JP7624704B2 - 光学材料 - Google Patents
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Description
[項1]
トリヨードフェニル基含有アクリレートモノマー(1)から誘導された繰り返し単位を含む含ヨウ素ポリマーを含む、光学材料。
[項2]
前記モノマー(1)が下記式:
CH2=C(-X1)-C(=O)Y1-L-TIP
[式中、TIPは前記トリヨードフェニル基であり、
X1は水素原子、メチル基又はハロゲン原子であり、
Y1は-O-又は-NH-であり、
Lは直接結合、又は2価の有機基である。]
で表される、項1に記載の光学材料。
[項3]
前記含ヨウ素ポリマーが
CH2=C(-X2)-C(=O)Y2-R
[式中、
X 2は水素原子、メチル基又はハロゲン原子であり、
Y2は-O-又は-NH-であり、
Rは炭素数2~30の有機基である。]
で表されるトリヨードフェニル基非含有アクリレートモノマー(2)から誘導された繰り返し単位を有する、項1又は2に記載の光学材料。
[項4]
前記Rがアルキレン基又はオキシアルキレン基である、項3に記載の光学材料。
[項5]
前記Rが
-(R1O)q-R2
[式中、R1はそれぞれ独立して炭素数1以上10以下のアルキレン基であり、R2は水素原子又は炭素数1~10のアルキル基であり、qは1以上100以下である。]
で表されるオキシアルキレン基である、項3に記載の光学材料。
[項6]
前記含ヨウ素ポリマーにおいて、モノマー(2)から誘導された繰り返し単位の含有量は、モノマー(1)から誘導された繰り返し単位1モル部に対して、0.02モル部以上である、項3~5のいずれか一項に記載の光学材料。
[項7]
前記トリヨードフェニル基が2,3,5-トリヨードフェニル基又は2,4,6-トリヨードフェニル基である、項1~6のいずれか一項に記載の光学材料。
[項8]
前記含ヨウ素ポリマーが分子量制御剤から誘導された構造を有する、項1~7のいずれか一項に記載の光学材料。
[項9]
前記分子量制御剤がモノチオール化合物、ジチオール化合物、及びRAFT剤からなる群から選択される少なくとも一種である、項8に記載の光学材料。
[項10]
請求項1~9のいずれか一項に記載の光学材料から形成され、コーティング、フィルム、シート、プリズム、レンズ及びファイバーから選択される光学部品。
[項11]
請求項10に記載の光学部品を備える光学物品。
本開示における光学材料は各種光学部品の原料となる材料であって、特にその高屈折率を活かした光学部品に用いられる。本開示における光学材料は、トリヨードフェニル基含有アクリレートモノマー(1)から誘導された繰り返し単位を含む含ヨウ素ポリマーを含む。
本開示における含ヨウ素ポリマーは、トリヨードフェニル基含有アクリレートモノマー(1)から誘導された繰り返し単位を含むポリマーである。含ヨウ素ポリマーは直鎖状であってもよいし、分岐鎖状であってもよいが、好ましくは直鎖状である。
アクリレートモノマー(1)はトリヨードフェニル基を少なくとも1個有するアクリレートモノマー(1)である。トリヨードフェニル基は2,3,5-トリヨードフェニル基又は2,4,6-トリヨードフェニル基であってよく、好ましくは2,4,6-トリヨードフェニル基である。従来、分子量制御性、溶解性及び/又は成膜性に問題があり、ヨウ素含有モノマーはその応用が検討されていなかった。本願発明者は、ヨウ素含有モノマーの中でもトリヨードフェニル基含有アクリレートモノマー(1)を選択することで、高屈折率を有しつつ、それらの問題も解消し得ることを予想外にも見出した。
式:
CH2=C(-X1)-C(=O)Y1-L-TIP
[式中、TIPは前記トリヨードフェニル基であり、
X1は、水素原子、メチル基又はハロゲン原子であり、
Y1は、-O-又は-NH-
Lは、直接結合、又は2価の有機基である。]
で表されてよい。
-(L1O)p-
[式中、L1はそれぞれ独立して炭素数1以上10以下のアルキレン基であり、pは1以上100以下である。]
で表されてよい。
-CH2CH2O-
-CH2CH(CH3)O-
-CH2CH(C2H5)O-
-CH2C(CH3)2O-
-CH2CH2CH2CH2O-
等が挙げられる。
本開示における含ヨウ素ポリマーは、トリヨードフェニル基非含有アクリレートモノマー(2)から誘導された繰り返し単位を含んでよい。
式:
CH2=C(-X2)-C(=O)Y2-R
[式中、
X2は、水素原子、メチル基又はハロゲン原子であり、
Y2は、-O-又は-NH-
Rは、水素原子、ヒドロキシ基、炭素数1~30の有機基である。]
で表されてよい。
-(R1O)q-R2
[式中、R1はそれぞれ独立して炭素数1以上10以下のアルキレン基であり、R2は、水素原子又は炭素数1~10のアルキル基、qは1以上100以下である。]
で表されてよい。
-CH2CH2O-
-CH2CH(CH3)O-
-CH2CH(C2H5)O-
-CH2C(CH3)2O-
-CH2CH2CH2CH2O-
等が挙げられる。
本開示における含ヨウ素ポリマーは、硫黄原子を有してもよい。硫黄原子を有することで、含ヨウ素ポリマーの屈折率が向上し得る。硫黄原子は主鎖中又は側鎖中に存在してよく、主鎖中に存在することが好ましい。
本開示における含ヨウ素ポリマーは、分子量制御剤から誘導された構造を有してもよい。分子量制御剤とは、重合を抑制して分子量範囲を制御できる添加剤のことであり、代表的には連鎖移動剤である。分子量制御剤は、芳香族化合物であることが好ましい。芳香族であることにより、含ヨウ素ポリマーの屈折率が向上し得る。分子量制御剤の例としては、各種連鎖移動剤、RAFT剤、NMP剤、ATRP剤、及びTERP剤が挙げられ、チオール型連鎖移動剤及びRAFT剤等の硫黄含有連鎖移動剤が好ましい。
本開示の含ヨウ素ポリマーは、上記以外に、その他の原料から誘導された構造を有していてよい。その他の原料の具体例としては、スチレン、p-メチルスチレン、α-メチルスチレン、ハロゲン化スチレン、ビニル安息香酸、4-ビニルベンゼンスルホン酸、4-ビニルベンゼンスルホン酸エステル、4-ビニルベンゼンスルホン酸アミド等のスチレン系モノマー;(メタ)アクリルアミド、N-メチル(メタ)アクリルアミド、N-エチル(メタ)アクリルアミド、N,N-ジメチル(メタ)アクリルアミド、N,N-ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド等のアミド基含有ビニルモノマー;(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸プロピル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸2-エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸2-ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸2-ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸3-ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシブチル、(メタ)アクリル酸グリシジル、(メタ)アクリル酸N,N-ジメチルアミノエチル、(メタ)アクリル酸N,N-ジエチルアミノエチル、(メタ)アクリル酸N-t-ブチルアミノエチル、ポリエチレングリコール(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリレート、(メタ)アクリルアミド系モノマー;(メタ)アクリロニトリル等のニトリル基含有ビニルモノマー;ハロゲン化ビニル、ハロゲン化ビニリデン、酢酸ビニル等のその他モノマーが挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、又は二種類以上を併用して用いてもよい。
本開示における含ヨウ素ポリマーの数平均分子量は300以上、500以上、1000以上、1500以上、3000以上、5000以上、又は10000以上であってよく、好ましくは3000以上である。本開示における含ヨウ素ポリマーの数平均分子量は100000以下、50000以下、25000以下、15000以下、12500以下、又は10000以下であってよく、好ましくは50000以下である。上記範囲にあることで、含ヨウ素ポリマーの溶解性、成膜性、耐熱性及び透明性が適度にバランス良く優れ得る。なお、上記数平均分子量はポリスチレン換算分子量であってよい。
モノマー(1)からから誘導された繰り返し単位の含有量は、含ヨウ素ポリマー中、20重量%以上、30重量%以上、40重量%以上、50重量%以上、60重量%以上、70重量%以上、又は80重量%以上であってよい。モノマー(1)からから誘導された繰り返し単位の含有量は、含ヨウ素ポリマー中、95重量%以下、85重量%以下、75重量%以下、65重量%以下、55重量%以上、又は45重量%以下であってよい。屈折率向上の観点からはモノマー(1)の量が多いほど好ましい。
本開示における含ヨウ素ポリマーの屈折率は、1.65以上、1.70以上、1.72以上、1.76以上、1.78以上、1.80以上、又は1.82以上であってよく、好ましくは1.72以上、より好ましくは1.78以上である。
本開示における含ヨウ素ポリマーの耐熱温度(窒素ガス雰囲気中、10℃/分の昇温速度で昇温させたときに、5%の重量減少が認められる温度)は、250℃以上、260℃以上、270℃以上、280℃以上、290℃以上、300℃以上、310℃以上、又は320℃以上であってよく、好ましくは260℃以上、より好ましくは280℃以上である。
本開示における含ヨウ素ポリマーの製造方法は原料である上記モノマーを重合する工程により得ることができる。
本開示における含ヨウ素ポリマーの製造方法は、
分子量制御剤の存在下、モノマーを重合する工程
を含んでもよい。分子量制御剤の存在下、モノマーを重合することにより、上述した範囲に分子量を制御することが容易となる。
本開示における光学材料はコーティング、フィルム、シート、プリズム、レンズ、ファイバー等(以下、コーティング等という)の光学部品として用いられてよい。これら用途に用いる場合、上記光学材料を基材に適用することにより形成されてよい。基材の種類は特に限定されず、樹脂、ガラス、金属、セラミック等であってよい。
上記コーティング等の光学部品を備える光学物品の例は、特に限定されないが、高屈折率発光ダイオード(LED)やイメージセンサ等の光デバイス、反射防止膜、レンズ材料、レンズ用塗膜等の高屈折率材料、望遠鏡、双眼鏡、顕微鏡、カメラ、内視鏡(ファイバースコープ)、プラネタリウム、測長器、コンパレータ、測距儀、分光計、干渉計、旋光計等の光学機器が好ましい例として挙げられる。
<IR測定>
日本分光(株)製 FT/IR 4600を用いた。
400MHz-NMR 日本電子(株)製 JOEL ECS-400K又は400MHz-NMR 日本電子(株)製 JOEL ECZ-400を用いた。
以下の機器及び条件において行った。
東ソー(株)製 HLC-8320GPC
カラム;TSKgel SuperMultiporeHZ-M×2 (4.6mmI.D.×15cm×2)
標準;ポリスチレンSRM706 (NIST)
溶離液;THF
検出器;RI;ポラリティ(+)、レスポンス(0.5s)
UV;波長(254nm)、ポラリティ(+)、レスポンス(0.5s)
TGA測定装置(島津社製Model TGA-50/50H)を用いて、窒素ガス雰囲気中、10℃/分の昇温速度で、25℃から450℃までの温度範囲で測定した。5%の重量減少が認められる温度Tdを表2に示した。
得られた含ヨウ素ポリマー2mgを、各種有機溶媒2mlに添加して、25℃で一晩放置した。下記の基準で溶解性を判断した。結果を表2に示す。
○:溶け残り無く溶解
△:一部が溶解せず残る
×:大部分が溶解せず残る
含ヨウ素ポリマーの屈折率は、含ヨウ素ポリマーをシリコンウエハー上に製膜し、エリプソメータ(株式会社フォトニックラティス社製SE-101)を用いて、波長632nmのレーザーで30点測定し、それらを平均化することにより測定した。結果を表2に示す。
200mlのナスフラスコに、2,4,6-triiodephenol 14.4g(30mmol), TEA 6ml, THF60mlを入れ、氷浴でAcryloyl chloride 4.07g(45mmol) を10~15分間かけて加え室温で24h攪拌した。黄色固体を得た。Evapoして酢エチを加えた。濾過して塩を取り除き、分液操作(1N HCl, sat NaHCO3, sat NaCl)を各3回行った。有機層にMgSO4を入れて脱水をして減圧乾燥し、黄色粉末固体を12.58g得た。1H-NMR、13C-NMR,IR測定より物性評価を行った。展開溶媒を(クロロホルム:ヘキサン=1:1)にし、カラムクロマトグラフィーを行った。その後、減圧乾燥して白色固体を得た。ヘキサン、クロロホルムを用いて再結晶を行い、元素分析を行い、得られた化合物がTriiodophenyl acrylate(TIP-AC)であることを確認した。収量は12.58g収率87%であった。
poly(TIP-AC)の合成
重合管にTIP-AC 0.52g(1mmol), DMF 0.3ml, 表1に示す量のAIBN (TIP-ACに対して3 mol%)を入れて脱気封管を行い60℃オイルバス中で20h攪拌した。メタノールで再沈殿してメンブレン濾過した後、減圧乾燥して、含ヨウ素ポリマーを得た。1H-NMR、IR測定、及びGPC測定により組成及び分子量を決定した。得られた含ヨウ素ポリマーについて、熱重量測定、溶解性試験、屈折率測定を行った。結果を表1~4に示す。
TBBT-poly(TIP-AC)の合成
重合管にTIP-AC 0.52g(1mmol), DMF 0.3ml, 4,4'-Thiobisbenzenethiol(TBBT)(TIP-ACに対して1.5 mol%), AIBN (TIP-ACに対して3 mol%) を入れて脱気封管を行い60℃オイルバス中で20h攪拌した。メタノールで再沈殿してメンブレン濾過した後、減圧乾燥して、含ヨウ素ポリマーを得た。1H-NMR、IR測定、及びGPC測定により組成及び分子量を決定した。得られた含ヨウ素ポリマーについて、熱重量測定、溶解性試験、屈折率測定を行った。結果を表1~4に示す。表1中、nは含ヨウ素ポリマーにおけるTBBTから誘導された構造1モル部に対するTIP-ACから誘導された繰り返し単位の量(モル部)の1/2を示している。
TBBT-poly(TIP-AC)の合成
重合管にTIP-AC 0.52g(1mmol), DMF 0.3ml, TBBT(TIP-ACに対して15mol%)及びAIBN(TIP-ACに対して30mol%)を入れて脱気封管を行い60℃オイルバス中で20h攪拌した。黄色液体と粘性のある固体を得た。メタノールで再沈殿してメンブレン濾過した後、減圧乾燥した。得られた含ヨウ素ポリマーについて、熱重量測定、溶解性試験、屈折率測定を行った。結果を表1~4に示す。表1中、nは含ヨウ素ポリマーにおけるTBBTから誘導された構造1モル部に対するTIP-ACから誘導された繰り返し単位の量(モル部)の1/2を示している。
TBBT-poly(TIP-AC)の合成
重量温度を65℃とした以外は、実施例3と同様にして合成及び試験を行った。表1~4に結果を示す。
TBBT-poly(TIP-AC)の合成
重量温度を70℃とした以外は、実施例3と同様にして合成及び試験を行った。表1~4に結果を示す。
TBBT-poly(TIP-AC)の合成
重量温度を75℃とした以外は、実施例3と同様にして合成及び試験を行った。表1~4に結果を示す。
TBBT-poly(TIP-AC)の合成
重量温度を80℃とした以外は、実施例3と同様にして合成及び試験を行った。表1~4に結果を示す。
TBBT-poly(TIP-AC-co-EEA)の合成
重合管にTIP-AC (0.95mmol 、0.50g), 2-(2-Ethoxyethoxy)ethyl Acrylate(EEA) (0.05mmol、0.009g), DMF 0.3ml, AIBN (TIP-ACとEEAの合計量に対して30mol%、0.05g), TBBT(TIP-ACとEEAの合計量に対して15mol%、0.037g)を入れて脱気封管を行い75℃オイルバス中で20h攪拌した。メタノールで再沈殿してメンブレン濾過した後、減圧乾燥して含ヨウ素ポリマーを得た。得られた含ヨウ素ポリマーについて、熱重量測定、溶解性試験、屈折率測定を行った。結果を表1~4に示す。表1中、nは含ヨウ素ポリマーにおけるTBBTから誘導された構造1モル部に対するTIP-ACから誘導された繰り返し単位の量(モル部)の1/2を示し、mは含ヨウ素ポリマーにおけるTBBTから誘導された構造1モル部に対するEEAから誘導された繰り返し単位の量(モル部)の1/2を示している。
TBBT-poly(TIP-AC-co-EEA)の合成
TIP-ACを0.90モル、EEAを0.10モル用いた以外は実施例8と同様にして合成及び試験を行った。表1~4に結果を示す。
TBBT-poly(TIP-AC-co-EEA)の合成
TIP-ACを0.80モル、EEAを0.20モル用いた以外は実施例8と同様にして合成及び試験を行った。表1~4に結果を示す。
BT-poly(TIP-AC-co-EEA)の合成
重合管にTIP-AC (0.8mmol 、0.42g), 2-(2-Ethoxyethoxy)ethyl Acrylate(EEA) (0.2mmol、0.037g) ,DMF 0.3ml, AIBN(TIP-ACとEEAの合計量に対して7.5 mol%), Benzenethiol(BT) (TIP-ACとEEAの合計量に対して7.5 mol%) を入れて脱気封管を行い60℃オイルバス中で20h攪拌した。メタノールで再沈殿してメンブレン濾過した後、減圧乾燥して含ヨウ素ポリマーを得た。1H-NMR、IR測定、及びGPC測定により求まった組成及び分子量の結果を表1に示す。表1中、nは含ヨウ素ポリマーにおけるBTから誘導された構造1モル部に対するTIP-ACから誘導された繰り返し単位の量(モル部)を示し、mは含ヨウ素ポリマーにおけるTBBTから誘導された構造1モル部に対するEEAから誘導された繰り返し単位の量(モル部)を示している。得られた含ヨウ素ポリマーについて、熱重量測定、溶解性試験、屈折率測定を行った結果を表1~4に示す。
BT-poly(TIP-AC-co-EEA)の合成
AIBNの量をTIP-ACとEEAの合計量に対して15 mol%、BTの量をTIP-ACとEEAの合計量に対して15 mol%とした以外は、実施例10と同様にして合成及び試験を行った。表1~4に結果を示す。
BT-poly(TIP-AC-co-EEA)の合成
AIBNの量をTIP-ACとEEAの合計量に対して30 mol%、BTの量をTIP-ACとEEAの合計量に対して30 mol%とした以外は、実施例10と同様にして合成及び試験を行った。表1~4に結果を示す。
poly(TIP-AC-co-EEA)の合成
重合管にTIP-AC (0.95mmol、0.50g), 2-(2-Ethoxyethoxy)ethyl Acrylate(EEA) (0.05mmol、0.009g) ,DMF 0.3ml, AIBN (3mol%、0.005g), を入れて脱気封管を行い60℃オイルバス中で20h攪拌した。メタノールで再沈殿してメンブレン濾過した後、減圧乾燥して含ヨウ素ポリマーを得た。1H-NMR、IR測定、及びGPC測定により求まった組成及び分子量の結果を表1に示す。得られた含ヨウ素ポリマーについて、熱重量測定、溶解性試験、屈折率測定を行った。結果を表1~4に示す。表1中、nとmは含ヨウ素ポリマーにおけるTIP-ACから誘導された繰り返し単位の量(モル部)と、EEAから誘導された繰り返し単位の量(モル部)との比率を示している。
poly(TIP-AC-co-EEA)の合成
TIP-ACの量を0.9mmol、EEAの量を0.1mmolとした以外は、実施例14と同様にして合成及び試験を行った。表1~4に結果を示す。
poly(TIP-AC-co-EEA)の合成
TIP-ACの量を0.9mmol、EEAの量を0.15mmolとした以外は、実施例14と同様にして合成及び試験を行った。表1~4に結果を示す。
Claims (11)
- トリヨードフェニル基含有アクリレートモノマー(1)から誘導された繰り返し単位を含む含ヨウ素ポリマーを含む、光学材料であって、
前記含ヨウ素ポリマーの数平均分子量は50000以下であり、前記含ヨウ素ポリマーは以下の(I)及び(II)の少なくとも一を満たす、光学材料。
(I)前記含ヨウ素ポリマーが下記
式:
CH 2 =C(-X 2 )-C(=O)Y 2 -R
[式中、
X 2 は水素原子、メチル基又はハロゲン原子であり、
Y 2 は-O-又は-NH-であり、
Rは炭素数2~30の有機基である。]
で表されるトリヨードフェニル基非含有アクリレートモノマー(2)から誘導された繰り返し単位を有し、
前記Rは、アルキル基、又は
-(R 1 O) q -R 2
[式中、R 1 はそれぞれ独立して炭素数1以上10以下のアルキレン基であり、R 2 は、水素原子又は炭素数1~10のアルキル基、qは1以上100以下である。]
で表される(ポリ)オキシアルキレン基である。
(II)前記含ヨウ素ポリマーが分子量制御剤から誘導された構造を有する。 - 前記モノマー(1)が下記
式:
CH2=C(-X1)-C(=O)Y1-L-TIP
[式中、
TIPは前記トリヨードフェニル基であり、
X1は水素原子、メチル基又はハロゲン原子であり、
Y1は-O-又は-NH-であり、
Lは直接結合、又は2価の脂肪族基又は芳香族基である。]
で表される、請求項1に記載の光学材料。 - 前記含ヨウ素ポリマーが下記
式:
CH2=C(-X2)-C(=O)Y2-R
[式中、
X2は水素原子、メチル基又はハロゲン原子であり、
Y2は-O-又は-NH-であり、
Rは炭素数2~30の有機基である。]
で表されるトリヨードフェニル基非含有アクリレートモノマー(2)から誘導された繰り返し単位を有し、
前記Rは、アルキル基、又は
-(R 1 O) q -R 2
[式中、R 1 はそれぞれ独立して炭素数1以上10以下のアルキレン基であり、R 2 は、水素原子又は炭素数1~10のアルキル基、qは1以上100以下である。]
で表される(ポリ)オキシアルキレン基である、請求項1又は2に記載の光学材料。 - 前記Rがアルキル基である、請求項3に記載の光学材料。
- 前記Rが前記(ポリ)オキシアルキレン基である、請求項3に記載の光学材料。
- 前記含ヨウ素ポリマーにおいて、モノマー(2)から誘導された繰り返し単位の含有量は、モノマー(1)から誘導された繰り返し単位1モル部に対して、0.02モル部以上である、請求項3~5のいずれか一項に記載の光学材料。
- 前記トリヨードフェニル基が2,3,5-トリヨードフェニル基又は2,4,6-トリヨードフェニル基である、請求項1~6のいずれか一項に記載の光学材料。
- 前記含ヨウ素ポリマーが分子量制御剤から誘導された構造を有する、請求項1~7のいずれか一項に記載の光学材料。
- 前記分子量制御剤がモノチオール化合物、ジチオール化合物、及びRAFT剤からなる群から選択される少なくとも一種である、請求項8に記載の光学材料。
- 請求項1~9のいずれか一項に記載の光学材料から形成され、コーティング、フィルム、シート、プリズム、レンズ及びファイバーから選択される光学部品。
- 請求項10に記載の光学部品を備える光学物品。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2021030477A JP7624704B2 (ja) | 2021-02-26 | 2021-02-26 | 光学材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2021030477A JP7624704B2 (ja) | 2021-02-26 | 2021-02-26 | 光学材料 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2022131503A JP2022131503A (ja) | 2022-09-07 |
| JP2022131503A5 JP2022131503A5 (ja) | 2023-12-22 |
| JP7624704B2 true JP7624704B2 (ja) | 2025-01-31 |
Family
ID=83153140
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2021030477A Active JP7624704B2 (ja) | 2021-02-26 | 2021-02-26 | 光学材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP7624704B2 (ja) |
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2021
- 2021-02-26 JP JP2021030477A patent/JP7624704B2/ja active Active
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Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| MAEKAWA Hiroyuki et al.,Synthesis and Properties of High-Refractive-Index Iodine-Containing Polyacrylates,Chemistry Select,2022年,Volume 7, Issue 28,https://doi.org/10.1002/slct.202201543 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2022131503A (ja) | 2022-09-07 |
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