JP7606489B2 - Film manufacturing system and film manufacturing method - Google Patents
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Description
本発明は、フィルムの製造システム、および、フィルムの製造方法に関する。 The present invention relates to a film manufacturing system and a film manufacturing method.
従来、基材の上に塗工液を塗布し、塗膜に向けて送風することにより乾燥させる、フィルムの製造方法が知られている(例えば、特許文献1参照。)。 Conventionally, a method for manufacturing a film is known in which a coating liquid is applied onto a substrate and then dried by blowing air toward the coating (see, for example, Patent Document 1).
本発明は、基材に対する被膜の密着性を向上させることができるフィルムの製造システム、および、フィルムの製造方法を提供する。 The present invention provides a film manufacturing system and a film manufacturing method that can improve the adhesion of a coating to a substrate.
本発明[1]は、基材と、前記基材の一方面上に配置される被膜とを有するフィルムを製造する製造システムであって、塗工液を前記基材の前記一方面に塗工して、前記基材の前記一方面上に塗膜を形成する塗工装置と、前記塗膜を乾燥させて前記基材の前記一方面上に前記被膜を形成する乾燥装置とを備え、前記乾燥装置が、前記基材の少なくとも一方側から前記塗膜に向けて送風する第1乾燥部と、前記基材の搬送方向において前記第1乾燥部よりも下流側に配置され、前記基材の前記一方側から前記塗膜を加熱するとともに、前記基材の他方側から、前記基材を、前記塗膜よりも強く加熱する第2乾燥部とを有する、フィルムの製造システムを含む。 The present invention [1] is a manufacturing system for manufacturing a film having a substrate and a coating film disposed on one side of the substrate, the system including a coating device that applies a coating liquid to the one side of the substrate to form a coating film on the one side of the substrate, and a drying device that dries the coating film to form the coating film on the one side of the substrate, the drying device having a first drying section that blows air toward the coating film from at least one side of the substrate, and a second drying section that is disposed downstream of the first drying section in the substrate conveying direction, heats the coating film from the one side of the substrate, and heats the substrate from the other side of the substrate more strongly than the coating film.
このような構成によれば、第1乾燥部において、基材の一方側から塗膜に向けて送風することにより、塗膜の内部まで乾燥させないで、塗膜の表面を乾燥させる。 With this configuration, in the first drying section, air is blown toward the coating film from one side of the substrate, thereby drying the surface of the coating film without drying the inside of the coating film.
次に、第2乾燥部において、基材を、塗膜よりも強く加熱する。 Next, in the second drying section, the substrate is heated more strongly than the coating.
これにより、塗膜と基材とを反応させつつ、塗膜を乾燥させて、基材と反応した被膜を得る。 This allows the coating film to react with the substrate while drying, resulting in a coating that has reacted with the substrate.
その結果、基材に対する被膜の密着性を向上させることができる。 As a result, the adhesion of the coating to the substrate can be improved.
本発明[2]は、前記第1乾燥部が、前記基材の前記他方側に配置され、前記基材を支持する支持ローラを有し、前記基材の前記一方側から前記塗膜に向けて第1風速で加熱空気を送風するとともに、前記基材の他方側から前記基材に向けて、前記第1風速以下の第2風速で加熱空気を送風する、上記[1]のフィルムの製造システムを含む。 The present invention [2] includes the film manufacturing system of the above [1], in which the first drying section is disposed on the other side of the substrate, has a support roller that supports the substrate, and blows heated air from the one side of the substrate toward the coating film at a first wind speed, and blows heated air from the other side of the substrate toward the substrate at a second wind speed that is equal to or lower than the first wind speed.
このような構成によれば、第1乾燥部では、基材の他方側からの加熱空気の風速(第2風速)が基材の一方側からの加熱空気の風速(第1風速)よりも遅い。 With this configuration, in the first drying section, the wind speed of the heated air from the other side of the substrate (second wind speed) is slower than the wind speed of the heated air from one side of the substrate (first wind speed).
そのため、基材の他方側からの加熱空気によって基材の温度が過度に上昇することを抑制して、塗膜が内部まで乾燥してしまうことを抑制しつつ、基材の一方側からの加熱空気によって塗膜の表面を乾燥させることができる。 As a result, the surface of the coating film can be dried by heated air from one side of the substrate while preventing the temperature of the substrate from rising excessively due to heated air from the other side of the substrate, and preventing the coating film from drying out to the inside.
本発明[3]は、前記第2乾燥部が、前記基材の前記一方側から前記塗膜に向けて第3風速で加熱空気を送風するとともに、前記基材の前記他方側から前記基材に向けて、前記第3風速よりも速い第4風速で加熱空気を送風する、上記[2]のフィルムの製造システムを含む。 The present invention [3] includes the film manufacturing system of the above [2], in which the second drying section blows heated air from the one side of the substrate toward the coating film at a third wind speed, and blows heated air from the other side of the substrate toward the substrate at a fourth wind speed faster than the third wind speed.
このような構成によれば、第2乾燥部では、基材の他方側からの加熱空気の風速(第4風速)が基材の一方側からの加熱空気の風速(第3風速)よりも速い。 With this configuration, in the second drying section, the wind speed of the heated air from the other side of the substrate (fourth wind speed) is faster than the wind speed of the heated air from one side of the substrate (third wind speed).
そのため、基材の他方側からの加熱空気によって基材の温度を上昇させて、塗膜と基材とを反応させつつ、塗膜を内部まで乾燥させることができる。 Therefore, the temperature of the substrate can be raised by heated air from the other side of the substrate, causing the coating to react with the substrate while drying the coating to the inside.
これにより、基材と反応した被膜を得ることができ、基材に対する被膜の密着性を向上させることができる。 This allows a coating to be obtained that reacts with the substrate, improving the adhesion of the coating to the substrate.
本発明[4]は、前記第1風速が、15m/秒以下であり、前記第4風速が、5m/秒以上である、上記[3]のフィルムの製造システムを含む。 The present invention [4] includes the film manufacturing system of the above [3], in which the first wind speed is 15 m/sec or less and the fourth wind speed is 5 m/sec or more.
本発明[5]は、前記第1風速と前記第2風速との合計が、15m/秒以下であり、前記第2風速に対する前記第1風速の割合が、1.5以上であり、前記第3風速と前記第4風速との合計が、15m/秒以下であり、前記第3風速に対する前記第4風速の割合が、1.4以上である、上記[4]のフィルムの製造システムを含む。 The present invention [5] includes the film manufacturing system of the above [4], in which the sum of the first wind speed and the second wind speed is 15 m/sec or less, the ratio of the first wind speed to the second wind speed is 1.5 or more, the sum of the third wind speed and the fourth wind speed is 15 m/sec or less, and the ratio of the fourth wind speed to the third wind speed is 1.4 or more.
本発明[6]は、前記第1乾燥部が、第1エリアと、前記基材の搬送方向において前記第1エリアの下流側に配置される第2エリアとを有し、前記第2乾燥部が、前記基材の搬送方向において前記第2エリアよりも下流側に配置される第3エリアと、前記基材の搬送方向において前記第3エリアの下流側に配置される第4エリアとを有し、前記第2エリアの加熱空気の温度が、前記第1エリアの加熱空気の温度よりも高く、前記第4エリアの加熱空気の温度が、前記第3エリアの加熱空気の温度よりも低い、上記[1]のフィルムの製造システムを含む。 The present invention [6] includes the film manufacturing system of the above [1], in which the first drying section has a first area and a second area arranged downstream of the first area in the transport direction of the substrate, the second drying section has a third area arranged downstream of the second area in the transport direction of the substrate, and a fourth area arranged downstream of the third area in the transport direction of the substrate, and the temperature of the heated air in the second area is higher than the temperature of the heated air in the first area, and the temperature of the heated air in the fourth area is lower than the temperature of the heated air in the third area.
本発明[7]は、上記[1]~[6]のいずれか1つのフィルムの製造システムを用いて前記フィルムを製造する方法であって、前記塗工装置を用いて前記基材上に塗膜を形成する塗工工程と、前記乾燥装置を用いて前記塗膜を乾燥させる乾燥工程とを含む、フィルムの製造方法を含む。 The present invention [7] includes a method for producing a film using any one of the film production systems [1] to [6] above, the method including a coating step of forming a coating film on the substrate using the coating device, and a drying step of drying the coating film using the drying device.
本発明のフィルムの製造システム、および、フィルムの製造方法によれば、基材に対する被膜の密着性を向上させることができる。 The film manufacturing system and film manufacturing method of the present invention can improve the adhesion of the coating to the substrate.
1.フィルム
まず、フィルムFについて説明する。図1に示すように、フィルムFは、基材Sと、被膜Cとを有する。
1. Film First, a description will be given of the film F. As shown in FIG.
基材Sは、シート形状を有する。基材Sは、基材Sの厚み方向において、一方面S1と、他方面S2とを有する。基材Sは、熱可塑性樹脂からなる。 The substrate S has a sheet shape. The substrate S has one side S1 and the other side S2 in the thickness direction of the substrate S. The substrate S is made of a thermoplastic resin.
熱可塑性樹脂として、例えば、アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、環状ポリオレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、および、アセテート樹脂が挙げられる。アセテート樹脂として、例えば、ジアセチルセルロース、および、トリアセチルセルロースが挙げられる。 Examples of thermoplastic resins include acrylic resins, polyolefin resins, cyclic polyolefin resins, polyester resins, polycarbonate resins, polystyrene resins, polyamide resins, polyimide resins, and acetate resins. Examples of acetate resins include diacetyl cellulose and triacetyl cellulose.
なお、基材Sは、添加剤を含有してもよい。添加剤として、例えば、酸化防止剤、安定剤、補強材、紫外線吸収剤、難燃剤、帯電防止剤、着色剤、充填剤、可塑剤、滑剤、および、フィラーが挙げられる。 The substrate S may contain additives. Examples of additives include antioxidants, stabilizers, reinforcing materials, UV absorbers, flame retardants, antistatic agents, colorants, fillers, plasticizers, lubricants, and fillers.
被膜Cは、基材Sの一方面S1上に配置される。被膜Cは、基材Sの一方面S1を覆う。被膜Cの機能として、例えば、防眩性、反射防止性および耐擦傷性が挙げられる。 The coating C is disposed on one surface S1 of the substrate S. The coating C covers one surface S1 of the substrate S. Functions of the coating C include, for example, anti-glare properties, anti-reflection properties, and scratch resistance.
被膜Cは、樹脂を含有する。樹脂として、例えば、熱硬化性樹脂、および、熱可塑性樹脂が挙げられる。熱硬化性樹脂として、例えば、ウレタン樹脂、および、エポキシ樹脂が挙げられる。熱可塑性樹脂として、例えば、アクリル樹脂、ウレタンアクリル樹脂および、ポリエステル樹脂が挙げられる。 The coating C contains a resin. Examples of the resin include a thermosetting resin and a thermoplastic resin. Examples of the thermosetting resin include a urethane resin and an epoxy resin. Examples of the thermoplastic resin include an acrylic resin, a urethane acrylic resin, and a polyester resin.
被膜Cは、粒子を含有してもよい。粒子として、例えば、酸化物、炭酸塩、ケイ酸塩、ケイ酸塩鉱物、および、リン酸塩などが挙げられる。酸化物として、例えば、酸化ケイ素(シリカ)、酸化チタン(チタニア)、酸化アルミニウム(アルミナ)、および、酸化ジルコニウム(ジルコニア)が挙げられる。炭酸塩として、例えば、炭酸カルシウムが挙げられる。ケイ酸塩として、例えば、ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、および、ケイ酸マグネシウムが挙げられる。ケイ酸塩鉱物として、例えば、タルク、および、カオリンが挙げられる。リン酸塩として、例えば、リン酸カルシウムが挙げられる。 Coating C may contain particles. Examples of the particles include oxides, carbonates, silicates, silicate minerals, and phosphates. Examples of the oxides include silicon oxide (silica), titanium oxide (titania), aluminum oxide (alumina), and zirconium oxide (zirconia). Examples of the carbonates include calcium carbonate. Examples of the silicates include calcium silicate, aluminum silicate, and magnesium silicate. Examples of the silicate minerals include talc and kaolin. Examples of the phosphates include calcium phosphate.
フィルムFが防眩性光学フィルムである場合、被膜Cの「表面粗さ」は、例えば、0.040以上、好ましくは、0.050以上であり、例えば、0.095以下、好ましくは、0.080以下である。 When film F is an antiglare optical film, the "surface roughness" of coating C is, for example, 0.040 or more, preferably 0.050 or more, and, for example, 0.095 or less, preferably 0.080 or less.
2.フィルムの製造システム
次に、フィルムFの製造システム1を説明する。
2. Film Manufacturing System Next, the film F manufacturing system 1 will be described.
フィルムFの製造システム1は、フィルムFを製造する。図2に示すように、フィルムFの製造システム1は、塗工装置2と、乾燥装置3とを備える。 The film F manufacturing system 1 manufactures the film F. As shown in FIG. 2, the film F manufacturing system 1 includes a coating device 2 and a drying device 3.
(1)塗工装置
塗工装置2は、塗工液を基材Sの一方面S1に塗工して、基材Sの一方面S1上に塗膜を形成する。つまり、フィルムFの製造方法は、塗工工程を含む。なお、基材Sの一方面S1には、塗工工程の前に、コロナ処理、プラズマ処理などの表面処理が、施されてもよい。
(1) Coating Apparatus The coating apparatus 2 applies a coating liquid to one surface S1 of the substrate S to form a coating film on the one surface S1 of the substrate S. In other words, the manufacturing method of the film F includes a coating step. Note that the one surface S1 of the substrate S may be subjected to a surface treatment such as a corona treatment or a plasma treatment before the coating step.
塗工液の粘度は、100mPa・s以下、好ましくは、50mPa・s以下、より好ましくは、10mPa・s以下、例えば、1mPa・s以上である。塗工液の粘度が上記上限値以下であると、厚みが50μm以下となるように塗工液を塗布するときに、幅方向における膜厚の均一化を図ることができる。 The viscosity of the coating liquid is 100 mPa·s or less, preferably 50 mPa·s or less, more preferably 10 mPa·s or less, for example, 1 mPa·s or more. When the viscosity of the coating liquid is equal to or less than the upper limit, the thickness of the film in the width direction can be made uniform when the coating liquid is applied to a thickness of 50 μm or less.
塗工液の表面張力は、例えば、30mN/m以上、好ましくは、35mN/m以上であり、例えば、60mN/m以下、好ましくは、55mN/m以下である。 The surface tension of the coating liquid is, for example, 30 mN/m or more, preferably 35 mN/m or more, and, for example, 60 mN/m or less, preferably 55 mN/m or less.
塗工液の固形分濃度は、塗工液の粘度が上記上限値以下になるように調節される。塗工液の固形分濃度は、例えば、10質量%以上、好ましくは、20質量%以上、より好ましくは、30質量%以上、より好ましくは、40質量%以上であり、例えば、50質量%以下、好ましくは、45質量%以下である。 The solids concentration of the coating liquid is adjusted so that the viscosity of the coating liquid is equal to or less than the upper limit value. The solids concentration of the coating liquid is, for example, 10% by mass or more, preferably 20% by mass or more, more preferably 30% by mass or more, more preferably 40% by mass or more, and is, for example, 50% by mass or less, preferably 45% by mass or less.
塗工液は、樹脂成分と、溶媒とを含有する。塗工液は、必要により、上記した粒子、および、添加剤を含有する。樹脂成分は、上記した樹脂であってもよく、上記した樹脂の前駆体であってもよい。 The coating liquid contains a resin component and a solvent. The coating liquid contains the above-mentioned particles and additives as necessary. The resin component may be the above-mentioned resin or a precursor of the above-mentioned resin.
具体的には、塗工液は、多官能オリゴマー、多官能モノマー、水酸基モノマー、光重合開始剤、上記した粒子、表面張力調整剤、および、増粘剤を含有する。多官能オリゴマー、多官能モノマー、および、水酸基モノマーは、樹脂成分(樹脂の前駆体)であり、光重合開始剤、表面張力調整剤、および、増粘剤は、添加剤である。 Specifically, the coating liquid contains a multifunctional oligomer, a multifunctional monomer, a hydroxyl monomer, a photopolymerization initiator, the above-mentioned particles, a surface tension adjuster, and a thickener. The multifunctional oligomer, the multifunctional monomer, and the hydroxyl monomer are resin components (resin precursors), and the photopolymerization initiator, the surface tension adjuster, and the thickener are additives.
多官能オリゴマーは、複数のエチレン性不飽和基を有する。エチレン性不飽和基として、例えば、アクリル基、メタクリル基、ビニル基が挙げられる。 A polyfunctional oligomer has multiple ethylenically unsaturated groups. Examples of ethylenically unsaturated groups include acrylic groups, methacrylic groups, and vinyl groups.
多官能オリゴマーの重量平均分子量は、例えば、300以上、好ましくは、400以上であり、例えば、5000以下、好ましくは、3000以下である。 The weight average molecular weight of the polyfunctional oligomer is, for example, 300 or more, preferably 400 or more, and, for example, 5000 or less, preferably 3000 or less.
多官能オリゴマーの官能基当量は、例えば、1以上、好ましくは、2以上であり、例えば、6以下、好ましくは、5以下である。 The functional group equivalent of the polyfunctional oligomer is, for example, 1 or more, preferably 2 or more, and, for example, 6 or less, preferably 5 or less.
多官能オリゴマーとして、例えば、ウレタンアクリレート、エリスリトール系アクリレートが挙げられる。 Examples of polyfunctional oligomers include urethane acrylate and erythritol-based acrylate.
塗工液中の多官能オリゴマーの割合は、例えば、20質量%以上、好ましくは、30質量%以上であり、例えば、70質量%以下、好ましくは、50質量%以下、である。 The proportion of the polyfunctional oligomer in the coating liquid is, for example, 20% by mass or more, preferably 30% by mass or more, and, for example, 70% by mass or less, preferably 50% by mass or less.
多官能モノマーは、複数のエチレン性不飽和基を有する。エチレン性不飽和基として、例えば、アクリル基、メタクリル基、ビニル基が挙げられる。 A polyfunctional monomer has multiple ethylenically unsaturated groups. Examples of ethylenically unsaturated groups include acrylic groups, methacrylic groups, and vinyl groups.
多官能モノマーとして、例えば、ペンタエリスリトールとアクリル酸の縮合物が挙げられる。 An example of a polyfunctional monomer is a condensation product of pentaerythritol and acrylic acid.
塗工液中の多官能モノマーの割合は、例えば、20質量%以上、好ましくは、30質量%以上であり、例えば、70質量%以下、好ましくは、50質量%以下、である。 The proportion of the polyfunctional monomer in the coating liquid is, for example, 20% by mass or more, preferably 30% by mass or more, and, for example, 70% by mass or less, preferably 50% by mass or less.
水酸基モノマーは、1つのエチレン性不飽和基と、1つの水酸基とを有する。水酸基モノマーとして、例えば、4-ヒドロキシブチルアクリレート、2-ヒドロキシエチルアクリレートが挙げられる。 The hydroxyl group monomer has one ethylenically unsaturated group and one hydroxyl group. Examples of hydroxyl group monomers include 4-hydroxybutyl acrylate and 2-hydroxyethyl acrylate.
光重合開始剤は、紫外線照射により、多官能オリゴマー、多官能モノマーおよび水酸基モノマーをラジカル重合させる。光重合開始剤として、例えば、ベンゾフェノン系光重合開始剤、フォスフィンオキサイド系光重合開始剤、オキシムエステル系光重合開始剤、カチオン系光重合開始剤が挙げられる。 The photopolymerization initiator radically polymerizes polyfunctional oligomers, polyfunctional monomers, and hydroxyl monomers by ultraviolet irradiation. Examples of photopolymerization initiators include benzophenone-based photopolymerization initiators, phosphine oxide-based photopolymerization initiators, oxime ester-based photopolymerization initiators, and cationic photopolymerization initiators.
表面張力調整剤は、塗工液の表面張力を調整する。表面張力調整剤として、例えば、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、シリコーン系レベリング剤、フッ素系レベリング剤が挙げられる。 The surface tension adjuster adjusts the surface tension of the coating liquid. Examples of surface tension adjusters include cationic surfactants, anionic surfactants, nonionic surfactants, silicone leveling agents, and fluorine leveling agents.
増粘剤は、塗工液の粘度を調整する。増粘剤として、例えば、合成無機高分子、合成有機高分子、天然有機高分子が挙げられる。 The thickener adjusts the viscosity of the coating liquid. Examples of thickeners include synthetic inorganic polymers, synthetic organic polymers, and natural organic polymers.
(2)乾燥装置
乾燥装置3は、基材S上の塗膜を乾燥させる。つまり、フィルムFの製造方法は、乾燥工程を含む。塗膜が乾燥されることにより、基材Sの上に被膜Cが形成され、上記したフィルムFが得られる。なお、被膜Cは、必要により、紫外線硬化処理、または、熱硬化処理されてもよい。
(2) Drying Device The drying device 3 dries the coating film on the substrate S. That is, the manufacturing method of the film F includes a drying step. By drying the coating film, a coating film C is formed on the substrate S, and the above-mentioned film F is obtained. Note that the coating film C may be subjected to an ultraviolet curing treatment or a heat curing treatment as necessary.
図3に示すように、乾燥装置3は、第1乾燥部31と第2乾燥部32とを有する。 As shown in FIG. 3, the drying device 3 has a first drying section 31 and a second drying section 32.
(2-1)第1乾燥部
第1乾燥部31は、基材Sの少なくとも一方側から塗膜に向けて第1風速で加熱空気を送風する。これにより、第1乾燥部31は、塗膜の表面を乾燥させる。
(2-1) First Drying Section The first drying section 31 blows heated air at a first wind speed toward the coating film from at least one side of the substrate S. In this way, the first drying section 31 dries the surface of the coating film.
第1風速は、例えば、1m/秒以上、好ましくは、2m/秒以上であり、例えば、20m/秒以下、好ましくは、15m/秒以下、より好ましくは、5m/秒以下である。 The first wind speed is, for example, 1 m/s or more, preferably 2 m/s or more, and, for example, 20 m/s or less, preferably 15 m/s or less, more preferably 5 m/s or less.
第1乾燥部31は、好ましくは、基材Sを塗膜よりも弱く加熱する。これにより、第1乾燥部31は、塗膜の内部を乾燥させない。つまり、基材Sが第1乾燥部31を通過したとき、基材Sと塗膜との界面には、塗工液の溶媒が残存している。なお、第1乾燥部31は、基材Sを加熱しなくてもよい。また、第1乾燥部31は、基材Sと塗膜との界面に塗工液の溶媒が残存する程度に、基材Sを塗膜よりも強く加熱してもよい。 The first drying section 31 preferably heats the substrate S less strongly than the coating film. As a result, the first drying section 31 does not dry the inside of the coating film. In other words, when the substrate S passes through the first drying section 31, the solvent of the coating liquid remains at the interface between the substrate S and the coating film. Note that the first drying section 31 does not have to heat the substrate S. Alternatively, the first drying section 31 may heat the substrate S more strongly than the coating film to the extent that the solvent of the coating liquid remains at the interface between the substrate S and the coating film.
第1乾燥部31は、基材Sを塗膜よりも弱く加熱する場合、例えば、基材Sの一方側から塗膜に向かう加熱空気の温度と同じ温度の加熱空気を、第1風速よりも遅い第2風速で、基材Sの他方側から基材Sに向けて送風する。つまり、第1乾燥部31は、基材Sの他方側から基材Sに向けて、第1風速以下の第2風速で加熱空気を送風する。これにより、第1乾燥部31は、塗膜の内部が乾燥しない程度に、基材Sを加熱する。基材Sが第2乾燥部32に入る前に第1乾燥部31で基材Sを加熱しておくことにより、基材Sと被膜Cとの密着性の向上を図ることができる。 When the substrate S is heated less than the coating, the first drying section 31 blows heated air of the same temperature as the heated air from one side of the substrate S toward the coating from the other side of the substrate S at a second wind speed slower than the first wind speed. In other words, the first drying section 31 blows heated air from the other side of the substrate S toward the substrate S at a second wind speed that is equal to or lower than the first wind speed. In this way, the first drying section 31 heats the substrate S to a degree that does not dry out the inside of the coating. By heating the substrate S in the first drying section 31 before the substrate S enters the second drying section 32, the adhesion between the substrate S and the coating C can be improved.
なお、第1乾燥部31は、基材Sを塗膜よりも弱く加熱する場合、例えば、基材Sの一方側から塗膜に向かう加熱空気の温度よりも低い温度の加熱空気を、第1風速と同じ第2風速で、基材Sの他方側から基材Sに向けて送風してもよい。また、第1乾燥部31は、基材Sを加熱しない場合、基材Sの他方側から基材Sに向けて加熱空気を送風しない。 When the first drying section 31 heats the substrate S less than the coating, for example, it may blow heated air at a lower temperature than the heated air flowing from one side of the substrate S toward the coating from the other side of the substrate S at a second wind speed that is the same as the first wind speed. When the first drying section 31 does not heat the substrate S, it does not blow heated air from the other side of the substrate S toward the substrate S.
第2風速は、例えば、0.5m/秒以上、好ましくは、1m/秒以上であり、例えば、5m/秒以下、好ましくは、2m/秒以下である。 The second wind speed is, for example, 0.5 m/s or more, preferably 1 m/s or more, and, for example, 5 m/s or less, preferably 2 m/s or less.
第1風速と第2風速との合計は、例えば、2m/秒以上、好ましくは、3m/秒以上であり、例えば、30m/秒以下、好ましくは、15m/秒以下、好ましくは、10m/秒以下である。 The sum of the first wind speed and the second wind speed is, for example, 2 m/s or more, preferably 3 m/s or more, and, for example, 30 m/s or less, preferably 15 m/s or less, preferably 10 m/s or less.
第2風速に対する第1風速の割合(第1風速/第2風速)は、例えば、0.1以上、好ましくは、1.2以上、より好ましくは、1.5以上であり、例えば、5以下、好ましくは、3以下である。 The ratio of the first wind speed to the second wind speed (first wind speed/second wind speed) is, for example, 0.1 or more, preferably 1.2 or more, more preferably 1.5 or more, and is, for example, 5 or less, preferably 3 or less.
第1乾燥部31での乾燥時間は、例えば、40秒以上、好ましくは、55秒以上であり、例えば、80秒以下、好ましくは、65秒以下である。 The drying time in the first drying section 31 is, for example, 40 seconds or more, preferably 55 seconds or more, and, for example, 80 seconds or less, preferably 65 seconds or less.
第1乾燥部31は、第1エリア31Aと、第2エリア31Bとを有する。 The first drying section 31 has a first area 31A and a second area 31B.
第1エリア31Aは、基材Sの搬送方向において、第1乾燥部31の上流端部に配置される。 The first area 31A is located at the upstream end of the first drying section 31 in the transport direction of the substrate S.
第1エリア31Aの加熱空気の温度(第1温度)は、塗工液の溶媒の沸点よりも低い。塗工液の溶媒の沸点が110℃である場合、第1温度は、例えば、45℃以上、好ましくは、50℃以上であり、例えば、80℃未満、好ましくは、75℃以下である。 The temperature of the heated air in the first area 31A (first temperature) is lower than the boiling point of the solvent in the coating liquid. When the boiling point of the solvent in the coating liquid is 110°C, the first temperature is, for example, 45°C or more, preferably 50°C or more, and, for example, less than 80°C, preferably 75°C or less.
第2エリア31Bは、基材Sの搬送方向において、第1エリア31Aの下流側に配置される。第2エリア31Bは、基材Sの搬送方向において、第1エリア31Aと第2乾燥部32との間に配置される。 The second area 31B is located downstream of the first area 31A in the transport direction of the substrate S. The second area 31B is located between the first area 31A and the second drying section 32 in the transport direction of the substrate S.
第2エリア31Bの加熱空気の温度(第2温度)は、第1温度よりも高く、塗工液の溶媒の沸点よりも低い。塗工液の溶媒の沸点が110℃である場合、第2温度は、例えば、85℃以上、好ましくは、90℃以上であり、例えば、105℃以下、好ましくは、100℃以下である。 The temperature of the heated air in the second area 31B (second temperature) is higher than the first temperature and lower than the boiling point of the solvent in the coating liquid. When the boiling point of the solvent in the coating liquid is 110°C, the second temperature is, for example, 85°C or higher, preferably 90°C or higher, and, for example, 105°C or lower, preferably 100°C or lower.
第1乾燥部31は、複数の支持ローラ311と、複数の一方側ノズル312A,312B,312Cと、複数の他方側ノズル313A,313Bとを有する。 The first drying section 31 has a plurality of support rollers 311, a plurality of one-side nozzles 312A, 312B, and 312C, and a plurality of other-side nozzles 313A and 313B.
複数の支持ローラ311は、基材Sの他方側に配置される。複数の支持ローラ311は、基材Sの搬送方向において、互いに間隔を隔てて並ぶ。複数の支持ローラ311は、基材Sを支持する。 The multiple support rollers 311 are arranged on the other side of the substrate S. The multiple support rollers 311 are arranged at intervals from each other in the transport direction of the substrate S. The multiple support rollers 311 support the substrate S.
一方側ノズル312A,312B,312Cは、基材Sの一方側に配置される。一方側ノズル312Aは、第1エリア31A内に配置される。一方側ノズル312Aは、第1温度の加熱空気を、基材Sの一方側から塗膜に向けて、第1風速で、送風する。一方側ノズル312B,312Cは、第2エリア31B内に配置される。一方側ノズル312B,312Cは、第2温度の加熱空気を、基材Sの一方側から塗膜に向けて、第1風速で送風する。 The one-side nozzles 312A, 312B, and 312C are arranged on one side of the substrate S. The one-side nozzle 312A is arranged in the first area 31A. The one-side nozzle 312A blows heated air at a first temperature from one side of the substrate S toward the coating film at a first wind speed. The one-side nozzles 312B and 312C are arranged in the second area 31B. The one-side nozzles 312B and 312C blow heated air at a second temperature from one side of the substrate S toward the coating film at a first wind speed.
他方側ノズル313A,313Bは、基材Sの他方側に配置される。他方側ノズル313A,313Bは、第2エリア31B内に配置される。他方側ノズル313A,313Bは、第2温度の加熱空気を、基材Sの他方側から基材Sに向けて、第2風速で送風する。 The other-side nozzles 313A and 313B are arranged on the other side of the substrate S. The other-side nozzles 313A and 313B are arranged in the second area 31B. The other-side nozzles 313A and 313B blow heated air at a second temperature from the other side of the substrate S toward the substrate S at a second wind speed.
なお、複数の支持ローラ311、一方側ノズル312A,312B,312C、および、他方側ノズル313A,313Bの個数、配置は、限定されない。 The number and arrangement of the multiple support rollers 311, the one-side nozzles 312A, 312B, and 312C, and the other-side nozzles 313A and 313B are not limited.
(2-2)第2乾燥部
第2乾燥部32は、基材Sの搬送方向において、第1乾燥部31よりも下流側に配置される。第2乾燥部32は、基材Sの一方側から、塗膜を加熱する。これにより、第2乾燥部32は、第1乾燥部31で加熱された塗膜の温度を維持する。
(2-2) Second drying section The second drying section 32 is disposed downstream of the first drying section 31 in the transport direction of the substrate S. The second drying section 32 heats the coating film from one side of the substrate S. In this way, the second drying section 32 maintains the temperature of the coating film heated in the first drying section 31.
塗膜を加熱するために、第2乾燥部32は、基材Sの一方側から塗膜に向けて第3風速で加熱空気を送風する。 To heat the coating, the second drying section 32 blows heated air from one side of the substrate S toward the coating at a third wind speed.
第3風速は、例えば、1m/秒以上、好ましくは、2m/秒以上であり、例えば、10m/秒以下、好ましくは、5m/秒以下である。 The third wind speed is, for example, 1 m/s or more, preferably 2 m/s or more, and, for example, 10 m/s or less, preferably 5 m/s or less.
また、第2乾燥部32は、基材Sの他方側から、基材Sを、塗膜よりも強く加熱する。これにより、塗膜の樹脂成分と基材Sとを反応させつつ、溶媒を蒸発させて、塗膜を乾燥させる。 The second drying section 32 heats the substrate S from the other side of the substrate S more strongly than the coating film. This causes the resin component of the coating film to react with the substrate S while evaporating the solvent, drying the coating film.
基材Sを塗膜よりも強く加熱するために、第2乾燥部32は、例えば、基材Sの他方側から基材Sに向けて、第3風速よりも速い第4風速で加熱空気を送風する。この場合、第2乾燥部32は、基材Sの他方側から基材Sに向けて、基材Sの一方側から塗膜に向かう加熱空気の温度と同じ温度の加熱空気を送風してもよく、基材Sの一方側から塗膜に向かう加熱空気の温度より高い温度の加熱空気を送風してもよい。つまり、第2乾燥部32は、基材Sの他方側から基材Sに向けて、第3風速よりも速い第4風速で加熱空気を送風する場合、基材Sの一方側から塗膜に向かう加熱空気の温度以上の温度の加熱空気を送風する。 In order to heat the substrate S more strongly than the coating, the second drying section 32 blows heated air, for example, from the other side of the substrate S toward the substrate S at a fourth wind speed faster than the third wind speed. In this case, the second drying section 32 may blow heated air from the other side of the substrate S toward the substrate S at the same temperature as the heated air from one side of the substrate S toward the coating, or may blow heated air at a higher temperature than the heated air from one side of the substrate S toward the coating. In other words, when blowing heated air from the other side of the substrate S toward the substrate S at a fourth wind speed faster than the third wind speed, the second drying section 32 blows heated air at a temperature equal to or higher than the temperature of the heated air from one side of the substrate S toward the coating.
なお、基材Sを塗膜よりも強く加熱するために、第2乾燥部32は、基材Sの他方側から基材Sに向けて、基材Sの一方側から塗膜に向かう加熱空気の温度よりも高い温度の加熱空気を、第3風速と同じ第4風速で送風してもよい。 In order to heat the substrate S more strongly than the coating, the second drying section 32 may blow heated air from the other side of the substrate S toward the substrate S at a fourth wind speed that is the same as the third wind speed, the heated air having a higher temperature than the heated air blown from one side of the substrate S toward the coating.
第4風速は、例えば、2m/秒以上、好ましくは、5m/秒以上であり、例えば、10m/秒以下、好ましくは、7m/秒以下である。 The fourth wind speed is, for example, 2 m/s or more, preferably 5 m/s or more, and, for example, 10 m/s or less, preferably 7 m/s or less.
第3風速と第4風速との合計は、例えば、3m/秒以上、好ましくは、5m/秒以上であり、例えば、15m/秒以下、好ましくは、12m/秒以下である。 The sum of the third wind speed and the fourth wind speed is, for example, 3 m/s or more, preferably 5 m/s or more, and, for example, 15 m/s or less, preferably 12 m/s or less.
第3風速に対する第4風速の割合(第4風速/第3風速)は、例えば、1.0以上、好ましくは、1.1以上、好ましくは、1.4以上であり、例えば、2以下、好ましくは、1.6以下である。 The ratio of the fourth wind speed to the third wind speed (fourth wind speed/third wind speed) is, for example, 1.0 or more, preferably 1.1 or more, preferably 1.4 or more, and is, for example, 2 or less, preferably 1.6 or less.
第2乾燥部32での乾燥時間は、例えば、30秒以上、好ましくは、35秒以上であり、例えば、50秒以下、好ましくは、45秒以下である。 The drying time in the second drying section 32 is, for example, 30 seconds or more, preferably 35 seconds or more, and, for example, 50 seconds or less, preferably 45 seconds or less.
第2乾燥部32は、第3エリア32Aと、第4エリア32Bとを有する。 The second drying section 32 has a third area 32A and a fourth area 32B.
第3エリア32Aは、基材Sの搬送方向において、第2エリア31Bよりも下流側に配置される。第3エリア32Aは、基材Sの搬送方向において、第1乾燥部31と第4エリア32Bとの間に配置される。 The third area 32A is located downstream of the second area 31B in the transport direction of the substrate S. The third area 32A is located between the first drying section 31 and the fourth area 32B in the transport direction of the substrate S.
第3エリア32Aの加熱空気の温度(第3温度)は、塗工液の溶媒の沸点以下である。塗工液の溶媒の沸点が110℃である場合、第3温度は、例えば、85℃以上、好ましくは、90℃以上であり、例えば、110℃以下、好ましくは、105℃以下である。 The temperature of the heated air in the third area 32A (third temperature) is equal to or lower than the boiling point of the solvent in the coating liquid. When the boiling point of the solvent in the coating liquid is 110°C, the third temperature is, for example, 85°C or higher, preferably 90°C or higher, and, for example, 110°C or lower, preferably 105°C or lower.
第4エリア32Bは、基材Sの搬送方向において、第3エリア32Aの下流側に配置される。第4エリア32Bは、基材Sの搬送方向において、第3エリア32Aに対して、第1乾燥部31の反対側に配置される。 The fourth area 32B is disposed downstream of the third area 32A in the transport direction of the substrate S. The fourth area 32B is disposed on the opposite side of the first drying section 31 from the third area 32A in the transport direction of the substrate S.
第4エリア32Bの加熱空気の温度(第4温度)は、第3温度よりも低く、塗工液の溶媒の沸点よりも低い。塗工液の溶媒の沸点が110℃である場合、第4温度は、例えば、45℃以上、好ましくは、50℃以上であり、例えば、75℃以下、好ましくは、70℃以下である。 The temperature of the heated air in the fourth area 32B (fourth temperature) is lower than the third temperature and lower than the boiling point of the solvent in the coating liquid. When the boiling point of the solvent in the coating liquid is 110°C, the fourth temperature is, for example, 45°C or more, preferably 50°C or more, and, for example, 75°C or less, preferably 70°C or less.
第2乾燥部31は、支持ローラを有さない。第2乾燥部31は、基材Sの他方側からの送風により、基材Sを浮かしつつ、塗膜を乾燥させる。第2乾燥部31は、複数の一方側ノズル321A,321B,321Cと、複数の他方側ノズル322A,322B,322C,322Dとを有する。 The second drying section 31 does not have a support roller. The second drying section 31 dries the coating film while floating the substrate S by blowing air from the other side of the substrate S. The second drying section 31 has a plurality of one-side nozzles 321A, 321B, and 321C and a plurality of other-side nozzles 322A, 322B, 322C, and 322D.
一方側ノズル321A,321B,321Cは、基材Sの一方側に配置される。一方側ノズル321A,321Bは、第3エリア32A内に配置される。一方側ノズル321A,321Bは、第3温度の加熱空気を、基材Sの一方側から塗膜に向けて、第3風速で送風する。一方側ノズル321Cは、第4エリア32B内に配置される。一方側ノズル321Cは、第4温度の加熱空気を、基材Sの一方側から塗膜に向けて、第3風速で送風する。 The one-side nozzles 321A, 321B, and 321C are arranged on one side of the substrate S. The one-side nozzles 321A and 321B are arranged in the third area 32A. The one-side nozzles 321A and 321B blow heated air at a third temperature from one side of the substrate S toward the coating film at a third wind speed. The one-side nozzle 321C is arranged in the fourth area 32B. The one-side nozzle 321C blows heated air at a fourth temperature from one side of the substrate S toward the coating film at a third wind speed.
他方側ノズル322A,322B,322C,322Dは、基材Sの他方側に配置される。他方側ノズル322A,322B,322Cは、第3エリア32A内に配置される。他方側ノズル322A,322B,322Cは、第3温度の加熱空気を、基材Sの他方側から塗膜に向けて、第4風速で送風する。他方側ノズル322Dは、第4エリア32B内に配置される。他方側ノズル322Dは、第4温度の加熱空気を、基材Sの他方側から塗膜に向けて、第4風速で送風する。 The other-side nozzles 322A, 322B, 322C, and 322D are positioned on the other side of the substrate S. The other-side nozzles 322A, 322B, and 322C are positioned within the third area 32A. The other-side nozzles 322A, 322B, and 322C blow heated air at a third temperature from the other side of the substrate S toward the coating film at a fourth wind speed. The other-side nozzle 322D is positioned within the fourth area 32B. The other-side nozzle 322D blows heated air at a fourth temperature from the other side of the substrate S toward the coating film at a fourth wind speed.
なお、一方側ノズル321A,321B,321C、および、他方側ノズル322A,322B,322C,322Dの個数、配置は、限定されない。 The number and arrangement of the nozzles 321A, 321B, and 321C on one side and the nozzles 322A, 322B, 322C, and 322D on the other side are not limited.
4.作用効果
(1)フィルムFの製造システム1によれば、図3に示すように、乾燥装置3は、基材Sの一方側から塗膜に向けて送風する第1乾燥部31と、基材Sの搬送方向において第1乾燥部31よりも下流側に配置され、基材Sの一方側から塗膜を加熱するとともに、基材Sの他方側から、基材Sを、塗膜よりも強く加熱する第2乾燥部32とを有する。
4. Effects and Effects (1) As shown in Fig. 3, according to the manufacturing system 1 for the film F, the drying device 3 has a first drying section 31 that blows air toward the coating film from one side of the substrate S, and a second drying section 32 that is disposed downstream of the first drying section 31 in the conveying direction of the substrate S, heats the coating film from one side of the substrate S, and heats the substrate S from the other side of the substrate S more strongly than the coating film.
そのため、第1乾燥部31において、基材Sの一方側から塗膜に向けて送風することにより、塗膜の内部まで乾燥させないで、塗膜の表面を乾燥させる。 Therefore, in the first drying section 31, air is blown from one side of the substrate S toward the coating film, thereby drying the surface of the coating film without drying the inside of the coating film.
次に、第2乾燥部32において、基材Sを、塗膜よりも強く加熱する。 Next, in the second drying section 32, the substrate S is heated more strongly than the coating film.
これにより、塗膜と基材Sとを反応させつつ、塗膜を乾燥させて、基材Sと反応した被膜Cを得る。 This allows the coating film to react with the substrate S while drying, resulting in a coating film C that has reacted with the substrate S.
その結果、基材Sに対する被膜Cの密着性を向上させることができる。 As a result, the adhesion of the coating C to the substrate S can be improved.
(2)フィルムFの製造システム1によれば、第1乾燥部31では、基材Sの他方側からの加熱空気の風速(第2風速)が基材Sの一方側からの加熱空気の風速(第1風速)よりも遅い。 (2) According to the film F manufacturing system 1, in the first drying section 31, the wind speed of the heated air from the other side of the substrate S (second wind speed) is slower than the wind speed of the heated air from one side of the substrate S (first wind speed).
そのため、基材Sの他方側からの加熱空気によって基材Sの温度が過度に上昇することを抑制して、塗膜が内部まで乾燥してしまうことを抑制しつつ、基材Sの一方側からの加熱空気によって塗膜の表面を乾燥させることができる。 Therefore, the surface of the coating film can be dried by the heated air from one side of the substrate S while preventing the temperature of the substrate S from rising excessively due to the heated air from the other side of the substrate S, thereby preventing the coating film from drying out to the inside.
(3)フィルムFの製造システム1によれば、第2乾燥部32では、基材Sの他方側からの加熱空気の風速(第4風速)が基材Sの一方側からの加熱空気の風速(第3風速)よりも速い。 (3) According to the film F manufacturing system 1, in the second drying section 32, the wind speed of the heated air from the other side of the substrate S (fourth wind speed) is faster than the wind speed of the heated air from one side of the substrate S (third wind speed).
そのため、基材Sの他方側からの加熱空気によって基材Sの温度を上昇させて、塗膜と基材Sとを反応させつつ、塗膜を内部まで乾燥させることができる。 Therefore, the temperature of the substrate S can be raised by heated air from the other side of the substrate S, causing the coating film to react with the substrate S while drying the coating film to the inside.
これにより、基材Sと反応した被膜を得ることができ、基材Sに対する被膜の密着性を向上させることができる。 This allows a coating to be obtained that reacts with the substrate S, improving the adhesion of the coating to the substrate S.
次に、本発明を、実施例および比較例に基づいて説明する。本発明は、下記の実施例によって限定されない。また、以下の記載において用いられる物性値、パラメータなどの具体的数値は、上記の「発明を実施するための形態」において記載されている、それらに対応する、物性値、パラメータなどの上限値(「以下」、「未満」として定義されている数値)または下限値(「以上」、「よりも大きい」として定義されている数値)に代替することができる。 Next, the present invention will be described based on examples and comparative examples. The present invention is not limited to the following examples. In addition, the specific numerical values of the physical properties, parameters, etc. used in the following description can be replaced with the upper limit values (numerical values defined as "less than or equal to") or lower limit values (numerical values defined as "more than or equal to") of the corresponding physical properties, parameters, etc. described in the above "Form for carrying out the invention."
1.塗工液の製造
以下の材料をトルエンに配合し、塗工液を得た。得られた塗工液の固形分は、42質量%であり、粘度は、6mPa・sであった。
1. Preparation of Coating Fluid The following materials were mixed with toluene to obtain a coating fluid. The solid content of the obtained coating fluid was 42% by mass, and the viscosity was 6 mPa·s.
多官能オリゴマー:
NKオリゴマーUA-53H-80BK(新中村化学工業社製) 50質量部
多官能モノマー:
ビスコート#300(大阪有機化学工業社製) 50質量部
水酸基モノマー:
4-ヒドロキシブチルアクリレート(大阪有機化学工業社製) 20質量部
光重合開始剤:
Omnirad907(IGM Resin社製) 5質量部
表面張力調整剤
GRANDIC PC4100(DIC社製) 1質量部
シリカ粒子
テクポリマーSSX-103DXE(積水化成品工業社製) 0.5質量部
増粘剤
スメクトン-SAN溶液(日東電工社製) 1.5質量部
2.フィルムの製造
基材の搬送速度30m/分で基材(材質:アクリルフィルム)の一方面上に塗工液を塗工し、表1に示す乾燥条件で乾燥させて、基材の一方面上にアクリルウレタン樹脂の被膜を有する、各実施例および比較例のフィルムを得た。
Multifunctional Oligomer:
NK Oligomer UA-53H-80BK (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 50 parts by mass Multifunctional monomer:
Viscoat #300 (Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.) 50 parts by weight Hydroxyl group monomer:
4-Hydroxybutyl acrylate (Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.) 20 parts by weight Photopolymerization initiator:
Omnirad 907 (manufactured by IGM Resin) 5 parts by mass Surface tension adjuster GRANDIC PC4100 (manufactured by DIC Corporation) 1 part by mass Silica particles Techpolymer SSX-103DXE (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) 0.5 parts by mass Thickener Sumecton-SAN solution (manufactured by Nitto Denko Corporation) 1.5 parts by mass 2. Production of Film The coating liquid was applied onto one side of a substrate (material: acrylic film) at a substrate conveying speed of 30 m/min, and dried under the drying conditions shown in Table 1 to obtain films of each of the Examples and Comparative Examples having an acrylic urethane resin coating on one side of the substrate.
3.評価
(1)表面粗さ
得られたフィルムの算術平均粗さを表面粗さ計(製品名:ET4000A、小坂研究所社製)を用いて測定した。結果を表1に示す。「表面粗さ」が0.040以上、0.095以下であれば、防眩性光学フィルム用途として適している。
3. Evaluation (1) Surface Roughness The arithmetic mean roughness of the obtained film was measured using a surface roughness meter (product name: ET4000A, manufactured by Kosaka Laboratory Co., Ltd.). The results are shown in Table 1. If the "surface roughness" is 0.040 or more and 0.095 or less, it is suitable for use as an anti-glare optical film.
(2)密着性
得られたフィルムの被膜の密着性(基材に対する密着性)を、紫外線フェードメーターU48H(スガ試験社製)を用いて評価した。
(2) Adhesion The adhesion of the coating of the obtained film (adhesion to the substrate) was evaluated using an ultraviolet fade meter U48H (manufactured by Suga Test Co., Ltd.).
詳しくは、実施例および比較例のフィルムから、それぞれ、5つの試験片を切り出した。5つの試験片のそれぞれに、互いに異なる「取り出し時間」(フェードメーターからの取り出し時間)を設定した。「取り出し時間」は、48時間、96時間、144時間、192時間、および、240時間であり、5つの試験片のそれぞれは、上記の「取り出し時間」のいずれか1つに対応する。 In detail, five test pieces were cut out from each of the films of the examples and the comparative examples. A different "removal time" (removal time from the fade meter) was set for each of the five test pieces. The "removal times" were 48 hours, 96 hours, 144 hours, 192 hours, and 240 hours, and each of the five test pieces corresponded to one of the above "removal times."
全ての試験片を下記条件でフェードメーターに入れ、各「取り出し時間」が経過したときに、その「取り出し時間」に対応する試験片をフェードメータから取り出した。 All test pieces were placed in the fade meter under the conditions below, and when each "removal time" had elapsed, the test piece corresponding to that "removal time" was removed from the fade meter.
取り出した試験片の被膜表面に縦横1mm間隔でカッターナイフにより碁盤目の切り込みを入れ、碁盤目の切り込みを入れた被膜の上にNo.31Bテープ(日東電工社製)を貼り付け、その後、テープを剥離して碁盤目の切れ込みを入れた被膜が剥離したか否か確認した。 A checkerboard pattern was made on the coating surface of the removed test piece at intervals of 1 mm vertically and horizontally using a cutter knife, and No. 31B tape (manufactured by Nitto Denko Corporation) was applied to the coating with the checkerboard cuts. The tape was then peeled off to check whether the coating with the checkerboard cuts had peeled off.
各実施例および比較例ごとに、最初に被膜が剥離した試験片の「取り出し時間」を、密着性として、表1に示す。被膜が剥離するまでの「取り出し時間」が長ければ長いほど、密着性に優れている。
(フェードメーターの条件)
層内温度:40℃
層内湿度:20%RH
ランプ:(波長)300nm~700nm、(照度)500W/m2
For each Example and Comparative Example, the "removal time" of the test piece from which the coating first peeled off is shown as adhesion in Table 1. The longer the "removal time" until the coating peeled off, the better the adhesion.
(Fade meter conditions)
Temperature in layer: 40°C
Intralayer humidity: 20%RH
Lamp: (wavelength) 300nm to 700nm, (illuminance) 500W/ m2
1 フィルムの製造システム
2 塗工装置
3 乾燥装置
31 第1乾燥部
31A 第1エリア
31B 第2エリア
32 第2乾燥部
32A 第3エリア
32B 第4エリア
311 支持ローラ
S 基材
C 被膜
REFERENCE SIGNS LIST 1 Film manufacturing system 2 Coating device 3 Drying device 31 First drying section 31A First area 31B Second area 32 Second drying section 32A Third area 32B Fourth area 311 Support roller S Substrate C Coating
Claims (7)
塗工液を前記基材の前記一方面に塗工して、前記基材の前記一方面上に塗膜を形成する塗工装置と、
前記塗膜を乾燥させて前記基材の前記一方面上に前記被膜を形成する乾燥装置と
を備え、
前記乾燥装置は、
前記基材の少なくとも一方側から前記塗膜に向けて送風する第1乾燥部と、
前記基材の搬送方向において前記第1乾燥部よりも下流側に配置され、前記基材の前記一方側から前記塗膜を加熱するとともに、前記基材の他方側から、前記基材を、前記塗膜よりも強く加熱する第2乾燥部と
を有する、フィルムの製造システム。 A manufacturing system for manufacturing a film having a substrate and a coating disposed on one side of the substrate, comprising:
a coating device that applies a coating liquid to the one surface of the substrate to form a coating film on the one surface of the substrate;
a drying device for drying the coating film to form the coating film on the one surface of the substrate,
The drying device includes:
A first drying section that blows air toward the coating film from at least one side of the substrate;
a second drying section that is arranged downstream of the first drying section in the transport direction of the substrate, and that heats the coating film from the one side of the substrate and heats the substrate from the other side of the substrate more strongly than the coating film.
前記基材の前記他方側に配置され、前記基材を支持する支持ローラを有し、
前記基材の前記一方側から前記塗膜に向けて第1風速で加熱空気を送風するとともに、前記基材の前記他方側から前記基材に向けて、前記第1風速以下の第2風速で加熱空気を送風する、請求項1に記載のフィルムの製造システム。 The first drying section is
a support roller disposed on the other side of the substrate and supporting the substrate;
2. The film manufacturing system of claim 1, wherein heated air is blown from the one side of the substrate toward the coating film at a first wind speed, and heated air is blown from the other side of the substrate toward the substrate at a second wind speed that is equal to or lower than the first wind speed.
前記基材の前記一方側から前記塗膜に向けて第3風速で加熱空気を送風するとともに、前記基材の前記他方側から前記基材に向けて、前記第3風速よりも速い第4風速で加熱空気を送風する、請求項2に記載のフィルムの製造システム。 The second drying section is
3. The film manufacturing system of claim 2, wherein heated air is blown from the one side of the substrate toward the coating film at a third wind speed, and heated air is blown from the other side of the substrate toward the substrate at a fourth wind speed faster than the third wind speed.
前記第4風速は、5m/秒以上である、請求項3に記載のフィルムの製造システム。 The first wind speed is 15 m/sec or less,
The film manufacturing system according to claim 3 , wherein the fourth wind speed is 5 m/sec or more.
前記第2風速に対する前記第1風速の割合は、1.5以上であり、
前記第3風速と前記第4風速との合計は、15m/秒以下であり、
前記第3風速に対する前記第4風速の割合は、1.4以上である、請求項4に記載のフィルムの製造システム。 The sum of the first wind speed and the second wind speed is 15 m/sec or less,
A ratio of the first wind speed to the second wind speed is 1.5 or more,
The sum of the third wind speed and the fourth wind speed is 15 m/sec or less,
The film manufacturing system according to claim 4 , wherein a ratio of the fourth wind speed to the third wind speed is 1.4 or greater.
前記第2乾燥部は、前記基材の搬送方向において前記第2エリアよりも下流側に配置される第3エリアと、前記基材の搬送方向において前記第3エリアの下流側に配置される第4エリアとを有し、
前記第2エリアの加熱空気の温度は、前記第1エリアの加熱空気の温度よりも高く、
前記第4エリアの加熱空気の温度は、前記第3エリアの加熱空気の温度よりも低い、請求項1に記載のフィルムの製造システム。 the first drying section has a first area and a second area disposed downstream of the first area in a transport direction of the base material,
the second drying section has a third area disposed downstream of the second area in the transport direction of the base material, and a fourth area disposed downstream of the third area in the transport direction of the base material,
The temperature of the heated air in the second area is higher than the temperature of the heated air in the first area,
The film manufacturing system according to claim 1 , wherein the temperature of the heated air in the fourth area is lower than the temperature of the heated air in the third area.
前記塗工装置を用いて前記基材上に前記塗膜を形成する塗工工程と、
前記乾燥装置を用いて前記塗膜を乾燥させる乾燥工程と
を含む、フィルムの製造方法。 A method for producing a film using the film production system according to any one of claims 1 to 6, comprising the steps of:
a coating step of forming the coating film on the substrate using the coating device;
and drying the coating film using the drying device.
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