JP7574697B2 - Manufacturing method for insulating circuit board - Google Patents
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Description
本発明は、大電流、高電圧を制御するパワーモジュール等に用いられる絶縁回路基板の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing an insulating circuit board used in power modules that control high currents and high voltages.
従来のパワーモジュール等に用いられる絶縁回路基板として、例えば、特許文献1に記載の金属接合セラミックス基板(絶縁回路基板)では、AlN(窒化アルミ)、Al2O3(アルミナ)、Si3N4(窒化ケイ素)などからなるセラミックス基板と、このセラミックス基板の一方の面に第一の金属板が接合されて構成された回路層と、セラミックス基板の他方の面に第二の金属板が接合されて構成された金属層とを備えている。また、その製造工程として、切断ライン(スクライブライン)を形成して複数のセラミックス基板に分割可能なセラミックス板に、金属板を接触配置した後、活性金属法等によってこれらを接合し、金属板の不要な部分をエッチングによって除去することで回路パターンを形成し、セラミックス板をスクライブラインから分割して個々の絶縁回路基板を得ることが記載されている。
なお、セラミックス板と金属板とをろう付けする場合は、金属板が銅又は銅合金板である場合、ろう材には活性金属を含むAg-Ti系やAg-Cu-Ti系のろう材ものが用いられる。
For example, a metal-bonded ceramic substrate (insulated circuit substrate) described in Patent Document 1 as an insulating circuit substrate used in conventional power modules and the like, includes a ceramic substrate made of AlN (aluminum nitride), Al 2 O 3 (alumina), Si 3 N 4 (silicon nitride), or the like, a circuit layer formed by bonding a first metal plate to one surface of the ceramic substrate, and a metal layer formed by bonding a second metal plate to the other surface of the ceramic substrate. The manufacturing process described in Patent Document 1 includes placing a metal plate in contact with a ceramic substrate that can be divided into a plurality of ceramic substrates by forming cutting lines (scribe lines), bonding them together by an active metal method or the like, removing unnecessary portions of the metal plate by etching to form a circuit pattern, and dividing the ceramic substrate along the scribe lines to obtain individual insulating circuit substrates.
When brazing a ceramic plate to a metal plate, if the metal plate is a copper or copper alloy plate, an Ag--Ti or Ag--Cu--Ti brazing material containing an active metal is used.
しかしながら、エッチング法で接合体を製造する際、回路形成用に必要なレジスト印刷の位置決めをするためにセラミックス板の少なくとも対角2角以上が露出している必要があり、そのために少なくとも連続する金属板の2辺が接合後にセラミックス基板外周より内側に存在する必要がある。
一般的にセラミックス板の外周部には製造過程で製品部分となるセラミックス板を保護するために「ダミー部」が存在する。通常、このセラミックス板の露出している二つの角部をその後のレジスト印刷時の基準としている。
However, when manufacturing a bonded body by the etching method, at least two diagonal corners of the ceramic plate must be exposed in order to position the resist printing required for circuit formation, and therefore at least two sides of the continuous metal plate must be located inside the outer periphery of the ceramic substrate after bonding.
Generally, a "dummy part" exists around the outer periphery of a ceramic plate to protect the ceramic plate that will become the product during the manufacturing process. Usually, the two exposed corners of this ceramic plate are used as the reference for the subsequent resist printing.
一方、接合性確保のため、接合必要箇所には最低限ろう材が存在する必要がある。必要なろう材面積を確保しながら、金属板とろう材の位置関係が不適切な場合、接合時にセラミックス板が露出する部分(「ダミー部」)に、セラミックス板と金属板との間から余剰なろう材が流れ出し、金属板の側面を経て金属板表面に這い上がり外観不良および回路形成時のエッチング不良の原因となる問題があった。 On the other hand, to ensure bondability, a minimum amount of brazing material must be present in the areas where bonding is required. If the positional relationship between the metal plate and the brazing material is inappropriate while ensuring the required brazing material area, excess brazing material can flow out from between the ceramic plate and the metal plate in the area where the ceramic plate is exposed when bonded (the "dummy area"), and creep up along the sides of the metal plate onto the surface of the metal plate, causing problems such as poor appearance and poor etching when forming circuits.
本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、「ダミー部」へのろう材の流れだしを抑制し、金属板表面へのろう材の這い上がりによる外観不良及びエッチング不良を防止することを目的とする。 The present invention was made in consideration of these circumstances, and aims to prevent the brazing material from flowing out into the "dummy part" and to prevent poor appearance and etching caused by the brazing material creeping up onto the metal plate surface.
本発明の絶縁回路基板の製造方法は、分割用スクライブラインが形成された矩形状のセラミックス板と金属板とをろう材を介して積層する積層工程と、積層体を加熱してろう材を溶融させた後、冷却することにより前記セラミックス板と前記金属板とを接合する接合工程と、接合工程後に前記金属板をエッチングして不要部分を除去するエッチング工程と、エッチング工程後に前記セラミックス板を前記スクライブラインに沿って分割することにより複数の絶縁回路基板を形成する分割工程と、を有する絶縁回路基板の製造方法であって、
前記積層工程では、前記セラミックス板と前記金属板との一つの角部を揃えた状態に位置決めすることにより、該一つの角部に対向する角部を構成する二辺に、セラミックス板のダミー部を形成しており、
前記接合工程では、前記ダミー部において、溶融した前記ろう材の広がり領域の外縁が、前記金属板の熱膨張により広がる外縁より内側に配置される。
The method for producing an insulating circuit board of the present invention includes a lamination step of laminating a rectangular ceramic plate and a metal plate, each having a dividing scribe line formed therein, via a brazing material; a joining step of heating the laminate to melt the brazing material and then cooling the laminate to join the ceramic plate and the metal plate; an etching step of etching the metal plate after the joining step to remove unnecessary portions; and a division step of dividing the ceramic plate along the scribe lines after the etching step to form a plurality of insulating circuit boards,
In the lamination step, one corner of the ceramic plate and one corner of the metal plate are aligned to each other, and a dummy portion of the ceramic plate is formed on two sides that constitute a corner opposite to the one corner,
In the joining step, in the dummy portion, the outer edge of a spreading region of the molten brazing material is positioned inside the outer edge that spreads due to thermal expansion of the metal plate.
セラミックス板と金属板とは接合時に一つの角部を基準として二辺が位置決めされ、残りの二辺のダミー部において露出しているセラミックス板の対向する二つの角部が、エッチングの際のレジスト印刷の基準ともなる。
接合工程で、このダミー部において、溶融したろう材の広がり領域の外縁が、金属板の熱膨張による広がる外縁より内側に配置されるようにすることにより、ダミー部のセラミックス板上に溶融ろう材が流れ出すことが抑制され、金属板表面へのろう材の這い上がりを抑制する。
When joining the ceramic plate and the metal plate, two sides are positioned using one corner as a reference, and the two opposing corners of the ceramic plate exposed in the dummy portions of the remaining two sides also serve as a reference for resist printing during etching.
In the joining process, by positioning the outer edge of the spreading area of the molten brazing material in the dummy part inside the outer edge that spreads due to thermal expansion of the metal plate, the molten brazing material is prevented from flowing out onto the ceramic plate of the dummy part, and the brazing material is prevented from creeping up onto the surface of the metal plate.
この製造方法において、前記金属板を板素材から切断して形成する金属板形成工程を有し、前記積層工程では、前記金属板の切断端部において、バリが出ている側の面を前記セラミックス板の前記ダミー部の表面に重ねるとよい。 This manufacturing method includes a metal plate forming process in which the metal plate is cut from a plate material, and in the lamination process, the surface of the cut end of the metal plate on which the burrs are present may be laminated onto the surface of the dummy portion of the ceramic plate.
金属板のバリをダミー部の表面に重ねることにより、接合工程時に溶融したろう材をバリによりせき止めることができ、金属板の外に流れ出ることが防止される。 By overlapping the burrs on the metal plate with the surface of the dummy part, the burrs can block the molten solder during the joining process, preventing it from flowing out of the metal plate.
この製造方法において、前記板素材は前記金属板の幅に設定された長尺材であり、前記金属板形成工程では、前記板素材を長さ方向に間欠的に搬送しながらシャーにより前記金属板の長さに切断して前記金属板を形成し、前記積層工程では、前記金属板の前記金属板形成工程における搬送方向の後方側の切断端部を前記ダミー部に配置し、かつ該切断端部のバリが出ている側の面を前記ダミー部の表面に重ねるとよい。 In this manufacturing method, the plate material is a long material set to the width of the metal plate, and in the metal plate forming process, the plate material is cut to the length of the metal plate by a shear while being intermittently conveyed in the length direction to form the metal plate, and in the lamination process, the cut end of the metal plate on the rear side in the conveying direction in the metal plate forming process is placed on the dummy part, and the surface of the cut end with a burr is overlapped on the surface of the dummy part.
板素材を間欠的に搬送しながらシャーにより切断すると、切断刃より搬送方向前方側で金属板が切り落とされる。このとき、切り落とされた金属板の搬送方向後方側の切断端面は切断による破断面が生じて粗い表面になる。また、切断により金属板の表面側に突出するバリが生じ、裏面側はだれ面になる。一方、この金属板が切り落とされた後の板素材の切断端部は、金属板を切断した後に引き上げられる切断刃の表面でこすられるために比較的平滑な切断端面になる。また、切断により板素材の表面側がだれ面で、裏面側に突出するバリになる。ただし、切断後に切断刃によってこすり上げられるので、金属板よりバリの高さは小さい。
そこで、切り落とされた金属板の搬送方向後方側の切断端部をセラミックス板のダミー部に配置して、そのバリをダミー部の表面に重ねることにより、接合工程時に溶融したろう材をバリによりせき止める効果が大きく、金属板の外に流れ出ることを有効に防止できる。
When a plate material is cut by a shear while being conveyed intermittently, the metal plate is cut off on the forward side of the cutting blade in the conveying direction. At this time, the cut end surface of the cut-off metal plate on the rear side in the conveying direction has a rough surface due to a fracture surface caused by the cutting. Furthermore, a burr protruding from the front side of the metal plate is generated by the cutting, and the back side has a droopy surface. Meanwhile, the cut end surface of the plate material after the metal plate is cut off is rubbed by the surface of the cutting blade that is pulled up after cutting the metal plate, resulting in a relatively smooth cut end surface. Furthermore, the front side of the plate material has a droopy surface due to the cutting, and a burr protruding from the back side. However, since it is scraped up by the cutting blade after cutting, the height of the burr is smaller than that of the metal plate.
Therefore, by placing the cut end of the cut-off metal plate on the rear side in the transport direction on a dummy part of the ceramic plate and overlapping the burr on the surface of the dummy part, the burr has a great effect of blocking the molten brazing material during the joining process, effectively preventing it from flowing out of the metal plate.
本発明によれば、「ダミー部」へのろう材の流れだしを抑制し、金属板表面へのろう材の這い上がりによる外観不良及びエッチング不良を防止することができる。 The present invention makes it possible to suppress the outflow of brazing material into the "dummy portion" and prevent poor appearance and etching caused by the brazing material creeping up onto the metal plate surface.
以下、本発明の絶縁回路基板の製造方法の実施形態について説明する。
本実施形態の製造方法で製造される絶縁回路基板1は、例えば電源回路に用いられるパワーモジュール用基板である。この絶縁回路基板1は、図2に示すように、矩形状のセラミックス基板2と、そのセラミックス基板2の一方の面に形成された回路層3と、セラミックス基板2の他方の面に形成された放熱層4と、を有している。これら回路層3及び放熱層4は、セラミックス基板2より平面形状が小さく、周囲にセラミックス基板2が露出している。図2等には、便宜上、回路層3、放熱層4とも矩形状のものとして示しているが、その平面形状は特に限定されるものではない。
Hereinafter, an embodiment of the method for producing an insulating circuit board of the present invention will be described.
The insulating circuit board 1 manufactured by the manufacturing method of this embodiment is, for example, a power module board used in a power supply circuit. As shown in Fig. 2, the insulating circuit board 1 has a rectangular ceramic substrate 2, a circuit layer 3 formed on one surface of the ceramic substrate 2, and a heat dissipation layer 4 formed on the other surface of the ceramic substrate 2. The circuit layer 3 and the heat dissipation layer 4 are smaller in planar shape than the ceramic substrate 2, and the ceramic substrate 2 is exposed to the periphery. For convenience, both the circuit layer 3 and the heat dissipation layer 4 are shown as rectangular in Fig. 2 and other figures, but the planar shapes are not particularly limited.
セラミックス基板2は、回路層3と放熱層4との間の電気的接続を防止するものであって、窒化アルミニウム(AlN),窒化ケイ素(Si3N4),酸化アルミニウム(Al2O3)等を用いることができるが、そのうち、窒化ケイ素が高強度であるため、好適である。このセラミックス基板2の厚さは0.2mm以上1.5mm以下の範囲内に設定される。 The ceramic substrate 2 prevents electrical connection between the circuit layer 3 and the heat dissipation layer 4 , and may be made of aluminum nitride (AlN), silicon nitride ( Si3N4 ), aluminum oxide ( Al2O3 ), etc., of which silicon nitride is preferred due to its high strength. The thickness of the ceramic substrate 2 is set within the range of 0.2 mm to 1.5 mm.
回路層3は、アルミニウム又はアルミニウム合金、銅又は銅合金が適用できるが、電気特性に優れる銅又は銅合金が好適である。また、放熱層4も回路層3と同じ材質の金属が用いられ、例えば銅又は銅合金から構成される。これら回路層3及び放熱層4としては、例えば、純度99.96質量%以上の無酸素銅の銅板がセラミックス基板2に例えば活性金属ろう材(例えばAg-Ti又はAg-Cu-Tiからなるろう材)にてろう付け接合されることにより形成される。この回路層3及び放熱層4の厚さは0.1mm以上5mm以下の範囲内に設定される。 The circuit layer 3 can be made of aluminum or an aluminum alloy, or copper or a copper alloy, but copper or a copper alloy, which have excellent electrical properties, is preferred. The heat dissipation layer 4 is also made of the same metal material as the circuit layer 3, for example, copper or a copper alloy. The circuit layer 3 and heat dissipation layer 4 are formed, for example, by brazing a copper plate made of oxygen-free copper with a purity of 99.96% by mass or more to the ceramic substrate 2 with an active metal brazing material (for example, a brazing material made of Ag-Ti or Ag-Cu-Ti). The thickness of the circuit layer 3 and heat dissipation layer 4 is set within the range of 0.1 mm to 5 mm.
このように構成される絶縁回路基板1の製造方法について説明する。
この絶縁回路基板1は、図1に示すように、セラミックス板形成工程S1、金属板形成工程S2、積層工程S3、接合工程S4、エッチング工程S5、分割工程S6を経て製造される。セラミックス板形成工程S1と金属板形成工程S2とは、その順序は問われず、いずれを先に実施してもよく、同時進行してもよい。
以下、工程順に説明する。回路層3と放熱層4とは、エッチング工程でのエッチングの形状が異なる以外、金属板形成工程S2、積層工程S3、接合工程S4、エッチング工程S5を経て形成され、最後の分割工程S6により、回路層3及び放熱層4を有する絶縁回路基板1が形成される。以下では、回路層3と放熱層4とに対して同じ処理内容である場合には、特に回路層3と放熱層4とを区別することなく説明する。
A method for manufacturing the insulating circuit board 1 thus configured will be described.
1, the insulating circuit board 1 is manufactured through a ceramic plate forming step S1, a metal plate forming step S2, a lamination step S3, a joining step S4, an etching step S5, and a division step S6. The order of the ceramic plate forming step S1 and the metal plate forming step S2 does not matter, and either may be performed first, or they may be performed simultaneously.
The steps will be described below in order of the steps. The circuit layer 3 and the heat dissipation layer 4 are formed through a metal plate forming step S2, a lamination step S3, a bonding step S4, and an etching step S5, except that the etching shapes in the etching step are different, and the insulating circuit board 1 having the circuit layer 3 and the heat dissipation layer 4 is formed through a final dividing step S6. In the following, when the same processing content is applied to the circuit layer 3 and the heat dissipation layer 4, the circuit layer 3 and the heat dissipation layer 4 will be described without any particular distinction between them.
(セラミックス板形成工程:S1)
図3等に示すように、複数個のセラミックス基板2を形成し得る十分な大きさの1枚のセラミックス板11を用意し、その片面又は両面に、レーザ加工で溝状の分割用スクライブライン(以下、単にスクライブラインと称す)12を形成する(図5等には片面にスクライブライン12を形成した例を示す)。このスクライブライン12で分割することにより、複数個のセラミックス基板2を得ることができる。スクライブライン12は、セラミックス板11に縦横に複数本ずつ形成されることにより、複数個(図示例では3×4=12個)のセラミックス基板2を区画するとともに、セラミックス板11の周縁部に、製品としないダミー部13を形成している。ダミー部13は、0.3mm以上20mm以下の幅で形成することが好ましい。0.3mm未満では、後の分割工程でセラミックス板11を分割するのが難しくなるおそれがある。20mmを超えると材料に無駄が生じ、コスト高を招く。
図3等において、セラミックス板11の右上の切り欠き16は、セラミックス板11の方向識別のために設けられる。
(Ceramic plate forming process: S1)
As shown in FIG. 3 and the like, a single ceramic plate 11 large enough to form a plurality of ceramic substrates 2 is prepared, and groove-shaped dividing scribe lines (hereinafter simply referred to as scribe lines) 12 are formed on one or both sides of the ceramic plate 11 by laser processing (FIG. 5 and the like show an example in which the scribe lines 12 are formed on one side). By dividing the ceramic plate 11 along the scribe lines 12, a plurality of ceramic substrates 2 (3×4=12 in the illustrated example) are divided, and a dummy portion 13 that is not used as a product is formed on the periphery of the ceramic plate 11. The dummy portion 13 is preferably formed with a width of 0.3 mm or more and 20 mm or less. If it is less than 0.3 mm, it may be difficult to divide the ceramic plate 11 in the subsequent dividing process. If it exceeds 20 mm, material is wasted, leading to high costs.
In FIG. 3 etc., a notch 16 at the upper right of the ceramic plate 11 is provided for identifying the orientation of the ceramic plate 11.
(金属板形成工程S1)
回路層12及び放熱層4を形成するための金属板21は、スクライブライン12で区画されたセラミックス板11のすべてのセラミックス基板2を一体に覆うことができる大きさであり、図6に示すように、セラミックス板11の一つの角部14を構成する二辺15a,15bに自身の二辺22a,22bを揃えた状態で、他の二辺22a,22bがダミー部13上にはみだす大きさに形成される。
また、この金属板12は、長尺な板素材(長尺材)31を長さ方向に間欠的に搬送しながらシャー32により切断して形成される。この板素材31の幅は予め金属板21の幅に形成されており、金属板21の長さに合わせて切断することにより、金属板21として使用することができる。
(Metal plate forming process S1)
The metal plate 21 for forming the circuit layer 12 and the heat dissipation layer 4 is large enough to integrally cover all of the ceramic substrates 2 of the ceramic plate 11 divided by the scribe lines 12, as shown in FIG. In a state where the two sides 22a, 22b of the ceramic plate 11 are aligned with the two sides 15a, 15b constituting one corner 14 of the ceramic plate 11, the other two sides 22a, 22b are arranged to a size that protrudes onto the dummy portion 13. is formed.
The metal plate 12 is formed by cutting a long plate material (long material) 31 by a shear 32 while intermittently conveying the plate material 31 in the length direction. 21, and can be used as the metal plate 21 by cutting it to the length of the metal plate 21.
この板素材31を切断するシャー32は、図7に示すように、板素材31を矢印Mで示す長さ方向に搬送する搬送台33と、搬送台33上の板素材31を押さえる板押さえ34と、上刃35と、下刃36と、を有している。下刃36は搬送台33の先端に固定状態に設けられており、上刃35が上下移動する。一般に上刃35は、水平方向(図7の紙面に直交する方向)に対して若干の傾斜角(シャー角)を有して形成されている。 As shown in Figure 7, the shear 32 that cuts the plate material 31 has a conveyor table 33 that conveys the plate material 31 in the length direction indicated by the arrow M, a plate holder 34 that holds down the plate material 31 on the conveyor table 33, an upper blade 35, and a lower blade 36. The lower blade 36 is fixed to the tip of the conveyor table 33, and the upper blade 35 moves up and down. In general, the upper blade 35 is formed with a slight inclination angle (shar angle) with respect to the horizontal direction (the direction perpendicular to the paper surface of Figure 7).
そして、板素材31を上刃35と下刃36との切断位置から金属板21の長さ分、前方に突出させ、板素材31を板押さえ34で押さえた状態で上刃35を下降させることにより、上刃35と下刃36との間で板素材31を切断して金属板21を形成する。板素材31は、1個の金属板21が切断された後、金属板21の長さに相当する長さ分、搬送され、次の金属板21が切断される。以降、順次間欠的に搬送されながら1枚ずつ金属板21が切断される。 Then, the plate material 31 is protruded forward from the cutting position between the upper blade 35 and the lower blade 36 by the length of the metal plate 21, and the upper blade 35 is lowered while the plate material 31 is held down by the plate holder 34, thereby cutting the plate material 31 between the upper blade 35 and the lower blade 36 to form the metal plate 21. After one metal plate 21 has been cut, the plate material 31 is transported a length equivalent to the length of the metal plate 21, and the next metal plate 21 is cut. Thereafter, the metal plates 21 are cut one by one while being transported intermittently in sequence.
このシャー32での切断において、切断された金属板21には、搬送方向両端の切断端部23,24にそれぞれバリ25が生じる。この場合、図8に示すように、板素材31(金属板21)の搬送方向後方側の切断端部23では、上刃35によって切り落とされる際に金属板21の表面21a方向(上刃35が配置されている方向)にバリ25が突出する。また、その切断端面は、裏面21b側にだれ面26が形成され、バリ25が出ている側(表面21a側)に破断面27が形成され、だれ面26と破断面27との間が比較的平滑なせん断面28となる。 When the shear 32 cuts the metal plate 21, burrs 25 are generated on the cut ends 23, 24 on both ends in the conveying direction. In this case, as shown in FIG. 8, at the cut end 23 on the rear side in the conveying direction of the plate material 31 (metal plate 21), a burr 25 protrudes toward the front surface 21a of the metal plate 21 (the direction in which the upper blade 35 is disposed) when it is cut off by the upper blade 35. In addition, the cut end surface has a sag surface 26 on the back surface 21b side, a fracture surface 27 on the side where the burr 25 is protruding (the front surface 21a side), and a relatively smooth shear surface 28 is formed between the sag surface 26 and the fracture surface 27.
金属板21を切り落とした後の板素材31の切断端部(板素材31(金属板21)の搬送方向前方側の切断端部)24にも、バリ25が生じ、だれ面26、せん断面28、破断面27が形成されるが、金属板21の搬送方向後方の切断端部23との間で切断されたものであるので、バリ25は、切断端部23とは反対側の金属板21の裏面21bに形成され、だれ面26が表面21aに形成される。また、シャー32の上刃35が金属板21を切断した後に初期位置に戻る際に板素材31の切断端面に接触してこれをこすり上げながら移動するので、バリ25や破断面27が金属板21の搬送方向後方側の切断端部23よりも小さくなる。言い換えると、金属板21において、搬送方向後方側の切断端部23はバリ25や破断面27が大きく形成され、搬送方向前方側の切断端部24は、後方側の切断端部23に比べてバリ25や破断面27が小さく形成される。 After cutting off the metal plate 21, the cut end 24 of the plate material 31 (the cut end 24 on the front side of the conveying direction of the plate material 31 (metal plate 21)) also has a burr 25, a sagging surface 26, a shear surface 28, and a fracture surface 27. However, since the cut is made between the cut end 23 on the rear side of the conveying direction of the metal plate 21, the burr 25 is formed on the back surface 21b of the metal plate 21 opposite the cut end 23, and the sagging surface 26 is formed on the front surface 21a. In addition, when the upper blade 35 of the shear 32 returns to the initial position after cutting the metal plate 21, it comes into contact with the cut end surface of the plate material 31 and moves while scraping it up, so the burr 25 and the fracture surface 27 are smaller than those of the cut end 23 on the rear side of the conveying direction of the metal plate 21. In other words, the burr 25 and the fracture surface 27 are formed larger on the cut end 23 on the rear side of the conveying direction of the metal plate 21, and the burr 25 and the fracture surface 27 are formed smaller on the cut end 24 on the front side of the conveying direction than on the cut end 23 on the rear side.
(積層工程)
まず、図4及び図5に示すように、セラミックス板11にろう材41を配置する。ろう材41はペースト状のもの、矩形状に形成した箔状のもののいずれを用いてもよい。いずれの場合も、ろう材41は、金属板21が揃えられる二辺15a,15bを構成するダミー部13、及び、スクライブライン12で区画された製品(セラミックス基板2)となる部分の全領域を覆い、かつ、金属板21が揃えられる二辺15a,15bを構成するダミー部13とは反対側のダミー部13に一部がはみ出した状態に設けられる。
(Lamination process)
First, as shown in Fig. 4 and Fig. 5, the brazing material 41 is placed on the ceramic plate 11. The brazing material 41 may be either a paste-like material or a foil-like material formed into a rectangular shape. In either case, the brazing material 41 is provided so as to cover the dummy portion 13 constituting the two sides 15a, 15b along which the metal plate 21 is aligned, and the entire area of the portion that will become the product (ceramic substrate 2) partitioned by the scribe line 12, and to protrude partially into the dummy portion 13 on the opposite side to the dummy portion 13 constituting the two sides 15a, 15b along which the metal plate 21 is aligned.
そして、図5及び図6に示すように、ろう材41の上に金属板21を重ねる。金属板21は、セラミックス板11の一つの角部14を構成する二辺15a,15bに金属板21の二辺22a,22bを位置決めして揃えた状態とされ、この状態で、金属板21の他の二辺22c、22dは、セラミックス板11のダミー部13上に配置される。このダミー部13において、ろう材41は、金属板21の辺22c、22dより内側に配置される。 Then, as shown in Figures 5 and 6, the metal plate 21 is placed on the brazing material 41. The metal plate 21 is positioned such that the two sides 22a, 22b of the metal plate 21 are aligned with the two sides 15a, 15b that form one corner 14 of the ceramic plate 11, and in this state, the other two sides 22c, 22d of the metal plate 21 are placed on the dummy portion 13 of the ceramic plate 11. In this dummy portion 13, the brazing material 41 is placed inside the sides 22c, 22d of the metal plate 21.
このダミー部13において、ろう材41、金属板21のはみ出し長さ(ダミー部13を区画するスクライブライン12からの距離)L1,L2は、後述の接合工程において溶融したろう材41の広がり領域の外縁が、金属板21の熱膨張により広がる外縁より内側に配置されるように設定される。つまり、接合工程時にかかる温度と荷重の作用により、溶融したろう材41が押し広げられたとしても、熱膨張した金属板21の外縁からはみ出さないように設定される。
なお、図6の積層状態において、セラミックス板11に形成しておいた切り欠き16は露出した状態である。
In this dummy portion 13, the protruding lengths L1, L2 (distances from the scribe lines 12 that define the dummy portion 13) of the brazing material 41 and the metal plate 21 are set so that the outer edge of the spreading area of the molten brazing material 41 in the joining process described below is positioned inside the outer edge that spreads due to thermal expansion of the metal plate 21. In other words, they are set so that even if the molten brazing material 41 is pushed and spread by the action of the temperature and load applied during the joining process, it does not protrude from the outer edge of the thermally expanded metal plate 21.
In the laminated state shown in FIG. 6, the notch 16 formed in the ceramic plate 11 is exposed.
また、先の金属板形成工程において、金属板21にバリ25が生じていることを説明したが、この積層工程においては、金属板形成工程において搬送方向前方側に配置されていた切断端部24はセラミックス板11の二辺15a,15bに位置決めされる二辺22a,22bのうちの一方に配置され、搬送方向後方側に配置されていた切断端部23は、そのバリ25をダミー部13の表面に重ねるように配置される。これにより、この切断端部23におけるバリ25がセラミックス板11の表面に向けて配置される(図9参照)。
一方、金属板形成工程において搬送方向前方側に配置されていた切断端部24は、搬送方向後方側の切断端部23のバリ25の突出方向とは逆方向にバリ25が生じ、その反対側はだれ面26に形成されているので、セラミックス板11にはだれ面26側が重ね合わせられることになる(図9参照)。
Also, as explained above, in the metal plate forming process, burrs 25 are generated on the metal plate 21, but in this lamination process, the cut end 24 that was located on the front side in the conveying direction in the metal plate forming process is located on one of the two sides 22a, 22b that are positioned on the two sides 15a, 15b of the ceramic plate 11, and the cut end 23 that was located on the rear side in the conveying direction is arranged so that its burr 25 overlaps the surface of the dummy portion 13. As a result, the burr 25 on this cut end 23 is arranged facing the surface of the ceramic plate 11 (see FIG. 9).
On the other hand, the cut end 24 that was positioned on the front side in the conveying direction in the metal plate forming process has a burr 25 formed in the opposite direction to the protruding direction of the burr 25 of the cut end 23 that is on the rear side in the conveying direction, and the opposite side is formed into a drooping surface 26, so that the drooping surface 26 side is superimposed on the ceramic plate 11 (see Figure 9).
(接合工程)
このようにしてろう材41を介して積層したセラミックス板11と金属板21との積層体を加圧状態で加熱炉内に設置し、真空雰囲気下で接合温度に加熱した後冷却することにより、セラミックス板11に金属板21を接合する。この場合の接合条件としては、例えば0.03MPa以上0.25MPa以下の荷重で積層体を加圧し、10-6Pa以上10-3Pa以下の真空雰囲気下で、例えば790℃以上850℃以下の接合温度で、1分~60分の加熱とする。
(Joining process)
The laminate of the ceramic plate 11 and the metal plate 21 thus laminated via the brazing material 41 is placed in a heating furnace under pressure, heated to a bonding temperature in a vacuum atmosphere, and then cooled to bond the metal plate 21 to the ceramic plate 11. The bonding conditions in this case are, for example, pressing the laminate with a load of 0.03 MPa to 0.25 MPa, heating in a vacuum atmosphere of 10 −6 Pa to 10 −3 Pa at a bonding temperature of, for example, 790° C. to 850° C. for 1 minute to 60 minutes.
この接合工程において、セラミックス板11と金属板21との間のろう材41は溶融する。また、積層方向に加圧されているため、セラミックス板11と金属板21との間で押し広げられる。前述したように、溶融したろう材41が押し広げられたとしても、熱膨張した金属板21の外縁からはみ出さないように、ダミー部13におけるろう材41、金属板21のはみ出し長さ(ダミー部13を区画するスクライブライン12からの距離)L1,L2が設定されていたので、図9に示すように、溶融したろう材41の広がり領域の外縁が、金属板21の熱膨張により広がる外縁にまで到達せず、金属板21の外縁より内側に配置される。したがって、金属板21の外縁から溶融ろう材41が外方に流れ出ることが抑制される。 In this joining process, the brazing material 41 between the ceramic plate 11 and the metal plate 21 melts. In addition, since pressure is applied in the stacking direction, it is pushed out between the ceramic plate 11 and the metal plate 21. As described above, the protruding lengths L1 and L2 (distances from the scribe line 12 that divides the dummy portion 13) of the brazing material 41 and the metal plate 21 in the dummy portion 13 were set so that the molten brazing material 41 would not protrude from the outer edge of the thermally expanded metal plate 21 even if it was pushed out. Therefore, as shown in FIG. 9, the outer edge of the spreading area of the molten brazing material 41 does not reach the outer edge of the metal plate 21 that expands due to thermal expansion, and is positioned inside the outer edge of the metal plate 21. Therefore, the molten brazing material 41 is prevented from flowing outward from the outer edge of the metal plate 21.
また、万一、溶融ろう材41の広がり領域が大きい場合でも、ダミー部13の表面にバリ25を向けて配置されている金属板21の切断端部23においては、溶融ろう材41の流出をバリ25がせき止めることができ、ダミー部13の露出部分にろう材41が付着することが抑制される。このダミー部13の露出部分へのろう材41の流出が抑制できれば、金属板21表面へのろう材41の這い上がりも抑制でき、ろう染み等の発生を防止できる。 In the unlikely event that the molten brazing material 41 spreads over a large area, the burrs 25 can block the outflow of the molten brazing material 41 at the cut end 23 of the metal plate 21, which is arranged with the burrs 25 facing the surface of the dummy portion 13, and prevent the brazing material 41 from adhering to the exposed portion of the dummy portion 13. If the outflow of the brazing material 41 to the exposed portion of the dummy portion 13 can be prevented, the brazing material 41 can also be prevented from creeping up onto the surface of the metal plate 21, and the occurrence of brazing stains, etc. can be prevented.
一方、他方の切断端部24においては、積層工程において、セラミックス板11と金属板21との辺15a,15b,22a,22bが揃えられていたが、図9に示すように、接合時には、セラミックス板11と金属板21との熱膨張差により、セラミックス板11よりも金属板21がわずかにはみ出した状態となる。また、切断端部24においてはセラミックス板11の表面には金属板21のだれ面26が対峙している。
このため、金属板21とセラミックス板11との間、及びセラミックス板11からはみ出している金属板21どうしの間に、余剰の溶融ろう材41が貯留される。なお、このセラミックス板11と金属板21とが揃えられた部分では、これらの側面に溶融ろう材41が流れ出たとしてもこぶ状に固化するため、金属板21の表面への這い上がりは防止される。
On the other hand, at the other cut end 24, the edges 15a, 15b, 22a, and 22b of the ceramic plate 11 and the metal plate 21 were aligned in the lamination process, but at the time of bonding, the metal plate 21 protrudes slightly from the ceramic plate 11 due to the difference in thermal expansion between the ceramic plate 11 and the metal plate 21, as shown in Fig. 9. Also, at the cut end 24, a sagging surface 26 of the metal plate 21 faces the surface of the ceramic plate 11.
Therefore, excess molten brazing material 41 is stored between the metal plate 21 and the ceramic plate 11, and between the metal plates 21 protruding from the ceramic plate 11. In the portion where the ceramic plate 11 and the metal plate 21 are aligned, even if the molten brazing material 41 flows out onto the side surfaces, it solidifies in a lump shape, and therefore, creeping up onto the surface of the metal plate 21 is prevented.
(エッチング工程S4)
セラミックス板11において露出している二つの対向角部P.Q(図6参照)を基準として金属板21の上にレジスト膜を印刷して、エッチングすることにより、金属板21の不要部分を除去する。具体的には、セラミックス板11のスクライブライン12上の部分を所定幅でスクライブライン12に沿って除去するとともに、回路層3となる金属板21においては、回路層3として要求されるパターン形状に形成する。
前述したように、金属板21表面へのろう材14のはい這い上がりが抑制されているので、金属板21の切断端部23の付近においてもレジスト膜を確実に形成することができ、エッチング不良の発生が防止される。
(Etching step S4)
A resist film is printed on the metal plate 21 using two opposing corners P and Q (see FIG. 6) exposed on the ceramic plate 11 as references, and unnecessary portions of the metal plate 21 are removed by etching. Specifically, the portions of the ceramic plate 11 above the scribe lines 12 are removed along the scribe lines 12 by a predetermined width, and the metal plate 21 that will become the circuit layer 3 is formed into a pattern shape required for the circuit layer 3.
As described above, since the creeping up of the brazing material 14 onto the surface of the metal plate 21 is suppressed, a resist film can be reliably formed even near the cut end 23 of the metal plate 21, and the occurrence of etching defects is prevented.
(分割工程)
エッチング工程で露出したセラミックス板11のスクライブライン12でセラミックス板11を分割することにより、セラミックス基板2の表面に回路層3、反対側の表面に放熱層4を形成した絶縁回路基板1が複数形成される。ダミー部13の部分は廃棄される。
(Dividing step)
Ceramic plate 11 is divided along scribe lines 12 exposed in the etching process to form a plurality of insulating circuit boards 1, each having a circuit layer 3 on one surface of ceramic substrate 2 and a heat dissipation layer 4 on the opposite surface. Dummy portions 13 are discarded.
このような製造方法で製造された絶縁回路基板1は、接合工程時に金属板21の表面にろう材41が這い上がる現象が抑制されたので、その後のエッチング工程で金属板21の除去すべき部分を正確にエッチングすることができ、エッチング不良が防止される。また、金属板21表面へのろう材41の這い上がりが抑制されることから、いわゆるろう染みが防止され、良好な外観の絶縁回路基板1とすることができる。 The insulated circuit board 1 manufactured by this manufacturing method suppresses the phenomenon in which the brazing material 41 creeps up onto the surface of the metal plate 21 during the joining process, so that the parts of the metal plate 21 that should be removed can be accurately etched in the subsequent etching process, preventing etching defects. In addition, because the brazing material 41 is suppressed from creeping up onto the surface of the metal plate 21, so-called brazing stains are prevented, and an insulated circuit board 1 with a good appearance can be obtained.
なお、本発明は、上記実施形態の構成のものに限定されるものではなく、細部構成においては、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。
セラミックス板として複数個のセラミックス基板を形成できる大きさとしたが、その数は限定されない。1個のセラミックス基板を形成できるセラミックス板であっても、本発明を適用することができる。
また、所定幅の板素材をシャーによって切断することにより金属板を形成したが、プレスによる打ち抜きによって形成してもよい。
さらに、実施形態ではパワーモジュール用基板として説明したが、パワーモジュール用基板以外の絶縁回路基板に適用可能である。
The present invention is not limited to the configuration of the above embodiment, and various changes can be made to the details of the configuration without departing from the spirit of the present invention.
Although the ceramic plate has a size capable of forming a plurality of ceramic substrates, the number of ceramic substrates is not limited. The present invention can be applied to a ceramic plate capable of forming a single ceramic substrate.
Moreover, the metal plate is formed by cutting a plate material of a predetermined width with a shear, but it may be formed by punching with a press.
Furthermore, although the embodiment has been described as a power module substrate, the present invention is applicable to insulating circuit substrates other than power module substrates.
純度99.99質量%以上の無酸素銅(C1020)からなる厚さ0.8mmt、幅124mmの長尺な板素材を172mmの長さにシャーにより切断して金属板を得た。そして、窒化珪素(Si3N4)からなるセラミックス板(126mm×174mm×0.32mmt)の一方の面に、Ag-Tiろう材を120.2mm×168.2mm×0.010mmtのサイズに塗布し、その上から、金属板を積層した。 A long plate material made of oxygen-free copper (C1020) with a purity of 99.99% by mass or more, having a thickness of 0.8 mmt and a width of 124 mm, was cut with a shear to a length of 172 mm to obtain a metal plate. Then, Ag-Ti brazing material was applied to one side of a ceramic plate (126 mm x 174 mm x 0.32 mmt) made of silicon nitride (Si 3 N 4 ) to a size of 120.2 mm x 168.2 mm x 0.010 mmt, and the metal plate was laminated on top of it.
この積層体において、接合時の荷重と温度とを変えてろう材の広がり率と、接合信頼性及びろう材の這い上がりを調査した。
ろう材の広がり率(%)は、(接合前のろう材ペースト乾燥後の面積/接合後のろう材面積)×100で求めた。接合前のろう材ペースト乾燥後の面積は、画像寸法測定機で測定して求め、接合後のろう材面積は、超音波探傷検査装置でろう材存在箇所の面積を求めた。
接合信頼性は、超音波探傷装置を用いて、接合後のセラミックス板と金属板の界面を観察し、その二値化画像から白色で示される非接合部を除く接合面積を測定し、その接合率が金属板の面積に対し、95%以上を「〇」、90%以上95%未満を「△」、90%未満を「×」として接合信頼性を評価した。
In this laminate, the load and temperature during joining were changed to examine the spreading rate of the brazing material, the joining reliability, and the creep-up of the brazing material.
The spreading rate (%) of the brazing material was calculated by (area after drying of the brazing material paste before joining/area of the brazing material after joining) × 100. The area after drying of the brazing material paste before joining was calculated by measuring with an image dimension measuring device, and the area of the brazing material after joining was calculated by measuring the area of the location where the brazing material was present with an ultrasonic flaw detection device.
The bonding reliability was evaluated by observing the interface between the ceramic plate and the metal plate after bonding using an ultrasonic flaw detector, measuring the bonding area excluding the non-bonded areas shown in white from the binarized image, and rating the bonding reliability as follows: a bonding rate of 95% or more relative to the area of the metal plate was marked "O", a bonding rate of 90% or more but less than 95% was marked "△", and a bonding rate of less than 90% was marked "X".
ろう材這い上がりは、金属板の切断端部の表面にろう染みが認められない場合を「〇」、切断端面から100μm以内の限られた範囲でのみろう染みが認められる場合を「△」、切断端面から100μmを超えてろう染みが認められる場合を「×」として評価した。
そして、接合信頼性及びろう材這い上がりのいずれかもが「〇」の評価の場合を総合評価で「〇」、いずれかが「△」であったものを総合評価で「△」、いずれかが「×」であったものを総合評価で「×」とした。
その結果を図10に示す。図10において、各荷重におけるろう材広がり率の最上段のものが接合温度のピークが840℃、中断のものが825℃、下段のものが800℃に相当する。それぞれの評価も上段、中断、下段の値に対するものを上段、中断、下段にそれぞれ記載した。
The brazing material creep was evaluated as "good" when no brazing material stains were observed on the surface of the cut end of the metal plate, "good" when brazing material stains were observed only in a limited area within 100 μm from the cut end surface, and "bad" when brazing material stains were observed more than 100 μm from the cut end surface.
If either the joint reliability or the brazing material creep-up was rated as "good", the overall evaluation was rated as "good", if either was "good", the overall evaluation was rated as "good", and if either was "bad", the overall evaluation was rated as "bad".
The results are shown in Figure 10. In Figure 10, the top row of brazing filler metal spreading rates at each load corresponds to a peak joining temperature of 840°C, the middle row corresponds to 825°C, and the lower row corresponds to 800°C. The evaluations for the top, middle, and lower row values are also shown in the top, middle, and lower rows, respectively.
図10からわかるように、接合時の荷重と温度の条件によって適切なろう材広がり率が存在している。例えば、接合時の荷重が0.03MPaの場合、825℃でろう材の広がり率が13.8%、接合時の荷重が0.14MPaの場合、825℃でろう材の広がり率が16.6%で、それぞれ接合信頼性、ろう材の這い上がりに対して良好な結果が認められている。これらの広がり率より小さい場合は、ろう材の這い上がりに対しては良好であるが、接合信頼性が悪くなる。逆に、これらの広がり率より大きい場合は、ろう材の這い上がりが認められ、接合信頼性も悪くなっている。
したがって、接合後の金属板の面積が、このろう材広がり率で広がるろう材の広がり面積より大きくなるように設計すれば、ろう材這い上がりもなく、かつ接合信頼性の良好な絶縁回路基板を得ることができる。
As can be seen from Fig. 10, there is an appropriate brazing filler metal spreading ratio depending on the load and temperature conditions during joining. For example, when the load during joining is 0.03 MPa, the brazing filler metal spreading ratio at 825°C is 13.8%, and when the load during joining is 0.14 MPa, the brazing filler metal spreading ratio at 825°C is 16.6%, and good results are observed in terms of joint reliability and brazing filler metal creeping up, respectively. When the spreading ratios are smaller than these, good results are observed in terms of brazing filler metal creeping up, but the joint reliability is poor. Conversely, when the spreading ratios are larger than these, the brazing filler metal creeping up is observed and the joint reliability is also poor.
Therefore, if the area of the metal plates after joining is designed to be larger than the area of the brazing filler metal spread at this brazing filler metal spreading rate, an insulating circuit board can be obtained that is free of brazing filler metal creep-up and has good joining reliability.
そこで、セラミックス板が126mm×174mm、金属板が124mm×172mm、セラミックス板のダミー部の幅が各3mmのものを用い、一つの角部を構成する二辺を基準にセラミックス板と金属板とを位置決めした状態で、ダミー部を形成するスクライブラインから金属板の切断端面までの距離L2を1.0mm、スクライブラインからろう材の外縁までの距離L1を0.1mmの長さで金属板とろう材とがダミー部上に配置して接合した。ろう材にはAg-Tiろう材を用い、接合時の荷重が0.14MPa、温度が825℃とした。
その結果、ろう材の這い上がりもなく、接合信頼性の良好な絶縁回路基板を得ることができた。
Therefore, a ceramic plate having a size of 126 mm x 174 mm, a metal plate having a size of 124 mm x 172 mm, and a dummy portion of the ceramic plate having a width of 3 mm each were used, and the ceramic plate and the metal plate were positioned based on two sides constituting one corner, and the metal plate and the brazing material were placed on the dummy portion and joined with a distance L2 from the scribe line forming the dummy portion to the cut end surface of the metal plate being 1.0 mm, and a distance L1 from the scribe line to the outer edge of the brazing material being 0.1 mm. An Ag-Ti brazing material was used as the brazing material, and the load during joining was 0.14 MPa and the temperature was 825°C.
As a result, an insulating circuit board with good joint reliability was obtained without any creep-up of the brazing material.
1 絶縁回路基板
2 セラミックス基板
3 回路層
4 放熱層
11 セラミックス板
12 スクライブライン
13 ダミー部
14 角部
15a,15b 辺
16 切り欠き
21 金属板
21a 表面
21b 裏面
22a~22d 辺
23,24 切断端部
25 バリ
26 だれ面
27 破断面
28 せん断面
31 板素材
32 シャー
33 搬送台
35 上刃
36 下刃
Reference Signs List 1: Insulated circuit board 2: Ceramic substrate 3: Circuit layer 4: Heat dissipation layer 11: Ceramic plate 12: Scribe line 13: Dummy portion 14: Corner portion 15a, 15b: Side 16: Notch 21: Metal plate 21a: Surface 21b: Back surface 22a to 22d: Side 23, 24: Cut end portion 25: Burr 26: Droop surface 27: Fracture surface 28: Shear surface 31: Plate material 32: Shear 33: Transport table 35: Upper blade 36: Lower blade
Claims (3)
前記積層工程では、前記セラミックス板と前記金属板との一つの角部を揃えた状態に位置決めすることにより、該一つの角部に対向する角部を構成する二辺に、セラミックス板のダミー部を形成しており、
前記接合工程では、前記ダミー部において、溶融した前記ろう材の広がり領域の外縁が、前記金属板の熱膨張により広がる外縁より内側に配置されることを特徴とする絶縁回路基板の製造方法。 A method for manufacturing an insulating circuit board, comprising: a lamination step of laminating a rectangular ceramic plate, on which a dividing scribe line is formed, and a metal plate via a brazing material; a joining step of heating the laminate to melt the brazing material and then cooling to join the ceramic plate and the metal plate; an etching step of etching the metal plate after the joining step to remove unnecessary portions; and a division step of dividing the ceramic plate along the scribe lines after the etching step to form a plurality of insulating circuit boards,
In the lamination step, one corner of the ceramic plate and one corner of the metal plate are aligned to each other, and a dummy portion of the ceramic plate is formed on two sides that constitute a corner opposite to the one corner,
The method for manufacturing an insulating circuit board, wherein in the joining step, an outer edge of a spreading area of the molten brazing material in the dummy portion is positioned inside an outer edge that spreads due to thermal expansion of the metal plate.
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Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JP2010147068A (en) | 2008-12-16 | 2010-07-01 | Mitsubishi Materials Corp | Manufacturing method of substrate for power module |
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Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010114166A (en) | 2008-11-04 | 2010-05-20 | Mitsubishi Materials Corp | Manufacture intermediate of power module substrate, and power module substrate manufacturing method |
| JP2010147068A (en) | 2008-12-16 | 2010-07-01 | Mitsubishi Materials Corp | Manufacturing method of substrate for power module |
| JP2016039163A (en) | 2014-08-05 | 2016-03-22 | 三菱マテリアル株式会社 | Power module substrate and manufacturing method thereof |
| JP2019127408A (en) | 2018-01-24 | 2019-08-01 | 三菱マテリアル株式会社 | Manufacturing method for ceramic-metal joint material, manufacturing apparatus and ceramic-metal joint material |
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