4)が有するエポキシ基1モルに対するアクリル酸のモル数は0.5であった。
(Example 8: Preparation of acrylate resin (8))
In a flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a reflux condenser, 49 parts by mass of methyl isobutyl ketone and 158 parts by mass of epoxy resin (4) were charged, and 0.1 parts by mass of dibutylhydroxytoluene and 0.1 parts by mass of methoquinone were added, followed by adding 36 parts by mass of acrylic acid and 0.6 parts by mass of triphenylphosphine, and esterification reaction was carried out at 100 ° C. for 12 hours while blowing air. Next, after confirming that the acid value was 1 mg KOH / g or less, 0.6 parts by mass of oxalic acid was added and stirred at 70 ° C. for 3 hours to obtain acrylate resin (8). The non-volatile content of this acrylate resin (8) was 80 mass%, and the epoxy equivalent of the resin was 401 g / equivalent. In addition, the number of moles of acrylic acid per mole of epoxy group in epoxy resin (4) was 0.5.
(実施例9:アクリレート樹脂(9)の調製)
温度計、撹拌機、及び還流冷却器を備えたフラスコに、メチルイソブチルケトン64質量部、エポキシ樹脂(5)219質量部を仕込み、ジブチルヒドロキシトルエン0.1質量部、メトキノン0.1質量部加えた後、アクリル酸36質量部、トリフェニルホスフィン0.8質量部を添加し、空気を吹き込みながら100℃で12時間エステル化反応を行った。次いで、酸価が1mgKOH/g以下であることを確認した後、シュウ酸0.8質量部を添加し、70℃で3時間撹拌して、アクリレート樹脂(9)を得た。このアクリレート樹脂(9)の不揮発分は80質量%で、樹脂分のエポキシ当量は533g/当量であった。また、エポキシ樹脂(5)が有するエポキシ基1モルに対するアクリル酸のモル数は0.5であった。
(Example 9: Preparation of acrylate resin (9))
In a flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a reflux condenser, 64 parts by mass of methyl isobutyl ketone and 219 parts by mass of epoxy resin (5) were charged, and 0.1 parts by mass of dibutylhydroxytoluene and 0.1 parts by mass of methoquinone were added, followed by adding 36 parts by mass of acrylic acid and 0.8 parts by mass of triphenylphosphine, and carrying out an esterification reaction at 100°C for 12 hours while blowing in air. Next, after confirming that the acid value was 1 mgKOH/g or less, 0.8 parts by mass of oxalic acid was added and stirred at 70°C for 3 hours to obtain acrylate resin (9). The non-volatile content of this acrylate resin (9) was 80% by mass, and the epoxy equivalent of the resin was 533 g/equivalent. In addition, the number of moles of acrylic acid per mole of epoxy group in epoxy resin (5) was 0.5.
(実施例10:アクリレート樹脂(10)の調製)
温度計、撹拌機、及び還流冷却器を備えたフラスコに、メチルイソブチルケトン65質量部、エポキシ樹脂(6)223質量部を仕込み、ジブチルヒドロキシトルエン0.1質量部、メトキノン0.1質量部加えた後、アクリル酸36質量部、トリフェニルホスフィン0.8質量部を添加し、空気を吹き込みながら100℃で12時間エステル化反応を行った。次いで、酸価が1mgKOH/g以下であることを確認した後、シュウ酸0.8質量部を添加し、70℃で3時間撹拌して、アクリレート樹脂(10)を得た。このアクリレート樹脂(10)の不揮発分は80質量%で、樹脂分のエポキシ当量は539g/当量であった。また、エポキシ樹脂(6)が有するエポキシ基1モルに対するアクリル酸のモル数は0.5であった。
(Example 10: Preparation of acrylate resin (10))
A flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a reflux condenser was charged with 65 parts by mass of methyl isobutyl ketone and 223 parts by mass of epoxy resin (6), and then 0.1 parts by mass of dibutylhydroxytoluene and 0.1 parts by mass of methoquinone were added, followed by adding 36 parts by mass of acrylic acid and 0.8 parts by mass of triphenylphosphine, and an esterification reaction was carried out at 100°C for 12 hours while blowing in air. Next, after confirming that the acid value was 1 mgKOH/g or less, 0.8 parts by mass of oxalic acid was added and stirred at 70°C for 3 hours to obtain an acrylate resin (10). The non-volatile content of this acrylate resin (10) was 80% by mass, and the epoxy equivalent of the resin was 539 g/equivalent. In addition, the number of moles of acrylic acid per mole of epoxy group in the epoxy resin (6) was 0.5.
(実施例11:アクリレート樹脂(11)の調製)
温度計、撹拌機、及び還流冷却器を備えたフラスコに、メチルイソブチルケトン84質量部、エポキシ樹脂(7)300質量部を仕込み、ジブチルヒドロキシトルエン0.2質量部、メトキノン0.2質量部加えた後、アクリル酸36質量部、トリフェニルホスフィン1.0質量部を添加し、空気を吹き込みながら100℃で12時間エステル化反応を行った。次いで、酸価が1mgKOH/g以下であることを確認した後、シュウ酸1.0質量部を添加し、70℃で3時間撹拌して、アクリレート樹脂(11)を得た。このアクリレート樹脂(11)の不揮発分は80質量%で、樹脂分のエポキシ当量は699g/当量であった。また、エポキシ樹脂(7)が有するエポキシ基1モルに対するアクリル酸のモル数は0.5であった。
(Example 11: Preparation of acrylate resin (11))
In a flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a reflux condenser, 84 parts by mass of methyl isobutyl ketone and 300 parts by mass of epoxy resin (7) were charged, and 0.2 parts by mass of dibutylhydroxytoluene and 0.2 parts by mass of methoquinone were added, followed by adding 36 parts by mass of acrylic acid and 1.0 parts by mass of triphenylphosphine, and esterification reaction was carried out at 100 ° C. for 12 hours while blowing air. Next, after confirming that the acid value was 1 mg KOH / g or less, 1.0 part by mass of oxalic acid was added and stirred at 70 ° C. for 3 hours to obtain acrylate resin (11). The non-volatile content of this acrylate resin (11) was 80 mass%, and the epoxy equivalent of the resin was 699 g / equivalent. In addition, the number of moles of acrylic acid per mole of epoxy group in epoxy resin (7) was 0.5.
(実施例12:アクリレート樹脂(12)の調製)
温度計、撹拌機、及び還流冷却器を備えたフラスコに、メチルイソブチルケトン61質量部、エポキシ樹脂(8)206質量部を仕込み、ジブチルヒドロキシトルエン0.1質量部、メトキノン0.1質量部加えた後、アクリル酸36質量部、トリフェニルホスフィン0.7質量部を添加し、空気を吹き込みながら100℃で12時間エステル化反応を行った。次いで、酸価が1mgKOH/g以下であることを確認した後、シュウ酸0.7質量部を添加し、70℃で3時間撹拌して、アクリレート樹脂(12)を得た。このアクリレート樹脂(12)の不揮発分は80質量%で、樹脂分のエポキシ当量は501g/当量であった。また、エポキシ樹脂(8)が有するエポキシ基1モルに対するアクリル酸のモル数は0.5であった。
(Example 12: Preparation of acrylate resin (12))
In a flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a reflux condenser, 61 parts by mass of methyl isobutyl ketone and 206 parts by mass of epoxy resin (8) were charged, and 0.1 parts by mass of dibutylhydroxytoluene and 0.1 parts by mass of methoquinone were added, followed by adding 36 parts by mass of acrylic acid and 0.7 parts by mass of triphenylphosphine, and carrying out an esterification reaction at 100°C for 12 hours while blowing in air. Next, after confirming that the acid value was 1 mgKOH/g or less, 0.7 parts by mass of oxalic acid was added and stirred at 70°C for 3 hours to obtain an acrylate resin (12). The non-volatile content of this acrylate resin (12) was 80% by mass, and the epoxy equivalent of the resin was 501 g/equivalent. In addition, the number of moles of acrylic acid per mole of epoxy group in the epoxy resin (8) was 0.5.
(実施例13:アクリレート樹脂(13)の調製)
温度計、撹拌機、及び還流冷却器を備えたフラスコに、メチルイソブチルケトン59質量部、エポキシ樹脂(9)199質量部を仕込み、ジブチルヒドロキシトルエン0.1質量部、メトキノン0.1質量部加えた後、アクリル酸36質量部、トリフェニルホスフィン0.7質量部を添加し、空気を吹き込みながら100℃で12時間エステル化反応を行った。次いで、酸価が1mgKOH/g以下であることを確認した後、シュウ酸0.7質量部を添加し、70℃で3時間撹拌して、アクリレート樹脂(13)を得た。このアクリレート樹脂(13)の不揮発分は80質量%で、樹脂分のエポキシ当量は493g/当量であった。また、エポキシ樹脂(9)が有するエポキシ基1モルに対するアクリル酸のモル数は0.5であった。
(Example 13: Preparation of acrylate resin (13))
In a flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a reflux condenser, 59 parts by mass of methyl isobutyl ketone and 199 parts by mass of epoxy resin (9) were charged, and 0.1 parts by mass of dibutylhydroxytoluene and 0.1 parts by mass of methoquinone were added, followed by adding 36 parts by mass of acrylic acid and 0.7 parts by mass of triphenylphosphine, and esterification reaction was carried out at 100 ° C. for 12 hours while blowing air. Next, after confirming that the acid value was 1 mg KOH / g or less, 0.7 parts by mass of oxalic acid was added and stirred at 70 ° C. for 3 hours to obtain acrylate resin (13). The non-volatile content of this acrylate resin (13) was 80 mass%, and the epoxy equivalent of the resin was 493 g / equivalent. In addition, the number of moles of acrylic acid per mole of epoxy group in epoxy resin (9) was 0.5.
(実施例14:アクリレート樹脂(14)の調製)
温度計、撹拌機、及び還流冷却器を備えたフラスコに、メチルイソブチルケトン71質量部、エポキシ樹脂(10)249質量部を仕込み、ジブチルヒドロキシトルエン0.1質量部、メトキノン0.1質量部加えた後、アクリル酸36質量部、トリフェニルホスフィン0.9質量部を添加し、空気を吹き込みながら100℃で12時間エステル化反応を行った。次いで、酸価が1mgKOH/g以下であることを確認した後、シュウ酸0.9質量部を添加し、70℃で3時間撹拌して、アクリレート樹脂(14)を得た。このアクリレート樹脂(14)の不揮発分は80質量%で、樹脂分のエポキシ当量は597g/当量であった。また、エポキシ樹脂(10)が有するエポキシ基1モルに対するアクリル酸のモル数は0.5であった。
(Example 14: Preparation of acrylate resin (14))
In a flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a reflux condenser, 71 parts by mass of methyl isobutyl ketone and 249 parts by mass of epoxy resin (10) were charged, and 0.1 parts by mass of dibutylhydroxytoluene and 0.1 parts by mass of methoquinone were added, followed by adding 36 parts by mass of acrylic acid and 0.9 parts by mass of triphenylphosphine, and esterification reaction was carried out at 100°C for 12 hours while blowing air. Next, after confirming that the acid value was 1 mgKOH/g or less, 0.9 parts by mass of oxalic acid was added and stirred at 70°C for 3 hours to obtain acrylate resin (14). The non-volatile content of this acrylate resin (14) was 80% by mass, and the epoxy equivalent of the resin was 597 g/equivalent. In addition, the number of moles of acrylic acid per mole of epoxy group in epoxy resin (10) was 0.5.
(実施例15:アクリレート樹脂(15)の調製)
温度計、撹拌機、及び還流冷却器を備えたフラスコに、メチルイソブチルケトン62質量部、エポキシ樹脂(11)211質量部を仕込み、ジブチルヒドロキシトルエン0.1質量部、メトキノン0.1質量部加えた後、アクリル酸36質量部、トリフェニルホスフィン0.7質量部を添加し、空気を吹き込みながら100℃で12時間エステル化反応を行った。次いで、酸価が1mgKOH/g以下であることを確認した後、シュウ酸0.7質量部を添加し、70℃で3時間撹拌して、アクリレート樹脂(15)を得た。このアクリレート樹脂(15)の不揮発分は80質量%で、樹脂分のエポキシ当量は515g/当量であった。また、エポキシ樹脂(11)が有するエポキシ基1モルに対するアクリル酸のモル数は0.5であった。
(Example 15: Preparation of acrylate resin (15))
In a flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a reflux condenser, 62 parts by mass of methyl isobutyl ketone and 211 parts by mass of epoxy resin (11) were charged, and 0.1 parts by mass of dibutylhydroxytoluene and 0.1 parts by mass of methoquinone were added, followed by adding 36 parts by mass of acrylic acid and 0.7 parts by mass of triphenylphosphine, and esterification reaction was carried out at 100 ° C. for 12 hours while blowing air. Next, after confirming that the acid value was 1 mg KOH / g or less, 0.7 parts by mass of oxalic acid was added and stirred at 70 ° C. for 3 hours to obtain acrylate resin (15). The non-volatile content of this acrylate resin (15) was 80 mass%, and the epoxy equivalent of the resin was 515 g / equivalent. In addition, the number of moles of acrylic acid per mole of epoxy group in epoxy resin (11) was 0.5.
(実施例16:アクリレート樹脂(16)の調製)
温度計、撹拌機、及び還流冷却器を備えたフラスコに、メチルイソブチルケトン114質量部、エポキシ樹脂(1)195質量部を仕込み、ジブチルヒドロキシトルエン0.1質量部、メトキノン0.1質量部加えた後、アクリル酸36質量部、トリフェニルホスフィン1.4質量部を添加し、空気を吹き込みながら120℃で8時間エステル化反応を行った。次いで、シュウ酸1.4質量部を添加し、70℃で3時間撹拌して、アクリレート樹脂(16)を得た。このアクリレート樹脂(16)の不揮発分は70質量%で、樹脂分のエポキシ当量は15520g/当量であった。また、エポキシ樹脂(1)が有するエポキシ基1モルに対するアクリル酸のモル数は1.0であった。
(Example 16: Preparation of acrylate resin (16))
In a flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a reflux condenser, 114 parts by mass of methyl isobutyl ketone and 195 parts by mass of epoxy resin (1) were charged, and 0.1 parts by mass of dibutylhydroxytoluene and 0.1 parts by mass of methoquinone were added, followed by addition of 36 parts by mass of acrylic acid and 1.4 parts by mass of triphenylphosphine, and an esterification reaction was carried out at 120°C for 8 hours while blowing in air. Next, 1.4 parts by mass of oxalic acid was added, and the mixture was stirred at 70°C for 3 hours to obtain an acrylate resin (16). The non-volatile content of this acrylate resin (16) was 70% by mass, and the epoxy equivalent of the resin was 15520 g/equivalent. In addition, the number of moles of acrylic acid per mole of epoxy group in the epoxy resin (1) was 1.0.
(実施例17:メタリレート樹脂(1)の調製)
温度計、撹拌機、及び還流冷却器を備えたフラスコに、メチルイソブチルケトン60質量部、エポキシ樹脂(1)195質量部を仕込み、ジブチルヒドロキシトルエン0.1質量部、メトキノン0.1質量部加えた後、メタクリル酸43質量部、トリフェニルホスフィン0.7質量部を添加し、空気を吹き込みながら100℃で10時間エステル化反応を行った。次いで、酸価が1mgKOH/g以下であることを確認した後、シュウ酸0.7質量部を添加し、70℃で3時間撹拌して、メタリレート樹脂(1)を得た。このメタリレート樹脂(1)の不揮発分は80質量%で、樹脂分のエポキシ当量は499g/当量であった。また、エポキシ樹脂(1)が有するエポキシ基1モルに対するメタクリル酸のモル数は0.5であった。
(Example 17: Preparation of methacrylate resin (1))
In a flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a reflux condenser, 60 parts by mass of methyl isobutyl ketone and 195 parts by mass of epoxy resin (1) were charged, and 0.1 parts by mass of dibutylhydroxytoluene and 0.1 parts by mass of methoquinone were added, followed by adding 43 parts by mass of methacrylic acid and 0.7 parts by mass of triphenylphosphine, and esterification reaction was carried out at 100 ° C. for 10 hours while blowing air. Next, after confirming that the acid value was 1 mg KOH / g or less, 0.7 parts by mass of oxalic acid was added and stirred at 70 ° C. for 3 hours to obtain methacrylate resin (1). The nonvolatile content of this methacrylate resin (1) was 80 mass%, and the epoxy equivalent of the resin was 499 g / equivalent. In addition, the number of moles of methacrylic acid per mole of epoxy group in epoxy resin (1) was 0.5.
(比較例1:アクリレート樹脂(R1)の調製)
温度計、撹拌機、及び還流冷却器を備えたフラスコに、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(DIC株式会社製「EPICLON EXA-850CRP」、エポキシ当量172g/当量)344質量部を仕込み、ジブチルヒドロキシトルエン0.21質量部、メトキノン0.21質量部加えた後、アクリル酸72質量部、トリフェニルホスフィン0.21質量部を添加し、空気を吹き込みながら100℃で10時間エステル化反応を行った。次いで、酸価が1mgKOH/g以下であることを確認した後、シュウ酸0.42質量部を添加し、70℃で3時間撹拌してアクリレート樹脂(R1)を得た。このアクリレート樹脂(R1)の樹脂分のエポキシ当量は445g/当量であった。
(Comparative Example 1: Preparation of Acrylate Resin (R1))
A flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a reflux condenser was charged with 344 parts by mass of bisphenol A type epoxy resin (DIC Corporation "EPICLON EXA-850CRP", epoxy equivalent 172 g/equivalent), 0.21 parts by mass of dibutylhydroxytoluene and 0.21 parts by mass of methoquinone were added, and then 72 parts by mass of acrylic acid and 0.21 parts by mass of triphenylphosphine were added, and an esterification reaction was carried out at 100 ° C. for 10 hours while blowing in air. Next, after confirming that the acid value was 1 mg KOH / g or less, 0.42 parts by mass of oxalic acid was added, and the mixture was stirred at 70 ° C. for 3 hours to obtain an acrylate resin (R1). The epoxy equivalent of the resin content of this acrylate resin (R1) was 445 g/equivalent.
(実施例18:硬化性樹脂組成物(1)の調製)
実施例1で得た不揮発分80質量%のアクリレート樹脂(1)100質量部と、アクリレートモノマー20質量部と、光重合性開始剤(IGM Resins社製「Omnirad 184D」)5質量部と、2-エチル-4-メチル-イミダゾール1.6質量部とを混合し、硬化性樹脂組成物(1)を得た。
(Example 18: Preparation of curable resin composition (1))
100 parts by mass of the acrylate resin (1) having a non-volatile content of 80% by mass obtained in Example 1, 20 parts by mass of an acrylate monomer, 5 parts by mass of a photopolymerization initiator ("Omnirad 184D" manufactured by IGM Resins), and 1.6 parts by mass of 2-ethyl-4-methyl-imidazole were mixed to obtain a curable resin composition (1).
(実施例19~34:硬化性樹脂組成物(2)~(17)の調製)
実施例18で用いたアクリレート樹脂(1)の代わりに、実施例2~17で得た不揮発分80質量%アクリレート樹脂(2)~(16)及びメタクリレート樹脂(1)を表1及び2に示した配合量で用いた以外は、実施例18と同様にして、硬化性樹脂組成物(2)~(16)を得た。
(Examples 19 to 34: Preparation of curable resin compositions (2) to (17))
Curable resin compositions (2) to (16) were obtained in the same manner as in Example 18, except that the acrylate resin (1) used in Example 18 was replaced with the acrylate resin (2) to (16) having a non-volatile content of 80% by mass obtained in Examples 2 to 17 and the methacrylate resin (1) in the amounts shown in Tables 1 and 2.
(比較例2:硬化性樹脂組成物(R1)の調製)
比較例1で得た不揮発分80質量%のアクリレート樹脂(R1)100質量部と、アクリレートモノマー20質量部と、光重合性開始剤(IGM Resins社製「Omnirad 184D」)5質量部と、2-エチル-4-メチル-イミダゾール1.6質量部とを混合し、硬化性樹脂組成物(R1)を得た。
(Comparative Example 2: Preparation of Curable Resin Composition (R1))
100 parts by mass of the acrylate resin (R1) having a non-volatile content of 80% by mass obtained in Comparative Example 1, 20 parts by mass of an acrylate monomer, 5 parts by mass of a photopolymerization initiator ("Omnirad 184D" manufactured by IGM Resins), and 1.6 parts by mass of 2-ethyl-4-methyl-imidazole were mixed to obtain a curable resin composition (R1).
上記の実施例及び比較例で得られた硬化性樹脂組成物(1)~(17)及び(R1)を用いて、下記の評価を行った。 The following evaluations were carried out using the curable resin compositions (1) to (17) and (R1) obtained in the above examples and comparative examples.
[伸度の測定方法]
伸度の測定は、引張試験に基づいて行った。
<試験片1の作製>
銅箔(古河産業株式会社製、電解銅箔「F2-WS」18μm)上に実施例及び比較例で得られた硬化性樹脂組成物を50μmのアプリケーターで塗布し、メタルハライドランプを用いて10kJ/m2の紫外線を照射した後、160℃で1時間加熱した。銅箔から硬化物を剥離し、試験片1(硬化物)を得た。
[Method of measuring elongation]
The elongation was measured based on a tensile test.
<Preparation of Test Piece 1>
The curable resin compositions obtained in the Examples and Comparative Examples were applied onto copper foil (electrolytic copper foil "F2-WS" 18 μm, manufactured by Furukawa Sangyo Co., Ltd.) using a 50 μm applicator, irradiated with ultraviolet light of 10 kJ/ m2 using a metal halide lamp, and then heated at 160° C. for 1 hour. The cured product was peeled off from the copper foil to obtain test piece 1 (cured product).
<引張試験>
前記試験片1を10mm×80mmの大きさに切り出し、株式会社島津製作所製精密万能試験機オートグラフ「AG-IS」を用いて、下記の測定条件で試験片1の引張試験を行った。試験片が破断するまでの伸度(%)を測定し、以下の基準に従い評価した。
<Tensile test>
The test piece 1 was cut into a size of 10 mm x 80 mm, and a tensile test was performed on the test piece 1 under the following measurement conditions using a precision universal testing machine "Autograph AG-IS" manufactured by Shimadzu Corporation. The elongation (%) until the test piece broke was measured, and evaluated according to the following criteria.
測定条件:温度23℃、湿度50%、標線間距離20mm、支点間距離20mm、引張速度10mm/分 Measurement conditions: temperature 23°C, humidity 50%, distance between gauge lines 20mm, distance between fulcrums 20mm, tensile speed 10mm/min
[誘電率の測定方法]
各実施例及び比較例で得られた硬化性樹脂組成物を、アプリケーターを用いてガラス基材上に膜厚50μmとなるように塗布し、80℃で30分乾燥させた。次いで、メタルハライドランプを用いて10kJ/m2の紫外線を照射した後、160℃で1時間加熱して、硬化塗膜を得た。次いで、前記硬化塗膜をガラス基材から剥離し、硬化物を得た。次いで、温度23℃、湿度50%の室内に24時間保管したものを試験片とし、アジレント・テクノロジー株式会社製「ネットワークアナライザE8362C」を用いて、空洞共振法により試験片の1GHzでの誘電率を測定した。
[Method of measuring dielectric constant]
The curable resin composition obtained in each Example and Comparative Example was applied to a glass substrate using an applicator to a film thickness of 50 μm, and dried at 80° C. for 30 minutes. Then, after irradiating ultraviolet rays of 10 kJ/m 2 using a metal halide lamp, the coating was heated at 160° C. for 1 hour to obtain a cured coating film. Then, the cured coating film was peeled off from the glass substrate to obtain a cured product. Then, the test piece was stored in a room at a temperature of 23° C. and a humidity of 50% for 24 hours, and the dielectric constant of the test piece at 1 GHz was measured by a cavity resonance method using a "Network Analyzer E8362C" manufactured by Agilent Technologies, Inc.
[誘電正接の測定方法]
各実施例及び比較例で得られた硬化性樹脂組成物を、アプリケーターを用いてガラス基材上に膜厚50μmとなるように塗布し、80℃で30分乾燥させた。次いで、メタルハライドランプを用いて10kJ/m2の紫外線を照射した後、160℃で1時間加熱して、硬化塗膜を得た。次いで、前記硬化塗膜をガラス基材から剥離し、硬化物を得た。次いで、温度23℃、湿度50%の室内に24時間保管したものを試験片とし、アジレント・テクノロジー株式会社製「ネットワークアナライザE8362C」を用いて、空洞共振法により試験片の1GHzでの誘電正接を測定した。
[Method of measuring dielectric tangent]
The curable resin composition obtained in each Example and Comparative Example was applied to a glass substrate using an applicator to a film thickness of 50 μm, and dried at 80° C. for 30 minutes. Then, after irradiating ultraviolet rays of 10 kJ/m 2 using a metal halide lamp, the coating was heated at 160° C. for 1 hour to obtain a cured coating film. Then, the cured coating film was peeled off from the glass substrate to obtain a cured product. Then, the test piece was stored in a room at a temperature of 23° C. and a humidity of 50% for 24 hours, and the dielectric loss tangent of the test piece at 1 GHz was measured by a cavity resonance method using a "Network Analyzer E8362C" manufactured by Agilent Technologies, Inc.
実施例18~34で作製した硬化性樹脂組成物(1)~(17)及び比較例2で作製した硬化性樹脂組成物(R1)の組成及び評価結果を表1及び2に示す。 The compositions and evaluation results of the curable resin compositions (1) to (17) prepared in Examples 18 to 34 and the curable resin composition (R1) prepared in Comparative Example 2 are shown in Tables 1 and 2.
表1及び2におけるアクリレート樹脂及びメタクリレート樹脂の質量部の記載は、固形分値である。 The parts by mass of acrylate resin and methacrylate resin in Tables 1 and 2 are solids values.
なお、表1中の「アクリレートモノマー」は、ビスフェノールAのEO変性ジアクリレート(Miwon Specialty Chemical社製「Miramaer M240」)を示す。 In addition, "Acrylate Monomer" in Table 1 refers to EO-modified diacrylate of bisphenol A ("Miramaer M240" manufactured by Miwon Specialty Chemical Co., Ltd.).
表1中の「光重合開始剤」は、IGM Resins社製「Omnirad 184D」を示す。 "Photopolymerization initiator" in Table 1 refers to "Omnirad 184D" manufactured by IGM Resins.
表1及び2に示した実施例18~34は、本発明のアクリレート樹脂を用いた硬化性樹脂組成物の例である。本発明のアクリレート樹脂は、硬化物において優れた伸度及び誘電特性を有することが確認できた。 Examples 18 to 34 shown in Tables 1 and 2 are examples of curable resin compositions using the acrylate resin of the present invention. It was confirmed that the acrylate resin of the present invention has excellent elongation and dielectric properties in the cured product.
一方、比較例2は、エチレン性不飽和結合を少なくとも2つ有する芳香族化合物を用いないエポキシ樹脂を原料としたアクリレート樹脂を用いた硬化性樹脂組成物の例である。この硬化性樹脂組成物は、伸度及び誘電特性においても不十分であることが確認できた。 On the other hand, Comparative Example 2 is an example of a curable resin composition using an acrylate resin made from an epoxy resin that does not use an aromatic compound having at least two ethylenically unsaturated bonds. It was confirmed that this curable resin composition also has insufficient elongation and dielectric properties.
Claims (7)
不飽和一塩基酸(B)と、
を必須原料とする(メタ)アクリレート樹脂であって、
前記エポキシ樹脂(A)が、フェノール性水酸基を有する化合物(a1)、エチレン性不飽和結合を少なくとも2つ有する芳香族化合物(a2)及びエピハロヒドリン(a3)を必須原料とするものであって、
前記芳香族化合物(a2)は、ジビニルベンゼン及び/又はジイソプロペニルベンゼンであり、
前記芳香族化合物(a2)の使用量が、前記フェノール性水酸基を有する化合物(a1)1モルに対して、0.25~1モルの範囲であることを特徴とする(メタ)アクリレート樹脂。 An epoxy resin (A),
An unsaturated monobasic acid (B);
A (meth)acrylate resin having as an essential raw material
The epoxy resin (A) is produced using, as essential raw materials, a compound (a1) having a phenolic hydroxyl group, an aromatic compound (a2) having at least two ethylenically unsaturated bonds, and an epihalohydrin (a3),
The aromatic compound (a2) is divinylbenzene and/or diisopropenylbenzene,
The (meth)acrylate resin is characterized in that the amount of the aromatic compound (a2) used is in the range of 0.25 to 1 mole per mole of the compound (a1) having a phenolic hydroxyl group .
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