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JP7633538B2 - Method for producing intermediate for the production of cyclaniliprole - Google Patents
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Description

本発明は、シクラニリプロールの製造中間体の製造方法に関する。さらに、本発明は、当該シクラニリプロールの製造中間体を使用するシクラニリプロールの製造方法にも関する。The present invention relates to a method for producing a production intermediate of cyclaniliprole. Furthermore, the present invention also relates to a method for producing cyclaniliprole using the production intermediate of cyclaniliprole.

シクラニリプロール(cyclaniliprole;3-ブロモ-N-[2-ブロモ-4-クロロ-6-[[(1-シクロプロピルエチル)アミノ]カルボニル]フェニル]-1-(3-クロロピリジン-2-イル)-1H-ピラゾール-5-カルボキサミド;後述の式(IV)で表される化合物)は、特許文献1に化合物No.16として記載されており、市販の農業用殺虫剤の有効成分として有用な化合物である。シクラニリプロールの製造方法としては、例えば、特許文献2~4が知られている。また、シクラニリプロールと類似する構造を有する化合物及びその製造方法も知られている(例えば、特許文献5~10)。Cyclaniliprole (3-bromo-N-[2-bromo-4-chloro-6-[[(1-cyclopropylethyl)amino]carbonyl]phenyl]-1-(3-chloropyridin-2-yl)-1H-pyrazole-5-carboxamide; a compound represented by formula (IV) described below) is described in Patent Document 1 as Compound No. 16, and is a useful compound as an active ingredient in commercially available agricultural insecticides. Methods for producing cyclaniliprole are known, for example, in Patent Documents 2 to 4. Compounds having a structure similar to cyclaniliprole and methods for producing them are also known (for example, Patent Documents 5 to 10).

国際公開第2005/077934号International Publication No. 2005/077934 国際公開第2008/072745号International Publication No. 2008/072745 国際公開第2008/072743号International Publication No. 2008/072743 国際公開第2008/155990号WO 2008/155990 国際公開第2003/016283号International Publication No. 2003/016283 国際公開第2004/011453号International Publication No. 2004/011453 国際公開第2006/062978号International Publication No. WO 2006/062978 国際公開第2008/070158号International Publication No. 2008/070158 国際公開第2019/207595号International Publication No. 2019/207595 中国特許出願公開第102285964号明細書Chinese Patent Publication No. 102285964

農薬原体としてシクラニリプロールを工業的に製造する場合、所定の規格に適合しなければならない。本発明が解決しようする課題は、高純度のシクラニリプロールを、高収率かつ安価に製造することである。より詳しくは、農薬原体としてのシクラニリプロールへの後述の不純物(B)の含有を抑制し、シクラニリプロールを高収率かつ高純度で製造することである。When cyclaniliprole is industrially produced as an agrochemical active ingredient, it must conform to certain standards. The problem to be solved by the present invention is to produce high-purity cyclaniliprole at high yield and low cost. More specifically, the present invention aims to produce cyclaniliprole at high yield and high purity by suppressing the inclusion of impurity (B) described below in cyclaniliprole as an agrochemical active ingredient.

特許文献1には、反応[A]としてシクラニリプロールの製造に利用可能な方法が記載されている。しかしながら、本発明者らは、この反応[A]に従って下記のスキームの通り式(IV)で表されるシクラニリプロールを製造すると、不純物である式(B)で表される化合物(以下、不純物(B)ともいう)が副生し、かつ得られたシクラニリプロールからこの不純物(B)を除去することが非常に困難であり、特許文献1に記載の方法は、農薬原体としての規格を満たす高純度のシクラニリプロールの製造には不適であることを見出した。Patent Document 1 describes a method that can be used to produce cyclaniliprole as reaction [A]. However, the present inventors have found that when cyclaniliprole represented by formula (IV) is produced according to reaction [A] as shown in the following scheme, an impurity compound represented by formula (B) (hereinafter also referred to as impurity (B)) is by-produced, and it is very difficult to remove this impurity (B) from the obtained cyclaniliprole, and therefore the method described in Patent Document 1 is not suitable for producing high-purity cyclaniliprole that meets the standards for an agricultural chemical raw material.

Figure 0007633538000001
このような不純物(B)の副生に関する記述は特許文献1には無く、不純物(B)の生成に関する課題は同文献では認識されていない。
Figure 0007633538000001
Patent Document 1 does not include any description of the by-production of such impurity (B), and does not recognize the problem of the production of impurity (B).

本発明者らは、上記課題を解決すべくさらに検討を進めたところ、不純物(B)の生成はベンゼン環上のBrの存在に起因することも見出した。このため、特許文献1に記載の方法では、不純物(B)の副生を十分に抑制できないと考えられた。The inventors further investigated the above problem and found that the generation of the impurity (B) is due to the presence of Br on the benzene ring. Therefore, it was believed that the method described in Patent Document 1 could not sufficiently suppress the by-production of the impurity (B).

一方、特許文献2には、ベンゼン環上にBrを有さない原料を用いるシクラニリプロールの製造方法として、反応[N]を経由してシクラニリプロールを製造する方法が開示されている。しかしながら、特許文献2における反応[N]に相当する具体例では、例えば、実施例17(4)の収率は約14%、実施例19(2)の収率は約37%と非常に低く、シクラニリプロールの工業的製造方法として利用するためには、収率の大幅な向上が必要であった。また、不純物(B)の生成に関する課題は特許文献2でも記載が無く、認識されていない。On the other hand, Patent Document 2 discloses a method for producing cyclaniliprole via reaction [N] as a method for producing cyclaniliprole using a raw material that does not have Br on the benzene ring. However, in the specific example corresponding to reaction [N] in Patent Document 2, for example, the yield of Example 17 (4) is very low, about 14%, and the yield of Example 19 (2) is very low, about 37%, and a significant improvement in yield was necessary to use the method as an industrial production method for cyclaniliprole. In addition, Patent Document 2 does not mention or recognize the problem of the generation of impurity (B).

本発明者らが上記の課題を解決するために種々検討を行ったところ、不純物(B)の生成はベンゼン環上のBrの存在に起因することを見出し、ベンゼン環上にBrを有さない原料を経由してシクラニリプロールを製造する必要があると考えられた。そして、ベンゼン環上にBrを有さない原料を使用する場合であっても、特定の反応試薬を選択することにより、高収率で、不純物の含有量が非常に少ないシクラニリプロールの製造中間体を製造することが可能な製造方法を見出した。そして、このようにして製造されたシクラニリプロールの製造中間体から、農薬原体としての規格に適合する高純度のシクラニリプロールを製造できることも見出した。The present inventors conducted various studies to solve the above problems, and found that the generation of the impurity (B) is due to the presence of Br on the benzene ring, and considered it necessary to produce cyclaniliprole via a raw material that does not have Br on the benzene ring. They then discovered a production method that can produce a production intermediate of cyclaniliprole with a high yield and a very low impurity content by selecting a specific reaction reagent, even when using a raw material that does not have Br on the benzene ring. They also found that high-purity cyclaniliprole that meets the standards for an agricultural chemical raw material can be produced from the production intermediate of cyclaniliprole produced in this way.

すなわち、本発明は、式(I)で表される化合物又はその塩(以下、単に化合物(I)ともいう):That is, the present invention relates to a compound represented by formula (I) or a salt thereof (hereinafter, also simply referred to as compound (I)):

Figure 0007633538000002
Figure 0007633538000002

の製造方法であって、式(II)で表される化合物又はその塩(以下、単に化合物(II)ともいう):The present invention relates to a method for producing a compound represented by formula (II) or a salt thereof (hereinafter, also simply referred to as compound (II)):

Figure 0007633538000003
Figure 0007633538000003

と、式(III)で表される化合物又はその塩(以下、単に化合物(III)ともいう):and a compound represented by formula (III) or a salt thereof (hereinafter also referred to simply as compound (III)):

Figure 0007633538000004
Figure 0007633538000004

[式(III)中、Rは、OH又はハロゲンである]
とを、縮合剤及び/又は塩基の存在中で反応させる、製造方法を提供する。さらに、本発明は、このようにして製造された化合物(I)を、臭素化剤と反応させる、シクラニリプロールの製造方法も提供する。
[In formula (III), R is OH or halogen]
In addition, the present invention also provides a method for producing cyclaniliprole, which comprises reacting compound (I) thus produced with a brominating agent.

本発明によれば、シクラニリプロールの製造に有用な化合物(I)を高収率かつ高純度で製造することができる。さらに、本発明によって得られた化合物(I)から、農薬原体としての規格を満たす高純度のシクラニリプロールを製造することができる。According to the present invention, compound (I), which is useful for the production of cyclaniliprole, can be produced in high yield and high purity. Furthermore, from compound (I) obtained by the present invention, it is possible to produce cyclaniliprole of high purity that meets the standards for an agricultural chemical raw material.

[化合物(I)の製造方法]
本発明の化合物(I)の製造方法は、化合物(II)と化合物(III)とを縮合剤及び/又は塩基の存在中で反応させることを特徴とする。ここで、Rが、OHである場合、化合物(II)と化合物(III)とを、縮合剤及び塩基の存在中で反応させることが好ましく、Rが、ハロゲンである場合、化合物(II)と化合物(III)とを、塩基の存在中で反応させることが好ましい。本反応は、溶媒の存在中で行ってもよい。
[Method for producing compound (I)]
The method for producing compound (I) of the present invention is characterized by reacting compound (II) with compound (III) in the presence of a condensing agent and/or a base. When R is OH, it is preferable to react compound (II) with compound (III) in the presence of a condensing agent and a base, and when R is halogen, it is preferable to react compound (II) with compound (III) in the presence of a base. This reaction may be carried out in the presence of a solvent.

化合物(I)、化合物(II)又は化合物(III)の塩としては、農薬上許容されるものであればあらゆるものを含み、例えば、アルカリ金属塩(ナトリウム塩、カリウム塩など)、アルカリ土類金属塩(マグネシウム塩、カルシウム塩など)、アンモニウム塩、アルキルアンモニウム塩(ジメチルアンモニウム塩、トリエチルアンモニウム塩など)、酸付加塩(塩酸塩、過塩素酸塩、硫酸塩、硝酸塩、酢酸塩、メタンスルホン酸塩など)などが挙げられる。Rとして示されるハロゲンとしては、例えば、塩素、臭素、ヨウ素などが挙げられ、塩素が好ましい。The salts of compound (I), compound (II) or compound (III) include any salts that are agriculturally acceptable, such as alkali metal salts (sodium salt, potassium salt, etc.), alkaline earth metal salts (magnesium salt, calcium salt, etc.), ammonium salts, alkylammonium salts (dimethylammonium salt, triethylammonium salt, etc.), acid addition salts (hydrochloride, perchlorate, sulfate, nitrate, acetate, methanesulfonate, etc.). Examples of halogens represented by R include chlorine, bromine, iodine, etc., with chlorine being preferred.

化合物(II)と化合物(III)の使用量について、反応が進行する限り特に限定されないが、化合物(II)1モルに対して、例えば、0.8~1.2モル、好ましくは、0.9~1.1モル、より好ましくは、0.95~1.05モルの化合物(III)を使用することができる。The amounts of compound (II) and compound (III) used are not particularly limited as long as the reaction proceeds, but for example, 0.8 to 1.2 moles, preferably 0.9 to 1.1 moles, and more preferably 0.95 to 1.05 moles of compound (III) can be used per mole of compound (II).

本発明における化合物(II)及び化合物(III)は、当技術分野において公知の方法、例えば、特許文献2、5、7などに記載された方法又はそれに準じる方法により製造することができ、或いは市販品を使用することもできる。また、Rがハロゲンである化合物(III)を使用する場合、Rがハロゲンである化合物(III)は、当技術分野における周知の方法に従って、RがOHである化合物(III)をハロゲン化剤(塩化チオニル、塩化オキサリルなどの酸ハロゲン化物など)と反応させることにより得ることもできる。Compound (II) and compound (III) in the present invention can be produced by a method known in the art, for example, the method described in Patent Documents 2, 5, 7, etc., or a method similar thereto, or a commercially available product can be used. In addition, when compound (III) in which R is a halogen is used, compound (III) in which R is a halogen can also be obtained by reacting compound (III) in which R is OH with a halogenating agent (such as an acid halide such as thionyl chloride or oxalyl chloride) according to a method known in the art.

本反応において使用される縮合剤としては、塩化スルホニル(塩化メタンスルホニル、塩化p-トルエンスルホニルなど)、酸ハロゲン化物(塩化チオニル、塩化オキサリルなど)が好ましく、これらの中でも、収率及び得られる化合物(I)の純度の観点から、塩化スルホニルがより好ましく、塩化メタンスルホニルが特に好ましい。縮合剤の使用量は、反応が進行する限り特に限定されないが、化合物(II)1モルに対して、例えば、1~2モル、好ましくは、1~1.8モル、より好ましくは、1~1.5モルである。As the condensing agent used in this reaction, sulfonyl chlorides (e.g., methanesulfonyl chloride, p-toluenesulfonyl chloride) and acid halides (e.g., thionyl chloride, oxalyl chloride) are preferred, and among these, from the viewpoints of the yield and the purity of the obtained compound (I), sulfonyl chlorides are more preferred, and methanesulfonyl chloride is particularly preferred. The amount of the condensing agent used is not particularly limited as long as the reaction proceeds, but is, for example, 1 to 2 moles, preferably 1 to 1.8 moles, and more preferably 1 to 1.5 moles per mole of compound (II).

本反応において使用される塩基としては、ピリジン、ピコリン(例えば、2-ピコリン、3-ピコリン、4-ピコリン)などの有機塩基、及びアルカリ金属の炭酸塩又はアルカリ金属の炭酸水素塩、アルカリ土類金属の炭酸塩又はアルカリ土類金属の炭酸水素塩などの無機塩基が好ましく、これらの中でも、収率及び得られる化合物(I)の純度の観点から、ピリジン、ピコリン(例えば、2-ピコリン、3-ピコリン、4-ピコリン)、アルカリ金属の炭酸塩又はアルカリ金属の炭酸水素塩がより好ましく、ピリジン又はピコリン(例えば、2-ピコリン、3-ピコリン、4-ピコリン)が更に好ましく、中でも3-ピコリンが特に好ましい。本反応において使用される上記塩基は、1種でもよく、2種以上であってもよい。
塩基の使用量は、反応が進行する限り特に限定されないが、化合物(II)1モルに対して、例えば、0~10モル、好ましくは、1~7モル、より好ましくは、1~4モルである。
The base used in this reaction is preferably an organic base such as pyridine or picoline (e.g., 2-picoline, 3-picoline, 4-picoline), and an inorganic base such as an alkali metal carbonate or alkali metal hydrogencarbonate, an alkaline earth metal carbonate or alkaline earth metal hydrogencarbonate, and among these, from the viewpoint of the yield and the purity of the obtained compound (I), pyridine, picoline (e.g., 2-picoline, 3-picoline, 4-picoline), an alkali metal carbonate or an alkali metal hydrogencarbonate are more preferable, pyridine or picoline (e.g., 2-picoline, 3-picoline, 4-picoline) are further preferable, and among them, 3-picoline is particularly preferable. The above-mentioned base used in this reaction may be one kind or two or more kinds.
The amount of the base used is not particularly limited as long as the reaction proceeds, but is, for example, 0 to 10 moles, preferably 1 to 7 moles, and more preferably 1 to 4 moles, relative to 1 mole of compound (II).

本反応において使用してもよい溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさない限り特に限定されないが、例えば、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなど)、ニトリル類(アセトニトリル、プロピオニトリルなど)、エーテル類(テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルなど)、ハロゲン化炭化水素類(ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼンなど)、エステル類(酢酸エチル、酢酸イソプロピルなど)、極性溶媒類(ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン、ジメチルスルホキシドなど)、芳香族炭化水素類(トルエン、キシレンなど)、ピリジン類(ピリジン、ピコリンなど)、又はこれらの混合溶媒が挙げられる。これらの中でも、収率及び得られる化合物(I)の純度の観点から、ケトン類、ニトリル類、エーテル類、ハロゲン化炭化水素類、極性溶媒類、及びピリジン類からなる群から選択される1種又は2種以上であることが好ましく、ケトン類、ニトリル類、エーテル類、極性溶媒類、及びピリジン類からなる群から選択される1種又は2種以上であることがより好ましい。溶媒の使用量は反応が進行する限り特に限定されないが、化合物(II)に対して、例えば、0~50倍量(V/W)、好ましくは、0~30倍量(V/W)、より好ましくは0~20倍量(V/W)であり、更に好ましくは1~20倍量(V/W)である。 The solvent that may be used in this reaction is not particularly limited as long as it does not adversely affect the reaction, but examples thereof include ketones (acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, etc.), nitriles (acetonitrile, propionitrile, etc.), ethers (tetrahydrofuran, diethyl ether, etc.), halogenated hydrocarbons (dichloromethane, dichloroethane, chloroform, chlorobenzene, etc.), esters (ethyl acetate, isopropyl acetate, etc.), polar solvents (dimethylformamide, dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, dimethylsulfoxide, etc.), aromatic hydrocarbons (toluene, xylene, etc.), pyridines (pyridine, picoline, etc.), or mixed solvents thereof. Among these, from the viewpoint of yield and purity of the obtained compound (I), it is preferable to use one or more types selected from the group consisting of ketones, nitriles, ethers, halogenated hydrocarbons, polar solvents, and pyridines, and more preferably one or more types selected from the group consisting of ketones, nitriles, ethers, polar solvents, and pyridines. The amount of the solvent used is not particularly limited as long as the reaction proceeds, but is, for example, 0 to 50 times (V/W), preferably 0 to 30 times (V/W), more preferably 0 to 20 times (V/W), and even more preferably 1 to 20 times (V/W), relative to compound (II).

本反応において、化合物(II)、化合物(III)、縮合剤及び塩基、必要により溶媒の添加の順序は、特に限定されず、任意の順序で添加及び混合すればよい。これらの成分の反応系への添加は、一度に又は分割して行ってもよいし、連続的であってもよい。例えば、添加の順序としては、すべての成分を一度に混合してもよいし、或いは、一部の成分を後で添加してもよく、このような添加の具体例としては、例えば、(i)化合物(II)、塩基及び溶媒を混合し、そこに化合物(III)及び縮合剤を添加する、(ii)化合物(II)、化合物(III)塩基及び溶媒を混合し、そこに縮合剤を添加するなどが挙げられる。In this reaction, the order of addition of compound (II), compound (III), condensing agent, base, and, if necessary, solvent is not particularly limited, and may be added and mixed in any order. These components may be added to the reaction system all at once or in portions, or may be added continuously. For example, the order of addition may be such that all components are mixed at once, or some components may be added later. Specific examples of such addition include, for example, (i) mixing compound (II), base, and solvent, and adding compound (III) and condensing agent thereto, and (ii) mixing compound (II), compound (III), base, and solvent, and adding condensing agent thereto.

本反応の温度は、通常、約0~50℃、好ましくは、約0~30℃である。反応時間は、通常、約1~24時間、好ましくは、約1~5時間である。なお、本明細書において「室温」とは、通常、約0~40℃、より具体的には、10~30℃を意味する。The temperature of this reaction is usually about 0 to 50°C, preferably about 0 to 30°C. The reaction time is usually about 1 to 24 hours, preferably about 1 to 5 hours. In this specification, "room temperature" usually means about 0 to 40°C, more specifically, 10 to 30°C.

本反応の終了後、必要に応じて、例えば、中和、抽出、洗浄及び乾燥などの常法による後処理を行うことにより、化合物(I)を単離することができる。その後、必要により、再結晶及びリパルプなどの常法により、化合物(I)を精製してもよい。或いは、化合物(I)を単離することなく、又は単離された化合物(I)を精製することなく、そのまま次の反応に使用することもできる。After completion of this reaction, compound (I) can be isolated, if necessary, by carrying out post-treatments using conventional methods such as neutralization, extraction, washing and drying. Compound (I) may then be purified, if necessary, using conventional methods such as recrystallization and repulping. Alternatively, compound (I) can be used in the next reaction as is without isolating it or without purifying the isolated compound (I).

本反応により得られる化合物(I)の純度は、通常、95重量%以上、好ましくは、97重量%以上、より好ましくは、98.5重量%以上である。また、本反応により得られる化合物(I)以外に、不純物として含まれる下記式(A)で表される化合物又はその塩(以下、単に不純物(A)ともいう):The purity of compound (I) obtained by this reaction is usually 95% by weight or more, preferably 97% by weight or more, and more preferably 98.5% by weight or more. In addition to compound (I) obtained by this reaction, a compound represented by the following formula (A) or a salt thereof (hereinafter simply referred to as impurity (A)) is contained as an impurity.

Figure 0007633538000005
Figure 0007633538000005

の含有割合は、式(I)で表される化合物又はその塩及び不純物(A)の合計量に対して通常、1重量%以下であり、好ましくは、0.3重量%以下であり、より好ましくは、不純物(A)を実質的に含有しない。ここで、実質的に含有しないとは不純物程度の量が混入してもよいことを意味し、例えば不純物(A)の含有割合が0.1重量%未満であることを意味する。このような化合物(I)を使用してシクラニリプロールを製造することにより、農薬原体としての規格を満たす高純度のシクラニリプロールを製造することができる。The content of is usually 1% by weight or less, preferably 0.3% by weight or less, and more preferably substantially free of impurity (A) based on the total amount of the compound represented by formula (I) or its salt and the impurity (A). Here, substantially free of impurity (A) means that it may be mixed in in an amount equivalent to the amount of impurities, for example, the content of impurity (A) is less than 0.1% by weight. By producing cyclaniliprole using such compound (I), it is possible to produce high-purity cyclaniliprole that meets the standards for an agricultural chemical raw material.

[シクラニリプロールの製造方法]
前述のようにして得られた化合物(I)を臭素化剤と反応させることにより、シクラニリプロールを製造することができる。本反応は、塩基及び溶媒の存在中で行ってもよい。
本方法において使用される臭素化剤としては、臭素、次亜臭素酸などが挙げられ、なかでも臭素が好ましい。
[Method of producing cyclaniliprole]
Cyclaniliprole can be produced by reacting the compound (I) obtained as described above with a brominating agent. This reaction may be carried out in the presence of a base and a solvent.
The brominating agent used in this method includes bromine, hypobromous acid, etc., and among these, bromine is preferred.

臭素化剤の使用量について、反応が進行する限り特に限定されないが、化合物(I)1モルに対して、例えば、0.5~5モル、好ましくは、1~3モル、より好ましくは、1~2モルの臭素化剤を使用することができる。The amount of brominating agent used is not particularly limited as long as the reaction proceeds, but for example, 0.5 to 5 moles, preferably 1 to 3 moles, and more preferably 1 to 2 moles of brominating agent can be used per mole of compound (I).

本反応において使用してもよい塩基としては、金属水酸化物(水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウムなど)、金属水素化物(水素化ナトリウム、水素化カリウムなど)、金属アルコキシド(ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムt-ブトキシドなど)が好ましく、これらの中でも、金属水酸化物がより好ましく、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムが更に好ましい。本反応において使用される上記塩基は、1種でもよく、2種以上であってもよい。
塩基の使用量は、反応が進行する限り特に限定されないが、化合物(I)1モルに対して、例えば、1~10モル、好ましくは、1.5~5モル、より好ましくは、1.5~3.5モルである。
The base that may be used in this reaction is preferably a metal hydroxide (sodium hydroxide, potassium hydroxide, calcium hydroxide, etc.), a metal hydride (sodium hydride, potassium hydride, etc.), or a metal alkoxide (sodium methoxide, sodium ethoxide, potassium t-butoxide, etc.), and among these, a metal hydroxide is more preferred, and sodium hydroxide and potassium hydroxide are even more preferred. The above-mentioned base used in this reaction may be one type or two or more types.
The amount of the base used is not particularly limited as long as the reaction proceeds, but is, for example, 1 to 10 moles, preferably 1.5 to 5 moles, and more preferably 1.5 to 3.5 moles, relative to 1 mole of compound (I).

本反応において使用してもよい溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさない限り特に限定されないが、エーテル類(ジエチルエーテル、ブチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタンなど)、ハロゲン化炭化水素類(クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、トリクロロエタン、ジクロロエチレンなど)、芳香族炭化水素類(ベンゼン、トルエン、キシレンなど)、脂肪族炭化水素類(ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサンなど)、エステル類(酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル(酢酸イソプロピル、酢酸ノルマルプロピルなど)、酢酸ブチルなど)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノンなど)、ニトリル類(アセトニトリル、プロピオニトリルなど)、アミド類(例えば、N,N-ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホリックトリアミド、ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドンなど)、又はこれらの混合溶媒が挙げられる。これらの中でも、収率及び得られるシクラニリプロールの純度の観点から、エーテル類、ハロゲン化炭化水素類及びエステル類からなる群から選択される1種又は2種以上であることが好ましく、エステル類からなる群から選択される1種又は2種以上であることがより好ましい。溶媒の使用量は反応が進行する限り特に限定されないが、化合物(I)に対して、例えば、0~50倍量(V/W)、好ましくは、1~30倍量(V/W)、より3~20倍量(V/W)である。Solvents that may be used in this reaction are not particularly limited as long as they do not adversely affect the reaction, and include ethers (diethyl ether, butyl methyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane, etc.), halogenated hydrocarbons (chlorobenzene, dichlorobenzene, dichloromethane, chloroform, carbon tetrachloride, dichloroethane, trichloroethane, dichloroethylene, etc.), aromatic hydrocarbons (benzene, toluene, xylene, etc.), aliphatic hydrocarbons (pentane, hexane, heptane, octane, cyclohexane, etc.), esters (methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate (isopropyl acetate, normal propyl acetate, etc.), butyl acetate, etc.), ketones (acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, etc.), nitriles (acetonitrile, propionitrile, etc.), amides (for example, N,N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, hexamethylphosphoric triamide, dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, etc.), or mixed solvents thereof. Among these, from the viewpoint of the yield and the purity of the obtained cyclaniliprole, it is preferable to use one or more types selected from the group consisting of ethers, halogenated hydrocarbons and esters, and it is more preferable to use one or more types selected from the group consisting of esters. The amount of the solvent used is not particularly limited as long as the reaction proceeds, but is, for example, 0 to 50 times (V/W), preferably 1 to 30 times (V/W), more preferably 3 to 20 times (V/W) relative to compound (I).

本反応において、化合物(I)及び臭素化剤、必要により塩基及び溶媒の添加の順序は、特に限定されず、任意の順序で混合すればよい。これらの成分の反応系への添加は、一度に又は分割して行ってもよいし、連続的であってもよい。例えば、添加の順序としては、(i)化合物(I)及び臭素化剤、必要により溶媒を混合し、そこに塩基を添加する、或いは(ii)化合物(I)及び塩基、必要により溶媒を混合し、そこに臭素化剤を添加するなどが挙げられる。In this reaction, the order of addition of compound (I) and the brominating agent, and optionally the base and the solvent, is not particularly limited, and they may be mixed in any order. These components may be added to the reaction system all at once or in portions, or may be added continuously. For example, the order of addition may be (i) compound (I) and the brominating agent, and optionally the solvent, and then the base is added thereto, or (ii) compound (I) and the base, and optionally the solvent, and then the brominating agent is added thereto.

本反応の温度は、通常、約-20~120℃、好ましくは、約0~50℃である。反応時間は、通常、約0.5~48時間、好ましくは、約1~24時間である。The reaction temperature is usually about -20 to 120°C, preferably about 0 to 50°C. The reaction time is usually about 0.5 to 48 hours, preferably about 1 to 24 hours.

本反応の終了後、必要に応じて、例えば、中和、抽出、洗浄及び乾燥などの常法による後処理を行うことにより、シクラニリプロールを単離することができる。また、反応及び/又は後処理の条件に起因して、シクラニリプロールは、塩や溶媒和物として単離される場合があるが、その場合、例えば、中和及び脱溶媒和などの常法により、フリー体のシクラニリプロールに変換することができる。その後、必要により、再結晶、リパルプなどの常法により、シクラニリプロールを精製することもできる。本反応により得られるシクラニリプロールの純度は、通常、90重量%以上、好ましくは、95重量%以上、より好ましくは、97重量%以上である。また、本反応により得られるシクラニリプロール以外に、不純物として含まれる下記式(B)で表される化合物又はその塩:After the reaction is completed, cyclaniliprole can be isolated by performing post-treatments, such as neutralization, extraction, washing, and drying, as necessary. Depending on the reaction and/or post-treatment conditions, cyclaniliprole may be isolated as a salt or solvate. In that case, it can be converted to free cyclaniliprole by a conventional method, such as neutralization and desolvation. If necessary, cyclaniliprole can then be purified by a conventional method, such as recrystallization or repulping. The purity of cyclaniliprole obtained by this reaction is usually 90% by weight or more, preferably 95% by weight or more, and more preferably 97% by weight or more. In addition to cyclaniliprole obtained by this reaction, a compound represented by the following formula (B) or a salt thereof is contained as an impurity:

Figure 0007633538000006
Figure 0007633538000006

の含有割合は、シクラニリプロール及び式(B)で表される化合物の合計量に対して、通常、1重量%以下、好ましくは、0.3重量%以下であり、より好ましくは、不純物(B)を実質的に含有しない。ここで、実質的に含有しないとは不純物程度の量が混入してもよいことを意味し、例えば不純物(B)の含有割合が0.1重量%未満であることを意味する。The content of is usually 1% by weight or less, preferably 0.3% by weight or less, based on the total amount of cyclaniliprole and the compound represented by formula (B), and more preferably, substantially does not contain the impurity (B). Here, substantially does not contain means that it may be mixed in in an amount equivalent to the amount of impurities, and for example, means that the content of the impurity (B) is less than 0.1% by weight.

本発明の方法における種々の構成要素は、前述した複数の例示や条件の中から、例えば、前述した通常範囲の例示及び条件だけでなく好ましい範囲の例示及び条件の中から適宜選択し、かつ、相互に組み合わせることができる。 The various components in the method of the present invention can be appropriately selected from the multiple examples and conditions described above, for example, from the examples and conditions in the normal range as well as the examples and conditions in the preferred range described above, and can be combined with each other.

以下に本発明の好ましい実施形態の一例を列記するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
[1]式(I)で表される化合物又はその塩:
Preferred embodiments of the present invention are listed below, but the present invention is not limited to these.
[1] A compound represented by formula (I) or a salt thereof:

Figure 0007633538000007
Figure 0007633538000007

の製造方法であって、
式(II)で表される化合物又はその塩:
A method for producing
A compound represented by formula (II) or a salt thereof:

Figure 0007633538000008
Figure 0007633538000008

と、式(III)で表される化合物又はその塩:and a compound represented by formula (III) or a salt thereof:

Figure 0007633538000009
Figure 0007633538000009

[式(III)中、Rは、OH又はハロゲンである]
とを、縮合剤及び/又は塩基の存在中で反応させる、製造方法。
[2]Rが、OHである場合、式(II)で表される化合物又はその塩と、式(III)で表される化合物又はその塩とを、縮合剤及び塩基の存在中で反応させる、[1]に記載の製造方法。
[3]Rが、ハロゲンである場合、式(II)で表される化合物又はその塩と、式(III)で表される化合物又はその塩とを、塩基の存在中で反応させる、[1]に記載の製造方法。
[4]縮合剤が、塩化スルホニル又は酸ハロゲン化物である、[1]又は[2]に記載の製造方法。
[5]縮合剤が、塩化スルホニルである、[1]又は[2]に記載の製造方法。
[6]縮合剤が、塩化メタンスルホニルである、[1]又は[2]に記載の製造方法。
[7]塩基が、ピリジン、ピコリン、アルカリ金属の炭酸塩及びアルカリ金属の炭酸水素塩からなる群から選択される1種又は2種以上である、[1]~[6]のいずれか一項に記載の製造方法。
[8]塩基が、ピリジン又はピコリンである、[1]~[6]のいずれか一項に記載の製造方法。
[9]塩基が、ピリジン又は3-ピコリンである、[1]~[6]のいずれか一項に記載の製造方法。
[10]反応が、溶媒の存在下で行われる、[1]~[9]のいずれか一項に記載の製造方法。
[11]溶媒が、ケトン類、ニトリル類、エーテル類、ハロゲン化炭化水素類、極性溶媒類、ピリジン類及び芳香族炭化水素類からなる群から選択される1種又は2種以上である、[10]に記載の製造方法。
[12]溶媒が、ケトン類、ニトリル類、エーテル類、ハロゲン化炭化水素類、極性溶媒類、及びピリジン類からなる群から選択される1種又は2種以上である、[10]に記載の製造方法。
[13]溶媒が、ケトン類、ニトリル類、エーテル類、極性溶媒類、及びピリジン類からなる群から選択される1種又は2種以上である、[10]に記載の製造方法。
[14]溶媒が、テトラヒドロフラン、N-メチルピロリドン、アセトン、アセトニトリル、3-ピコリン及びピリジンからなる群から選択される1種又は2種以上である、[10]に記載の製造方法。
[15]得られる式(I)で表される化合物又はその塩の純度が、95重量%以上である、[1]~[14]のいずれか一項に記載の方法。
[16]得られる式(I)で表される化合物又はその塩以外に、不純物として含まれる下記式(A)で表される化合物又はその塩:
[In formula (III), R is OH or halogen]
in the presence of a condensing agent and/or a base.
[2] When R is OH, the compound represented by formula (II) or a salt thereof is reacted with the compound represented by formula (III) or a salt thereof in the presence of a condensing agent and a base, according to [1].
[3] When R is halogen, the compound represented by formula (II) or a salt thereof is reacted with a compound represented by formula (III) or a salt thereof in the presence of a base, according to [1].
[4] The method according to [1] or [2], wherein the condensing agent is a sulfonyl chloride or an acid halide.
[5] The method according to [1] or [2], wherein the condensing agent is a sulfonyl chloride.
[6] The method according to [1] or [2], wherein the condensing agent is methanesulfonyl chloride.
[7] The method according to any one of [1] to [6], wherein the base is one or more selected from the group consisting of pyridine, picoline, an alkali metal carbonate, and an alkali metal hydrogen carbonate.
[8] The method according to any one of [1] to [6], wherein the base is pyridine or picoline.
[9] The method according to any one of [1] to [6], wherein the base is pyridine or 3-picoline.
[10] The method according to any one of [1] to [9], wherein the reaction is carried out in the presence of a solvent.
[11] The method according to [10], wherein the solvent is one or more selected from the group consisting of ketones, nitriles, ethers, halogenated hydrocarbons, polar solvents, pyridines, and aromatic hydrocarbons.
[12] The production method according to [10], wherein the solvent is one or more selected from the group consisting of ketones, nitriles, ethers, halogenated hydrocarbons, polar solvents, and pyridines.
[13] The production method according to [10], wherein the solvent is one or more selected from the group consisting of ketones, nitriles, ethers, polar solvents, and pyridines.
[14] The method according to [10], wherein the solvent is one or more selected from the group consisting of tetrahydrofuran, N-methylpyrrolidone, acetone, acetonitrile, 3-picoline and pyridine.
[15] The method according to any one of [1] to [14], wherein the purity of the obtained compound represented by formula (I) or a salt thereof is 95% by weight or more.
[16] In addition to the compound represented by formula (I) or a salt thereof obtained, a compound represented by the following formula (A) or a salt thereof is contained as an impurity:

Figure 0007633538000010
Figure 0007633538000010

の含有割合が、式(I)で表される化合物又はその塩及び式(A)で表される化合物又はその塩の合計量に対して、1重量%以下である、[1]~[15]のいずれか一項に記載の製造方法。
[17]得られる式(I)の化合物又はその塩以外に、不純物として、式(A)で表される化合物又はその塩を実質的に含有しない、[1]~[15]のいずれか一項に記載の製造方法。
The method according to any one of [1] to [15], wherein the content of the compound represented by formula (I) or a salt thereof and the compound represented by formula (A) or a salt thereof is 1% by weight or less based on the total amount of the compound represented by formula (I) or a salt thereof and the compound represented by formula (A) or a salt thereof.
[17] The method according to any one of [1] to [15], wherein the compound represented by formula (A) or a salt thereof is substantially not contained as an impurity other than the compound represented by formula (I) or a salt thereof obtained.

[18][1]~[17]のいずれか一項に記載の製造方法により得られた式(I)で表される化合物又はその塩を、臭素化剤と反応させる、シクラニリプロールの製造方法。
[19]臭素化剤が、臭素又は次亜臭素酸である、[18]に記載の製造方法。
[20]反応が、塩基の存在下で行われる、[18]又は[19]に記載の製造方法。
[21]塩基が、金属水酸化物、金属水素化物及び金属アルコキシドからなる群から選択される1種又は2種以上である、[20]に記載の製造方法。
[22]塩基が、金属水酸化物である、[20]に記載の製造方法。
[23]反応が、溶媒の存在下で行われる、[18]~[22]のいずれか一項に記載の製造方法。
[24]溶媒が、エーテル類、ハロゲン化炭化水素類、芳香族炭化水素類、脂肪族炭化水素類、エステル類、ケトン類、ニトリル類及びアミド類からなる群から選択される1種又は2種以上である、[23]に記載の製造方法。
[25]溶媒が、エーテル類、ハロゲン化炭化水素類及びエステル類からなる群から選択される1種又は2種以上である、[23]に記載の製造方法。
[26]溶媒が、エステル類からなる群から選択される1種又は2種以上である、[23]に記載の製造方法。
[27]溶媒が、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル及び酢酸ブチルからなる群から選択される1種又は2種以上である、[23]に記載の製造方法。
[28]溶媒が、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル及び酢酸ブチルからなる群から選択される1種又は2種以上である、[23]に記載の製造方法。
[29]得られるシクラニリプロールの純度が、90重量%以上である、[18]~[28]のいずれか一項に記載の方法。
[30]得られるシクラニリプロール以外に、不純物として含まれる下記式(B)で表される化合物又はその塩:
[18] A method for producing cyclaniliprole, comprising reacting the compound represented by formula (I) or a salt thereof obtained by the production method according to any one of [1] to [17] with a brominating agent.
[19] The method according to [18], wherein the brominating agent is bromine or hypobromous acid.
[20] The method according to [18] or [19], wherein the reaction is carried out in the presence of a base.
[21] The method according to [20], wherein the base is one or more selected from the group consisting of metal hydroxides, metal hydrides, and metal alkoxides.
[22] The method according to [20], wherein the base is a metal hydroxide.
[23] The method according to any one of [18] to [22], wherein the reaction is carried out in the presence of a solvent.
[24] The method according to [23], wherein the solvent is one or more selected from the group consisting of ethers, halogenated hydrocarbons, aromatic hydrocarbons, aliphatic hydrocarbons, esters, ketones, nitriles, and amides.
[25] The method according to [23], wherein the solvent is one or more selected from the group consisting of ethers, halogenated hydrocarbons, and esters.
[26] The method according to [23], wherein the solvent is one or more selected from the group consisting of esters.
[27] The method according to [23], wherein the solvent is one or more selected from the group consisting of methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, and butyl acetate.
[28] The method according to [23], wherein the solvent is one or more selected from the group consisting of methyl acetate, ethyl acetate, isopropyl acetate, and butyl acetate.
[29] The method according to any one of [18] to [28], wherein the purity of the obtained cyclaniliprole is 90% by weight or more.
[30] In addition to the obtained cyclaniliprole, a compound represented by the following formula (B) or a salt thereof is contained as an impurity:

Figure 0007633538000011
Figure 0007633538000011

の含有割合が、シクラニリプロール及び式(B)で表される化合物の合計量に対して、1重量%以下である、[18]~[29]のいずれか一項に記載の製造方法。
[31]得られるシクラニリプロール以外に、不純物として、式(B)で表される化合物又はその塩を実質的に含有しない、[18]~[28]のいずれか一項に記載の製造方法。
The method according to any one of [18] to [29], wherein the content of is 1% by weight or less based on the total amount of cyclaniliprole and the compound represented by formula (B).
[31] The method according to any one of [18] to [28], wherein the compound represented by formula (B) or a salt thereof is not substantially contained as an impurity other than the obtained cyclaniliprole.

次に本発明の実施例を記載するが、本発明はこれらに限定して解釈されるものではない。
本実施例において使用した化合物(IIIa)、(IIIb)及び化合物(V)の構造を下記に示す。
・化合物(IIIa):
Examples of the present invention will now be described, but the present invention is not to be construed as being limited thereto.
The structures of compounds (IIIa), (IIIb) and compound (V) used in this example are shown below.
・Compound (IIIa):

Figure 0007633538000012
Figure 0007633538000012

・化合物(IIIb):・Compound (IIIb):

Figure 0007633538000013
Figure 0007633538000013

・化合物(V)Compound (V)

Figure 0007633538000014
Figure 0007633538000014

本実施例におけるHPLCの分析条件は以下の通りである。
・使用機器:株式会社島津製作所製Nexera XSシリーズ
・カラム:株式会社クロマニックテクノロジーズ製SunShell C18(2.6μm、2.1×100mm)
・検出:UV検出器(240nm)
・カラム温度:40℃
・流速:0.5mL/min
・移動相:A液:0.1%ギ酸水溶液、及びB液:アセトニトリル
グラジエント条件は以下の通りである。
The HPLC analysis conditions in this example are as follows.
Equipment used: Nexera XS series manufactured by Shimadzu Corporation Column: SunShell C18 (2.6 μm, 2.1 × 100 mm) manufactured by Chromanik Technologies Co., Ltd.
Detection: UV detector (240 nm)
Column temperature: 40°C
・Flow rate: 0.5mL/min
Mobile phase: Solution A: 0.1% formic acid aqueous solution, and Solution B: acetonitrile. The gradient conditions are as follows:

Figure 0007633538000015
Figure 0007633538000015

純度(含有割合)は、高速液体クロマトグラフ(HPLC)による面積%値および/または面積%から換算した重量%値で示す。
面積%値は、合成実験により得られた反応生成物をHPLCで測定することによって得られる。
重量%値は、例えば、以下記載の換算方法で算出される。シクラニリプロール標準品に測定溶媒を加え、シクラニリプロール標準液を調製し、その標準液をHPLCで3回測定する。HPLCの測定で得られた面積値の平均値を算出し、その平均値を、測定で使用したシクラニリプロール標準品の重量で割り単位面積値を算出する。同様の方法で、化合物(I)標準品、不純物(A)標準品、又は不純物(B)標準品の単位面積値を夫々算出する。実施例記載の反応生成物も、同様の方法で単位面積値を算出する。反応生成物の単位面積値及び標準品の単位面積値を比較し比率計算し、重量%値を算出する。また、上記各標準品の単位面積値から感度比を算出し、その感度比から換算して不純物含量を求める事も可能である。
The purity (content ratio) is shown as an area % value determined by high performance liquid chromatography (HPLC) and/or a weight % value converted from the area %.
The area % values are obtained by measuring the reaction products obtained from the synthesis experiments by HPLC.
The weight percent value is calculated, for example, by the conversion method described below. A measurement solvent is added to the cyclaniliprole standard to prepare a cyclaniliprole standard solution, and the standard solution is measured three times by HPLC. The average value of the area values obtained by the HPLC measurement is calculated, and the average value is divided by the weight of the cyclaniliprole standard used in the measurement to calculate the unit area value. The unit area values of the compound (I) standard, the impurity (A) standard, and the impurity (B) standard are calculated in the same manner. The unit area value of the reaction product described in the examples is also calculated in the same manner. The unit area value of the reaction product and the unit area value of the standard are compared, the ratio is calculated, and the weight percent value is calculated. It is also possible to calculate the sensitivity ratio from the unit area value of each of the above-mentioned standards, and convert the sensitivity ratio to obtain the impurity content.

[実施例1]化合物(I)の合成
化合物(II)0.5g、化合物(IIIa)0.6g、3-ピコリン0.59g及びテトラヒドロフラン10mLの混合液を氷冷し、塩化メタンスルホニル0.31gを氷冷下ゆっくりと滴下した。滴下終了後に室温に昇温し、同温度で一晩撹拌した後にHPLCにて反応チェックを行ったところ、化合物(I)が88.1面積%で生成していた。その際に、不純物(A)は検出されなかった。
Example 1 Synthesis of Compound (I) A mixture of 0.5 g of compound (II), 0.6 g of compound (IIIa), 0.59 g of 3-picoline, and 10 mL of tetrahydrofuran was cooled on ice, and 0.31 g of methanesulfonyl chloride was slowly added dropwise to the mixture while cooling on ice. After the addition was completed, the mixture was warmed to room temperature and stirred overnight at the same temperature. The reaction was checked by HPLC, and it was found that compound (I) was produced at 88.1 area %. No impurity (A) was detected.

[実施例2]化合物(I)の合成
化合物(II)0.5g、化合物(IIIa)0.6g、3-ピコリン0.59g及びN-メチルピロリドン10mLの混合液を氷冷し、塩化メタンスルホニル0.31gを氷冷下ゆっくりと滴下した。滴下終了後に室温に昇温し、同温度で一晩撹拌した後にHPLCにて反応チェックを行ったところ、化合物(I)が98.6面積%で生成していた。その際に、不純物(A)は検出されなかった。
Example 2 Synthesis of Compound (I) A mixture of 0.5 g of compound (II), 0.6 g of compound (IIIa), 0.59 g of 3-picoline, and 10 mL of N-methylpyrrolidone was cooled on ice, and 0.31 g of methanesulfonyl chloride was slowly added dropwise to the mixture while cooling on ice. After the addition was completed, the mixture was warmed to room temperature and stirred overnight at the same temperature. The reaction was checked by HPLC, and it was found that compound (I) was produced at 98.6 area %. No impurity (A) was detected.

[実施例3]化合物(I)の合成
化合物(II)0.83g、化合物(IIIa)1.0g、3-ピコリン0.81g及びアセトン10mLの混合液に、室温下塩化メタンスルホニル0.5gをゆっくりと滴下した。同温度で一晩撹拌した後にHPLCにて反応チェックを行ったところ、化合物(I)が89.7面積%で生成していた。その際に、不純物(A)は検出されなかった。
[Example 3] Synthesis of Compound (I) 0.5 g of methanesulfonyl chloride was slowly added dropwise to a mixture of 0.83 g of compound (II), 1.0 g of compound (IIIa), 0.81 g of 3-picoline, and 10 mL of acetone at room temperature. After stirring overnight at the same temperature, the reaction was checked by HPLC, and it was found that compound (I) was produced at 89.7 area %. No impurity (A) was detected.

[実施例4]化合物(I)の合成
化合物(II)0.83g、化合物(IIIa)1.0g、3-ピコリン0.81g及びアセトニトリル10mLの混合液に、室温下塩化メタンスルホニル0.5gをゆっくりと滴下した。同温度で一晩撹拌した後にHPLCにて反応チェックを行ったところ、化合物(I)が88.9面積%で生成していた。その際に、不純物(A)は検出されなかった。
[Example 4] Synthesis of compound (I) 0.5 g of methanesulfonyl chloride was slowly added dropwise to a mixture of 0.83 g of compound (II), 1.0 g of compound (IIIa), 0.81 g of 3-picoline, and 10 mL of acetonitrile at room temperature. After stirring overnight at the same temperature, the reaction was checked by HPLC, and compound (I) was produced at 88.9 area %. No impurity (A) was detected.

[実施例5]化合物(I)の合成
化合物(II)0.83g、3-ピコリン0.78g及びアセトン10mLの混合液に、氷浴下化合物(IIIb)1.04gをゆっくりと滴下した。滴下終了後に室温に昇温し、同温度で一晩撹拌した後にHPLCにて反応チェックを行ったところ、化合物(I)が89.4面積%で生成していた。その際に、不純物(A)は検出されなかった。
[Example 5] Synthesis of compound (I) 1.04 g of compound (IIIb) was slowly added dropwise to a mixture of 0.83 g of compound (II), 0.78 g of 3-picoline, and 10 mL of acetone in an ice bath. After the addition was completed, the mixture was warmed to room temperature and stirred overnight at the same temperature. The reaction was checked by HPLC, and compound (I) was produced at 89.4 area %. No impurity (A) was detected.

[実施例6]化合物(I)の合成
化合物(II)0.83g、3-ピコリン0.78g及びアセトニトリル10mLの混合液に、氷浴下化合物(IIIb)1.04gをゆっくりと滴下した。滴下終了後に室温に昇温し、同温度で一晩撹拌した後にHPLCにて反応チェックを行ったところ、化合物(I)が91.0面積%で生成していた。その際に、不純物(A)は検出されなかった。
[Example 6] Synthesis of Compound (I) 1.04 g of Compound (IIIb) was slowly added dropwise to a mixture of 0.83 g of Compound (II), 0.78 g of 3-picoline, and 10 mL of acetonitrile in an ice bath. After the addition was completed, the mixture was warmed to room temperature and stirred overnight at the same temperature. The reaction was checked by HPLC, and it was found that Compound (I) was produced in an amount of 91.0 area %. No impurity (A) was detected.

[実施例7]化合物(I)の合成
化合物(II)16.9g、化合物(IIIa)20g、ピリジン12.3g及びアセトン98mLの混合液に、室温下塩化メタンスルホニル8.9gをゆっくりと滴下した。同温度で一晩撹拌した後にHPLCにて反応チェックを行ったところ、化合物(I)が93.3面積%で生成していた。その際に、不純物(A)は検出されなかった。反応終了を確認した後に、水49gをゆっくり滴下し、同温度で45分間撹拌した。スラリーをろ過し、得られた固体をアセトン水で洗浄、温風乾燥機で一晩乾燥させる事で、化合物(I)32.6gを得た(収率:92%;純度:96重量%、98.4面積%)。
なお、上記の純度の面積%から重量%への換算方法は以下のとおりである。
シクラニリプロール標準品15.41mgを25mLメスフラスコに秤量し、ジメチルホルムアミド1mL、水2mL及びアセトニトリル20mLを添加し溶解させ、アセトニトリルでメスアップし標準液を調製した。調製した標準液をHPLCで3回測定した。HPLCの測定により得られた面積値の平均値を算出した。その算出した平均値を、シクラニリプロール標準品の質量値である15.41で割り、単位面積値66069を算出した。同様の方法で、化合物(I)、不純物(A)及び不純物(B)の単位面積値72447、91829及び81242を算出した。次に、合成して得られた化合物(I)も同様の方法でHPLCの測定により得られた面積値と標準品の単位面積値を比較し比率計算し、不純物の含有割合を示す重量%値を算出した。
[Example 7] Synthesis of Compound (I) 8.9 g of methanesulfonyl chloride was slowly dropped into a mixture of 16.9 g of compound (II), 20 g of compound (IIIa), 12.3 g of pyridine and 98 mL of acetone at room temperature. After stirring overnight at the same temperature, the reaction was checked by HPLC, and compound (I) was produced at 93.3 area %. At that time, impurity (A) was not detected. After confirming the completion of the reaction, 49 g of water was slowly dropped and stirred at the same temperature for 45 minutes. The slurry was filtered, and the obtained solid was washed with acetone water and dried overnight in a hot air dryer to obtain 32.6 g of compound (I) (yield: 92%; purity: 96 wt%, 98.4 area%).
The above purity is converted from area % to weight % as follows.
15.41 mg of cyclaniliprole standard was weighed into a 25 mL volumetric flask, dissolved in 1 mL of dimethylformamide, 2 mL of water, and 20 mL of acetonitrile, and then diluted with acetonitrile to prepare a standard solution. The prepared standard solution was measured three times by HPLC. The average value of the area obtained by HPLC measurement was calculated. The calculated average value was divided by 15.41, which is the mass value of cyclaniliprole standard, to calculate a unit area value of 66069. In the same manner, the unit area values of compound (I), impurity (A), and impurity (B) were calculated as 72447, 91829, and 81242. Next, the area value obtained by HPLC measurement of compound (I) obtained by synthesis was compared with the unit area value of the standard in the same manner, and the ratio was calculated to calculate the weight percentage of the impurities.

[実施例8]化合物(I)の合成
化合物(II)0.79g、化合物(IIIa)1.0g、炭酸ナトリウム0.39g及びアセトン10mLの混合液に、室温下塩化メタンスルホニル0.45gをゆっくりと滴下した。同温度で1時間撹拌した後にHPLCにて反応チェックを行ったところ、化合物(I)が75.5面積%で生成していた。その際に、不純物(A)は検出されなかった。続いて、反応液に炭酸ナトリウム0.15gと塩化メタンスルホニル0.15gを追加し、室温で一晩撹拌したところ、化合物(I)が97.2面積%で生成していた。その際に、不純物(A)は検出されなかった。
[Example 8] Synthesis of Compound (I) 0.79 g of compound (II), 1.0 g of compound (IIIa), 0.39 g of sodium carbonate, and 10 mL of acetone were slowly dropped with 0.45 g of methanesulfonyl chloride at room temperature. After stirring at the same temperature for 1 hour, the reaction was checked by HPLC, and compound (I) was produced at 75.5 area %. At that time, impurity (A) was not detected. Next, 0.15 g of sodium carbonate and 0.15 g of methanesulfonyl chloride were added to the reaction solution, and the mixture was stirred at room temperature overnight, and compound (I) was produced at 97.2 area %. At that time, impurity (A) was not detected.

[実施例9]シクラニリプロールの合成
実施例3に準じて得た化合物(I)11.6g及び酢酸エチル58mLの混合液を氷冷し、臭素5.2gをゆっくりと滴下した。次に水酸化ナトリウム水溶液13.8gをゆっくりと滴下し、同温度で1時間撹拌した。反応が完結していることを確認した後に、氷浴下亜硫酸ナトリウム水溶液12.7gを滴下し、同温度で1時間撹拌した。スラリーをろ過し、固体を水11.6gで洗浄した。得られた固体にメタノール17.4mLを加え、1時間還流させた後に室温に冷却した。スラリーをろ過し、固体を温風乾燥機で一晩乾燥させる事で、シクラニリプロール12.9gを得た(収率:95%)。また、得られたシクラニリプロール中に不純物(B)は検出されなかった(純度:98重量%、97.6面積%)。
なお、上記の純度の面積%から重量%への換算方法は、上記実施例7と同様の方法で行った。
[Example 9] Synthesis of cyclaniliprole A mixture of 11.6 g of compound (I) obtained according to Example 3 and 58 mL of ethyl acetate was ice-cooled, and 5.2 g of bromine was slowly added dropwise. Next, 13.8 g of aqueous sodium hydroxide solution was slowly added dropwise, and the mixture was stirred at the same temperature for 1 hour. After confirming that the reaction was complete, 12.7 g of aqueous sodium sulfite solution was added dropwise in an ice bath, and the mixture was stirred at the same temperature for 1 hour. The slurry was filtered, and the solid was washed with 11.6 g of water. 17.4 mL of methanol was added to the obtained solid, and the mixture was refluxed for 1 hour and then cooled to room temperature. The slurry was filtered, and the solid was dried overnight in a hot air dryer to obtain 12.9 g of cyclaniliprole (yield: 95%). In addition, impurities (B) were not detected in the obtained cyclaniliprole (purity: 98% by weight, 97.6% by area).
The purity was converted from area % to weight % in the same manner as in Example 7.

[実施例10]化合物(I)の合成
化合物(II)0.5g、化合物(IIIa)0.67g、3-ピコリン0.59g、及び溶媒として3-ピコリン2mLの混合液を氷冷し、塩化メタンスルホニル0.29gを氷冷下ゆっくりと滴下した。滴下終了後に室温に昇温し、同温度で一晩撹拌した後にHPLCにて反応チェックを行ったところ、化合物(I)が97.8面積%で生成していた。その際に、不純物(A)は検出されなかった。
[Example 10] Synthesis of Compound (I) A mixture of 0.5 g of Compound (II), 0.67 g of Compound (IIIa), 0.59 g of 3-picoline, and 2 mL of 3-picoline as a solvent was cooled on ice, and 0.29 g of methanesulfonyl chloride was slowly added dropwise to the mixture while cooling on ice. After the addition was completed, the mixture was warmed to room temperature and stirred overnight at the same temperature. The reaction was checked by HPLC, and it was found that Compound (I) was produced at 97.8 area %. At that time, no impurity (A) was detected.

[実施例11]化合物(I)の合成
化合物(II)0.5g、化合物(IIIa)0.63g、3-ピコリン0.39g、及び溶媒としてピリジン5mLの混合液を氷冷し、塩化メタンスルホニル0.26gを氷冷下ゆっくりと滴下した。滴下終了後に室温に昇温し、同温度で1時間撹拌した後にHPLCにて反応チェックを行ったところ、化合物(I)が96.8面積%で生成していた。その際に、不純物(A)は検出されなかった。
[Example 11] Synthesis of Compound (I) A mixture of 0.5 g of Compound (II), 0.63 g of Compound (IIIa), 0.39 g of 3-picoline, and 5 mL of pyridine as a solvent was cooled on ice, and 0.26 g of methanesulfonyl chloride was slowly added dropwise to the mixture while cooling on ice. After the addition was completed, the mixture was warmed to room temperature and stirred at the same temperature for 1 hour. The reaction was checked by HPLC, and it was found that Compound (I) was produced at 96.8 area %. At that time, no impurity (A) was detected.

[実施例12]化合物(I)の合成
化合物(II)0.5g、化合物(IIIa)0.63g、3-ピコリン0.39g及びアセトン5mLの混合液を氷冷し、塩化メタンスルホニル0.26gを氷冷下ゆっくりと滴下した。滴下終了後に室温に昇温し、同温度で66時間撹拌した後にHPLCにて反応チェックを行ったところ、化合物(I)が93.0面積%で生成していた。その際に、不純物(A)は検出されなかった。
[Example 12] Synthesis of Compound (I) A mixture of 0.5 g of Compound (II), 0.63 g of Compound (IIIa), 0.39 g of 3-picoline, and 5 mL of acetone was cooled on ice, and 0.26 g of methanesulfonyl chloride was slowly added dropwise to the mixture while cooling on ice. After the addition was completed, the mixture was warmed to room temperature and stirred at the same temperature for 66 hours. The reaction was checked by HPLC, and it was found that Compound (I) was produced at 93.0 area %. At that time, no impurity (A) was detected.

[実施例13]化合物(I)の合成
化合物(II)0.5g、化合物(IIIa)0.63g、3-ピコリン0.39g及びジメチルホルムアミド5mLの混合液を氷冷し、塩化メタンスルホニル0.26gを氷冷下ゆっくりと滴下した。滴下終了後に室温に昇温し、同温度で2時間撹拌した後にHPLCにて反応チェックを行ったところ、化合物(I)が97.6面積%で生成していた。その際に、不純物(A)は検出されなかった。
[Example 13] Synthesis of Compound (I) A mixture of 0.5 g of Compound (II), 0.63 g of Compound (IIIa), 0.39 g of 3-picoline, and 5 mL of dimethylformamide was cooled on ice, and 0.26 g of methanesulfonyl chloride was slowly added dropwise to the mixture while cooling on ice. After the addition was completed, the mixture was warmed to room temperature and stirred at the same temperature for 2 hours. The reaction was checked by HPLC, and it was found that Compound (I) was produced at 97.6 area %. At that time, no impurity (A) was detected.

[実施例14]化合物(I)の合成
化合物(II)0.5g、化合物(IIIa)0.63g、3-ピコリン0.39g及びN-メチルピロリドン5mLの混合液を氷冷し、塩化メタンスルホニル0.26gを氷冷下ゆっくりと滴下した。滴下終了後に室温に昇温し、同温度で2時間撹拌した後にHPLCにて反応チェックを行ったところ、化合物(I)が92.4面積%で生成していた。その際に、不純物(A)は検出されなかった。
[Example 14] Synthesis of Compound (I) A mixture of 0.5 g of Compound (II), 0.63 g of Compound (IIIa), 0.39 g of 3-picoline, and 5 mL of N-methylpyrrolidone was cooled on ice, and 0.26 g of methanesulfonyl chloride was slowly added dropwise to the mixture while cooling on ice. After the completion of the dropwise addition, the mixture was warmed to room temperature and stirred at the same temperature for 2 hours. The reaction was checked by HPLC, and it was found that Compound (I) was produced at 92.4 area %. At that time, no impurity (A) was detected.

[比較例1]シクラニリプロールの合成
化合物(V)1.11g、化合物(IIIa)1.0g、3-ピコリン0.81g及びアセトン10mLの混合液に、室温下塩化メタンスルホニル0.5gをゆっくりと滴下した。同温度で一晩撹拌した後にHPLCにて反応チェックを行ったところ、シクラニリプロールが42.9面積%で生成していた。その際に、不純物(B)の生成量は0.3面積%であった。
Comparative Example 1 Synthesis of Cyclaniliprole To a mixture of 1.11 g of compound (V), 1.0 g of compound (IIIa), 0.81 g of 3-picoline, and 10 mL of acetone, 0.5 g of methanesulfonyl chloride was slowly added dropwise at room temperature. After stirring overnight at the same temperature, the reaction was checked by HPLC, and 42.9 area % of cyclaniliprole was produced. At that time, the amount of impurity (B) produced was 0.3 area %.

[比較例2]シクラニリプロールの合成
化合物(V)1.11g、化合物(IIIa)1.0g、3-ピコリン0.81g、アセトニトリル10mLの混合液に、室温下塩化メタンスルホニル0.5gをゆっくりと滴下した。同温度で一晩撹拌した後にHPLCにて反応チェックを行ったところ、シクラニリプロールが79.9面積%で生成していた。その際に、不純物(B)の生成量は5.3面積%であった。
Comparative Example 2: Synthesis of cyclaniliprole To a mixture of 1.11 g of compound (V), 1.0 g of compound (IIIa), 0.81 g of 3-picoline, and 10 mL of acetonitrile, 0.5 g of methanesulfonyl chloride was slowly added dropwise at room temperature. After stirring overnight at the same temperature, the reaction was checked by HPLC, and 79.9 area % of cyclaniliprole was produced. At that time, the amount of impurity (B) produced was 5.3 area %.

[比較例3]シクラニリプロールの合成
化合物(V)1.11g、3-ピコリン0.78g、アセトン13mLの混合液に、氷浴下化合物(IIIb)1.09gをゆっくりと滴下した。滴下終了後に室温に昇温し、同温度で一晩撹拌した後にHPLCにて反応チェックを行ったところ、シクラニリプロールが73.0面積%で生成していた。その際に、不純物(B)の生成量は4.2面積%であった。
Comparative Example 3 Synthesis of Cyclaniliprole To a mixture of 1.11 g of Compound (V), 0.78 g of 3-picoline, and 13 mL of acetone, 1.09 g of Compound (IIIb) was slowly added dropwise in an ice bath. After the addition, the mixture was heated to room temperature and stirred overnight at the same temperature. The reaction was checked by HPLC, and it was found that 73.0% by area of Cyclaniliprole was produced. At that time, the amount of impurity (B) produced was 4.2% by area.

[比較例4]シクラニリプロールの合成
化合物(V)1.11g、3-ピコリン0.78g、アセトニトリル13mLの混合液に、氷浴下化合物(IIIb)1.09gをゆっくりと滴下した。滴下終了後に室温に昇温し、同温度で一晩撹拌した後にHPLCにて反応チェックを行ったところ、シクラニリプロールが57.7面積%で生成していた。その際に、不純物(B)の生成量は6.4面積%であった。
Comparative Example 4 Synthesis of Cyclaniliprole To a mixture of 1.11 g of compound (V), 0.78 g of 3-picoline, and 13 mL of acetonitrile, 1.09 g of compound (IIIb) was slowly added dropwise in an ice bath. After the addition, the mixture was warmed to room temperature and stirred overnight at the same temperature. The reaction was checked by HPLC, and it was found that 57.7% by area of cyclaniliprole was produced. At that time, the amount of impurity (B) produced was 6.4% by area.

実施例1~14では、不純物(A)は検出されなかった。さらに、このような本発明の方法により得られた化合物(I)から得られた、実施例9のシクラニリプロールは、比較例1~4とは異なり、不純物(B)の生成は確認されず、農薬原体としての規格を満たす高純度のシクラニリプロールの製造が可能であった。
なお、2020年3月25日に出願された日本特許出願2020-054157号の明細書、特許請求の範囲、及び要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。
Impurity (A) was not detected in Examples 1 to 14. Furthermore, unlike Comparative Examples 1 to 4, the cyclaniliprole of Example 9 obtained from compound (I) obtained by the method of the present invention did not show any generation of impurity (B), and it was possible to produce cyclaniliprole of high purity that satisfies the standard as an agricultural chemical raw material.
The entire contents of the specification, claims, and abstract of Japanese Patent Application No. 2020-054157 filed on March 25, 2020 are hereby incorporated by reference as the disclosure of the present specification.

Claims (8)

式(I)で表される化合物又はその塩:
Figure 0007633538000016
の製造方法であって、
式(II)で表される化合物又はその塩:
Figure 0007633538000017
と、式(III)で表される化合物又はその塩:
Figure 0007633538000018
[式(III)中、Rは、OH又はハロゲンである]
とを、縮合剤及び/又は塩基の存在中で反応させ、得られる式(I)で表される化合物又はその塩の純度が、95重量%以上であり、ただし、前記製造方法は連続プロセスを除く、製造方法。
A compound represented by formula (I) or a salt thereof:
Figure 0007633538000016
A method for producing
A compound represented by formula (II) or a salt thereof:
Figure 0007633538000017
and a compound represented by formula (III) or a salt thereof:
Figure 0007633538000018
[In formula (III), R is OH or halogen]
in the presence of a condensing agent and/or a base , and the purity of the compound represented by formula (I) or a salt thereof obtained is 95% by weight or more, provided that the production method does not include a continuous process .
Rが、OHである場合、式(II)で表される化合物又はその塩と、式(III)で表される化合物又はその塩とを、縮合剤及び塩基の存在中で反応させる、請求項1に記載の製造方法。 The method according to claim 1, wherein when R is OH, a compound represented by formula (II) or a salt thereof is reacted with a compound represented by formula (III) or a salt thereof in the presence of a condensing agent and a base. Rが、ハロゲンである場合、式(II)で表される化合物又はその塩と、式(III)で表される化合物又はその塩とを、塩基の存在中で反応させる、請求項1に記載の製造方法。 The method according to claim 1, wherein when R is a halogen, a compound represented by formula (II) or a salt thereof is reacted with a compound represented by formula (III) or a salt thereof in the presence of a base. 縮合剤が、塩化スルホニルである、請求項1又は2に記載の製造方法。 The method according to claim 1 or 2, wherein the condensing agent is a sulfonyl chloride. 塩基が、ピリジン、ピコリン、アルカリ金属の炭酸塩及びアルカリ金属の炭酸水素塩からなる群から選択される1種又は2種以上である、請求項1~4のいずれか一項に記載の製造方法。 The method according to any one of claims 1 to 4, wherein the base is one or more selected from the group consisting of pyridine, picoline, alkali metal carbonates, and alkali metal hydrogen carbonates. 得られる式(I)で表される化合物又はその塩以外に、不純物として含まれる下記式(A)で表される化合物又はその塩:
Figure 0007633538000019
の含有割合が、式(I)で表される化合物又はその塩及び式(A)で表される化合物又はその塩の合計量に対して、1重量%以下である、請求項1~のいずれか一項に記載の製造方法。
In addition to the compound represented by formula (I) or a salt thereof obtained, a compound represented by the following formula (A) or a salt thereof is contained as an impurity:
Figure 0007633538000019
The method according to any one of claims 1 to 5 , wherein the content of the compound represented by formula (I) or a salt thereof and the compound represented by formula (A) or a salt thereof is 1% by weight or less based on the total amount of the compound represented by formula (I) or a salt thereof.
得られる式(I)で表される化合物又はその塩以外に、不純物として、式(A)で表される化合物又はその塩:
Figure 0007633538000020
を実質的に含有しない、請求項1~のいずれか一項に記載の方法。
In addition to the compound represented by formula (I) or a salt thereof obtained, a compound represented by formula (A) or a salt thereof may be present as an impurity.
Figure 0007633538000020
The method according to any one of claims 1 to 5 , wherein the method is substantially free of
請求項1~のいずれか一項に記載の製造方法により式(I)で表される化合物又はその塩を製造し、前記製造方法で製造された式(I)で表される化合物又はその塩を、臭素化剤と反応させる、シクラニリプロールの製造方法。 A method for producing cyclaniliprole, comprising producing a compound represented by formula (I) or a salt thereof by the production method according to any one of claims 1 to 7 , and reacting the compound represented by formula (I) or a salt thereof produced by the production method with a brominating agent.
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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009013158A (en) 2006-12-15 2009-01-22 Ishihara Sangyo Kaisha Ltd Method for producing anthranilamido compound
JP2022513703A (en) 2018-12-03 2022-02-09 エフ エム シー コーポレーション Method for Producing N-Phenylpyrazole-1-Carboxamide

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI356822B (en) 2001-08-13 2012-01-21 Du Pont Novel substituted dihydro 3-halo-1h-pyrazole-5-car
TWI343376B (en) 2002-07-31 2011-06-11 Du Pont Method for preparing 3-halo-4, 5-dihydro-1h-pyrazoles
HRP20110021T1 (en) 2004-02-18 2011-03-31 Ishihara Sangyo Kaisha ANTRANYLAMIDES, THE PREPARATION OF THEIR PREPARATION AND THE CONTROLLERS OF THE DAMAGES CONTAINING THEM
TWI363756B (en) * 2004-12-07 2012-05-11 Du Pont Method for preparing n-phenylpyrazole-1-carboxamides
TWI395728B (en) 2006-12-06 2013-05-11 Du Pont Process for preparing 2-amino-5-cyanobenzoic acid derivatives
JP2009001541A (en) 2006-12-15 2009-01-08 Ishihara Sangyo Kaisha Ltd Method for producing anthranilamide compound using new pyrazole compound as intermediate
CN104496901B (en) * 2006-12-15 2016-05-25 石原产业株式会社 The manufacture method of anthranilamide compound
ZA200903986B (en) * 2006-12-15 2010-08-25 Ishihara Sangyo Kaisha Process for producing anthranilamide compound
JP2009023991A (en) 2007-06-20 2009-02-05 Ishihara Sangyo Kaisha Ltd Method for producing anthranilamide compound
CN101550130B (en) * 2008-04-01 2012-11-07 中国中化股份有限公司 Method for preparing 3-halo-1-(3-chloro -2-pyridyl)-1H-pyrazole-5-formyl halide
WO2019207595A1 (en) 2018-04-23 2019-10-31 Natco Pharma Limited An improved process for the preparation of anthranilamide derivatives

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009013158A (en) 2006-12-15 2009-01-22 Ishihara Sangyo Kaisha Ltd Method for producing anthranilamido compound
JP2022513703A (en) 2018-12-03 2022-02-09 エフ エム シー コーポレーション Method for Producing N-Phenylpyrazole-1-Carboxamide

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