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JP7631465B2 - Light-absorbing composition, light-absorbing film, method for producing light-absorbing film, and optical filter - Google Patents
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JP7631465B2 - Light-absorbing composition, light-absorbing film, method for producing light-absorbing film, and optical filter - Google Patents

Light-absorbing composition, light-absorbing film, method for producing light-absorbing film, and optical filter Download PDF

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JP7631465B2 JP2023173486A JP2023173486A JP7631465B2 JP 7631465 B2 JP7631465 B2 JP 7631465B2 JP 2023173486 A JP2023173486 A JP 2023173486A JP 2023173486 A JP2023173486 A JP 2023173486A JP 7631465 B2 JP7631465 B2 JP 7631465B2
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Description

本発明は、光吸収性組成物、光吸収膜、及び光学フィルタに関する。 The present invention relates to a light-absorbing composition, a light-absorbing film, and an optical filter.

CCD(Charge Coupled Device)又はCMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)等の固体撮像素子を用いた撮像装置において、良好な色再現性を有する画像を得るために様々な光学フィルタが固体撮像素子の前面に配置されている。一般的に、固体撮像素子は紫外線領域から赤外線領域に至る広い波長範囲で分光感度を有する。一方、人間の視感度は可視光の領域にのみに存在する。このため、撮像装置における固体撮像素子の分光感度を人間の視感度に近づけるために、固体撮像素子の前面に赤外線又は紫外線の一部の光を遮蔽する光学フィルタを配置する技術が知られている。 In imaging devices using solid-state imaging elements such as CCDs (Charge Coupled Devices) or CMOSs (Complementary Metal Oxide Semiconductors), various optical filters are placed in front of the solid-state imaging elements to obtain images with good color reproducibility. Generally, solid-state imaging elements have spectral sensitivity over a wide wavelength range from the ultraviolet to infrared regions. Meanwhile, human visual sensitivity exists only in the visible light region. For this reason, a technique is known in which an optical filter that blocks part of the infrared or ultraviolet light is placed in front of the solid-state imaging element in order to bring the spectral sensitivity of the solid-state imaging element in the imaging device closer to the human visual sensitivity.

従来、そのような光学フィルタとしては、誘電体多層膜による光反射を利用して赤外線又は紫外線を遮蔽するものが一般的であった。一方、近年、光吸収剤を含有する膜を備えた光学フィルタが注目されている。光吸収剤を含有する膜を備えた光学フィルタの透過率特性は入射角の影響を受けにくいので、撮像装置において光学フィルタに斜めに光が入射する場合でも色味の変化が少ない良好な画像を得ることができる。また、光反射膜を用いない光吸収型光学フィルタは、光反射膜による多重反射を原因とするゴーストやフレアの発生を抑制することができるので、逆光状態や夜景の撮影において良好な画像を得やすい。加えて、光吸収剤を含有する膜を備えた光学フィルタは、撮像装置の小型化及び薄型化の点でも有利である。 Conventionally, such optical filters have generally used a dielectric multilayer film to block infrared or ultraviolet rays. However, in recent years, optical filters with a film containing a light absorbent have been attracting attention. The transmittance characteristics of optical filters with a film containing a light absorbent are not easily affected by the angle of incidence, so good images with little change in color can be obtained even when light is incident on the optical filter at an angle in an imaging device. In addition, light-absorbing optical filters that do not use a light-reflecting film can suppress the occurrence of ghosts and flares caused by multiple reflections by the light-reflecting film, making it easier to obtain good images in backlit conditions or when photographing night scenes. In addition, optical filters with a film containing a light absorbent are also advantageous in terms of making imaging devices smaller and thinner.

そのような光吸収剤として、ホスホン酸と銅イオンとによって形成された光吸収剤が知られている。例えば、特許文献1には、フェニル基又はハロゲン化フェニル基を有するホスホン酸(フェニル系ホスホン酸)と銅イオンとによって形成された光吸収剤を含有する光吸収層を備えた、光学フィルタが記載されている。 As such a light absorbing agent, a light absorbing agent formed from phosphonic acid and copper ions is known. For example, Patent Document 1 describes an optical filter having a light absorbing layer containing a light absorbing agent formed from a phosphonic acid having a phenyl group or a halogenated phenyl group (phenyl-based phosphonic acid) and copper ions.

また、特許文献2には、赤外線及び紫外線を吸収可能なUV‐IR吸収層を備えた光学フィルタが記載されている。UV‐IR吸収層は、ホスホン酸と銅イオンとによって形成されたUV‐IR吸収剤を含んでいる。光学フィルタが所定の光学特性を満たすように、UV‐IR吸収性組成物は、例えば、フェニル系ホスホン酸と、アルキル基又はハロゲン化アルキル基を有するホスホン酸(アルキル系ホスホン酸)とを含有している。 Patent Document 2 also describes an optical filter having a UV-IR absorbing layer capable of absorbing infrared and ultraviolet rays. The UV-IR absorbing layer contains a UV-IR absorbent formed of phosphonic acid and copper ions. In order for the optical filter to have predetermined optical properties, the UV-IR absorbing composition contains, for example, a phenyl-based phosphonic acid and a phosphonic acid having an alkyl group or a halogenated alkyl group (alkyl-based phosphonic acid).

また、特許文献3には、所定の有機色素を含有している有機色素含有層と、ホスホン酸銅含有層とを備えた赤外線カットフィルタが記載されている。 Patent Document 3 also describes an infrared cut filter that includes an organic dye-containing layer that contains a specific organic dye and a copper phosphonate-containing layer.

国際公開第2018/088561号International Publication No. 2018/088561 特許第6232161号公報Patent No. 6232161 国際公開第2017/006571号International Publication No. 2017/006571

ホスホン酸及び銅成分を含む光吸収性化合物と、紫外線吸収性化合物とを含む光吸収性組成物及び光吸収膜において、紫外線吸収性化合物が光吸収性組成物の特性に不利な影響を及ぼしにくいことが重要であると考えられる。In a light-absorbing composition and a light-absorbing film containing a light-absorbing compound including a phosphonic acid and a copper component, and an ultraviolet-absorbing compound, it is considered important that the ultraviolet-absorbing compound is unlikely to adversely affect the properties of the light-absorbing composition.

このような事情に鑑み、本発明は、ホスホン酸及び銅成分を含む光吸収性化合物の特性に紫外線吸収性化合物が不利な影響を及ぼしにくい光吸収性組成物及び光吸収膜を提供する。 In view of the above circumstances, the present invention provides a light-absorbing composition and a light-absorbing film in which an ultraviolet absorbing compound is unlikely to adversely affect the properties of a light-absorbing compound containing a phosphonic acid and a copper component .

本発明は、
ホスホン酸及び銅成分を含む光吸収性化合物と、
紫外線吸収性化合物と、を含み、
前記紫外線吸収性化合物の含有量に対する前記ホスホン酸の含有量の比が質量基準で10~300である、
光吸収性組成物を提供する。
The present invention relates to
a light absorbing compound comprising a phosphonic acid and a copper component;
an ultraviolet absorbing compound,
The ratio of the content of the phosphonic acid to the content of the ultraviolet absorbing compound is 10 to 300 by mass.
A light absorbing composition is provided.

また、本発明は、
ホスホン酸及び銅成分を含む光吸収性化合物と、
紫外線吸収性化合物と、を含み、
前記紫外線吸収性化合物の含有量に対する前記ホスホン酸の含有量の比が質量基準で10~300である、
光吸収膜を提供する。
The present invention also provides a method for producing a method for manufacturing a semiconductor device comprising the steps of:
a light absorbing compound comprising a phosphonic acid and a copper component;
an ultraviolet absorbing compound,
The ratio of the content of the phosphonic acid to the content of the ultraviolet absorbing compound is 10 to 300 on a mass basis.
A light absorbing film is provided.

また、本発明は、上記の光吸収膜を備えた、光学フィルタを提供する。 The present invention also provides an optical filter having the above-mentioned light absorbing film.

上記の光吸収性組成物及び光吸収膜によれば、ホスホン酸及び銅成分を含む光吸収性化合物の特性に紫外線吸収性化合物が不利な影響を及ぼしにくい。According to the light absorbing composition and light absorbing film described above, the ultraviolet absorbing compound is unlikely to adversely affect the properties of the light absorbing compound containing phosphonic acid and a copper component.

図1は、本発明に係る光吸収膜の一例を示す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of a light absorbing film according to the present invention. 図2は、本発明に係る光学フィルタの一例を示す断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view showing an example of an optical filter according to the present invention. 図3は、実施例1に係る光学フィルタの透過スペクトルである。FIG. 3 shows the transmission spectrum of the optical filter according to the first embodiment. 図4は、実施例2に係る光学フィルタの透過スペクトルである。FIG. 4 shows the transmission spectrum of the optical filter according to the second embodiment. 図5は、実施例3に係る光学フィルタの透過スペクトルである。FIG. 5 shows the transmission spectrum of the optical filter according to the third embodiment. 図6は、実施例4に係る光学フィルタの透過スペクトルである。FIG. 6 shows the transmission spectrum of the optical filter according to the fourth embodiment. 図7は、実施例5に係る光学フィルタの透過スペクトルである。FIG. 7 shows the transmission spectrum of the optical filter according to the fifth embodiment. 図8は、比較例1に係る光学フィルタの透過スペクトルである。FIG. 8 shows the transmission spectrum of the optical filter according to the first comparative example. 図9は、比較例2に係る光学フィルタの透過スペクトルである。FIG. 9 shows the transmission spectrum of the optical filter according to Comparative Example 2. 図10は、比較例3に係る光学フィルタの透過スペクトルである。FIG. 10 shows the transmission spectrum of the optical filter according to Comparative Example 3. 図11は、紫外線吸収性化合物の透過スペクトルである。FIG. 11 shows the transmission spectrum of the ultraviolet absorbing compound.

以下、本発明の実施形態について説明する。なお、以下の説明は、本発明の例示に関するものであり、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。 The following describes an embodiment of the present invention. Note that the following description is merely an example of the present invention, and the present invention is not limited to the following embodiment.

本発明に係る光吸収性組成物は、ホスホン酸及び銅成分を含む化合物と、紫外線吸収性化合物とを含有している。ホスホン酸及び銅成分を含む化合物は、典型的には、所定の光吸収特性を有する。ホスホン酸及び銅成分を含む化合物をホスホン酸含有化合物とも呼ぶ。光吸収性組成物を硬化させて光吸収膜を得ることができる。この光吸収膜の、0度の入射角度での透過スペクトルにおいて、波長400nmにおける透過率T400、波長550nmにおける透過率T550、及び波長800nmにおける透過率T800は、16≦T550/T400及び16≦T550/T800の条件を満たす。これらの条件が満たされるように、光吸収性組成物がホスホン酸含有化合物及び紫外線吸収性化合物を含有している。これにより、光吸収性組成物を用いて提供される光吸収膜及び光学フィルタが波長400nm付近の光を十分に吸収して遮蔽しやすい。加えて、光吸収性組成物を用いて提供される光吸収膜及び光学フィルタが紫外線域に属する光及び赤外線域に属する光を遮蔽しやすい。さらに、光吸収性組成物を用いて提供される光吸収膜及び光学フィルタにおいて可視光域に属する光の透過率が高くなりやすい。その結果、光吸収性組成物を用いて提供される光吸収膜及び光学フィルタは、人間の視感度に対応した透過スペクトルに近しい分光特性を有しやすい。 The light-absorbing composition according to the present invention contains a compound containing phosphonic acid and a copper component, and an ultraviolet absorbing compound. The compound containing phosphonic acid and a copper component typically has a predetermined light absorption characteristic. The compound containing phosphonic acid and a copper component is also called a phosphonic acid-containing compound. The light-absorbing composition can be cured to obtain a light-absorbing film. In the transmission spectrum of this light-absorbing film at an incident angle of 0 degrees, the transmittance T 400 at a wavelength of 400 nm, the transmittance T 550 at a wavelength of 550 nm, and the transmittance T 800 at a wavelength of 800 nm satisfy the conditions of 16≦T 550 /T 400 and 16≦T 550 /T 800. In order to satisfy these conditions, the light-absorbing composition contains a phosphonic acid-containing compound and an ultraviolet absorbing compound. This makes it easy for the light-absorbing film and optical filter provided using the light-absorbing composition to sufficiently absorb and shield light at a wavelength of around 400 nm. In addition, the light-absorbing film and optical filter provided by using the light-absorbing composition are likely to shield light belonging to the ultraviolet region and light belonging to the infrared region. Furthermore, the light-absorbing film and optical filter provided by using the light-absorbing composition are likely to have high transmittance of light belonging to the visible light region. As a result, the light-absorbing film and optical filter provided by using the light-absorbing composition are likely to have spectral characteristics close to the transmission spectrum corresponding to the visual sensitivity of humans.

透過率T400及び透過率T550は、望ましくは32≦T550/T400の条件を満たし、より望ましくは80≦T550/T400の条件を満たし、さらに望ましくは90≦T550/T400の条件を満たす。これにより、光吸収性組成物を用いて提供される光吸収膜及び光学フィルタが波長400nm付近の光を十分に吸収して遮蔽しやすい。加えて、光吸収性組成物を用いて提供される光吸収膜及び光学フィルタが紫外線域に属する光を遮蔽しやすい。さらに、光吸収性組成物を用いて提供される光吸収膜及び光学フィルタにおいて可視光域に属する光の透過率が高くなりやすい。 The transmittance T400 and the transmittance T550 preferably satisfy the condition of 32≦ T550 / T400 , more preferably the condition of 80≦ T550 / T400 , and even more preferably the condition of 90≦ T550 / T400 . This makes it easy for the light-absorbing film and the optical filter provided using the light-absorbing composition to sufficiently absorb and block light having a wavelength of about 400 nm. In addition, the light-absorbing film and the optical filter provided using the light-absorbing composition are easy to block light belonging to the ultraviolet range. Furthermore, the light-absorbing film and the optical filter provided using the light-absorbing composition are easy to have a high transmittance of light belonging to the visible light range.

透過率T550及び透過率T800は、望ましくは32≦T550/T800の条件を満たし、より望ましくは80≦T550/T800の条件を満たし、さらに望ましくは200≦T550/T800の条件を満たし、特に好ましくは300≦T550/T800の条件を満たす。これにより、光吸収性組成物を用いて提供される光吸収膜及び光学フィルタがより確実に赤外線域に属する光を遮蔽しやすい。加えて、光吸収性組成物を用いて提供される光吸収膜及び光学フィルタにおいて可視光域に属する光の透過率がより確実に高くなりやすい。 The transmittance T550 and the transmittance T800 preferably satisfy the condition of 32≦ T550 / T800 , more preferably satisfy the condition of 80≦ T550 / T800 , further preferably satisfy the condition of 200≦ T550 / T800 , and particularly preferably satisfy the condition of 300≦ T550 / T800 . This makes it easier for the light-absorbing film and optical filter provided using the light-absorbing composition to more reliably shield light belonging to the infrared region. In addition, the transmittance of light belonging to the visible light region is more reliably increased in the light-absorbing film and optical filter provided using the light-absorbing composition.

上記の透過スペクトルにおいて、例えば、下記(I)、(II)、(III)、及び(IV)の条件を満たされる。これにより、光吸収性組成物を用いて提供される光吸収膜及び光学フィルタがより確実に波長400nm付近の光を十分に吸収して遮蔽しやすく、紫外線域に属する光及び赤外線域に属する光をより確実に遮蔽しやすい。加えて、光吸収性組成物を用いて提供される光吸収膜及び光学フィルタにおいて可視光域に属する光の透過率がより確実に高くなりやすい。その結果、光吸収性組成物を用いて提供される光吸収膜及び光学フィルタは、人間の視感度に対応した透過スペクトルに近しい分光特性を有しやすい。(I)波長300nm~380nmの範囲における透過率の最大値TM 300-380が1%以下である。
(II)波長400nmにおける透過率T400が5%以下である。
(III)波長480nm~580nmの範囲における透過率の平均値TA 480-580が78%以上である。
(IV)波長700nm~750nmの範囲における透過率の平均値TA 700-750が10%以下である。
In the above transmission spectrum, for example, the following conditions (I), (II), (III), and (IV) are satisfied. This makes it easier for the light-absorbing film and optical filter provided using the light-absorbing composition to more reliably absorb and shield light at wavelengths around 400 nm, and more reliably shield light belonging to the ultraviolet range and light belonging to the infrared range. In addition, the light-absorbing film and optical filter provided using the light-absorbing composition are more reliably likely to have a high transmittance of light belonging to the visible light range. As a result, the light-absorbing film and optical filter provided using the light-absorbing composition are more likely to have spectral characteristics close to a transmission spectrum corresponding to human visual sensitivity. (I) The maximum transmittance T M 300-380 in the wavelength range of 300 nm to 380 nm is 1% or less.
(II) The transmittance T 400 at a wavelength of 400 nm is 5% or less.
(III) The average transmittance T A 480-580 in the wavelength range of 480 nm to 580 nm is 78% or more.
(IV) The average transmittance T A 700-750 in the wavelength range of 700 nm to 750 nm is 10% or less.

(I)の条件に関し、上記の透過スペクトルにおいて、望ましくは、波長300nm~385nmの範囲における透過率の最大値TM 300-385が1%以下であり、より望ましくは、波長300nm~390nmの範囲における透過率の最大値TM 300-390が1%以下である。これにより、光吸収性組成物を用いて提供される光吸収膜及び光学フィルタにおいて、紫外線域に属する光をより確実に遮蔽しやすい。 Regarding condition (I), in the above transmission spectrum, preferably the maximum transmittance T M 300-385 in the wavelength range of 300 nm to 385 nm is 1% or less, and more preferably the maximum transmittance T M 300-390 in the wavelength range of 300 nm to 390 nm is 1% or less. This makes it easier for light-absorbing films and optical filters provided using the light-absorbing composition to more reliably shield light belonging to the ultraviolet range.

(II)の条件に関し、上記の透過スペクトルにおいて、透過率T400は、望ましくは3%以下であり、より望ましくは1%以下である。これにより、光吸収性組成物を用いて提供される光吸収膜及び光学フィルタがより確実に波長400nm付近の光を十分に吸収して遮蔽しやすい。 Regarding condition (II), in the above transmission spectrum, the transmittance T400 is desirably 3% or less, more desirably 1% or less, so that a light-absorbing film and an optical filter provided using the light-absorbing composition can more reliably absorb and shield light having a wavelength of about 400 nm.

(III)の条件に関し、上記の透過スペクトルにおいて、平均値TA 480-580は、望ましくは80%以上であり、より望ましくは82%以上である。これにより、光吸収性組成物を用いて提供される光吸収膜及び光学フィルタにおいて可視光域に属する光の透過率がより確実に高くなりやすい。 Regarding condition (III), in the above transmission spectrum, the average value T A 480-580 is desirably 80% or more, more desirably 82% or more, which tends to more reliably increase the transmittance of light belonging to the visible light range in a light-absorbing film and an optical filter provided using the light-absorbing composition.

(IV)の条件に関し、上記の透過スペクトルにおいて、平均値TA 700-750は、望ましくは5%以下であり、より望ましくは3%以下である。これにより、光吸収性組成物を用いて提供される光吸収膜及び光学フィルタにおいて赤外線域に属する光をより確実に遮蔽しやすい。 Regarding condition (IV), in the above transmission spectrum, the average value T 700-750 is desirably 5% or less, more desirably 3% or less, which makes it easier for a light-absorbing film and an optical filter provided using the light-absorbing composition to more reliably shield light belonging to the infrared region.

上記の透過スペクトルにおいて、例えば、下記の(V)の条件が満たされる。これにより、光吸収性組成物を用いて提供される光吸収膜及び光学フィルタにおいて赤外線域に属する光をより確実に遮蔽しやすい。
(V)波長700nm~1000nmの範囲における透過率の最大値TM 700-1000が10%以下である。
In the above transmission spectrum, for example, the following condition (V) is satisfied. This makes it easier for a light-absorbing film and an optical filter provided using the light-absorbing composition to more reliably block light belonging to the infrared region.
(V) The maximum transmittance T M 700-1000 in the wavelength range of 700 nm to 1000 nm is 10% or less.

(V)の条件に関し、最大値TM 700-1000は、望ましくは7%以下であり、より望ましくは5%以下である。 Regarding condition (V), the maximum value T M 700-1000 is desirably 7% or less, and more desirably 5% or less.

上記の透過スペクトルは、例えば、405nm以上480nm以下の第一カットオフ波長λ50% Fを有する。第一カットオフ波長λ50% Fは、上記の透過スペクトルにおいて波長300nm~450nmの範囲で50%の透過率を示す波長である。これにより、光吸収性組成物を用いて提供される光吸収膜及び光学フィルタがより確実に波長400nm付近の光を十分に吸収して遮蔽しやすい。 The transmission spectrum has, for example, a first cutoff wavelength λ 50% F of 405 nm or more and 480 nm or less. The first cutoff wavelength λ 50% F is a wavelength that shows a transmittance of 50% in the wavelength range of 300 nm to 450 nm in the transmission spectrum. This makes it easier for a light-absorbing film and an optical filter provided using the light-absorbing composition to more reliably sufficiently absorb and block light with a wavelength of around 400 nm.

第一カットオフ波長λ50% Fは、望ましくは405nm以上465nm以下であり、より望ましくは405nm以上450nm以下である。 The first cutoff wavelength λ 50% F is preferably 405 nm or more and 465 nm or less, and more preferably 405 nm or more and 450 nm or less.

上記の透過スペクトルは、例えば、580nm以上720nm以下の第二カットオフ波長λ50% Sを有する。第二カットオフ波長λ50% Sは、上記の透過スペクトルにおいて波長550nm~750nmの範囲で50%の透過率を示す波長である。これにより、光吸収性組成物を用いて提供される光吸収膜及び光学フィルタがより確実に赤外線域に属する光を遮蔽しやすい。 The transmission spectrum has, for example, a second cutoff wavelength λ 50% S of 580 nm or more and 720 nm or less. The second cutoff wavelength λ 50% S is a wavelength that shows a transmittance of 50% in the wavelength range of 550 nm to 750 nm in the transmission spectrum. This makes it easier for light-absorbing films and optical filters provided using the light-absorbing composition to more reliably block light belonging to the infrared range.

第二カットオフ波長λ50% Sは、望ましくは590nm以上700nm以下であり、より望ましくは600nm以上680nm以下である。 The second cutoff wavelength λ 50% S is preferably 590 nm or more and 700 nm or less, and more preferably 600 nm or more and 680 nm or less.

上記の透過スペクトルは、例えば、下記(VI)、(VII)、及び(VIII)の条件の少なくとも1つを満たす。これにより、光吸収性組成物を用いて提供される光吸収膜及び光学フィルタがより確実に赤外線域に属する光を遮蔽しやすい。
(VI)波長800nm~950nmの範囲における透過率の最大値TM 800-950が3%以下である。
(VII)波長700nm~1100nmの範囲における透過率の最大値TM 700-1100が15%以下である。
(VIII)波長700nm~1200nmの範囲における透過率の最大値TM 700-1200が20%以下である。
The above transmission spectrum satisfies, for example, at least one of the following conditions (VI), (VII), and (VIII), which makes it easier for a light-absorbing film and an optical filter provided using the light-absorbing composition to more reliably block light belonging to the infrared region.
(VI) The maximum transmittance T M 800-950 in the wavelength range of 800 nm to 950 nm is 3% or less.
(VII) The maximum transmittance T M 700-1100 in the wavelength range of 700 nm to 1100 nm is 15% or less.
(VIII) The maximum transmittance T M 700-1200 in the wavelength range of 700 nm to 1200 nm is 20% or less.

(VI)の条件に関し、最大値TM 800-950は、望ましくは1.5%以下であり、より望ましくは1%以下である。 Regarding condition (VI), the maximum value T M 800-950 is preferably 1.5% or less, and more preferably 1% or less.

(VII)の条件に関し、最大値TM 700-1100は、望ましくは10%以下であり、より望ましくは5%以下である。 Regarding condition (VII), the maximum value T M 700-1100 is desirably 10% or less, and more desirably 5% or less.

(VIII)の条件に関し、最大値TM 700-1200は、望ましくは15%以下であり、より望ましくは10%以下である。 Regarding condition (VIII), the maximum value T M 700-1200 is desirably 15% or less, and more desirably 10% or less.

ホスホン酸含有化合物に含まれるホスホン酸は、特定のホスホン酸に限定されない。ホスホン酸は、例えば、下記式(a)で表される。 The phosphonic acid contained in the phosphonic acid-containing compound is not limited to a specific phosphonic acid. The phosphonic acid is, for example, represented by the following formula (a).

Figure 0007631465000001
Figure 0007631465000001

式(a)において、R1は、アルキル基、アルキル基における少なくとも一つの水素原子がハロゲン原子に置換されたハロゲン化アルキル基、アリール基、ニトロアリール基、ヒドロキシアリール基、又はアリール基における少なくとも1つの水素原子がハロゲン原子に置換されているハロゲン化アリール基である。アリール基は、例えば、フェニル基、ベンジル基、又はトルイル基である。 In formula (a), R 1 is an alkyl group, a halogenated alkyl group in which at least one hydrogen atom in the alkyl group is substituted with a halogen atom, an aryl group, a nitroaryl group, a hydroxyaryl group, or a halogenated aryl group in which at least one hydrogen atom in the aryl group is substituted with a halogen atom. The aryl group is, for example, a phenyl group, a benzyl group, or a toluyl group.

ホスホン酸含有化合物に含まれるホスホン酸は、アリール基、ニトロアリール基、ヒドロキシアリール基、又はハロゲン化アリール基を有するアリール系ホスホン酸であってもよい。アリール系ホスホン酸は特定のホスホン酸に限定されない。アリール系ホスホン酸は、例えば、フェニルホスホン酸、ニトロフェニルホスホン酸、ヒドロキシフェニルホスホン酸、ブロモフェニルホスホン酸、又はヨードフェニルホスホン酸である。 The phosphonic acid contained in the phosphonic acid-containing compound may be an aryl-based phosphonic acid having an aryl group, a nitroaryl group, a hydroxyaryl group, or an aryl halide group. The aryl-based phosphonic acid is not limited to a specific phosphonic acid. The aryl-based phosphonic acid is, for example, phenylphosphonic acid, nitrophenylphosphonic acid, hydroxyphenylphosphonic acid, bromophenylphosphonic acid, or iodophenylphosphonic acid.

ホスホン酸含有化合物に含まれるホスホン酸は、アルキル基又はハロゲン化アルキル基を有するアルキル系ホスホン酸であってもよい。アルキル系ホスホン酸は特定のホスホン酸に限定されない。アルキル系ホスホン酸は、例えば、メチルホスホン酸、エチルホスホン酸、ノルマル(n-)プロピルホスホン酸、イソプロピルホスホン酸、ノルマル(n-)ブチルホスホン酸、イソブチルホスホン酸、secブチルホスホン酸、又はtertブチルホスホン酸、又はブロモメチルホスホン酸である。 The phosphonic acid contained in the phosphonic acid-containing compound may be an alkyl phosphonic acid having an alkyl group or a halogenated alkyl group. The alkyl phosphonic acid is not limited to a specific phosphonic acid. The alkyl phosphonic acid is, for example, methyl phosphonic acid, ethyl phosphonic acid, normal (n-) propyl phosphonic acid, isopropyl phosphonic acid, normal (n-) butyl phosphonic acid, isobutyl phosphonic acid, sec-butyl phosphonic acid, tert-butyl phosphonic acid, or bromomethyl phosphonic acid.

ホスホン酸含有化合物に含まれるホスホン酸がアリール系ホスホン酸である場合、アリール系ホスホン酸と銅成分とによってホスホン酸含有化合物が形成されることにより、赤外線域に属する光の波長域のうち比較的短い波長の光が効果的に吸収されやすい。一方、ホスホン酸含有化合物に含まれるホスホン酸がアルキル系ホスホン酸である場合、アルキル系ホスホン酸と銅成分とによってホスホン酸含有化合物が形成されることにより、赤外線域に属する光の波長域のうち比較的長い波長の光が効果的に吸収されやすい。このため、光吸収性組成物は、望ましくは、ホスホン酸として、アリール系ホスホン酸及びアルキル系ホスホン酸の双方を含む。 When the phosphonic acid contained in the phosphonic acid-containing compound is an aryl phosphonic acid, the phosphonic acid-containing compound is formed by the aryl phosphonic acid and the copper component, and light having a relatively short wavelength in the wavelength range of light belonging to the infrared region is easily absorbed effectively. On the other hand, when the phosphonic acid contained in the phosphonic acid-containing compound is an alkyl phosphonic acid, the phosphonic acid-containing compound is formed by the alkyl phosphonic acid and the copper component, and light having a relatively long wavelength in the wavelength range of light belonging to the infrared region is easily absorbed effectively. For this reason, the light-absorbing composition desirably contains both aryl phosphonic acid and alkyl phosphonic acid as the phosphonic acid.

光吸収性組成物がアリール系ホスホン酸及びアルキル系ホスホン酸を含む場合、アリール系ホスホン酸の含有量とアルキル系ホスホン酸の含有量との関係は、特定の関係に限定されない。光吸収性組成物において、アルキル系ホスホン酸の含有量に対するアリール系ホスホン酸の含有量の比RAAは、例えば、物質量基準で1.0~3.0である。これにより、光吸収性組成物を用いて提供される光吸収膜及び光学フィルタの透過スペクトルが撮像素子とともに用いられる用途に適しやすい。光吸収性組成物において、比RAAは、望ましくは1.3~2.7である。 When the light-absorbing composition contains an aryl phosphonic acid and an alkyl phosphonic acid, the relationship between the content of the aryl phosphonic acid and the content of the alkyl phosphonic acid is not limited to a specific relationship. In the light-absorbing composition, the ratio R AA of the content of the aryl phosphonic acid to the content of the alkyl phosphonic acid is, for example, 1.0 to 3.0 on a substance amount basis. This makes the transmission spectrum of the light-absorbing film and optical filter provided using the light-absorbing composition more suitable for use with an imaging element. In the light-absorbing composition, the ratio R AA is preferably 1.3 to 2.7.

ホスホン酸含有化合物に含まれるホスホン酸は、ハロゲン原子を含む基を置換基として有しないホスホン酸であってもよい。この場合、光吸収性組成物を用いて提供される光吸収膜及び光学フィルタは、良好な耐環境性を有しやすく、又は、変色しにくい。 The phosphonic acid contained in the phosphonic acid-containing compound may be a phosphonic acid that does not have a group containing a halogen atom as a substituent. In this case, the light-absorbing film and optical filter provided using the light-absorbing composition tend to have good environmental resistance or are less likely to discolor.

光吸収性組成物において、銅成分の少なくとも一部は、ホスホン酸と反応して、ホスホン酸及び銅成分を含む錯体等の化合物を形成する。ホスホン酸及び銅成分を含む化合物は赤外線域に属する一部の光を効果的に吸収しやすく、さらに可視光域に属する光に対して高い透過率を示す。 In the light-absorbing composition, at least a portion of the copper component reacts with phosphonic acid to form a compound such as a complex containing phosphonic acid and a copper component. Compounds containing phosphonic acid and a copper component tend to effectively absorb a portion of light in the infrared range, and further exhibit high transmittance for light in the visible range.

光吸収性組成物の調製における銅成分の供給の態様は特定の態様に限定されない。光吸収性組成物の調製において、銅成分は、例えば、銅塩として供給される。銅塩は、塩化銅、蟻酸銅、ステアリン酸銅、安息香酸銅、ピロリン酸銅、ナフテン酸銅、及びクエン酸銅の無水物又は水和物であってもよい。例えば、酢酸銅一水和物は、Cu(CH3COO)2・H2Oと表され、1モルの酢酸銅一水和物によって1モルの銅イオンが供給される。 The manner of supplying the copper component in the preparation of the light-absorbing composition is not limited to a specific embodiment. In the preparation of the light-absorbing composition, the copper component is supplied, for example, as a copper salt. The copper salt may be an anhydride or hydrate of copper chloride, copper formate, copper stearate, copper benzoate, copper pyrophosphate, copper naphthenate, and copper citrate. For example, copper acetate monohydrate is represented as Cu(CH 3 COO) 2.H 2 O, and one mole of copper ions is supplied by one mole of copper acetate monohydrate.

光吸収性組成物に含有されている紫外線吸収性化合物は、上記の透過スペクトルにおいて16≦T550/T400及び16≦T550/T800の条件が満たされる限り、特定の化合物に限定されない。紫外線吸収性化合物は、例えば、330nm以上430nm以下の吸収極大波長λM UV-Cを有する。これにより、光吸収性組成物を用いて提供される光吸収膜及び光学フィルタによれば、上記ホスホン酸と銅成分とを含む化合物と組み合わせて使用した場合に、波長400nmから450nmにおける透過特性が、人間の視感度に対応した透過スペクトルに近しい分光特性を有しやすい。なお、紫外線吸収性化合物の透過スペクトル及び吸収スペクトル等の光学特性は、紫外線吸収性化合物を所定の溶媒に分散させた分散液を試料として用いた測定によって決定できる。特に説明する場合を除き、紫外線吸収性化合物の透過スペクトル及び吸収スペクトルは、このような測定によって決定されたものを意味する。 The ultraviolet absorbing compound contained in the light absorbing composition is not limited to a specific compound as long as the above conditions of 16≦T 550 /T 400 and 16≦T 550 /T 800 are satisfied in the transmission spectrum. The ultraviolet absorbing compound has, for example, an absorption maximum wavelength λ M UV-C of 330 nm or more and 430 nm or less. As a result, according to the light absorbing film and optical filter provided using the light absorbing composition, when used in combination with the above compound containing phosphonic acid and a copper component, the transmission characteristics at wavelengths of 400 nm to 450 nm tend to have spectral characteristics close to the transmission spectrum corresponding to human visual sensitivity. The optical characteristics such as the transmission spectrum and absorption spectrum of the ultraviolet absorbing compound can be determined by measurement using a dispersion liquid in which the ultraviolet absorbing compound is dispersed in a specified solvent as a sample. Unless otherwise explained, the transmission spectrum and absorption spectrum of the ultraviolet absorbing compound mean those determined by such measurements.

紫外線吸収性化合物の吸収極大波長λM UV-Cは、望ましくは、350nm以上400nm以下である。 The maximum absorption wavelength λ M UV-C of the ultraviolet absorbing compound is desirably 350 nm or more and 400 nm or less.

波長300nm~450nmの範囲の紫外線吸収性化合物の透過スペクトルにおいて50%の透過率を示す最大の波長λ50%-L UV-C及び最小の波長λ50%-S UV-Cは、特定の値に限定されない。波長λ50%-L UV-Cは、例えば、400nm以上470nm以下である。これにより、光吸収性組成物を用いて提供される光吸収膜及び光学フィルタによれば、上記ホスホン酸と銅成分とを含む化合物と組み合わせて使用した場合に、吸収極大波長λM UV-Cの条件を満たすことによって得られる上記の効果に加えて、波長400nm付近の透過率を小さく制御しやすく、可視光域に属する光の透過率がより確実に高くなりやすい。その結果、光吸収性組成物を用いて提供される光吸収膜及び光学フィルタが人間の視感度に対応した透過スペクトルに近しい分光特性を有しやすい。なお、波長λ50%-L UV-C及び波長λ50%-S UV-Cを決定するための紫外線吸収性化合物の透過スペクトルの測定で使用される試料における紫外線吸収性化合物の濃度は、吸収極大波長λM UV-Cにおける透過率が8~12%になるように調整される。 The maximum wavelength λ 50%-L UV-C and the minimum wavelength λ 50%-S UV-C showing a 50% transmittance in the transmission spectrum of the ultraviolet absorbing compound in the wavelength range of 300 nm to 450 nm are not limited to specific values. The wavelength λ 50% -L UV-C is, for example, 400 nm or more and 470 nm or less. As a result, according to the light absorbing film and optical filter provided by using the light absorbing composition, when used in combination with the compound containing the above phosphonic acid and copper component, in addition to the above effect obtained by satisfying the condition of the absorption maximum wavelength λ M UV-C , it is easy to control the transmittance at a wavelength of around 400 nm to be small, and the transmittance of light belonging to the visible light range is likely to be more reliably increased. As a result, the light absorbing film and optical filter provided by using the light absorbing composition are likely to have spectral characteristics close to the transmission spectrum corresponding to the visual sensitivity of humans. The concentration of the ultraviolet absorbing compound in the sample used in measuring the transmission spectrum of the ultraviolet absorbing compound to determine the wavelengths λ 50%-L UV-C and λ 50%-S UV-C is adjusted so that the transmittance at the maximum absorption wavelength λ M UV-C is 8 to 12%.

波長λ50%-L UV-Cは、望ましくは、415nm以上450nm以下である。 The wavelength λ 50%-L UV-C is desirably not less than 415 nm and not more than 450 nm.

波長λ50%-S UV-C及び波長λ50%-L UV-Cは、例えば、75nm≦λ50%-L UV-C-λ50%-S UV-C≦105nmの条件を満たす。光吸収性を備える上記ホスホン酸と銅成分とを含む化合物の透過スペクトルの波長300nm~450nmにおける透過率が50%となる波長λ50%-S IRが、λ50%-L UV-Cとλ50%-S UV-Cの間に含まれやすく、ホスホン酸と銅成分とを含む化合物と組み合わせて使用した場合に、波長400nmから450nmにおける透過特性が、人間の視感度に対応した透過スペクトルに近しい分光特性を有しやすいというメリットをさらに得られる。波長λ50%-S UV-C及び波長λ50%-L UV-Cは、望ましくは、80nm≦λ50%-L UV-C-λ50%-S UV-C≦100nmの条件を満たす。 The wavelengths λ 50%-S UV-C and λ 50%-L UV-C satisfy, for example, the condition 75 nm≦λ 50%-L UV-C −λ 50%-S UV-C ≦105 nm. The wavelength λ 50% -S IR at which the transmittance of the transmission spectrum of the compound containing the light-absorbing phosphonic acid and a copper component is 50% at wavelengths of 300 nm to 450 nm is likely to be included between λ 50%-L UV-C and λ 50%-S UV-C , and when used in combination with a compound containing phosphonic acid and a copper component, there is an additional advantage that the transmission characteristics at wavelengths of 400 nm to 450 nm tend to have spectral characteristics close to the transmission spectrum corresponding to human visual sensitivity. The wavelengths λ 50%-S UV-C and λ 50%-L UV-C desirably satisfy the condition 80 nm≦λ 50%-L UV-C −λ 50%-S UV-C ≦100 nm.

紫外線吸収性化合物の透過スペクトルにおいて、吸収極大波長λM UV-Cより長く、かつ、80%の透過率を示す波長λ80% UV-Cは、例えば、1.8[%/nm]≦30/(λ80% UV-C-λ50%-L UV-C)≦2.6[%/nm]の条件を満たす。30/(λ80% UV-C-λ50%-L UV-C)の値は、波長λ50%-L UV-Cと波長λ80% UV-Cと間の範囲における紫外線吸収性化合物の透過スペクトルの平均的な傾きを表しており、この値をΔλ80/50 UV-C[%/nm]とも表す。Δλ80/50 UV-Cがこれらの範囲に含まれることにより、光吸収性を備える上記ホスホン酸と銅成分とを含む化合物の透過スペクトルにおける同様の傾きの値との整合性がよくなり、ホスホン酸と銅成分とを含む化合物と組み合わせて使用した場合に、波長400nmから450nmにおける透過特性が、人間の視感度に対応した透過スペクトルに近しい分光特性を有しやすいというメリットをさらに得られる。望ましくは1.9[%/nm]≦Δλ80/50 UV-C≦2.4[%/nm]の条件が満たされ、より望ましくは1.9[%/nm]≦Δλ80/50 UV-C≦2.3[%/nm]である。 In the transmission spectrum of an ultraviolet absorbing compound, the wavelength λ 80% UV -C, which is longer than the maximum absorption wavelength λ M UV -C and exhibits 80% transmittance, satisfies, for example, the condition 1.8 [%/nm]≦30/(λ 80% UV-C − λ 50%-L UV-C )≦2.6 [%/nm]. The value 30/(λ 80% UV-C − λ 50 %-L UV-C ) represents the average slope of the transmission spectrum of the ultraviolet absorbing compound in the range between the wavelengths λ 50% -L UV -C and λ 80% UV-C, and this value is also represented as Δλ 80/50 UV-C [%/nm]. By having Δλ 80/50 UV-C fall within these ranges, the consistency with the similar slope value in the transmission spectrum of the compound containing the above-mentioned phosphonic acid and copper component, which has light absorption properties, is improved, and when used in combination with a compound containing phosphonic acid and a copper component, the transmission characteristics at wavelengths of 400 nm to 450 nm are more likely to have spectral characteristics close to the transmission spectrum corresponding to human visual sensitivity. Desirably, the condition 1.9 [%/nm] ≦ Δλ 80/50 UV-C ≦ 2.4 [%/nm] is satisfied, and more desirably, 1.9 [%/nm] ≦ Δλ 80/50 UV-C ≦ 2.3 [%/nm] is satisfied.

波長500nm~700nmの範囲の紫外線吸収性化合物の透過スペクトルにおける透過率の最小値Tm 500-700は、特定の値に限定されない。最小値Tm 500-700は、例えば、80%以上である。これにより、光吸収性組成物を用いて提供される光吸収膜及び光学フィルタにおいて、可視光域に属する光の透過率がより確実に高くなりやすい。最小値Tm 500-700は、望ましくは85%以上であり、より望ましくは90%以上である。 The minimum value T m 500-700 of the transmittance in the transmission spectrum of the ultraviolet absorbing compound in the wavelength range of 500 nm to 700 nm is not limited to a specific value. The minimum value T m 500-700 is, for example, 80% or more. This makes it easier to reliably increase the transmittance of light in the visible light range in the light absorbing film and optical filter provided using the light absorbing composition. The minimum value T m 500-700 is preferably 85% or more, and more preferably 90% or more.

上記の通り、光吸収性組成物を硬化させて得られる光吸収膜に関する透過スペクトルにおいて、16≦T550/T400及び16≦T550/T800の条件が満たされる限り、紫外線吸収性化合物は、特定の化合物に限定されない。一方、紫外線吸収性化合物は、望ましくは、光吸収性組成物に含有されているホスホン酸含有化合物等の他の成分との相性が良く、他の成分によってその性能が大きく低下しない化合物である。加えて、紫外線吸収性化合物は、望ましくは、著しく劣る耐湿性又は耐光性を有しない化合物である。 As described above, the ultraviolet absorbing compound is not limited to a specific compound as long as the conditions of 16≦ T550 / T400 and 16≦ T550 / T800 are satisfied in the transmission spectrum of the light absorbing film obtained by curing the light absorbing composition. On the other hand, the ultraviolet absorbing compound is preferably a compound that is compatible with other components such as a phosphonic acid-containing compound contained in the light absorbing composition and whose performance is not significantly reduced by the other components. In addition, the ultraviolet absorbing compound is preferably a compound that does not have significantly poor moisture resistance or light resistance.

紫外線吸収性化合物は、例えば、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾエート系化合物、シアノクリレート系化合物、又はトリアジン系化合物等の化合物である。 The ultraviolet absorbing compound is, for example, a benzophenone-based compound, a benzotriazole-based compound, a benzoate-based compound, a cyanoacrylate-based compound, or a triazine-based compound.

ベンゾトリアゾール系化合物として、例えば、以下の化合物が挙げられる。
2-(2’-ヒドロキシ-5’-メチルフェニル)ベンゾトリアゾール
2-(2’-ヒドロキシ-3’-t-ブチル-5’-メチルフェニル)-5-クロロベンゾトリアゾール
2-(2’-ヒドロキシ-3’,5’-ジ-t-ブチルフェニル)-5-クロロベンゾトリアゾール
2-(2’-ヒドロキシ-3’,5’-ジ-t-ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール
2-(2’-ヒドロキシ-5-t-オクチルフェニル)ベンゾトリアゾール
2-(2’-ヒドロキシ-5-t-ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール
2-[2’-ヒドロキシ-3’-(3’’,4’’,5’’,6’’-テトラヒドロフタリミドメチル)-5’-メチルフェニル]ベンゾトリアゾール
2-(2’-ヒドロキシ-3’,5’-ジ-t-アミルフェニル)ベンゾトリアゾール
2-[2’-ヒドロキシ-3’,5’-ビス(α,α-ジメトキシベンゾイル)フェニル]ベンゾトリアゾール
2,2’-メチレンビス[4-(1,1,3,3-テトラメチルブチル)-6-(2N-ベンゾトリアゾール-2-イル)フェノール]
2-(2’-ヒドロキシ-5’-メタクリロイルオキシエチルフェニル)-2H-ベンゾトリアゾール
2-(2’-ヒドロキシ-3’-ドデシル-5’-メチルフェニル)ベンゾトリアゾール
Examples of the benzotriazole-based compound include the following compounds.
2-(2'-hydroxy-5'-methylphenyl)benzotriazole 2-(2'-hydroxy-3'-t-butyl-5'-methylphenyl)-5-chlorobenzotriazole 2-(2'-hydroxy-3',5'-di-t-butylphenyl)-5-chlorobenzotriazole 2-(2'-hydroxy-3',5'-di-t-butylphenyl)benzotriazole 2-(2'-hydroxy-5-t-octylphenyl)benzotriazole 2-(2'-hydroxy-5-t-butylphenyl)benzotriazole 2-[2'-hydroxy-3'-(3'',4'',5'',6''-tetrahydrophthalimidomethyl)-5'-methylphenyl]benzotriazole 2-(2'-hydroxy-3',5'-di-t-amylphenyl)benzotriazole 2-[2'-hydroxy-3',5'-bis(α,α-dimethoxybenzoyl)phenyl]benzotriazole 2,2'-methylenebis[4-(1,1,3,3-tetramethylbutyl)-6-(2N-benzotriazol-2-yl)phenol]
2-(2'-hydroxy-5'-methacryloyloxyethylphenyl)-2H-benzotriazole 2-(2'-hydroxy-3'-dodecyl-5'-methylphenyl)benzotriazole

トリアジン系化合物として、例えば、以下の化合物が挙げられる。
2,4-ビス(トリクロロメチル)-6-(4-メトキシフェニル)-1,3,5-トリアジン
2,4-ビス(トリクロロメチル)-6-(4-メトキシナフチル)-1,3,5-トリアジン
2,4-ビス(トリクロロメチル)-6-(4-メトキシスチリル)-1,3,5-トリアジン
2,4-ビス(トリクロロメチル)-6-〔2-(5-メチルフラン-2-イル)エテニル〕-1,3,5-トリアジン
2,4-ビス(トリクロロメチル)-6-〔2-(フラン-2-イル)エテニル〕-1,3,5-トリアジン
2,4-ビス(トリクロロメチル)-6-〔2-(4-ジエチルアミノ-2-メチルフェニル)エテニル〕-1,3,5-トリアジン
2,4-ビス(トリクロロメチル)-6-〔2-(3,4-ジメトキシフェニル)エテニル〕-1,3,5-トリアジン
2-(4,6-ジフェニル-1,3,5-トリアジン-2-イル)-5-[(ヘキシル)オキシ]-フェノール
Examples of triazine compounds include the following compounds:
2,4-Bis(trichloromethyl)-6-(4-methoxyphenyl)-1,3,5-triazine 2,4-Bis(trichloromethyl)-6-(4-methoxynaphthyl)-1,3,5-triazine 2,4-Bis(trichloromethyl)-6-(4-methoxystyryl)-1,3,5-triazine 2,4-Bis(trichloromethyl)-6-[2-(5-methylfuran-2-yl)ethenyl]-1,3,5-triazine 2,4-Bis(trichloromethyl)-6-[2-(furan-2-yl)ethenyl]-1,3,5-triazine 2,4-Bis(trichloromethyl)-6-[2-(4-diethylamino-2-methylphenyl)ethenyl]-1,3,5-triazine 2,4-Bis(trichloromethyl)-6-[2-(3,4-dimethoxyphenyl)ethenyl]-1,3,5-triazine 2-(4,6-diphenyl-1,3,5-triazin-2-yl)-5-[(hexyl)oxy]-phenol

光吸収性組成物における紫外線吸収性化合物の含有量は特定の値に限定されない。光吸収性組成物における紫外線吸収性化合物の含有量に対するホスホン酸の含有量の比RPUは、例えば、質量基準で、10~300である。これにより、紫外線吸収性化合物が光吸収性組成物の特性に不利な影響を及ぼしにくく、光吸収性組成物を用いて提供される光吸収膜及び光学フィルタがより確実に波長400nm付近の光を十分に吸収して遮蔽しやすい。比RPUは、望ましくは30~100である。 The content of the ultraviolet absorbing compound in the light absorbing composition is not limited to a specific value. The ratio R PU of the content of the phosphonic acid to the content of the ultraviolet absorbing compound in the light absorbing composition is, for example, 10 to 300 on a mass basis. This makes it difficult for the ultraviolet absorbing compound to adversely affect the properties of the light absorbing composition, and makes it easier for the light absorbing film and optical filter provided using the light absorbing composition to more reliably sufficiently absorb and block light with a wavelength of around 400 nm. The ratio R PU is preferably 30 to 100.

光吸収性組成物における紫外線吸収性化合物の含有量に対するアリール系ホスホン酸の含有量の比RURは、特定の値に限定されない。比RURは、例えば、質量基準で7~180であり、望ましくは20~60である。光吸収性組成物における紫外線吸収性化合物の含有量に対するアルキル系ホスホン酸の含有量の比RULは、特定の値に限定されない。比RULは、例えば、質量基準で3~120であり、望ましくは10~40である。これらにより、光吸収性組成物を用いて提供される光吸収膜及び光学フィルタがより確実に人間の視感度に対応した透過スペクトルに近しい分光特性を有しやすい。 The ratio R UR of the content of the aryl phosphonic acid to the content of the ultraviolet absorbing compound in the light absorbing composition is not limited to a specific value. The ratio R UR is, for example, 7 to 180 on a mass basis, and preferably 20 to 60. The ratio R UL of the content of the alkyl phosphonic acid to the content of the ultraviolet absorbing compound in the light absorbing composition is not limited to a specific value. The ratio R UL is, for example, 3 to 120 on a mass basis, and preferably 10 to 40. As a result, the light absorbing film and optical filter provided using the light absorbing composition are more likely to have spectral characteristics close to a transmission spectrum corresponding to the visual sensitivity of humans.

光吸収性組成物は、例えば、マトリクスをさらに含有している。ホスホン酸含有化合物及び紫外線吸収性化合物は、典型的には、マトリクス中に分散している。このマトリクスは、光吸収性組成物を硬化させて得られる光吸収膜に関する透過スペクトルにおいて、16≦T550/T400及び16≦T550/T800の条件が満たされる限り、特定の材料に限定されない。光吸収性組成物に含まれるマトリクスは、典型的には、波長400nm~600nmにおいて高い透過性を有する材料である。例えば、0.1mmの厚みの層をその材料のみで形成したときに、波長400nm~600nmにおけるその層の透過率は、例えば70%以上であり、望ましくは75%以上であり、より望ましくは80%以上であり、さらに望ましくは85%以上である。 The light-absorbing composition further contains, for example, a matrix. The phosphonic acid-containing compound and the ultraviolet absorbing compound are typically dispersed in the matrix. The matrix is not limited to a specific material as long as the conditions of 16≦T 550 /T 400 and 16≦T 550 /T 800 are satisfied in the transmission spectrum of the light-absorbing film obtained by curing the light-absorbing composition. The matrix contained in the light-absorbing composition is typically a material having high transmittance at wavelengths of 400 nm to 600 nm. For example, when a layer having a thickness of 0.1 mm is formed using only that material, the transmittance of that layer at wavelengths of 400 nm to 600 nm is, for example, 70% or more, preferably 75% or more, more preferably 80% or more, and even more preferably 85% or more.

光吸収性組成物に含まれるマトリクスの材料は、例えば、樹脂である。光吸収性組成物に含まれる樹脂の種類は、特定の種類に限定されない。その樹脂は、例えば、環状ポリオレフィン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリイミド系樹脂、変性アクリル樹脂、シリコーン樹脂、又はPVB等のポリビニル系樹脂である。樹脂は、熱又は光等のエネルギー照射によって硬化しうる硬化性樹脂であってもよい。なお、光吸収性組成物に含まれるマトリクスは、金属成分を含むアルコキシドをゾルゲル法に従って加水分解及び縮重合させることによって形成される有機無機ハイブリッド材料又は無機材料であってもよい。 The material of the matrix contained in the light absorbing composition is, for example, a resin. The type of resin contained in the light absorbing composition is not limited to a specific type. The resin is, for example, a cyclic polyolefin resin, an epoxy resin, a polyimide resin, a modified acrylic resin, a silicone resin, or a polyvinyl resin such as PVB. The resin may be a curable resin that can be cured by energy irradiation such as heat or light. The matrix contained in the light absorbing composition may be an organic-inorganic hybrid material or an inorganic material formed by hydrolyzing and condensing an alkoxide containing a metal component according to a sol-gel method.

光吸収性組成物は、必要に応じて、リン酸エステルを含んでいてもよい。リン酸エステルの働きにより、光吸収性組成物及び光吸収性組成物を硬化させて光吸収膜において、ホスホン酸含有化合物が適切に分散しやすい。リン酸エステルは、ホスホン酸含有化合物の分散剤として機能していてもよく、その一部が金属成分と反応して化合物を形成していてもよい。例えば、リン酸エステルは、銅成分及びホスホン酸を含むホスホン酸含有化合物に配位し、又は、その化合物と反応していてもよい。ホスホン酸含有化合物には、これらの化合物又はこれらの銅塩の成分が含まれていてもよい。 The light-absorbing composition may contain a phosphate ester as necessary. The phosphate ester facilitates proper dispersion of the phosphonic acid-containing compound in the light-absorbing composition and in the light-absorbing film obtained by curing the light-absorbing composition. The phosphate ester may function as a dispersant for the phosphonic acid-containing compound, and a portion of the phosphate ester may react with a metal component to form a compound. For example, the phosphate ester may be coordinated to a phosphonic acid-containing compound containing a copper component and phosphonic acid, or may react with the compound. The phosphonic acid-containing compound may contain these compounds or their copper salt components.

リン酸エステルは、特定のリン酸エステルに限定されない。リン酸エステルは、例えば、ポリオキシアルキル基を有する。このようなリン酸エステルとしては、プライサーフA208N:ポリオキシエチレンアルキル(C12、C13)エーテルリン酸エステル、プライサーフA208F:ポリオキシエチレンアルキル(C8)エーテルリン酸エステル、プライサーフA208B:ポリオキシエチレンラウリルエーテルリン酸エステル、プライサーフA219B:ポリオキシエチレンラウリルエーテルリン酸エステル、プライサーフAL:ポリオキシエチレンスチレン化フェニルエーテルリン酸エステル、プライサーフA212C:ポリオキシエチレントリデシルエーテルリン酸エステル、又はプライサーフA215C:ポリオキシエチレントリデシルエーテルリン酸エステルが挙げられる。これらはいずれも第一工業製薬社製の製品である。加えて、リン酸エステルとして、NIKKOL DDP-2:ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル、NIKKOL DDP-4:ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル、又はNIKKOL DDP-6:ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステルが挙げられる。これらは、いずれも日光ケミカルズ社製の製品である。 The phosphate ester is not limited to a specific phosphate ester. The phosphate ester has, for example, a polyoxyalkyl group. Examples of such phosphate esters include Plysurf A208N: polyoxyethylene alkyl (C12, C13) ether phosphate ester, Plysurf A208F: polyoxyethylene alkyl (C8) ether phosphate ester, Plysurf A208B: polyoxyethylene lauryl ether phosphate ester, Plysurf A219B: polyoxyethylene lauryl ether phosphate ester, Plysurf AL: polyoxyethylene styrenated phenyl ether phosphate ester, Plysurf A212C: polyoxyethylene tridecyl ether phosphate ester, or Plysurf A215C: polyoxyethylene tridecyl ether phosphate ester. All of these are products manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd. In addition, examples of phosphate esters include NIKKOL DDP-2: polyoxyethylene alkyl ether phosphate ester, NIKKOL DDP-4: polyoxyethylene alkyl ether phosphate ester, and NIKKOL DDP-6: polyoxyethylene alkyl ether phosphate ester. All of these are products manufactured by Nikko Chemicals Co., Ltd.

光吸収性組成物におけるリン酸エステルの含有量は、特定の値に限定されない。光吸収性組成物におけるリン酸エステルの含有量に対するホスホン酸の含有量の比RPEは、例えば、質量基準で1.0以上である。これにより、光吸収性組成物を用いて提供される光吸収膜及び光学フィルタが水蒸気と接触してもリン酸エステルの加水分解が抑制され光吸収膜及び光学フィルタが良好な耐候性を有しやすい。比RPEは、望ましくは、1.5以上である。比RPEは、1.0~3.0であってもよい。比RPEが3.0以下であることにより、ホスホン酸含有化合物の凝集を防止でき、光吸収性組成物を用いて提供される光吸収膜及び光学フィルタにおいて可視光域に属する光の透過率がより確実に高くなりやすい。良好な耐候性及び良好な光学特性の観点から、比RPEは、望ましくは1.5~2.0である。 The content of the phosphoric acid ester in the light-absorbing composition is not limited to a specific value. The ratio R PE of the content of the phosphonic acid to the content of the phosphoric acid ester in the light-absorbing composition is, for example, 1.0 or more on a mass basis. This makes it possible to suppress hydrolysis of the phosphoric acid ester even when the light-absorbing film and optical filter provided using the light-absorbing composition come into contact with water vapor, and the light-absorbing film and optical filter tend to have good weather resistance. The ratio R PE is preferably 1.5 or more. The ratio R PE may be 1.0 to 3.0. By making the ratio R PE 3.0 or less, aggregation of the phosphonic acid-containing compound can be prevented, and the transmittance of light belonging to the visible light range in the light-absorbing film and optical filter provided using the light-absorbing composition tends to be more reliably high. From the viewpoint of good weather resistance and good optical properties, the ratio R PE is preferably 1.5 to 2.0.

光吸収性組成物は、例えば、必要に応じて、金属アルコキシド、金属アルコキシドの加水分解縮合物、シリコンアルコキシド、及びシリコンアルコキシドの加水分解縮合物からなる群より選ばれる少なくとも1つをさらに含んでいてもよい。これにより、光吸収性組成物、又は、光吸収性組成物を用いて提供される光吸収膜及び光学フィルタにおいて、ホスホン酸含有化合物が均一に分散しやすい。光吸収性組成物において、この群から選ばれる少なくとも2つが混合された状態で含まれていてもよい。例えば、リン酸エステル、金属アルコキシド、又はシリコンアルコキシドは、光吸収性組成物の調製において、銅成分及びホスホン酸等の成分とともに混合される。この場合、金属アルコキシド、及びシリコンアルコキシドの一部は、光吸収性組成物の調製において、銅成分またはホスホン酸等の成分やこれらを含む化合物との相互作用により、ホスホン酸含有化合物を含む微粒子に含有されていてもよい。 The light-absorbing composition may further contain at least one selected from the group consisting of metal alkoxides, hydrolysis condensates of metal alkoxides, silicon alkoxides, and hydrolysis condensates of silicon alkoxides, as necessary. This makes it easier for the phosphonic acid-containing compound to be uniformly dispersed in the light-absorbing composition, or in the light-absorbing film and optical filter provided using the light-absorbing composition. In the light-absorbing composition, at least two selected from this group may be contained in a mixed state. For example, the phosphate ester, metal alkoxide, or silicon alkoxide is mixed with a copper component and a component such as phosphonic acid in the preparation of the light-absorbing composition. In this case, a part of the metal alkoxide and silicon alkoxide may be contained in the fine particles containing the phosphonic acid-containing compound by interaction with the copper component or the component such as phosphonic acid or a compound containing these in the preparation of the light-absorbing composition.

金属アルコキシド又は金属アルコキシドの加水分解縮合物を形成する金属アルコキシドは、例えば、Li、Na、Mg、Ca、Sr、Ba、Ge、Sn、Pb、Al、Ga、In、Tl、Zn、Cd、Cu、Ag、Au、Ni、Pd、Pt、Co、Rh、Ir、Fe、Mn、Cr、Mo、W、V、Nb、Ta、Ti、及びZrからなる群より選択される少なくとも1つの金属のアルコキシドである。 The metal alkoxide that forms the metal alkoxide or the hydrolysis condensate of the metal alkoxide is, for example, an alkoxide of at least one metal selected from the group consisting of Li, Na, Mg, Ca, Sr, Ba, Ge, Sn, Pb, Al, Ga, In, Tl, Zn, Cd, Cu, Ag, Au, Ni, Pd, Pt, Co, Rh, Ir, Fe, Mn, Cr, Mo, W, V, Nb, Ta, Ti, and Zr.

光吸収性組成物を用いて、例えば、図1に示す光吸収膜10を提供できる。光吸収膜10は、例えば、光吸収性組成物の塗膜を硬化させることによって得られる。このため、光吸収膜10は、ホスホン酸及び銅成分を含む化合物と、紫外線吸収性化合物とを含有している。 The light-absorbing composition can be used to provide, for example, the light-absorbing film 10 shown in FIG. 1. The light-absorbing film 10 can be obtained, for example, by curing a coating of the light-absorbing composition. Therefore, the light-absorbing film 10 contains a compound containing phosphonic acid and a copper component, and an ultraviolet absorbing compound.

光吸収膜10の厚みは特定の値に限定されない。例えば、光吸収膜が所望の光吸収性を発揮しつつ、光吸収性膜の厚みを薄くするために、光吸収性組成物に含有されるホスホン酸含有化合物及び紫外線吸収性化合物の濃度を高めることが考えられる。この場合、各化合物の分散性を所望の状態に保てない可能性がある。一方、例えば、撮像装置等の光吸収膜を備える機器の低背位化の要請に応えるためには、光吸収性膜の厚みが小さいことが有利である。このような観点から、光吸収膜10の厚みは、例えば25μm~500μmであり、望ましくは50μm~300μmであり、より望ましくは75μm~250μmである。 The thickness of the light-absorbing film 10 is not limited to a specific value. For example, in order to reduce the thickness of the light-absorbing film while the light-absorbing film exhibits the desired light absorption, it is possible to increase the concentration of the phosphonic acid-containing compound and the ultraviolet absorbing compound contained in the light-absorbing composition. In this case, the dispersibility of each compound may not be maintained in the desired state. On the other hand, in order to meet the demand for a low profile of a device equipped with a light-absorbing film, such as an imaging device, it is advantageous for the thickness of the light-absorbing film to be small. From this perspective, the thickness of the light-absorbing film 10 is, for example, 25 μm to 500 μm, preferably 50 μm to 300 μm, and more preferably 75 μm to 250 μm.

図1に示す通り、光学フィルタ1aは、光吸収膜10を備えている。これにより、光学フィルタ1aは、波長400nm付近の光を十分に吸収して遮蔽しやすく、紫外線域に属する光を遮蔽しやすい。さらに、光学フィルタ1aにおいて可視光域に属する光の透過率が高くなりやすい。 As shown in FIG. 1, the optical filter 1a is provided with a light absorbing film 10. This allows the optical filter 1a to adequately absorb and easily block light with a wavelength of about 400 nm, and to easily block light in the ultraviolet range. Furthermore, the optical filter 1a tends to have a high transmittance for light in the visible light range.

光学フィルタ1aは、例えば、光吸収膜10単体で構成されている。光学フィルタ1aが光吸収膜10単体で構成されている場合、その形態を鑑みて光吸収性フィルム又は光吸収性シートと称してもよい。光学フィルタ1aは、例えば、撮像素子又は光学部品とは別体で使用されうる。この場合、光学フィルタ1aは、光学フィルタに関する公知の方法に従って作製できる。例えば、基板上に光吸収性組成物を塗布して塗膜を形成し、その塗膜を硬化させて光吸収膜10を形成する。その後、光吸収膜10を基板から剥離してフィルム又はシート状とする。これにより、フィルム又はシート状の光学フィルタ1aを作製できる。この場合、基板の材料は、ガラスであってもよく、樹脂であってもよく、金属であってもよい。基板の表面には、フッ素含有化合物を用いたコーティング等の表面処理が施されていてもよい。光吸収膜10は、このような溶液流延法(ソルベントキャスティング法)によって作製されうる。例えば、光学フィルタ1aを備えた撮像装置を提供できる。 The optical filter 1a is, for example, composed of a single light absorbing film 10. When the optical filter 1a is composed of a single light absorbing film 10, it may be called a light absorbing film or a light absorbing sheet in consideration of its form. The optical filter 1a may be used, for example, separately from an imaging element or an optical component. In this case, the optical filter 1a can be produced according to a known method related to optical filters. For example, a light absorbing composition is applied to a substrate to form a coating film, and the coating film is cured to form the light absorbing film 10. Thereafter, the light absorbing film 10 is peeled off from the substrate to form a film or sheet. In this way, the film or sheet-shaped optical filter 1a can be produced. In this case, the material of the substrate may be glass, resin, or metal. The surface of the substrate may be subjected to a surface treatment such as coating using a fluorine-containing compound. The light absorbing film 10 can be produced by such a solution casting method. For example, an imaging device equipped with the optical filter 1a can be provided.

光学フィルタ1aは、撮像素子及び光学部品に対して接して形成されていてもよい。一方、上記の光吸収性組成物を撮像素子又は光学部品に塗布して、光吸収性組成物を硬化させることによって、光吸収膜10が構成されていてもよい。これにより、光吸収膜付撮像素子又は光吸収膜付光学部品を作製できる。光学部品は、例えば、レンズ又はカバーガラスなどである。例えば、光吸収膜付撮像素子又は光吸収膜付光学部品を備えた撮像装置を提供できる。 The optical filter 1a may be formed in contact with the imaging element and the optical component. On the other hand, the light absorbing film 10 may be formed by applying the above-mentioned light absorbing composition to the imaging element or the optical component and curing the light absorbing composition. In this way, an imaging element with a light absorbing film or an optical component with a light absorbing film can be produced. The optical component is, for example, a lens or a cover glass. For example, an imaging device equipped with an imaging element with a light absorbing film or an optical component with a light absorbing film can be provided.

光学フィルタ1aは、例えば、図2に示す光学フィルタ1bのように変更されてもよい。光学フィルタ1bは、特に説明する部分を除き、光学フィルタ1aと同様に構成されている。光学フィルタ1aの構成要素と同一又は対応する光学フィルタ1bの構成要素には同一の符号を付し、詳細な説明を省略する。光学フィルタ1aに関する説明は技術的に矛盾しない限り光学フィルタ1bにも当てはまる。 Optical filter 1a may be modified, for example, to optical filter 1b shown in FIG. 2. Optical filter 1b is configured in the same manner as optical filter 1a, except for the parts that will be specifically described. The same reference numerals are used to designate components of optical filter 1b that are the same as or correspond to those of optical filter 1a, and detailed descriptions are omitted. The description of optical filter 1a also applies to optical filter 1b, so long as there is no technical contradiction.

図2に示す通り、光学フィルタ1bは、光吸収膜10と、透明誘電体基板20とを備えている。光吸収膜10は、透明誘電体基板20の一方の主面と平行に形成されている。光吸収膜10は、例えば、透明誘電体基板20の一方の主面に接触していてもよい。この場合、例えば、透明誘電体基板20の一方の主面に上記の光吸収性組成物を塗布して光吸収性組成物を硬化させることによって光吸収膜10が形成されうる。 As shown in FIG. 2, the optical filter 1b includes a light absorbing film 10 and a transparent dielectric substrate 20. The light absorbing film 10 is formed parallel to one of the main surfaces of the transparent dielectric substrate 20. The light absorbing film 10 may be in contact with one of the main surfaces of the transparent dielectric substrate 20, for example. In this case, the light absorbing film 10 can be formed, for example, by applying the above-mentioned light absorbing composition to one of the main surfaces of the transparent dielectric substrate 20 and curing the light absorbing composition.

透明誘電体基板20の種類は、特定の種類に限定されない。透明誘電体基板20は、赤外線領域に吸収能を有していてもよい。透明誘電体基板20は、例えば波長350nm~900nmにおいて90%以上の平均分光透過率を有していてもよい。透明誘電体基板20の材料は、特定の材料に制限されないが、例えば、所定のガラス又は樹脂である。透明誘電体基板20の材料がガラスである場合、透明誘電体基板20は、例えば、ソーダ石灰ガラス及びホウケイ酸ガラスなどのケイ酸塩ガラスでできた透明なガラス又はCu及びCo等の着色性の成分を含有するリン酸塩ガラス及び弗リン酸塩ガラスでありうる。着色性の成分を含有するリン酸塩ガラス及び弗リン酸塩ガラスは、例えば赤外線吸収性ガラスであり、それ自体が光吸収性を有する。光吸収膜10を、赤外線吸収性ガラスの透明誘電体基板20とともに用いる場合には、双方の光吸収性及び透過スペクトルを調整して、所望の光学特性を有する光学フィルタを作製でき、光学フィルタの設計の自由度が高い。 The type of the transparent dielectric substrate 20 is not limited to a specific type. The transparent dielectric substrate 20 may have an absorption ability in the infrared region. The transparent dielectric substrate 20 may have an average spectral transmittance of 90% or more at wavelengths of, for example, 350 nm to 900 nm. The material of the transparent dielectric substrate 20 is not limited to a specific material, but may be, for example, a specific glass or resin. When the material of the transparent dielectric substrate 20 is glass, the transparent dielectric substrate 20 may be, for example, transparent glass made of silicate glass such as soda-lime glass and borosilicate glass, or phosphate glass and fluorophosphate glass containing coloring components such as Cu and Co. Phosphate glass and fluorophosphate glass containing coloring components are, for example, infrared absorbing glass, and are themselves light absorbing. When the light absorbing film 10 is used together with the transparent dielectric substrate 20 of infrared absorbing glass, the light absorption and transmission spectrum of both can be adjusted to produce an optical filter having desired optical characteristics, and the degree of freedom in designing the optical filter is high.

透明誘電体基板20の材料が樹脂である場合、その樹脂は、例えば、ノルボルネン系樹脂等のシクロオレフィン系樹脂、ポリアリレート系樹脂、アクリル樹脂、変性アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリサルホン樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂、ポリカーボネート樹脂、又はシリコーン樹脂である。 When the material of the transparent dielectric substrate 20 is a resin, the resin is, for example, a cycloolefin resin such as a norbornene resin, a polyarylate resin, an acrylic resin, a modified acrylic resin, a polyimide resin, a polyetherimide resin, a polysulfone resin, a polyethersulfone resin, a polycarbonate resin, or a silicone resin.

光学フィルタ1a及び1bのそれぞれは、赤外線反射膜及び反射防止膜等の他の機能膜をさらに備えるように変更されてもよい。このような機能膜は、光吸収膜10又は透明誘電体基板20の上に形成されうる。例えば、光学フィルタが反射防止膜を備えることにより、所定の波長の範囲(例えば可視光域)の透過率を高めることができる。反射防止膜は、MgF2及びSiO2等の低屈折率材料の層として構成されていてもよく、このような低屈折率材料の層とTiO2等の高屈折率材料の層との積層体として構成されていてもよく、誘電体多層膜として構成されていてもよい。このような反射防止膜は、真空蒸着及びスパッタ法等の物理的な反応を伴う方法、又は、CVD法及びゾルゲル法等の化学的な反応を伴う方法によって形成されうる。 Each of the optical filters 1a and 1b may be modified to further include other functional films, such as an infrared reflection film and an anti-reflection film. Such functional films may be formed on the light absorbing film 10 or the transparent dielectric substrate 20. For example, the optical filter may include an anti-reflection film to increase the transmittance in a predetermined wavelength range (for example, the visible light range). The anti-reflection film may be configured as a layer of a low refractive index material such as MgF2 and SiO2 , or may be configured as a laminate of such a layer of a low refractive index material and a layer of a high refractive index material such as TiO2 , or may be configured as a dielectric multilayer film. Such an anti-reflection film may be formed by a method involving a physical reaction, such as vacuum deposition and sputtering, or by a method involving a chemical reaction, such as CVD and sol-gel.

光学フィルタは、例えば、二枚の板状のガラスの間に光吸収膜10が配置された状態で構成されていてもよい。これにより、光学フィルタの剛性及び機械的強度が向上する。加えて、光学フィルタの主面が硬質となり、キズ防止等の観点から有利である。特に、光吸収膜10におけるバインダー又はマトリクスとして比較的柔軟性の高い樹脂を用いた場合に、このような利点が重要である。 The optical filter may be constructed, for example, with the light absorbing film 10 disposed between two sheets of glass. This improves the rigidity and mechanical strength of the optical filter. In addition, the main surface of the optical filter becomes hard, which is advantageous from the standpoint of preventing scratches, etc. This advantage is particularly important when a relatively flexible resin is used as the binder or matrix in the light absorbing film 10.

実施例により、本発明をより詳細に説明する。なお、本発明は以下の実施例に限定されない。まず、各実施例及び各比較例に係る光学フィルタの評価方法について説明する。 The present invention will be described in more detail with reference to examples. Note that the present invention is not limited to the following examples. First, the evaluation method of the optical filters according to each example and each comparative example will be described.

(透過スペクトル測定)
日本分光社製の紫外可視近赤外分光光度計V-670を用いて、各実施例及び各比較例に係る光学フィルタの0°の入射角における透過スペクトルを測定した。
(Transmission spectrum measurement)
The transmission spectrum of the optical filters according to each of the examples and comparative examples at an incident angle of 0° was measured using a UV-Vis-NIR spectrophotometer V-670 manufactured by JASCO Corporation.

(厚み測定)
マイクロメータを用いて各実施例及び各比較例に係る光学フィルタの厚みを測定した。その結果を表4に示す。
(Thickness measurement)
The thickness of the optical filters according to each of the examples and comparative examples was measured using a micrometer. The results are shown in Table 4.

<実施例1>
酢酸銅一水和物4.500gとテトラヒドロフラン(THF)240gとを混合して、3時間撹拌し酢酸銅溶液を得た。次に、得られたこの酢酸銅溶液に、リン酸エステル化合物であるプライサーフA208N(第一工業製薬社製)を1.444gの分量で加えて30分間撹拌し、1-A液を得た。フェニルホスホン酸3.576gにTHF40gを加えて30分間撹拌し、1-B液を得た。次に、1-B液に、メチルトリエトキシシラン(MTES)(信越化学工業社製、製品名:KBE-13)8.664gと、テトラエトキシシラン(TEOS)(キシダ化学社製 特級)2.840gとを加えて、さらに1分間撹拌し、1-C液を得た。1-A液を撹拌しながら1-A液に1-C液を加え、室温で1分間撹拌した。次に、この溶液にトルエン140gを加えた後、室温で1分間撹拌し、1-D液を得た。1-D液をフラスコに入れてオイルバス(東京理化器械社製、型式:OSB-2100)で加温しながら、ロータリーエバポレータ(東京理化器械社製、型式:N-1110SF)によって、脱溶媒処理を行った。オイルバスの設定温度は、105℃に調整した。その後、フラスコの中から脱溶媒処理後の液を取り出し、1-E液を得た。1-E液は、アリール系ホスホン酸及び銅成分を含む化合物の分散液であった。
Example 1
4.500 g of copper acetate monohydrate and 240 g of tetrahydrofuran (THF) were mixed and stirred for 3 hours to obtain a copper acetate solution. Next, 1.444 g of Plysurf A208N (manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.), which is a phosphate ester compound, was added to the obtained copper acetate solution and stirred for 30 minutes to obtain a 1-A solution. 40 g of THF was added to 3.576 g of phenylphosphonic acid and stirred for 30 minutes to obtain a 1-B solution. Next, 8.664 g of methyltriethoxysilane (MTES) (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., product name: KBE-13) and 2.840 g of tetraethoxysilane (TEOS) (manufactured by Kishida Chemical Co., Ltd., special grade) were added to the 1-B solution and stirred for another 1 minute to obtain a 1-C solution. While stirring the 1-A solution, the 1-C solution was added to the 1-A solution, and stirred at room temperature for 1 minute. Next, 140 g of toluene was added to this solution, and the mixture was stirred at room temperature for 1 minute to obtain solution 1-D. Solution 1-D was placed in a flask and heated in an oil bath (manufactured by Tokyo Rika Kikai Co., Ltd., model: OSB-2100) while undergoing a solvent removal treatment using a rotary evaporator (manufactured by Tokyo Rika Kikai Co., Ltd., model: N-1110SF). The set temperature of the oil bath was adjusted to 105°C. Thereafter, the solution after solvent removal treatment was taken out of the flask to obtain solution 1-E. Solution 1-E was a dispersion of a compound containing an aryl phosphonic acid and a copper component.

酢酸銅一水和物3.600gと、THF200gとを混合して3時間撹拌し、酢酸銅溶液を得た。次に、得られた酢酸銅溶液に、リン酸エステル化合物であるプライサーフA208Nを2.058gの分量で加えて30分間撹拌し、1-F液を得た。また、n‐ブチルホスホン酸2.309gにTHF40gを加えて30分間撹拌し、1-G液を得た。1-F液を撹拌しながら1-F液に1-G液を加え、室温で1分間撹拌した。次に、この溶液にトルエンを80g加えた後、室温で1分間撹拌し、1-H液を得た。この1-H液をフラスコに入れてオイルバスで加温しながら、ロータリーエバポレータによって、脱溶媒処理を行った。オイルバスの設定温度は、105℃に調整した。その後、フラスコの中から脱溶媒処理後の液を取り出し、1-I液を得た。1-I液は、ブチルホスホン酸及び銅成分を含む化合物の分散液であった。 3.600 g of copper acetate monohydrate was mixed with 200 g of THF and stirred for 3 hours to obtain a copper acetate solution. Next, 2.058 g of Plysurf A208N, a phosphate ester compound, was added to the obtained copper acetate solution and stirred for 30 minutes to obtain 1-F solution. 40 g of THF was added to 2.309 g of n-butylphosphonic acid and stirred for 30 minutes to obtain 1-G solution. 1-G solution was added to 1-F solution while stirring, and stirred at room temperature for 1 minute. Next, 80 g of toluene was added to this solution, and stirred at room temperature for 1 minute to obtain 1-H solution. This 1-H solution was placed in a flask and heated in an oil bath, and a solvent removal treatment was performed using a rotary evaporator. The temperature of the oil bath was adjusted to 105°C. After that, the liquid after the solvent removal treatment was taken out of the flask to obtain 1-I solution. 1-I solution was a dispersion of a compound containing butylphosphonic acid and a copper component.

トリアジン系紫外線吸収性化合物0.3gとトルエン99.7gとを混合して紫外線吸収性化合物の分散液である1-J液を得た。0.1mmの光路長を有する日本分光社製の石英セル(型番J/20/C/CD)に1-J液を入れて試料を作製し、この試料を用いてトリアジン系紫外線吸収性化合物の透過スペクトルを測定した。測定された透過スペクトルを図11に示す。この透過スペクトルによれば、トリアジン系紫外線吸収性化合物の吸収極大波長λM UV-C=378nmであり、吸収極大波長λM UV-Cにおける透過率は9.90%であった。また、λ50%-S UV-C=329nm、λ50%-L UV-C=419nm、λ50%-L UV-C-λ50%-S UV-C=90nmであった。さらに、λ80% UV-C=433nmであり、Δλ80/50 UV-C=2.14であった。 0.3 g of a triazine-based ultraviolet absorbing compound and 99.7 g of toluene were mixed to obtain 1-J solution, which is a dispersion of the ultraviolet absorbing compound. The 1-J solution was put into a quartz cell (model number J/20/C/CD) manufactured by JASCO Corporation having an optical path length of 0.1 mm to prepare a sample, and the transmission spectrum of the triazine-based ultraviolet absorbing compound was measured using this sample. The measured transmission spectrum is shown in FIG. 11. According to this transmission spectrum, the absorption maximum wavelength λ M UV-C of the triazine-based ultraviolet absorbing compound was 378 nm, and the transmittance at the absorption maximum wavelength λ M UV-C was 9.90%. In addition, λ 50%-S UV-C = 329 nm, λ 50%-L UV-C = 419 nm, and λ 50%-L UV-C - λ 50%-S UV-C = 90 nm. Furthermore, λ 80% UV-C = 433 nm and Δλ 80/50 UV-C = 2.14.

1-E液、1-I液、20.00gの1-J液、8.80gの信越化学工業社製のシリコーン樹脂KR-300、及び0.09gの信越化学工業社製のアルミニウムアルコキシド化合物CAT-ACを混合して、30分間撹拌し、実施例1に係る光吸収性組成物を得た。 Liquid 1-E, liquid 1-I, 20.00 g of liquid 1-J, 8.80 g of silicone resin KR-300 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., and 0.09 g of aluminum alkoxide compound CAT-AC manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. were mixed and stirred for 30 minutes to obtain the light absorbing composition according to Example 1.

表面防汚コーティング剤(ダイキン工業社製、製品名:オプツールDSX、有効成分の濃度:20質量%)0.1gと、ハイドロフルオロエーテル含有液(3M社製、製品名:ノベック7100)19.9gとを混合し、5分間撹拌して、フッ素処理剤(有効成分の濃度:0.1質量%)を調製した。このフッ素処理剤を、76mm×76mm×0.21mの寸法を有するホウケイ酸ガラス(SCHOTT社製、製品名:D263 T eco)の基板にかけ流して塗布した。その後、そのガラス基板を室温で24時間放置してフッ素処理剤の塗膜を乾燥させ、その後、ノベック7100を含んだ無塵布で軽くガラス基板の表面を拭きあげて余分なフッ素処理剤を取り除いた。このようにしてフッ素処理基板を作製した。フッ素処理基板の一方の主面の中心部の40mm×40mmの範囲にディスペンサを用いて実施例1に係る光吸収性組成物を塗布して塗膜を形成した。得られた塗膜を室温で十分に乾燥させた後、オーブンに入れて45℃で2時間、85℃で6時間の熱処理行い、溶媒を揮発させて硬化させた。その後フッ素処理基板から塗膜を引き剥がし、実施例1に係る光学フィルタを得た。このように、溶液流延法(ソルベントキャスティング法)によって実施例1に係る光学フィルタが得られた。実施例1に係る光学フィルタの透過スペクトルを図3に示し、この透過スペクトルから看取できる特性値を表3及び4に示す。 0.1 g of a surface antifouling coating agent (manufactured by Daikin Industries, product name: Optool DSX, concentration of active ingredient: 20% by mass) was mixed with 19.9 g of a hydrofluoroether-containing liquid (manufactured by 3M, product name: Novec 7100) and stirred for 5 minutes to prepare a fluorine treatment agent (concentration of active ingredient: 0.1% by mass). This fluorine treatment agent was poured onto a borosilicate glass substrate (manufactured by SCHOTT, product name: D263 T eco) having dimensions of 76 mm x 76 mm x 0.21 m. The glass substrate was then left at room temperature for 24 hours to dry the coating of the fluorine treatment agent, and the surface of the glass substrate was then lightly wiped with a dust-free cloth containing Novec 7100 to remove excess fluorine treatment agent. In this way, a fluorine-treated substrate was produced. The light absorbing composition according to Example 1 was applied to a 40 mm x 40 mm area in the center of one of the main surfaces of the fluorine-treated substrate using a dispenser to form a coating film. The resulting coating film was thoroughly dried at room temperature, and then placed in an oven and heat-treated at 45°C for 2 hours and at 85°C for 6 hours to volatilize the solvent and harden it. The coating film was then peeled off from the fluorine-treated substrate to obtain the optical filter according to Example 1. In this way, the optical filter according to Example 1 was obtained by the solution casting method. The transmission spectrum of the optical filter according to Example 1 is shown in Figure 3, and the characteristic values that can be seen from this transmission spectrum are shown in Tables 3 and 4.

<実施例2~5>
原材料の添加量を表1に示す通りに調整した以外は、実施例1と同様にして、実施例2に係る光吸収性組成物、実施例3に係る光吸収性組成物、実施例4に係る光吸収性組成物、及び実施例5に係る光吸収性組成物のそれぞれを調製した。実施例1に係る光吸収性組成物の代わりに、実施例2に係る光吸収性組成物、実施例3に係る光吸収性組成物、実施例4に係る光吸収性組成物、又は実施例5に係る光吸収性組成物を用いた以外は、実施例1と同様にして、それぞれ、実施例2に係る光学フィルタ、実施例3に係る光学フィルタ、実施例4に係る光学フィルタ、及び実施例5に係る光学フィルタを作製した。
<Examples 2 to 5>
A light absorbing composition according to Example 2, a light absorbing composition according to Example 3, a light absorbing composition according to Example 4, and a light absorbing composition according to Example 5 were each prepared in the same manner as in Example 1, except that the amounts of added raw materials were adjusted as shown in Table 1. An optical filter according to Example 2, an optical filter according to Example 3, an optical filter according to Example 4, and an optical filter according to Example 5 were each produced in the same manner as in Example 1, except that the light absorbing composition according to Example 2, the light absorbing composition according to Example 3, the light absorbing composition according to Example 4, or the light absorbing composition according to Example 5 was used instead of the light absorbing composition according to Example 1.

実施例2に係る光学フィルタ、実施例3に係る光学フィルタ、実施例4に係る光学フィルタ、及び実施例5に係る光学フィルタの透過スペクトルをそれぞれ図4、図5、図6、及び図7に示す。また、これらの透過スペクトルから看取できる各実施例に係る光学フィルタの特性値を表3及び4に示す。 The transmission spectra of the optical filter according to Example 2, the optical filter according to Example 3, the optical filter according to Example 4, and the optical filter according to Example 5 are shown in Figures 4, 5, 6, and 7, respectively. In addition, the characteristic values of the optical filters according to each Example that can be seen from these transmission spectra are shown in Tables 3 and 4.

<比較例1>
1-J液を用いず、他の原材料の添加量を表1に示す通りに調整した以外は、実施例1と同様にして比較例1に係る光吸収性組成物を調整した。実施例1に係る光吸収性組成物の代わりに、比較例1に係る光吸収性組成物を用いた以外は実施例1と同様にして比較例1に係る光学フィルタを作製した。比較例1に係る光学フィルタの透過スペクトルを図8に示す。また、この透過スペクトルから看取できる比較例1に係る光学フィルタの特性値を表3及び4に示す。
<Comparative Example 1>
A light-absorbing composition according to Comparative Example 1 was prepared in the same manner as in Example 1, except that no 1-J solution was used and the amounts of other raw materials added were adjusted as shown in Table 1. An optical filter according to Comparative Example 1 was produced in the same manner as in Example 1, except that the light-absorbing composition according to Comparative Example 1 was used instead of the light-absorbing composition according to Example 1. The transmission spectrum of the optical filter according to Comparative Example 1 is shown in FIG. 8. Furthermore, characteristic values of the optical filter according to Comparative Example 1 that can be seen from this transmission spectrum are shown in Tables 3 and 4.

<比較例2>
フェニルホスホン酸に加えて4-ブロモフェニルホスホン酸を用い、1-J液を用いず、他の原材料の添加量を表1に示す通りに調整した以外は、実施例1と同様にして、比較例2に係る光吸収性組成物を調整した。実施例1に係る光吸収性組成物の代わりに、比較例2に係る光吸収性組成物を用いた以外は実施例1と同様にして比較例2に係る光学フィルタを作製した。比較例2に係る光学フィルタの透過スペクトルを図9に示す。また、この透過スペクトルから看取できる比較例2に係る光学フィルタの特性値を表3及び4に示す。
<Comparative Example 2>
A light-absorbing composition according to Comparative Example 2 was prepared in the same manner as in Example 1, except that 4-bromophenylphosphonic acid was used in addition to phenylphosphonic acid, 1-J solution was not used, and the amounts of other raw materials added were adjusted as shown in Table 1. An optical filter according to Comparative Example 2 was produced in the same manner as in Example 1, except that the light-absorbing composition according to Comparative Example 2 was used instead of the light-absorbing composition according to Example 1. The transmission spectrum of the optical filter according to Comparative Example 2 is shown in FIG. 9. Furthermore, characteristic values of the optical filter according to Comparative Example 2 that can be seen from this transmission spectrum are shown in Tables 3 and 4.

<比較例3>
光学フィルタの厚みが500μmを超えるように光学フィルタの作製条件を調整した以外は、比較例2と同様にして比較例3に係る光学フィルタを作製した。比較例3に係る光学フィルタの透過スペクトルを図10に示す。また、この透過スペクトルから看取できる比較例3に係る光学フィルタの特性値を表3及び4に示す。
<Comparative Example 3>
Except for adjusting the manufacturing conditions of the optical filter so that the thickness of the optical filter exceeds 500 μm, an optical filter according to Comparative Example 3 was manufactured in the same manner as in Comparative Example 2. The transmission spectrum of the optical filter according to Comparative Example 3 is shown in Fig. 10. In addition, the characteristic values of the optical filter according to Comparative Example 3 that can be seen from this transmission spectrum are shown in Tables 3 and 4.

表3に示す通り、各実施例に係る光学フィルタの透過スペクトルにおいて、16≦T550/T400及び16≦T550/T800の条件が満たされており、各実施例に係る光学フィルタは、波長400nm付近の光を十分に吸収して遮蔽することが示唆された。一方、各比較例に係る光学フィルタの透過スペクトルにおいて、16≦T550/T800の条件は満たされていたものの、16≦T550/T400の条件は満たされておらず、各比較例に係る光学フィルタは、波長400nm付近の光を十分に吸収して遮蔽するとは言い難かった。表4に示す通り、各実施例に係る光学フィルタは、上記の(I)、(II)、(III)、(IV)、(V)、(VI)、(VII)、及び(VIII)の条件を満たしていた。加えて、各比較例に係る光学フィルタにおける第一カットオフ波長λ50% F及び第二カットオフ波長λ50% Sは、それぞれ、405nm以上480nm以下の範囲及び580nm以上720nm以下の範囲に存在していた。一方、比較例1及び2に係る光学フィルタは(I)の条件を満たしておらず、各比較例に係る光学フィルタは(II)の条件を満たしていなかった。加えて、比較例1に係る光学フィルタの第一カットオフ波長λ50% Fは、405nm未満であった。 As shown in Table 3, the optical filters according to the respective Examples satisfied the conditions of 16≦T 550 /T 400 and 16≦T 550 /T 800 in the transmission spectrum, suggesting that the optical filters according to the respective Examples sufficiently absorb and block light with a wavelength of about 400 nm. On the other hand, the optical filters according to the respective Comparative Examples satisfied the condition of 16≦T 550 /T 800 in the transmission spectrum, but did not satisfy the condition of 16≦T 550 /T 400 , and it was difficult to say that the optical filters according to the respective Comparative Examples sufficiently absorb and block light with a wavelength of about 400 nm. As shown in Table 4, the optical filters according to the respective Examples satisfied the above conditions (I), (II), (III), (IV), (V), (VI), (VII), and (VIII). In addition, the first cutoff wavelength λ 50% F and the second cutoff wavelength λ 50% S of the optical filters according to each comparative example were in the range of 405 nm or more and 480 nm or less and the range of 580 nm or more and 720 nm or less, respectively. On the other hand, the optical filters according to comparative examples 1 and 2 did not satisfy condition (I), and the optical filters according to each comparative example did not satisfy condition (II). In addition, the first cutoff wavelength λ 50% F of the optical filter according to comparative example 1 was less than 405 nm.

Figure 0007631465000002
Figure 0007631465000002

Figure 0007631465000003
Figure 0007631465000003

Figure 0007631465000004
Figure 0007631465000004

Figure 0007631465000005
Figure 0007631465000005

1a、1b 光学フィルタ
10 光吸収膜
20 透明誘電体基板
1a, 1b Optical filter 10 Light absorbing film 20 Transparent dielectric substrate

Claims (13)

ホスホン酸及び銅成分を含む光吸収性化合物と、
紫外線吸収性化合物と、を含み、
前記紫外線吸収性化合物の含有量に対する前記ホスホン酸の含有量の比が質量基準で10~300であり、
前記ホスホン酸は、アリール系ホスホン酸と、アルキル系ホスホン酸とを含み、
前記紫外線吸収性化合物の含有量に対する前記アリール系ホスホン酸の含有量の比は、質量基準で7~180であり、
前記紫外線吸収性化合物の含有量に対する前記アルキル系ホスホン酸の含有量の比は、質量基準で3~120であり、
前記紫外線吸収性化合物は、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾエート系化合物、シアノクリレート系化合物、又はトリアジン系化合物である、
光吸収性組成物。
a light absorbing compound comprising a phosphonic acid and a copper component;
an ultraviolet absorbing compound,
the ratio of the content of the phosphonic acid to the content of the ultraviolet absorbing compound is 10 to 300 by mass,
The phosphonic acid includes an aryl-based phosphonic acid and an alkyl-based phosphonic acid,
the ratio of the content of the aryl phosphonic acid to the content of the ultraviolet absorbing compound is 7 to 180 by mass,
a ratio of the content of the alkyl phosphonic acid to the content of the ultraviolet absorbing compound is 3 to 120 by mass,
The ultraviolet absorbing compound is a benzophenone-based compound, a benzotriazole-based compound, a benzoate-based compound, a cyanoacrylate-based compound, or a triazine-based compound;
Light absorbing composition.
前記光吸収性組成物が硬化して形成される光吸収膜の、0度の入射角度の透過スペクトルにおいて、波長700nm~1000nmの範囲における透過率の最大値が10%以下である、
請求項1に記載の光吸収性組成物。
a light-absorbing film formed by curing the light-absorbing composition has a maximum transmittance of 10% or less in a transmission spectrum at an incident angle of 0 degrees in a wavelength range of 700 nm to 1000 nm;
The light absorbing composition of claim 1 .
前記透過スペクトルは、次の(a)、(b)および(c)の少なくとも1つの要件を満たす、
請求項2に記載の光吸収性組成物。
(a)波長800nm~950nmの範囲内における透過率の最大値が3%以下、
(b)波長700nm~1100nmの範囲内における透過率の最大値が15%以下、
(c)波長700nm~1200nmの範囲内における透過率の最大値が20%以下。
The transmission spectrum satisfies at least one of the following requirements (a), (b) and (c):
The light absorbing composition of claim 2.
(a) the maximum transmittance in the wavelength range of 800 nm to 950 nm is 3% or less;
(b) the maximum transmittance in the wavelength range of 700 nm to 1100 nm is 15% or less;
(c) The maximum transmittance in the wavelength range of 700 nm to 1200 nm is 20% or less.
前記透過スペクトルは、波長580nm以上720nm以下の範囲内において透過率が50%となるカットオフ波長を有する、
請求項2に記載の光吸収性組成物。
The transmission spectrum has a cutoff wavelength at which the transmittance is 50% within a wavelength range of 580 nm or more and 720 nm or less.
The light absorbing composition of claim 2.
ホスホン酸及び銅成分を含む光吸収性化合物と、
紫外線吸収性化合物と、を含み、
前記紫外線吸収性化合物の含有量に対する前記ホスホン酸の含有量の比が質量基準で10~300であり、
前記ホスホン酸は、アリール系ホスホン酸と、アルキル系ホスホン酸とを含み、
前記紫外線吸収性化合物の含有量に対する前記アリール系ホスホン酸の含有量の比は、質量基準で7~180であり、
前記紫外線吸収性化合物の含有量に対する前記アルキル系ホスホン酸の含有量の比は、質量基準で3~120であり、
前記紫外線吸収性化合物は、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾエート系化合物、シアノクリレート系化合物、又はトリアジン系化合物である、
光吸収膜。
a light absorbing compound comprising a phosphonic acid and a copper component;
an ultraviolet absorbing compound,
a ratio of the content of the phosphonic acid to the content of the ultraviolet absorbing compound is 10 to 300 by mass,
The phosphonic acid includes an aryl-based phosphonic acid and an alkyl-based phosphonic acid,
the ratio of the content of the aryl phosphonic acid to the content of the ultraviolet absorbing compound is 7 to 180 by mass,
a ratio of the content of the alkyl phosphonic acid to the content of the ultraviolet absorbing compound is 3 to 120 by mass,
The ultraviolet absorbing compound is a benzophenone-based compound, a benzotriazole-based compound, a benzoate-based compound, a cyanoacrylate-based compound, or a triazine-based compound;
Light absorbing film.
0度の入射角度の透過スペクトルにおいて、波長700nm~1000nmの範囲における透過率の最大値が10%以下である、
請求項記載の光吸収膜。
In the transmission spectrum at an incident angle of 0 degrees, the maximum transmittance in the wavelength range of 700 nm to 1000 nm is 10% or less.
The light absorbing film according to claim 5 .
前記透過スペクトルは、次の(a)、(b)および(c)の少なくとも1つの要件を満たす、
請求項記載の光吸収膜。
(a)波長800nm~950nmの範囲内における透過率の最大値が3%以下、
(b)波長700nm~1100nmの範囲内における透過率の最大値が15%以下、
(c)波長700nm~1200nmの範囲内における透過率の最大値が20%以下。
The transmission spectrum satisfies at least one of the following requirements (a), (b) and (c):
The light absorbing film according to claim 6 .
(a) the maximum transmittance in the wavelength range of 800 nm to 950 nm is 3% or less;
(b) the maximum transmittance in the wavelength range of 700 nm to 1100 nm is 15% or less;
(c) The maximum transmittance in the wavelength range of 700 nm to 1200 nm is 20% or less.
前記透過スペクトルは、波長580nm以上720nm以下の範囲内において透過率が50%となるカットオフ波長を有する、
請求項記載の光吸収膜。
The transmission spectrum has a cutoff wavelength at which the transmittance is 50% within a wavelength range of 580 nm or more and 720 nm or less.
The light absorbing film according to claim 6 .
基板の表面に光吸収性組成物を塗布することと、
塗布された前記光吸収性組成物を硬化させて硬化物を得ることと、
前記硬化物を前記基板から剥離することと、を含み、
前記光吸収性組成物は、ホスホン酸及び銅成分を含む光吸収性化合物と、紫外線吸収性化合物と、を含み、
前記紫外線吸収性化合物の含有量に対する前記ホスホン酸の含有量の比が質量基準で10~300であり、
前記ホスホン酸は、アリール系ホスホン酸と、アルキル系ホスホン酸とを含み、
前記紫外線吸収性化合物の含有量に対する前記アリール系ホスホン酸の含有量の比は、質量基準で7~180であり、
前記紫外線吸収性化合物の含有量に対する前記アルキル系ホスホン酸の含有量の比は、質量基準で3~120であり、
前記紫外線吸収性化合物は、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾエート系化合物、シアノクリレート系化合物、又はトリアジン系化合物である、
光吸収膜の製造方法。
applying a light absorbing composition to a surface of a substrate;
curing the applied light absorbing composition to obtain a cured product ;
and peeling the cured product from the substrate.
The light absorbing composition includes a light absorbing compound including a phosphonic acid and a copper component, and an ultraviolet absorbing compound;
a ratio of the content of the phosphonic acid to the content of the ultraviolet absorbing compound is 10 to 300 by mass,
The phosphonic acid includes an aryl-based phosphonic acid and an alkyl-based phosphonic acid,
the ratio of the content of the aryl phosphonic acid to the content of the ultraviolet absorbing compound is 7 to 180 by mass,
a ratio of the content of the alkyl phosphonic acid to the content of the ultraviolet absorbing compound is 3 to 120 by mass,
The ultraviolet absorbing compound is a benzophenone-based compound, a benzotriazole-based compound, a benzoate-based compound, a cyanoacrylate-based compound, or a triazine-based compound;
A method for producing a light absorbing film.
前記光吸収膜の0度の入射角度の透過スペクトルにおいて、波長700nm~1000nmの範囲における透過率の最大値が10%以下である、
請求項記載の光吸収膜の製造方法。
In the transmission spectrum of the light absorbing film at an incident angle of 0 degrees, the maximum transmittance in the wavelength range of 700 nm to 1000 nm is 10% or less.
The method for producing the light absorbing film according to claim 9 .
前記透過スペクトルは、次の(a)、(b)および(c)の少なくとも1つを満たす、
請求項10記載の光吸収膜の製造方法。
(a)波長800nm~950nmの範囲内における透過率の最大値が3%以下、
(b)波長700nm~1100nmの範囲内における透過率の最大値が15%以下、
(c)波長700nm~1200nmの範囲内における透過率の最大値が20%以下。
The transmission spectrum satisfies at least one of the following (a), (b), and (c):
The method for producing the light absorbing film according to claim 10 .
(a) the maximum transmittance in the wavelength range of 800 nm to 950 nm is 3% or less;
(b) the maximum transmittance in the wavelength range of 700 nm to 1100 nm is 15% or less;
(c) The maximum transmittance in the wavelength range of 700 nm to 1200 nm is 20% or less.
前記透過スペクトルは、波長580nm以上720nm以下の範囲内において透過率が50%となるカットオフ波長を有する、
請求項10記載の光吸収膜の製造方法。
The transmission spectrum has a cutoff wavelength at which the transmittance is 50% within a wavelength range of 580 nm or more and 720 nm or less.
The method for producing the light absorbing film according to claim 10 .
請求項のいずれか1項に記載の光吸収膜を備える光学フィルタ。 An optical filter comprising the light absorbing film according to any one of claims 5 to 8 .
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