Deprecated: The each() function is deprecated. This message will be suppressed on further calls in /home/zhenxiangba/zhenxiangba.com/public_html/phproxy-improved-master/index.php on line 456
JP7615834B2 - 半導体装置及び放熱器組立体並びに半導体装置及び放熱器の組立方法 - Google Patents
[go: Go Back, main page]

JP7615834B2 - 半導体装置及び放熱器組立体並びに半導体装置及び放熱器の組立方法 - Google Patents

半導体装置及び放熱器組立体並びに半導体装置及び放熱器の組立方法 Download PDF

Info

Publication number
JP7615834B2
JP7615834B2 JP2021057100A JP2021057100A JP7615834B2 JP 7615834 B2 JP7615834 B2 JP 7615834B2 JP 2021057100 A JP2021057100 A JP 2021057100A JP 2021057100 A JP2021057100 A JP 2021057100A JP 7615834 B2 JP7615834 B2 JP 7615834B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
semiconductor device
reinforcing portion
heat sink
lead frame
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2021057100A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2022154192A (ja
JP2022154192A5 (ja
Inventor
優 西尾
規正 和田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sansha Electric Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Sansha Electric Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sansha Electric Manufacturing Co Ltd filed Critical Sansha Electric Manufacturing Co Ltd
Priority to JP2021057100A priority Critical patent/JP7615834B2/ja
Publication of JP2022154192A publication Critical patent/JP2022154192A/ja
Publication of JP2022154192A5 publication Critical patent/JP2022154192A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7615834B2 publication Critical patent/JP7615834B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Description

本発明は、基板が封止部材により封止された構造を有する半導体装置に関する。
従来の半導体装置に関する発明としては、例えば、特許文献1に記載の半導体装置が知られている。この半導体装置は、素子等が搭載された基板を、両側面にネジ孔が形成された樹脂パッケージで封止し、半導体装置のネジ孔にネジを通し、放熱器に半導体装置をネジ止めすることにより、半導体装置を放熱器に密着させて取り付けて、放熱性を高めている。
特開2006-237305号公報
図1は、従来の半導体装置の構造を示す。
図1(A)に示すように、半導体素子等の電子部品が搭載された基板100にリード端子101が半田付け固定され、その後、全体が樹脂パッケージ102で封止されて半導体装置103が形成される。次に、図1(B)に示すように、半導体装置103が、ネジ104で放熱器105に固定される。
ところで、パワー半導体を使用する半導体装置においては、放熱効果を良くするために放熱器105と半導体装置103とを完全に密着させることが要請される。放熱器105と半導体装置103とが完全に平らであれば、ネジ104でネジ止めして両者を密着させることができる。しかし、そのように完全に取付面を平らに製造することは困難である。そこで、図1(A)に示すように、半導体装置103の取付面を僅かに下に凸に、放熱器105の取付面を僅かに上に凸に反るように形成し、ネジ止めにて半導体装置103と放熱器105を密着させることが一般に行われている。図1(B)は、ネジ止め後に、半導体装置103と放熱器105が密着している状態を示している。図1(B)では、金属材料の放熱器105より半導体装置103の硬度が小さいため放熱器105の取付面に沿って、半導体装置103の取付面が撓む。なお、図1は、理解を容易にするため、放熱器105と半導体装置103が凸に反っている状態を少し誇張して示している。
しかしながら、図1(B)に示すように、半導体装置103と放熱器105の密着は出来るが、放熱器105の面に合わせて半導体装置103が上に凸になるように撓む。このとき、樹脂パッケージ102の硬度は大きくないため、半導体装置103のLで示す中央部に大きな応力が発生する。具体的には、半導体装置103のLで示す中央部に実質的にF×Aの曲げモーメント力が生じる。そして、このモーメント力により基板100内の中央部に過大な応力が発生し、これにより基板100にクラック106が生じることがあった。
そこで、本発明の目的は、ネジ止め時の撓みによる応力から破損を抑制できる半導体装置を提供することである。
本発明の一形態に係る半導体装置及び放熱器組立体は、上面が上方に僅かに凸となるように形成された放熱器と、半導体装置と、を備え、前記半導体装置は、素子及びパターンを上面に有する矩形の基板と、前記基板に電気的に接続され且つ前記基板の上に固定された板状の第1及び第2リードフレームと、封止部材と、を備え、前記第1リードフレームは、前記基板の上面に沿って前記基板の長手方向の一方の側から他方の側に延びる第1補強部と、当該第1補強部に接続された第1端子と、上端が当該第1補強部に接続され下端が前記基板に固定された第1固定部と、を有し、前記第2リードフレームは、前記基板の上面に沿って前記基板の長手方向の前記他方の側から前記一方の側に延びる第2補強部と、当該第2補強部に接続された第2端子と、上端が当該第2補強部に接続され下端が前記基板に固定された第2固定部とを有し、前記第1補強部と前記第2補強部とは、当該第1補強部の一部と当該第2補強部の一部とが前記基板の短手方向から見て互いに重なるようにして、互いに間隔を有しており、前記封止部材は、前記第1リードフレームと前記第2リードフレームと前記基板との一体物の外周面及び上面を、前記第1端子及び前記第2端子を除くようにして覆うとともに、全体として板状の直方体状の形状を有し、前記封止部材の長手方向の両端部に前記封止部材を前記放熱器の上面にネジ止めするためのネジ孔が形成されており、前記封止部材が、当該封止部材の下面が前記放熱器の上面に当接するようにして、前記ネジ止め孔に挿通されたネジによって前記放熱器にネジ止めされている
また、本発明の他の一形態に係る半導体装置及び放熱器の組立方法は、上面が上方に僅かに凸となるように形成された放熱器を準備する工程と、半導体装置を準備する工程と、前記半導体装置を前記放熱器に取る付ける工程と、を含み、前記半導体装置は、素子及びパターンを上面に有する矩形の基板と、前記基板に電気的に接続され且つ前記基板の上に固定された板状の第1及び第2リードフレームと、封止部材と、を備え、前記第1リードフレームは、前記基板の上面に沿って前記基板の長手方向の一方の側から他方の側に延びる第1補強部と、当該第1補強部に接続された第1端子と、上端が当該第1補強部に接続され下端が前記基板に固定された第1固定部と、を有し、前記第2リードフレームは、前記基板の上面に沿って前記基板の長手方向の前記他方の側から前記一方の側に延びる第2補強部と、当該第2補強部に接続された第2端子と、上端が当該第2補強部に接続され下端が前記基板に固定された第2固定部とを有し、前記第1補強部と前記第2補強部とは、当該第1補強部の一部と当該第2補強部の一部とが前記基板の短手方向から見て互いに重なるようにして、互いに間隔を有しており、前記封止部材は、前記第1リードフレームと前記第2リードフレームと前記基板との一体物の外周面及び上面を、前記第1端子及び前記第2端子を除くようにして覆うとともに、全体として、下面が僅かに下方に凸に反っている板状の直方体状の形状を有し、前記封止部材の長手方向の両端部に前記封止部材を前記放熱器の上面にネジ止めするためのネジ孔が形成されており、前記半導体装置を前記放熱器に取る付ける工程が、前記封止部材の下面が前記放熱器の上面に当接するようにして、前記封止部材を、前記ネジ止め孔に挿通されたネジによって前記放熱器にネジ止めする工程である。
本発明に係る半導体装置によれば、半導体装置をネジ止めする際に加わる撓み力による、半導体装置の破損を抑制できる。
(A)、(B)は従来の半導体装置のネジ止め後の課題を説明するための断面図である。 (A)、(B)本発明の実施形態の半導体装置の上面図及び左面図である。 実施形態の半導体装置のリードフレームの構造を示す上面図である。 第1補強部13d及び第2補強部13eの斜視図である。 (A)、(B)は実施形態の半導体装置のネジ止め後の効果を説明するための断面図である。 変形例の半導体装置のリードフレームの構造を示す上面図である。
(実施形態)
以下に、本発明の一実施形態に係る半導体装置10について図2、図3を参照しながら説明する。図2(A)、(B)本発明の実施形態の半導体装置の上面図及び左面図である。図3は、実施形態の半導体装置のリードフレームの構造を示す上面図である。
なお、これらの図において、半導体装置10の長手方向を左右方向、短手方向を上下方向と称することがある。
半導体装置10の外観は、長辺と短辺を有する直方体状の封止部材15を有し、封止部材15から複数の入出力端子14が突出している。これら複数の入出力端子14は、本例では下方向に折り曲げられている。なお、入出力端子14は、必ずしも折り曲げられている必要はない。
半導体装置10は、例えば、電力の制御や供給を行うパワー半導体を備える。半導体装置10は、パワー半導体等の素子が搭載され、パターンが形成された基板12を備えている。半導体装置10は、入力側リードフレーム11aと、第1出力側リードフレーム11dと第2出力側リードフレーム11eとで配線されている。入力側リードフレーム11aは、一つの金属板を打ち抜き、折り曲げ加工することにより形成されている。同様に、第1、第2出力側リードフレーム11d、11eも、一つの金属板を、打ち抜き、折り曲げ加工することにより形成されている。第1出力側リードフレーム11dは、本発明の第1リードフレームに対応している。第2出力側リードフレーム11eは、本発明の第2リードフレームに対応している。
半導体装置10の製作過程は、1枚の金属板を切り抜き加工と折り曲げ加工でリードフレーム用金属板を所定の形状に成形する第1工程と、リードフレーム用金属板を基板12へ固定する第2工程と、封止部材15で封止する第3工程と、リードフレーム用金属板の連結部を切断して端子を形成する第4工程とを含む。
第1工程では、入力側リードフレーム11aを含む入力側リードフレーム用金属板、第1出力側リードフレーム11dと第2出力側リードフレーム11eを含む出力側リードフレーム用金属板が所定の形状に成形される。入力側リードフレーム用金属板は、入力側リードフレーム11aの全ての入力端子14aが連結されている。出力側リードフレーム用金属板においては、第1出力側リードフレーム11dの第1出力端子14dと、第2出力側リードフレーム11eの第2出力端子14eとが連結されている。第1出力側リードフレーム11dは、さらに、3つの第1固定部20dを備えている。第2出力側リードフレーム11eは、さらに、3つの第2固定部20eを備えている。
第1出力端子14dは本発明の第1端子、第2出力端子14eは本発明の第2端子に対応している。
第2工程では、入力側リードフレーム用金属板の固定部20aが基板12の所定の箇所に固定される。また、出力側リードフレーム用金属板の第1固定部20dと第2固定部20eが基板12の所定の箇所に固定される。
第3工程では、各リードフレーム用金属板が封止部材15で封止される。なお、このとき、入力側リードフレーム用金属板の入力端子14aと出力側リードフレーム用金属板の第1出力端子14d、第2出力端子14eは露出されている。
第4工程では、入力側リードフレーム用金属板の連結部を切断することで3つの入力側リードフレーム11aが形成される。すなわち、それぞれ分離した3つの入力端子14aが形成される。同様に、出力側リードフレーム用金属板の連結部を切断することで、第1出力側リードフレーム11dと第2出力側リードフレーム11eが形成される。すなわちそれぞれ分離した2つの第1出力端子14d、第2出力端子14eが形成される。
以上の工程で、3つの入力側リードフレーム11aと、第1出力側リードフレーム11dと、第2出力側リードフレーム11eが形成される。そして、複数の入出力端子14が必要に応じて折り曲げられることで、半導体装置10が完成する。
以下、完成した半導体装置10の構造を、図3を用いて説明する。
入力側リードフレーム11aは、封止部材15から露出した3つの入力端子14aを有している。第1出力側リードフレーム11dは、封止部材15から露出した第1出力端子14dを有している。第2出力側リードフレーム11eは、封止部材15から露出した第2出力端子14eを有している。
また、入力側リードフレーム11aは、基板12の上方から下方の基板12側に向けて折り曲げられた固定部20aを有している。同様に、第1出力側リードフレーム11dは、基板12の上方から下方の基板12側に向けて折り曲げられた第1固定部20dを有している。第2出力側リードフレーム11eは、基板12の上方から下方の基板12側に向けて折り曲げられた第2固定部20eを有している。
入力側リードフレーム11aの固定部20aは、基板12のパターンに固定される。第1出力側リードフレーム11dの第1固定部20dは、素子の上面に接合される。第2出力側リードフレーム11eの第2固定部20eは、素子の上面に接合される。
入力端子14a、第1出力端子14d、第2出力端子14eは、封止部材15から露出し、入力側リードフレーム11a、第1出力側リードフレーム11d、第2出力側リードフレーム11eは、それらの固定部と一緒に封止部材15で封止される。
封止部材15の左右両端部にはネジ孔16a、16bが形成されている。
次に、第1出力側リードフレーム11d、第2出力側リードフレーム11eの形状について図3を参照して詳細に説明する。図3において、封止部材15の上下の長辺の中点を結ぶ線を中心線Lとする。
第1出力側リードフレーム11dは、図2の封止部材15上辺の長辺に沿って左端部から中心線Lを超える右方向に延びている第1補強部13dを有している。第1出力端子14d及び第1固定部20dが、この第1補強部13dで連結されている。
第2出力側リードフレーム11eは、封止部材15の上辺右端部から基板12の中央付近まで延びて、さらにこの部分から第1出力端子14d方向に延びている第2補強部13eを有している。つまり、第2出力側リードフレーム11eは、封止部材15の上辺右端部から図の下方に延び、さらに封止部材15上辺の長辺に沿って中心線Lを超えて左方向に延びている第2補強部13eを有している。第2補強部13eは全体として逆L字形状である。第2出力端子14e及び第2固定部20eが、この第2補強部13eで連結されている。
上記の形状であることから、第1補強部13d及び第2補強部13eは、前記封止部材の中心線Lから左右に広がる幅Wで重なっている。
図4は、第1補強部13d及び第2補強部13eの斜視図を示している。
図示のように、第1補強部13d及び第2補強部13eは中心線Lから左右に広がる所定幅Wで重なっている。したがって、第1補強部13d及び第2補強部13eは、封止部材15の中心線Lを超えてオーバーラップした状態で、封止部材15に埋め込まれている。第1補強部13d及び第2補強部13eは、第1出力側リードフレーム11d、第2出力側リードフレーム11eの一部から構成されており、別部材や、別途の工程を追加することなく形成される。
図5(A)、(B)は、半導体装置10のネジ止め前後の状態を説明するための断面図である。この断面図は、図3のA-A矢視断面を示す。
図5(A)に示すように、半導体装置10のネジ止め前の状態では、半導体装置10の取付面を僅かに下に凸に、放熱器20の取付面を僅かに上に凸に反るように形成している。なお、図5は、理解を容易にするため、放熱器105と半導体装置103が凸に反っている状態を少し誇張して示している。この状態で、ネジj30を封止部材15のネジ孔に通してネジ止めし、半導体装置10と放熱器20とを密着させる。図5(B)は、ネジ止め後に、半導体装置10と放熱器20が密着している状態を示している。図5(B)では、放熱器20より半導体装置10の硬度が小さいため放熱器20の取付面に沿って、半導体装置10の取付面が撓む。このとき、ネジ30の締め付けによる力Fが加わるため、ネジ30から中心線Lの範囲において曲げモーメント力が生じ、このモーメント力により基板12内に応力が発生する。なお、中心線Lの左右において同様な応力が発生する。
しかし、図4のように、第1補強部13d及び第2補強部13eが中心線Lから左右に広がる幅Wで重なっているため、基板12の強度が補強され、上記応力は上記中心線Lの中央部に集中することはない。応力は第1補強部13d及び第2補強部13eに分散される。この結果、図5(B)に示すように、基板12の中心線L付近に過大な応力が集中してクラックが発生することを防ぐことができる。
ここで、重要なことは、第1補強部13dと第2補強部13eとが中心線Lから左右に広がる幅Wで重なっていることである。仮に、第1補強部13dまたは第2補強部13eだけで基板12を補強した場合、第1出力側リードフレーム11と第2出力側リードフレーム11eの左右方向において補強部分が欠落するスペースが生じる。すると、半導体装置10のネジ止め時には、基板12においてこのスペースに対応する部分に過度な応力が加わることになる。実施例では、第1補強部13dと第2補強部13eとが中心線Lから左右に広がる幅Wで重なっているため、第1出力側リードフレーム11と第2出力側リードフレーム11eの左右方向において補強部分が欠落するスペースがない。したがって、半導体装置10のネジ止め時には、基板12内に、応力により脆弱となる部分が生じない。
また、第1補強部13d及び第2補強部13eが中心線Lから左右に広がる幅Wで重なっていることから、基板12の中心線L付近の過大な応力を一層防止できる。
なお、幅Wは、半導体装置10の左右の長さを含む大きさや、半導体装置10のネジ止め時の撓みの程度などにより実験的に最適値に設計される。また、幅Wは中心線Lを中心にして左右に同寸法だけ広がる値が望ましいが、左右の寸法の多少のズレは許容される。
以上のような構造で、半導体装置10の短辺側に形成された図示しないネジ孔16a、16bを介してネジ30により、半導体装置10を放熱器20に密着させて固定することができる。半導体装置10では、第1補強部13d及び第2補強部13eにより基板12の強度が大きくなり基板12内に生じる応力は第1補強部13d及び第2補強部13eに分散される。このため、上記応力による基板12の破損、特に基板12の中心線L付近でクラックが生じることを抑制できる。このように、半導体装置10の基板12が第1補強部13d及び第2補強部13eにより補強される結果、最大の応力が発生しやすい半導体装置10の中心線L付近のクラックを防ぐことができる。
(変形例)
以下に、変形例に係る半導体装置10aについて図面を参照しながら説明する。図6は、変形例の半導体装置のリードフレームの構造を示す上面図である。
半導体装置10aは、半導体装置10と外形が同一である。半導体装置10a内部での配線、つまり第1出力側リードフレーム11d、第2出力側リードフレーム11eの形状が半導体装置10と異なっている。具体的には、半導体装置10aは、半導体装置10と比較して、素子の数がより少なく、第1出力側リードフレーム11dの第1固定部20d、第2出力側リードフレーム11eの第2固定部20eの数がより少ない。
図6に示す半導体装置10aは、第1補強部13d及び第2補強部13eが、左右方向に一列に並んでいる点において、それらが二列に並んでいる図2の半導体装置10と相違する。
第1出力側リードフレーム11dは、封止部材15の左上端部からその上辺に沿って右方向に伸びる第1補強部13dを備えている。第1補強部13dは第1出力端子14dを連結する。第1補強部13dは、中心線Lの少し左側から中心線Lを超えて、右側の第2補強部13eに向けて延びる第1幅細部13d-1を有している。
第2出力側リードフレーム11eは、封止部材15の右上端部からその上辺に沿って左方向に伸びる第2補強部13eを備えている。第2補強部13eは第2出力端子14eを連結する。第2補強部13eは、中心線Lの少し右側から中心線Lを超えて、左側の第1補強部13dに向けて延びる第2幅細部13e-1を有している。
第1幅細部13d-1は第2幅細部13e-1の上方に位置している。第1幅細部13d-1と第2幅細部13e-1とは、上下方向に所定の幅の絶縁クリアランスを挟んで中心線Lから左右に広がる幅Wで重なっている。所定の幅の絶縁クリアランスは、第1幅細部13d-1と第2幅細部13e-1間で絶縁が保たれる長さに設定される。この幅は、第1幅細部13d-1は第2幅細部13e-1に流れる電流の大きさによって決められる。
以上の構成において、第1補強部13d及び第2補強部13eが中心線Lから左右に広がる幅W´で重なっているため、基板12の強度が補強され、上記応力は上記中心線Lの中央部に集中することはない。応力は第1補強部13d及び第2補強部13eに分散される。この結果、図5(B)に示す実施例と同様に、基板12の中心線L付近に過大な応力が集中してクラックが発生することを防ぐことができる。
本発明に係る半導体装置は、半導体装置10、10aに限らず、その要旨の範囲内において変更可能である。また、半導体装置10、10aの構成を任意に組み合わせてもよい。半導体装置10、10aの長辺の中心線L付近でオーバーラップする補強部により、リードフレームを素子或いは基板に実装する固定部が連結されていればよく、本例の入力側と出力側に限定されることはない。
10、10a:半導体装置
11d:第1出力側リードフレーム
11e:第2出力側リードフレーム
12:基板

Claims (2)

  1. 上面が上方に僅かに凸となるように形成された放熱器と、
    半導体装置と、を備え、
    前記半導体装置は、素子及びパターンを上面に有する矩形の基板と、前記基板に電気的に接続され且つ前記基板の上に固定された板状の第1及び第2リードフレームと、封止部材と、を備え、
    前記第1リードフレームは、前記基板の上面に沿って前記基板の長手方向の一方の側から他方の側に延びる第1補強部と、当該第1補強部に接続された第1端子と、上端が当該第1補強部に接続され下端が前記基板に固定された第1固定部と、を有し、
    前記第2リードフレームは、前記基板の上面に沿って前記基板の長手方向の前記他方の側から前記一方の側に延びる第2補強部と、当該第2補強部に接続された第2端子と、上端が当該第2補強部に接続され下端が前記基板に固定された第2固定部とを有し、
    前記第1補強部と前記第2補強部とは、当該第1補強部の一部と当該第2補強部の一部とが前記基板の短手方向から見て互いに重なるようにして、互いに間隔を有しており、
    前記封止部材は、前記第1リードフレームと前記第2リードフレームと前記基板との一体物の外周面及び上面を、前記第1端子及び前記第2端子を除くようにして覆うとともに、全体として板状の直方体状の形状を有し、
    前記封止部材の長手方向の両端部に前記封止部材を前記放熱器の上面にネジ止めするためのネジ孔が形成されており、
    前記封止部材が、当該封止部材の下面が前記放熱器の上面に当接するようにして、前記ネジ止め孔に挿通されたネジによって前記放熱器にネジ止めされている、半導体装置及び放熱器組立体。
  2. 上面が上方に僅かに凸となるように形成された放熱器を準備する工程と、
    半導体装置を準備する工程と、
    前記半導体装置を前記放熱器に取る付ける工程と、を含み、
    前記半導体装置は、素子及びパターンを上面に有する矩形の基板と、前記基板に電気的に接続され且つ前記基板の上に固定された板状の第1及び第2リードフレームと、封止部材と、を備え、
    前記第1リードフレームは、前記基板の上面に沿って前記基板の長手方向の一方の側から他方の側に延びる第1補強部と、当該第1補強部に接続された第1端子と、上端が当該第1補強部に接続され下端が前記基板に固定された第1固定部と、を有し、
    前記第2リードフレームは、前記基板の上面に沿って前記基板の長手方向の前記他方の側から前記一方の側に延びる第2補強部と、当該第2補強部に接続された第2端子と、上端が当該第2補強部に接続され下端が前記基板に固定された第2固定部とを有し、
    前記第1補強部と前記第2補強部とは、当該第1補強部の一部と当該第2補強部の一部とが前記基板の短手方向から見て互いに重なるようにして、互いに間隔を有しており、
    前記封止部材は、前記第1リードフレームと前記第2リードフレームと前記基板との一体物の外周面及び上面を、前記第1端子及び前記第2端子を除くようにして覆うとともに、全体として、下面が僅かに下方に凸に反っている板状の直方体状の形状を有し、
    前記封止部材の長手方向の両端部に前記封止部材を前記放熱器の上面にネジ止めするためのネジ孔が形成されており、
    前記半導体装置を前記放熱器に取る付ける工程が、前記封止部材の下面が前記放熱器の上面に当接するようにして、前記封止部材を、前記ネジ止め孔に挿通されたネジによって前記放熱器にネジ止めする工程である、半導体装置及び放熱器の組立方法。
JP2021057100A 2021-03-30 2021-03-30 半導体装置及び放熱器組立体並びに半導体装置及び放熱器の組立方法 Active JP7615834B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021057100A JP7615834B2 (ja) 2021-03-30 2021-03-30 半導体装置及び放熱器組立体並びに半導体装置及び放熱器の組立方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021057100A JP7615834B2 (ja) 2021-03-30 2021-03-30 半導体装置及び放熱器組立体並びに半導体装置及び放熱器の組立方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2022154192A JP2022154192A (ja) 2022-10-13
JP2022154192A5 JP2022154192A5 (ja) 2024-03-27
JP7615834B2 true JP7615834B2 (ja) 2025-01-17

Family

ID=83557145

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2021057100A Active JP7615834B2 (ja) 2021-03-30 2021-03-30 半導体装置及び放熱器組立体並びに半導体装置及び放熱器の組立方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP7615834B2 (ja)

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006237305A (ja) 2005-02-25 2006-09-07 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置
JP2007173272A (ja) 2005-12-19 2007-07-05 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置およびその製造方法
JP2012191010A (ja) 2011-03-10 2012-10-04 Fuji Electric Co Ltd 半導体装置およびその製造方法
JP2014232828A (ja) 2013-05-30 2014-12-11 ローム株式会社 半導体装置
JP2015130456A (ja) 2014-01-09 2015-07-16 三菱電機株式会社 半導体装置
JP2016167480A (ja) 2015-03-09 2016-09-15 三菱電機株式会社 電力用半導体装置
WO2018021322A1 (ja) 2016-07-26 2018-02-01 三菱電機株式会社 半導体装置
WO2020105476A1 (ja) 2018-11-22 2020-05-28 ローム株式会社 半導体装置

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6356550B2 (ja) * 2014-09-10 2018-07-11 三菱電機株式会社 半導体装置およびその製造方法
JP6945418B2 (ja) * 2017-10-24 2021-10-06 三菱電機株式会社 半導体装置および半導体装置の製造方法

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006237305A (ja) 2005-02-25 2006-09-07 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置
JP2007173272A (ja) 2005-12-19 2007-07-05 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置およびその製造方法
JP2012191010A (ja) 2011-03-10 2012-10-04 Fuji Electric Co Ltd 半導体装置およびその製造方法
JP2014232828A (ja) 2013-05-30 2014-12-11 ローム株式会社 半導体装置
JP2015130456A (ja) 2014-01-09 2015-07-16 三菱電機株式会社 半導体装置
JP2016167480A (ja) 2015-03-09 2016-09-15 三菱電機株式会社 電力用半導体装置
WO2018021322A1 (ja) 2016-07-26 2018-02-01 三菱電機株式会社 半導体装置
WO2020105476A1 (ja) 2018-11-22 2020-05-28 ローム株式会社 半導体装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP2022154192A (ja) 2022-10-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7847390B2 (en) Semiconductor device
US20160284632A1 (en) Electronic component package
JP5818102B2 (ja) 半導体装置の製造方法
JP4698234B2 (ja) 表面実装型半導体素子
CN106796934B (zh) 半导体装置
JP2012212713A (ja) 半導体装置の実装構造
JP2006108306A (ja) リードフレームおよびそれを用いた半導体パッケージ
JP7026865B1 (ja) パワーモジュール
JP3929781B2 (ja) 回路構成体
JP7615834B2 (ja) 半導体装置及び放熱器組立体並びに半導体装置及び放熱器の組立方法
JP2018157070A (ja) 半導体装置
US20090071683A1 (en) Electronic device mounting structure and method of making the same
US5291372A (en) Integral heat sink-terminal member structure of hybrid integrated circuit assembly and method of fabricating hybrid integrated circuit assembly using such structure
JP6315108B2 (ja) パワー半導体のパッケージ素子
JP2009044126A (ja) テープキャリア基板および半導体装置
JP2019087636A (ja) 半導体パッケージ
JP5793295B2 (ja) 半導体装置
WO2017135065A1 (ja) 回路構成体および電気接続箱
JP5124329B2 (ja) 半導体装置
JP4111199B2 (ja) 半導体パッケージ、及びこれを回路基板に実装する方法
US8054647B2 (en) Electronic device mounting structure for busbar
JP7517053B2 (ja) 半導体装置
JP6343455B2 (ja) 半導体パッケージ構造
JP5037398B2 (ja) 半導体装置
CN105830543A (zh) 电子部件

Legal Events

Date Code Title Description
RD01 Notification of change of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421

Effective date: 20240228

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20240311

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20240311

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20240228

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20241126

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20241203

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20241209

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20241216

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20241209

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7615834

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150