Deprecated: The each() function is deprecated. This message will be suppressed on further calls in /home/zhenxiangba/zhenxiangba.com/public_html/phproxy-improved-master/index.php on line 456
JP7634483B2 - Analytical device and analytical system - Google Patents
[go: Go Back, main page]

JP7634483B2 - Analytical device and analytical system - Google Patents

Analytical device and analytical system Download PDF

Info

Publication number
JP7634483B2
JP7634483B2 JP2021565475A JP2021565475A JP7634483B2 JP 7634483 B2 JP7634483 B2 JP 7634483B2 JP 2021565475 A JP2021565475 A JP 2021565475A JP 2021565475 A JP2021565475 A JP 2021565475A JP 7634483 B2 JP7634483 B2 JP 7634483B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gas
measurement target
unit
measurement
section
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2021565475A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPWO2021124937A1 (en
JPWO2021124937A5 (en
Inventor
篤志 山本
賢弥 長澤
岳 大塚
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Horiba Ltd
Original Assignee
Horiba Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Horiba Ltd filed Critical Horiba Ltd
Publication of JPWO2021124937A1 publication Critical patent/JPWO2021124937A1/ja
Publication of JPWO2021124937A5 publication Critical patent/JPWO2021124937A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7634483B2 publication Critical patent/JP7634483B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/25Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
    • G01N21/31Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry
    • G01N21/35Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using infrared light
    • G01N21/3504Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using infrared light for analysing gases, e.g. multi-gas analysis
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/01Arrangements or apparatus for facilitating the optical investigation
    • G01N21/03Cuvette constructions
    • G01N21/031Multipass arrangements
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/25Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
    • G01N21/27Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands using photo-electric detection ; circuits for computing concentration
    • G01N21/274Calibration, base line adjustment, drift correction

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)

Description

本発明は、試料ガスに含まれる測定対象ガスを分析する分析装置及び分析システムに関する。 The present invention relates to an analytical device and an analytical system for analyzing a measurement target gas contained in a sample gas.

従来、試料ガスに測定光を照射し、試料ガスに含まれる測定対象ガスにより吸収された測定光の強度に基づいて測定対象ガスを分析する分析装置が知られている。この分析装置では、試料ガスは所定のセルに充填され、当該セルを通過した測定光の強度に基づいて分析が行われる。この分析装置では、セル内部以外の周囲環境(特に、セル内部以外の測定光の伝搬経路)を、測定対象ガス及び測定光に影響を及ぼすガスを含まないガス(以下、「パージガス」という。)で満たすのが一般的である。
また、試料ガスを通過した測定光の強度と、測定対象ガスを含まないガス(リファレンスガスと呼ばれる)を通過した測定光の強度と、の比較に基づいて測定対象ガスを分析する分析装置も知られている。
Conventionally, there is known an analyzer that irradiates a sample gas with a measurement light and analyzes the sample gas based on the intensity of the measurement light absorbed by the sample gas contained in the sample gas. In this analyzer, the sample gas is filled into a predetermined cell, and analysis is performed based on the intensity of the measurement light that passes through the cell. In this analyzer, the surrounding environment other than the inside of the cell (particularly, the propagation path of the measurement light other than the inside of the cell) is generally filled with a gas (hereinafter referred to as a "purge gas") that does not contain the sample gas and gas that affects the measurement light.
Analytical devices are also known that analyze a target gas based on a comparison between the intensity of measurement light that has passed through a sample gas and the intensity of measurement light that has passed through a gas that does not contain the target gas (called a reference gas).

上記の分析装置において、測定対象ガスを含まないパージガスは、例えば、ボンベから供給される。一方で、リファレンスガスは、例えば、測定対象ガスを除去可能な物質に空気などを通過させることで生成される。後者の具体例として、大気に含まれる二酸化炭素を測定対象ガスとする測定装置において、ゼオライト等の二酸化炭素吸着剤と、シリカゲルなどの極性物質を吸着する物質と、に試料ガス(大気)を通過させてリファレンスガスを生成する方法がある(例えば、特許文献1を参照)。In the above analytical device, a purge gas that does not contain the gas to be measured is supplied, for example, from a cylinder. On the other hand, a reference gas is generated, for example, by passing air or the like through a substance that can remove the gas to be measured. As a specific example of the latter, in a measurement device that uses carbon dioxide contained in the atmosphere as the gas to be measured, there is a method of generating a reference gas by passing a sample gas (air) through a carbon dioxide adsorbent such as zeolite and a substance that adsorbs polar substances such as silica gel (see, for example, Patent Document 1).

特開2016-14658号公報JP 2016-14658 A

パージガスにより分析装置をパージする際にパージガスをボンベから供給する方法を採用した場合には、ボンベを頻繁に交換する必要がある。なぜなら、一般的に、分析装置の周囲環境をパージして測定対象ガスが含まれない(あるいは、測定に影響を与えない程度に十分に濃度が低い)状態とするには、大量のパージガスを必要とするからである。ボンベの頻繁な交換は、ユーザの負担を増大させる。 When using a method in which the purge gas is supplied from a cylinder to purge an analyzer with purge gas, the cylinder must be replaced frequently. This is because a large amount of purge gas is generally required to purge the environment surrounding the analyzer so that it is free of the gas to be measured (or has a sufficiently low concentration that it does not affect the measurement). Frequent replacement of cylinders increases the burden on the user.

一方、リファレンスガスを用いた分析を行う際に吸着剤を用いて大気等から測定対象ガスを除去してリファレンスガスを生成する方法を採用した場合には、吸着剤を頻繁に交換する必要がある。この吸着剤の頻繁な交換はユーザの負担を増大させる。
また、特許文献1のように、複数のガスラインのそれぞれに吸着剤を配置しガスラインを切り替えてリファレンスガスを生成することで、吸着剤交換頻度を減少させる方法もあるが、この場合には装置構成及び装置制御が複雑となる。
On the other hand, when an analysis using a reference gas is performed using a method in which a gas to be measured is removed from the atmosphere or the like to generate a reference gas, the adsorbent must be replaced frequently, which increases the burden on users.
In addition, as described in Patent Document 1, there is a method of reducing the frequency of adsorbent replacement by placing an adsorbent in each of multiple gas lines and generating a reference gas by switching the gas lines, but in this case the device configuration and device control become complicated.

さらに、ゼオライト、シリカゲルを吸着剤として用いた場合には、ゼオライト、シリカゲルから吸着成分(二酸化炭素、水分)を除去するためにヒータなどの加熱装置を設ける必要があり、この場合も装置構成を複雑にする。 Furthermore, when zeolite or silica gel is used as an adsorbent, a heating device such as a heater must be provided to remove the adsorbed components (carbon dioxide, moisture) from the zeolite or silica gel, which also complicates the device configuration.

本発明の目的は、測定対象ガスを分析する分析装置において、パージガス、リファレンスガスなどの測定対象ガスを含まないガスを、ユーザの負担を増大させることなく供給可能とすることにある。 The object of the present invention is to enable an analytical device that analyzes a gas to be measured to supply gases that do not contain the gas to be measured, such as purge gas and reference gas, without increasing the burden on the user.

以下に、課題を解決するための手段として複数の態様を説明する。これら態様は、必要に応じて任意に組み合せることができる。
本発明の一見地に係る分析装置は、測定対象ガスを分析する装置である。分析装置は、充填部と、照射部と、伝搬部と、測定対象除去部と、を備える。充填部には、測定対象ガスを含む試料ガスが充填される。照射部は、充填部に向けて測定光を照射する。伝搬部は、充填部と照射部との間に設けられ、測定光が伝搬する伝搬空間を形成する。測定対象除去部は、気体から測定対象ガスを除去して伝搬空間をパージするためのパージガスを生成する気体分離膜を有する。
上記の分析装置では、測定光が充填部まで到達するまでに伝搬する伝搬空間をパージするパージガスが、気体分離膜を有する測定対象除去部により生成されている。これにより、パージガス供給用のボンベの頻繁な交換などユーザの負担を増大させる作業が不要となる。すなわち、ユーザの負担を増大させることなくパージガスの生成と供給が可能となる。
In the following, several aspects will be described as means for solving the problems. These aspects can be arbitrarily combined as necessary.
An analytical device according to one aspect of the present invention is a device for analyzing a measurement target gas. The analytical device includes a filling section, an irradiation section, a propagation section, and a measurement target removal section. The filling section is filled with a sample gas including a measurement target gas. The irradiation section irradiates measurement light toward the filling section. The propagation section is provided between the filling section and the irradiation section, and forms a propagation space through which the measurement light propagates. The measurement target removal section has a gas separation membrane that removes the measurement target gas from the gas and generates a purge gas for purging the propagation space.
In the above-mentioned analytical device, the purge gas for purging the propagation space through which the measurement light propagates until it reaches the filling section is generated by the measurement target removal section having a gas separation membrane. This eliminates the need for tasks that increase the burden on the user, such as frequent replacement of cylinders for supplying purge gas. In other words, it is possible to generate and supply purge gas without increasing the burden on the user.

分析装置は、検出部と、第1判定部と、をさらに備える。検出部は、パージガスによりパージされた伝搬空間を通過した測定光を検出する。第1判定部は、伝搬空間を通過することで測定対象ガス及び測定光に影響を及ぼすガスにより吸収された測定光の強度に基づいて、測定対象除去部の劣化を判定する。
これにより、測定対象ガスの分析と類似の方法により、簡便に測定対象除去部の劣化状態を判定できる。
The analysis device further includes a detection unit and a first determination unit. The detection unit detects the measurement light that has passed through the propagation space purged by the purge gas. The first determination unit determines deterioration of the measurement target removal unit based on the intensity of the measurement light absorbed by a gas that affects the measurement target gas and the measurement light by passing through the propagation space.
This makes it possible to easily determine the deterioration state of the measurement target removal unit by a method similar to that for analyzing the measurement target gas.

分析装置は、第2判定部をさらに備える。第2判定部は、測定対象除去部に供給する気体の圧力又は流量に基づいて、測定対象除去部の劣化を判定する。
これにより、測定対象除去部に供給する気体の圧力又は流量に影響を及ぼす「目詰まり」などを原因とした劣化(異常)が発生したか否かを判定できる。
The analytical device further includes a second determination unit that determines deterioration of the measurement target removal unit based on the pressure or flow rate of the gas supplied to the measurement target removal unit.
This makes it possible to determine whether deterioration (abnormality) has occurred due to "clogging" or the like that affects the pressure or flow rate of the gas supplied to the measurement target removal section.

分析装置は、通知部をさらに備える。通知部は、測定対象除去部に劣化があると判定されたことを通知する。これにより、測定対象除去部が劣化したことをユーザに通知できる。The analysis device further includes a notification unit. The notification unit notifies the user that the measurement target removal unit has been determined to be degraded. This allows the user to be notified that the measurement target removal unit has degraded.

分析装置は、筐体をさらに備える。筐体は、充填部と、照射部と、伝搬部と、を格納して外部空間と隔離する。これにより、測定対象ガスを分析するための構成要素を外部空間と隔離する構造を実現できる。The analytical device further includes a housing. The housing houses the filling section, the irradiation section, and the propagation section and isolates them from the outside space. This allows for a structure that isolates the components for analyzing the gas to be measured from the outside space.

気体分離膜は、気体から分離した窒素ガスをパージガスとする。これにより、パージガスとしての窒素ガスを、ユーザの負担を増加させることなく生成できる。The gas separation membrane separates the nitrogen gas from the gas and uses it as purge gas. This makes it possible to generate nitrogen gas as purge gas without increasing the burden on the user.

測定対象ガスは、二酸化炭素(CO)、一酸化炭素(CO)、メタン(CH)、二酸化硫黄(SO)、 アンモニア(NH)、窒素酸化物(NOx)、塩化水素(HCl)、水(HO)、エタン(C)、アセチレン(C)、プロパン(C)、エチレン(C)、ヘキサン(n-C14)、プロピレン(C)、硫化水素(HS)、イソブテン(i-C)、メタノール(CHOH)、ホスゲン(COCl)、ブタン(n-C10)、クロロエチレン(CCl)、亜硝酸メチル(CHONO)、シクロヘキサン(C12)、ブタジエン(C)、イソブタン(i-C10)、イソペンタン(i-C12)、トルエン(CCH)、水素(H)、フッ化水素(HF)、トリフルオロプロペン(C)である。これにより、上記を測定対象とする分析装置において、ユーザの負担を増大させることなくパージガスを生成できる。 The gases measured are carbon dioxide (CO 2 ), carbon monoxide (CO), methane (CH 4 ), sulfur dioxide (SO 2 ), ammonia (NH 3 ), nitrogen oxides (NOx), hydrogen chloride (HCl), water (H 2 O), ethane (C 2 H 6 ), acetylene (C 2 H 2 ), propane (C 3 H 8 ), ethylene (C 2 H 4 ), hexane (n-C 6 H 14 ), propylene (C 3 H 6 ), hydrogen sulfide (H 2 S), isobutene (i-C 4 H 8 ), methanol (CH 3 OH), phosgene (COCl 2 ), butane (n-C 4 H 10 ), chloroethylene (C 2 H 3 Cl), methyl nitrite (CH 3 ONO), cyclohexane (C 6 H 12 ), butadiene (C 4 H 6 ), isobutane (i-C 4 H 10 ), isopentane (i-C 5 H 12 ), toluene (C 6 H 5 CH 3 ), hydrogen (H 2 ), hydrogen fluoride (HF), and trifluoropropene (C 3 H 3 F 3 ). This allows the generation of purge gas without increasing the burden on the user in an analytical device that measures the above.

本発明の他の見地に係る分析システムは、上記の分析装置と、分析装置から出力される情報を報知する報知装置と、を備える。これにより、分析装置と、分析装置に関する情報を報知する報知装置と、を分離したシステムを実現できる。 An analysis system according to another aspect of the present invention includes the above-mentioned analysis device and an alarm device that notifies information output from the analysis device. This makes it possible to realize a system in which the analysis device and the alarm device that notifies information related to the analysis device are separated.

本発明のさらに他の見地に係る分析装置は、測定対象ガスを含む試料ガスを通過した測定光の強度と、測定対象ガスの分析の基準として用いられるリファレンスガスを通過した測定光の強度と、に基づいて測定対象ガスを分析する装置である。分析装置は、充填部と、照射部と、測定対象除去部と、を備える。
充填部には、試料ガス又はリファレンスガスを含むガスが充填される。照射部は、充填部に向けて測定光を照射する。測定対象除去部は、リファレンスガス生成用ガスから測定対象ガスを分離してリファレンスガスを生成する気体分離膜を有する。
上記の分析装置では、測定対象除去部は、リファレンスガス生成用ガスから測定対象ガスを分離してリファレンスガスを生成する気体分離膜を有する。この気体分離膜は長期間にわたり使用可能であるので、測定対象除去部の頻繁な交換が不要となる。その結果、測定対象ガスの分析におけるユーザの負担の増大を防止できる。
According to yet another aspect of the present invention, an analytical apparatus is an apparatus for analyzing a measurement target gas based on the intensity of measurement light passing through a sample gas containing the measurement target gas and the intensity of measurement light passing through a reference gas used as a standard for analysis of the measurement target gas. The analytical apparatus includes a filling unit, an irradiation unit, and a measurement target removal unit.
The filling section is filled with a gas including a sample gas or a reference gas. The irradiation section irradiates the filling section with a measurement light. The measurement target removal section has a gas separation membrane that separates the measurement target gas from the reference gas generation gas to generate the reference gas.
In the above analytical device, the measurement target removal unit has a gas separation membrane that separates the measurement target gas from the reference gas generation gas to generate the reference gas. Since this gas separation membrane can be used for a long period of time, frequent replacement of the measurement target removal unit is not required. As a result, it is possible to prevent an increase in the burden on the user in analyzing the measurement target gas.

また、測定対象除去部が長寿命であることにより、分析装置を、複数のガスラインを切り替えてリファレンスガスを生成するといった複雑な構成とする必要がなくなるとともに、分析装置の制御を簡便にできる。 In addition, because the measurement target removal section has a long life, it is no longer necessary to configure the analytical device in a complex manner, such as by switching between multiple gas lines to generate reference gas, and control of the analytical device can be simplified.

分析装置は、導入部をさらに備える。導入部は、試料ガスとリファレンスガスを充填部に交互に導入する。これにより、クロスフローモジュレーション方式の測定対象ガスの分析装置を実現できる。The analytical device further includes an introduction section. The introduction section alternately introduces the sample gas and the reference gas into the filling section. This makes it possible to realize a cross-flow modulation type analytical device for measuring the gas to be measured.

リファレンスガス生成用ガスは試料ガスである。これにより、測定対象となる試料ガスからより適切なリファレンスガスを生成できる。 The gas used to generate the reference gas is the sample gas. This allows a more appropriate reference gas to be generated from the sample gas to be measured.

リファレンスガス生成用ガスは、試料ガスとは異なる供給源から供給される空気である。これにより、測定対象除去部に供給されるリファレンスガス生成用ガスの条件を、容易に測定対象除去部の性能を十分に発揮できる適切な条件とできる。The reference gas generation gas is air supplied from a different source than the sample gas. This makes it easy to set the conditions of the reference gas generation gas supplied to the measurement target removal section to appropriate conditions that allow the measurement target removal section to fully demonstrate its performance.

分析装置は、検出部と、判定部と、をさらに備える。検出部は、充填部を通過した測定光を検出する。判定部は、リファレンスガスが充填された充填部を通過した測定光の強度に基づいて、測定対象除去部の劣化を判定する。
これにより、充填部に充填したガスを通過した測定光の強度に基づいて測定対象ガスを行うのと類似の方法により、簡便に測定対象除去部の劣化状態を判定できる。
The analytical device further includes a detection unit and a determination unit. The detection unit detects the measurement light that has passed through the filling unit. The determination unit determines deterioration of the measurement target removal unit based on the intensity of the measurement light that has passed through the filling unit filled with the reference gas.
This makes it possible to easily determine the deterioration state of the measurement target removal section by a method similar to that for the measurement target gas based on the intensity of measurement light that has passed through the gas filled in the filling section.

分析装置は、通知部をさらに備える。通知部は、測定対象除去部に劣化があると判定されたことを通知する。これにより、測定対象除去部が劣化したことをユーザに通知できる。The analysis device further includes a notification unit. The notification unit notifies the user that the measurement target removal unit has been determined to be degraded. This allows the user to be notified that the measurement target removal unit has degraded.

分析装置は、測定対象除去部を通過したガスから測定対象ガスを除去するスクラバーをさらに備える。これにより、スクラバーの寿命を延ばすことができる。The analytical device further includes a scrubber that removes the measurement target gas from the gas that has passed through the measurement target removal section. This makes it possible to extend the life of the scrubber.

測定対象ガスは、二酸化炭素(CO)、一酸化炭素(CO)、メタン(CH)、二酸化硫黄(SO)、 アンモニア(NH)、窒素酸化物(NOx)、塩化水素(HCl)、水(HO)、エタン(C)、アセチレン(C)、プロパン(C)、エチレン(C)、ヘキサン(n-C14)、プロピレン(C)、硫化水素(HS)、イソブテン(i-C)、メタノール(CHOH)、ホスゲン(COCl)、ブタン(n-C10)、クロロエチレン(CCl)、亜硝酸メチル(CHONO)、シクロヘキサン(C12)、ブタジエン(C)、イソブタン(i-C10)、イソペンタン(i-C12)、トルエン(CCH)、水素(H)、フッ化水素(HF)、トリフルオロプロペン(C)である。これにより、上記を測定対象とする分析装置において、ユーザの負担を増大させることなくパージガス、ゼロガスを生成できる。 The gases measured are carbon dioxide (CO 2 ), carbon monoxide (CO), methane (CH 4 ), sulfur dioxide (SO 2 ), ammonia (NH 3 ), nitrogen oxides (NOx), hydrogen chloride (HCl), water (H 2 O), ethane (C 2 H 6 ), acetylene (C 2 H 2 ), propane (C 3 H 8 ), ethylene (C 2 H 4 ), hexane (n-C 6 H 14 ), propylene (C 3 H 6 ), hydrogen sulfide (H 2 S), isobutene (i-C 4 H 8 ), methanol (CH 3 OH), phosgene (COCl 2 ), butane (n-C 4 H 10 ), chloroethylene (C 2 H 3 Cl), methyl nitrite (CH 3 ONO), cyclohexane (C 6 H 12 ), butadiene (C 4 H 6 ), isobutane (i-C 4 H 10 ), isopentane (i-C 5 H 12 ), toluene (C 6 H 5 CH 3 ), hydrogen (H 2 ), hydrogen fluoride (HF), and trifluoropropene (C 3 H 3 F 3 ). This allows the generation of purge gas and zero gas in an analyzer that measures the above gases without increasing the burden on the user.

測定対象ガスを分析する分析装置において、パージガス、リファレンスガスなどの測定対象ガスを含まないガスを、ユーザの負担を増大させることなく供給できる。 In an analytical device that analyzes a gas to be measured, gases that do not contain the gas to be measured, such as purge gas and reference gas, can be supplied without increasing the burden on the user.

第1実施形態に係る分析装置の構成を示す図。FIG. 1 is a diagram showing the configuration of an analysis device according to a first embodiment. 第1実施形態に係る制御部の具体的構成を示す図。FIG. 2 is a diagram showing a specific configuration of a control unit according to the first embodiment. 第1実施形態に係る分析装置の分析動作を示すフローチャート。4 is a flowchart showing an analysis operation of the analysis device according to the first embodiment. 第1実施形態に係る分析装置の校正動作を示すフローチャート。4 is a flowchart showing a calibration operation of the analyzer according to the first embodiment. 第1実施形態に係る分析装置の変形例を示す図。FIG. 13 is a diagram showing a modified example of the analysis device according to the first embodiment. 第2実施形態に係る分析装置の構成を示す図。FIG. 13 is a diagram showing the configuration of an analysis device according to a second embodiment. 第2実施形態に係る分析装置の分析動作を示すフローチャート。10 is a flowchart showing an analysis operation of an analysis device according to a second embodiment. 第2実施形態に係る分析装置の変形例1の構成を示す図。FIG. 13 is a diagram showing the configuration of a first modified example of the analysis device according to the second embodiment. 第2実施形態の変形例1に係る制御部の具体的構成を示す図。FIG. 13 is a diagram showing a specific configuration of a control unit according to a first modified example of the second embodiment. 第2実施形態の変形例1に係る分析装置における測定対象除去部の劣化の判定動作を示すフローチャート。13 is a flowchart showing the operation of determining deterioration of the measurement target removal unit in the analyzer according to the first modified example of the second embodiment. 第2実施形態に係る分析装置の変形例2の構成を示す図。FIG. 13 is a diagram showing the configuration of a second modified example of the analysis device according to the second embodiment.

1.第1実施形態
(1)分析装置の全体構成
以下、図1を用いて、第1実施形態に係る分析装置100を説明する。図1は、第1実施形態に係る分析装置の構成を示す図である。分析装置100は、例えば、煙道から発生する排ガスなどの試料ガスSGに含まれる測定対象ガスを分析する装置である。
分析装置100にて測定可能な測定対象ガスは、例えば、二酸化炭素(CO)、一酸化炭素(CO)、硫黄酸化物(SOx)(例えば、二酸化硫黄(SO))アンモニア(NH)、窒素酸化物(NOx)(例えば、一酸化窒素(NO)、二酸化窒素(NO)、亜酸化窒素(NO)など)、塩化水素(HCl)、水(HO)、各種炭化水素(例えば、メタン(CH)、エタン(C)、アセチレン(C)、プロパン(C)、エチレン(C)、ヘキサン(n-C14)、プロピレン(C)、イソブテン(i-C)、ブタン(n-C10、シクロヘキサン(C12)、ブタジエン(C)、イソブタン(i-C10)、イソペンタン(i-C12)、トルエン(CCH)など)、硫化水素(HS)、メタノール(CHOH)、ホスゲン(COCl)、クロロエチレン(CCl)、亜硝酸メチル(CHONO)、水素(H)、フッ化水素(HF)、トリフルオロプロペン(C)などである。測定対象ガスは1種類に限られず、上記のガスが複数含まれた混合ガスであってもよい。
1. First embodiment (1) Overall configuration of the analyzer An analyzer 100 according to the first embodiment will be described below with reference to Fig. 1. Fig. 1 is a diagram showing the configuration of the analyzer according to the first embodiment. The analyzer 100 is a device that analyzes a measurement target gas contained in a sample gas SG, such as an exhaust gas generated from a flue.
Examples of measurement target gases that can be measured by the analytical device 100 include carbon dioxide (CO 2 ), carbon monoxide (CO), sulfur oxides (SOx) (e.g., sulfur dioxide (SO 2 )), ammonia (NH 3 ), nitrogen oxides (NOx) (e.g., nitric oxide (NO), nitrogen dioxide (NO 2 ), nitrous oxide (N 2 O)), hydrogen chloride (HCl), water (H 2 O), various hydrocarbons (e.g., methane (CH 4 ), ethane (C 2 H 6 ), acetylene (C 2 H 2 ), propane (C 3 H 8 ), ethylene (C 2 H 4 ), hexane (n-C 6 H 14 ), propylene (C 3 H 6 ), isobutene (i-C 4 H 8 ), butane (n-C 4 H 10 ), cyclohexane (C 6 H 12 ) , butadiene (C 6 H 14 ), and the like. 4H6 ), isobutane (i- C4H10 ), isopentane ( i - C5H12 ), toluene ( C6H5CH3 ), etc.), hydrogen sulfide ( H2S), methanol (CH3OH ) , phosgene ( COCl2 ), chloroethylene ( C2H3Cl ), methyl nitrite ( CH3ONO ), hydrogen ( H2 ), hydrogen fluoride ( HF ), trifluoropropene ( C3H3F3 ), etc. The gas to be measured is not limited to one type , and may be a mixed gas containing two or more of the above gases.

また、後述するように、分析装置100は、測定対象ガスを分析するための構成要素を外部空間と隔離可能な構造を有しており、分析装置100の周囲環境に可燃性ガスが含まれている場合であっても、精度よく測定対象ガスを測定可能となっている。
図1に示すように、分析装置100は、筐体1と、充填部3と、照射部5と、伝搬部7と、測定対象除去部9と、制御部20と、を備える。
In addition, as described below, the analytical device 100 has a structure that allows the components for analyzing the target gas to be measured to be isolated from the external space, making it possible to accurately measure the target gas even if the environment surrounding the analytical device 100 contains flammable gas.
As shown in FIG. 1, the analysis device 100 includes a housing 1 , a filling unit 3 , an irradiation unit 5 , a propagation unit 7 , a measurement target removal unit 9 , and a control unit 20 .

(2)筐体
筐体1は、分析装置100の本体を構成し、その内部空間ISに充填部3と、照射部5と、伝搬部7と、を収納する。また、筐体1の内部空間ISには空気供給ライン11が設けられる。すなわち、本実施形態では、測定対象除去部9は、空気供給ライン11から供給される空気からパージガスを生成する。
空気供給ライン11は、空気供給部12に接続され、空気供給部12から供給される空気ARを、筐体1の内部空間ISに導入する。空気供給部12は、例えば、分析装置100の設置場所等に設けられ、当該設置場所において使用する計装用空気を供給する装置である。具体的には、空気供給部12は、空気ARを圧縮するコンプレッサと、空気ARに含まれるダスト、オイル等を除去する各種フィルタを備えるシステムである。
また、筐体1には、排出口13が設けられる。排出口13は、空気供給ライン11から供給された空気ARを外部に排出する。
(2) Housing The housing 1 constitutes the main body of the analysis device 100, and houses the filling unit 3, the irradiation unit 5, and the propagation unit 7 in its internal space IS. An air supply line 11 is also provided in the internal space IS of the housing 1. That is, in this embodiment, the measurement target removal unit 9 generates a purge gas from air supplied from the air supply line 11.
The air supply line 11 is connected to an air supply unit 12, and introduces the air AR supplied from the air supply unit 12 into the internal space IS of the housing 1. The air supply unit 12 is a device that is provided, for example, at the installation location of the analytical device 100, and supplies instrumentation air to be used at the installation location. Specifically, the air supply unit 12 is a system that includes a compressor that compresses the air AR, and various filters that remove dust, oil, and the like contained in the air AR.
Furthermore, the housing 1 is provided with an exhaust port 13. The exhaust port 13 exhausts the air AR supplied from the air supply line 11 to the outside.

なお、測定対象除去部9の出口(パージガス供給ライン77(後述))には、圧力計PR1が設けられていてもよい。圧力計PR1が測定するパージガスPG(すなわち、空気AR)の圧力は、例えば測定対象除去部9の「目詰まり」を監視するために使用できる。また、圧力計PR1に代えて、測定対象除去部9の出口にパージガスPG(すなわち、空気AR)の流量を測定する流量計を設けてもよい。さらに、圧力計PR1および上記の流量計の両方を、測定対象除去部9の出口に設けてもよい。圧力計PR1および流量計の少なくとも1つは、伝搬空間TS内に設けられてもよい。また、圧力計PR1および流量計の少なくとも1つは、空気供給部12と測定対象除去部9との間の空気供給ライン11に設けられてもよい。A pressure gauge PR1 may be provided at the outlet of the measurement object removal section 9 (purge gas supply line 77 (described later)). The pressure of the purge gas PG (i.e., air AR) measured by the pressure gauge PR1 can be used, for example, to monitor the "clogging" of the measurement object removal section 9. Also, instead of the pressure gauge PR1, a flow meter that measures the flow rate of the purge gas PG (i.e., air AR) may be provided at the outlet of the measurement object removal section 9. Furthermore, both the pressure gauge PR1 and the above-mentioned flow meter may be provided at the outlet of the measurement object removal section 9. At least one of the pressure gauge PR1 and the flow meter may be provided in the propagation space TS. Also, at least one of the pressure gauge PR1 and the flow meter may be provided in the air supply line 11 between the air supply section 12 and the measurement object removal section 9.

筐体1が上記構成を有することにより、第1実施形態に係る分析装置100では、空気供給ライン11から筐体1の内部空間ISに空気ARを供給しつつ、内部空間ISの空気ARを排出口13から排出させて、内部空間ISを空気ARでパージできる。その結果、内部空間ISを可燃性ガスなどの危険なガスを含まない空気雰囲気とするとともに、これらのガスが内部空間ISに進入しない構造を形成できる。 Because the housing 1 has the above-mentioned configuration, in the analysis device 100 according to the first embodiment, air AR is supplied from the air supply line 11 to the internal space IS of the housing 1, while the air AR in the internal space IS is exhausted from the exhaust port 13, thereby purging the internal space IS with air AR. As a result, the internal space IS is made into an air atmosphere that does not contain dangerous gases such as flammable gases, and a structure can be formed in which these gases do not enter the internal space IS.

(3)充填部
充填部3は、測定光L(後述)の吸収がほとんどない石英、フッ化カルシウム、フッ化バリウムなどの透明材質で構成され、試料ガスSGをその内部に充填できる。充填部3の試料ガスSGが充填される空間を、「サンプリング空間SS」と呼ぶ。試料ガスSGをサンプリング空間SSに充填するために、充填部3には、試料ガスSGをサンプリング空間SSに導入する入口31と、サンプリング空間SS内の試料ガスSGを排出するための出口32が設けられている。試料ガスSGに含まれる測定対象ガスの分析中、試料ガスSGは入口31からサンプリング空間SSに充填され、その後出口32から排出されるとのフローを継続する。
(3) Filling section The filling section 3 is made of a transparent material such as quartz, calcium fluoride, or barium fluoride that hardly absorbs the measurement light L (described later), and the sample gas SG can be filled inside. The space in the filling section 3 where the sample gas SG is filled is called the "sampling space SS." In order to fill the sampling space SS with the sample gas SG, the filling section 3 is provided with an inlet 31 for introducing the sample gas SG into the sampling space SS, and an outlet 32 for discharging the sample gas SG from the sampling space SS. During analysis of the measurement target gas contained in the sample gas SG, the sample gas SG continues to fill the sampling space SS from the inlet 31 and then be discharged from the outlet 32.

また、サンプリング空間SSには、第1反射部材33aと第2反射部材33bが設けられる。第1反射部材33a及び第2反射部材33bは、サンプリング空間SSに入射した測定光Lを多重反射させた後、伝搬部7の伝搬空間TS(後述)に向けて伝搬させる。これにより、サンプリング空間SSに充填された試料ガスSGを通過する測定光Lの光路長を大きくできる。 In addition, a first reflecting member 33a and a second reflecting member 33b are provided in the sampling space SS. The first reflecting member 33a and the second reflecting member 33b cause multiple reflection of the measurement light L incident on the sampling space SS, and then propagate the measurement light L toward the propagation space TS (described later) of the propagation section 7. This makes it possible to increase the optical path length of the measurement light L passing through the sample gas SG filled in the sampling space SS.

第1反射部材33aは、サンプリング空間SSにおいて伝搬部7に近い位置に設けられる。第1反射部材33aは、測定光Lを反射させるとともに、測定光Lを第2反射部材33bに向けて伝搬させる。また、多重反射した測定光Lを伝搬部7に向けて伝搬させる。従って、第1反射部材33aは、例えば、ハーフミラーなどの光を反射可能であるとともに、光の一部を透過可能である部材である。The first reflecting member 33a is provided at a position close to the propagation section 7 in the sampling space SS. The first reflecting member 33a reflects the measurement light L and propagates the measurement light L toward the second reflecting member 33b. The first reflecting member 33a also propagates the multiple-reflected measurement light L toward the propagation section 7. Therefore, the first reflecting member 33a is a member that can reflect light, such as a half mirror, and can transmit a portion of the light.

第2反射部材33bは、サンプリング空間SSにおいて伝搬部7から離れた位置に設けられる。第2反射部材33bは、測定光Lを第1反射部材33aに向けて反射させる。第2反射部材33bは第1反射部材33aと異なり光を透過可能でなくてもよいので、第2反射部材33bとしては、例えば、ミラーを使用できる。The second reflecting member 33b is provided at a position away from the propagation section 7 in the sampling space SS. The second reflecting member 33b reflects the measurement light L toward the first reflecting member 33a. Unlike the first reflecting member 33a, the second reflecting member 33b does not need to be able to transmit light, so for example, a mirror can be used as the second reflecting member 33b.

(4)照射部
照射部5は、測定光Lを発生させる。照射部5から発生した測定光Lは、伝搬部7によって充填部3に導かれる。本実施形態に係る照射部5は、複数の光源51a~51dにより構成される。複数の光源51a~51dは、それぞれ、波長領域が異なる複数の要素光L1~L4を出力する。複数の光源51a~51dは、例えば、半導体レーザ装置などのレーザ発振器である。
(4) Irradiation Unit The irradiation unit 5 generates measurement light L. The measurement light L generated from the irradiation unit 5 is guided to the filling unit 3 by the propagation unit 7. The irradiation unit 5 according to this embodiment is composed of multiple light sources 51a to 51d. The multiple light sources 51a to 51d output multiple element light beams L1 to L4 having different wavelength regions, respectively. The multiple light sources 51a to 51d are, for example, laser oscillators such as semiconductor laser devices.

後述するように、複数の光源51a~51dから発生した要素光L1~L4は、伝搬部7の伝搬空間TS内で多重化されて、測定光Lとして充填部3に向けて伝搬する。すなわち、測定光Lは、波長領域が異なる複数の要素光L1~L4により構成される。測定光Lが複数の要素光L1~L4のより構成されることにより、例えば、各要素光L1~L4の波長領域に対して吸収ピークを有する測定対象ガスを複数種類測定できる。As described below, the element light beams L1 to L4 generated from the multiple light sources 51a to 51d are multiplexed in the propagation space TS of the propagation section 7 and propagate toward the filling section 3 as the measurement light beam L. That is, the measurement light beam L is composed of multiple element light beams L1 to L4 having different wavelength regions. By having the measurement light beam L composed of multiple element light beams L1 to L4, it is possible to measure, for example, multiple types of measurement target gases that have absorption peaks in the wavelength regions of each of the element light beams L1 to L4.

測定光Lが複数の要素光L1~L4のより構成されることにより、例えば、1つの測定対象ガスに対する干渉ガス成分の影響を測定することもできる。干渉ガス成分は、測定対象ガスの吸収ピークの一部と同一か又は類似の位置に吸収ピークを有する結果、測定対象ガスの分析結果に影響を与える成分をいう。干渉ガス成分の影響を測定できれば、検出部75(後述)にて受光した測定光Lの測定結果から干渉ガス成分の影響を除去して、精度よく測定対象ガスを分析できる。なお、「除去」の意味は、干渉ガス成分の影響を全く受けないようにする以外にも、影響の程度を除去前と比べて低減させることも含む意味である。 By configuring the measurement light L from multiple element lights L1 to L4, it is also possible to measure, for example, the influence of interference gas components on one measurement target gas. An interference gas component is a component that has an absorption peak at the same or similar position as part of the absorption peak of the measurement target gas, and as a result, affects the analysis result of the measurement target gas. If the influence of the interference gas component can be measured, the influence of the interference gas component can be removed from the measurement result of the measurement light L received by the detection unit 75 (described later), and the measurement target gas can be analyzed with high accuracy. Note that the meaning of "removal" includes not only eliminating the influence of the interference gas component at all, but also reducing the degree of influence compared to before removal.

(5)伝搬部
伝搬部7は、充填部3と照射部5との間に設けられる。具体的には、図1に示すように、伝搬部7はL字形状を有しており、L字の一辺に対応する部分に複数の光源51a~51dが一部挿入された状態で固定される。一方、伝搬部7のL字の他の一辺の端部に、光学窓Wを介して、充填部3が固定される。なお、充填部3と伝搬部7との固定は、例えば、フランジFを用いて実現できる。
(5) Propagation Section The propagation section 7 is provided between the filling section 3 and the irradiation section 5. Specifically, as shown in Fig. 1, the propagation section 7 has an L-shape, and a plurality of light sources 51a to 51d are fixed in a state in which they are partially inserted into a portion corresponding to one side of the L-shape. Meanwhile, the filling section 3 is fixed to an end of the other side of the L-shape of the propagation section 7 via an optical window W. The filling section 3 and the propagation section 7 can be fixed together, for example, by using a flange F.

また、伝搬部7の内部空間には複数のミラーが配置されている。照射部5から出力された要素光L1~L4は、これらミラーにより伝搬経路を変えられて、充填部3まで伝搬する。すなわち、測定光Lは、伝搬部7の内部空間を、少なくとも1つのミラーに反射しつつ伝搬する。以後、測定光Lが伝搬する伝搬部7の内部空間を「伝搬空間TS」と呼ぶ。 In addition, multiple mirrors are arranged in the internal space of the propagation section 7. The element light L1 to L4 output from the irradiation section 5 has its propagation path changed by these mirrors and propagates to the filling section 3. In other words, the measurement light L propagates through the internal space of the propagation section 7 while being reflected by at least one mirror. Hereinafter, the internal space of the propagation section 7 through which the measurement light L propagates is referred to as the "propagation space TS."

伝搬空間TSには、具体的には、第1ミラー71aと、第2ミラー71bと、第3ミラー71cと、第4ミラー71dと、第5ミラー71eと、が配置されている。また、伝搬空間TSには、第1光学素子73aと、第2光学素子73bと、第3光学素子73cと、が配置されている。
第1ミラー71aは、要素光L1を、第1光学素子73aに向けて反射させる。第1光学素子73aは、要素光L1を反射するとともに、要素光L2を透過させる。すなわち、第1光学素子73aは、要素光L1と要素光L2とを多重化する。第1光学素子73aにより多重化された要素光L1と要素光L2とは、同じ光路上を通って第2ミラー71bに向かう。
Specifically, a first mirror 71 a, a second mirror 71 b, a third mirror 71 c, a fourth mirror 71 d, and a fifth mirror 71 e are arranged in the propagation space TS, and a first optical element 73 a, a second optical element 73 b, and a third optical element 73 c are arranged in the propagation space TS.
The first mirror 71a reflects the element light L1 toward the first optical element 73a. The first optical element 73a reflects the element light L1 and transmits the element light L2. That is, the first optical element 73a multiplexes the element light L1 and the element light L2. The element light L1 and the element light L2 multiplexed by the first optical element 73a travel along the same optical path toward the second mirror 71b.

第2ミラー71bは、第1光学素子73aにて多重化された要素光L1と要素光L2とを、第2光学素子73bに向けて反射させる。第2光学素子73bは、多重化された要素光L1と要素光L2とを反射するとともに、要素光L3を透過させる。すなわち、第2光学素子73bは、要素光L1と要素光L2と要素光L3とを多重化する。第2光学素子73bにより多重化された要素光L1~L3は、同じ光路上を通って第3ミラー71cに向かう。The second mirror 71b reflects the element light L1 and element light L2 multiplexed by the first optical element 73a toward the second optical element 73b. The second optical element 73b reflects the multiplexed element light L1 and element light L2, and transmits element light L3. In other words, the second optical element 73b multiplexes the element light L1, element light L2, and element light L3. The element light L1 to L3 multiplexed by the second optical element 73b travel along the same optical path toward the third mirror 71c.

第3ミラー71cは、第2光学素子73bにて多重化された要素光L1~L3を、第3光学素子73cに向けて反射させる。第3光学素子73cは、多重化された要素光L1~L3を反射するとともに、要素光L4を透過させる。すなわち、第3光学素子73cは、要素光L1と要素光L2と要素光L3と要素光L4とを多重化する。第3光学素子73cにより多重化された要素光L1~L4は、同じ光路上を通って第4ミラー71dに向かう。The third mirror 71c reflects the element light L1 to L3 multiplexed by the second optical element 73b toward the third optical element 73c. The third optical element 73c reflects the multiplexed element light L1 to L3 and transmits element light L4. That is, the third optical element 73c multiplexes element light L1, element light L2, element light L3, and element light L4. The element light L1 to L4 multiplexed by the third optical element 73c travels along the same optical path toward the fourth mirror 71d.

第4ミラー71dは、第3光学素子73cにて多重化された要素光L1~L4を、第5ミラー71eに向けて反射する。上記のようにして多重化された要素光L1~L4が、測定光Lとなる。The fourth mirror 71d reflects the element light L1 to L4 multiplexed by the third optical element 73c toward the fifth mirror 71e. The element light L1 to L4 multiplexed in the manner described above becomes the measurement light L.

第5ミラー71eは、要素光L1~L4が多重化された測定光Lの伝搬経路を、充填部3の配置方向に変更する。第5ミラー71eにより伝搬経路が変更された測定光Lは、光学窓Wを通過して、充填部3のサンプリング空間SS内に伝搬する。これらのミラーは、伝搬空間TS内に設けられているため、外部からの不要なガスの流入を防いで、ミラーの状態を清浄な状態とできる。 The fifth mirror 71e changes the propagation path of the measurement light L, which is the multiplexed light components L1 to L4, to the direction of arrangement of the filling section 3. The measurement light L, whose propagation path has been changed by the fifth mirror 71e, passes through the optical window W and propagates into the sampling space SS of the filling section 3. These mirrors are provided within the propagation space TS, which prevents the inflow of unnecessary gas from the outside and keeps the mirrors in a clean state.

また、伝搬部7の伝搬空間TSには、検出部75が配置される。検出部75は、サンプリング空間SSに入射し多重反射された測定光Lを検出する。検出部75としては、例えば、サーモパイルなどの熱型の光検出素子、半導体検出素子、量子型光電素子などを用いることができる。また、伝搬空間TS内をパージガスPGを用いてパージすることで、伝搬空間TS内でパージガスが流通し、伝搬空間内に設けられた検出部75の状態を清浄な状態とできる。
なお、図1に示すように、伝搬空間TSには、サンプリング空間SSで多重反射して伝搬部7に戻ってきた測定光Lの伝搬経路を、検出部75の配置方向に変更する第6ミラー71fが設けられる。
A detection unit 75 is disposed in the propagation space TS of the propagation unit 7. The detection unit 75 detects the measurement light L that is incident on the sampling space SS and is multiple-reflected. For example, a thermal type photodetection element such as a thermopile, a semiconductor detection element, or a quantum type photoelectric element can be used as the detection unit 75. Furthermore, by purging the propagation space TS with a purge gas PG, the purge gas flows in the propagation space TS, and the state of the detection unit 75 provided in the propagation space can be made clean.
As shown in FIG. 1, a sixth mirror 71f is provided in the propagation space TS to change the propagation path of the measurement light L that has been multiple-reflected in the sampling space SS and returned to the propagation section 7, toward the direction in which the detection section 75 is disposed.

また、伝搬部7は、パージガス供給ライン77と、パージガス排出口79と、を有する。パージガス供給ライン77は、測定対象除去部9に接続され、測定対象除去部9により生成されたパージガスPGを伝搬空間TSに導入する。パージガス排出口79は、伝搬空間TSに導入されたパージガスPGを、筐体1の内部空間ISに排出する。
伝搬部7にパージガス供給ライン77とパージガス排出口79とを設けることで、第1実施形態に係る分析装置100では、パージガス供給ライン77から伝搬部7の伝搬空間TSにパージガスPGを導入しつつ、伝搬空間TSのパージガスPGをパージガス排出口79から排出させて、伝搬空間TSをパージガスPGでパージできる。
The propagation part 7 also has a purge gas supply line 77 and a purge gas exhaust port 79. The purge gas supply line 77 is connected to the measurement target removal part 9 and introduces the purge gas PG generated by the measurement target removal part 9 into the propagation space TS. The purge gas exhaust port 79 exhausts the purge gas PG introduced into the propagation space TS into the internal space IS of the housing 1.
By providing a purge gas supply line 77 and a purge gas exhaust port 79 in the propagation section 7, in the analytical apparatus 100 of the first embodiment, purge gas PG can be introduced from the purge gas supply line 77 into the propagation space TS of the propagation section 7 while the purge gas PG in the propagation space TS is exhausted from the purge gas exhaust port 79, thereby purging the propagation space TS with the purge gas PG.

後述するように、パージガスPGは空気ARから測定対象ガスが除去されたガスであるので、伝搬空間TSをパージガスPGでパージすることにより、照射部5から充填部3まで伝搬する間に測定光Lが測定対象ガスにより吸収されることを抑制できる。また、伝搬空間TS内をパージガスPGを用いてパージすることで、伝搬空間TS内でパージガスPGが流通し、伝搬空間TS内に設けられた複数のミラーの状態を清浄な状態とできる。As described below, the purge gas PG is a gas in which the measurement target gas has been removed from the air AR, so purging the propagation space TS with the purge gas PG can prevent the measurement light L from being absorbed by the measurement target gas while propagating from the irradiation section 5 to the filling section 3. In addition, purging the propagation space TS with the purge gas PG allows the purge gas PG to flow within the propagation space TS, and the state of the multiple mirrors provided within the propagation space TS can be kept clean.

(6)測定対象除去部
測定対象除去部9は、パージガス供給ライン77に設けられ、空気供給部12から供給される空気ARから測定対象ガスを除去して、パージガスPGを生成する。
測定対象除去部9は、例えば、ポリイミドの中空糸膜、気体分離膜を中空部材に充填した「Nセパレータ」と呼ばれる部材である。Nセパレータは、中空糸膜、気体分離膜に圧縮空気を導入することで、導入した空気を、窒素リッチなガス(すなわち、窒素ガス以外の成分をほとんど含まないガス)と酸素リッチなガス(すなわち、空気ARから窒素を除いた残りのガス)に分離する。Nセパレータである測定対象除去部9は、窒素リッチなガスをパージガスPGとしてパージガス供給ライン77に排出する一方、酸素リッチなガスを外部(筐体1の内部空間IS)に排出する。
(6) Measurement Target Removal Unit The measurement target removal unit 9 is provided on the purge gas supply line 77, and removes the measurement target gas from the air AR supplied from the air supply unit 12, to generate a purge gas PG.
The measurement target removal unit 9 is, for example, a member called an "N 2 separator" in which a hollow member is filled with a polyimide hollow fiber membrane or a gas separation membrane. The N 2 separator separates the introduced air into a nitrogen-rich gas (i.e., a gas containing almost no components other than nitrogen gas) and an oxygen-rich gas (i.e., the remaining gas after removing nitrogen from the air AR) by introducing compressed air into the hollow fiber membrane or the gas separation membrane. The measurement target removal unit 9, which is an N 2 separator, discharges the nitrogen-rich gas to the purge gas supply line 77 as a purge gas PG, while discharging the oxygen-rich gas to the outside (the internal space IS of the housing 1).

上記中空糸膜は、例えば、ポリイミド、ポリアミド、ポリスルホン、酢酸セルロースとその誘導体、ポリフェニレンオキシド、ポリシロキサン、それ自体でミクロ多孔性のポリマー、混合マトリックス膜、促進輸送膜、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド、炭素膜、ゼオライト、又はこれらの混合物にて構成されている。The hollow fiber membrane may be composed of, for example, polyimide, polyamide, polysulfone, cellulose acetate and its derivatives, polyphenylene oxide, polysiloxane, a polymer that is itself microporous, a mixed matrix membrane, a facilitated transport membrane, polyethylene oxide, polypropylene oxide, a carbon membrane, a zeolite, or a mixture thereof.

セパレータの中空糸膜、気体分離膜により分離される窒素リッチなガスには、測定対象ガスもほとんど含まれない。すなわち、Nセパレータは、空気から測定対象ガスを分離して、測定対象ガスを含まない窒素リッチなガスをパージガスPGとして生成できる。
さらに、Nセパレータは、水分も分離可能であるので、分析結果が水分の影響を受ける測定対象ガスを分析する装置に対しても適用できる。
The nitrogen-rich gas separated by the hollow fiber membrane and gas separation membrane of the N2 separator contains almost no target gas. In other words, the N2 separator separates the target gas from the air and generates a nitrogen-rich gas that does not contain the target gas as the purge gas PG.
Furthermore, since the N 2 separator can also separate moisture, it can also be applied to devices that analyze measurement target gases whose analysis results are affected by moisture.

セパレータにおいては、導入する圧縮空気が汚染されていない限り、空気から窒素リッチなガスと酸素リッチなガスを分離する機能が長時間劣化しない。そのため、測定対象除去部9としてNセパレータを用いることにより、測定対象除去部9の交換はほぼ必要なくなる。 In the N2 separator, as long as the compressed air introduced is not contaminated, the function of separating nitrogen-rich gas and oxygen-rich gas from the air does not deteriorate for a long time. Therefore, by using an N2 separator as the measurement target removal unit 9, replacement of the measurement target removal unit 9 is almost unnecessary.

図1に示すように、本実施形態において、測定対象除去部9は、筐体1の内部空間ISに配置されている。これにより、例えば、空気供給部12から供給された空気ARを導入して内部空間ISを空気ARでパージする代わりに、 セパレータである測定対象除去部9から排出される酸素リッチなガスと、パージガス排出口79から排出される窒素リッチなガスと、を内部空間ISに導入して、実質的に空気ARで内部空間ISをパージすることもできる。
1, in this embodiment, the measurement target removal unit 9 is disposed in the internal space IS of the housing 1. As a result, for example, instead of introducing air AR supplied from the air supply unit 12 to purge the internal space IS with the air AR, it is also possible to introduce an oxygen -rich gas discharged from the measurement target removal unit 9, which is an N2 separator, and a nitrogen-rich gas discharged from a purge gas outlet 79 into the internal space IS, thereby substantially purging the internal space IS with the air AR.

しかし、上記に限られず、例えば、筐体1の外部に酸素リッチなガスを排出しても安全上問題とならない場合、筐体1の外部に配置しても測定対象除去部9の本体(中空糸膜、気体分離膜、薬剤などを充填する中空部材)が損傷を受けない場合などには、測定対象除去部9を筐体1の外部に配置してもよい。 However, this is not limited to the above, and for example, in cases where discharging oxygen-rich gas outside the housing 1 does not pose a safety issue, or where the main body of the measurement target removal unit 9 (hollow fiber membrane, gas separation membrane, hollow member filled with pharmaceuticals, etc.) will not be damaged even if it is placed outside the housing 1, the measurement target removal unit 9 may be placed outside the housing 1.

(7)制御部
制御部20は、CPU、記憶装置(例えば、RAM、ROMなどの記憶装置)、各種インタフェースにより構成されるコンピュータシステムである。制御部20は、上記各装置を個別に備えたシステムであってもよいし、上記各装置を1つのチップに集積したSoC(System on Chip)であってもよい。制御部20は、分析装置100の構成要素を制御する。また、検出部75にて検出された測定光Lの強度に基づいて、分析装置100の校正、測定対象ガスの分析を行う。
以下、図2を用いて、制御部20の具体的構成を説明する。図2は、第1実施形態に係る制御部の具体的構成を示す図である。制御部20は、分析部201と、第1判定部203と、通知部205と、を主に有する。なお、制御部20の上記各部の機能の一部又は全部は、制御部20を構成するコンピュータシステムの記憶装置に記憶されたプログラムを実行することで実現される。また、上記各部の機能の一部は、ハードウェア的に実現されてもよい。
(7) Control Unit The control unit 20 is a computer system including a CPU, a storage device (e.g., a storage device such as a RAM or a ROM), and various interfaces. The control unit 20 may be a system including each of the above devices individually, or may be a SoC (System on Chip) in which the above devices are integrated on a single chip. The control unit 20 controls the components of the analysis device 100. In addition, the control unit 20 calibrates the analysis device 100 and analyzes the gas to be measured based on the intensity of the measurement light L detected by the detection unit 75.
Hereinafter, a specific configuration of the control unit 20 will be described with reference to Fig. 2. Fig. 2 is a diagram showing a specific configuration of the control unit according to the first embodiment. The control unit 20 mainly includes an analysis unit 201, a first determination unit 203, and a notification unit 205. Note that some or all of the functions of the above-mentioned units of the control unit 20 are realized by executing a program stored in a storage device of a computer system constituting the control unit 20. Also, some of the functions of the above-mentioned units may be realized by hardware.

分析部201は、充填部3に充填した試料ガスSGに含まれる測定対象ガスの分析を実行する。具体的には、分析部201は、照射部5(光源51a~51d)を制御して測定光Lを充填部3のサンプリング空間SSに向けて照射させ、検出部75が測定光Lを検出することにより出力する信号を受信する。
分析部201は、測定対象ガスを含まない基準のガス(基準ガスと呼ぶ)が充填されたサンプリング空間SSを通過後の測定光Lの各波長領域における強度と、試料ガスSGが充填されたサンプリング空間SSを通過後の測定光Lの各波長領域における強度と、に基づいて測定対象ガスを分析する。例えば、分析部201は、試料ガスSGに含まれる測定対象ガスの濃度を算出する。
The analysis unit 201 performs an analysis of the measurement target gas contained in the sample gas SG filled in the filling unit 3. Specifically, the analysis unit 201 controls the irradiation unit 5 (light sources 51a to 51d) to irradiate the measurement light L toward the sampling space SS in the filling unit 3, and receives a signal output by the detection unit 75 upon detecting the measurement light L.
The analysis unit 201 analyzes the target gas based on the intensity in each wavelength region of the measurement light L after passing through a sampling space SS filled with a reference gas (referred to as a reference gas) that does not contain the target gas, and the intensity in each wavelength region of the measurement light L after passing through a sampling space SS filled with a sample gas SG. For example, the analysis unit 201 calculates the concentration of the target gas contained in the sample gas SG.

なお、基準ガスが充填されたサンプリング空間SSを通過後の測定光Lの強度は、分析の基準となる測定光Lの強度(基準強度と呼ぶ)として、分析装置100の校正時に取得され、上記記憶装置に記憶される。あるいは、基準強度を分析装置100の出荷時、据付時等に取得して記憶装置に記憶してもよい。また、基準ガスは、例えば、ボンベ等から供給された窒素ガスである。The intensity of the measurement light L after passing through the sampling space SS filled with the reference gas is acquired as the intensity of the measurement light L (called the reference intensity) that serves as the basis for analysis when the analysis device 100 is calibrated, and is stored in the storage device. Alternatively, the reference intensity may be acquired when the analysis device 100 is shipped or installed, and stored in the storage device. The reference gas is, for example, nitrogen gas supplied from a cylinder or the like.

第1判定部203は、伝搬空間TSを通過することで測定対象ガス及び測定光Lに影響を及ぼすガスにより吸収された測定光Lの強度に基づいて、測定対象除去部9の劣化を判定する。具体的には、第1判定部203は、基準ガスを充填部3に充填しつつ検出部75にて測定光Lを検出する校正動作時に取得した基準強度と、分析装置100の出荷時、据付時等、又は、測定対象除去部9の交換時に取得した基準強度と、の比較に基づいて、測定対象除去部9が劣化しているか否かを判定する。The first determination unit 203 determines deterioration of the measurement target removal unit 9 based on the intensity of the measurement light L absorbed by a gas that affects the measurement target gas and the measurement light L by passing through the propagation space TS. Specifically, the first determination unit 203 determines whether the measurement target removal unit 9 has deteriorated based on a comparison between a reference intensity obtained during a calibration operation in which the measurement light L is detected by the detection unit 75 while filling the filling unit 3 with a reference gas, and a reference intensity obtained when the analysis device 100 is shipped, installed, etc., or when the measurement target removal unit 9 is replaced.

測定対象除去部9が劣化していない状態であれば、パージガスPGには測定対象ガスはほとんど含まれない。従って、基準ガスを充填部3のサンプリング空間SS’に充填して取得した測定光Lの強度は、現在と過去でほぼ同じとなる。
その一方、測定対象除去部9が劣化している場合には、空気ARから測定対象ガスを除去する能力が低下するので、パージガスPGに測定対象ガスが含まれるようになる。その結果、伝搬空間TSを伝搬する間に測定光LがパージガスPGに含まれる測定対象ガスによって吸収され、基準ガスを充填部3のサンプリング空間SS’に充填して取得した測定光Lの強度が、現在と過去で異なる。具体的には、現在の強度が過去の強度よりも小さくなる。
If the measurement target removal unit 9 is not deteriorated, the purge gas PG contains almost no measurement target gas. Therefore, the intensity of the measurement light L obtained by filling the sampling space SS' of the filling unit 3 with the reference gas is approximately the same at present as it was in the past.
On the other hand, when the measurement target removal unit 9 is deteriorated, the ability to remove the measurement target gas from the air AR decreases, so that the measurement target gas is contained in the purge gas PG. As a result, the measurement light L is absorbed by the measurement target gas contained in the purge gas PG while propagating through the propagation space TS, and the intensity of the measurement light L obtained by filling the sampling space SS' of the filling unit 3 with the reference gas differs between the present and the past. Specifically, the present intensity becomes smaller than the past intensity.

上記の原理を利用して、第1判定部203は、基準ガスを充填部3のサンプリング空間SSに充填したときに取得した測定光Lの強度が、過去に基準ガスを充填部3のサンプリング空間SSに充填して取得した測定光Lの強度よりも所定の強度以上低下したら、測定対象除去部9が劣化したと判定できる。 Using the above principle, the first judgment unit 203 can judge that the measurement target removal unit 9 has deteriorated if the intensity of the measurement light L obtained when the reference gas is filled into the sampling space SS of the filling unit 3 decreases by a predetermined intensity or more compared to the intensity of the measurement light L obtained in the past when the reference gas was filled into the sampling space SS of the filling unit 3.

第1判定部203は、測定対象除去部9が劣化していると判定した場合、当該判定結果を通知部205に通知する。 If the first judgment unit 203 judges that the measurement target removal unit 9 is degraded, it notifies the notification unit 205 of the judgment result.

通知部205は、第1判定部203において測定対象除去部9が劣化しているとの判定結果を受信したときに、測定対象除去部9が劣化していることを通知する。具体的には、通知部205は、測定対象除去部9が劣化していると判定された場合に、報知装置30を動作させる信号を出力する。報知装置30は、例えば、音を発する装置(スピーカー)、警告灯、画面(ディスプレイ)に画像を表示する装置などである。このように、報知装置30は、分析装置100から出力される情報を報知する装置である。When the notification unit 205 receives a judgment result from the first judgment unit 203 that the measurement target removal unit 9 is degraded, the notification unit 205 notifies that the measurement target removal unit 9 is degraded. Specifically, when the notification unit 205 judges that the measurement target removal unit 9 is degraded, it outputs a signal to operate the alarm device 30. The alarm device 30 is, for example, a device that emits sound (speaker), a warning light, a device that displays an image on a screen (display), etc. In this way, the alarm device 30 is a device that notifies information output from the analysis device 100.

なお、報知装置30を分析装置100とは個別の装置として、分析システムとすることもできる。報知装置30と分析装置100とを個別の装置とすることで、例えば、分析装置100の設置場所とは異なる場所に報知装置30を設置することができる。The alarm device 30 can be a separate device from the analysis device 100 to form an analysis system. By making the alarm device 30 and the analysis device 100 separate devices, for example, the alarm device 30 can be installed in a location different from the location where the analysis device 100 is installed.

圧力計PR1が設けられる場合、制御部20は第2判定部207を有してもよい。第2判定部207は、圧力計PR1により測定された圧力を監視し、測定された圧力が通常の圧力(例えば、測定対象除去部9が、目詰まり等なく正常に動作している場合の圧力)よりも所定の値以上増加した場合に、測定対象除去部9が目詰まりなどで劣化していると判定する。これにより、少なくとも伝搬空間TSを通過した測定光Lの強度を測定することなく、測定対象除去部9の劣化を検出できる。
第2判定部207は、測定対象除去部9が劣化していると判定した場合、当該判定結果を通知部205に通知する。
When the pressure gauge PR1 is provided, the control unit 20 may have a second determination unit 207. The second determination unit 207 monitors the pressure measured by the pressure gauge PR1, and determines that the measurement target removal unit 9 has deteriorated due to clogging or the like when the measured pressure increases by a predetermined value or more from the normal pressure (for example, the pressure when the measurement target removal unit 9 is operating normally without clogging or the like). This makes it possible to detect deterioration of the measurement target removal unit 9 at least without measuring the intensity of the measurement light L that has passed through the propagation space TS.
If the second determination section 207 determines that the measurement target removal section 9 has deteriorated, it notifies the notification section 205 of the determination result.

(8)第1実施形態に係る分析装置の動作
(8-1)分析動作
以下、第1実施形態に係る分析装置100の動作を説明する。まず、図3を用いて、分析装置100における分析動作を説明する。図3は、第1実施形態に係る分析装置の分析動作を示すフローチャートである。なお、以下に示す動作は、制御部20が分析装置100を制御することで実行される。
試料ガスSGに含まれる測定対象ガスの分析を行う前に、ステップS1において、筐体1の内部空間ISを空気ARでパージする。具体的には、空気供給ライン11に空気供給部12から空気ARを供給しつつ、排出口13から内部空間IS内のガス(空気AR)を排出することを所定の時間継続する。
(8) Operation of the Analysis Device According to the First Embodiment (8-1) Analysis Operation The operation of the analysis device 100 according to the first embodiment will be described below. First, the analysis operation in the analysis device 100 will be described with reference to FIG. 3. FIG. 3 is a flow chart showing the analysis operation of the analysis device according to the first embodiment. Note that the operation described below is executed by the control unit 20 controlling the analysis device 100.
Prior to analysis of the measurement target gas contained in the sample gas SG, in step S1, the internal space IS of the housing 1 is purged with air AR. Specifically, while supplying air AR from the air supply unit 12 to the air supply line 11, the gas (air AR) in the internal space IS is discharged from the exhaust port 13 for a predetermined period of time.

内部空間ISを空気ARでパージする間、ステップS2において、伝搬部7の伝搬空間TSをパージガスPGでパージする。具体的には、ステップS1において空気供給ライン11に空気供給部12から空気ARを所定の時間継続して供給することで、当該空気ARが測定対象除去部9に供給され、測定対象除去部9が供給された空気ARから測定対象ガスを除去してパージガスPGを生成し、パージガス供給ライン77に排出する。
空気供給ライン11に空気ARを所定の時間継続して供給することに伴って、パージガス供給ライン77から伝搬空間TSにパージガスPGを供給しつつ、パージガス排出口79から伝搬空間TS内のガス(パージガスPG)を排出することが所定の時間継続されることで、伝搬空間TSをパージガスPGでパージできる。
While the internal space IS is purged with the air AR, in step S2, the propagation space TS of the propagation unit 7 is purged with a purge gas PG. Specifically, in step S1, air AR is continuously supplied from the air supply unit 12 to the air supply line 11 for a predetermined time, whereby the air AR is supplied to the measurement target removal unit 9, and the measurement target removal unit 9 removes the measurement target gas from the supplied air AR to generate a purge gas PG, which is discharged to the purge gas supply line 77.
By continuously supplying air AR to the air supply line 11 for a predetermined period of time, purge gas PG is supplied from the purge gas supply line 77 to the propagation space TS while the gas (purge gas PG) in the propagation space TS is discharged from the purge gas exhaust port 79 for a predetermined period of time, thereby purging the propagation space TS with the purge gas PG.

空気供給ライン11に空気ARを供給する所定の時間は、例えば、筐体1の内部空間ISを空気供給ライン11により供給される空気ARにより置換できる時間、又は、伝搬部7の伝搬空間TSをパージガスPGにより置換できる時間のいずれか長い方とできる。
内部空間ISを空気ARにより置換できる時間は、例えば、内部空間ISの容量と空気ARの流量に基づいて決定できる。また、伝搬空間TSをパージガスPGにより置換できる時間は、例えば、伝搬空間TSの容量とパージガスPGの流量に基づいて決定できる。
The specified time for supplying air AR to the air supply line 11 can be, for example, the longer of either the time during which the internal space IS of the housing 1 can be replaced with air AR supplied by the air supply line 11, or the time during which the propagation space TS of the propagation section 7 can be replaced with purge gas PG.
The time during which the internal space IS can be replaced by the air AR can be determined based on, for example, the volume of the internal space IS and the flow rate of the air AR. Also, the time during which the propagation space TS can be replaced by the purge gas PG can be determined based on, for example, the volume of the propagation space TS and the flow rate of the purge gas PG.

分析装置100の空気供給ライン11に測定対象除去部9を設けることにより、上記のように、空気供給ライン11から供給されている空気ARを用いてパージガスPGを生成できる。その結果、伝搬空間TSのパージ用のガスボンベを用意し、分析装置100に設置する必要がなくなるので、ユーザの負担を軽減できる。By providing the measurement target removal unit 9 in the air supply line 11 of the analytical device 100, as described above, the purge gas PG can be generated using the air AR supplied from the air supply line 11. As a result, it is no longer necessary to prepare a gas cylinder for purging the propagation space TS and install it in the analytical device 100, thereby reducing the burden on the user.

内部空間IS及び伝搬空間TSをパージした後、ステップS3において、分析装置100の校正が必要であるか否かを判定する。例えば、前回の校正から所定の期間(例えば、1週間)が経過している場合、前回の校正から測定対象ガスの分析が所定の回数だけ実行されている場合などに、分析装置100の校正が必要と判定できる。After purging the internal space IS and the propagation space TS, in step S3, it is determined whether calibration of the analytical device 100 is necessary. For example, it can be determined that calibration of the analytical device 100 is necessary if a predetermined period of time (e.g., one week) has passed since the last calibration, or if analysis of the gas to be measured has been performed a predetermined number of times since the last calibration.

分析装置100の校正を実行すると判定された場合(ステップS3で「Yes」)、ステップS4において、分析装置100の校正が実行される。ステップS4における具体的な校正動作は、後ほど詳しく説明する。
一方、分析装置100の校正を実行しないと判定された場合(ステップS3で「No」)、分析動作は、ステップS5に進み、測定対象ガスの分析が実行される。
If it is determined that calibration of the analytical device 100 is to be performed ("Yes" in step S3), calibration of the analytical device 100 is performed in step S4. The specific calibration operation in step S4 will be described in detail later.
On the other hand, if it is determined that calibration of the analytical device 100 is not to be performed ("No" in step S3), the analytical operation proceeds to step S5, where analysis of the measurement target gas is performed.

分析装置100の校正を実行後、又は、校正が不要と判定された後、ステップS5において、分析部201が、測定対象ガスの分析を開始する。具体的には、以下のようにして分析が実行される。
まず、充填部3のサンプリング空間SSに試料ガスSGを供給してサンプリング空間SSを試料ガスSGにより充填させる。試料ガスSGをサンプリング空間SSに供給しつつ、分析部201が、照射部5の光源51a~51dを制御して、充填部3のサンプリング空間SSに向けて測定光Lを出力する。分析部201は、サンプリング空間SSを通過した測定光Lの検出信号を検出部75から受信し、当該検出信号に基づいて、検出された測定光Lの各要素光L1~L4が有する波長領域における強度を算出する。
After calibration of the analytical device 100 has been performed, or after it has been determined that calibration is not necessary, the analytical unit 201 starts analysis of the measurement target gas in step S5. Specifically, the analysis is performed as follows.
First, the sample gas SG is supplied to the sampling space SS of the filling unit 3 to fill the sampling space SS with the sample gas SG. While supplying the sample gas SG to the sampling space SS, the analysis unit 201 controls the light sources 51a to 51d of the irradiation unit 5 to output the measurement light L toward the sampling space SS of the filling unit 3. The analysis unit 201 receives a detection signal of the measurement light L that has passed through the sampling space SS from the detection unit 75, and calculates the intensity in the wavelength region of each of the element lights L1 to L4 of the detected measurement light L based on the detection signal.

その後、分析部201は、試料ガスSGを充填したサンプリング空間SSを通過前の測定光Lの上記波長領域における強度(すなわち、基準強度)と、試料ガスSGを充填したサンプリング空間SSを通過後の測定光Lの上記波長領域における強度との比などに基づいて、試料ガスSGに含まれる測定対象ガスの濃度を算出する。
例えば、測定対象ガスが要素光L1~L4の全てを吸収できる場合には、分析部201は、各要素光L1~L4の波長領域における強度に基づいて、測定対象ガスの分析結果と干渉する干渉ガスの濃度を算出し、この干渉ガスの影響を考慮して測定対象ガスの濃度を精度よく算出できる。
Then, the analysis unit 201 calculates the concentration of the gas to be measured contained in the sample gas SG based on, for example, the ratio between the intensity (i.e., reference intensity) in the above-mentioned wavelength region of the measurement light L before passing through the sampling space SS filled with the sample gas SG and the intensity in the above-mentioned wavelength region of the measurement light L after passing through the sampling space SS filled with the sample gas SG.
For example, when the gas to be measured can absorb all of the element lights L1 to L4, the analysis unit 201 calculates the concentration of an interference gas that interferes with the analysis result of the gas to be measured based on the intensity in the wavelength region of each of the element lights L1 to L4, and can accurately calculate the concentration of the gas to be measured taking into account the influence of this interference gas.

その他、測定対象ガスが複数ある場合には、分析部201は、例えば、要素光L1~L4のうち測定対象ガスが吸収できる要素光L1~L4のいずれかの波長領域の強度に基づいて、当該測定対象ガスの濃度を算出できる。In addition, when there are multiple gases to be measured, the analysis unit 201 can calculate the concentration of the gas to be measured, for example, based on the intensity of one of the wavelength regions of the element lights L1 to L4 that can be absorbed by the gas to be measured.

1回の分析を終了後にさらに測定対象ガスの分析を継続したい場合には、上記のステップS5を繰り返し実行する。一方、測定対象ガスの分析を終了したい場合には、照射部5からの測定光Lの発生を停止して、上記分析動作を終了する。If it is desired to continue the analysis of the measurement target gas after one analysis is completed, the above step S5 is repeated. On the other hand, if it is desired to end the analysis of the measurement target gas, the generation of the measurement light L from the irradiation unit 5 is stopped, and the above analysis operation is ended.

(8-2)分析装置の校正動作
次に、図4を用いて、上記のステップS4において実行される第1実施形態に係る分析装置100の校正動作を説明する。図4は、第1実施形態に係る分析装置の校正動作を示すフローチャートである。なお、以下に示す動作は、制御部20が分析装置100を制御することで実行される。
第1実施形態に係る分析装置100においては、分析装置100の校正時に、測定対象ガスを含まない基準ガスを通過した測定光Lの強度(すなわち、基準強度)を取得した後に、さらに、測定対象除去部9の劣化が判定される。具体的には、以下のステップS41~S45が、校正動作として実行される。
(8-2) Calibration Operation of the Analytical Device Next, the calibration operation of the analytical device 100 according to the first embodiment executed in step S4 above will be described with reference to Fig. 4. Fig. 4 is a flow chart showing the calibration operation of the analytical device according to the first embodiment. Note that the operation described below is executed by the control unit 20 controlling the analytical device 100.
In the analytical device 100 according to the first embodiment, the intensity (i.e., reference intensity) of the measurement light L that has passed through a reference gas that does not contain a measurement target gas is acquired during calibration of the analytical device 100, and then deterioration of the measurement target removal unit 9 is determined. Specifically, the following steps S41 to S45 are executed as the calibration operation.

まず、ステップS41において、充填部3のサンプリング空間SSに、基準ガス(測定対象ガスを含まないガス)を充填する。本実施形態において、基準ガスは窒素ガスである。
サンプリング空間SSに基準ガスを充填後、ステップS42において、基準ガスを充填したサンプリング空間SSを通過した測定光Lの強度を測定する。具体的には、制御部20が、照射部5の光源51a~51dを制御して、基準ガスを充填したサンプリング空間SSに向けて測定光Lを出力する。制御部20は、サンプリング空間SSを通過した測定光Lの検出信号を検出部75から受信し、当該検出信号に基づいて、検出された測定光Lの強度を算出する。
First, in step S41, a reference gas (gas not including a gas to be measured) is filled into the sampling space SS of the filling unit 3. In this embodiment, the reference gas is nitrogen gas.
After the sampling space SS is filled with the reference gas, in step S42, the intensity of the measurement light L that has passed through the sampling space SS filled with the reference gas is measured. Specifically, the control unit 20 controls the light sources 51a to 51d of the irradiation unit 5 to output the measurement light L toward the sampling space SS filled with the reference gas. The control unit 20 receives a detection signal of the measurement light L that has passed through the sampling space SS from the detection unit 75, and calculates the intensity of the detected measurement light L based on the detection signal.

その後、ステップS43において、制御部20は、ステップS42で算出した測定光Lの強度を、試料ガスSGを充填したサンプリング空間SSを通過前の測定光Lの強度(すなわち、基準強度)と決定し、制御部20の記憶装置に記憶する。基準強度の取得と記憶とを実行することで、分析装置100の校正を実行できる。Then, in step S43, the control unit 20 determines the intensity of the measurement light L calculated in step S42 as the intensity of the measurement light L before passing through the sampling space SS filled with the sample gas SG (i.e., the reference intensity) and stores it in the memory device of the control unit 20. By acquiring and storing the reference intensity, the calibration of the analysis device 100 can be performed.

基準強度の取得と記憶とを実行して分析装置100を校正後、ステップS44において、測定対象除去部9が劣化しているか否かを判定する。
具体的には、第1判定部203が、今回の校正により取得した基準強度と、過去(例えば、分析装置100の出荷時、据付時、前回の測定対象除去部9の交換時など)において取得した基準強度と、を比較し、今回取得した基準強度が過去に取得した基準強度よりも所定の値以上小さい場合に、測定対象除去部9が劣化していると判定する。
After the reference intensity is acquired and stored to calibrate the analytical device 100, in step S44, it is determined whether or not the measurement target removal unit 9 has deteriorated.
Specifically, the first judgment unit 203 compares the reference intensity obtained by the current calibration with a reference intensity obtained in the past (for example, when the analysis device 100 was shipped or installed, or when the measurement target removal unit 9 was last replaced), and if the reference intensity obtained this time is smaller than the reference intensity obtained in the past by a predetermined value or more, it judges that the measurement target removal unit 9 has deteriorated.

上記のように、基準強度は、サンプリング空間SSに基準ガスを充填した状態、すなわち、測定光Lがサンプリング空間SSを通過中に吸収されない状態で測定される。従って、今回取得した基準強度が過去に取得した基準強度よりも小さいことは、今回の校正時において測定光Lが伝搬空間TSを通過中に吸収された光の量が、過去において測定光Lが伝搬空間TSを通過中に吸収された光の量よりも大きいことを意味する。As described above, the reference intensity is measured when the sampling space SS is filled with the reference gas, i.e., when the measurement light L is not absorbed while passing through the sampling space SS. Therefore, the reference intensity acquired this time being smaller than the reference intensity acquired in the past means that the amount of light absorbed while the measurement light L is passing through the propagation space TS during the current calibration is greater than the amount of light absorbed while the measurement light L was passing through the propagation space TS in the past.

また、今回の校正時において測定光Lが伝搬空間TSを通過中に吸収された光の量が、過去において測定光Lが伝搬空間TSを通過中に吸収された光の量よりも大きいことは、今回の校正時のパージガスPGに含まれる測定対象ガスの量(濃度)が、過去のパージガスPGに含まれる測定対象ガスの量(濃度)よりも大きくなっていることを意味し、測定対象除去部9による測定対象ガスの除去能力が低下していることを意味している。 Furthermore, the fact that the amount of light absorbed while the measurement light L is passing through the propagation space TS during the current calibration is greater than the amount of light absorbed while the measurement light L was passing through the propagation space TS in the past means that the amount (concentration) of the measurement target gas contained in the purge gas PG during the current calibration is greater than the amount (concentration) of the measurement target gas contained in the purge gas PG in the past, and means that the ability of the measurement target removal unit 9 to remove the measurement target gas has decreased.

このように、上記のステップS44においては、第1判定部203は、現在と過去の基準強度を比較することにより、伝搬空間TSを通過した測定光Lの強度に基づいて、測定対象除去部9の劣化を判定できる。すなわち、第1実施形態に係る分析装置100では、測定対象ガスの分析と類似の方法により、簡便に測定対象除去部9の劣化状態を判定できる。In this way, in step S44, the first determination unit 203 can determine the deterioration of the measurement target removal unit 9 based on the intensity of the measurement light L that has passed through the propagation space TS by comparing the current and past reference intensities. That is, in the analysis device 100 according to the first embodiment, the deterioration state of the measurement target removal unit 9 can be easily determined by a method similar to the analysis of the measurement target gas.

その他、圧力計PR1を設けた場合には、第2判定部207が、今回の校正時に圧力計PR1にて測定された圧力と、過去(例えば、分析装置100の出荷時、据付時、前回の測定対象除去部9の交換時など)に圧力計PR1により測定された圧力と、を比較し、今回測定された圧力が過去に測定された圧力よりも所定の値以上大きい場合に、測定対象除去部9が劣化していると判定する。In addition, if a pressure gauge PR1 is provided, the second judgment unit 207 compares the pressure measured by the pressure gauge PR1 during the current calibration with the pressure measured by the pressure gauge PR1 in the past (for example, when the analytical device 100 was shipped or installed, or when the measurement target removal unit 9 was last replaced), and if the pressure measured this time is greater than the pressure measured in the past by a predetermined value or more, it judges that the measurement target removal unit 9 has deteriorated.

今回測定された圧力が過去に測定された圧力よりも大きいことは、今回の校正時までに測定対象除去部9の目詰まりなどが発生して測定対象除去部9内のガス流通が悪くなった結果、測定対象除去部9が劣化していることを意味している。一方、圧力計PR1に代えて流量計を設けた場合には、今回測定した流量が過去に測定した流量よりも小さいことが、測定対象除去部9が劣化していることを意味する。
このように、第2判定部207は、測定対象除去部9に供給する空気の圧力又は流量に基づいて、測定対象除去部9内のガス流通が悪くなったか否かを判定し、ガス流通が悪くなっている場合に測定対象除去部9が劣化したと判定できる。すなわち、第2判定部207は、測定対象除去部9に供給する空気ARの圧力及び流量に影響を及ぼす「目詰まり」などを原因とした劣化(異常)が発生したか否かを判定できる。
The fact that the pressure measured this time is greater than the pressure measured previously means that the measurement target removal unit 9 has deteriorated as a result of poor gas flow within the measurement target removal unit 9 due to clogging or the like occurring in the measurement target removal unit 9 before the current calibration. On the other hand, if a flow meter is provided instead of the pressure gauge PR1, the fact that the flow rate measured this time is smaller than the flow rate measured previously means that the measurement target removal unit 9 has deteriorated.
In this way, the second determination unit 207 determines whether or not the gas flow in the measurement target removal unit 9 has deteriorated based on the pressure or flow rate of the air supplied to the measurement target removal unit 9, and can determine that the measurement target removal unit 9 has deteriorated if the gas flow has deteriorated. In other words, the second determination unit 207 can determine whether or not deterioration (abnormality) has occurred due to "clogging" or the like that affects the pressure and flow rate of the air AR supplied to the measurement target removal unit 9.

第1判定部203及び/又は第2判定部207により測定対象除去部9が劣化していると判定された場合(ステップS44で「Yes」)、ステップS45において、第1判定部203及び/又は第2判定部207は、測定対象除去部9が劣化しているとの判定結果を、通知部205に通知する。
測定対象除去部9が劣化しているとの判定結果を受信した通知部205は、報知装置30に通知信号を出力して報知装置30を動作させる。これにより、例えば、音を発生させるか、及び/又は、警告灯を点灯させて、ユーザが視覚的及び/又は聴覚的に認識できる形態で測定対象除去部9が劣化していることを通知できる。
If the first judgment unit 203 and/or the second judgment unit 207 judges that the measurement target removal unit 9 is degraded ("Yes" in step S44), in step S45, the first judgment unit 203 and/or the second judgment unit 207 notifies the notification unit 205 of the judgment result that the measurement target removal unit 9 is degraded.
The notification unit 205, which has received the determination result that the measurement target removal unit 9 has deteriorated, outputs a notification signal to the alarm device 30 to operate the alarm device 30. This allows the user to be notified that the measurement target removal unit 9 has deteriorated in a form that can be visually and/or audibly recognized by, for example, emitting a sound and/or turning on a warning light.

測定対象除去部9が劣化していることを認識したユーザは、例えば、測定対象除去部9を交換するなどの対策を実行できる。
その他、測定対象除去部9の劣化が、空気供給部12において測定対象除去部9を劣化させる原因物質(例えば、オイルミスト、ダストなど)が十分に除去されていないことにより発生していると考えられる場合には、ユーザは、空気供給部12に備わるオイルミスト、ダストなどの原因物質を除去するフィルタを交換することもできる。
A user who recognizes that measurement target removal unit 9 has deteriorated can take measures such as replacing measurement target removal unit 9 .
In addition, if it is thought that deterioration of the measurement target removal unit 9 is caused by the air supply unit 12 not sufficiently removing substances that cause deterioration of the measurement target removal unit 9 (e.g., oil mist, dust, etc.), the user can also replace a filter provided in the air supply unit 12 that removes causative substances such as oil mist and dust.

一方、第1判定部203及び/又は第2判定部207により測定対象除去部9が劣化していると判定されない場合(ステップS44で「No」)、分析装置100の校正動作は終了する。On the other hand, if the first judgment unit 203 and/or the second judgment unit 207 do not judge that the measurement target removal unit 9 is degraded ('No' in step S44), the calibration operation of the analysis device 100 is terminated.

(9)第1実施形態に係る分析装置の変形例
上記にて説明した第1実施形態においては、筐体1の内部空間ISをパージする空気ARの供給ラインと、測定対象除去部9に供給する空気ARの供給ラインは、空気供給ライン11として共通化していた。
しかし、これに限られず、図5に示すように、第1実施形態に係る分析装置の変形例(分析装置100’)においては、筐体1の内部空間ISをパージする空気ARの供給ラインを第1空気供給ライン11aとし、測定対象除去部9に供給する空気ARの供給ラインを第2空気供給ライン11bとして、空気の供給ラインを個別に設けてもよい。図5は、第1実施形態に係る分析装置の変形例を示す図である。
(9) Modification of the analytical device according to the first embodiment In the first embodiment described above, the supply line for air AR that purges the internal space IS of the housing 1 and the supply line for air AR that is supplied to the measurement target removal section 9 were shared as the air supply line 11.
However, without being limited thereto, as shown in Fig. 5, in a modified example (analytical device 100') of the analytical device according to the first embodiment, the supply line for air AR for purging the internal space IS of the housing 1 may be a first air supply line 11a, and the supply line for air AR for supplying to the measurement target removal unit 9 may be a second air supply line 11b, and the air supply lines may be provided separately. Fig. 5 is a diagram showing a modified example of the analytical device according to the first embodiment.

また、分析装置100’においては、パージガス供給ライン77、第1空気供給ライン11a、測定対象除去部9からのラインと、の合流部分に三方弁11cを設ける。筐体1の内部空間ISを空気ARでパージしたい場合には、三方弁11cは、第1空気供給ライン11aとパージガス供給ライン77とをガス流通可能とする。これにより、筐体1の内部空間ISと伝搬空間TSが空気ARでパージされる。
一方、伝搬部7の伝搬空間TSをパージガスPGでパージしたい場合には、三方弁11cは、測定対象除去部9からのラインとパージガス供給ライン77とをガス流通可能とする。これにより、伝搬空間TSがパージガスPGでパージされる。
Furthermore, in the analytical device 100', a three-way valve 11c is provided at the junction of the purge gas supply line 77, the first air supply line 11a, and the line from the measurement target removal unit 9. When it is desired to purge the internal space IS of the housing 1 with air AR, the three-way valve 11c allows gas to flow between the first air supply line 11a and the purge gas supply line 77. This allows the internal space IS and the propagation space TS of the housing 1 to be purged with air AR.
On the other hand, when it is desired to purge the propagation space TS of the propagation part 7 with the purge gas PG, the three-way valve 11c allows gas to flow between the line from the measurement target removal part 9 and the purge gas supply line 77. This allows the propagation space TS to be purged with the purge gas PG.

このように、空気ARの供給ラインを個別に設けることで、必要なときだけに測定対象除去部9に空気ARを供給してパージガスPGを発生させて、測定対象除去部9の交換頻度を減少できる。 In this way, by providing a separate supply line for air AR, air AR can be supplied to the measurement target removal section 9 only when necessary to generate purge gas PG, thereby reducing the frequency of replacement of the measurement target removal section 9.

(10)第1実施形態のまとめ
上記に説明した第1実施形態は下記のようにまとめることができる。
第1実施形態に係る分析装置100、100’では、測定光Lが充填部3まで到達するまでに少なくとも1つのミラーに反射して伝搬する伝搬空間TSをパージするパージガスPGが、気体分離膜を有する測定対象除去部9により生成されている。これにより、パージガス供給用のボンベの頻繁な交換などユーザの負担を増大させる作業が不要となる。すなわち、ユーザの負担を増大させることなくパージガスPGの生成と供給が可能となる。
(10) Summary of First Embodiment The first embodiment described above can be summarized as follows.
In the analysis device 100, 100' according to the first embodiment, a purge gas PG for purging the propagation space TS through which the measurement light L propagates by being reflected by at least one mirror before reaching the filling section 3 is generated by the measurement target removal section 9 having a gas separation membrane. This eliminates the need for work that increases the burden on the user, such as frequent replacement of cylinders for supplying purge gas. In other words, it is possible to generate and supply the purge gas PG without increasing the burden on the user.

分析装置100、100’は、伝搬空間TSを通過した測定光Lの強度に基づいて測定対象除去部9の劣化を判定する第1判定部203を備えている。これにより、測定対象ガスの分析と類似の方法により、簡便に測定対象除去部9の劣化状態を判定できる。The analytical device 100, 100' is equipped with a first determination unit 203 that determines the deterioration of the measurement target removal unit 9 based on the intensity of the measurement light L that has passed through the propagation space TS. This makes it possible to easily determine the deterioration state of the measurement target removal unit 9 by a method similar to the analysis of the measurement target gas.

分析装置100、100’は、測定対象除去部9に供給する空気ARの圧力又は流量に基づいて、測定対象除去部の劣化を判定する第2判定部207を備えてもよい。これにより、測定対象除去部9に供給する空気ARの圧力又は流量に影響を及ぼす「目詰まり」などを原因とした劣化(異常)が発生したか否かを判定できる。The analysis device 100, 100' may include a second determination unit 207 that determines deterioration of the measurement target removal unit 9 based on the pressure or flow rate of the air AR supplied to the measurement target removal unit 9. This makes it possible to determine whether deterioration (abnormality) has occurred due to "clogging" or the like that affects the pressure or flow rate of the air AR supplied to the measurement target removal unit 9.

分析装置100、100’は、測定対象除去部9に劣化があると判定されたことを通知する通知部205をさらに備えている。これにより、測定対象除去部9が劣化したことをユーザに通知できる。The analysis device 100, 100' further includes a notification unit 205 that notifies the user that the measurement target removal unit 9 has been determined to be degraded. This allows the user to be notified that the measurement target removal unit 9 has degraded.

分析装置100、100’は、充填部3と、照射部5と、伝搬部7と、を格納して外部空間と隔離する筐体1をさらに備えている。これにより、測定対象ガスを分析するための構成要素を外部空間と隔離する構造を実現できる。The analytical device 100, 100' further includes a housing 1 that houses the filling section 3, the irradiation section 5, and the propagation section 7 and isolates them from the outside space. This allows for a structure that isolates the components for analyzing the gas to be measured from the outside space.

第1実施形態において、測定対象除去部9は、空気から窒素ガスを分離する気体分離膜を有し、気体分離膜により分離された窒素ガスをパージガスPGとしている。気体分離膜の空気から窒素ガスと酸素ガスとを分離する能力は長い期間持続するので、測定対象除去部9の交換をほぼ不要とできる。その結果、ユーザの負担を軽減できる。In the first embodiment, the measurement target removal unit 9 has a gas separation membrane that separates nitrogen gas from air, and the nitrogen gas separated by the gas separation membrane is used as the purge gas PG. The ability of the gas separation membrane to separate nitrogen gas and oxygen gas from air lasts for a long period of time, making it almost unnecessary to replace the measurement target removal unit 9. As a result, the burden on the user can be reduced.

2.第2実施形態
(1)第2実施形態に係る分析装置の概略
上記の第1実施形態にて説明したNセパレータである測定対象除去部は、測定対象ガスを分析する他の分析装置にも適用できる。例えば、以下に説明する第2実施形態に係る分析装置200において、測定対象除去部を使用できる。
以下、第2実施形態に係る分析装置200を具体的に説明する。第2実施形態に係る分析装置200は、クロスフローモジュレーション方式の分析装置である。クロスフローモジュレーション方式とは、測定対象ガスを含まないリファレンスガスRGと測定対象ガスを含む試料ガスSGとを交互に充填部301に導入し、リファレンスガスRGを充填した充填部301を通過した測定光L’の強度と、試料ガスSGを充填した充填部301を通過した測定光L’の強度と、に基づいて試料ガスSGに含まれる測定対象ガスを分析する方式である。第2実施形態においては、リファレンスガスRGの生成に第1実施形態にて説明したNセパレータである測定対象除去部302を使用する。
なお、第2実施形態において、試料ガスSGは、例えば、大気である。測定対象ガスは、例えば、試料ガスSGに含まれる二酸化炭素(CO)である。その他、測定対象ガスを、例えば、一酸化炭素(CO)、硫黄酸化物(SOx)(例えば、二酸化硫黄(SO))アンモニア(NH)、窒素酸化物(NOx)(例えば、一酸化窒素(NO)、二酸化窒素(NO)、亜酸化窒素(NO)など)、塩化水素(HCl)、水(HO)、各種炭化水素(例えば、メタン(CH)、エタン(C)、アセチレン(C)、プロパン(C)、エチレン(C)、ヘキサン(n-C14)、プロピレン(C)、イソブテン(i-C)、ブタン(n-C10)、シクロヘキサン(C12)、ブタジエン(C)、イソブタン(i-C10)、イソペンタン(i-C12)、トルエン(CCH)など)、硫化水素(HS)、メタノール(CHOH)、ホスゲン(COCl)、クロロエチレン(CCl)、亜硝酸メチル(CHONO)、水素(H)、フッ化水素(HF)、トリフルオロプロペン(C)などとすることもできる。測定対象ガスは、1種類に限られず、上記ガスが複数含まれた混合ガスであってもよい。
2. Second embodiment (1) Overview of the analyzer according to the second embodiment The measurement target removal unit, which is the N2 separator described in the first embodiment, can be applied to other analyzers that analyze measurement target gases. For example, the measurement target removal unit can be used in the analyzer 200 according to the second embodiment described below.
The analytical device 200 according to the second embodiment will be described in detail below. The analytical device 200 according to the second embodiment is an analytical device of a cross-flow modulation type. The cross-flow modulation type is a method in which a reference gas RG not containing a measurement target gas and a sample gas SG containing a measurement target gas are alternately introduced into the filling section 301, and the measurement target gas contained in the sample gas SG is analyzed based on the intensity of the measurement light L' passing through the filling section 301 filled with the reference gas RG and the intensity of the measurement light L' passing through the filling section 301 filled with the sample gas SG. In the second embodiment, the measurement target removal section 302, which is the N 2 separator described in the first embodiment, is used to generate the reference gas RG.
In the second embodiment, the sample gas SG is, for example, the air, and the measurement target gas is, for example, carbon dioxide (CO 2 ) contained in the sample gas SG. Other target gases for measurement include carbon monoxide (CO), sulfur oxides (SOx) (e.g., sulfur dioxide (SO 2 )), ammonia (NH 3 ), nitrogen oxides (NOx) (e.g., nitric oxide (NO), nitrogen dioxide (NO 2 ), nitrous oxide (N 2 O)), hydrogen chloride (HCl), water (H 2 O), various hydrocarbons (e.g., methane (CH 4 ), ethane (C 2 H 6 ), acetylene (C 2 H 2 ), propane (C 3 H 8 ), ethylene (C 2 H 4 ), hexane (n-C 6 H 14 ), propylene (C 3 H 6 ), isobutene (i-C 4 H 8 ), butane (n-C 4 H 10 ), cyclohexane (C 6 H 12 ), butadiene (C 4 H 6 ), isobutane (i-C 4 H 8 ), and tetrahydrofuran (TFA ). H 10 ), isopentane (i-C 5 H 12 ), toluene (C 6 H 5 CH 3 ), etc.), hydrogen sulfide (H 2 S), methanol (CH 3 OH), phosgene (COCl 2 ), chloroethylene (C 2 H 3 Cl), methyl nitrite (CH 3 ONO), hydrogen (H 2 ), hydrogen fluoride (HF), trifluoropropene (C 3 H 3 F 3 ), etc. The measurement target gas is not limited to one type, and may be a mixed gas containing two or more of the above gases.

上記のリファレンスガスRGとは、測定対象ガスの分析の基準として用いるガスであり、測定対象ガスを全く含まないか、又は、分析において影響を及ぼさない程度しか含まないガスである。従って、リファレンスガスRGを充填した充填部301を通過した測定光L’の強度は、試料ガスSGを充填した充填部301を通過した測定光L’の強度に含まれるバックグラウンドとしての測定光L’の強度である。
The above-mentioned reference gas RG is a gas used as a standard for the analysis of the measurement target gas, and is a gas that does not contain the measurement target gas at all or contains only a small amount of the measurement target gas that does not affect the analysis. Therefore, the intensity of the measurement light L' that passes through the filling section 301 filled with the reference gas RG is the intensity of the measurement light L' as a background contained in the intensity of the measurement light L' that passes through the filling section 301 filled with the sample gas SG.

(2)第2実施形態に係る分析装置の具体的構成
次に、図6を用いて、第2実施形態に係る分析装置200の具体的構成を説明する。図6は、第2実施形態に係る分析装置の構成を示す図である。分析装置200は、充填部301と、測定対象除去部302と、導入部303と、を主に備える。
充填部301は、ガスを充填できるサンプリング空間SS’を有し、サンプリング空間SS’の一端が導入部303のガス出口303cに接続され、他端が排出流路304に接続される。サンプリング空間SS’の一端が導入部303のガス出口303cに接続されることで、サンプリング空間SS’には試料ガスSG又はリファレンスガスRGを充填できる。
(2) Specific Configuration of the Analytical Device According to the Second Embodiment Next, a specific configuration of the analytical device 200 according to the second embodiment will be described with reference to Fig. 6. Fig. 6 is a diagram showing the configuration of the analytical device according to the second embodiment. The analytical device 200 mainly includes a filling section 301, a measurement target removal section 302, and an introduction section 303.
The filling section 301 has a sampling space SS' that can be filled with a gas, one end of the sampling space SS' is connected to the gas outlet 303c of the introduction section 303, and the other end is connected to the exhaust flow path 304. By connecting one end of the sampling space SS' to the gas outlet 303c of the introduction section 303, the sampling space SS' can be filled with a sample gas SG or a reference gas RG.

一方、充填部301のサンプリング空間SS’の他端が接続される排出流路304には、オリフィス304aと、第1ポンプ304bと、が設けられる。サンプリング空間SS’に導入される試料ガスSG又はリファレンスガスRGの流量は、オリフィス304aの寸法と第1ポンプ304bの流量によって定まる。On the other hand, an orifice 304a and a first pump 304b are provided in the discharge flow path 304 to which the other end of the sampling space SS' of the filling section 301 is connected. The flow rate of the sample gas SG or the reference gas RG introduced into the sampling space SS' is determined by the dimensions of the orifice 304a and the flow rate of the first pump 304b.

また、充填部301は、サンプリング空間SS’に測定光L’を照射する照射部301aと、サンプリング空間SS’を通過した測定光L’を検出する検出部301bと、を有する。照射部301aは、例えば、測定対象ガスが吸収できる波長(例えば、赤外光)を有する測定光L’を発生するレーザなどの光発生装置である。検出部301bは、例えば、測定光L’を検出できる光検出素子である。The filling unit 301 also has an irradiation unit 301a that irradiates the sampling space SS' with measurement light L', and a detection unit 301b that detects the measurement light L' that has passed through the sampling space SS'. The irradiation unit 301a is, for example, a light generating device such as a laser that generates measurement light L' having a wavelength (for example, infrared light) that can be absorbed by the gas to be measured. The detection unit 301b is, for example, a light detection element that can detect the measurement light L'.

測定対象除去部302は、リファレンスガス生成用ガスから、充填部301のサンプリング空間SS’に充填するリファレンスガスRGを生成する。具体的には、測定対象除去部302は、排出流路304から分岐された分岐ライン305から試料ガスSGの供給を受け、供給された試料ガスSGから測定対象ガスを除去する。すなわち、図6に示す分析装置200において、リファレンスガス生成用ガスは、試料ガスSGである。これにより、測定対象となる試料ガスSGからより適切なリファレンスガスRGを生成できる。The measurement target removal unit 302 generates a reference gas RG to be filled into the sampling space SS' of the filling unit 301 from the reference gas generation gas. Specifically, the measurement target removal unit 302 receives a supply of sample gas SG from a branch line 305 branched off from the exhaust flow path 304, and removes the measurement target gas from the supplied sample gas SG. That is, in the analysis device 200 shown in FIG. 6, the reference gas generation gas is the sample gas SG. This allows a more appropriate reference gas RG to be generated from the sample gas SG to be measured.

本実施形態において、測定対象除去部302は、中空糸膜、気体分離膜を中空部材に充填した「Nセパレータ」と呼ばれる部材である。中空糸膜は、例えば、ポリイミド、ポリアミド、ポリスルホン、酢酸セルロースとその誘導体、ポリフェニレンオキシド、ポリシロキサン、それ自体でミクロ多孔性のポリマー、混合マトリックス膜、促進輸送膜、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド、炭素膜、ゼオライト、又はこれらの混合物にて構成されている。 In this embodiment, the measurement target removal unit 302 is a member called an " N2 separator" in which a hollow fiber membrane or a gas separation membrane is filled in a hollow member. The hollow fiber membrane is made of, for example, polyimide, polyamide, polysulfone, cellulose acetate and its derivatives, polyphenylene oxide, polysiloxane, a microporous polymer, a mixed matrix membrane, a facilitated transport membrane, polyethylene oxide, polypropylene oxide, a carbon membrane, a zeolite, or a mixture thereof.

セパレータは、中空糸膜、気体分離膜に圧縮した試料ガスSGを導入することで、導入した試料ガスSGを、窒素リッチなガス(すなわち、窒素ガス以外の成分をほとんど含まないガス)と酸素リッチなガス(すなわち、試料ガスSGから窒素ガスを除いた残りのガス)に分離する。Nセパレータである測定対象除去部302は、窒素リッチなガスをリファレンスガスRGとしてリファレンスガス供給ライン306に供給する。 The N2 separator introduces the compressed sample gas SG into a hollow fiber membrane and a gas separation membrane, and separates the introduced sample gas SG into a nitrogen-rich gas (i.e., a gas containing almost no components other than nitrogen gas) and an oxygen-rich gas (i.e., the remaining gas after removing nitrogen gas from the sample gas SG). The measurement target removal unit 302, which is an N2 separator, supplies the nitrogen-rich gas to the reference gas supply line 306 as a reference gas RG.

セパレータである測定対象除去部302の中空糸膜、気体分離膜により分離される窒素リッチなガスには、測定対象ガスもほとんど含まれない。すなわち、Nセパレータである測定対象除去部302は、試料ガスSGから測定対象ガスを分離して、測定対象ガスを含まない窒素リッチなガスをリファレンスガスRGとして生成できる。 The nitrogen-rich gas separated by the hollow fiber membrane and gas separation membrane of the measurement target removal unit 302, which is an N2 separator, contains almost no measurement target gas. That is, the measurement target removal unit 302, which is an N2 separator, separates the measurement target gas from the sample gas SG and can generate a nitrogen-rich gas that does not contain the measurement target gas as the reference gas RG.

なお、上記のように、Nセパレータである測定対象除去部302に対しては、圧縮した試料ガスSGを導入する必要がある。従って、測定対象除去部302に試料ガスSGを供給する分岐ライン305には、試料ガスSGを昇圧して測定対象除去部302に供給する昇圧用ポンプ305aが設けられる。
また、昇圧用ポンプ305aと測定対象除去部302との間には、レギュレータ305bが設けられる。レギュレータ305bは、昇圧用ポンプ305aから測定対象除去部302に供給する試料ガスSGの圧力を一定とする。これにより、測定対象除去部302の寿命を長くできる。
As described above, it is necessary to introduce compressed sample gas SG to the measurement target removal unit 302, which is an N2 separator. Therefore, a pressure boosting pump 305a that boosts the pressure of the sample gas SG and supplies it to the measurement target removal unit 302 is provided in the branch line 305 that supplies the sample gas SG to the measurement target removal unit 302.
Furthermore, a regulator 305b is provided between the boost pump 305a and the measurement target removal unit 302. The regulator 305b keeps constant the pressure of the sample gas SG supplied from the boost pump 305a to the measurement target removal unit 302. This makes it possible to extend the life of the measurement target removal unit 302.

導入部303は、試料ガスSG又はリファレンスガスRGを充填部301のサンプリング空間SS’に導入する。具体的には、導入部303は、第1入口303aと、第2入口303bと、ガス出口303cと、を有し、第1入口303aとガス出口303cとをガス流通可能とするか、又は、第2入口303bとガス出口303cとをガス流通可能とするかを切り替え可能な三方弁である。The introduction section 303 introduces the sample gas SG or the reference gas RG into the sampling space SS' of the filling section 301. Specifically, the introduction section 303 has a first inlet 303a, a second inlet 303b, and a gas outlet 303c, and is a three-way valve that can switch between allowing gas to flow between the first inlet 303a and the gas outlet 303c, or allowing gas to flow between the second inlet 303b and the gas outlet 303c.

図6に示すように、導入部303の第1入口303aには、試料ガスSGが供給される。一方、第2入口303bは、リファレンスガス供給ライン306に接続される。すなわち、第2入口303bには、測定対象除去部302にて生成されたリファレンスガスRGが供給される。
6, a sample gas SG is supplied to a first inlet 303a of the introduction part 303. Meanwhile, a second inlet 303b is connected to a reference gas supply line 306. That is, a reference gas RG generated in the measurement target removal part 302 is supplied to the second inlet 303b.

測定対象ガスの分析中に、導入部303は、第1入口303aとガス出口303cとをガス流通可能とする(すなわち、試料ガスSGをガス出口303cから排出する)ことと、第2入口303bとガス出口303cとをガス流通可能とする(すなわち、リファレンスガスRGをガス出口303cから排出する)ことと、を交互に切り替えて、試料ガスSGとリファレンスガスRGとを交互に充填部301のサンプリング空間SS’に充填する。導入部303を備えることにより、試料ガスSGとリファレンスガスRGとを交互に充填部301のサンプリング空間SS’に充填するクロスフローモジュレーション方式の分析装置200を実現できる。During the analysis of the gas to be measured, the introduction section 303 alternately switches between allowing gas to flow through the first inlet 303a and the gas outlet 303c (i.e., discharging the sample gas SG from the gas outlet 303c) and allowing gas to flow through the second inlet 303b and the gas outlet 303c (i.e., discharging the reference gas RG from the gas outlet 303c), and alternately fills the sampling space SS' of the filling section 301 with the sample gas SG and the reference gas RG. By providing the introduction section 303, it is possible to realize a cross-flow modulation type analytical device 200 in which the sample gas SG and the reference gas RG are alternately filled into the sampling space SS' of the filling section 301.

分析装置200は、制御部307をさらに備える。制御部307は、CPU、記憶装置(例えば、RAM、ROMなどの記憶装置)、各種インタフェースにより構成されるコンピュータシステムである。制御部307は、上記各装置を個別に備えたシステムであってもよいし、上記各装置を1つのチップに集積したSoC(System on Chip)であってもよい。
制御部307は、分析装置200の照射部301a、導入部303を制御する。その他、制御部307は、第1ポンプ304b、昇圧用ポンプ305aの動作と停止、及び/又は、流量を制御可能となっていてもよい。
The analysis device 200 further includes a control unit 307. The control unit 307 is a computer system including a CPU, a storage device (e.g., a storage device such as a RAM or a ROM), and various interfaces. The control unit 307 may be a system including each of the above devices individually, or may be a SoC (System on Chip) in which the above devices are integrated on a single chip.
The control unit 307 controls the irradiation unit 301a and the introduction unit 303 of the analysis device 200. In addition, the control unit 307 may be capable of controlling the operation and stopping of the first pump 304b and the boost pump 305a and/or the flow rate.

また、制御部307は、照射部301aを制御して充填部301のサンプリング空間SS’に測定光L’を照射し、サンプリング空間SS’を通過して検出部301bにて検出された測定光L’の強度に基づいて、測定対象ガスの分析を行う。 In addition, the control unit 307 controls the irradiation unit 301a to irradiate the measurement light L' into the sampling space SS' of the filling unit 301, and analyzes the gas to be measured based on the intensity of the measurement light L' that passes through the sampling space SS' and is detected by the detection unit 301b.

(3)第2実施形態に係る分析装置の動作
(3-1)分析動作
以下、第2実施形態に係る分析装置200の動作を説明する。具体的には、図7を用いて、分析装置200における分析動作を説明する。図7は、第2実施形態に係る分析装置の分析動作を示すフローチャートである。本実施形態において、分析装置200は、クロスフローモジュレーション方式にて測定対象ガスの分析を実行する。なお、以下に示す動作は、制御部307が分析装置200を制御することで実行される。また、以下の分析動作の前に、所定の期間(例えば、1週間)毎に分析装置200の校正(例えば、ゼロ校正、スパン校正)を実行する。
(3) Operation of the Analytical Apparatus According to the Second Embodiment (3-1) Analytical Operation The following describes the operation of the analytical apparatus 200 according to the second embodiment. Specifically, the analytical operation in the analytical apparatus 200 will be described with reference to FIG. 7. FIG. 7 is a flowchart showing the analytical operation of the analytical apparatus according to the second embodiment. In this embodiment, the analytical apparatus 200 performs analysis of the measurement target gas by the cross-flow modulation method. Note that the operations described below are performed by the control unit 307 controlling the analytical apparatus 200. In addition, prior to the following analytical operations, calibration (e.g., zero calibration, span calibration) of the analytical apparatus 200 is performed at predetermined intervals (e.g., one week).

測定対象ガスの分析動作が開始されると、まず、ステップS201において、制御部307が、導入部303に対して、第2入口303bとガス出口303cとをガス流通可能とする制御を行う。これにより、リファレンスガス供給ライン306から導入部303にリファレンスガスRGが供給され、ガス出口303cから充填部3のサンプリング空間SS’にリファレンスガスRGが導入される。すなわち、充填部3のサンプリング空間SS’にリファレンスガスRGが充填される。When the analysis operation of the gas to be measured is started, first, in step S201, the control unit 307 controls the introduction unit 303 to allow gas to flow through the second inlet 303b and the gas outlet 303c. As a result, the reference gas RG is supplied from the reference gas supply line 306 to the introduction unit 303, and the reference gas RG is introduced from the gas outlet 303c into the sampling space SS' of the filling unit 3. In other words, the sampling space SS' of the filling unit 3 is filled with the reference gas RG.

リファレンスガスRGを充填部3のサンプリング空間SS’に充填後、ステップS202において、制御部307が、照射部301aから測定光L’を出力させ、リファレンスガスRGが充填された充填部3のサンプリング空間SS’を通過した測定光L’を検出部301bにて検出する。制御部307は、検出部301bから入力した信号に基づいて、リファレンスガスRGが充填された充填部3のサンプリング空間SS’を通過した測定光L’の強度(分析基準強度と呼ぶ)を算出する。After the reference gas RG is filled into the sampling space SS' of the filling section 3, in step S202, the control section 307 outputs the measurement light L' from the irradiation section 301a, and the measurement light L' that passes through the sampling space SS' of the filling section 3 filled with the reference gas RG is detected by the detection section 301b. Based on the signal input from the detection section 301b, the control section 307 calculates the intensity (referred to as the analytical reference intensity) of the measurement light L' that passes through the sampling space SS' of the filling section 3 filled with the reference gas RG.

次に、ステップS203において、制御部307が、導入部303に対して、第1入口303aとガス出口303cとをガス流通可能とする制御を行う。これにより、ガス出口303cから充填部3のサンプリング空間SS’に試料ガスSGが導入される。すなわち、充填部3のサンプリング空間SS’に試料ガスSGが充填される。Next, in step S203, the control unit 307 controls the introduction unit 303 to allow gas to flow between the first inlet 303a and the gas outlet 303c. This allows the sample gas SG to be introduced from the gas outlet 303c into the sampling space SS' of the filling unit 3. In other words, the sampling space SS' of the filling unit 3 is filled with the sample gas SG.

試料ガスSGを充填部3のサンプリング空間SS’に充填後、ステップS204において、制御部307が、照射部301aから測定光L’を出力させ、試料ガスSGが充填された充填部3のサンプリング空間SS’を通過した測定光L’を検出部301bにて検出する。制御部307は、検出部301bから入力した信号に基づいて、試料ガスSGが充填された充填部3のサンプリング空間SS’を通過した測定光L’の強度(分析強度と呼ぶ)を算出する。After the sample gas SG is filled into the sampling space SS' of the filling section 3, in step S204, the control section 307 causes the irradiation section 301a to output the measurement light L', and the detection section 301b detects the measurement light L' that has passed through the sampling space SS' of the filling section 3 filled with the sample gas SG. Based on the signal input from the detection section 301b, the control section 307 calculates the intensity (referred to as the analysis intensity) of the measurement light L' that has passed through the sampling space SS' of the filling section 3 filled with the sample gas SG.

さらに、ステップS205において、制御部307が、ステップS204にて算出した分析強度と、ステップS202にて算出した分析基準強度との差分に基づいて、試料ガスSGに含まれる測定対象ガスを分析する。具体的には、分析強度と分析基準強度との差分から、測定対象ガスの濃度を算出する。 Furthermore, in step S205, the control unit 307 analyzes the measurement target gas contained in the sample gas SG based on the difference between the analysis intensity calculated in step S204 and the analysis standard intensity calculated in step S202. Specifically, the concentration of the measurement target gas is calculated from the difference between the analysis intensity and the analysis standard intensity.

上記の図6に示す分析装置200では、リファレンスガスRGが、測定対象除去部302を用いて試料ガスSGから生成されている。これにより、リファレンスガスRG用のガスボンベを設ける必要がなくなる。その結果、ガスボンベの交換等によるユーザの負担を軽減できる。
6, the reference gas RG is generated from the sample gas SG using the measurement target removal unit 302. This eliminates the need to provide a gas cylinder for the reference gas RG. As a result, the burden on the user due to the need to replace the gas cylinder can be reduced.

また、上記の気体分離膜(中空糸膜)を有する測定対象除去部302において、空気から窒素ガスと酸素ガスとを分離する能力は長い期間持続するので、測定対象除去部302の交換をほぼ不要とできる。その結果、ユーザの負担を軽減できる。 In addition, in the measurement target removal unit 302 having the above-mentioned gas separation membrane (hollow fiber membrane), the ability to separate nitrogen gas and oxygen gas from air is maintained for a long period of time, so replacement of the measurement target removal unit 302 is almost unnecessary. As a result, the burden on the user can be reduced.

さらに、図6に示す分析装置200においては、例えば、測定対象ガスを除去する複数の除去部を切り替えて使用する必要がないので、複数の除去部を切り替えて使用するための複雑なガス経路を形成する必要がない。このように分析装置200のガス経路をより単純なものとできることにより、分析装置200に使用する部品点数を減らすことができる。6, for example, there is no need to switch between multiple removal units to remove the gas to be measured, so there is no need to form a complex gas path for switching between multiple removal units. In this way, the gas path of the analysis device 200 can be simplified, and the number of parts used in the analysis device 200 can be reduced.

(4)第2実施形態に係る分析装置の変形例1
(4-1)変形例1の概要
上記にて説明した分析装置200では、測定対象除去部302は、排出流路304から分岐した分岐ライン305に接続され、試料ガスSGから測定対象ガスを除去してリファレンスガスRGを生成していた。すなわち、リファレンスガスRGを生成するためのリファレンスガス生成用ガスが試料ガスSGであった。
しかし、リファレンスガス生成用ガスは、試料ガスSGに限られない。第2実施形態に係る分析装置の変形例1(分析装置200’)は、図8に示すように、昇圧された空気AR’を供給する空気供給部309をさらに備え、当該空気供給部309を空気供給ライン309aにより測定対象除去部302に接続する。すなわち、分析装置200’においては、リファレンスガス生成用ガスが、試料ガスSGとは異なる供給源(空気供給部309)から供給される空気AR’である。図8は、第2実施形態に係る分析装置の変形例1の構成を示す図である。
(4) Modification 1 of the analysis device according to the second embodiment
(4-1) Overview of Modification 1 In the analytical device 200 described above, the measurement target removal unit 302 is connected to a branch line 305 branched off from the exhaust flow path 304, and removes the measurement target gas from the sample gas SG to generate the reference gas RG. In other words, the reference gas generation gas for generating the reference gas RG is the sample gas SG.
However, the reference gas generation gas is not limited to the sample gas SG. As shown in FIG. 8, the analysis apparatus according to the second embodiment (analysis apparatus 200') further includes an air supply unit 309 that supplies pressurized air AR', and the air supply unit 309 is connected to the measurement target removal unit 302 by an air supply line 309a. That is, in the analysis apparatus 200', the reference gas generation gas is air AR' supplied from a supply source (air supply unit 309) different from the sample gas SG. FIG. 8 is a diagram showing the configuration of the analysis apparatus according to the second embodiment.

このように、測定対象除去部302に供給するリファレンスガス生成用ガスを、試料ガスSGとは異なる供給源である空気供給部309から供給することで、昇圧用ポンプ305aを設けることなく、十分に昇圧された空気AR’をリファレンスガス生成用ガスとして測定対象除去部302に供給できる。すなわち、測定対象除去部302に供給されるリファレンスガス生成用ガスの条件を、測定対象除去部302の性能を十分に発揮できる適切な条件とできる。 In this way, by supplying the reference gas generation gas supplied to the measurement target removal unit 302 from the air supply unit 309, which is a supply source different from the sample gas SG, it is possible to supply sufficiently pressurized air AR' to the measurement target removal unit 302 as reference gas generation gas without providing a pressure boosting pump 305a. In other words, the conditions of the reference gas generation gas supplied to the measurement target removal unit 302 can be set to appropriate conditions that allow the measurement target removal unit 302 to fully demonstrate its performance.

なお、上記の第2実施形態と同様、空気供給部309と測定対象除去部302との間には、レギュレータ309bが設けられる。レギュレータ309bは、空気供給部309から測定対象除去部302に供給する試料ガスSGの圧力を一定とする。As in the second embodiment described above, a regulator 309b is provided between the air supply unit 309 and the measurement target removal unit 302. The regulator 309b keeps the pressure of the sample gas SG supplied from the air supply unit 309 to the measurement target removal unit 302 constant.

変形例1に係る分析装置200’においては、測定対象除去部302から供給されたリファレンスガスRGを充填部3に充填したときの測定光L’の強度と、例えばゼロ校正に用いるガス(例えば、ガスボンベから供給された窒素ガス)を充填部3に充填したときの測定光L’の強度と、の比較に基づいて、測定対象除去部302による測定対象ガスの除去能力の状態、すなわち、測定対象除去部302の劣化の状態を確認できる。
なお、変形例1に係る分析装置200’において、測定対象除去部302の劣化の状態は、分析装置200’の制御部307’により判定される。分析装置200’のその他の構成及び機能は、第2実施形態に係る分析装置200と同じであるので、ここでは説明を省略する。
In the analytical apparatus 200' relating to variant example 1, the state of the measurement target gas removal ability of the measurement target removal section 302, i.e., the deterioration state of the measurement target removal section 302, can be confirmed based on a comparison between the intensity of the measurement light L' when the filling section 3 is filled with the reference gas RG supplied from the measurement target removal section 302 and the intensity of the measurement light L' when the filling section 3 is filled with, for example, a gas used for zero calibration (for example, nitrogen gas supplied from a gas cylinder).
In the analysis device 200' according to the first modification, the deterioration state of the measurement target removal unit 302 is determined by a control unit 307' of the analysis device 200'. The other configurations and functions of the analysis device 200' are the same as those of the analysis device 200 according to the second embodiment, and therefore will not be described here.

(4-2)変形例1に係る制御部の構成
以下、図9を用いて、測定対象除去部302の劣化の状態を判定可能な変形例1に係る制御部307’の具体的構成を説明する。図9は、変形例1に係る制御部の具体的構成を示す図である。制御部307’は、分析部307aと、判定部307bと、通知部307cと、を主に有する。なお、制御部307’の上記各部の機能の一部又は全部は、制御部307を構成するコンピュータシステムの記憶装置に記憶されたプログラムを実行することで実現される。また、上記各部の機能の一部は、ハードウェア的に実現されてもよい。
(4-2) Configuration of the Control Unit According to Modification 1 Hereinafter, a specific configuration of the control unit 307' according to modification 1 that can determine the state of deterioration of the measurement target removal unit 302 will be described with reference to FIG. 9. FIG. 9 is a diagram showing a specific configuration of the control unit according to modification 1. The control unit 307' mainly has an analysis unit 307a, a determination unit 307b, and a notification unit 307c. Note that some or all of the functions of the above-mentioned units of the control unit 307' are realized by executing a program stored in a storage device of the computer system that constitutes the control unit 307. Also, some of the functions of the above-mentioned units may be realized by hardware.

分析部307aは、試料ガスSGに含まれる測定対象ガスの分析を実行する。分析部307aにて実行される測定対象ガスの分析動作は、上記の第2実施形態における制御部307の動作と同じであるので、ここでは説明を省略する。The analysis unit 307a performs an analysis of the measurement target gas contained in the sample gas SG. The analysis operation of the measurement target gas performed by the analysis unit 307a is the same as the operation of the control unit 307 in the second embodiment described above, so a description thereof will be omitted here.

判定部307bは、測定対象除去部302の劣化を判定する。判定部307bは、例えば、リファレンスガスRGを充填部3のサンプリング空間SS’に充填したときに取得した測定光L’の強度と、測定対象ガスをほとんど含まず分析装置のゼロ校正に用いられるゼロガス(例えば、ガスボンベから供給される窒素ガス)をサンプリング空間SS’に充填したときに取得した測定光L’の強度と、の比較に基づいて、測定対象除去部302が劣化したか否かを判定する。The determination unit 307b determines the deterioration of the measurement target removal unit 302. The determination unit 307b determines whether the measurement target removal unit 302 has deteriorated based on a comparison between the intensity of the measurement light L' obtained when the reference gas RG is filled into the sampling space SS' of the filling unit 3 and the intensity of the measurement light L' obtained when the sampling space SS' is filled with a zero gas (e.g., nitrogen gas supplied from a gas cylinder) that contains almost no measurement target gas and is used for zero calibration of the analysis device.

測定対象除去部302が劣化していない状態であれば、リファレンスガスRGに含まれる測定対象ガスの含有量は、上記のゼロガスにおける測定対象ガスの含有量に近い。従って、リファレンスガスRGを充填部3のサンプリング空間SS’に充填したときに取得した測定光L’の強度と、ゼロガスを充填部3のサンプリング空間SS’に充填して取得した測定光L’の強度とは、ほぼ同じとなる。If the measurement target removal unit 302 is not deteriorated, the content of the measurement target gas contained in the reference gas RG is close to the content of the measurement target gas in the zero gas. Therefore, the intensity of the measurement light L' obtained when the reference gas RG is filled into the sampling space SS' of the filling unit 3 is approximately the same as the intensity of the measurement light L' obtained when the zero gas is filled into the sampling space SS' of the filling unit 3.

その一方、測定対象除去部302が劣化している場合には、リファレンスガス生成用ガス(本実施形態では空気AR)から測定対象ガスを除去する能力が低下するので、リファレンスガスRGに測定対象ガスが含まれるようになる。その結果、リファレンスガスRGを充填したサンプリング空間SS’を通過した測定光L’がリファレンスガスRGに含まれる測定対象ガスにより吸収され、リファレンスガスRGを充填したときに取得した測定光L’の強度が、ゼロガスを充填して取得した測定光L’の強度よりも小さくなる。On the other hand, when the measurement target removal unit 302 is deteriorated, the ability to remove the measurement target gas from the reference gas generation gas (air AR in this embodiment) decreases, and the measurement target gas becomes included in the reference gas RG. As a result, the measurement light L' that passes through the sampling space SS' filled with the reference gas RG is absorbed by the measurement target gas contained in the reference gas RG, and the intensity of the measurement light L' obtained when the reference gas RG is filled becomes smaller than the intensity of the measurement light L' obtained when the zero gas is filled.

上記の原理を利用して、判定部307bは、リファレンスガスRGを充填部3のサンプリング空間SS’に充填したときに取得した測定光L’の強度が、ゼロガスを充填部3のサンプリング空間SS’に充填して取得した測定光L’の強度よりも所定の強度以上低下したら、測定対象除去部302が劣化したと判定できる。
判定部307bは、測定対象除去部302が劣化していると判定した場合、当該判定結果を通知部307cに通知する。
Using the above principle, the judgment unit 307b can judge that the measurement target removal unit 302 has deteriorated if the intensity of the measurement light L' obtained when the reference gas RG is filled into the sampling space SS' of the filling unit 3 is lower than the intensity of the measurement light L' obtained when the zero gas is filled into the sampling space SS' of the filling unit 3 by a predetermined intensity or more.
If the determining unit 307b determines that the measurement target removal unit 302 has deteriorated, it notifies the notification unit 307c of the determination result.

通知部307cは、判定部307bにおいて測定対象除去部302が劣化しているとの判定結果を受信したときに、測定対象除去部302が劣化していることを通知する。具体的には、通知部307cは、測定対象除去部302が劣化していると判定された場合に、報知装置308を動作させる信号を出力する。報知装置308は、例えば、音を発する装置(スピーカー)、警告灯、画面(ディスプレイ)に画像を表示する装置、などである。このように、報知装置308は、分析装置200から出力される情報を報知する装置である。When the determination unit 307b receives a determination result that the measurement target removal unit 302 is degraded, the notification unit 307c notifies that the measurement target removal unit 302 is degraded. Specifically, when the notification unit 307c determines that the measurement target removal unit 302 is degraded, it outputs a signal to operate the alarm device 308. The alarm device 308 is, for example, a device that emits sound (speaker), a warning light, a device that displays an image on a screen (display), etc. In this way, the alarm device 308 is a device that notifies information output from the analysis device 200.

なお、報知装置308を分析装置200とは個別の装置として、分析システムとすることもできる。報知装置308と分析装置200とを個別の装置とすることで、例えば、分析装置200の設置場所とは異なる場所に報知装置308を設置することができる。The alarm device 308 can be a separate device from the analysis device 200, forming an analysis system. By making the alarm device 308 and the analysis device 200 separate devices, for example, the alarm device 308 can be installed in a location different from the location where the analysis device 200 is installed.

(4-3)測定対象除去部の劣化の判定動作
次に、図10を用いて、変形例1に係る分析装置200’における測定対象除去部302の劣化の判定動作を説明する。図10は、第2実施形態の変形例1に係る分析装置における測定対象除去部の劣化の判定動作を示すフローチャートである。なお、以下に示す動作は、判定部307bが分析装置200を制御することで実行される。
まず、ステップS301において、例えば、ゼロガス(例えば、窒素ガス)のガスボンベ等を用いて、充填部3のサンプリング空間SS’にゼロガスを充填する。
その後、ステップS302において、照射部301aから測定光L’が出力され、ゼロガスが充填された充填部3のサンプリング空間SS’を通過した測定光L’が検出部301bにて検出される。検出部301bから入力した信号に基づいて、ゼロガスが充填された充填部3のサンプリング空間SS’を通過した測定光L’の強度が算出される。
(4-3) Operation for Determining Deterioration of the Measurement Target Removal Unit Next, the operation for determining deterioration of the measurement target removal unit 302 in the analysis device 200' according to Modification 1 will be described with reference to Fig. 10. Fig. 10 is a flow chart showing the operation for determining deterioration of the measurement target removal unit in the analysis device according to Modification 1 of the second embodiment. Note that the operation described below is executed by the determination unit 307b controlling the analysis device 200.
First, in step S301, the sampling space SS' of the filling unit 3 is filled with zero gas (for example, nitrogen gas) using a gas cylinder or the like for zero gas.
Then, in step S302, the measurement light L' is output from the irradiation unit 301a, and the measurement light L' that passes through the sampling space SS' of the filling unit 3 filled with zero gas is detected by the detection unit 301b. Based on the signal input from the detection unit 301b, the intensity of the measurement light L' that passes through the sampling space SS' of the filling unit 3 filled with zero gas is calculated.

次に、ステップS303において、測定対象除去部302により測定対象ガスが除去されたリファレンスガスRGを、充填部3のサンプリング空間SS’に充填する。具体的には、導入部303に対して、第2入口303bとガス出口303cとをガス流通可能とする制御を行い、リファレンスガスRGをサンプリング空間SS’に充填する。
その後、ステップS304において、照射部301aから測定光L’が出力され、リファレンスガスRGが充填された充填部3のサンプリング空間SS’を通過した測定光L’が検出部301bにて検出される。検出部301bから入力した信号に基づいて、リファレンスガスRGが充填された充填部3のサンプリング空間SS’を通過した測定光L’の強度が算出される。
Next, in step S303, the reference gas RG from which the measurement target gas has been removed by the measurement target removal unit 302 is filled into the sampling space SS' of the filling unit 3. Specifically, the introduction unit 303 is controlled to allow gas to flow between the second inlet 303b and the gas outlet 303c, and the reference gas RG is filled into the sampling space SS'.
Thereafter, in step S304, the measurement light L' is output from the irradiation unit 301a, and the measurement light L' that has passed through the sampling space SS' of the filling unit 3 filled with the reference gas RG is detected by the detection unit 301b. Based on the signal input from the detection unit 301b, the intensity of the measurement light L' that has passed through the sampling space SS' of the filling unit 3 filled with the reference gas RG is calculated.

上記のステップS304を実行後、ステップS305において、判定部307bが、ステップS302で取得したゼロガスを通過した測定光L’の強度と、ステップS304で取得したリファレンスガスRGを通過した測定光L’の強度と、の比較に基づいて、測定対象除去部302が劣化しているか否かを判定する。
例えば、ステップS304において取得したリファレンスガスRGを通過した測定光L’の強度と、ステップS302において取得したゼロガスを通過した測定光L’の強度と、の差の絶対値が所定値以上となった場合に、リファレンスガスRGに所定量以上の測定対象ガスが含まれており、測定対象除去部302が劣化したと判定する。
After executing the above-mentioned step S304, in step S305, the judgment unit 307b judges whether or not the measurement target removal unit 302 has deteriorated based on a comparison between the intensity of the measurement light L' that has passed through the zero gas obtained in step S302 and the intensity of the measurement light L' that has passed through the reference gas RG obtained in step S304.
For example, when the absolute value of the difference between the intensity of the measurement light L' that passed through the reference gas RG obtained in step S304 and the intensity of the measurement light L' that passed through the zero gas obtained in step S302 becomes equal to or greater than a predetermined value, it is determined that the reference gas RG contains a predetermined amount or more of the measurement target gas, and the measurement target removal unit 302 has deteriorated.

判定部307bにより測定対象除去部302が劣化していると判定された場合(ステップS305で「Yes」)、ステップS306において、判定部307bは、測定対象除去部302が劣化しているとの判定結果を、通知部307cに通知する。
測定対象除去部302が劣化しているとの判定結果を受信した通知部307cは、報知装置308に通知信号を出力して報知装置308を動作させる。これにより、例えば、音を発生させるか、及び/又は、警告灯を点灯させて、ユーザが視覚的及び/又は聴覚的に認識できる形態で測定対象除去部302が劣化していることを通知できる。
測定対象除去部302が劣化していることを認識したユーザは、例えば、測定対象除去部302を交換するなどの対策を実行できる。
If the judgment unit 307b judges that the measurement target removal unit 302 is degraded ("Yes" in step S305), in step S306, the judgment unit 307b notifies the notification unit 307c of the judgment result that the measurement target removal unit 302 is degraded.
The notification unit 307c, which has received the determination result that the measurement target removal unit 302 has deteriorated, outputs a notification signal to the alarm device 308 to operate the alarm device 308. This makes it possible to notify the user that the measurement target removal unit 302 has deteriorated in a form that can be visually and/or audibly recognized by, for example, emitting a sound and/or turning on a warning light.
A user who recognizes that measurement object removal unit 302 has deteriorated can take measures such as replacing measurement object removal unit 302 .

一方、判定部307bにより測定対象除去部302が劣化していると判定されない場合(ステップS305で「No」)、測定対象除去部302の劣化の判定動作は終了する。On the other hand, if the judgment unit 307b does not judge that the measurement target removal unit 302 is degraded ('No' in step S305), the operation of judging the degradation of the measurement target removal unit 302 is terminated.

(5)第2実施形態に係る分析装置の変形例2
(5-1)変形例2に係る分析装置の概要
上記にて説明した分析装置200、200’では、試料ガスSG又は空気AR’から測定対象ガスを除去してリファレンスガスRGを生成する部材として、測定対象除去部302のみが設けられていた。
しかし、これに限られず、第2実施形態に係る分析装置の変形例2(分析装置200’’)は、図11に示すように、Nセパレータである測定対象除去部302から供給されたガスから測定対象ガスを除去するスクラバー310a、310bをさらに備え、当該スクラバー310a、310bにて測定対象ガスを除去したガスをリファレンスガスRGとしてもよい。図11は、第2実施形態に係る分析装置の変形例2の構成を示す図である。なお、分析装置200’’は、スクラバー310a、310bを備えること以外、その構成及び機能は変形例1に係る分析装置200’と同じであるので、ここでは説明を省略する。
(5) Modification 2 of the analysis device according to the second embodiment
(5-1) Overview of the analytical apparatus according to variant example 2 In the analytical apparatus 200, 200' described above, only the measurement target removal section 302 was provided as a component for removing the measurement target gas from the sample gas SG or air AR' to generate the reference gas RG.
However, the present invention is not limited to this, and the second modification of the analyzer according to the second embodiment (analyzer 200'') may further include scrubbers 310a, 310b for removing the measurement target gas from the gas supplied from the measurement target removal unit 302, which is an N2 separator, as shown in FIG. 11, and the gas from which the measurement target gas has been removed by the scrubbers 310a, 310b may be used as the reference gas RG. FIG. 11 is a diagram showing the configuration of the second modification of the analyzer according to the second embodiment. Note that the analyzer 200'' has the same configuration and function as the analyzer 200' according to the first modification, except for the inclusion of the scrubbers 310a, 310b, and therefore a description thereof will be omitted here.

(5-2)スクラバー
以下、図11を用いて、変形例2に係る分析装置200’’におけるスクラバーの構成を説明する。
スクラバー310a、310bは、図11に示すように、水分吸着剤Sと測定対象ガス吸着剤Zとが精製器本体311の内部に封入された部材である。水分吸着剤Sは、測定対象除去部302から供給されたガスから水分を除去する。水分吸着剤Sは、所定の再生温度まで加熱することにより、吸着成分が離脱する性質を有する。 水分吸着剤Sとしては、例えば、物理的に吸着した水分を、所定温度まで加熱することによって放出する、吸着能再生可能なシリカゲルを用いている。
(5-2) Scrubber The configuration of the scrubber in the analysis device 200'' according to the second modification will be described below with reference to FIG.
As shown in Fig. 11, the scrubbers 310a and 310b are components in which a moisture adsorbent S and a measurement target gas adsorbent Z are enclosed inside a purifier body 311. The moisture adsorbent S removes moisture from the gas supplied from the measurement target removal unit 302. The moisture adsorbent S has a property that the adsorbed components are released by heating to a predetermined regeneration temperature. As the moisture adsorbent S, for example , silica gel with regenerative adsorption ability is used, which releases physically adsorbed moisture by heating to a predetermined temperature.

測定対象ガス吸着剤Zは、測定対象除去部302から供給されたガスから測定対象ガスをさらに除去する。測定対象ガス吸着剤Zは、例えば、物理的に吸着した測定対象ガスをシリカゲルよりも高い所定温度まで加熱することによって放出する吸着能再生可能なゼオライトを使用できる。
その他、測定対象ガス吸着剤Zとして、例えば、モレキュラーシーブなどを用いることができる。このような吸着材は、例えば多数の微細孔を有し、該微細孔に入りうる程度の大きさの分子のみを選択的に吸着する分子篩作用を利用したものである。化学的結合によって分子を吸着するソーダライム等とは異なり、加熱などによって容易に再生できるという特性を有する。
The measurement target gas adsorbent Z further removes the measurement target gas from the gas supplied from the measurement target removal unit 302. The measurement target gas adsorbent Z may be, for example, zeolite, which has regenerative adsorption ability and releases the physically adsorbed measurement target gas by heating it to a predetermined temperature higher than that of silica gel.
Alternatively, for example, a molecular sieve can be used as the measurement target gas adsorbent Z. Such an adsorbent has, for example, many micropores and utilizes the molecular sieve effect to selectively adsorb only molecules that are large enough to enter the micropores. Unlike soda lime, which adsorbs molecules through chemical bonds, it has the characteristic of being easily regenerated by heating or the like.

精製器本体311は、例えば、円筒状の金属部材で形成してあり、その一端面にガスが流入する入力ポート311aが、他端面にガスが導出される出力ポート311bが設けられている。そして、この精製器本体311の入力ポート311a側の半部に水分吸着剤Sが、出力ポート311b側の半部に測定対象ガス吸着剤Zが充填されている。水分吸着剤Sと測定対象ガス吸着剤Zと境界には、例えば、フィルタメッシュMが仕切りとして配設してある。The purifier body 311 is formed, for example, from a cylindrical metal member, and has an input port 311a at one end into which gas flows, and an output port 311b at the other end from which gas is discharged. The half of the purifier body 311 on the input port 311a side is filled with moisture adsorbent S, and the half on the output port 311b side is filled with measurement target gas adsorbent Z. At the boundary between the moisture adsorbent S and the measurement target gas adsorbent Z, for example, a filter mesh M is disposed as a partition.

スクラバー310a、310bは、加熱機構312をさらに有する。加熱機構312は、例えば外部からの操作でON/OFF可能な巻線ヒータを具備したものであり、精製器本体311における出力ポート311b側の半部に巻き回すことによって、測定対象ガス吸着剤Zを直接的に加熱する。水分吸着剤Sは、精製器本体311からの熱伝熱等によって、間接的に加熱される。この加熱機構312による加熱温度は、測定対象ガス吸着剤Zの再生可能最低温度以上であって、かつ、水分吸着剤Sの再生可能温度以上分解温度以下に設定してある。本実施形態において、加熱機構312による加熱温度は、例えば130°C~180°Cである。
The scrubbers 310a and 310b further include a heating mechanism 312. The heating mechanism 312 includes, for example, a wound heater that can be turned on and off by an external operation, and directly heats the measurement target gas adsorbent Z by winding the heater around the half of the output port 311b side of the purifier body 311. The moisture adsorbent S is indirectly heated by heat transfer from the purifier body 311, etc. The heating temperature by the heating mechanism 312 is set to be equal to or higher than the minimum regenerative temperature of the measurement target gas adsorbent Z, and equal to or higher than the regenerative temperature and equal to or lower than the decomposition temperature of the moisture adsorbent S. In this embodiment, the heating temperature by the heating mechanism 312 is, for example, 130°C to 180°C.

図11に示すように、変形例2に係る分析装置200’’は、2つのスクラバー310a、310bを並列して備えている。この2つのスクラバー310a、310bは、いずれかを切り替えて使用可能となっている。
具体的には、測定対象除去部302の出口に接続されるガスラインGL1は、途中で二分岐し2つのガスラインGL2、GL3を形成する。この2つのガスラインGL2、GL3のうち、ガスラインGL2がスクラバー310aの入力ポート311aに接続され、ガスラインGL3が310bの入力ポート311aに接続される。また、上記ガスラインの分岐点には切換弁V1(例えば、三方弁)が設けてある。切換弁V1は、ガスラインGL1とガスラインGL2を接続するか、ガスラインGL1とガスラインGL3を接続するかを切り替えることで、2つのスクラバー310a、310bのうちいずれか一方を、測定対象除去部302に接続する。
As shown in Fig. 11, an analysis device 200'' according to the second modification includes two scrubbers 310a and 310b arranged in parallel. Either of the two scrubbers 310a and 310b can be switched for use.
Specifically, the gas line GL1 connected to the outlet of the measurement target removal unit 302 branches into two gas lines GL2 and GL3. Of these two gas lines GL2 and GL3, the gas line GL2 is connected to the input port 311a of the scrubber 310a, and the gas line GL3 is connected to the input port 311a of 310b. In addition, a switching valve V1 (e.g., a three-way valve) is provided at the branching point of the gas lines. The switching valve V1 connects either one of the two scrubbers 310a and 310b to the measurement target removal unit 302 by switching between connecting the gas line GL1 to the gas line GL2 or connecting the gas line GL1 to the gas line GL3.

また、二分岐したガスラインGL2、GL3のうち、ガスラインGL1(測定対象除去部302)に接続されていないガスラインは、切換弁V2(例えば、三方弁)によってパージガス排出ラインGL4に接続される。 In addition, of the two branched gas lines GL2 and GL3, the gas line that is not connected to gas line GL1 (measurement target removal section 302) is connected to the purge gas exhaust line GL4 by a switching valve V2 (e.g., a three-way valve).

上記の構成を有する分析装置200’’においては、例えば、切換弁V1がガスラインGL1とガスラインGL3とを接続し、切換弁V2がガスラインGL2とパージガス排出ラインGL4とを接続した状態で分析動作がなされた場合には、ガスラインGL3に接続されたスクラバー310bにより測定対象ガスが除去される。
例えば、スクラバー310bの測定対象ガスの除去能力が低下した場合には、切換弁V1がガスラインGL1とガスラインGL2とを接続し、切換弁V2がガスラインGL3とパージガス排出ラインGL4とを接続することで、未使用あるいは再生後のスクラバー310aにより測定対象ガスが除去される。
In the analytical apparatus 200'' having the above-described configuration, for example, when an analytical operation is performed with the switching valve V1 connecting the gas line GL1 and the gas line GL3 and the switching valve V2 connecting the gas line GL2 and the purge gas exhaust line GL4, the gas to be measured is removed by the scrubber 310b connected to the gas line GL3.
For example, if the ability of scrubber 310b to remove the target gas decreases, switching valve V1 connects gas line GL1 to gas line GL2, and switching valve V2 connects gas line GL3 to purge gas exhaust line GL4, thereby removing the target gas by unused or regenerated scrubber 310a.

なお、上記の例においてスクラバー310aが使用される間、除去能力が低下したスクラバー310bにおいては、加熱機構312による加熱により、水分吸着剤S及び測定対象ガス吸着剤Zの再生が実行される。これにより、一方のスクラバーの使用中に、他方のスクラバーの再生を実行できる。In the above example, while scrubber 310a is being used, in scrubber 310b, whose removal capacity has decreased, regeneration of moisture adsorbent S and measurement target gas adsorbent Z is performed by heating using heating mechanism 312. This allows one scrubber to be regenerated while the other scrubber is being used.

上記の分析装置200’’が、測定対象除去部302を通過したガスから測定対象ガスを除去するスクラバー310a、310bをさらに備えることにより、測定対象ガスの含有量がより低いリファレンスガスRGを生成できるとともに、スクラバー310a、310bの寿命を延ばすことができる。 By further providing the above-mentioned analytical device 200'' with scrubbers 310a, 310b that remove the target gas to be measured from the gas that has passed through the target gas removal section 302, it is possible to generate a reference gas RG having a lower content of the target gas to be measured and to extend the life of the scrubbers 310a, 310b.

(6)第2実施形態のまとめ
上記に説明した第2実施形態は下記のようにまとめることができる。
第2実施形態に係る分析装置200、200’、200‘’では、 測定対象除去部302は、リファレンスガス生成用ガス(試料ガスSG又は空気AR’)から測定対象ガスを分離してリファレンスガスRGを生成する気体分離膜を有する。この気体分離膜は長期間にわたり使用可能であるので、測定対象除去部302の頻繁な交換が不要となる。その結果、測定対象ガスの分析におけるユーザの負担の増大を防止できる。
(6) Summary of Second Embodiment The second embodiment described above can be summarized as follows.
In the analytical devices 200, 200', 200'' according to the second embodiment, the measurement target removal section 302 has a gas separation membrane that separates the measurement target gas from the reference gas generation gas (sample gas SG or air AR') to generate the reference gas RG. Since this gas separation membrane can be used for a long period of time, frequent replacement of the measurement target removal section 302 is not required. As a result, an increase in the burden on the user in analyzing the measurement target gas can be prevented.

また、測定対象除去部302が長寿命であることにより、分析装置200、200’、200’’を、複数のガスラインを切り替えてリファレンスガスRGを生成するといった複雑な構成とする必要がなくなるとともに、分析装置200、200’、200’’の制御を簡便にできる。 In addition, since the measurement target removal section 302 has a long life, it is not necessary to configure the analytical devices 200, 200', 200'' in a complex manner, such as by switching between multiple gas lines to generate the reference gas RG, and control of the analytical devices 200, 200', 200'' can be simplified.

分析装置200’、200’’が、リファレンスガスRGが充填された充填部301のサンプリング空間SS’を通過した測定光L’の強度に基づいて、測定対象除去部302の劣化を判定する判定部307bを備えることにより、充填部3に充填したガスを通過した測定光L’の強度に基づいて測定対象ガスの分析を行うのと類似の方法により、簡便に測定対象除去部302の劣化状態を判定できる。The analytical devices 200', 200'' are provided with a judgment unit 307b that judges the deterioration of the measurement target removal unit 302 based on the intensity of the measurement light L' that has passed through the sampling space SS' of the filling unit 301 filled with the reference gas RG, so that the deterioration state of the measurement target removal unit 302 can be easily judged by a method similar to the analysis of the measurement target gas based on the intensity of the measurement light L' that has passed through the gas filled in the filling unit 3.

分析装置200、200’、200’’が、測定対象除去部302に劣化があると判定されたことを通知する通知部307cを備えることにより、測定対象除去部302が劣化したことをユーザに通知できる。The analysis devices 200, 200', 200'' are provided with a notification unit 307c that notifies the user that the measurement target removal unit 302 has been determined to be deteriorated, thereby allowing the user to be notified that the measurement target removal unit 302 has deteriorated.

分析装置200、200’、200’’が、試料ガスSGとリファレンスガスRGを充填部3のサンプリング空間SS’に交互に導入する導入部303を備えることにより、クロスフローモジュレーション方式の測定対象ガスの分析装置を実現できる。The analytical devices 200, 200', 200'' are provided with an introduction section 303 that alternately introduces the sample gas SG and the reference gas RG into the sampling space SS' of the filling section 3, thereby realizing a cross-flow modulation type analytical device for the gas to be measured.

分析装置200において、リファレンスガス生成用ガスを試料ガスSGとすることで、測定対象となる試料ガスSGからより適切なリファレンスガスRGを生成できる。
分析装置200’、200’’において、リファレンスガス生成用ガスを試料ガスとは異なる供給源(空気供給部309)から供給される空気AR’とすることにより、測定対象除去部302に供給されるリファレンスガス生成用ガスの条件を、容易に測定対象除去部302の性能を十分に発揮できる適切な条件とできる。
In the analytical device 200, by using the sample gas SG as the gas for generating the reference gas, a more appropriate reference gas RG can be generated from the sample gas SG to be measured.
In the analytical devices 200', 200'', by using air AR' supplied from a source (air supply section 309) different from the sample gas as the gas for generating the reference gas, the conditions of the gas for generating the reference gas supplied to the measurement target removal section 302 can be easily set to appropriate conditions that allow the performance of the measurement target removal section 302 to be fully demonstrated.

分析装置200’’が、測定対象除去部302を通過したガスから測定対象ガスを除去するスクラバー310a、310bをさらに備えることにより、測定対象ガスの含有量がより低いリファレンスガスRGを生成できるとともに、スクラバー310a、310bの寿命を延ばすことができる。The analytical device 200'' further includes scrubbers 310a, 310b that remove the target gas from the gas that has passed through the target gas removal section 302, thereby making it possible to generate a reference gas RG having a lower target gas content and to extend the life of the scrubbers 310a, 310b.

3.他の実施形態
以上、本発明の複数の実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。特に、本明細書に書かれた複数の実施形態及び変形例は必要に応じて任意に組み合せ可能である。
(A)第1の実施の形態に係る分析装置100、100’においては、伝搬空間TSには、第1ミラー71aと、第2ミラー71bと、第3ミラー71cと、第4ミラー71dと、第5ミラー71eと、第6ミラー71fとが配置されていると説明した。これらのミラーの配置は、筐体1内部における光源51a~51dと充填部3との位置関係に応じて変更されてもよい。
例えば、光源51a~51dと充填部3との距離が近づくことで、伝搬空間TS内における測定光Lが伝搬する光源51a~51dから充填部3までの距離が短くなる場合は、伝搬空間TS内のミラーの数を減少するか、又は、伝搬空間TS内にミラーを設けないようにしてもよい。
Although several embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to the above-mentioned embodiments, and various modifications are possible without departing from the gist of the invention. In particular, several embodiments and modifications described in this specification can be arbitrarily combined as necessary.
(A) In the analysis device 100, 100' according to the first embodiment, the first mirror 71a, the second mirror 71b, the third mirror 71c, the fourth mirror 71d, the fifth mirror 71e, and the sixth mirror 71f are arranged in the propagation space TS. The arrangement of these mirrors may be changed depending on the positional relationship between the light sources 51a to 51d and the filling unit 3 inside the housing 1.
For example, if the distance between the light sources 51a to 51d and the filling section 3 becomes shorter as a result of the distance from the light sources 51a to 51d through which the measurement light L propagates in the propagation space TS to the filling section 3 becoming shorter, the number of mirrors in the propagation space TS may be reduced, or no mirrors may be provided in the propagation space TS.

(B)第1実施形態に係る分析装置100、100’において測定対象除去部9の劣化を判定する際に、測定対象除去部9より発生したパージガスPGを充填部3のサンプリング空間SSに充填し、サンプリング空間SS内のパージガスPGを通過した測定光Lの強度に基づいて、測定対象除去部9の劣化を判定してもよい。
第1実施形態において説明したとおり、サンプリング空間SSにおいて測定光Lは多重反射により光路長が長くなっているので、サンプリング空間SS内のパージガスPGを通過した測定光Lの強度に基づけば、パージガスPGに含まれる低濃度の測定対象ガスを精度よく測定できる。
(B) When determining deterioration of the measurement target removal unit 9 in the analytical device 100, 100' of the first embodiment, the purge gas PG generated by the measurement target removal unit 9 may be filled into the sampling space SS of the filling unit 3, and the deterioration of the measurement target removal unit 9 may be determined based on the intensity of the measurement light L that has passed through the purge gas PG in the sampling space SS.
As described in the first embodiment, the optical path length of the measurement light L in the sampling space SS is long due to multiple reflections, so that the low concentration of the target gas contained in the purge gas PG can be accurately measured based on the intensity of the measurement light L that has passed through the purge gas PG in the sampling space SS.

また、サンプリング空間SS内にパージガスPGを充填することにより、サンプリング空間SSが使用により汚染されていても、その影響を含んだ状態の測定光Lの強度を測定できる。その結果、より精度よくパージガスPGに含まれる測定対象ガスの含有量を精度よく測定できる。In addition, by filling the sampling space SS with purge gas PG, even if the sampling space SS is contaminated by use, the intensity of the measurement light L can be measured while including the influence of contamination. As a result, the content of the measurement target gas contained in the purge gas PG can be measured with greater accuracy.

(C)第1実施形態に係る分析装置100、100’において、充填部3と同様の構成を有し窒素ガスなどの測定対象ガスを含まないガス充填したセルを個別に設け、測定対象除去部9の劣化を判定する際には、このセル内に測定光Lを通過させてもよい。これにより、充填部3の汚染に影響を受けることなく、伝搬空間TS内のパージガスPGに含まれる測定対象ガスによる測定光Lの吸収量のみを精度よく測定できる。 (C) In the analysis device 100, 100' according to the first embodiment, a cell filled with a gas that has a configuration similar to that of the filling section 3 and does not contain a measurement target gas such as nitrogen gas may be provided separately, and the measurement light L may be passed through this cell when determining deterioration of the measurement target removal section 9. This allows accurate measurement of only the amount of absorption of the measurement light L by the measurement target gas contained in the purge gas PG in the propagation space TS, without being affected by contamination of the filling section 3.

(D)また、第1実施形態に係る分析装置100、100’と、第2実施形態に係る分析装置200、200’とにおいて、ガスに含まれる測定対象ガスを除去するために、多孔質水酸化カルシウムに呈色剤、硝酸銀を用いた、使い捨て可能な除去剤を用いても良い。これにより、低コストで安定的な測定が実現可能となる。(D) In addition, in the analysis device 100, 100' according to the first embodiment and the analysis device 200, 200' according to the second embodiment, a disposable remover made of porous calcium hydroxide, a coloring agent, and silver nitrate may be used to remove the target gas contained in the gas. This makes it possible to achieve stable measurements at low cost.

(E)第1実施形態に係る分析装置100、100’においては、測定対象除去部9は、空気供給ライン11から供給された空気からパージガスを生成していた。しかし、これに限られず、空気供給ライン11の代わりに、例えば、酸素と窒素とを含む気体が充填されたボンベを測定対象除去部9に接続し、測定対象除去部9が当該ボンベから供給された気体から窒素を抽出してパージガスを生成してもよい。 (E) In the analysis device 100, 100' according to the first embodiment, the measurement target removal unit 9 generates a purge gas from air supplied from the air supply line 11. However, this is not limited to this, and instead of the air supply line 11, for example, a cylinder filled with a gas containing oxygen and nitrogen may be connected to the measurement target removal unit 9, and the measurement target removal unit 9 may extract nitrogen from the gas supplied from the cylinder to generate a purge gas.

本発明は、試料ガスに含まれる測定対象ガスを分析する分析装置に広く適用できる。 The present invention can be widely applied to analytical devices that analyze the target gas contained in a sample gas.

100、100’ 分析装置
1 筐体
11 空気供給ライン
11a 第1空気供給ライン
11b 第2空気供給ライン
11c 三方弁
12 空気供給部
13 排出口
IS 内部空間
3 充填部
31 入口
32 出口
33a 第1反射部材
33b 第2反射部材
SS サンプリング空間
5 照射部
51a~51d 光源
L1~L4 要素光
7 伝搬部
71a 第1ミラー
71b 第2ミラー
71c 第3ミラー
71d 第4ミラー
71e 第5ミラー
71f 第6ミラー
75 検出部
77 パージガス供給ライン
79 パージガス排出口
TS 伝搬空間
9 測定対象除去部
20 制御部
201 分析部
203 第1判定部
205 通知部
207 第2判定部
30 報知装置
F フランジ
W 光学窓
PG パージガス
PR1 圧力計
AR 空気
L 測定光
200、200’、200’’分析装置
301 充填部
301a 照射部
301b 検出部
SS’ サンプリング空間
302 測定対象除去部
303 導入部
303a 第1入口
303b 第2入口
303c ガス出口
304 排出流路
304a オリフィス
304b 第1ポンプ
305 分岐ライン
305a 昇圧用ポンプ
305b レギュレータ
306 リファレンスガス供給ライン
307 制御部
307a 分析部
307b 判定部
307c 通知部
308 報知装置
309 空気供給部
309a 空気供給ライン
309b レギュレータ
310a、310b スクラバー
AR’ 空気
L’ 測定光
RG リファレンスガス
SG 試料ガス
100, 100' Analytical device 1 Housing 11 Air supply line 11a First air supply line 11b Second air supply line 11c Three-way valve 12 Air supply section 13 Outlet IS Internal space 3 Filling section 31 Inlet 32 Outlet 33a First reflecting member 33b Second reflecting member SS Sampling space 5 Irradiation sections 51a to 51d Light sources L1 to L4 Element light 7 Propagation section 71a First mirror 71b Second mirror 71c Third mirror 71d Fourth mirror 71e Fifth mirror 71f Sixth mirror 75 Detection section 77 Purge gas supply line 79 Purge gas outlet TS Propagation space 9 Measurement target removal section 20 Control section 201 Analysis section 203 First determination section 205 Notification section 207 Second determination section 30 Notification device F Flange W Optical window PG Purge gas PR1 Pressure gauge AR Air L Measurement light 200, 200', 200'' analysis device 301 Filling section 301a Irradiation section 301b Detection section SS' Sampling space 302 Measurement target removal section 303 Introduction section 303a First inlet 303b Second inlet 303c Gas outlet 304 Discharge flow path 304a Orifice 304b First pump 305 Branch line 305a Booster pump 305b Regulator 306 Reference gas supply line 307 Control section 307a Analysis section 307b Determination section 307c Notification section 308 Notification device 309 Air supply section 309a Air supply line 309b Regulators 310a, 310b Scrubber AR' Air L' Measurement light RG Reference gas SG Sample gas

Claims (12)

測定対象ガスを分析する分析装置であって、
前記測定対象ガスを含む試料ガスが充填される充填部と、
前記充填部に向けて測定光を照射する照射部と、
前記充填部と前記照射部との間に設けられ、前記測定光が伝搬する伝搬空間を形成する伝搬部と、
空気供給ラインから供給された空気から前記測定対象ガスを除去して前記伝搬空間をパージするためのパージガスを生成する気体分離膜を有する測定対象除去部と、
前記充填部と、前記照射部と、前記伝搬部と、前記測定対象除去部と、を内部空間に格納して外部空間と隔離する筐体と、
を備え、
前記伝搬部は、前記伝搬空間に導入された前記パージガスを、前記筐体の内部空間に排出するパージガス排出口を有し、
前記空気供給ラインから供給された空気は、前記筐体の内部空間に供給される、
分析装置。
An analytical apparatus for analyzing a measurement target gas, comprising:
a filling section into which a sample gas containing the gas to be measured is filled;
an irradiation unit that irradiates a measurement light toward the filling unit;
a propagation section provided between the filling section and the irradiation section and forming a propagation space through which the measurement light propagates;
a measurement target removal unit having a gas separation membrane that removes the measurement target gas from air supplied from an air supply line and generates a purge gas for purging the propagation space;
a housing that stores the filling unit, the irradiation unit, the propagation unit, and the measurement target removal unit in an internal space and isolates the internal space from an external space;
Equipped with
the propagation section has a purge gas exhaust port that exhausts the purge gas introduced into the propagation space into an internal space of the housing,
The air supplied from the air supply line is supplied to the internal space of the housing.
Analytical equipment.
前記パージガスによりパージされた前記伝搬空間を通過した前記測定光を検出する検出部と、
前記伝搬空間を通過することで前記測定対象ガス及び前記測定光に影響を及ぼすガスにより吸収された前記測定光の強度に基づいて、前記測定対象除去部の劣化を判定する第1判定部と、
をさらに備える、請求項1に記載の分析装置。
a detection unit that detects the measurement light that has passed through the propagation space purged by the purge gas;
a first determination unit that determines deterioration of the measurement target removal unit based on an intensity of the measurement light absorbed by the measurement target gas and a gas that affects the measurement light by passing through the propagation space;
The analysis device of claim 1 further comprising:
前記測定対象除去部に供給する前記空気の圧力又は流量に基づいて、前記測定対象除去部の劣化を判定する第2判定部をさらに備える、請求項1又は2に記載の分析装置。 The analyzer according to claim 1 or 2, further comprising a second determination unit that determines deterioration of the measurement target removal unit based on the pressure or flow rate of the air supplied to the measurement target removal unit. 前記測定対象除去部に劣化があると判定されたことを通知する通知部をさらに備える、請求項2又は3に記載の分析装置。 The analysis device according to claim 2 or 3, further comprising a notification unit that notifies that the measurement target removal unit is determined to be degraded. 前記気体分離膜は、前記空気から分離した窒素ガスを前記パージガスとする、請求項1~4のいずれかに記載の分析装置。 The analytical device according to any one of claims 1 to 4, wherein the gas separation membrane separates nitrogen gas from the air as the purge gas. 前記測定対象ガスは、二酸化炭素、一酸化炭素、メタン、二酸化硫黄、 アンモニア、窒素酸化物、塩化水素、水、エタン、アセチレン、プロパン、エチレン、ヘキサン、プロピレン、硫化水素、イソブテン、メタノール、ホスゲン、ブタン、クロロエチレン、亜硝酸メチル、シクロヘキサン、ブタジエン、イソブタン、イソペンタン、トルエン、水素、フッ化水素、トリフルオロプロペンである、請求項1~5のいずれかに記載の分析装置。 The analytical device according to any one of claims 1 to 5, wherein the gas to be measured is carbon dioxide, carbon monoxide, methane, sulfur dioxide, ammonia, nitrogen oxides, hydrogen chloride, water, ethane, acetylene, propane, ethylene, hexane, propylene, hydrogen sulfide, isobutene, methanol, phosgene, butane, chloroethylene, methyl nitrite, cyclohexane, butadiene, isobutane, isopentane, toluene, hydrogen, hydrogen fluoride, or trifluoropropene. 請求項1~6のいずれかに記載の分析装置と、前記分析装置から出力される情報を報知する報知装置、とを備える、分析システム。 An analysis system comprising an analysis device according to any one of claims 1 to 6 and an alarm device that alarms information output from the analysis device. 測定対象ガスを含む試料ガスを通過した測定光の強度と、前記測定対象ガスの分析の基準として用いられるリファレンスガスを通過した前記測定光の強度と、に基づいて前記測定対象ガスの分析をする分析装置であって、
前記試料ガス又は前記リファレンスガスを含むガスが充填される充填部と、
前記充填部に向けて前記測定光を照射する照射部と、
前記試料ガスとは異なる供給源から供給された空気から前記測定対象ガスを分離する気体分離膜を有する測定対象除去部と、
前記測定対象除去部から供給されるガスから前記測定対象ガスを除去して前記リファレンスガスを生成するスクラバーと、
を備える分析装置。
1. An analytical apparatus for analyzing a gas to be measured based on an intensity of a measurement light passing through a sample gas containing the gas to be measured and an intensity of the measurement light passing through a reference gas used as a standard for analysis of the gas to be measured, comprising:
a filling section into which a gas containing the sample gas or the reference gas is filled;
an irradiation unit that irradiates the measurement light toward the filling unit;
a measurement target removal unit having a gas separation membrane that separates the measurement target gas from air supplied from a supply source different from the sample gas ;
a scrubber that removes the measurement target gas from the gas supplied from the measurement target removal unit to generate the reference gas;
An analytical device comprising:
前記試料ガスと前記リファレンスガスを前記充填部に交互に導入する導入部をさらに備える、請求項8に記載の分析装置。 The analytical device according to claim 8, further comprising an introduction section that alternately introduces the sample gas and the reference gas into the filling section. 前記充填部を通過した前記測定光を検出する検出部と、
前記リファレンスガスが充填された前記充填部を通過した前記測定光の強度に基づいて、前記測定対象除去部の劣化を判定する判定部と、
をさらに備える、請求項9に記載の分析装置。
a detection unit that detects the measurement light that has passed through the filling unit;
a determination unit that determines deterioration of the measurement target removal unit based on the intensity of the measurement light that has passed through the filling unit filled with the reference gas; and
The analytical device of claim 9 further comprising:
前記測定対象除去部に劣化があると判定されたことを通知する通知部をさらに備える、請求項10に記載の分析装置。 The analysis device according to claim 10, further comprising a notification unit that notifies that the measurement target removal unit is determined to be degraded. 前記測定対象ガスは、二酸化炭素、一酸化炭素、メタン、二酸化硫黄、 アンモニア、窒素酸化物、塩化水素、水、エタン、アセチレン、プロパン、エチレン、ヘキサン、プロピレン、硫化水素、イソブテン、メタノール、ホスゲン、ブタン、クロロエチレン、亜硝酸メチル、シクロヘキサン、ブタジエン、イソブタン、イソペンタン、トルエン、水素、フッ化水素、トリフルオロプロペンである、請求項8~11のいずれかに記載の分析装置。 The analytical device according to any one of claims 8 to 11, wherein the gas to be measured is carbon dioxide, carbon monoxide, methane, sulfur dioxide, ammonia, nitrogen oxides, hydrogen chloride, water, ethane, acetylene, propane, ethylene, hexane, propylene, hydrogen sulfide, isobutene, methanol, phosgene, butane, chloroethylene, methyl nitrite, cyclohexane, butadiene, isobutane, isopentane, toluene, hydrogen, hydrogen fluoride, or trifluoropropene.
JP2021565475A 2019-12-17 2020-12-04 Analytical device and analytical system Active JP7634483B2 (en)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019227117 2019-12-17
JP2019227117 2019-12-17
PCT/JP2020/045320 WO2021124937A1 (en) 2019-12-17 2020-12-04 Analysis device and analysis system

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JPWO2021124937A1 JPWO2021124937A1 (en) 2021-06-24
JPWO2021124937A5 JPWO2021124937A5 (en) 2023-11-24
JP7634483B2 true JP7634483B2 (en) 2025-02-21

Family

ID=76477469

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2021565475A Active JP7634483B2 (en) 2019-12-17 2020-12-04 Analytical device and analytical system

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP7634483B2 (en)
CN (1) CN218524582U (en)
DE (1) DE202020005856U1 (en)
WO (1) WO2021124937A1 (en)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2023063136A1 (en) * 2021-10-12 2023-04-20
US20240418637A1 (en) * 2021-11-25 2024-12-19 Horiba, Ltd. Analysis device and analysis method
CN114577793A (en) * 2022-05-07 2022-06-03 北京大学 Multi-scene hydrogen sulfide gas content online monitoring method and monitoring device
DE102023108817A1 (en) 2023-04-06 2024-10-10 CS INSTRUMENTS GmbH & Co. KG sampling
DE202023101770U1 (en) 2023-04-06 2023-05-11 CS INSTRUMENTS GmbH & Co. KG sampling
WO2026058535A1 (en) * 2024-09-10 2026-03-19 株式会社堀場製作所 Gas analysis device and gas analysis method

Citations (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003513276A (en) 1999-11-05 2003-04-08 アルト・ユー・エス・インコーポレイテッド Carbon monoxide emission device, carbon monoxide monitor circuit breaker and circuit thereof
JP2005226519A (en) 2004-02-12 2005-08-25 Denso Corp Abnormality detection device for exhaust gas purification device of internal combustion engine
JP2009061422A (en) 2007-09-07 2009-03-26 Air Liquide Japan Ltd Method and apparatus for producing gas component and condensable component
JP2009244074A (en) 2008-03-31 2009-10-22 Riken Keiki Co Ltd Multi-component gas detector
JP2009257808A (en) 2008-04-14 2009-11-05 Yokogawa Electric Corp Infrared gas analyzer
JP2010190824A (en) 2009-02-20 2010-09-02 Shimadzu Corp Absorption spectrometric apparatus for semiconductor manufacturing process
JP2011038877A (en) 2009-08-10 2011-02-24 Nippon Steel Engineering Co Ltd Laser type gas analysis device and method
JP2013176765A (en) 2013-04-26 2013-09-09 Mitsubishi Chemicals Corp Gas dehumidifying device
JP2013239696A (en) 2012-04-16 2013-11-28 Amada Co Ltd Fiber laser machining device, fiber laser oscillator, and dehumidifying method of fiber laser oscillator
WO2015037483A1 (en) 2013-09-13 2015-03-19 東レ株式会社 Gas adsorbent, gas adsorbing sheet, and air filter
WO2016002928A1 (en) 2014-07-04 2016-01-07 宇部興産株式会社 Infrared gas analysis device, and method for using same
JP2016014658A (en) 2014-06-11 2016-01-28 株式会社堀場製作所 Zero gas refiner for co2 concentration measurement and co2 concentration measurement system
WO2016153062A1 (en) 2015-03-26 2016-09-29 東レ株式会社 Filter material for air filter
JP2016191628A (en) 2015-03-31 2016-11-10 三菱重工業株式会社 Gas analysis system

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3696666A (en) * 1969-10-15 1972-10-10 Donaldson Co Inc Dust leak detector for air cleaner systems
JP3024904B2 (en) * 1994-05-17 2000-03-27 株式会社堀場製作所 Optical gas analyzer
US10532822B2 (en) * 2017-01-25 2020-01-14 The Boeing Company Gas-flammability sensing systems and methods
JP7013924B2 (en) * 2018-02-20 2022-02-01 宇部興産株式会社 Oxygen concentration measuring device and oxygen concentration measuring method

Patent Citations (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003513276A (en) 1999-11-05 2003-04-08 アルト・ユー・エス・インコーポレイテッド Carbon monoxide emission device, carbon monoxide monitor circuit breaker and circuit thereof
JP2005226519A (en) 2004-02-12 2005-08-25 Denso Corp Abnormality detection device for exhaust gas purification device of internal combustion engine
JP2009061422A (en) 2007-09-07 2009-03-26 Air Liquide Japan Ltd Method and apparatus for producing gas component and condensable component
JP2009244074A (en) 2008-03-31 2009-10-22 Riken Keiki Co Ltd Multi-component gas detector
JP2009257808A (en) 2008-04-14 2009-11-05 Yokogawa Electric Corp Infrared gas analyzer
JP2010190824A (en) 2009-02-20 2010-09-02 Shimadzu Corp Absorption spectrometric apparatus for semiconductor manufacturing process
JP2011038877A (en) 2009-08-10 2011-02-24 Nippon Steel Engineering Co Ltd Laser type gas analysis device and method
JP2013239696A (en) 2012-04-16 2013-11-28 Amada Co Ltd Fiber laser machining device, fiber laser oscillator, and dehumidifying method of fiber laser oscillator
JP2013176765A (en) 2013-04-26 2013-09-09 Mitsubishi Chemicals Corp Gas dehumidifying device
WO2015037483A1 (en) 2013-09-13 2015-03-19 東レ株式会社 Gas adsorbent, gas adsorbing sheet, and air filter
JP2016014658A (en) 2014-06-11 2016-01-28 株式会社堀場製作所 Zero gas refiner for co2 concentration measurement and co2 concentration measurement system
WO2016002928A1 (en) 2014-07-04 2016-01-07 宇部興産株式会社 Infrared gas analysis device, and method for using same
WO2016153062A1 (en) 2015-03-26 2016-09-29 東レ株式会社 Filter material for air filter
JP2016191628A (en) 2015-03-31 2016-11-10 三菱重工業株式会社 Gas analysis system

Also Published As

Publication number Publication date
WO2021124937A1 (en) 2021-06-24
DE202020005856U1 (en) 2022-11-17
JPWO2021124937A1 (en) 2021-06-24
CN218524582U (en) 2023-02-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP7634483B2 (en) Analytical device and analytical system
KR20110117137A (en) Measuring apparatus and measuring methods for measuring the content of oils, hydrocarbons, and oxidizable gases in air or compressed air
CN104713841B (en) Self-calibration analyzer design method and device
ES2364945T3 (en) CENTRALIZED MANAGEMENT DEVICE FOR MEASUREMENTS AND INFORMATION RELATING TO LIQUID AND GASEOUS FLOWS REQUIRED FOR THE OPERATION OF A THERMAL ENGINE.
US20200340918A1 (en) Light absorbance analysis apparatus and program record medium for recording programs of light absorbance analysis apparatus
WO2007069786A1 (en) Method for analyzing exhaust gas and apparatus for analyzing exhaust gas
US20100282958A1 (en) Method for operating an ftir spectrometer, and ftir spectrometer
JPWO2021124937A5 (en)
US11226322B2 (en) Optical gas analyzer and method for measuring nitrogen oxides in an exhaust gas
KR20150112034A (en) Device for measuring residual oil
US20100256514A1 (en) Analyzer for Nitric Oxide in Exhaled Breath with Multiple-Use Sensor
GB2054843A (en) Absorption cell gas monitor
US10456864B2 (en) Laser processing system having function of cleaning laser optical path
JP4566070B2 (en) Exhaust gas analyzer
US20250012712A1 (en) Analysis device and analysis method
US8313869B2 (en) Fuel cell power generating system and fuel cell power generating system operating method
WO2021131390A1 (en) Elemental analysis device
EP4141414B1 (en) Device and method for measuring multiple analyte concentrations in a measuring medium
US20060222563A1 (en) Gas analyzer and method for controlling hydrogen flame ionization detector
US8830470B2 (en) Method for measuring the concentration of at least one gas component in a measuring gas
JP3807105B2 (en) Total organic carbon meter
CN213068623U (en) An optical system for gas concentration measurement
JP2026065220A (en) Analytical apparatus, analytical method, and ozone decomposer
KR20120075079A (en) Gas detector for estimating life time of desulfurizer
JP7528237B2 (en) Gas analysis device and gas analysis method

Legal Events

Date Code Title Description
AA64 Notification of invalidation of claim of internal priority (with term)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A241764

Effective date: 20220809

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20220817

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20231114

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20231114

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20240709

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20240726

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20240726

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20240909

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20240917

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20241112

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20250110

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20250110

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20250121

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20250210

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7634483

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150