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JP7634985B2 - Compound, polymerizable composition and cured product - Google Patents
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JP7634985B2 - Compound, polymerizable composition and cured product - Google Patents

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JP7634985B2 JP2020213588A JP2020213588A JP7634985B2 JP 7634985 B2 JP7634985 B2 JP 7634985B2 JP 2020213588 A JP2020213588 A JP 2020213588A JP 2020213588 A JP2020213588 A JP 2020213588A JP 7634985 B2 JP7634985 B2 JP 7634985B2
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Description

本発明は、エポキシアクリレート化合物にテトラカルボン酸二無水物が付加した構造を有する化合物、それを含有する重合性組成物、及び該化合物の製造方法に関する。 The present invention relates to a compound having a structure in which a tetracarboxylic dianhydride is added to an epoxy acrylate compound, a polymerizable composition containing the compound, and a method for producing the compound.

アルカリ現像性感光性樹脂組成物は、エチレン性不飽和結合を有する化合物を含有するアルカリ現像性樹脂及び光重合開始剤を含有するものである。このアルカリ現像性感光性樹脂組成物は、紫外線又は電子線を照射することによって重合硬化させることができるので、光硬化性インキ、感光性印刷版、プリント配線版、各種フォトレジスト等に用いられている。最近、電子機器の軽薄短小化や高機能化の進展に伴い、微細パターンを精度良く形成することができるアルカリ現像性感光性樹脂組成物が望まれている。 The alkali-developable photosensitive resin composition contains an alkali-developable resin containing a compound having an ethylenically unsaturated bond and a photopolymerization initiator. This alkali-developable photosensitive resin composition can be polymerized and cured by exposure to ultraviolet light or electron beams, and is therefore used in photocurable inks, photosensitive printing plates, printed wiring boards, various photoresists, and the like. Recently, with the progress of making electronic devices lighter, thinner, shorter, smaller, and more functional, there is a demand for alkali-developable photosensitive resin compositions that can form fine patterns with high precision.

特許文献1には、エポキシアクリレートをベースとしたカルボキシル基を有する光重合性不飽和化合物及びこれを用いた感光性樹脂組成物が開示されている。
特許文献2には、ビスフェノール類から誘導される芳香族エポキシ化合物と(メタ)アクリル酸との反応物を、更にa)飽和ジカルボン酸又はその酸無水物及びb)飽和テトラカルボン酸又はその酸二無水物とを反応させて得られた不飽和基含有化合物を含む感光性樹脂組成物が開示されている。
特許文献3には、置換基を有するベンゾ又はナフトシクロアルカン骨格を有する新規エポキシ化合物に不飽和一塩基酸を付加させたエポキシ付加物と、多塩基酸無水物とのエステル化反応生成物である光重合性不飽和化合物を含有するアルカリ現像性感光性樹脂組成物が開示されている。
特許文献4、5には、ビスフェノールフルオレン骨格を有するカルボキシル基含有樹脂を含有する感光性樹脂組成物が開示されている。
Patent Document 1 discloses a photopolymerizable unsaturated compound having a carboxyl group based on an epoxy acrylate, and a photosensitive resin composition using the same.
Patent Document 2 discloses a photosensitive resin composition containing an unsaturated group-containing compound obtained by further reacting a reaction product of an aromatic epoxy compound derived from a bisphenol with (meth)acrylic acid with a) a saturated dicarboxylic acid or an acid anhydride thereof, and b) a saturated tetracarboxylic acid or an acid dianhydride thereof.
Patent Document 3 discloses an alkali-developable photosensitive resin composition containing a photopolymerizable unsaturated compound that is an esterification reaction product between an epoxy adduct obtained by adding an unsaturated monobasic acid to a novel epoxy compound having a substituted benzo- or naphthocycloalkane skeleton, and a polybasic acid anhydride.
Patent Documents 4 and 5 disclose photosensitive resin compositions containing a carboxyl group-containing resin having a bisphenolfluorene skeleton.

特開平05-339356号公報Japanese Patent Application Publication No. 05-339356 特開2006-003860号公報JP 2006-003860 A 特開2012-241083号公報JP 2012-241083 A 特開2017-090491号公報JP 2017-090491 A 特開2017-090493号公報JP 2017-090493 A

本発明の課題は、密着性及び耐熱性に優れ、適切なパターン形状や微細パターンが得られる重合性組成物の重合性成分として有用な化合物及び該化合物を用いた重合性組成物を提供することにある。 The object of the present invention is to provide a compound that is excellent in adhesion and heat resistance and is useful as a polymerizable component of a polymerizable composition that can obtain an appropriate pattern shape or a fine pattern, and a polymerizable composition using the compound.

本発明者は、鋭意検討を重ねた結果、フルオレン構造又はインダン構造を有するエポキシ化合物にアクリル酸又はメタクリル酸が付加した構造を有するエポキシアクリレート化合物に、フルオレン構造又はインダン構造を有するテトラカルボン酸二無水物が付加した構造を有する化合物が、上記目的を達成し得ることを知見し、本発明に至った。 As a result of intensive research, the present inventors discovered that the above-mentioned object can be achieved by a compound having a structure in which a tetracarboxylic dianhydride having a fluorene structure or an indane structure is added to an epoxy acrylate compound having a structure in which acrylic acid or methacrylic acid is added to an epoxy compound having a fluorene structure or an indane structure, and thus arrived at the present invention.

すなわち、本発明は、下記一般式(I)で表されるエポキシアクリレート化合物に下記一般式(IIa)、(IIb)及び(IIc)で表されるテトラカルボン酸二無水物から選ばれる少なくとも1種が付加した構造を有する化合物である。 That is, the present invention relates to a compound having a structure in which at least one selected from the group consisting of tetracarboxylic dianhydrides represented by the following general formulas (IIa), (IIb), and (IIc) is added to an epoxy acrylate compound represented by the following general formula (I).

Figure 0007634985000001
(式中、R及びR10は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表し、
、R、R、R、R、R、R及びRは、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数1~20の炭化水素基、又はハロゲン原子を表し、
及びXは、それぞれ独立に、炭素原子数1~20の2価の炭化水素基を表し、
、R、R、R、R、R、R、R、X及びXは、炭化水素基中のメチレン基の1つ又は2つ以上が、酸素が隣り合わない条件で、-O-又は-S-で置換された炭素原子数1~20の基であってもよく、
は下記式(a)、(b)又は(c)で表される基を表す。)
Figure 0007634985000001
(In the formula, R 1 and R 10 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group.
R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 and R 9 each independently represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, or a halogen atom;
X1 and X2 each independently represent a divalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms;
R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , X 1 and X 2 may each be a group having 1 to 20 carbon atoms in which one or more methylene groups in a hydrocarbon group are substituted with -O- or -S-, provided that no oxygen is adjacent to them;
M1 represents a group represented by the following formula (a), (b) or (c):

Figure 0007634985000002
(式中、R21、R22、R23、R24、R25、R26、R27、R28、R29、R30、R31、R32、R33、R34、R35、R36、R37、R38、R39、R40、R41、R42、R43及びR44は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数1~20の炭化水素基、炭素原子数2~20の複素環含有基又はハロゲン原子を表し、
21、R22、R23、R24、R25、R26、R27、R28、R29、R30、R31、R32、R33、R34、R35、R36、R37、R38、R39、R40、R41、R42、R43及びR44は、炭化水素基中の水素原子の1つ又は2つ以上が、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、水酸基、-OR51、-COOR51、-CO-R51又は-SR51で置換された炭素原子数1~20の基であってもよく、
51は、水素原子又は炭素原子数1~20の炭化水素基を表し、化合物中にR51が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよく、
21、R22、R23、R24、R25、R26、R27、R28、R29、R30、R31、R32、R33、R34、R35、R36、R37、R38、R39、R40、R41、R42、R43及びR44は、炭化水素基中のメチレン基の1つ又は2つ以上が、-O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-NR52-、-NR52CO-又は-S-で置換された炭素原子数1~20の基であってもよく、
52は、水素原子又は炭素原子数1~20の炭化水素基を表し、化合物中にR52が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよく、
21とR22、R22とR23、R23とR24、R29とR30、R30とR31、R31とR32、R37とR38、R38とR39、R39とR40、R41とR42、R42とR43及びR43とR44は、互いに結合して水素原子及び炭素原子からなる炭素原子数3~10の環を形成していてもよい。
式中の*は、(a)、(b)及び(c)で表される基が、*部分で、隣接する基と結合することを意味する。)
Figure 0007634985000002
(In the formula, R 21 , R 22 , R 23 , R 24 , R 25 , R 26 , R 27 , R 28 , R 29 , R 30 , R 31 , R 32 , R 33 , R 34 , R 35 , R 36 , R 37 , R 38 , R 39 , R 40 , R 41 , R 42 , R 43 and R 44 each independently represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, a heterocycle-containing group having 2 to 20 carbon atoms, or a halogen atom;
R 21 , R 22 , R 23 , R 24 , R 25 , R 26 , R 27 , R 28 , R 29 , R 30 , R 31 , R 32 , R 33 , R 34 , R 35 , R 36 , R 37 , R 38 , R 39 , R 40 , R 41 , R 42 , R 43 and R 44 may each represent a group having 1 to 20 carbon atoms in which one or more hydrogen atoms in the hydrocarbon group have been substituted with a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a hydroxyl group, -OR 51 , -COOR 51 , -CO-R 51 or -SR 51 ;
R 51 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and when a plurality of R 51 are present in the compound, they may be the same or different;
R 21 , R 22 , R 23 , R 24 , R 25 , R 26 , R 27 , R 28 , R 29 , R 30 , R 31 , R 32 , R 33 , R 34 , R 35 , R 36 , R 37 , R 38 , R 39 , R 40 , R 41 , R 42 , R 43 and R 44 may each be a group having 1 to 20 carbon atoms in which one or more methylene groups in the hydrocarbon group are substituted with -O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -NR 52 -, -NR 52 CO- or -S-;
R 52 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and when a plurality of R 52 are present in the compound, they may be the same or different;
R 21 and R 22 , R 22 and R 23 , R 23 and R 24 , R 29 and R 30 , R 30 and R 31 , R 31 and R 32 , R 37 and R 38 , R 38 and R 39 , R 39 and R 40 , R 41 and R 42 , R 42 and R 43 , and R 43 and R 44 may be bonded to each other to form a ring having 3 to 10 carbon atoms and consisting of hydrogen atoms and carbon atoms.
In the formula, * means that the groups represented by (a), (b), and (c) are bonded to adjacent groups at the * portion.

Figure 0007634985000003
(式中、R61、R62、R63、R64、R65、R66、R67、R68、R69、R70、R71、R72、R73、R74、R75、R76、R77、R78、R79、R80、R81、R82、R83及びR84は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数1~20の炭化水素基、炭素原子数2~20の複素環含有基又はハロゲン原子を表し、
61、R62、R63、R64、R65、R66、R67、R68、R69、R70、R71、R72、R73、R74、R75、R76、R77、R78、R79、R80、R81、R82、R83及びR84は、炭化水素基中の水素原子の1つ又は2つ以上が、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、水酸基、-OR91、-COOR91、-CO-R91又は-SR91で置換された炭素原子数1~20の基であってもよく、
91は、水素原子又は炭素原子数1~20の炭化水素基を表し、化合物中にR91が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよく、
61、R62、R63、R64、R65、R66、R67、R68、R69、R70、R71、R72、R73、R74、R75、R76、R77、R78、R79、R80、R81、R82、R83及びR84は、炭化水素基中のメチレン基の1つ又は2つ以上が、-O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-NR92-、-NR92CO-又は-S-で置換された炭素原子数1~20の基であってもよく、
92は、水素原子又は炭素原子数1~20の炭化水素基を表し、化合物中にR82が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよく、
61とR62、R62とR63、R63とR64、R65とR66、R66とR67、R67とR68、R69とR70、R70とR71、R71とR72、R74とR75、R77とR78、R78とR79、R79とR80、R81とR82、R82とR83及びR83とR84は、互いに結合して水素原子及び炭素原子からなる炭素原子数3~10の環を形成していてもよく、
、Y、Y、Y、Y及びYは、それぞれ独立に、炭素原子数1~20の炭化水素基を表し、
とYは、直接、又はメチレン基、-O-若しくは-S-を介して互いに結合していてもよく、
及びLは、それぞれ独立に、炭素原子数6~20のアリール基を表す。)
Figure 0007634985000003
(In the formula, R 61 , R 62 , R 63 , R 64 , R 65 , R 66 , R 67 , R 68 , R 69 , R 70 , R 71 , R 72 , R 73 , R 74 , R 75 , R 76 , R 77 , R 78 , R 79 , R 80 , R 81 , R 82 , R 83 and R 84 each independently represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, a heterocycle-containing group having 2 to 20 carbon atoms, or a halogen atom;
R 61 , R 62 , R 63 , R 64 , R 65 , R 66 , R 67 , R 68 , R 69 , R 70 , R 71 , R 72 , R 73 , R 74 , R 75 , R 76 , R 77 , R 78 , R 79 , R 80 , R 81 , R 82 , R 83 and R 84 may each be a group having 1 to 20 carbon atoms in which one or more hydrogen atoms in the hydrocarbon group have been substituted with a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a hydroxyl group, -OR 91 , -COOR 91 , -CO-R 91 or -SR 91 ;
R 91 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and when a plurality of R 91 are present in the compound, they may be the same or different;
R 61 , R 62 , R 63 , R 64 , R 65 , R 66 , R 67 , R 68 , R 69 , R 70 , R 71 , R 72 , R 73 , R 74 , R 75 , R 76 , R 77 , R 78 , R 79 , R 80 , R 81 , R 82 , R 83 and R 84 may each be a group having 1 to 20 carbon atoms in which one or more methylene groups in the hydrocarbon group are substituted with -O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -NR 92 -, -NR 92 CO- or -S-;
R 92 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and when a plurality of R 82s are present in the compound, they may be the same or different;
R 61 and R 62 , R 62 and R 63 , R 63 and R 64 , R 65 and R 66 , R 66 and R 67 , R 67 and R 68 , R 69 and R 70 , R 70 and R 71 , R 71 and R 72 , R 74 and R 75 , R 77 and R 78 , R 78 and R 79 , R 79 and R 80 , R 81 and R 82 , R 82 and R 83 , and R 83 and R 84 may be bonded to each other to form a ring having 3 to 10 carbon atoms and consisting of hydrogen atoms and carbon atoms;
Y 1 , Y 2 , Y 3 , Y 4 , Y 5 and Y 6 each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms;
Y 1 and Y 2 may be bonded to each other directly or via a methylene group, -O- or -S-;
L1 and L2 each independently represent an aryl group having 6 to 20 carbon atoms.

また、本発明は、上記化合物(A)及び重合開始剤(B)を含有する重合性組成物である。 The present invention also relates to a polymerizable composition containing the above compound (A) and a polymerization initiator (B).

本発明の化合物を含有する重合性組成物は、感度に優れ、密着性及び耐熱性に優れる硬化物が得られるため、適切なパターン形状や微細パターンの形成が容易である。そのため、特にソルダーレジストやブラックマトリクス用重合性組成物として有用である。 The polymerizable composition containing the compound of the present invention can give a cured product with excellent sensitivity, adhesion, and heat resistance, making it easy to form appropriate pattern shapes and fine patterns. Therefore, it is particularly useful as a polymerizable composition for solder resist and black matrix.

以下、本発明の化合物、重合性組成物及び該化合物の製造方法について、好ましい実施形態に基づき詳細に説明する。
本発明の化合物は、上記一般式(I)で表される、フルオレン構造又はインダン構造を有するエポキシ化合物にアクリル酸又はメタクリル酸化合物が付加した構造を有するエポキシアクリレート化合物(以下、「化合物(I)」という。)に、更に上記一般式(IIa)、(IIb)及び(IIc)で表される、フルオレン構造又はインダン構造を有するテトラカルボン酸二無水物(以下、「化合物(IIa)」、「化合物(IIb)」及び「化合物(IIc)」という。)から選ばれる少なくとも1種が付加した構造を有する化合物である。
The compound, polymerizable composition, and method for producing the compound of the present invention will be described in detail below based on preferred embodiments.
The compound of the present invention is a compound having a structure in which at least one selected from tetracarboxylic acid dianhydrides having a fluorene structure or an indane structure represented by the above general formula (IIa), (IIb) and (IIc) (hereinafter referred to as "compound (IIa)", "compound (IIb)" and "compound (IIc)") is further added to an epoxy acrylate compound (hereinafter referred to as "compound (I)") having a structure in which an acrylic acid or methacrylic acid compound is added to an epoxy compound having a fluorene structure or an indane structure represented by the above general formula (I).

上記一般式(I)中、R、R、R、R、R、R、R及びR(以下、「R等」という。)で表される炭素原子数1~20の炭化水素基は、炭素原子及び水素原子からなる炭素原子数1~20の基であればよく、特に限定されるものではないが、炭素原子数1~20のアルキル基、炭素原子数2~20のアルケニル基、炭素原子数3~20のシクロアルキル基、炭素原子数4~20のシクロアルキルアルキル基、炭素原子数6~20のアリール基又は炭素原子数7~20のアリールアルキル基であることが、本発明の重合性組成物の感度が優れることから好ましく、原子数1~10のアルキル基、炭素原子数2~10のアルケニル基、炭素原子数3~10のシクロアルキル基、炭素原子数4~10のシクロアルキルアルキル基、炭素原子数6~10のアリール基又は炭素原子数7~10のアリールアルキル基であることが特に好ましい。 In the above general formula (I), the hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms represented by R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 and R 9 (hereinafter referred to as "R 2 , etc.") may be a group having 1 to 20 carbon atoms consisting of carbon atoms and hydrogen atoms, and is not particularly limited. However, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms, a cycloalkylalkyl group having 4 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, or an arylalkyl group having 7 to 20 carbon atoms is preferable because the sensitivity of the polymerizable composition of the present invention is excellent, and an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, a cycloalkylalkyl group having 4 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, or an arylalkyl group having 7 to 10 carbon atoms is particularly preferable.

上記炭素原子数1~20のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、イソブチル基、アミル基、イソアミル基、t-アミル基、ヘキシル基、ヘプチル基、イソヘプチル基、t-ヘプチル基、n-オクチル基、イソオクチル基、t-オクチル基、2-エチルヘキシル基、n-ノニル基、n-デシル基、n-ドデシル基、n-オクタデシル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基等の直鎖、分岐及び環状のアルキル基等が挙げられる。 Examples of the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms include linear, branched and cyclic alkyl groups such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, s-butyl, t-butyl, isobutyl, amyl, isoamyl, t-amyl, hexyl, heptyl, isoheptyl, t-heptyl, n-octyl, isooctyl, t-octyl, 2-ethylhexyl, n-nonyl, n-decyl, n-dodecyl, n-octadecyl, cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl, cycloheptyl, cyclooctyl, cyclononyl and cyclodecyl.

上記炭素原子数2~20のアルケニル基としては、例えば、ビニル基、2-プロペニル基、3-ブテニル基、2-ブテニル基、4-ペンテニル基、3-ペンテニル基、2-ヘキセニル基、3-ヘキセニル基、5-ヘキセニル基、2-ヘプテニル基、3-ヘプテニル基、4-ヘプテニル基、3-オクテニル基、3-ノネニル基、4-デセニル基、3-ウンデセニル基、4-ドデセニル基、3-シクロヘキセニル基、2,5-シクロヘキサジエニル-1-メチル基、及び4,8,12-テトラデカトリエニルアリル基等の直鎖及び環状のアルケニル基等が挙げられる。 Examples of the alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms include linear and cyclic alkenyl groups such as vinyl, 2-propenyl, 3-butenyl, 2-butenyl, 4-pentenyl, 3-pentenyl, 2-hexenyl, 3-hexenyl, 5-hexenyl, 2-heptenyl, 3-heptenyl, 4-heptenyl, 3-octenyl, 3-nonenyl, 4-decenyl, 3-undecenyl, 4-dodecenyl, 3-cyclohexenyl, 2,5-cyclohexadienyl-1-methyl, and 4,8,12-tetradecatrienyl allyl groups.

上記炭素原子数3~20のシクロアルキル基とは、3~20の炭素原子を有する、飽和単環式又は飽和多環式アルキル基を意味する。例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基、アダマンチル基、デカハイドロナフチル基、オクタヒドロペンタレン基、ビシクロ[1.1.1]ペンタニル基及びテトラデカヒドロアントラセニル基等が挙げられる。 The above-mentioned cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms means a saturated monocyclic or saturated polycyclic alkyl group having 3 to 20 carbon atoms. Examples include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, a cyclooctyl group, a cyclononyl group, a cyclodecyl group, an adamantyl group, a decahydronaphthyl group, an octahydropentalene group, a bicyclo[1.1.1]pentanyl group, and a tetradecahydroanthracenyl group.

上記炭素原子数4~20のシクロアルキルアルキル基とは、アルキル基の水素原子が、シクロアルキル基で置換された4~20の炭素原子を有する基を意味する。例えば、シクロプロピルメチル基、シクロブチルメチル基、シクロペンチルメチル基、シクロヘキシルメチル基、シクロヘプチルメチル基、シクロオクチルメチル基、シクロノニルメチル基、シクロデシルメチル基、2-シクロブチルエチル基、2-シクロペンチルエチル基、2-シクロヘキシルエチル基、2-シクロヘプチルエチル基、2-シクロオクチルエチル基、2-シクロノニルエチル基、2-シクロデシルエチル基、3-シクロブチルプロピル基、3-シクロペンチルプロピル基、3-シクロヘキシルプロピル基、3-シクロヘプチルプロピル基、3-シクロオクチルプロピル基、3-シクロノニルプロピル基、3-シクロデシルプロピル基、4-シクロブチルブチル基、4-シクロペンチルブチル基、4-シクロヘキシルブチル基、4-シクロヘプチルブチル基、4-シクロオクチルブチル基、4-シクロノニルブチル基、4-シクロデシルブチル基、3-3-アダマンチルプロピル基及びデカハイドロナフチルプロピル基等が挙げられる。 The cycloalkylalkyl group having 4 to 20 carbon atoms means a group having 4 to 20 carbon atoms in which the hydrogen atom of the alkyl group is replaced with a cycloalkyl group. For example, a cyclopropylmethyl group, a cyclobutylmethyl group, a cyclopentylmethyl group, a cyclohexylmethyl group, a cycloheptylmethyl group, a cyclooctylmethyl group, a cyclononylmethyl group, a cyclodecylmethyl group, a 2-cyclobutylethyl group, a 2-cyclopentylethyl group, a 2-cyclohexylethyl group, a 2-cycloheptylethyl group, a 2-cyclooctylethyl group, a 2-cyclononylethyl group, a 2-cyclodecylethyl group, a 3-cyclobutylpropyl group, a 3-cyclopentylethyl group, a ... Examples of such groups include cyclopropyl group, 3-cyclohexylpropyl group, 3-cycloheptylpropyl group, 3-cyclooctylpropyl group, 3-cyclononylpropyl group, 3-cyclodecylpropyl group, 4-cyclobutylbutyl group, 4-cyclopentylbutyl group, 4-cyclohexylbutyl group, 4-cycloheptylbutyl group, 4-cyclooctylbutyl group, 4-cyclononylbutyl group, 4-cyclodecylbutyl group, 3-3-adamantylpropyl group, and decahydronaphthylpropyl group.

上記炭素原子数6~20のアリール基としては、例えば、フェニル基、トリル基、キシリル基、エチルフェニル基、ビフェニリル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナントレニル基等、及びこれらの基が上記アルキル基、上記アルケニル基、カルボキシル基又はハロゲン原子等で1つ以上置換された基、例えば、4-クロロフェニル、4-カルボキシルフェニル、4-ビニルフェニル、4-メチルフェニル、2,4,6-トリメチルフェニル等が挙げられる。 Examples of the aryl group having 6 to 20 carbon atoms include phenyl, tolyl, xylyl, ethylphenyl, biphenylyl, naphthyl, anthryl, and phenanthrenyl groups, as well as groups in which these groups are substituted with one or more of the above alkyl groups, alkenyl groups, carboxyl groups, or halogen atoms, such as 4-chlorophenyl, 4-carboxylphenyl, 4-vinylphenyl, 4-methylphenyl, and 2,4,6-trimethylphenyl.

上記炭素原子数7~20のアリールアルキル基とは、アルキル基の水素原子がアリール基で置き換えられた、7~20個の炭素原子を有する基を意味する。例えば、ベンジル、α-メチルベンジル、α、α-ジメチルベンジル、フェニルエチル及びナフチルプロピル等が挙げられる。上記炭素原子数7~10のアリールアルキル基としては、アルキル基の水素原子がアリール基で置き換えられた、7~10個の炭素原子を有する基を意味し、例えば、ベンジル、α-メチルベンジル、α、α-ジメチルベンジル及びフェニルエチル等が挙げられる。 The arylalkyl group having 7 to 20 carbon atoms means a group having 7 to 20 carbon atoms in which the hydrogen atom of the alkyl group is replaced by an aryl group. Examples include benzyl, α-methylbenzyl, α,α-dimethylbenzyl, phenylethyl, and naphthylpropyl. The arylalkyl group having 7 to 10 carbon atoms means a group having 7 to 10 carbon atoms in which the hydrogen atom of the alkyl group is replaced by an aryl group. Examples include benzyl, α-methylbenzyl, α,α-dimethylbenzyl, and phenylethyl.

上記一般式(I)中、R等で表される、炭化水素基中のメチレン基が、酸素原子が隣り合わない条件で、-O-又は-S-で置換された炭素原子数1~20の基としては、上記R等で表される炭素原子数1~20の炭化水素基として例示した基中のメチレン基が、酸素原子が隣り合わない条件で、-O-又は-S-で置換された基が挙げられる。 In the above general formula (I), examples of the group having 1 to 20 carbon atoms, represented by R2 etc., in which a methylene group in the hydrocarbon group is substituted with -O- or -S-, provided that no oxygen atoms are adjacent to each other, include groups in which a methylene group in the group exemplified as the hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, represented by R2 etc., is substituted with -O- or -S-, provided that no oxygen atoms are adjacent to each other.

上記一般式(I)中、R等で表される、炭素原子数1~20の炭化水素基中のメチレン基が、酸素原子が隣り合わない条件で-O-で置換された基としては、例えば、メトキシ基、メトキシエトキシ基、メトキシエトキシエトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、t-ブトキシ基、ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、t-ペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、イソヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、2-エチルヘキシルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基等が挙げられる。 In the above general formula (I), examples of groups in which a methylene group in a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, represented by R2 or the like, is substituted with -O-, provided that the oxygen atoms are not adjacent to each other, include a methoxy group, a methoxyethoxy group, a methoxyethoxyethoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an isopropoxy group, a butoxy group, an isobutoxy group, a t-butoxy group, a pentyloxy group, a isopentyloxy group, a t-pentyloxy group, a neopentyloxy group, a hexyloxy group, a cyclohexyloxy group, an isohexyloxy group, a heptyloxy group, an octyloxy group, a 2-ethylhexyloxy group, a nonyloxy group, and a decyloxy group.

上記一般式(I)中、R等で表される、炭素原子数1~20の炭化水素基中のメチレン基が、-S-で置換された基としては、例えば、上記炭化水素基中のメチレン基が、酸素原子が隣り合わない条件で-O-で置換された基における酸素原子を硫黄原子に置き換えた基等が挙げられる。 In the above general formula (I), examples of the group in which a methylene group in a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, represented by R2 or the like, is substituted with -S- include groups in which a methylene group in the above hydrocarbon group is substituted with -O-, provided that the oxygen atoms are not adjacent to each other, and the like in which the oxygen atom is replaced with a sulfur atom.

上記一般式(I)中、R等で表されるハロゲン原子としては、例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等が挙げられる。 In the above general formula (I), examples of the halogen atom represented by R2 and the like include fluorine, chlorine, bromine, iodine and the like.

上記一般式(I)中、X及びXで表される炭素原子数1~20の2価の炭化水素基としては、上記R等で表される炭素原子数1~20の炭化水素基として例示した基から水素原子を1つ除いた2価の基が挙げられる。 In the above general formula (I), examples of the divalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms represented by X1 and X2 include divalent groups in which one hydrogen atom has been removed from the groups exemplified as the hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms represented by R2 etc.

上記一般式(I)中、X及びXで表される、炭化水素基中のメチレン基が、酸素原子が隣り合わない条件で、-O-又は-S-で置換された炭素原子数1~20の基としては、上記X及びXで表される炭素原子数1~20の炭化水素基として例示した基中のメチレン基が、酸素原子が隣り合わない条件で、-O-又は-S-で置換された基が挙げられ、例えば、上記「R等で表される、炭素原子数1~20の炭化水素基中のメチレン基が、酸素原子が隣り合わない条件で-O-で置換された基」及び上記「R等で表される、炭素原子数1~20の炭化水素基中のメチレン基が、-S-で置換された基」として例示した基から水素原子を1つ除いた2価の基が挙げられる。 In the above general formula (I), examples of the group having 1 to 20 carbon atoms, represented by X1 and X2 , in which a methylene group in the hydrocarbon group is substituted with -O- or -S-, provided that the oxygen atoms are not adjacent to each other, include groups in which a methylene group in the group exemplified as the hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, represented by X1 and X2, is substituted with -O- or -S-, provided that the oxygen atoms are not adjacent to each other, and examples thereof include divalent groups obtained by removing one hydrogen atom from the groups exemplified as the above "group in which a methylene group in a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, represented by R2 , etc. , is substituted with -O-, provided that the oxygen atoms are not adjacent to each other" and the above "group in which a methylene group in a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, represented by R2, etc., is substituted with -S-".

上記一般式(I)中のR、R、R、R、R、R、R及びRが、それぞれ独立に、水素原子又は炭素原子数1~10の炭化水素基である化合物は、安定性に優れ、該化合物を含有する重合性組成物の感度が優れ、製造が容易であることから好ましい。特に、上記一般式(I)中のR、R、R、R、R、R、R及びRが水素原子又はメチル基である化合物が好ましい。 Compounds in which R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 and R 9 in the above general formula (I) are each independently a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms are preferred because they are highly stable, the sensitivity of a polymerizable composition containing the compound is excellent, and production is easy. In particular, compounds in which R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 and R 9 in the above general formula (I) are each a hydrogen atom or a methyl group are preferred.

また、上記一般式(I)中のX及びXがメチレン基である化合物は、安定性に優れ、製造が容易であることから好ましい。 Moreover, the compound in which X 1 and X 2 in the above general formula (I) are methylene groups is preferred because it has excellent stability and is easy to produce.

上記式(a)、(b)及び(c)中、R21、R22、R23、R24、R25、R26、R27、R28、R29、R30、R31、R32、R33、R34、R35、R36、R37、R38、R39、R40、R41、R42、R43及びR44(以下、「R21等」という。)で表される、炭素原子数1~20の炭化水素基及びハロゲン原子は、上記R等で表される炭素原子数1~20の炭化水素基及びハロゲン原子と同じである。 In the above formulas (a), (b) and (c), the hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms and the halogen atom represented by R 21 , R 22 , R 23 , R 24 , R 25 , R 26 , R 27 , R 28 , R 29 , R 30 , R 31 , R 32 , R 33 , R 34 , R 35 , R 36 , R 37 , R 38 , R 39 , R 40 , R 41 , R 42 , R 43 and R 44 (hereinafter referred to as "R 21 etc.") are the same as the hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms and the halogen atom represented by the above R 2 etc.

上記式(a)、(b)及び(c)中、R21等で表される炭素原子数2~20の複素環含有基としては、特に限定されるものではないが、例えば、ピロリル、ピリジル、ピリジルエチル、ピリミジル、ピリダジル、ピペラジル、ピペリジル、ピラニル、ピラニルエチル、ピラゾリル、トリアジル、トリアジルメチル、ピロリジル、キノリル、イソキノリル、イミダゾリル、ベンゾイミダゾリル、トリアゾリル、フリル、フラニル、ベンゾフラニル、チエニル、チオフェニル、ベンゾチオフェニル、チアジアゾリル、チアゾリル、ベンゾチアゾリル、オキサゾリル、ベンゾオキサゾリル、イソチアゾリル、イソオキサゾリル、インドリル、モルフォリニル、チオモルフォリニル、2-ピロリジノン-1-イル、2-ピペリドン-1-イル、2,4-ジオキシイミダゾリジン-3-イル及び2,4-ジオキシオキサゾリジン-3-イル等が挙げられ、置換基等を含めて具体的に記載すると下記の構造を有する基等が挙げられる。 In the above formulas (a), (b) and (c), R The heterocycle-containing group having 2 to 20 carbon atoms, represented by 21 , etc., is not particularly limited, and examples thereof include pyrrolyl, pyridyl, pyridylethyl, pyrimidyl, pyridazyl, piperazyl, piperidyl, pyranyl, pyranylethyl, pyrazolyl, triazyl, triazylmethyl, pyrrolidyl, quinolyl, isoquinolyl, imidazolyl, benzimidazolyl, triazolyl, furyl, furanyl, benzofuranyl, thienyl, thiophenyl, benzothiophenyl, thiadiazolyl, thiazolyl, benzothiazolyl, oxazolyl, benzoxazolyl, isothiazolyl, isoxazolyl, indolyl, morpholinyl, thiomorpholinyl, 2-pyrrolidinone-1-yl, 2-piperidon-1-yl, 2,4-dioxyimidazolidin-3-yl, and 2,4-dioxyoxazolidin-3-yl. Specific examples thereof, including substituents, include groups having the following structures:

(上記式中、Rはそれぞれ独立して、水素原子又は炭素原子数1~6のアルキル基を表し、Zは直接結合又は炭素原子数1~6のアルキレン基を表す。式中の*は、これらの式で表される基が、*部分で、隣接する基と結合することを意味する。) (In the above formulae, each R independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and Z represents a direct bond or an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms. * in the formulae means that the groups represented by these formulae are bonded to an adjacent group at the * portion.)

上記炭素原子数2~20の複素環含有基は、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、水酸基、-OR’、-COOR’、-CO-R’又は-SR’等の置換基を有していてもよく、-O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-NR”-、-NR”CO-又は-S-等の結合を有していてもよい。
ここで、R’及びR”は、水素原子又は炭素原子数1~20の炭化水素基を表し、化合物中にR51及びR52が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。上記炭素原子数1~20の炭化水素基は、上記R等で表される炭素原子数1~20の炭化水素基と同じである。
The heterocycle-containing group having 2 to 20 carbon atoms may have a substituent such as a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a hydroxyl group, -OR', -COOR', -CO-R' or -SR', and may have a bond such as -O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -NR"-, -NR"CO- or -S-.
Here, R'1 and R" represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and when a plurality of R51 and R52 are present in the compound, they may be the same or different. The above-mentioned hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms is the same as the above-mentioned hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms represented by R2, etc.

上記式(a)、(b)及び(c)中、R21等で表される、炭化水素基中の水素原子の1つ又は2つ以上が、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、水酸基、-OR51、-COOR51、-CO-R51又は-SR51で置換された炭素原子数1~20の基としては、上記R等で表される炭素原子数1~20の炭化水素基として例示した基中の水素原子の1つ又は2つ以上が、上記基で置換された基が挙げられる。
ここで、R51は、水素原子又は炭素原子数1~20の炭化水素基を表し、化合物中にR51が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。上記炭素原子数1~20の炭化水素基は、上記R等で表される炭素原子数1~20の炭化水素基と同じである。
上記置換基を有する基における炭素原子数は、基全体の炭素原子数を規定するものである。
In the above formulas (a), (b) and (c), examples of the group having 1 to 20 carbon atoms in which one or more hydrogen atoms in the hydrocarbon group represented by R 21 etc. have been substituted with a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a hydroxyl group, -OR 51 , -COOR 51 , -CO-R 51 or -SR 51 include groups in which one or more hydrogen atoms in the groups exemplified as the hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms represented by R 2 etc. have been substituted with the above groups.
Here, R 51 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and when a plurality of R 51 are present in the compound, they may be the same or different. The above-mentioned hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms is the same as the above-mentioned hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms represented by R 2 , etc.
The number of carbon atoms in the group having the above substituents defines the total number of carbon atoms in the group.

上記式(a)、(b)及び(c)中、R21等で表される、炭化水素基中のメチレン基の1つ又は2つ以上が、-O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-NR52-、-NR52CO-又は-S-で置換された炭素原子数1~20の基としては、上記R等で表される炭素原子数1~20の炭化水素基として例示した基中のメチレン基の1つ又は2つ以上が、上記基で置換された基が挙げられる。
ここで、R52は、水素原子又は炭素原子数1~20の炭化水素基を表し、化合物中にR52が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。上記炭素原子数1~20の炭化水素基は、上記R等で表される炭素原子数1~20の炭化水素基と同じである。
上記炭化水素基中のメチレン基が置換された基における炭素原子数は、基全体の炭素原子数を規定するものである。
In the above formulas (a), (b) and (c), examples of the group having 1 to 20 carbon atoms in which one or more methylene groups in the hydrocarbon group represented by R 21 etc. have been substituted with -O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -NR 52 -, -NR 52 CO- or -S- include groups in which one or more methylene groups in the groups exemplified as the hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms represented by R 2 etc. have been substituted with the above groups.
Here, R 52 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and when a plurality of R 52 are present in the compound, they may be the same or different. The above-mentioned hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms is the same as the above-mentioned hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms represented by R 2 , etc.
The number of carbon atoms in the group in which the methylene group in the above-mentioned hydrocarbon group is substituted defines the number of carbon atoms in the entire group.

上記式(a)、(b)及び(c)中、R21とR22、R22とR23、R23とR24、R29とR30、R30とR31、R31とR32、R37とR38、R38とR39、R39とR40、R41とR42、R42とR43及びR43とR44(以下、「R21とR22等」という。)が、互いに結合して形成する水素原子及び炭素原子からなる炭素原子数3~10の環としては、例えば、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロペンテン環、ベンゼン環、ピペリジン環、モルホリン環、ラクトン環、ラクタム環等の5~7員環の脂肪族環、芳香族環及び複素環、並びにナフタレン環、アントラセン環、フルオレン環、アセナフテン環、インダン環、テトラリン環等の縮合環が挙げられる。 In the above formulas (a), (b) and (c), R 21 and R 22 , R 22 and R 23 , R 23 and R 24 , R 29 and R 30 , R 30 and R 31 , R 31 and R 32 , R 37 and R 38 , R 38 and R 39 , R 39 and R 40 , R 41 and R 42 , R 42 and R 43 and R 43 and R 44 (hereinafter referred to as “R 21 and R 22 , etc.) are bonded to each other to form a ring having 3 to 10 carbon atoms and consisting of hydrogen atoms and carbon atoms, examples of which include 5- to 7-membered aliphatic rings, aromatic rings and heterocyclic rings such as a cyclopentane ring, a cyclohexane ring, a cyclopentene ring, a benzene ring, a piperidine ring, a morpholine ring, a lactone ring and a lactam ring, as well as condensed rings such as a naphthalene ring, an anthracene ring, a fluorene ring, an acenaphthene ring, an indane ring and a tetralin ring.

上記一般式(I)中のMが式(a)又は式(b)で表される基である化合物は、密着性及び耐熱性に優れる硬化物が得られることから好ましく、式(a)で表される基である化合物は、安定性に優れ、製造が容易であるため、より好ましい。特に、式(a)中のR21~R24が水素原子である化合物が好ましい。 Compounds in which M 1 in the above general formula (I) is a group represented by formula (a) or formula (b) are preferred because they give cured products with excellent adhesion and heat resistance, and compounds in which M 1 is a group represented by formula (a) are more preferred because they are stable and easy to produce. In particular, compounds in which R 21 to R 24 in formula (a) are hydrogen atoms are preferred.

また、式(a)中のR25又はR26が炭素原子数6~20のアリール基である化合物は、耐熱性に優れる硬化物が得られるため好ましい。式(a)中のR25又はR26がフェニル基である化合物は、上記効果に加えて、安定性に優れ、製造が容易であることから特に好ましい。 Compounds in which R 25 or R 26 in formula (a) is an aryl group having 6 to 20 carbon atoms are preferred because they give cured products with excellent heat resistance. Compounds in which R 25 or R 26 in formula (a) is a phenyl group are particularly preferred because they have the above-mentioned effects, as well as excellent stability and ease of production.

すなわち、上記一般式(I)中のMが式(a)であり、式(a)中のR21~R24が水素原子であり、R25又はR26が炭素原子数6~20のアリール基である化合物が好ましい。特に、上記一般式(I)中のMが式(a)であり、式(a)中のR21~R24が水素原子であり、R25又はR26がフェニル基である化合物が、密着性及び耐熱性に優れる硬化物が得られることから好ましい。 That is, a compound in which M 1 in the above general formula (I) is formula (a), R 21 to R 24 in formula (a) are hydrogen atoms, and R 25 or R 26 is an aryl group having 6 to 20 carbon atoms is preferred. In particular, a compound in which M 1 in the above general formula (I) is formula (a), R 21 to R 24 in formula (a) are hydrogen atoms, and R 25 or R 26 is a phenyl group is preferred because it gives a cured product with excellent adhesion and heat resistance.

上記一般式(I)中のMが式(c)で表される基である化合物は、密着性及び耐熱性に優れる硬化物が得られることから好ましい。式(c)中のR37~R44が水素原子である化合物は、安定性に優れ、製造が容易であることから特に好ましい。 A compound in which M 1 in the above general formula (I) is a group represented by formula (c) is preferred because it gives a cured product with excellent adhesion and heat resistance. A compound in which R 37 to R 44 in formula (c) are hydrogen atoms is particularly preferred because it is stable and easy to produce.

上記化合物(I)としては、例えば、下記の化合物(I-1)~(I-53)が挙げられるが、これらの化合物に限定されるものではない。 Examples of the above compound (I) include, but are not limited to, the following compounds (I-1) to (I-53).

Figure 0007634985000005
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Figure 0007634985000006
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Figure 0007634985000007
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Figure 0007634985000008
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Figure 0007634985000009
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本発明においては、上記化合物(I-1)及び(I-44)が、安定性に優れ、製造が容易であり、耐熱性に優れる硬化物が得られることから特に好ましい。 In the present invention, the above compounds (I-1) and (I-44) are particularly preferred because they are highly stable, easy to produce, and give cured products with excellent heat resistance.

上記一般式(IIa)、(IIb)及び(IIc)中、R61、R62、R63、R64、R65、R66、R67、R68、R69、R70、R71、R72、R73、R74、R75、R76、R77、R78、R79、R80、R81、R82、R83及びR84(以下、「R61等」という。)で表される炭素原子数1~20の炭化水素基、炭素原子数2~20の複素環含有基及びハロゲン原子は、上記R21等で表される炭素原子数1~20の炭化水素基、炭素原子数2~20の複素環含有基及びハロゲン原子と同じである。 In the above general formulae (IIa), (IIb) and (IIc), the hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, the heterocyclic ring-containing group having 2 to 20 carbon atoms and the halogen atom represented by R 61 , R 62 , R 63 , R 64 , R 65 , R 66 , R 67 , R 68 , R 69 , R 70 , R 71 , R 72 , R 73 , R 74 , R 75 , R 76 , R 77 , R 78 , R 79 , R 80 , R 81 , R 82 , R 83 and R 84 (hereinafter referred to as "R 61 etc.") are the same as the hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, the heterocyclic ring-containing group having 2 to 20 carbon atoms and the halogen atom represented by the above R 21 etc.

上記一般式(IIa)、(IIb)及び(IIc)中、炭化水素基中の水素原子の1つ又は2つ以上が、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、水酸基、-OR91、-COOR91、-CO-R91又は-SR91で置換された炭素原子数1~20の基としては、上記R等で表される炭素原子数1~20の炭化水素基として例示した基中の水素原子の1つ又は2つ以上が、上記基で置換された基が挙げられる。
ここで、R91は、水素原子又は炭素原子数1~20の炭化水素基を表し、化合物中にR91が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。上記炭素原子数1~20の炭化水素基は、上記R等で表される炭素原子数1~20の炭化水素基と同じである。
In the above general formulae (IIa), (IIb) and (IIc), examples of the group having 1 to 20 carbon atoms in which one or more hydrogen atoms in the hydrocarbon group have been substituted with a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a hydroxyl group, -OR 91 , -COOR 91 , -CO-R 91 or -SR 91 include groups in which one or more hydrogen atoms in the groups exemplified as the hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms represented by the above R 2 etc. have been substituted with the above groups.
Here, R 91 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and when a plurality of R 91 are present in the compound, they may be the same or different. The above-mentioned hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms is the same as the above-mentioned hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms represented by R 2 , etc.

上記一般式(IIa)、(IIb)及び(IIc)中、炭化水素基中のメチレン基の1つ又は2つ以上が、-O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-NR92-、-NR92CO-又は-S-で置換された炭素原子数1~20の基としては、上記R等で表される炭素原子数1~20の炭化水素基として例示した基中のメチレン基の1つ又は2つ以上が、上記基で置換された基が挙げられる。
ここで、R92は、水素原子又は炭素原子数1~20の炭化水素基を表し、化合物中にR92が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。上記炭素原子数1~20の炭化水素基は、上記R等で表される炭素原子数1~20の炭化水素基と同じである。
In the above general formulas (IIa), (IIb) and (IIc), examples of the group having 1 to 20 carbon atoms in which one or more methylene groups in the hydrocarbon group have been substituted with -O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -NR 92 -, -NR 92 CO- or -S- include groups in which one or more methylene groups in the groups exemplified as the hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms represented by R 2 etc. have been substituted with the above groups.
Here, R 92 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and when a plurality of R 92 are present in the compound, they may be the same or different. The above-mentioned hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms is the same as the above-mentioned hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms represented by R 2 , etc.

上記一般式(IIa)、(IIb)及び(IIc)中、R61とR62、R62とR63、R63とR64、R65とR66、R66とR67、R67とR68、R69とR70、R70とR71、R71とR72、R74とR75、R77とR78、R78とR79、R79とR80、R81とR82、R82とR83及びR83とR84が、互いに結合して形成する水素原子及び炭素原子からなる炭素原子数3~10の環としては、上記R21とR22等が、互いに結合して形成する水素原子及び炭素原子からなる炭素原子数3~10の環と同様の環が挙げられる。 In the above general formulae (IIa), (IIb) and (IIc), examples of the ring having 3 to 10 carbon atoms consisting of hydrogen atoms and carbon atoms formed by R 61 and R 62 , R 62 and R 63 , R 63 and R 64 , R 65 and R 66 , R 66 and R 67 , R 67 and R 68 , R 69 and R 70 , R 70 and R 71 , R 71 and R 72 , R 74 and R 75 , R 77 and R 78 , R 78 and R 79 , R 79 and R 80 , R 81 and R 82 , R 82 and R 83 and R 83 and R 84 bonding to each other include the above R 21 and R 22 , etc. are bonded to each other to form a ring having 3 to 10 carbon atoms and consisting of hydrogen atoms and carbon atoms.

上記一般式(IIa)、(IIb)及び(IIc)中、Y、Y、Y、Y、Y及びYで表される炭素原子数1~20の炭化水素基としては、上記R等で表される炭素原子数1~20の炭化水素基として例示した基から水素原子を2つ除いた基が挙げられる。 In the above general formulas (IIa), (IIb) and (IIc), examples of the hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms represented by Y1 , Y2 , Y3 , Y4 , Y5 and Y6 include groups in which two hydrogen atoms have been removed from the groups exemplified as the hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms represented by R2 etc.

上記一般式(IIc)中、L及びLで表される炭素原子数6~20のアリール基としては、上記R等で表される炭素原子数6~20のアリール基として例示した基から水素原子を1つ除いた基が挙げられる。 In the above general formula (IIc), examples of the aryl group having 6 to 20 carbon atoms represented by L1 and L2 include groups in which one hydrogen atom has been removed from the groups exemplified as the aryl group having 6 to 20 carbon atoms represented by R2, etc.

上記一般式(IIa)中のR61~R68が水素原子である化合物、上記一般式(IIb)中のR69~R72が水素原子である化合物、及び上記一般式(IIc)中のR77~R84が水素原子である化合物は、安定性に優れ、製造が容易であるため好ましい。 The compound in which R 61 to R 68 in the above general formula (IIa) are hydrogen atoms, the compound in which R 69 to R 72 in the above general formula (IIb) are hydrogen atoms, and the compound in which R 77 to R 84 in the above general formula (IIc) are hydrogen atoms are preferred because they are highly stable and easy to produce.

上記一般式(IIb)中のR73及びR74の何れか又は両方が炭素原子数6~20のアリール基である化合物は、耐熱性に優れる硬化物が得られるため好ましい。R73又はR74がフェニル基である化合物は、安定性に優れ、製造が容易であることから特に好ましい。 Compounds in which either or both of R 73 and R 74 in the above general formula (IIb) are aryl groups having 6 to 20 carbon atoms are preferred because they give cured products with excellent heat resistance. Compounds in which R 73 or R 74 is a phenyl group are particularly preferred because they are stable and easy to produce.

上記一般式(IIa)中のY及びY、上記一般式(IIb)中のY及びY、並びに上記一般式(IIc)中のY及びYが炭素原子数6~20のアリール基である化合物は、耐熱性に優れる硬化物が得られるため好ましく、Y及びY、Y及びY、並びにY及びYがベンゼン環である化合物がより好ましく、無置換のベンゼン環である化合物が、安定性に優れ、製造が容易であることから特に好ましい。 Compounds in which Y1 and Y2 in the above general formula (IIa), Y3 and Y4 in the above general formula (IIb), and Y5 and Y6 in the above general formula (IIc) are aryl groups having 6 to 20 carbon atoms are preferred because they give cured products with excellent heat resistance, and compounds in which Y1 and Y2 , Y3 and Y4 , and Y5 and Y6 are benzene rings are more preferred, and compounds in which Y1 and Y2 , Y3 and Y4, and Y5 and Y6 are unsubstituted benzene rings are particularly preferred because they are stable and easy to produce.

上記一般式(IIa)中のYとYが、直接、又はメチレン基、-O-若しくは-S-を介して互いに結合している化合物は、耐熱性に優れる硬化物が得られるため好ましく、YとYが、-O-を介して互いに結合している化合物が、安定性に優れ、製造が容易であることからより好ましい。 A compound in which Y1 and Y2 in the above general formula (IIa) are bonded to each other directly or via a methylene group, -O-, or -S- is preferred because it gives a cured product having excellent heat resistance, and a compound in which Y1 and Y2 are bonded to each other via -O- is more preferred because it has excellent stability and is easy to produce.

上記一般式(IIc)中のL及びLが、フェニレン基である化合物は、安定性に優れ、製造が容易であり、耐熱性に優れる硬化物が得られるため好ましい。 Compounds in which L 1 and L 2 in the above general formula (IIc) are phenylene groups are preferred because they are highly stable, easy to produce, and give cured products with excellent heat resistance.

上記化合物(IIa)としては、例えば、9,9-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)フルオレン二無水物、9,9-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)1,2-ベンゾフルオレン二無水物、9,9-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)2,3-ベンゾフルオレン二無水物、9,9-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)3,4-ベンゾフルオレン二無水物、及びスピロ[11H-ジフロ[3,4-b:3’,4’-i]キサンテン-11,9’-[9H]フルオレン]-1,3,7,9-テトロン等が挙げられる。 Examples of the compound (IIa) include 9,9-bis(3,4-dicarboxyphenyl)fluorene dianhydride, 9,9-bis(3,4-dicarboxyphenyl)1,2-benzofluorene dianhydride, 9,9-bis(3,4-dicarboxyphenyl)2,3-benzofluorene dianhydride, 9,9-bis(3,4-dicarboxyphenyl)3,4-benzofluorene dianhydride, and spiro[11H-difuro[3,4-b:3',4'-i]xanthene-11,9'-[9H]fluorene]-1,3,7,9-tetrone.

本発明においては、9,9-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)フルオレン二無水物及びスピロ[11H-ジフロ[3,4-b:3’,4’-i]キサンテン-11,9’-[9H]フルオレン]-1,3,7,9-テトロンが、安定性に優れ、製造が容易であり、耐熱性に優れる硬化物が得られることから特に好ましい。 In the present invention, 9,9-bis(3,4-dicarboxyphenyl)fluorene dianhydride and spiro[11H-difuro[3,4-b:3',4'-i]xanthene-11,9'-[9H]fluorene]-1,3,7,9-tetrone are particularly preferred because they are stable, easy to manufacture, and give cured products with excellent heat resistance.

上記化合物(IIb)としては、例えば、1,1-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)インダン二無水物、1,1-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)-3-フェニルインダン二無水物、1,1-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)-3,3’―ジフェニルインダン二無水物、1,1-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)-3,3’―ジメチルインダン二無水物、1,1-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)-3,3’―メチルフェニルインダン二無水物等が挙げられる。 Examples of the compound (IIb) include 1,1-bis(3,4-dicarboxyphenyl)indan dianhydride, 1,1-bis(3,4-dicarboxyphenyl)-3-phenylindan dianhydride, 1,1-bis(3,4-dicarboxyphenyl)-3,3'-diphenylindan dianhydride, 1,1-bis(3,4-dicarboxyphenyl)-3,3'-dimethylindan dianhydride, and 1,1-bis(3,4-dicarboxyphenyl)-3,3'-methylphenylindan dianhydride.

本発明においては、1,1-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)-3-フェニルインダン二無水物が、安定性に優れ、製造が容易であり、耐熱性に優れる硬化物が得られることから特に好ましい。 In the present invention, 1,1-bis(3,4-dicarboxyphenyl)-3-phenylindane dianhydride is particularly preferred because it is stable, easy to manufacture, and produces a cured product with excellent heat resistance.

上記化合物(IIc)としては、9,9-ビス[4-(3,4-ジカルボキシフェノキシ)フェニル]フルオレン二無水物、9,9-ビス[4-(3,4-ジカルボキシフェノキシ)フェニル]1,2-ベンゾフルオレン二無水物、9,9-ビス[4-(3,4-ジカルボキシフェノキシ)フェニル]2,3-ベンゾフルオレン二無水物、及び9,9-ビス[4-(3,4-ジカルボキシフェノキシ)フェニル]3,4-ベンゾフルオレン二無水物等が挙げられる。 Examples of the compound (IIc) include 9,9-bis[4-(3,4-dicarboxyphenoxy)phenyl]fluorene dianhydride, 9,9-bis[4-(3,4-dicarboxyphenoxy)phenyl]1,2-benzofluorene dianhydride, 9,9-bis[4-(3,4-dicarboxyphenoxy)phenyl]2,3-benzofluorene dianhydride, and 9,9-bis[4-(3,4-dicarboxyphenoxy)phenyl]3,4-benzofluorene dianhydride.

本発明においては、9,9-ビス[4-(3,4-ジカルボキシフェノキシ)フェニル]フルオレン二無水物が、安定性に優れ、製造が容易であり、耐熱性に優れる硬化物が得られることから特に好ましい。 In the present invention, 9,9-bis[4-(3,4-dicarboxyphenoxy)phenyl]fluorene dianhydride is particularly preferred because it is stable, easy to manufacture, and produces a cured product with excellent heat resistance.

本発明の化合物は、上記化合物(I)に上記化合物(IIa)、上記化合物(IIb)及び上記化合物(IIc)から選ばれる少なくとも1種が付加した構造を有する化合物であり、このような構造であることで、密着性及び耐熱性に優れる硬化物が得られる。 The compound of the present invention is a compound having a structure in which at least one selected from the above compounds (IIa), (IIb) and (IIc) is added to the above compound (I), and due to this structure, a cured product having excellent adhesion and heat resistance can be obtained.

上記化合物(I)は、公知の製造方法、例えば、国際公開第2008/139924号に記載の製造方法で製造することができる。具体的には、1,1-ビス(4-ヒドロキシフェニル)-3-フェニルインダン、9,9-ビス(4-ヒドロキシフェニル)フルオレンなどのビスフェノール化合物にエピクロロヒドリンを反応させて得られるエポキシ化合物に、アクリル酸又はメタクリル酸を付加させることにより製造することができる。 The compound (I) can be produced by a known production method, for example, the production method described in WO 2008/139924. Specifically, it can be produced by adding acrylic acid or methacrylic acid to an epoxy compound obtained by reacting a bisphenol compound such as 1,1-bis(4-hydroxyphenyl)-3-phenylindane or 9,9-bis(4-hydroxyphenyl)fluorene with epichlorohydrin.

本発明の化合物は、上記化合物(I)に上記化合物(IIa)、上記化合物(IIb)又は上記化合物(IIc)を付加させる反応を行うことによって製造できる。反応は公知の方法で行えばよく、例えば、特開2007-183495号公報に記載の方法で行うことができる。具体的は、上記化合物(I)と、上記化合物(IIa)、上記化合物(IIb)又は上記化合物(IIc)とを、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどの溶媒中で加熱して反応させることにより製造することができる。
上記反応は、上記化合物(I)中の水酸基と、上記化合物(IIa)、上記化合物(IIb)又は上記化合物(IIc)中の酸無水物基によるエステル結合の生成反応が主体であると考えられるが、その他の反応形態を含んでいてもよく、上記化合物(I)に上記化合物(IIa)、上記化合物(IIb)及び上記化合物(IIc)から選ばれる少なくとも1種が付加した構造を有する化合物とは、反応生成物の総称を意味する。
The compound of the present invention can be produced by carrying out an addition reaction of the compound (IIa), the compound (IIb) or the compound (IIc) to the compound (I). The reaction may be carried out by a known method, for example, the method described in JP-A-2007-183495. Specifically, the compound can be produced by heating and reacting the compound (I) with the compound (IIa), the compound (IIb) or the compound (IIc) in a solvent such as propylene glycol monomethyl ether acetate.
The above reaction is considered to be mainly a reaction of forming an ester bond between a hydroxyl group in compound (I) and an acid anhydride group in compound (IIa), compound (IIb) or compound (IIc), but may include other reaction forms, and the compound having a structure in which at least one selected from compound (IIa), compound (IIb) and compound (IIc) is added to compound (I) is a collective term for reaction products.

本発明においては、上記化合物(I)1モルに対して、上記化合物(IIa)、上記化合物(IIb)及び上記化合物(IIc)が合計で0.1~1.0モル付加した構造であることが、密着性及び耐熱性に優れる硬化物が得られることから好ましく、0.3~0.8モル付加した構造であることが特に好ましい。換言すれば、上記化合物(I)中の水酸基1モルに対して、上記化合物(IIa)、上記化合物(IIb)及び上記化合物(IIc)が合計で0.05~0.5モル付加した構造であることが、密着性及び耐熱性に優れる硬化物が得られることから好ましく、0.15~0.4モル付加した構造であることが特に好ましい。 In the present invention, a structure in which 0.1 to 1.0 moles of the above compounds (IIa), (IIb) and (IIc) are added in total to 1 mole of the above compound (I) is preferred because a cured product having excellent adhesion and heat resistance can be obtained, and a structure in which 0.3 to 0.8 moles are added is particularly preferred. In other words, a structure in which 0.05 to 0.5 moles of the above compounds (IIa), (IIb) and (IIc) are added in total to 1 mole of hydroxyl groups in the above compound (I) is preferred because a cured product having excellent adhesion and heat resistance can be obtained, and a structure in which 0.15 to 0.4 moles are added is particularly preferred.

本発明の化合物は、更に、上記化合物(I)にジカルボン酸一無水物が付加した構造を有していてもよい。このような化合物は、酸価を調整することによって、所望のアルカリ現像性を有する化合物とすることができるため好ましい。 The compound of the present invention may further have a structure in which a dicarboxylic acid monoanhydride is added to the above compound (I). Such a compound is preferable because it can be made into a compound having the desired alkaline developability by adjusting the acid value.

上記ジカルボン酸一無水物とは、2つのカルボキシル基が脱水縮合した構造を分子内に1つ有する化合物を意味し、上記化合物(I)にジカルボン酸一無水物が付加した構造を有する本発明の化合物は、耐熱性とアルカリ現像性に優れることから、モル比率で、ジカルボン酸一無水物1に対して上記化合物(IIa)、上記化合物(IIb)及び上記化合物(IIc)の合計が1~3となる量を付加させたものであることが好ましく、ジカルボン酸一無水物1に対して上記化合物(IIa)、上記化合物(IIb)及び上記化合物(IIc)の合計が1.5~2.5となる量を付加させたものであることが特に好ましい。 The dicarboxylic acid monoanhydride means a compound having one structure in the molecule in which two carboxyl groups are dehydrated and condensed. The compound of the present invention having a structure in which a dicarboxylic acid monoanhydride is added to the compound (I) has excellent heat resistance and alkaline developability, so that it is preferable that the total of the compounds (IIa), (IIb) and (IIc) is added in an amount of 1 to 3 per 1 unit of dicarboxylic acid monoanhydride, and it is particularly preferable that the total of the compounds (IIa), (IIb) and (IIc) is added in an amount of 1.5 to 2.5 per 1 unit of dicarboxylic acid monoanhydride.

上記ジカルボン酸一無水物としては、例えば、コハク酸無水物、マレイン酸無水物、トリメリット酸無水物、フタル酸無水物、メチルテトラヒドロフタル酸無水物、1,2,3,6-テトラヒドロフタル酸無水物、ナジック酸無水物、メチルナジック酸無水物、トリアルキルテトラヒドロフタル酸無水物、ヘキサヒドロフタル酸無水物、トリアルキルテトラヒドロフタル酸無水物-マレイン酸無水物付加物、ドデセニルコハク酸無水物、メチルハイミック酸無水物、メチルヘキサヒドロフタル酸無水物等が挙げられる。
本発明においては、アルカリ現像性に優れることから、コハク酸無水物、1,2,3,6-テトラヒドロフタル酸無水物及びヘキサヒドロフタル酸無水物から選ばれる1種又は2種以上を用いることが好ましい。
Examples of the dicarboxylic acid monoanhydride include succinic anhydride, maleic anhydride, trimellitic anhydride, phthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, 1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride, nadic anhydride, methylnadic anhydride, trialkyltetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, trialkyltetrahydrophthalic anhydride-maleic anhydride adduct, dodecenylsuccinic anhydride, methylhimic anhydride, and methylhexahydrophthalic anhydride.
In the present invention, it is preferable to use one or more selected from succinic anhydride, 1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride and hexahydrophthalic anhydride because they have excellent alkaline developability.

上記ジカルボン酸一無水物を上記化合物(I)に付加させる反応は、上述の、上記化合物(I)に上記化合物(IIa)、上記化合物(IIb)又は上記化合物(IIc)を付加させる反応と同様にして行うことができる。また、上記化合物(I)に上記化合物(I)に上記化合物(IIa)、上記化合物(IIb)又は上記化合物(IIc)を付加させる反応と、上記化合物(I)に上記ジカルボン酸一無水物を付加させる反応を同時に行ってもよい。 The reaction of adding the dicarboxylic acid monoanhydride to the compound (I) can be carried out in the same manner as the reaction of adding the compound (IIa), the compound (IIb) or the compound (IIc) to the compound (I). In addition, the reaction of adding the compound (IIa), the compound (IIb) or the compound (IIc) to the compound (I) and the reaction of adding the dicarboxylic acid monoanhydride to the compound (I) may be carried out simultaneously.

本発明の化合物の酸価は、70~150mg・KOH/gの範囲であることが、得られる重合性組成物のアルカリ現像性に優れることから好ましく、80~110mg・KOH/gの範囲であることが特に好ましい。 The acid value of the compound of the present invention is preferably in the range of 70 to 150 mg KOH/g, since the resulting polymerizable composition has excellent alkaline developability, and is particularly preferably in the range of 80 to 110 mg KOH/g.

本発明の化合物の重量平均分子量Mwは、2,000~15,000の範囲であることが、耐熱性に優れた硬化物が得られるため好ましく、3,000~10,000の範囲であることが特に好ましい。 The weight average molecular weight Mw of the compound of the present invention is preferably in the range of 2,000 to 15,000, since a cured product with excellent heat resistance can be obtained, and is particularly preferably in the range of 3,000 to 10,000.

本発明の化合物の分子量分布(Mw/Mn)は、1.0~3.0の範囲であることが、解像度が高くなるため好ましく、1.5~2.5の範囲が特に好ましい。 The molecular weight distribution (Mw/Mn) of the compound of the present invention is preferably in the range of 1.0 to 3.0 because this increases the resolution, and is particularly preferably in the range of 1.5 to 2.5.

上記重量平均分子量及び分子量分布は、例えば、日本分光(株)製のGPC装置(LC-2000plusシリーズ)を用いて重合体のGPC測定を行い、ポリスチレンスタンダード(例えば、東ソー(株)社製 TSKgel標準ポリスチレン)により作成した校正曲線から算出することができる。例えば、下記の条件で好適に測定できる。
溶媒:THF
溶媒の流速:1.0 ml/min
カラム:KF-803、KF-802(有機溶媒系GPC用カラム、標準分析用、Shodex社)
カラム温度:40℃
The weight average molecular weight and the molecular weight distribution can be calculated from a calibration curve prepared by, for example, performing GPC measurement of the polymer using a GPC apparatus (LC-2000plus series) manufactured by JASCO Corporation, and using a polystyrene standard (for example, TSKgel standard polystyrene manufactured by Tosoh Corporation). For example, the measurement can be suitably performed under the following conditions.
Solvent: THF
Solvent flow rate: 1.0 ml/min
Column: KF-803, KF-802 (organic solvent GPC column, for standard analysis, Shodex)
Column temperature: 40°C

本発明の化合物のアクリル基当量は、300~700g/eqの範囲内である場合、該化合物を含有する重合性組成物の感度が優れることから好ましく、400~600であることが特に好ましい。 The acrylic group equivalent of the compound of the present invention is preferably within the range of 300 to 700 g/eq, since the sensitivity of the polymerizable composition containing the compound is excellent, and is particularly preferably within the range of 400 to 600.

本発明の重合性組成物は、上記化合物(I)に上記化合物(IIa)、上記化合物(IIb)及び上記化合物(IIc)から選ばれる少なくとも1種が付加した構造を有する化合物(A)及び重合開始剤(B)を含有するものである。 The polymerizable composition of the present invention contains a compound (A) having a structure in which at least one selected from the compound (IIa), the compound (IIb) and the compound (IIc) is added to the compound (I), and a polymerization initiator (B).

上記化合物(A)の含有量は、密着性及び耐熱性に優れる硬化物が得られることから、上記重合性組成物の固形分100質量部に対して10~70質量部であることが好ましく、30~60質量部であることがより好ましい。
上記重合性組成物の固形分とは、重合性組成物から後述する溶剤を除いた成分の総量である。
The content of the compound (A) is preferably 10 to 70 parts by mass, and more preferably 30 to 60 parts by mass, per 100 parts by mass of the solid content of the polymerizable composition, since a cured product having excellent adhesion and heat resistance can be obtained.
The solid content of the polymerizable composition is the total amount of components excluding the solvent described below from the polymerizable composition.

上記化合物(A)はエチレン性不飽和結合を有する重合性の化合物であるため、上記重合開始剤(B)は、エチレン性不飽和結合を有する化合物の重合に用いられるラジカル開始剤であればよく、従来既知の化合物を用いることが可能である。具体的には、例えば、過酸化ベンゾイル、2,2’-アゾビスイソブチロニトリル、ベンゾフェノン、フェニルビフェニルケトン、1-ヒドロキシ-1-ベンゾイルシクロヘキサン、ベンジル、ベンジルジメチルケタール、1-ベンジル-1-ジメチルアミノ-1-(4’-モルホリノベンゾイル)プロパン、2-モルホリル-2-(4’-メチルメルカプト)ベンゾイルプロパン、チオキサントン、1-クロル-4-プロポキシチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、エチルアントラキノン、4-ベンゾイル-4'-メチルジフェニルスルフィド、ベンゾインブチルエーテル、2-ヒドロキシ-2-ベンゾイルプロパン、2-ヒドロキシ-2-(4’-イソプロピル)ベンゾイルプロパン、4-ブチルベンゾイルトリクロロメタン、4-フェノキシベンゾイルジクロロメタン、ベンゾイル蟻酸メチル、1,7-ビス(9’-アクリジニル)ヘプタン、9-n-ブチル-3,6-ビス(2’-モルホリノイソブチロイル)カルバゾール、2-メチル-1-[4-(メチルチオ)フェニル]-2-モルホリノプロパン-1-オン、p-メトキシフェニル-2,4-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-メチル-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-フェニル-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-ナフチル-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-(p-ブトキシスチリル)-s-トリアジン、2-(p-ブトキシスチリル)-5-トリクロロメチル-1,3,4-オキサジアゾール、9-フェニルアクリジン、9,10-ジメチルベンズフェナジン、ベンゾフェノン/ミヒラーズケトン、ヘキサアリールビイミダゾール/メルカプトベンズイミダゾール、チオキサントン/アミン、ビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)-フェニルホスフィンオキシド、並びに特開2000-80068号公報、特開2001-233842号公報、特開2005-97141号公報、特表2006-516246号公報、特許第3860170号公報、特許第3798008号公報、WO2006/018973号公報に記載の化合物等が挙げられる。 Since the compound (A) is a polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond, the polymerization initiator (B) may be any radical initiator used in the polymerization of a compound having an ethylenically unsaturated bond, and a conventionally known compound may be used. Specifically, for example, benzoyl peroxide, 2,2'-azobisisobutyronitrile, benzophenone, phenyl biphenyl ketone, 1-hydroxy-1-benzoylcyclohexane, benzil, benzil dimethyl ketal, 1-benzyl-1-dimethylamino-1-(4'-morpholinobenzoyl)propane, 2-morpholyl-2-(4'-methylmercapto)benzoylpropane, thioxanthone, 1-chloro-4-propoxythioxanthone, isopropylthioxanthone, diethylthioxanthone, ethyl azothioxanthone, 1-chloro-4-propoxythioxanthone, isopropylthioxanthone, diethylthioxanthone, ethyl ... diethylthioxanthone, 1-chloro-4-propoxythioxanthone, nthraquinone, 4-benzoyl-4'-methyldiphenyl sulfide, benzoin butyl ether, 2-hydroxy-2-benzoylpropane, 2-hydroxy-2-(4'-isopropyl)benzoylpropane, 4-butylbenzoyltrichloromethane, 4-phenoxybenzoyldichloromethane, methyl benzoylformate, 1,7-bis(9'-acridinyl)heptane, 9-n-butyl-3,6-bis(2'-morpholinoisobutyroyl)carbazole, 2-methyl-1-[4-(methylthio)phenyl]-2 -morpholinopropan-1-one, p-methoxyphenyl-2,4-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-methyl-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-phenyl-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-naphthyl-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-(p-butoxystyryl)-s-triazine, 2-(p-butoxystyryl)-5-trichloromethyl-1,3,4-oxadiazole, 9-phenylacridine, 9,10-dimethyl Examples include rubenzphenazine, benzophenone/Michler's ketone, hexaarylbiimidazole/mercaptobenzimidazole, thioxanthone/amine, bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)-phenylphosphine oxide, and compounds described in JP-A-2000-80068, JP-A-2001-233842, JP-A-2005-97141, JP-T-2006-516246, Japanese Patent No. 3860170, Japanese Patent No. 3798008, and WO2006/018973.

上記重合性組成物は、更に上記化合物(A)以外の重合性化合物(C)を含有していてもよい。上記重合性化合物としては、例えば、アクリル酸-2-ヒドロキシエチル、アクリル酸-2-ヒドロキシプロピル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸-N-オクチル、アクリル酸イソオクチル、アクリル酸イソノニル、アクリル酸ステアリル、アクリル酸メトキシエチル、アクリル酸ジメチルアミノエチル、1,6-ヘキサンジオールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、メタクリル酸-2-ヒドロキシエチル、メタクリル酸-2-ヒドロキシプロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ターシャリーブチル、メタクリル酸シクロヘキシル、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、トリシクロデカンジメチロールジアクリレート等が挙げられる。 The polymerizable composition may further contain a polymerizable compound (C) other than the compound (A). Examples of the polymerizable compound include 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, isobutyl acrylate, N-octyl acrylate, isooctyl acrylate, isononyl acrylate, stearyl acrylate, methoxyethyl acrylate, dimethylaminoethyl acrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, butyl methacrylate, tertiary butyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, trimethylolpropane triacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, pentaerythritol triacrylate, and tricyclodecane dimethylol diacrylate.

上記重合性化合物(C)の含有量は、上記重合性組成物の感度を高め、耐薬品性に優れる硬化物が得られることから、上記化合物(A)100質量部に対して5~80質量部であることが好ましく、10~70質量部であることがより好ましい。 The content of the polymerizable compound (C) is preferably 5 to 80 parts by mass, and more preferably 10 to 70 parts by mass, per 100 parts by mass of the compound (A), because this increases the sensitivity of the polymerizable composition and results in a cured product with excellent chemical resistance.

上記重合開始剤(B)の含有量は、上記化合物(A)と上記重合性化合物(C)との合計100質量部に対して0.1~10質量部であることが、本発明の重合性組成物の感度が優れることから好ましく、1~5質量部であることがより好ましい。 The content of the polymerization initiator (B) is preferably 0.1 to 10 parts by mass relative to 100 parts by mass of the total of the compound (A) and the polymerizable compound (C) because the sensitivity of the polymerizable composition of the present invention is excellent, and more preferably 1 to 5 parts by mass.

上記重合性組成物は、更に着色剤(D)を含有していてもよい。着色剤(D)としては、顔料や染料が挙げられる。顔料及び染料としては、それぞれ、無機色材又は有機色材を用いることができる。これらは単独で又は2種以上を混合して用いることができる。ここで、顔料とは、一般的な溶剤に不溶の着色剤を意味し、無機又は有機色材の中でも溶剤に不溶であるもの、及び無機又は有機染料をレーキ化したものも含まれる。 The polymerizable composition may further contain a colorant (D). Examples of the colorant (D) include pigments and dyes. As the pigments and dyes, inorganic or organic colorants can be used. These can be used alone or in combination of two or more. Here, the pigment means a colorant that is insoluble in a general solvent, and includes inorganic or organic colorants that are insoluble in solvents, and inorganic or organic dyes that have been made into lakes.

上記顔料としては、ファーネス法、チャンネル法又はサーマル法によって得られるカーボンブラック、或いはアセチレンブラック、ケッチェンブラック又はランプブラック等のカーボンブラック、上記カーボンブラックをエポキシ樹脂で調整又は被覆したもの、上記カーボンブラックを予め溶剤中で樹脂に分散処理し、20~200mg/gの樹脂で被覆したもの、上記カーボンブラックを酸性又はアルカリ性表面処理したもの、平均粒径が8nm以上でDBP吸油量が90ml/100g以下のカーボンブラック、950℃における揮発分中のCO及びCOから算出した全酸素量が、表面積100m当たり9mg以上であるカーボンブラック、黒鉛化カーボンブラック、黒鉛、活性炭、炭素繊維、カーボンナノチューブ、カーボンマイクロコイル、カーボンナノホーン、カーボンエアロゲル、フラーレン、アニリンブラック、ピグメントブラック7、チタンブラック、ラクタムブラック及びペリレンブラック等に代表される黒色顔料、酸化クロム緑、ミロリブルー、コバルト緑、コバルト青、マンガン系、フェロシアン化物、リン酸塩群青、紺青、ウルトラマリン、セルリアンブルー、ピリジアン、エメラルドグリーン、硫酸鉛、黄色鉛、亜鉛黄、べんがら(赤色酸化鉄(III))、カドミウム赤、合成鉄黒、アンバー、レーキ顔料等の有機又は無機顔料が挙げられる。
上記顔料の中でも、遮光性が高いことから黒色顔料を用いることが好ましい。
Examples of the pigment include carbon black obtained by a furnace method, a channel method, or a thermal method, or carbon black such as acetylene black, ketjen black, or lamp black; the above carbon black adjusted or coated with an epoxy resin; the above carbon black previously dispersed in a resin in a solvent and coated with 20 to 200 mg/g of resin; the above carbon black subjected to an acidic or alkaline surface treatment; carbon black having an average particle size of 8 nm or more and a DBP oil absorption of 90 ml/100 g or less; and a total oxygen amount calculated from CO and CO2 in the volatile matter at 950° C. that is greater than or equal to 100 m of surface area. Examples of the pigment include organic or inorganic pigments such as carbon black, graphitized carbon black, graphite, activated carbon, carbon fiber, carbon nanotube, carbon microcoil, carbon nanohorn, carbon aerogel, fullerene, aniline black, pigment black 7, titanium black, lactam black, and perylene black, which are typified by black pigments, chromium oxide green, Milori blue, cobalt green, cobalt blue, manganese-based pigments, ferrocyanide, phosphate ultramarine, Prussian blue, ultramarine, cerulean blue, pyridian, emerald green, lead sulfate, yellow lead, zinc yellow, red iron oxide (red iron (III)), cadmium red, synthetic iron black, amber, and lake pigments, which are 9 mg or more per 2.
Among the above pigments, it is preferable to use a black pigment because of its high light-shielding property.

上記顔料としては、市販品を用いることもでき、例えば、ピグメントレッド1、2、3、9、10、14、17、22、23、31、38、41、48、49、88、90、97、112、119、122、123、144、149、166、168、169、170、171、177、179、180、184、185、192、200、202、209、215、216、217、220、223、224、226、227、254、228、240及び254;ピグメントオレンジ13、31、34、36、38、43、46、48、49、51、52、55、59、60、61、62、64、65及び71;ピグメントイエロー1、3、12、13、14、16、17、20、24、55、60、73、81、83、86、93、95、97、98、100、109、110、113、114、117、120、125、126、127、129、137、138、139、147、148、150、151、152、153、154、166、168、175、180及び185;ピグメントグリ-ン7、10、36及び58;ピグメントブルー15、15:1、15:2、15:3、15:4、15:5、15:6、22、24、56、60、61、62及び64;ピグメントバイオレット1、19、23、27、29、30、32、37、40及び50等が挙げられる。 Commercially available pigments can be used as the pigments. For example, Pigment Red 1, 2, 3, 9, 10, 14, 17, 22, 23, 31, 38, 41, 48, 49, 88, 90, 97, 112, 119, 122, 123, 144, 149, 166, 168, 169, 170, 171, 177, 179, 180, 184, 185 , 192, 200, 202, 209, 215, 216, 217, 220, 223, 224, 226, 227, 254, 228, 240 and 254; Pigment Orange 13, 31, 34, 36, 38, 43, 46, 48, 49, 51, 52, 55, 59, 60, 61, 62, 64, 65 and 71; Pigment Yellow 1, 3 , 12, 13, 14, 16, 17, 20, 24, 55, 60, 73, 81, 83, 86, 93, 95, 97, 98, 100, 109, 110, 113, 114, 117, 120, 125, 126, 127, 129, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 151, 152, 153, 154, 166, 168, 175, 180 and 185; Pigment Green 7, 10, 36 and 58; Pigment Blue 15, 15:1, 15:2, 15:3, 15:4, 15:5, 15:6, 22, 24, 56, 60, 61, 62 and 64; Pigment Violet 1, 19, 23, 27, 29, 30, 32, 37, 40 and 50.

上記染料としては、例えば、ニトロソ化合物、ニトロ化合物、アゾ化合物、ジアゾ化合物、キサンテン化合物、キノリン化合物、アントラキノン化合物、クマリン化合物、シアニン化合物、フタロシアニン化合物、イソインドリノン化合物、イソインドリン化合物、キナクリドン化合物、アンタンスロン化合物、ペリノン化合物、ペリレン化合物、ジケトピロロピロール化合物、チオインジゴ化合物、ジオキサジン化合物、トリフェニルメタン化合物、キノフタロン化合物、ナフタレンテトラカルボン酸、アゾ染料、シアニン染料の金属錯体化合物等が挙げられる。 Examples of the dyes include nitroso compounds, nitro compounds, azo compounds, diazo compounds, xanthene compounds, quinoline compounds, anthraquinone compounds, coumarin compounds, cyanine compounds, phthalocyanine compounds, isoindolinone compounds, isoindoline compounds, quinacridone compounds, anthranthrone compounds, perinone compounds, perylene compounds, diketopyrrolopyrrole compounds, thioindigo compounds, dioxazine compounds, triphenylmethane compounds, quinophthalone compounds, naphthalenetetracarboxylic acid, azo dyes, and metal complex compounds of cyanine dyes.

本発明の重合性組成物において、上記着色剤(D)の含有量は、特に限定されるものではないが、上記化合物(A)100質量部に対して、好ましくは10~500質量部、より好ましくは10~300質量部、更に好ましくは10~200質量部である。着色剤(D)の含有量が上記の範囲内である場合、重合性組成物が着色剤の凝集を伴わない保存安定性に優れたものとなり、重合性組成物の硬化物の遮光性が高くなることから好ましい。
例えば厚さ1~3μmの硬化物を形成する場合には、上記着色剤(D)の含有量は、特に限定されるものではないが、上記化合物(A)100質量部に対して、好ましくは、10~500質量部、より好ましくは10~300質量部、更に好ましくは10~200質量部である。
In the polymerizable composition of the present invention, the content of the colorant (D) is not particularly limited, but is preferably 10 to 500 parts by mass, more preferably 10 to 300 parts by mass, and even more preferably 10 to 200 parts by mass, relative to 100 parts by mass of the compound (A). When the content of the colorant (D) is within the above range, the polymerizable composition has excellent storage stability without aggregation of the colorant, and the light-shielding property of the cured product of the polymerizable composition is high, which is preferable.
For example, when forming a cured product having a thickness of 1 to 3 μm, the content of the colorant (D) is not particularly limited, but is preferably 10 to 500 parts by mass, more preferably 10 to 300 parts by mass, and even more preferably 10 to 200 parts by mass, relative to 100 parts by mass of the compound (A).

本発明の重合性組成物には、更に溶剤を加えることができる。該溶剤とは、1気圧25℃において液状であり、化合物(A)、重合開始剤(B)重合性化合物(C)及び着色剤(D)に分類されない成分である。上記溶剤としては、通常、必要に応じて上記の各成分(化合物(A)、重合開始剤(B)重合性化合物(C)及び着色剤(D)等)を溶解又は分散し得る溶剤を用いることができる。例えば、メチルエチルケトン、メチルアミルケトン、ジエチルケトン、アセトン、メチルイソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン及び2-ヘプタノン等のケトン系溶剤;エチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、1,2-ジメトキシエタン、1,2-ジエトキシエタン及びジプロピレングリコールジメチルエーテル等のエーテル系溶剤;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸-n-プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸n-ブチル、3-メトキシブチルアセテート、酢酸シクロヘキシル、乳酸エチル、コハク酸ジメチル及びテキサノール等のエステル系溶剤;エチレングリコールモノメチルエーテル及びエチレングリコールモノエチルエーテル等のセロソルブ系溶剤;メタノール、エタノール、イソ-又はn-プロパノール、イソ-又はn-ブタノール及びアミルアルコール等のアルコール系溶剤;エチレングリコールモノメチルアセテート、エチレングリコールモノエチルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、3-メトキシブチルアセテート及びエトキシエチルプロピオネート等のエーテルエステル系溶剤;ベンゼン、トルエン及びキシレン等のBTX系溶剤;ヘキサン、ヘプタン、オクタン及びシクロヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶剤;テレピン油、D-リモネン及びピネン等のテルペン系炭化水素油;ミネラルスピリット、スワゾール#310(以上、コスモ松山石油製);及びソルベッソ#100(以上、エクソン化学製);等のパラフィン系溶剤;四塩化炭素、クロロホルム、トリクロロエチレン、塩化メチレン及び1,2-ジクロロエタン等のハロゲン化脂肪族炭化水素系溶剤;クロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素系溶剤;カルビトール系溶剤、アニリン、トリエチルアミン、ピリジン、酢酸、アセトニトリル、二硫化炭素、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド及び水等が挙げられ、これらの溶剤は1種又は2種以上の混合溶剤として使用することができる。 A solvent can be further added to the polymerizable composition of the present invention. The solvent is a component that is liquid at 25°C under 1 atmosphere and is not classified as compound (A), polymerization initiator (B), polymerizable compound (C), or colorant (D). As the solvent, a solvent that can dissolve or disperse each of the above components (compound (A), polymerization initiator (B), polymerizable compound (C), colorant (D), etc.) can usually be used as needed. For example, ketone-based solvents such as methyl ethyl ketone, methyl amyl ketone, diethyl ketone, acetone, methyl isopropyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, and 2-heptanone; ether-based solvents such as ethyl ether, dioxane, tetrahydrofuran, 1,2-dimethoxyethane, 1,2-diethoxyethane, and dipropylene glycol dimethyl ether; ester-based solvents such as methyl acetate, ethyl acetate, n-propyl acetate, isopropyl acetate, n-butyl acetate, 3-methoxybutyl acetate, cyclohexyl acetate, ethyl lactate, dimethyl succinate, and texanol; cellosolve-based solvents such as ethylene glycol monomethyl ether and ethylene glycol monoethyl ether; alcohol-based solvents such as methanol, ethanol, iso- or n-propanol, iso- or n-butanol, and amyl alcohol; ethylene glycol monomethyl acetate, ethylene glycol monoethyl acetate, propylene glycol monomethyl ether, and propylene glycol monomethyl ether acetate. ether ester solvents such as butyl acetate, dipropylene glycol monomethyl ether acetate, 3-methoxybutyl acetate, and ethoxyethyl propionate; BTX solvents such as benzene, toluene, and xylene; aliphatic hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, octane, and cyclohexane; terpene hydrocarbon oils such as turpentine oil, D-limonene, and pinene; paraffin solvents such as mineral spirits, Swazol #310 (all manufactured by Cosmo Matsuyama Oil); and Solvesso #100 (all manufactured by Exxon Chemical). Agents include halogenated aliphatic hydrocarbon solvents such as carbon tetrachloride, chloroform, trichloroethylene, methylene chloride, and 1,2-dichloroethane; halogenated aromatic hydrocarbon solvents such as chlorobenzene; carbitol solvents, aniline, triethylamine, pyridine, acetic acid, acetonitrile, carbon disulfide, N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, dimethylsulfoxide, and water, and these solvents can be used alone or in combination of two or more.

これらの中でもケトン系溶剤、エステル系溶剤及びエーテルエステル系溶剤等、特にシクロヘキサノン、3-メトキシブチルアセテート、コハク酸ジメチル及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等が、化合物(A)及び重合開始剤(B)の溶解性が良好であるため好ましい。 Among these, ketone solvents, ester solvents and ether ester solvents, particularly cyclohexanone, 3-methoxybutyl acetate, dimethyl succinate and propylene glycol monomethyl ether acetate, are preferred because they have good solubility for compound (A) and polymerization initiator (B).

本発明の重合性組成物における上記溶剤の含有量は、特に限定されるものではないが、重合性組成物中20~98質量%が好ましく、60~95質量%がより好ましい。溶剤の含有量が上記の範囲内である場合、重合性組成物が着色剤の凝集を伴わない保存安定性に優れたものとなり、硬化物の膜厚制御が容易となることから好ましい。 The content of the above-mentioned solvent in the polymerizable composition of the present invention is not particularly limited, but is preferably 20 to 98% by mass, and more preferably 60 to 95% by mass in the polymerizable composition. When the content of the solvent is within the above range, the polymerizable composition has excellent storage stability without aggregation of the colorant, and it is preferable because it is easy to control the film thickness of the cured product.

本発明の重合性組成物は、スピンコーター、ロールコーター、バーコーター、ダイコーター、カーテンコーター、各種の印刷、浸漬等の公知の手段で、ソーダガラス、石英ガラス、半導体基板、金属、紙、プラスチック等の支持基体上に適用することができる。また、一旦フィルム等の支持基体上に施した後、他の支持基体上に転写することもでき、その適用方法に制限はない。 The polymerizable composition of the present invention can be applied to a support substrate such as soda glass, quartz glass, a semiconductor substrate, metal, paper, or plastic by known means such as a spin coater, roll coater, bar coater, die coater, curtain coater, various printing methods, or immersion. In addition, once applied to a support substrate such as a film, it can also be transferred to another support substrate, and there is no limitation on the application method.

本発明の硬化物とは、上記重合性組成物を重合させることによって得られるものを意味する。重合方法は特に限定されないが、硬化性が高いことから、光照射又は加熱のいずれかによって重合させることが好ましい。 The cured product of the present invention means a product obtained by polymerizing the above-mentioned polymerizable composition. The polymerization method is not particularly limited, but it is preferable to polymerize by either light irradiation or heating, since these have high curability.

本発明の重合性組成物を硬化させる際に用いられる光源としては、超高圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、中圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、水銀蒸気アーク灯、キセノンアーク灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、蛍光灯、タングステンランプ、エキシマーランプ、殺菌灯、発光ダイオード、CRT光源等から得られる2000オングストロームから7000オングストロームの波長を有する電磁波エネルギーや電子線、X線、放射線等の高エネルギー線を利用することができるが、好ましくは、波長300~450nmの光を発光する超高圧水銀ランプ、水銀蒸気アーク灯、カーボンアーク灯、キセノンアーク灯等が挙げられる。 Light sources used in curing the polymerizable composition of the present invention include electromagnetic wave energy having a wavelength of 2000 angstroms to 7000 angstroms obtained from ultra-high pressure mercury lamps, high pressure mercury lamps, medium pressure mercury lamps, low pressure mercury lamps, mercury vapor arc lamps, xenon arc lamps, carbon arc lamps, metal halide lamps, fluorescent lamps, tungsten lamps, excimer lamps, germicidal lamps, light emitting diodes, CRT light sources, etc., and high energy rays such as electron beams, X-rays, and radiation. Preferred examples include ultra-high pressure mercury lamps, mercury vapor arc lamps, carbon arc lamps, xenon arc lamps, etc. that emit light with a wavelength of 300 to 450 nm.

加熱により硬化する場合、70~100℃において100秒間プリベークを行い、溶剤を除去した後、150℃~250℃にて30分~1時間加熱し硬化する方法が挙げられる。硬化温度が150℃より低いと、十分な硬化が起きない場合があり、250℃以上では、硬化膜の着色や分解が起きる可能性がある。 When curing by heating, one method is to pre-bake at 70-100°C for 100 seconds, remove the solvent, and then heat and cure at 150°C-250°C for 30 minutes to 1 hour. If the curing temperature is lower than 150°C, sufficient curing may not occur, and if it is 250°C or higher, the cured film may become discolored or decompose.

本発明の重合性組成物及び硬化物は、硬化性塗料、ワニス、硬化性接着剤、プリント基板、表示装置(カラーテレビ、PCモニタ、携帯情報端末及びデジタルカメラ等のカラー表示の液晶表示パネルにおけるカラーフィルタ、種々の表示用途用のカラーフィルタ、CCDイメージセンサのカラーフィルタ、タッチパネル、電気発光表示装置、プラズマ表示パネル、有機ELの黒色隔壁)、粉末コーティング、印刷インク、印刷版、接着剤、ゲルコート、電子工学用のフォトレジスト、電気メッキレジスト、エッチングレジスト、はんだレジスト、絶縁膜、ブラックマトリクス、及びLCDの製造工程において構造を形成するためのレジスト、電気及び電子部品を封入するための組成物、ソルダーレジスト、磁気記録材料、微小機械部品、導波路、光スイッチ、めっき用マスク、エッチングマスク、カラー試験系、ガラス繊維ケーブルコーティング、スクリーン印刷用ステンシル、ステレオリトグラフィによって三次元物体を製造するための材料、ホログラフィ記録用材料、画像記録材料、微細電子回路、脱色材料、画像記録材料のための脱色材料、マイクロカプセルを使用する画像記録材料用の脱色材料、印刷配線板用フォトレジスト材料、UV及び可視レーザー直接画像系用のフォトレジスト材料、プリント回路基板の逐次積層における誘電体層形成に使用するフォトレジスト材料及び保護膜等の各種の用途に使用することができ、その用途に特に制限はないが、上記用途の中でも表示装置には、特に好適に用いることができる。 The polymerizable composition and cured product of the present invention can be used in a wide variety of applications, including curable paints, varnishes, curable adhesives, printed circuit boards, display devices (color filters in liquid crystal display panels for color displays in color televisions, PC monitors, mobile information terminals, digital cameras, etc., color filters for various display applications, color filters in CCD image sensors, touch panels, electroluminescent display devices, plasma display panels, and black partition walls in organic EL), powder coatings, printing inks, printing plates, adhesives, gel coats, photoresists for electronics, electroplating resists, etching resists, solder resists, insulating films, black matrices, and resists for forming structures in the manufacturing process of LCDs, compositions for encapsulating electrical and electronic components, solder resists, and magnetic recording materials. It can be used in a variety of applications, including materials, micromechanical components, waveguides, optical switches, plating masks, etching masks, color test systems, glass fiber cable coatings, screen printing stencils, materials for producing three-dimensional objects by stereolithography, holographic recording materials, image recording materials, fine electronic circuits, bleaching materials, bleaching materials for image recording materials, bleaching materials for image recording materials using microcapsules, photoresist materials for printed wiring boards, photoresist materials for UV and visible laser direct imaging systems, photoresist materials and protective films used to form dielectric layers in the sequential lamination of printed circuit boards, and there are no particular limitations on its applications, but it is particularly suitable for use in display devices among the above applications.

以下、実施例等を示して本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例等に
より限定されるものではない。
The present invention will be described in more detail below by showing examples, but the present invention is not limited to these examples.

[合成例1]
反応容器に3-フェニル-1-インダノン(0.10mol)、フタル酸(0.60mol)、3-メルカプトプロピオン酸(0.010mol)、硫酸(0.020mol)、トルエン(1.1mol)を仕込み、80℃で5時間加熱攪拌した。反応液を水洗後、溶媒を減圧留去することで粗生成物を得た。得られた粗生成物を酢酸エチル/ヘキサン系溶媒を用いてシリカゲルカラムで精製し、更にトルエンで再結晶することにより結晶を得た。得られた結晶を170℃、減圧下で6時間乾燥し、目的生成物である1,1-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)-3-フェニルインダン二無水物を得た。
[Synthesis Example 1]
3-Phenyl-1-indanone (0.10 mol), phthalic acid (0.60 mol), 3-mercaptopropionic acid (0.010 mol), sulfuric acid (0.020 mol), and toluene (1.1 mol) were charged into a reaction vessel and heated and stirred at 80° C. for 5 hours. The reaction solution was washed with water, and the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain a crude product. The crude product obtained was purified in a silica gel column using an ethyl acetate/hexane solvent, and further recrystallized with toluene to obtain crystals. The obtained crystals were dried at 170° C. under reduced pressure for 6 hours to obtain the target product, 1,1-bis(3,4-dicarboxyphenyl)-3-phenylindan dianhydride.

[実施例1]
下記エポキシ化合物1(1.00mol)、アクリル酸(2.04mol)、ジブチルヒドロキシトルエン(0.0105mol)、テトラブチルアンモニウムクロライド(0.0100mol)、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMAc)3.26molを反応容器に仕込み、120℃で15時間撹拌した後、室温まで冷却してエポキシアクリレート化合物1をPGMAc溶液として得た。
得られたエポキシアクリレート化合物1溶液に、9,9-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)フルオレン二無水物(0.592mol)、及び1,2,3,6-テトラヒドロ無水フタル酸(0.340mol)、ジブチルヒドロキシトルエン(0.0105mol)、テトラブチルアンモニウムクロライド(0.0100mol)及びPGMAc(2.74mol)を加えて、110℃で5時間撹拌した。室温まで冷却し、PGMAc(3.53mol)を加えて、目的物である化合物1をPGMAc溶液(含有量:43.3質量%)として得た。化合物1の分子量は、Mw=5800、Mn=2600であり、酸価(固形分)は89.6mg・KOH/gであった。
化合物1は、エポキシアクリレート化合物1の水酸基1個に対し、テトラカルボン酸二無水物が0.296個、ジカルボン酸一無水物が0.170個の比率で付加した構造を有するものである。また、化合物1は、モル比率で、ジカルボン酸一無水物1に対してテトラカルボン酸二無水物1.74となる量を付加させたものである。
[Example 1]
The following epoxy compound 1 (1.00 mol), acrylic acid (2.04 mol), dibutylhydroxytoluene (0.0105 mol), tetrabutylammonium chloride (0.0100 mol), and 3.26 mol of propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMAc) were charged into a reaction vessel, stirred at 120° C. for 15 hours, and then cooled to room temperature to obtain epoxy acrylate compound 1 as a PGMAc solution.
To the obtained epoxy acrylate compound 1 solution, 9,9-bis(3,4-dicarboxyphenyl)fluorene dianhydride (0.592 mol), 1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride (0.340 mol), dibutylhydroxytoluene (0.0105 mol), tetrabutylammonium chloride (0.0100 mol) and PGMAc (2.74 mol) were added, and the mixture was stirred at 110° C. for 5 hours. The mixture was cooled to room temperature, and PGMAc (3.53 mol) was added to obtain the target compound 1 as a PGMAc solution (content: 43.3% by mass). The molecular weight of compound 1 was Mw=5800, Mn=2600, and the acid value (solid content) was 89.6 mg KOH/g.
Compound 1 has a structure in which 0.296 tetracarboxylic dianhydride and 0.170 dicarboxylic monoanhydride are added to one hydroxyl group of epoxy acrylate compound 1. Compound 1 is obtained by adding 1.74 tetracarboxylic dianhydride to 1 dicarboxylic monoanhydride in molar ratio.

Figure 0007634985000010
Figure 0007634985000010

[実施例2]
9,9-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)フルオレン二無水物に代えて1,1-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)-3-フェニルインダン二無水物を使用した以外は実施例1と同様にして、化合物2をPGMAc溶液(含有量:44.2質量%)として得た。化合物2の分子量は、Mw=5900、Mn=2500であり、酸価(固形分)は88.5mg・KOH/gであった。
[Example 2]
Compound 2 was obtained as a PGMAc solution (content: 44.2 mass%) in the same manner as in Example 1, except that 1,1-bis(3,4-dicarboxyphenyl)-3-phenylindane dianhydride was used instead of 9,9-bis(3,4-dicarboxyphenyl)fluorene dianhydride. Compound 2 had a molecular weight of Mw=5900, Mn=2500, and an acid value (solid content) of 88.5 mg KOH/g.

[実施例3]
エポキシ化合物1に代えて下記エポキシ化合物2を使用した以外は実施例1と同様にして、化合物3をPGMAc溶液(含有量:44.1質量%)として得た。化合物3の分子量は、Mw=6000、Mn=2600であり、酸価(固形分)は90.8mg・KOH/gであった。
[Example 3]
Compound 3 was obtained as a PGMAc solution (content: 44.1 mass%) in the same manner as in Example 1, except that epoxy compound 2 was used instead of epoxy compound 1. Compound 3 had a molecular weight of Mw = 6000 and Mn = 2600, and an acid value (solid content) of 90.8 mg KOH/g.

Figure 0007634985000011
Figure 0007634985000011

[実施例4]
エポキシ化合物1に代えてエポキシ化合物2を使用した以外は実施例2と同様にして、化合物4をPGMAc溶液(含有量:44.5質量%)として得た。化合物4の分子量は、Mw=5800、Mn=2500であり、酸価(固形分)は91.2mg・KOH/gであった。
[Example 4]
Compound 4 was obtained as a PGMAc solution (content: 44.5% by mass) in the same manner as in Example 2, except that epoxy compound 2 was used instead of epoxy compound 1. Compound 4 had a molecular weight of Mw = 5,800 and Mn = 2,500, and an acid value (solid content) of 91.2 mg KOH/g.

[実施例5]
1,2,3,6-テトラヒドロ無水フタル酸に代えてコハク酸無水物を使用した以外は実施例1と同様にして、化合物5をPGMAc溶液(含有量:44.7質量%)として得た。化合物5の分子量は、Mw=5600、Mn=2300であり、酸価(固形分)は91.3mg・KOH/gであった。
[Example 5]
Compound 5 was obtained as a PGMAc solution (content: 44.7% by mass) in the same manner as in Example 1, except that succinic anhydride was used instead of 1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride. Compound 5 had a molecular weight of Mw=5600 and Mn=2300, and an acid value (solid content) of 91.3 mg KOH/g.

[実施例6]
9,9-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)フルオレン二無水物に代えて1,1-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)-3-フェニルインダン二無水物を使用し、1,2,3,6-テトラヒドロ無水フタル酸に代えてコハク酸無水物を使用した以外は実施例1と同様にして、化合物6をPGMAc溶液(含有量:44.6質量%)として得た。化合物6の分子量は、Mw=5600、Mn=2400であり、酸価(固形分)は90.8mg・KOH/gであった。
[Example 6]
Compound 6 was obtained as a PGMAc solution (content: 44.6% by mass) in the same manner as in Example 1, except that 1,1-bis(3,4-dicarboxyphenyl)-3-phenylindane dianhydride was used instead of 9,9-bis(3,4-dicarboxyphenyl)fluorene dianhydride and succinic anhydride was used instead of 1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride. Compound 6 had a molecular weight of Mw=5600 and Mn=2400, and an acid value (solid content) of 90.8 mg KOH/g.

[実施例7]
1,2,3,6-テトラヒドロ無水フタル酸に代えてコハク酸無水物を使用した以外は実施例3と同様にして、化合物7をPGMAc溶液(含有量:44.6質量%)として得た。化合物7の分子量は、Mw=5600、Mn=2400であり、酸価(固形分)は90.8mg・KOH/gであった。
[Example 7]
Compound 7 was obtained as a PGMAc solution (content: 44.6% by mass) in the same manner as in Example 3, except that succinic anhydride was used instead of 1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride. Compound 7 had a molecular weight of Mw=5600 and Mn=2400, and an acid value (solid content) of 90.8 mg KOH/g.

[実施例8]
9,9-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)フルオレン二無水物に代えて1,1-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)-3-フェニルインダン二無水物を使用し、1,2,3,6-テトラヒドロ無水フタル酸に代えてコハク酸無水物を使用した以外は実施例3と同様にして、化合物8をPGMAc溶液(含有量:44.6質量%)として得た。化合物8の分子量は、Mw=5600、Mn=2400であり、酸価(固形分)は90.6mg・KOH/gであった。
[Example 8]
Compound 8 was obtained as a PGMAc solution (content: 44.6% by mass) in the same manner as in Example 3, except that 1,1-bis(3,4-dicarboxyphenyl)-3-phenylindane dianhydride was used instead of 9,9-bis(3,4-dicarboxyphenyl)fluorene dianhydride and succinic anhydride was used instead of 1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride. Compound 8 had a molecular weight of Mw=5600 and Mn=2400 and an acid value (solid content) of 90.6 mg KOH/g.

[実施例9]
1,2,3,6-テトラヒドロ無水フタル酸に代えてヘキサヒドロフタル酸無水物を使用した以外は実施例1と同様にして、化合物9をPGMAc溶液(含有量:44.1質量%)として得た。化合物9の分子量は、Mw=5900、Mn=2500であり、酸価(固形分)は88.2mg・KOH/gであった。
[Example 9]
Compound 9 was obtained as a PGMAc solution (content: 44.1% by mass) in the same manner as in Example 1, except that hexahydrophthalic anhydride was used instead of 1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride. Compound 9 had a molecular weight of Mw=5900 and Mn=2500, and an acid value (solid content) of 88.2 mg KOH/g.

[実施例10]
9,9-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)フルオレン二無水物に代えて1,1-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)-3-フェニルインダン二無水物を使用し、1,2,3,6-テトラヒドロ無水フタル酸に代えてヘキサヒドロフタル酸無水物を使用した以外は実施例1と同様にして、化合物10をPGMAc溶液(含有量:44.1質量%)として得た。化合物10の分子量は、Mw=5700、Mn=2500であり、酸価(固形分)は89.8mg・KOH/gであった。
[Example 10]
Compound 10 was obtained as a PGMAc solution (content: 44.1% by mass) in the same manner as in Example 1, except that 1,1-bis(3,4-dicarboxyphenyl)-3-phenylindane dianhydride was used instead of 9,9-bis(3,4-dicarboxyphenyl)fluorene dianhydride and hexahydrophthalic anhydride was used instead of 1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride. Compound 10 had a molecular weight of Mw=5700 and Mn=2500 and an acid value (solid content) of 89.8 mg KOH/g.

[実施例11]
1,2,3,6-テトラヒドロ無水フタル酸に代えてヘキサヒドロフタル酸無水物を使用した以外は実施例3と同様にして、化合物11をPGMAc溶液(含有量:44.5質量%)として得た。化合物11の分子量は、Mw=5600、Mn=2400であり、酸価(固形分)は90.5mg・KOH/gであった。
[Example 11]
Compound 11 was obtained as a PGMAc solution (content: 44.5% by mass) in the same manner as in Example 3, except that hexahydrophthalic anhydride was used instead of 1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride. Compound 11 had a molecular weight of Mw=5600 and Mn=2400, and an acid value (solid content) of 90.5 mg KOH/g.

[実施例12]
9,9-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)フルオレン二無水物に代えて1,1-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)-3-フェニルインダン二無水物を使用し、1,2,3,6-テトラヒドロ無水フタル酸に代えてヘキサヒドロフタル酸無水物を使用した以外は実施例3と同様にして、化合物12をPGMAc溶液(含有量:44.1質量%)として得た。化合物12の分子量は、Mw=5900、Mn=2600であり、酸価(固形分)は90.3mg・KOH/gであった。
[Example 12]
Compound 12 was obtained as a PGMAc solution (content: 44.1% by mass) in the same manner as in Example 3, except that 1,1-bis(3,4-dicarboxyphenyl)-3-phenylindane dianhydride was used instead of 9,9-bis(3,4-dicarboxyphenyl)fluorene dianhydride and hexahydrophthalic anhydride was used instead of 1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride. Compound 12 had a molecular weight of Mw=5900 and Mn=2600 and an acid value (solid content) of 90.3 mg KOH/g.

[実施例13]
9,9-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)フルオレン二無水物に代えて9,9-ビス[4-(3,4-ジカルボキシフェノキシ)フェニル]フルオレン二酸無物を使用した以外は実施例1と同様にして、化合物13をPGMAc溶液(含有量:44.0質量%)として得た。化合物13の分子量は、Mw=5900、Mn=2500であり、酸価(固形分)は81.2mg・KOH/gであった。
[Example 13]
Compound 13 was obtained as a PGMAc solution (content: 44.0 mass%) in the same manner as in Example 1, except that 9,9-bis[4-(3,4-dicarboxyphenoxy)phenyl]fluorene dianhydride was used instead of 9,9-bis(3,4-dicarboxyphenyl)fluorene dianhydride. Compound 13 had a molecular weight of Mw=5900, Mn=2500, and an acid value (solid content) of 81.2 mg KOH/g.

[実施例14]
9,9-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)フルオレン二無水物に代えて下記スピロフルオレン酸二無水物(スピロ[11H-ジフロ[3,4-b:3’,4’-i]キサンテン-11,9’-[9H]フルオレン]-1,3,7,9-テトロン)を使用した以外は実施例1と同様にして、化合物14をPGMAc溶液(含有量:44.3質量%)として得た。化合物14の分子量は、Mw=5500、Mn=2300であり、酸価(固形分)は89.0mg・KOH/gであった。
[Example 14]
Compound 14 was obtained as a PGMAc solution (content: 44.3% by mass) in the same manner as in Example 1, except that the following spirofluorene dianhydride (spiro[11H-difuro[3,4-b:3',4'-i]xanthene-11,9'-[9H]fluorene]-1,3,7,9-tetrone) was used instead of 9,9-bis(3,4-dicarboxyphenyl)fluorene dianhydride. Compound 14 had a molecular weight of Mw = 5500, Mn = 2300, and an acid value (solid content) of 89.0 mg KOH/g.

Figure 0007634985000012
Figure 0007634985000012

[比較例1]
9,9-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)フルオレン二無水物に代えて3,3’4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物を使用した以外は実施例1と同様にして、比較化合物1をPGMAc溶液(含有量:44.1質量%)として得た。比較化合物1の分子量は、Mw=5900、Mn=2500であり、酸価(固形分)は90.3mg・KOH/gであった。
[Comparative Example 1]
Comparative compound 1 was obtained as a PGMAc solution (content: 44.1% by mass) in the same manner as in Example 1, except that 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride was used instead of 9,9-bis(3,4-dicarboxyphenyl)fluorene dianhydride. The molecular weight of comparative compound 1 was Mw = 5900, Mn = 2500, and the acid value (solid content) was 90.3 mg KOH/g.

[比較例2]
上記エポキシ化合物1に代えて上記エポキシ化合物2を使用した以外は比較例1と同様にして、比較化合物2をPGMAc溶液(含有量:44.2質量%)として得た。比較化合物2の分子量は、Mw=5800、Mn=2600であり、酸価(固形分)は92.8mg・KOH/gであった。
[Comparative Example 2]
Comparative compound 2 was obtained as a PGMAc solution (content: 44.2 mass%) in the same manner as in Comparative Example 1, except that epoxy compound 2 was used instead of epoxy compound 1. Comparative compound 2 had a molecular weight of Mw = 5800 and Mn = 2600, and an acid value (solid content) of 92.8 mg KOH/g.

[評価例]
上記実施例及び比較例で得られた各化合物20.3部に対し、トリメチロールプロパントリアクリレート4.61部、光重合開始剤としてNCI-831(ADEKA社)0.790部、色材としてMA100(カーボンブラック、三菱ケミカル社製)16.9部、及びPGMAc57.4部を加えてよく攪拌し、重合性組成物を得た。
上記重合性組成物をそれぞれガラス基板上に塗布して90℃90秒間プリベークすることで約2μmの厚さとした後、所定のフォトマスクを用いて高圧水銀ランプで40mJ/cmの光を照射した。次いで、2.4%TMAH水溶液(水酸化テトラアンモニウム水溶液)で30秒間現像し、水洗した。その後、230℃で30分間加熱することでパターンを定着させ、評価用サンプルを作製した。
[Evaluation example]
To 20.3 parts of each compound obtained in the above Examples and Comparative Examples, 4.61 parts of trimethylolpropane triacrylate, 0.790 parts of NCI-831 (ADEKA Corporation) as a photopolymerization initiator, 16.9 parts of MA100 (carbon black, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) as a coloring material, and 57.4 parts of PGMAc were added and thoroughly stirred to obtain a polymerizable composition.
The above polymerizable compositions were each applied onto a glass substrate and prebaked at 90° C. for 90 seconds to a thickness of about 2 μm, and then irradiated with 40 mJ/cm 2 light from a high-pressure mercury lamp using a specified photomask. Next, the substrate was developed with a 2.4% TMAH aqueous solution (tetraammonium hydroxide aqueous solution) for 30 seconds and washed with water. After that, the substrate was heated at 230° C. for 30 minutes to fix the pattern, and an evaluation sample was prepared.

上記評価用サンプルについて、以下の評価を行った。評価結果を表1に記載した。
<密着性>
現像後のパターンを観察し、線幅5μmでもパターン剥がれが無かったものをA、線幅10μmであればパターン剥がれが無かったものをB、線幅10μmでもパターン剥がれがあったものをCとした。小さい線幅でもパターンが剥がれなかったものは、密着性に優れることを意味し、好ましい。
<耐熱性>
230℃30分間の加熱前後のパターン形状を観察し、加熱前後で形状変化が小さく矩形を保っているものをA、形状変化があり台形に近いものをB、形状変化が大きくおわん形状に近いものをCとした。形状がA又はBであるものは、加熱によりパターン形状が溶融していないことを意味し、耐熱性に優れることを意味し、Aであるものが特に耐熱性が高い。
<感度>
露光量40mJ/cm、60mJ/cm及び80mJ/cmで現像を行い、パターンが得られた最低露光量が40mJ/cmのものをA、最低露光量が60mJ/cmのものをB、最低露光量80mJ/cmのものをCとした。少ない露光量でパターンが形成できるものほど、感度が良好であることを意味する。
The evaluation samples were subjected to the following evaluations. The evaluation results are shown in Table 1.
<Adhesion>
The patterns after development were observed, and those that showed no pattern peeling even with a line width of 5 μm were rated as A, those that showed no pattern peeling even with a line width of 10 μm were rated as B, and those that showed pattern peeling even with a line width of 10 μm were rated as C. Those that showed no pattern peeling even with a small line width indicate excellent adhesion, and are therefore preferred.
<Heat resistance>
The pattern shape was observed before and after heating at 230°C for 30 minutes, and those that showed little change in shape before and after heating and maintained a rectangular shape were rated as A, those that showed a change in shape and became closer to a trapezoid were rated as B, and those that showed a large change in shape and became closer to a bowl shape were rated as C. Shapes A and B mean that the pattern shape was not melted by heating and have excellent heat resistance, and those rated as A have particularly high heat resistance.
<Sensitivity>
Development was performed at exposure doses of 40 mJ/ cm2 , 60 mJ/ cm2 , and 80 mJ/ cm2 , and the minimum exposure dose at which a pattern was obtained was 40 mJ/ cm2 , which was designated A, the minimum exposure dose at which a pattern was obtained was 60 mJ/ cm2 , which was designated B, and the minimum exposure dose at which a pattern was obtained was 80 mJ/ cm2 , which was designated C. The lower the exposure dose at which a pattern can be formed, the better the sensitivity.

Figure 0007634985000013
Figure 0007634985000013

表1に示す結果より、本発明の化合物を用いた重合性組成物は、感度が良好であり、密着性及び耐熱性に特に優れるため、適切なパターン形状や微細パターンの形成が可能であることが確認された。

From the results shown in Table 1, it was confirmed that the polymerizable composition using the compound of the present invention has good sensitivity and is particularly excellent in adhesion and heat resistance, and therefore it is possible to form an appropriate pattern shape or a fine pattern.

Claims (13)

下記一般式(I)で表されるエポキシアクリレート化合物に下記一般式(IIa)、(IIb)及び(IIc)で表されるテトラカルボン酸二無水物から選ばれる少なくとも1種が付加した構造を有する化合物。
Figure 0007634985000014
(式中、R及びR10は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表し、
、R、R、R、R、R、R及びRは、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数1~20の炭化水素基、又はハロゲン原子を表し、
及びXは、それぞれ独立に、炭素原子数1~20の2価の炭化水素基を表し、
、R、R、R、R、R、R、R、X及びXは、炭化水素基中のメチレン基の1つ又は2つ以上が、酸素が隣り合わない条件で、-O-又は-S-で置換された炭素原子数1~20の基であってもよく、
は下記式(a)又は(b)で表される基を表す。)
Figure 0007634985000015
(式中、R21、R22、R23、R24、R25、R26、R27、R28、R29、R30、R31、R32、R33、R34、R35 及びR 36 、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数1~20の炭化水素基、炭素原子数2~20の複素環含有基又はハロゲン原子を表し、
21、R22、R23、R24、R25、R26、R27、R28、R29、R30、R31、R32、R33、R34、R35 及びR 36 、炭化水素基中の水素原子の1つ又は2つ以上が、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、水酸基、-OR51、-COOR51、-CO-R51又は-SR51で置換された炭素原子数1~20の基であってもよく、
51は、水素原子又は炭素原子数1~20の炭化水素基を表し、化合物中にR51が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよく、
21、R22、R23、R24、R25、R26、R27、R28、R29、R30、R31、R32、R33、R34、R35 及びR 36 、炭化水素基中のメチレン基の1つ又は2つ以上が、-O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-NR52-、-NR52CO-又は-S-で置換された炭素原子数1~20の基であってもよく、
52は、水素原子又は炭素原子数1~20の炭化水素基を表し、化合物中にR52が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよく、
21とR22、R22とR23、R23とR24、R29とR30、R30とR31 及び31 32 、互いに結合して水素原子及び炭素原子からなる炭素原子数3~10の環を形成していてもよい。
式中の*は、(a)及び(b)で表される基が、*部分で、隣接する基と結合することを意味する。)
Figure 0007634985000016
(式中、R61、R62、R63、R64、R65、R66、R67、R68、R69、R70、R71、R72、R73、R74、R75、R76、R77、R78、R79、R80、R81、R82、R83及びR84は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数1~20の炭化水素基、炭素原子数2~20の複素環含有基又はハロゲン原子を表し、
61、R62、R63、R64、R65、R66、R67、R68、R69、R70、R71、R72、R73、R74、R75、R76、R77、R78、R79、R80、R81、R82、R83及びR84は、炭化水素基中の水素原子の1つ又は2つ以上が、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、水酸基、-OR91、-COOR91、-CO-R91又は-SR91で置換された炭素原子数1~20の基であってもよく、
91は、水素原子又は炭素原子数1~20の炭化水素基を表し、化合物中にR91が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよく、
61、R62、R63、R64、R65、R66、R67、R68、R69、R70、R71、R72、R73、R74、R75、R76、R77、R78、R79、R80、R81、R82、R83及びR84は、炭化水素基中のメチレン基の1つ又は2つ以上が、-O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-NR92-、-NR92CO-又は-S-で置換された炭素原子数1~20の基であってもよく、
92は、水素原子又は炭素原子数1~20の炭化水素基を表し、化合物中にR92が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよく、
61とR62、R62とR63、R63とR64、R65とR66、R66とR67、R67とR68、R69とR70、R70とR71、R71とR72、R74とR75、R77とR78、R78とR79、R79とR80、R81とR82、R82とR83及びR83とR84は、互いに結合して水素原子及び炭素原子からなる炭素原子数3~10の環を形成していてもよく、
、Y、Y、Y、Y及びYは、それぞれ独立に、炭素原子数1~20の炭化水素基を表し、
とYは、直接、又はメチレン基、-O-若しくは-S-を介して互いに結合していてもよく、
及びLは、それぞれ独立に、炭素原子数6~20のアリール基を表す。)
A compound having a structure in which at least one selected from the group consisting of tetracarboxylic dianhydrides represented by the following general formulas (IIa), (IIb) and (IIc) is added to an epoxy acrylate compound represented by the following general formula (I).
Figure 0007634985000014
(In the formula, R 1 and R 10 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group.
R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 and R 9 each independently represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, or a halogen atom;
X1 and X2 each independently represent a divalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms;
R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , X 1 and X 2 may each be a group having 1 to 20 carbon atoms in which one or more methylene groups in a hydrocarbon group are substituted with -O- or -S-, provided that no oxygen is adjacent to them;
M1 represents a group represented by the following formula (a) or (b):
Figure 0007634985000015
(In the formula, R 21 , R 22 , R 23 , R 24 , R 25 , R 26 , R 27 , R 28 , R 29 , R 30 , R 31 , R 32 , R 33 , R 34 , R 35 and R 36 each independently represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, a heterocycle-containing group having 2 to 20 carbon atoms, or a halogen atom;
R 21 , R 22 , R 23 , R 24 , R 25 , R 26 , R 27 , R 28 , R 29 , R 30 , R 31 , R 32 , R 33 , R 34 , R 35 and R 36 may each represent a group having 1 to 20 carbon atoms in which one or more hydrogen atoms in the hydrocarbon group have been substituted with a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a hydroxyl group, -OR 51 , -COOR 51 , -CO-R 51 or -SR 51 ;
R 51 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and when a plurality of R 51 are present in the compound, they may be the same or different;
R 21 , R 22 , R 23 , R 24 , R 25 , R 26 , R 27 , R 28 , R 29 , R 30 , R 31 , R 32 , R 33 , R 34 , R 35 and R 36 may each be a group having 1 to 20 carbon atoms in which one or more methylene groups in the hydrocarbon group are substituted with -O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -NR 52 -, -NR 52 CO- or -S-;
R 52 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and when a plurality of R 52 are present in the compound, they may be the same or different;
R 21 and R 22 , R 22 and R 23 , R 23 and R 24 , R 29 and R 30 , R 30 and R 31 , and R 31 and R 32 may be bonded to each other to form a ring having 3 to 10 carbon atoms and consisting of hydrogen atoms and carbon atoms.
In the formula, * means that the groups represented by (a) and (b ) are bonded to the adjacent group at the * portion.
Figure 0007634985000016
(In the formula, R 61 , R 62 , R 63 , R 64 , R 65 , R 66 , R 67 , R 68 , R 69 , R 70 , R 71 , R 72 , R 73 , R 74 , R 75 , R 76 , R 77 , R 78 , R 79 , R 80 , R 81 , R 82 , R 83 and R 84 each independently represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, a heterocycle-containing group having 2 to 20 carbon atoms, or a halogen atom;
R 61 , R 62 , R 63 , R 64 , R 65 , R 66 , R 67 , R 68 , R 69 , R 70 , R 71 , R 72 , R 73 , R 74 , R 75 , R 76 , R 77 , R 78 , R 79 , R 80 , R 81 , R 82 , R 83 and R 84 may each be a group having 1 to 20 carbon atoms in which one or more hydrogen atoms in the hydrocarbon group have been substituted with a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a hydroxyl group, -OR 91 , -COOR 91 , -CO-R 91 or -SR 91 ;
R 91 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and when a plurality of R 91 are present in the compound, they may be the same or different;
R 61 , R 62 , R 63 , R 64 , R 65 , R 66 , R 67 , R 68 , R 69 , R 70 , R 71 , R 72 , R 73 , R 74 , R 75 , R 76 , R 77 , R 78 , R 79 , R 80 , R 81 , R 82 , R 83 and R 84 may each be a group having 1 to 20 carbon atoms in which one or more methylene groups in the hydrocarbon group are substituted with -O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -NR 92 -, -NR 92 CO- or -S-;
R 92 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and when a plurality of R 92 are present in the compound, they may be the same or different;
R 61 and R 62 , R 62 and R 63 , R 63 and R 64 , R 65 and R 66 , R 66 and R 67 , R 67 and R 68 , R 69 and R 70 , R 70 and R 71 , R 71 and R 72 , R 74 and R 75 , R 77 and R 78 , R 78 and R 79 , R 79 and R 80 , R 81 and R 82 , R 82 and R 83 , and R 83 and R 84 may be bonded to each other to form a ring having 3 to 10 carbon atoms and consisting of hydrogen atoms and carbon atoms;
Y 1 , Y 2 , Y 3 , Y 4 , Y 5 and Y 6 each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms;
Y 1 and Y 2 may be bonded to each other directly or via a methylene group, -O- or -S-;
L1 and L2 each independently represent an aryl group having 6 to 20 carbon atoms.
上記式(IIa)におけるY及びY、上記式(IIb)におけるY及びY並びに上記式(IIc)におけるY及びYが、炭素原子数6~20のアリール基である請求項に記載の化合物。 The compound according to claim 1, wherein Y 1 and Y 2 in formula (IIa), Y 3 and Y 4 in formula (IIb), and Y 5 and Y 6 in formula (IIc) are an aryl group having 6 to 20 carbon atoms. 上記一般式(I)で表されるエポキシアクリレート化合物に上記一般式(IIa)で表されるテトラカルボン酸二無水物が付加した構造を有する請求項1又は2に記載の化合物。 The compound according to claim 1 or 2 , which has a structure in which the tetracarboxylic dianhydride represented by the general formula (IIa) is added to the epoxy acrylate compound represented by the general formula (I). 上記一般式(I)で表されるエポキシアクリレート化合物に上記一般式(IIb)で表されるテトラカルボン酸二無水物が付加した構造を有する請求項1又は2に記載の化合物。 The compound according to claim 1 or 2 , having a structure in which the tetracarboxylic dianhydride represented by the general formula (IIb) is added to the epoxy acrylate compound represented by the general formula (I). 上記一般式(I)で表されるエポキシアクリレート化合物に上記一般式(IIc)で表されるテトラカルボン酸二無水物が付加した構造を有する請求項1又は2に記載の化合物。 The compound according to claim 1 or 2 , which has a structure in which the tetracarboxylic dianhydride represented by the general formula (IIc) is added to the epoxy acrylate compound represented by the general formula (I). 更に、上記一般式(I)で表されるエポキシアクリレート化合物にジカルボン酸一無水物が付加した構造を有する請求項1~のいずれか一項に記載の化合物。 The compound according to any one of claims 1 to 5 , further comprising a structure in which a dicarboxylic acid monoanhydride is added to the epoxy acrylate compound represented by the general formula (I). 請求項1~のいずれか一項に記載の化合物(A)、及び重合開始剤(B)を含有する重合性組成物。 A polymerizable composition comprising the compound (A) according to any one of claims 1 to 6 , and a polymerization initiator (B). 更に化合物(A)以外の重合性化合物(C)を含有する請求項に記載の重合性組成物。 The polymerizable composition according to claim 7 , further comprising a polymerizable compound (C) other than the compound (A). 更に着色剤(D)を含有する請求項又はに記載の重合性組成物。 The polymerizable composition according to claim 7 or 8 , further comprising a colorant (D). 請求項のいずれか一項に記載の重合性組成物の硬化物 A cured product of the polymerizable composition according to any one of claims 7 to 9 . 請求項10に記載の硬化物を有する表示装置。 A display device comprising the cured product according to claim 10 . 上記一般式(I)で表されるエポキシアクリレート化合物と、上記一般式(IIa)、(IIb)又は(IIc)で表されるテトラカルボン酸二無水物とを反応させる工程を有する請求項1~のいずれか一項に記載の化合物の製造方法。 A method for producing the compound according to any one of claims 1 to 6, comprising a step of reacting an epoxy acrylate compound represented by the general formula ( I ) with a tetracarboxylic dianhydride represented by the general formula (IIa), (IIb) or (IIc). 請求項のいずれか一項に記載の重合性組成物に対して光照射又は加熱する工程を含む硬化物の製造方法。 A method for producing a cured product, comprising a step of irradiating the polymerizable composition according to any one of claims 7 to 9 with light or heating.
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Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010125949A1 (en) 2009-04-27 2010-11-04 日産化学工業株式会社 Photosensitive composition utilizing photopolymerizable polymer having fluorene skeleton
JP2012241083A (en) 2011-05-18 2012-12-10 Adeka Corp Epoxy compound, and polymerizable composition containing the same
JP2015069164A (en) 2013-09-30 2015-04-13 Jsr株式会社 Radiation-sensitive resin composition, insulation film of display element, method for forming the same, and display element
JP2017125163A (en) 2016-01-15 2017-07-20 互応化学工業株式会社 Carboxyl group-containing resin, photosensitive resin composition, dry film, printed wiring board, and method for producing carboxyl group-containing resin
JP2018189877A (en) 2017-05-10 2018-11-29 株式会社Adeka Polymerizable composition, photosensitive composition for black matrix, and cured product

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010125949A1 (en) 2009-04-27 2010-11-04 日産化学工業株式会社 Photosensitive composition utilizing photopolymerizable polymer having fluorene skeleton
JP2012241083A (en) 2011-05-18 2012-12-10 Adeka Corp Epoxy compound, and polymerizable composition containing the same
JP2015069164A (en) 2013-09-30 2015-04-13 Jsr株式会社 Radiation-sensitive resin composition, insulation film of display element, method for forming the same, and display element
JP2017125163A (en) 2016-01-15 2017-07-20 互応化学工業株式会社 Carboxyl group-containing resin, photosensitive resin composition, dry film, printed wiring board, and method for producing carboxyl group-containing resin
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