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JP7583265B2 - Manufacturing method of connector, connector - Google Patents
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Description

本発明は、異方性導電フィルムを利用した接続体の製造方法及び当該接続体に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing a connector using an anisotropic conductive film and to the connector.

従来、スマートフォンやタブレット型コンピュータ等の小型電子機器や大型有機ELテレビ等の大型画像表示装置のディスプレイパネルは、表示部とその周縁の少なくとも一部に配置された配線領域とから構成されている。配線領域には、FPC(フレキシブル印刷回路)基板等の各種電子部品の端子部が異方性導電フィルムを介して異方性導電接続されている。この異方性導電接続の際には、ディスプレイパネルの配線領域に、配線領域の幅と同等程度の幅もしくはそれ以下の幅の異方性導電フィルムを仮貼りし、仮貼りした異方性導電フィルムにFPC基板等の各種電子部品の端子部を位置合わせした後、異方性導電接続処理を行っている(特許文献1)。 Conventionally, the display panels of small electronic devices such as smartphones and tablet computers, and large image display devices such as large organic EL televisions, are composed of a display section and a wiring area arranged at least partially around the periphery of the display section. Terminals of various electronic components such as FPC (flexible printed circuit) boards are anisotropically conductively connected to the wiring area via an anisotropic conductive film. When making this anisotropic conductive connection, an anisotropic conductive film with a width equal to or less than the width of the wiring area is temporarily attached to the wiring area of the display panel, and the terminals of various electronic components such as the FPC board are aligned to the temporarily attached anisotropic conductive film, after which the anisotropic conductive connection process is performed (Patent Document 1).

近年、上述したような小型電子機器や大型画像表示装置のディスプレイパネルにおいては狭額縁化が求められている。このため、パネル周縁の実装領域の幅を今まで以上に狭くすることが試みられ、必然的に実装領域内の配線領域の幅もいっそう狭くすること(例えば、0.6mm以下の幅にすること)も試みられている。相応して、そのような実装領域に仮貼りするための異方性導電フィルムとして、ディスプレイパネルの実装領域の幅と同等程度の幅もしくはそれ以下の幅にスリットしたものを使用することが試みられている。 In recent years, there has been a demand for narrower frames in the display panels of small electronic devices and large image display devices as described above. For this reason, attempts have been made to narrow the width of the mounting area around the periphery of the panel more than ever before, and inevitably, attempts have been made to further narrow the width of the wiring area within the mounting area (for example, to a width of 0.6 mm or less). Accordingly, attempts have been made to use anisotropic conductive films that are slit to a width equivalent to or less than the width of the mounting area of the display panel as a temporary attachment to such mounting areas.

特開2007―90461号JP 2007-90461 A

しかし、異方性導電フィルムをこれまで以上に細い幅(例えば0.6mm以下の幅)にスリットしようとすると、異方性導電フィルムに対しスリット刃が入り難く、切断面が乱れがちとなり、スリット作業の難易度が著しく増大するという問題がある。また、そのように細幅にスリットされた異方性導電フィルムから作成した巻装体から異方性導電フィルムを引き出そうとした場合、ブロッキングなどの引き出し不良が生じ易いという問題もある。このように、ディスプレイパネルの狭額縁化に細幅の異方性導電フィルム及びその巻装体を対応させようとすると、それらの製造難易度が増大するという問題がある。 However, when attempting to slit anisotropic conductive film to narrower widths (for example, widths of 0.6 mm or less), there is a problem that it is difficult for the slitting blade to penetrate the anisotropic conductive film, the cut surface tends to be irregular, and the difficulty of the slitting work increases significantly. In addition, when attempting to pull out anisotropic conductive film from a roll made from anisotropic conductive film that has been slit to such a narrow width, there is a problem that pulling out defects such as blocking are likely to occur. Thus, when attempting to make narrow anisotropic conductive film and its roll compatible with the narrow frame of a display panel, there is a problem that the difficulty of manufacturing them increases.

また、異方性導電フィルムをディスプレイパネルの配線領域に仮貼りする実装装置においては、異方性導電フィルムを、細い幅の配線領域に正確に配置する必要がある。しかし、従前の実装装置の配置精度では、これまで以上に細幅の異方性導電フィルムを、細い幅の配線領域に正確に配置することが困難になることが予想される。そのように困難になると、小型電子機器の狭額縁化したディスプレイパネルに先ず細幅の異方性導電フィルムを仮貼りして異方性導電接続により接続体を製造する際に、製造された接続体の所定の評価項目(導通抵抗、絶縁抵抗、導電粒子捕捉性、接着強度)のいずれか一つでも、その評価結果を実用に適用できないレベルにまで低下させてしまうという問題を引き起こしかねない。そのような問題が引き起こされた場合には、例えば、異方性導電フィルムを用いて異方性導電接続を行う際に、ショートの発生や導電粒子捕捉数の減少等の接続不良が発生してしまうことが懸念される。 In addition, in a mounting device that temporarily attaches an anisotropic conductive film to a wiring area of a display panel, the anisotropic conductive film needs to be accurately positioned in a narrow wiring area. However, it is expected that with the placement accuracy of conventional mounting devices, it will become more difficult to accurately place a narrow anisotropic conductive film in a narrow wiring area than ever before. If it becomes so difficult, when a connection is manufactured by anisotropic conductive connection by first temporarily attaching a narrow anisotropic conductive film to a display panel with a narrow frame of a small electronic device, a problem may occur in which the evaluation result of any one of the specified evaluation items (conductive resistance, insulation resistance, conductive particle capture, adhesive strength) of the manufactured connection is reduced to a level that cannot be applied to practical use. If such a problem occurs, for example, there is a concern that a connection failure such as a short circuit or a decrease in the number of captured conductive particles may occur when an anisotropic conductive connection is made using an anisotropic conductive film.

本発明の目的は、以上の従来技術における問題点を解決しようとするものである。具体的には、FPC基板などの第1電子部品の端子部を、狭額縁化したディスプレイパネルなどの第2電子部品の非常に細い幅(例えば0.6mm以下の幅)の実装領域内の更に細い配線領域に異方性導電フィルムを介して異方性導電接続して接続体を製造する際に、実装領域の幅以下の幅の異方性導電フィルムを使用しなければならないという制約から解放されるようにすることである。そして、異方性導電フィルムの仮貼りを従前の実装装置で実現でき、しかも、製造された接続体の所定の評価項目(導通抵抗、絶縁抵抗、導電粒子捕捉性、接着強度)のいずれについても、評価結果が実用に適用できないレベルに低下してしまうことを回避することである。 The object of the present invention is to solve the problems in the conventional technology. Specifically, when manufacturing a connection by anisotropically conductively connecting the terminal portion of a first electronic component such as an FPC board to an even narrower wiring area within a very narrow (e.g., 0.6 mm or less) mounting area of a second electronic component such as a narrow-framed display panel via an anisotropic conductive film, the object is to free the user from the constraint of having to use an anisotropic conductive film with a width equal to or smaller than the mounting area. The object is also to enable temporary attachment of the anisotropic conductive film using a conventional mounting device, and to prevent the evaluation results of the manufactured connection from being reduced to a level that is not practically applicable for any of the specified evaluation items (conductive resistance, insulation resistance, conductive particle capture, adhesive strength).

本発明者は、「従来技術の問題点が、小型電子機器のディスプレイパネル等の第2電子部品の狭額縁化に伴ってディスプレイパネル等の第2電子部品の細狭化した実装領域に異方性導電フィルムを先ず仮貼りすること、そして、その仮貼りをするための異方性導電フィルムとして、その幅を実装領域の細幅以下にスリットしたものを使用すること、といった技術常識にとらわれていることに起因している」との仮説を立てた。その仮説の下、ディスプレイパネルなどの第2電子部品の実装領域内の配線領域の幅以上の幅の異方性導電フィルムを使用できるようにすれば本発明の目的を達成できる可能性が増大することを見出した。そして、その目的を達成する手段として、異方性導電フィルムをディスプレイパネル等の第2電子部品の細狭化した実装領域に先ず仮貼りするのではなく、FPC基板などの第1電子部品の端子部に先ず仮貼りし、更に、FPC基板などの第1電子部品の端子部と、ディスプレイパネルなどの第2電子部品の実装領域内の配線領域と、それらを異方性導電接続するために使用する異方性導電フィルムとの相互の相対位置関係を所定の関係となるように調整すればよいことを見出し、本発明を完成させるに至った。 The inventor hypothesized that "the problems with the prior art are due to the fact that the prior art is stuck to the common technical knowledge that an anisotropic conductive film must first be temporarily attached to the narrowed mounting area of a second electronic component such as a display panel in a small electronic device as the frame of the second electronic component such as a display panel becomes narrower, and that an anisotropic conductive film for this temporary attachment must be slit to a width equal to or smaller than the narrow width of the mounting area." Based on this hypothesis, the inventor discovered that the possibility of achieving the object of the present invention would increase if it were possible to use an anisotropic conductive film with a width equal to or larger than the width of the wiring area in the mounting area of a second electronic component such as a display panel. As a means of achieving this objective, the inventors discovered that, rather than first temporarily attaching the anisotropic conductive film to the narrowed mounting area of the second electronic component such as a display panel, it is possible to first temporarily attach the anisotropic conductive film to the terminal portion of the first electronic component such as an FPC board, and then adjust the relative positional relationship between the terminal portion of the first electronic component such as an FPC board, the wiring area within the mounting area of the second electronic component such as a display panel, and the anisotropic conductive film used to anisotropically conductively connect them to a predetermined relationship, thereby completing the present invention.

即ち、本発明は、第1電子部品の端子部を第2電子部品の実装領域内の配線領域に異方性導電フィルムを介して異方性導電接続する接続体の製造方法であって、
第1電子部品に、異方性導電フィルムを仮貼りする仮貼り工程と、
第2電子部品の配線領域上に、第1電子部品に仮貼りされた異方性導電フィルムを載置する載置工程と、
第1電子部品側から熱圧着ツールで熱圧着する熱圧着工程とを含み、
異方性導電フィルムは、第2電子部品と第1電子部品との対向面間で挟持される第1領域と、第1領域に隣接し、第1電子部品に対向しているが第2電子部品には対向していない第2領域とを有する、接続体の製造方法を提供する。
That is, the present invention provides a method for manufacturing a connection body in which a terminal portion of a first electronic component is anisotropically conductively connected to a wiring region within a mounting region of a second electronic component via an anisotropic conductive film, the method comprising the steps of:
a temporary attachment step of temporarily attaching an anisotropic conductive film to a first electronic component;
a placing step of placing the anisotropic conductive film temporarily attached to the first electronic component on a wiring region of the second electronic component;
a thermocompression bonding step of thermocompression bonding from the first electronic component side by a thermocompression bonding tool,
The present invention provides a method for manufacturing a connection body, in which an anisotropic conductive film has a first region sandwiched between opposing surfaces of a second electronic component and a first electronic component, and a second region adjacent to the first region, facing the first electronic component but not facing the second electronic component.

また、本発明は、第1電子部品の端子部と第2電子部品の配線領域とが、バインダー樹脂層に導電粒子が含有されてなる導電粒子含有層を有する異方性導電フィルムを介して異方性導電接続されている接続体であって、
前記異方性導電フィルムは、前記第2電子部品と第1電子部品との対向面間に挟持されている第1領域と、第1領域に隣接し、第1電子部品には対向しているが第2電子部品には対向していない第2領域とを備えることを特徴とする接続体を提供する。
The present invention also provides a connection body in which a terminal portion of a first electronic component and a wiring region of a second electronic component are anisotropically conductively connected via an anisotropic conductive film having a conductive particle-containing layer in which conductive particles are contained in a binder resin layer,
The anisotropic conductive film provides a connection body characterized in that it has a first region sandwiched between the opposing surfaces of the second electronic component and the first electronic component, and a second region adjacent to the first region, facing the first electronic component but not facing the second electronic component.

本発明の接続体の製造方法においては、異方性導電フィルムを、FPC基板などの第1電子部品の端子部に仮貼りする。このため、使用する異方性導電フィルムの幅を、ディスプレイパネルなどの第2電子部品の実装領域の幅以下とする必要性から解放される。従って、異方性導電フィルムとして、その幅が第2電子部品の配線領域の幅よりも大きく、安定した異方性導電特性のものを使用することができる。よって、異方性導電フィルムの仮貼りを従前の実装装置で実現することができ、格別に高い配置精度での仮貼りが不要となる。結果的に、製造された接続体の所定の評価項目(導通抵抗、絶縁抵抗、導電粒子捕捉性、接着強度)のいずれについても、評価結果が実用に適用できないレベルにまで低下してしまうことを回避できる。 In the method for manufacturing a connection body of the present invention, an anisotropic conductive film is temporarily attached to the terminal portion of a first electronic component such as an FPC board. This eliminates the need to make the width of the anisotropic conductive film used equal to or smaller than the width of the mounting area of a second electronic component such as a display panel. Therefore, an anisotropic conductive film whose width is greater than the width of the wiring area of the second electronic component and has stable anisotropic conductive properties can be used. Therefore, the anisotropic conductive film can be temporarily attached using a conventional mounting device, and temporary attachment with particularly high placement accuracy is not required. As a result, it is possible to avoid the evaluation results of the manufactured connection body being reduced to a level that cannot be applied to practical use for any of the specified evaluation items (conductive resistance, insulation resistance, conductive particle capture, adhesive strength).

図1は、本発明の接続体の製造方法の仮貼り工程説明図である。FIG. 1 is an explanatory diagram of a temporary attachment step in the manufacturing method of the connection body of the present invention. 図2は、本発明の接続体の製造方法の載置工程説明図である。FIG. 2 is an explanatory diagram of the placement step in the method for producing a connection body of the present invention. 図3は、本発明の接続体の製造方法の熱圧着工程説明図である。FIG. 3 is an explanatory diagram of the thermocompression bonding step in the method for producing a connection body of the present invention. 図4は、本発明の接続体の概略断面図である。FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of a connector of the present invention. 図5は、本発明の接続体の製造方法に適用する異方性導電フィルムの概略断面図である。FIG. 5 is a schematic cross-sectional view of an anisotropic conductive film applied to the method for producing a connection body of the present invention.

本発明は、第1電子部品の端子部を第2電子部品の配線領域に異方性導電フィルムを介して異方性導電接続する接続体の製造方法であり、以下の「仮貼り工程」、「載置工程」及び「熱圧着工程」を有する。以下、本発明の接続体の製造方法について、図面を参照しながら、工程毎に詳細に説明する。 The present invention is a method for manufacturing a connection body that anisotropically conductively connects a terminal portion of a first electronic component to a wiring area of a second electronic component via an anisotropic conductive film, and includes the following "temporary attachment step," "mounting step," and "thermocompression bonding step." Below, the method for manufacturing the connection body of the present invention will be described in detail for each step with reference to the drawings.

(仮貼り工程)
仮貼り工程では、図1に示すように、第1電子部品10に、異方性導電フィルム20を仮貼りする。第1電子部品10において、異方性導電フィルム20を仮貼りする位置は、通常、第1電子部品10の末端に設けている端子部11を被覆する位置であり、第1電子部品10と異方性導電フィルム20とは、後続する載置工程でのアライメントを容易化し、また、異方性導電フィルム20自体の幅を最小化するために、末端端部で面一となっていることが好ましい。また、仮貼りの操作自体は、異方性導電フィルムの仮貼り操作に準じて行うことができる。
(Temporary attachment process)
In the temporary attachment step, as shown in Fig. 1, an anisotropic conductive film 20 is temporarily attached to a first electronic component 10. The position where the anisotropic conductive film 20 is temporarily attached to the first electronic component 10 is usually a position that covers a terminal portion 11 provided at the end of the first electronic component 10, and it is preferable that the first electronic component 10 and the anisotropic conductive film 20 are flush with each other at the end portion in order to facilitate alignment in the subsequent mounting step and to minimize the width of the anisotropic conductive film 20 itself. The temporary attachment operation itself can be performed in accordance with the temporary attachment operation of an anisotropic conductive film.

(第1電子部品10)
第1電子部品10としては、好ましくは、公知のCOF(チップオンフィルム)基板などのFPC基板等を適用することができる。なお、硬質なガラス基板やガラスエポキシ基板なども、本発明の効果を損なわない限り、使用することができる。また、端子部11としては、Au、Ag、Cu、Ni、Ti、AL、Sn、Mo等の金属やこれらを組み合わせた金属合金、もしくはITOなどの金属酸化物等の端子素材から形成したものを適用することできる。
(First electronic component 10)
As the first electronic component 10, it is preferable to use an FPC board such as a known COF (chip on film) board. Note that hard glass boards and glass epoxy boards can also be used as long as they do not impair the effects of the present invention. In addition, as the terminal portion 11, it is possible to use a terminal material such as a metal such as Au, Ag, Cu, Ni, Ti, Al, Sn, Mo, or a metal alloy combining these metals, or a metal oxide such as ITO.

(異方性導電フィルム20)
異方性導電フィルム20は、バインダー樹脂層21に導電粒子22が2次元的又は3次元的にランダム又は規則的(例えば、六方格子状、正方格子状等の格子状)に配置されている構造の導電粒子含有層23を有する。導電粒子がランダムに配置されている場合には、異方性導電フィルム20の製造操作を簡略化することができる(例えば、バインダー樹脂に導電粒子を混練して分散させ、分散物を成膜すればよい)。導電粒子が規則的に配置されている場合には、導電粒子の使用量を減少させて、異方性導電フィルムの製造コストを削減することができ、ショートの発生を抑制することもできる。
(Anisotropic Conductive Film 20)
The anisotropic conductive film 20 has a conductive particle-containing layer 23 having a structure in which conductive particles 22 are arranged two-dimensionally or three-dimensionally randomly or regularly (for example, in a lattice pattern such as a hexagonal lattice pattern or a square lattice pattern) in a binder resin layer 21. When the conductive particles are arranged randomly, the manufacturing operation of the anisotropic conductive film 20 can be simplified (for example, by kneading and dispersing the conductive particles in the binder resin and forming a film of the dispersion). When the conductive particles are arranged regularly, the amount of conductive particles used can be reduced, reducing the manufacturing cost of the anisotropic conductive film and also suppressing the occurrence of short circuits.

バインダー樹脂層21及び導電粒子22は、それぞれ、公知の異方性導電フィルムの導電粒子含有層を構成するバインダー樹脂層及び導電粒子と同様の構成とすることができる。たとえばバインダー樹脂層としては、アクリル系樹脂組成物層、エポキシ系樹脂組成物層などが挙げられる。バインダー樹脂層21の層厚は、好ましくは1μm以上10μm以下である。また、導電粒子としては、ニッケル粒子、ハンダ粒子等の金属または合金粒子や、公知の樹脂粒子をニッケルなどの金属で被覆した金属被覆樹脂粒子を挙げることができる。導電粒子の平均粒子径は、好ましくは1μm以上10μm以下である。このような導電粒子22は、その表面が絶縁処理されていてもよい。 The binder resin layer 21 and the conductive particles 22 can be configured in the same manner as the binder resin layer and the conductive particles that constitute the conductive particle-containing layer of a known anisotropic conductive film. For example, the binder resin layer can be an acrylic resin composition layer or an epoxy resin composition layer. The layer thickness of the binder resin layer 21 is preferably 1 μm or more and 10 μm or less. In addition, the conductive particles can be metal or alloy particles such as nickel particles and solder particles, or metal-coated resin particles in which known resin particles are coated with a metal such as nickel. The average particle diameter of the conductive particles is preferably 1 μm or more and 10 μm or less. The surfaces of such conductive particles 22 may be insulated.

また、バインダー樹脂層21中の導電粒子22の個数密度は、好ましくは1000~500000個/mmである。導電粒子22の個数密度をこの範囲とすることにより、接続端子に必要な数の導電粒子22の捕捉数を提供することが可能となる。この個数密度はフィルム平面視で光学顕微鏡を用いて観察して求めることができる。 The number density of the conductive particles 22 in the binder resin layer 21 is preferably 1,000 to 500,000 particles/ mm2 . By setting the number density of the conductive particles 22 within this range, it is possible to provide the necessary number of captured conductive particles 22 for a connection terminal. This number density can be determined by observing the film in a plan view using an optical microscope.

異方性導電フィルム20は、導電粒子含有層23のみで構成されていてもよいが、図5に示すように、絶縁性樹脂層24が更に積層された構造を有するものを使用することが好ましい。当然に、この絶縁性樹脂層24は導電粒子を含有していない層である。この場合、導電粒子含有層23は、異方性導電接続時に導電粒子が不要に樹脂流動してしまうことを抑制する点から、絶縁性樹脂層24よりも高い溶融粘度を示すことが好ましい。 The anisotropic conductive film 20 may be composed of only the conductive particle-containing layer 23, but it is preferable to use a structure in which an insulating resin layer 24 is further laminated, as shown in FIG. 5. Naturally, this insulating resin layer 24 is a layer that does not contain conductive particles. In this case, it is preferable that the conductive particle-containing layer 23 exhibits a higher melt viscosity than the insulating resin layer 24 in order to suppress unnecessary resin flow of the conductive particles during anisotropic conductive connection.

なお、異方性導電フィルム20においては、導電粒子22がバインダー樹脂層21の片面に導電粒子22が偏在していることが好ましい。片面に偏在していると、後述する第2電子部品の配線領域に導電粒子が接触しやすくなり、異方性導電接続時に導通信頼性を良好なものとすることが容易となる。偏在の程度としては、異方性導電フィルム20のバインダー樹脂層21の該片面から導電粒子22までの距離をDとし、バインダー樹脂層21の層厚をLaとしたとき、距離Dの層厚Laに対する比率(%)[(D/La)×100]が、好ましくは-5%以上40%以下、より好ましくは-5%以上15%以下、特に好ましくは-5%以上5%以下である。比率が40%を超えると、異方性導電接続時に導電粒子22が位置ズレしやすくなり、異方性導電接続時に第1電子部品の端子部と後述する第2電子部品の配線領域との間で捕捉される導電粒子数が減少する。また比率が-5%未満になると(バインダー樹脂層から導電粒子が露出する程度が大きくなると)、絶縁性樹脂層24が導電粒子22を覆えなくなり、接着能力の低下等、異方性導電フィルム20の特性が損なわれることが懸念される。特に好ましい偏在の程度としては、導電粒子22がバインダー樹脂層21と面一になっていることである。 In the anisotropic conductive film 20, it is preferable that the conductive particles 22 are unevenly distributed on one side of the binder resin layer 21. If the conductive particles are unevenly distributed on one side, the conductive particles are more likely to come into contact with the wiring area of the second electronic component described later, and it is easier to improve the reliability of conduction during anisotropic conductive connection. As for the degree of uneven distribution, when the distance from the one side of the binder resin layer 21 of the anisotropic conductive film 20 to the conductive particles 22 is D and the layer thickness of the binder resin layer 21 is La, the ratio (%) of the distance D to the layer thickness La [(D/La) x 100] is preferably -5% or more and 40% or less, more preferably -5% or more and 15% or less, and particularly preferably -5% or more and 5% or less. If the ratio exceeds 40%, the conductive particles 22 are more likely to be displaced during anisotropic conductive connection, and the number of conductive particles captured between the terminal portion of the first electronic component and the wiring area of the second electronic component described later during anisotropic conductive connection decreases. Furthermore, if the ratio falls below -5% (if the conductive particles are exposed to a large extent from the binder resin layer), the insulating resin layer 24 will no longer be able to cover the conductive particles 22, and there is concern that the properties of the anisotropic conductive film 20, such as a decrease in adhesive ability, will be impaired. A particularly preferable degree of uneven distribution is that the conductive particles 22 are flush with the binder resin layer 21.

なお、本仮貼り工程において、異方性導電フィルムを第1電子部品に仮貼りする際に、導電粒子が偏在していない側から仮貼りを行うことが好ましい。これにより、後述する第2電子部品の配線領域に導電粒子を接触させやすくなり、異方性導電接続時に導通信頼性を良好なものとすることが容易となる。 In addition, in this temporary attachment process, when the anisotropic conductive film is temporarily attached to the first electronic component, it is preferable to perform the temporary attachment from the side where the conductive particles are not unevenly distributed. This makes it easier to bring the conductive particles into contact with the wiring area of the second electronic component described below, making it easier to improve the conductivity reliability when making an anisotropic conductive connection.

また、異方性導電フィルム20が、図5のように絶縁性樹脂層24を有する場合、本仮貼り工程において、異方性導電フィルムを第1電子部品に仮貼りする際に、絶縁性樹脂層24側が第1電子部品10側に位置するように行うことが好ましい。これは、異方性導電接続の際に導電粒子含有層23が絶縁性樹脂層24の後に加圧されることから導電粒子22の不要な移動を抑制することになり、ショートや捕捉粒子数の低下を回避することができる。 In addition, when the anisotropic conductive film 20 has an insulating resin layer 24 as shown in FIG. 5, it is preferable to temporarily attach the anisotropic conductive film to the first electronic component in this temporary attachment process so that the insulating resin layer 24 side is located on the first electronic component 10 side. This is because the conductive particle-containing layer 23 is pressurized after the insulating resin layer 24 during anisotropic conductive connection, which suppresses unnecessary movement of the conductive particles 22 and prevents short circuits and a decrease in the number of captured particles.

(載置工程)
載置工程では、図2に示すように、仮貼り工程の後、第2電子部品30の実装領域30a内の配線領域31上に、第1電子部品10に仮貼りされた異方性導電フィルム20を載置する。この載置工程で異方性導電フィルム20を載置する際には、第2電子部品30と第1電子部品10との対向面間で挟持される第1領域20Xと、第1領域20Xに隣接し、第1電子部品10に対向しているが第2電子部品30には対向していない第2領域20Yとが形成されるようにアライメントを行う。このように異方性導電フィルム20を構成すると、仮に第2電子部品30の配線領域31が非常に細幅であっても、異方性導電フィルム20の幅を配線領域31の幅よりも大きくすることができる。アライメントは公知のアライメント装置やアライメント機構を用いて行うことができる。なお、第1領域20Xと第2領域20Yとが「隣接」しているとは、第2領域20Yが第1領域20Xから途切れなく連続して延設されていることである。
(Placement process)
In the placing step, as shown in Fig. 2, after the temporary attachment step, the anisotropic conductive film 20 temporarily attached to the first electronic component 10 is placed on the wiring region 31 in the mounting region 30a of the second electronic component 30. When placing the anisotropic conductive film 20 in this placing step, alignment is performed so that a first region 20X is sandwiched between the opposing surfaces of the second electronic component 30 and the first electronic component 10, and a second region 20Y is adjacent to the first region 20X and faces the first electronic component 10 but does not face the second electronic component 30. When the anisotropic conductive film 20 is configured in this manner, even if the wiring region 31 of the second electronic component 30 is very narrow, the width of the anisotropic conductive film 20 can be made larger than the width of the wiring region 31. The alignment can be performed using a known alignment device or alignment mechanism. The first region 20X and the second region 20Y being "adjacent" means that the second region 20Y extends continuously and uninterrupted from the first region 20X.

(第2電子部品30)
第2電子部品30としては、好ましくは、ガラス基板や光学樹脂を使用した液晶表示パネル等の各種画像表示パネルを例示することができる。実装領域30aは、第2電子部品30の周縁(額縁)の少なくとも一部に形成されている領域であり、第1電子部品10との異方性導電接続が行われる領域である。そしてその内側には、Au、Ag、Cu、Ni、Ti、AL、Sn、Mo等の金属やこれらを組み合わせた金属合金、もしくはITOなどの金属酸化物等の端子素材から形成した配線領域31が形成されている。
(Second Electronic Component 30)
The second electronic component 30 may preferably be, for example, various image display panels such as a liquid crystal display panel using a glass substrate or an optical resin. The mounting area 30a is an area formed on at least a part of the periphery (frame) of the second electronic component 30, and is an area where anisotropic conductive connection with the first electronic component 10 is made. Inside the mounting area 30a, a wiring area 31 is formed from a terminal material such as a metal such as Au, Ag, Cu, Ni, Ti, Al, Sn, Mo, or a metal alloy combining these metals, or a metal oxide such as ITO.

(熱圧着工程)
熱圧着工程は本硬化工程に相当する。図3に示すように、この工程では、第1電子部品10側から熱圧着ツール40で加熱しながら矢印の方向に熱圧着し、異方性導電フィルム10の第1領域20Xを、第2電子部品30の配線領域31に熱圧着する。この熱圧着の際に、熱圧着ツール40と第1電子部品10の間に公知の緩衝材(例えば50μm厚のテフロン(登録商標)シート)を介在させてもよい。この際、異方性導電フィルム20の第2領域20Yは熱圧着ツール40では熱圧着されない。本熱圧着工程を経て、本発明の一部である、図4の接続体100が得られる。この接続体100は、第1電子部品10の端子部11と第2電子部品30の配線領域31とが、バインダー樹脂層21に導電粒子22が含有されてなる導電粒子含有層23を有する異方性導電フィルム20を介して異方性導電接続されている構造を有している。この接続体100は、異方性導電フィルム20が、第2電子部品30と第1電子部品10との対向面間に挟持されている第1領域20Xと、第1領域20Xに隣接し、第1電子部品10には対向しているが第2電子部品30には対向していない第2領域20Yとを備えるように構成されている。
(Thermocompression bonding process)
The thermocompression bonding process corresponds to the main curing process. As shown in FIG. 3, in this process, the first electronic component 10 is heated by a thermocompression bonding tool 40 in the direction of the arrow, and the first region 20X of the anisotropic conductive film 10 is thermocompressed to the wiring region 31 of the second electronic component 30. During this thermocompression bonding, a known buffer material (e.g., a Teflon (registered trademark) sheet having a thickness of 50 μm) may be interposed between the thermocompression bonding tool 40 and the first electronic component 10. At this time, the second region 20Y of the anisotropic conductive film 20 is not thermocompressed by the thermocompression bonding tool 40. Through this thermocompression bonding process, the connection body 100 of FIG. 4, which is a part of the present invention, is obtained. This connection body 100 has a structure in which the terminal portion 11 of the first electronic component 10 and the wiring region 31 of the second electronic component 30 are anisotropically conductively connected via the anisotropic conductive film 20 having a conductive particle-containing layer 23 in which conductive particles 22 are contained in the binder resin layer 21. This connection body 100 is configured such that the anisotropic conductive film 20 has a first region 20X that is sandwiched between the opposing surfaces of the second electronic component 30 and the first electronic component 10, and a second region 20Y that is adjacent to the first region 20X and faces the first electronic component 10 but not the second electronic component 30.

なお、この熱圧着工程において、第1電子部品10と第2電子部品30と異方性導電フィルム(ACF)20との間の関係は図3に示す以下の(イ)~(ヘ)の指標(幅)で表すことができる。 In this thermocompression bonding process, the relationship between the first electronic component 10, the second electronic component 30, and the anisotropic conductive film (ACF) 20 can be expressed by the following indices (widths) (a) to (f) shown in Figure 3.

(イ)実装幅:
ディスプレイパネル等の第2電子部品の額縁の幅であり、特に限定されないが、ディスプレイパネルなどの第2電子部品の狭額縁化に対応して1mm以下が好ましく、0.2mm又はそれ以下の場合も想定される。
(ロ)配線領域幅:
実装幅内に設けられている配線領域の幅であり、配線領域幅は、実装幅より大きくなることはない。ディスプレイパネルなどの第2電子部品の狭額縁化に対応して実装幅は1mm以下が好ましいことから、0.1mm以上であることが好ましい。
(ハ)ACFの第1領域幅:
第1電子部品と第2電子部品との対向面間に挟持され、熱圧着ツールで熱圧着される領域の幅(オーバーラップ幅)であり、第1領域幅は実装幅以下であるが、ACF幅の25%以上が好ましい。
(ニ)熱圧着ツール位置:
実装領域の内側端(表示部エッジ)からの距離であり、この数値が負であると、熱圧着ツールがディスプレイ部に及んでいることを示す。実装領域幅の0%以上100%未満であるが、好ましくは5%以上70%以下である。
(ホ)熱圧着ツール幅:
熱圧着ツール幅は、実装幅の好ましくは0.8倍以上3倍以下である。ツールの片当たりを防ぎつつ、異方性導電フィルムの第1領域の硬化反応を促進させるためである。他方、異方性導電フィルム幅よりも大きくすることが好ましい。第2領域の異方性導電フィルムの硬化反応も促進させるためである。
(ヘ)ACFの第2領域幅:
第1電子部品には対向しているが第2電子部品には対向していないACFの領域の幅であり、ツール幅以下であることが好ましい。第2領域のACFの硬化反応率を増大させるためである。第2領域は、接続強度を十分に得るために、異方性導電フィルム幅の75%以下が好ましい。更にフィルムの硬化反応率を一定以上に高くすることが求められ、実用上60%以上であることが好ましく、80%以上であることがより好ましい。硬化反応率は、一般的なIR法で完全硬化物と未硬化物との各ピーク強度を元に、各評価用接続体の熱圧着されていないACFの第2領域を測定部位として算出することができる。硬化反応率測定部位であるACFの第2領域においては、重心点付近を測定することが代表値として好ましい。
(a) Mounting width:
This is the width of the frame of the second electronic component such as a display panel, and is not particularly limited, but is preferably 1 mm or less in response to the narrowing of the frames of the second electronic component such as a display panel, and cases of 0.2 mm or less are also envisioned.
(b) Wiring area width:
The width of the wiring area is the width of the wiring area provided within the mounting width, and the wiring area width is not larger than the mounting width. Since the mounting width is preferably 1 mm or less in response to narrower frames of second electronic components such as display panels, the width of the wiring area is preferably 0.1 mm or more.
(C) ACF first region width:
This is the width (overlap width) of the area that is sandwiched between the opposing surfaces of the first electronic component and the second electronic component and is thermocompression bonded by a thermocompression bonding tool. The first area width is equal to or smaller than the mounting width, but is preferably equal to or larger than 25% of the ACF width.
(D) Thermocompression tool position:
It is the distance from the inner edge of the mounting area (the edge of the display section), and if this value is negative, it indicates that the thermocompression bonding tool extends to the display section. It is 0% or more and less than 100% of the mounting area width, but preferably 5% or more and 70% or less.
(E) Thermocompression tool width:
The width of the thermocompression bonding tool is preferably 0.8 to 3 times the mounting width, in order to promote the curing reaction of the first region of the anisotropic conductive film while preventing the tool from contacting on one side. On the other hand, it is preferable that the width is larger than the width of the anisotropic conductive film, in order to promote the curing reaction of the anisotropic conductive film in the second region.
(F) ACF second region width:
The width of the region of the ACF facing the first electronic component but not facing the second electronic component, and is preferably equal to or less than the tool width. This is to increase the curing reaction rate of the ACF in the second region. In order to obtain sufficient connection strength, the second region is preferably equal to or less than 75% of the width of the anisotropic conductive film. Furthermore, it is required to increase the curing reaction rate of the film to a certain level, and in practical terms, it is preferably 60% or more, and more preferably 80% or more. The curing reaction rate can be calculated based on the peak intensities of the completely cured product and the uncured product in a general IR method, with the second region of the ACF that is not thermocompression-bonded of each evaluation connection body as the measurement site. In the second region of the ACF, which is the curing reaction rate measurement site, it is preferable to measure the vicinity of the center of gravity as a representative value.

このようにして得られる接続体は、FPC基板などの第1電子部品の端子部を、狭額縁化したディスプレイパネルなどの第2電子部品の非常に細い幅(例えば0.6mm以下)の実装領域内の更に細い配線領域に異方性導電フィルムを介して異方性導電接続して接続体を製造する際に、実装領域の幅以下の幅の異方性導電フィルムを使用する必要性から解放され、また、異方性導電フィルムの仮貼りを(格別に高い配置精度ではない)従前の実装装置で実現できる。結果的に、製造された接続体の所定の評価項目(導通抵抗、絶縁抵抗、導電粒子捕捉性、接着強度)のいずれについても、評価結果を実用上問題のないレベルにすることができる。 The connection obtained in this way eliminates the need to use an anisotropic conductive film with a width equal to or smaller than the width of the mounting area when manufacturing a connection by anisotropically conductively connecting the terminal portion of a first electronic component such as an FPC board to an even narrower wiring area within a very narrow (e.g., 0.6 mm or less) mounting area of a second electronic component such as a narrow-framed display panel via an anisotropic conductive film, and also makes it possible to temporarily attach the anisotropic conductive film using a conventional mounting device (which does not require particularly high placement accuracy). As a result, the evaluation results for all of the specified evaluation items (conductive resistance, insulation resistance, conductive particle capture, adhesive strength) of the manufactured connection can be made to a level that is practically problem-free.

以下、本発明を実施例により具体的に説明する。 The present invention will now be described in more detail with reference to examples.

実施例1~10、比較例1~6
(1)異方性導電フィルムの作成
(a)バインダー樹脂層の作成
フェノキシ樹脂(YP-50、日鉄ケミカル&マテリアル(株))40質量部、シリカフィラ(アエロジルR805、日本アエロジル(株))25質量部、液状エポキシ樹脂(iER828、三菱化学(株))30質量部、シランカップリング剤(KBM-403、信越化学工業(株))2質量部、及び熱カチオン重合開始剤(SI-60L、三新化学工業(株))3質量部からなるバインダー樹脂層形成用組成物を、バーコーターでフィルム厚さ50μmのPETフィルム上に塗布し、80℃のオーブンにて5分間乾燥させ、PETフィルム上に5μmの厚さのバインダー樹脂層を形成した。但し、実施例8ではPETフィルム上に10μmの厚さのバインダー樹脂層を形成した。
Examples 1 to 10, Comparative Examples 1 to 6
(1) Preparation of anisotropic conductive film (a) Preparation of binder resin layer A binder resin layer forming composition consisting of 40 parts by mass of phenoxy resin (YP-50, Nippon Steel Chemical & Material Co., Ltd.), 25 parts by mass of silica filler (Aerosil R805, Nippon Aerosil Co., Ltd.), 30 parts by mass of liquid epoxy resin (iER828, Mitsubishi Chemical Co., Ltd.), 2 parts by mass of silane coupling agent (KBM-403, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), and 3 parts by mass of thermal cationic polymerization initiator (SI-60L, Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.) was applied onto a PET film having a film thickness of 50 μm with a bar coater, and dried in an oven at 80 ° C. for 5 minutes to form a binder resin layer having a thickness of 5 μm on the PET film. However, in Example 8, a binder resin layer having a thickness of 10 μm was formed on the PET film.

(b)導電粒子転写型の作成
導電粒子の配列を平面視で正方格子配列とし、実施例10については導電粒子の個数密度が6000個/mm、実施例1、2、4及び6~8並びに比較例1及び3~5については12000個/mm、実施例3、5及び9並びに比較例2については16000個/mm、比較例6については20000個/mmなるように、凸部パターンを形成した金型を作製した。金型に公知の透明性樹脂のペレットを溶融させた状態で該金型に流し込み、冷やして固めることで、正方格子配列パターンを有する導電粒子転写型を作成した。
(b) Preparation of a Conductive Particle Transfer Mold A mold was prepared in which a convex pattern was formed so that the conductive particles were arranged in a square lattice arrangement in a plan view, and the number density of the conductive particles was 6,000 particles/mm 2 for Example 10, 12,000 particles/mm 2 for Examples 1, 2, 4, and 6 to 8 and Comparative Examples 1 and 3 to 5, 16,000 particles/mm 2 for Examples 3, 5, and 9 and Comparative Example 2 , and 20,000 particles/mm 2 for Comparative Example 6. A conductive particle transfer mold having a square lattice arrangement pattern was prepared by pouring pellets of a known transparent resin in a molten state into the mold and cooling and solidifying it.

(c)導電粒子含有層の作成
導電粒子として、金属被覆樹脂粒子(積水化学工業(株)、AUL703、平均粒子径3μm)を用意し、この導電粒子を導電粒子転写型の凹みに充填し、その上に上述のバインダー樹脂を被せ、60℃、0.5MPaで熱圧着することで貼着させた。そして、導電粒子転写型からバインダー樹脂層を剥離し、バインダー樹脂層上の導電粒子を、加圧(熱圧着条件:60~70℃、0.5MPa)することでバインダー樹脂層に押し込むことにより導電粒子含有層を作成した。この導電粒子含有層は、単層の異方性導電フィルムとして機能することができるものであった。なお、導電粒子の埋め込みの程度(バインダー樹脂層の層厚Laと、その表面から導電粒子までの距離Dとの比率)は、実施例1~7及び比較例1~5の場合0%であり(換言すれば、導電粒子がバインダー樹脂層の片面に面一になって、偏在している状態)、実施例8~10及び比較例6の場合は40%であった。なお、使用した金属被覆樹脂粒子のCV値はFPIA-3000(マルバーン社)を用いて、粒子個数1000個以上で測定したところ20%以下であった。
(c) Preparation of a conductive particle-containing layer Metal-coated resin particles (Sekisui Chemical Co., Ltd., AUL703, average particle diameter 3 μm) were prepared as conductive particles, and these conductive particles were filled into the recesses of the conductive particle transfer mold, and the above-mentioned binder resin was placed on top of them and attached by thermocompression at 60° C. and 0.5 MPa. The binder resin layer was then peeled off from the conductive particle transfer mold, and the conductive particles on the binder resin layer were pressed into the binder resin layer by applying pressure (thermocompression bonding conditions: 60 to 70° C., 0.5 MPa) to prepare a conductive particle-containing layer. This conductive particle-containing layer was capable of functioning as a single-layer anisotropic conductive film. The embedding degree of the conductive particles (the ratio between the layer thickness La of the binder resin layer and the distance D from its surface to the conductive particles) was 0% in the cases of Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 5 (in other words, the conductive particles were unevenly distributed flush with one side of the binder resin layer), and 40% in the cases of Examples 8 to 10 and Comparative Example 6. The CV value of the metal-coated resin particles used was 20% or less when measured with an FPIA-3000 (Malvern Instruments) with 1000 or more particles.

(d)絶縁性樹脂層の形成
フェノキシ樹脂(YP-50、日鉄ケミカル&マテリアル(株))40質量部、シリカフィラ(アエロジルR805、日本アエロジル(株))5質量部、液状エポキシ樹脂(iER828、三菱化学(株))50質量部、シランカップリング剤(KBM-403、信越化学工業(株))2質量部、及び熱カチオン重合開始剤(SI-60L、三新化学工業(株))3質量部からなる絶縁性樹脂層形成用組成物を、バーコーターでフィルム厚さ50μmのPETフィルム上に塗布し、80℃のオーブンにて5分間乾燥させ、PETフィルム上に5μmの厚さの絶縁性樹脂層を形成した。
(d) Formation of Insulating Resin Layer A composition for forming an insulating resin layer, consisting of 40 parts by mass of phenoxy resin (YP-50, Nippon Steel Chemical & Material Co., Ltd.), 5 parts by mass of silica filler (Aerosil R805, Nippon Aerosil Co., Ltd.), 50 parts by mass of liquid epoxy resin (iER828, Mitsubishi Chemical Co., Ltd.), 2 parts by mass of a silane coupling agent (KBM-403, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), and 3 parts by mass of a thermal cationic polymerization initiator (SI-60L, Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.), was applied onto a PET film having a film thickness of 50 μm with a bar coater, and dried in an oven at 80 ° C. for 5 minutes to form an insulating resin layer having a thickness of 5 μm on the PET film.

(e)導電粒子含有層と絶縁性樹脂層との積層
実施例1~7及び比較例1~5については、導電粒子含有層の導電粒子が偏在していない面に絶縁性樹脂層を常法により積層することにより、2層構造の異方性導電フィルムを得た。実施例9~10及び比較例6については、導電粒子含有層の導電粒子が偏在している面に絶縁性樹脂層を常法により積層することにより、2層構造の異方性導電フィルムを得た。これらの異方性導電フィルムを以下の接続体の製造に適用した。なお、実施例8については、絶縁性樹脂層を積層せず、バインダー樹脂層単層で接続体の製造に適用した。
(e) Lamination of a conductive particle-containing layer and an insulating resin layer In Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 5, an insulating resin layer was laminated by a conventional method on the surface of the conductive particle-containing layer where the conductive particles were not unevenly distributed, thereby obtaining an anisotropic conductive film having a two-layer structure. In Examples 9 to 10 and Comparative Example 6, an insulating resin layer was laminated by a conventional method on the surface of the conductive particle-containing layer where the conductive particles were unevenly distributed, thereby obtaining an anisotropic conductive film having a two-layer structure. These anisotropic conductive films were applied to the manufacture of the following connection body. In Example 8, an insulating resin layer was not laminated, and a single binder resin layer was applied to the manufacture of a connection body.

(2)接続体の製造
(a)構成材料の準備
接続体製造用に、以下の異方性導電フィルム、FPC基板及びガラス基板を用意した。
*異方性導電フィルム
作成した異方性導電フィルムを、スリッターで0.6mm幅にスリットしたものを使用した。
*FPC基板
評価用FPC基板として、ポリイミドフィルム(38μmt-S’perflex基材)上に端子ピッチ(L/S=1/1)が20μmのCu配線(8μmt-Snメッキ)が設けられたものを準備した。
*ガラス基板
評価用ガラス基板として、ITOパターンガラス基板(コーニング社製)を準備した。このガラス基板の外形は30mm×50mmであり、厚みは0.5mmであり、FPC基板が異方性導電接続されるべき額縁部分に対応する実装領域の幅は0.5mmであり、実装領域内には、Ti/AL配線(厚み0.3μm)が設けられていた。
(2) Manufacturing of a Connection Body (a) Preparation of Constituent Materials The following anisotropic conductive film, FPC board, and glass board were prepared for manufacturing a connection body.
*Anisotropic conductive film The anisotropic conductive film thus prepared was slit into a width of 0.6 mm using a slitter and used.
*FPC Board An FPC board for evaluation was prepared by providing Cu wiring (8 μm t-Sn plating) with a terminal pitch (L/S=1/1) of 20 μm on a polyimide film (38 μm t-S'perflex base material).
*Glass substrate An ITO pattern glass substrate (manufactured by Corning) was prepared as a glass substrate for evaluation. The outer dimensions of this glass substrate were 30 mm × 50 mm, the thickness was 0.5 mm, the width of the mounting area corresponding to the frame portion where the FPC substrate was to be anisotropically conductively connected was 0.5 mm, and Ti/Al wiring (thickness 0.3 μm) was provided within the mounting area.

(b)仮貼り工程、載置工程及び熱圧着工程の実施
実装ステージ上に配置された評価用FPC基板の端子部に、実施例1~7及び10並びに比較例1~6の異方性導電フィルムを絶縁性樹脂層側から仮貼りし、実施例9の異方性導電フィルムを導電粒子含有層側から仮貼りし、実施例8の異方性導電フィルムを直接仮貼りした。仮貼りされた異方性導電フィルムを、ガラス基板の実装領域上にアライメントして載置し、異方性導電フィルム上から熱圧着ツールで加熱加圧(180℃、3.5MPa、6秒、熱圧着ツールの下降速度10mm/sec、ステージ温度40℃)することにより接続体を得た。
(b) Implementation of the temporary attachment step, the placing step, and the thermocompression bonding step The anisotropic conductive films of Examples 1 to 7 and 10 and Comparative Examples 1 to 6 were temporarily attached to the terminal parts of the evaluation FPC board arranged on the mounting stage from the insulating resin layer side, the anisotropic conductive film of Example 9 was temporarily attached from the conductive particle-containing layer side, and the anisotropic conductive film of Example 8 was directly temporarily attached. The temporarily attached anisotropic conductive films were aligned and placed on the mounting area of the glass substrate, and a thermocompression tool was used to apply heat and pressure from above the anisotropic conductive film (180° C., 3.5 MPa, 6 seconds, thermocompression tool descending speed 10 mm/sec, stage temperature 40° C.) to obtain a connection body.

なお、熱圧着を行う際、図3に示すように、異方性導電フィルム20、第1電子部品としてのFPC基板10及び第2電子部品としてのガラス基板30の相互間の位置関係「(イ)実装幅、(ロ)配線領域幅、(ハ)ACFの第1領域幅、(ニ)熱圧着ツール位置、(ホ)熱圧着ツール幅、及び(ヘ)ACFの第2領域幅」が表1に特定されるように行った。 When performing the thermocompression bonding, as shown in FIG. 3, the positional relationship between the anisotropic conductive film 20, the FPC board 10 as the first electronic component, and the glass board 30 as the second electronic component "(a) mounting width, (b) wiring area width, (c) first area width of the ACF, (d) thermocompression tool position, (e) thermocompression tool width, and (f) second area width of the ACF" was as specified in Table 1.

(3)接続体の評価
得られた接続体について、以下に説明する「ACFの第2領域の硬化反応率」、「導通抵抗」、「絶縁抵抗」、「粒子捕捉性」及び「接着強度」を試験評価し、総合判定を行った。評価結果・総合判定結果を表1に示す。
(3) Evaluation of the Connection The connection obtained was evaluated and comprehensively judged for the following "curing reaction rate of the second region of the ACF,""conductivityresistance,""insulationresistance,""particle capture ability," and "adhesive strength." The evaluation results and comprehensive judgment results are shown in Table 1.

(a)ACFの第2領域の硬化反応率
評価用接続体におけるACFの第2領域(即ち、熱圧着されていない領域)の硬化反応率を評価した。具体的には、IR法で完全硬化物と未硬化物のそれぞれのピーク強度を元に各評価用接続物におけるACFの第2領域の硬化反応率を算出する。硬化反応率の評価は、次の基準で行った。
(a) Curing reaction rate of the second region of the ACF The curing reaction rate of the second region of the ACF in the evaluation connection (i.e., the region not thermocompressed) was evaluated. Specifically, the curing reaction rate of the second region of the ACF in each evaluation connection was calculated based on the peak intensity of the fully cured material and the uncured material by the IR method. The curing reaction rate was evaluated according to the following criteria.

(ACFの第2領域の硬化反応率の評価基準)
A(好ましい):80%以上
B(問題なし):60%以上80%未満
C(不可):60%未満
(Evaluation Criteria for Curing Reaction Rate of the Second Region of ACF)
A (Good): 80% or more B (No problem): 60% or more but less than 80% C (Not good): Less than 60%

(b)導通抵抗
各評価用接続体の導通抵抗を評価した。具体的には、デジタルマルチメータ(品番:デジタルマルチメータ7555、横河電機株式会社製)を用いて4端子法にて電流1mAを流したときの抵抗値を測定した。導通抵抗の評価は、次の基準で行った。
(b) Conduction Resistance The conduction resistance of each evaluation connection was evaluated. Specifically, a digital multimeter (product number: Digital Multimeter 7555, manufactured by Yokogawa Electric Corporation) was used to measure the resistance value when a current of 1 mA was applied by the four-terminal method. The conduction resistance was evaluated according to the following criteria.

(導通抵抗評価基準)
A(好ましい):2Ω未満
B(問題なし):2Ω以上4Ω以下
C(不可):4Ωより大
(Conductive resistance evaluation criteria)
A (Good): Less than 2Ω B (No problem): 2Ω to 4Ω C (Not good): More than 4Ω

(c)絶縁抵抗
各評価用接続体の絶縁抵抗を評価した。具体的には、ハイレジスタンスメータ(品番:ハイレジスタンスメータ4339B、アジレント・テクノロジー社製)を用いて2端子法にて印加電圧25Vとしたときの、隣接ライン間の抵抗を測定した。絶縁抵抗の評価は、次の基準で行った。
(c) Insulation Resistance The insulation resistance of each evaluation connection was evaluated. Specifically, the resistance between adjacent lines was measured using a high resistance meter (product number: High Resistance Meter 4339B, manufactured by Agilent Technologies) by the two-terminal method when an applied voltage of 25 V was set. The insulation resistance was evaluated according to the following criteria.

(絶縁抵抗評価基準)
AA(より好ましい):1012Ω以上
A(好ましい):1011Ω以上1012Ω未満
B(問題なし):109Ω以上1011Ω未満
C(不可):109Ω未満
(Insulation resistance evaluation criteria)
AA (more preferable): 10 12 Ω or more A (preferable): 10 11 Ω or more and less than 10 12 Ω B (no problem): 10 9 Ω or more and less than 10 11 Ω C (not acceptable): less than 10 9 Ω

(d)粒子捕捉性(最小接続面積)
粒子捕捉については最小接続面積(5個以上の導電粒子が捕捉されている端子の面積)を見積もることで評価した。具体的には、X方向にライン状に配線形成したTEGを用いた。圧痕を光学顕微鏡にてカウントし、横軸:接続面積、縦軸:捕捉数とする検量線を作成することで、見積もった。
(d) Particle capture (minimum connection area)
Particle capture was evaluated by estimating the minimum connection area (the area of a terminal where five or more conductive particles are captured). Specifically, a TEG with linear wiring formed in the X direction was used. The indentations were counted using an optical microscope, and a calibration curve was created with the horizontal axis representing the connection area and the vertical axis representing the number of captured particles.

(粒子捕捉性評価基準)
A(好ましい):200μm以上1000μm未満
B(問題なし):1000μm以上2000μm以下
C(不可):2000μmより大
(Particle Capture Evaluation Criteria)
A (preferable): 200 μm2 or more and less than 1000 μm2 B (no problem): 1000 μm2 or more and 2000 μm2 or less C (not acceptable): more than 2000 μm2

(e)接着強度
各評価用接続体の接着強度を評価した。具体的には、引張試験機(RTC1201株式会社エー・アンド・デイ)を用いて測定した。評価用FPC基板を幅1cmにカットし、評価用ガラス基板から評価用FPC基板を、50mm/秒の速度で90度方向に引き上げ、引き剥がしに要した力を接着強度(N/cm)とし測定した。
接着強度の評価は、次の基準で行った。
(e) Adhesive strength The adhesive strength of each evaluation connection was evaluated. Specifically, it was measured using a tensile tester (RTC 1201 , A&D Co., Ltd. ). The evaluation FPC board was cut to a width of 1 cm, and the evaluation FPC board was pulled up in a 90 degree direction from the evaluation glass board at a speed of 50 mm/sec. The force required for peeling was measured as adhesive strength (N /cm ).
The adhesive strength was evaluated according to the following criteria.

(接着強度評価基準)
A(好ましい):8N/cmより大
B(問題なし):5N/cm以上8N/cm以下
C(不可):5N/cmより小
(Adhesive Strength Evaluation Criteria)
A (preferable): greater than 8N /cm B (no problem): 5N /cm to 8N /cm C (not acceptable): less than 5N /cm

Figure 0007583265000001
Figure 0007583265000001

[評価結果の考察]
表1の結果から、実施例1~10の接続体は、ACFの第2領域の硬化反応率、導通抵抗、絶縁抵抗、粒子捕捉性、接着強度の各評価項目について、良好な結果を示した。特に、実施例3の場合、ガラス基板の配線領域幅が0.1mmの細幅であっても、製造された接続体の導通抵抗、絶縁抵抗、導電粒子捕捉性、接着強度のいずれも、評価結果は実用上問題のないレベルとなることがわかった。
[Discussion of evaluation results]
From the results in Table 1, the connections of Examples 1 to 10 showed good results in each evaluation item of the curing reaction rate of the second region of the ACF, the conduction resistance, the insulation resistance, the particle capture property, and the adhesive strength. In particular, in the case of Example 3, even if the wiring region width of the glass substrate is as narrow as 0.1 mm, it was found that the evaluation results of the conduction resistance, the insulation resistance, the conductive particle capture property, and the adhesive strength of the manufactured connection were all at a level that would not cause any practical problems.

比較例1の接続体は、導通抵抗が“C”評価であった。実施例4との比較により、ACFの第1領域幅の割合が少なくACFの第2領域幅の割合が多いことが原因と思われる。比較例1と実施例4の結果の比較により、異方性導電フィルムの全幅に対する異方性導電フィルムの第1領域幅の割合が25%以上(異方性導電フィルムの第2領域幅の割合が75%未満)である方が好ましいことがわかった。 The connection body of Comparative Example 1 was rated "C" for electrical resistance. Comparing with Example 4, this is thought to be due to the small proportion of the ACF first region width and the large proportion of the ACF second region width. Comparing the results of Comparative Example 1 and Example 4, it was found that it is preferable for the proportion of the ACF first region width to the total width of the anisotropic conductive film to be 25% or more (the proportion of the ACF second region width to be less than 75%).

比較例2の接続体は、導通抵抗が“C”評価であった。熱圧着ツール位置が表示部エッジから離れすぎていることが原因と思われる。比較例2と実施例5の結果の比較により、熱圧着ツール位置は70%以下である方が好ましいことがわかった。 The connection in Comparative Example 2 was rated "C" for conduction resistance. This is believed to be due to the thermocompression tool position being too far from the edge of the display. Comparing the results of Comparative Example 2 and Example 5, it was found that a thermocompression tool position of 70% or less is preferable.

比較例3では接続体を製造することができなかった。熱圧着ツール幅が、実装幅の約4倍の幅があるため、熱圧着ツールの底面がFPC基板に面接触せずに片当たりを起こしていることが原因と思われる。比較例3と実施例6の結果の比較により、熱圧着ツール幅は、実装幅の3倍以下であることが好ましいことがわかった。 In Comparative Example 3, it was not possible to produce a connection body. This is thought to be because the width of the thermocompression bonding tool was about four times the mounting width, and the bottom surface of the thermocompression bonding tool made a one-sided contact with the FPC board without making surface contact. Comparing the results of Comparative Example 3 and Example 6, it was found that it is preferable for the thermocompression bonding tool width to be three times the mounting width or less.

比較例4の条件で製造した接続体は、接着強度の評価項目について問題があった。実装幅0.1mmでありガラス基板と異方性導電フィルムの接着幅が減少したことで接続強度が低下したことが原因と思われる。比較例4と実施例7の結果の比較により、実装幅0.2mm以上であれば、接着強度に問題が生じないことがわかった。 The connection body manufactured under the conditions of Comparative Example 4 had problems with the evaluation item of adhesive strength. This was thought to be due to the mounting width of 0.1 mm, which reduced the adhesive width between the glass substrate and the anisotropic conductive film, resulting in a decrease in connection strength. Comparing the results of Comparative Example 4 and Example 7, it was found that there were no problems with adhesive strength if the mounting width was 0.2 mm or more.

比較例5の条件では接続体を製造することができなかった。熱圧着ツール位置が、-10%の負の値であり、熱圧着ツールがディスプレイ部に接触し、底面がFPC基板に面接触せずに片当たりを起こしていることが原因と思われる。 Under the conditions of Comparative Example 5, it was not possible to produce a connection. This is thought to be because the thermocompression bonding tool position was a negative value of -10%, and the thermocompression bonding tool came into contact with the display section, causing the bottom surface to make partial contact with the FPC board without making surface contact.

比較例6の条件で製造した接続体は、絶縁抵抗の評価項目について問題があった。比較例6の異方性導電フィルムは、導電粒子の個数密度が20000個/mmであり導電粒子が密になりすぎたことが原因と思われる。比較例6と実施例9、10の結果の比較により、導電粒子の個数密度が6000個/mm以上16000個/mm以下であれば、絶縁抵抗に問題が生じないことがわかった。 The connection body manufactured under the conditions of Comparative Example 6 had a problem with the evaluation item of insulation resistance. The anisotropic conductive film of Comparative Example 6 had a conductive particle number density of 20,000 particles/ mm2, which is thought to be the cause of the problem because the conductive particles were too dense. Comparing the results of Comparative Example 6 with those of Examples 9 and 10, it was found that no problem occurs in insulation resistance if the conductive particle number density is 6,000 particles/mm2 or more and 16,000 particles/mm2 or less .

本発明の接続体の製造方法においては、異方性導電フィルムを、FPC基板などの第1電子部品の端子部に仮貼りする。このため、使用する異方性導電フィルムの幅を、ディスプレイパネルなどの第2電子部品の実装領域の幅以下とする必要性から解放される。従って、異方性導電フィルムとして、その幅が第2電子部品の配線領域の幅よりも大きく、安定した異方性導電特性のものを使用することができる。よって、異方性導電フィルムの仮貼りを従前の実装装置で実現することができ、格別に高い配置精度での仮貼りが不要となる。このように、新規実装装置の導入を不要とするだけでなく、従前の実装装置の大幅な改修も回避することができる。結果的に、製造された接続体の所定の評価項目(導通抵抗、絶縁抵抗、導電粒子捕捉性、接着強度)のいずれについても、評価結果が実用に適用できないレベルにまで低下してしまうことを回避できる。従って、本発明の接続体の製造方法は、ディスプレイパネルなどの第2電子部品の細幅に形成された実装領域にFPC基板などの第1電子部品の端子部を異方性導電接続する際に有用である。 In the method for manufacturing a connection body of the present invention, an anisotropic conductive film is temporarily attached to a terminal portion of a first electronic component such as an FPC board. This eliminates the need to make the width of the anisotropic conductive film used equal to or less than the width of the mounting area of a second electronic component such as a display panel. Therefore, an anisotropic conductive film whose width is greater than the width of the wiring area of the second electronic component and has stable anisotropic conductive properties can be used. Therefore, the anisotropic conductive film can be temporarily attached using a conventional mounting device, and temporary attachment with particularly high placement accuracy is not required. In this way, not only is it unnecessary to introduce a new mounting device, but it is also possible to avoid significant modifications to the conventional mounting device. As a result, it is possible to avoid the evaluation results of the specified evaluation items (conductive resistance, insulation resistance, conductive particle capture, adhesive strength) of the manufactured connection body being reduced to a level that cannot be practically applied. Therefore, the method for manufacturing a connection body of the present invention is useful when anisotropically conductively connecting the terminal portion of a first electronic component such as an FPC board to a narrow-width mounting area of a second electronic component such as a display panel.

10 第1電子部品
11 端子部
20 異方性導電フィルム
20X 第1領域
20Y 第2領域
21 バインダー樹脂層
22 導電粒子
23 導電粒子含有層
24 絶縁性樹脂層
30 第2電子部品(例えば、ディスプレイパネル)
30a 実装領域
31 配線領域
40 熱圧着ツール
100 接続体
D 異方性導電フィルムのバインダー樹脂層の片面から導電粒子までの距離
La バインダー樹脂層の層厚
(イ) 実装幅
(ロ) 配線領域幅
(ハ) 異方性導電フィルムの第1領域幅
(ニ) 熱圧着ツール位置
(ホ) 熱圧着ツール幅
(ヘ) 異方性導電フィルムの第2領域幅
REFERENCE SIGNS LIST 10 First electronic component 11 Terminal portion 20 Anisotropic conductive film 20X First region 20Y Second region 21 Binder resin layer 22 Conductive particles 23 Conductive particle-containing layer 24 Insulating resin layer 30 Second electronic component (e.g., display panel)
30a Mounting area 31 Wiring area 40 Thermocompression bonding tool 100 Connection body D Distance La from one side of the binder resin layer of the anisotropic conductive film to the conductive particles Layer thickness of the binder resin layer (a) Mounting width (b) Wiring area width (c) First area width of the anisotropic conductive film (d) Thermocompression bonding tool position (e) Thermocompression bonding tool width (f) Second area width of the anisotropic conductive film

Claims (14)

第1電子部品の端子部を第2電子部品の実装領域内の配線領域に異方性導電フィルムを介して異方性導電接続する接続体の製造方法であって、
第1電子部品に、異方性導電フィルムを仮貼りする仮貼り工程と、
第2電子部品の配線領域上に、第1電子部品に仮貼りされた異方性導電フィルムを載置する載置工程と、
第1電子部品側から熱圧着ツールで熱圧着する熱圧着工程とを含み、ここで、熱圧着ツール位置は実装領域幅の5%以上70%以下であり、
異方性導電フィルムは、バインダー樹脂層とそれに含有されている導電粒子とからなる導電粒子含有層を有し、前記導電粒子含有層において前記導電粒子が規則的に配置され、前記導電粒子がバインダー樹脂層の片面に偏在し且つ第2電子部品側に対向する側の導電粒子含有層の片面側に偏在しており、
異方性導電フィルムは、第2電子部品と第1電子部品との対向面間で挟持される第1領域と、第1領域に隣接し、第1電子部品に対向しているが第2電子部品には対向していない第2領域とを有し、
実装幅が1mm以下であり、配線領域幅が0.1mm以上であり、第1領域幅が実装幅以下で異方性導電フィルム幅の25%以上である、接続体の製造方法。
A method for manufacturing a connection body in which a terminal portion of a first electronic component is anisotropically conductively connected to a wiring region within a mounting region of a second electronic component via an anisotropic conductive film, the method comprising the steps of:
a temporary attachment step of temporarily attaching an anisotropic conductive film to a first electronic component;
a placing step of placing the anisotropic conductive film temporarily attached to the first electronic component on a wiring region of the second electronic component;
a thermocompression bonding step of thermocompression bonding from the first electronic component side with a thermocompression bonding tool, wherein the position of the thermocompression bonding tool is 5% or more and 70% or less of the mounting area width,
the anisotropic conductive film has a conductive particle-containing layer including a binder resin layer and conductive particles contained therein, the conductive particles being regularly arranged in the conductive particle-containing layer, the conductive particles being unevenly distributed on one side of the binder resin layer and on one side of the conductive particle-containing layer facing a second electronic component,
the anisotropic conductive film has a first region sandwiched between opposing surfaces of the second electronic component and the first electronic component, and a second region adjacent to the first region and facing the first electronic component but not facing the second electronic component ;
A method for manufacturing a connection body, wherein the mounting width is 1 mm or less, the wiring region width is 0.1 mm or more, and the first region width is less than the mounting width and is 25% or more of the anisotropic conductive film width .
第2領域幅が異方性導電フィルム幅の75%以上である請求項1記載の製造方法。2. The method according to claim 1, wherein the width of the second region is 75% or more of the width of the anisotropic conductive film. 熱圧着によりフィルムの硬化反応率が60%以上となる請求項1又は2記載の製造方法。3. The method according to claim 1, wherein the curing reaction rate of the film is 60% or more by thermocompression bonding. 仮貼り工程において、第1電子部品と異方性導電フィルムが末端端部で面一となっている請求項1~3のいずれかに記載の製造方法。The method according to any one of claims 1 to 3, wherein in the temporary attachment step, the first electronic component and the anisotropic conductive film are flush with each other at their terminal ends. 載置工程において、第1電子部品に仮貼りされた異方性導電フィルムの第1領域の第2電子部品の配線領域へのアライメントを行う請求項1~4のいずれかに記載の製造方法。 5. The manufacturing method according to claim 1, wherein in the placing step, a first region of the anisotropic conductive film temporarily attached to the first electronic component is aligned with a wiring region of the second electronic component. 異方性導電フィルムの導電粒子含有層のバインダー樹脂層の該片面から導電粒子までの距離をDとし、バインダー樹脂層の層厚をLaとしたとき、距離Dの層厚Laに対する比率(%)[(D/La)×100]が、-5%以上40%以下である請求項1~5のいずれかに記載の製造方法。 6. The manufacturing method according to claim 1, wherein, when a distance from one surface of the binder resin layer in the conductive particle-containing layer of the anisotropic conductive film to the conductive particles is D and a layer thickness of the binder resin layer is La, a ratio (%) of the distance D to the layer thickness La [(D/La) x 100] is -5% or more and 40% or less . 前記比率が-5%以上5%以下である請求項6記載の製造方法。The method according to claim 6, wherein the ratio is −5% or more and 5% or less. 前記仮貼り工程において、前記異方性導電フィルムを第1電子部品に仮貼りする際に、導電粒子が偏在していない側から仮貼りを行う請求項1~7のいずれかに記載の製造方法。 The manufacturing method according to any one of claims 1 to 7, wherein in the temporary attachment step, when the anisotropic conductive film is temporarily attached to the first electronic component, the temporary attachment is performed from a side on which conductive particles are not unevenly distributed. 前記異方性導電フィルムとして、導電粒子含有層に、絶縁性樹脂層が更に積層された構造を有するものを使用する請求項1~8のいずれかに記載の製造方法。 The method according to any one of claims 1 to 8 , wherein the anisotropic conductive film has a structure in which an insulating resin layer is further laminated on a conductive particle-containing layer. 前記仮貼り工程において、前記異方性導電フィルムを第1電子部品に仮貼りする際に、絶縁性樹脂層側が第1電子部品側に位置するように仮貼りを行う請求項記載の製造方法。 The manufacturing method according to claim 9 , wherein in the temporary attachment step, the anisotropic conductive film is temporarily attached to the first electronic component such that the insulating resin layer side is positioned on the first electronic component side. 前記熱圧着ツールの幅は、異方性導電フィルムの幅よりも大である請求項1~10のいずれかに記載の製造方法。 The manufacturing method according to any one of claims 1 to 10 , wherein the width of the thermocompression bonding tool is greater than the width of the anisotropic conductive film. 前記熱圧着ツール幅は、第2電子部品の実装幅の0.8倍以上3倍以下である請求項1~11のいずれかに記載の製造方法。 12. The method according to claim 1, wherein the width of the thermocompression bonding tool is 0.8 to 3 times the mounting width of the second electronic component. 前記第1電子部品がFPC基板であり、前記第2電子部品がディスプレイパネルである請求項1~12のいずれかに記載の製造方法。 13. The manufacturing method according to claim 1, wherein the first electronic component is an FPC board, and the second electronic component is a display panel. 第1電子部品の端子部と第2電子部品の実装領域内の配線領域とが、バインダー樹脂層に導電粒子が含有されてなる導電粒子含有層を有する異方性導電フィルムであって、前記導電粒子含有層において前記導電粒子が規則的に配置され、前記導電粒子がバインダー樹脂層の片面に偏在し且つ第2電子部品側に対向する側の導電粒子含有層の片面側に偏在している異方性導電フィルムを介して異方性導電接続されている接続体であって、
前記異方性導電フィルムは、前記第2電子部品と第1電子部品との対向面間に挟持されている第1領域と、第1領域に隣接し、第1電子部品には対向しているが第2電子部品には対向していない第2領域とをえ、
実装幅が1mm以下であり、配線領域幅が0.1mm以上であり、第1領域幅が実装幅以下で異方性導電フィルムの幅の25%以上である、接続体。
A connection body in which a terminal portion of a first electronic component and a wiring region within a mounting region of a second electronic component are anisotropically conductively connected via an anisotropic conductive film having a conductive particle-containing layer in which conductive particles are contained in a binder resin layer, the conductive particles being regularly arranged in the conductive particle-containing layer, the conductive particles being unevenly distributed on one side of the binder resin layer and unevenly distributed on one side of the conductive particle-containing layer facing the second electronic component ,
the anisotropic conductive film includes a first region sandwiched between opposing surfaces of the second electronic component and the first electronic component, and a second region adjacent to the first region, facing the first electronic component but not facing the second electronic component ;
A connection body having a mounting width of 1 mm or less, a wiring region width of 0.1 mm or more, and a first region width of less than the mounting width and greater than 25% of the width of the anisotropic conductive film.
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