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JP7618476B2 - Coil component and manufacturing method thereof - Google Patents
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Description

本発明はコイル部品及びその製造方法に関し、特に、スパイラル状に巻回されたスパイラルパターンの内径領域に磁性部材が埋め込まれた構造を有するコイル部品及びその製造方法に関する。 The present invention relates to coil components and manufacturing methods thereof, and in particular to coil components having a structure in which a magnetic material is embedded in the inner diameter region of a spirally wound spiral pattern, and to a manufacturing method thereof.

スパイラル状に巻回されたスパイラルパターンが積層された構造を有するコイル部品としては、特許文献1に記載されたコイル部品が知られている。特許文献1に記載されたコイル部品は、スパイラルパターンの内径領域に磁性部材が埋め込まれた構造を有しており、これによりインダクタンスが高められている。 The coil component described in Patent Document 1 is known as a coil component having a structure in which spiral patterns wound in a spiral shape are stacked. The coil component described in Patent Document 1 has a structure in which a magnetic member is embedded in the inner diameter region of the spiral pattern, which increases the inductance.

特開2019-140202号公報JP 2019-140202 A

しかしながら、特許文献1に記載されたコイル部品においては、スパイラルパターンの内径領域に絶縁樹脂層の一部が突出していることから、このような突出部によって磁性部材の埋め込みが妨げられるおそれがあった。 However, in the coil component described in Patent Document 1, a portion of the insulating resin layer protrudes into the inner diameter region of the spiral pattern, and there is a risk that such a protrusion may prevent the embedding of the magnetic material.

したがって、本発明は、スパイラルパターンの内径領域に磁性部材を埋め込みやすい構造を有するコイル部品及びその製造方法を提供することを目的とする。 Therefore, the present invention aims to provide a coil component having a structure that makes it easy to embed a magnetic material in the inner diameter region of the spiral pattern, and a manufacturing method thereof.

本発明によるコイル部品は、第1及び第2の磁性部材と、第1の磁性部材と第2の磁性部材の間に配置され、それぞれスパイラル状に巻回されたスパイラルパターンを含む複数の導体層と、複数の導体層間にそれぞれ設けられた複数の絶縁樹脂層と、スパイラルパターンの内径領域に埋め込まれた第3の磁性部材とを備え、複数の絶縁樹脂層は内径領域に突出する第1の突出部を有し、複数の絶縁樹脂層のうちコイル軸方向の一端側に位置する絶縁樹脂層の第1の突出部は、他の少なくとも一つの絶縁樹脂層の第1の突出部よりも突出量が短いことを特徴とする。 The coil component according to the present invention comprises first and second magnetic members, a plurality of conductor layers each including a spiral pattern wound in a spiral shape, disposed between the first and second magnetic members, a plurality of insulating resin layers each provided between the plurality of conductor layers, and a third magnetic member embedded in the inner diameter region of the spiral pattern, the plurality of insulating resin layers having a first protrusion protruding into the inner diameter region, and the first protrusion of the insulating resin layer located at one end side of the coil axis direction among the plurality of insulating resin layers protruding by a shorter amount than the first protrusion of at least one other insulating resin layer.

本発明によれば、コイル軸方向の一端側に位置する絶縁樹脂層の第1の突出部が短いことから、コイル軸方向の一端側から内径領域に第3の磁性部材を埋め込みやすくなる。しかも、より多くの磁性部材を内径領域に埋め込むことができることから、インダクタンスを高めることも可能となる。 According to the present invention, the first protruding portion of the insulating resin layer located at one end side of the coil axis direction is short, so it is easy to embed the third magnetic member in the inner diameter region from one end side of the coil axis direction. Moreover, since a larger amount of magnetic member can be embedded in the inner diameter region, it is also possible to increase the inductance.

本発明において、第1の突出部のいくつかは、コイル軸方向の一端側から他端側に向かって突出量が長くなっても構わない。この場合も、コイル軸方向の一端側から内径領域に第3の磁性部材を埋め込みやすくなる。しかも、コイル軸方向の他端側に近い突出部は比較的長いことから、突出部の除去に伴うダメージが最小限に抑えられる。 In the present invention, some of the first protrusions may protrude longer from one end of the coil axial direction to the other end. In this case, it is also easier to embed the third magnetic member in the inner diameter region from one end of the coil axial direction. Moreover, since the protrusions near the other end of the coil axial direction are relatively long, damage caused by removing the protrusions is minimized.

本発明において、複数の絶縁樹脂層のうちコイル軸方向の他端側に位置する絶縁樹脂層の第1の突出部は、他の少なくとも一つの絶縁樹脂層の第1の突出部よりも、突出量が短くても構わない。これによれば、より多くの磁性部材を内径領域に埋め込むことができることから、インダクタンスがより高められる。 In the present invention, the first protrusion of the insulating resin layer located at the other end side in the coil axis direction among the multiple insulating resin layers may protrude less than the first protrusion of at least one other insulating resin layer. This allows more magnetic material to be embedded in the inner diameter region, thereby further increasing the inductance.

本発明によるコイル部品は、スパイラルパターンの外側領域に位置する第4の磁性部材をさらに備え、複数の絶縁樹脂層は外側領域に突出する第2の突出部をさらに有し、複数の絶縁樹脂層のうちコイル軸方向の一端側に位置する絶縁樹脂層の第2の突出部は、他の少なくとも一つの絶縁樹脂層の第2の突出部よりも、突出量が短くても構わない。これによれば、複数のコイル部品を多数個取りによって作製する際に、コイル軸方向の一端側から外側領域に第4の磁性部材を埋め込みやすくなる。しかも、より多くの磁性部材を外側領域に埋め込むことができることから、インダクタンスを高めることも可能となる。 The coil component according to the present invention further comprises a fourth magnetic member located in the outer region of the spiral pattern, and the multiple insulating resin layers further have second protrusions protruding into the outer region, and the second protrusion of the insulating resin layer located at one end side of the coil axis direction among the multiple insulating resin layers may protrude less than the second protrusion of at least one other insulating resin layer. This makes it easier to embed the fourth magnetic member in the outer region from one end side of the coil axis direction when manufacturing multiple coil components by multiple piece production. Moreover, since more magnetic members can be embedded in the outer region, it is also possible to increase the inductance.

本発明によるコイル部品の製造方法は、スパイラル状に巻回されたスパイラルパターン及びスパイラルパターンの内径領域に位置する犠牲パターンを含む複数の導体層と複数の絶縁樹脂層を交互に積層する工程と、犠牲パターンを除去することによってスパイラルパターンの内径領域に空間を形成する工程と、空間に突出する複数の絶縁樹脂層からなる突出部の一部を除去する工程と、空間に磁性部材を埋め込む工程とを備えることを特徴とする。 The manufacturing method of the coil component according to the present invention is characterized by comprising the steps of alternately laminating a plurality of conductor layers and a plurality of insulating resin layers, including a spiral pattern wound in a spiral shape and a sacrificial pattern located in the inner diameter region of the spiral pattern, forming a space in the inner diameter region of the spiral pattern by removing the sacrificial pattern, removing a part of the protruding portion made of the plurality of insulating resin layers protruding into the space, and embedding a magnetic member in the space.

本発明によれば、絶縁樹脂層からなる突出部の一部を除去していることから、空間に磁性部材を埋め込みやすくなる。 According to the present invention, a portion of the protruding portion made of the insulating resin layer is removed, making it easier to fill the space with a magnetic member.

このように、本発明によれば、スパイラルパターンの内径領域に磁性部材を埋め込みやすい構造を有するコイル部品及びその製造方法を提供することが可能となる。 In this way, the present invention makes it possible to provide a coil component and a manufacturing method thereof that has a structure that makes it easy to embed a magnetic material in the inner diameter region of the spiral pattern.

図1は、本発明の一実施形態によるコイル部品1の構造を説明するための略断面図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view for explaining the structure of a coil component 1 according to an embodiment of the present invention. 図2は、導体層10の略平面図である。FIG. 2 is a schematic plan view of the conductor layer 10. As shown in FIG. 図3は、導体層20,40の略平面図である。FIG. 3 is a schematic plan view of the conductor layers 20 and 40. As shown in FIG. 図4は、導体層30,50の略平面図である。FIG. 4 is a schematic plan view of the conductor layers 30 and 50. As shown in FIG. 図5は、導体層60の略平面図である。FIG. 5 is a schematic plan view of the conductor layer 60. As shown in FIG. 図6は、絶縁樹脂層70~76に設けられた突出部の形状を説明するための模式的な断面図である。FIG. 6 is a schematic cross-sectional view for explaining the shape of the protrusions provided on the insulating resin layers 70 to 76. As shown in FIG. 図7は、第1の変形例による突出部の形状を説明するための模式的な断面図である。FIG. 7 is a schematic cross-sectional view for explaining the shape of the protrusion according to the first modified example. 図8は、第2の変形例による突出部の形状を説明するための模式的な断面図である。FIG. 8 is a schematic cross-sectional view for explaining the shape of the protrusion according to the second modified example. 図9は、コイル部品1の製造方法を説明するためのプロセス図である。FIG. 9 is a process diagram for explaining a manufacturing method of the coil component 1. 図10は、コイル部品1の製造方法を説明するためのプロセス図である。FIG. 10 is a process diagram for explaining a manufacturing method of the coil component 1. 図11は、コイル部品1の製造方法を説明するためのプロセス図である。FIG. 11 is a process diagram for explaining a manufacturing method of the coil component 1. 図12は、コイル部品1の製造方法を説明するためのプロセス図である。FIG. 12 is a process diagram for explaining a manufacturing method of the coil component 1. 図13は、コイル部品1の製造方法を説明するためのプロセス図である。FIG. 13 is a process diagram for explaining a manufacturing method of the coil component 1. 図14は、コイル部品1の製造方法を説明するためのプロセス図である。FIG. 14 is a process diagram for explaining a manufacturing method of the coil component 1. 図15は、コイル部品1の製造方法を説明するためのプロセス図である。FIG. 15 is a process diagram for explaining a manufacturing method of the coil component 1. 図16は、コイル部品1の製造方法を説明するためのプロセス図である。FIG. 16 is a process diagram for explaining a manufacturing method of the coil component 1. 図17は、コイル部品1の製造方法を説明するためのプロセス図である。FIG. 17 is a process diagram for explaining a manufacturing method of the coil component 1. 図18は、コイル部品1の製造方法を説明するためのプロセス図である。FIG. 18 is a process diagram for explaining a manufacturing method of the coil component 1. 図19は、コイル部品1の製造方法を説明するためのプロセス図である。FIG. 19 is a process diagram for explaining a manufacturing method of the coil component 1. 図20は、コイル部品1の製造方法を説明するためのプロセス図である。FIG. 20 is a process diagram for explaining a manufacturing method of the coil component 1.

以下、添付図面を参照しながら、本発明の好ましい実施形態について詳細に説明する。 A preferred embodiment of the present invention will now be described in detail with reference to the accompanying drawings.

図1は、本発明の一実施形態によるコイル部品1の構造を説明するための略断面図である。 Figure 1 is a schematic cross-sectional view illustrating the structure of a coil component 1 according to one embodiment of the present invention.

第1の実施形態によるコイル部品1は表面実装型のチップ部品であり、図1に示すように、磁性部材M1~M4と、磁性部材M1~M4に埋め込まれたコイルパターンCとを備える。コイルパターンCの構成については後述するが、本実施形態においてはスパイラル状に複数ターン巻回されたスパイラルパターンSP1~SP6からなる。 The coil component 1 according to the first embodiment is a surface-mount type chip component, and as shown in FIG. 1, includes magnetic members M1 to M4 and a coil pattern C embedded in the magnetic members M1 to M4. The configuration of the coil pattern C will be described later, but in this embodiment, it is made up of spiral patterns SP1 to SP6 wound in a spiral shape with multiple turns.

磁性部材M1~M4は、鉄(Fe)やパーマロイ系材料などからなる金属磁性体フィラーと樹脂バインダーを含む複合部材であり、コイルパターンCに電流を流すことによって生じる磁束の磁路を構成する。樹脂バインダーとしては、液状又は粉体のエポキシ樹脂を用いることが好ましい。磁性部材M1~M4を構成する材料は、互いに同じであっても構わないし、互いに異なっていても構わない。ここで、磁性部材M1はコイルパターンCを軸方向における一方側(図1に示す上側)から覆う部分であり、磁性部材M2はコイルパターンCを軸方向における他方側(図1に示す下側)から覆う部分であり、磁性部材M3はコイルパターンCの内径領域に埋め込まれた部分であり、磁性部材M4はコイルパターンCの径方向における外側領域に位置する部分である。磁性部材M2については、フェライトなどからなる磁性基板であっても構わない。 The magnetic members M1 to M4 are composite members containing a metal magnetic filler made of iron (Fe) or a permalloy-based material and a resin binder, and constitute a magnetic path for the magnetic flux generated by passing a current through the coil pattern C. As the resin binder, it is preferable to use a liquid or powdered epoxy resin. The materials constituting the magnetic members M1 to M4 may be the same as each other or may be different from each other. Here, the magnetic member M1 is a part that covers the coil pattern C from one side in the axial direction (the upper side shown in FIG. 1), the magnetic member M2 is a part that covers the coil pattern C from the other side in the axial direction (the lower side shown in FIG. 1), the magnetic member M3 is a part that is embedded in the inner diameter region of the coil pattern C, and the magnetic member M4 is a part that is located in the outer region in the radial direction of the coil pattern C. The magnetic member M2 may be a magnetic substrate made of ferrite or the like.

図1に示すように、絶縁樹脂層70~76と導体層10,20,30,40,50,60は、軸方向に交互に積層されている。導体層10の平面形状は図2に示され、導体層20,40の平面形状は図3に示され、導体層30,50の平面形状は図4に示され、導体層60の平面形状は図5に示されている。導体層10,20,30,40,50,60はそれぞれスパイラルパターンSP1~SP6を有しており、スパイラルパターンSP1~SP6の上面又は下面が絶縁樹脂層70~76で覆われている。スパイラルパターンSP1~SP6の側面は、それぞれ絶縁樹脂層71~76の一部で覆われている。ここで、スパイラルパターンSP1~SP6の上面及び下面とは、コイル軸に対して略垂直な面を指し、スパイラルパターンSP1~SP6の側面とは、径方向に対して略垂直な面を指す。 As shown in Figure 1, insulating resin layers 70-76 and conductor layers 10, 20, 30, 40, 50, 60 are alternately stacked in the axial direction. The planar shape of conductor layer 10 is shown in Figure 2, the planar shapes of conductor layers 20 and 40 are shown in Figure 3, the planar shapes of conductor layers 30 and 50 are shown in Figure 4, and the planar shape of conductor layer 60 is shown in Figure 5. Conductor layers 10, 20, 30, 40, 50, 60 each have spiral patterns SP1-SP6, and the upper or lower surfaces of spiral patterns SP1-SP6 are covered with insulating resin layers 70-76. The side surfaces of spiral patterns SP1-SP6 are each covered with a portion of insulating resin layers 71-76. Here, the upper and lower surfaces of the spiral patterns SP1 to SP6 refer to surfaces that are approximately perpendicular to the coil axis, and the side surfaces of the spiral patterns SP1 to SP6 refer to surfaces that are approximately perpendicular to the radial direction.

スパイラルパターンSP1~SP6は、絶縁樹脂層71~75に形成されたビアホールを介して互いに接続されることにより、1つのコイル導体を構成している。導体層10,20,30,40,50,60の材料としては、銅(Cu)を用いることが好ましい。絶縁樹脂層70~76のうち、少なくとも絶縁樹脂層71~75については非磁性材料が用いられる。最下層に位置する絶縁樹脂層70や、最上層に位置する絶縁樹脂層76については、磁性を有していても構わない。 The spiral patterns SP1 to SP6 are connected to each other through via holes formed in the insulating resin layers 71 to 75 to form a single coil conductor. The material of the conductor layers 10, 20, 30, 40, 50, and 60 is preferably copper (Cu). Of the insulating resin layers 70 to 76, at least the insulating resin layers 71 to 75 are made of a non-magnetic material. The insulating resin layer 70 located at the bottom layer and the insulating resin layer 76 located at the top layer may be magnetic.

導体層10は、磁性部材M2の上面に絶縁樹脂層70を介して形成された1層目の導体層であり、図2に示すように、スパイラル状に約3ターン巻回されたスパイラルパターンSP1と、2つの電極パターン11,12を有している。スパイラルパターンSP1の下面は絶縁樹脂層70で覆われ、スパイラルパターンSP1の側面及び上面は絶縁樹脂層71で覆われている。これにより、スパイラルパターンSP1と磁性部材M3,M4の間には、絶縁樹脂層71が介在する。電極パターン11は、スパイラルパターンSP1の外周端に接続されている。電極パターン12は、スパイラルパターンSP1とは独立して設けられている。 The conductor layer 10 is the first conductor layer formed on the upper surface of the magnetic member M2 via an insulating resin layer 70, and as shown in FIG. 2, has a spiral pattern SP1 wound in a spiral shape with about three turns, and two electrode patterns 11 and 12. The lower surface of the spiral pattern SP1 is covered with the insulating resin layer 70, and the side and upper surfaces of the spiral pattern SP1 are covered with the insulating resin layer 71. As a result, the insulating resin layer 71 is interposed between the spiral pattern SP1 and the magnetic members M3 and M4. The electrode pattern 11 is connected to the outer peripheral end of the spiral pattern SP1. The electrode pattern 12 is provided independently of the spiral pattern SP1.

導体層20は、導体層10の上面に絶縁樹脂層71を介して形成された2層目の導体層であり、図3に示すように、スパイラル状に約3ターン巻回されたスパイラルパターンSP2と、2つの電極パターン21,22を有している。スパイラルパターンSP2の下面は絶縁樹脂層71で覆われ、スパイラルパターンSP2の側面及び上面は絶縁樹脂層72で覆われている。これにより、スパイラルパターンSP2と磁性部材M3,M4の間には、絶縁樹脂層72が介在する。電極パターン21,22は、いずれもスパイラルパターンSP2とは独立して設けられている。 The conductor layer 20 is a second conductor layer formed on the upper surface of the conductor layer 10 via an insulating resin layer 71, and as shown in FIG. 3, has a spiral pattern SP2 wound in a spiral shape with about three turns, and two electrode patterns 21, 22. The lower surface of the spiral pattern SP2 is covered with the insulating resin layer 71, and the side and upper surfaces of the spiral pattern SP2 are covered with the insulating resin layer 72. As a result, the insulating resin layer 72 is interposed between the spiral pattern SP2 and the magnetic members M3, M4. Both the electrode patterns 21, 22 are provided independently of the spiral pattern SP2.

導体層30は、導体層20の上面に絶縁樹脂層72を介して形成された3層目の導体層であり、図4に示すように、スパイラル状に約3ターン巻回されたスパイラルパターンSP3と、2つの電極パターン31,32を有している。スパイラルパターンSP3の下面は絶縁樹脂層72で覆われ、スパイラルパターンSP3の側面及び上面は絶縁樹脂層73で覆われている。これにより、スパイラルパターンSP3と磁性部材M3,M4の間には、絶縁樹脂層73が介在する。電極パターン31,32は、いずれもスパイラルパターンSP3とは独立して設けられている。 The conductor layer 30 is a third conductor layer formed on the upper surface of the conductor layer 20 via an insulating resin layer 72, and as shown in FIG. 4, has a spiral pattern SP3 wound in a spiral shape with about three turns, and two electrode patterns 31, 32. The lower surface of the spiral pattern SP3 is covered with an insulating resin layer 72, and the side and upper surfaces of the spiral pattern SP3 are covered with an insulating resin layer 73. As a result, the insulating resin layer 73 is interposed between the spiral pattern SP3 and the magnetic members M3, M4. Both the electrode patterns 31, 32 are provided independently of the spiral pattern SP3.

導体層40は、導体層30の上面に絶縁樹脂層73を介して形成された4層目の導体層であり、図3に示すように、スパイラル状に約3ターン巻回されたスパイラルパターンSP4と、2つの電極パターン41,42を有している。スパイラルパターンSP4の下面は絶縁樹脂層73で覆われ、スパイラルパターンSP4の側面及び上面は絶縁樹脂層74で覆われている。これにより、スパイラルパターンSP4と磁性部材M3,M4の間には、絶縁樹脂層74が介在する。電極パターン41,42は、いずれもスパイラルパターンSP4とは独立して設けられている。 The conductor layer 40 is a fourth conductor layer formed on the upper surface of the conductor layer 30 via an insulating resin layer 73, and as shown in FIG. 3, has a spiral pattern SP4 wound in a spiral shape with about three turns, and two electrode patterns 41, 42. The lower surface of the spiral pattern SP4 is covered with an insulating resin layer 73, and the side and upper surfaces of the spiral pattern SP4 are covered with an insulating resin layer 74. As a result, the insulating resin layer 74 is interposed between the spiral pattern SP4 and the magnetic members M3, M4. Both the electrode patterns 41, 42 are provided independently of the spiral pattern SP4.

導体層50は、導体層40の上面に絶縁樹脂層74を介して形成された5層目の導体層であり、図4に示すように、スパイラル状に約3ターン巻回されたスパイラルパターンSP5と、2つの電極パターン51,52を有している。スパイラルパターンSP5の下面は絶縁樹脂層74で覆われ、スパイラルパターンSP5の側面及び上面は絶縁樹脂層75で覆われている。これにより、スパイラルパターンSP5と磁性部材M3,M4の間には、絶縁樹脂層75が介在する。電極パターン51,52は、いずれもスパイラルパターンSP5とは独立して設けられている。 The conductor layer 50 is a fifth conductor layer formed on the upper surface of the conductor layer 40 via an insulating resin layer 74, and as shown in FIG. 4, has a spiral pattern SP5 wound in a spiral shape with about three turns, and two electrode patterns 51, 52. The lower surface of the spiral pattern SP5 is covered with an insulating resin layer 74, and the side and upper surfaces of the spiral pattern SP5 are covered with an insulating resin layer 75. As a result, the insulating resin layer 75 is interposed between the spiral pattern SP5 and the magnetic members M3, M4. Both the electrode patterns 51, 52 are provided independently of the spiral pattern SP5.

導体層60は、導体層50の上面に絶縁樹脂層75を介して形成された6層目の導体層であり、図5に示すように、スパイラル状に約2.5ターン巻回されたスパイラルパターンSP6と、2つの電極パターン61,62を有している。スパイラルパターンSP6の下面は絶縁樹脂層75で覆われ、スパイラルパターンSP6の側面及び上面は絶縁樹脂層76で覆われている。これにより、スパイラルパターンSP6と磁性部材M3,M4の間には、絶縁樹脂層76が介在する。電極パターン62は、スパイラルパターンSP6の外周端に接続されている。電極パターン61は、スパイラルパターンSP6とは独立して設けられている。 The conductor layer 60 is a sixth conductor layer formed on the upper surface of the conductor layer 50 via an insulating resin layer 75, and as shown in FIG. 5, has a spiral pattern SP6 wound in a spiral shape for about 2.5 turns, and two electrode patterns 61, 62. The lower surface of the spiral pattern SP6 is covered with an insulating resin layer 75, and the side and upper surfaces of the spiral pattern SP6 are covered with an insulating resin layer 76. As a result, the insulating resin layer 76 is interposed between the spiral pattern SP6 and the magnetic members M3, M4. The electrode pattern 62 is connected to the outer peripheral end of the spiral pattern SP6. The electrode pattern 61 is provided independently of the spiral pattern SP6.

そして、スパイラルパターンSP1の内周端とスパイラルパターンSP2の内周端は、導体層20の一部であり絶縁樹脂層71を貫通して設けられたビア導体81を介して接続される。スパイラルパターンSP2の外周端とスパイラルパターンSP3の外周端は、導体層30の一部であり絶縁樹脂層72を貫通して設けられたビア導体82を介して接続される。スパイラルパターンSP3の内周端とスパイラルパターンSP4の内周端は、導体層40の一部であり絶縁樹脂層73を貫通して設けられたビア導体83を介して接続される。スパイラルパターンSP4の外周端とスパイラルパターンSP5の外周端は、導体層50の一部であり絶縁樹脂層材74を貫通して設けられたビア導体84を介して接続される。スパイラルパターンSP5の内周端とスパイラルパターンSP6の内周端は、導体層60の一部であり絶縁樹脂層75を貫通して設けられたビア導体85を介して接続される。これにより、スパイラルパターンSP1~SP6が直列に接続され、複数ターンからなるコイル導体が形成される。また、電極パターン11,21,31,41,51,61は磁性部材M1~M4から露出し、一方の外部端子として用いられる。電極パターン12,22,32,42,52,62は磁性部材M1~M4から露出し、他方の外部端子として用いられる。 The inner peripheral end of the spiral pattern SP1 and the inner peripheral end of the spiral pattern SP2 are connected through a via conductor 81 that is part of the conductor layer 20 and is provided through the insulating resin layer 71. The outer peripheral end of the spiral pattern SP2 and the outer peripheral end of the spiral pattern SP3 are connected through a via conductor 82 that is part of the conductor layer 30 and is provided through the insulating resin layer 72. The inner peripheral end of the spiral pattern SP3 and the inner peripheral end of the spiral pattern SP4 are connected through a via conductor 83 that is part of the conductor layer 40 and is provided through the insulating resin layer 73. The outer peripheral end of the spiral pattern SP4 and the outer peripheral end of the spiral pattern SP5 are connected through a via conductor 84 that is part of the conductor layer 50 and is provided through the insulating resin layer material 74. The inner peripheral end of the spiral pattern SP5 and the inner peripheral end of the spiral pattern SP6 are connected through a via conductor 85 that is part of the conductor layer 60 and is provided through the insulating resin layer 75. As a result, the spiral patterns SP1 to SP6 are connected in series to form a coil conductor consisting of multiple turns. Furthermore, the electrode patterns 11, 21, 31, 41, 51, and 61 are exposed from the magnetic members M1 to M4 and are used as one of the external terminals. The electrode patterns 12, 22, 32, 42, 52, and 62 are exposed from the magnetic members M1 to M4 and are used as the other of the external terminals.

図1に示すように、絶縁樹脂層70~76の少なくとも一部は、内径領域及び外側領域に突出する突出部を有している。突出部の径方向における突出量は絶縁樹脂層70~76間において一定ではなく、突出部の長さが長いものと短いものが混在している。 As shown in FIG. 1, at least some of the insulating resin layers 70-76 have protrusions that protrude into the inner diameter region and the outer diameter region. The radial protrusion amount of the protrusions is not constant between the insulating resin layers 70-76, and some protrusions are long and some are short.

図6は、絶縁樹脂層70~76に設けられた突出部の形状を説明するための模式的な断面図である。 Figure 6 is a schematic cross-sectional view illustrating the shape of the protrusions provided on the insulating resin layers 70 to 76.

図6に示す例では、絶縁樹脂層70~75が内径領域及び外側領域に突出する突出部70a~75aをそれぞれ有している。ここで、突出部71a~75aの径方向における突出量をそれぞれL1~L5とすると、
L1>L2>L3>L4>L5
である。つまり、2つの導体層間に位置する絶縁樹脂層71~75は、下層から上層に向かって突出量L1~L5が徐々に短くなり、絶縁樹脂層75の突出部75aの突出量が最も短い。最下層に位置する絶縁樹脂層70の突出部70aの突出量L0については、絶縁樹脂層71の突出部71aの突出量L1と同程度であっても構わない。図6に示す例では、最上層に位置する絶縁樹脂層76については突出部を有していないが、絶縁樹脂層76についても突出部を有していても構わない。また、スパイラルパターンSP1~SP6の内径領域への突出量と、スパイラルパターンSP1~SP6の外側領域への突出量は、互いに同じであっても構わないし、異なっていても構わない。
6, the insulating resin layers 70 to 75 have protruding portions 70a to 75a that protrude into the inner diameter region and the outer diameter region, respectively. Here, assuming that the radial protruding amounts of the protruding portions 71a to 75a are L1 to L5, respectively,
L1>L2>L3>L4>L5
That is, the protrusion amounts L1 to L5 of the insulating resin layers 71 to 75 located between the two conductor layers gradually become shorter from the lower layer to the upper layer, and the protrusion amount of the protrusion 75a of the insulating resin layer 75 is the shortest. The protrusion amount L0 of the protrusion 70a of the insulating resin layer 70 located in the lowermost layer may be approximately the same as the protrusion amount L1 of the protrusion 71a of the insulating resin layer 71. In the example shown in FIG. 6, the insulating resin layer 76 located in the uppermost layer does not have a protrusion, but the insulating resin layer 76 may also have a protrusion. In addition, the protrusion amount of the spiral patterns SP1 to SP6 into the inner diameter region and the protrusion amount of the spiral patterns SP1 to SP6 into the outer region may be the same as each other or may be different.

図7は、第1の変形例による突出部の形状を説明するための模式的な断面図である。図7に示す例では、絶縁樹脂層74,75に突出部が設けられていない。このように、2つの導体層間に位置する一部の絶縁樹脂層については、突出部が存在しなくても構わない。 Figure 7 is a schematic cross-sectional view for explaining the shape of the protrusion according to the first modified example. In the example shown in Figure 7, no protrusion is provided on the insulating resin layers 74 and 75. In this way, it is not necessary for the protrusion to be present for some insulating resin layers located between two conductor layers.

図8は、第2の変形例による突出部の形状を説明するための模式的な断面図である。図8に示す例では、絶縁樹脂層71に設けられた突出部71aの突出量L1が短縮されており、少なくとも突出部72aの突出量L2よりも短い。また、絶縁樹脂層70に突出部が設けられていない。このように、下層から上層に向かって突出量L1~L5が徐々に短くなる点は必須でなく、突出部71aの突出量L1については突出部72aの突出量L2よりも短くても構わない。 Figure 8 is a schematic cross-sectional view for explaining the shape of the protrusion according to the second modified example. In the example shown in Figure 8, the protrusion amount L1 of the protrusion 71a provided on the insulating resin layer 71 is shortened and is shorter than at least the protrusion amount L2 of the protrusion 72a. In addition, no protrusion is provided on the insulating resin layer 70. In this way, it is not essential that the protrusion amounts L1 to L5 gradually become shorter from the lower layer to the upper layer, and the protrusion amount L1 of the protrusion 71a may be shorter than the protrusion amount L2 of the protrusion 72a.

このように、本実施形態によるコイル部品1は、スパイラルパターンSP1~SP6の内径領域及び外側領域に突出する絶縁樹脂層71~75の突出量L1~L5の一部が短縮されていることから、その分、内径領域及び外側領域に充填される磁性部材M3,M4のボリュームが増加する。これにより、チップサイズを拡大することなくインダクタンスを高めることが可能となる。 In this way, in the coil component 1 according to this embodiment, the protrusion amounts L1 to L5 of the insulating resin layers 71 to 75 that protrude into the inner diameter region and outer diameter region of the spiral patterns SP1 to SP6 are partially shortened, and the volume of the magnetic members M3 and M4 that fill the inner diameter region and outer diameter region increases accordingly. This makes it possible to increase the inductance without increasing the chip size.

次に、本実施形態によるコイル部品1の製造方法について説明する。 Next, a method for manufacturing the coil component 1 according to this embodiment will be described.

図9~図20は、本実施形態によるコイル部品1の製造方法を説明するためのプロセス図である。図9~図20に示す工程図は、1個のコイル部品1に対応する断面を示しているが、実際には、集合基板を用いて多数のコイル部品1を同時に作製することによって多数個取りすることができる。 Figures 9 to 20 are process diagrams for explaining the manufacturing method of the coil component 1 according to this embodiment. The process diagrams shown in Figures 9 to 20 show a cross section corresponding to one coil component 1, but in reality, multiple coil components 1 can be produced simultaneously by using an aggregate substrate.

まず、基材90の表面に銅(Cu)などの金属箔91が設けられた支持体を用意し、金属箔91の表面に絶縁樹脂層70及びシード層Sを形成する(図9)。次に、シード層Sの表面にレジストパターンRを形成する(図10)。レジストパターンRは、導体層10のネガパターンである。この状態で、電解メッキによってシード層Sを成長させることにより、導体層10を形成する(図11)。この時、スパイラルパターンSP1の内径領域には犠牲パターンVP3が形成され、スパイラルパターンSP1の外側領域には犠牲パターンVP4が形成される。 First, a support is prepared in which a metal foil 91 such as copper (Cu) is provided on the surface of a base material 90, and an insulating resin layer 70 and a seed layer S are formed on the surface of the metal foil 91 (Figure 9). Next, a resist pattern R is formed on the surface of the seed layer S (Figure 10). The resist pattern R is a negative pattern of the conductor layer 10. In this state, the seed layer S is grown by electrolytic plating to form the conductor layer 10 (Figure 11). At this time, a sacrificial pattern VP3 is formed in the inner diameter region of the spiral pattern SP1, and a sacrificial pattern VP4 is formed in the outer region of the spiral pattern SP1.

次に、レジストパターンRを剥離した後、レジストパターンRの剥離部分に露出するシード層Sをエッチングにより除去する(図12)。これにより、スパイラルパターンSP1と犠牲パターンVP3,VP4がスパイラル状のスリットSLによって電気的に分離される。次に、スリットSLを埋めるよう、導体層10の表面に絶縁樹脂層71及び金属箔92を形成する(図13)。絶縁樹脂層71及び金属箔92の形成は、ラミネート法によって行うことができる。次に、金属箔92をパターニングすることによって、犠牲パターンVP3,VP4と重なる部分の金属箔92を除去した後、金属箔92をマスクとしてブラスト加工することにより、犠牲パターンVP3,VP4を露出させる(図14)。次に、金属箔92を除去した後(図15)、レーザー加工によって絶縁樹脂層71にビア導体81(図2参照)を形成するための開口部を形成する。以上の工程により、導体層10及び絶縁樹脂層71の形成が完了する。 Next, after the resist pattern R is peeled off, the seed layer S exposed in the peeled portion of the resist pattern R is removed by etching (FIG. 12). As a result, the spiral pattern SP1 and the sacrificial patterns VP3 and VP4 are electrically separated by the spiral slit SL. Next, an insulating resin layer 71 and a metal foil 92 are formed on the surface of the conductor layer 10 so as to fill the slit SL (FIG. 13). The insulating resin layer 71 and the metal foil 92 can be formed by a lamination method. Next, the metal foil 92 is patterned to remove the metal foil 92 from the portion overlapping with the sacrificial patterns VP3 and VP4, and then the sacrificial patterns VP3 and VP4 are exposed by blast processing using the metal foil 92 as a mask (FIG. 14). Next, after removing the metal foil 92 (FIG. 15), an opening for forming a via conductor 81 (see FIG. 2) is formed in the insulating resin layer 71 by laser processing. Through the above steps, the formation of the conductor layer 10 and the insulating resin layer 71 is completed.

その後、図9~図15に示す工程を繰り返すことにより、導体層20、絶縁樹脂層72、導体層30、絶縁樹脂層73、導体層40、絶縁樹脂層74、導体層50、絶縁樹脂層75、導体層60、絶縁樹脂層76を順次形成する(図16)。導体層20,30,40,50,60においても、スパイラルパターンSP2~SP6の内径領域には犠牲パターンVP3が含まれ、スパイラルパターンSP2~SP6の外側領域には犠牲パターンVP4が含まれている。最上層に位置する導体層60の犠牲パターンVP3,VP4は、絶縁樹脂層76に設けられた開口部から露出している。 Then, the steps shown in Figures 9 to 15 are repeated to sequentially form conductor layer 20, insulating resin layer 72, conductor layer 30, insulating resin layer 73, conductor layer 40, insulating resin layer 74, conductor layer 50, insulating resin layer 75, conductor layer 60, and insulating resin layer 76 (Figure 16). In conductor layers 20, 30, 40, 50, and 60, the inner diameter regions of spiral patterns SP2 to SP6 also include sacrificial pattern VP3, and the outer regions of spiral patterns SP2 to SP6 include sacrificial pattern VP4. The sacrificial patterns VP3 and VP4 of conductor layer 60, which is located at the top layer, are exposed from an opening provided in insulating resin layer 76.

この状態でウェットエッチングを行うことにより、犠牲パターンVP3,VP4を除去する(図17)。スパイラルパターンSP1~SP6については、絶縁樹脂層70~76で覆われているため、エッチングされることはない。これにより、スパイラルパターンSP1~SP6の内径領域には空間S3が形成され、スパイラルパターンSP1~SP6の外側領域には空間S4が形成される。また、空間S3,S4には、絶縁樹脂層71~76の一部が突出する。この時点では、空間S3,S4への絶縁樹脂層71~76の突出量に実質的な差はない。 In this state, wet etching is performed to remove the sacrificial patterns VP3 and VP4 (Figure 17). The spiral patterns SP1 to SP6 are not etched because they are covered with the insulating resin layers 70 to 76. As a result, a space S3 is formed in the inner diameter region of the spiral patterns SP1 to SP6, and a space S4 is formed in the outer region of the spiral patterns SP1 to SP6. In addition, parts of the insulating resin layers 71 to 76 protrude into the spaces S3 and S4. At this point, there is no substantial difference in the amount of protrusion of the insulating resin layers 71 to 76 into the spaces S3 and S4.

次に、空間S3,S4に露出する絶縁樹脂層70及び空間S3,S4に突出する絶縁樹脂層71~76にレーザービーム93を照射することによって、絶縁樹脂層70の露出部の一部及び絶縁樹脂層71~76の突出部の一部を除去する(図18)。この時、絶縁樹脂層76の上面がダメージを受けないよう、絶縁樹脂層76の上面を金属箔で覆った状態でレーザー加工を行っても構わない。或いは、レーザー加工の代わりにブラスト加工を行っても構わない。 Next, a laser beam 93 is applied to the insulating resin layer 70 exposed in the spaces S3 and S4 and to the insulating resin layers 71 to 76 protruding into the spaces S3 and S4, thereby removing a part of the exposed part of the insulating resin layer 70 and a part of the protruding parts of the insulating resin layers 71 to 76 (FIG. 18). At this time, the laser processing may be performed with the top surface of the insulating resin layer 76 covered with metal foil to prevent the top surface of the insulating resin layer 76 from being damaged. Alternatively, blast processing may be performed instead of the laser processing.

この時、空間S3,S4に露出又は突出する絶縁樹脂層70~76を全て除去することが理想的であるが、空間S3,S4に露出又は突出する絶縁樹脂層70~76を全て除去するためには、長時間の加工が必要になるだけでなく、絶縁樹脂層70~76のうち除去すべきでない部分に加わるダメージが大きくなる。このため、空間S3,S4に露出又は突出する絶縁樹脂層70~76の全てを除去するのではなく、図6及び図7を用いて説明したように、上層に位置する絶縁樹脂層ほど突出量が短くなるような条件で、突出部を部分的に除去する。条件によっては、図8を用いて説明したように、下層の絶縁樹脂層71の突出量も短くなる。これは、金属箔91によって反射したレーザービーム93が絶縁樹脂層71の突出部に照射されるためである。このように、本実施形態においては、絶縁樹脂層70~76のうち除去すべきでない部分に大きなダメージが加わらないよう、レーザー加工又はブラスト加工の条件を設定することによって、空間S3,S4に露出又は突出する絶縁樹脂層70~76を部分的に除去する。 At this time, it is ideal to remove all of the insulating resin layers 70-76 exposed or protruding into the spaces S3 and S4, but in order to remove all of the insulating resin layers 70-76 exposed or protruding into the spaces S3 and S4, not only would a long processing time be required, but the damage to the parts of the insulating resin layers 70-76 that should not be removed would be large. For this reason, instead of removing all of the insulating resin layers 70-76 exposed or protruding into the spaces S3 and S4, as explained using Figures 6 and 7, the protruding parts are partially removed under conditions such that the protruding amount of the insulating resin layer located at the top is shorter. Depending on the conditions, the protruding amount of the insulating resin layer 71 in the lower layer will also be shorter, as explained using Figure 8. This is because the laser beam 93 reflected by the metal foil 91 is irradiated to the protruding part of the insulating resin layer 71. In this manner, in this embodiment, the insulating resin layers 70-76 that are exposed or protrude into the spaces S3 and S4 are partially removed by setting the conditions for the laser processing or blast processing so as not to cause significant damage to the portions of the insulating resin layers 70-76 that should not be removed.

次に、空間S3,S4を埋める磁性部材M3,M4を形成するとともに、絶縁樹脂層76を覆う磁性部材M1を形成する(図19)。空間S3,S4に埋め込まれる磁性部材M3,M4は、上層に位置する絶縁樹脂層76側から下層に位置する絶縁樹脂層70側へと押し込まれるが、図6~図8を用いて説明したように、上層に位置する絶縁樹脂層ほど突出量が短くなるよう加工されていることから、磁性部材M3,M4の埋め込み作業を効率よく行うことができるとともに、空間S3,S4に磁性部材M3,M4の存在しないボイドなどが発生しにくい。次に、基材90及び金属箔91を除去する(図20)。そして、絶縁樹脂層70を覆う磁性部材M2を形成した後、ダイシングによって個片化すれば、図1に示した本実施形態によるコイル部品1が完成する。 Next, the magnetic members M3 and M4 are formed to fill the spaces S3 and S4, and the magnetic member M1 is formed to cover the insulating resin layer 76 (FIG. 19). The magnetic members M3 and M4 to be filled in the spaces S3 and S4 are pushed from the insulating resin layer 76 located in the upper layer to the insulating resin layer 70 located in the lower layer. As described with reference to FIGS. 6 to 8, the insulating resin layer located in the upper layer is processed so that the protrusion amount is shorter, so that the embedding work of the magnetic members M3 and M4 can be performed efficiently and voids where the magnetic members M3 and M4 do not exist in the spaces S3 and S4 are unlikely to occur. Next, the base material 90 and the metal foil 91 are removed (FIG. 20). Then, after forming the magnetic member M2 to cover the insulating resin layer 70, the coil component 1 according to this embodiment shown in FIG. 1 is completed by dicing into individual pieces.

このように、本実施形態においては、犠牲パターンVP3,VP4を除去することによって空間S3,S4を形成した後、空間S3,S4に磁性部材M3,M4を埋め込む前に、空間S3,S4に露出又は突出する絶縁樹脂層70~76の一部を除去していることから、磁性部材M3,M4の埋め込みをスムーズに行うことができるとともに、空間S3,S4の拡大によって磁性部材M3,M4のボリュームが増大する。しかも、空間S3,S4に露出又は突出する絶縁樹脂層70~76の除去を部分的な除去にとどめていることから、絶縁樹脂層70~76のうち除去すべきでない部分に大きなダメージが加わることもない。 In this manner, in this embodiment, after the spaces S3, S4 are formed by removing the sacrificial patterns VP3, VP4, parts of the insulating resin layers 70-76 exposed or protruding into the spaces S3, S4 are removed before the magnetic members M3, M4 are embedded in the spaces S3, S4. This allows the magnetic members M3, M4 to be embedded smoothly, and the volume of the magnetic members M3, M4 increases due to the expansion of the spaces S3, S4. Moreover, because the removal of the insulating resin layers 70-76 exposed or protruding into the spaces S3, S4 is limited to partial removal, no significant damage is inflicted on the parts of the insulating resin layers 70-76 that should not be removed.

以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明は、上記の実施形態に限定されることなく、本発明の主旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能であり、それらも本発明の範囲内に包含されるものであることはいうまでもない。 Although the preferred embodiment of the present invention has been described above, the present invention is not limited to the above embodiment, and various modifications are possible without departing from the spirit of the present invention, and it goes without saying that these are also included within the scope of the present invention.

1 コイル部品
10,20,30,40,50,60 導体層
11,12,21,22,31,32,41,42,51,52,61,62 電極パターン
70~76 絶縁樹脂層
70a~75a 突出部
81~85 ビア導体
90 基材
91 金属箔
92 金属箔
93 レーザービーム
C コイルパターン
M1~M4 磁性部材
R レジストパターン
S シード層
S3,S4 空間
SL スリット
SP1~SP6 スパイラルパターン
VP3,VP4 犠牲パターン
1 Coil components 10, 20, 30, 40, 50, 60 Conductor layers 11, 12, 21, 22, 31, 32, 41, 42, 51, 52, 61, 62 Electrode patterns 70 to 76 Insulating resin layers 70a to 75a Protrusions 81 to 85 Via conductors 90 Substrate 91 Metal foil 92 Metal foil 93 Laser beam C Coil patterns M1 to M4 Magnetic member R Resist pattern S Seed layers S3, S4 Space SL Slits SP1 to SP6 Spiral patterns VP3, VP4 Sacrificial pattern

Claims (5)

第1及び第2の磁性部材と、
前記第1の磁性部材と前記第2の磁性部材の間に配置され、それぞれスパイラル状に巻回されたスパイラルパターンを含む複数の導体層と、
前記複数の導体層間にそれぞれ設けられた複数の絶縁樹脂層と、
前記スパイラルパターンの内径領域に埋め込まれた第3の磁性部材と、を備え、
前記複数の絶縁樹脂層は、前記内径領域に突出する第1の突出部を有し、
前記複数の絶縁樹脂層のうちコイル軸方向の一端側に位置する絶縁樹脂層の前記第1の突出部は、前記複数の絶縁樹脂層のうち前記コイル軸方向の他端側に位置する絶縁樹脂層の前記第1の突出部よりも、突出量が短く、これにより、前記内径領域は、前記一端側に位置する絶縁樹脂層の前記第1の突出部に囲まれた領域における径の方が、前記他端側に位置する絶縁樹脂層の前記第1の突出部に囲まれた領域における径よりも大きいことを特徴とするコイル部品。
First and second magnetic members;
a plurality of conductor layers disposed between the first magnetic member and the second magnetic member, each of the conductor layers including a spiral pattern wound in a spiral shape;
A plurality of insulating resin layers provided between the plurality of conductor layers,
a third magnetic member embedded in an inner diameter region of the spiral pattern;
The insulating resin layers each have a first protruding portion protruding into the inner diameter region,
A coil component characterized in that the first protrusion of the insulating resin layer located at one end side in the coil axis direction among the plurality of insulating resin layers has a shorter protrusion amount than the first protrusion of the insulating resin layer located at the other end side in the coil axis direction among the plurality of insulating resin layers, thereby making the diameter of the inner diameter region in a region surrounded by the first protrusion of the insulating resin layer located at one end side larger than the diameter of the region surrounded by the first protrusion of the insulating resin layer located at the other end side .
前記第1の突出部のいくつかは、前記コイル軸方向の一端側から他端側に向かって突出量が長くなることを特徴とする請求項1に記載のコイル部品。 The coil component according to claim 1, characterized in that some of the first protrusions protrude longer from one end side to the other end side in the coil axial direction. 前記一端側に位置する絶縁樹脂層の前記第1の突出部の突出量は、前記複数の絶縁樹脂層のうち前記コイル軸方向の2番目に一端側に位置する絶縁樹脂層の前記第1の突出部の突出量よりも短いことを特徴とする請求項2に記載のコイル部品。The coil component according to claim 2, characterized in that the protrusion amount of the first protrusion portion of the insulating resin layer located on the one end side is shorter than the protrusion amount of the first protrusion portion of the insulating resin layer located second to the one end side in the coil axis direction among the plurality of insulating resin layers. 前記スパイラルパターンの外側領域に位置する第4の磁性部材をさらに備え、
前記複数の絶縁樹脂層は、前記外側領域に突出する第2の突出部をさらに有し、
前記複数の絶縁樹脂層のうち前記コイル軸方向の一端側に位置する絶縁樹脂層の前記第2の突出部は、他の少なくとも一つの絶縁樹脂層の前記第2の突出部よりも、突出量が短いことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載のコイル部品。
a fourth magnetic member located in an outer region of the spiral pattern,
the insulating resin layers further have second protruding portions protruding into the outer region,
The coil component according to any one of claims 1 to 3, characterized in that the second protrusion of an insulating resin layer located at one end side in the coil axis direction among the plurality of insulating resin layers has a shorter protrusion amount than the second protrusion of at least one other insulating resin layer.
スパイラル状に巻回されたスパイラルパターン及びスパイラルパターンの内径領域に位置する犠牲パターンを含む複数の導体層と複数の絶縁樹脂層を交互に積層する工程と、
前記犠牲パターンを除去することによって、前記スパイラルパターンの内径領域に空間を形成する工程と、
前記空間に突出する前記複数の絶縁樹脂層からなる突出部の一部を除去する工程と、
前記空間に磁性部材を埋め込む工程と、を備えることを特徴とするコイル部品の製造方法。
A step of alternately laminating a plurality of conductor layers and a plurality of insulating resin layers, the conductor layers including a spiral pattern wound in a spiral shape and a sacrificial pattern located in an inner diameter region of the spiral pattern;
forming a space in an inner diameter region of the spiral pattern by removing the sacrificial pattern;
removing a part of the protruding portion made of the plurality of insulating resin layers protruding into the space;
and embedding a magnetic member in the space.
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