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JP7620176B2 - Conductive paste for terminal electrodes of multilayer ceramic electronic components - Google Patents
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JP7620176B2 - Conductive paste for terminal electrodes of multilayer ceramic electronic components - Google Patents

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Description

本発明は、積層セラミックコンデンサ、積層インダクタ、積層型圧電素子等の積層セラミック電子部品の端子電極を形成するための導電性ペーストに関する。 The present invention relates to a conductive paste for forming terminal electrodes of multilayer ceramic electronic components such as multilayer ceramic capacitors, multilayer inductors, and multilayer piezoelectric elements.

積層セラミックコンデンサ、積層インダクタ、積層型圧電素子等の積層セラミック電子部品は、一般に、以下のようにして製造される。 Multilayer ceramic electronic components such as multilayer ceramic capacitors, multilayer inductors, and multilayer piezoelectric elements are generally manufactured as follows.

まず、チタン酸バリウム系セラミック等の誘電体セラミックグリーンシート上に、内部電極用導電性ペーストを所定のパターンで印刷する。その後、このシートを複数枚積み重ね、圧着して、セラミックグリーンシートと内部電極ペースト層とが交互に積層された未焼成の積層体を得る。得られた積層体を所定の形状のチップに切断することで積層素体を得る。なお、積層素体は、この時点で高温焼成される場合もあれば、この時点では焼成されず、後に端子電極用導電性ペーストを用いて形成される端子電極ペースト層とともに同時焼成される場合もある。本明細書においては、そのどちらの場合であっても、端子電極ペースト層を形成する前の状態の積層体を「積層素体」という。 First, a conductive paste for the internal electrodes is printed in a predetermined pattern on a dielectric ceramic green sheet such as a barium titanate ceramic. Then, a number of these sheets are stacked and pressed together to obtain an unfired laminate in which ceramic green sheets and internal electrode paste layers are alternately stacked. The resulting laminate is cut into chips of a predetermined shape to obtain a laminated body. The laminated body may be fired at a high temperature at this stage, or it may not be fired at this stage and may be fired simultaneously with a terminal electrode paste layer formed later using the conductive paste for the terminal electrodes. In either case, the laminate in the state before the terminal electrode paste layer is formed is referred to as a "laminated body."

その後、端子電極用導電性ペーストが焼成タイプである場合は、導電性粉末、バインダー樹脂、有機溶剤および必要に応じて添加されるガラスフリットを構成成分とする端子電極用導電性ペーストを、積層素体の内部電極の露出する端面に、浸漬法によって端子電極ペースト層を形成した後、乾燥し、さらに高温で焼成して端子電極を形成する。また、端子電極用導電性ペーストが非焼成タイプの場合は、導電性粉末、熱や光等の活性エネルギーによって硬化する熱硬化性樹脂や感光性樹脂等を用いたバインダー樹脂および有機溶剤を主成分とする端子電極用導電性ペーストを、前記と同様に浸漬法によって端子電極ペースト層を形成した後に、活性エネルギーを印加(加熱等)することによって当該ペーストを硬化させて端子電極を形成する。 If the conductive paste for the terminal electrodes is of the fired type, the conductive paste for the terminal electrodes, which is composed of conductive powder, binder resin, organic solvent, and glass frit added as necessary, is immersed in the conductive paste for the terminal electrodes to form a terminal electrode paste layer on the exposed end surface of the internal electrode of the laminated body, and then dried and fired at a high temperature to form the terminal electrode. If the conductive paste for the terminal electrodes is of the non-fired type, the conductive paste for the terminal electrodes, which is mainly composed of conductive powder, binder resin using thermosetting resin or photosensitive resin that hardens with active energy such as heat or light, and organic solvent, is immersed in the conductive paste for the terminal electrodes to form a terminal electrode paste layer in the same manner as above, and then the paste is hardened by applying active energy (heating, etc.) to form the terminal electrode.

さらに、この後、端子電極上には、必要に応じてニッケル、スズ等のめっき層を、電気めっき等により形成することもある。 Furthermore, after this, a plating layer of nickel, tin, etc. may be formed on the terminal electrode by electroplating, etc., as necessary.

内部電極材料としては、従来、パラジウム、銀-パラジウム、白金等の貴金属が用いられていたが、省資源やコストダウン等の要求があり、特に焼成タイプにおいては、パラジウム、銀-パラジウムの焼成時の酸化膨張に起因するデラミネーション、クラックの発生防止等の要求があることから、近年ではニッケル、コバルト、銅等の卑金属を用いるのが主流になっている。このため、端子電極材料としても、従来の銀や銀-パラジウムに替わって、卑金属内部電極と良好な電気的接続を形成しやすい銅、ニッケル、コバルト、またはこれらの合金が用いられてきている。 Traditionally, precious metals such as palladium, silver-palladium, and platinum have been used as internal electrode materials, but there is a demand for resource conservation and cost reduction, and in sintered types in particular, there is a demand to prevent delamination and cracks caused by the oxidative expansion of palladium and silver-palladium when sintered, so in recent years, the use of base metals such as nickel, cobalt, and copper has become mainstream. For this reason, copper, nickel, cobalt, or alloys of these metals, which easily form good electrical connections with base metal internal electrodes, are being used as terminal electrode materials instead of the conventional silver and silver-palladium.

ところで、浸漬法で端子電極ペースト層を形成する場合、積層素体端面の中央部付近のペースト層が厚くなりやすいという問題がある。そこで、積層素体の端面に形成された端子電極ペースト層の端面を、平面板に押し当てることによって端子電極ペースト層を整形し、端子電極の寸法や形状を調整するブロット処理が広く一般的に行われている。(特許文献1) However, when forming the terminal electrode paste layer by the immersion method, there is a problem that the paste layer tends to become thick near the center of the end face of the laminated element. Therefore, a blot process is widely and commonly used to shape the terminal electrode paste layer by pressing the end face of the terminal electrode paste layer formed on the end face of the laminated element against a flat plate, thereby adjusting the dimensions and shape of the terminal electrode. (Patent Document 1)

1回のブロット処理では整形が不十分な場合もあるため、複数回のブロット処理を行う例(特許文献2)や、浸漬用の導電性ペースト層とは別にブロット処理用の導電性ペースト層を準備する例(特許文献3)等も知られている。 In some cases, shaping is insufficient with a single blot process, so there are known examples of performing the blot process multiple times (Patent Document 2) and of preparing a conductive paste layer for the blot process separately from the conductive paste layer for immersion (Patent Document 3).

しかしながら、従来では、端子電極の中央部およびコーナー部において十分な膜厚を確保しつつ、厚みが均一な端子電極膜を得ることが困難な場合があった。このような場合、端子電極膜に切れ等を生じ、安定的に良好な導電性を得ることが困難であった。 However, in the past, it was sometimes difficult to obtain a terminal electrode film with a uniform thickness while ensuring sufficient film thickness at the center and corners of the terminal electrode. In such cases, breaks or the like occurred in the terminal electrode film, making it difficult to obtain stable, good conductivity.

特開2010-206135号公報JP 2010-206135 A 特開2012-28465号公報JP 2012-28465 A 特開2001-345240号公報JP 2001-345240 A

本発明の目的は、端子電極の中央部およびコーナー部において十分な膜厚を確保しつつ、厚みのばらつきが抑制された端子電極膜の形成に好適に用いることができる積層セラミック電子部品の端子電極用導電性ペーストを提供することにある。 The object of the present invention is to provide a conductive paste for terminal electrodes of multilayer ceramic electronic components that can be suitably used to form a terminal electrode film with reduced thickness variation while ensuring sufficient film thickness at the center and corners of the terminal electrode.

このような目的は、下記(1)~(9)に記載の本発明により達成される。
(1) 積層セラミック電子部品の端子電極の形成に用いられる導電性ペーストであって、
少なくとも、導電性粉末と、樹脂成分および溶剤からなる有機ビヒクルと、を含み、
前記導電性粉末と前記有機ビヒクルの総量を100質量部としたときの前記導電性粉末の含有量が55.0質量部以上85.0質量部以下の範囲内であり、前記樹脂成分の含有量が2.0質量部以上10.0質量部以下の範囲内であり、
前記導電性ペーストに対して、周波数1.0Hz、ひずみ量0.004で動的粘弾性測定を行った時の位相差δが30°以上55°以下の範囲内にあることを特徴とする積層セラミック電子部品の端子電極用導電性ペースト。
Such an object can be achieved by the present invention described in (1) to (9) below.
(1) A conductive paste used to form terminal electrodes of a multilayer ceramic electronic component, comprising:
The conductive paste includes at least a conductive powder and an organic vehicle including a resin component and a solvent,
the content of the conductive powder is in the range of 55.0 parts by mass or more and 85.0 parts by mass or less, and the content of the resin component is in the range of 2.0 parts by mass or more and 10.0 parts by mass or less, when the total amount of the conductive powder and the organic vehicle is 100 parts by mass;
A conductive paste for terminal electrodes of a multilayer ceramic electronic component, characterized in that when the conductive paste is subjected to dynamic viscoelasticity measurement at a frequency of 1.0 Hz and a strain of 0.004, the phase difference δ is in the range of 30° or more and 55 ° or less.

(2) せん断速度0.02s-1における粘度が500Pa・s以上6000Pa・s以下である上記(1)に記載の積層セラミック電子部品の端子電極用導電性ペースト。 (2) The conductive paste for terminal electrodes of a laminated ceramic electronic component according to (1) above, having a viscosity of 500 Pa·s or more and 6000 Pa·s or less at a shear rate of 0.02 s −1 .

(3) せん断速度0.02s-1における粘度が1500Pa・s以上4500Pa・s以下である上記(2)に記載の積層セラミック電子部品の端子電極用導電性ペースト。 (3) The conductive paste for terminal electrodes of a laminated ceramic electronic component according to (2) above, having a viscosity of 1500 Pa·s or more and 4500 Pa·s or less at a shear rate of 0.02 s −1 .

(4) 前記導電性粉末が銅を含む金属粉末である上記(1)ないし(3)のいずれかに記載の積層セラミック電子部品の端子電極用導電性ペースト。 (4) A conductive paste for terminal electrodes of a multilayer ceramic electronic component according to any one of (1) to (3) above, in which the conductive powder is a metal powder containing copper.

(5) 前記導電性粉末がフレーク状の粉末である上記(1)ないし(4)のいずれかに記載の積層セラミック電子部品の端子電極用導電性ペースト。 (5) A conductive paste for terminal electrodes of a multilayer ceramic electronic component according to any one of (1) to (4) above, in which the conductive powder is a flake-shaped powder.

(6) 前記導電性粉末の平均粒径が0.1μm以上10μm以下である上記(1)ないし(5)のいずれかに記載の積層セラミック電子部品の端子電極用導電性ペースト。
(7) 前記導電性粉末と前記有機ビヒクルの総量を100質量部としたときの前記樹脂成分の含有量が4.0質量部以上7.0質量部以下の範囲内である上記(1)ないし(6)のいずれかに記載の積層セラミック電子部品の端子電極用導電性ペースト。
) 前記導電性粉末と前記有機ビヒクルの総量を100質量部としたときの前記樹脂成分の含有量が4.0質量部以上6.3質量部以下の範囲内である上記(1)ないし()のいずれか1項に記載の積層セラミック電子部品の端子電極用導電性ペースト。
(9) 前記導電性粉末と前記有機ビヒクルの総量を100質量部としたときの前記導電性粉末の含有量が55.0質量部以上81.0質量部以下の範囲内である上記(1)ないし(8)のいずれかに記載の積層セラミック電子部品の端子電極用導電性ペースト。
(6) The conductive paste for terminal electrodes of a laminated ceramic electronic component according to any one of (1) to (5) above, wherein the conductive powder has an average particle size of 0.1 μm or more and 10 μm or less.
(7) The conductive paste for terminal electrodes of a laminated ceramic electronic component according to any one of (1) to (6) above, wherein the content of the resin component is within a range of 4.0 parts by mass or more and 7.0 parts by mass or less when the total amount of the conductive powder and the organic vehicle is 100 parts by mass.
( 8 ) The conductive paste for terminal electrodes of a laminated ceramic electronic component according to any one of (1) to ( 7 ) above, wherein the content of the resin component is within a range of 4.0 parts by mass or more and 6.3 parts by mass or less when the total amount of the conductive powder and the organic vehicle is 100 parts by mass.
(9) The conductive paste for terminal electrodes of a laminated ceramic electronic component according to any one of (1) to (8) above, wherein the content of the conductive powder is in the range of 55.0 parts by mass or more and 81.0 parts by mass or less when the total amount of the conductive powder and the organic vehicle is 100 parts by mass.

本発明によれば、端子電極の中央部およびコーナー部において十分な膜厚を確保しつつ、厚みのばらつきが抑制された端子電極膜の形成に好適に用いることができる積層セラミック電子部品の端子電極用導電性ペーストを提供することできる。 The present invention provides a conductive paste for terminal electrodes of multilayer ceramic electronic components that can be suitably used to form a terminal electrode film with reduced thickness variation while ensuring sufficient film thickness at the center and corners of the terminal electrode.

実施例1の導電性ペーストを用いて形成された端子電極付近の断面の走査型電子顕微鏡(SEM)写真である。4 is a scanning electron microscope (SEM) photograph of a cross section near a terminal electrode formed using the conductive paste of Example 1. 比較例1の導電性ペーストを用いて形成された端子電極付近の断面の走査型電子顕微鏡(SEM)写真である。1 is a scanning electron microscope (SEM) photograph of a cross section near a terminal electrode formed using the conductive paste of Comparative Example 1. 比較例2の導電性ペーストを用いて形成された端子電極付近の断面の走査型電子顕微鏡(SEM)写真である。13 is a scanning electron microscope (SEM) photograph of a cross section near a terminal electrode formed using the conductive paste of Comparative Example 2.

以下、本発明について、好適な実施形態に基づいて詳細に説明するが、本発明の範囲は、当該実施形態に限定されるものではない。 The present invention will be described in detail below based on a preferred embodiment, but the scope of the present invention is not limited to this embodiment.

[積層セラミック電子部品の端子電極用導電性ペースト]
本発明の積層セラミック電子部品の端子電極用導電性ペーストは、例えば、積層セラミックコンデンサ、積層インダクタ、積層型圧電素子等の積層セラミック電子部品の端子電極の形成に用いられる導電性ペーストである。
[Conductive paste for terminal electrodes of multilayer ceramic electronic components]
The conductive paste for terminal electrodes of multilayer ceramic electronic components of the present invention is a conductive paste used for forming terminal electrodes of multilayer ceramic electronic components such as multilayer ceramic capacitors, multilayer inductors, and multilayer piezoelectric elements.

本発明の積層セラミック電子部品の端子電極用導電性ペーストは、少なくとも、導電性粉末と、樹脂成分および溶剤からなる有機ビヒクルと、を含む。 The conductive paste for terminal electrodes of multilayer ceramic electronic components of the present invention contains at least a conductive powder and an organic vehicle consisting of a resin component and a solvent.

そして、導電性粉末と、樹脂成分および溶剤からなる有機ビヒクルとの総量を100質量部としたとき、導電性粉末の含有量が55.0質量部以上85.0質量部以下の範囲内であり、樹脂成分の含有量が2.0質量部以上10.0質量部以下の範囲内であり、かつ、周波数1.0Hz、ひずみ量0.004で動的粘弾性測定を行った時の位相差δが30°以上57°以下の範囲内にあることを特徴とする。 When the total amount of the conductive powder and the organic vehicle consisting of the resin component and the solvent is taken as 100 parts by mass, the content of the conductive powder is within the range of 55.0 parts by mass to 85.0 parts by mass, the content of the resin component is within the range of 2.0 parts by mass to 10.0 parts by mass, and the phase difference δ when dynamic viscoelasticity is measured at a frequency of 1.0 Hz and a strain of 0.004 is within the range of 30° to 57°.

このような構成により、端子電極の中央部およびコーナー部において十分な膜厚を確保しつつ、厚みのばらつきが抑制された端子電極膜の形成に好適に用いることができる積層セラミック電子部品の端子電極用導電性ペーストを提供することができる。 This configuration makes it possible to provide a conductive paste for terminal electrodes of multilayer ceramic electronic components that can be suitably used to form terminal electrode films with reduced thickness variation while ensuring sufficient film thickness at the center and corners of the terminal electrodes.

なお、動的粘弾性測定時の温度は、25℃とすることができる。動的粘弾性の測定は、レオメーター(例えば、TA instrument社製、AR2000)を用いて行うことができる。また、コーンプレートとしては、例えば、コーン径40mm、コーン角度2°のものを用いることができる。 The temperature during dynamic viscoelasticity measurement can be 25°C. Dynamic viscoelasticity can be measured using a rheometer (e.g., AR2000, manufactured by TA Instrument). The cone plate can have a cone diameter of 40 mm and a cone angle of 2°.

これに対し、上記のような条件を満たさない場合には、満足のいく結果が得られない。
例えば、導電性粉末の含有量が前記下限値未満であると、焼成後に十分な膜厚が確保できなくなり、高い導電性が得られなくなる。
On the other hand, if the above conditions are not met, satisfactory results will not be obtained.
For example, if the content of the conductive powder is less than the lower limit, a sufficient film thickness cannot be ensured after firing, and high conductivity cannot be obtained.

また、導電性粉末の含有量が前記上限値を超えたり、樹脂成分の含有量が前記下限値未満であると、ペースト中における導電性粉末を含む無機成分の分散性が低下し、ペーストの印刷性が低下する。 Furthermore, if the content of the conductive powder exceeds the upper limit or the content of the resin component is less than the lower limit, the dispersibility of the inorganic components, including the conductive powder, in the paste decreases, and the printability of the paste decreases.

また、樹脂成分の含有量が前記上限値を超えると、特に焼成タイプのペーストの場合、焼成時にカーボン残渣が生じやすくなり、その結果として導電性が低下する。 In addition, if the resin content exceeds the upper limit, carbon residue is more likely to be generated during firing, particularly in the case of fired pastes, resulting in reduced electrical conductivity.

また、前記位相差δが前記下限値未満であると、導電性ペーストのレベリング性が悪化し、端子電極の厚みのばらつきを十分に抑制することが困難となる。 Furthermore, if the phase difference δ is less than the lower limit, the leveling properties of the conductive paste deteriorate, making it difficult to sufficiently suppress the variation in thickness of the terminal electrodes.

また、前記位相差δが前記上限値を超えると、端子電極のコーナー部での膜厚を十分に確保することが困難となる。 Furthermore, if the phase difference δ exceeds the upper limit, it becomes difficult to ensure a sufficient film thickness at the corners of the terminal electrodes.

なお、以下の説明では、「積層セラミック電子部品の端子電極用導電性ペースト」のことを、単に「導電性ペースト」とも言う。 In the following description, "conductive paste for terminal electrodes of multilayer ceramic electronic components" will also be referred to simply as "conductive paste."

<金属粉末>
本発明に係る導電性ペーストは導電性粉末を含んでいる。
<Metal powder>
The conductive paste according to the present invention contains a conductive powder.

導電性粉末の構成材料としては、例えば、銀、金、白金、銅、パラジウム、ニッケル、タングステン、亜鉛、錫、鉄、コバルトや、これらのうち少なくとも1種を含む合金等が挙げられる。導電性粉末としては、前記材料のうち2種以上を組み合わせて用いてもよい。 Examples of materials constituting the conductive powder include silver, gold, platinum, copper, palladium, nickel, tungsten, zinc, tin, iron, cobalt, and alloys containing at least one of these. The conductive powder may be a combination of two or more of the above materials.

中でも、導電率や取り扱い易さ等の観点から、導電性粉末は、銀、銅のうち少なくとも一方を含む粉末、例えば、銀粉末や銅粉末であるのが好ましく、銅を含む金属粉末であるのがより好ましい。 Among these, from the viewpoints of conductivity and ease of handling, the conductive powder is preferably a powder containing at least one of silver and copper, for example, silver powder or copper powder, and more preferably a metal powder containing copper.

これにより、導電性ペーストを用いて形成される端子電極において、より優れた導電性が得られる。また、導電性粉末が銅を含む金属粉末である場合、生産コストの点からも有利である。 This provides better conductivity in the terminal electrodes formed using the conductive paste. In addition, if the conductive powder is a metal powder containing copper, this is also advantageous in terms of production costs.

なお、導電性粉末としては、金属粉末のほかに、例えば、酸化物、ガラス、セラミック等の無機粉末に金属を被覆した複合粉末や、金属粉末表面に酸化物、ガラス、セラミックや他の金属を被覆した複合粉末を用いてもよい。 In addition to metal powder, the conductive powder may be a composite powder in which an inorganic powder such as an oxide, glass, or ceramic is coated with a metal, or a composite powder in which a metal powder is coated with an oxide, glass, ceramic, or another metal.

また、必要に応じて、導電性粉末は、金属粉末を有機金属化合物や界面活性剤、脂肪酸類等で表面処理したものであってもよい。 If necessary, the conductive powder may be a metal powder that has been surface-treated with an organometallic compound, a surfactant, a fatty acid, or the like.

また、導電性粉末としては、例えば、用途によっては、導電性を備えたカーボンや導電性樹脂等の金属以外の導電性材料で構成されたものを用いてもよい。 In addition, depending on the application, the conductive powder may be made of a conductive material other than metal, such as conductive carbon or conductive resin.

導電性粉末の形状としては、例えば、球状、フレーク状、粒状等、種々の形状が挙げられ、これらから選択される1種または2種以上を組み合わせて用いることができるが、フレーク状であるのが好ましい。 The conductive powder may have a variety of shapes, such as spherical, flake, and granular, and one or more of these shapes may be used in combination, but flake shapes are preferred.

フレーク状であることによって、導電性粉末の比表面積が大きくなり、ペースト印刷時のダレ等を抑制しやすくなる他、特に非焼成の硬化タイプのペーストの場合には、導電性粉末同士の接触面積が増え、高導電性にも寄与する。 The flake shape increases the specific surface area of the conductive powder, making it easier to prevent dripping during paste printing. In addition, particularly in the case of non-fired hardening type pastes, the contact area between the conductive powder particles increases, contributing to high conductivity.

なお、本明細書において、球状とは、長径/短径の比率が2以下の粒子の形状をいう。また、フレーク状とは、長径/短径の比率が2超の形状をいう。 In this specification, spherical refers to a particle shape with a long axis/short axis ratio of 2 or less. Also, flake-like refers to a particle shape with a long axis/short axis ratio of more than 2.

導電性粉末の平均粒径(D50)は、0.1μm以上10μm以下の範囲内であるのが好ましく、0.3μm以上5μm以下の範囲であるのがより好ましく、0.5μm以上3μm以下の範囲内であるのがさらに好ましい。
これにより、導電性ペーストの焼結性や印刷性をより向上させることができる。
The average particle size (D 50 ) of the conductive powder is preferably in the range of 0.1 μm to 10 μm, more preferably in the range of 0.3 μm to 5 μm, and even more preferably in the range of 0.5 μm to 3 μm.
This can further improve the sinterability and printability of the conductive paste.

なお、本明細書において、平均粒径(D50)とは、特に断りのない限り、レーザ式粒度分布測定装置を用いて測定した粒度分布の重量基準の積算分率50%値を指し、例えば、レーザ回折/散乱式粒子径分布測定装置LA-960(HORIBA社製)を用いた測定により求めることができる。 In this specification, unless otherwise specified, the average particle size (D 50 ) refers to the weight-based cumulative fraction 50% value of the particle size distribution measured using a laser type particle size distribution analyzer, and can be determined, for example, by measurement using a laser diffraction/scattering type particle size distribution analyzer LA-960 (manufactured by HORIBA).

なお、導電性ペーストの導電性や焼結性の調整のため、導電性の超微粒子(例えば、粒径が0.04μm以下の粒子)を少量含有させてもよい。ただし、当該超微粒子の含有量は、導電性粉末全体の含有量を100質量部としたとき、3.0質量部以下であるのが好ましく、1.0質量部以下であるのがより好ましい。 In order to adjust the conductivity and sinterability of the conductive paste, a small amount of conductive ultrafine particles (e.g., particles with a particle size of 0.04 μm or less) may be added. However, the content of the ultrafine particles is preferably 3.0 parts by mass or less, and more preferably 1.0 part by mass or less, when the total content of the conductive powder is 100 parts by mass.

導電性ペースト中における導電性粉末と有機ビヒクルの総量を100質量部としたときの、金属粉末の含有量は、55.0質量部以上85.0質量部以下の範囲内であればよいが、67.0質量部以上82.0質量部以下の範囲内であるのが好ましく、70.0質量部以上81.0質量部以下の範囲内であるのがより好ましい。
これにより、前述した本発明による効果がより顕著に発揮される。
When the total amount of the conductive powder and organic vehicle in the conductive paste is 100 parts by mass, the content of the metal powder may be in the range of 55.0 parts by mass or more and 85.0 parts by mass or less, preferably in the range of 67.0 parts by mass or more and 82.0 parts by mass or less, and more preferably in the range of 70.0 parts by mass or more and 81.0 parts by mass or less.
This allows the above-mentioned effects of the present invention to be more pronounced.

<有機ビヒクル>
本発明に係る導電性ペーストは、樹脂成分および溶剤からなる有機ビヒクルを含んでいる。
<Organic Vehicle>
The conductive paste according to the present invention contains an organic vehicle consisting of a resin component and a solvent.

(樹脂成分)
有機ビヒクルを構成する樹脂成分としては、例えば、エチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、エチルヒドロキシエチルセルロース、ニトロセルロース等のセルロース系樹脂、ポリメチルアクリレート、ポリメチルメタクリレート等の(メタ)アクリル樹脂、ブチラール樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、ロジンエステル類、スチレン系樹脂、メラミン樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエステル樹脂、多官能性アクリレートや多官能性メタアクリレートモノマー等の感光性モノマー等が挙げられ、これらから選択される1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。中でも、セルロース系樹脂、アクリル樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂が好ましい。
(Resin Component)
Examples of the resin component constituting the organic vehicle include cellulose-based resins such as ethyl cellulose, hydroxyethyl cellulose, ethylhydroxyethyl cellulose, and nitrocellulose, (meth)acrylic resins such as polymethyl acrylate and polymethyl methacrylate, butyral resins, phenolic resins, epoxy resins, alkyd resins, rosin esters, styrene-based resins, melamine resins, polyurethane resins, polyimide resins, polyester resins, and photosensitive monomers such as polyfunctional acrylate and polyfunctional methacrylate monomers, and one or more selected from these may be used in combination. Among these, cellulose-based resins, acrylic resins, phenolic resins, and alkyd resins are preferred.

これらの樹脂を使用した場合には、ペースト全体の分散性がさらに向上し、塗布厚膜のばらつきがより効果的に抑制され、結果としてコーナー部の膜厚をより好適に確保しやすくなる。 When these resins are used, the dispersibility of the entire paste is further improved, and the variation in the applied film thickness is more effectively suppressed, making it easier to ensure a more suitable film thickness at the corners.

導電性ペースト中において、樹脂成分は、溶解状態、分散状態のいずれの形態で含まれていてもよい。 In the conductive paste, the resin component may be contained in either a dissolved state or a dispersed state.

また、導電性ペースト中における導電性粉末と有機ビヒクルの総量を100質量部としたときの、樹脂成分の含有量は、2.0質量部以上10.0質量部以下であればよいが、3.0質量部以上7.0質量部以下であるのが好ましく、4.0質量部以上6.3質量部以下であるのがより好ましい。
これにより、前述した本発明による効果がより顕著に発揮される。
In addition, when the total amount of the conductive powder and the organic vehicle in the conductive paste is 100 parts by mass, the content of the resin component may be 2.0 parts by mass or more and 10.0 parts by mass or less, preferably 3.0 parts by mass or more and 7.0 parts by mass or less, and more preferably 4.0 parts by mass or more and 6.3 parts by mass or less.
This allows the above-mentioned effects of the present invention to be more pronounced.

(溶剤)
有機ビヒクルを構成する溶剤としては、例えば、水、炭化水素系、アルコール類、エーテル類、エステル類、ケトン類またはグリコール類等が挙げられ、より具体的には、トルエン、ベンゼン、オクタノール、デカノール、テルピネオール、テルピネオールアセテート、ジヒドロテルピネオール、ジヒドロテルピネオールアセテート、カルビトール、ブチルカルビトール、セロソルブ、ブチルセロソルブ、ブチルカルビトールアセテート、セロソルブアセテート、エチレングリコールジアセテート、プロピレングリコールジアセテート等が挙げられ、これらから選択される1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。
(solvent)
Examples of the solvent constituting the organic vehicle include water, hydrocarbons, alcohols, ethers, esters, ketones, and glycols. More specifically, examples of the solvent include toluene, benzene, octanol, decanol, terpineol, terpineol acetate, dihydroterpineol, dihydroterpineol acetate, carbitol, butyl carbitol, cellosolve, butyl cellosolve, butyl carbitol acetate, cellosolve acetate, ethylene glycol diacetate, and propylene glycol diacetate. One or more of these solvents may be used in combination.

また、導電性ペースト中における導電性粉末と有機ビヒクルの総量を100質量部としたときの、溶剤の含有量は、特に限定されないが、5.0質量部以上40.0質量部以下であるのが好ましく、12.0質量部以上22.0質量部以下であるのがより好ましく、14.0質量部以上20.0質量部以下であるのがさらに好ましい。 In addition, when the total amount of the conductive powder and organic vehicle in the conductive paste is 100 parts by mass, the content of the solvent is not particularly limited, but is preferably 5.0 parts by mass or more and 40.0 parts by mass or less, more preferably 12.0 parts by mass or more and 22.0 parts by mass or less, and even more preferably 14.0 parts by mass or more and 20.0 parts by mass or less.

導電性ペースト中における導電性粉末と有機ビヒクルの総量を100質量部としたときの、有機ビヒクルの含有量は、特に限定されないが、10.0質量部以上45.0質量部以下であるのが好ましく、14.4質量部以上29.0質量部以下であるのがより好ましく、17.4質量部以上25.3質量部以下であるのがさらに好ましい。 When the total amount of the conductive powder and organic vehicle in the conductive paste is 100 parts by mass, the content of the organic vehicle is not particularly limited, but is preferably 10.0 parts by mass or more and 45.0 parts by mass or less, more preferably 14.4 parts by mass or more and 29.0 parts by mass or less, and even more preferably 17.4 parts by mass or more and 25.3 parts by mass or less.

<その他の成分>
本発明の導電性ペーストには、その他、必要に応じてガラス粉末や可塑剤、分散剤、界面活性剤等が配合されてもよい。また焼結挙動の制御等を目的として、種々の無機粉末や有機金属化合物が配合されてもよい。
<Other ingredients>
The conductive paste of the present invention may further contain, as necessary, glass powder, a plasticizer, a dispersant, a surfactant, etc. Furthermore, for the purpose of controlling the sintering behavior, etc., various inorganic powders and organometallic compounds may also be contained.

一例として、焼結を促進させるために、ガラス粉末、金属酸化物等の無機バインダーや、焼成中にこれらを生成しうる前駆体としての有機金属化合物が配合され得る。また、焼結を遅らせたり、焼成収縮率を調整するために、金属酸化物粉末やセラミック粉末、例えば、基板と同種の材料を含むセラミック粉末、ガラス-セラミック粉末、金属酸化物粉末等の無機粉末やこれらの前駆体化合物が配合され得る。 For example, to promote sintering, inorganic binders such as glass powder and metal oxides, or organometallic compounds as precursors that can generate these during firing, can be added. In addition, to retard sintering or adjust the firing shrinkage rate, inorganic powders such as metal oxide powders and ceramic powders, for example, ceramic powders containing the same material as the substrate, glass-ceramic powders, metal oxide powders, and other inorganic powders or precursor compounds thereof can be added.

ガラス粉末としては、例えば、BaO-ZnO-B系、BaO-ZnO系、BaO-SiO系、BaO-ZnO-SiO系、BaO-B-SiO系、ZnO-B系、BaO-CaO-Al系、PbO-B-SiO-Al系、PbO-B-ZnO系、Bi-B-SiO系といった組成のもの等が挙げられ、これらから選択される1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。 Examples of glass powders include those having compositions such as BaO-ZnO-B 2 O 3 based, BaO-ZnO based, BaO-SiO 2 based, BaO-ZnO-SiO 2 based, BaO-B 2 O 3 -SiO 2 based, ZnO-B 2 O 3 based, BaO-CaO-Al 2 O 3 based, PbO-B 2 O 3 -SiO 2 -Al 2 O 3 based, PbO-B 2 O 3 -ZnO based, and Bi 2 O 3 -B 2 O 3 -SiO 2 based compositions, and one or more selected from these can be used in combination.

本発明の導電性ペーストは、常法により、各材料を混合、混練し、導電性粉末を有機ビヒクル中に均一に分散させることにより調製される。 The conductive paste of the present invention is prepared by mixing and kneading the materials in a conventional manner and uniformly dispersing the conductive powder in the organic vehicle.

前述したように、本発明の導電性ペーストは、周波数1.0Hz、ひずみ量0.004で動的粘弾性測定を行った時の位相差δが30°以上57°以下の範囲内にある。 As mentioned above, the conductive paste of the present invention has a phase difference δ in the range of 30° to 57° when dynamic viscoelasticity measurement is performed at a frequency of 1.0 Hz and a strain of 0.004.

前記のような範囲の位相差δは、例えば、構成材料の条件を調整することにより、実現することができる。特に、導電性ペーストの構成成分としての導電性粉末、有機ビヒクルが、前述したような好ましい条件を満足することにより、前記のような範囲の位相差δを好適に実現することができる。 The phase difference δ in the above range can be realized, for example, by adjusting the conditions of the constituent materials. In particular, the phase difference δ in the above range can be preferably realized by making the conductive powder and organic vehicle, which are the constituent components of the conductive paste, satisfy the preferred conditions as described above.

前記位相差δは、30°以上57°以下の範囲内であればよいが、33°以上54°以下の範囲内であるのが好ましく、36°以上49°以下の範囲内であるのがより好ましい。
これにより、前述した本発明による効果がより顕著に発揮される。
The phase difference δ may be within the range of 30° to 57°, preferably within the range of 33° to 54°, and more preferably within the range of 36° to 49°.
This allows the above-mentioned effects of the present invention to be more pronounced.

また、本発明の導電性ペーストは、せん断速度0.02s-1における粘度が、500Pa・s以上6000Pa・s以下の範囲内であるのが好ましく、1500Pa・s以上4500Pa・s以下の範囲内であるのがより好ましい。
これにより、前述した本発明による効果がより顕著に発揮される。
Furthermore, the conductive paste of the present invention preferably has a viscosity at a shear rate of 0.02 s -1 in the range of 500 Pa·s to 6000 Pa·s, more preferably in the range of 1500 Pa·s to 4500 Pa·s.
This allows the above-mentioned effects of the present invention to be more pronounced.

なお、粘度測定時の温度は、25℃とすることができる。また、粘度の測定は、レオメーター(例えば、TA instrument社製、AR2000)を用いて行うことができる。また、コーンプレートとしては、例えば、コーン径40mm、コーン角度2°のものを用いることができる。 The temperature during viscosity measurement can be 25°C. The viscosity can be measured using a rheometer (e.g., AR2000, manufactured by TA Instrument). The cone plate can have a cone diameter of 40 mm and a cone angle of 2°.

以上説明したような本発明に係る導電性ペーストによれば、端子電極の中央部およびコーナー部において十分な膜厚を確保しつつ、厚みのばらつきが抑制された端子電極膜を好適に形成することができる。 The conductive paste according to the present invention as described above can be used to form a terminal electrode film with reduced thickness variation while ensuring sufficient film thickness at the center and corners of the terminal electrode.

[積層セラミック電子部品の端子電極の形成]
次に、前述した本発明に係る導電性ペーストを用いた積層セラミック電子部品の端子電極の形成について説明する。
[Formation of Terminal Electrodes of Multilayer Ceramic Electronic Components]
Next, the formation of terminal electrodes of a multilayer ceramic electronic component using the conductive paste according to the present invention will be described.

まず、チタン酸バリウム系セラミック等の誘電体セラミックで構成された層と、内部電極層とが、交互に積層された積層素体を用意する。 First, a laminated element is prepared in which layers made of dielectric ceramics such as barium titanate ceramics and internal electrode layers are alternately stacked.

積層素体としては、内部電極用導電性ペーストを所定のパターンで印刷することにより形成された内部電極層を有する誘電体セラミックグリーンシートを複数枚積み重ね、圧着することにより得られたものを用いることができる。 The laminated body can be made by stacking and pressing multiple dielectric ceramic green sheets each having an internal electrode layer formed by printing a conductive paste for the internal electrodes in a predetermined pattern.

積層素体は、通常、上記の圧着後に、所定の形状チップに切断されたものである。
積層素体は、後述する端子電極ペースト層の形成に先立って、焼成処理が施されたものであってもよいし、焼成処理が施されていないものであってもよい。すなわち、積層素体を構成する内部電極層は、端子電極ペースト層の形成時において、ペースト状をなすものであってもよい。
The laminated body is usually cut into chips of a predetermined shape after the above-mentioned compression bonding.
The laminated body may be one that has been subjected to a firing process prior to the formation of the terminal electrode paste layer described below, or may not be one that has been subjected to a firing process. In other words, the internal electrode layers that constitute the laminated body may be in a paste state when the terminal electrode paste layer is formed.

その後、積層素体の内部電極の露出する端面に、本発明に係る導電性ペーストを浸漬法によって付与して端子電極ペースト層を形成する。 Then, the conductive paste according to the present invention is applied to the exposed end faces of the internal electrodes of the laminated body by the immersion method to form a terminal electrode paste layer.

上記のようにして形成される端子電極ペースト層は、通常、積層素体端面の中央部付近のペースト層が厚くなりやすい。そこで、積層素体の端面に形成された端子電極ペースト層を、平面板に押し当てることによって端子電極ペースト層を整形し、端子電極の寸法や形状を調整するブロット処理を行う。 The terminal electrode paste layer formed in the manner described above usually tends to be thicker near the center of the end face of the laminated element. Therefore, a blot process is performed in which the terminal electrode paste layer formed on the end face of the laminated element is pressed against a flat plate to shape the terminal electrode paste layer and adjust the dimensions and shape of the terminal electrode.

ブロット処理は、例えば、複数回行ってもよい。また、積層素体の端面に形成された端子電極ペースト層を、平面板に押し当てた後、平面板から引き離す前に、端子電極ペースト層と平面板とを相対的に摺動させてもよい。より具体的には、例えば、積層素体の端面に形成された端子電極ペースト層を、平面板に押し当てた後、平面板から引き離す前に、端子電極ペースト層が設けられた積層素体を、平面板の面方向に相対的に移動させてもよい。 The blotting process may be performed, for example, multiple times. In addition, the terminal electrode paste layer formed on the end surface of the laminated body may be pressed against the flat plate, and the terminal electrode paste layer and the flat plate may be slid relative to each other before being pulled away from the flat plate. More specifically, for example, the terminal electrode paste layer formed on the end surface of the laminated body may be pressed against the flat plate, and the laminated body provided with the terminal electrode paste layer may be moved relatively in the surface direction of the flat plate before being pulled away from the flat plate.

上記のようなブロット処理の後、端子電極ペースト層を焼成したり、活性化エネルギーにより硬化させることによって、端子電極を形成する。 After the blotting process described above, the terminal electrode paste layer is fired or hardened by activation energy to form the terminal electrode.

例えば、端子電極用導電性ペーストが焼成タイプである場合は、積層素体に形成された端子電極ペースト層を乾燥し、さらに、焼成して端子電極を形成する。このとき、積層素体が端子電極ペースト層の形成に先立って焼成処理が施されていないものである場合、すなわち、積層素体を構成する内部電極層がペースト状をなすものである場合、この焼成により、端子電極ペースト層とともに、内部電極層も焼成される。 For example, if the conductive paste for the terminal electrodes is of a fired type, the terminal electrode paste layer formed on the laminated body is dried and then fired to form the terminal electrodes. At this time, if the laminated body has not been fired prior to the formation of the terminal electrode paste layer, that is, if the internal electrode layers constituting the laminated body are in a paste form, the firing will fire the internal electrode layers together with the terminal electrode paste layers.

また、端子電極用導電性ペーストが非焼成タイプである場合は、積層素体に形成された端子電極ペースト層に対し、端子電極用導電性ペースト中に含まれる硬化性樹脂に応じたエネルギーを付与することにより端子電極ペースト層を硬化させる。より具体的には、端子電極用導電性ペーストが硬化性樹脂として熱硬化性樹脂を含む場合には、熱エネルギーを付与することにより、端子電極用導電性ペーストが硬化性樹脂として感光性樹脂を含む場合には、光(UV等)を照射することにより、端子電極ペースト層を硬化させることができる。 In addition, when the conductive paste for the terminal electrodes is a non-fired type, the terminal electrode paste layer formed on the laminated body is hardened by applying energy corresponding to the hardening resin contained in the conductive paste for the terminal electrodes. More specifically, when the conductive paste for the terminal electrodes contains a thermosetting resin as the hardening resin, the terminal electrode paste layer can be hardened by applying thermal energy, and when the conductive paste for the terminal electrodes contains a photosensitive resin as the hardening resin, the terminal electrode paste layer can be hardened by irradiating it with light (UV, etc.).

端子電極ペースト層の乾燥温度は、特に限定されないが、例えば、100℃以上200℃以下とすることができる。 The drying temperature for the terminal electrode paste layer is not particularly limited, but can be, for example, 100°C or higher and 200°C or lower.

また、端子電極ペースト層の焼成温度(ピーク温度)も、特に限定されないが、一例としては、600℃以上900℃以下である。 The firing temperature (peak temperature) of the terminal electrode paste layer is also not particularly limited, but an example is 600°C or higher and 900°C or lower.

以上、本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は、これらに限定されない。 The above describes preferred embodiments of the present invention, but the present invention is not limited to these.

以下、本発明を実施例および比較例に基づいて詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。 The present invention will be described in detail below based on examples and comparative examples, but the present invention is not limited to these.

[1]導電性ペーストの製造
(実施例1~9および比較例1~5)
導電性粉末、樹脂成分、溶剤および添加剤を、それぞれ、表1に示した成分、配合比で混合し、三本ロールミルで混練して導電性ペーストを製造した。
[1] Production of conductive paste (Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 to 5)
The conductive powder, resin component, solvent and additives were mixed in the components and mixing ratios shown in Table 1, and kneaded in a three-roll mill to produce a conductive paste.

なお、表1中に記されている符号は以下の通りである。
〔導電性粉末A〕昭栄化学工業製Cu-018(平均粒径2.3μmの球状銅粉)
〔導電性粉末B〕昭栄化学工業製Cu-521F(平均粒径2.8μmのフレーク状銅粉)
〔導電性粉末C〕昭栄化学工業製Cu-513F(平均粒径6.7μmのフレーク状銅粉)
〔導電性粉末D〕昭栄化学工業製Ag-026(平均粒径1.6μmの球状銀粉)
〔導電性粉末E〕昭栄化学工業製Ag-540(平均粒径10μmのフレーク状銀粉)
〔樹脂成分A〕三菱レイヨン製ダイヤナールMB-2677(アクリル樹脂)
〔樹脂成分B〕三菱レイヨン製ダイヤナールBR-105(アクリル樹脂)
〔樹脂成分C〕綜研化学製MR260IBM(アクリル樹脂)
〔樹脂成分D〕ハーキュレス製N4(エチルセルロース)
〔樹脂成分E〕ハーキュレス製N50(エチルセルロース)
〔樹脂成分F〕DIC製スーパーベッカサイト1001(フェノール樹脂)
〔樹脂成分G〕昭和ワニス製K-2030(アルキッド樹脂)
〔樹脂成分H〕KOREA CNC製RS-20ニトロセルロース
〔溶剤A〕ターピネオール
〔溶剤B〕ジプロピレングリコールモノ-n-プロピルエーテル(DPNP)
〔溶剤C〕ブチルカルビトール
〔添加剤〕楠本化成製HIPLAAD-ET7020(チクソ剤)
The symbols in Table 1 are as follows:
[Conductive powder A] Cu-018 (spherical copper powder with an average particle size of 2.3 μm) manufactured by Shoei Chemical Industry Co., Ltd.
[Conductive Powder B] Cu-521F (flake-shaped copper powder with an average particle size of 2.8 μm) manufactured by Shoei Chemical Industry Co., Ltd.
[Conductive Powder C] Cu-513F (flake-shaped copper powder with an average particle size of 6.7 μm) manufactured by Shoei Chemical Industry Co., Ltd.
[Conductive Powder D] Ag-026 (spherical silver powder with an average particle size of 1.6 μm) manufactured by Shoei Chemical Industry Co., Ltd.
[Conductive Powder E] Ag-540 (flake-shaped silver powder with an average particle size of 10 μm) manufactured by Shoei Chemical Industry Co., Ltd.
[Resin component A] Dianale MB-2677 (acrylic resin) manufactured by Mitsubishi Rayon
[Resin component B] Mitsubishi Rayon Dianall BR-105 (acrylic resin)
[Resin component C] MR260IBM (acrylic resin) manufactured by Soken Chemical Industries, Ltd.
[Resin component D] Hercules N4 (ethyl cellulose)
[Resin component E] Hercules N50 (ethyl cellulose)
[Resin component F] DIC Super Beccasite 1001 (phenolic resin)
[Resin component G] Showa Varnish K-2030 (alkyd resin)
[Resin component H] RS-20 nitrocellulose manufactured by KOREA CNC [Solvent A] Terpineol [Solvent B] Dipropylene glycol mono-n-propyl ether (DPNP)
[Solvent C] Butyl carbitol [Additive] HIPLAAD-ET7020 (thixotropic agent) manufactured by Kusumoto Chemicals

Figure 0007620176000001
Figure 0007620176000001

[2]動的粘弾性測定
前記各実施例および各比較例の導電性ペーストについて、レオメーター(AR2000:TA instrument社製)を用いた測定により、粘度および位相差δを求めた。コーンプレートとしては、コーン径40mm、コーン角度2°のものを使用した。温度条件は、25℃に設定した。粘度については、せん断速度0.02s-1、2s-1、20s-1において、それぞれ測定を行った。また、位相差δについては、周波数1.0Hzで、ひずみ量0.004、0.04、0.4で、それぞれ測定を行った。
[2] Dynamic Viscoelasticity Measurement The conductive pastes of the above-mentioned Examples and Comparative Examples were measured using a rheometer (AR2000: manufactured by TA Instrument) to determine the viscosity and phase difference δ. A cone plate with a cone diameter of 40 mm and a cone angle of 2° was used. The temperature condition was set to 25° C. The viscosity was measured at shear rates of 0.02 s −1 , 2 s −1 , and 20 s −1 . The phase difference δ was measured at a frequency of 1.0 Hz and strain amounts of 0.004, 0.04, and 0.4, respectively.

[3]積層セラミック電子部品の製造
以下のようにして、前記各実施例および各比較例の導電性ペーストを用いて、端子電極層を有する、積層セラミック電子部品としての積層セラミックコンデンサを製造した。
[3] Production of Multilayer Ceramic Electronic Components Using the conductive pastes of the respective Examples and Comparative Examples, multilayer ceramic capacitors having terminal electrode layers were produced as multilayer ceramic electronic components in the following manner.

まず、チタン酸バリウム系セラミック誘電体グリーンシートと、ニッケル内部電極との積層体を、高温で焼結して得られた、平面寸法が3.2mm×2.5mmで厚みが2.5mmの積層素体を用意した。 First, a laminate of a barium titanate ceramic dielectric green sheet and nickel internal electrodes was sintered at high temperature to prepare a laminate with planar dimensions of 3.2 mm x 2.5 mm and a thickness of 2.5 mm.

一方、前記導電性ペーストを用いて、平板上に、膜厚500μmの導電性ペースト層を形成した。 Meanwhile, a conductive paste layer with a thickness of 500 μm was formed on a flat plate using the conductive paste.

次に、積層素体を、前記導電性ペースト層に向けて、降下速度500μm/sで降下させ、前記積層素体のニッケル内部電極が露出した端面を浸漬させ、100μm/sで引き上げることによって、前記積層素体端面に端子電極ペースト層を形成した。 Next, the laminated element was lowered toward the conductive paste layer at a speed of 500 μm/s, and the end surface of the laminated element where the nickel internal electrode was exposed was immersed, and then pulled up at a speed of 100 μm/s, forming a terminal electrode paste layer on the end surface of the laminated element.

次に、前記積層素体を平面板の近くに移動させ、前記積層素体端面と平面板との間に250μmのクリアランスを残した状態で、前記端子電極ペースト層を前記平面板に対して500μm/sで降下させた。そして、前記端子電極ペースト層が前記平面板に接触したまま、前記積層素体を500μm/sで前記平面板の平面に平行な方向へ8mm移動させた後、500μm/sで前記積層素体を前記平面板から引き上げた。 Next, the laminated body was moved close to the flat plate, and the terminal electrode paste layer was lowered toward the flat plate at 500 μm/s while leaving a clearance of 250 μm between the end face of the laminated body and the flat plate. Then, with the terminal electrode paste layer still in contact with the flat plate, the laminated body was moved 8 mm in a direction parallel to the plane of the flat plate at 500 μm/s, and then the laminated body was lifted from the flat plate at 500 μm/s.

次に、熱風式乾燥機中150℃で10分間保持して乾燥させ、さらに、ベルト式マッフル炉で、ピーク温度での保持時間が10分間、焼成の開始から終了まで1時間の条件で焼成して端子電極を形成し、積層セラミックコンデンサを得た。 Next, the laminate was dried in a hot air dryer at 150°C for 10 minutes, and then fired in a belt muffle furnace with a peak temperature holding time of 10 minutes and a firing time of 1 hour from start to finish to form terminal electrodes, resulting in a multilayer ceramic capacitor.

なお、導電性粉末に銅粉末を用いた実施例1~7および各比較例では、焼成雰囲気の全域(脱バインダーゾーンおよび焼成ゾーン)を5ppmの酸素を含む窒素雰囲気とし、ピーク温度を780℃に設定し、導電性粉末に銀粉末を用いた実施例8、9では、焼成雰囲気の全域(脱バインダーゾーンおよび焼成ゾーン)を大気雰囲気とし、ピーク温度を800℃に設定した。 In addition, in Examples 1 to 7 and Comparative Examples, in which copper powder was used as the conductive powder, the entire firing atmosphere (binder removal zone and firing zone) was a nitrogen atmosphere containing 5 ppm of oxygen, and the peak temperature was set to 780°C. In Examples 8 and 9, in which silver powder was used as the conductive powder, the entire firing atmosphere (binder removal zone and firing zone) was an air atmosphere, and the peak temperature was set to 800°C.

[4]評価
前記各実施例および各比較例で得られた積層セラミックコンデンサについて、端子電極付近の断面を走査型電子顕微鏡(SEM)により観察した。
[4] Evaluation For each of the multilayer ceramic capacitors obtained in the examples and comparative examples, a cross section near the terminal electrode was observed with a scanning electron microscope (SEM).

実施例1の導電性ペーストを用いて形成された端子電極付近の断面の走査型電子顕微鏡(SEM)写真を図1に示し、比較例1の導電性ペーストを用いて形成された端子電極付近の断面の走査型電子顕微鏡(SEM)写真を図2に示し、比較例2の導電性ペーストを用いて形成された端子電極付近の断面の走査型電子顕微鏡(SEM)写真を図3に示す。
これらの図中、aは端子電極付近の全体図であり、bはaの左コーナー部の拡大図であり、cはaの中央部の拡大図であり、dはaの右コーナー部の拡大図である。
FIG. 1 shows a scanning electron microscope (SEM) photograph of a cross section near a terminal electrode formed using the conductive paste of Example 1, FIG. 2 shows a scanning electron microscope (SEM) photograph of a cross section near a terminal electrode formed using the conductive paste of Comparative Example 1, and FIG. 3 shows a scanning electron microscope (SEM) photograph of a cross section near a terminal electrode formed using the conductive paste of Comparative Example 2.
In these figures, a is an overall view of the vicinity of the terminal electrode, b is an enlarged view of the left corner of a, c is an enlarged view of the center of a, and d is an enlarged view of the right corner of a.

前記各実施例および各比較例で得られた積層セラミックコンデンサについて、走査型電子顕微鏡(SEM)写真から、端子電極の中央部(図1~図3のc参照)の膜厚(中央膜厚、Tt)、端子電極の左コーナー部(図1~図3のb参照)および右コーナー部(図1~図3のd参照)の膜厚の平均値(Tc[μm])を求め、これらの結果から、中央膜厚(Tt[μm])に対するコーナー膜厚(Tc[μm])の比Tc/Tt(C/T比)を求めた。 For the multilayer ceramic capacitors obtained in each of the examples and comparative examples, the film thickness (center film thickness, Tt) at the center of the terminal electrode (see Figures 1 to 3c), the average film thickness (Tc [μm]) at the left corner portion (see Figures 1 to 3b) and the right corner portion (see Figures 1 to 3d) of the terminal electrode were determined from scanning electron microscope (SEM) photographs, and from these results, the ratio Tc/Tt (C/T ratio) of the corner film thickness (Tc [μm]) to the center film thickness (Tt [μm]) was calculated.

総合評価として、「中央膜厚(Tt)が10μm以上であり、Tc/Ttが0.8以上かつ膜厚が凹凸のない均一であるもの」を“○”とし、「中央膜厚(Tt)が10μm以上であり、Tc/Ttが0.5以上0.8未満かつ膜厚が凹凸のない均一であるもの」または「中央膜厚(Tt)が8μm以上10μm未満であり、Tc/Ttが0.8以上かつ膜厚が凹凸のない均一であるもの」を“△”とし、それ以外を“×”とした。
これらの結果を、粘度、位相差のデータとともに、表2にまとめて示す。
The overall evaluation was given as follows: "The central film thickness (Tt) is 10 μm or more, Tc/Tt is 0.8 or more, and the film thickness is uniform and free of irregularities" was marked as "○", "The central film thickness (Tt) is 10 μm or more, Tc/Tt is 0.5 or more and less than 0.8, and the film thickness is uniform and free of irregularities" or "The central film thickness (Tt) is 8 μm or more and less than 10 μm, Tc/Tt is 0.8 or more, and the film thickness is uniform and free of irregularities" was marked as "△", and all other evaluations were marked as "X".
These results are shown in Table 2 together with the viscosity and retardation data.

Figure 0007620176000002
Figure 0007620176000002

表2から明らかなように、本発明では、端子電極の中央部およびコーナー部において十分な膜厚を確保しつつ、厚みのばらつきが抑制された端子電極膜を好適に形成することができた。 As is clear from Table 2, the present invention was able to effectively form a terminal electrode film with reduced thickness variation while ensuring sufficient film thickness at the center and corners of the terminal electrode.

なお、表2からすれば、2s-1および20s-1の粘度は、本発明の作用効果との相関がみられず、また、ひずみ量0.04、0.4の位相差δも本発明の作用効果との相関がみられなかった。 It is noted from Table 2 that the viscosities of 2s -1 and 20s -1 show no correlation with the effects of the present invention, and the phase difference δ at strains of 0.04 and 0.4 also shows no correlation with the effects of the present invention.

Claims (9)

積層セラミック電子部品の端子電極の形成に用いられる導電性ペーストであって、
少なくとも、導電性粉末と、樹脂成分および溶剤からなる有機ビヒクルと、を含み、
前記導電性粉末と前記有機ビヒクルの総量を100質量部としたときの前記導電性粉末の含有量が55.0質量部以上85.0質量部以下の範囲内であり、前記樹脂成分の含有量が2.0質量部以上10.0質量部以下の範囲内であり、
前記導電性ペーストに対して、周波数1.0Hz、ひずみ量0.004で動的粘弾性測定を行った時の位相差δが30°以上55°以下の範囲内にあることを特徴とする積層セラミック電子部品の端子電極用導電性ペースト。
A conductive paste used for forming terminal electrodes of a multilayer ceramic electronic component, comprising:
The conductive paste includes at least a conductive powder and an organic vehicle including a resin component and a solvent,
the content of the conductive powder is in the range of 55.0 parts by mass or more and 85.0 parts by mass or less, and the content of the resin component is in the range of 2.0 parts by mass or more and 10.0 parts by mass or less, when the total amount of the conductive powder and the organic vehicle is 100 parts by mass;
A conductive paste for terminal electrodes of a multilayer ceramic electronic component, characterized in that when the conductive paste is subjected to dynamic viscoelasticity measurement at a frequency of 1.0 Hz and a strain of 0.004, the phase difference δ is in the range of 30° or more and 55 ° or less.
せん断速度0.02s-1における粘度が500Pa・s以上6000Pa・s以下である請求項1に記載の積層セラミック電子部品の端子電極用導電性ペースト。 2. The conductive paste for terminal electrodes of a multilayer ceramic electronic component according to claim 1, wherein the viscosity at a shear rate of 0.02 s −1 is 500 Pa·s or more and 6000 Pa·s or less. せん断速度0.02s-1における粘度が1500Pa・s以上4500Pa・s以下である請求項2に記載の積層セラミック電子部品の端子電極用導電性ペースト。 3. The conductive paste for terminal electrodes of a multilayer ceramic electronic component according to claim 2, wherein the viscosity at a shear rate of 0.02 s −1 is 1500 Pa·s or more and 4500 Pa·s or less. 前記導電性粉末が銅を含む金属粉末である請求項1ないし3のいずれか1項に記載の積層セラミック電子部品の端子電極用導電性ペースト。 The conductive paste for terminal electrodes of multilayer ceramic electronic components according to any one of claims 1 to 3, wherein the conductive powder is a metal powder containing copper. 前記導電性粉末がフレーク状の粉末である請求項1ないし4のいずれか1項に記載の積層セラミック電子部品の端子電極用導電性ペースト。 The conductive paste for terminal electrodes of multilayer ceramic electronic components according to any one of claims 1 to 4, wherein the conductive powder is a flake-shaped powder. 前記導電性粉末の平均粒径が0.1μm以上10μm以下である請求項1ないし5のいずれか1項に記載の積層セラミック電子部品の端子電極用導電性ペースト。 The conductive paste for terminal electrodes of multilayer ceramic electronic components according to any one of claims 1 to 5, wherein the average particle size of the conductive powder is 0.1 μm or more and 10 μm or less. 前記導電性粉末と前記有機ビヒクルの総量を100質量部としたときの前記樹脂成分の含有量が4.0質量部以上7.0質量部以下の範囲内である請求項1ないし6のいずれか1項に記載の積層セラミック電子部品の端子電極用導電性ペースト。 The conductive paste for terminal electrodes of multilayer ceramic electronic components according to any one of claims 1 to 6, wherein the content of the resin component is in the range of 4.0 parts by mass to 7.0 parts by mass when the total amount of the conductive powder and the organic vehicle is 100 parts by mass. 前記導電性粉末と前記有機ビヒクルの総量を100質量部としたときの前記樹脂成分の含有量が4.0質量部以上6.3質量部以下の範囲内である請求項1ないし7のいずれか1項に記載の積層セラミック電子部品の端子電極用導電性ペースト。 The conductive paste for terminal electrodes of multilayer ceramic electronic components according to any one of claims 1 to 7, wherein the content of the resin component is in the range of 4.0 parts by mass or more and 6.3 parts by mass or less when the total amount of the conductive powder and the organic vehicle is 100 parts by mass. 前記導電性粉末と前記有機ビヒクルの総量を100質量部としたときの前記導電性粉末の含有量が55.0質量部以上81.0質量部以下の範囲内である請求項1ないし8のいずれか1項に記載の積層セラミック電子部品の端子電極用導電性ペースト。 The conductive paste for terminal electrodes of multilayer ceramic electronic components according to any one of claims 1 to 8, wherein the content of the conductive powder is in the range of 55.0 parts by mass to 81.0 parts by mass when the total amount of the conductive powder and the organic vehicle is 100 parts by mass.
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