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JP7615993B2 - Multilayer optical film and method of making same - Google Patents
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Description

本発明は、多層光学フィルム及びその製造方法に関する。 The present invention relates to a multilayer optical film and a method for producing the same.

従来、光学用途のフィルムは、非晶性重合体で製造されることが一般的であった。しかし、非晶性重合体は、耐溶媒性に劣る傾向がある。そこで、非晶性重合体と結晶性重合体とを組み合わせて含む樹脂によって、耐溶媒性に優れるフィルムを製造することが提案されている(例えば特許文献1及び2)。また、そのようなフィルムと、他のフィルムとを組み合わせた多層の光学フィルムも提案されている(例えば特許文献3及び4)。そのような多層の光学フィルムでは、その表層を構成する層として結晶性重合体を含む層を採用することにより、耐溶媒性を向上させ、且つそれらの間のコア層により所望の光学的性能を発現させることが期待しうる。コア層は、例えば延伸により発現した位相差を有する位相差層としうる。 Conventionally, films for optical applications have generally been made of amorphous polymers. However, amorphous polymers tend to have poor solvent resistance. Therefore, it has been proposed to produce films with excellent solvent resistance by using resins containing a combination of amorphous polymers and crystalline polymers (e.g., Patent Documents 1 and 2). Multilayer optical films combining such films with other films have also been proposed (e.g., Patent Documents 3 and 4). In such multilayer optical films, by adopting layers containing crystalline polymers as layers constituting the surface layers, it is expected that the solvent resistance can be improved and the desired optical performance can be expressed by the core layer between them. The core layer can be, for example, a retardation layer having a retardation expressed by stretching.

特開2002-249645号公報JP 2002-249645 A 特開2007-016102号公報JP 2007-016102 A 特願平3-230614号公報Japanese Patent Application No. 3-230614 国際公開第2013/069666号International Publication No. 2013/069666

光学的性能を発現させるコア層は、光学フィルム使用時の耐熱性を高める観点から、そのガラス転移温度が高いことが求められる。そのようなコア層は、延伸の過程において、比較的高い温度で延伸を行うことが求められる。しかしながら、そのようなガラス転移温度の高いコア層を、結晶性重合体を含む表面層と共に用いて光学フィルムを製造する場合、高品質な製品を容易に製造することが困難であった。例えば、樹脂を溶融押出により製膜する際に冷却ロール上で厚みムラが発生する、延伸前フィルムを延伸の工程に供するときに破断が発生する、といった不具合が発生する傾向が高い。 The core layer that exerts optical performance is required to have a high glass transition temperature in order to enhance the heat resistance of the optical film when it is used. Such a core layer is required to be stretched at a relatively high temperature during the stretching process. However, when manufacturing an optical film using such a core layer with a high glass transition temperature together with a surface layer containing a crystalline polymer, it has been difficult to easily manufacture a high-quality product. For example, there is a high tendency for defects to occur, such as uneven thickness occurring on the cooling roll when the resin is formed into a film by melt extrusion, and breakage occurring when the unstretched film is subjected to the stretching process.

従って、本発明の目的は、使用時における耐熱性が高く、耐溶媒性が高く、且つ高品質なものを容易に製造しうる、多層光学フィルム及びその製造方法を提供することにある。 The object of the present invention is therefore to provide a multilayer optical film and a method for producing the same that have high heat resistance during use, high solvent resistance, and can be easily produced to high quality.

本発明者は、前記の課題を解決するべく検討した。その結果、本発明者は、多層光学フィルムの表層を構成する材料として、コア層との関係において特定の性質を有するものを採用することにより、前記課題を解決できることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明は、下記のものを含む。
The present inventors have conducted studies to solve the above problems, and as a result, have found that the above problems can be solved by using a material that has specific properties in relation to a core layer as a material constituting a surface layer of a multilayer optical film, and have completed the present invention.
That is, the present invention includes the following.

〔1〕 おもて面及びうら面の表層を構成する一対のB層と、前記一対のB層の間に位置するA層とを備える多層光学フィルムであって、
前記A層は、融点を有さない非晶性重合体(a)を含む樹脂(a)の層であり、
前記B層は、融点を有する結晶性重合体(b1)と融点を有さない非晶性重合体(b2)とを含む、融点を有する樹脂(b)の層であり、
前記樹脂(a)及び前記樹脂(b)は、下記式(1)~(3)を満たし、
TgA-TgB≦20℃ (1)
110℃<TgB<140℃ (2)
180℃<TcB<235℃ (3)
式中TgAは樹脂(a)のガラス転移温度であり、TgBは樹脂(b)のガラス転移温度であり、TcBは樹脂(b)の冷結晶化温度である、
多層光学フィルム。
〔2〕 前記A層及び前記B層が層間密着している、〔1〕に記載の多層光学フィルム。
〔3〕 前記B層のそれぞれの厚みがいずれも10μm以下である、〔1〕又は〔2〕に記載の多層光学フィルム。
〔4〕 ヘイズが1%以下である、〔1〕~〔3〕のいずれか1項に記載の多層光学フィルム。
〔5〕 〔1〕~〔4〕のいずれか1項に記載の多層光学フィルムの製造方法であって、
前記樹脂(a)と、前記樹脂(b)とを調製する工程と、
前記樹脂(a)及び前記樹脂(b)を成形して、多層樹脂フィルムを得る工程を含む、製造方法。
〔6〕 前記多層樹脂フィルムを、TgA以上の延伸温度にて延伸する工程をさらに含む、〔5〕に記載の多層光学フィルムの製造方法。
[1] A multilayer optical film comprising a pair of B layers constituting surface layers on a front surface and a back surface, and an A layer located between the pair of B layers,
The layer A is a layer of a resin (a) containing an amorphous polymer (a) having no melting point,
The layer B is a layer of a resin (b) having a melting point, which contains a crystalline polymer (b1) having a melting point and an amorphous polymer (b2) having no melting point,
The resin (a) and the resin (b) satisfy the following formulas (1) to (3),
TgA-TgB≦20℃ (1)
110℃<TgB<140℃ (2)
180℃<TcB<235℃ (3)
In the formula, TgA is the glass transition temperature of resin (a), TgB is the glass transition temperature of resin (b), and TcB is the cold crystallization temperature of resin (b).
Multilayer optical films.
[2] The multilayer optical film according to [1], wherein the A layer and the B layer are in interlayer adhesion.
[3] The multilayer optical film according to [1] or [2], wherein each of the layers B has a thickness of 10 μm or less.
[4] The multilayer optical film according to any one of [1] to [3], having a haze of 1% or less.
[5] A method for producing the multilayer optical film according to any one of [1] to [4],
preparing the resin (a) and the resin (b);
A production method comprising a step of forming the resin (a) and the resin (b) to obtain a multilayer resin film.
[6] The method for producing a multilayer optical film according to [5], further comprising a step of stretching the multilayer resin film at a stretching temperature of TgA or higher.

本発明によれば、使用時における耐熱性が高く、耐溶媒性が高く、且つ高品質なものを容易に製造しうる、多層光学フィルム及びその製造方法が提供される。 The present invention provides a multilayer optical film and a method for producing the same that are highly heat-resistant during use, highly solvent-resistant, and easy to produce of high quality.

図1は、本願実施例における耐溶媒性試験の方法を模式的に示す側面図である。FIG. 1 is a side view diagrammatically illustrating a method for testing solvent resistance in the present examples. 図2は、本願実施例における相間密着性試験の方法を模式的に示す斜視図である。FIG. 2 is a perspective view that illustrates a method for testing interphase adhesion in the present examples.

以下、本発明について実施形態及び例示物を示して詳細に説明する。ただし、本発明は以下に示す実施形態及び例示物に限定されるものではなく、本発明の特許請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施しうる。 The present invention will be described in detail below with reference to embodiments and examples. However, the present invention is not limited to the embodiments and examples shown below, and may be modified and implemented as desired without departing from the scope of the claims of the present invention and their equivalents.

以下の説明において、「長尺」のフィルムとは、幅に対して、5倍以上の長さを有するフィルムをいい、好ましくは10倍若しくはそれ以上の長さを有し、具体的にはロール状に巻き取られて保管又は運搬される程度の長さを有するフィルムをいう。フィルムの長さの上限は、特に制限は無く、例えば、幅に対して10万倍以下でありうる。 In the following description, a "long" film refers to a film that is 5 times or more longer than its width, preferably 10 times or more longer, and specifically refers to a film that is long enough to be wound into a roll for storage or transportation. There is no particular upper limit to the length of the film, and it can be, for example, 100,000 times or less than its width.

以下の説明において、面内レターデーションReは、別に断らない限り、Re=(nx-ny)×dで表される値である。また、厚み方向のレターデーションRthは、別に断らない限り、Rth=[{(nx+ny)/2}-nz]×dで表される値である。さらに、複屈折Δnとは、別に断らない限り、nx-nyで表される値であり、よって、Re/dで表される値である。ここで、nxは、厚み方向に垂直な方向(面内方向)であって最大の屈折率を与える方向の屈折率を表す。nyは、前記面内方向であってnxの方向に直交する方向の屈折率を表す。nzは厚み方向の屈折率を表す。dは、厚みを表す。測定波長は、別に断らない限り、590nmである。 In the following description, the in-plane retardation Re is a value expressed by Re = (nx - ny) x d, unless otherwise specified. Furthermore, the retardation in the thickness direction Rth is a value expressed by Rth = [{(nx + ny) / 2} - nz] x d, unless otherwise specified. Furthermore, the birefringence Δn is a value expressed by nx - ny, and therefore a value expressed by Re / d, unless otherwise specified. Here, nx represents the refractive index in the direction perpendicular to the thickness direction (in-plane direction) that gives the maximum refractive index. ny represents the refractive index in the in-plane direction that is perpendicular to the direction of nx. nz represents the refractive index in the thickness direction. d represents the thickness. The measurement wavelength is 590 nm, unless otherwise specified.

以下の説明において、正の固有複屈折を有する重合体とは、別に断らない限り、延伸方向の屈折率がそれに垂直な方向の屈折率よりも大きくなる重合体を意味する。また、負の固有複屈折を有する重合体とは、別に断らない限り、延伸方向の屈折率がそれに垂直な方向の屈折率よりも小さくなる重合体を意味する。 In the following description, unless otherwise specified, a polymer with positive intrinsic birefringence means a polymer whose refractive index in the stretching direction is greater than the refractive index in the direction perpendicular to the stretching direction. Also, a polymer with negative intrinsic birefringence means a polymer whose refractive index in the stretching direction is smaller than the refractive index in the direction perpendicular to the stretching direction, unless otherwise specified.

〔多層光学フィルム:概要〕
本発明の多層光学フィルムは、おもて面及びうら面の表層を構成する一対のB層と、それらの間に位置するA層とを備える。ここで、表層のおもて面及びうら面は、多層光学フィルムの表層となるB層の一方の面をおもて面とした際、もう一方の面をうら面とする。
A層は、融点を有さない非晶性重合体(a)を含む樹脂(a)の層であり、樹脂(a)のみからなる層としうる。一方B層は、融点を有する結晶性重合体(b1)と融点を有さない非晶性重合体(b2)とを含む、融点を有する樹脂(b)の層であり、樹脂(b)のみからなる層としうる。
[Multilayer Optical Films: Overview]
The multilayer optical film of the present invention comprises a pair of layers B constituting the front and back surface layers, and a layer A located therebetween. Here, when one surface of layer B that is the surface layer of the multilayer optical film is defined as the front surface, the other surface of the surface layers is defined as the back surface.
Layer A is a layer of resin (a) containing an amorphous polymer (a) having no melting point, and may be a layer consisting of resin (a) alone. Layer B is a layer of resin (b) having a melting point, containing a crystalline polymer (b1) having a melting point and an amorphous polymer (b2) having no melting point, and may be a layer consisting of resin (b) alone.

〔樹脂(b):結晶性重合体(b1)〕
結晶性重合体(b1)としては、既知のもの等の各種の結晶性重合体を用いうる。一般に結晶性重合体は、結晶性を有する重合体である。結晶性を有する重合体とは、融点を有する重合体である。重合体の融点は、示差走査熱量計(DSC)によって測定できる。よって、結晶性重合体とは、示差走査熱量計(DSC)で融点を観測することができる重合体である。
[Resin (b): Crystalline polymer (b1)]
As the crystalline polymer (b1), various crystalline polymers such as known ones can be used. In general, a crystalline polymer is a polymer having crystallinity. A polymer having crystallinity is: A crystalline polymer is a polymer that has a melting point. The melting point of a polymer can be measured by a differential scanning calorimeter (DSC). Therefore, a crystalline polymer is a polymer whose melting point can be observed by a differential scanning calorimeter (DSC). It is a combination.

結晶性重合体(b1)は、正の固有複屈折を有していてもよく、負の固有複屈折を有していてもよい。中でも、正の固有複屈折を有する結晶性重合体が好ましい。 The crystalline polymer (b1) may have a positive intrinsic birefringence or a negative intrinsic birefringence. Among them, a crystalline polymer having a positive intrinsic birefringence is preferred.

結晶性重合体(b1)としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)等のポリエステル;ポリエチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)等のポリオレフィン;などが挙げられるが、環状オレフィン系重合体が好ましい。すなわち、結晶性重合体(b1)は、融点を有する環状オレフィン系重合体であることが好ましい。以下、融点を有する環状オレフィン系重合体を、「環状オレフィン系結晶性重合体」と呼ぶことがある。 Examples of the crystalline polymer (b1) include polyesters such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN); polyolefins such as polyethylene (PE) and polypropylene (PP); and the like, but a cyclic olefin polymer is preferred. That is, the crystalline polymer (b1) is preferably a cyclic olefin polymer having a melting point. Hereinafter, a cyclic olefin polymer having a melting point may be referred to as a "cyclic olefin crystalline polymer."

環状オレフィン系結晶性重合体は、その分子内に脂環式構造を有しうる。このような環状オレフィン系結晶性重合体は、例えば、環状オレフィンを単量体として用いた重合反応によって得られうる重合体又はその水素化物でありうる。環状オレフィン系結晶性重合体を含む樹脂(b)を用いる場合、多層光学フィルムの機械特性、耐熱性、透明性、低吸湿性、寸法安定性及び軽量性を良好にできる。 The cyclic olefin crystalline polymer may have an alicyclic structure in its molecule. Such a cyclic olefin crystalline polymer may be, for example, a polymer or a hydrogenated product thereof that can be obtained by a polymerization reaction using a cyclic olefin as a monomer. When a resin (b) containing a cyclic olefin crystalline polymer is used, the mechanical properties, heat resistance, transparency, low moisture absorption, dimensional stability, and light weight of the multilayer optical film can be improved.

脂環式構造としては、例えば、シクロアルカン構造及びシクロアルケン構造が挙げられる。これらの中でも、熱安定性などの特性に優れる多層光学フィルムが得られ易いことから、シクロアルカン構造が好ましい。1つの脂環式構造に含まれる炭素原子の数は、好ましくは4個以上、より好ましくは5個以上であり、好ましくは30個以下、より好ましくは20個以下、特に好ましくは15個以下である。1つの脂環式構造に含まれる炭素原子の数が上記範囲内にある場合、機械的強度、耐熱性、及び成形性が高度にバランスされる。 Examples of alicyclic structures include cycloalkane structures and cycloalkene structures. Among these, cycloalkane structures are preferred because they are more likely to produce multilayer optical films with excellent properties such as thermal stability. The number of carbon atoms contained in one alicyclic structure is preferably 4 or more, more preferably 5 or more, and preferably 30 or less, more preferably 20 or less, and particularly preferably 15 or less. When the number of carbon atoms contained in one alicyclic structure is within the above range, the mechanical strength, heat resistance, and moldability are highly balanced.

環状オレフィン系結晶性重合体において、全ての構造単位に対する脂環式構造を有する構造単位の割合は、好ましくは30重量%以上、より好ましくは50重量%以上、特に好ましくは70重量%以上である。脂環式構造を有する構造単位の割合が前記のように多い場合、耐熱性を高めることができる。全ての構造単位に対する脂環式構造を有する構造単位の割合は、100重量%以下としうる。また、環状オレフィン系結晶性重合体において、脂環式構造を有する構造単位以外の残部は、格別な限定はなく、使用目的に応じて適宜選択しうる。 In the cyclic olefin crystalline polymer, the ratio of structural units having an alicyclic structure to all structural units is preferably 30% by weight or more, more preferably 50% by weight or more, and particularly preferably 70% by weight or more. When the ratio of structural units having an alicyclic structure is high as described above, heat resistance can be improved. The ratio of structural units having an alicyclic structure to all structural units can be 100% by weight or less. In the cyclic olefin crystalline polymer, the remainder other than the structural units having an alicyclic structure is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the purpose of use.

環状オレフィン系結晶性重合体としては、例えば、下記の重合体(α)~重合体(δ)が挙げられる。これらの中でも、耐熱性に優れる多層光学フィルムが得られ易いことから、重合体(β)が好ましい。
重合体(α):環状オレフィン単量体の開環重合体であって、結晶性を有するもの。
重合体(β):重合体(α)の水素化物であって、結晶性を有するもの。
重合体(γ):環状オレフィン単量体の付加重合体であって、結晶性を有するもの。
重合体(δ):重合体(γ)の水素化物であって、結晶性を有するもの。
Examples of the cyclic olefin-based crystalline polymer include the following polymer (α) to polymer (δ). Among these, polymer (β) is preferred because it is easy to obtain a multilayer optical film having excellent heat resistance.
Polymer (α): A ring-opening polymer of a cyclic olefin monomer, which has crystallinity.
Polymer (β): A hydrogenated product of polymer (α) and has crystallinity.
Polymer (γ): An addition polymer of a cyclic olefin monomer, which has crystallinity.
Polymer (δ): A hydrogenated polymer (γ) having crystallinity.

具体的には、脂環式構造を含有する結晶性重合体としては、ジシクロペンタジエンの開環重合体であって結晶性を有するもの、及び、ジシクロペンタジエンの開環重合体の水素化物であって結晶性を有するものがより好ましい。中でも、ジシクロペンタジエンの開環重合体の水素化物であって結晶性を有するものが特に好ましい。ここで、ジシクロペンタジエンの開環重合体とは、全構造単位に対するジシクロペンタジエン由来の構造単位の割合が、通常50重量%以上、好ましくは70重量%以上、より好ましくは90重量%以上、さらに好ましくは100重量%の重合体をいう。 Specifically, as the crystalline polymer containing an alicyclic structure, a ring-opening polymer of dicyclopentadiene having crystallinity and a hydrogenated ring-opening polymer of dicyclopentadiene having crystallinity are more preferable. Among them, a hydrogenated ring-opening polymer of dicyclopentadiene having crystallinity is particularly preferable. Here, a ring-opening polymer of dicyclopentadiene refers to a polymer in which the ratio of structural units derived from dicyclopentadiene to all structural units is usually 50% by weight or more, preferably 70% by weight or more, more preferably 90% by weight or more, and even more preferably 100% by weight.

ジシクロペンタジエンの開環重合体の水素化物は、ラセモ・ダイアッドの割合が高いことが好ましい。具体的には、ジシクロペンタジエンの開環重合体の水素化物における繰り返し単位のラセモ・ダイアッドの割合は、好ましくは51%以上、より好ましくは70%以上、特に好ましくは85%以上である。ラセモ・ダイアッドの割合が高いことは、シンジオタクチック立体規則性が高いことを表す。よって、ラセモ・ダイアッドの割合が高いほど、ジシクロペンタジエンの開環重合体の水素化物の融点が高い傾向がある。
ラセモ・ダイアッドの割合は、後述する実施例に記載の13C-NMRスペクトル分析に基づいて決定できる。
The hydrogenated ring-opening polymer of dicyclopentadiene preferably has a high ratio of racemo dyads. Specifically, the ratio of racemo dyads in the repeating units of the hydrogenated ring-opening polymer of dicyclopentadiene is preferably 51% or more, more preferably 70% or more, and particularly preferably 85% or more. A high ratio of racemo dyads indicates high syndiotactic stereoregularity. Therefore, the higher the ratio of racemo dyads, the higher the melting point of the hydrogenated ring-opening polymer of dicyclopentadiene tends to be.
The ratio of the racemo dyads can be determined based on the 13 C-NMR spectrum analysis described in the Examples below.

上記重合体(α)~重合体(δ)としては、国際公開第2018/062067号に開示されている製造方法により得られる重合体を用いうる。 As the above polymer (α) to polymer (δ), polymers obtained by the manufacturing method disclosed in WO 2018/062067 can be used.

結晶性重合体(b1)の融点Tmb1は、好ましくは200℃以上、より好ましくは230℃以上であり、好ましくは290℃以下である。このような融点Tmb1を有する結晶性重合体(b1)を用いる場合、成形性と耐熱性とのバランスに更に優れた多層光学フィルムを得ることができる。 The melting point Tmb1 of the crystalline polymer (b1) is preferably 200° C. or higher, more preferably 230° C. or higher, and preferably 290° C. or lower. When a crystalline polymer (b1) having such a melting point Tmb1 is used, a multilayer optical film with an even better balance between moldability and heat resistance can be obtained.

通常、結晶性重合体(b1)は、ガラス転移温度Tgb1を有する。結晶性重合体(b1)の具体的なガラス転移温度Tgb1は、特に限定されないが、通常は85℃以上、通常170℃以下である。 Typically, the crystalline polymer (b1) has a glass transition temperature Tgb1. The specific glass transition temperature Tgb1 of the crystalline polymer (b1) is not particularly limited, but is typically 85°C or higher and typically 170°C or lower.

重合体のガラス転移温度及び融点は、以下の方法によって測定できる。まず、重合体を、加熱によって融解させ、融解した重合体をドライアイスで急冷する。続いて、この重合体を試験体として用いて、示差走査熱量計(DSC)を用いて、10℃/分の昇温速度(昇温モード)で、重合体のガラス転移温度及び融点を測定しうる。 The glass transition temperature and melting point of a polymer can be measured by the following method. First, the polymer is melted by heating, and the molten polymer is rapidly cooled with dry ice. Next, using this polymer as a test specimen, the glass transition temperature and melting point of the polymer can be measured using a differential scanning calorimeter (DSC) at a heating rate of 10°C/min (heating mode).

結晶性重合体(b1)の重量平均分子量(Mw)は、好ましくは1,000以上、より好ましくは2,000以上であり、好ましくは1,000,000以下、より好ましくは500,000以下である。このような重量平均分子量を有する結晶性重合体(b1)は、成形加工性と耐熱性とのバランスに優れる。 The weight average molecular weight (Mw) of the crystalline polymer (b1) is preferably 1,000 or more, more preferably 2,000 or more, and preferably 1,000,000 or less, more preferably 500,000 or less. A crystalline polymer (b1) having such a weight average molecular weight has an excellent balance between moldability and heat resistance.

結晶性重合体(b1)の分子量分布(Mw/Mn)は、好ましくは1.0以上、より好ましくは1.5以上であり、好ましくは4.0以下、より好ましくは3.5以下である。ここで、Mnは数平均分子量を表す。このような分子量分布を有する結晶性重合体(b1)は、成形加工性に優れる。 The molecular weight distribution (Mw/Mn) of the crystalline polymer (b1) is preferably 1.0 or more, more preferably 1.5 or more, and is preferably 4.0 or less, more preferably 3.5 or less. Here, Mn represents the number average molecular weight. The crystalline polymer (b1) having such a molecular weight distribution has excellent moldability.

重合体の重量平均分子量(Mw)及び分子量分布(Mw/Mn)は、テトラヒドロフランを展開溶媒とするゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー(GPC)により、ポリスチレン換算値として測定しうる。また、重合体がシクロヘキサンに溶解しない場合には、溶媒としてトルエンを用いて、ポリイソプレン換算値として重量平均分子量(Mw)及び分子量分布(Mw/Mn)を測定しうる。 The weight average molecular weight (Mw) and molecular weight distribution (Mw/Mn) of the polymer can be measured in terms of polystyrene by gel permeation chromatography (GPC) using tetrahydrofuran as the developing solvent. If the polymer does not dissolve in cyclohexane, the weight average molecular weight (Mw) and molecular weight distribution (Mw/Mn) can be measured in terms of polyisoprene using toluene as the solvent.

結晶性重合体(b1)は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。 The crystalline polymer (b1) may be used alone or in any combination of two or more kinds in any ratio.

樹脂(b)に含まれる結晶性重合体(b1)の量は、樹脂(b)100重量%に対して、好ましくは30重量%以上、より好ましくは35重量%以上、特に好ましくは40重量%以上であり、好ましくは80重量%以下、より好ましくは75重量%以下、特に好ましくは70重量%以下である。結晶性重合体(b1)の量が前記範囲にある場合に、多層光学フィルムの耐溶媒性、耐熱性及び柔軟性を効果的に高めることができる。 The amount of crystalline polymer (b1) contained in resin (b) is preferably 30% by weight or more, more preferably 35% by weight or more, particularly preferably 40% by weight or more, and is preferably 80% by weight or less, more preferably 75% by weight or less, particularly preferably 70% by weight or less, based on 100% by weight of resin (b). When the amount of crystalline polymer (b1) is within the above range, the solvent resistance, heat resistance, and flexibility of the multilayer optical film can be effectively improved.

樹脂(b)に含まれる結晶性重合体(b1)の量Wa及び非晶性重合体(b2)の量Wbの重量比Wa/Wbは、特定の範囲にあることが好ましい。具体的には、重量比Wa/Wbは、好ましくは30/70より大きく、より好ましくは35/65より大きく、特に好ましくは40/60より大きく、好ましくは80/20未満、より好ましくは75/25未満である。重量比Wa/Wbを前記下限以上とすることにより、樹脂(b)を、融点を有する樹脂としうる。また、重量比Wa/Wbが前記範囲にある場合に、多層光学フィルムの耐溶媒性、耐熱性及び柔軟性を効果的に高めることができる。 The weight ratio Wa/Wb of the amount Wa of the crystalline polymer (b1) and the amount Wb of the amorphous polymer (b2) contained in the resin (b) is preferably within a specific range. Specifically, the weight ratio Wa/Wb is preferably greater than 30/70, more preferably greater than 35/65, particularly preferably greater than 40/60, and preferably less than 80/20, more preferably less than 75/25. By setting the weight ratio Wa/Wb to the lower limit or more, the resin (b) can be made to have a melting point. Furthermore, when the weight ratio Wa/Wb is within the above range, the solvent resistance, heat resistance, and flexibility of the multilayer optical film can be effectively improved.

また、樹脂(b)に含まれる結晶性重合体(b1)及び非晶性重合体(b2)の合計量は、樹脂(b)100重量%に対して、好ましくは50重量%~100重量%、より好ましくは70重量%~100重量%、更に好ましくは80重量%~100重量%、更に好ましくは90重量%~100重量%、特に好ましくは95重量%~100重量%である。 The total amount of the crystalline polymer (b1) and the amorphous polymer (b2) contained in the resin (b) is preferably 50% by weight to 100% by weight, more preferably 70% by weight to 100% by weight, even more preferably 80% by weight to 100% by weight, even more preferably 90% by weight to 100% by weight, and particularly preferably 95% by weight to 100% by weight, based on 100% by weight of the resin (b).

〔樹脂(b):非晶性重合体(b2)〕
非晶性重合体(b2)としては、既知のもの等の各種の非晶性重合体を用いうる。一般に非晶性重合体は、結晶性を有しない重合体である。結晶性を有しない重合体とは、融点を有しない重合体である。よって、非晶性重合体とは、示差走査熱量計(DSC)で融点を観測することができない重合体を表す。
[Resin (b): Amorphous polymer (b2)]
As the amorphous polymer (b2), various amorphous polymers such as known ones can be used. In general, an amorphous polymer is a polymer that does not have crystallinity. A polymer is a polymer that does not have a melting point. Thus, an amorphous polymer refers to a polymer whose melting point cannot be observed by differential scanning calorimetry (DSC).

非晶性重合体(b2)は、正の固有複屈折を有していてもよく、負の固有複屈折を有していてもよい。中でも、正の固有複屈折を有する非晶性重合体が好ましい。 The amorphous polymer (b2) may have positive intrinsic birefringence or may have negative intrinsic birefringence. Among these, an amorphous polymer having positive intrinsic birefringence is preferred.

非晶性重合体(b2)としては、環状オレフィン系重合体が好ましい。すなわち、非晶性重合体(b2)は、融点を有さない環状オレフィン系重合体であることが好ましい。以下、融点を有さない環状オレフィン系重合体を、「環状オレフィン系非晶性重合体」と呼ぶことがある。環状オレフィン系非晶性重合体は、機械特性、耐熱性、透明性、低吸湿性、寸法安定性及び軽量性に優れる。 As the amorphous polymer (b2), a cyclic olefin polymer is preferable. That is, the amorphous polymer (b2) is preferably a cyclic olefin polymer that does not have a melting point. Hereinafter, a cyclic olefin polymer that does not have a melting point may be referred to as a "cyclic olefin amorphous polymer." A cyclic olefin amorphous polymer has excellent mechanical properties, heat resistance, transparency, low moisture absorption, dimensional stability, and light weight.

環状オレフィン系非晶性重合体は、その分子内に環状構造を有しうる。通常、環状オレフィン系非晶性重合体は、その重合体の構造単位が脂環式構造を有する。環状オレフィン系非晶性重合体は、主鎖に脂環式構造を有する重合体、側鎖に脂環式構造を有する重合体、主鎖及び側鎖に脂環式構造を有する重合体、並びに、これらの2以上の任意の比率の混合物でありうる。中でも、環状オレフィン系非晶性重合体は、機械的強度及び耐熱性の観点から、主鎖に脂環式構造を有することが好ましい。 A cyclic olefin-based amorphous polymer may have a cyclic structure in its molecule. Usually, the structural unit of a cyclic olefin-based amorphous polymer has an alicyclic structure. A cyclic olefin-based amorphous polymer may be a polymer having an alicyclic structure in the main chain, a polymer having an alicyclic structure in the side chain, a polymer having an alicyclic structure in the main chain and in the side chain, or a mixture of two or more of these in any ratio. Among these, it is preferable that the cyclic olefin-based amorphous polymer has an alicyclic structure in the main chain from the viewpoint of mechanical strength and heat resistance.

脂環式構造としては、例えば、飽和脂環式炭化水素(シクロアルカン)構造、及び不飽和脂環式炭化水素(シクロアルケン、シクロアルキン)構造が挙げられる。中でも、機械強度及び耐熱性の観点から、シクロアルカン構造及びシクロアルケン構造が好ましく、シクロアルカン構造が特に好ましい。 Examples of alicyclic structures include saturated alicyclic hydrocarbon (cycloalkane) structures and unsaturated alicyclic hydrocarbon (cycloalkene, cycloalkyne) structures. Among these, from the viewpoints of mechanical strength and heat resistance, cycloalkane structures and cycloalkene structures are preferred, and cycloalkane structures are particularly preferred.

1つの脂環式構造に含まれる炭素原子の数は、好ましくは4個以上、より好ましくは5個以上であり、好ましくは30個以下、より好ましくは20個以下、特に好ましくは15個以下である。脂環式構造を構成する炭素原子数がこの範囲である場合、機械強度、耐熱性及び成形性が高度にバランスされる。 The number of carbon atoms contained in one alicyclic structure is preferably 4 or more, more preferably 5 or more, and preferably 30 or less, more preferably 20 or less, and particularly preferably 15 or less. When the number of carbon atoms constituting the alicyclic structure is within this range, the mechanical strength, heat resistance, and moldability are highly balanced.

環状オレフィン系非晶性重合体において、全ての構造単位に対する脂環式構造を有する構造単位の割合は、好ましくは55重量%以上、さらに好ましくは70重量%以上、特に好ましくは90重量%以上である。全ての構造単位に対する脂環式構造を有する構造単位の割合がこの範囲にある場合、透明性及び耐熱性が良好となる。 In cyclic olefin-based amorphous polymers, the ratio of structural units having an alicyclic structure to all structural units is preferably 55% by weight or more, more preferably 70% by weight or more, and particularly preferably 90% by weight or more. When the ratio of structural units having an alicyclic structure to all structural units is within this range, the transparency and heat resistance are good.

環状オレフィン系非晶性重合体としては、例えば、ノルボルネン系重合体、単環の環状オレフィン系重合体、環状共役ジエン系重合体、ビニル脂環式炭化水素系重合体、及び、これらの水素化物等が挙げられる。これらの中でも、ノルボルネン系重合体及びその水素化物は、成形性が良好である。 Examples of cyclic olefin-based amorphous polymers include norbornene-based polymers, monocyclic cyclic olefin-based polymers, cyclic conjugated diene-based polymers, vinyl alicyclic hydrocarbon-based polymers, and hydrogenated versions of these polymers. Among these, norbornene-based polymers and hydrogenated versions thereof have good moldability.

ノルボルネン系重合体及びその水素化物の例としては、ノルボルネン構造を有する単量体の開環重合体及びその水素化物;ノルボルネン構造を有する単量体の付加重合体及びその水素化物が挙げられる。また、ノルボルネン構造を有する単量体の開環重合体の例としては、ノルボルネン構造を有する1種類の単量体の開環単独重合体、ノルボルネン構造を有する2種類以上の単量体の開環共重合体、並びに、ノルボルネン構造を有する単量体及びこれと共重合しうる他の単量体との開環共重合体が挙げられる。さらに、ノルボルネン構造を有する単量体の付加重合体の例としては、ノルボルネン構造を有する1種類の単量体の付加単独重合体、ノルボルネン構造を有する2種類以上の単量体の付加共重合体、並びに、ノルボルネン構造を有する単量体及びこれと共重合しうる他の単量体との付加共重合体が挙げられる。これらの重合体としては、例えば、特開2002-321302号公報、国際公開第2017/145718号等に開示されている重合体が挙げられる。これらの中で、ノルボルネン構造を有する単量体の開環重合体の水素化物は、成形性、耐熱性、低吸湿性、寸法安定性、軽量性などの観点から、特に好適である。 Examples of norbornene-based polymers and their hydrogenated products include ring-opening polymers of monomers having a norbornene structure and their hydrogenated products; addition polymers of monomers having a norbornene structure and their hydrogenated products. Examples of ring-opening polymers of monomers having a norbornene structure include ring-opening homopolymers of one type of monomer having a norbornene structure, ring-opening copolymers of two or more types of monomers having a norbornene structure, and ring-opening copolymers of a monomer having a norbornene structure and other monomers that can be copolymerized therewith. Examples of addition polymers of monomers having a norbornene structure include addition homopolymers of one type of monomer having a norbornene structure, addition copolymers of two or more types of monomers having a norbornene structure, and addition copolymers of a monomer having a norbornene structure and other monomers that can be copolymerized therewith. Examples of these polymers include those disclosed in JP 2002-321302 A and WO 2017/145718 A. Among these, hydrogenated ring-opening polymers of monomers having a norbornene structure are particularly suitable from the standpoints of moldability, heat resistance, low moisture absorption, dimensional stability, and light weight.

ノルボルネン構造を有する単量体の例としては、ビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン(慣用名:ノルボルネン)、トリシクロ[4.3.0.12,5]デカ-3,7-ジエン(慣用名:ジシクロペンタジエン)、テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ-3-エン(慣用名:テトラシクロドデセン)等の、芳香環構造を含まないノルボルネン系単量体;5-フェニル-2-ノルボルネン、5-(4-メチルフェニル)-2-ノルボルネン、5-(1-ナフチル)-2-ノルボルネン、9-(2-ノルボルネン-5-イル)-カルバゾール等の、芳香族置換基を有するノルボルネン系単量体;1,4-メタノ-1,4,4a,4b,5,8,8a,9a-オクタヒドロフルオレン、1,4-メタノ-1,4,4a,9a-テトラヒドロフルオレン(慣用名:メタノテトラヒドロフルオレン)、1,4-メタノ-1,4,4a,9a-テトラヒドロジベンゾフラン、1,4-メタノ-1,4,4a,9a-テトラヒドロカルバゾール、1,4-メタノ-1,4,4a,9,9a,10-ヘキサヒドロアントラセン、1,4-メタノ-1,4,4a,9,10,10a-ヘキサヒドロフェナンスレン等の、縮合多環構造中にノルボルネン環構造と芳香環構造とを含むノルボルネン系単量体;並びに、これらの化合物の誘導体(例えば、環に置換基を有するもの);などが挙げられる。 Examples of monomers having a norbornene structure include bicyclo[2.2.1]hept-2-ene (common name: norbornene), tricyclo[4.3.0.1 2,5 ]deca-3,7-diene (common name: dicyclopentadiene), tetracyclo[4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ]dodec-3-ene (trivial name: tetracyclododecene), and other norbornene-based monomers not containing an aromatic ring structure; norbornene-based monomers having an aromatic substituent, such as 5-phenyl-2-norbornene, 5-(4-methylphenyl)-2-norbornene, 5-(1-naphthyl)-2-norbornene, and 9-(2-norbornen-5-yl)-carbazole; 1,4-methano-1,4,4a,4b,5,8,8a,9a-octahydrofluorene, 1,4-methano-1,4,4a,9a-tetrahydrofluorene (trivial name: meth norbornene-based monomers containing a norbornene ring structure and an aromatic ring structure in a condensed polycyclic structure, such as 1,4-methano-1,4,4a,9a-tetrahydrofluorene, 1,4-methano-1,4,4a,9a-tetrahydrodibenzofuran, 1,4-methano-1,4,4a,9a-tetrahydrocarbazole, 1,4-methano-1,4,4a,9,9a,10-hexahydroanthracene, and 1,4-methano-1,4,4a,9,10,10a-hexahydrophenanthrene; as well as derivatives of these compounds (for example, those having a substituent on the ring).

置換基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロキル基等のアルキル基;アルキリデン基;アルケニル基;極性基;などが挙げられる。極性基としては、例えば、ヘテロ原子、又はヘテロ原子を有する原子団などが挙げられる。ヘテロ原子としては、例えば、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、ケイ素原子、ハロゲン原子などが挙げられる。極性基の具体例としては、フルオロ基、クロル基、ブロモ基、ヨード基等のハロゲン基;カルボキシル基;カルボニルオキシカルボニル基;エポキシ基;ヒドロキシ基;オキシ基;アルコキシ基;エステル基;シラノール基;シリル基;アミノ基;ニトリル基;スルホン基;シアノ基;アミド基;イミド基;などが挙げられる。置換基の数は、1でもよく、2以上でもよい。また、2以上の置換基の種類は、同じでもよく、異なっていてもよい。ただし、飽和吸水率が低く耐湿性に優れる非晶性樹脂を得る観点では、ノルボルネン系単量体は、極性基の量が少ないことが好ましく、極性基を有さないことがより好ましい。 Examples of the substituent include alkyl groups such as methyl, ethyl, propyl, and isopropyl groups; alkylidene groups; alkenyl groups; polar groups; and the like. Examples of the polar group include heteroatoms and atomic groups having heteroatoms. Examples of the heteroatom include oxygen atoms, nitrogen atoms, sulfur atoms, silicon atoms, and halogen atoms. Specific examples of the polar group include halogen groups such as fluoro, chloro, bromo, and iodine groups; carboxyl groups; carbonyloxycarbonyl groups; epoxy groups; hydroxy groups; oxy groups; alkoxy groups; ester groups; silanol groups; silyl groups; amino groups; nitrile groups; sulfone groups; cyano groups; amide groups; and imide groups. The number of the substituents may be one or more. The types of the two or more substituents may be the same or different. However, from the viewpoint of obtaining an amorphous resin with a low saturated water absorption rate and excellent moisture resistance, it is preferable that the norbornene monomer has a small amount of polar groups, and it is more preferable that the norbornene monomer has no polar groups.

環状オレフィン系非晶性重合体の例を商品名で挙げると、日本ゼオン社製「ZEONEX」;JSR社製「アートン」;三井化学社製「アペル」;ポリプラスチックス社製「TOPAS」;などが挙げられる。 Examples of cyclic olefin-based amorphous polymers by trade name include "ZEONEX" manufactured by Zeon Corporation; "ARTON" manufactured by JSR Corporation; "APEL" manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.; and "TOPAS" manufactured by Polyplastics Co., Ltd.

非晶性重合体(b2)のガラス転移温度Tgb2は、好ましくは90℃以上、より好ましくは100℃以上、更に好ましくは110℃以上であり、好ましくは200℃以下、より好ましくは190℃以下、更に好ましくは180℃以下である。非晶性重合体(b2)のガラス転移温度Tgb2が前記の範囲にある場合に、多層光学フィルムの耐溶媒性及び耐熱性の両方を効果的に高めることができる。また、通常は、延伸処理を円滑に行うことができる。 The glass transition temperature Tgb2 of the amorphous polymer (b2) is preferably 90°C or higher, more preferably 100°C or higher, and even more preferably 110°C or higher, and is preferably 200°C or lower, more preferably 190°C or lower, and even more preferably 180°C or lower. When the glass transition temperature Tgb2 of the amorphous polymer (b2) is within the above range, both the solvent resistance and heat resistance of the multilayer optical film can be effectively improved. In addition, the stretching process can usually be carried out smoothly.

非晶性重合体(b2)の重量平均分子量(Mw)は、好ましくは10,000以上、より好ましくは15,000以上、特に好ましくは20,000以上であり、好ましくは100,000以下、より好ましくは80,000以下、特に好ましくは50,000以下である。重量平均分子量が前記の範囲にある場合、樹脂(b)の機械的強度および成型加工性が高度にバランスされる。 The weight average molecular weight (Mw) of the amorphous polymer (b2) is preferably 10,000 or more, more preferably 15,000 or more, particularly preferably 20,000 or more, and is preferably 100,000 or less, more preferably 80,000 or less, particularly preferably 50,000 or less. When the weight average molecular weight is within the above range, the mechanical strength and moldability of the resin (b) are highly balanced.

非晶性重合体(b2)の分子量分布(重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn))は、好ましくは1.2以上、より好ましくは1.5以上、特に好ましくは1.8以上であり、好ましくは3.5以下、より好ましくは3.0以下、特に好ましくは2.7以下である。分子量分布が前記範囲の下限値以上である場合、重合体の生産性を高め、製造コストを抑制できる。また、上限値以下である場合、低分子成分の量が小さくなるので、高温曝露時の緩和を抑制して、多層光学フィルムの安定性を高めることができる。 The molecular weight distribution (weight average molecular weight (Mw)/number average molecular weight (Mn)) of the amorphous polymer (b2) is preferably 1.2 or more, more preferably 1.5 or more, particularly preferably 1.8 or more, and is preferably 3.5 or less, more preferably 3.0 or less, particularly preferably 2.7 or less. When the molecular weight distribution is equal to or more than the lower limit of the above range, the productivity of the polymer can be increased and the production cost can be reduced. When the molecular weight distribution is equal to or less than the upper limit, the amount of low molecular weight components is reduced, thereby suppressing relaxation during exposure to high temperatures and improving the stability of the multilayer optical film.

非晶性重合体(b2)は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。 The amorphous polymer (b2) may be used alone or in any combination of two or more kinds in any ratio.

樹脂(b)に含まれる非晶性重合体(b2)の量は、樹脂(b)100重量%に対して、好ましくは20重量%以上、より好ましくは25重量%以上、特に好ましくは30重量%以上であり、好ましくは70重量%以下、より好ましくは65重量%以下、特に好ましくは60重量%以下である。非晶性重合体(b2)の量が前記範囲にある場合に、多層光学フィルムの耐溶媒性及び耐熱性の両方を効果的に高めることができる。 The amount of amorphous polymer (b2) contained in resin (b) is preferably 20% by weight or more, more preferably 25% by weight or more, particularly preferably 30% by weight or more, and is preferably 70% by weight or less, more preferably 65% by weight or less, particularly preferably 60% by weight or less, based on 100% by weight of resin (b). When the amount of amorphous polymer (b2) is within the above range, both the solvent resistance and heat resistance of the multilayer optical film can be effectively increased.

非晶性重合体(b2)のガラス転移温度Tgb2は、結晶性重合体(b1)のガラス転移温度Tgb1よりも、相対的に高いことが好ましい。一般的に、結晶性重合体のガラス転移温度は低く、一方非晶性重合体は、ガラス転移温度が高いものも低いものも存在する。ここで、非晶性重合体(b2)として、そのガラス転移温度Tgb2が高いものを採用することにより、樹脂(b)全体としてのガラス転移温度TgBを、所望の高い温度とすることができる。 The glass transition temperature Tgb2 of the amorphous polymer (b2) is preferably relatively higher than the glass transition temperature Tgb1 of the crystalline polymer (b1). Generally, crystalline polymers have low glass transition temperatures, while amorphous polymers have both high and low glass transition temperatures. By using an amorphous polymer (b2) with a high glass transition temperature Tgb2, the glass transition temperature TgB of the resin (b) as a whole can be set to the desired high temperature.

結晶性重合体(b1)のガラス転移温度Tgb1と非晶性重合体(b2)のガラス転移温度Tgb2との差の絶対値|Tgb1-Tgb2|は、特定の範囲にあることが好ましい。具体的には、絶対値|Tgb1-Tgb2|は、好ましくは30℃以上、より好ましくは40℃以上、特に好ましくは50℃以上であり、好ましくは100℃以下、より好ましくは90℃以下、特に好ましくは80℃以下である。絶対値|Tgb1-Tgb2|が前記下限以上であることにより、樹脂(b)全体としてのガラス転移温度TgBを、所望の高い温度とすることができる。一方、絶対値|Tgb1-Tgb2|が前記の範囲にある場合に、多層光学フィルムの耐溶媒性、耐熱性及び柔軟性を効果的に高めることができる。 The absolute value |Tgb1-Tgb2| of the difference between the glass transition temperature Tgb1 of the crystalline polymer (b1) and the glass transition temperature Tgb2 of the amorphous polymer (b2) is preferably in a specific range. Specifically, the absolute value |Tgb1-Tgb2| is preferably 30°C or higher, more preferably 40°C or higher, particularly preferably 50°C or higher, and preferably 100°C or lower, more preferably 90°C or lower, particularly preferably 80°C or lower. When the absolute value |Tgb1-Tgb2| is equal to or higher than the lower limit, the glass transition temperature TgB of the resin (b) as a whole can be set to a desired high temperature. On the other hand, when the absolute value |Tgb1-Tgb2| is in the above range, the solvent resistance, heat resistance, and flexibility of the multilayer optical film can be effectively improved.

〔樹脂(b):任意成分〕
樹脂(b)は、結晶性重合体(b1)及び非晶性重合体(b2)に組み合わせて、更に任意の成分を含みうる。任意の成分としては、例えば、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤等の酸化防止剤;ヒンダードアミン系光安定剤等の光安定剤;石油系ワックス、フィッシャートロプシュワックス、ポリアルキレンワックス等のワックス;ソルビトール系化合物、有機リン酸の金属塩、有機カルボン酸の金属塩、カオリン及びタルク等の核剤;ジアミノスチルベン誘導体、クマリン誘導体、アゾール系誘導体(例えば、ベンゾオキサゾール誘導体、ベンゾトリアゾール誘導体、ベンゾイミダゾール誘導体、及びベンゾチアソール誘導体)、カルバゾール誘導体、ピリジン誘導体、ナフタル酸誘導体、及びイミダゾロン誘導体等の蛍光増白剤;ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、サリチル酸系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤等の紫外線吸収剤;着色剤;難燃剤;難燃助剤;帯電防止剤;可塑剤;近赤外線吸収剤;滑剤;タルク、シリカ、炭酸カルシウム、ガラス繊維等の無機充填材;などが挙げられる。任意の成分は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。任意の成分の量は、本発明の効果を著しく損なわない範囲で適宜定めうる。任意の成分の量は、例えば、多層光学フィルムの全光線透過率を85%以上に維持できる範囲でありうる。
[Resin (b): optional component]
The resin (b) may further contain an optional component in combination with the crystalline polymer (b1) and the amorphous polymer (b2). Examples of optional components include antioxidants such as phenol-based antioxidants, phosphorus-based antioxidants, and sulfur-based antioxidants; light stabilizers such as hindered amine-based light stabilizers; petroleum waxes, Fischer-Tropsch waxes, Waxes such as polyalkylene waxes; nucleating agents such as sorbitol compounds, metal salts of organic phosphoric acids, metal salts of organic carboxylic acids, kaolin and talc; diaminostilbene derivatives, coumarin derivatives, azole derivatives (e.g., benzoxazole derivatives, Fluorescent whitening agents such as benzotriazole derivatives, benzimidazole derivatives, and benzothiazole derivatives), carbazole derivatives, pyridine derivatives, naphthalic acid derivatives, and imidazolone derivatives; benzophenone-based ultraviolet absorbers, salicylic acid-based ultraviolet absorbers, benzotriazole-based UV absorbers and other ultraviolet absorbing agents; colorants; flame retardants; flame retardant assistants; antistatic agents; plasticizers; near infrared absorbing agents; lubricants; inorganic fillers such as talc, silica, calcium carbonate, and glass fiber; etc. Examples include: The optional components may be used alone or in combination of two or more kinds in any ratio. The amount of the optional components may be appropriately determined within a range that does not significantly impair the effects of the present invention. The amount of any optional component can be, for example, in a range that maintains the total light transmittance of the multilayer optical film at 85% or greater.

〔樹脂(b)の特性〕
樹脂(b)は、下記式(2)を満たすガラス転移温度TgBを有する。
110℃<TgB<140℃ (2)
詳細には、樹脂(b)のガラス転移温度TgBは、110℃より高く、好ましくは115℃より高く、特に好ましくは120℃以上であり、また、140℃未満、好ましくは135℃未満、特に好ましくは130℃以下である。
[Characteristics of Resin (b)]
The resin (b) has a glass transition temperature TgB that satisfies the following formula (2).
110℃<TgB<140℃ (2)
Specifically, the glass transition temperature TgB of resin (b) is higher than 110°C, preferably higher than 115°C, particularly preferably 120°C or higher, and is lower than 140°C, preferably lower than 135°C, particularly preferably 130°C or lower.

樹脂(b)のガラス転移温度TgBは、例えば、結晶性重合体(b1)の種類及び量、並びに、非晶性重合体(b2)の種類及び量を調整することによって、調整しうる。 The glass transition temperature TgB of resin (b) can be adjusted, for example, by adjusting the type and amount of crystalline polymer (b1) and the type and amount of amorphous polymer (b2).

樹脂(b)のガラス転移温度TgBは、上述した重合体のガラス転移温度の測定方法と同じ方法によって測定できる。 The glass transition temperature TgB of resin (b) can be measured by the same method as that for measuring the glass transition temperature of the polymer described above.

樹脂(b)は、下記式(3)を満たす冷結晶化温度TcBを有する。
180℃<TcB<235℃ (3)
詳細には、樹脂(b)の冷結晶化温度TcBは、180℃より高く、好ましくは185℃より高く、特に好ましくは190℃以上であり、通常235℃未満、好ましくは230℃未満、特に好ましくは225℃未満である。
The resin (b) has a cold crystallization temperature TcB that satisfies the following formula (3).
180℃<TcB<235℃ (3)
In detail, the cold crystallization temperature TcB of the resin (b) is higher than 180°C, preferably higher than 185°C, particularly preferably 190°C or higher, and is usually lower than 235°C, preferably lower than 230°C, particularly preferably lower than 225°C.

樹脂(b)の冷結晶化温度TcBは、例えば、結晶性重合体(b1)の種類及び量、並びに、非晶性重合体(b2)の種類及び量を調整することによって、調整できる。 The cold crystallization temperature TcB of resin (b) can be adjusted, for example, by adjusting the type and amount of crystalline polymer (b1) and the type and amount of amorphous polymer (b2).

樹脂(b)の冷結晶化温度TcBは、以下の方法によって測定できる。まず、樹脂(b)を、加熱によって融解させ、融解した樹脂(b)をドライアイスで急冷する。続いて、この樹脂(b)を試験体として用いて、示差走査熱量計(DSC)を用いて、10℃/分の昇温速度(昇温モード)で、樹脂(b)の冷結晶化温度TcBを測定しうる。この測定方法では、冷結晶化温度TcBは、昇温過程における発熱ピークのピークトップの温度として得ることができる。 The cold crystallization temperature TcB of resin (b) can be measured by the following method. First, resin (b) is melted by heating, and the melted resin (b) is rapidly cooled with dry ice. Next, using this resin (b) as a test specimen, the cold crystallization temperature TcB of resin (b) can be measured using a differential scanning calorimeter (DSC) at a heating rate of 10°C/min (heating mode). In this measurement method, the cold crystallization temperature TcB can be obtained as the temperature at the top of the exothermic peak during the heating process.

樹脂(b)が上述した式(2)を満たすガラス転移温度TgB及び式(3)を満たす冷結晶化温度TcBを有する場合に、得られる多層光学フィルムは高い耐溶媒性を有するものとすることができ、且つ多層フィルムの製造の工程における不具合の発生を抑制することができる。 When resin (b) has a glass transition temperature TgB that satisfies the above-mentioned formula (2) and a cold crystallization temperature TcB that satisfies the above-mentioned formula (3), the resulting multilayer optical film can have high solvent resistance and can suppress the occurrence of defects in the manufacturing process of the multilayer film.

樹脂(b)のガラス転移温度TgBと結晶性重合体(b1)のガラス転移温度Tgb1との差の絶対値|TgB-Tgb1|は、特定の範囲にあることが好ましい。具体的には、絶対値|TgB-Tgb1|は、好ましくは3℃以上、より好ましくは6℃以上、特に好ましくは10℃以上であり、好ましくは45℃以下、より好ましくは40℃以下、特に好ましくは35℃以下である。絶対値|TgB-Tgb1|が前記の範囲にある場合、多層光学フィルムの耐溶媒性及び耐熱性の両方を効果的に高めることができる。 The absolute value of the difference between the glass transition temperature TgB of the resin (b) and the glass transition temperature Tgb1 of the crystalline polymer (b1), |TgB-Tgb1|, is preferably within a specific range. Specifically, the absolute value |TgB-Tgb1| is preferably 3°C or higher, more preferably 6°C or higher, particularly preferably 10°C or higher, and is preferably 45°C or lower, more preferably 40°C or lower, particularly preferably 35°C or lower. When the absolute value |TgB-Tgb1| is within the above range, both the solvent resistance and heat resistance of the multilayer optical film can be effectively increased.

樹脂(b)のガラス転移温度TgBと非晶性重合体(b2)のガラス転移温度Tgb2との差の絶対値|TgB-Tgb2|は、特定の範囲にあることが好ましい。具体的には、絶対値|TgB-Tgb2|は、好ましくは20℃以上、より好ましくは25℃以上、特に好ましくは30℃以上であり、好ましくは80℃以下、より好ましくは70℃以下、特に好ましくは60℃以下である。絶対値|TgB-Tgb2|が前記の範囲にある場合、多層光学フィルムの耐溶媒性及び耐熱性の両方を効果的に高めることができる。 The absolute value of the difference between the glass transition temperature TgB of the resin (b) and the glass transition temperature Tgb2 of the amorphous polymer (b2), |TgB-Tgb2|, is preferably within a specific range. Specifically, the absolute value |TgB-Tgb2| is preferably 20°C or higher, more preferably 25°C or higher, particularly preferably 30°C or higher, and is preferably 80°C or lower, more preferably 70°C or lower, particularly preferably 60°C or lower. When the absolute value |TgB-Tgb2| is within the above range, both the solvent resistance and heat resistance of the multilayer optical film can be effectively increased.

樹脂(b)は、融点Tmbを有する。樹脂(b)の融点Tmbの範囲は、好ましくは200℃以上、より好ましくは230℃以上、特に好ましくは240℃以上であり、好ましくは290℃以下である。樹脂(b)が前記範囲の融点Tmbを有する場合、多層光学フィルムの耐溶媒性及び耐熱性の両方を効果的に高めることができる。 Resin (b) has a melting point Tmb. The melting point Tmb of resin (b) is preferably in the range of 200°C or higher, more preferably 230°C or higher, particularly preferably 240°C or higher, and preferably 290°C or lower. When resin (b) has a melting point Tmb in the above range, it is possible to effectively increase both the solvent resistance and heat resistance of the multilayer optical film.

樹脂(b)の融点Tmbは、例えば、上述した重合体の融点の測定方法と同じ方法によって測定できる。 The melting point Tmb of resin (b) can be measured, for example, by the same method as the method for measuring the melting point of the polymer described above.

〔B層〕
B層における樹脂(b)は、結晶性重合体(b1)を含むため、結晶化した状態となり得る。しかしながらガラス転移温度TgBなどの所望の要件を満たし、且つ本発明の多層光学フィルムとして成形された状態の樹脂(b)は、多くの場合、B層において非晶状態で存在する。結晶化の有無は、本願実施例で示す条件によるTEM観察により判定しうる。観察した切片の中に球晶構造又はコンストラストの差が見出された場合は結晶化している状態であると判定され、見出されない場合は非晶状態であると判定される。
[Layer B]
Resin (b) in layer B may be in a crystallized state because it contains crystalline polymer (b1). However, resin (b) that satisfies the desired requirements such as glass transition temperature TgB and is molded into the multilayer optical film of the present invention is often in an amorphous state in layer B. The presence or absence of crystallization can be determined by TEM observation under the conditions shown in the examples of the present application. If a spherulite structure or difference in contrast is found in the observed slice, it is determined to be in a crystallized state, and if not, it is determined to be in an amorphous state.

B層において樹脂(b)は多くの場合非晶状態であり、非晶状態である樹脂(b)はヘイズの発現性が低い一方、位相差の発現性も低い傾向がある。そのため、多層光学フィルムに位相差を発現させる観点からは、多層光学フィルムにおけるB層のそれぞれの厚みが、ある程度以上薄いことが好ましい。それぞれのB層の厚みは、好ましくは10μm以下、より好ましくは9μm以下である。B層の厚みの下限は、特に限定されないが、耐溶媒性を有効に発現させる観点から、3μm以上としうる。 In the B layer, the resin (b) is often in an amorphous state, and the resin (b) in an amorphous state tends to exhibit low haze while also exhibiting low retardation. Therefore, from the viewpoint of exhibiting retardation in the multilayer optical film, it is preferable that the thickness of each of the B layers in the multilayer optical film is thin to a certain degree. The thickness of each B layer is preferably 10 μm or less, more preferably 9 μm or less. The lower limit of the thickness of the B layer is not particularly limited, but may be 3 μm or more from the viewpoint of effectively exhibiting solvent resistance.

〔樹脂(a):非晶性重合体(a)〕
A層を構成する樹脂(a)の成分である非晶性重合体(a)の例としては、上に述べた非晶性重合体(b2)の例と同じものが挙げられる。本発明の多層光学フィルムにおいて、非晶性重合体(a)と非晶性重合体(b2)とは、同じものであってもよく異なっていてもよい。
[Resin (a): Amorphous polymer (a)]
Examples of the amorphous polymer (a) which is a component of the resin (a) constituting the layer A include the same as the examples of the amorphous polymer (b2) described above. In the multilayer optical film of the present invention, the amorphous polymer (a) and the amorphous polymer (b2) may be the same or different.

樹脂(a)は、非晶性重合体(a)に加えて任意成分を含みうる。かかる任意成分の例及びその量の例としては、樹脂(b)のそれらの例と同じものが挙げられる。樹脂(a)は、非晶性重合体(a)を主成分とするため、融点を有しない。融点を有しないことは、上に述べた重合体の融点の測定方法によって融点が観測されないことによって確認しうる。 Resin (a) may contain optional components in addition to amorphous polymer (a). Examples of such optional components and the amounts thereof are the same as those for resin (b). Resin (a) does not have a melting point because it is mainly composed of amorphous polymer (a). The fact that it does not have a melting point can be confirmed by the fact that no melting point is observed using the method for measuring the melting point of a polymer described above.

樹脂(a)のガラス転移温度TgAは、樹脂(b)のガラス転移温度TgBとの関係において、下記式(1)を満たす。
TgA-TgB≦20℃ (1)
TgA-TgBの値は、20℃以下であり、好ましくは15℃以下である。本発明者が見出したところによれば、TgA-TgBの値がかかる上限以下であることにより、多層光学フィルムを、高品質な状態で容易に製造しうるものとすることが可能となる。具体的には、樹脂を溶融押出により製膜する際の冷却ロール上での厚みムラの発生、及び延伸前のフィルムを延伸の工程に供する際の破断の発生といった不所望な現象を、効果的に抑制することができる。したがって、高い耐溶媒性などの、B層を表層に有することによる利点を享受しながら、且つ高品質な状態で容易に製造することができる多層光学フィルムを実現することができる。
The glass transition temperature TgA of the resin (a) and the glass transition temperature TgB of the resin (b) satisfy the following formula (1).
TgA-TgB≦20℃ (1)
The value of TgA-TgB is 20° C. or less, and preferably 15° C. or less. According to the findings of the present inventors, when the value of TgA-TgB is equal to or less than the upper limit, it becomes possible to easily produce a multilayer optical film in a high quality state. Specifically, it is possible to effectively suppress undesirable phenomena such as the occurrence of uneven thickness on a cooling roll when a resin is formed into a film by melt extrusion, and the occurrence of breakage when a film before stretching is subjected to a stretching step. Therefore, it is possible to realize a multilayer optical film that can be easily produced in a high quality state while enjoying the advantages of having a B layer as a surface layer, such as high solvent resistance.

TgA-TgBの値の下限は特に限定されないが、通常は-10℃以上、好ましくは-5℃以上としうる。TgA-TgBの値がかかる下限以上であることにより、多層樹脂フィルムの使用時の耐熱性と耐溶媒性とを両立させることができる。 The lower limit of the TgA-TgB value is not particularly limited, but it can usually be -10°C or higher, and preferably -5°C or higher. By having the TgA-TgB value be equal to or higher than this lower limit, it is possible to achieve both heat resistance and solvent resistance during use of the multilayer resin film.

樹脂(a)のガラス転移温度TgA自体は特に限定されないが、多層光学フィルム使用時の耐熱性を高める観点から、TgAは高いことが好ましい。一方、取扱いの容易性などの観点から、TgAはある程度以上低いことが好ましい。具体的には、TgAは、好ましくは105℃以上、より好ましくは110℃以上であり、一方好ましくは145℃以下、より好ましくは140℃以下である。樹脂(a)のガラス転移温度TgAは、例えば、結晶性重合体(a)の種類を適宜選択することによって、調整しうる。樹脂(a)のガラス転移温度TgAは、上述した重合体のガラス転移温度の測定方法と同じ方法によって測定しうる。 The glass transition temperature TgA of the resin (a) itself is not particularly limited, but from the viewpoint of increasing the heat resistance when the multilayer optical film is used, it is preferable that the TgA is high. On the other hand, from the viewpoint of ease of handling, it is preferable that the TgA is lower to a certain degree. Specifically, the TgA is preferably 105°C or higher, more preferably 110°C or higher, and is preferably 145°C or lower, more preferably 140°C or lower. The glass transition temperature TgA of the resin (a) can be adjusted, for example, by appropriately selecting the type of crystalline polymer (a). The glass transition temperature TgA of the resin (a) can be measured by the same method as the method for measuring the glass transition temperature of the polymer described above.

〔A層〕
A層の厚みは、特に限定されないが、多層光学フィルムとしての位相差を有効に発現させる観点から、ある程度以上の厚みがあることが好ましい。A層の厚みの下限は、好ましくは10μm以上、より好ましくは20μm以上としうる。一方、多層光学フィルムを備える装置の薄型化などの観点から、A層の厚みの上限は、好ましくは160μm以下、より好ましくは150μm以下としうる。
[Layer A]
The thickness of the A layer is not particularly limited, but from the viewpoint of effectively expressing the retardation as a multilayer optical film, it is preferable that the thickness is at least a certain level. The lower limit of the thickness of the A layer is preferably 10 μm or more, more preferably 20 μm or more. On the other hand, from the viewpoint of thinning the device equipped with the multilayer optical film, the upper limit of the thickness of the A layer is preferably 160 μm or less, more preferably 150 μm or less.

〔多層光学フィルムの特性〕
本発明の多層光学フィルムは、優れた耐溶媒性を有することができる。例えば、多層光学フィルムが屈曲した状態において、屈曲部にn-ヘキサンを滴下しても、容易に破断が生じないフィルムとしうる。
[Properties of multilayer optical films]
The multilayer optical film of the present invention can have excellent solvent resistance, for example, the multilayer optical film can be a film that does not easily break even when n-hexane is dropped onto the bent portion in a bent state.

本発明の多層光学フィルムは、A層を構成する樹脂(a)のガラス転移温度TgA等を適切な範囲とすることにより、優れた耐熱性を有することができる。それにより、多層光学フィルムは、高温環境におけるレターデーションの変化、及び高温環境におけるヘイズの上昇を抑制できる。 The multilayer optical film of the present invention can have excellent heat resistance by setting the glass transition temperature TgA of the resin (a) constituting the A layer within an appropriate range. This allows the multilayer optical film to suppress changes in retardation in high-temperature environments and increases in haze in high-temperature environments.

多層光学フィルムは、A層において容易に高い複屈折を発現させることが可能である。多層光学フィルムは、A層とB層との組み合わせにより、位相差フィルムなどの用途に適した高い複屈折を有し、耐溶媒性に優れ、且つ容易に製造することができるフィルムとすることができる。多層光学フィルムの具体的な複屈折は、好ましくは0.00200以上、より好ましくは0.00205以上、特に好ましくは0.00210以上である。複屈折Δnの上限は、特に制限は無く、例えば、0.01000以下、0.00800以下などでありうる。 The multilayer optical film can easily exhibit high birefringence in the A layer. By combining the A layer and the B layer, the multilayer optical film can be made into a film that has high birefringence suitable for applications such as a retardation film, has excellent solvent resistance, and can be easily manufactured. The specific birefringence of the multilayer optical film is preferably 0.00200 or more, more preferably 0.00205 or more, and particularly preferably 0.00210 or more. There is no particular limit to the upper limit of the birefringence Δn, and it can be, for example, 0.01000 or less, 0.00800 or less, etc.

多層光学フィルムは、その用途に適した面内レターデーションを有しうる。例えば、測定波長590nmにおける多層光学フィルムの面内レターデーションReは、好ましくは30nm以上、より好ましくは40nm以上、特に好ましくは50nm以上であり、好ましくは300nm以下、より好ましくは290nm以下、特に好ましくは280nm以下である。 The multilayer optical film may have an in-plane retardation suitable for its application. For example, the in-plane retardation Re of the multilayer optical film at a measurement wavelength of 590 nm is preferably 30 nm or more, more preferably 40 nm or more, particularly preferably 50 nm or more, and is preferably 300 nm or less, more preferably 290 nm or less, particularly preferably 280 nm or less.

多層光学フィルムは、その用途に適した厚み方向のレターデーションを有しうる。例えば、測定波長590nmにおける多層光学フィルムの厚み方向のレターデーションRthは、好ましくは0nm以上、より好ましくは5nm以上、特に好ましくは10nm以上であり、好ましくは300nm以下、より好ましくは250nm以下、特に好ましくは200nm以下である。 The multilayer optical film can have a thickness direction retardation suitable for its application. For example, the thickness direction retardation Rth of the multilayer optical film at a measurement wavelength of 590 nm is preferably 0 nm or more, more preferably 5 nm or more, particularly preferably 10 nm or more, and is preferably 300 nm or less, more preferably 250 nm or less, particularly preferably 200 nm or less.

多層光学フィルムの面内レターデーション及び厚み方向のレターデーションは、位相差計(AXOMETRICS社製「AxoScanOPMF-1」)により測定しうる。 The in-plane retardation and thickness direction retardation of the multilayer optical film can be measured using a phase difference meter (AxoScan OPMF-1 manufactured by AXOMETRICS).

多層光学フィルムは、高い透明性を有することが好ましい。多層光学フィルムの具体的な全光線透過率は、好ましくは80%以上、より好ましくは85%以上、特に好ましくは88%以上である。フィルムの全光線透過率は、紫外・可視分光計を用いて、波長400nm~700nmの範囲で測定しうる。 It is preferable that the multilayer optical film has high transparency. The specific total light transmittance of the multilayer optical film is preferably 80% or more, more preferably 85% or more, and particularly preferably 88% or more. The total light transmittance of the film can be measured in the wavelength range of 400 nm to 700 nm using an ultraviolet-visible spectrometer.

多層光学フィルムは、小さいヘイズを有することが好ましい。多層光学フィルムのヘイズは、好ましくは2.0%以下、より好ましくは1.0%以下、特に好ましくは0.5%以下であり、理想的には0.0%である。 It is preferred that the multilayer optical film has a small haze. The haze of the multilayer optical film is preferably 2.0% or less, more preferably 1.0% or less, particularly preferably 0.5% or less, and ideally 0.0%.

多層光学フィルムは、枚葉のフィルムであってもよく、長尺の形状を有する長尺フィルムであってもよい。 The multilayer optical film may be a sheet of film or a long film having a long shape.

多層光学フィルムの全体の厚みは、多層光学フィルムの用途に応じて適切に設定できるが、多層光学フィルムを備える装置の薄型化などの観点から、通常は薄いことが望ましい。多層光学フィルムの具体的な厚みは、好ましくは10μm以上、より好ましくは20μm以上であり、好ましくは160μm以下、より好ましくは150μm以下である。 The overall thickness of the multilayer optical film can be appropriately set depending on the application of the multilayer optical film, but it is usually desirable for the thickness to be thin in order to reduce the thickness of the device equipped with the multilayer optical film. The specific thickness of the multilayer optical film is preferably 10 μm or more, more preferably 20 μm or more, and is preferably 160 μm or less, more preferably 150 μm or less.

多層光学フィルムにおけるA層の厚み/B層の合計厚みの比率は、所望の光学的性能及び耐溶媒性などの特性を得られるよう適宜調整しうる。当該比率は、具体的には5~25としうる。 The ratio of the thickness of layer A to the total thickness of layer B in the multilayer optical film can be adjusted appropriately to obtain the desired optical performance and properties such as solvent resistance. Specifically, this ratio can be 5 to 25.

多層光学フィルムにおいては、A層及びB層、接着層などの他の層を介さずに直接接し、層間密着した構成を採り得る。特に、樹脂(a)が非晶性重合体(a)として脂環式構造含有重合体を含み、且つ樹脂(b)が、結晶性重合体(b1)及び非晶性重合体(b2)の一方または両方として脂環式構造含有重合体を含む場合、これらの親和性を高めることができ、他の層を介さずに、層間密着を得ることができる。層間密着性の有無は、本願実施例で示す条件による引裂試験により判定しうる。引裂試験で引裂いた試料の裂け目において、層間の界面での剥離が視認されなかった場合、層間密着性ありと判定し、層間の界面での剥離が視認された場合、層間密着性なしと判定しうる。 In the multilayer optical film, the layers A and B may be in direct contact with each other without the intervention of other layers such as an adhesive layer, and may be configured to be in close contact with each other. In particular, when the resin (a) contains an alicyclic structure-containing polymer as the amorphous polymer (a) and the resin (b) contains an alicyclic structure-containing polymer as one or both of the crystalline polymer (b1) and the amorphous polymer (b2), the affinity between them can be increased, and interlayer adhesion can be obtained without the intervention of other layers. The presence or absence of interlayer adhesion can be determined by a tear test under the conditions shown in the examples of this application. When peeling is not visible at the interface between the layers at the tear of the sample torn in the tear test, it can be determined that there is interlayer adhesion, and when peeling is visible at the interface between the layers, it can be determined that there is no interlayer adhesion.

〔多層光学フィルムの製造方法〕
本発明の多層光学フィルムは、下記工程(i)~(ii)を含む製造方法により製造しうる。以下において、当該製造方法を、本発明の多層光学フィルムの製造方法として説明する。本発明の多層光学フィルムの製造方法は、工程(i)~(ii)に加えて、下記工程(iii)をも含みうる。
工程(i):樹脂(a)と、樹脂(b)とを調製する工程。
工程(ii):樹脂(a)及び樹脂(b)を成形して、多層樹脂フィルムを得る工程。
工程(iii):多層樹脂フィルムを、TgA以上の延伸温度にて延伸する工程。
[Method of manufacturing multilayer optical film]
The multilayer optical film of the present invention can be produced by a production method including the following steps (i) to (ii). Hereinafter, this production method will be described as a method for producing the multilayer optical film of the present invention. The method for producing the multilayer optical film of the present invention can also include the following step (iii) in addition to steps (i) to (ii).
Step (i): preparing resin (a) and resin (b).
Step (ii): A step of forming the resin (a) and the resin (b) to obtain a multilayer resin film.
Step (iii): A step of stretching the multilayer resin film at a stretching temperature of TgA or higher.

工程(i)は、上に述べたそれぞれの重合体の製造方法で重合体を合成し、さらに必要に応じて複数の重合体、並びに任意成分を混合することにより行いうる。 Step (i) can be carried out by synthesizing a polymer using the method for producing each of the polymers described above, and then mixing multiple polymers and optional components as necessary.

工程(ii)における成形方法は、特に限定されず既知の各種の成形方法を採用しうる。成形方法の例としては、押出成形法、溶液キャスト法、及びインフレーション成型法が挙げられる。中でも、押出成形法及び溶液キャスト法が好ましく、押出成形法が特に好ましい。 The molding method in step (ii) is not particularly limited, and various known molding methods can be used. Examples of molding methods include extrusion molding, solution casting, and inflation molding. Among these, extrusion molding and solution casting are preferred, and extrusion molding is particularly preferred.

押出成形法による成形では、樹脂(a)及び樹脂(b)の共押出成形を行いうる。具体的には、2種3層の共押出成形を行いうる押出成形装置から、溶融状態の樹脂(a)及び樹脂(b)を共押出して吐出させ、層状の溶融樹脂とし、さらにこれを冷却することにより、共押出成形を行いうる。吐出の際の溶融温度は、好ましくは(TgA+100)℃以上、より好ましくは(TgA+110)℃以上であり、一方好ましくは(TgA+180)℃以下、より好ましくは(TgA+170)℃以下としうる。層状の溶融樹脂が最初に接触する冷却体は特に限定されないが、通常はキャストロールを用いる。このキャストロール温度は、好ましくはTgA-15℃以上であり、好ましくはTgA+5℃以下である。 In the molding by extrusion molding, resin (a) and resin (b) can be co-extruded. Specifically, resin (a) and resin (b) in a molten state are co-extruded and discharged from an extrusion molding device capable of co-extrusion molding of two kinds and three layers, to form a layered molten resin, which is then cooled to perform co-extrusion molding. The melt temperature at the time of discharge is preferably (TgA + 100) ° C or higher, more preferably (TgA + 110) ° C or higher, while it can be preferably (TgA + 180) ° C or lower, more preferably (TgA + 170) ° C or lower. The cooling body that the layered molten resin first comes into contact with is not particularly limited, but a cast roll is usually used. The cast roll temperature is preferably TgA - 15 ° C or higher, and preferably TgA + 5 ° C or lower.

工程(ii)で得られた多層樹脂フィルムは、用途によっては、そのまま、製品たる本発明の多層光学フィルムとしうる。一方、多層光学フィルムとして、大きな位相差を有するフィルムが求められる場合は、工程(iii)を行い、多層フィルムに位相差を付与しうる。この延伸により、樹脂フィルム中の重合体の分子が配向するので、好ましい光学特性を有する多層光学フィルムが得られる。この延伸に際しての延伸温度は、好ましくはTgA℃以上、より好ましくはTgA+5℃以上であり、一方好ましくはTgA+40℃以下、より好ましくはTgA+30℃以下としうる。かかる温度範囲内で延伸を行うことにより、所望の位相差を容易に付与することができる。 Depending on the application, the multilayer resin film obtained in step (ii) can be used as it is as the multilayer optical film of the present invention as a product. On the other hand, when a film having a large phase difference is required as the multilayer optical film, step (iii) can be performed to impart a phase difference to the multilayer film. This stretching orients the polymer molecules in the resin film, so that a multilayer optical film having preferable optical properties can be obtained. The stretching temperature during this stretching is preferably TgA°C or higher, more preferably TgA+5°C or higher, while it can be preferably TgA+40°C or lower, more preferably TgA+30°C or lower. By performing the stretching within this temperature range, the desired phase difference can be easily imparted.

一方、B層における樹脂(b)の結晶化の促進を抑制し、ヘイズの上昇を抑制する観点からは、延伸温度は、樹脂(b)のガラス転移温度TgB及び冷結晶化温度TcBと相対的なある範囲内としうる。具体的には、延伸温度は、好ましくはTgB℃以上、より好ましくはTgB+10℃以上、特に好ましくはTgB+15℃以上であり、一方好ましくはTcB-20℃以下、より好ましくはTcB-25℃以下、特に好ましくはTcB-30℃以下である。 On the other hand, from the viewpoint of suppressing the promotion of crystallization of resin (b) in layer B and suppressing an increase in haze, the stretching temperature can be set within a certain range relative to the glass transition temperature TgB and cold crystallization temperature TcB of resin (b). Specifically, the stretching temperature is preferably TgB°C or higher, more preferably TgB+10°C or higher, and particularly preferably TgB+15°C or higher, while being preferably TcB-20°C or lower, more preferably TcB-25°C or lower, and particularly preferably TcB-30°C or lower.

工程(iii)における延伸倍率は、多層光学フィルムが有するべき光学特性に応じて設定しうる。具体的な延伸倍率は、好ましくは1倍より大きく、より好ましくは1.1倍以上、特に好ましくは1.2倍以上であり、好ましくは5倍以下、より好ましくは4倍以下、特に好ましは3倍以下である。二軸延伸を行う場合、一方の方向への延伸の延伸倍率と他方の方向への延伸の延伸倍率との積で表される全体の延伸倍率が、前記範囲に収まることが好ましい。 The stretching ratio in step (iii) can be set according to the optical properties that the multilayer optical film should have. The specific stretching ratio is preferably greater than 1, more preferably 1.1 or more, particularly preferably 1.2 or more, and is preferably 5 or less, more preferably 4 or less, and particularly preferably 3 or less. When performing biaxial stretching, it is preferable that the overall stretching ratio, which is expressed as the product of the stretching ratio in one direction and the stretching ratio in the other direction, falls within the above range.

前記の延伸の態様は、例えば、1方向に延伸を行う一軸延伸であってもよく、非平行な2方向に延伸を行う二軸延伸であってもよい。また、二軸延伸は、2方向への延伸を同時に行う同時二軸延伸であってもよく、一方の方向への延伸を行った後で他方の方向への延伸を行う逐次二軸延伸であってもよい。 The stretching mode may be, for example, uniaxial stretching, in which stretching is performed in one direction, or biaxial stretching, in which stretching is performed in two non-parallel directions. The biaxial stretching may be simultaneous biaxial stretching, in which stretching is performed in two directions at the same time, or sequential biaxial stretching, in which stretching is performed in one direction and then in the other direction.

多層光学フィルムの製造方法は、前記の工程(i)~(iii)に組み合わせて、更に任意の工程を含んでいてもよい。例えば、多層光学フィルムの製造方法は、工程(iii)で延伸を行う前に、樹脂フィルムに対して予熱処理を施す工程を含んでいてもよい。予熱温度は、好ましくは「延伸温度-40℃」以上、より好ましくは「延伸温度-30℃」以上であり、好ましくは「延伸温度+20℃」以下、より好ましくは「延伸温度+15℃」以下である。 The method for producing a multilayer optical film may further include any step in combination with the above steps (i) to (iii). For example, the method for producing a multilayer optical film may include a step of preheating the resin film before stretching in step (iii). The preheating temperature is preferably at least "stretching temperature -40°C", more preferably at least "stretching temperature -30°C", and is preferably at most "stretching temperature +20°C", more preferably at most "stretching temperature +15°C".

任意の工程の他の例としては、多層光学フィルムをトリミングする工程、及び多層光学フィルムに表面処理を施す工程が挙げられる。 Other examples of optional steps include trimming the multilayer optical film and subjecting the multilayer optical film to a surface treatment.

以下、実施例を示して本発明について具体的に説明する。ただし、本発明は以下に示す実施例に限定されるものではなく、本発明の特許請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施しうる。 The present invention will be specifically described below with reference to examples. However, the present invention is not limited to the examples shown below, and may be modified as desired without departing from the scope of the claims of the present invention and the scope of equivalents thereto.

以下の説明において、量を表す「%」及び「部」は、別に断らない限り、重量基準である。また、以下に説明する操作は、別に断らない限り、常温常圧(23℃1気圧)大気中の条件において行った。 In the following explanation, the "%" and "parts" used to indicate amounts are by weight unless otherwise specified. In addition, the operations described below were carried out in air at room temperature and normal pressure (23°C and 1 atm) unless otherwise specified.

〔評価方法〕
(重合体の重量平均分子量Mw及び数平均分子量Mnの測定方法)
重合体の重量平均分子量Mw及び数平均分子量Mnは、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー(GPC)システム(東ソー社製「HLC-8320」)を用いて、ポリスチレン換算値として測定した。測定の際、カラムとしてはHタイプカラム(東ソー社製)を用い、溶媒としてはテトラヒドロフランを用いた。また、測定時の温度は、40℃であった。
[Evaluation method]
(Method of measuring weight average molecular weight Mw and number average molecular weight Mn of polymer)
The weight average molecular weight Mw and number average molecular weight Mn of the polymer were measured as polystyrene equivalent values using a gel permeation chromatography (GPC) system ("HLC-8320" manufactured by Tosoh Corporation). In the measurement, an H-type column (manufactured by Tosoh Corporation) was used as the column, and tetrahydrofuran was used as the solvent. The temperature during the measurement was 40°C.

(重合体の水素化率の測定方法)
重合体の水素化率は、オルトジクロロベンゼン-d4を溶媒として、145℃で、H-NMRにより測定した。
(Method of measuring hydrogenation rate of polymer)
The hydrogenation rate of the polymer was measured by 1 H-NMR at 145° C. using orthodichlorobenzene-d4 as a solvent.

(融点、ガラス転移温度及び冷結晶化温度の測定方法)
樹脂及びその製造過程の中間体の融点、ガラス転移温度(TgA及びTgB等)、並びに樹脂(b)の冷結晶化温度TcBの測定は、以下の通り行った。
まず、樹脂等の測定対象の試料を、加熱によって融解させ、融解した試料をドライアイスで急冷した。続いて、この試料について、示差走査熱量計(DSC)を用いて、10℃/分の昇温速度(昇温モード)で、試料のガラス転移温度及び冷結晶化温度を測定した。冷結晶化温度としては、昇温過程における発熱ピークのピークトップの値を採った。
(Measuring methods of melting point, glass transition temperature and cold crystallization temperature)
The melting points, glass transition temperatures (TgA, TgB, etc.) of the resin and intermediates in the production process thereof, and the cold crystallization temperature TcB of the resin (b) were measured as follows.
First, a sample to be measured, such as a resin, was melted by heating, and the melted sample was quenched with dry ice. The glass transition temperature and cold crystallization temperature of the sample were then measured at a heating rate of 10°C/min (heating mode) using a differential scanning calorimeter (DSC). The cold crystallization temperature was determined by the value at the top of the exothermic peak during the heating process.

(重合体のラセモ・ダイアッドの割合の測定方法)
重合体のラセモ・ダイアッドの割合の測定は以下のようにして行った。オルトジクロロベンゼン-dを溶媒として、200℃で、inverse-gated decoupling法を適用して、重合体の13C-NMR測定を行った。この13C-NMR測定の結果において、オルトジクロロベンゼン-dの127.5ppmのピークを基準シフトとして、メソ・ダイアッド由来の43.35ppmのシグナルと、ラセモ・ダイアッド由来の43.43ppmのシグナルとを同定した。これらのシグナルの強度比に基づいて、重合体のラセモ・ダイアッドの割合を求めた。
(Method for measuring the ratio of racemo-dyads in polymers)
The ratio of the racemo dyad in the polymer was measured as follows. The polymer was subjected to 13 C-NMR measurement by applying the inverse-gated decoupling method at 200°C using orthodichlorobenzene- d4 as a solvent. In the results of this 13 C-NMR measurement, a signal at 43.35 ppm derived from the meso dyad and a signal at 43.43 ppm derived from the racemo dyad were identified, with the peak at 127.5 ppm of orthodichlorobenzene- d4 as the reference shift. The ratio of the racemo dyad in the polymer was calculated based on the intensity ratio of these signals.

(フィルムの厚みの測定方法)
フィルム全体の厚みは、接触式厚さ計(MITUTOYO社製 Code No.543 -390)を用いて測定した。各層の厚みは、ミクロトームを使用し、ガラス刃で断面出しを実施し、断面を透過顕微鏡で観察することにより求めた。透過顕微鏡での観察が困難である場合は、偏光顕微鏡を用い、2枚の偏光板をクロスニコル(黒配置)にして断面を観察した。
(Method of measuring film thickness)
The thickness of the entire film was measured using a contact thickness meter (Code No. 543-390, manufactured by MITUTOYO Corporation). The thickness of each layer was measured by cutting a cross section with a glass blade using a microtome and observing the cross section under a transmission microscope. When observation under a transmission microscope was difficult, a polarizing microscope was used to observe the cross section with two polarizing plates in crossed Nicols (black arrangement).

(Re、Rth、Δnの測定方法)
フィルムの面内レターデーションRe及び厚み方向のレターデーションRthは、AXOMETRICS社製「AxoScan OPMF-1」により測定した。この際、測定は、波長590nmで行った。得られたReの値と、別途測定したフィルムの厚みの値から、Δnを下記式により算出した。
Δn=Re[nm]/d[nm]
(Method of measuring Re, Rth, and Δn)
The in-plane retardation Re and the thickness direction retardation Rth of the film were measured using an "AxoScan OPMF-1" manufactured by AXOMETRICS. The measurement was performed at a wavelength of 590 nm. From the obtained Re value and the thickness value of the film measured separately, Δn was calculated according to the following formula.
Δn=Re[nm]/d[nm]

(耐溶媒性試験)
評価対象のフィルムを切り出し、長手方向(切り出し前の長尺のフィルムであった時点での長手方向に対応する方向)×幅方向(切り出し前の長尺のフィルムであった時点での幅方向に対応する方向)の寸法が5cm×2cmである試料を得た。
(Solvent resistance test)
The film to be evaluated was cut out to obtain a sample having dimensions of 5 cm x 2 cm in the longitudinal direction (the direction corresponding to the longitudinal direction of the long film before cutting) x width direction (the direction corresponding to the width direction of the long film before cutting).

屈曲の軸方向(平坦な試料の屈曲によって生じる部分円筒形の形状の、円筒軸方向、以下において同じ)が試料の幅方向となり、試料の長手方向の端部が重なるよう、試料を屈曲させ、長手方向端部をクリップ(市販のダブルクリップ(binder clip))で把持し、試料を図1に示す形状に設置した。図1において、試料100は、その長手方向端部101が重なった状態でクリップ200により把持され、その結果屈曲部102が形成されている。クリップ200による把持の位置は、屈曲部102の直径が5mmとなるよう調整した。ここで屈曲部102の直径とは、矢印A1で示される長さであり、これは、試料100の長手方向端部101の延長方向Lvと直交する方向Lhにおける、屈曲部の直径である。 The sample was bent so that the axial direction of bending (the cylindrical axial direction of the partially cylindrical shape created by bending a flat sample, the same applies below) was the width direction of the sample, and the longitudinal ends of the sample overlapped. The longitudinal ends were held with clips (commercially available double clips (binder clips)) and the sample was placed in the shape shown in Figure 1. In Figure 1, the sample 100 was held by clip 200 with its longitudinal ends 101 overlapping, resulting in the formation of a bent portion 102. The position of the clip 200 was adjusted so that the diameter of the bent portion 102 was 5 mm. Here, the diameter of the bent portion 102 is the length indicated by the arrow A1, which is the diameter of the bent portion in the direction Lh perpendicular to the extension direction Lv of the longitudinal end 101 of the sample 100.

試料100の端部101が下側、頂部103が上側となるよう試料100を載置し、頂部103の位置にn-ヘキサンをスポイトで1滴垂らして30秒保持し、その後、クリップ200から試料100を取り外し、試料100を以下の評価基準に従って評価した。
良:試料の表面にクラックが存在しないか、存在していても厚み方向に貫通しないクラックである。
不良:試料厚み方向に貫通するクラックが存在する(試料が破断している場合を含む)。
Sample 100 was placed so that end 101 of sample 100 was on the bottom side and top 103 was on the top side, and one drop of n-hexane was dropped onto the position of top 103 using a dropper and held there for 30 seconds. Thereafter, sample 100 was removed from clip 200, and sample 100 was evaluated according to the following evaluation criteria.
Good: There are no cracks on the surface of the sample, or even if there are cracks, they do not penetrate through the thickness direction.
Poor: A crack exists that penetrates the sample in the thickness direction (including cases where the sample is broken).

(製膜性の評価)
評価対象のフィルムの長手方向(切り出し前の長尺のフィルムであった時点での長手方向に対応する方向)に沿って、3cmピッチで10点の厚みを接触式厚さ計(MITUTOYO社製 Code No.543 -390)を用いて測定し、最大厚みと最小厚みの差を求めた。最大厚みと最小厚みの差が3μm以下の場合、製膜性が良好であると判定される。
(Evaluation of film-forming properties)
The thickness of the film to be evaluated was measured at 10 points at 3 cm intervals along the longitudinal direction (the direction corresponding to the longitudinal direction of the long film before cutting) using a contact thickness meter (manufactured by MITUTOYO Corporation, Code No. 543-390), and the difference between the maximum thickness and the minimum thickness was determined. When the difference between the maximum thickness and the minimum thickness is 3 μm or less, the film formability is judged to be good.

(結晶化の確認)
下記条件でTEM観察を行い、観察した切片の中に、球晶構造又はコンストラストの差が見出された場合、「結晶化している」と判定した。
前処理:常温ミクロトーム(ダイヤモンドナイフ)で断面から切削、試料送り50nm、切片化後Ru蒸気染色40秒、2分。
観察した切片の枚数は6枚。
TEM装置:日立HT7700。
加速電圧:100kV。
(Confirmation of crystallization)
TEM observation was performed under the following conditions, and when a spherulitic structure or difference in contrast was found in the observed slice, it was judged to be "crystallized."
Pretreatment: Cut the cross section using a room temperature microtome (diamond knife), feed the sample 50 nm, and after sectioning, stain with Ru vapor for 40 seconds and 2 minutes.
Six sections were observed.
TEM equipment: Hitachi HT7700.
Acceleration voltage: 100 kV.

(層間密着性)
評価対象のフィルムを切り出し、長手方向(切り出し前の長尺のフィルムであった時点での長手方向に対応する方向)×幅方向(切り出し前の長尺のフィルムであった時点での幅方向に対応する方向)の寸法が150cm×50cmである試料を得た。
試料の長手方向の一方の端部から、長手方向に沿って、カッターナイフで75±1mmのスリットを入れた。スリットの位置は、試料の幅方向端部から25±1mmの範囲内とした。
(Interlayer adhesion)
The film to be evaluated was cut out to obtain a sample having dimensions of 150 cm x 50 cm in the longitudinal direction (the direction corresponding to the longitudinal direction of the long film before cutting) x width direction (the direction corresponding to the width direction of the long film before cutting).
A slit of 75±1 mm was made in the longitudinal direction of the sample with a cutter knife from one end in the longitudinal direction, the position of the slit being within a range of 25±1 mm from the end in the width direction of the sample.

計測スタンド((株)イマダ製、製品名「電動計測スタンド MX-500N-L550-E」)と、それに取り付けたフォースゲージ((株)イマダ製、製品名「ZP-5N」)により、試料の引裂試験を行った。図2に示す通り、フォースゲージ側の把持具310及び計測スタンド側の把持具320のそれぞれは、一対の把持用の平坦な板(311及び312、並びに321及び322)を備え、対向する板の内側の把持面において試料の端部を把持する形状を有するものであった。測定開始時点での計測スタンド側把持具320の上端とフォースゲージ側把持具310の下端との距離は、75mmに調整した。 A tear test was performed on the samples using a test stand (manufactured by Imada Co., Ltd., product name "Motorized Test Stand MX-500N-L550-E") and a force gauge (manufactured by Imada Co., Ltd., product name "ZP-5N") attached to it. As shown in Figure 2, the force gauge side gripper 310 and the test stand side gripper 320 each had a pair of flat gripping plates (311 and 312, and 321 and 322) and were shaped to grip the end of the sample with the inner gripping surfaces of the opposing plates. At the start of the measurement, the distance between the upper end of the test stand side gripper 320 and the lower end of the force gauge side gripper 310 was adjusted to 75 mm.

スリットSにより2つに分割された試料400の端部の1つ410を、試料幅方向に平行な軸方向で上向きに屈曲させ、フォースゲージ側把持具310で把持した。試料400の分割された端部のもう1つ420を、試料幅方向に平行な軸方向で下向きに屈曲させ、計測スタンド側把持具320で把持した。挟み込んだ端部の長さは、それぞれ30mmとした。端部410及び420は、鉛直な同一平面内に位置し、これらの仮想中心線が同一線状に並ぶよう、把持具310及び320の位置を調整した。端部410の仮想中心線とは、試料を分割しない状態で上向きに屈曲して把持具310で把持した場合を仮想し、当該仮想において試料の把持された部分における、試料の長手方向に沿った、試料の幅方向の中心線である。端部420の仮想中心線とは、試料を分割しない状態で下向きに屈曲して把持具320で把持した場合を仮想し、当該仮想において試料の把持された部分における、試料の長手方向に沿った、試料の幅方向の中心線である。 One end 410 of the sample 400 divided into two by the slit S was bent upward in an axial direction parallel to the sample width direction and held by the force gauge side holding tool 310. The other end 420 of the divided end of the sample 400 was bent downward in an axial direction parallel to the sample width direction and held by the measurement stand side holding tool 320. The length of each of the clamped ends was 30 mm. The ends 410 and 420 were located in the same vertical plane, and the positions of the holding tools 310 and 320 were adjusted so that their virtual center lines were aligned on the same line. The virtual center line of the end 410 is the center line of the sample in the width direction along the longitudinal direction of the sample at the part of the sample that is held in the hypothetical case where the sample is bent upward without being divided and held by the holding tool 310. The imaginary center line of the end 420 is the center line of the sample in the width direction along the longitudinal direction of the sample at the gripped portion of the sample when the sample is bent downward without being divided and gripped by the gripping tool 320.

把持具320を固定する一方、把持具310を、鉛直方向上側に移動速度200mm/minで上昇させ、引裂試験を行った。試料が二つの片に引き裂かれるまで引裂きを行った後、試料を把持具から取り外し目視で観察した。試料の裂け目において、層間の界面での剥離が視認されなかった場合、層間密着性ありと判定し、層間の界面での剥離が視認された場合、層間密着性なしと判定した。 While the gripping tool 320 was fixed, the gripping tool 310 was raised vertically upward at a moving speed of 200 mm/min to perform a tear test. After the sample was torn into two pieces, it was removed from the gripping tool and visually observed. If no peeling was visible at the interface between the layers at the tear in the sample, it was determined that there was interlayer adhesion, and if peeling was visible at the interface between the layers, it was determined that there was no interlayer adhesion.

(ヘイズの測定)
フィルムを切り出して、50mm×50mmの矩形の試料を得た。試料のヘイズを、JIS K7361-1997に準拠して、NDH-7000(日本電色製)を用いて測定した。
(Haze Measurement)
The film was cut out to obtain a rectangular sample of 50 mm x 50 mm, and the haze of the sample was measured using NDH-7000 (manufactured by Nippon Denshoku Co., Ltd.) in accordance with JIS K7361-1997.

〔製造例1:樹脂(b)の製造〕
金属製の耐圧反応器を、充分に乾燥した後、窒素置換した。この金属製耐圧反応器に、シクロヘキサン154.5部、ジシクロペンタジエン(エンド体含有率99%以上)の濃度70%シクロヘキサン溶液42.8部(ジシクロペンタジエンの量として30部)、及び1-ヘキセン1.9部を加え、53℃に加温した。
[Production Example 1: Production of Resin (b)]
A metallic pressure-resistant reactor was thoroughly dried and then purged with nitrogen. 154.5 parts of cyclohexane, 42.8 parts of a 70% cyclohexane solution of dicyclopentadiene (endo isomer content of 99% or more) (30 parts as the amount of dicyclopentadiene), and 1.9 parts of 1-hexene were added to the metallic pressure-resistant reactor, and the reactor was heated to 53°C.

テトラクロロタングステンフェニルイミド(テトラヒドロフラン)錯体0.014部を0.70部のトルエンに溶解し、溶液を調製した。この溶液に、濃度19%のジエチルアルミニウムエトキシド/n-ヘキサン溶液0.061部を加えて10分間攪拌して、触媒溶液を調製した。この触媒溶液を耐圧反応器に加えて、開環重合反応を開始した。その後、53℃を保ちながら4時間反応させて、ジシクロペンタジエンの開環重合体の溶液を得た。得られたジシクロペンタジエンの開環重合体の数平均分子量(Mn)及び重量平均分子量(Mw)は、それぞれ、8,750及び28,100であり、これらから求められる分子量分布(Mw/Mn)は3.21であった。 0.014 parts of tetrachlorotungsten phenylimide (tetrahydrofuran) complex was dissolved in 0.70 parts of toluene to prepare a solution. 0.061 parts of a 19% diethylaluminum ethoxide/n-hexane solution was added to this solution and stirred for 10 minutes to prepare a catalyst solution. This catalyst solution was added to a pressure-resistant reactor to start the ring-opening polymerization reaction. The reaction was then continued for 4 hours while maintaining the temperature at 53°C to obtain a solution of a ring-opened polymer of dicyclopentadiene. The number-average molecular weight (Mn) and weight-average molecular weight (Mw) of the obtained ring-opened polymer of dicyclopentadiene were 8,750 and 28,100, respectively, and the molecular weight distribution (Mw/Mn) calculated from these was 3.21.

得られたジシクロペンタジエンの開環重合体の溶液200部に、停止剤として1,2-エタンジオール0.037部を加えて、60℃に加温し、1時間攪拌して重合反応を停止させた。ここに、ハイドロタルサイト様化合物(協和化学工業社製「キョーワード(登録商標)2000」)を1部加えて、60℃に加温し、1時間攪拌した。その後、濾過助剤(昭和化学工業社製「ラヂオライト(登録商標)#1500」)を0.4部加え、PPプリーツカートリッジフィルター(ADVANTEC東洋社製「TCP-HX」)を用いて吸着剤と溶液を濾別した。 0.037 parts of 1,2-ethanediol was added as a terminator to 200 parts of the resulting solution of ring-opened dicyclopentadiene polymer, and the mixture was heated to 60°C and stirred for 1 hour to terminate the polymerization reaction. 1 part of a hydrotalcite-like compound (Kyowa Chemical Industry Co., Ltd.'s "Kyoward (registered trademark) 2000") was added to the mixture, which was heated to 60°C and stirred for 1 hour. 0.4 parts of a filter aid (Showa Chemical Industry Co., Ltd.'s "Radiolite (registered trademark) #1500") was then added, and the adsorbent and solution were filtered using a PP pleated cartridge filter (Advantec Toyo Co., Ltd.'s "TCP-HX").

濾過後のジシクロペンタジエンの開環重合体の溶液200部(重合体量30部)に、シクロヘキサン100部を加え、クロロヒドリドカルボニルトリス(トリフェニルホスフィン)ルテニウム0.0043部を添加して、水素圧6MPa、180℃で4時間水素化反応を行なった。これにより、結晶性重合体(b1)としての、ジシクロペンタジエンの開環重合体の水素化物を含む反応液が得られた。この反応液は、水素化物が析出してスラリー溶液となっていた。 100 parts of cyclohexane was added to 200 parts of the filtered ring-opening polymer solution (polymer amount 30 parts), and 0.0043 parts of chlorohydridocarbonyltris(triphenylphosphine)ruthenium was added, and a hydrogenation reaction was carried out at a hydrogen pressure of 6 MPa and 180°C for 4 hours. As a result, a reaction liquid containing a hydrogenated product of the ring-opening polymer of dicyclopentadiene was obtained as the crystalline polymer (b1). The reaction liquid was a slurry solution in which the hydrogenated product had precipitated.

前記の反応液に含まれる水素化物と溶液とを、遠心分離器を用いて分離し、60℃で24時間減圧乾燥して、結晶性を有するジシクロペンタジエンの開環重合体の水素化物28.5部を得た。この水素化物の水素化率は99%以上、ガラス転移温度Tgは93℃、融点(Tm)は266℃、ラセモ・ダイアッドの割合は89%であった。 The hydride and the solution contained in the reaction liquid were separated using a centrifuge and dried under reduced pressure at 60°C for 24 hours to obtain 28.5 parts of a crystalline ring-opening polymer of dicyclopentadiene. The hydrogenation rate of this hydride was 99% or more, the glass transition temperature (Tg) was 93°C, the melting point (Tm) was 266°C, and the racemo-dyad ratio was 89%.

得られたジシクロペンタジエンの開環重合体の水素化物100部に、酸化防止剤(テトラキス〔メチレン-3-(3’,5’-ジ-t-ブチル-4’-ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕メタン;BASFジャパン社製「イルガノックス(登録商標)1010」)1.1部を混合後、内径3mmΦのダイ穴を4つ備えた二軸押出し機(製品名「TEM-37B」、東芝機械社製)に投入した。ジシクロペンタジエンの開環重合体の水素化物及び酸化防止剤の混合物を、熱溶融押出し成形によりストランド状の成形した後、ストランドカッターにて細断して、ペレット形状の結晶性樹脂(b1)を得た。前記の二軸押出し機の運転条件は、以下のとおりであった。得られた結晶性樹脂(b1)のガラス転移温度TgB及び冷結晶化温度TcBを測定した。
・バレル設定温度=270~280℃
・ダイ設定温度=250℃
・スクリュー回転数=145rpm
100 parts of the obtained hydrogenated ring-opening polymer of dicyclopentadiene was mixed with 1.1 parts of an antioxidant (tetrakis [methylene-3- (3', 5'-di-t-butyl-4'-hydroxyphenyl) propionate] methane; "Irganox (registered trademark) 1010" manufactured by BASF Japan Ltd.), and then the mixture was put into a twin-screw extruder (product name "TEM-37B", manufactured by Toshiba Machine Co., Ltd.) equipped with four die holes having an inner diameter of 3 mmΦ. The mixture of the hydrogenated ring-opening polymer of dicyclopentadiene and the antioxidant was molded into a strand shape by hot melt extrusion molding, and then chopped with a strand cutter to obtain a pellet-shaped crystalline resin (b1). The operating conditions of the twin-screw extruder were as follows. The glass transition temperature TgB and cold crystallization temperature TcB of the obtained crystalline resin (b1) were measured.
・Barrel temperature setting = 270-280℃
Die set temperature = 250°C
Screw rotation speed = 145 rpm

その後、非晶性重合体(b2)としての樹脂(b2)(ZEONEX790R;日本ゼオン製、ガラス転移温度163℃、融点は観測されず)を準備し、重量比で結晶性樹脂(b1):非晶性樹脂(b2)=45:55となるように重量フィーダーで2軸混錬押出機(L/D=41、φ25mm)に投入し、2軸混錬によりストランド状に成形した後、ストランドカッターにて細断して、ペレット形状の結晶性樹脂(b-I)を得た。前記の2軸押出し機の運転条件は、以下のとおりであった。得られた結晶性樹脂(b-I)のガラス転移温度TgB及び冷結晶化温度TcBを測定した。結晶性樹脂(b-I)の融点は、263℃であった。
・バレル設定温度=275~280℃
・ダイ設定温度=275℃
・スクリュー回転数=200rpm
Thereafter, resin (b2) (ZEONEX790R; manufactured by Zeon Corporation, glass transition temperature 163°C, no melting point was observed) was prepared as the amorphous polymer (b2), and the resin was fed into a twin-screw kneading extruder (L/D = 41, φ25mm) with a weight feeder so that the weight ratio of crystalline resin (b1): amorphous resin (b2) was 45:55. The resin was formed into a strand shape by twin-screw kneading, and then chopped with a strand cutter to obtain a pellet-shaped crystalline resin (b-I). The operating conditions of the twin-screw extruder were as follows. The glass transition temperature TgB and cold crystallization temperature TcB of the obtained crystalline resin (b-I) were measured. The melting point of the crystalline resin (b-I) was 263°C.
・Barrel temperature setting = 275-280℃
Die set temperature = 275°C
Screw rotation speed = 200 rpm

〔製造例2〕
結晶性樹脂(b1)と非晶性樹脂(b2)との割合を、結晶性樹脂(b1):非晶性樹脂(b2)=35:65に変更した他は、製造例1と同じ操作により、ペレット形状の結晶性樹脂(b-II)を得て、ガラス転移温度TgB及び冷結晶化温度TcBを測定した。結晶性樹脂(b-II)の融点は、263℃であった。
[Production Example 2]
A pellet-shaped crystalline resin (b-II) was obtained by the same procedure as in Production Example 1, except that the ratio of the crystalline resin (b1) to the amorphous resin (b2) was changed to 35:65, and the glass transition temperature TgB and cold crystallization temperature TcB were measured. The melting point of the crystalline resin (b-II) was 263°C.

〔実施例1〕
(1-1.工程(1):非晶性樹脂(a)及び結晶性樹脂(b)からなる多層樹脂フィルムの製造)
目開き3μmのリーフディスク形状のポリマーフィルターを備える、ダブルフライト型単軸押出機(スクリューの直径D=50mm、スクリューの長さLとスクリューの直径Dとの比L/D=28)を用意した。この単軸押出機に、非晶性樹脂(a)(ZEONEX690R;日本ゼオン製;ガラス転移温度136℃、融点は観測されず)を導入し、溶融させて、2種3層押出し用のフィードブロックを介して単層ダイに供給した。「2種3層」とは、フィルムに含まれる層の数が3層であり、それらの層を形成する樹脂の種類が2種類であることを表す。単軸押出機への樹脂(a)の導入は、単軸押出機に装填されたホッパーを介して行った。樹脂(a)の押出機出口での温度は、280℃であった。
Example 1
(1-1. Step (1): Production of a multilayer resin film consisting of an amorphous resin (a) and a crystalline resin (b))
A double-flight type single-screw extruder (screw diameter D = 50 mm, ratio of screw length L to screw diameter D = 28) equipped with a leaf disk-shaped polymer filter with a mesh size of 3 μm was prepared. Amorphous resin (a) (ZEONEX690R; manufactured by Zeon Corporation; glass transition temperature 136 ° C., melting point not observed) was introduced into this single-screw extruder, melted, and fed to a single-layer die through a feed block for two-kind three-layer extrusion. "Two-kind three-layer" means that the number of layers contained in the film is three layers, and the types of resins forming those layers are two types. The introduction of resin (a) into the single-screw extruder was carried out through a hopper loaded in the single-screw extruder. The temperature of resin (a) at the extruder outlet was 280 ° C.

他方、目開き3μmのリーフディスク形状のポリマーフィルターを備える単軸押出機(スクリューの直径D=50mm、スクリューの長さLとスクリューの直径Dとの比L/D=30)1台を用意した。この単軸押出機に、製造例1で製造した結晶性樹脂(b-I)を導入し、溶解させて、フィードブロックを介して前記の単層ダイに供給した。樹脂(b-I)の押出機出口での温度は、280℃であった。 On the other hand, a single screw extruder (screw diameter D = 50 mm, ratio of screw length L to screw diameter D L/D = 30) equipped with a leaf disk-shaped polymer filter with a mesh size of 3 μm was prepared. The crystalline resin (b-I) produced in Production Example 1 was introduced into this single screw extruder, melted, and fed to the single layer die via a feed block. The temperature of the resin (b-I) at the extruder outlet was 280°C.

その後、樹脂(a)及び樹脂(b-I)を、275℃の溶融状態で単層ダイから吐出させ、樹脂(b-I)の層、樹脂(a)の層、及び、樹脂(b-I)の層の3層をこの順に備える、層状の溶融樹脂を得た。吐出された層状の溶融樹脂を、120℃に温度調整された冷却ロールにキャストし、ロール上においてエッジピニングを行い、樹脂を搬送して冷却し、長尺の多層樹脂フィルムを得た。 Then, resin (a) and resin (b-I) were extruded from the single-layer die in a molten state at 275°C to obtain a layered molten resin having three layers, in this order: a layer of resin (b-I), a layer of resin (a), and a layer of resin (b-I). The extruded layered molten resin was cast onto a cooling roll whose temperature was adjusted to 120°C, and edge pinning was performed on the roll. The resin was transported and cooled to obtain a long multilayer resin film.

得られた多層樹脂フィルムは、樹脂(b-I)の層であるB層、樹脂(a)の層であるA層、及び樹脂(b-I)の層であるB層を厚み方向においてこの順に備える、2種3層のフィルムであった。多層樹脂フィルムの総厚みは、136μmであった。また、B層のそれぞれの厚みはいずれも8μmであり、A層の厚みは120μmであった。 The resulting multilayer resin film was a two-kind, three-layer film, including a B layer of resin (b-I), an A layer of resin (a), and a B layer of resin (b-I) in that order in the thickness direction. The total thickness of the multilayer resin film was 136 μm. Each of the B layers had a thickness of 8 μm, and the A layer had a thickness of 120 μm.

(1-2.工程(2):加熱延伸工程)
(1-1)で得た多層樹脂フィルムを切断し、130mm×130mmの寸法の矩形のフィルムとした。矩形のフィルムの各辺は、長尺の多層樹脂フィルムの長手方向又は幅方向と平行な方向とした。
矩形のフィルムを、延伸機(エトー株式会社製)に設置し、四辺のそれぞれを、5つのクリップで把持し、フィルムを150℃で予熱した。予熱開始6分後の、フィルム温度が安定した時点から、150℃のフィルム温度を維持し、フィルムを長手方向(切り出し前の長尺のフィルムであった時点での長手方向に対応する方向)に固定端一軸延伸した。延伸倍率は3倍、延伸速度は7mm/secとした。この工程により、多層樹脂フィルムを加熱延伸し、多層光学フィルムを得た。
(1-2. Process (2): Heat stretching process)
The multilayer resin film obtained in (1-1) was cut into a rectangular film having dimensions of 130 mm x 130 mm. Each side of the rectangular film was parallel to the longitudinal direction or the transverse direction of the long multilayer resin film. The direction was.
A rectangular film was placed in a stretching machine (manufactured by Etoh Corporation), and each of the four sides was held by five clips, and the film was preheated at 150° C. Six minutes after the start of preheating, when the film temperature was stabilized, From this point on, the film temperature was maintained at 150° C., and the film was uniaxially stretched with fixed ends in the longitudinal direction (the direction corresponding to the longitudinal direction of the long film before being cut out). The stretching ratio was 3 times, and the stretching The speed was 7 mm/sec. Through this process, the multilayer resin film was heated and stretched to obtain a multilayer optical film.

得られた多層光学フィルムについて、ヘイズ、Re、Rth、及び厚みdを測定し、Δnを求め、且つ、層間密着性、耐溶媒性、製膜性、及び結晶化有無を評価した。 The haze, Re, Rth, and thickness d of the obtained multilayer optical film were measured, Δn was calculated, and the interlayer adhesion, solvent resistance, film formability, and the presence or absence of crystallization were evaluated.

〔実施例2〕
下記の変更点の他は、実施例1と同じ操作により、多層樹脂フィルム及び多層光学フィルムを得て評価した。
・工程(1-1)において、樹脂(b-I)に代えて、製造例2で得た樹脂(b-II)を用いた。
・延伸後の位相差が250nm付近とするべく、工程(1-1)において押出機のスクリューの回転速度を調整し、延伸前B層/A層/B層の各層の厚みを、表1に示す厚みに変更した。
Example 2
A multilayer resin film and a multilayer optical film were obtained and evaluated by the same procedures as in Example 1, except for the following changes.
In step (1-1), resin (b-II) obtained in Production Example 2 was used in place of resin (b-I).
In order to obtain a retardation of about 250 nm after stretching, the rotation speed of the screw of the extruder was adjusted in step (1-1), and the thicknesses of each of the layers B/A/B before stretching were changed to those shown in Table 1.

〔比較例1〕
下記の変更点の他は、実施例1と同じ操作により、多層樹脂フィルム及び多層光学フィルムを得て評価した。
・工程(1-1)において、樹脂(b-I)に代えて、製造例1で使用した結晶性樹脂(b1)を、樹脂(b2)と混合することなくそのまま用いた。
・延伸後の位相差が250nm付近とするべく、工程(1-1)において押出機のスクリューの回転速度を調整し、延伸前B層/A層/B層の各層の厚みを、表1に示す厚みに変更した。
Comparative Example 1
A multilayer resin film and a multilayer optical film were obtained and evaluated by the same procedures as in Example 1, except for the following changes.
In step (1-1), the crystalline resin (b1) used in Production Example 1 was used as it was, instead of the resin (bI), without being mixed with the resin (b2).
In order to obtain a retardation of about 250 nm after stretching, the rotation speed of the screw of the extruder was adjusted in step (1-1), and the thicknesses of each of the layers B/A/B before stretching were changed to those shown in Table 1.

〔比較例2〕
下記の変更点の他は、実施例1と同じ操作により、多層樹脂フィルム及び多層光学フィルムを得て評価した。
・工程(1-1)において、非晶性樹脂(a)として、ZEONEX690Rに代えて、ZEONEX790R(日本ゼオン製;TgA=163℃;製造例1で使用した樹脂(b2)と同じもの)を用いた。
・延伸後の位相差が250nm付近とするべく、工程(1-1)において押出機のスクリューの回転速度を調整し、延伸前B層/A層/B層の各層の厚みを、表1に示す厚みに変更した。
・予熱及び延伸の温度を、樹脂(a)に適合させるべく、165℃に変更した。
Comparative Example 2
A multilayer resin film and a multilayer optical film were obtained and evaluated by the same procedures as in Example 1, except for the following changes.
In the step (1-1), as the amorphous resin (a), ZEONEX 790R (manufactured by Zeon Corporation; TgA = 163°C; the same as the resin (b2) used in Production Example 1) was used in place of ZEONEX 690R.
In order to obtain a retardation of about 250 nm after stretching, the rotation speed of the screw of the extruder was adjusted in step (1-1), and the thicknesses of each of the layers B/A/B before stretching were changed to those shown in Table 1.
The preheat and stretch temperature was changed to 165°C to match resin (a).

〔比較例3〕
下記の変更点の他は、実施例1と同じ操作により、多層樹脂フィルムの代わりに、樹脂(a)の層であるA層単層のフィルム、及びそれを延伸した光学フィルムを得て評価した。
・工程(1-1)において、樹脂(b-I)をフィードブロックに供給せず、樹脂(a)のみを供給した。
・延伸後の位相差が250nm付近とするべく、工程(1-1)において押出機のスクリューの回転速度を調整し、延伸前A層の厚みを、表1に示す厚みに変更した。
Comparative Example 3
Except for the following changes, the same procedures as in Example 1 were carried out to obtain and evaluate a single-layer film of layer A, which is the layer of resin (a), instead of the multilayer resin film, and an optical film obtained by stretching this film.
In step (1-1), resin (bI) was not supplied to the feed block, and only resin (a) was supplied.
In order to obtain a retardation after stretching of about 250 nm, the rotation speed of the screw of the extruder was adjusted in the step (1-1) and the thickness of the layer A before stretching was changed to the thickness shown in Table 1.

実施例及び比較例の概要及び結果を表1に示す。 An overview and results of the examples and comparative examples are shown in Table 1.

Figure 0007615993000001
Figure 0007615993000001

以上の結果から明らかな通り、本願実施例の多層光学フィルムは、比較例のフィルムと対比すると、B層に起因する高い耐溶媒性を有しつつ、低ヘイズ、低い厚みムラ等の所望の物性を兼ね備えた高品質の光学フィルムとすることができる。 As is clear from the above results, the multilayer optical film of the present invention, compared to the comparative example film, can be a high-quality optical film that has high solvent resistance due to layer B while also having desired physical properties such as low haze and low thickness unevenness.

100:試料
101:試料長手方向端部
102:試料屈曲部
103:試料頂部
200:クリップ
310:フォースゲージ側の把持具
311:把持用の平坦な板
312:把持用の平坦な板
320:計測スタンド側の把持具
321:把持用の平坦な板
322:把持用の平坦な板
400:試料
410:試料の端部
420:試料の端部
A1:屈曲部の直径
Lh:Lvと直交する方向
Lv:試料の長手方向端部の延長方向
S:スリット
100: Sample 101: End of sample in longitudinal direction 102: Bent portion of sample 103: Top of sample 200: Clip 310: Grip on force gauge side 311: Flat plate for gripping 312: Flat plate for gripping 320: Grip on measurement stand side 321: Flat plate for gripping 322: Flat plate for gripping 400: Sample 410: End of sample 420: End of sample A1: Diameter of bent portion Lh: Direction perpendicular to Lv Lv: Extension direction of end of sample in longitudinal direction S: Slit

Claims (6)

おもて面及びうら面の表層を構成する一対のB層と、前記一対のB層の間に位置するA層とを備える多層光学フィルムであって、
前記A層は、融点を有さない非晶性重合体(a)を含む樹脂(a)の層であり、
前記B層は、融点を有する結晶性重合体(b1)と融点を有さない非晶性重合体(b2)とを含む、融点を有する樹脂(b)の層であり、
前記樹脂(a)及び前記樹脂(b)は、下記式(1)~(3)を満たし、
TgA-TgB≦20℃ (1)
110℃<TgB<140℃ (2)
180℃<TcB<235℃ (3)
式中TgAは樹脂(a)のガラス転移温度であり、TgBは樹脂(b)のガラス転移温度であり、TcBは樹脂(b)の冷結晶化温度である、
多層光学フィルム。
A multilayer optical film comprising a pair of B layers constituting surface layers on a front surface and a back surface, and an A layer located between the pair of B layers,
The layer A is a layer of a resin (a) containing an amorphous polymer (a) having no melting point,
The layer B is a layer of a resin (b) having a melting point, which contains a crystalline polymer (b1) having a melting point and an amorphous polymer (b2) having no melting point,
The resin (a) and the resin (b) satisfy the following formulas (1) to (3),
TgA-TgB≦20℃ (1)
110℃<TgB<140℃ (2)
180℃<TcB<235℃ (3)
In the formula, TgA is the glass transition temperature of resin (a), TgB is the glass transition temperature of resin (b), and TcB is the cold crystallization temperature of resin (b).
Multilayer optical films.
前記A層及び前記B層が層間密着している、請求項1に記載の多層光学フィルム。 The multilayer optical film according to claim 1, wherein the A layer and the B layer are in intimate contact with each other. 前記B層のそれぞれの厚みがいずれも10μm以下である、請求項1又は2に記載の多層光学フィルム。 The multilayer optical film according to claim 1 or 2, wherein each of the B layers has a thickness of 10 μm or less. ヘイズが1%以下である、請求項1~3のいずれか1項に記載の多層光学フィルム。 The multilayer optical film according to any one of claims 1 to 3, having a haze of 1% or less. 請求項1~4のいずれか1項に記載の多層光学フィルムの製造方法であって、
前記樹脂(a)と、前記樹脂(b)とを調製する工程と、
前記樹脂(a)及び前記樹脂(b)を成形して、多層樹脂フィルムを得る工程を含む、製造方法。
A method for producing the multilayer optical film according to any one of claims 1 to 4, comprising the steps of:
preparing the resin (a) and the resin (b);
A production method comprising a step of forming the resin (a) and the resin (b) to obtain a multilayer resin film.
前記多層樹脂フィルムを、TgA以上の延伸温度にて延伸する工程をさらに含む、請求項5に記載の多層光学フィルムの製造方法。 The method for producing a multilayer optical film according to claim 5 further comprises a step of stretching the multilayer resin film at a stretching temperature equal to or higher than TgA.
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