JP7606473B2 - On-press development type printing original plate, method for making printing plate, and printing method - Google Patents
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Description
本発明は、機上現像型印刷用原版、印刷版の作製方法、及び印刷方法に関する。 The present invention relates to an on-press development type printing original plate, a method for making a printing plate, and a printing method.
一般に、平版印刷版は、印刷過程でインキを受容する親油性の画像部と湿し水を受容する親水性の非画像部とからなる。平版印刷は、水と油性インキとが互いに反発する性質を利用して、平版印刷版の親油性の画像部をインキ受容部、親水性の非画像部を湿し水受容部(インキ非受容部)として、平版印刷版の表面にインキの付着性の差異を生じさせ、画像部のみにインキを着肉させた後、紙などの被印刷体にインキを転写して印刷する方法である。 Generally, a lithographic printing plate consists of an oleophilic image area that accepts ink during the printing process and a hydrophilic non-image area that accepts dampening water. Lithographic printing utilizes the mutual repulsion properties of water and oil-based ink, making the oleophilic image area of the lithographic printing plate the ink-receptive area and the hydrophilic non-image area the dampening water-receptive area (ink-non-receptive area) to create a difference in ink adhesion on the surface of the lithographic printing plate, and then ink is applied only to the image area, after which the ink is transferred to the printing material such as paper to print.
現在、平版印刷版原版から平版印刷版を作製する製版工程においては、CTP(コンピュータ・トゥ・プレート)技術による画像露光が行われている。即ち、画像露光は、リスフィルムを介することなく、レーザーやレーザーダイオードを用いて直接平版印刷版原版に走査露光などにより行われる。Currently, in the platemaking process for producing a lithographic printing plate from a lithographic printing plate precursor, image exposure is performed using CTP (computer-to-plate) technology. In other words, image exposure is performed by scanning exposure or the like directly onto the lithographic printing plate precursor using a laser or laser diode, without using a lithographic film.
一方、地球環境への関心の高まりから、平版印刷版原版の製版に関して、現像処理などの湿式処理に伴う廃液に関する環境問題がクローズアップされ、これに伴い、現像処理の簡易化又は無処理化が指向されている。簡易な現像処理の一つとして、「機上現像」と呼ばれる方法が提案されている。機上現像は、平版印刷版原版を画像露光後、従来の湿式現像処理を行わず、そのまま印刷機に取り付け、画像記録層の非画像部の除去を通常の印刷工程の初期段階で行う方法である。On the other hand, with growing concern for the global environment, environmental issues related to waste liquids that accompany wet processing such as development processing have come into focus when it comes to platemaking for lithographic printing plate precursors, and as a result, there has been a trend toward simplifying development processing or eliminating it altogether. A method called "on-press development" has been proposed as one simple development process. On-press development is a method in which after image exposure of a lithographic printing plate precursor, the plate is attached directly to the printing press without undergoing the conventional wet development processing, and the non-image areas of the image recording layer are removed at an early stage of the normal printing process.
平版印刷版を用いて印刷する場合、通常の枚葉印刷機のように印刷版のサイズよりも小さい紙への印刷においては、印刷版の端部は紙面外の位置にあるので端部が印刷品質に影響することはない。しかし、新聞印刷のような輪転機を用いてロール状の紙に連続して印刷する場合には、印刷版の端部はロール紙面内にあるため、端部に付着したインキが紙に転写して線状の汚れ(エッジ汚れ)が発生し、印刷物の商品価値を著しく損ねることになる。 When printing using a lithographic printing plate, when printing on paper smaller than the size of the printing plate, as with a normal sheet-fed printing press, the edges of the printing plate are outside the paper surface and do not affect the print quality. However, when printing continuously on rolled paper using a rotary press, such as for newspaper printing, the edges of the printing plate are within the surface of the rolled paper, so ink adhering to the edges is transferred to the paper, causing linear stains (edge stains) and significantly reducing the commercial value of the printed matter.
エッジ汚れの発生を抑制する試みとして、支持体上に画像記録層を有する平版印刷版原版の端部から内側に5mmまでの画像記録層側版面の領域に含まれる分子量が60~300であり、20℃における水に対する溶解度が10g/L以上の水溶性化合物の単位面積当たりの含有量が、上記領域以外の領域における上記水溶性化合物の単位面積当たりの含有量より、50mg/m2以上多い平版印刷版原版が特許文献1に開示されている。
また、陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体上に、画像記録層を有する機上現像型平版印刷版原版であって、上記平版印刷版原版の端部がダレ形状を有し、上記画像記録層が支持体吸着性を有し、分子量が1,000以下であり、分子中に不飽和二重結合基を有さない化合物を含有し、上記化合物の含有量が上記画像記録層の面内において実質的に同じである機上現像型平版印刷版原版が特許文献2に開示されている。
In an attempt to suppress the occurrence of edge stains, Patent Document 1 discloses a lithographic printing plate precursor having an image recording layer on a support, in which a region of the plate surface on the image recording layer side extending from an edge of the plate surface to 5 mm inward contains a water-soluble compound having a molecular weight of 60 to 300 and a solubility in water at 20° C. of 10 g/L or more per unit area which is 50 mg/ m2 or more higher than the content per unit area of the water-soluble compound in regions other than the above region.
Patent Document 2 discloses an on-press development type lithographic printing plate precursor having an image recording layer on an aluminum support having an anodized film, the edge of the lithographic printing plate precursor having a drooped shape, the image recording layer having support adsorption properties, a molecular weight of 1,000 or less, and containing a compound having no unsaturated double bond group in the molecule, and the content of the compound is substantially the same within the plane of the image recording layer.
上記特許文献1には、分子量が60~300であり、20℃における水に対する溶解度が10g/L以上の水溶性化合物として、ポリオール、ベタイン、有機スルホン酸塩、有機硫酸塩、有機カルボン酸若しくはその塩又はアミノ酸が記載されている。
特許文献1に記載の平版印刷版原版においては、平版印刷版原版の端部領域のみに上記水溶性化合物を含有する塗布液を塗布するなどの手段により、端部領域における水溶性化合物の含有量が、端部領域以外の領域に比べて意図的に多くなっていることが特徴である。
ところが、端部領域に意図的に多くの水溶性化合物を含む平版印刷版原版は、端部領域において画像形成性が低下するという問題が生じることが分かった。
The above-mentioned Patent Document 1 describes polyols, betaines, organic sulfonates, organic sulfates, organic carboxylic acids or salts thereof, and amino acids as water-soluble compounds having a molecular weight of 60 to 300 and a solubility in water at 20° C. of 10 g/L or more.
The lithographic printing plate precursor described in Patent Document 1 is characterized in that the content of the water-soluble compound in the edge regions is intentionally made higher than in regions other than the edge regions by, for example, applying a coating liquid containing the above-mentioned water-soluble compound only to the edge regions of the lithographic printing plate precursor.
However, it has been found that a lithographic printing plate precursor that intentionally contains a large amount of a water-soluble compound in the edge region has a problem in that image forming properties are reduced in the edge region.
上記特許文献2には、支持体吸着性を有し、分子量が1,000以下であり、分子中に不飽和二重結合基を有さない化合物として、オキソ酸が記載されている。
ところで、機上現像型印刷用原版は、製造後長期(例えば、12ヶ月)にわたって保管され、その後製版されることがある。このような場合、即ち、経時後においても上記エッジ汚れの発生を抑制できることが望まれる。
しかしながら、特許文献2に記載された機上現像型平版印刷版原版においては、経時後においてもエッジ汚れの発生を抑制することは困難であることが判明した。
The above-mentioned Patent Document 2 describes an oxoacid as a compound that has support adsorption properties, has a molecular weight of 1,000 or less, and does not have an unsaturated double bond group in the molecule.
Incidentally, on-press development type printing plate masters may be stored for a long period (e.g., 12 months) after production and then used for plate making. In such a case, that is, even after the passage of time, it is desirable to be able to suppress the occurrence of the above-mentioned edge staining.
However, in the on-press development type lithographic printing plate precursor described in Patent Document 2, it has been found that it is difficult to suppress the occurrence of edge stains even after aging.
本発明が解決しようとする課題は、製造後のみならず経時後においてもエッジ汚れが防止された機上現像型印刷用原版、機上現像型印刷用原版を用いた印刷版の作製方法、及び機上現像型印刷用原版を用いた印刷方法を提供することである。
また、本発明によれば、端部領域における画像形成性の低下が抑制された機上現像型平版印刷版原版を提供することができる。
The problem that the present invention aims to solve is to provide an on-press development type printing original plate that is prevented from edge contamination not only after production but also after aging, a method for making a printing plate using an on-press development type printing original plate, and a printing method using an on-press development type printing original plate.
Furthermore, according to the present invention, it is possible to provide an on-press development type lithographic printing plate precursor in which deterioration of image formability in edge regions is suppressed.
上記課題を解決するための手段を以下に記載する。
[1]
陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体上に、少なくとも一つの構成層を有する機上現像型印刷用原版であって、上記機上現像型印刷用原版の端部がダレ形状を有し、上記少なくとも一つの構成層が、2つ以上の水酸基を有するヒドロキシ酸化合物を含有し、分子量が60~300であり、20℃における水に対する溶解度が10g/L以上である水溶性化合物の含有量が上記構成層の面内において実質的に同じであり、
上記機上現像型印刷用原版が画像記録層を有し、
上記機上現像型印刷用原版が保護層を有し、
上記ヒドロキシ酸化合物を含有する構成層が保護層である、機上現像型印刷用原版。
[2]
上記機上現像型印刷用原版が下塗り層を有する[1]に記載の機上現像型印刷用原版。
[3]
上記保護層がポリビニルアルコール樹脂を含有する[1]又は[2]に記載の機上現像型印刷用原版。
[4]
上記画像記録層が赤外線吸収剤、重合開始剤、重合性化合物、及び高分子化合物を含有する[1]~[3]のいずれか1項に記載の機上現像型印刷用原版。
[5]
上記高分子化合物がスチレン化合物に由来する構成単位、及び/又は、アクリロニトリル化合物に由来する構成単位を含む高分子化合物である[4]に記載の機上現像型印刷用原版。
[6]
上記スチレン化合物に由来する構成単位及びアクリロニトリル化合物に由来する構成単位を含む高分子化合物において、スチレン化合物由来の構成単位及びアクリロニトリル化合物由来の構成単位の組成比が4:1~1:4である[5]に記載の機上現像型印刷用原版。
[7]
上記高分子化合物がポリマー粒子である[4]~[6]のいずれか1項に記載の機上現像型印刷用原版。
[8]
上記ポリマー粒子が熱可塑性粒子である[7]に記載の機上現像型印刷用原版。
[9]
陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体上に、少なくとも一つの構成層を有する機上現像型印刷用原版であって、上記機上現像型印刷用原版の端部がダレ形状を有し、上記少なくとも一つの構成層が、2つ以上の水酸基を有するヒドロキシ酸化合物を含有し、分子量が60~300であり、20℃における水に対する溶解度が10g/L以上である水溶性化合物の含有量が上記構成層の面内において実質的に同じであり、
上記機上現像型印刷用原版が非感光性層を有し、全ての構成層が非感光性であり、
上記機上現像型印刷用原版が下塗り層を有する、機上現像型印刷用原版。
[10]
上記機上現像型印刷用原版が保護層を有する[9]に記載の機上現像型印刷用原版。
[11]
上記保護層がポリビニルアルコール樹脂を含有する[10]に記載の機上現像型印刷用原版。
[12]
上記ヒドロキシ酸化合物を含有する構成層が非感光性層である[9]~[11]のいずれか1項に記載の機上現像型印刷用原版。
[13]
上記ヒドロキシ酸化合物を含有する構成層が下塗り層である[9]~[11]のいずれか1項に記載の機上現像型印刷用原版。
[14]
上記ヒドロキシ酸化合物を含有する構成層が保護層である[10]又は[11]に記載の機上現像型印刷用原版。
[15]
上記ヒドロキシ酸化合物のClogP値が0.5以下である[1]~[14]のいずれか1項に記載の機上現像型印刷用原版。
[16]
上記ヒドロキシ酸化合物の分子量が1,000以下である[1]~[15]のいずれか1項に記載の機上現像型印刷用原版。
[17]
上記ヒドロキシ酸化合物の含有量が10~200mg/m2である[1]~[16]のいずれか1項に記載の機上現像型印刷用原版。
[18]
上記ヒドロキシ酸化合物を含有する構成層を有する側とは反対側における最外層表面の算術平均高さSaが0.3~20μmである[1]~[17]のいずれか1項に記載の機上現像型印刷用原版。
[19]
上記ヒドロキシ酸化合物を含有する構成層を有する側における最外層表面の算術平均高さSaが0.3~20μmである[1]~[18]のいずれか1項に記載の機上現像型印刷用原版。
[20]
上記陽極酸化皮膜の表面におけるマイクロポアの平均径が10~100nmであり、上記陽極酸化皮膜の上記ヒドロキシ酸化合物を含有する構成層側の表面のL*a*b*表色系における明度L*の値が60~100である[1]~[19]のいずれか1項に記載の機上現像型印刷用原版。
[21]
上記陽極酸化皮膜におけるマイクロポアが上記陽極酸化皮膜の表面から深さ方向に10nm~1,000nmのびる大径孔部と、上記大径孔部の底部と連通し、連通位置から深さ方向に20nm~2,000nmのびる小径孔部とから構成され、上記大径孔部の上記陽極酸化皮膜の表面における平均径が15nm~100nmであり、上記小径孔部の上記連通位置における平均径が13nm以下である[1]~[20]のいずれか1項に記載の機上現像型印刷用原版。
[22]
上記機上現像型印刷用原版の端部のダレ形状がダレ量Xが25~150μm、ダレ幅Yが70~300μmのダレ形状である[1]~[21]のいずれか1項に記載の機上現像型印刷用原版。
[23]
[1]~[8]のいずれか1項に記載の機上現像型印刷用原版を画像露光する工程、並びに、印刷機上で印刷インキ及び湿し水の少なくとものいずれかを供給して、画像露光された機上現像型印刷用原版における画像記録層の未露光部を除去する工程を含む印刷版の作製方法。
[24]
[9]~[14]のいずれか1項に記載の機上現像型印刷用原版に印刷機上で印刷インキ及び湿し水の少なくとものいずれかを供給して上記機上現像型印刷用原版における非感光性層を除去して捨て版を作製する工程、並びに、作製された捨て版を用いて印刷を実施する工程を含む印刷方法。
本発明は、上記[1]~[24]に係る発明であるが、以下、それ以外の事項(例えば、下記(1)~(30))についても記載している。
Means for solving the above problems are described below .
[1 ]
An on-press development type printing plate precursor having at least one constituent layer on an aluminum support having an anodized film, the on-press development type printing plate precursor having a drooped edge, the at least one constituent layer containing a hydroxy acid compound having two or more hydroxyl groups, a molecular weight of 60 to 300, and a content of a water-soluble compound having a solubility in water at 20°C of 10 g/L or more being substantially uniform within the plane of the constituent layer,
The on-press development type printing plate precursor has an image recording layer,
The on-press development type printing original plate has a protective layer,
The on-press development type printing plate precursor has a layer containing the hydroxy acid compound as a protective layer.
[ 2 ]
The on-press development type printing plate precursor according to [ 1 ], wherein the on-press development type printing plate precursor has an undercoat layer.
[ 3 ]
The on-press development type printing plate precursor according to [ 1 ] or [2] , wherein the protective layer contains a polyvinyl alcohol resin.
[ 4 ]
The on-press development type printing plate precursor according to any one of [1] to [ 3 ], wherein the image recording layer contains an infrared absorbing agent, a polymerization initiator, a polymerizable compound, and a polymer compound.
[ 5 ]
The on-press development type printing plate precursor according to [ 4 ], wherein the polymer compound is a polymer compound containing a structural unit derived from a styrene compound and/or a structural unit derived from an acrylonitrile compound.
[ 6 ]
The on-press development type printing original plate according to [5], wherein in the polymer compound containing a structural unit derived from a styrene compound and a structural unit derived from an acrylonitrile compound, a compositional ratio of the structural unit derived from a styrene compound to the structural unit derived from an acrylonitrile compound is 4:1 to 1:4.
[ 7 ]
The on-press development type printing plate precursor according to any one of [ 4 ] to [ 6 ], wherein the polymer compound is a polymer particle.
[ 8 ]
The on-press development type printing plate precursor according to [ 7 ], wherein the polymer particles are thermoplastic particles.
[ 9 ]
An on-press development type printing plate precursor having at least one constituent layer on an aluminum support having an anodized film, the on-press development type printing plate precursor having a drooped edge, the at least one constituent layer containing a hydroxy acid compound having two or more hydroxyl groups, a molecular weight of 60 to 300, and a content of a water-soluble compound having a solubility in water at 20°C of 10 g/L or more being substantially uniform within the plane of the constituent layer,
The on-press development type printing plate precursor has a non-photosensitive layer, and all of the constituent layers are non-photosensitive,
The on-press development type printing plate precursor has an undercoat layer.
[ 10 ]
The on-press development type printing plate precursor according to [ 9 ], wherein the on-press development type printing plate precursor has a protective layer.
[ 11 ]
The on-press development type printing plate precursor according to [ 10 ], wherein the protective layer contains a polyvinyl alcohol resin.
[ 12 ]
The on-press development type printing plate precursor according to any one of items [ 9 ] to [ 11 ], wherein the constituent layer containing the hydroxy acid compound is a non-photosensitive layer.
[ 13 ]
The on-press development type printing plate precursor according to any one of items [ 9 ] to [ 11 ], wherein the layer containing a hydroxy acid compound is an undercoat layer.
[ 14 ]
The on-press development type printing plate precursor according to [ 10 ] or [ 11 ], wherein the constituent layer containing the hydroxy acid compound is a protective layer.
[ 15 ]
The on-press development type printing plate precursor according to any one of [1] to [ 14 ], wherein the hydroxy acid compound has a ClogP value of 0.5 or less.
[ 16 ]
The on-press development type printing plate precursor according to any one of [1] to [ 15 ], wherein the molecular weight of the hydroxy acid compound is 1,000 or less.
[ 17 ]
The on-press development type printing plate precursor according to any one of [1] to [ 16 ], wherein the content of the hydroxy acid compound is 10 to 200 mg/ m2 .
[ 18 ]
The on-press development type printing plate precursor according to any one of [1] to [ 17 ], wherein the arithmetic mean height Sa of the outermost layer surface on the side opposite to the side having the constituent layer containing the hydroxy acid compound is 0.3 to 20 μm.
[ 19 ]
The on-press development type printing plate precursor according to any one of [1] to [ 18 ], wherein the arithmetic mean height Sa of the outermost layer surface on the side having the component layer containing the hydroxy acid compound is 0.3 to 20 μm.
[ 20 ]
The on-press development type printing plate precursor according to any one of [1] to [19], wherein the average diameter of micropores on the surface of the anodized coating is 10 to 100 nm, and the lightness L* value in the L*a* b * color system of the surface of the anodized coating on the side of the component layer containing the hydroxy acid compound is 60 to 100.
[ 21 ]
The on-press development type printing plate precursor according to any one of [1] to [20], wherein the micropores in the anodized film are composed of large-diameter pores extending 10 nm to 1,000 nm in the depth direction from the surface of the anodized film, and small-diameter pores that communicate with bottoms of the large-diameter pores and extend 20 nm to 2,000 nm in the depth direction from the communicating positions, the large-diameter pores having an average diameter of 15 nm to 100 nm at the surface of the anodized film, and the small-diameter pores having an average diameter of 13 nm or less at the communicating positions.
[ 22 ]
The on-press development type printing plate precursor according to any one of [1] to [ 21 ], wherein the sagging shape of the end portion of the on-press development type printing plate precursor is a sagging amount X of 25 to 150 μm and a sagging width Y of 70 to 300 μm.
[ 23 ]
A method for preparing a printing plate, comprising: a step of imagewise exposing the on-press development type printing plate precursor according to any one of [1] to [ 8 ]; and a step of supplying at least one of printing ink and dampening water on a printing press to remove an unexposed area of an image recording layer in the imagewise exposed on-press development type printing plate precursor.
[ 24 ]
A printing method comprising: a step of supplying at least one of printing ink and dampening water to the on-press development type printing plate precursor according to any one of [ 9 ] to [ 14 ] on a printing press to remove a non-photosensitive layer in the on-press development type printing plate precursor to prepare a throwaway plate; and a step of carrying out printing using the prepared throwaway plate.
The present invention relates to the above items [1] to [ 24 ], but other items (for example, the following items (1) to (30)) are also described below.
(1) 陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体上に、少なくとも一つの構成層を有する機上現像型印刷用原版であって、上記機上現像型印刷用原版の端部がダレ形状を有し、上記少なくとも一つの構成層が、2つ以上の水酸基を有するヒドロキシ酸化合物を含有し、分子量が60~300であり、20℃における水に対する溶解度が10g/L以上である水溶性化合物の含有量が上記構成層の面内において実質的に同じである機上現像型印刷用原版。(2) 上記ヒドロキシ酸化合物のClogP値が0.5以下である(1)に記載の機上現像型印刷用原版。
(3) 上記ヒドロキシ酸化合物の分子量が1,000以下である(1)又は(2)に記載の機上現像型印刷用原版。
(4) 上記ヒドロキシ酸化合物の含有量が10~200mg/m2である(1)~(3)のいずれか1項に記載の機上現像型印刷用原版。
(5) 上記ヒドロキシ酸化合物を含有する構成層を有する側とは反対側における最外層表面の算術平均高さSaが0.3~20μmである(1)~(4)のいずれか1項に記載の機上現像型印刷用原版。
(6) 上記ヒドロキシ酸化合物を含有する構成層を有する側における最外層表面の算術平均高さSaが0.3~20μmである(1)~(5)のいずれか1項に記載の機上現像型印刷用原版。
(7) 上記陽極酸化皮膜の表面におけるマイクロポアの平均径が10~100nmであり、上記陽極酸化皮膜の前記ヒドロキシ酸化合物を含有する構成層側の表面のL*a*b*表色系における明度L*の値が60~100である(1)~(6)のいずれか1項に記載の機上現像型印刷用原版。
(8) 上記陽極酸化皮膜におけるマイクロポアが前記陽極酸化皮膜の表面から深さ方向に10nm~1,000nmのびる大径孔部と、上記大径孔部の底部と連通し、連通位置から深さ方向に20nm~2,000nmのびる小径孔部とから構成され、上記大径孔部の上記陽極酸化皮膜の表面における平均径が15nm~100nmであり、上記小径孔部の上記連通位置における平均径が13nm以下である(1)~(7)のいずれか1項に記載の機上現像型印刷用原版。
(9) 上記機上現像型印刷用原版の端部のダレ形状がダレ量Xが25~150μm、ダレ幅Yが70~300μmのダレ形状である(1)~(8)のいずれか1項に記載の機上現像型印刷用原版。
(10) 上記機上現像型印刷用原版が画像記録層を有する(1)~(9)のいずれか1項に記載の機上現像型印刷用原版。
(11) 上記画像記録層が赤外線吸収剤、重合開始剤、重合性化合物、及び高分子化合物を含有する(10)に記載の機上現像型印刷用原版。
(12) 上記高分子化合物がスチレン化合物に由来する構成単位、及び/又は、アクリロニトリル化合物に由来する構成単位を含む高分子化合物である(11)に記載の機上現像型印刷用原版。
(13) 上記スチレン化合物に由来する構成単位及びアクリロニトリル化合物に由来する構成単位を含む高分子化合物において、スチレン化合物由来の構成単位及びアクリロニトリル化合物由来の構成単位の組成比が4:1~1:4である(12)に記載の機上現像型印刷用原版。
(14) 上記高分子化合物がポリマー粒子である(11)~(13)のいずれか1項に記載の機上現像型印刷用原版。
(15) 上記ポリマー粒子が熱可塑性粒子である(14)に記載の機上現像型印刷用原版。
(16) 上記機上現像型印刷用原版が下塗り層を有する(1)~(15)のいずれか1項に記載の機上現像型印刷用原版。
(17) 上記機上現像型印刷用原版が保護層を有する(1)~(16)のいずれか1項に記載の機上現像型印刷用原版。
(18) 上記保護層がポリビニルアルコール樹脂を含有する(17)に記載の機上現像型印刷用原版。
(19) 上記ヒドロキシ酸化合物を含有する構成層が画像記録層である(10)~(18)のいずれか1項に記載の機上現像型印刷用原版。
(20) 上記ヒドロキシ酸化合物を含有する構成層が下塗り層である(11)~(18)のいずれか1項に記載の機上現像型印刷用原版。
(21) 上記ヒドロキシ酸化合物を含有する構成層が保護層である(12)~(18)のいずれか1項に記載の機上現像型印刷用原版。
(22) 上記機上現像型印刷用原版が非感光性層を有し、全ての構成層が非感光性である(1)~(9)のいずれか1項に記載の機上現像型印刷用原版。
(23) 上記機上現像型印刷用原版が下塗り層を有する(1)~(9)及び(22)のいずれか1項に記載の機上現像型印刷用原版。
(24) 上記機上現像型印刷用原版が保護層を有する(1)~(9)及び(22)~(23)のいずれか1項に記載の機上現像型印刷用原版。
(25) 上記保護層がポリビニルアルコール樹脂を含有する(24)に記載の機上現像型印刷用原版。
(26) 上記ヒドロキシ酸化合物を含有する構成層が非感光性層である(22)~(25)のいずれか1項に記載の機上現像型印刷用原版。
(27) 上記ヒドロキシ酸化合物を含有する構成層が下塗り層である(23)~(25)のいずれか1項に記載の機上現像型印刷用原版。
(28) 上記ヒドロキシ酸化合物を含有する構成層が保護層である(24)又は(25)に記載の機上現像型印刷用原版。
(29) (10)~(21)のいずれか1項に記載の機上現像型印刷用原版を画像露光する工程、並びに、印刷機上で印刷インキ及び湿し水の少なくとものいずれかを供給して、画像露光された機上現像型印刷用原版における画像記録層の未露光部を除去する工程を含む印刷版の作製方法。
(30) (22)~(28)のいずれか1項に記載の機上現像型印刷用原版に印刷機上で印刷インキ及び湿し水の少なくとものいずれかを供給して上記機上現像型印刷用原版における非感光性層を除去して捨て版を作製する工程、並びに、作製された捨て版を用いて印刷を実施する工程を含む印刷方法。
(1) An on-press development type printing plate precursor having at least one constituent layer on an aluminum support having an anodized film, wherein an edge of the on-press development type printing plate precursor has a drooping shape, and the at least one constituent layer contains a hydroxy acid compound having two or more hydroxyl groups, and the content of a water-soluble compound having a molecular weight of 60 to 300 and a solubility in water at 20° C. of 10 g/L or more is substantially uniform within the plane of the constituent layer. (2) The on-press development type printing plate precursor according to (1), wherein the hydroxy acid compound has a ClogP value of 0.5 or less.
(3) The on-press development type printing plate precursor according to (1) or (2), wherein the molecular weight of the hydroxy acid compound is 1,000 or less.
(4) The on-press development type printing plate precursor according to any one of (1) to (3), wherein the content of the hydroxy acid compound is 10 to 200 mg/ m2.
(5) The on-press development type printing plate precursor according to any one of (1) to (4), wherein the arithmetic mean height Sa of the outermost layer surface on the side opposite to the side having the constituent layer containing the hydroxy acid compound is 0.3 to 20 μm.
(6) The on-press development type printing plate precursor according to any one of (1) to (5), wherein the arithmetic mean height Sa of the outermost layer surface on the side having the constituent layer containing the hydroxy acid compound is 0.3 to 20 μm.
(7) The on-press development type printing plate precursor according to any one of (1) to (6), wherein the average diameter of micropores on the surface of the anodized coating is 10 to 100 nm, and the lightness L* value in the L*a*b* color system of the surface of the anodized coating on the side of the component layer containing the hydroxy acid compound is 60 to 100.
(8) The on-press development type printing plate precursor according to any one of (1) to (7), wherein the micropores in the anodized film are composed of large-diameter pores extending 10 nm to 1,000 nm in a depth direction from a surface of the anodized film, and small-diameter pores that communicate with bottoms of the large-diameter pores and extend 20 nm to 2,000 nm in a depth direction from the communicating positions, the large-diameter pores having an average diameter of 15 nm to 100 nm at the surface of the anodized film, and the small-diameter pores having an average diameter of 13 nm or less at the communicating positions.
(9) The on-press development type printing plate precursor according to any one of (1) to (8), wherein the sagging shape of the end portion of the on-press development type printing plate precursor is a sagging amount X of 25 to 150 μm and a sagging width Y of 70 to 300 μm.
(10) The on-press development type printing plate precursor according to any one of (1) to (9), which has an image recording layer.
(11) The on-press development type printing plate precursor according to (10), wherein the image recording layer contains an infrared absorbing agent, a polymerization initiator, a polymerizable compound, and a polymer compound.
(12) The on-press development type printing plate precursor according to (11), wherein the polymer compound is a polymer compound containing a structural unit derived from a styrene compound and/or a structural unit derived from an acrylonitrile compound.
(13) The on-press development type printing plate precursor according to (12), wherein in the polymer compound containing a structural unit derived from a styrene compound and a structural unit derived from an acrylonitrile compound, a compositional ratio of the structural unit derived from a styrene compound to the structural unit derived from an acrylonitrile compound is 4:1 to 1:4.
(14) The on-press development type printing plate precursor according to any one of (11) to (13), wherein the polymer compound is a polymer particle.
(15) The on-press development type printing plate precursor according to (14), wherein the polymer particles are thermoplastic particles.
(16) The on-press development type printing plate precursor according to any one of (1) to (15), which has an undercoat layer.
(17) The on-press development type printing plate precursor according to any one of (1) to (16), which has a protective layer.
(18) The on-press development type printing plate precursor according to (17), wherein the protective layer contains a polyvinyl alcohol resin.
(19) The on-press development type printing plate precursor according to any one of (10) to (18), wherein the layer containing the hydroxy acid compound is an image recording layer.
(20) The on-press development type printing plate precursor according to any one of (11) to (18), wherein the layer containing the hydroxy acid compound is an undercoat layer.
(21) The on-press development type printing plate precursor according to any one of (12) to (18), wherein the layer containing the hydroxy acid compound is a protective layer.
(22) The on-press development type printing plate precursor according to any one of (1) to (9), wherein the on-press development type printing plate precursor has a non-photosensitive layer, and all of the constituent layers are non-photosensitive.
(23) The on-press development type printing plate precursor according to any one of (1) to (9) and (22), which has an undercoat layer.
(24) The on-press development type printing plate precursor according to any one of (1) to (9) and (22) to (23), wherein the on-press development type printing plate precursor has a protective layer.
(25) The on-press development type printing plate precursor according to (24), wherein the protective layer contains a polyvinyl alcohol resin.
(26) The on-press development type printing plate precursor according to any one of (22) to (25), wherein the layer containing the hydroxy acid compound is a non-photosensitive layer.
(27) The on-press development type printing plate precursor according to any one of (23) to (25), wherein the layer containing the hydroxy acid compound is an undercoat layer.
(28) The on-press development type printing plate precursor according to (24) or (25), wherein the constituent layer containing the hydroxy acid compound is a protective layer.
(29) A method for preparing a printing plate, comprising: a step of imagewise exposing the on-press development type printing plate precursor according to any one of (10) to (21); and a step of supplying at least one of printing ink and dampening water on a printing press to remove an unexposed area of the image recording layer in the imagewise exposed on-press development type printing plate precursor.
(30) A printing method comprising the steps of: supplying at least one of printing ink and dampening water to the on-press development type printing plate precursor according to any one of (22) to (28) on a printing press to remove a non-photosensitive layer in the on-press development type printing plate precursor to prepare a throwaway plate; and carrying out printing using the prepared throwaway plate.
本発明によれば、製造後のみならず経時後においてもエッジ汚れが防止された機上現像型印刷用原版、機上現像型印刷用原版を用いた印刷版の作製方法、及び機上現像型印刷用原版を用いた印刷方法を提供することができる。
また、本発明によれば、端部領域における画像形成性の低下が抑制された機上現像型平版印刷版原版を提供することができる。
According to the present invention, it is possible to provide an on-press development type printing original plate in which edge contamination is prevented not only after production but also after aging, a method for making a printing plate using an on-press development type printing original plate, and a printing method using an on-press development type printing original plate.
Furthermore, according to the present invention, it is possible to provide an on-press development type lithographic printing plate precursor in which deterioration of image formability in edge regions is suppressed.
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
本明細書における基(原子団)の表記において、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えば「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基(無置換アルキル基)のみならず、置換基を有するアルキル基(置換アルキル基)をも包含するものである。
本明細書において、「(メタ)アクリル」は、アクリル及びメタクリルの両方を包含する概念で用いられる語であり、「(メタ)アクリロイル」は、アクリロイル及びメタクリロイルの両方を包含する概念として用いられる語である。
本明細書中の「工程」の用語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であっても、その工程の所期の目的が達成されれば本用語に含まれる。
本発明において、2以上の好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。
本明細書における質量平均分子量(Mw)及び数平均分子量(Mn)は、特に断りのない限り、TSKgel GMHxL、TSKgel G4000HxL、TSKgel G2000HxL(何れも東ソー(株)製の商品名)のカラムを使用したゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)分析装置により、溶媒THF(テトラヒドロフラン)、示差屈折計により検出し、標準物質としてポリスチレンを用いて換算した分子量である。
本明細書において、「印刷用原版」の用語は、平版印刷版原版だけでなく、捨て版原版も包含する。また、「印刷版」の用語は、平版印刷版原版を、必要により、露光、現像などの操作を経て作製された平版印刷版だけでなく、捨て版も包含する。捨て版原版の場合には、必ずしも、露光、現像の操作は必要ない。捨て版とは、例えばカラーの新聞印刷において一部の紙面を単色又は2色で印刷を行う場合に、使用しない版胴に取り付けるための平版印刷版である。なお、捨て版は、水版、ダミー版、ブランク版、空版などと呼ばれることもある。
以下、本発明を詳細に説明する。
The following description of the components may be based on representative embodiments of the present invention, but the present invention is not limited to such embodiments.
In the description of groups (atomic groups) in this specification, when there is no indication of substituted or unsubstituted, the term encompasses both unsubstituted and substituted groups. For example, the term "alkyl group" encompasses not only alkyl groups without a substituent (unsubstituted alkyl groups) but also alkyl groups with a substituent (substituted alkyl groups).
In this specification, "(meth)acrylic" is a term used as a concept including both acrylic and methacrylic, and "(meth)acryloyl" is a term used as a concept including both acryloyl and methacryloyl.
In this specification, the term "process" refers not only to an independent process, but also to a process that cannot be clearly distinguished from other processes, as long as the intended purpose of the process is achieved.
In the present invention, a combination of two or more preferred embodiments is a more preferred embodiment.
In this specification, unless otherwise specified, the mass average molecular weight (Mw) and the number average molecular weight (Mn) are molecular weights detected by a gel permeation chromatography (GPC) analyzer using columns of TSKgel GMHxL, TSKgel G4000HxL, or TSKgel G2000HxL (all of which are product names manufactured by Tosoh Corporation) in a differential refractometer using THF (tetrahydrofuran) as a solvent, and converted using polystyrene as a standard substance.
In this specification, the term "printing plate" includes not only lithographic printing plate precursors but also throwaway plate precursors. Furthermore, the term "printing plate" includes not only lithographic printing plates prepared by subjecting a lithographic printing plate precursor to operations such as exposure and development as necessary, but also throwaway plates. In the case of throwaway plate precursors, the operations of exposure and development are not necessarily required. A throwaway plate is a lithographic printing plate that is attached to an unused plate cylinder when, for example, in color newspaper printing, a portion of the page is printed in one color or two colors. A throwaway plate is also called a water plate, a dummy plate, a blank plate, an empty plate, etc.
The present invention will be described in detail below.
[機上現像型印刷用原版]
本発明に係る機上現像型印刷用原版は、陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体と2つ以上の水酸基を有するヒドロキシ酸化合物を含有する構成層とから少なくとも構成され、上記構成層の面内において、分子量が60~300であり、20℃における水に対する溶解度が10g/L以上である水溶性化合物の含有量が実質的に同じであり、上記機上現像型印刷用原版の端部がダレ形状を有る機上現像型印刷用原版である。
[On-press development type printing original plate]
The on-press development type printing plate precursor according to the present invention is at least composed of an aluminum support having an anodized film and a constituent layer containing a hydroxy acid compound having two or more hydroxyl groups, and within the plane of the constituent layer, the content of the water-soluble compound having a molecular weight of 60 to 300 and a solubility in water at 20° C. of 10 g/L or more is substantially the same, It is an on-press development type printing master plate.
本発明に係る機上現像型印刷用原版(以下、印刷用原版ということもある)によれば、上記構成をとることにより、製造後のみならず経時後においてもエッジ汚れが防止できるという優れた効果が得られる。また、機上現像型平版印刷版原版においては、端部領域における画像形成性の低下が抑制できるという優れた効果が得られる。
以下に、本発明に係る機上現像型印刷用原版について詳細に説明する。
The on-press development type printing plate precursor (hereinafter, sometimes referred to as printing plate precursor) according to the present invention has the above-mentioned configuration, which provides the excellent effect of preventing edge staining not only after production but also after aging. Furthermore, the on-press development type lithographic printing plate precursor has the excellent effect of suppressing deterioration of image forming properties in edge regions.
The on-press development type printing plate precursor according to the present invention will be described in detail below.
〔陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体〕
機上現像型印刷用原版を構成する陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体について記載する。
[Aluminum support having an anodized film]
An aluminum support having an anodized film which constitutes an on-press development type printing plate precursor will be described.
アルミニウム支持体に用いられるアルミニウム板は、寸度的に安定なアルミニウムを主成分とする金属、即ちアルミニウムまたはアルミニウム合金からなる。純アルミニウム板及びアルミニウムを主成分とし微量の異元素を含む合金板から選ばれることが好ましい。The aluminum plate used for the aluminum support is made of a dimensionally stable metal whose main component is aluminum, i.e., aluminum or an aluminum alloy. It is preferably selected from a pure aluminum plate and an alloy plate whose main component is aluminum and contains trace amounts of other elements.
アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタンなどがある。合金中の異元素の含有量は10質量%以下である。純アルミニウム板が好適であるが、完全に純粋なアルミニウムは製錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を含有する合金板でもよい。アルミニウム支持体に用いられるアルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、従来から公知のアルミニウム板、例えばJIS A 1050、JIS A 1100、JIS A 3103、JIS A 3005などを適宜利用することが出来る。
アルミニウム板の厚さは、0.1~0.6mm程度が好ましい。
The foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, titanium, etc. The content of the foreign elements in the alloy is 10 mass% or less. Pure aluminum plate is preferable, but since completely pure aluminum is difficult to produce due to smelting technology, an alloy plate containing a small amount of foreign elements may be used. The aluminum plate used for the aluminum support is not specified in composition, and conventionally known aluminum plates, such as JIS A 1050, JIS A 1100, JIS A 3103, JIS A 3005, etc., can be appropriately used.
The thickness of the aluminum plate is preferably about 0.1 to 0.6 mm.
(陽極酸化皮膜)
陽極酸化皮膜は、陽極酸化処理によってアルミニウム板の表面に形成される、極微細孔(マイクロポアともいう。)を有する陽極酸化アルミニウム皮膜を意味する。マイクロポアは、アルミニウム板とは反対側の陽極酸化皮膜表面から厚み方向(アルミニウム板側、深さ方向)に沿ってのびている。
マイクロポアの陽極酸化皮膜表面における平均径(平均開口径)は、調子再現性、耐刷性及びブラン汚れ性の観点から、7nm~150nmが好ましく、10nm~100nmがより好ましく、10nm~60nmが更に好ましく、15nm~60nmが特に好ましく、18nm~40nmが最も好ましい。
マイクロポアの深さは、10nm~3,000nmが好ましく、10nm~2,000nmがより好ましく、10nm~1,000nmが更に好ましい。
(anodic oxide film)
The anodized film refers to an anodized aluminum film having extremely fine pores (also called micropores) formed on the surface of an aluminum plate by anodizing treatment. The micropores extend from the surface of the anodized film opposite the aluminum plate in the thickness direction (the aluminum plate side, depth direction).
The average diameter (average opening diameter) of the micropores on the surface of the anodized film is preferably 7 nm to 150 nm, more preferably 10 nm to 100 nm, even more preferably 10 nm to 60 nm, particularly preferably 15 nm to 60 nm, and most preferably 18 nm to 40 nm, from the viewpoints of tone reproducibility, printing durability, and printing stain resistance.
The depth of the micropores is preferably from 10 nm to 3,000 nm, more preferably from 10 nm to 2,000 nm, and even more preferably from 10 nm to 1,000 nm.
マイクロポアの形状は、通常、マイクロポアの径が深さ方向(厚み方向)に向かってほぼ変わらない略直管状(略円柱状)であるが、深さ方向(厚み方向)に向かって径が連続的に小さくなる円錐状であってもよい。また、深さ方向(厚み方向)に向かって径が不連続で小さくなる形状であってもよい。
深さ方向(厚み方向)に向かって径が不連続で小さくなる形状のマイクロポアとしては、陽極酸化皮膜表面から深さ方向に延びる大径孔部と、大径孔部の底部と連通し、連通位置から深さ方向に延びる小径孔部とから構成されるマイクロポアが挙げられる。
The shape of the micropores is usually a substantially straight tube shape (substantially cylindrical shape) in which the diameter of the micropores remains almost constant in the depth direction (thickness direction), but they may also be a cone shape in which the diameter decreases continuously in the depth direction (thickness direction), or a shape in which the diameter decreases discontinuously in the depth direction (thickness direction).
Examples of micropores whose diameter discontinuously decreases in the depth direction (thickness direction) include micropores composed of a large diameter pore portion extending in the depth direction from the surface of the anodized film and a small diameter pore portion that communicates with the bottom of the large diameter pore portion and extends in the depth direction from the communicating position.
具体的には、陽極酸化皮膜表面から深さ方向に10nm~1,000nmのびる大径孔部と、大径孔部の底部と連通し、連通位置から更に深さ方向に20~2,000nmのびる小径孔部とから構成されるマイクロポアが好ましい。
以下に、大径孔部及びと小径孔部について詳述する。
Specifically, micropores each composed of a large diameter pore extending 10 nm to 1,000 nm in the depth direction from the surface of the anodized film, and a small diameter pore that communicates with the bottom of the large diameter pore and extends a further 20 to 2,000 nm in the depth direction from the communicating position are preferred.
The large diameter hole portion and the small diameter hole portion will be described in detail below.
-大径孔部-
大径孔部の陽極酸化皮膜表面における平均径(平均開口径)は、調子再現性、耐刷性及びブラン汚れ性の観点から、7nm~150nmが好ましく、10nm~100nmがより好ましく、10nm~60nmが更に好ましく、15nm~60nmが特に好ましく、18nm~40nmが最も好ましい。
大径孔部の平均径は、陽極酸化皮膜表面を倍率15万倍の電界放出型走査電子顕微鏡(FE-SEM)でN=4枚観察し、得られた4枚の画像において、400nm×600nmの範囲に存在するマイクロポア(大径孔部)の径(直径)を測定し、径の算術平均値を求めることにより算出される。
なお、大径孔部の形状が円状でない場合は、円相当径を用いる。「円相当径」とは、開口部の形状を、開口部の投影面積と同じ投影面積をもつ円と想定したときの円の直径である。
-Large diameter hole-
The average diameter (average opening diameter) of the large diameter pores on the surface of the anodized film is preferably 7 nm to 150 nm, more preferably 10 nm to 100 nm, even more preferably 10 nm to 60 nm, particularly preferably 15 nm to 60 nm, and most preferably 18 nm to 40 nm, from the viewpoints of tone reproducibility, printing durability, and printing stain resistance.
The average diameter of the large pores is calculated by observing N=4 images of the anodized film surface using a field emission scanning electron microscope (FE-SEM) at a magnification of 150,000 times, measuring the diameter of micropores (large pores) present in an area of 400 nm × 600 nm in the four obtained images, and determining the arithmetic mean value of the diameters.
If the shape of the large-diameter hole is not circular, the equivalent circle diameter is used. The "equivalent circle diameter" is the diameter of a circle when the shape of the opening is assumed to be a circle with the same projected area as the projected area of the opening.
大径孔部の底部は、陽極酸化皮膜表面から深さ70nm~1,000nm(以後、深さAともいう。)に位置することが好ましい。つまり、大径孔部は、陽極酸化皮膜表面から深さ方向(厚み方向)に70nm~1,000nmのびる孔部であることが好ましい。中でも、印刷用原版の製造方法の効果がより優れる点で、深さAは、90nm~850nmがより好ましく、90nm~800nmが更に好ましく、90nm~600nmが特に好ましい。
なお、上記深さは、陽極酸化皮膜の断面の写真(15万倍)をとり、25個以上の大径孔部の深さを測定し、算術平均値として算出される。
The bottoms of the large diameter holes are preferably located at a depth of 70 nm to 1,000 nm (hereinafter also referred to as depth A) from the surface of the anodized film. In other words, the large diameter holes are preferably holes extending 70 nm to 1,000 nm in the depth direction (thickness direction) from the surface of the anodized film. In particular, in terms of superior effects of the manufacturing method for the printing plate precursor, the depth A is more preferably 90 nm to 850 nm, even more preferably 90 nm to 800 nm, and particularly preferably 90 nm to 600 nm.
The depth is calculated as the arithmetic mean value by taking a photograph (150,000 times) of the cross section of the anodized film, measuring the depths of 25 or more large diameter holes, and then calculating the depth.
大径孔部の形状は特に限定されず、例えば、略直管状(略円柱状)、及び、深さ方向(厚み方向)に向かって径が小さくなる円錐状が挙げられ、略直管状が好ましい。また、大径孔部の底部の形状は特に限定されず、曲面状(凸状)であっても、平面状であってもよい。
大径孔部の内径は特に制限されないが、開口部の径と同程度の大きさか、又は開口部の径よりも小さいことが好ましい。なお、大径孔部の内径は、開口部の径と1nm~10nm程度の差があってもよい。
The shape of the large diameter hole is not particularly limited, and may be, for example, a substantially straight tube shape (substantially cylindrical shape) or a cone shape whose diameter decreases in the depth direction (thickness direction), with a substantially straight tube shape being preferred. The shape of the bottom of the large diameter hole is not particularly limited, and may be a curved (convex) shape or a flat shape.
The inner diameter of the large diameter hole is not particularly limited, but is preferably about the same as or smaller than the diameter of the opening. The inner diameter of the large diameter hole may differ from the diameter of the opening by about 1 nm to 10 nm.
-小径孔部-
小径孔部は、大径孔部の底部と連通して、連通位置より更に深さ方向(厚み方向)に延びる孔部である。ひとつの小径孔は、通常ひとつの大径孔部と連通するが、2つ以上の小径孔部がひとつの大径孔部の底部と連通していてもよい。
小径孔部の連通位置における平均径は、13nm以下が好ましく、11nm以下がより好ましく、10nm以下が特に好ましい。下限は特に制限されないが、5nmが好ましい。
- Small diameter hole -
The small diameter hole is a hole that communicates with the bottom of the large diameter hole and extends further in the depth direction (thickness direction) from the communicating position. One small diameter hole usually communicates with one large diameter hole, but two or more small diameter holes may communicate with the bottom of one large diameter hole.
The average diameter of the small diameter pores at the communicating positions is preferably 13 nm or less, more preferably 11 nm or less, and particularly preferably 10 nm or less. There is no particular lower limit, but a value of 5 nm is preferable.
小径孔部の平均径は、陽極酸化皮膜表面を倍率15万倍のFE-SEMでN=4枚観察し、得られた4枚の画像において、400nm×600nmの範囲に存在するマイクロポア(小径孔部)の径(直径)を測定し、径の算術平均値を求めることにより算出される。なお、大径孔部の深さが深い場合は、必要に応じて、陽極酸化皮膜上部(大径孔部のある領域)を切削し(例えば、アルゴンガスによって切削)、その後陽極酸化皮膜表面を上記FE-SEMで観察して、小径孔部の平均径を求めてもよい。
なお、小径孔部の形状が円状でない場合は、円相当径を用いる。「円相当径」とは、開口部の形状を、開口部の投影面積と同じ投影面積をもつ円と想定したときの円の直径である。
The average diameter of the small pores is calculated by observing the surface of the anodized film with an FE-SEM at a magnification of 150,000 times (N=4 images), measuring the diameter of the micropores (small pores) present in the range of 400 nm × 600 nm in the four images obtained, and determining the arithmetic mean value of the diameters. If the large pores are deep, the upper part of the anodized film (the area where the large pores are located) may be cut (e.g., cut with argon gas) as necessary, and then the surface of the anodized film may be observed with the FE-SEM to determine the average diameter of the small pores.
If the shape of the small diameter hole is not circular, the equivalent circle diameter is used. The "equivalent circle diameter" is the diameter of a circle when the shape of the opening is assumed to be a circle with the same projected area as the projected area of the opening.
小径孔部の底部は、上記の大径孔部との連通位置(上述した深さAに該当)から更に深さ方向に20nm~2,000nmのびた場所に位置することが好ましい。言い換えると、小径孔部は、上記大径孔部との連通位置から更に深さ方向(厚み方向)にのびる孔部であり、小径孔部の深さは20nm~2,000nmが好ましく、100nm~1,500nmがより好ましく、200nm~1,000nmが特に好ましい。
なお、上記深さは、陽極酸化皮膜の断面の写真(15万倍)をとり、25個以上の小径孔部の深さを測定し、算術平均値として算出される。
The bottoms of the small diameter holes are preferably located at positions extending 20 nm to 2,000 nm in the depth direction from the positions where the small diameter holes communicate with the large diameter holes (corresponding to the above-mentioned depth A). In other words, the small diameter holes are holes extending in the depth direction (thickness direction) from the positions where the small diameter holes communicate with the large diameter holes, and the depth of the small diameter holes is preferably 20 nm to 2,000 nm, more preferably 100 nm to 1,500 nm, and particularly preferably 200 nm to 1,000 nm.
The depth is calculated as the arithmetic mean value by taking a photograph (150,000 times) of the cross section of the anodized film, measuring the depths of 25 or more small diameter holes, and then calculating the depth.
小径孔部の形状は特に限定されず、例えば、略直管状(略円柱状)、及び、深さ方向に向かって径が小さくなる円錐状が挙げられ、略直管状が好ましい。また、小径孔部の底部の形状は特に限定されず、曲面状(凸状)であっても、平面状であってもよい。
小径孔部の内径は特に制限されないが、連通位置における径と同程度の大きさか、又は上記径よりも小さくても大きくてもよい。なお、小径孔部の内径は、通常、開口部の径と1nm~10nm程度の差があってもよい。
The shape of the small diameter hole is not particularly limited, and may be, for example, a substantially straight tube shape (substantially cylindrical shape) or a cone shape whose diameter decreases in the depth direction, with a substantially straight tube shape being preferred. The shape of the bottom of the small diameter hole is not particularly limited, and may be a curved (convex) shape or a flat shape.
The inner diameter of the small diameter hole is not particularly limited, but may be approximately the same as the diameter at the communicating position, or may be smaller or larger than the above diameter. Note that the inner diameter of the small diameter hole may usually differ from the diameter of the opening by about 1 nm to 10 nm.
大径孔部の陽極酸化皮膜表面における平均径と小径孔部の連通位置における平均径の比、(大径孔部の陽極酸化皮膜表面における平均径)/(小径孔部の連通位置における平均径)は、1.1~13が好ましく、2.5~6.5がより好ましい。
また、大径孔部の深さと小径孔部の深さの比、(大径孔部の深さ)/(小径孔部の深さ)は、0.005~50が好ましく、0.025~40がより好ましい。
The ratio of the average diameter of the large diameter pores on the surface of the anodized film to the average diameter of the small diameter pores at their communicating positions, i.e., (average diameter of the large diameter pores on the surface of the anodized film)/(average diameter of the small diameter pores at their communicating positions), is preferably 1.1 to 13, and more preferably 2.5 to 6.5.
The ratio of the depth of the large diameter hole portion to the depth of the small diameter hole portion, (depth of the large diameter hole portion)/(depth of the small diameter hole portion), is preferably 0.005-50, and more preferably 0.025-40.
機上現像型平版印刷版原版においては、画像視認性向上の観点から、アルミニウム支持体の陽極酸化皮膜表面(画像記録層が形成される側の表面)における明度が高いことが有用である。
平版印刷版の印刷工程においては、通常、印刷版を印刷機に取り付ける前に目的通りの画像記録がなされているかを確認する目的で、検版作業が行われる。機上現像型平版印刷版原版においては、画像露光された段階で画像を確認することが求められるため、画像露光部にいわゆる焼き出し画像を生じさせる手段が適用される。
画像露光された機上現像型平版印刷版原版の画像部の見易さ(画像視認性)を定量的に評価する方法として、画像露光部の明度と未露光部の明度を測定し、両者の差を求める方法が挙げられる。ここで、明度としては、CIEL*a*b*表色系における明度L*の値を用いることができ、測定は、色彩色差計(SpectroEye、エックスライト(株)製)を用いて行うことができる。測定により得られた画像露光部の明度と未露光部の明度との差が大きい程、画像部が見易いこととなる。
画像露光部の明度と未露光部の明度との差を大きくするためには、陽極酸化皮膜表面のCIEL*a*b*表色系における明度L*の値が大きいことが有効であることが判明した。即ち、明度L*の値は60~100であることが好ましい。
In an on-press development type lithographic printing plate precursor, from the viewpoint of improving image visibility, it is useful that the brightness of the anodized film surface of the aluminum support (the surface on which the image recording layer is formed) is high.
In the printing process of a lithographic printing plate, a plate inspection is usually performed to check whether the intended image has been recorded before the printing plate is mounted on a printing press. In the case of an on-press development type lithographic printing plate precursor, it is required to check the image at the stage where the image is exposed, so a means for generating a so-called print-out image in the image-exposed area is applied.
A method for quantitatively evaluating the visibility (image visibility) of the image part of an image-exposed on-press development type lithographic printing plate precursor can be to measure the lightness of the image-exposed part and the lightness of the unexposed part and obtain the difference between them. Here, the lightness can be the lightness L* value in the CIE L*a*b* color system, and the measurement can be performed using a color difference meter (SpectroEye, manufactured by X-Rite Corporation). The larger the difference between the lightness of the image-exposed part and the lightness of the unexposed part obtained by the measurement, the easier the image part is to be seen.
It has been found that in order to increase the difference in brightness between the image-exposed and unexposed areas, it is effective to increase the brightness L* value of the anodized film surface in the CIE L*a*b* color system. In other words, the brightness L* value is preferably 60 to 100.
陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体は、必要に応じて、2つ以上の水酸基を有するヒドロキシ酸化合物を含有する構成層が形成される側とは反対側の面に、特開平5-45885号公報に記載の有機高分子化合物又は特開平6-35174号公報に記載のケイ素のアルコキシ化合物などを含むバックコート層を有していてもよい。If necessary, the aluminum support having an anodized film may have a backcoat layer containing an organic polymer compound described in JP-A-5-45885 or a silicon alkoxy compound described in JP-A-6-35174 on the side opposite to the side on which the constituent layer containing a hydroxy acid compound having two or more hydroxyl groups is formed.
(陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体の製造)
陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体は公知の方法を用いて製造することができる。陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体の製造方法は、特に限定されるものではない。陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体の製造方法の好ましい形態としては、アルミニウム板に粗面化処理を施す工程(粗面化処理工程)、粗面化処理されたアルミニウム板を陽極酸化する工程(陽極酸化処理工程)、陽極酸化処理工程で得られた陽極酸化皮膜を有するアルミニウム板を、酸水溶液又はアルカリ水溶液に接触させ、陽極酸化皮膜中のマイクロポアの径を拡大させる工程(ポアワイド処理工程)を含む方法が挙げられる。
(Production of aluminum support having an anodized coating)
The aluminum support having an anodized film can be manufactured by a known method. The manufacturing method of the aluminum support having an anodized film is not particularly limited. A preferred embodiment of the manufacturing method of the aluminum support having an anodized film includes a step of roughening an aluminum plate (roughening treatment step), a step of anodizing the roughened aluminum plate (anodizing treatment step), and a step of contacting the aluminum plate having an anodized film obtained in the anodizing treatment step with an acid aqueous solution or an alkali aqueous solution to expand the diameter of the micropores in the anodized film (pore widening treatment step).
以下に、各工程を詳細に説明する。 Each process is explained in detail below.
<粗面化処理工程>
粗面化処理工程は、アルミニウム板の表面に、電気化学的粗面化処理を含む粗面化処理を施す工程である。粗面化処理工程は、後述する陽極酸化処理工程の前に実施されることが好ましいが、アルミニウム板の表面がすでに好ましい表面形状を有していれば、実施しなくてもよい。
<Surface roughening treatment step>
The surface roughening step is a step of performing a surface roughening treatment, including an electrochemical surface roughening treatment, on the surface of the aluminum plate. The surface roughening step is preferably performed before the anodizing step described below, but may not be performed if the surface of the aluminum plate already has a desired surface shape.
粗面化処理は、電気化学的粗面化処理のみを施してもよいが、電気化学的粗面化処理と機械的粗面化処理及び化学的粗面化処理の少なくとも一つとを組み合わせて施してもよい。
機械的粗面化処理と電気化学的粗面化処理とを組み合わせる場合には、機械的粗面化処理の後に、電気化学的粗面化処理を施すことが好ましい。
The surface roughening treatment may be performed by electrochemical surface roughening alone, or may be performed by combining at least one of electrochemical surface roughening treatment, mechanical surface roughening treatment, and chemical surface roughening treatment.
When mechanical graining and electrochemical graining are combined, it is preferable to carry out the electrochemical graining after the mechanical graining.
電気化学的粗面化処理は、硝酸や塩酸の水溶液中で施すことが好ましい。 The electrochemical roughening treatment is preferably carried out in an aqueous solution of nitric acid or hydrochloric acid.
機械的粗面化処理は、一般的には、アルミニウム板の表面を表面粗さRa:0.35~1.0μmとすることを目的として施される。
機械的粗面化処理の諸条件は特に限定されないが、例えば、特公昭50-40047号公報に記載されている方法に従って施すことができる。機械的粗面化処理は、パミストン懸濁液を使用したブラシグレイン処理により施したり、転写方式で施したりすることができる。
また、化学的粗面化処理も特に限定されず、公知の方法に従って施すことができる。
Mechanical graining is generally performed for the purpose of making the surface of an aluminum plate have a surface roughness Ra of 0.35 to 1.0 μm.
The conditions for the mechanical graining treatment are not particularly limited, but the treatment can be carried out, for example, according to the method described in JP-B-50-40047. The mechanical graining treatment can be carried out by a brush graining treatment using a pumice suspension or by a transfer method.
The chemical graining treatment is not particularly limited, and can be carried out according to a known method.
機械的粗面化処理の後には、以下の化学エッチング処理を施すことが好ましい。
機械的粗面化処理の後に施される化学エッチング処理は、アルミニウム板の表面の凹凸形状のエッジ部分をなだらかにし、印刷時のインキの引っかかりを防止し、平版印刷版の耐汚れ性を向上させるとともに、表面に残った研磨材粒子などの不要物を除去するために行われる。
化学エッチング処理としては、酸によるエッチングやアルカリによるエッチングが知られているが、エッチング効率の点で特に優れている方法として、アルカリ溶液を用いる化学エッチング処理(以下、「アルカリエッチング処理」ともいう。)が挙げられる。
After the mechanical roughening treatment, it is preferable to carry out the following chemical etching treatment.
The chemical etching treatment carried out after the mechanical graining treatment is carried out to smooth the uneven edges of the surface of the aluminum plate, prevent the ink from catching during printing, improve the stain resistance of the lithographic printing plate, and remove unwanted material such as abrasive particles remaining on the surface.
Known chemical etching treatments include acid etching and alkali etching. A method that is particularly excellent in terms of etching efficiency is chemical etching treatment using an alkaline solution (hereinafter, also referred to as "alkaline etching treatment").
アルカリ溶液に用いられるアルカリ剤は、特に限定されないが、例えば、カセイソーダ、カセイカリ、メタケイ酸ソーダ、炭酸ソーダ、アルミン酸ソーダ、グルコン酸ソーダなどが好適に挙げられる。
アルカリ溶液は、アルミニウムイオンを含有してもよい。アルカリ溶液のアルカリ剤の濃度は、0.01質量%以上が好ましく、3質量%以上がより好ましく、また、30質量%以下が好ましく、25質量%以下がより好ましい。
更に、アルカリ溶液の温度は室温以上が好ましく、30℃以上がより好ましく、また、80℃以下が好ましく、75℃以下がより好ましい。
The alkaline agent used in the alkaline solution is not particularly limited, but suitable examples include caustic soda, caustic potash, sodium metasilicate, sodium carbonate, sodium aluminate, and sodium gluconate.
The alkaline solution may contain aluminum ions. The concentration of the alkaline agent in the alkaline solution is preferably 0.01% by mass or more, more preferably 3% by mass or more, and is preferably 30% by mass or less, more preferably 25% by mass or less.
Furthermore, the temperature of the alkaline solution is preferably at least room temperature, more preferably at least 30° C., and is preferably at most 80° C., more preferably at most 75° C.
エッチング量は、0.01g/m2以上が好ましく、0.05g/m2以上がより好ましく、また、30g/m2以下が好ましく、20g/m2以下がより好ましい。
処理時間は、エッチング量に対応して2秒~5分が好ましく、生産性向上の点から2~10秒がより好ましい。
The etching amount is preferably 0.01 g/m2 or more , more preferably 0.05 g/ m2 or more, and is preferably 30 g/m2 or less , more preferably 20 g/m2 or less .
The treatment time is preferably 2 seconds to 5 minutes depending on the amount of etching, and more preferably 2 to 10 seconds from the viewpoint of improving productivity.
機械的粗面化処理後にアルカリエッチング処理を施した場合、アルカリエッチング処理により生じる生成物を除去するために、低温の酸性溶液を用いて化学エッチング処理(以下、「デスマット処理」ともいう。)を施すことが好ましい。
酸性溶液に用いられる酸は、特に限定されないが、例えば、硫酸、硝酸、塩酸が挙げられる。酸性溶液の濃度は1~50質量%が好ましい。酸性溶液の温度は20~80℃が好ましい。酸性溶液の濃度および温度がこの範囲であると、アルミニウム支持体を用いた平版印刷版における耐ポツ状汚れ性能がより向上する。
When alkaline etching treatment is performed after mechanical roughening treatment, it is preferable to perform a chemical etching treatment (hereinafter also referred to as a "desmutting treatment") using a low-temperature acidic solution in order to remove products produced by the alkaline etching treatment.
The acid used in the acidic solution is not particularly limited, but examples thereof include sulfuric acid, nitric acid, and hydrochloric acid. The concentration of the acidic solution is preferably 1 to 50% by mass. The temperature of the acidic solution is preferably 20 to 80° C. When the concentration and temperature of the acidic solution are within these ranges, the resistance to dot-like staining in a lithographic printing plate using an aluminum support is further improved.
粗面化処理工程の好ましい態様を以下に例示する。
-態様SA-
(1)から(8)に示す処理をこの順に実施する態様。
(1)アルカリ水溶液を用いた化学エッチング処理(第1アルカリエッチング処理)
(2)酸性水溶液を用いた化学エッチング処理(第1デスマット処理)
(3)硝酸を主体とする水溶液を用いた電気化学的粗面化処理(第1電気化学的粗面化処理)
(4)アルカリ水溶液を用いた化学エッチング処理(第2アルカリエッチング処理)
(5)酸性水溶液を用いた化学エッチング処理(第2デスマット処理)
(6)塩酸を主体とする水溶液を用いた電気化学的粗面化処理(第2電気化学的粗面化処理)
(7)アルカリ水溶液を用いた化学エッチング処理(第3アルカリエッチング処理)
(8)酸性水溶液を用いた化学エッチング処理(第3デスマット処理)
A preferred embodiment of the surface roughening treatment step will be exemplified below.
-Aspect SA-
The process shown in (1) to (8) is carried out in this order.
(1) Chemical Etching Treatment Using an Alkaline Aqueous Solution (First Alkaline Etching Treatment)
(2) Chemical Etching Treatment Using Acidic Aqueous Solution (First Desmutting Treatment)
(3) Electrochemical graining treatment using an aqueous solution mainly containing nitric acid (first electrochemical graining treatment)
(4) Chemical etching treatment using an alkaline aqueous solution (second alkaline etching treatment)
(5) Chemical Etching Treatment Using Acidic Aqueous Solution (Second Desmutting Treatment)
(6) Electrochemical graining treatment using an aqueous solution mainly containing hydrochloric acid (second electrochemical graining treatment)
(7) Chemical etching treatment using an alkaline aqueous solution (third alkaline etching treatment)
(8) Chemical Etching Treatment Using Acidic Aqueous Solution (Third Desmutting Treatment)
-態様SB-
(11)から(15)に示す処理をこの順に実施する態様。
(11)アルカリ水溶液を用いた化学エッチング処理(第4アルカリエッチング処理)
(12)酸性水溶液を用いた化学エッチング処理(第4デスマット処理)
(13)塩酸を主体とする水溶液を用いた電気化学的粗面化処理(第3電気化学的粗面化処理)
(14)アルカリ水溶液を用いた化学エッチング処理(第5アルカリエッチング処理)
(15)酸性水溶液を用いた化学エッチング処理(第5デスマット処理)
-Aspect SB-
The process shown in (11) to (15) is carried out in this order.
(11) Chemical etching treatment using an alkaline aqueous solution (fourth alkaline etching treatment)
(12) Chemical Etching Treatment Using Acidic Aqueous Solution (Fourth Desmutting Treatment)
(13) Electrochemical graining treatment using an aqueous solution mainly containing hydrochloric acid (third electrochemical graining treatment)
(14) Chemical etching treatment using an alkaline aqueous solution (fifth alkaline etching treatment)
(15) Chemical Etching Treatment Using Acidic Aqueous Solution (Fifth Desmutting Treatment)
上記態様SAの(1)の処理前、又は、態様SBの(11)の処理前に、必要に応じて、機械的粗面化処理を実施してもよい。 If necessary, a mechanical roughening treatment may be carried out before the treatment (1) of aspect SA above or before the treatment (11) of aspect SB.
第1アルカリエッチング処理及び第4アルカリエッチング処理におけるアルミニウム板の溶解量は、0.5g/m2~30g/m2が好ましく、1.0g/m2~20g/m2がより好ましい。 The amount of aluminum plate dissolved in the first alkaline etching treatment and the fourth alkaline etching treatment is preferably 0.5 g/m 2 to 30 g/m 2 , and more preferably 1.0 g/m 2 to 20 g/m 2 .
態様SAにおける第1電気化学的粗面化処理で用いる硝酸を主体とする水溶液としては、直流又は交流を用いた電気化学的な粗面化処理に用いる水溶液が挙げられる。例えば、1g/L~100g/Lの硝酸水溶液に、硝酸アルミニウム、硝酸ナトリウム、又は、硝酸アンモニウムなどを添加して得られる水溶液が挙げられる。
態様SAにおける第2電気化学的粗面化処理及び態様SBにおける第3電気化学的粗面化処理で用いる塩酸を主体とする水溶液としては、直流又は交流を用いた電気化学的な粗面化処理に用いる水溶液が挙げられる。例えば、1g/L~100g/Lの塩酸水溶液に、硫酸を0g/L~30g/L添加して得られる水溶液が挙げられる。なお、この水溶液に、硝酸アルミニウム、硝酸ナトリウム、又は硝酸アンモニウムなどの硝酸イオン;塩化アルミニウム、塩化ナトリウム、又は塩化アンモニウムなどの塩化物イオンを更に添加してもよい。
The aqueous solution mainly containing nitric acid for use in the first electrochemical graining treatment in embodiment SA may be an aqueous solution for use in electrochemical graining treatment using direct or alternating current, for example, an aqueous solution obtained by adding aluminum nitrate, sodium nitrate, ammonium nitrate, or the like to an aqueous solution of nitric acid at 1 g/L to 100 g/L.
The aqueous solution mainly containing hydrochloric acid used in the second electrochemical graining treatment in embodiment SA and the third electrochemical graining treatment in embodiment SB includes an aqueous solution used in electrochemical graining treatment using direct or alternating current. For example, an aqueous solution obtained by adding 0 g/L to 30 g/L of sulfuric acid to an aqueous solution of 1 g/L to 100 g/L of hydrochloric acid may be included. Note that this aqueous solution may further include nitrate ions such as aluminum nitrate, sodium nitrate, or ammonium nitrate; or chloride ions such as aluminum chloride, sodium chloride, or ammonium chloride.
電気化学的粗面化処理の交流電源波形は、サイン波、矩形波、台形波、又は三角波などを用いることができる。周波数は0.1Hz~250Hzが好ましい。
図1は、電気化学的粗面化処理に用いられる交番波形電流波形図の一例を示すグラフである。
図1において、taはアノード反応時間、tcはカソード反応時間、tpは電流が0からピークに達するまでの時間、Iaはアノードサイクル側のピーク時の電流、Icはカソードサイクル側のピーク時の電流である。台形波において、電流が0からピークに達するまでの時間tpは1msec~10msecが好ましい。電気化学的粗面化処理に用いる交流の1サイクルの条件は、アルミニウム板のアノード反応時間taとカソード反応時間tcの比tc/taが1~20、アルミニウム板がアノード時の電気量Qcとアノード時の電気量Qaの比Qc/Qaが0.3~20、アノード反応時間taが5msec~1,000msecの範囲にあることが好ましい。電流密度は台形波のピーク値で電流のアノードサイクル側Ia及びカソードサイクル側Icが共に10~200A/dm2が好ましい。Ic/Iaは0.3~20が好ましい。電気化学的粗面化処理が終了した時点でのアルミニウム板のアノード反応にあずかる電気量の総和は25C/dm2~1,000C/dm2が好ましい。
The AC power waveform for the electrochemical graining treatment may be a sine wave, a square wave, a trapezoidal wave, a triangular wave, etc. The frequency is preferably 0.1 Hz to 250 Hz.
FIG. 1 is a graph showing an example of an alternating current waveform used in electrochemical surface roughening treatment.
In FIG. 1, ta is the anode reaction time, tc is the cathode reaction time, tp is the time from 0 to the peak of the current, Ia is the current at the peak on the anode cycle side, and Ic is the current at the peak on the cathode cycle side. In the trapezoidal wave, the time tp from 0 to the peak of the current is preferably 1 msec to 10 msec. The conditions of one cycle of the AC used in the electrochemical graining treatment are preferably such that the ratio tc/ta of the anode reaction time ta of the aluminum plate to the cathode reaction time tc is 1 to 20, the ratio Qc/Qa of the quantity of electricity Qc when the aluminum plate is the anode to the quantity of electricity Qa when the aluminum plate is the anode is 0.3 to 20, and the anode reaction time ta is in the range of 5 msec to 1,000 msec. The current density is preferably 10 to 200 A/ dm2 for both the anode cycle side Ia and the cathode cycle side Ic of the current at the peak value of the trapezoidal wave. Ic/Ia is preferably 0.3 to 20. The total amount of electricity involved in the anodic reaction of the aluminum plate at the time when the electrochemical graining treatment is completed is preferably 25 C/dm 2 to 1,000 C/dm 2 .
交流を用いた電気化学的粗面化処理には図2に示した装置を用いることができる。
図2は、交流を用いた電気化学的粗面化処理におけるラジアル型セルの一例を示す側面図である。
図2において、50は主電解槽、51は交流電源、52はラジアルドラムローラ、53a及び53bは主極、54は電解液供給口、55は電解液、56はスリット、57は電解液通路、58は補助陽極、60は補助陽極槽、Wはアルミニウム板である。電解槽を2つ以上用いるときには、電解条件は同じでもよいし、異なっていてもよい。
アルミニウム板Wは主電解槽50中に浸漬して配置されたラジアルドラムローラ52に巻装され、搬送過程で交流電源51に接続する主極53a及び53bにより電解処理される。電解液55は、電解液供給口54からスリット56を通じてラジアルドラムローラ52と主極53a及び53bとの間の電解液通路57に供給される。主電解槽50で処理されたアルミニウム板Wは、次いで、補助陽極槽60で電解処理される。この補助陽極槽60には補助陽極58がアルミニウム板Wと対向配置されており、電解液55が補助陽極58とアルミニウム板Wとの間の空間を流れるように供給される。
For electrochemical surface roughening treatment using alternating current, an apparatus shown in FIG. 2 can be used.
FIG. 2 is a side view showing an example of a radial cell for electrochemical surface roughening treatment using an alternating current.
2, 50 denotes a main electrolytic cell, 51 denotes an AC power source, 52 denotes a radial drum roller, 53a and 53b denote main electrodes, 54 denotes an electrolyte supply port, 55 denotes an electrolyte, 56 denotes a slit, 57 denotes an electrolyte passage, 58 denotes an auxiliary anode, 60 denotes an auxiliary anode cell, and W denotes an aluminum plate. When two or more electrolytic cells are used, the electrolysis conditions may be the same or different.
The aluminum sheet W is wound around a
第2アルカリエッチング処理におけるアルミニウム板の溶解量は、所定の印刷用原版が製造しやすい点で、1.0g/m2~20g/m2が好ましく、2.0g/m2~10g/m2がより好ましい。 The amount of the aluminum plate dissolved in the second alkaline etching treatment is preferably 1.0 g/m 2 to 20 g/m 2 , and more preferably 2.0 g/m 2 to 10 g/m 2 , in terms of ease of production of a predetermined printing plate precursor.
第3アルカリエッチング処理及び第5アルカリエッチング処理におけるアルミニウム板の溶解量は、所定の印刷用原版が製造しやすい点で、0.01g/m2~0.8g/m2が好ましく、0.05g/m2~0.3g/m2がより好ましい。 The amount of the aluminum plate dissolved in the third alkaline etching treatment and the fifth alkaline etching treatment is preferably 0.01 g/m 2 to 0.8 g/m 2 , and more preferably 0.05 g/m 2 to 0.3 g/m 2 , in terms of ease of production of a predetermined printing plate precursor.
酸性水溶液を用いた化学エッチング処理(第1~第5デスマット処理)では、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸、塩酸、又は、これらの2以上の酸を含む混酸を含む酸性水溶液が好適に用いられる。
酸性水溶液における酸の濃度は0.5質量%~60質量%が好ましい。
In the chemical etching treatments using acidic aqueous solutions (first to fifth desmutting treatments), an acidic aqueous solution containing phosphoric acid, nitric acid, sulfuric acid, chromic acid, hydrochloric acid, or a mixed acid containing two or more of these acids is suitably used.
The concentration of the acid in the acidic aqueous solution is preferably 0.5% by mass to 60% by mass.
<陽極酸化処理工程>
陽極酸化処理工程は、上記粗面化処理が施されたアルミニウム板に陽極酸化処理を施すことにより、アルミニウム板の表面にアルミニウムの酸化皮膜を形成する工程である。陽極酸化処理によりアルミニウム板の表面に、マイクロポアを有するアルミニウムの陽極酸化皮膜が形成される。
陽極酸化処理は、この分野で従来から知られている方法に従って、所望とするマイクロポアの形状などを考慮して、適宜製造条件を設定することにより行うことができる。
<Anodizing process>
The anodizing process is a process for forming an aluminum oxide film on the surface of the aluminum plate by anodizing the aluminum plate that has been subjected to the surface roughening process. The anodizing process forms an aluminum anodized film having micropores on the surface of the aluminum plate.
The anodizing treatment can be carried out according to a method conventionally known in this field by appropriately setting the production conditions taking into consideration the desired shape of the micropores, etc.
陽極酸化処理工程においては、硫酸、リン酸、シュウ酸などの水溶液を主に電解液として用いることができる。場合によっては、クロム酸、スルファミン酸、ベンゼンスルホン酸などまたはこれらの二種以上を組み合わせた水溶液または非水溶液を用いることもできる。電解液中でアルミニウム板に直流または交流を流すと、アルミニウム板表面に陽極酸化皮膜を形成することができる。電解液にはアルミニウムイオンが含まれていてもよい。アルミニウムイオンの含有量は特に限定されないが1~10g/Lが好ましい。In the anodizing process, aqueous solutions of sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid, etc. can be mainly used as the electrolyte. In some cases, aqueous or non-aqueous solutions of chromic acid, sulfamic acid, benzenesulfonic acid, etc., or combinations of two or more of these, can also be used. When a direct or alternating current is passed through the aluminum plate in the electrolyte, an anodized film can be formed on the surface of the aluminum plate. The electrolyte may contain aluminum ions. There are no particular restrictions on the content of aluminum ions, but a content of 1 to 10 g/L is preferred.
陽極酸化処理の条件は使用される電解液によって適宜設定されるが、一般的には、電解液の濃度が1~80質量%(好ましくは5~20質量%)、液温5~70℃(好ましくは10~60℃)、電流密度0.5~60A/dm2(好ましくは5~50A/dm2)、電圧1~100V(好ましくは5~50V)、電解時間1~100秒(好ましくは5~60秒)の範囲が適当である。 The conditions for the anodizing treatment are appropriately set depending on the electrolytic solution used, but generally, appropriate ranges are an electrolytic solution concentration of 1 to 80 mass % (preferably 5 to 20 mass %), a solution temperature of 5 to 70°C (preferably 10 to 60°C), a current density of 0.5 to 60 A/ dm2 (preferably 5 to 50 A/ dm2 ), a voltage of 1 to 100 V (preferably 5 to 50 V), and an electrolysis time of 1 to 100 seconds (preferably 5 to 60 seconds).
英国特許第1,412,768号明細書に記載されている、硫酸中にて高電流密度で陽極酸化する方法は陽極酸化処理の好ましい一例である。The method of anodizing at high current density in sulfuric acid, described in British Patent Specification No. 1,412,768, is a preferred example of anodizing.
陽極酸化処理は複数回行うこともできる。各陽極酸化処理において使用する電解液の種類、濃度、液温、電流密度、電圧、電解時間などの条件の1つ以上を変更することができる。陽極酸化処理の回数が2の場合、最初の陽極酸化処理を第1陽極酸化処理、2回目の陽極酸化処理を第2陽極酸化処理ということもある。第1陽極酸化処理と第2陽極酸化処理を行うことにより、異なる形状を有する陽極酸化皮膜を形成することができ、印刷性能に優れた印刷用原版を提供することが可能となる。
更に、陽極酸化処理に引き続いて下記のポアワイド処理を行い、その後再度陽極酸化処理を行うこともできる。この場合、第1陽極酸化処理、ポアワイド処理、第2陽極酸化処理を行うこととなる。
上記の第1陽極酸化処理、ポアワイド処理、第2陽極酸化処理を行う方法を利用することにより、前述の陽極酸化皮膜表面から深さ方向に延びる大径孔部と、大径孔部の底部と連通し、連通位置から深さ方向に延びる小径孔部とから構成されるマイクロポアを形成することができる。
The anodizing treatment can be performed multiple times. One or more of the conditions such as the type, concentration, temperature, current density, voltage, and electrolysis time of the electrolyte used in each anodizing treatment can be changed. When the number of anodizing treatments is two, the first anodizing treatment is sometimes called the first anodizing treatment, and the second anodizing treatment is sometimes called the second anodizing treatment. By performing the first anodizing treatment and the second anodizing treatment, anodized films having different shapes can be formed, making it possible to provide a printing plate precursor with excellent printing performance.
Furthermore, it is also possible to carry out the pore widening treatment described below following the anodizing treatment, and then carry out the anodizing treatment again. In this case, the first anodizing treatment, the pore widening treatment, and the second anodizing treatment are carried out.
By utilizing the above-mentioned first anodizing treatment, pore widening treatment, and second anodizing treatment, it is possible to form micropores each consisting of a large diameter pore portion extending in the depth direction from the surface of the anodized film and a small diameter pore portion that communicates with the bottom of the large diameter pore portion and extends in the depth direction from the communicating position.
<ポアワイド処理工程>
ポアワイド処理工程は、上記陽極酸化処理工程により形成された陽極酸化皮膜に存在するマイクロポアの径(ポア径)を拡大させる処理(孔径拡大処理)である。このポアワイド処理により、マイクロポアの径が拡大され、より大きな平均径を有するマイクロポアを有する陽極酸化皮膜が形成される。
<Pore widening process>
The pore widening treatment step is a treatment (pore diameter enlargement treatment) for enlarging the diameter of the micropores present in the anodized film formed by the anodized film treatment step described above. This pore widening treatment enlarges the diameter of the micropores, forming an anodized film having micropores with a larger average diameter.
ポアワイド処理は、上記陽極酸化処理工程により得られたアルミニウム板を、酸水溶液またはアルカリ水溶液に接触させることにより行うことができる。接触させる方法は、特に限定されず、例えば、浸せき法、スプレー法が挙げられる。中でも、浸せき法が好ましい。The pore widening treatment can be carried out by contacting the aluminum plate obtained by the above-mentioned anodizing treatment process with an acid aqueous solution or an alkaline aqueous solution. The contacting method is not particularly limited, and examples include the immersion method and the spray method. Among these, the immersion method is preferred.
ポアワイド処理工程においてアルカリ水溶液を使用する場合、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、および水酸化リチウムからなる群から選ばれる少なくとも一つのアルカリ水溶液を用いることが好ましい。アルカリ水溶液の濃度は0.1~5質量%が好ましい。アルカリ水溶液のpHを11~13に調整し、10~70℃(好ましくは20~50℃)の条件下で、アルミニウム板をアルカリ水溶液に1~300秒(好ましくは1~50秒)接触させることが適当である。この際、アルカリ処理液中に炭酸塩、硼酸塩、燐酸塩などの多価弱酸の金属塩を含んでもよい。When an alkaline aqueous solution is used in the pore widening treatment step, it is preferable to use at least one alkaline aqueous solution selected from the group consisting of sodium hydroxide, potassium hydroxide, and lithium hydroxide. The concentration of the alkaline aqueous solution is preferably 0.1 to 5 mass%. It is appropriate to adjust the pH of the alkaline aqueous solution to 11 to 13, and contact the aluminum sheet with the alkaline aqueous solution for 1 to 300 seconds (preferably 1 to 50 seconds) under conditions of 10 to 70°C (preferably 20 to 50°C). In this case, the alkaline treatment liquid may contain metal salts of polyvalent weak acids such as carbonates, borates, and phosphates.
ポアワイド処理工程において酸水溶液を使用する場合、硫酸、リン酸、硝酸、塩酸などの無機酸またはこれらの混合物の水溶液を用いることが好ましい。酸水溶液の濃度は、1~80質量%が好ましく、5~50質量%がより好ましい。酸水溶液の液温5~70℃(好ましくは10~60℃)の条件下で、アルミニウム板を酸水溶液に1~300秒(好ましくは1~150秒)接触させることが適当である。
アルカリ水溶液又は酸水溶液中にはアルミニウムイオンが含まれていてもよい。アルミニウムイオンの含有量は特に限定されないが、1~10g/Lが好ましい。
When an aqueous acid solution is used in the pore widening treatment step, it is preferable to use an aqueous solution of an inorganic acid such as sulfuric acid, phosphoric acid, nitric acid, or hydrochloric acid, or a mixture thereof. The concentration of the aqueous acid solution is preferably 1 to 80% by mass, more preferably 5 to 50% by mass. It is appropriate to contact the aluminum sheet with the aqueous acid solution for 1 to 300 seconds (preferably 1 to 150 seconds) under conditions of a liquid temperature of the aqueous acid solution of 5 to 70°C (preferably 10 to 60°C).
The alkaline or acidic aqueous solution may contain aluminum ions. The content of aluminum ions is not particularly limited, but is preferably 1 to 10 g/L.
陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体の製造方法は、上記ポアワイド処理工程の後に親水化処理を施す親水化処理工程を含んでいてもよい。親水化処理には、特開2005-254638号公報の段落0109~0114に記載される公知の方法を使用することができる。The method for producing an aluminum support having an anodized film may include a hydrophilization treatment step in which a hydrophilization treatment is performed after the pore widening treatment step. For the hydrophilization treatment, a known method described in paragraphs 0109 to 0114 of JP 2005-254638 A can be used.
親水化処理は、ケイ酸ソーダ、ケイ酸カリなどのアルカリ金属ケイ酸塩の水溶液に浸漬する方法、親水性ビニルポリマーまたは親水性化合物を塗布して親水性の下塗層を形成する方法などにより行うことが好ましい。The hydrophilic treatment is preferably carried out by immersing the substrate in an aqueous solution of an alkali metal silicate such as sodium silicate or potassium silicate, or by applying a hydrophilic vinyl polymer or a hydrophilic compound to form a hydrophilic undercoat layer.
ケイ酸ソーダ、ケイ酸カリなどのアルカリ金属ケイ酸塩の水溶液による親水化処理は、米国特許第2,714,066号明細書および米国特許第3,181,461号明細書に記載されている方法および手順に従って行うことができる。Hydrophilization treatment with an aqueous solution of an alkali metal silicate such as sodium silicate or potassium silicate can be carried out according to the methods and procedures described in U.S. Pat. Nos. 2,714,066 and 3,181,461.
〔2つ以上の水酸基を有するヒドロキシ酸化合物を含有する構成層〕
機上現像型印刷用原版を構成する、2つ以上の水酸基を有するヒドロキシ酸化合物を含有する構成層(以下、「特定構成層」ともいう。)について記載する。
特定構成層は2つ以上の水酸基を有するヒドロキシ酸化合物を含有する。
[Constituent layer containing hydroxy acid compound having two or more hydroxyl groups]
A constituent layer (hereinafter also referred to as a "specific constituent layer") that contains a hydroxy acid compound having two or more hydroxyl groups and that constitutes an on-press development type printing plate precursor will be described.
The specific component layer contains a hydroxy acid compound having two or more hydroxyl groups.
(2つ以上の水酸基を有するヒドロキシ酸化合物)
特定構成層は、2つ以上の水酸基を有するヒドロキシ酸化合物(以下、「特定ヒドロキシ酸化合物」ともいう。)を含有する。
(Hydroxy acid compound having two or more hydroxyl groups)
The specific component layer contains a hydroxy acid compound having two or more hydroxyl groups (hereinafter, also referred to as a "specific hydroxy acid compound").
特定ヒドロキシ酸化合物は、2つ以上の水酸基を有するヒドロキシカルボン酸及びその塩を包含する。塩としては、例えば、ナトリウム塩、カリウム塩、リチウム塩、カルシウム塩、マグネシウム塩、アルミニウム塩、アンモニウム塩が挙げられる。
2つ以上の水酸基を有するヒドロキシカルボン酸における水酸基の数は、2~15が好ましく、3~10がより好ましく、4から7が更に好ましい。
2つ以上の水酸基を有するヒドロキシカルボン酸におけるカルボキシ基の数は1~10が好ましく、1~5がより好ましく、1から3が更に好ましい。
The specific hydroxy acid compound includes a hydroxycarboxylic acid having two or more hydroxyl groups and a salt thereof, such as a sodium salt, a potassium salt, a lithium salt, a calcium salt, a magnesium salt, an aluminum salt, or an ammonium salt.
The number of hydroxyl groups in the hydroxycarboxylic acid having two or more hydroxyl groups is preferably 2 to 15, more preferably 3 to 10, and even more preferably 4 to 7.
The number of carboxy groups in the hydroxycarboxylic acid having two or more hydroxyl groups is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 5, and even more preferably 1 to 3.
特定ヒドロキシ酸化合物は高い親水性を有することがエッジ汚れ防止の観点で好ましい。特定ヒドロキシ酸化合物の親水性は、一般に化合物の親水性を表す指標として知られているClogP値を用いて表すことができる。特定ヒドロキシ酸化合物はClogP値が0.5以下であることが好ましく、-1以下であることがより好ましく、-3以下であることが更に好ましい。また、特定ヒドロキシ酸化合物のClogP値は、端部領域における画像形成性の観点からは、-10以上が好ましく、-7以上がより好ましく、-5以上が更に好ましい。
ここで、特定ヒドロキシ酸化合物のClogP値は分子構造式エディタソフト「ChemDraw Professional 2016」により分子構造から算出された数値である。
From the viewpoint of preventing edge staining, it is preferable that the specific hydroxy acid compound has high hydrophilicity. The hydrophilicity of the specific hydroxy acid compound can be expressed by the ClogP value, which is generally known as an index of the hydrophilicity of a compound. The specific hydroxy acid compound preferably has a ClogP value of 0.5 or less, more preferably -1 or less, and even more preferably -3 or less. Moreover, from the viewpoint of image forming properties in the edge region, the ClogP value of the specific hydroxy acid compound is preferably -10 or more, more preferably -7 or more, and even more preferably -5 or more.
Here, the ClogP value of the specific hydroxy acid compound is a numerical value calculated from the molecular structure using the molecular structure editor software "ChemDraw Professional 2016."
特定ヒドロキシ酸化合物の分子量は1,000以下が好ましい。分子量が1,000以下であることにより、特定ヒドロキシ酸化合物が機上現像時に陽極酸化皮膜の表面に容易に移動し、エッジ汚れ防止に有効に寄与することができる。特定ヒドロキシ酸化合物の分子量は80~1,000がより好ましく、100~500が更に好ましく、100~300が更により好ましい。The molecular weight of the specific hydroxy acid compound is preferably 1,000 or less. By having a molecular weight of 1,000 or less, the specific hydroxy acid compound can easily migrate to the surface of the anodized film during on-machine development, effectively contributing to preventing edge staining. The molecular weight of the specific hydroxy acid compound is more preferably 80 to 1,000, even more preferably 100 to 500, and even more preferably 100 to 300.
特定ヒドロキシ酸化合物としては、グリセリン酸、グルコン酸、酒石酸、メバロン酸、パントイン酸、キナ酸、シキミ酸、没食子酸、コーヒー酸、2,3-ジヒドロキシ安息香酸、2,4-ジヒドロキシ安息香酸、2,5-ジヒドロキシ安息香酸、2,6-ジヒドロキシ安息香酸、3,4-ジヒドロキシ安息香酸、3,5-ジヒドロキシ安息香酸、2,3,4-トリヒドロキシ安息香酸、3,4,5-トリヒドロキシ安息香酸、グルコン酸ナトリウム、グルコン酸カリウム、酒石酸ナトリウム、没食子酸ナトリウムなどが挙げられる。
特定ヒドロキシ酸化合物としては、グルコン酸、酒石酸、メバロン酸、キナ酸、グルコン酸Na、グルコン酸K、酒石酸Naなどが好ましい。
Examples of the specific hydroxy acid compound include glyceric acid, gluconic acid, tartaric acid, mevalonic acid, pantoic acid, quinic acid, shikimic acid, gallic acid, caffeic acid, 2,3-dihydroxybenzoic acid, 2,4-dihydroxybenzoic acid, 2,5-dihydroxybenzoic acid, 2,6-dihydroxybenzoic acid, 3,4-dihydroxybenzoic acid, 3,5-dihydroxybenzoic acid, 2,3,4-trihydroxybenzoic acid, 3,4,5-trihydroxybenzoic acid, sodium gluconate, potassium gluconate, sodium tartrate, and sodium gallate.
Preferred specific hydroxy acid compounds include gluconic acid, tartaric acid, mevalonic acid, quinic acid, sodium gluconate, potassium gluconate, and sodium tartrate.
特定ヒドロキシ酸化合物は、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。The specific hydroxy acid compound may be used alone or in combination of two or more types.
特定構成層における特定ヒドロキシ酸化合物の含有量は、端部領域における画像形成性の観点からは、10~300mg/m2が好ましく、30~200mg/m2がより好ましく、50~100mg/m2が更に好ましい。
特定ヒドロキシ酸化合物の含有量は特定構成層の面内において実質的に同じである。ここで、「特定ヒドロキシ酸化合物の含有量が特定構成層の面内において実質的に同じである」とは、特定ヒドロキシ酸化合物が特定構成層の面内においてほぼ均一に存在し、機上現像型印刷用原版の中央部と端部において、特定ヒドロキシ酸化合物の含有量に実質的な差がないことを意味する。即ち、特定構成層を塗布した際に通常発生し得る特定構成層面内における特定ヒドロキシ酸化合物の含有量差以外には、含有量差がないことを意味する。
従って、本発明は、機上現像型印刷用原版の端部のみに、意図的に特定ヒドロキシ酸化合物を適用して、端部における特定ヒドロキシ酸化合物の含有量を端部以外の領域における特定ヒドロキシ酸化合物の含有量より多くする状態を形成することとは異なる。
The content of the specific hydroxy acid compound in the specific component layer is preferably from 10 to 300 mg/ m2 , more preferably from 30 to 200 mg/ m2 , and even more preferably from 50 to 100 mg/ m2 , from the viewpoint of image forming properties in the edge regions.
The content of the specific hydroxy acid compound is substantially the same in the plane of the specific component layer. Here, "the content of the specific hydroxy acid compound is substantially the same in the plane of the specific component layer" means that the specific hydroxy acid compound is almost uniformly present in the plane of the specific component layer, and there is no substantial difference in the content of the specific hydroxy acid compound between the center and the end of the on-press development type printing plate precursor. That is, it means that there is no content difference other than the content difference of the specific hydroxy acid compound in the plane of the specific component layer that may normally occur when the specific component layer is applied.
Therefore, the present invention differs from intentionally applying a specific hydroxy acid compound only to the edges of an on-press development type printing plate precursor, thereby creating a state in which the content of the specific hydroxy acid compound at the edges is greater than the content of the specific hydroxy acid compound in areas other than the edges.
特定構成層の面内において、分子量が60~300であり、20℃における水に対する溶解度が10g/L以上である水溶性化合物の含有量は実質的に同じである。ここで、「分子量が60~300であり、20℃における水に対する溶解度が10g/L以上である水溶性化合物の含有量が特定構成層の面内において実質的に同じである」とは、分子量が60~300であり、20℃における水に対する溶解度が10g/L以上である水溶性化合物が特定構成層の面内においてほぼ均一に存在し、機上現像型印刷用原版の中央部と端部において、分子量が60~300であり、20℃における水に対する溶解度が10g/L以上である水溶性化合物の含有量に実質的な差がないことを意味する。即ち、特定構成層を塗布した際に通常発生し得る特定構成層面内における分子量が60~300であり、20℃における水に対する溶解度が10g/L以上である水溶性化合物の含有量差以外には、含有量差がないことを意味する。
従って、本発明は、機上現像型印刷用原版の端部のみに、意図的に分子量が60~300であり、20℃における水に対する溶解度が10g/L以上である水溶性化合物を適用して、端部における分子量が60~300であり、20℃における水に対する溶解度が10g/L以上である水溶性化合物の含有量を端部以外の領域における分子量が60~300であり、20℃における水に対する溶解度が10g/L以上である水溶性化合物の含有量より多くする状態を形成することとは異なる。
In the plane of the specific component layer, the content of the water-soluble compound having a molecular weight of 60 to 300 and a solubility in water of 10 g/L or more at 20°C is substantially the same. Here, "the content of the water-soluble compound having a molecular weight of 60 to 300 and a solubility in water of 10 g/L or more at 20°C is substantially the same in the plane of the specific component layer" means that the water-soluble compound having a molecular weight of 60 to 300 and a solubility in water of 10 g/L or more at 20°C is almost uniformly present in the plane of the specific component layer, and there is no substantial difference in the content of the water-soluble compound having a molecular weight of 60 to 300 and a solubility in water of 10 g/L or more at 20°C at the center and end parts of the on-press development type printing plate master. That is, it means that there is no content difference other than the content difference of the water-soluble compound having a molecular weight of 60 to 300 and a solubility in water of 10 g/L or more at 20°C in the plane of the specific component layer that can usually occur when the specific component layer is applied.
Therefore, the present invention differs from intentionally applying a water-soluble compound having a molecular weight of 60 to 300 and a solubility in water at 20°C of 10 g/L or more only to the edges of an on-press development type printing plate master, thereby creating a state in which the content of the water-soluble compound having a molecular weight of 60 to 300 and a solubility in water at 20°C of 10 g/L or more at the edges is greater than the content of the water-soluble compound having a molecular weight of 60 to 300 and a solubility in water at 20°C of 10 g/L or more in areas other than the edges.
分子量が60~300であり、20℃における水に対する溶解度が10g/L以上である水溶性化合物としては、ポリオール、ベタイン、有機スルホン酸塩、有機硫酸塩、有機カルボン酸若しくはその塩又はアミノ酸が好ましく例示される。これらの具体例は、WO2016/053443の段落0022~0027に記載されている。Preferred examples of water-soluble compounds having a molecular weight of 60 to 300 and a solubility in water at 20°C of 10 g/L or more include polyols, betaines, organic sulfonates, organic sulfates, organic carboxylic acids or their salts, and amino acids. Specific examples of these are described in paragraphs 0022 to 0027 of WO2016/053443.
特定構成層は、特定ヒドロキシ酸化合物を含有する構成層であるから、機上現像型平版印刷版原版及び捨て版原版の構成層、例えば、画像記録層、下塗り層、保護層又は非感光性層が特定ヒドロキシ酸化合物を含有する場合、当該構成層は特定構成層に該当する。A specific component layer is a component layer that contains a specific hydroxy acid compound, so when a component layer of an on-press development type lithographic printing plate precursor and a disposable plate precursor, such as an image recording layer, undercoat layer, protective layer or non-photosensitive layer, contains a specific hydroxy acid compound, the component layer corresponds to a specific component layer.
[機上現像型平版印刷版原版]
以下に、本発明に係る機上現像型印刷用原版の一つの態様である機上現像型平版印刷版原版(以下、「平版印刷版原版」ともいう。)について記載する。
平版印刷版原版は、上記陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体上に画像記録層を有する。
[On-press development type lithographic printing plate precursor]
Hereinafter, an on-press development type lithographic printing plate precursor (hereinafter also referred to as "lithographic printing plate precursor"), which is one embodiment of the on-press development type printing plate precursor according to the present invention, will be described.
The lithographic printing plate precursor has an image recording layer on the aluminum support having the above-mentioned anodized film.
〔画像記録層〕
平版印刷版原版における画像記録層の一つの好ましい形態によれば、画像記録層は赤外線吸収剤、重合開始剤、重合性化合物、及び高分子化合物を含有する。画像記録層は、更に、連鎖移動剤を含有することが好ましい。
画像記録層のもう一つの好ましい形態によれば、画像記録層は、赤外線吸収剤、熱融着性粒子、及びバインダーポリマーを含有する。
[Image Recording Layer]
According to one preferred embodiment of the image recording layer in the lithographic printing plate precursor, the image recording layer contains an infrared absorbing agent, a polymerization initiator, a polymerizable compound, and a polymer compound. The image recording layer preferably further contains a chain transfer agent.
According to another preferred embodiment of the image recording layer, the image recording layer contains an infrared absorbing agent, heat-fusible particles, and a binder polymer.
(赤外線吸収剤)
赤外線吸収剤は、赤外線により励起して重合開始剤などに電子移動及び/又はエネルギー移動する機能を有する。また、吸収した赤外線を熱に変換する機能を有する。赤外線吸収剤は750~1,400nmの波長域に極大吸収を有することが好ましい。赤外線吸収剤としては、染料又は顔料が挙げられ、染料が好ましく用いられる。
(Infrared absorber)
The infrared absorbing agent has a function of being excited by infrared rays and transferring electrons and/or energy to a polymerization initiator, etc., and also has a function of converting the absorbed infrared rays into heat. The infrared absorbing agent preferably has a maximum absorption in the wavelength range of 750 to 1,400 nm. Examples of the infrared absorbing agent include dyes and pigments, and dyes are preferably used.
染料としては、市販の染料、及び、「染料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)などの文献に記載されている公知の染料が利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体などの染料が挙げられる。
染料のうち、シアニン色素、スクアリリウム色素、ピリリウム塩が好ましく、シアニン色素がより好ましく、インドレニンシアニン色素が特に好ましい。
As the dye, commercially available dyes and known dyes described in documents such as "Dye Handbook" (edited by the Organic Synthesis Chemistry Association, published in 1970) can be used. Specific examples of the dye include azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, and metal thiolate complex dyes.
Of the dyes, cyanine dyes, squarylium dyes and pyrylium salts are preferred, cyanine dyes are more preferred, and indolenine cyanine dyes are particularly preferred.
シアニン色素としては、下記式(a)で表されるシアニン色素が挙げられる。 Examples of cyanine dyes include cyanine dyes represented by the following formula (a).
式(a)中、X1は、水素原子、ハロゲン原子、-N(R9)(R10)、-X2-L1又は以下に示す基を表す。ここで、R9及びR10は、同じでも異なってもよく、それぞれ独立に炭素数6~10の芳香族炭化水素基、炭素数1~8のアルキル基又は水素原子を表すか、あるいは、R9とR10とが互いに結合して環を形成してもよい。炭素数6~10の芳香族炭化水素基又は炭素数1~8のアルキル基は置換基を有していてもよい。R9とR10は共にフェニル基が好ましい。X2は、酸素原子又は硫黄原子を表し、L1は、炭素数1~12の炭化水素基又はヘテロ原子を含む炭素数1~12の炭化水素基を表す。ここでヘテロ原子とは、N、S、O、ハロゲン原子、Seを表す。以下に示す基において、Xa-は後述するZa-と同義であり、Raは、水素原子、又はアルキル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基及びハロゲン原子から選択される置換基を表す。 In formula (a), X 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, -N(R 9 )(R 10 ), -X 2 -L 1 or a group shown below. Here, R 9 and R 10 may be the same or different, and each independently represents an aromatic hydrocarbon group having 6 to 10 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or a hydrogen atom, or R 9 and R 10 may be bonded to each other to form a ring. The aromatic hydrocarbon group having 6 to 10 carbon atoms or the alkyl group having 1 to 8 carbon atoms may have a substituent. Both R 9 and R 10 are preferably phenyl groups. X 2 represents an oxygen atom or a sulfur atom, and L 1 represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms or a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms containing a hetero atom. Here, the hetero atom represents N, S, O, a halogen atom, or Se. In the groups shown below, Xa- has the same meaning as Za- described below, and Ra represents a hydrogen atom or a substituent selected from an alkyl group, an aryl group, a substituted or unsubstituted amino group, and a halogen atom.
式(a)中、R1及びR2は、それぞれ独立に、炭素数1~12の炭化水素基を表す。画像記録層塗布液の保存安定性から、R1及びR2は、炭素数2以上の炭化水素基であることが好ましく、R1及びR2が互いに結合して5員環又は6員環を形成していることが特に好ましい。 In formula (a), R 1 and R 2 each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. From the viewpoint of storage stability of the image recording layer coating liquid, R 1 and R 2 are preferably a hydrocarbon group having 2 or more carbon atoms, and it is particularly preferable that R 1 and R 2 are bonded to each other to form a 5-membered or 6-membered ring.
式(a)中、Ar1及びAr2は、同じでも異なっていてもよく、それぞれ芳香族炭化水素基を表す。芳香族炭化水素基は置換基を有していてもよい。好ましい芳香族炭化水素基としては、ベンゼン環基及びナフタレン環基が挙げられる。また、好ましい置換基としては、炭素数12以下の炭化水素基、ハロゲン原子、炭素数12以下のアルコキシ基が挙げられる。Y1及びY2は、同じでも異なっていてもよく、それぞれ硫黄原子又は炭素数12以下のジアルキルメチレン基を表す。R3及びR4は、同じでも異なっていてもよく、それぞれ炭素数20以下の炭化水素基を表す。炭素数20以下の炭化水素基は置換基を有していてもよい。好ましい置換基としては、炭素数12以下のアルコキシ基、カルボキシ基、スルホ基が挙げられる。R5、R6、R7およびR8は、同じでも異なっていてもよく、それぞれ水素原子又は炭素数12以下の炭化水素基を表す。原料の入手容易性から、好ましくは水素原子である。また、Za-は、対アニオンを表す。ただし、式(a)で表されるシアニン色素が、その構造内にアニオン性の置換基を有し、電荷の中和が必要ない場合にはZa-は必要ない。Za-は、画像記録層塗布液の保存安定性から、ハロゲン化物イオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、又はスルホン酸イオンが好ましく、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、又はアリールスルホン酸イオンがより好ましい。 In formula (a), Ar 1 and Ar 2 may be the same or different and each represents an aromatic hydrocarbon group. The aromatic hydrocarbon group may have a substituent. Preferred aromatic hydrocarbon groups include a benzene ring group and a naphthalene ring group. Preferred substituents include a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms, a halogen atom, and an alkoxy group having 12 or less carbon atoms. Y 1 and Y 2 may be the same or different and each represents a sulfur atom or a dialkylmethylene group having 12 or less carbon atoms. R 3 and R 4 may be the same or different and each represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms. The hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms may have a substituent. Preferred substituents include an alkoxy group having 12 or less carbon atoms, a carboxy group, and a sulfo group. R 5 , R 6 , R 7 , and R 8 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms. In terms of the ease of availability of raw materials, a hydrogen atom is preferred. Za - represents a counter anion. However, when the cyanine dye represented by formula (a) has an anionic substituent in its structure and charge neutralization is not required, Za- is not necessary. From the viewpoint of storage stability of the image recording layer coating solution, Za- is preferably a halide ion, a perchlorate ion, a tetrafluoroborate ion, a hexafluorophosphate ion, or a sulfonate ion, and more preferably a perchlorate ion, a hexafluorophosphate ion, or an arylsulfonate ion.
式(a)で表されるシアニン色素において、X1がジフェニルアミノ基であることがより好ましい。また、X1がジフェニルアミノ基であり、Y1及びY2が共にジメチルメチレン基であることが更に好ましい。 In the cyanine dye represented by formula (a), it is more preferable that X 1 is a diphenylamino group, and further more preferable that X 1 is a diphenylamino group, and Y 1 and Y 2 are both dimethylmethylene groups.
シアニン色素の具体例としては、特開2001-133969号公報の段落0017~0019に記載の化合物、特開2002-023360号公報の段落0016~0021、特開2002-040638号公報の段落0012~0037に記載の化合物、好ましくは特開2002-278057号公報の段落0034~0041、特開2008-195018公報の段落0080~0086に記載の化合物、特に好ましくは特開2007-90850号公報の段落0035~0043に記載の化合物が挙げられる。
また、特開平5-5005号公報の段落0008~0009、特開2001-222101号公報の段落0022~0025に記載の化合物も好ましく使用することができる。
顔料としては、特開2008-195018号公報の段落0072~0076に記載の化合物が好ましい。
Specific examples of the cyanine dye include the compounds described in paragraphs 0017 to 0019 of JP-A-2001-133969, the compounds described in paragraphs 0016 to 0021 of JP-A-2002-023360, and the compounds described in paragraphs 0012 to 0037 of JP-A-2002-040638, preferably the compounds described in paragraphs 0034 to 0041 of JP-A-2002-278057 and paragraphs 0080 to 0086 of JP-A-2008-195018, and particularly preferably the compounds described in paragraphs 0035 to 0043 of JP-A-2007-90850.
In addition, the compounds described in paragraphs 0008 to 0009 of JP-A No. 5-5005 and paragraphs 0022 to 0025 of JP-A No. 2001-222101 can also be preferably used.
As the pigment, the compounds described in paragraphs 0072 to 0076 of JP-A-2008-195018 are preferred.
赤外線吸収剤は、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
赤外線吸収剤の含有量は、画像記録層の全固形分中、0.05~30質量%が好ましく、0.1~20質量%がより好ましく、0.2~10質量%が更に好ましい。
The infrared absorbing agent may be used alone or in combination of two or more kinds.
The content of the infrared absorbing agent is preferably from 0.05 to 30% by mass, more preferably from 0.1 to 20% by mass, and even more preferably from 0.2 to 10% by mass, based on the total solid content of the image recording layer.
(重合開始剤)
重合開始剤は、光、熱あるいはその両方のエネルギーによりラジカルやカチオンなどの重合開始種を発生する化合物であり、公知の熱重合開始剤、結合解離エネルギーの小さな結合を有する化合物、光重合開始剤などから適宜選択して用いることができる。
重合開始剤としては、赤外線感光性重合開始剤が好ましい。また、重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤が好ましい。ラジカル重合開始剤は、2種以上を併用してもよい。
(Polymerization initiator)
The polymerization initiator is a compound that generates polymerization initiating species such as radicals or cations by the energy of light, heat, or both, and can be appropriately selected from known thermal polymerization initiators, compounds having bonds with small bond dissociation energy, photopolymerization initiators, etc.
The polymerization initiator is preferably an infrared-sensitive polymerization initiator. The polymerization initiator is preferably a radical polymerization initiator. Two or more types of radical polymerization initiators may be used in combination.
ラジカル重合開始剤は、電子受容性重合開始剤及び電子供与性重合開始剤のいずれであってもよい。The radical polymerization initiator may be either an electron-accepting polymerization initiator or an electron-donating polymerization initiator.
<電子受容性重合開始剤>
電子受容性重合開始剤としては、例えば、有機ハロゲン化物、カルボニル化合物、アゾ化合物、有機過酸化物、メタロセン化合物、アジド化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、ジスルホン化合物、オキシムエステル化合物、及び、オニウム塩化合物が挙げられる。
<Electron-Accepting Polymerization Initiator>
Examples of the electron-accepting polymerization initiator include organic halides, carbonyl compounds, azo compounds, organic peroxides, metallocene compounds, azide compounds, hexaarylbiimidazole compounds, disulfone compounds, oxime ester compounds, and onium salt compounds.
有機ハロゲン化物としては、例えば、特開2008-195018号公報の段落0022~0023に記載の化合物が好ましい。
カルボニル化合物としては、例えば、特開2008-195018号公報の段落0024に記載の化合物が好ましい。
アゾ化合物としては、例えば、特開平8-108621号公報に記載のアゾ化合物などが挙げられる。
有機過酸化物としては、例えば、特開2008-195018号公報の段落0025に記載の化合物が好ましい。
メタロセン化合物としては、例えば、特開2008-195018号公報の段落0026に記載の化合物が好ましい。
アジド化合物としては、例えば、2,6-ビス(4-アジドベンジリデン)-4-メチルシクロヘキサノンなどの化合物が挙げられる。
ヘキサアリールビイミダゾール化合物としては、例えば、特開2008-195018号公報の段落0027に記載の化合物が好ましい。
ジスルホン化合物としては、例えば、特開昭61-166544号公報及び特開2002-328465号公報に記載の化合物が挙げられる。
オキシムエステル化合物としては、例えば、特開2008-195018号公報の段落0028~0030に記載の化合物が好ましい。
As the organic halide, for example, the compounds described in paragraphs 0022 to 0023 of JP-A-2008-195018 are preferable.
As the carbonyl compound, for example, the compounds described in paragraph 0024 of JP-A-2008-195018 are preferable.
Examples of the azo compound include the azo compounds described in JP-A-8-108621.
As the organic peroxide, for example, the compounds described in paragraph 0025 of JP-A-2008-195018 are preferable.
As the metallocene compound, for example, the compounds described in paragraph 0026 of JP-A-2008-195018 are preferable.
Examples of the azide compound include compounds such as 2,6-bis(4-azidobenzylidene)-4-methylcyclohexanone.
As the hexaarylbiimidazole compound, for example, the compounds described in paragraph 0027 of JP-A-2008-195018 are preferable.
Examples of the disulfone compound include the compounds described in JP-A-61-166544 and JP-A-2002-328465.
As the oxime ester compound, for example, the compounds described in paragraphs 0028 to 0030 of JP-A-2008-195018 are preferred.
電子受容性重合開始剤の中でも、より好ましいものとして、ヨードニウム塩、スルホニウム塩及びアジニウム塩などのオニウム塩が挙げられる。ヨードニウム塩及びスルホニウム塩が特に好ましい。ヨードニウム塩及びスルホニウム塩の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。Among the electron-accepting polymerization initiators, onium salts such as iodonium salts, sulfonium salts, and azinium salts are more preferred. Iodonium salts and sulfonium salts are particularly preferred. Specific examples of iodonium salts and sulfonium salts are shown below, but the present invention is not limited to these.
ヨードニウム塩の例としては、ジフェニルヨードニウム塩が好ましく、特に、電子供与性基を置換基として有する、例えば、アルキル基又はアルコキシル基で置換されたジフェニルヨードニウム塩が好ましく、また、非対称のジフェニルヨードニウム塩が好ましい。具体例としては、ジフェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4-メトキシフェニル-4-(2-メチルプロピル)フェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4-(2-メチルプロピル)フェニル-p-トリルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4-ヘキシルオキシフェニル-2,4,6-トリメトキシフェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4-ヘキシルオキシフェニル-2,4-ジエトキシフェニルヨードニウム=テトラフルオロボラート、4-オクチルオキシフェニル-2,4,6-トリメトキシフェニルヨードニウム=1-ペルフルオロブタンスルホナート、4-オクチルオキシフェニル-2,4,6-トリメトキシフェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、ビス(4-t-ブチルフェニル)ヨードニウム=ヘキサフルオロホスファートが挙げられる。Preferred examples of iodonium salts include diphenyliodonium salts, particularly diphenyliodonium salts having an electron-donating group as a substituent, for example, diphenyliodonium salts substituted with an alkyl group or an alkoxy group, and asymmetric diphenyliodonium salts are also preferred. Specific examples include diphenyliodonium hexafluorophosphate, 4-methoxyphenyl-4-(2-methylpropyl)phenyliodonium hexafluorophosphate, 4-(2-methylpropyl)phenyl-p-tolyliodonium hexafluorophosphate, 4-hexyloxyphenyl-2,4,6-trimethoxyphenyliodonium hexafluorophosphate, 4-hexyloxyphenyl-2,4-diethoxyphenyliodonium tetrafluoroborate, 4-octyloxyphenyl-2,4,6-trimethoxyphenyliodonium 1-perfluorobutanesulfonate, 4-octyloxyphenyl-2,4,6-trimethoxyphenyliodonium hexafluorophosphate, and bis(4-t-butylphenyl)iodonium hexafluorophosphate.
スルホニウム塩の例としては、トリアリールスルホニウム塩が好ましく、特に電子求引性基を置換基として有する、例えば、芳香環上の基の少なくとも一部がハロゲン原子で置換されたトリアリールスルホニウム塩が好ましく、芳香環上のハロゲン原子の総置換数が4以上であるトリアリールスルホニウム塩が更に好ましい。具体例としては、トリフェニルスルホニウム=ヘキサフルオロホスファート、トリフェニルスルホニウム=ベンゾイルホルマート、ビス(4-クロロフェニル)フェニルスルホニウム=ベンゾイルホルマート、ビス(4-クロロフェニル)-4-メチルフェニルスルホニウム=テトラフルオロボラート、トリス(4-クロロフェニル)スルホニウム=3,5-ビス(メトキシカルボニル)ベンゼンスルホナート、トリス(4-クロロフェニル)スルホニウム=ヘキサフルオロホスファート、トリス(2,4-ジクロロフェニル)スルホニウム=ヘキサフルオロホスファートが挙げられる。Examples of sulfonium salts include triarylsulfonium salts, particularly triarylsulfonium salts having electron-withdrawing groups as substituents, such as triarylsulfonium salts in which at least a portion of the groups on the aromatic ring are substituted with halogen atoms, and more preferably triarylsulfonium salts in which the total number of halogen atoms on the aromatic ring is 4 or more. Specific examples include triphenylsulfonium hexafluorophosphate, triphenylsulfonium benzoylformate, bis(4-chlorophenyl)phenylsulfonium benzoylformate, bis(4-chlorophenyl)-4-methylphenylsulfonium tetrafluoroborate, tris(4-chlorophenyl)sulfonium 3,5-bis(methoxycarbonyl)benzenesulfonate, tris(4-chlorophenyl)sulfonium hexafluorophosphate, and tris(2,4-dichlorophenyl)sulfonium hexafluorophosphate.
電子受容性重合開始剤は、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
電子受容性重合開始剤の含有量は、画像記録層の全固形分中、0.1~50質量%が好ましく、0.5~30質量%がより好ましく、0.8~20質量%が更に好ましい。
The electron-accepting polymerization initiator may be used alone or in combination of two or more kinds.
The content of the electron-accepting polymerization initiator is preferably from 0.1 to 50% by mass, more preferably from 0.5 to 30% by mass, and even more preferably from 0.8 to 20% by mass, based on the total solid content of the image recording layer.
<電子供与性重合開始剤>
電子供与性重合開始剤は、平版印刷版原版から作製される平版印刷版の耐刷性向上に寄与する。電子供与性重合開始剤としては、例えば、以下の5種類が挙げられる。(i)アルキル又はアリールアート錯体:酸化的に炭素-ヘテロ結合が解裂し、活性ラジカルを生成すると考えられる。具体的には、ボレート化合物などが挙げられる。(ii)アミノ酢酸化合物:酸化により窒素に隣接した炭素上のC-X結合が解裂し、活性ラジカルを生成するものと考えられる。Xとしては、水素原子、カルボキシ基、トリメチルシリル基又はベンジル基が好ましい。具体的には、N-フェニルグリシン類(フェニル基に置換基を有していてもよい。)、N-フェニルイミノジ酢酸(フェニル基に置換基を有していてもよい。)などが挙げられる。(iii)含硫黄化合物:上述のアミノ酢酸化合物の窒素原子を硫黄原子に置き換えた化合物が、同様の作用により活性ラジカルを生成し得る。具体的には、フェニルチオ酢酸(フェニル基に置換基を有していてもよい。)などが挙げられる。(iv)含錫化合物:上述のアミノ酢酸化合物の窒素原子を錫原子に置き換えた化合物が、同様の作用により活性ラジカルを生成し得る。(v)スルフィン酸塩類:酸化により活性ラジカルを生成し得る。具体的は、アリールスルフィン駿ナトリウムなどが挙げられる。
<Electron-donating polymerization initiator>
The electron-donating polymerization initiator contributes to improving the printing durability of a lithographic printing plate produced from a lithographic printing plate precursor. Examples of the electron-donating polymerization initiator include the following five types. (i) Alkyl or aryl ate complexes: It is believed that the carbon-hetero bond is cleaved by oxidation to generate an active radical. Specific examples include borate compounds. (ii) Aminoacetic acid compounds: It is believed that the C-X bond on the carbon adjacent to the nitrogen is cleaved by oxidation to generate an active radical. X is preferably a hydrogen atom, a carboxy group, a trimethylsilyl group, or a benzyl group. Specific examples include N-phenylglycines (which may have a substituent on the phenyl group), N-phenyliminodiacetic acid (which may have a substituent on the phenyl group), and the like. (iii) Sulfur-containing compounds: Compounds in which the nitrogen atom of the aminoacetic acid compound described above is replaced with a sulfur atom can generate an active radical by the same action. Specific examples include phenylthioacetic acid (which may have a substituent on the phenyl group). (iv) Tin-containing compounds: Compounds in which the nitrogen atom of the aminoacetic acid compound described above is replaced with a tin atom can generate active radicals by the same action. (v) Sulfinates: Can generate active radicals by oxidation. Specific examples include sodium arylsulfinates.
電子供与性重合開始剤の中で、ボレート化合物が好ましい。ボレート化合物としては、テトラアリールボレート化合物又はモノアルキルトリアリールボレート化合物が好ましく、化合物安定性の観点から、テトラアリールボレート化合物がより好ましい。
ボレート化合物が有する対カチオンとしては、アルカリ金属イオン又はテトラアルキルアンモニウムイオンが好ましく、ナトリウムイオン、カリウムイオン又はテトラブチルアンモニウムイオンがより好ましい。
Among the electron donating polymerization initiators, borate compounds are preferred. As the borate compound, tetraarylborate compounds or monoalkyltriarylborate compounds are preferred, and from the viewpoint of compound stability, tetraarylborate compounds are more preferred.
The counter cation of the borate compound is preferably an alkali metal ion or a tetraalkylammonium ion, and more preferably a sodium ion, a potassium ion or a tetrabutylammonium ion.
ボレート化合物の具体としては、以下に示す化合物が挙げられる。ここで、Xc +は一価のカチオンを表し、アルカリ金属イオン又はテトラアルキルアンモニウムイオンが好ましく、アルカリ金属イオン又はテトラブチルアンモニウムイオンがより好ましい。また、Buはn-ブチル基を表す。 Specific examples of the borate compound include the compounds shown below, in which X c + represents a monovalent cation, preferably an alkali metal ion or a tetraalkylammonium ion, more preferably an alkali metal ion or a tetrabutylammonium ion, and Bu represents an n-butyl group.
電子供与性重合開始剤は、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
電子供与性重合開始剤の含有量は、画像記録層の全固形分中、0.01~30質量%が好ましく、0.05~25質量%がより好ましく、0.1~20質量%が更に好ましい。
The electron donating polymerization initiator may be used alone or in combination of two or more kinds.
The content of the electron-donating polymerization initiator is preferably from 0.01 to 30% by mass, more preferably from 0.05 to 25% by mass, and even more preferably from 0.1 to 20% by mass, based on the total solid content of the image recording layer.
(重合性化合物)
重合性化合物は、例えば、ラジカル重合性化合物であっても、カチオン重合性化合物であってもよいが、少なくとも1個のエチレン性不飽和結合を有する付加重合性化合物(エチレン性不飽和化合物)であることが好ましい。エチレン性不飽和化合物としては、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1個有する化合物が好ましく、末端エチレン性不飽和結合を2個以上有する化合物がより好ましい。重合性化合物は、例えばモノマー、プレポリマー、即ち、2量体、3量体若しくはオリゴマー、又は、それらの混合物などの化学的形態を持つことができる。
(Polymerizable compound)
The polymerizable compound may be, for example, a radical polymerizable compound or a cationic polymerizable compound, but is preferably an addition polymerizable compound (ethylenically unsaturated compound) having at least one ethylenically unsaturated bond.As the ethylenically unsaturated compound, a compound having at least one terminal ethylenically unsaturated bond is preferred, and a compound having two or more terminal ethylenically unsaturated bonds is more preferred.The polymerizable compound can have a chemical form such as, for example, a monomer, a prepolymer, i.e., a dimer, a trimer or an oligomer, or a mixture thereof.
モノマーの例としては、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸)や、そのエステル類、アミド類が挙げられる。好ましくは、不飽和カルボン酸と多価アルコール化合物とのエステル類、不飽和カルボン酸と多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシ基、アミノ基、メルカプト基などの求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル類あるいはアミド類と、単官能若しくは多官能イソシアネート類あるいはエポキシ類との付加反応物、及び単官能もしくは多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物なども好適に使用される。また、イソシアネート基、エポキシ基などの親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル類あるいはアミド類と単官能又は多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、更にハロゲン原子、トシルオキシ基などの脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル類あるいはアミド類と単官能又は多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸を、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテルなどに置き換えた化合物群を使用することもできる。これら化合物は、特表2006-508380号公報、特開2002-287344号公報、特開2008-256850号公報、特開2001-342222号公報、特開平9-179296号公報、特開平9-179297号公報、特開平9-179298号公報、特開2004-294935号公報、特開2006-243493号公報、特開2002-275129号公報、特開2003-64130号公報、特開2003-280187号公報、特開平10-333321号公報などに記載されている。Examples of monomers include unsaturated carboxylic acids (e.g., acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid), their esters, and amides. Preferably, esters of unsaturated carboxylic acids and polyhydric alcohol compounds, and amides of unsaturated carboxylic acids and polyvalent amine compounds are used. Also suitable are addition reaction products of unsaturated carboxylic acid esters or amides having nucleophilic substituents such as hydroxyl groups, amino groups, and mercapto groups with monofunctional or polyfunctional isocyanates or epoxy groups, and dehydration condensation reaction products of monofunctional or polyfunctional carboxylic acids. Also suitable are addition reaction products of unsaturated carboxylic acid esters or amides having electrophilic substituents such as isocyanate groups and epoxy groups with monofunctional or polyfunctional alcohols, amines, and thiols, and substitution reaction products of unsaturated carboxylic acid esters or amides having eliminable substituents such as halogen atoms and tosyloxy groups with monofunctional or polyfunctional alcohols, amines, and thiols. As another example, compounds in which the above unsaturated carboxylic acids are replaced with unsaturated phosphonic acids, styrene, vinyl ethers, etc. can also be used. These compounds are described in JP-T-2006-508380, JP-A-2002-287344, JP-A-2008-256850, JP-A-2001-342222, JP-A-9-179296, JP-A-9-179297, JP-A-9-179298, JP-A-2004-294935, JP-A-2006-243493, JP-A-2002-275129, JP-A-2003-64130, JP-A-2003-280187, JP-A-10-333321, and the like.
多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、1,3-ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキシド(EO)変性トリアクリレート、ポリエステルアクリレートオリゴマーなどが挙げられる。メタクリル酸エステルとして、テトラメチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ビス〔p-(3-メタクリルオキシ-2-ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメチルメタン、ビス〔p-(メタクリルオキシエトキシ)フェニル〕ジメチルメタンなどが挙げられる。また、多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビスアクリルアミド、メチレンビスメタクリルアミド、1,6-ヘキサメチレンビスアクリルアミド、1,6-ヘキサメチレンビスメタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミドなどが挙げられる。Specific examples of monomers of esters of polyhydric alcohol compounds and unsaturated carboxylic acids include acrylic esters such as ethylene glycol diacrylate, 1,3-butanediol diacrylate, tetramethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, hexanediol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, sorbitol triacrylate, isocyanuric acid ethylene oxide (EO) modified triacrylate, polyester acrylate oligomer, etc. Specific examples of methacrylic esters include tetramethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, bis[p-(3-methacryloxy-2-hydroxypropoxy)phenyl]dimethylmethane, bis[p-(methacryloxyethoxy)phenyl]dimethylmethane, etc. Specific examples of amide monomers of polyamine compounds and unsaturated carboxylic acids include methylene bisacrylamide, methylene bismethacrylamide, 1,6-hexamethylene bisacrylamide, 1,6-hexamethylene bismethacrylamide, diethylenetriamine trisacrylamide, xylylene bisacrylamide, and xylylene bismethacrylamide.
また、イソシアネートとヒドロキシ基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適であり、その具体例としては、例えば、特公昭48-41708号公報に記載されている、1分子に2個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に下記式(M)で表されるヒドロキシ基を含有するビニルモノマーを付加させて得られる1分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物などが挙げられる。
CH2=C(RM4)COOCH2CH(RM5)OH (M)
式(M)中、RM4及びRM5は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。
Also suitable are urethane-based addition-polymerizable compounds produced by an addition reaction between an isocyanate and a hydroxy group. Specific examples thereof include vinyl urethane compounds containing two or more polymerizable vinyl groups in one molecule, which are obtained by adding a vinyl monomer containing a hydroxy group represented by the following formula (M) to a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups in one molecule, as described in JP-B-48-41708.
CH2 =C( RM4 ) COOCH2CH ( RM5 )OH(M)
In formula (M), R M4 and R M5 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group.
また、特開昭51-37193号公報、特公平2-32293号公報、特公平2-16765号公報、特開2003-344997号公報、特開2006-65210号公報に記載のウレタンアクリレート類、特公昭58-49860号公報、特公昭56-17654号公報、特公昭62-39417号公報、特公昭62-39418号公報、特開2000-250211号公報、特開2007-94138号公報に記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類、米国特許第7153632号明細書、特表平8-505958号公報、特開2007-293221号公報、特開2007-293223号公報に記載の親水基を有するウレタン化合物類も好適である。In addition, urethane acrylates described in JP-A-51-37193, JP-B-2-32293, JP-B-2-16765, JP-A-2003-344997, and JP-A-2006-65210, JP-B-58-49860, JP-B-56-17654, JP-B-62-39417, and JP-B-62-39418 Also suitable are urethane compounds having an ethylene oxide skeleton described in JP-A-2000-250211 and JP-A-2007-94138, and urethane compounds having a hydrophilic group described in U.S. Pat. No. 7,153,632, JP-T-8-505958, JP-A-2007-293221 and JP-A-2007-293223.
重合性化合物の構造、単独使用か併用か、添加量などの使用方法の詳細は、平版印刷版原版の最終的な用途などを考慮して任意に設定できる。
重合性化合物の含有量は、画像記録層の全固形分中、1~50質量%が好ましく、3~30質量%がより好ましく、5~20質量%が更に好ましい。
Details of the method of use such as the structure of the polymerizable compound, whether it is used alone or in combination, and the amount added can be arbitrarily set in consideration of the final use of the lithographic printing plate precursor.
The content of the polymerizable compound is preferably from 1 to 50% by mass, more preferably from 3 to 30% by mass, and even more preferably from 5 to 20% by mass, based on the total solid content of the image recording layer.
(高分子化合物)
高分子化合物は、画像記録層のバインダーポリマーとして機能してもよいし、粒子形状の高分子化合物(ポリマー粒子)として画像記録層中に存在していてもよい。
(Polymer Compound)
The polymer compound may function as a binder polymer in the image recording layer, or may be present in the image recording layer as a particulate polymer compound (polymer particles).
<バインダーポリマー>
バインダーポリマーとしては、皮膜性を有するポリマーが好ましく、(メタ)アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリウレタン樹脂などが好ましく挙げられる。
<Binder Polymer>
As the binder polymer, a polymer having film properties is preferable, and preferred examples thereof include a (meth)acrylic resin, a polyvinyl acetal resin, and a polyurethane resin.
画像記録層に用いられるバインダーポリマーとしては、アルキレンオキサイド鎖を有するバインダーポリマーが好ましい。アルキレンオキサイド鎖を有するバインダーポリマーは、ポリ(アルキレンオキサイド)部位を主鎖に有していても側鎖に有していてもよい。また、ポリ(アルキレンオキサイド)部位を側鎖に有するグラフトポリマーでも、ポリ(アルキレンオキサイド)部位含有繰返し単位で構成されるブロックと(アルキレンオキサイド)部位非含有繰返し単位で構成されるブロックとのブロックコポリマーでもよい。
ポリ(アルキレンオキサイド)部位を主鎖に有する場合は、ポリウレタン樹脂が好ましい。ポリ(アルキレンオキサイド)部位を側鎖に有する場合の主鎖のポリマーとしては、(メタ)アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリウレア樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン樹脂、ノボラック型フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、合成ゴム、天然ゴムが挙げられ、特に(メタ)アクリル樹脂が好ましい。
The binder polymer used in the image recording layer is preferably a binder polymer having an alkylene oxide chain. The binder polymer having an alkylene oxide chain may have a poly(alkylene oxide) moiety in the main chain or in the side chain. It may also be a graft polymer having a poly(alkylene oxide) moiety in the side chain, or a block copolymer of a block composed of a repeating unit containing a poly(alkylene oxide) moiety and a block composed of a repeating unit not containing an (alkylene oxide) moiety.
When the main chain has a poly(alkylene oxide) moiety, polyurethane resin is preferred. When the side chain has a poly(alkylene oxide) moiety, examples of the main chain polymer include (meth)acrylic resin, polyvinyl acetal resin, polyurethane resin, polyurea resin, polyimide resin, polyamide resin, epoxy resin, polystyrene resin, novolac type phenolic resin, polyester resin, synthetic rubber, and natural rubber, and (meth)acrylic resin is particularly preferred.
アルキレンオキサイドとしては炭素数が2~6のアルキレンオキサイドが好ましく、エチレンオキサイド又はプロピレンオキサイドが特に好ましい。
ポリ(アルキレンオキサイド)部位におけるアルキレンオキサイドの繰返し数は2~120が好ましく、2~70がより好ましく、2~50が更に好ましい。
アルキレンオキサイドの繰返し数が120以下であれば、摩耗による耐刷性の低下及びインキ受容性悪化による耐刷性の低下が抑制され好ましい。
The alkylene oxide is preferably an alkylene oxide having 2 to 6 carbon atoms, and ethylene oxide or propylene oxide is particularly preferred.
The number of repeating alkylene oxides in the poly(alkylene oxide) moiety is preferably 2-120, more preferably 2-70, and even more preferably 2-50.
If the number of alkylene oxide repetitions is 120 or less, the deterioration of printing durability due to wear and the deterioration of ink receptivity are suppressed, which is preferable.
ポリ(アルキレンオキサイド)部位は、バインダーポリマーの側鎖として、下記式(AO)で表される構造で含有されることが好ましく、(メタ)アクリル樹脂の側鎖として、下記式(AO)で表される構造で含有されることがより好ましい。The poly(alkylene oxide) moiety is preferably contained as a side chain of the binder polymer in a structure represented by the following formula (AO), and more preferably contained as a side chain of the (meth)acrylic resin in a structure represented by the following formula (AO).
式(AO)中、yは2~120を表し、R1は水素原子又はアルキル基を表し、R2は水素原子又は一価の有機基を表す。
一価の有機基としては、炭素数1~6のアルキル基が好ましい。具体的には、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、イソブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、n-ヘキシル基、イソヘキシル基、1,1-ジメチルブチル基、2,2-ジメチルブチル基、シクロペンチル基及びシクロヘキシル基が挙げられる。
式(AO)において、yは2~70が好ましく、2~50がより好ましい。R1は水素原子又はメチル基が好ましく、水素原子が特に好ましい。R2は水素原子又はメチル基が特に好ましい。
In formula (AO), y represents an integer of 2 to 120, R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group, and R 2 represents a hydrogen atom or a monovalent organic group.
The monovalent organic group is preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, specifically, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a sec-butyl group, an isobutyl group, a tert-butyl group, an n-pentyl group, an isopentyl group, a neopentyl group, an n-hexyl group, an isohexyl group, a 1,1-dimethylbutyl group, a 2,2-dimethylbutyl group, a cyclopentyl group, and a cyclohexyl group.
In formula (AO), y is preferably an integer of 2 to 70, more preferably an integer of 2 to 50. R1 is preferably a hydrogen atom or a methyl group, particularly preferably a hydrogen atom. R2 is particularly preferably a hydrogen atom or a methyl group.
バインダーポリマーは、画像部の皮膜強度を向上するために、架橋性を有していてもよい。ポリマーに架橋性を持たせるためには、エチレン性不飽和結合などの架橋性官能基を高分子の主鎖中又は側鎖中に導入すればよい。架橋性官能基は、共重合により導入してもよいし、ポリマー反応により導入してもよい。
分子の主鎖中にエチレン性不飽和結合を有するポリマーの例としては、ポリ-1,4-ブタジエン、ポリ-1,4-イソプレンなどが挙げられる。
分子の側鎖中にエチレン性不飽和結合を有するポリマーの例としては、アクリル酸又はメタクリル酸のエステル又はアミドのポリマーであって、エステル又はアミドの残基(-COOR又は-CONHRのR)がエチレン性不飽和結合を有するポリマーを挙げることができる。
The binder polymer may have a crosslinking property in order to improve the film strength of the image area. In order to impart crosslinking properties to the polymer, a crosslinkable functional group such as an ethylenically unsaturated bond may be introduced into the main chain or side chain of the polymer. The crosslinkable functional group may be introduced by copolymerization or by polymer reaction.
Examples of the polymer having an ethylenically unsaturated bond in the main chain of the molecule include poly-1,4-butadiene and poly-1,4-isoprene.
Examples of the polymer having an ethylenically unsaturated bond in a side chain of the molecule include polymers of esters or amides of acrylic acid or methacrylic acid, in which the residue of the ester or amide (-COOR or -CONHR R) has an ethylenically unsaturated bond.
エチレン性不飽和結合を有する残基(上記R)の例としては、-(CH2)nCR1A=CR2AR3A、-(CH2O)nCH2CR1A=CR2AR3A、-(CH2CH2O)nCH2CR1A=CR2AR3A、-(CH2)nNH-CO-O-CH2CR1A=CR2AR3A、-(CH2)n-O-CO-CR1A=CR2AR3A及び-(CH2CH2O)2-XA(式中、RA1~RA3はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1~20のアルキル基、アリール基、アルコキシ基又はアリールオキシ基を表し、RA1とRA2又はRA3とは互いに結合して環を形成してもよい。nは1~10の整数を表す。XAはジシクロペンタジエニル残基を表す。)を挙げることができる。 Examples of the residue having an ethylenically unsaturated bond (the above R) include - (CH2)nCR1A=CR2A R3A, -(CH2O)nCH2CR1A=CR2A R3A, -(CH2CH2O)nCH2CR1A = CR2A R3A , - ( CH2 ) nNH - CO - O - CH2CR1A = CR2A R3A , - ( CH2 ) n - O- CO - CR1A = CR2A R3A and -( CH2CH2O ) 2 -XA ( wherein R A1 to R A3 each independently represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group, an alkoxy group or an aryloxy group, and R A1 and R A2 or R A3 may be bonded to each other to form a ring. n represents an integer of 1 to 10. X A represents a dicyclopentadienyl residue.
エステルの残基の具体例としては、-CH2CH=CH2、-CH2CH2O-CH2CH=CH2、-CH2C(CH3)=CH2、-CH2CH=CH-C6H5、-CH2CH2OCOCH=CH-C6H5、-CH2CH2-NHCOO-CH2CH=CH2及び-CH2CH2O-X(式中、Xはジシクロペンタジエニル残基を表す。)が挙げられる。
アミドの残基の具体例としては、-CH2CH=CH2、-CH2CH2-Y(式中、Yはシクロヘキセン残基を表す。)及び-CH2CH2-OCO-CH=CH2が挙げられる。
Specific examples of ester residues include -CH2CH = CH2 , -CH2CH2O - CH2CH = CH2 , -CH2C ( CH3 ) = CH2 , -CH2CH=CH -C6H5 , -CH2CH2OCOCH =CH -C6H5 , -CH2CH2 - NHCOO - CH2CH = CH2 and -CH2CH2O - X (wherein X represents a dicyclopentadienyl residue).
Specific examples of amide residues include -CH 2 CH=CH 2 , -CH 2 CH 2 -Y (wherein Y represents a cyclohexene residue) and -CH 2 CH 2 -OCO-CH=CH 2 .
架橋性を有するバインダーポリマーは、例えば、その架橋性官能基にフリーラジカル(重合開始ラジカル又は重合性化合物の重合過程の生長ラジカル)が付加し、ポリマー間で直接に又は重合性化合物の重合連鎖を介して付加重合して、ポリマー分子間に架橋が形成されて硬化する。または、ポリマー中の原子(例えば、官能性架橋基に隣接する炭素原子上の水素原子)がフリーラジカルにより引き抜かれてポリマーラジカルが生成し、それが互いに結合することによって、ポリマー分子間に架橋が形成されて硬化する。 A crosslinkable binder polymer cures when, for example, a free radical (polymerization initiation radical or a propagating radical in the polymerization process of a polymerizable compound) is added to the crosslinkable functional group, and addition polymerization occurs between the polymers directly or via the polymerization chain of the polymerizable compound, forming crosslinks between the polymer molecules. Alternatively, an atom in the polymer (for example, a hydrogen atom on a carbon atom adjacent to a functional crosslinking group) is abstracted by a free radical to generate a polymer radical, which then bonds to each other to form crosslinks between the polymer molecules and cure.
バインダーポリマー中の架橋性基の含有量(ヨウ素滴定によるラジカル重合可能な不飽和二重結合の含有量)は、良好な感度と良好な保存安定性の観点から、バインダーポリマー1g当たり、0.1~10.0mmolが好ましく、1.0~7.0mmolがより好ましく、2.0~5.5mmolが更に好ましい。The content of crosslinkable groups in the binder polymer (the content of radically polymerizable unsaturated double bonds determined by iodometric titration) is preferably 0.1 to 10.0 mmol, more preferably 1.0 to 7.0 mmol, and even more preferably 2.0 to 5.5 mmol per gram of binder polymer, from the viewpoints of good sensitivity and good storage stability.
以下にバインダーポリマーの具体例1~11を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。下記例示化合物中、各繰返し単位に併記される数値(主鎖繰返し単位に併記される数値)は、繰返し単位のモル百分率を表す。側鎖の繰返し単位に併記される数値は、繰返し部位の繰返し数を示す。また、Meはメチル基を表し、Etはエチル基を表し、Phはフェニル基を表す。 Specific examples 1 to 11 of binder polymers are shown below, but the present invention is not limited to these. In the example compounds below, the numbers listed next to each repeating unit (numbers listed next to main chain repeating units) indicate the molar percentage of the repeating unit. The numbers listed next to side chain repeating units indicate the number of repeats of the repeating portion. Additionally, Me represents a methyl group, Et represents an ethyl group, and Ph represents a phenyl group.
バインダーポリマーの分子量は、GPC法によるポリスチレン換算値として質量平均分子量(Mw)が、2,000以上であり、5,000以上が好ましく、10,000~300,000がより好ましい。The molecular weight of the binder polymer is, in terms of polystyrene, a mass average molecular weight (Mw) measured by GPC method of 2,000 or more, preferably 5,000 or more, and more preferably 10,000 to 300,000.
必要に応じて、特開2008-195018号公報に記載のポリアクリル酸、ポリビニルアルコールなどの親水性ポリマーを併用することができる。また、親油的なポリマーと親水的なポリマーとを併用することもできる。If necessary, hydrophilic polymers such as polyacrylic acid and polyvinyl alcohol described in JP 2008-195018 A can be used in combination. Also, a lipophilic polymer and a hydrophilic polymer can be used in combination.
バインダーポリマーは、1種単独で使用してよいし、2種以上を併用してもよい。
バインダーポリマーの含有量は、画像記録層の全固形分中、1~90質量%が好ましく、5~80質量%がより好ましい。
The binder polymer may be used alone or in combination of two or more kinds.
The content of the binder polymer is preferably from 1 to 90% by mass, and more preferably from 5 to 80% by mass, based on the total solid content of the image recording layer.
<ポリマー粒子>
画像記録層は、ポリマー粒子を含有することが好ましい。ポリマー粒子は、機上現像性の向上に寄与する。ポリマー粒子は、熱が加えられたときに画像記録層を疎水性に変換できるポリマー粒子であることが好ましい。ポリマー粒子は、疎水性熱可塑性ポリマー粒子、熱反応性ポリマー粒子、重合性基を有するポリマー粒子、疎水性化合物を内包しているマイクロカプセル、及び、ミクロゲル(架橋ポリマー粒子)から選ばれる少なくとも1つであることが好ましい。
<Polymer Particles>
The image recording layer preferably contains polymer particles. The polymer particles contribute to improving on-press developability. The polymer particles are preferably polymer particles that can convert the image recording layer to hydrophobicity when heat is applied. The polymer particles are preferably at least one selected from hydrophobic thermoplastic polymer particles, heat-reactive polymer particles, polymer particles having a polymerizable group, microcapsules containing a hydrophobic compound, and microgels (crosslinked polymer particles).
疎水性熱可塑性ポリマー粒子としては、1992年1月のResearch Disclosure No.33303、特開平9-123387号公報、同9-131850号公報、同9-171249号公報、同9-171250号公報及び欧州特許第931647号明細書などに記載の疎水性熱可塑性ポリマー粒子が好適に挙げられる。
疎水性熱可塑性ポリマー粒子を構成するポリマーの具体例としては、エチレン、スチレン、塩化ビニル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、ビニルカルバゾール、ポリアルキレン構造を有するアクリレート又はメタクリレートなどのモノマーのホモポリマーもしくはコポリマー又はそれらの混合物が挙げられる。好ましくは、ポリスチレン、スチレン及びアクリロニトリルを含む共重合体、ポリメタクリル酸メチルが挙げられる。疎水性熱可塑性ポリマー粒子の平均粒径は0.01~2.0μmが好ましい。
Suitable examples of the hydrophobic thermoplastic polymer particles include those described in Research Disclosure No. 33303 published in January 1992, JP-A-9-123387, JP-A-9-131850, JP-A-9-171249, JP-A-9-171250, and European Patent No. 931647.
Specific examples of the polymer constituting the hydrophobic thermoplastic polymer particles include homopolymers or copolymers of monomers such as ethylene, styrene, vinyl chloride, methyl acrylate, ethyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, vinylidene chloride, acrylonitrile, vinylcarbazole, acrylates or methacrylates having a polyalkylene structure, or mixtures thereof. Preferred are polystyrene, copolymers containing styrene and acrylonitrile, and polymethyl methacrylate. The average particle size of the hydrophobic thermoplastic polymer particles is preferably 0.01 to 2.0 μm.
熱反応性ポリマー粒子としては、熱反応性基を有するポリマー粒子が挙げられる。熱反応性基を有するポリマー粒子は、熱反応による架橋及びその際の官能基変化により疎水化領域を形成する。 Examples of thermally reactive polymer particles include polymer particles having thermally reactive groups. Polymer particles having thermally reactive groups form hydrophobic regions due to crosslinking caused by the thermal reaction and the resulting changes in functional groups.
熱反応性基を有するポリマー粒子における熱反応性基としては、化学結合が形成されるならば、どのような反応を行う官能基でもよく、重合性基が好ましい。その例としては、ラジカル重合反応を行うエチレン性不飽和基(例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリル基など)、カチオン重合性基(例えば、ビニル基、ビニルオキシ基、エポキシ基、オキセタニル基など)、付加反応を行うイソシアナト基又はそのブロック体、エポキシ基、ビニルオキシ基及びこれらの反応相手である活性水素原子を有する官能基(例えば、アミノ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基など)、縮合反応を行うカルボキシ基及び反応相手であるヒドロキシ基又はアミノ基、開環付加反応を行う酸無水物及び反応相手であるアミノ基又はヒドロキシ基などが好適に挙げられる。The heat-reactive group in the polymer particles having a heat-reactive group may be any functional group that undergoes any reaction as long as a chemical bond is formed, and a polymerizable group is preferred. Examples of heat-reactive groups include ethylenically unsaturated groups that undergo radical polymerization reactions (e.g., acryloyl groups, methacryloyl groups, vinyl groups, allyl groups, etc.), cationic polymerizable groups (e.g., vinyl groups, vinyloxy groups, epoxy groups, oxetanyl groups, etc.), isocyanato groups or their blocks that undergo addition reactions, epoxy groups, vinyloxy groups, and functional groups having active hydrogen atoms that are their reaction partners (e.g., amino groups, hydroxy groups, carboxy groups, etc.), carboxy groups that undergo condensation reactions, and hydroxy groups or amino groups that are their reaction partners, and acid anhydrides that undergo ring-opening addition reactions, and amino groups or hydroxy groups that are their reaction partners.
マイクロカプセルとしては、例えば、特開2001-277740号公報及び特開2001-277742号公報に記載のごとく、画像記録層の構成成分の全て又は一部をマイクロカプセルに内包させたものが挙げられる。画像記録層の構成成分は、マイクロカプセル外にも含有させることもできる。マイクロカプセルを含有する画像記録層としては、疎水性の構成成分をマイクロカプセルに内包し、親水性の構成成分をマイクロカプセル外に含有することが好ましい態様である。 As an example of the microcapsules, as described in JP-A-2001-277740 and JP-A-2001-277742, all or some of the components of the image recording layer are encapsulated in the microcapsules. The components of the image recording layer can also be contained outside the microcapsules. A preferred embodiment of the image recording layer containing microcapsules is one in which hydrophobic components are encapsulated in the microcapsules and hydrophilic components are contained outside the microcapsules.
ミクロゲル(架橋ポリマー粒子)は、その内部及び表面の少なくとも一方に、画像記録層の構成成分の一部を含有することができる。特に、ラジカル重合性基をその表面に有することによって反応性ミクロゲルとした態様が画像形成感度や耐刷性の観点から好ましい。The microgel (crosslinked polymer particle) can contain some of the components of the image recording layer in at least one of its interior and surface. In particular, from the viewpoint of image formation sensitivity and printing durability, it is preferable to make the microgel reactive by having a radical polymerizable group on its surface.
画像記録層の構成成分をマイクロカプセル化又はミクロゲル化するためには、公知の方法を用いることができる。
マイクロカプセルやミクロゲルの平均粒径は、0.01~3.0μmが好ましく、0.05~2.0μmがより好ましく、0.10~1.0μmが特に好ましい。この範囲内で良好な解像度と経時安定性が得られる。
In order to microencapsulate or microgel the components of the image recording layer, known methods can be used.
The average particle size of the microcapsules or microgels is preferably 0.01 to 3.0 μm, more preferably 0.05 to 2.0 μm, and particularly preferably 0.10 to 1.0 μm. Good resolution and stability over time can be obtained within this range.
ポリマー粒子は、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
ポリマー粒子の含有量は、画像記録層の全固形分中、5~90質量%が好ましく、5~80質量%がより好ましく、10~75質量%が更に好ましい。
The polymer particles may be used alone or in combination of two or more kinds.
The content of the polymer particles is preferably from 5 to 90% by mass, more preferably from 5 to 80% by mass, and even more preferably from 10 to 75% by mass, based on the total solid content of the image recording layer.
画像記録層に含有される高分子化合物としては、スチレン化合物に由来する構成単位、及び/又は、アクリロニトリル化合物に由来する構成単位を含む高分子化合物も好ましい。この高分子化合物は、機上現像性への寄与の観点から、バインダーポリマーとして又はポリマー粒子として好適に使用することができる。As the polymer compound contained in the image recording layer, a polymer compound containing a structural unit derived from a styrene compound and/or a structural unit derived from an acrylonitrile compound is also preferred. From the viewpoint of contributing to on-press developability, this polymer compound can be suitably used as a binder polymer or polymer particles.
スチレン化合物としては、スチレン、p-メチルスチレン、p-メトキシスチレン、β-メチルスチレン、p-メチル-β-メチルスチレン、α-メチルスチレン、p-メトキシ-β-メチルスチレンなどが挙げられ、スチレンが好ましい。 Examples of styrene compounds include styrene, p-methylstyrene, p-methoxystyrene, β-methylstyrene, p-methyl-β-methylstyrene, α-methylstyrene, p-methoxy-β-methylstyrene, etc., with styrene being preferred.
アクリロニトリル化合物としては、アクリロニトリル、メタアクリロニトリルなどが挙げられ、アクリロニトリルが好ましい。 Examples of acrylonitrile compounds include acrylonitrile, methacrylonitrile, etc., with acrylonitrile being preferred.
スチレン化合物及びアクリロニトリル化合物を構成単位として含む高分子化合物においては、スチレン化合物由来の構成単位及びアクリロニトリル化合物由来の構成単位の組成比が4:1~1:4であることが好ましい。In a polymeric compound containing a styrene compound and an acrylonitrile compound as structural units, it is preferable that the composition ratio of structural units derived from the styrene compound and structural units derived from the acrylonitrile compound is 4:1 to 1:4.
画像記録層は、連鎖移動剤、低分子親水性化合物、感脂化剤、その他の成分を含有することができる。The image recording layer may contain chain transfer agents, low molecular weight hydrophilic compounds, oil sensitizers, and other ingredients.
(連鎖移動剤)
連鎖移動剤は、平版印刷版原版から作製される平版印刷版における耐刷性の向上に寄与する。
連鎖移動剤としては、チオール化合物が好ましく、沸点(揮発し難さ)の観点で炭素数7以上のチオールがより好ましく、芳香環上にメルカプト基を有する化合物(芳香族チオール化合物)が更に好ましい。チオール化合物は単官能チオール化合物であることが好ましい。
(Chain Transfer Agent)
The chain transfer agent contributes to improving the printing durability of a lithographic printing plate prepared from the lithographic printing plate precursor.
The chain transfer agent is preferably a thiol compound, more preferably a thiol having 7 or more carbon atoms from the viewpoint of boiling point (difficulty of volatilization), and further preferably a compound having a mercapto group on an aromatic ring (aromatic thiol compound). The thiol compound is preferably a monofunctional thiol compound.
連鎖移動剤の具体例としては、下記の化合物が挙げられる。 Specific examples of chain transfer agents include the following compounds:
連鎖移動剤は、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
連鎖移動剤の含有量は、画像記録層の全固形分中、0.01~50質量%が好ましく、0.05~40質量%がより好ましく、0.1~30質量%が更に好ましい。
The chain transfer agent may be used alone or in combination of two or more kinds.
The content of the chain transfer agent is preferably from 0.01 to 50% by mass, more preferably from 0.05 to 40% by mass, and even more preferably from 0.1 to 30% by mass, based on the total solid content of the image recording layer.
(低分子親水性化合物)
低分子親水性化合物は、平版印刷版原版から作製される平版印刷版の耐刷性を低下させることなく、平版印刷版原版の機上現像性の向上に寄与する。低分子親水性化合物は、分子量1,000未満の化合物が好ましく、分子量800未満の化合物がより好ましく、分子量500未満の化合物が更に好ましい。
低分子親水性化合物としては、例えば、水溶性有機化合物としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコールなどのグリコール類及びそのエーテル又はエステル誘導体類、グリセリン、ペンタエリスリトール、トリス(2-ヒドロキシエチル)イソシアヌレートなどのポリオール類、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミンなどの有機アミン類及びその塩、アルキルスルホン酸、トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸などの有機スルホン酸類及びその塩、アルキルスルファミン酸などの有機スルファミン酸類及びその塩、アルキル硫酸、アルキルエーテル硫酸などの有機硫酸類及びその塩、フェニルホスホン酸などの有機ホスホン酸類及びその塩、酒石酸、シュウ酸、クエン酸、リンゴ酸、乳酸、グルコン酸、アミノ酸類などの有機カルボン酸類及びその塩、ベタイン類などが挙げられる。
(Low molecular hydrophilic compound)
The low molecular weight hydrophilic compound contributes to improving the on-press developability of the lithographic printing plate precursor without decreasing the printing durability of the lithographic printing plate produced from the lithographic printing plate precursor. Compounds having a molecular weight of less than 1,000 are preferred, compounds having a molecular weight of less than 800 are more preferred, and compounds having a molecular weight of less than 500 are even more preferred.
Examples of low molecular weight hydrophilic compounds include water-soluble organic compounds such as glycols, such as ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, and tripropylene glycol, and their ether or ester derivatives, glycerin, Polyols such as pentaerythritol and tris(2-hydroxyethyl)isocyanurate; organic amines such as triethanolamine, diethanolamine, and monoethanolamine and their salts; organic sulfones such as alkylsulfonic acid, toluenesulfonic acid, and benzenesulfonic acid. Acids and their salts, organic sulfamic acids such as alkylsulfamic acid and their salts, organic sulfuric acids such as alkyl sulfates and alkyl ether sulfates and their salts, organic phosphonic acids such as phenylphosphonic acid and their salts, tartaric acid, oxalic acid, citric acid Examples of the organic carboxylic acids include acid, malic acid, lactic acid, gluconic acid, amino acids, and their salts, and betaines.
低分子親水性化合物は、ポリオール類、有機硫酸塩類、有機スルホン酸塩類及びベタイン類から選ばれる少なくとも1つが好ましい。The low molecular weight hydrophilic compound is preferably at least one selected from polyols, organic sulfates, organic sulfonates and betaines.
有機スルホン酸塩類の具体例としては、n-ブチルスルホン酸ナトリウム、n-ヘキシルスルホン酸ナトリウム、2-エチルヘキシルスルホン酸ナトリウム、シクロヘキシルスルホン酸ナトリウム、n-オクチルスルホン酸ナトリウムなどのアルキルスルホン酸塩;5,8,11-トリオキサペンタデカン-1-スルホン酸ナトリウム、5,8,11-トリオキサヘプタデカン-1-スルホン酸ナトリウム、13-エチル-5,8,11-トリオキサヘプタデカン-1-スルホン酸ナトリウム、5,8,11,14-テトラオキサテトラコサン-1-スルホン酸ナトリウムなどのエチレンオキシド鎖を含むアルキルスルホン酸塩;ベンゼンスルホン酸ナトリウム、p-トルエンスルホン酸ナトリウム、p-ヒドロキシベンゼンスルホン酸ナトリウム、p-スチレンスルホン酸ナトリウム、イソフタル酸ジメチル-5-スルホン酸ナトリウム、1-ナフチルスルホン酸ナトリウム、4-ヒドロキシナフチルスルホン酸ナトリウム、1,5-ナフタレンジスルホン酸ジナトリウム、1,3,6-ナフタレントリスルホン酸トリナトリウムなどのアリールスルホン酸塩、特開2007-276454号公報の段落0026~0031及び特開2009-154525号公報の段落0020~0047に記載の化合物などが挙げられる。塩は、カリウム塩、リチウム塩でもよい。
Specific examples of organic sulfonates include alkyl sulfonates such as sodium n-butylsulfonate, sodium n-hexylsulfonate, sodium 2-ethylhexylsulfonate, sodium cyclohexylsulfonate, and sodium n-octylsulfonate; alkyl sulfonates containing ethylene oxide chains such as sodium 5,8,11-trioxapentadecane-1-sulfonate, sodium 5,8,11-trioxaheptadecane-1-sulfonate, sodium 13-ethyl-5,8,11-trioxaheptadecane-1-sulfonate, and
有機硫酸塩類としては、ポリエチレンオキシドのアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール又は複素環モノエーテルの硫酸塩が挙げられる。エチレンオキシド単位の数は1~4が好ましく、塩はナトリウム塩、カリウム塩又はリチウム塩が好ましい。具体例としては、特開2007-276454号公報の段落0034~0038に記載の化合物などが挙げられる。 Examples of organic sulfates include sulfates of alkyl, alkenyl, alkynyl, aryl, or heterocyclic monoethers of polyethylene oxide. The number of ethylene oxide units is preferably 1 to 4, and the salt is preferably a sodium salt, potassium salt, or lithium salt. Specific examples include the compounds described in paragraphs 0034 to 0038 of JP 2007-276454 A.
ベタイン類としては、窒素原子への炭化水素置換基の炭素数が1~5である化合物が好ましく、具体例としては、トリメチルアンモニウムアセタート、ジメチルプロピルアンモニウムアセタート、3-ヒドロキシ-4-トリメチルアンモニオブチラート、4-(1-ピリジニオ)ブチラート、1-ヒドロキシエチル-1-イミダゾリオアセタート、トリメチルアンモニウムメタンスルホナート、ジメチルプロピルアンモニウムメタンスルホナート、3-トリメチルアンモニオ-1-プロパンスルホナート、3-(1-ピリジニオ)-1-プロパンスルホナートなどが挙げられる。As betaines, compounds in which the number of carbon atoms in the hydrocarbon substituent on the nitrogen atom is 1 to 5 are preferred, and specific examples include trimethylammonium acetate, dimethylpropylammonium acetate, 3-hydroxy-4-trimethylammoniobutyrate, 4-(1-pyridinio)butyrate, 1-hydroxyethyl-1-imidazolioacetate, trimethylammonium methanesulfonate, dimethylpropylammonium methanesulfonate, 3-trimethylammonio-1-propanesulfonate, and 3-(1-pyridinio)-1-propanesulfonate.
低分子親水性化合物は疎水性部分の構造が小さく、界面活性作用がほとんどないため、湿し水が画像記録層露光部(画像部)へ浸透して画像部の疎水性や皮膜強度を低下させることがなく、画像記録層のインキ受容性や耐刷性を良好に維持することができる。 Low molecular weight hydrophilic compounds have a small structure in the hydrophobic portion and have almost no surfactant effect, so the dampening water does not penetrate into the exposed areas (image areas) of the image recording layer and reduce the hydrophobicity or film strength of the image areas, and the ink receptivity and printing durability of the image recording layer can be maintained at a good level.
低分子親水性化合物は、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
低分子親水性化合物の含有量は、画像記録層の全固形分中、0.5~20質量%が好ましく、1~15質量%がより好ましく、2~10質量%が更に好ましい。
The low molecular weight hydrophilic compounds may be used alone or in combination of two or more kinds.
The content of the low molecular weight hydrophilic compound is preferably from 0.5 to 20% by mass, more preferably from 1 to 15% by mass, and even more preferably from 2 to 10% by mass, based on the total solid content of the image recording layer.
(感脂化剤)
感脂化剤は、平版印刷版原版から作製される平版印刷版におけるインキの着肉性(以下、単に「着肉性」ともいう。)の向上に寄与する。感脂化剤としては、ホスホニウム化合物、含窒素低分子化合物、アンモニウム基含有ポリマーなどが挙げられる。特に、平版印刷版原版が無機層状化合物を含有する保護層を有する場合、これらの化合物は、無機層状化合物の表面被覆剤として機能し、無機層状化合物による印刷途中の着肉性低下を抑制する機能を有する。
感脂化剤としては、ホスホニウム化合物と、含窒素低分子化合物と、アンモニウム基含有ポリマーとを併用することが好ましく、ホスホニウム化合物と、第四級アンモニウム塩類と、アンモニウム基含有ポリマーとを併用することがより好ましい。
(Oil Sensitizer)
The oil sensitizer contributes to improving the ink receptivity (hereinafter also simply referred to as "ink receptivity") of the lithographic printing plate produced from the lithographic printing plate precursor. Examples of the oil sensitizer include phosphonium compounds, nitrogen-containing low molecular weight compounds, and ammonium group-containing polymers. In particular, when the lithographic printing plate precursor has a protective layer containing an inorganic layer compound, these compounds function as a surface coating agent for the inorganic layer compound and have the function of suppressing the decrease in ink receptivity caused by the inorganic layer compound during printing.
As the oil sensitizer, it is preferable to use a phosphonium compound, a nitrogen-containing low molecular weight compound, and an ammonium group-containing polymer in combination, and it is more preferable to use a phosphonium compound, a quaternary ammonium salt, and an ammonium group-containing polymer in combination.
ホスホニウム化合物としては、特開2006-297907号公報及び特開2007-50660号公報に記載のホスホニウム化合物が挙げられる。具体例としては、テトラブチルホスホニウムヨージド、ブチルトリフェニルホスホニウムブロミド、テトラフェニルホスホニウムブロミド、1,4-ビス(トリフェニルホスホニオ)ブタン=ジ(ヘキサフルオロホスファート)、1,7-ビス(トリフェニルホスホニオ)ヘプタン=スルファート、1,9-ビス(トリフェニルホスホニオ)ノナン=ナフタレン-2,7-ジスルホナートなどが挙げられる。Examples of phosphonium compounds include those described in JP-A-2006-297907 and JP-A-2007-50660. Specific examples include tetrabutylphosphonium iodide, butyltriphenylphosphonium bromide, tetraphenylphosphonium bromide, 1,4-bis(triphenylphosphonio)butane=di(hexafluorophosphate), 1,7-bis(triphenylphosphonio)heptane=sulfate, and 1,9-bis(triphenylphosphonio)nonane=naphthalene-2,7-disulfonate.
含窒素低分子化合物としては、アミン塩類、第四級アンモニウム塩類が挙げられる。また、イミダゾリニウム塩類、ベンゾイミダゾリニウム塩類、ピリジニウム塩類、キノリニウム塩類も挙げられる。中でも、第四級アンモニウム塩類及びピリジニウム塩類が好ましい。具体例としては、テトラメチルアンモニウム=ヘキサフルオロホスファート、テトラブチルアンモニウム=ヘキサフルオロホスファート、ドデシルトリメチルアンモニウム=p-トルエンスルホナート、ベンジルトリエチルアンモニウム=ヘキサフルオロホスファート、ベンジルジメチルオクチルアンモニウム=ヘキサフルオロホスファート、ベンジルジメチルドデシルアンモニウム=ヘキサフルオロホスファート、特開2008-284858号公報の段落0021~0037、特開2009-90645号公報の段落0030~0057に記載の化合物などが挙げられる。Examples of nitrogen-containing low molecular weight compounds include amine salts and quaternary ammonium salts. Other examples include imidazolinium salts, benzimidazolinium salts, pyridinium salts, and quinolinium salts. Among these, quaternary ammonium salts and pyridinium salts are preferred. Specific examples include tetramethylammonium hexafluorophosphate, tetrabutylammonium hexafluorophosphate, dodecyltrimethylammonium p-toluenesulfonate, benzyltriethylammonium hexafluorophosphate, benzyldimethyloctylammonium hexafluorophosphate, benzyldimethyldodecylammonium hexafluorophosphate, and the compounds described in paragraphs 0021 to 0037 of JP 2008-284858 A and paragraphs 0030 to 0057 of JP 2009-90645 A.
アンモニウム基含有ポリマーとしては、その構造中にアンモニウム基を有すればよく、側鎖にアンモニウム基を有する(メタ)アクリレートを共重合成分として5~80モル%含有するポリマーが好ましい。具体例としては、特開2009-208458号公報の段落0089~0105に記載のポリマーが挙げられる。The ammonium group-containing polymer may have an ammonium group in its structure, and is preferably a polymer containing 5 to 80 mol % of a (meth)acrylate having an ammonium group in the side chain as a copolymerization component. Specific examples include the polymers described in paragraphs 0089 to 0105 of JP-A-2009-208458.
アンモニウム基含有ポリマーは、特開2009-208458号公報に記載の測定方法に従って求められる還元比粘度(単位:ml/g)の値が、5~120の範囲のものが好ましく、10~110の範囲のものがより好ましく、15~100の範囲のものが特に好ましい。上記還元比粘度を重量平均分子量(Mw)に換算した場合、10,000~150,0000が好ましく、17,000~140,000がより好ましく、20,000~130,000が特に好ましい。The ammonium group-containing polymer preferably has a reduced specific viscosity (unit: ml/g) value determined according to the measurement method described in JP 2009-208458 A in the range of 5 to 120, more preferably in the range of 10 to 110, and particularly preferably in the range of 15 to 100. When the reduced specific viscosity is converted into a weight average molecular weight (Mw), it is preferably 10,000 to 150,0000, more preferably 17,000 to 140,000, and particularly preferably 20,000 to 130,000.
以下に、アンモニウム基含有ポリマーの具体例を示す。
(1)2-(トリメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=p-トルエンスルホナート/3,6-ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体(モル比10/90、Mw4.5万)
(2)2-(トリメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=ヘキサフルオロホスファート/3,6-ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体(モル比20/80、Mw6.0万)
(3)2-(エチルジメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=p-トルエンスルホナート/ヘキシルメタクリレート共重合体(モル比30/70、Mw4.5万)
(4)2-(トリメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=ヘキサフルオロホスファート/2-エチルヘキシルメタクリレート共重合体(モル比20/80、Mw6.0万)
(5)2-(トリメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=メチルスルファート/ヘキシルメタクリレート共重合体(モル比40/60、Mw7.0万)
(6)2-(ブチルジメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=ヘキサフルオロホスファート/3,6-ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体(モル比25/75、Mw6.5万)
(7)2-(ブチルジメチルアンモニオ)エチルアクリレート=ヘキサフルオロホスファート/3,6-ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体(モル比20/80、Mw6.5万)
(8)2-(ブチルジメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=13-エチル-5,8,11-トリオキサ-1-ヘプタデカンスルホナート/3,6-ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体(モル比20/80、Mw7.5万)
(9)2-(ブチルジメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=ヘキサフルオロホスファート/3,6-ジオキサヘプチルメタクリレート/2-ヒドロキシ-3-メタクロイルオキシプロピルメタクリレート共重合体(モル比15/80/5、Mw6.5万)
Specific examples of the ammonium group-containing polymer are shown below.
(1) 2-(trimethylammonio)ethyl methacrylate = p-toluenesulfonate/3,6-dioxaheptyl methacrylate copolymer (
(2) 2-(trimethylammonio)ethyl methacrylate = hexafluorophosphate/3,6-dioxaheptyl methacrylate copolymer (
(3) 2-(ethyldimethylammonio)ethyl methacrylate = p-toluenesulfonate/hexyl methacrylate copolymer (
(4) 2-(trimethylammonio)ethyl methacrylate = hexafluorophosphate/2-ethylhexyl methacrylate copolymer (
(5) 2-(trimethylammonio)ethyl methacrylate = methyl sulfate/hexyl methacrylate copolymer (molar ratio 40/60, Mw 70,000)
(6) 2-(butyldimethylammonio)ethyl methacrylate = hexafluorophosphate / 3,6-dioxaheptyl methacrylate copolymer (molar ratio 25/75, Mw 65,000)
(7) 2-(butyldimethylammonio)ethyl acrylate = hexafluorophosphate / 3,6-dioxaheptyl methacrylate copolymer (
(8) 2-(butyldimethylammonio)ethyl methacrylate = 13-ethyl-5,8,11-trioxa-1-heptadecanesulfonate/3,6-dioxaheptyl methacrylate copolymer (
(9) 2-(butyldimethylammonio)ethyl methacrylate = hexafluorophosphate/3,6-dioxaheptyl methacrylate/2-hydroxy-3-methacryloyloxypropyl methacrylate copolymer (molar ratio 15/80/5, Mw 65,000)
感脂化剤の含有量は、画像記録層の全固形分中、0.01~30質量%が好ましく、0.1~15質量%がより好ましく、1~10質量%が更に好ましい。The content of the oil sensitizer is preferably 0.01 to 30 mass %, more preferably 0.1 to 15 mass %, and even more preferably 1 to 10 mass %, of the total solids content of the image recording layer.
(その他の成分)
画像記録層は、その他の成分として、界面活性剤、焼き出し剤、重合禁止剤、高級脂肪酸誘導体、可塑剤、無機粒子、無機層状化合物などを含有することができる。具体的には、特開2008-284817号公報の段落0114~0159に記載されている上記各成分を用いることができる。
(Other ingredients)
The image recording layer may contain, as other components, a surfactant, a print-out agent, a polymerization inhibitor, a higher fatty acid derivative, a plasticizer, inorganic particles, an inorganic layer compound, etc. Specifically, the above-mentioned components described in paragraphs 0114 to 0159 of JP-A-2008-284817 can be used.
画像記録層は、特定ヒドロキシ酸化合物を含有することができる。この場合、画像記録層は特定構成層に該当する。The image recording layer may contain a specific hydroxy acid compound. In this case, the image recording layer corresponds to the specific component layer.
(画像記録層の形成)
画像記録層は、例えば、特開2008-195018号公報の段落0142~0143に記載のように、必要な上記各成分を適宜公知の溶剤に分散又は溶解して塗布液を調製し、塗布液をバーコーター塗布など公知の方法で塗布し、乾燥することにより形成することができる。塗布、乾燥後における画像記録層の塗布量(固形分)は、用途によって異なるが、良好な感度と画像記録層の良好な皮膜特性を得る観点から、0.3~3.0g/m2程度が好ましい。
(Formation of Image Recording Layer)
The image recording layer can be formed, for example, as described in paragraphs 0142 to 0143 of JP-A-2008-195018, by dispersing or dissolving the necessary components in a known solvent to prepare a coating solution, applying the coating solution by a known method such as bar coater coating, and drying. The coating amount (solid content) of the image recording layer after coating and drying varies depending on the application, but from the viewpoint of obtaining good sensitivity and good film properties of the image recording layer, it is preferably about 0.3 to 3.0 g/ m2 .
機上現像型平版印刷版原版は、画像記録層と支持体との間に下塗り層(中間層と呼ばれることもある)を、画像記録層の上に保護層(オーバーコート層と呼ばれることもある)を有することができる。An on-press development type lithographic printing plate precursor can have an undercoat layer (sometimes called an intermediate layer) between the image recording layer and the support, and a protective layer (sometimes called an overcoat layer) on top of the image recording layer.
〔下塗り層〕
下塗り層は、露光部においては支持体と画像記録層との密着を強化し、未露光部においては画像記録層の支持体からのはく離を生じやすくさせるため、耐刷性を損なわずに現像性を向上させることに寄与する。また、赤外線レーザー露光の場合に、下塗り層が断熱層として機能することにより、露光により発生した熱が支持体に拡散して感度が低下することを防ぐ効果も有する。
[Undercoat layer]
The undercoat layer strengthens the adhesion between the support and the image recording layer in the exposed area and facilitates peeling of the image recording layer from the support in the unexposed area, thereby contributing to improving developability without impairing printing durability. In addition, in the case of infrared laser exposure, the undercoat layer functions as a heat insulating layer, thereby preventing the heat generated by exposure from diffusing to the support and decreasing the sensitivity.
下塗り層に用いられる化合物としては、支持体表面に吸着可能な吸着性基及び親水性基を有するポリマーが挙げられる。画像記録層との密着性を向上させるために吸着性基及び親水性基を有し、更に架橋性基を有するポリマーが好ましい。下塗り層に用いられる化合物は、低分子化合物でもポリマーであってもよい。下塗り層に用いられる化合物は、必要に応じて、2種以上を混合して使用してもよい。Compounds used in the undercoat layer include polymers having adsorptive groups and hydrophilic groups that can be adsorbed to the support surface. In order to improve adhesion to the image recording layer, polymers having adsorptive groups and hydrophilic groups and further having crosslinkable groups are preferred. Compounds used in the undercoat layer may be low molecular weight compounds or polymers. Compounds used in the undercoat layer may be used in a mixture of two or more types, if necessary.
下塗り層に用いられる化合物がポリマーである場合、吸着性基を有するモノマー、親水性基を有するモノマー及び架橋性基を有するモノマーの共重合体が好ましい。
支持体表面に吸着可能な吸着性基としては、フェノール性ヒドロキシ基、カルボキシ基、-PO3H2、-OPO3H2、-CONHSO2-、-SO2NHSO2-、-COCH2COCH3が好ましい。親水性基としては、スルホ基又はその塩、カルボキシ基の塩が好ましい。架橋性基としては、アクリル基、メタクリル基、アクリルアミド基、メタクリルアミド基、アリル基などが好ましい。
ポリマーは、ポリマーの極性置換基と、当該極性置換基と対荷電を有する置換基及びエチレン性不飽和結合を有する化合物との塩形成で導入された架橋性基を有してもよいし、上記以外のモノマー、好ましくは親水性モノマーが更に共重合されていてもよい。
When the compound used in the undercoat layer is a polymer, it is preferably a copolymer of a monomer having an adsorptive group, a monomer having a hydrophilic group, and a monomer having a crosslinkable group.
Preferred examples of the adsorptive group capable of being adsorbed onto the surface of the support include a phenolic hydroxy group, a carboxy group , -PO3H2 , -OPO3H2 , -CONHSO2- , -SO2NHSO2- , and -COCH2COCH3 . Preferred examples of the hydrophilic group include a sulfo group or a salt thereof, and a salt of a carboxy group. Preferred examples of the crosslinkable group include an acryl group, a methacryl group, an acrylamide group, a methacrylamide group, and an allyl group.
The polymer may have a crosslinkable group introduced by salt formation between a polar substituent of the polymer and a compound having an ethylenically unsaturated bond and a substituent having an opposite charge to the polar substituent, or may further be copolymerized with a monomer other than the above, preferably a hydrophilic monomer.
具体的には、特開平10-282679号公報に記載されている付加重合可能なエチレン性二重結合反応基を有しているシランカップリング剤、特開平2-304441号公報記載のエチレン性二重結合反応基を有しているリン化合物が好適に挙げられる。特開2005-238816号公報、特開2005-125749号公報、特開2006-239867号公報及び特開2006-215263号公報に記載の架橋性基(好ましくは、エチレン性不飽和結合基)、支持体表面と相互作用する官能基及び親水性基を有する低分子又は高分子化合物も好ましく用いられる。
より好ましいものとして、特開2005-125749号及び特開2006-188038号公報に記載の支持体表面に吸着可能な吸着性基、親水性基及び架橋性基を有する高分子ポリマーが挙げられる。
Specifically, preferred examples include a silane coupling agent having an addition-polymerizable ethylenic double bond reactive group described in JP-A-10-282679 and a phosphorus compound having an ethylenic double bond reactive group described in JP-A-2-304441. Also preferred are low-molecular or high-molecular compounds having a crosslinkable group (preferably an ethylenically unsaturated bond group), a functional group that interacts with the support surface, and a hydrophilic group described in JP-A-2005-238816, JP-A-2005-125749, JP-A-2006-239867, and JP-A-2006-215263.
More preferred examples include polymers having an adsorptive group, a hydrophilic group and a crosslinkable group capable of being adsorbed onto the surface of a support, as described in JP-A Nos. 2005-125749 and 2006-188038.
下塗り層に用いられるポリマー中のエチレン性不飽和結合基の含有量は、ポリマー1g当たり、好ましくは0.1~10.0mmol、より好ましくは0.2~5.5mmolである。
下塗り層に用いられるポリマーの質量平均分子量(Mw)は、5,000以上が好ましく、1万~30万がより好ましい。
The content of the ethylenically unsaturated bond group in the polymer used in the undercoat layer is preferably from 0.1 to 10.0 mmol, more preferably from 0.2 to 5.5 mmol, per gram of the polymer.
The mass average molecular weight (Mw) of the polymer used in the undercoat layer is preferably 5,000 or more, and more preferably from 10,000 to 300,000.
下塗り層は、上記下塗り層用化合物の他に、経時による汚れ防止のため、キレート剤、第二級又は第三級アミン、重合禁止剤、アミノ基又は重合禁止能を有する官能基と支持体表面と相互作用する基とを有する化合物(例えば、1,4-ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン(DABCO)、2,3,5,6-テトラヒドロキシ-p-キノン、クロラニル、スルホフタル酸、ヒドロキシエチルエチレンジアミン三酢酸、ジヒドロキシエチルエチレンジアミン二酢酸、ヒドロキシエチルイミノ二酢酸など)などを含有してもよい。In addition to the above-mentioned compounds for the undercoat layer, the undercoat layer may contain a chelating agent, a secondary or tertiary amine, a polymerization inhibitor, a compound having an amino group or a functional group having polymerization inhibitory ability and a group that interacts with the support surface (e.g., 1,4-diazabicyclo[2.2.2]octane (DABCO), 2,3,5,6-tetrahydroxy-p-quinone, chloranil, sulfophthalic acid, hydroxyethylethylenediaminetriacetic acid, dihydroxyethylethylenediaminediacetic acid, hydroxyethyliminodiacetic acid, etc.) to prevent contamination over time.
下塗り層は、特定ヒドロキシ酸化合物を含有することができる。この場合、下塗り層は特定構成層に該当する。The undercoat layer may contain a specific hydroxy acid compound. In this case, the undercoat layer corresponds to the specific component layer.
下塗り層は、公知の方法で塗布し、乾燥することにより形成することができる。乾燥後における下塗り層の塗布量(固形分)は、0.1~100mg/m2が好ましく、1~30mg/m2がより好ましい。 The undercoat layer can be formed by coating and drying using a known method. The coating amount (solid content) of the undercoat layer after drying is preferably 0.1 to 100 mg/ m2 , more preferably 1 to 30 mg/ m2 .
〔保護層〕
保護層は酸素遮断により画像形成阻害反応を抑制する機能の他、画像記録層における傷の発生防止及び高照度レーザー露光時のアブレーション防止の機能を有する。
[Protective Layer]
The protective layer has a function of suppressing reactions that inhibit image formation by blocking oxygen, as well as a function of preventing the occurrence of scratches in the image recording layer and ablation during exposure to high-intensity laser light.
このような特性の保護層については、例えば、米国特許第3,458,311号明細書及び特公昭55-49729号公報に記載されている。保護層に用いられる酸素低透過性のポリマーとしては、水溶性ポリマー、水不溶性ポリマーのいずれをも適宜選択して使用することができ、必要に応じて2種類以上を混合して使用することもできる。具体的には、例えば、ポリビニルアルコール樹脂(ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコールを含む)、ポリビニルピロリドン、水溶性セルロース誘導体、ポリ(メタ)アクリロニトリルなどが挙げられる。
ポリビニルアルコールとしては、けん化度が50%以上であるポリビニルアルコールが好適である。ポリビニルアルコールのけん化度は、60%以上が好ましく、70%以上がより好ましく、85%以上が更に好ましい。けん化度の上限は特に限定されず、けん化度は100%以下であればよい。
けん化度は、JIS K 6726:1994に記載の方法に従い測定することができる。
変性ポリビニルアルコールとしてはカルボキシ基又はスルホ基を有する酸変性ポリビニルアルコールが好ましく用いられる。具体的には、特開2005-250216号公報及び特開2006-259137号公報に記載の変性ポリビニルアルコールが挙げられる。
水溶性ポリマーの中で、ポリビニルアルコール樹脂が好ましい。
Protective layers having such characteristics are described, for example, in U.S. Pat. No. 3,458,311 and Japanese Patent Publication No. 55-49729. As the low oxygen permeable polymer used in the protective layer, either a water-soluble polymer or a water-insoluble polymer can be appropriately selected and used, and two or more types can be mixed and used as necessary. Specific examples include polyvinyl alcohol resins (including polyvinyl alcohol and modified polyvinyl alcohol), polyvinylpyrrolidone, water-soluble cellulose derivatives, poly(meth)acrylonitrile, etc.
The polyvinyl alcohol is preferably polyvinyl alcohol having a degree of saponification of 50% or more. The degree of saponification of polyvinyl alcohol is preferably 60% or more, more preferably 70% or more, and even more preferably 85% or more. There is no particular upper limit to the degree of saponification, and the degree of saponification may be 100% or less.
The degree of saponification can be measured according to the method described in JIS K 6726:1994.
The modified polyvinyl alcohol is preferably an acid-modified polyvinyl alcohol having a carboxy group or a sulfo group, specifically, the modified polyvinyl alcohols described in JP-A-2005-250216 and JP-A-2006-259137.
Among the water-soluble polymers, polyvinyl alcohol resins are preferred.
保護層は、酸素遮断性を高めるために無機層状化合物を含有することが好ましい。無機層状化合物は、薄い平板状の形状を有する粒子であり、例えば、天然雲母、合成雲母などの雲母群、式:3MgO・4SiO・H2Oで表されるタルク、テニオライト、モンモリロナイト、サポナイト、ヘクトライト、リン酸ジルコニウムなどが挙げられる。
好ましく用いられる無機層状化合物は雲母化合物である。雲母化合物としては、例えば、式:A(B,C)2-5D4O10(OH,F,O)2〔ただし、Aは、K、Na、Caのいずれかであり、B及びCは、Fe(II)、Fe(III)、Mn、Al、Mg、Vのいずれかであり、Dは、Si又はAlである。〕で表される天然雲母、合成雲母などの雲母群が挙げられる。
The protective layer preferably contains an inorganic layered compound to improve the oxygen barrier property. The inorganic layered compound is a particle having a thin plate-like shape, and examples thereof include mica group such as natural mica and synthetic mica , talc represented by the formula: 3MgO.4SiO.H2O, taeniolite, montmorillonite, saponite, hectorite, zirconium phosphate, and the like.
The inorganic layered compound preferably used is a mica compound. Examples of the mica compound include mica groups such as natural mica and synthetic mica represented by the formula: A(B,C) 2-5D4O10 (OH,F,O) 2 (wherein A is K, Na, or Ca, B and C are Fe(II), Fe(III), Mn, Al, Mg, or V, and D is Si or Al).
雲母群においては、天然雲母としては白雲母、ソーダ雲母、金雲母、黒雲母及び鱗雲母が挙げられる。合成雲母としてはフッ素金雲母KMg3(AlSi3O10)F2、カリ四ケイ素雲母KMg2.5Si4O10)F2などの非膨潤性雲母、及び、NaテトラシリリックマイカNaMg2.5(Si4O10)F2、Na又はLiテニオライト(Na,Li)Mg2Li(Si4O10)F2、モンモリロナイト系のNa又はLiヘクトライト(Na,Li)1/8Mg2/5Li1/8(Si4O10)F2などの膨潤性雲母などが挙げられる。更に合成スメクタイトも有用である。 In the mica group, natural micas include muscovite, sodalite, phlogopite, biotite and lepidolite.Synthetic micas include non-swelling micas such as fluorphlogopite KMg3 ( AlSi3O10 ) F2 , potassium tetrasilicic mica KMg2.5Si4O10 ) F2 , and swelling micas such as Na tetrasilicic mica NaMg2.5 ( Si4O10 ) F2 , Na or Li taeniolite (Na, Li ) Mg2Li ( Si4O10 ) F2 , and montmorillonite-based Na or Li hectorite (Na,Li) 1 / 8Mg2 /5Li1 / 8 ( Si4O10 ) F2.Synthetic smectite is also useful.
雲母化合物の中でも、フッ素系の膨潤性雲母が特に有用である。即ち、膨潤性合成雲母は、10~15Å程度の厚さの単位結晶格子層からなる積層構造を有し、格子内金属原子置換が他の粘土鉱物より著しく大きい。その結果、格子層は正電荷不足を生じ、それを補償するために層間にLi+、Na+、Ca2+、Mg2+などの陽イオンを吸着している。これらの層間に介在している陽イオンは交換性陽イオンと呼ばれ、いろいろな陽イオンと交換し得る。特に、層間の陽イオンがLi+、Na+の場合、イオン半径が小さいため層状結晶格子間の結合が弱く、水により大きく膨潤する。その状態でシェアーをかけると容易に劈開し、水中で安定したゾルを形成する。膨潤性合成雲母はこの傾向が強く、特に好ましく用いられる。 Among mica compounds, fluorine-based swelling mica is particularly useful. That is, swelling synthetic mica has a layered structure consisting of unit crystal lattice layers with a thickness of about 10 to 15 Å, and the metal atom substitution in the lattice is significantly larger than other clay minerals. As a result, the lattice layers have a positive charge deficiency, and to compensate for this, cations such as Li + , Na + , Ca 2+ , and Mg 2+ are adsorbed between the layers. These cations interposed between the layers are called exchangeable cations and can be exchanged with various cations. In particular, when the interlayer cations are Li + or Na + , the ionic radius is small, so the bond between the layered crystal lattices is weak, and the mica swells greatly in water. When shear is applied in this state, it easily cleaves and forms a stable sol in water. Swelling synthetic mica has a strong tendency in this way, and is particularly preferably used.
雲母化合物の形状としては、拡散制御の観点からは、厚さは薄ければ薄いほどよく、平面サイズは塗布面の平滑性や活性光線の透過性を阻害しない限りにおいて大きい程よい。従って、アスペクト比は、好ましくは20以上であり、より好ましくは100以上、特に好ましくは200以上である。アスペクト比は粒子の厚さに対する長径の比であり、例えば、粒子の顕微鏡写真による投影図から測定することができる。アスペクト比が大きい程、得られる効果が大きい。 From the viewpoint of diffusion control, the shape of the mica compound is such that the thinner the thickness, the better, and the larger the planar size, the better, as long as it does not impede the smoothness of the coating surface or the transmittance of actinic rays. Therefore, the aspect ratio is preferably 20 or more, more preferably 100 or more, and particularly preferably 200 or more. The aspect ratio is the ratio of the major axis to the thickness of the particle, and can be measured, for example, from a projection of the particle in a microscopic photograph. The larger the aspect ratio, the greater the effect that can be obtained.
雲母化合物の粒子径は、その平均長径が、好ましくは0.3~20μm、より好ましくは0.5~10μm、特に好ましくは1~5μmである。粒子の平均の厚さは、好ましくは0.1μm以下、より好ましくは0.05μm以下、特に好ましくは0.01μm以下である。具体的には、例えば、代表的化合物である膨潤性合成雲母の場合、好ましい態様としては、厚さが1~50nm程度、面サイズ(長径)が1~20μm程度である。The particle size of the mica compound is preferably 0.3 to 20 μm, more preferably 0.5 to 10 μm, and particularly preferably 1 to 5 μm, in terms of average major axis. The average particle thickness is preferably 0.1 μm or less, more preferably 0.05 μm or less, and particularly preferably 0.01 μm or less. Specifically, for example, in the case of swellable synthetic mica, a representative compound, the preferred embodiment has a thickness of about 1 to 50 nm and a face size (major axis) of about 1 to 20 μm.
無機層状化合物の含有量は、保護層の全固形分に対して、0~60質量%が好ましく、3~50質量%がより好ましい。複数種の無機層状化合物を併用する場合でも、無機層状化合物の合計量が上記の含有量であることが好ましい。上記範囲で酸素遮断性が向上し、良好な感度が得られる。また、着肉性の低下を防止できる。The content of the inorganic layered compound is preferably 0 to 60% by mass, and more preferably 3 to 50% by mass, based on the total solid content of the protective layer. Even when multiple types of inorganic layered compounds are used in combination, it is preferable that the total amount of the inorganic layered compounds is within the above content. Within the above range, oxygen barrier properties are improved and good sensitivity is obtained. In addition, a decrease in ink adhesion can be prevented.
保護層は可撓性付与のための可塑剤、塗布性を向上させための界面活性剤、表面の滑り性を制御するための無機微粒子など公知の添加物を含有してもよい。また、画像記録層において記載した感脂化剤を保護層に含有させてもよい。The protective layer may contain known additives such as a plasticizer to impart flexibility, a surfactant to improve coatability, and inorganic fine particles to control the surface slipperiness. The protective layer may also contain an oil sensitizer as described for the image recording layer.
保護層は、特定ヒドロキシ酸化合物を含有することができる。この場合、保護層は特定構成層に該当する。The protective layer may contain a specific hydroxy acid compound. In this case, the protective layer corresponds to the specific component layer.
保護層は、公知の方法で塗布し、乾燥することにより形成することができる。乾燥後における保護層の塗布量(固形分)は、0.01~10g/m2が好ましく、0.02~3g/m2がより好ましく、0.02~1g/m2が特に好ましい。 The protective layer can be formed by coating and drying using a known method. The coating amount (solid content) of the protective layer after drying is preferably 0.01 to 10 g/ m2 , more preferably 0.02 to 3 g/ m2 , and particularly preferably 0.02 to 1 g/ m2 .
[捨て版原版]
以下に、本発明に係る機上現像型印刷用原版の他の一つの態様である捨て版原版について記載する。
捨て版原版は、平版印刷版原版と同様の製版工程(但し、画像露光は必要ない)を経て捨て版を作製するための原版であり、基本的に感光性を有さない。捨て版は、印刷業界においてよく知られるように、例えば、カラーの新聞印刷(多色印刷)において一部の紙面を2色又は1色で印刷を行う必要がある場合に、版胴に取り付けて用いられる。
[Disposable original plate]
A disposable printing plate precursor, which is another embodiment of the on-press development type printing plate precursor according to the present invention, will be described below.
A throwaway plate precursor is a plate for producing a throwaway plate through a plate-making process similar to that of a lithographic printing plate precursor (however, image exposure is not required), and does not basically have photosensitivity. As is well known in the printing industry, a throwaway plate is attached to a plate cylinder when it is necessary to print a part of a page in two colors or one color in color newspaper printing (multicolor printing), for example.
捨て版原版は、上記陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体上に、非感光性層を有する。ここで、「非感光性」とは、捨て版原版と共に印刷工程に供される通常の平版印刷版原版の画像露光工程において用いられる光源の光に対して、実質的に感光性を有さないことを意味する。実質的に感光性を有さないとは、捨て版原版が通常用いられる範囲において、重合反応が生じないことを意味する。
捨て版原版においては、全ての構成層が非感光性である。
The sacrificial plate precursor has a non-photosensitive layer on the aluminum support having the above-mentioned anodized film. Here, "non-photosensitive" means that it has substantially no photosensitivity to light from a light source used in the image exposure process of a normal lithographic printing plate precursor that is used in a printing process together with the sacrificial plate precursor. "Substantially no photosensitivity" means that no polymerization reaction occurs within the range in which the sacrificial plate precursor is normally used.
In the throwaway master, all of the constituent layers are non-photosensitive.
(非感光性層)
非感光性層は、印刷機上で、酸性~アルカリ性の湿し水及び印刷インキの少なくともいずれかにより除去され得る層である。
非感光性層は樹脂を含有することができる。樹脂は、主として非感光性層の膜強度を向上させる目的で用いられる。非感光性層に含有される樹脂は、通常の平版印刷版原版の画像記録層においてバインダーポリマーとして用いられる従来公知の樹脂を用いることができ、皮膜性を有する樹脂が好ましい。なかでも、アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリウレタン樹脂などが好ましい。
(Non-photosensitive layer)
The non-photosensitive layer is a layer which can be removed on a printing press by at least one of an acidic to alkaline dampening solution and a printing ink.
The non-photosensitive layer may contain a resin. The resin is mainly used for the purpose of improving the film strength of the non-photosensitive layer. The resin contained in the non-photosensitive layer may be a conventionally known resin used as a binder polymer in the image recording layer of a normal lithographic printing plate precursor, and is preferably a resin having film properties. Among them, acrylic resin, polyvinyl acetal resin, polyurethane resin, etc. are preferred.
非感光性層に含有される樹脂は親水性基を有することが好ましい。親水性基は非感光性層に機上現像性を付与するのに寄与する。
親水性基としては、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アルキレンオキシド構造、アミノ基、アンモニウム基、アミド基、スルホ基、リン酸基等などがあり、なかでも、炭素数2又は3のアルキレンオキシド単位を1~9個有するアルキレンオキシド構造が好ましい。樹脂に親水性基を付与するには、例えば、親水性基を有するモノマーを共重合することにより行うことできる。
The resin contained in the non-photosensitive layer preferably has a hydrophilic group, which contributes to imparting on-press developability to the non-photosensitive layer.
Examples of the hydrophilic group include a hydroxy group, a carboxy group, an alkylene oxide structure, an amino group, an ammonium group, an amide group, a sulfo group, a phosphate group, and the like, and among these, an alkylene oxide structure having 1 to 9 alkylene oxide units each having 2 or 3 carbon atoms is preferred. To impart a hydrophilic group to a resin, for example, a monomer having a hydrophilic group can be copolymerized.
非感光性層に含有される樹脂の好ましい例として、ポリオキシアルキレン鎖を側鎖に有する高分子化合物が挙げられる。ポリオキシアルキレン鎖を側鎖に有する高分子化合物を非感光性層に含有させることにより、湿し水の浸透性が促進され、機上現像性が向上する。
ポリオキシアルキレン鎖を側鎖に有する高分子化合物、非感光性層に含有される樹脂の他の好ましい例は特開2017-65184号公報の段落0085~0102に記載されている。
A preferred example of the resin contained in the non-photosensitive layer is a polymer compound having a polyoxyalkylene chain in the side chain. By containing a polymer compound having a polyoxyalkylene chain in the side chain in the non-photosensitive layer, the permeability of the dampening water is promoted, and the on-press developability is improved.
Other preferred examples of the polymer compound having a polyoxyalkylene chain in its side chain and the resin contained in the non-photosensitive layer are described in paragraphs 0085 to 0102 of JP-A-2017-65184.
非感光性層に含有される樹脂は、質量平均分子量(Mw)が2,000以上が好ましく、5、000以上がより好ましく、10,000~300,000が更に好ましい。The resin contained in the non-photosensitive layer preferably has a mass average molecular weight (Mw) of 2,000 or more, more preferably 5,000 or more, and even more preferably 10,000 to 300,000.
非感光性層に含有される樹脂の含有量は、非感光性層の全固形分に対して、3~90質量%が適当であり、5~80質量%が好ましく、10~70質量%がより好ましい。The content of the resin contained in the non-photosensitive layer is suitably 3 to 90 mass % relative to the total solid content of the non-photosensitive layer, preferably 5 to 80 mass %, and more preferably 10 to 70 mass %.
非感光性層は、必要に応じて、更に、界面活性剤、着色剤、焼き出し剤、重合禁止剤、高級脂肪酸誘導体、可塑剤、無機微粒子、無機質層状化合物、共増感剤、連鎖移動剤などを含有することができる。具体的には、特開2008-284817号公報の段落0114~0159、特開2006-091479号公報の段落0023~0027、米国特許公開2008/0311520号明細書の段落0060に記載の化合物及び添加量を好ましく用いることができる。The non-photosensitive layer may further contain, as necessary, surfactants, colorants, print-out agents, polymerization inhibitors, higher fatty acid derivatives, plasticizers, inorganic fine particles, inorganic layered compounds, co-sensitizers, chain transfer agents, etc. Specifically, the compounds and amounts of addition described in paragraphs 0114 to 0159 of JP-A No. 2008-284817, paragraphs 0023 to 0027 of JP-A No. 2006-091479, and paragraph 0060 of US Patent Publication No. 2008/0311520 can be preferably used.
非感光性層は、特定ヒドロキシ酸化合物を含有することができる。この場合、非感光性層は特定構成層に該当する。The non-photosensitive layer may contain a specific hydroxy acid compound. In this case, the non-photosensitive layer corresponds to the specific component layer.
(非感光性層の形成)
非感光性層は、必要な上記各成分を適宜公知の溶剤に分散又は溶解して塗布液を調製し、塗布液をバーコーター塗布など公知の方法で塗布し、乾燥することにより形成することができる。乾燥後における非感光性層の塗布量(固形分)は、機上現像性および耐傷性の両立の観点から0.05~1.0g/m2が好ましく、0.1~0.7g/m2がより好ましい。
(Formation of Non-Photosensitive Layer)
The non-photosensitive layer can be formed by dispersing or dissolving the necessary components in a known solvent to prepare a coating solution, applying the coating solution by a known method such as bar coater coating, and drying. The coating amount (solid content) of the non-photosensitive layer after drying is preferably 0.05 to 1.0 g/ m2 , more preferably 0.1 to 0.7 g/ m2 , from the viewpoint of achieving both on-machine developability and scratch resistance.
捨て版原版において、非感光性層は陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体上に直接設けてもよいし、陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体上に、下塗り層を設け、この下塗り層の上に設けてもよい。下塗り層としては、機上現像型平版印刷版原版に関して記載した下塗り層を用いることができる。
捨て版原版は、非感光性層の上に、更に、保護層を有していてもよい。保護層としては、機上現像型平版印刷版原版に関して記載した保護層を用いることができる。
In the throwaway plate precursor, the non-photosensitive layer may be provided directly on the aluminum support having an anodized film, or may be provided on an undercoat layer provided on the aluminum support having an anodized film. As the undercoat layer, the undercoat layer described for the on-press development type lithographic printing plate precursor can be used.
The sacrificial plate precursor may further have a protective layer on the non-photosensitive layer. As the protective layer, the protective layers described in relation to the on-press development type lithographic printing plate precursor can be used.
本発明に係る機上現像型印刷用原版は、端部にダレ形状を有する。The on-press development type printing original plate of the present invention has a droop shape at the end.
図3は、印刷用原版の一つの態様である平版印刷版原版の端部の断面形状を示す模式図である。
図3において、平版印刷版原版1はその端部にダレ2を有している。平版印刷版原版1の端面1cの上端(ダレ2と端面1cとの境界点)から端面1cの延長線と画像記録層面(保護層が形成されている場合には保護層面)1aの延長線との交点までの距離Xを「ダレ量X」といい、平版印刷版原版1の画像記録層面1aがダレ始める点から上記交点までの距離Yを「ダレ幅Y」という。
FIG. 3 is a schematic diagram showing the cross-sectional shape of an edge portion of a lithographic printing plate precursor, which is one embodiment of a printing plate precursor.
3, the lithographic printing plate precursor 1 has a sag 2 at its edge. The distance X from the upper end of an
端部のダレ形状において、ダレ量Xは25μm以上が好ましく、35μm以上がより好ましく、40μm以上が更に好ましい。ダレ量Xの上限は、端部表面状態の悪化による機上現像性の劣化を防止する観点から150μmが好ましい。機上現像性が劣化すると残存する画像記録層にインキが付着しエッジ汚れ発生の原因となる場合がある。ダレ量Xが少な過ぎると、端部に付着したインキがブランケットに転写しやすくなりエッジ汚れ発生の原因となる場合がある。ダレ量Xの範囲が25~150μmの場合、ダレ幅Yが小さいと、端部におけるクラックの発生が増大し、そこに印刷インキが溜まることによりエッジ汚れの原因となる場合がある。このような観点から、ダレ幅Yは70~300μmの範囲が好ましく、80~250μmの範囲がより好ましい。なお、上記ダレ量とダレ幅の範囲は、平版印刷版原版1の支持体面1bのエッジ形状には関わらない。
通常、平版印刷版原版1の端部において、画像記録層と支持体との境界B、及び、支持体面1bも、画像記録層面1aと同様に、ダレが発生している。
In terms of the sagging shape of the edge, the sagging amount X is preferably 25 μm or more, more preferably 35 μm or more, and even more preferably 40 μm or more. The upper limit of the sagging amount X is preferably 150 μm from the viewpoint of preventing deterioration of on-machine developability due to deterioration of the edge surface condition. When on-machine developability deteriorates, ink may adhere to the remaining image recording layer, which may cause edge staining. If the sagging amount X is too small, the ink adhered to the edge may be easily transferred to the blanket, which may cause edge staining. When the sagging amount X is in the range of 25 to 150 μm, if the sagging width Y is small, the occurrence of cracks at the edge increases, and printing ink may accumulate there, which may cause edge staining. From this viewpoint, the sagging width Y is preferably in the range of 70 to 300 μm, and more preferably in the range of 80 to 250 μm. The above sagging amount and sagging width ranges are not related to the edge shape of the
Usually, at the edge of the lithographic printing plate precursor 1, sagging occurs at the boundary B between the image recording layer and the support, and on the
上記ダレ形状を有する端部の形成は、例えば、印刷用原版の裁断条件を調整することにより行うことができる。
具体的には、印刷用原版の裁断時に使用するスリッター装置における上側裁断刃と下側裁断刃の隙間、噛み込み量、刃先角度などを調整することにより行うことができる。
図4は、スリッター装置の裁断部の1例を示す概念図である。スリッター装置には、上下一対の裁断刃10、20が上下に配置されている。裁断刃10、20は円板上の丸刃からなり、上側裁断刃10a及び10bは回転軸11に、下側裁断刃20a及び20bは回転軸21に、それぞれ同軸上に支持されている。上側裁断刃10a及び10bと下側裁断刃20a及び20bとは、相反する方向に回転される。印刷用原版30は、上側裁断刃10a、10bと下側裁断刃20a,20bとの間を通されて所定の幅に裁断される。スリッター装置の裁断部の上側裁断刃10aと下側裁断刃20aとの隙間及び上側裁断刃10bと下側裁断刃20bとの隙間を調整することによりダレ形状を有する端部を形成することができる。
The formation of the end portion having the above-mentioned drooped shape can be achieved, for example, by adjusting the cutting conditions of the printing plate precursor.
Specifically, this can be achieved by adjusting the gap between the upper and lower cutting blades, the amount of engagement, the blade angle, etc., of the slitter device used when cutting the printing plate master.
FIG. 4 is a conceptual diagram showing an example of the cutting section of a slitter device. In the slitter device, a pair of upper and
本発明に係る機上現像型印刷用原版は、特定構成層を有する側とは反対側における最外層表面の算術平均高さSaが、0.3~20μmであることが好ましい。ここで、特定構成層を有する側とは反対側とは、上記アルミニウム支持体を基準として、特定構成層を有する側とは反対側を意味する。
本発明に係る機上現像型印刷用原版は、特定構成層を有する側における最外層表面の算術平均高さSaが、0.3~20μmであることが好ましい。ここで、特定構成層を有する側とは、上記アルミニウム支持体を基準として、特定構成層を有する側を意味する。
このような特性を有する最外層表面を設けることにより、本発明に係る機上現像型印刷用原版は、原版と原版の間に合紙を挟まない形態(合紙レスともいう。)で集積した場合でも、集積体から原版を取り出す工程における多重給版の防止性、原版の最外層表面に付与された凸部に起因する擦れ傷防止性、原版の最外層表面に付与された凸部に起因する現像遅れ防止性などの性能において優れる。
In the on-press development type printing plate precursor according to the present invention, the arithmetic mean height Sa of the outermost layer surface on the side opposite to the side having the specific component layer is preferably 0.3 to 20 μm. Here, the side opposite to the side having the specific component layer means the side opposite to the side having the specific component layer with respect to the aluminum support.
In the on-press development type printing plate precursor according to the present invention, the arithmetic mean height Sa of the outermost layer surface on the side having the specific component layer is preferably 0.3 to 20 μm. Here, the side having the specific component layer means the side having the specific component layer with respect to the aluminum support.
By providing an outermost layer surface having such characteristics, the on-press development type printing master plate of the present invention, even when stacked in a form in which no interleaf paper is sandwiched between the master plates (also referred to as interleaf-less), is excellent in performance, such as preventing multiple feeding in the process of removing the master plates from the stack, preventing scratches caused by the convex portions provided on the outermost layer surface of the master plate, and preventing development delays caused by the convex portions provided on the outermost layer surface of the master plate.
特定構成層を有する側とは反対側における最外層表面は、反対側にバックコート層を有する場合には、バックコート層の表面であり、反対側に層を有さない場合には、支持体表面である。
例えば、後述する突起物を形成する場合、印刷用原版は、上記バックコート層が、最外層であり、かつ上記バックコート層の上に高分子化合物を含む複数の突起物を有していてもよいし、上記支持体が、最外層であり、かつ上記支持体の上に高分子化合物を含む複数の突起物を有していてもよい。
The outermost surface on the side opposite to the side having the specific component layer is the surface of the backcoat layer if a backcoat layer is present on the opposite side, and is the surface of the support if no layer is present on the opposite side.
For example, when forming the protrusions described below, the printing plate may have the backcoat layer as the outermost layer and have a plurality of protrusions containing a polymer compound on the backcoat layer, or the support may have the support as the outermost layer and have a plurality of protrusions containing a polymer compound on the support.
特定構成層を有する側における最外層表面は、画像記録層又は保護層が最外層の場合、画像記録層の表面又は保護層の表面である。
例えば、後述する突起物を形成する場合、印刷用原版は、上記画像記録層又は保護層が、最外層であり、かつ上記画像記録層又は保護層の上に高分子化合物を含む複数の突起物を有していてもよい。
When the image recording layer or the protective layer is the outermost layer, the outermost surface on the side having the specific component layer is the surface of the image recording layer or the surface of the protective layer.
For example, when forming protrusions as described below, the printing plate precursor may have the image recording layer or protective layer as the outermost layer, and may have a plurality of protrusions containing a polymer compound on the image recording layer or protective layer.
特定構成層を有する側とは反対側における最外層表面の算術平均高さSaは、より好ましくは0.5~10μm、更に好ましくは0.5~7μmである。
特定構成層を有する側における最外層表面の算術平均高さSaは、より好ましくは0.5~10μm、更に好ましくは0.5~7μmである。
The arithmetic mean height Sa of the outermost layer surface on the side opposite to the side having the specific component layer is more preferably 0.5 to 10 μm, and further preferably 0.5 to 7 μm.
The arithmetic mean height Sa of the outermost layer surface on the side having the specific component layer is more preferably 0.5 to 10 μm, and further preferably 0.5 to 7 μm.
最外層表面における算術平均高さSaの測定は、ISO 25178に記載の方法に準じて行う。具体的には、菱化システム(株)製のマイクロマップMM3200-M100を用いて、同一サンプルから3か所以上選択して測定し、それらの平均値を算術平均高さSaとする。測定範囲に関しては、サンプル表面からランダムに選んだ1cm×1cmの範囲を測定する。The arithmetic mean height Sa of the outermost layer surface is measured according to the method described in ISO 25178. Specifically, a Micromap MM3200-M100 manufactured by Ryoka Systems Co., Ltd. is used to measure three or more locations selected from the same sample, and the average of these measurements is taken as the arithmetic mean height Sa. The measurement range is a 1 cm x 1 cm area randomly selected from the sample surface.
最外層表面の算術平均高さSaが0.3~20μmとの要件を達成するためには、最外層が凹凸を有する形状を形成することが好ましい。
具体的には、例えば、最外層が、平均粒子径が0.5~20μmである粒子を含む態様(態様1)、及び最外層の上に高分子化合物を主成分として含む複数の突起物を有する態様(態様2)が挙げられる。ここで、主成分とは、含有比率(質量%)が最も高い成分を意味する。
In order to achieve the requirement that the arithmetic mean height Sa of the outermost layer surface be 0.3 to 20 μm, it is preferable that the outermost layer be formed into a shape having projections and recesses.
Specifically, for example, there are mentioned an embodiment in which the outermost layer contains particles having an average particle size of 0.5 to 20 μm (embodiment 1), and an embodiment in which the outermost layer has a plurality of protrusions containing a polymer compound as a main component (embodiment 2). Here, the main component means the component with the highest content ratio (mass %).
態様1において、平均粒子径が0.5~20μmである粒子は、特に制限はないが、有機樹脂粒子及び無機粒子から選ばれる少なくとも1種の粒子であることが好ましい。In aspect 1, the particles having an average particle diameter of 0.5 to 20 μm are not particularly limited, but are preferably at least one type of particles selected from organic resin particles and inorganic particles.
有機樹脂粒子としては、ポリ(メタ)アクリル酸エステル類、ポリスチレン及びその誘導体、ポリアミド類、ポリイミド類、低密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、ポリプロピレン、などのポリオレフィン類、ポリウレタン類、ポリウレア類、ポリエステル類などの合成樹脂からなる粒子、及び、キチン、キトサン、セルロース、架橋澱粉、架橋セルロースなどの天然高分子からなる粒子などが好ましく挙げられる。
中でも、合成樹脂粒子は、粒子サイズ制御が容易であること、表面改質により所望の表面特性を制御し易いことなどの利点がある。
Preferred examples of the organic resin particles include particles made of synthetic resins such as poly(meth)acrylic acid esters, polystyrene and derivatives thereof, polyamides, polyimides, polyolefins such as low-density polyethylene, high-density polyethylene, and polypropylene, polyurethanes, polyureas, and polyesters, and particles made of natural polymers such as chitin, chitosan, cellulose, crosslinked starch, and crosslinked cellulose.
Among these, synthetic resin particles have the advantages that the particle size can be easily controlled and that the desired surface properties can be easily controlled by surface modification.
有機樹脂粒子の製造方法については、ポリメチルメタクリレート(PMMA)のような比較的に硬い樹脂では、破砕法による微粒子化も可能であるが、乳化懸濁重合法により粒子を合成する方法が、粒子径制御の容易性、精度から好ましく採用されている。
有機樹脂粒子の製造方法は、「超微粒子と材料」日本材料科学会編、裳華房、1993年発刊、「微粒子・粉体の作製と応用」川口春馬監修、シーエムシー出版、2005年発刊などに詳細に記載されている。
Regarding the method for producing organic resin particles, for a relatively hard resin such as polymethyl methacrylate (PMMA), it is possible to make the resin into fine particles by a crushing method, but a method for synthesizing particles by an emulsion suspension polymerization method is preferably adopted from the viewpoint of ease and accuracy of controlling the particle size.
Methods for producing organic resin particles are described in detail in, for example, "Ultrafine Particles and Materials" edited by the Society of Materials Science of Japan, published by Shokabo in 1993, and "Preparation and Application of Fine Particles and Powders" edited by Haruma Kawaguchi, published by CMC Publishing in 2005.
有機樹脂粒子は市販品としても入手可能であり、例えば、綜研化学(株)製、架橋アクリル樹脂MX-40T、MX-80H3wT、MX-150、MX-180TA、MX-300、MX-500、MX-1000、MX-1500H、MR-2HG、MR-7HG,MR-10HG、MR-3GSN、MR-5GSN、MR-7G、MR-10G、MR-5C、MR-7GC、スチリル樹脂系のSX-350H、SX-500H、積水化成品工業(株)製アクリル樹脂MBX-5、MBX-8、MBX-12MBX-15、MBX-20,MB20X-5、MB30X-5、MB30X-8、MB30X-20、SBX-6、SBX-8、SBX-12、SBX-17、三井化学(株)製ポリオレフィン樹脂、ケミパールW100、W200、W300、W308、W310、W400、W401、W405、W410、W500、WF640、W700、W800、W900、W950、WP100などが挙げられる。Organic resin particles are also available as commercially available products, for example, cross-linked acrylic resins MX-40T, MX-80H3wT, MX-150, MX-180TA, MX-300, MX-500, MX-1000, MX-1500H, MR-2HG, MR-7HG, MR-10HG, MR-3GSN, MR-5GSN, MR-7G, MR-10G, MR-5C, MR-7GC manufactured by Soken Chemical & Chemical Industry Co., Ltd., styryl resin-based SX-350H, SX-500H manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd. Examples of the resins include MBX-5, MBX-8, MBX-12, MBX-15, MBX-20, MB20X-5, MB30X-5, MB30X-8, MB30X-20, SBX-6, SBX-8, SBX-12, and SBX-17, polyolefin resins manufactured by Mitsui Chemicals, Inc., and Chemipearl W100, W200, W300, W308, W310, W400, W401, W405, W410, W500, WF640, W700, W800, W900, W950, and WP100.
無機粒子としては、シリカ、アルミナ、ジルコニア、チタニア、カーボンブラック、グラファイト、BaSO4、ZnS、MgCO3、CaCO3、ZnO、CaO、WS2、MoS2、MgO、SnO2、α-Fe2O3、α-FeOOH、SiC、CeO2、BN、SiN、MoC、BC、WC、チタンカーバイド、コランダム、人造ダイヤモンド、石榴石、ガーネット、珪石、トリボリ、珪藻土、ドロマイトなどが挙げられる。 Examples of inorganic particles include silica, alumina, zirconia, titania, carbon black, graphite, BaSO4 , ZnS, MgCO3 , CaCO3 , ZnO, CaO, WS2 , MoS2 , MgO, SnO2 , α- Fe2O3 , α-FeOOH, SiC, CeO2 , BN, SiN, MoC, BC, WC, titanium carbide, corundum, artificial diamond, garnet, silica, tribolith, diatomaceous earth, and dolomite.
上記粒子は、親水性表面を有する粒子であることが好ましい。親水性表面を有する粒子は、親水性表面を有する有機樹脂粒子及び親水性表面を有する無機粒子を含む。
親水性表面を有する有機樹脂粒子は、シリカ、アルミナ、チタニア及びジルコニアよりなる群から選ばれる少なくとも1種の無機化合物で被覆された有機樹脂粒子が好ましく、シリカで被覆された有機樹脂粒子が特に好ましい。
親水性表面を有する有機樹脂粒子を構成する有機樹脂は、ポリアクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリエステル系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノール系樹脂及びメラミン樹脂よりなる群から選ばれる少なくとも1種の樹脂であることが好ましい。
The particles are preferably particles having a hydrophilic surface, and include organic resin particles having a hydrophilic surface and inorganic particles having a hydrophilic surface.
The organic resin particles having a hydrophilic surface are preferably organic resin particles coated with at least one inorganic compound selected from the group consisting of silica, alumina, titania and zirconia, and more preferably organic resin particles coated with silica.
The organic resin constituting the organic resin particles having a hydrophilic surface is preferably at least one resin selected from the group consisting of polyacrylic resins, polyurethane resins, polystyrene resins, polyester resins, epoxy resins, phenolic resins, and melamine resins.
以下に、親水性表面を有する有機樹脂粒子について、シリカで被覆された有機樹脂粒子(以下、「シリカ被覆有機樹脂粒子」ともいう。)を例として詳細に説明するが、親水性表面を有する有機樹脂粒子はこれに限定されるものではない。Below, organic resin particles having a hydrophilic surface will be described in detail using organic resin particles coated with silica (hereinafter also referred to as "silica-coated organic resin particles") as an example, but the organic resin particles having a hydrophilic surface are not limited to this.
シリカ被覆有機樹脂粒子は、有機樹脂からなる粒子をシリカで表面被覆した粒子である。コアを構成する有機樹脂粒子は、空気中の湿分や、温度によって、軟化したり、べとついたりすることがないことが好ましい。
シリカ被覆有機樹脂粒子における有機樹脂粒子を構成する有機樹脂としては、例えば、ポリアクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリエステル系樹脂、エポシキ系樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂などが挙げられる。
The silica-coated organic resin particles are particles made of an organic resin and are surface-coated with silica. It is preferable that the organic resin particles constituting the core do not soften or become sticky due to moisture in the air or temperature.
Examples of the organic resin constituting the organic resin particles in the silica-coated organic resin particles include polyacrylic resins, polyurethane resins, polystyrene resins, polyester resins, epoxy resins, phenol resins, and melamine resins.
シリカ被覆有機樹脂粒子の表面を被覆するシリカ層を形成する材料としては、アルコキシシロキサン系化合物の縮合物などのアルコキシシリル基を有する化合物、特に、シロキサン系材料、具体的には、シリカゾル、コロイダルシリカ、シリカナノ粒子などのシリカ粒子などが好ましく挙げられる。
シリカ被覆有機樹脂粒子の構成は、有機樹脂粒子表面にシリカ粒子が固体成分として付着している構成であっても、アルコキシシロキサン系化合物を縮合反応させて有機樹脂粒子表面にシロキサン系化合物層を形成した構成であってもよい。
Preferred examples of materials for forming a silica layer that covers the surface of the silica-coated organic resin particles include compounds having an alkoxysilyl group, such as condensates of alkoxysiloxane-based compounds, in particular, siloxane-based materials, specifically, silica particles such as silica sol, colloidal silica, and silica nanoparticles.
The silica-coated organic resin particles may be configured such that silica particles are attached as a solid component to the surface of the organic resin particles, or such that a siloxane-based compound layer is formed on the surface of the organic resin particles by a condensation reaction of an alkoxysiloxane-based compound.
シリカは必ずしも有機樹脂粒子表面全域を被覆している必要はなく、少なくとも有機樹脂粒子の全質量に対し、0.5質量%以上の量で表面を被覆していることが好ましい。すなわち、有機樹脂粒子の表面の少なくとも一部にシリカが存在することで、有機粒子表面における、共存する水溶性高分子、例えば、ポリビニルアルコール(PVA)との親和性の向上が達成され、外部応力を受けた場合でも粒子の脱落が抑制され、優れた耐キズ性、合紙なし積層時の剥離容易性を維持することができる。このため、「シリカ被覆」とは、このように有機樹脂粒子の表面の少なくとも一部にシリカが存在する状態をも包含するものである。
シリカの表面被覆状態は、走査型電子顕微鏡(SEM)などによる形態観察により確認することができる。また、シリカの被覆量は、蛍光X線分析などの元素分析によりSi原子を検知し、そこに存在するシリカの量を算出することで確認することができる。
Silica does not necessarily have to cover the entire surface of the organic resin particles, and it is preferable that the surface is covered with at least 0.5% by mass or more based on the total mass of the organic resin particles. That is, the presence of silica on at least a part of the surface of the organic resin particles improves the affinity of the organic particle surface with the coexisting water-soluble polymer, for example, polyvinyl alcohol (PVA), and even when subjected to external stress, the particles are prevented from falling off, and excellent scratch resistance and ease of peeling during lamination without interleaving paper can be maintained. Therefore, the term "silica coating" also includes the state in which silica is present on at least a part of the surface of the organic resin particles.
The surface coating state of silica can be confirmed by morphological observation using a scanning electron microscope (SEM) etc. The amount of silica coating can be confirmed by detecting Si atoms using elemental analysis such as fluorescent X-ray analysis and calculating the amount of silica present therein.
シリカ被覆有機樹脂粒子の製造方法は特に制限はなく、シリカ粒子あるいはシリカ前駆体化合物を、有機樹脂粒子の原料となるモノマー成分と共存させて有機樹脂粒子形成と同時にシリカ表面被覆層を形成させる方法であってもよく、また、有機樹脂粒子を形成した後、シリカ粒子を物理的に表面に付着させ、その後、固定化する方法であってもよい。There are no particular limitations on the method for producing silica-coated organic resin particles, and the method may involve making silica particles or a silica precursor compound coexist with a monomer component that is the raw material for the organic resin particles, thereby forming a silica surface coating layer at the same time as forming the organic resin particles, or it may involve forming organic resin particles, and then physically attaching silica particles to the surface, and then fixing the particles.
以下に、シリカ被覆有機樹脂粒子の製造方法の1例を挙げる。まず、ポリビニルアルコール、メチルセルロース、ポリアクリル酸などの水溶性高分子やリン酸カルシウム、炭酸カルシウムなどの無機系懸濁剤などから適宜選択される懸濁安定剤を含む水中に、シリカと、原料樹脂(より具体的には、上記有機樹脂を構成する、懸濁重合が可能なモノマー、懸濁架橋が可能なプレポリマー、又は樹脂液などの原料樹脂)とを添加、撹拌、混合して、シリカと原料樹脂とを分散させた懸濁液を調製する。その際、懸濁安定剤の種類、その濃度、撹拌回転数などを調節することにより、目的の粒径を有する懸濁液を形成することができる。次いで、この懸濁液を加温して反応を開始させ、樹脂原料を、懸濁重合又は懸濁架橋させることにより樹脂粒子を生成させる。このとき、共存するシリカが重合或いは架橋反応により硬化する樹脂粒子に、特に、その物性に起因して樹脂粒子表面近傍に、固定化される。その後、懸濁液を固液分離し、洗浄により粒子に付着している懸濁安定剤を除去し、乾燥させる。かくして、シリカが固定化された所望粒径の略球状のシリカ被覆有機樹脂粒子が得られる。An example of a method for producing silica-coated organic resin particles is given below. First, silica and raw resin (more specifically, raw resin such as a monomer capable of suspension polymerization, a prepolymer capable of suspension cross-linking, or a resin liquid that constitutes the organic resin) are added to water containing a suspension stabilizer appropriately selected from water-soluble polymers such as polyvinyl alcohol, methyl cellulose, and polyacrylic acid, and inorganic suspension agents such as calcium phosphate and calcium carbonate, and then stirred and mixed to prepare a suspension in which the silica and raw resin are dispersed. At this time, a suspension having a desired particle size can be formed by adjusting the type of suspension stabilizer, its concentration, the stirring rotation speed, etc. Next, the suspension is heated to start a reaction, and the resin raw material is suspension polymerized or suspension cross-linked to generate resin particles. At this time, the coexisting silica is fixed to the resin particles that are hardened by polymerization or cross-linking reaction, especially near the surface of the resin particles due to its physical properties. Thereafter, the suspension is separated into solid and liquid, the suspension stabilizer attached to the particles is removed by washing, and the suspension is dried. Thus, approximately spherical silica-coated organic resin particles of the desired particle size to which silica is fixed are obtained.
このように、懸濁重合又は懸濁架橋の際に条件を制御して所望の粒径のシリカ被覆有機樹脂粒子を得ることもできるし、このような制御を厳密に行うことなくシリカ被覆有機樹脂粒子を生成した後、メッシュ濾過法などにより所望の大きさのシリカ被覆有機粒子を得ることもできる。In this way, the conditions can be controlled during suspension polymerization or suspension crosslinking to obtain silica-coated organic resin particles of the desired particle size, or silica-coated organic resin particles can be produced without strict control and then subjected to mesh filtration or the like to obtain silica-coated organic particles of the desired size.
上記方法によりシリカ被覆有機粒子を製造する際の混合物における原料の添加量などについては、例えば、原料樹脂とシリカとの総量が100質量部の場合、まず、分散媒である水200~800質量部に懸濁安定剤0.1~20質量部を添加し、十分に溶解又は分散させ、その液中に、上記100質量部の原料樹脂とシリカとの混合物を投入し、分散粒子が所定の粒度になるように撹拌速度を調整しながら撹拌し、この粒度調整を行った後に液温を30~90℃に昇温し、1~8時間反応させる態様が好ましく挙げられる。Regarding the amounts of raw materials added to the mixture when producing silica-coated organic particles by the above method, for example, when the total amount of raw material resin and silica is 100 parts by mass, first, 0.1 to 20 parts by mass of a suspension stabilizer is added to 200 to 800 parts by mass of water as a dispersion medium, and thoroughly dissolved or dispersed. Then, the mixture of 100 parts by mass of raw material resin and silica is added to the liquid, and the stirring speed is adjusted so that the dispersed particles have a predetermined particle size. After this particle size adjustment, the liquid temperature is raised to 30 to 90°C, and the reaction is allowed to proceed for 1 to 8 hours.
シリカ被覆有機樹脂粒子の製造方法については、上記した方法はその1例であり、例えば、特開2002-327036号公報、特開2002-173410号公報、特開2004-307837号公報及び特開2006-38246号公報などに詳細に記載された方法により得られるシリカ被覆有機樹脂粒子も本発明に好適に使用することができる。Regarding the method for producing silica-coated organic resin particles, the above-mentioned method is one example, and silica-coated organic resin particles obtained by methods described in detail in, for example, JP-A Nos. 2002-327036, 2002-173410, 2004-307837, and 2006-38246 can also be suitably used in the present invention.
また、シリカ被覆有機樹脂粒子は市販品としても入手可能である。具体的には、シリカ/メラミン複合粒子としては、日産化学工業(株)製オプトビーズ2000M,オプトビーズ3500M、オプトビーズ6500M、オプトビーズ10500M、オプトビーズ3500S、オプトビーズ6500Sが挙げられる。シリカ/アクリル複合粒子としては、根上工業(株)製アートパールG-200透明、アートパールG-400透明、アートパールG-800透明、アートパールGR-400透明、アートパールGR-600透明、アートパールGR-800透明、アートパールJ-7Pが挙げられる。シリカ/ウレタン複合粒子としては、根上工業(株)製アートパールC-400透明、C-800透明、P-800T、U-600T、U-800T、CF-600T、CF800T、大日精化工業(株)製ダイナミックビーズCN5070D、ダンプラコートTHUが挙げられる。Silica-coated organic resin particles are also available as commercial products. Specific examples of silica/melamine composite particles include Optobeads 2000M, Optobeads 3500M, Optobeads 6500M, Optobeads 10500M, Optobeads 3500S, and Optobeads 6500S, all manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd. Examples of silica/acrylic composite particles include Art Pearl G-200 transparent, Art Pearl G-400 transparent, Art Pearl G-800 transparent, Art Pearl GR-400 transparent, Art Pearl GR-600 transparent, Art Pearl GR-800 transparent, and Art Pearl J-7P, all manufactured by Negami Chemical Industries, Ltd. Examples of the silica/urethane composite particles include Art Pearl C-400 transparent, C-800 transparent, P-800T, U-600T, U-800T, CF-600T, and CF800T, all of which are manufactured by Negami Chemical Industrial Co., Ltd.; and Dynamic Beads CN5070D and Danplacoat THU, all of which are manufactured by Dainichiseika Color & Chemicals Mfg. Co., Ltd.
以上、シリカ被覆有機樹脂粒子を例として、有機樹脂粒子について説明したが、アルミナ、チタニア又はジルコニアで被覆された有機樹脂粒子についても、シリカの代りにアルミナ、チタニア又はジルコニアを用いることにより同様に実施することができる。 The above describes organic resin particles using silica-coated organic resin particles as an example, but the same can be done with organic resin particles coated with alumina, titania or zirconia by using alumina, titania or zirconia instead of silica.
上記粒子の形状は、真球状形状が好ましいが、平板形状又は投影図が楕円形状となるような、いわゆる紡錘形状であってもよい。The shape of the above particles is preferably spherical, but may also be flat or spindle-shaped, which has an elliptical projection.
態様1において、上記粒子の平均粒子径は、好ましくは0.5~10μm、より好ましくは0.5~5μmである。In aspect 1, the average particle size of the particles is preferably 0.5 to 10 μm, more preferably 0.5 to 5 μm.
粒子の平均粒子径は、体積平均粒径を意味し、体積平均粒径の測定は、レーザー回折・散乱式粒度分布計により測定する。具体的には、例えば、粒度分布測定装置「マイクロトラックMT-3300II」(日機装(株)製)を用いて測定する。
他の粒子についても、特に断りのない限り、上記測定方法により平均粒径を測定する。
The average particle size of the particles means the volume average particle size, and the volume average particle size is measured by a laser diffraction/scattering type particle size distribution analyzer. Specifically, for example, the particle size distribution analyzer "Microtrac MT-3300II" (manufactured by Nikkiso Co., Ltd.) is used for the measurement.
For other particles, the average particle size is measured by the above measurement method unless otherwise specified.
態様1において、平均粒子径が0.5~20μmである粒子の面内密度は10,000個/mm2以下であることが好ましい。面内密度は、より好ましくは100~5000個/mm2、更に好ましくは100~3000個/mm2である。 In the embodiment 1, the in-plane density of the particles having an average particle size of 0.5 to 20 μm is preferably 10,000 particles/mm 2 or less. The in-plane density is more preferably 100 to 5000 particles/mm 2 , and further preferably 100 to 3000 particles/mm 2 .
面内密度は、印刷用原版の表面を走査型電子顕微鏡(SEM)により観察することによって確認することができる。具体的には走査型電子顕微鏡(SEM)で印刷用原版の表面を5箇所観察して粒子の個数をカウントし、観察視野面積mm2当たりの粒子個数に変換し、その平均値を求めることにより算出することができる。 The in-plane density can be confirmed by observing the surface of the printing plate precursor with a scanning electron microscope (SEM). Specifically, the surface of the printing plate precursor is observed at five points with a scanning electron microscope (SEM), the number of particles is counted, and the number of particles is converted into the number of particles per mm2 of the observation field area, and the average value is calculated.
特定構成層を有する側とは反対側における最外層は、平均粒子径が0.5~20μmである粒子に加えて、バインダーを含むことが好ましい。
バインダーとしては、フェノールホルムアルデヒド樹脂、m-クレゾールホルムアルデヒド樹脂、p-クレゾールホルムアルデヒド樹脂、m-/p-混合クレゾールホルムアルデヒド樹脂、フェノール/クレゾール(m-,p-,又はm-/p-混合のいずれでもよい。)混合ホルムアルデヒド樹脂などのノボラック樹脂やレゾール樹脂、ピロガロール、アセトン樹脂、エポキシ樹脂、飽和共重合ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、塩化ビニリデン共重合樹脂、ポリブテン、ポリブタジエン、ポリアミド、不飽和共重合ポリエステル樹脂、ポリウレタン、ポリウレア、ポリイミド、ポリシロキサン、ポリカーボネート、エポキシ樹脂、塩素化ポリエチレン、アルキルフェノールのアルデヒド縮合樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリアクリル酸塩、カルボキシビニルポリマー、アクリル系樹脂共重合樹脂、ヒドロキシセルロース、ヒドロキシメチルセルロース、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、セルロースアセテート、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロースよりなる群から選択される少なくとも1種を含有することが好ましい。機上現像時に湿し水での溶解の懸念を防ぐために非水溶性の樹脂が好ましい。
The outermost layer on the side opposite to the side having the specific component layer preferably contains a binder in addition to particles having an average particle size of 0.5 to 20 μm.
Examples of the binder include novolak resins such as phenol formaldehyde resin, m-cresol formaldehyde resin, p-cresol formaldehyde resin, m-/p-mixed cresol formaldehyde resin, and phenol/cresol (m-, p-, or m-/p-mixed) mixed formaldehyde resin, resol resin, pyrogallol, acetone resin, epoxy resin, saturated copolymer polyester resin, phenoxy resin, polyvinyl acetal resin, vinylidene chloride copolymer resin, polybutene, polybutadiene, polyamide, and unsaturated copolymer polyester resin. It is preferable that the toner contains at least one selected from the group consisting of ster resin, polyurethane, polyurea, polyimide, polysiloxane, polycarbonate, epoxy resin, chlorinated polyethylene, aldehyde condensation resin of alkylphenol, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polystyrene, polyacrylate, carboxyvinyl polymer, acrylic resin copolymer resin, hydroxycellulose, hydroxymethylcellulose, polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, cellulose acetate, methylcellulose, and carboxymethylcellulose. A water-insoluble resin is preferable to prevent the risk of dissolution in dampening water during on-press development.
また、上記バインダーとしては、ポリウレタン、アクリル樹脂、ポリスチレン及びポリエチレンよりなる群から選ばれた少なくとも1種を含むことが好ましい。
また、上記態様1において、上記粒子及び上記バインダーがそれぞれ独立に、ポリウレタン、アクリル樹脂、ポリスチレン及びポリエチレンよりなる群から選ばれた少なくとも1種を含むことが好ましい。
The binder preferably contains at least one selected from the group consisting of polyurethane, acrylic resin, polystyrene, and polyethylene.
In the above-mentioned embodiment 1, it is preferable that the particles and the binder each independently include at least one selected from the group consisting of polyurethane, acrylic resin, polystyrene, and polyethylene.
特定構成層を有する側とは反対側における最外層は、上記粒子及びバインダー以外に他の成分を含んでもよい。他の成分としては、公知の添加剤が挙げられ、例えば、界面活性剤などが挙げられる。The outermost layer on the side opposite to the side having the specific component layer may contain other components in addition to the above particles and binder. Examples of other components include known additives, such as surfactants.
特定構成層を有する側とは反対側における最外層の厚さは、好ましくは0.5~10μm、より好ましくは0.5~5μm、更に好ましくは0.5~3μmである。The thickness of the outermost layer on the side opposite to the side having the specific component layer is preferably 0.5 to 10 μm, more preferably 0.5 to 5 μm, and even more preferably 0.5 to 3 μm.
態様2における高分子化合物を主成分として含む複数の突起物を構成する高分子化合物としては、フェノールホルムアルデヒド樹脂、m-クレゾールホルムアルデヒド樹脂、p-クレゾールホルムアルデヒド樹脂、m-/p-混合クレゾールホルムアルデヒド樹脂、フェノール/クレゾール(m-,p-,又はm-/p-混合のいずれでもよい)混合ホルムアルデヒド樹脂などのノボラック樹脂やレゾール樹脂、ピロガロールアセトン樹脂、エポキシ樹脂、飽和共重合ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、塩化ビニリデン共重合樹脂、ポリブテン、ポリブタジエン、ポリアミド、不飽和共重合ポリエステル樹脂、ポリウレタン、ポリウレア、ポリイミド、ポリシロキサン、ポリカーボネート、エポキシ樹脂、塩素化ポリエチレン、アルキルフェノールのアルデヒド縮合樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリアクリル酸塩、カルボキシビニルポリマー、アクリル系樹脂共重合樹脂、ヒドロキシセルロース、ヒドロキシメチルセルロース、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、セルロースアセテート、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロースよりなる群から選択される少なくとも1種の高分子化合物が好ましい。Examples of the polymer compound constituting the multiple protrusions containing the polymer compound in aspect 2 as a main component include novolak resins such as phenol formaldehyde resin, m-cresol formaldehyde resin, p-cresol formaldehyde resin, m-/p-mixed cresol formaldehyde resin, and phenol/cresol (m-, p-, or m-/p-mixed) mixed formaldehyde resin, resol resin, pyrogallol acetone resin, epoxy resin, saturated copolymer polyester resin, phenoxy resin, polyvinyl acetal resin, vinylidene chloride copolymer resin, polybutene, and polybutadiene. At least one polymer compound selected from the group consisting of polyamide, unsaturated copolymer polyester resin, polyurethane, polyurea, polyimide, polysiloxane, polycarbonate, epoxy resin, chlorinated polyethylene, aldehyde condensation resin of alkylphenol, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polystyrene, polyacrylate, carboxyvinyl polymer, acrylic resin copolymer resin, hydroxycellulose, hydroxymethylcellulose, polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, cellulose acetate, methylcellulose, and carboxymethylcellulose is preferred.
中でも、脱離した突起物が画像記録層に移動した場合であっても現像性に優れる観点から、水溶性高分子がより好ましい。具体的に、例えば、ポリアクリル酸塩、カルボキシビニルポリマー、アクリル系樹脂共重合樹脂、ヒドロキシセルロース、ヒドロキシメチルセルロース、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、セルロースアセテート、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロースなどが挙げられる。
変性ポリビニルアルコールとしては、カルボキシ基又はスルホ基を有する酸変性ポリビニルアルコールが好ましく用いられる。具体的には、特開2005-250216号公報及び特開2006-259137号公報に記載の変性ポリビニルアルコールが好適である。
Among them, water-soluble polymers are more preferable from the viewpoint of excellent developability even if the detached protrusions move to the image recording layer.Specific examples thereof include polyacrylates, carboxyvinyl polymers, acrylic resin copolymer resins, hydroxycellulose, hydroxymethylcellulose, polyvinyl alcohol, modified polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, cellulose acetate, methylcellulose, and carboxymethylcellulose.
The modified polyvinyl alcohol is preferably an acid-modified polyvinyl alcohol having a carboxy group or a sulfo group, specifically, the modified polyvinyl alcohols described in JP-A-2005-250216 and JP-A-2006-259137.
突起物の形状及び高さは、特に制限はないが、算術平均高さSaが0.3~20μmであることが好ましい。
ストライプ状の突起物(ストライプ塗膜)を形成する方法としては、特に制限はないが、バー塗布方式、インクジェット印刷方式、グラビア印刷方式、スクリーン印刷方式、スプレー塗布方式、及び、スロットダイ塗布方式よりなる群から選ばれる少なくとも1種の方式によって粒子及び高分子化合物よりなる群から選ばれた少なくとも1種を含む組成物を塗布し容易に形成することができる。
ドット状の突起物(ドット塗膜)を形成する方法としては、特に制限はないが、スプレー塗布方式、インクジェット印刷方式、及びスクリーン印刷方式よりなる群から選ばれる少なくとも1種の方式によって粒子及び高分子化合物よりなる群から選ばれた少なくとも1種を含む組成物を塗布し容易に形成することができる。
破線状の突起物(破線塗膜)を形成する方法としては、特に制限はないが、インクジェット印刷方式、及びスクリーン印刷方式よりなる群から選ばれる少なくとも1種の方式によって粒子及び高分子化合物よりなる群から選ばれた少なくとも1種を含む組成物を塗布し容易に形成することができる。
The shape and height of the protrusions are not particularly limited, but it is preferable that the arithmetic mean height Sa is 0.3 to 20 μm.
The method for forming the striped protrusions (striped coating film) is not particularly limited, and the striped protrusions can be easily formed by applying a composition containing at least one selected from the group consisting of particles and polymer compounds by at least one method selected from the group consisting of a bar coating method, an inkjet printing method, a gravure printing method, a screen printing method, a spray coating method, and a slot die coating method.
The method for forming the dot-shaped protrusions (dot coating film) is not particularly limited, but they can be easily formed by applying a composition containing at least one selected from the group consisting of particles and polymer compounds by at least one method selected from the group consisting of a spray application method, an inkjet printing method, and a screen printing method.
The method for forming the dashed line-shaped protrusions (dashed line coating film) is not particularly limited, but they can be easily formed by applying a composition containing at least one selected from the group consisting of particles and polymer compounds by at least one method selected from the group consisting of an inkjet printing method and a screen printing method.
態様2における最外層に含まれるバインダーとしては、上記突起物に含まれる高分子化合物と同様の高分子化合物が挙げられ、好ましい態様も同様である。
態様2において、突起物の脱離を防ぐ観点からは、最外層に含まれるバインダーと、突起物に含まれる高分子化合物とが、同種の樹脂を含むことが好ましい。ここで、樹脂が同種であるとは、ポリウレタン、アクリル樹脂、ポリスチレン、ポリエチレンといった樹脂種が同種であることを意味し、樹脂中のすべての構成単位が同一であることを要しない。
The binder contained in the outermost layer in embodiment 2 may be the same polymer compound as the polymer compound contained in the protrusions, and the same applies to preferred embodiments.
In aspect 2, from the viewpoint of preventing detachment of the protrusions, it is preferable that the binder contained in the outermost layer and the polymer compound contained in the protrusions contain the same type of resin. Here, the resin being the same type means that the resin type, such as polyurethane, acrylic resin, polystyrene, or polyethylene, is the same, and it is not necessary that all of the structural units in the resin are the same.
[印刷版の作製方法]
本発明に係る印刷版の作製方法を、本発明に係る印刷用原版である平版印刷版原版を用いて説明する。印刷版の作製方法は、平版印刷版原版を画像露光する工程(露光工程)、及び、画像露光後の平版印刷版原版を印刷機上で印刷インキ及び湿し水の少なくとも一方により、画像記録層の未露光部を除去する工程(機上現像工程)を含む。
[Method of making a printing plate]
The method for producing a printing plate according to the present invention will be described using a lithographic printing plate precursor which is a printing plate precursor according to the present invention. The method for producing a printing plate includes a step of exposing the lithographic printing plate precursor to light (exposure step), and a step of removing the unexposed part of the image recording layer of the lithographic printing plate precursor after the image exposure on a printing press with at least one of printing ink and fountain solution (on-press development step).
〔露光工程〕
画像露光は、デジタルデータを赤外線レーザーなどにより走査露光する方法により行うことが好ましい。
露光光源の波長は、750~1,400nmが好ましく用いられる。750~1,400nmの波長を有する光源としては、赤外線を放射する固体レーザー及び半導体レーザーが好適である。露光機構は内面ドラム方式、外面ドラム方式、フラットベッド方式などのいずれでもよい。
露光工程はプレートセッターなどにより公知の方法で行うことができる。また、露光装置を備えた印刷機を用いて、平版印刷版原版を印刷機に装着した後、印刷機上で画像露光を行ってもよい。
[Exposure process]
Image exposure is preferably carried out by a method in which digital data is scanned and exposed with an infrared laser or the like.
The wavelength of the exposure light source is preferably 750 to 1,400 nm. As a light source having a wavelength of 750 to 1,400 nm, a solid-state laser or semiconductor laser that emits infrared light is suitable. The exposure mechanism may be any of an internal drum type, an external drum type, a flatbed type, etc.
The exposure step can be carried out by a known method using a plate setter, etc. Alternatively, after the lithographic printing plate precursor is mounted on a printing press equipped with an exposure device, image exposure may be carried out on the printing press.
〔機上現像工程〕
機上現像工程においては、画像露光後の平版印刷版原版に何らの現像処理を施すことなく、印刷機上において印刷インキ及び湿し水を供給して印刷を開始すると、印刷途上の初期の段階で平版印刷版原版の未露光部分が除去され、それに伴って親水性支持体表面が露出し非画像部が形成される。印刷インキ及び湿し水としては、公知の平版印刷用の印刷インキ及び湿し水が用いられる。最初に印刷版原版表面に供給されるのは、印刷インキでも湿し水でもよいが、湿し水が除去された画像記録層成分によって汚染されることを防止する点で、最初に印刷インキを供給することが好ましい。
このようにして、平版印刷版原版はオフセット印刷機上で機上現像され、そのまま多数枚の印刷に用いられる。
[On-press development process]
In the on-press development step, when printing is started by supplying printing ink and fountain solution on the printing press without carrying out any development treatment on the lithographic printing plate precursor after image exposure, the unexposed parts of the lithographic printing plate precursor are removed at an early stage during printing, and the surface of the hydrophilic support is exposed, forming non-image parts. As the printing ink and fountain solution, known printing inks and fountain solutions for lithographic printing are used. Either the printing ink or the fountain solution may be supplied first to the surface of the printing plate precursor, but it is preferable to supply the printing ink first in order to prevent the fountain solution from being contaminated by the removed image recording layer components.
In this manner, the lithographic printing plate precursor is developed on-machine on an offset printing press and is used as is for printing a large number of sheets.
本発明に係る印刷版の作製方法は、上記工程以外に、公知の他の工程を含んでいてもよい。他の工程としては、例えば、各工程の前に印刷用原版の位置や向きなどを確認する検版工程や、機上現像工程の後に、印刷画像を確認する確認工程などが挙げられる。The method for producing a printing plate according to the present invention may include other known steps in addition to the steps described above. Examples of other steps include a plate inspection step for checking the position and orientation of the printing plate before each step, and a confirmation step for checking the printed image after the on-press development step.
[印刷方法]
本発明に係る印刷方法を、本発明に係る印刷用原版である捨て版原版を用いて説明する。印刷方法は、捨て版原版に印刷機上で印刷インキ及び湿し水の少なくとも一方により、非感光性層を除去して捨て版を作製する工程、並びに、作成された捨て版を用いて印刷を実施する工程を含む。
捨て版を作製する工程は、上記機上現像工程と同様に行うことができる。
[Printing method]
The printing method according to the present invention will be described using a throwaway plate as a printing plate precursor according to the present invention. The printing method includes a step of removing the non-photosensitive layer from the throwaway plate precursor on a printing press with at least one of printing ink and dampening water to prepare a throwaway plate, and a step of carrying out printing using the prepared throwaway plate.
The step of preparing the throwaway plate can be carried out in the same manner as the on-press development step described above.
以下、実施例により本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。実施例において、「%」、「部」とは、特に断りのない限り、それぞれ「質量%」、「質量部」を意味する。高分子化合物において、特別に規定したもの以外は、分子量は質量平均分子量(Mw)であり、構成繰り返し単位の比率はモル百分率である。質量平均分子量(Mw)は、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)法によるポリスチレン換算値として測定した値である。The present invention will be described in detail below with reference to examples, but the present invention is not limited thereto. In the examples, "%" and "parts" mean "% by mass" and "parts by mass", respectively, unless otherwise specified. In polymer compounds, unless otherwise specified, the molecular weight is the mass average molecular weight (Mw), and the ratio of the repeating units is the molar percentage. The mass average molecular weight (Mw) is a value measured as a polystyrene equivalent value by gel permeation chromatography (GPC) method.
〔実施例1~49及び、比較例1~6〕 [Examples 1 to 49 and Comparative Examples 1 to 6]
<支持体1の作製>
厚さ0.3mmの材質1Sのアルミニウム板(アルミニウム合金板)に対し、下記(J-a)~(J-m)の処理を施し、支持体1を製造した。なお、全ての処理工程の間には水洗処理を施し、水洗処理の後にはニップローラで液切りを行った。
<Preparation of Support 1>
An aluminum plate (aluminum alloy plate) of material 1S having a thickness of 0.3 mm was subjected to the following treatments (Ja) to (Jm) to manufacture a support 1. Note that a water washing treatment was performed between all treatment steps, and after the water washing treatment, the liquid was removed with a nip roller.
(J-a)機械的粗面化処理(ブラシグレイン法)
図5に示したような装置を使って、パミスの懸濁液(比重1.1g/cm3)を研磨スラリー液としてアルミニウム板の表面に供給しながら、回転する束植ブラシにより機械的粗面化処理を行った。図5において、31はアルミニウム板、32及び34はローラ状ブラシ(本実施例においては、束植ブラシ)、33は研磨スラリー液、35、36、37及び38は支持ローラである。
機械的粗面化処理では、研磨材のメジアン径(μm)を30μm、ブラシ本数を4本、ブラシの回転数(rpm)を250rpmとした。束植ブラシの材質は6・10ナイロンで、ブラシ毛の直径0.3mm、毛長50mmであった。ブラシは、φ300mmのステンレス製の筒に穴をあけて密になるように植毛した。束植ブラシ下部の2本の支持ローラ(φ200mm)の距離は、300mmであった。束植ブラシはブラシを回転させる駆動モータの負荷が、束植ブラシをアルミニウム板に押さえつける前の負荷に対して10kWプラスになるまで押さえつけた。ブラシの回転方向はアルミニウム板の移動方向と同じであった。
(J-a) Mechanical Roughening Treatment (Brush Grain Method)
Using an apparatus as shown in Fig. 5, a mechanical roughening treatment was performed by a rotating bundled brush while supplying a suspension of pumice (specific gravity 1.1 g/ cm3 ) as an abrasive slurry to the surface of an aluminum plate. In Fig. 5, 31 is an aluminum plate, 32 and 34 are roller-shaped brushes (bundled brushes in this embodiment), 33 is an abrasive slurry, and 35, 36, 37 and 38 are supporting rollers.
In the mechanical roughening treatment, the median diameter (μm) of the abrasive was 30 μm, the number of brushes was 4, and the rotation speed (rpm) of the brush was 250 rpm. The material of the bundled brush was 6-10 nylon, with a brush bristles diameter of 0.3 mm and bristles length of 50 mm. The brush was densely planted in a stainless steel cylinder with a diameter of φ300 mm. The distance between the two support rollers (φ200 mm) at the bottom of the bundled brush was 300 mm. The bundled brush was pressed down until the load of the drive motor rotating the brush was 10 kW more than the load before pressing the bundled brush against the aluminum plate. The rotation direction of the brush was the same as the movement direction of the aluminum plate.
(J-b)アルカリエッチング処理
アルミニウム板に、カセイソーダ濃度26質量%及びアルミニウムイオン濃度6.5質量%のカセイソーダ水溶液を、温度70℃でスプレーにより吹き付けてエッチング処理を行った。後に電気化学的粗面化処理を施す面のアルミニウム溶解量は、10g/m2であった。
(J-b) Alkaline Etching Treatment An etching treatment was performed by spraying an aqueous solution of caustic soda having a caustic soda concentration of 26% by mass and an aluminum ion concentration of 6.5% by mass onto an aluminum plate at a temperature of 70° C. The amount of aluminum dissolved on the surface to be subsequently subjected to electrochemical graining treatment was 10 g/ m2 .
(J-c)酸性水溶液を用いたデスマット処理
酸性水溶液として、液温35℃の次工程の電気化学的粗面化処理に用いた硝酸の廃液をアルミニウム板にスプレーにて3秒間吹き付けて、デスマット処理を行った。
(J-c) Desmutting Treatment Using Acidic Aqueous Solution A desmutting treatment was performed by spraying, as an acidic aqueous solution, a waste solution of nitric acid used in the subsequent electrochemical graining treatment at a liquid temperature of 35° C. onto the aluminum plate for 3 seconds.
(J-d)硝酸水溶液を用いた電気化学的粗面化処理
60Hzの交流電圧を用いて、連続的に電気化学的粗面化処理を行った。電解液は、硝酸10.4g/Lの水溶液に硝酸アルミニウムを添加してアルミニウムイオン濃度を4.5g/Lに調整した、液温35℃の電解液を用いた。交流電源波形は図1に示した波形であり、電流値がゼロからピークに達するまでの時間tpが0.8msec、duty比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電解槽は図2に示すものを使用した。電流密度は電流のピーク値で30A/dm2、補助陽極には電源から流れる電流の5%を分流させた。電気量(C/dm2)はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で185C/dm2であった。
(J-d) Electrochemical roughening treatment using nitric acid aqueous solution Electrochemical roughening treatment was performed continuously using an AC voltage of 60 Hz. The electrolyte used was an electrolyte with a liquid temperature of 35°C, which was prepared by adding aluminum nitrate to an aqueous solution of nitric acid 10.4 g/L to adjust the aluminum ion concentration to 4.5 g/L. The AC power source waveform was the waveform shown in Figure 1, and the time tp from zero to the peak current was 0.8 msec, the duty ratio was 1:1, and a trapezoidal rectangular wave AC was used to perform electrochemical roughening treatment using a carbon electrode as a counter electrode. Ferrite was used as the auxiliary anode. The electrolytic cell shown in Figure 2 was used. The current density was 30 A/dm 2 at the peak current value, and 5% of the current flowing from the power source was diverted to the auxiliary anode. The amount of electricity (C/dm 2 ) was 185 C/dm 2 , which was the total amount of electricity when the aluminum plate was the anode.
(J-e)アルカリエッチング処理
アルミニウム板に、カセイソーダ濃度27質量%及びアルミニウムイオン濃度2.5質量%のカセイソーダ水溶液を、温度50℃でスプレーにより吹き付けてエッチング処理を行った。アルミニウム溶解量は、3.5g/m2であった。
(J-e) Alkaline Etching Treatment An etching treatment was performed by spraying an aqueous solution of caustic soda having a caustic soda concentration of 27% by mass and an aluminum ion concentration of 2.5% by mass onto an aluminum plate at a temperature of 50° C. The amount of dissolved aluminum was 3.5 g/m 2 .
(J-f)酸性水溶液を用いたデスマット処理
酸性水溶液として、液温30℃の硫酸濃度170g/L及びアルミニウムイオン濃度5g/Lの水溶液をアルミニウム板にスプレーにて3秒間吹き付けて、デスマット処理を行った。
(J-f) Desmutting Treatment Using Acidic Aqueous Solution An acidic aqueous solution having a sulfuric acid concentration of 170 g/L and an aluminum ion concentration of 5 g/L and a liquid temperature of 30° C. was sprayed onto the aluminum plate for 3 seconds to perform a desmutting treatment.
(J-g)塩酸水溶液を用いた電気化学的粗面化処理
60Hzの交流電圧を用いて、連続的に電気化学的粗面化処理を行った。電解液は、塩酸6.2g/Lの水溶液に塩化アルミニウムを添加してアルミニウムイオン濃度を4.5g/Lに調整した、液温35℃の電解液を用いた。交流電源波形は図1に示した波形であり、電流値がゼロからピークに達するまでの時間tpが0.8msec、duty比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電解槽は図2に示すものを使用した。電流密度は電流のピーク値で25A/dm2であり、塩酸電解における電気量(C/dm2)はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で63C/dm2であった。
(J-g) Electrochemical roughening treatment using hydrochloric acid solution Electrochemical roughening treatment was performed continuously using an AC voltage of 60 Hz. The electrolyte used was an electrolyte with a liquid temperature of 35°C, which was prepared by adding aluminum chloride to an aqueous solution of 6.2 g/L hydrochloric acid to adjust the aluminum ion concentration to 4.5 g/L. The AC power source waveform was the waveform shown in Figure 1, and the time tp from zero to the peak was 0.8 msec, the duty ratio was 1:1, and a trapezoidal rectangular wave AC was used to perform electrochemical roughening treatment using a carbon electrode as a counter electrode. Ferrite was used as the auxiliary anode. The electrolytic cell shown in Figure 2 was used. The current density was 25 A/dm 2 at the peak value of the current, and the amount of electricity (C/dm 2 ) in hydrochloric acid electrolysis was 63 C/dm 2 as the total amount of electricity when the aluminum plate was the anode.
(J-h)アルカリエッチング処理
アルミニウム板に、カセイソーダ濃度5質量%及びアルミニウムイオン濃度0.5質量%のカセイソーダ水溶液を、温度60℃でスプレーにより吹き付けてエッチング処理を行った。アルミニウム溶解量は、0.2g/m2であった。
(J-h) Alkaline Etching Treatment An etching treatment was performed by spraying an aqueous solution of caustic soda having a caustic soda concentration of 5% by mass and an aluminum ion concentration of 0.5% by mass onto an aluminum plate at a temperature of 60° C. The amount of dissolved aluminum was 0.2 g/ m2 .
(J-i)酸性水溶液を用いたデスマット処理
酸性水溶液として、液温35℃の陽極酸化処理工程で発生した廃液(硫酸濃度170g/L及びアルミニウムイオン濃度5g/L)の水溶液をアルミニウム板にスプレーにて4秒間吹き付けて、デスマット処理を行った。
(J-i) Desmutting treatment using an acidic aqueous solution An aqueous solution of waste liquid (sulfuric acid concentration 170 g/L and aluminum ion concentration 5 g/L) generated in an anodizing treatment process at a liquid temperature of 35° C. was sprayed onto the aluminum plate for 4 seconds to perform a desmutting treatment.
(J-j)第1段階の陽極酸化処理
図6に示す構造の直流電解による陽極酸化装置を用いて第1段階の陽極酸化処理を行った。電解液として170g/L硫酸水溶液を用い、液温50℃、電流密度30A/dm2の条件にて陽極酸化処理を行い、皮膜量0.3g/m2の陽極酸化皮膜を形成した。
(J-j) First-stage anodizing treatment The first-stage anodizing treatment was performed using an anodizing apparatus using direct current electrolysis having the structure shown in Fig. 6. Anodizing treatment was performed using a 170 g/L aqueous sulfuric acid solution as the electrolytic solution under conditions of a solution temperature of 50°C and a current density of 30 A/ dm2 , forming an anodized film with a film weight of 0.3 g/ m2 .
(J-k)ポアワイド処理
陽極酸化処理したアルミニウム板を、カセイソーダ濃度5質量%及びアルミニウムイオン濃度0.5質量%のカセイソーダ水溶液に、40℃で3秒間浸漬し、ポアワイド処理を行った。
(Jk) Pore Widening Treatment The anodized aluminum plate was immersed in an aqueous solution of caustic soda having a caustic soda concentration of 5 mass % and an aluminum ion concentration of 0.5 mass % at 40° C. for 3 seconds to perform a pore widening treatment.
(J-l)第2段階の陽極酸化処理
図6に示す構造の直流電解による陽極酸化装置を用いて第2段階の陽極酸化処理を行った。電解液として170g/L硫酸水溶液を用い、液温50℃、電流密度13A/dm2の条件にて陽極酸化処理を行い、皮膜量2.1g/m2の陽極酸化皮膜を形成した。
(J-l) Second-stage anodizing treatment The second-stage anodizing treatment was performed using an anodizing apparatus using direct current electrolysis having the structure shown in Fig. 6. Anodizing treatment was performed using a 170 g/L aqueous sulfuric acid solution as the electrolytic solution under conditions of a solution temperature of 50°C and a current density of 13 A/ dm2 , forming an anodized film with a film weight of 2.1 g/ m2 .
(J-m)親水化処理
非画像部の親水性を確保するため、アルミニウム板を、2.5質量%3号ケイ酸ソーダ水溶液に50℃で7秒間浸漬してシリケート処理を施した。Siの付着量は8.5mg/m2であった。マイクロポアの平均径は30nmであった。
支持体1の陽極酸化皮膜表面のL*a*b*表色系における明度L*の値は72.3であった。
(J-m) Hydrophilization Treatment In order to ensure hydrophilicity of non-image areas, the aluminum plate was subjected to a silicate treatment by immersing it in a 2.5% by mass aqueous solution of sodium silicate No. 3 at 50°C for 7 seconds. The amount of Si attached was 8.5 mg/ m2 . The average diameter of the micropores was 30 nm.
The anodic oxide film surface of Support 1 had a lightness L* value of 72.3 in the L*a*b* color system.
<支持体2の作製>
厚さ0.3mmの材質1Sのアルミニウム板(アルミニウム合金版)に対し、下記(F-a)~(F-g)の処理を施し、支持体2を作製した。なお、全ての処理工程の間には水洗処理を施し、水洗処理の後にはニップローラで液切りを行った。
<Preparation of Support 2>
An aluminum plate (aluminum alloy plate) having a thickness of 0.3 mm and made of material 1S was subjected to the following treatments (F-a) to (F-g) to produce a support 2. Note that a water washing treatment was performed between all treatment steps, and after the water washing treatment, the liquid was removed with a nip roller.
(F-a)アルカリエッチング処理
アルミニウム板に、カセイソーダ濃度26質量%及びアルミニウムイオン濃度6.5質量%のカセイソーダ水溶液を、温度70℃でスプレーにより吹き付けてエッチング処理を行った。後に電気化学的粗面化処理を施す面のアルミニウム溶解量は、5g/m2であった。
(F-a) Alkaline Etching Treatment An etching treatment was performed by spraying an aqueous solution of caustic soda having a caustic soda concentration of 26% by mass and an aluminum ion concentration of 6.5% by mass onto an aluminum plate at a temperature of 70° C. The amount of aluminum dissolved on the surface to be subsequently subjected to electrochemical graining treatment was 5 g/ m2 .
(F-b)酸性水溶液を用いたデスマット処理
酸性水溶液として、液温30℃の硫酸濃度150g/Lの水溶液をアルミニウム板にスプレーにて3秒間吹き付けて、デスマット処理を行った。
(Fb) Desmutting Treatment Using Acidic Aqueous Solution As the acidic aqueous solution, an aqueous solution having a sulfuric acid concentration of 150 g/L and a liquid temperature of 30° C. was sprayed onto the aluminum plate for 3 seconds to perform a desmutting treatment.
(F-c)電気化学的粗面化処理
塩酸濃度14g/L、アルミニウムイオン濃度13g/L、及び、硫酸濃度3g/Lの電解液を用い、交流電流を用いて電気化学的粗面化処理を行った。電解液の液温は30℃であった。アルミニウムイオン濃度は塩化アルミニウムを添加して調整した。
交流電流の波形は正と負の波形が対称な正弦波であり、周波数は50Hz、交流電流1周期におけるアノード反応時間とカソード反応時間は1:1、電流密度は交流電流波形のピーク電流値で75A/dm2であった。また、電気量はアルミニウム板がアノード反応に預かる電気量の総和で450C/dm2であり、電解処理は112.5C/dm2ずつ4秒間の通電間隔を空けて4回に分けて行った。アルミニウム板の対極にはカーボン電極を用いた。
(F-c) Electrochemical graining treatment Electrochemical graining treatment was performed using an electrolytic solution with a hydrochloric acid concentration of 14 g/L, an aluminum ion concentration of 13 g/L, and a sulfuric acid concentration of 3 g/L, and an alternating current. The temperature of the electrolytic solution was 30° C. The aluminum ion concentration was adjusted by adding aluminum chloride.
The AC current waveform was a sine wave with symmetrical positive and negative waveforms, the frequency was 50 Hz, the anode reaction time and cathode reaction time in one AC current cycle were 1:1, and the current density was 75 A/ dm2 at the peak current value of the AC current waveform. The total amount of electricity that the aluminum plate was responsible for the anode reaction was 450 C/ dm2 , and the electrolysis was performed in four separate sessions of 112.5 C/dm2 with a current application interval of 4 seconds. A carbon electrode was used as the counter electrode of the aluminum plate.
(F-d)アルカリエッチング処理
アルミニウム板に、カセイソーダ濃度5質量%及びアルミニウムイオン濃度0.5質量%のカセイソーダ水溶液を、温度45℃でスプレーにより吹き付けてエッチング処理を行った。電気化学的粗面化処理が施された面のアルミニウムの溶解量は0.2g/m2であった。
(F-d) Alkaline Etching Treatment An etching treatment was performed by spraying an aqueous solution of caustic soda with a caustic soda concentration of 5% by mass and an aluminum ion concentration of 0.5% by mass onto an aluminum plate at a temperature of 45° C. The amount of aluminum dissolved on the surface that had been subjected to the electrochemical graining treatment was 0.2 g/ m2 .
(F-e)酸性水溶液を用いたデスマット処理
酸性水溶液として、液温35℃の硫酸濃度170g/L及びアルミニウムイオン濃度5g/Lの水溶液をアルミニウム板にスプレーにて3秒間吹き付けてデスマット処理を行った。
(Fe) Desmutting Treatment Using Acidic Aqueous Solution An acidic aqueous solution having a sulfuric acid concentration of 170 g/L and an aluminum ion concentration of 5 g/L and a liquid temperature of 35° C. was sprayed onto the aluminum plate for 3 seconds to perform a desmutting treatment.
(F-f)第1段階の陽極酸化処理
図6に示す構造の直流電解による陽極酸化装置を用いて第1段階の陽極酸化処理を行った。電解液として150g/Lリン酸水溶液を用い、液温35℃、電流密度4.5A/dm2の条件にて陽極酸化処理を行い、皮膜量1g/m2の陽極酸化皮膜を形成した。
(F-f) First-stage anodizing treatment The first-stage anodizing treatment was performed using an anodizing apparatus using direct current electrolysis having the structure shown in Fig. 6. Anodizing treatment was performed using a 150 g/L phosphoric acid aqueous solution as the electrolytic solution under conditions of a solution temperature of 35°C and a current density of 4.5 A/ dm2 , forming an anodized film with a film weight of 1 g/ m2 .
(F-g)第2段階の陽極酸化処理
図6に示す構造の直流電解による陽極酸化装置を用いて第2段階の陽極酸化処理を行った。電解液として170g/L硫酸水溶液を用い、液温50℃、電流密度13A/dm2の条件にて陽極酸化処理を行い、皮膜量2.1g/m2の陽極酸化皮膜を形成した。その後、スプレーによる水洗を行った。支持体2のマイクロポアの平均径は40nmであった。
支持体2の陽極酸化皮膜表面のL*a*b*表色系における明度L*の値は83.7であった。
(F-g) Second-stage anodizing treatment The second-stage anodizing treatment was performed using an anodizing apparatus using direct current electrolysis with the structure shown in FIG. 6. Anodizing treatment was performed using a 170 g/L aqueous sulfuric acid solution as the electrolytic solution under conditions of a solution temperature of 50° C. and a current density of 13 A/dm 2 , forming an anodized film with a film weight of 2.1 g/m 2. Thereafter, washing with water was performed by spraying. The average diameter of the micropores in the support 2 was 40 nm.
The anodic oxide film surface of Support 2 had a lightness L* value of 83.7 in the L*a*b* color system.
<支持体3の作製>
厚さ0.19mmの材質1Sのアルミニウム板(アルミニウム合金板)を40g/Lの水酸化ナトリウム水溶液中に60℃で8秒間浸漬することにより脱脂し、脱塩水により2秒間洗浄した。アルミニウム板を、15秒間交流を用いて12g/Lの塩酸及び38g/Lの硫酸アルミニウム(18水和物)を含有する水溶液中で、33℃の温度及び130A/dm2の電流密度で電気化学的粗面化処理を行った。脱塩水により2秒間洗浄した後、アルミニウム板を155g/Lの硫酸水溶液により70℃で4秒間エッチングすることによりデスマット処理し、脱塩水により25℃で2秒間洗浄した。アルミニウム板を13秒間155g/Lの硫酸水溶液中で、45℃の温度及び22A/dm2の電流密度で陽極酸化処理し、脱塩水で2秒間洗浄した。更に、4g/Lのポリビニルホスホン酸水溶液を用いて40℃で10秒間処理し、脱塩水により20℃で2秒間洗浄し、乾燥して支持体3を作製した。支持体3は、表面粗さRaが0.21μmで、陽極酸化皮膜量は4g/m2であった。支持体3のマイクロポアの平均径は7nmであった。
支持体3の陽極酸化皮膜表面のL*a*b*表色系における明度L*の値は73.5であった。
<Preparation of Support 3>
An aluminum plate (aluminum alloy plate) of material 1S having a thickness of 0.19 mm was degreased by immersing in a 40 g/L aqueous sodium hydroxide solution at 60° C. for 8 seconds, and then washed with demineralized water for 2 seconds. The aluminum plate was electrochemically roughened in an aqueous solution containing 12 g/L hydrochloric acid and 38 g/L aluminum sulfate (18-hydrate) using an alternating current for 15 seconds at a temperature of 33° C. and a current density of 130 A/dm 2. After washing with demineralized water for 2 seconds, the aluminum plate was desmutted by etching with a 155 g/L aqueous sulfuric acid solution at 70° C. for 4 seconds, and then washed with demineralized water at 25° C. for 2 seconds. The aluminum plate was anodized in a 155 g/L aqueous sulfuric acid solution for 13 seconds at a temperature of 45° C. and a current density of 22 A/dm 2 , and then washed with demineralized water for 2 seconds. The substrate was then treated with a 4 g/L aqueous solution of polyvinyl phosphonic acid at 40° C. for 10 seconds, washed with desalted water at 20° C. for 2 seconds, and dried to produce Support 3. Support 3 had a surface roughness Ra of 0.21 μm and an anodized film weight of 4 g/ m2 . The average diameter of micropores in Support 3 was 7 nm.
The anodic oxide film surface of Support 3 had a lightness L* value of 73.5 in the L*a*b* color system.
<支持体4の作製>
厚さ0.3mmの材質1Sのアルミニウム板(アルミニウム合金板)に対し、下記(A-a)~(A-g)の処理を施し、支持体4を作製した。なお、全ての処理工程の間には水洗処理を施し、水洗処理の後にはニップローラで液切りを行った。
<Preparation of Support 4>
A 0.3 mm-thick aluminum plate (aluminum alloy plate) made of 1S material was subjected to the following treatments (A-a) to (A-g) to prepare a support 4. Note that a water-rinsing treatment was performed between all treatment steps, and after the water-rinsing treatment, the liquid was removed with a nip roller.
(A-a)アルカリエッチング処理
アルミニウム板に、カセイソーダ濃度26質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%、温度70℃の水溶液をスプレーにから吹き付けてエッチング処理を行った。アルミニウム板の後に電気化学的粗面化処理を施す面のエッチング量は、5g/m2であった。
(A-a) Alkaline Etching Treatment An etching treatment was performed by spraying an aqueous solution having a caustic soda concentration of 26% by mass, an aluminum ion concentration of 6.5% by mass, and a temperature of 70° C. onto an aluminum plate. The amount of etching on the surface of the aluminum plate that was subsequently subjected to electrochemical graining treatment was 5 g/ m2 .
(A-b)酸性水溶液を用いたデスマット処理
酸性水溶液として、液温30℃の硫酸濃度150g/Lの水溶液をアルミニウム板にスプレーにて3秒間吹き付けて、デスマット処理を行った。
(Ab) Desmutting Treatment Using Acidic Aqueous Solution As the acidic aqueous solution, an aqueous solution having a sulfuric acid concentration of 150 g/L and a liquid temperature of 30° C. was sprayed onto the aluminum plate for 3 seconds to carry out a desmutting treatment.
(A-c)塩酸水溶液を用いた電気化学的粗面化処理
塩酸濃度14g/L、アルミニウムイオン濃度13g/L、及び、硫酸濃度3g/Lの電解液を用い、交流電流を用いて電気化学的粗面化処理を行った。電解液の液温は30℃であった。アルミニウムイオン濃度は塩化アルミニウムを添加して調整した。
交流電流の波形は正と負の波形が対称な正弦波であり、周波数は50Hz、交流電流1周期におけるアノード反応時間とカソード反応時間は1:1、電流密度は交流電流波形のピーク電流値で75A/dm2であった。また、電気量はアルミニウム板がアノード反応に預かる電気量の総和で450C/dm2であり、電解処理は112.5C/dm2ずつ4秒間の通電間隔を空けて4回に分けて行った。アルミニウム板の対極にはカーボン電極を用いた。
(Ac) Electrochemical graining treatment using hydrochloric acid solution Electrochemical graining treatment was performed using an electrolytic solution with a hydrochloric acid concentration of 14 g/L, an aluminum ion concentration of 13 g/L, and a sulfuric acid concentration of 3 g/L, and an alternating current. The temperature of the electrolytic solution was 30° C. The aluminum ion concentration was adjusted by adding aluminum chloride.
The AC current waveform was a sine wave with symmetrical positive and negative waveforms, the frequency was 50 Hz, the anode reaction time and cathode reaction time in one AC current cycle were 1:1, and the current density was 75 A/ dm2 at the peak current value of the AC current waveform. The total amount of electricity that the aluminum plate was responsible for the anode reaction was 450 C/ dm2 , and the electrolysis was performed in four separate sessions of 112.5 C/dm2 with a current application interval of 4 seconds. A carbon electrode was used as the counter electrode of the aluminum plate.
(A-d)アルカリエッチング処理
アルミニウム板に、カセイソーダ濃度5質量%、アルミニウムイオン濃度0.5質量%、温度45℃の水溶液をスプレーにより吹き付けてエッチング処理を行った。アルミニウム板の電気化学的粗面化処理を施した面のエッチング量は、0.2g/m2であった。
(A-d) Alkaline Etching Treatment An etching treatment was performed by spraying an aqueous solution having a caustic soda concentration of 5 mass% and an aluminum ion concentration of 0.5 mass% at a temperature of 45° C. onto an aluminum plate. The amount of etching on the surface of the aluminum plate that had been subjected to the electrochemical graining treatment was 0.2 g/ m2 .
(A-e)酸性水溶液を用いたデスマット処理
酸性水溶液として、液温30℃の陽極酸化処理工程で発生した廃液(硫酸濃度170g/L及びアルミニウムイオン濃度5g/Lの水溶液)をアルミニウム板にスプレーにて3秒間吹き付けて、デスマット処理を行った。
(A-e) Desmutting treatment using an acidic aqueous solution A waste liquid generated in an anodizing treatment process at a liquid temperature of 30°C (an aqueous solution having a sulfuric acid concentration of 170 g/L and an aluminum ion concentration of 5 g/L) was sprayed onto the aluminum plate for 3 seconds as an acidic aqueous solution, thereby carrying out a desmutting treatment.
(A-f)陽極酸化処理
図6に示す構造の直流電解による陽極酸化装置を用いて陽極酸化処理を行った。電解液として170g/L硫酸水溶液を用い、液温50℃、電流密度30A/dm2の条件にて陽極酸化処理を行い、皮膜量2.4g/m2の陽極酸化皮膜を形成した。
図6に示す陽極酸化処理装置410において、アルミニウム板416は、図6中矢印で示すように搬送される。電解液418が貯溜された給電槽412にてアルミニウム板416は給電電極420によって(+)に荷電される。そして、アルミニウム板416は、給電槽412においてローラ422によって上方に搬送され、ニップローラ424によって下方に方向変換された後、電解液426が貯溜された電解処理槽414に向けて搬送され、ローラ428によって水平方向に方向転換される。ついで、アルミニウム板416は、電解電極430によって(-)に荷電されることにより、その表面に陽極酸化皮膜が形成され、電解処理槽414を出たアルミニウム板416は後工程に搬送される。上記陽極酸化処理装置410において、ローラ422、ニップローラ424及びローラ428によって方向転換手段が構成され、アルミニウム板416は、給電槽412と電解処理槽414との槽間部において、上記ローラ422、424及び428により、山型及び逆U字型に搬送される。給電電極420と電解電極430とは、直流電源434に接続されている。
(A-f) Anodizing treatment was performed using an anodizing device using direct current electrolysis with the structure shown in Fig. 6. Anodizing treatment was performed using a 170 g/L aqueous sulfuric acid solution as the electrolytic solution under conditions of a solution temperature of 50°C and a current density of 30 A/ dm2 , forming an anodized film with a film weight of 2.4 g/ m2 .
In an
(A-g)ポアワイド処理
陽極酸化処理したアルミニウム板を、カセイソーダ濃度5質量%及びアルミニウムイオン濃度0.5質量%のカセイソーダ水溶液に、40℃で3秒間浸漬してポアワイド処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。マイクロポアの平均径は30nmであった。
支持体4の陽極酸化皮膜表面のL*a*b*表色系における明度L*の値は81.4であった。
(A-g) Pore widening treatment The anodized aluminum plate was immersed in an aqueous solution of caustic soda with a caustic soda concentration of 5% by mass and an aluminum ion concentration of 0.5% by mass at 40° C. for 3 seconds to perform a pore widening treatment. Then, the plate was washed with water by spraying. The average diameter of the micropores was 30 nm.
The luminosity L* value of the anodized film surface of Support 4 in the L*a*b* color system was 81.4.
<下塗り層1の形成>
支持体上に、下記組成の下塗り層塗布液(1)を乾燥塗布量が26mg/m2になるよう塗布して、下塗り層1を形成した。
<Formation of Undercoat Layer 1>
An undercoat layer 1 was formed on the support by coating an undercoat layer coating solution (1) having the following composition so that the dry coating amount was 26 mg/ m2 .
(下塗り層塗布液(1))
・下塗り層用化合物(2)(下記構造) 0.13部
・ヒドロキシエチルイミノ二酢酸 0.05部
・エチレンジアミン四酢酸四ナトリウム 0.05部
・ポリオキシエチレンラウリルエーテル 0.03部
・水 61.39部
(Undercoat Layer Coating Solution (1))
Undercoat layer compound (2) (structure shown below) 0.13 parts Hydroxyethyliminodiacetic acid 0.05 parts Tetrasodium ethylenediaminetetraacetate 0.05 parts Polyoxyethylene lauryl ether 0.03 parts Water 61.39 parts
上記下塗り層用化合物(2)における各構成単位の括弧の右下の数値は、質量比を表し、エチレンオキシ単位の括弧の右下の数値は、繰り返し数を表す。The numbers in the parentheses to the right of each structural unit in the above undercoat layer compound (2) represent the mass ratio, and the numbers in the parentheses to the right of the ethyleneoxy units represent the repeating number.
<下塗り層2の形成>
支持体上に、下記組成の下塗り層塗布液(2)を乾燥塗布量が93mg/m2になるよう塗布して、下塗り層2を形成した。
<Formation of Undercoat Layer 2>
An undercoat layer 2 was formed on the support by coating an undercoat layer coating solution (2) having the following composition so that the dry coating amount was 93 mg/m 2 .
(下塗り層塗布液(2))
・特定ヒドロキシ酸化合物 0.90部
・ポリオキシエチレンラウリルエーテル 0.03部
・水 61.39部
(Undercoat Layer Coating Solution (2))
Specific hydroxy acid compound 0.90 parts Polyoxyethylene lauryl ether 0.03 parts Water 61.39 parts
<下塗り層3の形成>
支持体上に、下記組成の下塗り層塗布液(3)を乾燥塗布量が11mg/m2になるよう塗布して、下塗り層3を形成した。
<Formation of Undercoat Layer 3>
An undercoat layer 3 was formed on the support by coating an undercoat layer coating solution (3) having the following composition so as to give a dry coating amount of 11 mg/ m2 .
(下塗り層塗布液(3))
・下塗り層用化合物(3)(下記構造) 0.13部
・ポリオキシエチレンラウリルエーテル 0.03部
・水 61.39部
(Undercoat Layer Coating Solution (3))
Undercoat layer compound (3) (structure shown below) 0.13 parts Polyoxyethylene lauryl ether 0.03 parts Water 61.39 parts
<画像記録層1の形成>
下記組成の画像記録層塗布液(1)をバー塗布し、100℃で60秒間オーブン乾燥し、厚さ1.2μmの画像記録層1を形成した。
画像記録層塗布液(1)は下記感光液(1)及びミクロゲル液(1)を塗布直前に混合し撹拌することにより得た。
<Formation of Image Recording Layer 1>
An image recording layer coating solution (1) having the following composition was applied with a bar and dried in an oven at 100° C. for 60 seconds to form an image recording layer 1 having a thickness of 1.2 μm.
The image recording layer coating solution (1) was obtained by mixing and stirring the following photosensitive solution (1) and microgel solution (1) immediately before coating.
(感光液(1))
・バインダーポリマー(6) 23質量%1-メトキシ-2-プロパノール溶液(下記構造)
0.2891部
・バインダーポリマー(7) 23質量%1-メトキシ-2-プロパノール溶液(下記構造)
0.4574部
・赤外線吸収剤(1)(下記構造) 0.0278部
・ボレート化合物(1)(テトラフェニルホウ酸ナトリウム)
0.015部
・重合開始剤(1)(下記構造) 0.2348部
・重合性化合物(1)(トリス(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、NKエステルA-9300 40% 2-ブタノン溶液、新中村化学工業(株))製)
0.2875部
・低分子親水性化合物(1)(トリス(2-ヒドロキシエチル)イソシアヌレート
0.0287部
・低分子親水性化合物(2)(トリメチルグリシン)
0.0147部
・アニオン性界面活性剤1 30質量%水溶液(下記構造) 0.25部
・紫外線吸収剤(1)(TINUVIN405、BASF(株)社製)(下記構造)
0.04部
・フッ素系界面活性剤(1)(下記構造) 0.004部
・ホスホニウム化合物(1)(下記構造) 0.020部
・2-ブタノン 5.346部
・1-メトキシ-2-プロパノール 3.128部
・メタノール 0.964部
・純水 0.036部
(Photosensitive solution (1))
Binder polymer (6) 23% by mass solution in 1-methoxy-2-propanol (structure below)
0.2891 parts of binder polymer (7) 23% by weight 1-methoxy-2-propanol solution (structure below)
0.4574 parts of infrared absorbing agent (1) (structure shown below) 0.0278 parts of borate compound (1) (sodium tetraphenylborate)
0.015 parts of polymerization initiator (1) (structure shown below) 0.2348 parts of polymerizable compound (1) (tris(acryloyloxyethyl)isocyanurate, NK Ester A-9300 40% 2-butanone solution, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
0.2875 parts of low molecular weight hydrophilic compound (1) (tris(2-hydroxyethyl)isocyanurate
0.0287 parts of low molecular weight hydrophilic compound (2) (trimethylglycine)
0.0147 parts of
0.04 parts fluorine-based surfactant (1) (structure below) 0.004 parts phosphonium compound (1) (structure below) 0.020 parts 2-butanone 5.346 parts 1-methoxy-2-propanol 3.128 parts methanol 0.964 parts pure water 0.036 parts
(ミクロゲル液(1))
・ミクロゲル(1)(固形分濃度21.8質量%) 2.243部
・1-メトキシ-2-プロパノール 0.600部
(Microgel Liquid (1))
Microgel (1) (solid content concentration 21.8% by mass) 2.243 parts 1-methoxy-2-propanol 0.600 parts
(ミクロゲル(1)の作製)
上記ミクロゲル液に用いたミクロゲル(1)の調製法を以下に示す。
(Preparation of Microgel (1))
The method for preparing the microgel (1) used in the above microgel solution is described below.
<多価イソシアネート化合物(1)の調製>
イソホロンジイソシアネート17.78部(80モル当量)と下記多価フェノール化合物(1)7.35部(20モル当量)との酢酸エチル(25.31部)懸濁溶液に、ビスマストリス(2-エチルヘキサノエート)(ネオスタン U-600、日東化成(株)製)0.043部を加えて撹拌した。発熱が収まった時点で反応温度を50℃に設定し、3時間撹拌して多価イソシアネート化合物(1)の酢酸エチル溶液(50質量%)を得た。
<Preparation of polyisocyanate compound (1)>
To a suspension of 17.78 parts (80 molar equivalents) of isophorone diisocyanate and 7.35 parts (20 molar equivalents) of the following polyhydric phenol compound (1) in ethyl acetate (25.31 parts), 0.043 parts of bismuth tris(2-ethylhexanoate) (Neostan U-600, manufactured by Nitto Kasei Co., Ltd.) was added and stirred. When the heat generation subsided, the reaction temperature was set to 50° C., and the mixture was stirred for 3 hours to obtain an ethyl acetate solution (50% by mass) of the polyhydric isocyanate compound (1).
<ミクロゲル(1)の調製>
下記油相成分及び水相成分を混合し、ホモジナイザーを用いて12,000rpmで10分間乳化した。得られた乳化物を45℃で4時間撹拌後、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ-7-エン-オクチル酸塩(U-CAT SA102、サンアプロ(株)製)の10質量%水溶液5.20部を加え、室温で30分撹拌し、45℃で24時間静置した。蒸留水で、固形分濃度を21.8質量%になるように調整し、ミクロゲル(4)の水分散液を得た。動的光散乱式粒径分布測定装置LB-500((株)堀場製作所製)を用いて、光散乱法により体積平均粒径を測定したところ、0.28μmであった。
<Preparation of Microgel (1)>
The following oil phase components and water phase components were mixed and emulsified for 10 minutes at 12,000 rpm using a homogenizer. The resulting emulsion was stirred at 45°C for 4 hours, and then 5.20 parts of a 10% by mass aqueous solution of 1,8-diazabicyclo[5.4.0]undec-7-ene-octylate (U-CAT SA102, manufactured by San-Apro Co., Ltd.) was added, stirred at room temperature for 30 minutes, and allowed to stand at 45°C for 24 hours. The solid content was adjusted to 21.8% by mass with distilled water to obtain an aqueous dispersion of microgel (4). The volume average particle size was measured by a light scattering method using a dynamic light scattering particle size distribution measuring device LB-500 (manufactured by Horiba, Ltd.), and was found to be 0.28 μm.
(油相成分)
(成分1)酢酸エチル 12.0部
(成分2)トリメチロールプロパン(6モル)とキシレンジイソシアネート(18モル)を付加させ、これにメチル片末端ポリオキシエチレン(1モル、オキシエチレン単位の繰返し数:90)を付加させた付加体(50質量%酢酸エチル溶液、三井化学(株)製)
3.76部
(成分3)多価イソシアネート化合物(1)(50質量%酢酸エチル溶液として)
15.0部
(成分4)ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(SR-399、サートマー社製)の65質量%酢酸エチル溶液 11.54部
(成分5)スルホン酸塩型界面活性剤(パイオニンA-41-C、竹本油脂(株)製)の10%酢酸エチル溶液 4.42部
(Oily Phase Components)
(Component 1) Ethyl acetate 12.0 parts (Component 2) An adduct obtained by adding trimethylolpropane (6 moles) and xylene diisocyanate (18 moles) to which polyoxyethylene (1 mole, number of repeating oxyethylene units: 90) terminated with methyl at one end (50% by weight solution in ethyl acetate, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.)
3.76 parts (Component 3) Polyisocyanate compound (1) (as a 50% by weight solution in ethyl acetate)
15.0 parts (Component 4) 65% by weight solution of dipentaerythritol pentaacrylate (SR-399, manufactured by Sartomer Co., Ltd.) in ethyl acetate 11.54 parts (Component 5) 10% solution of sulfonate-type surfactant (Paionin A-41-C, manufactured by Takemoto Oil Co., Ltd.) in ethyl acetate 4.42 parts
(水相成分)
蒸留水 46.87部
(Aqueous Phase Components)
Distilled water 46.87 parts
<バインダーポリマー(6)の合成>
三口フラスコに、1-メトキシ-2-プロパノール:78.0gを秤取り、窒素気流下、70℃に加熱した。この反応容器に、ブレンマーPME-100(メトキシジエチレングリコールモノメタクリレート、日本油脂(株)製):52.1g、メチルメタクリレート:21.8g、メタクリル酸:14.2g、ヘキサキス(3-メルカプトプロピオン酸)ジペンタエリスリトール:2.15g、V-601(2,2’-アゾビス(イソ酪酸)ジメチル、和光純薬工業(株)製):0.38g、1-メトキシ-2-プロパノール:54gからなる混合溶液を2時間30分かけて滴下した。滴下終了後、80℃に昇温し、更に2時間反応を続けた。V-601:0.04g、1-メトキシ-2-プロパノール:4gから成る混合溶液を加え、90℃に昇温して2.5時間反応を続けた。反応終了後、室温まで反応液を冷却した。
上記の反応溶液に1-メトキシ-2-プロパノール:137.2g、4-ヒドロキシテトラメチルピペリジン-N-オキシド:0.24g、グリシジルメタクリレート:26.0g、テトラエチルアンモニウムブロミド:3.0gを加えてよく撹拌した後、90℃にて加熱した。
18時間後、室温(25℃)まで反応溶液を冷却した後、1-メトキシ-2-プロパノール:99.4gを加えて希釈した。
こうして得られたバインダーポリマー(6)は、固形分濃度:23質量%、GPCで測定したポリスチレン換算質量平均分子量は3.5万であった。
<Synthesis of binder polymer (6)>
78.0 g of 1-methoxy-2-propanol was weighed into a three-neck flask and heated to 70 ° C. under a nitrogen gas flow. A mixed solution consisting of 52.1 g of Blenmer PME-100 (methoxydiethylene glycol monomethacrylate, manufactured by Nippon Oil & Fats Co., Ltd.), 21.8 g of methyl methacrylate, 14.2 g of methacrylic acid, 2.15 g of hexakis (3-mercaptopropionic acid) dipentaerythritol, 0.38 g of V-601 (2,2'-azobis (isobutyric acid) dimethyl, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), and 54 g of 1-methoxy-2-propanol was added dropwise to this reaction vessel over 2 hours and 30 minutes. After completion of the dropwise addition, the temperature was raised to 80 ° C., and the reaction was continued for another 2 hours. A mixed solution consisting of 0.04 g of V-601 and 4 g of 1-methoxy-2-propanol was added, and the temperature was raised to 90° C., and the reaction was continued for 2.5 hours. After the reaction was completed, the reaction solution was cooled to room temperature.
To the above reaction solution, 137.2 g of 1-methoxy-2-propanol, 0.24 g of 4-hydroxytetramethylpiperidine-N-oxide, 26.0 g of glycidyl methacrylate, and 3.0 g of tetraethylammonium bromide were added and thoroughly stirred, and then heated at 90°C.
After 18 hours, the reaction solution was cooled to room temperature (25° C.) and then diluted with 99.4 g of 1-methoxy-2-propanol.
The binder polymer (6) thus obtained had a solid content concentration of 23% by mass and a polystyrene-equivalent weight average molecular weight of 35,000 as measured by GPC.
<バインダーポリマー(7)の合成>
三口フラスコに、1-メトキシ-2-プロパノール:78.00gを秤取り、窒素気流下、70℃に加熱した。この反応容器に、ブレンマーPME-100(メトキシジエチレングリコールモノメタクリレート、日本油脂(株)製):52.8g、メチルメタクリレート:2.8g、メタクリル酸:25.0g、ヘキサキス(3-メルカプトプロピオン酸)ジペンタエリスリトール:6.4g、V-601(2,2’-アゾビス(イソ酪酸)ジメチル、和光純薬工業(株)製):1.1g、1-メトキシ-2-プロパノール:55gからなる混合溶液を2時間30分かけて滴下した。滴下終了後、80℃に昇温し、更に2時間反応を続けた。2時間後、V-601:0.11g、1-メトキシ-2-プロパノール:1gから成る混合溶液を加え、90℃に昇温して2.5時間反応を続けた。反応終了後、室温まで反応液を冷却した。
上記の反応溶液に1-メトキシ-2-プロパノール:177.2g、4-ヒドロキシテトラメチルピペリジン-N-オキシド:0.28g、グリシジルメタクリレート:46.0g、テトラブチルアンモニウムブロミド:3.4gを加えてよく撹拌した後、90℃にて加熱した。
18時間後、室温(25℃)まで反応溶液を冷却した後、4-メトキシフェノールを0.06g、1-メトキシ-2-プロパノール:114.5gを加えて希釈した。
こうして得られたバインダーポリマー(7)は、固形分濃度:23質量%、GPCで測定したポリスチレン換算重量平均分子量は1.5万であった。
<Synthesis of binder polymer (7)>
78.00 g of 1-methoxy-2-propanol was weighed into a three-neck flask and heated to 70 ° C. under a nitrogen gas flow. A mixed solution consisting of 52.8 g of Blenmer PME-100 (methoxydiethylene glycol monomethacrylate, manufactured by Nippon Oil & Fats Co., Ltd.), 2.8 g of methyl methacrylate, 25.0 g of methacrylic acid, 6.4 g of hexakis (3-mercaptopropionic acid) dipentaerythritol, 1.1 g of V-601 (2,2'-azobis (isobutyric acid) dimethyl, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), and 55 g of 1-methoxy-2-propanol was added dropwise to this reaction vessel over 2 hours and 30 minutes. After completion of the dropwise addition, the temperature was raised to 80 ° C., and the reaction was continued for another 2 hours. After 2 hours, a mixed solution consisting of 0.11 g of V-601 and 1 g of 1-methoxy-2-propanol was added, and the temperature was raised to 90° C., and the reaction was continued for 2.5 hours. After the reaction was completed, the reaction solution was cooled to room temperature.
To the above reaction solution, 177.2 g of 1-methoxy-2-propanol, 0.28 g of 4-hydroxytetramethylpiperidine-N-oxide, 46.0 g of glycidyl methacrylate, and 3.4 g of tetrabutylammonium bromide were added and thoroughly stirred, and then heated at 90°C.
After 18 hours, the reaction solution was cooled to room temperature (25° C.) and then diluted with 0.06 g of 4-methoxyphenol and 114.5 g of 1-methoxy-2-propanol.
The binder polymer (7) thus obtained had a solid content concentration of 23% by mass and a weight average molecular weight of 15,000 in terms of polystyrene measured by GPC.
<画像記録層2の形成>
下記組成の画像記録層塗布液(2)をバー塗布した後、70℃で60秒間オーブン乾燥し、厚さ0.6μmの画像記録層2を形成した。
<Formation of Image Recording Layer 2>
An image recording layer coating solution (2) having the following composition was applied with a bar and then dried in an oven at 70° C. for 60 seconds to form an image recording layer 2 having a thickness of 0.6 μm.
(画像記録層塗布液(2))
・重合性化合物1*1 0.15部
・重合性化合物2*2 0.1部
・グラフトコポリマー2*3 0.825部
・Klucel M*4 0.020部
・Irgacure250*5 0.032部
・赤外線吸収剤1(下記構造) 0.02部
・テトラフェニルホウ酸ナトリウム 0.03部
・Byk 336*6 0.015部
・Black-XV*7 0.04部
・n-プロパノール 7.470部
・水 1.868部
*1:UA510H(共栄社化学(株)製、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとヘキサメチレンジイソシアネートの反応物)
*2:ATM-4E(新中村化学工業(株)製、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート)
*3:グラフトコポリマー2は、ポリ(エチレングリコール)メチルエーテルメタクリレート/スチレン/アクリロニトリル=10:9:81のグラフトコポリマーのポリマー粒子であり、これを、n-プロパノール/水の質量比が80/20である溶媒中に、24質量%含有している分散体である。また、その体積平均粒径は193nmである。
*4:Klucel Mは、Hercules社製から入手可能なヒドロキシプロピルセルロースを意味する。
*5:Irgacure 250は、75%プロピレンカーボネート溶液として、Ciba specialty Chemicals社から入手可能なヨードニウム塩であり、そしてヨードニウム,(4-メチルフェニル)[4-(2-メチルプロピル)フェニル],-ヘキサフルオロホスフェートを有する。
*6:Byk 336は、25%キシレン/メトキシプロピルアセテート溶液中の、Byk Chemie社から入手可能な改質ジメチルポリシロキサンコポリマーである。
*7:Black-XV(下記化合物、山本化成(株)製)
(Image Recording Layer Coating Solution (2))
Polymerizable compound 1 * 1 0.15 parts Polymerizable compound 2 * 2 0.1 parts Graft copolymer 2 * 3 0.825 parts Klucel M * 4 0.020 parts Irgacure 250 * 5 0.032 parts Infrared absorber 1 (structure below) 0.02 parts Sodium tetraphenylborate 0.03 parts Byk 336 * 6 0.015 parts Black-XV * 7 0.04 parts n-propanol 7.470 parts Water 1.868 parts * 1: UA510H (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., a reaction product of dipentaerythritol pentaacrylate and hexamethylene diisocyanate)
*2: ATM-4E (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., ethoxylated pentaerythritol tetraacrylate)
*3: Graft copolymer 2 is a polymer particle of a graft copolymer of poly(ethylene glycol) methyl ether methacrylate/styrene/acrylonitrile=10:9:81, which is a dispersion containing 24% by mass in a solvent of n-propanol/water having a mass ratio of 80/20. The volume average particle size is 193 nm.
*4: Klucel M refers to hydroxypropyl cellulose available from Hercules.
*5: Irgacure 250 is an iodonium salt available from Ciba speciality Chemicals as a 75% propylene carbonate solution and has the structure iodonium, (4-methylphenyl) [4- (2-methylpropyl) phenyl], -hexafluorophosphate.
*6: Byk 336 is a modified dimethylpolysiloxane copolymer available from Byk Chemie in a 25% xylene/methoxypropyl acetate solution.
*7: Black-XV (the following compound, manufactured by Yamamoto Chemical Industry Co., Ltd.)
<画像記録層3の形成>
記熱可塑性ポリマー粒子、赤外線吸収剤及びポリアクリル酸を含有する画像記録層水系塗布液を調製し、pHを3.6に調整した後、支持体上に塗布し、50℃で1分間乾燥して画像記録層3を形成した。各成分の乾燥後の塗布量を以下に示す。
<Formation of Image Recording Layer 3>
An aqueous coating solution for the image recording layer containing the thermoplastic polymer particles, the infrared absorbing agent and polyacrylic acid was prepared, the pH of which was adjusted to 3.6, and then the solution was coated on a support and dried at 50° C. for 1 minute to form an image recording layer 3. The coating amounts of each component after drying are shown below.
・熱可塑性ポリマー粒子 0.7g/m2
・赤外線吸収剤 IR-01 1.20×10-4g/m2
・ポリアクリル酸 0.09g/m2
Thermoplastic polymer particles 0.7 g/ m2
Infrared absorber IR-01 1.20× 10-4 g/ m2
Polyacrylic acid 0.09 g / m2
画像記録層塗布液に用いた熱可塑性ポリマー粒子、赤外線吸収剤IR-01、ポリアクリル酸は以下に示す通りである。The thermoplastic polymer particles, infrared absorber IR-01, and polyacrylic acid used in the image recording layer coating liquid are as shown below.
熱可塑性ポリマー粒子:スチレン/アクリロニトリル共重合体(モル比50/50)、Tg:99℃、体積平均粒子径:60nm
赤外線吸収剤IR-01:下記構造の赤外線吸収剤
Thermoplastic polymer particles: styrene/acrylonitrile copolymer (
Infrared absorbent IR-01: an infrared absorbent having the following structure
ポリアクリル酸 Mw:250,000Polyacrylic acid Mw: 250,000
<画像記録層4の形成>
下記組成の画像記録層塗布液(4)をバー塗布し、100℃で60秒間オーブン乾燥し、厚さ0.6μmの画像記録層4を形成した。
<Formation of Image Recording Layer 4>
An image recording layer coating solution (4) having the following composition was applied with a bar and dried in an oven at 100° C. for 60 seconds to form an image recording layer 4 having a thickness of 0.6 μm.
(画像記録層塗布液(4))
・赤外線吸収剤4(下記構造) 0.030部
・重合開始剤I(下記構造) 0.032部
・重合性化合物(1) A-9300(新中村化学(株)製)(下記構造)
0.05部
・重合性化合物(2) A-DPH(新中村化学(株)製)(下記構造)
0.05部
・バインダーポリマー3(下記) 0.825部
・界面活性剤 BYK306(Byk Chemie社製)
0.008部
・1-メトキシ-2-プロパノール 8.609部
・メチルエチルケトン 1.091部
(Image Recording Layer Coating Solution (4))
Infrared absorber 4 (structure below) 0.030 parts Polymerization initiator I (structure below) 0.032 parts Polymerizable compound (1) A-9300 (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) (structure below)
0.05 parts of polymerizable compound (2) A-DPH (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) (structure shown below)
0.05 parts of binder polymer 3 (see below) 0.825 parts of surfactant BYK306 (manufactured by Byk Chemie)
0.008 parts 1-methoxy-2-propanol 8.609 parts methyl ethyl ketone 1.091 parts
(バインダーポリマー3の合成)
三口フラスコに、メチルエチルケトン300gを入れ、窒素気流下、80℃に加熱した。この反応容器に、下記化合物1:50.0g、下記化合物2:30.0g、下記化合物3:20.0g、AIBN(アゾビスイソブチロニトリル)0.7g、メチルエチルケトン100gからなる混合溶液を30分かけて滴下した。滴下終了後、更に7.5時間反応を続けた。その後、AIBN0.3gを加え、更に12時間反応を続けた。反応終了後、室温まで反応液を冷却しバインダーポリマー3を得た。得られたバインダーポリマー3の質量平均分子量は75,000であった。
(Synthesis of Binder Polymer 3)
300 g of methyl ethyl ketone was placed in a three-neck flask and heated to 80° C. under a nitrogen stream. A mixed solution consisting of 50.0 g of the following compound 1, 30.0 g of the following compound 2, 20.0 g of the following compound 3, 0.7 g of AIBN (azobisisobutyronitrile), and 100 g of methyl ethyl ketone was added dropwise to this reaction vessel over 30 minutes. After the dropwise addition was completed, the reaction was continued for another 7.5 hours. Then, 0.3 g of AIBN was added, and the reaction was continued for another 12 hours. After the reaction was completed, the reaction solution was cooled to room temperature to obtain binder polymer 3. The weight average molecular weight of the obtained binder polymer 3 was 75,000.
<画像記録層5の形成>
下記組成の画像記録層塗布液(5)をバー塗布し、70℃で60秒間オーブン乾燥し、厚さ0.6μmの画像記録層5を形成した。
<Formation of Image Recording Layer 5>
An image recording layer coating solution (5) having the following composition was applied with a bar and dried in an oven at 70° C. for 60 seconds to form an image recording layer 5 having a thickness of 0.6 μm.
(画像記録層塗布液(5))
上記画像記録層塗布液(2)に、アートパールJ-6PF(平均粒子径:4μm)(高架橋アクリル樹脂、根上工業(株)製)を0.093部追加して調製した。
(Image Recording Layer Coating Solution (5))
To the above image recording layer coating solution (2), 0.093 parts of Art Pearl J-6PF (average particle size: 4 μm) (highly crosslinked acrylic resin, manufactured by Negami Chemical Industries, Ltd.) was added to prepare an image recording layer coating solution.
<非感光性層6の形成>
下記組成の非感光性層塗布液(6)をバー塗布し、100℃で60秒間オーブン乾燥し、厚さ0.05μmの非感光性層6を形成した。
<Formation of Non-Photosensitive Layer 6>
A non-photosensitive layer coating solution (6) having the following composition was applied with a bar and dried in an oven at 100° C. for 60 seconds to form a non-photosensitive layer 6 having a thickness of 0.05 μm.
(非感光性層塗布液(6))
・ノニオン性界面活性剤1(下記構造) 0.02部
・着色剤(OIL YELLOW 105、オリエント化学工業(株))
0.015部
・メチルエチルケトン 5.587部
・1-メトキシ-2-プロパノール 3.725部
・メタノール 3.104部
(Non-photosensitive layer coating solution (6))
Nonionic surfactant 1 (structure shown below) 0.02 parts Colorant (OIL YELLOW 105, Orient Chemical Industries Co., Ltd.)
0.015 parts methyl ethyl ketone 5.587 parts 1-methoxy-2-propanol 3.725 parts methanol 3.104 parts
<保護層1の形成>
下記組成の保護層塗布液(1)をバー塗布し、120℃で60秒間オーブン乾燥して厚さ0.18μmの保護層1を形成した。
<Formation of Protective Layer 1>
A protective layer coating solution (1) having the following composition was applied with a bar and dried in an oven at 120° C. for 60 seconds to form a protective layer 1 having a thickness of 0.18 μm.
(保護層塗布液(1))
・無機層状化合物分散液(1)(下記) 2.212部
・ポリビニルアルコール(ゴーセランL-3266、日本合成化学工業(株)製、スルホン酸変性、けん化度85モル%)6質量%水溶液
1.440部
・界面活性剤(パイオニンA-32-B(下記)、竹本油脂(株)製)40質量%水溶液)
0.014部
・界面活性剤(サーフィノール465(下記)、日信化学(株)製)
0.006部
・純水 3.955部
(Protective Layer Coating Solution (1))
Inorganic layered compound dispersion (1) (see below) 2.212 parts Polyvinyl alcohol (Gohselan L-3266, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., sulfonic acid modified, saponification degree 85 mol%) 6 mass % aqueous solution
1.440 parts surfactant (Paionin A-32-B (see below), Takemoto Oil Co., Ltd.) 40% by weight aqueous solution)
0.014 parts of surfactant (Surfynol 465 (see below), manufactured by Nissin Chemical Industry Co., Ltd.)
0.006 parts/Pure water 3.955 parts
(無機層状化合物分散液(1)の調製)
イオン交換水193.6部に合成雲母ソマシフME-100(コープケミカル(株)製)6.4部を添加し、ホモジナイザーを用いて体積平均粒子径(レーザー散乱法)が3μmになるまで分散して無機層状化合物分散液(1)を調製した。分散粒子のアスペクト比は100以上であった。
(Preparation of Inorganic Layered Compound Dispersion (1))
6.4 parts of synthetic mica Somasif ME-100 (manufactured by Co-op Chemical Co., Ltd.) was added to 193.6 parts of ion-exchanged water, and dispersed using a homogenizer until the volume average particle size (laser scattering method) reached 3 μm, to prepare an inorganic layered compound dispersion (1). The aspect ratio of the dispersed particles was 100 or more.
<保護層2の形成>
下記組成の保護層塗布液(2)をバー塗布し、120℃で60秒間オーブン乾燥し、厚さ0.8μmの保護層2を形成した。
<Formation of Protective Layer 2>
A protective layer coating solution (2) having the following composition was applied with a bar and dried in an oven at 120° C. for 60 seconds to form a protective layer 2 having a thickness of 0.8 μm.
(保護層塗布液(2))
・ポリビニルアルコール(ポバールPVA105、(株)クラレ製)
0.6部
・ポリエチレングリコール(PEG4000、東京化成(株)製)
0.39部
・界面活性剤(ラピゾール A-80(下記)、日油(株)製)
0.01部
・純水: 9部
(Protective Layer Coating Solution (2))
Polyvinyl alcohol (Poval PVA105, manufactured by Kuraray Co., Ltd.)
0.6 parts polyethylene glycol (PEG 4000, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
0.39 parts of surfactant (Rapisol A-80 (see below), manufactured by NOF Corp.)
0.01 part/pure water: 9 parts
<保護層3の形成>
下記組成の保護層塗布液(3)をバー塗布し、120℃で60秒間オーブン乾燥して厚さ0.5μmの保護層3を形成した。
<Formation of protective layer 3>
A protective layer coating solution (3) having the following composition was applied with a bar and dried in an oven at 120° C. for 60 seconds to form a protective layer 3 having a thickness of 0.5 μm.
(保護層用塗布液(3))
・ポリビニルアルコール(ゴーセランL-3266、日本合成化学工業(株)製、スルホン酸変性、けん化度85モル%) 0.500部
・界面活性剤(ラピゾール A-80(上記) 0.024部
・アニオン性界面活性剤1(上記) 0.333部
・純水 18.000部
(Protective Layer Coating Solution (3))
Polyvinyl alcohol (Gohselan L-3266, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., sulfonic acid modified, saponification degree 85 mol%) 0.500 parts Surfactant (Lapisol A-80 (above) 0.024 parts Anionic surfactant 1 (above) 0.333 parts Pure water 18,000 parts
〔印刷用原版の作製〕
上記支持体、下塗り層、画像記録層、非感光性層及び保護層を表Aに記載のように組み合わせて実施例1~43及び45の平版印刷版原版、実施例46~48の捨て版原版、並びに比較例1~6の平版印刷版原版を作製した。
実施例44の平版印刷版原版は、上記支持体、下塗り層、画像記録層、及び保護層を表Aに記載のように組み合わせ、更に、下記バックコート層1を形成して作製した。
実施例49の捨て版原版は、上記支持体、下塗り層、画像記録層、及び保護層を実施例46と同じ組み合わせとし、更に、下記バックコート層2を形成して作製した。
[Preparation of printing plate]
The above supports, undercoat layers, image recording layers, non-photosensitive layers and protective layers were combined as shown in Table A to prepare lithographic printing plate precursors of Examples 1 to 43 and 45, sacrificial plate precursors of Examples 46 to 48, and lithographic printing plate precursors of Comparative Examples 1 to 6.
The lithographic printing plate precursor of Example 44 was prepared by combining the above-mentioned support, undercoat layer, image recording layer and protective layer as shown in Table A, and further forming the following backcoat layer 1.
The throwaway plate master of Example 49 was prepared by using the same combination of support, undercoat layer, image recording layer and protective layer as in Example 46, and further forming the following backcoat layer 2.
<バックコート層1の形成>
支持体の特定構成層(保護層)を有する側とは反対側に、下記組成のバックコート層塗布液(1)をバー塗布し、100℃で30秒間乾燥して、厚さ1.2μmのバックコート層1を形成した。
<Formation of Backcoat Layer 1>
A backcoat layer coating solution (1) having the following composition was applied with a bar to the side of the support opposite to the side having the specific component layer (protective layer) and dried at 100° C. for 30 seconds to form a backcoat layer 1 having a thickness of 1.2 μm.
(バックコート層塗布液(1))
・アクリル樹脂(BR-605、三菱ケミカル(株)製)
11.072部
・有機化スメクタイト(スメクトン-SEN(平板粒子)、クニミネ工業(株)製) 0.500部
・アクリル粒子(アートパールJ-6PF、根上工業(株)製)
0.975部
・界面活性剤(レオドールTW-S106V(ポリオキシエチレン(6)ソルビタンモノステアレート)、花王(株)製) 0.250部
・2-ブタノン 74.123部
・1-メトキシ-2-プロパノール 8.720部
・メタノール 4.360部
(Backcoat Layer Coating Solution (1))
- Acrylic resin (BR-605, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation)
11.072 parts of organic smectite (Sumecton-SEN (tabular particles), manufactured by Kunimine Kogyo Co., Ltd.) 0.500 parts of acrylic particles (Art Pearl J-6PF, manufactured by Negami Chemical Industries Co., Ltd.)
0.975 parts surfactant (Rheodol TW-S106V (polyoxyethylene (6) sorbitan monostearate), manufactured by Kao Corporation) 0.250 parts 2-butanone 74.123 parts 1-methoxy-2-propanol 8.720 parts methanol 4.360 parts
<バックコート層2の形成>
支持体の特定構成層(保護層)を有する側とは反対側に、下記組成のバックコート層塗布液(2)をバー塗布し、100℃で30秒間乾燥して、厚さ1.2μmのバックコート層2を形成した。
<Formation of backcoat layer 2>
A backcoat layer coating solution (2) having the following composition was applied with a bar to the side of the support opposite to the side having the specific component layer (protective layer) and dried at 100° C. for 30 seconds to form a backcoat layer 2 having a thickness of 1.2 μm.
(バックコート層塗布液(2))
・アクリル樹脂(BR-73、三菱ケミカル(株)製)
11.072部
・有機化スメクタイト(スメクトン-SEN(平板粒子)、クニミネ工業(株)製) 0.500部
・アクリル粒子(アートパールJ-6PF、根上工業(株)製)
0.975部
・界面活性剤(レオドールTW-S106V(ポリオキシエチレン(6)ソルビタンモノステアレート)、花王(株)製) 0.250部
・2-ブタノン 74.123部
・1-メトキシ-2-プロパノール 8.720部
・メタノール 4.360部
(Backcoat Layer Coating Solution (2))
- Acrylic resin (BR-73, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation)
11.072 parts of organic smectite (Sumecton-SEN (tabular particles), manufactured by Kunimine Kogyo Co., Ltd.) 0.500 parts of acrylic particles (Art Pearl J-6PF, manufactured by Negami Chemical Industries Co., Ltd.)
0.975 parts surfactant (Rheodol TW-S106V (polyoxyethylene (6) sorbitan monostearate), manufactured by Kao Corporation) 0.250 parts 2-butanone 74.123 parts 1-methoxy-2-propanol 8.720 parts methanol 4.360 parts
比較例6の平版印刷版原版においては、画像記録層を塗布した後乾燥せずに、比較化合物の水溶液を、塗布装置として兵神装置(株)製2NL04を用いて塗布した。即ち、塗布装置のクリアランスを0.3mに固定し、送液量を調整することにより、表Aに記載の比較化合物の含有量となるように、端部から3cmの位置に6mmの幅で比較化合物の水溶液を塗布した。その後、100℃で60秒間オーブン乾燥した。For the lithographic printing plate precursor of Comparative Example 6, after coating the image recording layer, without drying, an aqueous solution of the comparative compound was coated using a coating device 2NL04 manufactured by Heishin Kikai Co., Ltd. That is, the clearance of the coating device was fixed at 0.3 m, and the amount of liquid sent was adjusted to coat the aqueous solution of the comparative compound in a width of 6 mm at a position 3 cm from the edge so as to obtain the content of the comparative compound shown in Table A. The plate was then oven-dried at 100°C for 60 seconds.
表Aにおいて、特定ヒドロキシ酸化合物又は比較化合物の添加層は、特定ヒドロキシ酸化合物又は比較化合物を含有する印刷用原版の構成層(下塗り層、画像記録層、非感光性層、保護層)を表す。構成層は、該当する構成層の塗布液に特定ヒドロキシ酸化合物又は比較化合物を添加して塗布液を調製し、塗布することにより形成することができる。
比較例6において、比較化合物(クエン酸)の添加量が200/0と記載されているが、これは、端部領域における比較化合物の添加量が200mg/m2、端部以外の領域における比較化合物の添加量が0mg/m2であることを示す。
In Table A, the layer to which a specific hydroxy acid compound or a comparative compound is added represents a constituent layer (undercoat layer, image recording layer, non-photosensitive layer, protective layer) of a printing plate precursor containing the specific hydroxy acid compound or the comparative compound. The constituent layer can be formed by adding the specific hydroxy acid compound or the comparative compound to a coating solution for the corresponding constituent layer to prepare a coating solution, and coating the coating solution.
In Comparative Example 6, the amount of the comparative compound (citric acid) added is described as 200/0, which indicates that the amount of the comparative compound added in the edge region is 200 mg/ m2 and the amount of the comparative compound added in the region other than the edge is 0 mg/ m2 .
実施例44の平版印刷版原版においては、バックコート層が平均粒子径4μmの樹脂粒子を含有しており、特定構成層を有する側とは反対側における最外層(バックコート層)表面の算術平均高さSaは1.8μmであった。
実施例45の平版印刷版原版においては、画像記録層が平均粒子径4μmの樹脂粒子を含有しており、特定構成層(下塗り層)を有する側における最外層(画像記録層)表面の算術平均高さSaは1.5μmであった。
実施例49の捨て版原版においては、バックコート層が平均粒子径4μmの樹脂粒子を含有しており、特定構成層を有する側とは反対側における最外層(バックコート層)表面の算術平均高さSaは1.8μmであった。
In the lithographic printing plate precursor of Example 44, the backcoat layer contained resin particles having an average particle diameter of 4 μm, and the arithmetic mean height Sa of the outermost layer (backcoat layer) surface on the side opposite to the side having the specific component layer was 1.8 μm.
In the lithographic printing plate precursor of Example 45, the image recording layer contained resin particles having an average particle diameter of 4 μm, and the arithmetic mean height Sa of the surface of the outermost layer (image recording layer) on the side having the specific component layer (undercoat layer) was 1.5 μm.
In the throwaway plate master of Example 49, the backcoat layer contained resin particles having an average particle diameter of 4 μm, and the arithmetic mean height Sa of the outermost layer (backcoat layer) surface on the side opposite to the side having the specific component layer was 1.8 μm.
<印刷用原版の裁断>
印刷用原版を、図4に示すような回転刃を用いて、上側裁断刃と下側裁断刃の隙間、噛み込み量及び刃先角度を調整して裁断し、端部にダレ形状を形成した。
比較例6の平版印刷版原版については、6mm幅の比較化合物の水溶液が塗布された領域の中心で裁断を行い、端部にダレ形状と3mm幅の比較化合物領域を有する平版印刷版原版を得た。
ダレ形状におけるダレ量X及びダレ幅Yを表Aに記載する。
<Cutting the printing plate>
The printing plate precursor was cut using a rotary blade as shown in FIG. 4, with the gap between the upper and lower cutting blades, the amount of engagement, and the blade tip angle adjusted, to form a droop shape at the edge.
The lithographic printing plate precursor of Comparative Example 6 was cut at the center of the 6 mm wide area where the aqueous solution of the comparative compound was applied, to obtain a lithographic printing plate precursor having a droop shape at the edge and a 3 mm wide area of the comparative compound.
The sagging amount X and the sagging width Y of the sagging shape are shown in Table A.
〔印刷用原版の評価〕
印刷用原版について、エッジ汚れ防止性及び端部の画像形成性を以下のように評価した。
[Evaluation of printing plate]
The printing plate precursor was evaluated for edge stain prevention and image forming properties at the edge as follows.
<エッジ汚れ防止性、経時なし>
実施例1~45及び比較例1~6の平版印刷版原版を、赤外線半導体レーザー搭載の富士フイルム(株)製Luxcel PLATESETTER T-6000IIIにて、外面ドラム回転数1,000rpm、レーザー出力70%、解像度2,400dpiの条件で露光した。露光画像にはベタ画像、50%網点、非画像部を含むチャートを用いた。
画像露光した平版印刷版原版及び実施例46~49の捨て版原版を、(株)東京機械製作所製オフセット輪転印刷機に装着し、新聞用印刷インキとして、インクテック(株)製 ソイビーKKST-S(紅)、湿し水として、東洋インキ(株)製東洋ALKYを用いて、新聞用紙に100,000枚/時のスピードで印刷し、地汚れ解消の水目盛から1.1倍の水目盛で、1,000枚目の印刷物をサンプリングし、印刷用原版の端部に起因する線状汚れの程度を下記の基準で評価した。結果を、表Aに、エッジ汚れ防止性、経時なしとして記載した。
5:全く汚れていない
4:5と3の中間レベル
3:うっすらと汚れているが許容レベル
2:3と1の中間レベル(許容レベル)
1:はっきりと汚れており非許容レベル
<Prevents edge staining over time>
The lithographic printing plate precursors of Examples 1 to 45 and Comparative Examples 1 to 6 were exposed using a Luxcel PLATESETTER T-6000III equipped with an infrared semiconductor laser manufactured by FUJIFILM Corporation under the conditions of an outer drum rotation speed of 1,000 rpm, a laser output of 70%, and a resolution of 2,400 dpi. A chart including a solid image, a 50% halftone dot, and a non-image area was used as the exposed image.
The image-exposed lithographic printing plate precursors and the throwaway plates of Examples 46 to 49 were mounted on an offset rotary printing press manufactured by Tokyo Kikai Seisakusho Co., Ltd., and printing was performed on newsprint at a speed of 100,000 sheets/hour using Soybee KKST-S (red) manufactured by Inktec Co., Ltd. as newspaper printing ink and Toyo ALKY manufactured by Toyo Ink Co., Ltd. as dampening water. The 1,000th printed sheet was sampled at a water mark 1.1 times the water mark for eliminating background staining, and the degree of linear staining caused by the edge of the printing plate precursor was evaluated according to the following criteria. The results are shown in Table A as edge stain prevention and no aging.
5: Not dirty at all 4: Intermediate level between 5 and 3 3: Slightly dirty but acceptable level 2: Intermediate level between 3 and 1 (acceptable level)
1: Clearly dirty and unacceptable
<エッジ汚れ防止性、経時後>
実施例1~49及び比較例1~6の印刷用原版を、相対湿度70%、温度25℃の環境下に10日間放置(通常の環境(相対湿度50%、温度25℃)で12ヶ月放置した場合に相当)した。その後、上記と同様にしてエッジ汚れ防止性を評価した。結果を、表Aに、エッジ汚れ防止性、経時後として記載した。
<Edge stain prevention, after aging>
The printing plate precursors of Examples 1 to 49 and Comparative Examples 1 to 6 were left for 10 days in an environment with a relative humidity of 70% and a temperature of 25° C. (corresponding to leaving them for 12 months in a normal environment (relative humidity of 50% and temperature of 25° C.)). Thereafter, the edge stain prevention property was evaluated in the same manner as above. The results are shown in Table A as edge stain prevention property after aging.
<端部の画像形成性>
上記エッジ汚れ防止性、経時なしの評価と同様にして画像露光した実施例1~45及び比較例1~6の平版印刷版原版を、(株)東京機械製作所製オフセット輪転印刷機に装着し、新聞用印刷インキとして、インクテック(株)製ソイビーKKST-S(紅)、湿し水としてサカタインクス(株)製エコセブンN-1を用い、新聞用紙に100,000枚/時のスピードで印刷し、1,000、10,000、50,000、100,000枚目の印刷物をサンプリングし、印刷用原版の端部から内側に1mmまでの領域における画像形成性を以下の基準で評価した。
5:100,000枚印刷後も画像が印刷できている。
4:50,000枚印刷後も画像が印刷できている。
3:10,000枚印刷後も画像が印刷できている。
2:1,000枚印刷後も画像が印刷できている。
1:1,000枚印刷後では画像が印刷できていない。
<Image Formability at Edges>
The lithographic printing plate precursors of Examples 1 to 45 and Comparative Examples 1 to 6, which had been image-exposed in the same manner as in the evaluation of edge stain prevention property and without aging, were mounted on an offset rotary printing press manufactured by Tokyo Kikai Seisakusho Co., Ltd., and printed on newsprint at a speed of 100,000 sheets/hour using Soybee KKST-S (red) manufactured by Inktec Corporation as the newspaper printing ink and Eco7 N-1 manufactured by Sakata Inx Corporation as the fountain solution. The 1,000th, 10,000th, 50,000th and 100,000th printed sheets were sampled, and the image formability in the region up to 1 mm inward from the edge of the printing plate precursor was evaluated according to the following criteria.
5: Images are still printed even after 100,000 copies.
4: Images are still printed even after 50,000 copies.
3: The image is still printed even after 10,000 copies.
2: The image is still printed even after 1,000 copies.
1: After printing 1,000 sheets, the image is not printed.
表Aに記載の結果から、本発明に係る特定ヒドロキシ酸化合物を含有する印刷用原版は、製造後のみならず経時後においても優れたエッジ汚れ防止性を示し、長期にわたってエッジ汚れ防止性が良好に維持されていることがわかる。これに対して、特定ヒドロキシ酸化合物以外の比較化合物を含有する比較例1-5の印刷用原版は、経時後のエッジ汚れ防止性が不良である。比較例4で用いられているクエン酸は、1つの水酸基を有するヒドロキシ酸であり、経時後のエッジ汚れ防止性が不良である。このように水酸基の数の違いにより、優れたエッジ汚れ防止性が経時後においても保たれることは、予期せざる驚くべき効果ということができる。
また、本発明に係る平版印刷版原版は、端部の画像形成性が良好であることがわかる。これに対して、比較例6の平版印刷版原版は、端部の画像形成性が不良である。この端部の画像形成性が良好であるという効果も、水酸基の数の違いに起因する予期せざる驚くべき効果ということができる。
なお、実施例1~12、14~28、30~33、37~40、44~46、49は、それぞれ参考例1~12、14~28、30~33、37~40、44~46、49に読み替えるものとする。
From the results shown in Table A, it can be seen that the printing plate precursor containing the specific hydroxy acid compound according to the present invention exhibits excellent edge stain prevention properties not only after production but also after aging, and the edge stain prevention properties are well maintained over a long period of time. In contrast, the printing plate precursors of Comparative Examples 1-5, which contain comparative compounds other than the specific hydroxy acid compound, have poor edge stain prevention properties after aging. The citric acid used in Comparative Example 4 is a hydroxy acid having one hydroxyl group, and has poor edge stain prevention properties after aging. It can be said that the fact that excellent edge stain prevention properties are maintained even after aging due to the difference in the number of hydroxyl groups in this way is an unexpected and surprising effect.
It is also seen that the lithographic printing plate precursor according to the present invention has good image forming properties at the edges. In contrast, the lithographic printing plate precursor of Comparative Example 6 has poor image forming properties at the edges. This effect of good image forming properties at the edges can also be said to be an unexpected and surprising effect caused by the difference in the number of hydroxyl groups.
In addition, Examples 1 to 12, 14 to 28, 30 to 33, 37 to 40, 44 to 46, and 49 should be read as Reference Examples 1 to 12, 14 to 28, 30 to 33, 37 to 40 , 44 to 46, and 49, respectively.
本発明によれば、製造後のみならず経時後においてもエッジ汚れが防止された機上現像型印刷用原版、機上現像型印刷用原版を用いた印刷版の作製方法、及び機上現像型印刷用原版を用いた印刷方法を提供することができる。
また、本発明によれば、端部領域における画像形成性の低下が抑制された機上現像型平版印刷版原版を提供することができる。
According to the present invention, it is possible to provide an on-press development type printing original plate in which edge contamination is prevented not only after production but also after aging, a method for making a printing plate using an on-press development type printing original plate, and a printing method using an on-press development type printing original plate.
Furthermore, according to the present invention, it is possible to provide an on-press development type lithographic printing plate precursor in which deterioration of image formability in edge regions is suppressed.
なお、本出願は、2020年1月28日出願の日本特許出願(特願2020-011914)、及び2020年6月15日出願の日本特許出願(特願2020-103357)に基づくものであり、その内容は本出願の中に参照として援用される。This application is based on a Japanese patent application (Patent Application No. 2020-011914) filed on January 28, 2020, and a Japanese patent application (Patent Application No. 2020-103357) filed on June 15, 2020, the contents of which are incorporated by reference into this application.
1 平版印刷版原版
1a 画像記録層面
1b 支持体面
1c 端面
2 ダレ
10 裁断刃
10a 上側裁断刃
10b 上側裁断刃
11 回転軸
20 裁断刃
20a 下側裁断刃
20b 下側裁断刃
21 回転軸
30 印刷用原版
31 アルミニウム板
32、34 ローラ状ブラシ
33 研磨スラリー液
35、36、37、38 支持ローラ
50 主電解槽
51 交流電源
52 ラジアルドラムローラ
53a、53b 主極
54 電解液供給口
55 電解液
56 スリット
57 電解液通路
58 補助陽極
60 補助陽極槽
410 陽極酸化処理装置
412 給電槽
414 電解処理槽
416 アルミニウム板
418、426 電解液
420 給電電極
422,428 ローラ
424 ニップローラ
430 電解電極
432 槽壁
434 直流電源
B 画像記録層面と支持体との境界
W アルミニウム板
X ダレ量
Y ダレ幅
REFERENCE SIGNS LIST 1 Lithographic
Claims (24)
前記機上現像型印刷用原版が画像記録層を有し、
前記機上現像型印刷用原版が保護層を有し、
前記ヒドロキシ酸化合物を含有する構成層が保護層である、機上現像型印刷用原版。 An on-press development type printing plate precursor having at least one constituent layer on an aluminum support having an anodized film, wherein an edge of the on-press development type printing plate precursor has a drooped shape, and the at least one constituent layer contains a hydroxy acid compound having two or more hydroxyl groups, has a molecular weight of 60 to 300, and has a solubility in water at 20°C of 10 g/L or more, and the content of the water-soluble compound is substantially uniform within the plane of the constituent layer,
the on-press development type printing plate precursor has an image recording layer,
The on-press development type printing plate precursor has a protective layer,
The on-press development type printing plate precursor, wherein the constituent layer containing the hydroxy acid compound is a protective layer.
前記機上現像型印刷用原版が非感光性層を有し、全ての構成層が非感光性であり、
前記機上現像型印刷用原版が下塗り層を有する、機上現像型印刷用原版。 An on-press development type printing plate precursor having at least one constituent layer on an aluminum support having an anodized film, wherein an edge of the on-press development type printing plate precursor has a drooped shape, and the at least one constituent layer contains a hydroxy acid compound having two or more hydroxyl groups, has a molecular weight of 60 to 300, and has a solubility in water at 20°C of 10 g/L or more, and the content of the water-soluble compound is substantially uniform within the plane of the constituent layer,
The on-press development type printing plate precursor has a non-photosensitive layer, and all of the constituent layers are non-photosensitive,
The on-press development type printing plate precursor has an undercoat layer.
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