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JP7614004B2 - Manufacturing method of electronic components and functional film forming device for electronic components - Google Patents
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JP7614004B2 - Manufacturing method of electronic components and functional film forming device for electronic components - Google Patents

Manufacturing method of electronic components and functional film forming device for electronic components Download PDF

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Description

本発明は、たとえば積層セラミックコンデンサなどの電子部品を製造する方法、および電子部品の機能膜形成装置に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing electronic components, such as multilayer ceramic capacitors, and a functional film forming device for electronic components.

たとえば特許文献1に示す積層セラミックコンデンサなどの電子部品では、電子部品の小型化を図りつつ内部電極層の面積を大きくするために、内部電極層の側部が露出する素子本体の側面に誘電体から成るサイドギャップ絶縁層を形成している。 For example, in electronic components such as the multilayer ceramic capacitor shown in Patent Document 1, in order to increase the area of the internal electrode layers while miniaturizing the electronic components, a side gap insulating layer made of a dielectric is formed on the side of the element body where the side of the internal electrode layer is exposed.

しかしながら、従来の製造方法では、サイドギャップ絶縁層は、たとえば塗布法により形成され、素子本体と同時に焼成することで形成される。そのため、従来の方法では、サイドギャップ絶縁層の厚みの制御が困難であると共に、サイドギャップ絶縁層の形成範囲の制御が困難であるという課題を有している。 However, in conventional manufacturing methods, the side gap insulating layer is formed, for example, by a coating method and then fired simultaneously with the element body. Therefore, conventional methods have the problem that it is difficult to control the thickness of the side gap insulating layer and the range in which the side gap insulating layer is formed.

近年では、電子部品の小型化が進み、サイドギャップ絶縁層の厚みも薄くて均一な膜であることが期待される。しかしながら、塗布法によりサイドギャップ絶縁層を均一な厚みで薄く形成することが困難であるという課題を有している。また、電子部品の小型化と共に、必要な箇所のみに絶縁層などの機能膜を形成したいという要請も高まっている。 In recent years, electronic components have become smaller, and it is expected that the side gap insulation layer will also be a thin, uniform film. However, there is a problem in that it is difficult to form a thin, uniform side gap insulation layer using a coating method. In addition, as electronic components become smaller, there is also a growing demand to form functional films such as insulation layers only in necessary locations.

特開昭62-237714号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 62-237714

本発明は、このような実状に鑑みてなされ、その目的は、電子部品が小型化しても必要な箇所に特定厚みの機能膜を容易に形成することができる電子部品の製造方法と、その製造方法に適した電子部品の機能膜形成装置を提供することである。 The present invention was made in consideration of the above-mentioned circumstances, and its purpose is to provide a method for manufacturing electronic components that can easily form a functional film of a specific thickness in a required location even when the electronic components are miniaturized, and a functional film forming device for electronic components that is suitable for this manufacturing method.

上記目的を達成するために、本発明に係る電子部品の製造方法は、
複数の外面を持つ素子本体を有する電子部品を製造する方法であって、
転写層が表面に離脱可能に装着してある転動部材の表面で、前記素子本体の外面が次々に接触するように転がして、前記転写層を前記素子本体の外面に連続的または断続的に付着させる工程(転がし転写法)を有する。
In order to achieve the above object, a method for manufacturing an electronic component according to the present invention includes:
1. A method for manufacturing an electronic component having a device body with a plurality of exterior surfaces, comprising:
The method includes a step (rolling transfer method) of rolling the outer surface of the element body so that the outer surface of the element body is successively brought into contact with the surface of a rolling member having a transfer layer removably attached to its surface, thereby adhering the transfer layer to the outer surface of the element body continuously or intermittently.

本発明に係る電子部品の製造方法によれば、たとえば一定の特性および/または一定の厚みの転写層の上で、素子本体の側面(外面)が次々に連続して接触するように転がすことで、きわめて容易に、効率よく、所望の面に対して絶縁層を形成できる。 According to the method for manufacturing electronic components of the present invention, for example, by rolling the side (outer surface) of the element body on a transfer layer of constant characteristics and/or constant thickness so that the sides come into continuous contact with each other, an insulating layer can be formed on the desired surface very easily and efficiently.

好ましくは、前記転動部材は、離脱可能に装着してある前記転写層を表面に有する第1転動部材と、
前記素子本体を挟んで前記第1転動部材の反対側に位置して前記素子本体に接触する表面を有する第2転動部材と、を有し、
前記第1転動部材に対して、相互間距離を変動可能で前記第2転動部材を略平行に位置ズレするように相対移動させることで、前記素子本体を、前記第1転動部材および前記第2転動部材の双方の表面に接触させながら、前記第1転動部材の表面で転がす。このように構成することで、確実、かつ効率的に、素体本体を(90度ずつ)転動させることができる。
Preferably, the rolling member includes a first rolling member having the transfer layer on a surface thereof and being removably attached to the first rolling member;
a second rolling member located on the opposite side of the element body from the first rolling member and having a surface that contacts the element body;
The second rolling member is moved relative to the first rolling member so that the distance between them can be changed and the second rolling member is displaced substantially parallel to the first rolling member, so that the element body is rolled on the surface of the first rolling member while being in contact with the surfaces of both the first rolling member and the second rolling member. With this configuration, the element body can be rolled (90 degrees at a time) reliably and efficiently.

また、本発明に係る電子部品の機能膜形成装置は、
電子部品のための素子本体の複数の外面に機能膜を形成するための電子部品の機能膜形成装置であって、
前記機能膜となる転写層が表面に離脱可能に装着してある第1転動部材と、
前記素子本体を挟んで前記第1転動部材の反対側に位置して前記素子本体に接触する表面を有する第2転動部材と、
前記素子本体を、前記第1転動部材および前記第2転動部材の間に挟んで、前記第1転動部材の表面で転がすために、前記第1転動部材に対して、相互間距離が変動可能で前記第2転動部材を略平行に位置ズレするように相対移動させる駆動機構と、を有する。
In addition, the functional film forming apparatus for electronic components according to the present invention includes:
A functional film forming apparatus for electronic components for forming functional films on a plurality of outer surfaces of an element body for an electronic component, comprising:
A first rolling member having a transfer layer that becomes the functional film removably attached to a surface thereof;
a second rolling member located on the opposite side of the element body from the first rolling member and having a surface that contacts the element body;
The element body is sandwiched between the first rolling member and the second rolling member, and in order to roll on the surface of the first rolling member, the element body has a drive mechanism that moves the second rolling member relative to the first rolling member so that the distance between them is variable and the second rolling member is displaced approximately parallel to the first rolling member.

前記第2転動部材の表面は、脱離自在に粘着層を有していてもよい。あるいは、前記転写層の表面は、前記素子本体の外面に粘着可能な粘着層を有してもよい。このように構成することで、素体本体と転写層との密着性を向上させることができる。また、前記転写層は、前記素子本体の外面に粘着可能な粘着性を有してもよい。このように構成することで、転写層の上に粘着層を付与する必要が無くなるので、製造工程が簡便となる。 The surface of the second rolling member may have a removable adhesive layer. Alternatively, the surface of the transfer layer may have an adhesive layer that can adhere to the outer surface of the element body. This configuration can improve adhesion between the element body and the transfer layer. The transfer layer may also have an adhesive property that allows it to adhere to the outer surface of the element body. This configuration eliminates the need to apply an adhesive layer on the transfer layer, simplifying the manufacturing process.

前記素子本体は、焼成された後に、前記転動部材の表面で転がされてもよい。このように構成することで、低融点の絶縁層でも焼付けることが可能になる。 After the element body is fired, it may be rolled on the surface of the rolling member. This configuration makes it possible to fire even an insulating layer with a low melting point.

また、前記素子本体は、焼成される前に、前記転動部材の表面で転がされ、前記転写層が前記素子本体の外面に転写された後に、前記素子本体は前記転写層と共に焼成されてもよい。このように構成することで、素体本体と絶縁層とが高温で同時焼成されるので、密着性が向上する。 Also, the element body may be rolled on the surface of the rolling member before being fired, and after the transfer layer is transferred to the outer surface of the element body, the element body may be fired together with the transfer layer. By configuring in this way, the element body and the insulating layer are fired simultaneously at high temperature, improving adhesion.

好ましくは、前記転写層は、前記転動部材の表面に、断続的に離脱可能に装着してあり、前記転写層は、前記素子本体の複数の外面に断続的に転写される。このように構成することで、必要な面に対して、簡便に絶縁層を形成することができる。 Preferably, the transfer layer is intermittently and removably attached to the surface of the rolling member, and the transfer layer is intermittently transferred to multiple outer surfaces of the element body. By configuring in this way, an insulating layer can be easily formed on the required surfaces.

好ましくは、前記素子本体の外面は、周方向に沿って連続する側面と、複数の前記側面に交差する端面とを有し、
前記転写層は、前記素子本体の周方向に沿って連続する全ての外面を覆うように、前記転動部材の表面で素子本体を転がしてもよい。このように構成することで、絶縁層の境界域が無くなり、絶縁層の厚みばらつきも小さくなるので、水分が内部電極に入りにくくなり、信頼性を向上できる。
Preferably, the outer surface of the element body has a side surface that is continuous along a circumferential direction and an end surface that intersects with a plurality of the side surfaces,
The transfer layer may be formed by rolling the element body on the surface of the rolling member so as to cover the entire outer surface of the element body that is continuous along the circumferential direction. By configuring in this manner, the boundary area of the insulating layer is eliminated and the thickness variation of the insulating layer is also reduced, so that moisture is less likely to enter the internal electrodes, thereby improving reliability.

前記転動部材の表面に装着してある前記転写層には、切り込みが形成してあってもよい。また、前記素子本体の外面に前記転写層が前記切り込みを始点として転写されてもよい。このように構成することで、転写層を第1転写部材から切り離し、素子本体に容易に巻き付けることができる。 The transfer layer attached to the surface of the rolling member may have a notch formed therein. The transfer layer may also be transferred to the outer surface of the element body starting from the notch. With this configuration, the transfer layer can be separated from the first transfer member and easily wrapped around the element body.

前記転写層が転写された前記素体本体を、前記転写層の上から前記転動部材に押し付けることで、前記素体本体に転写されている前記転写層を、前記転動部材の表面に装着してある前記転写層から切り離してもよい。このように構成することで、転写層を切断することが容易になる。 The transfer layer transferred to the base body may be separated from the transfer layer attached to the surface of the rolling member by pressing the base body to which the transfer layer has been transferred onto the rolling member from above the transfer layer. This configuration makes it easier to cut the transfer layer.

前記転写層は、前記転動部材の表面に、断続的に離脱可能に装着してあってもよい。前記転写層は、前記素子本体の複数の外面に断続的に転写されてもよい。 The transfer layer may be intermittently and removably attached to the surface of the rolling member. The transfer layer may be intermittently transferred to a plurality of outer surfaces of the element body.

本発明の方法は、前記転動部材の表面、または前記転動部材とは異なる別の転動部材の表面で、前記素子本体を転がす際に、いずれかの前記転動部材の表面に形成してある清掃面に前記素子本体の外面を接触させて前記素子本体の外面をクリーニングする工程を、さらに有していてもよい。このように構成することで、不純物を除去できるので、信頼性が向上する。 The method of the present invention may further include a step of cleaning the outer surface of the element body by contacting the outer surface of the element body with a cleaning surface formed on the surface of one of the rolling members when rolling the element body on the surface of the rolling member or on the surface of another rolling member different from the rolling member. By configuring in this way, impurities can be removed, improving reliability.

前記転写層は、ガラスシートまたは誘電体シートであることが好ましい。転写層がガラスシートである場合には、低温で焼付けすることができる。また、転写層が誘電体シートである場合には、素体本体と同時に焼成して密着性を向上することができる。 The transfer layer is preferably a glass sheet or a dielectric sheet. If the transfer layer is a glass sheet, it can be fired at a low temperature. If the transfer layer is a dielectric sheet, it can be fired simultaneously with the body of the element to improve adhesion.

前記転写層は、前記素子本体の周方向に沿って連続する全ての側面を覆ってもよい。このように構成することで、素子本体の側面の全周にわたり、転写層から成る絶縁層と素子本体との界面への侵入経路を塞ぐことができるので、電子部品の耐湿性および信頼性がさらに向上する。 The transfer layer may cover all of the side surfaces of the element body that are continuous along the circumferential direction. This configuration can block the intrusion path to the interface between the insulating layer made of the transfer layer and the element body over the entire periphery of the side surfaces of the element body, further improving the moisture resistance and reliability of the electronic component.

なお、前記転写層が熱処理されて形成される絶縁層は、前記素子本体の周方向に沿って連続する全ての側面を完全には覆わなくとも、前記素子本体の全ての側面の内の一つの側面では、前記絶縁層に隙間があってもよい。すなわち、素子本体の全ての側面の内の一つの側面では、素子本体の角部から遠い側面の中央付近に、周方向と垂直な方向に沿って絶縁層の端縁が位置しており、その端縁同士の隙間から、素子本体の側面の一部が露出していてもよい。 The insulating layer formed by heat-treating the transfer layer does not have to completely cover all of the side surfaces that are continuous along the circumferential direction of the element body, and there may be a gap in the insulating layer on one of the side surfaces of the element body. In other words, on one of the side surfaces of the element body, the edge of the insulating layer is located along a direction perpendicular to the circumferential direction near the center of the side surface far from the corner of the element body, and a part of the side surface of the element body may be exposed from the gap between the edges.

本発明の方法では、転写層が熱処理されて形成される絶縁層の組成は、前記周方向に沿って略均一にすることができる。絶縁層の組成が均一であることで、耐湿性も周方向に沿って均一であり、耐湿性を低下させる起点が減少し、電子部品の信頼性が向上する。また、均一に焼付、焼成できるので、電子部品に働く応力を均一に分散できる。なお、転がし転写法により絶縁層を形成することで、周方向に沿って略均一な組成の絶縁層を形成しやすい。 In the method of the present invention, the composition of the insulating layer formed by heat-treating the transfer layer can be made approximately uniform along the circumferential direction. With a uniform composition of the insulating layer, the moisture resistance is also uniform along the circumferential direction, reducing the number of starting points that reduce moisture resistance, improving the reliability of the electronic components. In addition, since the insulating layer can be baked and fired uniformly, the stress acting on the electronic components can be uniformly distributed. Furthermore, by forming the insulating layer using the rolling transfer method, it is easy to form an insulating layer with approximately uniform composition along the circumferential direction.

素子本体の角部での絶縁層の厚さは、前記角部を挟む前記素子本体の2つの側面のうち少なくとも一方の側面での前記絶縁層の厚さと、実質的に同じにすることもできる。特に、素子本体の角部において、絶縁層の厚みを、他の部分と同じにすることで、電子部品の耐湿性が向上し、信頼性も向上する。絶縁層は、転がし転写法により形成することができるため、素子本体の角部においても、絶縁層の厚さは、他の部分に比較して実質的に均一となりやすい。 The thickness of the insulating layer at the corner of the element body can be substantially the same as the thickness of the insulating layer at at least one of the two side surfaces of the element body that sandwich the corner. In particular, by making the thickness of the insulating layer at the corner of the element body the same as other parts, the moisture resistance of the electronic component is improved and the reliability is also improved. Since the insulating layer can be formed by the rolling transfer method, the thickness of the insulating layer at the corner of the element body is likely to be substantially uniform compared to other parts.

前記素子本体は、前記セラミック層と内部電極層とが積層してある積層構造を有していてもよい。また、前記素子本体の前記側面に交差する端面には、前記内部電極層の露出端部に接続する端子電極が形成してあってもよい。さらに、好ましくは、前記端子電極の端縁は、前記絶縁層の端部を覆っている。このように構成することで、さらに湿気が素子本体の内部に入り込み難くなり、電子部品の耐湿性が向上すると共に、信頼性も向上する。 The element body may have a laminated structure in which the ceramic layer and the internal electrode layer are laminated. Furthermore, a terminal electrode may be formed on an end face of the element body that intersects with the side face, and the terminal electrode connects to an exposed end of the internal electrode layer. Furthermore, preferably, the edge of the terminal electrode covers the end of the insulating layer. This configuration makes it even more difficult for moisture to penetrate into the element body, improving the moisture resistance of the electronic component and improving its reliability.

図1は、本発明の実施形態に係る積層セラミックコンデンサの概略断面図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a multilayer ceramic capacitor according to an embodiment of the present invention. 図2Aは、図1に示すIIA‐IIA線に沿う断面図である。FIG. 2A is a cross-sectional view taken along line IIA-IIA shown in FIG. 図2Aaは、図2Aに示す断面図の一部拡大図である。FIG. 2Aa is a partially enlarged view of the cross-sectional view shown in FIG. 2A. 図2Abは、図2Aaに示す一部拡大図の変形例である。FIG. 2Ab is a modified example of the partially enlarged view shown in FIG. 2Aa. 図2Bは、図1に示すIIB‐IIB線に沿う断面図である。FIG. 2B is a cross-sectional view taken along line IIB-IIB shown in FIG. 図3Aは、本発明の他の実施形態に係る積層セラミックコンデンサの断面図である。FIG. 3A is a cross-sectional view of a multilayer ceramic capacitor according to another embodiment of the present invention. 図3Bは、本発明のさらに他の実施形態に係る積層セラミックコンデンサの断面図である。FIG. 3B is a cross-sectional view of a multilayer ceramic capacitor according to still another embodiment of the present invention. 図3Cは、本発明のさらに他の実施形態に係る積層セラミックコンデンサの断面図である。FIG. 3C is a cross-sectional view of a multilayer ceramic capacitor according to still another embodiment of the present invention. 図4Aは、図1に示す積層セラミックコンデンサの製造過程におけるグリーンシートの積層工程を示すX軸およびZ軸に平行な概略断面図である。FIG. 4A is a schematic cross-sectional view parallel to the X-axis and Z-axis, showing a lamination step of green sheets in the process of manufacturing the multilayer ceramic capacitor shown in FIG. 図4Bは、図4Aに示すグリーンシートの積層工程を示すY軸およびZ軸に平行な概略断面図である。FIG. 4B is a schematic cross-sectional view parallel to the Y-axis and Z-axis showing a lamination process of the green sheets shown in FIG. 4A. 図5Aは、図4Aおよび図4Bに示す積層工程後の切断工程後の積層体の概略斜視図である。FIG. 5A is a schematic perspective view of the laminate after the cutting step following the lamination step shown in FIGS. 4A and 4B. 図5Bは、本発明の他の実施形態に係る積層セラミックコンデンサの製造過程に係る切断工程後の積層体の概略斜視図である。FIG. 5B is a schematic perspective view of a laminate after a cutting step in the manufacturing process of a multilayer ceramic capacitor according to another embodiment of the present invention. 図6Aは、本発明の積層セラミックコンデンサの製造過程を示す概略斜視図である。FIG. 6A is a schematic perspective view showing a manufacturing process of the multilayer ceramic capacitor of the present invention. 図6Bは、図6Aに示す工程の続きを示す概略斜視図である。FIG. 6B is a schematic perspective view showing a continuation of the step shown in FIG. 6A. 図6Cは、図6Bに示す工程の続きを示す概略斜視図である。FIG. 6C is a schematic perspective view showing a continuation of the step shown in FIG. 6B. 図6Dは、図6Cに示す工程の続きを示す概略斜視図である。FIG. 6D is a schematic perspective view showing a continuation of the step shown in FIG. 6C. 図6Eは、図6Dに示す工程の続きを示す概略斜視図である。FIG. 6E is a schematic perspective view showing a continuation of the step shown in FIG. 6D. 図6Fは、図6Eに示す工程の続きを示す概略斜視図である。FIG. 6F is a schematic perspective view showing a continuation of the step shown in FIG. 6E. 図6Gは、図6Fに示す工程の続きを示す概略斜視図である。FIG. 6G is a schematic perspective view showing a continuation of the step shown in FIG. 6F. 図6Hは、図6Gに示す工程後にシートから切り離した積層体の概略斜視図である。FIG. 6H is a schematic perspective view of the laminate separated from the sheet after the step shown in FIG. 6G. 図7Aは、本発明の変形例に係る積層セラミックコンデンサの製造過程を示す概略斜視図である。FIG. 7A is a schematic perspective view showing a manufacturing process of a multilayer ceramic capacitor according to a modified example of the present invention. 図7Bは、図7Aに示す工程の続きを示す概略斜視図である。FIG. 7B is a schematic perspective view showing a continuation of the step shown in FIG. 7A. 図7Cは、図7Bに示す工程の続きを示す概略斜視図である。FIG. 7C is a schematic perspective view showing a continuation of the step shown in FIG. 7B. 図7Dは、図7Cに示す工程の続きを示す概略斜視図である。FIG. 7D is a schematic perspective view showing a continuation of the step shown in FIG. 7C. 図7Eは、図7Dに示す工程の続きを示す概略斜視図である。FIG. 7E is a schematic perspective view showing a continuation of the step shown in FIG. 7D. 図7Fは、図7Eに示す工程の続きを示す概略斜視図である。FIG. 7F is a schematic perspective view showing a continuation of the step shown in FIG. 7E. 図8Aは、本発明の他の変形例に係る積層セラミックコンデンサの製造過程を示す概略斜視図である。FIG. 8A is a schematic perspective view showing a manufacturing process of a multilayer ceramic capacitor according to another modified example of the present invention. 図8Bは、図8Aに示す工程の続きを示す概略斜視図である。FIG. 8B is a schematic perspective view showing a continuation of the step shown in FIG. 8A. 図8Cは、図8Bに示す工程の続きを示す概略斜視図である。FIG. 8C is a schematic perspective view showing a continuation of the step shown in FIG. 8B. 図8Dは、図8Cに示す工程の続きを示す概略斜視図である。FIG. 8D is a schematic perspective view showing a continuation of the step shown in FIG. 8C. 図8Eは、図8Dに示す工程の続きを示す概略斜視図である。FIG. 8E is a schematic perspective view showing a continuation of the step shown in FIG. 8D. 図8Fは、図8Eに示す工程の続きを示す概略斜視図である。FIG. 8F is a schematic perspective view showing a continuation of the step shown in FIG. 8E. 図8Gは、図8Fに示す工程後にシートから切り離した積層体の概略斜視図である。FIG. 8G is a schematic perspective view of the laminate separated from the sheet after the step shown in FIG. 8F. 図9Aは、積層体の表面をクリーニングする工程を示す概略斜視図である。FIG. 9A is a schematic perspective view showing a step of cleaning the surface of the laminate. 図9Bは、図9Aに示す工程の続きを示す概略斜視図である。FIG. 9B is a schematic perspective view showing a continuation of the step shown in FIG. 9A. 図10Aは、本発明のさらに他の実施形態に係る積層セラミックコンデンサの製造過程を示す概略斜視図である。FIG. 10A is a schematic perspective view showing a manufacturing process of a multilayer ceramic capacitor in accordance with still another embodiment of the present invention. 図10Bは、図10Aに示す工程の続きを示す概略斜視図である。FIG. 10B is a schematic perspective view showing a continuation of the step shown in FIG. 10A. 図10Cは、図10Bに示す工程の続きを示す概略斜視図である。FIG. 10C is a schematic perspective view showing a continuation of the step shown in FIG. 10B. 図10Dは、図10Cに示す工程の続きを示す概略斜視図である。FIG. 10D is a schematic perspective view showing a continuation of the step shown in FIG. 10C. 図10Eは、図10Dに示す工程の続きを示す概略斜視図である。FIG. 10E is a schematic perspective view showing a continuation of the step shown in FIG. 10D. 図10Fは、図10Eに示す工程の続きを示す概略斜視図である。FIG. 10F is a schematic perspective view showing a continuation of the step shown in FIG. 10E. 図10Gは、図10Fに示す工程後にシートから切り離した積層体の概略斜視図である。FIG. 10G is a schematic perspective view of the laminate separated from the sheet after the step shown in FIG. 10F.

以下、本発明を、図面に示す実施形態に基づき説明する。 The present invention will now be described with reference to the embodiments shown in the drawings.

第1実施形態
(積層セラミックコンデンサの全体構成)
本実施形態に係る電子部品の製造方法を説明する前に、積層セラミックコンデンサの全体構成について説明する。
First embodiment (overall configuration of multilayer ceramic capacitor)
Before describing the method for manufacturing an electronic component according to this embodiment, the overall configuration of a multilayer ceramic capacitor will be described.

図1に示すように、本実施形態に係る積層セラミックコンデンサ2は、セラミック焼結体から成る積層体(素子本体)4と、第1端子電極6と、第2端子電極8とを有する。 As shown in FIG. 1, the multilayer ceramic capacitor 2 according to this embodiment has a laminate (element body) 4 made of a ceramic sintered body, a first terminal electrode 6, and a second terminal electrode 8.

図1に示すように、積層体4は、X軸およびY軸を含む平面に実質的に平行な内側誘電体層(セラミック層)10と内部電極層12とを有し、内側誘電体層10の間に内部電極層12がZ軸の方向に沿って交互に積層してある。ここで、「実質的に平行」とは、ほとんどの部分が平行であるが、多少平行でない部分を有していてもよいことを意味し、内部電極層12と内側誘電体層10は、多少、凹凸があったり、傾いていたりしてもよいという趣旨である。なお、図において、X軸、Y軸およびZ軸は、相互に略垂直である。 As shown in FIG. 1, the laminate 4 has inner dielectric layers (ceramic layers) 10 and internal electrode layers 12 that are substantially parallel to a plane including the X-axis and Y-axis, and the internal electrode layers 12 are alternately stacked between the inner dielectric layers 10 along the direction of the Z-axis. Here, "substantially parallel" means that most of the portions are parallel, but there may be some portions that are not parallel, and the internal electrode layers 12 and the inner dielectric layers 10 may be somewhat uneven or tilted. In the figure, the X-axis, Y-axis, and Z-axis are approximately perpendicular to each other.

内側誘電体層10と内部電極層12とが交互に積層される部分が内装領域13である。また、積層体4は、その積層方向Z(Z軸)の両端面に、外装領域11を有する。外装領域11は、外側誘電体層を単数または複数積層して形成してある。なお、以下では、「内側誘電体層10」および「外側誘電体層」をまとめて、「誘電体層(セラミック層)」と記載する場合がある。 The portion where the inner dielectric layers 10 and the internal electrode layers 12 are alternately stacked is the interior region 13. The laminate 4 also has exterior regions 11 on both end faces in the stacking direction Z (Z-axis). The exterior region 11 is formed by stacking one or more outer dielectric layers. In the following, the "inner dielectric layer 10" and the "outer dielectric layer" may be collectively referred to as the "dielectric layer (ceramic layer)".

内側誘電体層10および外装領域11を構成する誘電体層の材質は、同じでも異なっていてもよく、特に限定されず、たとえば、ABOなどのペロブスカイト構造の誘電体材料やニオブ酸アルカリ系セラミックを主成分として構成される。ABOにおいて、Aは、たとえばCa、Ba、Sr、などの少なくとも一種、Bは、Ti、Zrなどの少なくとも一種である。A/Bのモル比は、特に限定されず0.980~1.020である。 The materials of the dielectric layers constituting the inner dielectric layer 10 and the exterior region 11 may be the same or different and are not particularly limited, and may be composed mainly of, for example, a dielectric material with a perovskite structure such as ABO3 or an alkali niobate ceramic. In ABO3 , A is, for example, at least one of Ca, Ba, Sr, etc., and B is at least one of Ti, Zr, etc. The molar ratio of A/B is not particularly limited and is 0.980 to 1.020.

内側誘電体層10および外側誘電体層の積層数は、用途等に応じて適宜決定すればよい。図2Aに示す内側誘電体層10の厚みtdは、たとえば0.1μm~40μmである。内側誘電体層10の厚みtdと内部電極層12の厚みteの比は、特に限定されないが、td/teが2~0.5であることが好ましい。また、外装領域11の厚みt0(図1参照)と素子3の高さH0(図2A参照)の比は、特に限定されないが、t0/H0が0.01~0.1であることが好ましい。 The number of layers of the inner dielectric layer 10 and the outer dielectric layer may be appropriately determined depending on the application, etc. The thickness td of the inner dielectric layer 10 shown in FIG. 2A is, for example, 0.1 μm to 40 μm. The ratio of the thickness td of the inner dielectric layer 10 to the thickness te of the internal electrode layer 12 is not particularly limited, but it is preferable that td/te is 2 to 0.5. In addition, the ratio of the thickness t0 of the exterior region 11 (see FIG. 1) to the height H0 of the element 3 (see FIG. 2A) is not particularly limited, but it is preferable that t0/H0 is 0.01 to 0.1.

素子3の形状やサイズは、目的や用途に応じて適宜決定すればよいが、X軸方向の幅W0は0.1mm~3.2mm、Y軸方向の長さL0は0.2mm~3.2mm、Z軸方向の高さH0は0.1mm~3.2mmであることが好ましい。なお、素子3に第1端子電極6および第2端子電極8を含めた積層セラミックコンデンサ2も、この範囲であることが好ましい。 The shape and size of the element 3 may be determined appropriately depending on the purpose and application, but it is preferable that the width W0 in the X-axis direction is 0.1 mm to 3.2 mm, the length L0 in the Y-axis direction is 0.2 mm to 3.2 mm, and the height H0 in the Z-axis direction is 0.1 mm to 3.2 mm. It is preferable that the multilayer ceramic capacitor 2 including the element 3, the first terminal electrode 6, and the second terminal electrode 8, is also within these ranges.

図1に示すように、交互に積層される一方の内部電極層12は、積層体4のY軸方向の一方の端面5eに形成してある第1端子電極6の内側に対して電気的に接続してある引出部12αを有する。また、交互に積層される他方の内部電極層12は、積層体4のY軸方向の他方の端面5fに形成してある第2端子電極8の内側に対して電気的に接続してある引出部12βを有する。 As shown in FIG. 1, one of the alternately stacked internal electrode layers 12 has a lead portion 12α electrically connected to the inside of the first terminal electrode 6 formed on one end face 5e of the laminate 4 in the Y-axis direction. The other of the alternately stacked internal electrode layers 12 has a lead portion 12β electrically connected to the inside of the second terminal electrode 8 formed on the other end face 5f of the laminate 4 in the Y-axis direction.

内装領域13は、容量領域14と引出領域15A,15Bとを有する。容量領域14は、積層方向に沿って内部電極層12が内側誘電体層10を挟んで積層する領域である。引出領域15Aは、端子電極6に接続する内部電極層12の引出部12αの間に位置する領域である。引出領域15Bは、端子電極8に接続する内部電極層12の引出部12βの間に位置する領域である。 The interior region 13 has a capacitance region 14 and lead-out regions 15A and 15B. The capacitance region 14 is a region where the internal electrode layers 12 are stacked in the stacking direction with the inner dielectric layer 10 sandwiched between them. The lead-out region 15A is a region located between the lead-out portions 12α of the internal electrode layers 12 that connect to the terminal electrodes 6. The lead-out region 15B is a region located between the lead-out portions 12β of the internal electrode layers 12 that connect to the terminal electrodes 8.

内部電極層12に含有される導電材は特に限定されず、Ni、Cu、Ag、Pd、Al、Ptなどの金属、またはそれらの合金を用いることができる。Ni合金としては、Mn,Cr,CoおよびAlから選択される1種以上の元素とNiとの合金が好ましく、合金中のNi含有量は95重量%以上であることが好ましい。なお、NiまたはNi合金中には、P等の各種微量成分が0.1重量%程度以下含まれていてもよい。内部電極層12は、市販の電極用ペーストを使用して形成してもよく、内部電極層12の厚みは用途等に応じて適宜決定すればよい。 The conductive material contained in the internal electrode layer 12 is not particularly limited, and metals such as Ni, Cu, Ag, Pd, Al, Pt, etc., or alloys thereof can be used. As the Ni alloy, an alloy of Ni and one or more elements selected from Mn, Cr, Co, and Al is preferable, and the Ni content in the alloy is preferably 95% by weight or more. Note that Ni or the Ni alloy may contain various trace components such as P at about 0.1% by weight or less. The internal electrode layer 12 may be formed using a commercially available electrode paste, and the thickness of the internal electrode layer 12 may be appropriately determined depending on the application, etc.

本実施形態では、図2Aに示すように、素子本体としての積層体4の4つの側面5a~5dは、周方向に沿って連続する絶縁層16a~16dにより連続的に覆われている。すなわち、積層体4のZ軸に沿って両側に位置する側面5a,5cと、積層体4のX軸に沿って両側に位置する側面5b,5dとには、それぞれの側面5a~5dを覆うように絶縁層16a~16dが周方向に沿って各々連続して形成してある。なお、本明細書では、側面5a~5dを含め、積層体のY軸の回りを周方向または外周方向ということがある。 In this embodiment, as shown in FIG. 2A, the four side surfaces 5a to 5d of the laminate 4 as the element body are continuously covered with insulating layers 16a to 16d that are continuous along the circumferential direction. That is, the insulating layers 16a to 16d are continuously formed along the circumferential direction on the side surfaces 5a, 5c located on both sides along the Z axis of the laminate 4, and the side surfaces 5b, 5d located on both sides along the X axis of the laminate 4, so as to cover the respective side surfaces 5a to 5d. Note that in this specification, the direction around the Y axis of the laminate, including the side surfaces 5a to 5d, is sometimes referred to as the circumferential direction or outer periphery direction.

なお、本実施形態では、絶縁層16a~16dのそれぞれの構成は実質的に同一であり、以下では、説明の容易化のために、特に言及がない限り、絶縁層16aおよび絶縁層16bについて説明し、絶縁層16cおよび絶縁層16dについての説明は省略する。 In this embodiment, the insulating layers 16a to 16d are substantially identical in configuration. For ease of explanation, the following will only describe insulating layers 16a and 16b, and will omit a description of insulating layers 16c and 16d, unless otherwise specified.

図2Aaに示すように、積層体4のZ軸に沿って上側に位置する側面5aに形成されている絶縁層16aは、Z軸方向に実質的に均一な厚さtzを有している。ここで、厚さtzとは、X-Y平面に略平行な絶縁層16aの外周面16a1から積層体4の側面5aまでの最短距離をいう。また、積層体4のX軸に沿って片側に位置する側面5bに形成されている絶縁層16bは、X軸方向に実質的に均一な厚さtxを有している。ここで、厚さtxとは、Y-Z平面に略平行な絶縁層16bの外周面16b1から積層体4の側面5bまでの最短距離をいう。本実施形態では、厚さtxと厚さtzは実質的に同じである。 As shown in FIG. 2Aa, the insulating layer 16a formed on the side surface 5a located on the upper side along the Z axis of the laminate 4 has a substantially uniform thickness tz in the Z axis direction. Here, the thickness tz refers to the shortest distance from the outer peripheral surface 16a1 of the insulating layer 16a, which is approximately parallel to the X-Y plane, to the side surface 5a of the laminate 4. Also, the insulating layer 16b formed on the side surface 5b located on one side along the X axis of the laminate 4 has a substantially uniform thickness tx in the X axis direction. Here, the thickness tx refers to the shortest distance from the outer peripheral surface 16b1 of the insulating layer 16b, which is approximately parallel to the Y-Z plane, to the side surface 5b of the laminate 4. In this embodiment, the thickness tx and the thickness tz are substantially the same.

また、本実施形態では、側面5aと側面5bとが交差する側面同士の角部17には、所定の曲率半径のR部が形成してあることが好ましく、角部17での絶縁層16pの厚さtpは、厚さtxおよび厚さtzの少なくともいずれか一方、好ましくは双方と実質的に同じである。なお、本明細書では、絶縁層16a~16dには、角部17での絶縁層16pを含めた意味で用いることもある。 In addition, in this embodiment, it is preferable that a rounded portion with a predetermined radius of curvature is formed at the corner 17 where the side surface 5a and the side surface 5b intersect, and the thickness tp of the insulating layer 16p at the corner 17 is substantially the same as at least one of the thickness tx and the thickness tz, and preferably both. Note that in this specification, the insulating layers 16a to 16d are sometimes used to include the insulating layer 16p at the corner 17.

ここで、角部17とは、積層体4と絶縁層16a,16bとの界面が明確に分かる場合には、積層体4の側面5aと側面5bとが交差する側面同士の角部を意味する。また、積層体4と絶縁層16a,16bとの界面が明確に分からない場合には、絶縁層16aの外周面16a1と絶縁層16bの外周面16b1とが交差する外周面同士の角部を意味する。 Here, corner 17 means a corner where side 5a and side 5b of laminate 4 intersect when the interface between laminate 4 and insulating layers 16a and 16b is clearly visible. Also, when the interface between laminate 4 and insulating layers 16a and 16b is not clearly visible, corner 17 means a corner where outer peripheral surfaces 16a1 of insulating layer 16a intersect with outer peripheral surface 16b1 of insulating layer 16b.

たとえば絶縁層16aの外周面16a1の延長面が成すX-Y平面と、絶縁層16bの外周面16b1の延長線が成すY-Z平面との交線P0から最も近い絶縁層の外周面上の線P1を中心とする領域を角部と定義する。また、角部17での絶縁層の厚さtpは、P1から積層体4までの最短距離として定義される。 For example, a corner is defined as an area centered on a line P1 on the outer periphery of the insulating layer that is closest to the intersection line P0 between the X-Y plane formed by the extension of the outer periphery 16a1 of the insulating layer 16a and the Y-Z plane formed by the extension of the outer periphery 16b1 of the insulating layer 16b. In addition, the thickness tp of the insulating layer at the corner 17 is defined as the shortest distance from P1 to the laminate 4.

なお、「角部17での絶縁層の厚さtpが、厚さtxおよび厚さtzの少なくともいずれか一方、好ましくは双方と実質的に同じである」とは、たとえば以下のようにして判断する。 Note that "thickness tp of the insulating layer at corner portion 17 is substantially the same as at least one of thickness tx and thickness tz, and preferably both" is determined, for example, as follows.

角部17での絶縁層の厚さtpを、Y軸方向に異なる断面で10点以上測定し、その平均値tpmとバラツキσpmを求める。また、積層体4のX軸方向に沿った中央位置で、絶縁層16aのtzを、Y軸方向に異なる断面で10点以上測定し、その平均値tzmとバラツキσzmを求める。また同様にして、積層体4のZ軸方向に沿った中央位置で、絶縁層16bのtxを、Y軸方向に異なる断面で10点以上測定し、その平均値txmとバラツキσxmを求める。 The thickness tp of the insulating layer at the corner 17 is measured at 10 or more points on different cross sections in the Y-axis direction, and the average value tpm and variation σpm are determined. In addition, at the center position along the X-axis direction of the laminate 4, the tz of the insulating layer 16a is measured at 10 or more points on different cross sections in the Y-axis direction, and the average value tzm and variation σzm are determined. Similarly, at the center position along the Z-axis direction of the laminate 4, the tx of the insulating layer 16b is measured at 10 or more points on different cross sections in the Y-axis direction, and the average value txm and variation σxm are determined.

角部17での絶縁層の厚みの平均値tpmと、絶縁層16aの厚み16a1の厚みの平均値tzmとの差異が、tzmの10分の1μm以下である場合に、これらは実質的に同一であると判断する。また、角部17での絶縁層の厚みの平均値tpmと、絶縁層16bの厚み16b1の厚みの平均値txmとの差異も同様にして判断することができる。 If the difference between the average thickness tpm of the insulating layer at the corner 17 and the average thickness tzm of the insulating layer 16a1 is less than 1/10 μm of tzm, they are determined to be substantially the same. The difference between the average thickness tpm of the insulating layer at the corner 17 and the average thickness txm of the insulating layer 16b1 can also be determined in the same manner.

本実施形態では、絶縁層16aと絶縁層16bとは、角部17において、滑らかに一様に連続して繋がっており、絶縁層16aから絶縁層16bにわたって、実質的に隙間がなく、絶縁層16aと絶縁層16bとの界面がない。 In this embodiment, insulating layer 16a and insulating layer 16b are smoothly and uniformly connected at corner 17, there is substantially no gap from insulating layer 16a to insulating layer 16b, and there is no interface between insulating layer 16a and insulating layer 16b.

本実施形態では、各絶縁層16a~16dの各厚みと、それぞれの角部17での絶縁層16pの厚み(平均およびバラツキ)も、上記と同様にして求めることができ、それらの全ての厚みを実質的に同一とすることができる。 In this embodiment, the thickness of each of the insulating layers 16a to 16d and the thickness (average and variation) of the insulating layer 16p at each corner 17 can be determined in the same manner as above, and all of these thicknesses can be made substantially the same.

絶縁層16a~16dおよび16pの厚さは、好ましくは3μm~40μm、さらに好ましくは3~30μm、特に好ましくは3~20μmの範囲内であり、比較的に薄くて均一な厚みとすることができる。これにより、絶縁層の熱膨張係数の影響が小さくなり、積層体4と絶縁層の熱膨張係数差による構造欠陥を抑制することもできる。また、本実施形態では、絶縁層16b,16dが、サイドギャップ絶縁層となり、内部電極層12のX軸方向の露出端部を絶縁層16b,16dで覆うことができ、十分な保護機能を有する。また、本実施形態では、各絶縁層16a~16dおよび16pの厚みのバラツキも小さい。 The thickness of the insulating layers 16a to 16d and 16p is preferably within the range of 3 μm to 40 μm, more preferably 3 to 30 μm, and particularly preferably 3 to 20 μm, and can be made relatively thin and uniform. This reduces the effect of the thermal expansion coefficient of the insulating layers, and also suppresses structural defects due to the difference in the thermal expansion coefficient between the laminate 4 and the insulating layers. In addition, in this embodiment, the insulating layers 16b and 16d serve as side gap insulating layers, and the exposed end portions of the internal electrode layers 12 in the X-axis direction can be covered with the insulating layers 16b and 16d, providing sufficient protection. In addition, in this embodiment, there is little variation in the thickness of each of the insulating layers 16a to 16d and 16p.

絶縁層の厚さを均一にすることで、耐湿性を低下させる起点が減少し、電子部品の耐湿性が向上し、信頼性も向上する。絶縁層は、転がし転写法により形成することができるため、絶縁層の厚さは、周方向に沿って実質的に均一となりやすい。 By making the thickness of the insulating layer uniform, the starting points that reduce moisture resistance are reduced, improving the moisture resistance of electronic components and improving their reliability. Since the insulating layer can be formed by the rolling transfer method, the thickness of the insulating layer tends to be substantially uniform along the circumferential direction.

なお、本実施形態では、角部17での絶縁層16pの外周面は、R状でなくてもよい。たとえば、図2Abに示すように、角部17において、積層体4の角部17にC面取りが施されている場合には、絶縁層16pの外周面が積層体4のC面に沿って平面状となる。この場合には、P1は、C面に沿っている平面である絶縁層16pの外周面に位置することになる。また、本実施形態の他の実施形態では、角部17には、R部もC面取り部も実質的になくてもよく、その場合には、P0とP1とが限りなく近づく。 In this embodiment, the outer peripheral surface of the insulating layer 16p at the corner 17 does not have to be rounded. For example, as shown in FIG. 2Ab, when the corner 17 of the laminate 4 is chamfered, the outer peripheral surface of the insulating layer 16p is flat along the C-plane of the laminate 4. In this case, P1 is located on the outer peripheral surface of the insulating layer 16p, which is a flat surface along the C-plane. In other embodiments of this embodiment, the corner 17 may have substantially no rounded portion or C-chamfered portion, in which case P0 and P1 become as close as possible.

図1に示すように、絶縁層16a,16c(図示しない絶縁層16b,16dも同様/以下省略)は、積層体4のY軸方向の両端に位置する端面5e,5fを実質的に覆わないことが好ましい。すなわち、絶縁層16a,16cは、積層体4のY軸方向の両端に位置する端面5e,5fに露出する内部電極層12の引出部12αまたは12βの接続端を覆わないことが好ましい。積層体4のY軸方向の両端に位置する外面5e,5fには、端子電極6,8が形成されて内部電極層12の引出部12αまたは12βと接続される必要があるからである。 As shown in FIG. 1, it is preferable that the insulating layers 16a, 16c (similarly for the insulating layers 16b, 16d, not shown, omitted below) do not substantially cover the end faces 5e, 5f located at both ends in the Y-axis direction of the laminate 4. In other words, it is preferable that the insulating layers 16a, 16c do not cover the connection ends of the lead portions 12α or 12β of the internal electrode layers 12 exposed at the end faces 5e, 5f located at both ends in the Y-axis direction of the laminate 4. This is because the terminal electrodes 6, 8 need to be formed on the outer surfaces 5e, 5f located at both ends in the Y-axis direction of the laminate 4 and connected to the lead portions 12α or 12β of the internal electrode layers 12.

本実施形態の絶縁層16a~16d(16pも含む/以下同様)は、素子本体4の誘電体層10,11の融点よりも低い材質で構成してあり、絶縁層16a~16dの主成分は、好ましくは、Siを25重量%以上含むガラスで構成されている。 In this embodiment, the insulating layers 16a to 16d (including 16p, below) are made of a material with a melting point lower than that of the dielectric layers 10 and 11 of the element body 4, and the main component of the insulating layers 16a to 16d is preferably glass containing 25% or more by weight of Si.

絶縁層16a~16dの主成分がガラスであることで、端子電極6,8の剥れを抑制できる効果が高められる。これは、絶縁層の主成分のガラスに含まれるSiが多いほど、絶縁層の耐めっき性が向上し、めっきによる劣化を抑制できるためであると考えられる。また、絶縁層16a~16dの主成分のガラスに含まれるSiを25重量%以上とすることで、Siが拡散した拡散層を形成できる。これにより、絶縁層16a~16dと端子電極6,8の接合が強くなる。したがって、本実施形態の絶縁層16a~16dの主成分は、Siを25重量%~70重量%含むガラスで構成されていることが好ましい。 By making the insulating layers 16a to 16d mainly of glass, the effect of suppressing peeling of the terminal electrodes 6, 8 is enhanced. This is thought to be because the more Si contained in the glass, which is the main component of the insulating layers, the better the plating resistance of the insulating layers, and the more the deterioration caused by plating can be suppressed. In addition, by making the glass, which is the main component of the insulating layers 16a to 16d, contain 25% or more Si by weight, a diffusion layer in which Si is diffused can be formed. This strengthens the bond between the insulating layers 16a to 16d and the terminal electrodes 6, 8. Therefore, it is preferable that the main component of the insulating layers 16a to 16d in this embodiment is made of glass containing 25% to 70% by weight of Si.

なお、絶縁層の主成分とは、絶縁層に、40vol%以上含まれる成分を言い、好ましくは、絶縁層の主成分とは、絶縁層に、60vol%以上含まれる成分を言う。 The main component of the insulating layer refers to a component contained in the insulating layer at 40 vol% or more, and preferably, the main component of the insulating layer refers to a component contained in the insulating layer at 60 vol% or more.

本実施形態の絶縁層16a~16dには、Siの他、Mg、Ca、Sr、Ba、Li、Na、K、Ti、Zr、B、P、Zn、Al等を含んでいてもよい。 In this embodiment, the insulating layers 16a to 16d may contain, in addition to Si, Mg, Ca, Sr, Ba, Li, Na, K, Ti, Zr, B, P, Zn, Al, etc.

また、絶縁層をガラス成分で構成することにより、絶縁層16a~16dと積層体4との固着強度が良好になる。これは、ガラスと積層体4との界面に反応相が形成されるため、ガラスと積層体4の密着性が他の絶縁性物質に比べて優れているためであると考えられる。 In addition, by constructing the insulating layers from glass components, the adhesive strength between the insulating layers 16a-16d and the laminate 4 is improved. This is thought to be because a reaction phase is formed at the interface between the glass and the laminate 4, which provides better adhesion between the glass and the laminate 4 than other insulating materials.

さらに、ガラスはセラミックに比べて絶縁性が高い。このため、絶縁層16a~16dの主成分がセラミックの場合に比べて、絶縁層の主成分がガラスで構成されている場合は、向かい合う端子電極6,8の距離を短くしても、ショート発生率を低くできる。 Furthermore, glass has higher insulating properties than ceramic. Therefore, when the insulating layers 16a to 16d are mainly composed of glass, the occurrence rate of short circuits can be reduced even if the distance between the opposing terminal electrodes 6 and 8 is shortened, compared to when the insulating layers 16a to 16d are mainly composed of ceramic.

本実施形態の絶縁層16a~16dに含まれるガラスの融点(軟化点)は、600℃~950℃であることが好ましい。これにより、絶縁層16a~16dを焼き付けする際に、誘電体層のセラミック粒子の粒成長を防ぐことができ、信頼性などの特性の劣化を抑制することができる。上記の観点から、本実施形態の絶縁層16a~16dに含まれるガラスの融点(軟化点)は、600℃~850℃であることがより好ましい。 The melting point (softening point) of the glass contained in the insulating layers 16a to 16d of this embodiment is preferably 600°C to 950°C. This makes it possible to prevent grain growth of the ceramic particles in the dielectric layers when the insulating layers 16a to 16d are baked, and to suppress deterioration of properties such as reliability. From the above viewpoint, it is more preferable that the melting point (softening point) of the glass contained in the insulating layers 16a to 16d of this embodiment is 600°C to 850°C.

本実施形態の絶縁層16a~16dに含まれるガラス以外の成分は特に限定されず、たとえば、セラミックフィラーを含んでいてもよく、BaTiO、CaTiO、Al、CaZrO、MgO、ZrO、Cr、CoOなどを含んでいてもよい。 The components other than glass contained in the insulating layers 16a to 16d of this embodiment are not particularly limited, and may include , for example, ceramic filler, BaTiO3 , CaTiO3 , Al2O3 , CaZrO3 , MgO , ZrO2 , Cr2O3 , CoO, etc.

絶縁層16a~16dの主成分がガラスで構成されている場合には、セラミックで構成されている場合に比べて、端子電極6,8が積層体4のX軸方向端面のY軸方向端部およびZ軸方向端面のY軸方向端部を広く覆う構成にしてもショート発生率を低くできる。 When the insulating layers 16a to 16d are primarily made of glass, the incidence of short circuits can be reduced even if the terminal electrodes 6 and 8 are configured to widely cover the Y-axis end of the X-axis end face of the laminate 4 and the Y-axis end of the Z-axis end face, compared to when they are made of ceramic.

本実施形態では、絶縁層16a~16dと誘電体層10,11との界面に、絶縁層16a~16dの構成成分の少なくとも一つが誘電体層10,11に拡散した反応相が形成されていてもよい。絶縁層16a~16dと内側誘電体層10との界面に反応相を有することで、積層体4の側面5a~5dがガラスで埋められ、界面の空隙率を最小限に抑えることができる。これにより、積層体4の側面の絶縁性が向上し、耐電圧性を向上できる。 In this embodiment, a reaction phase may be formed at the interface between the insulating layers 16a-16d and the dielectric layers 10, 11, in which at least one of the components of the insulating layers 16a-16d has diffused into the dielectric layers 10, 11. By having a reaction phase at the interface between the insulating layers 16a-16d and the inner dielectric layer 10, the side surfaces 5a-5d of the laminate 4 are filled with glass, minimizing the void ratio at the interface. This improves the insulation of the side surfaces of the laminate 4, and improves the voltage resistance.

また、誘電体層と絶縁層16a~16dの界面に反応相を有することで、誘電体層と絶縁層16a~16dの界面の接着性を向上させることができる。これにより、積層体4と絶縁層16a~16dのデラミネーションを抑制し、その抗折強度を高めることができる。 In addition, by having a reactive phase at the interface between the dielectric layer and the insulating layers 16a to 16d, it is possible to improve the adhesion at the interface between the dielectric layer and the insulating layers 16a to 16d. This makes it possible to suppress delamination between the laminate 4 and the insulating layers 16a to 16d and to increase the flexural strength.

反応相の認定については、例えば、積層体4の誘電体層と絶縁層16a~16dの界面について、Si元素のSTEM-EDS分析を行い、Si元素のマッピングデータを得て、Si元素が存在する箇所を反応相と認定できる。 To identify the reaction phase, for example, STEM-EDS analysis of the Si element is performed on the interface between the dielectric layer of the laminate 4 and the insulating layers 16a to 16d, mapping data of the Si element is obtained, and the locations where the Si element is present can be identified as reaction phases.

本実施形態では、図1に示すように、端子電極6,8のZ軸方向の両端は、絶縁層16a,16cのY軸方向の両端も覆うように形成してある。また、図2Bに示すように、端子電極6,8のX軸方向の両端が、絶縁層16b,16dのY軸方向の両端も覆うように形成してある。 In this embodiment, as shown in FIG. 1, both ends of the terminal electrodes 6 and 8 in the Z-axis direction are formed so as to cover both ends of the insulating layers 16a and 16c in the Y-axis direction. Also, as shown in FIG. 2B, both ends of the terminal electrodes 6 and 8 in the X-axis direction are formed so as to cover both ends of the insulating layers 16b and 16d in the Y-axis direction.

このように構成することで、積層体4の端面5e,5fにおいて、端子電極6,8が、絶縁層16a~16dと積層体4との界面の端部を完全に被覆できるため、より耐久性、耐湿性を向上させることができる。 By configuring it in this way, the terminal electrodes 6, 8 can completely cover the ends of the interfaces between the insulating layers 16a-16d and the laminate 4 at the end faces 5e, 5f of the laminate 4, thereby improving durability and moisture resistance.

端子電極6,8の厚みは、用途等に応じて適宜決定すればよい。 The thickness of the terminal electrodes 6, 8 may be determined appropriately depending on the application, etc.

本実施形態では、絶縁層16a~16dのガラスに含まれるSiの平均重量比率をGSiとして、端子電極6,8のガラスに含まれるSiの平均重量比率をTSiとした場合に、GSi/TSiが、1.0<GSi/TSi≦15.0を満たすことが好ましい。 In this embodiment, when the average weight ratio of Si contained in the glass of the insulating layers 16a to 16d is GSi and the average weight ratio of Si contained in the glass of the terminal electrodes 6 and 8 is TSi, it is preferable that GSi/TSi satisfies 1.0<GSi/TSi≦15.0.

GSi/TSiが1.0<GSi/TSi≦15.0の場合、Siが拡散する拡散層を存在させることができ、GSi/TSiが1.0以下の場合に比べて、静電容量を高くでき、端子電極の強度を良好にできる。また、GSi/TSiが1.0<GSi/TSi≦15.0の場合、GSi/TSiが15.0より大きい場合に比べて、静電容量を高くでき、限界たわみ試験の結果を良好にできる。GSi/TSiは、2.0~8.0であることがより好ましい。 When GSi/TSi is 1.0<GSi/TSi≦15.0, a diffusion layer in which Si diffuses can be formed, and the capacitance can be increased and the strength of the terminal electrode can be improved compared to when GSi/TSi is 1.0 or less. Also, when GSi/TSi is 1.0<GSi/TSi≦15.0, the capacitance can be increased and the results of the limit deflection test can be improved compared to when GSi/TSi is greater than 15.0. It is more preferable that GSi/TSi is 2.0 to 8.0.

(積層セラミックコンデンサの製造方法)
次に、本発明の一実施形態としての積層セラミックコンデンサ2の製造方法について具体的に説明する。
(Manufacturing method of multilayer ceramic capacitors)
Next, a method for manufacturing the multilayer ceramic capacitor 2 according to an embodiment of the present invention will be specifically described.

(積層体の製造工程)
まず、素子本体となる積層体4の製造工程について説明する。焼成後に図1に示す内側誘電体層10を構成することになる図4Aに示す内側グリーンシート10aと、図1に示す外装領域11を構成することになる図4Aに示す外側グリーンシート11aを準備する。
(Laminate manufacturing process)
First, a manufacturing process of the laminate 4 which becomes the element body will be described. An inner green sheet 10a shown in Fig. 4A which will constitute the inner dielectric layer 10 shown in Fig. 1 after firing, and an outer green sheet 11a shown in Fig. 4A which will constitute the exterior region 11 shown in Fig. 1 are prepared.

これらのグリーンシート10aおよび11aを形成するために、まず、それぞれ内側グリーンシート用ペーストおよび外側グリーンシート用ペーストを準備する。内側グリーンシート用ペーストおよび外側グリーンシート用ペーストは、通常、セラミック粉末と有機ビヒクルとを混練して得られた有機溶剤系ペースト、または水系ペーストで構成される。 To form these green sheets 10a and 11a, first, a paste for the inner green sheet and a paste for the outer green sheet are prepared. The paste for the inner green sheet and the paste for the outer green sheet are usually composed of an organic solvent-based paste obtained by kneading ceramic powder with an organic vehicle, or a water-based paste.

セラミック粉末の原料としては、複合酸化物や酸化物となる各種化合物、たとえば炭酸塩、硝酸塩、水酸化物、有機金属化合物などから適宜選択され、混合して用いることができる。セラミック粉末の原料は、本実施形態では、平均粒子径が0.45μm以下、好ましくは0.05~0.3μm程度の粉体として用いられる。なお、内側グリーンシートをきわめて薄いものとするためには、グリーンシート厚みよりも細かい粉体を使用することが望ましい。 The raw ceramic powder material can be appropriately selected from composite oxides and various compounds that become oxides, such as carbonates, nitrates, hydroxides, and organometallic compounds, and can be mixed and used. In this embodiment, the raw ceramic powder material is used as a powder with an average particle size of 0.45 μm or less, preferably about 0.05 to 0.3 μm. In order to make the inner green sheet extremely thin, it is desirable to use a powder that is finer than the thickness of the green sheet.

有機ビヒクルとは、バインダを有機溶剤中に溶解したものである。有機ビヒクルに用いるバインダは特に限定されず、エチルセルロース、ポリビニルブチラール等の通常の各種バインダから適宜選択すればよい。用いる有機溶剤も特に限定されず、アルコール、アセトン、トルエン等の各種有機溶剤から適宜選択すればよい。 An organic vehicle is a binder dissolved in an organic solvent. There are no particular limitations on the binder used in the organic vehicle, and it may be appropriately selected from various common binders such as ethyl cellulose and polyvinyl butyral. There are no particular limitations on the organic solvent used, and it may be appropriately selected from various organic solvents such as alcohol, acetone, and toluene.

また、グリーンシート用ペースト中には、必要に応じて、各種分散剤、可塑剤、誘電体、副成分化合物、ガラスフリット、絶縁体などから選択される添加物が含有されていてもよい。可塑剤としては、フタル酸ジオクチルやフタル酸ベンジルブチルなどのフタル酸エステル、アジピン酸、燐酸エステル、グリコール類などが例示される。 The green sheet paste may contain additives selected from various dispersants, plasticizers, dielectrics, secondary component compounds, glass frit, insulators, etc., as necessary. Examples of plasticizers include phthalates such as dioctyl phthalate and benzyl butyl phthalate, adipic acid, phosphate esters, and glycols.

次に、焼成後に図1に示す内部電極層12を構成することになる図4Aに示す内部電極パターン層12aを形成する。そのために、内部電極層用ペーストを準備する。内部電極層用ペーストは、上記した各種導電性金属や合金からなる導電材と、上記した有機ビヒクルとを混練して調製する。焼成後に図1に示す端子電極6,8を構成することになる金属ペースト(端子電極用ペースト)は、上記した内部電極層用ペーストと同様にして調製すればよい。 Next, the internal electrode pattern layer 12a shown in FIG. 4A is formed, which will constitute the internal electrode layer 12 shown in FIG. 1 after firing. To this end, a paste for the internal electrode layer is prepared. The paste for the internal electrode layer is prepared by kneading the conductive material made of the various conductive metals and alloys described above with the organic vehicle described above. The metal paste (terminal electrode paste) that will constitute the terminal electrodes 6, 8 shown in FIG. 1 after firing may be prepared in the same manner as the paste for the internal electrode layer described above.

上記にて調整した内側グリーンシート用ペーストおよび内部電極層用ペーストを使用して、図4Aおよび図4Bに示すように、内側グリーンシート10aと、内部電極パターン層12aと、を交互に積層し、内部積層体を製造する。そして、内部積層体を製造した後に、外側グリーンシート用ペーストを使用して、外側グリーンシート11aを形成し、積層方向に加圧してグリーン積層体を得る。 Using the inner green sheet paste and the internal electrode layer paste prepared above, the inner green sheets 10a and the internal electrode pattern layers 12a are alternately laminated as shown in Figures 4A and 4B to produce an inner laminate. Then, after producing the inner laminate, the outer green sheet paste is used to form the outer green sheet 11a, which is then pressed in the lamination direction to obtain a green laminate.

なお、グリーン積層体の製造方法としては、上記の他、外側グリーンシート11aに直接内側グリーンシート10aと内部電極パターン層12aとを交互に所定数積層して、積層方向に加圧してグリーン積層体を得てもよい。 In addition to the above, the green laminate may be manufactured by laminating a predetermined number of inner green sheets 10a and internal electrode pattern layers 12a alternately directly onto the outer green sheet 11a, and then applying pressure in the lamination direction to obtain the green laminate.

具体的には、まず、ドクターブレード法などにより、支持体としてのキャリアシート(たとえばPETフィルム)上に、内側グリーンシート10aを形成する。内側グリーンシート10aは、キャリアシート上に形成された後に乾燥される。次に、内側グリーンシート10aの表面に、内部電極層用ペーストを用いて、内部電極パターン層12aを形成し、内部電極パターン層12aを有する内側グリーンシート10aを得る。内部電極パターン層12aを有する内側グリーンシート10aを積層した後に、これらを積層してグリーン積層体を得てもよい。 Specifically, first, an inner green sheet 10a is formed on a carrier sheet (e.g., a PET film) as a support by a doctor blade method or the like. After being formed on the carrier sheet, the inner green sheet 10a is dried. Next, an inner electrode pattern layer 12a is formed on the surface of the inner green sheet 10a using an internal electrode layer paste, to obtain an inner green sheet 10a having an internal electrode pattern layer 12a. After stacking the inner green sheets 10a having the internal electrode pattern layer 12a, these may be stacked to obtain a green laminate.

次に、図4Aおよび図4BのC1切断面およびC2切断面に沿って、グリーン積層体を切断してグリーンチップ4aを得る。C1は、Y‐Z軸平面に平行な切断面であり、C2は、Z‐X軸平面に平行な切断面である。 Next, the green laminate is cut along the C1 and C2 cut surfaces in Figures 4A and 4B to obtain green chips 4a. C1 is a cut surface parallel to the Y-Z axis plane, and C2 is a cut surface parallel to the Z-X axis plane.

図4Bに示すように、n層目において内部電極パターン層12aを切断するC2切断面の両隣のC2切断面は、内部電極パターン層12aの隙間を切断する。また、n層目において内部電極パターン層12aを切断したC2切断面は、n+1層目においては内部電極パターン層12aの隙間を切断する。 As shown in FIG. 4B, the C2 cut surfaces on both sides of the C2 cut surface that cuts the internal electrode pattern layer 12a in the nth layer cut the gaps in the internal electrode pattern layer 12a. Also, the C2 cut surface that cuts the internal electrode pattern layer 12a in the nth layer cuts the gaps in the internal electrode pattern layer 12a in the (n+1)th layer.

このような切断方法により、図5Aに示すグリーンチップ4aを得ることで、グリーンチップ4aのn層目の内部電極パターン層12aは、グリーンチップ4aのY軸方向の一方の端面5eでは露出し、他方の端面5fでは露出しない構成となる。また、グリーンチップ4aのn+1層目の内部電極パターン層12aは、逆に、グリーンチップ4aのY軸方向の一方の底面5eでは露出せず、他方の底面5fでは露出する構成となる。 By using this cutting method to obtain the green chip 4a shown in Figure 5A, the nth layer of the internal electrode pattern layer 12a of the green chip 4a is exposed at one end face 5e in the Y-axis direction of the green chip 4a, but not exposed at the other end face 5f. Conversely, the n+1th layer of the internal electrode pattern layer 12a of the green chip 4a is not exposed at one bottom face 5e in the Y-axis direction of the green chip 4a, but is exposed at the other bottom face 5f.

さらに、図4Aに示すグリーンチップ4aのC1切断面、すなわち図5Aに示すグリーンチップ4aのX軸方向に対向する側面5b,5dにおいては、全ての層で内部電極パターン層12aが露出する構成となる。なお、内部電極パターン層12aの形成方法としては、特に限定されず、印刷法、転写法の他、蒸着、スパッタリングなどの薄膜形成方法により形成されていてもよい。 Furthermore, in the C1 cut surface of the green chip 4a shown in FIG. 4A, i.e., in the side surfaces 5b and 5d facing the X-axis direction of the green chip 4a shown in FIG. 5A, the internal electrode pattern layer 12a is exposed in all layers. The method for forming the internal electrode pattern layer 12a is not particularly limited, and it may be formed by a printing method, a transfer method, or a thin film formation method such as deposition or sputtering.

本実施形態において、脱バインダ工程は、たとえば、保持温度を200℃~400℃とすればよい。焼成工程は、たとえば還元雰囲気で行い、アニール工程は、中性、または弱酸化性雰囲気で行えばよい。その他の焼成条件またはアニール条件としては、たとえば、焼成の保持温度は1000℃~1300℃であり、アニールの保持温度は500℃~1100℃である。脱バインダ工程、焼成工程およびアニール工程は、連続して行なっても、独立して行なってもよい。 In this embodiment, the binder removal process may be performed at a holding temperature of, for example, 200°C to 400°C. The firing process may be performed in, for example, a reducing atmosphere, and the annealing process may be performed in a neutral or weakly oxidizing atmosphere. Other firing and annealing conditions include, for example, a firing holding temperature of 1000°C to 1300°C, and an annealing holding temperature of 500°C to 1100°C. The binder removal process, firing process, and annealing process may be performed consecutively or independently.

なお、上述した実施形態では、図4Aおよび図4Bに示すグリーン積層体をグリーンチップ4aに個片化してから、グリーンチップ4aを焼成して積層体4を形成しているが、図4Aおよび図4Bに示すグリーン積層体を焼成して焼結体としてから、焼結体を切断して個々の積層体4を形成してもよい。 In the above-described embodiment, the green laminate shown in FIGS. 4A and 4B is singulated into green chips 4a, and then the green chips 4a are fired to form the laminate 4. However, the green laminate shown in FIGS. 4A and 4B may be fired to form a sintered body, and then the sintered body may be cut to form the individual laminates 4.

上記のようにして得られた積層体4の角に、バレルなどにより面取りを行い、図2Aaに示すようなR面、または図2Abに示すようなC面を形成してもよい。また、積層体4の端面5e,5fに、必要に応じて、例えばバレル研磨、サンドブラストなどにより研磨する。 The corners of the laminate 4 obtained as described above may be chamfered using a barrel or the like to form an R surface as shown in FIG. 2Aa or a C surface as shown in FIG. 2Ab. In addition, the end faces 5e and 5f of the laminate 4 may be polished, for example, by barrel polishing or sandblasting, as necessary.

(絶縁層の形成工程)
次に、素子本体となる積層体4の外周に絶縁層(機能膜)を形成する工程について説明する。まず、本実施形態の機能膜形性装置について説明する。
(Insulating layer forming process)
Next, a process for forming an insulating layer (functional film) on the outer periphery of the laminate 4 that becomes the element body will be described. First, a functional film forming apparatus of this embodiment will be described.

図6Aに示すように、本実施形態の機能膜形成装置は、第1転動部材20と、第2転動部材22と、これらを相対的に移動させる駆動機構(図示省略)とを有する。駆動機構は、たとえばモータ、圧力シリンダなどで構成してある。なお、モータとしては、回転型やリニア型等が挙げられる。駆動機構は、第2転動部材22を、第1転動部材20に対して相対的に、平行で、しかも積層体4の転がりと共に変化する回転半径に対応して相互間距離を変動可能に面方向に沿って移動可能に駆動させる。 As shown in FIG. 6A, the functional film forming device of this embodiment has a first rolling member 20, a second rolling member 22, and a drive mechanism (not shown) that moves them relative to one another. The drive mechanism is composed of, for example, a motor, a pressure cylinder, etc. Examples of the motor include a rotary type and a linear type. The drive mechanism drives the second rolling member 22 to move parallel to the first rolling member 20 along the surface direction so that the mutual distance can be changed in response to the radius of rotation that changes as the laminate 4 rolls.

本実施形態では、第1転動部材20の上面には巻き付け用ガラスシート24が載置してあり、第2転動部材22の下面に粘着シート26が具備してある。図6Bに示すように、第1転動部材20と第2転動部材22との間に、単一または複数の積層体4が挟まれて、本実施形態では、最初に、積層体4の側面5aが粘着シート26に貼り付き、粘着層26aが形成されるようになっている。なお、図6Aでは、積層体4が第2転動部材22の下面の粘着シート26に付着してあるように描いてあるが、それに限らず、積層体4は、最初は、第1転動部材20のシート24の上に載置してあるのみでよい。 In this embodiment, a winding glass sheet 24 is placed on the upper surface of the first rolling member 20, and an adhesive sheet 26 is provided on the lower surface of the second rolling member 22. As shown in FIG. 6B, a single or multiple laminates 4 are sandwiched between the first rolling member 20 and the second rolling member 22, and in this embodiment, the side surface 5a of the laminate 4 is first attached to the adhesive sheet 26 to form an adhesive layer 26a. Note that, although FIG. 6A shows the laminate 4 attached to the adhesive sheet 26 on the lower surface of the second rolling member 22, this is not limiting, and the laminate 4 may be initially only placed on the sheet 24 of the first rolling member 20.

第1転動部材20および第2転動部材22は、相互に同じ材質であってもよく、あるいは異なる材質であってもよい。これらの第1転動部材20および第2転動部材22としては、たとえばある程度の剛性を持つ板状部材またはシート状部材であればよく、その材質としては、特に限定されず、金属、セラミックまたはプラスチックなどのいずれでもよい。 The first rolling member 20 and the second rolling member 22 may be made of the same material or different materials. The first rolling member 20 and the second rolling member 22 may be, for example, a plate-like or sheet-like member having a certain degree of rigidity, and the material is not particularly limited and may be any of metal, ceramic, plastic, etc.

巻き付け用ガラスシート24としては、熱処理後に図2Aに示す絶縁層16a~16dとなるシートであれば、特に限定されず、たとえばガラス粉末が分散してある樹脂シート、あるいは半硬化ガラスシートなどが例示される。 The glass sheet 24 to be wrapped is not particularly limited as long as it is a sheet that becomes the insulating layers 16a to 16d shown in FIG. 2A after heat treatment, and examples include a resin sheet with glass powder dispersed therein, or a semi-hardened glass sheet.

たとえばガラスシート24は、前述したガラス成分を構成するガラス粉末原料と、バインダと分散媒とを混練してガラススラリーを作り、ガラススラリーをシート化することで形成することができる。ガラスシート24は、第1転動部材20の表面に、剥離可能にしかも横ずれ移動しないように設置される。 For example, the glass sheet 24 can be formed by kneading the glass powder raw material that constitutes the above-mentioned glass component with a binder and a dispersion medium to make a glass slurry, and then forming the glass slurry into a sheet. The glass sheet 24 is placed on the surface of the first rolling member 20 so that it can be peeled off but does not move laterally.

また、粘着層26aは、第2転動部材22の下面に、剥離可能にしかも横ずれ移動しないように設置される。粘着層26としては、たとえば両面粘着シートなどで構成されてもよく、第2転動部材22の下面に対する粘着力よりも、積層体4への粘着力が高くなっていることが好ましい。粘着層26は、たとえばアクリル、ポリビニルブチラール、アクリル、ポリビニルアルコール、ポリビニルアセテート、エポキシなどの合成高分子、ロジン、テルペンなどの天然高分子などの樹脂で構成される。 The adhesive layer 26a is disposed on the underside of the second rolling member 22 so as to be peelable and not to shift laterally. The adhesive layer 26 may be, for example, a double-sided adhesive sheet, and preferably has a stronger adhesive strength to the laminate 4 than to the underside of the second rolling member 22. The adhesive layer 26 is, for example, made of a resin such as synthetic polymers such as acrylic, polyvinyl butyral, acrylic, polyvinyl alcohol, polyvinyl acetate, and epoxy, or natural polymers such as rosin and terpene.

図6Bに示すように、第1転動部材20に対して相対的に第2転動部材22を下方におろし、第2転動部材22で積層体4を第1転動部材20の方向に押しつける。その結果、粘着層26の一部は、積層体4の側面5aに転写されて粘着膜26aとなる。次に、図6Cに示すように、第2転動部材22で積層体4を第1転動部材20に相対的(逆でもよい趣旨/以下同様)に押さえつけながら、第2転動部材22を、第1転動部材20に対して相対的に平行にズレる方向(矢印の方向)に移動させる。 As shown in FIG. 6B, the second rolling member 22 is lowered relative to the first rolling member 20, and the second rolling member 22 presses the laminate 4 toward the first rolling member 20. As a result, part of the adhesive layer 26 is transferred to the side surface 5a of the laminate 4 to become an adhesive film 26a. Next, as shown in FIG. 6C, while the second rolling member 22 presses the laminate 4 relative to the first rolling member 20 (the reverse may be acceptable/same below), the second rolling member 22 is moved in a direction (indicated by an arrow) that shifts parallel to the first rolling member 20.

第1転動部材20に対する第2転動部材22の移動に従って、第1転動部材20(もしくは第2転動部材22)の上で積層体4を側面5a~5dの周方向に転がすことができる。なお、積層体4を転がす際には、第1転動部材20に対する第2転動部材22の相対距離は、積層体4の転がり回転半径の変化と共に変化してもよい。すなわ、積層体4は、転がる最中に、第1転動部材と第2転動部材との間で両者に常に接触していることが好ましい。 The stack 4 can be rolled on the first rolling member 20 (or the second rolling member 22) in the circumferential direction of the sides 5a to 5d in accordance with the movement of the second rolling member 22 relative to the first rolling member 20. Note that when rolling the stack 4, the relative distance of the second rolling member 22 relative to the first rolling member 20 may change with the change in the rolling radius of the stack 4. In other words, it is preferable that the stack 4 is always in contact with both the first rolling member and the second rolling member while rolling.

図6Cに示すように、積層体4の転動に従って、積層体4の側面5aに形成されている粘着層26aが第2転動部材22の下面から切り離されて転写される。また、同時に、積層体4の側面5bに粘着シート26が貼り付き、粘着層26bが形成される。なお、巻き付け用ガラスシート24には切り込み25が形成してあってもよく、切り込み25の位置は、第1転動部材20の表面での積層体4の側面5aの転がり始点位置と一致していることが好ましい。 As shown in FIG. 6C, as the laminate 4 rolls, the adhesive layer 26a formed on the side surface 5a of the laminate 4 is cut off from the underside of the second rolling member 22 and transferred. At the same time, the adhesive sheet 26 is attached to the side surface 5b of the laminate 4, forming an adhesive layer 26b. The wrapping glass sheet 24 may have a notch 25 formed therein, and it is preferable that the position of the notch 25 coincides with the position of the rolling start point of the side surface 5a of the laminate 4 on the surface of the first rolling member 20.

さらに第2転動部材22を同じ方向(矢印の方向)に移動させると、図6Dに示すように、積層体4が転動し、積層体4の側面5aに形成された粘着層26aが巻き付け用ガラスシート24に貼り付き、絶縁層16aとなる外周膜24aが形成される。また、積層体4の側面5cに粘着シート26が貼り付き、粘着層26cが形成される。 When the second rolling member 22 is further moved in the same direction (the direction of the arrow), the laminate 4 rolls as shown in FIG. 6D, and the adhesive layer 26a formed on the side surface 5a of the laminate 4 adheres to the winding glass sheet 24, forming an outer peripheral film 24a that becomes the insulating layer 16a. In addition, the adhesive sheet 26 adheres to the side surface 5c of the laminate 4, forming an adhesive layer 26c.

さらに第2転動部材22を同じ方向(矢印の方向)に移動させると、図6Eに示すように、ガラスシート24は、切り込み25で、第1転動部材20の表面に位置するガラスシート24から切り離されて積層体4の側面5aに転写されて外周膜24aが形成される。なお、外周膜24aが積層体4の側面5aに転写されることができれば、ガラスシート24の切り込み25は必ずしも必要ではない。 When the second rolling member 22 is further moved in the same direction (the direction of the arrow), as shown in FIG. 6E, the glass sheet 24 is separated from the glass sheet 24 located on the surface of the first rolling member 20 at the cut 25 and transferred to the side surface 5a of the laminate 4 to form the peripheral film 24a. Note that if the peripheral film 24a can be transferred to the side surface 5a of the laminate 4, the cut 25 in the glass sheet 24 is not necessarily required.

さらに第2転動部材22を同じ方向に相対移動させると、図6Fに示すように、積層体4の側面5bに形成された粘着層26bが巻き付け用ガラスシート24に貼り付き、絶縁層となる外周膜24bが形成される。また、積層体4の側面5dに粘着シート26が貼り付き、粘着層26dが形成される。 When the second rolling member 22 is further moved in the same direction, as shown in FIG. 6F, the adhesive layer 26b formed on the side surface 5b of the laminate 4 adheres to the winding glass sheet 24, forming an outer peripheral film 24b that serves as an insulating layer. In addition, the adhesive sheet 26 adheres to the side surface 5d of the laminate 4, forming an adhesive layer 26d.

同様に、第2転動部材22を同じ方向に移動させ、積層体4を転動させることで、図6Gに示すように、積層体4の側面5cの粘着層26cに巻き付け用ガラスシート24が貼り付き、絶縁層となる外周膜24cが形成される。さらに積層体4の側面5dの粘着層26dに巻き付け用ガラスシート24が貼り付き、絶縁層となる外周膜24dが形成される。 Similarly, by moving the second rolling member 22 in the same direction and rolling the laminate 4, as shown in FIG. 6G, the winding glass sheet 24 adheres to the adhesive layer 26c on the side surface 5c of the laminate 4, forming an outer peripheral film 24c that serves as an insulating layer. Furthermore, the winding glass sheet 24 adheres to the adhesive layer 26d on the side surface 5d of the laminate 4, forming an outer peripheral film 24d that serves as an insulating layer.

さらに、積層体4が貼り付いている第2転動部材22の上部から、積層体4を第1転動部材20側に押さえつけることなどで、外周膜24dを、第1転動部材20上に位置するガラスシート24から切り離すことができる。このようにすることで、外周膜24aの端部と外周膜24dの端部とが接合し、図6Hに示すように、外周膜24a~24dが巻き付いた積層体4を得る。 Furthermore, by pressing the laminate 4 against the first rolling member 20 from the top of the second rolling member 22 to which the laminate 4 is attached, the outer peripheral film 24d can be separated from the glass sheet 24 located on the first rolling member 20. In this way, the end of the outer peripheral film 24a and the end of the outer peripheral film 24d are joined, and a laminate 4 wrapped around the outer peripheral films 24a to 24d is obtained, as shown in FIG. 6H.

次に、外周膜24a~24dが巻き付いた積層体4を、必要に応じて乾燥および脱バインダ処理を行った後に、焼き付け処理を行い、図2Aに示す絶縁層16a~16dが形成された積層体4を得る。なお、外周膜24a~24dの焼き付け温度は、絶縁層16a~16dに含まれているガラスの融点(軟化点)より好ましくは0℃~150℃、より好ましくは10℃~50℃高い温度で行うことが好ましい。 Next, the laminate 4 with the outer peripheral films 24a to 24d wrapped around it is dried and debindered as necessary, and then baked to obtain the laminate 4 with the insulating layers 16a to 16d formed as shown in FIG. 2A. The baking temperature for the outer peripheral films 24a to 24d is preferably 0°C to 150°C, more preferably 10°C to 50°C higher than the melting point (softening point) of the glass contained in the insulating layers 16a to 16d.

なお、焼き付け処理の前に、必要に応じて、外周膜24a~24dが巻き付いた積層体4を、第1転動部材20および第2転動部材22の間で、さらに上述した転動を行い、外周膜24a~24dの上に、さらに同様な外周膜24a~24dを、1層以上で形成してもよい。また、焼き付け処理の前に、必要に応じて、外周膜24a~24dが巻き付いた積層体4を、バレル処理などでバリ取りを行ってもよい。 If necessary, before the baking process, the laminate 4 with the outer peripheral films 24a-24d wrapped around it may be rolled between the first rolling member 20 and the second rolling member 22 as described above, and one or more layers of similar outer peripheral films 24a-24d may be formed on the outer peripheral films 24a-24d. Also, if necessary, before the baking process, the laminate 4 with the outer peripheral films 24a-24d wrapped around it may be deburred by barrel processing or the like.

絶縁層16a~16dが形成された積層体4を形成した後には、図1に示すように、積層体4のY軸端面5e,5fに端子電極6および8を各々形成する。端子電極6および8を形成するために、積層体4のY軸方向の両端面に、金属ペーストを塗布して焼き付けし、端子電極6,8の電極膜となる金属ペースト焼き付け膜を形成する。端子電極6,8の電極膜の形成方法については特に限定されず、金属ペーストの塗布・焼き付け、メッキ、蒸着、スパッタリングなどの適宜の方法を用いることができる。 After forming the laminate 4 with the insulating layers 16a to 16d, terminal electrodes 6 and 8 are formed on the Y-axis end faces 5e and 5f of the laminate 4, as shown in FIG. 1. To form the terminal electrodes 6 and 8, a metal paste is applied to both end faces in the Y-axis direction of the laminate 4 and baked to form a metal paste baked film that serves as the electrode film of the terminal electrodes 6 and 8. There are no particular limitations on the method for forming the electrode film of the terminal electrodes 6 and 8, and any appropriate method such as application and baking of a metal paste, plating, vapor deposition, or sputtering can be used.

なお、金属ペーストを積層体4のY軸方向の端面にディップによって塗布する際には、積層体4のX軸方向の端面およびZ軸方向の端面にも金属ペーストが濡れ広がるように行うことが好ましい。Y軸方向への濡れ広がり幅は、好ましくは50μm~200μmである。濡れ広がり幅は、金属ペーストの粘度やディップ条件を調整することにより制御できる。金属ペーストの焼き付け温度は、端子電極6,8に含まれるガラスの融点(軟化点)より0℃~50℃高い温度であることが好ましい。 When applying the metal paste by dipping to the end faces in the Y-axis direction of the laminate 4, it is preferable to apply the metal paste so that it also spreads over the end faces in the X-axis direction and the Z-axis direction of the laminate 4. The width of the spread in the Y-axis direction is preferably 50 μm to 200 μm. The width of the spread can be controlled by adjusting the viscosity of the metal paste and the dipping conditions. The baking temperature of the metal paste is preferably 0°C to 50°C higher than the melting point (softening point) of the glass contained in the terminal electrodes 6, 8.

端子電極6,8の電極膜の表面に、めっきやスパッタ処理などにより被覆層を形成してもよい。端子電極6,8の形成については、絶縁層16a~16dの形成後に行う。 A coating layer may be formed on the surface of the electrode film of the terminal electrodes 6, 8 by plating or sputtering. The terminal electrodes 6, 8 are formed after the insulating layers 16a to 16d are formed.

(実施形態のまとめ) (Summary of the embodiment)

本実施形態では、図6A~図6Gに示す粘着シート26の厚さは、0.3μm~4μmであり、ガラスシート24の厚みの1/5~1/20程度であることが好ましい。この程度の厚さの粘着シート26は十分に薄いため、図6Gに示すように、粘着シート26が邪魔することなく、ガラスシート24から成る外周膜24aの端部と外周膜24dの端部とが接合して外周膜24a~24dが連続して切れ目なく巻き付いた積層体4を得ることができる。そのため、形成される絶縁層16aと絶縁層16dとの間には実質的に隙間が生じることがなく、クラックの起点となることも抑制される。 In this embodiment, the thickness of the adhesive sheet 26 shown in Figures 6A to 6G is 0.3 μm to 4 μm, and is preferably about 1/5 to 1/20 of the thickness of the glass sheet 24. Since the adhesive sheet 26 is thin enough, as shown in Figure 6G, the end of the outer peripheral film 24a and the end of the outer peripheral film 24d made of the glass sheet 24 are joined without the adhesive sheet 26 getting in the way, and a laminate 4 in which the outer peripheral films 24a to 24d are continuously wrapped around without interruption can be obtained. Therefore, there is substantially no gap between the formed insulating layer 16a and insulating layer 16d, and the starting point of cracks is suppressed.

上述したように、本実施形態に係る積層セラミックコンデンサ2の製造方法は、たとえば一定厚みのガラスシート(転写層)24の上で、積層体4の側面5a~5dを次々に連続して接触するように転がし、積層体4の側面に外周膜24a~24dを連続して付着させる工程(転がし転写法)を有する。そのため、本実施形態に係る積層セラミックコンデンサ2を、きわめて容易に製造することができる。 As described above, the method for manufacturing the multilayer ceramic capacitor 2 according to this embodiment includes a step (rolling transfer method) of rolling the side surfaces 5a-5d of the laminate 4 so that they are in continuous contact with each other on a glass sheet (transfer layer) 24 of a certain thickness, and continuously attaching the outer peripheral films 24a-24d to the side surfaces of the laminate 4. This makes it extremely easy to manufacture the multilayer ceramic capacitor 2 according to this embodiment.

ガラスシート24は、たとえば焼成後の積層体4の側面5a~5dに付着されて焼き付け処理されて絶縁層16a~16dとなり、その一部が、サイドギャップ絶縁層と成る。絶縁層16a~16dは、積層体4の誘電体層10,11の融点よりも低い材料で構成してあるために、積層体4の焼成温度よりも焼付温度が低い。このため絶縁層16a~16dを形成するための焼き付け温度による積層体4への影響も少ない。 The glass sheets 24 are attached to the sides 5a-5d of the laminate 4 after firing, for example, and baked to form the insulating layers 16a-16d, part of which becomes the side gap insulating layer. The insulating layers 16a-16d are made of a material with a lower melting point than the dielectric layers 10, 11 of the laminate 4, and therefore have a baking temperature lower than the firing temperature of the laminate 4. Therefore, the baking temperature for forming the insulating layers 16a-16d has little effect on the laminate 4.

すなわち、本実施形態によれば、小さなサイズの積層セラミックコンデンサ2であっても、素子本体4の複数の側面5a~5dに連続して形成することができ、絶縁層16a~16pの特性を、周方向に沿って実質的に均一とすることもできる。そのため、小さなサイズの積層セラミックコンデンサ2であっても、絶縁層16a~16pが素子本体4の角部17から剥がれやすくなることはなく、ショート不良などが生じるおそれは少ない。 In other words, according to this embodiment, even if the laminated ceramic capacitor 2 is small in size, it can be formed continuously on multiple side surfaces 5a to 5d of the element body 4, and the characteristics of the insulating layers 16a to 16p can be made substantially uniform along the circumferential direction. Therefore, even if the laminated ceramic capacitor 2 is small in size, the insulating layers 16a to 16p do not easily peel off from the corners 17 of the element body 4, and there is little risk of short circuits or other defects occurring.

また、本実施形態では、サイドギャップ絶縁層を転がし転写法により形成するため、塗布法とは異なり、不要な部分には絶縁層が形成されない。そのため、端子電極6,8が形成されて内部電極層12と接続する積層体4の端面5e,5fには、絶縁層16a~16eが実質的に形成されない。その結果、素子本体としての積層体4を小型化しても端子電極6,8と内部電極層12との接続信頼性も向上する。なお、「積層体4の端面5e,5fに絶縁層16a~16eが実質的に形成されない」とは、塗布法に比較してほとんど形成されないことを意味する。 In addition, in this embodiment, the side gap insulating layer is formed by the rolling transfer method, so unlike the coating method, no insulating layer is formed in unnecessary areas. Therefore, the insulating layers 16a to 16e are not substantially formed on the end faces 5e, 5f of the laminate 4 where the terminal electrodes 6, 8 are formed and connected to the internal electrode layer 12. As a result, even if the laminate 4 as the element body is miniaturized, the connection reliability between the terminal electrodes 6, 8 and the internal electrode layer 12 is improved. Note that "insulating layers 16a to 16e are not substantially formed on the end faces 5e, 5f of the laminate 4" means that almost no insulating layers are formed compared to the coating method.

本実施形態の積層セラミックコンデンサ2における絶縁層16a~16dは、周方向に沿って複数の側面5a~5dを連続的に覆う絶縁層であるために、サイドギャップ絶縁層以外の部分でも、略一定厚みで形成される。特に、図2Aaまたは図2Abに示すように、積層体4の側面5a,5bの角部17においても、一定厚みtpの絶縁層16pとなる。また、塗布法により形成される絶縁層の端縁と異なり、本実施形態の積層セラミックコンデンサ2では、積層体4の角部17近くに絶縁層の端縁を位置させる必要がない。 The insulating layers 16a-16d in the multilayer ceramic capacitor 2 of this embodiment are insulating layers that continuously cover the multiple side surfaces 5a-5d in the circumferential direction, so they are formed with a substantially constant thickness even in areas other than the side gap insulating layers. In particular, as shown in FIG. 2Aa or FIG. 2Ab, the insulating layers 16p have a constant thickness tp even at the corners 17 of the side surfaces 5a, 5b of the laminate 4. Also, unlike the edges of an insulating layer formed by a coating method, in the multilayer ceramic capacitor 2 of this embodiment, it is not necessary to position the edges of the insulating layers near the corners 17 of the laminate 4.

従来の積層セラミックコンデンサでは、塗布法により形成される絶縁層の端縁は、端子電極6,8との接続端面となる積層体4の端面5e,5fの面積を狭めないように、積層体4の角部17近くに絶縁層の端縁を位置させる必要がある。これに対して、本実施形態の積層セラミックコンデンサ2では、絶縁層16a~16dが転がし転写法で形成されることができるために、積層体4の角部17近くでも、他の部位に比べて一定厚みの絶縁層16pが形成され、従来とは異なり、厚みの薄い絶縁層の端縁が角部17近くに形成されることはない。そのため、湿気の侵入などを有効に防止することができ、積層セラミックコンデンサ2の耐湿性および信頼性が向上すると共に、絶縁層が素子本体の角部から剥がれやすくなることはなく、ショート不良などが生じるおそれは少ない。 In conventional multilayer ceramic capacitors, the edge of the insulating layer formed by the coating method must be located near the corner 17 of the laminate 4 so as not to narrow the area of the end faces 5e, 5f of the laminate 4 that are the connection end faces with the terminal electrodes 6, 8. In contrast, in the multilayer ceramic capacitor 2 of this embodiment, the insulating layers 16a to 16d can be formed by the rolling transfer method, so that the insulating layer 16p is formed to a constant thickness compared to other parts even near the corner 17 of the laminate 4, and unlike the conventional method, the edge of the insulating layer with a thin thickness is not formed near the corner 17. Therefore, it is possible to effectively prevent the intrusion of moisture, etc., and the moisture resistance and reliability of the multilayer ceramic capacitor 2 are improved, and the insulating layer is not easily peeled off from the corners of the element body, so there is little risk of short circuit defects, etc.

また絶縁層16a~16d(16p含む/以下同様)は、ガラスから成る主成分を有する。ガラスを主成分とする絶縁層16a~16dは、誘電特性を重視する誘電体層10,11などで構成されるセラミック層に比較して、高密度であり、耐湿性に優れている。そのため、絶縁層16a~16dにより、積層体4の側面における内部電極層12の露出端部を有効に保護することが可能であり、信頼性がさらに向上する。 Insulating layers 16a-16d (including 16p; the same applies below) have a main component of glass. Insulating layers 16a-16d, which are mainly composed of glass, have a high density and excellent moisture resistance compared to ceramic layers composed of dielectric layers 10, 11, etc., which place importance on dielectric properties. Therefore, insulating layers 16a-16d can effectively protect the exposed ends of internal electrode layers 12 on the side surfaces of laminate 4, further improving reliability.

さらに、絶縁層16a~16dは、積層体4の周方向に沿って連続する全ての側面5a~5dを覆う。このように構成することで、積層体4の側面5a~5dの全周にわたり、絶縁層16a~16dと積層体4との界面への侵入経路を塞ぐことができるので、積層セラミックコンデンサ2の耐湿性および信頼性がさらに向上すると共に、絶縁層が素子本体の角部から剥がれやすくなることはなく、ショート不良などが生じるおそれは少ない。 In addition, the insulating layers 16a to 16d cover all of the side surfaces 5a to 5d that are continuous along the circumferential direction of the laminate 4. This configuration can block the intrusion paths to the interfaces between the insulating layers 16a to 16d and the laminate 4 all around the sides 5a to 5d of the laminate 4, further improving the moisture resistance and reliability of the laminated ceramic capacitor 2, and preventing the insulating layers from peeling off easily from the corners of the element body, reducing the risk of short circuits and other defects.

なお、絶縁層16a~16dは、積層体4の周方向に沿って連続する全ての側面5a~5dを完全には覆わなくとも、全ての側面5a~5dの内の一つの側面、たとえば側面5aでは、絶縁層16aに隙間があってもよい。すなわち、積層体4の全ての側面5a~5dの内の一つの側面(たとえば5a)では、積層体4の角部から遠い側面5aのX軸方向の中央付近に、周方向と垂直な方向に沿って絶縁層16aの端縁が位置しており、その端縁同士の隙間から、積層体4の側面5aの一部が露出していてもよい。 The insulating layers 16a-16d do not have to completely cover all of the side surfaces 5a-5d that are continuous along the circumferential direction of the laminate 4, and there may be a gap in the insulating layer 16a on one of the side surfaces 5a-5d, for example, on side surface 5a. In other words, on one of the side surfaces 5a-5d of the laminate 4 (for example, 5a), the edge of the insulating layer 16a is located along a direction perpendicular to the circumferential direction near the center in the X-axis direction of the side surface 5a that is far from the corner of the laminate 4, and part of the side surface 5a of the laminate 4 may be exposed from the gap between the edges.

そのような絶縁層を積層体4の側面回りに形成するためには、積層体4の側面4aにおけるX軸方向の中央付近からガラスシート24を巻き始めて、同じ積層体4の側面4aにおけるX軸方向の中央付近で巻き終わればよい。 To form such an insulating layer around the side of the laminate 4, the glass sheet 24 can be started to be wound from near the center of the X-axis direction on the side 4a of the laminate 4, and ended to be wound near the center of the X-axis direction on the same side 4a of the laminate 4.

本実施形態では、絶縁層16a~16dの組成は、周方向に沿って略均一とすることができる。絶縁層16a~16dの組成が均一であることで、耐湿性も周方向に沿って均一であり、耐湿性を低下させる起点が減少し、積層セラミックコンデンサ2の信頼性が向上する。なお、転がし転写法により絶縁層16a~16dを形成することで、周方向に沿って略均一な組成の絶縁層16a~16dを形成しやすい。 In this embodiment, the composition of the insulating layers 16a to 16d can be made approximately uniform along the circumferential direction. Since the insulating layers 16a to 16d have a uniform composition, the moisture resistance is also uniform along the circumferential direction, reducing the number of starting points that reduce moisture resistance, and improving the reliability of the multilayer ceramic capacitor 2. Note that by forming the insulating layers 16a to 16d by the rolling transfer method, it is easy to form the insulating layers 16a to 16d with approximately uniform composition along the circumferential direction.

また本実施形態では、絶縁層16a~16dの厚さは、1層巻または2層巻以上のガラスシート24を焼き付け処理することで形成することができ、たとえば3μm~40μmとすることができる。均一厚みのガラスシートから絶縁層16a~16dを形成するために、絶縁層16a~16dの厚さは、周方向に沿って実質的に均一である。絶縁層16a~16dの厚さを均一にすることで、耐湿性を低下させる起点が減少し、積層セラミックコンデンサ2の耐湿性が向上し、信頼性も向上する。絶縁層16a~16dは、転がし転写法により形成することができるため、絶縁層16a~16dの厚さは、周方向に沿って実質的に均一となりやすい。 In addition, in this embodiment, the thickness of the insulating layers 16a to 16d can be formed by baking the glass sheet 24 wound in one or more layers, and can be, for example, 3 μm to 40 μm. Since the insulating layers 16a to 16d are formed from glass sheets of uniform thickness, the thickness of the insulating layers 16a to 16d is substantially uniform along the circumferential direction. By making the thickness of the insulating layers 16a to 16d uniform, the starting points that reduce moisture resistance are reduced, improving the moisture resistance of the multilayer ceramic capacitor 2 and improving its reliability. Since the insulating layers 16a to 16d can be formed by a rolling transfer method, the thickness of the insulating layers 16a to 16d tends to be substantially uniform along the circumferential direction.

さらに本実施形態では、図2Aaまたは図2abに示すように、積層体4の角部17での絶縁層16bの厚さtpは、角部17を挟む積層体4の2つの側面5a,5bのうち少なくとも一方の側面での絶縁層16a,16bの厚さtzまたはtxと、実質的に同じにすることができる。特に、素子3の角部17において、絶縁層16pの厚みtpを、他の部分の厚みtzまたはtxと同じにすることで、積層セラミックコンデンサ2の耐湿性が向上し、信頼性も向上する。絶縁層16pは、転がし転写法により形成することができるため、素子3の角部17においても、絶縁層16pの厚さtpは、他の部分の厚さtzまたはtxに比較して実質的に均一となりやすい。 Furthermore, in this embodiment, as shown in FIG. 2Aa or FIG. 2ab, the thickness tp of the insulating layer 16b at the corner 17 of the laminate 4 can be made substantially the same as the thickness tz or tx of the insulating layers 16a, 16b at at least one of the two side surfaces 5a, 5b of the laminate 4 that sandwich the corner 17. In particular, by making the thickness tp of the insulating layer 16p at the corner 17 of the element 3 the same as the thickness tz or tx of the other parts, the moisture resistance of the laminated ceramic capacitor 2 is improved and the reliability is also improved. Since the insulating layer 16p can be formed by the rolling transfer method, the thickness tp of the insulating layer 16p at the corner 17 of the element 3 is likely to be substantially uniform compared to the thickness tz or tx of the other parts.

本実施形態では、積層体4の外周を完全に絶縁層16a~16dが覆っているため、絶縁層16a~16dと積層体4との界面の端部を外気から完全に覆うことができ、よりいっそう耐久性、耐湿性を向上させることができる。 In this embodiment, the insulating layers 16a to 16d completely cover the outer periphery of the laminate 4, so that the ends of the interfaces between the insulating layers 16a to 16d and the laminate 4 can be completely covered from the outside air, further improving durability and moisture resistance.

さらに、図1および図2Bに示すように、本実施形態では、積層体4の端面5e,5fには、端子電極6,8が形成してあり、端子電極6,8の端縁は、積層体4の外面5a~5dに位置する絶縁層16a~16dの一部を覆っている。そのため、積層体4の端面5e,5fにおいて、端子電極6,8が絶縁層16a~16dと積層体4との界面の端部を被覆でき、より耐久性、耐湿性を向上させることができる。 Furthermore, as shown in Figures 1 and 2B, in this embodiment, terminal electrodes 6, 8 are formed on end faces 5e, 5f of the laminate 4, and the edges of the terminal electrodes 6, 8 cover parts of the insulating layers 16a-16d located on the outer faces 5a-5d of the laminate 4. Therefore, at the end faces 5e, 5f of the laminate 4, the terminal electrodes 6, 8 can cover the ends of the interfaces between the insulating layers 16a-16d and the laminate 4, further improving durability and moisture resistance.

本実施形態では、焼成後の積層体4に巻き付けたガラスシートを焼き付けることにより、積層体4に絶縁層を形成してある。このように絶縁層を形成することで、電子部品の耐湿性を良好にし、熱衝撃や物理的な衝撃などの外部環境変化に対する耐久性を向上させることができる。 In this embodiment, an insulating layer is formed on the laminate 4 by baking a glass sheet wrapped around the laminate 4 after firing. By forming an insulating layer in this manner, it is possible to improve the moisture resistance of the electronic components and improve their durability against external environmental changes such as thermal shock and physical shock.

絶縁層16a~16dは、1枚の巻き付け用ガラスシート24から形成されており、それぞれが連続しており、絶縁層16a~16dと積層体4との界面が外部に露出していない。そのため、界面に湿気などが入り込み難く、界面を起点としたクラックなどが生じるのを効果的に抑制することができる。 The insulating layers 16a to 16d are formed from a single winding glass sheet 24, each of which is continuous, and the interface between the insulating layers 16a to 16d and the laminate 4 is not exposed to the outside. This makes it difficult for moisture to penetrate the interface, effectively preventing the occurrence of cracks originating from the interface.

また、本実施形態では、図2Aに示す断面において、積層体4の内部電極層10のX軸方向端の配置のバラツキは、たとえば5μm以内とすることができる。 In addition, in this embodiment, in the cross section shown in FIG. 2A, the variation in the arrangement of the X-axis direction ends of the internal electrode layers 10 of the laminate 4 can be kept within, for example, 5 μm.

第2実施形態
本実施形態に係る積層セラミックコンデンサの製造方法は、積層体4の外周に絶縁層を形成する方法が第1実施形態と異なるのみであり、共通する部分の説明は省略し、以下、異なる部分について主として詳細に説明する。以下において説明しない部分は、第1実施形態の説明と同様である。
The method for manufacturing a multilayer ceramic capacitor according to the second embodiment differs from that of the first embodiment only in the method for forming an insulating layer on the outer periphery of the laminate 4. Therefore, a description of the common parts will be omitted and the following description will focus mainly on the different parts. The parts that are not described below are the same as those described in the first embodiment.

本実施形態に係る積層セラミックコンデンサの製造方法は、図7A~図7Fに示すように、積層体4の側面5a~5dの外周に絶縁層16a~16dを形成する工程が、第1実施形態の積層セラミックコンデンサの製造方法と異なる。 As shown in Figures 7A to 7F, the method for manufacturing a multilayer ceramic capacitor according to this embodiment differs from the method for manufacturing a multilayer ceramic capacitor according to the first embodiment in the process of forming insulating layers 16a to 16d on the outer periphery of the side surfaces 5a to 5d of the laminate 4.

図7Aに示すように、第1転動部材20の上面には、巻き付け用ガラスシート24が敷かれており、その巻き付け用ガラスシート24の上面に粘着シート26が貼り付けられている。本実施形態では、第1実施形態とは異なり、第2転動部材22には、粘着層が形成されていないが、第2転動部材22自体が粘着性を有していてもよい。 As shown in FIG. 7A, a winding glass sheet 24 is laid on the upper surface of the first rolling member 20, and an adhesive sheet 26 is attached to the upper surface of the winding glass sheet 24. In this embodiment, unlike the first embodiment, no adhesive layer is formed on the second rolling member 22, but the second rolling member 22 itself may have adhesive properties.

粘着性を有する第2転動部材22としては、特に限定されず、たとえば発泡シート、シリコーンなどのゴムシート、アクリル系テープ、UVテープ(UV照射により粘着力が弱くなるようなテープ)などのように、シート素材の表面自体が粘着面となるシートであってもよい。発泡シートを構成する樹脂としては、たとえばウレタン、アクリル、シリコーン、ポリエステル、ポリウレタンなどが例示される。 The adhesive second rolling member 22 is not particularly limited, and may be, for example, a sheet in which the surface of the sheet material itself is adhesive, such as a foam sheet, a rubber sheet such as silicone, an acrylic tape, or a UV tape (a tape whose adhesive strength weakens when exposed to UV rays). Examples of resins that make up the foam sheet include urethane, acrylic, silicone, polyester, and polyurethane.

図7Bに示すように、第2転動部材22を下方におろし、第2転動部材22で積層体4を第1転動部材20に押さえつける。積層体4の側面5aが粘着シート26に貼り付き、粘着層26aおよび絶縁層16aとなる外周膜24aが形成される。また、巻き付け用ガラスシート24には切り込み25が形成してあってもよく、切り込み25の位置は、積層体4の側面5dの端縁位置と一致している。 As shown in FIG. 7B, the second rolling member 22 is lowered, and the laminate 4 is pressed against the first rolling member 20 by the second rolling member 22. The side surface 5a of the laminate 4 is attached to the adhesive sheet 26, and an outer peripheral film 24a that becomes the adhesive layer 26a and the insulating layer 16a is formed. The wrapping glass sheet 24 may also have a cut 25 formed therein, and the position of the cut 25 coincides with the edge position of the side surface 5d of the laminate 4.

図7Cに示すように、第2転動部材22で積層体4を第1転動部材20に押さえつけながら、第2転動部材22を、第1実施形態と同様にして矢印の方向に移動させると、積層体4が転動し、外周膜24aが切り込み25で巻き付け用ガラスシート24から切り離される。 As shown in FIG. 7C, when the second rolling member 22 is moved in the direction of the arrow while pressing the laminate 4 against the first rolling member 20 with the second rolling member 22, as in the first embodiment, the laminate 4 rolls and the outer peripheral film 24a is cut off from the winding glass sheet 24 at the notch 25.

さらに第2転動部材22を前記と同じ方向に移動させると、図7Dに示すように、積層体4が転動し、積層体の側面5bに粘着シート26がシート24と共に貼り付き、粘着層26bおよび絶縁層16bとなる外周膜24bが形成される。 When the second rolling member 22 is further moved in the same direction as above, the laminate 4 rolls, as shown in FIG. 7D, and the adhesive sheet 26 is attached to the side surface 5b of the laminate together with the sheet 24, forming the adhesive layer 26b and the outer peripheral film 24b that becomes the insulating layer 16b.

さらに第2転動部材22を前記と同じ方向に移動させると、図7Eに示すように、積層体4が転動し、積層体の側面5cに粘着シート26がシート24と共に貼り付き、粘着層26cおよび絶縁層16cとなる外周膜24cが形成される。 When the second rolling member 22 is further moved in the same direction as above, the laminate 4 rolls, as shown in FIG. 7E, and the adhesive sheet 26 is attached to the side surface 5c of the laminate together with the sheet 24, forming the adhesive layer 26c and the outer peripheral film 24c that becomes the insulating layer 16c.

さらに積層体4を転動させることで、図7Fに示すように、積層体4が転動し、積層体の側面5dに粘着シート26が貼り付き、粘着層26dおよび絶縁層16dとなる外周膜24dが形成される。 By further rolling the laminate 4, as shown in FIG. 7F, the laminate 4 rolls, the adhesive sheet 26 adheres to the side surface 5d of the laminate, and an outer peripheral film 24d that becomes the adhesive layer 26d and the insulating layer 16d is formed.

さらに、図7Fに示すように、積層体4が貼り付いている第2転動部材22の上部から、積層体4を第1転動部材20側に押さえつけることで、外周膜24dを、巻き付け用ガラスシート24から切り離すことができる。このようにすることで、外周膜24aの端部と外周膜24dとが接合し、図6Hに示す外周膜24a~24dが巻き付けられ積層体4を得ることができる。図6Hに示す外周膜24a~24dは、焼き付け処理後に図2Aに示す絶縁層16a~16dとなる。 Furthermore, as shown in FIG. 7F, by pressing the laminate 4 against the first rolling member 20 from the top of the second rolling member 22 to which the laminate 4 is attached, the outer peripheral film 24d can be separated from the winding glass sheet 24. In this way, the end of the outer peripheral film 24a and the outer peripheral film 24d are bonded, and the outer peripheral films 24a to 24d shown in FIG. 6H are wound around the laminate 4 to obtain it. The outer peripheral films 24a to 24d shown in FIG. 6H become the insulating layers 16a to 16d shown in FIG. 2A after the baking process.

第3実施形態
本実施形態に係る積層セラミックコンデンサの製造方法は、積層体4の外周に絶縁層を形成する方法が第1実施形態または第2実施形態と異なるのみであり、共通する部分の説明は省略し、以下、異なる部分について主として詳細に説明する。以下において説明しない部分は、上述した実施形態の説明と同様である。
The method of manufacturing a multilayer ceramic capacitor according to the third embodiment differs from the first and second embodiments only in the method of forming an insulating layer on the outer periphery of the laminate 4, and therefore a description of the common parts will be omitted and the following description will focus mainly on the different parts. The parts that are not described below are the same as those described in the above embodiments.

本実施形態に係る積層セラミックコンデンサの製造方法は、図8A~図8Fに示すように、積層体4の外周に絶縁層を形成する工程において、ガラスシートの構成が、第1実施形態の積層セラミックコンデンサの製造方法と異なる。 As shown in Figures 8A to 8F, the method for manufacturing a multilayer ceramic capacitor according to this embodiment differs from the method for manufacturing a multilayer ceramic capacitor according to the first embodiment in the configuration of the glass sheet in the process of forming an insulating layer on the outer periphery of the laminate 4.

図8Aに示すように、第1転動部材20の上面には巻き付け用粘着性ガラスシート28が敷かれている。巻き付け用粘着性ガラスシート28は、第1実施形態のガラスシート24と同様にして製造することが可能であり、たとえばバインダおよび/または分散媒やそれ以外の粘着付与成分などの含有量または成分を調整することで、ガラスシート28に粘着性を持たせることができる。 As shown in FIG. 8A, an adhesive glass sheet 28 for wrapping is laid on the upper surface of the first rolling member 20. The adhesive glass sheet 28 for wrapping can be manufactured in the same manner as the glass sheet 24 of the first embodiment, and the glass sheet 28 can be made adhesive by adjusting the content or composition of, for example, the binder and/or dispersion medium and other tackifying components.

バインダとしては、たとえばエチルセルロース、ポリビニルブチラールなどを用いることができ、その含有量を第1実施形態よりも多めにすることが好ましい。また、分散媒としては、たとえばターピネオール、アセトンなどが例示され、それ以外の粘着付与成分としてはポリビニルブチラール,アクリル,ポリビニルアルコール,ポリビニルアセテート,エポキシなどの合成高分子,ロジン,テルペンなどの天然高分子,ジオクチルフタル酸などの可塑剤などが例示され,その含有量を第1実施形態よりも多めにすることが好ましい。 As the binder, for example, ethyl cellulose, polyvinyl butyral, etc. can be used, and it is preferable to make the content of the binder higher than that of the first embodiment. In addition, examples of the dispersion medium include terpineol, acetone, etc., and other tackifying components include synthetic polymers such as polyvinyl butyral, acrylic, polyvinyl alcohol, polyvinyl acetate, and epoxy, natural polymers such as rosin and terpene, and plasticizers such as dioctyl phthalic acid, and it is preferable to make the content of the binder higher than that of the first embodiment.

図8Bに示すように、第2転動部材22を下方におろし、第2転動部材22で積層体4を第1転動部材20に押さえつける。積層体4の側面5aが巻き付け用粘着性ガラスシート28に貼り付き、絶縁層16aとなる外周膜28aが形成される。また、巻き付け用粘着性ガラスシート28には切り込み29が形成してあってもよい。 As shown in FIG. 8B, the second rolling member 22 is lowered, and the laminate 4 is pressed against the first rolling member 20 by the second rolling member 22. The side surface 5a of the laminate 4 is attached to the adhesive glass sheet 28 for wrapping, and an outer peripheral film 28a that becomes the insulating layer 16a is formed. The adhesive glass sheet 28 for wrapping may also have a cut 29 formed therein.

図8Cに示すように、第2転動部材22で積層体4を第1転動部材20に押さえつけながら、第2転動部材22を、前述した実施形態と同様にして矢印の方向に移動させると、積層体4が転動し、外周膜28aが積層体4に付着して、第1転動部材20の表面から引き離される。 As shown in FIG. 8C, when the second rolling member 22 is moved in the direction of the arrow while pressing the laminate 4 against the first rolling member 20 with the second rolling member 22, as in the previously described embodiment, the laminate 4 rolls, and the outer peripheral film 28a adheres to the laminate 4 and is pulled away from the surface of the first rolling member 20.

さらに第2転動部材22を前記と同じ方向に移動させると、図8Dに示すように、積層体4が転動し、積層体の側面5bに巻き付け用粘着性ガラスシート28が貼り付き、絶縁層16bとなる外周膜28bが形成される。さらに第2転動部材22を矢印の方向に移動させると、図8Eに示すように、積層体4が転動し、積層体の側面5cに巻き付け用粘着性ガラスシート28が貼り付き、外周層16cとなる外周膜28cが形成される。さらに積層体4を転動させることで、図8Fに示すように、積層体4が転動し、積層体の側面5dに巻き付け用粘着性ガラスシート28が貼り付き、外周層16dとなる外周膜28dが形成される。 When the second rolling member 22 is further moved in the same direction as above, the laminate 4 rolls as shown in FIG. 8D, and the adhesive glass sheet 28 for wrapping adheres to the side surface 5b of the laminate, forming the outer peripheral film 28b that will become the insulating layer 16b. When the second rolling member 22 is further moved in the direction of the arrow, the laminate 4 rolls as shown in FIG. 8E, and the adhesive glass sheet 28 for wrapping adheres to the side surface 5c of the laminate, forming the outer peripheral film 28c that will become the outer peripheral layer 16c. By further rolling the laminate 4, the laminate 4 rolls as shown in FIG. 8F, and the adhesive glass sheet 28 for wrapping adheres to the side surface 5d of the laminate, forming the outer peripheral film 28d that will become the outer peripheral layer 16d.

さらに、図8Fに示すように、積層体4が貼り付いている第2転動部材22の上部から、積層体4を第1転動部材20側に押さえつけることで、外周膜28dを、巻き付け用粘着性ガラスシート28から切り離すことができる。このようにすることで、外周膜28aの端部と外周膜28dとが接合し、図8Gに示すように、外周膜28a~28dが巻き付けられ積層体4を得ることができる。図8Gに示す外周膜28a~28dは、焼き付け処理後に図2Aに示す絶縁層16a~16dとなる。 Furthermore, as shown in FIG. 8F, by pressing the laminate 4 against the first rolling member 20 from the top of the second rolling member 22 to which the laminate 4 is attached, the outer peripheral film 28d can be separated from the adhesive glass sheet 28 for wrapping. In this way, the end of the outer peripheral film 28a and the outer peripheral film 28d are bonded, and as shown in FIG. 8G, the outer peripheral films 28a to 28d are wrapped around the laminate 4 to obtain it. The outer peripheral films 28a to 28d shown in FIG. 8G become the insulating layers 16a to 16d shown in FIG. 2A after baking processing.

なお、本実施形態では、外周膜28a~28dが巻き付けられ積層体4を形成する前に、積層体4の側面5a~5dおよび/または端面5e,5fをクリーニング処理してもよい。 In this embodiment, the side surfaces 5a-5d and/or end surfaces 5e, 5f of the laminate 4 may be cleaned before the outer peripheral films 28a-28d are wrapped around the laminate 4 to form the laminate 4.

クリーニング処理を行う場合には、第1転動部材20および第2転動部材22の表面は、粘着性を有していることが好ましい。粘着性を有する第1転動部材20および第2転動部材22としては、相互に同じ材質であってもよく、あるいは異なる材質であってもよい。 When performing a cleaning process, it is preferable that the surfaces of the first rolling member 20 and the second rolling member 22 have adhesive properties. The first rolling member 20 and the second rolling member 22 that have adhesive properties may be made of the same material or different materials.

これらの第1転動部材20および第2転動部材22としては、特に限定されず、たとえば発泡シート、シリコーンなどのゴムシート、アクリル系テープ、UVテープ(UV照射により粘着力が弱くなるようなテープ)などのように、シート素材の表面自体が粘着面となるシートであってもよい。発泡シートを構成する樹脂としては、たとえばウレタン、アクリル、シリコーン、ポリエステル、ポリウレタンなどが例示される。 The first rolling member 20 and the second rolling member 22 are not particularly limited, and may be, for example, a sheet in which the surface of the sheet material itself is adhesive, such as a foam sheet, a rubber sheet such as silicone, an acrylic tape, or a UV tape (a tape whose adhesive strength weakens when exposed to UV rays). Examples of resins that make up the foam sheet include urethane, acrylic, silicone, polyester, and polyurethane.

まず、図9Aに示すように、第2転動部材22を下方におろし、第2転動部材22で積層体4を第1転動部材20の巻き付け用粘着性ガラスシート28が敷かれていない部分に押さえつける。次に図9Bに示すように、第2転動部材22を、前述した実施形態と同様にして矢印の方向に移動させると、積層体4が転動し、粘着性を有する第1転動部材20に付着していた積層体4の側面5aと第2転動部材22に付着していた積層体4の側面5cが、第1転動部材20の上面および第2転動部材22の下面から剥がれる。その際に、積層体4の側面5aと側面5cの表面からゴミなどが第1転動部材20または第2転動部材22の接触表面に移し取られ、側面5a,5cをクリーニングすることができる。 First, as shown in FIG. 9A, the second rolling member 22 is lowered and the laminate 4 is pressed against the portion of the first rolling member 20 where the adhesive glass sheet 28 for wrapping is not laid by the second rolling member 22. Next, as shown in FIG. 9B, when the second rolling member 22 is moved in the direction of the arrow in the same manner as in the above-mentioned embodiment, the laminate 4 rolls, and the side 5a of the laminate 4 attached to the adhesive first rolling member 20 and the side 5c of the laminate 4 attached to the second rolling member 22 are peeled off from the upper surface of the first rolling member 20 and the lower surface of the second rolling member 22. At that time, dirt and the like are transferred from the surfaces of the side 5a and side 5c of the laminate 4 to the contact surface of the first rolling member 20 or the second rolling member 22, and the sides 5a and 5c can be cleaned.

さらに第2転動部材22を矢印の方向に移動させると、積層体4が転動し、積層体4の側面5bが第1転動部材20に付着すると共に、積層体4の側面5dが第2転動部材22に付着する。このとき、積層体4の側面5cの位置が、巻き付け用粘着性ガラスシート28の端部の位置と一致している。 When the second rolling member 22 is further moved in the direction of the arrow, the laminate 4 rolls, and the side surface 5b of the laminate 4 adheres to the first rolling member 20, and the side surface 5d of the laminate 4 adheres to the second rolling member 22. At this time, the position of the side surface 5c of the laminate 4 coincides with the position of the end of the adhesive glass sheet 28 for wrapping.

さらに第2転動部材22を矢印の方向に移動させると、積層体4が転動し、第1転動部材20に付着していた積層体4の側面5bと第2転動部材22に付着していた積層体4の側面5dが、第1転動部材20の上面および第2転動部材22の下面から剥がれる。その際に、積層体4の側面5bと側面5dの表面からゴミなどが第1転動部材20または第2転動部材22の接触表面に移し取られ、側面5b,5dをクリーニングすることができる。 When the second rolling member 22 is further moved in the direction of the arrow, the stack 4 rolls, and the side surface 5b of the stack 4 that was attached to the first rolling member 20 and the side surface 5d of the stack 4 that was attached to the second rolling member 22 are peeled off from the upper surface of the first rolling member 20 and the lower surface of the second rolling member 22. At that time, dirt and the like are transferred from the surfaces of the side surfaces 5b and 5d of the stack 4 to the contact surface of the first rolling member 20 or the second rolling member 22, and the sides 5b and 5d can be cleaned.

すなわち、積層体4の側面5a~5dが第1転動部材20の上面および第2転動部材22の下面から剥がれる過程において、積層体4の側面5a~5dに付着していた切削くずやゴミ(たとえば焼成時に付着したセッターかす)などを、第1転動部材20の上面および第2転動部材22の下面に付着させて除去することができる。 In other words, in the process in which the side surfaces 5a to 5d of the laminate 4 are peeled off from the upper surface of the first rolling member 20 and the lower surface of the second rolling member 22, cutting waste and debris (for example, setter shavings that adhere during firing) that were attached to the side surfaces 5a to 5d of the laminate 4 can be removed by adhering them to the upper surface of the first rolling member 20 and the lower surface of the second rolling member 22.

図9Bにおいて、さらに第2転動部材22を、前記と同じ方向に移動させると、積層体4が転動し、積層体4の側面5cが巻き付け用粘着性ガラスシート28に付着し、絶縁層16cが形成される。この状態は、図8Bの積層体4の上下が反対になった状態であり、そのまま第2転動部材22を矢印の方向に移動させることで、積層体4のクリーニング処理に連続して積層体4の側面5a~5dの外周に絶縁層16a~16dを形成する工程を行うことができる。 In Figure 9B, when the second rolling member 22 is further moved in the same direction as above, the laminate 4 rolls, and the side surface 5c of the laminate 4 adheres to the adhesive glass sheet 28 for wrapping, forming an insulating layer 16c. In this state, the laminate 4 in Figure 8B is upside down, and by moving the second rolling member 22 in this state in the direction of the arrow, the process of forming insulating layers 16a to 16d on the outer periphery of the sides 5a to 5d of the laminate 4 can be carried out following the cleaning process of the laminate 4.

また、図9Aの状態から、第2転動部材22をY軸方向に移動させることで、積層体4を2回転動させることで、積層体4の端面5e,5fをクリーニングすることも可能である。 In addition, by moving the second rolling member 22 in the Y-axis direction from the state shown in FIG. 9A, the stack 4 can be rotated two times to clean the end faces 5e and 5f of the stack 4.

なお、本実施形態では、第1転動部材20と第2転動部材22のいずれもが、粘着性を有しているが、第1転動部材20は粘着性を有していなくてもよい。その場合は、積層体4を第1転動部材20に押さえつける位置を巻き付け用粘着性ガラスシート28の端部から離し、転動回数を増やすことで、積層体4のすべての側面5a~5dをクリーニングすることができる。また、転動させる方向を変えることで、積層体4の端面5e,5fもクリーニングすることができる。さらに、クリーニングするための転動部材は、転がり転写させるための転動部材とは別の部材を用いてもよい。 In this embodiment, both the first rolling member 20 and the second rolling member 22 are adhesive, but the first rolling member 20 does not have to be adhesive. In that case, all the side surfaces 5a to 5d of the laminate 4 can be cleaned by moving the position where the laminate 4 is pressed against the first rolling member 20 away from the end of the adhesive glass sheet 28 for wrapping and increasing the number of times of rolling. In addition, by changing the direction of rolling, the end surfaces 5e and 5f of the laminate 4 can also be cleaned. Furthermore, the rolling member for cleaning may be a member different from the rolling member for rolling transfer.

第4実施形態
本実施形態に係る積層セラミックコンデンサの製造方法は、図3Aに示すように、積層体4の外装領域11の構成が第1~第3実施形態と異なるのみであり、共通する部分の説明は省略し、以下、異なる部分について主として詳細に説明する。以下において説明しない部分は、上述した実施形態の説明と同様である。
3A, the method for manufacturing a multilayer ceramic capacitor according to this embodiment differs from the first to third embodiments only in the configuration of the exterior region 11 of the laminate 4, and a description of the common parts will be omitted and the following description will focus mainly on the different parts. The parts that are not described below are the same as those described in the above embodiments.

本実施形態での外装領域11は、内側誘電体層10と同じ誘電体を、外側誘電体層として1層または複数設けて、図2Aに示す外装領域11の厚みよりも極端に薄くしてある。また、本実施形態では、図3Aに示す外装領域11を全く形成しなくてもよい。 In this embodiment, the exterior region 11 is made extremely thinner than the thickness of the exterior region 11 shown in FIG. 2A by providing one or more outer dielectric layers made of the same dielectric as the inner dielectric layer 10. Also, in this embodiment, it is not necessary to form the exterior region 11 shown in FIG. 3A at all.

すなわち、素子本体4では、各層の積層方向(Z軸方向)の外装領域11が側面を形成しており、外装領域11の側面5a,5dに絶縁層16a,16dが形成してある。本実施形態では外装領域11の厚さが、内装領域13を形成するセラミック層10と同程度の厚さである。なお、絶縁層16a~16pの融点は、外装領域11の融点よりも低い。 That is, in the element body 4, the exterior region 11 in the stacking direction of each layer (Z-axis direction) forms the side surface, and insulating layers 16a, 16d are formed on the side surfaces 5a, 5d of the exterior region 11. In this embodiment, the thickness of the exterior region 11 is approximately the same as the thickness of the ceramic layer 10 that forms the interior region 13. The melting points of the insulating layers 16a to 16p are lower than the melting point of the exterior region 11.

本実施形態では、外装領域11が内側誘電体層10と同程度の厚さ、あるいは外装領域11が無くとも、絶縁層16a~16dが、積層体4の側面5a~5dを被覆しているため、十分な保護機能と強度を有し、積層セラミックコンデンサ2の耐久性、耐湿性を向上させ、長期にわたる使用の信頼性を向上させることが可能になる。 In this embodiment, even if the exterior region 11 is as thick as the inner dielectric layer 10, or even if there is no exterior region 11, the insulating layers 16a to 16d cover the side surfaces 5a to 5d of the laminate 4, providing sufficient protection and strength, improving the durability and moisture resistance of the laminated ceramic capacitor 2, and making it possible to improve reliability over long periods of use.

第5実施形態
本実施形態に係る積層セラミックコンデンサの製造方法は、図3Bに示すように、内側誘電体層10および内部電極層12の端部の構成が、第1~第4実施形態と異なるのみであり、共通する部分の説明は省略し、以下、異なる部分について主として詳細に説明する。以下において説明しない部分は、上述した実施形態の説明と同様である。
Fifth embodiment The method of manufacturing a multilayer ceramic capacitor according to this embodiment differs from the first to fourth embodiments only in the configurations of the inner dielectric layers 10 and the ends of the internal electrode layers 12, as shown in Fig. 3B, and a description of the common parts will be omitted, and the following description will focus mainly on the different parts. The parts that are not described below are the same as those described in the above-mentioned embodiments.

本実施形態では、内側誘電体層10および内部電極層12のX軸方向の両端部に誘電体ギャップ部18b,18dが形成されている。すなわち、誘電体ギャップ18b,18dのX軸方向の外側が、積層体4の側面5b,5dを形成している。このように、誘電体ギャップ部18b,18dが形成されていることで、内部電極層の端部が誘電体ギャップ18b,18dで覆われるため、積層セラミックコンデンサ2の耐久性、耐湿性を向上させ、長期にわたる使用の信頼性を向上させることが可能になる。 In this embodiment, dielectric gaps 18b, 18d are formed at both ends in the X-axis direction of the inner dielectric layer 10 and the internal electrode layer 12. That is, the outer sides of the dielectric gaps 18b, 18d in the X-axis direction form the side surfaces 5b, 5d of the laminate 4. In this way, by forming the dielectric gaps 18b, 18d, the ends of the internal electrode layers are covered with the dielectric gaps 18b, 18d, which improves the durability and moisture resistance of the multilayer ceramic capacitor 2 and makes it possible to improve reliability in long-term use.

本実施形態の積層体4は、図5Bに示すグリーンチップ4aを焼成して、上述の絶縁層16a~16dの形成工程を経ることで得られる。図5Bに示すグリーンチップ4aは、上述の積層体の製造工程での内部電極パターン層12aのパターン形状を変更し、図4Aに示すC1断面で内部電極パターン層12aが途切れるパターン形状とすることで得られる。 The laminate 4 of this embodiment is obtained by firing the green chip 4a shown in FIG. 5B and going through the process of forming the insulating layers 16a to 16d described above. The green chip 4a shown in FIG. 5B is obtained by changing the pattern shape of the internal electrode pattern layer 12a in the manufacturing process of the laminate described above, so that the internal electrode pattern layer 12a is interrupted at the cross section C1 shown in FIG. 4A.

なお、図3Cは、図3Bの外装領域11(誘電体ギャップ18b,18dを含む。)の厚さを、内装領域を形成する誘電体層10と同程度の厚さにした積層体4の外周に絶縁層が形成されている。このような構造であっても、本実施形態と同様である。 In addition, in FIG. 3C, an insulating layer is formed on the outer periphery of the laminate 4, in which the thickness of the exterior region 11 (including the dielectric gaps 18b and 18d) in FIG. 3B is approximately the same as the thickness of the dielectric layer 10 that forms the interior region. Even with this structure, it is the same as this embodiment.

第6実施形態
本実施形態に係る積層セラミックコンデンサの製造方法は、図10A~図10Gに示すように、積層体4の外周に絶縁層を形成する工程において、粘着シート26の構成が、前述した実施形態の積層セラミックコンデンサの製造方法と異なるのみであり、共通する部分の説明は省略し、以下、異なる部分について主として詳細に説明する。以下において説明しない部分は、前述した実施形態の説明と同様である。
10A to 10G, the method for manufacturing a multilayer ceramic capacitor according to this embodiment differs from the method for manufacturing a multilayer ceramic capacitor according to the previous embodiment only in the configuration of the adhesive sheet 26 in the step of forming an insulating layer on the outer periphery of the laminate 4. Explanation of the common parts will be omitted, and the following will mainly describe the different parts in detail. The parts that are not explained below are the same as those explained in the previous embodiment.

本実施形態では、粘着シート26は、所定のパターンで巻き付け用ガラスシート24の上に、素子本体の側面のサイズに合わせて断続的に装着してある。すなわち、積層体4の側面(外面)の内、絶縁層を形成したい部分に対応する位置に粘着シート26を装着し、そうでない部分では、粘着シート26を装着していない。本実施形態では、図2Aに示す側面5b,5dに絶縁層16b,16dを形成する場合について説明する。 In this embodiment, the adhesive sheet 26 is intermittently attached to the winding glass sheet 24 in a predetermined pattern in accordance with the size of the side of the element body. That is, the adhesive sheet 26 is attached to the positions of the side (outer surface) of the laminate 4 that correspond to the portion where the insulating layer is to be formed, and the adhesive sheet 26 is not attached to other portions. In this embodiment, a case where insulating layers 16b and 16d are formed on the side surfaces 5b and 5d shown in FIG. 2A will be described.

図10Aに示すように、第1転動部材20の上面には巻き付け用ガラスシート24が敷かれており、巻き付け用ガラスシート24の上面に粘着シート26が一定のパターンで貼り付けられている。本実施形態では、第2転動部材22は粘着性を有する。 As shown in FIG. 10A, a winding glass sheet 24 is laid on the upper surface of the first rolling member 20, and an adhesive sheet 26 is attached in a certain pattern to the upper surface of the winding glass sheet 24. In this embodiment, the second rolling member 22 has adhesive properties.

図10Bに示すように、第2転動部材22を下方におろし、第2転動部材22で積層体4を第1転動部材20に押さえつける。積層体4の外面5aに対応する位置には粘着シート26がなく粘着層は形成されない。 As shown in FIG. 10B, the second rolling member 22 is lowered, and the second rolling member 22 presses the laminate 4 against the first rolling member 20. There is no adhesive sheet 26 at the position corresponding to the outer surface 5a of the laminate 4, and therefore no adhesive layer is formed.

図10Cに示すように、第2転動部材22で積層体4を第1転動部材20に押さえつけながら、第2転動部材22を矢印の方向に相対移動させると、積層体4が転動する。 As shown in FIG. 10C, when the second rolling member 22 presses the stack 4 against the first rolling member 20 and moves the second rolling member 22 relative to the first rolling member 20 in the direction of the arrow, the stack 4 rolls.

さらに第2転動部材22矢印の方向に移動させると、図10Dに示すように、積層体4が転動し、積層体の外面5bに粘着シート26が貼り付き、粘着層26bおよび絶縁層16bとなる外周膜24bが形成される。なお、巻き付け用ガラスシート24には切り込み25が形成してあり、切り込み25の位置は、積層体4の側面5aの位置と一致している。 When the second rolling member 22 is further moved in the direction of the arrow, the laminate 4 rolls as shown in FIG. 10D, and the adhesive sheet 26 adheres to the outer surface 5b of the laminate, forming an adhesive layer 26b and an outer film 24b that becomes an insulating layer 16b. Note that a cut 25 is formed in the wrapping glass sheet 24, and the position of the cut 25 coincides with the position of the side surface 5a of the laminate 4.

さらに第2転動部材22を矢印の方向に移動させると、図10Eに示すように、積層体4が転動し、外周膜24bが切り込み25で巻き付け用誘電体シート24から切り離される。また、積層体4の外面5cに対応する位置には粘着シート26がなく粘着層は形成されない。 When the second rolling member 22 is further moved in the direction of the arrow, the laminate 4 rolls, as shown in FIG. 10E, and the outer peripheral film 24b is cut off from the winding dielectric sheet 24 at the notch 25. Furthermore, there is no adhesive sheet 26 at the position corresponding to the outer surface 5c of the laminate 4, and therefore no adhesive layer is formed.

さらに積層体4を転動させることで、図10Fに示すように、積層体4が転動し、積層体の外面5dに粘着シート26が貼り付き、粘着層26dおよび絶縁層16dとなる外周膜24dが形成される。 By further rolling the laminate 4, as shown in FIG. 10F, the laminate 4 rolls, the adhesive sheet 26 adheres to the outer surface 5d of the laminate, and an outer film 24d that becomes the adhesive layer 26d and the insulating layer 16d is formed.

さらに、図10Fに示すように、積層体4が貼り付いている第2転動部材22の上部から、積層体4を第1転動部材20側に押さえつけることで、外周膜24dを、巻き付け用ガラスシート24から切り離す。このようにすることで、図10Gに示す外周膜24b,24dが外面5b,5dに形成された積層体4を得る。 Furthermore, as shown in FIG. 10F, the laminate 4 is pressed against the first rolling member 20 from the top of the second rolling member 22 to which the laminate 4 is attached, thereby separating the outer peripheral film 24d from the winding glass sheet 24. In this way, a laminate 4 is obtained in which the outer peripheral films 24b, 24d are formed on the outer surfaces 5b, 5d as shown in FIG. 10G.

このようにして得られた外周膜24b,24dを積層体4を焼き付けることで、図2Aの外面5b,5dに絶縁層が形成されるが、外面5a,5cには絶縁層が形成されていない積層体4を得ることができる。また、粘着シート26のパターン(必要に応じて切り込み25のパターンも変更可)を変更することで、積層体4の任意の位置に絶縁層を形成することができる。たとえば外周膜24b,24dは、積層体4の角部17を覆うようなパターンでもよい。さらに、粘着シート26は必ずしも必要ではなく、ガラスシート24自体が粘着性を有して所定パターンで第1転動部材に形成されていてもよい。 By baking the outer peripheral films 24b and 24d thus obtained onto the laminate 4, an insulating layer is formed on the outer surfaces 5b and 5d of FIG. 2A, but the laminate 4 can be obtained in which no insulating layer is formed on the outer surfaces 5a and 5c. In addition, by changing the pattern of the adhesive sheet 26 (the pattern of the cuts 25 can also be changed as necessary), an insulating layer can be formed at any position on the laminate 4. For example, the outer peripheral films 24b and 24d may be patterned to cover the corners 17 of the laminate 4. Furthermore, the adhesive sheet 26 is not necessarily required, and the glass sheet 24 itself may be adhesive and formed on the first rolling member in a predetermined pattern.

第7実施形態
本実施形態に係る積層セラミックコンデンサの製造方法は、積層体4の外周に絶縁層を形成する方法が第1~第6実施形態と異なるのみであり、共通する部分の説明は省略し、以下、異なる部分について主として詳細に説明する。以下において説明しない部分は、第1~第6実施形態の説明と同様である。
Seventh embodiment The method for manufacturing a multilayer ceramic capacitor according to this embodiment differs from the first to sixth embodiments only in the method for forming an insulating layer on the outer periphery of the laminate 4, and so a description of the common parts will be omitted and the following description will focus mainly on the different parts. The parts that will not be described below are the same as those described in the first to sixth embodiments.

本実施形態では、絶縁層16a~16dの主成分を、ガラスではなく、誘電体で構成するように、ガラスシート24の代わりに、誘電体シートを用いている以外は、前述した実施形態と同様である。 This embodiment is similar to the previously described embodiment, except that a dielectric sheet is used instead of the glass sheet 24 so that the main component of the insulating layers 16a to 16d is a dielectric rather than glass.

本実施形態の絶縁層16a~16d(16pも含む/以下同様)は、素子本体4の誘電体層10,11と実質的に同一または異なる組成の誘電体で構成してある。素子本体4の誘電体層10,11と実質的に同一の組成とは、たとえば素子本体4の誘電体層10,11の誘電体主成分と、絶縁層16a~16dの誘電体主成分が同じである場合などである。たとえば絶縁層16a~16dの誘電体主成分は、ABOなどのペロブスカイト構造の誘電体材料やニオブ酸アルカリ系セラミックなどであってもよい。 The insulating layers 16a to 16d (including 16p/hereinafter the same) of this embodiment are made of a dielectric material having substantially the same or different composition as the dielectric layers 10, 11 of the element body 4. Substantially the same composition as the dielectric layers 10, 11 of the element body 4 means, for example, that the main dielectric component of the dielectric layers 10, 11 of the element body 4 is the same as the main dielectric component of the insulating layers 16a to 16d. For example, the main dielectric component of the insulating layers 16a to 16d may be a dielectric material with a perovskite structure such as ABO3 , an alkali niobate ceramic, or the like.

好ましくは、絶縁層16a~16dは、素子本体4の誘電体層10,11よりも、焼結性を向上させる成分の含有量が多い組成で構成してある。 Preferably, the insulating layers 16a to 16d are composed of a composition that contains a higher amount of components that improve sinterability than the dielectric layers 10 and 11 of the element body 4.

誘電体層10,11は、内部電極層12との同時焼成が可能でありながら、誘電率などのように電子部品に必要な特性を向上させる観点から組成が決定される。また、絶縁層16a~16dは、たとえば内部電極層12との同時焼成が可能でありながら、誘電体層10,11の組成ズレを生じさせず、しかも誘電体層10,11よりも焼結性に優れる組成となるように、組成が決定される。このような観点から、誘電体層10,11よりも絶縁層16a~16dに多く含まれる好ましい成分としては、ホウ素、ホウ素、リチウム、シリコン(Si)、マンガン、マグネシウムなどが例示される。 The composition of the dielectric layers 10, 11 is determined from the viewpoint of improving the characteristics required for electronic components, such as the dielectric constant, while allowing simultaneous firing with the internal electrode layer 12. The composition of the insulating layers 16a-16d is determined so that, for example, simultaneous firing with the internal electrode layer 12 is possible, but does not cause a compositional deviation in the dielectric layers 10, 11, and has a composition that is superior in sinterability to the dielectric layers 10, 11. From this viewpoint, examples of preferred components that are contained in greater amounts in the insulating layers 16a-16d than in the dielectric layers 10, 11 include boron, lithium, silicon (Si), manganese, and magnesium.

たとえばホウ素などの成分が誘電体層10,11の含有量に比較して、絶縁層16a~16dには、0.1~5.0モル%程度に多く含まれることで、絶縁層16a~16dが誘電体層10,11よりも低温で焼結すると共に,焼結密度が向上し,水分の侵入防止効果が高まる。 For example, by containing a component such as boron in the insulating layers 16a-16d at a content of about 0.1-5.0 mol % higher than that in the dielectric layers 10, 11, the insulating layers 16a-16d are sintered at a lower temperature than the dielectric layers 10, 11, and the sintered density is improved, which enhances the effect of preventing moisture penetration.

また、本実施形態では、絶縁層16a~16dの主成分が誘電体であることで、焼結時に絶縁層と積層体の密着性が向上し,絶縁層の剥がれ抑制効果が大きい。 In addition, in this embodiment, the main component of the insulating layers 16a to 16d is a dielectric, which improves the adhesion between the insulating layers and the laminate during sintering, and greatly suppresses peeling of the insulating layers.

ガラスシート24の代わりとなる誘電体シートとしては、熱処理後に図2Aに示す絶縁層16a~16dとなるシートであれば、特に限定されず、たとえば図1に示す誘電体層10または11を形成するための誘電体グリーンシートと実質的に同一主成分の材質または異なる材質の誘電体シート、あるいはその他の半硬化誘電体シートなどが例示される。 The dielectric sheet that can be used in place of the glass sheet 24 is not particularly limited as long as it is a sheet that becomes the insulating layers 16a to 16d shown in FIG. 2A after heat treatment, and examples include a dielectric sheet made of a material with substantially the same main component as the dielectric green sheet for forming the dielectric layers 10 or 11 shown in FIG. 1 or a different material, or other semi-cured dielectric sheets.

たとえば誘電体シート24は、図4Aまたは図4Bに示す誘電体グリーンシート10aに比較して、誘電体原料に関しては、前述したように、実質的に同一であることが好ましいが、異なっていてもよい。また、誘電体原料の副成分に関しても、たとえばホウ素などの焼結性を向上させる成分含有量が多いことが好ましい。 For example, the dielectric sheet 24 is preferably substantially the same as the dielectric green sheet 10a shown in FIG. 4A or FIG. 4B in terms of the dielectric raw material as described above, but may be different. Also, with regard to the sub-components of the dielectric raw material, it is preferable that the content of components that improve sinterability, such as boron, is high.

また、誘電体シート24は、図4Aまたは図4Bに示す誘電体グリーンシート10aに比較して、バインダおよび可塑剤は、バインダと可塑剤を合せて1~10%程度多く含まれることが好ましい。誘電体シート24は、第1転動部材20の表面に、剥離可能にしかも横ずれ移動しないように設置される。 In addition, the dielectric sheet 24 preferably contains about 1 to 10% more binder and plasticizer combined than the dielectric green sheet 10a shown in FIG. 4A or 4B. The dielectric sheet 24 is installed on the surface of the first rolling member 20 so as to be peelable but not to shift laterally.

本実施形態では、積層体4の焼結と、外周膜24a~24dの焼き付けと、を同時に行うことが好ましいが、積層体4の焼結を行ってから外周膜24a~24dの焼き付けを行ってもよい。 In this embodiment, it is preferable to simultaneously sinter the laminate 4 and bake the outer peripheral films 24a to 24d, but it is also possible to sinter the laminate 4 and then bake the outer peripheral films 24a to 24d.

なお、本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の範囲内で種々に改変することができる。 The present invention is not limited to the above-described embodiment, and can be modified in various ways within the scope of the present invention.

たとえば、図1に示す第1実施形態の積層セラミックコンデンサ2において、外側誘電体層11,11の少なくともいずれかは無くても良い。また、上述した実施形態において、絶縁層16a~16dの主成分は、ガラスまたは誘電体以外で構成されてもよい。たとえば、絶縁層16a~16dは、セラミック,アルミニウム,エポキシ樹脂,ポリイミド樹脂などで構成されていてもよい。 For example, in the multilayer ceramic capacitor 2 of the first embodiment shown in FIG. 1, at least one of the outer dielectric layers 11, 11 may be omitted. Also, in the above-described embodiment, the main component of the insulating layers 16a to 16d may be composed of a material other than glass or a dielectric. For example, the insulating layers 16a to 16d may be composed of ceramic, aluminum, epoxy resin, polyimide resin, etc.

さらに、本発明に係る電子部品の製造方法は、積層セラミックコンデンサの製造方法に限らず、その他の電子部品の製造方法に適用することが可能である。その他の電子部品としては、素子本体の側面(端子電極が形成される外面以外の外面)に機能部が形成される全ての電子部品が例示され、たとえばバンドパスフィルタ、チップインダクタ、積層三端子フィルタ、圧電素子、チップサーミスタ、チップバリスタ、チップ抵抗、その他の表面実装(SMD)チップ型電子部品などが例示される。 Furthermore, the method for manufacturing electronic components according to the present invention is not limited to the method for manufacturing multilayer ceramic capacitors, but can be applied to the manufacturing of other electronic components. Examples of other electronic components include all electronic components in which a functional part is formed on the side surface of the element body (external surface other than the outer surface on which the terminal electrodes are formed), such as bandpass filters, chip inductors, multilayer three-terminal filters, piezoelectric elements, chip thermistors, chip varistors, chip resistors, and other surface mount (SMD) chip-type electronic components.

さらに、本発明に係る電子部品の製造方法により素子本体の外面に形成される転写膜は、焼成されて絶縁層となる機能膜以外の機能膜となることも可能である。たとえば、機能膜としては、所定パターンで形成される端子電極となる導電膜、文字またはチップの方向性識別用マークを記載した膜、カメラ外観用の色調補正膜、内部電極の透過防止膜、TiOのような光触媒機能膜などであってもよい。 Furthermore, the transfer film formed on the outer surface of the element body by the manufacturing method of electronic components according to the present invention can be a functional film other than the functional film that becomes an insulating layer when fired. For example, the functional film may be a conductive film that becomes a terminal electrode formed in a predetermined pattern, a film on which characters or a mark for identifying the direction of a chip is written, a color correction film for the appearance of a camera, a permeation prevention film for an internal electrode, a photocatalytic functional film such as TiO2 , etc.

2… 積層セラミックコンデンサ
3… 素子
4… 積層体(素子本体)
4a… グリーンチップ
5a~5d… 側面(外面)
5e,5f… 端面(外面)
6… 第1端子電極
6a… 電極ペースト膜
8… 第2端子電極
10… 内側誘電体層(セラミック層)
10a… 内側グリーンシート
11… 外装領域(セラミック層)
11a… 外側グリーンシート
12… 内部電極層
12α,12β… 引出部
12a… 内部電極パターン層
13… 内装領域
14… 容量領域
15A,15B…引出領域
16a,16b,16c,16d,16p… 絶縁層
16a1,16b1,16c1,16d1…外周面
17…角部
18b,18d… 誘電体ギャップ部
20… 第1転動部材
22… 第2転動部材
24… ガラスシート(転写層)
24a,24b,24c,24d…外周膜
25…切り込み
26… 粘着シート
26a,26b,26c,26d…粘着膜
28…粘着性ガラスシート(転写層)
28a,28b,28c,28d…外周膜
29…切り込み
2... Multilayer ceramic capacitor 3... Element 4... Laminate (element body)
4a: Green chip 5a to 5d: Side surface (outer surface)
5e, 5f... End surface (outer surface)
6: First terminal electrode 6a: Electrode paste film 8: Second terminal electrode 10: Inner dielectric layer (ceramic layer)
10a: inner green sheet 11: outer casing region (ceramic layer)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 11a... Outer green sheet 12... Internal electrode layer 12α, 12β... Lead-out portion 12a... Internal electrode pattern layer 13... Interior region 14... Capacitive region 15A, 15B... Lead-out regions 16a, 16b, 16c, 16d, 16p... Insulating layer 16a1, 16b1, 16c1, 16d1... Outer periphery 17... Corner portion 18b, 18d... Dielectric gap portion 20... First rolling member 22... Second rolling member 24... Glass sheet (transfer layer)
24a, 24b, 24c, 24d... Outer membrane 25... Incision 26... Adhesive sheet 26a, 26b, 26c, 26d... Adhesive membrane 28... Adhesive glass sheet (transfer layer)
28a, 28b, 28c, 28d... Outer membrane 29... Cut

Claims (23)

複数の外面を持つ素子本体を有する電子部品を製造する方法であって、
転写層が表面に離脱可能に装着してある転動部材の表面で、前記素子本体の外面が次々に接触するように転がして、前記転写層を前記素子本体の外面に連続的または断続的に付着させる工程を有し、
前記転写層は、前記転動部材の表面に、断続的に離脱可能に装着してあり、
前記転写層は、前記素子本体の複数の外面に断続的に転写される
電子部品の製造方法。
1. A method for manufacturing an electronic component having a device body with a plurality of exterior surfaces, comprising:
The method includes a step of rolling the outer surface of the element body so that the outer surface of the element body is successively brought into contact with the surface of a rolling member having a transfer layer removably attached to the surface, thereby continuously or intermittently attaching the transfer layer to the outer surface of the element body,
the transfer layer is intermittently and removably attached to the surface of the rolling member;
The transfer layer is intermittently transferred to a plurality of outer surfaces of the element body.
A method for manufacturing electronic components.
前記転動部材は、離脱可能に装着してある前記転写層を表面に有する第1転動部材と、前記素子本体を挟んで前記第1転動部材の反対側に位置して前記素子本体に接触する表面を有する第2転動部材と、を有し、
前記第1転動部材に対して、相互間距離を変動可能で前記第2転動部材を略平行に位置ズレするように相対移動させることで、前記素子本体を、前記第1転動部材および前記第2転動部材の双方の表面に接触させながら、前記第1転動部材の表面で転がす請求項1に記載の電子部品の製造方法。
the rolling members include a first rolling member having the transfer layer on a surface thereof and being removably attached thereto, and a second rolling member located on the opposite side of the element body to the first rolling member and having a surface which contacts the element body;
2. A method for manufacturing an electronic component according to claim 1, wherein the second rolling member is moved relative to the first rolling member so that the distance between them can be varied and the second rolling member is displaced approximately parallel to the first rolling member, thereby rolling the element body on the surface of the first rolling member while contacting the surfaces of both the first rolling member and the second rolling member.
前記第2転動部材の表面は、脱離自在に粘着層を有する請求項2に記載の電子部品の製造方法。 The method for manufacturing electronic components according to claim 2, wherein the surface of the second rolling member has a removable adhesive layer. 前記転写層の表面は、前記素子本体の外面に粘着可能な粘着層を有する請求項2に記載の電子部品の製造方法。 The method for manufacturing electronic components according to claim 2, wherein the surface of the transfer layer has an adhesive layer that can adhere to the outer surface of the element body. 前記転写層は、前記素子本体の外面に粘着可能な粘着性を有する請求項2に記載の電子部品の製造方法。 The method for manufacturing an electronic component according to claim 2, wherein the transfer layer has an adhesive property that allows it to adhere to the outer surface of the element body. 前記素子本体は、焼成される前に、前記転動部材の表面で転がされ、
前記転写層が前記素子本体の外面に転写された後に、前記素子本体は前記転写層と共に焼成される請求項1~5のいずれかに記載の電子部品の製造方法。
the element body is rolled on a surface of the rolling member before being fired;
6. The method for manufacturing an electronic component according to claim 1, wherein after the transfer layer is transferred to the outer surface of the element body, the element body is fired together with the transfer layer.
前記素子本体は、焼成された後に、前記転動部材の表面で転がされる請求項1~5のいずれかに記載の電子部品の製造方法。 The method for manufacturing electronic components according to any one of claims 1 to 5, wherein the element body is rolled on the surface of the rolling member after being fired. 前記転動部材の表面に装着してある前記転写層には、切り込みが形成してあり、
前記素子本体の外面に前記転写層が前記切り込みを始点として転写される1~のいずれかに記載の電子部品の製造方法。
The transfer layer attached to the surface of the rolling member has a notch formed therein,
The method for manufacturing an electronic component according to any one of 1 to 7 , wherein the transfer layer is transferred onto the outer surface of the element body starting from the incision.
前記転写層が転写された前記素体本体を、前記転写層の上から前記転動部材に押し付けることで、前記素体本体に転写されている前記転写層を、前記転動部材の表面に装着してある前記転写層から切り離す請求項1~のいずれかに記載の電子部品の製造方法。 9. The method for manufacturing an electronic component according to claim 1, wherein the base body to which the transfer layer has been transferred is pressed against the rolling member from above the transfer layer, thereby separating the transfer layer transferred to the base body from the transfer layer attached to the surface of the rolling member . 複数の外面を持つ素子本体を有する電子部品を製造する方法であって、
転写層が表面に離脱可能に装着してある転動部材の表面で、前記素子本体の外面が次々に接触するように転がして、前記転写層を前記素子本体の外面に連続的または断続的に付着させる工程を有し、
前記転動部材の表面、または前記転動部材とは異なる別の転動部材の表面で、前記素子本体を転がす際に、いずれかの前記転動部材の表面に形成してある清掃面に前記素子本体の外面を接触させて前記素子本体の外面をクリーニングする工程を、さらに有する電子部品の製造方法。
1. A method for manufacturing an electronic component having a device body with a plurality of exterior surfaces, comprising:
The method includes a step of rolling the outer surface of the element body so that the outer surface of the element body is successively brought into contact with the surface of a rolling member having a transfer layer removably attached to the surface, thereby continuously or intermittently attaching the transfer layer to the outer surface of the element body,
The method for manufacturing an electronic component further includes a step of cleaning the outer surface of the element body by contacting the outer surface of the element body with a cleaning surface formed on the surface of either the rolling member or another rolling member different from the rolling member when rolling the element body on the surface of the rolling member or the surface of another rolling member different from the rolling member.
前記転写層は、前記転動部材の表面に、断続的に離脱可能に装着してあり、
前記転写層は、前記素子本体の複数の外面に断続的に転写される請求項10に記載の電子部品の製造方法。
the transfer layer is intermittently and removably attached to the surface of the rolling member;
The method for manufacturing an electronic component according to claim 10 , wherein the transfer layer is intermittently transferred to a plurality of outer surfaces of the element body.
前記素子本体の外面は、周方向に沿って連続する側面と、複数の前記側面に交差する端面とを有し、
前記転写層は、前記素子本体の周方向に沿って連続する全ての外面を覆うように、前記転動部材の表面で前記素子本体を転がす請求項10に記載の電子部品の製造方法。
The outer surface of the element body has a side surface that is continuous along a circumferential direction and an end surface that intersects with a plurality of the side surfaces,
The method for manufacturing an electronic component according to claim 10 , wherein the element body is rolled on the surface of the rolling member so that the transfer layer covers the entire outer surface of the element body that is continuous along the circumferential direction.
前記転写層は、ガラスシートまたは誘電体シートのいずれかである請求項1~12のいずれかに記載の電子部品の製造方法。 The method for manufacturing electronic components according to any one of claims 1 to 12, wherein the transfer layer is either a glass sheet or a dielectric sheet. 前記転写層の組成は、面方向に沿って略均一である請求項1~13のいずれかに記載の電子部品の製造方法。 The method for manufacturing electronic components according to any one of claims 1 to 13, wherein the composition of the transfer layer is substantially uniform along the surface direction. 前記転写層の厚さは、面方向に沿って実質的に均一である請求項1~14のいずれかに記載の電子部品の製造方法。 The method for manufacturing electronic components according to any one of claims 1 to 14, wherein the thickness of the transfer layer is substantially uniform along the surface direction. 前記転写層はガラスシートであり、前記素子本体が、焼成された後に、前記転写層を転写する請求項7~15のいずれかに記載の電子部品の製造方法。 The method for manufacturing an electronic component according to any one of claims 7 to 15, wherein the transfer layer is a glass sheet, and the transfer layer is transferred to the element body after it has been fired. 前記素子本体は、セラミック層と内部電極層とが積層してある積層構造を有する請求項1~16のいずれかに記載の電子部品の製造方法。 The method for manufacturing an electronic component according to any one of claims 1 to 16, wherein the element body has a laminated structure in which ceramic layers and internal electrode layers are laminated. 前記素子本体は、積層方向に外装領域を有し、前記外装領域の外面に前記転写層を形成する請求項17に記載の電子部品の製造方法。 The method for manufacturing an electronic component according to claim 17, wherein the element body has an exterior region in the stacking direction, and the transfer layer is formed on the outer surface of the exterior region. 前記外装領域が、内装領域を形成する前記セラミック層よりも厚く形成されている請求項18に記載の電子部品の製造方法。 The method for manufacturing an electronic component according to claim 18, wherein the exterior region is formed to be thicker than the ceramic layer forming the interior region. 前記外装領域の厚さが、内装領域を形成する前記セラミック層と同程度の厚さである請求項18または19に記載の電子部品の製造方法。 The method for manufacturing an electronic component according to claim 18 or 19, wherein the thickness of the exterior region is approximately the same as the thickness of the ceramic layer forming the interior region. 前記外装領域が、前記素子本体の前記積層方向に垂直な方向にも形成してある請求項18~20のいずれかに記載の電子部品の製造方法。 The method for manufacturing an electronic component according to any one of claims 18 to 20, wherein the exterior region is also formed in a direction perpendicular to the stacking direction of the element body. 電子部品のための素子本体の複数の外面に機能膜を形成するための電子部品の機能膜形成装置であって、
前記機能膜となる転写層が表面に離脱可能に装着してある第1転動部材と、
前記素子本体を挟んで前記第1転動部材の反対側に位置して前記素子本体に接触する表面を有する第2転動部材と、
前記素子本体を、前記第1転動部材および前記第2転動部材の間に挟んで、前記第1転動部材の表面で転がすために、前記第1転動部材に対して、相互間距離が変動可能で前記第2転動部材を略平行に位置ズレするように相対移動させる駆動機構と、を有し、
前記転写層が前記素子本体の複数の外面に断続的に転写されるように、前記転写層は、前記第1転動部材の表面に、断続的に離脱可能に装着してある
電子部品の機能膜形成装置。
A functional film forming apparatus for electronic components for forming functional films on a plurality of outer surfaces of an element body for an electronic component, comprising:
A first rolling member having a transfer layer that becomes the functional film removably attached to a surface thereof;
a second rolling member located on the opposite side of the element body from the first rolling member and having a surface that contacts the element body;
a drive mechanism for moving the second rolling member relatively to the first rolling member so that the distance between the second rolling member and the first rolling member is variable and the second rolling member is displaced substantially parallel to the first rolling member in order to sandwich the element body between the first rolling member and the second rolling member and roll the element body on a surface of the first rolling member ;
The transfer layer is intermittently and removably attached to a surface of the first rolling member so that the transfer layer is intermittently transferred to a plurality of outer surfaces of the element body.
Functional film formation equipment for electronic components.
電子部品のための素子本体の複数の外面に機能膜を形成するための電子部品の機能膜形成装置であって、
前記機能膜となる転写層が表面に離脱可能に装着してある第1転動部材と、
前記素子本体を挟んで前記第1転動部材の反対側に位置して前記素子本体に接触する表面を有する第2転動部材と、
前記素子本体を、前記第1転動部材および前記第2転動部材の間に挟んで、前記第1転動部材の表面で転がすために、前記第1転動部材に対して、相互間距離が変動可能で前記第2転動部材を略平行に位置ズレするように相対移動させる駆動機構と、を有し、
前記第2転動部材の表面には、前記素子本体の外面に接触して前記素子本体の外面をクリーニングする清掃面が形成してある
電子部品の機能膜形成装置。
A functional film forming apparatus for electronic components for forming functional films on a plurality of outer surfaces of an element body for an electronic component, comprising:
A first rolling member having a transfer layer that becomes the functional film removably attached to a surface thereof;
a second rolling member located on the opposite side of the element body from the first rolling member and having a surface that contacts the element body;
a drive mechanism for moving the second rolling member relatively to the first rolling member so that the distance between the second rolling member and the first rolling member is variable and the second rolling member is displaced substantially parallel to the first rolling member in order to sandwich the element body between the first rolling member and the second rolling member and roll the element body on a surface of the first rolling member ;
A cleaning surface is formed on the surface of the second rolling member to come into contact with the outer surface of the element body and clean the outer surface of the element body.
Functional film formation equipment for electronic components.
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