JP7631707B2 - Release Film - Google Patents
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Description
本発明は、離型フィルムに関する。 The present invention relates to a release film.
従来、光デバイス等の製造方法として、キャビティが形成された型に離型フィルムをキャビティに沿うように配設すると共に、キャビティ内に硬化性組成物を充填し、支持体上に設けられた光素子がキャビティ内の硬化性組成物に挿入されるように、支持体を型に圧接した状態で硬化性組成物を圧縮成形することにより硬化性組成物を一体化する方法が用いられている。この離型フィルムとしては、フッ素樹脂フィルム、ポリエステル樹脂フィルム及びポリオレフィン樹脂フィルムが用いられている(特許文献1)。 Conventionally, a method for manufacturing optical devices and the like has been used in which a release film is placed in a mold with a cavity so as to fit the cavity, the cavity is filled with a curable composition, and the curable composition is compression molded while the support is pressed against the mold so that the optical element provided on the support is inserted into the curable composition in the cavity, thereby integrating the curable composition. Fluoroplastic resin films, polyester resin films, and polyolefin resin films have been used as the release film (Patent Document 1).
しかしながら、本発明者らが検討した結果、上記特許文献1に記載されるような従来のフッ素樹脂フィルム、ポリエステル樹脂フィルム、およびポリオレフィン樹脂フィルムを用いて得られた成形体では、端部にゆがみが生じたり、表面にシワが形成される場合があった。すなわち、成形体の良好な外観を得る観点から改善の余地があることが判明した。 However, as a result of the inventors' investigations, molded articles obtained using conventional fluororesin films, polyester resin films, and polyolefin resin films as described in the above Patent Document 1 sometimes had distortions at the edges or wrinkles formed on the surface. In other words, it was found that there is room for improvement in terms of obtaining a good appearance for the molded article.
なお、上記問題は、CFRP(炭素繊維強化プラスチック)に代表される熱硬化性樹脂のプリプレグを硬化させる時に使用する離型フィルム、熱硬化性樹脂の成形用離型フィルム、立体形状を有する製品へ印刷等を施す加飾用転写離型フィルム等でも発生する。 The above problems also occur with release films used when hardening prepregs of thermosetting resins, such as CFRP (carbon fiber reinforced plastics), release films for molding thermosetting resins, and transfer release films for decoration, such as printing on products with three-dimensional shapes.
本発明者らは、成形体に生じるゆがみやシワの要因について鋭意検討を進めたところ、離型フィルムの離型層が所定の物性を有することで、離型フィルムが型に対して良好に追従したり、加熱圧縮による変形を抑制することで、離型フィルムにゆがみやシワが生じることを抑制できることを知見した。
そして、さらに検討を重ねた結果、離型層の引裂強度と破断伸びとの積算値、または熱処理前後での引裂強度の変化度合いを指標としてこれらを制御することで、離型フィルムのゆがみやシワの発生を適切に抑制し、離型フィルムを用いた成形体の外観を良好にできることを見出し、本発明を完成させた。
The inventors have thoroughly investigated the causes of distortion and wrinkles that occur in molded bodies and have found that when the release layer of a release film has certain physical properties, the release film can conform well to the mold and deformation due to heating and compression can be suppressed, thereby preventing distortion and wrinkles from occurring in the release film.
After further investigation, the inventors discovered that by controlling the integrated value of the tear strength and breaking elongation of the release layer, or the degree of change in tear strength before and after heat treatment, as indicators, it is possible to appropriately suppress the occurrence of distortion and wrinkles in the release film and improve the appearance of molded articles using the release film, thereby completing the present invention.
本発明によれば、
少なくとも一方の面を構成する層が、シリコーンゴム組成物の硬化物からなる離型フィルムであって、
以下の手順で測定される、当該シリコーンゴム組成物の硬化物の引裂強度をTS0(N/mm)、破断伸びをBE0s(%)としたとき、
2.4×104≦TS0×BE0sを満たす、離型フィルムが提供される。
(引裂強度の測定手順)
当該シリコーンゴム組成物の硬化物を用いて、JIS K6252(2001)に準拠して、クレセント形試験片を作製し、25℃における、得られたクレセント形試験片の引裂強度を測定し、TS0とする。単位はN/mmである。
(破断伸びの測定手順)
当該シリコーンゴム組成物の硬化物を用いて、JIS K6251(2004)に準拠して、ダンベル状3号形試験片を作製し、25℃における、得られたダンベル状3号形試験片の破断伸びを測定する。破断伸びは、[標線間移動距離(mm)]÷[初期標線間距離(20mm)]×100で計算し、BE0sとする。単位は%である。
According to the present invention,
A release film in which a layer constituting at least one surface thereof is made of a cured product of a silicone rubber composition,
When the tear strength of the cured product of the silicone rubber composition is TS0 (N/mm) and the elongation at break is BE0s (%), the following properties are obtained:
There is provided a release film that satisfies 2.4×10 4 ≦TS0×BE0s.
(Procedure for measuring tear strength)
A crescent-shaped test piece is prepared from the cured product of the silicone rubber composition in accordance with JIS K6252 (2001), and the tear strength of the obtained crescent-shaped test piece at 25° C. is measured and designated as TS0, expressed in N/mm.
(Procedure for measuring elongation at break)
A dumbbell-shaped No. 3 test piece is prepared using the cured product of the silicone rubber composition in accordance with JIS K6251 (2004), and the breaking elongation of the resulting dumbbell-shaped No. 3 test piece is measured at 25° C. The breaking elongation is calculated as [gauge line movement distance (mm)]÷[initial gauge line distance (20 mm)]×100, and is designated as BE0s, and is expressed in %.
また、本発明によれば、
以下の手順で測定される、当該シリコーンゴム組成物の硬化物の引裂強度をTS0(N/mm)、TS1(N/mm)としたとき、
((TS1-TS0)/TS0)×100が、-85%以上5%以下である、離型フィルムが提供される。
(引裂強度の測定手順)
当該シリコーンゴム組成物の硬化物を用いて、JIS K6252(2001)に準拠して、クレセント形試験片を作製し、25℃において得られたクレセント形試験片の引裂強度をTS0(N/mm)とする。当該シリコーンゴム組成物の硬化物を用いて、JIS K6252(2001)に準拠して、クレセント形試験片を作製したのち、100℃、30分保持後、100℃において得られたクレセント形試験片の引裂強度をTS1(N/mm)とする。
Further, according to the present invention,
When the tear strength of the cured product of the silicone rubber composition, measured by the following procedure, is TS0 (N/mm) and TS1 (N/mm),
There is provided a release film, in which ((TS1-TS0)/TS0) x 100 is -85% or more and 5% or less.
(Procedure for measuring tear strength)
A crescent-shaped test specimen is prepared from the cured product of the silicone rubber composition in accordance with JIS K6252 (2001), and the tear strength of the crescent-shaped test specimen obtained at 25° C. is designated as TS0 (N/mm). A crescent-shaped test specimen is prepared from the cured product of the silicone rubber composition in accordance with JIS K6252 (2001), and after holding at 100° C. for 30 minutes, the tear strength of the crescent-shaped test specimen obtained at 100° C. is designated as TS1 (N/mm).
本発明によれば、外観が良好な成形体が得られる離型フィルムが提供される。 The present invention provides a release film that can produce molded articles with good appearance.
以下、本発明の実施形態について、図面を参照しつつ、詳細に説明する。
すべての図面において、同様な構成要素には同様の符号を付し、適宜説明を省略する。煩雑さを避けるため、(i)同一図面内に同一の構成要素が複数ある場合には、その1つのみに符号を付し、全てには符号を付さない場合や、(ii)特に図2以降において、図1と同様の構成要素に改めては符号を付さない場合がある。すべての図面はあくまで説明用のものである。図面中の各部材の形状や寸法比などは、必ずしも現実の物品と対応するものではない。
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
In all drawings, similar components are given the same reference numerals, and explanations are omitted as appropriate. To avoid complexity, (i) when there are multiple identical components in the same drawing, only one of them is given a reference numeral, and not all of them are given a reference numeral, or (ii) especially in FIG. 2 and subsequent drawings, components similar to those in FIG. 1 are not given a reference numeral again. All drawings are for explanatory purposes only. The shapes and dimensional ratios of each member in the drawings do not necessarily correspond to the actual objects.
本明細書中、数値範囲の説明における「a~b」との表記は、特に断らない限り、a以上b以下のことを表す。例えば、「1~5質量%」とは「1質量%以上5質量%以下」を意味する。 In this specification, the notation "a to b" in the explanation of a numerical range means from a to b, unless otherwise specified. For example, "1 to 5% by mass" means "1% by mass to 5% by mass."
<シリコーンゴム組成物の指標>
まず、本実施形態におけるシリコーンゴム組成物の指標について説明する。
本実施形態のシリコーンゴム組成物は、以下の手順で測定される各指標を単独または組み合わせて制御することによって、特定される。
また、各指標において、シリコーンゴム組成物の硬化物とは、160℃で20分間加熱(1次硬化)した後、200℃で4時間ポストベーク(2次硬化)したものと意図する。
<Indicators of silicone rubber composition>
First, the indices of the silicone rubber composition in this embodiment will be described.
The silicone rubber composition of the present embodiment is specified by controlling each index, either alone or in combination, which is measured according to the following procedure.
In addition, in each index, the cured product of the silicone rubber composition is intended to mean a product that has been heated at 160° C. for 20 minutes (first curing) and then post-baked at 200° C. for 4 hours (second curing).
・引裂強度TS0(N/mm)
(引裂強度の測定手順)
シリコーンゴム組成物の硬化物を用いて、JIS K6252(2001)に準拠して、クレセント形試験片を作製し、25℃における、得られたクレセント形試験片の引裂強度を測定する。単位はN/mmである。
・Tear strength TS0 (N/mm)
(Procedure for measuring tear strength)
A crescent-shaped test piece is prepared from the cured product of the silicone rubber composition in accordance with JIS K6252 (2001), and the tear strength of the resulting crescent-shaped test piece is measured at 25° C. The unit is N/mm.
・引裂強度TS1(N/mm)
(引裂強度の測定手順)
当該シリコーンゴム組成物の硬化物を用いて、JIS K6252(2001)に準拠して、クレセント形試験片を作製したのち、100℃、30分保持後、100℃において得られたクレセント形試験片の引裂強度をTS1(N/mm)とする。
・Tear strength TS1 (N/mm)
(Procedure for measuring tear strength)
A crescent-shaped test piece is prepared in accordance with JIS K6252 (2001) using the cured product of the silicone rubber composition, and then the test piece is held at 100°C for 30 minutes. The tear strength of the crescent-shaped test piece obtained at 100°C is defined as TS1 (N/mm).
・引裂強度TS2(N/mm)
(引裂強度の測定手順)
当該シリコーンゴム組成物の硬化物を用いて、JIS K6252(2001)に準拠して、クレセント形試験片を作製したのち、150℃、30分保持後、150℃において得られたクレセント形試験片の引裂強度をTS2(N/mm)とする。
・Tear strength TS2 (N/mm)
(Procedure for measuring tear strength)
A crescent-shaped test piece is prepared in accordance with JIS K6252 (2001) using the cured product of the silicone rubber composition, and then the test piece is held at 150°C for 30 minutes. The tear strength of the crescent-shaped test piece obtained at 150°C is defined as TS2 (N/mm).
・破断伸びBE0s(%)
(破断伸びの測定手順)
シリコーンゴム組成物の硬化物を用いて、JIS K6251(2004)に準拠して、ダンベル状3号形試験片を作製し、25℃における、得られたダンベル状3号形試験片の破断伸びを測定する。破断伸びは、[標線間移動距離(mm)]÷[初期標線間距離(20mm)]×100で計算し、BE0sとする。単位は%である。
Breaking elongation BE0s (%)
(Procedure for measuring elongation at break)
Using the cured product of the silicone rubber composition, a dumbbell-shaped No. 3 test piece is prepared in accordance with JIS K6251 (2004), and the breaking elongation of the resulting dumbbell-shaped No. 3 test piece is measured at 25° C. The breaking elongation is calculated as [gauge line movement distance (mm)]÷[initial gauge line distance (20 mm)]×100, and is designated as BE0s. The unit is %.
・破断伸びBE0(%)
(破断伸びの測定手順)
シリコーンゴム組成物の硬化物を用いて、JIS K6251(2004)に準拠して、ダンベル状3号形試験片を作製し、25℃における、得られたダンベル状3号形試験片の破断伸びを測定する。破断伸びは、[チャック間移動距離(mm)]÷[初期チャック間距離(60mm)]×100で計算し、BE0とする。単位は%である。
Breaking elongation BE0 (%)
(Procedure for measuring elongation at break)
Using the cured product of the silicone rubber composition, a dumbbell-shaped No. 3 test piece is prepared in accordance with JIS K6251 (2004), and the breaking elongation of the resulting dumbbell-shaped No. 3 test piece is measured at 25° C. The breaking elongation is calculated as [chuck movement distance (mm)]÷[initial chuck distance (60 mm)]×100, and is designated as BE0. The unit is %.
・破断伸びBE1(%)
(破断伸びの測定手順)
シリコーンゴム組成物の硬化物を用いて、JIS K6251(2004)に準拠して、ダンベル状3号形試験片を作製し、100℃、30分保持後、100℃における、得られたダンベル状3号形試験片の破断伸びを測定する。破断伸びは、[チャック間移動距離(mm)]÷[初期チャック間距離(60mm)]×100で計算し、BE1とする。単位は%である。
Breaking elongation BE1 (%)
(Procedure for measuring elongation at break)
Using the cured product of the silicone rubber composition, dumbbell-shaped No. 3 test pieces are prepared in accordance with JIS K6251 (2004), and after holding at 100° C. for 30 minutes, the breaking elongation of the resulting dumbbell-shaped No. 3 test pieces is measured at 100° C. The breaking elongation is calculated as [chuck movement distance (mm)]÷[initial chuck distance (60 mm)]×100, and is designated as BE1. The unit is %.
・破断伸びBE2(%)
(破断伸びの測定手順)
シリコーンゴム組成物の硬化物を用いて、JIS K6251(2004)に準拠して、ダンベル状3号形試験片を作製し、150℃、30分保持後、150℃における、得られたダンベル状3号形試験片の破断伸びを測定する。破断伸びは、[チャック間移動距離(mm)]÷[初期チャック間距離(60mm)]×100で計算し、BE2とする。単位は%である。
Breaking elongation BE2 (%)
(Procedure for measuring elongation at break)
Using the cured product of the silicone rubber composition, a dumbbell-shaped No. 3 test piece is prepared in accordance with JIS K6251 (2004), and after holding at 150° C. for 30 minutes, the resulting dumbbell-shaped No. 3 test piece is measured for breaking elongation at 150° C. The breaking elongation is calculated as [chuck travel distance (mm)]÷[initial chuck distance (60 mm)]×100, and is designated as BE2. The unit is %.
・1MPa時の伸びE1(%)
(1MPa時の伸びの測定手順)
当該シリコーンゴム組成物の硬化物を用いて、JIS K6251(2004)に準拠して、ダンベル状3号形試験片を作製し、25℃、引張速度:500mm/分の条件で引張試験を行い、応力が1MPaに到達した時の、得られたダンベル状3号形試験片の伸びを[標線間移動距離(mm)]÷[初期標線間距離(20mm)]×100の式で計算し、E1とする。単位は%である。
Elongation E1 (%) at 1 MPa
(Procedure for measuring elongation at 1 MPa)
A dumbbell-shaped No. 3 test piece was prepared using the cured product of the silicone rubber composition in accordance with JIS K6251 (2004), and a tensile test was conducted at 25°C at a tensile speed of 500 mm/min, and the elongation of the resulting dumbbell-shaped No. 3 test piece when the stress reached 1 MPa was calculated using the formula [gauge line movement distance (mm)]÷[initial gauge line distance (20 mm)]×100, and designated as E1. The unit is %.
・0.2MPa時の伸びE2(%)
(0.2MPa時の伸びの測定手順)
当該シリコーンゴム系硬化性組成物の硬化物を用いて、JIS K6251(2004)に準拠して、ダンベル状3号形試験片を作製し、25℃、引張速度:500mm/分の条件で引張試験を行い、応力が0.2MPaに到達した時の、得られたダンベル状3号形試験片の伸びを[標線間移動距離(mm)]÷[初期標線間距離(20mm)]×100の式で計算する。単位は%である。
Elongation E2 (%) at 0.2 MPa
(Procedure for measuring elongation at 0.2 MPa)
Using the cured product of the silicone rubber-based curable composition, a dumbbell-shaped No. 3 test piece is prepared in accordance with JIS K6251 (2004), and a tensile test is carried out under conditions of 25°C and a tensile speed of 500 mm/min, and the elongation of the obtained dumbbell-shaped No. 3 test piece when the stress reaches 0.2 MPa is calculated by the formula [gauge line movement distance (mm)]÷[initial gauge line distance (20 mm)]×100, in units of %.
・引張強度S(MPa)
(引張強度の測定手順)
シリコーンゴム組成物の硬化物を用いて、JIS K6251(2004)に準拠して、ダンベル状3号形試験片を作製し、25℃における、ダンベル状3号形試験片の引張強度を測定する。単位はMPaである。
Tensile strength S (MPa)
(Procedure for measuring tensile strength)
A dumbbell-shaped No. 3 test piece is prepared using the cured product of the silicone rubber composition in accordance with JIS K6251 (2004), and the tensile strength of the dumbbell-shaped No. 3 test piece at 25° C. is measured in units of MPa.
・n時間後のストローク変化率SCn(%)
(ストローク変化率の測定手順)
当該シリコーンゴム組成物の硬化物を用いて、JIS K6251(2004)に準拠して、ダンベル状3号形試験片を作製し、チャック間を1MPaの応力で保持した時、25℃における、得られたダンベル状3号形試験片の伸びを経時的に測定する。
応力が1MPaとなる時を0hとし、所定時間n(h)後のストローク量をEn(%)=[チャック間移動距離(mm)]÷[初期チャック間距離(60mm)]×100とする。測定されたストローク量をEnから、下記式に基づいて、ストローク変化率を算出する。
n時間後のストローク変化率SCn(%)=(En-E0)/E0×100
Stroke change rate after n hours SCn (%)
(Procedure for measuring stroke change rate)
A dumbbell-shaped No. 3 test piece is prepared in accordance with JIS K6251 (2004) using the cured product of the silicone rubber composition, and the elongation of the resulting dumbbell-shaped No. 3 test piece is measured over time at 25°C when held between chucks at a stress of 1 MPa.
The time when the stress becomes 1 MPa is defined as 0h, and the stroke amount after a predetermined time n (h) is defined as En (%) = [chuck movement distance (mm)] ÷ [initial chuck distance (60 mm)] × 100. The stroke change rate is calculated from the measured stroke amount En based on the following formula.
Stroke change rate after n hours SCn (%) = (En-E0)/E0 x 100
・デュロメータ硬さA
(デュロメータ硬さAの測定手順)
当該シリコーンゴム組成物の硬化物を用いて、シート状試験片を作製し、JIS K6253(1997)に準拠して、25℃における、得られたシート状試験片のデュロメータ硬さAを測定する。
・Durometer hardness A
(Procedure for measuring durometer hardness A)
A sheet-like test specimen is prepared using the cured product of the silicone rubber composition, and the durometer hardness A of the resulting sheet-like test specimen at 25° C. is measured in accordance with JIS K6253 (1997).
・可塑度
(可塑度の測定手順)
当該シリコーンゴム組成物の未硬化物を試験サンプルとして使用し、JIS K6249(2003)に準拠して、ウイリアムス可塑度計を用いて、25℃における、得られた試験サンプルの可塑度について、測定開始から10分後に測定する。
- Plasticity (Procedure for measuring plasticity)
The uncured silicone rubber composition is used as a test sample, and the plasticity of the resulting test sample at 25° C. is measured 10 minutes after the start of the measurement using a Williams plasticity meter in accordance with JIS K6249 (2003).
上記の指標は、たとえばシリコーンゴム組成物中に含まれる各成分の種類や配合量、シリコーンゴム組成物の調製方法等を適切に選択することにより、制御することが可能である。これらの中でも、たとえば、シリコーンゴムを構成する樹脂の種類や配合比率、樹脂の架橋密度や架橋構造等を適切に制御したり、無機充填材の配合比率や無機充填材の分散性を向上させること等が、上記指標を所望の数値範囲とするための要素として挙げられる。
また、シリコーンゴム組成物を硬化する際の、温度、時間を調整することにより、樹脂の架橋密度や架橋構造等を適切に制御でき、上記指標を所望の数値範囲とすることができる。また、たとえば離型フィルムの製造工程において、基材で挟み込んで作製する場合に、その表面状態により表面粗さを変更することも可能である。
The above indexes can be controlled, for example, by appropriately selecting the type and blending amount of each component contained in the silicone rubber composition, the preparation method of the silicone rubber composition, etc. Among these, for example, suitable control of the type and blending ratio of the resin constituting the silicone rubber, the crosslink density and crosslinking structure of the resin, and improving the blending ratio of the inorganic filler and the dispersibility of the inorganic filler are listed as elements for setting the above indexes within the desired numerical range.
In addition, by adjusting the temperature and time when the silicone rubber composition is cured, the crosslink density and crosslink structure of the resin can be appropriately controlled, and the above-mentioned indexes can be set to the desired numerical range. In addition, for example, in the production process of the release film, when the film is sandwiched between substrates, it is also possible to change the surface roughness depending on the surface condition.
<第1実施形態>
図1は、第1実施形態の離型フィルムの断面を模式的に示す断面図である。
図1に示すように、本実施形態の離型フィルム10は、離型層1を備え、離型層1はシリコーンゴム組成物からなり、以下の条件を満たす。
すなわち、特定のパラメータをみたすようなシリコーンゴム組成物を用いることによって、所望の特性を備える離型フィルム10が得られ、離型フィルム10を用いた成形体の型追従性、寸法安定性などを向上し、外観を良好に保持できるようになる。
First Embodiment
FIG. 1 is a cross-sectional view that typically shows a cross section of a release film of a first embodiment.
As shown in FIG. 1, a
In other words, by using a silicone rubber composition that satisfies specific parameters, a
本実施形態の離型フィルム10は、
2.4×104≦TS0×BE0sを満たすものである。
The
The condition 2.4×10 4 ≦TS0×BE0s is satisfied.
これにより、離型フィルム10にシワやゆがみが発生することを抑制し、得られる成形体の外観を良好にできる。
詳細なメカニズムは定かではないが、引裂強度と破断伸びとの積算値を指標とすることにより、離型フィルム10の剛性、弾性回復性、延展性等のバランスが制御され、型に対する良好な追従性が得られることによって、シワやゆがみの発生を効果的に抑制できると考えられる。
This can prevent the
Although the detailed mechanism is unclear, it is believed that by using the integrated value of the tear strength and the breaking elongation as an indicator, the balance of the rigidity, elastic recovery, extensibility, etc. of the
TS0×BE0sの下限は、好ましくは2.5×104以上、より好ましくは2.8×104以上である。これにより、型追従性、寸法安定性を向上でき、外観が良好な成形体が安定的に得られる。
一方、TS0×BE0sの上限は、特に限定されないが、例えば、5.0×105以下でもよく、1.0×105以下でもよく、9.0×104以下でもよい。これにより、型追従性、寸法安定性、離型性といった離型フィルム10の特性のバランスを良好にできる。
The lower limit of TS0×BE0s is preferably 2.5×10 4 or more, more preferably 2.8×10 4 or more. This makes it possible to improve the mold followability and dimensional stability, and to stably obtain a molded article having a good appearance.
On the other hand, the upper limit of TS0×BE0s is not particularly limited, but may be, for example, 5.0×10 5 or less, 1.0×10 5 or less, or 9.0×10 4 or less. This allows the properties of the
または、本実施形態の離型フィルム10は、
((TS1-TS0)/TS0)×100が、-85%以上5%以下を満たすものである。
Alternatively, the
((TS1-TS0)/TS0) x 100 satisfies -85% or more and 5% or less.
本発明者らは、シリコーンゴム組成物の硬化物を加熱した場合、ゴム特性が低下することに着眼し検討を進めた結果、室温から高温に加熱したときのシリコーンゴム組成物の硬化物の物性変化の度合い(熱物性変化)を指針とすることで、シリコーンゴム組成物の硬化物を用いた離型フィルム10における熱時の変形の程度、耐久性を適切に制御できることを見出した。
すなわち、加熱前後での引裂強度の変化度合い、すなわち((引裂強度TS1-引裂強度TS0)/引裂強度TS0)×100を特定の数値範囲内に制御することで、離型フィルム10の良好な型追従性を保持しつつ、熱に対する寸法安定性を向上し、これを用いた成形体の外観を良好にできる。また、(引裂強度TS1-引裂強度TS0)/引裂強度TS0)×100を特定の数値範囲内に制御することで離型フィルム10の繰り返し使用が期待できる。
The inventors focused on the fact that the rubber properties deteriorate when a cured silicone rubber composition is heated and conducted further research. As a result, they discovered that by using the degree of change in the physical properties of the cured silicone rubber composition when heated from room temperature to a high temperature (change in thermal physical properties) as a guideline, it is possible to appropriately control the degree of deformation when heated and the durability of a
That is, by controlling the degree of change in tear strength before and after heating, i.e., ((tear strength TS1-tear strength TS0)/tear strength TS0) x 100, within a specific numerical range, it is possible to improve the dimensional stability against heat while maintaining good mold followability of the
((引裂強度TS1-引裂強度TS0)/引裂強度TS0)×100の上限値は、例えば、5%以下、好ましくは0%以下、より好ましくは-5%以下であり、また-10%以下でもよい。
一方、上記(引裂強度TS1-引裂強度TS0)/引裂強度TS0)×100の下限値は、-85%以上、好ましくは-70%以上、より好ましくは-55%以上、さらに好ましくは-45%以上である。上記下限値以上とすることにより、良好な型追従性を得つつ、高温環境下に対する寸法安定性を向上し、かつ機械的強度を向上させることができる。また、上記下限値以上とすることにより、離型フィルム10の繰り返し使用が期待できる。
The upper limit of ((tear strength TS1-tear strength TS0)/tear strength TS0) x 100 is, for example, 5% or less, preferably 0% or less, more preferably -5% or less, and may be -10% or less.
On the other hand, the lower limit of the above (tear strength TS1-tear strength TS0)/tear strength TS0) x 100 is -85% or more, preferably -70% or more, more preferably -55% or more, and even more preferably -45% or more. By making it equal to or more than the above lower limit, it is possible to obtain good mold followability, improve dimensional stability in a high temperature environment, and improve mechanical strength. In addition, by making it equal to or more than the above lower limit, repeated use of the
本実施形態の離型フィルムは、上記の指標により特定される数値範囲を満たすことにより、離型フィルムのゆがみやシワの発生を適切に抑制し、離型フィルムを用いた成形体の外観を良好にできるが、さらに、以下の指標により特定される数値範囲を満たすことにより、より安定的にゆがみやシワの発生を抑制できる。 The release film of this embodiment satisfies the numerical ranges specified by the above-mentioned indices, thereby appropriately suppressing the occurrence of warping and wrinkles in the release film and improving the appearance of the molded article using the release film. In addition, by satisfying the numerical ranges specified by the following indices, the occurrence of warping and wrinkles can be more stably suppressed.
本実施形態の離型フィルム10は、
2.8×105≦TS0×BE0s×Sを満たすという特性を有してもよい。
TS0×BE0s×Sの下限は、1.4×105以上、好ましくは2.8×105以上、より好ましくは3.0×105以上である。これにより、型追従性、寸法安定性を向上でき、外観が良好な成形体が安定的に得られる。
一方、TS0×BE0s×Sの上限は、特に限定されないが、例えば、6.0×106以下でもよく、2.0×106以下でもよく、1.0×106以下でもよい。これにより、型追従性、寸法安定性、離型性といった離型フィルム10の特性のバランスを良好にできる。
The
The characteristic may be such that 2.8×10 5 ≦TS0×BE0s×S is satisfied.
The lower limit of TS0×BE0s×S is 1.4×10 5 or more, preferably 2.8×10 5 or more, and more preferably 3.0×10 5 or more. This makes it possible to improve the mold followability and dimensional stability, and to stably obtain a molded product having a good appearance.
On the other hand, the upper limit of TS0×BE0s×S is not particularly limited, but may be, for example, 6.0×10 6 or less, 2.0×10 6 or less, or 1.0×10 6 or less. This makes it possible to achieve a good balance of the properties of the
上記引裂強度の下限は、例えば、25N/mm以上、好ましくは28N/mm以上、より好ましくは30N/mm以上、さらに好ましくは33N/mm以上、一層好ましくは35N/mm以上である。これにより、離型フィルム10の耐久性を向上できる。
一方、上記引裂強度の上限は、特に限定されないが、例えば、80N/mm以下としてもよく、70N/mm以下としてもよい。これにより、型追従性、寸法安定性、離型性といった離型フィルム10の特性のバランスを良好にできる。
The lower limit of the tear strength is, for example, 25 N/mm or more, preferably 28 N/mm or more, more preferably 30 N/mm or more, even more preferably 33 N/mm or more, and still more preferably 35 N/mm or more. This can improve the durability of the
On the other hand, the upper limit of the tear strength is not particularly limited, but may be, for example, 80 N/mm or less, or 70 N/mm or less, which allows the properties of the
本実施形態の離型フィルム10は、
((破断伸びBE1-破断伸びBE0)/破断伸びBE0)×100が、-50%以上0%以下を満たすという特性を有してもよい。
The
The material may have a characteristic that ((breaking elongation BE1-breaking elongation BE0)/breaking elongation BE0) x 100 satisfies -50% or more and 0% or less.
また、本実施形態の離型フィルム10は、
((破断伸びBE2-破断伸びBE0)/破断伸びBE0)×100が、-65%以上0%以下を満たすという特性を有してもよい。
In addition, the
The material may have a characteristic that ((breaking elongation BE2-breaking elongation BE0)/breaking elongation BE0) x 100 satisfies -65% or more and 0% or less.
((破断伸びBE2-破断伸びBE0)/破断伸びBE0)×100の上限値は、特に限定されないが、例えば、0%以下、好ましくは-20%以下でもよく、より好ましくは-30%以下でもよい。
一方、上記((破断伸びBE2-破断伸びBE0)/破断伸びBE0)×100の下限値は、例えば、-65%以上、好ましくは-60%以上、より好ましくは-55%以上である。これにより、高温環境に対する寸法安定性、耐久性の変化を抑制できる。
The upper limit of ((breaking elongation BE2-breaking elongation BE0)/breaking elongation BE0) x 100 is not particularly limited, but may be, for example, 0% or less, preferably -20% or less, and more preferably -30% or less.
On the other hand, the lower limit of the above ((breaking elongation BE2-breaking elongation BE0)/breaking elongation BE0) x 100 is, for example, -65% or more, preferably -60% or more, and more preferably -55% or more. This makes it possible to suppress changes in dimensional stability and durability in a high-temperature environment.
破断伸びBE1の上限値は、例えば、1500%以下でもよく、好ましくは1200%以下でもよく、より好ましくは1000%以下でもよく、さらに好ましくは900%以下でもよい。これにより、離型フィルム10の機械的強度を向上させることができる。
一方、上記破断伸びBE1の下限値は、250%以上、好ましくは300%以上、より好ましくは350%以上である。これにより、高温環境に対する寸法安定性、耐久性の変化を抑制できる。
The upper limit of the breaking elongation BE1 may be, for example, 1500% or less, preferably 1200% or less, more preferably 1000% or less, and even more preferably 900% or less. This can improve the mechanical strength of the
On the other hand, the lower limit of the breaking elongation BE1 is 250% or more, preferably 300% or more, and more preferably 350% or more, which can suppress changes in dimensional stability and durability in a high-temperature environment.
本実施形態の離型フィルム10は、
((TS2-TS0)/TS0)×100が、-88%以上5%以下を満たすという特性を有してもよい。
The
The characteristic may be such that ((TS2-TS0)/TS0) x 100 is equal to or greater than -88% and equal to or less than 5%.
((引裂強度TS2-引裂強度TS0)/引裂強度TS0)×100の上限値は、例えば、5%以下、好ましくは0%以下であり、-20%以下でもよく、さらに-30%以下でもよい。
一方、上記(引裂強度TS2-引裂強度TS0)/引裂強度TS0)×100の下限値は、-88%以上、好ましくは-70%以上、より好ましくは-60%以上、さらに好ましくは-50%以上である。上記下限値以上とすることにより、離型フィルム10の良好な型追従性を保持しつつ、熱に対する寸法安定性を向上し、これを用いた成形体の外観を良好にできる。
The upper limit value of ((tear strength TS2-tear strength TS0)/tear strength TS0) x 100 is, for example, 5% or less, preferably 0% or less, and may be -20% or less, or further -30% or less.
On the other hand, the lower limit of the above (tear strength TS2-tear strength TS0)/tear strength TS0) x 100 is -88% or more, preferably -70% or more, more preferably -60% or more, and even more preferably -50% or more. By making it equal to or more than the above lower limit, the dimensional stability against heat can be improved while maintaining good mold followability of the
引裂強度TS1の上限値は、特に限定されないが、例えば、60N/mm以下でもよく、50N/mm以下でもよく、40N/mm以下でもよい。
一方、上記引裂強度TS1の下限値は、例えば、10N/mm以上、好ましくは20N/mm以上、より好ましくは25N/mm以上、さらに好ましくは30N/mm以上である。
The upper limit of the tear strength TS1 is not particularly limited, but may be, for example, 60 N/mm or less, 50 N/mm or less, or 40 N/mm or less.
On the other hand, the lower limit of the tear strength TS1 is, for example, 10 N/mm or more, preferably 20 N/mm or more, more preferably 25 N/mm or more, and even more preferably 30 N/mm or more.
引裂強度TS2の上限値は、特に限定されないが、例えば、50N/mm以下でもよく、40N/mm以下でもよく、35N/mm以下でもよい。これにより、他の物性とのバランスを図ることができる。
一方、上記引裂強度TS2の下限値は、例えば、6.5N/mm以上、好ましくは10N/mm以上、より好ましくは15N/mm以上である。これにより、離型フィルム10の良好な型追従性を保持しつつ、熱に対する寸法安定性を向上し、これを用いた成形体の外観を良好にできる。
The upper limit of the tear strength TS2 is not particularly limited, but may be, for example, 50 N/mm or less, 40 N/mm or less, or 35 N/mm or less, which allows a balance with other physical properties to be achieved.
On the other hand, the lower limit of the tear strength TS2 is, for example, 6.5 N/mm or more, preferably 10 N/mm or more, more preferably 15 N/mm or more, which can improve the dimensional stability against heat while maintaining good mold followability of the
本実施形態の離型フィルム10は、
15≦E1、20≦TS0を満たすという特性を有してもよい。
The
It may have the characteristics that 15≦E1 and 20≦TS0 are satisfied.
すなわち、低応力時の伸び量(E1)と引裂強度(TS0)のそれぞれを指標とし、これらを同時に制御することによって、型追従性、寸法安定性の良好なバランスが安定的に得られるようになる。 In other words, by using the elongation at low stress (E1) and tear strength (TS0) as indicators and controlling them simultaneously, a good balance between mold conformity and dimensional stability can be stably achieved.
E1の下限は、15以上、好ましくは30以上、より好ましくは50以上である。これにより、変形容易性を高め、型追従性、寸法安定性をより安定的に保持し、外観が良好な成形体が得られる。
一方、E1の上限は、特に限定されないが、例えば、500以下でもよく、400以下でもよく、300以下でもよく、目的に応じて、100以下であってもよい。これにより、型追従性、寸法安定性、離型性といった離型フィルム10の特性のバランスを良好にできる。
The lower limit of E1 is 15 or more, preferably 30 or more, and more preferably 50 or more. This increases the ease of deformation, and more stably maintains mold followability and dimensional stability, resulting in a molded product with good appearance.
On the other hand, the upper limit of E1 is not particularly limited, but may be, for example, 500 or less, 400 or less, 300 or less, or, depending on the purpose, 100 or less. This allows the properties of the
本実施形態の離型フィルム10は、
E1、E2が、10≦|E1-E2|を満たすという特性を有してもよい。
The
E1 and E2 may have the property that 10≦|E1−E2| is satisfied.
|E1-E2|の下限は、10以上、好ましくは20以上、より好ましくは30以上である。これにより、型追従性、寸法安定性をより高めやすくなる。
一方、|E1-E2|の上限は、特に限定されないが、例えば、500以下でもよく、400以下でもよく、300以下でもよく、目的に応じて、90以下であってもよい。これにより、型追従性、寸法安定性、離型性といった離型フィルム10の特性のバランスを良好にできる。
The lower limit of |E1-E2| is at least 10, preferably at least 20, and more preferably at least 30. This makes it easier to improve the mold followability and dimensional stability.
On the other hand, the upper limit of |E1-E2| is not particularly limited, but may be, for example, 500 or less, 400 or less, 300 or less, or, depending on the purpose, 90 or less. This allows the properties of the
本発明者らの検討によれば、低応力時の伸び量(E1)と引裂強度(TS0)は、シリコーンゴム中のフィラー量を低減させると、低応力時の伸び量を増大することができるが、一方で、引裂強度が低下し、シリコーンゴムの耐久性が低下するといったトレードオフの関係にある。そこで、さらに鋭意検討した結果、後述するビニル基含有オルガノポリシロキサンなどのシリコーンゴム組成物の成分等を適切に選択することにより、架橋密度や架橋構造の偏在を制御でき、幅広いひずみ領域における低応力時の伸び量を向上させつつ、シリコーンゴム組成物の硬化物の引裂強度を高められることを見出した。詳細なメカニズムは定かでないが、異なる2種のビニル基含有オルガノポリシロキサンの併用や、低ビニル基オルガノポリシロキサンの使用により、架橋状態を適切に制御できるため、応力時の伸び量を向上させつつも、シリコーンゴム組成物の硬化物の引裂強度を高められると考えられる。 According to the study by the present inventors, the elongation amount at low stress (E1) and the tear strength (TS0) are in a trade-off relationship, in that the elongation amount at low stress can be increased by reducing the amount of filler in the silicone rubber, but on the other hand, the tear strength decreases and the durability of the silicone rubber decreases. As a result of further intensive study, it was found that by appropriately selecting the components of the silicone rubber composition, such as the vinyl group-containing organopolysiloxane described below, it is possible to control the uneven distribution of crosslinking density and crosslinking structure, and to increase the elongation amount at low stress in a wide strain range while increasing the tear strength of the cured product of the silicone rubber composition. Although the detailed mechanism is unclear, it is believed that the crosslinking state can be appropriately controlled by using two different types of vinyl group-containing organopolysiloxanes in combination or by using a low vinyl group organopolysiloxane, so that the tear strength of the cured product of the silicone rubber composition can be increased while improving the elongation amount at stress.
本実施形態の離型フィルム10は、
シリコーンゴム系硬化性樹脂組成物の硬化物の1時間後のストローク変化率をSC1(%)としたとき、
SC1≦50、20≦TS0を満たすという特性を有してもよい。
The
When the stroke change rate after 1 hour of the cured product of the silicone rubber-based curable resin composition is defined as SC1 (%),
It may have the characteristics that SC1≦50 and 20≦TS0 are satisfied.
すなわち、初期のストローク変化率と引裂強度のそれぞれを指標とし、これらを同時に制御することによって、機械的強度、耐久性、型追従性、寸法安定性の良好なバランスが安定的に得られるようになる。 In other words, by using the initial stroke change rate and tear strength as indicators and controlling them simultaneously, a good balance of mechanical strength, durability, mold conformity, and dimensional stability can be stably achieved.
SC1の上限は、50以下、好ましくは40以下、より好ましくは30以下でもよい。これにより、型追従性、寸法安定性をより安定的に保持し、外観が良好な成形体が得られる。
一方、SC1の下限は、特に限定されないが、1以上でもよく、2以上でもよい。これにより、機械的強度を高めつつ、型追従性、寸法安定性といった離型フィルム10の特性のバランスを良好にできる。
The upper limit of SC1 may be not more than 50, preferably not more than 40, and more preferably not more than 30. This makes it possible to more stably maintain mold followability and dimensional stability, and to obtain a molded article having a good appearance.
On the other hand, the lower limit of SC1 is not particularly limited, but may be equal to or greater than 1, or may be equal to or greater than 2. This makes it possible to improve the mechanical strength while achieving a good balance between the properties of the
また、5時間後のストローク変化率をSC5(%)としたとき、SC5の上限は、70以下、好ましくは50以下、より好ましくは40以下でもよい。これにより、耐久性を良好にし、型追従性、寸法安定性をより安定的に保持し、外観が良好な成形体が得られる。
一方、SC5の下限は、特に限定されないが、1以上でもよく、3以上でもよい。これにより、機械的強度を高めつつ、型追従性、寸法安定性といった離型フィルム10の特性のバランスを良好にできる。
In addition, when the stroke change rate after 5 hours is defined as SC5 (%), the upper limit of SC5 may be 70 or less, preferably 50 or less, and more preferably 40 or less. This makes it possible to obtain a molded product having good durability, mold followability and dimensional stability, and a good appearance.
On the other hand, the lower limit of SC5 is not particularly limited, but may be equal to or greater than 1, or may be equal to or greater than 3. This makes it possible to improve the mechanical strength while achieving a good balance between the properties of the
本実施形態の離型フィルム10は、
|SC5-SC1|≦20を満たすという特性を有してもよい。
The
It may have the property that |SC5-SC1|≦20 is satisfied.
|SC5-SC1|の上限は、20以下、好ましくは15以下、より好ましくは10以下でもよい。これにより、耐久性を良好にし、型追従性、寸法安定性をより安定的に保持しやすくなる。
一方、|SC5-SC1|の下限は、特に限定されないが、1以上でもよい。これにより、他の特性とのバランスに優れたシリコーンゴム組成物を実現できる。
The upper limit of |SC5-SC1| may be equal to or less than 20, preferably equal to or less than 15, and more preferably equal to or less than 10. This makes it easier to improve durability and more stably maintain mold followability and dimensional stability.
On the other hand, the lower limit of |SC5-SC1| is not particularly limited, but may be equal to or greater than 1. This makes it possible to realize a silicone rubber composition that is well balanced with other properties.
上記引裂強度TS0の下限は、例えば、25N/mm以上、好ましくは28N/mm以上、より好ましくは30N/mm以上、さらに好ましくは33N/mm以上、一層好ましくは35N/mm以上である。これにより、離型フィルム10の繰り返し使用時における耐久性を向上できる。
一方、上記引裂強度TS0の上限は、特に限定されないが、例えば、80N/mm以下としてもよく、70N/mm以下としてもよい。機械的強度を保持しつつ、型追従性、寸法安定性といった離型フィルム10の特性のバランスを良好にできる。
The lower limit of the tear strength TS0 is, for example, 25 N/mm or more, preferably 28 N/mm or more, more preferably 30 N/mm or more, even more preferably 33 N/mm or more, and still more preferably 35 N/mm or more. This can improve the durability of the
On the other hand, the upper limit of the tear strength TS0 is not particularly limited, but may be, for example, 80 N/mm or less, or 70 N/mm or less, which can provide a good balance between the properties of the
本実施形態のシリコーンゴム組成物の硬化物のデュロメータ硬さAの上限は、特に限定されないが、例えば、80以下でもよく、好ましくは65以下でもよく、より好ましくは60以下でもよい。これにより、シリコーンゴム組成物の硬化性を良好にし、変形が容易となる変形容易性を高め、型追従性、寸法安定性を良好にできる。
一方、上記デュロメータ硬さAの下限は、特に限定されないが、例えば、20以上、好ましくは25以上、より好ましくは30以上である。これにより、離型フィルム10の機械的強度を高められる。
The upper limit of the durometer hardness A of the cured product of the silicone rubber composition of this embodiment is not particularly limited, but may be, for example, not more than 80, preferably not more than 65, and more preferably not more than 60. This improves the curability of the silicone rubber composition, enhances the deformability that makes it easy to deform, and improves the mold followability and dimensional stability.
On the other hand, the lower limit of the durometer hardness A is not particularly limited, but is, for example, not less than 20, preferably not less than 25, and more preferably not less than 30. This can increase the mechanical strength of the
シリコーンゴム組成物の可塑度の下限は、例えば、80以上、好ましくは90以上、より好ましくは100以上である。これにより、シリコーンゴム組成物を用いたフィルム製膜時の安定性を高められる。
一方、シリコーンゴム組成物の可塑度の上限は、例えば、340以下、好ましくは320以下、より好ましくは300以下である。これにより、フィルム製膜時の安定性を高められる。
The lower limit of the plasticity of the silicone rubber composition is, for example, not less than 80, preferably not less than 90, and more preferably not less than 100. This can improve the stability during film formation using the silicone rubber composition.
On the other hand, the upper limit of the plasticity of the silicone rubber composition is, for example, not more than 340, preferably not more than 320, and more preferably not more than 300. This can improve the stability during film formation.
本実施形態の離型フィルム10は、一方の面に対する表面自由エネルギーが、10mJ/m2以上20mJ/m2以下であることが好ましい。
表面自由エネルギーを上記下限値以上とすることにより、良好な離型性を発現できる。
The
By adjusting the surface free energy to be equal to or higher than the above lower limit, good releasability can be achieved.
本実施形態において、離型フィルム10の少なくとも一方の面が上記の表面自由エネルギーとなることが好ましいが、離型面3が上記の表面自由エネルギーとなることがより好ましい。また、離型面3と、離型面3と反対側の面のいずれもが上記の表面自由エネルギーとなってもよい。
In this embodiment, it is preferable that at least one surface of the
表面自由エネルギーは、汎用の接触角計(例えば協和界面科学株式会社製の接触角計、Drop Master DM-501)を用いて測定することができる。
具体的には、表面自由エネルギー及びその各成分(分散力、極性力、水素結合力)の値が既知の3種の液体として、水、ジヨードメタン、ヘキサデカンを用い、23℃、65%RH下で、接触角計にて各液体の離型層11上での接触角(θ)を測定する。この接触角(θ)の値および各液体の既知の値(Panzerによる方法IV(日本接着協会誌第15巻、第3号、第96頁に記載)の数値)から、北崎・畑の式より導入される下記式を用いて各成分の値を計算する。
(γSd・γLd)1/2+(γSp・γLp)1/2+(γSh・γLh)1/2=γL(1+cosθ)/2
ここで、γLd、γLp、γLhは、それぞれ測定液の分散力、極性力、水素結合力の各成分を表す。θは、測定面上での測定液の接触角を表す。γSd、γSp、γShは、それぞれ離型層表面の分散力、極性力、水素結合力の各成分の値を表す。γLは各液体の表面エネルギーを表す。既知の値およびθを上記の式に代入して得られた連立方程式を解くことにより、測定面(離型層表面)の3成分の値を求める。
そして、下記式により、求められた分散力成分の値と極性力成分の値と水素結合力成分の値との和を、表面自由エネルギー(E)として算出することができる。
E=γSd+γSp+γSh
The surface free energy can be measured using a general-purpose contact angle meter (for example, Drop Master DM-501, a contact angle meter manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.).
Specifically, water, diiodomethane, and hexadecane are used as three types of liquids whose surface free energy and each of its components (dispersive force, polar force, and hydrogen bonding force) are known, and the contact angle (θ) of each liquid on the
(γSd・γLd)1/2+(γSp・γLp)1/2+(γSh・γLh)1/2=γL(1+cosθ)/2
Here, γLd, γLp, and γLh respectively represent the components of dispersion force, polar force, and hydrogen bonding force of the measurement liquid. θ represents the contact angle of the measurement liquid on the measurement surface. γSd, γSp, and γSh respectively represent the values of the components of dispersion force, polar force, and hydrogen bonding force of the release layer surface. γL represents the surface energy of each liquid. The values of the three components of the measurement surface (release layer surface) are obtained by solving the simultaneous equations obtained by substituting the known values and θ into the above formula.
Then, the sum of the determined dispersion force component value, polar force component value, and hydrogen bonding force component value can be calculated as the surface free energy (E) using the following formula.
E=γSd+γSp+γSh
本実施形態の離型フィルム10は離型層1からなる。以下、離型層1について説明する。
The
[離型層]
離型層1の離型面3は、離型フィルム10の使用時において後述する封止樹脂と接する面でなる。離型面3の表面粗さRzは0.1~10μmであり、好ましくは1~7μmであり、より好ましくは1~5μmである。
離型面3の表面粗さRzを上記下限値以上とすることにより、成形時の離型性と型追従性のバランスを良好にできる。一方、離型面3の表面粗さRzを上記上限値以下とすることにより、型追従性、寸法安定性を保持しつつ、離型性を良好にできる。
[Release layer]
The release surface 3 of the release layer 1 is the surface that comes into contact with a sealing resin, which will be described later, when the
By setting the surface roughness Rz of the release surface 3 to be equal to or greater than the above lower limit, a good balance between releasability and mold followability during molding can be achieved. On the other hand, by setting the surface roughness Rz of the release surface 3 to be equal to or less than the above upper limit, good releasability can be achieved while maintaining mold followability and dimensional stability.
離型面3の表面粗さの制御方法は、離型フィルムの製造工程においてエンボス加工が施されたロールを用いてフィルムにエンボス模様を転写したり、離型層の材料に粒子を配合する等、公知の方法で調整することができる。 The surface roughness of the release surface 3 can be controlled by known methods, such as transferring an embossed pattern to the film using an embossed roll during the production process of the release film, or by incorporating particles into the material of the release layer.
離型層1の表面粗さRzは、JIS B0601:2013に準拠して測定される。 The surface roughness Rz of the release layer 1 is measured in accordance with JIS B0601:2013.
離型層1の厚みは、30μm以上500μm以下であることが好ましく、100μm以上400μm以下であることがより好ましく、150μm以上300μm以下であることがさらに好ましい。
離型層1の厚みを上記下限値以上とすることにより、離型フィルム10の剛性を高め、過度に変形し、シワが発生することを抑制しやすくなる。その結果、型追従性、寸法安定性が得られるようになる。一方、離型層1の厚みを上記上限値以下とすることで、離型フィルム10の剛性を制御し、型追従性と離型性のバランスを良好にできる。
The thickness of the release layer 1 is preferably 30 μm or more and 500 μm or less, more preferably 100 μm or more and 400 μm or less, and even more preferably 150 μm or more and 300 μm or less.
By setting the thickness of the release layer 1 to the above lower limit or more, the rigidity of the
離型層1は、シリコーンゴム組成物を用いてなる。
本実施形態においてシリコーンゴム組成物とは、シロキサン結合(-Si-O-Si-)を主骨格とするシリコーンの弾性、圧縮性などといったゴム様の特性を有するゴム材料である。本発明者らは、シリコーンゴム組成物の新たな用途として離型フィルムに着目し、シリコーンゴム組成物を利用した新たな離型フィルムを実現した。
以下、本実施形態のシリコーンゴム組成物について説明する。
The release layer 1 is made of a silicone rubber composition.
In this embodiment, the silicone rubber composition is a rubber material having rubber-like properties such as elasticity, compressibility, etc. of silicone having a siloxane bond (-Si-O-Si-) as the main skeleton. The present inventors focused on release films as a new application of the silicone rubber composition and realized a new release film using the silicone rubber composition.
The silicone rubber composition of this embodiment will now be described.
<<ビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)>>
本実施形態のシリコーンゴム組成物は、ビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)を含むことができる。ビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)は、シリコーンゴム組成物の主成分となる重合物である。
<<Vinyl Group-Containing Organopolysiloxane (A)>>
The silicone rubber composition of the present embodiment may contain a vinyl group-containing organopolysiloxane (A). The vinyl group-containing organopolysiloxane (A) is a polymer that is the main component of the silicone rubber composition.
上記ビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)は、直鎖構造を有するビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1)を含むことができる。 The vinyl group-containing organopolysiloxane (A) may include a vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1) having a linear structure.
上記ビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1)は、直鎖構造を有し、かつ、ビニル基を含有しており、かかるビニル基が硬化時の架橋点となる。 The vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1) has a linear structure and contains vinyl groups, which become crosslinking points during curing.
ビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1)のビニル基の含有量は、特に限定されないが、例えば、分子内に2個以上のビニル基を有し、かつ15モル%以下であるのが好ましい。これにより、ビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1)中におけるビニル基の量が最適化され、後述する各成分とのネットワークの形成を確実に行うことができる。 The vinyl group content of the vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1) is not particularly limited, but for example, it is preferable that the vinyl group content is 15 mol% or less and that the vinyl group content is 2 or more in the molecule. This optimizes the amount of vinyl groups in the vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1), and ensures the formation of a network with each component described below.
なお、本明細書中において、ビニル基含有量とは、ビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1)を構成する全ユニットを100モル%としたときのビニル基含有シロキサンユニットのモル%である。ただし、ビニル基含有シロキサンユニット1つに対して、ビニル基1つであると考える。 In this specification, the vinyl group content refers to the mole percent of vinyl group-containing siloxane units when all units constituting the vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1) are taken as 100 mole percent. However, it is considered that there is one vinyl group per vinyl group-containing siloxane unit.
また、ビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1)の重合度は、特に限定されないが、例えば、好ましくは1000~10000程度、より好ましくは2000~5000程度の範囲内である。なお、重合度は、例えばクロロホルムを展開溶媒としたGPC(ゲル透過クロマトグラフィー)におけるポリスチレン換算の数平均重合度(又は数平均分子量)等として求めることができる。 The degree of polymerization of the vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1) is not particularly limited, but is preferably within the range of about 1,000 to 10,000, and more preferably about 2,000 to 5,000. The degree of polymerization can be determined, for example, as the number average degree of polymerization (or number average molecular weight) in terms of polystyrene in gel permeation chromatography (GPC) using chloroform as a developing solvent.
さらに、ビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1)の比重は、特に限定されないが、0.9~1.1程度の範囲であるのが好ましい。 Furthermore, the specific gravity of the vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1) is not particularly limited, but is preferably in the range of about 0.9 to 1.1.
ビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1)として、上記のような範囲内の重合度および比重を有するものを用いることにより、得られるシリコーンゴムの耐熱性、難燃性、化学的安定性等の向上を図ることができる。 By using a vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1) having a degree of polymerization and specific gravity within the above ranges, the heat resistance, flame retardancy, chemical stability, etc. of the resulting silicone rubber can be improved.
ビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1)としては、以下の式(1)で表される構造を有するものであるが好ましい。 The vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1) preferably has a structure represented by the following formula (1):
式(1)中、R1は炭素数1~10の置換または非置換のアルキル基、アルケニル基、アリール基、またはこれらを組み合わせた炭化水素基である。炭素数1~10のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられ、中でも、メチル基が好ましい。炭素数1~10のアルケニル基としては、例えば、ビニル基、アリル基、ブテニル基等が挙げられ、中でも、ビニル基が好ましい。炭素数1~10のアリール基としては、例えば、フェニル基等が挙げられる。 In formula (1), R 1 is a substituted or unsubstituted alkyl group, alkenyl group, aryl group, or a hydrocarbon group consisting of a combination thereof, each having 1 to 10 carbon atoms. Examples of the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, and a propyl group, with a methyl group being preferred. Examples of the alkenyl group having 1 to 10 carbon atoms include a vinyl group, an allyl group, and a butenyl group, with a vinyl group being preferred. Examples of the aryl group having 1 to 10 carbon atoms include a phenyl group.
また、R2は炭素数1~10の置換または非置換のアルキル基、アルケニル基、アリール基、またはこれらを組み合わせた炭化水素基である。炭素数1~10のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられ、中でも、メチル基が好ましい。炭素数1~10のアルケニル基としては、例えば、ビニル基、アリル基、ブテニル基が挙げられる。炭素数1~10のアリール基としては、例えば、フェニル基が挙げられる。 Furthermore, R2 is a substituted or unsubstituted alkyl group, alkenyl group, aryl group, or a hydrocarbon group that is a combination of these groups, each having 1 to 10 carbon atoms. Examples of the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, and a propyl group, and among these, a methyl group is preferable. Examples of the alkenyl group having 1 to 10 carbon atoms include a vinyl group, an allyl group, and a butenyl group. Examples of the aryl group having 1 to 10 carbon atoms include a phenyl group.
また、R3は炭素数1~8の置換または非置換のアルキル基、アリール基、またはこれらを組み合わせた炭化水素基である。炭素数1~8のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられ、中でも、メチル基が好ましい。炭素数1~8のアリール基としては、例えば、フェニル基が挙げられる。 R3 is a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an aryl group, or a hydrocarbon group consisting of a combination thereof. Examples of the alkyl group having 1 to 8 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, and a propyl group, and among these, a methyl group is preferable. Examples of the aryl group having 1 to 8 carbon atoms include a phenyl group.
さらに、式(1)中のR1およびR2の置換基としては、例えば、メチル基、ビニル基等が挙げられ、R3の置換基としては、例えば、メチル基等が挙げられる。 In addition, examples of the substituents of R 1 and R 2 in the formula (1) include a methyl group and a vinyl group, and examples of the substituent of R 3 include a methyl group.
なお、式(1)中、複数のR1は互いに独立したものであり、互いに異なっていてもよいし、同じであってもよい。さらに、R2、およびR3についても同様である。 In formula (1), the R 1s are independent of each other and may be different from each other or may be the same. The same applies to R 2 and R 3 .
さらに、m、nは、式(1)で表されるビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1)を構成する繰り返し単位の数であり、mは0~2000の整数、nは1000~10000の整数である。mは、好ましくは0~1000であり、nは、好ましくは2000~5000である。 Furthermore, m and n are the numbers of repeating units constituting the vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1) represented by formula (1), where m is an integer from 0 to 2000 and n is an integer from 1000 to 10000. m is preferably 0 to 1000, and n is preferably 2000 to 5000.
また、式(1)で表されるビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1)の具体的構造としては、例えば以下の式(1-1)で表されるものが挙げられる。 Specific examples of the vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1) represented by formula (1) include those represented by the following formula (1-1):
式(1-1)中、R1およびR2は、それぞれ独立して、メチル基またはビニル基であり、少なくとも一方がビニル基である。 In formula (1-1), R 1 and R 2 each independently represent a methyl group or a vinyl group, and at least one of them is a vinyl group.
ビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1)は、ビニル基含有量が分子内に2個以上のビニル基を有し、かつ0.4モル%以下である第1のビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1-1)を含んでもよい。第1のビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1-1)のビニル基量は、0.1モル%以下でもよい。 The vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1) may contain a first vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1-1) having two or more vinyl groups in the molecule and having a vinyl group content of 0.4 mol% or less. The vinyl group content of the first vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1-1) may be 0.1 mol% or less.
また、ビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1)は、第1のビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1-1)とビニル基含有量が0.5~15モル%である第2のビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1-2)とを含有してもよい。 The vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1) may also contain a first vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1-1) and a second vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1-2) having a vinyl group content of 0.5 to 15 mol %.
シリコーンゴムの原料である生ゴムとして、第1のビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1-1)と、ビニル基含有量が高い第2のビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1-2)とを組み合わせることで、ビニル基を偏在化させることができ、シリコーンゴムの架橋ネットワーク中に、より効果的に架橋密度の疎密を形成することができる。その結果、より効果的にシリコーンゴム組成物の硬化物の引裂強度を高めるとともに、寸法安定性、転写性を制御しやすくなる。 By combining a first vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1-1) and a second vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1-2) with a high vinyl group content as the raw rubber, which is the raw material of the silicone rubber, it is possible to unevenly distribute the vinyl groups and more effectively form a crosslinking density distribution in the crosslinked network of the silicone rubber. As a result, the tear strength of the cured product of the silicone rubber composition is more effectively increased, and dimensional stability and transferability are easier to control.
具体的には、ビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1)として、例えば、上記式(1-1)において、R1がビニル基である単位および/またはR2がビニル基である単位を、分子内に2個以上有し、かつ0.4モル%以下を含む第1のビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1-1)と、R1がビニル基である単位および/またはR2がビニル基である単位を、0.5~15モル%含む第2のビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1-2)とを用いるのが好ましい。 Specifically, as the vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1), it is preferable to use, for example, a first vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1-1) having in the molecule two or more units in which R 1 is a vinyl group and/or units in which R 2 is a vinyl group, and containing 0.4 mol % or less of these units in the above formula (1-1), and a second vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1-2) containing 0.5 to 15 mol % of units in which R 1 is a vinyl group and/or units in which R 2 is a vinyl group.
また、第1のビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1-1)は、ビニル基含有量が0.01~0.2モル%であるのが好ましい。また、第2のビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1-2)は、ビニル基含有量が、0.8~12モル%であるのが好ましい。 The first vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1-1) preferably has a vinyl group content of 0.01 to 0.2 mol %. The second vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1-2) preferably has a vinyl group content of 0.8 to 12 mol %.
さらに、第1のビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1-1)と第2のビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1-2)とを組み合わせて配合する場合、(A1-1)と(A1-2)の比率は特に限定されないが、例えば、重量比で(A1-1):(A1-2)が50:50~95:5であるのが好ましく、80:20~90:10であるのがより好ましい。 Furthermore, when the first vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1-1) and the second vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1-2) are combined and blended, the ratio of (A1-1) to (A1-2) is not particularly limited, but for example, the weight ratio of (A1-1):(A1-2) is preferably 50:50 to 95:5, and more preferably 80:20 to 90:10.
なお、第1および第2のビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1-1)および(A1-2)は、それぞれ1種のみを用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 The first and second vinyl group-containing linear organopolysiloxanes (A1-1) and (A1-2) may each be used alone or in combination of two or more.
また、ビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)は、分岐構造を有するビニル基含有分岐状オルガノポリシロキサン(A2)を含んでもよい。 The vinyl group-containing organopolysiloxane (A) may also contain a vinyl group-containing branched organopolysiloxane (A2) having a branched structure.
<<オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B)>>
本実施形態のシリコーンゴム組成物は、オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B)を含むことができる。
オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B)は、直鎖構造を有する直鎖状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B1)と分岐構造を有する分岐状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B2)とに分類され、これらのうちのいずれか一方または双方を含むことができる。
<<Organohydrogenpolysiloxane (B)>>
The silicone rubber composition of the present embodiment can contain an organohydrogenpolysiloxane (B).
The organohydrogenpolysiloxane (B) is classified into a linear organohydrogenpolysiloxane (B1) having a linear structure and a branched organohydrogenpolysiloxane (B2) having a branched structure, and may contain either one or both of these.
直鎖状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B1)は、直鎖構造を有し、かつ、Siに水素が直接結合した構造(≡Si-H)を有し、ビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)のビニル基の他、シリコーンゴム組成物に配合される成分が有するビニル基とヒドロシリル化反応し、これらの成分を架橋する重合体である。 Linear organohydrogenpolysiloxane (B1) has a linear structure and a structure in which hydrogen is directly bonded to Si (≡Si-H), and is a polymer that undergoes a hydrosilylation reaction with the vinyl groups of vinyl group-containing organopolysiloxane (A) and with vinyl groups of components blended into the silicone rubber composition, crosslinking these components.
直鎖状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B1)の分子量は特に限定されないが、例えば、重量平均分子量が20000以下であるのが好ましく、1000以上、10000以下であることがより好ましい。 The molecular weight of the linear organohydrogenpolysiloxane (B1) is not particularly limited, but for example, the weight average molecular weight is preferably 20,000 or less, and more preferably 1,000 or more and 10,000 or less.
なお、直鎖状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B1)の重量平均分子量は、例えばクロロホルムを展開溶媒としたGPC(ゲル透過クロマトグラフィー)におけるポリスチレン換算により測定することができる。 The weight average molecular weight of the linear organohydrogenpolysiloxane (B1) can be measured, for example, by polystyrene conversion using GPC (gel permeation chromatography) with chloroform as the developing solvent.
また、直鎖状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B1)は、通常、ビニル基を有しないものであるのが好ましい。これにより、直鎖状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B1)の分子内において架橋反応が進行するのを的確に防止することができる。 In addition, it is generally preferred that the linear organohydrogenpolysiloxane (B1) does not have a vinyl group. This effectively prevents the crosslinking reaction from proceeding within the molecule of the linear organohydrogenpolysiloxane (B1).
以上のような直鎖状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B1)としては、例えば、以下の式(2)で表される構造を有するものが好ましく用いられる。 As the linear organohydrogenpolysiloxane (B1) described above, for example, one having a structure represented by the following formula (2) is preferably used.
式(2)中、R4は炭素数1~10の置換または非置換のアルキル基、アルケニル基、アリール基、これらを組み合わせた炭化水素基、またはヒドリド基である。炭素数1~10のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられ、中でも、メチル基が好ましい。炭素数1~10のアルケニル基としては、例えば、ビニル基、アリル基、ブテニル基等が挙げられる。炭素数1~10のアリール基としては、例えば、フェニル基が挙げられる。 In formula (2), R4 is a substituted or unsubstituted alkyl group, alkenyl group, aryl group, a hydrocarbon group combining these groups, or a hydride group having 1 to 10 carbon atoms. Examples of the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, and a propyl group, and among these, a methyl group is preferable. Examples of the alkenyl group having 1 to 10 carbon atoms include a vinyl group, an allyl group, and a butenyl group. Examples of the aryl group having 1 to 10 carbon atoms include a phenyl group.
また、R5は炭素数1~10の置換または非置換のアルキル基、アルケニル基、アリール基、これらを組み合わせた炭化水素基、またはヒドリド基である。炭素数1~10のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基が挙げられ、中でも、メチル基が好ましい。炭素数1~10のアルケニル基としては、例えば、ビニル基、アリル基、ブテニル基等が挙げられる。炭素数1~10のアリール基としては、例えば、フェニル基が挙げられる。 Furthermore, R5 is a substituted or unsubstituted alkyl group, alkenyl group, aryl group, a hydrocarbon group combining these groups, or a hydride group having 1 to 10 carbon atoms. Examples of the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, and a propyl group, and among these, a methyl group is preferable. Examples of the alkenyl group having 1 to 10 carbon atoms include a vinyl group, an allyl group, and a butenyl group. Examples of the aryl group having 1 to 10 carbon atoms include a phenyl group.
なお、式(2)中、複数のR4は互いに独立したものであり、互いに異なっていてもよいし、同じであってもよい。R5についても同様である。ただし、複数のR4およびR5のうち、少なくとも2つ以上がヒドリド基である。 In addition, in formula (2), the multiple R4s are independent of each other and may be different from each other or may be the same. The same applies to R5 . However, among the multiple R4s and R5s , at least two or more are hydrido groups.
また、R6は炭素数1~8の置換または非置換のアルキル基、アリール基、またはこれらを組み合わせた炭化水素基である。炭素数1~8のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられ、中でも、メチル基が好ましい。炭素数1~8のアリール基としては、例えば、フェニル基が挙げられる。複数のR6は互いに独立したものであり、互いに異なっていてもよいし、同じであってもよい。 Furthermore, R6 is a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an aryl group, or a hydrocarbon group that is a combination of these. Examples of the alkyl group having 1 to 8 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, and a propyl group, and among these, a methyl group is preferable. Examples of the aryl group having 1 to 8 carbon atoms include a phenyl group. The multiple R6s are independent of each other and may be different from each other or the same.
なお、式(2)中のR4,R5,R6の置換基としては、例えば、メチル基、ビニル基等が挙げられ、分子内の架橋反応を防止する観点から、メチル基が好ましい。 In addition, examples of the substituents R 4 , R 5 and R 6 in the formula (2) include a methyl group and a vinyl group, and from the viewpoint of preventing an intramolecular crosslinking reaction, a methyl group is preferable.
さらに、m、nは、式(2)で表される直鎖状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B1)を構成する繰り返し単位の数であり、mは2~150整数、nは2~150の整数である。好ましくは、mは2~100の整数、nは2~100の整数である。 Furthermore, m and n are the numbers of repeating units constituting the linear organohydrogenpolysiloxane (B1) represented by formula (2), where m is an integer from 2 to 150 and n is an integer from 2 to 150. Preferably, m is an integer from 2 to 100 and n is an integer from 2 to 100.
なお、直鎖状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B1)は、1種のみを単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 The linear organohydrogenpolysiloxane (B1) may be used alone or in combination of two or more.
分岐状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B2)は、分岐構造を有するため、架橋密度が高い領域を形成し、シリコーンゴムの系中の架橋密度の疎密構造形成に大きく寄与する成分である。また、上記直鎖状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B1)同様、Siに水素が直接結合した構造(≡Si-H)を有し、ビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)のビニル基の他、シリコーンゴム組成物に配合される成分のビニル基とヒドロシリル化反応し、これら成分を架橋する重合体である。 The branched organohydrogenpolysiloxane (B2) has a branched structure, and therefore forms regions with high crosslink density, making it a component that contributes greatly to the formation of a sparsely-dense crosslink structure in the silicone rubber system. In addition, like the linear organohydrogenpolysiloxane (B1), it has a structure in which hydrogen is directly bonded to silicon (≡Si-H), and undergoes a hydrosilylation reaction with the vinyl groups of the vinyl group-containing organopolysiloxane (A) and with the vinyl groups of the components blended into the silicone rubber composition, forming a polymer that crosslinks these components.
また、分岐状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B2)の比重は、0.9~0.95の範囲である。 The specific gravity of the branched organohydrogenpolysiloxane (B2) is in the range of 0.9 to 0.95.
さらに、分岐状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B2)は、通常、ビニル基を有しないものであるのが好ましい。これにより、分岐状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B2)の分子内において架橋反応が進行するのを的確に防止することができる。 Furthermore, it is generally preferred that the branched organohydrogenpolysiloxane (B2) does not have a vinyl group. This effectively prevents the crosslinking reaction from proceeding within the molecule of the branched organohydrogenpolysiloxane (B2).
また、分岐状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B2)としては、以下の平均組成式(c)で示されるものが好ましい。 The branched organohydrogenpolysiloxane (B2) is preferably one represented by the following average composition formula (c):
平均組成式(c)
(Ha(R7)3-aSiO1/2)m(SiO4/2)n
(式(c)において、R7は一価の有機基、aは1~3の範囲の整数、mはHa(R7)3-aSiO1/2単位の数、nはSiO4/2単位の数である)
Average composition formula (c)
(H a (R 7 ) 3-a SiO 1/2 ) m (SiO 4/2 ) n
(In formula (c), R7 is a monovalent organic group, a is an integer ranging from 1 to 3, m is the number of H a ( R7 ) 3-a SiO 1/2 units, and n is the number of SiO 4/2 units.)
式(c)において、R7は一価の有機基であり、好ましくは、炭素数1~10の置換または非置換のアルキル基、アリール基、またはこれらを組み合わせた炭化水素基である。炭素数1~10のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられ、中でも、メチル基が好ましい。炭素数1~10のアリール基としては、例えば、フェニル基が挙げられる。 In formula (c), R7 is a monovalent organic group, preferably a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group, or a hydrocarbon group consisting of a combination thereof. Examples of the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, and a propyl group, and among these, a methyl group is preferable. Examples of the aryl group having 1 to 10 carbon atoms include a phenyl group.
式(c)において、aは、ヒドリド基(Siに直接結合する水素原子)の数であり、1~3の範囲の整数、好ましくは1である。 In formula (c), a is the number of hydride groups (hydrogen atoms directly bonded to Si) and is an integer ranging from 1 to 3, preferably 1.
また、式(c)において、mはHa(R7)3-aSiO1/2単位の数、nはSiO4/2単位の数である。 In addition, in formula (c), m is the number of H a (R 7 ) 3-a SiO 1/2 units, and n is the number of SiO 4/2 units.
分岐状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B2)は分岐状構造を有する。直鎖状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B1)と分岐状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B2)は、その構造が直鎖状か分岐状かという点で異なり、Siの数を1とした時のSiに結合するアルキル基Rの数(R/Si)が、直鎖状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B1)では1.8~2.1、分岐状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B2)では0.8~1.7の範囲となる。 Branched organohydrogenpolysiloxane (B2) has a branched structure. Linear organohydrogenpolysiloxane (B1) and branched organohydrogenpolysiloxane (B2) differ in that their structures are linear or branched, and the number of alkyl groups R bonded to Si (R/Si), where the number of Si is 1, is in the range of 1.8 to 2.1 for linear organohydrogenpolysiloxane (B1) and 0.8 to 1.7 for branched organohydrogenpolysiloxane (B2).
なお、分岐状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B2)は、分岐構造を有しているため、例えば、窒素雰囲気下、1000℃まで昇温速度10℃/分で加熱した際の残渣量が5%以上となる。これに対して、直鎖状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B1)は、直鎖状であるため、上記条件で加熱した後の残渣量はほぼゼロとなる。 In addition, because the branched organohydrogenpolysiloxane (B2) has a branched structure, for example, when heated in a nitrogen atmosphere to 1000°C at a heating rate of 10°C/min, the amount of residue is 5% or more. In contrast, because the linear organohydrogenpolysiloxane (B1) is linear, the amount of residue after heating under the above conditions is almost zero.
また、分岐状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B2)の具体例としては、以下の式(3)で表される構造を有するものが挙げられる。 Specific examples of branched organohydrogenpolysiloxane (B2) include those having a structure represented by the following formula (3):
式(3)中、R7は炭素数1~8の置換または非置換のアルキル基、アリール基、またはこれらを組み合わせた炭化水素基、もしくは水素原子である。炭素数1~8のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられ、中でも、メチル基が好ましい。炭素数1~8のアリール基としては、例えば、フェニル基が挙げられる。R7の置換基としては、例えば、メチル基等が挙げられる。 In formula (3), R7 is a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an aryl group, or a hydrocarbon group consisting of a combination thereof, or a hydrogen atom. Examples of the alkyl group having 1 to 8 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, and a propyl group, and among these, a methyl group is preferable. Examples of the aryl group having 1 to 8 carbon atoms include a phenyl group. Examples of the substituent of R7 include a methyl group.
なお、式(3)中、複数のR7は互いに独立したものであり、互いに異なっていてもよいし、同じであってもよい。 In addition, in formula (3), multiple R 7s are independent of each other and may be different from each other or may be the same.
また、式(3)中、「-O-Si≡」は、Siが三次元に広がる分岐構造を有することを表している。 In addition, in formula (3), "-O-Si≡" indicates that Si has a branched structure that extends three-dimensionally.
なお、分岐状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B2)は、1種のみを単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 The branched organohydrogenpolysiloxane (B2) may be used alone or in combination of two or more.
また、直鎖状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B1)と分岐状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B2)において、Siに直接結合する水素原子(ヒドリド基)の量は、それぞれ、特に限定されない。ただし、シリコーンゴム組成物において、ビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1)中のビニル基1モルに対し、直鎖状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B1)と分岐状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B2)の合計のヒドリド基量が、0.5~5モルとなる量が好ましく、1~3.5モルとなる量がより好ましい。これにより、直鎖状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B1)および分岐状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B2)と、ビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1)との間で、架橋ネットワークを確実に形成させることができる。 In addition, the amount of hydrogen atoms (hydride groups) directly bonded to Si in the linear organohydrogenpolysiloxane (B1) and the branched organohydrogenpolysiloxane (B2) is not particularly limited. However, in the silicone rubber composition, the total amount of hydride groups in the linear organohydrogenpolysiloxane (B1) and the branched organohydrogenpolysiloxane (B2) is preferably 0.5 to 5 moles, more preferably 1 to 3.5 moles, per mole of vinyl groups in the vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1). This ensures that a crosslinked network is formed between the linear organohydrogenpolysiloxane (B1) and the branched organohydrogenpolysiloxane (B2) and the vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1).
<<無機粒子(C)>>
本実施形態のシリコーンゴム組成物は、ビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)に加え、無機粒子(C)を含んでもよい。
<<Inorganic particles (C)>>
The silicone rubber composition of this embodiment may contain inorganic particles (C) in addition to the vinyl group- containing organopolysiloxane (A).
無機粒子(C)としては、特に限定されないが、珪藻土、酸化鉄、酸化チタン、酸化バリウム、酸化マグネシウム、酸化セリウム、炭酸マグネシウム、炭酸亜鉛、ガラスウール、マイカ、炭酸カルシウム、酸化亜鉛、アルミナ、結晶性シリカ、非晶性シリカ、溶融シリカ、およびゼオライトからなる群から得られる1種または2種以上を用いてなる粒子が挙げられる。なかでも、炭酸カルシウム、酸化亜鉛、アルミナ、結晶性シリカ、非晶性シリカ、溶融シリカ、およびゼオライトからなる群から得られる1種または2種以上が好ましい。
また、シリカの合成方法の違いにより、ヒュームドシリカ(火炎法シリカ)、焼成シリカ、沈降シリカ等が用いられてもよい。
無機粒子(C)は、これらを単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
The inorganic particles (C) are not particularly limited, but may be particles made of one or more selected from the group consisting of diatomaceous earth, iron oxide, titanium oxide, barium oxide, magnesium oxide, cerium oxide, magnesium carbonate, zinc carbonate, glass wool, mica, calcium carbonate, zinc oxide, alumina, crystalline silica, amorphous silica, fused silica, and zeolite. Among these, one or more selected from the group consisting of calcium carbonate, zinc oxide, alumina, crystalline silica, amorphous silica, fused silica, and zeolite are preferred.
Furthermore, depending on the synthesis method of silica, fumed silica (flame-processed silica), fired silica, precipitated silica, etc. may be used.
The inorganic particles (C) may be used alone or in combination of two or more kinds.
無機粒子(C)は、例えば、BET法による比表面積が例えば50~400m2/gであることが好ましく、100~400m2/gであることがより好ましい。
また、無機粒子(C)の平均一次粒径は、例えば1~100nmであることが好ましく、5~20nm程度であることがより好ましい。
The inorganic particles (C) preferably have a specific surface area, as measured by the BET method, of, for example, 50 to 400 m 2 /g, and more preferably 100 to 400 m 2 /g.
The average primary particle size of the inorganic particles (C) is preferably, for example, from 1 to 100 nm, and more preferably from about 5 to 20 nm.
無機粒子(C)として、かかる比表面積および平均粒径の範囲内であるものを用いることにより、形成される離型層1の硬さや機械的強度を向上し、離型性、型追従性、寸法安定性のバランスを向上しやすくなる。 By using inorganic particles (C) that have a specific surface area and average particle size within this range, the hardness and mechanical strength of the release layer 1 that is formed can be improved, and the balance between releasability, mold conformability, and dimensional stability can be improved.
<<シランカップリング剤(D)>>
本実施形態のシリコーンゴム組成物は、シランカップリング剤(D)を含むことができる。
シランカップリング剤(D)は、加水分解性基を有することができる。加水分解基が水により加水分解されて水酸基になり、この水酸基が無機粒子(C)表面の水酸基と脱水縮合反応することで、無機粒子(C)の表面改質を行うことができる。
<<Silane coupling agent (D)>>
The silicone rubber composition of the present embodiment may contain a silane coupling agent (D).
The silane coupling agent (D) may have a hydrolyzable group. The hydrolyzable group is hydrolyzed by water to become a hydroxyl group, and the hydroxyl group undergoes a dehydration condensation reaction with the hydroxyl group on the surface of the inorganic particles (C), thereby modifying the surface of the inorganic particles (C).
また、このシランカップリング剤(D)は、疎水性基を有するシランカップリング剤を含むことができる。これにより、無機粒子(C)の表面にこの疎水性基が付与されるため、シリコーンゴム組成物中ひいてはシリコーンゴム中において、無機粒子(C)の凝集力が低下(シリカ粒子の場合、シラノール基による水素結合による凝集が少なくなる)し、その結果、シリコーンゴム組成物中の無機粒子(C)の分散性が向上すると推測される。これにより、無機粒子(C)とゴムマトリックスとの界面が増加し、無機粒子(C)の補強効果が増大する。さらに、ゴムのマトリックス変形の際、マトリックス内での無機粒子(C)の滑り性が向上すると推測される。そして、無機粒子(C)の分散性の向上及び滑り性の向上によって、無機粒子(C)による離型層1の機械的強度(例えば、型追従性、寸法安定性など)が向上する。 The silane coupling agent (D) may contain a silane coupling agent having a hydrophobic group. This provides the surface of the inorganic particles (C) with this hydrophobic group, which reduces the cohesive force of the inorganic particles (C) in the silicone rubber composition and thus in the silicone rubber (in the case of silica particles, the cohesion caused by hydrogen bonds due to silanol groups is reduced). As a result, it is presumed that the dispersibility of the inorganic particles (C) in the silicone rubber composition is improved. This increases the interface between the inorganic particles (C) and the rubber matrix, and increases the reinforcing effect of the inorganic particles (C). Furthermore, it is presumed that the slipperiness of the inorganic particles (C) in the matrix is improved during deformation of the rubber matrix. And, due to the improvement in the dispersibility and slipperiness of the inorganic particles (C), the mechanical strength (e.g., mold followability, dimensional stability, etc.) of the release layer 1 due to the inorganic particles (C) is improved.
さらに、シランカップリング剤(D)は、ビニル基を有するシランカップリング剤を含むことができる。これにより、無機粒子(C)の表面にビニル基が導入される。そのため、シリコーンゴム組成物の硬化の際、すなわち、ビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)が有するビニル基と、オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B)が有するヒドリド基とがヒドロシリル化反応して、これらによるネットワーク(架橋構造)が形成される際に、無機粒子(C)(シリカ粒子の場合)が有するビニル基も、オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B)が有するヒドリド基とのヒドロシリル化反応に関与するため、ネットワーク中に無機粒子(C)も取り込まれるようになる。これにより、形成される離型層1の低硬度化および高モジュラス化を図ることができる。 Furthermore, the silane coupling agent (D) may contain a silane coupling agent having a vinyl group. This introduces a vinyl group onto the surface of the inorganic particles (C). Therefore, when the silicone rubber composition is cured, that is, when the vinyl group of the vinyl group-containing organopolysiloxane (A) and the hydride group of the organohydrogenpolysiloxane (B) undergo a hydrosilylation reaction to form a network (crosslinked structure), the vinyl group of the inorganic particles (C) (in the case of silica particles) also participates in the hydrosilylation reaction with the hydride group of the organohydrogenpolysiloxane (B), so that the inorganic particles (C) are also incorporated into the network. This allows the release layer 1 to be formed with a low hardness and high modulus.
シランカップリング剤(D)としては、疎水性基を有するシランカップリング剤およびビニル基を有するシランカップリング剤を併用することができる。 As the silane coupling agent (D), a silane coupling agent having a hydrophobic group and a silane coupling agent having a vinyl group can be used in combination.
シランカップリング剤(D)としては、例えば、以下の式(4)で表わされるものが挙げられる。 Examples of the silane coupling agent (D) include those represented by the following formula (4):
Yn-Si-(X)4-n (4)
上記式(4)中、nは1~3の整数を表わす。Yは、疎水性基、親水性基またはビニル基を有するもののうちのいずれかの官能基を表わし、nが1の時は疎水性基であり、nが2または3の時はその少なくとも1つが疎水性基である。Xは、加水分解性基を表わす。
Y n -Si-(X) 4-n (4)
In the above formula (4), n represents an integer of 1 to 3. Y represents any functional group having a hydrophobic group, a hydrophilic group, or a vinyl group, and when n is 1, it is a hydrophobic group, and when n is 2 or 3, at least one of them is a hydrophobic group. X represents a hydrolyzable group.
疎水性基は、炭素数1~6のアルキル基、アリール基、またはこれらを組み合わせた炭化水素基であり、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、フェニル基等が挙げられ、中でも、メチル基が好ましい。 The hydrophobic group is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an aryl group, or a hydrocarbon group that is a combination of these. Examples include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and a phenyl group, and among these, a methyl group is preferable.
また、親水性基は、例えば、水酸基、スルホン酸基、カルボキシル基またはカルボニル基等が挙げられ、中でも、水酸基が好ましい。なお、親水性基は、官能基として含まれていてもよいが、シランカップリング剤(D)に疎水性を付与するという観点からは含まれていないのが好ましい。 The hydrophilic group may be, for example, a hydroxyl group, a sulfonic acid group, a carboxyl group, or a carbonyl group, and among these, a hydroxyl group is preferred. Note that a hydrophilic group may be included as a functional group, but it is preferable that it is not included from the viewpoint of imparting hydrophobicity to the silane coupling agent (D).
さらに、加水分解性基は、メトキシ基、エトキシ基のようなアルコキシ基、クロロ基またはシラザン基等が挙げられ、中でも、無機粒子(C)(シリカ粒子の場合)との反応性が高いことから、シラザン基が好ましい。なお、加水分解性基としてシラザン基を有するものは、その構造上の特性から、上記式(4)中の(Yn-Si-)の構造を2つ有するものとなる。 Further, examples of the hydrolyzable group include alkoxy groups such as methoxy and ethoxy groups, chloro groups, and silazane groups, among which silazane groups are preferred due to their high reactivity with inorganic particles (C) (in the case of silica particles). Note that those having silazane groups as hydrolyzable groups have two (Y n -Si-) structures in the above formula (4) due to their structural characteristics.
上記式(4)で表されるシランカップリング剤(D)の具体例は、例えば、官能基として疎水性基を有するものとして、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、n-プロピルトリメトキシシラン、n-プロピルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、デシルトリメトキシシランのようなアルコキシシラン;メチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、トリメチルクロロシラン、フェニルトリクロロシランのようなクロロシラン;ヘキサメチルジシラザンが挙げられ、官能基としてビニル基を有するものとして、メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルメチルジメトキシシランのようなアルコキシシラン;ビニルトリクロロシラン、ビニルメチルジクロロシランのようなクロロシラン;ジビニルテトラメチルジシラザンが挙げられるが、中でも、上記記載を考慮すると、特に、疎水性基を有するものとしてはヘキサメチルジシラザン、ビニル基を有するものとしてはジビニルテトラメチルジシラザンであるのが好ましい。 Specific examples of the silane coupling agent (D) represented by the above formula (4) include, for example, alkoxysilanes such as methyltrimethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, phenyltriethoxysilane, n-propyltrimethoxysilane, n-propyltriethoxysilane, hexyltrimethoxysilane, hexyltriethoxysilane, and decyltrimethoxysilane; chlorosilanes such as methyltrichlorosilane, dimethyldichlorosilane, trimethylchlorosilane, and phenyltrichlorosilane; and hexamethyldisilazane, which have a hydrophobic group as a functional group. Examples of the silane having a vinyl group include alkoxysilanes such as methacryloxypropyltriethoxysilane, methacryloxypropyltrimethoxysilane, methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, and vinylmethyldimethoxysilane; chlorosilanes such as vinyltrichlorosilane and vinylmethyldichlorosilane; and divinyltetramethyldisilazane. Among these, taking into consideration the above description, it is particularly preferable that the silane having a hydrophobic group is hexamethyldisilazane, and the silane having a vinyl group is divinyltetramethyldisilazane.
<<白金または白金化合物(E)>>
本実施形態のシリコーンゴム組成物は、白金または白金化合物(E)を含むことができる。
白金または白金化合物(E)は、硬化の際の触媒として作用する触媒成分である。白金または白金化合物(E)の添加量は触媒量である。
<<Platinum or platinum compound (E)>>
The silicone rubber composition of the present embodiment can contain platinum or a platinum compound (E).
The platinum or platinum compound (E) is a catalytic component that acts as a catalyst during curing. The amount of platinum or platinum compound (E) added is a catalytic amount.
白金または白金化合物(E)としては、公知のものを使用することができ、例えば、白金黒、白金をシリカやカーボンブラック等に担持させたもの、塩化白金酸または塩化白金酸のアルコール溶液、塩化白金酸とオレフィンの錯塩、塩化白金酸とビニルシロキサンとの錯塩等が挙げられる。 As the platinum or platinum compound (E), known substances can be used, such as platinum black, platinum supported on silica or carbon black, chloroplatinic acid or an alcohol solution of chloroplatinic acid, a complex salt of chloroplatinic acid and an olefin, and a complex salt of chloroplatinic acid and a vinyl siloxane.
なお、白金または白金化合物(E)は、1種のみを単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 The platinum or platinum compound (E) may be used alone or in combination of two or more.
<<水(F)>>
また、本実施形態のシリコーンゴム組成物には、上記成分(A)~(E)以外に、水(F)が含まれていてもよい。
<<Water (F)>>
Furthermore, the silicone rubber composition of this embodiment may contain water (F) in addition to the above components (A) to (E).
水(F)は、シリコーンゴム組成物に含まれる各成分を分散させる分散媒として機能するとともに、無機粒子(C)とシランカップリング剤(D)との反応に寄与する成分である。そのため、シリコーンゴム中において、無機粒子(C)とシランカップリング剤(D)とを、より確実に互いに連結したものとすることができ、全体として均一な特性を発揮することができる。 Water (F) functions as a dispersion medium to disperse each component contained in the silicone rubber composition, and is also a component that contributes to the reaction between the inorganic particles (C) and the silane coupling agent (D). Therefore, the inorganic particles (C) and the silane coupling agent (D) can be more reliably linked to each other in the silicone rubber, and uniform properties can be exhibited overall.
さらに、本実施形態のシリコーンゴム組成物は、上記(A)~(F)成分の他、シリコーンゴム組成物に配合される公知の添加成分を含有していてもよい。公知の添加成分としては例えば、分散剤、顔料、染料、帯電防止剤、酸化防止剤、難燃剤、熱伝導性向上剤等を適宜配合することができる。 Furthermore, the silicone rubber composition of this embodiment may contain, in addition to the above components (A) to (F), known additive components that are blended into silicone rubber compositions. Examples of known additive components that can be blended appropriately include dispersants, pigments, dyes, antistatic agents, antioxidants, flame retardants, and thermal conductivity improvers.
なお、シリコーンゴム組成物において、各成分の含有割合は特に限定されないが、例えば、以下のように設定される。 In addition, the content ratio of each component in the silicone rubber composition is not particularly limited, but is set, for example, as follows.
本実施形態において、無機粒子(C)の含有量の上限値は、ビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)の合計量100重量部に対し、例えば、60重量部以下でもよく、好ましくは50重量部以下でもよく、さらに好ましくは40重量部以下でもよい。これにより、離型フィルム10の硬さや引裂強度等の機械的強度を良好にし、離型性、型追従性、寸法安定性のバランスを向上できる。また、無機粒子(C)の含有量の下限値は、ビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)の合計量100重量部に対し、特に限定されないが、例えば、10重量部以上でもよい。
In this embodiment, the upper limit of the content of the inorganic particles (C) may be, for example, 60 parts by weight or less, preferably 50 parts by weight or less, and more preferably 40 parts by weight or less, relative to 100 parts by weight of the total amount of the vinyl group-containing organopolysiloxane (A). This improves the mechanical strength, such as the hardness and tear strength, of the
シランカップリング剤(D)は、ビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)100重量部に対し、例えば、シランカップリング剤(D)が5重量部以上100重量部以下の割合で含有するのが好ましく、5重量部以上40重量部以下の割合で含有するのがより好ましい。これにより、無機粒子(C)のシリコーンゴム組成物中における分散性を確実に向上させることができる。 The silane coupling agent (D) is preferably contained in an amount of 5 parts by weight or more and 100 parts by weight or less, and more preferably 5 parts by weight or more and 40 parts by weight or less, per 100 parts by weight of the vinyl group-containing organopolysiloxane (A). This can reliably improve the dispersibility of the inorganic particles (C) in the silicone rubber composition.
オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B)の含有量は、具体的にビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)及び無機粒子(C)及びシランカップリング剤(D)の合計量100重量部に対して、例えば、0.5重量部以上20重量部以下の割合で含有することが好ましく、0.8重量部以上15重量部以下の割合で含有するのがより好ましい。(B)の含有量が上記範囲内であることで、より効果的な硬化反応ができる可能性がある。 The content of organohydrogenpolysiloxane (B) is preferably, for example, 0.5 parts by weight or more and 20 parts by weight or less, and more preferably 0.8 parts by weight or more and 15 parts by weight or less, per 100 parts by weight of the total amount of vinyl group-containing organopolysiloxane (A), inorganic particles (C), and silane coupling agent (D). By keeping the content of (B) within the above range, a more effective curing reaction may be achieved.
白金または白金化合物(E)の含有量は、触媒量を意味し、適宜設定することができるが、具体的にビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)、無機粒子(C)、シランカップリング剤(D)の合計量に対して、本成分中の白金族金属が重量単位で0.01~1000ppmとなる量であり、好ましくは、0.1~500ppmとなる量である。白金または白金化合物(E)の含有量を上記下限値以上とすることにより、得られるシリコーンゴム組成物を十分硬化させることができる。白金または白金化合物(E)の含有量を上記上限値以下とすることにより、得られる離型層1の硬化速度を向上させることができる。 The content of platinum or platinum compound (E) means a catalytic amount and can be set appropriately, but specifically, it is an amount in which the platinum group metal in this component is 0.01 to 1000 ppm by weight, preferably 0.1 to 500 ppm, relative to the total amount of vinyl group-containing organopolysiloxane (A), inorganic particles (C), and silane coupling agent (D). By making the content of platinum or platinum compound (E) equal to or greater than the above lower limit, the obtained silicone rubber composition can be sufficiently cured. By making the content of platinum or platinum compound (E) equal to or less than the above upper limit, the curing speed of the obtained release layer 1 can be improved.
さらに、水(F)を含有する場合、その含有量は、適宜設定することができるが、具体的には、シランカップリング剤(D)100重量部に対して、例えば、10~100重量部の範囲であるのが好ましく、30~70重量部の範囲であるのがより好ましい。これにより、シランカップリング剤(D)と無機粒子(C)との反応をより確実に進行させることができる。 Furthermore, when water (F) is contained, its content can be set appropriately, but specifically, for example, it is preferably in the range of 10 to 100 parts by weight, and more preferably in the range of 30 to 70 parts by weight, per 100 parts by weight of the silane coupling agent (D). This allows the reaction between the silane coupling agent (D) and the inorganic particles (C) to proceed more reliably.
また、本実施形態のシリコーンゴム組成物は溶剤(G)を含むペーストであってもよい。
溶剤(G)としては、例えばペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、オクタン、デカン、ドデカン、テトラデカンなどの脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエン、エチルベンゼン、キシレン、トリフルオロメチルベンゼン、ベンゾトリフルオリドなどの芳香族炭化水素類;ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、シクロペンチルエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、1,4-ジオキサン、1,3-ジオキサン、テトラヒドロフランなどのエーテル類;ジクロロメタン、クロロホルム、1,1-ジクロロエタン、1,2-ジクロロエタン、1,1,1-トリクロロエタン、1,1,2-トリクロロエタンなどのハロアルカン類;N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミドなどのカルボン酸アミド類;ジメチルスルホキシド、ジエチルスルホキシドなどのスルホキシド類などを例示することができる。これらを単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
ここで用いられる溶媒は、上記のペースト中の組成成分を均一に溶解ないし分散させることのできる溶媒の中から適宜選択すればよい。
The silicone rubber composition of the present embodiment may be a paste containing the solvent (G).
Examples of the solvent (G) include aliphatic hydrocarbons such as pentane, hexane, cyclohexane, heptane, methylcyclohexane, ethylcyclohexane, octane, decane, dodecane, and tetradecane; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, ethylbenzene, xylene, trifluoromethylbenzene, and benzotrifluoride; ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, dibutyl ether, cyclopentyl methyl ether, cyclopentyl ethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, 1,4-dioxane, 1,3-dioxane, and tetrahydrofuran; haloalkanes such as dichloromethane, chloroform, 1,1-dichloroethane, 1,2-dichloroethane, 1,1,1-trichloroethane, and 1,1,2-trichloroethane; carboxylic acid amides such as N,N-dimethylformamide and N,N-dimethylacetamide; and sulfoxides such as dimethyl sulfoxide and diethyl sulfoxide. These may be used alone or in combination of two or more.
The solvent used here may be appropriately selected from among solvents capable of uniformly dissolving or dispersing the components in the paste.
[離型層の製造方法]
次に、本実施形態の離型層1の製造方法について説明する。
本実施形態の離型層1の製造方法としては、上記のシリコーンゴム組成物を調製し、このシリコーンゴム組成物をフィルム状にし、硬化させることにより離型層1を得ることができる。
以下、詳述する。
[Method of manufacturing the release layer]
Next, a method for producing the release layer 1 of this embodiment will be described.
In the method for producing the release layer 1 of this embodiment, the above-mentioned silicone rubber composition is prepared, and the silicone rubber composition is formed into a film, which is then cured to obtain the release layer 1.
Details are provided below.
まず、シリコーンゴム組成物の各成分を、任意の混練装置により、均一に混合してシリコーンゴム組成物を調製する。 First, the silicone rubber composition components are mixed uniformly using any kneading device to prepare the silicone rubber composition.
[1]たとえば、ビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)と、無機粒子(C)と、シランカップリング剤(D)とを所定量秤量し、その後、任意の混練装置により、混練することで、これら各成分(A)、(C)、(D)を含有する混練物を得る。 [1] For example, a vinyl group-containing organopolysiloxane (A), inorganic particles (C), and a silane coupling agent (D) are weighed out in predetermined amounts, and then kneaded using any kneading device to obtain a kneaded product containing these components (A), (C), and (D).
なお、この混練物は、予めビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)とシランカップリング剤(D)とを混練し、その後、無機粒子(C)を混練(混合)して得るのが好ましい。これにより、ビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)中における無機粒子(C)の分散性がより向上する。 It is preferable to prepare this mixture by first kneading the vinyl group-containing organopolysiloxane (A) with the silane coupling agent (D) and then kneading (mixing) the inorganic particles (C). This further improves the dispersibility of the inorganic particles (C) in the vinyl group-containing organopolysiloxane (A).
また、この混練物を得る際には、水(F)を必要に応じて、各成分(A)、(C)、および(D)の混練物に添加するようにしてもよい。これにより、シランカップリング剤(D)と無機粒子(C)との反応をより確実に進行させることができる。 When obtaining this kneaded mixture, water (F) may be added to the kneaded mixture of components (A), (C), and (D) as necessary. This allows the reaction between the silane coupling agent (D) and the inorganic particles (C) to proceed more reliably.
さらに、各成分(A)、(C)、(D)の混練は、第1温度で加熱する第1ステップと、第2温度で加熱する第2ステップとを経るようにするのが好ましい。これにより、第1ステップにおいて、無機粒子(C)の表面をカップリング剤(D)で表面処理することができるとともに、第2ステップにおいて、無機粒子(C)とカップリング剤(D)との反応で生成した副生成物を混練物中から確実に除去することができる。その後、必要に応じて、得られた混練物に対して、成分(A)を添加し、更に混練してもよい。これにより、混練物の成分のなじみを向上させることができる。 Furthermore, it is preferable that the kneading of each of the components (A), (C), and (D) is carried out through a first step of heating at a first temperature and a second step of heating at a second temperature. This allows the surfaces of the inorganic particles (C) to be surface-treated with the coupling agent (D) in the first step, and allows the by-products generated by the reaction between the inorganic particles (C) and the coupling agent (D) to be reliably removed from the kneaded mixture in the second step. Thereafter, component (A) may be added to the obtained kneaded mixture as necessary, and further kneaded. This allows the compatibility of the components in the kneaded mixture to be improved.
第1温度は、例えば、40~120℃程度であるのが好ましく、例えば、60~90℃程度であるのがより好ましい。第2温度は、例えば、130~210℃程度であるのが好ましく、例えば、160~180℃程度であるのがより好ましい。 The first temperature is preferably, for example, about 40 to 120°C, and more preferably, for example, about 60 to 90°C. The second temperature is preferably, for example, about 130 to 210°C, and more preferably, for example, about 160 to 180°C.
また、第1ステップにおける雰囲気は、窒素雰囲気下のような不活性雰囲気下であるのが好ましく、第2ステップにおける雰囲気は、減圧雰囲気下であるのが好ましい。 The atmosphere in the first step is preferably an inert atmosphere such as a nitrogen atmosphere, and the atmosphere in the second step is preferably a reduced pressure atmosphere.
さらに、第1ステップの時間は、例えば、0.3~1.5時間程度であるのが好ましく、0.5~1.2時間程度であるのがより好ましい。第2ステップの時間は、例えば、0.7~3.0時間程度であるのが好ましく、1.0~2.0時間程度であるのがより好ましい。 Furthermore, the time for the first step is, for example, preferably about 0.3 to 1.5 hours, and more preferably about 0.5 to 1.2 hours. The time for the second step is, for example, preferably about 0.7 to 3.0 hours, and more preferably about 1.0 to 2.0 hours.
第1ステップおよび第2ステップを、上記のような条件とすることで、前記効果をより顕著に得ることができる。 By setting the above conditions for the first and second steps, the above effects can be obtained more significantly.
[2]次に、オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B)と、白金または白金化合物(E)とを所定量秤量し、その後、任意の混練装置を用いて、上記工程[1]で調製した混練物に、各成分(B)、(E)を混練することで、シリコーンゴム組成物を得る。得られたシリコーンゴム組成物は溶剤を含むペーストであってもよい。 [2] Next, predetermined amounts of organohydrogenpolysiloxane (B) and platinum or platinum compound (E) are weighed out, and then, using any kneading device, the components (B) and (E) are kneaded into the mixture prepared in the above step [1] to obtain a silicone rubber composition. The obtained silicone rubber composition may be a paste containing a solvent.
なお、この各成分(B)、(E)の混練の際には、予め上記工程[1]で調製した混練物とオルガノハイドロジェンポリシロキサン(B)とを、上記工程[1]で調製した混練物と白金または白金化合物(E)とを混練し、その後、それぞれの混練物を混練するのが好ましい。これにより、ビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)とオルガノハイドロジェンポリシロキサン(B)との反応を進行させることなく、各成分(A)~(E)をシリコーンゴム組成物中に確実に分散させることができる。 When mixing the components (B) and (E), it is preferable to first mix the mixture prepared in step [1] above with the organohydrogenpolysiloxane (B), and then mix the mixture prepared in step [1] above with platinum or a platinum compound (E), and then mix the mixtures together. This allows the components (A) to (E) to be reliably dispersed in the silicone rubber composition without allowing the reaction between the vinyl group-containing organopolysiloxane (A) and the organohydrogenpolysiloxane (B) to proceed.
各成分(B)、(E)を混練する際の温度は、ロール設定温度として、例えば、10~70℃程度であるのが好ましく、25~30℃程度であるのがより好ましい。 The temperature at which components (B) and (E) are kneaded is, for example, preferably about 10 to 70°C, and more preferably about 25 to 30°C, as the roll setting temperature.
さらに、混練する時間は、例えば、5分~1時間程度であるのが好ましく、10~40分程度であるのがより好ましい。 Furthermore, the kneading time is preferably, for example, about 5 minutes to 1 hour, and more preferably about 10 to 40 minutes.
上記工程[1]および上記工程[2]において、温度を上記範囲内とすることにより、ビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)とオルガノハイドロジェンポリシロキサン(B)との反応の進行をより的確に防止または抑制することができる。また、上記工程[1]および上記工程[2]において、混練時間を上記範囲内とすることにより、各成分(A)~(E)をシリコーンゴム組成物中により確実に分散させることができる。 In the above steps [1] and [2], by setting the temperature within the above range, the progress of the reaction between the vinyl group-containing organopolysiloxane (A) and the organohydrogenpolysiloxane (B) can be more accurately prevented or inhibited. In addition, in the above steps [1] and [2], by setting the kneading time within the above range, the components (A) to (E) can be more reliably dispersed in the silicone rubber composition.
なお、各工程[1]、[2]において使用される混練装置としては、特に限定されないが、例えば、ニーダー、2本ロール、バンバリーミキサー(連続ニーダー)、加圧ニーダー等を用いることができる。 The kneading device used in each step [1] and [2] is not particularly limited, but may be, for example, a kneader, a two-roll mill, a Banbury mixer (continuous kneader), a pressure kneader, etc.
また、本工程[2]において、混練物中に1-エチニルシクロヘキサノールのような反応抑制剤を添加するようにしてもよい。これにより、混練物の温度が比較的高い温度に設定されたとしても、ビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)とオルガノハイドロジェンポリシロキサン(B)との反応の進行をより的確に防止または抑制することができる。 In addition, in this step [2], a reaction inhibitor such as 1-ethynylcyclohexanol may be added to the kneaded mixture. This makes it possible to more accurately prevent or inhibit the progress of the reaction between the vinyl group-containing organopolysiloxane (A) and the organohydrogenpolysiloxane (B) even if the temperature of the kneaded mixture is set to a relatively high temperature.
[3]次に、工程[2]で得られたシリコーンゴム組成物を、溶剤に溶解させることにより、ペースト化してもよい。 [3] Next, the silicone rubber composition obtained in step [2] may be made into a paste by dissolving it in a solvent.
[4]次に、シリコーンゴム組成物を、フィルム状に加工し、硬化させることにより離型層1を形成する。
具体的には、シリコーンゴム組成物を押出成形法またはカレンダー成形法、プレス成型法、コーティング等によりフィルム状に成形する。なお、フィルム製膜時にロール等の表面形状を転写・エンボス加工を施してもよい。
[4] Next, the silicone rubber composition is processed into a film and cured to form the release layer 1.
Specifically, the silicone rubber composition is formed into a film by extrusion molding, calendar molding, press molding, coating, etc. During film formation, the surface shape of a roll or the like may be transferred or embossed.
本実施形態において、シリコーンゴム組成物の硬化工程は、例えば、100~250℃で1~30分間加熱(1次硬化)した後、100~250℃で1~4時間ポストベーク(2次硬化)することによって行われる。 In this embodiment, the curing process of the silicone rubber composition is carried out, for example, by heating at 100 to 250°C for 1 to 30 minutes (first curing) and then post-baking at 100 to 250°C for 1 to 4 hours (secondary curing).
以上のような工程を経ることで、本実施形態のシリコーンゴム組成物を用いた離型層1、すなわち離型フィルム10が得られる。
Through the above steps, a release layer 1, i.e., a
[離型フィルムの用途・使用方法]
本実施形態の離型フィルム10は、半導体装置の樹脂封止工程において、封止樹脂が供給される型と樹脂封止される半導体装置との間に配置される用途に供される。
以下、離型フィルム10を用いた樹脂封止半導体装置の製造方法の一例について説明する。ただし、離型フィルム10の使用方法は、これに限られない。例えば、CFRP等の熱硬化性樹脂のプリプレグを硬化させる時の離型フィルム、熱硬化性樹脂の成形用離型フィルム、立体形状を有する製品へ印刷等を施す加飾用転写離型フィルム等としても使用できる。
[Uses and methods of use of release film]
The
Hereinafter, an example of a method for manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device using the
樹脂封止半導体装置の製造方法は、以下の工程を含む。
(工程1)半導体装置の準備工程
(工程2)離型フィルムの設置工程
(工程3)封止樹脂の供給工程
(工程4)硬化工程
(工程5)成形体の脱型工程
以下各工程についての詳細を説明する。
The method for manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device includes the following steps.
(Step 1) Preparation of the semiconductor device (Step 2) Installation of a release film (Step 3) Supply of sealing resin (Step 4) Hardening (Step 5) Demolding of molded body Each step will be described in detail below.
(工程1)半導体装置の準備工程
半導体装置は、支持体に設けられた回路配線上の電極パッドと、半導体素子に設けられた電極と、を電気的に接続したものである。
半導体素子としては、発光素子や受光素子などの光素子が例示される。発光素子としては、LEDチップ(発光ダイオード)が例示され、受光素子としては、イメージセンサが例示される。
また、支持体は、円形状或いは多角形状等の任意の形状で形成された基板である。支持体としては、セラミックス基板、シリコーン基板、金属基板、エポキシ樹脂及びBTレジン等のリジット基板、又は、ポリイミド樹脂及びポリエチレン基板等のフレキシブル基板が例示される。
(Step 1) Preparation of Semiconductor Device A semiconductor device is formed by electrically connecting electrode pads on circuit wiring provided on a support and electrodes provided on a semiconductor element.
Examples of the semiconductor element include optical elements such as a light emitting element and a light receiving element. An example of the light emitting element is an LED chip (light emitting diode), and an example of the light receiving element is an image sensor.
The support is a substrate formed in any shape such as a circle or a polygon. Examples of the support include a ceramic substrate, a silicone substrate, a metal substrate, a rigid substrate such as an epoxy resin or a BT resin, or a flexible substrate such as a polyimide resin or a polyethylene substrate.
(工程2)離型フィルムの設置工程
離型フィルム10を、封止樹脂が供給されるための凹部を有する型に配置する。このとき離型フィルム10の離型面3が表側、すなわち後に供給される封止樹脂と接するように配置する。
また、離型フィルム10は、型の凹部内および凹部を囲む平面部の表面に沿って配設されてもよい。このとき、離型フィルム10が型の凹部の形状に追従するように、吸引装置などを用いて離型フィルム10と型との間の空間にある空気・水分・ガス等を吸引排出して、真空吸着することが好ましい。さらに、離型フィルム10を型にしっかりと固定するために、封止樹脂注入領域の外周部、離型フィルム10全体の外周部、又は、型全体の外周部に対応する位置に配されたチャック機構によって、離型フィルム10を挟持してもよい。
型としては、公知の金型及び樹脂性金型が例示される。
(Step 2) Step of Setting Release Film The
The
Examples of the mold include a known metal mold and a resin mold.
(工程3)封止樹脂の供給工程
次に、型の凹部であって、離型フィルム10が配置された領域に封止樹脂を供給する。供給方法は公知の方法を用いることができる。また、封止樹脂は、公知の樹脂を用いることができるが、例えば、シリコーン系樹脂、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、フッ素系樹脂、ポリイミド系樹脂、シリコーン変形エポキシ系樹脂等の1種またはこれらの混合物、ならびにこれらの前駆体などが挙げられる。
本実施形態において、離型フィルム10をコンプレッションモールド成形法(圧縮成形法)に適用する場合、封止樹脂の形状は、タブレット状、顆粒状、封粒状またはシート状に加工されたものであることが好ましい。
型内において、封止樹脂は所定温度に加熱され、流動状態となっている。
(Step 3) Sealing resin supply step Next, the sealing resin is supplied to the recessed portion of the mold where the
In this embodiment, when the
In the mold, the sealing resin is heated to a predetermined temperature and is in a fluid state.
(工程4)硬化工程
次に、準備した半導体装置の半導体素子が設けられた面を、封止樹脂が凹部に供給された型に対して、圧接する。これにより、半導体素子が封止樹脂によって覆われる。続けて封止樹脂を、加熱加圧することによって、硬化し、成形体を得る。
なお、封止樹脂が硬化性樹脂の前駆体である場合は、加熱及び活性エネルギー線照射によって硬化してもよい。上記の活性エネルギー線としては、放射線、紫外線、可視光線及び電子線が例示される。
(Step 4) Curing Step Next, the surface of the prepared semiconductor device on which the semiconductor element is provided is pressed against a mold in which the sealing resin is supplied into the recess. This causes the semiconductor element to be covered with the sealing resin. The sealing resin is then cured by applying heat and pressure to obtain a molded body.
When the sealing resin is a precursor of a curable resin, it may be cured by heating and irradiation with active energy rays, examples of which include radiation, ultraviolet rays, visible light, and electron beams.
(工程5)成形体の脱型工程
その後、成形体を型から外す。成形体の脱型工程は、離型フィルム10と型との間に空気・水分・ガス等を供給することにより、離型フィルム10が型から剥がされると共に、成形体が脱型される。これと同時またはのちに、離型フィルム10は成形体から離型する。
支持体に設けられた半導体素子が1つの場合、この成形体が樹脂封止半導体装置となる。
(Step 5) Demolding step of molded body After that, the molded body is demolded. In the demolding step of the molded body, air, moisture, gas, etc. are supplied between the
When there is one semiconductor element provided on the support, this molded body becomes a resin-sealed semiconductor device.
<第2実施形態>
第1実施形態では、離型フィルム10が離型層1からなるものについて説明したが、第2実施形態では、離型フィルム11が離型層1および基材層2が積層した構成を備える例について説明する。以下、第1実施形態と同様の構成、作用効果についての説明は省略する。
Second Embodiment
In the first embodiment, the
図2は、第2実施形態の離型フィルムの断面を模式的に示す断面図である。
図2に示すように、本実施形態の離型フィルム11は、基材層2と、基材層2の上に積層された離型層1を備える。
FIG. 2 is a cross-sectional view that typically shows a cross section of a release film of a second embodiment.
As shown in FIG. 2 , the
離型フィルム11の厚みは、25μm以上150μm以下であることが好ましく、35μm以上100μm以下であることがより好ましく、40μm以上50μm以下であることがさらに好ましい。
The thickness of the
[基材層]
基材層2は、離型フィルム11に適度な剛性を付与する観点から用いられる。
[Base layer]
The
基材層2の厚みは、5μm以上50μm以下であることが好ましく、9μm以上35μm以下であることがより好ましく、12μm以上25μm以下であることがさらに好ましい。
基材層2の厚みを上記前記下限値以上とすることにより、離型フィルム11の剛性を高め、過度に変形し、シワが発生することを抑制しやすくなる。その結果、型追従性、寸法安定性が得られるようになる。一方、基材層2の厚みを上記上限値以下とすることで、離型フィルム11の剛性を制御し、型追従性と離型性のバランスを良好にできる。
The thickness of the
By setting the thickness of the
基材層2の材料としては、ポリエステル樹脂、ポリ4-メチル1-ペンテン樹脂、ポリアミド樹脂、およびポリプロピレン樹脂の中から選ばれる1種または2種以上が挙げられる。
上記ポリエステル樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート樹脂(PET)、ポリブチレンテレフタレート樹脂(PBT)、ポリトリメチレンテレフタレート樹脂(PTT)、ポリヘキサメチレンテレフタレート樹脂(PHT)および、ポリエチレンナフタレート樹脂(PEN)等が挙げられる。
上記ポリアミド樹脂としては、例えば、脂肪族ポリアミド、芳香族ポリアミド等が挙げられる。脂肪族ポリアミドの具体例としては、ポリアミド6、ポリアミド6,6、ポリアミド6-6,6共重合体、ポリアミド11、ポリアミド12などが挙げられる。芳香族ポリアミドの具体例としては、ポリアミド61、ポリアミド66/6T、ポリアミド6T/6、ポリアミド12/6Tなどが挙げられる。
中でも、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリアミド樹脂が好ましい。
The material of the
Examples of the polyester resin include polyethylene terephthalate resin (PET), polybutylene terephthalate resin (PBT), polytrimethylene terephthalate resin (PTT), polyhexamethylene terephthalate resin (PHT), and polyethylene naphthalate resin (PEN).
Examples of the polyamide resin include aliphatic polyamides, aromatic polyamides, etc. Specific examples of the aliphatic polyamides include polyamide 6, polyamide 6,6, polyamide 6-6,6 copolymer,
Among these, polyethylene terephthalate resin, polybutylene terephthalate resin, and polyamide resin are preferable.
また、基材層2として、延伸フィルムを使用してもよく、延伸は逐次二軸延伸、同時二軸延伸、およびチューブラー延伸等の公知の方法を用いて製造することが出来る。
A stretched film may also be used as the
[離型フィルムの製造方法]
離型フィルム11の形成方法としては、共押出法、押出ラミネート法、ドライラミネート法、インフレーション法等公知の方法を用いて製造することができる。基材層2の表面に、ペースト状に調製したシリコーンゴム組成物を塗工することで、基材層2の上に離型層1を形成してもよい。
第2実施形態の離型フィルム11においては、例えば、離型層1と基材層2とを、別々に製造してからラミネーター等により接合してもよい。また、離型層1と基材層2をそのまま接合してもよいし、接着層を介して接合してもよい。
基材層2を製造する方法としては限定されず、具体的には、インフレーション押出法、Tダイ押出法などが挙げられる。
なお、第2実施形態においては、第1実施形態で記載したシリコーンゴム組成物、ペースト、およびシリコーンゴム組成物のフィルム状硬化物を使用することができる。
[Method of producing release film]
The
In the
The method for producing the
In the second embodiment, the silicone rubber composition, paste, and film-like cured product of the silicone rubber composition described in the first embodiment can be used.
以上、本発明の実施形態について述べたが、これらは本発明の例示であり、上記以外の様々な構成を採用することができる。また、本発明は上述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれる。 The above describes the embodiments of the present invention, but these are merely examples of the present invention, and various configurations other than those described above can be adopted. Furthermore, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and modifications and improvements that can achieve the object of the present invention are included in the present invention.
以下、本発明について実施例を参照して詳細に説明するが、本発明は、これらの実施例の記載に何ら限定されるものではない。 The present invention will be described in detail below with reference to examples, but the present invention is not limited to the description of these examples.
以下、本発明について実施例を参照して詳細に説明するが、本発明は、これらの実施例の記載に何ら限定されるものではない。 The present invention will be described in detail below with reference to examples, but the present invention is not limited to the description of these examples.
(1)原料
表1に示す実施例および比較例で用いた原料成分を以下に示す。
(ビニル基含有オルガノポリシロキサン(A))
・低ビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1-1):合成スキーム1により合成したビニル基含有ジメチルポリシロキサン(式(1-1)で表わされる構造でR1(末端)のみがビニル基である構造)
・高ビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1-2):合成スキーム2により合成したビニル基含有ジメチルポリシロキサン(式(1-1)で表わされる構造でR1およびR2がビニル基である構造)
・低ビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1-3):合成スキーム3により合成したビニル基含有ジメチルポリシロキサン(式(1-1)で表わされる構造でR1およびR2がビニル基である構造)
(1) Raw Materials The raw material components used in the Examples and Comparative Examples shown in Table 1 are as follows.
(Vinyl Group-Containing Organopolysiloxane (A))
Low vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1-1): a vinyl group-containing dimethylpolysiloxane synthesized according to Synthesis Scheme 1 (a structure represented by formula (1-1) in which only R 1 (terminal) is a vinyl group)
High vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1-2): A vinyl group-containing dimethylpolysiloxane synthesized according to Synthesis Scheme 2 (a structure represented by formula (1-1) in which R 1 and R 2 are vinyl groups).
Low vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1-3): A vinyl group-containing dimethylpolysiloxane synthesized according to Synthesis Scheme 3 (a structure represented by formula (1-1) in which R 1 and R 2 are vinyl groups).
(オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B))
・モメンティブ社製:「TC-25D」
(Organohydrogenpolysiloxane (B))
・Momentive: "TC-25D"
(無機粒子(C))
・シリカ粒子(C-1):シリカ微粒子(粒径7nm、比表面積300m2/g)、日本アエロジル社製、「AEROSIL300」
・シリカ粒子(C-2):シリカ微粒子(粒径7nm、比表面積240m2/g)、日本アエロジル社製、「AEROSIL R976」
(Inorganic particles (C))
Silica particles (C-1): silica fine particles (particle size 7 nm, specific surface area 300 m 2 /g), manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd., "AEROSIL300"
Silica particles (C-2): silica fine particles (particle size 7 nm, specific surface area 240 m2/g), manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd., "AEROSIL R976"
(シランカップリング剤(D))
・シランカップリング剤(D-1):ヘキサメチルジシラザン(HMDZ)、Gelest社製、「HEXAMETHYLDISILAZANE(SIH6110.1)」
・シランカップリング剤(D-2):ジビニルテトラメチルジシラザン、Gelest社製、「1,3-DIVINYLTETRAMETHYLDISILAZANE(SID4612.0)」
(Silane Coupling Agent (D))
Silane coupling agent (D-1): hexamethyldisilazane (HMDZ), manufactured by Gelest, "HEXAMETHYLDISILAZANE (SIH6110.1)"
Silane coupling agent (D-2): Divinyltetramethyldisilazane, manufactured by Gelest, "1,3-DIVINYLTETRAMETHYLDISILAZANE (SID4612.0)"
(白金または白金化合物(E))
・モメンティブ社製:「TC-25A」
(Platinum or platinum compound (E))
・Momentive: "TC-25A"
(ビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)の合成)
[合成スキーム1:低ビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1-1)の合成]
以下の式(5)にしたがって、低ビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1-1)を合成した。
すなわち、Arガス置換した、冷却管および攪拌翼を有する300mLセパラブルフラスコに、オクタメチルシクロテトラシロキサン74.7g(252mmol)、カリウムシリコネート0.1gを入れ、昇温し、120℃で30分間攪拌した。なお、この際、粘度の上昇が確認できた。
その後、155℃まで昇温し、3時間攪拌を続けた。そして、3時間後、1,3-ジビニルテトラメチルジシロキサン0.1g(0.6mmol)を添加し、さらに、155℃で4時間攪拌した。
さらに、4時間後、トルエン250mLで希釈した後、水で3回洗浄した。洗浄後の有機層をメタノール1.5Lで数回洗浄することで、再沈精製し、オリゴマーとポリマーを分離した。得られたポリマーを60℃で一晩減圧乾燥し、低ビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1-1)を得た(Mn=2.2×105、Mw=4.8×105)。また、H-NMRスペクトル測定により算出したビニル基含有量は0.04モル%であった。
(Synthesis of vinyl group-containing organopolysiloxane (A))
[Synthesis Scheme 1: Synthesis of low-vinyl-group-containing linear organopolysiloxane (A1-1)]
A low-vinyl-group-containing linear organopolysiloxane (A1-1) was synthesized according to the following formula (5).
That is, 74.7 g (252 mmol) of octamethylcyclotetrasiloxane and 0.1 g of potassium siliconate were placed in a 300 mL separable flask equipped with a cooling tube and stirring blade and substituted with Ar gas, and the temperature was raised and the mixture was stirred for 30 minutes at 120° C. During this time, an increase in viscosity was confirmed.
The temperature was then raised to 155° C. and stirring was continued for 3 hours. After 3 hours, 0.1 g (0.6 mmol) of 1,3-divinyltetramethyldisiloxane was added and the mixture was further stirred at 155° C. for 4 hours.
After 4 hours, the mixture was diluted with 250 mL of toluene and washed three times with water. The washed organic layer was washed several times with 1.5 L of methanol for reprecipitation purification, and the oligomer and polymer were separated. The resulting polymer was dried overnight under reduced pressure at 60° C. to obtain a low-vinyl-group-containing linear organopolysiloxane (A1-1) (Mn=2.2×10 5 , Mw=4.8×10 5 ). The vinyl group content calculated by H-NMR spectrum measurement was 0.04 mol%.
[合成スキーム2:高ビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1-2)の合成]
上記(A1-1)の合成工程において、オクタメチルシクロテトラシロキサン74.7g(252mmol)に加えて2,4,6,8-テトラメチル2,4,6,8-テトラビニルシクロテトラシロキサン0.86g(2.5mmol)を用いたこと以外は、(A1-1)の合成工程と同様にすることで、以下の式(6)のように、高ビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1-2)を合成した。(Mn=2.3×105、Mw=5.0×105)。また、H-NMRスペクトル測定により算出したビニル基含有量は0.93モル%であった。
A vinyl-rich linear organopolysiloxane (A1-2) was synthesized as shown in the following formula (6) by the same synthesis process as for (A1-1), except that 0.86 g (2.5 mmol) of 2,4,6,8-tetramethyl-2,4,6,8-tetravinylcyclotetrasiloxane was used in addition to 74.7 g (252 mmol) of octamethylcyclotetrasiloxane in the synthesis process for (A1-1) above. (Mn=2.3×10 5 , Mw=5.0×10 5 ). The vinyl group content calculated by H-NMR spectrum measurement was 0.93 mol%.
[合成スキーム3:低ビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1-3)の合成]
上記(A1-2)の合成工程において、オクタメチルシクロテトラシロキサン75.3g(254mmol)、2,4,6,8-テトラメチル2,4,6,8-テトラビニルシクロテトラシロキサン0.12g(0.35mmol)を用い、155℃まで昇温した後の撹拌時間を3時間にしたこと以外は、(A1-2)の合成工程と同様にすることで、上記式(6)のように、低ビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1-3)を合成した。(Mn=2.5×105、Mw=5.0×105)。また、H-NMRスペクトル測定により算出したビニル基含有量は0.13モル%であった。
[Synthesis Scheme 3: Synthesis of low-vinyl-group-containing linear organopolysiloxane (A1-3)]
A linear organopolysiloxane (A1-3) having a low vinyl group content was synthesized as shown in formula (6) above by the same procedure as in the synthesis of (A1-2) above, except that 75.3 g (254 mmol) of octamethylcyclotetrasiloxane and 0.12 g (0.35 mmol) of 2,4,6,8-tetramethyl-2,4,6,8-tetravinylcyclotetrasiloxane were used and the stirring time after heating to 155° C. was changed to 3 hours. (Mn=2.5×10 5 , Mw=5.0×10 5 ). The vinyl group content calculated by H-NMR spectrum measurement was 0.13 mol %.
(2)シリコーンゴム組成物の調製
次のようにしてシリコーンゴム組成物を調製した。
まず、以下の表1に示す割合で、90%のビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)、シランカップリング剤(D)および水(F)の混合物を予め混練し、その後、混合物に無機粒子(C)を加えてさらに混練し、混練物(シリコーンゴムコンパウンド)を得た。
ここで、無機粒子(C)添加後の混練は、カップリング反応のために窒素雰囲気下、60~90℃の条件下で1時間混練する第1ステップと、副生成物(アンモニア)の除去のために減圧雰囲気下、160~180℃の条件下で2時間混練する第2ステップとを経ることで行い、その後、冷却し、残り10%のビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)を2回に分けて添加し、20分間混練した。
続いて、得られた混練物(シリコーンゴムコンパウンド)100重量部に、以下の表1に示す割合で、オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B)(TC-25D)および白金または白金化合物(E)(TC-25A)を加えて、ロールで混練し、シリコーンゴム組成物を得た。
(2) Preparation of Silicone Rubber Composition A silicone rubber composition was prepared as follows.
First, a mixture of 90% vinyl group-containing organopolysiloxane (A), silane coupling agent (D), and water (F) was pre-kneaded in the proportions shown in Table 1 below, and then inorganic particles (C) were added to the mixture and further kneaded to obtain a kneaded product (silicone rubber compound).
Here, the kneading after the addition of the inorganic particles (C) was carried out through a first step of kneading for 1 hour under conditions of 60 to 90°C in a nitrogen atmosphere for the coupling reaction, and a second step of kneading for 2 hours under conditions of 160 to 180°C in a reduced pressure atmosphere for the removal of the by-product (ammonia), followed by cooling, and then adding the remaining 10% of the vinyl group-containing organopolysiloxane (A) in two portions and kneading for 20 minutes.
Next, organohydrogenpolysiloxane (B) (TC-25D) and platinum or platinum compound (E) (TC-25A) were added in the ratios shown in Table 1 below to 100 parts by weight of the resulting kneaded product (silicone rubber compound), and the mixture was kneaded with a roll to obtain a silicone rubber composition.
(3)シリコーンゴム組成物の物性の測定
以下の手順で、シリコーンゴム組成物の物性を測定した。結果を表2に示す。
(3) Measurement of Physical Properties of Silicone Rubber Composition The physical properties of the silicone rubber composition were measured according to the following procedures. The results are shown in Table 2.
・引裂強度TS0
(引裂強度の測定手順)
シリコーンゴム組成物の硬化物を用いて、JIS K6252(2001)に準拠して、クレセント形試験片を作製し、25℃における、得られたクレセント形試験片の引裂強度を測定した。単位はN/mmである。
Tear strength TS0
(Procedure for measuring tear strength)
A crescent-shaped test piece was prepared using the cured product of the silicone rubber composition in accordance with JIS K6252 (2001), and the tear strength of the resulting crescent-shaped test piece was measured at 25° C. The unit is N/mm.
・引裂強度TS1(N/mm)
(引裂強度の測定手順)
当該シリコーンゴム組成物の硬化物を用いて、JIS K6252(2001)に準拠して、クレセント形試験片を作製したのち、100℃、30分保持後、100℃において得られたクレセント形試験片の引裂強度をTS1(N/mm)とした。
・Tear strength TS1 (N/mm)
(Procedure for measuring tear strength)
A crescent-shaped test specimen was prepared in accordance with JIS K6252 (2001) using the cured product of the silicone rubber composition, and then the specimen was held at 100°C for 30 minutes. The tear strength of the crescent-shaped test specimen obtained at 100°C was recorded as TS1 (N/mm).
・引裂強度TS2(N/mm)
(引裂強度の測定手順)
当該シリコーンゴム組成物の硬化物を用いて、JIS K6252(2001)に準拠して、クレセント形試験片を作製したのち、150℃、30分保持後、150℃において得られたクレセント形試験片の引裂強度をTS2(N/mm)とした。
・Tear strength TS2 (N/mm)
(Procedure for measuring tear strength)
A crescent-shaped test piece was prepared in accordance with JIS K6252 (2001) using the cured product of the silicone rubber composition, and then the test piece was held at 150°C for 30 minutes. The tear strength of the crescent-shaped test piece obtained at 150°C was recorded as TS2 (N/mm).
・破断伸びBE0s(%)
(破断伸びの測定手順)
シリコーンゴム組成物の硬化物を用いて、JIS K6251(2004)に準拠して、ダンベル状3号形試験片を作製し、25℃における、得られたダンベル状3号形試験片の破断伸びを測定した。破断伸びは、[標線間移動距離(mm)]÷[初期標線間距離(20mm)]×100で計算し、BE0sとした。単位は%である。
Breaking elongation BE0s (%)
(Procedure for measuring elongation at break)
Using the cured product of the silicone rubber composition, dumbbell-shaped No. 3 test pieces were prepared in accordance with JIS K6251 (2004), and the breaking elongation of the resulting dumbbell-shaped No. 3 test pieces was measured at 25°C. The breaking elongation was calculated as [gauge line movement distance (mm)]÷[initial gauge line distance (20 mm)]×100, and was designated as BE0s. The unit is %.
・破断伸びBE0(%)
(破断伸びの測定手順)
シリコーンゴム組成物の硬化物を用いて、JIS K6251(2004)に準拠して、ダンベル状3号形試験片を作製し、25℃における、得られたダンベル状3号形試験片の破断伸びを測定する。破断伸びは、[チャック間移動距離(mm)]÷[初期チャック間距離(60mm)]×100で計算し、BE0とする。単位は%である。
Breaking elongation BE0 (%)
(Procedure for measuring elongation at break)
Using the cured product of the silicone rubber composition, a dumbbell-shaped No. 3 test piece is prepared in accordance with JIS K6251 (2004), and the breaking elongation of the resulting dumbbell-shaped No. 3 test piece is measured at 25° C. The breaking elongation is calculated as [chuck movement distance (mm)]÷[initial chuck distance (60 mm)]×100, and is designated as BE0. The unit is %.
・破断伸びBE1(%)
(破断伸びの測定手順)
シリコーンゴム組成物の硬化物を用いて、JIS K6251(2004)に準拠して、ダンベル状3号形試験片を作製し、100℃、30分保持後、100℃における、得られたダンベル状3号形試験片の破断伸びを測定した。破断伸びは、[チャック間移動距離(mm)]÷[初期チャック間距離(60mm)]×100で計算し、BE1とした。単位は%である。
Breaking elongation BE1 (%)
(Procedure for measuring elongation at break)
Using the cured product of the silicone rubber composition, dumbbell-shaped No. 3 test pieces were prepared in accordance with JIS K6251 (2004), and after holding at 100°C for 30 minutes, the breaking elongation of the resulting dumbbell-shaped No. 3 test pieces was measured at 100°C. The breaking elongation was calculated as [chuck travel distance (mm)]÷[initial chuck distance (60 mm)]×100, and designated as BE1. The unit is %.
・破断伸びBE2(%)
(破断伸びの測定手順)
シリコーンゴム組成物の硬化物を用いて、JIS K6251(2004)に準拠して、ダンベル状3号形試験片を作製し、150℃、30分保持後、150℃における、得られたダンベル状3号形試験片の破断伸びを測定した。破断伸びは、[チャック間移動距離(mm)]÷[初期チャック間距離(60mm)]×100で計算し、BE2とした。単位は%である。
Breaking elongation BE2 (%)
(Procedure for measuring elongation at break)
Using the cured product of the silicone rubber composition, dumbbell-shaped No. 3 test pieces were prepared in accordance with JIS K6251 (2004), and after holding at 150°C for 30 minutes, the breaking elongation of the resulting dumbbell-shaped No. 3 test pieces was measured at 150°C. The breaking elongation was calculated as [chuck travel distance (mm)]÷[initial chuck distance (60 mm)]×100, and was designated as BE2. The unit is %.
・1MPa時の伸びE1(%)
(1MPa時の伸びの測定手順)
当該シリコーンゴム組成物の硬化物を用いて、JIS K6251(2004)に準拠して、ダンベル状3号形試験片を作製し、25℃、引張速度:500mm/分の条件で引張試験を行い、応力が1MPaに到達した時の、得られたダンベル状3号形試験片の伸びを[標線間移動距離(mm)]÷[初期標線間距離(20mm)]×100の式で計算し、E1とした。単位は%である。
Elongation E1 (%) at 1 MPa
(Procedure for measuring elongation at 1 MPa)
Using the cured product of the silicone rubber composition, dumbbell-shaped No. 3 test pieces were prepared in accordance with JIS K6251 (2004), and a tensile test was carried out under conditions of 25°C and a tensile speed of 500 mm/min, and the elongation of the resulting dumbbell-shaped No. 3 test piece when the stress reached 1 MPa was calculated by the formula [gauge line movement distance (mm)]÷[initial gauge line distance (20 mm)]×100, and designated as E1. The unit is %.
・0.2MPa時の伸びE2(%)
(0.2MPa時の伸びの測定手順)
当該シリコーンゴム系硬化性組成物の硬化物を用いて、JIS K6251(2004)に準拠して、ダンベル状3号形試験片を作製し、25℃、引張速度:500mm/分の条件で引張試験を行い、応力が0.2MPaに到達した時の、得られたダンベル状3号形試験片の伸びを[標線間移動距離(mm)]÷[初期標線間距離(20mm)]×100の式で計算した。単位は%である。
Elongation E2 (%) at 0.2 MPa
(Procedure for measuring elongation at 0.2 MPa)
Using the cured product of the silicone rubber-based curable composition, a dumbbell-shaped No. 3 test piece was prepared in accordance with JIS K6251 (2004), and a tensile test was carried out under conditions of 25°C and a tensile speed of 500 mm/min, and the elongation of the obtained dumbbell-shaped No. 3 test piece when the stress reached 0.2 MPa was calculated by the formula [gauge line movement distance (mm)]÷[initial gauge line distance (20 mm)]×100, with the unit being %.
・引張強度S(MPa)
(引張強度の測定手順)
シリコーンゴム組成物の硬化物を用いて、JIS K6251(2004)に準拠して、ダンベル状3号形試験片を作製し、25℃における、ダンベル状3号形試験片の引張強度を測定した。単位はMPaである。
Tensile strength S (MPa)
(Procedure for measuring tensile strength)
Dumbbell No. 3 test pieces were prepared using the cured product of the silicone rubber composition in accordance with JIS K6251 (2004), and the tensile strength of the dumbbell No. 3 test pieces at 25° C. was measured, the unit being MPa.
・n時間後のストローク変化率SCn(%)
(ストローク変化率の測定手順)
当該シリコーンゴム組成物の硬化物を用いて、JIS K6251(2004)に準拠して、ダンベル状3号形試験片を作製し、チャック間を1MPaの応力で保持した時、25℃における、得られたダンベル状3号形試験片の伸びを経時的に測定した。
応力が1MPaとなる時を0hとし、所定時間n(h)後のストローク量をEn(%)=[チャック間移動距離(mm)]÷[初期チャック間距離(60mm)]×100とした。測定されたストローク量をEnから、下記式に基づいて、ストローク変化率を算出した。
n時間後のストローク変化率SCn(%)=(En-E0)/E0×100
Stroke change rate after n hours SCn (%)
(Procedure for measuring stroke change rate)
Dumbbell-shaped No. 3 test pieces were prepared in accordance with JIS K6251 (2004) using the cured product of the silicone rubber composition, and the elongation of the resulting dumbbell-shaped No. 3 test pieces was measured over time at 25°C when held between chucks at a stress of 1 MPa.
The time when the stress became 1 MPa was defined as 0 h, and the stroke amount after a predetermined time n (h) was defined as En (%) = [chuck movement distance (mm)] ÷ [initial chuck distance (60 mm)] × 100. The stroke change rate was calculated from the measured stroke amount En based on the following formula.
Stroke change rate after n hours SCn (%) = (En-E0)/E0 x 100
・デュロメータ硬さA
(デュロメータ硬さAの測定手順)
当該シリコーンゴム組成物の硬化物を用いて、シート状試験片を作製し、JIS K6253(1997)に準拠して、25℃における、得られたシート状試験片のデュロメータ硬さAを測定した。
・Durometer hardness A
(Procedure for measuring durometer hardness A)
A sheet-like test specimen was prepared using the cured product of the silicone rubber composition, and the durometer hardness A of the resulting sheet-like test specimen at 25° C. was measured in accordance with JIS K6253 (1997).
・可塑度
(可塑度の測定手順)
当該シリコーンゴム組成物の未硬化物を試験サンプルとして使用し、JIS K6249(2003)に準拠して、ウイリアムス可塑度計を用いて、25℃における、得られた試験サンプルの可塑度について、測定開始から10分後に測定した。
- Plasticity (Procedure for measuring plasticity)
The uncured silicone rubber composition was used as a test sample, and the plasticity of the resulting test sample at 25° C. was measured 10 minutes after the start of the measurement using a Williams plasticity meter in accordance with JIS K6249 (2003).
(4)離型層(離型フィルム)の作成、準備
<実施例1>
[離型層のみを備える離型フィルムの作成]
上記(3)で調製したシリコーンゴム組成物を、160℃、20MPaで20分間プレスし、厚さ300μmのフィルム状に成形すると共に、1次硬化した。続いて、200℃で4時間加熱し、2次硬化し、離型層からなる離型フィルムを作成した。また、かかる手順において、シリコーンゴム組成物をプレスする際に金型表面の凹凸を転写させることによって、凹凸加工を行った。
得られた離型フィルムの離型層の厚みは300μm、離型層の離型面の表面粗さRzは3μmであった。
(4) Preparation of release layer (release film) <Example 1>
[Preparation of release film having only a release layer]
The silicone rubber composition prepared in (3) above was pressed at 160°C and 20 MPa for 20 minutes to form a film having a thickness of 300 μm, and was cured primarily. It was then heated at 200°C for 4 hours to be cured secondary, and a release film consisting of a release layer was prepared. In addition, in this procedure, the unevenness of the mold surface was transferred when the silicone rubber composition was pressed, thereby performing uneven processing.
The release layer of the obtained release film had a thickness of 300 μm, and the surface roughness Rz of the release surface of the release layer was 3 μm.
<実施例2>
[基材層を備える離型フィルムの作成]
二軸延伸ポリエチレンテレフタレート(東洋紡社製、東洋紡エステル(登録商標)フィルム、12μm厚)を基材層とし、基材層上に上記(3)で調製したシリコーンゴム組成物からなるペースト(固形分量25質量%、溶剤デカン)を、バーコーターを用いて塗工し、180℃、120分で硬化させ、基材層上に離型層を備える離型フィルムを得た。
また、かかる手順において、シリコーンゴム組成物からなるペーストを乾燥させた後にマットフィルムを挟み込むことにより、離型層の表面に凹凸加工を行った。
得られた離型フィルムの離型層の厚みは38μm、離型層の離型面の表面粗さRzは2μmであった。
Example 2
[Preparation of release film having substrate layer]
A biaxially oriented polyethylene terephthalate film (Toyobo Co., Ltd., Toyobo Ester (registered trademark) film, 12 μm thick) was used as a substrate layer. A paste (solid content 25 mass%, decane solvent) made of the silicone rubber composition prepared in (3) above was applied onto the substrate layer using a bar coater and cured at 180° C. for 120 minutes to obtain a release film having a release layer on the substrate layer.
In this procedure, after the paste made of the silicone rubber composition was dried, a matte film was sandwiched between the two layers to provide an uneven surface to the release layer.
The release layer of the obtained release film had a thickness of 38 μm, and the surface roughness Rz of the release surface of the release layer was 2 μm.
<比較例1>
二軸延伸ポリエチレンテレフタレート(東洋紡社製、東洋紡エステル(登録商標)フィルム、12μm厚)を基材層とし、基材層上に上記(3)で調製したシリコーンゴム組成物からなるペースト(固形分量25質量%、溶剤デカン)を、バーコーターを用いて塗工し、180℃、120分で硬化させ、基材層上に離型層を備える離型フィルムを得た。
また、かかる手順において、シリコーンゴム組成物からなるペーストを乾燥させた後にマットフィルムを挟み込むことにより、離型層の表面に凹凸加工を行った。
得られた離型フィルムの離型層の厚みは38μm、離型層の離型面の表面粗さRzは2μmであった。
<Comparative Example 1>
A biaxially oriented polyethylene terephthalate film (Toyobo Co., Ltd., Toyobo Ester (registered trademark) film, 12 μm thick) was used as a substrate layer. A paste (solid content 25 mass%, decane solvent) made of the silicone rubber composition prepared in (3) above was applied onto the substrate layer using a bar coater and cured at 180° C. for 120 minutes to obtain a release film having a release layer on the substrate layer.
In this procedure, after the paste made of the silicone rubber composition was dried, a matte film was sandwiched between the two layers to provide an uneven surface to the release layer.
The release layer of the obtained release film had a thickness of 38 μm, and the surface roughness Rz of the release surface of the release layer was 2 μm.
(5)測定・評価
得られた離型フィルムを用いて、以下の測定・評価を行った。結果を表2に示す。
(5) Measurement and Evaluation The following measurements and evaluations were carried out using the obtained release film. The results are shown in Table 2.
(i)離型層の離型面の表面粗さRzの測定
JIS B0601:2013に準拠して測定した。
(i) Measurement of surface roughness Rz of the release surface of the release layer The measurement was performed in accordance with JIS B0601:2013.
(ii)型追従性、寸法安定性、離型性の評価
まず、封止用の樹脂として、以下の熱硬化性樹脂組成物のタブレットを作製した。
(原料)
・エポキシ樹脂1:ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂(日本化薬社製、NC-3000)
・エポキシ樹脂2:ビフェニル型エポキシ樹脂(三菱化学社製、YL6677)
・硬化剤1:ビフェニレン骨格含有フェノールアラルキル樹脂(日本化薬社製、GPH-65)
・硬化剤2:ホルムアルデヒドで変性したトリフェニルメタン型フェノール樹脂(エア・ウォーター社製、HE910-20)
・硬化促進剤:トリフェニルホスフィン(北興化学工業社製、TPP)
・無機充填材:溶融球状シリカ(電気化学工業社製、FB-950FC)
・着色剤:カーボンブラック(三菱化学社製、MA-600)
・カップリング剤:N-フェニル-γ-アミノプロピルトリメトキシシラン(信越化学社製、KBM-573)
・離型剤:カルナバワックス(日興ファイン社製、ニッコウカルナバ)
(手順)
上述したエポキシ樹脂1を4.5質量部、エポキシ樹脂2を4.5質量部、硬化剤1を2.8質量部、硬化剤2を2.8質量部、硬化促進剤を0.4質量部、無機充填材を84.2質量部、着色剤を0.2質量部、カップリング剤を0.4質量部、離型剤を0.2質量部準備した。次いで、各原料成分を常温でミキサーを用いて混合した後、45℃及び90℃の2本ロールで加熱しながらロール混練し、混練物を得た。次いで、前記混練物を冷却した後、これを粉砕し、粉砕物を得た。次いで、粉砕物を打錠成形することで、タブレット形状の熱硬化性樹脂組成物を得た。
(ii) Evaluation of Mold Conformity, Dimensional Stability, and Mold Releasability First, tablets of the following thermosetting resin composition were prepared as a resin for encapsulation.
(Raw materials)
Epoxy resin 1: Biphenyl aralkyl type epoxy resin (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., NC-3000)
Epoxy resin 2: Biphenyl type epoxy resin (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, YL6677)
Hardener 1: Biphenylene skeleton-containing phenol aralkyl resin (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., GPH-65)
Hardener 2: Triphenylmethane type phenolic resin modified with formaldehyde (HE910-20, manufactured by Air Water Corporation)
Curing accelerator: Triphenylphosphine (TPP, manufactured by Hokko Chemical Industry Co., Ltd.)
Inorganic filler: fused spherical silica (manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd., FB-950FC)
Colorant: Carbon black (Mitsubishi Chemical Corporation, MA-600)
Coupling agent: N-phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., KBM-573)
Release agent: Carnauba wax (Nikko Fine Co., Ltd., Nikko Carnauba)
(procedure)
The above-mentioned epoxy resin 1 was prepared in an amount of 4.5 parts by mass,
次に、各離型フィルムを用いて、以下のような手順で熱硬化性樹脂組成物の硬化(樹脂封止)を行った。
まず、トランスファーモールド成形及びコンプレッションモールド成形のハイブリッド成形用成形機として、アサヒエンジニアリング社製のCOSMO-TFlex Seriesを用いた。
まず、実施例および比較例各離型フィルムを成型機が備える金型の内に配置し、金型内部空間を真空引きすることにより、該離型フィルムを金型に追従させた。
次に、熱硬化性樹脂組成物のタブレットを所定の位置に配置した。その後、成型機が備える金型をクランプ圧力300kg/cm2の条件で締めてから、溶融させた状態にある上記熱硬化性樹脂組成物を射出圧力80kg/cm2の条件で成型機が備える金型の内部空間に流し込んだ。次いで、金型のキャビティを移動させることで、熱硬化性樹脂組成物を6kg/cm2の圧力で加圧しながら175℃で2分間成形した。その後、上型と下型とを開くことにより、熱硬化性樹脂組成物の硬化物と離型フィルムとを離型した。
Next, using each release film, curing of the thermosetting resin composition (resin sealing) was carried out in the following procedure.
First, a COSMO-TFlex Series manufactured by Asahi Engineering Co., Ltd. was used as a hybrid molding machine for transfer molding and compression molding.
First, each release film of the examples and comparative examples was placed inside a mold equipped in a molding machine, and the space inside the mold was evacuated to a vacuum, thereby allowing the release film to conform to the mold.
Next, the tablet of the thermosetting resin composition was placed at a predetermined position. After that, the mold of the molding machine was clamped under a clamp pressure of 300 kg/ cm2 , and the above-mentioned thermosetting resin composition in a molten state was poured into the internal space of the mold of the molding machine under an injection pressure of 80 kg/ cm2 . Next, the mold cavity was moved to mold the thermosetting resin composition at 175°C for 2 minutes while applying pressure of 6 kg/ cm2 . Then, the upper and lower molds were opened to release the cured product of the thermosetting resin composition and the release film.
[型追従性]
上記手順において、離型フィルムを真空引きによって金型に追従させたときの金型の四隅と離型フィルムとの間の空気だまりの程度について以下の基準で評価した。
◎;空気溜まりが不発生
〇;微小な空気溜まりはあるが、実用上問題なし
△;微小な空気溜まりがあり、フィルム吸着の真空度が低下していた
×;空気溜まりが大きく追従不良が発生(又は評価不能)
[Mold followability]
In the above procedure, the degree of air entrapment between the release film and the four corners of the mold when the release film was made to follow the mold by vacuum drawing was evaluated according to the following criteria.
◎: No air pockets were found. ◯: Small air pockets were found, but no practical problems were found. △: Small air pockets were found, and the degree of vacuum for film adsorption was reduced. ×: Large air pockets caused poor tracking (or evaluation was impossible).
[寸法安定性]
上記手順において、成形後の離型フィルムから硬化物を離型した後の硬化物の外観状態(シワなど)について以下の基準で評価した。
〇;シワ、変形が無く問題無し
△;若干のシワがあるが、実用上問題なし
×;大きなシワ、成形不良が発生していた
[Dimensional stability]
In the above procedure, the appearance (wrinkles, etc.) of the cured product after it was released from the release film after molding was evaluated according to the following criteria.
◯: No wrinkles or deformations, no problem △: Some wrinkles, but no practical problem ×: Large wrinkles and molding defects
[離型性]
上記手順において、成形後の離型フィルムから硬化物を離型した時の離型挙動、及び硬化物の状態(ズレ、撓みなど)から以下の基準で評価した。
〇;離型、成形品共に問題無し
△;離型時に成形品のズレや撓みがあるが、実用上問題なし
×;離型不能、又は硬化物に大きなシワが転写していた
[Releasability]
In the above procedure, the release behavior when the cured product was released from the release film after molding and the state of the cured product (displacement, bending, etc.) were evaluated according to the following criteria.
◯: No problems with demolding or molded product △: The molded product shifted or warped when demolded, but no practical problems ×: Demolding was impossible, or large wrinkles were transferred to the cured product
1 離型層
2 基材層
3 離型面
10 離型フィルム
11 離型フィルム
1
Claims (14)
前記シリコーンゴム組成物が、ビニル基含有オルガノポリシロキサン、オルガノハイドロジェンポリシロキサン、無機粒子およびシランカップリング剤を含み、
以下の手順で測定される、当該シリコーンゴム組成物の硬化物の引裂強度をTS0(N/mm)、破断伸びをBE0s(%)としたとき、
2.4×104≦TS0×BE0sを満たし、
前記一方の面の表面粗さRzが、0.1~3μmである、離型フィルム。
(引裂強度の測定手順)
当該シリコーンゴム組成物の硬化物を用いて、JIS K6252(2001)に準拠して、クレセント形試験片を作製し、25℃における、得られたクレセント形試験片の引裂強度を測定し、TS0とする。単位はN/mmである。
(破断伸びの測定手順)
当該シリコーンゴム組成物の硬化物を用いて、JIS K6251(2004)に準拠して、ダンベル状3号形試験片を作製し、25℃における、得られたダンベル状3号形試験片の破断伸びを測定する。破断伸びは、[標線間移動距離(mm)]÷[初期標線間距離(20mm)]×100で計算し、BE0sとする。単位は%である。 A release film in which a layer constituting at least one surface thereof is made of a cured product of a silicone rubber composition,
the silicone rubber composition comprises a vinyl group-containing organopolysiloxane, an organohydrogenpolysiloxane, inorganic particles, and a silane coupling agent;
When the tear strength of the cured product of the silicone rubber composition is TS0 (N/mm) and the elongation at break is BE0s (%), the following properties are obtained:
2.4×10 4 ≦TS0×BE0s is satisfied,
The surface roughness Rz of the one surface of the release film is 0.1 to 3 μm.
(Procedure for measuring tear strength)
A crescent-shaped test piece is prepared from the cured product of the silicone rubber composition in accordance with JIS K6252 (2001), and the tear strength of the obtained crescent-shaped test piece at 25° C. is measured and designated as TS0, expressed in N/mm.
(Procedure for measuring elongation at break)
A dumbbell-shaped No. 3 test piece is prepared using the cured product of the silicone rubber composition in accordance with JIS K6251 (2004), and the breaking elongation of the resulting dumbbell-shaped No. 3 test piece is measured at 25° C. The breaking elongation is calculated as [gauge line movement distance (mm)]÷[initial gauge line distance (20 mm)]×100, and is designated as BE0s, and is expressed in %.
1.4×105≦TS0×BE0s×Sを満たす、請求項1に記載の離型フィルム。
(引張強度の測定手順)
当該シリコーンゴム組成物の硬化物を用いて、JIS K6251(2004)に準拠して、ダンベル状3号形試験片を作製し、25℃における、ダンベル状3号形試験片の引張強度を測定し、Sとする。単位はMPaである。 When the tensile strength of the cured product of the silicone rubber composition is S (MPa), which is measured by the following procedure,
The release film according to claim 1 , which satisfies 1.4×10 5 ≦TS0×BE0s×S.
(Procedure for measuring tensile strength)
A dumbbell-shaped No. 3 test piece is prepared using the cured product of the silicone rubber composition in accordance with JIS K6251 (2004), and the tensile strength of the dumbbell-shaped No. 3 test piece at 25° C. is measured and represented as S. The unit is MPa.
前記シリコーンゴム組成物が、ビニル基含有オルガノポリシロキサン、オルガノハイドロジェンポリシロキサン、無機粒子およびシランカップリング剤を含み、
以下の手順で測定される、当該シリコーンゴム組成物の硬化物の引裂強度をTS0(N/mm)、TS1(N/mm)としたとき、
((TS1-TS0)/TS0)×100が、-85%以上5%以下であり、
前記一方の面の表面粗さRzが、0.1~3μmである、離型フィルム。
(引裂強度の測定手順)
当該シリコーンゴム組成物の硬化物を用いて、JIS K6252(2001)に準拠して、クレセント形試験片を作製し、25℃において得られたクレセント形試験片の引裂強度をTS0(N/mm)とする。
当該シリコーンゴム組成物の硬化物を用いて、JIS K6252(2001)に準拠して、クレセント形試験片を作製したのち、100℃、30分保持後、100℃において得られたクレセント形試験片の引裂強度をTS1(N/mm)とする。 A release film in which a layer constituting at least one surface thereof is made of a cured product of a silicone rubber composition,
the silicone rubber composition comprises a vinyl group-containing organopolysiloxane, an organohydrogenpolysiloxane, inorganic particles, and a silane coupling agent;
When the tear strength of the cured product of the silicone rubber composition, measured by the following procedure, is TS0 (N/mm) and TS1 (N/mm),
((TS1-TS0)/TS0) x 100 is -85% or more and 5% or less,
The surface roughness Rz of the one surface of the release film is 0.1 to 3 μm.
(Procedure for measuring tear strength)
A crescent-shaped test piece is prepared in accordance with JIS K6252 (2001) using the cured product of the silicone rubber composition, and the tear strength of the obtained crescent-shaped test piece at 25° C. is designated as TS0 (N/mm).
A crescent-shaped test piece is prepared in accordance with JIS K6252 (2001) using the cured product of the silicone rubber composition, and then the test piece is held at 100°C for 30 minutes. The tear strength of the crescent-shaped test piece obtained at 100°C is defined as TS1 (N/mm).
((TS2-TS0)/TS0)×100が、-88%以上5%以下である、請求項3に記載の離型フィルム。
(引裂強度の測定手順)
当該シリコーンゴム組成物の硬化物を用いて、JIS K6252(2001)に準拠して、クレセント形試験片を作製したのち、150℃、30分保持後、150℃において得られたクレセント形試験片の引裂強度をTS2(N/mm)とする。 When the tear strength of the cured product of the silicone rubber composition is TS2 (N/mm), which is measured by the following procedure,
The release film according to claim 3, wherein ((TS2-TS0)/TS0) x 100 is -88% or more and 5% or less.
(Procedure for measuring tear strength)
A crescent-shaped test piece is prepared in accordance with JIS K6252 (2001) using the cured product of the silicone rubber composition, and then the test piece is held at 150°C for 30 minutes. The tear strength of the crescent-shaped test piece obtained at 150°C is defined as TS2 (N/mm).
(デュロメータ硬さAの測定手順)
当該シリコーンゴム組成物の硬化物を用いて、シート状試験片を作製し、JIS K6253(1997)に準拠して、25℃における、得られたシート状試験片のデュロメータ硬さAを測定する。 5. The release film according to claim 1, wherein the durometer hardness A of a cured product of the silicone rubber composition is 20 or more and 80 or less, as measured by the following procedure.
(Procedure for measuring durometer hardness A)
A sheet-like test specimen is prepared using the cured product of the silicone rubber composition, and the durometer hardness A of the resulting sheet-like test specimen at 25° C. is measured in accordance with JIS K6253 (1997).
15≦E1、20≦TS0を満たす、請求項1乃至5いずれか一項に記載の離型フィルム。
(1MPa時の伸びの測定手順)
当該シリコーンゴム組成物の硬化物を用いて、JIS K6251(2004)に準拠して、ダンベル状3号形試験片を作製し、25℃、引張速度:500mm/分の条件で引張試験を行い、応力が1MPaに到達した時の、得られたダンベル状3号形試験片の伸びを[標線間移動距離(mm)]÷[初期標線間距離(20mm)]×100の式で計算し、E1とする。単位は%である。 When the elongation of the cured product of the silicone rubber composition at 1 MPa is defined as E1 (%), which is measured by the following procedure,
The release film according to claim 1 , wherein 15≦E1 and 20≦TS0 are satisfied.
(Procedure for measuring elongation at 1 MPa)
A dumbbell-shaped No. 3 test piece was prepared using the cured product of the silicone rubber composition in accordance with JIS K6251 (2004), and a tensile test was conducted at 25°C at a tensile speed of 500 mm/min, and the elongation of the resulting dumbbell-shaped No. 3 test piece when the stress reached 1 MPa was calculated using the formula [gauge line movement distance (mm)]÷[initial gauge line distance (20 mm)]×100, and designated as E1. The unit is %.
SC1≦50、20≦TS0を満たす、請求項1乃至6いずれか一項に記載の離型フィルム。
(ストローク変化率の測定手順)
当該シリコーンゴム組成物の硬化物を用いて、JIS K6251(2004)に準拠して、ダンベル状3号形試験片を作製し、チャック間を1MPaの応力で保持した時、25℃における、得られたダンベル状3号形試験片の伸びを経時的に測定する。
応力が1MPaとなる時を0hとし、所定時間n(h)後のストローク量をEn(%)=[チャック間移動距離(mm)]÷[初期チャック間距離(60mm)]×100とする。測定されたストローク量をEnから、下記式に基づいて、ストローク変化率を算出する。
n時間後のストローク変化率SCn(%)=(En-E0)/E0×100
n=1としたときのストローク変化率をSC1(%)とする。 When the stroke change rate after 1 hour of the cured product of the silicone rubber composition is measured by the following procedure and defined as SC1 (%),
The release film according to claim 1 , wherein SC1≦50 and TS0 are satisfied.
(Procedure for measuring stroke change rate)
A dumbbell-shaped No. 3 test piece is prepared in accordance with JIS K6251 (2004) using the cured product of the silicone rubber composition, and the elongation of the resulting dumbbell-shaped No. 3 test piece is measured over time at 25°C when held between chucks at a stress of 1 MPa.
The time when the stress becomes 1 MPa is defined as 0h, and the stroke amount after a predetermined time n (h) is defined as En (%) = [chuck movement distance (mm)] ÷ [initial chuck distance (60 mm)] × 100. The stroke change rate is calculated from the measured stroke amount En based on the following formula.
Stroke change rate after n hours SCn (%) = (En-E0)/E0 x 100
The stroke change rate when n=1 is defined as SC1 (%).
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