JP7632375B2 - Metal film deposition equipment - Google Patents
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Description
本発明は、基材の表面に金属皮膜を成膜する成膜装置に関する。 The present invention relates to a film forming device that forms a metal film on the surface of a substrate.
従来から、基材の表面に金属を析出させて金属皮膜を成膜することが行われている(例えば、特許文献1)。特許文献1には、金属製の陽極と、陽極の表面に配置された固体電解質膜(以下、電解質膜ともいう)と、基材を陰極として陽極と基材との間に電圧を印加する電源部と、を備える成膜装置が記載されている。この成膜装置では、金属イオンを含む溶液を内部に含浸した電解質膜が、基材に接触した状態で、電源部を用いて、陽極と基材との間に電圧が印加される。これにより、電解質膜に含浸された金属イオンは、電解質膜に接触した基材に移動し、この基材の表面で還元される。この結果、基材の表面に金属が析出され、金属皮膜が成膜される。
Conventionally, a metal coating has been formed by precipitating a metal on the surface of a substrate (for example, Patent Document 1).
ところで、上記電源部の正極及び負極はそれぞれ、導線を介して、陽極及び陰極としての基材に電気的に接続されている。このように、当該成膜装置では、金属皮膜を成膜するために、配線を必要とするため、成膜装置の構成が複雑になるおそれがある。 The positive and negative electrodes of the power supply unit are electrically connected to the substrate as the anode and cathode via conductors. As such, the deposition device requires wiring to deposit the metal film, which may complicate the configuration of the deposition device.
本発明は、このような点に鑑みてなされたものであり、その目的は、より簡易な構成の金属皮膜の成膜装置を提供することである。 The present invention was made in consideration of these points, and its purpose is to provide a metal film deposition device with a simpler configuration.
前記課題を鑑みて、本発明に係る金属皮膜の成膜装置は、陽極と、前記陽極と基材との間に配置された固体電解質膜と、前記基材を陰極として前記陽極と前記基材との間に電圧を印加する電源部と、前記基材の側に開口した開口部を前記固体電解質膜で覆い、前記陽極を、前記固体電解質膜から離間した位置に、前記固体電解質膜に向かう方向に摺動自在に収容し、前記固体電解質膜及び前記陽極の間に金属イオンを含む電解液を収容する絶縁性の収容体と、を備え、前記固体電解質膜を前記基材に接触させた状態で前記陽極と前記基材との間に電圧を印加し、前記固体電解質膜の内部に含有された前記金属イオンを還元することで、前記金属イオンに由来した金属皮膜を、前記基材の表面に成膜する金属皮膜の成膜装置であって、該成膜装置は、前記収容体を前記陽極側から覆う導電性のキャップと、該キャップと前記陽極との間に配置された弾性体と、を備えており、前記電源部の正極は、前記陽極に接続されており、前記電源部の負極は、キャップに接続されており、前記固体電解質膜を前記基材に接触させた状態で、前記キャップの端部は、前記基材から離間するように、形成されており、前記キャップを前記陽極側に押し込むことにより、前記キャップの端面が前記基材に接触するまで、前記弾性体が、圧縮変形自在となっている、ことを特徴とする。 In consideration of the above-mentioned problems, the metal coating deposition device according to the present invention comprises an anode, a solid electrolyte membrane disposed between the anode and a substrate, a power supply unit that applies a voltage between the anode and the substrate using the substrate as a cathode, and an insulating container that covers an opening on the substrate side with the solid electrolyte membrane, accommodates the anode at a position spaced apart from the solid electrolyte membrane so as to be freely slidable in a direction toward the solid electrolyte membrane, and accommodates an electrolytic solution containing metal ions between the solid electrolyte membrane and the anode, and applies a voltage between the anode and the substrate with the solid electrolyte membrane in contact with the substrate, thereby reducing the metal ions contained inside the solid electrolyte membrane. A metal film forming device that forms a metal film derived from the metal ions on the surface of the substrate, the film forming device is equipped with a conductive cap that covers the container from the anode side, and an elastic body arranged between the cap and the anode, the positive electrode of the power supply unit is connected to the anode, the negative electrode of the power supply unit is connected to the cap, the end of the cap is formed to be separated from the substrate when the solid electrolyte membrane is in contact with the substrate, and the elastic body is freely compressively deformed by pressing the cap toward the anode side until the end face of the cap comes into contact with the substrate.
本発明に係る成膜装置では、固体電解質膜を基材に接触させた状態で、キャップの端部は、基材から離間している。この状態で、キャップを陽極側に押し込むと、弾性体が圧縮変形し、陽極は、該弾性体によって、固体電解質膜に向かう方向に付勢される。これにより、陽極は、収容体内を、固体電解質膜に向かう方向に摺動する。この結果、陽極と固体電解質膜との間に収容された電解液の液圧が上昇し、固体電解質膜を基材の表面に倣わせることができる。 In the film forming device according to the present invention, the end of the cap is spaced from the substrate while the solid electrolyte membrane is in contact with the substrate. In this state, when the cap is pressed toward the anode, the elastic body is compressed and deformed, and the anode is urged by the elastic body in a direction toward the solid electrolyte membrane. This causes the anode to slide within the container in a direction toward the solid electrolyte membrane. As a result, the liquid pressure of the electrolyte solution contained between the anode and the solid electrolyte membrane increases, allowing the solid electrolyte membrane to conform to the surface of the substrate.
キャップをさらに陽極側に押し込むと、キャップの端面が基材に接触する。この結果、基材は、キャップを介して、電源部の負極に導通し、陽極と基材との間に電圧が印加される。このように、上記成膜装置では、キャップを陽極側に押し込むだけで、固体電解質膜を基材の表面に倣わせ、金属皮膜の成膜を開始することができる。 When the cap is pushed further toward the anode, the end face of the cap comes into contact with the substrate. As a result, the substrate is electrically connected to the negative pole of the power supply through the cap, and a voltage is applied between the anode and substrate. In this way, with the above-mentioned film-forming device, simply by pushing the cap toward the anode, the solid electrolyte film conforms to the surface of the substrate and the formation of the metal film can begin.
本発明によれば、金属皮膜の成膜装置の構成を簡易なものにすることができる。 According to the present invention, the configuration of a metal film deposition device can be simplified.
以下、図面を用いて、本発明の実施形態に係る金属皮膜の成膜装置について説明する。 The following describes a metal film deposition device according to an embodiment of the present invention with reference to the drawings.
図1は、本発明の実施形態に係る金属皮膜の成膜装置1の模式的断面図であり、キャップ17が基材Bから離間した状態を示すものである。図2は、図1の成膜装置1において、キャップ17が基材Bに接触した状態を示すものである。
Figure 1 is a schematic cross-sectional view of a metal
図1及び図2に示すように、成膜装置1は、陽極11と、陽極11と基材Bとの間に配置された固体電解質膜(以下、電解質膜ともいう)13と、基材Bを陰極として陽極11と基材Bとの間に電圧を印加する電池(電源部)14と、金属イオンを含む電解液Lを収容する絶縁性の収容体15と、を備える。電池14の正極14aは、後述する陽極通電体19を介して、陽極11に接続されており、電池14の負極14bは、後述するキャップ17に接続されている。
1 and 2, the
図2に示すように、成膜装置1は、電解質膜13を基材Bに接触させた状態で陽極11と基材Bとの間に電圧を印加し、電解質膜13の内部に含有された金属イオンを還元することで、金属イオンに由来した金属皮膜を基材Bの表面B1に成膜する装置である。本実施形態では、説明の便宜上、陽極11の下方に電解質膜13を配置し、さらにその下方に基材Bを配置することを前提として、成膜装置1の構成部材の位置関係を特定する。しかしながら、基材Bの表面B1に金属皮膜(図示せず)を成膜することができるのであれば、この位置関係に限定されるものではなく、たとえば、図1の成膜装置1の上下が反転していてもよい。
As shown in FIG. 2, the
基材Bは、陰極(すなわち導電性を有した表面)として機能するものであればよい。基材Bは、電解質膜13と対向する表面B1を有する。基材Bの材料は、陰極(すなわち導電性を有した表面)として機能するものであれば特に限定されるものではなく、アルミニウム、鉄等の金属材料からなってもよく、樹脂、セラミックス等の表面に、銅、ニッケル、銀、または鉄などの金属層が被覆されていてもよい。
The substrate B may be any material that functions as a cathode (i.e., a surface having electrical conductivity). The substrate B has a surface B1 that faces the
陽極11は、基材Bの成膜領域に応じた形状となっている。基材Bの成膜領域とは、陽極11と対向する基材Bの表面B1の部分を意味する。陽極11は、金属皮膜と同じ金属からなる。陽極11は、非多孔質(たとえば無孔質)でもよいし、多孔質でもよい。無孔質の陽極11を用いた場合、基材Bに成膜される金属皮膜は、陽極11の表面の状態を受け難くなる。陽極11は、ブロック状または平板状であってもよい。陽極11は、電解液Lに対して可溶性を有し、電池14を用いて電圧を印加することにより、陽極11が溶解する。陽極11の材料としては、例えば、銅、ニッケル、または、銀などを挙げることができる。
The
成膜装置1は、陽極11と電池14との間に配置された、陽極通電体19を備える。陽極通電体19は、陽極11に直接接触するように配置されており、陽極11と電池14の正極14aとを電気的に接続する。陽極通電体19は、ブロック状または平板状であってよく、その材料としては、例えば、チタン、ステンレスを挙げることができる。陽極通電体19の表面に形成された不働態皮膜により、陽極11に発生する錆を抑制することができる。
The
電解液Lは、成膜すべき金属皮膜の金属をイオンの状態で含有している液であり、その金属としては、銅、ニッケル、または、銀などを挙げることができる。電解液Lは、これらの金属を、硝酸、リン酸、コハク酸、硫酸、またはピロリン酸などの酸で溶解(イオン化)した水溶液である。たとえば金属が銅の場合には、電解液Lとしては、硫酸銅、ピロリン酸銅などを含む水溶液を挙げることができる。 The electrolyte L is a liquid that contains the metal of the metal film to be formed in an ionic state, and examples of such metals include copper, nickel, and silver. The electrolyte L is an aqueous solution in which such metals are dissolved (ionized) with an acid such as nitric acid, phosphoric acid, succinic acid, sulfuric acid, or pyrophosphoric acid. For example, when the metal is copper, examples of the electrolyte L include an aqueous solution containing copper sulfate, copper pyrophosphate, and the like.
電解質膜13は、電解液Lに接触させることにより、金属イオンを内部に含浸(含有)することが可能となる膜であり、可撓性を有する膜である。電解質膜13は、電池14により電圧を印加したときに基材Bにおいて金属イオンが還元され、金属イオン由来の金属が析出することができるのであれば、特に限定されるものではない。電解質膜13の材質としては、たとえばデュポン社製のナフィオン(登録商標)などのフッ素系樹脂、炭化水素系樹脂、ポリアミック酸樹脂、旭硝子社製のセレミオン(CMV、CMD、CMFシリーズ)などのイオン交換機能を有した樹脂を挙げることができる。
The
収容体15は、筒状の形状であり、絶縁性の材料から形成される。収容体15は、基材Bに向かって(即ち下方に向かって)開口した下側開口部(開口部)15aと、基材Bとは反対側に向かって(即ち上方に向かって)開口した上側開口部15bと、を含む。収容体15は、基材Bの側に開口した下側開口部15aを電解質膜13で覆い、陽極11及び陽極通電体19を、電解質膜13から離間した位置に収容する。陽極11及び陽極通電体19は、収容体15に、電解質膜13に向かう方向に摺動自在に収容される。収容体15の内壁面、陽極11、及び電解質膜13によって、収容空間15cが形成され、この収容空間15cに電解液Lが収容される。図1に示すように、収容体15は、収容空間15cに収容された電解液Lが陽極11および電解質膜13に直接接触する構造となっている。収容体15は、電解液Lに対して不溶性の材料からなる。
The
図1及び図2に示すように、成膜装置1は、キャップ17と、ばね(弾性体)18と、取付部材24と、絶縁カバー20と、をさらに備える。
As shown in Figures 1 and 2, the
キャップ17は、有底筒状の形状であり、導電性の材料から形成されている。キャップ17は、基材Bに向かって開口する基材側開口部17cと、基材側開口部17cの反対側で、収容体15を陽極11側から覆う閉塞部17dと、閉塞部17dから基材Bに向かって延在する側壁部17eと、を含む。キャップ17には、閉塞部17d及び側壁部17eの内壁面によって区画された内部空間17fが形成される。キャップ17は、側壁部17eにおける基材B側の端部17aに、基材Bと対向する端面17bを有する。図1に示すように、キャップ17の端部17aは、電解質膜13を基材Bに接触させた状態で、基材Bから離間するように、形成されている。キャップ17は、内部空間17fに、収容体15、後述する弾性体18、及び、電池14を収容する。キャップ17の内部空間17fには、電池14の負極14bがキャップ17の閉塞部17dと接触するように、電池14が収容される。また、キャップ17の内部空間17fには、収容体15の基材側開口部17cが基材B側に位置するように、収容体15が収容される。
The
弾性体18は、キャップ17と陽極11との間に配置されている。具体的には、弾性体18は、電池14の正極14aと陽極通電体19との間に配置されている。弾性体18は、例えば圧縮ばねであり、電池14を介して、キャップ17を下側から弾性支持している。弾性体18は、キャップ17を陽極11側に押し込むことにより、キャップ17の端面17bが基材Bに接触するまで、圧縮変形自在となっている。弾性体18の材料は、導電性材料であり、陽極11及び陽極通電体19は、弾性体18を介して、電池14の正極14aと導通する。
The
取付部材24は、中空形状の、絶縁性材料からなり、その内壁面に電解質膜13が取付けられる。取付部材24は、収容体15に着脱自在であり、例えば、ねじにより収容体15に螺合する。取付部材24が収容体15に取付けられた状態で、電解質膜13は、収容体15の下側開口部15aを、下方から覆う。
The mounting
絶縁カバー20は、キャップ17の外側を覆うものであり、絶縁性の材料からなる。図2に示すように、キャップ17の端面17bが、基材Bの表面B1に接触した状態で、絶縁カバー20は、基材Bの表面B1から離間するように、形成されている。
The insulating
上述したように、本実施形態に係る成膜装置1によれば、電解質膜13を基材Bに接触させた状態で、キャップ17を下方に押し込むと、弾性体18が圧縮変形し、陽極11及び陽極通電体19は、該弾性体18によって、下方向に付勢される。これにより、陽極11及び陽極通電体19は、収容体15内を、電解質膜13に向かって下方向に摺動する。この結果、陽極11と電解質膜13との間に収容された電解液Lの液圧が上昇し、電解質膜13を基材Bの表面B1に倣わせることができる。キャップ17をさらに下方向に押し込むと、キャップ17の端面17bが基材Bの表面B1に接触する。この結果、基材Bは、キャップ17を介して、電池14の負極14bに導通し、陽極11と基材Bとの間に電圧が印加される。このように、キャップ17を下方向に押し込むだけで、電解質膜13を基材Bの表面B1に倣わせ、金属皮膜の成膜を開始することができる。
As described above, according to the
上記実施形態では、収容体15の収容空間15cに、直接、電解液Lを収容する場合を説明したが、収容体15の収容空間15cには、電解液Lを含浸した多孔質体(図示せず)が収容されてもよい。多孔質体の材料は、例えば、吸水機能を有したポリマーやイオン交換機能を有した樹脂であってよい。また、多孔質体は、いわゆるスポンジ(プラスチックの発泡体)であってもよい。多孔質体は、圧縮変形性、可撓性(フレキシブル性)を有する材料から形成されてよいが、電解液Lに対する耐食性を持たせた金属材料から形成されてもよい。
In the above embodiment, the electrolyte L is directly stored in the
圧縮変形性及び可撓性を有する材料から形成された多孔質体を、収容体15に収容した状態で、キャップ17を下方に押し込むと、弾性体18が圧縮変形し、陽極11は、多孔質体に、電解質膜13へ向かう力を加える。これにより、多孔質体は、圧縮しながら、電解質膜13に倣うように変形するため、多孔質体によって、電解質膜13を均一に加圧することができる。この結果、電解質膜13を基材Bの表面B1に、均一に倣わせることができる。また、収容体15の収容空間15cに収容された多孔質体に電解液Lを含浸させることにより、電解液Lの漏洩を低減することができる。
When the
多孔質体は、収容体15に収容された状態で、収容体15に拘束されてもよいし、拘束されていなくてもよい。多孔質体が収容体15に拘束されている場合、成膜装置1を基材Bから離間させたとき、電解液Lの自重が電解質膜13に加わることが回避されるため、電解質膜13の変形を抑制することができる。
The porous body may or may not be constrained by the
次いで、本実施形態に係る成膜装置1を用いた成膜方法を説明する。図3は、図1の成膜装置1を用いた金属皮膜の成膜方法を説明するフローチャートである。本成膜方法は、全工程を手動により実施される。このフローチャートでは、収容体15の収容空間15cに、直接(即ち、多孔質体を用いずに)、電解液Lが収容される場合を説明する。
Next, a film forming method using the
まず、S100では、成膜装置1を構成する各部材の取付けを行う。一例として、キャップ17に絶縁カバー20を取付け、収容体15に、陽極11及び陽極通電体19を収容する。その後、キャップ17の内部空間17fに、電池14、弾性体18、及び、収容体15を、配置する。具体的には、電池14の負極14bを、キャップ17の閉塞部17dに取付け、電池14の正極14aを、弾性体18の一端に取付け、弾性体18の他端に、陽極通電体19を取付ける。
First, in S100, the various components constituting the
次いで、S200では、収容体15の下側開口部15aが上方を向くように配置した状態で、収容体15の下側開口部15aの側から、収容体15の収容空間15cに、電解液Lを補充する。
Next, in S200, with the
その後、S300では、電解質膜13が取付けられた取付部材24を、収容体15に、螺合する。これにより、収容体15の下側開口部15aは、電解質膜13により覆われる。
Then, in S300, the mounting
次いで、S400では、基材Bの表面B1の前処理を行う。この工程では、基材Bの表面B1の導電性を確保するために、基材Bの表面B1に付着した異物や、不働態皮膜の除去を行う。 Next, in S400, surface B1 of substrate B is pretreated. In this process, foreign matter and passive film adhering to surface B1 of substrate B are removed in order to ensure the electrical conductivity of surface B1 of substrate B.
S500では、成膜装置1に基材Bを設置する。具体的には、図1に示すように、基材Bの表面B1を電解質膜13に接触させる。
In S500, the substrate B is placed in the
S600では、図2に示すように、成膜装置1に所定の力Fを加えることにより、成膜装置1を基材Bに押付ける。具体的には、電解質膜13を基材Bに接触させた状態で、所定の力Fで、キャップ17を下方に押し込む。これにより、弾性体18が圧縮変形し、陽極11は、該弾性体18によって、下方向に付勢され、陽極11は、収容体15内を、電解質膜13に向かって下方向に摺動する。この結果、陽極11と電解質膜13との間に収容された電解液Lの液圧が上昇し、電解質膜13を基材Bの表面B1に倣わせることができる。キャップ17を、さらに下方向に押し込むと、キャップ17の端面17bが基材Bの表面B1に接触し、基材Bは、キャップ17を介して、電池14の負極14bに導通する。この結果、陽極11と基材Bとの間に電圧が印加され、金属皮膜の成膜が開始される。
In S600, as shown in FIG. 2, a predetermined force F is applied to the
S700では、成膜装置1に力Fを加え続けることにより、キャップ17の端面17bが基材Bの表面B1に接触した状態を保持し、金属皮膜の成膜を行う。
In S700, a force F is continuously applied to the
S800では、成膜装置1に加えた力Fを除去し、弾性体18の復元力により、キャップ17の端面17bを基材Bの表面B1から離間させる。
In S800, the force F applied to the
S900では、基材Bの表面B1の残渣を、例えば拭き取りにより除去し、金属皮膜の成膜が終了する。 In S900, the residue on the surface B1 of the substrate B is removed, for example by wiping, and the deposition of the metal coating is completed.
次いで、別の実施形態に係る成膜装置1Aについて説明する。図4は、本発明の別の実施形態に係る金属皮膜の成膜装置1Aの模式的断面図であり、キャップ17が基材Bから離間した状態を示すものである。別の実施形態に係る成膜装置1Aは、上記実施形態に係る成膜装置1に対して、電源部の構成、陽極通電体19の構成、キャップ17の構成、及び絶縁カバー20の構成が異なる。以下、上記実施形態に係る成膜装置1と同じ又は類似する機能を有する構成については、同一の符号を付してその説明を省略し、異なる部分について説明する。
Next, a
本実施形態に係る成膜装置1Aは、図示しない外部電源(電源部)を用いて、陽極11と基材Bとの間に電圧を印加する。一例として、外部電源の正極は、正極側導線14cを介して、陽極通電体19の柄部19bに接続される。陽極通電体19の柄部19bは、陽極11と直接接触する陽極接触部19aから、上方に向かって延びる棒状の部分である。一例として、外部電源の負極は、負極側導線14dを介して、後述するキャップ17の鞘部17gに接続される。
The
キャップ17は、閉塞部17dから、上方に向かって延びる中空筒状の鞘部17gを有する。鞘部17gの内部とキャップ17の内部空間17fとは、キャップ17の閉塞部17dを上下方向に貫通する貫通空間を介して、連通する。鞘部17gの内部と閉塞部17dの貫通空間とを区画する内壁面には、中空筒状の絶縁スリーブ22が取付けられており、陽極通電体19の柄部19bは、絶縁スリーブ22内を摺動自在である。
The
また、閉塞部17dには、キャップ17の内部空間17fの側に、絶縁シート23が取付けられており、弾性体18は、陽極通電体19の柄部19bを囲繞し、絶縁シート23と陽極接触部19aとの間に配置される。
An insulating
絶縁カバー20は、一例として、キャップ17の側壁部17e、閉塞部17d、及び、鞘部17gに直接接触するように、キャップ17の外側に取付けられている。絶縁カバー20は、キャップ17の鞘部17g及び閉塞部17dが外部に露出しないように、鞘部17g及び閉塞部17dを覆う。絶縁カバー20は、キャップ17と共に上下方向に移動自在である。
As an example, the insulating
本実施形態に係る成膜装置1Aでは、外部電源を用いて、陽極11及び基材Bに電圧が印加されるため、上記実施形態に係る成膜装置1と比較して、より高出力で、長時間に亘って、成膜を行うことができる。
In the
以上、本発明の好適な実施の形態について説明したが、本発明は上記の実施の形態に係る成膜装置1,1Aに限定されるものではなく、本発明の概念及び特許請求の範囲に含まれるあらゆる態様を含む。また、上述した課題及び効果を奏するように、各構成を適宜選択的に組み合わせても良い。例えば、上記実施の形態における各構成要素の形状、材料、配置、サイズ等は、本発明の具体的態様によって適宜変更され得る。
Although the preferred embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to the
1,1A:成膜装置、11:陽極、13:固体電解質膜、14:電池(電源部)、15:収容体、15a:下側開口部(開口部)、17:キャップ、17a:端部、17b:端面、18:弾性体、B:基材、B1:表面、L:電解液 1, 1A: Film forming device, 11: Anode, 13: Solid electrolyte membrane, 14: Battery (power supply), 15: Container, 15a: Lower opening (opening), 17: Cap, 17a: End, 17b: End face, 18: Elastic body, B: Substrate, B1: Surface, L: Electrolyte
Claims (1)
前記陽極と基材との間に配置された固体電解質膜と、
前記基材を陰極として前記陽極と前記基材との間に電圧を印加する電源部と、
前記基材の側に開口した開口部を前記固体電解質膜で覆い、前記陽極を、前記固体電解質膜から離間した位置に、前記固体電解質膜に向かう方向に摺動自在に収容し、前記固体電解質膜及び前記陽極の間に金属イオンを含む電解液を収容する絶縁性の収容体と、を備え、
前記固体電解質膜を前記基材に接触させた状態で前記陽極と前記基材との間に電圧を印加し、前記固体電解質膜の内部に含有された前記金属イオンを還元することで、前記金属イオンに由来した金属皮膜を、前記基材の表面に成膜する金属皮膜の成膜装置であって、
該成膜装置は、前記収容体を前記陽極側から覆う導電性のキャップと、該キャップと前記陽極との間に配置された弾性体と、を備えており、
前記電源部の正極は、前記陽極に接続されており、
前記電源部の負極は、前記キャップに接続されており、
前記固体電解質膜を前記基材に接触させた状態で、前記キャップの端部は、前記基材から離間するように、形成されており、前記キャップを前記陽極側に押し込むことにより、前記キャップの端面が前記基材に接触するまで、前記弾性体が、圧縮変形自在となっている、ことを特徴とする金属皮膜の成膜装置。
An anode;
a solid electrolyte membrane disposed between the anode and a substrate;
a power supply unit that applies a voltage between the anode and the substrate, the substrate being a cathode;
an insulating container that covers an opening on the side of the base material with the solid electrolyte membrane, accommodates the anode at a position spaced from the solid electrolyte membrane so as to be slidable in a direction toward the solid electrolyte membrane, and accommodates an electrolytic solution containing metal ions between the solid electrolyte membrane and the anode,
a voltage is applied between the anode and the substrate in a state in which the solid electrolyte membrane is in contact with the substrate, and the metal ions contained inside the solid electrolyte membrane are reduced to form a metal coating derived from the metal ions on a surface of the substrate,
the film forming apparatus includes a conductive cap that covers the container from the anode side, and an elastic body that is disposed between the cap and the anode;
The positive electrode of the power supply unit is connected to the anode,
The negative electrode of the power supply unit is connected to the cap,
an end of the cap is formed to be spaced from the substrate when the solid electrolyte membrane is in contact with the substrate, and the elastic body is freely compressively deformed by pressing the cap toward the anode until the end face of the cap comes into contact with the substrate.
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