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JP7613807B2 - Inspection device and inspection method - Google Patents
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JP7613807B2 JP2021042867A JP2021042867A JP7613807B2 JP 7613807 B2 JP7613807 B2 JP 7613807B2 JP 2021042867 A JP2021042867 A JP 2021042867A JP 2021042867 A JP2021042867 A JP 2021042867A JP 7613807 B2 JP7613807 B2 JP 7613807B2
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Description

本開示は、検査装置及び検査方法に関する。 This disclosure relates to an inspection device and an inspection method.

電子デバイスが形成されたウエハや電子デバイスが配置されたキャリアをステージに載置して、電子デバイスの電極に対し、プローブカードに設けられたプローブを当接させて、電子デバイスの電気的特性を検査する検査装置が知られている。 There is a known inspection device that places a wafer on which electronic devices are formed or a carrier on which electronic devices are arranged on a stage and contacts probes provided on a probe card with the electrodes of the electronic device to inspect the electrical characteristics of the electronic device.

特許文献1には、基板に形成された半導体デバイスの電気的特性を検査する検査部と、該検査部の上部に配置された基板検査用インターフェースとを有する基板検査装置の前記基板検査用インターフェースのプローブカードに前記基板を当接するプローブカードへの基板当接装置において、前記基板を板状部材と共に前記プローブカードと対向する位置まで搬送する搬送機構と、該搬送機構で搬送された前記基板を前記板状部材と共に前記プローブカードに向かって移動させて前記基板に設けられた半導体デバイスの複数の電極を前記プローブカードに設けられた複数のプローブにそれぞれ当接させた後、前記基板をさらに前記板状部材と共に前記プローブカードに向かって所定量移動させる当接機構と、前記プローブカードと前記板状部材との間の空間を減圧して前記半導体デバイスの複数の電極と前記プローブカードの複数のプローブとの当接状態を保持する保持機構と、前記保持機構によって前記当接状態を保持した後、前記搬送機構を前記板状部材から切り離す脱離機構と、を有することを特徴とするプローブカードへの基板当接装置が開示されている。 Patent Document 1 discloses a substrate contact device for a probe card, which contacts a substrate with a probe card of a substrate inspection interface of a substrate inspection device having an inspection unit that inspects the electrical characteristics of a semiconductor device formed on a substrate and a substrate inspection interface arranged above the inspection unit, and which includes a transport mechanism that transports the substrate together with a plate-shaped member to a position facing the probe card, a contact mechanism that moves the substrate transported by the transport mechanism toward the probe card together with the plate-shaped member to contact multiple electrodes of a semiconductor device provided on the substrate with multiple probes provided on the probe card, and then moves the substrate further toward the probe card together with the plate-shaped member by a predetermined distance, a holding mechanism that reduces the pressure in the space between the probe card and the plate-shaped member to maintain the contact state between the multiple electrodes of the semiconductor device and the multiple probes of the probe card, and a detachment mechanism that detaches the transport mechanism from the plate-shaped member after the contact state is maintained by the holding mechanism.

特開2014-29916号公報JP 2014-29916 A

ところで、ウエハやキャリアの外周部にプローブを当接させる際、プローブカードからのプレス荷重重心と、それを支持するステージの中心との間にオフセットが生じ、ステージに倒れが発生するおそれがある。 However, when the probe is brought into contact with the outer periphery of the wafer or carrier, an offset occurs between the center of gravity of the press load from the probe card and the center of the stage supporting it, which can cause the stage to tip over.

一の側面では、本開示は、ステージの倒れを抑制する検査装置及び検査方法を提供する。 In one aspect, the present disclosure provides an inspection device and an inspection method that suppresses the stage from tipping.

上記課題を解決するために、一の態様によれば、被検査体と当接するプローブを有するプローブカードと、前記被検査体を載置する載置部を有する上部モジュールと、前記上部モジュールを昇降可能に支持するとともに、前記上部モジュールを水平方向に移動可能な移動機構と、前記移動機構の下に設けられ、前記上部モジュールを前記プローブカードに向けて押し上げ可能な昇降機構と、を備え、前記昇降機構が前記上部モジュールを押し上げる際の押力の作用点と、前記プローブカードが受ける荷重の作用点との軸が共通する位置に配置され、前記移動機構は、ベースプレートに対し、第1方向に移動可能な第1ステージと、前記上部モジュールに対し、前記第1方向とは異なる第2方向に移動可能な第2ステージと、を有し、前記上部モジュールは、前記第1ステージに昇降可能に支持され、前記第1ステージは、開口部を有する、検査装置が提供される。 In order to solve the above problem, according to one aspect, there is provided an inspection device comprising: a probe card having a probe that contacts a test object; an upper module having a mounting portion on which the test object is placed; a moving mechanism that supports the upper module so that it can be raised and lowered and can move the upper module horizontally; and a lifting mechanism that is provided below the moving mechanism and can push the upper module up toward the probe card, wherein the lifting mechanism is positioned at a position where an axis of a point of application of a pressing force when the lifting mechanism pushes up the upper module and an axis of a point of application of a load received by the probe card are common , and the moving mechanism has a first stage that is movable in a first direction relative to a base plate, and a second stage that is movable in a second direction different from the first direction relative to the upper module, and the upper module is supported on the first stage so that it can be raised and lowered, and the first stage has an opening .

一の側面によれば、ステージの倒れを抑制する検査装置及び検査方法を提供することができる。 According to one aspect, it is possible to provide an inspection device and an inspection method that suppresses the stage from falling.

第1実施形態に係る検査装置の構成を説明する断面模式図。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view illustrating a configuration of an inspection device according to a first embodiment. 可動連結機構を説明する模式図。FIG. 検査装置の動作の一例を示すフローチャート。4 is a flowchart showing an example of the operation of the inspection apparatus. 第1実施形態に係る検査装置におけるキャリア中央部の電子デバイスを検査する際の水平移動後の断面模式図。5 is a schematic cross-sectional view of the inspection apparatus according to the first embodiment after horizontal movement when inspecting electronic devices at the center of the carrier. FIG. 第1実施形態に係る検査装置におけるキャリア中央部の電子デバイスの検査時における断面模式図。5 is a schematic cross-sectional view of an electronic device at the center of a carrier in the inspection apparatus according to the first embodiment during inspection. FIG. 第1実施形態に係る検査装置におけるキャリア外周部の電子デバイスを検査する際の水平移動後の断面模式図。5 is a schematic cross-sectional view of the inspection apparatus according to the first embodiment after horizontal movement when inspecting electronic devices on the outer periphery of a carrier. FIG. 第1実施形態に係る検査装置におけるキャリア外周部の電子デバイスの検査時における断面模式図。5 is a schematic cross-sectional view of the inspection apparatus according to the first embodiment during inspection of electronic devices on the outer periphery of a carrier. FIG. 第1実施形態に係る検査装置における針研板中央部にプローブを当接させる際の水平移動後の断面模式図。5 is a schematic cross-sectional view of the inspection device according to the first embodiment after horizontal movement when the probe is brought into contact with the center of the needle grinding plate. FIG. 第1実施形態に係る検査装置における針研板中央部にプローブを当接させたる際における断面模式図。4 is a schematic cross-sectional view of the inspection device according to the first embodiment when a probe is brought into contact with the center of a needle grinding plate. FIG. 第1実施形態に係る検査装置における針研板外周部にプローブを当接させる際の水平移動後の断面模式図。5 is a schematic cross-sectional view of the inspection device according to the first embodiment after horizontal movement when the probe is brought into contact with the outer periphery of the needle grinding plate. FIG. 第1実施形態に係る検査装置における針研板外周部にプローブを当接させたる際における断面模式図。4 is a schematic cross-sectional view of the inspection device according to the first embodiment when a probe is brought into contact with the outer periphery of a needle grinding plate. FIG. 参考例に係る検査装置におけるキャリア中央部の電子デバイスの検査時における断面模式図。FIG. 13 is a schematic cross-sectional view of an electronic device at the center of a carrier in the inspection apparatus according to the reference example during inspection. 参考例に係る検査装置におけるキャリア外周部の電子デバイスの検査時における断面模式図。11 is a schematic cross-sectional view of an inspection device according to a reference example during inspection of electronic devices on the outer periphery of a carrier. FIG. 参考例に係る検査装置における針研板中央部にプローブを当接させたる際における断面模式図。FIG. 11 is a schematic cross-sectional view of the inspection device according to the reference example when a probe is brought into contact with the center of a needle grinding plate. 参考例に係る検査装置における針研板外周部にプローブを当接させたる際における断面模式図。13 is a schematic cross-sectional view of the inspection device according to the reference example when a probe is brought into contact with the outer periphery of a needle grinding plate. FIG. 第2実施形態に係る検査装置におけるキャリア中央部の電子デバイスを検査する際の水平移動後の断面模式図。FIG. 11 is a schematic cross-sectional view of the inspection apparatus according to the second embodiment after horizontal movement when inspecting electronic devices at the center of a carrier. 第2実施形態に係る検査装置におけるキャリア中央部の電子デバイスの検査時における断面模式図。FIG. 11 is a schematic cross-sectional view of an electronic device at the center of a carrier in the inspection apparatus according to the second embodiment during inspection. 第3実施形態に係る検査装置の構成を説明する断面模式図。FIG. 11 is a schematic cross-sectional view illustrating the configuration of an inspection device according to a third embodiment. 第4実施形態に係る検査装置の構成を説明する平面視図。FIG. 13 is a plan view illustrating the configuration of an inspection device according to a fourth embodiment. 第4実施形態に係る検査装置の構成を説明する断面模式図。FIG. 13 is a schematic cross-sectional view illustrating the configuration of an inspection device according to a fourth embodiment. 第4実施形態に係る検査装置の分解斜視図。FIG. 13 is an exploded perspective view of an inspection device according to a fourth embodiment. 第4実施形態に係る検査装置におけるキャリア中央部の電子デバイスの検査時における断面模式図。FIG. 13 is a schematic cross-sectional view of an electronic device at the center of a carrier in the inspection apparatus according to the fourth embodiment during inspection.

以下、図面を参照して本開示を実施するための形態について説明する。各図面において、同一構成部分には同一符号を付し、重複した説明を省略する場合がある。 Below, a description will be given of a mode for carrying out the present disclosure with reference to the drawings. In each drawing, the same components are given the same reference numerals, and duplicate descriptions may be omitted.

第1実施形態に係る検査装置1について、図1を用いて説明する。図1は、第1実施形態に係る検査装置1の構成を説明する断面模式図である。 The inspection device 1 according to the first embodiment will be described with reference to FIG. 1. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view illustrating the configuration of the inspection device 1 according to the first embodiment.

検査装置1は、キャリア(被検査体)Cに配置された複数の電子デバイスの各々の電気的特性の検査を行う装置である。なお、キャリアCは、ウエハ、ガラス基板、チップ単体などを含む。 The inspection device 1 is a device that inspects the electrical characteristics of each of a plurality of electronic devices arranged on a carrier (test object) C. The carrier C may be a wafer, a glass substrate, a single chip, etc.

検査装置1は、プローブ室2を有する。プローブ室2内の上部には、プローブカード3が配置されている。プローブカード3は、複数のプローブ4を有する。プローブ室2の下部には、ステージベース10が設けられている。プローブ室2内には、Yステージ20、Xステージ30、上部Zステージ40、θステージ41、チャック42、下カメラ43、針研板支持ステージ50、針研板51が設けられている。 The inspection device 1 has a probe chamber 2. A probe card 3 is arranged in the upper part of the probe chamber 2. The probe card 3 has a plurality of probes 4. A stage base 10 is provided in the lower part of the probe chamber 2. In the probe chamber 2, a Y stage 20, an X stage 30, an upper Z stage 40, a θ stage 41, a chuck 42, a lower camera 43, a needle grinding plate support stage 50, and a needle grinding plate 51 are provided.

Yステージ20は、チャック42及び針研板51をY軸方向に移動させる。Yステージ20は、リニアガイド21を介して、ステージベース10上に取り付けられている。リニアガイド21は、例えば、ステージベース10上面に設けられY軸方向に延びるガイドレールと、Yステージ20下面に設けられガイドレールに沿ってスライドするスライダと、を有する。これにより、Yステージ20は、Y方向に移動可能に構成されている。 The Y stage 20 moves the chuck 42 and the needle grinding plate 51 in the Y-axis direction. The Y stage 20 is attached to the stage base 10 via a linear guide 21. The linear guide 21 has, for example, a guide rail provided on the upper surface of the stage base 10 and extending in the Y-axis direction, and a slider provided on the lower surface of the Y stage 20 and sliding along the guide rail. This allows the Y stage 20 to be movable in the Y direction.

Y駆動機構22は、Yステージ20をY方向に駆動させる。Y駆動機構22は、例えば、モータと、モータの回転動作を直動動作に変換する回転直動機構(例えば、ボールねじ)と、を備える。Y駆動機構22のモータの動作は、制御装置80によって制御される。 The Y drive mechanism 22 drives the Y stage 20 in the Y direction. The Y drive mechanism 22 includes, for example, a motor and a rotary-linear mechanism (for example, a ball screw) that converts the rotary motion of the motor into linear motion. The operation of the motor of the Y drive mechanism 22 is controlled by the control device 80.

検出部23は、Yステージ20のY方向位置、換言すれば、チャック42及び針研板51のY方向位置を検出する。検出部23は、例えば、Y駆動機構22のモータの回転を検出するエンコーダであって、検出部23の検出信号は制御装置80に送信される。制御装置80は、検出部23の検出信号に基づいて、Yステージ20のY方向位置を算出する。 The detection unit 23 detects the Y-direction position of the Y stage 20, in other words, the Y-direction positions of the chuck 42 and the needle grinding plate 51. The detection unit 23 is, for example, an encoder that detects the rotation of the motor of the Y drive mechanism 22, and the detection signal of the detection unit 23 is transmitted to the control device 80. The control device 80 calculates the Y-direction position of the Y stage 20 based on the detection signal of the detection unit 23.

Yステージ20は、枠形状に形成され、Z軸方向に貫通する開口部25を有している。 The Y stage 20 is formed in a frame shape and has an opening 25 that penetrates in the Z-axis direction.

Xステージ30は、チャック42及び針研板51をX軸方向に移動させる。Xステージ30は、リニアガイド31を介して、Yステージ20上に取り付けられている。リニアガイド31は、例えば、Yステージ20上面に設けられX軸方向に延びるガイドレールと、Xステージ30下面に設けられガイドレールに沿ってスライドするスライダと、を有する。これにより、Xステージ30は、X方向に移動可能に構成されている。 The X-stage 30 moves the chuck 42 and the needle grinding plate 51 in the X-axis direction. The X-stage 30 is attached to the Y-stage 20 via a linear guide 31. The linear guide 31 has, for example, a guide rail provided on the upper surface of the Y-stage 20 and extending in the X-axis direction, and a slider provided on the lower surface of the X-stage 30 and sliding along the guide rail. This allows the X-stage 30 to be movable in the X-direction.

X駆動機構32は、Xステージ30をX方向に駆動させる。X駆動機構32は、例えば、モータと、モータの回転動作を直動動作に変換する回転直動機構(例えば、ボールねじ)と、を備える。X駆動機構32のモータの動作は、制御装置80によって制御される。 The X-drive mechanism 32 drives the X-stage 30 in the X-direction. The X-drive mechanism 32 includes, for example, a motor and a rotary-linear mechanism (for example, a ball screw) that converts the rotary motion of the motor into linear motion. The operation of the motor of the X-drive mechanism 32 is controlled by the control device 80.

検出部33は、Xステージ30のX方向位置、換言すれば、チャック42及び針研板51のX方向位置を検出する。検出部33は、例えば、X駆動機構32のモータの回転を検出するエンコーダであって、検出部33の検出信号は制御装置80に送信される。制御装置80は、検出部33の検出信号に基づいて、Xステージ30のX方向位置を算出する。 The detector 33 detects the X-direction position of the X-stage 30, in other words, the X-direction positions of the chuck 42 and the needle grinding plate 51. The detector 33 is, for example, an encoder that detects the rotation of the motor of the X-drive mechanism 32, and the detection signal of the detector 33 is transmitted to the control device 80. The control device 80 calculates the X-direction position of the X-stage 30 based on the detection signal of the detector 33.

Xステージ30は、Z軸方向に貫通する2つの開口部を有している。2つの開口部には、それぞれガイド35及びガイド36が設けられている。 The X-stage 30 has two openings that penetrate in the Z-axis direction. A guide 35 and a guide 36 are provided in each of the two openings.

上部Zステージ40は、ガイド35によって、X軸方向及びY軸方向の移動が規制され、Z軸方向に挿抜可能に支持されている。これにより、上部Zステージ40は、Xステージ30に対して上下方向に移動可能に構成されている。 The upper Z stage 40 is supported by guides 35 so that it can be inserted and removed in the Z direction, while its movement in the X and Y directions is restricted. This allows the upper Z stage 40 to move up and down relative to the X stage 30.

上部Zステージ40の上には、θステージ41、チャック42、下カメラ43が設けられている。θステージ41は、Z軸を回転軸として、チャック42を回転させる機能を有する。θステージ41を回転させるθ駆動機構(図示せず)は、制御装置80によって制御される。チャック42は、キャリアCを載置する。チャック42は、キャリアCをチャック42へ固定する固定機構(図示せず)を有する。これにより、チャック42に対するキャリアCの相対位置の位置ずれを防止する。下カメラ43は、チャック42の側面に設けられる。チャック42とともに、移動、回転する。 A θ stage 41, a chuck 42, and a lower camera 43 are provided on the upper Z stage 40. The θ stage 41 has the function of rotating the chuck 42 around the Z axis as the axis of rotation. A θ drive mechanism (not shown) that rotates the θ stage 41 is controlled by the control device 80. The chuck 42 carries the carrier C. The chuck 42 has a fixing mechanism (not shown) that fixes the carrier C to the chuck 42. This prevents the carrier C from shifting relative to the chuck 42. The lower camera 43 is provided on the side of the chuck 42. It moves and rotates together with the chuck 42.

針研板支持ステージ50は、ガイド36によって、X軸方向及びY軸方向の移動が規制され、Z軸方向に挿抜可能に支持されている。これにより、針研板支持ステージ50は、Xステージ30に対して上下方向に移動可能に構成されている。 The needle grinding plate support stage 50 is supported by guides 36 so that it can be inserted and removed in the Z-axis direction while its movement in the X-axis and Y-axis directions is restricted. This allows the needle grinding plate support stage 50 to move up and down relative to the X-stage 30.

針研板支持ステージ50の上には、針研板51が設けられている。針研板51は、プローブ4の先端を当接させ、プローブ4の先端を研磨する。 A needle grinding plate 51 is provided on the needle grinding plate support stage 50. The needle grinding plate 51 abuts against the tip of the probe 4 and grinds the tip of the probe 4.

ステージベース10は、Z軸方向に貫通する開口部15を有している。開口部15には、ガイド61が設けられている。 The stage base 10 has an opening 15 that penetrates in the Z-axis direction. A guide 61 is provided in the opening 15.

下部Zステージ60は、ガイド61によって、X軸方向及びY軸方向の移動が規制され、Z軸方向に挿抜可能に支持されている。これにより、下部Zステージ60は、ステージベース10に対して上下方向に移動可能に構成されている。 The lower Z stage 60 is supported by guides 61 such that movement in the X-axis and Y-axis directions is restricted and the lower Z stage 60 can be inserted and removed in the Z-axis direction. This allows the lower Z stage 60 to move up and down relative to the stage base 10.

Z駆動機構62は、下部Zステージ60をZ方向に駆動させる。Z駆動機構62は、例えば、モータと、モータの回転動作を直動動作に変換する回転直動機構(例えば、ボールねじ)と、を備える。Z駆動機構62のモータの動作は、制御装置80によって制御される。 The Z drive mechanism 62 drives the lower Z stage 60 in the Z direction. The Z drive mechanism 62 includes, for example, a motor and a rotary-linear mechanism (e.g., a ball screw) that converts the rotary motion of the motor into linear motion. The operation of the motor of the Z drive mechanism 62 is controlled by the control device 80.

ここで、チャック42に載置されたキャリアCまたは針研板51にプローブ4を接触させた際、プローブカード3のプレス荷重重心位置と、下部Zステージ60のプレス荷重重心位置とが同一軸上を保つように配置されている(後述する図5,7,9,11参照)。換言すれば、下部Zステージ60が上部Zステージ40を押し上げる際の押力の作用点と、プローブカード3が受ける荷重の作用点との軸が共通する位置に配置されている。ここで、軸が共通するとは、同軸上であること(軸が一致すること)と、ほぼ(同一方向に)一致することをいう。例えば、プローブカード3の中心軸と、下部Zステージ60の中心軸とが共通する。また、プローブカード3の中心軸と、Z駆動機構62のボールねじの中心軸とが共通する。 Here, when the probe 4 is brought into contact with the carrier C or the needle grinding plate 51 placed on the chuck 42, the center of gravity of the press load of the probe card 3 and the center of gravity of the press load of the lower Z stage 60 are arranged so as to be on the same axis (see Figures 5, 7, 9, and 11 described later). In other words, the axis of the point of application of the pressing force when the lower Z stage 60 pushes up the upper Z stage 40 and the axis of the point of application of the load received by the probe card 3 are arranged at a common position. Here, the axis being common means that they are on the same axis (the axes are the same) and that they are almost the same (in the same direction). For example, the central axis of the probe card 3 and the central axis of the lower Z stage 60 are common. Also, the central axis of the probe card 3 and the central axis of the ball screw of the Z drive mechanism 62 are common.

検出部63は、下部Zステージ60のX方向位置、換言すれば、下部Zステージ60と連結される上部Zステージ40に設けられるチャック42または針研板支持ステージ50と連結される針研板51のZ方向位置を検出する。検出部63は、例えば、Z駆動機構62のモータの回転を検出するエンコーダであって、検出部63の検出信号は制御装置80に送信される。制御装置80は、検出部63の検出信号に基づいて、下部Zステージ60のZ方向位置を算出する。 The detection unit 63 detects the X-direction position of the lower Z stage 60, in other words, the Z-direction position of the chuck 42 provided on the upper Z stage 40 connected to the lower Z stage 60 or the needle grinding plate 51 connected to the needle grinding plate support stage 50. The detection unit 63 is, for example, an encoder that detects the rotation of the motor of the Z drive mechanism 62, and the detection signal of the detection unit 63 is transmitted to the control device 80. The control device 80 calculates the Z-direction position of the lower Z stage 60 based on the detection signal of the detection unit 63.

ロードセル64は、下部Zステージ60が受ける荷重を検出する。ロードセル64の検出信号は、制御装置80に入力される。なお、ロードセル64に代えてZ駆動機構62のトルクを検出するトルクセンサを用いてもよい。また、検出した荷重をフィードバック制御する場合には、制御装置80は、位置制御と荷重制御を同時に実施する。 The load cell 64 detects the load applied to the lower Z stage 60. The detection signal of the load cell 64 is input to the control device 80. Note that a torque sensor that detects the torque of the Z drive mechanism 62 may be used instead of the load cell 64. Furthermore, when feedback control of the detected load is performed, the control device 80 simultaneously performs position control and load control.

上部Zステージ40の下部には、可動連結機構71を有する。可動連結機構71は、上部Zステージ40と下部Zステージ60とを連結する連結状態と、上部Zステージ40と下部Zステージ60との連結を解除し上部Zステージ40がステージベース10上を移動可動とする可動状態と、を切り替えることができるように構成されている。 The lower part of the upper Z stage 40 has a movable connection mechanism 71. The movable connection mechanism 71 is configured to be able to switch between a connected state in which the upper Z stage 40 and the lower Z stage 60 are connected, and a movable state in which the connection between the upper Z stage 40 and the lower Z stage 60 is released, allowing the upper Z stage 40 to move on the stage base 10.

針研板支持ステージ50の下部には、可動連結機構72を備える。可動連結機構72は、針研板支持ステージ50と下部Zステージ60とを連結する連結状態と、針研板支持ステージ50と下部Zステージ60との連結を解除し針研板支持ステージ50がステージベース10上を移動可動とする可動状態と、を切り替えることができるように構成されている。 The lower part of the needle grinding plate support stage 50 is provided with a movable connection mechanism 72. The movable connection mechanism 72 is configured to be able to switch between a connected state in which the needle grinding plate support stage 50 and the lower Z stage 60 are connected, and a movable state in which the connection between the needle grinding plate support stage 50 and the lower Z stage 60 is released, allowing the needle grinding plate support stage 50 to move freely on the stage base 10.

図2は、可動連結機構71を説明する模式図である。可動連結機構71は、水平移動機構701と、連結機構702と、を有する。 Figure 2 is a schematic diagram illustrating the movable connecting mechanism 71. The movable connecting mechanism 71 has a horizontal movement mechanism 701 and a connecting mechanism 702.

水平移動機構701は、上部Zステージ40をステージベース10上で移動可能とする。水平移動機構701としては、例えば、平面方向に移動可能なフリーベアリング、エアーベアリング、ボール型エアーベアリングを用いることができる。 The horizontal movement mechanism 701 enables the upper Z stage 40 to move on the stage base 10. As the horizontal movement mechanism 701, for example, a free bearing, air bearing, or ball-type air bearing that can move in a planar direction can be used.

連結機構702は、上部Zステージ40と下部Zステージ60とを着脱可能に連結する。連結機構702としては、例えば、電磁石を用いることができる。連結機構702は、制御装置80によって制御される。 The coupling mechanism 702 detachably couples the upper Z stage 40 and the lower Z stage 60. For example, an electromagnet can be used as the coupling mechanism 702. The coupling mechanism 702 is controlled by the control device 80.

図1に戻り、制御装置80は、検査装置1の動作を制御する。制御装置80は、検出部23,33,63、ロードセル64の検出信号が入力される。制御装置80は、Y駆動機構22、X駆動機構32、Z駆動機構62、θ駆動機構、可動連結機構71,72を制御する。 Returning to FIG. 1, the control device 80 controls the operation of the inspection device 1. The control device 80 receives detection signals from the detectors 23, 33, and 63 and the load cell 64. The control device 80 controls the Y drive mechanism 22, the X drive mechanism 32, the Z drive mechanism 62, the θ drive mechanism, and the movable linkage mechanisms 71 and 72.

次に、第1実施形態に係る検査装置1の動作について、図3を用いて説明する。図3は、第1実施形態に係る検査装置1の動作の一例を示すフローチャートである。 Next, the operation of the inspection device 1 according to the first embodiment will be described with reference to FIG. 3. FIG. 3 is a flowchart showing an example of the operation of the inspection device 1 according to the first embodiment.

ステップS101において、制御装置80は、Y駆動機構22及びX駆動機構32を制御して、チャック42(針研板51)を所定の位置に移動させる。 In step S101, the control device 80 controls the Y drive mechanism 22 and the X drive mechanism 32 to move the chuck 42 (needle grinding plate 51) to a predetermined position.

ステップS102において、制御装置80は、可動連結機構71(72)を制御して、連結状態とする。これにより、上部Zステージ40(針研板支持ステージ50)と下部Zステージ60とが連結される。 In step S102, the control device 80 controls the movable connecting mechanism 71 (72) to connect the upper Z stage 40 (needle grinding plate support stage 50) and the lower Z stage 60.

ステップS103において、制御装置80は、Z駆動機構62を制御して、下部Zステージ60を上昇させる。これにより、キャリアCに配置された電子デバイスの電極にプローブ4がコンタクトする。制御装置80は、ロードセル64でコンタクト時の荷重を検出し、Z駆動機構62を制御して、コンタクト荷重を制御する。これにより、テスター(図示せず)は、プローブ4を介して電子デバイスと接続される。 In step S103, the control device 80 controls the Z drive mechanism 62 to raise the lower Z stage 60. This causes the probe 4 to contact the electrodes of the electronic device placed on the carrier C. The control device 80 detects the load at the time of contact with the load cell 64, and controls the Z drive mechanism 62 to control the contact load. This causes the tester (not shown) to be connected to the electronic device via the probe 4.

ステップS104において、制御装置80は、テスターを制御して、電子デバイスの電気的特性を検査する。 In step S104, the control device 80 controls the tester to inspect the electrical characteristics of the electronic device.

ステップS105において、制御装置80は、Z駆動機構62を制御して、下部Zステージ60を下降させる。 In step S105, the control device 80 controls the Z drive mechanism 62 to lower the lower Z stage 60.

ステップS106において、制御装置80は、可動連結機構71(72)を制御して、連結を解除する。これにより、上部Zステージ40(針研板支持ステージ50)と下部Zステージ60との連結が解除される。また、上部Zステージ40(針研板支持ステージ50)は、水平方向に移動可能な状態となる。 In step S106, the control device 80 controls the movable connection mechanism 71 (72) to release the connection. This releases the connection between the upper Z stage 40 (needle grinding plate support stage 50) and the lower Z stage 60. In addition, the upper Z stage 40 (needle grinding plate support stage 50) becomes movable in the horizontal direction.

以下、電子デバイスごとにステップS101からステップS106を繰り返す。 Then, steps S101 to S106 are repeated for each electronic device.

次に、第1実施形態に係る検査装置1の各状態における応力について、図4から図11を用いて説明する。 Next, the stresses in each state of the inspection device 1 according to the first embodiment will be explained using Figures 4 to 11.

図4は、第1実施形態に係る検査装置1におけるキャリアC中央部の電子デバイスを検査する際の水平移動後の断面模式図である。図5は、第1実施形態に係る検査装置1におけるキャリアC中央部の電子デバイスの検査時における断面模式図である。 Figure 4 is a schematic cross-sectional view of the inspection device 1 according to the first embodiment after horizontal movement when inspecting electronic devices in the center of a carrier C. Figure 5 is a schematic cross-sectional view of the inspection device 1 according to the first embodiment when inspecting electronic devices in the center of a carrier C.

図4に示すように、Yステージ20及びXステージ30を移動させて、キャリアC中央部の電子デバイスをプローブ4の下に配置させる。次に、可動連結機構72を連結状態として上部Zステージ40と下部Zステージ60を連結させる。図5に示すように、Z駆動機構62を駆動させて、チャック42を上昇させ、キャリアCにプローブ4を押し付ける。この際、プローブカード3が受ける反力及びZ駆動機構62が受ける反力を黒塗り矢印で示す。プローブカード3のプレス荷重重心位置と、Z駆動機構62のプレス荷重重心位置が同一の軸上に配置されていることにより、上部Zステージ40の傾きを防止することができる。 As shown in FIG. 4, the Y stage 20 and X stage 30 are moved to place the electronic device in the center of the carrier C under the probe 4. Next, the movable connecting mechanism 72 is brought into a connected state to connect the upper Z stage 40 and the lower Z stage 60. As shown in FIG. 5, the Z drive mechanism 62 is driven to raise the chuck 42 and press the probe 4 against the carrier C. At this time, the reaction forces received by the probe card 3 and the reaction forces received by the Z drive mechanism 62 are indicated by black arrows. Since the press load center position of the probe card 3 and the press load center position of the Z drive mechanism 62 are arranged on the same axis, tilting of the upper Z stage 40 can be prevented.

図6は、第1実施形態に係る検査装置1におけるキャリアC外周部の電子デバイスを検査する際の水平移動後の断面模式図である。図7は、第1実施形態に係る検査装置1におけるキャリアC外周部の電子デバイスの検査時における断面模式図である。 Figure 6 is a schematic cross-sectional view of the inspection device 1 according to the first embodiment after horizontal movement when inspecting electronic devices on the outer periphery of a carrier C. Figure 7 is a schematic cross-sectional view of the inspection device 1 according to the first embodiment when inspecting electronic devices on the outer periphery of a carrier C.

図6に示すように、Yステージ20及びXステージ30を移動させて、キャリアC外周部の電子デバイスをプローブ4の下に配置させる。次に、可動連結機構72を連結状態として上部Zステージ40と下部Zステージ60を連結させる。図7に示すように、Z駆動機構62を駆動させて、チャック42を上昇させ、キャリアCにプローブ4を押し付ける。この際、プローブカード3が受ける反力及びZ駆動機構62が受ける反力を黒塗り矢印で示す。プローブカード3のプレス荷重重心位置と、Z駆動機構62のプレス荷重重心位置が同一の軸上に配置されていることにより、上部Zステージ40の傾きを防止することができる。 As shown in FIG. 6, the Y stage 20 and X stage 30 are moved to place the electronic device on the outer periphery of the carrier C under the probe 4. Next, the movable connecting mechanism 72 is brought into a connected state to connect the upper Z stage 40 and the lower Z stage 60. As shown in FIG. 7, the Z drive mechanism 62 is driven to raise the chuck 42 and press the probe 4 against the carrier C. At this time, the reaction forces received by the probe card 3 and the reaction forces received by the Z drive mechanism 62 are indicated by black arrows. Since the press load center position of the probe card 3 and the press load center position of the Z drive mechanism 62 are arranged on the same axis, tilting of the upper Z stage 40 can be prevented.

図8は、第1実施形態に係る検査装置1における針研板51中央部にプローブ4を当接させる際の水平移動後の断面模式図である。図9は、第1実施形態に係る検査装置1における針研板51中央部にプローブ4を当接させたる際における断面模式図である。 Figure 8 is a schematic cross-sectional view of the inspection device 1 according to the first embodiment after horizontal movement when the probe 4 is brought into contact with the center of the needle grinding plate 51. Figure 9 is a schematic cross-sectional view of the inspection device 1 according to the first embodiment when the probe 4 is brought into contact with the center of the needle grinding plate 51.

図8に示すように、Yステージ20及びXステージ30を移動させて、針研板51中央部をプローブ4の下に配置させる。次に、可動連結機構72を連結状態として針研板支持ステージ50と下部Zステージ60を連結させる。図9に示すように、Z駆動機構62を駆動させて、針研板51を上昇させ、針研板51にプローブ4を押し付ける。この際、プローブカード3が受ける反力及びZ駆動機構62が受ける反力を黒塗り矢印で示す。プローブカード3のプレス荷重重心位置と、Z駆動機構62のプレス荷重重心位置が同一の軸上に配置されていることにより、針研板支持ステージ50の傾きを防止することができる。 As shown in FIG. 8, the Y stage 20 and the X stage 30 are moved to position the center of the needle grinding plate 51 under the probe 4. Next, the movable connecting mechanism 72 is connected to connect the needle grinding plate support stage 50 and the lower Z stage 60. As shown in FIG. 9, the Z drive mechanism 62 is driven to raise the needle grinding plate 51 and press the probe 4 against the needle grinding plate 51. At this time, the reaction forces received by the probe card 3 and the reaction forces received by the Z drive mechanism 62 are indicated by black arrows. Since the press load center position of the probe card 3 and the press load center position of the Z drive mechanism 62 are arranged on the same axis, tilting of the needle grinding plate support stage 50 can be prevented.

図10は、第1実施形態に係る検査装置1における針研板51外周部にプローブ4を当接させる際の水平移動後の断面模式図である。図11は、第1実施形態に係る検査装置1における針研板51外周部にプローブ4を当接させたる際における断面模式図である。 Figure 10 is a schematic cross-sectional view of the inspection device 1 according to the first embodiment after horizontal movement when the probe 4 is brought into contact with the outer periphery of the needle grinding plate 51. Figure 11 is a schematic cross-sectional view of the inspection device 1 according to the first embodiment when the probe 4 is brought into contact with the outer periphery of the needle grinding plate 51.

図10に示すように、Yステージ20及びXステージ30を移動させて、針研板51外周部をプローブ4の下に配置させる。次に、可動連結機構72を連結状態として針研板支持ステージ50と下部Zステージ60を連結させる。図11に示すように、Z駆動機構62を駆動させて、針研板51を上昇させ、針研板51にプローブ4を押し付ける。この際、プローブカード3が受ける反力及びZ駆動機構62が受ける反力を黒塗り矢印で示す。プローブカード3のプレス荷重重心位置と、Z駆動機構62のプレス荷重重心位置が同一の軸上に配置されていることにより、針研板支持ステージ50の傾きを防止することができる。 As shown in FIG. 10, the Y stage 20 and the X stage 30 are moved to position the outer periphery of the needle grinding plate 51 under the probe 4. Next, the movable connecting mechanism 72 is connected to connect the needle grinding plate support stage 50 and the lower Z stage 60. As shown in FIG. 11, the Z drive mechanism 62 is driven to raise the needle grinding plate 51 and press the probe 4 against the needle grinding plate 51. At this time, the reaction forces received by the probe card 3 and the reaction forces received by the Z drive mechanism 62 are indicated by black arrows. Since the press load center position of the probe card 3 and the press load center position of the Z drive mechanism 62 are arranged on the same axis, tilting of the needle grinding plate support stage 50 can be prevented.

ここで、参考例に係る検査装置1Cの例について、説明する。図12は、参考例に係る検査装置1CにおけるキャリアC中央部の電子デバイスの検査時における断面模式図である。図13は、参考例に係る検査装置1CにおけるキャリアC外周部の電子デバイスの検査時における断面模式図である。図14は、参考例に係る検査装置1Cにおける針研板51C中央部にプローブ4を当接させたる際における断面模式図である。図15は、参考例に係る検査装置1Cにおける針研板51C外周部にプローブ4を当接させたる際における断面模式図である。また、プローブカード3が受ける反力及びZ駆動機構62が受ける反力を黒塗り矢印で示す。 Here, an example of the inspection device 1C according to the reference example will be described. FIG. 12 is a schematic cross-sectional view of the inspection device 1C according to the reference example when inspecting electronic devices in the center of the carrier C. FIG. 13 is a schematic cross-sectional view of the inspection device 1C according to the reference example when inspecting electronic devices in the outer periphery of the carrier C. FIG. 14 is a schematic cross-sectional view of the inspection device 1C according to the reference example when the probe 4 is brought into contact with the center of the needle grinding plate 51C. FIG. 15 is a schematic cross-sectional view of the inspection device 1C according to the reference example when the probe 4 is brought into contact with the outer periphery of the needle grinding plate 51C. The reaction forces received by the probe card 3 and the reaction forces received by the Z drive mechanism 62 are indicated by solid black arrows.

参考例に係る検査装置1Cは、Z駆動機構(図示せず)がXステージ30に設けられており、Xステージ30に対してZステージ40Cが昇降する。また、針研板51Cは、梁構造部52Cを介してZステージ40Cに固定されている。 In the inspection device 1C according to the reference example, a Z drive mechanism (not shown) is provided on the X stage 30, and the Z stage 40C moves up and down relative to the X stage 30. In addition, the needle grinding plate 51C is fixed to the Z stage 40C via a beam structure 52C.

図12に示すように、キャリアC中央部の電子デバイスの検査時には、プローブカード3が受ける反力及びZ駆動機構が受ける反力は同軸上に配置される。このため、Zステージ40Cの傾きを防止することができる。 As shown in FIG. 12, when testing an electronic device in the center of carrier C, the reaction force received by probe card 3 and the reaction force received by the Z drive mechanism are arranged on the same axis. This makes it possible to prevent tilting of Z stage 40C.

一方、図13に示すように、キャリアC外周部の電子デバイスの検査時には、プローブカード3が受ける反力及びZ駆動機構が受ける反力は異なる軸上に配置される。このため、白抜き矢印に示すように、Zステージ40Cの傾きが生じる。 On the other hand, as shown in FIG. 13, when inspecting electronic devices on the outer periphery of carrier C, the reaction forces received by the probe card 3 and the reaction forces received by the Z drive mechanism are arranged on different axes. Therefore, as shown by the white arrow, a tilt of the Z stage 40C occurs.

また、図14に示すように、針研板51C中央部にプローブ4を当接させた際、プローブカード3が受ける反力及びZ駆動機構が受ける反力は異なる軸上に配置される。このため、白抜き矢印に示すように、梁構造部52Cに撓みが生じ、針研板51Cの傾きが生じる。 As shown in FIG. 14, when the probe 4 is brought into contact with the center of the needle grinding plate 51C, the reaction force received by the probe card 3 and the reaction force received by the Z drive mechanism are arranged on different axes. Therefore, as shown by the white arrow, the beam structure 52C is deflected, causing the needle grinding plate 51C to tilt.

また、図15示すように、針研板51C外周部にプローブ4を当接させた際、プローブカード3が受ける反力及びZ駆動機構が受ける反力は異なる軸上に配置される。このため、白抜き矢印に示すように、梁構造部52Cに更に撓みが生じ、針研板51Cの傾きがさらに大きくなる。 In addition, as shown in FIG. 15, when the probe 4 is brought into contact with the outer periphery of the needle grinding plate 51C, the reaction force received by the probe card 3 and the reaction force received by the Z drive mechanism are arranged on different axes. Therefore, as shown by the white arrow, further bending occurs in the beam structure 52C, and the inclination of the needle grinding plate 51C becomes even larger.

以上、第1実施形態に係る検査装置1によれば、プローブ4をキャリアC中央部に当接させた場合だけでなく、キャリアC外周部に当接させた場合であっても、プローブカード3のプレス荷重重心位置と、Z駆動機構62(下部Zステージ60)のプレス荷重重心位置とを、常に同一軸上に保つことができる(図5、図7参照)。これにより、コンタクト荷重を大きくしても、上部Zステージ40の倒れを防止することができる。 As described above, according to the inspection device 1 of the first embodiment, not only when the probe 4 is in contact with the center of the carrier C, but also when it is in contact with the outer periphery of the carrier C, the center of gravity of the press load of the probe card 3 and the center of gravity of the press load of the Z drive mechanism 62 (lower Z stage 60) can always be kept on the same axis (see Figures 5 and 7). This makes it possible to prevent the upper Z stage 40 from falling over even if the contact load is increased.

また、第1実施形態に係る検査装置1によれば、針研板51の倒れを防止することができる(図9、図11参照)。また、1つのZ駆動機構62で上部Zステージ40、針研板支持ステージ50を昇降させることができるので、個別に駆動機構を設けることなく、検査装置1のコストを低減することができる。 In addition, the inspection device 1 according to the first embodiment can prevent the needle grinding plate 51 from falling over (see Figures 9 and 11). In addition, the upper Z stage 40 and the needle grinding plate support stage 50 can be raised and lowered by a single Z drive mechanism 62, so the cost of the inspection device 1 can be reduced without providing separate drive mechanisms.

次に、第2実施形態に係る検査装置1Aについて、図16及び図17を用いて説明する。図16は、第2実施形態に係る検査装置1AにおけるキャリアC中央部の電子デバイスを検査する際の水平移動後の断面模式図である。図17は、第2実施形態に係る検査装置1AにおけるキャリアC中央部の電子デバイスの検査時における断面模式図である。 Next, the inspection device 1A according to the second embodiment will be described with reference to Figs. 16 and 17. Fig. 16 is a schematic cross-sectional view of the inspection device 1A according to the second embodiment after horizontal movement when inspecting electronic devices in the center of a carrier C. Fig. 17 is a schematic cross-sectional view of the inspection device 1A according to the second embodiment during inspection of electronic devices in the center of a carrier C.

第2実施形態に係る検査装置1Aは、第1実施形態に係る検査装置1と比較して、可動連結機構71、72にかえて、可動連結機構73、可動機構74を有する。その他の構成は同様であり、重複する説明を省略する。 Compared to the inspection device 1 according to the first embodiment, the inspection device 1A according to the second embodiment has a movable connecting mechanism 73 and a movable mechanism 74 instead of the movable connecting mechanisms 71 and 72. The rest of the configuration is similar, so duplicated explanations will be omitted.

下部Zステージ60の上部には、可動連結機構73を備える。可動連結機構73は、上部Zステージ40または針研板支持ステージ50と下部Zステージ60とを連結する連結状態と、上部Zステージ40または針研板支持ステージ50と下部Zステージ60との連結を解除し上部Zステージ40または針研板支持ステージ50が下部Zステージ60上を移動可動とする可動状態と、を切り替えることができるように構成されている。可動連結機構73は、水平移動機構と、連結機構と、を有する。水平移動機構は、上部Zステージ40または針研板支持ステージ50を下部Zステージ60上で移動可能とする。水平移動機構としては、例えば、平面方向に移動可能なフリーベアリング、エアーベアリング、ボール型エアーベアリングを用いることができる。連結機構は、上部Zステージ40または針研板支持ステージ50と下部Zステージ60とを着脱可能に連結する。連結機構としては、例えば、電磁石を用いることができる。連結機構は、制御装置80によって制御される。 The upper part of the lower Z stage 60 is provided with a movable coupling mechanism 73. The movable coupling mechanism 73 is configured to be able to switch between a coupling state in which the upper Z stage 40 or the needle grinding plate support stage 50 is coupled to the lower Z stage 60, and a movable state in which the upper Z stage 40 or the needle grinding plate support stage 50 is released from the lower Z stage 60 and the upper Z stage 40 or the needle grinding plate support stage 50 is movable on the lower Z stage 60. The movable coupling mechanism 73 has a horizontal movement mechanism and a coupling mechanism. The horizontal movement mechanism allows the upper Z stage 40 or the needle grinding plate support stage 50 to move on the lower Z stage 60. For example, a free bearing, an air bearing, or a ball-type air bearing that can move in a planar direction can be used as the horizontal movement mechanism. The coupling mechanism detachably couples the upper Z stage 40 or the needle grinding plate support stage 50 to the lower Z stage 60. For example, an electromagnet can be used as the coupling mechanism. The coupling mechanism is controlled by the control device 80.

ステージベース10の上部には、可動機構74を有する。可動機構74は、水平移動機構を有する。水平移動機構は、上部Zステージ40または針研板支持ステージ50をステージベース10上で移動可能とする。水平移動機構としては、例えば、平面方向に移動可能なフリーベアリング、エアーベアリング、ボール型エアーベアリングを用いることができる。 The upper part of the stage base 10 has a movable mechanism 74. The movable mechanism 74 has a horizontal movement mechanism. The horizontal movement mechanism allows the upper Z stage 40 or the needle grinding plate support stage 50 to move on the stage base 10. As the horizontal movement mechanism, for example, a free bearing, air bearing, or ball-type air bearing that can move in a planar direction can be used.

以上、第2実施形態に係る検査装置1Aによれば、第1実施形態に係る検査装置1と同様に、プローブカード3のプレス荷重重心位置と、Z駆動機構62(下部Zステージ60)のプレス荷重重心位置とを、常に同一軸上に保つことができる。これにより、コンタクト荷重を大きくしても、上部Zステージ40の倒れを防止することができる。また、針研板51の倒れを防止することができる。また、1つのZ駆動機構62で上部Zステージ40、針研板支持ステージ50を昇降させることができるので、個別に駆動機構を設けることなく、検査装置1のコストを低減することができる。 As described above, according to the inspection device 1A of the second embodiment, like the inspection device 1 of the first embodiment, the press load center of gravity position of the probe card 3 and the press load center of gravity position of the Z drive mechanism 62 (lower Z stage 60) can always be kept on the same axis. This makes it possible to prevent the upper Z stage 40 from falling even if the contact load is increased. In addition, it is possible to prevent the needle grinding plate 51 from falling. In addition, since the upper Z stage 40 and the needle grinding plate support stage 50 can be raised and lowered with a single Z drive mechanism 62, the cost of the inspection device 1 can be reduced without providing separate drive mechanisms.

次に、第3実施形態に係る検査装置1Bについて、図18を用いて説明する。図18は、第3実施形態に係る検査装置1Bの構成を説明する断面模式図である。 Next, the inspection device 1B according to the third embodiment will be described with reference to FIG. 18. FIG. 18 is a schematic cross-sectional view illustrating the configuration of the inspection device 1B according to the third embodiment.

第3実施形態に係る検査装置1Bは、第1実施形態に係る検査装置1と比較して、可動連結機構71、72にかえて、可動連結機構75を有する。その他の構成は同様であり、重複する説明を省略する。また、上部Zステージ40及び針研板支持ステージ50は、下降した際にXステージ30に懸架されるように構成されている。これにより、上部Zステージ40及び針研板支持ステージ50は、ステージベース10と非接触に構成されている。その他の構成は同様であり、重複する説明を省略する。 Compared to the inspection device 1 according to the first embodiment, the inspection device 1B according to the third embodiment has a movable connecting mechanism 75 instead of the movable connecting mechanisms 71 and 72. The rest of the configuration is similar, and duplicated explanations will be omitted. In addition, the upper Z stage 40 and the needle grinding plate support stage 50 are configured to be suspended from the X stage 30 when lowered. As a result, the upper Z stage 40 and the needle grinding plate support stage 50 are configured to be out of contact with the stage base 10. The rest of the configuration is similar, and duplicated explanations will be omitted.

下部Zステージ60の上部には、可動連結機構75を備える。可動連結機構75は、上部Zステージ40または針研板支持ステージ50と下部Zステージ60とを連結する連結状態と、上部Zステージ40または針研板支持ステージ50と下部Zステージ60との連結を解除し上部Zステージ40または針研板支持ステージ50が下部Zステージ60上を移動可動とする可動状態と、を切り替えることができるように構成されている。可動連結機構75は、下部Zステージ60の上面に設けられたOリングと、Oリングで囲われた空間を吸排気する吸排気機構を有する。吸排気機構は、Oリングで囲われた空間内から吸気することにより、上部Zステージ40または針研板支持ステージ50と下部Zステージ60とを真空吸着により連結する。また、吸排気機構は、Oリングで囲われた空間内にエアを供給することにより、上部Zステージ40または針研板支持ステージ50と下部Zステージ60との連結を解除する。また、供給されたエアにより上部Zステージ40または針研板支持ステージ50は下部Zステージ60から浮上する。これにより、上部Zステージ40及び針研板支持ステージ50は、水平方向に移動することができる。 The upper part of the lower Z stage 60 is provided with a movable connection mechanism 75. The movable connection mechanism 75 is configured to be able to switch between a connection state in which the upper Z stage 40 or the needle grinding plate support stage 50 is connected to the lower Z stage 60, and a movable state in which the connection between the upper Z stage 40 or the needle grinding plate support stage 50 and the lower Z stage 60 is released and the upper Z stage 40 or the needle grinding plate support stage 50 is movable on the lower Z stage 60. The movable connection mechanism 75 has an O-ring provided on the upper surface of the lower Z stage 60 and an intake and exhaust mechanism that intakes and exhausts the space surrounded by the O-ring. The intake and exhaust mechanism intakes air from within the space surrounded by the O-ring to connect the upper Z stage 40 or the needle grinding plate support stage 50 to the lower Z stage 60 by vacuum suction. The intake and exhaust mechanism also supplies air into the space surrounded by the O-ring to release the connection between the upper Z stage 40 or the needle grinding plate support stage 50 and the lower Z stage 60. In addition, the supplied air causes the upper Z stage 40 or the needle grinding plate support stage 50 to float above the lower Z stage 60. This allows the upper Z stage 40 and the needle grinding plate support stage 50 to move horizontally.

また、Oリングは、上部Zステージ40または針研板支持ステージ50と下部Zステージ60とが当接する際の衝撃を吸収するクッションとしても用いることができる。これにより、上部Zステージ40または針研板支持ステージ50と下部Zステージ60との連結時における衝撃を抑制することができる。 The O-ring can also be used as a cushion to absorb the impact when the upper Z stage 40 or the needle grinding plate support stage 50 comes into contact with the lower Z stage 60. This makes it possible to suppress the impact when the upper Z stage 40 or the needle grinding plate support stage 50 is connected to the lower Z stage 60.

以上、第3実施形態に係る検査装置1Bによれば、第1実施形態に係る検査装置1と同様に、プローブカード3のプレス荷重重心位置と、Z駆動機構62(下部Zステージ60)のプレス荷重重心位置とを、常に同一軸上に保つことができる。これにより、コンタクト荷重を大きくしても、上部Zステージ40の倒れを防止することができる。また、針研板51の倒れを防止することができる。また、1つのZ駆動機構62で上部Zステージ40、針研板支持ステージ50を昇降させることができるので、個別に駆動機構を設けることなく、検査装置1のコストを低減することができる。 As described above, according to the inspection device 1B of the third embodiment, like the inspection device 1 of the first embodiment, the press load center of gravity position of the probe card 3 and the press load center of gravity position of the Z drive mechanism 62 (lower Z stage 60) can always be kept on the same axis. This makes it possible to prevent the upper Z stage 40 from falling over even if the contact load is increased. In addition, it is possible to prevent the needle grinding plate 51 from falling over. In addition, since the upper Z stage 40 and the needle grinding plate support stage 50 can be raised and lowered by a single Z drive mechanism 62, the cost of the inspection device 1 can be reduced without providing separate drive mechanisms.

次に、第4実施形態に係る検査装置1Dについて、図19から図22を用いて説明する。図19は、第4実施形態に係る検査装置1Dの構成を説明する平面視図である。図20は、第4実施形態に係る検査装置1Dの構成を説明する断面模式図である。図21は、第4実施形態に係る検査装置1Dの分解斜視図である。図22は、第4実施形態に係る検査装置1DにおけるキャリアC中央部の電子デバイスの検査時における断面模式図である。なお、図21において、各部の移動方向を矢印で示している。 Next, the inspection device 1D according to the fourth embodiment will be described with reference to Figs. 19 to 22. Fig. 19 is a plan view illustrating the configuration of the inspection device 1D according to the fourth embodiment. Fig. 20 is a schematic cross-sectional view illustrating the configuration of the inspection device 1D according to the fourth embodiment. Fig. 21 is an exploded perspective view of the inspection device 1D according to the fourth embodiment. Fig. 22 is a schematic cross-sectional view of the inspection device 1D according to the fourth embodiment during inspection of an electronic device in the center of the carrier C. Note that in Fig. 21, the direction of movement of each part is indicated by an arrow.

検査装置1Dは、キャリア(被検査体)Cに配置された複数の電子デバイスの各々の電気的特性の検査を行う装置である。なお、キャリアCは、ウエハ、ガラス基板、チップ単体などを含む。 The inspection device 1D is a device that inspects the electrical characteristics of each of multiple electronic devices arranged on a carrier (test subject) C. The carrier C includes a wafer, a glass substrate, a single chip, etc.

検査装置1Dは、プローブ室2を有する。プローブ室2内の上部には、プローブカード3が配置されている。プローブカード3は、複数のプローブ4を有する。プローブ室2の下部には、ステージベース10が設けられている。プローブ室2内には、Yステージ20A、Xステージ30A、上部Zステージ40A、θステージ41、チャック42、下カメラ43が設けられている。また、プローブ室2内には、Yステージ20B、Xステージ30B、上部Zステージ40B、針研板51が設けられている。 The inspection device 1D has a probe chamber 2. A probe card 3 is arranged in the upper part of the probe chamber 2. The probe card 3 has a plurality of probes 4. A stage base 10 is provided in the lower part of the probe chamber 2. A Y stage 20A, an X stage 30A, an upper Z stage 40A, a θ stage 41, a chuck 42, and a lower camera 43 are provided in the probe chamber 2. In addition, a Y stage 20B, an X stage 30B, an upper Z stage 40B, and a needle grinding plate 51 are provided in the probe chamber 2.

Yステージ20Aは、チャック42をY軸方向に移動させる。Yステージ20Aは、リニアガイド21を介して、ステージベース10上に取り付けられている。リニアガイド21は、例えば、ステージベース10上面に設けられY軸方向に延びるガイドレールと、Yステージ20A下面に設けられガイドレールに沿ってスライドするスライダと、を有する。これにより、Yステージ20Aは、Y方向に移動可能に構成されている。 The Y stage 20A moves the chuck 42 in the Y-axis direction. The Y stage 20A is attached to the stage base 10 via a linear guide 21. The linear guide 21 has, for example, a guide rail provided on the upper surface of the stage base 10 and extending in the Y-axis direction, and a slider provided on the lower surface of the Y stage 20A and sliding along the guide rail. This allows the Y stage 20A to be movable in the Y direction.

Y駆動機構22Aは、Yステージ20AをY方向に駆動させる。Y駆動機構22Aは、例えば、モータと、モータの回転動作を直動動作に変換する回転直動機構(例えば、ボールねじ)と、を備える。Y駆動機構22Aのモータの動作は、制御装置80によって制御される。 The Y drive mechanism 22A drives the Y stage 20A in the Y direction. The Y drive mechanism 22A includes, for example, a motor and a rotary-linear mechanism (for example, a ball screw) that converts the rotary motion of the motor into linear motion. The operation of the motor of the Y drive mechanism 22A is controlled by the control device 80.

検出部23Aは、Yステージ20AのY方向位置、換言すれば、チャック42のY方向位置を検出する。検出部23Aは、例えば、Y駆動機構22Aのモータの回転を検出するエンコーダであって、検出部23Aの検出信号は制御装置80に送信される。制御装置80は、検出部23Aの検出信号に基づいて、Yステージ20AのY方向位置を算出する。 The detector 23A detects the Y-direction position of the Y stage 20A, in other words, the Y-direction position of the chuck 42. The detector 23A is, for example, an encoder that detects the rotation of the motor of the Y drive mechanism 22A, and the detection signal of the detector 23A is transmitted to the control device 80. The control device 80 calculates the Y-direction position of the Y stage 20A based on the detection signal of the detector 23A.

Yステージ20Aは、Z軸方向に貫通する開口部を有している。開口部には、ガイド26Aが設けられている。 The Y stage 20A has an opening that penetrates in the Z-axis direction. A guide 26A is provided in the opening.

上部Zステージ40Aは、下方に突出する突出部45Aを有する。上部Zステージ40Aの突出部45Aは、ガイド26Aに挿入される。上部Zステージ40Aは、ガイド26Aによって、X軸方向及びY軸方向の移動が規制され、Z軸方向に挿抜可能に支持されている。これにより、上部Zステージ40Aは、Yステージ20Aに対して上下方向に移動可能に構成されている。上部Zステージ40Aは、下方に突出する突出部45Aを有する。また、Yステージ20Aの上面には、上部Zステージ40Aが下降した際に当接するストッパ46Aが設けられている。 The upper Z stage 40A has a protrusion 45A that protrudes downward. The protrusion 45A of the upper Z stage 40A is inserted into the guide 26A. The movement of the upper Z stage 40A in the X-axis direction and the Y-axis direction is restricted by the guide 26A, and the upper Z stage 40A is supported so as to be insertable and removable in the Z-axis direction. This allows the upper Z stage 40A to be movable in the vertical direction relative to the Y stage 20A. The upper Z stage 40A has a protrusion 45A that protrudes downward. In addition, a stopper 46A is provided on the top surface of the Y stage 20A against which the upper Z stage 40A abuts when it descends.

Xステージ30Aは、チャック42をX軸方向に移動させる。Xステージ30Aは、リニアガイド31Aを介して、上部Zステージ40A上に取り付けられている。リニアガイド31Aは、例えば、Xステージ30A下面に設けられX軸方向に延びるガイドレールと、上部Zステージ40A上面に設けられガイドレールに沿ってスライドするスライダと、を有する。これにより、Xステージ30Aは、X方向に移動可能に構成されている。また、リニアガイド31Aのスライダは、Y軸方向に側面視して(図20参照)、下部Zステージ60の中心軸からX軸方向に対称に配置されることが好ましい。 The X-stage 30A moves the chuck 42 in the X-axis direction. The X-stage 30A is attached to the upper Z-stage 40A via a linear guide 31A. The linear guide 31A has, for example, a guide rail provided on the underside of the X-stage 30A and extending in the X-axis direction, and a slider provided on the upper surface of the upper Z-stage 40A and sliding along the guide rail. This allows the X-stage 30A to be configured to move in the X-direction. In addition, it is preferable that the slider of the linear guide 31A is arranged symmetrically in the X-axis direction from the central axis of the lower Z-stage 60 when viewed from the side in the Y-axis direction (see FIG. 20).

X駆動機構32Aは、Xステージ30AをX方向に駆動させる。X駆動機構32Aは、例えば、モータと、モータの回転動作を直動動作に変換する回転直動機構(例えば、ボールねじ)と、を備える。X駆動機構32Aのモータの動作は、制御装置80によって制御される。 The X-drive mechanism 32A drives the X-stage 30A in the X-direction. The X-drive mechanism 32A includes, for example, a motor and a rotary-linear mechanism (for example, a ball screw) that converts the rotary motion of the motor into linear motion. The operation of the motor of the X-drive mechanism 32A is controlled by the control device 80.

検出部33Aは、Xステージ30AのX方向位置、換言すれば、チャック42のX方向位置を検出する。検出部33Aは、例えば、X駆動機構32Aのモータの回転を検出するエンコーダであって、検出部33Aの検出信号は制御装置80Aに送信される。制御装置80は、検出部33Aの検出信号に基づいて、Xステージ30AのX方向位置を算出する。 The detector 33A detects the X-direction position of the X-stage 30A, in other words, the X-direction position of the chuck 42. The detector 33A is, for example, an encoder that detects the rotation of the motor of the X-drive mechanism 32A, and the detection signal of the detector 33A is transmitted to the control device 80A. The control device 80 calculates the X-direction position of the X-stage 30A based on the detection signal of the detector 33A.

Xステージ30Aの上には、θステージ41、チャック42、下カメラ43が設けられている。θステージ41は、Z軸を回転軸として、チャック42を回転させる機能を有する。θステージ41を回転させるθ駆動機構44Aは、制御装置80によって制御される。チャック42は、キャリアCを載置する。チャック42は、キャリアCをチャック42へ固定する固定機構(図示せず)を有する。これにより、チャック42に対するキャリアCの相対位置の位置ずれを防止する。下カメラ43は、チャック42の側面に設けられる。チャック42とともに、移動、回転する。 A θ stage 41, a chuck 42, and a lower camera 43 are provided on the X stage 30A. The θ stage 41 has the function of rotating the chuck 42 around the Z axis as the axis of rotation. The θ drive mechanism 44A that rotates the θ stage 41 is controlled by the control device 80. The chuck 42 carries the carrier C. The chuck 42 has a fixing mechanism (not shown) that fixes the carrier C to the chuck 42. This prevents the carrier C from shifting relative to the chuck 42. The lower camera 43 is provided on the side of the chuck 42. It moves and rotates together with the chuck 42.

Yステージ20Bは、針研板51をY軸方向に移動させる。上部Zステージ40Bは、Yステージ20Bに対して上下方向に移動可能に構成されている。Xステージ30Bは、針研板51をX軸方向に移動させる。なお、 また、Yステージ20B、上部Zステージ40B、Xステージ30Bの構成は、Yステージ20A、上部Zステージ40A、Xステージ30Aと同様の構成を有しており、重複する説明を省略する。 The Y stage 20B moves the needle grinding plate 51 in the Y-axis direction. The upper Z stage 40B is configured to be movable in the vertical direction relative to the Y stage 20B. The X stage 30B moves the needle grinding plate 51 in the X-axis direction. Note that the configurations of the Y stage 20B, upper Z stage 40B, and X stage 30B are similar to those of the Y stage 20A, upper Z stage 40A, and X stage 30A, and therefore redundant explanations will be omitted.

Xステージ30Bの上には、針研板51が設けられている。針研板51は、プローブ4の先端を当接させ、プローブ4の先端を研磨する。また、針研板51をZ軸を回転軸として、回転させる機能を有する。針研板51を回転させるθ駆動機構44Bは、制御装置80によって制御される。 A needle grinding plate 51 is provided on the X-stage 30B. The needle grinding plate 51 abuts against the tip of the probe 4 and grinds the tip of the probe 4. It also has the function of rotating the needle grinding plate 51 around the Z-axis as the rotation axis. The θ drive mechanism 44B that rotates the needle grinding plate 51 is controlled by the control device 80.

ステージベース10は、Z軸方向に貫通する開口部15を有している。開口部15には、ガイド61が設けられている。 The stage base 10 has an opening 15 that penetrates in the Z-axis direction. A guide 61 is provided in the opening 15.

下部Zステージ60は、ガイド61によって、X軸方向及びY軸方向の移動が規制され、Z軸方向に挿抜可能に支持されている。これにより、下部Zステージ60は、ステージベース10に対して上下方向に移動可能に構成されている。 The lower Z stage 60 is supported by guides 61 such that movement in the X-axis and Y-axis directions is restricted and the lower Z stage 60 can be inserted and removed in the Z-axis direction. This allows the lower Z stage 60 to move up and down relative to the stage base 10.

Z駆動機構62は、下部Zステージ60をZ方向に駆動させる。Z駆動機構62は、例えば、モータと、モータの回転動作を直動動作に変換する回転直動機構(例えば、ボールねじ)と、を備える。Z駆動機構62のモータの動作は、制御装置80によって制御される。 The Z drive mechanism 62 drives the lower Z stage 60 in the Z direction. The Z drive mechanism 62 includes, for example, a motor and a rotary-linear mechanism (e.g., a ball screw) that converts the rotary motion of the motor into linear motion. The operation of the motor of the Z drive mechanism 62 is controlled by the control device 80.

ここで、チャック42に載置されたキャリアCまたは針研板51にプローブ4を接触させた際、プローブカード3のプレス荷重重心位置と、下部Zステージ60のプレス荷重重心位置とが同一軸上を保つように配置されている(図22参照)。換言すれば、下部Zステージ60が上部Zステージ40Aを押し上げる際の押力の作用点と、プローブカード3が受ける荷重の作用点との軸が共通する位置に配置されている。ここで、軸が共通するとは、同軸上であること(軸が一致すること)と、ほぼ(同一方向に)一致することをいう。例えば、プローブカード3の中心軸と、下部Zステージ60の中心軸とが共通する。また、プローブカード3の中心軸と、Z駆動機構62のボールねじの中心軸とが共通する。 Here, when the probe 4 is brought into contact with the carrier C or the needle grinding plate 51 placed on the chuck 42, the center of gravity of the press load of the probe card 3 and the center of gravity of the press load of the lower Z stage 60 are arranged so as to be on the same axis (see FIG. 22). In other words, the axis of the point of application of the pressing force when the lower Z stage 60 pushes up the upper Z stage 40A and the axis of the point of application of the load received by the probe card 3 are arranged at a common position. Here, the axis being common means being on the same axis (the axes being the same) and being almost the same (in the same direction). For example, the central axis of the probe card 3 and the central axis of the lower Z stage 60 are common. Also, the central axis of the probe card 3 and the central axis of the ball screw of the Z drive mechanism 62 are common.

検出部63は、下部Zステージ60のX方向位置、換言すれば、下部Zステージ60と連結される上部Zステージ40Aに設けられるチャック42または針研板支持ステージ50と連結される針研板51のZ方向位置を検出する。検出部63は、例えば、Z駆動機構62のモータの回転を検出するエンコーダであって、検出部63の検出信号は制御装置80に送信される。制御装置80は、検出部63の検出信号に基づいて、下部Zステージ60のZ方向位置を算出する。 The detector 63 detects the X-direction position of the lower Z stage 60, in other words, the Z-direction position of the chuck 42 provided on the upper Z stage 40A connected to the lower Z stage 60 or the needle grinding plate 51 connected to the needle grinding plate support stage 50. The detector 63 is, for example, an encoder that detects the rotation of the motor of the Z drive mechanism 62, and the detection signal of the detector 63 is transmitted to the control device 80. The control device 80 calculates the Z-direction position of the lower Z stage 60 based on the detection signal of the detector 63.

ロードセル64は、下部Zステージ60が受ける荷重を検出する。ロードセル64の検出信号は、制御装置80に入力される。なお、ロードセル64に代えてZ駆動機構62のトルクを検出するトルクセンサを用いてもよい。また、検出した荷重をフィードバック制御する場合には、制御装置80は、位置制御と荷重制御を同時に実施する。 The load cell 64 detects the load applied to the lower Z stage 60. The detection signal of the load cell 64 is input to the control device 80. Note that a torque sensor that detects the torque of the Z drive mechanism 62 may be used instead of the load cell 64. Furthermore, when feedback control of the detected load is performed, the control device 80 simultaneously performs position control and load control.

上部Zステージ40Aの下部には、可動連結機構75を有する。可動連結機構75は、上部Zステージ40Aと下部Zステージ60とを連結する連結状態と、上部Zステージ40Aと下部Zステージ60との連結を解除し上部Zステージ40Aがステージベース10上を移動可動とする可動状態と、を切り替えることができるように構成されている。 The lower part of the upper Z stage 40A has a movable connection mechanism 75. The movable connection mechanism 75 is configured to be able to switch between a connected state in which the upper Z stage 40A and the lower Z stage 60 are connected, and a movable state in which the connection between the upper Z stage 40A and the lower Z stage 60 is released, allowing the upper Z stage 40A to move on the stage base 10.

ここでは、下部Zステージ60が上部Zステージ40Aを押し上げる場合を例に説明したが、下部Zステージ60が上部Zステージ40Bを押し上げる場合も同様である。即ち、下部Zステージ60が上部Zステージ40Bを押し上げる際は、Yステージ20Aを下部Zステージ60の上から退避させ、Yステージ20Bを下部Zステージ60の上に位置するように移動させる。この場合、可動連結機構75は、上部Zステージ40Bと下部Zステージ60とを連結する連結状態と、上部Zステージ40Bと下部Zステージ60との連結を解除し上部Zステージ40Bがステージベース10上を移動可動とする可動状態と、を切り替えることができるように構成されている。 Here, the case where the lower Z stage 60 pushes up the upper Z stage 40A has been described as an example, but the same applies when the lower Z stage 60 pushes up the upper Z stage 40B. That is, when the lower Z stage 60 pushes up the upper Z stage 40B, the Y stage 20A is retracted from above the lower Z stage 60, and the Y stage 20B is moved so that it is positioned above the lower Z stage 60. In this case, the movable connecting mechanism 75 is configured to be able to switch between a connected state in which the upper Z stage 40B and the lower Z stage 60 are connected, and a movable state in which the connection between the upper Z stage 40B and the lower Z stage 60 is released, allowing the upper Z stage 40B to move on the stage base 10.

以上、第4実施形態に係る検査装置1Dによれば、プローブ4をキャリアC中央部に当接させた場合だけでなく、キャリアC外周部に当接させた場合であっても、プローブカード3のプレス荷重重心位置と、Z駆動機構62(下部Zステージ60)のプレス荷重重心位置とを、常に同一軸上に保つことができる(図22参照)。これにより、コンタクト荷重を大きくしても、上部Zステージ40Aの倒れを防止することができる。 As described above, according to the inspection device 1D of the fourth embodiment, not only when the probe 4 is in contact with the center of the carrier C, but also when it is in contact with the outer periphery of the carrier C, the center of gravity of the press load of the probe card 3 and the center of gravity of the press load of the Z drive mechanism 62 (lower Z stage 60) can always be kept on the same axis (see FIG. 22). This makes it possible to prevent the upper Z stage 40A from falling over even if the contact load is increased.

また、リニアガイド31Aのスライダが上部Zステージ40A上面に設けられ、下部Zステージ60の中心軸からX軸方向に対称に配置されていることにより、上部Zステージ40Aを押し上げた際、Xステージ30Aの倒れを防止することができる。 In addition, the slider of the linear guide 31A is provided on the top surface of the upper Z stage 40A and is arranged symmetrically in the X-axis direction from the central axis of the lower Z stage 60, which makes it possible to prevent the X stage 30A from falling over when the upper Z stage 40A is pushed up.

また、第4実施形態に係る検査装置1Dによれば、針研板51の倒れを防止することができる。また、1つのZ駆動機構62でチャック42を支持する上部Zステージ40A、針研板51を支持する上部Zステージ40Bを昇降させることができるので、個別に駆動機構を設けることなく、検査装置1Dのコストを低減することができる。 In addition, the inspection device 1D according to the fourth embodiment can prevent the needle grinding plate 51 from falling over. In addition, the upper Z stage 40A supporting the chuck 42 and the upper Z stage 40B supporting the needle grinding plate 51 can be raised and lowered by a single Z drive mechanism 62, so the cost of the inspection device 1D can be reduced without providing separate drive mechanisms.

以上、検査装置1,1A~1Dについて説明したが、本開示は上記実施形態等に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された本開示の要旨の範囲内において、種々の変形、改良が可能である。 The inspection devices 1, 1A to 1D have been described above, but the present disclosure is not limited to the above embodiments, and various modifications and improvements are possible within the scope of the gist of the present disclosure as described in the claims.

1 検査装置
2 プローブ室
3 プローブカード
4 プローブ
10 ステージベース
15 開口部
20 Yステージ
21 リニアガイド
22 Y駆動機構
23 検出部
25 開口部
30 Xステージ
31 リニアガイド
32 X駆動機構
33 検出部
35,36 ガイド
40 上部Zステージ(上部モジュール)
42 チャック(載置部)
50 針研板支持ステージ
51 針研板
60 下部Zステージ
61 ガイド
62 Z駆動機構
63 検出部
64 ロードセル
71~73 可動連結機構
74 可動機構
75 可動連結機構
80 制御装置
C キャリア(被検査体)
REFERENCE SIGNS LIST 1 Inspection device 2 Probe chamber 3 Probe card 4 Probe 10 Stage base 15 Opening 20 Y stage 21 Linear guide 22 Y drive mechanism 23 Detector 25 Opening 30 X stage 31 Linear guide 32 X drive mechanism 33 Detector 35, 36 Guide 40 Upper Z stage (upper module)
42 chuck (mounting part)
50 Needle grinding plate support stage 51 Needle grinding plate 60 Lower Z stage 61 Guide 62 Z drive mechanism 63 Detector 64 Load cells 71 to 73 Movable connecting mechanism 74 Movable mechanism 75 Movable connecting mechanism 80 Control device C Carrier (test object)

Claims (6)

被検査体と当接するプローブを有するプローブカードと、
前記被検査体を載置する載置部を有する上部モジュールと、
前記上部モジュールを昇降可能に支持するとともに、前記上部モジュールを水平方向に移動可能な移動機構と、
前記移動機構の下に設けられ、前記上部モジュールを前記プローブカードに向けて押し上げ可能な昇降機構と、を備え、
前記昇降機構が前記上部モジュールを押し上げる際の押力の作用点と、前記プローブカードが受ける荷重の作用点との軸が共通する位置に配置され
前記移動機構は、
ベースプレートに対し、第1方向に移動可能な第1ステージと、
前記上部モジュールに対し、前記第1方向とは異なる第2方向に移動可能な第2ステージと、を有し、
前記上部モジュールは、前記第1ステージに昇降可能に支持され、
前記第1ステージは、開口部を有する、
検査装置。
a probe card having a probe that comes into contact with the test object;
an upper module having a placement portion on which the test object is placed;
a movement mechanism that supports the upper module so as to be able to rise and fall and that is able to move the upper module in a horizontal direction;
a lifting mechanism provided below the moving mechanism and capable of lifting up the upper module toward the probe card;
a pressing force applied to the upper module by the lifting mechanism and a load applied to the probe card are disposed at a common axis ;
The moving mechanism includes:
a first stage movable in a first direction relative to a base plate;
a second stage movable relative to the upper module in a second direction different from the first direction;
the upper module is supported on the first stage so as to be capable of ascending and descending;
the first stage having an opening;
Inspection equipment.
前記上部モジュールと前記昇降機構とを着脱自在に連結する連結機構を更に備える、
請求項1に記載の検査装置。
Further comprising a connecting mechanism for detachably connecting the upper module and the lifting mechanism.
2. The inspection device according to claim 1.
前記連結機構は、磁気吸着により連結する、
請求項2に記載の検査装置。
The connecting mechanism connects by magnetic attraction.
3. The inspection device according to claim 2.
前記連結機構は、真空吸着により連結する、
請求項2に記載の検査装置。
The connecting mechanism connects by vacuum suction.
3. The inspection device according to claim 2.
針研板を支持する針研板支持ステージを更に備え、
前記移動機構は、前記上部モジュールとは独立して前記針研板支持ステージを昇降可能に支持し、
前記昇降機構は、前記針研板支持ステージを前記プローブカードに向けて押す、
請求項1乃至請求項のいずれか1項に記載の検査装置。
Further provided with a needle grinding plate support stage for supporting the needle grinding plate,
the moving mechanism supports the needle grinding plate support stage so as to be capable of ascending and descending independently of the upper module;
The lifting mechanism pushes the needle grinding plate support stage toward the probe card.
The inspection device according to any one of claims 1 to 4 .
被検査体と当接するプローブを有するプローブカードと、
前記被検査体を載置する載置部を有する上部モジュールと、
前記上部モジュールを昇降可能に支持するとともに、前記上部モジュールを水平方向に移動可能な移動機構と、
前記移動機構の下に設けられ、前記上部モジュールを前記プローブカードに向けて押し上げ可能な昇降機構と、を備え
前記移動機構は、
ベースプレートに対し、第1方向に移動可能な第1ステージと、
前記上部モジュールに対し、前記第1方向とは異なる第2方向に移動可能な第2ステージと、を有し、
前記上部モジュールは、前記第1ステージに昇降可能に支持され、
前記第1ステージは、開口部を有する、検査装置の検査方法であって
前記移動機構を制御して、前記被検査体を移動させるステップと、
前記昇降機構を制御して、前記被検査体を前記プローブに接触させ、前記昇降機構が前記上部モジュールを押し上げる際の押力の作用点と、前記プローブカードが受ける荷重の作用点とが、同軸上に配置されるステップと、を有する、
検査装置の検査方法。
a probe card having a probe that comes into contact with the test object;
an upper module having a placement portion on which the test object is placed;
a movement mechanism that supports the upper module so as to be able to rise and fall and that is able to move the upper module in a horizontal direction;
a lifting mechanism provided below the moving mechanism and capable of lifting up the upper module toward the probe card ;
The moving mechanism includes:
a first stage movable in a first direction relative to a base plate;
a second stage movable relative to the upper module in a second direction different from the first direction;
the upper module is supported on the first stage so as to be capable of ascending and descending;
1. A method for inspecting an inspection apparatus, the method comprising :
controlling the moving mechanism to move the object under test;
and controlling the lifting mechanism to bring the device under test into contact with the probes, so that a point of application of a pressing force applied when the lifting mechanism lifts up the upper module and a point of application of a load applied to the probe card are coaxially arranged.
Inspection method for inspection equipment.
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