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JP7613286B2 - Bonding paste, bonded body using same, and method for manufacturing bonded body - Google Patents
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Bonding paste, bonded body using same, and method for manufacturing bonded body Download PDF

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Description

本発明は、金属粒子含有組成物、接合用ペースト及び接合体に関する。 The present invention relates to a metal particle-containing composition, a bonding paste, and a bonded body.

従来、金属部材同士、金属部材と半導体素子、又は金属部材とLED素子等を接するための接合材料としては、はんだが使用されていた。近年、次世代パワーエレクトロニクスの分野では、高温動作可能なSiC等のデバイスのための接合材としては高温駆動信頼性の観点で、はんだの代替材が求められており、例えば、特許文献1、2に示すように金属粒子を用いた接合用ペーストの利用が提案されている。 Conventionally, solder has been used as a joining material for joining metal members together, between a metal member and a semiconductor element, or between a metal member and an LED element, etc. In recent years, in the field of next-generation power electronics, there has been a demand for alternatives to solder as a joining material for devices such as SiC that can operate at high temperatures, from the viewpoint of high-temperature operation reliability. For example, the use of joining pastes using metal particles has been proposed, as shown in Patent Documents 1 and 2.

特許文献1には、金属粒子と、多塩基酸単量体とポリアミン単量体との重合体であり、側鎖にフェノール性水酸基を有するポリアミドと、前記フェノール性水酸基と反応し得る3官能以上の化合物とを含有する接合剤が開示されている。 Patent Document 1 discloses a bonding agent that contains metal particles, a polyamide that is a polymer of a polybasic acid monomer and a polyamine monomer and has phenolic hydroxyl groups on its side chains, and a trifunctional or higher compound that can react with the phenolic hydroxyl groups.

特許文献2には、平均一次粒径0.5~3.0μmである金属サブミクロン粒子と、平均一次粒子径が1~200nmであって、炭素数6~8の有機化合物で被覆された金属ナノ粒子とを含む接合材が開示されている。 Patent Document 2 discloses a bonding material that contains metal submicron particles with an average primary particle size of 0.5 to 3.0 μm and metal nanoparticles with an average primary particle size of 1 to 200 nm that are coated with an organic compound with 6 to 8 carbon atoms.

特開2017-137375号公報JP 2017-137375 A 特開2011-80147号公報JP 2011-80147 A

しかしながら、特許文献1に記載の接合剤は、金属粒子の分散性が十分でなく塗工性に課題がある。そのため、塗布後の塗膜の平滑性及びレベリング性に劣り、膜の緻密性が十分でないため、接合強度に乏しく、冷熱サイクルに伴って接合強度が低下するという問題がある。
また、特許文献2に記載の接合材は、接合材によって接合された箇所の接合強度に乏しく、冷熱サイクルに伴って接合強度が低下するという問題があった。
また、特許文献1及び2に記載の接合材は、接合材の主成分である金属に比べて、線膨張係数が小さく且つ剛直な材料(例えば、炭化ケイ素(以下、SiCと称する))を被着体とした場合に、冷熱サイクル試験の際に応力が接合塗膜に集中し、生じる応力に耐えられずに、接合塗膜にクラックが発生するという問題がある。
すなわち、本発明が解決しようとする課題は、線膨張係数が小さく且つ剛直な被着体を用いた場合において、優れた接合強度を有し且つ冷熱サイクル後も接合強度を維持可能な接合ペースト、並びに該接合ペーストを用いた接合強度と冷熱サイクル耐性に優れる接合体を提供することにある。
However, the bonding agent described in Patent Document 1 has problems in applicability due to insufficient dispersibility of metal particles, and therefore the coating film after application has poor smoothness and leveling properties, and the film is not dense enough, resulting in poor bonding strength, and the bonding strength decreases with thermal cycling.
Furthermore, the bonding material described in Patent Document 2 has a problem in that the bonding strength at the bonded portion is poor, and the bonding strength decreases with thermal cycles.
Furthermore, the bonding materials described in Patent Documents 1 and 2 have a problem that when an adherend is a material (e.g., silicon carbide (hereinafter, referred to as SiC)) that has a smaller linear expansion coefficient and is more rigid than the metal that is the main component of the bonding material, stress is concentrated on the bonding coating film during a thermal cycle test, and the bonding coating film cannot withstand the resulting stress, causing cracks.
In other words, the problem to be solved by the present invention is to provide a bonding paste that has excellent bonding strength and can maintain its bonding strength even after thermal cycling when an adherend having a small linear expansion coefficient and a rigidity is used, and a bonded body using the bonding paste that has excellent bonding strength and resistance to thermal cycling.

本発明は、多塩基酸単量体とポリアミン単量体との重合体であり、側鎖にフェノール性水酸基を有するポリアミド(A)と、金属粒子(B)と、分散媒(C)と、を含有する接合用ペーストであって、前記ポリアミド(A)が、以下の(i)及び/又は(ii)を満たし、前記金属粒子(B)が、積算粒子径分布の50%に対応した粒子径(d50)が100~350nmである粒子である、接合用ペーストに関する。
(i)前記ポリアミド(A)が、前記フェノール性水酸基及び炭素数20~60の炭化水素基(但し、前記フェノール性水酸基が結合する芳香環は含まない)が同一ポリマー内に含まれるポリアミド(A-1)である。
(ii)前記ポリアミド(A)が、側鎖にフェノール性水酸基を有するポリアミド(a-1)と、炭素数20~60の炭化水素基を有するポリアミド(a-2)とを混合したポリアミド(A-3)である。
The present invention relates to a bonding paste containing a polyamide (A), which is a polymer of a polybasic acid monomer and a polyamine monomer and has a phenolic hydroxyl group in a side chain, metal particles (B), and a dispersion medium (C), in which the polyamide (A) satisfies the following (i) and/or (ii), and the metal particles (B) are particles having a particle size (d50) corresponding to 50% of an accumulated particle size distribution of 100 to 350 nm.
(i) The polyamide (A) is a polyamide (A-1) in which the phenolic hydroxyl group and the hydrocarbon group having 20 to 60 carbon atoms (but excluding the aromatic ring to which the phenolic hydroxyl group is bonded) are contained within the same polymer.
(ii) The polyamide (A) is a polyamide (A-3) which is a mixture of a polyamide (a-1) having a phenolic hydroxyl group in a side chain and a polyamide (a-2) having a hydrocarbon group having 20 to 60 carbon atoms.

また本発明は、前記ポリアミド(A)の含有量が、前記金属粒子(B)の質量を基準として、0.01~1.70質量%の範囲である、上記接合剤に関する。 The present invention also relates to the above-mentioned bonding agent, in which the content of the polyamide (A) is in the range of 0.01 to 1.70 mass % based on the mass of the metal particles (B).

また本発明は、前記金属粒子(B)が、積算粒子径分布の1%に対応した粒子径(d1)が30~200nmであり、且つ、積算粒子径分布の99%に対応した粒子径(d99)が300~900nmである粒子である、上記接合用ペーストに関する。 The present invention also relates to the above-mentioned joining paste, in which the metal particles (B) have a particle diameter (d1) corresponding to 1% of the cumulative particle diameter distribution of 30 to 200 nm, and a particle diameter (d99) corresponding to 99% of the cumulative particle diameter distribution of 300 to 900 nm.

また本発明は、前記金属粒子(B)が、質量減少率が0.5~7.0質量%の粒子である、上記接合用ペーストに関する。 The present invention also relates to the above-mentioned joining paste, in which the metal particles (B) are particles with a mass reduction rate of 0.5 to 7.0 mass%.

また本発明は、上記接合用ペーストによって、第一の被接合体と第二の被接合体とが接合された接合体に関する。 The present invention also relates to a bonded body in which a first object to be bonded and a second object to be bonded are bonded using the bonding paste.

さらに本発明は、上記接合用ペーストを、第一の被接合体に塗布し、塗布された面に第二の被接合体を載置する接合体の製造方法に関する。 The present invention further relates to a method for manufacturing a joined body, in which the above-mentioned joining paste is applied to a first joined body and a second joined body is placed on the applied surface.

本発明により、接合箇所の接合強度が高く、冷熱サイクルに伴って接合強度が低下しない金属粒子含有組成物及び接合用ペーストを提供できるようになった。また、冷熱サイクルにより劣化しない接合体を提供できるようになった。 The present invention makes it possible to provide a metal particle-containing composition and a bonding paste that have high bonding strength at the joint and that do not decrease with thermal cycles. It also makes it possible to provide a bonded body that does not deteriorate with thermal cycles.

図1は、本発明における金属粒子について、示唆熱-熱重量同時測定装置(TG-DTA)を用いて測定した、昇温時のDTA曲線及びTG曲線の模式図である。FIG. 1 is a schematic diagram showing the DTA curve and TG curve of the metal particles of the present invention during heating, measured using a simultaneous differential thermal-thermogravimetric measurement apparatus (TG-DTA).

本発明の接合用ペーストは、多塩基酸単量体とポリアミン単量体との重合体であり、側鎖にフェノール性水酸基を有するポリアミド(A)と、金属粒子(B)と、分散媒(C)と、を含有するものであって、前記ポリアミド(A)が、以下の(i)及び/又は(ii)を満たし、前記金属粒子(B)が、積算粒子径分布の50%に対応した粒子径(d50)が100~350nmである粒子であることを特徴とする。
(i)前記ポリアミド(A)が、前記フェノール性水酸基及び炭素数20~60の炭化水素基(但し、前記フェノール性水酸基が結合する芳香環は含まない)が同一ポリマー内に含まれるポリアミド(A-1)である。
(ii)前記ポリアミド(A)が、側鎖にフェノール性水酸基を有するポリアミド(a-1)と、炭素数20~60の炭化水素基を有するポリアミド(a-2)とを混合したポリアミド(A-3)である。
所定のポリアミド(A)と、積算粒子径分布の50%に対応した粒子径(d50)が100~350nmである金属粒子(B)とを組み合わせて用いることにより、塗工性に優れるだけでなく、接合塗膜中の空隙の発生を抑制して緻密な塗膜を形成可能とし、その結果、優れた接合強度とサイクル特性を発揮する。
以下、本発明について詳細に説明する。なお、以降の説明において、炭素数20~60の炭化水素基(但し、前記フェノール性水酸基が結合する芳香環は含まない)の括弧書きを省略する場合があるが、「炭素数20~60の炭化水素基」と記載した場合は、前記括弧書きの条件を満たすものとする。また、「炭素数20~60の炭化水素基」を「C20~60炭化水素基」と表記する場合がある。
The bonding paste of the present invention contains a polyamide (A) which is a polymer of a polybasic acid monomer and a polyamine monomer and has a phenolic hydroxyl group on a side chain, metal particles (B), and a dispersion medium (C), and is characterized in that the polyamide (A) satisfies the following (i) and/or (ii), and the metal particles (B) are particles having a particle size (d50) corresponding to 50% of the cumulative particle size distribution of 100 to 350 nm.
(i) The polyamide (A) is a polyamide (A-1) in which the phenolic hydroxyl group and the hydrocarbon group having 20 to 60 carbon atoms (but excluding the aromatic ring to which the phenolic hydroxyl group is bonded) are contained within the same polymer.
(ii) The polyamide (A) is a polyamide (A-3) which is a mixture of a polyamide (a-1) having a phenolic hydroxyl group in a side chain and a polyamide (a-2) having a hydrocarbon group having 20 to 60 carbon atoms.
By using a combination of a specific polyamide (A) and metal particles (B) having a particle size (d50) corresponding to 50% of the cumulative particle size distribution of 100 to 350 nm, not only is excellent coating property achieved, but the occurrence of voids in the bonded coating film is suppressed, enabling the formation of a dense coating film, and as a result, excellent bonding strength and cycle characteristics are exhibited.
The present invention will be described in detail below. In the following description, the parentheses for a hydrocarbon group having 20 to 60 carbon atoms (not including the aromatic ring to which the phenolic hydroxyl group is bonded) may be omitted, but when a "hydrocarbon group having 20 to 60 carbon atoms" is written, it is assumed that the condition in the parentheses is satisfied. Furthermore, a "hydrocarbon group having 20 to 60 carbon atoms" may be written as a "C20 to 60 hydrocarbon group".

<金属粒子(B)>
本発明の接合用ペーストは、積算粒子径分布の50%に対応した粒子径(d50)が100~350nmである粒子である、金属粒子(B)を含む。
金属粒子(B)中の金属としては、例えば、金、銀、銅、ニッケル、クロム、パラジウム、ロジウム、ルテニウム、インジウム、ケイ素、アルミニウム、タングステン、モリブデン、白金及びこれらの合金が挙げられる。また、核体と、前記核体物質とは異なる物質で被覆した微粒子、具体的には、例えば、銅を核体とし、その表面を銀で被覆した銀コート銅粉等が挙げられる。また、酸化銀、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化ルテニウム、ITO(スズドープ酸化インジウム)、AZO(アルミドープ酸化亜鉛)、及びGZO(ガリウムドープ酸化亜鉛)等の金属酸化物の粉末、ならびにこれらの金属酸化物で表面被覆した粉末等も挙げられる。使用する金属の種類は1種でもよいし、2種以上を組み合わせて使用してもよい。
<Metal Particles (B)>
The bonding paste of the present invention contains metal particles (B) having a particle diameter (d50) corresponding to 50% of the cumulative particle diameter distribution of 100 to 350 nm.
Examples of the metal in the metal particles (B) include gold, silver, copper, nickel, chromium, palladium, rhodium, ruthenium, indium, silicon, aluminum, tungsten, molybdenum, platinum, and alloys thereof. In addition, fine particles coated with a core and a material different from the core material, specifically, for example, silver-coated copper powder in which copper is used as the core and its surface is coated with silver, can be mentioned. In addition, powders of metal oxides such as silver oxide, indium oxide, tin oxide, zinc oxide, ruthenium oxide, ITO (tin-doped indium oxide), AZO (aluminum-doped zinc oxide), and GZO (gallium-doped zinc oxide), as well as powders surface-coated with these metal oxides, can be mentioned. The type of metal used may be one type, or two or more types may be used in combination.

本発明では、積算粒子径分布の50%に対応した粒子径(d50)が100~350nmである粒子である金属粒子(B)を用いることが重要である。
空隙(以下、ボイドともいう)の発生を抑制して高い接合強度を発揮する観点、及び、金属粒子同士の溶融一体化(以下、焼結ともいう)が十分に進行して冷熱サイクル後の接合強度の低下を抑制する観点から、金属粒子(B)のd50は、好ましくは120~300nm、より好ましくは180~300nmである。
In the present invention, it is important to use metal particles (B) having a particle diameter (d50) corresponding to 50% of the cumulative particle diameter distribution of 100 to 350 nm.
From the viewpoint of suppressing the generation of voids (hereinafter also referred to as voids) to exhibit high bonding strength, and from the viewpoint of sufficiently progressing melting and integration (hereinafter also referred to as sintering) between the metal particles to suppress a decrease in bonding strength after thermal cycles, the d50 of the metal particles (B) is preferably 120 to 300 nm, more preferably 180 to 300 nm.

また、金属粒子(B)は、大きさ(粒子径)に分布を有することが好ましく、積算粒子径分布の1%に対応した粒子径(d1)、積算粒子径分布の99%に対応した粒子径(d99)が制御された粒子であることが好ましい。金属粒子(B)が粒子径に分布を有することで、金属粒子間の隙間を効果的に埋めることが可能となり、接合塗膜のボイドの発生がより抑制されるため好ましい。
金属粒子(B)のd1は、好ましくは30~200nm、より好ましくは40~180nm、さらに好ましくは50~150nmである。
金属粒子(B)のd99は、好ましくは300~900nm、より好ましくは300~750nm、さらに好ましくは350~600nmである。
In addition, the metal particles (B) preferably have a size (particle diameter) distribution, and are preferably particles with a particle diameter (d1) corresponding to 1% of the cumulative particle diameter distribution and a particle diameter (d99) corresponding to 99% of the cumulative particle diameter distribution controlled. By having the metal particles (B) have a particle diameter distribution, it is possible to effectively fill the gaps between the metal particles, and the occurrence of voids in the bonding coating film is further suppressed, which is preferable.
The d1 of the metal particles (B) is preferably 30 to 200 nm, more preferably 40 to 180 nm, and further preferably 50 to 150 nm.
The d99 of the metal particles (B) is preferably 300 to 900 nm, more preferably 300 to 750 nm, and even more preferably 350 to 600 nm.

なお、金属粒子(B)の1%積算粒子径分布粒子径(d1)、50%積算粒子径分布粒子径(d50)、99%積算粒子径分布粒子径(d99)は、有機溶剤(IPA:イソプロピルアルコール)に金属粒子(B)を0.5質量%となるように超音波分散機にて分散を行い、得られた分散液について求めたものである。
測定には例えば、ナノトラックUPA-EX150(日機装社製)を用いることができる。なお、本明細書でいう1%積算粒子径分布粒子径(d1)、50%積算粒子径分布粒子径(d50)、99%積算粒子径分布粒子径(d99)とは、それぞれ積算粒子径分布の1%、50%、99%に対応した粒子径(体積基準)を意味する。
The 1% cumulative particle size distribution particle diameter (d1), 50% cumulative particle size distribution particle diameter (d50), and 99% cumulative particle size distribution particle diameter (d99) of the metal particles (B) were determined for a dispersion obtained by dispersing the metal particles (B) in an organic solvent (IPA: isopropyl alcohol) to a concentration of 0.5 mass% using an ultrasonic disperser.
For example, Nanotrac UPA-EX150 (manufactured by Nikkiso Co., Ltd.) can be used for the measurement. In this specification, the 1% cumulative particle size distribution particle size (d1), 50% cumulative particle size distribution particle size (d50), and 99% cumulative particle size distribution particle size (d99) refer to particle sizes (volume basis) corresponding to 1%, 50%, and 99%, respectively, of the cumulative particle size distribution.

金属粒子(B)の表面は、有機成分(b)で被覆されていることが好ましい。
有機成分(b)としては、例えば、脂肪酸、脂肪族アミン、脂肪族アルコールが挙げられる。好ましくは、飽和又は不飽和の脂肪酸であり、より好ましくは、炭素数が3~22の飽和又は不飽和の脂肪酸であり、さらに好ましくは、炭素数が6~18の飽和又は不飽和の脂肪酸である。有機成分(b)は1種又は2種以上含んでいてもよい。
The surfaces of the metal particles (B) are preferably coated with an organic component (b).
Examples of the organic component (b) include fatty acids, aliphatic amines, and aliphatic alcohols. Preferably, it is a saturated or unsaturated fatty acid, more preferably, it is a saturated or unsaturated fatty acid having 3 to 22 carbon atoms, and even more preferably, it is a saturated or unsaturated fatty acid having 6 to 18 carbon atoms. The organic component (b) may contain one type or two or more types.

本発明における金属粒子(B)は、d50が100~350nmであることで、有機成分(b)を過剰に必要とせず、接合材中の有機成分の残存が抑制される。これにより、空隙の発生が抑制され、高い接合強度を発揮する。
さらに、本発明における金属粒子(B)は、d50が100~350nmであることで、融点が高くなりすぎない。これにより、著しく高温にせずとも、金属粒子同士の焼結が十分に進行し、緻密な接合塗膜が形成され、冷熱サイクル後の接合強度の低下を抑制できる。
In the present invention, the metal particles (B) have a d50 of 100 to 350 nm, so that an excessive amount of the organic component (b) is not required, and the organic component is prevented from remaining in the bonding material, thereby preventing the generation of voids and providing high bonding strength.
Furthermore, the metal particles (B) in the present invention have a d50 of 100 to 350 nm, so that the melting point is not too high. This allows the sintering of the metal particles to proceed sufficiently without excessively high temperatures, forming a dense bonding coating film, and suppressing a decrease in bonding strength after thermal cycling.

また、金属粒子(B)は、質量減少率が、好ましくは0.5~7.0質量%、より好ましくは1.0~5.0質量%、さらに好ましくは2.0~4.0質量%の粒子である。
金属粒子(B)の質量減少率が0.5質量%以上であると、接合用ペーストの高粘度化を抑制でき、良好な塗布性能を発揮でき、緻密な接合塗膜を形成でき、良好な接合強度を発現できるため好ましい。一方、金属粒子(B)における質量減少率が7.0質量%以下であると、焼結後の有機成分(b)の残存を抑制し、接合塗膜におけるボイドの発生を抑制し、良好な接合強度を発現できるため好ましい。
The metal particles (B) preferably have a mass reduction rate of 0.5 to 7.0% by mass, more preferably 1.0 to 5.0% by mass, and even more preferably 2.0 to 4.0% by mass.
When the mass reduction rate of the metal particles (B) is 0.5% by mass or more, the viscosity of the bonding paste can be suppressed, good coating performance can be exhibited, a dense bonding coating film can be formed, and good bonding strength can be exhibited, which is preferable. On the other hand, when the mass reduction rate of the metal particles (B) is 7.0% by mass or less, the organic component (b) can be suppressed from remaining after sintering, the generation of voids in the bonding coating film can be suppressed, and good bonding strength can be exhibited, which is preferable.

以下に、質量減少率の算出方法について説明する。
図1に示すように、DTA曲線にて示される最も低温側の発熱ピークの開始温度Tsは、補外開始温度を表し、加熱測定において低温側のベースラインを高温側へ延長した直線と,最も低温側の発熱ピークの低温側の曲線に勾配が最大となる点で引いた接線との交点の温度である。同様に、DTA曲線にて示される最も高温側の発熱ピークの終了温度Teは、補外終了温度を表し、加熱測定において高温側のベースラインを低温側へ延長した直線と、最も高温側ピークの曲線に勾配が最大となる点で引いた接線との交点の温度である。
そして、最も低温側の発熱ピークの補外開始温度Tsから有機成分(b)の分解が始まり、金属粒子の質量が減少し始め、補外終了温度Teに有機成分(b)の分解が終了すると考えられるので、Tsを分解開始温度、Teを分解終了温度ともいう。
すなわち、質量減少率は以下の式で表される。
質量減少率=[(Tsにおける金属粒子(B)の質量-Teにおける金属粒子(B)の質量)/Tsにおける金属粒子(B)の質量]×100
また、上記式において、「Tsにおける金属粒子(B)の質量-Teにおける金属粒子(B)の質量)」が、有機成分(b)の量と解される。
なお、Tsより低温の領域や、Teより高温の領域において、金属粒子の質量減少が多少観察されることがあるが、明確な発熱ピークが観察されない場合には、分解に起因するものではないと解するものとする。
The method for calculating the mass reduction rate will be described below.
As shown in Fig. 1, the start temperature Ts of the lowest exothermic peak shown in the DTA curve represents the extrapolated start temperature, and is the temperature at the intersection of a straight line extending the low-temperature baseline to the high-temperature side in the heating measurement with a tangent drawn at the point where the gradient is maximum on the low-temperature side curve of the lowest exothermic peak. Similarly, the end temperature Te of the highest exothermic peak shown in the DTA curve represents the extrapolated end temperature, and is the temperature at the intersection of a straight line extending the high-temperature baseline to the low-temperature side in the heating measurement with a tangent drawn at the point where the gradient is maximum on the curve of the highest peak.
It is believed that the decomposition of the organic component (b) begins at the extrapolated onset temperature Ts of the lowest exothermic peak, the mass of the metal particles begins to decrease, and the decomposition of the organic component (b) ends at the extrapolated end temperature Te. Therefore, Ts is also referred to as the decomposition onset temperature, and Te is also referred to as the decomposition end temperature.
That is, the mass reduction rate is expressed by the following formula.
Mass reduction rate=[(mass of metal particles (B) at Ts−mass of metal particles (B) at Te)/mass of metal particles (B) at Ts]×100
In the above formula, "the mass of the metal particles (B) at Ts - the mass of the metal particles (B) at Te" is understood to be the amount of the organic component (b).
Although some mass loss of the metal particles may be observed in the region lower than Ts or higher than Te, if no clear exothermic peak is observed, it is understood that this is not due to decomposition.

金属粒子(B)は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
た、本発明の接合用ペーストは、本発明の効果を損なわない範囲で、金属粒子(B)以外のその他金属粒子を含んでもよい。
The metal particles (B) may be used alone or in combination of two or more kinds.
In addition, the bonding paste of the present invention may contain metal particles other than the metal particles (B) as long as the effects of the present invention are not impaired.

<分散媒(C)>
本発明の接合用ペーストは、分散媒(C)を含有する。分散媒(C)は、金属粒子(B)を分散し、塗布後の接合用膜の平滑性/レベリング性を確保し、接合塗膜の緻密化を促進する機能を担う。
<Dispersion medium (C)>
The bonding paste of the present invention contains a dispersion medium (C). The dispersion medium (C) disperses the metal particles (B), ensures the smoothness/leveling of the bonding film after application, and promotes densification of the bonding coating film.

分散媒(C)の具体例としては、例えば、ターピネオール、ジヒドロターピネオール、カルビトール、カルビトールアセテート、ブチルカルビトール、イソホロン、γ-ブチルラクトン、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールメチル-n-プロピルエーテル、3-メトキシ-3-メチルブチルアセテート、エチレングリコール、ヘキサン酸、プロピレングリコールジアセテート、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、1,3-ブチレングリコール、炭化水素系溶剤に含まれるイソパラフィン系溶剤が挙げられる。
中でも、好ましくは、ターピネオール、ジヒドロターピネオール、カルビトール、カルビトールアセテート、ブチルカルビトール、イソホロン、γ-ブチルラクトン、及びジプロピレングリコールモノメチルエーテルからなる群より選ばれる少なくとも1種である。
これら分散媒(C)は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
Specific examples of the dispersion medium (C) include terpineol, dihydroterpineol, carbitol, carbitol acetate, butyl carbitol, isophorone, γ-butyl lactone, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol methyl-n-propyl ether, 3-methoxy-3-methylbutyl acetate, ethylene glycol, hexanoic acid, propylene glycol diacetate, dipropylene glycol methyl ether acetate, 1,3-butylene glycol, and isoparaffin-based solvents contained in hydrocarbon-based solvents.
Among these, at least one selected from the group consisting of terpineol, dihydroterpineol, carbitol, carbitol acetate, butyl carbitol, isophorone, γ-butyrolactone, and dipropylene glycol monomethyl ether is preferred.
These dispersion media (C) may be used alone or in combination of two or more.

<ポリアミド(A)>
本発明の接合用ペーストは、多塩基酸単量体とポリアミン単量体との重合体であり、側鎖にフェノール性水酸基を有するポリアミド(A)(以下、「フェノール性水酸基含有ポリアミド(A)」と略基する)を含む。
また、ポリアミド(A)は、以下の(i)及び/又は(ii)を満たすものである。
(i)前記ポリアミド(A)が、前記フェノール性水酸基及び炭素数20~60の炭化水素基(但し、前記フェノール性水酸基が結合する芳香環は含まない)が同一ポリマー内に含まれるポリアミド(A-1)である。
(ii)前記ポリアミド(A)が、側鎖にフェノール性水酸基を有するポリアミド(a-1)と、炭素数20~60の炭化水素基を有するポリアミド(a-2)とを混合したポリアミド(A-3)である。
このようなフェノール性水酸基及び炭素数20~60の炭化水素基を有する、本願特定のポリアミドを、上述する金属粒子(B)と組み合わせることで、得られる接合ペーストは優れた塗工性を発揮する。また、接合塗膜中に空隙が発生することが抑制され、緻密な塗膜が形成される。その結果、優れた接合強度とサイクル特性とを両立することができる。
<Polyamide (A)>
The bonding paste of the present invention is a polymer of a polybasic acid monomer and a polyamine monomer, and contains a polyamide (A) having a phenolic hydroxyl group in its side chain (hereinafter referred to as "phenolic hydroxyl group-containing polyamide (A)").
Moreover, the polyamide (A) satisfies the following (i) and/or (ii):
(i) The polyamide (A) is a polyamide (A-1) in which the phenolic hydroxyl group and the hydrocarbon group having 20 to 60 carbon atoms (but excluding the aromatic ring to which the phenolic hydroxyl group is bonded) are contained within the same polymer.
(ii) The polyamide (A) is a polyamide (A-3) which is a mixture of a polyamide (a-1) having a phenolic hydroxyl group in a side chain and a polyamide (a-2) having a hydrocarbon group having 20 to 60 carbon atoms.
By combining the specific polyamide of the present application having such a phenolic hydroxyl group and a hydrocarbon group having 20 to 60 carbon atoms with the above-mentioned metal particles (B), the resulting bonding paste exhibits excellent coating properties. In addition, the generation of voids in the bonding coating film is suppressed, and a dense coating film is formed. As a result, it is possible to achieve both excellent bonding strength and cycle characteristics.

ポリアミド(A)の合成方法は限定されないが、通常、2価以上の多塩基酸、及びこれらの酸無水物若しくは低級アルキルエステルから選ばれる多塩基酸化合物と、2価以上のポリアミン化合物とを用いて合成される。
本発明に用いるフェノール性水酸基含有ポリアミド(A)は、末端がカルボキシ基であってもアミノ基であってもよく、末端に官能基を有さなくてもよい。
The method for synthesizing the polyamide (A) is not limited, but it is usually synthesized using a polybasic acid compound selected from dibasic or higher polybasic acids, and their acid anhydrides or lower alkyl esters, and a dibasic or higher polyamine compound.
The phenolic hydroxyl group-containing polyamide (A) used in the present invention may have a terminal carboxy group or an amino group, or may not have a functional group at the terminal.

本発明において、炭素数20~60の炭化水素基とは、単量体の重合に寄与する官能基以外の残基の全部又は一部に含まれる炭素数20~60の炭化水素基を表し、該炭素数は、炭素及び水素以外の元素が含まれない連続した構造の炭素数である。
炭素数20~60の炭化水素基として、好ましくは、単量体の重合に寄与する官能基以外の残基の全部が炭素数20~60の炭化水素基である。
即ち、上記炭素数とは、ポリアミドに対して主鎖及び当該主鎖に直結する側鎖を含めた連続する炭化水素基の炭素の総数を表し、脂肪族炭化水素基(脂環式炭化水素基を有する)の他、芳香族炭化水素基も対象とする。但し、フェノール性水酸基が結合している芳香環は、上記炭素数のカウントに含めない。一方、フェノール性水酸基が結合する芳香環を介して結合された炭化水素基の炭素は、其々、別の炭化水素基としてカウントされる。
In the present invention, the hydrocarbon group having 20 to 60 carbon atoms refers to a hydrocarbon group having 20 to 60 carbon atoms contained in all or part of a residue other than a functional group that contributes to the polymerization of a monomer, and the number of carbon atoms is the number of carbon atoms in a continuous structure that does not contain elements other than carbon and hydrogen.
As the hydrocarbon group having 20 to 60 carbon atoms, preferably, all of the residues other than the functional groups that contribute to the polymerization of the monomer are hydrocarbon groups having 20 to 60 carbon atoms.
That is, the carbon number refers to the total number of carbon atoms in the continuous hydrocarbon groups, including the main chain and the side chains directly connected to the main chain of the polyamide, and includes aliphatic hydrocarbon groups (having alicyclic hydrocarbon groups) as well as aromatic hydrocarbon groups. However, aromatic rings to which phenolic hydroxyl groups are bonded are not included in the carbon number. On the other hand, carbon atoms in the hydrocarbon groups bonded via aromatic rings to which phenolic hydroxyl groups are bonded are each counted as a separate hydrocarbon group.

また、ポリアミド(A)は、下記(iii)~(v)を満足するものがより好ましい。
(iii)ポリアミド(A-1)を構成する単量体が、フェノール性水酸基を有する単量体及び炭素数20~60の炭化水素基を有する単量体を含む。
(iv)ポリアミド(a-1)を構成する前記多塩基酸単量体及び/又は前記ポリアミン単量体が、フェノール性水酸基を有する単量体を含み、且つ前記多塩基酸単量体及び前記ポリアミン単量体が、炭素数20~60の炭化水素基を有する単量体を含まない。
(v)ポリアミド(a-2)を構成する前記多塩基酸単量体及び/又は前記ポリアミン単量体が、炭素数20~60の炭化水素基を有する単量体を含み、且つ前記多塩基酸単量体及び前記ポリアミン単量体が、フェノール性水酸基を有する単量体を含まない。
Moreover, it is more preferable that the polyamide (A) satisfies the following (iii) to (v).
(iii) The monomers constituting the polyamide (A-1) include a monomer having a phenolic hydroxyl group and a monomer having a hydrocarbon group having 20 to 60 carbon atoms.
(iv) The polybasic acid monomer and/or the polyamine monomer constituting the polyamide (a-1) contain a monomer having a phenolic hydroxyl group, and the polybasic acid monomer and the polyamine monomer do not contain a monomer having a hydrocarbon group having 20 to 60 carbon atoms.
(v) The polybasic acid monomer and/or the polyamine monomer constituting the polyamide (a-2) contain a monomer having a hydrocarbon group having 20 to 60 carbon atoms, and the polybasic acid monomer and the polyamine monomer do not contain a monomer having a phenolic hydroxyl group.

より好ましくは、ポリアミド(A)が、さらに下記(vi)を満足するものである。
(vi)炭素数20~60の炭化水素基を有する単量体の少なくとも一部が、炭素数5~10の環状構造を具備する化合物を含む。
More preferably, the polyamide (A) further satisfies the following (vi):
(vi) At least a part of the monomers having a hydrocarbon group having 20 to 60 carbon atoms includes a compound having a cyclic structure having 5 to 10 carbon atoms.

(iii)において、同種単量体内に、フェノール性水酸基と炭素数20~60の炭化水素基を有する単量体を用いてもよいことは言うまでもない。
また、(vi)において、「炭素数5~10の環状構造を具備する化合物を含む」とは、炭素数20~60の炭化水素基を有する単量体の少なくとも一部に、炭素数5~10の環状構造を具備する単量体が含まれることを指す。
In (iii), it goes without saying that a monomer having a phenolic hydroxyl group and a hydrocarbon group having 20 to 60 carbon atoms may be used within the same monomer.
In addition, in (vi), "including a compound having a cyclic structure having 5 to 10 carbon atoms" means that at least a part of the monomer having a hydrocarbon group having 20 to 60 carbon atoms contains a monomer having a cyclic structure having 5 to 10 carbon atoms.

炭素数20~60の炭化水素基を有する単量体の炭素数は、溶解性や屈曲性を効果的に引き出す観点から、好ましくは炭素数24~56であり、より好ましくは炭素数28~48であり、さらに好ましくは炭素数36~44である。 From the viewpoint of effectively bringing out solubility and flexibility, the carbon number of the monomer having a hydrocarbon group with 20 to 60 carbon atoms is preferably 24 to 56 carbon atoms, more preferably 28 to 48 carbon atoms, and even more preferably 36 to 44 carbon atoms.

ポリアミド(A)は、汎用性溶剤への溶解性、生産性、初期接合強度の観点から、ポリアミド(A-1)であることが好ましい。 From the viewpoints of solubility in general-purpose solvents, productivity, and initial bonding strength, it is preferable that polyamide (A) is polyamide (A-1).

≪ポリアミド(A-1)≫
ポリアミド(A-1)の好ましい態様の一つは、多塩基酸単量体(m1)とポリアミン単量体(m2)とを重合してなり、側鎖にフェノール性水酸基を有し、且つ、同一ポリマー内にフェノール性水酸基及びC20~60炭化水素基を有するものである。ポリアミド(A-1)は、上記条件を満たせばよく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、その他の構造を有する多塩基酸単量体、ポリアミン単量体を適宜用いることができる。
即ち、多塩基酸単量体(m1)は、フェノール性水酸基を有する多塩基酸化合物、C20~60炭化水素基を有する多塩基酸化合物及びその他の多塩基酸化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種から、ポリアミン単量体(m2)は、フェノール性水酸基を有するポリアミン化合物、C20~60炭化水素基を有するポリアミン化合物及びその他のポリアミン化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種から、ポリマー中にフェノール性水酸基及びC20~60炭化水素基が含まれるように選定すればよい。
C20~60炭化水素基を有する化合物及びフェノール性水酸基を有する化合物は、同種単量体内に含むように若しくは別の単量体に含むように、多塩基酸単量体(m1)及び前記ポリアミン単量体(m2)を選定して重合することによりフェノール性水酸基含有ポリアミド(A-1)を得ることができる。
<Polyamide (A-1)>
A preferred embodiment of the polyamide (A-1) is one obtained by polymerizing a polybasic acid monomer (m1) and a polyamine monomer (m2), has a phenolic hydroxyl group in a side chain, and has a phenolic hydroxyl group and a C20 to C60 hydrocarbon group in the same polymer. The polyamide (A-1) only needs to satisfy the above conditions, and polybasic acid monomers and polyamine monomers having other structures can be appropriately used within the scope of the present invention.
That is, the polybasic acid monomer (m1) is selected from at least one selected from the group consisting of polybasic acid compounds having a phenolic hydroxyl group, polybasic acid compounds having a C20-60 hydrocarbon group, and other polybasic acid compounds, and the polyamine monomer (m2) is selected from at least one selected from the group consisting of polyamine compounds having a phenolic hydroxyl group, polyamine compounds having a C20-60 hydrocarbon group, and other polyamine compounds, so that the polymer contains a phenolic hydroxyl group and a C20-60 hydrocarbon group.
The compound having a C20-60 hydrocarbon group and the compound having a phenolic hydroxyl group can be polymerized by selecting a polybasic acid monomer (m1) and the polyamine monomer (m2) so that they are contained in the same monomer or in different monomers, to obtain a phenolic hydroxyl group-containing polyamide (A-1).

上記「同種の単量体内に含むように」とは、多塩基酸単量体(m1)としてフェノール性水酸基を有する多塩基酸化合物と、C20~60炭化水素基を有する多塩基酸化合物とを用いてもよいし、ポリアミン単量体(m2)としてフェノール性水酸基を有するポリアミン化合物と、C20~60炭化水素基を有するポリアミン化合物とを用いてもよい、との意である。また、「別の単量体に含むように」とは、多塩基酸単量体(m1)としてフェノール性水酸基を有する多塩基酸化合物を含み、且つポリアミン単量体(m2)としてC20~60炭化水素基を有するポリアミン化合物を含むようにしてもよいし、多塩基酸単量体(m1)としてC20~60炭化水素基を有する多塩基酸化合物を含み、且つポリアミン単量体(m2)としてフェノール性水酸基を有するポリアミン化合物を含むようにしてもよい、との意である。いずれの場合においても、その他の多塩基酸化合物やその他のポリアミン化合物は適宜用いることができる。 The above phrase "so as to be included in the same type of monomer" means that a polybasic acid compound having a phenolic hydroxyl group and a polybasic acid compound having a C20-60 hydrocarbon group may be used as the polybasic acid monomer (m1), or a polyamine compound having a phenolic hydroxyl group and a polyamine compound having a C20-60 hydrocarbon group may be used as the polyamine monomer (m2). Also, the phrase "so as to be included in another monomer" means that a polybasic acid compound having a phenolic hydroxyl group may be included as the polybasic acid monomer (m1) and a polyamine compound having a C20-60 hydrocarbon group may be included as the polyamine monomer (m2), or a polybasic acid compound having a C20-60 hydrocarbon group may be included as the polyamine monomer (m1) and a polyamine compound having a phenolic hydroxyl group may be included as the polyamine monomer (m2). In either case, other polybasic acid compounds and other polyamine compounds may be used as appropriate.

単量体として、二塩基酸単量体とジアミン単量体を用いた場合、得られるポリアミド(A)は、下記一般式(1)の構造単位を有する。
When a dibasic acid monomer and a diamine monomer are used as the monomers, the resulting polyamide (A) has a structural unit represented by the following general formula (1).

一般式(1)中、R1は、構造単位毎に独立の構造を有していてもよい多塩基酸化合物残基である2価の連結基であり、R2は、構造単位毎に独立の構造を有していてもよいポリアミン化合物残基である2価の連結基であり、R1及びR2の少なくとも一方は、フェノール性水酸基を有する連結基を含み、且つR1及びR2の少なくとも一方は、C20~60炭化水素基を有する連結基を有する。ポリアミド(A-1)は、-CO-R1-CO-NH-R2-NH-で示される構造単位が少なくとも2以上繰り返されたものである。
なお、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において、一般式(1)の構造単位を1つ有し、且つ末端が封止された化合物が熱硬化性樹脂組成物に含まれてもよい。
In general formula (1), R 1 is a divalent linking group which is a polybasic acid compound residue which may have an independent structure for each structural unit, R 2 is a divalent linking group which is a polyamine compound residue which may have an independent structure for each structural unit, at least one of R 1 and R 2 contains a linking group having a phenolic hydroxyl group, and at least one of R 1 and R 2 has a linking group having a C20-60 hydrocarbon group. Polyamide (A-1) is a compound in which the structural unit represented by -CO-R 1 -CO-NH-R 2 -NH- is repeated at least twice.
Within the scope of the present invention, a compound having one structural unit of general formula (1) and having a blocked end may be contained in the thermosetting resin composition.

フェノール性水酸基を有する単量体及びC20~60炭化水素基を有する単量体は、少なくとも、二塩基酸化合物及びジアミン化合物のいずれかに含まれていればよく、二塩基酸化合物及びジアミン化合物の両者にこれらの基が其々含まれていてもよい。 The monomer having a phenolic hydroxyl group and the monomer having a C20-60 hydrocarbon group may be contained in at least one of the dibasic acid compound and the diamine compound, and these groups may be contained in both the dibasic acid compound and the diamine compound.

<多塩基酸単量体(m1)>
[フェノール性水酸基を有する多塩基酸化合物]
フェノール性水酸基を有する多塩基酸化合物は特に限定されないが、例えば、2-ヒドロキシイソフタル酸、4-ヒドロキシイソフタル酸、5-ヒドロキシイソフタル酸等のヒドロキシイソフタル酸、2,5-ジヒドロキシイソフタル酸、2,4-ジヒドロキシイソフタル酸、4,6-ジヒドロキシイソフタル酸等のジヒドロキシイソフタル酸、2-ヒドロキシテレフタル酸、2,3-ジヒドロキシテレフタル酸、2,6-ジヒドロキシテレフタル酸等のジヒドロキシテレフタル酸、4-ヒドロキシフタル酸、3-ヒドロキシフタル酸等のヒドロキシフタル酸、3,4-ジヒドロキシフタル酸、3,5-ジヒドロキシフタル酸、4,5-ジヒドロキシフタル酸、3,6-ジヒドロキシフタル酸等のジヒドロキシフタル酸が挙げられる。また、これらの酸無水物や、多塩基酸メチルエステルのようなエステル誘導体を用いてもよい。遊離多塩基酸や酸無水物の場合は脱水反応、エステル誘導体の場合は対応する脱アルコール反応となるという違いが生じるだけである。
中でも、共重合性、入手の容易さ等の点から、5-ヒドロキシイソフタル酸が好ましい。なお、5-ヒドロキシイソフタル酸を用いた場合、一般式(1)におけるR1、即ち多塩基酸化合物残基である2価の連結基は、前記5-ヒドロキシイソフタル酸から2つのカルボキシ基を除いた部分である。
<Polybasic acid monomer (m1)>
[Polybasic acid compound having a phenolic hydroxyl group]
The polybasic acid compound having a phenolic hydroxyl group is not particularly limited, and examples thereof include hydroxyisophthalic acids such as 2-hydroxyisophthalic acid, 4-hydroxyisophthalic acid, and 5-hydroxyisophthalic acid, dihydroxyisophthalic acids such as 2,5-dihydroxyisophthalic acid, 2,4-dihydroxyisophthalic acid, and 4,6-dihydroxyisophthalic acid, dihydroxyterephthalic acids such as 2-hydroxyterephthalic acid, 2,3-dihydroxyterephthalic acid, and 2,6-dihydroxyterephthalic acid, hydroxyphthalic acids such as 4-hydroxyphthalic acid and 3-hydroxyphthalic acid, and dihydroxyphthalic acids such as 3,4-dihydroxyphthalic acid, 3,5-dihydroxyphthalic acid, 4,5-dihydroxyphthalic acid, and 3,6-dihydroxyphthalic acid. In addition, acid anhydrides of these acids and ester derivatives such as polybasic acid methyl esters may also be used. The only difference is that in the case of free polybasic acids and acid anhydrides, a dehydration reaction occurs, while in the case of ester derivatives, a corresponding dealcoholization reaction occurs.
Among these, 5-hydroxyisophthalic acid is preferred from the viewpoints of copolymerizability, ease of availability, etc. When 5-hydroxyisophthalic acid is used, R 1 in general formula (1), i.e., the divalent linking group which is a polybasic acid compound residue, is the moiety obtained by removing two carboxy groups from the 5-hydroxyisophthalic acid.

[C20~60炭化水素基を有する多塩基酸化合物]
C20~60炭化水素基を有する多塩基酸化合物の好適な例として、炭素数10~24の二重結合あるいは三重結合を1個以上有する一塩基性不飽和脂肪酸を反応させて得た、炭素数5~10の環状構造を有する多塩基酸化合物を挙げることができる。
このような多塩基酸化合物としては、例えば、大豆油脂肪酸、トール油脂肪酸、菜種油脂肪酸等の天然の脂肪酸及びこれらを精製したオレイン酸、リノール酸、リノレン酸、エルカ酸等を原料に用いて、ディールス-アルダー反応させて得た二量体化脂肪酸(ダイマー酸)を含む多塩基酸化合物が好適に用いられる。
[Polybasic acid compound having C20-60 hydrocarbon group]
Suitable examples of polybasic acid compounds having a C20-60 hydrocarbon group include polybasic acid compounds having a cyclic structure and 5-10 carbon atoms, which are obtained by reacting a monobasic unsaturated fatty acid having 10-24 carbon atoms and one or more double bonds or triple bonds.
As such polybasic acid compounds, for example, polybasic acid compounds containing dimerized fatty acids (dimer acids) obtained by subjecting natural fatty acids such as soybean oil fatty acids, tall oil fatty acids, rapeseed oil fatty acids, and the like, which are refined from these fatty acids, such as oleic acid, linoleic acid, linolenic acid, and erucic acid, to a Diels-Alder reaction are preferably used.

環状構造は1つでも2つでもよく、2つの場合、2つの環が独立していてもよいし、連続していてもよい。環状構造としては、飽和の脂環構造、不飽和の脂環構造、芳香環が挙げられる。カルボキシ基は環状構造に直接結合してもよいが、溶解性向上、柔軟性向上の観点から、カルボキシ基は脂肪族鎖を介して環状構造と結合していることが好ましい。カルボキシ基と環状構造との間の炭素数は2~25であることが好ましい。
また、C20~60炭化水素基を有する多塩基酸化合物は、溶解性向上、柔軟性向上、誘電率及び誘電正接の低下の観点から、環状構造以外の部分として自由度及び疎水性の高い鎖状のアルキル基を有することが好ましい。アルキル基は1つの環状構造に対し2つ以上であることが好ましい。アルキル基の炭素数は2~25であることが好ましい。
The number of cyclic structures may be one or two, and in the case of two, the two rings may be independent or continuous. Examples of the cyclic structure include a saturated alicyclic structure, an unsaturated alicyclic structure, and an aromatic ring. The carboxy group may be directly bonded to the cyclic structure, but from the viewpoint of improving solubility and flexibility, it is preferable that the carboxy group is bonded to the cyclic structure via an aliphatic chain. The number of carbon atoms between the carboxy group and the cyclic structure is preferably 2 to 25.
In addition, from the viewpoints of improving solubility, improving flexibility, and decreasing the dielectric constant and dielectric tangent, it is preferable that the polybasic acid compound having a C20-60 hydrocarbon group has a chain-like alkyl group having high freedom and hydrophobicity as a portion other than the cyclic structure. It is preferable that there are two or more alkyl groups per cyclic structure. The number of carbon atoms in the alkyl group is preferably 2 to 25.

C20~60炭化水素基を有する多塩基酸化合物は、通常、ダイマー酸から誘導されるダイマーを残基として含む単量体を主成分とし、他に、原料の脂肪酸や三量体化以上の脂肪酸の組成物として得られるものである。中でも、C20~60炭化水素基を有する多塩基酸化合物100質量%中に、ダイマー酸から誘導されるダイマーを残基として含む単量体を、好ましくは70質量%以上、より好ましくは95質量%以上含むことが好ましい。
また、ダイマーに対して水素添加(水添反応)して不飽和度を下げたものが、耐酸化性(特に高温域における着色)や合成時のゲル化抑制の観点から好適に用いられる。C20~60炭化水素基を有する多塩基酸化合物としては、炭素数10~24の一塩基性不飽和脂肪酸から誘導されるダイマーを残基として含む多塩基酸化合物を用いることが好ましい。さらにC20~60炭化水素基を有する多塩基酸化合物の一部として、炭素数10~24の一塩基性不飽和脂肪酸から誘導される、トリカルボン酸であるトリマーを残基として含む単量体を用いることが好ましい。
Polybasic acid compounds having a C20-60 hydrocarbon group are generally obtained as a composition containing, as a main component, a monomer containing a dimer derived from a dimer acid as a residue, and also containing fatty acids as raw materials and fatty acids of trimerization or higher. In particular, it is preferable that, in 100% by mass of polybasic acid compounds having a C20-60 hydrocarbon group, the monomer containing a dimer derived from a dimer acid as a residue is contained in an amount of preferably 70% by mass or more, more preferably 95% by mass or more.
Also, dimers with a lower degree of unsaturation obtained by hydrogenation (hydrogenation reaction) are preferably used from the viewpoints of oxidation resistance (particularly coloration at high temperatures) and suppression of gelation during synthesis. As the polybasic acid compound having a C20-60 hydrocarbon group, it is preferable to use a polybasic acid compound containing a dimer derived from a monobasic unsaturated fatty acid having 10-24 carbon atoms as a residue. Furthermore, it is preferable to use a monomer containing a trimer, which is a tricarboxylic acid, as a residue, derived from a monobasic unsaturated fatty acid having 10-24 carbon atoms as part of the polybasic acid compound having a C20-60 hydrocarbon group.

前記C20~60炭化水素基を有する多塩基酸化合物の市販品としては、例えば、クローダジャパン社製の「プリポール1004」、「プリポール1006」、「プリポール1009」、「プリポール1013」、「プリポール1015」、「プリポール1017」、「プリポール1022」、「プリポール1025」、「プリポール1040」;BASFジャパン社製の「エンポール1008」、「エンポール1012」、「エンポール1016」、「エンポール1026」、「エンポール1028」、「エンポール1043」、「エンポール1061」、「エンポール1062」;が挙げられる。
これらの多塩基酸化合物は単独若しくは併用して用いることができる。
Examples of commercially available polybasic acid compounds having a C20-60 hydrocarbon group include "Pripol 1004", "Pripol 1006", "Pripol 1009", "Pripol 1013", "Pripol 1015", "Pripol 1017", "Pripol 1022", "Pripol 1025", and "Pripol 1040" manufactured by Croda Japan Ltd.; and "EMPOL 1008", "EMPOL 1012", "EMPOL 1016", "EMPOL 1026", "EMPOL 1028", "EMPOL 1043", "EMPOL 1061", and "EMPOL 1062" manufactured by BASF Japan Ltd.
These polybasic acid compounds can be used alone or in combination.

[その他の多塩基酸化合物]
フェノール性水酸基を有する多塩基酸化合物及びC20~60炭化水素基を有する多塩基酸化合物以外の多塩基酸化合物としては、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において特に限定されない。このようなその他の多塩基酸化合物としては、二塩基酸化合物や3官能以上の多塩基酸化合物が挙げられる。
二塩基酸化合物としては、例えば、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、1,4-ナフタレンジカルボン酸、2,6-ナフタレンジカルボン酸、ベンゾフェノン-4,4’-ジカルボン酸、4,4’-ビフェニルジカルボン酸等の芳香族二塩基酸;シュウ酸、マロン酸、メチルマロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、マレイン酸、フマル酸、りんご酸、酒石酸、チオりんご酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカン二酸、ヘキサデカンジオン酸、ジグリコール酸等の脂肪族二塩基酸;1,3-シクロヘキサンジカルボン酸、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸、1,3-シクロペンタンジカルボン酸等の脂環族二塩基酸;が挙げられる。
3官能以上の多塩基酸化合物としては、例えば、トリメリット酸、水添トリメリット酸、ピロメリット酸、水添ピロメリット酸、1,4,5,8-ナフタレンテトラカルボン酸が挙げられる。
[Other polybasic acid compounds]
The polybasic acid compounds other than the polybasic acid compound having a phenolic hydroxyl group and the polybasic acid compound having a C20-60 hydrocarbon group are not particularly limited within the scope of the present invention. Examples of such other polybasic acid compounds include dibasic acid compounds and polybasic acid compounds having three or more functional groups.
Examples of the dibasic acid compound include aromatic dibasic acids such as phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, 1,4-naphthalenedicarboxylic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, benzophenone-4,4'-dicarboxylic acid, and 4,4'-biphenyldicarboxylic acid; aliphatic dibasic acids such as oxalic acid, malonic acid, methylmalonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, maleic acid, fumaric acid, malic acid, tartaric acid, thiomalic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, dodecanedioic acid, hexadecanedioic acid, and diglycolic acid; and alicyclic dibasic acids such as 1,3-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, and 1,3-cyclopentanedicarboxylic acid.
Examples of trifunctional or higher polybasic acid compounds include trimellitic acid, hydrogenated trimellitic acid, pyromellitic acid, hydrogenated pyromellitic acid, and 1,4,5,8-naphthalenetetracarboxylic acid.

上記その他の多塩基酸化合物は、1種を単独で使用してもよいし、複数を併用して用いてもよい。中でも、イソフタル酸や1,4-シクロヘキサンジカルボン酸は、より耐熱性に優れる強靭なポリアミドが得られるという点から好適に用いることができる。また、3官能以上のものを使用することにより、ポリアミドに分岐構造を導入し、高分子量化でき、得られるポリアミドの凝集力を大きくできる。その結果、接着性に悪影響を与えずに、耐熱性を向上させることができる。 The other polybasic acid compounds mentioned above may be used alone or in combination. Among them, isophthalic acid and 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid are preferably used because they can produce a stronger polyamide with better heat resistance. In addition, by using a compound having three or more functional groups, a branched structure can be introduced into the polyamide, which can increase the molecular weight and increase the cohesive strength of the resulting polyamide. As a result, the heat resistance can be improved without adversely affecting the adhesiveness.

さらに、本発明では、一官能の一塩基酸化合物を併用することができる。一官能のものを使用することにより、ポリアミドの末端官能基となりうるカルボキシ基やアミノ基を減らすことができ、得られるポリアミドの分子量を制御できる。その結果、特にポリアミド樹脂の経時安定性を向上させることができる。一塩基酸化合物としては、例えば、安息香酸、4-ヒドロキシ安息香酸、2-エチルヘキサン酸が挙げられる。 Furthermore, in the present invention, a monofunctional monobasic acid compound can be used in combination. By using a monofunctional compound, it is possible to reduce the number of carboxyl groups and amino groups that can become terminal functional groups of the polyamide, and it is possible to control the molecular weight of the resulting polyamide. As a result, it is possible to improve the stability over time of the polyamide resin in particular. Examples of monobasic acid compounds include benzoic acid, 4-hydroxybenzoic acid, and 2-ethylhexanoic acid.

<ポリアミン単量体(m2)>
フェノール性水酸基を有するポリアミン化合物は特に限定されないが、例えば、下記一般式(2)で表されるポリアミンが挙げられる。
<Polyamine monomer (m2)>
The polyamine compound having a phenolic hydroxyl group is not particularly limited, and examples thereof include polyamines represented by the following general formula (2).

式中R3は、直接結合、又は炭素、水素、酸素、窒素、硫黄、又はハロゲンからなる基を示し、例えば、炭素数1~30の2価の炭化水素基又はハロゲン原子によって水素の一部若しくは全部が置換されている炭素数1~30の2価の炭化水素基、-(C=O)-、-SO2-、-O-、-S-、-NH-(C=O)-、-(C=O)-O-、下記一般式(3)で表される基及び下記一般式(4)で表される基が挙げられる。式中、r及びsはそれぞれ独立に1~20の整数を示し、R4は水素原子又はメチル基を示す。 In the formula, R 3 represents a direct bond or a group consisting of carbon, hydrogen, oxygen, nitrogen, sulfur, or halogen, and examples thereof include a divalent hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms, a divalent hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms in which some or all of the hydrogen atoms have been substituted by halogen atoms, -(C═O)-, -SO 2 -, -O-, -S-, -NH-(C═O)-, -(C═O)-O-, a group represented by the following general formula (3), and a group represented by the following general formula (4): In the formula, r and s each independently represent an integer of 1 to 20, and R 4 represents a hydrogen atom or a methyl group.

上記R3は、直接結合が好ましい。 The above R 3 is preferably a direct bond.

なお、一般式(2)の化合物を用いた場合、一般式(1)におけるR2、即ちポリアミン化合物残基である2価の連結基とは、一般式(2)の化合物から2つのアミノ基を除いた部分である。 In addition, when a compound of general formula (2) is used, R2 in general formula (1), i.e., a divalent linking group which is a polyamine compound residue, is the portion obtained by removing two amino groups from the compound of general formula (2).

[C20~60炭化水素基を有するポリアミン化合物]
C20~60炭化水素基を有するポリアミン化合物としては、前述のC20~60炭化水素基を有する多塩基酸化合物のカルボキシ基をアミノ基に転化した化合物が挙げられる。このようなポリアミン化合物の市販品としては、例えば、クローダジャパン社製の「プリアミン1071」、「プリアミン1073」、「プリアミン1074」、「プリアミン1075」;BASFジャパン社製の「バーサミン551」が挙げられる。
これらのポリアミン化合物は、単独又は併用して用いることができる。中でも三量体であるトリアミン成分を約20~25質量%含有する「プリアミン1071」は、ポリアミドの凝集力が向上し、耐熱性が向上するため好ましい。なお、ポリアミドの生産安定性の点から、ポリアミドの形成に供する全単量体100質量%中、三量体であるトリアミン及び前述の三量体であるトリカルボン酸は合計で0.1~20質量%であることが好ましく、1~10質量%であることがより好ましい。
[Polyamine compound having C20-60 hydrocarbon group]
Examples of polyamine compounds having a C20-60 hydrocarbon group include compounds obtained by converting the carboxy group of the polybasic acid compound having a C20-60 hydrocarbon group into an amino group. Commercially available products of such polyamine compounds include "Priamine 1071", "Priamine 1073", "Priamine 1074", and "Priamine 1075" manufactured by Croda Japan Ltd. and "Versamine 551" manufactured by BASF Japan Ltd.
These polyamine compounds can be used alone or in combination. Among them, "Priamine 1071" containing about 20 to 25% by mass of a trimer triamine component is preferred because it improves the cohesive force of the polyamide and improves heat resistance. From the viewpoint of the production stability of the polyamide, the total amount of the trimer triamine and the trimer tricarboxylic acid is preferably 0.1 to 20% by mass, more preferably 1 to 10% by mass, of the total monomers 100% by mass used to form the polyamide.

[その他のポリアミン化合物]
フェノール性水酸基を有するポリアミン化合物及びC20~60炭化水素基を有するポリアミン化合物以外のポリアミン化合物としては、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で特に限定されない。このようなその他のポリアミン化合物としては、ジアミン化合物、トリアミン化合物のような3官能以上のポリアミン化合物等が挙げられる。
ジアミン化合物としては、例えば、1,4-ジアミノベンゼン、1,3-ジアミノベンゼン、1,2-ジアミノベンゼン、1,5-ジアミノナフタレン、1,8-ジアミノナフタレン、2,3-ジアミノナフタレン、2,6-ジアミノトルエン、2,4-ジアミノトルエン、3,4-ジアミノトルエン、4,4’-ジアミノジフェニルメタン、3,4’-ジアミノジフェニルエーテル、4,4’-ジアミノジフェニルエーテル、4,4’-ジアミノー1,2-ジフェニルエタン、3,3’-ジアミノジフェニルメタン、3,4’-ジアミノジフェニルメタン、4,4’-ジアミノベンゾフェノン、4,4’-ジアミノジフェニルスルホン、3,3’-ジアミノベンゾフェノン、3,3’-ジアミノジフェニルスルホン等の芳香族ジアミン;エチレンジアミン、1,3-プロパンジアミン、1,4-ブタンジアミン、1,6-ヘキサンジアミン、1,7-ヘプタンジアミン、1,9-ノナンジアミン、1,12-ドデカメチレンジアミン、メタキシレンジアミン等の脂肪族ジアミン;イソホロンジアミン、ノルボルナンジアミン、1,2-シクロヘキサンジアミン、1,3-シクロヘキサンジアミン、1,4-シクロヘキサンジアミン、4,4’-ジアミノジシクロヘキシルメタン、ピペラジン等の脂環族ジアミンが挙げられる。
3官能以上のポリアミン化合物としては、例えば、1,2,4-トリアミノベンゼン、3,4,4’-トリアミノジフェニルエーテルが挙げられる。なお、芳香環を有していてもアミノ基が直結していない場合は脂肪族等に分類する。
[Other polyamine compounds]
The polyamine compounds other than the polyamine compounds having a phenolic hydroxyl group and the polyamine compounds having a C20-60 hydrocarbon group are not particularly limited within the scope of the present invention. Examples of such other polyamine compounds include trifunctional or higher polyamine compounds such as diamine compounds and triamine compounds.
Examples of the diamine compound include 1,4-diaminobenzene, 1,3-diaminobenzene, 1,2-diaminobenzene, 1,5-diaminonaphthalene, 1,8-diaminonaphthalene, 2,3-diaminonaphthalene, 2,6-diaminotoluene, 2,4-diaminotoluene, 3,4-diaminotoluene, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,4'-diaminodiphenylether, 4,4'-diaminodiphenylether, 4,4'-diamino-1,2-diphenylethane, 3,3'-diaminodiphenylmethane, 3,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminobenzophenone, 4,4'-diamino aromatic diamines such as 3,3'-diaminodiphenylsulfone, 3,3'-diaminobenzophenone, and 3,3'-diaminodiphenylsulfone; aliphatic diamines such as ethylenediamine, 1,3-propanediamine, 1,4-butanediamine, 1,6-hexanediamine, 1,7-heptanediamine, 1,9-nonanediamine, 1,12-dodecamethylenediamine, and metaxylenediamine; and alicyclic diamines such as isophoronediamine, norbornanediamine, 1,2-cyclohexanediamine, 1,3-cyclohexanediamine, 1,4-cyclohexanediamine, 4,4'-diaminodicyclohexylmethane, and piperazine.
Examples of trifunctional or higher polyamine compounds include 1,2,4-triaminobenzene and 3,4,4'-triaminodiphenyl ether. In addition, even if an aromatic ring is included, if the amino group is not directly bonded, it is classified as an aliphatic compound.

上記その他のポリアミン化合物は、1種を単独で使用してもよいし、複数を併用して用いてもよい。中でも、イソホロンジアミンやノルボルナンジアミンは、より耐熱性に優れる強靭なポリアミドが得られるという点から好適に用いることができる。
また、3官能以上のものを使用することにより、ポリアミドに分岐構造を導入し、高分子量化でき、得られるポリアミドの凝集力を大きくできる。その結果、接着性、耐熱性等を向上させることができる。
The other polyamine compounds may be used alone or in combination. Among them, isophorone diamine and norbornane diamine are preferably used because they can provide a polyamide having excellent heat resistance and toughness.
In addition, by using a trifunctional or higher functional group, a branched structure can be introduced into the polyamide, which can increase the molecular weight and the cohesive strength of the resulting polyamide, thereby improving the adhesiveness, heat resistance, etc.

さらに、本発明では、一官能のアミン化合物を併用することができる。一官能のものを使用することにより、ポリアミドの末端官能基となりうるカルボキシ基やアミノ基を減らすことができ、得られるポリアミドの分子量を制御できる。その結果、特にポリアミド樹脂の経時安定性を向上させることができる。一官能のアミン化合物としては、アニリン、4-アミノフェノール、2-エチルヘキシルアミン等が挙げられる。 Furthermore, in the present invention, a monofunctional amine compound can be used in combination. By using a monofunctional compound, it is possible to reduce the number of carboxyl groups and amino groups that can become terminal functional groups of the polyamide, and it is possible to control the molecular weight of the resulting polyamide. As a result, it is possible to improve the stability over time of the polyamide resin in particular. Examples of monofunctional amine compounds include aniline, 4-aminophenol, and 2-ethylhexylamine.

本発明のフェノール性水酸基含有ポリアミド(A-1)は、接着性、耐熱性等、特に向上させたい性能に応じて、前記の多塩基性単量体(m1)、ポリアミン単量体(m2)を適宜選択して得ることができる。 The phenolic hydroxyl group-containing polyamide (A-1) of the present invention can be obtained by appropriately selecting the polybasic monomer (m1) and polyamine monomer (m2) according to the properties that need to be improved, such as adhesion and heat resistance.

なお、重合によって得られるポリアミド(A-1)は、フェノール性水酸基を有する成分とC20~60炭化水素基を有する成分とのランダム重合体であってもよいし、ブロック重合体であってもよい。即ち、複数種の多塩基酸単量体化合物の混合物と1種のポリアミン化合物との重合体であってもよく、複数種の多塩基酸化合物の混合物と複数種のポリアミン化合物の混合物との重合体であってもよく、1種の多塩基酸化合物と複数種のポリアミン化合物の混合物との重合体であってもよく、1種の多塩基酸化合物と1種のポリアミン化合物との重合体であってもよい。該重合体は、末端に残る官能基に応じ、さらに他の多塩基酸化合物や他のポリアミン化合物を重合したものであってもよい。 The polyamide (A-1) obtained by polymerization may be a random polymer or a block polymer of a component having a phenolic hydroxyl group and a component having a C20-60 hydrocarbon group. That is, it may be a polymer of a mixture of multiple polybasic acid monomer compounds and one polyamine compound, a polymer of a mixture of multiple polybasic acid compounds and a mixture of multiple polyamine compounds, a polymer of one polybasic acid compound and a mixture of multiple polyamine compounds, or a polymer of one polybasic acid compound and one polyamine compound. The polymer may further be polymerized with other polybasic acid compounds or other polyamine compounds depending on the functional groups remaining at the terminals.

本発明のポリアミド(A-1)は、ポリアミドの合成に用いられる全単量体、即ち、多塩基酸単量体(m1)、ポリアミン単量体(m2)、及び必要に応じて用いられる一塩基酸や一官能のアミン化合物の合計100mol中に、C20~60炭化水素基を有する化合物を10~95mol%含むことが好ましく、14~92mol%含むことがより好ましく、18~88mol%含むことがさらに好ましい。 The polyamide (A-1) of the present invention preferably contains 10 to 95 mol %, more preferably 14 to 92 mol %, and even more preferably 18 to 88 mol % of a compound having a C20-60 hydrocarbon group out of a total of 100 mol of all monomers used in the synthesis of the polyamide, i.e., polybasic acid monomer (m1), polyamine monomer (m2), and monobasic acid or monofunctional amine compound used as needed.

C20~60炭化水素基を有する単量体のモル数の計算方法について説明する。
まず、C20~60炭化水素基を有する単量体の分子量(M)を下記式により求める。
M=(56.11×F×1000)/E
F:C20~60炭化水素基を有する単量体の官能基数
E:C20~60炭化水素基を有する単量体の酸価(mgKOH/g)
次いで、重合に供したC20~60炭化水素基を有する化合物の質量を、前記分子量(M)で除することによって、重合に供したC20~60炭化水素基を有する化合物のモル数を求める。同様にして重合に供した各単量体のモル数を求め、それらを合計し、重合に供した全単量体のモル数を求める。そして、C20~60炭化水素基を有する化合物のモル数を全単量体のモル数で除することによって、C20~60炭化水素基を有する化合物の占める割合(mol%)を求めることができる。
The method for calculating the number of moles of a monomer having a C20-60 hydrocarbon group will now be described.
First, the molecular weight (M) of a monomer having a C20-60 hydrocarbon group is calculated according to the following formula.
M=(56.11×F×1000)/E
F: Number of functional groups of monomers having C20-60 hydrocarbon groups E: Acid value of monomers having C20-60 hydrocarbon groups (mgKOH/g)
Next, the mass of the compound having a C20-60 hydrocarbon group that was subjected to polymerization is divided by the molecular weight (M) to determine the number of moles of the compound having a C20-60 hydrocarbon group that was subjected to polymerization. In the same manner, the number of moles of each monomer that was subjected to polymerization is determined, and these are summed to determine the number of moles of all monomers that were subjected to polymerization. Then, the proportion (mol %) of the compound having a C20-60 hydrocarbon group can be determined by dividing the number of moles of the compound having a C20-60 hydrocarbon group by the number of moles of all monomers.

≪ポリアミド(A-3)≫
ポリアミド(A-3)は、側鎖にフェノール性水酸基を有するポリアミド(a-1)と、炭素数20~60の炭化水素基を有する(a-2)とを混合してなるポリアミドである。
ポリアミド(a-1)の好ましい態様の一つは、多塩基酸単量体(m3)とポリアミン単量体(m4)とを重合してなり、側鎖にフェノール性水酸基を有し、且つ、C20~60炭化水素基は有さないものである。ポリアミド(a-1)は、上記条件を満たせばよく、その他の多塩基酸単量体、ポリアミン単量体を適宜用いることができる。即ち、多塩基酸単量体(m3)は、フェノール性水酸基を有する多塩基酸化合物及びその他の多塩基酸化合物(但し、C20~60炭化水素基を有する多塩基酸化合物は除く)からなる群より選ばれる少なくとも一種であり、ポリアミン単量体(m4)は、フェノール性水酸基を有するポリアミン化合物及びその他のポリアミン化合物(但し、C20~60炭化水素基を有するポリアミン化合物は除く)からなる群より選ばれる少なくとも一種であり、多塩基酸単量体(m3)又はポリアミン単量体(m4)の少なくとも一方がフェノール性水酸基を有する。
ポリアミド(a-1)は、2価の単量体と3価以上の単量体を組み合わせて、枝分かれ構造を導入しつつ、適切な分子量を調整してもよい。また、1価の単量体を用いて、分子量を適切に保つことも可能である。
<Polyamide (A-3)>
The polyamide (A-3) is a polyamide obtained by mixing a polyamide (a-1) having a phenolic hydroxyl group in the side chain and a polyamide (a-2) having a hydrocarbon group having 20 to 60 carbon atoms.
One of the preferred aspects of the polyamide (a-1) is a polyamide obtained by polymerizing a polybasic acid monomer (m3) and a polyamine monomer (m4), has a phenolic hydroxyl group in the side chain, and does not have a C20-60 hydrocarbon group. The polyamide (a-1) may be any other polybasic acid monomer or polyamine monomer that satisfies the above conditions. That is, the polybasic acid monomer (m3) is at least one selected from the group consisting of a polybasic acid compound having a phenolic hydroxyl group and other polybasic acid compounds (excluding polybasic acid compounds having a C20-60 hydrocarbon group), the polyamine monomer (m4) is at least one selected from the group consisting of a polyamine compound having a phenolic hydroxyl group and other polyamine compounds (excluding polyamine compounds having a C20-60 hydrocarbon group), and at least one of the polybasic acid monomer (m3) and the polyamine monomer (m4) has a phenolic hydroxyl group.
The polyamide (a-1) may be prepared by combining a divalent monomer with a trivalent or higher monomer to introduce a branched structure and adjust the molecular weight appropriately. It is also possible to maintain the molecular weight appropriately by using a monovalent monomer.

ポリアミド(a-2)の好ましい態様の一つは、多塩基酸単量体(m5)とポリアミン単量体(m6)とを重合してなり、C20~60炭化水素基を有するが、側鎖にフェノール性水酸基を有しないものである。
多塩基酸単量体(m5)は、C20~60炭化水素基を有する多塩基酸化合物及びその他の多塩基酸化合物(但し、フェノール性水酸基を有する多塩基酸化合物は除く)からなる群より選ばれる少なくとも一種であり、ポリアミン単量体(m6)は、C20~60炭化水素基を有するポリアミン化合物及びその他のポリアミン化合物(但し、フェノール性水酸基を有するポリアミン化合物は除く)からなる群より選ばれる少なくとも一種であり、多塩基酸単量体(m5)又は前記ポリアミン単量体(m6)の少なくも一方が、C20~60炭化水素基を有する。
One of the preferred embodiments of the polyamide (a-2) is obtained by polymerizing a polybasic acid monomer (m5) and a polyamine monomer (m6), and has a C20-60 hydrocarbon group but does not have a phenolic hydroxyl group in the side chain.
The polybasic acid monomer (m5) is at least one selected from the group consisting of polybasic acid compounds having a C20 to 60 hydrocarbon group and other polybasic acid compounds (excluding polybasic acid compounds having a phenolic hydroxyl group), and the polyamine monomer (m6) is at least one selected from the group consisting of polyamine compounds having a C20 to 60 hydrocarbon group and other polyamine compounds (excluding polyamine compounds having a phenolic hydroxyl group), and at least one of the polybasic acid monomer (m5) and the polyamine monomer (m6) has a C20 to 60 hydrocarbon group.

つまり、ポリアミド(A-3)は、側鎖にフェノール性水酸基を有するが、C20~60炭化水素基は有しないポリアミド(a-1)と、C20~60炭化水素基を有するが、側鎖にフェノール性水酸基は有しないポリアミド(a-2)との混合物である。
ポリアミド(a-1)と、ポリアミド(a-2)との混合比は、(a-1)のフェノール性水酸基価や分子量にもよって適宜調整することが可能であるが、ポリアミド(a-1):ポリアミド(a-2)=5:95~80:20(質量比)であることが好ましく、10:90~50:50であることがより好ましい。
In other words, polyamide (A-3) is a mixture of polyamide (a-1) having a phenolic hydroxyl group in the side chain but no C20-60 hydrocarbon group, and polyamide (a-2) having a C20-60 hydrocarbon group but no phenolic hydroxyl group in the side chain.
The mixing ratio of polyamide (a-1) to polyamide (a-2) can be appropriately adjusted depending on the phenolic hydroxyl value and molecular weight of (a-1). However, polyamide (a-1):polyamide (a-2) is preferably 5:95 to 80:20 (mass ratio), and more preferably 10:90 to 50:50.

多塩基酸単量体(m3)としては、上述する多塩基酸単量体(m1)のうち、C20~60炭化水素基を有する多塩基酸化合物以外のものが挙げられる。また、一塩基性化合物を併用してもよい。
ポリアミン単量体(m4)としては、上述するポリアミン単量体(m2)のうち、C20~60炭化水素基を有するポリアミン化合物以外のものが挙げられる。また、一官能のアミン化合物を併用してもよい。
The polybasic acid monomer (m3) may be any of the above-mentioned polybasic acid monomers (m1) other than the polybasic acid compounds having a C20 to C60 hydrocarbon group. A monobasic compound may also be used in combination.
The polyamine monomer (m4) may be any of the above-mentioned polyamine monomers (m2) other than the polyamine compounds having a C20 to C60 hydrocarbon group. A monofunctional amine compound may also be used in combination.

多塩基酸単量体(m5)としては、上述する多塩基酸単量体(m1)のうち、フェノール性水酸基を有する多塩基酸化合物以外のものが挙げられる。また、一塩基性化合物を併用してもよい。
ポリアミン単量体(m6)としては、上述するポリアミン単量体(m2)のうち、フェノール性水酸基を有するポリアミン化合物以外のものが挙げられる。また、一官能のアミン化合物を併用してもよい。
The polybasic acid monomer (m5) may be any of the above-mentioned polybasic acid monomers (m1) other than the polybasic acid compounds having a phenolic hydroxyl group. A monobasic compound may also be used in combination.
The polyamine monomer (m6) may be any of the above-mentioned polyamine monomers (m2) other than the polyamine compound having a phenolic hydroxyl group. A monofunctional amine compound may also be used in combination.

本発明のポリアミド(A-3)は、形成に用いられる全単量体(m3)~(m6)及び必要に応じて用いられる一塩基酸や一官能のアミン化合物の合計100mol中に、C20~60炭化水素基を有する化合物を10~95mol%含むことが好ましく、14~92mol%含むことがより好ましく、18~88mol%含むことがさらに好ましい。 The polyamide (A-3) of the present invention preferably contains 10 to 95 mol %, more preferably 14 to 92 mol %, and even more preferably 18 to 88 mol % of a compound having a C20 to 60 hydrocarbon group out of a total of 100 mol of all monomers (m3) to (m6) used in the formation and monobasic acid and monofunctional amine compounds used as necessary.

[フェノール性水酸基価]
ポリアミド(A)のフェノール性水酸基の量は目的に応じて調整可能であるが、好ましくは1~80mgKOH/g、より好ましくは5~60mgKOH/g、更に好ましくは5~30mgKOH/gである。フェノール性水酸基価が1mgKOH/g以上であると、密な架橋構造を形成でき、硬化後の塗膜の耐性、硬度、耐熱性を向上することができる。また、フェノール性水酸基価が80mgKOH/g以下であると、接着性、屈曲性の良好な硬化塗膜を得ることができる。また、フェノール性水酸基価が1~80mgKOH/gの範囲内であると、得られる塗膜の接着性、屈曲性、耐熱性が向上するため好ましい。
[Phenol hydroxyl value]
The amount of phenolic hydroxyl groups in the polyamide (A) can be adjusted depending on the purpose, but is preferably 1 to 80 mgKOH/g, more preferably 5 to 60 mgKOH/g, and even more preferably 5 to 30 mgKOH/g. When the phenolic hydroxyl value is 1 mgKOH/g or more, a dense crosslinked structure can be formed, and the resistance, hardness, and heat resistance of the cured coating film can be improved. When the phenolic hydroxyl value is 80 mgKOH/g or less, a cured coating film with good adhesion and flexibility can be obtained. When the phenolic hydroxyl value is within the range of 1 to 80 mgKOH/g, the adhesion, flexibility, and heat resistance of the resulting coating film are improved, which is preferable.

上記フェノール性水酸基価は、ポリアミド(A-1)、又は、ポリアミド(a-1)及びポリアミド(a-2)を構成する全単量体の内の、フェノール性水酸基を有する単量体の配合組成によって調整可能である。
例えば、多塩基酸化合物としてフェノール性水酸基を有する5-ヒドロキシイソフタル酸のみを用い、ポリアミン化合物としてC20~60の炭化水素基を有しフェノール性水酸基を有しないダイマージアミンのみを用いて反応させたポリアミド(A)である場合、そのフェノール性水酸基価は80mgKOH/g近くとなり、熱硬化物の耐熱性がより一層向上する。
The phenolic hydroxyl value can be adjusted by the blending composition of monomers having a phenolic hydroxyl group among all the monomers constituting the polyamide (A-1), or the polyamide (a-1) and the polyamide (a-2).
For example, in the case of polyamide (A) obtained by reacting only 5-hydroxyisophthalic acid having a phenolic hydroxyl group as the polybasic acid compound and only dimer diamine having a C20 to C60 hydrocarbon group and no phenolic hydroxyl group as the polyamine compound, the phenolic hydroxyl value is close to 80 mgKOH/g, and the heat resistance of the thermoset product is further improved.

なお、ポリアミド(A)がポリアミド(A-3)である場合、そのフェノール性水酸基価は、ポリアミド(a-1)及びポリアミド(a-2)の混合物のフェノール性水酸基価とする。 When polyamide (A) is polyamide (A-3), its phenolic hydroxyl value is the phenolic hydroxyl value of the mixture of polyamide (a-1) and polyamide (a-2).

[質量平均分子量]
ポリアミド(A-1)の質量平均分子量は、取扱い性及び金属粒子との相互作用による金属粒子の分散性の点から、3,000~1,000,000であることが好ましく、5,000~550,000であることがより好ましく、10,000~300,000であることがさらに好ましい。
ポリアミド(a-1)の質量平均分子量は、後述する汎用性溶剤への溶解性の点から500~30,000であることが好ましく、1000~20,000であることがより好ましく、1,000~10,000であることがさらに好ましい。
ポリアミド(a-2)の質量平均分子量は、ポリアミド(A-1)の場合と同様の範囲であることが好ましい。
[Mass average molecular weight]
The mass average molecular weight of the polyamide (A-1) is preferably from 3,000 to 1,000,000, more preferably from 5,000 to 550,000, and even more preferably from 10,000 to 300,000, from the viewpoints of handleability and dispersibility of metal particles through interaction with the metal particles.
The mass average molecular weight of the polyamide (a-1) is preferably 500 to 30,000, more preferably 1,000 to 20,000, and even more preferably 1,000 to 10,000, from the viewpoint of solubility in general-purpose solvents described below.
The weight average molecular weight of the polyamide (a-2) is preferably in the same range as that of the polyamide (A-1).

[ガラス転移温温度]
ポリアミド(A)のガラス転移温度は、-40℃~120℃であることが好ましく、より好ましくは、-30℃~80℃である。ポリアミド(A)のガラス転移温度を-40℃~120℃の範囲とすることで、接合時のはみ出しを抑制することができ、さらには基材に対する良好な埋め込み性が可能となり、接着性をより一層向上することができる。
[Glass transition temperature]
The glass transition temperature of the polyamide (A) is preferably −40° C. to 120° C., and more preferably −30° C. to 80° C. By setting the glass transition temperature of the polyamide (A) in the range of −40° C. to 120° C., it is possible to suppress extrusion during bonding, and further to achieve good embedding properties in the substrate, thereby further improving the adhesiveness.

上記ガラス転移温度は、C20~60炭化水素基を有する単量体の配合比率によって調整できる。例えば、C20~60炭化水素基を有する単量体の配合比率を高くすることで、吸水率の高いアミド結合の濃度が低下し、二量化脂肪酸特有の柔軟屈曲性が付与されるため、ガラス転移温度は-40℃に近くとなる。 The above glass transition temperature can be adjusted by the blending ratio of monomers having C20-60 hydrocarbon groups. For example, by increasing the blending ratio of monomers having C20-60 hydrocarbon groups, the concentration of amide bonds with high water absorption decreases, and the flexibility characteristic of dimerized fatty acids is imparted, so that the glass transition temperature becomes close to -40°C.

なお、ポリアミド(A)がポリアミド(A-3)である場合、そのガラス転移温度は、ポリアミド(a-1)及びポリアミド(a-2)の混合物のガラス転移温度とする。 When polyamide (A) is polyamide (A-3), its glass transition temperature is the glass transition temperature of a mixture of polyamide (a-1) and polyamide (a-2).

<ポリアミド(A)の合成>
本発明に用いるポリアミド(A)の重合方法は特に制限されず、溶融重合、界面重合、溶液重合、塊状重合、固相重合、及びこれらの方法を組み合わせた公知の方法を用いることができる。工業的には、触媒存在下あるいは非存在下において150~300℃で1~24時間程度の反応を行うことが一般的であり、脱水あるいは脱アルコール反応を促進し、高温による着色、分解反応を避けるために、180~270℃で大気圧以下の減圧下で反応を行うのが好ましい。
<Synthesis of polyamide (A)>
The polymerization method of the polyamide (A) used in the present invention is not particularly limited, and known methods such as melt polymerization, interfacial polymerization, solution polymerization, bulk polymerization, solid-phase polymerization, and combinations of these methods can be used. Industrially, the reaction is generally carried out at 150 to 300°C for about 1 to 24 hours in the presence or absence of a catalyst, and it is preferable to carry out the reaction at 180 to 270°C under reduced pressure of atmospheric pressure or less in order to promote the dehydration or dealcoholization reaction and to avoid coloration and decomposition reactions due to high temperatures.

上記重合において使用できる触媒としては、例えば、リン酸、亜リン酸、次亜リン酸、ピロリン酸、ポリリン酸及びこれらのアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩等の無機系リン化合物や、亜リン酸トリフェニル、亜リン酸ジフェニル等の亜リン酸エステル、テトラブチルオルソチタネート、テトライソプロピルオルソチタネート等のチタン系触媒、ジブチルスズオキシド、ジブチルスズラウレート、モノブチルヒドロキシスズオキシド等のスズ系触媒、テトラブトキシジルコニウム、酢酸ジルコニウム、オクチル酸ジルコニウム等のジルコニウム系触媒が挙げられる。
これらの触媒は、2種類以上を混合して用いてもよい。
Examples of the catalyst that can be used in the polymerization include inorganic phosphorus compounds such as phosphoric acid, phosphorous acid, hypophosphorous acid, pyrophosphoric acid, polyphosphoric acid, and alkali metal salts and alkaline earth metal salts thereof; phosphites such as triphenyl phosphite and diphenyl phosphite; titanium-based catalysts such as tetrabutyl orthotitanate and tetraisopropyl orthotitanate; tin-based catalysts such as dibutyltin oxide, dibutyltin laurate and monobutylhydroxytin oxide; and zirconium-based catalysts such as tetrabutoxyzirconium, zirconium acetate and zirconium octylate.
These catalysts may be used in combination of two or more kinds.

<接合用ペースト>
上述のポリアミド(A)と金属粒子(B)と分散媒(C)とを、従来公知の方法で均一に混合、分散することで本発明の接合用ペーストを製造できる。接合用ペーストを混合、分散する方法は特に限定されず、例えば、ディスパー、3本ロール、ビーズミル、超音波分散機、自公転式撹拌機ディスペンサーを用いることができる。
<Joint paste>
The bonding paste of the present invention can be produced by uniformly mixing and dispersing the above-mentioned polyamide (A), metal particles (B), and dispersion medium (C) by a conventionally known method. The method for mixing and dispersing the bonding paste is not particularly limited, and for example, a disperser, a three-roll mill, a bead mill, an ultrasonic disperser, or a self-revolving stirrer dispenser can be used.

本発明の接合用ペーストは、金属粒子(B)の質量を基準として、ポリアミド(A)を0.01~1.70質量%の範囲で含むことが好ましい。ポリアミド(A)の含有率が0.01質量%以上であると、ペーストの流動性が向上し接合塗膜が緻密化する。これにより、接合時の加熱の際のボイドの発生が抑制され、良好な接合強度及び冷熱サイクル特性を発現できる。含有率が1.70質量%以下であると、接合塗膜中の空隙発生の要因となる有機物の量が抑制される。これにより、接合時の加熱の際のボイドの発生が抑制され、良好な接合強度及び冷熱サイクル特性を発現できる。
ポリアミド(A)の含有量は、より好ましくは0.02質量%以上、さらに好ましくは0.04質量%以上、特に好ましくは0.10質量%以上である。ポリアミド(A)の含有量は、より好ましくは1.30質量%以下、さらに好ましくは1.00質量%以下、特に好ましくは0.50質量%以下である。
The bonding paste of the present invention preferably contains polyamide (A) in the range of 0.01 to 1.70 mass% based on the mass of the metal particles (B). When the content of polyamide (A) is 0.01 mass% or more, the fluidity of the paste is improved and the bonding coating film is densified. This suppresses the generation of voids during heating during bonding, and allows the development of good bonding strength and thermal cycle characteristics. When the content is 1.70 mass% or less, the amount of organic matter that causes voids in the bonding coating film is suppressed. This suppresses the generation of voids during heating during bonding, and allows the development of good bonding strength and thermal cycle characteristics.
The content of polyamide (A) is more preferably 0.02% by mass or more, further preferably 0.04% by mass or more, particularly preferably 0.10% by mass or more. The content of polyamide (A) is more preferably 1.30% by mass or less, further preferably 1.00% by mass or less, particularly preferably 0.50% by mass or less.

また本発明の接合用ペーストは、金属粒子(B)/分散媒(C)の割合が、80/20~98/2(質量比)の範囲であることが好ましく、85/15~96/4(質量比)の範囲であることがより好ましく、90/10~94/6(質量比)の範囲であることがより好ましい。上記範囲であることにより、接合用ペーストとして良好な塗布適性を確保できるとともに、乾燥塗膜中への有機成分の残分を抑制し、接合時の加熱の際のボイドの発生を抑制し、良好な接合強度を発現できる。 The bonding paste of the present invention preferably has a metal particle (B)/dispersion medium (C) ratio in the range of 80/20 to 98/2 (mass ratio), more preferably in the range of 85/15 to 96/4 (mass ratio), and even more preferably in the range of 90/10 to 94/6 (mass ratio). By being in the above range, it is possible to ensure good application suitability as a bonding paste, suppress the residue of organic components in the dried coating film, suppress the generation of voids when heated during bonding, and achieve good bonding strength.

<その他の成分>
本発明の接合用ペーストは、本発明の効果を損なわない範囲で、硬化剤、焼結促進剤、バインダー樹脂(ポリアミド(A)を除く)、分散剤、添加剤等の公知の成分を添加することができる。
<Other ingredients>
The bonding paste of the present invention may contain known components such as a hardener, a sintering accelerator, a binder resin (excluding polyamide (A)), a dispersant, and additives, within the range that does not impair the effects of the present invention.

[硬化剤]
本発明で使用してもよい硬化剤としては、例えば、ポリアミド(A)が有するフェノール性水酸基と反応し得る官能基を有する化合物が挙げられる。このような化合物としては、例えば、エポキシ基含有化合物、イソシアネート基含有化合物、カルボジイミド基含有化合物、金属キレート化合物、金属アルコキシド、金属アシレートが挙げられる。
また、ポリアミド樹脂(A)が、末端官能基としてカルボキシ基やアミノ基を有する場合、ポリアミド樹脂(A)には、フェノール性水酸基、カルボキシ基及び/又はアミノ基のような官能基が混在することになり、上記硬化剤を選択することで、各々の官能基との反応性の違いを利用して、加工性や接着性を調整してもよい。
[Curing agent]
The curing agent that may be used in the present invention may be, for example, a compound having a functional group capable of reacting with the phenolic hydroxyl group of the polyamide (A). Examples of such a compound include an epoxy group-containing compound, an isocyanate group-containing compound, a carbodiimide group-containing compound, a metal chelate compound, a metal alkoxide, and a metal acylate.
Furthermore, when the polyamide resin (A) has a carboxy group or an amino group as a terminal functional group, the polyamide resin (A) contains a mixture of functional groups such as a phenolic hydroxyl group, a carboxy group, and/or an amino group, and by selecting the above-mentioned curing agent, the processability and adhesiveness can be adjusted by utilizing the difference in reactivity with each functional group.

<接合体>
本発明の接合用ペーストによって、第一の被接合体と第二の被接合体とを接合し、接合体を得ることができる。接合用ペーストを被接合体に塗布する方法は、部材上に均一に塗布できる方法であれば特に限定されるものではなく、例えば、スクリーン印刷、フレキソ印刷、オフセット印刷、グラビア印刷、メタルマスク印刷、グラビアオフセット印刷、ディスペンサー塗工等の各種印刷法が挙げられる。
接合塗膜の厚みは制限されないが、通常3μm~500μm、好ましくは10μm~200μm、より好ましくは20μm~100μmである。
<Joint>
The bonding paste of the present invention can bond a first body to a second body to obtain a bonded body. The method of applying the bonding paste to the body to be bonded is not particularly limited as long as it can apply the paste uniformly to the member, and examples of the method include various printing methods such as screen printing, flexographic printing, offset printing, gravure printing, metal mask printing, gravure offset printing, and dispenser coating.
The thickness of the bonding coating is not limited, but is usually 3 μm to 500 μm, preferably 10 μm to 200 μm, and more preferably 20 μm to 100 μm.

接合工程における焼結条件は、適宜選択でき、例えば、大気圧下、窒素雰囲気、真空中、加圧、還元雰囲気で200~300℃等の条件を挙げることができる。焼成装置としては、例えば、熱風オーブン、赤外線オーブン、リフローオーブン、マイクロウエーブオーブン、ホットプレート、光焼成装置が挙げられる。これらの装置は、1種を単独で用いてもよく、複数を併用してもよい。
焼成工程の前に、接合塗膜中の有機成分を取り除く目的で、適宜予備乾燥工程を設けてもよい。このような予備乾燥工程としては、例えば、上記焼成装置と同様な装置を用いて、60~220℃の範囲での加熱、減圧乾燥を行う工程が挙げられる。
Sintering conditions in the bonding step can be appropriately selected, and examples of the conditions include atmospheric pressure, a nitrogen atmosphere, a vacuum, pressurized, and a reducing atmosphere at 200 to 300° C. Sintering devices include, for example, hot air ovens, infrared ovens, reflow ovens, microwave ovens, hot plates, and light sintering devices. These devices may be used alone or in combination.
A preliminary drying step may be provided before the baking step in order to remove organic components from the bonding coating film. For example, such a preliminary drying step may involve heating at a temperature in the range of 60 to 220° C. and drying under reduced pressure using an apparatus similar to the baking apparatus described above.

また、本発明の接合用ペーストを塗布した第一の被接合体に第二の被接合体を載置させる際に、圧力をかけながら載置させることもできる。圧力は、接合用ペーストの粘度やペーストの乾燥状態により適宜設定されるが、好ましくは0.1~40MPa、より好ましくは0.3~30MPaである。 In addition, when placing a second object to be joined on a first object to be joined coated with the joining paste of the present invention, the second object to be joined can be placed while applying pressure. The pressure is set appropriately depending on the viscosity of the joining paste and the drying state of the paste, but is preferably 0.1 to 40 MPa, and more preferably 0.3 to 30 MPa.

2つの被接合体を接合する好ましい方法としては、本発明の接合用ペーストを、第一の被接合体に塗布し、該塗布面に第二の被接合体を載置し、200~300℃程度まで、1℃/分~15℃/分程度の昇温速度で昇温し焼結を行う方法が挙げられる。昇温終了後、昇温終了時の温度よりも高い温度で10分間~2時間程度維持することが好ましい。 A preferred method for joining two objects to be joined is to apply the joining paste of the present invention to a first object to be joined, place a second object to be joined on the applied surface, and heat the paste to about 200-300°C at a heating rate of about 1°C/min to 15°C/min to perform sintering. After heating is complete, it is preferable to maintain the temperature higher than the temperature at the end of heating for about 10 minutes to 2 hours.

被接合体の種類は特に限定されず、例えば、金属部材、電子素子、プラスチック材料、セラミック材料を挙げることができる。
金属部材同士、金属部材と半導体素子、金属部材とLED素子とを接合することが好ましい。
The type of the object to be joined is not particularly limited, and examples thereof include metal members, electronic elements, plastic materials, and ceramic materials.
It is preferable to join metal members together, a metal member and a semiconductor element, or a metal member and an LED element.

金属部材としては、例えば、銅基板、金基板、アルミ基板等を挙げることができる。電子素子としては、半導体素子、LED素子、パワーデバイス素子を挙げることができる。
半導体素子としては、シリコン(ケイ素)やゲルマニウムのほかに、ヒ化ガリウム、リン化ガリウム、硫化カドミウム等が用いられる。LED素子としてはアルミニウム、窒化珪素、ダイヤモンド、黒鉛、酸化イットリウム及び酸化マグネシウム等が用いられる。
特に、炭化ケイ素や窒化ガリウム等のパワーデバイス素子を使用することができる。プラスチック材料としては、例えば、ポリイミド、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレンナフタレート等を挙げることができる。
セラミック材料としては、例えば、ガラス、シリコン等を挙げることができる。
第一の被接合体及び第二の被接合体は、同じ種類だけではなく、異なる種類の部材であってもよい。上記部材は、接合強度を大きくするため適宜コロナ処理、メッキ等で加工してもよい。
金属部材としては、例えば、銅基板、金基板、アルミニウム基板が挙げられる。
電子素子としては、例えば、半導体素子、LED素子が挙げられる。
半導体素子としては、例えば、シリコン(ケイ素)、ゲルマニウムのほかに、ヒ化ガリウム、リン化ガリウム、硫化カドミウムが挙げられる。LED素子としては、例えば、アルミニウム、窒化珪素、ダイヤモンド、黒鉛、酸化イットリウム、酸化マグネシウムが挙げられる。特に、炭化ケイ素、窒化ガリウム等のパワーデバイス素子を使用することができる。
プラスチック材料としては、例えば、ポリイミド、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレンナフタレートが挙げられる。
セラミック材料としては、例えば、ガラス、シリコンが挙げられる。
Examples of the metal member include a copper substrate, a gold substrate, an aluminum substrate, etc. Examples of the electronic element include a semiconductor element, an LED element, and a power device element.
Semiconductor elements include silicon and germanium, as well as gallium arsenide, gallium phosphide, cadmium sulfide, etc. LED elements include aluminum, silicon nitride, diamond, graphite, yttrium oxide, magnesium oxide, etc.
In particular, it is possible to use power device elements of silicon carbide, gallium nitride, etc. Examples of the plastic material include polyimide, polyethylene, polypropylene, polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyethylene naphthalate, etc.
Examples of the ceramic material include glass and silicon.
The first and second objects to be joined may be members of different kinds, not just the same kind. The members may be appropriately processed by corona treatment, plating, or the like in order to increase the joining strength.
Examples of the metal member include a copper substrate, a gold substrate, and an aluminum substrate.
Examples of the electronic element include a semiconductor element and an LED element.
Examples of semiconductor elements include silicon, germanium, gallium arsenide, gallium phosphide, and cadmium sulfide. Examples of LED elements include aluminum, silicon nitride, diamond, graphite, yttrium oxide, and magnesium oxide. In particular, power device elements such as silicon carbide and gallium nitride can be used.
Examples of plastic materials include polyimide, polyethylene, polypropylene, polyethylene terephthalate, polycarbonate, and polyethylene naphthalate.
Examples of ceramic materials include glass and silicon.

第一の被接合体及び第二の被接合体は、同じ種類だけではなく、異なる種類の部材であってもよい。上記部材は、接合強度を高めるため、コロナ処理、メッキ処理が施されていてもよい。 The first and second objects to be joined may be members of different types, not just the same type. The members may be subjected to a corona treatment or plating treatment to increase the joining strength.

以下、実施例及び比較例を用いて本発明を詳細に説明するが、本発明の技術的範囲はこれに限定されるものではない。尚、例中、特に断りがない限り「部」は「質量部」を、「%」は「質量%」をそれぞれ表す。また、表中の数値は、特に断りがない限り「部」を表す。 The present invention will be described in detail below using examples and comparative examples, but the technical scope of the present invention is not limited thereto. In the examples, "parts" means "parts by mass" and "%" means "% by mass" unless otherwise specified. In addition, the numerical values in the tables mean "parts" unless otherwise specified.

[粒子径の測定]
金属粒子にイソプロピルアルコールを加え、超音波分散機にて分散し、0.5質量%の分散液を得た。得られた分散液をナノトラックUPA-EX150(日機装社製)を用いて、分散液中の金属粒子の粒子径を測定し、d1、d50、d99を求めた。
[Measurement of particle size]
Isopropyl alcohol was added to the metal particles, and the mixture was dispersed using an ultrasonic disperser to obtain a 0.5% by mass dispersion. The particle diameters of the metal particles in the dispersion were measured using a Nanotrac UPA-EX150 (manufactured by Nikkiso Co., Ltd.) to determine d1, d50, and d99.

[質量減少率の算出]
各金属粒子(B)について、示差熱-熱重量同時測定装置(TG-DTA、EXSTAR TG/DTA6200、セイコーインスツルメント社製)を用い、昇温速度5℃/分の条件にて25℃より昇温し、Ts、Te及びTsにおける金属粒子(B)の質量を100質量%とした際の、Teにおける金属粒子(B)の質量減少率を求めた。図1に示すように、DTA曲線にて示される最も低温側の発熱ピークの補外開始温度をTs、DTA曲線にて示される最も高温側の発熱ピークの補外終了温度をTeとした。
質量減少率=[(Tsにおける金属粒子(B)の質量-Teにおける金属粒子(B)の質量)/Tsにおける金属粒子(B)の質量]×100
[Calculation of mass reduction rate]
For each metal particle (B), a differential thermal-thermogravimetric simultaneous measurement device (TG-DTA, EXSTAR TG/DTA6200, manufactured by Seiko Instruments Inc.) was used to raise the temperature from 25° C. at a heating rate of 5° C./min, and the mass reduction rate of the metal particle (B) at Te was determined when the mass of the metal particle (B) at Ts, Te, and Ts was taken as 100 mass%. As shown in FIG. 1, the extrapolated start temperature of the exothermic peak on the lowest temperature side shown in the DTA curve was taken as Ts, and the extrapolated end temperature of the exothermic peak on the highest temperature side shown in the DTA curve was taken as Te.
Mass reduction rate=[(mass of metal particles (B) at Ts−mass of metal particles (B) at Te)/mass of metal particles (B) at Ts]×100

<金属粒子の製造>
(製造例1)金属粒子B1
窒素雰囲気下、25℃で攪拌しながらトルエン200部及びヘキサン酸銀21.5部を混合し、分散剤としてジエチルアミノエタノール2.3部、オレイン酸0.25部を添加し溶解させた。その後、還元剤として濃度20%のコハク酸ジヒドラジド(以下、SUDH)水溶液70.0部を滴下すると液色が淡黄色から濃茶色に変化した。さらに反応を促進させるために40℃に昇温し、反応を進行させた。静置、分離した後、水相を取り出すことで過剰の還元剤や不純物を除去し、さらにトルエン層に数回蒸留水を加え、洗浄、分離を繰り返した後、トルエンを加え、遠心分離後に上澄み液を除去する工程を2回繰り返した。沈殿物を乾燥させて、銀粒子がヘキサン酸及びオレイン酸で被覆された金属粒子B1を得た。金属粒子B1の粒子径を前述の方法で求めたところ、d1は100nm、d50は250nm、d99は450nmであった。
<Production of Metal Particles>
(Production Example 1) Metal particles B1
Under a nitrogen atmosphere, 200 parts of toluene and 21.5 parts of silver hexanoate were mixed while stirring at 25 ° C., and 2.3 parts of diethylaminoethanol and 0.25 parts of oleic acid were added as dispersants and dissolved. Then, 70.0 parts of a 20% aqueous solution of succinic acid dihydrazide (hereinafter, SUDH) was dropped as a reducing agent, and the liquid color changed from light yellow to dark brown. In order to further promote the reaction, the temperature was raised to 40 ° C., and the reaction was allowed to proceed. After standing and separating, the aqueous phase was removed to remove excess reducing agent and impurities, and distilled water was added to the toluene layer several times, washing and separation were repeated, toluene was added, and the process of removing the supernatant after centrifugation was repeated twice. The precipitate was dried to obtain metal particles B1 in which silver particles were coated with hexanoic acid and oleic acid. The particle size of metal particles B1 was determined by the above-mentioned method, and d1 was 100 nm, d50 was 250 nm, and d99 was 450 nm.

(製造例2)金属粒子B2
ジエチルアミノエタノールの量を2.5部、オレイン酸の量を0.34部とした以外は、製造例1と同様にして、金属粒子B2を得た。d1は35nm、d50は110nm、d99は250nmであった。
(Production Example 2) Metal particles B2
Metal particles B2 were obtained in the same manner as in Production Example 1, except that the amount of diethylaminoethanol was 2.5 parts and the amount of oleic acid was 0.34 parts. d1 was 35 nm, d50 was 110 nm, and d99 was 250 nm. It was.

(製造例3)金属粒子B3
ヘキサン酸銀の量を23.5部、オレイン酸の量を0.18部とした以外は、製造例1と同様にして、金属粒子B3を得た。d1は180nm、d50は330nm、d99は600nmであった。
(Production Example 3) Metal particles B3
Metal particles B3 were obtained in the same manner as in Production Example 1, except that the amount of silver hexanoate was 23.5 parts and the amount of oleic acid was 0.18 parts. d1 was 180 nm, d50 was 330 nm, and d99 was It was 600 nm.

(製造例4)金属粒子B4
ヘキサン酸銀21.5部の代わりにペンタン酸銀21.5部を用い、オレイン酸の量を0.3部とした以外は、製造例1と同様にして、金属粒子B4を得た。d1は45nm、d50は140nm、d99は300nmであった。
(Production Example 4) Metal particles B4
Metal particles B4 were obtained in the same manner as in Production Example 1, except that 21.5 parts of silver pentanoate was used instead of 21.5 parts of silver hexanoate, and the amount of oleic acid was 0.3 parts. was 45 nm, d50 was 140 nm, and d99 was 300 nm.

(製造例5)金属粒子B5
500部のエチレングリコール中に硝酸銀を10部溶解させた。次いで、エチレングリコール中にポリビニルピロリドンを5部分散させた。次いで、エチレングリコールを150℃(反応温度)まで昇温させた後、反応温度150℃を保ちつつ400rpmの回転速度で攪拌しながら1時間反応を行った。このとき、硝酸銀とエチレングリコールとが反応することにより、窒素酸化物のガスが発生し、硝酸銀が還元され、ポリビニルピロリドンで被覆された金属粒子の分散体を得た。金属粒子の分散体を遠心分離し、上澄み液を除去し、沈殿物にエチレングリコールを加え撹拌した後、再度遠心分離し、上澄み液を除去した。沈殿物を乾燥させて、銀粒子がポリビニルピロリドンで被覆された金属粒子B5を得た。d1は160nm、d50は300nm、d99は650nmであった。
(Production Example 5) Metal particles B5
10 parts of silver nitrate were dissolved in 500 parts of ethylene glycol. Then, 5 parts of polyvinylpyrrolidone were dispersed in the ethylene glycol. Then, the ethylene glycol was heated to 150° C. (reaction temperature), and the reaction temperature was The reaction was carried out for 1 hour while stirring at a rotation speed of 400 rpm and maintaining the temperature at 150° C. During this time, the silver nitrate reacted with ethylene glycol to generate nitrogen oxide gas, and the silver nitrate was reduced to polyvinylpyrrolidone. The dispersion of metal particles was centrifuged, the supernatant was removed, ethylene glycol was added to the precipitate, and the mixture was stirred. The mixture was centrifuged again, and the supernatant was removed. The precipitate was dried to obtain metal particles B5 in which silver particles were coated with polyvinylpyrrolidone. d1 was 160 nm, d50 was 300 nm, and d99 was 650 nm.

(製造例6)金属粒子B6
ヘキサン酸銀21.5部の代わりにステアリン酸銀32部を用い、オレイン酸の量を0.28部とした以外は、製造例1と同様にして、金属粒子B6を得た。d1は240nm、d50は290nm、d99は420nmであった。
(Production Example 6) Metal particles B6
Metal particles B6 were obtained in the same manner as in Production Example 1, except that 32 parts of silver stearate was used instead of 21.5 parts of silver hexanoate and the amount of oleic acid was 0.28 parts. d1 was 240 nm , d50 was 290 nm, and d99 was 420 nm.

(製造例7)金属粒子B7
ヘキサン酸銀21.5部の代わりにプロキオン酸銀18部を用い、オレイン酸の量を0.29部とした以外は、製造例1と同様にして、金属粒子B7を得た。d1は140nm、d50は180nm、d99は250nmであった。
(Production Example 7) Metal particles B7
Metal particles B7 were obtained in the same manner as in Production Example 1, except that 18 parts of silver propionate was used instead of 21.5 parts of silver hexanoate and the amount of oleic acid was 0.29 parts. d1 was 140 nm , d50 was 180 nm, and d99 was 250 nm.

(製造例8)金属粒子B8
ヘキサン酸銀21.5部の代わりにミリスチン酸銀33.5部を用い、オレイン酸の量を0.28部とした以外は、製造例1と同様にして、金属粒子B8を得た。d1は70nm、d50は200nm、d99は750nmであった。
(Production Example 8) Metal particles B8
Metal particles B8 were obtained in the same manner as in Production Example 1, except that 33.5 parts of silver myristate was used instead of 21.5 parts of silver hexanoate, and the amount of oleic acid was 0.28 parts. was 70 nm, d50 was 200 nm, and d99 was 750 nm.

(金属粒子b1)
金属粒子b1として、トクセン工業株式会社製の銀粒子「LM1」を用いた。d1は100nm、d50は1000nm、d99は3200nmであった。
(Metal particles b1)
As the metal particles b1, silver particles "LM1" manufactured by Tokusen Kogyo Co., Ltd. were used. d1 was 100 nm, d50 was 1000 nm, and d99 was 3200 nm.

(製造例9)金属粒子b2
ジエチルアミノエタノールの量を1.5部、オレイン酸の量を0.13部に変更した以外は、製造例1と同様にして、銀粒子がヘキサン酸及びオレイン酸で被覆された金属粒子b2を得た。d1は110nm、d50は600nm、d99は1100nmであった。
(Production Example 9) Metal particles b2
Metal particles b2 in which silver particles are coated with hexanoic acid and oleic acid are obtained in the same manner as in Production Example 1, except that the amount of diethylaminoethanol was changed to 1.5 parts and the amount of oleic acid was changed to 0.13 parts. The d1 was 110 nm, the d50 was 600 nm, and the d99 was 1100 nm.

(製造例10)金属粒子b3
オレイン酸6部、n-オクチルアミン140部、N,N-ジメチル-1,3-ジアミノプロパン43部、n-ドデシルアミン16部、シクロヘキシルアミン12部、n-ブチルアミン64部を投入し、1分間程度攪拌した。次いで、シュウ酸銀320部を投入し、約10分間攪拌することで、銀粒子調製用組成物を得た。その後、40℃で30分間攪拌し、さらに、90℃にて30分間攪拌した。放冷後、メタノール1500部を添加して攪拌した後、遠心分離機にて1分間の遠沈操作を実施し、上澄みを除去した。メタノール1500部の添加、撹拌、遠心分離、及び上澄み除去の工程を2回繰り返した後、乾燥し、銀粒子がシュウ酸で被覆された金属粒子b3を得た。d1は37nm、d50は80nm、d99は165nmであった。
(Production Example 10) Metal particles b3
6 parts of oleic acid, 140 parts of n-octylamine, 43 parts of N,N-dimethyl-1,3-diaminopropane, 16 parts of n-dodecylamine, 12 parts of cyclohexylamine, and 64 parts of n-butylamine were added and stirred for 1 minute. Next, 320 parts of silver oxalate was added and stirred for about 10 minutes to obtain a composition for preparing silver particles. After that, the mixture was stirred at 40° C. for 30 minutes, and then further stirred at 90° C. for 30 minutes. After cooling, 1500 parts of methanol was added and stirred, and then centrifuged for 1 minute in a centrifuge to remove the supernatant. The steps of removing the supernatant and removing the supernatant were repeated twice, followed by drying to obtain metal particles b3 in which silver particles were coated with oxalic acid. d1 was 37 nm, d50 was 80 nm, and d99 was 165 nm.

(製造例11)金属粒子b4
ヘキサン酸銀の量を21.5部から23部、オレイン酸の量を0.28部に変更した以外は、製造例1と同様にして、銀粒子がヘキサン酸及びオレイン酸で被覆された金属粒子b4を得た。d1は5nm、d50は10nm、d99は27nmであった。
(Production Example 11) Metal particles b4
A metal powder in which silver particles are coated with hexanoic acid and oleic acid was prepared in the same manner as in Production Example 1, except that the amount of silver hexanoate was changed from 21.5 parts to 23 parts and the amount of oleic acid was changed to 0.28 parts. Particles b4 were obtained. d1 was 5 nm, d50 was 10 nm, and d99 was 27 nm.

<ポリアミドの合成>
(合成例1)ポリアミド(A-1-1)
撹拌機、還流冷却管、窒素導入管、導入管、温度計を備えた4口フラスコに、炭素数36の多塩基酸化合物としてプリポール1009を202.9g(二塩基酸換算で0.35mol)、フェノール性水酸基を有する多塩基酸化合物として5-ヒドロキシイソフタル酸を25.7g(0.14mol)、その他の多塩基酸化合物としてテレフタル酸35.1g(0.21mol)、炭素数36のポリアミン化合物としてプリアミン1074(ジアミン換算で0.59mol)を313.9g、イオン交換水を100g仕込み、発熱の温度が一定になるまで撹拌した。温度が安定したら110℃まで昇温し、水の流出を確認してから、30分後に温度を120℃に昇温し、その後、30分ごとに10℃ずつ昇温しながら脱水反応を続けた。温度が230℃になったら、そのままの温度で3時間反応を続け、約2kPaの真空下で1時間保持し、温度を低下させた。
最後に、酸化防止剤とトルエンを添加し、重量平均分子量9,800、酸価22.8mgKOH/g、アミン価0.3mgKOH/g、フェノール性水酸基価13.7mgKOH/g、ガラス転移温度4℃、固形分40%のフェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂の溶液を得た。なお、反応に供した全単量体100mol%中、C20~60炭化水素基を有する単量体は、72.7mol%である。
<Synthesis of polyamide>
(Synthesis Example 1) Polyamide (A-1-1)
In a four-neck flask equipped with a stirrer, reflux condenser, nitrogen inlet tube, inlet tube, and thermometer, 202.9 g (0.35 mol in terms of dibasic acid) of Pripol 1009 as a polybasic acid compound having 36 carbon atoms, 25.7 g (0.14 mol) of 5-hydroxyisophthalic acid as a polybasic acid compound having a phenolic hydroxyl group, 35.1 g (0.21 mol) of terephthalic acid as other polybasic acid compounds, 313.9 g of Priamine 1074 (0.59 mol in terms of diamine) as a polyamine compound having 36 carbon atoms, and 100 g of ion-exchanged water were charged and stirred until the temperature of the heat generation became constant. When the temperature was stabilized, the temperature was raised to 110 ° C., and after confirming the outflow of water, the temperature was raised to 120 ° C. after 30 minutes, and the dehydration reaction was continued while raising the temperature by 10 ° C. every 30 minutes. When the temperature reached 230° C., the reaction was continued at that temperature for 3 hours, and then the mixture was kept under a vacuum of about 2 kPa for 1 hour, and the temperature was then lowered.
Finally, an antioxidant and toluene were added to obtain a solution of a phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin having a weight average molecular weight of 9,800, an acid value of 22.8 mgKOH/g, an amine value of 0.3 mgKOH/g, a phenolic hydroxyl value of 13.7 mgKOH/g, a glass transition temperature of 4° C., and a solid content of 40%. The proportion of monomers having C20-60 hydrocarbon groups was 72.7 mol % out of 100 mol % of all monomers subjected to the reaction.

(合成例2)ポリアミド(A-1-2)
撹拌機、還流冷却管、窒素導入管、導入管、温度計を備えた4口フラスコに、フェノール性水酸基を有する多塩基酸化合物として5-ヒドロキシイソフタル酸を51.4g、その他の多塩基酸化合物としてイソフタル酸70.3g、炭素数36のポリアミン化合物としてプリアミン1074を313.9g、イオン交換水を100g仕込み、発熱の温度が一定になるまで撹拌した。温度が安定したら110℃まで昇温し、水の流出を確認してから、30分後に温度を120℃に昇温し、その後、30分ごとに10℃ずつ昇温しながら脱水反応を続けた。温度が230℃になったら、そのままの温度で3時間反応を続け、約2kPaの真空下で1時間保持し、温度を低下させた。
最後に、酸化防止剤とトルエンを添加し、重量平均分子量7,400、酸価30.3mgKOH/g、アミン価0.7mgKOH/g、フェノール性水酸基価36.3mgKOH/g、ガラス転移温度34℃、固形分40%のフェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂の溶液を得た。なお、反応に供した全単量体100mol%中、C20~60炭化水素基を有する単量体は、45.5mol%である。
(Synthesis Example 2) Polyamide (A-1-2)
In a four-neck flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, a nitrogen inlet tube, an inlet tube, and a thermometer, 51.4 g of 5-hydroxyisophthalic acid as a polybasic acid compound having a phenolic hydroxyl group, 70.3 g of isophthalic acid as another polybasic acid compound, 313.9 g of Priamine 1074 as a polyamine compound having 36 carbon atoms, and 100 g of ion-exchanged water were charged and stirred until the temperature of the heat generation became constant. When the temperature stabilized, the temperature was raised to 110°C, and after confirming the outflow of water, the temperature was raised to 120°C after 30 minutes, and then the dehydration reaction was continued while raising the temperature by 10°C every 30 minutes. When the temperature reached 230°C, the reaction was continued at that temperature for 3 hours, and the temperature was lowered by holding it under a vacuum of about 2 kPa for 1 hour.
Finally, an antioxidant and toluene were added to obtain a solution of a phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin having a weight average molecular weight of 7,400, an acid value of 30.3 mgKOH/g, an amine value of 0.7 mgKOH/g, a phenolic hydroxyl value of 36.3 mgKOH/g, a glass transition temperature of 34° C., and a solid content of 40%. The monomer having a C20-60 hydrocarbon group accounted for 45.5 mol% of the total monomers used in the reaction (100 mol%).

(合成例3)ポリアミド(A-1-3)
撹拌機、還流冷却管、窒素導入管、導入管、温度計を備えた4口フラスコに、炭素数36の多塩基酸化合物としてプリポール1009を405.7g、フェノール性水酸基を有するポリアミン化合物として4,4’-ジアミノー3,3’-ジヒドロキシビフェニル76.2、その他のアミン化合物としてワンダミンHMを111.2g、イオン交換水を100g仕込み、発熱の温度が一定になるまで撹拌した。温度が安定したら110℃まで昇温し、水の流出を確認してから、30分後に温度を120℃に昇温し、その後、30分ごとに10℃ずつ昇温しながら脱水反応を続けた。温度が230℃になったら、そのままの温度で3時間反応を続け、約2kPaの真空下で1時間保持し、温度を低下させた。
最後に、酸化防止剤とトルエンを添加し、重量平均分子量6,800、酸価0.5mgKOH/g、アミン価33.3mgKOH/g、フェノール性水酸基価66.7mgKOH/g、ガラス転移温度45℃、固形分40%のフェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂の溶液を得た。なお、反応に供した全単量体100mol%中、C20~60炭化水素基を有する単量体は、44.4mol%である。
(Synthesis Example 3) Polyamide (A-1-3)
In a four-neck flask equipped with a stirrer, reflux condenser, nitrogen inlet tube, inlet tube, and thermometer, 405.7 g of Pripol 1009 as a polybasic acid compound having 36 carbon atoms, 76.2 g of 4,4'-diamino-3,3'-dihydroxybiphenyl as a polyamine compound having a phenolic hydroxyl group, 111.2 g of Wondamin HM as another amine compound, and 100 g of ion-exchanged water were charged and stirred until the temperature of the heat generation became constant. When the temperature was stabilized, the temperature was raised to 110°C, and after confirming the outflow of water, the temperature was raised to 120°C after 30 minutes, and then the dehydration reaction was continued while raising the temperature by 10°C every 30 minutes. When the temperature reached 230°C, the reaction was continued at that temperature for 3 hours, and then the temperature was lowered by holding it under a vacuum of about 2 kPa for 1 hour.
Finally, an antioxidant and toluene were added to obtain a solution of a phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin having a weight average molecular weight of 6,800, an acid value of 0.5 mgKOH/g, an amine value of 33.3 mgKOH/g, a phenolic hydroxyl value of 66.7 mgKOH/g, a glass transition temperature of 45° C., and a solid content of 40%. The proportion of monomers having C20-60 hydrocarbon groups was 44.4 mol% out of 100 mol% of all monomers used in the reaction.

(合成例4)ポリアミド(A-3-1)
撹拌機、還流冷却管、窒素導入管、導入管、温度計を備えた4口フラスコに、その他の多塩基酸化合物としてドデカン二酸を48.6g(0.21mol)、フェノール性水酸基を有するポリアミン化合物として4,4’-ジアミノー3,3’-ジヒドロキシビフェニルを6.9g(0.03mol)、その他のアミン化合物としてワンダミンHMを87.6g(0.42mol)、イオン交換水を100g仕込み、発熱の温度が一定になるまで撹拌した。温度が安定したら110℃まで昇温し、水の流出を確認してから、30分後に温度を120℃に昇温し、その後、30分ごとに10℃ずつ昇温しながら脱水反応を続けた。温度が230℃になったら、そのままの温度で3時間反応を続け、約2kPaの真空下で1時間保持し、温度を低下させた。
最後に、酸化防止剤を添加し、質量平均分子量2,800、酸価0.5mgKOH/g、アミン価185.8mgKOH/g、フェノール性水酸基価25.1mgKOH/g、ガラス転移温度140℃のフェノール性水酸基含有ポリアミド(a-1-1)を得た。
(Synthesis Example 4) Polyamide (A-3-1)
In a four-neck flask equipped with a stirrer, reflux condenser, nitrogen inlet tube, inlet tube, and thermometer, 48.6 g (0.21 mol) of dodecanedioic acid as other polybasic acid compounds, 6.9 g (0.03 mol) of 4,4'-diamino-3,3'-dihydroxybiphenyl as a polyamine compound having a phenolic hydroxyl group, 87.6 g (0.42 mol) of Wondamin HM as other amine compounds, and 100 g of ion-exchanged water were charged and stirred until the temperature of the heat generation became constant. When the temperature stabilized, the temperature was raised to 110°C, and after confirming the outflow of water, the temperature was raised to 120°C after 30 minutes, and then the dehydration reaction was continued while raising the temperature by 10°C every 30 minutes. When the temperature reached 230°C, the reaction was continued at that temperature for 3 hours, and the temperature was lowered by holding it under a vacuum of about 2 kPa for 1 hour.
Finally, an antioxidant was added to obtain a phenolic hydroxyl group-containing polyamide (a-1-1) having a mass average molecular weight of 2,800, an acid value of 0.5 mgKOH/g, an amine value of 185.8 mgKOH/g, a phenolic hydroxyl value of 25.1 mgKOH/g and a glass transition temperature of 140°C.

また、これとは別に、撹拌機、還流冷却管、窒素導入管、導入管、温度計を備えた4口フラスコに、炭素数36の多塩基酸化合物としてプリポール1009を284.0g(二塩基酸換算で0.49mol)、炭素数36のポリアミン化合物としてプリアミン1074を102.7g(ジアミン換算で0.19mol)、イオン交換水を100g仕込み、発熱の温度が一定になるまで撹拌した。温度が安定したら110℃まで昇温し、水の流出を確認してから、30分後に温度を120℃に昇温し、その後、30分ごとに10℃ずつ昇温しながら脱水反応を続けた。温度が230℃になったら、そのままの温度で3時間反応を続け、約2kPaの真空下で1時間保持し、温度を低下させた。最後に、酸化防止剤を添加し、質量平均分子量8,800、酸価87.4mgKOH/g、アミン価0.3mgKOH/g、ガラス転移温度-30℃の、C20~60炭化水素基を有するポリアミド(a-2-1)を得た。反応に供した全単量体100mol%中、C20~60炭化水素基を有する化合物は、51mol%である。 Separately, in a four-neck flask equipped with a stirrer, reflux condenser, nitrogen inlet tube, inlet tube, and thermometer, 284.0 g (0.49 mol in terms of dibasic acid) of Pripol 1009 as a polybasic acid compound with 36 carbon atoms, 102.7 g (0.19 mol in terms of diamine) of Priamine 1074 as a polyamine compound with 36 carbon atoms, and 100 g of ion-exchanged water were charged and stirred until the temperature of the heat generation became constant. When the temperature stabilized, the temperature was raised to 110°C, and after confirming the outflow of water, the temperature was raised to 120°C after 30 minutes, and the dehydration reaction was continued while raising the temperature by 10°C every 30 minutes. When the temperature reached 230°C, the reaction was continued at that temperature for 3 hours, and then the temperature was lowered by holding it under a vacuum of about 2 kPa for 1 hour. Finally, an antioxidant was added to obtain polyamide (a-2-1) having a C20-60 hydrocarbon group with a mass average molecular weight of 8,800, an acid value of 87.4 mg KOH/g, an amine value of 0.3 mg KOH/g, and a glass transition temperature of -30°C. Of the total monomers used in the reaction (100 mol%), the compound having a C20-60 hydrocarbon group was 51 mol%.

フェノール性水酸基含有ポリアミド(a-1-1)とC20~60炭化水素基を有するポリアミド(a-2-1)を30:70(質量比)で混合し、トルエンを添加し、固形分40%のポリアミド樹脂の溶液を得た。 Phenolic hydroxyl group-containing polyamide (a-1-1) and C20-60 hydrocarbon group-containing polyamide (a-2-1) were mixed in a ratio of 30:70 (mass ratio), and toluene was added to obtain a polyamide resin solution with a solid content of 40%.

(合成例5、6)比較用ポリアミド1、2
表1の組成及び仕込み量に変更した以外は、合成例1と同様にして、比較用ポリアミド1及び2の溶液を得た。比較用ポリアミド1は、フェノール性水酸基を有さないポリアミドであり、比較用ポリアミド2は、C20~60炭化水素基を有さないポリアミドである。
(Synthesis Examples 5 and 6) Comparative Polyamides 1 and 2
Solutions of comparative polyamides 1 and 2 were obtained in the same manner as in Synthesis Example 1, except that the compositions and amounts charged were changed to those shown in Table 1. Comparative polyamide 1 is a polyamide having no phenolic hydroxyl group, and comparative polyamide 2 is a polyamide having no C20-60 hydrocarbon group.

得られたポリアミド樹脂を表1に示す。
The resulting polyamide resin is shown in Table 1.

表1中の略称を以下に示す。
プリポール1009:クローダジャパン社製、C36ダイマー酸、C6の環状構造を1つ有する化合物を含む(酸価:195mgKOH/g)
プリアミン1074:クローダジャパン社製、C36ダイマージアミン、C6の環状構造を1つ有する化合物を含む(アミン価:210mgKOH/g)
5-HIPA:5-ヒドロキシイソフタル酸
ワンダミンHM:新日本理化社製、4,4’-ジアミノジシクロヘキシルメタン
HAB:4,4’-ジアミノー3,3’―ジヒドロキシビフェニル
MXDA:メタキシレンジアミン
The abbreviations in Table 1 are as follows.
Pripol 1009: Croda Japan, C36 dimer acid, containing a compound having one C6 cyclic structure (acid value: 195 mg KOH/g)
Priamine 1074: Manufactured by Croda Japan, contains a C36 dimer diamine and a compound having one C6 cyclic structure (amine value: 210 mg KOH/g)
5-HIPA: 5-hydroxyisophthalic acid Wondamin HM: New Japan Chemical Co., Ltd., 4,4'-diaminodicyclohexylmethane HAB: 4,4'-diamino-3,3'-dihydroxybiphenyl MXDA: metaxylenediamine

<ポリエステルの合成>
(ポリエステル樹脂1)
撹拌機、還流冷却管、窒素導入管、導入管、温度計を備えた4口フラスコに、フェノール性水酸基を有する多塩基酸として5-ヒドロキシイソフタル酸25.7部、その他の多塩基酸としてアジピン酸を82.4部、炭素数36のポリオールとしてプリポール2033を332.3部、トルエン139.3部を仕込み、窒素気流下、撹拌しながら60℃まで昇温し、均一に溶解させた。続いて、これに触媒としてテトラブチルオルソチタネートを0.77部投入し、110℃で3時間反応させた。その後、230℃まで昇温し、約2kPaの真空下で、1時間保持し、さらに約1kPaの真空下で2~3時間反応させ、最後に、酸化防止剤とトルエンを添加し、質量平均分子量9,600、酸価23.4mgKOH/g、フェノール性水酸基価18.0mgKOH/g、ガラス転移温度34℃、固形分40%のフェノール性水酸基含有ポリエステル樹脂1の溶液を得た。
<Synthesis of polyester>
(Polyester Resin 1)
In a four-neck flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, a nitrogen inlet pipe, an inlet pipe, and a thermometer, 25.7 parts of 5-hydroxyisophthalic acid as a polybasic acid having a phenolic hydroxyl group, 82.4 parts of adipic acid as another polybasic acid, 332.3 parts of Pripol 2033 as a polyol having a carbon number of 36, and 139.3 parts of toluene were charged, and the mixture was heated to 60°C while stirring under a nitrogen stream to dissolve uniformly. Subsequently, 0.77 parts of tetrabutyl orthotitanate was added as a catalyst, and the mixture was reacted at 110°C for 3 hours. Thereafter, the temperature was raised to 230°C, and the mixture was maintained for 1 hour under a vacuum of about 2 kPa, and then reacted for 2 to 3 hours under a vacuum of about 1 kPa. Finally, an antioxidant and toluene were added to obtain a solution of phenolic hydroxyl group-containing polyester resin 1 having a mass average molecular weight of 9,600, an acid value of 23.4 mgKOH/g, a phenolic hydroxyl value of 18.0 mgKOH/g, a glass transition temperature of 34°C, and a solid content of 40%.

<接合用ペーストの製造>
[実施例1]
金属粒子B1を91部、ジヒドロターピネオールを8.55部、ポリアミドA-1-1の溶液を0.45部(金属粒子B1の質量を基準として0.20質量%)を、自公転式攪拌機を用いて混合し、接合用ペーストを作製した。
<Production of bonding paste>
[Example 1]
91 parts of metal particles B1, 8.55 parts of dihydroterpineol, and 0.45 parts of polyamide A-1-1 solution (0.20% by mass based on the mass of metal particles B1) were mixed using a planetary stirrer to prepare a joining paste.

[実施例2~24]、[比較例1~8]
表2~表4の内容に従い、配合組成を変更した以外は、実施例1と同様にして接合用ペーストを得た。
[Examples 2 to 24], [Comparative Examples 1 to 8]
A bonding paste was obtained in the same manner as in Example 1, except that the compounding composition was changed according to the contents of Tables 2 to 4.

<接合用ペーストの評価>
得られた接合用ペーストについて以下の手順で接合体を製造し、得られた接合体を用いて以下の評価を行った。結果を表2~表4に示す。
<Evaluation of bonding paste>
The obtained bonding paste was used to manufacture a bonded body in the following manner, and the obtained bonded body was subjected to the following evaluations. The results are shown in Tables 2 to 4.

[接合体の作製]
下記基材1のメッキ処理面に各接合用ペーストを1回塗布した後、下記基材2のメッキ処理面を接合用ペースト面に向けて載置し、加熱焼結し、接合体を得た。
基材、塗布条件、焼結条件を以下に示す。
《基材》
・基材1(第一の被接合体):金メッキ処理銅基材(20×20×3mm)
・基材2(第二の被接合体):金メッキ処理SiCチップ(5×5×0.3mm)
《塗布条件》
・メタルマスク:開口部4mm角、板厚50μm(セリアコーポレーション社製)
・メタルスキージ:40mm×250mm、厚み1mm(セリアコーポレーション社製)
《焼結条件》
熱風オーブンに仮接合体を入れ、25℃から300℃まで2℃/分の条件にて昇温し、300℃に達した後、同温度で2時間維持した。
[Preparation of Joint]
Each bonding paste was applied once to the plated surface of a substrate 1 described below, and then a substrate 2 described below was placed with the plated surface facing the bonding paste surface, followed by heating and sintering to obtain a bonded body.
The substrate, coating conditions, and sintering conditions are shown below.
<<Substrate>>
Substrate 1 (first bonded body): gold-plated copper substrate (20 x 20 x 3 mm)
Substrate 2 (second bonded body): Gold-plated SiC chip (5 x 5 x 0.3 mm)
<Application conditions>
Metal mask: opening 4 mm square, plate thickness 50 μm (manufactured by Ceria Corporation)
Metal squeegee: 40 mm x 250 mm, thickness 1 mm (manufactured by Seria Corporation)
Sintering conditions
The provisionally bonded body was placed in a hot air oven, and the temperature was raised from 25° C. to 300° C. at a rate of 2° C./min. After reaching 300° C., the temperature was maintained at that temperature for 2 hours.

[接合強度(初期、冷熱サイクル試験後]
得られた接合体について、初期の接合強度(ダイシェア強度)を測定した。次いで、該接合体について冷熱サイクル試験を行い、冷熱サイクル後の接合強度を初期と同様にして測定した。接合強度の測定方法及び冷熱サイクル試験方法を以下に示す。
下記評価基準に基づいて評価した。接着強度の数値が大きいものほど良好である。
《接合強度の測定方法》
・測定装置:万能型ボンドテスタ(デイジ・ジャパン株式会社製、4000シリーズ)
・測定高さ:100μm
・測定スピード:500μm/s
具体的には、基材1を固定し、基材1と接合用ペーストとの界面を起点として基材2に向かって高さ100μmの位置を、500μm/sの速度で押し、接合が破壊される接合強度を求めた。
[Bonding strength (initial, after thermal cycle test)
The initial bond strength (die shear strength) of the bonded body was measured. The bonded body was then subjected to a thermal cycle test, and the bond strength after the thermal cycle was measured in the same manner as the initial bond strength. The bond strength measurement method and thermal cycle test method are described below.
The adhesive strength was evaluated based on the following evaluation criteria. The higher the adhesive strength value, the better the adhesive strength.
<Method of measuring bonding strength>
Measurement device: Universal bond tester (4000 series, manufactured by Daisy Japan Co., Ltd.)
Measurement height: 100 μm
Measurement speed: 500 μm/s
Specifically, the substrate 1 was fixed, and the substrate 1 was pushed toward the substrate 2 at a height of 100 μm from the interface between the substrate 1 and the bonding paste at a speed of 500 μm/s, and the bonding strength at which the bond was destroyed was determined.

《冷熱サイクル試験方法》
接合体を-40℃で30分間保持した後、25℃で15分間保持し、150℃で30分間保持する工程を1サイクルとし、500サイクル行った。
<<Cold-heat cycle test method>>
The bonded body was kept at -40°C for 30 minutes, then kept at 25°C for 15 minutes, and then kept at 150°C for 30 minutes, which constituted one cycle, and 500 cycles were performed.

《評価基準》
S :接合強度が30MPa以上(極めて良好)
A+:接合強度が22MPa以上、30MPa未満(良好)
A :接合強度が15MPa以上、22MPa未満(やや良好)
B :接合強度が10MPa以上、15MPa未満(実用可能)
C :接合強度が10MPa未満(実用不可)
Evaluation Criteria
S: Bonding strength is 30 MPa or more (very good)
A+: Bond strength is 22 MPa or more and less than 30 MPa (good)
A: Bonding strength is 15 MPa or more and less than 22 MPa (fairly good)
B: Bonding strength is 10 MPa or more and less than 15 MPa (practical)
C: Bond strength is less than 10 MPa (not practical)

[塗工性]
各接合用ペーストを基材1(金メッキ処理銅基材(20×20×3mm))に下記塗布条件で塗布し、塗布の適性を下記基準で判断した。
《塗布条件》
・メタルマスク:開口部4mm角、板厚50μm(セリアコーポレーション社製)
・メタルスキージ:40mm×250mm、厚み1mm(セリアコーポレーション社製)
《評価基準》
A:接合用ペーストが、開口部(4mm角)全体に均一に塗布されている(良好)
B:接合用ペーストが、開口部の一部(2mm以上4mm未満角)に塗布されている(実用可能)
C:接合用ペーストが、開口部の一部(2mm未満角)にしか塗布できない、又は塗布された部分がひび割れしている(実用不可)
[Coatability]
Each bonding paste was applied to a substrate 1 (gold-plated copper substrate (20×20×3 mm)) under the following application conditions, and the suitability of application was judged according to the following criteria.
<Application conditions>
Metal mask: opening 4 mm square, plate thickness 50 μm (manufactured by Ceria Corporation)
Metal squeegee: 40 mm x 250 mm, thickness 1 mm (manufactured by Seria Corporation)
Evaluation Criteria
A: The bonding paste is evenly applied to the entire opening (4 mm square) (good)
B: The bonding paste is applied to a part of the opening (2 mm or more and less than 4 mm square) (practical)
C: The bonding paste can only be applied to a part of the opening (less than 2 mm square), or the applied part is cracked (not practical).

表2~表4の通り、本発明の接合用ペーストは、炭化ケイ素のような線膨張係数が小さく且つ剛直な材料を被着体とした場合においても、初期の接合強度が高く、冷熱サイクル試験後の接合強度の低下を抑えることができた。また実施例の接合用ペーストは、塗工性に優れていた。特に、d1が50~150nm、d99が350~600nmの範囲である金属粒子B1を用いた場合に、優れた初期接合強度と冷熱サイクル後の接合強度とを示した。
一方、比較例の接合用ペーストは、特に、冷熱サイクル試験後の接合強度、及び塗工性に劣っていた。
As shown in Tables 2 to 4, the bonding paste of the present invention had high initial bonding strength and was able to suppress a decrease in bonding strength after a thermal cycle test, even when the adherend was a material with a small linear expansion coefficient and rigidity, such as silicon carbide. The bonding paste of the examples also had excellent coating properties. In particular, when metal particles B1 having d1 in the range of 50 to 150 nm and d99 in the range of 350 to 600 nm were used, excellent initial bonding strength and bonding strength after a thermal cycle were shown.
On the other hand, the bonding paste of the comparative example was inferior in bonding strength and coatability, particularly after the thermal cycle test.

Claims (6)

多塩基酸単量体とポリアミン単量体との重合体であり、側鎖にフェノール性水酸基を有するポリアミド(A)と、金属粒子(B)と、分散媒(C)と、を含有する接合用ペーストであって、
前記ポリアミド(A)が、以下の(i)及び/又は(ii)を満たし、
前記金属粒子(B)が、積算粒子径分布の50%に対応した粒子径(d50)が100~350nmである粒子である、接合用ペースト。
(i)前記ポリアミド(A)が、前記フェノール性水酸基及び炭素数20~60の炭化水素基(但し、前記フェノール性水酸基が結合する芳香環は含まない)が同一ポリマー内に含まれるポリアミド(A-1)である。
(ii)前記ポリアミド(A)が、側鎖にフェノール性水酸基を有するポリアミド(a-1)と、炭素数20~60の炭化水素基を有するポリアミド(a-2)とを混合したポリアミド(A-3)である。
A bonding paste comprising: a polyamide (A) which is a polymer of a polybasic acid monomer and a polyamine monomer and has a phenolic hydroxyl group in a side chain; metal particles (B); and a dispersion medium (C),
The polyamide (A) satisfies the following (i) and/or (ii),
The bonding paste, wherein the metal particles (B) are particles having a particle diameter (d50) corresponding to 50% of the cumulative particle diameter distribution of 100 to 350 nm.
(i) The polyamide (A) is a polyamide (A-1) in which the phenolic hydroxyl group and the hydrocarbon group having 20 to 60 carbon atoms (but excluding the aromatic ring to which the phenolic hydroxyl group is bonded) are contained within the same polymer.
(ii) The polyamide (A) is a polyamide (A-3) which is a mixture of a polyamide (a-1) having a phenolic hydroxyl group in a side chain and a polyamide (a-2) having a hydrocarbon group having 20 to 60 carbon atoms.
前記ポリアミド(A)の含有量が、前記金属粒子(B)の質量を基準として、0.01~1.70質量%の範囲である、請求項1に記載の接合用ペースト The bonding paste according to claim 1, wherein the content of the polyamide (A) is in the range of 0.01 to 1.70 mass% based on the mass of the metal particles (B). 前記金属粒子(B)が、積算粒子径分布の1%に対応した粒子径(d1)が30~200nmであり、且つ、積算粒子径分布の99%に対応した粒子径(d99)が300~900nmである粒子である、請求項1又は2に記載の接合用ペースト。 The joining paste according to claim 1 or 2, wherein the metal particles (B) have a particle diameter (d1) corresponding to 1% of the cumulative particle diameter distribution of 30 to 200 nm, and a particle diameter (d99) corresponding to 99% of the cumulative particle diameter distribution of 300 to 900 nm. 前記金属粒子(B)が、質量減少率が0.5~7.0質量%の粒子である、請求項1~3いずれか1項に記載の接合用ペースト。 The joining paste according to any one of claims 1 to 3, wherein the metal particles (B) are particles with a mass reduction rate of 0.5 to 7.0 mass%. 請求項1~4いずれか1項に記載の接合用ペーストによって、第一の被接合体と第二の被接合体とが接合された接合体。 A bonded body in which a first object to be bonded and a second object to be bonded are bonded using the bonding paste according to any one of claims 1 to 4. 請求項1~4いずれか1項に記載の接合用ペーストを、第一の被接合体に塗布し、塗布された面に第二の被接合体を載置する接合体の製造方法。 A method for manufacturing a joined body, comprising applying the joining paste according to any one of claims 1 to 4 to a first joined body and placing a second joined body on the applied surface.
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Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016001949A1 (en) 2014-07-02 2016-01-07 東洋インキScホールディングス株式会社 Heat-curable resin composition, polyamide, adhesive sheet, cured article, and printed wiring board
JP2017137375A (en) 2016-02-01 2017-08-10 東洋インキScホールディングス株式会社 Binding agent and article bound by binding agent
JP2020200454A (en) 2019-06-04 2020-12-17 東洋インキScホールディングス株式会社 Thermosetting resin composition for thermal conductive material and cured product of the same, electronic component and electronic apparatus

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