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JP7633145B2 - Carbon Dioxide Treatment System - Google Patents
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Description

本発明は、二酸化炭素処理システムに関する。 The present invention relates to a carbon dioxide treatment system.

ごみ焼却施設の焼却炉および火力発電所のボイラからの各排ガスには、大量の二酸化炭素が含まれている。二酸化炭素は、温暖化ガスとして知られている。そのため、排ガス中の二酸化炭素を、大気に放出せずに適切に処理する必要がある。 The exhaust gases from the incinerators at waste incineration facilities and the boilers at thermal power plants contain large amounts of carbon dioxide. Carbon dioxide is known to be a greenhouse gas. Therefore, it is necessary to properly treat the carbon dioxide in the exhaust gases without releasing it into the atmosphere.

下記の特許文献1には、ガスタービン発電装置の排ガス(二酸化炭素を含有する)を処理する排ガス処理設備が記載されている。同設備は、加圧シリンダーと、浸透槽と、集積槽とを備える。加圧シリンダーでは、排ガスを加圧して二酸化炭素を水に溶解させる。これにより、炭酸水が生成する。浸透槽には、コンクリート材(廃材)が堆積されている。炭酸水は、浸透槽の上方から浸透槽に向けて散布される。その炭酸水が、浸透槽を通過する時、炭酸水とコンクリート材との接触により、炭酸カルシウム等の炭酸塩が生成する。炭酸塩は、炭酸水と共に浸透槽内を下方に流れる。浸透槽を通過した水は、集積槽に溜められる。集積槽内の水では、所定の処理によって炭酸塩が沈殿される。以上のようにして、ガスタービン発電装置の排ガス中の二酸化炭素が固定される。 The following Patent Document 1 describes an exhaust gas treatment facility that treats exhaust gas (containing carbon dioxide) from a gas turbine power generation system. The facility includes a pressurized cylinder, an impregnation tank, and an accumulation tank. In the pressurized cylinder, exhaust gas is pressurized to dissolve carbon dioxide in water. This produces carbonated water. Concrete materials (scrap materials) are piled up in the impregnation tank. The carbonated water is sprayed toward the impregnation tank from above. When the carbonated water passes through the impregnation tank, carbonates such as calcium carbonate are produced by contact between the carbonated water and the concrete materials. The carbonates flow downward in the impregnation tank together with the carbonated water. The water that passes through the impregnation tank is stored in the accumulation tank. In the water in the accumulation tank, carbonates are precipitated by a specified process. In this way, carbon dioxide in the exhaust gas from the gas turbine power generation system is fixed.

一方、下記の特許文献2には、最終処分場の廃棄物安定化処理システムが記載されている。同システムは、処分場において、二酸化炭素添加装置と、散水管と、浸出水集水管と、水処理施設とを備える。処分場の底には、浸出水集水管が敷設されている。処分場には、廃棄物が埋め立てられている。処分場の上には、散水管が設置されている。このシステムでは、二酸化炭素添加装置が、水に二酸化炭素ナノバブルを添加して二酸化炭素ナノバブル水を調製する。二酸化炭素ナノバブル水は、散水管により、処分場の上方から処分場に向けて散布される。その二酸化炭素ナノバブル水が、処分場を通過する時、二酸化炭素ナノバブルと廃棄物中のカルシウム成分との接触により、炭酸カルシウムが生成する。これにより、二酸化炭素が炭酸カルシウムとして処分場内に固定化される。そのため、処分場に浸入する雨水への、廃棄物からのカルシウム成分の溶出が、抑制される(処分場の安定化)。また、処分場では、雨水と二酸化炭素ナノバブル水とが、廃棄物との接触の後、浸出水として処分場の底部に至る。この浸出水は、浸出水集水管を介して水処理施設に回収される。水処理施設では、浸出水が浄化処理される。 On the other hand, the following Patent Document 2 describes a waste stabilization treatment system for a final disposal site. The system includes a carbon dioxide addition device, a sprinkler pipe, a leachate collection pipe, and a water treatment facility at the disposal site. A leachate collection pipe is laid at the bottom of the disposal site. Waste is buried in the disposal site. A sprinkler pipe is installed above the disposal site. In this system, a carbon dioxide addition device adds carbon dioxide nanobubbles to water to prepare carbon dioxide nanobubble water. The carbon dioxide nanobubble water is sprayed toward the disposal site from above the disposal site by the sprinkler pipe. When the carbon dioxide nanobubble water passes through the disposal site, calcium carbonate is generated by contact between the carbon dioxide nanobubbles and the calcium components in the waste. As a result, carbon dioxide is fixed in the disposal site as calcium carbonate. Therefore, the elution of calcium components from the waste into rainwater that infiltrates the disposal site is suppressed (stabilization of the disposal site). In addition, at the disposal site, after contacting the waste, the rainwater and carbon dioxide nanobubble water reach the bottom of the disposal site as leachate. This leachate is collected through a leachate collection pipe and transported to a water treatment facility where it is purified.

特開平7-213861号公報Japanese Patent Application Publication No. 7-213861 特開2020-99878号公報JP 2020-99878 A

しかしながら、特許文献1の排ガス処理設備を稼働し続けるには、浸透槽内のコンクリート材の取り換え、および、集積槽からの沈殿物の回収が必要である。このような設備は、大量の二酸化炭素を固定するのに適さない。また、特許文献2の廃棄物安定化処理システムによると、廃棄物処分場の浸出水が従来よりも多量になる。浸出水の処理には、時間およびコストがかかる。そのため、特許文献2の廃棄物安定化処理システムは、二酸化炭素の処理システムとしては、効率的でない。 However, to continue operating the exhaust gas treatment equipment of Patent Document 1, it is necessary to replace the concrete material in the permeation tank and to collect the sediment from the accumulation tank. Such equipment is not suitable for fixing large amounts of carbon dioxide. Furthermore, with the waste stabilization treatment system of Patent Document 2, the amount of leachate at the waste disposal site becomes larger than before. Treating the leachate takes time and costs money. Therefore, the waste stabilization treatment system of Patent Document 2 is not efficient as a carbon dioxide treatment system.

本発明は、二酸化炭素を大量に効率よく固定化処理するのに適した二酸化炭素処理システムを提供する。 The present invention provides a carbon dioxide processing system suitable for efficiently fixing large amounts of carbon dioxide.

本発明[1]は、廃棄物を含む埋立層に埋設されたガス放出部を有するガス管と、二酸化炭素を含有するガスを前記ガス管に供給するガス供給手段と、前記埋立層の内部および/または表面の二酸化炭素濃度を検知する二酸化炭素濃度検知手段と、前記二酸化炭素濃度検知手段によって検知される前記二酸化炭素濃度に基づいて前記ガス供給手段を制御し、前記ガス管に供給される前記ガスの流量および/または二酸化炭素濃度を調節する、制御手段とを備える、二酸化炭素処理システムを含む。 The present invention [1] includes a carbon dioxide treatment system comprising a gas pipe having a gas release section buried in a landfill layer containing waste, a gas supply means for supplying a gas containing carbon dioxide to the gas pipe, a carbon dioxide concentration detection means for detecting the carbon dioxide concentration inside and/or on the surface of the landfill layer, and a control means for controlling the gas supply means based on the carbon dioxide concentration detected by the carbon dioxide concentration detection means, and adjusting the flow rate and/or carbon dioxide concentration of the gas supplied to the gas pipe.

このような二酸化炭素処理システムによると、廃棄物を含む埋立層に埋設された、ガス管のガス放出部から、二酸化炭素を含有するガス(二酸化炭素含有ガス)を埋立層内に放出できる。二酸化炭素含有ガスは、埋立層内を上方に通過する。当該ガス中の二酸化炭素の一部または全部は、埋立層内の廃棄物と接触することにより、廃棄物のアルカリ成分と固定化される。当該システムは、廃棄物の埋立層に対して二酸化炭素を固定できるので、二酸化炭素を大量に固定化処理するのに適する。また、当該システムは、二酸化炭素をガスの状態で処理するので、廃棄物の埋立層における浸出水の量を、従来の量より増加させない(浸出水の処理に要する時間およびコストを増やさない)。加えて、当該システムは、上記のように、埋立層の内部および/または表面の二酸化炭素濃度に基づいて、ガス管に供給される二酸化炭素含有ガスの流量および/または二酸化炭素濃度を調節できる。埋立層における二酸化炭素濃度は、埋立層における二酸化炭素固定化の残存能力の把握に役立つ。したがって、当該システムは、埋立層における二酸化炭素固定化の残存能力の変化に応じて、埋立層への二酸化炭素供給量を調節できる。以上のような二酸化炭素処理システムは、二酸化炭素を大量に効率よく固定化処理するのに適する。 According to this carbon dioxide treatment system, gas containing carbon dioxide (carbon dioxide-containing gas) can be discharged into the landfill layer from the gas discharge section of the gas pipe buried in the landfill layer containing waste. The carbon dioxide-containing gas passes upward through the landfill layer. A part or all of the carbon dioxide in the gas is immobilized with the alkaline components of the waste by contacting the waste in the landfill layer. Since the system can fix carbon dioxide in the landfill layer of waste, it is suitable for immobilizing and treating a large amount of carbon dioxide. Furthermore, since the system treats carbon dioxide in a gaseous state, the amount of leachate in the landfill layer of waste is not increased from the conventional amount (the time and cost required for treating the leachate are not increased). In addition, as described above, the system can adjust the flow rate and/or carbon dioxide concentration of the carbon dioxide-containing gas supplied to the gas pipe based on the carbon dioxide concentration inside and/or on the surface of the landfill layer. The carbon dioxide concentration in the landfill layer is useful for understanding the remaining capacity of carbon dioxide immobilization in the landfill layer. Therefore, the system can adjust the amount of carbon dioxide supplied to the landfill layer according to changes in the remaining carbon dioxide fixation capacity in the landfill layer. The carbon dioxide treatment system described above is suitable for efficiently fixing large amounts of carbon dioxide.

本発明[2]は、前記二酸化炭素濃度検知手段が、前記埋立層において鉛直方向に離れた複数の部分の二酸化炭素濃度を検知する、上記[1]に記載の二酸化炭素処理システムを含む。 The present invention [2] includes the carbon dioxide treatment system described in [1] above, in which the carbon dioxide concentration detection means detects the carbon dioxide concentration in a plurality of vertically separated portions of the landfill layer.

このような二酸化炭素処理システムは、埋立層における二酸化炭素固定化の残存能力の変化を精度よく追跡するのに好ましい。これは、二酸化炭素を効率よく固定化処理するのに役立つ。 Such a carbon dioxide treatment system is preferable for accurately tracking changes in the remaining carbon dioxide fixation capacity in the landfill layer. This helps to efficiently fix carbon dioxide.

本発明[3]は、前記二酸化炭素濃度検知手段が、前記埋立層において水平方向に離れた複数の部分の二酸化炭素濃度を検知する、上記[1]または[2]に記載の二酸化炭素処理システムを含む。 The present invention [3] includes the carbon dioxide treatment system described in [1] or [2] above, in which the carbon dioxide concentration detection means detects the carbon dioxide concentration in a plurality of parts that are horizontally separated in the landfill layer.

このような二酸化炭素処理システムは、埋立層における二酸化炭素固定化の残存能力の変化を精度よく追跡するのに好ましい。これは、二酸化炭素を効率よく固定化処理するのに役立つ。 Such a carbon dioxide treatment system is preferable for accurately tracking changes in the remaining carbon dioxide fixation capacity in the landfill layer. This helps to efficiently fix carbon dioxide.

本発明[4]は、前記埋立層の表面の酸素濃度を検知する酸素濃度検知手段を更に備え、前記制御手段が、前記酸素濃度検知手段によって検知される前記酸素濃度に基づいて前記ガス供給手段を制御し、前記ガス管に供給される前記ガスの流量および/または二酸化炭素濃度を調節する、上記[1]から[3]のいずれか一つに記載の二酸化炭素処理システムを含む。 The present invention [4] includes the carbon dioxide treatment system according to any one of [1] to [3] above, further comprising an oxygen concentration detection means for detecting the oxygen concentration on the surface of the landfill layer, and the control means controls the gas supply means based on the oxygen concentration detected by the oxygen concentration detection means to adjust the flow rate and/or carbon dioxide concentration of the gas supplied to the gas pipe.

埋立層表面の酸素濃度は、埋立層における二酸化炭素固定化の残存能力の把握に役立つ。したがって、このような二酸化炭素処理システムでは、埋立層表面の酸素濃度の観点からも、埋立層における二酸化炭素固定化の残存能力の変化に応じて、埋立層への二酸化炭素供給量を調節できる。 The oxygen concentration at the landfill surface is useful for understanding the remaining capacity of carbon dioxide fixation in the landfill. Therefore, in such a carbon dioxide treatment system, the amount of carbon dioxide supplied to the landfill can be adjusted according to changes in the remaining capacity of carbon dioxide fixation in the landfill, also from the perspective of the oxygen concentration at the landfill surface.

本発明[5]は、廃棄物を含む埋立層に埋設されたガス放出部を有するガス管と、二酸化炭素を含有するガスを前記ガス管に供給するガス供給手段と、前記埋立層の表面の酸素濃度を検知する酸素濃度検知手段と、前記酸素濃度検知手段によって検知される前記酸素濃度に基づいて前記ガス供給手段を制御し、前記ガス管に供給される前記ガスの流量および/または二酸化炭素濃度を調節する、制御手段とを備える、二酸化炭素処理システムを含む。 The present invention [5] includes a carbon dioxide treatment system comprising a gas pipe having a gas release section buried in a landfill layer containing waste, a gas supply means for supplying a gas containing carbon dioxide to the gas pipe, an oxygen concentration detection means for detecting the oxygen concentration on the surface of the landfill layer, and a control means for controlling the gas supply means based on the oxygen concentration detected by the oxygen concentration detection means, and adjusting the flow rate and/or carbon dioxide concentration of the gas supplied to the gas pipe.

このような二酸化炭素処理システムは、廃棄物の埋立層に二酸化炭素を固定できるので、二酸化炭素を大量に固定化処理するのに適する。また、当該システムは、二酸化炭素をガスの状態で処理するので、廃棄物の埋立層における浸出水の量を、従来の量より増加させない。加えて、当該システムは、上記のように、埋立層の表面の酸素濃度に基づいて、ガス管に供給される二酸化炭素含有ガスの流量および/または二酸化炭素濃度を調節できる。埋立層表面の酸素濃度は、埋立層における二酸化炭素固定化の残存能力の把握に役立つ。したがって、当該システムは、埋立層における二酸化炭素固定化の残存能力の変化に応じて、埋立層への二酸化炭素供給量を調節できる。以上のような二酸化炭素処理システムは、二酸化炭素を大量に効率よく固定化処理するのに適する。 Since this carbon dioxide processing system can fix carbon dioxide in the waste landfill layer, it is suitable for immobilizing and processing large amounts of carbon dioxide. Furthermore, since this system processes carbon dioxide in a gaseous state, it does not increase the amount of leachate in the waste landfill layer from the conventional amount. In addition, as described above, this system can adjust the flow rate and/or carbon dioxide concentration of the carbon dioxide-containing gas supplied to the gas pipe based on the oxygen concentration at the surface of the landfill layer. The oxygen concentration at the landfill layer surface is useful for understanding the remaining capacity of carbon dioxide fixation in the landfill layer. Therefore, this system can adjust the amount of carbon dioxide supplied to the landfill layer in response to changes in the remaining capacity of carbon dioxide fixation in the landfill layer. Such a carbon dioxide processing system is suitable for efficiently immobilizing and processing large amounts of carbon dioxide.

本発明[6]は、前記酸素濃度検知手段が、前記埋立層の表面において水平方向に離れた複数の部分の酸素濃度を検知する、上記[4]または[5]に記載の二酸化炭素処理システムを含む。 The present invention [6] includes the carbon dioxide treatment system described in [4] or [5] above, in which the oxygen concentration detection means detects the oxygen concentration at multiple horizontally separated portions on the surface of the landfill layer.

このような二酸化炭素処理システムは、埋立層における二酸化炭素固定化の残存能力の変化を精度よく追跡するのに好ましい。これは、二酸化炭素を効率よく固定化処理するのに役立つ。 Such a carbon dioxide treatment system is preferable for accurately tracking changes in the remaining carbon dioxide fixation capacity in the landfill layer. This helps to efficiently fix carbon dioxide.

本発明[7]は、前記埋立層の内部および/または表面の温度を検知する温度検知手段を更に備え、前記制御手段が、前記温度検知手段によって検知される前記温度に基づいて前記ガス供給手段を制御し、前記ガス管に供給される前記ガスの流量および/または二酸化炭素濃度を調節する、上記[1]から[6]のいずれか一つに記載の二酸化炭素処理システムを含む。 The present invention [7] includes the carbon dioxide treatment system according to any one of the above [1] to [6], further comprising a temperature detection means for detecting the temperature inside and/or on the surface of the landfill layer, and the control means controls the gas supply means based on the temperature detected by the temperature detection means to adjust the flow rate and/or carbon dioxide concentration of the gas supplied to the gas pipe.

このような二酸化炭素処理システムにおいては、埋立層内の廃棄物と二酸化炭素との接触による発熱を、温度検知手段によって検知できる。また、埋立層の内部および/または表面の温度は、埋立層における二酸化炭素固定化の残存能力の把握に役立つ。したがって、このような二酸化炭素処理システムでは、埋立層における温度の観点からも、埋立層の二酸化炭素固定化の残存能力の変化に応じて、埋立層への二酸化炭素供給量を調節できる。 In such a carbon dioxide treatment system, the heat generated by contact between the waste in the landfill and carbon dioxide can be detected by a temperature detection means. In addition, the temperature inside and/or on the surface of the landfill is useful for understanding the remaining capacity of carbon dioxide fixation in the landfill. Therefore, in such a carbon dioxide treatment system, the amount of carbon dioxide supplied to the landfill can be adjusted in accordance with changes in the remaining capacity of carbon dioxide fixation in the landfill, also from the perspective of the temperature in the landfill.

本発明[8]は、廃棄物を含む埋立層に埋設されたガス放出部を有するガス管と、二酸化炭素を含有するガスを前記ガス管に供給するガス供給手段と、前記埋立層の内部および/または表面の温度を検知する温度検知手段と、前記温度検知手段によって検知される前記温度に基づいて前記ガス供給手段を制御し、前記ガス管に供給される前記ガスの流量および/または二酸化炭素濃度を調節する、制御手段とを備える、二酸化炭素処理システムを含む。 The present invention [8] includes a carbon dioxide treatment system comprising a gas pipe having a gas release section buried in a landfill layer containing waste, a gas supply means for supplying a gas containing carbon dioxide to the gas pipe, a temperature detection means for detecting the temperature inside and/or on the surface of the landfill layer, and a control means for controlling the gas supply means based on the temperature detected by the temperature detection means, and adjusting the flow rate and/or carbon dioxide concentration of the gas supplied to the gas pipe.

このような二酸化炭素処理システムは、廃棄物の埋立層に二酸化炭素を固定できるので、二酸化炭素を大量に固定化処理するのに適する。また、当該システムは、二酸化炭素をガスの状態で処理するので、廃棄物の埋立層における浸出水の量を、従来の量より増加させない。加えて、当該システムは、上記のように、埋立層の内部および/または表面の温度に基づいて、ガス管に供給される二酸化炭素含有ガスの流量および/または二酸化炭素濃度を調節できる。埋立層における温度は、埋立層の二酸化炭素固定化の残存能力の把握に役立つ。したがって、当該システムは、埋立層における二酸化炭素固定化の残存能力の変化に応じて、埋立層への二酸化炭素供給量を調節できる。以上のような二酸化炭素処理システムは、二酸化炭素を大量に効率よく固定化処理するのに適する。 Since this carbon dioxide processing system can fix carbon dioxide in the waste landfill layer, it is suitable for immobilizing and processing large amounts of carbon dioxide. Furthermore, since this system processes carbon dioxide in a gaseous state, it does not increase the amount of leachate in the waste landfill layer compared to the conventional amount. In addition, as described above, this system can adjust the flow rate and/or carbon dioxide concentration of the carbon dioxide-containing gas supplied to the gas pipe based on the temperature inside and/or on the surface of the landfill layer. The temperature in the landfill layer is useful for understanding the remaining carbon dioxide fixation capacity of the landfill layer. Therefore, this system can adjust the amount of carbon dioxide supplied to the landfill layer according to changes in the remaining carbon dioxide fixation capacity in the landfill layer. Such a carbon dioxide processing system is suitable for efficiently immobilizing and processing large amounts of carbon dioxide.

本発明[9]は、前記温度検知手段が、前記埋立層において鉛直方向に離れた複数の部分の温度を検知する、上記[7]または[8]に記載の二酸化炭素処理システムを含む。 The present invention [9] includes the carbon dioxide treatment system described in [7] or [8] above, in which the temperature detection means detects the temperatures of multiple parts of the landfill layer that are separated in the vertical direction.

このような二酸化炭素処理システムは、埋立層における二酸化炭素固定化の残存能力の変化を精度よく追跡するのに好ましい。これは、二酸化炭素を効率よく固定化処理するのに役立つ。 Such a carbon dioxide treatment system is preferable for accurately tracking changes in the remaining carbon dioxide fixation capacity in the landfill layer. This helps to efficiently fix carbon dioxide.

本発明[10]は、前記温度検知手段が、前記埋立層において水平方向に離れた複数の部分の温度を検知する、上記[7]から[9]のいずれか一つに記載の二酸化炭素処理システムを含む。 The present invention [10] includes a carbon dioxide treatment system according to any one of [7] to [9] above, in which the temperature detection means detects the temperatures of a plurality of parts in the landfill layer that are separated in the horizontal direction.

このような二酸化炭素処理システムは、埋立層における二酸化炭素固定化の残存能力の変化を精度よく追跡するのに好ましい。これは、二酸化炭素を効率よく固定化処理するのに役立つ。 Such a carbon dioxide treatment system is preferable for accurately tracking changes in the remaining carbon dioxide fixation capacity in the landfill layer. This helps to efficiently fix carbon dioxide.

本発明[11]は、前記ガス管を複数備え、当該複数のガス管における複数のガス放出部が水平方向に互いに離れている、上記[1]から[10]のいずれか一つに記載の二酸化炭素処理システムを含む。 The present invention [11] includes a carbon dioxide treatment system according to any one of [1] to [10] above, which includes a plurality of the gas pipes, and the gas release sections in the plurality of gas pipes are separated from each other in the horizontal direction.

このような二酸化炭素処理システムは、埋立層における広い範囲に二酸化炭素含有ガスを供給するのに好ましい。二酸化炭素含有ガスの広範囲への供給は、二酸化炭素を大量に効率よく固定化処理するのに役立つ。 Such a carbon dioxide treatment system is suitable for supplying carbon dioxide-containing gas to a wide area in the landfill. Supplying carbon dioxide-containing gas to a wide area helps to efficiently fix and treat a large amount of carbon dioxide.

本発明[12]は、前記ガス放出部が前記埋立層の底部に配置されている、上記[1]から[11]のいずれか一つに記載の二酸化炭素処理システムを含む。 The present invention [12] includes a carbon dioxide treatment system according to any one of [1] to [11] above, in which the gas release section is disposed at the bottom of the landfill layer.

このような二酸化炭素処理システムでは、埋立層の鉛直方向全体を、二酸化炭素の固定化処理に有効活用できる。このことは、二酸化炭素を大量に効率よく固定化処理するのに役立つ。 In this type of carbon dioxide treatment system, the entire vertical dimension of the landfill layer can be effectively utilized for carbon dioxide fixation treatment. This is useful for efficiently fixing large amounts of carbon dioxide.

本発明の二酸化炭素処理システムの一実施形態の全体構成図である。1 is an overall configuration diagram of one embodiment of a carbon dioxide treatment system of the present invention. ガス管の配置を示す部分斜視図である。FIG. 4 is a partial perspective view showing the arrangement of gas pipes. 二酸化炭素濃度計の配置の一例を示す。図3Aは、第1方向(ガス放出部の延び方向)における配置を示し、図3Bは、第2方向(第1方向と直交する方向)における配置を示す。3A shows an example of the arrangement of a carbon dioxide concentration meter in a first direction (extension direction of a gas releasing portion), and FIG 3B shows the arrangement in a second direction (direction perpendicular to the first direction). 酸素濃度計の配置の一例を示す。図4Aは、第1方向における配置を示し、図4Bは、第2方向における配置を示す。4A and 4B show examples of oximeter placements, with Fig. 4A showing the placement in a first orientation and Fig. 4B showing the placement in a second orientation. 温度計の配置の一例を示す。図5Aは、第1方向における配置を示し、図5Bは、第2方向における配置を示す。5A and 5B show examples of thermometer placements, where Fig. 5A shows the placement in a first orientation and Fig. 5B shows the placement in a second orientation. ガス管の変形例を示す。図6Aは、この変形例の、第1方向におけるガス放出部の配置を示し、図6Bは第2方向におけるガス放出部の配置を示す。6A shows a modified example of a gas pipe, with Fig. 6A showing the arrangement of the gas discharge parts in a first direction, and Fig. 6B showing the arrangement of the gas discharge parts in a second direction.

本発明の二酸化炭素処理システムの一実施形態としての処理システムX(二酸化炭素処理システム)は、図1に示すように、ガス管10と、ガス供給ユニット20(ガス供給手段)と、第1タンク30と、第2タンク40と、二酸化炭素濃度検知手段50と、酸素濃度検知手段60と、温度検知手段70と、制御部80(制御手段)とを備える。処理システムXは、二酸化炭素を固定化処理するシステムである。処理システムXは、本実施形態では、廃棄物処分場100において用いられる。廃棄物処分場100としては、例えば、廃棄物の最終処分場が挙げられる。 As shown in FIG. 1, a treatment system X (carbon dioxide treatment system) as one embodiment of the carbon dioxide treatment system of the present invention includes a gas pipe 10, a gas supply unit 20 (gas supply means), a first tank 30, a second tank 40, a carbon dioxide concentration detection means 50, an oxygen concentration detection means 60, a temperature detection means 70, and a control unit 80 (control means). The treatment system X is a system that performs fixation treatment of carbon dioxide. In this embodiment, the treatment system X is used in a waste disposal site 100. An example of the waste disposal site 100 is a final disposal site for waste.

廃棄物処分場100には、貯留空間110が形成されている。貯留空間110は、壁面111および底面112によって囲まれた空間である。貯留空間110には廃棄物が投入される。このような貯留空間110は、例えば、土地の掘削によって形成される。壁面111および底面112には、遮水工(図示略)が形成されていてもよい。遮水工の材料としては、例えば、コンクリート、防水シート、および、これらの組み合わせが挙げられる。貯留空間110の深さは、例えば数メートル以上である。貯留空間110の広さは、例えば1000m以上である。 A storage space 110 is formed in the waste disposal site 100. The storage space 110 is a space surrounded by a wall surface 111 and a bottom surface 112. Waste is put into the storage space 110. Such a storage space 110 is formed, for example, by excavating land. A waterproofing work (not shown) may be formed on the wall surface 111 and the bottom surface 112. Examples of materials for the waterproofing work include concrete, waterproof sheets, and combinations of these. The depth of the storage space 110 is, for example, several meters or more. The area of the storage space 110 is, for example, 1000 m2 or more.

このような貯留空間110に埋立層120が形成されている。埋立層120は、処理システムXにおいて二酸化炭素が固定される場である。埋立層120は、廃棄物を含む。廃棄物としては、例えば、ごみ焼却施設で発生する主灰・飛灰、および、火力発電所で発生する石炭灰が挙げられる。廃棄物は、粗大ごみおよび汚泥を含んでいてもよい。埋立層120は、例えば、廃棄物と土(覆土)とを貯留空間110に投入することによって形成できる。 A landfill layer 120 is formed in this storage space 110. The landfill layer 120 is where carbon dioxide is fixed in the treatment system X. The landfill layer 120 contains waste. Examples of waste include bottom ash and fly ash generated in waste incineration facilities, and coal ash generated in thermal power plants. The waste may also contain bulky waste and sludge. The landfill layer 120 can be formed, for example, by dumping the waste and soil (covering soil) into the storage space 110.

ガス管10は、後述の二酸化炭素含有ガスの通路である。ガス管10は、貯留空間110において、壁面111に沿って延びる部分と、底面112に沿って延びる部分とを有する。ガス管10は、ガス放出部11を有する。ガス放出部11は、図2に示すように、ガス管10においてガス放出用のガス孔12を有する部分である。ガス孔12は、ガス管10の管壁を、管壁厚さ方向に貫通する。ガス放出部11内の二酸化炭素含有ガスは、ガス孔12を介して、ガス放出部11外に放出される。本実施形態では、ガス放出部11には複数のガス孔12が形成されている。このようなガス放出部11は、図1に示すように、埋立層120に埋設されている。ガス孔12の目詰まりを抑制する観点から、ガス孔12は、ガス放出部11が配置されている水平レベルより下方に向かって開口しているのが好ましい。ガス孔12は、上方に向かって開口していてもよい(図2では、そのようなガス孔12を例示的に示す)。また、ガス孔12にはノズルが取り付けられていてもよい。このようなガス管10は、例えば、塩化ビニル製の中空パイプである。 The gas pipe 10 is a passage for the carbon dioxide-containing gas described below. The gas pipe 10 has a portion extending along the wall surface 111 and a portion extending along the bottom surface 112 in the storage space 110. The gas pipe 10 has a gas release section 11. As shown in FIG. 2, the gas release section 11 is a portion of the gas pipe 10 having a gas hole 12 for releasing gas. The gas hole 12 penetrates the pipe wall of the gas pipe 10 in the pipe wall thickness direction. The carbon dioxide-containing gas in the gas release section 11 is released to the outside of the gas release section 11 through the gas hole 12. In this embodiment, a plurality of gas holes 12 are formed in the gas release section 11. Such a gas release section 11 is buried in the landfill layer 120 as shown in FIG. 1. From the viewpoint of suppressing clogging of the gas hole 12, it is preferable that the gas hole 12 opens downward from the horizontal level at which the gas release section 11 is arranged. The gas hole 12 may open upward (such a gas hole 12 is shown as an example in FIG. 2). A nozzle may also be attached to the gas hole 12. Such a gas pipe 10 is, for example, a hollow pipe made of polyvinyl chloride.

ガス放出部11は、好ましくは、図2に示すように、ガス管10において底面112に沿って延びる部分に設けられている。すなわち、ガス放出部11は、埋立層120の底部に配置されている。このようなガス放出部11の配置により、埋立層120の鉛直方向全体を、二酸化炭素の固定化処理に有効活用できる。このことは、埋立層120において二酸化炭素を大量に効率よく固定化処理するのに役立つ。貯留空間110に埋立層120を形成する前にガス管10を敷設することにより、ガス放出部11を埋立層120の底部に配置できる。 The gas release section 11 is preferably provided in a portion of the gas pipe 10 that extends along the bottom surface 112, as shown in FIG. 2. That is, the gas release section 11 is disposed at the bottom of the landfill layer 120. By disposing the gas release section 11 in this manner, the entire vertical direction of the landfill layer 120 can be effectively utilized for the fixation process of carbon dioxide. This helps to efficiently fix a large amount of carbon dioxide in the landfill layer 120. By laying the gas pipe 10 before forming the landfill layer 120 in the storage space 110, the gas release section 11 can be disposed at the bottom of the landfill layer 120.

処理システムXは、本実施形態では、複数のガス管10を備える。複数のガス管10における複数のガス放出部11は、好ましくは、水平方向に互いに離れている。このようなガス放出部11の配置は、埋立層120における広い範囲に二酸化炭素含有ガスを供給するのに好ましい。そのような広範囲への二酸化炭素含有ガスの供給は、二酸化炭素を大量に効率よく固定化処理するのに役立つ。また、複数のガス放出部11は、例えば、互いに平行に延びる。隣り合うガス放出部11間の距離は、二酸化炭素の固定化処理に埋立層120を全体的に有効活用する観点から、好ましくは100m以下、より好ましくは50m以下、更に好ましくは30m以下、一層好ましくは10m以下である。隣り合うガス放出部11間の距離は、処理システムXの設置コストの抑制の観点から、好ましくは2m以上、より好ましくは5以上、更に好ましくは10m以上、一層好ましくは30m以上である。 In this embodiment, the processing system X includes a plurality of gas pipes 10. The plurality of gas release sections 11 in the plurality of gas pipes 10 are preferably spaced apart from each other in the horizontal direction. Such an arrangement of the gas release sections 11 is preferable for supplying carbon dioxide-containing gas to a wide range in the landfill layer 120. Supplying carbon dioxide-containing gas to such a wide range is useful for efficiently immobilizing a large amount of carbon dioxide. In addition, the plurality of gas release sections 11 extend, for example, parallel to each other. From the viewpoint of effectively utilizing the landfill layer 120 as a whole in the immobilization treatment of carbon dioxide, the distance between adjacent gas release sections 11 is preferably 100 m or less, more preferably 50 m or less, even more preferably 30 m or less, and even more preferably 10 m or less. From the viewpoint of suppressing the installation cost of the processing system X, the distance between adjacent gas release sections 11 is preferably 2 m or more, more preferably 5 m or more, even more preferably 10 m or more, and even more preferably 30 m or more.

ガス供給ユニット20は、本実施形態では、複数のポンプ21を含む。ポンプ21は、ガスの吸入口21aと吐出口21bとを有する。ポンプ21は、吸入口21aにてガスを吸引しつつ吐出口21bにてガスを吐出する機能(ガス送流機能)を有する。吸入口21aは、第1タンク30と連結されている。具体的には、吸入口21aと第1タンク30は、配管としてのライン31(太線で示す)を介して、連結されている。一方、吐出口21bは、ガス管10と連結されている。本実施形態では、ガス管10ごとに一つのポンプ21が、ガス管10と連結されている。すなわち、ガス管10(ガス放出部11を有する)とポンプ21とは一対一で対応づけられている。このようなガス供給ユニット20は、第1タンク30からの二酸化炭素含有ガスを、ガス管10内に送流する。これにより、ガス供給ユニット20は、二酸化炭素含有ガスをガス管10に供給する。ガス供給ユニット20は、制御部80による制御に従って二酸化炭素含有ガスの流量を調節可能である。 In this embodiment, the gas supply unit 20 includes a plurality of pumps 21. The pump 21 has a gas inlet 21a and an outlet 21b. The pump 21 has a function of sucking gas through the inlet 21a and discharging gas through the outlet 21b (gas flow function). The inlet 21a is connected to the first tank 30. Specifically, the inlet 21a and the first tank 30 are connected via a line 31 (shown by a thick line) as a pipe. On the other hand, the outlet 21b is connected to the gas pipe 10. In this embodiment, one pump 21 is connected to each gas pipe 10. That is, the gas pipe 10 (having a gas release section 11) and the pump 21 are in one-to-one correspondence. Such a gas supply unit 20 sends carbon dioxide-containing gas from the first tank 30 into the gas pipe 10. As a result, the gas supply unit 20 supplies carbon dioxide-containing gas to the gas pipe 10. The gas supply unit 20 can adjust the flow rate of the carbon dioxide-containing gas according to the control by the control unit 80.

第1タンク30には、二酸化炭素を含有するガス(二酸化炭素含有ガス)が貯留されている。当該二酸化炭素は、処理システムXによる固定化処理の対象である。当該二酸化炭素は、燃焼で生じた排ガス(燃焼排ガス)から回収された二酸化炭素である。排ガスの発生源としては、例えば、ごみ焼却施設の焼却炉、および、火力発電所のボイラが挙げられる。第1タンク30内の二酸化炭素の濃度は、好ましくは40体積%以上、より好ましくは60体積%以上、更に好ましくは80体積%以上、特に好ましくは90体積%以上である。 Gas containing carbon dioxide (carbon dioxide-containing gas) is stored in the first tank 30. The carbon dioxide is the target of immobilization treatment by the treatment system X. The carbon dioxide is carbon dioxide recovered from exhaust gas (combustion exhaust gas) generated by combustion. Sources of exhaust gas include, for example, incinerators at waste incineration facilities and boilers at thermal power plants. The concentration of carbon dioxide in the first tank 30 is preferably 40% by volume or more, more preferably 60% by volume or more, even more preferably 80% by volume or more, and particularly preferably 90% by volume or more.

第2タンク40には、希釈ガスが貯留されている。希釈ガスとしては、例えば、大気および窒素が挙げられる。処理システムXの運転コストの抑制の観点から、希釈ガスとしては、大気が好ましい。第2タンク40は、ライン41を介して、ライン31と連結されている。第2タンク40は、ライン41およびライン31の一部を介して、ポンプ21と連結されている。ライン41には、調節弁42が設けられている。調節弁42は、制御部80による制御に従って、ライン41内の流路を開閉可能である。また、調節弁42は、制御部80による制御に従って、ライン41を通流するガスの流量を調節可能である。希釈ガスとして大気を用いる場合、第2タンク40の代わりに所定のコンプレッサーを用いて、ライン31に希釈ガスを供給してもよい。この場合、調節弁42の代わりに当該コンプレッサーが制御されて、希釈ガスの供給量が調節される。 The second tank 40 stores a dilution gas. Examples of the dilution gas include air and nitrogen. From the viewpoint of suppressing the operating cost of the processing system X, air is preferable as the dilution gas. The second tank 40 is connected to the line 31 via the line 41. The second tank 40 is connected to the pump 21 via the line 41 and a part of the line 31. The line 41 is provided with an adjustment valve 42. The adjustment valve 42 can open and close the flow path in the line 41 according to the control by the control unit 80. In addition, the adjustment valve 42 can adjust the flow rate of the gas flowing through the line 41 according to the control by the control unit 80. When air is used as the dilution gas, a specified compressor may be used instead of the second tank 40 to supply the dilution gas to the line 31. In this case, the compressor is controlled instead of the adjustment valve 42 to adjust the supply amount of the dilution gas.

二酸化炭素濃度検知手段50は、埋立層120の内部および/または表面の二酸化炭素濃度を検知する。二酸化炭素濃度検知手段50は、好ましくは、複数の二酸化炭素濃度計を含み、本実施形態では、複数の二酸化炭素濃度計51である。二酸化炭素濃度計51は、気体状の二酸化炭素の濃度(CO濃度)を測定可能である。すなわち、二酸化炭素濃度検知手段50は、複数の二酸化炭素濃度計51によるCO濃度の測定により、埋立層120の二酸化炭素濃度(分布を有する)を検知する。二酸化炭素濃度計51は、測定されたCO濃度(測定CO濃度)を信号として制御部80に出力する。二酸化炭素濃度計51としては、例えば、吸引式の二酸化炭素濃度計、および、拡散式の二酸化炭素濃度計が挙げられる。 The carbon dioxide concentration detection means 50 detects the carbon dioxide concentration inside and/or on the surface of the landfill layer 120. The carbon dioxide concentration detection means 50 preferably includes a plurality of carbon dioxide concentration meters, and in this embodiment, a plurality of carbon dioxide concentration meters 51. The carbon dioxide concentration meters 51 are capable of measuring the concentration of gaseous carbon dioxide ( CO2 concentration). That is, the carbon dioxide concentration detection means 50 detects the carbon dioxide concentration (having a distribution) in the landfill layer 120 by measuring the CO2 concentration by the plurality of carbon dioxide concentration meters 51. The carbon dioxide concentration meters 51 output the measured CO2 concentration (measured CO2 concentration) as a signal to the control unit 80. Examples of the carbon dioxide concentration meters 51 include an aspiration type carbon dioxide concentration meter and a diffusion type carbon dioxide concentration meter.

図3Aおよび図3Bは、複数の二酸化炭素濃度計51の配置の一例を示す。図3Aは、第1方向D1における二酸化炭素濃度計51の配置を示す。第1方向D1は、ガス放出部11の延びる方向である。図3Bは、第2方向D2における二酸化炭素濃度計51の配置を示す。第1方向D1と第2方向D2とは直交する。図3Aおよび図3Bに示すように、複数の二酸化炭素濃度計51(二酸化炭素検知手段50)は、埋立層120において水平方向に離れた複数の二酸化炭素濃度計51を含む。図3Aおよび図3Bに示す配置例では、鉛直方向における三つの高さ位置(最下位置,中間位置,最上位置)のそれぞれに、二酸化炭素濃度計51がマトリックス状に配置されている。すなわち、複数の二酸化炭素濃度計51は、埋立層120において鉛直方向に離れた複数の二酸化炭素濃度計51を含む。これにより、二酸化炭素濃度検知手段50は、埋立層120において鉛直方向に離れた複数の部分の二酸化炭素濃度を、検知可能である。また、複数の二酸化炭素濃度計51は、埋立層120において水平方向に離れた複数の二酸化炭素濃度計51を含む。これにより、二酸化炭素濃度検知手段50は、埋立層120において水平方向に離れた複数の部分の二酸化炭素濃度を、検知可能である。二酸化炭素濃度計51の配置は、具体的には次のとおりである。 3A and 3B show an example of the arrangement of the multiple carbon dioxide concentration meters 51. FIG. 3A shows the arrangement of the carbon dioxide concentration meters 51 in the first direction D1. The first direction D1 is the direction in which the gas release section 11 extends. FIG. 3B shows the arrangement of the carbon dioxide concentration meters 51 in the second direction D2. The first direction D1 and the second direction D2 are perpendicular to each other. As shown in FIGS. 3A and 3B, the multiple carbon dioxide concentration meters 51 (carbon dioxide detection means 50) include multiple carbon dioxide concentration meters 51 that are separated horizontally in the landfill layer 120. In the arrangement example shown in FIGS. 3A and 3B, the carbon dioxide concentration meters 51 are arranged in a matrix at each of three height positions (lowest position, middle position, and top position) in the vertical direction. That is, the multiple carbon dioxide concentration meters 51 include multiple carbon dioxide concentration meters 51 that are separated vertically in the landfill layer 120. As a result, the carbon dioxide concentration detection means 50 can detect the carbon dioxide concentration of multiple parts that are separated vertically in the landfill layer 120. The multiple carbon dioxide concentration meters 51 also include multiple carbon dioxide concentration meters 51 that are separated horizontally in the landfill layer 120. This allows the carbon dioxide concentration detection means 50 to detect the carbon dioxide concentration in multiple parts that are separated horizontally in the landfill layer 120. The carbon dioxide concentration meters 51 are specifically arranged as follows:

最下位置に、複数の二酸化炭素濃度計51aがマトリックス状に配置されている。二酸化炭素濃度計51aは、ガス放出部11より上に配置されている。二酸化炭素濃度計51aは、貯留空間110の底面112から例えば100cm以内に配置されている。また、図3Aに示すように、ガス放出部11に沿って複数の二酸化炭素濃度計51aが一列に配置されている。当該一列の二酸化炭素濃度計51aにおいて、隣り合う二酸化炭素濃度計51a間の距離Lは、二酸化炭素濃度の検知精度の観点から、好ましくは100m以下、より好ましくは50m以下、更に好ましくは30m以下、一層好ましくは10m以下である。距離Lは、処理システムXの設置コストの抑制の観点から、好ましくは2m以上、より好ましくは5以上、更に好ましくは10m以上、一層好ましくは30m以上である。第2方向D2において隣り合う二酸化炭素濃度計51a間の好ましい距離については、距離Lと同様である。また、図3Bに示すように、第2方向D2において隣り合う二酸化炭素濃度計51a間の距離は、第2方向D2において隣り合うガス放出部11間の距離と実質的に同じであってもよい。 At the lowest position, a plurality of carbon dioxide concentration meters 51a are arranged in a matrix. The carbon dioxide concentration meters 51a are arranged above the gas release section 11. The carbon dioxide concentration meters 51a are arranged, for example, within 100 cm from the bottom surface 112 of the storage space 110. Also, as shown in FIG. 3A, a plurality of carbon dioxide concentration meters 51a are arranged in a line along the gas release section 11. In the line of carbon dioxide concentration meters 51a, the distance L 1 between adjacent carbon dioxide concentration meters 51a is preferably 100 m or less, more preferably 50 m or less, even more preferably 30 m or less, and even more preferably 10 m or less, from the viewpoint of detection accuracy of the carbon dioxide concentration. The distance L 1 is preferably 2 m or more, more preferably 5 m or more, even more preferably 10 m or more, and even more preferably 30 m or more, from the viewpoint of suppressing the installation cost of the treatment system X. The preferable distance between adjacent carbon dioxide concentration meters 51a in the second direction D2 is the same as the distance L 1 . Furthermore, as shown in FIG. 3B, the distance between adjacent carbon dioxide concentration meters 51a in the second direction D2 may be substantially the same as the distance between adjacent gas emission sections 11 in the second direction D2.

中間位置に、複数の二酸化炭素濃度計51bがマトリックス状に配置されている。二酸化炭素濃度計51bは、埋立層120の厚さ方向における中心位置から例えば500cm以内に配置されている。また、図3Aに示すように、ガス放出部11に沿って複数の二酸化炭素濃度計51bが一列に配置されている。当該一列の二酸化炭素濃度計51bにおいて、隣り合う二酸化炭素濃度計51b間の距離Lは、二酸化炭素濃度の検知精度の観点から、好ましくは100m以下、より好ましくは50m以下、更に好ましくは30m以下、一層好ましくは10m以下である。隣り合う二酸化炭素濃度計51b間の距離Lは、処理システムXの設置コストの抑制の観点から、好ましくは2m以上、より好ましくは5以上、更に好ましくは10m以上、一層好ましくは30m以上である。距離Lは、上述の距離Lと同じであってもよいし、異なってもよい。第2方向D2において隣り合う二酸化炭素濃度計51b間の好ましい距離については、距離Lと同様である。また、図3Bに示すように、第2方向D2において隣り合う二酸化炭素濃度計51b間の距離は、第2方向D2において隣り合うガス放出部11間の距離と実質的に同じであってもよい。 A plurality of carbon dioxide concentration meters 51b are arranged in a matrix at the intermediate position. The carbon dioxide concentration meters 51b are arranged, for example, within 500 cm from the center position in the thickness direction of the landfill layer 120. Also, as shown in FIG. 3A, a plurality of carbon dioxide concentration meters 51b are arranged in a row along the gas release section 11. In the row of carbon dioxide concentration meters 51b, the distance L2 between adjacent carbon dioxide concentration meters 51b is preferably 100 m or less, more preferably 50 m or less, even more preferably 30 m or less, and even more preferably 10 m or less, from the viewpoint of the detection accuracy of the carbon dioxide concentration. The distance L2 between adjacent carbon dioxide concentration meters 51b is preferably 2 m or more, more preferably 5 m or more, even more preferably 10 m or more, and even more preferably 30 m or more, from the viewpoint of suppressing the installation cost of the treatment system X. The distance L2 may be the same as or different from the above-mentioned distance L1 . The preferred distance between adjacent carbon dioxide concentration meters 51b in the second direction D2 is the same as the distance L2 . Furthermore, as shown in FIG. 3B, the distance between adjacent carbon dioxide concentration meters 51b in the second direction D2 may be substantially the same as the distance between adjacent gas emission sections 11 in the second direction D2.

最上位置に、複数の二酸化炭素濃度計51cがマトリックス状に配置されている。二酸化炭素濃度計51cは、好ましくは、埋立層120の露出面(表面)に配置されている。また、図3Aに示すように、ガス放出部11に沿って複数の二酸化炭素濃度計51cが一列に配置されている。当該一列の二酸化炭素濃度計51cにおいて、隣り合う二酸化炭素濃度計51c間の距離Lは、二酸化炭素濃度の検知精度の観点から、好ましくは100m以下、より好ましくは50m以下、更に好ましくは30m以下、一層好ましくは10m以下である。距離Lは、処理システムXの設置コストの抑制の観点から、好ましくは2m以上、より好ましくは5以上、更に好ましくは10m以上、一層好ましくは30m以上である。距離Lは、上述の距離L,Lと同じであってもよいし、異なってもよい。第2方向D2において隣り合う二酸化炭素濃度計51c間の好ましい距離については、距離Lと同様である。また、図3Bに示すように、第2方向D2において隣り合う二酸化炭素濃度計51c間の距離は、第2方向D2において隣り合うガス放出部11間の距離と実質的に同じであってもよい。 At the top position, a plurality of carbon dioxide concentration meters 51c are arranged in a matrix. The carbon dioxide concentration meters 51c are preferably arranged on the exposed surface (surface) of the landfill layer 120. Also, as shown in FIG. 3A, a plurality of carbon dioxide concentration meters 51c are arranged in a row along the gas release section 11. In the row of carbon dioxide concentration meters 51c, the distance L3 between adjacent carbon dioxide concentration meters 51c is preferably 100 m or less, more preferably 50 m or less, even more preferably 30 m or less, and even more preferably 10 m or less, from the viewpoint of detection accuracy of the carbon dioxide concentration. From the viewpoint of suppressing the installation cost of the treatment system X, the distance L3 is preferably 2 m or more, more preferably 5 m or more, even more preferably 10 m or more, and even more preferably 30 m or more. The distance L3 may be the same as or different from the above-mentioned distances L1 and L2 . The preferred distance between adjacent carbon dioxide concentration meters 51c in the second direction D2 is the same as the distance L3 . Furthermore, as shown in FIG. 3B, the distance between adjacent carbon dioxide concentration meters 51c in the second direction D2 may be substantially the same as the distance between adjacent gas emission sections 11 in the second direction D2.

鉛直方向における二酸化炭素濃度計51a,51b間の距離(最下位置と中間位置との差)は、例えば100m以下、好ましくは30m以下、より好ましくは10m以下である。鉛直方向における二酸化炭素濃度計51b,51c間の距離(中間位置と最上位置との差)は、例えば100m以下、好ましくは30m以下、より好ましくは10m以下である。 The distance between the carbon dioxide concentration meters 51a and 51b in the vertical direction (the difference between the lowest position and the middle position) is, for example, 100 m or less, preferably 30 m or less, and more preferably 10 m or less. The distance between the carbon dioxide concentration meters 51b and 51c in the vertical direction (the difference between the middle position and the top position) is, for example, 100 m or less, preferably 30 m or less, and more preferably 10 m or less.

酸素濃度検知手段60は、埋立層120の表面の酸素濃度を検知する。酸素濃度検知手段60は、好ましくは、複数の酸素濃度計を含み、本実施形態では、複数の酸素濃度計61である。酸素濃度計61は、気体状の酸素の濃度(O濃度)を測定可能である。すなわち、酸素濃度検知手段60は、複数の酸素濃度計61によるO濃度の測定により、埋立層120の酸素濃度(分布を有する)を検知する。酸素濃度計61は、測定されたO濃度(測定O濃度)を示す信号を制御部80に出力する。酸素濃度計61としては、例えば、吸引式の酸素濃度計、および、拡散式の酸素濃度計が挙げられる。 The oxygen concentration detection means 60 detects the oxygen concentration on the surface of the landfill layer 120. The oxygen concentration detection means 60 preferably includes a plurality of oxygen concentration meters, and in this embodiment, a plurality of oxygen concentration meters 61. The oxygen concentration meters 61 can measure the concentration of gaseous oxygen ( O2 concentration). That is, the oxygen concentration detection means 60 detects the oxygen concentration (having a distribution) of the landfill layer 120 by measuring the O2 concentration by the plurality of oxygen concentration meters 61. The oxygen concentration meters 61 output a signal indicating the measured O2 concentration (measured O2 concentration) to the control unit 80. Examples of the oxygen concentration meters 61 include an aspiration type oxygen concentration meter and a diffusion type oxygen concentration meter.

図4Aおよび図4Bは、複数の酸素濃度計61の配置の一例を示す。図4Aは、第1方向D1における酸素濃度計61の配置を示す。図4Bは、第2方向D2における酸素濃度計61の配置を示す。複数の酸素濃度計61は、埋立層120の露出面(表面)にマトリックス状に配置されている(即ち、酸素濃度検知手段60は、水平方向に離れた複数の酸素濃度計61を含む)。これにより、酸素濃度検知手段60は、埋立層120の表面において水平方向に離れた複数の部分の酸素濃度を、検知可能である。また、図4Aに示すように、ガス放出部11に沿って複数の酸素濃度計61が一列に配置されている。当該一列の酸素濃度計61において、隣り合う酸素濃度計61c間の距離Lは、酸素濃度の検知精度の観点から、好ましくは100m以下、より好ましくは50m以下、更に好ましくは30m以下、一層好ましくは10m以下である。距離Lは、処理システムXの設置コストの抑制の観点から、好ましくは2m以上、より好ましくは5以上、更に好ましくは10m以上、一層好ましくは30m以上である。距離Lは、上述の距離L,L2,と同じであってもよいし、異なってもよい。第2方向D2において隣り合う酸素濃度計61間の好ましい距離については、距離Lと同様である。また、図4Bに示すように、第2方向D2において隣り合う酸素濃度計61間の距離は、第2方向D2において隣り合うガス放出部11間の距離と実質的に同じであってもよい。 4A and 4B show an example of the arrangement of the oxygen concentration meters 61. FIG. 4A shows the arrangement of the oxygen concentration meters 61 in the first direction D1. FIG. 4B shows the arrangement of the oxygen concentration meters 61 in the second direction D2. The oxygen concentration meters 61 are arranged in a matrix on the exposed surface (surface) of the landfill layer 120 (i.e., the oxygen concentration detection means 60 includes a plurality of oxygen concentration meters 61 separated in the horizontal direction). This allows the oxygen concentration detection means 60 to detect the oxygen concentration of a plurality of parts separated in the horizontal direction on the surface of the landfill layer 120. Also, as shown in FIG. 4A, the plurality of oxygen concentration meters 61 are arranged in a row along the gas release section 11. In the oxygen concentration meters 61 in the row, the distance L4 between adjacent oxygen concentration meters 61c is preferably 100 m or less, more preferably 50 m or less, even more preferably 30 m or less, and even more preferably 10 m or less, from the viewpoint of the detection accuracy of the oxygen concentration. From the viewpoint of suppressing the installation cost of the processing system X, the distance L4 is preferably 2 m or more, more preferably 5 m or more, even more preferably 10 m or more, and even more preferably 30 m or more. The distance L4 may be the same as or different from the above-mentioned distances L1 , L2 , and L3 . The preferred distance between adjacent oxygen concentration meters 61 in the second direction D2 is the same as the distance L4 . Also, as shown in FIG. 4B, the distance between adjacent oxygen concentration meters 61 in the second direction D2 may be substantially the same as the distance between adjacent gas emission sections 11 in the second direction D2.

温度検知手段70は、埋立層120の内部および/または表面の温度を検知する。温度検知手段70は、好ましくは、複数の温度計を含み、本実施形態では、複数の温度計71である。温度計71は、温度を測定可能である。すなわち、温度検知手段70は、複数の温度計71による温度測定により、埋立層120の温度(分布を有する)を検知する。温度計71は、測定された温度(測定温度)を示す信号を制御部80に出力する。 The temperature detection means 70 detects the temperature inside and/or on the surface of the landfill layer 120. The temperature detection means 70 preferably includes multiple thermometers, and in this embodiment, multiple thermometers 71. The thermometers 71 are capable of measuring temperature. That is, the temperature detection means 70 detects the temperature (having a distribution) of the landfill layer 120 by measuring the temperature with the multiple thermometers 71. The thermometers 71 output a signal indicating the measured temperature (measured temperature) to the control unit 80.

図5Aおよび図5Bは、複数の温度計71の配置の一例を示す。図5Aは、第1方向D1における温度計71の配置を示す。図5Bは、第2方向D2における温度計71の配置を示す。図5Aおよび図5Bに示すように、複数の温度計71(温度検知手段70)は、埋立層120において水平方向に離れた複数の温度計71を含む。また、図5Aおよび図5Bに示す配置例では、鉛直方向における三つの高さ位置(最下位置,中間位置,最上位置)のそれぞれに、温度計71がマトリックス状に配置されている。すなわち、複数の温度計71は、埋立層120において鉛直方向に離れた複数の温度計71を含む。これにより、温度検知手段70は、埋立層120において鉛直方向に離れた複数の部分の温度を、検知可能である。また、複数の温度計71は、埋立層120において水平方向に離れた複数の温度計71を含む。これにより、温度検知手段70は、埋立層120において水平方向に離れた複数の部分の温度を、検知可能である。温度計71の配置は、具体的には次のとおりである。 5A and 5B show an example of the arrangement of the thermometers 71. FIG. 5A shows the arrangement of the thermometers 71 in the first direction D1. FIG. 5B shows the arrangement of the thermometers 71 in the second direction D2. As shown in FIG. 5A and FIG. 5B, the thermometers 71 (temperature detection means 70) include a plurality of thermometers 71 spaced apart in the horizontal direction in the landfill layer 120. In addition, in the arrangement example shown in FIG. 5A and FIG. 5B, the thermometers 71 are arranged in a matrix at each of three height positions (lowest position, middle position, and highest position) in the vertical direction. That is, the plurality of thermometers 71 include a plurality of thermometers 71 spaced apart in the vertical direction in the landfill layer 120. This allows the temperature detection means 70 to detect the temperatures of a plurality of parts spaced apart in the vertical direction in the landfill layer 120. In addition, the plurality of thermometers 71 include a plurality of thermometers 71 spaced apart in the horizontal direction in the landfill layer 120. This allows the temperature detection means 70 to detect the temperatures of multiple parts of the landfill layer 120 that are separated horizontally. The thermometers 71 are specifically arranged as follows:

最下位置に、複数の温度計71aがマトリックス状に配置されている。温度計71aは、ガス放出部11より上に配置されている。温度計71aは、貯留空間110の底面112から例えば100cm以内に配置されている。また、図5Aに示すように、ガス放出部11に沿って複数の温度計71aが一列に配置されている。当該一列の温度計71aにおいて、隣り合う温度計71a間の距離Lは、温度の検知精度の観点から、好ましくは100m以下、より好ましくは50m以下、更に好ましくは30m以下、一層好ましくは10m以下である。距離Lは、処理システムXの設置コストの抑制の観点から、好ましくは2m以上、より好ましくは5以上、更に好ましくは10m以上、一層好ましくは30m以上である。第2方向D2において隣り合う温度計71a間の好ましい距離については、距離Lと同様である。また、図5Bに示すように、第2方向D2において隣り合う温度計71a間の距離は、第2方向D2において隣り合うガス放出部11間の距離と実質的に同じであってもよい。温度計71aと二酸化炭素濃度計51aとは、実質的に同じ位置に配置されてもよい。 At the lowest position, a plurality of thermometers 71a are arranged in a matrix. The thermometers 71a are arranged above the gas discharge section 11. The thermometers 71a are arranged, for example, within 100 cm from the bottom surface 112 of the storage space 110. Also, as shown in FIG. 5A, a plurality of thermometers 71a are arranged in a row along the gas discharge section 11. In the row of thermometers 71a, the distance L5 between adjacent thermometers 71a is preferably 100 m or less, more preferably 50 m or less, even more preferably 30 m or less, and even more preferably 10 m or less, from the viewpoint of temperature detection accuracy. The distance L5 is preferably 2 m or more, more preferably 5 m or more, even more preferably 10 m or more, and even more preferably 30 m or more, from the viewpoint of suppressing the installation cost of the processing system X. The preferable distance between adjacent thermometers 71a in the second direction D2 is the same as the distance L5 . 5B , the distance between adjacent thermometers 71a in the second direction D2 may be substantially the same as the distance between adjacent gas emission sections 11 in the second direction D2. The thermometers 71a and the carbon dioxide concentration meter 51a may be disposed at substantially the same position.

中間位置に、複数の温度計71bがマトリックス状に配置されている。温度計71bは、埋立層120の厚さ方向における中心位置から例えば500cm以内に配置されている。また、図5Aに示すように、ガス放出部11に沿って複数の温度計71bが一列に配置されている。当該一列の温度計71bにおいて、隣り合う温度計71b間の距離Lは、温度の検知精度の観点から、好ましくは100m以下、より好ましくは50m以下、更に好ましくは30m以下、一層好ましくは10m以下である。距離Lは、上述の距離Lと同じであってもよいし、異なってもよい。距離Lは、処理システムXの設置コストの抑制の観点から、好ましくは2m以上、より好ましくは5以上、更に好ましくは10m以上、一層好ましくは30m以上である。距離Lは、上述の距離Lと同じであってもよいし、異なってもよい。第2方向D2において隣り合う温度計71b間の好ましい距離については、距離Lと同様である。また、図5Bに示すように、第2方向D2において隣り合う温度計71b間の距離は、本実施形態では、第2方向D2において隣り合うガス放出部11間の距離と実質的に同じであってもよい。温度計71bと二酸化炭素濃度計51bとは、実質的に同じ位置に配置されてもよい。 A plurality of thermometers 71b are arranged in a matrix at the intermediate position. The thermometers 71b are arranged, for example, within 500 cm from the center position in the thickness direction of the buried layer 120. Also, as shown in FIG. 5A, a plurality of thermometers 71b are arranged in a row along the gas release section 11. In the row of thermometers 71b, the distance L6 between adjacent thermometers 71b is preferably 100 m or less, more preferably 50 m or less, even more preferably 30 m or less, and even more preferably 10 m or less, from the viewpoint of temperature detection accuracy. The distance L6 may be the same as the above-mentioned distance L5 or may be different. From the viewpoint of suppressing the installation cost of the treatment system X, the distance L6 is preferably 2 m or more, more preferably 5 m or more, even more preferably 10 m or more, and even more preferably 30 m or more. The distance L6 may be the same as the above-mentioned distance L5 or may be different. The preferred distance between adjacent thermometers 71b in the second direction D2 is the same as the distance L6 . 5B, in this embodiment, the distance between adjacent thermometers 71b in the second direction D2 may be substantially the same as the distance between adjacent gas emission sections 11 in the second direction D2. The thermometers 71b and the carbon dioxide concentration meter 51b may be disposed at substantially the same position.

最上位置に、複数の温度計71cがマトリックス状に配置されている。温度計71cは、好ましくは、埋立層120の露出面上に配置されている。また、図5Aに示すように、ガス放出部11に沿って複数の温度計71cが一列に配置されている。当該一列の温度計71cにおいて、隣り合う温度計71c間の距離Lは、温度の検知精度の観点から、好ましくは100m以下、より好ましくは50m以下、更に好ましくは30m以下、一層好ましくは10m以下である。距離Lは、処理システムXの設置コストの抑制の観点から、好ましくは2m以上、より好ましくは5以上、更に好ましくは10m以上、一層好ましくは30m以上である。距離Lは、上述の距離L5,と同じであってもよいし、異なってもよい。第2方向D2において隣り合う温度計71c間の好ましい距離については、距離Lと同様である。また、図5Bに示すように、第2方向D2において隣り合う温度計71c間の距離は、本実施形態では、第2方向D2において隣り合うガス放出部11間の距離と実質的に同じであってもよい。温度計71cと二酸化炭素濃度計51cとは、実質的に同じ位置に配置されてもよい。 At the top position, a plurality of thermometers 71c are arranged in a matrix. The thermometers 71c are preferably arranged on the exposed surface of the buried layer 120. Also, as shown in FIG. 5A, a plurality of thermometers 71c are arranged in a row along the gas release section 11. In the row of thermometers 71c, the distance L7 between adjacent thermometers 71c is preferably 100 m or less, more preferably 50 m or less, even more preferably 30 m or less, and even more preferably 10 m or less, from the viewpoint of temperature detection accuracy. The distance L7 is preferably 2 m or more, more preferably 5 m or more, even more preferably 10 m or more, and even more preferably 30 m or more, from the viewpoint of suppressing the installation cost of the treatment system X. The distance L7 may be the same as or different from the above-mentioned distances L5 and L6 . The preferred distance between adjacent thermometers 71c in the second direction D2 is the same as the distance L7 . 5B, in this embodiment, the distance between adjacent thermometers 71c in the second direction D2 may be substantially the same as the distance between adjacent gas emission sections 11 in the second direction D2. The thermometers 71c and the carbon dioxide concentration meter 51c may be disposed at substantially the same position.

鉛直方向における温度計71a,71b間の距離(最下位置と中間位置との差)は、例えば100m以下、好ましくは30m以下、より好ましくは10m以下である。鉛直方向における温度計71b,71c間の距離(中間位置と最上位置との差)は、例えば100m以下、好ましくは30m以下、より好ましくは10m以下である。 The vertical distance between thermometers 71a and 71b (the difference between the lowest position and the middle position) is, for example, 100 m or less, preferably 30 m or less, and more preferably 10 m or less. The vertical distance between thermometers 71b and 71c (the difference between the middle position and the top position) is, for example, 100 m or less, preferably 30 m or less, and more preferably 10 m or less.

温度検知手段70は、最上位の複数の温度計71cの代わりに、埋立層120の表面全体の温度を測定可能なサーモグラフィーを備えてもよい。 Instead of the uppermost multiple thermometers 71c, the temperature detection means 70 may be equipped with a thermograph capable of measuring the temperature of the entire surface of the landfill layer 120.

制御部80は、例えば、演算部と、記憶部と、比較部と、動作制御部とを含む。制御部80は、コンピュータによって構成される。当該コンピュータは、例えば、廃棄物処分場100の管理棟(図示略)に設置される。制御部80には、ポンプ21、調節弁42、二酸化炭素濃度計51、酸素濃度計61、および温度計71が、有線または無線を介して、通信可能に接続されている。 The control unit 80 includes, for example, a calculation unit, a memory unit, a comparison unit, and an operation control unit. The control unit 80 is configured by a computer. The computer is installed, for example, in a management building (not shown) of the waste disposal site 100. The pump 21, the control valve 42, the carbon dioxide concentration meter 51, the oxygen concentration meter 61, and the thermometer 71 are connected to the control unit 80 in a wired or wireless manner so as to be able to communicate with each other.

処理システムXにおける二酸化炭素の固定化処理は、次のとおりである。 The carbon dioxide fixation process in treatment system X is as follows:

第1タンク30内の二酸化炭素含有ガスが、ライン31を介して、ガス供給ユニット20の各ポンプ21に送られる。必要に応じて、第2タンク40内の希釈ガスも、ライン41およびライン31の一部を介して、各ポンプ21に送られる。そして、ポンプ21(ガス供給ユニット20)から、所定のCO濃度の二酸化炭素含有ガスが、ガス管10に供給される。その二酸化炭素含有ガスは、ガス放出部11から埋立層120内に放出される。二酸化炭素含有ガスが、埋立層120を上方に通過する時、同ガス内の二酸化炭素と廃棄物中のアルカリ成分との接触により、アルカリ成分の炭酸塩が生成する。アルカリ成分としては、ナトリウム、カリウム、カルシウムおよびマグネシウム等が挙げられる。これにより、二酸化炭素が炭酸塩として埋立層120内に固定化される。 The carbon dioxide-containing gas in the first tank 30 is sent to each pump 21 of the gas supply unit 20 via the line 31. If necessary, the diluted gas in the second tank 40 is also sent to each pump 21 via the line 41 and a part of the line 31. Then, the pump 21 (gas supply unit 20) supplies the carbon dioxide-containing gas with a predetermined CO2 concentration to the gas pipe 10. The carbon dioxide-containing gas is released from the gas release section 11 into the landfill layer 120. When the carbon dioxide-containing gas passes upward through the landfill layer 120, the carbon dioxide in the gas comes into contact with the alkaline components in the waste, generating carbonates of the alkaline components. Examples of the alkaline components include sodium, potassium, calcium, and magnesium. As a result, the carbon dioxide is fixed in the landfill layer 120 as carbonates.

また、処理システムXにおいて、制御部80の演算部は、例えば次の第1~第3情報に基づき、ポンプ21からガス管10に供給される二酸化炭素含有ガスのCO濃度(供給CO濃度)を演算する。第1情報は、第1タンク30内の二酸化炭素含有ガスのCO濃度である。第2情報は、第2タンク40内のガスのCO濃度である。第3情報は、ライン41の調節弁42の開度である。演算された供給CO濃度は、記憶部に記憶される。そして、制御部80は、本実施形態では、上述の測定CO濃度、測定O濃度および測定温度に基づき、ガス供給ユニット20をポンプ21ごとに制御し、ガス管10に供給されるガスの流量および/または二酸化炭素濃度を調節する。具体的には、以下のとおりである。 In addition, in the processing system X, the calculation unit of the control unit 80 calculates the CO 2 concentration (supply CO 2 concentration) of the carbon dioxide-containing gas supplied from the pump 21 to the gas pipe 10 based on, for example, the following first to third information. The first information is the CO 2 concentration of the carbon dioxide-containing gas in the first tank 30. The second information is the CO 2 concentration of the gas in the second tank 40. The third information is the opening degree of the control valve 42 of the line 41. The calculated supply CO 2 concentration is stored in the memory unit. Then, in this embodiment, the control unit 80 controls the gas supply unit 20 for each pump 21 based on the above-mentioned measured CO 2 concentration, measured O 2 concentration, and measured temperature, and adjusts the flow rate and/or carbon dioxide concentration of the gas supplied to the gas pipe 10. Specifically, it is as follows.

制御部80において、記憶部は、二酸化炭素濃度の閾値(CO閾値濃度)を予め記憶している。CO閾値濃度として、例えば5体積%以上の値が設定される。CO閾値濃度は、一つのガス放出部11に対応づけられた二酸化炭素濃度計51ごとに個別に設定されてもよし、当該二酸化炭素濃度計51に共通の閾値濃度として設定されてもよい。例えば、設定されるCO閾値濃度は、二酸化炭素濃度計51a、二酸化炭素濃度計51bおよび二酸化炭素濃度計51cの順に小さい。一方、制御部80には、各二酸化炭素濃度計51から測定CO濃度が信号として入力される。制御部80は、入力された測定CO濃度を記憶部にて記憶する。比較部は、各二酸化炭素濃度計51からの測定CO濃度を、当該二酸化炭素濃度計51に設定されているCO閾値濃度と比較する。そして、CO閾値濃度を超える測定CO濃度がある場合、動作制御部が、測定濃度がCO閾値濃度を超えた当該二酸化炭素濃度計51と対応付けられるポンプ21によってガス管10に供給される二酸化炭素含有ガスの流量および/または二酸化炭素濃度を、低下させるように調節する。測定濃度がCO閾値濃度を超えた二酸化炭素濃度計51と対応付けられるポンプ21とは、当該二酸化炭素濃度計51が検出する二酸化炭素の供給元であると合理的に特定できるポンプ21であり、例えば、当該二酸化炭素濃度計51と最も近いガス放出部11を有するガス管10に二酸化炭素含有ガスを供給するポンプ21である。流量は、ポンプ21の吐出量の制御によって調節される。二酸化炭素濃度は、開閉弁42の開度の制御によって調節される。これら調節の後、演算部が供給CO濃度を演算する。当該新たな供給CO濃度は、記憶部に記憶される(供給CO濃度の更新)。一方、当該二酸化炭素濃度計51からの測定CO濃度が、当該二酸化炭素濃度計51に設定されたCO閾値濃度を下回った場合、動作制御部が、当該二酸化炭素濃度計51と対応づけられるポンプ21によってガス管10に供給される二酸化炭素含有ガスの流量および/または二酸化炭素濃度を、上昇させる(例えば、上述の低下の前の値に戻す)ように調節する。この調節の後、供給CO濃度の更新が実行される。処理システムXにおいては、二酸化炭素濃度に基づく以上の制御が定期的または常時的に実行される。 In the control unit 80, the memory unit prestores a threshold value of the carbon dioxide concentration ( CO2 threshold concentration). For example, a value of 5% by volume or more is set as the CO2 threshold concentration. The CO2 threshold concentration may be set individually for each carbon dioxide concentration meter 51 associated with one gas release unit 11, or may be set as a common threshold concentration for the carbon dioxide concentration meter 51. For example, the set CO2 threshold concentration is smaller in the order of the carbon dioxide concentration meter 51a, the carbon dioxide concentration meter 51b, and the carbon dioxide concentration meter 51c. On the other hand, the measured CO2 concentration is input as a signal from each carbon dioxide concentration meter 51 to the control unit 80. The control unit 80 stores the input measured CO2 concentration in the memory unit. The comparison unit compares the measured CO2 concentration from each carbon dioxide concentration meter 51 with the CO2 threshold concentration set in the carbon dioxide concentration meter 51. Then, when there is a measured CO2 concentration that exceeds the CO2 threshold concentration, the operation control unit adjusts the flow rate and/or carbon dioxide concentration of the carbon dioxide-containing gas supplied to the gas pipe 10 by the pump 21 associated with the carbon dioxide concentration meter 51 whose measured concentration exceeds the CO2 threshold concentration so as to decrease. The pump 21 associated with the carbon dioxide concentration meter 51 whose measured concentration exceeds the CO2 threshold concentration is a pump 21 that can be reasonably identified as the source of carbon dioxide detected by the carbon dioxide concentration meter 51, for example, a pump 21 that supplies carbon dioxide-containing gas to the gas pipe 10 having the gas release unit 11 closest to the carbon dioxide concentration meter 51. The flow rate is adjusted by controlling the discharge amount of the pump 21. The carbon dioxide concentration is adjusted by controlling the opening degree of the opening/closing valve 42. After these adjustments, the calculation unit calculates the supply CO2 concentration. The new supply CO2 concentration is stored in the memory unit (update of the supply CO2 concentration). On the other hand, when the measured CO2 concentration from the carbon dioxide concentration meter 51 falls below the CO2 threshold concentration set in the carbon dioxide concentration meter 51, the operation control unit adjusts the flow rate and/or carbon dioxide concentration of the carbon dioxide-containing gas supplied to the gas pipe 10 by the pump 21 associated with the carbon dioxide concentration meter 51 so as to increase (for example, return to the value before the above-mentioned decrease). After this adjustment, the supply CO2 concentration is updated. In the treatment system X, the above control based on the carbon dioxide concentration is performed periodically or constantly.

制御部80において、記憶部は、酸素濃度の閾値(O閾値濃度)も予め記憶している。O閾値濃度は、例えば19体積%である(即ち、埋立層120表面においてO濃度が例えば19体積%を下回らないようにO閾値濃度が設定される)。O閾値濃度は、一つのガス放出部11に対応づけられた酸素濃度計61ごとに個別に設定されてもよし、当該酸素濃度計61に共通の閾値濃度として設定されてもよい。一方、制御部80には、各酸素濃度計61から測定O濃度が信号として入力される。制御部80は、入力された測定O濃度を記憶部にて記憶する。比較部は、各酸素濃度計61からの測定O濃度を、当該酸素濃度計61に設定されているO閾値濃度と比較する。そして、O閾値濃度を下回る測定O濃度がある場合、動作制御部が、測定濃度がO閾値濃度を下回る当該酸素濃度計61が対応づけられるポンプ21によってガス管10に供給される二酸化炭素含有ガスの流量および/または二酸化炭素濃度を、低下させるように調節する。測定濃度がO閾値濃度を下回る酸素濃度計61と対応付けられるポンプ21とは、当該酸素濃度計61が検出するガスに含まれる二酸化炭素の供給元であると合理的に特定できるポンプ21であり、例えば、当該酸素濃度計61と最も近いガス放出部11を有するガス管10に二酸化炭素含有ガスを供給するポンプ21である。そして、当該調節の後、上述の供給CO濃度の更新が実行される。一方、当該酸素濃度度計61からの測定O濃度が、当該酸素濃度計61に設定されたO閾値濃度を上回った場合、動作制御部が、当該酸素濃度計61と対応づけられるポンプ21によってガス管10に供給される二酸化炭素含有ガスの流量および/または二酸化炭素濃度を、上昇させる(例えば、上述の低下の前の値に戻す)ように調節する。この調節の後、供給CO濃度の更新が実行される。処理システムXにおいては、酸素濃度に基づく以上の制御が定期的または常時的に実行される。 In the control unit 80, the memory unit also stores a threshold value of the oxygen concentration ( O2 threshold concentration) in advance. The O2 threshold concentration is, for example, 19% by volume (that is, the O2 threshold concentration is set so that the O2 concentration at the surface of the buried layer 120 does not fall below, for example, 19% by volume). The O2 threshold concentration may be set individually for each oxygen concentration meter 61 associated with one gas release unit 11, or may be set as a common threshold concentration for the oxygen concentration meter 61. On the other hand, the measured O2 concentration is input as a signal from each oxygen concentration meter 61 to the control unit 80. The control unit 80 stores the input measured O2 concentration in the memory unit. The comparison unit compares the measured O2 concentration from each oxygen concentration meter 61 with the O2 threshold concentration set in the oxygen concentration meter 61. Then, when there is a measured O2 concentration below the O2 threshold concentration, the operation control unit adjusts the flow rate and/or carbon dioxide concentration of the carbon dioxide-containing gas supplied to the gas pipe 10 by the pump 21 associated with the oxygen concentration meter 61 whose measured concentration is below the O2 threshold concentration so as to decrease. The pump 21 associated with the oxygen concentration meter 61 whose measured concentration is below the O2 threshold concentration is a pump 21 that can be reasonably identified as the source of carbon dioxide contained in the gas detected by the oxygen concentration meter 61, for example, a pump 21 that supplies carbon dioxide-containing gas to the gas pipe 10 having the gas release unit 11 closest to the oxygen concentration meter 61. Then, after the adjustment, the above-mentioned update of the supply CO2 concentration is performed. On the other hand, when the measured O2 concentration from the oxygen concentration meter 61 exceeds the O2 threshold concentration set in the oxygen concentration meter 61, the operation control unit adjusts the flow rate and/or carbon dioxide concentration of the carbon dioxide-containing gas supplied to the gas pipe 10 by the pump 21 associated with the oxygen concentration meter 61 so as to increase (e.g., return to the value before the above-mentioned decrease). After this adjustment, the supply CO2 concentration is updated. In the treatment system X, the above control based on the oxygen concentration is performed periodically or constantly.

制御部80において、記憶部は、温度の閾値(閾値温度)を予め記憶している。閾値温度は、一つのガス放出部11に対応づけられた温度計71ごとに個別に設定されてもよし、当該温度計71に共通の閾値温度として設定されてもよい。一方、制御部80には、各温度計71から測定温度が信号として入力される。制御部80は、入力された測定温度を記憶部にて記憶する。比較部は、各温度計71からの測定温度を、当該温度計71に設定されている閾値温度と比較する。そして、閾値温度を超える測定温度がある場合、動作制御部が、測定温度が閾値温度を超える当該温度計71と最も近いガス放出部11を有するガス管10に二酸化炭素含有ガスを供給するポンプ21(第1のポンプ21)によってガス管10に供給される二酸化炭素含有ガスの流量および/または二酸化炭素濃度を、低下させるように調節する。また、動作制御部は、必要に応じて、当該温度計71に対して二番目に近いガス放出部11を有するガス管10に二酸化炭素含有ガスを供給するポンプ21(第2のポンプ21)によってガス管10に供給される二酸化炭素含有ガスの流量および/または二酸化炭素濃度を、低下させるように調節する。さらに、動作制御部は、必要に応じて、当該温度計71に対して三番目に近いガス放出部11を有するガス管10に二酸化炭素含有ガスを供給するポンプ21(第3のポンプ21)によってガス管10に供給される二酸化炭素含有ガスの流量および/または二酸化炭素濃度を、低下させるように調節する。このような調節の後、上述の供給CO濃度の更新が実行される。一方、当該温度計71からの測定温度が、当該温度計71に設定された閾値温度を下回った場合、動作制御部が、第1のポンプ21によってガス管10に供給される二酸化炭素含有ガスの流量および/または二酸化炭素濃度を、上昇させる(例えば、上述の低下の前の値に戻す)ように調節する。また、動作制御部は、必要に応じて、第2のポンプ21によってガス管10に供給される二酸化炭素含有ガスの流量および/または二酸化炭素濃度を、上昇させるように調節する。さらに、動作制御部は、必要に応じて、第3のポンプ21によってガス管10に供給される二酸化炭素含有ガスの流量および/または二酸化炭素濃度を、上昇させるように調節する。この調節の後、供給CO濃度の更新が実行される。処理システムXにおいては、温度に基づく以上の制御が定期的または常時的に実行される。 In the control unit 80, the memory unit stores a temperature threshold (threshold temperature) in advance. The threshold temperature may be set individually for each thermometer 71 associated with one gas release unit 11, or may be set as a common threshold temperature for the thermometer 71. Meanwhile, the measured temperature is input as a signal from each thermometer 71 to the control unit 80. The control unit 80 stores the input measured temperature in the memory unit. The comparison unit compares the measured temperature from each thermometer 71 with the threshold temperature set for the thermometer 71. Then, when there is a measured temperature exceeding the threshold temperature, the operation control unit adjusts the flow rate and/or carbon dioxide concentration of the carbon dioxide-containing gas supplied to the gas pipe 10 by the pump 21 (first pump 21) that supplies the carbon dioxide-containing gas to the gas pipe 10 having the gas release unit 11 closest to the thermometer 71 whose measured temperature exceeds the threshold temperature so as to decrease. In addition, the operation control unit adjusts the flow rate and/or carbon dioxide concentration of the carbon dioxide-containing gas supplied to the gas pipe 10 by the pump 21 (second pump 21) that supplies the carbon dioxide-containing gas to the gas pipe 10 having the gas release unit 11 second closest to the thermometer 71, as necessary, so as to decrease. Furthermore, the operation control unit adjusts the flow rate and/or carbon dioxide concentration of the carbon dioxide-containing gas supplied to the gas pipe 10 by the pump 21 (third pump 21) that supplies the carbon dioxide-containing gas to the gas pipe 10 having the gas release unit 11 third closest to the thermometer 71, as necessary, so as to decrease. After such adjustment, the above-mentioned update of the supply CO 2 concentration is performed. On the other hand, when the measured temperature from the thermometer 71 falls below the threshold temperature set for the thermometer 71, the operation control unit adjusts the flow rate and/or carbon dioxide concentration of the carbon dioxide-containing gas supplied to the gas pipe 10 by the first pump 21 so as to increase (for example, return to the value before the above-mentioned decrease). Moreover, the operation control unit adjusts the flow rate and/or carbon dioxide concentration of the carbon dioxide-containing gas supplied to the gas pipe 10 by the second pump 21 to increase as necessary. Furthermore, the operation control unit adjusts the flow rate and/or carbon dioxide concentration of the carbon dioxide-containing gas supplied to the gas pipe 10 by the third pump 21 to increase as necessary. After this adjustment, the supply CO2 concentration is updated. In the treatment system X, the above control based on temperature is performed periodically or constantly.

処理システムXでは、ガス管10への二酸化炭素供給量が以上のように調節されつつ、二酸化炭素が固定化処理される。このような処理システムXによると、廃棄物の埋立層120に対して二酸化炭素を固定できる。したがって、処理システムXは、二酸化炭素を大量に固定化処理するのに適する。また、処理システムXによると、二酸化炭素をガスの状態で処理できる。そのため、処理システムXによると、埋立層120における浸出水の量は、従来の量より増加されない(浸出水の処理に要する時間およびコストは増えない)。 In the treatment system X, the amount of carbon dioxide supplied to the gas pipe 10 is adjusted as described above, while the carbon dioxide is immobilized. With such a treatment system X, carbon dioxide can be immobilized in the waste landfill layer 120. Therefore, the treatment system X is suitable for immobilizing large amounts of carbon dioxide. Furthermore, the treatment system X can treat carbon dioxide in a gaseous state. Therefore, with the treatment system X, the amount of leachate in the landfill layer 120 does not increase from the conventional amount (the time and cost required to treat the leachate do not increase).

また、処理システムXは、上述のように、埋立層120の内部および/または表面の二酸化炭素濃度に基づいて、ガス管10に供給される二酸化炭素含有ガスの流量および/または二酸化炭素濃度を調節できる。埋立層120における二酸化炭素濃度は、埋立層120における二酸化炭素固定化の残存能力の把握に役立つ。したがって、処理システムXは、埋立層120における二酸化炭素固定化の残存能力の変化に応じて、埋立層120への二酸化炭素供給量を調節できる。 Furthermore, as described above, the treatment system X can adjust the flow rate and/or carbon dioxide concentration of the carbon dioxide-containing gas supplied to the gas pipe 10 based on the carbon dioxide concentration inside and/or on the surface of the landfill layer 120. The carbon dioxide concentration in the landfill layer 120 is useful for understanding the remaining capacity of carbon dioxide fixation in the landfill layer 120. Therefore, the treatment system X can adjust the amount of carbon dioxide supplied to the landfill layer 120 in response to changes in the remaining capacity of carbon dioxide fixation in the landfill layer 120.

加えて、処理システムXは、上述のように、埋立層120の表面の酸素濃度に基づいて、ガス管10に供給される二酸化炭素含有ガスの流量および/または二酸化炭素濃度を調節できる。埋立層120表面の酸素濃度は、埋立層120における二酸化炭素固定化の残存能力の把握に役立つ。したがって、処理システムXでは、埋立層120の表面の酸素濃度の観点からも、埋立層120の二酸化炭素固定化の残存能力の変化に応じて、埋立層への二酸化炭素供給量を調節できる。 In addition, as described above, the treatment system X can adjust the flow rate and/or carbon dioxide concentration of the carbon dioxide-containing gas supplied to the gas pipe 10 based on the oxygen concentration at the surface of the landfill layer 120. The oxygen concentration at the surface of the landfill layer 120 is useful for understanding the remaining capacity of carbon dioxide fixation in the landfill layer 120. Therefore, the treatment system X can adjust the amount of carbon dioxide supplied to the landfill layer in accordance with changes in the remaining capacity of carbon dioxide fixation in the landfill layer 120, also from the perspective of the oxygen concentration at the surface of the landfill layer 120.

更に加えて、処理システムXは、上述のように、埋立層120の内部および/または表面の温度に基づいて、ガス管10に供給される二酸化炭素含有ガスの流量および/または二酸化炭素濃度を調節できる。埋立層120の内部および/または表面の温度は、埋立層120における二酸化炭素固定化の残存能力の把握に役立つ。したがって、処理システムXでは、埋立層120における温度の観点からも、埋立層120の二酸化炭素固定化の残存能力の変化に応じて、埋立層120への二酸化炭素供給量を調節できる。 In addition, as described above, the treatment system X can adjust the flow rate and/or carbon dioxide concentration of the carbon dioxide-containing gas supplied to the gas pipe 10 based on the temperature inside and/or on the surface of the landfill layer 120. The temperature inside and/or on the surface of the landfill layer 120 is useful for understanding the remaining capacity of carbon dioxide fixation in the landfill layer 120. Therefore, the treatment system X can adjust the amount of carbon dioxide supplied to the landfill layer 120 in accordance with changes in the remaining capacity of carbon dioxide fixation in the landfill layer 120, also from the perspective of the temperature in the landfill layer 120.

以上のような処理システムXは、二酸化炭素を大量に効率よく固定化処理するのに適する。 The above-described treatment system X is suitable for efficiently immobilizing large amounts of carbon dioxide.

処理システムXでは、上述のように、二酸化炭素濃度検知手段50は、埋立層120において鉛直方向に離れた複数の部分の二酸化炭素濃度を検知する。また、二酸化炭素濃度検知手段50は、埋立層120において水平方向に離れた複数の部分の二酸化炭素濃度を検知する。このような処理システムXは、埋立層120における二酸化炭素固定化の残存能力の変化を精度よく追跡するのに好ましい。これは、二酸化炭素を効率よく固定化処理するのに役立つ。 In the treatment system X, as described above, the carbon dioxide concentration detection means 50 detects the carbon dioxide concentration in multiple vertically separated parts of the landfill layer 120. The carbon dioxide concentration detection means 50 also detects the carbon dioxide concentration in multiple horizontally separated parts of the landfill layer 120. Such a treatment system X is preferable for accurately tracking changes in the remaining carbon dioxide fixation capacity in the landfill layer 120. This helps to efficiently fix carbon dioxide.

処理システムXでは、上述のように、酸素濃度検知手段60は、埋立層120において水平方向に離れた複数の部分の酸素濃度を検知する。このような処理システムXは、埋立層120における二酸化炭素固定化の残存能力の変化を精度よく追跡するのに好ましい。これは、二酸化炭素を効率よく固定化処理するのに役立つ。 As described above, in the treatment system X, the oxygen concentration detection means 60 detects the oxygen concentration at multiple horizontally separated portions of the landfill layer 120. Such a treatment system X is preferable for accurately tracking changes in the remaining carbon dioxide fixation capacity in the landfill layer 120. This helps to efficiently fix carbon dioxide.

処理システムXでは、上述のように、温度検知手段70は、埋立層120において鉛直方向に離れた複数の部分の温度を検知する。また、温度検知手段70は、埋立層120において水平方向に離れた複数の部分の温度を検知する。このような処理システムXは、埋立層120における二酸化炭素固定化の残存能力の変化を精度よく追跡するのに好ましい。これは、二酸化炭素を効率よく固定化処理するのに役立つ。 In the treatment system X, as described above, the temperature detection means 70 detects the temperatures of multiple parts of the landfill layer 120 that are separated in the vertical direction. The temperature detection means 70 also detects the temperatures of multiple parts of the landfill layer 120 that are separated in the horizontal direction. Such a treatment system X is preferable for accurately tracking changes in the remaining carbon dioxide fixation capacity in the landfill layer 120. This helps to efficiently fix carbon dioxide.

処理システムXにおいて、二酸化炭素濃度検知手段50は、鉛直方向に離れた複数の二酸化炭素濃度計51を含まなくてもよく、水平方向に離れた複数の二酸化炭素濃度計51を含まなくてもよい。酸素濃度検知手段60は、水平方向に離れた複数の酸素濃度計61を含まなくてもよい。また、温度検知手段70は、鉛直方向に離れた複数の温度計71を含まなくてもよく、水平方向に離れた複数の温度計71を含まなくてもよい。 In the treatment system X, the carbon dioxide concentration detection means 50 does not have to include multiple carbon dioxide concentration meters 51 spaced apart in the vertical direction, and does not have to include multiple carbon dioxide concentration meters 51 spaced apart in the horizontal direction. The oxygen concentration detection means 60 does not have to include multiple oxygen concentration meters 61 spaced apart in the horizontal direction. In addition, the temperature detection means 70 does not have to include multiple thermometers 71 spaced apart in the vertical direction, and does not have to include multiple thermometers 71 spaced apart in the horizontal direction.

処理システムXにおいて、ガス管10のガス放出部11は、埋立層120の底部に配置されていなくてもよい。ガス放出部11は、埋立層120の鉛直方向中間部に配置されていてもよい。 In the treatment system X, the gas release section 11 of the gas pipe 10 does not have to be located at the bottom of the landfill layer 120. The gas release section 11 may be located in the vertical middle of the landfill layer 120.

ガス管10は、埋立層120の上表面から当該埋立層120に対して挿入されたガス放出部11を有してもよい。このようなガス管10によると、既に形成されている埋立層120内にガス放出部11を配置しやすい。図6Aおよび図6Bは、そのようなガス放出部11を有するガス管10の一例を表す。図6Aおよび図6Bに示す複数のガス管10は、それぞれ、鉛直方向に延びるガス放出部11を有する(ガス放出部11は複数のガス孔12を有する)。ガス管10は、そのガス放出部11が埋立層120の底部(即ち、貯留空間110の底面112近く)に配置されるまで埋立層120に挿入されるのが好ましい。ガス管10およびそのガス放出部11は、鉛直方向・水平方向に対して斜めに、埋立層120に挿入されてもよい。ガス放出部11において、ガス孔12は、埋立層120の下層部(例えば、埋立層120の鉛直方向における下側半分)または底部に位置するように設けられるのが好ましい。また、複数のガス管10における複数のガス放出部11は、図6Aに示すように第1方向D1に離れていてもよく、且つ、図6Bに示すように第2方向D2に離れていてもよい。このような変形例において、隣り合うガス放出部11間の距離は、二酸化炭素の固定化処理に埋立層120を全体的に有効活用する観点から、好ましくは100m以下、より好ましくは50m以下、更に好ましくは30m以下、一層好ましくは10m以下である。隣り合うガス放出部11間の距離は、処理システムXの設置コストの抑制の観点から、好ましくは2m以上、より好ましくは5以上、更に好ましくは10m以上、一層好ましくは30m以上である。 The gas pipe 10 may have a gas release section 11 inserted into the landfill layer 120 from the upper surface of the landfill layer 120. With such a gas pipe 10, it is easy to arrange the gas release section 11 in the landfill layer 120 that has already been formed. Figures 6A and 6B show an example of a gas pipe 10 having such a gas release section 11. Each of the multiple gas pipes 10 shown in Figures 6A and 6B has a gas release section 11 extending vertically (the gas release section 11 has multiple gas holes 12). It is preferable that the gas pipe 10 is inserted into the landfill layer 120 until the gas release section 11 is arranged at the bottom of the landfill layer 120 (i.e., near the bottom surface 112 of the storage space 110). The gas pipe 10 and its gas release section 11 may be inserted into the landfill layer 120 at an angle to the vertical and horizontal directions. In the gas release section 11, the gas hole 12 is preferably provided so as to be located in the lower part of the landfill layer 120 (for example, the lower half of the landfill layer 120 in the vertical direction) or the bottom. In addition, the multiple gas release sections 11 in the multiple gas pipes 10 may be separated in the first direction D1 as shown in FIG. 6A, and may be separated in the second direction D2 as shown in FIG. 6B. In such a modified example, the distance between adjacent gas release sections 11 is preferably 100 m or less, more preferably 50 m or less, even more preferably 30 m or less, and even more preferably 10 m or less, from the viewpoint of effectively utilizing the landfill layer 120 as a whole in the fixation treatment of carbon dioxide. The distance between adjacent gas release sections 11 is preferably 2 m or more, more preferably 5 m or more, even more preferably 10 m or more, and even more preferably 30 m or more, from the viewpoint of suppressing the installation cost of the treatment system X.

また、ガス管10は、鉛直方向に延びる部分と、これに連結されて水平方向に延びる部分とを有するガス放出部11(L字状のガス放出部)を、埋立層120内に有してもよい。ガス管10は、鉛直方向および水平方向と交差する方向に延びる部分(傾斜部分)と、これに連結されて水平方向に延びる部分とを有するガス放出部11を、埋立層120内に有してもよい。 The gas pipe 10 may also have a gas release section 11 (L-shaped gas release section) in the landfill layer 120, which has a section that extends vertically and a section that is connected to the gas release section and extends horizontally. The gas pipe 10 may also have a gas release section 11 in the landfill layer 120, which has a section (inclined section) that extends in a direction that intersects the vertical and horizontal directions, and a section that is connected to the gas release section and extends horizontally.

処理システムXにおいて、ポンプ21の吸入口21aは、第1タンク30の代わりに、燃焼排ガスから二酸化炭素を回収するプラント(CO回収プラント)と連結されていてもよい。 In the treatment system X, the suction port 21 a of the pump 21 may be connected to a plant that recovers carbon dioxide from combustion exhaust gas (CO 2 recovery plant) instead of the first tank 30 .

処理システムXは、ガス管10ごとに一つのポンプ21が設けられる(即ち連結される)上述の構成に代えて、近接するガス放出部11を有する複数で一組のガス管10ごとに一つのポンプ21が設けられる(即ち連結される)構成を有してもよい。また、処理システムXは、ガス管10ごとに一つのポンプ21が設けられる上述の構成に代えて、全てのガス管10に対して一つのポンプ21が設けられる(即ち連結される)構成を有してもよい。 Instead of the above-mentioned configuration in which one pump 21 is provided (i.e., connected) for each gas pipe 10, the processing system X may have a configuration in which one pump 21 is provided (i.e., connected) for each set of gas pipes 10 having adjacent gas release sections 11. Also, instead of the above-mentioned configuration in which one pump 21 is provided for each gas pipe 10, the processing system X may have a configuration in which one pump 21 is provided (i.e., connected) for all gas pipes 10.

処理システムXにおいて、ポンプ21の吸入口21aは、第1タンク30の代わりに、燃焼排ガスから二酸化炭素を回収するプラント(CO回収プラント)と連結されていてもよい。 In the treatment system X, the suction port 21 a of the pump 21 may be connected to a plant that recovers carbon dioxide from combustion exhaust gas (CO 2 recovery plant) instead of the first tank 30 .

また、処理システムXは、上述の酸素濃度検知手段60を備えなくてもよい。すなわち、処理システムXは、上述の二酸化炭素濃度検知手段50と上述の温度検知手段70とを備えて、二酸化炭素濃度に基づく上述の制御と、温度に基づく上述の制御とを実行してもよい。処理システムXは、温度検知手段70を備えなくてもよい。すなわち、処理システムXは、二酸化炭素濃度検知手段50と酸素濃度検知手段60とを備えて、二酸化炭素濃度に基づく上述の制御と、酸素濃度に基づく上述の制御とを実行してもよい。処理システムXは、酸素濃度検知手段60および温度検知手段70を備えなくてもよい。すなわち、処理システムXは、二酸化炭素濃度検知手段50を備えて、二酸化炭素濃度に基づく上述の制御を実行してもよい。処理システムXは、二酸化炭素濃度検知手段50を備えなくてもよい。すなわち、処理システムXは、酸素濃度検知手段60と温度検知手段70とを備えて、酸素濃度に基づく上述の制御と、温度に基づく上述の制御とを実行してもよい。処理システムXは、二酸化炭素濃度検知手段50および温度検知手段70を備えなくてもよい。すなわち、処理システムXは、酸素濃度検知手段60を備えて、酸素濃度に基づく上述の制御を実行してもよい。 In addition, the processing system X may not include the oxygen concentration detection means 60 described above. That is, the processing system X may include the carbon dioxide concentration detection means 50 and the temperature detection means 70 described above, and execute the above-mentioned control based on the carbon dioxide concentration and the above-mentioned control based on the temperature. The processing system X may not include the temperature detection means 70. That is, the processing system X may include the carbon dioxide concentration detection means 50 and the oxygen concentration detection means 60, and execute the above-mentioned control based on the carbon dioxide concentration and the above-mentioned control based on the oxygen concentration. The processing system X may not include the oxygen concentration detection means 60 and the temperature detection means 70. That is, the processing system X may include the carbon dioxide concentration detection means 50, and execute the above-mentioned control based on the carbon dioxide concentration. The processing system X may not include the carbon dioxide concentration detection means 50. That is, the processing system X may include the oxygen concentration detection means 60 and the temperature detection means 70, and execute the above-mentioned control based on the oxygen concentration and the above-mentioned control based on the temperature ... and the temperature detection means 70. That is, the processing system X may be equipped with an oxygen concentration detection means 60 and perform the above-mentioned control based on the oxygen concentration.

X 処理システム(二酸化炭素処理システム)
10 ガス管
11 ガス放出部
12 ガス孔
20 ガス供給ユニット(ガス供給手段)
30 第1タンク
40 第2タンク
50 二酸化炭素濃度検知手段
51 二酸化炭素濃度計
60 酸素濃度検知手段
61 酸素濃度計
70 温度検知手段
71 温度計
80 制御部(制御手段)
100 廃棄物処分場
110 貯留空間
120 埋立層
D1 第1方向
D2 第2方向
X Treatment system (carbon dioxide treatment system)
10 Gas pipe 11 Gas discharge section 12 Gas hole 20 Gas supply unit (gas supply means)
30 First tank 40 Second tank 50 Carbon dioxide concentration detection means 51 Carbon dioxide concentration meter 60 Oxygen concentration detection means 61 Oxygen concentration meter 70 Temperature detection means 71 Thermometer 80 Control unit (control means)
100 Waste disposal site 110 Storage space 120 Landfill layer D1 First direction D2 Second direction

Claims (9)

廃棄物を含む埋立層に埋設されたガス放出部を有するガス管と、
二酸化炭素を含有するガスを前記ガス管に供給するガス供給手段と、
前記埋立層の内部および/または表面において、鉛直方向に離れた複数の部分および水平方向に離れた複数の部分の二酸化炭素濃度を検知する二酸化炭素濃度検知手段と、
前記二酸化炭素濃度検知手段によって検知される前記二酸化炭素濃度に基づいて前記ガス供給手段を制御し、前記ガス管に供給される前記ガスの流量および/または二酸化炭素濃度を調節する、制御手段とを備え
前記ガス放出部は、前記ガス管においてガス放出用のガス孔を有する部分であり、
前記ガス孔は、前記埋立層の下層部または底部に位置するように設けられ、
前記ガス孔は、前記ガス放出部が配置されている水平レベルより下方に向かって開口している、二酸化炭素処理システム。
a gas pipe having a gas discharge portion buried in a landfill layer containing waste;
A gas supply means for supplying a gas containing carbon dioxide to the gas pipe;
a carbon dioxide concentration detection means for detecting carbon dioxide concentrations at a plurality of vertically separated portions and a plurality of horizontally separated portions inside and/or on the surface of the landfill layer;
a control means for controlling the gas supply means based on the carbon dioxide concentration detected by the carbon dioxide concentration detection means, and adjusting a flow rate and/or a carbon dioxide concentration of the gas supplied to the gas pipe ;
the gas discharge portion is a portion of the gas pipe having a gas hole for discharging gas,
The gas hole is provided so as to be located in a lower layer or a bottom portion of the buried layer,
A carbon dioxide processing system , wherein the gas hole opens downwardly below a horizontal level at which the gas release portion is located .
前記埋立層の表面の酸素濃度を検知する酸素濃度検知手段を更に備え、
前記制御手段が、前記酸素濃度検知手段によって検知される前記酸素濃度に基づいて前記ガス供給手段を制御し、前記ガス管に供給される前記ガスの流量および/または二酸化炭素濃度を調節する、請求項1記載の二酸化炭素処理システム。
The method further includes an oxygen concentration detection means for detecting an oxygen concentration at the surface of the buried layer,
2. The carbon dioxide processing system according to claim 1, wherein the control means controls the gas supply means based on the oxygen concentration detected by the oxygen concentration detection means, and adjusts the flow rate and/or carbon dioxide concentration of the gas supplied to the gas pipe.
廃棄物を含む埋立層に埋設されたガス放出部を有するガス管と、
二酸化炭素を含有するガスを前記ガス管に供給するガス供給手段と、
前記埋立層の表面において、水平方向に離れた複数の部分の酸素濃度を検知する酸素濃度検知手段と、
前記酸素濃度検知手段によって検知される前記酸素濃度に基づいて前記ガス供給手段を制御し、前記ガス管に供給される前記ガスの流量および/または二酸化炭素濃度を調節する、制御手段とを備え
前記ガス放出部は、前記ガス管においてガス放出用のガス孔を有する部分であり、
前記ガス孔は、前記埋立層の下層部または底部に位置するように設けられ、
前記ガス孔は、前記ガス放出部が配置されている水平レベルより下方に向かって開口している、二酸化炭素処理システム。
a gas pipe having a gas discharge portion buried in a landfill layer containing waste;
A gas supply means for supplying a gas containing carbon dioxide to the gas pipe;
an oxygen concentration detection means for detecting the oxygen concentration at a plurality of horizontally separated portions on the surface of the landfill layer;
a control means for controlling the gas supply means based on the oxygen concentration detected by the oxygen concentration detection means, and adjusting a flow rate and/or a carbon dioxide concentration of the gas supplied to the gas pipe ;
the gas discharge portion is a portion of the gas pipe having a gas hole for discharging gas,
The gas hole is provided so as to be located in a lower layer or a bottom portion of the buried layer,
A carbon dioxide processing system , wherein the gas hole opens downward below a horizontal level at which the gas release portion is located .
前記酸素濃度検知手段が、前記埋立層の表面において水平方向に離れた複数の部分の酸素濃度を検知する、請求項に記載の二酸化炭素処理システム。 3. The carbon dioxide treatment system according to claim 2 , wherein the oxygen concentration detection means detects the oxygen concentration at a plurality of portions horizontally separated from each other on the surface of the landfill layer. 前記埋立層の内部および/または表面の温度を検知する温度検知手段を更に備え、
前記制御手段が、前記温度検知手段によって検知される前記温度に基づいて前記ガス供給手段を制御し、前記ガス管に供給される前記ガスの流量および/または二酸化炭素濃度を調節する、請求項1からのいずれか一つに記載の二酸化炭素処理システム。
Further comprising a temperature detection means for detecting the temperature inside and/or on the surface of the buried layer;
5. The carbon dioxide processing system according to claim 1, wherein the control means controls the gas supply means based on the temperature detected by the temperature detection means, and adjusts the flow rate and/or carbon dioxide concentration of the gas supplied to the gas pipe.
前記温度検知手段が、前記埋立層において鉛直方向に離れた複数の部分の温度を検知する、請求項に記載の二酸化炭素処理システム。 6. The carbon dioxide processing system according to claim 5 , wherein the temperature detection means detects the temperatures of a plurality of vertically separated portions of the landfill layer. 前記温度検知手段が、前記埋立層において水平方向に離れた複数の部分の温度を検知する、請求項5または6に記載の二酸化炭素処理システム。 7. The carbon dioxide processing system according to claim 5 , wherein the temperature detection means detects temperatures at a plurality of horizontally separated portions of the landfill layer. 前記ガス管を複数備え、当該複数のガス管における複数のガス放出部が水平方向に互いに離れている、請求項1からのいずれか一つに記載の二酸化炭素処理システム。 The carbon dioxide processing system according to claim 1 , further comprising a plurality of the gas pipes, the plurality of gas discharge sections in the plurality of gas pipes being separated from each other in the horizontal direction. 前記ガス放出部が前記埋立層の底部に配置されている、請求項1からのいずれか一つに記載の二酸化炭素処理システム。 The carbon dioxide processing system according to claim 1 , wherein the gas release section is disposed at the bottom of the landfill layer.
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