Deprecated: The each() function is deprecated. This message will be suppressed on further calls in /home/zhenxiangba/zhenxiangba.com/public_html/phproxy-improved-master/index.php on line 456
JP7613077B2 - Resin composition and high frequency device - Google Patents
[go: Go Back, main page]

JP7613077B2 - Resin composition and high frequency device - Google Patents

Resin composition and high frequency device Download PDF

Info

Publication number
JP7613077B2
JP7613077B2 JP2020206091A JP2020206091A JP7613077B2 JP 7613077 B2 JP7613077 B2 JP 7613077B2 JP 2020206091 A JP2020206091 A JP 2020206091A JP 2020206091 A JP2020206091 A JP 2020206091A JP 7613077 B2 JP7613077 B2 JP 7613077B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
inorganic filler
particle size
resin composition
peak
size distribution
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2020206091A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2022093030A (en
Inventor
格 山浦
道俊 荒田
貴大 齋藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Resonac Corp
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
Showa Denko Materials Co Ltd
Resonac Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd, Showa Denko Materials Co Ltd, Resonac Corp filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
Priority to JP2020206091A priority Critical patent/JP7613077B2/en
Publication of JP2022093030A publication Critical patent/JP2022093030A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP7613077B2 publication Critical patent/JP7613077B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Description

本発明は、樹脂組成物及び高周波デバイスに関する。 The present invention relates to a resin composition and a high-frequency device.

近年の電子機器の高機能化、軽薄短小化の要求に伴い電子部品の高密度集積化、さらには高密度実装化が進んできており、これらの電子機器に使用される半導体パッケージは、従来にも増して、益々、小型化が進んでいる。さらに、電子機器の通信に使用される電波の高周波化も進んでいる。 In recent years, with the demand for electronic devices to have higher functionality and to be lighter, thinner, shorter, and smaller, electronic components have become more densely integrated and even more densely mounted, and the semiconductor packages used in these electronic devices are becoming smaller and smaller than ever before. Furthermore, the radio waves used for communication between electronic devices are becoming higher in frequency.

半導体パッケージの小型化、及び高周波への対応の点から、半導体素子の封止に用いる高誘電率エポキシ樹脂組成物が提案されている(例えば、特許文献1参照)。 In order to reduce the size of semiconductor packages and accommodate high frequencies, high-dielectric epoxy resin compositions have been proposed for use in sealing semiconductor elements (see, for example, Patent Document 1).

特開2015-36410号公報JP 2015-36410 A

ところで、半導体パッケージ(PKG)の小型化及び高機能化に伴い、アンテナ機能を有するPKGであるアンテナ・イン・パッケージ(AiP)の開発も進められている。アンテナを封止する封止材料として比誘電率が高い材料を用いることで、AiPの小型化を図ることが可能である。 As semiconductor packages (PKGs) become smaller and more functional, development is also underway on antenna-in-package (AiP), which is a PKG that has an antenna function. By using a material with a high relative dielectric constant as the sealing material for sealing the antenna, it is possible to miniaturize the AiP.

また、アンテナを封止する封止材料等の樹脂組成物は、成形性の観点から高い流動性を有することが望ましい。 In addition, it is desirable for the resin composition, such as the sealing material that seals the antenna, to have high fluidity from the viewpoint of moldability.

本開示は、流動性に優れ、かつ高い比誘電率を有する硬化物を製造可能である樹脂組成物、及び、この樹脂組成物を硬化してなる硬化物を有する高周波デバイスを提供することを課題とする。 The objective of the present disclosure is to provide a resin composition capable of producing a cured product having excellent fluidity and a high dielectric constant, and a high-frequency device having a cured product obtained by curing this resin composition.

前記課題を解決するための具体的手段には、以下の態様が含まれる。
<1> エポキシ樹脂と、硬化剤と、チタン元素を含む第1の無機充填材と、粒度分布のピーク粒径が前記第1の無機充填材における粒度分布のピーク粒径と異なる第2の無機充填材と、を含有し、アンテナを有する高周波デバイスでの成形に用いるための樹脂組成物。
<2> 前記第1の無機充填材は、10GHzでの比誘電率が10以上である<1>に記載の樹脂組成物。
<3> 前記第1の無機充填材の含有率は、前記第1の無機充填材及び前記第2の無機充填材の全量に対して60質量%~95質量%である<1>又は<2>に記載の樹脂組成物。
<4> 前記第1の無機充填材及び前記第2の無機充填材の組み合わせの粒度分布が、少なくとも3つのピークを有する<1>~<3>のいずれか1つに記載の樹脂組成物。
<5> 前記第2の無機充填材は、粒度分布のピーク粒径が0.1μm~5μmである第3の無機充填材と、粒度分布のピーク粒径が7μm~100μmである第4の無機充填材と、を含む<1>~<4>のいずれか1つに記載の樹脂組成物。
<6> 前記第1の無機充填材において、粒度分布のピーク粒径が前記第3の無機充填材のピーク粒径よりも大きく、前記第4の無機充填材のピーク粒径よりも小さい<5>に記載の樹脂組成物。
<7> 前記第3の無機充填材に対する前記第4の無機充填材の質量比率(第4の無機充填材/第3の無機充填材)は、0.1~5である<5>又は<6>に記載の樹脂組成物。
<8> 第2の無機充填材は、アルミナ及びシリカの少なくとも一方を含む<1>~<7>のいずれか1つに記載の樹脂組成物。
<9> 前記第1の無機充填材は、チタン酸バリウム、チタン酸カルシウム及びチタン酸ストロンチウムからなる群より選択される少なくとも1種を含む<1>~<8>のいずれか1つに記載の樹脂組成物。
<10> エポキシ樹脂と、硬化剤と、無機充填材と、を含有し、前記無機充填材の粒度分布が、少なくとも3つのピークを有し、前記無機充填材が、チタン元素を含む第1の無機充填材を含む樹脂組成物。
<11> 前記無機充填材の粒度分布が、0.1μm~5μmの範囲に位置する第1のピーク、0.5μm~30μmの範囲に位置する第2のピーク及び7μm~100μmの範囲に位置する第3のピークを有し、第1ピークの値<第2ピークの値<第3ピークの値である<10>に記載の樹脂組成物。
<12> アンテナと、<1>~<11>のいずれか1つに記載の樹脂組成物の硬化物と、を有する高周波デバイス。
Specific means for solving the above problems include the following aspects.
<1> A resin composition for use in molding a high-frequency device having an antenna, comprising: an epoxy resin; a curing agent; a first inorganic filler containing elemental titanium; and a second inorganic filler having a peak particle size in a particle size distribution different from a peak particle size in the particle size distribution of the first inorganic filler.
<2> The resin composition according to <1>, wherein the first inorganic filler has a relative dielectric constant of 10 or more at 10 GHz.
<3> The resin composition according to <1> or <2>, wherein the content of the first inorganic filler is 60% by mass to 95% by mass based on the total amount of the first inorganic filler and the second inorganic filler.
<4> The resin composition according to any one of <1> to <3>, wherein a particle size distribution of a combination of the first inorganic filler and the second inorganic filler has at least three peaks.
<5> The second inorganic filler includes a third inorganic filler having a particle size distribution peak particle size of 0.1 μm to 5 μm, and a fourth inorganic filler having a particle size distribution peak particle size of 7 μm to 100 μm. The resin composition according to any one of <1> to <4>.
<6> The resin composition according to <5>, wherein the first inorganic filler has a peak particle size in a particle size distribution that is larger than the peak particle size of the third inorganic filler and smaller than the peak particle size of the fourth inorganic filler.
<7> The resin composition according to <5> or <6>, wherein a mass ratio of the fourth inorganic filler to the third inorganic filler (fourth inorganic filler/third inorganic filler) is 0.1 to 5.
<8> The resin composition according to any one of <1> to <7>, wherein the second inorganic filler contains at least one of alumina and silica.
<9> The resin composition according to any one of <1> to <8>, wherein the first inorganic filler includes at least one selected from the group consisting of barium titanate, calcium titanate, and strontium titanate.
<10> A resin composition comprising an epoxy resin, a curing agent, and an inorganic filler, the inorganic filler having a particle size distribution having at least three peaks, the inorganic filler comprising a first inorganic filler containing elemental titanium.
<11> The resin composition according to <10>, wherein the particle size distribution of the inorganic filler has a first peak located in a range of 0.1 μm to 5 μm, a second peak located in a range of 0.5 μm to 30 μm, and a third peak located in a range of 7 μm to 100 μm, and the value of the first peak < the value of the second peak < the value of the third peak.
<12> A high-frequency device comprising an antenna and a cured product of the resin composition according to any one of <1> to <11>.

本開示によれば、流動性に優れ、かつ高い比誘電率を有する硬化物を製造可能である樹脂組成物、及び、この樹脂組成物を硬化してなる硬化物を有する高周波デバイスを提供することができる。 The present disclosure provides a resin composition capable of producing a cured product having excellent fluidity and a high dielectric constant, and a high-frequency device having a cured product obtained by curing this resin composition.

本開示において「工程」との語には、他の工程から独立した工程に加え、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の目的が達成されれば、当該工程も含まれる。
本開示において「~」を用いて示された数値範囲には、「~」の前後に記載される数値がそれぞれ最小値及び最大値として含まれる。
本開示中に段階的に記載されている数値範囲において、一つの数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本開示中に記載されている数値範囲において、その数値範囲の上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
本開示において各成分は該当する物質を複数種含んでいてもよい。組成物中に各成分に該当する物質が複数種存在する場合、各成分の含有率又は含有量は、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数種の物質の合計の含有率又は含有量を意味する。
本開示において各成分に該当する粒子は複数種含んでいてもよい。組成物中に各成分に該当する粒子が複数種存在する場合、各成分の粒径は、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数種の粒子の混合物についての値を意味する。
In the present disclosure, the term "step" includes not only a step that is independent of other steps, but also a step that cannot be clearly distinguished from other steps as long as the purpose of the step is achieved.
In the present disclosure, the numerical ranges indicated using "to" include the numerical values before and after "to" as the minimum and maximum values, respectively.
In the numerical ranges described in the present disclosure in stages, the upper or lower limit value described in one numerical range may be replaced with the upper or lower limit value of another numerical range described in stages. In addition, in the numerical ranges described in the present disclosure, the upper or lower limit value of the numerical range may be replaced with a value shown in the examples.
In the present disclosure, each component may contain multiple types of the corresponding substance. When multiple substances corresponding to each component are present in the composition, the content or amount of each component means the total content or amount of the multiple substances present in the composition, unless otherwise specified.
In the present disclosure, the particles corresponding to each component may include multiple types. When multiple types of particles corresponding to each component are present in the composition, the particle size of each component means the value for a mixture of the multiple types of particles present in the composition, unless otherwise specified.

<樹脂組成物>
本開示の樹脂組成物は、エポキシ樹脂と、硬化剤と、チタン元素を含む第1の無機充填材と、粒度分布のピーク粒径が前記第1の無機充填材における粒度分布のピーク粒径と異なる第2の無機充填材と、を含有し、アンテナを有する高周波デバイスでの成形に用いるための樹脂組成物である。
<Resin Composition>
The resin composition of the present disclosure contains an epoxy resin, a curing agent, a first inorganic filler containing elemental titanium, and a second inorganic filler having a peak particle size in a particle size distribution different from the peak particle size in the particle size distribution of the first inorganic filler, and is a resin composition for use in molding a high-frequency device having an antenna.

本開示の樹脂組成物は、第1の無機充填材及び第2の無機充填材を含有することで流動性に優れ、かつ高い比誘電率を有する硬化物を製造可能である。この理由としては以下のように推測される。本開示の樹脂組成物がチタン元素を含む第1の無機充填材を含有することで高い比誘電率を有する硬化物を製造することができる。さらに、本開示の樹脂組成物がピーク粒径の異なる2種以上の無機充填材を含むことで流動性に優れる。 The resin composition of the present disclosure contains a first inorganic filler and a second inorganic filler, and therefore it is possible to produce a cured product having excellent fluidity and a high relative dielectric constant. The reason for this is presumed to be as follows. The resin composition of the present disclosure contains a first inorganic filler containing elemental titanium, and therefore it is possible to produce a cured product having a high relative dielectric constant. Furthermore, the resin composition of the present disclosure contains two or more inorganic fillers with different peak particle sizes, and therefore it has excellent fluidity.

本開示の樹脂組成物は、ピーク粒径の異なる2種の無機充填材を含む構成に限定されない。例えば、チタン元素を含む第1の無機充填材が、チタン元素を含み、ピーク粒径の異なる2種以上の無機充填材からなるものであってもよく、第2の無機充填材が、ピーク粒径の異なる2種以上の無機充填材からなるものであってもよい。第1の無機充填材が、チタン元素を含み、ピーク粒径の異なる2種以上の無機充填材からなる場合、第2の無機充填材は、第1の無機充填材におけるピーク粒径の異なる2種以上の無機充填材のいずれか1種に対してピーク粒径が異なっていればよい。第2の無機充填材が、ピーク粒径の異なる2種以上の無機充填材からなる場合、第1の無機充填材は、第2の無機充填材におけるピーク粒径の異なる2種以上の無機充填材のいずれか1種に対してピーク粒径が異なっていればよい。 The resin composition of the present disclosure is not limited to a configuration containing two inorganic fillers with different peak particle sizes. For example, the first inorganic filler containing titanium element may be composed of two or more inorganic fillers containing titanium element and having different peak particle sizes, and the second inorganic filler may be composed of two or more inorganic fillers with different peak particle sizes. When the first inorganic filler contains titanium element and is composed of two or more inorganic fillers with different peak particle sizes, the second inorganic filler may have a peak particle size different from any one of the two or more inorganic fillers with different peak particle sizes in the first inorganic filler. When the second inorganic filler is composed of two or more inorganic fillers with different peak particle sizes, the first inorganic filler may have a peak particle size different from any one of the two or more inorganic fillers with different peak particle sizes in the second inorganic filler.

本開示の樹脂組成物は、アンテナを有する高周波デバイスでの成形に用いるための樹脂組成物であり、例えば、低圧トランスファ成形法、インジェクション成形法、圧縮成形法等の各種成形法を用いて樹脂成形物を製造するために用いられるものである。本開示の樹脂組成物は、アンテナを封止するために用いられる組成物であってもよい。樹脂組成物は、高い比誘電率と低い誘電正接との両立が要求される半導体パッケージ用途に用いられることが好ましく、例えば、アンテナ・イン・パッケージ(AIP)に用いられることがより好ましい。 The resin composition of the present disclosure is a resin composition for use in molding a high-frequency device having an antenna, and is used to manufacture a resin molded product using various molding methods such as low-pressure transfer molding, injection molding, and compression molding. The resin composition of the present disclosure may be a composition used to seal an antenna. The resin composition is preferably used in semiconductor packaging applications that require both a high relative dielectric constant and a low dielectric loss tangent, and is more preferably used, for example, in an antenna-in-package (AIP).

以下、樹脂組成物を構成する各成分について説明する。本実施形態の樹脂組成物は、エポキシ樹脂と、硬化剤と、第1の無機充填材と、第2の無機充填材と、を含有し、必要に応じてその他の成分を含有してもよい。 The components constituting the resin composition are described below. The resin composition of this embodiment contains an epoxy resin, a curing agent, a first inorganic filler, and a second inorganic filler, and may contain other components as necessary.

(エポキシ樹脂)
エポキシ樹脂は、分子中にエポキシ基を有するものであればその種類は特に制限されない。
(Epoxy resin)
The type of epoxy resin is not particularly limited as long as it has an epoxy group in the molecule.

エポキシ樹脂として具体的には、フェノール、クレゾール、キシレノール、レゾルシン、カテコール、ビスフェノールA、ビスフェノールF等のフェノール化合物及びα-ナフトール、β-ナフトール、ジヒドロキシナフタレン等のナフトール化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種のフェノール性化合物と、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド等の脂肪族アルデヒド化合物とを酸性触媒下で縮合又は共縮合させて得られるノボラック樹脂をエポキシ化したものであるノボラック型エポキシ樹脂(フェノールノボラック型エポキシ樹脂、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂等);上記フェノール性化合物と、ベンズアルデヒド、サリチルアルデヒド等の芳香族アルデヒド化合物とを酸性触媒下で縮合又は共縮合させて得られるトリフェニルメタン型フェノール樹脂をエポキシ化したものであるトリフェニルメタン型エポキシ樹脂;上記フェノール化合物及びナフトール化合物と、アルデヒド化合物とを酸性触媒下で共縮合させて得られるノボラック樹脂をエポキシ化したものである共重合型エポキシ樹脂;ビスフェノールA、ビスフェノールF等のジグリシジルエーテルであるジフェニルメタン型エポキシ樹脂;アルキル置換又は非置換のビフェノールのジグリシジルエーテルであるビフェニル型エポキシ樹脂;スチルベン系フェノール化合物のジグリシジルエーテルであるスチルベン型エポキシ樹脂;ビスフェノールS等のジグリシジルエーテルである硫黄原子含有エポキシ樹脂;ブタンジオール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等のアルコール類のグリシジルエーテルであるエポキシ樹脂;フタル酸、イソフタル酸、テトラヒドロフタル酸等の多価カルボン酸化合物のグリシジルエステルであるグリシジルエステル型エポキシ樹脂;アニリン、ジアミノジフェニルメタン、イソシアヌル酸等の窒素原子に結合した活性水素をグリシジル基で置換したものであるグリシジルアミン型エポキシ樹脂;ジシクロペンタジエンとフェノール化合物の共縮合樹脂をエポキシ化したものであるジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂;分子内のオレフィン結合をエポキシ化したものであるビニルシクロヘキセンジエポキシド、3,4-エポキシシクロヘキシルメチル-3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、2-(3,4-エポキシ)シクロヘキシル-5,5-スピロ(3,4-エポキシ)シクロヘキサン-m-ジオキサン等の脂環型エポキシ樹脂;パラキシリレン変性フェノール樹脂のグリシジルエーテルであるパラキシリレン変性エポキシ樹脂;メタキシリレン変性フェノール樹脂のグリシジルエーテルであるメタキシリレン変性エポキシ樹脂;テルペン変性フェノール樹脂のグリシジルエーテルであるテルペン変性エポキシ樹脂;ジシクロペンタジエン変性フェノール樹脂のグリシジルエーテルであるジシクロペンタジエン変性エポキシ樹脂;シクロペンタジエン変性フェノール樹脂のグリシジルエーテルであるシクロペンタジエン変性エポキシ樹脂;多環芳香環変性フェノール樹脂のグリシジルエーテルである多環芳香環変性エポキシ樹脂;ナフタレン環含有フェノール樹脂のグリシジルエーテルであるナフタレン型エポキシ樹脂;ハロゲン化フェノールノボラック型エポキシ樹脂;ハイドロキノン型エポキシ樹脂;トリメチロールプロパン型エポキシ樹脂;オレフィン結合を過酢酸等の過酸で酸化して得られる線状脂肪族エポキシ樹脂;フェノールアラルキル樹脂、ナフトールアラルキル樹脂等のアラルキル型フェノール樹脂をエポキシ化したものであるアラルキル型エポキシ樹脂;などが挙げられる。さらにはアクリル樹脂のエポキシ化物等もエポキシ樹脂として挙げられる。これらのエポキシ樹脂は、1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
耐熱性の観点から、エポキシ樹脂は、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂を含有することが好ましい。
Specific examples of epoxy resins include novolac-type epoxy resins (phenol novolac-type epoxy resins, orthocresol novolac-type epoxy resins, etc.) which are obtained by epoxidizing a novolac resin obtained by condensing or co-condensing at least one phenolic compound selected from the group consisting of phenolic compounds such as phenol, cresol, xylenol, resorcin, catechol, bisphenol A, bisphenol F, etc., and naphthol compounds such as α-naphthol, β-naphthol, dihydroxynaphthalene, etc., with an aliphatic aldehyde compound such as formaldehyde, acetaldehyde, propionaldehyde, etc., under an acidic catalyst; and triphenylmethane-type phenolic resins which are obtained by condensing or co-condensing the above-mentioned phenolic compound with an aromatic aldehyde compound such as benzaldehyde, salicylaldehyde, etc., under an acidic catalyst. diphenylmethane-type epoxy resins; copolymer epoxy resins obtained by epoxidizing novolak resins obtained by co-condensing the above-mentioned phenol compounds and naphthol compounds with aldehyde compounds under an acidic catalyst; diphenylmethane-type epoxy resins which are diglycidyl ethers of bisphenol A, bisphenol F, etc.; biphenyl-type epoxy resins which are diglycidyl ethers of alkyl-substituted or unsubstituted biphenols; stilbene-type epoxy resins which are diglycidyl ethers of stilbene-based phenol compounds; sulfur-containing epoxy resins which are diglycidyl ethers of bisphenol S, etc.; epoxy resins which are glycidyl ethers of alcohols such as butanediol, polyethylene glycol, and polypropylene glycol; glycidyl ester-type epoxy resins which are glycidyl esters of polyvalent carboxylic acid compounds such as phthalic acid, isophthalic acid, and tetrahydrophthalic acid. glycidylamine-type epoxy resins in which active hydrogen attached to nitrogen atoms of aniline, diaminodiphenylmethane, isocyanuric acid, etc. is replaced with a glycidyl group; dicyclopentadiene-type epoxy resins in which a co-condensed resin of dicyclopentadiene and a phenol compound is epoxidized; alicyclic epoxy resins such as vinylcyclohexene diepoxide, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, and 2-(3,4-epoxy)cyclohexyl-5,5-spiro(3,4-epoxy)cyclohexane-m-dioxane in which an olefin bond in a molecule is epoxidized; paraxylylene-modified epoxy resins which are glycidyl ethers of paraxylylene-modified phenol resins; metaxylylene-modified epoxy resins which are glycidyl ethers of metaxylylene-modified phenol resins; terpene-modified phenol resins Terpene-modified epoxy resins are glycidyl ethers of phenol resins; dicyclopentadiene-modified epoxy resins are glycidyl ethers of dicyclopentadiene-modified phenol resins; cyclopentadiene-modified epoxy resins are glycidyl ethers of cyclopentadiene-modified phenol resins; polycyclic aromatic ring-modified epoxy resins are glycidyl ethers of polycyclic aromatic ring-modified phenol resins; naphthalene-type epoxy resins are glycidyl ethers of naphthalene ring-containing phenol resins; halogenated phenol novolac-type epoxy resins; hydroquinone-type epoxy resins; trimethylolpropane-type epoxy resins; linear aliphatic epoxy resins obtained by oxidizing olefin bonds with peracids such as peracetic acid; aralkyl-type epoxy resins obtained by epoxidizing aralkyl-type phenol resins such as phenol aralkyl resins and naphthol aralkyl resins; and the like. Furthermore, epoxy-oxidized acrylic resins and the like can also be mentioned as epoxy resins. These epoxy resins may be used alone or in combination of two or more.
From the viewpoint of heat resistance, the epoxy resin preferably contains a triphenylmethane type epoxy resin.

エポキシ樹脂のエポキシ当量(分子量/エポキシ基数)は、特に制限されない。成形性、耐熱性、電気的信頼等の各種特性バランスの観点からは、100g/eq~1000g/eqであることが好ましく、150g/eq~500g/eqであることがより好ましい。 The epoxy equivalent (molecular weight/number of epoxy groups) of the epoxy resin is not particularly limited. From the viewpoint of the balance of various properties such as moldability, heat resistance, and electrical reliability, it is preferably 100 g/eq to 1000 g/eq, and more preferably 150 g/eq to 500 g/eq.

エポキシ樹脂のエポキシ当量は、JIS K 7236:2009に準じた方法で測定される値とする。 The epoxy equivalent of the epoxy resin is the value measured using a method conforming to JIS K 7236:2009.

エポキシ樹脂が固体である場合、その軟化点又は融点は特に制限されない。成形性と耐熱性の観点からは40℃~180℃であることが好ましく、樹脂組成物の調製の際の取扱い性の観点からは50℃~130℃であることがより好ましい。 When the epoxy resin is solid, its softening point or melting point is not particularly limited. From the viewpoints of moldability and heat resistance, it is preferably 40°C to 180°C, and from the viewpoint of handleability when preparing the resin composition, it is more preferably 50°C to 130°C.

エポキシ樹脂の軟化点又は融点は、示差走査熱量測定(DSC)又はJIS K 7234:1986に準じた方法(環球法)で測定される値とする。 The softening point or melting point of the epoxy resin is a value measured by differential scanning calorimetry (DSC) or a method conforming to JIS K 7234:1986 (ring and ball method).

樹脂組成物中のエポキシ樹脂の含有率は、強度、流動性、耐熱性、成形性等の観点から0.5質量%~20質量%であることが好ましく、2質量%~15質量%であることがより好ましく、3質量%~10質量%であることがさらに好ましい。 From the viewpoints of strength, fluidity, heat resistance, moldability, etc., the content of the epoxy resin in the resin composition is preferably 0.5% by mass to 20% by mass, more preferably 2% by mass to 15% by mass, and even more preferably 3% by mass to 10% by mass.

(硬化剤)
樹脂組成物は、硬化剤を含有する。硬化剤としては、エポキシ樹脂中のエポキシ基と反応する官能基を有する化合物であればよい。
(Hardening agent)
The resin composition contains a curing agent. The curing agent may be any compound having a functional group that reacts with the epoxy group in the epoxy resin.

硬化剤としては、特に限定されず、フェノール硬化剤、アミン硬化剤、酸無水物硬化剤、ポリメルカプタン硬化剤、ポリアミノアミド硬化剤、イソシアネート硬化剤、ブロックイソシアネート硬化剤、エステル硬化剤等が挙げられる。これらの硬化剤は、1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。 The curing agent is not particularly limited, and examples thereof include phenol curing agents, amine curing agents, acid anhydride curing agents, polymercaptan curing agents, polyaminoamide curing agents, isocyanate curing agents, blocked isocyanate curing agents, and ester curing agents. These curing agents may be used alone or in combination of two or more.

硬化物の誘電正接を低く抑える観点及び成形性の観点から、硬化剤は、フェノール硬化剤を含んでいてもよい。 The curing agent may contain a phenolic curing agent in order to keep the dielectric tangent of the cured product low and to improve moldability.

フェノール硬化剤として具体的には、レゾルシン、カテコール、ビスフェノールA、ビスフェノールF、置換又は非置換のビフェノール等の多価フェノール化合物;フェノール、クレゾール、キシレノール、レゾルシン、カテコール、ビスフェノールA、ビスフェノールF、フェニルフェノール、アミノフェノール等のフェノール化合物及びα-ナフトール、β-ナフトール、ジヒドロキシナフタレン等のナフトール化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種のフェノール性化合物と、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド等のアルデヒド化合物とを酸性触媒下で縮合又は共縮合させて得られるノボラック型フェノール樹脂;上記フェノール性化合物と、ジメトキシパラキシレン、ビス(メトキシメチル)ビフェニル等とから合成されるフェノールアラルキル樹脂、ナフトールアラルキル樹脂等のアラルキル型フェノール樹脂;パラキシリレン変性フェノール樹脂、メタキシリレン変性フェノール樹脂;メラミン変性フェノール樹脂;テルペン変性フェノール樹脂;上記フェノール性化合物と、ジシクロペンタジエンとから共重合により合成されるジシクロペンタジエン型フェノール樹脂及びジシクロペンタジエン型ナフトール樹脂;シクロペンタジエン変性フェノール樹脂;多環芳香環変性フェノール樹脂;ビフェニル型フェノール樹脂;上記フェノール性化合物と、ベンズアルデヒド、サリチルアルデヒド等の芳香族アルデヒド化合物とを酸性触媒下で縮合又は共縮合させて得られるトリフェニルメタン型フェノール樹脂;これら2種以上を共重合して得たフェノール樹脂などが挙げられる。これらのフェノール硬化剤は、1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。 Specific examples of phenolic hardeners include polyhydric phenolic compounds such as resorcin, catechol, bisphenol A, bisphenol F, and substituted or unsubstituted biphenol; novolak-type phenolic resins obtained by condensing or co-condensing at least one phenolic compound selected from the group consisting of phenolic compounds such as phenol, cresol, xylenol, resorcin, catechol, bisphenol A, bisphenol F, phenylphenol, and aminophenol, and naphthol compounds such as α-naphthol, β-naphthol, and dihydroxynaphthalene, with aldehyde compounds such as formaldehyde, acetaldehyde, and propionaldehyde, under an acid catalyst; and novolak-type phenolic resins synthesized from the above phenolic compounds and dimethoxy-para-xylene, bis(methoxymethyl)biphenyl, etc. Examples of the phenol curing agent include aralkyl-type phenolic resins such as phenol aralkyl resins and naphthol aralkyl resins; paraxylylene-modified phenolic resins, metaxylylene-modified phenolic resins; melamine-modified phenolic resins; terpene-modified phenolic resins; dicyclopentadiene-type phenolic resins and dicyclopentadiene-type naphthol resins synthesized by copolymerization of the above-mentioned phenolic compounds and dicyclopentadiene; cyclopentadiene-modified phenolic resins; polycyclic aromatic ring-modified phenolic resins; biphenyl-type phenolic resins; triphenylmethane-type phenolic resins obtained by condensing or co-condensing the above-mentioned phenolic compounds with aromatic aldehyde compounds such as benzaldehyde and salicylaldehyde under an acid catalyst; and phenolic resins obtained by copolymerizing two or more of these. These phenolic curing agents may be used alone or in combination of two or more.

硬化剤の官能基当量(例えば、フェノール硬化剤の場合は水酸基当量)は、特に制限されない。成形性、耐熱性、電気的信頼性等の各種特性バランスの観点からは、70g/eq~1000g/eqであることが好ましく、80g/eq~500g/eqであることがより好ましい。
硬化剤の官能基当量(例えば、フェノール硬化剤の場合は水酸基当量)は、JIS K 0070:1992に準じた方法により測定される値とする。
The functional group equivalent of the curing agent (for example, the hydroxyl group equivalent in the case of a phenolic curing agent) is not particularly limited. From the viewpoint of the balance of various properties such as moldability, heat resistance, and electrical reliability, it is preferably 70 g/eq to 1000 g/eq, and more preferably 80 g/eq to 500 g/eq.
The functional group equivalent of the curing agent (for example, the hydroxyl group equivalent in the case of a phenolic curing agent) is a value measured by a method in accordance with JIS K 0070:1992.

硬化剤が固体である場合、その軟化点又は融点は、特に制限されない。成形性と耐熱性の観点からは、40℃~180℃であることが好ましく、樹脂組成物の製造時における取扱い性の観点からは、50℃~130℃であることがより好ましい。 When the curing agent is a solid, its softening point or melting point is not particularly limited. From the viewpoints of moldability and heat resistance, it is preferably 40°C to 180°C, and from the viewpoint of handleability during production of the resin composition, it is more preferably 50°C to 130°C.

硬化剤の軟化点又は融点は、エポキシ樹脂の軟化点又は融点と同様にして測定される値とする。 The softening point or melting point of the hardener shall be a value measured in the same manner as the softening point or melting point of the epoxy resin.

エポキシ樹脂と硬化剤との当量比、すなわちエポキシ樹脂中の官能基数に対する硬化剤中の官能基数の比(硬化剤中の官能基数/エポキシ樹脂中の官能基数)は、特に制限されない。それぞれの未反応分を少なく抑える観点からは、0.5~2.0の範囲に設定されることが好ましく、0.6~1.3の範囲に設定されることがより好ましい。成形性と耐熱性の観点からは、0.8~1.2の範囲に設定されることがさらに好ましい。 The equivalent ratio of the epoxy resin to the curing agent, i.e., the ratio of the number of functional groups in the curing agent to the number of functional groups in the epoxy resin (number of functional groups in the curing agent/number of functional groups in the epoxy resin), is not particularly limited. From the viewpoint of keeping the amount of unreacted components low, it is preferably set in the range of 0.5 to 2.0, and more preferably in the range of 0.6 to 1.3. From the viewpoint of moldability and heat resistance, it is even more preferable to set it in the range of 0.8 to 1.2.

(硬化促進剤)
樹脂組成物は、硬化促進剤を含有していてもよい。硬化促進剤の種類は特に制限されず、エポキシ樹脂又は硬化剤の種類、樹脂組成物の所望の特性等に応じて選択できる。
(Cure Accelerator)
The resin composition may contain a curing accelerator. The type of the curing accelerator is not particularly limited and can be selected depending on the type of epoxy resin or curing agent, the desired properties of the resin composition, and the like.

硬化促進剤としては、1,5-ジアザビシクロ[4.3.0]ノネン-5(DBN)、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン-7(DBU)等のジアザビシクロアルケン、2-メチルイミダゾール、2-フェニルイミダゾール、2-フェニル-4-メチルイミダゾール、2-ヘプタデシルイミダゾール等の環状アミジン化合物;前記環状アミジン化合物の誘導体;前記環状アミジン化合物又はその誘導体のフェノールノボラック塩;これらの化合物に無水マレイン酸、1,4-ベンゾキノン、2,5-トルキノン、1,4-ナフトキノン、2,3-ジメチルベンゾキノン、2,6-ジメチルベンゾキノン、2,3-ジメトキシ-5-メチル-1,4-ベンゾキノン、2,3-ジメトキシ-1,4-ベンゾキノン、フェニル-1,4-ベンゾキノン等のキノン化合物、ジアゾフェニルメタンなどの、π結合をもつ化合物を付加してなる分子内分極を有する化合物;DBUのテトラフェニルボレート塩、DBNのテトラフェニルボレート塩、2-エチル-4-メチルイミダゾールのテトラフェニルボレート塩、N-メチルモルホリンのテトラフェニルボレート塩等の環状アミジニウム化合物及びイソシアネートを付加してなる化合物;DBUのイソシアネート付加物、DBNのイソシアネート付加物、2-エチル-4-メチルイミダゾールのイソシアネート付加物、N-メチルモルホリンのイソシアネート付加物;ピリジン、トリエチルアミン、トリエチレンジアミン、ベンジルジメチルアミン、トリエタノールアミン、ジメチルアミノエタノール、トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール等の三級アミン化合物;前記三級アミン化合物の誘導体;酢酸テトラ-n-ブチルアンモニウム、リン酸テトラ-n-ブチルアンモニウム、酢酸テトラエチルアンモニウム、安息香酸テトラ-n-ヘキシルアンモニウム、水酸化テトラプロピルアンモニウム等のアンモニウム塩化合物;エチルホスフィン、フェニルホスフィン等の第1ホスフィン、ジメチルホスフィン、ジフェニルホスフィン等の第2ホスフィン、トリフェニルホスフィン、ジフェニル(p-トリル)ホスフィン、トリス(アルキルフェニル)ホスフィン、トリス(アルコキシフェニル)ホスフィン、トリス(アルキル・アルコキシフェニル)ホスフィン、トリス(ジアルキルフェニル)ホスフィン、トリス(トリアルキルフェニル)ホスフィン、トリス(テトラアルキルフェニル)ホスフィン、トリス(ジアルコキシフェニル)ホスフィン、トリス(トリアルコキシフェニル)ホスフィン、トリス(テトラアルコキシフェニル)ホスフィン、トリアルキルホスフィン、ジアルキルアリールホスフィン、アルキルジアリールホスフィン、トリナフチルホスフィン、トリス(ベンジル)ホスフィン等の三級ホスフィンなどの、有機ホスフィン;前記有機ホスフィンと有機ボロン類との錯体等のホスフィン化合物;前記有機ホスフィン又は前記ホスフィン化合物と無水マレイン酸、1,4-ベンゾキノン、2,5-トルキノン、1,4-ナフトキノン、2,3-ジメチルベンゾキノン、2,6-ジメチルベンゾキノン、2,3-ジメトキシ-5-メチル-1,4-ベンゾキノン、2,3-ジメトキシ-1,4-ベンゾキノン、フェニル-1,4-ベンゾキノン、アントラキノン等のキノン化合物、ジアゾフェニルメタンなどの、π結合をもつ化合物を付加してなる分子内分極を有する化合物;前記有機ホスフィン又は前記ホスフィン化合物と4-ブロモフェノール、3-ブロモフェノール、2-ブロモフェノール、4-クロロフェノール、3-クロロフェノール、2-クロロフェノール、4-ヨウ化フェノール、3-ヨウ化フェノール、2-ヨウ化フェノール、4-ブロモ-2-メチルフェノール、4-ブロモ-3-メチルフェノール、4-ブロモ-2,6-ジメチルフェノール、4-ブロモ-3,5-ジメチルフェノール、4-ブロモ-2,6-ジ-tert-ブチルフェノール、4-クロロ-1-ナフトール、1-ブロモ-2-ナフトール、6-ブロモ-2-ナフトール、4-ブロモ-4’-ヒドロキシビフェニル等のハロゲン化フェノール化合物を反応させた後に、脱ハロゲン化水素の工程を経て得られる、分子内分極を有する化合物;テトラフェニルホスホニウム等のテトラ置換ホスホニウム、テトラフェニルホスホニウムテトラ-p-トリルボレート等のテトラ置換ホスホニウムのテトラフェニルボレート塩、テトラ置換ホスホニウムとフェノール化合物との塩などの、テトラ置換ホスホニウム化合物;テトラアルキルホスホニウムと芳香族カルボン酸無水物の部分加水分解物との塩;ホスホベタイン化合物;ホスホニウム化合物とシラン化合物との付加物;などが挙げられる。
硬化促進剤は1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
これらの中でも、特に好適な硬化促進剤としては、トリフェニルホスフィン、トリフェニルホスフィンとキノン化合物との付加物、トリブチルホスフィンとキノン化合物との付加物、トリ-p-トリルホスフィンとキノン化合物との付加物等が挙げられる。
Examples of the curing accelerator include diazabicycloalkenes such as 1,5-diazabicyclo[4.3.0]nonene-5 (DBN) and 1,8-diazabicyclo[5.4.0]undecene-7 (DBU), cyclic amidine compounds such as 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, and 2-heptadecylimidazole; derivatives of the cyclic amidine compounds; phenol novolac salts of the cyclic amidine compounds or their derivatives; and combinations of these compounds with maleic anhydride, 1,4-benzoquinone, 2,5-toluquinone, 1,4-naphthoquinone, and the like. quinone compounds such as quinone, 2,3-dimethylbenzoquinone, 2,6-dimethylbenzoquinone, 2,3-dimethoxy-5-methyl-1,4-benzoquinone, 2,3-dimethoxy-1,4-benzoquinone, and phenyl-1,4-benzoquinone; compounds having intramolecular polarization obtained by adding a compound having a π bond, such as diazophenylmethane; cyclic amidini such as tetraphenylborate salt of DBU, tetraphenylborate salt of DBN, tetraphenylborate salt of 2-ethyl-4-methylimidazole, and tetraphenylborate salt of N-methylmorpholine; ammonium compounds and compounds obtained by adding isocyanates; an isocyanate adduct of DBU, an isocyanate adduct of DBN, an isocyanate adduct of 2-ethyl-4-methylimidazole, an isocyanate adduct of N-methylmorpholine; tertiary amine compounds such as pyridine, triethylamine, triethylenediamine, benzyldimethylamine, triethanolamine, dimethylaminoethanol, and tris(dimethylaminomethyl)phenol; derivatives of the above tertiary amine compounds; ammonium salt compounds such as tetra-n-butylammonium acetate, tetra-n-butylammonium phosphate, tetraethylammonium acetate, tetra-n-hexylammonium benzoate, and tetrapropylammonium hydroxide; primary phosphines such as ethylphosphine and phenylphosphine, secondary phosphines such as dimethylphosphine and diphenylphosphine, triphenylphosphine, diphenyl(p-tolyl)phosphine, tris(alkylphenyl)phosphine, tris(alkoxyphenyl)phosphine, tris(alkyl.alkoxyphenyl)phosphine, tris(dialkylphenyl)phosphine, tris organic phosphines such as tertiary phosphines such as (trialkylphenyl)phosphine, tris(tetraalkylphenyl)phosphine, tris(dialkoxyphenyl)phosphine, tris(trialkoxyphenyl)phosphine, tris(tetraalkoxyphenyl)phosphine, trialkylphosphine, dialkylarylphosphine, alkyldiarylphosphine, trinaphthylphosphine, and tris(benzyl)phosphine; phosphine compounds such as complexes of the organic phosphines with organoborons; the organic phosphines or the phosphine derivatives compounds having intramolecular polarization obtained by adding a compound having a π bond, such as a quinone compound such as maleic anhydride, 1,4-benzoquinone, 2,5-toluquinone, 1,4-naphthoquinone, 2,3-dimethylbenzoquinone, 2,6-dimethylbenzoquinone, 2,3-dimethoxy-5-methyl-1,4-benzoquinone, 2,3-dimethoxy-1,4-benzoquinone, phenyl-1,4-benzoquinone, or anthraquinone, or a compound having a π bond, such as diazophenylmethane; Halogenated phenols such as phenol, 4-chlorophenol, 3-chlorophenol, 2-chlorophenol, 4-iodophenol, 3-iodophenol, 2-iodophenol, 4-bromo-2-methylphenol, 4-bromo-3-methylphenol, 4-bromo-2,6-dimethylphenol, 4-bromo-3,5-dimethylphenol, 4-bromo-2,6-di-tert-butylphenol, 4-chloro-1-naphthol, 1-bromo-2-naphthol, 6-bromo-2-naphthol, and 4-bromo-4'-hydroxybiphenyl. Examples of such a compound include compounds having intramolecular polarization obtained by reacting a compound and then subjecting the compound to a dehydrohalogenation process; tetra-substituted phosphonium compounds such as tetra-substituted phosphonium compounds such as tetraphenylphosphonium, tetraphenylborate salts of tetra-substituted phosphonium compounds such as tetraphenylphosphonium tetra-p-tolylborate, and salts of tetra-substituted phosphonium compounds with phenol compounds; salts of tetraalkylphosphonium compounds with partial hydrolysates of aromatic carboxylic acid anhydrides; phosphobetaine compounds; and adducts of phosphonium compounds with silane compounds.
The curing accelerators may be used alone or in combination of two or more.
Among these, particularly suitable curing accelerators include triphenylphosphine, an adduct of triphenylphosphine and a quinone compound, an adduct of tributylphosphine and a quinone compound, and an adduct of tri-p-tolylphosphine and a quinone compound.

樹脂組成物が硬化促進剤を含む場合、その量は、樹脂成分100質量部(エポキシ樹脂と硬化剤の合計量)に対して0.1質量部~30質量部であることが好ましく、1質量部~15質量部であることがより好ましい。硬化促進剤の量が樹脂成分100質量部に対して0.1質量部以上であると、短時間で良好に硬化する傾向にある。硬化促進剤の量が樹脂成分100質量部に対して30質量部以下であると、硬化速度が速すぎず良好な成形品が得られる傾向にある。 When the resin composition contains a curing accelerator, the amount is preferably 0.1 to 30 parts by mass, and more preferably 1 to 15 parts by mass, per 100 parts by mass of the resin component (total amount of epoxy resin and curing agent). When the amount of the curing accelerator is 0.1 parts by mass or more per 100 parts by mass of the resin component, the composition tends to cure well in a short time. When the amount of the curing accelerator is 30 parts by mass or less per 100 parts by mass of the resin component, the curing speed is not too fast and a good molded product tends to be obtained.

(第1の無機充填材)
樹脂組成物は、チタン元素を含む第1の無機充填材を含有する。第1の無機充填材は1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
(First inorganic filler)
The resin composition contains a first inorganic filler containing elemental titanium. The first inorganic filler may be used alone or in combination of two or more.

第1の無機充填材は、10GHzでの比誘電率が、10以上であることが好ましく、10~100であることがより好ましく、30~100であることがさらに好ましい。 The first inorganic filler preferably has a relative dielectric constant of 10 or more at 10 GHz, more preferably 10 to 100, and even more preferably 30 to 100.

本開示にて、無機充填材における10GHzでの比誘電率は、以下のようにして求められる値である。まず、エポキシ樹脂(ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂、エポキシ当量274g/eq)100質量部、フェノール硬化剤(フェノールアラルキル樹脂、水酸基当量205g/eq)74.8質量部及びトリフェニルホスフィンの1,4-ベンゾキノン付加物2質量部の樹脂組成物、無機充填材、並びにメチルエチルケトン(MEK)を混合させ、前述の樹脂組成物をMEKに溶解させて樹脂組成物及び無機充填材の合計75質量%であるワニスを作製する。このとき、無機充填材の含有率が溶剤を除く固形分に対して10体積%、20体積%、30体積%であるワニスをそれぞれ準備する。
得られたワニスを基材上に塗布し、100℃、10分の条件で基材を乾燥させた後、基材から樹脂膜を剥離した。得られた樹脂膜を、圧縮成形により、金型温度175℃、成形圧力6.9MPa、硬化時間600秒の条件で成形し、それぞれ測定用硬化物を得る。得られた各測定用硬化物における10GHzでの比誘電率を測定し、無機充填材の含有率を横軸、比誘電率の測定値を縦軸としてプロットしたグラフを作成する。得られたグラフから、最小二乗法により直線近似を行い、無機充填材の含有率が100体積%のときの比誘電率を外挿により求め、「無機充填材全体における比誘電率」とする。
In the present disclosure, the relative dielectric constant at 10 GHz in the inorganic filler is a value obtained as follows. First, a resin composition consisting of 100 parts by mass of an epoxy resin (biphenyl aralkyl type epoxy resin, epoxy equivalent 274 g/eq), 74.8 parts by mass of a phenol curing agent (phenol aralkyl resin, hydroxyl group equivalent 205 g/eq), and 2 parts by mass of a 1,4-benzoquinone adduct of triphenylphosphine, an inorganic filler, and methyl ethyl ketone (MEK) are mixed, and the aforementioned resin composition is dissolved in MEK to prepare a varnish containing 75% by mass of the resin composition and the inorganic filler in total. At this time, varnishes containing 10% by volume, 20% by volume, and 30% by volume of the inorganic filler relative to the solid content excluding the solvent are prepared, respectively.
The obtained varnish was applied onto a substrate, and the substrate was dried at 100°C for 10 minutes, after which the resin film was peeled off from the substrate. The obtained resin film was molded by compression molding under the conditions of a mold temperature of 175°C, molding pressure of 6.9MPa, and curing time of 600 seconds to obtain each of the cured products for measurement. The dielectric constant at 10 GHz of each of the obtained cured products for measurement was measured, and a graph was created in which the content of the inorganic filler was plotted on the horizontal axis and the measured value of the dielectric constant was plotted on the vertical axis. From the obtained graph, a linear approximation was performed by the least squares method, and the dielectric constant when the content of the inorganic filler was 100% by volume was obtained by extrapolation, and this was taken as the "dielectric constant of the entire inorganic filler".

第1の無機充填材は、高い比誘電率を有する硬化物を得る観点から、チタン酸バリウム、チタン酸カルシウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸ジルコン酸亜鉛及び酸化チタンからなる群より選択される少なくとも1種を含むことが好ましく、チタン酸バリウム、チタン酸カルシウム及びチタン酸ストロンチウムからなる群より選択される少なくとも1種を含むことがより好ましい。中でも、球形度が高く、流動性が高い観点から、チタン酸バリウムを含むことが好ましい。 From the viewpoint of obtaining a cured product having a high relative dielectric constant, the first inorganic filler preferably contains at least one selected from the group consisting of barium titanate, calcium titanate, strontium titanate, zinc zirconate titanate, and titanium oxide, and more preferably contains at least one selected from the group consisting of barium titanate, calcium titanate, and strontium titanate. Of these, from the viewpoint of high sphericity and high fluidity, it is preferable that the first inorganic filler contains barium titanate.

第1の無機充填材において、粒度分布のピーク粒径が0.1μm~100μmであることが好ましく、0.5μm~30μmであることがより好ましく、2μm~15μmであることがさらに好ましく、3μm~10μmであることが特に好ましい。 In the first inorganic filler, the peak particle size of the particle size distribution is preferably 0.1 μm to 100 μm, more preferably 0.5 μm to 30 μm, even more preferably 2 μm to 15 μm, and particularly preferably 3 μm to 10 μm.

本開示にて、無機充填材のピーク粒径は、以下のようにして測定することができる。樹脂組成物をるつぼに入れ、800℃で4時間放置し、灰化させる。灰化により得られた無機充填材について、ラマン分光器を備えた画像式粒度分布計(例えば、マルバーン・パナリティカル社のモフォロギ4-ID)を用いて無機充填材の粒度分布を求め、その粒度分布から無機充填材のピーク粒径を求めればよい。 In this disclosure, the peak particle size of the inorganic filler can be measured as follows. The resin composition is placed in a crucible and left at 800°C for 4 hours to be incinerated. The particle size distribution of the inorganic filler obtained by incineration is determined using an imaging particle size distribution analyzer equipped with a Raman spectrometer (e.g., Morphologi 4-ID by Malvern Panalytical Co., Ltd.), and the peak particle size of the inorganic filler can be determined from the particle size distribution.

第1の無機充填材は、樹脂組成物の流動性の観点から、粒度分布のピーク粒径が異なる2種以上の無機充填材であってもよく、粒度分布のピーク粒径が異なる2種の無機充填材であってもよい。 From the viewpoint of the fluidity of the resin composition, the first inorganic filler may be two or more inorganic fillers having different peak particle sizes in the particle size distribution, or may be two inorganic fillers having different peak particle sizes in the particle size distribution.

第1の無機充填材の形状としては、特に限定されず、球形、楕円形、不定形等が挙げられる。また、第1の無機充填材は、破砕されたものであってもよい。 The shape of the first inorganic filler is not particularly limited, and examples of the shape include spherical, elliptical, and amorphous. The first inorganic filler may also be crushed.

第1の無機充填材の含有率は、第1の無機充填材及び第2の無機充填材の全量に対し、60質量%~95質量%であってもよく、70質量%~90質量%であってもよく、80質量%~90質量%であってもよい。第1の無機充填材の含有率が60質量%以上であることにより、樹脂組成物を硬化物とした際の比誘電率がより高まる傾向にある。第1の無機充填材の含有率が95質量%以下であることにより、樹脂組成物の流動性に優れる傾向にある。 The content of the first inorganic filler may be 60% by mass to 95% by mass, 70% by mass to 90% by mass, or 80% by mass to 90% by mass, based on the total amount of the first inorganic filler and the second inorganic filler. When the content of the first inorganic filler is 60% by mass or more, the relative dielectric constant tends to be higher when the resin composition is cured. When the content of the first inorganic filler is 95% by mass or less, the resin composition tends to have excellent fluidity.

第1の無機充填材の含有率は、第1の無機充填材及び第2の無機充填材の全量に対し、40体積%~95体積%であってもよく、50体積%~90体積%であってもよく、65体積%~80体積%であってもよい。第1の無機充填材の含有率が40体積%以上であることにより、樹脂組成物を硬化物とした際の比誘電率がより高まる傾向にある。第1の無機充填材の含有率が95体積%以下であることにより、樹脂組成物の流動性に優れる傾向にある。 The content of the first inorganic filler may be 40% by volume to 95% by volume, 50% by volume to 90% by volume, or 65% by volume to 80% by volume, based on the total amount of the first inorganic filler and the second inorganic filler. When the content of the first inorganic filler is 40% by volume or more, the relative dielectric constant tends to be higher when the resin composition is cured. When the content of the first inorganic filler is 95% by volume or less, the resin composition tends to have excellent fluidity.

(第2の無機充填材)
樹脂組成物は、粒度分布のピーク粒径が第1の無機充填材における粒度分布のピーク粒径と異なる第2の無機充填材を含有する。第2の無機充填材は1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
(Second Inorganic Filler)
The resin composition contains a second inorganic filler having a peak particle size in a particle size distribution different from the peak particle size in the particle size distribution of the first inorganic filler. The second inorganic filler may be used alone or in combination of two or more.

第2の無機充填材は、10GHzでの比誘電率が10未満であってもよく、8未満であってもよく、5未満であってもよい。 The second inorganic filler may have a relative dielectric constant at 10 GHz of less than 10, less than 8, or less than 5.

第2の無機充填材の種類は、特に制限されない。具体的には、溶融シリカ、結晶シリカ、ガラス、アルミナ、タルク、クレー、マイカ等の無機材料が挙げられる。第2の無機充填材として、難燃効果を有する無機充填材を用いてもよい。難燃効果を有する無機充填材としては、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、マグネシウムと亜鉛の複合水酸化物等の複合金属水酸化物、硼酸亜鉛などが挙げられる。第2の無機充填材は、チタン元素を含んでいてもよく、含んでいなくてもよい。 The type of the second inorganic filler is not particularly limited. Specific examples include inorganic materials such as fused silica, crystalline silica, glass, alumina, talc, clay, and mica. As the second inorganic filler, an inorganic filler having a flame retardant effect may be used. Examples of inorganic fillers having a flame retardant effect include aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, composite metal hydroxides such as composite hydroxides of magnesium and zinc, and zinc borate. The second inorganic filler may or may not contain titanium element.

第2の無機充填材の中でも、線膨張係数低減の観点からは溶融シリカ等のシリカが好ましく、高熱伝導性の観点からはアルミナが好ましい。第2の無機充填材の形態としては粉末、粉末を球形化したビーズ、繊維等が挙げられる。 Among the second inorganic fillers, silica such as fused silica is preferred from the viewpoint of reducing the linear expansion coefficient, and alumina is preferred from the viewpoint of high thermal conductivity. The second inorganic filler may be in the form of a powder, beads obtained by spheroidizing the powder, fibers, etc.

第2の無機充填材において、粒度分布のピーク粒径が、0.1μm~100μmであることが好ましく、0.5μm~50μmであることがより好ましい。 In the second inorganic filler, the peak particle size of the particle size distribution is preferably 0.1 μm to 100 μm, and more preferably 0.5 μm to 50 μm.

第2の無機充填材は、樹脂組成物の流動性の観点から、粒度分布のピーク粒径が異なる2種以上の無機充填材であってもよく、粒度分布のピーク粒径が異なる2種の無機充填材であってもよい。 From the viewpoint of the fluidity of the resin composition, the second inorganic filler may be two or more inorganic fillers having different peak particle sizes in the particle size distribution, or may be two inorganic fillers having different peak particle sizes in the particle size distribution.

本開示の樹脂組成物では、樹脂組成物の流動性の観点から、第1の無機充填材及び第2の無機充填材の組み合わせの粒度分布が、少なくとも3つのピークを有することが好ましい。このとき、第1の無機充填材に由来のピーク及び第2の無機充填材に由来のピークがそれぞれ1つ以上存在すればよい。 In the resin composition of the present disclosure, from the viewpoint of the fluidity of the resin composition, it is preferable that the particle size distribution of the combination of the first inorganic filler and the second inorganic filler has at least three peaks. In this case, it is sufficient that there is at least one peak derived from the first inorganic filler and at least one peak derived from the second inorganic filler.

第1の無機充填材及び第2の無機充填材の組み合わせの粒度分布については、以下のようにして求めてもよい。前述のラマン分光器を備えた画像式粒度分布計を用いて第1の無機充填材及び第2の無機充填材の粒度分布をそれぞれ求め、それぞれ求めた粒度分布を組み合わせればよい。 The particle size distribution of the combination of the first inorganic filler and the second inorganic filler may be determined as follows. The particle size distribution of the first inorganic filler and the second inorganic filler may be determined using an image particle size distribution meter equipped with the above-mentioned Raman spectrometer, and the determined particle size distributions may be combined.

第1の無機充填材及び第2の無機充填材の組み合わせの粒度分布が、3つ以上のピークを有する場合、0.1μm~5μmの範囲に位置する第1のピーク、0.5μm~30μmの範囲に位置する第2のピーク及び7μm~100μmの範囲に位置する第3のピークが存在し、第1ピークの値<第2ピークの値<第3ピークの値であることが好ましい。 When the particle size distribution of the combination of the first inorganic filler and the second inorganic filler has three or more peaks, it is preferable that there is a first peak located in the range of 0.1 μm to 5 μm, a second peak located in the range of 0.5 μm to 30 μm, and a third peak located in the range of 7 μm to 100 μm, and the value of the first peak < the value of the second peak < the value of the third peak.

第1のピークは、0.1μm~3μmの範囲に位置することが好ましく、0.1μm~2μmの範囲に位置することがより好ましい。 The first peak is preferably located in the range of 0.1 μm to 3 μm, and more preferably in the range of 0.1 μm to 2 μm.

第2のピークは、2μm~15μmの範囲に位置することが好ましく、3μm~10μmの範囲に位置することがより好ましい。 The second peak is preferably located in the range of 2 μm to 15 μm, and more preferably in the range of 3 μm to 10 μm.

第3のピークは、7μm~80μmの範囲に位置することが好ましく、10μm~60μmの範囲に位置することがより好ましい。 The third peak is preferably located in the range of 7 μm to 80 μm, and more preferably in the range of 10 μm to 60 μm.

第1の無機充填材及び第2の無機充填材の組み合わせの粒度分布が、3つ以上のピークを有する場合、例えば、第1の無機充填材に由来のピークが1つ又は2つ以上であり、かつ第2の無機充填材に由来のピークが2つ又は3つ以上であってもよい。 When the particle size distribution of the combination of the first inorganic filler and the second inorganic filler has three or more peaks, for example, there may be one or two or more peaks originating from the first inorganic filler and two or three or more peaks originating from the second inorganic filler.

第2の無機充填材は、樹脂組成物の流動性の観点から、粒度分布のピーク粒径が0.1μm~5μmである第3の無機充填材と、粒度分布のピーク粒径が7μm~100μmである第4の無機充填材と、を含むことが好ましい。 From the viewpoint of the fluidity of the resin composition, it is preferable that the second inorganic filler includes a third inorganic filler having a peak particle size of 0.1 μm to 5 μm in the particle size distribution, and a fourth inorganic filler having a peak particle size of 7 μm to 100 μm in the particle size distribution.

第1の無機充填材において、粒度分布のピーク粒径が第3の無機充填材のピーク粒径よりも大きく、第4の無機充填材のピーク粒径よりも小さいことが好ましい。このとき、前述の第1のピークが第3の無機充填材に由来のピークであり、前述の第2のピークが第1の無機充填材に由来のピークであり、前述の第3のピークが第4の無機充填材に由来のピークであってもよい。 In the first inorganic filler, it is preferable that the peak particle size of the particle size distribution is larger than the peak particle size of the third inorganic filler and smaller than the peak particle size of the fourth inorganic filler. In this case, the first peak may be a peak derived from the third inorganic filler, the second peak may be a peak derived from the first inorganic filler, and the third peak may be a peak derived from the fourth inorganic filler.

第3の無機充填材に対する第4の無機充填材の質量比率である第4の無機充填材/第3の無機充填材)は、樹脂組成物の流動性の観点から、0.1~5であることが好ましく、0.5~4であることがより好ましく、1~3であることがさらに好ましい。 The mass ratio of the fourth inorganic filler to the third inorganic filler (fourth inorganic filler/third inorganic filler) is preferably 0.1 to 5, more preferably 0.5 to 4, and even more preferably 1 to 3, from the viewpoint of the fluidity of the resin composition.

第1の無機充填材及び第2の無機充填材の合計含有率は、特に制限されず、流動性及び強度の観点からは、樹脂組成物全体に対し、50質量%~95質量%であることが好ましく、60質量%~95質量%であることがより好ましく、70質量%~90質量%であることがさらに好ましい。第1の無機充填材及び第2の無機充填材の合計含有率が50質量%以上であると、硬化物の比誘電率、熱膨張係数、熱伝導率、弾性率等の特性がより向上する傾向にある。第1の無機充填材及び第2の無機充填材の合計含有率が95質量%以下であると、樹脂組成物の粘度の上昇が抑制され、流動性がより向上して成形性がより良好になる傾向にある。 The total content of the first inorganic filler and the second inorganic filler is not particularly limited, and from the viewpoint of fluidity and strength, it is preferably 50% by mass to 95% by mass, more preferably 60% by mass to 95% by mass, and even more preferably 70% by mass to 90% by mass, based on the entire resin composition. When the total content of the first inorganic filler and the second inorganic filler is 50% by mass or more, the properties of the cured product, such as the relative dielectric constant, thermal expansion coefficient, thermal conductivity, and elastic modulus, tend to be further improved. When the total content of the first inorganic filler and the second inorganic filler is 95% by mass or less, the increase in viscosity of the resin composition is suppressed, and the fluidity is further improved, tending to result in better moldability.

樹脂組成物は、上述の成分に加えて、以下に例示するカップリング剤、イオン交換体、離型剤、難燃剤、着色剤、応力緩和剤等の各種添加剤を含有してもよい。樹脂組成物は、以下に例示する添加剤以外にも必要に応じて当技術分野で周知の各種添加剤を含有してもよい。 In addition to the above-mentioned components, the resin composition may contain various additives such as coupling agents, ion exchangers, release agents, flame retardants, colorants, and stress relaxation agents, as exemplified below. In addition to the additives exemplified below, the resin composition may contain various additives known in the art, as necessary.

(カップリング剤)
樹脂組成物は、カップリング剤を含有してもよい。樹脂成分と無機充填材との接着性を高める観点からは、樹脂組成物はカップリング剤を含有することが好ましい。カップリング剤としては、エポキシシラン、メルカプトシラン、アミノシラン、アルキルシラン、ウレイドシラン、ビニルシラン、ジシラザン等のシラン系化合物、チタン系化合物、アルミニウムキレート化合物、アルミニウム/ジルコニウム系化合物などの公知のカップリング剤が挙げられる。
(Coupling Agent)
The resin composition may contain a coupling agent. From the viewpoint of increasing the adhesion between the resin component and the inorganic filler, the resin composition preferably contains a coupling agent. Examples of the coupling agent include known coupling agents such as silane-based compounds such as epoxysilane, mercaptosilane, aminosilane, alkylsilane, ureidosilane, vinylsilane, and disilazane, titanium-based compounds, aluminum chelate compounds, and aluminum/zirconium-based compounds.

樹脂組成物がカップリング剤を含有する場合、カップリング剤の量は、第1の無機充填材及び第2の無機充填材の合計100質量部に対し、0.05質量部~5質量部であることが好ましく、0.1質量部~2.5質量部であることがより好ましい。カップリング剤の量が0.05質量部以上であると、フレームとの接着性がより向上する傾向にある。カップリング剤の量が5質量部以下であると、パッケージの成形性がより向上する傾向にある。 When the resin composition contains a coupling agent, the amount of the coupling agent is preferably 0.05 parts by mass to 5 parts by mass, and more preferably 0.1 parts by mass to 2.5 parts by mass, relative to 100 parts by mass of the total of the first inorganic filler and the second inorganic filler. When the amount of the coupling agent is 0.05 parts by mass or more, the adhesion to the frame tends to be further improved. When the amount of the coupling agent is 5 parts by mass or less, the moldability of the package tends to be further improved.

(イオン交換体)
樹脂組成物は、イオン交換体を含有してもよい。樹脂組成物の硬化物を備える高周波デバイスの耐湿性及び高温放置特性を向上させる観点から、イオン交換体を含有することが好ましい。イオン交換体は特に制限されず、従来公知のものを用いることができる。具体的には、ハイドロタルサイト化合物、並びにマグネシウム、アルミニウム、チタン、ジルコニウム及びビスマスからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素の含水酸化物等が挙げられる。イオン交換体は、1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。中でも、下記一般式(A)で表されるハイドロタルサイトが好ましい。
(Ion exchanger)
The resin composition may contain an ion exchanger. In order to improve the moisture resistance and high-temperature storage characteristics of a high-frequency device including a cured product of the resin composition, it is preferable to contain an ion exchanger. The ion exchanger is not particularly limited, and a conventionally known ion exchanger can be used. Specifically, a hydrotalcite compound and a hydrous oxide of at least one element selected from the group consisting of magnesium, aluminum, titanium, zirconium, and bismuth can be mentioned. The ion exchanger may be used alone or in combination of two or more kinds. Among them, hydrotalcite represented by the following general formula (A) is preferable.

Mg(1-X)Al(OH)(COX/2・mHO ……(A)
(0<X≦0.5、mは正の数)
Mg (1-X) Al X (OH) 2 (CO 3 ) X/2・mH 2 O ... (A)
(0<X≦0.5, m is a positive number)

樹脂組成物がイオン交換体を含有する場合、その含有量は、ハロゲンイオン等のイオンを捕捉するのに充分な量であれば特に制限はない。例えば、樹脂成分100質量部(エポキシ樹脂と硬化剤の合計量)に対し、0.1質量部~30質量部であることが好ましく、1質量部~10質量部であることがより好ましい。 When the resin composition contains an ion exchanger, the content is not particularly limited as long as it is an amount sufficient to capture ions such as halogen ions. For example, the content is preferably 0.1 to 30 parts by mass, and more preferably 1 to 10 parts by mass, per 100 parts by mass of the resin component (total amount of epoxy resin and curing agent).

(離型剤)
樹脂組成物は、成形時における金型との良好な離型性を得る観点から、離型剤を含有してもよい。離型剤は特に制限されず、従来公知のものを用いることができる。具体的には、カルナバワックス、モンタン酸、ステアリン酸等の高級脂肪酸、高級脂肪酸金属塩、モンタン酸エステル等のエステル系ワックス、酸化ポリエチレン、非酸化ポリエチレン等のポリオレフィン系ワックスなどが挙げられる。離型剤は、1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
(Release Agent)
The resin composition may contain a mold release agent from the viewpoint of obtaining good releasability from the mold during molding. The mold release agent is not particularly limited, and a conventionally known one may be used. Specific examples include carnauba wax, higher fatty acids such as montanic acid and stearic acid, higher fatty acid metal salts, ester waxes such as montanic acid esters, polyolefin waxes such as oxidized polyethylene and non-oxidized polyethylene, etc. The mold release agent may be used alone or in combination of two or more kinds.

樹脂組成物が離型剤を含有する場合、その量は樹脂成分100質量部(エポキシ樹脂と硬化剤の合計量)に対し、0.01質量部~10質量部が好ましく、0.1質量部~5質量部がより好ましい。離型剤の量が樹脂成分100質量部に対して0.01質量部以上であると、離型性が充分に得られる傾向にある。10質量部以下であると、より良好な接着性が得られる傾向にある。 When the resin composition contains a release agent, the amount is preferably 0.01 to 10 parts by mass, and more preferably 0.1 to 5 parts by mass, per 100 parts by mass of the resin component (total amount of epoxy resin and curing agent). When the amount of release agent is 0.01 part by mass or more per 100 parts by mass of the resin component, sufficient release properties tend to be obtained. When the amount is 10 parts by mass or less, better adhesion tends to be obtained.

(難燃剤)
樹脂組成物は、難燃剤を含有してもよい。難燃剤は特に制限されず、従来公知のものを用いることができる。具体的には、ハロゲン原子、アンチモン原子、窒素原子又はリン原子を含む有機又は無機の化合物、金属水酸化物等が挙げられる。難燃剤は、1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
(Flame retardant)
The resin composition may contain a flame retardant. The flame retardant is not particularly limited, and a conventionally known one may be used. Specific examples include organic or inorganic compounds containing halogen atoms, antimony atoms, nitrogen atoms, or phosphorus atoms, metal hydroxides, etc. The flame retardant may be used alone or in combination of two or more kinds.

樹脂組成物が難燃剤を含有する場合、その量は、所望の難燃効果を得るのに充分な量であれば特に制限されない。例えば、樹脂成分100質量部(エポキシ樹脂と硬化剤の合計量)に対し、1質量部~30質量部であることが好ましく、2質量部~20質量部であることがより好ましい。 When the resin composition contains a flame retardant, the amount is not particularly limited as long as it is an amount sufficient to obtain the desired flame retardant effect. For example, it is preferably 1 to 30 parts by mass, and more preferably 2 to 20 parts by mass, per 100 parts by mass of the resin component (total amount of epoxy resin and curing agent).

(着色剤)
樹脂組成物は、着色剤を含有してもよい。着色剤としてはカーボンブラック、有機染料、有機顔料、酸化チタン、鉛丹、ベンガラ等の公知の着色剤を挙げることができる。着色剤の含有量は目的等に応じて適宜選択できる。着色剤は、1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
(Coloring Agent)
The resin composition may contain a colorant. Examples of the colorant include known colorants such as carbon black, organic dyes, organic pigments, titanium oxide, red lead, and red iron oxide. The content of the colorant can be appropriately selected depending on the purpose. The colorant may be used alone or in combination of two or more.

(応力緩和剤)
樹脂組成物は、応力緩和剤を含有してもよい。応力緩和剤を含有することにより、パッケージの反り変形及びパッケージクラックの発生をより低減させることができる。応力緩和剤としては、一般に使用されている公知の応力緩和剤(可とう剤)が挙げられる。具体的には、シリコーン系、スチレン系、オレフィン系、ウレタン系、ポリエステル系、ポリエーテル系、ポリアミド系、ポリブタジエン系等の熱可塑性エラストマー、NR(天然ゴム)、NBR(アクリロニトリル-ブタジエンゴム)、アクリルゴム、ウレタンゴム、シリコーンパウダー等のゴム粒子、メタクリル酸メチル-スチレン-ブタジエン共重合体(MBS)、メタクリル酸メチル-シリコーン共重合体、メタクリル酸メチル-アクリル酸ブチル共重合体等のコア-シェル構造を有するゴム粒子などが挙げられる。応力緩和剤は、1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
(Stress Relief Agent)
The resin composition may contain a stress relaxation agent. By containing a stress relaxation agent, it is possible to further reduce the warpage deformation of the package and the occurrence of package cracks. Examples of the stress relaxation agent include known stress relaxation agents (flexible agents) that are generally used. Specifically, examples of the stress relaxation agent include thermoplastic elastomers such as silicone-based, styrene-based, olefin-based, urethane-based, polyester-based, polyether-based, polyamide-based, and polybutadiene-based elastomers, rubber particles such as NR (natural rubber), NBR (acrylonitrile-butadiene rubber), acrylic rubber, urethane rubber, and silicone powder, and rubber particles having a core-shell structure such as methyl methacrylate-styrene-butadiene copolymer (MBS), methyl methacrylate-silicone copolymer, and methyl methacrylate-butyl acrylate copolymer. The stress relaxation agent may be used alone or in combination of two or more types.

応力緩和剤の中でも、シリコーン系応力緩和剤が好ましい。シリコーン系応力緩和剤としては、エポキシ基を有するもの、アミノ基を有するもの、これらをポリエーテル変性したもの等が挙げられ、エポキシ基を有するシリコーン化合物、ポリエーテル系シリコーン化合物等のシリコーン化合物がより好ましい。中でも、硬化物の誘電正接を低減し、かつ、硬化物の外観不良を抑制する観点から、ポリエーテル系シリコーン化合物が好ましい。 Among the stress relaxation agents, silicone-based stress relaxation agents are preferred. Examples of silicone-based stress relaxation agents include those having an epoxy group, those having an amino group, and those modified with polyether. Silicone compounds such as silicone compounds having an epoxy group and polyether-based silicone compounds are more preferred. Among these, polyether-based silicone compounds are preferred from the viewpoint of reducing the dielectric tangent of the cured product and suppressing poor appearance of the cured product.

ポリエーテル系シリコーン化合物は、シロキサン結合による主骨格を持つ高分子化合物であるシリコーンにポリエーテル基が導入された化合物であれば特に限定されるものではない。ポリエーテル系シリコーン化合物は、1種を単独で用いても2種以上を併用してもよい。
ポリエーテル系シリコーン化合物は、側鎖変性型ポリエーテル系シリコーン化合物であってもよく、末端変性型ポリエーテル系シリコーン化合物であってもよい。ポリエーテル系シリコーン化合物は、これらの中でも、硬化物の外観不良抑制の観点から、側鎖変性型ポリエーテル系シリコーン化合物が好ましい。
The polyether silicone compound is not particularly limited as long as it is a compound in which a polyether group is introduced into silicone, which is a polymeric compound having a main skeleton formed by siloxane bonds. The polyether silicone compound may be used alone or in combination of two or more kinds.
The polyether silicone compound may be a side-chain modified polyether silicone compound or a terminal modified polyether silicone compound. Among these, the polyether silicone compound is preferably a side-chain modified polyether silicone compound from the viewpoint of suppressing poor appearance of the cured product.

ポリエーテル系シリコーン化合物の一例として、エポキシ・ポリエーテル系シリコーン化合物が挙げられる。エポキシ・ポリエーテル系シリコーン化合物は、シロキサン結合による主骨格を持つ高分子化合物であるシリコーンにポリエーテル基及びエポキシ基が導入された化合物であれば特に限定されるものではない。
エポキシ・ポリエーテル系シリコーン化合物は、側鎖変性型エポキシ・ポリエーテル系シリコーン化合物であってもよく、末端変性型エポキシ・ポリエーテル系シリコーン化合物であってもよく、側鎖及び末端変性型エポキシ・ポリエーテル系シリコーン化合物であってもよい。エポキシ・ポリエーテル系シリコーン化合物の主骨格としては、ポリジメチルシロキサンが好ましい。ポリエーテル基としては、エチレンオキシド及びプロピレンオキシドの一方又は双方が重合したポリエーテル基が好ましい。
エポキシ・ポリエーテル系シリコーン化合物は、ポリエーテル基(好ましくはエチレンオキシド及びプロピレンオキシドの一方又は双方が重合したポリエーテル基)及びエポキシ基がそれぞれシリコーン(好ましくはポリジメチルシロキサン)の側鎖に存在する側鎖変性型エポキシ・ポリエーテル系シリコーン化合物であることが好ましい。
An example of the polyether silicone compound is an epoxy-polyether silicone compound. The epoxy-polyether silicone compound is not particularly limited as long as it is a compound in which a polyether group and an epoxy group are introduced into silicone, which is a polymeric compound having a main skeleton formed by siloxane bonds.
The epoxy polyether silicone compound may be a side chain modified epoxy polyether silicone compound, a terminal modified epoxy polyether silicone compound, or a side chain and terminal modified epoxy polyether silicone compound. The main skeleton of the epoxy polyether silicone compound is preferably polydimethylsiloxane. The polyether group is preferably a polyether group in which one or both of ethylene oxide and propylene oxide are polymerized.
The epoxy-polyether silicone compound is preferably a side-chain-modified epoxy-polyether silicone compound in which a polyether group (preferably a polyether group obtained by polymerizing one or both of ethylene oxide and propylene oxide) and an epoxy group are each present in the side chain of silicone (preferably polydimethylsiloxane).

樹脂組成物が応力緩和剤を含有する場合、その量は、例えば、樹脂成分100質量部(エポキシ樹脂と硬化剤の合計量)に対し、1質量部~30質量部であることが好ましく、2質量部~20質量部であることがより好ましい。 When the resin composition contains a stress relaxation agent, the amount is, for example, preferably 1 to 30 parts by mass, and more preferably 2 to 20 parts by mass, per 100 parts by mass of the resin component (total amount of epoxy resin and curing agent).

(樹脂組成物の調製方法)
樹脂組成物の調製方法は、特に制限されない。一般的な手法としては、所定の配合量の成分をミキサー等によって十分混合した後、ミキシングロール、押出機等によって溶融混練し、冷却し、粉砕する方法を挙げることができる。より具体的には、例えば、上述した成分の所定量を均一に攪拌及び混合し、予め70℃~140℃に加熱してあるニーダー、ロール、エクストルーダー等で混練し、冷却し、粉砕する方法を挙げることができる。
(Method of preparing resin composition)
The method for preparing the resin composition is not particularly limited. A typical method is to thoroughly mix a predetermined amount of components with a mixer or the like, melt-knead them with a mixing roll, an extruder, or the like, cool them, and pulverize them. More specifically, for example, a method is to uniformly stir and mix a predetermined amount of the above-mentioned components, knead them with a kneader, roll, extruder, or the like that has been heated to 70°C to 140°C in advance, cool them, and pulverize them.

樹脂組成物は、常温常圧下(例えば、25℃、大気圧下)において固体であることが好ましい。樹脂組成物が固体である場合の形状は特に制限されず、粉状、粒状、タブレット状等が挙げられる。樹脂組成物がタブレット状である場合の寸法及び質量は、パッケージの成形条件に合うような寸法及び質量となるようにすることが取り扱い性の観点から好ましい。 The resin composition is preferably solid at room temperature and normal pressure (e.g., 25°C, atmospheric pressure). When the resin composition is solid, the shape is not particularly limited, and examples include powder, granules, and tablets. When the resin composition is in tablet form, it is preferable from the viewpoint of handleability that the dimensions and mass are set to be suitable for the molding conditions of the package.

<樹脂組成物の変形例>
本開示の樹脂組成物の変形例について説明する。本開示の樹脂組成物の変形例は、エポキシ樹脂と、硬化剤と、無機充填材と、を含有し、前記無機充填材の粒度分布が、少なくとも3つのピークを有し、前記無機充填材が、チタン元素を含む第1の無機充填材を含む樹脂組成物である。樹脂組成物の変形例については、前述の本開示の樹脂組成物の項目にて説明した形態を適宜組み合わせてもよい。
<Modification of Resin Composition>
A modified example of the resin composition of the present disclosure will be described. The modified example of the resin composition of the present disclosure is a resin composition containing an epoxy resin, a curing agent, and an inorganic filler, the particle size distribution of the inorganic filler having at least three peaks, and the inorganic filler containing a first inorganic filler containing titanium element. The modified example of the resin composition may be appropriately combined with the forms described in the above-mentioned section on the resin composition of the present disclosure.

本開示の樹脂組成物の変形例は、流動性に優れ、かつ高い比誘電率を有する硬化物を製造可能である。この理由としては、チタン元素を含む第1の無機充填材を含有することで高い比誘電率を有する硬化物を製造することができ、無機充填材の粒度分布が、少なくとも3つのピークを有することで前述の樹脂組成物が流動性に優れるため、と推測される。 The modified resin composition of the present disclosure is capable of producing a cured product having excellent fluidity and a high dielectric constant. The reason for this is presumably that the inclusion of the first inorganic filler containing titanium element allows the production of a cured product having a high dielectric constant, and the particle size distribution of the inorganic filler has at least three peaks, which gives the resin composition excellent fluidity.

本開示の樹脂組成物の変形例では、チタン元素を含む第1の無機充填材がチタン元素を含み、ピーク粒径の異なる3種以上の無機充填材からなるものであってもよい。あるいは、本開示の樹脂組成物の変形例は、前述の本開示の樹脂組成物に含まれる第2の無機充填材を含有し、第1の無機充填材及び第2の無機充填材の組み合わせの粒度分布が、少なくとも3つのピークを有していてもよい。 In a modified version of the resin composition of the present disclosure, the first inorganic filler containing titanium element may contain titanium element and may be composed of three or more inorganic fillers with different peak particle sizes. Alternatively, a modified version of the resin composition of the present disclosure may contain the second inorganic filler contained in the resin composition of the present disclosure described above, and the particle size distribution of the combination of the first inorganic filler and the second inorganic filler may have at least three peaks.

本開示の樹脂組成物の変形例では、無機充填材の粒度分布が、0.1μm~5μmの範囲に位置する第1のピーク、0.5μm~30μmの範囲に位置する第2のピーク及び7μm~100μmの範囲に位置する第3のピークを有し、第1ピーク<第2ピーク<第3ピークであることが好ましい。 In a modified version of the resin composition of the present disclosure, the particle size distribution of the inorganic filler preferably has a first peak located in the range of 0.1 μm to 5 μm, a second peak located in the range of 0.5 μm to 30 μm, and a third peak located in the range of 7 μm to 100 μm, with the first peak < the second peak < the third peak.

本開示の樹脂組成物の変形例は、アンテナを有する高周波デバイスでの成形に用いるための樹脂組成物に限定されず、その他の用途に用いられる樹脂組成物であってもよい。 The modified resin composition of the present disclosure is not limited to resin compositions for use in molding high-frequency devices having antennas, but may be resin compositions for use in other applications.

<高周波デバイス>
本開示の高周波デバイスは、アンテナと、前述の樹脂組成物の硬化物と、を有する。
<High frequency devices>
The high-frequency device of the present disclosure has an antenna and a cured product of the above-described resin composition.

本開示の高周波デバイスは、例えば、1GHz以上の電波を送受信する際に用いられ、好ましくは3GHz以上の電波を送受信する際に用いられる。本開示の高周波デバイスとしては、樹脂組成物の硬化物がアンテナを封止する構造を有していてもよく、樹脂組成物の硬化物上にアンテナが配置された構造を有していてもよい。 The high-frequency device of the present disclosure is used, for example, when transmitting and receiving radio waves of 1 GHz or more, and preferably when transmitting and receiving radio waves of 3 GHz or more. The high-frequency device of the present disclosure may have a structure in which the cured product of the resin composition seals the antenna, or may have a structure in which the antenna is disposed on the cured product of the resin composition.

以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例に限定されるものではない。 The present invention will be described in detail below with reference to examples, but the scope of the present invention is not limited to these examples.

<樹脂組成物の調製>
下記に示す成分を表1に示す配合割合(単位:質量部)で混合し、樹脂組成物を調製した。この樹脂組成物は、常温常圧下において固体であった。また、表1中の空欄は、未配合であることを意味する。
<Preparation of Resin Composition>
A resin composition was prepared by mixing the components shown below in the mixing ratios (unit: parts by mass) shown in Table 1. This resin composition was solid at room temperature and normal pressure. Also, blanks in Table 1 mean that the component was not mixed.

・エポキシ樹脂1:トリフェニルメタン型エポキシ樹脂、エポキシ当量167g/eq
・エポキシ樹脂2:ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂、エポキシ当量274g/eq
・エポキシ樹脂3:ビフェニル型エポキシ樹脂、エポキシ当量192g/eq
・フェノール硬化剤1:フェノールアラルキル樹脂、水酸基当量205g/eq
・フェノール硬化剤2:フェノールノボラック樹脂、水酸基当量101g/eq
・硬化促進剤:トリフェニルホスフィンの1,4-ベンゾキノン付加物
・カップリング剤:N-フェニル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン
・離型剤:モンタン酸エステルワックス
・着色剤:カーボンブラック
・添加材:側鎖変性型エポキシ・ポリエーテル変性シリコーン
・無機充填材1:体積平均粒径(D50)6.5μmの球状チタン酸バリウム(10GHzでの比誘電率:46.3)
・無機充填材2:体積平均粒径(D50)40μmの球状シリカ粒子(大粒径シリカ、10GHzでの比誘電率:3.6)
・無機充填材3:体積平均粒径(D50)0.5μmの球状シリカ粒子(小粒径シリカ、10GHzでの比誘電率:3.6)
・無機充填材4:体積平均粒径(D50)45μmの球状アルミナ粒子(大粒径アルミナ、10GHzでの比誘電率:7.8)
・無機充填材5:体積平均粒径(D50)0.7μmの球状アルミナ粒子(小粒径アルミナ、10GHzでの比誘電率:7.8)
Epoxy resin 1: triphenylmethane type epoxy resin, epoxy equivalent 167 g/eq
Epoxy resin 2: biphenyl aralkyl type epoxy resin, epoxy equivalent 274 g/eq
Epoxy resin 3: biphenyl type epoxy resin, epoxy equivalent 192 g/eq
Phenol curing agent 1: phenol aralkyl resin, hydroxyl equivalent 205 g/eq
Phenol hardener 2: phenol novolac resin, hydroxyl equivalent 101 g/eq
Curing accelerator: 1,4-benzoquinone adduct of triphenylphosphine Coupling agent: N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane Release agent: Montan acid ester wax Colorant: Carbon black Additive: Side chain modified epoxy Polyether modified silicone Inorganic filler 1: Spherical barium titanate with a volume average particle size (D50) of 6.5 μm (relative dielectric constant at 10 GHz: 46.3)
Inorganic filler 2: Spherical silica particles having a volume average particle size (D50) of 40 μm (large particle size silica, relative dielectric constant at 10 GHz: 3.6)
Inorganic filler 3: Spherical silica particles having a volume average particle size (D50) of 0.5 μm (small particle size silica, relative dielectric constant at 10 GHz: 3.6)
Inorganic filler 4: spherical alumina particles having a volume average particle size (D50) of 45 μm (large particle size alumina, relative dielectric constant at 10 GHz: 7.8)
Inorganic filler 5: spherical alumina particles having a volume average particle size (D50) of 0.7 μm (small particle size alumina, relative dielectric constant at 10 GHz: 7.8)

なお、ラマン分光器を備えた画像式粒度分布計を用いて測定される無機充填材の粒度分布において、無機充填材1は、3μm~10μmの範囲にピークを有し、無機充填材2及び4は、無機充填材1のピークよりも大きく、かつ10μm~60μmの範囲にピークを有し、無機充填材3及び5は、0.1μm~2μmの範囲にピークを有している。 In addition, in the particle size distribution of the inorganic fillers measured using an imaging particle size distribution analyzer equipped with a Raman spectrometer, inorganic filler 1 has a peak in the range of 3 μm to 10 μm, inorganic fillers 2 and 4 have peaks larger than the peak of inorganic filler 1 and in the range of 10 μm to 60 μm, and inorganic fillers 3 and 5 have peaks in the range of 0.1 μm to 2 μm.

(無機充填材の比誘電率)
以下のようにして無機充填材の比誘電率を求めた。まず、エポキシ樹脂(ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂、エポキシ当量274g/eq)100質量部、フェノール硬化剤(フェノールアラルキル樹脂、水酸基当量205g/eq)74.8質量部及びトリフェニルホスフィンの1,4-ベンゾキノン付加物2質量部の樹脂組成物、無機充填材1~5のいずれか、並びにメチルエチルケトン(MEK)を混合させ、前述の樹脂組成物をMEKに溶解させて樹脂組成物及び無機充填材の合計75質量%であるワニスを作製した。このとき、無機充填材1~5の含有率が溶剤を除く固形分に対して10体積%、20体積%、30体積%であるワニスをそれぞれ準備した。
得られたワニスを基材上に塗布し、100℃、10分の条件で基材を乾燥させた後、基材から樹脂膜を剥離した。得られた樹脂膜を、圧縮成形により、金型温度175℃、成形圧力6.9MPa、硬化時間600秒の条件で成形し、それぞれ測定用硬化物を得る。得られた各測定用硬化物における10GHzでの比誘電率を測定し、無機充填材の含有率を横軸、比誘電率の測定値を縦軸としてプロットしたグラフを作成する。得られたグラフから、最小二乗法により直線近似を行い、無機充填材の含有率が100体積%のときの比誘電率を外挿により求め、「無機充填材全体における比誘電率」とする。
(Dielectric constant of inorganic filler)
The relative dielectric constant of the inorganic filler was determined as follows. First, a resin composition of 100 parts by mass of epoxy resin (biphenylaralkyl type epoxy resin, epoxy equivalent 274 g/eq), 74.8 parts by mass of phenol curing agent (phenolaralkyl resin, hydroxyl equivalent 205 g/eq), and 2 parts by mass of 1,4-benzoquinone adduct of triphenylphosphine, any one of inorganic fillers 1 to 5, and methyl ethyl ketone (MEK) were mixed, and the aforementioned resin composition was dissolved in MEK to prepare a varnish containing 75% by mass of the resin composition and inorganic filler in total. At this time, varnishes containing 10%, 20%, and 30% by volume of inorganic fillers 1 to 5 with respect to the solid content excluding the solvent were prepared.
The obtained varnish was applied onto a substrate, and the substrate was dried at 100°C for 10 minutes, after which the resin film was peeled off from the substrate. The obtained resin film was molded by compression molding under the conditions of a mold temperature of 175°C, molding pressure of 6.9MPa, and curing time of 600 seconds to obtain each of the cured products for measurement. The dielectric constant at 10 GHz of each of the obtained cured products for measurement was measured, and a graph was created in which the content of the inorganic filler was plotted on the horizontal axis and the measured value of the dielectric constant was plotted on the vertical axis. From the obtained graph, a linear approximation was performed by the least squares method, and the dielectric constant when the content of the inorganic filler was 100% by volume was obtained by extrapolation, and this was taken as the "dielectric constant of the entire inorganic filler".

(流動性:スパイラルフロー)
EMMI-1-66に準じたスパイラルフロー測定用金型を用いて、樹脂組成物を金型温度180℃、成形圧力6.9MPa、硬化時間90秒の条件で成形し、流動距離(cm)を求めた。結果を表1に示す。
(Fluidity: Spiral flow)
Using a spiral flow measurement mold conforming to EMMI-1-66, the resin composition was molded under the conditions of a mold temperature of 180° C., a molding pressure of 6.9 MPa, and a curing time of 90 seconds, and the flow distance (cm) was determined. The results are shown in Table 1.

(ゲルタイム)
175℃における樹脂組成物のゲルタイムの測定を、以下のようにして行った。具体的には、樹脂組成物の試料0.5gを175℃に熱した熱板上に乗せ、治具を用いて20回転/分~25回転/分の回転速度で、試料を2.0cm~2.5cmの円状に均一に広げた。試料を熱板に乗せてから、試料の粘性がなくなり、ゲル状態となって熱板から剥がれるようになるまでの時間を計測し、これをゲルタイム(秒)として測定した。結果を表1に示す。
(Gel time)
The gel time of the resin composition at 175°C was measured as follows. Specifically, 0.5 g of a sample of the resin composition was placed on a hot plate heated to 175°C, and the sample was uniformly spread into a circle of 2.0 cm to 2.5 cm at a rotation speed of 20 rpm to 25 rpm using a jig. The time from when the sample was placed on the hot plate until the sample lost its viscosity, became gelled, and could be peeled off from the hot plate was measured, and this was measured as the gel time (seconds). The results are shown in Table 1.

(硬化物の比誘電率及び誘電正接)
樹脂組成物をハンドプレス機で、金型温度175℃、成形圧力6.9MPa、硬化時間600秒の条件で成形し、後硬化を175℃で6時間行い、板状の硬化物を切断して縦50mm、横1mm、厚さ約0.5mmの試験片を得た。試験片及び誘電率測定装置(Agilent社、品名「ネットワーク・アナライザーN5227A」)を用いて、温度25±3℃下、10GHzでの比誘電率と誘電正接とを測定した。
結果を表1に示す。
(Dielectric constant and dielectric loss tangent of the cured product)
The resin composition was molded using a hand press under the conditions of a mold temperature of 175°C, molding pressure of 6.9 MPa, and curing time of 600 seconds, and post-cured at 175°C for 6 hours. The plate-shaped cured product was cut into a test piece having a length of 50 mm, a width of 1 mm, and a thickness of about 0.5 mm. The relative dielectric constant and dielectric loss tangent were measured at a temperature of 25±3°C and 10 GHz using the test piece and a dielectric constant measuring device (Agilent, product name "Network Analyzer N5227A").
The results are shown in Table 1.

表1に示すように実施例1~15の樹脂組成物では、比較例1の樹脂組成物と比較して流動性に優れていた。
さらに、実施例1~15の樹脂組成物では、比較的高い比誘電率を有する硬化物を製造可能であった。例えば、実施例1~15の樹脂組成物では、無機充填剤としてシリカ粒子のみ又はアルミナ粒子のみを用いる樹脂組成物よりも高い比誘電率を有する硬化物を生成できると推測される。
As shown in Table 1, the resin compositions of Examples 1 to 15 were superior in fluidity to the resin composition of Comparative Example 1.
Furthermore, it was possible to produce cured products having a relatively high dielectric constant using the resin compositions of Examples 1 to 15. For example, it is presumed that the resin compositions of Examples 1 to 15 can produce cured products having a higher dielectric constant than resin compositions using only silica particles or only alumina particles as the inorganic filler.

Claims (10)

エポキシ樹脂と、
硬化剤と、
チタン元素を含む第1の無機充填材と、
粒度分布のピーク粒径が前記第1の無機充填材における粒度分布のピーク粒径と異なる第2の無機充填材と、
を含有し、
前記第1の無機充填材の含有率は、前記第1の無機充填材及び前記第2の無機充填材の全量に対して60質量%~95質量%であり、
前記第2の無機充填材は、シリカ又はアルミナであり、
無機充填材の粒度分布について、前記第2の無機充填材がシリカである場合、シリカである前記第2の無機充填材に由来のピークが2つであり、前記第2の無機充填材がアルミナである場合、アルミナである前記第2の無機充填材に由来のピークが2つであるアンテナを有する高周波デバイスでの成形に用いるための樹脂組成物。
Epoxy resin,
A hardener;
A first inorganic filler containing elemental titanium;
A second inorganic filler having a peak particle size of a particle size distribution different from the peak particle size of the particle size distribution of the first inorganic filler;
Contains
The content of the first inorganic filler is 60% by mass to 95% by mass based on the total amount of the first inorganic filler and the second inorganic filler,
the second inorganic filler is silica or alumina;
A resin composition for use in molding a high-frequency device having an antenna, wherein, with respect to the particle size distribution of the second inorganic filler, when the second inorganic filler is silica, there are two peaks derived from the second inorganic filler which is silica, and when the second inorganic filler is alumina, there are two peaks derived from the second inorganic filler which is alumina.
前記第1の無機充填材は、10GHzでの比誘電率が10以上である請求項1に記載の樹脂組成物。 The resin composition according to claim 1, wherein the first inorganic filler has a relative dielectric constant of 10 or more at 10 GHz. 前記第1の無機充填材及び前記第2の無機充填材の組み合わせの粒度分布が、少なくとも3つのピークを有する請求項1又は請求項2に記載の樹脂組成物。 The resin composition according to claim 1 or 2 , wherein a particle size distribution of a combination of the first inorganic filler and the second inorganic filler has at least three peaks. 前記第2の無機充填材は、粒度分布のピーク粒径が0.1μm~5μmである第3の無機充填材と、粒度分布のピーク粒径が7μm~100μmである第4の無機充填材と、を含む請求項1~請求項のいずれか1項に記載の樹脂組成物。 The second inorganic filler includes a third inorganic filler having a peak particle size of 0.1 μm to 5 μm in particle size distribution, and a fourth inorganic filler having a peak particle size of 7 μm to 100 μm in particle size distribution. The resin composition according to any one of claims 1 to 3 . 前記第1の無機充填材において、粒度分布のピーク粒径が前記第3の無機充填材のピーク粒径よりも大きく、前記第4の無機充填材のピーク粒径よりも小さい請求項に記載の樹脂組成物。 The resin composition according to claim 4 , wherein the peak particle size of the particle size distribution of the first inorganic filler is larger than the peak particle size of the third inorganic filler and smaller than the peak particle size of the fourth inorganic filler. 前記第3の無機充填材に対する前記第4の無機充填材の質量比率(第4の無機充填材/第3の無機充填材)は、0.1~5である請求項又は請求項に記載の樹脂組成物。 The resin composition according to claim 4 or claim 5 , wherein the mass ratio of the fourth inorganic filler to the third inorganic filler (fourth inorganic filler/third inorganic filler) is 0.1 to 5. 前記第1の無機充填材は、チタン酸バリウム、チタン酸カルシウム及びチタン酸ストロンチウムからなる群より選択される少なくとも1種を含む請求項1~請求項のいずれか1項に記載の樹脂組成物。 The resin composition according to any one of claims 1 to 6 , wherein the first inorganic filler comprises at least one selected from the group consisting of barium titanate, calcium titanate, and strontium titanate. エポキシ樹脂と、
硬化剤と、
無機充填材と、
を含有し、前記無機充填材の粒度分布が、少なくとも3つのピークを有し、前記無機充填材が、チタン元素を含む第1の無機充填材及び粒度分布のピーク粒径が前記第1の無機充填材における粒度分布のピーク粒径と異なる第2の無機充填材を含み、
前記第1の無機充填材の含有率は、前記第1の無機充填材及び前記第2の無機充填材の全量に対して60質量%~95質量%であり、
前記第2の無機充填材は、シリカ又はアルミナであり、
前記無機充填材の粒度分布のピークについて、前記第2の無機充填材がシリカである場合、シリカである前記第2の無機充填材に由来のピークが2つであり、前記第2の無機充填材がアルミナである場合、アルミナである前記第2の無機充填材に由来のピークが2つである樹脂組成物。
Epoxy resin,
A hardener;
An inorganic filler;
The particle size distribution of the inorganic filler has at least three peaks, and the inorganic filler includes a first inorganic filler containing titanium element and a second inorganic filler having a peak particle size of the particle size distribution different from the peak particle size of the particle size distribution of the first inorganic filler ,
The content of the first inorganic filler is 60% by mass to 95% by mass based on the total amount of the first inorganic filler and the second inorganic filler,
the second inorganic filler is silica or alumina;
Regarding the peaks of the particle size distribution of the inorganic filler, when the second inorganic filler is silica, there are two peaks derived from the second inorganic filler which is silica, and when the second inorganic filler is alumina, there are two peaks derived from the second inorganic filler which is alumina .
前記無機充填材の粒度分布が、0.1μm~5μmの範囲に位置する第1のピーク、0.5μm~30μmの範囲に位置する第2のピーク及び7μm~100μmの範囲に位置する第3のピークを有し、第1ピークの値<第2ピークの値<第3ピークの値である請求項に記載の樹脂組成物。 The particle size distribution of the inorganic filler has a first peak located in the range of 0.1 μm to 5 μm, a second peak located in the range of 0.5 μm to 30 μm, and a third peak located in the range of 7 μm to 100 μm, and the value of the first peak < the value of the second peak < the value of the third peak. The resin composition according to claim 8 . アンテナと、請求項1~請求項のいずれか1項に記載の樹脂組成物の硬化物と、を有する高周波デバイス。 A high-frequency device comprising an antenna and a cured product of the resin composition according to any one of claims 1 to 9 .
JP2020206091A 2020-12-11 2020-12-11 Resin composition and high frequency device Active JP7613077B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020206091A JP7613077B2 (en) 2020-12-11 2020-12-11 Resin composition and high frequency device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020206091A JP7613077B2 (en) 2020-12-11 2020-12-11 Resin composition and high frequency device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2022093030A JP2022093030A (en) 2022-06-23
JP7613077B2 true JP7613077B2 (en) 2025-01-15

Family

ID=82069507

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020206091A Active JP7613077B2 (en) 2020-12-11 2020-12-11 Resin composition and high frequency device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP7613077B2 (en)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN116001385B (en) * 2022-12-15 2024-08-30 广东生益科技股份有限公司 Circuit material and printed circuit board
JP7540554B1 (en) * 2023-07-19 2024-08-27 株式会社レゾナック Molding resin composition and electronic component device

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007169655A (en) 2007-01-22 2007-07-05 Nitto Denko Corp Epoxy resin composition for semiconductor encapsulation and semiconductor device using the same
JP2010195997A (en) 2009-02-27 2010-09-09 Panasonic Electric Works Co Ltd Highly dielectric epoxy resin composition and high-frequency device
WO2015146816A1 (en) 2014-03-25 2015-10-01 住友ベークライト株式会社 Epoxy resin composition and electrostatic-capacitance-type fingerprint sensor
JP2018141052A (en) 2017-02-27 2018-09-13 京セラ株式会社 Resin composition and resin-encapsulated semiconductor device

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02261856A (en) * 1989-03-31 1990-10-24 Toshiba Corp Epoxy resin composition for semiconductor sealing and semiconductor device sealed therewith

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007169655A (en) 2007-01-22 2007-07-05 Nitto Denko Corp Epoxy resin composition for semiconductor encapsulation and semiconductor device using the same
JP2010195997A (en) 2009-02-27 2010-09-09 Panasonic Electric Works Co Ltd Highly dielectric epoxy resin composition and high-frequency device
WO2015146816A1 (en) 2014-03-25 2015-10-01 住友ベークライト株式会社 Epoxy resin composition and electrostatic-capacitance-type fingerprint sensor
JP2018141052A (en) 2017-02-27 2018-09-13 京セラ株式会社 Resin composition and resin-encapsulated semiconductor device

Also Published As

Publication number Publication date
JP2022093030A (en) 2022-06-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP7651926B2 (en) Molding resin composition and electronic component device
JP7670086B2 (en) Encapsulating resin composition, method for producing encapsulating resin composition, semiconductor device, and method for producing semiconductor device
JP7609173B2 (en) Molding resin composition and electronic component device
JP2024091744A (en) Encapsulating resin composition, electronic component device, and method for producing electronic component device
JP7613077B2 (en) Resin composition and high frequency device
JP7505661B2 (en) Molding resin composition and electronic component device
JP7501818B2 (en) Molding resin composition and electronic component device
JP2024177338A (en) Encapsulating resin composition, semiconductor device, and method for manufacturing semiconductor device
JP7589435B2 (en) Encapsulating resin composition, electronic component device, and method for manufacturing electronic component device
WO2022124405A1 (en) Resin composition for molding and high frequency device
JP7790151B2 (en) Encapsulating resin composition, electronic component device, and method for manufacturing electronic component device
CN113260651A (en) Resin composition for sealing, electronic component device, and method for manufacturing electronic component device
JP7487596B2 (en) Encapsulating resin composition, electronic component device, and method for producing electronic component device
WO2025134843A1 (en) Resin composition and method for producing resin composition
WO2025023180A1 (en) Resin composition and electronic component device
WO2025022963A1 (en) Resin composition and electronic component device
JP2024082573A (en) Method for producing resin composition
WO2024122548A1 (en) Resin composition and electronic component device
WO2025095079A1 (en) Resin composition for molding and electronic component device
WO2024111575A1 (en) Resin composition for molding and electronic component device
WO2025052516A1 (en) Resin composition, electronic component device, and method for producing resin composition

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20231005

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20240625

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20240702

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20240827

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20241126

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20241209

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7613077

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150