JP7622753B2

JP7622753B2 - 光学ガラス、光学素子、光学系、接合レンズ、カメラ用交換レンズ、顕微鏡用対物レンズ、及び光学装置

Info

Publication number: JP7622753B2
Application number: JP2022561773A
Authority: JP
Inventors: 哲也小出
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 2020-11-12
Filing date: 2020-11-12
Publication date: 2025-01-28
Anticipated expiration: 2040-11-12
Also published as: JP2025063197A; WO2022102043A1; EP4245735A4; US20230278914A1; CN116438146A; JPWO2022102043A1; EP4245735A1

Description

本発明は、光学ガラス、光学素子、光学系、接合レンズ、カメラ用交換レンズ、顕微鏡用対物レンズ、及び光学装置に関する。

近年、高画素数のイメージセンサーを備えた撮像機器等が開発されており、これらに用いる光学ガラスとして、低分散高部分分散比の光学ガラスが求められている。

特開２００６－２１９３６５号公報

本発明に係る第一の態様は、質量％で、Ｐ_２Ｏ_５含有率：２０％以上５０％以下、ＴｉＯ_２含有率：１５％以上３５％以下、Ｎｂ_２Ｏ_５含有率：０％以上２０％以下、Ｂｉ_２Ｏ_３含有率：５％以上３０％以下であり、Ｐ_２Ｏ_５含有率に対するＴｉＯ_２含有率の比（ＴｉＯ_２／Ｐ_２Ｏ_５）：０．３０以上０．７５以下、である、光学ガラスである。

本発明に係る第二の態様は、上述の光学ガラスを用いた、光学素子である。

本発明に係る第三の態様は、上述の光学素子を含む、光学系である。

本発明に係る第四の態様は、上述の光学素子を含む光学系を含む、カメラ用交換レンズである。

本発明に係る第五の態様は、上述の光学素子を含む光学系を含む、顕微鏡用対物レンズである。

本発明に係る第六の態様は、上述の光学素子を含む光学系を含む、光学装置である。

本発明に係る第七の態様は、第１のレンズ要素と第２のレンズ要素を有し、第１のレンズ要素と第２のレンズ要素の少なくとも１つは、上述の光学ガラスである、接合レンズである。

本発明に係る第八の態様は、上述の接合レンズを含む、光学系である。

本発明に係る第九の態様は、上述の接合レンズを含む光学系を含む、顕微鏡用対物レンズである。

本発明に係る第十の態様は、上述の接合レンズを含む光学系を含む、カメラ用交換レンズである。

本発明に係る第十一の態様は、上述の接合レンズを含む光学系を含む、光学装置である。

本実施形態に係る光学装置を撮像装置とした一例を示す斜視図である。本実施形態に係る光学装置を撮像装置とした他の例を示す概略図であり、撮像装置の正面図である。本実施形態に係る光学装置を撮像装置とした他の例を示す概略図であり、撮像装置の背面図である。本実施形態に係る多光子顕微鏡の構成の一例の示すブロック図である。本実施形態に係る接合レンズの一例を示す概略図である。各実施例及び各比較例のＰ_ｇ，Ｆとν_ｄをプロットしたグラフである。

以下、本発明に係る実施形態（以下、「本実施形態」という。）について説明する。以下の本実施形態は、本発明を説明するための例示であり、本発明を以下の内容に限定する趣旨ではない。本発明は、その要旨の範囲内で適宜に変形して実施できる。

本明細書中において、特に断りがない場合は、各成分の含有率は全て酸化物換算組成のガラス全重量に対する質量％（質量百分率）であるものとする。なお、ここでいう酸化物換算組成とは、本実施形態のガラス構成成分の原料として使用される酸化物、複合塩等が熔融時に全て分解されて酸化物に変化すると仮定し、当該酸化物の総質量を１００質量％として、ガラス中に含有される各成分を表記した組成である。

また、Ｑ含有率が「０～Ｎ％」という表現は、Ｑ成分を含まない場合及び、Ｑ成分が０％を超えてＮ％以下である場合を含む表現である。

また、「Ｑ成分を含まない」という表現は、このＱ成分を実質的に含まないことを意味し、この構成成分の含有率が不純物レベル程度以下であることを指す。不純物レベル程度以下とは、例えば、０．０１％未満であることを意味する。

「耐失透安定性」という表現は、ガラスの失透に対する耐性のことを意味する。ここで「失透」とは、ガラスをガラス転移温度以上に昇温した際、あるいは融液状態から液相温度以下に降温した際に生じる結晶化又は分相等により、ガラスの透明性が失われる現象のことを意味する。

本実施形態に係る光学ガラスは、質量％で、Ｐ_２Ｏ_５含有率：２０～５０％、ＴｉＯ_２含有率：１０～３５％、Ｎｂ_２Ｏ_５含有率：０～２０％、Ｂｉ_２Ｏ_３含有率：５～３０％であり、Ｐ_２Ｏ_５含有率に対するＴｉＯ_２含有率の比（ＴｉＯ_２／Ｐ_２Ｏ_５）：０．３０～０．７５である、光学ガラスである。

本実施形態に係る光学ガラスは、低分散（アッベ数が大きい）でありながら部分分散比を高くすることが可能であるため、収差補正に有利であり軽量なレンズを実現できる。

Ｐ_２Ｏ_５は、ガラス骨格を形成し、耐失透安定性を向上させ、屈折率と化学的耐久性を低下させる成分である。Ｐ_２Ｏ_５の含有率が少なすぎると、失透が生じ易くなる傾向にある。また、Ｐ_２Ｏ_５の含有率が多すぎると、屈折率と化学的耐久性が低下する傾向にある。このような観点から、Ｐ_２Ｏ_５の含有率は、２０％以上５０％以下である。この含有率の下限は、好ましくは２５％であり、より好ましくは３０％であり、更に好ましくは３５％である。この含有率の上限は、好ましくは４５％であり、より好ましくは４０％であり、更に好ましくは３８％である。Ｐ_２Ｏ_５の含有率をかかる範囲とすることで、耐失透安定性を向上させ、化学的耐久性を良好にしながら高屈折率化を図ることができる。

ＴｉＯ_２は、屈折率と部分分散比を上げ、透過率を下げる成分である。ＴｉＯ_２の含有率が少なすぎると、屈折率と部分分散比が低下する傾向にある。ＴｉＯ_２の含有率が多すぎると透過率が悪化する傾向にある。また、このような観点から、ＴｉＯ_２の含有率は、１０％以上３５％以下である。この含有率の下限は、好ましくは１５％であり、より好ましくは１７％であり、更に好ましくは２０％である。この含有率の上限は、好ましくは３０％であり、より好ましくは２８％であり、更に好ましくは２５％である。ＴｉＯ_２の含有率をかかる範囲とすることで、屈折率と部分分散比を低下させずに高い透過率を実現することができる。

Ｎｂ_２Ｏ_５は、屈折率と分散を高め、透過率を下げる成分である。Ｎｂ_２Ｏ_５の含有率が少ないと屈折率が低くなる傾向にある。また、Ｎｂ_２Ｏ_５の含有率が多いと透過率が悪化する傾向にある。このような観点から、Ｎｂ_２Ｏ_５の含有率は、０％以上２０％以下である。この含有率の下限は、０％超であってもよい。この含有率の上限は、好ましくは１０％であり、より好ましくは５％である。更に好ましくは実質的に含有しないことである。

Ｂｉ_２Ｏ_３は、屈折率と部分分散比を高める成分である。Ｂｉ_２Ｏ_３の含有率が多すぎると透過率が悪化し、また分散が上昇する傾向にある。Ｂｉ_２Ｏ_３の含有率が少なすぎると、熔融性が低下する傾向にある。このような観点から、Ｂｉ_２Ｏ_３の含有率は、５％以上３０％以下である。この含有率の下限は、好ましくは１０％であり、より好ましくは１５％である。この含有率の上限は、好ましくは２５％であり、より好ましくは２０％である。Ｂｉ_２Ｏ_３の含有率をかかる範囲とすることで、熔融性を高め、分散の上昇を防ぐことができる。

Ｐ_２Ｏ_５含有率に対するＴｉＯ_２の含有率の比（ＴｉＯ_２／Ｐ_２Ｏ_５）は、好ましくは０．３０～０．７５である。そして、この比の下限は、より好ましくは０．４０である。この比の上限は、より好ましくは０．７０であり、更に好ましくは０．６０である。ＴｉＯ_２／Ｐ_２Ｏ_５をかかる範囲とすることで、部分分散比を高くすることができる。

本実施形態に係る光学ガラスは、任意成分として、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ、Ｋ_２Ｏ、ＺｎＯ、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ、ＳｉＯ_２、Ｂ_２Ｏ_３、ＷＯ_３、ＺｒＯ_２、Ｓｂ_２Ｏ_３、Ｙ_２Ｏ_３、Ｌａ_２Ｏ_３、及びＧｄ_２Ｏ_３からなる群より選ばれる一種以上を更に含有してもよい。

Ａｌ_２Ｏ_３は、化学的耐久性を向上させ、部分分散比と熔融性を下げる成分である。Ａｌ_２Ｏ_３の含有率が少なすぎると、化学的耐久性が低下する傾向にある。Ａｌ_２Ｏ_３の含有率が多すぎると、部分分散比が低下し、また熔融性が悪化する傾向にある。このような観点から、Ａｌ_２Ｏ_３の含有率は、０％以上１０％以下である。この含有率の下限は、好ましくは０％超であり、より好ましくは１％である。この含有率の上限は、好ましくは７％であり、より好ましくは２％であり、更に好ましくは１．６％である。Ａｌ_２Ｏ_３の含有率をかかる範囲とすることで、化学的耐久性を高め、部分分散比の低下を防ぐことができる。

Ｔａ_２Ｏ_５は、屈折率と分散を高め、耐失透安定性を下げる成分である。Ｔａ_２Ｏ_５の含有率が多いと耐失透安定性が悪化する傾向にある。このような観点から、Ｔａ_２Ｏ_５の含有率は、０％以上２０％以下である。この含有率の下限は、０％超であってもよい。この含有率の上限は、好ましくは１０％であり、より好ましくは５％である。更に好ましくはＴａを実質的に含有しないことである。「実質的に含有しない」とは、当該成分が、不純物として不可避的に含有される濃度を越えて、ガラス組成物の特性に影響する構成成分として含有されないことを意味する。例えば、１００ｐｐｍ程度の含有量であれば、実質的に含有しないとみなす。本実施形態に係る光学ガラスは、高価な原料であるＴａ_２Ｏ_５の含有率を低減でき、さらにはこれを含有しないことも可能であるため、原料コストの面でも優れている。

Ｌｉ_２Ｏの含有率は、熔融性の観点から、０％以上５％以下である。この含有率の下限は、０％超であってもよい。この含有率の上限は好ましくは４％であり、より好ましくは３％であり、更に好ましくは２％である。

Ｎａ_２Ｏは、熔融性を向上させ、屈折率を下げる成分である。Ｎａ_２Ｏの含有率が少なすぎると、熔融性が低下する傾向にある。Ｎａ_２Ｏの含有率が多すぎると、屈折率と化学的耐久性が低下する傾向にある。このような観点から、Ｎａ_２Ｏの含有率は、０％以上２５％以下である。この含有率の下限は、好ましくは０％超であり、より好ましくは５％である。この含有率の上限は、好ましくは２０％であり、より好ましくは１８％であり、更に好ましくは１５％である。Ｎａ_２Ｏの含有率をかかる範囲とすることで、熔融性を高め、屈折率と化学的耐久性の低下を防ぐことができる。

Ｋ_２Ｏは、熔融性を向上させ、屈折率を下げる成分である。Ｋ_２Ｏの含有率が少なすぎると、熔融性が低下する傾向にある。Ｋ_２Ｏの含有率が多すぎると、屈折率と化学的耐久性が低下する傾向にある。このような観点から、Ｋ_２Ｏの含有率は、０％以上２５％以下である。この含有率の下限は、好ましくは０％超であり、より好ましくは３％である。この含有率の上限は、好ましくは２０％であり、より好ましくは１５％であり、更に好ましくは１０％である。Ｋ_２Ｏの含有率をかかる範囲とすることで、熔融性を高め、屈折率と化学的耐久性の低下を防ぐことができる。

ＺｎＯは、耐失透安定性を向上させ、部分分散比を下げる成分である。ＺｎＯの含有率が少なすぎると、耐失透安定性が低下する傾向にある。ＺｎＯの含有率が多すぎると、部分分散比が低下する傾向にある。このような観点から、ＺｎＯの含有率は、０％以上１５％以下である。この含有率の下限は、好ましくは０％超であり、より好ましくは１％である。この含有率の上限は、好ましくは１２％であり、より好ましくは８％であり、更に好ましくは５％である。ＺｎＯの含有率をかかる範囲とすることで、耐失透安定性を高め、部分分散比の低下を防ぐことができる。

ＭｇＯの含有率は、高分散化の観点から、０％以上１０％以下である。この含有率の下限は、０％超であってもよい。この含有率の上限は、好ましくは８％であり、より好ましくは５％であり、更に好ましくは３％である。

ＣａＯの含有率は、高分散化の観点から、０％以上８％以下である。この含有率の下限は、０％超であってもよい。この含有率の上限は、好ましくは５％であり、より好ましくは３％であり、更に好ましくは２％である。

ＳｒＯの含有率は、高分散化の観点から、０％以上１０％以下である。この含有率の下限は、０％超であってもよい。この含有率の上限は、好ましくは８％であり、より好ましくは５％であり、更に好ましくは３％である。

ＢａＯは、部分分散比を向上させ、耐失透安定性を下げる成分である。ＢａＯの含有率が少なすぎると、部分分散比が低下する傾向にある。ＢａＯの含有率が多すぎると、耐失透安定性が低下する傾向にある。このような観点から、ＢａＯの含有率は、０％以上１５％以下である。この含有率の下限は、好ましくは０％超であり、より好ましくは５％であり、更に好ましくは７％である。この含有率の上限は、好ましくは１２％であり、より好ましくは１０％であり、更に好ましくは８％である。ＢａＯの含有率をかかる範囲とすることで、部分分散比を高め、耐失透安定性の低下を防ぐことができる。

ＳｉＯ_２の含有率は、熔融性の観点から、０％以上５％以下である。この含有率の下限は、０％超であってもよい。この含有率の上限は、好ましくは４％であり、より好ましくは２％であり、更に好ましくは１％である。

Ｂ_２Ｏ_３の含有率は、高分散化の観点から、０％以上１０％以下である。この含有率の下限は、０％超であってもよい。この含有率の上限は、好ましくは８％であり、より好ましくは５％であり、更に好ましくは３％である。

ＷＯ_３の含有率は、透過率の観点から、０％以上２５％以下である。この含有率の下限は、０％超であってもよい。この含有率の上限は、好ましくは２０％であり、より好ましくは１８％であり、更に好ましくは１５％である。

ＺｒＯ_２の含有率は、熔融性の観点から、０％以上５％以下である。この含有率の下限は、０％超であってもよい。この含有率の上限は、好ましくは３％であり、より好ましくは２％であり、更に好ましくは１．５％である。

Ｙ_２Ｏ_３の含有率は、熔融性の観点から、０％以上１０％以下である。この含有率の下限は、０％超であってもよい。この含有率の上限は、好ましくは７％、より好ましくは６％であり、更に好ましくは５％である。

Ｌａ_２Ｏ_３の含有率は、熔融性の観点から、０％以上８％以下である。この含有率の下限は、０％超であってもよい。この含有率の上限は、好ましくは７％であり、より好ましくは６％であり、更に好ましくは５％である。また、コストの観点から、Ｌａ_２Ｏ_３は実質的に含有しないことがより好ましい。「実質的に含有しない」とは、当該成分が、不純物として不可避的に含有される濃度を越えて、ガラス組成物の特性に影響する構成成分として含有されないことを意味する。例えば、１００ｐｐｍ程度の含有量であれば、実質的に含有しないとみなす。

Ｇｄ_２Ｏ_３は高価な原料であるため、その含有率は、０％以上１０％以下である。この含有率の下限は、０％超であってもよい。この含有率の上限は、好ましくは８％であり、さらに好ましくは７％であり、更に好ましくは５％である。

Ｓｂ_２Ｏ_３の含有率は、ガラス熔融時の脱泡性の観点から、０～１％である。この含有率の下限は、０％超であってもよい。この含有率の上限は、好ましくは０．５％であり、より好ましくは０．２％である。

またさらに、本実施形態に係る光学ガラスは、以下の関係を満たすことが好ましい。

ＴｉＯ_２の含有率に対するＡｌ_２Ｏ_５の含有率の比（Ａｌ_２Ｏ_３／ＴｉＯ_２）は、好ましくは０～０．６０である。そして、この比の下限は、０超であってもよい。この比の上限は、より好ましくは０．５０、更に好ましくは０．３０である。Ａｌ_２Ｏ_３／ＴｉＯ_２をかかる範囲とすることで、部分分散比を高くすることができる。

Ｐ_２Ｏ_５の含有率に対するＢ_２Ｏ_３の含有率の比（Ｂ_２Ｏ_３／Ｐ_２Ｏ_５）は、好ましくは０～０．１５である。そして、この比の下限は、０超であってもよい。この比の上限は、より好ましくは０．１２であり、更に好ましくは０．０９である。Ｂ_２Ｏ_３／Ｐ_２Ｏ_５をかかる範囲とすることで、部分分散比を高くすることができる。

Ｐ_２Ｏ_５とＢ_２Ｏ_３とＡｌ_２Ｏ_３の総含有率に対するＴｉＯ_２の含有率の比（ＴｉＯ_２／（Ｐ_２Ｏ_５＋Ｂ_２Ｏ_３＋Ａｌ_２Ｏ_３））は、好ましくは０．２５～０．７５である。そして、この比の下限は、より好ましくは０．３５であり、更に好ましくは０．４０である。この比の上限は、より好ましくは０．７０であり、更に好ましくは０．６０である。ＴｉＯ_２／（Ｐ_２Ｏ_５＋Ｂ_２Ｏ_３＋Ａｌ_２Ｏ_３）をかかる範囲とすることで、部分分散比を高くすることができる。

ＴｉＯ_２とＮｂ_２Ｏ_５とＷＯ_３とＢｉ_２Ｏ_３とＴａ_２Ｏ_５の総含有率に対するＴｉＯ_２の含有率の比（ＴｉＯ_２／（ＴｉＯ_２＋Ｎｂ_２Ｏ_５＋ＷＯ_３＋Ｂｉ_２Ｏ_３＋Ｔａ_２Ｏ_５））は、好ましくは０．２０～０．９０である。そして、この比の下限は、より好ましくは０．３０であり、更に好ましくは０．５０である。この比の上限は、より好ましくは０．８０であり、更に好ましくは０．７０である。ＴｉＯ_２／（ＴｉＯ_２＋Ｎｂ_２Ｏ_５＋ＷＯ_３＋Ｂｉ_２Ｏ_３＋Ｔａ_２Ｏ_５）をかかる範囲とすることで、部分分散比を高くすることができる。

Ｐ_２Ｏ_５の含有率に対するＢａＯとＴｉＯ_２の総含有率の比（（ＢａＯ＋ＴｉＯ_２）／Ｐ_２Ｏ_５）は、好ましくは０．３０～１．００である。そして、この比の下限は、より好ましくは０．４０であり、更に好ましくは０．５０である。この比の上限は、より好ましくは０．９０であり、更に好ましくは０．８０である。（ＢａＯ＋ＴｉＯ_２）／Ｐ_２Ｏ_５をかかる範囲とすることで、屈折率を高くすることができる。

Ｐ_２Ｏ_５とＢ_２Ｏ_３とＳｉＯ_２とＡｌ_２Ｏ_３の総含有率に対するＢａＯとＴｉＯ_２とＮｂ_２Ｏ_５とＷＯ_３とＢｉ_２Ｏ_３とＴａ_２Ｏ_５の総含有率の比（（ＢａＯ＋ＴｉＯ_２＋Ｎｂ_２Ｏ_５＋ＷＯ_３＋Ｂｉ_２Ｏ_３＋Ｔａ_２Ｏ_５）／（Ｐ_２Ｏ_５＋Ｂ_２Ｏ_３＋ＳｉＯ_２＋Ａｌ_２Ｏ_３））は、好ましくは０．５０～２．５０である。そして、この比の下限は、より好ましくは０．６０であり、更に好ましくは０．７０である。この比の上限は、より好ましくは２．００であり、更に好ましくは１．７０である。（ＢａＯ＋ＴｉＯ_２＋Ｎｂ_２Ｏ_５＋ＷＯ_３＋Ｂｉ_２Ｏ_３＋Ｔａ_２Ｏ_５）／（Ｐ_２Ｏ_５＋Ｂ_２Ｏ_３＋ＳｉＯ_２＋Ａｌ_２Ｏ_３）をかかる範囲とすることで、部分分散比を高め、屈折率の低下を防ぐことができる。

Ｌｉ_２ＯとＮａ_２ＯとＫ_２Ｏの総含有率（ΣＡ_２Ｏ；ただし、Ａ＝Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ）は、熔融性や屈折率や化学的耐久性の観点から、５～３５％である。この総含有率の下限は、好ましくは８％であり、より好ましくは１１％であり、更に好ましくは１３％である。この総含有率の上限は、好ましくは３３％であり、より好ましくは３０％であり、更に好ましくは２５％である。

ＭｇＯとＣａＯとＳｒＯとＢａＯとＺｎＯの総含有率（ΣＥＯ；ただし、Ｅ＝Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｚｎ）は、熔融性や屈折率や化学的耐久性の観点から、０～１８％である。この総含有率の下限は、好ましくは３％であり、より好ましくは５％ある。この総含有率の上限は、好ましくは１５％であり、より好ましくは１３％である。

これらの含有率の好適な組み合わせとしては、Ｌｉ_２Ｏ含有率：０％以上５％以下、Ｎａ_２Ｏ含有率：０％以上２５％以下、及びＫ_２Ｏ含有率：０％以上２５％以下である。かかる組み合わせとすることで、熔融性を高め、化学的耐久性の低下を防ぐことができる。

別の好適な組み合わせとしては、ＢａＯ含有率：０％以上１５％以下、ＺｎＯ含有率：０％以上１５％以下、ＭｇＯ含有率：０％以上１０％以下、ＣａＯ含有率：０％以上８％以下、及びＳｒＯ含有率：０％以上１０％以下である。かかる組み合わせとすることで、部分分散比を高め、低分散化を防ぐことができる。

さらに別の好適な組み合わせとしては、ＳｉＯ_２含有率：０％以上５％以下、及びＢ_２Ｏ_３含有率：０％以上１０％以下である。かかる組み合わせとすることで、熔融性を高め、低分散化を防ぐことができる。

ＴｉＯ_２の含有率に対するＬｉ_２ＯとＮａ_２ＯとＫ_２Ｏの総含有率（ΣＡ_２Ｏ；ただし、Ａ＝Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ）の比（ΣＡ_２Ｏ／ＴｉＯ_２）は、好ましくは０．３０～２．００である。そして、この比の下限は、より好ましくは０．５０であり、更に好ましくは０．６０である。この比の上限は、より好ましくは１．５０であり、更に好ましくは１．３０である。ΣＡ_２Ｏ／ＴｉＯ_２をかかる範囲とすることで、部分分散比を高め、熔融性の低下を防ぐことができる。

Ｌｉ_２ＯとＮａ_２ＯとＫ_２Ｏの総含有率（ΣＡ_２Ｏ；ただし、Ａ＝Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ）に対するＭｇＯとＣａＯとＳｒＯとＢａＯとＺｎＯの総含有率（ΣＥＯ；ただし、Ｅ＝Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｚｎ）の比（ΣＥＯ／ΣＡ_２Ｏ）は、好ましくは０～１．５０である。そして、この比の下限は、より好ましくは０．４０であり、更に好ましくは０．９０である。この比の上限は、より好ましくは１．３０であり、更に好ましくは１．２０である。ΣＥＯ／ΣＡ_２Ｏをかかる範囲とすることで、熔融性を高め、屈折率の低下を防ぐことができる。

その他必要に応じて清澄、着色、消色や光学恒数値の微調整等の目的で、公知の清澄剤や着色剤、脱泡剤、フッ素化合物等の成分をガラス組成に適量添加することができる。また、上記成分に限らず、本実施形態に係る光学ガラスの効果が得られる範囲でその他成分を添加することもできる。

本実施形態に係る光学ガラスの製造方法は、特に限定されず、公知の方法を採用することができる。また、製造条件は、適宜好適な条件を選択することができる。例えば、酸化物、炭酸塩、硝酸塩、硫酸塩等の原料を目標組成となるように調合し、好ましくは１１００～１４００℃にて熔融し、攪拌することで均一化し、泡切れを行った後、金型に流し成形する製造方法等を採用できる。上述した融解温度の下限は、より好ましくは１２００℃であり、また上限は、より好ましくは１３５０℃であり、更に好ましくは１３００℃である。このようにして得られた光学ガラスは、必要に応じてリヒートプレス等を行って所望の形状に加工し、研磨等を施すことで、所望の光学素子とすることができる。

原料は、原料中の不純物の含有率が少ない高純度品を使用するのが好ましい。高純度品とは、当該成分を９９．８５質量％以上含むものである。高純度品の使用によって、不純物量が少なくなる結果、光学ガラスの内部透過率を高くできる傾向にある。

次に、本実施形態の光学ガラスの物性値について説明する。

レンズの薄型化の観点からは、本実施形態に係る光学ガラスは、高い屈折率を有している（屈折率（ｎ_ｄ）が大きい）ことが望ましい。しかしながら、一般的に、屈折率（ｎ_ｄ）が高いほど透過率が低下する傾向にある。かかる実情を踏まえれば、本実施形態に係る光学ガラスにおけるｄ線に対する屈折率（ｎ_ｄ）は、１．６１～１．９０の範囲であることが好ましい。そして、屈折率（ｎ_ｄ）の下限は、好ましくは１．７０、より好ましくは１．７５であり、屈折率（ｎ_ｄ）の上限は、好ましくは１．８５より好ましくは１．８０である。

本実施形態に係る光学ガラスのアッベ数（ν_ｄ）は、２０～３２の範囲であることが好ましい。そして、アッベ数（ν_ｄ）の下限は、より好ましくは２２であり、アッベ数（ν_ｄ）の上限は、より好ましくは３０である。

本実施形態に係る光学ガラスについて、屈折率（ｎ_ｄ）とアッベ数（ν_ｄ）の好ましい組み合わせは、ｄ線に対する屈折率（ｎ_ｄ）が１．６１～１．９０の範囲であり、かつ、アッベ数（ν_ｄ）が、２０～３２の範囲である。かかる性質を有する本実施形態に係る光学ガラスは、例えば、他の光学ガラスと組み合わせることで、色収差や他の収差が良好に補正された光学系を設計可能である。

レンズの収差補正の観点からは、本実施形態に係る光学ガラスは、大きな部分分散比（Ｐ_ｇ，_Ｆ）を有することが望ましい。かかる実情を踏まえれば、本実施形態に係る光学ガラスの部分分散比（Ｐ_ｇ，_Ｆ）は、０．６０以上であることが好ましい。そして、部分分散比（Ｐ_ｇ，_Ｆ）の下限は、より好ましくは０．６２であり、更に好ましくは０．６４である。また、部分分散比（Ｐ_ｇ，_Ｆ）の上限は特に限定されないが、例えば、０．６６としてもよい。

レンズの収差補正の観点からは、本実施形態に係る光学ガラスは、大きな異常分散性（ΔＰ_ｇ，_Ｆ）を有することが望ましい。かかる実情を踏まえれば、本実施形態に係る光学ガラスの異常分散性を示す値（ΔＰ_ｇ，_Ｆ）は、０．０１５以上であることが好ましい。そして異常分散性を示す値（ΔＰ_ｇ，_Ｆ）の下限は、より好ましくは０．０２であり、更に好ましくは０．０３である。また、異常分散性を示す値（ΔＰ_ｇ，_Ｆ）の上限は特に限定されないが、例えば、０．０４２としてもよい。

上述した観点から、本実施形態に係る光学ガラスは、例えば、光学素子として好適に用いることができる。このような光学素子には、ミラー、レンズ、プリズム、フィルタ等が含まれる。また、上記光学素子が用いられる光学系としては、例えば、対物レンズ、集光レンズ、結像レンズ、カメラ用交換レンズ等が挙げられる。そして、これらの光学系は、レンズ交換式カメラ、レンズ非交換式カメラ等の撮像装置、蛍光顕微鏡、多光子顕微鏡等の顕微鏡装置等の各種光学装置に好適に使用できる。かかる光学装置には、上述した撮像装置や顕微鏡に限られず、望遠鏡、双眼鏡、レーザー距離計、プロジェクタ等も含まれるが、これらに限られない。以下に、これらの一例を説明する。

＜撮像装置＞
図１は、本実施形態に係る光学装置を撮像装置とした一例を示す斜視図である。撮像装置１はいわゆるデジタル一眼レフカメラ（レンズ交換式カメラ）であり、撮影レンズ１０３（光学系）は本実施形態に係る光学ガラスを母材とする光学素子を備えたものである。カメラボディ１０１のレンズマウント（不図示）にレンズ鏡筒１０２が着脱自在に取り付けられる。そして、該レンズ鏡筒１０２のレンズ１０３を通した光が、カメラボディ１０１の背面側に配置されたマルチチップモジュール１０６のセンサチップ（固体撮像素子）１０４上に結像される。このセンサチップ１０４は、いわゆるＣＭＯＳイメージセンサー等のベアチップであり、マルチチップモジュール１０６は、例えばセンサチップ１０４がガラス基板１０５上にベアチップ実装されたＣＯＧ（ＣｈｉｐＯｎＧｌａｓｓ）タイプのモジュールである。

図２及び図３は、本実施形態に係る光学装置を撮像装置とした他の例を示す概略図である。図２は、撮像装置ＣＡＭの正面図を示し、図３は、撮像装置ＣＡＭの背面図を示す。撮像装置ＣＡＭはいわゆるデジタルスチルカメラ（レンズ非交換式カメラ）であり、撮影レンズＷＬ（光学系）は本実施形態に係る光学ガラスを母材とする光学素子を備えたものである。

撮像装置ＣＡＭは、電源ボタン（不図示）を押すと、撮影レンズＷＬのシャッタ（不図示）が開放されて、撮影レンズＷＬで被写体（物体）からの光が集光され、像面に配置された撮像素子に結像される。撮像素子に結像された被写体像は、撮像装置ＣＡＭの背後に配置された液晶モニターＭに表示される。撮影者は、液晶モニターＭを見ながら被写体像の構図を決めた後、レリーズボタンＢ１を押し下げて被写体像を撮像素子で撮像し、メモリー（不図示）に記録保存する。

撮像装置ＣＡＭには、被写体が暗い場合に補助光を発光する補助光発光部ＥＦ、撮像装置ＣＡＭの種々の条件設定等に使用するファンクションボタンＢ２等が配置されている。

このようなデジタルカメラ等に用いられる光学系には、より高い解像度、低い色収差、小型化が求められる。これらを実現するには光学系に分散特性が互いに異なるガラスを用いることが有効である。特に、低分散でありながらより高い部分分散比（Ｐ_ｇ，_Ｆ）を有するガラスの需要は高い。このような観点から、本実施形態に係る光学ガラスは、かかる光学機器の部材として好適である。なお、本実施形態において適用可能な光学機器としては、上述した撮像装置に限らず、例えばプロジェクタ等も挙げられる。光学素子についても、レンズに限らず、例えばプリズム等も挙げられる。

＜顕微鏡＞
図４は、本実施形態に係る多光子顕微鏡２の構成の例を示すブロック図である。多光子顕微鏡２は、対物レンズ２０６、集光レンズ２０８、結像レンズ２１０を備える。対物レンズ２０６、集光レンズ２０８、結像レンズ２１０のうち少なくとも１つは、本実施形態に係る光学ガラスを母材とする光学素子を備えたものである。以下、多光子顕微鏡２の光学系を中心に説明する。

パルスレーザ装置２０１は、例えば、近赤外波長（約１０００ｎｍ）であって、パルス幅がフェムト秒単位の（例えば、１００フェムト秒の）超短パルス光を射出する。パルスレーザ装置２０１から射出された直後の超短パルス光は、一般に所定の方向に偏光された直線偏光となっている。

パルス分割装置２０２は、超短パルス光を分割し、超短パルス光の繰り返し周波数を高くして射出する。

ビーム調整部２０３は、パルス分割装置２０２から入射される超短パルス光のビーム径を、対物レンズ２０６の瞳径に合わせて調整する機能、試料Ｓから発せられる光の波長と超短パルス光の波長との軸上の色収差（ピント差）を補正するために超短パルス光の集光及び発散角度を調整する機能、超短パルス光のパルス幅が光学系を通過する間に群速度分散により広がってしまうのを補正するために、逆の群速度分散を超短パルス光に与えるプリチャープ機能（群速度分散補償機能）等を有する。

パルスレーザ装置２０１から射出された超短パルス光は、パルス分割装置２０２によりその繰り返し周波数が大きくされ、ビーム調整部２０３により上記した調整が行われる。そして、ビーム調整部２０３から射出された超短パルス光は、ダイクロイックミラー２０４によりダイクロイックミラーの方向に反射され、ダイクロイックミラー２０５を通過し、対物レンズ２０６により集光されて試料Ｓに照射される。このとき、走査手段（不図示）を用いることにより、超短パルス光を試料Ｓの観察面上に走査させてもよい。

例えば、試料Ｓを蛍光観察する場合、試料Ｓの超短パルス光の被照射領域及びその近傍では、試料Ｓが染色されている蛍光色素が多光子励起され、赤外波長である超短パルス光より波長が短い蛍光（以下、「観察光」という。）が発せられる。

試料Ｓから対物レンズ２０６の方向に発せられた観察光は、対物レンズ２０６によりコリメートされ、その波長に応じて、ダイクロイックミラー２０５により反射されたり、あるいは、ダイクロイックミラー２０５を透過する。

ダイクロイックミラー２０５により反射された観察光は、蛍光検出部２０７に入射する。蛍光検出部２０７は、例えば、バリアフィルタ、ＰＭＴ（ｐｈｏｔｏｍｕｌｔｉｐｌｉｅｒｔｕｂｅ：光電子増倍管）等により構成され、ダイクロイックミラー２０５により反射された観察光を受光し、その光量に応じた電気信号を出力する。また、蛍光検出部２０７は、超短パルス光が試料Ｓの観察面において走査されるのに合わせて、試料Ｓの観察面にわたる観察光を検出する。

なお、ダイクロイックミラー２０５を光路から外すことにより、試料Ｓから対物レンズ２０６の方向に発せられた全ての観察光を蛍光検出部２１１で検出するようにしてもよい。
その場合、観察光は、走査手段（不図示）によりデスキャンされ、ダイクロイックミラー２０４を透過し、集光レンズ２０８により集光され、対物レンズ２０６の焦点位置とほぼ共役な位置に設けられているピンホール２０９を通過し、結像レンズ２１０を透過して、蛍光検出部２１１に入射する。

蛍光検出部２１１は、例えば、バリアフィルタ、ＰＭＴ等により構成され、結像レンズ２１０により蛍光検出部２１１の受光面において結像した観察光を受光し、その光量に応じた電気信号を出力する。また、蛍光検出部２１１は、超短パルス光が試料Ｓの観察面において走査されるのに合わせて、試料Ｓの観察面にわたる観察光を検出する。

また、試料Ｓから対物レンズ２０６と逆の方向に発せられた観察光は、ダイクロイックミラー２１２により反射され、蛍光検出部２１３に入射する。蛍光検出部１１３は、例えば、バリアフィルタ、ＰＭＴ等により構成され、ダイクロイックミラー２１２により反射された観察光を受光し、その光量に応じた電気信号を出力する。また、蛍光検出部２１３は、超短パルス光が試料Ｓの観察面において走査されるのに合わせて、試料Ｓの観察面にわたる観察光を検出する。

蛍光検出部２０７、２１１、２１３からそれぞれ出力された電気信号は、例えば、コンピュータ（不図示）に入力され、そのコンピュータは、入力された電気信号に基づいて、観察画像を生成し、生成した観察画像を表示したり、観察画像のデータを記憶したりすることができる。

＜接合レンズ＞
図５は、本実施形態に係る接合レンズの一例を示す概略図である。接合レンズ３は、第１のレンズ要素３０１と第２のレンズ要素３０２とを有する複合レンズである。第１のレンズ要素と第２のレンズ要素の少なくとも１つは、本実施形態に係る光学ガラスを用いる。第１のレンズ要素と第２のレンズ要素は、接合部材３０３を介して接合されている。接合部材３０３としては、公知の接着剤等を用いることができる。なお、「レンズ要素」とは、単レンズ又は接合レンズを構成する各々のレンズのことを意味する。

本実施形態に係る接合レンズは、色収差補正の観点で有用であり、上述した光学素子や光学系や光学装置等に好適に使用できる。そして、接合レンズを含む光学系は、カメラ用交換レンズや光学装置等にとりわけ好適に使用できる。なお、上述の態様では２つのレンズ要素を用いた接合レンズについて説明したが、これに限られず、３つ以上のレンズ要素を用いた接合レンズとしてもよい。３つ以上のレンズ要素を用いた接合レンズとする場合、３つ以上のレンズ要素のうち少なくとも１つが本実施形態に係る光学ガラスを用いて形成されていればよい。

次に、本発明の実施例及び比較例について説明する。なお、本発明はこれらに限定されるものではない。

＜光学ガラスの作製＞
各実施例及び各比較例に係る光学ガラスは、以下の手順で作製した。まず、各表に記載の組成（質量％）となるよう、酸化物、水酸化物、リン酸化合物（リン酸塩、正リン酸等）、炭酸塩、及び硝酸塩等から選ばれるガラス原料を秤量した。次に、秤量した原料を混合して白金ルツボに投入し、１１００～１３５０℃の温度で熔融させて攪拌均一化した。泡切れを行った後、適当な温度に下げてから金型に鋳込んで徐冷し、成形することで各サンプルを得た。

＜物性評価＞
図６は、各実施例及び各比較例のＰ_ｇ，Ｆとν_ｄをプロットしたグラフである。

屈折率（ｎ_ｄ）とアッベ数（ν_ｄ）
各サンプルの屈折率（ｎ_ｄ）及びアッベ数（ν_ｄ）は、屈折率測定器（株式会社島津デバイス製造製：ＫＰＲ－２０００）を用いて測定及び算出した。ｎ_ｄは、５８７．５６２ｎｍの光に対するガラスの屈折率を示す。ν_ｄは、以下の式（１）より求めた。ｎ_Ｃ、ｎ_Ｆ、はそれぞれ波長６５６．２７３ｎｍ、４８６．１３３ｎｍの光に対するガラスの屈折率を示す。
ν_ｄ＝（ｎ_ｄ－１）／（ｎ_Ｆ－ｎ_Ｃ）・・・（１）

部分分散比（Ｐ_ｇ，_Ｆ）
各サンプルの部分分散比（Ｐ_ｇ，_Ｆ）は、主分散（ｎ_Ｆ－ｎ_Ｃ）に対する部分分散（ｎ_ｇ－ｎ_Ｆ）の比を示し、以下の式（２）より求めた。ｎ_ｇは、波長４３５．８３５ｎｍの光に対するガラスの屈折率を示す。部分分散比（Ｐ_ｇ，_Ｆ）の値は、小数点以下第３位までとした。
Ｐ_ｇ，_Ｆ＝（ｎ_ｇ－ｎ_Ｆ）／（ｎ_Ｆ－ｎ_Ｃ）・・・（２）

異常分散性（ΔＰ_ｇ，Ｆ）
各サンプルの異常分散性（ΔＰ_ｇ，Ｆ）は、正常分散性を有するガラスとしてＦ２およびＫ７の２硝種を基準とした部分分散比標準線からの偏りを示す。すなわち、縦軸を部分分散比（Ｐ_ｇ，Ｆ）、横軸をアッベ数ν_ｄとする座標上で、２硝種を結ぶ直線と、比較対象のガラスの値との縦座標の差分が、部分分散比の偏り、すなわち異常分散性（ΔＰ_ｇ，Ｆ）となる。上記の座標系で、部分分散比の値が、基準となる硝種を結ぶ直線よりも上側に位置する場合にはガラスは正の異常分散性（＋ΔＰ_ｇ，Ｆ）を示し、下側に位置する場合にはガラスは負の異常分散性（－ΔＰ_ｇ，Ｆ）を示す。なお、Ｆ２およびＫ７のアッベ数νｄと部分分散比（Ｐｇ，Ｆ）は以下の通りである。
Ｆ２：アッベ数νｄ＝３６．３３、部分分散比（Ｐｇ，Ｆ）＝０．５８３４
Ｋ７：アッベ数νｄ＝６０．４７、部分分散比（Ｐｇ，Ｆ）＝０．５４２９
異常分散性（ΔＰ_ｇ，_Ｆ）の値は、小数点以下第３位までとした。
ΔＰ_ｇ，_Ｆ＝Ｐ_ｇ，_Ｆ－（－０．００１６７７７×ν_ｄ＋０．６４４３５１３）・・・（３）

各実施例及び各比較例の光学ガラスについて、各成分の酸化物基準の質量％による組成と各物性の評価結果を、表１～１１に示す。式中の「ΣＡ_２Ｏ」は、Ｌｉ_２ＯとＮａ_２ＯとＫ_２Ｏの総含有率；（Ａ＝Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ）を示す。式中の「ΣＥＯ」は、ＭｇＯとＣａＯとＳｒＯとＢａＯとＺｎＯの総含有率；（Ｅ＝Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｚｎ）を示す。比較例１～３は、光学ガラスを得ることができなったため、物性については「測定不可」であった。

以上より、本実施例の光学ガラスは、高分散でありながら高い部分分散性を有していることが確認された。また、本実施例の光学ガラスは、着色が抑制され、透過性にも優れていることが確認された。

１…撮像装置、１０１…カメラボディ、１０２…レンズ鏡筒、１０３…レンズ、１０４…センサチップ、１０５…ガラス基板、１０６…マルチチップモジュール、ＣＡＭ…撮像装置（レンズ非交換式カメラ）、ＷＬ…撮影レンズ、Ｍ…液晶モニター、ＥＦ…補助光発光部、Ｂ１…レリーズボタン、Ｂ２…ファンクションボタン、２…多光子顕微鏡、２０１…パルスレーザ装置、２０２…パルス分割装置、２０３…ビーム調整部、２０４，２０５，２１２…ダイクロイックミラー、２０６…対物レンズ、２０７，２１１，２１３…蛍光検出部、２０８…集光レンズ、２０９…ピンホール、２１０…結像レンズ、Ｓ…試料、３…接合レンズ、３０１…第１のレンズ要素、３０２…第２のレンズ要素、３０３…接合部材

Claims

質量％で、
Ｐ_２Ｏ_５含有率：２０％以上５０％以下、
ＴｉＯ_２含有率：１５％以上３５％以下、
Ｎｂ_２Ｏ_５含有率：０％以上２０％以下、
Ｂｉ_２Ｏ_３含有率：５％以上３０％以下であり、
Ｐ_２Ｏ_５含有率に対するＴｉＯ_２含有率の比（ＴｉＯ_２／Ｐ_２Ｏ_５）：０．３０以上０．７５以下、である、光学ガラス。
ＴｉＯ_２含有率に対するＬｉ_２ＯとＮａ_２ＯとＫ_２Ｏの総含有率（ΣＡ_２Ｏ；ただし、Ａ＝Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ）の比（ΣＡ_２Ｏ／ＴｉＯ_２）：０．３０以上２．００以下である、
請求項１に記載の光学ガラス。
質量％で、
Ｐ_２Ｏ_５含有率：２０％以上５０％以下、
ＴｉＯ_２含有率：１０％以上３５％以下、
Ｎｂ_２Ｏ_５含有率：０％以上２０％以下、
Ｂｉ_２Ｏ_３含有率：５％以上３０％以下であり、
Ｐ_２Ｏ_５含有率に対するＴｉＯ_２含有率の比（ＴｉＯ_２／Ｐ_２Ｏ_５）：０．３０以上０．７５以下、
ＴｉＯ_２含有率に対するＬｉ_２ＯとＮａ_２ＯとＫ_２Ｏの総含有率（ΣＡ_２Ｏ；ただし、Ａ＝Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ）の比（ΣＡ_２Ｏ／ＴｉＯ_２）：０．３以上１．２４以下、である、光学ガラス。
質量％で、
Ａｌ_２Ｏ_３含有率：０％以上１０％以下、
Ｔａ_２Ｏ_５含有率：０％以上２０％以下、である、
請求項１～３のいずれか一項に記載の光学ガラス。
質量％で、
Ｌｉ_２Ｏ含有率：０％以上５％以下、
Ｎａ_２Ｏ含有率：０％以上２５％以下、
Ｋ_２Ｏ含有率：０％以上２５％以下、である、
請求項１～４のいずれか一項に記載の光学ガラス。
質量％で、
ＺｎＯ含有率：０％以上１５％以下、
ＭｇＯ含有率：０％以上１０％以下、
ＣａＯ含有率：０％以上８％以下、
ＳｒＯ含有率：０％以上１０％以下、
ＢａＯ含有率：０％以上１５％以下、である、
請求項１～５のいずれか一項に記載の光学ガラス。
質量％で、
ＳｉＯ_２含有率：０％以上５％以下、
Ｂ_２Ｏ_３含有率：０％以上１０％以下、である、
請求項１～６のいずれか一項に記載の光学ガラス。
質量％で、
ＷＯ_３含有率：０％以上２５％以下、
ＺｒＯ_２含有率：０％以上５％以下、である、
請求項１～７のいずれか一項に記載の光学ガラス。
Ｙ_２Ｏ_３含有率：０％以上１０％以下、
Ｌａ_２Ｏ_３含有率：０％以上８％以下、
Ｇｄ_２Ｏ_３含有率：０％以上１０％以下、である、
請求項１～８のいずれか一項に記載の光学ガラス。
Ｓｂ_２Ｏ_３含有率：０％以上１％以下、である、
請求項１～９のいずれか一項に記載の光学ガラス。
質量％で、
Ｌｉ_２ＯとＮａ_２ＯとＫ_２Ｏの総含有率（ΣＡ_２Ｏ；ただし、Ａ＝Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ）：５％以上３５％以下である、
請求項１～１０のいずれか一項に記載の光学ガラス。
質量％で、
ＭｇＯとＣａＯとＳｒＯとＢａＯとＺｎＯの総含有率（ΣＥＯ；ただし、Ｅ＝Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｚｎ）：０％以上１８％以下である、
請求項１～１１のいずれか一項に記載の光学ガラス。
ＴｉＯ_２含有率に対するＡｌ_２Ｏ_５含有率の比（Ａｌ_２Ｏ_３／ＴｉＯ_２）：０以上０．６０以下である、
請求項１～１２のいずれか一項に記載の光学ガラス。
Ｐ_２Ｏ_５の含有率に対するＢ_２Ｏ_３の含有率の比（Ｂ_２Ｏ_３／Ｐ_２Ｏ_５）：０以上０．１５以下である、
請求項１～１３のいずれか一項に記載の光学ガラス。
Ｐ_２Ｏ_５とＢ_２Ｏ_３とＡｌ_２Ｏ_３の総含有率に対するＴｉＯ_２含有率の比（ＴｉＯ_２／（Ｐ_２Ｏ_５＋Ｂ_２Ｏ_３＋Ａｌ_２Ｏ_３））：０．２５以上０．７５以下である、
請求項１～１４のいずれか一項に記載の光学ガラス。
ＴｉＯ_２とＮｂ_２Ｏ_５とＷＯ_３とＢｉ_２Ｏ_３とＴａ_２Ｏ_５の総含有率に対するＴｉＯ_２含有率の比（ＴｉＯ_２／（ＴｉＯ_２＋Ｎｂ_２Ｏ_５＋ＷＯ_３＋Ｂｉ_２Ｏ_３＋Ｔａ_２Ｏ_５））：０．２０以上０．９０以下である、
請求項１～１５のいずれか一項に記載の光学ガラス。
Ｐ_２Ｏ_５の含有率に対するＢａＯとＴｉＯ_２の総含有率の比（（ＢａＯ＋ＴｉＯ_２）／Ｐ_２Ｏ_５）：０．３０以上１．００以下である、
請求項１～１６のいずれか一項に記載の光学ガラス。
Ｐ_２Ｏ_５とＢ_２Ｏ_３とＳｉＯ_２とＡｌ_２Ｏ_３の総含有率に対するＢａＯとＴｉＯ_２とＮｂ_２Ｏ_５とＷＯ_３とＢｉ_２Ｏ_３とＴａ_２Ｏ_５の総含有率の比（（ＢａＯ＋ＴｉＯ_２＋Ｎｂ_２Ｏ_５＋ＷＯ_３＋Ｂｉ_２Ｏ_３＋Ｔａ_２Ｏ_５）／（Ｐ_２Ｏ_５＋Ｂ_２Ｏ_３＋ＳｉＯ_２＋Ａｌ_２Ｏ_３））：０．５０以上２．５０以下である、
請求項１～１７のいずれか一項に記載の光学ガラス。
Ｌｉ_２ＯとＮａ_２ＯとＫ_２Ｏの総含有率（ΣＡ_２Ｏ；ただし、Ａ＝Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ）に対するＭｇＯとＣａＯとＳｒＯとＢａＯとＺｎＯの総含有率（ΣＥＯ；ただし、Ｅ＝Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｚｎ）の比（ΣＥＯ／ΣＡ_２Ｏ）：０以上１．５０以下である、
請求項１～１８のいずれか一項に記載の光学ガラス。
ｄ線に対する屈折率（ｎ_ｄ）が１．６１以上１．９０以下である、
請求項１～１９のいずれか一項に記載の光学ガラス。
アッベ数（ν_ｄ）が２０以上３２以下である、
請求項１～２０のいずれか一項に記載の光学ガラス。
部分分散比（Ｐ_ｇ，_Ｆ）が０．６０以上０．６６以下である、
請求項１～２１のいずれか一項に記載の光学ガラス。
異常分散性（ΔＰ_ｇ，_Ｆ）が０．０１５以上０．０４２以下である、
請求項１～２２のいずれか一項に記載の光学ガラス。
請求項１～２３のいずれか一項に記載の光学ガラスを用いた、光学素子。
請求項２４に記載の光学素子を含む、光学系。
請求項２５に記載の光学系を含む、カメラ用交換レンズ。
請求項２５に記載の光学系を含む、顕微鏡用対物レンズ。
請求項２５に記載の光学系を含む、光学装置。
第１のレンズ要素と第２のレンズ要素とを有し、
前記第１のレンズ要素と前記第２のレンズ要素の少なくとも１つは、請求項１～２３のいずれか一項に記載の光学ガラスである、接合レンズ。
請求項２９に記載の接合レンズを含む、光学系。
請求項３０に記載の光学系を含む、顕微鏡用対物レンズ。
請求項３０に記載の光学系を含む、カメラ用交換レンズ。
請求項３０に記載の光学系を含む、光学装置。