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JP7601245B2 - Mass spectrometry method and mass spectrometer - Google Patents
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Description

本発明は、質量分析方法及び質量分析装置に関する。 The present invention relates to a mass spectrometry method and a mass spectrometry device.

試料中の高分子化合物成分を同定したりその構造を解析したりするために、試料成分由来のイオンから特定の質量電荷比を有するイオンをプリカーサイオンとして選別し、そのプリカーサイオンを解離させて生成した種々のプロダクトイオンを質量電荷比に応じて分離し検出する質量分析法が広く利用されている。Mass spectrometry is widely used to identify polymer compound components in a sample and analyze their structure. It involves selecting ions with a specific mass-to-charge ratio from the ions derived from the sample components as precursor ions, and then dissociating these precursor ions to generate various product ions that are separated and detected according to their mass-to-charge ratios.

高分子化合物の多くは炭化水素鎖を主たる骨格とする有機物である。高分子化合物の特性を知るには、炭素原子の不飽和結合の有無、特徴的な官能基の有無などの情報を得ることが有効である。そこで、最近では、タンパク質やペプチドである試料成分由来のプリカーサイオンにラジカルを付着させることにより特定の官能基の位置でプリカーサイオンを解離させたり、炭素原子の不飽和結合を含む炭化水素鎖を有する試料成分由来のプリカーサイオンにラジカルを付着させることにより該不飽和結合の位置でプリカーサイオンを解離させたりするラジカル付着解離法が提案されている。例えば、特許文献1及び2並びに非特許文献1には、プリカーサイオンに水素ラジカルを付着させることによりペプチド結合の位置で選択的にプリカーサイオンを解離させることが記載されている。また、特許文献3及び4には、プリカーサイオンに酸素ラジカルやヒドロキシルラジカルを付着させることにより炭化水素鎖に含まれる不飽和結合の位置で選択的にプリカーサイオンを解離させることが記載されている。Many polymer compounds are organic substances whose main skeleton is a hydrocarbon chain. To know the characteristics of polymer compounds, it is effective to obtain information such as the presence or absence of unsaturated bonds of carbon atoms and the presence or absence of characteristic functional groups. Recently, a radical attachment dissociation method has been proposed in which a radical is attached to a precursor ion derived from a sample component such as a protein or peptide, thereby dissociating the precursor ion at the position of a specific functional group, or a radical is attached to a precursor ion derived from a sample component having a hydrocarbon chain containing an unsaturated bond of carbon atoms, thereby dissociating the precursor ion at the position of the unsaturated bond. For example, Patent Documents 1 and 2 and Non-Patent Document 1 describe selective dissociation of precursor ions at the position of peptide bonds by attaching hydrogen radicals to precursor ions. Patent Documents 3 and 4 also describe selective dissociation of precursor ions at the position of unsaturated bonds contained in a hydrocarbon chain by attaching oxygen radicals or hydroxyl radicals to precursor ions.

プリカーサイオンとラジカルの反応効率は、プリカーサイオンやラジカルが持つ運動エネルギーの大きさによって異なる。そのため、プリカーサイオン及びラジカルが導入される反応室の温度が相違すると、同種のプリカーサイオン及びラジカルを反応させても生成されるプロダクトイオンの種類や量が異なる。そこで、従来、反応室に取り付けたヒータで反応室を所定の温度(例えば約130℃)に加熱し維持することにより所望のプロダクトイオンを生成することが試みられている。また、反応室を加熱することにより、該反応室を構成する部材に試料成分やラジカルに由来する物質が付着して汚染されるのを抑制することができる。The reaction efficiency of precursor ions and radicals varies depending on the magnitude of the kinetic energy of the precursor ions and radicals. Therefore, if the temperature of the reaction chamber into which the precursor ions and radicals are introduced is different, the type and amount of product ions generated will differ even if the same types of precursor ions and radicals are reacted. Therefore, in the past, attempts have been made to generate the desired product ions by heating and maintaining the reaction chamber at a specified temperature (e.g., about 130°C) using a heater attached to the reaction chamber. In addition, by heating the reaction chamber, it is possible to prevent sample components and substances derived from radicals from adhering to and contaminating the components that make up the reaction chamber.

国際公開第2015/133259号International Publication No. 2015/133259 国際公開第2018/186286号International Publication No. 2018/186286 国際公開第2019/155725号International Publication No. 2019/155725 国際公開第2020/240908号International Publication No. 2020/240908

Takahashi, Hidenori, et al. "Hydrogen Attachment/Abstraction Dissociation (HAD) of Gas-Phase Peptide Ions for Tandem Mass Spectrometry." Analytical chemistry 88.7 (2016): 3810-3816.Takahashi, Hidenori, et al. "Hydrogen Attachment/Abstraction Dissociation (HAD) of Gas-Phase Peptide Ions for Tandem Mass Spectrometry." Analytical chemistry 88.7 (2016): 3810-3816.

特許文献2及び3には、イオントラップにプリカーサイオンを捕捉しておき、原料ガスをラジカル生成室に導入して該原料ガスのプラズマを発生させることにより生成したラジカルを反応室(イオントラップ)に導入してプリカーサイオンとラジカルを反応させることが記載されている。特許文献4には、上記同様に生成したラジカルを反応室(コリジョンセル)の内部に導入しつつ、該イオントラップにプリカーサイオンを導入してプリカーサイオンとラジカルを反応させることが記載されている。上記のように原料ガスのプラズマを発生させるラジカル生成部では、ラジカル生成室に導入された原料ガスの一部はプラズマとラジカルのいずれにもならず未反応のまま残り、ラジカルととともに反応室に導入される。通常、ラジカル生成室に導入される原料ガスの温度は反応室内の温度よりも低いため、ラジカル生成室から原料ガスが導入されると反応室内の温度が低下する。その結果、反応室内でプリカーサイオンが冷却されて運動エネルギーが低下し、所望のプロダクトイオンを生成することができない、あるいは生成されたとしても生成効率が低下してしまうという問題があった。Patent documents 2 and 3 describe a method of trapping precursor ions in an ion trap, introducing a raw material gas into a radical generation chamber to generate plasma of the raw material gas, and introducing the generated radicals into a reaction chamber (ion trap) to react the precursor ions with the radicals. Patent document 4 describes a method of introducing the radicals generated in the same manner as above into the inside of a reaction chamber (collision cell) while introducing precursor ions into the ion trap to react the precursor ions with the radicals. In the radical generation section that generates plasma of the raw material gas as described above, a part of the raw material gas introduced into the radical generation chamber does not become either plasma or radicals, but remains unreacted, and is introduced into the reaction chamber together with the radicals. Normally, the temperature of the raw material gas introduced into the radical generation chamber is lower than the temperature inside the reaction chamber, so when the raw material gas is introduced from the radical generation chamber, the temperature inside the reaction chamber drops. As a result, the precursor ions are cooled in the reaction chamber and their kinetic energy drops, which causes a problem that the desired product ions cannot be generated, or even if they are generated, the generation efficiency drops.

また、非特許文献1には、2000℃の高温に加熱したタングステンキャピラリ内に水素ガスを導入して熱分解することにより水素ラジカルを生成し、それを反応室に導入してプリカーサイオンと反応させることが記載されている。この場合には、高温に加熱された未反応の水素ガスが流れ込むことにより反応室が加熱される。その結果、反応室内のプリカーサイオンが加熱されて運動エネルギーが増大し、プリカーサイオンがペプチド結合以外の位置でも解離してしまうため、所望のプロダクトイオンの生成効率が悪いという問題があった。 In addition, Non-Patent Document 1 describes the introduction of hydrogen gas into a tungsten capillary heated to a high temperature of 2000°C, which is then thermally decomposed to generate hydrogen radicals, which are then introduced into a reaction chamber to react with precursor ions. In this case, the reaction chamber is heated by the inflow of unreacted hydrogen gas heated to a high temperature. As a result, the precursor ions in the reaction chamber are heated and their kinetic energy increases, causing the precursor ions to dissociate at positions other than the peptide bond, resulting in a problem of poor efficiency in generating the desired product ions.

本発明が解決しようとする課題は、試料成分由来のプリカーサイオンにラジカルを照射して分析するイオン分析装置において、ラジカル供給時の反応室の温度変化を抑制することができる技術を提供することである。The problem that this invention aims to solve is to provide a technology that can suppress temperature changes in a reaction chamber when radicals are supplied in an ion analysis device that analyzes precursor ions derived from sample components by irradiating them with radicals.

上記課題を解決するために成された本発明の一態様は、試料成分由来のプリカーサイオンとラジカルを反応室で反応させることにより該プリカーサイオンからプロダクトイオンを生成して質量分析する方法であって、
原料ガスからラジカルを生成するステップと、
前記ラジカルの生成条件に応じた量の電力を前記反応室に設けられた温度調整部に供給した状態で該反応室に前記ラジカル及びプリカーサイオンを導入するステップと、
前記反応室で前記プリカーサイオンから生成されたプロダクトイオンを質量電荷比に応じて分離し検出するステップと
を含む。
One aspect of the present invention, which has been made to solve the above problems, is a method for performing mass spectrometry by generating product ions from precursor ions derived from a sample component by reacting the precursor ions with radicals in a reaction chamber, the method comprising the steps of:
generating radicals from a source gas;
introducing the radicals and precursor ions into the reaction chamber while supplying power in an amount corresponding to the radical generation conditions to a temperature adjustment unit provided in the reaction chamber;
and separating and detecting product ions generated from the precursor ions in the reaction chamber according to their mass-to-charge ratios.

また、上記課題を解決するために成された本発明に係る質量分析装置は、
プリカーサイオンが導入される反応室と、
前記反応室に設けられた温度調整部と、
前記温度調整部に電力を供給する給電部と、
原料ガスからラジカルを生成して前記反応室に導入するラジカル生成部と、
前記給電部及び前記ラジカル生成部の動作を制御するものであって、前記反応室に前記ラジカルが導入される時間帯に前記ラジカル生成部におけるラジカル生成条件に応じた量の電力を前記温度調整部に供給する測定制御部と、
前記反応室で前記プリカーサイオンから生成されたプロダクトイオンを質量電荷比に応じて分離する質量分離部と、
前記質量分離部で分離された後のイオンを検出するイオン検出部と
を備える。
In order to solve the above problems, the mass spectrometer according to the present invention comprises:
a reaction chamber into which precursor ions are introduced;
A temperature control unit provided in the reaction chamber;
A power supply unit that supplies power to the temperature adjustment unit;
a radical generating unit that generates radicals from a raw material gas and introduces the radicals into the reaction chamber;
a measurement control unit that controls the operation of the power supply unit and the radical generation unit and supplies the temperature adjustment unit with power in an amount corresponding to the radical generation conditions in the radical generation unit during a time period when the radicals are introduced into the reaction chamber;
a mass separation unit that separates product ions generated from the precursor ions in the reaction chamber according to their mass-to-charge ratios;
and an ion detection unit that detects ions after separation in the mass separation unit.

前記温度調整部は、通常、ヒータであるが、加熱された原料ガスが反応室に導入されるなど、反応室を冷却する必要がある場合にはペルチェ素子とヒータの両方を備えたものなど、加熱と冷却の両方の機能を有するもの用いてもよい。前記ラジカル生成部には、例えば、原料ガスのプラズマからラジカルを生成させるものや、原料ガスを熱解離してラジカルを生成させるものを用いることができる。前記ラジカル生成条件にはラジカル生成方法、原料ガスの供給量、及び原料ガスの種類が含まれうる。The temperature adjustment unit is usually a heater, but when it is necessary to cool the reaction chamber, such as when heated raw material gas is introduced into the reaction chamber, a unit having both heating and cooling functions, such as a unit equipped with both a Peltier element and a heater, may be used. The radical generation unit may be, for example, a unit that generates radicals from plasma of the raw material gas, or a unit that generates radicals by thermally dissociating the raw material gas. The radical generation conditions may include the radical generation method, the supply amount of the raw material gas, and the type of the raw material gas.

本発明に係る質量分析方法及び質量分析装置では、プリカーサイオンが導入される反応室にラジカルが導入される時間帯に、ラジカル生成条件に応じた量の電力を温度調整部に供給する。例えば、ラジカルとともに、低温の原料ガスが反応室に流入する場合には、温度調整部(ヒータ等)に供給する電力量を大きくする。一方、ラジカルとともに上記所定の温度よりも高温の原料ガスが反応室に流入する場合には、温度調整部(ヒータ)に供給する電力量を小さくする。あるいは、さらに高温の原料ガスが反応室に流入する場合には温度調整部(例えばペルチェ素子)に電力を供給して反応室を冷却する。In the mass spectrometry method and mass spectrometry apparatus according to the present invention, during the time period when radicals are introduced into the reaction chamber where precursor ions are introduced, an amount of power according to the radical generation conditions is supplied to the temperature adjustment unit. For example, when low-temperature source gas flows into the reaction chamber together with the radicals, the amount of power supplied to the temperature adjustment unit (heater, etc.) is increased. On the other hand, when source gas with a temperature higher than the above-mentioned predetermined temperature flows into the reaction chamber together with the radicals, the amount of power supplied to the temperature adjustment unit (heater) is decreased. Alternatively, when an even hotter source gas flows into the reaction chamber, power is supplied to the temperature adjustment unit (e.g., a Peltier element) to cool the reaction chamber.

本発明に係る質量分析方法及び質量分析装置では、反応室にラジカルを供給する際に該ラジカルの生成条件に応じた量の電力を温度調整部に供給することによって、ラジカルとともに反応室に流入する原料ガスによる反応室の温度変化を補償することにより、ラジカル供給時の反応室の不所望の温度変化を抑制することができる。 In the mass spectrometry method and mass spectrometry apparatus of the present invention, when radicals are supplied to the reaction chamber, an amount of power corresponding to the generation conditions of the radicals is supplied to the temperature adjustment unit, thereby compensating for temperature changes in the reaction chamber due to the raw material gas flowing into the reaction chamber together with the radicals, thereby suppressing undesirable temperature changes in the reaction chamber when radicals are supplied.

本発明に係る質量分析装置の一実施例を含む液体クロマトグラフ質量分析装置の要部構成図。1 is a diagram showing the configuration of a main portion of a liquid chromatograph mass spectrometer including an embodiment of a mass spectrometer according to the present invention; 本実施例の質量分析装置が有するラジカル生成部の構成図。FIG. 2 is a configuration diagram of a radical production unit included in the mass spectrometer of the present embodiment. 本実施例の質量分析装置及び質量分析方法で用いられるヒータ電力情報の一例。4 is an example of heater power information used in the mass spectrometer and mass analysis method of the present embodiment. 本発明に係る質量分析方法の一実施例のフローチャート。1 is a flowchart of an embodiment of a mass spectrometry method according to the present invention.

本発明に係る質量分析装置及び質量分析方法の実施例について、以下、図面を参照して説明する。 Examples of a mass analysis apparatus and a mass analysis method according to the present invention are described below with reference to the drawings.

図1は、本実施例の質量分析装置1を液体クロマトグラフ2と組み合わせた液体クロマトグラフ質量分析装置100の要部構成図である。 Figure 1 is a diagram showing the main components of a liquid chromatography mass spectrometer 100 in which the mass spectrometer 1 of this embodiment is combined with a liquid chromatograph 2.

液体クロマトグラフ2は、移動相が収容された移動相容器20、移動相を送液する送液ポンプ21、インジェクタ22、及びカラム23を備えている。また、インジェクタ22には複数の液体試料を所定の順番でインジェクタに導入するオートサンプラ24が接続されている。The liquid chromatograph 2 includes a mobile phase container 20 that contains a mobile phase, a liquid delivery pump 21 that delivers the mobile phase, an injector 22, and a column 23. An autosampler 24 is connected to the injector 22, which introduces multiple liquid samples into the injector in a predetermined order.

質量分析装置1は、略大気圧であるイオン化室10と真空チャンバで構成される本体と制御・処理部7を備えている。真空チャンバの内部には、イオン化室10の側から順に、第1中間真空室11、第2中間真空室12、第3中間真空室13、及び分析室14を備えており、この順に真空度が高くなる多段差動排気系の構成を有している。The mass spectrometer 1 comprises a main body consisting of an ionization chamber 10, which is at approximately atmospheric pressure, and a vacuum chamber, and a control and processing unit 7. Inside the vacuum chamber, from the ionization chamber 10 side, there are a first intermediate vacuum chamber 11, a second intermediate vacuum chamber 12, a third intermediate vacuum chamber 13, and an analysis chamber 14, and the system has a multi-stage differential pumping system in which the degree of vacuum increases in this order.

イオン化室10には、液体試料に電荷を付与して噴霧するエレクトロスプレイイオン化プローブ(ESIプローブ)101が設置されている。ESIプローブ101には、液体クロマトグラフ2のカラム23で分離された試料成分が順次、導入される。An electrospray ionization probe (ESI probe) 101 that applies an electric charge to a liquid sample and sprays it is installed in the ionization chamber 10. Sample components separated in the column 23 of the liquid chromatograph 2 are sequentially introduced into the ESI probe 101.

イオン化室10と第1中間真空室11は細径の加熱キャピラリ102を通して連通している。第1中間真空室11には、イオンの飛行方向の中心軸であるイオン光軸Cを取り囲むように、複数のロッド電極で構成されたイオンガイド111が配置されている。イオン化室10から第1中間真空室11に進入したイオンは、イオンガイド111により形成される電場によってイオン光軸Cの近傍に収束される。The ionization chamber 10 and the first intermediate vacuum chamber 11 are connected through a thin-diameter heated capillary 102. In the first intermediate vacuum chamber 11, an ion guide 111 composed of multiple rod electrodes is arranged so as to surround the ion optical axis C, which is the central axis in the flight direction of the ions. Ions that enter the first intermediate vacuum chamber 11 from the ionization chamber 10 are converged near the ion optical axis C by the electric field formed by the ion guide 111.

第1中間真空室11と第2中間真空室12は頂部に小孔を有するスキマー112で隔てられている。第2中間真空室12にも、イオン光軸Cを取り囲むように、複数のロッド電極が配置されている。第1中間真空室11から第2中間真空室12に進入したイオンは、イオンガイド121により形成される電場によってイオン光軸Cの近傍に収束される。The first intermediate vacuum chamber 11 and the second intermediate vacuum chamber 12 are separated by a skimmer 112 having a small hole at the top. The second intermediate vacuum chamber 12 also has a number of rod electrodes arranged surrounding the ion optical axis C. Ions that enter the second intermediate vacuum chamber 12 from the first intermediate vacuum chamber 11 are focused near the ion optical axis C by the electric field formed by the ion guide 121.

第3中間真空室13には、イオンを質量電荷比に応じて分離する四重極マスフィルタ131、多重極イオンガイド133を内部に備えたコリジョンセル132、及びイオンガイド134が配置されている。コリジョンセル132の内部には、該コリジョンセル132の内部の温度を測定するための温度センサ1321が配置されている。The third intermediate vacuum chamber 13 is provided with a quadrupole mass filter 131 that separates ions according to their mass-to-charge ratio, a collision cell 132 having a multipole ion guide 133 therein, and an ion guide 134. A temperature sensor 1321 is provided inside the collision cell 132 to measure the temperature inside the collision cell 132.

イオンガイド134は、コリジョンセル132から放出されたイオンをイオン光軸Cの近傍に収束させつつ後段に輸送する。多重極イオンガイド133には、通常、金属性のものが用いられる。多くの場合、ステンレス製のものが用いられる。好ましくは、金メッキや白金メッキされた金属製のものが用いられる。また、多重極イオンガイド133には、該多重極イオンガイド133を加熱するためのヒータ1331が接続されている。温度センサ1321及びヒータ1331はそれぞれ、コリジョンセル132の内部の温度を測定する目的と、コリジョンセル132の内部を所定の温度に加熱する目的を達成できる限りにおいて適宜の場所に配置すればよい。The ion guide 134 transports the ions emitted from the collision cell 132 to the rear while converging them near the ion optical axis C. The multipole ion guide 133 is usually made of metal. In many cases, stainless steel is used. Preferably, a gold- or platinum-plated metal is used. A heater 1331 for heating the multipole ion guide 133 is connected to the multipole ion guide 133. The temperature sensor 1321 and the heater 1331 may be placed in any suitable location as long as they can measure the temperature inside the collision cell 132 and heat the inside of the collision cell 132 to a predetermined temperature.

コリジョンセル132には、ラジカル供給部5が接続されている。図2にラジカル供給部5の詳細な構成を示す。ラジカル供給部5は、内部にラジカル生成室51が形成されたラジカル源54と、ラジカル生成室51を排気する真空ポンプ(図示略)と、ラジカルの原料となるガス(原料ガス)を供給する原料ガス供給源52と、高周波電力供給部53とを備えている。原料ガス供給源52からラジカル生成室51に至る流路には、原料ガスの流量を調整するためのマスフローコントローラ(MFC)56が設けられている。原料ガスには、例えば水蒸気、酸素ガス、窒素ガス、水素ガス、二酸化炭素、空気など、生成しようとするラジカルの種類に応じたものを用いればよい。The collision cell 132 is connected to the radical supply unit 5. FIG. 2 shows the detailed configuration of the radical supply unit 5. The radical supply unit 5 includes a radical source 54 having a radical generation chamber 51 formed therein, a vacuum pump (not shown) for evacuating the radical generation chamber 51, a raw material gas supply source 52 for supplying a gas (raw material gas) that is a raw material for radicals, and a high-frequency power supply unit 53. A mass flow controller (MFC) 56 for adjusting the flow rate of the raw material gas is provided in the flow path from the raw material gas supply source 52 to the radical generation chamber 51. The raw material gas may be, for example, water vapor, oxygen gas, nitrogen gas, hydrogen gas, carbon dioxide, air, or the like, depending on the type of radical to be generated.

ラジカル源54は、誘電体からなる管状体541を有しており、その内部空間がラジカル生成室51となる。管状体541は、中空筒状の磁石544の内部に挿入された状態でプランジャー545により固定される。管状体541のうち、磁石544の内側に位置する部分の外周にはスパイラルアンテナ542(図2における破線)が巻回されている。The radical source 54 has a tubular body 541 made of a dielectric material, and its internal space serves as the radical generation chamber 51. The tubular body 541 is inserted into a hollow cylindrical magnet 544 and fixed in place by a plunger 545. A spiral antenna 542 (indicated by a dashed line in FIG. 2) is wound around the outer periphery of the portion of the tubular body 541 that is located inside the magnet 544.

また、ラジカル源54には、高周波電力投入部546が設けられている。高周波電力投入部546には高周波電力供給部53から高周波電力が供給される。さらに、ラジカル源54は、該ラジカル源54の先端部分を固定するためのフランジ547を備えている。フランジ547の内部には、磁石544と対を成す、該磁石544と同径の中空筒状の磁石548が収容されている。磁石544、548により管状体541の内部(ラジカル生成室51)に磁場が発生し、その作用によりプラズマの発生及び維持が容易になる。The radical source 54 is also provided with a high-frequency power input unit 546. High-frequency power is supplied to the high-frequency power input unit 546 from the high-frequency power supply unit 53. The radical source 54 is further provided with a flange 547 for fixing the tip portion of the radical source 54. A hollow cylindrical magnet 548 of the same diameter as the magnet 544 is housed inside the flange 547 and pairs with the magnet 544. The magnets 544 and 548 generate a magnetic field inside the tubular body 541 (radical generation chamber 51), which action makes it easy to generate and maintain plasma.

ラジカル源54の出口端には、ラジカル生成室51内で生成されたラジカルをコリジョンセル132に輸送するための輸送管58が接続されている。輸送管58は、好ましくは絶縁管であり、例えば石英ガラス管やホウケイ酸ガラス管を用いることができる。A transport tube 58 is connected to the outlet end of the radical source 54 for transporting the radicals generated in the radical generation chamber 51 to the collision cell 132. The transport tube 58 is preferably an insulating tube, and may be, for example, a quartz glass tube or a borosilicate glass tube.

分析室14には、第3中間真空室13から入射したイオンを輸送するためのイオン輸送電極141、イオンの入射光軸(直交加速領域)を挟んで対向配置された1組の押出電極1421と引込電極1422からなる直交加速電極142、該直交加速電極142により飛行空間に送出されるイオンを加速する加速電極143、飛行空間にイオンの折り返し軌道を形成するリフレクトロン電極144、イオン検出器145、及び飛行空間の外縁を規定するフライトチューブ146を備えている。分析室14に進入したイオンの進行方向は、直交加速電極142により飛行空間の側に偏向される。進行方向が偏向されたイオンは加速電極143によって加速されて飛行空間に進入し、各イオンの質量電荷比に応じた飛行時間で折り返し軌道を飛行したあと、イオン検出器145で検出される。The analysis chamber 14 is equipped with an ion transport electrode 141 for transporting ions incident from the third intermediate vacuum chamber 13, an orthogonal acceleration electrode 142 consisting of a pair of pusher electrode 1421 and puller electrode 1422 arranged opposite each other across the ion incident optical axis (orthogonal acceleration region), an acceleration electrode 143 for accelerating ions sent out to the flight space by the orthogonal acceleration electrode 142, a reflectron electrode 144 for forming a return trajectory of the ions in the flight space, an ion detector 145, and a flight tube 146 for defining the outer edge of the flight space. The traveling direction of the ions that have entered the analysis chamber 14 is deflected toward the flight space by the orthogonal acceleration electrode 142. The ions whose traveling direction has been deflected are accelerated by the acceleration electrode 143 and enter the flight space, and after flying a return trajectory for a flight time corresponding to the mass-to-charge ratio of each ion, are detected by the ion detector 145.

制御・処理部7は、上記各部の動作を制御するとともに、イオン検出器145で得られたデータを保存し、クロマトグラムやマススペクトルを作成及び解析する機能を有する。制御・処理部7は、記憶部71を備えており、さらに機能ブロックとして測定条件設定部72、測定制御部73を備えている。制御・処理部7の実体は一般的なコンピュータであり、上記の機能ブロックは、予めインストールされた質量分析用プログラムをプロセッサで実行することにより具現化される。また、制御・処理部7にはマウスやキーボードなどからなる入力部8と、液晶ディスプレイ等で構成される表示部9が接続されている。The control/processing unit 7 controls the operation of each of the above-mentioned units, and has the function of storing the data obtained by the ion detector 145 and creating and analyzing chromatograms and mass spectra. The control/processing unit 7 includes a memory unit 71, and further includes a measurement condition setting unit 72 and a measurement control unit 73 as functional blocks. The actual control/processing unit 7 is a general computer, and the above-mentioned functional blocks are realized by executing a pre-installed mass analysis program on a processor. In addition, an input unit 8 consisting of a mouse, keyboard, etc., and a display unit 9 consisting of a liquid crystal display, etc. are connected to the control/processing unit 7.

記憶部71には、複数の目的化合物のそれぞれについて、当該目的化合物を測定する際の測定パラメータ(目的化合物の保持時間、使用するラジカルの種類及び生成条件、プリカーサイオンの質量電荷比等)を記載したメソッドファイルが保存されている。ラジカルの生成条件には、当該ラジカルの生成に使用する原料ガスの種類や流量等が含まれる。また、複数種類のラジカルのそれぞれについて、当該ラジカルを生成する際に使用する原料ガスの流量と、当該流量で原料ガスを供給する際にヒータ1331に供給する電力量と、その電力量の供給を開始及び終了するタイミングを対応付けた情報(ヒータ電力情報)が保存されている。図3はヒータ電力情報の一例である。上記電力量の供給を開始するタイミングは、原料ガスの供給開始時、及び供給終了時に対して設定される。具体的には、例えば、上記電力量の供給を開始してから第1時間(例えば30秒)経過後に原料ガスの供給を開始する、上記電力量の供給を終了してから第2時間(例えば1分)経過後に原料ガスの供給を停止する、のように設定される。The storage unit 71 stores a method file that describes the measurement parameters (retention time of the target compound, the type and generation conditions of the radical used, the mass-to-charge ratio of the precursor ion, etc.) for measuring each of the multiple target compounds. The radical generation conditions include the type and flow rate of the raw material gas used to generate the radical. In addition, for each of the multiple types of radicals, information (heater power information) that corresponds the flow rate of the raw material gas used to generate the radical, the amount of power supplied to the heater 1331 when supplying the raw material gas at that flow rate, and the timing of starting and ending the supply of the amount of power is stored. Figure 3 is an example of heater power information. The timing of starting the supply of the amount of power is set with respect to the start and end of the supply of the raw material gas. Specifically, for example, the supply of the raw material gas is started after a first time (e.g., 30 seconds) has elapsed since the start of the supply of the amount of power, and the supply of the raw material gas is stopped after a second time (e.g., 1 minute) has elapsed since the end of the supply of the amount of power.

次に、本発明に係る質量分析方法の一例として、本実施例の液体クロマトグラフ質量分析装置100を用いた分析の手順を説明する。図4は、分析の手順を示すフローチャートである。なお、本実施例の液体クロマトグラフ質量分析装置100では、本体の電源が投入されている間、分析を行わない時間帯(待機時間)にも電源137からヒータ1331に電力が供給され、コリジョンセル132の内部が所定の温度(例えば130℃)に維持されるように制御(Proportional-Integral-Differential Control: PID制御)されている(ステップ1)。この時に供給される電力量を、以下ではPID電力量とも呼ぶ。なお、PID電力量は温度センサ1321により測定される温度と上記所定の温度の差に応じて変化する。Next, as an example of the mass analysis method according to the present invention, the procedure of analysis using the liquid chromatograph mass spectrometer 100 of this embodiment will be described. FIG. 4 is a flow chart showing the procedure of analysis. In the liquid chromatograph mass spectrometer 100 of this embodiment, while the power supply of the main body is turned on, even during the time period (standby time) when analysis is not performed, power is supplied from the power supply 137 to the heater 1331, and the inside of the collision cell 132 is controlled (Proportional-Integral-Differential Control: PID control) to maintain a predetermined temperature (e.g., 130°C) (step 1). The amount of power supplied at this time is also referred to as the PID power amount below. The PID power amount changes depending on the difference between the temperature measured by the temperature sensor 1321 and the above-mentioned predetermined temperature.

使用者が所定の入力操作により分析開始を指示すると、測定条件設定部72は、測定条件を設定するための画面を表示部9の画面に表示する。使用者が、その画面を通じて目的化合物を指定すると、測定条件設定部72は、当該目的化合物の測定パラメータを記憶部71から読み出し、そこに含まれるラジカルの種類及び生成条件(原料ガスの種類、流量等)に対応するヒータ電力情報(ヒータ1331に供給する電力量及び該電力量の供給を開始及び終了するタイミング)とともに表示部9の画面に表示する。使用者は、表示された内容を確認し、必要に応じて測定パラメータやヒータ1331に供給する電力量を変更する。使用者が測定パラメータ及び電力量を含む測定条件を決定すると(ステップ2)、測定条件設定部72は、それらの情報を反映したバッチファイルを作成して記憶部71に保存する。なお、過去に同じ測定パラメータ等を用いた測定が行われている場合には、使用者に記憶部71に保存されたバッチファイルを指定させてもよい。ここで決定された電力量を、以下ではガス供給時電力量とも呼ぶ。ここでは、測定パラメータやヒータ1331に供給する電力量を含む測定条件をユーザに確認及び決定させる構成としたが、ユーザによる確認及び決定の工程を省略し、予め保存されたものをそのまま用いてバッチファイルを作成してもよい。When the user instructs the start of analysis by a predetermined input operation, the measurement condition setting unit 72 displays a screen for setting the measurement conditions on the screen of the display unit 9. When the user specifies the target compound through the screen, the measurement condition setting unit 72 reads out the measurement parameters of the target compound from the memory unit 71 and displays them on the screen of the display unit 9 together with heater power information (the amount of power supplied to the heater 1331 and the timing of starting and ending the supply of the amount of power) corresponding to the type of radical contained therein and the generation conditions (type of raw material gas, flow rate, etc.). The user checks the displayed contents and changes the measurement parameters and the amount of power supplied to the heater 1331 as necessary. When the user determines the measurement conditions including the measurement parameters and the amount of power (step 2), the measurement condition setting unit 72 creates a batch file reflecting the information and stores it in the memory unit 71. Note that if a measurement using the same measurement parameters, etc. has been performed in the past, the user may specify a batch file stored in the memory unit 71. The amount of power determined here is also referred to as the amount of power during gas supply hereinafter. Here, the user is required to confirm and determine the measurement conditions including the measurement parameters and the amount of power supplied to the heater 1331. However, the process of confirmation and determination by the user may be omitted, and a batch file may be created by directly using the previously saved conditions.

その後、使用者がオートサンプラ24に液体試料をセットして測定開始を指示すると(ステップ3)、測定制御部73は、バッチファイルに記載された内容に基づいて、各部の動作を制御して以下のように測定動作を実行する。 After that, when the user places a liquid sample in the autosampler 24 and instructs the start of measurement (step 3), the measurement control unit 73 controls the operation of each part based on the contents written in the batch file to perform the measurement operation as follows.

まず、電源137からヒータ1331に供給する電力量をPID電力量からガス供給時電力量に変更する(ステップ4)。ここでは、PID電力量からガス供給時電力量に変更する、と表現したが、実際上は、ガス供給時にもPID制御自体は継続して行いつつ、ガス供給時に、ガス供給時電力量に応じてPID電力量から所定の電力量を増減(オフセット)した量の電力をヒータ1331に供給することが考えられる。つまり、ガス供給時にPID制御を解除する場合には、ガス供給時電力量を絶対値として設定すればよく、あるいはガス供給時にもPID制御を継続する場合には、ガス供給時電力量を、PID電力量からのオフセット量として設定すればよい。First, the amount of power supplied from the power source 137 to the heater 1331 is changed from the PID power amount to the power amount during gas supply (step 4). Here, it is expressed as changing from the PID power amount to the power amount during gas supply, but in reality, it is possible to continue PID control itself during gas supply, and to supply to the heater 1331 an amount of power that is a predetermined amount of power increased or decreased (offset) from the PID power amount depending on the power amount during gas supply during gas supply. In other words, if PID control is released during gas supply, the power amount during gas supply can be set as an absolute value, or if PID control is continued during gas supply, the power amount during gas supply can be set as an offset amount from the PID power amount.

ガス供給時電力量に変更したあと、バッチファイルに記載された第1時間が経過すると(ステップ5でYES)、原料ガス供給源52から原料ガスをラジカル生成室51に導入するとともに、高周波電力供給部53からスパイラルアンテナ542に高周波電力を投入する(ステップ6)。これにより、ラジカル生成室51の内部でプラズマが発生し、原料ガスからラジカルが生成される。ラジカル生成室51で生成されたラジカルは、輸送管58を通ってコリジョンセル132へと流入する。After changing to the gas supply power amount, when the first time described in the batch file has elapsed (YES in step 5), raw material gas is introduced from the raw material gas supply source 52 into the radical generation chamber 51, and high frequency power is input from the high frequency power supply unit 53 to the spiral antenna 542 (step 6). This generates plasma inside the radical generation chamber 51, and radicals are generated from the raw material gas. The radicals generated in the radical generation chamber 51 flow into the collision cell 132 through the transport pipe 58.

続いて、オートサンプラ24にセットされた液体試料を液体クロマトグラフ2のインジェクタ22に導入する(ステップ7)。インジェクタ22に導入された液体試料は、移動相の流れに乗ってカラム23に導入され、該カラム23の内部で化合物毎に分離され、順次、ESIプローブ101に導入される。Next, the liquid sample set in the autosampler 24 is introduced into the injector 22 of the liquid chromatograph 2 (step 7). The liquid sample introduced into the injector 22 is carried along by the flow of the mobile phase into the column 23, where it is separated into individual compounds and then introduced into the ESI probe 101 in sequence.

ESIプローブ101で生成された目的化合物のイオンはイオン化室10と第1中間真空室11の圧力差により、加熱キャピラリ102を通って第1中間真空室11に引き込まれる。第1中間真空室11ではイオンガイド111によってイオンがイオン光軸Cの近傍に集束される。また、第1中間真空室11で集束されたイオンは続いて第2中間真空室12に進入し、再びイオンガイド121によってイオン光軸Cの近傍に集束されたあと、第3中間真空室13に進入する。第3中間真空室13では、四重極マスフィルタ131によって、目的化合物から生成されたイオンの中からプリカーサイオンが選別される。四重極マスフィルタ131を通過したプリカーサイオンはコリジョンセル132に導入される(ステップ8)。Ions of the target compound generated in the ESI probe 101 are drawn into the first intermediate vacuum chamber 11 through the heated capillary 102 due to the pressure difference between the ionization chamber 10 and the first intermediate vacuum chamber 11. In the first intermediate vacuum chamber 11, the ions are focused near the ion optical axis C by the ion guide 111. The ions focused in the first intermediate vacuum chamber 11 then enter the second intermediate vacuum chamber 12, and are again focused near the ion optical axis C by the ion guide 121, before entering the third intermediate vacuum chamber 13. In the third intermediate vacuum chamber 13, precursor ions are selected from the ions generated from the target compound by the quadrupole mass filter 131. The precursor ions that have passed through the quadrupole mass filter 131 are introduced into the collision cell 132 (step 8).

コリジョンセル132の内部では、輸送管58を通じてラジカル生成室51から供給されるラジカルが、プリカーサイオンに付着する。これによってラジカル付着反応が生じ、プリカーサイオンが解離してプロダクトイオンが生成される。あるいは、ラジカルが付着したアダクトイオンが生成される場合もある。以降の説明では、アダクトイオンを含めてプロダクトイオンと呼ぶ。Inside the collision cell 132, radicals supplied from the radical generation chamber 51 through the transport tube 58 attach to precursor ions. This causes a radical attachment reaction, dissociating the precursor ions and generating product ions. Alternatively, adduct ions to which radicals have been attached may be generated. In the following explanation, adduct ions are also referred to as product ions.

分析室14に進入したプロダクトイオンはイオン輸送電極141によって直交加速電極142に輸送される。直交加速電極142には所定の周期で電圧が印加され、イオンの飛行方向がそれまでと略直交する方向に偏向される。飛行方向が偏向されたイオンは、加速電極143によって加速されて飛行空間に送出される。飛行空間に送出されたイオンは、リフレクトロン電極144とフライトチューブ146で規定された所定の飛行経路を、各イオンの質量電荷比に応じた時間で飛行して相互に分離し、イオン検出器145で検出される(ステップ9)。The product ions that enter the analysis chamber 14 are transported to the orthogonal acceleration electrode 142 by the ion transport electrode 141. A voltage is applied to the orthogonal acceleration electrode 142 at a predetermined period, deflecting the ion's flight direction in a direction that is approximately orthogonal to the previous direction. The ions whose flight direction has been deflected are accelerated by the acceleration electrode 143 and sent into the flight space. The ions sent into the flight space fly along a predetermined flight path defined by the reflectron electrode 144 and the flight tube 146 for a time period according to the mass-to-charge ratio of each ion, and are separated from each other and detected by the ion detector 145 (step 9).

イオン検出器145はイオンが入射する毎にイオンの入射量に応じた大きさの信号を出力する。イオン検出器145からの出力信号は順次、記憶部71に保存される。記憶部71には、イオンの飛行時間とイオンの検出強度を軸とする測定データが保存される。The ion detector 145 outputs a signal with a magnitude corresponding to the amount of ions incident each time an ion is incident. The output signals from the ion detector 145 are sequentially stored in the memory unit 71. The memory unit 71 stores measurement data based on the flight time of the ion and the detection intensity of the ion.

バッチファイルに記載された測定(複数の測定が記載されている場合はそれらすべての測定)を完了すると(ステップ10でYES)、測定制御部73は、電源137からヒータ1331に供給する電力量をガス供給時電力量からPID電力量に変更する(ステップ11)。ヒータ1331に供給される電力量をPID電力量に変更したあと、バッチファイルに記載された第2時間が経過すると(ステップ12でYES)、原料ガス供給源52からの原料ガスの供給及びスパイラルアンテナ542への高周波電力の供給を停止する(ステップ13)。バッチファイルに記載されている測定に未実行のものがある場合には(ステップ10でNO)、ステップ7に戻る。なお、ここでは、全ての試料の測定に同じ種類のラジカルを同じ条件で使用する場合を想定しているが、試料毎に異なる種類のラジカルを照射する、あるいは同じラジカルを異なる条件で照射する場合には、ステップ4(図4に破線で表示)に戻ればよい。When the measurement described in the batch file (if multiple measurements are described, all of them) is completed (YES in step 10), the measurement control unit 73 changes the amount of power supplied from the power source 137 to the heater 1331 from the gas supply power amount to the PID power amount (step 11). After the amount of power supplied to the heater 1331 is changed to the PID power amount, when the second time described in the batch file has elapsed (YES in step 12), the supply of raw gas from the raw gas supply source 52 and the supply of high frequency power to the spiral antenna 542 are stopped (step 13). If there are any measurements described in the batch file that have not been performed (NO in step 10), return to step 7. Note that here, it is assumed that the same type of radical is used under the same conditions for the measurement of all samples, but if different types of radicals are irradiated for each sample, or the same radicals are irradiated under different conditions, it is sufficient to return to step 4 (shown by a dashed line in Figure 4).

本実施例の液体クロマトグラフ質量分析装置100では、ヒータ電力情報に基づいて、電源137からヒータ1331に供給する電力量をPID電力量からガス供給時電力量に変更し、それから第1時間経過後に、原料ガスをラジカル生成室51に供給するとともにスパイラルアンテナ542に高周波電力を投入してラジカルを生成する。また、測定終了後には、電源137からヒータ1331に供給する電力量をPID電力量に戻し、そこから第2時間経過後に、ラジカル生成室51への供給と、スパイラルアンテナ542への高周波電力の投入を停止する。In the liquid chromatograph mass spectrometer 100 of this embodiment, the amount of power supplied from the power source 137 to the heater 1331 is changed from the PID amount of power to the amount of power during gas supply based on the heater power information, and after a first time has elapsed, the raw material gas is supplied to the radical generation chamber 51 and high frequency power is input to the spiral antenna 542 to generate radicals. After the measurement is completed, the amount of power supplied from the power source 137 to the heater 1331 is returned to the PID amount of power, and after a second time has elapsed, the supply to the radical generation chamber 51 and the input of high frequency power to the spiral antenna 542 are stopped.

原料ガスからラジカルを生成する際にラジカル化するのは原料ガスの一部であり、残りは未反応のまま残る。通常、原料ガスの温度はPID制御時のコリジョンセル132の内部の温度よりも低温であるため、未反応の原料ガスがコリジョンセル132に流れ込むとコリジョンセル132が冷却されて内部の温度が低下する。コリジョンセル132の内部の温度が低下すると、該コリジョンセル132に進入したプリカーサイオンが冷却されて反応性が低下する。その結果、ラジカル付着反応が生じにくくなり、プロダクトイオンの生成量が減少し、測定感度が悪くなってしまう。When generating radicals from the raw material gas, only a portion of the raw material gas is converted into radicals, and the remainder remains unreacted. Normally, the temperature of the raw material gas is lower than the temperature inside the collision cell 132 during PID control, so when unreacted raw material gas flows into the collision cell 132, the collision cell 132 is cooled and the internal temperature drops. When the temperature inside the collision cell 132 drops, the precursor ions that have entered the collision cell 132 are cooled and their reactivity decreases. As a result, the radical attachment reaction becomes more difficult to occur, the amount of product ions generated decreases, and the measurement sensitivity deteriorates.

これに対し、本実施例では、複数種類のラジカルのそれぞれについて、当該ラジカルを生成する際に使用する原料ガスの流量と、当該流量で原料ガスを供給する際にヒータ1331に供給する電力量と、その電力量の供給を開始及び終了するタイミングを対応付けたヒータ電力情報を予め用意しておき、これに基づいて電源137からヒータ1331に供給する電力量をPID制御時の電力量から増大するため、原料ガスが流入してもコリジョンセル132の温度がPID制御時の温度に維持され、所望のラジカル付着反応を効率よく生じさせることができる。In contrast, in this embodiment, heater power information is prepared in advance for each of the multiple types of radicals, which corresponds to the flow rate of the raw material gas used to generate the radical, the amount of power supplied to the heater 1331 when supplying the raw material gas at that flow rate, and the timing for starting and ending the supply of that amount of power.Based on this, the amount of power supplied from the power source 137 to the heater 1331 is increased from the amount of power during PID control, so that even if raw material gas flows in, the temperature of the collision cell 132 is maintained at the temperature during PID control, and the desired radical attachment reaction can be efficiently caused to occur.

上記実施例は一例であって、本発明の趣旨に沿って適宜に変更することができる。The above embodiment is merely an example and can be modified as appropriate in accordance with the spirit of the present invention.

上記実施例ではプラズマを生じさせて原料ガスからラジカルを生成したが、ラジカルの生成方法はこれに限定されない。例えば、原料ガスを熱解離させることによりラジカルを生成することもできる。この場合、PID制御されているコリジョンセル132よりも高温に加熱された原料ガスがコリジョンセル132に流入することでコリジョンセル132が加熱される。従って、この場合にはガス供給時電力量をPID電力量よりも小さくすればよい。 In the above embodiment, radicals were generated from the raw material gas by generating plasma, but the method of generating radicals is not limited to this. For example, radicals can also be generated by thermally dissociating the raw material gas. In this case, the collision cell 132 is heated by raw material gas heated to a temperature higher than the PID-controlled collision cell 132 flowing into the collision cell 132. Therefore, in this case, the amount of power during gas supply should be made smaller than the PID power amount.

上記測定例では、非測定時にもPID電力量をヒータ1331に供給してコリジョンセル132の温度をPID制御する構成としたが、コリジョンセル132の内部が汚染される可能性が低い場合には、非測定時にヒータ1331に電力を供給しなくてもよい。また、上記実施例では、測定中に常時、ガス供給時電力量をヒータ1331に供給する構成としたが、少なくともプリカーサイオンとラジカルの両方がコリジョンセル132に導入される時間帯、即ちラジカル付着反応によりプロダクトイオンが生成される時間帯にプリカーサイオンが冷却されることを防止すればよく、当該時間帯にのみガス供給時電力量を供給してもよい。In the above measurement example, the PID power amount is supplied to the heater 1331 even when not being measured to PID control the temperature of the collision cell 132, but if there is a low possibility that the inside of the collision cell 132 will be contaminated, it is not necessary to supply power to the heater 1331 when not being measured. Also, in the above embodiment, the gas supply power amount is constantly supplied to the heater 1331 during measurement, but it is sufficient to prevent the precursor ions from being cooled at least during the time period when both precursor ions and radicals are introduced into the collision cell 132, i.e., the time period when product ions are generated by the radical attachment reaction, and the gas supply power amount may be supplied only during that time period.

上記実施例では、ラジカル生成室51への原料ガスの供給及びスパイラルアンテナ542への高周波電力の供給を開始してから即時にはプラズマが生じず、ラジカルが生成されるタイミングが送れる可能性がある場合を想定して、測定中は常時、原料ガスからラジカルを生成してコリジョンセル132に供給したが、ラジカルの種類や生成条件によっては、ラジカル生成室51への原料ガスの供給及びスパイラルアンテナ542への高周波電力の供給を開始すると即時にラジカルを生成可能である場合がある。あるいは、輸送管58にラジカル生成室51で生成されたラジカルをコリジョンセル132に導入する流路と、外部に排出する流路とに切り替え可能な切り替えバルブを設けることもできる。これらの場合、プリカーサイオンがコリジョンセル132に導入されるタイミングに合わせて即時にラジカルを導入することが可能である。つまり、ラジカルとともに原料ガスがコリジョンセル132に流れ込む時間帯が測定時間全体の一部(プリカーサイオンがコリジョンセル132に導入される時間帯とほぼ同じ時間帯)のみとなるため、その時間帯にのみガス供給時電力量をヒータ1331に供給すればよい。In the above embodiment, radicals were constantly generated from the raw material gas during measurement and supplied to the collision cell 132, assuming that plasma may not be generated immediately after the supply of raw material gas to the radical generation chamber 51 and the supply of high-frequency power to the spiral antenna 542 are started, and the timing of radical generation may be delayed. However, depending on the type of radicals and the generation conditions, radicals may be generated immediately when the supply of raw material gas to the radical generation chamber 51 and the supply of high-frequency power to the spiral antenna 542 are started. Alternatively, a switching valve that can switch between a flow path for introducing radicals generated in the radical generation chamber 51 into the collision cell 132 and a flow path for discharging them to the outside can be provided in the transport pipe 58. In these cases, radicals can be introduced immediately in accordance with the timing when the precursor ions are introduced into the collision cell 132. In other words, the time period during which the raw material gas flows into the collision cell 132 together with the radicals is only a part of the entire measurement time (almost the same time period as the time period during which the precursor ions are introduced into the collision cell 132), so the amount of power during gas supply only needs to be supplied to the heater 1331 during that time period.

また、上記実施例では、電力量をガス供給時電力量に変更してから第1時間が経過した後に原料ガスをラジカル生成室51に供給し、また、電力量をPID電力量に変更してから第2時間が経過した後に原料ガスの供給を終了したが、コリジョンセル132の精緻な温度制御が求められない場合には、電力量の変更と、原料ガスの供給の開始/終了を同時に行ってもよく、あるいは逆の順番で行ってもよい。 In addition, in the above embodiment, the raw gas is supplied to the radical generation chamber 51 after a first time has elapsed since the amount of power was changed to the amount of power during gas supply, and the supply of raw gas is terminated after a second time has elapsed since the amount of power was changed to the PID amount of power. However, if precise temperature control of the collision cell 132 is not required, the change in the amount of power and the start/end of the supply of raw gas may be performed simultaneously, or in the reverse order.

上記実施例では、コリジョンセル132にプリカーサイオン及びラジカルを導入してラジカル付着反応を生じさせたが、コリジョンセル132に代えて三次元イオントラップを用いることもできる。また、上記実施例では質量分離部として四重極マスフィルタと飛行時間型質量分離部を用いたが、他の種類の質量分離部を用いてもよい。また、上記実施例では液体クロマトグラフと質量分析装置を組み合わせたが、ガスクロマトグラフと質量分析装置を組み合わせたり、あるいは質量分析装置のみを用いたりする場合にも上記同様の構成を採ることができる。In the above embodiment, precursor ions and radicals were introduced into the collision cell 132 to cause a radical attachment reaction, but a three-dimensional ion trap can be used instead of the collision cell 132. In addition, in the above embodiment, a quadrupole mass filter and a time-of-flight mass separator were used as the mass separator, but other types of mass separators may be used. In addition, in the above embodiment, a liquid chromatograph and a mass analyzer were combined, but a similar configuration can be used when a gas chromatograph and a mass analyzer are combined, or when only a mass analyzer is used.

[態様]
上述した複数の例示的な実施例は、以下の態様の具体例であることが当業者により理解される。
[Aspects]
It will be appreciated by those skilled in the art that the above exemplary embodiments are specific examples of the following aspects.

(第1項)
本発明の一態様に係る質量分析方法は、
試料成分由来のプリカーサイオンとラジカルを反応室で反応させることにより該プリカーサイオンからプロダクトイオンを生成して質量分析する方法であって、
原料ガスからラジカルを生成するステップと、
前記ラジカルの生成条件に応じた量の電力を前記反応室に設けられた温度制御部に供給した状態で該反応室に前記ラジカル及びプリカーサイオンを導入するステップと、
前記反応室で前記プリカーサイオンから生成されたプロダクトイオンを質量電荷比に応じて分離し検出するステップと
を含む。
(Section 1)
A mass spectrometry method according to one aspect of the present invention comprises the steps of:
A method for performing mass spectrometry by generating product ions from precursor ions derived from a sample component by reacting the precursor ions with radicals in a reaction chamber, comprising the steps of:
generating radicals from a source gas;
introducing the radicals and precursor ions into the reaction chamber while supplying power in an amount corresponding to the radical generation conditions to a temperature control unit provided in the reaction chamber;
and separating and detecting product ions generated from the precursor ions in the reaction chamber according to their mass-to-charge ratios.

(第5項)
本発明の一態様に係る質量分析装置は、
プリカーサイオンが導入される反応室と、
前記反応室に設けられた温度制御部と、
前記温度制御部に電力を供給する給電部と、
原料ガスからラジカルを生成して前記反応室に導入するラジカル生成部と、
前記給電部及び前記ラジカル生成部の動作を制御するものであって、前記反応室に前記ラジカルが導入される時間帯に前記ラジカル生成部におけるラジカル生成条件に応じた量の電力を前記温度制御部に供給する測定制御部と、
前記反応室で前記プリカーサイオンから生成されたプロダクトイオンを質量電荷比に応じて分離する質量分離部と、
前記質量分離部で分離された後のイオンを検出するイオン検出部と
を備える。
(Section 5)
A mass spectrometer according to one aspect of the present invention comprises:
a reaction chamber into which precursor ions are introduced;
A temperature control unit provided in the reaction chamber;
A power supply unit that supplies power to the temperature control unit;
a radical generating unit that generates radicals from a raw material gas and introduces the radicals into the reaction chamber;
a measurement control unit that controls the operation of the power supply unit and the radical generation unit and supplies the temperature control unit with power in an amount corresponding to the radical generation conditions in the radical generation unit during a period in which the radicals are introduced into the reaction chamber;
a mass separation unit that separates product ions generated from the precursor ions in the reaction chamber according to their mass-to-charge ratios;
and an ion detection unit that detects ions after separation in the mass separation unit.

第1項の質量分析方法及び第5項の質量分析装置では、プリカーサイオンが導入される反応室にラジカルが導入される時間帯に、ラジカル生成条件に応じた量の電力を温度制御部に供給する。例えば、ラジカルとともに、低温の原料ガスが反応室に流入する場合には、温度制御部に供給する電力量を大きくし、ラジカルとともに上記所定の温度よりも高温の原料ガスが反応室に流入する場合には、温度制御部に供給する電力量を小さくする。第1項の質量分析方法及び第5項の質量分析装置では、反応室にラジカルを供給する際に該ラジカルの生成条件に応じた量の電力を温度制御部に供給することによって、ラジカルとともに反応室に流入する原料ガスによる反応室の温度変化を補償することにより、ラジカル供給時の反応室の不所望の温度変化を抑制することができる。In the mass spectrometry method of paragraph 1 and the mass spectrometry apparatus of paragraph 5, during the time period when radicals are introduced into the reaction chamber into which precursor ions are introduced, an amount of power corresponding to the radical generation conditions is supplied to the temperature control unit. For example, when a low-temperature source gas flows into the reaction chamber together with the radicals, the amount of power supplied to the temperature control unit is increased, and when a source gas having a temperature higher than the above-mentioned predetermined temperature flows into the reaction chamber together with the radicals, the amount of power supplied to the temperature control unit is decreased. In the mass spectrometry method of paragraph 1 and the mass spectrometry apparatus of paragraph 5, when radicals are supplied to the reaction chamber, an amount of power corresponding to the radical generation conditions is supplied to the temperature control unit, thereby compensating for the temperature change in the reaction chamber due to the source gas flowing into the reaction chamber together with the radicals, thereby suppressing undesired temperature changes in the reaction chamber when the radicals are supplied.

(第2項)
第1項に記載の質量分析方法において、
測定開始前及び/又は測定終了後の時間帯に、前記温度制御部に所定量の電力を供給して前記反応室を予め決められた温度に維持し、測定中の一部または全部の時間帯に、前記温度制御部に供給する電力量を、前記ラジカルの生成条件に応じた量に変更する。
(Section 2)
2. The mass spectrometry method according to claim 1,
During a time period before the start of measurement and/or after the end of measurement, a predetermined amount of power is supplied to the temperature control unit to maintain the reaction chamber at a predetermined temperature, and during part or all of the time period during measurement, the amount of power supplied to the temperature control unit is changed to an amount according to the conditions for generating the radicals.

第2項の質量分析方法では、非測定時間帯にも反応室が所定の温度に維持されるため、測定待機時間帯に反応室の温度が低下して該反応室を構成する電極等に種々の化合物が付着して汚染されるのを抑制することができる。 In the mass spectrometry method of paragraph 2, the reaction chamber is maintained at a predetermined temperature even during non-measurement periods, thereby preventing the temperature of the reaction chamber from dropping during measurement standby periods, thereby preventing various compounds from adhering to and contaminating the electrodes, etc., that constitute the reaction chamber.

(第3項)
第1項又は第2項に記載の質量分析方法において、
前記ラジカル生成条件が、前記原料ガスの種類、該原料ガスから生成するラジカルの種類、及び該原料ガスの流量を含む。
(Section 3)
3. The mass spectrometry method according to claim 1 or 2,
The radical generation conditions include the type of the source gas, the type of radicals generated from the source gas, and the flow rate of the source gas.

ラジカル生成部において原料ガスからラジカルが生成される割合は、原料ガスの種類とラジカルの組み合わせによって異なる。また、反応室に流入する原料ガスの量は、ラジカル生成室に供給する原料ガスの流量によって異なる。第3項の質量分析方法では、原料ガスの種類、該原料ガスから生成するラジカルの種類、及び該原料ガスの流量を含むラジカル生成条件に応じた量の電力を温度制御部に供給するため、反応室の温度をより高い精度で制御することができる。 The rate at which radicals are generated from the raw material gas in the radical generation section varies depending on the type of raw material gas and the combination of radicals. In addition, the amount of raw material gas flowing into the reaction chamber varies depending on the flow rate of the raw material gas supplied to the radical generation chamber. In the mass spectrometry method of paragraph 3, an amount of power is supplied to the temperature control section according to the radical generation conditions, including the type of raw material gas, the type of radicals generated from the raw material gas, and the flow rate of the raw material gas, so that the temperature of the reaction chamber can be controlled with greater precision.

(第4項)
第1項から第3項のいずれかに記載の質量分析方法において、
前記反応室に前記ラジカルが導入される時間帯に、前記プリカーサイオンの導入の有無に関わらず、前記ラジカルの生成条件に応じた量の電力を前記温度制御部に供給する。
(Section 4)
4. The mass spectrometry method according to any one of claims 1 to 3,
During the period in which the radicals are introduced into the reaction chamber, regardless of whether the precursor ions are introduced or not, an amount of power according to the radical generation conditions is supplied to the temperature control unit.

第4項に記載の質量分析方法では、プリカーサイオンが反応室に導入されるか否かにかかわらず、反応室の温度を一定に保つことができる。そのため、反応室の温度の低下により該反応室を構成する電極等の汚染を抑制することができる。In the mass spectrometry method described in paragraph 4, the temperature of the reaction chamber can be kept constant regardless of whether precursor ions are introduced into the reaction chamber. Therefore, contamination of the electrodes and other components of the reaction chamber due to a decrease in the temperature of the reaction chamber can be suppressed.

100…液体クロマトグラフ質量分析装置
1…質量分析装置
10…イオン化室
101…ESIプローブ
102…加熱キャピラリ
11…第1中間真空室
111…イオンガイド
112…スキマー
12…第2中間真空室
121…イオンガイド
13…第3中間真空室
131…四重極マスフィルタ
132…コリジョンセル
1321…温度センサ
133…多重極イオンガイド
1331…ヒータ
134…イオンガイド
14…分析室
141…イオン輸送電極
142…直交加速電極
1421…押出電極
1422…引込電極
143…加速電極
144…リフレクトロン電極
145…イオン検出器
146…フライトチューブ
2…液体クロマトグラフ
5…ラジカル供給部
51…ラジカル生成室
52…原料ガス供給源
53…高周波電力供給部
54…ラジカル源
541…管状体
542…スパイラルアンテナ
544…磁石
545…プランジャー
546…高周波電力投入部
547…フランジ
548…磁石
58…輸送管
7…制御・処理部
71…記憶部
72…測定条件設定部
73…測定制御部
8…入力部
9…表示部
C…イオン光軸
100...Liquid chromatograph mass spectrometer 1...Mass spectrometer 10...Ionization chamber 101...ESI probe 102...Heated capillary 11...First intermediate vacuum chamber 111...Ion guide 112...Skimmer 12...Second intermediate vacuum chamber 121...Ion guide 13...Third intermediate vacuum chamber 131...Quadrupole mass filter 132...Collision cell 1321...Temperature sensor 133...Multipole ion guide 1331...Heater 134...Ion guide 14...Analysis chamber 141...Ion transport electrode 142...Orthogonal acceleration electrode 1421...Pushing electrode 1422...Pull Electrode 143...Acceleration electrode 144...Reflectron electrode 145...Ion detector 146...Flight tube 2...Liquid chromatograph 5...Radical supply section 51...Radical generation chamber 52...Raw material gas supply source 53...High frequency power supply section 54...Radical source 541...Tubular body 542...Spiral antenna 544...Magnet 545...Plunger 546...High frequency power input section 547...Flange 548...Magnet 58...Transport tube 7...Control/processing section 71...Memory section 72...Measurement condition setting section 73...Measurement control section 8...Input section 9...Display section C...Ion optical axis

Claims (6)

試料成分由来のプリカーサイオンとラジカルを反応室で反応させることにより該プリカーサイオンからプロダクトイオンを生成して質量分析する方法であって、
原料ガスからラジカルを所定の生成条件で生成するステップと、
前記ラジカルを前記生成条件で生成する際に前記原料ガスが前記反応室に流入することによって生じる該反応室の温度変化を補償するために、前記反応室に設けられた温度制御部に対して供給する必要がある電力の量を、前記生成条件に応じて決定するステップと、
前記ラジカルの前記生成条件に応じた量の電力を前記温度制御部に供給した状態で前記ラジカルを生成し、該反応室にラジカル及びプリカーサイオンを導入するステップと、
前記反応室で前記プリカーサイオンから生成されたプロダクトイオンを質量電荷比に応じて分離し検出するステップと
を含む質量分析方法。
A method for performing mass spectrometry by generating product ions from precursor ions derived from a sample component by reacting the precursor ions with radicals in a reaction chamber, comprising the steps of:
generating radicals from a source gas under predetermined generating conditions ;
determining, in accordance with the generation conditions, an amount of power that needs to be supplied to a temperature control unit provided in the reaction chamber in order to compensate for a temperature change in the reaction chamber caused by the flow of the raw material gas into the reaction chamber when the radicals are generated under the generation conditions;
generating the radicals while supplying power to the temperature control unit in an amount corresponding to the generation conditions of the radicals, and introducing the radicals and precursor ions into the reaction chamber;
and separating and detecting product ions generated from the precursor ions in the reaction chamber according to their mass-to-charge ratios.
測定開始前及び/又は測定終了後の時間帯に、前記温度制御部に所定量の電力を供給して前記反応室を予め決められた温度に維持し、測定中の一部または全部の時間帯に、前記温度制御部に供給する電力量を、前記ラジカルの生成条件に応じた量に変更する、請求項1に記載の質量分析方法。 The mass spectrometry method according to claim 1, wherein a predetermined amount of power is supplied to the temperature control unit during a time period before the start of measurement and/or after the end of measurement to maintain the reaction chamber at a predetermined temperature, and the amount of power supplied to the temperature control unit is changed to an amount according to the generation conditions of the radicals during a part or all of the time period during the measurement. 前記ラジカル生成条件が、前記原料ガスの種類、該原料ガスから生成するラジカルの種類、及び該原料ガスの流量を含む、請求項1に記載の質量分析方法。 2. The mass spectrometry method according to claim 1, wherein the radical generation conditions include the type of the source gas, the type of radicals generated from the source gas, and a flow rate of the source gas. 前記反応室に前記ラジカルが導入される時間帯に、前記プリカーサイオンの導入の有無に関わらず、前記ラジカルの生成条件に応じた量の電力を前記温度制御部に供給する、請求項1に記載の質量分析方法。 The mass spectrometry method according to claim 1, wherein, during the period when the radicals are introduced into the reaction chamber, an amount of power according to the generation conditions of the radicals is supplied to the temperature control unit, regardless of whether the precursor ions are introduced. プリカーサイオンが導入される反応室と、
前記反応室に設けられた温度制御部と、
前記温度制御部に電力を供給する給電部と、
原料ガスからラジカルを所定の生成条件で生成して前記反応室に導入するラジカル生成部と、
前記ラジカルを前記生成条件で生成する際に前記原料ガスが前記反応室に流入することによって生じる該反応室の温度変化を補償するために、前記温度制御部に対して供給する必要がある電力の量が、前記生成条件に対応付けられて保存された記憶部と、
前記給電部及び前記ラジカル生成部の動作を制御するものであって、前記反応室に前記ラジカルが導入される時間帯に、前記記憶部に保存された、前記生成条件に応じた量の電力を前記温度制御部に供給する測定制御部と、
前記反応室で前記プリカーサイオンから生成されたプロダクトイオンを質量電荷比に応じて分離する質量分離部と、
前記質量分離部で分離された後のイオンを検出するイオン検出部と
を備える質量分析装置。
a reaction chamber into which precursor ions are introduced;
A temperature control unit provided in the reaction chamber;
A power supply unit that supplies power to the temperature control unit;
a radical generating unit that generates radicals from a raw material gas under predetermined generating conditions and introduces the radicals into the reaction chamber;
a storage unit in which an amount of power that needs to be supplied to the temperature control unit in order to compensate for a temperature change in the reaction chamber caused by the flow of the raw material gas into the reaction chamber when the radicals are generated under the generation conditions is stored in association with the generation conditions;
a measurement control unit that controls the operation of the power supply unit and the radical generation unit, and supplies the temperature control unit with power in an amount corresponding to the generation conditions stored in the memory unit during a period when the radicals are introduced into the reaction chamber;
a mass separation unit that separates product ions generated from the precursor ions in the reaction chamber according to their mass-to-charge ratios;
and an ion detection unit that detects the ions separated by the mass separation unit.
前記反応室がコリジョンセルである、請求項5に記載の質量分析装置。 The mass spectrometer of claim 5, wherein the reaction chamber is a collision cell.
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