JP7599202B2 - ジメチルシリル基を有する有機ケイ素化合物の製造方法 - Google Patents
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Description
そのため、取り扱いの容易な前駆体からジメチルシランを発生させ、同一の反応容器内で目的とする反応に用いる手法が開発されている。例えば、Oestreichらは、触媒量のトリス(ペンタフルオロフェニル)ボランの存在下で、シクロヘキサ-2,5-ジエン-1-イルジメチルシランからジメチルシランを発生させ、これを用いたアルケンのヒドロシリル化やアルコールとの脱水素縮合を報告している(例えば、特許文献1、非特許文献1参照)。しかしながら、シクロヘキサ-2,5-ジエン-1-イルジメチルシランの合成には、自然発火性物質であるアルキルリチウムを使用しなければならないという問題がある。加えて、末端アルケンの一種であるスチレンを基質に用いた場合には、発生させたジメチルシランとスチレンが1対2で反応した生成物のみが得られ、1対1で反応した生成物を得ることはできない。
一方、安定で取り扱いの容易な液体である1,1,3,3,5,5,7,7-オクタメチルテトラシロキサンは、触媒量のトリス(ペンタフルオロフェニル)ボランの存在下で不均化反応を起こし、ジメチルシランとヘキサメチルシクロトリシロキサンを生じることが知られている(特許文献2、非特許文献2参照)。しかしながら、この不均化反応は平衡反応であり、発生させたジメチルシランを同一の反応容器内で別の合成反応に用いた例は知られていない。
即ち、本発明は以下を含む。
<1>下記式(B-1)または(B-2)で表されるジメチルシリル基を有する有機ケイ素化合物を製造する方法であって、
トリス(ペンタフルオロフェニル)ボラン、および、下記式(A)で表される化合物の存在下、1,1,3,3,5,5,7,7-オクタメチルテトラシロキサンから不均化反応によりジメチルシランを生じさせる工程であって、前記ジメチルシランが前記式(A)で表される化合物をヒドロシリル化し、式(B)で表されるジメチルシリル基を有する有機ケイ素化合物を生成する工程を含む、製造方法に関する:
<2>上記<1>に記載の製造方法であって、前記不均化反応および前記ヒドロシリル化反応が同一の反応容器内で行われることを特徴とする。
また、本発明の製造方法の一実施の形態は、
<3>上記<1>または<2>に記載の製造方法であって、
前記工程により得られたジメチルシリル基を有する有機ケイ素化合物を精製する工程をさらに含むことを特徴とする。
<4>トリス(ペンタフルオロフェニル)ボランを触媒として使用する方法であって、
アルケンと1,1,3,3,5,5,7,7-オクタメチルテトラシロキサンとを用いてジメチルシリル基を有する有機ケイ素化合物を製造する方法において、トリス(ペンタフルオロフェニル)ボランを触媒として使用する方法に関する。
本発明の一態様であるジメチルシリル基を有する有機ケイ素化合物の製造方法は、トリス(ペンタフルオロフェニル)ボランの存在下、1,1,3,3,5,5,7,7-オクタメチルテトラシロキサンの不均化反応によって発生させたジメチルシランが、下記式(A)で表されるアルケンをヒドロシリル化することで下記式(B-1)~(B-2)で表されるジメチルシリル基を有する有機ケイ素化合物を生成する反応工程を含むことを特徴とする。
本発明のジメチルシリル基を有する有機ケイ素化合物の製造方法は、好ましい実施の形態において、1,1,3,3,5,5,7,7-オクタメチルテトラシロキサンの不均化反応によって発生させたジメチルシランを、不均化反応と同一の反応容器内で上記式(A)で表されるアルケンをヒドロシリル化させる。同じ触媒を用いることができることから同一の反応容器内で不均化反応とヒドロシリル化を行うことで、取り扱いが困難であるジメチルシランを直接用いることなく、より簡便にジメチルシリル基を有する有機ケイ素化合物を製造することができる。
反応工程は、通常、溶媒中で行う。反応工程に用いられる溶媒の種類は、酸素原子や窒素原子を含んでいない溶媒が適している。ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、トリフルオロメチルベンゼン等の炭化水素系溶媒;ジクロロメタン、クロロホルム、1,2-ジクロロエタン、o-ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素系溶媒等が挙げられる。
反応工程の反応温度は、通常-20℃以上、好ましくは0℃以上、より好ましくは20℃以上であり、通常70℃以下、好ましくは50℃以下、より好ましくは30℃以下である。前記範囲内であると、より効率良くジメチルシリル基を有する有機ケイ素化合物を生成することができる。
反応工程の反応時間は、通常1時間以上、好ましくは2時間以上、より好ましくは6時間以上であり、通常72時間以下、好ましくは48時間以下、より好ましくは24時間以下である。
反応工程は、通常窒素、アルゴン等の不活性雰囲気下で行う。
本実施形態に係るジメチルシリル基を有する有機ケイ素化合物の製造方法においては、上記反応工程の他、任意の工程を含んでいてもよい。任意の工程としては、ジメチルシリル基を有する有機ケイ素化合物の純度を高めるための精製工程が挙げられる。精製工程においては、ろ過、吸着、カラムクロマトグラフィー、蒸留等の有機合成分野で通常行われる精製方法を採用することができる。具体的には、反応工程後、例えば、反応混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することができる。
なお、R1~R3は、「式(A)で表されるアルケン」のものと同義である。
窒素雰囲気のグローブボックス内にて、B(C6F5)3(25.6mg,0.05mmol)をジクロロメタン(1.0mL)に溶解させた。この溶液に、4-クロロスチレン(127μL,1.0mmol)を加えた。さらに、1,1,3,3,5,5,7,7-オクタメチルテトラシロキサン(HMD2MH,328μL,1.0mmol)を加えて室温で撹拌した。15時間後、反応混合物の1H NMR(内部標準:メシチレン)を測定し、モノヒドロシリル化体(61%)とジヒドロシリル化体(10%)が得られたことを確認した。
窒素雰囲気のグローブボックス内にて、B(C6F5)3(25.6mg,0.05mmol)をジクロロメタン(1.0mL)に溶解させた。この溶液に、1-オクテン(157μL,1.0mmol)を加えた。さらに、1,1,3,3,5,5,7,7-オクタメチルテトラシロキサン(HMD2MH,328μL,1.0mmol)を加えて室温で撹拌した。15時間後、反応混合物の1H NMR(内部標準:メシチレン)を測定し、モノヒドロシリル化体(12%)とジヒドロシリル化体(44%)が得られたことを確認した。
窒素雰囲気のグローブボックス内にて、B(C6F5)3(25.6mg,0.05mmol)をジクロロメタン(1.0mL)に溶解させた。この溶液に、シクロヘキセン(101μL,1.0mmol)を加えた。さらに、1,1,3,3,5,5,7,7-オクタメチルテトラシロキサン(HMD2MH,328μL,1.0mmol)を加えて室温で撹拌した。15時間後、反応混合物の1H NMR(内部標準:メシチレン)を測定し、モノヒドロシリル化体(46%)とジヒドロシリル化体(12%)が得られたことを確認した。
窒素雰囲気のグローブボックス内にて、B(C6F5)3(25.6mg,0.05mmol)をジクロロメタン(1.0mL)に溶解させた。この溶液に、4-クロロスチレン(127μL,1.0mmol)を加えた。さらに、1,1,3,3,5,5,7,7-オクタメチルテトラシロキサン(HMD2MH,164μL,0.5mmol)を加えて室温で撹拌した。15時間後、反応混合物の1H NMR(内部標準:メシチレン)を測定し、モノヒドロシリル化体(25%)とジヒドロシリル化体(4%)が得られたことを確認した。
窒素雰囲気のグローブボックス内にて、B(C6F5)3(25.6mg,0.05mmol)をジクロロメタン(1.0mL)に溶解させた。この溶液に、1-オクテン(127μL,1.0mmol)を加えた。さらに、1,1,3,3,5,5,7,7-オクタメチルテトラシロキサン(HMD2MH,164μL,0.5mmol)を加えて室温で撹拌した。15時間後、反応混合物の1H NMR(内部標準:メシチレン)を測定し、ジヒドロシリル化体(>95%)が得られたことを確認した。
Claims (4)
- 下記式(B-1)で表されるジメチルシリル基を有する有機ケイ素化合物を製造する方法であって、
(式(B-1)中、R1~R3はそれぞれ独立して、水素原子、又は少なくとも1種のハロゲン原子を含んでいてもよい炭素原子数1~20の炭化水素基を表す。但し、R1~R3の2以上が炭化水素基である場合、R1~R3の2以上の炭化水素基が連結して環状構造を形成していてもよい。)
トリス(ペンタフルオロフェニル)ボラン、および、下記式(A)で表される化合物の存在下、1,1,3,3,5,5,7,7-オクタメチルテトラシロキサンから不均化反応によりジメチルシランを生じさせる工程であって、前記ジメチルシランが前記式(A)で表される化合物をヒドロシリル化し、式(B-1)で表されるジメチルシリル基を有する有機ケイ素化合物を生成する工程を含む、製造方法:
(式(A)中、R1~R3はそれぞれ独立して、水素原子、又は少なくとも1種のハロゲン原子を含んでいてもよい炭素原子数1~20の炭化水素基を表す。但し、R1~R3の2以上が炭化水素基である場合、R1~R3の2以上の炭化水素基が連結して環状構造を形成していてもよい。) - 請求項1に記載の製造方法であって、前記不均化反応および前記ヒドロシリル化反応が同一の反応容器内で行われる、製造方法。
- 請求項1または2に記載の製造方法であって、
前記工程により得られたジメチルシリル基を有する有機ケイ素化合物を精製する工程をさらに含む、製造方法。 - トリス(ペンタフルオロフェニル)ボランを触媒として使用する方法であって、
下記式(A)で表される化合物と1,1,3,3,5,5,7,7-オクタメチルテトラシロキサンとを用いて下記式(B-1)で表されるジメチルシリル基を有する有機ケイ素化合物を製造する方法において、トリス(ペンタフルオロフェニル)ボランを触媒として使用する方法。
(式(A)および式(B-1)中、R 1 ~R 3 はそれぞれ独立して、水素原子、又は少なくとも1種のハロゲン原子を含んでいてもよい炭素原子数1~20の炭化水素基を表す。但し、R 1 ~R 3 の2以上が炭化水素基である場合、R 1 ~R 3 の2以上の炭化水素基が連結して環状構造を形成していてもよい。)
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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