JP7630444B2 - Ｘｐｏ１阻害剤の調製プロセス及びｘｐｏ１阻害剤の調製に用いられる中間体 - Google Patents

Description

関連出願
本出願は、２０１９年５月１日に出願の米国仮特許出願第６２／８４１，６４９号に基づく利益を主張する。上記出願に係る全教示は、参照により本明細書において援用されている。

セリネクソルは、ＣＲＭ１／ＸＰＯ１活性に関連する生理学的状態の処置及び／又は予防に用いられる核外輸送の選択的阻害剤である。セリネクソルは、以下の構造式：

により表される。

セリネクソルの合成は、Ｋａｒｙｏｐｈａｒｍ Ｔｈｅｒａｐｅｕｔｉｃｓ Ｉｎｃ．による国際公開第２０１３０１９５４８Ａ１号パンフレットにおいて初めて開示された。ここに報告されている合成方法は少量のセリネクソルの提供には成功したが、彼等は、所望される高いＺ－異性体含有量を有するセリネクソルを提供するために複数の精製ステップ（クロマトグラフィ及び結晶化）が必要であることに苦労していた。この出願において開示されているプロセスは、彼等が意図した規模には十分に好適であったが、これらの精製ステップが原因となり、商業的な製造を目的とした場合には非効率的である。

その最後から２番目の中間体（以下に構造式ＩＩＩにより表されている）からのセリネクソルの向上した合成が、同じくＫａｒｙｏｐｈａｒｍ Ｔｈｅｒａｐｅｕｔｉｃｓ Ｉｎｃ．による国際公開第２０１６０２５９０４Ａ１号パンフレットに開示されている。中間体ＩＩＩをセリネクソルに転換する最終合成ステージに関連する難題は解決されているが、中間体ＩＩＩの調製方法は提供されていない。

商業的に適切な規模におけるセリネクソル及びその中間体の調製に好適な効率的な製造プロセスに対する要求が存在している。

本発明は、セリネクソルの合成に有用である中間体（例えば、構造式ＩＩＩにより表される化合物）を調製するための新規で効率的なプロセスを提供することを目的とする。これらのプロセスは、セリネクソルの前合成に関連する難題を解決するものである。

本発明は、構造式ＩＩＩ

により表される化合物を形成するプロセスであって：
構造式（Ｉ）により表される化合物と、構造式（ＩＩ）により表される化合物

とを、触媒、有機塩基及びエーテル含有溶剤の存在下に、構造式（ＩＩＩａ）により表される化合物

の生成に好適な条件下で反応させるステップ；並びに
単離することなく、構造式（ＩＩＩａ）により表される化合物と、無機塩基とを、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）の存在下に、構造式（ＩＩＩ）により表される化合物の生成に好適な条件下で反応させるステップ；並びに
構造式（ＩＩＩ）により表される化合物を単離するステップを含み、
ここで、Ｒは、Ｃ₂～Ｃ₅アルキル、Ｃ₆～Ｃ₁₈アリール、５～１８員ヘテロアリール、Ｃ₃～Ｃ₁₂シクロアルキル又は３～１２員ヘテロシクロアルキルであり、その各々は、任意選択により、及び、独立して、ハロ、ＣＮ、ＯＨ、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル、Ｃ₁～Ｃ₃ハロアルキル、－ＮＯ₂、－ＮＨ₂、－ＮＨ（Ｃ₁～Ｃ₃アルキル）、－Ｎ（Ｃ₁～Ｃ₃アルキル）₂及びＣ₁～Ｃ₃アルコキシから選択される１つ以上の置換基で置換されている、プロセスに関する。

本明細書中以下の実施例に記載されているとおり、触媒、有機塩基、エーテル含有溶剤、無機塩基及び相間移動触媒の組み合わせを構造式ＩＩＩにより表される化合物の合成方法に採用することで、中間体を単離するステップを排除しながらも、有利に高い収率及び優れた立体選択性が予想外にも得られた。

前述の事項は、添付の図面において図示されているとおり、本発明の例示的な実施形態の以下のより具体的な説明から明らかとされ、ここで、上記図面において、同様の符号は、異なる図を通して同一の構成要素を指すものである。図面は、必ずしも縮尺どおりではなく、本発明の実施形態の図示に際して強調がなされている。

図１は、米国特許第１０，５１９，１３９号明細書に記載されているセリネクソル形態Ａの粉末Ｘ線回折（ＸＲＰＤ）パターンである。 図２は、米国特許第１０，５１９，１３９号明細書に記載されているセリネクソルのアセトニトリル溶媒和物のＸＲＰＤパターンである。

本発明に係る新規機構は、以下における本発明の発明を実施するための形態の考察により、当業者に明らかとなるであろう。しかしながら、提示されている本発明に係る発明を実施するための形態及び特定の実施例は、本発明の一定の実施形態を表している一方で、本発明の趣旨及び範囲内である種々の変更及び改変は以下の本発明に係る発明を実施するための形態及び特許請求の範囲から当業者に明らかとなるために、単なる例示を目的とするために提供されていることが理解されるべきである。

定義
本発明の化合物は広く上記のものを含み、本明細書に開示のクラス、サブクラス及び種によってさらに例示される。本明細書において用いられるところ、別段の定めがある場合を除き、以下の定義が適用されることとなる。本発明の目的のために、化学的要素は、Ｐｅｒｉｏｄｉｃ Ｔａｂｌｅ ｏｆ ｔｈｅ Ｅｌｅｍｅｎｔｓ，ＣＡＳ ｖｅｒｓｉｏｎ，Ｈａｎｄｂｏｏｋ ｏｆ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ａｎｄ Ｐｈｙｓｉｃｓ，７５^th Ｅｄ．に従って識別される。また、有機化学の一般原則が“Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ”，Ｔｈｏｍａｓ Ｓｏｒｒｅｌｌ，Ｕｎｉｖｅｒｓｉｔｙ Ｓｃｉｅｎｃｅ Ｂｏｏｋｓ，Ｓａｕｓａｌｉｔｏ：１９９９、及び、“Ｍａｒｃｈ’ｓ Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ”，５^th Ｅｄ．，Ｅｄ．：Ｓｍｉｔｈ，Ｍ．Ｂ．ａｎｄ Ｍａｒｃｈ，Ｊ．，Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ：２００１に記載されており、その全内容が参照により本明細書に援用される。

本明細書において別段の特定がある場合を除き、本明細書において用いられている命名法は一般に、Ｎｏｍｅｎｃｌａｔｕｒｅ ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，Ｓｅｃｔｉｏｎｓ Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅ，Ｆ，ａｎｄ Ｈ，Ｐｅｒｇａｍｏｎ Ｐｒｅｓｓ，Ｏｘｆｏｒｄ，１９７９（例示的な化学構造名及び化学構造の命名上のルールについては、参照により本明細書において援用されている）に記載されている例及びルールに従う。任意選択により、化合物の名称は、化学物質命名プログラム：ＡＣＤ／ＣｈｅｍＳｋｅｔｃｈ，Ｖｅｒｓｉｏｎ ５．０９／Ｓｅｐｔｅｍｂｅｒ ２００１，Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ Ｄｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔ，Ｉｎｃ．，Ｔｏｒｏｎｔｏ，Ｃａｎａｄａを用いて生成し得る。

「アルキル」は、例えば、１～１６個の炭素原子を有する飽和脂肪族分岐又は直鎖一価炭化水素基を意味する。例えば、「（Ｃ₁～Ｃ₆）アルキル」は、直鎖又は分岐鎖に配置された１～６個の炭素原子を有する基を意味する。「（Ｃ₁～Ｃ₆）アルキル」は、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル及びヘキシルを含む。一態様において、アルキル基は２～５個の炭素原子を含有する。

「アルカン」は、上記に定義されているとおり、水素に結合しているアルキル基からなる炭化水素分子を意味する。

「シクロアルキル」は、例えば、３～１２個の炭素原子を有する飽和脂肪族環式炭化水素基を意味する。これは、単環式又は多環式であることが可能である（例えば、縮合、架橋又はスピロ）。例えば、単環式（Ｃ₃～Ｃ₈）シクロアルキルは、単環式環に配置された３～８個の炭素原子を有する基を意味する。単環式（Ｃ₃～Ｃ₈）シクロアルキルとしては、特に限定されないが、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル及びシクロオクタンが挙げられる。

「シクロアルカン」は、上記に定義されているとおり、水素に結合しているシクロアルキル基からなる炭化水素分子を意味する。

「ヘテロシクロアルキル」は、例えば３～１２員を有し、炭素原子及びＮ、Ｏ又はＳから選択される同一であっても異なっていてもよい１～４個のヘテロ原子を含有し、並びに、任意選択により、１つ以上の二重結合を含有する飽和環を意味する。これは、単環式又は多環式であることが可能である（例えば、縮合、架橋又はスピロ）。

「ハロアルキル」は、上記に定義されている直鎖又は分岐アルキル基を指し、ここで、水素原子は、その一部又は全部がハロゲン原子で置換されていてもよく、並びに、モノ、ポリ及びペルハロアルキル基を含んでいてもよく、ここで、ハロゲンは、フッ素、塩素及び臭素から独立して選択される。

「ヘテロアリール」は、一価の芳香族複素環式単環式又は多環式環基を意味する。ヘテロアリール環は、５～１８員を有していることが可能であり、並びに、炭素原子とＮ、Ｏ及びＳから独立して選択される１～４ヘテロ原子とを含有していることが可能である。これらは、単環式又は多環式であることが可能であると共に、これらに限定されないが、フラン、チオフェン、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、イソチアゾール、１，２，３－トリアゾール、１，２，４－トリアゾール、１，３，４－オキサジアゾール、１，２，５－チアジアゾール、１，２，５－チアジアゾール１－オキシド、１，２，５－チアジアゾール１，１－ジオキシド、１，３，４－チアジアゾール、ピリジン、ピリジン－Ｎ－オキシド、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、１，２，４－トリアジン、１，３，５－トリアジン、テトラゾール、インドリジン、インドール、イソインドール、ベンゾ［ｂ］フラン、ベンゾ［ｂ］チオフェン、インダゾール、ベンズイミダゾール、ベンズチアゾール、プリン、４Ｈ－キノリジン、キノリン、イソキノリン、シノリン、フタラジン、キナゾリン、キノキサリン、１，８－ナフチリジン及びプテリジンが挙げられる。

「アルコキシ」は、酸素結合原子を介して結合している上記に定義されているアルキル基を意味する。「（Ｃ₁～Ｃ₃）－アルコキシ」としては、メトキシ、エトキシ、プロポキシ及びイソプロポキシが挙げられる。

「アリール」は、例えば、６～１８個の炭素員を含有する芳香族単環式又は多環式炭化水素環系を意味する。アリール系としては、特に限定されないが、フェニル、ナフタレニル、フルオレニル、インデニル、アズレニル及びアントラセニルが挙げられる。

「アレーン」は、水素に結合しているアリール基からなる炭化水素分子を意味する。

上記に定義されている基の定義には、原子価によって許容される限りにおいて、炭素原子又は窒素原子で任意選択により置換されている基もまた包含される。好適な置換としては、これらに限定されないが、ハロ、ＣＮ、ＯＨ、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル、Ｃ₁～Ｃ₃ハロアルキル、－ＮＯ₂、－ＮＨ₂、－ＮＨ（Ｃ₁～Ｃ₃アルキル）、－Ｎ（Ｃ₁～Ｃ₃アルキル）₂及びＣ₁～Ｃ₃アルコキシが挙げられる。

本明細書において用いられるところ、「ハロ」は、フッ素、塩素、臭素又はヨウ素を指す。

本明細書において用いられるところ、「炭化水素溶剤」という用語は、５～１２個の炭素原子を有するアルカン、シクロアルカン又はアレーンを意味する。

「触媒」は、関与する化学反応の速度を特に高めることで変更可能であると共に、反応の終了時に再生成されるいずれかの化合物を意味する。本出願に好適な触媒の例としては、これらに限定されないが、１，５－ジアザビシクロ［４．３．０］ノン－５－エン（ＤＢＮ）、１，４－ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ－７－エン（ＤＢＵ）及び７－メチル－１，５，７－トリアザビシクロ［４．４．０］デカ－５－エン（ＭＴＢＤ）、１，５，７－トリアザビシクロ［４．４．０］デカ－５－エン（ＴＢＤ）及びキヌクリジンが挙げられる。

本明細書において用いられるところ、「有機塩基」は、プロトンを受容し、水溶液中においてヒドロキシルイオンを形成し、又は、電子対を供与することが可能である有機化合物を指す。有機塩基の例としては、これらに限定されないが、Ｅｔ₃Ｎ、ジイソプロピルエチルアミン（ＤＩＰＥＡ）、ピペリジン、ピリジン、４－ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）、Ｎ－メチル－モルホリン、ジメチルアニリン、イミダゾール、１－メチルピリジン、２－メチルピリジン、３－メチルピリジン、３，５－ジメチルピリジン、２，４－ジメチルピリジン、２，６－ジメチルピリジン及び２，４，６－トリメチルピリジンなどの窒素含有化合物が挙げられる。

本明細書において用いられるところ、「無機塩基」は、プロトンを受容し、水性媒体中においてヒドロキシル基を形成し、又は、電子対を供与することが可能である無機化合物を指す。無機塩基の例としては、これらに限定されないが、ＬｉＯＨ、ＮａＯＨ、ＫＯＨ、ＣｓＯＨ、Ｃａ（ＯＨ）₂、Ｍｇ（ＯＨ）₂及びＢａ（ＯＨ）₂などの金属水酸化物が挙げられる。

本明細書において用いられるところ、「エーテル含有溶剤」は、周囲条件下で液体であると共にＲ’－Ｏ－Ｒ”部分を含有する有機化合物を指し、ここで、Ｒ’及びＲ”は各々、直鎖又は分岐鎖アルキル又はシクロアルキルから独立して選択され、並びに、Ｒ’及びＲ”は、これら結合している酸素原子と一緒になって５員～６員環を形成可能である。エーテル含有溶剤の例としては、これらに限定されないが、２－メチルテトラヒドロフラン（ＭｅＴＨＦ）、ジエチルエーテル、メチルｔ－ブチルエーテル（ＭＴＢＥ）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、２，５－ジメチルテトラヒドロフラン（ＤｉＭｅＴＨＦ）、ジメトキシエタン（ＤＭＥ）及びシクロペンチルメチルエーテル（ＣＰＭＥ）が挙げられる。

本発明の化合物における置換基及び置換パターンは、化学的に安定であると共に、技術分野において公知である技術、並びに、以下に記載されている方法により容易に合成可能である化合物が提供されるよう、技術分野における当業者により選択可能であることが理解される。通常、「置換されている」という用語は、「任意選択により」という用語が先行しているか否かに関わらず、指定されている部分に係る１個以上の水素が好適な置換基で置き換えられていることを意味する。別段の定めがある場合を除き、「任意選択により置換された基」は、基における置換可能な位置の各々に好適な置換基を有していることが可能であり、いずれかの所与の構造における２つ以上の位置が、特定の群から選択される２個以上の置換基で置換され得る場合、置換基は、すべての位置において、同一であることも異なっていることも可能である。或いは、「任意選択により置換された基」は置換されていなくてもよい。

本発明によって想定される置換基の組み合わせは、安定であるか、又は、化学的に実現可能である化合物の形成がもたらされるものであることが好ましい。置換基自体が２つ以上の基で置換されている場合、これらの複数の基は、安定であり、化学的に実現可能である構造がもたらされる限りにおいて、同一の炭素原子上にあることも、異なる炭素原子上にあることも可能であることが理解される。本明細書において用いられるところ、「安定」という用語は、本明細書に開示の目的の１つ以上に係る、生成、検出、並びに、一定の実施形態においては、その回収、精製及び使用を許容する条件に供された場合にも実質的に変化しない化合物を指す。

別段の定めがある場合を除き、本明細書において示されている構造はまた、この構造に係るすべての異性体形態（例えば、鏡像異性、ジアステレオ異性及び幾何異性（又は、配座異性）形態）；例えば、不斉中心の各々に係るＲ及びＳ構成、Ｚ及びＥ二重結合異性体を含むことが意図されている。従って、本発明の化合物の単一の立体化学異性体、並びに、鏡像異性、ジアステレオ異性及び幾何異性（又は、配座異性）混合物が、本発明の範囲内である。別段の定めがある場合を除き、本発明の化合物のすべての互変異性形態が、本発明の範囲内である。

また、別段の定めがある場合を除き、本明細書において示されている構造はまた、１個以上の同位体的に富化された原子の存在のみが異なる化合物を含むことも意味している。例えば、重水素若しくは三重水素による水素の置き換え、又は、¹³Ｃ－若しくは¹⁴Ｃ－富化炭素による炭素の置き換えにより生成される化合物は、本発明の範囲内である。このような化合物は、例えば、分析手段として、生物学的アッセイにおけるプローブとして、又は、本発明に係る治療薬として有用である。

「立体異性体」という用語は、空間中における原子の配向のみが異なる個々の分子に係るすべての異性体に対する一般的な用語である。この用語は、鏡像異性体（エナンチオマー）、幾何（シス／トランス）異性体、及び、互いに鏡像ではないキラル中心を２つ以上有する化合物の異性体（ジアステレオマー）を含む。

本明細書に開示の要素の導入に当り、冠詞「ａ」、「ａｎ」、「ｔｈｅ」及び「ｓａｉｄ」は、１つ以上の要素が存在していることを意味することが意図されている。「を含む（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」、「を有する（ｈａｖｉｎｇ）」及び「を含む（ｉｎｃｌｕｄｉｎｇ）」という用語は、オープンエンド形式であることが意図されると共に、列挙されている要素以外の追加の要素が存在し得ることを意味する。

略語
ａｑ． 水性
ＣＰＭＥ シクロペンチルメチルエーテル
ＤＡＢＣＯ １，４－ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン
ＤＤ 蒸留された、脱イオン
ＤＩＥＡ Ｎ，Ｎ－ジイソプロピルエチルアミン
ＤＭＦ ジメチルホルムアミド
ＥＡ又はＥｔＯＡｃ 酢酸エチル
Ｅｔ₂Ｏ ジエチルエーテル
ＥｔＯＨ エタノール
Ｅｔ エチル
ｅｑ 当量
ｈ 時間
ＨＣｌ 塩酸
ＩＰＡ ２－プロパノール
ＫＯＨ 水酸化カリウム
ＬＣＭＳ 液体クロマトグラフィ／質量分光測定
ＬｉＯＨ 水酸化リチウム
ＭｅＣＮ アセトニトリル
ＭｅＯＨ メタノール
ＭＴＢＥ メチルｔ－ブチルエーテル
ｍｉｎ 分間
Ｍｅ メチル
ＭｅＴＨＦ ２－メチルテトラヒドロフラン
ＮａＯＨ 水酸化ナトリウム
ＮａＣｌ 塩化ナトリウム
ＮＭＴ 以下
ＮＬＴ 以上
ＮＤ 検出せず
ＮＭＲ 核磁気共嗚
ｏｒｇ． 有機
ＲＴ， ｒｔ， ｒ．ｔ． 室温
ＴＨＦ テトラヒドロフラン
Ｔｅｍｐ 温度
ＵＰＬＣ又はＵＨＰＬＣ 高性能液体クロマトグラフィ
ｗｔｓ 重量当量

本発明の方法
第１の実施形態において、本発明は、構造式ＩＩＩにより表される化合物

を形成するためのプロセスに関し、
このプロセスは：
構造式（Ｉ）により表される化合物と、構造式（ＩＩ）により表される化合物

とを、触媒、有機塩基及びエーテル含有溶剤の存在下に、構造式（ＩＩＩａ）により表される化合物

の生成に好適な条件下で反応させるステップ；並びに
単離することなく、構造式（ＩＩＩａ）により表される化合物と、無機塩基とを、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）の存在下に、構造式（ＩＩＩ）により表される化合物の生成に好適な条件下で反応させるステップ；並びに
構造式（ＩＩＩ）により表される化合物を単離するステップを含み、
ここで、Ｒは、Ｃ₂～Ｃ₅アルキル、Ｃ₆～Ｃ₁₈アリール、５～１８員ヘテロアリール、Ｃ₃～Ｃ₁₂シクロアルキル又は３～１２員ヘテロシクロアルキルであり、その各々は、任意選択により、及び、独立して、ハロ、ＣＮ、ＯＨ、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル、Ｃ₁～Ｃ₃ハロアルキル、－ＮＯ₂、－ＮＨ₂、－ＮＨ（Ｃ₁～Ｃ₃アルキル）、－Ｎ（Ｃ₁～Ｃ₃アルキル）₂及びＣ₁～Ｃ₃アルコキシから選択される１つ以上の置換基で置換されている。

第１の実施形態の第１の態様において、Ｒは、Ｃ₂～Ｃ₅アルキル又はＣ₆～Ｃ₁₈アリールである。例えば、ＲはＣ₂～Ｃ₅アルキルであり、例えば、Ｒはイソプロピルである。或いは、Ｒはフェニルである。

第１の実施形態の第２の態様において、触媒は、構造式Ｉにより表される化合物の量に基づいて０．０５～０．２モル当量の量で存在する。例えば、触媒は、構造式Ｉにより表される化合物の量に基づいて０．１モル当量の量で存在する。プロセスの可変要素に係る値及び値の例の残りは、第１の実施形態の第１の態様に関して上記したとおりである。

第１の実施形態の第３の態様において、触媒は、１，５－ジアザビシクロ［４．３．０］ノン－５－エン、１，４－ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ－７－エン及び７－メチル－１，５，７－トリアザビシクロ［４．４．０］デカ－５－エンからなる群から選択される。例えば、触媒はＤＡＢＣＯである。プロセスの可変要素に係る値及び値の例の残りは、第１の実施形態の第１及び第２の態様に関して上記したとおりである。

第１の実施形態の第４の態様において、有機塩基は、構造式Ｉにより表される化合物の量に基づいて０．５～２モル当量の量で存在し、例えば、有機塩基は、構造式Ｉにより表される化合物の量に基づいて１．０モル当量の量で存在する。プロセスの可変要素に係る値及び値の例の残りは、第１の実施形態の第１～第３の態様に関して上記したとおりである。

第１の実施形態の第５の態様において、有機塩基は、ＤＩＰＥＡ、Ｅｔ₃Ｎ、ピペリジン、ピリジン及び４－（ジメチルアミノ）ピリジンからなる群から選択され、例えば、有機塩基はＤＩＰＥＡである。プロセスの可変要素に係る値及び値の例の残りは、第１の実施形態の第１～第４の態様に関して上記したとおりである。

第１の実施形態の第６の態様において、エーテル含有溶剤は、ＭｅＴＨＦ、ＣＰＭＥ及びＭＴＢＥからなる群から選択される。例えば、エーテル含有溶剤はＭｅＴＨＦである。プロセスの可変要素に係る値及び値の例の残りは、第１の実施形態の第１～第５の態様に関して上記したとおりである。

第１の実施形態の第７の態様において、構造式ＩＩの化合物は、構造式Ｉの化合物の量に基づいて１．０～１．５モル当量の量で存在する。プロセスの可変要素に係る値及び値の例の残りは、第１の実施形態の第１～第６の態様に関して上記したとおりである。

第１の実施形態の第８の態様において、無機塩基は、ＫＯＨ又はＮａＯＨである。例えば、無機塩基はＫＯＨである。プロセスの可変要素に係る値及び値の例の残りは、第１の実施形態の第１～第７の態様に関して上記したとおりである。

第１の実施形態の第９の態様において、本発明は、構造式ＩＩＩａにより表される化合物の生成に好適な条件が、構造式Ｉにより表される化合物と、構造式ＩＩにより表される化合物とを、約５℃～約５５℃、約１０℃～約４０℃など、約１０℃～約３０℃など（例えば、１０、１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０、２１、２２、２３、２４、２５、２６、２７、２８、２９及び３０）の温度で反応させるステップを含むプロセスに関する。プロセスの可変要素に係る値及び値の例の残りは、第１の実施形態の第１～第８の態様に関して上記したとおりである。

第１の実施形態の第１０の態様において、構造式ＩＩＩａにより表される化合物の生成に好適な条件は、構造式Ｉにより表される化合物と、構造式ＩＩにより表される化合物とを、約５時間～約３０時間、約１０時間～約３０時間など（１０、１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０、２１、２２、２３、２４、２５、２６、２７、２８、２９及び３０など）の期間反応させるステップを含む。プロセスの可変要素に係る値及び値の例の残りは、第１の実施形態の第１～第９の態様に関して上記したとおりである。

第１の実施形態の第１１の態様において、構造式ＩＩＩにより表される化合物の生成に好適な条件は、構造式ＩＩＩａにより表される化合物と、無機塩基とを、約５℃～約５５℃、約１０℃～約４０℃など、約１０℃～約３０℃など（例えば、１０、１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０、２１、２２、２３、２４、２５、２６、２７、２８、２９及び３０）の温度で反応させるステップを含む。プロセスの可変要素に係る値及び値の例の残りは、第１の実施形態の第１～第１０の態様に関して上記したとおりである。

第１の実施形態の第１２の態様において、構造式ＩＩＩにより表される化合物の生成に好適な条件は、構造式ＩＩＩａにより表される化合物と、無機塩基とを、約１時間～約２０時間、約１時間～約１０時間など（例えば、１、２、３、４、５、６、７、８、９及び１０）、約２時間～約４時間などの期間反応ステップを含む。プロセスの可変要素に係る値及び値の例の残りは、第１の実施形態の第１～第１１の態様に関して上記したとおりである。

第１の実施形態の第１３の態様において、本発明は、構造式ＩＩＩにより表される化合物を反応混合物から単離するステップをさらに含むプロセスに関する。例えば、本発明は、構造式ＩＩＩにより表される化合物を単離するステップが：
（ｉ）水及びＨＣｌを、構造式ＩＩＩにより表される化合物を含む反応混合物に添加し、これにより、水性相及び有機相を生成するステップ；
（ｉｉ）有機相を分離し、任意選択により濃縮し、これにより、最終有機相を生成するステップ；
（ｉｉｉ）Ｃ₅～Ｃ₁₂炭化水素溶剤を最終有機相に添加し、これにより、構造式ＩＩＩにより表される化合物の沈殿物を生成するステップ；並びに
（ｉｖ）構造式ＩＩＩにより表される化合物の沈殿物を単離するステップ
を含むプロセスに関する。例えば、沈殿物は、遠心分離又はろ過により単離される。プロセスの可変要素に係る値及び値の例の残りは、第１の実施形態の第１～第１２の態様に関して上記したとおりである。

第１の実施形態の第１４の態様において、Ｃ₅～Ｃ₁₂炭化水素溶剤はヘプタンである。プロセスの可変要素に係る値及び値の例の残りは、第１の実施形態の第１～第１３の態様に関して上記したとおりである。

第１の実施形態の第１５の態様において、Ｃ₅～Ｃ₁₂炭化水素溶剤はイソオクタンである。プロセスの可変要素に係る値及び値の例の残りは、第１の実施形態の第１～第１３の態様に関して上記したとおりである。

第１の実施形態の第１６の態様において、触媒及び有機塩基は、構造式ＩＩにより表される化合物の１モル当量未満の合わせた総量で存在する。プロセスの可変要素に係る値及び値の例の残りは、第１の実施形態の第１～第１５の態様に関して上記したとおりである。

第２の例示的実施形態において、本発明は、第１の例示的実施形態及びその第１～第１６の態様に関して本明細書に上記のプロセスであって、構造式（ＩＶ）により表される化合物

と、構造式（Ｖ）により表されるヒドラジン
Ｈ₂ＮＮＨ₂（Ｖ）
とを、構造式（Ｉ）により表される化合物

の生成に好適な条件下で反応させるステップ；及び
構造式（Ｉ）により表される化合物を単離するステップ
をさらに含むプロセスである。

第２の例示的実施形態の第１の態様において、構造式（ＩＶ）により表される化合物と、構造式（Ｖ）により表されるヒドラジンとを反応させるステップは、有機酸、例えばギ酸、酢酸又はプロピオン酸の存在下で行われる。一例において、有機酸は酢酸である。プロセスの可変要素に係る値及び値の例の残りは、第１の実施形態の第１～第１６の態様に関して上記したとおりである。

第２の例示的実施形態の第２の態様において、構造式（Ｉ）により表される化合物の生成に好適な条件は、構造式（ＩＶ）により表される化合物と、構造式（Ｖ）により表されるヒドラジンとを５０℃～６０℃の温度で反応させるステップを含む。プロセスの可変要素に係る値及び値の例の残りは、第１の実施形態の第１～第１６の態様、及び、第２の例示的実施形態の第１の態様に関して上記したとおりである。

第３の例示的実施形態において、本発明は、第１の例示的実施形態及びその第１～第１６の態様に関して本明細書に上記のプロセスであって、構造式（ＩＩＩ）により表される化合物

と、構造式（ＶＩ）により表されるヒドラジン

とを、極性溶剤、第２の有機塩基及びカップリング剤の存在下に、構造式（ＶＩＩ）により表される化合物

の生成に好適な条件下で反応させるステップ；
極性溶剤をアセトニトリル（ＡＣＮ）に交換するステップ；及び
構造式（ＶＩＩ）により表される化合物をＡＣＮから結晶形態Ｄとして結晶化させるステップ
をさらに含むプロセスである。

第３の例示的実施形態の第１の態様において、第２の有機塩基は、ＤＩＰＥＡ、Ｅｔ₃Ｎ、ピペリジン、ピリジン及び４－（ジメチルアミノ）ピリジンからなる群から選択される。プロセスの可変要素に係る値及び値の例の残りは、第１の実施形態の第１～第１６の態様、並びに、第２の例示的実施形態の第１及び第２の態様に関して上記したとおりである。

第３の例示的実施形態の第２の態様において、第２の有機塩基はＤＩＰＥＡである。プロセスの可変要素に係る値及び値の例の残りは、第１の実施形態の第１～第１６の態様、第２の例示的実施形態の第１及び第２の態様、並びに、第３の例示的実施形態の第１の態様に関して上記したとおりである。

第３の例示的実施形態の第３の態様において、極性溶剤は、Ｃ₁～Ｃ₆アルコール、ＭｅＴＨＦ、ＣＰＭＥ及びＭＴＢＥ、例えば、ＭｅＴＨＦからなる群から選択される。プロセスの可変要素に係る値及び値の例の残りは、第１の実施形態の第１～第１６の態様、第２の例示的実施形態の第１及び第２の態様、並びに、第３の例示的実施形態の第１～第２の態様に関して上記したとおりである。

第３の例示的実施形態の第４の態様において、カップリング剤は、プロピルホスホン酸無水物（Ｔ３Ｐ）、１－エチル－３－（３－ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド（ＥＤＣ）からなる群から選択される。例えば、カップリング剤はＴ３Ｐである。プロセスの可変要素に係る値及び値の例の残りは、第１の実施形態の第１～第１６の態様、第２の例示的実施形態の第１及び第２の態様、並びに、第３の例示的実施形態の第１～第３の態様に関して上記したとおりである。

第３の例示的実施形態の第５の態様において、構造式（ＶＩＩ）により表される化合物の生成に好適な条件は、構造式（ＩＩＩ）により表される化合物と、構造式（ＶＩ）により表されるヒドラジンとを、－２５℃～－１５℃の温度で反応させるステップを含む。プロセスの可変要素に係る値及び値の例の残りは、第１の実施形態の第１～第１６の態様、第２の例示的実施形態の第１及び第２の態様、並びに、第３の例示的実施形態の第１～第４の態様に関して上記したとおりである。

第３の例示的実施形態の第６の態様において、このプロセスは、構造式（ＶＩＩ）により表される化合物の結晶形態Ａの生成に好適な条件下で、構造式（ＶＩＩ）により表される化合物の形態Ｄを、水性イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）中において再結晶化するステップをさらに含む。プロセスの可変要素に係る値及び値の例の残りは、第１の実施形態の第１～第１６の態様、第２の例示的実施形態の第１及び第２の態様、並びに、第３の例示的実施形態の第１～第５の態様に関して上記したとおりである。

第３の例示的実施形態の第７の態様において、構造式（ＶＩＩ）により表される化合物の形態Ａの生成に好適な条件は：形態Ｄを水性ＩＰＡ中に溶解し、これにより、スラリーを生成するステップ；及び、スラリーを、３８℃～４２℃の温度で５時間～１２時間の時間保持するステップを含む。プロセスの可変要素に係る値及び値の例の残りは、第１の実施形態の第１～第１６の態様、第２の例示的実施形態の第１及び第２の態様、並びに、第３の例示的実施形態の第１～第６の態様に関して上記したとおりである。

第４の例示的実施形態において、本発明は、第１の例示的実施形態及びその第１～第１６の態様に関して本明細書に上記のプロセスであって：構造式（ＩＶ）により表される化合物

と、構造式（Ｖ）により表されるヒドラジン
Ｈ₂ＮＮＨ₂（Ｖ）
とを、構造式（Ｉ）により表される化合物

の生成に好適な条件下で反応させるステップ；
構造式（Ｉ）により表される化合物を単離するステップ；
本明細書に記載のプロセス（第１の実施形態及びそのすべての態様）に従って式（ＩＩＩ）の化合物を調製するステップ、並びに、構造式（ＩＩＩ）により表される化合物

と、構造式（ＶＩ）により表されるヒドラジン

とを、極性溶剤、第２の有機塩基及びカップリング剤の存在下に、構造式（ＶＩＩ）により表される化合物

の生成に好適な条件下で反応させるステップ；
極性溶剤をアセトニトリル（ＡＣＮ）に交換するステップ；
構造式（ＶＩＩ）により表される化合物をＡＣＮから結晶形態Ｄとして結晶化させるステップ；並びに、構造式（ＶＩＩ）により表される化合物の結晶形態Ａの生成に好適な条件下で、構造式（ＶＩＩ）により表される化合物の形態Ｄを、水性イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）中において再結晶化するステップをさらに含むステップである。プロセスの可変要素に係る値及び値の例の残りは、第１の実施形態の第１～第１６の態様、第２の例示的実施形態の第１及び第２の態様、並びに、第３の例示的実施形態の第１～第７の態様に関して上記したとおりである。

以下の実施例に記載の化合物は、標準的な基準化合物に対するＵＨＰＬＣを用いて同定及び分析した。異形体結晶形態の同定は、ＸＲＰＤを用いて確認及び分析した。

実施例１．構造式ＩＩＩにより表される化合物の合成のためのテレスコーピングプロセスの開発。
構造式Ｉの化合物からの構造式ＩＩＩにより表される化合物の合成のためのテレスコーピングプロセスを、スキーム１に示すとおり開発した。

スキーム１

構造式ＩＩＩａにより表される化合物の単離の必要性を排除することによる構造式ＩＩＩにより表される化合物の合成のテレスコーピングステージＩ及びＩＩ（スキーム１）が非常に望ましい。テレスコーピングステージＩ及びＩＩにより、より高い全収率、より短いプロセス時間、並びに、溶剤及び試薬のより少ない操作のために、より効率的なプロセスが可能となる。以下に記載のとおり、複数の反応パラメータの意図されず、且つ、意外な組み合わせが見出され、これにより、新規で高度に有利なテレスコーピングプロセスの発見が可能となった。

以下に記載のとおり、触媒、有機塩基及びエーテル含有溶剤の組み合わせにより、スキーム１のステージＩ（構造式ＩＩＩａにより表される化合物の合成）に係る高い転換速度及び立体選択性が意外なことにもたらされた。構造式ＩＩＩａにより表される化合物を、単離又は精製することなく加水分解に供した（ステージＩＩ、スキーム１）。スキーム１のステージＩＩにおいて、無機塩基（例えば、ＫＯＨ）を加水分解試薬として採用し、及び、ＩＰＡを共溶剤として採用することで、構造式ＩＩＩにより表される化合物が、予想外に高い収率及び立体選択性でもたらされた。

開示のプロセスでは、構造式ＩＩＩａにより表される中間体化合物を単離する必要性が排除されている。

以下に示す実験は、スキーム１に示すテレスコーピングプロセスの開発を示す。Ｒ＝Ｐｈ中の構造式ＩＩにより表される化合物（化合物ＩＩ－Ｐｈ）を、この実験のために選択した。合成スキームをスキーム２に示す。スキーム２は、構造式ＩＩＩａにより表される化合物（Ｒ＝Ｐｈ）の２つの異性体を示す。スキーム２に示すとおり、構造式Ｉにより表される化合物と構造式ＩＩ－Ｐｈにより表される化合物との反応は、構造式ＩＩＩａにより表される化合物のシス－異性体及びトランス－異性体であり、Ｒがフェニルである、構造式Ｚ－ＩＩＩａ－Ｐｈにより表される化合物及び構造式Ｅ－ＩＩＩａ－Ｐｈにより表される化合物の混合物の形成をもたらす。所望の異性体はＺ－異性体（構造式Ｚ－ＩＩＩａ－Ｐｈにより表される化合物）であるため、同時にステージＩにおける反応の全体的な転換率を高めながら、Ｚ／Ｅ異性体比を高めるための取り組みに集中した。

スキーム２．

１．ステージＩの成果に対するＤＡＢＣＯの量の影響
ＤＩＰＥＡなどの有機塩基の存在下における触媒量のＤＡＢＣＯは、Ｒがフェニルである構造式ＩＩＩａにより表される化合物を高い転換率及び立体選択性でもたらすことが以下に説明した実験で実証された。

ＤＡＢＣＯ化学量論を低減させることの影響を調べた。溶剤としてＤＭＦを用い、構造式ＩＩ－Ｐｈにより表される化合物対構造式Ｉにより表される化合物の２：１化学量論を用い、及び、構造式Ｉにより表される化合物を基準としてＤＡＢＣＯ化学量論を２から、先ずは１．１、次いで、０．１に減らすことで、ステージＩに係る選択性が向上した（表１、項目１～３）。特に、ＤＡＢＣＯ化学量論を０．１に低減することで、Ｚ－ＩＩＩａ－Ｐｈ対Ｅ－ＩＩＩａ－Ｐｈの約９９：１比がもたらされた。

さらに、試薬の化学量論を、構造式ＩＩ－Ｐｈにより表される化合物の１当量、構造式Ｉにより表される化合物の１．５当量、及び、１．１当量のＤＡＢＣＯに変更し、温度を先ずは０℃～５℃に、次いで、－２５～－２０℃に下げることで、２つの注目すべき影響が見られた。先ず、温度の低下に伴ってステージＩに係る選択性が増加した（０～５℃では、構造式Ｚ－ＩＩＩａ－Ｐｈにより表される化合物対構造式Ｅ－ＩＩＩａ－Ｐｈにより表される化合物の８３：１７比が観察され、－２０～－２５℃では、構造式Ｚ－ＩＩＩａ－Ｐｈにより表される化合物対構造式Ｅ－ＩＩＩａ－Ｐｈにより表される化合物の９５：５比が観察された；表１、項目４～５）。第２に、経時的に異性化の発生が観察された（表１、項目４～６）。

構造式ＩＩ－Ｐｈにより表される化合物及び構造式Ｉにより表される化合物の両方に対してＤＡＢＣＯの量を０．９５当量に減らした場合、良好な選択性が見られると共に、経時的な異性化は見られなかった。これは、二重結合の異性化が過剰量の遊離ＤＡＢＣＯに関連する影響であり得ることを示唆しており、ここで、遊離ＤＡＢＣＯは、プロトン化されておらず、過剰量のヨードアクリレートを含まないと定義される。実験のさらなるレビューでは（例えば、表１中、項目３及び７と比して項目４及び５）、構造式ＩＩ－Ｐｈにより表される化合物と比して、ＤＡＢＣＯの当量の総量が１未満である場合には、Ｒがフェニルである構造式ＩＩＩａにより表される化合物の異性化はより遅くなるか、又は、停止させすることが分かった。この知見は、ＤＡＢＣＯが不活性化（ヨードアクリレートの二重結合に結合するか、又は、ヨウ化水素酸塩とされることで）されており、且つ、遊離塩基として利用可能ではない場合、反応はより影響されにくくなる可能性があることを示唆していた。

触媒（例えば、ＤＡＢＣＯ）及び有機塩基（例えばＤＩＰＥＡ）を反応混合物に添加した場合、並びに、触媒及び有機塩基の当量の総量が構造式ＩＩ－Ｐｈにより表される化合物の１当量未満である場合には、ステージＩにおける反応に係る収率及び選択性は特に有利に高いことも実証されていた。

さらなる利点として、触媒量のＤＡＢＣＯが存在する反応条件では、反応を完了に導くために２当量の構造式ＩＩ－Ｐｈにより表される化合物を用いる必要性がなかった。わずか１．２当量が、９４％の転換率をもたらすために有効であることが見出された（表１、項目８）。

上記の実験は、一定の条件下では、ＤＩＰＥＡなどの有機塩基の存在下における触媒量のＤＡＢＣＯは、高い転換率及び立体選択性で、Ｒがフェニルである構造式ＩＩＩａにより表される化合物をもたらすことを実証する。

２．ステージＩの成果に対する溶剤の影響。
研究を実施して、ステージＩの転換速度及び立体選択性、並びに、テレスコーピングステージＩ及びＩＩに対する溶剤の影響を判定した。

ＤＭＦはステージＩＩにおける加水分解条件に望ましい溶剤ではないため、他の溶剤をステージＩについて調べた。以下に説明した実験は、ＭｅＴＨＦが、高い転換率及び選択性をもたらす、ステージＩに有利な溶剤であることを示していた。

ステージＩの反応における溶剤の極性の影響を試験した。溶剤の極性の低下（ＤＭＦからトルエン又はＭｅＴＨＦへ）は、構造式Ｚ－ＩＩＩａ－Ｐｈにより表される化合物対構造式Ｅ－ＩＩＩａ－Ｐｈにより表される化合物の比の改善をもたらした（ＤＭＦの場合におけるおよそ８０：２０から、表１の項目８に示すとおり、ＭｅＴＨＦの場合における９５：５の高さまで改善（表２を参照のこと））。溶剤の極性が下がると、所望の反応速度及び異性化速度の両方が低下した。トルエンと比して、ＭｅＴＨＦは、より高い選択性及び匹敵する活性をもたらした（表２、項目２～４）。ＭｅＴＨＦを用いると共にこの反応を室温で実施することによるステージＩのプロセスの高い転換率及び選択性のため、テレスコーピングプロセスにおいてこの溶剤をキャリアとして用いて、ステージＩにおけるプロセスをステージＩＩにおけるその後の加水分解ステップとリンクさせることの可能性が提示された。

ステージＩにおいてＭｅＴＨＦを溶剤として用いることで、構造式ＩＩＩａにより表される化合物の高い転換率及び選択性がもたらされる。結果として、ステージＩ及びステージＩＩのテレスコーピングの機会が提供され、それ故、構造式ＩＩＩａにより表される化合物を単離するステップ、及び、関連する材料の損失が回避される。

３．ステージＩＩにおける金属水酸化物及び共溶剤の影響。
スキーム３、ステージＩＩを参照して、異なる組み合わせの無機塩基及び溶剤を判定するための実験を実施した。加水分解試薬として用いた場合、ＮａＯＨ及びＫＯＨなどの無機塩基、並びに、ＭｅＴＨＦ及び水と共に共溶剤として用いた場合、ＩＰＡは、有利な収率及び立体選択性を伴って構造式ＩＩＩの化合物をもたらすことが判明した。

スキーム３．

加水分解試薬として水酸化リチウムを当初選択したが、これは、水酸化リチウムはもたらす反応動態学が好ましく、エステル加水分解プロセスに頻繁に用いられるためである。ＭｅＴＨＦ中における水酸化リチウム（５当量）による構造式ＩＩＩａ－ｉＰｒにより表される化合物の加水分解は、ＩＰＡ又は他の相間移動剤が不在の場合比較的遅い（表３、項目１～４）。このプロセスは顕著な異性化をも伴うものであり、これにより、構造式Ｅ－ＩＩＩにより表される望ましくない化合物が結果として生成されてしまっていた。

また、ＬｉＯＨは薬学用途には好ましい試薬ではない。Ｌｉ塩はそれ自体が薬学的に有効な化合物であるため、ＬｉＯＨを用いて生成される薬学中間体及び最終生成物では、Ｌｉレベルを綿密に監視しなければならない。従って、ＬｉＯＨに対する代替としてＮａＯＨ及びＫＯＨを試験した（表３、項目５～１２、１７～２４）。

部分混和性を付与することにより有機相と水性相との間の反応を促進させる能力のために、ＩＰＡを共溶剤として試験した。共溶剤としてＩＰＡが存在することで、加水分解プロセスの成果が顕著に向上した（表３、項目１３～２４）。

この実験において、ステージＩの反応は以下の条件下で実施した：
・構造式Ｉにより表される化合物（１２ｇ）及びＤＡＢＣＯ（０．１当量、０．４８ｇ）をＭｅＴＨＦ中に溶解し、続いて、構造式ＩＩ－ｉＰｒにより表される化合物（１．２当量、１２．３ｇ）及びＤＩＰＥＡ（１．０当量、７．４ｍＬ）を添加した。
・反応混合物を２０時間撹拌し、次いで、５体積当量の水で洗浄した（構造式Ｉにより表される化合物の体積に対して）。
・アリコートをとり（反応混合物の１／６）、表３中の加水分解条件に従って試薬で処理した。

表３中のデータは、ＬｉＯＨと比して、ＮａＯＨ及びＫＯＨは共に、Ｚ／Ｅ異性化レベルを低く維持しながら、構造式ＩＩＩａ－ｉＰｒにより表される化合物の加水分解速度を向上させたことを示す。また、表３中のデータは、ＩＰＡが、スキーム３のステージＩＩに係る転換率及び立体選択性の両方を向上させたことを示す。

実施例２．構造式ＩＩＩにより表される化合物の合成。
以下の実施例は、１．０ｋｇ規模での構造式ＩＩＩにより表される化合物の合成を開示する。構造式ＩＩＩにより表される化合物は、９９％超の純度（ＵＰＬＣ）を伴って、７２～７５％の収率で合成される。
・窒素雰囲気下に、５０Ｌのガラス製反応器に、１，０００ｋｇの構造式Ｉにより表される化合物（１当量）、４０ｇのＤＡＢＣＯ（０．１当量）及び２，５５９ｋｇのＭｅＴＨＦを仕込み、混合物を撹拌して溶解させた。
・この混合物に、１，０４０ｋｇの構造式ＩＩの化合物によって表される化合物（ここで、Ｒはイソプロピル基（１．２当量）である）を添加し、漏斗を０．８５３ｋｇのＭｅＴＨＦですすいだ。
・この混合物に、滴下漏斗で４６０ｇのＤＩＰＥＡ（１．０当量）を添加し、漏斗を０．８５３ｋｇのＭｅＴＨＦですすいだ。
・混合物を２０～２５℃で１６時間撹拌し、次いで、反応の完了を確認するためにサンプリングした。
・この容器に、穏やかに撹拌すると共に温度を２０～２５℃に維持しながら、５．０ｋｇのＤＤ水を添加し、得られた混合物を２０分間撹拌した。
・撹拌を停止し、層を分離させた。下部の水性層を除去し廃棄した。
・上部の有機層に、穏やかに撹拌すると共に温度を２０～２５℃に維持しながら、３０ｇ ３７％ＨＣｌの２，９７５ｋｇの水中の溶液、続いて、１．１８ｋｇの塩水を添加した。
・混合物を２０～２５℃で２０分間撹拌し、次いで、撹拌を停止し、層を分離させた。下部の水性相を除去し廃棄した。
・この容器に、２０～２５℃で穏やかに撹拌しながら、１．５７ｋｇのＩＰＡを添加した。
・この反応混合物に、穏やかに撹拌すると共に温度を２０～２５℃に維持しながら、ＫＯＨ１，１７４ｋｇ（５当量）のＤＤ水５．０ｋｇ中の溶液を添加した。
・混合物を２０～２５℃で３時間撹拌し、次いで、反応の完了を確認するためにサンプリングした。
・反応が完了したら、穏やかに撹拌しながら、この混合物に５，９３５ｋｇの塩水を添加した。
・このバッチを、２０～２５℃で２０分間激しく撹拌した。次いで、撹拌を停止し、層を分離させた。下部の水性層を分離し、廃棄した。
・有機層に、激しく撹拌しながら、１，９９８ｋｇのＤＤ水を添加し、続いて、２０分間撹拌した。
・激しく撹拌しながら、０．９３４ｋｇの５Ｍ ＨＣｌ溶液（ａｑ．）で、混合物（下部の相）のｐＨを０～２を目標として調節した。
・穏やかに撹拌しながら、バッチの温度を５０～５５℃に昇温し、撹拌を２０分間維持した。温度を５０～５５℃に維持しながら、下部の水性層を分離し、廃棄した。
・保持した有機相を０～５℃に冷却し、次いで、３Ｌの目標体積まで蒸留した。
・蒸留が完了したら、バッチ温度を５０～５５℃に昇温し、その温度で１時間保持した。
・温度を５０～５５℃に維持すると共に穏やかに撹拌しながら、５，６４５ｋｇのイソオクタンを、最短でも３０分間かけて容器に添加した。
・イソオクタンの添加に続いて、温度を最短でも６０分間かけて２０～２５℃に調節し、次いで、最短でも１時間２０～２５℃に保持した。
・バッチを最短でも１時間かけて０～５℃に冷却し、次いで、その温度で少なくとも１時間保持した。
・バッチをろ過し、フィルタケーキを２，１４５ｋｇのイソオクタンにより、０～５℃で洗浄した。
・ろ過した生成物を、乾燥するまで、フィルタ上において窒素流下に乾燥させた。
・構造式ＩＩＩにより表される化合物の収率は７２～７５％、純度は９９％超（ＵＰＬＣ）であった。

実施例３．構造式ＩＩＩにより表される化合物の合成。
以下の実施例は、１００ｋｇ規模での構造式ＩＩＩにより表される化合物の合成を開示する。構造式ＩＩＩにより表される化合物は、９９．７％超の純度（ＵＰＬＣ）を伴って、７５±１０％の収率で合成される。構造式ＩＩＩにより表される化合物の固形分はイソオクタンで析出する実施例２とは対照的に、この実施例において、構造式ＩＩＩにより表される化合物の固形分は、ヘプタンで析出する。
・４０００Ｌの清浄な不活性ガラス内張反応器に、構造式Ｉの化合物（１当量）、ＤＡＢＣＯ（０．１当量）及びＭｅＴＨＦを仕込み、窒素雰囲気下で、得られた混合物を１５／２０℃で、少なくとも１５分間撹拌して溶解させた。
・混合物の温度を１０／２０℃に調節し、構造式ＩＩの化合物により表される化合物（ここで、Ｒはイソプロピル基（１．２当量）である）を添加した。
・次いで、混合物にＭｅＴＨＦリンスを仕込んだ。ＤＩＰＥＡ（１．０当量）をこの混合物に１０／２０℃（１０℃の目標温度）で添加し、続いて、１０／２０℃でＭｅＴＨＦリンスを添加した。
・混合物の激しい撹拌を維持するために必要な撹拌速度に調節しながら、得られた反応混合物を、１５℃で、反応の完了が確認されるまで（少なくとも１２時間）撹拌した。
・反応混合物を、１５℃で、少なくとも２時間、撹拌しながら保持した。
・１０／２５℃の混合物温度を維持しながら、水を反応混合物に添加した。混合物を１５／２０℃で少なくとも１５分間撹拌し、分離させ、下部の第１の水性相を除去した。
・残った有機相を新たな乾燥した不活性６０００Ｌガラス内張反応器に移し、続いて、ＭｅＴＨＦリンスを移した。
・清浄な不活性ガラス内張反応器中において、水、塩化ナトリウム及び塩酸を仕込むことにより失活溶液を調製し、少なくとも３０分間、１５／２５℃で溶解するまで混合した。
・調製した失活溶液を有機相を含む第２の反応器（６０００Ｌ反応器）に添加し、少なくとも１５分間、１５／２０℃の混合物温度（発熱はほとんど若しくはまったくない）で混合した。
・混合物を少なくともさらに１５分間、１５／２０℃で静置して、水性層及び有機層を分離させた。水性相を除去して、存在する場合界面相を有機相と共に残した。
・反応器を水ですすぎ、乾燥させ、その後、水及びＫＯＨを仕込み、少なくとも３０分間、１５／２５℃で混合した。
・６０００Ｌの反応器中の有機相にＩＰＡを添加し、混合物を５～１０分間、１５／２５℃で撹拌した。
・１５℃で、第３の反応器からの水／ＫＯＨ溶液を、第２の反応器の温度を１５／２５℃（添加は、発熱性であった）に保持しながら、有機相に添加し、これにより、反応混合物を生成した。
・次いで、６０００Ｌのガラス内張反応器中の反応混合物を少なくとも２時間、窒素雰囲気下に、２０／２５℃で撹拌し、次いで、サンプリングした。不適格な場合、反応器を少なくともさらに２時間、窒素雰囲気下に、２０／２５℃で撹拌し続けて、構造式ＩＩＩにより表される化合物を形成した。適格な場合、反応を失活させた。
・別の反応器に、水及び塩化ナトリウムを添加し、少なくとも３０分間、１５／２５℃で溶解するまで撹拌した。
・塩化ナトリウム溶液を反応混合物に仕込み、少なくとも１５分間、１５／２５℃で激しく撹拌し、次いで、少なくとも１５分間静置した。
・水性相を除去して、存在する場合界面相及び有機相を残した。
・反応器を水ですすぎ、乾燥させ、その後、水及びＨＣｌを仕込み、少なくとも１０分間、２０／２５℃で混合した。
・６０００Ｌの反応器中の有機相に、水を１５／２５℃で添加し、撹拌せずに５～１０分間保持し、総体積を記録した。
・撹拌を再開し、必要な量のＨＣｌ溶液を添加して、０．５～２．０の目標ｐＨを達成し、少なくとも１０分間、１５／２５℃で混合した。
・混合物を、構造式ＩＩＩにより表される化合物が可溶化するまで５０／５５℃で加熱し、１０分間撹拌し、次いで、少なくとも１５分間静置した（バルク温度５０／５５℃）。
・水性相を除去し、界面相を有機層と共に残し、廃棄した。
・有機相を減圧下で３０／４０℃に冷却し、およそ３体積当量に濃縮した。濃縮プロセスが完了したら、最終有機相を５０／５５℃に加熱した。
・１時間以上かけて、９９％ヘプタンを、内部温度が５０／５５℃である第２の反応器中の最終有機相に添加した。
・混合物を少なくとも３時間かけて０／５℃に冷却し、前記温度で少なくとも１．５時間撹拌した。
・ＭｅＴＨＦ及び９９％ヘプタンを組み合わせることによりケーキリンスを調製した。
・スラリーを遠心分離して一連の同等のケーキとし、ケーキの各々をＭｅＴＨＦ／ヘプタン混合物で洗浄した。
・構造式ＩＩＩにより表される化合物を撹拌ドライヤに移し、生成物が乾燥して均質な外観を呈するまで減圧下で乾燥させた。
・構造式ＩＩＩにより表される化合物を、７５±１０％収率、＞９９：１ Ｚ／Ｅ比、及び、＞９９．７％純度で得た。

実施例４：構造式（Ｉ）により表される化合物の合成
合成スキーム３

化合物（ＩＶ）及び酢酸９９％（４．２ｗｔｓ）を、清浄な不活性ガラス内張反応器に、窒素雰囲気の頭隙で仕込み、２５／３５℃又はそれ未満で、化合物（ＩＶ）が溶解するまで撹拌しながら保持した。

バルク温度を２０／２５℃に調節し、次いで、１．４モル当量のヒドラジン一水和物（化合物（Ｖ））原液（０．２２５ｗｔｓ）を、２０／３０℃の温度を維持しながら、９０分間ＮＭＴで容器に（発熱）仕込んだ。

添加が完了したら、バッチ温度を５５℃に昇温し、反応が完了するまで（ＵＨＰＬＣにより判定）、少なくとも５～１６時間撹拌した（８０ｒｐｍ）。

反応が完了したことが確認されたら、撹拌を伴って内部温度を５５℃に維持しながら、脱塩水又は精製水（以下の説明においては「水」と称する）（５ｗｔｓ）を、混合物に、最短で２．５時間の時間をかけて、ゆっくりと均一に添加することにより、結晶化を生起させた。

追加の５ｗｔｓの水を、最短で１時間の時間をかけて、５５℃の温度範囲設定点で、混合物に添加した。

混合物を５５℃で少なくとも３０分間撹拌した。核形成を確認した後、結晶化を、最短で３時間の時間をかけて２０／２５℃にゆっくりと冷却し、ここでは、少なくとも１時間、２０／２５℃で撹拌する。

化合物（Ｉ）生成物を遠心分離により単離し、水（１２ｗｔｓ）で洗浄し、撹拌ドライヤに移し、乾燥及び均質となるまで減圧下で乾燥させた。乾燥は、含水量及び溶剤含有量が仕様を満たすまで継続した。

乾燥させた生成物は≦３０℃に冷却され、梱包される。

実施例５：構造式（ＶＩＩ）により表される化合物形態Ｄの合成
合成スキーム５

化合物（ＩＩＩ）、化合物（ＶＩ）（０．３３５ｗｔｓ±２％）及びＭｅＴＨＦ（５．８ｗｔｓ）を４０００Ｌの乾燥させた不活性ガラス内張反応器に仕込み、混合物を、１５分間ＮＬＴ、１５／２０℃で、窒素雰囲気下に撹拌した。

混合物を－２０／－２５℃に冷却した。次いで、ＤＩＰＥＡ（０．８４６ｗｔｓ±２％）を、温度を－２０／－２５℃の間に維持しながら（発熱）、ＭｅＴＨＦリンス（０．２６ｗｔｓ）との混合物に添加した。

市販の５０％プロピルホスホン酸無水物（Ｔ３Ｐ（登録商標））溶液（Ｔ３Ｐ（登録商標）原液基準で１．２２ｗｔｓ±２％）を、－２０℃ＮＭＴの温度で６時間ＮＬＴかけてこの混合物にゆっくりと添加し、続いて、ＭｅＴＨＦ（０．８６ｗｔｓ）ですすいだ。混合物を３０分間ＮＬＴ、－２０／－２５℃の間で、窒素雰囲気下に撹拌した後、急速に撹拌しながら混合物の温度を１０／１５℃に調節した。温度が到達したら、反応を監視するためにサンプルを取った（既知の基準を用いたＵＨＰＬＣ）。

ＵＨＰＬＣにより反応が適合である場合、これをＭｅＴＨＦ（０．４３ｗｔｓ）で希釈し、撹拌しながら、１０／１５℃で、精製水（５体積）で失活させた。

二相混合物を１５分間ＮＬＴ、１５／２５℃で撹拌し、次いで、これらの層を少なくとも３０分間、１５／２５℃で静置し、その後、水性層（底）を除去した。

２５分間ＮＬＴ、１５／２５℃で激しく撹拌しながら、存在する場合には保持した界面相及び有機層を水（４．７体積）及び塩化ナトリウム（０．３ｗｔｓ）で洗浄した。

混合物を３０分間ＮＬＴ、１５／２５℃で静置した後、水性層（底）及び存在する場合界面相を除去した。残った有機相を５分間ＮＭＴ、１５／２５℃でゆっくりと撹拌し、１５分間ＮＬＴ静置し、いずれかの追加の沈降した水性相を除去した。

有機層を減圧下とし、混合物を、５５℃ＮＭＴのジャケット温度で３５／４５℃に加熱した。５体積の残存体積に達するまで、混合物を２０／４５℃で濃縮した。

濃縮プロセスが完了したら、混合物の温度を２０／２５℃に冷却した。

有機混合物をろ過し、ＭｅＴＨＦリンス（０．４３ｗｔｓ）と共に濃縮容器に移した。

ＭｅＴＨＦ溶液を５５℃ＮＭＴのジャケット温度で３５／４５℃に加熱し、ろ過したＡＣＮ（７．８ｗｔｓ）を添加した。濃縮中、混合物の温度を、およそ１０体積に達するまで、５５℃ＮＭＴのジャケット温度で２０／４５℃に維持しながら、蒸留を介して溶剤交代を行った。

ろ過したＡＣＮ（３．９ｗｔｓ）を有機濃縮物に添加し、２０／４５℃で１５分間ＮＬＴ保持した。およそ１０体積に達するまで、混合物を、２０／４５℃で、減圧下に、５５℃ＮＭＴのジャケット温度で濃縮した。

ろ過したＡＣＮの仕込み（３．９ｗｔｓ）を繰り返し、混合物を１０体積に濃縮し、その後、ろ過したＡＣＮ（３．９ｗｔｓ）を添加し、１５分間ＮＬＴ、２０／４５℃で撹拌した。

ＭｅＴＨＦ含有量が仕様を満たしたら（ＧＣにより判定）、有機混合物を、７５℃ＮＭＴのジャケット温度で６５±２℃に加熱し、１５／３０分間で保持した。

有機混合物を、ＡＣＮ（１６ｋｇ）リンスと共に結晶化容器に移した。混合物の温度を必要であれば６５±２℃に調節し、１５／３０分間保持した。

混合物を３時間ＮＬＴかけて２０／２５℃に冷却し、１～２時間、２０／２５℃で撹拌し、次いで、混合物を、撹拌しながら３時間ＮＬＴかけて０／５℃にさらに冷却した。混合物を０／５℃で１時間ＮＬＴ保持した。

結晶化混合物を遠心分離して一連の同等のケーキとし（３０ｋｇのウェットケーキの最大ケーキサイズ）、ケーキの各々を、冷やしたろ過したＡＣＮ（１４１ｋｇ／１８０Ｌ）で洗浄した。１４１ｋｇ／１８０Ｌのケーキ洗浄液は、１０体積ＮＬＴのＡＣＮと同等であった（ケーキが３０ｋｇ以下であれば）。

母液及び洗浄液を除去した。大気圧及び周囲温度で４～６時間穏やかに撹拌した後、フィルタケーキを、生成物が乾燥して均質な外観を呈するまで、減圧下で（４５℃ＮＭＴのジャケット温度）乾燥させた。乾燥減量に係る判断基準が満たされた場合にプロセスの完了とする。

実施例６：構造式（ＶＩＩ）により表される化合物の結晶性異形体形態の転換；形態Ａの調製
本明細書において言及されている形態Ｄ及び形態Ａは、その全内容が参照におけるより本明細書に援用されている米国特許第１０，５１９，１３９号明細書において記載されている形態Ａ及び形態Ｄである。

合成スキーム６

化合物（ＶＩＩ）形態Ｄを、４０００Ｌの乾燥した不活性ガラス内張反応器に、ろ過したＩＰＡ（２．４ｗｔｓ）と共に仕込み、撹拌した。精製水（３ｗｔｓ）を混合物に添加した。

温度を昇温し、次いで、４０±２℃で少なくとも５時間、且つ、１２時間以下保持して、形態Ｄから形態Ａへの異形体転換を行った。

次いで、スラリーを少なくとも１時間かけて１５／２０℃に冷却し、精製水（１０ｗｔｓ）を１５／２０℃で撹拌しながら添加した。

混合物続いて水リンス（２００Ｌ）を、６０００Ｌの乾燥した不活性ガラス内張反応器に移し、温度を、少なくとも１時間の間混合しながら１５／２０℃に保持した。

別の反応器において、ろ過したＩＰＡ（０．７９ｗｔｓ）及び水（４ｗｔｓ）を添加し、最短でも１０分間撹拌し、次いで、溶剤混合物を、ケーキ洗浄用の清浄な専用の容器に移した。

最少個数の遠心分離ケーキを算出し、個々のケーキのサイズが４０ｋｇのウェットケーキ以下であることを確実とし、このスラリーを、各々が４０ｋｇ以下であるおよそ同等のケーキに遠心分離した。

遠心分離ケーキの各々を一定体積のＩＰＡ／水溶液（１５０Ｌ）で洗浄し、その後、遠心分離機から取り出した。

母液及び洗浄液を回収した。母液の一部を、必要に応じて遠心分離機の残存リンスに使用可能であった。フィルタケーキをプールし、生成物が乾燥して均質な外観を呈するまで減圧下で（４５℃の最高ジャケット温度）乾燥させた。

すべての特許、公開された出願及び本明細書において引用された文献に係る関連する教示は、参照によりそれらの全体が援用される。

本発明を、その例示的実施形態を参照して特定的に示すと共に説明したが、添付の特許請求の範囲に包含される本発明の範囲から逸脱することなく、形態及び詳細に種々の変更を行い得ることを当業者は理解するであろう。
本発明の態様として以下のものが挙げられる。
項１
構造式ＩＩＩにより表される化合物

を形成するプロセスであって：
構造式（Ｉ）により表される化合物と、構造式（ＩＩ）により表される化合物

とを、触媒、有機塩基及びエーテル含有溶剤の存在下に、構造式（ＩＩＩａ）により表される化合物

の生成に好適な条件下で反応させるステップ；並びに
単離することなく、前記構造式（ＩＩＩａ）により表される化合物と、無機塩基とを、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）の存在下に、構造式（ＩＩＩ）により表される化合物の生成に好適な条件下で反応させるステップ；並びに
前記構造式（ＩＩＩ）により表される化合物を単離するステップを含み、
ここで、Ｒは、Ｃ _２ ～Ｃ _５ アルキル、Ｃ _６ ～Ｃ _１８ アリール、５～１８員ヘテロアリール、Ｃ _３ ～Ｃ _１２ シクロアルキル又は３～１２員ヘテロシクロアルキルであり、その各々は、任意選択により、及び、独立して、ハロ、ＣＮ、ＯＨ、Ｃ _１ ～Ｃ _３ アルキル、Ｃ _１ ～Ｃ _３ ハロアルキル、－ＮＯ _２ 、－ＮＨ _２ 、－ＮＨ（Ｃ _１ ～Ｃ _３ アルキル）、－Ｎ（Ｃ _１ ～Ｃ _３ アルキル） _２ 及びＣ _１ ～Ｃ _３ アルコキシから選択される１つ以上の置換基で置換されている、プロセス。
項２
Ｒは、Ｃ _２ ～Ｃ _５ アルキル又はＣ _６ ～Ｃ _１８ アリールである、項１に記載のプロセス。
項３
ＲはＣ _２ ～Ｃ _５ アルキルである、項１又は２に記載のプロセス。
項４
Ｒはイソプロピルである、項１～３のいずれか一項に記載のプロセス。
項５
Ｒはフェニルである、項１又は２に記載のプロセス。
項６
前記触媒及び前記有機塩基は、前記構造式ＩＩにより表される化合物の１モル当量未満の合わせた総量で存在する、項１～５のいずれか一項に記載のプロセス。
項７
前記触媒は、前記構造式Ｉにより表される化合物の量に基づいて、０．０５～０．２モル当量の量で存在する、項１～６のいずれか一項に記載のプロセス。
項８
前記触媒は、前記構造式Ｉにより表される化合物の量に基づいて０．１モル当量の量で存在する、項１～７のいずれか一項に記載のプロセス。
項９
前記触媒は、１，４－ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ－７－エン、１，５－ジアザビシクロ［４．３．０］ノン－５－エン及び７－メチル－１，５，７－トリアザビシクロ［４．４．０］デカ－５－エンからなる群から選択される、項１～８のいずれか一項に記載のプロセス。
項１０
前記触媒はＤＡＢＣＯである、項１～９のいずれか一項に記載のプロセス。
項１１
前記有機塩基は、前記構造式Ｉにより表される化合物の量に基づいて０．５～２モル当量の量で存在する、項１～１０のいずれか一項に記載のプロセス。
項１２
前記有機塩基は、前記構造式Ｉにより表される化合物の前記量に基づいて１．０モル当量の量で存在する、項１～１１のいずれか一項に記載のプロセス。
項１３
前記有機塩基は、ＤＩＰＥＡ、Ｅｔ _３ Ｎ、ピペリジン、ピリジン及び４－（ジメチルアミノ）ピリジンからなる群から選択される、項１～１２のいずれか一項に記載のプロセス。
項１４
前記有機塩基はＤＩＰＥＡである、項１～１３のいずれか一項に記載のプロセス。
項１５
前記エーテル含有溶剤は、ＭｅＴＨＦ、ＣＰＭＥ及びＭＴＢＥからなる群から選択される、項１～１４のいずれか一項に記載のプロセス。
項１６
前記エーテル含有溶剤はＭｅＴＨＦである、項１～１５のいずれか一項に記載のプロセス。
項１７
前記構造式ＩＩの化合物の前記量は、構造式Ｉの化合物の量に基づいて１．０～１．５モル当量である、項１～１６のいずれか一項に記載のプロセス。
項１８
前記無機塩基は、ＬｉＯＨ、ＮａＯＨ又はＫＯＨである、項１～１７のいずれか一項に記載のプロセス。
項１９
前記無機塩基はＫＯＨ又はＮａＯＨである、項１～１８のいずれか一項に記載のプロセス。
項２０
前記無機塩基はＫＯＨである、項１～１９のいずれか一項に記載のプロセス。
項２１
前記構造式ＩＩＩａにより表される化合物の生成に好適な前記条件は、前記構造式Ｉにより表される化合物と、前記構造式ＩＩにより表される化合物とを、５℃～５５℃の温度で反応させるステップを含む、項１～２０のいずれか一項に記載のプロセス。
項２２
前記構造式ＩＩＩａにより表される化合物の生成に好適な前記条件は、前記構造式Ｉにより表される化合物と、前記構造式ＩＩにより表される化合物とを、５時間～３０時間の期間反応させるステップを含む、項１～２１のいずれか一項に記載のプロセス。
項２３
前記構造式ＩＩＩにより表される化合物の生成に好適な前記条件は、前記構造式ＩＩＩａにより表される化合物と、無機塩基とを、５℃～５５℃の温度で反応させるステップを含む、項１～２２のいずれか一項に記載のプロセス。
項２４
前記構造式ＩＩＩにより表される化合物の生成に好適な前記条件は、前記構造式ＩＩＩａにより表される化合物と、無機塩基とを、１時間～１０時間の期間反応させるステップを含む、項１～２３のいずれか一項に記載のプロセス。
項２５
反応混合物から前記構造式ＩＩＩにより表される化合物を単離するステップをさらに含む、項１～２４のいずれか一項に記載のプロセス。
項２６
前記構造式ＩＩＩにより表される化合物を単離するステップは：
（ｉ）水及びＨＣｌを、前記構造式ＩＩＩにより表される化合物を含む前記反応混合物に添加し、これにより、水性相及び有機相を生成するステップ；
（ｉｉ）前記有機相を分離し、任意選択により濃縮し、これにより、最終有機相を生成するステップ；
（ｉｉｉ）Ｃ _５ ～Ｃ _１２ 炭化水素溶剤を前記最終有機相に添加し、これにより、前記構造式ＩＩＩにより表される化合物の沈殿物を生成するステップ；並びに
（ｉｖ）前記構造式ＩＩＩにより表される化合物の前記沈殿物を単離するステップ
を含む、項２５に記載のプロセス。
項２７
前記Ｃ _５ ～Ｃ _１２ 炭化水素溶剤はヘプタンである、項２６に記載のプロセス。
項２８
前記Ｃ _５ ～Ｃ _１２ 炭化水素溶剤はイソオクタンである、項２６に記載のプロセス。
項２９
構造式（ＩＶ）により表される化合物

と、構造式（Ｖ）により表されるヒドラジン
Ｈ _２ ＮＮＨ _２ （Ｖ）
とを、構造式（Ｉ）により表される化合物

の生成に好適な前記条件下で反応させるステップ；及び
前記構造式（Ｉ）により表される化合物を単離するステップ
をさらに含む、項１～２８のいずれか一項に記載のプロセス。
項３０
前記構造式（ＩＶ）により表される化合物と、構造式（Ｖ）により表される前記ヒドラジンとを反応させるステップは、有機酸の存在下で行われる、項２９に記載のプロセス。
項３１
前記有機酸は、ギ酸、酢酸又はプロピオン酸である、項３０に記載のプロセス。
項３２
前記有機酸は酢酸である、項３１に記載のプロセス。
項３３
前記構造式（Ｉ）により表される化合物の生成に好適な前記条件は、前記構造式（ＩＶ）により表される化合物と、構造式（Ｖ）により表される前記ヒドラジンとを５０℃～６０℃の温度で反応させるステップを含む、項２９～３２のいずれか一項に記載のプロセス。
項３４
構造式（ＩＩＩ）により表される化合物

と、構造式（ＶＩ）により表されるヒドラジン

とを、極性溶剤、第２の有機塩基及びカップリング剤の存在下に、構造式（ＶＩＩ）により表される化合物

の生成に好適な前記条件下で反応させるステップ；
前記極性溶剤をアセトニトリル（ＡＣＮ）に交換するステップ；及び
前記構造式（ＶＩＩ）により表される化合物を前記ＡＣＮから、結晶形態Ｄとして結晶化させるステップ
をさらに含む、項１～２８のいずれか一項に記載のプロセス。
項３５
前記第２の有機塩基は、ＤＩＰＥＡ、Ｅｔ _３ Ｎ、ピペリジン、ピリジン及び４－（ジメチルアミノ）ピリジンからなる群から選択される、項３４に記載のプロセス。
項３６
前記第２の有機塩基はＤＩＰＥＡである、項３５に記載のプロセス。
項３７
前記極性溶剤は、Ｃ _１ ～Ｃ _６ アルコール、ＭｅＴＨＦ、ＣＰＭＥ及びＭＴＢＥからなる群から選択される、項３４～３６のいずれか一項に記載のプロセス。
項３８
前記極性溶剤はＭｅＴＨＦである、項３７に記載のプロセス。
項３９
前記カップリング剤は、プロピルホスホン酸無水物（Ｔ３Ｐ）、１－エチル－３－（３－ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド（ＥＤＣ）からなる群から選択される、項３４～３８のいずれか一項に記載のプロセス。
項４０
前記カップリング剤は前記Ｔ３Ｐである、項３９に記載のプロセス。
項４１
前記構造式（ＶＩＩ）により表される化合物の生成に好適な前記条件は、前記構造式（ＩＩＩ）により表される化合物と、構造式（ＶＩ）により表される前記ヒドラジンとを、－２５℃～－１５℃の温度で反応させるステップを含む、項３４～４０のいずれか一項に記載のプロセス。
項４２
前記構造式（ＶＩＩ）により表される化合物の前記結晶形態Ａの生成に好適な前記条件下で、前記構造式（ＶＩＩ）により表される化合物の形態Ｄを、水性イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）中において再結晶化するステップをさらに含む、項３４～４１のいずれか一項に記載のプロセス。
項４３
前記構造式（ＶＩＩ）により表される化合物の形態Ａの生成に好適な前記条件は：
形態Ｄを前記水性ＩＰＡ中に溶解し、これにより、スラリーを生成するステップ；及び
前記スラリーを、３８℃～４２℃の温度で５時間～１２時間の時間保持するステップ
を含む、項４２に記載のプロセス。
項４４
構造式（ＩＶ）により表される化合物

と、構造式（Ｖ）により表されるヒドラジン
Ｈ _２ ＮＮＨ _２ （Ｖ）
とを、構造式（Ｉ）により表される化合物

の生成に好適な前記条件下で反応させるステップ；
前記構造式（Ｉ）により表される化合物を単離するステップ；
構造式（ＩＩＩ）により表される化合物

と、構造式（ＶＩ）により表されるヒドラジン

とを、極性溶剤、第２の有機塩基及びカップリング剤の存在下に、構造式（ＶＩＩ）により表される化合物

の生成に好適な前記条件下で反応させるステップ；
前記極性溶剤をアセトニトリル（ＡＣＮ）に交換するステップ；
前記構造式（ＶＩＩ）により表される化合物を前記ＡＣＮから、結晶形態Ｄとして結晶化させるステップ；及び
前記構造式（ＶＩＩ）により表される化合物の前記結晶形態Ａの生成に好適な前記条件下で、前記構造式（ＶＩＩ）により表される化合物の形態Ｄを、水性イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）中において再結晶化するステップ
をさらに含む、項１～２８のいずれか一項に記載のプロセス。

Claims (15)

1. 構造式ＩＩＩにより表される化合物
   

   

   
   を形成するプロセスであって：
   構造式Ｉにより表される化合物と、構造式ＩＩにより表される化合物
   

   

   
   とを、１，４－ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）を触媒とし、Ｅｔ _３ Ｎ、ジイソプロピルエチルアミン（ＤＩＰＥＡ）、ピペリジン、ピリジン、４－ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）から選択される有機塩基及び溶剤２－メチルテトラヒドロフラン（ＭｅＴＨＦ）の存在下に反応させ、構造式ＩＩＩａにより表される化合物
   

   

   
   を生成するステップ、ここで、ＤＡＢＣＯは、前記構造式Ｉにより表される化合物の量に基づいて、０．０５～０．２モル当量の量で存在する；
   単離することなく、前記構造式ＩＩＩａにより表される化合物と、無機塩基とを、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）の存在下に反応させ、構造式ＩＩＩにより表される化合物を生成するステップ、ここで、前記無機塩基は、ＬｉＯＨ、ＮａＯＨ又はＫＯＨである；並びに
   前記構造式ＩＩＩにより表される化合物を単離するステップを含み、
   ここで、Ｒは、Ｃ_２～Ｃ_５アルキル又はＣ_６～Ｃ_１８アリールである、プロセス。
2. Ｒはイソプロピル又はフェニルである、請求項１に記載のプロセス。
3. 前記触媒及び前記有機塩基は、前記構造式ＩＩにより表される化合物の１モル当量未満の合わせた量で存在する、請求項１～２のいずれか一項に記載のプロセス。
4. 前記触媒は、前記構造式Ｉにより表される化合物の量に基づいて０．１モル当量の量で存在する、請求項１～３のいずれか一項に記載のプロセス。
5. 前記有機塩基は、前記構造式Ｉにより表される化合物の量に基づいて０．５～２モル当量の量で存在する、請求項１～４のいずれか一項に記載のプロセス。
6. 前記有機塩基は、前記構造式Ｉにより表される化合物の量に基づいて１．０モル当量の量で存在する、請求項１～５のいずれか一項に記載のプロセス。
7. 前記有機塩基は、ＤＩＰＥＡである、請求項１～６のいずれか一項に記載のプロセス。
8. 前記構造式ＩＩの化合物の量は、構造式Ｉの化合物の量に基づいて１．０～１．５モル当量である、請求項１～７のいずれか一項に記載のプロセス。
9. 構造式Ｉにより表される化合物と構造式ＩＩにより表される化合物とを反応させ構造式ＩＩＩａにより表される化合物を生成するステップは、前記構造式Ｉにより表される化合物と、前記構造式ＩＩにより表される化合物とを、５℃～５５℃の温度で反応させるステップを含む、請求項１～８のいずれか一項に記載のプロセス。
10. 構造式ＩＩＩａにより表される化合物と無機塩基とを反応させ構造式ＩＩＩにより表される化合物を生成するステップは、前記構造式ＩＩＩａにより表される化合物と、無機塩基とを、５℃～５５℃の温度で反応させるステップを含む、請求項１～９のいずれか一項に記載のプロセス。
11. 反応混合物から前記構造式ＩＩＩにより表される化合物を単離するステップをさらに含む、請求項１～１０のいずれか一項に記載のプロセス。
12. 前記構造式ＩＩＩにより表される化合物を単離するステップは：
    （ｉ）水及びＨＣｌを、前記構造式ＩＩＩにより表される化合物を含む前記反応混合物に添加し、これにより、水相及び有機相を生成するステップ；
    （ｉｉ）前記有機相を分離し、任意選択により濃縮し、これにより、最終有機相を生成するステップ；
    （ｉｉｉ）Ｃ_５～Ｃ_１２炭化水素溶剤を前記最終有機相に添加し、これにより、前記構造式ＩＩＩにより表される化合物の沈殿物を生成するステップ；並びに
    （ｉｖ）前記構造式ＩＩＩにより表される化合物の前記沈殿物を単離するステップ
    を含む、請求項１１に記載のプロセス。
13. 前記Ｃ_５～Ｃ_１２炭化水素溶剤はヘプタン又はイソオクタンである、請求項１２に記載のプロセス。
14. 構造式ＩＶにより表される化合物
    

    

    
    と、構造式Ｖにより表されるヒドラジン
    Ｈ_２ＮＮＨ_２ Ｖ
    とを反応させ、構造式Ｉにより表される化合物
    

    

    
    を生成するステップ；及び
    前記構造式Ｉにより表される化合物を単離するステップ
    をさらに含む、請求項１～１３のいずれか一項に記載のプロセス。
15. 前記構造式ＩＶにより表される化合物と、構造式Ｖにより表される前記ヒドラジンとを反応させるステップは、ギ酸、酢酸又はプロピオン酸から選択される有機酸の存在下で行われる、請求項１４に記載のプロセス。

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