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JP7614708B2 - How the chip is manufactured - Google Patents
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Description

本発明は、被加工物を分割して複数のチップを製造するチップの製造方法に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing chips by dividing a workpiece to produce multiple chips.

携帯電話、パーソナルコンピュータ等の様々な電子機器に組み込まれるチップの製造には、シリコン、ヒ化ガリウム、サファイア等でなる各種のウェーハが用いられる。ウェーハは、互いに交差する複数の分割予定ライン(ストリート)によって複数の領域に区画されており、各領域にはそれぞれデバイスが形成されている。このウェーハを分割予定ラインに沿って分割することにより、デバイスをそれぞれ備える複数のチップ(デバイスチップ)が得られる。 Various types of wafers made of silicon, gallium arsenide, sapphire, etc. are used to manufacture chips that are incorporated into various electronic devices such as mobile phones and personal computers. The wafer is divided into multiple regions by multiple planned division lines (streets) that intersect with each other, and devices are formed in each region. By dividing this wafer along the planned division lines, multiple chips (device chips), each equipped with a device, are obtained.

上記のウェーハ等の被加工物の分割には、例えば切削装置が用いられる。切削装置は、被加工物を保持するチャックテーブルと、環状の切削ブレードが装着される切削ユニットとを備えている。切削ブレードを回転させ、チャックテーブルによって保持された被加工物に切り込ませることにより、被加工物が切削、分割される。 For example, a cutting device is used to divide the workpiece, such as the wafer. The cutting device is equipped with a chuck table that holds the workpiece, and a cutting unit to which an annular cutting blade is attached. The cutting blade is rotated and cuts into the workpiece held by the chuck table, cutting and dividing the workpiece.

切削ブレードで被加工物を分割する際には、切削ブレードの下端が被加工物の裏面(下面)に達するように切削ブレードの切り込み深さを調節して、切削ブレードを被加工物に切り込ませる(フルカット)。このとき、切削ブレードが被加工物の裏面側に接触し、被加工物の裏面側で欠け(チッピング)が生じることがある。この欠けがチップに残存すると、チップの抗折強度(曲げ強度)が低下し、チップの品質が低下する。 When dividing a workpiece with a cutting blade, the cutting blade's cutting depth is adjusted so that the bottom end of the cutting blade reaches the back surface (lower surface) of the workpiece, and the cutting blade is caused to cut into the workpiece (full cut). At this time, the cutting blade may come into contact with the back surface of the workpiece, causing chipping on the back surface of the workpiece. If this chipping remains in the chip, the flexural strength (bending strength) of the chip will decrease, and the quality of the chip will deteriorate.

そこで、切削ブレードで被加工物を切削する際における欠けの発生を抑制可能なプロセスの開発が進められている。例えば特許文献1には、切削ブレードを被加工物に切り込ませることによって被加工物の裏面に至らない深さの溝を分割予定ラインに沿って形成する工程と、溝に沿って再度切削ブレードを被加工物に切り込ませて被加工物を切断する工程とを含む手法が開示されている。 In response, efforts are being made to develop a process that can prevent chipping when cutting a workpiece with a cutting blade. For example, Patent Document 1 discloses a method that includes a step of cutting a cutting blade into the workpiece to form a groove along the intended division line that is deep enough not to reach the back surface of the workpiece, and a step of cutting the workpiece by cutting the cutting blade again along the groove.

特開2020-113564号公報JP 2020-113564 A

上記のように被加工物を2段階で切削すると、被加工物の裏面側における欠けの発生が抑制される。しかしながら、この方法を用いる場合には、被加工物に設定された全ての分割予定ラインに沿って少なくとも2回ずつ切削ブレードを被加工物に切り込ませる必要がある。その結果、被加工物の加工効率が低下し、チップの生産効率も低下してしまう。 Cutting the workpiece in two stages as described above reduces the occurrence of chipping on the back side of the workpiece. However, when using this method, it is necessary to cut the cutting blade into the workpiece at least twice along each of the planned dividing lines set on the workpiece. As a result, the processing efficiency of the workpiece decreases, and the chip production efficiency also decreases.

本発明は、かかる問題に鑑みてなされたものであり、欠けの発生を抑制しつつチップの生産効率を向上させることが可能なチップの製造方法の提供を目的とする。 The present invention was made in consideration of such problems, and aims to provide a chip manufacturing method that can improve chip production efficiency while suppressing the occurrence of chipping.

本発明の一態様によれば、互いに交差する第1分割予定ライン及び第2分割予定ラインによって複数の領域に区画された被加工物を分割して複数のチップを製造するチップの製造方法であって、第1切削ブレードを該第1分割予定ラインに沿って該被加工物に切り込ませることにより、深さが該被加工物の厚さ未満の切削溝を該第1分割予定ラインに沿って形成する第1切削ステップと、第2切削ブレードを該第2分割予定ラインに沿って該被加工物に切り込ませることにより、該被加工物を該第2分割予定ラインに沿って分割する第2切削ステップと、該被加工物に外力を付与することにより、該切削溝を起点として該被加工物を該第1分割予定ラインに沿って分割する分割ステップと、を含むチップの製造方法が提供される。 According to one aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing chips by dividing a workpiece partitioned into a plurality of regions by first and second planned division lines that intersect with each other, the method including: a first cutting step of cutting a first cutting blade into the workpiece along the first planned division line to form a cutting groove having a depth less than the thickness of the workpiece along the first planned division line; a second cutting step of cutting a second cutting blade into the workpiece along the second planned division line to divide the workpiece along the second planned division line; and a dividing step of applying an external force to the workpiece to divide the workpiece along the first planned division line starting from the cutting groove.

なお、好ましくは、該被加工物は、該第1分割予定ラインから進展する欠けが該第2分割予定ラインから進展する欠けよりも生じやすい結晶性ウェーハである。また、好ましくは、該被加工物は、該被加工物の結晶方位を示すオリエンテーションフラットを有し、該第1分割予定ライン又は該第2分割予定ラインの一方は、該オリエンテーションフラットと平行な方向に沿って設定され、該第1分割予定ライン又は該第2分割予定ラインの他方は、該オリエンテーションフラットと垂直な方向に沿って設定される。 The workpiece is preferably a crystalline wafer in which chipping developing from the first planned division line is more likely to occur than chipping developing from the second planned division line. Also, the workpiece preferably has an orientation flat that indicates the crystal orientation of the workpiece, and one of the first planned division line or the second planned division line is set along a direction parallel to the orientation flat, and the other of the first planned division line or the second planned division line is set along a direction perpendicular to the orientation flat.

また、好ましくは、該第1切削ステップでは、該第1切削ブレードを超音波帯域に属する振動数で該第1切削ブレードの径方向に沿って振動させながら、該被加工物に切り込ませる。また、好ましくは、該第2切削ステップでは、該第2切削ブレードを超音波帯域に属する振動数で該第2切削ブレードの径方向に沿って振動させながら、該被加工物に切り込ませる。 Also, preferably, in the first cutting step, the first cutting blade is vibrated along the radial direction of the first cutting blade at a frequency that belongs to the ultrasonic band while cutting into the workpiece. Also, preferably, in the second cutting step, the second cutting blade is vibrated along the radial direction of the second cutting blade at a frequency that belongs to the ultrasonic band while cutting into the workpiece.

また、好ましくは、該第1切削ステップの実施後、且つ、該分割ステップの実施前に、該第2切削ステップを実施する。また、好ましくは、該チップの製造方法は、該被加工物にテープを貼付するテープ貼付ステップを更に含み、該分割ステップでは、該テープを拡張することによって該被加工物に該外力を付与する。 Also, preferably, the second cutting step is performed after the first cutting step and before the division step. Also, preferably, the chip manufacturing method further includes a tape application step of applying tape to the workpiece, and in the division step, the external force is applied to the workpiece by expanding the tape.

本発明の一態様に係るチップの製造方法では、切削溝の形成と外力の付与とによって被加工物を第1分割予定ラインに沿って分割するとともに、被加工物の切削によって被加工物を第2分割予定ラインに沿って分割する。本チップの製造方法を用いると、欠けが生じやすい第1分割予定ライン上においては、切削ブレードと被加工物の裏面側との衝突を回避し、被加工物の裏面側における欠けの発生を抑制できる。また、欠けが生じにくい第2分割予定ライン上においては、被加工物が切削ブレードによる1回の切削のみによって分割されるため、被加工物の分割工程を簡略化できる。これにより、欠けの発生を抑制しつつチップの生産効率を向上させることが可能となる。 In one embodiment of the chip manufacturing method of the present invention, the workpiece is divided along a first planned division line by forming a cutting groove and applying an external force, and the workpiece is divided along a second planned division line by cutting the workpiece. By using this chip manufacturing method, it is possible to avoid collision between the cutting blade and the back side of the workpiece along the first planned division line, where chipping is likely to occur, and to suppress the occurrence of chipping on the back side of the workpiece. In addition, along the second planned division line, where chipping is unlikely to occur, the workpiece is divided by cutting only once with the cutting blade, simplifying the workpiece division process. This makes it possible to improve the production efficiency of chips while suppressing the occurrence of chipping.

切削装置を示す斜視図である。FIG. 被加工物を示す斜視図である。FIG. 切削ユニットを示す分解斜視図である。FIG. 切削ユニットを示す断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view showing a cutting unit. テープ貼付ステップにおける被加工物を示す斜視図である。FIG. 11 is a perspective view showing the workpiece in the tape application step. チャックテーブルによって保持された被加工物を示す一部断面側面図である。2 is a partial cross-sectional side view showing a workpiece held by a chuck table. FIG. 図7(A)は第1切削ステップにおける被加工物の一部を示す断面図であり、図7(B)は切削溝が形成された被加工物の一部を示す断面図である。FIG. 7A is a cross-sectional view showing a part of the workpiece in the first cutting step, and FIG. 7B is a cross-sectional view showing a part of the workpiece in which a cut groove has been formed. 第1切削ステップ後の被加工物を示す斜視図である。FIG. 2 is a perspective view showing the workpiece after a first cutting step. 図9(A)は第2切削ステップにおける被加工物の一部を示す断面図であり、図9(B)はカーフが形成された被加工物の一部を示す断面図である。FIG. 9A is a cross-sectional view showing a part of the workpiece in the second cutting step, and FIG. 9B is a cross-sectional view showing a part of the workpiece in which a kerf has been formed. 第2切削ステップ後の被加工物を示す斜視図である。FIG. 4 is a perspective view showing the workpiece after the second cutting step. 図11(A)は分割ステップにおける被加工物を示す断面図であり、図11(B)は複数のチップに分割された被加工物を示す断面図である。FIG. 11A is a cross-sectional view showing the workpiece in the dividing step, and FIG. 11B is a cross-sectional view showing the workpiece divided into a plurality of chips. テープ貼付ステップにおける被加工物を示す斜視図である。FIG. 11 is a perspective view showing the workpiece in the tape application step. 図13(A)は第1切削ステップにおける被加工物の一部を示す断面図であり、図13(B)は切削溝が形成された被加工物の一部を示す断面図である。FIG. 13A is a cross-sectional view showing a part of the workpiece in the first cutting step, and FIG. 13B is a cross-sectional view showing a part of the workpiece in which a cut groove has been formed. テープを収縮させた際の被加工物を示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view showing the workpiece when the tape is shrunk. テープ貼り換えステップにおける被加工物を示す斜視図である。FIG. 11 is a perspective view showing the workpiece in the tape replacement step.

(実施形態1)
以下、添付図面を参照して本実施形態を説明する。まず、本実施形態に係るチップの製造方法に用いることが可能な切削装置の構成例について説明する。図1は、切削装置2を示す斜視図である。なお、図1において、X軸方向(加工送り方向、左右方向、第1水平方向)とY軸方向(割り出し送り方向、前後方向、第2水平方向)とは、互いに垂直な方向である。また、Z軸方向(鉛直方向、上下方向、高さ方向)は、X軸方向及びY軸方向と垂直な方向である。
(Embodiment 1)
Hereinafter, the present embodiment will be described with reference to the accompanying drawings. First, an example of the configuration of a cutting device that can be used in the manufacturing method of the tip according to the present embodiment will be described. FIG. 1 is a perspective view showing a cutting device 2. In FIG. 1, the X-axis direction (processing feed direction, left-right direction, first horizontal direction) and the Y-axis direction (indexing feed direction, front-back direction, second horizontal direction) are perpendicular to each other. Also, the Z-axis direction (vertical direction, up-down direction, height direction) is perpendicular to the X-axis direction and the Y-axis direction.

切削装置2は、切削装置2を構成する各構成要素を支持又は収容する基台4を備える。基台4の前端側の角部には開口4aが形成されており、開口4aの内部には、昇降機構(不図示)によってZ軸方向に沿って移動(昇降)するカセット支持台6が設けられている。カセット支持台6上には、切削装置2によって加工される複数の被加工物を収容可能なカセット8が搭載される。なお、図1ではカセット8の輪郭を二点鎖線で示している。 The cutting device 2 includes a base 4 that supports or houses each of the components that make up the cutting device 2. An opening 4a is formed in a corner on the front end side of the base 4, and inside the opening 4a, a cassette support table 6 that moves (lifts and lowers) along the Z-axis direction by a lifting mechanism (not shown) is provided. A cassette 8 capable of housing multiple workpieces to be machined by the cutting device 2 is mounted on the cassette support table 6. Note that in FIG. 1, the outline of the cassette 8 is indicated by a two-dot chain line.

図2は、被加工物11を示す斜視図である。被加工物11は、円盤状に形成された結晶性のウェーハであり、互いに概ね平行な表面11a及び裏面11bを備える。例えば被加工物11として、単結晶シリコンウェーハ、ヒ化ガリウム(GaAs)等のIII-V族化合物半導体でなる単結晶ウェーハ、サファイアウェーハ等が用いられる。 Figure 2 is a perspective view showing the workpiece 11. The workpiece 11 is a crystalline wafer formed into a disk shape, and has a front surface 11a and a back surface 11b that are generally parallel to each other. For example, the workpiece 11 may be a single crystal silicon wafer, a single crystal wafer made of a III-V group compound semiconductor such as gallium arsenide (GaAs), a sapphire wafer, or the like.

被加工物11は、互いに交差するように格子状に配列された複数の分割予定ライン(ストリート)13a,13bによって、複数の矩形状の領域に区画されている。また、複数の領域の表面11a側にはそれぞれ、IC(Integrated Circuit)、LSI(Large Scale Integration)、LED(Light Emitting Diode)、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems)デバイス等のデバイス15が形成されている。 The workpiece 11 is divided into a number of rectangular regions by a number of planned division lines (streets) 13a, 13b arranged in a grid pattern so as to intersect with each other. In addition, devices 15 such as ICs (Integrated Circuits), LSIs (Large Scale Integration), LEDs (Light Emitting Diodes), and MEMS (Micro Electro Mechanical Systems) devices are formed on the surface 11a side of each of the multiple regions.

被加工物11を分割予定ライン13a,13bに沿って分割することにより、デバイス15をそれぞれ備える複数のチップ(デバイスチップ)が製造される。ただし、被加工物11の材質、形状、構造、大きさ等に制限はない。また、デバイス15の種類、数量、形状、構造、大きさ、配置等にも制限はなく、被加工物11にはデバイス15が形成されていなくてもよい。 By dividing the workpiece 11 along the planned division lines 13a and 13b, multiple chips (device chips) each having a device 15 are manufactured. However, there are no restrictions on the material, shape, structure, size, etc. of the workpiece 11. There are also no restrictions on the type, number, shape, structure, size, arrangement, etc. of the devices 15, and the device 15 does not have to be formed on the workpiece 11.

被加工物11の外周部の一部には、被加工物11の結晶方位を示すオリエンテーションフラット(切り欠き部)17a,17bが設けられている。オリエンテーションフラット17a,17bは、平面視で直線状に形成された被加工物11の外周縁(側面)の一部に相当する。 Orientation flats (notches) 17a and 17b that indicate the crystal orientation of the workpiece 11 are provided on a portion of the outer periphery of the workpiece 11. The orientation flats 17a and 17b correspond to a portion of the outer periphery (side) of the workpiece 11 that is formed in a straight line in a plan view.

オリエンテーションフラット17a,17bは、被加工物11の結晶方位と所定の位置関係にある被加工物11の外周部の一部を、直線状に切り落とすことによって形成される。すなわち、オリエンテーションフラット17a,17bは被加工物11の結晶方位に対応して所定の位置に形成されている。そのため、オリエンテーションフラット17a,17bの位置を確認することにより、被加工物11の結晶方位を把握できる。 The orientation flats 17a and 17b are formed by cutting off a portion of the outer periphery of the workpiece 11 in a straight line, which is in a predetermined positional relationship with the crystal orientation of the workpiece 11. In other words, the orientation flats 17a and 17b are formed in a predetermined position corresponding to the crystal orientation of the workpiece 11. Therefore, by checking the position of the orientation flats 17a and 17b, the crystal orientation of the workpiece 11 can be ascertained.

なお、被加工物11にはオリエンテーションフラット17a,17bの一方のみが設けられていてもよい。また、被加工物11には、オリエンテーションフラット17a,17bの代わりにノッチが設けられていてもよい。 The workpiece 11 may be provided with only one of the orientation flats 17a and 17b. Also, the workpiece 11 may be provided with a notch instead of the orientation flats 17a and 17b.

図1に示すように、開口4aの後方には、被加工物11を搬送する搬送ユニット(搬送機構)10が設けられている。搬送ユニット10は、Y軸方向に沿って移動可能に構成されており、被加工物11のカセット8からの搬出と被加工物11のカセット8への搬入を行う。また、搬送ユニット10の開口4a側(カセット8側)の端部には、被加工物11を支持するフレーム21(図5参照)を把持する把持部10aが設けられている。 As shown in FIG. 1, a transport unit (transport mechanism) 10 that transports the workpiece 11 is provided behind the opening 4a. The transport unit 10 is configured to be movable along the Y-axis direction, and transports the workpiece 11 out of the cassette 8 and into the cassette 8. In addition, a gripper 10a that grips a frame 21 (see FIG. 5) that supports the workpiece 11 is provided at the end of the transport unit 10 on the opening 4a side (cassette 8 side).

開口4aと搬送ユニット10との間には、カセット8から搬出された被加工物11、又は、カセット8に搬入される被加工物11が仮置きされる仮置き領域12が設けられている。仮置き領域12には、Y軸方向に沿って互いに概ね平行に配置された一対のガイドレール14が設けられている。一対のガイドレール14は、X軸方向に沿って互いに接近及び離隔するように移動し、フレーム21(図5参照)を挟み込んで被加工物11の位置合わせを行う。 Between the opening 4a and the transport unit 10, there is provided a temporary placement area 12 where the workpiece 11 unloaded from the cassette 8 or the workpiece 11 to be loaded into the cassette 8 is temporarily placed. The temporary placement area 12 is provided with a pair of guide rails 14 arranged generally parallel to each other along the Y-axis direction. The pair of guide rails 14 move toward and away from each other along the X-axis direction, and align the workpiece 11 by sandwiching the frame 21 (see FIG. 5).

仮置き領域12の近傍には、被加工物11を搬送する搬送ユニット(搬送機構)16が設けられている。例えば搬送ユニット16は、フレーム21(図5参照)の上面側を吸引保持する複数の吸引パッドを備える。 A transport unit (transport mechanism) 16 that transports the workpiece 11 is provided near the temporary placement area 12. For example, the transport unit 16 includes a number of suction pads that hold the upper surface of the frame 21 (see FIG. 5) by suction.

開口4aの側方には、長手方向がX軸方向に沿うように形成された矩形状の開口4bが設けられている。開口4bの内部には、平板状の移動テーブル18aを備える移動ユニット(移動機構)18が設けられている。移動ユニット18は、例えばボールねじ式の移動機構であり、移動テーブル18aをX軸方向に沿って移動させる。また、移動テーブル18aの両側には、X軸方向に沿って伸縮する蛇腹状の防塵防滴カバー20が移動ユニット18の構成要素を覆うように設けられている。 A rectangular opening 4b is provided on the side of the opening 4a, with its longitudinal direction aligned with the X-axis direction. A moving unit (moving mechanism) 18 equipped with a flat moving table 18a is provided inside the opening 4b. The moving unit 18 is, for example, a ball screw type moving mechanism, and moves the moving table 18a along the X-axis direction. In addition, bellows-shaped dust-proof and drip-proof covers 20 that expand and contract along the X-axis direction are provided on both sides of the moving table 18a to cover the components of the moving unit 18.

移動テーブル18a上には、被加工物11を保持するチャックテーブル(保持テーブル)22が設けられている。チャックテーブル22の上面は、水平方向(XY平面方向)と概ね平行な平坦面であり、被加工物11を保持する保持面22aを構成している。保持面22aは、チャックテーブル22の内部に設けられた流路(不図示)、バルブ(不図示)等を介して、エジェクタ等の吸引源(不図示)に接続されている。また、チャックテーブル22の周囲には、フレーム21(図5参照)を把持して固定する複数のクランプ24が設けられている。 A chuck table (holding table) 22 that holds the workpiece 11 is provided on the moving table 18a. The upper surface of the chuck table 22 is a flat surface that is roughly parallel to the horizontal direction (XY plane direction) and constitutes a holding surface 22a that holds the workpiece 11. The holding surface 22a is connected to a suction source (not shown) such as an ejector via a flow path (not shown) and a valve (not shown) provided inside the chuck table 22. In addition, a plurality of clamps 24 that grip and fix the frame 21 (see FIG. 5) are provided around the periphery of the chuck table 22.

移動ユニット18は、チャックテーブル22を移動テーブル18aとともにX軸方向に沿って移動させる。そして、チャックテーブル22は移動ユニット18によって、被加工物11の搬送が行われる搬送領域Aと、被加工物11の加工が行われる加工領域Bとに位置付けられる。また、チャックテーブル22にはモータ等の回転駆動源(不図示)が連結されており、この回転駆動源はチャックテーブル22をZ軸方向に概ね平行な回転軸の周りで回転させる。 The moving unit 18 moves the chuck table 22 together with the moving table 18a along the X-axis direction. The moving unit 18 positions the chuck table 22 between a transport area A where the workpiece 11 is transported and a processing area B where the workpiece 11 is processed. A rotational drive source (not shown) such as a motor is connected to the chuck table 22, and this rotational drive source rotates the chuck table 22 around a rotation axis that is roughly parallel to the Z-axis direction.

加工領域Bには、被加工物11に切削加工を施す切削ユニット26が設けられている。切削ユニット26には、環状の切削ブレード28が装着される。切削ユニット26は、切削ブレード28を回転させて被加工物11に切り込ませることにより、被加工物11を切削する。 In the processing area B, a cutting unit 26 is provided that performs cutting processing on the workpiece 11. An annular cutting blade 28 is attached to the cutting unit 26. The cutting unit 26 cuts the workpiece 11 by rotating the cutting blade 28 and cutting into the workpiece 11.

切削ユニット26には、切削ユニット26をY軸方向及びZ軸方向に沿って移動させる移動ユニット(移動機構、不図示)が接続されている。例えば移動ユニットは、Y軸方向に沿って配置されたY軸ボールねじとZ軸方向に沿って配置されたZ軸ボールねじとを備えるボールねじ式の移動機構である。この移動ユニットによって、切削ユニット26に装着された切削ブレード28のY軸方向及びZ軸方向における位置が調節される。 A moving unit (moving mechanism, not shown) that moves the cutting unit 26 along the Y-axis direction and the Z-axis direction is connected to the cutting unit 26. For example, the moving unit is a ball screw type moving mechanism that includes a Y-axis ball screw arranged along the Y-axis direction and a Z-axis ball screw arranged along the Z-axis direction. This moving unit adjusts the position of the cutting blade 28 attached to the cutting unit 26 in the Y-axis direction and the Z-axis direction.

また、切削ユニット26は、純水等の液体(切削液)を供給するノズル(不図示)を備える。切削ブレード28で被加工物11を切削する際には、ノズルから被加工物11及び切削ブレード28に切削液が供給される。これにより、被加工物11及び切削ブレード28が冷却されるとともに、被加工物11の切削によって発生した屑(切削屑)が洗い流される。 The cutting unit 26 also includes a nozzle (not shown) that supplies liquid (cutting fluid) such as pure water. When cutting the workpiece 11 with the cutting blade 28, cutting fluid is supplied from the nozzle to the workpiece 11 and the cutting blade 28. This cools the workpiece 11 and the cutting blade 28, and washes away any debris (cutting debris) generated by cutting the workpiece 11.

チャックテーブル22の移動経路(搬送領域Aと加工領域Bとの間)と重なる位置には、チャックテーブル22によって保持された被加工物11等を撮像する撮像ユニット30が設けられている。例えば撮像ユニット30は、可視光を受光して電気信号に変換する撮像素子を備える可視光カメラや、赤外線を受光して電気信号に変換する撮像素子を備える赤外線カメラを備える。撮像ユニット30によって取得された画像は、被加工物11と切削ユニット26との位置合わせ等に用いられる。 At a position overlapping with the movement path of the chuck table 22 (between the transport area A and the processing area B), an imaging unit 30 is provided to capture images of the workpiece 11 held by the chuck table 22. For example, the imaging unit 30 includes a visible light camera equipped with an imaging element that receives visible light and converts it into an electrical signal, and an infrared camera equipped with an imaging element that receives infrared light and converts it into an electrical signal. The image captured by the imaging unit 30 is used for aligning the workpiece 11 with the cutting unit 26, etc.

チャックテーブル22の後方には、被加工物11を洗浄する洗浄ユニット(洗浄機構)32が設けられている。例えば洗浄ユニット32は、被加工物11を保持して回転するスピンナテーブルと、スピンナテーブルによって保持された被加工物11に向かって洗浄用の流体を供給するノズルとを備える。洗浄用の流体としては、液体(純水等)と気体(エアー等)とが混合された混合流体等が用いられる。 A cleaning unit (cleaning mechanism) 32 for cleaning the workpiece 11 is provided behind the chuck table 22. For example, the cleaning unit 32 includes a spinner table that holds and rotates the workpiece 11, and a nozzle that supplies a cleaning fluid toward the workpiece 11 held by the spinner table. As the cleaning fluid, a mixed fluid in which a liquid (e.g., pure water) and a gas (e.g., air) are mixed is used.

洗浄ユニット32の上方には、チャックテーブル22と洗浄ユニット32との間で被加工物11を搬送する搬送ユニット(搬送機構)34が設けられている。例えば搬送ユニット34は、フレーム21(図5参照)の上面側を吸引保持する複数の吸引パッドを備える。 Above the cleaning unit 32, a transport unit (transport mechanism) 34 is provided to transport the workpiece 11 between the chuck table 22 and the cleaning unit 32. For example, the transport unit 34 includes a number of suction pads that hold the upper surface of the frame 21 (see FIG. 5) by suction.

切削ユニット26によって切削された被加工物11は、搬送ユニット34によってチャックテーブル22から洗浄ユニット32に搬送され、洗浄ユニット32によって洗浄される。そして、洗浄後の被加工物11は搬送ユニット16によって一対のガイドレール14上に搬送された後、搬送ユニット10の把持部10aに把持されてカセット8に収容される。 The workpiece 11 cut by the cutting unit 26 is transported from the chuck table 22 to the cleaning unit 32 by the transport unit 34, and is cleaned by the cleaning unit 32. After cleaning, the workpiece 11 is transported onto the pair of guide rails 14 by the transport unit 16, and then gripped by the gripping portion 10a of the transport unit 10 and stored in the cassette 8.

また、切削装置2は、切削装置2に関する各種の情報を表示する表示部(表示ユニット、表示装置)36を備える。さらに、基台4の前端部には、切削装置2に各種の情報を入力するための入力部(入力ユニット、入力装置)38が設けられている。 The cutting device 2 also includes a display section (display unit, display device) 36 that displays various information related to the cutting device 2. Furthermore, an input section (input unit, input device) 38 is provided at the front end of the base 4 for inputting various information to the cutting device 2.

表示部36としては、各種のディスプレイが用いられる。また、入力部38としては、複数の操作キーを備える操作パネル、マウス、キーボード等が用いられる。なお、切削装置2は、ユーザーインターフェースとして機能するタッチパネルを備えていてもよい。この場合には、タッチパネルが表示部36及び入力部38として機能し、オペレーターはタッチパネルのタッチ操作によって切削装置2に情報を入力できる。 As the display unit 36, various displays are used. As the input unit 38, an operation panel with multiple operation keys, a mouse, a keyboard, etc. are used. The cutting device 2 may also be equipped with a touch panel that functions as a user interface. In this case, the touch panel functions as the display unit 36 and the input unit 38, and the operator can input information to the cutting device 2 by touching the touch panel.

切削装置2を構成する各構成要素(カセット支持台6、搬送ユニット10、ガイドレール14、搬送ユニット16、移動ユニット18、チャックテーブル22、クランプ24、切削ユニット26、撮像ユニット30、洗浄ユニット32、搬送ユニット34、表示部36、入力部38等)はそれぞれ、制御部(制御ユニット、制御装置)40に接続されている。制御部40は、切削装置2の各構成要素の動作を制御する制御信号を生成することにより、切削装置2の稼働を制御する。 Each of the components that make up the cutting device 2 (cassette support table 6, transport unit 10, guide rail 14, transport unit 16, moving unit 18, chuck table 22, clamp 24, cutting unit 26, imaging unit 30, cleaning unit 32, transport unit 34, display unit 36, input unit 38, etc.) is connected to a control unit (control unit, control device) 40. The control unit 40 controls the operation of the cutting device 2 by generating control signals that control the operation of each component of the cutting device 2.

例えば制御部40は、コンピュータによって構成され、切削装置2の稼働に必要な演算を行う演算部と、演算部における演算に用いられる各種の情報(データ、プログラム等)を記憶する記憶部とを備える。演算部は、CPU(Central Processing Unit)等のプロセッサを含んで構成される。また、記憶部は、主記憶装置、補助記憶装置等として機能する各種のメモリを含んで構成される。 For example, the control unit 40 is configured by a computer and includes a calculation unit that performs calculations necessary for the operation of the cutting device 2, and a storage unit that stores various information (data, programs, etc.) used in the calculations in the calculation unit. The calculation unit includes a processor such as a CPU (Central Processing Unit). The storage unit includes various memories that function as a main storage device, an auxiliary storage device, etc.

上記の切削装置2によって、被加工物11に切削加工が施される。なお、本実施形態では、切削ブレード28を超音波帯域に属する振動数で振動させることが可能な切削ユニット26が用いられる。図3は、切削ユニット26を示す分解斜視図である。 The cutting device 2 performs cutting on the workpiece 11. In this embodiment, a cutting unit 26 is used that can vibrate the cutting blade 28 at a frequency that belongs to the ultrasonic band. Figure 3 is an exploded perspective view showing the cutting unit 26.

切削ユニット26には、切削ブレード28が装着される。切削ブレード28としては、ワッシャータイプの切削ブレード(ワッシャーブレード)を用いることができる。ワッシャーブレードは、ダイヤモンド、立方晶窒化ホウ素(cBN:cubic Boron Nitride)等でなる砥粒を、金属、セラミックス、樹脂等でなる結合材で固定することによって形成された環状の切刃である。切削ブレード28は、互いに概ね平行な第1面28a及び第2面28bを有する。また、切削ブレード28の中央部には、切削ブレード28を厚さ方向に貫通する円形の開口28cが設けられている。 A cutting blade 28 is attached to the cutting unit 26. A washer-type cutting blade (washer blade) can be used as the cutting blade 28. The washer blade is an annular cutting edge formed by fixing abrasive grains made of diamond, cubic boron nitride (cBN), etc. with a binder made of metal, ceramics, resin, etc. The cutting blade 28 has a first surface 28a and a second surface 28b that are generally parallel to each other. In addition, a circular opening 28c is provided in the center of the cutting blade 28, penetrating the cutting blade 28 in the thickness direction.

ただし、切削ブレード28としてハブタイプの切削ブレード(ハブブレード)を用いてもよい。ハブブレードは、アルミニウム合金等の金属でなる環状の基台と、基台の外周縁に沿って形成された環状の切刃とが一体となって構成される。ハブブレードの切刃は、例えば砥粒をニッケルめっき層等の結合材で固定した電鋳砥石によって構成される。 However, a hub-type cutting blade (hub blade) may be used as the cutting blade 28. The hub blade is composed of an annular base made of a metal such as an aluminum alloy and an annular cutting edge formed along the outer periphery of the base. The cutting edge of the hub blade is composed of an electroformed grinding wheel in which abrasive grains are fixed with a bonding material such as a nickel-plated layer, for example.

切削ユニット26は、中空の円柱状に形成されたハウジング42を備える。ハウジング42には、Y軸方向に沿って配置された円柱状のスピンドル44が収容されている。スピンドル44の先端部(一端側)はハウジング42から露出しており、スピンドル44の先端部の外周面にはねじ部(雄ねじ)44aが形成されている。また、スピンドル44の基端部(他端側)には、スピンドル44を回転させるモータ等の回転駆動源(不図示)が連結されている。 The cutting unit 26 includes a housing 42 formed in a hollow cylindrical shape. The housing 42 accommodates a cylindrical spindle 44 arranged along the Y-axis direction. The tip (one end) of the spindle 44 is exposed from the housing 42, and a threaded portion (male thread) 44a is formed on the outer circumferential surface of the tip of the spindle 44. A rotational drive source (not shown), such as a motor, that rotates the spindle 44 is connected to the base end (the other end) of the spindle 44.

スピンドル44の先端部には、切削ブレード28が装着されるマウント46が固定される。マウント46は、切削ブレード28を支持する円盤状のフランジ部48と、フランジ部48の表面48aの中央部から突出する円柱状の支持軸(ボス部)50とを備える。マウント46には、フランジ部48の中央部及び支持軸50の中央部を貫通する円柱状の開口46aが設けられている。また、支持軸50の先端部の外周面には、ねじ部(雄ねじ)50aが形成されている。 A mount 46 on which the cutting blade 28 is attached is fixed to the tip of the spindle 44. The mount 46 has a disk-shaped flange portion 48 that supports the cutting blade 28, and a cylindrical support shaft (boss portion) 50 that protrudes from the center of the surface 48a of the flange portion 48. The mount 46 has a cylindrical opening 46a that penetrates the center of the flange portion 48 and the center of the support shaft 50. In addition, a threaded portion (male thread) 50a is formed on the outer peripheral surface of the tip of the support shaft 50.

マウント46は、開口46aにスピンドル44の先端部が挿入されるように、スピンドル44に装着される。この状態で、環状の固定ナット52をスピンドル44のねじ部44aに螺合させて締め付けると、マウント46がスピンドル44の先端部に固定される。 The mount 46 is attached to the spindle 44 so that the tip of the spindle 44 is inserted into the opening 46a. In this state, when the annular fixing nut 52 is screwed onto the threaded portion 44a of the spindle 44 and tightened, the mount 46 is fixed to the tip of the spindle 44.

また、マウント46には、金属等でなる環状のフランジ(押さえフランジ)54が装着される。フランジ54は、互いに概ね平行な第1面(表面)54a及び第2面(裏面)54b(図4参照)を有する。また、フランジ54の中央部には、フランジ54を厚さ方向に貫通する円柱状の開口54cが設けられている。 In addition, an annular flange (pressing flange) 54 made of metal or the like is attached to the mount 46. The flange 54 has a first surface (front surface) 54a and a second surface (back surface) 54b (see FIG. 4) that are generally parallel to each other. In addition, a cylindrical opening 54c is provided in the center of the flange 54, penetrating the flange 54 in the thickness direction.

切削ブレード28の開口28cとフランジ54の開口54cとにマウント46の支持軸50を順に挿入すると、切削ブレード28及びフランジ54がマウント46に装着される。この状態で、環状の固定ナット56を支持軸50のねじ部50aに螺合させて締め付けると、切削ブレード28及びフランジ54がマウント46に固定される。これにより、切削ブレード28がマウント46のフランジ部48とフランジ54とによって挟持され、スピンドル44の先端部に固定される。 When the support shaft 50 of the mount 46 is inserted into the opening 28c of the cutting blade 28 and the opening 54c of the flange 54 in that order, the cutting blade 28 and the flange 54 are attached to the mount 46. In this state, when the annular fixing nut 56 is screwed onto the threaded portion 50a of the support shaft 50 and tightened, the cutting blade 28 and the flange 54 are fixed to the mount 46. As a result, the cutting blade 28 is clamped between the flange portion 48 and the flange 54 of the mount 46 and fixed to the tip of the spindle 44.

スピンドル44の先端部に切削ブレード28が装着された状態で、スピンドル44に連結された回転駆動源によってスピンドル44を回転させると、切削ブレード28がY軸方向と概ね平行な回転軸の周りを所定の回転数で回転する。 When the cutting blade 28 is attached to the tip of the spindle 44 and the spindle 44 is rotated by a rotary drive source connected to the spindle 44, the cutting blade 28 rotates at a predetermined number of revolutions around a rotation axis that is roughly parallel to the Y-axis direction.

図4は、切削ユニット26を示す断面図である。マウント46のフランジ部48の外周部には、表面48aから突出する環状の凸部48bが、フランジ部48の外周縁に沿って設けられている。また、凸部48bの内側には、フランジ部48を厚さ方向に貫通する複数の貫通孔(スリット)48cが設けられている。例えばフランジ部48には、4つの円弧状の貫通孔48cが、フランジ部48の周方向に沿って概ね等間隔に形成される(図3参照)。 Figure 4 is a cross-sectional view showing the cutting unit 26. An annular protrusion 48b protruding from a surface 48a is provided along the outer periphery of the flange portion 48 of the mount 46. In addition, a plurality of through holes (slits) 48c penetrating the flange portion 48 in the thickness direction are provided inside the protrusion 48b. For example, four arc-shaped through holes 48c are formed in the flange portion 48 at approximately equal intervals along the circumferential direction of the flange portion 48 (see Figure 3).

一方、フランジ54の外周部には、第2面54bから突出する環状の凸部54dが、フランジ54の外周縁に沿って設けられている。また、凸部54dの内側には、フランジ54を厚さ方向に貫通する複数の貫通孔(スリット)54eが設けられている。例えばフランジ54には、4つの円弧状の貫通孔54eが、フランジ54の周方向に沿って概ね等間隔に形成される(図3参照)。 On the other hand, an annular protrusion 54d protruding from the second surface 54b is provided along the outer periphery of the flange 54. In addition, a plurality of through holes (slits) 54e penetrating the flange 54 in the thickness direction are provided inside the protrusion 54d. For example, four arc-shaped through holes 54e are formed in the flange 54 at approximately equal intervals along the circumferential direction of the flange 54 (see FIG. 3).

フランジ部48の凸部48bの先端面には、切削ブレード28の第1面28a側を支持する環状の支持部材58aが設けられている。また、フランジ54の凸部54dの先端面には、切削ブレード28の第2面28b側を支持する環状の支持部材58bが設けられている。支持部材58a,58bは、合成樹脂等でなり、切削ブレード28と接触して切削ブレード28を挟持する。なお、支持部材58a,58bは、デュロメータータイプDによって測定される硬度が40以上の部材であることが好ましい。 The tip surface of the convex portion 48b of the flange portion 48 is provided with an annular support member 58a that supports the first surface 28a side of the cutting blade 28. In addition, the tip surface of the convex portion 54d of the flange 54 is provided with an annular support member 58b that supports the second surface 28b side of the cutting blade 28. The support members 58a and 58b are made of synthetic resin or the like, and contact the cutting blade 28 to clamp it. Note that the support members 58a and 58b are preferably members having a hardness of 40 or more as measured by a durometer type D.

フランジ部48の凸部48bの内側には、振動子60aが設けられている。また、フランジ54の凸部54dの内側には、振動子60bが設けられている。例えば、振動子60a,60bはそれぞれ接着剤によってフランジ部48、フランジ54に固定される。振動子60a,60bは、切削ブレード28を超音波帯域に属する振動数で振動させる振動付与ユニット60を構成する。 A vibrator 60a is provided inside the convex portion 48b of the flange portion 48. Also, a vibrator 60b is provided inside the convex portion 54d of the flange 54. For example, the vibrators 60a and 60b are fixed to the flange portion 48 and the flange 54, respectively, by adhesive. The vibrators 60a and 60b constitute a vibration imparting unit 60 that vibrates the cutting blade 28 at a frequency that belongs to the ultrasonic band.

マウント46に切削ブレード28及びフランジ54が装着されると、切削ブレード28は支持部材58a,58bによって挟まれて固定される。そして、切削ブレード28は、第1面28aが振動子60aと対向し第2面28bが振動子60bと対向するように位置付けられる。 When the cutting blade 28 and flange 54 are attached to the mount 46, the cutting blade 28 is fixed by being sandwiched between the support members 58a and 58b. The cutting blade 28 is then positioned so that the first surface 28a faces the transducer 60a and the second surface 28b faces the transducer 60b.

振動子60aは、フランジ部48の周方向に沿って設けられた環状の圧電体62aと、圧電体62aを挟むように設けられた一対の電極64aと、圧電体62a及び一対の電極64aを覆う絶縁体66aとを備える。同様に、振動子60bは、フランジ54の周方向に沿って設けられた環状の圧電体62bと、圧電体62bを挟むように設けられた一対の電極64bと、圧電体62b及び一対の電極64bを覆う絶縁体66bとを備える。例えば圧電体62a,62bは、チタン酸バリウム、チタン酸ジルコン酸鉛、リチウムタンタレート等でなる圧電セラミックスによって構成される。 The vibrator 60a includes an annular piezoelectric body 62a arranged along the circumferential direction of the flange portion 48, a pair of electrodes 64a arranged to sandwich the piezoelectric body 62a, and an insulator 66a that covers the piezoelectric body 62a and the pair of electrodes 64a. Similarly, the vibrator 60b includes an annular piezoelectric body 62b arranged along the circumferential direction of the flange 54, a pair of electrodes 64b arranged to sandwich the piezoelectric body 62b, and an insulator 66b that covers the piezoelectric body 62b and the pair of electrodes 64b. For example, the piezoelectric bodies 62a and 62b are made of piezoelectric ceramics such as barium titanate, lead zirconate titanate, and lithium tantalate.

また、マウント46の内部には、配線68a,68bが設けられている。配線68a,68bの一端側はそれぞれ2つに分岐しており、支持軸50の側面で露出している。振動子60aの一方の電極64aは、リード線70aを介して配線68aに接続されている。また、振動子60aの他方の電極64aは、リード線70bを介して配線68bに接続されている。 In addition, wiring 68a, 68b is provided inside the mount 46. One end of the wiring 68a, 68b is branched into two and exposed on the side of the support shaft 50. One electrode 64a of the vibrator 60a is connected to the wiring 68a via a lead wire 70a. The other electrode 64a of the vibrator 60a is connected to the wiring 68b via a lead wire 70b.

フランジ54には、開口54cで露出する接続電極72a,72bが設けられている。そして、振動子60bの一方の電極64bは、リード線70c及び接続電極72aを介して、配線68aに接続されている。また、振動子60bの他方の電極64bは、リード線70d及び接続電極72bを介して、配線68bに接続されている。 The flange 54 is provided with connection electrodes 72a and 72b exposed at the opening 54c. One electrode 64b of the vibrator 60b is connected to the wiring 68a via the lead wire 70c and the connection electrode 72a. The other electrode 64b of the vibrator 60b is connected to the wiring 68b via the lead wire 70d and the connection electrode 72b.

さらに、切削ユニット26は、振動子60a,60bに交流電圧を供給する電圧供給ユニット74を備える。電圧供給ユニット74は、マウント46の裏面側(ハウジング42側)に設けられた受電部(受電ユニット)76と、ハウジング42の表面側(マウント46側)に配置され受電部76と対向する給電部(給電ユニット)82とを備える。 The cutting unit 26 further includes a voltage supply unit 74 that supplies AC voltage to the transducers 60a and 60b. The voltage supply unit 74 includes a power receiving section (power receiving unit) 76 provided on the back side (housing 42 side) of the mount 46, and a power supply section (power supply unit) 82 disposed on the front side (mount 46 side) of the housing 42 and facing the power receiving section 76.

受電部76は、マウント46の裏面側に設けられた環状のコア78を備える。コア78の表面側(給電部82側)には環状の凹部78aが形成されており、凹部78aの内部には環状のコイル(受電コイル)80が設けられている。コイル80の一端側は配線68aに接続され、コイル80の他端側は配線68bに接続されている。 The power receiving unit 76 has an annular core 78 provided on the back side of the mount 46. An annular recess 78a is formed on the front side (the power supply unit 82 side) of the core 78, and an annular coil (power receiving coil) 80 is provided inside the recess 78a. One end of the coil 80 is connected to the wiring 68a, and the other end of the coil 80 is connected to the wiring 68b.

給電部82は、環状のコア84を備える。例えばコア84は、ボルト(不図示)によってハウジング42の表面側に固定される。コア84の表面側(受電部76側)には環状の凹部84aが形成されており、凹部84aの内部には環状のコイル(給電コイル)86が設けられている。コイル86は、配線88a,88bを介して交流電源90に接続されている。また、交流電源90には、交流電源90から供給される交流電圧の周波数を制御する周波数変換器92が接続されている。 The power supply unit 82 includes an annular core 84. For example, the core 84 is fixed to the surface side of the housing 42 by a bolt (not shown). An annular recess 84a is formed on the surface side (the power receiving unit 76 side) of the core 84, and an annular coil (power supply coil) 86 is provided inside the recess 84a. The coil 86 is connected to an AC power source 90 via wiring 88a and 88b. In addition, a frequency converter 92 that controls the frequency of the AC voltage supplied from the AC power source 90 is connected to the AC power source 90.

受電部76と給電部82とによって、交流電源90から供給された交流電圧を振動付与ユニット60に伝達するロータリートランスが構成される。そして、切削ブレード28によって被加工物11を加工する際は、交流電源90によって給電部82のコイル86に交流電圧が印加される。このとき、交流電圧の周波数は周波数変換器92によって制御される。 The power receiving unit 76 and the power supply unit 82 constitute a rotary transformer that transmits the AC voltage supplied from the AC power source 90 to the vibration imparting unit 60. When the cutting blade 28 processes the workpiece 11, the AC power source 90 applies an AC voltage to the coil 86 of the power supply unit 82. At this time, the frequency of the AC voltage is controlled by the frequency converter 92.

コイル86に印加された交流電圧は、受電部76のコイル80、配線68a,68b、リード線70a,70b,70c,70dを介して、振動子60aの一対の電極64a及び振動子60bの一対の電極64bに供給される。これにより、振動子60aの圧電体62aがマウント46とともに径方向に沿って振動する。また、振動子60bの圧電体62bがフランジ54とともに径方向に沿って振動する。その結果、マウント46とフランジ54とによって挟持された切削ブレード28が、切削ブレード28の径方向に沿って振動する。 The AC voltage applied to the coil 86 is supplied to the pair of electrodes 64a of the vibrator 60a and the pair of electrodes 64b of the vibrator 60b via the coil 80 of the power receiving unit 76, the wiring 68a, 68b, and the lead wires 70a, 70b, 70c, and 70d. This causes the piezoelectric body 62a of the vibrator 60a to vibrate in the radial direction together with the mount 46. Also, the piezoelectric body 62b of the vibrator 60b to vibrate in the radial direction together with the flange 54. As a result, the cutting blade 28, which is sandwiched between the mount 46 and the flange 54, vibrates in the radial direction of the cutting blade 28.

なお、交流電源90から供給される交流電圧の周波数は、切削ブレード28が超音波帯域に属する振動数で振動するように、周波数変換器92によって制御される。また、マウント46のフランジ部48には複数の貫通孔48cが設けられており、フランジ54には複数の貫通孔54eが設けられている(図3参照)。これにより、フランジ部48及びフランジ54の径方向における剛性が小さくなり、フランジ部48及びフランジ54が径方向に沿って振動しやすくなる。その結果、切削ブレード28も径方向に沿って振動しやすくなる。 The frequency of the AC voltage supplied from the AC power source 90 is controlled by a frequency converter 92 so that the cutting blade 28 vibrates at a frequency that belongs to the ultrasonic band. In addition, a plurality of through holes 48c are provided in the flange portion 48 of the mount 46, and a plurality of through holes 54e are provided in the flange 54 (see FIG. 3). This reduces the rigidity of the flange portion 48 and the flange 54 in the radial direction, making it easier for the flange portion 48 and the flange 54 to vibrate in the radial direction. As a result, the cutting blade 28 also vibrates easily in the radial direction.

上記の切削装置2で被加工物11を切削することにより、被加工物11が複数のチップに分割される。以下、本実施形態に係るチップの製造方法の具体例について説明する。 The workpiece 11 is cut by the cutting device 2, and the workpiece 11 is divided into a plurality of chips. Below, a specific example of the method for manufacturing chips according to this embodiment is described.

まず、図2に示す被加工物11を準備する。ここで、仮に切削ブレード28(図3等参照)を被加工物11に切り込ませて被加工物11を切断すると、切削ブレード28が被加工物11の裏面11b側に接触し、被加工物11の裏面11b側で欠け(チッピング)が発生することがある。この欠けは、切削ブレード28によって形成されたカーフ(切り口)から分割予定ライン13a,13bと交差する方向に沿って進展する。 First, prepare the workpiece 11 shown in Figure 2. If a cutting blade 28 (see Figure 3, etc.) is inserted into the workpiece 11 to cut it, the cutting blade 28 may come into contact with the back surface 11b of the workpiece 11, causing chipping on the back surface 11b of the workpiece 11. This chipping progresses from the kerf (cut) formed by the cutting blade 28 along a direction that intersects with the planned division lines 13a, 13b.

また、被加工物11の材質や構造によっては、被加工物11の裏面11b側における欠けの生じやすさが、切削ブレード28による切削の方向に応じて異なる。例えば、被加工物11が単結晶シリコンウェーハ、単結晶ヒ化ガリウムウェーハ、サファイアウェーハ等の結晶性ウェーハである場合、分割予定ライン13aから進展する欠けのサイズと分割予定ライン13bから進展する欠けのサイズとが異なる傾向にあることが確認されている。このような欠けの異方性は、結晶性ウェーハの結晶方位に起因しており、結晶性ウェーハの劈開面と分割予定ライン13a,13bとの角度等に依存していると推察される。 Depending on the material and structure of the workpiece 11, the likelihood of chipping on the back surface 11b of the workpiece 11 varies depending on the cutting direction by the cutting blade 28. For example, when the workpiece 11 is a crystalline wafer such as a single crystal silicon wafer, a single crystal gallium arsenide wafer, or a sapphire wafer, it has been confirmed that the size of the chipping that develops from the planned division line 13a tends to differ from the size of the chipping that develops from the planned division line 13b. Such anisotropy of the chipping is due to the crystal orientation of the crystalline wafer, and is presumably dependent on the angle between the cleavage plane of the crystalline wafer and the planned division lines 13a and 13b.

本実施形態においては、被加工物11の加工前に、被加工物11と材質及び形状が同一の被加工物(テスト用被加工物)を予め切削ブレード28で複数の方向に沿って切断し、カーフから進展する欠けのサイズを測定する。これにより、被加工物11において欠けが生じやすい方向と生じにくい方向とが特定される。そして、分割予定ライン13aから進展する欠け(第1チッピング)が分割予定ライン13bから進展する欠け(第2チッピング)よりも生じやすくなるように、分割予定ライン13a,13bの向きを設定する。 In this embodiment, before machining the workpiece 11, a workpiece (test workpiece) having the same material and shape as the workpiece 11 is cut in advance in multiple directions with the cutting blade 28, and the size of chipping that develops from the kerf is measured. This identifies the directions in the workpiece 11 in which chipping is likely to occur and the directions in which it is unlikely to occur. The directions of the planned division lines 13a and 13b are then set so that chipping that develops from the planned division line 13a (first chipping) is more likely to occur than chipping that develops from the planned division line 13b (second chipping).

なお、欠けの生じやすさは、欠けのサイズの平均値に基づいて定義できる。具体的には、切削ブレード28で被加工物11を分割予定ライン13a,13bに沿って切断した場合において、分割予定ライン13aと垂直な方向における第1チッピングの長さの平均値が、分割予定ライン13bと垂直な方向における第2チッピングの長さの平均値よりも大きい場合には、第1チッピングが第2チッピングよりも生じやすいと言える。 The likelihood of chipping can be defined based on the average chip size. Specifically, when the cutting blade 28 cuts the workpiece 11 along the planned division lines 13a and 13b, if the average length of the first chipping in the direction perpendicular to the planned division line 13a is greater than the average length of the second chipping in the direction perpendicular to the planned division line 13b, it can be said that the first chipping is more likely to occur than the second chipping.

本実施形態においては、分割予定ライン13a(第1分割予定ライン)が、オリエンテーションフラット17aと平行で、且つ、オリエンテーションフラット17bと垂直な方向に沿って設定される。また、分割予定ライン13b(第2分割予定ライン)が、オリエンテーションフラット17aと垂直で、且つ、オリエンテーションフラット17bと平行な方向に沿って設定される。 In this embodiment, the planned division line 13a (first planned division line) is set along a direction parallel to the orientation flat 17a and perpendicular to the orientation flat 17b. The planned division line 13b (second planned division line) is set along a direction perpendicular to the orientation flat 17a and parallel to the orientation flat 17b.

次に、被加工物11にテープを貼付する(テープ貼付ステップ)。図5は、テープ貼付ステップにおける被加工物11を示す斜視図である。テープ貼付ステップでは、被加工物11の裏面11b側にテープ19が貼付される。 Next, tape is applied to the workpiece 11 (tape application step). FIG. 5 is a perspective view showing the workpiece 11 in the tape application step. In the tape application step, tape 19 is applied to the back surface 11b side of the workpiece 11.

例えばテープ19は、円形に形成されたフィルム状の基材と、基材上に設けられた粘着層(糊層)とを含む。なお、テープ19は、外力の付与によって拡張(引き延ばし)が可能なテープ(エキスパンドテープ)であることが好ましい。この場合には、後述の分割ステップにおいて、テープ19の拡張によって被加工物11に外力を付与できる。例えば基材は、ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル等の樹脂でなる。また、粘着層は、エポキシ系、アクリル系、又はゴム系の接着剤等でなる。なお、粘着層には、紫外線の照射によって硬化する紫外線硬化型の樹脂を用いてもよい。 For example, the tape 19 includes a film-like substrate formed into a circular shape and an adhesive layer (glue layer) provided on the substrate. The tape 19 is preferably an expandable tape that can be expanded (stretched) by application of an external force. In this case, in the division step described below, an external force can be applied to the workpiece 11 by expanding the tape 19. For example, the substrate is made of a resin such as polyolefin or polyvinyl chloride. The adhesive layer is made of an epoxy-based, acrylic-based, or rubber-based adhesive. The adhesive layer may be made of an ultraviolet-curable resin that is cured by exposure to ultraviolet light.

テープ19の外周部は、SUS(ステンレス鋼)等の金属でなる環状のフレーム21に貼付される。フレーム21の中央部には、被加工物11よりも直径が大きい円柱状の開口21aが、フレーム21を厚さ方向に貫通するように設けられている。被加工物11が開口21aの内側に配置された状態で、テープ19の中央部が被加工物11の裏面11b側に貼付されるとともに、テープ19の外周部がフレーム21に貼付される。これにより、被加工物11がテープ19を介してフレーム21によって支持される。そして、被加工物11はフレーム21によって支持された状態で、図1に示すカセット8に収容される。 The outer periphery of the tape 19 is attached to an annular frame 21 made of a metal such as SUS (stainless steel). A cylindrical opening 21a having a diameter larger than that of the workpiece 11 is provided in the center of the frame 21 so as to penetrate the frame 21 in the thickness direction. With the workpiece 11 placed inside the opening 21a, the center of the tape 19 is attached to the back surface 11b side of the workpiece 11, and the outer periphery of the tape 19 is attached to the frame 21. As a result, the workpiece 11 is supported by the frame 21 via the tape 19. Then, the workpiece 11, supported by the frame 21, is stored in the cassette 8 shown in FIG. 1.

切削装置2で被加工物11を加工する際には、まず、搬送ユニット10がカセット8に向かって移動し、カセット8に収容されているフレーム21の端部を把持部10aで把持する。その後、搬送ユニット10はY軸方向に沿ってカセット8から離れるように移動する。これにより、被加工物11がカセット8から引き出され、一対のガイドレール14上に配置される。 When the workpiece 11 is processed by the cutting device 2, the transport unit 10 first moves toward the cassette 8 and grips the end of the frame 21 housed in the cassette 8 with the gripping portion 10a. The transport unit 10 then moves away from the cassette 8 along the Y-axis direction. This causes the workpiece 11 to be pulled out of the cassette 8 and placed on the pair of guide rails 14.

一対のガイドレール14は、フレーム21を下側から支持した状態で互いに接近し、フレーム21を挟み込む。これにより、被加工物11の位置合わせが行われる。その後、搬送ユニット16によってフレーム21が吸引保持され、被加工物11が搬送領域Aに位置付けられたチャックテーブル22に搬送される。 The pair of guide rails 14 approach each other while supporting the frame 21 from below, sandwiching the frame 21. This aligns the workpiece 11. The frame 21 is then held by suction by the transport unit 16, and the workpiece 11 is transported to the chuck table 22 positioned in the transport area A.

図6は、チャックテーブル22によって保持された被加工物11を示す一部断面側面図である。被加工物11は、チャックテーブル22の保持面22a上にテープ19を介して配置される。また、フレーム21が複数のクランプ24によって固定される。この状態で、保持面22aに吸引源の負圧を作用させると、被加工物11がテープ19を介してチャックテーブル22によって吸引保持される。 Figure 6 is a partial cross-sectional side view showing the workpiece 11 held by the chuck table 22. The workpiece 11 is placed on the holding surface 22a of the chuck table 22 via the tape 19. The frame 21 is fixed by a number of clamps 24. In this state, when negative pressure from a suction source is applied to the holding surface 22a, the workpiece 11 is suction-held by the chuck table 22 via the tape 19.

次に、切削ブレード28を分割予定ライン13aに沿って被加工物11に切り込ませることにより、深さが被加工物11の厚さ未満の切削溝を分割予定ライン13aに沿って形成する(第1切削ステップ)。図7(A)は、第1切削ステップにおける被加工物11の一部を示す断面図である。 Next, the cutting blade 28 is caused to cut into the workpiece 11 along the intended division line 13a to form a cutting groove whose depth is less than the thickness of the workpiece 11 along the intended division line 13a (first cutting step). Figure 7 (A) is a cross-sectional view showing a portion of the workpiece 11 in the first cutting step.

第1切削ステップでは、まず、チャックテーブル22を回転させ、分割予定ライン13aの長さ方向をX軸方向に合わせる。また、切削ブレード28の下端が被加工物11の表面11aよりも下方で、且つ、被加工物11の裏面11bよりも上方に配置されるように、切削ユニット26のZ軸方向における位置を調整する。さらに、切削ブレード28が分割予定ライン13aの延長線上に配置されるように、切削ユニット26のY軸方向における位置を調整する。 In the first cutting step, first, the chuck table 22 is rotated to align the length direction of the planned division line 13a with the X-axis direction. In addition, the position of the cutting unit 26 in the Z-axis direction is adjusted so that the lower end of the cutting blade 28 is positioned below the front surface 11a of the workpiece 11 and above the back surface 11b of the workpiece 11. Furthermore, the position of the cutting unit 26 in the Y-axis direction is adjusted so that the cutting blade 28 is positioned on an extension of the planned division line 13a.

そして、切削ブレード28を回転させながら、チャックテーブル22をX軸方向に沿って移動させる。これにより、チャックテーブル22と切削ブレード28とがX軸方向に沿って相対的に移動し(加工送り)、切削ブレード28が分割予定ライン13aに沿って被加工物11の表面11a側に切り込む。 Then, while rotating the cutting blade 28, the chuck table 22 is moved along the X-axis direction. As a result, the chuck table 22 and the cutting blade 28 move relatively along the X-axis direction (processing feed), and the cutting blade 28 cuts into the surface 11a of the workpiece 11 along the planned division line 13a.

図7(B)は、切削溝23が形成された被加工物11の一部を示す断面図である。切削ブレード28を被加工物11に切り込ませると、被加工物11の表面11a側に、深さが被加工物11の厚さ未満の切削溝23が分割予定ライン13aに沿って形成される。そして、同様の手順を繰り返すことにより、全ての分割予定ライン13aに沿って切削溝23が形成される。 Figure 7 (B) is a cross-sectional view showing a part of the workpiece 11 in which the cutting grooves 23 have been formed. When the cutting blade 28 is cut into the workpiece 11, cutting grooves 23 with a depth less than the thickness of the workpiece 11 are formed along the intended division lines 13a on the surface 11a side of the workpiece 11. Then, by repeating the same procedure, cutting grooves 23 are formed along all of the intended division lines 13a.

なお、切削ブレード28を被加工物11に切り込ませる際には、振動付与ユニット60(図4参照)によって、切削ブレード28を切削ブレード28の径方向に沿って振動させることが好ましい。このとき振動付与ユニット60は、切削ブレード28を超音波帯域に属する振動数で振動させる。例えば、切削ブレード28の振動数は20kHz以上に設定される。振動付与ユニット60から切削ブレード28に振動が付与されると、切削ブレード28は直径が増減するように振動する。なお、切削ブレード28の直径の変動量(直径の最大値と最小値との差)は、例えば約5μmである。 When cutting the cutting blade 28 into the workpiece 11, it is preferable to vibrate the cutting blade 28 in the radial direction of the cutting blade 28 by the vibration imparting unit 60 (see FIG. 4). At this time, the vibration imparting unit 60 vibrates the cutting blade 28 at a frequency that belongs to the ultrasonic band. For example, the vibration frequency of the cutting blade 28 is set to 20 kHz or higher. When vibration is imparted to the cutting blade 28 by the vibration imparting unit 60, the cutting blade 28 vibrates so that its diameter increases or decreases. The amount of variation in the diameter of the cutting blade 28 (the difference between the maximum and minimum diameters) is, for example, about 5 μm.

振動する切削ブレード28が被加工物11に切り込むと、切削ブレード28の超音波帯域に属する振動数での振動(超音波振動)により、切削ブレード28の下端部から露出する砥粒が超音波振動に対応する周期で被加工物11に衝突する。これにより、被加工物11の破砕が生じ、切削溝23が形成されやすくなる。 When the vibrating cutting blade 28 cuts into the workpiece 11, the vibration of the cutting blade 28 at a frequency that belongs to the ultrasonic band (ultrasonic vibration) causes the abrasive grains exposed from the lower end of the cutting blade 28 to collide with the workpiece 11 at a frequency that corresponds to the ultrasonic vibration. This causes the workpiece 11 to fracture, making it easier to form the cutting grooves 23.

図8は、第1切削ステップ後の被加工物11を示す斜視図である。図8に示すように、被加工物11の表面11a側には、裏面11bに至らない深さの切削溝23が分割予定ライン13aに沿って概ね平行に形成される。 Figure 8 is a perspective view showing the workpiece 11 after the first cutting step. As shown in Figure 8, a cutting groove 23 is formed on the front surface 11a side of the workpiece 11, the cutting groove 23 being deep enough not to reach the back surface 11b, and extending generally parallel to the intended division line 13a.

なお、仮に切削ブレード28の切り込み深さ(被加工物11の表面11aと切削ブレード28の下端との高さの差)が被加工物11の厚さ以上に設定されると、切削ブレード28によって被加工物11が切断される(フルカット)。その際、振動する切削ブレード28が被加工物11の裏面11bに衝突し、被加工物11の裏面11b側で欠けが生じる。特に、前述の通り分割予定ライン13aから進展する欠けは分割予定ライン13bから進展する欠けよりも生じやすいため、被加工物11の裏面11bにはサイズの大きな欠けが形成されやすい。 If the cutting depth of the cutting blade 28 (the difference in height between the surface 11a of the workpiece 11 and the bottom end of the cutting blade 28) is set to be greater than or equal to the thickness of the workpiece 11, the cutting blade 28 cuts the workpiece 11 (full cut). At that time, the vibrating cutting blade 28 collides with the back surface 11b of the workpiece 11, causing chipping on the back surface 11b side of the workpiece 11. In particular, as described above, chipping that develops from the planned division line 13a is more likely to occur than chipping that develops from the planned division line 13b, so large chips are more likely to form on the back surface 11b of the workpiece 11.

一方、上記の第1切削ステップにおいては、切削ブレード28が被加工物11の裏面11bに達しないように切削ブレード28の切り込み深さが設定される。そのため、振動する切削ブレード28が被加工物11の裏面11bに衝突せず、被加工物11の裏面11b側における欠けの発生が回避される。 Meanwhile, in the first cutting step, the cutting depth of the cutting blade 28 is set so that the cutting blade 28 does not reach the back surface 11b of the workpiece 11. Therefore, the vibrating cutting blade 28 does not collide with the back surface 11b of the workpiece 11, and chipping on the back surface 11b side of the workpiece 11 is avoided.

特に、被加工物11の破壊靱性値が3.0MPa・m1/2以下である場合には、振動する切削ブレード28の衝突によって被加工物11が破砕されやすく、加工不良が発生しやすい。そのため、このような被加工物11を切削する場合においては、被加工物11をフルカットせず、上記のように切削溝23を形成することが特に好ましい(ハーフカット)。破壊靱性値が3.0MPa・m1/2以下である被加工物11の例としては、単結晶シリコンウェーハ、単結晶ヒ化ガリウムウェーハ、サファイアウェーハ等が挙げられる。なお、被加工物11の破壊靱性値は、日本産業規格JIS R 1607(対応国際規格:ISO 15732)に準拠して測定される。 In particular, when the fracture toughness value of the workpiece 11 is 3.0 MPa·m 1/2 or less, the workpiece 11 is likely to be broken by the collision of the vibrating cutting blade 28, and machining defects are likely to occur. Therefore, when cutting such a workpiece 11, it is particularly preferable to form the cutting groove 23 as described above without fully cutting the workpiece 11 (half cut). Examples of the workpiece 11 having a fracture toughness value of 3.0 MPa·m 1/2 or less include single crystal silicon wafers, single crystal gallium arsenide wafers, sapphire wafers, etc. The fracture toughness value of the workpiece 11 is measured in accordance with Japanese Industrial Standard JIS R 1607 (corresponding international standard: ISO 15732).

また、第1切削ステップにおいて切削ブレード28を振動させながら被加工物11に切り込ませると、振動する切削ブレード28が切削溝23の底に衝突し、切削溝23の底から被加工物11の裏面11b側に向かって亀裂(クラック)が形成される。これにより、後の分割ステップにおいて被加工物11が切削溝23に沿って分割されやすくなる。 In addition, when the cutting blade 28 is vibrated while cutting into the workpiece 11 in the first cutting step, the vibrating cutting blade 28 collides with the bottom of the cutting groove 23, and a crack is formed from the bottom of the cutting groove 23 toward the back surface 11b of the workpiece 11. This makes it easier to divide the workpiece 11 along the cutting groove 23 in the subsequent dividing step.

ただし、亀裂が進展して被加工物11の裏面11bに達すると、被加工物11の裏面11b側に欠け等の加工不良が生じるおそれがある。そのため、切削ブレード28の切り込み深さは、切削溝23の底から進展する亀裂が被加工物11の裏面11bに達しないように設定されることが好ましい。 However, if the crack propagates and reaches the back surface 11b of the workpiece 11, there is a risk of machining defects such as chipping occurring on the back surface 11b side of the workpiece 11. Therefore, it is preferable that the cutting depth of the cutting blade 28 is set so that the crack propagating from the bottom of the cutting groove 23 does not reach the back surface 11b of the workpiece 11.

例えば、切削ブレード28の切り込み深さは、被加工物11の厚さと切削ブレード28の切り込み深さとの差(切削溝23の底と被加工物11の裏面11bとの高さの差)が、振動する切削ブレード28の直径の変動量の1/2以上となるように設定される。これにより、切削溝23の底から進展する亀裂が被加工物11の裏面11bに到達しにくくなり、加工不良の発生が抑制される。 For example, the cutting depth of the cutting blade 28 is set so that the difference between the thickness of the workpiece 11 and the cutting depth of the cutting blade 28 (the difference in height between the bottom of the cutting groove 23 and the back surface 11b of the workpiece 11) is equal to or greater than half the amount of variation in the diameter of the vibrating cutting blade 28. This makes it difficult for cracks propagating from the bottom of the cutting groove 23 to reach the back surface 11b of the workpiece 11, suppressing the occurrence of processing defects.

次に、切削ブレード28を分割予定ライン13bに沿って被加工物11に切り込ませることにより、被加工物11を分割予定ライン13bに沿って分割する(第2切削ステップ)。図9(A)は、第2切削ステップにおける被加工物11の一部を示す断面図である。 Next, the cutting blade 28 is caused to cut into the workpiece 11 along the planned division lines 13b, thereby dividing the workpiece 11 along the planned division lines 13b (second cutting step). Figure 9 (A) is a cross-sectional view showing a portion of the workpiece 11 in the second cutting step.

第2切削ステップでは、まず、チャックテーブル22を回転させ、分割予定ライン13bの長さ方向をX軸方向に合わせる。また、切削ブレード28の下端が被加工物11の裏面11b(テープ19の上面)よりも下方で、且つ、保持面22a(テープ19の下面)よりも上方に配置されるように、切削ユニット26のZ軸方向における位置を調整する。さらに、切削ブレード28が分割予定ライン13bの延長線上に配置されるように、切削ユニット26のY軸方向における位置を調整する。 In the second cutting step, first, the chuck table 22 is rotated to align the length direction of the planned division line 13b with the X-axis direction. In addition, the position of the cutting unit 26 in the Z-axis direction is adjusted so that the lower end of the cutting blade 28 is positioned below the back surface 11b (upper surface of the tape 19) of the workpiece 11 and above the holding surface 22a (lower surface of the tape 19). Furthermore, the position of the cutting unit 26 in the Y-axis direction is adjusted so that the cutting blade 28 is positioned on an extension of the planned division line 13b.

そして、切削ブレード28を回転させながら、チャックテーブル22をX軸方向に沿って移動させる。これにより、チャックテーブル22と切削ブレード28とがX軸方向に沿って相対的に移動し(加工送り)、切削ブレード28が分割予定ライン13bに沿って被加工物11に切り込む。 Then, while rotating the cutting blade 28, the chuck table 22 is moved along the X-axis direction. As a result, the chuck table 22 and the cutting blade 28 move relatively along the X-axis direction (machining feed), and the cutting blade 28 cuts into the workpiece 11 along the planned division line 13b.

図9(B)は、カーフ(切り口)25が形成された被加工物11の一部を示す断面図である。切削ブレード28を被加工物11に切り込ませると、被加工物11には表面11aから裏面11bに至るカーフ25が分割予定ライン13bに沿って形成され、被加工物11が分割される。そして、同様の手順を繰り返すことにより、全ての分割予定ライン13bに沿ってカーフ25が形成される。 Figure 9 (B) is a cross-sectional view showing a portion of the workpiece 11 on which a kerf (cut) 25 has been formed. When the cutting blade 28 is cut into the workpiece 11, a kerf 25 is formed along the intended division line 13b in the workpiece 11, extending from the front surface 11a to the back surface 11b, and the workpiece 11 is divided. Then, by repeating the same procedure, kerfs 25 are formed along all of the intended division lines 13b.

なお、第2切削ステップにおいても第1切削ステップと同様に、振動付与ユニット60(図4参照)によって切削ブレード28を切削ブレード28の径方向に沿って振動させてもよい。これにより、被加工物11が容易に分割される。なお、切削ブレード28の振動数や切削ブレード28の直径の変動量は、第1切削ステップと同様に設定できる。 In the second cutting step, as in the first cutting step, the cutting blade 28 may be vibrated in the radial direction of the cutting blade 28 by the vibration imparting unit 60 (see FIG. 4). This allows the workpiece 11 to be easily divided. The vibration frequency of the cutting blade 28 and the amount of change in the diameter of the cutting blade 28 can be set in the same way as in the first cutting step.

図10は、第2切削ステップ後の被加工物11を示す斜視図である。図10に示すように、被加工物11には、表面11aから裏面11bに至るカーフ25が分割予定ライン13bに沿って概ね平行に形成される。 Figure 10 is a perspective view showing the workpiece 11 after the second cutting step. As shown in Figure 10, a kerf 25 is formed in the workpiece 11 from the front surface 11a to the back surface 11b, generally parallel to the intended division line 13b.

上記の第2切削ステップでは、切削ブレード28が被加工物11の裏面11bに達するように切削ブレード28の切り込み深さが設定されるため、切削ブレード28が被加工物11の裏面11bに衝突する。しかしながら、前述の通り、分割予定ライン13bから進展する欠けは分割予定ライン13aから進展する欠けよりも生じにくい。そのため、被加工物11の裏面11b側において被加工物11の品質に影響を与えるようなサイズの大きい欠けは形成されにくい。 In the second cutting step, the cutting depth of the cutting blade 28 is set so that the cutting blade 28 reaches the back surface 11b of the workpiece 11, and the cutting blade 28 collides with the back surface 11b of the workpiece 11. However, as described above, chipping that develops from the planned division line 13b is less likely to occur than chipping that develops from the planned division line 13a. Therefore, chipping that is large enough to affect the quality of the workpiece 11 is less likely to form on the back surface 11b side of the workpiece 11.

また、上記の第2切削ステップは、被加工物11が分割予定ライン13aに沿って分割されていない状態で実施される。そのため、被加工物11の切削時に被加工物11の配置が変動しにくく、被加工物11を分割予定ライン13bに沿って正確に切削することが可能となる。 The second cutting step is performed when the workpiece 11 is not divided along the planned dividing lines 13a. Therefore, the position of the workpiece 11 is less likely to change when cutting the workpiece 11, and the workpiece 11 can be cut accurately along the planned dividing lines 13b.

なお、上記では第1切削ステップと第2切削ステップとで同一の切削ブレード28を用いる場合について説明した(図7(A)及び図9(A)参照)。ただし、第1切削ステップで用いられる切削ブレード(第1切削ブレード)と第2切削ステップで用いられる切削ブレード(第2切削ブレード)とは、同一の切削ブレードであってもよいし、径や材質が異なる別々の切削ブレードであってもよい。 In the above, the case where the same cutting blade 28 is used in the first cutting step and the second cutting step has been described (see FIG. 7(A) and FIG. 9(A)). However, the cutting blade used in the first cutting step (first cutting blade) and the cutting blade used in the second cutting step (second cutting blade) may be the same cutting blade, or may be different cutting blades with different diameters or materials.

次に、被加工物11に外力を付与することにより、切削溝23を起点として被加工物11を分割予定ライン13aに沿って分割する(分割ステップ)。例えば、テープ19が外力の付与によって拡張可能なエキスパンドテープである場合には、テープ19を拡張することによって被加工物11に外力を付与できる。 Next, an external force is applied to the workpiece 11, and the workpiece 11 is divided along the planned division line 13a starting from the cutting groove 23 (division step). For example, if the tape 19 is an expandable tape that can be expanded by the application of an external force, an external force can be applied to the workpiece 11 by expanding the tape 19.

図11(A)は、分割ステップにおける被加工物11を示す断面図である。分割ステップでは、まず、必要に応じてテープ19からフレーム21を剥離して取り外す。その後、テープ19を径方向外側に向かって引っ張って拡張する。これにより、被加工物11に対し、被加工物11の径方向外側に向かう外力が付与される。 Figure 11 (A) is a cross-sectional view showing the workpiece 11 in the dividing step. In the dividing step, first, the frame 21 is peeled off and removed from the tape 19 as necessary. Then, the tape 19 is pulled radially outward to expand it. This applies an external force to the workpiece 11 in the radially outward direction of the workpiece 11.

被加工物11に外力が付与されると、被加工物11が切削溝23を起点として破断する。具体的には、切削溝23の底から被加工物11の裏面11bに達する亀裂(クラック)27が形成され、被加工物11が分割予定ライン13aに沿って分割される。すなわち、切削溝23は被加工物11の分割起点(分割のきっかけ)として機能する。 When an external force is applied to the workpiece 11, the workpiece 11 breaks starting from the cutting groove 23. Specifically, a crack 27 is formed that reaches from the bottom of the cutting groove 23 to the back surface 11b of the workpiece 11, and the workpiece 11 is divided along the planned division line 13a. In other words, the cutting groove 23 functions as the division starting point (the trigger for division) of the workpiece 11.

図11(B)は、複数のチップ(デバイスチップ)29に分割された被加工物11を示す断面図である。被加工物11を分割予定ライン13aに沿って分割することにより、デバイス15をそれぞれ備える複数のチップ29が製造される。また、テープ19を拡張すると、隣接するチップ29の間に隙間が形成され、チップ29をテープ19からピックアップしやすくなる。 Figure 11 (B) is a cross-sectional view showing the workpiece 11 divided into multiple chips (device chips) 29. By dividing the workpiece 11 along the planned division lines 13a, multiple chips 29, each of which includes a device 15, are manufactured. In addition, when the tape 19 is expanded, gaps are formed between adjacent chips 29, making it easier to pick up the chips 29 from the tape 19.

なお、分割ステップは、被加工物11が分割予定ライン13bに沿って複数の個片に分割された状態(図10参照)で実施される。そのため、テープ19を拡張した際に各個片に外力が付与されやすく、各個片が切削溝23に沿って破断しやすい。その結果、被加工物11が切削溝23に沿って確実に分割される。 The dividing step is performed with the workpiece 11 divided into a plurality of pieces along the planned dividing lines 13b (see FIG. 10). Therefore, when the tape 19 is expanded, an external force is likely to be applied to each piece, and each piece is likely to break along the cutting grooves 23. As a result, the workpiece 11 is reliably divided along the cutting grooves 23.

以上の通り、本実施形態に係るチップの製造方法では、切削溝23の形成と外力の付与とによって被加工物11を分割予定ライン13aに沿って分割するとともに、カーフ25の形成によって被加工物11を分割予定ライン13bに沿って分割する。本チップの製造方法を用いると、欠けが生じやすい分割予定ライン13a上においては、切削ブレード28と被加工物11の裏面11b側との衝突を回避し、被加工物11の裏面11b側における欠けの発生を抑制できる。また、欠けが生じにくい分割予定ライン13b上においては、被加工物11が切削ブレード28による1回の切削のみによって分割されるため、被加工物11の分割工程を簡略化できる。これにより、欠けの発生を抑制しつつチップ29の生産効率を向上させることが可能となる。 As described above, in the chip manufacturing method according to this embodiment, the workpiece 11 is divided along the planned division line 13a by forming the cutting groove 23 and applying an external force, and the workpiece 11 is divided along the planned division line 13b by forming the kerf 25. By using this chip manufacturing method, it is possible to avoid collision between the cutting blade 28 and the back surface 11b of the workpiece 11 on the planned division line 13a, where chipping is likely to occur, and to suppress the occurrence of chipping on the back surface 11b of the workpiece 11. In addition, on the planned division line 13b, where chipping is unlikely to occur, the workpiece 11 is divided by cutting only once by the cutting blade 28, so the division process of the workpiece 11 can be simplified. This makes it possible to improve the production efficiency of the chips 29 while suppressing the occurrence of chipping.

なお、本実施形態に係る構造、方法等は、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更できる。 The structure, method, etc., of this embodiment may be modified as appropriate without departing from the scope of the purpose of this invention.

(実施形態2)
実施形態1において説明したチップの製造方法に含まれる各ステップの順番は、被加工物11の分割が可能な範囲内で適宜変更できる。例えば、第1切削ステップと分割ステップとを実施した後に、第2切削ステップを実施することもできる。
(Embodiment 2)
The order of the steps included in the method for producing the tip described in the first embodiment can be changed as appropriate within the range in which it is possible to divide the workpiece 11. For example, the second cutting step can be carried out after the first cutting step and the dividing step are carried out.

具体的には、まず、被加工物11にテープ19を貼付する(テープ貼付ステップ)。図12は、テープ貼付ステップにおける被加工物11を示す斜視図である。なお、本実施形態では、被加工物11の表面11a側にテープ19が貼付される。これにより、被加工物11の表面11a側に形成されているデバイス15がテープ19によって覆われて保護される。 Specifically, first, tape 19 is applied to the workpiece 11 (tape application step). FIG. 12 is a perspective view showing the workpiece 11 in the tape application step. In this embodiment, tape 19 is applied to the front surface 11a side of the workpiece 11. As a result, the device 15 formed on the front surface 11a side of the workpiece 11 is covered and protected by tape 19.

次に、切削ブレード28を被加工物11に切り込ませることにより、被加工物11に切削溝23を分割予定ライン13aに沿って形成する(第1切削ステップ)。図13(A)は、第1切削ステップにおける被加工物11の一部を示す断面図である。 Next, the cutting blade 28 is caused to cut into the workpiece 11 to form a cutting groove 23 in the workpiece 11 along the intended division line 13a (first cutting step). Figure 13 (A) is a cross-sectional view showing a portion of the workpiece 11 in the first cutting step.

本実施形態では、被加工物11の表面11a側(テープ19側)がチャックテーブル22によって保持される。そして、切削ブレード28を分割予定ライン13aに沿って被加工物11の裏面11b側に切り込ませる。その結果、被加工物11の裏面11b側に切削溝23が分割予定ライン13aに沿って形成される。なお、切削ブレード28を被加工物11に切り込ませる際には、振動付与ユニット60(図4参照)によって切削ブレード28を振動させてもよい。 In this embodiment, the front surface 11a side (tape 19 side) of the workpiece 11 is held by the chuck table 22. Then, the cutting blade 28 is caused to cut into the back surface 11b side of the workpiece 11 along the planned division line 13a. As a result, a cutting groove 23 is formed on the back surface 11b side of the workpiece 11 along the planned division line 13a. When the cutting blade 28 is caused to cut into the workpiece 11, the cutting blade 28 may be vibrated by the vibration imparting unit 60 (see FIG. 4).

図13(B)は、切削溝23が形成された被加工物11の一部を示す断面図である。被加工物11が全ての分割予定ライン13aに沿って切削されると、被加工物11の裏面11b側には、深さが被加工物11の厚さ未満の切削溝23が分割予定ライン13aに沿って形成される。 Figure 13 (B) is a cross-sectional view showing a part of the workpiece 11 in which the cutting grooves 23 have been formed. When the workpiece 11 has been cut along all of the planned division lines 13a, cutting grooves 23 with a depth less than the thickness of the workpiece 11 are formed along the planned division lines 13a on the back surface 11b side of the workpiece 11.

次に、被加工物11に外力を付与することにより、切削溝23を起点として被加工物11を分割予定ライン13aに沿って分割する(分割ステップ)。例えば、テープ19を拡張することによって被加工物11に外力を付与する(図11(A)参照)。被加工物11に外力が付与されると、被加工物11が切削溝23を起点として破断し、分割予定ライン13aに沿って複数の個片に分割される(図11(B)参照)。 Next, an external force is applied to the workpiece 11, so that the workpiece 11 is divided along the planned division lines 13a starting from the cutting grooves 23 (division step). For example, an external force is applied to the workpiece 11 by expanding the tape 19 (see FIG. 11(A)). When an external force is applied to the workpiece 11, the workpiece 11 breaks starting from the cutting grooves 23, and is divided into a plurality of individual pieces along the planned division lines 13a (see FIG. 11(B)).

なお、被加工物11を複数の個片に分割した後には、被加工物11の配置をテープ19の拡張前の状態に戻す処理を行うことが好ましい。例えば、テープ19を加熱することによって収縮(シュリンク)させ、テープ19の径を拡張前と同等にする。 After dividing the workpiece 11 into a plurality of individual pieces, it is preferable to perform a process to return the arrangement of the workpiece 11 to the state before the tape 19 was expanded. For example, the tape 19 is heated to shrink it, so that the diameter of the tape 19 becomes the same as before the expansion.

図14は、テープ19を収縮させた際の被加工物11を示す断面図である。テープ19を収縮させると、テープ19に貼付された被加工物11の配置が分割ステップの実施前の状態に戻る。これにより、後の第2切削ステップにおいて被加工物11を分割予定ライン13bに沿って切削しやすくなる。 Figure 14 is a cross-sectional view showing the workpiece 11 when the tape 19 is shrunk. When the tape 19 is shrunk, the arrangement of the workpiece 11 attached to the tape 19 returns to the state before the division step was performed. This makes it easier to cut the workpiece 11 along the planned division line 13b in the subsequent second cutting step.

次に、被加工物11に貼付されたテープを貼り換える(テープ貼り換えステップ)。図15は、テープ貼り換えステップにおける被加工物11を示す斜視図である。テープ貼り換えステップでは、まず、被加工物11の裏面11b側及びフレーム21にテープ31が貼付される。なお、テープ31の形状や材質はテープ19と同様である。例えばテープ31は、樹脂でなる基材と、基材上に設けられた紫外線硬化型の樹脂(粘着層)とを備える。 Next, the tape attached to the workpiece 11 is replaced (tape replacement step). FIG. 15 is a perspective view showing the workpiece 11 in the tape replacement step. In the tape replacement step, first, tape 31 is attached to the back surface 11b side of the workpiece 11 and to the frame 21. The shape and material of tape 31 are the same as those of tape 19. For example, tape 31 includes a base material made of resin and an ultraviolet-curable resin (adhesive layer) provided on the base material.

その後、被加工物11の表面11a側及びフレーム21からテープ19(図14等参照)を剥離する。これにより、テープの貼り換え完了し、被加工物11はテープ31を介してフレーム21によって支持される。なお、テープ19を剥離すると、前述の第1切削ステップにおいて発生してテープ19に付着した切削屑が、テープ19とともに除去される。これにより、被加工物11に切削屑が残存しにくくなる。 Then, the tape 19 (see FIG. 14, etc.) is peeled off from the surface 11a side of the workpiece 11 and from the frame 21. This completes the tape replacement, and the workpiece 11 is supported by the frame 21 via the tape 31. When the tape 19 is peeled off, the cutting chips that were generated in the first cutting step described above and that adhered to the tape 19 are removed together with the tape 19. This makes it less likely that cutting chips will remain on the workpiece 11.

次に、切削ブレード28を分割予定ライン13bに沿って被加工物11に切り込ませることにより、被加工物11を分割予定ライン13bに沿って分割する(第2切削ステップ)。第2切削ステップでは、切削ブレード28を分割予定ライン13bに沿って被加工物11に切り込ませる(図9(A)参照)。これにより、被加工物11には表面11aから裏面11bに至るカーフ25が分割予定ライン13bに沿って形成され(図9(B)参照)、被加工物11が複数のチップ29に分割される。 Next, the cutting blade 28 is caused to cut into the workpiece 11 along the planned division line 13b, thereby dividing the workpiece 11 along the planned division line 13b (second cutting step). In the second cutting step, the cutting blade 28 is caused to cut into the workpiece 11 along the planned division line 13b (see FIG. 9(A)). As a result, a kerf 25 is formed in the workpiece 11 along the planned division line 13b, from the front surface 11a to the back surface 11b (see FIG. 9(B)), and the workpiece 11 is divided into a plurality of chips 29.

分割ステップの後に第2切削ステップを実施すると、分割ステップにおいて被加工物11を破断させた際に生じた屑が、第2切削ステップにおいて被加工物11に供給される切削液によって洗い流される。これにより、チップ29に屑が残存しにくくなる。 When the second cutting step is performed after the dividing step, the debris generated when the workpiece 11 is broken in the dividing step is washed away by the cutting fluid supplied to the workpiece 11 in the second cutting step. This makes it difficult for debris to remain on the tip 29.

なお、第2切削ステップを実施した後に、第1切削ステップと分割ステップとを実施することもできる。その他、本実施形態において説明を省略した事項については、実施形態1と同様に実施できる。 In addition, after performing the second cutting step, the first cutting step and the dividing step can also be performed. Other matters that are not described in this embodiment can be performed in the same manner as in embodiment 1.

次に、本発明に係るチップの製造方法によって製造されたチップを評価した結果について説明する。 Next, we will explain the results of evaluating the chips manufactured using the chip manufacturing method of the present invention.

(実施例1)
本実施例では、比較例1に係るチップと実施例1に係るチップとを製造し、両者を比較した。まず、チップの製造に用いる被加工物11(図2参照)を準備した。被加工物11としては、オリエンテーションフラット17a,17b(図2参照)を有する単結晶ヒ化ガリウムウェーハ(直径4インチ、厚さ150μm)を用いた。そして、オリエンテーションフラット17aと平行な52本の分割予定ライン13aを、1.6mm間隔で設定した(図2参照)。また、オリエンテーションフラット17bと平行な58本の分割予定ライン13bを、1.6mm間隔で設定した(図2参照)。
Example 1
In this example, the chip according to Comparative Example 1 and the chip according to Example 1 were manufactured and compared. First, a workpiece 11 (see FIG. 2) used for manufacturing the chip was prepared. A single crystal gallium arsenide wafer (diameter 4 inches, thickness 150 μm) having orientation flats 17a and 17b (see FIG. 2) was used as the workpiece 11. Then, 52 planned division lines 13a parallel to the orientation flat 17a were set at intervals of 1.6 mm (see FIG. 2). In addition, 58 planned division lines 13b parallel to the orientation flat 17b were set at intervals of 1.6 mm (see FIG. 2).

また、被加工物11と材質及び形状が同一のテスト用ウェーハ(単結晶ヒ化ガリウムウェーハ)を準備し、テスト用ウェーハを切削ブレード28(図3等参照)で切削した。なお、テスト用ウェーハには、被加工物11と同様に分割予定ライン13a,13bを設定した。そして、切削ブレード28を分割予定ライン13a,13bに沿ってテスト用ウェーハに切り込ませることにより、テスト用ウェーハを分割した(フルカット)。なお、切削ブレード28の回転数は30000rpm、加工送り速度(チャックテーブル22の移動速度)は10mm/sに設定した。 A test wafer (single crystal gallium arsenide wafer) of the same material and shape as the workpiece 11 was prepared, and the test wafer was cut with a cutting blade 28 (see FIG. 3, etc.). The test wafer was set with planned division lines 13a and 13b, similar to the workpiece 11. The test wafer was divided (full cut) by cutting the test wafer along the planned division lines 13a and 13b with the cutting blade 28. The rotation speed of the cutting blade 28 was set to 30,000 rpm, and the processing feed speed (movement speed of the chuck table 22) was set to 10 mm/s.

上記のフルカットにより、テスト用ウェーハを複数のチップ(テスト用チップ)に分割した。そして、テスト用チップの裏面側(下面側)を観察し、切削ブレード28によって形成されたカーフ(切り口)から進展した欠けのサイズ(チッピングサイズ)を測定した。具体的には、テスト用チップの裏面側において分割予定ライン13aに沿って形成されたカーフから進展した欠け(第1チッピング)の、分割予定ライン13aと垂直な方向における長さを測定した。同様に、テスト用チップの裏面側において分割予定ライン13bに沿って形成されたカーフから進展した欠け(第2チッピング)の、分割予定ライン13bと垂直な方向における長さを測定した。 The test wafer was divided into multiple chips (test chips) by the full cut described above. The back side (lower side) of the test chip was then observed, and the size of the chipping (chipping size) that had developed from the kerf (cut) formed by the cutting blade 28 was measured. Specifically, the length of the chipping (first chipping) that had developed from the kerf formed along the planned division line 13a on the back side of the test chip, in a direction perpendicular to the planned division line 13a, was measured. Similarly, the length of the chipping (second chipping) that had developed from the kerf formed along the planned division line 13b on the back side of the test chip, in a direction perpendicular to the planned division line 13b, was measured.

なお、チッピングサイズの測定は、テスト用ウェーハの分割によって得られた2600個のテスト用チップから、9個のテスト用チップを選択して行った。具体的には、選択された9個のテスト用チップに形成された第1チッピング及び第2チッピングを観察し、チッピングサイズの最小値(最小チッピングサイズ)、チッピングサイズの最大値(最大チッピングサイズ)、チッピングサイズの平均値(平均チッピングサイズ)を測定した。第1チッピングと第2チッピングの最小チッピングサイズ、最大チッピングサイズ、平均チッピングサイズはそれぞれ、表1の通りであった。 The chipping size measurements were performed by selecting nine test chips from the 2,600 test chips obtained by dividing the test wafer. Specifically, the first chipping and second chipping formed on the nine selected test chips were observed, and the minimum chipping size (minimum chipping size), maximum chipping size (maximum chipping size), and average chipping size (average chipping size) were measured. The minimum chipping size, maximum chipping size, and average chipping size of the first chipping and second chipping were as shown in Table 1.

Figure 0007614708000001
Figure 0007614708000001

表1に示すように、分割予定ライン13aに沿って形成されたカーフから進展する第1チッピングの平均チッピングサイズは、分割予定ライン13bに沿って形成されたカーフから進展する第2チッピングの平均チッピングサイズよりも2倍以上大きかった。この結果より、テスト用ウェーハ及び被加工物11は、分割予定ライン13aから進展する欠けが分割予定ライン13bから進展する欠けよりも生じやすい結晶性ウェーハであることが確認された。 As shown in Table 1, the average chipping size of the first chipping developing from the kerf formed along the planned division line 13a was more than twice as large as the average chipping size of the second chipping developing from the kerf formed along the planned division line 13b. This result confirmed that the test wafer and the workpiece 11 were crystalline wafers in which chipping developing from the planned division line 13a was more likely to occur than chipping developing from the planned division line 13b.

次に、被加工物11を分割することによって、欠け評価用のチップを製造した。具体的には、2枚の被加工物11をそれぞれ異なる加工条件で分割することにより、比較例1に係るチップと実施例1に係るチップとを形成した。 Next, the workpiece 11 was divided to produce chipping evaluation chips. Specifically, the two workpieces 11 were divided under different processing conditions to form the chip according to Comparative Example 1 and the chip according to Example 1.

比較例1に係るチップは、切削ブレード28で被加工物11を分割予定ライン13a,13bに沿って切断することによって形成した(フルカット)。なお、切削ブレード28の回転数は30000rpm、加工送り速度(チャックテーブル22の移動速度)は10mm/sに設定した。 The chip in Comparative Example 1 was formed by cutting the workpiece 11 along the intended division lines 13a and 13b with the cutting blade 28 (full cut). The rotation speed of the cutting blade 28 was set to 30,000 rpm, and the processing feed speed (movement speed of the chuck table 22) was set to 10 mm/s.

一方、実施例1に係るチップは、実施形態1において説明した第1切削ステップ、第2切削ステップ、分割ステップを順に実施することによって形成した。具体的には、まず、切削ブレード28を振動させつつ被加工物11に切り込ませることにより、分割予定ライン13aに沿って切削溝23を形成した(図7(A)及び図7(B)参照)。なお、切削ブレード28は、振動数が41kHz、切削ブレード28の直径の変動量が5μmになるように振動させた。また、切削ブレード28の切り込み深さ(切削溝23の深さ)は135μm、切削ブレード28の回転数は30000rpm、加工送り速度(チャックテーブル22の移動速度)は10mm/sに設定した。 On the other hand, the chip according to Example 1 was formed by sequentially carrying out the first cutting step, the second cutting step, and the division step described in the first embodiment. Specifically, the cutting blade 28 was vibrated while cutting into the workpiece 11 to form a cutting groove 23 along the intended division line 13a (see Figs. 7(A) and 7(B)). The cutting blade 28 was vibrated so that the vibration frequency was 41 kHz and the variation in diameter of the cutting blade 28 was 5 μm. The cutting depth of the cutting blade 28 (depth of the cutting groove 23) was set to 135 μm, the rotation speed of the cutting blade 28 was set to 30,000 rpm, and the processing feed speed (movement speed of the chuck table 22) was set to 10 mm/s.

次に、切削ブレード28を振動させずに被加工物11に切り込ませることにより、被加工物11を分割予定ライン13bに沿って切断した(フルカット、図9(A)及び図9(B)参照)。なお、切削ブレード28の回転数は30000rpm、加工送り速度(チャックテーブル22の移動速度)は10mm/sに設定した。 Next, the cutting blade 28 was cut into the workpiece 11 without vibrating it, cutting the workpiece 11 along the intended division line 13b (full cut, see Figures 9(A) and 9(B)). The rotation speed of the cutting blade 28 was set to 30,000 rpm, and the processing feed speed (movement speed of the chuck table 22) was set to 10 mm/s.

その後、テープ19を引っ張り、テープ19を半径方向外側に拡張した(図11(A)及び図11(B)参照)。なお、テープの拡張速度は100mm/s、テープ拡張量は25mmに設定した。これにより、被加工物11に外力を付与し、切削溝23を起点として被加工物11を複数のチップ(実施例1に係るチップ)に分割した。 Then, the tape 19 was pulled to expand radially outward (see Figs. 11(A) and 11(B)). The tape expansion speed was set to 100 mm/s, and the tape expansion amount was set to 25 mm. This applied an external force to the workpiece 11, and divided the workpiece 11 into multiple chips (chips according to Example 1) starting from the cutting grooves 23.

そして、比較例1に係るチップと実施例1に係るチップそれぞれについて、チップの裏面側(下面側)において分割予定ライン13aから進展した欠け(第1チッピング)のサイズ(チッピングサイズ)を測定した。具体的には、比較例1に係る9個のチップに形成された第1チッピングを観察し、最小チッピングサイズ、最大チッピングサイズ、平均チッピングサイズを測定した。同様に、実施例1に係る9個のチップに形成された第1チッピングを観察し、最小チッピングサイズ、最大チッピングサイズ、平均チッピングサイズを測定した。両チップのチッピングサイズは、それぞれ表2の通りであった。 Then, for each of the chips according to Comparative Example 1 and Example 1, the size (chipping size) of the chip (first chipping) that developed from the planned division line 13a on the back side (lower side) of the chip was measured. Specifically, the first chipping formed on the nine chips according to Comparative Example 1 was observed, and the minimum chipping size, maximum chipping size, and average chipping size were measured. Similarly, the first chipping formed on the nine chips according to Example 1 was observed, and the minimum chipping size, maximum chipping size, and average chipping size were measured. The chipping sizes of both chips were as shown in Table 2.

Figure 0007614708000002
Figure 0007614708000002

表2に示すように、実施例1に係るチップの平均チッピングサイズは6.9μmであり、比較例1に係るチップの平均チッピングサイズ(22.4μm)の30%程度であることが確認された。この平均チッピングサイズの大幅な低減は、被加工物11を第1切削ステップ及び分割ステップによって分割することにより、分割予定ライン13a上において切削ブレード28と被加工物11の裏面11bとの接触が回避されたことに起因していると推察される。 As shown in Table 2, the average chipping size of the chips in Example 1 was 6.9 μm, which was confirmed to be about 30% of the average chipping size (22.4 μm) of the chips in Comparative Example 1. It is presumed that this significant reduction in average chipping size is due to the fact that the workpiece 11 is divided by the first cutting step and the dividing step, thereby avoiding contact between the cutting blade 28 and the back surface 11b of the workpiece 11 on the planned dividing line 13a.

(実施例2)
本実施例では、外力の付与によって被加工物をチップに分割した場合における、分割率(分割の成功率)を評価した。まず、分割評価用の被加工物11を準備した。実施例で用いた被加工物11の材質、寸法、形状等は、実施例1で使用した被加工物11(単結晶ヒ化ガリウムウェーハ)と同じである。また、被加工物11には、実施例1と同様に分割予定ライン13a,13bを設定した。
Example 2
In this example, the division rate (division success rate) was evaluated when the workpiece was divided into chips by applying an external force. First, a workpiece 11 for division evaluation was prepared. The material, dimensions, shape, etc. of the workpiece 11 used in this example were the same as those of the workpiece 11 (single crystal gallium arsenide wafer) used in Example 1. In addition, the workpiece 11 was set with division lines 13a and 13b in the same manner as in Example 1.

次に、被加工物11を複数のチップに分割した。具体的には、2枚の被加工物11をそれぞれ異なる手順で分割することにより、比較例2に係るチップと実施例2に係るチップとを形成した。 Next, the workpiece 11 was divided into a number of chips. Specifically, the two workpieces 11 were divided in different procedures to form the chip according to Comparative Example 2 and the chip according to Example 2.

比較例2に係るチップは、被加工物11に切削溝を分割予定ライン13a,13bに沿って形成した後、被加工物11に外力を付与することによって形成した。具体的には、まず、切削ブレード28を振動させつつ被加工物11に切り込ませることにより、分割予定ライン13a,13bに沿って切削溝23(図7(B)参照)を形成した。すなわち、比較例2においては、分割予定ライン13aに沿う切削溝23(図8参照)に加えて、更に、分割予定ライン13bに沿う切削溝23を形成した。これにより、被加工物11には切削溝23が格子状に形成された。 The chip in Comparative Example 2 was formed by forming cutting grooves in the workpiece 11 along the planned division lines 13a and 13b, and then applying an external force to the workpiece 11. Specifically, first, the cutting blade 28 was vibrated while cutting into the workpiece 11, forming cutting grooves 23 (see FIG. 7B) along the planned division lines 13a and 13b. That is, in Comparative Example 2, in addition to the cutting grooves 23 (see FIG. 8) along the planned division line 13a, cutting grooves 23 were also formed along the planned division line 13b. As a result, cutting grooves 23 were formed in a lattice pattern in the workpiece 11.

なお、切削ブレード28は、振動数が41kHz、切削ブレード28の直径の変動量が5μmになるように振動させた。また、切削ブレード28の切り込み深さ(切削溝23の深さ)は135μm、切削ブレード28の回転数は30000rpm、加工送り速度(チャックテーブル22の移動速度)は10mm/sに設定した。 The cutting blade 28 was vibrated so that the vibration frequency was 41 kHz and the variation in diameter of the cutting blade 28 was 5 μm. The cutting depth of the cutting blade 28 (depth of the cutting groove 23) was set to 135 μm, the rotation speed of the cutting blade 28 was set to 30,000 rpm, and the processing feed speed (movement speed of the chuck table 22) was set to 10 mm/s.

その後、テープ19を引っ張り、テープ19を半径方向外側に拡張した(図11(A)及び図11(B)参照)。なお、テープの拡張速度は100mm/s、テープ拡張量は25mmに設定した。これにより、被加工物11に外力を付与し、切削溝23を起点として被加工物11を分割予定ライン13a,13bに沿って複数のチップ(比較例2に係るチップ)に分割した。 Then, the tape 19 was pulled to expand radially outward (see Figs. 11(A) and 11(B)). The tape expansion speed was set to 100 mm/s, and the tape expansion amount was set to 25 mm. This applied an external force to the workpiece 11, and the workpiece 11 was divided into multiple chips (chips relating to Comparative Example 2) along the planned division lines 13a and 13b starting from the cutting groove 23.

一方、実施例2に係るチップは、実施形態1において説明した第1切削ステップ、第2切削ステップ、分割ステップを順に実施することによって形成した。具体的には、まず、切削ブレード28を振動させつつ被加工物11に切り込ませることにより、分割予定ライン13aに沿って切削溝23を形成した(図7(A)及び図7(B)参照)。なお、切削溝23を形成する際の加工条件は、比較例2と同様である。 On the other hand, the chip according to Example 2 was formed by sequentially carrying out the first cutting step, the second cutting step, and the dividing step described in the first embodiment. Specifically, first, the cutting blade 28 was vibrated while cutting into the workpiece 11 to form a cutting groove 23 along the intended dividing line 13a (see Figs. 7(A) and 7(B)). The processing conditions for forming the cutting groove 23 were the same as those in Comparative Example 2.

次に、切削ブレード28を振動させずに被加工物11に切り込ませることにより、被加工物11を分割予定ライン13bに沿って切断した(フルカット、図9(A)及び図9(B)参照)。なお、切削ブレード28の回転数は30000rpm、加工送り速度(チャックテーブル22の移動速度)は10mm/sに設定した。 Next, the cutting blade 28 was cut into the workpiece 11 without vibrating it, cutting the workpiece 11 along the intended division line 13b (full cut, see Figures 9(A) and 9(B)). The rotation speed of the cutting blade 28 was set to 30,000 rpm, and the processing feed speed (movement speed of the chuck table 22) was set to 10 mm/s.

その後、テープ19を引っ張り、テープ19を半径方向外側に拡張した(図11(A)及び図11(B)参照)。なお、テープの拡張の条件は、比較例2と同様である。これにより、被加工物11に外力を付与し、切削溝23を起点として被加工物11を分割予定ライン13aに沿って複数のチップ(実施例2に係るチップ)に分割した。 Then, the tape 19 was pulled to expand radially outward (see Figs. 11(A) and 11(B)). The conditions for expanding the tape were the same as those in Comparative Example 2. As a result, an external force was applied to the workpiece 11, and the workpiece 11 was divided into multiple chips (chips according to Example 2) along the planned division lines 13a starting from the cutting grooves 23.

そして、分割後の被加工物11を観察し、被加工物11が分割予定ライン13a,13bに沿って適切に分割されているか否かを確認した。具体的には、隣接するチップとの間に隙間が形成されているチップ(分割済みチップ)の数をカウントした。そして、チップの総数(2600個)に対する分割済みチップの数を、分割率(分割の成功率)として算出した。比較例2に係るチップと実施例2に係るチップとの分割率は、それぞれ表3の通りであった。 Then, the workpiece 11 after division was observed to confirm whether the workpiece 11 was properly divided along the planned division lines 13a, 13b. Specifically, the number of chips (divided chips) in which a gap was formed between adjacent chips was counted. The number of divided chips relative to the total number of chips (2,600 chips) was calculated as the division rate (success rate of division). The division rates of the chips according to Comparative Example 2 and Example 2 were as shown in Table 3.

Figure 0007614708000003
Figure 0007614708000003

表3に示すように、実施例2に係る方法によって被加工物11を分割すると、チップの分割率が比較例2よりも大幅に向上した。この分割率の向上は、被加工物11が分割予定ライン13bに沿って複数の個片に分割された状態(図10参照)で、被加工物11に外力を付与することにより、各個片に外力が付与されやすくなったことに起因していると推察される。 As shown in Table 3, when the workpiece 11 was divided by the method according to Example 2, the chip division rate was significantly improved compared to Comparative Example 2. This improvement in the division rate is presumably due to the fact that applying an external force to the workpiece 11 in a state in which the workpiece 11 is divided into a plurality of pieces along the planned division lines 13b (see FIG. 10) makes it easier to apply an external force to each piece.

以上の評価結果より、本発明に係るチップの製造方法を用いることにより、被加工物11の欠けの発生が効果的に抑制されるとともに、被加工物11の分割率が大幅に向上することが確認された。 The above evaluation results confirm that by using the chip manufacturing method according to the present invention, the occurrence of chipping of the workpiece 11 is effectively suppressed and the division rate of the workpiece 11 is significantly improved.

11 被加工物
11a 表面
11b 裏面
13a,13b 分割予定ライン(ストリート)
15 デバイス
17a,17b オリエンテーションフラット(切り欠き部)
19 テープ
21 フレーム
21a 開口
23 切削溝
25 カーフ(切り口)
27 亀裂(クラック)
29 チップ(デバイスチップ)
31 テープ
2 切削装置
4 基台
4a,4b 開口
6 カセット支持台
8 カセット
10 搬送ユニット(搬送機構)
10a 把持部
12 仮置き領域
14 ガイドレール
16 搬送ユニット(搬送機構)
18 移動ユニット(移動機構)
18a 移動テーブル
20 防塵防滴カバー
22 チャックテーブル(保持テーブル)
22a 保持面
24 クランプ
26 切削ユニット
28 切削ブレード
28a 第1面
28b 第2面
28c 開口
30 撮像ユニット
32 洗浄ユニット(洗浄機構)
34 搬送ユニット(搬送機構)
36 表示部(表示ユニット、表示装置)
38 入力部(入力ユニット、入力装置)
40 制御部(制御ユニット、制御装置)
42 ハウジング
44 スピンドル
44a ねじ部(雄ねじ)
46 マウント
46a 開口
48 フランジ部
48a 表面
48b 凸部
48c 貫通孔(スリット)
50 支持軸(ボス部)
50a ねじ部(雄ねじ)
52 固定ナット
54 フランジ(押さえフランジ)
54a 第1面(表面)
54b 第2面(裏面)
54c 開口
54d 凸部
54e 貫通孔(スリット)
56 固定ナット
58a,58b 支持部材
60 振動付与ユニット
60a,60b 振動子
62a,62b 圧電体
64a,64b 電極
66a,66b 絶縁体
68a,68b 配線
70a,70b,70c,70d リード線
72a,72b 接続電極
74 電圧供給ユニット
76 受電部(受電ユニット)
78 コア
78a 凹部
80 コイル(受電コイル)
82 給電部(給電ユニット)
84 コア
84a 凹部
86 コイル(給電コイル)
88a,88b 配線
90 交流電源
92 周波数変換器
11 Workpiece 11a Surface 11b Back surface 13a, 13b Planned division line (street)
15 Device 17a, 17b Orientation flat (cutout portion)
19 Tape 21 Frame 21a Opening 23 Cutting groove 25 Kerf (cutting edge)
27 Crack
29 Chip (Device Chip)
31 Tape 2 Cutting device 4 Base 4a, 4b Opening 6 Cassette support base 8 Cassette 10 Transport unit (transport mechanism)
10a: gripping portion 12: temporary placement area 14: guide rail 16: transport unit (transport mechanism)
18 Moving unit (moving mechanism)
18a Moving table 20 Dust-proof/water-proof cover 22 Chuck table (holding table)
22a: Holding surface 24: Clamp 26: Cutting unit 28: Cutting blade 28a: First surface 28b: Second surface 28c: Opening 30: Imaging unit 32: Cleaning unit (cleaning mechanism)
34 Transport unit (transport mechanism)
36 Display section (display unit, display device)
38 Input section (input unit, input device)
40 Control unit (control unit, control device)
42 Housing 44 Spindle 44a Threaded portion (male thread)
46 Mount 46a Opening 48 Flange portion 48a Surface 48b Convex portion 48c Through hole (slit)
50 Support shaft (boss part)
50a Threaded section (male thread)
52 Fixing nut 54 Flange (pressing flange)
54a 1st side (front)
54b Second surface (back surface)
54c Opening 54d Convex portion 54e Through hole (slit)
56 Fixing nut 58a, 58b Support member 60 Vibration imparting unit 60a, 60b Vibrator 62a, 62b Piezoelectric body 64a, 64b Electrode 66a, 66b Insulator 68a, 68b Wiring 70a, 70b, 70c, 70d Lead wire 72a, 72b Connection electrode 74 Voltage supply unit 76 Power receiving portion (power receiving unit)
78 Core 78a Recess 80 Coil (receiving coil)
82 Power supply unit (power supply unit)
84 Core 84a Recess 86 Coil (power supply coil)
88a, 88b Wiring 90 AC power supply 92 Frequency converter

Claims (7)

互いに交差する第1分割予定ライン及び第2分割予定ラインによって複数の領域に区画された被加工物を分割して複数のチップを製造するチップの製造方法であって、
第1切削ブレードを該第1分割予定ラインに沿って該被加工物に切り込ませることにより、深さが該被加工物の厚さ未満の切削溝を該第1分割予定ラインに沿って形成する第1切削ステップと、
第2切削ブレードを該第2分割予定ラインに沿って該被加工物に切り込ませることにより、該被加工物を該第2分割予定ラインに沿って分割する第2切削ステップと、
該被加工物に外力を付与することにより、該切削溝を起点として該被加工物を該第1分割予定ラインに沿って分割する分割ステップと、を含むことを特徴とするチップの製造方法。
A method for manufacturing a plurality of chips by dividing a workpiece partitioned into a plurality of regions by a first division line and a second division line intersecting each other, the method comprising the steps of:
a first cutting step of cutting a first cutting blade into the workpiece along the first division line to form a cutting groove having a depth less than a thickness of the workpiece along the first division line;
a second cutting step of cutting the workpiece along the second planned dividing line with a second cutting blade; and
a dividing step of dividing the workpiece along the first planned dividing line starting from the cut groove by applying an external force to the workpiece.
該被加工物は、該第1分割予定ラインから進展する欠けが該第2分割予定ラインから進展する欠けよりも生じやすい結晶性ウェーハであることを特徴とする請求項1記載のチップの製造方法。 The method for manufacturing chips according to claim 1, characterized in that the workpiece is a crystalline wafer in which chips growing from the first planned division line are more likely to occur than chips growing from the second planned division line. 該被加工物は、該被加工物の結晶方位を示すオリエンテーションフラットを有し、
該第1分割予定ライン又は該第2分割予定ラインの一方は、該オリエンテーションフラットと平行な方向に沿って設定され、
該第1分割予定ライン又は該第2分割予定ラインの他方は、該オリエンテーションフラットと垂直な方向に沿って設定されることを特徴とする請求項2に記載のチップの製造方法。
The workpiece has an orientation flat that indicates a crystal orientation of the workpiece;
One of the first division line and the second division line is set along a direction parallel to the orientation flat,
3. The method for manufacturing a chip according to claim 2, wherein the other of the first division line and the second division line is set along a direction perpendicular to the orientation flat.
該第1切削ステップでは、該第1切削ブレードを超音波帯域に属する振動数で該第1切削ブレードの径方向に沿って振動させながら、該被加工物に切り込ませることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載のチップの製造方法。 The method for manufacturing a tip according to any one of claims 1 to 3, characterized in that in the first cutting step, the first cutting blade is vibrated in the radial direction of the first cutting blade at a vibration frequency in the ultrasonic band while cutting into the workpiece. 該第2切削ステップでは、該第2切削ブレードを超音波帯域に属する振動数で該第2切削ブレードの径方向に沿って振動させながら、該被加工物に切り込ませることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載のチップの製造方法。 A method for manufacturing a tip according to any one of claims 1 to 4, characterized in that in the second cutting step, the second cutting blade is vibrated in the radial direction of the second cutting blade at a frequency in the ultrasonic band while cutting into the workpiece. 該第1切削ステップの実施後、且つ、該分割ステップの実施前に、該第2切削ステップを実施することを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載のチップの製造方法。 The method for manufacturing a chip according to any one of claims 1 to 5, characterized in that the second cutting step is performed after the first cutting step and before the division step. 該被加工物にテープを貼付するテープ貼付ステップを更に含み、
該分割ステップでは、該テープを拡張することによって該被加工物に該外力を付与することを特徴とする請求項1乃至6のいずれかに記載のチップの製造方法。
The method further includes a tape application step of applying a tape to the workpiece,
7. The method for manufacturing chips according to claim 1, wherein in the dividing step, the external force is applied to the workpiece by expanding the tape.
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