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JP7601664B2 - Chip Resistors - Google Patents
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JP7601664B2 - Chip Resistors - Google Patents

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Description

本発明は、面実装タイプのチップ抵抗器に関するものである。 The present invention relates to a surface-mount type chip resistor.

一般的にチップ抵抗器は、直方体形状の絶縁基板と、絶縁基板の表面に所定間隔を存して対向配置された一対の表電極と、絶縁基板の裏面に所定間隔を存して対向配置された一対の裏電極と、表電極と裏電極を導通する一対の端面電極と、これら各電極を覆う一対の外部メッキ層と、対をなす表電極どうしを橋絡する抵抗体と、抵抗体を覆う絶縁性の保護膜等によって主に構成されている。 In general, chip resistors are mainly composed of a rectangular insulating substrate, a pair of front electrodes arranged facing each other with a specified distance on the surface of the insulating substrate, a pair of rear electrodes arranged facing each other with a specified distance on the rear surface of the insulating substrate, a pair of end electrodes that connect the front and rear electrodes, a pair of external plating layers that cover each of these electrodes, a resistor that bridges the pair of front electrodes, and an insulating protective film that covers the resistor.

この種のチップ抵抗器において、通常、表電極には比抵抗の低いAg(銀)系の金属材料が用いられており、この表電極を覆うように外部メッキ層が形成された構成となっているが、外部メッキ層と保護膜の境界部分となる隙間から腐食性の強い硫化ガス等が侵入し易いため、表電極と保護膜の境界位置における表電極部分が硫化ガス等によって腐食されて抵抗値変化や断線等の不具合を招来する虞がある。 In this type of chip resistor, the front electrode is usually made of a low resistivity Ag (silver) based metal material, and an external plating layer is formed to cover this front electrode. However, highly corrosive sulfide gases and the like can easily penetrate through the gap at the boundary between the external plating layer and the protective film, and there is a risk that the front electrode portion at the boundary between the front electrode and the protective film will be corroded by the sulfide gases and the like, resulting in problems such as changes in resistance value and breakage.

従来、特許文献1に開示されるように、表電極と保護膜の双方に接続する保護電極を形成し、端面電極を保護膜に接触しないように表電極と保護電極上に形成すると共に、外部メッキ層を保護電極と端面電極の境界位置を超えて保護膜の端部まで覆うように形成することにより、耐硫化性の向上を図るようにしたチップ抵抗器が提案されている。 As disclosed in Patent Document 1, a chip resistor has been proposed that aims to improve sulfur resistance by forming a protective electrode that connects to both the front electrode and the protective film, forming end electrodes on the front electrode and the protective electrode so as not to contact the protective film, and forming an external plating layer that extends beyond the boundary between the protective electrode and the end electrode and covers the end of the protective film.

国際公開第2018/123419号International Publication No. 2018/123419

特許文献1に開示されたチップ抵抗器では、外部メッキ層が導電性の保護電極上に形成されるため、絶縁性の保護膜よりも密着性が高くなり、しかも、外部メッキ層と保護電極によって二重の遮蔽構造となっているため、表電極への硫化ガスの侵入を抑制することができる。 In the chip resistor disclosed in Patent Document 1, the outer plating layer is formed on a conductive protective electrode, which provides better adhesion than an insulating protective film, and the outer plating layer and the protective electrode form a double shielding structure, preventing the intrusion of sulfide gas into the front electrode.

しかし、保護電極が保護層の端部の斜面に沿って形成され、この保護電極を覆うように外部メッキ層が形成されているため、ヒートサイクル等に起因して発生する熱応力によって外部メッキ層と保護電極の密着力が低下すると、保護層と保護電極の境界部分に隙間ができてしまい、当該部分から硫化ガス等が入り込んでしまうことになる。 However, since the protective electrode is formed along the slope of the end of the protective layer and the external plating layer is formed to cover this protective electrode, if the adhesion between the external plating layer and the protective electrode is reduced due to thermal stress caused by heat cycles, etc., a gap will appear at the boundary between the protective layer and the protective electrode, allowing sulfide gas and other gases to enter through this area.

また、一般的に端面電極は生産性の高いスパッタ工法を用いて形成されるが、かかるスパッタ時にスパッタ粒子が保護電極を超えて保護層の上面まで到達した場合には、その部位まで外部メッキ層が析出してしまうことになる。その際、外部メッキ層は絶縁性の保護層との密着性が低いため、外部メッキ層の内側に保護電極が形成されていても、外部メッキ層の先端部を起点に発生した応力によって、保護電極上の外部メッキ層が保護層から剥離し易くなってしまう。 In addition, end electrodes are generally formed using a highly productive sputtering method, but if the sputtered particles during sputtering exceed the protective electrode and reach the top surface of the protective layer, the external plating layer will be deposited up to that area. In this case, since the external plating layer has low adhesion to the insulating protective layer, even if a protective electrode is formed inside the external plating layer, the stress generated from the tip of the external plating layer makes it easy for the external plating layer on the protective electrode to peel off from the protective layer.

本発明は、上記した従来技術の実情に鑑みてなされたものであり、その目的は、耐食性に優れたチップ抵抗器を提供することにある。
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The present invention has been made in consideration of the above-mentioned current state of the prior art, and an object of the present invention is to provide a chip resistor having excellent corrosion resistance.
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上記の目的を達成するために、本発明のチップ抵抗器は、直方体形状の絶縁基板と、前記絶縁基板の表面両端部に設けられた一対の表電極と、前記絶縁基板の裏面両端部に設けられた一対の裏電極と、一対の前記表電極に両端部を重ねるように設けられた抵抗体と、前記表電極と前記抵抗体の接続部分を含めて該抵抗体の全体を覆うように設けられたガラス材料からなる第1絶縁層と、前記第1絶縁層上に積層された樹脂材料からなる第2絶縁層と、前記表電極上に積層され、該表電極よりも耐硫化性の高い材料からなる一対の補助電極層と、少なくとも前記絶縁基板の両端面に延在して前記補助電極層と前記裏電極を導通する一対の端面電極と、前記補助電極層と前記端面電極および前記裏電極を覆う外部メッキ層と、を備え、前記第1絶縁層は、前記第2絶縁層に覆われずに前記表電極の上面の一部に重なる突出部を有しており、前記補助電極層が、少なくとも前記表電極と前記突出部を覆うように形成されていると共に、前記補助電極層の表面における最大高さ位置が前記第2絶縁層の表面における最大高さ位置以上に設定されている、ことを特徴としている。 In order to achieve the above object, the chip resistor of the present invention comprises a rectangular parallelepiped insulating substrate, a pair of front electrodes provided at both ends of the front surface of the insulating substrate, a pair of back electrodes provided at both ends of the back surface of the insulating substrate, a resistor provided so that both ends overlap the pair of front electrodes, a first insulating layer made of a glass material provided so as to cover the entire resistor including the connection portion between the front electrodes and the resistor, a second insulating layer made of a resin material laminated on the first insulating layer, and a pair of auxiliary electrodes laminated on the front electrodes and made of a material more resistant to sulfurization than the front electrodes. The insulating substrate is provided with an electrode layer, a pair of end surface electrodes extending at least to both end surfaces of the insulating substrate and electrically connecting the auxiliary electrode layer and the back electrode, and an external plating layer covering the auxiliary electrode layer, the end surface electrodes, and the back electrode, the first insulating layer having a protruding portion that is not covered by the second insulating layer and overlaps a portion of the upper surface of the front electrode, the auxiliary electrode layer is formed to cover at least the front electrode and the protruding portion, and the maximum height position on the surface of the auxiliary electrode layer is set to be equal to or higher than the maximum height position on the surface of the second insulating layer.

このように構成されたチップ抵抗器では、表電極の上面から第2絶縁層の上面に至る段差が、表電極の上面から第1絶縁層の突出部の上面に至る段差と、第1絶縁層の突出部の上面から第2絶縁層の上面に至る段差とに分けられ、それぞれの段差の高さが小さくなるため、これら段差を含む部分に補助電極層を安定した形状に形成することができる。また、補助電極の表面における最大高さ位置を第2絶縁層の表面における最大位置以上とすることにより、第2絶縁層に重なる補助電極層の端部で形状が安定するため、補助電極層の端部への応力集中が軽減され、補助電極層と第2絶縁層間の剥離や、外部メッキ層と補助電極層間の剥離を防止することができる。 In a chip resistor configured in this manner, the step from the top surface of the front electrode to the top surface of the second insulating layer is divided into a step from the top surface of the front electrode to the top surface of the protruding portion of the first insulating layer and a step from the top surface of the protruding portion of the first insulating layer to the top surface of the second insulating layer, and the height of each step is small, so that the auxiliary electrode layer can be formed in a stable shape in the portion including these steps. In addition, by making the maximum height position on the surface of the auxiliary electrode equal to or higher than the maximum position on the surface of the second insulating layer, the shape is stabilized at the end of the auxiliary electrode layer that overlaps the second insulating layer, so that stress concentration at the end of the auxiliary electrode layer is reduced, and peeling between the auxiliary electrode layer and the second insulating layer and peeling between the external plating layer and the auxiliary electrode layer can be prevented.

また、このチップ抵抗器は、第1絶縁層が第2絶縁層に覆われずに表電極の上面に重なる突出部を有しており、第2絶縁層が表電極に直接接していない構造となっているため、硫化ガスが補助電極層と第2絶縁層の界面から侵入した場合でも、硫化ガスは表電極に到達する前にガラス材料からなる第1絶縁層の突出部で受け止められ、表電極が硫化ガスによって腐食しまうことを防止できる。なお、硫化ガスは、高湿度雰囲気下において樹脂材料からなる第2絶縁層の内部に入り込み易くなるが、その場合でも、第2絶縁層の内部を通過した硫化ガスは、表電極に到達する前にガラス材料からなる第1絶縁層で受け止められるため、表電極が硫化ガスによって腐食しまうことを防止できる。 In addition, this chip resistor has a structure in which the first insulating layer is not covered by the second insulating layer and has a protruding portion that overlaps the upper surface of the front electrode, and the second insulating layer is not in direct contact with the front electrode. Therefore, even if sulfur gas enters from the interface between the auxiliary electrode layer and the second insulating layer, the sulfur gas is received by the protruding portion of the first insulating layer made of a glass material before it reaches the front electrode, and the front electrode can be prevented from being corroded by the sulfur gas. Note that sulfur gas tends to enter the inside of the second insulating layer made of a resin material in a high humidity atmosphere, but even in this case, the sulfur gas that passes through the inside of the second insulating layer is received by the first insulating layer made of a glass material before it reaches the front electrode, and therefore the front electrode can be prevented from being corroded by the sulfur gas.

上記の構成において、補助電極層は表電極よりも耐硫化性の高い材料で形成されていれば良いが、特に、補助電極層は導電性粒子を含有する樹脂材料からなることが好ましい。ここで、樹脂材料に含有される導電性粒子としては、銀(Ag)やニッケル(Ni)等の金属粒子またはカーボン粒子が好ましく、これら金属粒子とカーボン粒子のいずれか一方を単独で用いても良く、金属粒子とカーボン粒子の両方を混合して用いても良い。 In the above configuration, the auxiliary electrode layer may be formed of a material that is more resistant to sulfurization than the front electrode, but it is particularly preferable that the auxiliary electrode layer be made of a resin material containing conductive particles. Here, the conductive particles contained in the resin material are preferably metal particles such as silver (Ag) or nickel (Ni) or carbon particles, and either one of these metal particles or carbon particles may be used alone, or both metal particles and carbon particles may be used in combination.

この場合において、補助電極層の表面に粗面化処理が施されていると、補助電極層に対する外部メッキ層の密着強度を高めることができる。特に、補助電極層が金属粒子を含有しないカーボン系樹脂からなる場合、第1絶縁層と第2絶縁層に対する補助電極層の密着性を高めることができると共に、粗面化処理によって補助電極層に対する外部メッキ層の密着性を高めることができる。 In this case, if the surface of the auxiliary electrode layer is roughened, the adhesive strength of the external plating layer to the auxiliary electrode layer can be increased. In particular, if the auxiliary electrode layer is made of a carbon-based resin that does not contain metal particles, the adhesiveness of the auxiliary electrode layer to the first insulating layer and the second insulating layer can be increased, and the adhesiveness of the external plating layer to the auxiliary electrode layer can be increased by the roughening treatment.

また、上記の構成において、第2絶縁層の両端部が表電極と第1絶縁層の両方に重なるように形成されていても良いが、第2絶縁層の両端部が表電極に重ならない位置に形成されていると、硫化ガスが樹脂材料からなる第2絶縁層の内部に入り込んだとしても、硫化ガスが表電極に到達するまでの移動経路が長くなるため、表電極の腐食をより確実に防止することができ、しかも、第1絶縁層と第2絶縁層間の段差が小さくなるため、補助電極層を形成する際の印刷性を高めることができる。 In the above configuration, the second insulating layer may be formed so that both ends overlap both the front electrode and the first insulating layer. However, if both ends of the second insulating layer are formed in a position where they do not overlap the front electrode, even if the sulfur gas penetrates into the second insulating layer made of a resin material, the path that the sulfur gas travels to reach the front electrode is longer, so corrosion of the front electrode can be more reliably prevented, and the step between the first insulating layer and the second insulating layer is smaller, improving printability when forming the auxiliary electrode layer.

また、上記の構成において、補助電極層は単層構造であっても良いが、補助電極層を上部補助電極層と下部補助電極層からなる2層構造とし、上部補助電極層を下部補助電極層よりも電気伝導率の高い導電材料で形成すると、表電極と第1絶縁層の突出部に対する下部補助電極層の密着強度を高めた上で、上部補助電極層に対する外部メッキ層の密着強度を高めることができる。その際、下部補助電極層がカーボン粒子を含有するカーボン系樹脂材料からなると共に、上部補助電極層が金属粒子を含有する金属系樹脂材料からなることが好ましい。 In the above configuration, the auxiliary electrode layer may have a single layer structure, but if the auxiliary electrode layer has a two-layer structure consisting of an upper auxiliary electrode layer and a lower auxiliary electrode layer, and the upper auxiliary electrode layer is made of a conductive material with a higher electrical conductivity than the lower auxiliary electrode layer, the adhesion strength of the lower auxiliary electrode layer to the protruding portion of the front electrode and the first insulating layer can be increased, and the adhesion strength of the external plating layer to the upper auxiliary electrode layer can be increased. In this case, it is preferable that the lower auxiliary electrode layer is made of a carbon-based resin material containing carbon particles, and the upper auxiliary electrode layer is made of a metal-based resin material containing metal particles.

この場合において、下部補助電極層の上面が第2絶縁層の上面よりも低い位置に設定されていると、下部補助電極層から第2絶縁層の上面にかけて形成される上部補助電極層の端部形状が安定するため、第2絶縁層と補助電極層間や補助電極層と外部メッキ層間において、端部への応力集中が軽減されて各層間での剥離を防止することができる。 In this case, if the top surface of the lower auxiliary electrode layer is set at a position lower than the top surface of the second insulating layer, the end shape of the upper auxiliary electrode layer formed from the lower auxiliary electrode layer to the top surface of the second insulating layer is stabilized, so that stress concentration at the ends between the second insulating layer and the auxiliary electrode layer and between the auxiliary electrode layer and the external plating layer is reduced, and peeling between the layers can be prevented.

本発明によれば、外部メッキ層の剥がれを防止して耐食性に優れたチップ抵抗器を提供することができる。 The present invention provides a chip resistor that prevents peeling of the outer plating layer and has excellent corrosion resistance.

本発明の第1の実施形態に係るチップ抵抗器の断面図である。1 is a cross-sectional view of a chip resistor according to a first embodiment of the present invention. 該チップ抵抗器の製造工程を示す平面図である。5A to 5C are plan views showing a manufacturing process of the chip resistor. 該チップ抵抗器の製造工程を示す断面図である。3A to 3C are cross-sectional views showing a manufacturing process of the chip resistor. 本発明の第2の実施形態に係るチップ抵抗器の断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view of a chip resistor according to a second embodiment of the present invention. 本発明の第3の実施形態に係るチップ抵抗器の断面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view of a chip resistor according to a third embodiment of the present invention.

以下、発明の実施の形態について図面を参照しながら説明すると、図1は第1の実施形態に係るチップ抵抗器の断面図、図2は該チップ抵抗器の製造工程を示す平面図、図3は該チップ抵抗器の製造工程を示す断面図である。 The following describes the embodiments of the invention with reference to the drawings. FIG. 1 is a cross-sectional view of a chip resistor according to a first embodiment, FIG. 2 is a plan view showing the manufacturing process of the chip resistor, and FIG. 3 is a cross-sectional view showing the manufacturing process of the chip resistor.

図1に示すように、第1の実施形態に係るチップ抵抗器1は、直方体形状の絶縁基板2と、絶縁基板2の上面における長手方向の両端部に設けられた一対の表電極3と、絶縁基板2の下面における長手方向の両端部に設けられた一対の裏電極4と、一対の表電極3に両端部を重ねるように設けられた長方形状の抵抗体5と、表電極3と抵抗体5の接続部分を含めて抵抗体5の全体を覆う第1絶縁層6と、第1絶縁層6上に積層された第2絶縁層7と、表電極3上に積層された一対の補助電極層8と、絶縁基板2の両端面に延在して対応する補助電極層8と裏電極4間を導通する一対の端面電極9と、補助電極層8と端面電極9および裏電極4を覆うように設けられた一対の外部メッキ層10と、により主として構成されている。 As shown in FIG. 1, the chip resistor 1 according to the first embodiment is mainly composed of a rectangular insulating substrate 2, a pair of front electrodes 3 provided at both ends of the upper surface of the insulating substrate 2 in the longitudinal direction, a pair of back electrodes 4 provided at both ends of the lower surface of the insulating substrate 2 in the longitudinal direction, a rectangular resistor 5 provided so that both ends overlap the pair of front electrodes 3, a first insulating layer 6 covering the entire resistor 5 including the connection portion between the front electrodes 3 and the resistor 5, a second insulating layer 7 laminated on the first insulating layer 6, a pair of auxiliary electrode layers 8 laminated on the front electrodes 3, a pair of end surface electrodes 9 extending on both end surfaces of the insulating substrate 2 and conducting between the corresponding auxiliary electrode layers 8 and the back electrodes 4, and a pair of external plating layers 10 provided to cover the auxiliary electrode layers 8, the end electrodes 9, and the back electrodes 4.

絶縁基板2はセラミックス等からなり、この絶縁基板2は、後述するシート状の大判基板を縦横に延びる一次分割溝と二次分割溝に沿って分割することにより多数個取りされたものである。 The insulating substrate 2 is made of ceramics or the like, and is obtained by dividing a large sheet-like substrate (described later) along the primary dividing grooves and secondary dividing grooves that run lengthwise and widthwise, resulting in a large number of insulating substrates 2.

表電極3は、Pd(パラジウム)を含有するAg(銀)系ペーストをスクリーン印刷して乾燥・焼成させたものである。 The front electrode 3 is made by screen printing an Ag (silver)-based paste containing Pd (palladium), then drying and firing it.

裏電極4は、銀(Ag)やニッケル(Ni)等の金属粒子またはカーボン粒子を充填した樹脂ペーストをスクリーン印刷して加熱硬化(焼付け)させたものである。 The back electrode 4 is made by screen printing and then heating and curing (baking) a resin paste filled with metal particles such as silver (Ag) or nickel (Ni) or carbon particles.

抵抗体5は、酸化ルテニウム等の抵抗ペーストをスクリーン印刷して乾燥・焼成させたものであり、この抵抗体5の長手方向の両端部は表電極3に重なっている。図示省略されているが、抵抗体5には抵抗値を調整するためのトリミング溝が形成されている。 The resistor 5 is made by screen printing a resistive paste such as ruthenium oxide, drying and firing it, and both ends of the resistor 5 in the longitudinal direction overlap the front electrode 3. Although not shown in the figure, the resistor 5 has a trimming groove formed therein for adjusting the resistance value.

第1絶縁層6は、ガラスペーストをスクリーン印刷して乾燥・焼成させたものである。第1絶縁層6はトリミング溝を形成する前に抵抗体5を覆うように形成されており、第1絶縁層6における抵抗体5から露出する両端部は突出部6aとなっている。突出部6aは、表電極3における絶縁基板2の端面から離れた内方部分の上面に平坦状に重なっている。 The first insulating layer 6 is formed by screen printing a glass paste, then drying and firing it. The first insulating layer 6 is formed to cover the resistor 5 before the trimming groove is formed, and both ends of the first insulating layer 6 exposed from the resistor 5 form protrusions 6a. The protrusions 6a overlap flatly on the upper surface of the inner part of the front electrode 3 away from the end face of the insulating substrate 2.

第2絶縁層7は、エポキシ樹脂ペーストをスクリーン印刷して加熱硬化させたものである。第2絶縁層7は、トリミング溝を形成した後の第1絶縁層6の突出部6aを除いた部分を覆うように形成されている。 The second insulating layer 7 is made by screen printing an epoxy resin paste and then heating and hardening it. The second insulating layer 7 is formed so as to cover the first insulating layer 6 except for the protruding portion 6a after the trimming groove is formed.

補助電極層8は、表電極3よりも耐硫化性の高い材料、具体的には、銀(Ag)やニッケル(Ni)またはカーボン等の導電性粒子を充填した樹脂ペーストをスクリーン印刷して加熱硬化させたものである。補助電極層8は、表電極3と第1絶縁層6の突出部6aを覆って、第2絶縁層7の上面の途中に至る範囲に形成されており、補助電極層8の表面における最大高さ位置は第2絶縁層7の表面における最大高さ位置以上となっている。 The auxiliary electrode layer 8 is made of a material more resistant to sulfuration than the front electrode 3, specifically a resin paste filled with conductive particles such as silver (Ag), nickel (Ni) or carbon, which is screen-printed and then heat-cured. The auxiliary electrode layer 8 covers the front electrode 3 and the protruding portion 6a of the first insulating layer 6, and is formed in an area extending partway up the top surface of the second insulating layer 7, with the maximum height position on the surface of the auxiliary electrode layer 8 being equal to or higher than the maximum height position on the surface of the second insulating layer 7.

端面電極9は、ニッケル(Ni)/クロム(Cr)等をスバッタリングすることによって形成されたものであり、この端面電極9によって絶縁基板2の端面を介して上下に離間する補助電極層8と裏電極4とが導通されている。なお、補助電極層8の第2絶縁層7寄りの上面は端面電極9に覆われておらず、裏電極4の絶縁基板2の端面から離れた内側部分も端面電極9に覆われていない。 The end electrode 9 is formed by sputtering nickel (Ni)/chromium (Cr) or the like, and this end electrode 9 provides electrical continuity between the auxiliary electrode layer 8 and the back electrode 4, which are spaced apart vertically, via the end face of the insulating substrate 2. The upper surface of the auxiliary electrode layer 8 near the second insulating layer 7 is not covered by the end electrode 9, and the inner portion of the back electrode 4 away from the end face of the insulating substrate 2 is also not covered by the end electrode 9.

外部メッキ層10は、バリヤー層11と外部接続層12の2層構造からなり、そのうちバリヤー層11は電解めっきによって形成されたNiメッキ層であり、外部接続層12は電解めっきによって形成されたSnメッキ層である。この外部メッキ層10は、端面電極9の表面全体と該端面電極9から露出する補助電極層8を覆うと共に、端面電極9から露出する裏電極4を覆っている。 The external plating layer 10 has a two-layer structure consisting of a barrier layer 11 and an external connection layer 12, of which the barrier layer 11 is a Ni plating layer formed by electrolytic plating, and the external connection layer 12 is a Sn plating layer formed by electrolytic plating. This external plating layer 10 covers the entire surface of the end electrode 9 and the auxiliary electrode layer 8 exposed from the end electrode 9, as well as covering the back electrode 4 exposed from the end electrode 9.

次に、上記の如く構成されたチップ抵抗器1の製造方法について、図2と図3を参照しながら説明する。 Next, a method for manufacturing the chip resistor 1 configured as described above will be described with reference to Figures 2 and 3.

まず、格子状に延びる一次分割溝と二次分割溝が形成された大判基板2Aを準備する。これら一次分割溝と二次分割溝によって大判基板2Aの表裏両面は多数のチップ形成領域に区画され、これらチップ形成領域がそれぞれ1個分の絶縁基板2となる。図2と図3には1つのチップ形成領域が代表的に示されているが、実際には、このようなチップ形成領域が格子状に多数配列されている。 First, a large substrate 2A is prepared, on which primary and secondary dividing grooves extending in a lattice pattern are formed. These primary and secondary dividing grooves divide the front and back surfaces of the large substrate 2A into numerous chip formation regions, and each of these chip formation regions becomes one insulating substrate 2. Although one chip formation region is shown representatively in Figures 2 and 3, in reality, many such chip formation regions are arranged in a lattice pattern.

そして、図2(a)と図3(a)に示すように、大判基板2Aの表面にAg-Pdペーストをスクリーン印刷した後、これを乾燥・焼成することにより、各チップ形成領域の長手方向両端部に所定間隔を存して対向する一対の表電極3を形成する。 As shown in Figures 2(a) and 3(a), Ag-Pd paste is screen-printed on the surface of the large-sized substrate 2A, which is then dried and fired to form a pair of surface electrodes 3 facing each other at a specified distance at both ends of the longitudinal direction of each chip formation area.

次に、図2(b)と図3(b)に示すように、大判基板2Aの表面に酸化ルテニウム等を含有した抵抗ペーストをスクリーン印刷した後、これを乾燥・焼成することにより、両端部を表電極3に重ね合わせた長方形状の抵抗体5を形成する。 Next, as shown in Figures 2(b) and 3(b), a resistive paste containing ruthenium oxide or the like is screen-printed on the surface of the large-sized substrate 2A, which is then dried and fired to form a rectangular resistor 5 with both ends overlapping the front electrodes 3.

次に、図2(c)と図3(c)に示すように、抵抗体5を覆う領域にガラスペーストをスクリーン印刷してこれを乾燥・焼成することにより、表電極3との接続端部を含めて抵抗体5の全体を被覆する第1絶縁層6を形成する。そして、この第1絶縁層6の上からレーザー光を照射することにより、抵抗体5に不図示のトリミング溝を形成して抵抗値を調整する。 Next, as shown in Figures 2(c) and 3(c), a glass paste is screen-printed in the area covering the resistor 5, and then dried and baked to form a first insulating layer 6 that covers the entire resistor 5, including the connection end with the front electrode 3. Then, a laser beam is irradiated from above this first insulating layer 6 to form a trimming groove (not shown) in the resistor 5 and adjust the resistance value.

次に、図2(d)と図3(d)に示すように、第1絶縁層6の上からエポキシ樹脂ペーストをスクリーン印刷して加熱硬化(焼付け)することにより、第1絶縁層6を覆う第2絶縁層7を形成する。その際、第1絶縁層6の両端部に形成された突出部6aは、第2絶縁層7から露出して表電極3の上面に平坦状に重なっている。また、これと同時あるいは前後して、大判基板2Aの裏面にカーボン系の導電フィラーを充填した樹脂ペーストをスクリーン印刷して加熱硬化することにより、各チップ形成領域の長手方向両端部に所定間隔を存して対向する一対の裏電極4を形成する。 Next, as shown in Figures 2(d) and 3(d), an epoxy resin paste is screen-printed on the first insulating layer 6 and then heat-cured (baked) to form a second insulating layer 7 covering the first insulating layer 6. At this time, the protrusions 6a formed at both ends of the first insulating layer 6 are exposed from the second insulating layer 7 and overlap the top surface of the front electrode 3 in a flat manner. At the same time or before or after this, a resin paste filled with a carbon-based conductive filler is screen-printed on the back surface of the large-format substrate 2A and then heat-cured to form a pair of opposing back electrodes 4 at a predetermined distance at both longitudinal ends of each chip formation region.

次に、図2(e)と図3(e)に示すように、カーボン系の導電フィラーを充填した樹脂ペーストをスクリーン印刷して加熱硬化することにより、表電極3と第1絶縁層6の突出部6aを覆う一対の補助電極層8を形成し、その後、補助電極層8の表面を有機溶剤やブラスト等を用いて粗面化処理する。これら補助電極層8は、第2絶縁層7の両端部を越えて上面の途中に至る範囲に形成されるため、補助電極層8の表面における最大高さ位置は第2絶縁層7の表面における最大高さ位置以上となっている。 Next, as shown in Figures 2(e) and 3(e), a resin paste filled with a carbon-based conductive filler is screen-printed and heat-cured to form a pair of auxiliary electrode layers 8 that cover the surface electrode 3 and the protruding portion 6a of the first insulating layer 6, and then the surface of the auxiliary electrode layer 8 is roughened using an organic solvent, blasting, or the like. These auxiliary electrode layers 8 are formed in a range that extends beyond both ends of the second insulating layer 7 and reaches partway up the top surface, so that the maximum height position on the surface of the auxiliary electrode layer 8 is equal to or greater than the maximum height position on the surface of the second insulating layer 7.

これまでの工程は大判基板2Aに対する一括処理であるが、次なる工程では、大判基板2Aを一次分割溝に沿って短冊状に一次分割することにより、チップ形成領域の長手方向を幅寸法とする短冊状基板2Bを得る。 The steps up to this point have been a one-time process on the large substrate 2A, but in the next step, the large substrate 2A is primarily divided into strips along the primary division grooves to obtain strip-shaped substrates 2B whose width dimension is the longitudinal direction of the chip formation area.

次に、この短冊状基板2Bの分割面に向けてNi/Crをスパッタリングすることにより、図2(f)と図3(f)に示すように、補助電極層8と裏電極4を導通する一対の端面電極9を形成する。その際、端面電極9は補助電極層8と裏電極4の外側端寄りの表面を覆うように断面コ字状に形成されるが、補助電極層8の第2絶縁層7寄りの上面は端面電極9に覆われず、裏電極4の内側端寄りの表面も端面電極9に覆われない。 Next, Ni/Cr is sputtered toward the divided surfaces of the rectangular substrate 2B to form a pair of end electrodes 9 that conduct electricity between the auxiliary electrode layer 8 and the back electrode 4, as shown in Figures 2(f) and 3(f). At this time, the end electrodes 9 are formed with a U-shaped cross section so as to cover the surfaces of the auxiliary electrode layer 8 and the back electrode 4 near the outer ends, but the upper surface of the auxiliary electrode layer 8 near the second insulating layer 7 is not covered by the end electrodes 9, and the surface of the back electrode 4 near the inner end is not covered by the end electrodes 9 either.

次に、短冊状基板2Bを二次分割溝に沿って複数のチップ状基板2Cに2次分割した後、これらチップ状基板2Cに対して電解Niめっきを施すことにより、図2(g)と図3(g)に示すように、端面電極9を被覆するバリヤー層11を形成する。 Next, the rectangular substrate 2B is divided into a plurality of chip-shaped substrates 2C along the secondary dividing grooves, and then these chip-shaped substrates 2C are electrolytically plated with Ni to form a barrier layer 11 that covers the end electrodes 9, as shown in Figures 2(g) and 3(g).

しかる後、チップ状基板2Cに対して電解Snめっきを施すことにより、図2(h)と図3(h)に示すように、バリヤー層11を被覆する外部接続層12を形成する。これにより、Niメッキ層とSnメッキ層の2層構造からなる外部メッキ層10が形成され、図1に示すチップ抵抗器1が完成する。 Then, electrolytic Sn plating is applied to the chip-shaped substrate 2C to form an external connection layer 12 that covers the barrier layer 11, as shown in Figures 2(h) and 3(h). This forms an external plating layer 10 consisting of a two-layer structure of a Ni plating layer and a Sn plating layer, completing the chip resistor 1 shown in Figure 1.

以上説明したように、第1の実施形態に係るチップ抵抗器1では、表電極3の上面から第2絶縁層7の上面に至る段差が、表電極3の上面から第1絶縁層6の突出部6aの上面に至る段差(つまり突出部6aの厚み)と、第1絶縁層6の突出部6aの上面から第2絶縁層7の上面に至る段差(つまり第2絶縁層7の厚み)とに分けられ、それぞれの段差の高さが小さくなるため、これら段差を含む部分に補助電極層8を安定した形状に形成することができる。また、補助電極8の表面における最大高さ位置を第2絶縁層7の表面における最大位置以上とすることで補助電極層8の印刷成形性が良好となり、第2絶縁層7に重なる補助電極層8の端部で形状が安定するため、補助電極層8の端部への応力集中が軽減され、補助電極層8と第2絶縁層7間の剥離や、外部メッキ層10と補助電極層8間の剥離を防止することができる。 As described above, in the chip resistor 1 according to the first embodiment, the step from the upper surface of the front electrode 3 to the upper surface of the second insulating layer 7 is divided into a step from the upper surface of the front electrode 3 to the upper surface of the protruding portion 6a of the first insulating layer 6 (i.e., the thickness of the protruding portion 6a) and a step from the upper surface of the protruding portion 6a of the first insulating layer 6 to the upper surface of the second insulating layer 7 (i.e., the thickness of the second insulating layer 7). Since the height of each step is small, the auxiliary electrode layer 8 can be formed in a stable shape in the part including these steps. In addition, by making the maximum height position on the surface of the auxiliary electrode 8 equal to or higher than the maximum position on the surface of the second insulating layer 7, the printability of the auxiliary electrode layer 8 is improved, and the shape is stabilized at the end of the auxiliary electrode layer 8 overlapping the second insulating layer 7, so that stress concentration at the end of the auxiliary electrode layer 8 is reduced, and peeling between the auxiliary electrode layer 8 and the second insulating layer 7 and peeling between the external plating layer 10 and the auxiliary electrode layer 8 can be prevented.

また、第1の実施形態に係るチップ抵抗器1は、第1絶縁層6が第2絶縁層7に覆われずに表電極3の上面に重なる突出部6aを有しており、第2絶縁層7が表電極3に直接接していない構造になっているため、硫化ガスが補助電極層8と第2絶縁層7の界面から侵入した場合でも、硫化ガスは表電極3に到達する前にガラス材料からなる第1絶縁層6の突出部6aで受け止められ、表電極3が硫化ガスによって腐食しまうことを防止できる。なお、硫化ガスは、高湿度雰囲気下において樹脂材料からなる第2絶縁層7の内部に入り込み易くなるが、その場合でも、第2絶縁層7の内部を通過した硫化ガスは、表電極3に到達する前にガラス材料からなる第1絶縁層6で受け止められるため、表電極3が硫化ガスによって腐食しまうことを防止できる。 In addition, in the chip resistor 1 according to the first embodiment, the first insulating layer 6 has a protruding portion 6a that overlaps the upper surface of the front electrode 3 without being covered by the second insulating layer 7, and the second insulating layer 7 is not in direct contact with the front electrode 3. Therefore, even if sulfur gas enters from the interface between the auxiliary electrode layer 8 and the second insulating layer 7, the sulfur gas is received by the protruding portion 6a of the first insulating layer 6 made of a glass material before it reaches the front electrode 3, and the front electrode 3 can be prevented from being corroded by the sulfur gas. Note that sulfur gas tends to enter the inside of the second insulating layer 7 made of a resin material in a high humidity atmosphere, but even in this case, the sulfur gas that has passed through the inside of the second insulating layer 7 is received by the first insulating layer 6 made of a glass material before it reaches the front electrode 3, so that the front electrode 3 can be prevented from being corroded by the sulfur gas.

また、第1の実施形態に係るチップ抵抗器1は、補助電極層8が金属粒子を含有しないカーボン系樹脂材料で形成されていると共に、バリヤー層11で覆われる補助電極層8の表面に粗面化処理が施されているため、表電極3と第1絶縁層6の突出部6aに対する補助電極層8の密着性を高めた上で、補助電極層8に対するバリヤー層11(外部メッキ層10)の密着性を高めることができる。なお、補助電極層8は、表電極3よりも耐硫化性の高い材料で形成されていれば、銀(Ag)やニッケル(Ni)等の金属粒子を単独で含有する樹脂や、金属粒子とカーボン粒子の両方を含有する樹脂のように、カーボン粒子を単独で含有する樹脂以外の材料で形成しても良い。 In addition, in the chip resistor 1 according to the first embodiment, the auxiliary electrode layer 8 is formed of a carbon-based resin material that does not contain metal particles, and the surface of the auxiliary electrode layer 8 covered with the barrier layer 11 is roughened, so that the adhesion of the auxiliary electrode layer 8 to the front electrode 3 and the protruding portion 6a of the first insulating layer 6 can be improved, and the adhesion of the barrier layer 11 (external plating layer 10) to the auxiliary electrode layer 8 can be improved. Note that the auxiliary electrode layer 8 may be formed of a material other than a resin containing only carbon particles, such as a resin containing only metal particles such as silver (Ag) or nickel (Ni) or a resin containing both metal particles and carbon particles, as long as it is formed of a material that is more resistant to sulfurization than the front electrode 3.

さらに、第1の実施形態に係るチップ抵抗器1では、裏電極4が耐硫化性の高い材料(例えばカーボン粒子を充填した樹脂材料)で形成されているため、裏電極4の硫化も防止して耐硫化性に優れたチップ抵抗器1となっている。 Furthermore, in the chip resistor 1 according to the first embodiment, the back electrode 4 is formed from a material with high resistance to sulfurization (e.g., a resin material filled with carbon particles), which prevents sulfurization of the back electrode 4 and results in a chip resistor 1 with excellent resistance to sulfurization.

図4は第2の実施形態に係るチップ抵抗器20の断面図であり、図1に対応する部分には同一符号を付してある。 Figure 4 is a cross-sectional view of a chip resistor 20 according to the second embodiment, and parts corresponding to those in Figure 1 are given the same reference numerals.

図4に示すように、第2の実施形態に係るチップ抵抗器20は、第2絶縁層7の両端部が表電極3に重ならない位置に形成されており、それ以外の構成は第1の実施形態に係るチップ抵抗器1と基本的に同じである。 As shown in FIG. 4, the chip resistor 20 according to the second embodiment is formed in a position where both ends of the second insulating layer 7 do not overlap the front electrode 3, and the rest of the configuration is basically the same as the chip resistor 1 according to the first embodiment.

このように構成された第2の実施形態に係るチップ抵抗器20では、第2絶縁層7の両端部が表電極3に重ならない位置に形成されているため、硫化ガスが樹脂材料からなる第2絶縁層7の内部に入り込んだとしても、硫化ガスが表電極3に到達するまでの移動経路が長くなり、表電極3の腐食をより確実に防止することができる。しかも、第1絶縁層6の突出部6aの上面から第2絶縁層7の上面に至る段差が、第1絶縁層6における抵抗体5の両端部に重なる部分(図中の符号6bを付した部分)によって階段状となるため、第1絶縁層6と第2絶縁層7間の段差が小さくなり、補助電極層8を形成する際の印刷性を高めることができる。 In the chip resistor 20 according to the second embodiment configured in this manner, both ends of the second insulating layer 7 are formed in positions that do not overlap the front electrode 3. Therefore, even if sulfur gas penetrates into the second insulating layer 7 made of a resin material, the path of movement of the sulfur gas until it reaches the front electrode 3 is longer, and corrosion of the front electrode 3 can be more reliably prevented. Moreover, the step from the upper surface of the protruding portion 6a of the first insulating layer 6 to the upper surface of the second insulating layer 7 is stepped due to the portion of the first insulating layer 6 that overlaps both ends of the resistor 5 (portion marked with the symbol 6b in the figure), so the step between the first insulating layer 6 and the second insulating layer 7 is smaller, and printability can be improved when forming the auxiliary electrode layer 8.

図5は第3の実施形態に係るチップ抵抗器30の断面図であり、図1に対応する部分には同一符号を付してある。 Figure 5 is a cross-sectional view of a chip resistor 30 according to the third embodiment, and parts corresponding to those in Figure 1 are given the same reference numerals.

図5に示すように、第3の実施形態に係るチップ抵抗器30は、補助電極層8が下部補助電極層31と上部補助電極層32の2層構造になっており、それ以外の構成は第1の実施形態に係るチップ抵抗器1と基本的に同じである。 As shown in FIG. 5, the chip resistor 30 according to the third embodiment has an auxiliary electrode layer 8 with a two-layer structure of a lower auxiliary electrode layer 31 and an upper auxiliary electrode layer 32, and the rest of the configuration is basically the same as the chip resistor 1 according to the first embodiment.

ここで、下部補助電極層31の上面は第2絶縁層7の上面よりも低い位置に設定されており、上部補助電極層32は下部補助電極層31よりも電気伝導率の高い導電材料で形成されている。具体的には、下部補助電極層31はカーボン粒子を含有するカーボン系樹脂材料で形成され、上部補助電極層32はAgやNi等の金属粒子を含有する金属系樹脂材料で形成されている。 Here, the upper surface of the lower auxiliary electrode layer 31 is set at a position lower than the upper surface of the second insulating layer 7, and the upper auxiliary electrode layer 32 is formed of a conductive material having a higher electrical conductivity than the lower auxiliary electrode layer 31. Specifically, the lower auxiliary electrode layer 31 is formed of a carbon-based resin material containing carbon particles, and the upper auxiliary electrode layer 32 is formed of a metal-based resin material containing metal particles such as Ag and Ni.

このように構成された第3の実施形態に係るチップ抵抗器30では、補助電極層8が下部補助電極層31と上部補助電極層32の2層構造になっていると共に、上部補助電極層32が下部補助電極層31よりも電気伝導率の高い導電材料からなるため、表電極3と第1絶縁層6の突出部6aに対する下部補助電極層31の密着強度を高めた上で、上部補助電極層32に対するバリヤー層11(外部メッキ層10)の密着強度を高めることができる。 In the chip resistor 30 according to the third embodiment configured in this manner, the auxiliary electrode layer 8 has a two-layer structure consisting of a lower auxiliary electrode layer 31 and an upper auxiliary electrode layer 32, and the upper auxiliary electrode layer 32 is made of a conductive material with a higher electrical conductivity than the lower auxiliary electrode layer 31. This increases the adhesion strength of the lower auxiliary electrode layer 31 to the surface electrode 3 and the protruding portion 6a of the first insulating layer 6, and also increases the adhesion strength of the barrier layer 11 (external plating layer 10) to the upper auxiliary electrode layer 32.

また、第3の実施形態に係るチップ抵抗器30は、2層構造の補助電極層8のうち、下部補助電極層31の上面が第2絶縁層7の上面よりも低い位置に設定されているため、下部補助電極層31から第2絶縁層7の上面にかけて形成される上部補助電極層32の端部形状が安定する。その結果、第2絶縁層7と補助電極層8間や補助電極層8と外部メッキ層10間において、端部への応力集中が軽減されて各層間での剥離を防止することができる。 In addition, in the chip resistor 30 according to the third embodiment, the upper surface of the lower auxiliary electrode layer 31 of the two-layered auxiliary electrode layer 8 is set at a lower position than the upper surface of the second insulating layer 7, so that the end shape of the upper auxiliary electrode layer 32 formed from the lower auxiliary electrode layer 31 to the upper surface of the second insulating layer 7 is stabilized. As a result, stress concentration at the ends is reduced between the second insulating layer 7 and the auxiliary electrode layer 8 and between the auxiliary electrode layer 8 and the outer plating layer 10, and peeling between the layers can be prevented.

1,20,30 チップ抵抗器
2 絶縁基板
2A 大判基板
2B 短冊状基板
2C チップ状基板
3 表電極
4 裏電極
5 抵抗体
6 第1絶縁層
6a 突出部
7 第2絶縁層
8 補助電極層
9 端面電極
10 外部メッキ層
11 バリヤー層
12 外部接続層
31 下部補助電極層
32 上部補助電極層
REFERENCE SIGNS LIST 1, 20, 30 Chip resistor 2 Insulating substrate 2A Large substrate 2B Strip-shaped substrate 2C Chip-shaped substrate 3 Front electrode 4 Back electrode 5 Resistor 6 First insulating layer 6a Protruding portion 7 Second insulating layer 8 Auxiliary electrode layer 9 End electrode 10 External plating layer 11 Barrier layer 12 External connection layer 31 Lower auxiliary electrode layer 32 Upper auxiliary electrode layer

Claims (8)

直方体形状の絶縁基板と、前記絶縁基板の表面両端部に設けられた一対の表電極と、前記絶縁基板の裏面両端部に設けられた一対の裏電極と、一対の前記表電極に両端部を重ねるように設けられた抵抗体と、前記表電極と前記抵抗体の接続部分を含めて該抵抗体の全体を覆うように設けられたガラス材料からなる第1絶縁層と、前記第1絶縁層上に積層された樹脂材料からなる第2絶縁層と、前記表電極上に積層され、該表電極よりも耐硫化性の高い材料からなる一対の補助電極層と、少なくとも前記絶縁基板の両端面に延在して前記補助電極層と前記裏電極を導通する一対の端面電極と、前記補助電極層と前記端面電極および前記裏電極を覆う外部メッキ層と、を備え、
前記第1絶縁層は、前記第2絶縁層に覆われずに前記表電極の上面の一部に重なる突出部を有しており、
前記補助電極層が、少なくとも前記表電極と前記突出部を覆うように形成されていると共に、前記補助電極層の表面における最大高さ位置が前記第2絶縁層の表面における最大高さ位置以上に設定されている、
ことを特徴とするチップ抵抗器。
a pair of front electrodes provided on both ends of a front surface of the insulating substrate, a pair of back electrodes provided on both ends of a back surface of the insulating substrate, a resistor provided so as to overlap the pair of front electrodes at both ends, a first insulating layer made of a glass material provided so as to cover the entire resistor including a connection portion between the front electrode and the resistor, a second insulating layer made of a resin material laminated on the first insulating layer, a pair of auxiliary electrode layers laminated on the front electrodes and made of a material having higher resistance to sulfuration than the front electrodes, a pair of end electrodes extending at least on both end surfaces of the insulating substrate and conducting electrical current between the auxiliary electrode layer and the back electrode, and an external plating layer covering the auxiliary electrode layer, the end electrodes, and the back electrode,
the first insulating layer has a protruding portion that is not covered by the second insulating layer and overlaps a portion of an upper surface of the front electrode,
the auxiliary electrode layer is formed so as to cover at least the front electrode and the protruding portion, and the maximum height position on the surface of the auxiliary electrode layer is set to be equal to or higher than the maximum height position on the surface of the second insulating layer.
A chip resistor characterized in that
前記補助電極層は、導電性粒子を含有する樹脂材料からなる、ことを特徴とする請求項1に記載のチップ抵抗器。 The chip resistor according to claim 1, characterized in that the auxiliary electrode layer is made of a resin material containing conductive particles. 前記導電性粒子は、金属粒子とカーボン粒子のいずれか一方または両方である、ことを特徴とする請求項2に記載のチップ抵抗器。 The chip resistor according to claim 2, characterized in that the conductive particles are either or both of metal particles and carbon particles. 前記補助電極層の表面に粗面化処理が施されている、ことを特徴とする請求項2または3に記載のチップ抵抗器。 The chip resistor according to claim 2 or 3, characterized in that the surface of the auxiliary electrode layer is roughened. 前記第2絶縁層は、両端部が前記表電極に重ならない位置に形成されている、ことを特徴とする請求項1に記載のチップ抵抗器 The chip resistor according to claim 1, characterized in that the second insulating layer is formed in a position where both ends do not overlap the front electrode. 前記補助電極層は上部補助電極層と下部補助電極層からなり、前記上部補助電極層は前記下部補助電極層よりも電気伝導率の高い導電材料からなる、ことを特徴とする請求項1に記載のチップ抵抗器。 The chip resistor according to claim 1, characterized in that the auxiliary electrode layer is made of an upper auxiliary electrode layer and a lower auxiliary electrode layer, and the upper auxiliary electrode layer is made of a conductive material having a higher electrical conductivity than the lower auxiliary electrode layer. 前記下部補助電極層がカーボン粒子を含有するカーボン系樹脂材料からなると共に、前記上部補助電極層が金属粒子を含有する金属系樹脂材料からなる、ことを特徴とする請求項6に記載のチップ抵抗器。 The chip resistor according to claim 6, characterized in that the lower auxiliary electrode layer is made of a carbon-based resin material containing carbon particles, and the upper auxiliary electrode layer is made of a metal-based resin material containing metal particles. 前記下部補助電極層の上面が前記第2絶縁層の上面よりも低い位置に設定されている、ことを特徴とする請求項6または7に記載のチップ抵抗器。 The chip resistor according to claim 6 or 7, characterized in that the upper surface of the lower auxiliary electrode layer is set at a position lower than the upper surface of the second insulating layer.
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