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JP7580504B2 - Optical Film - Google Patents
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JP7580504B2 - Optical Film - Google Patents

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JP7580504B2 JP2023009463A JP2023009463A JP7580504B2 JP 7580504 B2 JP7580504 B2 JP 7580504B2 JP 2023009463 A JP2023009463 A JP 2023009463A JP 2023009463 A JP2023009463 A JP 2023009463A JP 7580504 B2 JP7580504 B2 JP 7580504B2
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Description

本発明は、光学フィルムに関する。 The present invention relates to an optical film.

有機EL表示装置や液晶表示装置等の表示装置(FPD:フラットパネルディスプレイ)には、有機EL素子、液晶セル等の表示素子や偏光板等の光学フィルムなど様々な部材が用いられている。これらの部材に用いられる有機EL化合物および液晶化合物等は有機物であるため、紫外線(UV)による劣化が問題となりやすい。このような問題を解決するため、例えば、特許文献1には370nm以下の波長域の紫外線吸収能が優れる紫外線吸収剤を偏光板の保護フィルムに添加した偏光板が記載されている。 Display devices such as organic EL display devices and liquid crystal display devices (FPD: flat panel displays) use various components, including display elements such as organic EL elements and liquid crystal cells, and optical films such as polarizing plates. The organic EL compounds and liquid crystal compounds used in these components are organic, and therefore degradation due to ultraviolet (UV) rays is likely to be a problem. To solve this problem, for example, Patent Document 1 describes a polarizing plate in which an ultraviolet absorbing agent with excellent ultraviolet absorbing ability in the wavelength range of 370 nm or less has been added to the protective film of the polarizing plate.

特開2006-308936号公報JP 2006-308936 A

また、近年の表示装置の薄型化が進む中、重合性液晶化合物を配向・光硬化させてなる液晶系位相差フィルムの開発が進められている。これらの液晶系位相差フィルムや有機EL発光素子は紫外線による劣化のみではなく、短波長の可視光においても劣化する傾向があることが明らかになってきた。しかしながら、特許文献1に記載の偏光板は、370nm以下の波長域の紫外線吸収能が優れていても、400nm付近の可視光の吸収性能が低く、液晶系位相差フィルムや有機EL発光素子の劣化抑制が十分ではない場合があった。さらに、近年の表示装置において、より良好な表示特性が求められていた。 In addition, as display devices have become thinner in recent years, liquid crystal retardation films made by aligning and photocuring polymerizable liquid crystal compounds have been developed. It has become clear that these liquid crystal retardation films and organic EL light-emitting devices tend to deteriorate not only due to ultraviolet rays, but also due to short-wavelength visible light. However, even though the polarizing plate described in Patent Document 1 has excellent ultraviolet absorption ability in the wavelength range of 370 nm or less, it has low absorption performance for visible light around 400 nm, and there are cases where the deterioration of the liquid crystal retardation film and the organic EL light-emitting device is not sufficiently suppressed. Furthermore, better display characteristics have been required for display devices in recent years.

本発明の目的は、位相差フィルムや有機EL発光素子の短波長の可視光による劣化について良好な抑制機能を有する光学フィルムを提供することである。 The object of the present invention is to provide an optical film that has an excellent function of suppressing the deterioration of retardation films and organic EL light-emitting elements caused by short-wavelength visible light.

本発明は、以下の発明を含む。
[1]樹脂(A)及び光選択吸収化合物(B)を含む樹脂組成物から形成される光学フィルムであって、
樹脂(A)は、セルロース系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂及びシクロオレフィン系樹脂からなる群から選ばれる少なくとも1種の樹脂であり、
下記式(1)を満たすことを特徴とする光学フィルム。
A(405)≧0.5 (1)
[式(1)中、A(405)は波長405nmにおける吸光度を表す。]
[2]下記式(2)を満たす[1]に記載の光学フィルム。
A(440)≦0.1 (2)
[式(2)中、A(440)は波長440nmにおける吸光度を表す。]
[3]さらに、下記式(3)を満たす[1]又は[2]に記載の光学フィルム。
A(405)/A(440)≧5 (3)
[式(3)中、A(405)は波長405nmにおける吸光度を表し、A(440)は波長440nmにおける吸光度を表す。]
[4]光選択吸収化合物(B)の含有量が、樹脂(A)100質量部に対して、0.01~20質量部である[1]~[3]のいずれかに記載の光学フィルム。
[5]樹脂(A)の23℃における貯蔵弾性率Eが、100MPa以上である[1]~[4]のいずれかに記載の光学フィルム。
[6]光選択吸収化合物(B)が、式(4)を満たす化合物である[1]~[5]のいずれかに記載の光学フィルム。
ε(405)≧20 (4)
〔式(4)中、ε(405)は波長405nmにおける化合物のグラム吸光係数を表す。グラム吸光係数の単位はL/(g・cm)である。〕
[7]光選択吸収化合物(B)は、式(5)を満たす化合物である[6]に記載の光学フィルム。
ε(405)/ε(440)≧20 (5)
[式(6)中、ε(405)は波長405nmにおける化合物のグラム吸光係数を表し、ε(440)は波長440nmにおけるグラム吸光度係数を表す。]
[8]光選択吸収化合物(B)が、分子内にメロシアニン構造を有する化合物である[1]~[7]のいずれかに記載の光学フィルム。
[9][1]~[8]のいずれかに記載の光学フィルムの少なくとも一方の面に、粘着剤層を有する粘着剤付き光学フィルム。
[10][9]に記載の光学フィルムを有する表示装置。
The present invention includes the following inventions.
[1] An optical film formed from a resin composition containing a resin (A) and a light selective absorption compound (B),
The resin (A) is at least one resin selected from the group consisting of a cellulose-based resin, a (meth)acrylic-based resin, a polyester-based resin, a polyamide-based resin, a polyimide-based resin, and a cycloolefin-based resin;
An optical film satisfying the following formula (1):
A(405)≧0.5 (1)
[In formula (1), A(405) represents absorbance at a wavelength of 405 nm.]
[2] The optical film according to [1], which satisfies the following formula (2):
A(440)≦0.1 (2)
[In formula (2), A(440) represents absorbance at a wavelength of 440 nm.]
[3] The optical film according to [1] or [2], further satisfying the following formula (3):
A(405)/A(440)≧5 (3)
[In formula (3), A(405) represents the absorbance at a wavelength of 405 nm, and A(440) represents the absorbance at a wavelength of 440 nm.]
[4] The optical film according to any one of [1] to [3], wherein the content of the light selective absorption compound (B) is 0.01 to 20 parts by mass per 100 parts by mass of the resin (A).
[5] The optical film according to any one of [1] to [4], wherein the resin (A) has a storage modulus E at 23° C. of 100 MPa or more.
[6] The optical film according to any one of [1] to [5], wherein the light selective absorption compound (B) is a compound satisfying formula (4):
ε(405)≧20 (4)
(In formula (4), ε(405) represents the gram absorption coefficient of the compound at a wavelength of 405 nm. The unit of the gram absorption coefficient is L/(g cm).)
[7] The optical film according to [6], wherein the light selective absorption compound (B) is a compound satisfying formula (5).
ε(405)/ε(440)≧20 (5)
[In formula (6), ε(405) represents the gram absorbance coefficient of the compound at a wavelength of 405 nm, and ε(440) represents the gram absorbance coefficient at a wavelength of 440 nm.]
[8] The optical film according to any one of [1] to [7], wherein the light selective absorption compound (B) is a compound having a merocyanine structure in the molecule.
[9] An optical film with a pressure-sensitive adhesive, comprising the optical film according to any one of [1] to [8], and a pressure-sensitive adhesive layer on at least one surface of the optical film.
[10] A display device having the optical film according to [9].

本発明の光学フィルムは、405nm付近の短波長の可視光に対する高い吸収選択性を示すことにより、位相差フィルムや有機EL発光素子の短波長の可視光による劣化について良好な抑制機能を有する。また、本発明の光学フィルムは、耐候性試験後であっても波長405nm付近の短波長の可視光に対する高い吸収選択性を示し、耐候性試験後であっても短波長の可視光による劣化の抑制を保つことができる。本発明の光学フィルムを表示装置に用いた場合には良好な表示特性と耐久性とを付与することができる。 The optical film of the present invention exhibits high absorption selectivity for short-wavelength visible light around 405 nm, and therefore has a good function of suppressing deterioration of retardation films and organic EL light-emitting elements caused by short-wavelength visible light. In addition, the optical film of the present invention exhibits high absorption selectivity for short-wavelength visible light around 405 nm even after weather resistance testing, and can maintain the suppression of deterioration caused by short-wavelength visible light even after weather resistance testing. When the optical film of the present invention is used in a display device, it can provide good display characteristics and durability.

本発明に係る粘着剤層付光学フィルムの一例を示す概略断面図である。1 is a schematic cross-sectional view showing an example of a pressure-sensitive adhesive layer-attached optical film according to the present invention. 本発明に係る光学フィルムを含む積層体の一例を示す概略断面図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of a laminate including an optical film according to the present invention. 本発明に係る光学フィルムを含む積層体の一例を示す概略断面図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of a laminate including an optical film according to the present invention. 本発明に係る光学フィルムを含む積層体の一例を示す概略断面図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of a laminate including an optical film according to the present invention. 本発明に係る光学フィルムを含む積層体の一例を示す概略断面図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of a laminate including an optical film according to the present invention.

本発明の光学フィルムは、樹脂(A)及び光選択吸収化合物(B)を含む樹脂組成物から形成される光学フィルムであって、
樹脂(A)は、セルロース系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂及びシクロオレフィン系樹脂からなる群から選ばれる少なくとも1種の樹脂であり、下記式(1)を満たすことを特徴とする。
A(405)≧0.5 (1)
[式(1)中、A(405)は波長405nmにおける吸光度を表す。]
The optical film of the present invention is an optical film formed from a resin composition containing a resin (A) and a light selective absorption compound (B),
The resin (A) is at least one resin selected from the group consisting of cellulose-based resins, (meth)acrylic-based resins, polyester-based resins, polyamide-based resins, polyimide-based resins, and cycloolefin-based resins, and is characterized in that it satisfies the following formula (1):
A(405)≧0.5 (1)
[In formula (1), A(405) represents absorbance at a wavelength of 405 nm.]

A(405)の値が大きいほど波長405nmにおける吸収が高いことを表し、A(405)の値が0.5未満であると、波長405nmにおける吸収が低く、短波長の可視光における有機EL素子等の表示装置や位相差フィルムの劣化が起こりやすい。A(405)の値は、好ましくは0.6以上であり、より好ましくは0.8以上であり、特に好ましくは1.0以上である。上限は特にないが、通常は10以下である。 The larger the value of A(405), the higher the absorption at a wavelength of 405 nm. If the value of A(405) is less than 0.5, the absorption at a wavelength of 405 nm is low, and deterioration of displays such as organic EL elements and retardation films in short-wavelength visible light is likely to occur. The value of A(405) is preferably 0.6 or more, more preferably 0.8 or more, and particularly preferably 1.0 or more. There is no particular upper limit, but it is usually 10 or less.

本発明の光学フィルムは、さらに下記式(2)を満たすことが好ましい。
A(440)≦0.1 (2)
[式(2)中、A(440)は、波長440nmにおける吸光度を表す。]
A(440)の値が小さいほど波長440nmにおける吸収が低いことを表し、A(440)の値が0.1を超えると、表示装置における良好な色彩表現を損なう傾向にある。また表示装置の発光を阻害するため、輝度も低下してしまう。A(440)の値は、好ましくは0.05以下であり、より好ましくは0.04以下であり、特に好ましくは0.03である。下限は特にないが、通常は0.00001以上である。
It is preferable that the optical film of the present invention further satisfies the following formula (2).
A(440)≦0.1 (2)
[In formula (2), A(440) represents absorbance at a wavelength of 440 nm.]
The smaller the value of A(440), the lower the absorption at a wavelength of 440 nm. If the value of A(440) exceeds 0.1, the better color expression in the display device tends to be impaired. In addition, the luminance is also reduced because the luminance of the display device is inhibited. The value of A(440) is preferably 0.05 or less, more preferably 0.04 or less, and particularly preferably 0.03. There is no particular lower limit, but it is usually 0.00001 or more.

本発明の光学フィルムは、さらに下記式(3)を満たすことが好ましい。
A(405)/A(440)≧5 (3)
[式(3)中、A(405)は波長405nmにおける吸光度を表し、A(440)は波長440nmにおける吸光度を表す。]
A(405)/A(440)の値は、波長440nmにおける吸収の大きさに対する波長405nmの吸収の大きさを表し、この値が大きいほど405nm付近の波長域に特異的な吸収があることを表す。A(405)/A(440)の値は10以上であることが好ましく、30以上であることがより好ましく、特に好ましくは60以上である。
It is preferable that the optical film of the present invention further satisfies the following formula (3).
A(405)/A(440)≧5 (3)
[In formula (3), A(405) represents the absorbance at a wavelength of 405 nm, and A(440) represents the absorbance at a wavelength of 440 nm.]
The value of A(405)/A(440) represents the magnitude of absorption at a wavelength of 405 nm relative to the magnitude of absorption at a wavelength of 440 nm, and the larger this value is, the more specific absorption there is in the wavelength region around 405 nm. The value of A(405)/A(440) is preferably 10 or more, more preferably 30 or more, and particularly preferably 60 or more.

本発明の光学フィルムは、23℃における貯蔵弾性率E’は、通常100MPa以上であり、好ましくは300MPa以上であり、より好ましくは500MPa以上であり、さらに好ましくは1000MPa以上であり、特に好ましくは3500MPa以上である。下限は制限ないが、通常100000MPa以下である。
本発明の光学フィルムの23℃における貯蔵弾性率は、実施例に記載の方法で測定できる。
The optical film of the present invention has a storage modulus E' at 23°C of usually 100 MPa or more, preferably 300 MPa or more, more preferably 500 MPa or more, further preferably 1000 MPa or more, and particularly preferably 3500 MPa or more. There is no lower limit, but it is usually 100,000 MPa or less.
The storage modulus at 23° C. of the optical film of the present invention can be measured by the method described in the examples.

本発明の光学フィルムは、樹脂(A)及び光選択吸収化合物(B)を含む樹脂組成物(以下「樹脂組成物(1)」という場合がある。)から形成される。
樹脂(A)は、セルロース系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂及びシクロオレフィン系樹脂からなる群から選ばれる少なくとも1種の樹脂である。
The optical film of the present invention is formed from a resin composition (hereinafter sometimes referred to as "resin composition (1)") containing a resin (A) and a selective light absorbing compound (B).
The resin (A) is at least one resin selected from the group consisting of cellulose-based resins, (meth)acrylic-based resins, polyester-based resins, polyamide-based resins, polyimide-based resins, and cycloolefin-based resins.

セルロース系樹脂としては、好ましくはセルロースエステル系樹脂、すなわち、セルロースにおける水酸基の少なくとも一部が酢酸エステル化されている樹脂であり、一部が酢酸エステル化され、一部が他の酸でエステル化されている混合エステルであってもよい。セルロースエステル系樹脂は、好ましくはアセチルセルロース系樹脂である。アセチルセルロース系樹脂の具体例として、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート等を挙げることができる。
アセチルセルロースの原料綿は発明協会公開技法2001-1745等で公知の木材パルプや綿リンターなどのセルロース原料を用いることができる。また、アセチルセルロースは、木材化学180~190頁(共立出版、右田他、1968年)等に記載の方法で合成することができる。
トリアセチルセルロースの市販品としては、富士フィルム社製の商品名「UV-50」、「UV-80」、「SH-80」、「TD-80U」、「TD-TAC」、「UZ-TAC」等が挙げられる。
The cellulose resin is preferably a cellulose ester resin, that is, a resin in which at least a part of the hydroxyl groups in cellulose are esterified with acetate, and may be a mixed ester in which a part is esterified with acetate and a part is esterified with another acid.The cellulose ester resin is preferably an acetyl cellulose resin.Specific examples of the acetyl cellulose resin include triacetyl cellulose, diacetyl cellulose, cellulose acetate propionate, and cellulose acetate butyrate.
The raw cotton material for acetyl cellulose can be cellulose raw materials such as wood pulp and cotton linters, which are known in the Japan Institute of Invention and Innovation's Disclosure Techniques 2001-1745, etc. Acetyl cellulose can be synthesized by the method described in Wood Chemistry, pp. 180-190 (Kyoritsu Shuppan, Migita et al., 1968), etc.
Commercially available triacetyl cellulose products include those available from Fuji Film Corporation under the trade names "UV-50", "UV-80", "SH-80", "TD-80U", "TD-TAC", and "UZ-TAC".

(メタ)アクリル系樹脂としては、メタクリル酸アルキルエステル又はアクリル酸アルキルエステルの単独重合体や、メタクリル酸アルキルエステルとアクリル酸アルキルエステルとの共重合体などが挙げられる。メタクリル酸アルキルエステルとしては、具体的に、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレートなどが、またアクリル酸アルキルエステルとしては、具体的に、メチルアクリレート、エチルアクリレート、プロピルアクリレートなどがそれぞれ挙げられる。かかる(メタ)アクリル系樹脂には、汎用の(メタ)アクリル系樹脂として市販されているものが使用できる。(メタ)アクリル系樹脂として、耐衝撃(メタ)アクリル樹脂と呼ばれるものを使用してもよい。
また、(メタ)アクリル系樹脂の具体例としては、三菱レイヨン株式会社の「アクリペットVH」、「アクリペットVRL20A」等も挙げられる。
Examples of the (meth)acrylic resin include homopolymers of methacrylic acid alkyl esters or acrylic acid alkyl esters, and copolymers of methacrylic acid alkyl esters and acrylic acid alkyl esters. Specific examples of the methacrylic acid alkyl esters include methyl methacrylate, ethyl methacrylate, and propyl methacrylate, and specific examples of the acrylic acid alkyl esters include methyl acrylate, ethyl acrylate, and propyl acrylate. As the (meth)acrylic resin, a commercially available general-purpose (meth)acrylic resin can be used. As the (meth)acrylic resin, a resin called impact-resistant (meth)acrylic resin can be used.
Specific examples of the (meth)acrylic resin include "ACRYPET VH" and "ACRYPET VRL20A" manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.

ポリエステル系樹脂は、主鎖にエステル結合の繰り返し単位を持つ重合体樹脂であり、一般的には多価カルボン酸またはその誘導体と多価アルコールまたはその誘導体との縮合重合によって得られる。
ポリエステルを与える多価カルボン酸またはその誘導体としては、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、2,6-ナフタレンジカルボン酸、ジフェニルジカルボン酸、ジフェニルスルホンジカルボン酸、ジフェノキシエタンジカルボン酸、5-ナトリウムスルホンジカルボン酸などの芳香族ジカルボン酸、シュウ酸、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸、ダイマー酸、マレイン酸、フマル酸などの脂肪族ジカルボン酸、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸などの脂環族ジカルボン酸、パラオキシ安息香酸などのオキシカルボン酸、並びに、それらの誘導体を挙げることができる。ジカルボン酸の誘導体としてはたとえばテレフタル酸ジメチル、テレフタル酸ジエチル、テレフタル酸2-ヒドロキシエチルメチルエステル、2,6-ナフタレンジカルボン酸ジメチル、イソフタル酸ジメチル、アジピン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、ダイマー酸ジメチルなどのエステル化物を挙げることができる。中でも、成型性、取り扱い性の点で、テレフタル酸、イソフタル酸、2,6-ナフタレンジカルボン酸、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸、および、それらのエステル化物が好ましく用いられる。
ポリエステルを与える多価アルコールまたはその誘導体としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、1,2-プロパンジオール、1,3-プロパンジオール、1,3-ブタンジオール、1,4-ブタンジオール、1,5-ペンタンジオール、1,6-ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコールなどの脂肪族ジヒドロキシ化合物、ジエチレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコールなどのポリオキシアルキレングリコール、1,4-シクロヘキサンジメタノール、スピログリコールなどの脂環族ジヒドロキシ化合物、ビスフェノールA、ビスフェノールSなどの芳香族ジヒドロキシ化合物、並びに、それらの誘導体が挙げられる。中でも、成型性、取り扱い性の点で、エチレングリコール、ジエチレングリコール、1,3-プロパンジオール、1,4-ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、1,4-シクロヘキサンジメタノールが好ましく用いられる。
ポリエステル系樹脂としては、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンナフタレート、ポリトリメチレンテレフタレート、ポリトリメチレンナフタレート、ポリシクロへキサンジメチルテレフタレート、ポリシクロヘキサンジメチルナフタレートなどが挙げられる。これらのうち、ポリエチレンテレフタレートまたはポリエチレンナフタレートなどが好ましい。
A polyester resin is a polymer resin having repeating units of ester bonds in the main chain, and is generally obtained by condensation polymerization of a polyvalent carboxylic acid or a derivative thereof and a polyhydric alcohol or a derivative thereof.
Examples of polyvalent carboxylic acids or derivatives thereof which give polyesters include aromatic dicarboxylic acids such as terephthalic acid, isophthalic acid, phthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, diphenyldicarboxylic acid, diphenylsulfonedicarboxylic acid, diphenoxyethanedicarboxylic acid, and 5-sodiumsulfonedicarboxylic acid, aliphatic dicarboxylic acids such as oxalic acid, succinic acid, adipic acid, sebacic acid, dimer acid, maleic acid, and fumaric acid, alicyclic dicarboxylic acids such as 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, and oxycarboxylic acids such as paraoxybenzoic acid, as well as derivatives thereof. Examples of derivatives of dicarboxylic acids include esters of dimethyl terephthalate, diethyl terephthalate, 2-hydroxyethyl methyl terephthalate, dimethyl 2,6-naphthalenedicarboxylate, dimethyl isophthalate, dimethyl adipate, diethyl maleate, and dimethyl dimerate. Among these, from the viewpoints of moldability and handling, terephthalic acid, isophthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, and esters thereof are preferably used.
Examples of polyhydric alcohols or derivatives thereof which give polyesters include aliphatic dihydroxy compounds such as ethylene glycol, diethylene glycol, 1,2-propanediol, 1,3-propanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, and neopentyl glycol, polyoxyalkylene glycols such as diethylene glycol, polyethylene glycol, polypropylene glycol, and polytetramethylene glycol, alicyclic dihydroxy compounds such as 1,4-cyclohexanedimethanol and spiroglycol, aromatic dihydroxy compounds such as bisphenol A and bisphenol S, and derivatives thereof. Among these, in terms of moldability and handling properties, ethylene glycol, diethylene glycol, 1,3-propanediol, 1,4-butanediol, neopentyl glycol, and 1,4-cyclohexanedimethanol are preferably used.
Examples of polyester resins include polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polybutylene naphthalate, polytrimethylene terephthalate, polytrimethylene naphthalate, polycyclohexane dimethyl terephthalate, polycyclohexane dimethyl naphthalate, etc. Among these, polyethylene terephthalate or polyethylene naphthalate is preferred.

ポリアミド系樹脂は、主鎖として繰り返し単位にアミド結合を含む重合体樹脂であり、例えば芳香環骨格がアミド結合により結合された芳香族ポリアミド(アラミド)や脂肪族骨格がアミド結合により結合された脂肪族ポリアミド等が挙げられる。一般的には多価カルボン酸またはその誘導体と多価アミンとの重合反応等により得ることができる。
ポリアミドを与える多価カルボン酸またはその誘導体としては、テレフタル酸クロライド、2-クロロ-テレフタル酸クロライド、イソフタル酸ジクロライド、ナフタレンジカルボニルクロライド、ビフェニルジカルボニルクロライド、ターフェニルジカルボニルクロライドなどが挙げられる。
ポリアミドを与える多価アミンとしては、例えば4,4’-ジアミノジフェニルエーテル、3,4’-ジアミノジフェニルエーテル、4,4’-ジアミノジフェニルスルホン、3,3’-ジアミノジフェニルスルホン、2,2’-ジトリフルオロメチル-4,4’-ジアミノビフェニル、9,9-ビス(4-アミノフェニル)フルオレン、9,9-ビス(4-アミノ-3-メチルフェニル)フルオレン、ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、ビス[4-(3-アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、2,2-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2-ビス(4-アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパンなどが挙げられるが、好ましくは4,4’-ジアミノジフェニルスルホン、3,3’-ジアミノジフェニルスルホン、2,2’-ジトリフルオロメチル-4,4’-ジアミノビフェニル、9,9-ビス(4-アミノフェニル)フルオレン、9,9-ビス(4-アミノ-3-メチルフェニル)フルオレン、1,4-シクロヘキサンジアミン、1,4-ノルボルネンジアミンが挙げられる。
Polyamide resins are polymer resins containing amide bonds in the repeating units of the main chain, such as aromatic polyamides (aramids) in which aromatic ring skeletons are bonded by amide bonds, aliphatic polyamides in which aliphatic skeletons are bonded by amide bonds, etc. Polyamide resins can generally be obtained by polymerization reaction between polyvalent carboxylic acids or their derivatives and polyvalent amines.
Examples of polyvalent carboxylic acids or derivatives thereof which give polyamides include terephthalic acid chloride, 2-chloro-terephthalic acid chloride, isophthalic acid dichloride, naphthalene dicarbonyl chloride, biphenyl dicarbonyl chloride, and terphenyl dicarbonyl chloride.
Examples of polyamines that give polyamides include 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone, 3,3'-diaminodiphenyl sulfone, 2,2'-ditrifluoromethyl-4,4'-diaminobiphenyl, 9,9-bis(4-aminophenyl)fluorene, 9,9-bis(4-amino-3-methylphenyl)fluorene, bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]sulfone, and bis[4-(3-aminophenoxy)phenyl]sulfone. Examples of suitable amines include 2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane, 2,2-bis(4-aminophenyl)hexafluoropropane, and the like. Of these, preferred are 4,4'-diaminodiphenyl sulfone, 3,3'-diaminodiphenyl sulfone, 2,2'-ditrifluoromethyl-4,4'-diaminobiphenyl, 9,9-bis(4-aminophenyl)fluorene, 9,9-bis(4-amino-3-methylphenyl)fluorene, 1,4-cyclohexanediamine, and 1,4-norbornenediamine.

ポリイミド系樹脂は、主鎖として繰り返し単位にイミド結合を含む重合体樹脂であり、ジアミン類とテトラカルボン酸二無水物とを出発原料として、重縮合によって得られる縮合型ポリイミドが一般的である。ジアミン類としては、芳香族ジアミン類、脂環式ジアミン類、脂肪族ジアミン類等を用いることができる。テトラカルボン酸二無水物としては、芳香族テトラカルボン酸二無水物、脂環式テトラカルボン酸二無水物、非環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物等を用いることができる。ジアミン類及びテトラカルボン酸二無水物はそれぞれ、単独で用いてもよいし、2種以上を併用して用いてもよい。テトラカルボン酸二無水物に代えて、酸クロライド化合物等のテトラカルボン酸化合物類縁体から選ばれるテトラカルボン酸化合物を出発原料として用いてもよい。 Polyimide resins are polymer resins containing imide bonds in the repeating units of the main chain, and are generally condensation-type polyimides obtained by polycondensation using diamines and tetracarboxylic dianhydrides as starting materials. As diamines, aromatic diamines, alicyclic diamines, aliphatic diamines, etc. can be used. As tetracarboxylic dianhydrides, aromatic tetracarboxylic dianhydrides, alicyclic tetracarboxylic dianhydrides, acyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydrides, etc. can be used. The diamines and tetracarboxylic dianhydrides may be used alone or in combination of two or more. Instead of tetracarboxylic dianhydrides, tetracarboxylic acid compounds selected from tetracarboxylic acid compound analogs such as acid chloride compounds may be used as starting materials.

シクロオレフィン系樹脂は、例えば、ノルボルネンや多環ノルボルネン系モノマーのような環状オレフィン(シクロオレフィン)からなるモノマーのユニットを有する熱可塑性の樹脂であり、熱可塑性シクロオレフィン系樹脂とも呼ばれる。このシクロオレフィン系樹脂は、上記シクロオレフィンの開環重合体や2種以上のシクロオレフィンを用いた開環共重合体の水素添加物であってもよく、シクロオレフィンと、鎖状オレフィンや、ビニル基の如き重合性二重結合を有する芳香族化合物などとの付加重合体であってもよい。シクロオレフィン系樹脂には、極性基が導入されていてもよい。 Cycloolefin resins are thermoplastic resins having monomer units made of cyclic olefins (cycloolefins) such as norbornene and polycyclic norbornene monomers, and are also called thermoplastic cycloolefin resins. These cycloolefin resins may be ring-opening polymers of the above cycloolefins or hydrogenated ring-opening copolymers using two or more cycloolefins, or may be addition polymers of cycloolefins and linear olefins or aromatic compounds having polymerizable double bonds such as vinyl groups. Polar groups may be introduced into the cycloolefin resins.

シクロオレフィンと、鎖状オレフィン及び/又はビニル基を有する芳香族化合物との共重合体を用いて第一の保護フィルムを構成する場合、鎖状オレフィンとしては、エチレンやプロピレンなどが挙げられ、またビニル基を有する芳香族化合物としては、スチレン、α-メチルスチレン、核アルキル置換スチレンなどが挙げられる。このような共重合体においては、シクロオレフィンからなるモノマーのユニットが50モル%以下であってもよいが、好ましくは15~50モル%程度とされる。特に、シクロオレフィンと鎖状オレフィンとビニル基を有する芳香族化合物との三元共重合体を用いて第一の保護フィルムを構成する場合、シクロオレフィンからなるモノマーのユニットは、上述したように比較的少ない量とすることができる。かかる三元共重合体において、鎖状オレフィンからなるモノマーのユニットは、通常5~80モル%、ビニル基を有する芳香族化合物からなるモノマーのユニットは、通常5~80モル%である。 When the first protective film is formed using a copolymer of a cycloolefin and a linear olefin and/or an aromatic compound having a vinyl group, examples of the linear olefin include ethylene and propylene, and examples of the aromatic compound having a vinyl group include styrene, α-methylstyrene, and nuclear alkyl-substituted styrene. In such a copolymer, the monomer unit consisting of the cycloolefin may be 50 mol % or less, but is preferably about 15 to 50 mol %. In particular, when the first protective film is formed using a ternary copolymer of a cycloolefin, a linear olefin, and an aromatic compound having a vinyl group, the monomer unit consisting of the cycloolefin can be relatively small as described above. In such a ternary copolymer, the monomer unit consisting of the linear olefin is usually 5 to 80 mol %, and the monomer unit consisting of the aromatic compound having a vinyl group is usually 5 to 80 mol %.

シクロオレフィン系樹脂としては、適宜の市販品を用いることができる。例えば、ポリプラスチック株)から販売されている「TOPAS 」、JSR株式会社から販売されている「アートン」、日本ゼオン(株)から販売されている「ゼオノア(ZEONOR)」及び「ゼオネックス(ZEONEX)」、三井化学(株)から販売されている「アペル」(以上、いずれも商品名)などを挙げることができる。 As the cycloolefin resin, an appropriate commercially available product can be used. For example, "TOPAS" sold by Polyplastics Co., Ltd., "Arton" sold by JSR Corporation, "ZEONOR" and "ZEONEX" sold by Zeon Corporation, and "Apel" sold by Mitsui Chemicals, Inc. (all of the above are product names) can be mentioned.

樹脂(A)の23℃における貯蔵弾性率Eは、通常100MPa以上であり、好ましくは300MPa以上であり、より好ましくは500MPa以上であり、特に好ましくは1000MPa以上である。下限は制限ないが、通常100000MPa以下である。 The storage modulus E of resin (A) at 23°C is usually 100 MPa or more, preferably 300 MPa or more, more preferably 500 MPa or more, and particularly preferably 1000 MPa or more. There is no lower limit, but it is usually 100,000 MPa or less.

光選択吸収化合物(B)は、波長405nmの光を選択的に吸収する化合物であり、下記式(4)を満たす化合物であることが好ましく、さらに式(5)を満たす化合物であることがより好ましい。
ε(405)≧20 (4)
〔式(4)中、ε(405)は波長405nmにおける化合物のグラム吸光係数を表す。グラム吸光係数の単位はL/(g・cm)である。〕
ε(405)/ε(440)≧20 (5)
[式(6)中、ε(405)は波長405nmにおける化合物のグラム吸光係数を表し、ε(440)は波長440nmにおけるグラム吸光度係数を表す。]
なお、グラム吸光度係数は、実施例に記載の方法で測定する。
The light selective absorption compound (B) is a compound that selectively absorbs light having a wavelength of 405 nm, and is preferably a compound that satisfies the following formula (4), and more preferably a compound that satisfies formula (5).
ε(405)≧20 (4)
(In formula (4), ε(405) represents the gram absorption coefficient of the compound at a wavelength of 405 nm. The unit of the gram absorption coefficient is L/(g cm).)
ε(405)/ε(440)≧20 (5)
[In formula (6), ε(405) represents the gram absorbance coefficient of the compound at a wavelength of 405 nm, and ε(440) represents the gram absorbance coefficient at a wavelength of 440 nm.]
The gram absorbance coefficient is measured by the method described in the Examples.

ε(405)の値が大きい化合物ほど波長405nmの光を吸収しやすく、紫外線や短波長の可視光による劣化抑制機能を発現しやすい。ε(405)の値が20L/(g・cm)未満であると、位相差フィルムや有機EL発光素子の紫外線や短波長の可視光による劣化抑制機能を発現するために、本発明の樹脂組成物中の光選択吸収化合物(B)の含有量が増大する。光選択吸収化合物(B)の含有量が増大すると、光選択吸収化合物(B)がブリードアウト又は不均一に分散してしまい、光吸収機能が不十分となることがある。ε(405)の値は20L/(g・cm)以上であることが好ましく、30L/(g・cm)以上であることがより好ましく、40L/(g・cm)以上であることがさらにより好ましく、通常500L/(g・cm)以下である。 The larger the value of ε(405), the easier it is for the compound to absorb light with a wavelength of 405 nm, and the easier it is for the compound to exhibit a function of suppressing deterioration caused by ultraviolet light or short-wavelength visible light. If the value of ε(405) is less than 20 L/(g·cm), the content of the light-selective absorbing compound (B) in the resin composition of the present invention is increased in order to exhibit a function of suppressing deterioration caused by ultraviolet light or short-wavelength visible light in retardation films and organic EL light-emitting devices. If the content of the light-selective absorbing compound (B) is increased, the light-selective absorbing compound (B) may bleed out or disperse unevenly, resulting in insufficient light absorption function. The value of ε(405) is preferably 20 L/(g·cm) or more, more preferably 30 L/(g·cm) or more, even more preferably 40 L/(g·cm) or more, and is usually 500 L/(g·cm) or less.

ε(405)/ε(440)の値が大きい化合物ほど、表示装置の色彩表現を阻害することなく、405nm付近の光を吸収し位相差フィルムや有機EL素子等の表示装置の光劣化を抑制することができる。ε(405)/ε(440)の値は20以上が好ましく、40以上がより好ましく、70以上がさらにより好ましく、80以上が特により好ましい。 The larger the value of ε(405)/ε(440), the more the compound can absorb light around 405 nm and suppress photodegradation of displays such as retardation films and organic EL elements without impeding the color expression of the display. The value of ε(405)/ε(440) is preferably 20 or more, more preferably 40 or more, even more preferably 70 or more, and particularly preferably 80 or more.

また、光選択吸収化合物(B)は、分子内にメロシアニン構造を含む化合物であることが好ましい。分子内にメロシアニン構造を含む化合物としては、-(N-C=C-C=C)-で示される部分構造を分子内に含有している化合物であって、例えば、メロシアニン系化合物、シアニン系化合物、インドール系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物等が挙げられる。好ましくは、メロシアニン系化合物、シアニン系化合物及びベンゾトリアゾール系化合物であり、より好ましくは式(I)で表される化合物である。

Figure 0007580504000001

[式中、R及びRは、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1~25のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数7~15のアラルキル基、炭素数6~15のアリール基、複素環基を表し、該アルキル基又はアラルキル基に含まれる-CH-は-NR1A-、-CO-、-SO-、-O-又は-S-に置換されていてもよい。
1Aは、水素原子又は炭素数1~6のアルキル基を表す。
、R及びRは、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1~6のアルキル基、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基又は置換基を有していてもよい芳香族複素環基を表し、該アルキル基に含まれる-CH-は-NR1B-、-CO-、-SO-、-O-又は-S-で置換されていてもよい。
1Bは、水素原子又は炭素数1~6のアルキル基を表す。
及びRは、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1~25のアルキル基又は電子吸引性基を表すか、R及びRが互いに連結して環構造を形成してもよい。
及びRは互いに連結して環構造を形成してもよく、R及びRは互いに連結して環構造を形成してもよく、R及びRは互いに連結して環構造を形成してもよく、R及びRは、互いに連結して環構造を形成してもよい。] Moreover, the light selective absorption compound (B) is preferably a compound containing a merocyanine structure in the molecule. Examples of compounds containing a merocyanine structure in the molecule include compounds containing a partial structure represented by -(N-C=C-C=C)- in the molecule, such as merocyanine compounds, cyanine compounds, indole compounds, and benzotriazole compounds. Merocyanine compounds, cyanine compounds, and benzotriazole compounds are preferred, and compounds represented by formula (I) are more preferred.
Figure 0007580504000001

[In the formula, R 1 and R 5 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 25 carbon atoms which may have a substituent, an aralkyl group having 7 to 15 carbon atoms which may have a substituent, an aryl group having 6 to 15 carbon atoms, or a heterocyclic group, and -CH 2 - contained in the alkyl group or aralkyl group may be substituted with -NR 1A -, -CO-, -SO 2 -, -O- or -S-.
R 1A represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
R 2 , R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent, an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent or an aromatic heterocyclic group which may have a substituent, and -CH 2 - contained in the alkyl group may be substituted with -NR 1B -, -CO-, -SO 2 -, -O- or -S-.
R 1B represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
R 6 and R 7 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 25 carbon atoms, or an electron-withdrawing group, or R 6 and R 7 may be bonded to each other to form a ring structure.
R1 and R2 may be linked together to form a ring structure, R2 and R3 may be linked together to form a ring structure, R2 and R4 may be linked together to form a ring structure, and R3 and R6 may be linked together to form a ring structure.

及びRで表される炭素数1~25のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、2-シアノプロピル基、n-ブチル基、tert-ブチル基、sec-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、1-メチルブチル基、3-メチルブチル基、n-オクチル基、n-デシル、2-へキシル-オクチル基等が挙げられる。
及びRで表される炭素数1~25のアルキル基が有していてもよい置換基としては、以下の群Aに記載の基が挙げられる。
群A:ニトロ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホ基、シアノ基、アミノ基、ハロゲン原子、炭素数1~6のアルコキシ基、炭素数1~12のアルキルシリル基、炭素数2~8のアルキルカルボニル基、*-Ra1-(O-Ra2t1-Ra3(Ra1及びRa2は、それぞれ独立して、炭素数1~6のアルカンジイル基を表し、Ra3は炭素数1~6のアルキル基を表し、s1は1~3の整数を表す。)で表される基等が挙げられる。
炭素数1~12のアルキルシリル基としては、メチルシリル基、エチルシリル、プロピルシリル基等のモノアルキルシリル基;ジメチルシリル基、ジエチルシリル基、メチルエチルシリル基等のジアルキルシリル基;トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリプロピルシリル基等のトリアルキルシリル基が挙げられる。
炭素数2~8のアルキルカルボニル基としては、メチルカルボニル基、エチルカルボニル基等が挙げられる。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等が挙げられる。
Examples of the alkyl group having 1 to 25 carbon atoms represented by R1 and R5 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, a 2-cyanopropyl group, an n-butyl group, a tert-butyl group, a sec-butyl group, an n-pentyl group, an n-hexyl group, a 1-methylbutyl group, a 3-methylbutyl group, an n-octyl group, an n-decyl group, and a 2-hexyl-octyl group.
Examples of the substituent that the alkyl group having 1 to 25 carbon atoms represented by R 1 and R 5 may have include the groups described in Group A below.
Group A: a nitro group, a hydroxy group, a carboxy group, a sulfo group, a cyano group, an amino group, a halogen atom, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, an alkylsilyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkylcarbonyl group having 2 to 8 carbon atoms, and a group represented by *-R a1 -(O-R a2 ) t1 -R a3 (R a1 and R a2 each independently represent an alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms, R a3 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and s1 represents an integer of 1 to 3).
Examples of the alkylsilyl group having 1 to 12 carbon atoms include monoalkylsilyl groups such as methylsilyl group, ethylsilyl group, and propylsilyl group; dialkylsilyl groups such as dimethylsilyl group, diethylsilyl group, and methylethylsilyl group; and trialkylsilyl groups such as trimethylsilyl group, triethylsilyl group, and tripropylsilyl group.
Examples of the alkylcarbonyl group having 2 to 8 carbon atoms include a methylcarbonyl group and an ethylcarbonyl group.
Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, and a bromine atom.

及びRで表される炭素数7~15のアラルキル基としては、ベンジル基、フェニルエチル基等が挙げられる。アラルキル基に含まれる-CH-が、-SO-又は-COO-に置き換わった基としては2-フェニル酢酸エチル基等が挙げられる。
及びRで表される炭素数7~15のアラルキル基が有していてもよい置換基としては、以下の群Aに記載の基が挙げられる。
及びRで表される炭素数6~15のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等が挙げられる。
及びRで表される炭素数6~15のアリール基が有していてもよい置換基としては、上記群Aに記載の基が挙げられる。
及びRで表される炭素数6~15の複素環基としては、ピリジル基、ピロリジル基、キノリル基、チオフェン基、イミダゾリル基、オキサゾリル基、ピロール基、チアゾリル基及びフラニル基等の炭素数3~9の芳香族複素環基が挙げられる。
Examples of the aralkyl group having 7 to 15 carbon atoms represented by R1 and R5 include a benzyl group, a phenylethyl group, etc. Examples of the group in which —CH 2 — contained in the aralkyl group is replaced by —SO 2 — or —COO— include 2-phenylethyl acetate.
Examples of the substituent that the aralkyl group having 7 to 15 carbon atoms represented by R 1 and R 5 may have include the groups described in Group A below.
Examples of the aryl group having 6 to 15 carbon atoms represented by R1 and R5 include a phenyl group, a naphthyl group, and an anthracenyl group.
Examples of the substituent that the aryl group having 6 to 15 carbon atoms represented by R 1 and R 5 may have include the groups described in Group A above.
Examples of the heterocyclic group having 6 to 15 carbon atoms represented by R1 and R5 include aromatic heterocyclic groups having 3 to 9 carbon atoms, such as a pyridyl group, a pyrrolidyl group, a quinolyl group, a thiophene group, an imidazolyl group, an oxazolyl group, a pyrrole group, a thiazolyl group, and a furanyl group.

1A及びR1Bで表される炭素数1~6のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、tert-ブチル基、sec-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基等が挙げられる。 Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms represented by R 1A and R 1B include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a tert-butyl group, a sec-butyl group, an n-pentyl group, and an n-hexyl group.

、R及びRで表される炭素数1~6のアルキル基としては、R1Bで表される炭素数1~6のアルキル基と同じものが挙げられる。
、R及びRで表される炭素数1~6のアルキル基が有していてもよい置換基としては、上記群Aに記載の基が挙げられる。
、R及びRで表される芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等炭素数6~15のアリール基;ベンジル基、フェニルエチル基等の炭素数7~15のアラルキル基が挙げられる。
、R及びRで表される芳香族炭化水素基が有していてもよい置換基としては上記群Aに記載の基が挙げられる。
、R及びRで表される芳香族複素環としては、ピリジル基、ピロリジル基、キノリル基、チオフェン基、イミダゾリル基、オキサゾリル基、ピロール基、チアゾリル基及びフラニル基等の炭素数3~9の芳香族複素環基が挙げられる。
、R及びRで表される芳香族複素環が有していてもよい置換基としては、上記群Aに記載の基が挙げられる。
Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms represented by R 2 , R 3 and R 4 include the same as the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms represented by R 1B .
Examples of the substituent that the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms represented by R 2 , R 3 and R 4 may have include the groups described in group A above.
Examples of the aromatic hydrocarbon groups represented by R 2 , R 3 and R 4 include aryl groups having 6 to 15 carbon atoms, such as a phenyl group, a naphthyl group and an anthracenyl group; and aralkyl groups having 7 to 15 carbon atoms, such as a benzyl group and a phenylethyl group.
Examples of the substituent that the aromatic hydrocarbon group represented by R 2 , R 3 and R 4 may have include the groups described in Group A above.
Examples of the aromatic heterocyclic ring represented by R 2 , R 3 and R 4 include aromatic heterocyclic groups having 3 to 9 carbon atoms, such as a pyridyl group, a pyrrolidyl group, a quinolyl group, a thiophene group, an imidazolyl group, an oxazolyl group, a pyrrole group, a thiazolyl group and a furanyl group.
Examples of the substituent that the aromatic heterocycle represented by R 2 , R 3 and R 4 may have include the groups described in Group A above.

及びRで表される炭素数1~25のアルキル基としては、R及びRで表される炭素数1~25のアルキル基と同じものが挙げられる。
及びRで表される炭素数1~25のアルキル基が有していてもよい置換基としては、上記群Aに記載の基が挙げられる。
Examples of the alkyl group having 1 to 25 carbon atoms represented by R6 and R7 include the same as the alkyl group having 1 to 25 carbon atoms represented by R1 and R5 .
Examples of the substituent that the alkyl group having 1 to 25 carbon atoms represented by R 6 and R 7 may have include the groups described in Group A above.

及びRで表される炭素数1~25のアルキル基としては、R及びRで表される炭素数1~25のアルキル基と同じものが挙げられる。
及びRで表される電子吸引性基としては、例えば、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されたアルキル基、式(I-1)で表される基が挙げられる。

Figure 0007580504000002

[式中、R11は、水素原子又は炭素数1~25のアルキル基を表し、該アルキル基に含まれるメチレン基の少なくとも1つは酸素原子に置換されていてもよい。
は、-CO-、-COO-、-OCO-、-CS-、-CSO-、-CSS-、-NR12CO-又はCONR13-を表す。
12及びR13は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1~6のアルキル基又はフェニル基を表す。] Examples of the alkyl group having 1 to 25 carbon atoms represented by R6 and R7 include the same as the alkyl group having 1 to 25 carbon atoms represented by R1 and R5 .
Examples of the electron-withdrawing group represented by R 6 and R 7 include a cyano group, a nitro group, a halogen atom, an alkyl group substituted with a halogen atom, and a group represented by formula (I-1).
Figure 0007580504000002

In the formula, R 11 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 25 carbon atoms, and at least one methylene group contained in the alkyl group may be substituted with an oxygen atom.
X 1 represents —CO—, —COO—, —OCO—, —CS—, —CSO—, —CSS—, —NR 12 CO— or —CONR 13 —.
R 12 and R 13 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a phenyl group.

ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
ハロゲン原子で置換されたアルキル基としては、例えば、トリフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロイソプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロsec-ブチル基、ペルフルオロtert-ブチル基、ペルフルオロペンチル基及びペルフルオロヘキシル基等のパーフルオロアルキル基等が挙げられる。ハロゲン原子で置換されたアルキル基の炭素数としては、通常1~25である。
Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
Examples of the alkyl group substituted with a halogen atom include perfluoroalkyl groups such as a trifluoromethyl group, a perfluoroethyl group, a perfluoropropyl group, a perfluoroisopropyl group, a perfluorobutyl group, a perfluorosec-butyl group, a perfluorotert-butyl group, a perfluoropentyl group, and a perfluorohexyl group. The number of carbon atoms in the alkyl group substituted with a halogen atom is usually 1 to 25.

及びRは互いに連結して環構造を形成していてもよく、R及びRより形成される環構造としては、例えば、メルドラム酸構造、バルビツール酸構造、ジメドン構造等が挙げられる。
11で表される炭素数1~25のアルキル基としては、R及びRで表されるアルキル基と同じものが挙げられる。
R 6 and R 7 may be bonded to each other to form a ring structure. Examples of the ring structure formed by R 6 and R 7 include a Meldrum's acid structure, a barbituric acid structure, and a dimedone structure.
Examples of the alkyl group having 1 to 25 carbon atoms represented by R 11 include the same alkyl groups as those represented by R 1 and R 5 .

及びRが互いに結合して形成される環構造としては、Rと結合している窒素原子を含む含窒素環構造であって、例えば、4~14員環の含窒素複素環が挙げられる。R及びRが互いに連結して形成される環構造は、単環であってもよいし、多環であってもよい。具体的には、ピロリジン環、ピロリン環、イミダゾリジン環、イミダゾリン環、オキサゾリン環、チアゾリン環、ピペリジン環、モルホリン環、ピペラジン環、インドール環、イソインドール環等が挙げられる。 The ring structure formed by R2 and R3 bonding to each other is a nitrogen-containing ring structure containing the nitrogen atom bonded to R2 , and examples of such ring structures include 4- to 14-membered nitrogen-containing heterocycles. The ring structure formed by R2 and R3 bonding to each other may be a monocycle or a polycycle. Specific examples of such ring structures include a pyrrolidine ring, a pyrroline ring, an imidazolidine ring, an imidazoline ring, an oxazoline ring, a thiazoline ring, a piperidine ring, a morpholine ring, a piperazine ring, an indole ring, and an isoindole ring.

及びRが互いに結合して形成される環構造としては、R及びRが結合している窒素原子を含む含窒素環構造であって、例えば、4~14員環(好ましくは4~8員環)の含窒素複素環が挙げられる。R及びRが互いに連結して形成される環構造は、単環であってもよいし、多環であってもよい。具体的には、R及びRが互いに連結して形成される環構造と同じものが挙げられる。 The ring structure formed by R1 and R2 bonding to each other is a nitrogen-containing ring structure containing the nitrogen atom to which R1 and R2 are bonded, and examples of such ring structures include 4- to 14-membered (preferably 4- to 8-membered) nitrogen-containing heterocycles. The ring structure formed by R1 and R2 bonding to each other may be a monocycle or a polycycle. Specific examples of such ring structures include the same ring structure as the ring structure formed by R2 and R3 bonding to each other.

及びRが互いに結合して形成される環構造としては、4~14員環の含窒素環構造が挙げられ、5員環~9員環の含窒素環構造が好ましい。R及びRが互いに結合して形成される環構造は、単環であってもよいし、多環であってもよい。これらの環は置換基を有していてもよく、このような環構造としては、前記RとRにより形成される環構造として例示したものと同じものが挙げられる。 Examples of the ring structure formed by R2 and R4 bonding to each other include a 4- to 14-membered nitrogen-containing ring structure, and a 5- to 9-membered nitrogen-containing ring structure is preferred. The ring structure formed by R2 and R4 bonding to each other may be a monocyclic ring or a polycyclic ring. These rings may have a substituent, and examples of such ring structures include the same as those exemplified as the ring structure formed by R2 and R3 .

及びRが互いに連結して形成される環構造としては、R-C=C-C=C-Rが環の骨格を形成する環構造である。例えば、フェニル基等が挙げられる。 The ring structure formed by R3 and R6 bonding to each other is a ring structure in which R3 -C=C-C=C- R6 forms the backbone of the ring, such as a phenyl group.

とRが互いに連結して環構造を形成している式(I)で表される化合物としては式(I-A)で表される化合物が挙げられ、R及びRが互いに連結して環構造を形成している式(I)で表される化合物としては、式(I-B)で表される化合物等が挙げられる。

Figure 0007580504000003

[式(I-A)、式(I-B)中、R、R、R、R、R及びRは、それぞれ上記と同じ意味を表す。
環W及び環Wは、それぞれ独立して、含窒素環を表す。] An example of the compound represented by formula (I) in which R2 and R3 are bonded to each other to form a ring structure is a compound represented by formula (IA). An example of the compound represented by formula (I) in which R2 and R4 are bonded to each other to form a ring structure is a compound represented by formula (IB).
Figure 0007580504000003

In formula (IA) and formula (IB), R 1 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 and R 7 each have the same meaning as defined above.
Ring W1 and ring W2 each independently represent a nitrogen-containing ring.

環W及び環Wは、環の構成単位として窒素原子を含有する含窒素環を表す。環W及び環Wは、それぞれ独立して、単環であってもよいし、多環であってもよく、窒素以外のヘテロ原子を環の構成単位として含んでいてもよい。環W及び環Wは、それぞれ独立して、5員環~9員環の環であることが好ましい。 Ring W1 and ring W2 each represent a nitrogen-containing ring containing a nitrogen atom as a ring constituent unit. Ring W1 and ring W2 each independently may be a monocyclic ring or a polycyclic ring, and may contain a heteroatom other than nitrogen as a ring constituent unit. Ring W1 and ring W2 each independently are preferably 5- to 9-membered rings.

式(I-A)で表される化合物は、式(I-A-1)で表される化合物であることが好ましい。

Figure 0007580504000004

[式(I-A-1)中、R、R、R、R及びRは、それぞれ上記と同じ意味を表す。
は、-CH-、-O-、-S-又は-NR1D-を表す。
14及びR15は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数1~12のアルキル基を表す。
1Dは、水素原子又は炭素数1~6のアルキル基を表す。] The compound represented by formula (IA) is preferably a compound represented by formula (IA-1).
Figure 0007580504000004

In formula (IA-1), R 1 , R 4 , R 5 , R 6 and R 7 each have the same meaning as defined above.
A 1 represents —CH 2 —, —O—, —S— or —NR 1D —.
R 14 and R 15 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms.
R1D represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.

式(I-B)で表される化合物は、式(I-B-1)で表される化合物及び式(I-B-2)で表される化合物であることが好ましい。

Figure 0007580504000005

[式(I-B-1)中、R、R及びRは、それぞれ上記と同じ意味を表す。
16は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数1~12のアルキル基、アリール基を表す。] The compound represented by formula (IB) is preferably a compound represented by formula (IB-1) or a compound represented by formula (IB-2).
Figure 0007580504000005

In formula (IB-1), R 1 , R 6 and R 7 each have the same meaning as defined above.
Each R 16 independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or an aryl group.

Figure 0007580504000006

[式(I-B-2)中、R、R、R及びRは、それぞれ上記と同じ意味を表す。
30は、水素原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子、メルカプト基、アミノ基、炭素数1~12のアルキル基、炭素数1~12のアルコキシ基、炭素数6~18の芳香族炭化水素基、炭素数2~13のアシル基、炭素数2~13のアシルオキシ基又は炭素数2~13のアルコキシカルボニル基を表す。
31は、炭素数1~12のアルキル基、炭素数1~12のアルコキシ基、メルカプト基、炭素数1~12のアルキルチオ基、置換基を有していてもよいアミノ基又は複素環基を表す。]
Figure 0007580504000006

In formula (IB-2), R 3 , R 5 , R 6 and R 7 each have the same meaning as defined above.
R 30 represents a hydrogen atom, a cyano group, a nitro group, a halogen atom, a mercapto group, an amino group, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, an acyl group having 2 to 13 carbon atoms, an acyloxy group having 2 to 13 carbon atoms, or an alkoxycarbonyl group having 2 to 13 carbon atoms.
R 31 represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, a mercapto group, an alkylthio group having 1 to 12 carbon atoms, an amino group which may have a substituent, or a heterocyclic group.]

30で表されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
30で表されるR30で表される炭素数2~13のアシル基としては、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基等が挙げられる。
30で表される炭素数2~13のアシルオキシ基としては、メチルカルボニルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、プロピルカルボニルオキシ基、ブチルカルボニルオキシ基等が挙げられる。
30で表される炭素数2~13のアルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基等が挙げられる。
30で表される炭素数6~18の芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基等の炭素数6~18のアリール基;ベンジル基、フェニルエチル基等の炭素数7~18のアラルキル基が挙げられる。
30で表される炭素数1~12のアルキル基としては、R14で表される炭素数1~12のアルキル基と同じものが挙げられる。
30で表される炭素数1~12のアルキル基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペントキシ基等が挙げられる。
30は、炭素数1~12のアルキル基、炭素数1~12のアルコキシ基、アミノ基又はメルカプト基であることが好ましい。
Examples of the halogen atom represented by R 30 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
Examples of the acyl group having 2 to 13 carbon atoms represented by R 30 include an acetyl group, a propionyl group, and a butyryl group.
Examples of the acyloxy group having 2 to 13 carbon atoms represented by R 30 include a methylcarbonyloxy group, an ethylcarbonyloxy group, a propylcarbonyloxy group, and a butylcarbonyloxy group.
Examples of the alkoxycarbonyl group having 2 to 13 carbon atoms represented by R 30 include a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, a propoxycarbonyl group, and a butoxycarbonyl group.
Examples of the aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms represented by R 30 include aryl groups having 6 to 18 carbon atoms, such as a phenyl group, a naphthyl group, and a biphenyl group; and aralkyl groups having 7 to 18 carbon atoms, such as a benzyl group and a phenylethyl group.
Examples of the alkyl group having 1 to 12 carbon atoms represented by R 30 include the same alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms represented by R 14 .
Examples of the alkyl group having 1 to 12 carbon atoms represented by R 30 include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group, and a pentoxy group.
R 30 is preferably an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an amino group, or a mercapto group.

31で表される炭素数1~12のアルキル基としては、R14で表される炭素数1~12のアルキル基と同じものが挙げられる。
31で表される炭素数1~12のアルコキシ基としては、R30で表される炭素数1~12のアルコキシ基と同じものが挙げられる。
31で表される炭素数1~12のアルキルチオ基としては、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基等が挙げられる。
31で表される置換基を有していてもよいアミノ基としては、アミノ基;N-メチルアミノ基、N-エチルアミノ基等の1つの炭素数1~8のアルキル基で置換されたアミノ基;N,N-ジメチルアミノ基、N,N-ジエチルアミノ基、N,N-メチルエチルアミノ基等の2つの炭素数1~8のアルキル基で置換されたアミノ基;等が挙げられる。
31で表される複素環としては、ピロリジニル基、ピペリジニル基、モルホリニル基等の炭素数4~9の含窒素複素環基等が挙げられる。
Examples of the alkyl group having 1 to 12 carbon atoms represented by R 31 include the same alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms represented by R 14 .
Examples of the alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms represented by R 31 include the same alkoxy groups having 1 to 12 carbon atoms represented by R 30 .
Examples of the alkylthio group having 1 to 12 carbon atoms represented by R 31 include a methylthio group, an ethylthio group, a propylthio group, a butylthio group, a pentylthio group, and a hexylthio group.
Examples of the amino group which may have a substituent represented by R 31 include an amino group; an amino group substituted with one alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, such as an N-methylamino group or an N-ethylamino group; an amino group substituted with two alkyl groups having 1 to 8 carbon atoms, such as an N,N-dimethylamino group, an N,N-diethylamino group, or an N,N-methylethylamino group; and the like.
Examples of the heterocycle represented by R 31 include nitrogen-containing heterocycles having 4 to 9 carbon atoms, such as a pyrrolidinyl group, a piperidinyl group, and a morpholinyl group.

及びRが互いに連結して環構造を形成し、かつR及びRが互いに結合して環構造を形成する式(I)で表される化合物としては、式(I-C)で表される化合物等が挙げられる。

Figure 0007580504000007

[式(I-C)中、R 及びRは上記と同じ意味を表す。
21、R22は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1~12のアルキル基又はヒドロキシ基を表す。
及びXは、それぞれ独立して、-CH-又は-N(R25A)=を表す。
25Aは、水素原子、炭素数1~25のアルキル基、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を表す。] Examples of the compound represented by formula (I) in which R3 and R6 are bonded to each other to form a ring structure and R2 and R4 are bonded to each other to form a ring structure include the compound represented by formula (IC).
Figure 0007580504000007

In formula (IC), R 1 , R 5 and R 7 are as defined above.
R 21 and R 22 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a hydroxy group.
X2 and X3 each independently represent -CH2- or -N( R25A )=.
R 25A represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 25 carbon atoms, or an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent.]

25Aで表される炭素数1~25のアルキル基としては、Rで表される炭素数1~25のアルキル基と同じものが挙げられる。
25Aで表される芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基等のアリール基:ベンジル基、フェニルエチル基等のアラルキル基:ビフェニル基等が挙げられ、炭素数6~20の芳香族炭化水素基であることが好ましい。R25Aで表される芳香族炭化水素基が有していてもよい置換基としては、ヒドロキシ基等が挙げられる。
Examples of the alkyl group having 1 to 25 carbon atoms represented by R 25A include the same alkyl groups having 1 to 25 carbon atoms represented by R 1 .
Examples of the aromatic hydrocarbon group represented by R 25A include aryl groups such as a phenyl group and a naphthyl group, aralkyl groups such as a benzyl group and a phenylethyl group, and a biphenyl group, and are preferably aromatic hydrocarbon groups having 6 to 20 carbon atoms. Examples of the substituent that the aromatic hydrocarbon group represented by R 25A may have include a hydroxyl group.

及びRは、それぞれ独立して、電子吸引性基であることが好ましい。 It is preferable that R3 and R6 each independently represent an electron-withdrawing group.

及びRが互いに連結して環構造を形成し、かつR及びRが互いに結合して環構造を形成する式(I)で表される化合物としては、式(I-D)で表される化合物等が挙げられる。

Figure 0007580504000008

[式(I-D)中、R、R5、R7は上記と同じ意味を表す。
25、R26、R27及びR28は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有してもよい炭素数1~12のアルキル基、ヒドロキシ基、アラルキル基を表す。] Examples of the compound represented by formula (I) in which R1 and R2 are bonded to each other to form a ring structure and R3 and R6 are bonded to each other to form a ring structure include a compound represented by formula (ID).
Figure 0007580504000008

[In formula (ID), R 4 , R 5 and R 7 have the same meanings as above.
R 25 , R 26 , R 27 and R 28 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may have a substituent, a hydroxyl group or an aralkyl group.]

25、R26、R27及びR28で表される炭素数1~12のアルキル基としては、R1A及びR1Bで表される炭素数1~12のアルキル基と同じものが挙げられる。R25、R26、R27及びR28で表される炭素数1~12のアルキル基が有していてもよい置換基としてはヒドロキシ基が挙げられる。
25、R26、R27及びR28で表されるアラルキル基としては、ベンジル基、フェニルエチル基等の炭素数7~15のアラルキル基が挙げられる。
Examples of the alkyl group having 1 to 12 carbon atoms represented by R 25 , R 26 , R 27 , and R 28 include the same as the alkyl group having 1 to 12 carbon atoms represented by R 1A and R 1B . Examples of the substituent that the alkyl group having 1 to 12 carbon atoms represented by R 25 , R 26 , R 27 , and R 28 may have include a hydroxy group.
Examples of the aralkyl group represented by R 25 , R 26 , R 27 and R 28 include aralkyl groups having 7 to 15 carbon atoms, such as a benzyl group and a phenylethyl group.

及びRが互いに連結して環構造を形成している化合物(I)としては、式(I-E)で表される化合物等が挙げられる。

Figure 0007580504000009

[式(I-E)中、R、R、R、R、Rは、それぞれ上記と同じ意味を表す。
環Wは、環状化合物を表す]
環Wは、5員環~9員環の環であり、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を環の構成単位として含んでいてもよい。 Examples of compound (I) in which R 6 and R 7 are linked to each other to form a ring structure include a compound represented by formula (IE).
Figure 0007580504000009

In formula (IE), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and R 5 each have the same meaning as defined above.
Ring W3 represents a cyclic compound.
Ring W3 is a 5- to 9-membered ring, which may contain a heteroatom such as a nitrogen atom, an oxygen atom or a sulfur atom as a constituent unit of the ring.

式(I-E)で表される化合物は、式(IE-1)で表される化合物であることが好ましい。

Figure 0007580504000010

[式(I-C-1)中、R、R、R及びRは、それぞれ上記と同じ意味を表す。
17、R18、R19、Rは、それぞれ独立して、水素原子又は置換基を有してもよい炭素数1~12のアルキル基、アラルキル基、アリール基を表し、該アルキル基又はアラルキル基に含まれる-CH-基は-NR1D-、-C(=O)-、-C(=S)-、-O-、-S-に置換されていてもよく、R17及びR18は互いに連結して環構造を形成してもよく、R18及びR19は互いに連結して環構造を形成してもよく、R19及びRは、互いに連結して環構造を形成してもよい。m、p、qはそれぞれ独立して0~3の整数を表す。] The compound represented by formula (IE) is preferably a compound represented by formula (IE-1).
Figure 0007580504000010

In formula (IC-1), R 1 , R 2 , R 3 and R 5 each have the same meaning as defined above.
R 17 , R 18 , R 19 and R q each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group, aralkyl group or aryl group having 1 to 12 carbon atoms which may have a substituent, the -CH 2 - group contained in the alkyl group or aralkyl group may be substituted with -NR 1D -, -C(═O)-, -C(═S)-, -O- or -S-, R 17 and R 18 may be bonded to each other to form a ring structure, R 18 and R 19 may be bonded to each other to form a ring structure, and R 19 and R q may be bonded to each other to form a ring structure. m, p and q each independently represent an integer of 0 to 3.]

式(I)で表される化合物としては、以下の化合物が挙げられる。

Figure 0007580504000011
Examples of the compound represented by formula (I) include the following compounds.
Figure 0007580504000011

Figure 0007580504000012
Figure 0007580504000012

Figure 0007580504000013
Figure 0007580504000013

Figure 0007580504000014
Figure 0007580504000014

Figure 0007580504000015
Figure 0007580504000015

Figure 0007580504000016
Figure 0007580504000016

Figure 0007580504000017
Figure 0007580504000017

Figure 0007580504000018
Figure 0007580504000018

Figure 0007580504000019
Figure 0007580504000019

Figure 0007580504000020
Figure 0007580504000020

光選択吸収化合物(B)の含有量は、樹脂(A)100質量部に対して、通常0.01~20質量部であり、好ましくは0.05~15質量部であり、より好ましくは0.1~10質量部であり、さらに好ましくは0.1~5質量部である。 The content of the light selective absorbing compound (B) is usually 0.01 to 20 parts by mass, preferably 0.05 to 15 parts by mass, more preferably 0.1 to 10 parts by mass, and even more preferably 0.1 to 5 parts by mass, per 100 parts by mass of the resin (A).

樹脂組成物(1)は、さらに、可塑剤、有機酸、色素、帯電防止剤、界面活性剤、滑剤、難燃剤、フィラー、ゴム粒子、位相差調整剤、紫外線吸収剤等を含んでいてもよい。 The resin composition (1) may further contain a plasticizer, an organic acid, a dye, an antistatic agent, a surfactant, a lubricant, a flame retardant, a filler, rubber particles, a retardation adjuster, an ultraviolet absorber, etc.

本発明の光学フィルムの製造方法としては、任意の適切な成形加工法が採用され得る。具体的には、圧縮成形法、トランスファー成形法、射出成形法、押出成形法、ブロー成形法、粉末成形法、FRP成形法、キャスト塗工法(例えば、流延法)、カレンダー成形法、熱プレス法等が挙げられる。得られるフィルムの平滑性を高め、良好な光学的均一性を得ることができることから、押出成形法またはキャスト塗工法が好ましい。成形条件は、使用される樹脂の組成や種類、位相差フィルムに所望される特性等に応じて適宜設定され得る。 As a method for producing the optical film of the present invention, any suitable molding method can be adopted. Specific examples include compression molding, transfer molding, injection molding, extrusion molding, blow molding, powder molding, FRP molding, cast coating (e.g., casting), calendar molding, and heat pressing. Extrusion molding and cast coating are preferred because they can increase the smoothness of the resulting film and provide good optical uniformity. The molding conditions can be appropriately set depending on the composition and type of the resin used, the properties desired for the retardation film, and the like.

本発明の光学フィルムの厚みは、通常1~500μmであり、好ましくは5~300μmであり、より好ましくは10~150μmであり、特に好ましくは10~75μmである。
本発明の光学フィルムは、未延伸であってもよいし、延伸されていてもよい。本発明の光学フィルムが延伸されている場合、一軸延伸であってもよいし、二軸延伸であってもよい。延伸倍率は、通常1.01~10倍、好ましくは1.01~6倍である。延伸方向に関しても、長さ方向、幅方向、厚さ方向、斜め方向等、様々な方向や次元に行なうことができる。
The thickness of the optical film of the present invention is usually from 1 to 500 μm, preferably from 5 to 300 μm, more preferably from 10 to 150 μm, and particularly preferably from 10 to 75 μm.
The optical film of the present invention may be unstretched or stretched. When the optical film of the present invention is stretched, it may be uniaxially stretched or biaxially stretched. The stretching ratio is usually 1.01 to 10 times, preferably 1.01 to 6 times. The stretching direction may be various directions or dimensions, such as the length direction, width direction, thickness direction, and oblique direction.

本発明の粘着剤層付光学フィルムは、本発明の光学フィルムの少なくとも一方の面に粘着剤層を有しているフィルムである。粘着剤層は、公知の粘着剤から形成される。公知の粘着剤としては、アクリル系、ゴム系、ウレタン系、シリコーン系、ポリビニルエーテル系などのベースポリマーを有する粘着剤のいずれであってもよいが、(メタ)アクリル樹脂(A)をベースポリマーとして含むアクリル系粘着剤組成物であることが好ましい。 The pressure-sensitive adhesive layer-attached optical film of the present invention is a film having a pressure-sensitive adhesive layer on at least one surface of the optical film of the present invention. The pressure-sensitive adhesive layer is formed from a known pressure-sensitive adhesive. The known pressure-sensitive adhesive may be any pressure-sensitive adhesive having a base polymer such as an acrylic, rubber, urethane, silicone, or polyvinyl ether type, but is preferably an acrylic pressure-sensitive adhesive composition containing a (meth)acrylic resin (A) as a base polymer.

(メタ)アクリル系樹脂(A)は、(メタ)アクリル酸エステル由来の構成単位を主成分(好ましくは50質量%以上含む)重合体であることが好ましい。(メタ)アクリル酸エステルに由来する構造単位は、一種以上の(メタ)アクリル酸エステル以外の単量体に由来する構造単位(例えば、極性官能基を有する単量体に由来する構造単位)を含んでもよい。なお本明細書において、(メタ)アクリル酸とは、アクリル酸又はメタクリル酸のいずれでもよいことを意味し、他に、(メタ)アクリレートなどというときの「(メタ)」も同様の趣旨である。 The (meth)acrylic resin (A) is preferably a polymer containing, as a main component (preferably 50% by mass or more) structural units derived from (meth)acrylic acid esters. The structural units derived from (meth)acrylic acid esters may contain structural units derived from one or more monomers other than (meth)acrylic acid esters (for example, structural units derived from monomers having polar functional groups). In this specification, (meth)acrylic acid means either acrylic acid or methacrylic acid, and the "(meth)" in other terms such as (meth)acrylate has the same meaning.

(メタ)アクリル酸エステルとしては、下記式(I)で示される(メタ)アクリル酸エステルが挙げられる

Figure 0007580504000021

[式(I)中、R1 は水素原子又はメチル基で表し、R2 は炭素数1~14のアルキル基または炭素数7~20のアラルキル基を表し、該アルキル基または該アラルキル基の水素原子は、炭素数1~10のアルコキシ基で置き換わっていてもよい。] Examples of the (meth)acrylic acid ester include (meth)acrylic acid esters represented by the following formula (I):
Figure 0007580504000021

[In formula (I), R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 2 represents an alkyl group having 1 to 14 carbon atoms or an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms, and the hydrogen atom of the alkyl group or the aralkyl group may be replaced by an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms.]

式(I)において、R2は、好ましくは、炭素数1~14のアルキル基であり、より好ましくは、炭素数1~8のアルキル基である。 In formula (I), R 2 is preferably an alkyl group having 1 to 14 carbon atoms, and more preferably an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms.

式(I)で示される(メタ)アクリル酸エステルとしては、
(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸n-プロピル、(メタ)アクリル酸n-ブチル、(メタ)アクリル酸n-ペンチル、(メタ)アクリル酸n-ヘキシル、(メタ)アクリル酸n-ヘプチル、(メタ)アクリル酸n-オクチル、(メタ)アクリル酸n-ノニル、(メタ)アクリル酸n-デシル、(メタ)アクリル酸n-ドデシル、(メタ)アクリル酸ラウリル、(メタ)アクリル酸ステアリル、等の(メタ)アクリル酸の直鎖状アルキルエステル;
(メタ)アクリル酸i-プロピル、(メタ)アクリル酸i-ブチル、(メタ)アクリル酸t-ブチル、(メタ)アクリル酸i-ペンチル、(メタ)アクリル酸i-ヘキシル、(メタ)アクリル酸2-エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸i-オクチル、(メタ)アクリル酸i-ノニル、(メタ)アクリル酸i-ステアリル、(メタ)アクリル酸i-アミル、等の(メタ)アクリル酸の分枝状アルキルエステル;
(メタ)アクリル酸シクロへキシル、(メタ)アクリル酸イソボロニル、(メタ)アクリル酸アダマンチル、(メタ)アクリル酸ジシクロペンタニル、(メタ)アクリル酸シクロドデシル、(メタ)アクリル酸メチルシクロヘキシル、(メタ)アクリル酸トリメチルシクロヘキシル、(メタ)アクリル酸tert-ブチルシクロヘキシル、α-エトキシアクリル酸シクロヘキシル、等の(メタ)アクリル酸の脂環骨格含有アルキルエステル;
(メタ)アクリル酸フェニル等の(メタ)アクリル酸の芳香環骨格含有エステル;
等が挙げられる。
また、(メタ)アクリル酸アルキルエステルにおけるアルキル基に置換基が導入された置換基含有(メタ)アクリル酸アルキルエステルを挙げることもできる。置換基含有(メタ)アクリル酸アルキルエステルの置換基は、アルキル基の水素原子を置換する基であり、その具体例はフェニル基、アルコキシ基、フェノキシ基を含む。置換基含有(メタ)アクリル酸アルキルエステルとして、具体的には、(メタ)アクリル酸2-メトキシエチル、(メタ)アクリル酸エトキシメチル、(メタ)アクリル酸フェノキシエチル、(メタ)アクリル酸2-(2-フェノキシエトキシ)エチル、(メタ)アクリル酸フェノキシジエチレングリコール、(メタ)アクリル酸フェノキシポリ(エチレングリコール)等が挙げられる。
The (meth)acrylic acid ester represented by formula (I) includes
Linear alkyl esters of (meth)acrylic acid, such as methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, n-propyl (meth)acrylate, n-butyl (meth)acrylate, n-pentyl (meth)acrylate, n-hexyl (meth)acrylate, n-heptyl (meth)acrylate, n-octyl (meth)acrylate, n-nonyl (meth)acrylate, n-decyl (meth)acrylate, n-dodecyl (meth)acrylate, lauryl (meth)acrylate, and stearyl (meth)acrylate;
Branched alkyl esters of (meth)acrylic acid, such as i-propyl (meth)acrylate, i-butyl (meth)acrylate, t-butyl (meth)acrylate, i-pentyl (meth)acrylate, i-hexyl (meth)acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, i-octyl (meth)acrylate, i-nonyl (meth)acrylate, i-stearyl (meth)acrylate, and i-amyl (meth)acrylate;
Alicyclic skeleton-containing alkyl esters of (meth)acrylic acid, such as cyclohexyl (meth)acrylate, isobornyl (meth)acrylate, adamantyl (meth)acrylate, dicyclopentanyl (meth)acrylate, cyclododecyl (meth)acrylate, methylcyclohexyl (meth)acrylate, trimethylcyclohexyl (meth)acrylate, tert-butylcyclohexyl (meth)acrylate, and cyclohexyl α-ethoxyacrylate;
Aromatic ring skeleton-containing esters of (meth)acrylic acid, such as phenyl (meth)acrylate;
etc.
Further, examples of the substituent-containing (meth)acrylic acid alkyl ester include an alkyl (meth)acrylate having a substituent introduced into the alkyl group. The substituent of the substituent-containing (meth)acrylic acid alkyl ester is a group that substitutes a hydrogen atom of the alkyl group, and specific examples thereof include a phenyl group, an alkoxy group, and a phenoxy group. Specific examples of the substituent-containing (meth)acrylic acid alkyl ester include 2-methoxyethyl (meth)acrylate, ethoxymethyl (meth)acrylate, phenoxyethyl (meth)acrylate, 2-(2-phenoxyethoxy)ethyl (meth)acrylate, phenoxydiethylene glycol (meth)acrylate, and phenoxypoly(ethylene glycol) (meth)acrylate.

これらの(メタ)アクリル酸エステルは、それぞれ単独で用いることができるほか、異なる複数のものを用いてもよい。 These (meth)acrylic acid esters can be used alone or in combination.

(メタ)アクリル系樹脂(A)は、ホモポリマーのガラス転移温度Tgが0℃未満である(メタ)アクリル酸アルキルエステル(a1)由来の構成単位、及びホモポリマーのTgが0℃以上である(メタ)アクリル酸アルキルエステル(a2)由来の構成単位を含有することが好ましい。アクリル酸アルキルエステル(a1)由来の構成単位及びアクリル酸アルキルエステル(a2)由来の構成単位を含有することは、粘着剤層の高温耐久性を高めるうえで有利である。(メタ)アクリル酸アルキルエステルのホモポリマーのTgは、例えばPOLYMER HANDBOOK(Wiley-Interscience)などの文献値を採用することができる。 The (meth)acrylic resin (A) preferably contains a structural unit derived from an (meth)acrylic acid alkyl ester (a1) whose homopolymer has a glass transition temperature Tg of less than 0°C, and a structural unit derived from a (meth)acrylic acid alkyl ester (a2) whose homopolymer has a Tg of 0°C or higher. The inclusion of a structural unit derived from an acrylic acid alkyl ester (a1) and a structural unit derived from an acrylic acid alkyl ester (a2) is advantageous in terms of improving the high temperature durability of the adhesive layer. For the Tg of the homopolymer of the (meth)acrylic acid alkyl ester, a literature value such as that in the POLYMER HANDBOOK (Wiley-Interscience) can be used.

(メタ)アクリル酸アルキルエステル(a1)の具体例としては、アクリル酸エチル、アクリル酸n-及びi-プロピル、アクリル酸n-及びi-ブチル、アクリル酸n-ペンチル、アクリル酸n-及びi-へキシル、アクリル酸n-ヘプチル、アクリル酸n-及びi-オクチル、アクリル酸2-エチルへキシル、アクリル酸n-及びi-ノニル、アクリル酸n-及びi-デシル、アクリル酸n-ドデシル等のアルキル基の炭素数が2~12程度の(メタ)アクリル酸アルキルエステル等が挙げられる。 Specific examples of (meth)acrylic acid alkyl esters (a1) include (meth)acrylic acid alkyl esters having an alkyl group with about 2 to 12 carbon atoms, such as ethyl acrylate, n- and i-propyl acrylate, n- and i-butyl acrylate, n-pentyl acrylate, n- and i-hexyl acrylate, n-heptyl acrylate, n- and i-octyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, n- and i-nonyl acrylate, n- and i-decyl acrylate, and n-dodecyl acrylate.

(メタ)アクリル酸アルキルエステル(a1)は、1種のみを用いてもよいし2種以上を併用してもよい。なかでも、光学フィルムに積層した際の追従性やリワーク性の観点から、アクリル酸n-ブチル、アクリル酸n-オクチル、アクリル酸2-エチルへキシルなどが好ましい。 The (meth)acrylic acid alkyl ester (a1) may be used alone or in combination of two or more. Among them, n-butyl acrylate, n-octyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, etc. are preferred from the viewpoint of followability and reworkability when laminated on an optical film.

(メタ)アクリル酸アルキルエステル(a2)は、(メタ)アクリル酸アルキルエステル(a1)以外の(メタ)アクリル酸アルキルエステルである。(メタ)アクリル酸アルキルエステル(a2)の具体例は、アクリル酸メチル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸イソボロニル、アクリル酸ステアリル、アクリル酸t-ブチル等を含む。 The (meth)acrylic acid alkyl ester (a2) is a (meth)acrylic acid alkyl ester other than the (meth)acrylic acid alkyl ester (a1). Specific examples of the (meth)acrylic acid alkyl ester (a2) include methyl acrylate, cyclohexyl acrylate, isobornyl acrylate, stearyl acrylate, t-butyl acrylate, etc.

(メタ)アクリル酸アルキルエステル(a2)は、1種のみを用いてもよいし2種以上を併用してもよい。中でも、高温耐久性の観点から、(メタ)アクリル酸アルキルエステル(a2)は、アクリル酸メチル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸イソボロニル等を含むことが好ましく、アクリル酸メチルを含むことがより好ましい。 The (meth)acrylic acid alkyl ester (a2) may be used alone or in combination of two or more. Among them, from the viewpoint of high temperature durability, the (meth)acrylic acid alkyl ester (a2) preferably contains methyl acrylate, cyclohexyl acrylate, isobornyl acrylate, etc., and more preferably contains methyl acrylate.

式(I)で示される(メタ)アクリル酸エステルに由来する構造単位は、(メタ)アクリル系樹脂に含まれる全構造単位中、50質量%以上であることが好ましく、60~95質量%であることが好ましく、65~95質量%以上であることがより好ましい。 The structural units derived from the (meth)acrylic acid ester represented by formula (I) preferably account for 50% by mass or more of all structural units contained in the (meth)acrylic resin, more preferably 60 to 95% by mass, and even more preferably 65 to 95% by mass or more.

(メタ)アクリル酸エステル以外の単量体に由来する構造単位としては、極性官能基を有する単量体に由来する構造単位が好ましく、極性官能基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する構造単位がより好ましい。極性官能基としては、ヒドロキシ基、カルボキシル基、置換もしくは無置換アミノ基、エポキシ基等の複素環基などが挙げられる。極性官能基を有する単量体としては、
(メタ)アクリル酸1-ヒドロキシメチル、(メタ)アクリル酸1-ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸1-ヒドロキシヘプチル、(メタ)アクリル酸1-ヒドロキシブチル、(メタ)アクリル酸1-ヒドロキシペンチル、(メタ)アクリル酸2-ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸2-ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸2-ヒドロキシブチル、(メタ)アクリル酸2-ヒドロキシペンチル、(メタ)アクリル酸2-ヒドロキシヘキシル、(メタ)アクリル酸3-ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸3-ヒドロキシブチル、(メタ)アクリル酸3-ヒドロキシペンチル、(メタ)アクリル酸3-ヒドロキシヘキシル、(メタ)アクリル酸3-ヒドロキシヘプチル、(メタ)アクリル酸4-ヒドロキシブチル、(メタ)アクリル酸4-ヒドロキシペンチル、(メタ)アクリル酸4-ヒドロキシヘキシル、(メタ)アクリル酸4-ヒドロキシヘプチル、(メタ)アクリル酸4-ヒドロキシオクチル、(メタ)アクリル酸2-クロロ-2-ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸3-クロロ-2-ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸2-ヒドロキシー3-フェノキシプロピル、(メタ)アクリル酸5-ヒドロキシペンチル、(メタ)アクリル酸5-ヒドロキシヘキシル、(メタ)アクリル酸5-ヒドロキシヘプチル、(メタ)アクリル酸5-ヒドロキシオクチル、(メタ)アクリル酸5-ヒドロキシノニル、(メタ)アクリル酸6-ヒドロキシヘキシル、(メタ)アクリル酸6-ヒドロキシヘプチル、(メタ)アクリル酸6-ヒドロキシオクチル、(メタ)アクリル酸6-ヒドロキシノニル、(メタ)アクリル酸6-ヒドロキシデシル、(メタ)アクリル酸7-ヒドロキシヘプチル、(メタ)アクリル酸7-ヒドロキシオクチル、(メタ)アクリル酸7-ヒドロキシノニル、(メタ)アクリル酸7-ヒドロキシデシル、(メタ)アクリル酸7-ヒドロキシウンデシル、(メタ)アクリル酸8-ヒドロキシオクチル、(メタ)アクリル酸8-ヒドロキシノニル、(メタ)アクリル酸8-ヒドロキシデシル、(メタ)アクリル酸8-ヒドロキシウンデシル、(メタ)アクリル酸8-ヒドロキシドデシル、(メタ)アクリル酸9-ヒドロキシノニル、(メタ)アクリル酸9-ヒドロキシデシル、(メタ)アクリル酸9-ヒドロキシウンデシル、(メタ)アクリル酸9-ヒドロキシドデシル、(メタ)アクリル酸9-ヒドロキシトリデシル、(メタ)アクリル酸10-ヒドロキシデシル、(メタ)アクリル酸10-ヒドロキシウンデシル、(メタ)アクリル酸10-ヒドロキシドデシル、アクリル酸10-ヒドロキシトリデシル、(メタ)アクリル酸10-ヒドロキシテトラデシル、(メタ)アクリル酸11-ヒドロキシウンデシル、(メタ)アクリル酸11-ヒドロキシドデシル、(メタ)アクリル酸11-ヒドロキシトリデシル、(メタ)アクリル酸11-ヒドロキシテトラデシル、(メタ)アクリル酸11-ヒドロキシペンタデシル、(メタ)アクリル酸12-ヒドロキシドデシル、(メタ)アクリル酸12-ヒドロキシトリデシル、(メタ)アクリル酸12-ヒドロキシテトラデシル、(メタ)アクリル酸13-ヒドロキシペンタデシル、(メタ)アクリル酸13-ヒドロキシテトラデシル、(メタ)アクリル酸13-ヒドロキシペンタデシル、(メタ)アクリル酸14-ヒドロキシテトラデシル、(メタ)アクリル酸14-ヒドロキシペンタデシル、(メタ)アクリル酸15-ヒドロキシペンタデシル、(メタ)アクリル酸15-ヒドロキシヘプタデシル等のヒドロキシ基を有する単量体;
(メタ)アクリル酸、カルボキシアルキル(メタ)アクリレート(例えば、カルボキシエチル(メタ)アクリレート、カルボキシペンチル(メタ)アクリレート)、マレイン酸、無水マレイン酸、フマル酸、クロトン酸等のカルボキシル基を有する単量体;
アクリロイルモルホリン、ビニルカプロラクタム、N-ビニル-2-ピロリドン、ビニルピリジン、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリルアクリレート、3,4-エポキシシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、2,5-ジヒドロフラン等の複素環基を有する単量体;
アミノエチル(メタ)アクリレート、N,N-ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリレート等の置換もしくは無置換アミノ基を有する単量体が挙げられる。
なかでも、(メタ)アクリル酸エステル重合体と架橋剤との反応性の点で、ヒドロキシ基を有する単量体またはおよびカルボキシル基を有する単量体が好ましく、ヒドロキシ基を有する単量体およびカルボキシル基を有する単量体のいずれもを含むことがより好ましい。
As the structural unit derived from a monomer other than a (meth)acrylic acid ester, a structural unit derived from a monomer having a polar functional group is preferred, and a structural unit derived from a (meth)acrylic acid ester having a polar functional group is more preferred. Examples of the polar functional group include a hydroxyl group, a carboxyl group, a substituted or unsubstituted amino group, and a heterocyclic group such as an epoxy group. Examples of the monomer having a polar functional group include:
1-Hydroxymethyl (meth)acrylate, 1-hydroxyethyl (meth)acrylate, 1-hydroxyheptyl (meth)acrylate, 1-hydroxybutyl (meth)acrylate, 1-hydroxypentyl (meth)acrylate, 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 2-hydroxybutyl (meth)acrylate, 2-hydroxypentyl (meth)acrylate, 2-hydroxyhexyl (meth)acrylate, 3-hydroxypropyl (meth)acrylate, 3-hydroxybutyl (meth)acrylate, 3-hydroxypentyl (meth)acrylate, 3-hydroxyhexyl (meth)acrylate, 3-hydroxyheptyl (meth)acrylate, 4-hydroxybutyl (meth)acrylate, 4-hydroxypentyl (meth)acrylate, 4-hydroxyhexyl (meth)acrylate, p) 4-hydroxyheptyl acrylate, 4-hydroxyoctyl (meth)acrylate, 2-chloro-2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 3-chloro-2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth)acrylate, 5-hydroxypentyl (meth)acrylate, 5-hydroxyhexyl (meth)acrylate, 5-hydroxyheptyl (meth)acrylate, 5-hydroxyoctyl (meth)acrylate, 5-hydroxynonyl (meth)acrylate, 6-hydroxyhexyl (meth)acrylate, 6-hydroxyheptyl (meth)acrylate, 6-hydroxyoctyl (meth)acrylate, 6-hydroxynonyl (meth)acrylate, 6-hydroxydecyl (meth)acrylate, 7-hydroxyheptyl (meth)acrylate, 7-hydroxyoctyl (meth)acrylate, ( 7-hydroxynonyl (meth)acrylate, 7-hydroxydecyl (meth)acrylate, 7-hydroxyundecyl (meth)acrylate, 8-hydroxyoctyl (meth)acrylate, 8-hydroxynonyl (meth)acrylate, 8-hydroxydecyl (meth)acrylate, 8-hydroxyundecyl (meth)acrylate, 8-hydroxydodecyl (meth)acrylate, 9-hydroxynonyl (meth)acrylate, 9-hydroxydecyl (meth)acrylate, 9-hydroxyundecyl (meth)acrylate, 9-hydroxydodecyl (meth)acrylate, 9-hydroxytridecyl (meth)acrylate, 10-hydroxydecyl (meth)acrylate, 10-hydroxyundecyl (meth)acrylate, 10-hydroxydodecyl (meth)acrylate, 10-hydroxytridecyl (meth)acrylate, 10-hydroxytetradecyl (meth)acrylate Monomers having a hydroxy group, such as 1-hydroxytetradecyl (meth)acrylate, 11-hydroxydodecyl (meth)acrylate, 11-hydroxytridecyl (meth)acrylate, 11-hydroxytetradecyl (meth)acrylate, 11-hydroxypentadecyl (meth)acrylate, 12-hydroxydodecyl (meth)acrylate, 12-hydroxytridecyl (meth)acrylate, 12-hydroxytetradecyl (meth)acrylate, 13-hydroxypentadecyl (meth)acrylate, 13-hydroxytetradecyl (meth)acrylate, 13-hydroxypentadecyl (meth)acrylate, 14-hydroxytetradecyl (meth)acrylate, 14-hydroxypentadecyl (meth)acrylate, 15-hydroxypentadecyl (meth)acrylate, and 15-hydroxyheptadecyl (meth)acrylate;
Monomers having a carboxyl group, such as (meth)acrylic acid, carboxyalkyl (meth)acrylates (for example, carboxyethyl (meth)acrylate, carboxypentyl (meth)acrylate), maleic acid, maleic anhydride, fumaric acid, and crotonic acid;
Monomers having a heterocyclic group, such as acryloylmorpholine, vinylcaprolactam, N-vinyl-2-pyrrolidone, vinylpyridine, tetrahydrofurfuryl (meth)acrylate, caprolactone-modified tetrahydrofurfuryl acrylate, 3,4-epoxycyclohexylmethyl (meth)acrylate, glycidyl (meth)acrylate, and 2,5-dihydrofuran;
Examples of the monomer include monomers having a substituted or unsubstituted amino group, such as aminoethyl (meth)acrylate, N,N-dimethylaminoethyl (meth)acrylate, and dimethylaminopropyl (meth)acrylate.
Among these, from the viewpoint of reactivity between the (meth)acrylic acid ester polymer and the crosslinking agent, a monomer having a hydroxy group or a monomer having a carboxyl group is preferred, and it is more preferred to include both a monomer having a hydroxy group and a monomer having a carboxyl group.

ヒドロキシ基を有する単量体としては、アクリル酸2-ヒドロキシエチル、アクリル酸3-ヒドロキシプロピル、アクリル酸4-ヒドロキシブチル、アクリル酸5-ヒドロキシペンチル、アクリル酸6-ヒドロキシヘキシルが好ましい。特に、アクリル酸2-ヒドロキシエチル、アクリル酸4-ヒドロキシブチルおよびアクリル酸5-ヒドロキシペンチルを用いることで良好な耐久性を得ることができる。
カルボキシル基を有する単量体としては、アクリル酸を用いることが好ましい。
As the monomer having a hydroxy group, 2-hydroxyethyl acrylate, 3-hydroxypropyl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, 5-hydroxypentyl acrylate, and 6-hydroxyhexyl acrylate are preferred. In particular, good durability can be obtained by using 2-hydroxyethyl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, and 5-hydroxypentyl acrylate.
As the monomer having a carboxyl group, it is preferable to use acrylic acid.

粘着剤層の外面に積層することができるセパレートフィルムの剥離力亢進を防ぐ観点から、アミノ基を有する単量体を実質的に含まないことが好ましい。ここで実質的に含まないとは、(メタ)アクリル系樹脂(A)を構成する全構成単位100重量部中、0.1重量部以下であることをいう。 From the viewpoint of preventing an increase in the peel strength of the separation film that can be laminated on the outer surface of the pressure-sensitive adhesive layer, it is preferable that the resin is substantially free of monomers having amino groups. Here, "substantially free" means that the amount is 0.1 part by weight or less per 100 parts by weight of all constituent units constituting the (meth)acrylic resin (A).

極性官能基を有する単量体に由来する構造単位の含有量は、(メタ)アクリル系樹脂(A)の全構造単位100質量部に対して、好ましくは20質量部以下、より好ましくは、0.5質量部以上15質量部以下、さらに好ましくは0.5質量部以上10質量部以下、特に好ましくは1質量部以上7質量部以下である。 The content of structural units derived from monomers having polar functional groups is preferably 20 parts by mass or less, more preferably 0.5 parts by mass or more and 15 parts by mass or less, even more preferably 0.5 parts by mass or more and 10 parts by mass or less, and particularly preferably 1 part by mass or more and 7 parts by mass or less, relative to 100 parts by mass of all structural units of the (meth)acrylic resin (A).

芳香族基を有する単量体に由来する構造単位の含有量は、(メタ)アクリル系樹脂(A)の全構造単位100質量部に対して、好ましくは20質量部以下、より好ましくは4質量部以上20質量部以下、さらに好ましくは4質量部以上16質量部以下である。 The content of structural units derived from monomers having an aromatic group is preferably 20 parts by mass or less, more preferably 4 parts by mass or more and 20 parts by mass or less, and even more preferably 4 parts by mass or more and 16 parts by mass or less, relative to 100 parts by mass of all structural units of the (meth)acrylic resin (A).

(メタ)アクリル酸エステル以外の単量体に由来する構造単位としては、スチレン系単量体に由来する構造単位、ビニル系単量体に由来する構造単位、分子内に複数の(メタ)アクリロイル基を有する単量体に由来する構造単位、(メタ)アクリルアミド系単量体に由来する構造単位などが挙げられる。 Examples of structural units derived from monomers other than (meth)acrylic acid esters include structural units derived from styrene-based monomers, structural units derived from vinyl-based monomers, structural units derived from monomers having multiple (meth)acryloyl groups in the molecule, and structural units derived from (meth)acrylamide-based monomers.

スチレン系単量体としては、スチレン;メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、ジエチルスチレン、トリエチルスチレン、プロピルスチレン、ブチルスチレン、ヘキシルスチレン、ヘプチルスチレン、オクチルスチレン等のアルキルスチレン;フルオロスチレン、クロロスチレン、ブロモスチレン、ジブロモスチレン、ヨードスチレン等のハロゲン化スチレン;ニトロスチレン;アセチルスチレン;メトキシスチレン;および、ジビニルベンゼンが挙げられる。 Examples of styrene monomers include styrene; alkyl styrenes such as methylstyrene, dimethylstyrene, trimethylstyrene, ethylstyrene, diethylstyrene, triethylstyrene, propylstyrene, butylstyrene, hexylstyrene, heptylstyrene, and octylstyrene; halogenated styrenes such as fluorostyrene, chlorostyrene, bromostyrene, dibromostyrene, and iodostyrene; nitrostyrene; acetylstyrene; methoxystyrene; and divinylbenzene.

ビニル系単量体としては、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、2-エチルヘキサン酸ビニル、ラウリン酸ビニル等の脂肪酸ビニルエステル;塩化ビニル、臭化ビニル等のハロゲン化ビニル;塩化ビニリデン等のハロゲン化ビニリデン;ビニルピリジン、ビニルピロリドン、ビニルカルバゾール等の含窒素複素芳香族ビニル;ブタジエン、イソプレン、クロロプレン等の共役ジエン;および、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等の不飽和ニトリルが挙げられる。 Vinyl monomers include fatty acid vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, vinyl 2-ethylhexanoate, and vinyl laurate; vinyl halides such as vinyl chloride and vinyl bromide; vinylidene halides such as vinylidene chloride; nitrogen-containing heteroaromatic vinyls such as vinylpyridine, vinylpyrrolidone, and vinylcarbazole; conjugated dienes such as butadiene, isoprene, and chloroprene; and unsaturated nitriles such as acrylonitrile and methacrylonitrile.

分子内に複数の(メタ)アクリロイル基を有する単量体としては、1,4-ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9-ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート等の分子内に2個の(メタ)アクリロイル基を有する単量体;トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート等の分子内に3個の(メタ)アクリロイル基を有する単量体が挙げられる。 Examples of monomers having multiple (meth)acryloyl groups in the molecule include monomers having two (meth)acryloyl groups in the molecule, such as 1,4-butanediol di(meth)acrylate, 1,6-hexanediol di(meth)acrylate, 1,9-nonanediol di(meth)acrylate, ethylene glycol di(meth)acrylate, diethylene glycol di(meth)acrylate, tetraethylene glycol di(meth)acrylate, and tripropylene glycol di(meth)acrylate; and monomers having three (meth)acryloyl groups in the molecule, such as trimethylolpropane tri(meth)acrylate.

(メタ)アクリルアミド系単量体としては、N-メチロール(メタ)アクリルアミド、N-(2-ヒドロキシエチル)(メタ)アクリルアミド、N-(3-ヒドロキシプロピル)(メタ)アクリルアミド、N-(4-ヒドロキシブチル)(メタ)アクリルアミド、N-(5-ヒドロキシペンチル)(メタ)アクリルアミド、N-(6-ヒドロキシヘキシル)(メタ)アクリルアミド、N,N-ジメチル(メタ)アクリルアミド、N,N-ジエチル(メタ)アクリルアミド、N-イソプロピル(メタ)アクリルアミド、N-(3-ジメチルアミノプロピル)(メタ)アクリルアミド、N-(1,1-ジメチル-3-オキソブチル)(メタ)アクリルアミド、N-〔2-(2-オキソ-1-イミダゾリジニル)エチル〕(メタ)アクリルアミド、2-アクリロイルアミノ-2-メチル-1-プロパンスルホン酸、N-(メトキシメチル)アクリルアミド、N-(エトキシメチル)(メタ)アクリルアミド、N-(プロポキシメチル)(メタ)アクリルアミド、N-(1-メチルエトキシメチル)(メタ)アクリルアミド、N-(1-メチルプロポキシメチル)(メタ)アクリルアミド、N-(2-メチルプロポキシメチル)(メタ)アクリルアミド、N-(ブトキシメチル)(メタ)アクリルアミド、N-(1,1-ジメチルエトキシメチル)(メタ)アクリルアミド、N-(2-メトキシエチル)(メタ)アクリルアミド、N-(2-エトキシエチル)(メタ)アクリルアミド、N-(2-プロポキシエチル)(メタ)アクリルアミド、N-〔2-(1-メチルエトキシ)エチル〕(メタ)アクリルアミド、N-〔2-(1-メチルプロポキシ)エチル〕(メタ)アクリルアミド、N-〔2-(2-メチルプロポキシ)エチル〕(メタ)アクリルアミド、N-(2-ブトキシエチル)(メタ)アクリルアミド、N-〔2-(1,1-ジメチルエトキシ)エチル〕(メタ)アクリルアミドなどが挙げられる。なかでも、N-(メトキシメチル)アクリルアミド、N-(エトキシメチル)アクリルアミド、N-(プロポキシメチル)アクリルアミド、N-(ブトキシメチル)アクリルアミドおよびN-(2-メチルプロポキシメチル)アクリルアミドが好ましい。 Examples of (meth)acrylamide monomers include N-methylol (meth)acrylamide, N-(2-hydroxyethyl) (meth)acrylamide, N-(3-hydroxypropyl) (meth)acrylamide, N-(4-hydroxybutyl) (meth)acrylamide, N-(5-hydroxypentyl) (meth)acrylamide, N-(6-hydroxyhexyl) (meth)acrylamide, N,N-dimethyl (meth)acrylamide, N,N-diethyl (meth)acrylamide, N-isopropyl (meth)acrylamide, N-(3-dimethylaminopropyl) (meth)acrylamide, N-(1,1-dimethyl-3-oxobutyl) (meth)acrylamide, N-[2-(2-oxo-1-imidazolidinyl)ethyl] (meth)acrylamide, 2-acryloylamino-2-methyl-1-propanesulfonic acid, N-(methoxymethyl)acrylamide, N-(ethoxymethyl) (meth)acrylamide, N-(propoxymethyl)(meth)acrylamide, N-(1-methylethoxymethyl)(meth)acrylamide, N-(1-methylpropoxymethyl)(meth)acrylamide, N-(2-methylpropoxymethyl)(meth)acrylamide, N-(butoxymethyl)(meth)acrylamide, N-(1,1-dimethylethoxymethyl)(meth)acrylamide, N-(2-methoxyethyl)(meth)acrylamide, N-(2-ethoxyethyl)(meth)acrylamide Examples of such amides include N-(2-propoxyethyl)(meth)acrylamide, N-[2-(1-methylethoxy)ethyl](meth)acrylamide, N-[2-(1-methylpropoxy)ethyl](meth)acrylamide, N-[2-(2-methylpropoxy)ethyl](meth)acrylamide, N-(2-butoxyethyl)(meth)acrylamide, and N-[2-(1,1-dimethylethoxy)ethyl](meth)acrylamide. Among these, N-(methoxymethyl)acrylamide, N-(ethoxymethyl)acrylamide, N-(propoxymethyl)acrylamide, N-(butoxymethyl)acrylamide, and N-(2-methylpropoxymethyl)acrylamide are preferred.

(メタ)アクリル系樹脂(A)の重量平均分子量(Mw)は、好ましくは、50万~250万である。重量平均分子量が50万以上であると、高温環境における粘着剤層の耐久性が向上し、被着体と粘着剤層との間の浮き剥れや、粘着剤層の凝集破壊などの不具合を抑制しやすい。重量平均分子量が250万以下であると、粘着剤組成物を例えばシート状に加工(基材に塗工する)際の塗工性の観点で有利である。粘着剤層の耐久性及び粘着剤組成物の塗工性の両立の観点から、重量平均分子量は好ましくは60万~180万であり、よく好ましくは70万~170万であり、特に好ましくは100万~160万である。また、重量平均分子量(Mw)と数平均分子量(Mn)との比で表される分子量分布(Mw/Mn)は、通常2~10、好ましくは3~8、さらに好ましくは3~6である。
重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィにより分析でき、標準ポリスチレン換算の値である。
The weight average molecular weight (Mw) of the (meth)acrylic resin (A) is preferably 500,000 to 2,500,000. When the weight average molecular weight is 500,000 or more, the durability of the adhesive layer in a high temperature environment is improved, and defects such as peeling between the adherend and the adhesive layer and cohesive failure of the adhesive layer are easily suppressed. When the weight average molecular weight is 2,500,000 or less, it is advantageous in terms of coatability when the adhesive composition is processed into a sheet (applied to a substrate). From the viewpoint of achieving both the durability of the adhesive layer and the coatability of the adhesive composition, the weight average molecular weight is preferably 600,000 to 1,800,000, more preferably 700,000 to 1,700,000, and particularly preferably 1,000,000 to 1,600,000. In addition, the molecular weight distribution (Mw/Mn), which is expressed as the ratio of the weight average molecular weight (Mw) to the number average molecular weight (Mn), is usually 2 to 10, preferably 3 to 8, and more preferably 3 to 6.
The weight average molecular weight can be analyzed by gel permeation chromatography and is expressed as a value converted into standard polystyrene.

(メタ)アクリル系樹脂(A)は、酢酸エチルに溶解させ、濃度20質量%の溶液としたとき、25℃における粘度が、20Pa・s以下であることが好ましく、0.1~15Pa・sであることがより好ましい。該範囲の粘度であると、粘着剤組成物を基材に塗工する際の塗工性の観点から有利である。なお、粘度は、ブルックフィールド粘度計により測定できる。 When the (meth)acrylic resin (A) is dissolved in ethyl acetate to give a solution with a concentration of 20% by mass, the viscosity at 25°C is preferably 20 Pa·s or less, and more preferably 0.1 to 15 Pa·s. A viscosity in this range is advantageous from the viewpoint of coatability when the pressure-sensitive adhesive composition is applied to a substrate. The viscosity can be measured using a Brookfield viscometer.

(メタ)アクリル系樹脂(A)のガラス転移温度(Tg)は、例えば-60~20℃、好ましくは-50~15℃、さらに好ましくは-45~10℃、特に-40~0℃であってもよい。Tgが上限値以下であると粘着剤層の被着体基材に対するするぬれ性の向上に有利であり、下限値以上であると粘着剤層の耐久性の向上に有利である。なお、ガラス転移温度は示差走査熱量計(DSC)により測定できる。 The glass transition temperature (Tg) of the (meth)acrylic resin (A) may be, for example, -60 to 20°C, preferably -50 to 15°C, more preferably -45 to 10°C, and particularly preferably -40 to 0°C. If the Tg is equal to or less than the upper limit, it is advantageous for improving the wettability of the pressure-sensitive adhesive layer to the substrate, and if it is equal to or more than the lower limit, it is advantageous for improving the durability of the pressure-sensitive adhesive layer. The glass transition temperature can be measured by a differential scanning calorimeter (DSC).

(メタ)アクリル酸樹脂(A)は、例えば、溶液重合法、塊状重合法、懸濁重合法、乳化重合法などの公知の方法によって製造することができ、特に溶液重合法が好ましい。溶液重合法としては、例えば、単量体及び有機溶媒を混合し、窒素雰囲気下、熱重合開始剤を添加し、40~90℃、好ましくは50~80℃程度の温度条件下、3~15時間程度攪拌する方法が挙げられる。反応制御のため、重合中、連続的又は間歇的に単量体や熱重合開始剤を添加してもよい。該単量体や熱開始剤は有機溶媒に添加した状態であってもよい。 The (meth)acrylic acid resin (A) can be produced by known methods such as solution polymerization, bulk polymerization, suspension polymerization, and emulsion polymerization, with solution polymerization being particularly preferred. An example of the solution polymerization method is a method in which a monomer and an organic solvent are mixed, a thermal polymerization initiator is added in a nitrogen atmosphere, and the mixture is stirred for about 3 to 15 hours at a temperature of 40 to 90°C, preferably about 50 to 80°C. To control the reaction, the monomer or the thermal polymerization initiator may be added continuously or intermittently during polymerization. The monomer or the thermal initiator may be added to the organic solvent.

重合開始剤としては、熱重合開始剤や光重合開始剤等が用いられる。光重合開始剤としては、4-(2-ヒドロキシエトキシ)フェニル(2-ヒドロキシ-2-プロピル)ケトンなどが挙げられる。熱重合開始剤としては、2,2’-アゾビスイソブチロニトリル、2,2’-アゾビス(2-メチルブチロニトリル)、1,1’-アゾビス(シクロヘキサン-1-カルボニトリル)、2,2’-アゾビス(2,4-ジメチルバレロニトリル)、2,2’-アゾビス(2,4-ジメチル-4-メトキシバレロニトリル)、ジメチル-2,2’-アゾビス(2-メチルプロピオネート)、2,2’-アゾビス(2-ヒドロキシメチルプロピオニトリル)などのアゾ系化合物;ラウリルパーオキサイド、t-ブチルハイドロパーオキサイド、過酸化ベンゾイル、t-ブチルパーオキシベンゾエート、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジプロピルパーオキシジカーボネート、t-ブチルパーオキシネオデカノエート、t-ブチルパーオキシピバレート、(3,5,5-トリメチルヘキサノイル)パーオキサイドなどの有機過酸化物;過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム、過酸化水素などの無機過酸化物などが挙げられる。また、過酸化物と還元剤とを併用したレドックス系開始剤なども使用できる。 As the polymerization initiator, a thermal polymerization initiator or a photopolymerization initiator is used. As the photopolymerization initiator, 4-(2-hydroxyethoxy)phenyl(2-hydroxy-2-propyl)ketone is exemplified. As the thermal polymerization initiator, azo compounds such as 2,2'-azobisisobutyronitrile, 2,2'-azobis(2-methylbutyronitrile), 1,1'-azobis(cyclohexane-1-carbonitrile), 2,2'-azobis(2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2'-azobis(2,4-dimethyl-4-methoxyvaleronitrile), dimethyl-2,2'-azobis(2-methylpropionate), and 2,2'-azobis(2-hydroxymethylpropionitrile); lauryl Examples of the peroxide include organic peroxides such as peroxide, t-butyl hydroperoxide, benzoyl peroxide, t-butyl peroxybenzoate, cumene hydroperoxide, diisopropyl peroxydicarbonate, dipropyl peroxydicarbonate, t-butyl peroxyneodecanoate, t-butyl peroxypivalate, and (3,5,5-trimethylhexanoyl) peroxide; and inorganic peroxides such as potassium persulfate, ammonium persulfate, and hydrogen peroxide. Redox initiators that use a peroxide in combination with a reducing agent can also be used.

重合開始剤の割合は、(メタ)アクリル系樹脂を構成する単量体の総量100質量部に対して、0.001~5質量部程度である。(メタ)アクリル系樹脂の重合は、活性エネルギー線(例えば紫外線など)による重合法を使用してもよい。 The proportion of the polymerization initiator is about 0.001 to 5 parts by mass per 100 parts by mass of the total amount of the monomers constituting the (meth)acrylic resin. The polymerization of the (meth)acrylic resin may be carried out using a polymerization method using active energy rays (e.g., ultraviolet rays, etc.).

有機溶媒としては、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類;酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル類;プロピルアルコール、イソプロピルアルコールなどの脂肪族アルコール類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類などが挙げられる。 Organic solvents include aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; esters such as ethyl acetate and butyl acetate; aliphatic alcohols such as propyl alcohol and isopropyl alcohol; and ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone.

(メタ)アクリル系樹脂(A)の含有量は、粘着剤組成物100質量%中、通常60質量%~99.9質量%であり、好ましくは70質量%~99.5質量%であり、より好ましくは80質量%~99質量%である。 The content of (meth)acrylic resin (A) is usually 60% by mass to 99.9% by mass, preferably 70% by mass to 99.5% by mass, and more preferably 80% by mass to 99% by mass, based on 100% by mass of the adhesive composition.

粘着剤組成物は、架橋剤(b)を含むことができる。該架橋剤(b)は、(メタ)アクリル系樹脂(A)中の極性官能基(例えばヒドロキシ基、アミノ基、カルボキシル基、複素環基等)と反応する。架橋剤(B)は(メタ)アクリル系樹脂等と架橋構造を形成し、耐久性やリワーク性に有利な架橋構造を形成する。 The adhesive composition may contain a crosslinking agent (b). The crosslinking agent (b) reacts with polar functional groups (e.g., hydroxyl groups, amino groups, carboxyl groups, heterocyclic groups, etc.) in the (meth)acrylic resin (A). The crosslinking agent (B) forms a crosslinked structure with the (meth)acrylic resin, etc., forming a crosslinked structure that is advantageous in terms of durability and reworkability.

架橋剤(b)としては、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、アジリジン系架橋剤、金属キレート系架橋剤等が挙げられ、特に粘着剤組成物のポットライフ及び粘着剤層の耐久性、架橋速度などの観点から、イソシアネート系架橋剤であることが好ましい。 Examples of the crosslinking agent (b) include isocyanate-based crosslinking agents, epoxy-based crosslinking agents, aziridine-based crosslinking agents, metal chelate-based crosslinking agents, etc., and from the viewpoints of the pot life of the adhesive composition, the durability of the adhesive layer, the crosslinking speed, etc., it is particularly preferable to use an isocyanate-based crosslinking agent.

イソシアネート系化合物としては、分子内に少なくとも2個のイソシアナト基(-NCO)を有する化合物が好ましく、例えば、脂肪族イソシアネート系化合物(例えばヘキサメチレンジイソシアネートなど)、脂環族イソシアネート系化合物(例えばイソホロンジイソシアネート、水添ジフェニルメタンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート)、芳香族イソシアネート系化合物(例えばトリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネートジフェニルメタンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート等)などが挙げられる。また架橋剤(B)は、前記イソシアネート化合物の多価アルコール化合物による付加体(アダクト体)[例えば、グリセロール、トリメチロールプロパンなどによる付加体]、イソシアヌレート化物、ビュレット型化合物、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、アクリルポリオール、ポリブタジエンポリオール、ポリイソプレンポリオール等と付加反応させたウレタンプレポリマー型のイソシアネート化合物などの誘導体であってもよい。架橋剤(B)は単独又は二種以上組み合わせて使用できる。これらのうち、代表的には芳香族イソシアネート系化合物(例えばトリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート)、脂肪族イソシアネート系化合物(例えばヘキサメチレンジイソシアネート)又はこれらの多価アルコール化合物(例えば、グリセロール、トリメチロールプロパン)による付加体、又はイソシアヌレート体が挙げられる。架橋剤(B)が、芳香族イソシアネート系化合物及び/又はこれらの多価アルコール化合物、又はイソシアヌレート体による付加体であると、最適な架橋密度(又は架橋構造)の形成に有利なためか、粘着剤層の耐久性を向上できる。特に、トリレンジイソシアネート系化合物及び/又はこれらの多価アルコール化合物による付加体であると、例えば粘着剤層を偏光板に適用した場合等であっても耐久性を向上することができる。 As the isocyanate compound, a compound having at least two isocyanato groups (-NCO) in the molecule is preferred, and examples thereof include aliphatic isocyanate compounds (e.g., hexamethylene diisocyanate), alicyclic isocyanate compounds (e.g., isophorone diisocyanate, hydrogenated diphenylmethane diisocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate), aromatic isocyanate compounds (e.g., tolylene diisocyanate, xylylene diisocyanate diphenylmethane diisocyanate, naphthalene diisocyanate, triphenylmethane triisocyanate, etc.). The crosslinking agent (B) may be an adduct of the isocyanate compound with a polyhydric alcohol compound (e.g., an adduct with glycerol, trimethylolpropane, etc.), an isocyanurate, a biuret-type compound, a urethane prepolymer-type isocyanate compound obtained by addition reaction with a polyether polyol, a polyester polyol, an acrylic polyol, a polybutadiene polyol, a polyisoprene polyol, etc. The crosslinking agent (B) may be used alone or in combination of two or more. Among these, representative examples include an aromatic isocyanate compound (e.g., tolylene diisocyanate, xylylene diisocyanate), an aliphatic isocyanate compound (e.g., hexamethylene diisocyanate), or an adduct of these with a polyhydric alcohol compound (e.g., glycerol, trimethylolpropane), or an isocyanurate. If the crosslinking agent (B) is an aromatic isocyanate-based compound and/or an adduct thereof with a polyhydric alcohol compound or an isocyanurate, the durability of the adhesive layer can be improved, possibly because it is advantageous for forming an optimal crosslink density (or crosslinked structure). In particular, if the crosslinking agent (B) is a tolylene diisocyanate-based compound and/or an adduct thereof with a polyhydric alcohol compound, the durability can be improved even when the adhesive layer is applied to a polarizing plate, for example.

架橋剤(b)の含有量は、(メタ)アクリル系樹脂(A)100重量部に対して、通常0.01~15質量部であり、好ましくは0.05~10重量部であり、より好ましくは0.1~5重量部である。 The content of the crosslinking agent (b) is usually 0.01 to 15 parts by weight, preferably 0.05 to 10 parts by weight, and more preferably 0.1 to 5 parts by weight, per 100 parts by weight of the (meth)acrylic resin (A).

樹脂組成物は、さらにシラン化合物(D)を含んでいてもよい。
シラン化合物(D)としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(2-メトキシエトキシ)シラン、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、3-グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルエトキシジメチルシラン、2-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3-クロロプロピルメチルジメトキシシラン、3-クロロプロピルトリメトキシシラン、3-メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
シラン化合物(D)は、シリコーンオリゴマーであってもよい。シリコーンオリゴマーの具体例を、モノマー同士の組み合わせの形で表記すると次のとおりである。
The resin composition may further contain a silane compound (D).
Examples of the silane compound (D) include vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris(2-methoxyethoxy)silane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 3-glycidoxypropylethoxydimethylsilane, 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, 3-chloropropylmethyldimethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane, and 3-mercaptopropyltrimethoxysilane.
The silane compound (D) may be a silicone oligomer. Specific examples of the silicone oligomer, expressed in the form of a combination of monomers, are as follows:

3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン-テトラメトキシシランオリゴマー、3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン-テトラエトキシシランオリゴマー、3-メルカプトプロピルトリエトキシシラン-テトラメトキシシランオリゴマー、3-メルカプトプロピルトリエトキシシラン-テトラエトキシシランオリゴマー等のメルカプトプロピル基含有オリゴマー;メルカプトメチルトリメトキシシラン-テトラメトキシシランオリゴマー、メルカプトメチルトリメトキシシラン-テトラエトキシシランオリゴマー、メルカプトメチルトリエトキシシラン-テトラメトキシシランオリゴマー、メルカプトメチルトリエトキシシラン-テトラエトキシシランオリゴマー等のメルカプトメチル基含有オリゴマー;3-グリジドキシプロピルトリメトキシシラン-テトラメトキシシランコポリマー、3-グリジドキシプロピルトリメトキシシラン-テトラエトキシシランコポリマー、3-グリジドキシプロピルトリエトキシシラン-テトラメトキシシランコポリマー、3-グリジドキシプロピルトリエトキシシラン-テトラエトキシシランコポリマー、3-グリジドキシプロピルメチルジメトキシシラン-テトラメトキシシランコポリマー、3-グリジドキシプロピルメチルジメトキシシラン-テトラエトキシシランコポリマー、3-グリジドキシプロピルメチルジエトキシシラン-テトラメトキシシランコポリマー、3-グリジドキシプロピルメチルジエトキシシラン-テトラエトキシシランコポリマー等の3-グリジドキシプロピル基含有のコポリマー;3-メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン-テトラメトキシシランオリゴマー、3-メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン-テトラエトキシシランオリゴマー、3-メタクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン-テトラメトキシシランオリゴマー、3-メタクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン-テトラエトキシシランオリゴマー、3-メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン-テトラメトキシシランオリゴマー、3-メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン-テトラエトキシシランオリゴマー、3-メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン-テトラメトキシシランオリゴマー、3-メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン-テトラエトキシシランオリゴマー等のメタクリロイルオキシプロピル基含有オリゴマー;3-アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン-テトラメトキシシランオリゴマー、3-アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン-テトラエトキシシランオリゴマー、3-アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン-テトラメトキシシランオリゴマー、3-アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン-テトラエトキシシランオリゴマー、3-アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン-テトラメトキシシランオリゴマー、3-アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン-テトラエトキシシランオリゴマー、3-アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン-テトラメトキシシランオリゴマー、3-アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン-テトラエトキシシランオリゴマー等のアクリロイルオキシプロピル基含有オリゴマー;ビニルトリメトキシシラン-テトラメトキシシランオリゴマー、ビニルトリメトキシシラン-テトラエトキシシランオリゴマー、ビニルトリエトキシシラン-テトラメトキシシランオリゴマー、ビニルトリエトキシシラン-テトラエトキシシランオリゴマー、ビニルメチルジメトキシシラン-テトラメトキシシランオリゴマー、ビニルメチルジメトキシシラン-テトラエトキシシランオリゴマー、ビニルメチルジエトキシシラン-テトラメトキシシランオリゴマー、ビニルメチルジエトキシシラン-テトラエトキシシランオリゴマー等のビニル基含有オリゴマー;3-アミノプロピルトリメトキシシラン-テトラメトキシシランコポリマー、3-アミノプロピルトリメトキシシラン-テトラエトキシシランコポリマー、3-アミノプロピルトリエトキシシラン-テトラメトキシシランコポリマー、3-アミノプロピルトリエトキシシラン-テトラエトキシシランコポリマー、3-アミノプロピルメチルジメトキシシラン-テトラメトキシシランコポリマー、3-アミノプロピルメチルジメトキシシラン-テトラエトキシシランコポリマー、3-アミノプロピルメチルジエトキシシラン-テトラメトキシシランコポリマー、3-アミノプロピルメチルジエトキシシラン-テトラエトキシシランコポリマー等のアミノ基含有のコポリマーなど。 Mercaptopropyl group-containing oligomers such as 3-mercaptopropyltrimethoxysilane-tetramethoxysilane oligomer, 3-mercaptopropyltriethoxysilane-tetramethoxysilane oligomer, 3-mercaptopropyltriethoxysilane-tetramethoxysilane oligomer, 3-mercaptopropyltriethoxysilane-tetraethoxysilane oligomer; mercaptomethyltrimethoxysilane-tetramethoxysilane oligomer, mercaptomethyltrimethoxysilane-tetraethoxysilane oligomer, mercaptomethyltrimethoxysilane-tetramethoxysilane oligomer, mercaptomethyl group-containing oligomers such as mercaptomethyltriethoxysilane-tetramethoxysilane oligomer, mercaptomethyltriethoxysilane-tetraethoxysilane oligomer, etc.; 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane-tetramethoxysilane copolymer, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane-tetraethoxysilane copolymer, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane-tetramethoxysilane copolymer, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane-tetramethoxysilane copolymer, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane-tetraethoxysilane copolymer, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane-tetraethoxysilane copolymer, 3-glycidoxypropyl Copolymers containing 3-glycidoxypropyl groups, such as methyldimethoxysilane-tetramethoxysilane copolymer, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane-tetraethoxysilane copolymer, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane-tetramethoxysilane copolymer, and 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane-tetraethoxysilane copolymer; 3-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane-tetramethoxysilane oligomer, 3-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane-tetramethoxysilane oligomer, Ethoxysilane oligomer, 3-methacryloyloxypropyl triethoxysilane-tetramethoxysilane oligomer, 3-methacryloyloxypropyl triethoxysilane-tetraethoxysilane oligomer, 3-methacryloyloxypropyl methyl dimethoxysilane-tetramethoxysilane oligomer, 3-methacryloyloxypropyl methyl dimethoxysilane-tetraethoxysilane oligomer, 3-methacryloyloxypropyl methyl diethoxysilane-tetramethoxysilane oligomer, 3-methacryloyloxypropyl methyl diethoxysilane-tetramethoxysilane oligomer, methacryloyloxypropyl group-containing oligomers such as 3-acryloyloxypropyltrimethoxysilane-tetramethoxysilane oligomer, 3-acryloyloxypropyltrimethoxysilane-tetraethoxysilane oligomer, 3-acryloyloxypropyltriethoxysilane-tetramethoxysilane oligomer, 3-acryloyloxypropyltriethoxysilane-tetramethoxysilane oligomer, 3-acryloyloxypropyltriethoxysilane-tetraethoxysilane oligomer, 3-acryloyloxypropylmethyldimethoxysilane acryloyloxypropyl group-containing oligomers such as acryloyloxypropyl methyldimethoxysilane-tetramethoxysilane oligomer, 3-acryloyloxypropyl methyldiethoxysilane-tetramethoxysilane oligomer, 3-acryloyloxypropyl methyldiethoxysilane-tetraethoxysilane oligomer, and 3-acryloyloxypropyl methyldiethoxysilane-tetraethoxysilane oligomer; vinyltrimethoxysilane-tetramethoxysilane oligomer, vinyltrimethoxysilane-tetraethoxysilane oligomer, vinyltriethoxysilane-tetraethoxysilane oligomer, and vinyl group-containing oligomers such as vinyltriethoxysilane-tetraethoxysilane oligomer, vinylmethyldimethoxysilane-tetramethoxysilane oligomer, vinylmethyldimethoxysilane-tetraethoxysilane oligomer, vinylmethyldiethoxysilane-tetramethoxysilane oligomer, and vinylmethyldiethoxysilane-tetraethoxysilane oligomer; 3-aminopropyltrimethoxysilane-tetramethoxysilane copolymer, 3-aminopropyltrimethoxysilane-tetraethoxysilane copolymer, amino group-containing copolymers such as silane copolymer, 3-aminopropyltriethoxysilane-tetramethoxysilane copolymer, 3-aminopropyltriethoxysilane-tetraethoxysilane copolymer, 3-aminopropylmethyldimethoxysilane-tetramethoxysilane copolymer, 3-aminopropylmethyldimethoxysilane-tetraethoxysilane copolymer, 3-aminopropylmethyldiethoxysilane-tetramethoxysilane copolymer, and 3-aminopropylmethyldiethoxysilane-tetraethoxysilane copolymer.

シラン化合物(D)は、下記式(d1)で表されるシラン化合物であってもよい。粘着剤組成物が下記式(d1)で表されるシラン化合物を含むと、密着性(又は接着性)をさらに向上できるため、耐剥がれ性に良好な粘着剤層を形成できる。特に、高温環境下で、粘着剤層を透明電極やガラスに適用(又は積層)した場合においても、密着性(又は接着性)を維持でき、高い耐久性を示すことができる。 The silane compound (D) may be a silane compound represented by the following formula (d1). When the adhesive composition contains a silane compound represented by the following formula (d1), the adhesiveness (or bonding property) can be further improved, so that an adhesive layer with good peel resistance can be formed. In particular, even when the adhesive layer is applied (or laminated) to a transparent electrode or glass in a high-temperature environment, the adhesiveness (or bonding property) can be maintained and high durability can be exhibited.

Figure 0007580504000022

(式中、Bは、炭素数1~20のアルカンジイル基又は炭素数3~20の二価の脂環式炭化水素基を示し、前記アルカンジイル基及び前記脂環式炭化水素基を構成する-CH-は、-O-又は-CO-に置換されてもよく、Rd7は炭素数1~5のアルキル基を示し、Rd8、Rd9、Rd10、Rd11及びRd12はそれぞれ独立して、炭素数1~5のアルキル基又は炭素数1~5のアルコキシ基を示す)
Figure 0007580504000022

(In the formula, B represents an alkanediyl group having 1 to 20 carbon atoms or a divalent alicyclic hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms, -CH 2 - constituting the alkanediyl group and the alicyclic hydrocarbon group may be substituted with -O- or -CO-, R d7 represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and R d8 , R d9 , R d10 , R d11 and R d12 each independently represent an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms.)

式(d1)において、Bは、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ヘキサメチレン基、ヘプタメチレン基、オクタメチレン基などの炭素数1~20のアルカンジイル基;シクロブチレン基(例えば1,2-シクロブチレン基)、シクロペンチレン基(例えば1,2-シクロペンチレン基)、シクロヘキシレン基(例えば1,2-シクロへキシレン基)、シクロオクチレン基(例えば1,2-シクロオクチレン基)などの炭素数3~20の二価の脂環式炭化水素基、又はこれらのアルカンジイル基及び前記脂環式炭化水素基を構成する-CH2-が、-O-又は-CO-に置換された基を示す。好ましいBは、炭素数1~10のアルカンジイル基である。Rd7はメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、ペンチル基などの炭素数1~5のアルキル基を示し、Rd8、Rd9、Rd10、Rd11及びRd12はそれぞれ独立して、前記Rd7に例示の炭素数1~5のアルキル基、又はメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、i-プロポキシ基、ブトキシ基、s-ブトキシ基、t-ブトキシ基などの炭素数1~5のアルコキシ基を示す。好ましいRd8、Rd9、Rd10、Rd11及びRd12はそれぞれ独立して炭素数1~5のアルコキシ基である。これらのシラン化合物(D)は単独又は二種以上組み合わせて使用できる。 In formula (d1), B represents an alkanediyl group having 1 to 20 carbon atoms, such as a methylene group, an ethylene group, a trimethylene group, a tetramethylene group, a hexamethylene group, a heptamethylene group, or an octamethylene group; a divalent alicyclic hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms, such as a cyclobutylene group (for example, a 1,2-cyclobutylene group), a cyclopentylene group (for example, a 1,2-cyclopentylene group), a cyclohexylene group (for example, a 1,2-cyclohexylene group), or a cyclooctylene group (for example, a 1,2-cyclooctylene group), or these alkanediyl groups and groups in which -CH2- constituting the alicyclic hydrocarbon group is replaced with -O- or -CO-. Preferred B is an alkanediyl group having 1 to 10 carbon atoms. R d7 represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, a s-butyl group, a t-butyl group, or a pentyl group, and R d8 , R d9 , R d10 , R d11 , and R d12 each independently represent an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, such as the exemplified R d7 , or an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, such as a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an i-propoxy group, a butoxy group, a s-butoxy group, or a t-butoxy group. Preferably, R d8 , R d9 , R d10 , R d11 , and R d12 each independently represent an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms. These silane compounds (D) can be used alone or in combination of two or more.

具体的な前記式(d1)で表されるシラン化合物としては、例えば、(トリメトキシシリル)メタン、1,2-ビス(トリメトキシシリル)エタン、1,2-ビス(トリエトキシシリル)エタン、1,3-ビス(トリメトキシシリル)プロパン、1,3-ビス(トリエトキシシリル)プロパン、1,4-ビス(トリメトキシシリル)ブタン、1,4-ビス(トリエトキシシリル)ブタン、1,5-ビス(トリメトキシシリル)ペンタン、1,5-ビス(トリエトキシシリル)ペンタン、1,6-ビス(トリメトキシシリル)ヘキサン、1,6-ビス(トリエトキシシリル)ヘキサン、1,6-ビス(トリプロポキシシリル)ヘキサン、1,8-ビス(トリメトキシシリル)オクタン、1,8-ビス(トリエトキシシリル)オクタン、1,8-ビス(トリプロポキシシリル)オクタンなどのビス(トリC1-5アルコキシシリル)C1-10アルカン;ビス(ジメトキシメチルシリル)メタン、1,2-ビス(ジメトキシメチルシリル)エタン、1,2-ビス(ジメトキシエチルシリル)エタン、1,4-ビス(ジメトキシメチルシリル)ブタン、1,4-ビス(ジメトキシエチルシリル)ブタン、1,6-ビス(ジメトキシメチルシリル)ヘキサン、1,6-ビス(ジメトキシエチルシリル)ヘキサン、1,8-ビス(ジメトキシメチルシリル)オクタン、1,8-ビス(ジメトキシエチルシリル)オクタンなどのビス(ジC1-5アルコキシC1-5アルキルシリル)C1-10アルカン;1,6-ビス(メトキシジメチルシリル)ヘキサン、1,8-ビス(メトキシジメチルシリル)オクタンなどのビス(モノC1-5アルコキシ-ジC1-5アルキルシリル)C1-10アルカンなどが挙げられる。これらのうち、1,2-ビス(トリメトキシシリル)エタン、1,3-ビス(トリメトキシシリル)プロパン、1,4-ビス(トリメトキシシリル)ブタン、1,5-ビス(トリメトキシシリル)ペンタン、1,6-ビス(トリメトキシシリル)ヘキサン、1,8-ビス(トリメトキシシリル)オクタンなどのビス(トリC1-3アルコキシシリル)C1-10アルカンが好ましく、特に、1,6-ビス(トリメトキシシリル)ヘキサン、1,8-ビス(トリメトキシシリル)オクタンが好ましい。 Specific examples of the silane compound represented by the formula (d1) include bis(triC1) compounds such as (trimethoxysilyl)methane, 1,2-bis(trimethoxysilyl)ethane, 1,2-bis(triethoxysilyl)ethane, 1,3-bis(trimethoxysilyl)propane, 1,3-bis(triethoxysilyl)propane, 1,4-bis(trimethoxysilyl)butane, 1,4-bis(triethoxysilyl)butane, 1,5-bis(trimethoxysilyl)pentane, 1,5-bis(triethoxysilyl)pentane, 1,6-bis(trimethoxysilyl)hexane, 1,6-bis(triethoxysilyl)hexane, 1,6-bis(tripropoxysilyl)hexane, 1,8-bis(trimethoxysilyl)octane, 1,8-bis(triethoxysilyl)octane, and 1,8-bis(tripropoxysilyl)octane. bis(diC1-5 alkoxy C1-5 alkylsilyl) C1-10 alkanes such as bis(dimethoxymethylsilyl)methane, 1,2-bis(dimethoxymethylsilyl)ethane, 1,2-bis(dimethoxyethylsilyl)ethane, 1,4-bis(dimethoxymethylsilyl)butane, 1,4-bis(dimethoxyethylsilyl)butane, 1,6-bis(dimethoxymethylsilyl)hexane, 1,6-bis(dimethoxyethylsilyl)hexane, 1,8-bis(dimethoxymethylsilyl)octane, and 1,8-bis(dimethoxyethylsilyl)octane; and bis(mono C1-5 alkoxy-di C1-5 alkylsilyl) C1-10 alkanes such as 1,6-bis(methoxydimethylsilyl)hexane and 1,8-bis(methoxydimethylsilyl)octane. Of these, bis(triC1-3 alkoxysilyl)C1-10 alkanes such as 1,2-bis(trimethoxysilyl)ethane, 1,3-bis(trimethoxysilyl)propane, 1,4-bis(trimethoxysilyl)butane, 1,5-bis(trimethoxysilyl)pentane, 1,6-bis(trimethoxysilyl)hexane, and 1,8-bis(trimethoxysilyl)octane are preferred, with 1,6-bis(trimethoxysilyl)hexane and 1,8-bis(trimethoxysilyl)octane being particularly preferred.

シラン化合物(D)の含有量は、(メタ)アクリル系樹脂(A)100重量部に対して、通常0.01~10重量部であり、好ましくは0.03~5重量部であり、より好ましくは0.05~2重量部であり、さらに好ましくは0.1~1重量部である。上記上限値以下であると、粘着剤層からのシラン化合物(D)のブリードアウトの抑制に有利であり、上記下限値以上であると、粘着剤層と、金属層やガラス基板等との密着性(又は接着性)を向上しやすくなり、耐剥がれ性などの向上に有利である。 The content of the silane compound (D) is usually 0.01 to 10 parts by weight, preferably 0.03 to 5 parts by weight, more preferably 0.05 to 2 parts by weight, and even more preferably 0.1 to 1 part by weight, based on 100 parts by weight of the (meth)acrylic resin (A). If it is equal to or less than the upper limit, it is advantageous for suppressing bleeding out of the silane compound (D) from the adhesive layer, and if it is equal to or more than the lower limit, it is easier to improve the adhesion (or adhesiveness) between the adhesive layer and a metal layer, a glass substrate, etc., and is advantageous for improving peel resistance, etc.

粘着剤組成物は、さらに帯電防止剤を含有していてもよい。
帯電防止剤としては、界面活性剤、シロキサン化合物、導電性高分子、イオン性化合物等が挙げられ、イオン性化合物であることが好ましい。イオン性化合物としては、慣用のものが挙げられる。イオン性化合物を構成するカチオン成分としては、有機カチオン、無機カチオンなどが挙げられる。有機カチオンとしては、例えばピリジニウムカチオン、ピロリジニウムカチオン、ピペリジニウムカチオン、イミダゾリウムカチオン、アンモニウムカチオン、スルホニウムカチオン、ホスホニウムカチオンなどが挙げられる。無機カチオンとしては、例えばリチウムカチオン、カリウムカチオン、ナトリウムカチオン、セシウムカチオンなどのアルカリ金属カチオン、マグネシウムカチオン、カルシウムカチオンなどのアルカリ土類金属カチオンなどが挙げられる。特に(メタ)アクリル系樹脂との相溶性の観点からピリジニウムカチオン、イミダゾリウムカチオン、ピロリジニウムカチオン、リチウムカチオン、カリウムカチオンが好ましい。イオン性化合物を構成するアニオン成分としては、無機アニオン及び有機アニオンのいずれでもよいが、帯電防止性能の点で、フッ素原子を含むアニオン成分が好ましい。フッ素原子を含むアニオン成分としては、例えばヘキサフルオロホスフェートアニオン(PF-)、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドアニオン[(CFSON-]、ビス(フルオロスルホニル)イミドアニオン[(FSON-]、テトラ(ペンタフルオロフェニル)ボレートアニオン[(CB-]などが挙げられる。これらのイオン性化合物は単独又は二種以上組み合わせて使用できる。特に、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドアニオン[(CFSON-]、ビス(フルオロスルホニル)イミドアニオン[(FSON-]、テトラ(ペンタフルオロフェニル)ボレートアニオン[(CB-]が好ましい。
粘着剤組成物から形成される粘着剤層の帯電防止性能の経時安定性の点で、室温で固体であるイオン性化合物が好ましい。
The pressure-sensitive adhesive composition may further contain an antistatic agent.
Examples of the antistatic agent include surfactants, siloxane compounds, conductive polymers, ionic compounds, etc., and ionic compounds are preferred. Examples of the ionic compound include conventional ones. Examples of the cationic component constituting the ionic compound include organic cations and inorganic cations. Examples of the organic cation include pyridinium cation, pyrrolidinium cation, piperidinium cation, imidazolium cation, ammonium cation, sulfonium cation, phosphonium cation, etc. Examples of the inorganic cation include alkali metal cations such as lithium cation, potassium cation, sodium cation, and cesium cation, and alkaline earth metal cations such as magnesium cation and calcium cation. In particular, from the viewpoint of compatibility with (meth)acrylic resins, pyridinium cation, imidazolium cation, pyrrolidinium cation, lithium cation, and potassium cation are preferred. Examples of the anionic component constituting the ionic compound may be either inorganic anion or organic anion, but from the viewpoint of antistatic performance, an anionic component containing a fluorine atom is preferred. Examples of anion components containing fluorine atoms include hexafluorophosphate anion (PF 6 -), bis(trifluoromethanesulfonyl)imide anion [(CF 3 SO 2 ) 2 N-], bis(fluorosulfonyl)imide anion [(FSO 2 ) 2 N-], and tetra(pentafluorophenyl)borate anion [(C 6 F 5 ) 4 B-]. These ionic compounds can be used alone or in combination of two or more. In particular, bis(trifluoromethanesulfonyl)imide anion [(CF 3 SO 2 ) 2 N-], bis(fluorosulfonyl)imide anion [(FSO 2 ) 2 N-], and tetra(pentafluorophenyl)borate anion [(C 6 F 5 ) 4 B-] are preferred.
In terms of the stability over time of the antistatic performance of the pressure-sensitive adhesive layer formed from the pressure-sensitive adhesive composition, an ionic compound that is solid at room temperature is preferred.

帯電防止剤の含有量は、(メタ)アクリル系樹脂(A)100質量部に対して、例えば、0.01~20質量部、好ましくは0.1~10質量部、さらに好ましくは1~7質量である。 The content of the antistatic agent is, for example, 0.01 to 20 parts by mass, preferably 0.1 to 10 parts by mass, and more preferably 1 to 7 parts by mass, per 100 parts by mass of the (meth)acrylic resin (A).

粘着剤組成物は、溶剤、架橋触媒、タッキファイヤー、可塑剤、軟化剤、顔料、防錆剤、無機フィラー、光散乱性微粒子等の添加剤を1種又は2種以上含有することができる。 The adhesive composition may contain one or more additives such as a solvent, a crosslinking catalyst, a tackifier, a plasticizer, a softener, a pigment, an anti-rust agent, an inorganic filler, or light-scattering fine particles.

本発明に係る粘着剤層付光学フィルムの一例を図1に示した。
図1に示すように、本発明の光学フィルム1の少なくとも一方の面に粘着剤層2を有している粘着剤層付光学フィルムは、光学フィルムと粘着剤層とが貼合している面と反対の面にセパレートフィルム(剥離フィルム)3を積層していてもよい。このセパレートフィルム3は通常、粘着剤層付光学フィルムの使用時(例えば液晶セルや位相差フィルム等への積層時)に剥離除去される。セパレートフィルムは、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリアレート等の各種樹脂からなるフィルムの粘着剤層が形成される面に、シリコーン処理等の離型処理が施されたものであることができる。
An example of the pressure-sensitive adhesive layer-attached optical film according to the present invention is shown in FIG.
As shown in Fig. 1, the pressure-sensitive adhesive layer-attached optical film of the present invention, which has a pressure-sensitive adhesive layer 2 on at least one side of the optical film 1, may have a separate film (release film) 3 laminated on the side opposite to the side where the optical film and the pressure-sensitive adhesive layer are attached. This separate film 3 is usually peeled off and removed when the pressure-sensitive adhesive layer-attached optical film is used (for example, when it is laminated on a liquid crystal cell, a retardation film, etc.). The separate film may be, for example, a film made of various resins such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polycarbonate, polyarene, etc., which has been subjected to a release treatment such as silicone treatment on the side on which the pressure-sensitive adhesive layer is formed.

図2~図5に本発明に係る光学フィルムを含む光学積層体の層構成の一例を示した。
図2に記載の光学積層体10Aは、保護フィルム4、接着剤層5、偏光フィルム6、接着剤層5、本発明の光学フィルム1、粘着剤層7を含む光学積層体である。
図3に記載の光学積層体10Bは、本発明の光学フィルム1、接着剤層5、偏光フィルム6、接着剤層5、保護フィルム4、粘着剤層7を含む光学積層体である。
図4に記載の光学フィルム10C及び図5に記載の光学積層体10Dは、保護フィルム4、接着剤層5、偏光フィルム6、接着剤層5、本発明の光学フィルム1、粘着剤層7、光学フィルム40、粘着剤層7a、発光素子30(液晶セル、OLEDセル)を含む光学積層体である。
2 to 5 show an example of the layer structure of an optical laminate including the optical film according to the present invention.
The optical laminate 10A shown in FIG. 2 is an optical laminate including a protective film 4, an adhesive layer 5, a polarizing film 6, an adhesive layer 5, the optical film 1 of the present invention, and a pressure-sensitive adhesive layer 7.
The optical laminate 10B shown in FIG. 3 is an optical laminate including the optical film 1 of the present invention, an adhesive layer 5, a polarizing film 6, an adhesive layer 5, a protective film 4, and a pressure-sensitive adhesive layer 7.
The optical film 10C shown in FIG. 4 and the optical laminate 10D shown in FIG. 5 are optical laminates including a protective film 4, an adhesive layer 5, a polarizing film 6, an adhesive layer 5, the optical film 1 of the present invention, a pressure-sensitive adhesive layer 7, an optical film 40, a pressure-sensitive adhesive layer 7a, and a light-emitting element 30 (liquid crystal cell, OLED cell).

本発明の粘着剤層付光学フィルムの粘着剤層面には、図2~図5に示すように、位相差フィルム、偏光フィルム、ウィンドフィルム、集光フィルム、輝度向上フィルム等の光学フィルムが積層されていてもよい。 As shown in Figures 2 to 5, an optical film such as a retardation film, a polarizing film, a window film, a light collecting film, or a brightness enhancing film may be laminated on the adhesive layer surface of the adhesive layer-attached optical film of the present invention.

位相差フィルムとは、光学異方性を示す光学フィルムであって、例えば、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリアリレート、ポリイミド、ポリオレフィン、ポリシクロオレフィン、ポリスチレン、ポリサルホン、ポリエーテルサルホン、ポリビニリデンフルオライド/ポリメチルメタクリレート、アセチルセルロース、エチレン-酢酸ビニル共重合体ケン化物、ポリ塩化ビニルなどからなる高分子フィルムを1.01~6倍程度に延伸することにより得られる延伸フィルムなどが挙げられる。中でも、ポリカーボネートフィルムやシクロオレフィン系樹脂フィルムを一軸延伸または二軸延伸した高分子フィルムであることが好ましい。なお、本明細書において、位相差フィルムは、ゼロレタデーションフィルムを含み、一軸性位相差フィルム、低光弾性率位相差フィルム、広視野角位相差フィルムなどと称されるフィルムも含む。 A retardation film is an optical film that exhibits optical anisotropy, and examples of such films include stretched films obtained by stretching polymer films made of polyvinyl alcohol, polycarbonate, polyester, polyarylate, polyimide, polyolefin, polycycloolefin, polystyrene, polysulfone, polyethersulfone, polyvinylidene fluoride/polymethyl methacrylate, acetyl cellulose, saponified ethylene-vinyl acetate copolymer, polyvinyl chloride, etc., by about 1.01 to 6 times. Among these, polymer films obtained by uniaxially or biaxially stretching polycarbonate films or cycloolefin resin films are preferred. In this specification, retardation films include zero retardation films, and also include films called uniaxial retardation films, low photoelasticity retardation films, wide viewing angle retardation films, etc.

液晶性化合物の塗布・配向によって光学異方性を発現させたフィルムや、無機層状化合物の塗布によって光学異方性を発現させたフィルムとしては、温度補償型位相差フィルムと称されるフィルム、JX日鉱日石エネルギー(株)から販売されている“NHフィルム”(商品名;棒状液晶が傾斜配向したフィルム)、富士フイルム(株)から販売されている“WVフィルム”(商品名;円盤状液晶が傾斜配向したフィルム)、住友化学(株)から販売されている“VACフィルム”(商品名;完全二軸配向型のフィルム)、住友化学(株)から販売されている“new VACフィルム”(商品名;二軸配向型のフィルム)などが挙げられる。 Films that exhibit optical anisotropy through the application and orientation of liquid crystal compounds, or films that exhibit optical anisotropy through the application of inorganic layered compounds, include films known as temperature-compensated retardation films, such as "NH film" (product name: film with tilted alignment of rod-shaped liquid crystals) sold by JX Nippon Oil & Energy Corporation, "WV film" (product name: film with tilted alignment of discotic liquid crystals) sold by Fujifilm Corporation, "VAC film" (product name: fully biaxially oriented film) sold by Sumitomo Chemical Co., Ltd., and "new VAC film" (product name: biaxially oriented film) sold by Sumitomo Chemical Co., Ltd.

ゼロレタデーションフィルムとは、正面レタデーションReと厚み方向のレタデーションRthとが、ともに-15~15nmであり、光学的に等方なフィルムをいう。ゼロレタデーションフィルムとしては、セルロース系樹脂、ポリオレフィン系樹脂(鎖状ポリオレフィン系樹脂、ポリシクロオレフィン系樹脂など)またはポリエチレンテレフタレート系樹脂からなる樹脂フィルムが挙げられ、レタデーション値の制御が容易で、入手も容易であるという点で、セルロース系樹脂またはポリオレフィン系樹脂が好ましい。ゼロレタデーションフィルムは、保護フィルムとしても用いることができる。ゼロレタデーションフィルムとしては、富士フイルム(株)から販売されている“Z-TAC”(商品名)、コニカミノルタオプト(株)から販売されている“ゼロタック(登録商標)”、日本ゼオン(株)から販売されている“ZF-14”(商品名)などが挙げられる。 The zero retardation film is an optically isotropic film in which the front retardation R e and the thickness retardation R th are both −15 to 15 nm. Examples of the zero retardation film include resin films made of cellulose resins, polyolefin resins (chain polyolefin resins, polycycloolefin resins, etc.), or polyethylene terephthalate resins. Cellulose resins or polyolefin resins are preferred because they are easy to control the retardation value and are easily available. The zero retardation film can also be used as a protective film. Examples of the zero retardation film include “Z-TAC” (trade name) sold by Fujifilm Corporation, “Zerotack (registered trademark)” sold by Konica Minolta Opto Co., Ltd., and “ZF-14” (trade name) sold by Zeon Corporation.

本発明において、位相差フィルムは、重合性液晶化合物を硬化させてなる位相差フィルムが好ましい。 In the present invention, the retardation film is preferably a retardation film obtained by curing a polymerizable liquid crystal compound.

液晶性化合物の塗布・配向によって光学異方性を発現させたフィルムとしては、第一の形態:棒状液晶化合物が支持基材に対して水平方向に配向した位相差フィルム、第二の形態:棒状液晶化合物が支持基材に対して垂直方向に配向した位相差フィルム、第三の形態:棒状液晶化合物が面内で螺旋状に配向の方向が変化している位相差フィルム、第四の形態:円盤状液晶化合物が傾斜配向している位相差フィルム、第五の形態:円盤状液晶化合物が支持基材に対して垂直方向に配向した二軸性の位相差フィルムがあげられる。 Films that exhibit optical anisotropy by coating and orienting liquid crystal compounds include: first form: retardation film in which rod-shaped liquid crystal compounds are oriented horizontally relative to the supporting substrate; second form: retardation film in which rod-shaped liquid crystal compounds are oriented vertically relative to the supporting substrate; third form: retardation film in which the orientation direction of rod-shaped liquid crystal compounds changes in a spiral manner in the plane; fourth form: retardation film in which discotic liquid crystal compounds are oriented at an angle; and fifth form: biaxial retardation film in which discotic liquid crystal compounds are oriented vertically relative to the supporting substrate.

たとえば、有機エレクトロルミネッセンスディスプレイに用いられる光学フィルムとしては、第一の形態、第二の形態、第五の形態が好適に用いられる。またはこれらを積層させて用いてもよい。 For example, the first, second, and fifth forms are preferably used as optical films for organic electroluminescence displays. Alternatively, these may be laminated and used.

位相差フィルムが、重合性液晶化合物の配向状態における重合体からなる層(以下、「光学異方性層」と称する場合がある)である場合、位相差フィルムは逆波長分散性を有することが好ましい。逆波長分散性とは、短波長での液晶配向面内位相差値の方が長波長での液晶配向面内位相差値よりも小さくなる光学特性であり、好ましくは、位相差フィルムが下記式(7)および式(8)を満たすことである。なお、Re(λ)は波長λnmの光に対する面内位相差値を表す。
Re(450)/Re(550)≦1 (7)
1≦Re(630)/Re(550) (8)
本発明の光学フィルムにおいて、位相差フィルムが第一の形態でかつ逆波長分散性を有する場合、表示装置での黒表示時の着色が低減するため好ましく、前記式(7)において0.82≦Re(450)/Re(550)≦0.93であればより好ましい。さらに120≦Re(550)≦150が好ましい。
When the retardation film is a layer made of a polymer in an oriented state of a polymerizable liquid crystal compound (hereinafter, sometimes referred to as an "optically anisotropic layer"), the retardation film preferably has reverse wavelength dispersion. Reverse wavelength dispersion is an optical property in which the liquid crystal alignment in-plane retardation value at a short wavelength is smaller than the liquid crystal alignment in-plane retardation value at a long wavelength, and preferably, the retardation film satisfies the following formulas (7) and (8). Note that Re(λ) represents the in-plane retardation value for light with a wavelength of λ nm.
Re(450)/Re(550)≦1 (7)
1≦Re(630)/Re(550) (8)
In the optical film of the present invention, when the retardation film is in the first form and has reverse wavelength dispersion, coloring during black display on a display device is reduced, which is preferable, and in the formula (7), it is more preferable that 0.82≦Re(450)/Re(550)≦0.93. It is further preferable that 120≦Re(550)≦150.

位相差フィルムが、光学異方性層を有するフィルムである場合の重合性液晶化合物としては、液晶便覧(液晶便覧編集委員会編、丸善(株)平成12年10月30日発行)の「3.8.6 ネットワーク(完全架橋型)」、「6.5.1 液晶材料 b.重合性ネマチック液晶材料」に記載された化合物の中で重合性基を有する化合物、並びに、特開2010-31223号公報、特開2010-270108号公報、特開2011-6360号公報、特開2011-207765号公報、特開2011-162678号、特開2016-81035号公報、国際公開2017/043438号公報及び特表2011-207765号公報に記載の重合性液晶化合物が挙げられる。 When the retardation film is a film having an optically anisotropic layer, examples of the polymerizable liquid crystal compound include compounds having a polymerizable group among the compounds described in "3.8.6 Network (fully cross-linked type)" and "6.5.1 Liquid crystal material b. Polymerizable nematic liquid crystal material" in Liquid Crystal Handbook (edited by Liquid Crystal Handbook Editorial Committee, published by Maruzen Co., Ltd. on October 30, 2000), as well as the polymerizable liquid crystal compounds described in JP-A-2010-31223, JP-A-2010-270108, JP-A-2011-6360, JP-A-2011-207765, JP-A-2011-162678, JP-A-2016-81035, WO 2017/043438, and JP-T-2011-207765.

重合性液晶化合物の配向状態における重合体から位相差フィルムを製造する方法は、例えば、特開2010-31223号公報に記載の方法が挙げられる。 A method for producing a retardation film from a polymer in an oriented state of a polymerizable liquid crystal compound is, for example, the method described in JP 2010-31223 A.

第2の形態の場合、正面位相差値Re(550)は0~10nmの範囲に、好ましくは0~5nmの範囲に調整すればよく、厚み方向の位相差値Rthは、-10~-300nmの範囲に、好ましくは-20~-200nmの範囲に調整すればよい。厚み方向の屈折率異方性を意味する厚み方向の位相差値Rthは、面内の進相軸を傾斜軸として50度傾斜させて測定される位相差値R50と面内の位相差値R0 とから算出できる。すなわち、厚み方向の位相差値Rthは、面内の位相差値R0、進相軸を傾斜軸として50度傾斜させて測定した位相差値R50、位相差フィルムの厚みd、及び位相差フィルムの平均屈折率n0から、以下の式 (10)~(12)によりnx、ny及びnz を求め、これらを式(9)に代入して、算出することができる。 In the case of the second embodiment, the front retardation value Re (550) may be adjusted to a range of 0 to 10 nm, preferably 0 to 5 nm, and the thickness retardation value R th may be adjusted to a range of -10 to -300 nm, preferably -20 to -200 nm. The thickness retardation value R th , which means the refractive index anisotropy in the thickness direction, can be calculated from the retardation value R 50 measured by tilting the in-plane fast axis as the tilt axis at 50 degrees and the in-plane retardation value R 0. That is, the thickness retardation value R th can be calculated by determining n x , n y and n z from the in-plane retardation value R 0 , the retardation value R 50 measured by tilting the in-plane fast axis as the tilt axis at 50 degrees, the thickness d of the retardation film, and the average refractive index n 0 of the retardation film according to the following formulas (10) to (12), and substituting these into formula (9).

th=[(n+n)/2-n]×d (9)
=(n-n)×d (10)
50=(n-n')×d/cos(φ) (11)
(n+n+n)/3=n (12)
ここで、
φ=sin-1〔sin(40°)/n
'=n×n/〔n ×sin(φ)+n ×cos(φ)〕1/2
R th = [(n x + ny )/2- nz ] x d (9)
R 0 = (n x - ny ) x d (10)
R 50 = (n x - ny ') x d/cos(φ) (11)
(n x + ny + nz )/3=n 0 (12)
Where:
φ=sin −1 [sin (40°)/n 0 ]
ny ' = ny × nz / [ ny 2 × sin 2 (φ) + nz 2 × cos 2 (φ)] 1/2

位相差フィルムは、二以上の層を有する多層フィルムであってもよい。例えば、位相差フィルムの片面又は両面に保護フィルムが積層されたものや、二以上の位相差フィルムが粘着剤又は接着剤を介して積層されたものが挙げられる。 The retardation film may be a multi-layer film having two or more layers. For example, a retardation film may have a protective film laminated on one or both sides thereof, or two or more retardation films may be laminated together via a pressure-sensitive adhesive or adhesive.

光学フィルム40が二以上の位相差フィルムが積層された多層フィルムである場合、本発明の光学フィルムを含む光学積層体の構成としては、図4に示したように、透過光に1/4波長分の位相差を付与する1/4波長位相差層50と透過光に1/2波長分の位相差を付与する1/2波長位相差層70とを、接着剤又は粘着剤60を介して積層した光学フィルム40を含む構成が挙げられる。また、図5に示したように、1/4波長位相差層50aとポジティブC層80とを、接着剤層又は粘着剤層を介して積層した光学フィルム40を含む構成も挙げられる。 When the optical film 40 is a multilayer film in which two or more retardation films are laminated, the optical laminate including the optical film of the present invention may have a configuration including an optical film 40 in which a 1/4 wavelength retardation layer 50 that imparts a phase difference of 1/4 wavelength to transmitted light and a 1/2 wavelength retardation layer 70 that imparts a phase difference of 1/2 wavelength to transmitted light are laminated via an adhesive or pressure-sensitive adhesive 60, as shown in FIG. 4. In addition, as shown in FIG. 5, a configuration including an optical film 40 in which a 1/4 wavelength retardation layer 50a and a positive C layer 80 are laminated via an adhesive layer or pressure-sensitive adhesive layer may also be used.

図4の1/4波長分の位相差を付与する1/4波長位相差層50、および透過光に1/2波長分の位相差を付与する1/2波長位相差層70は上記第一の形態の光学フィルムであっても第五の形態の光学フィルムであってもよい。図4の構成の場合、少なくとも片方が第五の形態であることがより好ましい。 The 1/4 wavelength retardation layer 50 in FIG. 4 that imparts a phase difference of 1/4 wavelength, and the 1/2 wavelength retardation layer 70 that imparts a phase difference of 1/2 wavelength to transmitted light may be an optical film of the first form or an optical film of the fifth form. In the case of the configuration in FIG. 4, it is more preferable that at least one of them is the fifth form.

図5の構成の場合、1/4波長位相差層50aは上記第一の形態の光学フィルムであることが好ましく、さらに式(7)、式(8)を満たすことがより好ましい。 In the configuration of FIG. 5, the quarter-wave retardation layer 50a is preferably an optical film of the first form described above, and more preferably satisfies formulas (7) and (8).

偏光フィルムはその吸収軸に平行な振動面をもつ直線偏光を吸収し、吸収軸に直交する(透過軸と平行な)振動面をもつ直線偏光を透過する性質を有するフィルムであり、例えば、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムに二色性色素を吸着配向させたフィルムを用いることができる。二色性色素としては、例えば、ヨウ素や二色性有機染料などが挙げられる。 A polarizing film is a film that has the property of absorbing linearly polarized light with a vibration plane parallel to its absorption axis and transmitting linearly polarized light with a vibration plane perpendicular to the absorption axis (parallel to the transmission axis). For example, a film in which a dichroic dye is adsorbed and oriented on a polyvinyl alcohol-based resin film can be used. Examples of dichroic dyes include iodine and dichroic organic dyes.

通常、ポリビニルアルコール系樹脂を製膜したものを偏光フィルムの原反フィルムとして用いる。ポリビニルアルコール系樹脂は、公知の方法で製膜することができる。原反フィルムの厚みは、通常1~150μmであり、延伸のしやすさなどを考慮すれば、好ましくは10μm以上である。 Typically, a film made from polyvinyl alcohol resin is used as the base film for the polarizing film. The polyvinyl alcohol resin can be made into a film by a known method. The thickness of the base film is typically 1 to 150 μm, and is preferably 10 μm or more, taking into consideration the ease of stretching.

偏光フィルムは、例えば、原反フィルムに対して、一軸延伸する工程、二色性色素でフィルムを染色してその二色性色素を吸着させる工程、ホウ酸水溶液でフィルムを処理する工程、及び、フィルムを水洗する工程が施され、最後に乾燥して製造される。偏光フィルムの厚みは、通常1~30μmであり、薄膜化の観点から、好ましくは20μm以下、さらに好ましくは15μm以下、特に10μm以下である。 Polarizing films are produced, for example, by subjecting raw film to the following steps: uniaxial stretching; dyeing the film with a dichroic dye to allow the dichroic dye to be adsorbed; treating the film with an aqueous boric acid solution; washing the film with water; and finally drying. The thickness of the polarizing film is usually 1 to 30 μm, and from the viewpoint of thinning, it is preferably 20 μm or less, more preferably 15 μm or less, and particularly preferably 10 μm or less.

ポリビニルアルコール系樹脂フィルムに二色性色素を吸着配向させてなる偏光フィルムは、原反フィルムとしてポリビニルアルコール系樹脂フィルムの単独フィルムを用い、このフィルムに対して一軸延伸処理及び二色性色素の染色処理を施す方法(方法(1)とする)のほか、基材フィルムにポリビニルアルコール系樹脂を含有する塗工液(水溶液等)を塗工、乾燥させてポリビニルアルコール系樹脂層を有する基材フィルムを得た後、これを基材フィルムごとに一軸延伸し、延伸後のポリビニルアルコール系樹脂層に対して二色性色素の染色処理を施し、次いで基材フィルムを剥離除去する方法(方法(2)とする)によっても得ることができる。基材フィルムとしては、熱可塑性樹脂からなるフィルムを用いることができ、好ましくは、ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、トリアセチルセルロースなどのセルロース系樹脂、ノルボルネン系樹脂などの環状ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂などからなるフィルムである。上記方法(2)を利用すると、薄膜の偏光フィルムの作製が容易となり、例えば厚み7μm以下の偏光子2の作製であっても容易に行うことができる。 A polarizing film obtained by adsorbing and orienting a dichroic dye on a polyvinyl alcohol-based resin film can be obtained by a method (referred to as method (1)) in which a single film of a polyvinyl alcohol-based resin film is used as the raw film and the film is subjected to uniaxial stretching and dyeing with a dichroic dye, or by a method (referred to as method (2)) in which a coating liquid (such as an aqueous solution) containing a polyvinyl alcohol-based resin is applied to a substrate film and dried to obtain a substrate film having a polyvinyl alcohol-based resin layer, which is then uniaxially stretched for each substrate film, the stretched polyvinyl alcohol-based resin layer is subjected to dyeing with a dichroic dye, and then the substrate film is peeled off. As the substrate film, a film made of a thermoplastic resin can be used, and preferably a film made of a polyester-based resin such as polyethylene terephthalate, a polycarbonate-based resin, a cellulose-based resin such as triacetyl cellulose, a cyclic polyolefin-based resin such as norbornene-based resin, a polystyrene-based resin, or the like. By using the above method (2), it is easy to prepare a thin polarizing film, and even a polarizer 2 having a thickness of, for example, 7 μm or less can be easily prepared.

偏光フィルムの少なくとも一方の面は、接着剤を介して保護フィルムが設けられていることが好ましい。
接着剤としては、公知の接着剤が用いられ、水系接着剤であってもよいし、活性エネルギー線硬化型接着剤であってもよい。
At least one surface of the polarizing film is preferably provided with a protective film via an adhesive.
As the adhesive, a known adhesive is used, and it may be a water-based adhesive or an active energy ray curable adhesive.

水系接着剤としては、慣用の水系接着剤(例えば、ポリビニルアルコール系樹脂水溶液からなる接着剤、水系二液型ウレタン系エマルジョン接着剤、アルデヒド化合物、エポキシ化合物、メラミン系化合物、メチロール化合物、イソシアネート化合物、アミン化合物、多価金属塩等の架橋剤など)が挙げられる。これらのうち、ポリビニルアルコール系樹脂水溶液からなる水系接着剤を好適に用いることができる。なお、水系接着剤を使用する場合は、偏光フィルムと保護フィルムとを貼合した後、水系接着剤中に含まれる水を除去するために乾燥させる工程を実施することが好ましい。乾燥工程後、例えば20~45℃程度の温度で養生する養生工程を設けてもよい。 Examples of water-based adhesives include conventional water-based adhesives (e.g., adhesives made of an aqueous polyvinyl alcohol resin solution, water-based two-liquid urethane emulsion adhesives, crosslinking agents such as aldehyde compounds, epoxy compounds, melamine compounds, methylol compounds, isocyanate compounds, amine compounds, polyvalent metal salts, etc.). Of these, water-based adhesives made of an aqueous polyvinyl alcohol resin solution can be preferably used. When using a water-based adhesive, it is preferable to carry out a drying process to remove water contained in the water-based adhesive after laminating the polarizing film and the protective film. After the drying process, a curing process may be carried out in which the product is cured at a temperature of, for example, about 20 to 45°C.

上記活性エネルギー線硬化性接着剤とは、紫外線や電子線等の活性エネルギー線を照射することで硬化する接着剤をいい、例えば、重合性化合物及び光重合開始剤を含む硬化性組成物、光反応性樹脂を含む硬化性組成物、バインダー樹脂及び光反応性架橋剤を含む硬化性組成物等が挙げられ、好ましくは紫外線硬化性接着剤である。 The above-mentioned active energy ray curable adhesive refers to an adhesive that is cured by irradiation with active energy rays such as ultraviolet rays or electron beams. Examples of such adhesives include a curable composition containing a polymerizable compound and a photopolymerization initiator, a curable composition containing a photoreactive resin, and a curable composition containing a binder resin and a photoreactive crosslinking agent, and preferably an ultraviolet ray curable adhesive.

活性エネルギー線硬化性接着剤を用いる場合は、偏光フィルムと保護フィルムとを貼合した後、必要に応じて乾燥工程を行い、次いで活性エネルギー線を照射することにより活性エネルギー線硬化性接着剤を硬化させる硬化工程を行う。活性エネルギー線の光源は特に限定されないが、波長400nm以下に発光分布を有する紫外線が好ましい。 When using an active energy ray-curable adhesive, after laminating the polarizing film and the protective film, a drying process is carried out as necessary, and then a curing process is carried out in which the active energy ray-curable adhesive is cured by irradiating it with active energy rays. There are no particular limitations on the source of the active energy rays, but ultraviolet light with an emission distribution of wavelengths of 400 nm or less is preferred.

偏光フィルムと保護フィルムとを貼合する方法としては、これらの少なくともいずれか一方の貼合面にケン化処理、コロナ処理、プラズマ処理等の表面活性化処理を施す方法などが挙げられる。偏光フィルムの両面に樹脂フィルムが貼合される場合、これらの樹脂フィルムを貼合するための接着剤は、同種の接着剤あってもよいし異種の接着剤であってもよい。 Methods for bonding a polarizing film and a protective film include a method of subjecting at least one of the bonding surfaces to a surface activation treatment such as saponification treatment, corona treatment, or plasma treatment. When resin films are bonded to both sides of the polarizing film, the adhesives used to bond these resin films may be the same or different types of adhesives.

偏光板の好ましい構成としては、偏光フィルムの少なくとも一方の面に接着剤層を介して保護フィルムが積層された偏光板である。保護フィルムが偏光フィルムの一方の面にしか積層されない場合、視認側に積層されることがより好ましい。視認側に積層された保護フィルムは、トリアセチルセルロース系樹脂又はシクロオレフィン系樹脂からなる保護フィルムであることが好ましい。保護フィルムは未延伸フィルムであってもよいし、任意の方向に延伸され位相差を有していてもよい。視認側に積層された保護フィルムの表面にはハードコート層やアンチグレア層などの表面処理層が設けられていてもよい。
保護フィルムが偏光フィルムの両面に積層される場合、パネル側(視認側と反対側)の保護フィルムは、トリアセチルセルロース系樹脂、シクロオレフィン系樹脂又はアクリル系樹脂からなる保護フィルム又は位相差フィルムであることが好ましい。位相差フィルムは後述するゼロレタデーションフィルムであってもよい。
偏光板とパネルとの間には、さらにその他の層又はフィルムが積層されていてもよい。有機ELディスプレイ用の円偏光板として用いる場合は、1/4波長位相差層と1/2波長位相差層とを有する位相差層、後述する逆波長分散性の1/4波長層が積層されていることが好ましい。位相差層は薄膜化の観点から液晶系位相差フィルムであることが好ましい。
A preferred configuration of the polarizing plate is a polarizing plate in which a protective film is laminated on at least one surface of the polarizing film via an adhesive layer. When the protective film is laminated on only one surface of the polarizing film, it is more preferable that the protective film is laminated on the viewing side. The protective film laminated on the viewing side is preferably a protective film made of a triacetyl cellulose resin or a cycloolefin resin. The protective film may be an unstretched film, or may be stretched in any direction and have a phase difference. A surface treatment layer such as a hard coat layer or an anti-glare layer may be provided on the surface of the protective film laminated on the viewing side.
When the protective film is laminated on both sides of the polarizing film, the protective film on the panel side (opposite the viewing side) is preferably a protective film or a retardation film made of a triacetyl cellulose resin, a cycloolefin resin, or an acrylic resin. The retardation film may be a zero retardation film described later.
Between the polarizing plate and the panel, other layers or films may be laminated. When used as a circular polarizing plate for an organic EL display, it is preferable that a retardation layer having a 1/4 wavelength retardation layer and a 1/2 wavelength retardation layer, and a 1/4 wavelength layer having reverse wavelength dispersion described later are laminated. From the viewpoint of thinning, it is preferable that the retardation layer is a liquid crystal retardation film.

集光フィルムは、光路制御等を目的に用いられるもので、プリズムアレイシートやレンズアレイシート、ドット付設シート等であることができる。 Light-collecting films are used for purposes such as controlling the light path, and can be prism array sheets, lens array sheets, dot-attached sheets, etc.

輝度向上フィルムは、偏光板を適用した液晶表示装置における輝度を向上させる目的で使用される。具体的には、屈折率の異方性が互いに異なる薄膜フィルムを複数枚積層して反射率に異方性が生じるように設計された反射型偏光分離シート、コレステリック液晶ポリマーの配向フィルムやその配向液晶層を基材フィルム上に支持した円偏光分離シート等が挙げられる。 Brightness enhancement films are used to improve the brightness of liquid crystal display devices that use polarizing plates. Specific examples include reflective polarizing separation sheets designed to generate anisotropy in reflectance by laminating multiple thin films with different anisotropy in refractive index, and circular polarizing separation sheets in which an oriented film of cholesteric liquid crystal polymer or an oriented liquid crystal layer of the cholesteric liquid crystal polymer is supported on a substrate film.

ウィンドウフィルムとは、フレキシブルディスプレイ等のフレキシブル表示装置における前面板を意味し、一般的には表示装置の最表面に配置される。ウィンドウフィルムは、例えばポリイミド樹脂からなる樹脂フィルムが挙げられる。ウィンドウフィルムは、例えばポリイミド及びシリカを含む樹脂フィルムのような、有機材料と無機材料のハイブリッドフィルムであってもよい。また、ウィンドウフィルムはその表面に、表面硬度や防汚性、耐指紋性を機能付与するためのハードコート層が配置されていてもよい。たとえば、特開2017―94488号記載のフィルム等が挙げられる。 The window film refers to the front panel of a flexible display device such as a flexible display, and is generally placed on the outermost surface of the display device. An example of the window film is a resin film made of polyimide resin. The window film may be a hybrid film of an organic material and an inorganic material, such as a resin film containing polyimide and silica. The window film may also have a hard coat layer on its surface to provide surface hardness, antifouling properties, and fingerprint resistance. For example, the film described in JP 2017-94488 A may be used.

本発明の光学フィルムは、偏光板の保護フィルムとして使用してもよい。
偏光板は、上述のとおり、偏光フィルムの片面又は両面に接着剤層を介して保護フィルムが積層されている。偏光子の両面に保護フィルムが積層されている偏光板においては、偏光子の片面の保護フィルムに本発明の光学フィルムを使用してもよいし、両面の保護フィルムに本発明の光学フィルムを使用してもよい。また、本発明の光学フィルムを偏光板の保護フィルムとして使用した偏光板は、接着剤層又は粘着剤層を介して他の光学フィルムと積層されていてもよい。図2及び図3は、本発明の光学フィルムを偏光板の保護フィルムとして使用した一例である。
The optical film of the present invention may be used as a protective film for a polarizing plate.
As described above, the polarizing plate has a protective film laminated on one or both sides of the polarizing film via an adhesive layer. In a polarizing plate having a protective film laminated on both sides of a polarizer, the optical film of the present invention may be used as the protective film on one side of the polarizer, or the optical film of the present invention may be used as the protective film on both sides. In addition, a polarizing plate using the optical film of the present invention as a protective film of the polarizing plate may be laminated with another optical film via an adhesive layer or a pressure-sensitive adhesive layer. Figures 2 and 3 show an example in which the optical film of the present invention is used as a protective film of a polarizing plate.

接着剤層5は、公知の接着剤から形成される層である。公知の接着剤としては、水系接着剤であってもよいし、活性エネルギー線硬化型接着剤であってもよい。粘着剤層6は、上述した粘着剤から形成された層であってもよいし、他の公知の粘着剤から形成された層であってもよい。 The adhesive layer 5 is a layer formed from a known adhesive. The known adhesive may be a water-based adhesive or an active energy ray curable adhesive. The pressure-sensitive adhesive layer 6 may be a layer formed from the above-mentioned pressure-sensitive adhesive or a layer formed from another known pressure-sensitive adhesive.

保護フィルム4は、公知の熱可塑性樹脂フィルムが挙げられる。保護フィルム4が本発明の光学フィルムであってもよい。 The protective film 4 may be a known thermoplastic resin film. The protective film 4 may be the optical film of the present invention.

本発明の光学フィルムは、液晶表示装置に好適に用いることができる。 The optical film of the present invention can be suitably used in liquid crystal display devices.

以下、実施例及び比較例を示して本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。例中、含有量ないし使用量を表す%及び部は、特に断りのない限り質量基準である。 The present invention will be explained in more detail below with reference to examples and comparative examples, but the present invention is not limited to these examples. In the examples, percentages and parts indicating the content or amount used are based on mass unless otherwise specified.

<光選択吸収性化合物の合成>
[合成例1]光選択吸収化合物(1)の合成

Figure 0007580504000023

ジムロート冷却管、温度計を設置した200mL-四ツ口フラスコ内を窒素雰囲気とし、特許文献(特開2014-194508)を参考に合成した式(aa)で表される化合物10g、無水酢酸(和光純薬工業株式会社製)3.6g、シアノ酢酸2-エチルヘキシル(東京化成工業株式会社製)6.9g、およびアセトニトリル(和光純薬工業株式会社製)60gを仕込み、マグネチックスターラーで撹拌した。内温25℃にてDIPEA(東京化成工業株式会社製)4.5gを滴下漏斗から1時間かけて滴下し、滴下終了後に内温25℃にてさらに2時間保温した。反応終了後、減圧エバポレーターを用いてアセトニトリルを除去し、カラムクロマトグラフィー(シリカゲル)に供して精製し、式(aa1)で表される光選択吸収性化合物(1)を含む流出液を、減圧エバポレーターを用いて溶媒を除去し、黄色結晶を得た。該結晶を60℃減圧乾燥することにより、黄色粉末として光選択吸収性化合物(1)を4.6g得た。収率は50%であった <Synthesis of light selective absorbing compound>
[Synthesis Example 1] Synthesis of light selective absorption compound (1)
Figure 0007580504000023

A 200 mL four-neck flask equipped with a Dimroth condenser and a thermometer was placed in a nitrogen atmosphere, and 10 g of a compound represented by formula (aa) synthesized with reference to a patent document (JP 2014-194508), 3.6 g of acetic anhydride (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), 6.9 g of 2-ethylhexyl cyanoacetate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), and 60 g of acetonitrile (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) were charged and stirred with a magnetic stirrer. At an internal temperature of 25°C, 4.5 g of DIPEA (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was dropped from the dropping funnel over 1 hour, and after the end of the dropwise addition, the internal temperature was kept at 25°C for another 2 hours. After the reaction was completed, acetonitrile was removed using a reduced pressure evaporator, and the mixture was purified by column chromatography (silica gel), and the effluent containing the light-selective absorbing compound (1) represented by formula (aa1) was subjected to reduced pressure evaporator to remove the solvent, and yellow crystals were obtained. The crystals were dried under reduced pressure at 60° C. to obtain 4.6 g of light selective absorbing compound (1) as a yellow powder. The yield was 50%.

H-NMR解析を行ったところ、以下のピークが観測されたことから、光選択吸収性化合物(1)が生成したことが確認された。
H-NMR(CDCl3)δ:0.87-0.94(m、6H)、1.32-1.67(m、8H)、1.59-1.66(m、2H)、2.09(quin、2H)、3.00(m、5H)、3.64(t、2H)、4.10(dd、2H)、5.52(d、2H)、7.87(d、2H)
When 1 H-NMR analysis was carried out, the following peaks were observed, confirming that the light selective absorbing compound (1) was produced.
1 H-NMR (CDCl3) δ: 0.87-0.94 (m, 6H), 1.32-1.67 (m, 8H), 1.59-1.66 (m, 2H), 2.0 9 (quin, 2H), 3.00 (m, 5H), 3.64 (t, 2H), 4.10 (dd, 2H), 5.52 (d, 2H), 7.87 (d, 2H)

<グラム吸光係数ε測定>
得られた光選択吸収性化合物(1)のグラム吸光係数を測定するために、光選択吸収性化合物(1)を2-ブタノンに溶解させた。得られた溶液(濃度;0.007g/L)を1cmの石英セルに入れ、石英セルを分光光度計UV-2450(株式会社島津製作所製)にセットし、ダブルビーム法により1nmステップ300~800nmの波長範囲で吸光度を測定した。得られた吸光度の値と、溶液中の光吸収性化合物濃度、石英セルの光路長から、波長ごとのグラム吸光係数を下記式を用いて算出した。
ε(λ)=A(λ)/CL
〔式中、ε(λ)は波長λnmにおける化合物のグラム吸光係数L/(g・cm)を表し、A(λ)は波長λnmにおける吸光度を表し、Cは濃度g/Lを表し、Lは石英セルの光路長cmを表す。〕
光選択吸収性化合物(1)グラム吸光度係数は、ε(405)の値は47L/(g・cm)であり、ε(440)の値は0.1L/(g・cm)以下であり、ε(405)/ε(440)の値は80以上であった。
<Measurement of Gram Absorption Coefficient ε>
In order to measure the gram absorption coefficient of the obtained light-selective absorbing compound (1), the light-selective absorbing compound (1) was dissolved in 2-butanone. The obtained solution (concentration: 0.007 g/L) was placed in a 1 cm quartz cell, and the quartz cell was set in a spectrophotometer UV-2450 (manufactured by Shimadzu Corporation), and the absorbance was measured in the wavelength range of 300 to 800 nm in 1 nm steps by the double beam method. The gram absorption coefficient for each wavelength was calculated using the following formula from the obtained absorbance value, the concentration of the light-absorbing compound in the solution, and the optical path length of the quartz cell.
ε(λ)=A(λ)/CL
(wherein ε(λ) represents the gram absorption coefficient L/(g cm) of the compound at a wavelength of λ nm, A(λ) represents the absorbance at a wavelength of λ nm, C represents the concentration g/L, and L represents the optical path length cm of the quartz cell.)
The gram absorbance coefficient of the light selective absorbing compound (1) was ε(405) of 47 L/(g cm), ε(440) of 0.1 L/(g cm) or less, and ε(405)/ε(440) of 80 or more.

[合成例2]光選択吸収化合物(1)の合成

Figure 0007580504000024

ジムロート冷却管、温度計を設置した200mL-四ツ口フラスコ内に、窒素雰囲気において、特開2014-194508を参考に合成した式(aa)で表される化合物10g、無水酢酸(和光純薬工業株式会社製)3.6g、シアノ酢酸2-ブチルオクチル(東京化成工業株式会社製)10g、及びアセトニトリル(和光純薬工業株式会社製)60gを仕込み、マグネチックスターラーで撹拌した。内温25℃にてDIPEA(東京化成工業株式会社製)4.5gを、得られた混合物に1時間かけて滴下した後、内温25℃にてさらに2時間保温した。その後、減圧エバポレーターを用いてアセトニトリルを除去し、カラムクロマトグラフィー(シリカゲル)に供して精製し、式(aa2)で表される化合物を含む流出液を、減圧エバポレーターを用いて溶媒を除去し、黄色結晶を得た。該結晶を60℃減圧乾燥することにより、黄色粉末として式(aa2)で表される化合物(光選択吸収化合物(2))を4.6g得た。収率は56%であった。
上記と同じ方法でグラム吸光度係数を求めると、式(aa4)で表される化合物のε(405)の値は45L/(g・cm)であり、ε(420)の値は2.1L/(g・cm)であった。 [Synthesis Example 2] Synthesis of light selective absorption compound (1)
Figure 0007580504000024

In a 200 mL-four-neck flask equipped with a Dimroth condenser and a thermometer, 10 g of the compound represented by formula (aa) synthesized with reference to JP 2014-194508, 3.6 g of acetic anhydride (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), 10 g of 2-butyloctyl cyanoacetate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), and 60 g of acetonitrile (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) were charged in a nitrogen atmosphere and stirred with a magnetic stirrer. At an internal temperature of 25°C, 4.5 g of DIPEA (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was added dropwise to the resulting mixture over 1 hour, and the mixture was then kept at an internal temperature of 25°C for another 2 hours. Thereafter, acetonitrile was removed using a reduced pressure evaporator, and the mixture was purified by column chromatography (silica gel), and the solvent was removed from the effluent containing the compound represented by formula (aa2) using a reduced pressure evaporator to obtain yellow crystals. The crystals were dried under reduced pressure at 60° C. to obtain 4.6 g of a compound represented by formula (aa2) (light selective absorption compound (2)) as a yellow powder. The yield was 56%.
When the gram absorbance coefficient was determined in the same manner as above, the ε(405) value of the compound represented by formula (aa4) was 45 L/(g cm), and the ε(420) value was 2.1 L/(g cm).

<光学フィルムの作製>
[実施例1]光学フィルム(1)の作製
セルローストリアセテート(アセチル置換度:2.87;富士フィルム和光純薬株式会社 商品名「三酢酸セルロース」)と、光選択吸収性化合物(1)(セルローストリアセテート100質量部に対して3質量部)、及び溶媒(メチレンクロライドとエタノールとの混合物、質量比87:13)とからなるセルロースアシレート溶液(固形分濃度:10質量%)をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解した。
得られた溶解物を、アプリケーターを用い、ガラス支持体に均一に流延し、40℃のオーブンで10分間乾燥させたあと、さらに80℃のオーブンで10分乾燥させた。乾燥後、ガラス支持体から光学フィルム(1)を剥離させ、光選択吸収能を有する光学フィルム(1)を得た。乾燥後の光学フィルム(1)の膜厚は30μmであった。
<Preparation of Optical Film>
Example 1 Preparation of Optical Film (1) A cellulose acylate solution (solid concentration: 10% by mass) consisting of cellulose triacetate (acetyl substitution degree: 2.87; Fujifilm Wako Pure Chemical Industries, Ltd., product name "Cellulose triacetate"), light selective absorbing compound (1) (3 parts by mass per 100 parts by mass of cellulose triacetate), and a solvent (a mixture of methylene chloride and ethanol, mass ratio 87:13) was placed in a mixing tank and stirred to dissolve each component.
The obtained solution was uniformly cast onto a glass support using an applicator, dried in an oven at 40° C. for 10 minutes, and then further dried in an oven at 80° C. for 10 minutes. After drying, the optical film (1) was peeled off from the glass support to obtain an optical film (1) having light selective absorption ability. The film thickness of the optical film (1) after drying was 30 μm.

<貯蔵弾性率の測定>
得られた光学フィルム(1)を5mm×30mmの大きさに裁断した。裁断された光選択吸収層(A-1)のその長辺が引張り方向となるように、アイティー計測制御(株)製の動的粘弾性測定装置「DVA-220」を用いてつかみ具の間隔2cmで把持し、引張りと収縮の周波数を10Hz、昇温速度を10℃/分に設定して、温度23℃~200℃における貯蔵弾性率E’を求めた。23℃における貯蔵弾性率E’は4100MPaであった。
<Measurement of storage modulus>
The obtained optical film (1) was cut into a size of 5 mm x 30 mm. The cut light selective absorption layer (A-1) was gripped with a gripping distance of 2 cm using a dynamic viscoelasticity measuring device "DVA-220" manufactured by IT Measurement and Control Co., Ltd. so that the long side of the layer was in the tensile direction, and the storage modulus E' at temperatures of 23°C to 200°C was determined by setting the tensile and contraction frequency to 10 Hz and the heating rate to 10°C/min. The storage modulus E' at 23°C was 4100 MPa.

[実施例2]光学フィルム(2)の作製
セルローストリアセテート(アセチル置換度:2.87;富士フィルム和光純薬株式会社 商品名「三酢酸セルロース」)と、光選択吸収性化合物(2)(セルローストリアセテート100質量部に対して2質量部)、及び溶媒(メチレンクロライドとエタノールとの混合物、質量比90:10)とからなるセルロースアシレート溶液(固形分濃度:5質量%)をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解した。
得られた溶解物を、アプリケーターを用い、ガラス支持体に均一に流延し、40℃のオーブンで10分間乾燥させたあと、さらに80℃のオーブンで10分乾燥させた。乾燥後、ガラス支持体から光学フィルム(2)を剥離させ、光選択吸収能を有する光学フィルム(2)を得た。乾燥後の光学フィルム(2)の膜厚は20μmであった。また、得られた光学フィルム(2)の貯蔵弾性率を上記と同様にして測定したところ、23℃における貯蔵弾性率E’は3800MPaであった。
Example 2 Preparation of Optical Film (2) A cellulose acylate solution (solid concentration: 5% by mass) consisting of cellulose triacetate (acetyl substitution degree: 2.87; Fujifilm Wako Pure Chemical Industries, Ltd., product name "Cellulose triacetate"), light selective absorbing compound (2) (2 parts by mass per 100 parts by mass of cellulose triacetate), and a solvent (a mixture of methylene chloride and ethanol, mass ratio 90:10) was placed in a mixing tank and stirred to dissolve each component.
The obtained solution was uniformly cast onto a glass support using an applicator, dried in an oven at 40° C. for 10 minutes, and then further dried in an oven at 80° C. for 10 minutes. After drying, the optical film (2) was peeled off from the glass support to obtain an optical film (2) having selective light absorption ability. The film thickness of the optical film (2) after drying was 20 μm. The storage modulus of the obtained optical film (2) was measured in the same manner as above, and the storage modulus E' at 23° C. was 3800 MPa.

<(メタ)アクリル系樹脂の合成>
[合成例3]
冷却管、窒素導入管、温度計及び攪拌機を備えた反応容器に、溶媒として酢酸エチル81.8部、単量体としてアクリル酸ブチル70.4部、アクリル酸メチル20.0部、およびアクリル酸2-フェノキシエチル8.0部、アクリル酸2-ヒドロキシエチル1.0部およびアクリル酸0.6部と混合して得られた溶液を仕込んだ。反応容器内の空気を窒素ガスで置換した後、内温を60℃にした。その後、アゾビスイソブチロニトリル0.12部を酢酸エチル10部に溶解させた溶液を添加した。1時間同温度で保持した後、内温を54~56℃に保ちながら、添加速度17.3部/Hrで酢酸エチルを、重合体の濃度がほぼ35%となるように反応容器内へ連続的に加えた。酢酸エチルの添加開始から12時間経過するまで内温を54~56℃に保持した後、酢酸エチルを加えて重合体の濃度が20%となるように調整して、(メタ)アクリル系樹脂の酢酸エチル溶液(1)を得た。(メタ)アクリル系樹脂の重量平均分子量Mwは139万、重量平均分子量Mwと数平均分子量Mnとの比Mw/Mnは5.32であった。
<Synthesis of (meth)acrylic resin>
[Synthesis Example 3]
A reaction vessel equipped with a cooling tube, a nitrogen inlet tube, a thermometer and a stirrer was charged with 81.8 parts of ethyl acetate as a solvent, 70.4 parts of butyl acrylate, 20.0 parts of methyl acrylate as monomers, and 8.0 parts of 2-phenoxyethyl acrylate, 1.0 parts of 2-hydroxyethyl acrylate and 0.6 parts of acrylic acid. The air in the reaction vessel was replaced with nitrogen gas, and the internal temperature was then adjusted to 60°C. Then, a solution in which 0.12 parts of azobisisobutyronitrile was dissolved in 10 parts of ethyl acetate was added. After maintaining the temperature at the same temperature for 1 hour, ethyl acetate was continuously added to the reaction vessel at an addition rate of 17.3 parts/Hr while maintaining the internal temperature at 54-56°C so that the polymer concentration was approximately 35%. The internal temperature was maintained at 54-56°C until 12 hours had elapsed since the start of the addition of ethyl acetate, and then ethyl acetate was added to adjust the polymer concentration to 20%, to obtain an ethyl acetate solution (1) of a (meth)acrylic resin. The (meth)acrylic resin had a weight average molecular weight Mw of 1,390,000, and a ratio Mw/Mn of the weight average molecular weight Mw to the number average molecular weight Mn of 5.32.

なお、重量平均分子量および数平均分子量の測定は、GPC装置にカラムとして「TSK gel XL(東ソー(株)製)」を4本、および「Shodex GPC KF-802(昭和電工(株)製)」を1本、計5本を直列につないで配置し、溶出液としてテトラヒドロフランを用いて、試料濃度5mg/mL、試料導入量100μL、温度40℃、流速1mL/分の条件で行い、標準ポリスチレン換算により算出した。 The weight-average molecular weight and number-average molecular weight were measured using a GPC apparatus with four "TSK gel XL (Tosoh Corporation)" columns and one "Shodex GPC KF-802 (Showa Denko K.K.)" columns connected in series, a total of five columns, and tetrahydrofuran as the eluent under conditions of a sample concentration of 5 mg/mL, a sample introduction amount of 100 μL, a temperature of 40°C, and a flow rate of 1 mL/min, and were calculated in terms of standard polystyrene.

<(メタ)アクリル系樹脂粘着剤組成物(1)の合成>
〔製造例1〕
上記で得られた(メタ)アクリル系樹脂の酢酸エチル溶液(1)(樹脂濃度:20%)に、該溶液の固形分100部に対して、架橋剤(コロネートL、固形分75%:東ソー(株式会社製)0.4部及びシラン化合物(信越化学工業製:KBM-403)0.4部を混合し、さらに固形分濃度が14%となるように酢酸エチルを添加して粘着剤組成物(1)を得た。なお、上記架橋剤の配合量は、有効成分としての質量部数である。
<Synthesis of (meth)acrylic resin pressure-sensitive adhesive composition (1)>
[Production Example 1]
The ethyl acetate solution (1) of the (meth)acrylic resin obtained above (resin concentration: 20%) was mixed with 0.4 parts of a crosslinking agent (Coronate L, solid content 75%: manufactured by Tosoh Corporation) and 0.4 parts of a silane compound (KBM-403 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) per 100 parts of solid content of the solution, and ethyl acetate was further added to give a solid content concentration of 14%, thereby obtaining a pressure-sensitive adhesive composition (1). Note that the blending amount of the crosslinking agent is the number of parts by mass as an active ingredient.

製造例1で使用した架橋剤及びシラン化合物は以下の通りである。
架橋剤:トリレンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体の酢酸エチル溶液(固形分濃度75%)、東ソー株式会社から入手した商品名「コロネートL」。
シラン化合物:3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、信越化学工業株式会社から入手した商品名「KBM403」。
The crosslinking agent and silane compound used in Production Example 1 are as follows.
Crosslinking agent: an ethyl acetate solution (solid content concentration 75%) of a trimethylolpropane adduct of tolylene diisocyanate, trade name "Coronate L" available from Tosoh Corporation.
Silane compound: 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, trade name "KBM403" obtained from Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

<粘着剤層の作製>
〔製造例2〕
製造例1で調製した粘着剤組成物(1)を、離型処理が施されたポリエチレンテレフタレートフィルムからなるセパレートフィルム〔リンテック(株)から入手した商品名「PLR-382190」〕の離型処理面に、アプリケーターを用いて乾燥後の厚みが20μmとなるように塗布し、100℃で1分間乾燥して粘着剤層(1)を作製した。
<Preparation of Adhesive Layer>
[Production Example 2]
The pressure-sensitive adhesive composition (1) prepared in Production Example 1 was applied to a release-treated surface of a separate film made of a release-treated polyethylene terephthalate film (product name "PLR-382190" available from Lintec Corporation) using an applicator so as to give a dry thickness of 20 μm, and then dried at 100° C. for 1 minute to prepare a pressure-sensitive adhesive layer (1).

<(メタ)アクリル系粘着剤組成物(2)の合成>
〔製造例3〕
合成例3で得られた(メタ)アクリル系樹脂の酢酸エチル溶液(1)(樹脂濃度:20%)に、該溶液の固形分100部に対して、架橋剤(コロネートL、固形分75%:東ソー製)0.4部、シラン化合物(信越化学工業製:KBM-403)0.4部、及び合成例1で合成した光選択吸収性化合物(1)2部を混合し、さらに固形分濃度が14%となるように酢酸エチルを添加して粘着剤組成物(2)を得た。なお、上記架橋剤(コロネートL)の配合量は、有効成分としての質量部数である。
<Synthesis of (meth)acrylic pressure-sensitive adhesive composition (2)>
[Production Example 3]
An ethyl acetate solution (1) (resin concentration: 20%) of the (meth)acrylic resin obtained in Synthesis Example 3 was mixed with 0.4 parts of a crosslinking agent (Coronate L, solid content 75%, manufactured by Tosoh), 0.4 parts of a silane compound (KBM-403, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), and 2 parts of the light selective absorbing compound (1) synthesized in Synthesis Example 1 relative to 100 parts of the solid content of the solution, and ethyl acetate was further added to give a solid content concentration of 14%, to obtain a pressure-sensitive adhesive composition (2). The blending amount of the crosslinking agent (Coronate L) is the number of parts by mass as an active ingredient.

<粘着剤層(2)の作製>
上記で調製した粘着剤組成物(2)を、離型処理が施されたポリエチレンテレフタレートフィルムからなるセパレートフィルム〔リンテック(株)から入手した商品名「PLR-382190」〕の離型処理面に、アプリケーターを用いて乾燥後の厚みが20μmとなるように塗布し、100℃で1分間乾燥して粘着剤層(2)を作製した。
<Preparation of Pressure-Sensitive Adhesive Layer (2)>
The pressure-sensitive adhesive composition (2) prepared above was applied to a release-treated surface of a separate film made of a release-treated polyethylene terephthalate film (product name "PLR-382190" available from Lintec Corporation) using an applicator so as to give a dried thickness of 20 μm, and the applied film was dried at 100° C. for 1 minute to prepare a pressure-sensitive adhesive layer (2).

<(メタ)アクリル系粘着剤組成物(3)の合成>
〔製造例4〕
光選択吸収化合物を、光選択吸収化合物(2)に代えた以外は、合成例6と同様にして粘着剤組成物(3)を得た。
得られた粘着剤組成物(3)を、離型処理が施されたポリエチレンテレフタレートフィルムからなるセパレートフィルム〔リンテック(株)から入手した商品名「PLR-382190」〕の離型処理面に、アプリケーターを用いて乾燥後の厚みが20μmとなるように塗布し、100℃で1分間乾燥して粘着剤層(3)を作製した。
<Synthesis of (meth)acrylic pressure-sensitive adhesive composition (3)>
[Production Example 4]
A pressure-sensitive adhesive composition (3) was obtained in the same manner as in Synthesis Example 6, except that the light-selective absorption compound was changed to the light-selective absorption compound (2).
The obtained pressure-sensitive adhesive composition (3) was applied to a release-treated surface of a separate film made of a release-treated polyethylene terephthalate film (product name "PLR-382190" available from Lintec Corporation) using an applicator so that the thickness after drying would be 20 μm, and the coating was dried at 100° C. for 1 minute to prepare a pressure-sensitive adhesive layer (3).

<評価>
(実施例3)
実施例1で得た光学フィルム(1)の片面にコロナ放電処理を施した後、製造例1で製造したアクリル系粘着剤をラミネーターにより貼り合わせた後、温度23℃、相対湿度65%の条件で7日間養生し、粘着剤付き光学フィルムを得た。次いで、粘着剤つき付光学フィルムを30mm×30mmの大きさに裁断し、無アルカリガラス〔コーニング社製の商品名“EAGLE XG”〕に貼合し、サンプルを作製した。作成したサンプルの波長300~800nm範囲の吸光度を、分光光度計(UV-2450:株式会社島津製作所製)を用いて測定した。測定後のサンプルを、耐候性試験機(サンシャインウェザーメーター:スガ試験機株式会社製)に投入し、24時間の耐候性試験を実施した後、取り出したサンプルの吸光度を再度測定した。測定した吸光度から、下記式に基づき、405nmにおけるサンプルの吸光度保持率を求めた。結果を表1に示す。吸光度保持率が100に近い値ほど、光選択吸収機能の劣化がなく良好な耐候性を示す。なお、波長405nm及び波長440nmにおける無アルカリガラスの吸収は、ほぼ0である。
吸光度保持率=耐久試験後のA(405) / 耐久試験前のA(405)×100
<Evaluation>
Example 3
After a corona discharge treatment was performed on one side of the optical film (1) obtained in Example 1, the acrylic adhesive produced in Production Example 1 was laminated using a laminator, and the film was aged for 7 days under conditions of a temperature of 23°C and a relative humidity of 65%, to obtain an optical film with an adhesive. Next, the optical film with the adhesive was cut into a size of 30 mm x 30 mm and laminated to an alkali-free glass (trade name "EAGLE XG" manufactured by Corning Incorporated) to prepare a sample. The absorbance of the prepared sample in the wavelength range of 300 to 800 nm was measured using a spectrophotometer (UV-2450: manufactured by Shimadzu Corporation). The sample after the measurement was placed in a weather resistance tester (Sunshine Weather Meter: manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.) and subjected to a weather resistance test for 24 hours, after which the absorbance of the sample taken out was measured again. From the measured absorbance, the absorbance retention rate of the sample at 405 nm was calculated based on the following formula. The results are shown in Table 1. The closer the absorbance retention rate is to 100, the less the selective light absorption function deteriorates and the better the weather resistance is. Note that the absorption of alkali-free glass at wavelengths of 405 nm and 440 nm is almost zero.
Absorbance retention rate = A(405) after durability test / A(405) before durability test x 100

(実施例4)
光学フィルムを実施例2で得た光学フィルム(2)に代えた以外は、実施例3と同様にして光学フィルム(2)の評価を行った。結果を表1に示す。
Example 4
The optical film (2) was evaluated in the same manner as in Example 3, except that the optical film was replaced with the optical film (2) obtained in Example 2. The results are shown in Table 1.

<比較例1>
厚さ40μmのトリアセチルセルロースフィルム(コニカから入手した商品名“KC4CW”)の片面にコロナ放電処理を施した後、粘着剤層(2)をラミネーターにより貼り合わせたこと以外は、実施例3と同様にして評価を行った。
<Comparative Example 1>
The evaluation was carried out in the same manner as in Example 3, except that a corona discharge treatment was performed on one side of a 40 μm-thick triacetyl cellulose film (trade name "KC4CW" available from Konica) and then the adhesive layer (2) was attached using a laminator.

<比較例2>
厚さ40μmのトリアセチルセルロースフィルム(コニカから入手した商品名“KC4CW”)の片面にコロナ放電処理を施した後、粘着剤層(3)をラミネーターにより貼り合わせたこと以外は、実施例3と同様にして評価を行った。
<Comparative Example 2>
The evaluation was carried out in the same manner as in Example 3, except that a corona discharge treatment was performed on one side of a 40 μm-thick triacetyl cellulose film (trade name "KC4CW" available from Konica) and then the adhesive layer (3) was attached using a laminator.

Figure 0007580504000025
Figure 0007580504000025

本発明の光学フィルムは、波長405nm付近の光吸収能(A(405))良好である。そのため、本発明の光学フィルムを位相差フィルムや有機EL素子に積層すると、本発明の光学フィルムが波長405nm付近の短波長の可視光の光を吸収し、位相差フィルムや有機EL素子に対する短波長の可視光を遮ることができ、短波長の可視光から位相差フィルムや有機EL素子の劣化を抑制することができる。
本発明の光学フィルムは耐候性試験後であっても波長405nm付近の光吸収機能が良好(吸光度保持率が良好)であり、良好な耐候性(耐久性)を有する。そのため、本発明の光学フィルムは、短波長の可視光による位相差フィルム又は有機EL素子の劣化を抑制する機能を維持することができる。また、本発明の光学フィルムは、波長440nm付近における光吸収性能が低く、液晶表示装置の発光を阻害せず、良好な色彩表現をすることが可能である。
The optical film of the present invention has a good light absorption ability (A(405)) at a wavelength of about 405 nm. Therefore, when the optical film of the present invention is laminated on a retardation film or an organic EL element, the optical film of the present invention absorbs short-wavelength visible light at a wavelength of about 405 nm, and can block short-wavelength visible light to the retardation film or the organic EL element, thereby suppressing deterioration of the retardation film or the organic EL element from short-wavelength visible light.
The optical film of the present invention has good light absorption function (good absorbance retention) at a wavelength of about 405 nm even after weather resistance testing, and has good weather resistance (durability). Therefore, the optical film of the present invention can maintain the function of suppressing deterioration of a retardation film or an organic EL element caused by short-wavelength visible light. In addition, the optical film of the present invention has low light absorption performance at a wavelength of about 440 nm, does not inhibit the light emission of a liquid crystal display device, and is capable of good color expression.

本発明の光学フィルムは、液晶パネル及び液晶表示装置に好適に用いられる。 The optical film of the present invention is suitable for use in liquid crystal panels and liquid crystal display devices.

1 本発明の光学フィルム
2 粘着剤層
3 セパレートフィルム
4 保護フィルム
5 接着剤層
6 偏光フィルム
7、7a 粘着剤層
8 保護フィルム
30 発光素子
40 光学フィルム
50、50a 1/4波長位相差層
60 接着剤層
70 1/2波長位相差層
80 ポジティブC層
10 粘着剤層付光学フィルム
100 偏光板
10A、10B、10C、10D 光学積層体
REFERENCE SIGNS LIST 1 Optical film of the present invention 2 Pressure-sensitive adhesive layer 3 Separate film 4 Protective film 5 Adhesive layer 6 Polarizing film 7, 7a Pressure-sensitive adhesive layer 8 Protective film 30 Light-emitting element 40 Optical film 50, 50a 1/4 wavelength retardation layer 60 Adhesive layer 70 1/2 wavelength retardation layer 80 Positive C layer 10 Optical film with pressure-sensitive adhesive layer 100 Polarizing plate 10A, 10B, 10C, 10D Optical laminate

Claims (11)

樹脂(A)及び光選択吸収化合物(B)(但し、前記光選択吸収化合物(B)が、インドール系化合物である場合及びベンゾトリアゾール系化合物である場合を除く。)を含む樹脂組成物から形成される光学フィルムであって、
樹脂(A)は、セルロース系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂及びシクロオレフィン系樹脂からなる群から選ばれる少なくとも1種の樹脂であり、
下記式(1)及び下記式(2’)を満たすことを特徴とする光学フィルム(但し、前記光学フィルムが蛍光増白剤を含む場合を除く。)
A(405)≧0.5 (1)
A(440)≦0.04 (2’)
[式(1)中、A(405)は波長405nmにおける吸光度を表す。
式(2’)中、A(440)は波長440nmにおける吸光度を表す。]
An optical film formed from a resin composition containing a resin (A) and a light selective absorbing compound (B) (excluding cases where the light selective absorbing compound (B) is an indole-based compound or a benzotriazole-based compound),
The resin (A) is at least one resin selected from the group consisting of a cellulose-based resin, a (meth)acrylic-based resin, a polyester-based resin, a polyamide-based resin, a polyimide-based resin, and a cycloolefin-based resin;
An optical film satisfying the following formula (1) and formula (2') (excluding the case where the optical film contains a fluorescent whitening agent) :
A(405)≧0.5 (1)
A(440)≦0.04 (2')
[In formula (1), A(405) represents absorbance at a wavelength of 405 nm.
In formula (2'), A(440) represents absorbance at a wavelength of 440 nm.
下記式(2’’)を満たす請求項1に記載の光学フィルム。
A(440)≦0.03 (2’’)
[式(2’’)中、A(440)は波長440nmにおける吸光度を表す。]
The optical film according to claim 1 , which satisfies the following formula (2″):
A(440)≦0.03 (2'')
[In formula (2″), A(440) represents the absorbance at a wavelength of 440 nm.]
さらに、下記式(3)を満たす請求項1又は2に記載の光学フィルム。
A(405)/A(440)≧5 (3)
[式(3)中、A(405)は波長405nmにおける吸光度を表し、A(440)は波長440nmにおける吸光度を表す。]
The optical film according to claim 1 or 2, further satisfying the following formula (3):
A(405)/A(440)≧5 (3)
[In formula (3), A(405) represents the absorbance at a wavelength of 405 nm, and A(440) represents the absorbance at a wavelength of 440 nm.]
23℃における貯蔵弾性率Eが、100MPa以上である請求項1~3のいずれかに記載の光学フィルム。 The optical film according to any one of claims 1 to 3, which has a storage modulus E at 23°C of 100 MPa or more. 光選択吸収化合物(B)の含有量が、樹脂(A)100質量部に対して、0.01~20質量部である請求項1~4のいずれかに記載の光学フィルム。 The optical film according to any one of claims 1 to 4, wherein the content of the light selective absorbing compound (B) is 0.01 to 20 parts by mass per 100 parts by mass of the resin (A). 光選択吸収化合物(B)が、式(4)を満たす化合物である請求項1~5のいずれかに記載の光学フィルム。
ε(405)≧20 (4)
〔式(5)中、ε(405)は波長405nmにおける化合物のグラム吸光係数を表す。グラム吸光係数の単位はL/(g・cm)である。〕
6. The optical film according to claim 1, wherein the light selective absorption compound (B) is a compound satisfying formula (4).
ε(405)≧20 (4)
(In formula (5), ε(405) represents the gram absorption coefficient of the compound at a wavelength of 405 nm. The unit of the gram absorption coefficient is L/(g cm).)
光選択吸収化合物(B)は、式(5)を満たす化合物である請求項6に記載の光学フィルム。
ε(405)/ε(440)≧20 (5)
[式(6)中、ε(405)は波長405nmにおける化合物のグラム吸光係数を表し、ε(440)は波長440nmにおけるグラム吸光度係数を表す。]
7. The optical film according to claim 6, wherein the light selective absorption compound (B) is a compound satisfying formula (5).
ε(405)/ε(440)≧20 (5)
[In formula (6), ε(405) represents the gram absorbance coefficient of the compound at a wavelength of 405 nm, and ε(440) represents the gram absorbance coefficient at a wavelength of 440 nm.]
光選択吸収化合物(B)が、分子内にメロシアニン構造を有する化合物である請求項1~7のいずれかに記載の光学フィルム。 The optical film according to any one of claims 1 to 7, wherein the light selective absorption compound (B) is a compound having a merocyanine structure in the molecule. 下記式(2’’’)を満たす請求項1に記載の光学フィルム。
A(440)≦0.018 (2’’’)
[式(2’’’)中、A(440)は波長440nmにおける吸光度を表す。]
The optical film according to claim 1 , which satisfies the following formula (2′″):
A(440)≦0.018 (2''')
[In formula (2'''), A(440) represents the absorbance at a wavelength of 440 nm.]
請求項1~9のいずれかに記載の光学フィルムの少なくとも一方の面に、粘着剤層を有する粘着剤付き光学フィルム。 An optical film with adhesive, comprising an optical film according to any one of claims 1 to 9, and an adhesive layer on at least one side of the optical film. 請求項10に記載の粘着剤付き光学フィルムを有する表示装置。 A display device having the adhesive-attached optical film according to claim 10.
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