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JP7614053B2 - Learning device, estimation device, defect inspection device, and defect inspection method - Google Patents
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Learning device, estimation device, defect inspection device, and defect inspection method Download PDF

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Description

本発明は、学習装置、推定装置、不良検査装置、および不良検査方法に関する。 The present invention relates to a learning device, an estimation device, a defect inspection device, and a defect inspection method.

従来より、微小な電子部品を収納するためにエンボスキャリアテープと称される包装材が知られている(下記の特許文献1を参照)。 A packaging material called embossed carrier tape has been known for storing tiny electronic components (see Patent Document 1 below).

特開2003-136545号公報JP 2003-136545 A

上述のエンボスキャリアテープは、例えば表面の異物が付着するような不良や、電子部品を収納する凹部や端部にバリが発生するような不良を検査する必要がある。エンボスキャリアテープの外観不良を高い精度で検査するためには鮮明な画像を用いる必要があるが、不良には複数の種類があり、また、エンボスキャリアテープには様々な形状や厚みや材質があるので、各エンボスキャリアテープの不良検査に最適な照明装置の照明条件を細やかに設定する必要がある。 The above-mentioned embossed carrier tape needs to be inspected for defects such as the adhesion of foreign matter to the surface and defects such as burrs in the recesses and edges that house electronic components. In order to inspect the appearance of the embossed carrier tape with high precision, it is necessary to use clear images, but since there are multiple types of defects and embossed carrier tapes come in a variety of shapes, thicknesses, and materials, it is necessary to carefully set the lighting conditions of the lighting device that are optimal for inspecting defects for each embossed carrier tape.

本発明は、高い精度で不良がある対象物を検査することができる学習装置、推定装置、不良検査装置、および不良検査方法を提供することを目的の一つとする。 One of the objectives of the present invention is to provide a learning device, an estimation device, a defect inspection device, and a defect inspection method that can inspect objects with defects with high accuracy.

本発明の一態様に係る学習装置は、対象物の不良の種類を示す不良種類情報、対象物の検出したい不良の種類に適した照明装置が光を照射する照明条件に関する照明条件情報、および前記対象物を特定するための対象物情報を入力する入力部と、前記入力部により入力した前記不良種類情報、前記照明条件情報および前記対象物情報を教師データとして機械学習させたモデルであって、前記不良種類情報および前記対象物情報を入力した場合に、前記対象物に最適な条件に関する前記照明条件情報を出力する前記モデルを構築するモデル構築部と、を備える。 A learning device according to one aspect of the present invention includes an input unit for inputting defect type information indicating the type of defect of an object, lighting condition information regarding the lighting conditions under which a lighting device suitable for the type of defect to be detected in the object irradiates light, and object information for identifying the object, and a model construction unit for constructing a model that is machine-learned using the defect type information, lighting condition information, and object information input by the input unit as training data, and that outputs the lighting condition information regarding the optimal conditions for the object when the defect type information and object information are input.

本発明の一態様に係る推定装置は、対象物の不良の種類を示す不良種類情報、および前記対象物を特定するための対象物情報を入力する入力部と、前記不良種類情報、前記対象物情報、および前記対象物の不良の種類に対応した照明装置が光を照射する照明条件に関する照明条件情報、を教師データとして機械学習させたモデルに、前記入力部により入力した前記不良種類情報および前記対象物情報を入力し、前記モデルから出力された前記対象物に最適な条件に関する前記照明条件情報に基づいて、前記対象物に最適な照明条件を推定する推定部と、を備える。 An estimation device according to one aspect of the present invention includes an input unit that inputs defect type information indicating a type of defect of an object and object information for identifying the object, and an estimation unit that inputs the defect type information and object information input by the input unit into a model that has been machine-learned using the defect type information, the object information, and lighting condition information related to the lighting conditions under which a lighting device corresponding to the type of defect of the object irradiates light, as training data, and estimates optimal lighting conditions for the object based on the lighting condition information related to the optimal conditions for the object output from the model.

本発明の一態様に係る不良検査装置は、対象物に光を照射する照明装置と、前記対象物を検査する検査部と、前記対象物の不良の種類を示す不良種類情報、および前記対象物を特定するための対象物情報を入力する入力部と、前記不良種類情報、前記対象物情報、および前記対象物の不良の種類に対応した照明装置が光を照射する照明条件に関する照明条件情報、を教師データとして機械学習させたモデルに、前記入力部により入力した前記不良種類情報および前記対象物情報を入力し、前記モデルから出力された前記対象物に最適な条件に関する前記照明条件情報に基づいて、前記対象物に最適な照明条件を推定する推定部と、前記推定部により推定された前記照明条件に基づいて、前記照明装置を制御する制御部と、を備える。 A defect inspection device according to one aspect of the present invention includes a lighting device that irradiates light onto an object, an inspection unit that inspects the object, an input unit that inputs defect type information indicating the type of defect of the object and object information for identifying the object, an estimation unit that inputs the defect type information and object information input by the input unit into a model that has been machine-learned using the defect type information, the object information, and lighting condition information related to the lighting conditions under which the lighting device irradiates light corresponding to the type of defect of the object as training data, and estimates optimal lighting conditions for the object based on the lighting condition information related to the optimal conditions for the object output from the model, and a control unit that controls the lighting device based on the lighting conditions estimated by the estimation unit.

本発明の一態様に係る不良検査方法は、不良検査装置が、対象物の不良の種類を示す不良種類情報、対象物の不良の種類に対応した照明装置が光を照射する照明条件に関する照明条件情報、および前記対象物を特定するための対象物情報を入力するステップと、前記不良検査装置が、入力した前記不良種類情報、前記照明条件情報および前記対象物情報を教師データとして機械学習させたモデルであって、前記不良種類情報および前記対象物情報を入力した場合に、前記対象物に最適な条件に関する前記照明条件情報を出力する前記モデルを構築するステップと、前記不良検査装置が、前記不良種類情報、および前記対象物を特定するための対象物情報を入力した場合に、前記モデルに前記不良種類情報および前記対象物情報を入力し、前記モデルから出力された前記対象物に最適な条件に関する前記照明条件情報に基づいて、前記対象物に最適な照明条件を推定するステップと、前記不良検査装置が、推定された前記照明条件に基づいて、前記照明装置を制御するステップと、前記不良検査装置が、前記対象物を検査するステップと、を含む。

A defect inspection method according to one aspect of the present invention includes the steps of : a defect inspection device inputting defect type information indicating a type of defect of an object, lighting condition information related to lighting conditions under which an illumination device corresponding to the type of defect of the object irradiates light, and object information for identifying the object; a step of constructing a model in which the defect inspection device has performed machine learning using the input defect type information, lighting condition information, and object information as training data, the model outputting the lighting condition information related to optimal conditions for the object when the defect type information and the object information are input; a step of inputting the defect type information and the object information into the model when the defect inspection device inputs the defect type information and the object information for identifying the object, and estimating optimal lighting conditions for the object based on the lighting condition information related to optimal conditions for the object output from the model; a step of the defect inspection device controlling the illumination device based on the estimated lighting conditions; and a step of the defect inspection device inspecting the object.

本発明によれば、高い精度で不良がある対象物を検査することができる学習装置、推定装置、不良検査装置、および不良検査方法を提供することができる。 The present invention provides a learning device, an estimation device, a defect inspection device, and a defect inspection method that can inspect objects with defects with high accuracy.

実施形態における不良検査システムの概略的な構成の一例を示す図である。FIG. 1 is a diagram illustrating an example of a schematic configuration of a defect inspection system according to an embodiment. 実施形態の不良検査システムの機能的な構成の一例を示すブロック図である。1 is a block diagram illustrating an example of a functional configuration of a defect inspection system according to an embodiment. 実施形態における学習部の一例を示すブロック図である。FIG. 2 is a block diagram showing an example of a learning unit in the embodiment. 畳み込みニューラルネットワークにおける入力変数と出力変数との関係を示す図である。FIG. 1 is a diagram illustrating the relationship between input variables and output variables in a convolutional neural network. 実施形態における推定部330の一例を示すブロック図である。FIG. 2 is a block diagram showing an example of an estimation unit 330 in the embodiment. 実施形態における照明装置の配置の一例を示す上面図である。FIG. 2 is a top view showing an example of an arrangement of lighting devices in the embodiment. 実施形態における照明装置の配置の他の一例を示す上面図である。FIG. 11 is a top view showing another example of the arrangement of the lighting device in the embodiment. 実施形態における照明装置を側面からみた図である。FIG. 2 is a side view of the lighting device according to the embodiment. 実施形態における照明装置を側面からみた他の図である。FIG. 11 is another side view of the lighting device according to the embodiment. 実施形態のエンボスキャリアテープ10の一例を示す上面図であり、(a)は不良がないエンボスキャリアテープ10の例であり、(b)は不良があるエンボスキャリアテープ10の例である。1A is a top view showing an example of an embossed carrier tape 10 according to an embodiment, and FIG. 1B is an example of an embossed carrier tape 10 having no defects. FIG. 実施形態における照明条件と不良種類と相関データとの関係を示す図である。11 is a diagram showing a relationship between an illumination condition, a defect type, and correlation data in the embodiment. FIG. 実施形態の不良検査システム1の他の構成を示す図である。FIG. 13 is a diagram showing another configuration of the defect inspection system 1 according to the embodiment. 実施形態における畳み込みニューラルネットワークを用いた推定処理を行う処理を説明するための図である。FIG. 11 is a diagram for explaining a process of performing an estimation process using a convolutional neural network in the embodiment. 実施形態における畳み込みニューラルネットワークを用いた学習処理を説明するための図である。FIG. 1 is a diagram for explaining a learning process using a convolutional neural network in an embodiment.

以下、図面を参照し、学習装置、推定装置、不良検査装置、および不良検査方法の実施形態について説明する。 Below, embodiments of the learning device, estimation device, defect inspection device, and defect inspection method will be described with reference to the drawings.

[不良検査の概要]
実施形態の不良検査システム1は、対象物の不良を検査する。実施形態において、対象物は、例えばエンボスキャリアテープである。エンボスキャリアテープは、プラスチック製であって、チップ型電子部品を収納する収納ポケット(凹部)が連続的に形成される。不良検査システム1は、エンボスキャリアテープに光を照射した状態でエンボスキャリアテープの形状に基づく情報を取得することで、収納ポケット等の不良を検査する。なお、本実施形態は、凹部などの形状の寸法を測定するが、これに限定されず、凹部以外の形状を測定する用途にも適用可能である。
[Defect inspection overview]
The defect inspection system 1 of the embodiment inspects defects in an object. In the embodiment, the object is, for example, an embossed carrier tape. The embossed carrier tape is made of plastic and has storage pockets (recesses) for storing chip-type electronic components formed continuously. The defect inspection system 1 inspects defects in the storage pockets and the like by acquiring information based on the shape of the embossed carrier tape while irradiating the embossed carrier tape with light. Note that, although the present embodiment measures the dimensions of shapes such as recesses, the present invention is not limited thereto and can also be applied to applications for measuring shapes other than recesses.

[不良検査システム1の構成]
図1は、実施形態における不良検査システム1の概略的な構成の一例を示す図である。不良検査システム1は、例えば、製造ラインLの上方および下方に配置された照明装置100と、撮像装置200とを備える。製造ラインLは、凹部10aが形成されたエンボスキャリアテープ10を配送する移動手段である。不良検査システム1は、エンボスキャリアテープ10の寸法を測定する場合、照明装置100からエンボスキャリアテープ10に光を照射した状態で、撮像装置200によりエンボスキャリアテープ10を撮像する。不良検査システム1は、撮像した画像等に基づいて凹部10aの寸法を測定する。
[Configuration of defect inspection system 1]
1 is a diagram showing an example of a schematic configuration of a defect inspection system 1 in an embodiment. The defect inspection system 1 includes, for example, an illumination device 100 and an imaging device 200 arranged above and below a production line L. The production line L is a moving means for delivering an embossed carrier tape 10 on which recesses 10a are formed. When measuring the dimensions of the embossed carrier tape 10, the defect inspection system 1 images the embossed carrier tape 10 with the imaging device 200 while irradiating the embossed carrier tape 10 with light from the illumination device 100. The defect inspection system 1 measures the dimensions of the recesses 10a based on the captured image or the like.

図2は、実施形態の不良検査システム1の機能的な構成の一例を示すブロック図である。不良検査システム1は、例えば、照明装置100と、撮像装置200と、不良検査装置300と、情報入力部400と、教師データ記憶部500と、通知部600とを備える。 FIG. 2 is a block diagram showing an example of the functional configuration of the defect inspection system 1 of the embodiment. The defect inspection system 1 includes, for example, a lighting device 100, an imaging device 200, a defect inspection device 300, an information input unit 400, a teacher data storage unit 500, and a notification unit 600.

不良検査装置300は、例えば、不良検査部310と、学習部320と、推定部330と、照明制御部340とを備える。不良検査部310、学習部320、推定部330、および照明制御部340といった機能部は、例えばCPU(Central Processing Unit)等のプロセッサがプログラムメモリに格納されたプログラムを実行することにより実現される。また、これらの機能部のうち一部または全部は、LSI(Large Scale Integration)、ASIC(Application Specific Integrated Circuit)、またはFPGA(Field-Programmable Gate Array)等のハードウェアにより実現されてもよいし、ソフトウェアとハードウェアが協働することで実現されてもよい。プログラムは、予め不良検査装置300のHDD(Hard Disc Drive)やフラッシュメモリなどの記憶装置(非一過性の記憶媒体を備える記憶装置)に格納されていてもよいし、DVDやCD-ROMなどの着脱可能な記憶媒体に格納されており、記憶媒体(非一過性の記憶媒体)がドライブ装置に装着されることで不良検査装置300のHDDやフラッシュメモリにインストールされてもよい。 The defect inspection device 300 includes, for example, a defect inspection unit 310, a learning unit 320, an estimation unit 330, and an illumination control unit 340. The functional units such as the defect inspection unit 310, the learning unit 320, the estimation unit 330, and the illumination control unit 340 are realized by a processor such as a CPU (Central Processing Unit) executing a program stored in a program memory. In addition, some or all of these functional units may be realized by hardware such as an LSI (Large Scale Integration), an ASIC (Application Specific Integrated Circuit), or an FPGA (Field-Programmable Gate Array), or may be realized by software and hardware working together. The program may be stored in advance in a storage device (storage device with a non-transient storage medium) such as a hard disk drive (HDD) or flash memory of the defect inspection device 300, or may be stored in a removable storage medium such as a DVD or CD-ROM, and installed in the HDD or flash memory of the defect inspection device 300 by mounting the storage medium (non-transient storage medium) in a drive device.

不良検査部310は、撮像装置200により撮像された画像を用いてエンボスキャリアテープ10の不良を検査する。不良検査部310は、例えば、基準画像と撮像画像との比較に基づく相関値に基づいてエンボスキャリアテープ10に不良があるか否かを検査する。基準画像は、例えば良品を撮像した画像である。学習部320は、エンボスキャリアテープ10に最適な照明条件を推定する推定モデルを構築する。推定部330は、推定モデルを用いた演算を行ってエンボスキャリアテープ10の不良検査に最適な照明条件を推定する。照明制御部340は、推定部330により推定された照明条件に従って照明装置100を制御する。 The defect inspection unit 310 inspects the embossed carrier tape 10 for defects using the image captured by the imaging device 200. The defect inspection unit 310 inspects whether the embossed carrier tape 10 has defects, for example, based on a correlation value based on a comparison between a reference image and the captured image. The reference image is, for example, an image of a non-defective product. The learning unit 320 constructs an estimation model that estimates optimal lighting conditions for the embossed carrier tape 10. The estimation unit 330 performs calculations using the estimation model to estimate optimal lighting conditions for defect inspection of the embossed carrier tape 10. The lighting control unit 340 controls the lighting device 100 according to the lighting conditions estimated by the estimation unit 330.

情報入力部400は、例えばユーザに操作されるユーザインターフェース装置である。情報入力部400は、ユーザの操作に基づいて対象物情報や不良種類情報を受け付けて不良検査装置300に出力する。 The information input unit 400 is, for example, a user interface device that is operated by a user. The information input unit 400 accepts object information and defect type information based on the user's operation and outputs them to the defect inspection device 300.

教師データ記憶部500は、例えば、HDD、フラッシュメモリ、EEPROM(Electrically Erasable Programmable Read Only Memory)、ROM(Read Only Memory)、RAM(Random Access Memory)などの記憶装置により実現される。教師データ記憶部500は、例えば、SAN(Storage Area Network)やNAS(Network Attached Storage)により実現されてよい。教師データ記憶部500には、不良種類情報、照明条件情報および対象物情報が教師データとして記憶される。不良種類情報は、エンボスキャリアテープ10の不良の種類を示す情報である。照明条件情報は、照明装置100を構成する複数の照明の配置、光の強度、光の角度、光の波長の少なくとも一つの照明条件を含む。対象物情報は、対象物としてのエンボスキャリアテープ10の部位を示す情報であるが、これに限定されない。対象物情報は、エンボスキャリアテープ10の形状、色、透過度、表面性、成形方法、金型形状の少なくとも一つを含む物性情報であってよい。 The teacher data storage unit 500 is realized by a storage device such as a HDD, a flash memory, an EEPROM (Electrically Erasable Programmable Read Only Memory), a ROM (Read Only Memory), or a RAM (Random Access Memory). The teacher data storage unit 500 may be realized by a SAN (Storage Area Network) or a NAS (Network Attached Storage). The teacher data storage unit 500 stores defect type information, illumination condition information, and object information as teacher data. The defect type information is information indicating the type of defect in the embossed carrier tape 10. The lighting condition information includes at least one of the lighting conditions, such as the arrangement of the multiple lights constituting the lighting device 100, the light intensity, the light angle, and the light wavelength. The object information is information indicating a portion of the embossed carrier tape 10 as the object, but is not limited to this. The object information may be physical property information including at least one of the shape, color, transparency, surface properties, molding method, and mold shape of the embossed carrier tape 10.

通知部600は、例えばディスプレイやスピーカ等であり、例えば、不良の検査結果、照明条件の推定結果、照明装置100の制御結果などを通知する。 The notification unit 600 is, for example, a display or a speaker, and notifies, for example, the results of defective inspections, the results of estimating lighting conditions, and the results of controlling the lighting device 100.

図3は、実施形態における学習部320の一例を示すブロック図である。学習部320は、例えば、教師データ取得部321、モデル構築部322、畳み込みニューラルネットワーク(CNN:Convolutional Neural Network)323、および学習結果記憶部324を備える。 FIG. 3 is a block diagram showing an example of the learning unit 320 in the embodiment. The learning unit 320 includes, for example, a teacher data acquisition unit 321, a model construction unit 322, a convolutional neural network (CNN) 323, and a learning result storage unit 324.

図4は、畳み込みニューラルネットワーク323における入力変数と出力変数との関係を示す図である。入力変数は不良種類情報および対象物情報であり、出力変数は照明条件情報である。図4において、各行に含まれる入力変数および出力変数が一つのエンボスキャリアテープ10に対応する。例えば、製品情報が「1」のエンボスキャリアテープ10の形状情報がa1、透明度情報がb1、表面性情報がc1、不良種類情報がd1であり、当該製品情報が「1」のエンボスキャリアテープ10の不良を検査するための最適な照明装置100の配置情報がA1、波長情報がB1、強度情報がC1である。 Figure 4 is a diagram showing the relationship between input variables and output variables in the convolutional neural network 323. The input variables are defect type information and object information, and the output variables are lighting condition information. In Figure 4, the input variables and output variables included in each row correspond to one embossed carrier tape 10. For example, the shape information of the embossed carrier tape 10 with product information "1" is a1, the transparency information is b1, the surface property information is c1, and the defect type information is d1, and the position information of the optimal lighting device 100 for inspecting defects in the embossed carrier tape 10 with product information "1" is A1, the wavelength information is B1, and the intensity information is C1.

教師データ取得部321は、教師データ記憶部500から教師データとして不良種類情報、対象物情報および照明条件情報を取得する。モデル構築部322は、不良種類情報および対象物情報を畳み込みニューラルネットワーク323に入力し、畳み込みニューラルネットワーク323から出力変数を出力するように、畳み込みニューラルネットワーク323の処理パラメータを学習する。具体的に、モデル構築部322は、教師データを用い、図4に示した入力変数に対応する出力変数と、目標とする出力との差が小さくなるように、処理パラメータを再帰的に算出(更新)する。モデル構築部322は、処理パラメータを取得するために、例えば、深層学習を行う。深層学習とは、多層構造、特に3層以上のニューラルネットワークを用いた機械学習である。多層構造のニューラルネットワークとして、実施形態においては、畳み込みニューラルネットワーク323を用いる。モデル構築部322は、更新した処理パラメータを学習結果記憶部324に保存する。 The teacher data acquisition unit 321 acquires defect type information, object information, and illumination condition information as teacher data from the teacher data storage unit 500. The model construction unit 322 inputs the defect type information and object information to the convolutional neural network 323, and learns the processing parameters of the convolutional neural network 323 so as to output output variables from the convolutional neural network 323. Specifically, the model construction unit 322 uses the teacher data to recursively calculate (update) the processing parameters so as to reduce the difference between the output variables corresponding to the input variables shown in FIG. 4 and the target output. The model construction unit 322 performs, for example, deep learning to acquire the processing parameters. Deep learning is machine learning using a multi-layered neural network, particularly a neural network with three or more layers. In the embodiment, the convolutional neural network 323 is used as the neural network with a multi-layered structure. The model construction unit 322 saves the updated processing parameters in the learning result storage unit 324.

図5は、実施形態における推定部330の一例を示すブロック図である。推定部330は、情報取得部331、推定処理部332、畳み込みニューラルネットワーク333、および推定結果記憶部334を備える。情報取得部331は、情報入力部400から不良種類情報および/または対象物情報を取得する。畳み込みニューラルネットワーク333は、学習結果記憶部324に記憶された処理パラメータが設定された推定モデルである。畳み込みニューラルネットワーク333は、不良種類情報および対象物情報を入力した場合に、照明条件情報を出力する。推定処理部332は、畳み込みニューラルネットワーク333から出力された推定結果を推定結果記憶部334に保存する。推定結果は、図4に示した照明条件情報に対応した情報として、照明装置100の配置、波長、強度等の情報を含む。 FIG. 5 is a block diagram showing an example of the estimation unit 330 in the embodiment. The estimation unit 330 includes an information acquisition unit 331, an estimation processing unit 332, a convolutional neural network 333, and an estimation result storage unit 334. The information acquisition unit 331 acquires defect type information and/or object information from the information input unit 400. The convolutional neural network 333 is an estimation model in which processing parameters stored in the learning result storage unit 324 are set. When the convolutional neural network 333 receives defect type information and object information, it outputs illumination condition information. The estimation processing unit 332 stores the estimation result output from the convolutional neural network 333 in the estimation result storage unit 334. The estimation result includes information such as the arrangement, wavelength, and intensity of the illumination device 100 as information corresponding to the illumination condition information shown in FIG. 4.

なお、上述した実施形態は、入力変数として不良種類情報および対象物情報を説明したが、学習部320は、対象物情報を入力変数とし、当該対象物情報で示される対象物に発生しうる不良を検査するための照明条件情報を出力するように畳み込みニューラルネットワーク323を構築してもよい。また、学習部320は、エンボスキャリアテープ10における部位を対象物情報として入力し、当該部位に発生しうる不良を検査するための照明条件情報を出力するように畳み込みニューラルネットワーク323を構築してもよい。 In the above-described embodiment, defect type information and object information are described as input variables, but the learning unit 320 may construct the convolutional neural network 323 so that the object information is an input variable and the network outputs illumination condition information for inspecting defects that may occur in the object indicated by the object information. The learning unit 320 may also construct the convolutional neural network 323 so that the network inputs a portion of the embossed carrier tape 10 as object information and outputs illumination condition information for inspecting defects that may occur in the portion.

図6は、実施形態における照明装置100の配置の一例を示す上面図である。図6において、例えば一つの○が一つの照明素子100aを示している。照明装置100は、例えば、仮想的な中心円から放射状に複数の照明素子100aを配置して構成される。照明装置100は、中心円の中心が製造ラインLと交わるように配置される。図7は、実施形態における照明装置100の配置の他の一例を示す上面図である。照明装置100は、例えば、仮想的な四角形の各辺から垂直方向に延びる複数の直線に沿って複数の照明素子100aを配置して構成される。照明装置100は、四角形の重心が製造ラインLと交わるように配置される。不良検査システム1は、例えば、エンボスキャリアテープ10の対象物情報に応じた推定結果に基づいて、図6または図7の配置を切り換えたり、各照明素子100aから照射する光の波長を調整したり、各照明素子100a照射する光の強度を調整することができる。 FIG. 6 is a top view showing an example of the arrangement of the lighting device 100 in the embodiment. In FIG. 6, for example, one circle indicates one lighting element 100a. The lighting device 100 is configured, for example, by arranging multiple lighting elements 100a radially from a virtual central circle. The lighting device 100 is arranged so that the center of the central circle intersects with the production line L. FIG. 7 is a top view showing another example of the arrangement of the lighting device 100 in the embodiment. The lighting device 100 is configured, for example, by arranging multiple lighting elements 100a along multiple straight lines extending vertically from each side of a virtual rectangle. The lighting device 100 is arranged so that the center of gravity of the rectangle intersects with the production line L. The defect inspection system 1 can, for example, switch the arrangement of FIG. 6 or FIG. 7 based on the estimation result according to the object information of the embossed carrier tape 10, adjust the wavelength of the light irradiated from each lighting element 100a, or adjust the intensity of the light irradiated by each lighting element 100a.

図8および図9は、実施形態における照明装置100を側面からみた図である。照明装置100は、図8に示すように、製造ラインL上に搬送されるエンボスキャリアテープ10に対して上方および下方の円弧に沿って複数の照明素子100aが配置される。各照明素子100aは、照射光が製造ラインLの所定範囲に向くように位置決めされてよく、照射光が製造ラインLの所定範囲に向くように調光されてよい。ある照明素子100aは、ミラー110を介して照射光を所定範囲に照射する。撮像装置200は、製造ラインLの所定範囲を撮像する位置に配置される。不良検査システム1は、図9に示すように、例えば、推定結果に基づいて、複数の照明素子のうち一部の照明素子100aからエンボスキャリアテープ10に照射光を照射することもできる。 8 and 9 are side views of the lighting device 100 in the embodiment. As shown in FIG. 8, the lighting device 100 has multiple lighting elements 100a arranged along upper and lower arcs relative to the embossed carrier tape 10 transported on the production line L. Each lighting element 100a may be positioned so that the irradiation light is directed toward a predetermined range of the production line L, and may be dimmed so that the irradiation light is directed toward the predetermined range of the production line L. A certain lighting element 100a irradiates the irradiation light to the predetermined range via a mirror 110. The imaging device 200 is arranged in a position to image the predetermined range of the production line L. As shown in FIG. 9, the defect inspection system 1 can also irradiate the embossed carrier tape 10 with irradiation light from some of the multiple lighting elements 100a based on the estimation result, for example.

図10は、実施形態のエンボスキャリアテープ10の一例を示す上面図であり、(a)は不良がないエンボスキャリアテープ10の例であり、(b)は不良があるエンボスキャリアテープ10の例である。エンボスキャリアテープ10には、複数の凹部10aおよび穴部10bが形成される。不良検査システム1は、例えば、図10(b)のように凹部10aの変形、穴部10bのバリ、エンボスキャリアテープ10の端部のバリ、エンボスキャリアテープ10の表面の異物、エンボスキャリアテープ10の表面の損傷、といった不良を検出する。このために、不良検査システム1は、不良種類情報を入力変数として学習することで、当該種類の不良を検査するために最適な照明条件を推定することができる。また、不良検査システム1は、エンボスキャリアテープ10の部位に発生しうる不良を検査するために、当該不良を検査するために最適な照明条件を推定することができる。 10 is a top view showing an example of an embossed carrier tape 10 of an embodiment, where (a) is an example of an embossed carrier tape 10 without defects, and (b) is an example of an embossed carrier tape 10 with defects. The embossed carrier tape 10 has a plurality of recesses 10a and holes 10b formed therein. The defect inspection system 1 detects defects such as deformation of the recesses 10a, burrs in the holes 10b, burrs at the ends of the embossed carrier tape 10, foreign matter on the surface of the embossed carrier tape 10, and damage to the surface of the embossed carrier tape 10, as shown in FIG. 10(b). For this purpose, the defect inspection system 1 can estimate optimal lighting conditions for inspecting the type of defect by learning defect type information as an input variable. In addition, the defect inspection system 1 can estimate optimal lighting conditions for inspecting the defect in order to inspect the defect that may occur in the portion of the embossed carrier tape 10.

図11は、実施形態における照明条件と不良種類と相関データとの関係を示す。図11における波形は相関データであり、相関データにおける横軸は相関値であり、縦軸は度数を示す。図11における相関データは、良品画像に対応した波形(図中右側)と、不良画像に対応した波形(図中左側)とを含む。良品画像は、不良がないエンボスキャリアテープ10を撮像した画像である。不良画像は、不良があるエンボスキャリアテープ10を撮像した画像である。良品画像に対応した波形は、基準画像と良品画像との相関値(第1の相関値c1)に対応したピーク値を持つ。不良画像に対応した波形は、基準画像と不良画像との相関値(第2の相関値c2)に対応したピーク値を持つ。基準画像は、不良のないエンボスキャリアテープ10を予め任意の角度、波形および輝度の照明条件で撮像した画像である。第1の相関値c1は、第2の相関値c2よりも高い値である。照明条件が不良種類に適した条件であるほど、第1の相関値c1と第2の相関値c2とは離れた値となる。 Figure 11 shows the relationship between the illumination conditions, the defect type, and the correlation data in the embodiment. The waveform in Figure 11 is the correlation data, and the horizontal axis in the correlation data is the correlation value, and the vertical axis is the frequency. The correlation data in Figure 11 includes a waveform corresponding to a good image (right side in the figure) and a waveform corresponding to a defective image (left side in the figure). The good image is an image of an embossed carrier tape 10 without defects. The defective image is an image of an embossed carrier tape 10 with defects. The waveform corresponding to the good image has a peak value corresponding to the correlation value (first correlation value c1) between the reference image and the good image. The waveform corresponding to the defective image has a peak value corresponding to the correlation value (second correlation value c2) between the reference image and the defective image. The reference image is an image of an embossed carrier tape 10 without defects captured in advance under illumination conditions of an arbitrary angle, waveform, and brightness. The first correlation value c1 is a value higher than the second correlation value c2. The more suitable the lighting conditions are for the type of defect, the greater the difference between the first correlation value c1 and the second correlation value c2.

相関データは、基準画像と不良がない対象物の画像との第1の相関値の幅と、前記基準画像と不良がある対象物の画像との第2の相関値の幅と、を含む。第1の相関値の幅および第2の相関値の幅は、照明条件が対象物の不良の種類に適しているほど狭い。例えば、不良種類aにおいて、照明条件Aにおける基準画像と良品画像との相関値の幅は、照明条件Cにおける基準画像と良品画像との相関値の幅よりも狭い。 The correlation data includes a first correlation value range between a reference image and an image of an object without defects, and a second correlation value range between the reference image and an image of an object with defects. The first correlation value range and the second correlation value range are narrower the more suitable the lighting conditions are for the type of defect in the object. For example, for defect type a, the correlation value range between the reference image and the good image under lighting condition A is narrower than the correlation value range between the reference image and the good image under lighting condition C.

例えば、不良種類aを検査するために最適な照明条件がAである場合、基準画像は、照明条件Aでエンボスキャリアテープ10を撮像した画像である。不良検査部310は、不良がないエンボスキャリアテープ10を照明条件Aで撮像した画像と基準画像との相関値を計算し、計算した相関値が、予め記憶した相関値c1から所定範囲である場合、当該エンボスキャリアテープ10に不良種類aの不良がないと判定する。不良検査部310は、不良種類aの不良があるエンボスキャリアテープ10を照明条件Aで撮像した画像と基準画像との相関値を計算し、計算した相関値が、予め記憶した相関値c2から所定範囲である場合、当該エンボスキャリアテープ10に不良種類aの不良があると判定する。 For example, if the optimal lighting condition for inspecting defect type a is A, the reference image is an image of the embossed carrier tape 10 captured under lighting condition A. The defect inspection unit 310 calculates a correlation value between an image of the embossed carrier tape 10 without defects captured under lighting condition A and the reference image, and if the calculated correlation value is within a predetermined range from the pre-stored correlation value c1, it determines that the embossed carrier tape 10 does not have a defect of defect type a. The defect inspection unit 310 calculates a correlation value between an image of the embossed carrier tape 10 with defect type a captured under lighting condition A and the reference image, and if the calculated correlation value is within a predetermined range from the pre-stored correlation value c2, it determines that the embossed carrier tape 10 has a defect of defect type a.

以上より、学習部320は、上述した相関データを用いることにより、不良種類情報を入力した場合に、当該不良がある対象物を撮像した画像と低い相関を得ることができ、且つ当該不良がない対象物を撮像して得た基準画像と高い相関を得ることができる照明条件に関する照明条件情報を出力するように畳み込みニューラルネットワーク323を構築することが望ましい。また、推定部330は、不良種類情報を入力した場合に、基準画像と高い相関を得ることができる照明条件に関する照明条件情報を出力することができる。 From the above, it is desirable that the learning unit 320 uses the above-mentioned correlation data to construct the convolutional neural network 323 so that, when defect type information is input, it can output lighting condition information related to lighting conditions that can obtain a low correlation with an image of an object having the defect, and can obtain a high correlation with a reference image obtained by imaging an object without the defect. Furthermore, when defect type information is input, the estimation unit 330 can output lighting condition information related to lighting conditions that can obtain a high correlation with the reference image.

図12は、実施形態の不良検査システム1の他の構成を示す図である。上述した本願請求項1に係る発明は、1つの不良種類に最適な照明条件を推定し、当該推定した照明条件に基づいて照明装置100を制御してよいが、これに限定されない。不良検査システム1は、複数の照明装置100および撮像装置200の組(100aと200bの組、100bと200bの組、・・・)を備えてもよい。不良検査システム1は、エンボスキャリアテープ10の不良種類aを検査し、次に、エンボスキャリアテープ10の不良種類bを検査する。このとき、不良検査システム1は、対象物情報を入力した場合、対象物情報に基づいて不良種類aに最適な照明条件を推定して照明装置100aを制御して撮像装置200aで撮像した画像に基づいて不良種類aの不良を検査し、対象物情報に基づいて不良種類bに最適な照明条件を推定して照明装置100bを制御して撮像装置200bで撮像した画像に基づいて不良種類aの不良を検査する。これにより、不良検査システム1は、複数の不良種類を検査することができる。 Figure 12 is a diagram showing another configuration of the defect inspection system 1 of the embodiment. The invention according to claim 1 of the present application described above may estimate the optimal lighting conditions for one defect type and control the lighting device 100 based on the estimated lighting conditions, but is not limited to this. The defect inspection system 1 may include a plurality of sets of lighting devices 100 and imaging devices 200 (a set of 100a and 200b, a set of 100b and 200b, ...). The defect inspection system 1 inspects the embossed carrier tape 10 for defect type a, and then inspects the embossed carrier tape 10 for defect type b. At this time, when the defect inspection system 1 receives object information, it estimates the optimal lighting conditions for the defect type a based on the object information, controls the lighting device 100a, and inspects the defect type a based on the image captured by the imaging device 200a, and estimates the optimal lighting conditions for the defect type b based on the object information, controls the lighting device 100b, and inspects the defect type a based on the image captured by the imaging device 200b. This allows the defect inspection system 1 to inspect multiple types of defects.

[畳み込みニューラルネットワーク]
以下、実施形態における畳み込みニューラルネットワーク323および畳み込みニューラルネットワーク333の一例について説明する。なお、この説明において、畳み込みニューラルネットワーク323および畳み込みニューラルネットワーク333を総称して「畳み込みニューラルネットワーク」と記載する。
[Convolutional Neural Network]
Hereinafter, a description will be given of an example of the convolutional neural network 323 and the convolutional neural network 333 in the embodiment. In this description, the convolutional neural network 323 and the convolutional neural network 333 will be collectively referred to as a "convolutional neural network."

上述したように、モデル構築部322は、学習用の畳み込みニューラルネットワー323に対して、教師データを入力層に入力する入力変数とし、照明条件情報を出力層から出力される出力変数として設定する。モデル構築部322は、不良種類情報、対象物情報と照明条件情報の学習データセットを用いて、機械学習を行う。推定処理部332は、学習済の畳み込みニューラルネットワーク333に対して、対象物情報を入力層へ入力し、出力層から照明条件情報を取得する。 As described above, the model construction unit 322 sets the teacher data as an input variable to be input to the input layer of the learning convolutional neural network 323, and sets the lighting condition information as an output variable to be output from the output layer. The model construction unit 322 performs machine learning using a learning data set of defect type information, object information, and lighting condition information. The estimation processing unit 332 inputs object information to the input layer of the trained convolutional neural network 333, and acquires lighting condition information from the output layer.

図13は、実施形態における畳み込みニューラルネットワークを用いた推定処理を行う処理を説明するための図である。畳み込みニューラルネットワークは、例えば層L0、層L1、層L2、層Li、および層LIを含む。層L0は入力層、層L1~層Liは中間層或いは隠れ層、層LIは出力層とも呼ばれる。畳み込みニューラルネットワークは、入力層L0に、対象物情報が入力される。不良種類情報および対象物情報は、各種情報のパラメータが行列の位置とする行列D11で表される。行列D11の各要素は、行列の位置に対応するパラメータのサブ値として、R(赤)のサブ値、G(緑)のサブ値、およびB(青)サブ値を含む。1番目の中間層L1は、畳み込み処理(フィルター処理とも呼ばれる)とプーリング処理が行われる層である。 FIG. 13 is a diagram for explaining the process of performing the estimation process using the convolutional neural network in the embodiment. The convolutional neural network includes, for example, layers L0, L1, L2, Li, and LI. Layer L0 is also called the input layer, layers L1 to Li are also called intermediate layers or hidden layers, and layer LI is also called the output layer. In the convolutional neural network, object information is input to the input layer L0. The defect type information and object information are represented by a matrix D11 in which the parameters of various information are the positions of the matrix. Each element of the matrix D11 includes an R (red) sub-value, a G (green) sub-value, and a B (blue) sub-value as sub-values of the parameters corresponding to the positions of the matrix. The first intermediate layer L1 is a layer in which the convolution process (also called the filtering process) and the pooling process are performed.

(畳み込み処理(Convolution))
中間層L1の畳み込み処理の一例について説明する。畳み込み処理は、元のパラメータにフィルタをかけて特徴マップを出力する処理である。具体的には、入力されたパラメータは、それぞれ、Rのサブ行列D121と、Bのサブ行列D122と、Gのサブ行列D123とに分けられる。各サブ行列D121、D122、D123(各々を「サブ行列D12」とも称する)は、それぞれ、s行t列の部分行列ごとに、その部分行列の各要素とs行t列のコンボリューション行列CM1(カーネルとも呼ばれる)の要素が乗算され、加算されることで、第1パラメータ値が算出される。各サブ行列D12で算出された第1パラメータ値は、それぞれ、重み係数が乗算されて加算されることで、第2パラメータ値が算出される。第2パラメータ値は、部分行列の位置に対応する行列要素として、畳込行列D131の各要素として設定される。各サブ行列D12において部分行列の位置が要素(サブパラメータ)ごとにずらされることで、各位置での第2パラメータ値が算出され、畳込行列D131の全ての行列要素が算出される。
(Convolution Processing)
An example of the convolution process of the intermediate layer L1 will be described. The convolution process is a process of applying a filter to the original parameters to output a feature map. Specifically, the input parameters are divided into a submatrix D121 of R, a submatrix D122 of B, and a submatrix D123 of G. Each of the submatrix D121, D122, and D123 (each of which is also referred to as a "submatrix D12") is multiplied by an element of the submatrix of s rows and t columns and an element of a convolution matrix CM1 (also called a kernel) of s rows and t columns for each submatrix of s rows and t columns, and then added to calculate a first parameter value. The first parameter values calculated in each submatrix D12 are multiplied by a weighting coefficient and then added to calculate a second parameter value. The second parameter value is set as each element of the convolution matrix D131 as a matrix element corresponding to the position of the submatrix. In each sub-matrix D12, the position of the submatrix is shifted for each element (sub-parameter), so that the second parameter value at each position is calculated, and all matrix elements of the convolution matrix D131 are calculated.

図13は、例えば、3行3列のコンボリューション行列CM(convolution matrix)1を用いた畳み込みニューラルネットワークの一例であり、畳込パラメータ値D1311は、各サブ行列D12の2行目から4行目、かつ、2列目から4列目までの3行3列の部分行列について第1パラメータ値が算出される。各サブ行列D121、D122、およびD123の各第1パラメータ値に、重み係数が算出されて加算されることで、畳込行列D131の2行目2列目の行列要素として、第2パラメータ値が算出される。同様に、3行目から5行目、かつ、2列目から4列目の部分行列から、畳込行列D131の3行目2列目の行列要素の第2パラメータ値が算出される。また同様に、他の重み付け係数又は他のコンボリューション行列を用いて、畳込行列D132、・・・が算出される。 FIG. 13 shows an example of a convolution neural network using a 3-row, 3-column convolution matrix CM (convolution matrix) 1, and the convolution parameter value D1311 is calculated as a first parameter value for the 3-row, 3-column submatrix from the 2nd row to the 4th row and the 2nd column to the 4th column of each submatrix D12. A weighting factor is calculated and added to each of the first parameter values of the submatrices D121, D122, and D123, and a second parameter value is calculated as the matrix element in the 2nd row and the 2nd column of the convolution matrix D131. Similarly, the second parameter value of the matrix element in the 3rd row and the 2nd column of the convolution matrix D131 is calculated from the submatrix from the 3rd row to the 5th row and the 2nd column to the 4th column. Similarly, the convolution matrix D132, ... is calculated using other weighting factors or other convolution matrices.

(プーリング処理(Pooling))
中間層L1のプーリング処理の一例について説明する。プーリング処理は、不良種類情報および対象物情報の特徴を残しながらパラメータ群(行列)を縮小する処理である。具体的には、畳込行列D131におけるu行v列の領域PM(pooling matrix)ごとに、領域内の行列要素の代表値が算出される。代表値は、例えば、領域内の行列要素の最大値である。代表値は、領域PMの位置に対応する行列要素として、CNN行列D141の各要素に設定される。畳込行列D131における領域が、領域PMごとにずらされることで、各位置での代表値が算出され、CNN行列D141の全ての要素が算出される。
(Pooling)
An example of the pooling process of the intermediate layer L1 will be described. The pooling process is a process of reducing a parameter group (matrix) while retaining the characteristics of the defect type information and the target information. Specifically, for each region PM (pooling matrix) of u rows and v columns in the convolution matrix D131, a representative value of the matrix elements in the region is calculated. The representative value is, for example, the maximum value of the matrix elements in the region. The representative value is set to each element of the CNN matrix D141 as a matrix element corresponding to the position of the region PM. The region in the convolution matrix D131 is shifted for each region PM, so that a representative value at each position is calculated, and all elements of the CNN matrix D141 are calculated.

図13は、例えば2行2列の領域PMを用いた畳み込みニューラルネットワークの一例であり、畳込行列D131の3行目から4行目、かつ、3列目から4列目までの2行2列の領域PMについて、領域PM内の最大値が、代表値として算出される。この代表値は、CNN行列D141の2行目2列目の行列要素に設定される。同様に、5行目から6行目、かつ、2列目から4列目の部分行列から、CNN行列D141の3行目2列目の行列要素の代表値が算出される。また同様に、畳込行列D132、・・・から、CNN行列D142、・・・が算出される。 Figure 13 shows an example of a convolutional neural network using a region PM of 2 rows and 2 columns, for example. For the 2 rows and 2 columns region PM from the 3rd to 4th row and the 3rd to 4th column of the convolution matrix D131, the maximum value in the region PM is calculated as a representative value. This representative value is set to the matrix element in the 2nd row and 2nd column of the CNN matrix D141. Similarly, a representative value of the matrix element in the 3rd row and 2nd column of the CNN matrix D141 is calculated from the submatrix from the 5th to 6th row and the 2nd to 4th column. Similarly, CNN matrices D142, ... are calculated from the convolution matrix D132, ....

CNN行列D141、D142、・・・の各行列要素(N個)は、予め定められた順序で並べられることで、ベクトルXとして生成される。ベクトルXは、N個の要素x(n=1、2、3、・・・N)を含む。ベクトルXは、ベクトルu(0)に相当する。 Each matrix element (N elements) of the CNN matrices D141, D142, ... is arranged in a predetermined order to generate a vector X. The vector X includes N elements xn (n = 1, 2, 3, ... N). The vector X corresponds to the vector u (0) .

中間層Liは、第i番目(i=2,・・・)の中間層を表している。中間層Liは、ベクトルu(i)を含む。中間層Liの各ノードからは、ベクトルz(i)が出力される。ベクトルz(i)は、ベクトルu(i)が活性化関数である関数f(u(i))に入力された値を持つ。ベクトルu(i)は、第i-1目の中間層のノードから出力されたベクトルz(i-1)に重み行列W(i)を乗算した値と、ベクトルb(i)とを加算した値を持つ。ベクトルb(i)は、バイアスである。 The hidden layer Li represents the i-th (i=2, ...) hidden layer. The hidden layer Li includes a vector u (i) . A vector z (i) is output from each node of the hidden layer Li. The vector z (i) has a value input to a function f(u (i) ) for which the vector u (i) is an activation function. The vector u (i) has a value obtained by multiplying the vector z (i-1) output from the (i-1)th hidden layer node by the weight matrix W (i) and adding the value to the vector b (i) . The vector b (i) is a bias.

出力層LIは、ベクトルz(I-1)を含む。出力層LIの出力は、M個のy(m=1、2、・・・M)である。つまり、出力層LIは、M個のyを要素として含むベクトルY(y、y、y、・・・y)を出力する。以上により、畳み込みニューラルネットワークは、入力変数として不良種類情報および対象物情報のパラメータが入力された場合に、出力変数としてベクトルYを出力する。実施形態におけるベクトルYは、照明条件情報を表す。 The output layer LI includes a vector z (I-1) . The output of the output layer LI is M elements of ym (m=1, 2, ... M). That is, the output layer LI outputs a vector Y ( y1 , y2 , y3 , ... yM ) including M elements of ym . As described above, the convolutional neural network outputs a vector Y as an output variable when parameters of defect type information and object information are input as input variables. The vector Y in the embodiment represents illumination condition information.

図14は、実施形態における畳み込みニューラルネットワークを用いた学習処理を説明するための図である。学習データセットの対象物情報のパラメータ値に対して、第1番目の中間層L1から出力されたベクトルをベクトル[X]とする。学習データセットにおける確定クラスを表すベクトルをベクトル[Y]とする。確定クラスは、実施形態における図4に示した出力係数(照明素子の配置、波長、強度の照明条件情報)である。 Figure 14 is a diagram for explaining the learning process using a convolutional neural network in an embodiment. The vector output from the first intermediate layer L1 for the parameter values of the object information in the learning data set is defined as vector [X]. The vector representing the determined class in the learning data set is defined as vector [Y]. The determined class is the output coefficient (illumination condition information of the arrangement, wavelength, and intensity of the lighting elements) shown in Figure 4 in the embodiment.

重み行列W(i)には、初期値が設定される。不良種類情報および対象物情報が入力層L0に入力されたことに基づいて第2番目の中間層L2にベクトル[X]が入力された場合、出力層LIからベクトル[X]に基づくベクトルY(X)が出力される。ベクトルY(X)とベクトル[Y]の誤差Eは、損失関数を用いて計算される。第i層の勾配ΔEは、各層からの出力zと誤差信号δと用いて計算される。誤差信号δは、誤差信号δi-1を用いて計算される。なお、出力層LIから入力層L0に向かって、出力層側の誤差信号から入力層側の誤差信号を計算する処理は、逆伝搬とも呼ばれる。重み行列W(i)は、勾配ΔEに基づいて更新される。同様に、第1番目の中間層L1においても、コンボリューション行列CMまたは重み係数が更新される。 An initial value is set for the weight matrix W (i) . When a vector [X] is input to the second intermediate layer L2 based on the defect type information and the target object information being input to the input layer L0, a vector Y(X) based on the vector [X] is output from the output layer LI. The error E between the vector Y(X) and the vector [Y] is calculated using a loss function. The gradient ΔE i of the i-th layer is calculated using the output z i from each layer and the error signal δ i . The error signal δ i is calculated using the error signal δ i-1 . Note that the process of calculating the error signal on the input layer side from the error signal on the output layer side from the output layer side toward the input layer L0 is also called backpropagation. The weight matrix W (i) is updated based on the gradient ΔE i . Similarly, in the first intermediate layer L1, the convolution matrix CM or the weight coefficient is updated.

[推定モデルの設定]
モデル構築部322は、畳み込みニューラルネットワークについて、層数、各層のノード数、各層間のノードの結合方式、活性化関数、誤差関数、及び勾配降下アルゴリズム、プーリングの領域、カーネル、重み係数、および重み行列といった処理パラメータを設定する。モデル構築部322は、例えば、層数として、3層(I=3)を設定する。モデル構築部322は、各層のノードの数(「ノード数」とも称する)として、ベクトルXの要素数(ノード数N)に800、第2番目の中間層(i=2)のノード数に500、出力層(i=3)に10を設定する。ただし、実施形態はこれに限らず、総数は4層以上であってもよいし、ノード数には別の値が設定されてもよい。
[Estimation model settings]
The model construction unit 322 sets processing parameters for the convolutional neural network, such as the number of layers, the number of nodes in each layer, the node connection method between each layer, the activation function, the error function, the gradient descent algorithm, the pooling region, the kernel, the weighting coefficient, and the weighting matrix. The model construction unit 322 sets, for example, three layers (I=3) as the number of layers. The model construction unit 322 sets, as the number of nodes in each layer (also referred to as the "node number"), the number of elements of the vector X (node number N) to 800, the number of nodes in the second intermediate layer (i=2) to 500, and the number of nodes in the output layer (i=3) to 10. However, the embodiment is not limited to this, and the total number may be four or more layers, and a different value may be set for the number of nodes.

モデル構築部322は、20個の5行5列のコンボリューション行列CMをし、2行2列の領域PMを設定する。ただし、実施形態はこれに限らず、別の行列数又は別の個数のコンボリューション行列CMが設定されてもよい。また、別の行列数の領域PMが設定されてもよい。モデル構築部322は、より多くの畳み込み処理又はプーリング処理を行ってもよい。 The model construction unit 322 creates 20 convolution matrices CM with 5 rows and 5 columns, and sets a region PM with 2 rows and 2 columns. However, the embodiment is not limited to this, and a different number of matrices or a different number of convolution matrices CM may be set. Also, a region PM with a different number of matrices may be set. The model construction unit 322 may perform more convolution processes or pooling processes.

モデル構築部322は、畳み込みニューラルネットワークの各層の結合として、全結合を設定する。ただし、実施形態はこれに限らず、一部或いは全ての層の結合は、非全結合に設定であってもよい。モデル構築部322は、活性化関数として、全ての層の活性化関数にシグモイド関数を設定する。ただし、実施形態はこれに限らず、各層の活性化関数は、ステップ関数、線形結合、ソフトサイン、ソフトプラス、ランプ関数、切断冪関数、多項式、絶対値、動径基底関数、ウェーブレット、maxout等、他の活性化関数であってもよい。また、ある層の活性化関数は、他の層とは異なる種類であってもよい。 The model construction unit 322 sets full connections as the connections of each layer of the convolutional neural network. However, the embodiment is not limited to this, and the connections of some or all layers may be set to non-full connections. The model construction unit 322 sets a sigmoid function as the activation function of all layers. However, the embodiment is not limited to this, and the activation function of each layer may be other activation functions such as a step function, linear combination, soft sine, soft plus, ramp function, truncated power function, polynomial, absolute value, radial basis function, wavelet, maxout, etc. Also, the activation function of a certain layer may be a different type from that of other layers.

モデル構築部322は、誤差関数として、二乗損失(平均二乗誤差)を設定する。ただし、本発明はこれに限らず、誤差関数は、交差エントロピー、τ-分位損失、Huber損失、ε感度損失(ε許容誤差関数)であってもよい。また、モデル構築部322は、勾配を計算するアルゴリズム(勾配降下アルゴリズム)として、SGD(確率的勾配降下)を設定する。ただし、本発明はこれに限らず、勾配降下アルゴリズムには、Momentum(慣性項) SDG、AdaGrad、RMSprop、AdaDelta、Adam(Adaptive moment estimation)等が用いられてもよい。 The model construction unit 322 sets squared loss (mean squared error) as the error function. However, the present invention is not limited to this, and the error function may be cross entropy, τ-quantile loss, Huber loss, or ε-sensitivity loss (ε-tolerance error function). In addition, the model construction unit 322 sets SGD (stochastic gradient descent) as the algorithm (gradient descent algorithm) for calculating the gradient. However, the present invention is not limited to this, and the gradient descent algorithm may be momentum (inertia term) SDG, AdaGrad, RMSprop, AdaDelta, Adam (Adaptive moment estimation), etc.

モデル構築部322は、畳み込みニューラルネットワーク(CNN)に限らず、パーセプトロンのニューラルネットワーク、再起型ニューラルネットワーク(RNN)、残差ネットワーク(ResNet)等の他のニューラルネットワークを設定してもよい。また、モデル構築部322は、決定木、回帰木、ランダムフォレスト、勾配ブースティング木、線形回帰、ロジスティック回帰、又は、SVM(サポートベクターマシン)等の教師あり学習の推定モデルを一部或いは全部に設定してもよい。 The model construction unit 322 may set other neural networks, such as a perceptron neural network, a recurrent neural network (RNN), a residual network (ResNet), etc., in addition to a convolutional neural network (CNN). The model construction unit 322 may also set some or all of the supervised learning estimation models, such as a decision tree, a regression tree, a random forest, a gradient boosting tree, a linear regression, a logistic regression, or an SVM (support vector machine).

[実施形態の効果]
以上に説明したように、実施形態によれば、エンボスキャリアテープ10の不良の種類を示す不良種類情報、エンボスキャリアテープ10の不良の種類に対応した照明装置100が光を照射する照明条件に関する照明条件情報、およびエンボスキャリアテープ10を特定するための対象物情報を入力する教師データ取得部321と、教師データ取得部321により入力した不良種類情報、照明条件情報および対象物情報を教師データとして機械学習させたモデルであって、不良種類情報および/または対象物情報を入力した場合に、エンボスキャリアテープ10に最適な条件に関する照明条件情報を出力するモデルを構築するモデル構築部322と、を備える、学習装置(学習部320)を実現することができる。この実施形態によれば、測定対象のエンボスキャリアテープ10に関する情報および不良種類をモデルに入力するだけで測定対象のエンボスキャリアテープ10に最適な照明条件情報を取得することできるので、高い精度でエンボスキャリアテープ10の検査を行うことができる。
[Effects of the embodiment]
As described above, according to the embodiment, it is possible to realize a learning device (learning unit 320) including: a teacher data acquisition unit 321 that inputs defect type information indicating the type of defect in the embossed carrier tape 10, lighting condition information related to the lighting conditions under which the lighting device 100 irradiates light corresponding to the type of defect in the embossed carrier tape 10, and object information for identifying the embossed carrier tape 10; and a model construction unit 322 that constructs a model that is machine-learned using the defect type information, lighting condition information, and object information input by the teacher data acquisition unit 321 as teacher data, and that outputs lighting condition information related to the conditions optimal for the embossed carrier tape 10 when the defect type information and/or the object information is input. According to this embodiment, it is possible to acquire lighting condition information optimal for the embossed carrier tape 10 to be measured simply by inputting information about the embossed carrier tape 10 to be measured and the defect type into the model, so that the embossed carrier tape 10 can be inspected with high accuracy.

ところで、照明条件により検査の正確性や再現性が大きく変わるため、最適な照明条件の発見が困難な場合が存在する。従来では、エンボスキャリアテープ10に発生しうる複数の不良を可能な限り検査できるように一つの照明条件を改良することが行われ、照明条件の改良は熟練者の経験に依存して推測することが行われてきた。しかし、不良の種類や、エンボスキャリアテープ10の色や透明度等の材質、表面性(反射、光沢または非光沢)、形状(平坦または凹凸)、部位、エンボスキャリアテープ10の表面形状や裏面形状などのエンボスキャリアテープ10の特性によって最適な照明条件は異なるため、高い精度で複数の検査に最適な照明条件を推測するためには長い時間を要する場合がある。これに対し、実施形態によれば、上述したモデルを構築することで照明条件の推定時間を短縮することができる。 However, since the accuracy and reproducibility of the inspection change significantly depending on the lighting conditions, it may be difficult to find the optimal lighting conditions. Conventionally, one lighting condition has been improved so that multiple defects that may occur in the embossed carrier tape 10 can be inspected as much as possible, and the improvement of the lighting conditions has been estimated based on the experience of an expert. However, the optimal lighting conditions differ depending on the type of defect, the material such as the color and transparency of the embossed carrier tape 10, the surface property (reflective, glossy or non-glossy), the shape (flat or uneven), the location, and the characteristics of the embossed carrier tape 10 such as the surface shape and back shape of the embossed carrier tape 10, so it may take a long time to estimate the optimal lighting conditions for multiple inspections with high accuracy. In contrast, according to the embodiment, the estimation time for the lighting conditions can be shortened by constructing the above-mentioned model.

また、実施形態によれば、照明条件情報として照明装置100の配置、光の強度、光の角度、光の波長を用いるので、最適な照明装置100の配置、光の強度、光の角度、光の波長を推定することができる。さらに、実施形態によれば、対象物情報としてエンボスキャリアテープ10の部位を用いるので、エンボスキャリアテープ10の部位の不良検査に最適な照明条件を推定することができる。さらに、実施形態によれば、対象物情報としてエンボスキャリアテープ10の形状、色、透過度、表面性、成形方法、金型形状といった物性情報を用いるので、当該物性情報の不良検査に最適な照明条件を推定することができる。 In addition, according to the embodiment, the position of the lighting device 100, the light intensity, the light angle, and the light wavelength are used as the lighting condition information, so that it is possible to estimate the optimal position of the lighting device 100, the light intensity, the light angle, and the light wavelength. Furthermore, according to the embodiment, the part of the embossed carrier tape 10 is used as the object information, so that it is possible to estimate the optimal lighting conditions for defect inspection of the part of the embossed carrier tape 10. Furthermore, according to the embodiment, the physical property information of the embossed carrier tape 10, such as the shape, color, transmittance, surface properties, molding method, and mold shape, is used as the object information, so that it is possible to estimate the optimal lighting conditions for defect inspection of the physical property information.

また、実施形態によれば、推定処理部332と、を備える、推定装置(推定部330)を実現することができる。この実施形態によれば、不良の種類、および測定対象のエンボスキャリアテープ10に関する情報をモデルに入力するだけで測定対象のエンボスキャリアテープ10に最適な照明条件情報を取得することできるので、高い精度でエンボスキャリアテープ10の検査を行うことができる。 Furthermore, according to the embodiment, an estimation device (estimation unit 330) including an estimation processing unit 332 can be realized. According to this embodiment, it is possible to obtain optimal lighting condition information for the embossed carrier tape 10 to be measured simply by inputting information about the type of defect and the embossed carrier tape 10 to be measured into the model, so that the embossed carrier tape 10 can be inspected with high accuracy.

なお、本発明の一態様における不良検査装置300のプログラムは、本発明の一態様に関わる上記の各実施形態や変形例で示した機能を実現するように、1つ、または複数の、CPU等のプロセッサを制御するプログラム(コンピュータを機能させるプログラム)であっても良い。そして、これらの各装置で取り扱われる情報は、その処理時に一時的にRAMに蓄積され、その後、フラッシュメモリ、SSDやHDD等の各種ストレージに格納され、必要に応じてCPUによって読み出し、修正・書き込みが行われても良い。 The program of the defect inspection device 300 in one aspect of the present invention may be a program that controls one or more processors such as a CPU (a program that causes a computer to function) so as to realize the functions shown in each of the above-mentioned embodiments and variations related to one aspect of the present invention. The information handled by each of these devices may be temporarily stored in RAM during processing, and then stored in various storage devices such as flash memory, SSD, and HDD, and may be read, modified, and written by the CPU as necessary.

なお、上述した各実施形態や変形例における不良検査装置300が備える学習部320または推定部330の一部又は全部を1つ、または複数のプロセッサを備えたコンピュータで実現するようにしても良い。その場合、この制御機能を実現するためのプログラムをコンピュータが読み取り可能な記録媒体に記録して、この記録媒体に記録されたプログラムをコンピュータシステムに読み込ませ、実行することによって実現しても良い。また、「コンピュータ読み取り可能な記録媒体」とは、フレキシブルディスク、光磁気ディスク、ROM、CD-ROM等の可搬媒体、コンピュータシステムに内蔵されるハードディスク等の記憶装置のことをいう。さらに「コンピュータ読み取り可能な記録媒体」とは、インターネット等のネットワークや電話回線等の通信回線を介してプログラムを送信する場合の通信線のように、短時間、動的にプログラムを保持するもの、その場合のサーバやクライアントとなるコンピュータシステム内部の揮発性メモリのように、一定時間プログラムを保持しているものも含んでも良い。また上記プログラムは、前述した機能の一部を実現するためのものであっても良く、さらに前述した機能をコンピュータシステムにすでに記録されているプログラムとの組み合わせで実現できるものであっても良い。 The learning unit 320 or the estimation unit 330 of the defect inspection device 300 in each of the above-mentioned embodiments and modifications may be partially or entirely realized by a computer having one or more processors. In that case, the control function may be realized by recording a program for realizing the control function in a computer-readable recording medium, and reading and executing the program recorded in the recording medium into a computer system. In addition, the term "computer-readable recording medium" refers to portable media such as flexible disks, optical magnetic disks, ROMs, and CD-ROMs, and storage devices such as hard disks built into a computer system. Furthermore, the term "computer-readable recording medium" may also include a medium that dynamically holds a program for a short period of time, such as a communication line when a program is transmitted via a network such as the Internet or a communication line such as a telephone line, and a medium that holds a program for a certain period of time, such as a volatile memory inside a computer system that is a server or client in such a case. The above-mentioned program may be a program for realizing part of the above-mentioned functions, or may be a program that can be realized in combination with a program already recorded in the computer system.

また、上述した各実施形態や変形例における不良検査装置300が備える学習部320または推定部330の一部、又は全部を典型的には集積回路であるLSIとして実現してもよいし、チップセットとして実現してもよい。また、集積回路化の手法は、LSIに限らず専用回路、および/または汎用プロセッサで実現しても良い。また、半導体技術の進歩によりLSIに代替する集積回路化の技術が出現した場合、当該技術による集積回路を用いることも可能である。 In addition, a part or all of the learning unit 320 or the estimation unit 330 provided in the defect inspection device 300 in each of the above-mentioned embodiments and modified examples may be realized as an LSI, which is typically an integrated circuit, or as a chip set. Furthermore, the integrated circuit method is not limited to LSI, and may be realized by a dedicated circuit and/or a general-purpose processor. Furthermore, if an integrated circuit technology that can replace LSI appears due to advances in semiconductor technology, it is also possible to use an integrated circuit based on that technology.

以上、この発明の一態様として各実施形態や変形例に関して図面を参照して詳述してきたが、具体的な構成は各実施形態や変形例に限られるものではなく、この発明の要旨を逸脱しない範囲の設計変更等も含まれる。また、本発明の一態様は、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。また、上記各実施形態や変形例に記載された要素であり、同様の効果を奏する要素同士を置換した構成も含まれる。 Although the above describes in detail each embodiment and modification as one aspect of this invention with reference to the drawings, the specific configuration is not limited to each embodiment and modification, and also includes design changes within the scope of the gist of this invention. Furthermore, various modifications of one aspect of the present invention are possible within the scope of the claims, and embodiments obtained by appropriately combining the technical means disclosed in different embodiments are also included in the technical scope of the present invention. Also included are configurations in which elements described in the above embodiments and modifications are substituted with elements that have the same effect.

例えば、上記各実施形態の一部または全部を組み合わせることで本発明の一態様を実現してもよい。 For example, one aspect of the present invention may be realized by combining some or all of the above embodiments.

以上、本発明を実施するための形態について実施形態を用いて説明したが、本発明はこうした実施形態に何等限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々の変形及び置換を加えることができる。 The above describes the form for carrying out the present invention using an embodiment, but the present invention is not limited to such an embodiment, and various modifications and substitutions can be made without departing from the spirit of the present invention.

1 不良検査システム
100 照明装置
200 撮像装置
300 不良検査装置
310 不良検査部
320 学習部
330 推定部
340 照明制御部
400 情報入力部
500 教師データ記憶部
600 通知部
1 Defect inspection system 100 Illumination device 200 Imaging device 300 Defect inspection device 310 Defect inspection section 320 Learning section 330 Estimation section 340 Illumination control section 400 Information input section 500 Teacher data storage section 600 Notification section

Claims (10)

対象物の不良の種類を示す不良種類情報、対象物の不良の種類に対応した照明装置が光を照射する照明条件に関する照明条件情報、および前記対象物を特定するための対象物情報を入力する入力部と、
前記入力部により入力した前記不良種類情報、前記照明条件情報および前記対象物情報を教師データとして機械学習させたモデルであって、前記不良種類情報および前記対象物情報を入力した場合に、前記対象物に最適な条件に関する前記照明条件情報を出力する前記モデルを構築するモデル構築部と、
を備える、学習装置。
an input unit for inputting defect type information indicating a type of defect of an object, lighting condition information regarding lighting conditions under which a lighting device irradiates light corresponding to the type of defect of the object, and object information for identifying the object;
a model construction unit that constructs a model by machine learning using the defect type information, the illumination condition information, and the object information input by the input unit as training data, the model outputting the illumination condition information related to the optimum condition for the object when the defect type information and the object information are input;
A learning device comprising:
前記照明条件情報は、前記対象物の不良の種類と、前記照明装置が光を照射する条件と、基準画像と前記対象物の不良状態を表す画像との相関に基づく相関データとの関係を示すデータであり、
前記モデル構築部は、前記不良種類情報を入力した場合に、基準画像と高い相関を得ることができる照明条件に関する前記照明条件情報を出力するように前記モデルを構築する、
請求項1に記載の学習装置。
the illumination condition information is data indicating a relationship between a type of defect of the object, a condition under which the illumination device irradiates light, and correlation data based on a correlation between a reference image and an image representing a defect state of the object,
the model construction unit constructs the model so as to output the illumination condition information relating to an illumination condition that can obtain a high correlation with a reference image when the defect type information is input.
The learning device according to claim 1 .
前記相関データは、基準画像と不良がない対象物の画像との第1の相関値と、前記基準画像と不良がある対象物の画像との第2の相関値と、を含み、前記第1の相関値が前記第2の相関値よりも高いことを示す情報である、請求項2に記載の学習装置。 The learning device according to claim 2, wherein the correlation data includes a first correlation value between a reference image and an image of an object without a defect, and a second correlation value between the reference image and an image of an object with a defect, and is information indicating that the first correlation value is higher than the second correlation value. 前記相関データは、基準画像と不良がない対象物の画像との第1の相関値の幅と、前記基準画像と不良がある対象物の画像との第2の相関値の幅と、を含み、前記第1の相関値の幅および前記第2の相関値の幅は、前記照明条件が前記対象物の不良の種類に適しているほど狭いことを示す情報である、請求項2に記載の学習装置。 The learning device according to claim 2, wherein the correlation data includes a first correlation value range between a reference image and an image of an object without a defect, and a second correlation value range between the reference image and an image of an object with a defect, and the first correlation value range and the second correlation value range are information indicating that the lighting conditions are narrow enough to be suitable for the type of defect of the object. 前記照明条件情報は、前記照明装置の配置、光の強度、光の角度、光の波長の少なくとも一つの条件を含む、請求項1に記載の学習装置。 The learning device according to claim 1, wherein the lighting condition information includes at least one of the following conditions: the arrangement of the lighting device, the intensity of light, the angle of light, and the wavelength of light. 前記対象物情報は、前記対象物の部位を示し、前記照明条件情報は、前記対象物の部位の不良検査に最適な照明条件を示す、請求項1に記載の学習装置。 The learning device according to claim 1, wherein the object information indicates a part of the object, and the lighting condition information indicates optimal lighting conditions for defect inspection of the part of the object. 前記対象物情報は、前記対象物の形状、色、透過度、表面性、成形方法、金型形状の少なくとも一つを含む物性情報を示し、前記照明条件情報は、前記物性情報で示される対象物の不良検査に最適な照明条件を示す、請求項1に記載の学習装置。 The learning device of claim 1, wherein the object information indicates physical property information including at least one of the shape, color, transparency, surface properties, molding method, and mold shape of the object, and the lighting condition information indicates optimal lighting conditions for defect inspection of the object indicated by the physical property information. 対象物の不良の種類を示す不良種類情報、および前記対象物を特定するための対象物情報を入力する入力部と、
前記不良種類情報、前記対象物情報、および前記対象物の不良の種類に対応した照明装置が光を照射する照明条件に関する照明条件情報、を教師データとして機械学習させたモデルに、前記入力部により入力した前記不良種類情報および前記対象物情報を入力し、前記モデルから出力された前記対象物に最適な条件に関する前記照明条件情報に基づいて、前記対象物に最適な照明条件を推定する推定部と、
を備える、推定装置。
an input unit for inputting defect type information indicating a type of defect in an object and object information for identifying the object;
an estimation unit that inputs the defect type information and the object information input by the input unit into a model that has been machine-learned using teacher data including the defect type information, the object information, and lighting condition information related to lighting conditions under which a lighting device corresponding to a type of defect of the object irradiates light, and estimates optimal lighting conditions for the object based on the lighting condition information related to optimal conditions for the object output from the model;
An estimation device comprising:
対象物に光を照射する照明装置と、
前記対象物を検査する検査部と、
前記対象物の不良の種類を示す不良種類情報、および前記対象物を特定するための対象物情報を入力する入力部と、
前記不良種類情報、前記対象物情報、および前記対象物の不良の種類に対応した照明装置が光を照射する照明条件に関する照明条件情報、を教師データとして機械学習させたモデルに、前記入力部により入力した前記不良種類情報および前記対象物情報を入力し、前記モデルから出力された前記対象物に最適な条件に関する前記照明条件情報に基づいて、前記対象物に最適な照明条件を推定する推定部と、
前記推定部により推定された前記照明条件に基づいて、前記照明装置を制御する制御部と、
を備える、不良検査装置。
A lighting device that irradiates light onto an object;
An inspection unit that inspects the object;
an input unit for inputting defect type information indicating a type of defect of the object and object information for identifying the object;
an estimation unit that inputs the defect type information and the object information input by the input unit into a model that has been machine-learned using teacher data including the defect type information, the object information, and lighting condition information related to lighting conditions under which a lighting device corresponding to a type of defect of the object irradiates light, and estimates optimal lighting conditions for the object based on the lighting condition information related to optimal conditions for the object output from the model;
a control unit that controls the lighting device based on the lighting condition estimated by the estimation unit;
A defect inspection device comprising:
不良検査装置が、対象物の不良の種類を示す不良種類情報、対象物の不良の種類に対応した照明装置が光を照射する照明条件に関する照明条件情報、および前記対象物を特定するための対象物情報を入力するステップと、
前記不良検査装置が、入力した前記不良種類情報、前記照明条件情報および前記対象物情報を教師データとして機械学習させたモデルであって、前記不良種類情報および前記対象物情報を入力した場合に、前記対象物に最適な条件に関する前記照明条件情報を出力する前記モデルを構築するステップと、
前記不良検査装置が、前記不良種類情報、および前記対象物を特定するための対象物情報を入力した場合に、前記モデルに前記不良種類情報および前記対象物情報を入力し、前記モデルから出力された前記対象物に最適な条件に関する前記照明条件情報に基づいて、前記対象物に最適な照明条件を推定するステップと、
前記不良検査装置が、推定された前記照明条件に基づいて、前記照明装置を制御するステップと、
前記不良検査装置が、前記対象物を検査するステップと、
を含む、不良検査方法。
a step of inputting defect type information indicating a type of defect of an object, lighting condition information regarding lighting conditions under which a lighting device irradiates light corresponding to the type of defect of the object, and object information for identifying the object by a defect inspection device;
constructing a model in which the defect inspection device has machine-learned the input defect type information, the illumination condition information, and the object information using training data, the model outputting the illumination condition information relating to the optimum conditions for the object when the defect type information and the object information are input;
a step of inputting the defect type information and object information for identifying the object to the defect inspection device, inputting the defect type information and the object information to the model, and estimating optimal illumination conditions for the object based on the illumination condition information relating to optimal conditions for the object output from the model;
The defect inspection device controls the lighting device based on the estimated lighting conditions;
The defect inspection device inspects the object;
A defect inspection method including:
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019203691A (en) 2016-11-11 2019-11-28 オムロン株式会社 Lighting device
JP2019204321A (en) 2018-05-24 2019-11-28 株式会社ジェイテクト Information processing method, information processor, and program
WO2020189189A1 (en) 2019-03-15 2020-09-24 オムロン株式会社 Inspection device and method
JP2021099258A (en) 2019-12-23 2021-07-01 ケイテック株式会社 Illumination device for inspection and inspection device

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019203691A (en) 2016-11-11 2019-11-28 オムロン株式会社 Lighting device
JP2019204321A (en) 2018-05-24 2019-11-28 株式会社ジェイテクト Information processing method, information processor, and program
WO2020189189A1 (en) 2019-03-15 2020-09-24 オムロン株式会社 Inspection device and method
JP2021099258A (en) 2019-12-23 2021-07-01 ケイテック株式会社 Illumination device for inspection and inspection device

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