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JP7619015B2 - Imprinting apparatus, imprinting method and method for manufacturing concave-convex structure - Google Patents
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JP7619015B2 - Imprinting apparatus, imprinting method and method for manufacturing concave-convex structure - Google Patents

Imprinting apparatus, imprinting method and method for manufacturing concave-convex structure Download PDF

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JP7619015B2 JP2020191875A JP2020191875A JP7619015B2 JP 7619015 B2 JP7619015 B2 JP 7619015B2 JP 2020191875 A JP2020191875 A JP 2020191875A JP 2020191875 A JP2020191875 A JP 2020191875A JP 7619015 B2 JP7619015 B2 JP 7619015B2
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Description

本開示は、インプリント装置、インプリント方法及び凹凸構造体の製造方法に関する。 The present disclosure relates to an imprinting apparatus, an imprinting method, and a method for manufacturing a concave-convex structure.

近年、フォトリソグラフィ技術に替わる微細なパターン形成技術として、インプリント方法を用いたパターン形成技術が注目されている。インプリント方法は、微細な凹凸構造を備えた型部材(モールド)を用い、凹凸構造を被成型物に転写することで微細構造を等倍転写するパターン形成技術である。例えば、光硬化性樹脂を用いたインプリント方法では、被加工体表面に被成型物として光硬化性樹脂の液滴を供給し、所望の凹凸構造を有するモールドと被加工体とを所定の距離まで近接させて凹凸構造内に光硬化性樹脂を充填し、この状態でモールド側から光を照射して光硬化性樹脂を硬化させ、その後、モールドを樹脂層から引き離すことにより、モールドが備える凹凸が反転した凹凸構造(凹凸パターン)を有するパターン構造体を形成する(特許文献1)。 In recent years, pattern formation techniques using imprinting have been attracting attention as a fine pattern formation technique that can replace photolithography. The imprinting method is a pattern formation technique that uses a mold with a fine uneven structure and transfers the uneven structure to a molded object at the same size to transfer the fine structure. For example, in an imprinting method using a photocurable resin, droplets of the photocurable resin are supplied to the surface of the workpiece as the molded object, the mold with the desired uneven structure and the workpiece are brought close to each other to a predetermined distance to fill the uneven structure with the photocurable resin, and in this state, light is irradiated from the mold side to harden the photocurable resin, and then the mold is separated from the resin layer to form a pattern structure having an uneven structure (uneven pattern) that is an inversion of the unevenness of the mold (Patent Document 1).

特開2014-41861号公報JP 2014-41861 A

従来のインプリント装置は、同一のインプリント装置内で複数種類の樹脂材料を利用することが想定されておらず、ディスペンサヘッドが1つしか有していないものが一般的である。これに対して、近年、同一のインプリント装置内で異なる樹脂材料を塗布することが求められている。 Conventional imprint devices are not designed to use multiple types of resin materials within the same imprint device, and generally have only one dispenser head. However, in recent years, there has been a demand for applying different resin materials within the same imprint device.

本実施の形態は、同一のインプリント装置内で異なる樹脂材料を供給することが可能な、インプリント装置、インプリント方法及び凹凸構造体の製造方法を提供する。 This embodiment provides an imprinting apparatus, an imprinting method, and a method for manufacturing a concave-convex structure, which are capable of supplying different resin materials within the same imprinting apparatus.

本実施の形態によるインプリント装置は、インプリント装置であって、基材を保持しかつ水平方向に搬送する基材搬送部と、モールドを保持するモールド保持部と、前記基材搬送部に保持された前記基材に対して第1樹脂材料を吐出する第1ディスペンサヘッドと、前記基材搬送部に保持された前記基材に対して第2樹脂材料を吐出する第2ディスペンサヘッドと、を備え、前記第1ディスペンサヘッド及び前記第2ディスペンサヘッドは、それぞれ待機位置と吐出位置との間で移動可能であり、前記第1ディスペンサヘッドと前記第2ディスペンサヘッドとは、互いに独立して移動可能である。 The imprinting apparatus according to the present embodiment is an imprinting apparatus that includes a substrate transport section that holds a substrate and transports it horizontally, a mold holding section that holds a mold, a first dispenser head that dispenses a first resin material onto the substrate held in the substrate transport section, and a second dispenser head that dispenses a second resin material onto the substrate held in the substrate transport section, the first dispenser head and the second dispenser head each being movable between a standby position and a dispensing position, and the first dispenser head and the second dispenser head being movable independently of each other.

本実施の形態によるインプリント装置において、一側から他側に向かう気流を形成する気流形成部を更に備え、前記第1樹脂材料は、前記第2樹脂材料よりも揮発性が高く、前記第1ディスペンサヘッドの前記吐出位置は、前記第2ディスペンサヘッドの前記吐出位置に対して前記気流の上流側には位置しなくてもよい。 The imprinting apparatus according to this embodiment further includes an airflow forming unit that forms an airflow from one side to the other side, the first resin material is more volatile than the second resin material, and the ejection position of the first dispenser head does not have to be located upstream of the airflow relative to the ejection position of the second dispenser head.

本実施の形態によるインプリント装置において、前記第1樹脂材料の常温での蒸気圧が、前記第2樹脂材料の常温での蒸気圧よりも高くてもよい。 In the imprinting apparatus according to this embodiment, the vapor pressure of the first resin material at room temperature may be higher than the vapor pressure of the second resin material at room temperature.

本実施の形態によるインプリント装置において、前記第1樹脂材料の粘度が、前記第2樹脂材料の粘度よりも小さくてもよい。 In the imprinting apparatus according to this embodiment, the viscosity of the first resin material may be smaller than the viscosity of the second resin material.

本実施の形態によるインプリント装置において、前記基材への前記第1樹脂材料の接触角が、前記基材への前記第2樹脂材料の接触角よりも小さくてもよい。 In the imprinting apparatus according to this embodiment, the contact angle of the first resin material on the substrate may be smaller than the contact angle of the second resin material on the substrate.

本実施の形態によるインプリント装置において、前記第1ディスペンサヘッドの前記待機位置と、前記第2ディスペンサヘッドの前記待機位置とは、前記基材搬送部の動線に対して反対側に位置していてもよい。 In the imprinting apparatus according to this embodiment, the standby position of the first dispenser head and the standby position of the second dispenser head may be located on opposite sides of the flow path of the substrate transport unit.

本実施の形態によるインプリント装置において、前記基材は、シート状であってもよい。 In the imprinting device according to this embodiment, the substrate may be in sheet form.

本実施の形態によるインプリント方法は、インプリント方法であって、基材搬送部により基材を保持しかつ水平方向に搬送する工程と、前記基材に対して第1ディスペンサヘッドから第1樹脂材料の液滴を吐出する工程と、モールドと前記基材との間に前記第1樹脂材料の液滴を展開して前記第1樹脂材料の第1樹脂層を形成する工程と、前記第1樹脂層を硬化させることにより、前記モールドの表面形状が転写された前記第1樹脂層を得る工程と、前記基材に対して第2ディスペンサヘッドから第2樹脂材料を吐出する工程と、モールドと前記基材との間に前記第2樹脂材料の液滴を展開して前記第2樹脂材料の第2樹脂層を形成する工程と、前記第2樹脂層を硬化させることにより、前記モールドの表面形状が転写された前記第2樹脂層を得る工程と、を備え、前記第1ディスペンサヘッド及び前記第2ディスペンサヘッドは、それぞれ待機位置と吐出位置との間で移動可能であり、前記第1ディスペンサヘッドと前記第2ディスペンサヘッドとは、互いに独立して移動可能である。 The imprinting method according to the present embodiment is an imprinting method that includes the steps of holding a substrate by a substrate conveying unit and conveying the substrate in a horizontal direction, discharging droplets of a first resin material from a first dispenser head onto the substrate, spreading droplets of the first resin material between a mold and the substrate to form a first resin layer of the first resin material, and hardening the first resin layer to obtain the first resin layer to which the surface shape of the mold is transferred, discharging a second resin material from a second dispenser head onto the substrate, spreading droplets of the second resin material between the mold and the substrate to form a second resin layer of the second resin material, and hardening the second resin layer to obtain the second resin layer to which the surface shape of the mold is transferred, and the first dispenser head and the second dispenser head are each movable between a standby position and a discharge position, and the first dispenser head and the second dispenser head are movable independently of each other.

本実施の形態によるインプリント方法において、一側から他側に向かう気流が形成され、前記第1樹脂材料は、前記第2樹脂材料よりも揮発性が高く、前記第1ディスペンサヘッドの吐出位置は、前記第2ディスペンサヘッドの吐出位置に対して前記気流の上流側には位置しなくてもよい。 In the imprinting method according to this embodiment, an air flow is formed from one side to the other, the first resin material is more volatile than the second resin material, and the ejection position of the first dispenser head does not have to be located upstream of the air flow relative to the ejection position of the second dispenser head.

本実施の形態によるインプリント方法において、前記第2樹脂層は、前記第1樹脂層上に重ねて形成されてもよい。 In the imprinting method according to this embodiment, the second resin layer may be formed on top of the first resin layer.

本実施の形態によるインプリント方法において、前記基材上に、前記第1樹脂層と前記第2樹脂層とが並んで形成されてもよい。 In the imprinting method according to this embodiment, the first resin layer and the second resin layer may be formed side by side on the substrate.

本実施の形態によるインプリント方法において、前記第1樹脂層を形成するモールドと、前記第2樹脂層を形成するモールドとが互いに異なってもよい。 In the imprinting method according to this embodiment, the mold for forming the first resin layer and the mold for forming the second resin layer may be different from each other.

本実施の形態によるインプリント方法において、前記第1ディスペンサヘッドの前記待機位置と、前記第2ディスペンサヘッドの前記待機位置とは、前記基材搬送部の動線に対して反対側に位置していてもよい。 In the imprinting method according to this embodiment, the standby position of the first dispenser head and the standby position of the second dispenser head may be located on opposite sides of the flow line of the substrate transport unit.

本実施の形態によるインプリント方法において、前記基材は、シート状であってもよい。 In the imprinting method according to this embodiment, the substrate may be in the form of a sheet.

本実施の形態による凹凸構造体の製造方法は、基材本体と、前記基材本体上に形成されたマスク層とを有する基材を準備する工程と、前記基材の前記マスク層上に第1ディスペンサヘッドから第1樹脂材料の液滴を吐出する工程と、モールドと前記基材との間に前記第1樹脂材料の液滴を展開して前記第1樹脂材料の第1樹脂層を形成する工程と、前記第1樹脂層を硬化させることにより、前記モールドの表面形状が転写された前記第1樹脂層を得る工程と、前記基材に対して第2ディスペンサヘッドから、前記第1樹脂層上に第2樹脂材料を吐出する工程と、モールドと前記基材との間に前記第2樹脂材料の液滴を展開して前記第2樹脂材料の第2樹脂層を形成する工程と、前記第2樹脂層を硬化させることにより、前記モールドの表面形状が転写された前記第2樹脂層を得る工程と、前記第1樹脂層が露出するまで前記第2樹脂層をドライエッチングする工程と、前記マスク層が露出するまで前記第1樹脂層をドライエッチングする工程と、前記第1樹脂層及び前記第2樹脂層に覆われていない前記マスク層を除去する工程と、残存した前記マスク層をマスクとして前記基材本体をドライエッチングする工程と、前記基材本体上に残存する前記マスク層を除去する工程と、を備え、前記第1ディスペンサヘッド及び前記第2ディスペンサヘッドは、それぞれ待機位置と吐出位置との間で移動可能であり、前記第1ディスペンサヘッドと前記第2ディスペンサヘッドとは、互いに独立して移動可能である。 The method for manufacturing a concave-convex structure according to the present embodiment includes the steps of: preparing a substrate having a substrate body and a mask layer formed on the substrate body; discharging droplets of a first resin material from a first dispenser head onto the mask layer of the substrate; spreading the droplets of the first resin material between the mold and the substrate to form a first resin layer of the first resin material; hardening the first resin layer to obtain the first resin layer to which the surface shape of the mold has been transferred; discharging a second resin material from a second dispenser head onto the first resin layer of the substrate; spreading the droplets of the second resin material between the mold and the substrate to form a second resin layer of the second resin material; and hardening the second resin layer. The method includes the steps of: obtaining the second resin layer to which the surface shape of the mold is transferred; dry etching the second resin layer until the first resin layer is exposed; dry etching the first resin layer until the mask layer is exposed; removing the mask layer that is not covered by the first resin layer and the second resin layer; dry etching the base body using the remaining mask layer as a mask; and removing the mask layer that remains on the base body. The first dispenser head and the second dispenser head are each movable between a standby position and a discharge position, and the first dispenser head and the second dispenser head are movable independently of each other.

本実施の形態によれば、同一のインプリント装置内で異なる樹脂材料を供給することができる。 According to this embodiment, different resin materials can be supplied within the same imprinting device.

図1は、一実施の形態に係るインプリント装置を示す側面図である。FIG. 1 is a side view showing an imprint apparatus according to an embodiment. 図2は、一実施の形態に係るインプリント装置を示す平面図である。FIG. 2 is a plan view showing the imprint apparatus according to an embodiment. 図3(a)(b)は、樹脂材料の揮発性の比較方法を示す図である。3(a) and (b) are diagrams showing a method for comparing the volatility of resin materials. 図4(a)-(d)は、一実施の形態に係るインプリント方法の一部を示す側面図である。4A to 4D are side views showing a part of an imprint method according to an embodiment. 図5(a)-(d)は、一実施の形態に係るインプリント方法の一部を示す側面図である。5(a) to 5(d) are side views showing a part of an imprint method according to one embodiment. 図6(a)-(h)は、一実施の形態に係る凹凸構造体の製造方法を示す概略断面図である。6(a) to 6(h) are schematic cross-sectional views showing a method for manufacturing a concave-convex structure according to one embodiment. 図7(a)-(d)は、変形例に係るインプリント方法の一部を示す側面図である。7A to 7D are side views showing a part of an imprint method according to a modified example. 図8(a)-(d)は、変形例に係るインプリント方法の一部を示す側面図である。8A to 8D are side views showing a part of an imprint method according to a modified example. 図9は、第1の変形例に係るインプリント装置を示す平面図である。FIG. 9 is a plan view showing an imprint apparatus according to a first modified example. 図10は、第2の変形例に係るインプリント装置を示す側面図である。FIG. 10 is a side view showing an imprint apparatus according to a second modified example. 図11は、第2の変形例に係るインプリント装置を示す平面図である。FIG. 11 is a plan view showing an imprint apparatus according to a second modified example. 図12は、第3の変形例に係るインプリント装置を示す平面図である。FIG. 12 is a plan view showing an imprint apparatus according to a third modified example.

以下、図面を参照しながら各実施の形態について説明する。図面は例示であり、説明のために特徴部を誇張することがあり、実物とは異なる場合がある。また、技術思想を逸脱しない範囲において適宜変更して実施することが可能である。なお、以下の各図において、同一部分には同一の符号を付しており、一部詳細な説明を省略する場合がある。 Each embodiment will be described below with reference to the drawings. The drawings are illustrative, and for the purpose of explanation, characteristic parts may be exaggerated and may differ from the actual product. In addition, appropriate modifications can be made without departing from the technical concept. In the following drawings, the same parts are given the same reference numerals, and some detailed explanations may be omitted.

また、本明細書において用いる、形状や幾何学的条件及び物理的特性並びにそれらの程度を特定する、例えば、「平行」、「直交」、「同一」等の用語や長さや角度並びに物理的特性の値等については、厳密な意味に縛られることなく、同様の機能を期待し得る程度の範囲を含めて解釈することとする。さらに、図面においては、明瞭にするために、同様の機能を期待し得る複数の部分の形状を、規則的に記載しているが、厳密な意味に縛られることなく、当該機能を期待することができる範囲内で、当該部分の形状は互いに異なっていてもよい。また、図面においては、部材同士の接合面などを示す境界線を、便宜上、単なる直線で示しているが、厳密な直線であることに縛られることはなく、所望の接合性能を期待することができる範囲内で、当該境界線の形状は任意である。 In addition, terms such as "parallel," "orthogonal," and "same," which specify shapes, geometric conditions, and physical characteristics, as well as the extent of these, such as lengths, angles, and values of physical characteristics, used in this specification, are to be interpreted without being bound by their strict meanings, but also to include the range in which similar functions can be expected. Furthermore, in the drawings, the shapes of multiple parts that can be expected to have similar functions are shown in a regular manner for clarity, but the shapes of the parts may differ from each other as long as the functions can be expected without being bound by strict meanings. In the drawings, boundaries indicating the joint surfaces between members are shown as simple straight lines for convenience, but the shape of the boundary line is not limited to being a strict straight line, and is arbitrary as long as the desired joint performance can be expected.

[インプリント装置]
一実施の形態によるインプリント装置について、図1及び図2を参照して説明する。図1は本実施の形態によるインプリント装置を示す側面図であり、図2は図1に示されるインプリント装置の平面図である。
[Imprinting device]
An imprint apparatus according to an embodiment will be described with reference to Fig. 1 and Fig. 2. Fig. 1 is a side view showing the imprint apparatus according to the embodiment, and Fig. 2 is a plan view of the imprint apparatus shown in Fig. 1.

図1に示すように、本実施の形態によるインプリント装置10は、インプリント用の基材40を保持しかつ水平方向に搬送するステージユニット(基材搬送部)13と、モールド50を保持するモールド保持部18と、第1ディスペンサヘッド17Aと、第2ディスペンサヘッド17Bと、を備えている。第1ディスペンサヘッド17Aは、待機位置P1bと吐出位置P1aとの間で移動可能であり、第2ディスペンサヘッド17Bは、待機位置P2bと吐出位置P2aとの間で移動可能である。また、第1ディスペンサヘッド17Aと第2ディスペンサヘッド17Bとは、互いに水平方向(XY平面方向)に離間して配置されており、互いに独立して移動可能である。 As shown in FIG. 1, the imprinting apparatus 10 according to the present embodiment includes a stage unit (substrate transport unit) 13 that holds and transports a substrate 40 for imprinting in a horizontal direction, a mold holding unit 18 that holds a mold 50, a first dispenser head 17A, and a second dispenser head 17B. The first dispenser head 17A is movable between a standby position P1b and a discharge position P1a, and the second dispenser head 17B is movable between a standby position P2b and a discharge position P2a. The first dispenser head 17A and the second dispenser head 17B are arranged spaced apart from each other in the horizontal direction (XY plane direction) and can move independently of each other.

ステージユニット13は、基材40を保持する基材保持部23を有するとともに、基材40を水平方向に搬送する。また第1ディスペンサヘッド17Aは、基材保持部23に保持された基材40に対して第1樹脂材料を吐出するものである。第2ディスペンサヘッド17Bは、基材保持部23に保持された基材40に対して第2樹脂材料を吐出するものである。 The stage unit 13 has a substrate holding section 23 that holds the substrate 40 and transports the substrate 40 in a horizontal direction. The first dispenser head 17A dispenses a first resin material onto the substrate 40 held by the substrate holding section 23. The second dispenser head 17B dispenses a second resin material onto the substrate 40 held by the substrate holding section 23.

また、ステージユニット13、モールド保持部18、第1ディスペンサヘッド17A及び第2ディスペンサヘッド17Bは、チャンバ11内に収容されている。チャンバ11内には、ステージ定盤12が固定されている。またステージユニット13は、チャンバ11内でステージ定盤12上に配置されている。チャンバ11内に支持部14が配置され、支持部14は、ステージユニット13の上方に配置されている。 The stage unit 13, the mold holding part 18, the first dispenser head 17A and the second dispenser head 17B are housed in the chamber 11. A stage base 12 is fixed in the chamber 11. The stage unit 13 is disposed on the stage base 12 in the chamber 11. A support part 14 is disposed in the chamber 11, and the support part 14 is disposed above the stage unit 13.

支持部14には、レベリング部15と、アライメントカメラ16と、第2ディスペンサヘッド17Bと、第1ディスペンサヘッド17Aと、モールド保持部18とが、それぞれ取り付けられて固定されている。モールド保持部18には、モールド50が保持されている。また、チャンバ11内に一側から他側(本実施の形態においてはX軸方向マイナス側からX軸方向プラス側)に向かう気流Fを形成する気流形成部19が配置されている。さらに、モールド保持部18の上方には、光(例えば、紫外光)を、基材40の上に供給された第1樹脂材料又は第2樹脂材料に向けて照射する照射部21が設けられている。モールド保持部18の下方には、転写部25が設けられている。転写部25は、モールド50の形状を基材40上の第1樹脂材料又は第2樹脂材料に転写するときに、モールド50と基材40とが位置する領域である。 The leveling unit 15, the alignment camera 16, the second dispenser head 17B, the first dispenser head 17A, and the mold holding unit 18 are attached and fixed to the support unit 14. The mold holding unit 18 holds the mold 50. An airflow forming unit 19 is also arranged in the chamber 11 to form an airflow F from one side to the other side (in this embodiment, from the negative side in the X-axis direction to the positive side in the X-axis direction). Furthermore, an irradiation unit 21 is provided above the mold holding unit 18 to irradiate light (e.g., ultraviolet light) toward the first resin material or the second resin material supplied on the substrate 40. A transfer unit 25 is provided below the mold holding unit 18. The transfer unit 25 is an area where the mold 50 and the substrate 40 are located when the shape of the mold 50 is transferred to the first resin material or the second resin material on the substrate 40.

図2に示すように、チャンバ11内には、モールド保持部18、レベリング部15、アライメントカメラ16、第2ディスペンサヘッド17B及び第1ディスペンサヘッド17Aが配置されている。また、チャンバ11内には、基材40が搬入されるとともに、基材40をステージユニット13上に保持する領域であるロード領域20が設けられている。チャンバ11内であって、モールド保持部18よりも気流Fの上流側には、基材40を保管するストック部24が設けられていても良い。なお、図2において、ステージ定盤12、支持部14、照射部21等のいくつかの要素について、図示を省略している。 As shown in FIG. 2, the mold holding unit 18, the leveling unit 15, the alignment camera 16, the second dispenser head 17B, and the first dispenser head 17A are arranged in the chamber 11. The chamber 11 also includes a load area 20, which is an area where the substrate 40 is carried in and where the substrate 40 is held on the stage unit 13. A stock unit 24 for storing the substrate 40 may be provided in the chamber 11 upstream of the mold holding unit 18 in the air flow F. Note that some elements such as the stage base 12, the support unit 14, and the irradiation unit 21 are not shown in FIG. 2.

本実施の形態において、第1ディスペンサヘッド17Aの吐出位置P1aは、第2ディスペンサヘッド17Bの吐出位置P2aに対して気流Fの下流側に位置している。第1ディスペンサヘッド17Aの吐出位置P1aとは、第1ディスペンサヘッド17Aが基材40上で停止した状態で、基材40に対して第1樹脂材料を吐出する位置をいう。同様に、第2ディスペンサヘッド17Bの吐出位置P2aとは、第2ディスペンサヘッド17Bが基材40上で停止した状態で、基材40に対して第2樹脂材料を吐出する位置をいう。これにより、後述するように、第1ディスペンサヘッド17Aから吐出される第1樹脂材料が、第2ディスペンサヘッド17Bから吐出される第2樹脂材料よりも揮発性が高くても、揮発した成分が転写部25側に運ばれにくい。この結果、揮発した成分による転写部25に存在する各種部材の汚染を抑制することができる。 In this embodiment, the discharge position P1a of the first dispenser head 17A is located downstream of the air flow F with respect to the discharge position P2a of the second dispenser head 17B. The discharge position P1a of the first dispenser head 17A refers to a position where the first dispenser head 17A discharges the first resin material onto the substrate 40 while stopped on the substrate 40. Similarly, the discharge position P2a of the second dispenser head 17B refers to a position where the second dispenser head 17B discharges the second resin material onto the substrate 40 while stopped on the substrate 40. As a result, even if the first resin material discharged from the first dispenser head 17A is more volatile than the second resin material discharged from the second dispenser head 17B, as described later, the volatilized components are less likely to be carried to the transfer unit 25 side. As a result, it is possible to suppress contamination of various members present in the transfer unit 25 by the volatilized components.

またアライメントカメラ16と、レベリング部15と、第2ディスペンサヘッド17Bと、第1ディスペンサヘッド17Aと、ロード領域20とはいずれも、モールド保持部18に対して気流Fの下流側(X軸方向プラス側)に位置している。これにより、レベリング部15、アライメントカメラ16、第2ディスペンサヘッド17B、第1ディスペンサヘッド17A又はロード領域20で発生したパーティクル等の異物が、気流Fによってモールド50側へ運ばれることを防止し、異物がモールド50に付着することを抑止している。 Also, the alignment camera 16, the leveling unit 15, the second dispenser head 17B, the first dispenser head 17A, and the load area 20 are all located downstream of the airflow F (positive side in the X-axis direction) with respect to the mold holding unit 18. This prevents foreign matter such as particles generated in the leveling unit 15, the alignment camera 16, the second dispenser head 17B, the first dispenser head 17A, or the load area 20 from being carried by the airflow F to the mold 50 side, thereby preventing the foreign matter from adhering to the mold 50.

本明細書中、「部材Aが部材Bに対して気流の下(上)流側に位置する」とは、「部材Aのうち最も気流の上(下)流側に位置する部分が、部材Bのうち最も気流の下(上)流側に位置する部分よりも、気流Fの下(上)流側に位置する」ことを意味している。 In this specification, "member A is located on the downstream (upstream) side of the airflow relative to member B" means that "the part of member A located furthest on the upstream (downstream) side of the airflow is located downstream (upstream) of airflow F relative to the part of member B located furthest on the downstream (upstream) side of the airflow."

なお、図2において、第1ディスペンサヘッド17Aの吐出位置P1aは、第2ディスペンサヘッド17Bの吐出位置P2aに対して気流Fの下流側に位置しているが、これに限られない。第1ディスペンサヘッド17Aの吐出位置P1aは、第2ディスペンサヘッド17Bの吐出位置P2aに対して気流Fの上流側に位置していなければ良い。すなわち第1ディスペンサヘッド17Aの吐出位置P1aと第2ディスペンサヘッド17Bの吐出位置P2aとは、気流Fの流れ方向に対して同一の位置に存在していても良い。例えば、図2に示す例では、第1ディスペンサヘッド17Aの吐出位置P1aのX座標と第2ディスペンサヘッド17Bの吐出位置P2aのX座標とは、互いに同一であっても良い。 2, the ejection position P1a of the first dispenser head 17A is located downstream of the airflow F with respect to the ejection position P2a of the second dispenser head 17B, but this is not limited thereto. The ejection position P1a of the first dispenser head 17A does not have to be located upstream of the airflow F with respect to the ejection position P2a of the second dispenser head 17B. In other words, the ejection position P1a of the first dispenser head 17A and the ejection position P2a of the second dispenser head 17B may be located at the same position with respect to the flow direction of the airflow F. For example, in the example shown in FIG. 2, the X coordinate of the ejection position P1a of the first dispenser head 17A and the X coordinate of the ejection position P2a of the second dispenser head 17B may be the same.

図2に示すように、モールド保持部18と、第2ディスペンサヘッド17Bの吐出位置P2aと、第1ディスペンサヘッド17Aの吐出位置P1aと、ロード領域20とは、平面から見てこの順に配置されている。この場合、モールド保持部18と、第2ディスペンサヘッド17Bの吐出位置P2aと、第1ディスペンサヘッド17Aの吐出位置P1aと、ロード領域20とは、この順に一直線状に並んで配置されている。これにより、ステージユニット13は、後述する接触工程より前の各工程の間、気流Fの上流に向かって遡る方向に移動し、モールド50の下方を通過することがない。この結果、ステージユニット13の影響によってパーティクル等の異物がモールド50に付着することが防止される。 2, the mold holding part 18, the discharge position P2a of the second dispenser head 17B, the discharge position P1a of the first dispenser head 17A, and the load area 20 are arranged in this order when viewed from above. In this case, the mold holding part 18, the discharge position P2a of the second dispenser head 17B, the discharge position P1a of the first dispenser head 17A, and the load area 20 are arranged in a straight line in this order. As a result, the stage unit 13 moves upstream toward the air flow F during each process before the contact process described below, and does not pass under the mold 50. As a result, foreign matter such as particles is prevented from adhering to the mold 50 due to the influence of the stage unit 13.

以下、インプリント装置10を構成する各要素について更に説明する。 The following describes each element of the imprint device 10 in more detail.

(ステージユニット13)
図1に示すように、ステージユニット(基材搬送部)13は、ステージユニット13をステージ定盤12上で水平方向に移動させる移動ステージ22と、移動ステージ22上に設けられ、インプリント用の基材40を保持する基材保持部(チャック)23とを有している。このうち移動ステージ22は、水平方向(この場合はX方向)に延びる動線TL(図2参照)に沿って基材保持部23を搬送して、基材40を所定の位置に位置決めするものである。また、移動ステージ22は、基材40のXY方向位置の調整を行うほか、θ(Z軸周りの回転)方向の位置を調整(補正)する機能、基材40のZ軸方向の位置を調整する機能、及び基材40の傾きを調整する機能を有していても良い。これら移動ステージ22と基材保持部23とは、移動ステージ22によって駆動され、一体となって水平方向に移動可能となっている。本実施の形態において、基材保持部23は、吸引による保持機構を用いて基材40を保持しているが、これに限らず、例えば、機械挟持による保持機構、静電気による保持機構等により基材40を保持しても良い。なお、ステージユニット13には、図示しない基準マーク、モールド側レベリングセンサ、ステージ位置計測ユニットなどが設けられていても良い。
(Stage unit 13)
As shown in FIG. 1, the stage unit (substrate transport unit) 13 has a moving stage 22 that moves the stage unit 13 horizontally on the stage base 12, and a substrate holding unit (chuck) 23 that is provided on the moving stage 22 and holds a substrate 40 for imprinting. The moving stage 22 transports the substrate holding unit 23 along a moving line TL (see FIG. 2) that extends in the horizontal direction (in this case, the X direction) to position the substrate 40 at a predetermined position. In addition, the moving stage 22 may have a function of adjusting (correcting) the position in the θ (rotation around the Z axis) direction, a function of adjusting the position of the substrate 40 in the Z axis direction, and a function of adjusting the inclination of the substrate 40, in addition to adjusting the XY direction position of the substrate 40. The moving stage 22 and the substrate holding unit 23 are driven by the moving stage 22 and can move horizontally together. In the present embodiment, the substrate holding unit 23 holds the substrate 40 using a holding mechanism that uses suction, but the present invention is not limited to this, and the substrate 40 may be held by, for example, a holding mechanism that uses mechanical clamping, a holding mechanism that uses static electricity, etc. The stage unit 13 may be provided with a reference mark, a mold side leveling sensor, a stage position measurement unit, etc., which are not shown.

(基材40)
インプリント用の基材40は、平坦な表面及び平坦な裏面を有する平板状基板からなっていても良い。あるいは、基材40は、表面の一部に周囲より高い凸状の段差を有するメサ形状のものであっても良く、裏面の一部に例えばザグリ加工等で切削された凹形状を有するものであっても良い。この基材40は、例えば、石英ガラス、珪酸系ガラス、フッ化カルシウム、フッ化マグネシウム、アクリルガラス等のガラスや、ポリカーボネート、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリエチレン等の樹脂等、又はこれらの任意の積層材からなる透明基板等であっても良い。また、基材40としては、ニッケル、チタン、アルミニウム等の金属基板、シリコン、窒化ガリウム等の半導体基板等も用いることができる。このような基材40は、例えばマスターテンプレートであるモールド50のレプリカを作製するためのレプリカブランクであっても良い。あるいは、基材40は、光学素子又は磁気記録媒体等であっても良い。
(Substrate 40)
The substrate 40 for imprinting may be a flat substrate having a flat front surface and a flat back surface. Alternatively, the substrate 40 may be a mesa-shaped substrate having a convex step higher than the surroundings on a part of the front surface, or a concave shape cut by, for example, countersinking on a part of the back surface. The substrate 40 may be, for example, a transparent substrate made of glass such as quartz glass, silicate glass, calcium fluoride, magnesium fluoride, acrylic glass, or resin such as polycarbonate, polypropylene, polyethylene, or any of these laminated materials. In addition, as the substrate 40, a metal substrate such as nickel, titanium, or aluminum, or a semiconductor substrate such as silicon or gallium nitride may also be used. Such a substrate 40 may be, for example, a replica blank for producing a replica of the mold 50, which is a master template. Alternatively, the substrate 40 may be an optical element or a magnetic recording medium.

(レベリング部15)
レベリング部15は、例えば、レーザー変位センサー等のレベリングセンサによって構成されている。このレベリング部15は、基材保持部23に保持された基材40の高さ(平坦度)を計測する機能を有している。
(Leveling section 15)
The leveling unit 15 is configured by a leveling sensor such as a laser displacement sensor, for example. The leveling unit 15 has a function of measuring the height (flatness) of the substrate 40 held by the substrate holding unit 23.

(アライメントカメラ16)
アライメントカメラ16は、基材40上に設けられた図示しないアライメントマークを検出することにより、ステージユニット13上の基材40の水平方向の位置決めを行うものである。具体的には、アライメントカメラ16によって基材40に形成されたアライメントマークを計測して、インプリント装置10に対する基材40の水平方向の位置ずれを求める。そして、インプリント装置10に対する基材40の位置ずれに基づいて、例えば移動ステージ22によって基材40の位置を調整する。アライメントカメラ16は、レベリング部15と略同一の位置に設けられているが、これに限らずアライメントカメラ16は、レベリング部15から離れた位置に設けられていても良い。
(Alignment camera 16)
The alignment camera 16 detects an alignment mark (not shown) provided on the substrate 40 to perform horizontal positioning of the substrate 40 on the stage unit 13. Specifically, the alignment camera 16 measures the alignment mark formed on the substrate 40 to obtain the horizontal positional deviation of the substrate 40 relative to the imprinting apparatus 10. Then, based on the positional deviation of the substrate 40 relative to the imprinting apparatus 10, the position of the substrate 40 is adjusted, for example, by the moving stage 22. The alignment camera 16 is provided at approximately the same position as the leveling unit 15, but is not limited thereto, and the alignment camera 16 may be provided at a position away from the leveling unit 15.

(第1ディスペンサヘッド17A)
第1ディスペンサヘッド17Aは、基材保持部23に保持された基材40上にインクジェット式で光硬化性樹脂等の第1樹脂材料の液滴41を吐出するものである。第1ディスペンサヘッド17Aは、例えばインクジェットヘッドからなっている。また、第1ディスペンサヘッド17Aには、第1ディスペンサヘッド17Aの所望の動作、例えば、水平方向動作等を可能とする駆動部、第1ディスペンサヘッド17Aへのインク供給部、及び、第1ディスペンサヘッド17A、駆動部及びインク供給部を制御する制御部等が設けられていても良い。この場合、第1ディスペンサヘッド17Aは、第1樹脂材料を吐出する吐出位置P1a(図2の二点鎖線)と、第1樹脂材料を吐出するまでの間に待機する待機位置(図2の実線)P1bとをとることができる。この場合、第1ディスペンサヘッド17Aは、吐出位置P1aと待機位置P1bとの間でY方向に移動可能となっている。
(First dispenser head 17A)
The first dispenser head 17A ejects droplets 41 of a first resin material such as a photocurable resin on a substrate 40 held by a substrate holding unit 23 in an inkjet manner. The first dispenser head 17A is, for example, an inkjet head. The first dispenser head 17A may be provided with a drive unit that enables the first dispenser head 17A to perform a desired operation, such as a horizontal operation, an ink supply unit to the first dispenser head 17A, and a control unit that controls the first dispenser head 17A, the drive unit, and the ink supply unit. In this case, the first dispenser head 17A can take an ejection position P1a (two-dot chain line in FIG. 2) where the first resin material is ejected, and a standby position P1b (solid line in FIG. 2) where the first dispenser head 17A waits until the first resin material is ejected. In this case, the first dispenser head 17A is movable in the Y direction between the ejection position P1a and the standby position P1b.

(第2ディスペンサヘッド17B)
第2ディスペンサヘッド17Bは、基材保持部23に保持された基材40上にインクジェット式で光硬化性樹脂等の第2樹脂材料の液滴41を吐出するものである。第2ディスペンサヘッド17Bは、例えばインクジェットヘッドからなっている。また、第2ディスペンサヘッド17Bには、第2ディスペンサヘッド17Bの所望の動作、例えば、水平方向動作等を可能とする駆動部、第2ディスペンサヘッド17Bへのインク供給部、及び、第2ディスペンサヘッド17B、駆動部及びインク供給部を制御する制御部等が設けられていても良い。この場合、第2ディスペンサヘッド17Bは、第2樹脂材料を吐出する吐出位置P2a(図2の二点鎖線)と、第2樹脂材料を吐出するまでの間に待機する待機位置(図2の実線)P2bとをとることができる。この場合、第2ディスペンサヘッド17Bは、吐出位置P2aと待機位置P2bとの間でY方向に移動可能となっている。
(Second dispenser head 17B)
The second dispenser head 17B ejects droplets 41 of a second resin material such as a photocurable resin on the substrate 40 held by the substrate holding unit 23 by an inkjet method. The second dispenser head 17B is, for example, an inkjet head. The second dispenser head 17B may be provided with a drive unit that enables the second dispenser head 17B to perform a desired operation, such as a horizontal operation, an ink supply unit to the second dispenser head 17B, and a control unit that controls the second dispenser head 17B, the drive unit, and the ink supply unit. In this case, the second dispenser head 17B can take an ejection position P2a (two-dot chain line in FIG. 2) where the second resin material is ejected, and a standby position P2b (solid line in FIG. 2) where the second resin material is standby until the second resin material is ejected. In this case, the second dispenser head 17B is movable in the Y direction between the ejection position P2a and the standby position P2b.

(第1樹脂材料及び第2樹脂材料)
第1樹脂材料及び第2樹脂材料は、それぞれ例えば光硬化性樹脂からなっている。光硬化性樹脂は、一般に主剤、開始剤、架橋剤により構成され、また、必要に応じて、モールド50との付着を抑制するための離型剤や、基材40との密着性を向上させるための密着剤を含有している。本実施の形態で使用する光硬化性樹脂には特に制限はなく、公知の光硬化性樹脂から、インプリントで製造するパターン構造体の用途、要求される特性、物性等に応じて適宜選択することができる。例えば、パターン構造体の用途がリソグラフィ用途であれば、エッチング耐性や粘度が低く残膜厚みが少ないことが要求され、パターン構造体の用途が光学部材であれば、特定の屈折率、光透過性が要求される。これらの要求に応じて光硬化性樹脂を適宜選択することができる。但し、いずれの用途であっても、使用するインクジェットヘッドへの適合性を満たす特性(粘度、表面張力等)を具備していることが要求される。なお、インクジェットヘッドは、その構造及び材質等に応じて、適合する液体の粘度、表面張力等が異なる。このため、光硬化性樹脂の粘度や表面張力等を適宜に調整すること、あるいは、使用する光硬化性樹脂に適合するインクジェットヘッドを適宜に選択することが可能である。
(First resin material and second resin material)
The first resin material and the second resin material are each made of, for example, a photocurable resin. The photocurable resin is generally composed of a base agent, an initiator, and a crosslinking agent, and further contains a release agent for suppressing adhesion to the mold 50 and an adhesive agent for improving adhesion to the substrate 40, as necessary. The photocurable resin used in this embodiment is not particularly limited, and can be appropriately selected from known photocurable resins according to the application, required characteristics, physical properties, etc. of the pattern structure manufactured by imprinting. For example, if the application of the pattern structure is for lithography, low etching resistance and viscosity and small residual film thickness are required, and if the application of the pattern structure is an optical member, a specific refractive index and light transmittance are required. The photocurable resin can be appropriately selected according to these requirements. However, regardless of the application, it is required to have characteristics (viscosity, surface tension, etc.) that satisfy compatibility with the inkjet head to be used. Note that the viscosity, surface tension, etc. of the liquid that is compatible with the inkjet head differs depending on its structure, material, etc. Therefore, it is possible to appropriately adjust the viscosity, surface tension, etc. of the photocurable resin, or to appropriately select an inkjet head that is suitable for the photocurable resin used.

第1樹脂材料及び第2樹脂材料は、互いに異なる種類の成分を含んでいても良く、互いに異なる量の成分を含んでいても良く、又は互いに異なる性質を有していても良い。本実施の形態において、第1樹脂材料は、第2樹脂材料よりも揮発性が高いものが用いられる。具体的には、第1樹脂材料の常温(25℃)での蒸気圧が、第2樹脂材料の常温での蒸気圧よりも高いことにより、第1樹脂材料の揮発性が第2樹脂材料の揮発性よりも高くても良い。また第1樹脂材料の粘度が、第2樹脂材料の粘度よりも小さくても良い。この場合、第1樹脂材料は、第2樹脂材料よりも薄く広がりやすいため、揮発性が高くなる。あるいは、基材40への第1樹脂材料の接触角が、基材40への第2樹脂材料の接触角よりも小さくても良い。この場合、基材40上で、第1樹脂材料が第2樹脂材料よりも薄く広がりやすいため、揮発性が高くなる。このような揮発性は、例えば上述した主剤、開始剤、架橋剤の成分や量を適宜設定することにより、調整することができる。 The first resin material and the second resin material may contain different types of components, different amounts of components, or different properties. In this embodiment, the first resin material is more volatile than the second resin material. Specifically, the vapor pressure of the first resin material at room temperature (25°C) may be higher than the vapor pressure of the second resin material at room temperature, so that the volatility of the first resin material may be higher than that of the second resin material. The viscosity of the first resin material may be lower than that of the second resin material. In this case, the first resin material spreads more thinly than the second resin material, so that the volatility is higher. Alternatively, the contact angle of the first resin material to the substrate 40 may be lower than the contact angle of the second resin material to the substrate 40. In this case, the first resin material spreads more thinly on the substrate 40 than the second resin material, so that the volatility is higher. Such volatility can be adjusted, for example, by appropriately setting the components and amounts of the main agent, initiator, and crosslinking agent described above.

樹脂材料の揮発性の高低は、例えば、以下のようにして比較することができる。図3(a)に示すように、基材40上に複数種類(この場合は3種類)の樹脂材料Ra、Rb、Rcを同量ずつ滴下し、待機する。一定時間の経過後、揮発せず残存した樹脂材料の量を比較し、残存量が少ないものほど揮発性が高いと判断することができる。例えば図3(b)に示す例では、樹脂材料Raの揮発性が最も高く、次いで樹脂材料Rbの揮発性が高く、樹脂材料Rcの揮発性が最も低いと考えられる。 The volatility of resin materials can be compared, for example, as follows. As shown in FIG. 3(a), equal amounts of multiple types of resin materials (three types in this case) Ra, Rb, and Rc are dropped onto the substrate 40, and then waiting is performed. After a certain time has passed, the amounts of resin material remaining that have not volatilized are compared, and it can be determined that the less remaining amount is the more volatile the material. For example, in the example shown in FIG. 3(b), it is considered that the resin material Ra has the highest volatility, followed by the resin material Rb, and the resin material Rc has the lowest volatility.

(インク受容部材26)
図2に示すように、第1ディスペンサヘッド17Aの待機位置の下方及び第2ディスペンサヘッド17Bの待機位置の下方に、それぞれインク受容部材26が設けられていても良い。インク受容部材26は、第1ディスペンサヘッド17A及び第2ディスペンサヘッド17Bの吐出性能維持を目的として待機位置で定期的に予備吐出(捨て打ち、フラッシングとも呼ばれる)される液滴を受容するものであり、例えば、所望の形状の開口部を有する有底容器を備えていても良い。また、このような有底容器の底部に多孔質体を備えるものであってもよく、これにより液滴の受容性が向上する。多孔質体としては、無機あるいは有機の公知の多孔質体、布等、液滴の成分により溶解、劣化しない材料からなるものであれば、特に制限はない。
(Ink receiving member 26)
As shown in Fig. 2, ink receiving members 26 may be provided below the standby positions of the first dispenser head 17A and the second dispenser head 17B. The ink receiving members 26 receive droplets that are periodically pre-ejected (also called "flush") at the standby positions in order to maintain the ejection performance of the first dispenser head 17A and the second dispenser head 17B, and may be, for example, a bottomed container having an opening of a desired shape. In addition, the bottom of such a bottomed container may be provided with a porous body, which improves the droplet acceptance. There is no particular restriction on the porous body, so long as it is made of a material that is not dissolved or deteriorated by the components of the droplets, such as a known inorganic or organic porous body or cloth.

(モールド保持部18)
モールド保持部18は、モールド50の凹凸パターン51を有する面をステージユニット13の方向に向けた状態で、モールド50を保持するものである。このモールド保持部18は、例えば、吸引による保持機構、機械挟持による保持機構、静電気による保持機構等によりモールド50を保持するものであり、保持機構の具体的構成には特に制限はない。
(Mold holding portion 18)
The mold holding unit 18 holds the mold 50 with the surface of the mold 50 having the concave-convex pattern 51 facing the stage unit 13. The mold holding unit 18 holds the mold 50 by, for example, a holding mechanism that uses suction, a holding mechanism that uses mechanical clamping, a holding mechanism that uses static electricity, or the like, and there are no particular limitations on the specific configuration of the holding mechanism.

モールド保持部18には、高さ制御機構31が取り付けられており、これによりモールド50の高さ方向(Z軸方向)位置を制御ないし調整可能となっている。高さ制御機構31は、モールド50を下方向に駆動することによって、基材40上の光硬化性樹脂にモールド50を押し付ける。また、高さ制御機構31は、モールド50を上方向に駆動することによって、基材40上の光硬化性樹脂からモールド50を剥離(離型)する。 A height control mechanism 31 is attached to the mold holding unit 18, which allows the height (Z-axis) position of the mold 50 to be controlled or adjusted. The height control mechanism 31 drives the mold 50 downward to press the mold 50 against the photocurable resin on the substrate 40. The height control mechanism 31 also drives the mold 50 upward to peel (release) the mold 50 from the photocurable resin on the substrate 40.

(モールド50)
モールド50は、その下面の中央領域に形成された微細な凹凸パターン51を有している。この凹凸パターン51は、例えば電子線リソグラフィ法によって形成されたものである。モールド50は、照射部21からの光を透過する材料で構成され、例えば、石英ガラス、珪酸系ガラス、フッ化カルシウム、フッ化マグネシウム、アクリルガラス等、あるいは、これらの任意の積層材を用いることができる。またモールド50は、基材40に転写すべき凹凸パターン51が形成されたパターン面を有する。このモールド50は、モールド用基板の表面に電子線レジストを塗布し、電子線レジストに電子線描画を行ってレジストパターンを形成し、このレジストパターンをエッチングマスクとしてモールド用基板をエッチングして凹凸パターン51を形成することで、製造されている。凹凸パターン51は、図中では概略的に示されているが、凹凸パターン51の凸部の高さ(凹部の深さ)、ピッチ、数、配置面積(モールド50の主面に対する凹凸パターン51の占有面積)、形状(ライン形状、ドット形状(モスアイ状)等)は、特に限定されるものではなく、製造の対象となる基材に応じて適宜設定され得る。また、凹凸パターン51の寸法は、特に限定されるものではないが、例えば、凸部の幅が40nm以下、好ましく10nm以上30nm以下であり、隣接する凸部の間の間隔は、40nm以下、好ましく10nm以上30nm以下である。モールド50のステージユニット13側の面は、凹凸パターン51を有さない平坦な面であっても良い。なお、基材40がレプリカテンプレート作製用のレプリカブランクである場合、モールド50は、レプリカテンプレートを作製するためのマスターテンプレートであっても良い。
(Mold 50)
The mold 50 has a fine uneven pattern 51 formed in the central region of its lower surface. The uneven pattern 51 is formed, for example, by electron beam lithography. The mold 50 is made of a material that transmits light from the irradiation unit 21, and can be, for example, quartz glass, silicate glass, calcium fluoride, magnesium fluoride, acrylic glass, or any laminate of these materials. The mold 50 also has a pattern surface on which the uneven pattern 51 to be transferred to the base material 40 is formed. The mold 50 is manufactured by applying an electron beam resist to the surface of a mold substrate, performing electron beam drawing on the electron beam resist to form a resist pattern, and etching the mold substrate using the resist pattern as an etching mask to form the uneven pattern 51. Although the uneven pattern 51 is shown in the figure, the height of the convex portion (depth of the concave portion), pitch, number, arrangement area (area occupied by the uneven pattern 51 relative to the main surface of the mold 50), and shape (line shape, dot shape (moth eye shape), etc.) of the uneven pattern 51 are not particularly limited and can be appropriately set according to the substrate to be manufactured. In addition, the dimensions of the uneven pattern 51 are not particularly limited, but for example, the width of the convex portion is 40 nm or less, preferably 10 nm or more and 30 nm or less, and the interval between adjacent convex portions is 40 nm or less, preferably 10 nm or more and 30 nm or less. The surface of the mold 50 on the stage unit 13 side may be a flat surface that does not have the uneven pattern 51. In addition, when the substrate 40 is a replica blank for producing a replica template, the mold 50 may be a master template for producing a replica template.

(照射部21)
照射部21は、基材40の上に供給(塗布)された光硬化性樹脂に光を照射する。後述するように、本実施の形態では、基材40の上に供給される第1樹脂材料及び第2樹脂材料は光硬化性樹脂であるため、かかる光硬化性樹脂は照射部21からの光の照射によって硬化する。なお、モールド保持部18には、照射部21からの光を通過させる開口が設けられている。
(Irradiation unit 21)
The irradiation unit 21 irradiates light onto the photocurable resin supplied (applied) onto the substrate 40. As described below, in the present embodiment, the first resin material and the second resin material supplied onto the substrate 40 are photocurable resins, and therefore, the photocurable resins are cured by irradiation with light from the irradiation unit 21. Note that the mold holding unit 18 is provided with an opening that allows the light from the irradiation unit 21 to pass through.

(気流形成部19)
気流形成部19は、上述したように、チャンバ11内に一側から他側(X軸方向マイナス側からX軸方向プラス側)に向かう気流Fを形成するものである。この気流は、モールド保持部18に対して横方向に吹き込まれる。また気流形成部19は、チャンバ11内において、平面から見てモールド保持部18に対して第1ディスペンサヘッド17A及び第2ディスペンサヘッド17Bの反対側に配置されている。気流形成部19は、チャンバ11内をパーティクル等の異物の影響を除いた良好な転写環境にするものであり、例えば清浄な空気(クリーンエア)からなる気流Fを送り込むものであっても良い。なお、クリーンエアとしては、外気を取り込んだものであっても良く、例えば、フィルターを通した外気を用いることが好ましい。
(Air flow forming unit 19)
As described above, the airflow forming unit 19 forms an airflow F from one side to the other side (from the negative side in the X-axis direction to the positive side in the X-axis direction) in the chamber 11. This airflow is blown laterally into the mold holding unit 18. The airflow forming unit 19 is disposed in the chamber 11 on the opposite side of the mold holding unit 18 from the first dispenser head 17A and the second dispenser head 17B in plan view. The airflow forming unit 19 creates a good transfer environment in the chamber 11 free from the influence of foreign matter such as particles, and may, for example, send in an airflow F made of clean air. The clean air may be taken in from the outside, and it is preferable to use, for example, filtered outside air.

(除電装置32)
また、図1及び図2に示すように、チャンバ11内には、モールド50及び基材40を除電する除電装置32が設けられている。この除電装置32は、モールド50及び基材40が帯電することによりモールド50及び基材40に異物が付着することを防止するためのものである。このような除電装置32は、例えば軟X線型イオナイザであり、具体的には、軟X線(低エネルギーなX線)を照射することによりチャンバ11内のガス分子をイオン化して除電するものであっても良い。軟X線型イオナイザを用いた場合、発塵することがなく、安定した除電性能を得ることができる。
(Static charge removal device 32)
1 and 2, a static eliminator 32 for eliminating static electricity from the mold 50 and the substrate 40 is provided in the chamber 11. The static eliminator 32 is for preventing the mold 50 and the substrate 40 from being charged and causing foreign matter to adhere to the mold 50 and the substrate 40. The static eliminator 32 is, for example, a soft X-ray ionizer, and specifically, may be one that irradiates soft X-rays (low-energy X-rays) to ionize gas molecules in the chamber 11 to eliminate static electricity. When a soft X-ray ionizer is used, dust is not generated and stable static elimination performance can be obtained.

除電装置32は、モールド保持部18に対して気流Fの下流側とならない位置に配置されている。これにより、除電装置32によって生成されたイオンが、気流Fによって気流Fの下流側に流されるので、モールド50及び基材40を効果的に除電することができる。具体的には、気流FがX軸方向マイナス側からX軸方向プラス側に向かう場合、除電装置32は、モールド保持部18に対してX軸方向マイナス側に位置するか、Y軸方向プラス側又はY軸方向マイナス側に位置することが好ましい。図2においては、除電装置32は、モールド保持部18に対してX軸方向マイナス側に位置している。 The static eliminator 32 is disposed at a position that is not downstream of the airflow F relative to the mold holding unit 18. This allows the ions generated by the static eliminator 32 to be swept downstream of the airflow F by the airflow F, thereby effectively eliminating static electricity from the mold 50 and the substrate 40. Specifically, when the airflow F flows from the negative side in the X-axis direction to the positive side in the X-axis direction, it is preferable that the static eliminator 32 be disposed on the negative side in the X-axis direction relative to the mold holding unit 18, or on the positive or negative side in the Y-axis direction. In FIG. 2, the static eliminator 32 is disposed on the negative side in the X-axis direction relative to the mold holding unit 18.

[インプリント方法]
次に、上述したインプリント装置10を用いてインプリント処理を行うインプリント方法について、図4(a)-(d)及び図5(a)-(d)を参照して説明する。図4(a)-(d)及び図5(a)-(d)はそれぞれ本実施の形態によるインプリント方法の一工程を示す側面図である。なお、図4(a)-(d)及び図5(a)-(d)において、図1及び図2に示す実施の形態と同一部分には同一の符号を付してある。また図4(a)-(d)及び図5(a)-(d)において、便宜上、チャンバ11、レベリング部15、アライメントカメラ16及びロード領域20等、いくつかの構成要素の図示を省略している。
[Imprinting method]
Next, an imprinting method for performing an imprinting process using the above-mentioned imprinting apparatus 10 will be described with reference to Figures 4(a)-(d) and 5(a)-(d). Figures 4(a)-(d) and 5(a)-(d) are side views showing one step of the imprinting method according to this embodiment. In Figures 4(a)-(d) and 5(a)-(d), the same parts as those in the embodiment shown in Figures 1 and 2 are denoted by the same reference numerals. In Figures 4(a)-(d) and 5(a)-(d), for the sake of convenience, some components such as the chamber 11, the leveling unit 15, the alignment camera 16, and the loading area 20 are omitted from the illustration.

ここでは、1つの基材40上に、第1樹脂材料からなる第1光硬化性樹脂層(第1樹脂層)42Aと、第2樹脂材料からなる第2光硬化性樹脂層(第2樹脂層)42Bとを重ねて形成する場合について説明する。 Here, we will explain the case where a first photocurable resin layer (first resin layer) 42A made of a first resin material and a second photocurable resin layer (second resin layer) 42B made of a second resin material are formed on top of each other on a single substrate 40.

まず、基材保持部23に基材40が搭載されていない状態で、ステージユニット13をロード領域20(図1及び図2参照)に移動する(ロード領域移動工程)。なお、ステージユニット13は、移動ステージ22が駆動されることにより、ステージ定盤12上を水平移動する(以下の各工程においても同様)。次に、このロード領域20において、ステージユニット13の基材保持部23上に基材40を保持する(基材保持工程)。この場合、基材40が基材保持部23に真空吸引されることにより吸着保持されても良い。 First, the stage unit 13 is moved to the load area 20 (see Figures 1 and 2) with no substrate 40 mounted on the substrate holder 23 (load area movement process). The stage unit 13 moves horizontally on the stage base 12 by driving the moving stage 22 (the same applies to the following processes). Next, in this load area 20, the substrate 40 is held on the substrate holder 23 of the stage unit 13 (substrate holding process). In this case, the substrate 40 may be held by suction to the substrate holder 23 by vacuum suction.

続いて、ステージユニット13をX軸方向マイナス側に移動することにより、基材40をレベリング部15(図1及び図2参照)の下方に移動し、レベリング部15において基材40の高さ方向位置が計測される(レベリング工程)。続いて、ステージユニット13をX軸方向マイナス側に移動することにより、基材40をアライメントカメラ16の下方に移動し、アライメントカメラ16を用いて基材40の水平方向位置調整を行う(アライメント工程)。 Then, the stage unit 13 is moved in the negative X-axis direction to move the substrate 40 below the leveling section 15 (see Figures 1 and 2), and the height direction position of the substrate 40 is measured in the leveling section 15 (leveling process). The stage unit 13 is then moved in the negative X-axis direction to move the substrate 40 below the alignment camera 16, and the horizontal position of the substrate 40 is adjusted using the alignment camera 16 (alignment process).

次に、第1ディスペンサヘッド17Aを待機位置P1bからY軸方向マイナス側に移動し、吐出位置P1aで停止させる(第1ディスペンサヘッド位置移動工程)。またステージユニット13をX軸方向マイナス側に移動することにより、基材40を第1ディスペンサヘッド17Aの下方に移動する(ディスペンサ位置移動工程)。 Next, the first dispenser head 17A is moved from the standby position P1b to the negative side in the Y-axis direction and stopped at the discharge position P1a (first dispenser head position moving process). In addition, the stage unit 13 is moved to the negative side in the X-axis direction, thereby moving the substrate 40 below the first dispenser head 17A (dispenser position moving process).

続いて、図4(a)に示すように、基材保持部23に保持された基材40に、第1ディスペンサヘッド17Aから光硬化性樹脂等の第1樹脂材料の液滴41を吐出して供給する(液滴供給工程)。この液滴供給工程では、第1ディスペンサヘッド17Aの下方位置にある基材40上の所望の領域に、第1ディスペンサヘッド17Aから第1樹脂材料の液滴41を吐出して供給する。その後、第1ディスペンサヘッド17Aは、吐出位置P1aからY軸方向プラス側に移動し、待機位置P1bに戻る。 Next, as shown in FIG. 4(a), droplets 41 of a first resin material such as a photocurable resin are ejected from the first dispenser head 17A and supplied to the substrate 40 held by the substrate holding unit 23 (droplet supplying process). In this droplet supplying process, droplets 41 of the first resin material are ejected from the first dispenser head 17A and supplied to a desired area on the substrate 40 located below the first dispenser head 17A. Then, the first dispenser head 17A moves from the ejection position P1a to the positive side in the Y-axis direction and returns to the standby position P1b.

なお、図4(a)-(d)及び図5(a)-(d)において、吐出位置P1aにある第1ディスペンサヘッド17A及び吐出位置P2aにある第2ディスペンサヘッド17Bをそれぞれ実線で示している。また、待機位置P1bにある第1ディスペンサヘッド17A及び待機位置P2bにある第2ディスペンサヘッド17Bをそれぞれ二点鎖線で示している。 In addition, in Figures 4(a)-(d) and 5(a)-(d), the first dispenser head 17A at the ejection position P1a and the second dispenser head 17B at the ejection position P2a are each indicated by solid lines. Also, the first dispenser head 17A at the standby position P1b and the second dispenser head 17B at the standby position P2b are each indicated by two-dot chain lines.

本実施の形態においては、気流形成部19によって一側(X方向マイナス側)から他側(X方向プラス側)に向かう気流Fが形成されている。これにより、第1ディスペンサヘッド17Aから基材40上に吐出された第1樹脂材料の液滴41からの揮発成分やミストが、転写部25側へ拡散してモールド50等に付着することが抑制される。 In this embodiment, the airflow forming unit 19 forms an airflow F that flows from one side (negative side in the X direction) to the other side (positive side in the X direction). This prevents the volatile components and mist from the droplets 41 of the first resin material ejected from the first dispenser head 17A onto the substrate 40 from diffusing toward the transfer unit 25 and adhering to the mold 50, etc.

次に、図4(b)に示すように、ステージユニット13をX軸方向マイナス側に移動することにより、基材40をモールド保持部18に保持されたモールド50の下方に移動する(モールド位置移動工程)。 Next, as shown in FIG. 4(b), the stage unit 13 is moved in the negative X-axis direction to move the substrate 40 below the mold 50 held by the mold holding unit 18 (mold position movement process).

続いて、図4(c)に示すように、モールド50と基材40とを近接させることにより、モールド50と基材40との間に第1樹脂材料の液滴41を展開して第1樹脂材料の第1光硬化性樹脂層42Aを形成する(接触工程)。この接触工程においては、高さ制御機構31によってモールド保持部18が下降し、モールド保持部18と基材保持部23とが近接する。これにより、モールド50と基材40との間に第1樹脂材料の液滴41が展開され、第1光硬化性樹脂層42Aが形成される。 Next, as shown in FIG. 4(c), the mold 50 and the substrate 40 are brought close to each other, so that droplets 41 of the first resin material are spread between the mold 50 and the substrate 40 to form a first photocurable resin layer 42A of the first resin material (contact step). In this contact step, the height control mechanism 31 lowers the mold holding part 18, so that the mold holding part 18 and the substrate holding part 23 are brought close to each other. As a result, droplets 41 of the first resin material are spread between the mold 50 and the substrate 40, and the first photocurable resin layer 42A is formed.

次いで、照射部21からの光によって光照射を行い、第1光硬化性樹脂層42Aを硬化させる。これにより、第1光硬化性樹脂層42Aにモールド50の凹凸パターン51が転写される(硬化工程)。この硬化工程においては、モールド保持部18が下降した状態で、モールド保持部18の上方に位置する照射部21から光照射を行う。これにより第1光硬化性樹脂層42Aを光硬化させて、モールド50の凹凸パターン51の表面形状が転写された第1光硬化性樹脂層42Aが得られる。 Next, light is irradiated from the irradiation unit 21 to harden the first photocurable resin layer 42A. This transfers the concave-convex pattern 51 of the mold 50 to the first photocurable resin layer 42A (hardening process). In this hardening process, light is irradiated from the irradiation unit 21 located above the mold holding unit 18 while the mold holding unit 18 is lowered. This photohardens the first photocurable resin layer 42A, resulting in a first photocurable resin layer 42A to which the surface shape of the concave-convex pattern 51 of the mold 50 has been transferred.

その後、図4(d)に示すように、第1光硬化性樹脂層42Aとモールド50とを引き離す(離型工程)。この離型工程においては、高さ制御機構31によってモールド保持部18が上昇することにより、第1光硬化性樹脂層42Aとモールド50とを引き離す。これにより、基材40上に凹凸パターン構造を有する第1光硬化性樹脂層42Aが形成される。 After that, as shown in FIG. 4(d), the first photocurable resin layer 42A is separated from the mold 50 (mold release process). In this mold release process, the height control mechanism 31 raises the mold holding part 18, thereby separating the first photocurable resin layer 42A from the mold 50. As a result, the first photocurable resin layer 42A having a concave-convex pattern structure is formed on the substrate 40.

続いて、モールド保持部18に保持されたモールド50を、モールド50と異なる形状を有する他のモールド50A(以下、単にモールド50Aともいう)に交換する。この場合、他のモールド50Aは、凹凸パターン51を有していないが、これに限らず、モールド50と異なる形状の凹凸パターンを有していても良い。 Next, the mold 50 held by the mold holding unit 18 is replaced with another mold 50A (hereinafter simply referred to as mold 50A) having a different shape from the mold 50. In this case, the other mold 50A does not have the concave-convex pattern 51, but this is not limited thereto, and the other mold 50A may have a concave-convex pattern of a different shape from the mold 50.

次に、第2ディスペンサヘッド17Bを待機位置P2bからY軸方向マイナス側に移動し、吐出位置P2aで停止させる(第2ディスペンサヘッド位置移動工程)。またステージユニット13をX軸方向マイナス側に移動することにより、基材40を第2ディスペンサヘッド17Bの下方に移動する(ディスペンサ位置移動工程)。 Next, the second dispenser head 17B is moved from the standby position P2b to the negative side in the Y-axis direction and stopped at the discharge position P2a (second dispenser head position moving process). In addition, the stage unit 13 is moved to the negative side in the X-axis direction, thereby moving the substrate 40 below the second dispenser head 17B (dispenser position moving process).

続いて、図5(a)に示すように、基材保持部23に保持された基材40に、第2ディスペンサヘッド17Bから光硬化性樹脂等の第2樹脂材料の液滴41を吐出して供給する(液滴供給工程)。この液滴供給工程では、第2ディスペンサヘッド17Bの下方位置にある基材40上の所望の領域に、第2ディスペンサヘッド17Bから第2樹脂材料の液滴41を吐出して供給する。このとき、第2樹脂材料の液滴41は、第1光硬化性樹脂層42A上に吐出される。その後、第2ディスペンサヘッド17Bは、吐出位置P2aからY軸方向プラス側に移動し、待機位置P2bに戻る。 Next, as shown in FIG. 5(a), droplets 41 of a second resin material such as a photocurable resin are ejected from the second dispenser head 17B onto the substrate 40 held by the substrate holder 23 (droplet supply process). In this droplet supply process, droplets 41 of the second resin material are ejected from the second dispenser head 17B onto a desired area on the substrate 40 below the second dispenser head 17B. At this time, the droplets 41 of the second resin material are ejected onto the first photocurable resin layer 42A. After that, the second dispenser head 17B moves from the ejection position P2a to the positive side in the Y-axis direction and returns to the standby position P2b.

次に、図5(b)に示すように、ステージユニット13をX軸方向マイナス側に移動することにより、基材40をモールド保持部18に保持されたモールド50Aの下方に移動する(モールド位置移動工程)。 Next, as shown in FIG. 5(b), the stage unit 13 is moved in the negative X-axis direction to move the substrate 40 below the mold 50A held by the mold holding section 18 (mold position movement process).

続いて、図5(c)に示すように、モールド50Aと基材40とを近接させることにより、モールド50Aと基材40との間に第2樹脂材料の液滴41を展開して第2樹脂材料の第2光硬化性樹脂層42Bを形成する(接触工程)。この接触工程においては、高さ制御機構31によってモールド保持部18が下降し、モールド保持部18と基材保持部23とが近接する。これにより、モールド50Aと基材40との間に第2樹脂材料の液滴41が展開され、第2光硬化性樹脂層42Bが形成される。 Next, as shown in FIG. 5(c), the mold 50A and the substrate 40 are brought close to each other, so that droplets 41 of the second resin material are spread between the mold 50A and the substrate 40 to form a second photocurable resin layer 42B of the second resin material (contact step). In this contact step, the height control mechanism 31 lowers the mold holding part 18, so that the mold holding part 18 and the substrate holding part 23 are brought close to each other. As a result, droplets 41 of the second resin material are spread between the mold 50A and the substrate 40, and the second photocurable resin layer 42B is formed.

次いで、照射部21からの光によって光照射を行い、第2光硬化性樹脂層42Bを硬化させる。これにより、第2光硬化性樹脂層42Bにモールド50Aの平坦な下面の形状が転写される(硬化工程)。この硬化工程においては、モールド保持部18が下降した状態で、モールド保持部18の上方に位置する照射部21から光照射を行う。これにより第2光硬化性樹脂層42Bを光硬化させて、モールド50Aの平坦な下面の表面形状が転写された第2光硬化性樹脂層42Bが得られる。 Next, light is irradiated from the irradiation unit 21 to harden the second photocurable resin layer 42B. This transfers the shape of the flat lower surface of the mold 50A to the second photocurable resin layer 42B (hardening process). In this hardening process, light is irradiated from the irradiation unit 21 located above the mold holding unit 18 while the mold holding unit 18 is lowered. This photohardens the second photocurable resin layer 42B, resulting in the second photocurable resin layer 42B to which the surface shape of the flat lower surface of the mold 50A has been transferred.

その後、図5(d)に示すように、第2光硬化性樹脂層42Bとモールド50Aとを引き離す(離型工程)。この離型工程においては、高さ制御機構31によってモールド保持部18が上昇することにより、第2光硬化性樹脂層42Bとモールド50Aとを引き離す。これにより、基材40上であって第1光硬化性樹脂層42A上に、平坦な上面を有する第2光硬化性樹脂層42Bが形成される。 After that, as shown in FIG. 5(d), the second photocurable resin layer 42B and the mold 50A are separated (mold release process). In this mold release process, the height control mechanism 31 raises the mold holding part 18, thereby separating the second photocurable resin layer 42B and the mold 50A. As a result, the second photocurable resin layer 42B having a flat upper surface is formed on the substrate 40 and on the first photocurable resin layer 42A.

なお、図4(a)-(d)及び図5(a)-(d)においては、基材40上に、第1樹脂材料からなる第1光硬化性樹脂層42Aを形成した後、第2樹脂材料からなる第2光硬化性樹脂層42Bを形成しているが、これに限らない。第2樹脂材料からなる第2光硬化性樹脂層42Bを形成した後、第1樹脂材料からなる第1光硬化性樹脂層42Aを形成しても良い。 In addition, in Figs. 4(a)-(d) and 5(a)-(d), the first photocurable resin layer 42A made of the first resin material is formed on the substrate 40, and then the second photocurable resin layer 42B made of the second resin material is formed, but this is not limited to this. The first photocurable resin layer 42A made of the first resin material may be formed after the second photocurable resin layer 42B made of the second resin material is formed.

上述したように、本実施の形態においては、インプリント装置10は、第1ディスペンサヘッド17Aと第2ディスペンサヘッド17Bとを備え、第1ディスペンサヘッド17Aと第2ディスペンサヘッド17Bとは、互いに独立して移動可能となっている。これにより同一のインプリント装置10内で、1つの基材40に対して異なる樹脂材料(第1樹脂材料及び第2樹脂材料)を供給することができる。この結果、基材40上に互いに異なる樹脂材料(第1樹脂材料及び第2樹脂材料)からなる複数の樹脂層(第1光硬化性樹脂層42A、第2光硬化性樹脂層42B)を重ねて形成することが可能となる。 As described above, in this embodiment, the imprinting device 10 includes a first dispenser head 17A and a second dispenser head 17B, and the first dispenser head 17A and the second dispenser head 17B are movable independently of each other. This allows different resin materials (first resin material and second resin material) to be supplied to one substrate 40 within the same imprinting device 10. As a result, it is possible to form a plurality of resin layers (first photocurable resin layer 42A, second photocurable resin layer 42B) made of different resin materials (first resin material and second resin material) on top of each other on the substrate 40.

また、本実施の形態においては、チャンバ11内には、気流形成部19によって一側から他側(X軸方向マイナス側からX軸方向プラス側)に向かう気流Fが形成されている。この場合、第1樹脂材料は、第2樹脂材料よりも揮発性が高く、第1ディスペンサヘッド17Aは、第2ディスペンサヘッド17Bに対して気流Fの下流側に位置する。これにより、上述した揮発性の高い第1樹脂材料の成分が、転写部25側に運ばれにくい。これにより、揮発した成分による転写部25に存在する各種部材の汚染を抑制することができる。 In addition, in this embodiment, an airflow F is formed in the chamber 11 by the airflow forming unit 19, which flows from one side to the other side (from the negative side in the X-axis direction to the positive side in the X-axis direction). In this case, the first resin material is more volatile than the second resin material, and the first dispenser head 17A is located downstream of the airflow F relative to the second dispenser head 17B. This makes it difficult for the highly volatile components of the first resin material described above to be transported to the transfer unit 25. This makes it possible to suppress contamination of various members present in the transfer unit 25 by the volatilized components.

すなわち第1樹脂材料及び第2樹脂材料は、それぞれ第1ディスペンサヘッド17A及び第2ディスペンサヘッド17Bから、例えばインクジェット方式により、数pL乃至数十pLの液量の液滴として供給される。このような微量の液滴は揮発性が高く、揮発成分が転写部25側に運ばれやすい。本実施の形態においては、上述したように、より揮発性の高い第1樹脂材料を吐出する第1ディスペンサヘッド17Aを、より揮発性の低い第2樹脂材料を吐出する第2ディスペンサヘッド17Bよりも気流Fの下流側に配置している。これにより、揮発性の高い第1樹脂材料の揮発成分が転写部25側に移動し、拡散してモールド50等に付着することを抑えることができる。 That is, the first resin material and the second resin material are supplied as droplets of a few pL to a few tens of pL from the first dispenser head 17A and the second dispenser head 17B, respectively, by, for example, an inkjet method. Such minute droplets are highly volatile, and the volatile components are easily transported to the transfer unit 25 side. In this embodiment, as described above, the first dispenser head 17A that ejects the more volatile first resin material is disposed downstream of the airflow F from the second dispenser head 17B that ejects the less volatile second resin material. This makes it possible to prevent the volatile components of the highly volatile first resin material from moving to the transfer unit 25 side and diffusing to adhere to the mold 50, etc.

[凹凸構造体の製造方法]
次に、上述したインプリント方法を用いて凹凸構造体を製造する、凹凸構造体の製造方法について説明する。
[Method of manufacturing a concave-convex structure]
Next, a method for manufacturing a concave-convex structure using the above-mentioned imprint method will be described.

まず図6(a)に示すように、基材40を準備する。基材40は、石英ガラス等の基材本体61と、基材本体61上に形成された、例えばクロム等の金属層であるマスク層62とを有する。 First, as shown in FIG. 6(a), a substrate 40 is prepared. The substrate 40 has a substrate body 61 such as quartz glass, and a mask layer 62, which is a metal layer such as chromium, formed on the substrate body 61.

次に、図6(b)に示すように、本実施の形態によるインプリント装置10のモールド50を用いて、基材40のマスク層62上に所定の凹凸パターンを有する第1樹脂材料からなる第1光硬化性樹脂層(第1樹脂層)42Aを形成する。この第1光硬化性樹脂層42Aを形成する方法は、上述した図4(a)-(d)に示す工程と略同様にして行うことができる。 Next, as shown in FIG. 6(b), a first photocurable resin layer (first resin layer) 42A made of a first resin material having a predetermined uneven pattern is formed on the mask layer 62 of the substrate 40 using the mold 50 of the imprinting apparatus 10 according to the present embodiment. The method of forming this first photocurable resin layer 42A can be performed in a manner substantially similar to the process shown in FIGS. 4(a)-(d) described above.

続いて、図6(c)に示すように、本実施の形態によるインプリント装置10のモールド50Aを用いて、第1光硬化性樹脂層42A上に平坦な上面を有する第2樹脂材料からなる第2光硬化性樹脂層(第2樹脂層)42Bを形成する。この第2光硬化性樹脂層42Bを形成する方法は、上述した図5(a)-(d)に示す工程と略同様にして行うことができる。 Next, as shown in FIG. 6(c), a second photocurable resin layer (second resin layer) 42B made of a second resin material having a flat upper surface is formed on the first photocurable resin layer 42A using a mold 50A of the imprinting apparatus 10 according to this embodiment. The method of forming this second photocurable resin layer 42B can be performed in a manner substantially similar to the process shown in FIG. 5(a)-(d) described above.

次いで、図6(d)に示すように、第1のエッチングガスを用いてドライエッチングを行うことにより、第1光硬化性樹脂層42Aが表面に露出するまで第2光硬化性樹脂層42Bをエッチングする。この場合、第1のエッチングガスによるエッチングレートは、第1光硬化性樹脂層42Aよりも第2光硬化性樹脂層42Bの方が高い。このため、第2光硬化性樹脂層42Bは、第1光硬化性樹脂層42Aの表面よりも凹むまで除去される。 Next, as shown in FIG. 6(d), the second photocurable resin layer 42B is etched by dry etching using a first etching gas until the first photocurable resin layer 42A is exposed on the surface. In this case, the etching rate of the first etching gas is higher for the second photocurable resin layer 42B than for the first photocurable resin layer 42A. Therefore, the second photocurable resin layer 42B is removed until it is recessed below the surface of the first photocurable resin layer 42A.

次に、図6(e)に示すように、第2のエッチングガスを用いてドライエッチングを行うことにより、マスク層62が表面に露出するまで第1光硬化性樹脂層42Aをエッチングする。この場合、第2のエッチングガスによるエッチングレートは、第2光硬化性樹脂層42Bよりも第1光硬化性樹脂層42Aの方が高い。このため、マスク層62が露出した時点で、第2光硬化性樹脂層42Bは、第1光硬化性樹脂層42A上に残存する。 Next, as shown in FIG. 6(e), the first photocurable resin layer 42A is etched by dry etching using a second etching gas until the mask layer 62 is exposed on the surface. In this case, the etching rate of the first photocurable resin layer 42A by the second etching gas is higher than that of the second photocurable resin layer 42B. Therefore, when the mask layer 62 is exposed, the second photocurable resin layer 42B remains on the first photocurable resin layer 42A.

続いて、図6(f)に示すように、ウエットエッチングにより、基材本体61が表面に露出するまでマスク層62の一部をエッチング除去する。このようにして、第1光硬化性樹脂層42A及び第2光硬化性樹脂層42Bによって覆われていないマスク層62が除去される。基材本体61が表面に露出した際、基材本体61上には、マスク層62と第1光硬化性樹脂層42Aと第2光硬化性樹脂層42Bとが積層された凸部が形成される。 Next, as shown in FIG. 6(f), a part of the mask layer 62 is etched away by wet etching until the substrate body 61 is exposed on the surface. In this way, the mask layer 62 that is not covered by the first photocurable resin layer 42A and the second photocurable resin layer 42B is removed. When the substrate body 61 is exposed on the surface, a convex portion is formed on the substrate body 61, in which the mask layer 62, the first photocurable resin layer 42A, and the second photocurable resin layer 42B are layered.

次いで、図6(g)に示すように、例えばCHF3ガス等の第3のエッチングガスを用いてドライエッチングを行うことにより、残存したマスク層62をマスクとして基材本体61をエッチングする。この場合、マスク層62に覆われていない基材本体61の部分がエッチングにより凹状に削られる。また第3のエッチングガスにより、第1光硬化性樹脂層42A及び第2光硬化性樹脂層42Bもエッチング除去され、マスク層62が表面に露出する。これにより、基材本体61に凹凸のパターンが形成される。 Next, as shown in FIG. 6(g), a third etching gas such as CHF3 gas is used to perform dry etching, and the substrate body 61 is etched using the remaining mask layer 62 as a mask. In this case, the portions of the substrate body 61 that are not covered by the mask layer 62 are etched into a concave shape. The first photocurable resin layer 42A and the second photocurable resin layer 42B are also etched away by the third etching gas, exposing the mask layer 62 on the surface. This forms an uneven pattern on the substrate body 61.

その後、図6(h)に示すように、ウエットエッチングにより、基材本体61上に残存するマスク層62をエッチング除去する。このようにして、凹凸のパターンを有する基材本体61からなる凹凸構造体60が作製される。このような凹凸構造体60は、例えばレプリカモールド、デバイス部品等として用いられても良い。 Then, as shown in FIG. 6(h), the mask layer 62 remaining on the substrate body 61 is etched away by wet etching. In this way, a concave-convex structure 60 consisting of the substrate body 61 having a concave-convex pattern is produced. Such a concave-convex structure 60 may be used, for example, as a replica mold, a device part, etc.

[インプリント方法の変形例]
次に、上述したインプリント装置10を用いてインプリント処理を行うインプリント方法の変形例について、図7(a)-(d)及び図8(a)-(d)を参照して説明する。図7(a)-(d)及び図8(a)-(d)はそれぞれ本実施の形態によるインプリント方法の一工程を示す側面図である。なお、図7(a)-(d)及び図8(a)-(d)において、図1乃至図6に示す実施の形態と同一部分には同一の符号を付してある。
[Modification of the imprint method]
Next, a modified example of the imprint method for performing the imprint process using the above-mentioned imprint apparatus 10 will be described with reference to Figures 7(a)-(d) and 8(a)-(d). Figures 7(a)-(d) and 8(a)-(d) are side views showing a step of the imprint method according to this embodiment. In Figures 7(a)-(d) and 8(a)-(d), the same parts as those in the embodiment shown in Figures 1 to 6 are denoted by the same reference numerals.

本変形例においては、1つの基材40上に、第1樹脂材料からなる第1光硬化性樹脂層(第1樹脂層)42Aと、第2樹脂材料からなる第2光硬化性樹脂層(第2樹脂層)42Bとを並んで形成する場合について説明する。 In this modified example, a first photocurable resin layer (first resin layer) 42A made of a first resin material and a second photocurable resin layer (second resin layer) 42B made of a second resin material are formed side by side on a single substrate 40.

まず、上述した実施の形態と同様にして、ロード領域移動工程、基材保持工程、レベリング工程、アライメント工程、第1ディスペンサヘッド位置移動工程、ディスペンサ位置移動工程を行う。 First, in the same manner as in the above-described embodiment, the load area movement process, substrate holding process, leveling process, alignment process, first dispenser head position movement process, and dispenser position movement process are performed.

続いて、図7(a)に示すように、基材保持部23に保持された基材40に、第1ディスペンサヘッド17Aから光硬化性樹脂等の第1樹脂材料の液滴41を吐出して供給する(液滴供給工程)。この液滴供給工程では、第1ディスペンサヘッド17Aの下方位置にある基材40上の第1の領域A1に、第1ディスペンサヘッド17Aから第1樹脂材料の液滴41を吐出して供給する。その後、第1ディスペンサヘッド17Aは、吐出位置P1aからY軸方向プラス側に移動し、待機位置P1bに戻る。 Next, as shown in FIG. 7(a), droplets 41 of a first resin material such as a photocurable resin are ejected from the first dispenser head 17A and supplied to the substrate 40 held by the substrate holding unit 23 (droplet supplying process). In this droplet supplying process, droplets 41 of the first resin material are ejected from the first dispenser head 17A and supplied to a first area A1 on the substrate 40 located below the first dispenser head 17A. Then, the first dispenser head 17A moves from the ejection position P1a to the positive side in the Y-axis direction and returns to the standby position P1b.

次に、図7(b)に示すように、ステージユニット13をX軸方向マイナス側に移動することにより、基材40をモールド保持部18に保持されたモールド50の下方に移動する(モールド位置移動工程)。 Next, as shown in FIG. 7(b), the stage unit 13 is moved in the negative X-axis direction to move the substrate 40 below the mold 50 held by the mold holding section 18 (mold position movement process).

続いて、図7(c)に示すように、モールド50と基材40とを近接させることにより、モールド50と基材40の第1の領域A1との間に第1樹脂材料の液滴41を展開して第1樹脂材料の第1光硬化性樹脂層42Aを形成する(接触工程)。 Next, as shown in FIG. 7(c), the mold 50 and the substrate 40 are brought close to each other, so that a droplet 41 of the first resin material is spread between the mold 50 and the first region A1 of the substrate 40 to form a first photocurable resin layer 42A of the first resin material (contact process).

次いで、照射部21からの光によって光照射を行い、第1光硬化性樹脂層42Aを硬化させる。これにより、第1光硬化性樹脂層42Aにモールド50の凹凸パターン51が転写される(硬化工程)。 Next, light is irradiated from the irradiation unit 21 to cure the first photocurable resin layer 42A. This causes the concave-convex pattern 51 of the mold 50 to be transferred to the first photocurable resin layer 42A (curing process).

その後、図7(d)に示すように、第1光硬化性樹脂層42Aとモールド50とを引き離す(離型工程)。これにより、基材40上の第1の領域A1に凹凸パターン構造を有する第1光硬化性樹脂層42Aが形成される。 Then, as shown in FIG. 7(d), the first photocurable resin layer 42A is separated from the mold 50 (mold release process). As a result, the first photocurable resin layer 42A having a concave-convex pattern structure is formed in the first region A1 on the substrate 40.

続いて、モールド保持部18に保持されたモールド50を、モールド50と異なる形状を有する他のモールド50A(以下、単にモールド50Aともいう)に交換する。この場合、他のモールド50Aは、モールド50と異なる形状の凹凸パターンを有している。 Next, the mold 50 held by the mold holding unit 18 is replaced with another mold 50A (hereinafter simply referred to as mold 50A) having a different shape from the mold 50. In this case, the other mold 50A has a concave-convex pattern with a different shape from the mold 50.

次に、第2ディスペンサヘッド17Bを待機位置P2bからY軸方向マイナス側に移動し、吐出位置P2aで停止させる(第2ディスペンサヘッド位置移動工程)。またステージユニット13をX軸方向マイナス側に移動することにより、基材40を第2ディスペンサヘッド17Bの下方に移動する(ディスペンサ位置移動工程)。 Next, the second dispenser head 17B is moved from the standby position P2b to the negative side in the Y-axis direction and stopped at the discharge position P2a (second dispenser head position moving process). In addition, the stage unit 13 is moved to the negative side in the X-axis direction, thereby moving the substrate 40 below the second dispenser head 17B (dispenser position moving process).

続いて、図8(a)に示すように、基材保持部23に保持された基材40上の第2の領域A2に、第2ディスペンサヘッド17Bから光硬化性樹脂等の第2樹脂材料の液滴41を吐出して供給する(液滴供給工程)。なお、第2の領域A2は、基材40上の、第1の領域A1と平面方向(XY平面方向)に異なる位置にある領域である。その後、第2ディスペンサヘッド17Bは、吐出位置P2aからY軸方向プラス側に移動し、待機位置P2bに戻る。 Next, as shown in FIG. 8(a), droplets 41 of a second resin material such as a photocurable resin are ejected from the second dispenser head 17B and supplied to a second region A2 on the substrate 40 held by the substrate holding unit 23 (droplet supply process). The second region A2 is an area on the substrate 40 that is at a different position in the planar direction (XY plane direction) from the first region A1. Then, the second dispenser head 17B moves from the ejection position P2a to the positive side in the Y-axis direction and returns to the standby position P2b.

次に、図8(b)に示すように、ステージユニット13をX軸方向マイナス側に移動することにより、基材40をモールド保持部18に保持されたモールド50Aの下方に移動する(モールド位置移動工程)。 Next, as shown in FIG. 8(b), the stage unit 13 is moved in the negative X-axis direction to move the substrate 40 below the mold 50A held by the mold holding section 18 (mold position movement process).

続いて、図8(c)に示すように、モールド50Aと基材40とを近接させることにより、モールド50Aと基材40の第2の領域A2との間に第2樹脂材料の液滴41を展開して第2樹脂材料の第2光硬化性樹脂層42Bを形成する(接触工程)。 Next, as shown in FIG. 8(c), the mold 50A and the substrate 40 are brought close to each other, so that droplets 41 of the second resin material are spread between the mold 50A and the second region A2 of the substrate 40 to form a second photocurable resin layer 42B of the second resin material (contact process).

次いで、照射部21からの光によって光照射を行い、第2光硬化性樹脂層42Bを硬化させる。これにより、第2光硬化性樹脂層42Bにモールド50Aの凹凸パターンの表面形状が転写される(硬化工程)。 Next, the second photocurable resin layer 42B is cured by irradiating it with light from the irradiation unit 21. This causes the surface shape of the concave-convex pattern of the mold 50A to be transferred to the second photocurable resin layer 42B (curing process).

その後、図8(d)に示すように、第2光硬化性樹脂層42Bとモールド50Aとを引き離す(離型工程)。これにより、基材40の第2の領域A2上に、凹凸パターン構造を有する第2光硬化性樹脂層42Bが形成される。 Then, as shown in FIG. 8(d), the second photocurable resin layer 42B is separated from the mold 50A (mold release process). As a result, the second photocurable resin layer 42B having a concave-convex pattern structure is formed on the second region A2 of the substrate 40.

上述したように、本変形例においては、インプリント装置10は、第1ディスペンサヘッド17Aと第2ディスペンサヘッド17Bとを備え、第1ディスペンサヘッド17Aと第2ディスペンサヘッド17Bとは、互いに独立して移動可能となっている。これにより同一のインプリント装置10内で、1つの基材40に対して異なる樹脂材料(第1樹脂材料及び第2樹脂材料)を供給することができる。この結果、基材40上の互いに異なる位置に、異なる樹脂材料(第1樹脂材料及び第2樹脂材料)からなる複数の樹脂層(第1光硬化性樹脂層42A、第2光硬化性樹脂層42B)を並べて形成することが可能となる。 As described above, in this modified example, the imprinting apparatus 10 includes a first dispenser head 17A and a second dispenser head 17B, and the first dispenser head 17A and the second dispenser head 17B are movable independently of each other. This allows different resin materials (first resin material and second resin material) to be supplied to one substrate 40 within the same imprinting apparatus 10. As a result, it is possible to form a plurality of resin layers (first photocurable resin layer 42A, second photocurable resin layer 42B) made of different resin materials (first resin material and second resin material) side by side at different positions on the substrate 40.

[インプリント装置の第1の変形例]
次に、図9を参照してインプリント装置の第1の変形例について説明する。図9はインプリント装置の第1の変形例を示す平面図である。図9に示す変形例は、第1ディスペンサヘッド17A及び第2ディスペンサヘッド17Bの位置関係が異なるものであり、他の構成は上述した実施の形態と略同一である。図9において、図1乃至図8に示す形態と同一部分には同一の符号を付して詳細な説明は省略する。
[First Modification of Imprint Apparatus]
Next, a first modified example of the imprinting apparatus will be described with reference to Fig. 9. Fig. 9 is a plan view showing the first modified example of the imprinting apparatus. In the modified example shown in Fig. 9, the positional relationship between the first dispenser head 17A and the second dispenser head 17B is different, and other configurations are substantially the same as those of the above-mentioned embodiment. In Fig. 9, the same parts as those shown in Figs. 1 to 8 are given the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.

図9において、第1ディスペンサヘッド17Aの待機位置P1bと、第2ディスペンサヘッド17Bの待機位置P2bとは、ステージユニット13の動線TLに対して反対側に位置している。具体的には、第1ディスペンサヘッド17Aの待機位置P1bは、ステージユニット13の動線TLに対してY方向マイナス側に位置している。第2ディスペンサヘッド17Bの待機位置P2bは、ステージユニット13の動線TLに対してY方向プラス側に位置している。 In FIG. 9, the standby position P1b of the first dispenser head 17A and the standby position P2b of the second dispenser head 17B are located on opposite sides of the flow line TL of the stage unit 13. Specifically, the standby position P1b of the first dispenser head 17A is located on the negative Y-side of the flow line TL of the stage unit 13. The standby position P2b of the second dispenser head 17B is located on the positive Y-side of the flow line TL of the stage unit 13.

この場合、第1ディスペンサヘッド17Aの待機位置P1bが第2ディスペンサヘッド17Bの待機位置P2bに対して動線TLに対して交差する方向(Y方向)に離れている。このため、第2ディスペンサヘッド17Bから吐出される第2樹脂材料から揮発した成分が、気流Fの下流側に位置する第1ディスペンサヘッド17A側に運ばれにくい。これにより、揮発した成分による第1ディスペンサヘッド17Aの汚染を抑制することができる。 In this case, the standby position P1b of the first dispenser head 17A is separated from the standby position P2b of the second dispenser head 17B in a direction intersecting the flow line TL (Y direction). Therefore, the volatilized components of the second resin material discharged from the second dispenser head 17B are not easily transported to the first dispenser head 17A side located downstream of the airflow F. This makes it possible to suppress contamination of the first dispenser head 17A by the volatilized components.

[インプリント装置の第2の変形例]
次に、図10及び図11を参照しインプリント装置の第2の変形例について説明する。図10及び図11はインプリント装置の第2の変形例を示す平面図である。図10及び図11に示す変形例は、主にシート状の基材40Aが用いられる点が異なるものであり、他の構成は上述した実施の形態と略同一である。図10及び図11において、図1乃至図9に示す形態と同一部分には同一の符号を付して詳細な説明は省略する。
[Second Modification of Imprint Apparatus]
Next, a second modified example of the imprinting apparatus will be described with reference to Figures 10 and 11. Figures 10 and 11 are plan views showing the second modified example of the imprinting apparatus. The modified example shown in Figures 10 and 11 differs mainly in that a sheet-like base material 40A is used, and other configurations are substantially the same as the embodiment described above. In Figures 10 and 11, the same parts as those shown in Figures 1 to 9 are given the same reference numerals and detailed description will be omitted.

図10及び図11に示すように、本変形例によるインプリント装置10は、コンベア(基材搬送部)13Aと、モールド保持部18Aと、第1ディスペンサヘッド17Aと、第2ディスペンサヘッド17Bと、を備えている。コンベア13Aは、シート状のインプリント用の基材40Aを保持しかつ水平方向に搬送する。モールド保持部18Aは、ロール状のモールド55を保持する。第1ディスペンサヘッド17Aと第2ディスペンサヘッド17Bとは、互いに水平方向(XY平面方向)に離間して配置されており、互いに独立して移動可能である。 As shown in Figures 10 and 11, the imprinting apparatus 10 according to this modified example includes a conveyor (substrate transport section) 13A, a mold holding section 18A, a first dispenser head 17A, and a second dispenser head 17B. The conveyor 13A holds a sheet-shaped substrate 40A for imprinting and transports it in the horizontal direction. The mold holding section 18A holds a roll-shaped mold 55. The first dispenser head 17A and the second dispenser head 17B are arranged spaced apart from each other in the horizontal direction (XY plane direction) and can move independently of each other.

コンベア13Aは、シート状の基材40Aを水平方向(この場合はX方向マイナス側)に搬送する。また第1ディスペンサヘッド17Aは、コンベア13Aに保持された基材40Aに対して第1樹脂材料を吐出するものである。第2ディスペンサヘッド17Bは、コンベア13Aに保持された基材40Aに対して第2樹脂材料を吐出するものである。基材40Aは、ポリカーボネート、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリエチレン等の樹脂等、又はこれらの任意の積層材からなる透明基板等であっても良い。基材40Aは、シート状であり、可撓性を有していることが好ましい。このような基材40Aは、例えば光学部品を作成するためのものであっても良い。 The conveyor 13A transports the sheet-shaped substrate 40A in a horizontal direction (in this case, the negative X-direction). The first dispenser head 17A dispenses a first resin material onto the substrate 40A held by the conveyor 13A. The second dispenser head 17B dispenses a second resin material onto the substrate 40A held by the conveyor 13A. The substrate 40A may be a transparent substrate made of resin such as polycarbonate, polypropylene, polyethylene, or any of these laminated materials. The substrate 40A is preferably in a sheet shape and flexible. Such a substrate 40A may be used to create an optical component, for example.

また、コンベア13A、モールド保持部18A、第1ディスペンサヘッド17A及び第2ディスペンサヘッド17Bは、チャンバ11内に収容されている。チャンバ11内に支持部14が配置され、支持部14は、コンベア13Aの上方に配置されている。 The conveyor 13A, the mold holding unit 18A, the first dispenser head 17A, and the second dispenser head 17B are housed in the chamber 11. The support unit 14 is disposed in the chamber 11, and the support unit 14 is disposed above the conveyor 13A.

支持部14には、レベリング部15と、アライメントカメラ16と、第2ディスペンサヘッド17Bと、第1ディスペンサヘッド17Aと、モールド保持部18Aとが、それぞれ取り付けられて固定されている。モールド保持部18Aには、モールド55が保持されている。モールド55は、円筒状であり、その表面に微細な凹凸パターンを有していても良い。モールド55は、モールド保持部18Aに対して回転することにより、凹凸パターンを基材40A上の第1樹脂材料又は第2樹脂材料に転写する。 A leveling unit 15, an alignment camera 16, a second dispenser head 17B, a first dispenser head 17A, and a mold holding unit 18A are attached and fixed to the support unit 14. A mold 55 is held by the mold holding unit 18A. The mold 55 is cylindrical and may have a fine uneven pattern on its surface. The mold 55 rotates relative to the mold holding unit 18A to transfer the uneven pattern to the first resin material or the second resin material on the substrate 40A.

チャンバ11内には一側から他側(本変形例においてはX軸方向マイナス側からX軸方向プラス側)に向かう気流Fを形成する気流形成部19が配置されている。さらに、モールド保持部18Aと気流形成部19との間には、照射部21が設けられている。モールド保持部18Aの下方には、転写部25が設けられている。転写部25は、モールド55の形状を基材40A上の第1樹脂材料又は第2樹脂材料に転写するときに、モールド55と基材40Aとが位置する領域である。 An airflow forming unit 19 is disposed within the chamber 11 to form an airflow F flowing from one side to the other (from the negative side in the X-axis direction to the positive side in the X-axis direction in this modified example). Furthermore, an irradiation unit 21 is provided between the mold holding unit 18A and the airflow forming unit 19. A transfer unit 25 is provided below the mold holding unit 18A. The transfer unit 25 is the area where the mold 55 and the substrate 40A are located when the shape of the mold 55 is transferred to the first resin material or the second resin material on the substrate 40A.

本変形例において、第1ディスペンサヘッド17Aの吐出位置P1aは、第2ディスペンサヘッド17Bの吐出位置P2aに対して気流Fの下流側に位置している。これにより、第1ディスペンサヘッド17Aから吐出される第1樹脂材料が、第2ディスペンサヘッド17Bから吐出される第2樹脂材料よりも揮発性が高くても、揮発した成分が転写部25側に運ばれにくい。これにより、揮発した成分による転写部25に存在する各種部材の汚染を抑制することができる。 In this modified example, the discharge position P1a of the first dispenser head 17A is located downstream of the airflow F relative to the discharge position P2a of the second dispenser head 17B. This makes it difficult for the volatilized components to be transported to the transfer unit 25 even if the first resin material discharged from the first dispenser head 17A is more volatile than the second resin material discharged from the second dispenser head 17B. This makes it possible to suppress contamination of various members present in the transfer unit 25 by the volatilized components.

図10及び図11に示すインプリント装置10を用いてインプリント処理を行うインプリント方法について説明する。 An imprinting method for performing imprint processing using the imprinting device 10 shown in Figures 10 and 11 will be described.

まず、第1ディスペンサヘッド17Aを待機位置P1bからY軸方向マイナス側に移動し、吐出位置P1aで停止させる(第1ディスペンサヘッド位置移動工程)。続いて、コンベア13Aに保持された基材40Aに、第1ディスペンサヘッド17Aから光硬化性樹脂等の第1樹脂材料の液滴46Aを吐出して供給する(液滴供給工程)。その後、第1ディスペンサヘッド17Aは、吐出位置P1aから待機位置P1bに戻る。 First, the first dispenser head 17A is moved from the standby position P1b to the negative side in the Y-axis direction and stopped at the discharge position P1a (first dispenser head position movement process). Next, droplets 46A of a first resin material such as a photocurable resin are discharged and supplied from the first dispenser head 17A to the substrate 40A held by the conveyor 13A (droplet supply process). After that, the first dispenser head 17A returns from the discharge position P1a to the standby position P1b.

次に、コンベア13Aにより基材40Aをモールド保持部18Aに保持されたモールド55の下方に移動する(モールド位置移動工程)。続いて、第1樹脂材料の液滴46Aがモールド55と基材40Aとの間の隙間を通過することにより、モールド55と基材40Aとの間に液滴46Aを展開して第1樹脂材料の第1光硬化性樹脂層42Aを形成する(接触工程)。 Next, the conveyor 13A moves the substrate 40A below the mold 55 held by the mold holding unit 18A (mold position movement process). Next, the droplets 46A of the first resin material pass through the gap between the mold 55 and the substrate 40A, spreading the droplets 46A between the mold 55 and the substrate 40A to form a first photocurable resin layer 42A of the first resin material (contact process).

次いで、照射部21からの光によって光照射を行い、第1光硬化性樹脂層42Aを硬化させる。これにより、第1光硬化性樹脂層42Aにモールド55の凹凸パターンが転写される(硬化工程)。 Next, the first photocurable resin layer 42A is cured by irradiating it with light from the irradiation unit 21. This causes the concave-convex pattern of the mold 55 to be transferred to the first photocurable resin layer 42A (curing process).

次に、第2ディスペンサヘッド17Bを待機位置P2bからY軸方向マイナス側に移動し、吐出位置P2aで停止させる(第2ディスペンサヘッド位置移動工程)。またコンベア13Aにより、基材40Aを第2ディスペンサヘッド17Bの下方に移動する(ディスペンサ位置移動工程)。 Next, the second dispenser head 17B is moved from the standby position P2b to the negative side in the Y-axis direction and stopped at the discharge position P2a (second dispenser head position moving process). In addition, the conveyor 13A moves the substrate 40A below the second dispenser head 17B (dispenser position moving process).

続いて、コンベア13Aに保持された基材40A上に、第2ディスペンサヘッド17Bから光硬化性樹脂等の第2樹脂材料の液滴46Bを吐出して供給する(液滴供給工程)。なお、液滴46Bが供給される領域は、基材40A上の、液滴46Aが供給される領域と平面方向(XY平面方向)に異なる位置にある領域である。その後、第2ディスペンサヘッド17Bは、吐出位置P2aから待機位置P2bに戻る。 Next, droplets 46B of a second resin material such as a photocurable resin are ejected from the second dispenser head 17B onto the substrate 40A held by the conveyor 13A (droplet supply process). The area to which the droplets 46B are supplied is an area on the substrate 40A that is at a different position in the planar direction (XY plane direction) from the area to which the droplets 46A are supplied. After that, the second dispenser head 17B returns from the ejection position P2a to the standby position P2b.

次に、コンベア13Aにより、基材40Aをモールド保持部18Aに保持されたモールド55の下方に移動する(モールド位置移動工程)。続いて、第2樹脂材料の液滴46Bがモールド55と基材40Aとの間の隙間を通過することにより、モールド55と基材40Aとの間に第2樹脂材料の液滴46Bを展開して第2樹脂材料の第2光硬化性樹脂層42Bを形成する(接触工程)。 Next, the conveyor 13A moves the substrate 40A below the mold 55 held by the mold holding unit 18A (mold position movement process). Next, the droplets 46B of the second resin material pass through the gap between the mold 55 and the substrate 40A, spreading the droplets 46B of the second resin material between the mold 55 and the substrate 40A to form a second photocurable resin layer 42B of the second resin material (contact process).

次いで、照射部21からの光によって光照射を行い、第2光硬化性樹脂層42Bを硬化させる。これにより、第2光硬化性樹脂層42Bにモールド55の凹凸パターンが転写される(硬化工程)。 Next, the second photocurable resin layer 42B is cured by irradiating it with light from the irradiation unit 21. This causes the concave-convex pattern of the mold 55 to be transferred to the second photocurable resin layer 42B (curing process).

上述したように、本変形例においては、インプリント装置10は、第1ディスペンサヘッド17Aと第2ディスペンサヘッド17Bとを備え、第1ディスペンサヘッド17Aと第2ディスペンサヘッド17Bとは、互いに独立して移動可能となっている。これにより同一のインプリント装置10内で、1つのシート状の基材40Aに対して異なる樹脂材料(第1樹脂材料及び第2樹脂材料)を供給することができる。この結果、シート状の基材40A上の互いに異なる位置に、異なる樹脂材料(第1樹脂材料及び第2樹脂材料)からなる複数の樹脂層(第1光硬化性樹脂層42A、第2光硬化性樹脂層42B)を並べて形成することが可能となる。 As described above, in this modified example, the imprinting device 10 includes a first dispenser head 17A and a second dispenser head 17B, and the first dispenser head 17A and the second dispenser head 17B are movable independently of each other. This allows different resin materials (first resin material and second resin material) to be supplied to one sheet-like substrate 40A within the same imprinting device 10. As a result, it is possible to form a plurality of resin layers (first photocurable resin layer 42A, second photocurable resin layer 42B) made of different resin materials (first resin material and second resin material) side by side at different positions on the sheet-like substrate 40A.

なお、本変形例において、1つのシート状の基材40A上に、第1樹脂材料からなる第1光硬化性樹脂層(第1樹脂層)42Aと、第2樹脂材料からなる第2光硬化性樹脂層(第2樹脂層)42Bとを重ねて形成してもよい。また、本変形例において、第1光硬化性樹脂層42Aを形成するモールド55と、第2光硬化性樹脂層42Bを形成するモールド55とは、互いに同一であっても良く、互いに異なっていても良い。 In this modified example, a first photocurable resin layer (first resin layer) 42A made of a first resin material and a second photocurable resin layer (second resin layer) 42B made of a second resin material may be formed on one sheet-like substrate 40A by stacking them. In this modified example, the mold 55 that forms the first photocurable resin layer 42A and the mold 55 that forms the second photocurable resin layer 42B may be the same as each other or different from each other.

[インプリント装置の第3の変形例]
次に、図12を参照しインプリント装置の第3の変形例について説明する。図12はインプリント装置の第3の変形例を示す平面図である。図12に示す変形例は、第1ディスペンサヘッド17A及び第2ディスペンサヘッド17Bの位置関係が異なるものであり、他の構成は上述した変形例2によるインプリント装置10と略同一である。図12において、図10及び図11に示す形態と同一部分には同一の符号を付して詳細な説明は省略する。
[Third Modification of Imprint Apparatus]
Next, a third modified example of the imprinting apparatus will be described with reference to Fig. 12. Fig. 12 is a plan view showing the third modified example of the imprinting apparatus. The modified example shown in Fig. 12 differs in the positional relationship between the first dispenser head 17A and the second dispenser head 17B, and other configurations are substantially the same as the imprinting apparatus 10 according to the modified example 2 described above. In Fig. 12, the same parts as those shown in Figs. 10 and 11 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.

図12において、第1ディスペンサヘッド17Aの待機位置P1bと、第2ディスペンサヘッド17Bの待機位置P2bとは、ステージユニット13の動線TLに対して反対側に位置している。具体的には、第1ディスペンサヘッド17Aの待機位置P1bは、ステージユニット13の動線TLに対してY方向マイナス側に位置しており、第2ディスペンサヘッド17Bの待機位置P2bは、ステージユニット13の動線TLに対してY方向プラス側に位置している。 In FIG. 12, the standby position P1b of the first dispenser head 17A and the standby position P2b of the second dispenser head 17B are located on opposite sides of the movement line TL of the stage unit 13. Specifically, the standby position P1b of the first dispenser head 17A is located on the negative Y-side of the movement line TL of the stage unit 13, and the standby position P2b of the second dispenser head 17B is located on the positive Y-side of the movement line TL of the stage unit 13.

この場合、第1ディスペンサヘッド17Aの待機位置P1bが第2ディスペンサヘッド17Bの待機位置P2bに対して動線TLに対して直交する方向(Y方向)に離れている。このため、第2ディスペンサヘッド17Bから吐出される第2樹脂材料から揮発した成分が気流Fの下流側に位置する第1ディスペンサヘッド17A側に運ばれにくい。これにより、揮発した成分による第1ディスペンサヘッド17Aの汚染を抑制することができる。 In this case, the standby position P1b of the first dispenser head 17A is separated from the standby position P2b of the second dispenser head 17B in a direction perpendicular to the flow line TL (Y direction). Therefore, the volatilized components of the second resin material discharged from the second dispenser head 17B are not easily transported to the first dispenser head 17A side located downstream of the airflow F. This makes it possible to suppress contamination of the first dispenser head 17A by the volatilized components.

本開示は上記各実施の形態及び各変形例そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記各実施の形態及び各変形例に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成できる。各実施の形態及び各変形例に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。 The present disclosure is not limited to the above-described embodiments and modifications, and in the implementation stage, the components can be modified to the extent that does not deviate from the gist of the disclosure. In addition, various inventions can be formed by appropriate combinations of the multiple components disclosed in the above-described embodiments and modifications. Some components may be deleted from all the components shown in each embodiment and modification.

10 インプリント装置
11 チャンバ
12 ステージ定盤
13 ステージユニット
14 支持部
15 レベリング部
16 アライメントカメラ
17A 第1ディスペンサヘッド
17B 第2ディスペンサヘッド
18 モールド保持部
19 気流形成部
20 ロード領域
21 照射部
23 基材保持部
24 ストック部
25 転写部
26 インク受容部材
40 基材
41 液滴
50 モールド
51 凹凸パターン
60 凹凸構造体
REFERENCE SIGNS LIST 10 Imprinting apparatus 11 Chamber 12 Stage surface plate 13 Stage unit 14 Support section 15 Leveling section 16 Alignment camera 17A First dispenser head 17B Second dispenser head 18 Mold holding section 19 Air flow forming section 20 Load area 21 Irradiation section 23 Substrate holding section 24 Stock section 25 Transfer section 26 Ink receiving member 40 Substrate 41 Droplet 50 Mold 51 Concave-convex pattern 60 Concave-convex structure

Claims (13)

インプリント装置であって、
基材を保持しかつ水平方向に搬送する基材搬送部と、
モールドを保持するモールド保持部と、
前記基材搬送部に保持された前記基材に対して第1樹脂材料を吐出する第1ディスペンサヘッドと、
前記基材搬送部に保持された前記基材に対して第2樹脂材料を吐出する第2ディスペンサヘッドと、を備え、
前記第1ディスペンサヘッド及び前記第2ディスペンサヘッドは、それぞれ待機位置と吐出位置との間で移動可能であり、
前記第1ディスペンサヘッドと前記第2ディスペンサヘッドとは、互いに独立して移動可能であり、
一側から他側に向かう気流を形成する気流形成部を更に備え、
前記第1樹脂材料は、前記第2樹脂材料よりも揮発性が高く、前記第1ディスペンサヘッドの前記吐出位置は、前記第2ディスペンサヘッドの前記吐出位置に対して前記気流の上流側には位置しない、インプリント装置。
1. An imprint apparatus, comprising:
a substrate conveying section that holds the substrate and conveys it in a horizontal direction;
A mold holding portion that holds the mold;
a first dispenser head configured to dispense a first resin material onto the base material held by the base material conveying unit;
a second dispenser head that dispenses a second resin material onto the base material held by the base material conveying unit,
The first dispenser head and the second dispenser head are each movable between a standby position and a dispensing position,
The first dispenser head and the second dispenser head are movable independently of each other;
An airflow forming unit that forms an airflow from one side to the other side is further provided,
An imprint apparatus, wherein the first resin material is more volatile than the second resin material, and the ejection position of the first dispenser head is not located upstream of the airflow relative to the ejection position of the second dispenser head.
前記第1樹脂材料の常温での蒸気圧が、前記第2樹脂材料の常温での蒸気圧よりも高い、請求項1に記載のインプリント装置。 The imprinting apparatus according to claim 1, wherein the vapor pressure of the first resin material at room temperature is higher than the vapor pressure of the second resin material at room temperature. 前記第1樹脂材料の粘度が、前記第2樹脂材料の粘度よりも小さい、請求項1に記載のインプリント装置。 The imprinting apparatus according to claim 1, wherein the viscosity of the first resin material is smaller than the viscosity of the second resin material. 前記基材への前記第1樹脂材料の接触角が、前記基材への前記第2樹脂材料の接触角よりも小さい、請求項1に記載のインプリント装置。 The imprinting apparatus according to claim 1, wherein the contact angle of the first resin material on the substrate is smaller than the contact angle of the second resin material on the substrate. インプリント装置であって、
基材を保持しかつ水平方向に搬送する基材搬送部と、
モールドを保持するモールド保持部と、
前記基材搬送部に保持された前記基材に対して第1樹脂材料を吐出する第1ディスペンサヘッドと、
前記基材搬送部に保持された前記基材に対して第2樹脂材料を吐出する第2ディスペンサヘッドと、を備え、
前記第1ディスペンサヘッド及び前記第2ディスペンサヘッドは、それぞれ待機位置と吐出位置との間で移動可能であり、
前記第1ディスペンサヘッドと前記第2ディスペンサヘッドとは、互いに独立して移動可能であり、
前記第1ディスペンサヘッドの前記待機位置と、前記第2ディスペンサヘッドの前記待機位置とは、前記基材搬送部の動線に対して反対側に位置している、インプリント装置。
1. An imprint apparatus, comprising:
a substrate conveying section that holds the substrate and conveys it in a horizontal direction;
A mold holding portion that holds the mold;
a first dispenser head configured to dispense a first resin material onto the base material held by the base material conveying unit;
a second dispenser head that dispenses a second resin material onto the base material held by the base material conveying unit,
The first dispenser head and the second dispenser head are each movable between a standby position and a dispensing position,
The first dispenser head and the second dispenser head are movable independently of each other;
An imprint apparatus, wherein the standby position of the first dispenser head and the standby position of the second dispenser head are located on opposite sides with respect to a flow line of the substrate transport unit.
前記基材は、シート状である、請求項1乃至5のいずれか一項に記載のインプリント装置。 The imprinting apparatus according to any one of claims 1 to 5, wherein the substrate is in a sheet form. インプリント方法であって、
基材搬送部により基材を保持しかつ水平方向に搬送する工程と、
前記基材に対して第1ディスペンサヘッドから第1樹脂材料の液滴を吐出する工程と、
モールドと前記基材との間に前記第1樹脂材料の液滴を展開して前記第1樹脂材料の第1樹脂層を形成する工程と、
前記第1樹脂層を硬化させることにより、前記モールドの表面形状が転写された前記第1樹脂層を得る工程と、
前記基材に対して第2ディスペンサヘッドから第2樹脂材料を吐出する工程と、
モールドと前記基材との間に前記第2樹脂材料の液滴を展開して前記第2樹脂材料の第2樹脂層を形成する工程と、
前記第2樹脂層を硬化させることにより、前記モールドの表面形状が転写された前記第2樹脂層を得る工程と、を備え、
前記第1ディスペンサヘッド及び前記第2ディスペンサヘッドは、それぞれ待機位置と吐出位置との間で移動可能であり、
前記第1ディスペンサヘッドと前記第2ディスペンサヘッドとは、互いに独立して移動可能であり、
一側から他側に向かう気流が形成され、
前記第1樹脂材料は、前記第2樹脂材料よりも揮発性が高く、前記第1ディスペンサヘッドの吐出位置は、前記第2ディスペンサヘッドの吐出位置に対して前記気流の上流側には位置しない、インプリント方法。
1. An imprint method comprising the steps of:
holding and transporting the substrate in a horizontal direction by a substrate transport unit;
Discharging droplets of a first resin material from a first dispenser head onto the substrate;
spreading droplets of the first resin material between the mold and the base material to form a first resin layer of the first resin material;
a step of hardening the first resin layer to obtain the first resin layer to which the surface shape of the mold has been transferred;
discharging a second resin material from a second dispenser head onto the base material;
spreading droplets of the second resin material between the mold and the base material to form a second resin layer of the second resin material;
and hardening the second resin layer to obtain the second resin layer to which the surface shape of the mold has been transferred.
The first dispenser head and the second dispenser head are each movable between a standby position and a dispensing position,
The first dispenser head and the second dispenser head are movable independently of each other;
Airflow is created from one side to the other,
An imprint method, wherein the first resin material is more volatile than the second resin material, and a discharge position of the first dispenser head is not located upstream of the airflow with respect to a discharge position of the second dispenser head.
記第2樹脂層は、前記第1樹脂層上に重ねて形成される、請求項7に記載のインプリント方法。 The imprint method according to claim 7 , wherein the second resin layer is formed on top of the first resin layer. 前記基材上に、前記第1樹脂層と前記第2樹脂層とが並んで形成される、請求項7に記載のインプリント方法。 The imprinting method according to claim 7, wherein the first resin layer and the second resin layer are formed side by side on the substrate. 記第1樹脂層を形成するモールドと、前記第2樹脂層を形成するモールドとが互いに異なる、請求項7乃至9のいずれか一項に記載のインプリント方法。 The imprint method according to claim 7 , wherein a mold for forming the first resin layer and a mold for forming the second resin layer are different from each other. インプリント方法であって、
基材搬送部により基材を保持しかつ水平方向に搬送する工程と、
前記基材に対して第1ディスペンサヘッドから第1樹脂材料の液滴を吐出する工程と、
モールドと前記基材との間に前記第1樹脂材料の液滴を展開して前記第1樹脂材料の第1樹脂層を形成する工程と、
前記第1樹脂層を硬化させることにより、前記モールドの表面形状が転写された前記第1樹脂層を得る工程と、
前記基材に対して第2ディスペンサヘッドから第2樹脂材料を吐出する工程と、
モールドと前記基材との間に前記第2樹脂材料の液滴を展開して前記第2樹脂材料の第2樹脂層を形成する工程と、
前記第2樹脂層を硬化させることにより、前記モールドの表面形状が転写された前記第2樹脂層を得る工程と、を備え、
前記第1ディスペンサヘッド及び前記第2ディスペンサヘッドは、それぞれ待機位置と吐出位置との間で移動可能であり、
前記第1ディスペンサヘッドと前記第2ディスペンサヘッドとは、互いに独立して移動可能であり、
前記第1ディスペンサヘッドの前記待機位置と、前記第2ディスペンサヘッドの前記待機位置とは、前記基材搬送部の動線に対して反対側に位置している、インプリント方法。
1. An imprint method comprising the steps of:
holding and transporting the substrate in a horizontal direction by a substrate transport unit;
Discharging droplets of a first resin material from a first dispenser head onto the substrate;
spreading droplets of the first resin material between the mold and the base material to form a first resin layer of the first resin material;
a step of hardening the first resin layer to obtain the first resin layer to which the surface shape of the mold has been transferred;
discharging a second resin material from a second dispenser head onto the base material;
spreading droplets of the second resin material between the mold and the base material to form a second resin layer of the second resin material;
and hardening the second resin layer to obtain the second resin layer to which the surface shape of the mold has been transferred.
The first dispenser head and the second dispenser head are each movable between a standby position and a dispensing position,
The first dispenser head and the second dispenser head are movable independently of each other;
An imprint method, wherein the standby position of the first dispenser head and the standby position of the second dispenser head are located on opposite sides with respect to a line of movement of the substrate transport section.
前記基材は、シート状である、請求項7乃至10のいずれか一項に記載のインプリント方法。 The imprinting method according to any one of claims 7 to 10, wherein the substrate is in a sheet form. 基材本体と、前記基材本体上に形成されたマスク層とを有する基材を準備する工程と、
前記基材の前記マスク層上に第1ディスペンサヘッドから第1樹脂材料の液滴を吐出する工程と、
モールドと前記基材との間に前記第1樹脂材料の液滴を展開して前記第1樹脂材料の第1樹脂層を形成する工程と、
前記第1樹脂層を硬化させることにより、前記モールドの表面形状が転写された前記第1樹脂層を得る工程と、
前記基材に対して第2ディスペンサヘッドから、前記第1樹脂層上に第2樹脂材料を吐出する工程と、
モールドと前記基材との間に前記第2樹脂材料の液滴を展開して前記第2樹脂材料の第2樹脂層を形成する工程と、
前記第2樹脂層を硬化させることにより、前記モールドの表面形状が転写された前記第2樹脂層を得る工程と、
前記第1樹脂層が露出するまで前記第2樹脂層をドライエッチングする工程と、
前記マスク層が露出するまで前記第1樹脂層をドライエッチングする工程と、
前記第1樹脂層及び前記第2樹脂層に覆われていない前記マスク層を除去する工程と、
残存した前記マスク層をマスクとして前記基材本体をドライエッチングする工程と、
前記基材本体上に残存する前記マスク層を除去する工程と、を備え、
前記第1ディスペンサヘッド及び前記第2ディスペンサヘッドは、それぞれ待機位置と吐出位置との間で移動可能であり、
前記第1ディスペンサヘッドと前記第2ディスペンサヘッドとは、互いに独立して移動可能であり、
一側から他側に向かう気流が形成され、
前記第1樹脂材料は、前記第2樹脂材料よりも揮発性が高く、前記第1ディスペンサヘッドの吐出位置は、前記第2ディスペンサヘッドの吐出位置に対して前記気流の上流側には位置しない、凹凸構造体の製造方法。
Providing a substrate having a substrate body and a mask layer formed on the substrate body;
Discharging droplets of a first resin material from a first dispenser head onto the mask layer of the base material;
spreading droplets of the first resin material between the mold and the base material to form a first resin layer of the first resin material;
a step of hardening the first resin layer to obtain the first resin layer to which the surface shape of the mold has been transferred;
discharging a second resin material onto the first resin layer from a second dispenser head onto the base material;
spreading droplets of the second resin material between the mold and the base material to form a second resin layer of the second resin material;
a step of hardening the second resin layer to obtain the second resin layer to which the surface shape of the mold has been transferred;
dry etching the second resin layer until the first resin layer is exposed;
dry etching the first resin layer until the mask layer is exposed;
removing the mask layer that is not covered by the first resin layer and the second resin layer;
dry etching the substrate body using the remaining mask layer as a mask;
and removing the mask layer remaining on the substrate body.
The first dispenser head and the second dispenser head are each movable between a standby position and a dispensing position,
The first dispenser head and the second dispenser head are movable independently of each other;
Airflow is created from one side to the other,
A method for manufacturing a concave-convex structure, wherein the first resin material is more volatile than the second resin material, and the ejection position of the first dispenser head is not located upstream of the airflow relative to the ejection position of the second dispenser head .
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