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JP7635527B2 - Low gas emission and gas adsorption sealant film - Google Patents
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JP7635527B2 - Low gas emission and gas adsorption sealant film - Google Patents

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Description

本発明は、シーラントフィルムそれ自体から発生するガス及び該シーラントフィルムが接する空間からのガスを吸着し、ガス放出量が少ない、低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルムに関する。 The present invention relates to a low gas release gas adsorbing sealant film that adsorbs gas generated from the sealant film itself and gas from the space with which the sealant film is in contact, and emits only a small amount of gas.

近年、包装体は、包装体内容物の汚染や劣化を防止する為に、又は包装体内容物の漏洩を防止する為に、真空包装等の様に気密性を必要とするものがある。
内容物の種類によって、包装体内を大気圧よりも高くして包装体内部へ外部からガスが侵入することを防止する場合や、包装体内を大気圧よりも低くして包装体内部から外部へのガス漏洩を防止する場合や、包装体内を大気圧よりも低い、あるいは高い状態を維持することそのものが目的の場合がある。
包装材料による気密性付与効果が高ければ、内容物を直接収容している包装容器を簡易化でき、包装体の軽量化、省スペース化を図ることが可能になる。
しかしながら、従来の包装材料は、破損又は経時劣化によってガスが通過し易く、気密性能が急激に低下してしまう。
例えば、包装材料起因の経時劣化による包装体内部へのガス侵入の理由としては、空気が外包材を透過することによる空気の侵入が挙げられ、包装材料のガスバリア性を高める為に、包装材料に7~15μm程度の厚さの金属アルミニウム箔をガスバリア層として有する積層フィルムが主として用いられてきたり、各種無機物の蒸着膜や塗布膜からなる層をさらに有する積層フィルムが提案されたりしている(特許文献1)が、長期的に安定したガスバリア性を維持するという点においては不十分であった。
包装材料のシーラント層に合成ゼオライト等の多孔体を含有させてガス成分を吸着することによって包装体内部の真空度を維持する手法も提案されているが(特許文献2)、吸着するガスの種類が限定的であったり、シーラント層を構成している樹脂の耐熱性が低かったり、アウトガス発生量が多かったりして、長期的に安定した断熱効果を維持するという点においては不十分であった。
2. Description of the Related Art In recent years, some packages require airtightness, such as vacuum packaging, in order to prevent contamination or deterioration of the package contents or to prevent leakage of the package contents.
Depending on the type of contents, the purpose may be to make the pressure inside the package higher than atmospheric pressure to prevent gas from entering the package from the outside, or to make the pressure inside the package lower than atmospheric pressure to prevent gas from leaking from inside the package to the outside, or simply to maintain a pressure inside the package lower or higher than atmospheric pressure.
If the packaging material has a high effect of imparting airtightness, the packaging container that directly contains the contents can be simplified, making it possible to reduce the weight and space of the package.
However, conventional packaging materials are prone to gas permeation when damaged or deteriorated over time, resulting in a rapid loss of airtightness.
For example, the reason for gas intrusion into the inside of a package due to deterioration over time caused by the packaging material is that air permeates through the outer packaging material, and in order to improve the gas barrier properties of the packaging material, laminated films having a metal aluminum foil having a thickness of about 7 to 15 μm as a gas barrier layer have been mainly used for the packaging material, and laminated films further having a layer made of a vapor-deposited film or a coating film of various inorganic materials have been proposed (Patent Document 1). However, these have been insufficient in terms of maintaining stable gas barrier properties over the long term.
A method has also been proposed in which a porous material such as synthetic zeolite is incorporated into the sealant layer of the packaging material to adsorb gas components and thereby maintain the degree of vacuum inside the package (Patent Document 2), but this method is insufficient in terms of maintaining a stable heat insulating effect over the long term because the types of gases that can be adsorbed are limited, the heat resistance of the resin that constitutes the sealant layer is low, and there is a large amount of outgassing.

特開2008-087176号公報JP 2008-087176 A 特開2018-189220号公報JP 2018-189220 A

本発明は、シーラントフィルムそれ自体から発生するガス及び該シーラントフィルムが接する空間からのガスを吸着し、ガス放出量が少なく、経時劣化による包装体内外へのガスの出入り及び放出を抑制する、シーラントフィルム、及び該シーラントフィルムを用いて作製された積層体、包装材料、包装体を提供することを課題とする。 The present invention aims to provide a sealant film that adsorbs gas generated from the sealant film itself and gas from the space with which the sealant film is in contact, emits a small amount of gas, and suppresses the entry/exit and emission of gas into and out of the package due to deterioration over time, as well as a laminate, packaging material, and package made using the sealant film.

本発明者らは、種々検討の結果、少なくとも、ガス放出量が少なく、ガス吸着性を有するシーラントフィルムが、上記の目的を達成することを見出した。
すなわち、本発明は、以下の点を特徴とする。
1.シーラントフィルムそれ自体から発生するガス及び該シーラントフィルムが接する空間からのガスを吸着する、低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルムであって、
該ガスは、炭化水素類、アルデヒド類、ケトン類、カルボン酸類、エステル類、アルコ
ール類、二酸化炭素からなる群から選ばれる1種又は2種以上の組み合わせであり、
該低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルムは、ヒートシール性を有する低ガス放出性樹脂と、ガス吸着剤とを含有し、
該低ガス放出性樹脂は、密度が0.915g/cm3以上、0.935g/cm3以下であることを特徴とする、
前記の低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルム。
2.前記低ガス放出性樹脂の含有量が、全低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルム中に、70質量%以上、99.9質量%以下であり、
前記ガス吸着剤の含有量が、前記ガス吸着剤を含有する層中に、0.1質量%以上、30質量%以下であることを特徴とする、
上記1に記載の低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルム。
3.前記低ガス放出性樹脂は、ポリエチレン系樹脂であることを特徴とする、上記1又は2に記載の低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルム。
4.前記低ガス放出性樹脂からなるフィルムに含まれる、溶出性の全有機体炭素(TOC)の濃度は、1.5ppm以上、250ppm以下であることを特徴とする、上記1~3のいずれかに記載の低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルム。
5.前記低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルムは、空気中で90℃、60分間加熱した際に放出される炭素数16の有機ガス成分の、前記低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルム単位体積当たりの量が、10μg/cm3以上、1000μg/cm3以下であることを特徴とする、上記1~4のいずれかに記載の低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルム。
6.前記低ガス放出性樹脂が、中密度ポリエチレン、低密度ポリエチレン及び線状低密度ポリエチレンからなる群から選ばれる1種又は2種以上の組み合わせであることを特徴とする、上記1~5のいずれかに記載の低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルム。
7.前記ガス吸着剤が、疎水性ゼオライト、モレキュラーシーブ、金属有機構造体(MOF)、活性炭からなる群から選ばれる1種又は2種以上の組み合わせを含むことを特徴とする、上記1~6のいずれかに記載の低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルム。
8.前記低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルムが、ガス吸着層と、ヒートシール層とを有し、
該ガス吸着層は、前記低ガス放出性樹脂と、前記ガス吸着剤とを含有する層であり、
該ヒートシール層は、前記低ガス放出性樹脂を含有し、ヒートシール性を有する層であり、
前記低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルムの少なくとも片側の最外層は、ヒートシール層であり、
該ガス吸着層に含有される前記低ガス放出性樹脂と、該ヒートシール層に含有される前記低ガス放出性樹脂とは、同一又は異なっていることを特徴とする、
上記1~7のいずれかに記載の低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルム。
9.前記低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルムは、酸化防止剤をさらに含有することを特徴とする、上記1~8のいずれかに記載の低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルム。
10.前記酸化防止剤の含有量が、全低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルム中に、0.005質量%以上、0.5質量%以下であることを特徴とする、上記9に記載の低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルム。
11.前記酸化防止剤が、前記ガス吸着層及び/又は前記ヒートシール層に含有されており、
該ガス吸着層に含有される前記酸化防止剤と、該ヒートシール層に含有される前記酸化防止剤とは、同一又は異なっていることを特徴とする、
上記9又は10に記載の低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルム。
12.上記1~11のいずれかに記載の低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルムを用いて作製された、低ガス放出性ガス吸着積層体。
13.上記12に記載のガス吸着積層体を用いて作製された、低ガス放出性ガス吸着包装材料。
14.上記13に記載のガス吸着包装材料を用いて作製された、低ガス放出性ガス吸着包装体。
As a result of various investigations, the present inventors have found that the above object can be achieved by a sealant film that at least emits a small amount of gas and has gas adsorption properties.
That is, the present invention is characterized in the following points.
1. A low gas-releasing gas-adsorbing sealant film that adsorbs gas generated from the sealant film itself and gas from a space that the sealant film contacts,
the gas is one or a combination of two or more selected from the group consisting of hydrocarbons, aldehydes, ketones, carboxylic acids, esters, alcohols, and carbon dioxide;
The low gas emission gas adsorption sealant film contains a low gas emission resin having heat sealability and a gas adsorbent,
The low gas release resin is characterized in that it has a density of 0.915 g/cm 3 or more and 0.935 g/cm 3 or less.
The low outgassing gas adsorbing sealant film.
2. The content of the low gas release resin in the entire low gas release gas adsorption sealant film is 70% by mass or more and 99.9% by mass or less;
The gas adsorbent is contained in a layer containing the gas adsorbent in an amount of 0.1% by mass or more and 30% by mass or less.
2. The low outgassing gas adsorbing sealant film according to 1 above.
3. The gas adsorbing sealant film with low outgassing properties according to the above 1 or 2, characterized in that the low outgassing resin is a polyethylene resin.
4. The low outgassing gas adsorption sealant film according to any one of 1 to 3 above, characterized in that the concentration of elutable total organic carbon (TOC) contained in the film made of the low outgassing resin is 1.5 ppm or more and 250 ppm or less.
5. The low outgassing gas adsorbent sealant film according to any one of 1 to 4 above, characterized in that the amount of an organic gas component having 16 carbon atoms released when heated in air at 90°C for 60 minutes per unit volume of the low outgassing gas adsorbent sealant film is 10 μg/ cm3 or more and 1000 μg/ cm3 or less.
6. The low outgassing resin is one or a combination of two or more selected from the group consisting of medium density polyethylene, low density polyethylene, and linear low density polyethylene.
7. The low gas release gas adsorbent sealant film according to any one of 1 to 6 above, characterized in that the gas adsorbent comprises one or a combination of two or more selected from the group consisting of hydrophobic zeolite, molecular sieve, metal organic framework (MOF), and activated carbon.
8. The low outgassing gas adsorbing sealant film has a gas adsorbing layer and a heat seal layer,
the gas adsorption layer is a layer containing the low gas release resin and the gas adsorbent,
the heat seal layer contains the low gas release resin and has heat sealability;
At least one outermost layer of the low outgassing gas adsorbent sealant film is a heat seal layer,
The low gas-releasing resin contained in the gas adsorption layer and the low gas-releasing resin contained in the heat seal layer are the same or different.
8. The low gas release gas adsorption sealant film according to any one of 1 to 7 above.
9. The gas adsorbing sealant film with low outgassing properties according to any one of 1 to 8 above, further comprising an antioxidant.
10. The low outgassing gas adsorbing sealant film according to the above item 9, characterized in that the content of the antioxidant is 0.005% by mass or more and 0.5% by mass or less in the entire low outgassing gas adsorbing sealant film.
11. The antioxidant is contained in the gas adsorption layer and/or the heat seal layer,
The antioxidant contained in the gas adsorption layer and the antioxidant contained in the heat seal layer are the same or different.
11. The low gas release gas adsorption sealant film according to 9 or 10 above.
12. A gas adsorbing laminate with low outgassing properties, produced using the gas adsorbing sealant film with low outgassing properties described in any one of 1 to 11 above.
13. A gas-adsorbing packaging material with low gas emission, produced using the gas-adsorbing laminate according to 12 above.
14. A gas adsorbing package with low gas emission produced using the gas adsorbing packaging material according to 13 above.

本発明により、シーラントフィルムそれ自体から発生するガス及びシーラントフィルムが接する空間からのガスを吸着し、ガス放出量が少なく、経時劣化による包装体内外へのガスの出入り及び放出を抑制する、シーラントフィルム、及び該シーラントフィルムを用いて作製された積層体、包装材料、包装体を得ることができる。 The present invention makes it possible to obtain a sealant film that adsorbs gas generated from the sealant film itself and from the space with which the sealant film is in contact, emits a small amount of gas, and suppresses the entry/exit and emission of gas into and out of the package due to deterioration over time, as well as a laminate, packaging material, and package made using the sealant film.

本発明の低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルムの層構成の一例を示す概略的断面図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of the layer structure of a low outgassing gas adsorbent sealant film of the present invention. 本発明の低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルムの層構成の別態様の一例を示す概略的断面図である。FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing an example of another embodiment of the layer structure of the low outgassing gas adsorbent sealant film of the present invention. 本発明の低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルムの層構成のさらに別態様の一例を示す概略的断面図である。FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing another example of the layer structure of the low outgassing gas adsorbent sealant film of the present invention. 本発明の低ガス放出性ガス吸着積層体又は低ガス放出性ガス吸着包装材料の層構成の一例を示す概略的断面図である。1 is a schematic cross-sectional view showing an example of the layer structure of a low outgassing gas adsorbing laminate or a low outgassing gas adsorbing packaging material of the present invention. 本発明の低ガス放出性ガス吸着包装体の構成の一例を示す概略的断面図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of the configuration of a low gas release gas adsorption packaging body of the present invention.

各図においては、解り易くする為に、部材の大きさや比率を変更又は誇張して記載することがある。また、見易さの為に説明上不要な部分や繰り返しとなる符号は省略することがある。
また、各図においては省略されているが、各層の間に接着層を設けることもできる。
さらに、必要に応じて、各層間の接着強度(密着強度)を強固にするために、各層の積層面に、コロナ放電処理、オゾン処理、プラズマ処理、グロー放電処理、サンドブラスト処理等、などの物理的な表面処理や、化学薬品を用いた酸化処理などの化学的な表面処理を予め施しておくこともできる。
In each drawing, the size and ratio of the components may be changed or exaggerated for ease of understanding. Also, for ease of understanding, parts that are not necessary for the explanation or repeated reference numerals may be omitted.
Although not shown in the drawings, an adhesive layer may be provided between each layer.
Furthermore, if necessary, in order to strengthen the adhesive strength (adhesion strength) between each layer, the laminated surfaces of each layer may be previously subjected to physical surface treatments such as corona discharge treatment, ozone treatment, plasma treatment, glow discharge treatment, sandblasting treatment, etc., or chemical surface treatments such as oxidation treatment using chemicals.

本発明の低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルム、低ガス放出性ガス吸着積層体、低ガス放出性ガス吸着包装材料、低ガス放出性ガス吸着包装体について、以下に更に詳しく説明する。具体例を示しながら説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
なお、本発明においては、フィルムとシートとは、同義として扱う。
The low outgassing gas adsorbent sealant film, the low outgassing gas adsorbent laminate, the low outgassing gas adsorbent packaging material, and the low outgassing gas adsorbent packaging body of the present invention will be described in more detail below. Specific examples will be shown, but the present invention is not limited thereto.
In the present invention, the terms film and sheet are used synonymously.

≪低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルム≫
本願発明の低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルムは、ヒートシール性を有する低ガス放出性樹脂と、ガス吸着剤とを含有し、ヒートシール性を有し、ガス放出性が低く、且つ、ガスを吸着することができる。
上記の特徴によって、本願発明の低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルムは、真空包装用のシーラントフィルムに適している。
低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルムは、1層の単層構成であってもよく、2層以上の多層構成であってもよい。
例えば、低ガス放出性樹脂及びガス吸着剤を含有するガス吸着層と、低ガス放出性樹脂を含有するヒートシール層とから構成されていてもよく、2つのヒートシール層がガス吸着層を挟んだ3層構成であってもよい。
<Low gas emission gas adsorption sealant film>
The low outgassing, gas adsorbing sealant film of the present invention contains a low outgassing resin having heat sealability and a gas adsorbent, and has heat sealability, low outgassing properties, and is capable of adsorbing gas.
Due to the above characteristics, the gas adsorbent sealant film with low gas emission of the present invention is suitable as a sealant film for vacuum packaging.
The low outgassing gas adsorbent sealant film may have a single layer structure or a multi-layer structure of two or more layers.
For example, it may be composed of a gas adsorption layer containing a low outgassing resin and a gas adsorbent, and a heat seal layer containing a low outgassing resin, or it may have a three-layer structure in which a gas adsorption layer is sandwiched between two heat seal layers.

全低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルム中の低ガス放出性樹脂の含有量は、70質量%以上、99.9質量%以下が好ましく、80質量%以上、99.9質量%以下がより好ましく、90質量%以上、99.9質量%以下が更に好ましい。上記範囲よりも少ないと、低ガス放出性ガス吸着シーラントの低ガス放出性が不十分になるおそれがあり、上記範囲よりも多いと、諸物性や作業性の面でバランスを採り難くなり易い反面、低ガス放出性はさほど向上しない。 The content of the low outgassing resin in the entire low outgassing gas adsorption sealant film is preferably 70% by mass or more and 99.9% by mass or less, more preferably 80% by mass or more and 99.9% by mass or less, and even more preferably 90% by mass or more and 99.9% by mass or less. If it is less than the above range, the low outgassing properties of the low outgassing gas adsorption sealant may be insufficient, and if it is more than the above range, it is difficult to balance the various physical properties and workability, but the low outgassing properties are not significantly improved.

そして、ガス吸着剤の含有量は、ガス吸着剤を含有する層中に、0.1質量%以上、30質量%以下が好ましく、0.5質量%以上、25質量%以下がより好ましい。上記範囲よりも少ないと、ガス吸着効果が不十分になるおそれがあり、上記範囲よりも多いと、製膜性が悪化するおそれがある。
ここで、ガス吸着剤を含有する層とは、低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルムが1層のみで構成されている場合には、低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルム全体を指し、低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルムがガス吸着層及びヒートシール層等を有する多層構成の場合には、例えば、ガス吸着層を指す。
The content of the gas adsorbent in the layer containing the gas adsorbent is preferably 0.1% by mass or more and 30% by mass or less, and more preferably 0.5% by mass or more and 25% by mass or less. If the content is less than the above range, the gas adsorption effect may be insufficient, and if the content is more than the above range, the film formability may be deteriorated.
Here, the layer containing a gas adsorbent refers to the entire low outgassing gas adsorbing sealant film when the low outgassing gas adsorbing sealant film is composed of only one layer, and refers to, for example, the gas adsorption layer when the low outgassing gas adsorbing sealant film has a multi-layer structure having a gas adsorption layer and a heat seal layer, etc.

低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルムがガス吸着層及びヒートシール層等を有する多層構成の場合には、ヒートシール性、及びラミネート性を高める為に、前記低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルムの、少なくとも片側の最外層がヒートシール層であることが好ましく、両側の最外層がヒートシール層であることがより好ましい。
また、ガス吸着層に含有される低ガス放出性樹脂と、ヒートシール層に含有される低ガス放出性樹脂とは、同一でもよく、異なっていてもよい。
When the low outgassing gas-adsorbing sealant film has a multi-layer structure having a gas adsorption layer, a heat seal layer, etc., in order to improve heat sealability and lamination properties, it is preferable that the outermost layer on at least one side of the low outgassing gas-adsorbing sealant film is a heat seal layer, and it is more preferable that the outermost layers on both sides are heat seal layers.
Furthermore, the low gas-releasing resin contained in the gas adsorption layer and the low gas-releasing resin contained in the heat seal layer may be the same or different.

低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルムは、フィルム厚さを調節して、ガス吸着性や低ガス放出性を調節することができる。
低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルムの厚さは、良好なヒートシール性とガス吸着性と低ガス放出性とのバランスを有する為に、25μm以上、150μm以下が好ましく、30μm以上、100μm以下がより好ましい。上記範囲よりも薄いとヒートシール性及び/又はガス吸着性が不十分になるおそれがあり、上記範囲よりも厚いと低ガス放出性が劣るおそれがある。
The gas adsorption and low outgassing properties of the low outgassing gas adsorbent sealant film can be adjusted by adjusting the film thickness.
The thickness of the low gas release gas adsorption sealant film is preferably 25 μm or more and 150 μm or less, more preferably 30 μm or more and 100 μm or less, in order to have a good balance between heat sealability, gas adsorption, and low gas release. If it is thinner than the above range, the heat sealability and/or gas adsorption may be insufficient, and if it is thicker than the above range, the low gas release may be inferior.

そして、低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルムは、スリップ剤、ブロッキング防止剤、酸化防止剤、溶剤、その他の添加剤をさらに少量含むことができる。
本発明の低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルムは、高温環境下での樹脂劣化由来の放出性ガスの発生を抑制する為に、酸化防止剤を含有することが好ましい。逆に、高温時にガス放出量を上昇させてしまいそうな添加剤の使用は制限することが好ましい。
And, the low outgassing, gas adsorbing sealant film may further contain small amounts of slip agents, antiblocking agents, antioxidants, solvents, and other additives.
The low gas release gas adsorbent sealant film of the present invention preferably contains an antioxidant in order to suppress the generation of gas released due to resin deterioration in a high temperature environment. Conversely, it is preferable to limit the use of additives that may increase the amount of gas released at high temperatures.

(吸着対象ガス)
本発明において吸着対象となるガス成分は、主に、本発明の低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルムが元から含有しているガス成分や、ヒートシール等の加熱や、UV又はEB等の照射によって低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルム中の樹脂が分解することで発生した樹脂分解物からなるガス成分や、大気中に存在するガス成分である。
ここで、低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルムが元から含有しているガス成分としては、低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルムを構成する原材料が含有していたガス成分、及び低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルムを形成する際の熱履歴等によって発生したガス成分等が挙げられる。
(Gas to be adsorbed)
The gas components to be adsorbed in the present invention are mainly gas components originally contained in the low outgassing gas adsorbent sealant film of the present invention, gas components consisting of resin decomposition products generated by decomposition of the resin in the low outgassing gas adsorbent sealant film by heating such as heat sealing or irradiation with UV or EB, etc., and gas components present in the atmosphere.
Here, examples of gas components originally contained in the low outgassing, gas-adsorbing sealant film include gas components contained in the raw materials constituting the low outgassing, gas-adsorbing sealant film, and gas components generated due to the thermal history, etc., when forming the low outgassing, gas-adsorbing sealant film.

具体的な吸着対象ガスとしては、比較的分子量の小さい有機物、二酸化炭素が挙げられる。
該有機物は、低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルムに由来するガス成分であり、ガ
ス成分の化合物としては、炭素数が1~16のものが多く、種類としては炭化水素類が最も多く、他に、アルデヒド類、ケトン類、カルボン酸類、アルコール類、エステル類等が挙げられる。
Specific examples of gases to be adsorbed include organic substances with relatively small molecular weights and carbon dioxide.
The organic matter is a gas component derived from the low gas release gas adsorption sealant film, and the gas component compounds often have 1 to 16 carbon atoms, and the most common type is hydrocarbons, but other examples include aldehydes, ketones, carboxylic acids, alcohols, and esters.

炭化水素類の具体例としては、プロパン、プロペン、ブタン、イソブタン、2-メチルブタン、ブテン、イソブテン、2-メチルペンタン、3-エチルペンタン、2,2-ジメチルペンタン、3,3-ジメチルペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、2-メチルヘキサン、3-メチルヘキサン、2,5-ジメチルヘキサン、ヘプタン、2-メチルヘプタン、3-メチルヘプタン、3-エチルヘプタン、2,2,4,6,6-ペンタメチルヘプタン、3-エチル-3-メチルヘプタン、3-メチルヘプテン、オクタン、2-メチルオクタン、4-エチルオクタン、ノナン、3-メチルノナン、デカン、ドデカン等が挙げられる。 Specific examples of hydrocarbons include propane, propene, butane, isobutane, 2-methylbutane, butene, isobutene, 2-methylpentane, 3-ethylpentane, 2,2-dimethylpentane, 3,3-dimethylpentane, hexane, cyclohexane, 2-methylhexane, 3-methylhexane, 2,5-dimethylhexane, heptane, 2-methylheptane, 3-methylheptane, 3-ethylheptane, 2,2,4,6,6-pentamethylheptane, 3-ethyl-3-methylheptane, 3-methylheptene, octane, 2-methyloctane, 4-ethyloctane, nonane, 3-methylnonane, decane, and dodecane.

アルデヒド類の具体例としては、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、2-メチルプロパナール、3-メチルブタナール等が挙げられる。 Specific examples of aldehydes include formaldehyde, acetaldehyde, 2-methylpropanal, and 3-methylbutanal.

ケトン類の具体例としては、アセトン、MEK、MIBK、3,3-ジメチルー2-ブタノン等が挙げられる。 Specific examples of ketones include acetone, MEK, MIBK, and 3,3-dimethyl-2-butanone.

カルボン酸類の具体例としては、酢酸、イソ吉草酸、2-メチルプロパン酸、2,2-ジメチルプロパン酸等が挙げられる。 Specific examples of carboxylic acids include acetic acid, isovaleric acid, 2-methylpropanoic acid, and 2,2-dimethylpropanoic acid.

エステル類の具体例としては、酢酸エチル、酢酸ブチル等が挙げられる。 Specific examples of esters include ethyl acetate and butyl acetate.

アルコール類の具体例としては、2-メチル-2-プロパノール、2-メチルプロパノール、エタノール、1-プロパノール等が挙げられる。 Specific examples of alcohols include 2-methyl-2-propanol, 2-methylpropanol, ethanol, and 1-propanol.

二酸化炭素は大気成分に由来し、アルデヒド類、ケトン類、カルボン酸類がガス吸着シーラントフィルムの熱履歴及び大気成分に由来し、エステル類はガス吸着シーラントフィルム又は低ガス放出性ガス吸着積層体の接着層に由来する。 Carbon dioxide originates from atmospheric components, aldehydes, ketones, and carboxylic acids originate from the thermal history of the gas-adsorbing sealant film and atmospheric components, and esters originate from the adhesive layer of the gas-adsorbing sealant film or the low-gas-releasing gas-adsorbing laminate.

[ガス吸着層]
ガス吸着層は、ガス吸着剤を含有して高いガス吸着性を有する層であり、低ガス放出性を維持する為にバインダー樹脂として低ガス放出性樹脂をさらに含有することが好ましい。しかしながら、ガス吸着性と低ガス放出性を大きく損なわない範囲で、他の樹脂や、酸化防止剤等の各種添加剤を含有することができる。
低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルム中にガス吸着層は、1層又は組成が同一あるいは異なる2層以上が含まれていてもよい。
[Gas adsorption layer]
The gas adsorption layer is a layer containing a gas adsorbent and having high gas adsorption properties, and preferably further contains a low gas release resin as a binder resin in order to maintain low gas release properties. However, other resins and various additives such as antioxidants can be contained within a range that does not significantly impair the gas adsorption properties and low gas release properties.
The gas adsorbing layer in the low outgassing gas adsorbing sealant film may be one layer or two or more layers having the same or different compositions.

ガス吸着層の厚さは、良好なガス吸着性を示す為に、5μm以上、80μm以下が好ましく、7μm以上、75μm以下がより好ましい。上記範囲よりも薄いとガス吸着性が不十分になるおそれがあり、上記範囲よりも厚くても、ガス吸着性はさほど向上せず、低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルムの剛性が強くなり過ぎて作業性が低下するおそれがある。 In order to exhibit good gas adsorption properties, the thickness of the gas adsorption layer is preferably 5 μm or more and 80 μm or less, and more preferably 7 μm or more and 75 μm or less. If it is thinner than the above range, the gas adsorption properties may be insufficient, and if it is thicker than the above range, the gas adsorption properties may not be improved significantly, and the rigidity of the low gas release gas adsorption sealant film may become too strong, resulting in reduced workability.

[ヒートシール層]
ヒートシール層は低ガス放出性樹脂を含有する層であり、高いヒートシール性を有する層であり、高いヒートシール性を有する為に、ガス吸着剤を含有しないことが好ましい。
そして、高いヒートシール性と低ガス放出性を両立する為に、含有されるヒートシール性樹脂は、低ガス放出性樹脂であることが好ましい。
しかしながら、ヒートシール性と低ガス放出性を大きく損なわない範囲で、ガス吸着剤や、他の樹脂や、酸化防止剤等の各種添加剤を含有することができる。
低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルム中にヒートシール層は、1層又は組成が同一あるいは異なる2層以上が含まれていてもよい。
[Heat seal layer]
The heat seal layer is a layer containing a low gas releasing resin and has high heat sealability. In order to have high heat sealability, it is preferable that the heat seal layer does not contain a gas adsorbent.
In order to achieve both high heat sealability and low gas release, the heat sealable resin contained is preferably a low gas release resin.
However, various additives such as gas adsorbents, other resins, and antioxidants may be contained within the range that does not significantly impair the heat sealability and low gas release properties.
The low outgassing gas adsorbing sealant film may contain one heat seal layer or two or more layers having the same or different compositions.

ヒートシール層の厚さは、良好なヒートシール性を示す為に、3μm以上、30μm以下が好ましく、5μm以上、20μm以下がより好ましい。上記範囲よりも薄いとヒートシール性が不十分になるおそれがあり、上記範囲よりも厚くても、ヒートシール性はさほど向上せず、低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルムの剛性が弱くなり過ぎて作業性が低下するおそれがある。 In order to exhibit good heat sealability, the thickness of the heat seal layer is preferably 3 μm or more and 30 μm or less, and more preferably 5 μm or more and 20 μm or less. If it is thinner than the above range, the heat sealability may be insufficient, and if it is thicker than the above range, the heat sealability may not be significantly improved and the rigidity of the low gas release gas adsorption sealant film may become too weak, resulting in reduced workability.

[低ガス放出性樹脂]
低ガス放出性樹脂とは、ガスの放出量が少ない樹脂のことであり、ガス放出量は樹脂の形状や熱履歴等によって変化する。
ヒートシール性を有する低ガス放出性樹脂を低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルムに含有させることによって、低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルムにヒートシール性を付与し、放出されるガス量を低減して、ガスの通過や放出を抑制することができる。
[Low gas emission resin]
A low gas release resin is a resin that releases a small amount of gas, and the amount of gas released varies depending on the shape and thermal history of the resin.
By incorporating a low outgassing resin having heat sealability into a low outgassing, gas-adsorbing sealant film, the low outgassing, gas-adsorbing sealant film can be imparted with heat sealability, thereby reducing the amount of gas released and suppressing the passage or release of gas.

低ガス放出性樹脂のガス放出量は、低ガス放出性樹脂に含有される溶出性の全有機体炭素(TOC=Total Organic Carbon)濃度と相関が高い。
TOCは、水中の酸化され得る有機物(有機炭素体)全量の濃度を炭素量の濃度で示したものであり、代表的な水質指標の一つとして用いられているものであって、JIS K0805(全有機体炭素(TOC)自動計測器)等で規格化されている。
The amount of gas released from a low gas release resin is highly correlated with the concentration of elutable total organic carbon (TOC) contained in the low gas release resin.
TOC is the concentration of the total amount of organic matter (organic carbon) in water that can be oxidized, expressed as a carbon concentration, and is used as one of the representative water quality indicators, and is standardized in JIS K0805 (Total Organic Carbon (TOC) Automatic Meter) and other standards.

本発明における低ガス放出性樹脂からなるフィルムに含まれる溶出性の全有機体炭素(TOC)の濃度は、1.5ppm以上、250ppm以下が好ましく、5ppm以上、200ppm以下が好ましい。上記範囲よりも少ないものを準備することは困難であり、且つ実用上の効果に有意差を示し難い。上記範囲よりも多いと、低ガス放出性樹脂のガス放出性が不十分になるおそれがある。 The concentration of leachable total organic carbon (TOC) contained in the film made of the low gas-releasing resin in the present invention is preferably 1.5 ppm or more and 250 ppm or less, and more preferably 5 ppm or more and 200 ppm or less. It is difficult to prepare a film with a concentration lower than the above range, and it is difficult to show a significant difference in practical effect. If it is higher than the above range, the gas-releasing properties of the low gas-releasing resin may become insufficient.

ここで、単体原料としての低ガス放出性樹脂に関する溶出性のTOCの濃度を、原料ペレット等の状態ではなく、フィルム化された状態で測定する理由は、低ガス放出性樹脂は、低ガス放出性ガス吸着シーラント層形成等の為にフィルム化される際に、様々な熱履歴等を与えられてTOCの溶出量を増加させてしまうことがあるからである。 The reason why the concentration of leachable TOC for low outgassing resin as a single raw material is measured in a filmed state rather than in the raw material pellet state, etc., is that when low outgassing resin is made into a film to form a low outgassing gas adsorption sealant layer, etc., it is subject to various heat histories, etc., which can increase the amount of leaching of TOC.

上記の低ガス放出性樹脂からなるフィルムに含まれる溶出性の全有機体炭素(TOC)の濃度は、例えば、本発明における低ガス放出性樹脂からなるフィルムで作製されたパウチ内に、充填水として蒸留水を充填して、有機炭素体を溶出させて、充填水のTOC濃度を測定し、充填前の充填水のTOC濃度をブランクとして差し引いてTOC濃度の増加分を算出し、さらに、低ガス放出性樹脂からなるフィルムに含有されていた溶出性のTOC濃度を算出する。 The concentration of leachable total organic carbon (TOC) contained in the film made of the low outgassing resin is determined, for example, by filling a pouch made of a film made of the low outgassing resin of the present invention with distilled water as the filling water, leaching out the organic carbon, measuring the TOC concentration of the filling water, subtracting the TOC concentration of the filling water before filling as a blank to calculate the increase in TOC concentration, and then calculating the concentration of leachable TOC contained in the film made of the low outgassing resin.

充填水のTOC濃度の増加分は、0.01ppm以上、1.5ppm以下であることが好ましく、0.02ppm以上、1.45ppm以下であることがより好ましく、0.025ppm以上、1.4ppm以下であることが更に好ましい。上記範囲よりも少ないものを準備することは困難であり、且つ実用上の効果に有意差を示し難い。上記範囲よりも多いと、低ガス放出性樹脂の低ガス放出性が不十分になるおそれがある。コストと性能の両立の観点から、上記の範囲であることが好ましい。 The increase in TOC concentration of the filling water is preferably 0.01 ppm or more and 1.5 ppm or less, more preferably 0.02 ppm or more and 1.45 ppm or less, and even more preferably 0.025 ppm or more and 1.4 ppm or less. It is difficult to prepare something less than the above range, and it is difficult to show a significant difference in practical effect. If it is more than the above range, the low gas emission properties of the low gas emission resin may become insufficient. From the viewpoint of achieving both cost and performance, the above range is preferable.

さらに具体的な条件としては、用途にもよるが、充填時の充填水の温度を40℃~80
℃、保管時の温度を25℃~50℃、保管期間を数日~4週間とし、充填水のTOC濃度を全有機体炭素計やHS-GCで測定することが好ましい。
More specific conditions, depending on the application, are to keep the temperature of the water to 40°C to 80°C.
It is preferable to set the temperature during storage at 25° C. to 50° C. for a storage period of several days to four weeks, and to measure the TOC concentration of the filled water with a total organic carbon meter or HS-GC.

本発明においては、低ガス放出性樹脂からなる樹脂フィルムに含まれる溶出性のTOC濃度は、低ガス放出性樹脂からなる樹脂フィルムを用いて作製された内寸15cm×44cmのパウチに、充填水として65℃、1000gの蒸留水(高速液体クロマトグラフィー用蒸留水、純正化学(株)社製)を充填及び封止して、35℃、2週間保管後に、該充填水のTOC濃度をTOC-L全有機体炭素計((株)島津製作所社製)で測定することを標準方法として、低ガス放出性樹脂からなる樹脂フィルムに含まれる溶出性のTOC濃度を算出することが好ましい。 In the present invention, the leachable TOC concentration contained in the resin film made of low gas-releasing resin is preferably calculated by filling and sealing a pouch made of a resin film made of low gas-releasing resin with 15 cm x 44 cm inside dimensions at 65°C with 1000 g of distilled water (distilled water for high performance liquid chromatography, manufactured by Junsei Chemical Co., Ltd.) as the filling water, storing it at 35°C for 2 weeks, and then measuring the TOC concentration of the filled water with a TOC-L total organic carbon meter (manufactured by Shimadzu Corporation) as the standard method.

例えば、サイズ15cm×44cm×50μm厚のパウチと、1000gの充填水を用いた場合には、下記の様に、充填水中のTOCの増加濃度から、低ガス放出性樹脂からなるフィルム中に含まれる溶出性のTOCの濃度Cが算出される。
充填水(蒸留水)重量:W1=1000[g]
低ガス放出性樹脂からなるフィルムの密度:S[g/cm3
パウチサイズ:15cm×44cm×50μm厚
パウチ重量:W2=15×44×50×10-4×2×S=6.6×S[g]
低ガス放出性樹脂からなるフィルム中に含まれる溶出性のTOC濃度:C[ppm]
充填水中のTOC濃度の増加分:X[ppm]
とすると、
低ガス放出性樹脂からなるフィルム中に含まれる溶出性のTOCの全重量=C×W2[g]
これがW1[g]の水に溶出するので、
X=C×W2/W1=C×6.6×S×10-3[ppm]
の関係になり、低ガス放出性樹脂からなるフィルム中に含まれる溶出性のTOC濃度Cは下記式から算出される。
C=X/(6.6×S×10-3)[ppm]
例えば、パウチを構成する低ガス放出性樹脂からなるフィルムの密度Sが0.92[g/cm3]、充填水のTOC濃度の増加分Xが0.01[ppm]の場合には、
C=0.01/(6.6×0.92×10-3)=1.64[ppm]
のように算出される。
For example, when a pouch measuring 15 cm x 44 cm x 50 μm thick is used and 1,000 g of filled water is used, the concentration C of leachable TOC contained in the film made of low gas releasing resin is calculated from the increased concentration of TOC in the filled water as shown below.
Filled water (distilled water) weight: W1 = 1000 [g]
Density of film made of low gas release resin: S [g/cm 3 ]
Pouch size: 15 cm x 44 cm x 50 μm thickness Pouch weight: W2 = 15 x 44 x 50 x 10 -4 x 2 x S = 6.6 x S [g]
Concentration of elutable TOC contained in a film made of low gas release resin: C [ppm]
Increase in TOC concentration in filling water: X [ppm]
Then,
Total weight of elutable TOC contained in the film made of low gas emission resin = C x W2 [g]
This dissolves in W1 [g] of water, so
X=C×W2/W1=C×6.6×S×10 -3 [ppm]
The concentration C of soluble TOC contained in a film made of a low gas release resin is calculated from the following formula:
C=X/(6.6×S×10 -3 ) [ppm]
For example, when the density S of the film made of low gas releasing resin constituting the pouch is 0.92 [g/cm 3 ] and the increase X in the TOC concentration of the filling water is 0.01 [ppm],
C=0.01/(6.6×0.92×10 -3 )=1.64 [ppm]
It is calculated as follows:

低ガス放出性樹脂の密度は、0.915g/cm3以上、0.935g/cm3以下が好ましく、0.919g/cm3以上、0.933g/cm3以下がより好ましい。密度が上記範囲であれば、有機物のガス放出量を低くし得る傾向にある。 The density of the low gas release resin is preferably 0.915 g/cm 3 or more and 0.935 g/cm 3 or less, and more preferably 0.919 g/cm 3 or more and 0.933 g/cm 3 or less. If the density is within the above range, there is a tendency that the amount of gas released from the organic matter can be reduced.

低ガス放出性樹脂のMFR(メルトフローレート)は、0.2g/10分以上、10g/10分以下が好ましく、0.5g/10分以上、7g/10分以下が好ましい。MFRが上記範囲であれば、他の樹脂やガス吸着剤と混合されても、良好なMFRを維持し、良好な製膜性や接着性を示すことができる。 The MFR (melt flow rate) of the low gas release resin is preferably 0.2 g/10 min or more and 10 g/10 min or less, and more preferably 0.5 g/10 min or more and 7 g/10 min or less. If the MFR is within the above range, even if it is mixed with other resins or gas adsorbents, it can maintain a good MFR and exhibit good film-forming properties and adhesive properties.

低ガス放出性樹脂としては、ヒートシール性に優れ、UV又はEB照射や加熱に対して耐性があって分解され難い性質があることから、ポリエチレン系樹脂(低ガス放出性ポリエチレン系樹脂)が好ましい。
低ガス放出性ポリエチレン系樹脂は、元々含有している放出性のガス量が少なく、且つUV又はEB照射や加熱に対して耐性があって分解され難いことによって、ガス放出量を少なくすることができる。
As the low gas emission resin, a polyethylene resin (low gas emission polyethylene resin) is preferred because it has excellent heat sealability, resistance to UV or EB irradiation and heating, and resistance to decomposition.
The low gas release polyethylene resin originally contains a small amount of gas that can be released, and is resistant to UV or EB irradiation and heating and is not easily decomposed, so that the amount of gas released can be reduced.

低ガス放出性ポリエチレン系樹脂のポリエチレン種の具体例としては、低密度ポリエチ
レン(LDPE)、中密度ポリエチレン(MDPE)、高密度ポリエチレン(HDPE)、直鎖状(線状)低密度ポリエチレン(LLDPE)、エチレン-酢酸ビニル共重合体、エチレン-アクリル酸エチル共重合体、エチレン-アクリル酸共重合体、エチレン-メタクリル酸共重合体、エチレン-メチルメタクリル酸共重合体、エチレン-プロピレン共重合体等の低ガス放出化されたもの及びそれらの樹脂の混合物が挙げられるが、これらの樹脂に限定されない。
Specific examples of polyethylene species of low outgassing polyethylene-based resins include low outgassing polyethylene (LDPE), medium density polyethylene (MDPE), high density polyethylene (HDPE), linear low density polyethylene (LLDPE), ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene-ethyl acrylate copolymer, ethylene-acrylic acid copolymer, ethylene-methacrylic acid copolymer, ethylene-methyl methacrylic acid copolymer, ethylene-propylene copolymer, and mixtures of these resins, but are not limited to these resins.

上記の中でも、MDPE、LDPE及びLLDPEからなる群から選ばれる1種又は2種以上の組み合わせであることが好ましい。
また、LLDPEは、C4-LLDPE、C6-LLDPE、C8-LLDPEからなる群から選ばれる1種又は2種以上の組み合わせであることが好ましく、C6-LLDPEがより好ましい。
Among the above, one or a combination of two or more selected from the group consisting of MDPE, LDPE and LLDPE is preferred.
The LLDPE is preferably one or a combination of two or more selected from the group consisting of C4-LLDPE, C6-LLDPE, and C8-LLDPE, and more preferably C6-LLDPE.

ここで、C4-LLDPEは、エチレンと1-ブテンとの共重合体からなる直鎖状低密度ポリエチレンであり、C6-LLDPEは、エチレンと1-ヘキセン及び/又は4-メチル-1-ペンテンとの共重合体からなる直鎖状低密度ポリエチレンであり、C8-LLDPEは、エチレンと1-オクテンとの共重合体からなる直鎖状低密度ポリエチレンである。
それぞれの分子構造は、エチレン由来のLLDPEの主鎖に、それぞれ、1-ブテン、1-ヘキセン及び/又は4-メチル-1-ペンテン、1-オクテン由来の、炭素数がそれぞれ、4個、6個、8個の側鎖が存在する分子構造を有する。
Here, C4-LLDPE is a linear low-density polyethylene made of a copolymer of ethylene and 1-butene, C6-LLDPE is a linear low-density polyethylene made of a copolymer of ethylene and 1-hexene and/or 4-methyl-1-pentene, and C8-LLDPE is a linear low-density polyethylene made of a copolymer of ethylene and 1-octene.
Each of the molecular structures has an ethylene-derived LLDPE main chain with side chains having 4, 6 and 8 carbon atoms derived from 1-butene, 1-hexene and/or 4-methyl-1-pentene and 1-octene, respectively.

樹脂に含有される放出性ガス量を低く抑える為には、例えば、樹脂を製造する際に、未反応原料残存量や低分子量生成物や副生成物の量を低減することや、重合触媒を除去することが有効である。具体的には、原料純度を向上したり、反応温度や圧力等の条件を精密に制御したり、蒸留や洗浄によって未反応原料や低分子量生成物や副生成物や重合触媒を除去したり、高温のままで空気中の酸素に触れることによる酸化を防止したりする方法が挙げられる。
他の方法としては、製造された樹脂をペレット化やフィルム化する際に、放出性ガス量を増加させてしまいそうな添加剤の使用を制限し、高温による酸化を防止することが挙げられる。具体的な添加剤としては、滑剤、酸化防止剤、ブロッキング防止剤、溶剤、その他が挙げられる。
In order to keep the amount of released gas contained in the resin low, for example, it is effective to reduce the amount of unreacted raw materials, low molecular weight products, and by-products, and to remove the polymerization catalyst when producing the resin.Specific examples of such methods include improving the purity of raw materials, precisely controlling conditions such as reaction temperature and pressure, removing unreacted raw materials, low molecular weight products, by-products, and polymerization catalysts by distillation or washing, and preventing oxidation due to exposure to oxygen in the air at high temperatures.
Another method is to limit the use of additives that may increase the amount of outgassing when the resin is pelletized or filmed, and to prevent oxidation due to high temperatures. Specific additives include lubricants, antioxidants, antiblocking agents, solvents, etc.

[ガス吸着剤]
本発明において、ガス吸着剤としては、疎水性ゼオライト、モレキュラーシーブ、金属有機構造体(MOF)、活性炭からなる群から選ばれる1種又は2種以上の組み合わせを含有することが好ましい。
[Gas adsorbent]
In the present invention, the gas adsorbent preferably contains one or a combination of two or more selected from the group consisting of hydrophobic zeolite, molecular sieve, metal-organic framework (MOF), and activated carbon.

(疎水性ゼオライト)
本発明において、ガス吸着剤として用いられる疎水性ゼオライトは、SiO2/Al23モル比が2/1~10000/1であることが好ましく、30/1~3000/1であることがより好ましい。該モル比が上記の範囲であれば、疎水性と細孔サイズのバランスに優れて、良好なガス吸着性を奏することができる。
疎水性ゼオライトは、230℃以上に晒された場合であっても、ガス成分の吸着効果が維持されることから、好ましく用いることができる。
疎水性ゼオライトは、球状、棒状、楕円状等の任意の外形形状であってよく、粉体状、塊状、粒状等いかなる形態であってもよいが、樹脂中に分散させた際の、均一な分散性や混練特性、製膜性等の観点から、粉体状が好ましい。
(Hydrophobic Zeolite)
In the present invention, the hydrophobic zeolite used as the gas adsorbent preferably has a SiO2 / Al2O3 molar ratio of 2/1 to 10,000/1, more preferably 30/1 to 3,000/1. When the molar ratio is within the above range, the hydrophobicity and pore size are well balanced, and good gas adsorption properties can be achieved.
Hydrophobic zeolite is preferably used because it maintains its gas component adsorption effect even when exposed to temperatures of 230° C. or higher.
The hydrophobic zeolite may have any external shape, such as a sphere, a rod, an ellipse, or the like, and may be in any form, such as a powder, a lump, or a granule. From the viewpoints of uniform dispersibility, kneading characteristics, film-forming properties, and the like, when dispersed in a resin, the powder form is preferred.

本発明において、疎水性ゼオライトの平均粒子径は、用途に応じて、任意の平均粒子径
のものを適宜選択することができるが、平均粒子径0.01μm以上、30μm以下が好ましく、0.1μm以上、20μm以下がより好ましい。ここで、平均粒子径は、動的光散乱法により測定された値である。
平均粒子径が上記範囲よりも小さい場合には疎水性ゼオライトの凝集が生じ易く、分散性が低下する傾向にある。また、平均粒子径が上記範囲よりも大きい場合には、疎水性ゼオライトを含有する層の製膜性が劣る傾向になる為に、疎水性ゼオライトを多くは添加し難い傾向となり、更に表面積も減少する為、十分なガス吸着効果が得られない可能性が生じる。
In the present invention, the average particle size of the hydrophobic zeolite can be appropriately selected from any average particle size depending on the application, but the average particle size is preferably 0.01 μm or more and 30 μm or less, and more preferably 0.1 μm or more and 20 μm or less. Here, the average particle size is a value measured by a dynamic light scattering method.
If the average particle size is smaller than the above range, the hydrophobic zeolite tends to aggregate and the dispersibility tends to decrease.If the average particle size is larger than the above range, the film-forming property of the layer containing the hydrophobic zeolite tends to be poor, so it tends to be difficult to add a large amount of hydrophobic zeolite, and the surface area is also reduced, so there is a possibility that a sufficient gas adsorption effect cannot be obtained.

疎水性ゼオライトは、疎水性である為に、極性の高い水分子等は吸着し難く、逆に極性の低い有機ガスとの親和性が高く、他の極性の低いガス成分、疎水性ガス、親油性ガス(溶剤系ガスも含む)とも親和性が高く、これらを吸着し易い。すなわち、官能基を有していないガス成分を吸着する機能に優れている。更に、ゼオライト表面にCa、Na、K等のアルカリ金属、アルカリ土類金属が存在する場合には、ゼオライト表面は塩基性を示し、酸性ガスを中和反応によって吸着し易い。 Hydrophobic zeolites are hydrophobic, so they have difficulty adsorbing highly polar water molecules, but on the other hand, they have a high affinity for low polarity organic gases, and also have a high affinity for other low polarity gas components, hydrophobic gases, and lipophilic gases (including solvent-based gases), and they easily adsorb these. In other words, they have an excellent function of adsorbing gas components that do not have functional groups. Furthermore, when alkali metals and alkaline earth metals such as Ca, Na, and K are present on the zeolite surface, the zeolite surface exhibits basicity and easily adsorbs acidic gases through a neutralization reaction.

(モレキュラーシーブ)
モレキュラーシーブは、親水性ゼオライトの1種であり、多孔質の空孔に、極性の高い分子を吸着する。特に水(水蒸気)分子を強く吸着する。
モレキュラーシーブは、原料のゼオライトの種類によって3A、4A、5A、13Xと表記され、数字は空孔のおおよその直径(オングストローム)を、大文字のアルファベットはゼオライトの種類を表し、AはLTA型ゼオライト、XはFAU型ゼオライトを表す。
3Aはアセトニトリルやエタノール、5Aは芳香族化合物等、13Xは長鎖三級アミンなどの大きな分子の吸着に適している。
(Molecular sieve)
Molecular sieves are a type of hydrophilic zeolite that adsorb highly polar molecules into their porous pores, and are particularly adsorbent of water (water vapor) molecules.
Molecular sieves are designated as 3A, 4A, 5A, or 13X depending on the type of raw zeolite, where the number indicates the approximate pore diameter (angstroms) and the capital letters indicate the type of zeolite, with A representing LTA zeolite and X representing FAU zeolite.
3A is suitable for adsorbing acetonitrile and ethanol, 5A is suitable for adsorbing aromatic compounds, and 13X is suitable for adsorbing large molecules such as long-chain tertiary amines.

(金属有機構造体(MOF))
金属有機構造体(MOF:Metal Organic Frameworks)には、金属イオンと有機配位子とからなる塩が好ましく用いられる。
金属有機構造体は、一般的な活性炭やゼオライトと比較して、より小さな細孔径と、より大きな比表面積を有する多孔質構造を有することができる。
金属有機構造体の具体例としては、フマル酸アルミニウム、フマル酸ジルコン、トリメシン酸銅、トリメシン酸アルミニウム、トリメシン酸ジルコン、トリメシン酸鉄、テレフタル酸アルミニウム、テレフタル酸ジルコン、2-メチルイミダゾール亜鉛、ギ酸マグネシウム、ベンゼン-1,3,5-トリ安息香酸亜鉛、2,6-ナフタレン-ジカルボン酸亜鉛、アミノベンゼン-1,4-ジカルボン酸アルミニウム、2,5-ジオキシドベンゼン-1,4-ジカルボキレートマグネシウム、4,4-ジオキシドビフェニル-3,3-ジカルボキシレートマグネシウム等が挙げられ、これらの群から選ばれる1種又は2種以上の組み合わせを用いることができる。
(Metal-organic framework (MOF))
For metal organic frameworks (MOFs), a salt composed of a metal ion and an organic ligand is preferably used.
The metal-organic framework can have a porous structure with a smaller pore size and a larger specific surface area compared to common activated carbon or zeolite.
Specific examples of the metal organic framework include aluminum fumarate, zirconium fumarate, copper trimesate, aluminum trimesate, zirconium trimesate, iron trimesate, aluminum terephthalate, zirconium terephthalate, 2-methylimidazole zinc, magnesium formate, zinc benzene-1,3,5-tribenzoate, zinc 2,6-naphthalene-dicarboxylate, aluminum aminobenzene-1,4-dicarboxylate, magnesium 2,5-dioxidobenzene-1,4-dicarboxylate, and magnesium 4,4-dioxidobiphenyl-3,3-dicarboxylate. One or a combination of two or more selected from this group can be used.

金属有機構造体の細孔径は、0.3nm以上、3.0nmが好ましく、0.3nm以上、2.0nm以下がより好ましい。細孔径は例えば、2-メチルイミダゾール亜鉛塩が1.1nm及び0.6nm、トリメシン酸銅が0.90nm又は0.3nm及び0.5nm、テレフタル酸アルミニウムが0.8nm及び0.5nm、フマル酸アルミニウムが1.1nm及び0.5nm、トリメシン酸アルミニウムが0.7nm及び0.6nm、トリメシン酸ジルコンが0.46nm、1.15nm、及び1.8nm、ギ酸マグネシウムが0.3nm及び0.4nm、トリメシン酸鉄が2.5nm及び2.9nmである。 The pore diameter of the metal organic framework is preferably 0.3 nm or more and 3.0 nm or less, and more preferably 0.3 nm or more and 2.0 nm or less. For example, the pore diameters are 1.1 nm and 0.6 nm for 2-methylimidazole zinc salt, 0.90 nm or 0.3 nm and 0.5 nm for copper trimesate, 0.8 nm and 0.5 nm for aluminum terephthalate, 1.1 nm and 0.5 nm for aluminum fumarate, 0.7 nm and 0.6 nm for aluminum trimesate, 0.46 nm, 1.15 nm, and 1.8 nm for zirconium trimesate, 0.3 nm and 0.4 nm for magnesium formate, and 2.5 nm and 2.9 nm for iron trimesate.

金属有機構造体の比表面積は、BET比表面積又はLangmuir比表面積で表すことができ、BET比表面積の場合は、400m2/g以上、4000m2/g以下が好まし
く、900m2/g以上、2100m2/g以下がより好ましい。
Langmuir比表面積の場合は、500m2/g以上、5000m2/g以下が好ましく、1200m2/g以上、2400m2/g以下がより好ましい。
The specific surface area of the metal organic framework can be expressed as a BET specific surface area or a Langmuir specific surface area. In the case of the BET specific surface area, it is preferably 400 m 2 /g or more and 4000 m 2 /g or less, and more preferably 900 m 2 /g or more and 2100 m 2 /g or less.
The Langmuir specific surface area is preferably 500 m 2 /g or more and 5000 m 2 /g or less, and more preferably 1200 m 2 /g or more and 2400 m 2 /g or less.

BET比表面積は例えば、2-メチルイミダゾール亜鉛が1350m2/g、トリメシン酸銅が1500m2/g、テレフタル酸アルミニウムが950m2/g、フマル酸アルミニウムが1000m2/g、トリメシン酸アルミニウムが1100m2/g、トリメシン酸ジルコンが2060m2/g、ギ酸マグネシウムが400m2/g、ベンゼン-1,3,5-トリ安息香酸亜鉛が3600m2/gのものがある。
Langmuir比表面積は例えば、2-メチルイミダゾール亜鉛が1800m2/g、トリメシン酸銅が2000m2/g、テレフタル酸アルミニウムが1500m2/g、フマル酸アルミニウムが1200m2/g、トリメシン酸アルミニウムが1500m2/g、トリメシン酸ジルコンが2390m2/g、ギ酸マグネシウムが500m2/g、ベンゼン-1,3,5-トリ安息香酸亜鉛が5000m2/gのものがある。
For example, the BET specific surface areas are 1,350 m 2 /g for 2-methylimidazole zinc, 1,500 m 2 /g for copper trimesate, 950 m 2 /g for aluminum terephthalate, 1,000 m 2 /g for aluminum fumarate, 1,100 m 2 /g for aluminum trimesate, 2,060 m 2 /g for zirconium trimesate, 400 m 2 /g for magnesium formate, and 3,600 m 2 /g for zinc benzene-1,3,5-tribenzoate.
For example, the Langmuir specific surface areas are 1,800 m 2 /g for zinc 2-methylimidazole, 2,000 m 2 /g for copper trimesate, 1,500 m 2 /g for aluminum terephthalate, 1,200 m 2 /g for aluminum fumarate, 1,500 m 2 /g for aluminum trimesate, 2,390 m 2 /g for zirconium trimesate, 500 m 2 /g for magnesium formate, and 5,000 m 2 /g for zinc benzene-1,3,5-tribenzoate.

上記の金属有機構造体は、その細孔径に応じた分子サイズ、比表面積に応じた量のガスを吸収できる。例えば、2-メチルイミダゾール亜鉛塩は、低級炭化水素、二酸化炭素を、トリメシン酸銅は、低級炭化水素(特にメタン)と二酸化炭素を、テレフタル酸アルミニウムは、メタン、水蒸気、二酸化炭素を吸収する能力に優れ、フマル酸アルミニウムとトリメシン酸ジルコンは、水蒸気を吸収する能力に優れ、トリメシン酸アルミニウム、低級炭化水素(特にメタン)と水蒸気を吸収する能力に優れる。 The above metal organic frameworks can absorb gases in amounts that correspond to the molecular size and specific surface area of their pores. For example, 2-methylimidazole zinc salt is excellent at absorbing lower hydrocarbons and carbon dioxide, copper trimesate is excellent at absorbing lower hydrocarbons (especially methane) and carbon dioxide, aluminum terephthalate is excellent at absorbing methane, water vapor, and carbon dioxide, aluminum fumarate and zircon trimesate are excellent at absorbing water vapor, and aluminum trimesate is excellent at absorbing lower hydrocarbons (especially methane) and water vapor.

本発明においては、上記の金属有機構造体の中でも、2-メチルイミダゾール亜鉛塩、トリメシン酸銅、テレフタル酸アルミニウムからなる群から選ばれる1種又は2種以上の組み合わせを用いることが好ましい。 In the present invention, among the above metal organic frameworks, it is preferable to use one or a combination of two or more selected from the group consisting of 2-methylimidazole zinc salt, copper trimesate, and aluminum terephthalate.

(活性炭)
活性炭は、炭素を主な成分とし酸素、水素、カルシウムなども含有し、化学的又は物理的な処理が施された多孔質の物質である。多孔質であることで体積の割りに広い表面積を持つため、多くの物質を吸着する性質がある。
活性炭の表面は非極性であるため、極性分子に対しては吸着力が低く、活性炭が持つ細孔よりも小さな粒状の有機物を選択的に吸着しやすい。
(Activated carbon)
Activated carbon is a porous material that is primarily composed of carbon and also contains oxygen, hydrogen, calcium, etc., and has been chemically or physically processed. Because it is porous, it has a large surface area relative to its volume, and therefore has the ability to adsorb many substances.
Since the surface of activated carbon is non-polar, it has a low adsorption power for polar molecules and is therefore more likely to selectively adsorb granular organic matter that is smaller than the pores of activated carbon.

(ガス吸着剤のマスターバッチ化による分散性向上)
ガス吸着剤を低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルムの他の構成成分と直接に混合して溶融混練してもよいが、ガス吸着剤を高濃度で熱可塑性樹脂と混合した後に溶融混練(メルトブレンド)してマスターバッチを作製しておき、これを、目標含有率に応じた比率で低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルムの他の構成成分と混合して溶融混練する、いわゆるマスターバッチ方式によって、ガス吸着剤の低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルム中での分散性を高めることが好ましい。
マスターバッチ方式を採用することで、凝集が発生し易いガス吸着剤を用いた場合であっても、ガス吸着剤を低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルム中に、効率的且つ均質に分散させることができる。
(Improved dispersion by making gas adsorbent into a master batch)
The gas adsorbent may be directly mixed with other components of the low outgassing gas adsorbent sealant film and melt-kneaded, but it is preferable to increase the dispersibility of the gas adsorbent in the low outgassing gas adsorbent sealant film by mixing the gas adsorbent with a thermoplastic resin at a high concentration and then melt-kneading (melt blending) to prepare a master batch, and then mixing this with other components of the low outgassing gas adsorbent sealant film in a ratio corresponding to the target content and melt-kneading it, a so-called master batch method.
By adopting the master batch method, even when a gas adsorbent that is prone to aggregation is used, the gas adsorbent can be efficiently and uniformly dispersed in the low outgassing gas adsorbent sealant film.

マスターバッチ中の、ガス吸着剤/熱可塑性樹脂の質量比は、特に制限は無いが、3/97以上、50/50以下の割合が好ましく、5/95以上、40/60以下の割合がより好ましい。
ガス吸着剤と熱可塑性樹脂とを混練する方法としては、各種の混練方法を適用することができる。
マスターバッチに用いる熱可塑性樹脂は、低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルム全
体のヒートシール性や製膜性やガス吸着性や低ガス放出性に大きな悪影響を与えない範囲内の種類及び含有量で用いることができるが、低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルムに含有されているヒートシール性樹脂や低ガス放出性樹脂等の他樹脂との相溶性が高く、同等程度のヒートシール性を有する樹脂が好ましく、これらと同一であっても、異なっていてもよい。例えば、低ガス放出性樹脂であってもよい。
The mass ratio of the gas adsorbent to the thermoplastic resin in the master batch is not particularly limited, but is preferably 3/97 or more and 50/50 or less, and more preferably 5/95 or more and 40/60 or less.
As a method for kneading the gas adsorbent and the thermoplastic resin, various kneading methods can be applied.
The thermoplastic resin used in the masterbatch can be of a type and content within a range that does not significantly adversely affect the heat sealability, film formability, gas adsorption, and low outgassing of the entire low outgassing gas adsorbent sealant film, but it is preferable that the resin has high compatibility with other resins such as heat sealable resins and low outgassing resins contained in the low outgassing gas adsorbent sealant film and has the same degree of heat sealability, and may be the same as or different from these. For example, it may be a low outgassing resin.

マスターバッチに用いる熱可塑性樹脂の具体例としては、例えば、汎用のポリエチレン、ポリプロピレン、メチルペンテンポリマー、酸変性ポリオレフィン系樹脂等のポリオレフィン系樹脂、及びこれらの樹脂の混合物等が挙げられるが、これらの樹脂に限定されず、目的に応じた熱可塑性樹脂の種類を選ぶことができる。 Specific examples of thermoplastic resins used in masterbatches include polyolefin resins such as general-purpose polyethylene, polypropylene, methylpentene polymers, and acid-modified polyolefin resins, as well as mixtures of these resins, but are not limited to these resins, and the type of thermoplastic resin can be selected according to the purpose.

マスターバッチに用いる熱可塑性樹脂のMFR(メルトフローレート)は、0.2g/10分以上、10g/10分以下が好ましい。この範囲のMFRであれば、ガス吸着剤との溶融混錬が容易であり、低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルム中にガス吸着剤を分散させ易く、低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルムの製膜性も維持され易い。 The MFR (melt flow rate) of the thermoplastic resin used in the master batch is preferably 0.2 g/10 min or more and 10 g/10 min or less. If the MFR is in this range, melt mixing with the gas adsorbent is easy, the gas adsorbent can be easily dispersed in the low outgassing gas adsorbent sealant film, and the film formability of the low outgassing gas adsorbent sealant film can be easily maintained.

[酸化防止剤]
低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルムは、酸化防止剤をさらに、含有することが好ましい。
全低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルム中の酸化防止剤の含有量は、0.005質量%以上、0.5質量%以下が好ましく、0.01質量%以上、0.4質量%以下がより好ましい、上記範囲よりも少ないと、酸化防止剤を含有した効果が不十分になるおそれがあり、上記範囲よりも多くても、酸化防止剤を増加した効果はさほど変わらず、ヒートシール性が悪化する傾向になり易い。
酸化防止剤が含有されるのは、低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルムを構成するガス吸着層及び/又はヒートシール層であってもよく、ガス吸着層に含有される酸化防止剤と、ヒートシール層に含有される酸化防止剤とは、同一でもよく、異なっていてもよい。
[Antioxidants]
The low outgassing gas adsorbing sealant film preferably further contains an antioxidant.
The content of the antioxidant in the entire low gas release gas adsorption sealant film is preferably 0.005 mass% or more and 0.5 mass% or less, and more preferably 0.01 mass% or more and 0.4 mass% or less. If the content is less than the above range, the effect of containing the antioxidant may be insufficient, and if the content is more than the above range, the effect of increasing the antioxidant will not change much, and the heat sealability may tend to deteriorate.
The antioxidant may be contained in the gas adsorption layer and/or the heat seal layer that constitutes the low gas release gas adsorption sealant film, and the antioxidant contained in the gas adsorption layer and the antioxidant contained in the heat seal layer may be the same or different.

具体的な酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、フェノール系・リン系混合系酸化防止剤等が挙げられ、これらからなる群から選ばれる1種又は2種以上の組み合わせを含有することが好ましい。 Specific examples of antioxidants include phenol-based antioxidants, phosphorus-based antioxidants, and mixed phenol-based and phosphorus-based antioxidants. It is preferable to use one or a combination of two or more selected from the group consisting of these antioxidants.

(低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルムの作製方法)
例えば、ガス吸着層用のガス吸着層樹脂組成物と、ヒートシール層用の低ガス放出性樹脂とをそれぞれ調製して準備し、インフレーション法により、下記層構成の低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルムを得ることができる。
層構成:ヒートシール層1/ガス吸着層/ヒートシール層2
又は、ガス吸着層用のガス吸着層樹脂組成物と、ヒートシール層用の低ガス放出性樹脂とを、押出し又は共押出しで、離型フィルム上に、エクストルージョンコート法で積層して、離型フィルムを除去することによって作製してもよい。エクストルージョンコート法の場合、必要に応じて接着層を介して、積層してもよい。
(Method of producing low outgassing gas adsorbent sealant film)
For example, a gas adsorption layer resin composition for the gas adsorption layer and a low gas release resin for the heat seal layer are separately prepared and then subjected to an inflation method to obtain a low gas release gas adsorption sealant film having the following layer structure.
Layer structure: heat seal layer 1/gas adsorption layer/heat seal layer 2
Alternatively, the gas adsorption layer resin composition for the gas adsorption layer and the low gas release resin for the heat seal layer may be laminated on a release film by extrusion coating or co-extrusion, and the release film may be removed. In the case of the extrusion coating method, lamination may be performed via an adhesive layer as necessary.

(低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルムのガス放出性測定方法)
本発明の低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルムのガス放出性は、例えば、低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルムを50mm×10mmにカットして得た2枚の短冊状フィルムを試験管に入れて90℃で60分間加熱し、試験管中の空気を採取して、ガスクロマトグラフィーによって、採取した空気中の各炭素数の有機ガス成分の濃度を測定し、低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルムが加熱時に放出した有機ガス成分量を算出することができる。
有機ガス成分の中でも、特にC16ガス成分(炭素数16の有機ガス成分)の量が、低
ガス放出性ガス吸着シーラントフィルムから形成されたシーラント層を有する低ガス放出性ガス吸着包装材料を用いて作製された真空断熱パネルにおける熱伝導性と相関性が高い。
(Method for measuring gas release properties of low gas release gas adsorption sealant film)
The gas release properties of the low outgassing gas adsorbent sealant film of the present invention can be measured, for example, by cutting the low outgassing gas adsorbent sealant film to 50 mm x 10 mm, placing the obtained two rectangular films in a test tube and heating them at 90°C for 60 minutes, sampling the air in the test tube, and measuring the concentrations of organic gas components with each carbon number in the sampled air by gas chromatography, and calculating the amount of organic gas components released by the low outgassing gas adsorbent sealant film when heated.
Among organic gas components, the amount of C16 gas components (organic gas components with 16 carbon atoms) in particular is highly correlated with the thermal conductivity in vacuum insulation panels made using low outgassing, gas adsorbing packaging materials having a sealant layer formed from a low outgassing, gas adsorbing sealant film.

上記の方法で求められる、低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルムを加熱した際に放出されるC16ガス成分の、低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルム単位体積当たりの量は、10μg/cm3以上、1000μg/cm3以下であることが好ましい。 The amount of the C16 gas component released when the low outgassing gas adsorbing sealant film is heated, as determined by the above method, per unit volume of the low outgassing gas adsorbing sealant film is preferably 10 μg/ cm3 or more and 1000 μg/ cm3 or less.

(低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルムのガス吸着性測定方法)
本発明の低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルムのガス吸着性は、低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルムを、例えば、10cm×10cmにカットしてガスサンプリングバックに入れ、さらに濃度が既知の吸着対象ガスを充填して、2日放置後のガス濃度変化を検知管によって測定することができる。
(Method for measuring gas adsorption of low gas-releasing gas adsorption sealant film)
The gas adsorption of the low outgassing gas adsorbent sealant film of the present invention can be measured by cutting the low outgassing gas adsorbent sealant film to, for example, a size of 10 cm x 10 cm, placing it in a gas sampling bag, filling it with a gas to be adsorbed having a known concentration, and measuring the change in gas concentration after leaving it for two days using a detector tube.

≪低ガス放出性ガス吸着積層体≫
本発明の低ガス放出性ガス吸着積層体は、低ガス放出性ガス吸着シーラント層を有する積層体であり、ヒートシール性を有し、ガス放出性が低く、ガスを吸着することができる。
低ガス放出性ガス吸着シーラント層は、本発明の低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルムから形成された層であり、低ガス放出性樹脂と、ガス吸着剤とを含有し、該低ガス放出性樹脂は、ヒートシール性を有する低ガス放出性樹脂であることが好ましい。
本発明の低ガス放出性ガス吸着積層体は、さらに、基材層を有することが好ましく、該基材層がガスバリア基材層であることがより好ましい。
上記の特徴によって、低ガス放出性ガス吸着積層体は、本願発明の低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルムと同様に、真空包装用の積層体に適している。
<Low gas release gas adsorption laminate>
The gas adsorbing laminate with low outgassing property of the present invention is a laminate having a gas adsorbing sealant layer with low outgassing property, has heat sealability, low outgassing property, and is capable of adsorbing gas.
The low outgassing gas adsorbing sealant layer is a layer formed from the low outgassing gas adsorbing sealant film of the present invention, and contains a low outgassing resin and a gas adsorbent, and the low outgassing resin is preferably a low outgassing resin having heat sealability.
The gas adsorbent laminate with low gas release properties of the present invention preferably further comprises a substrate layer, and the substrate layer is more preferably a gas barrier substrate layer.
Due to the above characteristics, the low outgassing gas adsorbent laminate is suitable for use as a laminate for vacuum packaging, similar to the low outgassing gas adsorbent sealant film of the present invention.

包装体の減圧状態を維持する為には、包装体内部の気体分子の増加を抑制することが必要であり、その為には、低ガス放出性ガス吸着積層体、特に低ガス放出性ガス吸着シーラント層自身から放出されるガスの量、低ガス放出性ガス吸着積層体の厚さ方向に透過して包装体内部に侵入するガスの量、低ガス放出性ガス吸着積層体のヒートシール等による接合部分界面を伝わって包装体内部に侵入するガスの量等を抑制する必要がある。 To maintain the reduced pressure state of the package, it is necessary to suppress the increase in gas molecules inside the package. To achieve this, it is necessary to suppress the amount of gas released from the low outgassing gas adsorbing laminate, particularly the low outgassing gas adsorbing sealant layer itself, the amount of gas that penetrates into the package by permeating in the thickness direction of the low outgassing gas adsorbing laminate, and the amount of gas that penetrates into the package through the interface of the joints formed by heat sealing, etc. of the low outgassing gas adsorbing laminate.

包装体内部に低ガス放出性ガス吸着積層体自身から放出されるガスは、低ガス放出性ガス吸着積層体の低ガス放出性ガス吸着シーラント層から放出される量が多く、低ガス放出性ガス吸着積層体のヒートシール等による接合部分界面は低ガス放出性ガス吸着ヒートシール層が存在し、また、包装体内部空間には低ガス放出性ガス吸着シーラント層が接している。
よって、本発明の低ガス放出性ガス吸着積層体の低ガス放出性ガス吸着シーラント層は、それ自体から発生するガス量が少なく、ヒートシール性に優れ、低ガス放出性ガス吸着シーラント層が接する空間からのガスを吸着することによって、接合部分界面を伝わって包装体内部に侵入するガスや、バリア基材層を透過して来たガスを吸着して包装体内部への到達を抑制し、また、包装体内部に存在するガスを吸着して、包装体内部の気圧の上昇を抑制し、減圧状態を維持することができる。
Of the gas released from the low outgassing gas adsorbing laminate itself inside the package, a large amount is released from the low outgassing gas adsorbing sealant layer of the low outgassing gas adsorbing laminate, and the low outgassing gas adsorbing heat seal layer is present at the interface of the joint portion of the low outgassing gas adsorbing laminate by heat sealing or the like, and the low outgassing gas adsorbing sealant layer is in contact with the internal space of the package.
Therefore, the low outgassing gas-adsorbing sealant layer of the low outgassing gas-adsorbing laminate of the present invention generates a small amount of gas itself, has excellent heat sealing properties, and adsorbs gas from the space with which the low outgassing gas-adsorbing sealant layer is in contact, thereby adsorbing gas that penetrates into the inside of the package through the interface of the joint and gas that has permeated the barrier substrate layer, thereby preventing the gas from reaching the inside of the package, and also adsorbs gas present inside the package, thereby preventing an increase in air pressure inside the package and maintaining a reduced pressure state.

本発明の低ガス放出性ガス吸着積層体のガス放出性及びガス吸着性は、低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルムの場合と同様な方法で測定することができる。 The gas release and gas adsorption properties of the low gas release gas adsorption laminate of the present invention can be measured in the same manner as for the low gas release gas adsorption sealant film.

<ガスバリア基材層>
本発明におけるガスバリア基材層とは、ガスバリア性を有する基材層のことであり、ガスバリア性と基材としての性質とを有するガスバリア性樹脂フィルム等の1層で構成され
ていてもよく、ガスバリア層と基材層とを含む多層構成であってもよい。
また、ガスバリア基材層を構成する各層間又は他層との間には、接着性を向上させるために、接着層を設けたり、各層の表面に、必要に応じて、予め、所望の表面処理層を設けたりすることができる。
<Gas Barrier Substrate Layer>
The gas barrier substrate layer in the present invention refers to a substrate layer having gas barrier properties, and may be composed of a single layer such as a gas barrier resin film having both gas barrier properties and substrate properties, or may have a multi-layer structure including a gas barrier layer and a substrate layer.
Furthermore, in order to improve adhesion, an adhesive layer may be provided between each layer constituting the gas barrier substrate layer or between each layer and other layers, and a desired surface treatment layer may be provided in advance on the surface of each layer as necessary.

例えば、コロナ放電処理、オゾン処理、酸素ガス又は窒素ガス等を用いた低温プラズマ処理、グロー放電処理、化学薬品等を用いたる酸化処理等の前処理を任意に施して、コロナ処理層、オゾン処理層、プラズマ処理層、酸化処理層等を形成して設けることができる。 For example, a corona-treated layer, an ozone-treated layer, a plasma-treated layer, an oxidation-treated layer, etc. can be formed by optionally carrying out pretreatment such as corona discharge treatment, ozone treatment, low-temperature plasma treatment using oxygen gas or nitrogen gas, etc., glow discharge treatment, oxidation treatment using chemicals, etc.

或いは、各層の表面に、プライマーコート剤層、アンダーコート剤層、アンカーコート剤層、接着層、蒸着アンカーコート剤層等の各種コート剤層を任意に形成して、表面処理層とすることもできる。
上記の各種コート剤層には、例えば、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノール系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリエチレンもしくはポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂又はその共重合体ないし変性樹脂、セルロース系樹脂等をビヒクルの主成分とする樹脂組成物を用いることができる。
ガスバリア基材層の厚さは、5μm以上、100μm以下が好ましく、7μm以上、75μm以下がより好ましい。上記範囲未満であると、剛性及び/又はガスバリア性が不十分になるおそれがあり、上記範囲を超えると、剛性が強くなり過ぎて作業性が低下するおそれがある。
Alternatively, various coating layers such as a primer coating layer, an undercoating layer, an anchor coating layer, an adhesive layer, and a vapor-deposited anchor coating layer may be formed on the surface of each layer to form a surface treatment layer.
For the various coating agent layers, for example, a resin composition containing a polyester-based resin, a polyamide-based resin, a polyurethane-based resin, an epoxy-based resin, a phenol-based resin, a (meth)acrylic resin, a polyvinyl acetate-based resin, a polyolefin-based resin such as polyethylene or polypropylene, or a copolymer or modified resin thereof, a cellulose-based resin, or the like as a main component of the vehicle can be used.
The thickness of the gas barrier substrate layer is preferably 5 μm to 100 μm, more preferably 7 μm to 75 μm. If the thickness is less than the above range, the rigidity and/or gas barrier properties may be insufficient, and if the thickness exceeds the above range, the rigidity may be too high, resulting in reduced workability.

[基材層]
基材層には、樹脂フィルムや紙材等を用いることができ、1層で構成されていてもよく、組成が同一又は異なる2層以上を含む多層構成であってもよい。
[Base layer]
The substrate layer may be a resin film, a paper material, or the like, and may be configured as a single layer or a multilayer structure including two or more layers having the same or different compositions.

基材層の厚さは、素材にもよるが、樹脂フィルムの場合には、好ましくは5μm以上、60μm以下、より好ましくは7μm以上、45μm以下である。
基材層に用いられる樹脂フィルムには、熱可塑性樹脂をフィルム化したものを用いることができ、化学的又は物理的強度に優れ、金属や金属酸化物の蒸着膜を形成する条件に耐え、それらの蒸着膜の特性を損なうことなく良好に保持し得ることができる熱可塑性樹脂であることが好ましい。
The thickness of the base layer varies depending on the material, but in the case of a resin film, it is preferably 5 μm or more and 60 μm or less, and more preferably 7 μm or more and 45 μm or less.
The resin film used for the base layer may be a film of a thermoplastic resin, and is preferably a thermoplastic resin that has excellent chemical and physical strength, can withstand the conditions for forming a vapor-deposited film of a metal or metal oxide, and can well retain the properties of the vapor-deposited film without impairing the properties.

このような樹脂としては、例えば、ポリエチレン系樹脂又はポリプロピレン系樹脂等のポリオレフィン系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、アクリロニトリル-スチレン共重合体(AS樹脂)、アクリロニトリル-ブタジエン-スチレン共重合体(ABS樹脂)、ポリ(メタ)アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、各種のナイロン等のポリアミド系樹脂、ポリウレタン系樹脂、アセタール系樹脂、セルロース系樹脂等の各種の樹脂が挙げられる。
本発明においては、樹脂としては、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂が好ましく、特に、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ナイロン、ポリプロピレン(PP)が好ましい。
Examples of such resins include polyolefin resins such as polyethylene resins and polypropylene resins, cyclic polyolefin resins, polystyrene resins, acrylonitrile-styrene copolymers (AS resins), acrylonitrile-butadiene-styrene copolymers (ABS resins), poly(meth)acrylic resins, polycarbonate resins, polyester resins such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, polyamide resins such as various nylons, polyurethane resins, acetal resins, and cellulose resins.
In the present invention, the resin is preferably a polyester resin, a polyamide resin, or a polyolefin resin, and is particularly preferably polyethylene terephthalate (PET), nylon, or polypropylene (PP).

本発明において、基材層に用いられる熱可塑性樹脂は、各種製膜法でフィルム化することができる。
例えば、1種の樹脂を使用して、押し出し法、キャスト成形法、Tダイ法、切削法、インフレーション法等の製膜化法を用いて製膜する方法、2種以上の樹脂を使用して多層共押し出し製膜する方法、2種以上の樹脂を製膜する前に混合して上記製膜法で製膜する方
法、等が挙げられる。さらに、テンター方式やチューブラー方式等を利用して1軸又は2軸方向に延伸したフィルムとすることができる。
In the present invention, the thermoplastic resin used in the substrate layer can be formed into a film by various film-forming methods.
For example, a method of forming a film using one type of resin by a film forming method such as an extrusion method, a cast molding method, a T-die method, a cutting method, or an inflation method, a method of forming a multilayer film by co-extrusion using two or more types of resins, a method of mixing two or more types of resins before film formation and forming a film by the above-mentioned film formation method, etc. Furthermore, a film can be uniaxially or biaxially stretched using a tenter method, a tubular method, etc.

又は、他の樹脂フィルム上に、1種又は2種以上の樹脂を、塗布及び乾燥してコーティングしたり、Tダイ法等によって溶融した樹脂を積層したりすることもできる。
本発明においては、樹脂フィルムとしては、二軸延伸PETフィルム、二軸延伸ナイロンフィルム、二軸延伸PPフィルム又はシートが好ましく用いられる。
Alternatively, one or more resins may be coated on another resin film by applying and drying, or a molten resin may be laminated by a T-die method or the like.
In the present invention, the resin film is preferably a biaxially oriented PET film, a biaxially oriented nylon film, or a biaxially oriented PP film or sheet.

なお、樹脂フィルムには、その製膜化に際して、例えば、フィルムの加工性、耐熱性、耐候性、機械的性質、寸法安定性、抗酸化性、滑り性、離形性、難燃性、抗カビ性、電気的特性、強度等を改良、改質する目的で、種々のプラスチック配合剤や添加剤等を添加することができ、その添加量としては、極微量から数十%まで、その目的に応じて、任意に添加することができる。
上記において、一般的な添加剤としては、例えば、滑剤、架橋剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、充填剤、補強剤、帯電防止剤、顔料、改質用樹脂等を使用することができる。
In addition, when forming the resin film, various plastic compounding agents and additives can be added to the resin film for the purpose of improving or modifying, for example, the processability, heat resistance, weather resistance, mechanical properties, dimensional stability, oxidation resistance, slipperiness, release properties, flame retardancy, mildew resistance, electrical properties, strength, etc. of the film. The amount of these additives to be added can range from a trace amount to several tens of percent and can be any amount depending on the purpose.
In the above, examples of common additives that can be used include lubricants, crosslinking agents, antioxidants, ultraviolet absorbers, light stabilizers, fillers, reinforcing agents, antistatic agents, pigments, modifying resins, and the like.

[ガスバリア層]
ガスバリア層は、本発明の低ガス放出性ガス吸着積層体を用いて作製した包装体において、包装体の外部から内部へと、大気中のガスが低ガス放出性ガス吸着積層体を透過して来るのを抑制する層である。
ガスバリア層には、ガスバリア性樹脂フィルム、金属箔、金属又は金属酸化物蒸着層付き樹脂フィルム、ガスバリア性樹脂塗膜からなる群から選ばれる1種又は2種以上の組み合わせを用いることができる。
[Gas barrier layer]
The gas barrier layer is a layer that, in a packaging body made using the low outgassing gas adsorption laminate of the present invention, prevents atmospheric gas from passing through the low outgassing gas adsorption laminate from the outside to the inside of the packaging body.
The gas barrier layer may be made of one or a combination of two or more selected from the group consisting of a gas barrier resin film, a metal foil, a resin film with a metal or metal oxide vapor-deposited layer, and a gas barrier resin coating film.

ガスバリア性樹脂フィルムとしては、例えば、PET、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミド、ポリイミド、ポリビニルアルコール、エチレン・ビニルアルコール共重合体等の樹脂からなる樹脂フィルムが好ましい。 Preferred examples of gas barrier resin films include resin films made of resins such as PET, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyamide, polyimide, polyvinyl alcohol, and ethylene-vinyl alcohol copolymers.

金属箔としては、厚さが3μm以上、15μm以下のアルミニウム箔が好ましい。 The metal foil is preferably aluminum foil with a thickness of 3 μm or more and 15 μm or less.

金属又は金属酸化物蒸着層付き樹脂フィルムとしては、アルミニウム蒸着膜、シリカ蒸着膜、酸化アルミニウム蒸着膜を、上記の基材樹脂フィルムの少なくともいずれか一方の面上に形成したものが好ましい。商業的にも入手可能な酸化アルミニウム蒸着膜付き樹脂フィルムとしては、例えば、PVD法によりアルミナを片面に蒸着したPETフィルムである、大日本印刷株式会社製のアルミナ蒸着IB-PET-PIR(厚さ12μm)、シリカ蒸着IB-ON-UB(厚さ15μm)が挙げられる。 As a resin film with a metal or metal oxide vapor deposition layer, an aluminum vapor deposition film, a silica vapor deposition film, or an aluminum oxide vapor deposition film is preferably formed on at least one side of the above-mentioned base resin film. Commercially available resin films with an aluminum oxide vapor deposition film include, for example, alumina vapor deposition IB-PET-PIR (thickness 12 μm) and silica vapor deposition IB-ON-UB (thickness 15 μm) manufactured by Dai Nippon Printing Co., Ltd., which are PET films with alumina vapor-deposited on one side by the PVD method.

ガスバリア性樹脂塗膜としては、金属アルコキシドと水溶性高分子とから形成されたゾルゲル法加水分解重縮合物を含有する塗膜が好ましい。 As a gas barrier resin coating film, a coating film containing a sol-gel hydrolysis polycondensate formed from a metal alkoxide and a water-soluble polymer is preferred.

ガスバリア層用の金属箔、金属又は金属酸化物蒸着層付き樹脂フィルムは、ドライラミネート接着剤を用いて、他の層と接着することができる。
あるいは、金属又は金属酸化物蒸着層付き樹脂フィルムの樹脂フィルムに、基材層用の樹脂フィルムを用いることで、基材層への積層を省略することもできる。
The metal foil or resin film with a metal or metal oxide vapor-deposited layer for the gas barrier layer can be bonded to other layers using a dry lamination adhesive.
Alternatively, by using a resin film for the base layer as the resin film of the resin film with a metal or metal oxide vapor-deposited layer, lamination onto the base layer can be omitted.

<接着層>
本発明の低ガス放出性ガス吸着積層体は、構成する各層の層間及び各層内の層間に、接着層を設けて積層することが可能である。
また、接着層を形成する前に、接着性を向上する為に、接着対象層表面に予めアンカー
コート層を形成しておいてもよい。
<Adhesive Layer>
The gas adsorbent laminate with low outgassing properties of the present invention can be laminated by providing adhesive layers between the constituent layers and between layers within each layer.
Furthermore, before forming the adhesive layer, an anchor coat layer may be formed in advance on the surface of the layer to be adhered in order to improve adhesion.

接着層を形成する接着剤(接着剤組成物)は、熱硬化型、紫外線硬化型、電子線硬化型等であってよく、水性型、溶液型、エマルジョン型、分散型等のいずれの形態でもよく、また、その性状は、フィルム/シート状、粉末状、固形状等のいずれの形態でもよく、更に、接着機構については、化学反応型、溶剤揮発型、熱溶融型、熱圧型等のいずれの形態でもよい。 The adhesive (adhesive composition) that forms the adhesive layer may be of the heat-curing type, ultraviolet-curing type, or electron beam-curing type, and may be in any form, such as aqueous, solution, emulsion, or dispersion type. The adhesive may be in any form, such as film/sheet, powder, or solid, and the adhesive mechanism may be any form, such as chemical reaction, solvent volatilization, heat melting, or heat pressure.

またこのような接着剤としては、ポリ酢酸ビニルや酢酸ビニル-エチレン共重合体等のポリ酢酸ビニル系接着剤、ポリアクリル酸とポリスチレン、ポリエステル、ポリ酢酸ビニル等との共重合体からなるポリアクリル酸系接着剤、シアノアクリレート系接着剤、エチレンと酢酸ビニル、アクリル酸エチル、アクリル酸、メタクリル酸等のモノマーとの共重合体からなるエチレン共重合体系接着剤、セルロース系接着剤、ポリウレタン系接着剤、ポリエステル系接着剤、ポリアミド系接着剤、ポリイミド系接着剤、ポリオレフィン系接着剤、尿素樹脂又はメラミン樹脂等からなるアミノ樹脂系接着剤、フェノール樹脂系接着剤、エポキシ系接着剤、反応型(メタ)アクリル系接着剤、クロロプレンゴム、ニトリルゴム、スチレン-ブタジエンゴム等からなるエラストマー系接着剤、シリコーン系接着剤、アルカリ金属シリケート、低融点ガラス等からなる無機系接着剤等が挙げられる。
インフレーション法による共押出し及び製膜で積層体を形成する場合には、上記の中でも、ポリオレフィン系接着剤が好ましい。
Examples of such adhesives include polyvinyl acetate adhesives such as polyvinyl acetate and vinyl acetate-ethylene copolymers, polyacrylic acid adhesives consisting of copolymers of polyacrylic acid and polystyrene, polyester, polyvinyl acetate, etc., cyanoacrylate adhesives, ethylene copolymer adhesives consisting of copolymers of ethylene and monomers such as vinyl acetate, ethyl acrylate, acrylic acid, methacrylic acid, etc., cellulose adhesives, polyurethane adhesives, polyester adhesives, polyamide adhesives, polyimide adhesives, polyolefin adhesives, amino resin adhesives consisting of urea resin or melamine resin, etc., phenol resin adhesives, epoxy adhesives, reactive (meth)acrylic adhesives, elastomer adhesives consisting of chloroprene rubber, nitrile rubber, styrene-butadiene rubber, etc., silicone adhesives, inorganic adhesives consisting of alkali metal silicates, low melting point glass, etc.
When a laminate is formed by coextrusion and film formation using an inflation method, among the above, a polyolefin-based adhesive is preferred.

本発明の一態様において、接着層は、EC(エクストルージョンコート)用接着剤、ドライラミネート用接着剤、ノンソルベントラミネート用接着剤等の何れからなる層であってよい。
EC用接着剤を用いる場合は、特に限定されないが、例えば、まず、接着剤を加熱溶融して、Tダイス等で必要な幅方向に拡大伸張させてカーテン状に押出し、接着対象層上へ流下させて、ゴムロールと冷却した金属ロールとで挟持することで、接着層の形成と接着対象層への接着と積層を同時に行う。
In one embodiment of the present invention, the adhesive layer may be a layer made of any of an adhesive for EC (extrusion coating), an adhesive for dry lamination, an adhesive for non-solvent lamination, and the like.
When an EC adhesive is used, although there are no particular limitations, for example, the adhesive is first heated and melted, expanded and stretched in the required width direction using a T-die or the like, extruded into a curtain shape, allowed to flow down onto the layer to be adhered, and then sandwiched between a rubber roll and a cooled metal roll, thereby simultaneously forming an adhesive layer and adhering and laminating to the layer to be adhered.

別態様において、接着層は、サンドラミネーションにより形成されてもよい。この場合、接着層は、加熱溶融させて押出機で適用可能な任意の樹脂を用いることができる。具体的には、上記のヒートシール性を有する熱可塑性樹脂として挙げた樹脂を好ましく用いることができる。 In another embodiment, the adhesive layer may be formed by sand lamination. In this case, the adhesive layer may be made of any resin that can be applied by heating and melting it in an extruder. Specifically, the resins listed above as thermoplastic resins having heat sealability can be preferably used.

ドライラミネート用接着剤を用いる場合は、溶媒へ分散又は溶解した接着剤を一方のフィルム上に塗布し乾燥させて、もう一方のフィルムを重ねて積層した後に、30~120℃で数時間~数日間エージングすることで、接着剤を硬化させて接着し、積層することができる。 When using a dry lamination adhesive, the adhesive dispersed or dissolved in a solvent is applied to one film and dried, and the other film is then laminated on top of it. The adhesive is then cured by aging at 30 to 120°C for several hours to several days, allowing the two films to bond and be laminated.

ノンソルベントラミネート用接着剤を用いる場合は、溶媒へ分散又は溶解せずに接着剤自身を接着対象層上に塗布し乾燥させて、もう一方の層を形成するフィルムを重ねて積層した後に、30~120℃で数時間~数日間エージングすることで、接着剤を硬化させて積層する。 When using a non-solvent laminating adhesive, the adhesive itself is applied to the layer to be bonded without being dispersed or dissolved in a solvent, and then dried. The film that will form the other layer is then laminated on top of it, and the adhesive is hardened by aging at 30 to 120°C for several hours to several days before laminating.

ドライラミネート用接着剤又はノンソルベントラミネート用接着剤は、例えばロールコート、グラビアロールコート、キスコート等でコーティングして用いることができ、そのコーティング量は、0.1~10g/m2(乾燥状態)が望ましい。該コーティング量を上記範囲とすることで、良好な接着性が得られる。 The adhesive for dry lamination or the adhesive for non-solvent lamination can be used by coating, for example, by roll coating, gravure roll coating, kiss coating, etc., and the coating amount is preferably 0.1 to 10 g/ m2 (dry state). By setting the coating amount within the above range, good adhesion can be obtained.

(アンカーコート層)
アンカーコート層は、任意のアンカーコート剤から形成することができる。
アンカーコート剤としては、例えば、有機チタン系、イソシアネート(ウレタン系)系、ポリエチレンイミン系、酸変性ポリエチレン系、ポリブタジエン系、ポリアクリル系、ポリエステル系、エポキシ系、ポリ酢酸ビニル系、セルロース系、その他等のアンカーコート剤を用いることができる。
(Anchor coat layer)
The anchor coat layer can be formed from any anchor coat agent.
Examples of anchor coating agents that can be used include organic titanium-based, isocyanate (urethane-based), polyethyleneimine-based, acid-modified polyethylene-based, polybutadiene-based, polyacrylic-based, polyester-based, epoxy-based, polyvinyl acetate-based, cellulose-based, and other anchor coating agents.

[低ガス放出性ガス吸着積層体の作製方法]
下記に示す作製方法は1例であって、本発明を限定するものではない。
低ガス放出性ガス吸着積層体を構成する各層の製膜、例えば、ウェットラミネーション法、ドライラミネーション法、無溶剤型ドライラミネーション法、押し出しラミネーション法、Tダイ共押し出し成形法、共押し出しラミネーション法、インフレーション法、その他等の任意の方法で行うことができる。
得られた低ガス放出性ガス吸着積層体には、化学的機能、電気的機能、磁気的機能、力学的機能、摩擦/磨耗/潤滑機能、光学的機能、熱的機能、生体適合性等の表面機能等の付与を目的として、二次加工を施すことも可能である。
[Method for producing low gas release gas adsorption laminate]
The preparation method described below is an example and is not intended to limit the present invention.
The layers constituting the low gas release gas adsorption laminate can be formed by any method, such as wet lamination, dry lamination, solventless dry lamination, extrusion lamination, T-die coextrusion molding, coextrusion lamination, inflation molding, and the like.
The obtained low gas release gas adsorption laminate can be subjected to secondary processing for the purpose of imparting surface functions such as chemical functions, electrical functions, magnetic functions, mechanical functions, friction/wear/lubrication functions, optical functions, thermal functions, and biocompatibility.

二次加工の例としては、エンボス加工、塗装、接着、印刷、メタライジング(めっき等)、機械加工、表面処理(帯電防止処理、コロナ放電処理、プラズマ処理、フォトクロミズム処理、物理蒸着、化学蒸着、コーティング、等)等が挙げられる。 Examples of secondary processing include embossing, painting, gluing, printing, metallizing (plating, etc.), machining, surface treatment (antistatic treatment, corona discharge treatment, plasma treatment, photochromic treatment, physical vapor deposition, chemical vapor deposition, coating, etc.).

以下に、一例として、ガスバリア基材層[基材層1/接着層/基材層2/接着層/ガスバリア層]/接着層/低ガス放出性ガス吸着シーラント層[ヒートシール層1/ガス吸着層/ヒートシール層2]という層構成を有する低ガス放出性ガス吸着積層体(減圧保持包装材料)を作製する場合について説明する。 As an example, the following describes the production of a low outgassing gas adsorbing laminate (reduced pressure retaining packaging material) having a layer structure of gas barrier substrate layer [substrate layer 1/adhesive layer/substrate layer 2/adhesive layer/gas barrier layer]/adhesive layer/low outgassing gas adsorbing sealant layer [heat seal layer 1/gas adsorbing layer/heat seal layer 2].

(低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルムの作製)
ガス吸着層用のガス吸着層樹脂組成物と、ヒートシール層用の低ガス放出性樹脂とをそれぞれ調製して準備し、インフレーション法により、下記層構成の低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルムを得ることができる。
層構成:ヒートシール層1/ガス吸着層/ヒートシール層2
(Preparation of low outgassing gas adsorbing sealant film)
A gas adsorption layer resin composition for the gas adsorption layer and a low gas releasing resin for the heat seal layer are separately prepared and then subjected to an inflation method to obtain a low gas releasing gas adsorption sealant film having the layer structure described below.
Layer structure: heat seal layer 1/gas adsorption layer/heat seal layer 2

(低ガス放出性ガス吸着積層体の作製)
次に、低ガス放出性ガス吸着シーラント層用の上記で得た低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルムと、基材層1用の基材フィルム1及び基材層2用の基材フィルム2と、ガスバリア層用のアルミニウム箔とを、この順で接着層用のDL接着剤を介したドライラミネーション(塗布量:3.5g/m2、乾燥温度:70℃)によって張り合わせて、上記層構成の低ガス放出性ガス吸着積層体を得ることができる。
(Preparation of low gas release gas adsorption laminate)
Next, the low outgassing gas adsorption sealant film obtained above for the low outgassing gas adsorption sealant layer, the substrate film 1 for the substrate layer 1 and the substrate film 2 for the substrate layer 2, and an aluminum foil for the gas barrier layer are bonded together in this order by dry lamination (coating amount: 3.5 g/ m2 , drying temperature: 70°C) using a DL adhesive for the adhesive layer to obtain a low outgassing gas adsorption laminate with the above layer structure.

≪低ガス放出性ガス吸着包装材料≫
本発明の低ガス放出性ガス吸着包装材料は、本発明の低ガス放出性ガス吸着積層体から作製された包装材料であり、低ガス放出性ガス吸着積層体と同一物であってもよく、必要に応じて、種々の機能層や、印刷層等をさらに含むこともできる。
上記の特徴によって、低ガス放出性ガス吸着包装材料は、本願発明の低ガス放出性ガス吸着積層体と同様に、真空包装用の包装材料に適している。
また、本発明の低ガス放出性ガス吸着包装材料に、ラミネート加工(ドライラミネートや押し出しラミネート)、製袋加工、及びその他の後処理加工を施すこともできる。
本発明の低ガス放出性ガス吸着包装材料の具体例としては、例えば、各種真空包装用の低ガス放出性ガス吸着包装材料が挙げられる。
真空包装の具体例としては、例えば食品用途には、生鮮食品(チーズ、サラミ、ソーセージ等の真空後に殺菌処理しないタイプ)や、ボイル・レトルト食品(真空包装後に殺菌
処理するタイプ)用の包装材料が挙げられ、また産業資材分野用途には、断熱パネルの外包材料、金属部品あるいは金属機器の防錆包装材料用途等が挙げられる。
<Low gas emission and gas adsorption packaging material>
The low outgassing gas adsorbing packaging material of the present invention is a packaging material made from the low outgassing gas adsorbing laminate of the present invention, and may be the same as the low outgassing gas adsorbing laminate, and may further include various functional layers, printed layers, etc., as necessary.
Due to the above characteristics, the gas adsorbing packaging material with low outgassing property is suitable as a packaging material for vacuum packaging, like the gas adsorbing laminate with low outgassing property of the present invention.
The low gas-releasing, gas-adsorbing packaging material of the present invention can also be subjected to lamination (dry lamination or extrusion lamination), bag making, and other post-treatments.
Specific examples of the low gas emission, gas adsorption packaging material of the present invention include low gas emission, gas adsorption packaging materials for various vacuum packaging.
Specific examples of vacuum packaging include packaging materials for fresh foods (such as cheese, salami, and sausages that are not sterilized after vacuum packaging) and boiled and retort foods (which are sterilized after vacuum packaging) in the food industry, and packaging materials for insulating panels and rust-preventive packaging materials for metal parts or metal equipment in the industrial materials field.

≪低ガス放出性ガス吸着包装体≫
本発明の低ガス放出性ガス吸着包装体は、本発明の低ガス放出性ガス吸着包装材料を用いて作製された包装体であり、具体例としては、食品包装体、断熱パネル、防錆包装体等が挙げられる。
<Low gas emission gas adsorption packaging>
The low outgassing, gas-adsorbing packaging body of the present invention is a packaging body produced using the low outgassing, gas-adsorbing packaging material of the present invention, and specific examples include food packaging bodies, insulation panels, and rust-proof packaging bodies.

実施例に用いた原料の詳細は下記の通りである。
[低ガス放出性樹脂]
・低ガス放出性樹脂1:(株)プライムポリマー社製、ウルトゼックス3520L。C6-LLDPE、密度0.931g/cm3、MFR2.1g/10分。抽出水のTOC濃度0.26ppm、樹脂フィルムに含有される溶出性のTOC濃度42.3ppm。
・低ガス放出性樹脂2:(株)プライムポリマー社製、ネオゼックス3510F。C4-LLDPE、密度0.933g/cm3、MFR1.6g/10分。抽出水のTOC濃度0.32ppm、樹脂フィルムに含有される溶出性のTOC濃度52.0ppm。
・低ガス放出性樹脂3:(株)プライムポリマー社製、ウルトゼックス2021L。C6-LLDPE、密度0.919g/cm3、MFR2.0g/10分。抽出水のTOC濃度0.56ppm、樹脂フィルムに含有される溶出性のTOC濃度92.3ppm。
・低ガス放出性樹脂4:日本ポリエチレン(株)社製、ノバテックLC522。LDPE。密度0.923g/cm3、MFR4g/10分。抽出水のTOC濃度0.32ppm、樹脂フィルムに含有される溶出性のTOC濃度52.5ppm。
Details of the raw materials used in the examples are as follows.
[Low gas emission resin]
Low gas release resin 1: Ultzex 3520L, manufactured by Prime Polymer Co., Ltd. C6-LLDPE, density 0.931 g/cm 3 , MFR 2.1 g/10 min. TOC concentration in the extracted water 0.26 ppm, leachable TOC concentration contained in the resin film 42.3 ppm.
Low gas emission resin 2: Neozex 3510F, manufactured by Prime Polymer Co., Ltd. C4-LLDPE, density 0.933 g/cm 3 , MFR 1.6 g/10 min. TOC concentration in the extracted water 0.32 ppm, elutable TOC concentration contained in the resin film 52.0 ppm.
Low gas release resin 3: Ultzex 2021L, manufactured by Prime Polymer Co., Ltd. C6-LLDPE, density 0.919 g/cm 3 , MFR 2.0 g/10 min. TOC concentration in the extracted water 0.56 ppm, elutable TOC concentration contained in the resin film 92.3 ppm.
Low gas emission resin 4: Novatec LC522 manufactured by Japan Polyethylene Co., Ltd. LDPE. Density 0.923 g/cm 3 , MFR 4 g/10 min. TOC concentration of the extracted water 0.32 ppm, elutable TOC concentration contained in the resin film 52.5 ppm.

[汎用ポリエチレン]
・汎用ポリエチレン1:(株)プライムポリマー社製エボリューSP4020。C6-LLDPE、密度0.937g/cm3、MFR1.7g/10分。抽出水のTOC濃度2.85ppm、樹脂フィルムに含有される溶出性のTOC濃度461ppm。
・汎用ポリエチレン2:(株)プライムポリマー社製、エボリューSP1520。C6-LLDPE、密度0.913g/cm3、MFR2.0g/10分。抽出水のTOC濃度3.05ppm、樹脂フィルムに含有される溶出性のTOC濃度506ppm。
[General-purpose polyethylene]
General-purpose polyethylene 1: Evolu SP4020 manufactured by Prime Polymer Co., Ltd. C6-LLDPE, density 0.937 g/cm 3 , MFR 1.7 g/10 min. TOC concentration in the extracted water 2.85 ppm, elutable TOC concentration contained in the resin film 461 ppm.
General-purpose polyethylene 2: Evolue SP1520 manufactured by Prime Polymer Co., Ltd. C6-LLDPE, density 0.913 g/cm 3 , MFR 2.0 g/10 min. TOC concentration in the extracted water 3.05 ppm, elutable TOC concentration contained in the resin film 506 ppm.

[ガス吸着剤]
・疎水性ゼオライト1:水澤化学工業(株)製疎水性ゼオライト、ミズカシーブスEX-122。SiO2/AL23モル比=32/1、平均粒子径=2.5~5.5μm。
・疎水性ゼオライト2:水澤化学工業(株)社製疎水性ゼオライト、シルトンMT400。SiO2/AL23モル比=400/1、平均粒子径=5~7μm。
・疎水性ゼオライト3:水澤化学工業(株)製疎水性ゼオライト、シルトンMT-2000。SiO2/AL23モル比=2000/1、平均粒子径=0.8μm。
[Gas adsorbent]
Hydrophobic zeolite 1: Mizuka Sieves EX-122, a hydrophobic zeolite manufactured by Mizusawa Chemical Industry Co., Ltd. SiO 2 /Al 2 O 3 molar ratio: 32/1, average particle size: 2.5 to 5.5 μm.
Hydrophobic zeolite 2: Silton MT400, a hydrophobic zeolite manufactured by Mizusawa Chemical Industry Co., Ltd. SiO 2 /Al 2 O 3 molar ratio = 400/1, average particle size = 5 to 7 μm.
Hydrophobic zeolite 3: Silton MT-2000, a hydrophobic zeolite manufactured by Mizusawa Chemical Industries, Ltd. SiO 2 /Al 2 O 3 molar ratio=2000/1, average particle size=0.8 μm.

[酸化防止剤]
・酸化防止剤1:(株)プライムポリマー社製、EAG-5。フェノール系酸化防止剤とリン系酸化防止剤とを合計5質量%含有。MFR4.5g/10分。
[Antioxidants]
Antioxidant 1: EAG-5, manufactured by Prime Polymer Co., Ltd. Contains 5% by mass of a phenol-based antioxidant and a phosphorus-based antioxidant in total. MFR 4.5 g/10 min.

[基材層用フィルム]
・PETフィルム1:東洋紡(株)社製、エスペット T4102、厚さ12μm。
[バリア層用金属箔]
・アルミニウム箔1:東洋アルミニウム(株)社製。6μm厚。
[接着剤]
・DL接着剤1:ロックペイント(株)社製、アドロックRU77T/H7。
[Film for base layer]
PET film 1: Toyobo Co., Ltd., Espet T4102, thickness 12 μm.
[Metal foil for barrier layer]
Aluminum foil 1: manufactured by Toyo Aluminum Co., Ltd., thickness 6 μm.
[glue]
DL adhesive 1: Adlock RU77T/H7, manufactured by Rock Paint Co., Ltd.

[マスターバッチの調製]
ガス吸着層に使用するマスターバッチは下記のように調製した。
[Preparation of Masterbatch]
The masterbatch used in the gas adsorption layer was prepared as follows.

(マスターバッチ1の調製)
低ガス放出性樹脂4と疎水性ゼオライト1とを下記の割合でメルトブレンドして、マスターバッチ1(MB1)を得た。
低ガス放出性樹脂4 90質量部
疎水性ゼオライト1 10質量部
(Preparation of Masterbatch 1)
Low gas releasing resin 4 and hydrophobic zeolite 1 were melt blended in the following ratio to obtain master batch 1 (MB1).
Low gas emission resin 4 90 parts by weight Hydrophobic zeolite 1 10 parts by weight

[マスターバッチ2~7の調整]
表1の配合に従って、マスターバッチ1と同様に、各原料をメルトブレンドして、マスターバッチ2~7(MB2~7)得た。
[Preparation of Masterbatches 2 to 7]
According to the formulation in Table 1, the raw materials were melt-blended in the same manner as for Masterbatch 1 to obtain Masterbatches 2 to 7 (MB2 to 7).

Figure 0007635527000001
Figure 0007635527000001

[ガス吸着層樹脂組成物の調製]
ガス吸着層に使用するガス吸着層樹脂組成物は下記のように調製した。
[Preparation of Gas Adsorption Layer Resin Composition]
The gas adsorbing layer resin composition used in the gas adsorbing layer was prepared as follows.

(ガス吸着層樹脂組成物1の調製)
MB1と低ガス放出性樹脂1とを下記の割合でドライブレンドして、ガス吸着層樹脂組成物1を得た。
MB1 16.7質量部
低ガス放出性樹脂1 83.3質量部
(Preparation of Gas Adsorption Layer Resin Composition 1)
MB1 and low gas releasing resin 1 were dry blended in the following ratio to obtain gas adsorption layer resin composition 1.
MB1 16.7 parts by mass Low gas emission resin 1 83.3 parts by mass

(ガス吸着層樹脂組成物2~13の調製)
表2に示された配合に従って、ガス吸着層樹脂組成物1と同様に、各原料をドライブレンドして、ガス吸着層樹脂組成物2~13を得た。
(Preparation of Gas Adsorption Layer Resin Compositions 2 to 13)
According to the formulation shown in Table 2, the raw materials were dry-blended in the same manner as in the case of gas-adsorbing layer resin composition 1, to obtain gas-adsorbing layer resin compositions 2 to 13.

Figure 0007635527000002
Figure 0007635527000002

Figure 0007635527000003
Figure 0007635527000003

[ヒートシール層樹脂組成物の調製]
表3に示された配合で各原料をドライブレンドすることによって、ヒートシール層樹脂組成物1、2を得た。
[Preparation of Heat Seal Layer Resin Composition]
The raw materials were dry-blended in the proportions shown in Table 3 to obtain resin compositions 1 and 2 for heat seal layers.

Figure 0007635527000004
Figure 0007635527000004

<実施例1>
上記で得たガス吸着層樹脂組成物1と、低ガス放出性樹脂1とを用いて、インフレーシ
ョン法により、下記層構成の低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルム1を得た。
ヒートシール層1/ガス吸着層/ヒートシール層2=低ガス放出性樹脂1(10μm厚)/ガス吸着層樹脂組成物1(30μm厚)/低ガス放出性樹脂1(10μm厚)
そして、得られた低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルム1を用いて、各種評価を実施した。
さらに、上記で得た低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルム1とPETフィルム1とアルミニウム箔1とを、DL接着剤1を介したドライラミネーション(塗布量:3.5g/m2、乾燥温度:70℃)によって張り合わせて、下記層構成の低ガス放出性ガス吸着積層体1を得て、ヒートシール性を評価した。層構成及び評価結果を表5に示す。
積層体1の構成:ガスバリア基材層(PETフィルム1/DL接着剤1/アルミニウム箔1/DL接着剤1/低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルム1)
Example 1
Using the gas-adsorbing layer resin composition 1 and the low gas-releasing resin 1 obtained above, a low gas-releasing gas-adsorbing sealant film 1 having the following layer structure was obtained by an inflation method.
Heat seal layer 1/gas adsorption layer/heat seal layer 2=low gas release resin 1 (10 μm thick)/gas adsorption layer resin composition 1 (30 μm thick)/low gas release resin 1 (10 μm thick)
The obtained low gas release gas adsorption sealant film 1 was used to carry out various evaluations.
Furthermore, the low outgassing gas adsorbing sealant film 1 obtained above, the PET film 1, and the aluminum foil 1 were laminated by dry lamination (coating amount: 3.5 g/ m2 , drying temperature: 70°C) using DL adhesive 1 to obtain a low outgassing gas adsorbing laminate 1 having the following layer structure, and the heat sealability was evaluated. The layer structure and evaluation results are shown in Table 5.
Structure of laminate 1: Gas barrier substrate layer (PET film 1/DL adhesive 1/aluminum foil 1/DL adhesive 1/low gas release gas adsorption sealant film 1)

<実施例2~17、比較例1~4>
表5~8に示された各原料を用いて、実施例1と同様に操作して、低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルム及び低ガス放出性ガス吸着積層体を得て、同様に評価した。
<Examples 2 to 17 and Comparative Examples 1 to 4>
Using the raw materials shown in Tables 5 to 8, the same procedures as in Example 1 were carried out to obtain low outgassing gas adsorbent sealant films and low outgassing gas adsorbent laminates, which were similarly evaluated.

<評価方法>
[製膜性]
低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルムの外観を観察し、官能的に評価した。評価基準は以下の通りである。
○:皺やぶつが生じることなく製膜が可能。
×:皺やぶつが多数生じ、製膜が困難。
<Evaluation method>
[Film-forming ability]
The appearance of the low gas-releasing gas-adsorbing sealant film was observed and evaluated sensorily according to the following criteria:
○: Film formation is possible without wrinkles or bumps.
×: Numerous wrinkles and bumps were generated, making film formation difficult.

[ガス放出量]
低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルムを50mm×10mmにカットして得た2枚のフィルムを試験管に入れて90℃で60分間加熱し、試験管中の空気を採取して、ガスクロマトグラフィーによって、採取した空気中の炭素数16の有機ガス成分の濃度を測定し、低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルムが単位体積当たりに放出した炭素数16の有機ガス成分量を算出した。
[Gas release amount]
The low outgassing gas adsorption sealant film was cut to 50 mm x 10 mm, and two pieces of the film were placed in a test tube and heated at 90°C for 60 minutes. The air in the test tube was sampled, and the concentration of the carbon number 16 organic gas component in the sampled air was measured by gas chromatography, and the amount of the carbon number 16 organic gas component released per unit volume by the low outgassing gas adsorption sealant film was calculated.

[ガス吸着性]
低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルムを10×10cmにカットし、ガスサンプリングバック(ジーエルサイエンス社、SMART BAG)に、100ppmに調整したアセトアルデヒドガス600ccと共に封入し、2日放置後のガス濃度を検知管(ガステック社、アセトアルデヒドNo.92M)により測定した。
また、アセトアルデヒドガスに替えて、30ppmに調整した酢酸ガス、400ppmに調整した酢酸エチルガスを用いて、アセトアルデヒドガスと同様に評価を実施した。ガス濃度測定の検知管には、酢酸ガスでは「ガステック社、酢酸No.81」、酢酸エチルガスでは「ガステック社、酢酸エチルNo.141L」を使用した。
[Gas adsorption]
The low gas emission gas adsorption sealant film was cut to 10 x 10 cm and sealed in a gas sampling bag (GL Sciences, SMART BAG) together with 600 cc of acetaldehyde gas adjusted to 100 ppm. After leaving it for 2 days, the gas concentration was measured using a detector tube (Gastec, Acetaldehyde No. 92M).
In addition, instead of acetaldehyde gas, acetic acid gas adjusted to 30 ppm and ethyl acetate gas adjusted to 400 ppm were used to perform the evaluation in the same manner as for acetaldehyde gas. For the gas concentration measurement, "Gastec Corporation, Acetic Acid No. 81" was used for acetic acid gas, and "Gastec Corporation, Ethyl Acetate No. 141L" was used for ethyl acetate gas.

[ヒートシール性]
低ガス放出性ガス吸着積層体を10cm×10cmに切り分け、ヒートシール面を重ね合せ、ヒートシールテスター(テスター産業社製:TP-701-A)を用いて、1cm×10cmの領域を下記条件でヒートシールして、端部はヒートシールされずに接着しておらず、二股に分かれている状態の引き剥がし強度の試験片を作製した。
この試験片を、15mm幅で短冊状に切り、二股に分かれている各端部を引張試験機に装着して下記条件で引き剥がし強度(N/15mm)を測定して、下記合否判定基準で合否判定した。
ヒートシール条件
温度:160℃
圧力:1kgf/cm2
時間:1秒
試験条件
試験速度:300mm/分
荷重レンジ:50N
合否判定基準
○:30N/15mm以上であり、合格。
×:30N/15mm未満であり、不合格。
[Heat sealability]
The low gas releasing gas adsorbing laminate was cut into 10 cm x 10 cm pieces, the heat sealed surfaces were overlapped, and a 1 cm x 10 cm area was heat sealed under the following conditions using a heat seal tester (TP-701-A manufactured by Tester Sangyo Co., Ltd.) to produce a peel strength test piece in which the ends were not heat sealed or bonded and were divided into two.
This test piece was cut into a strip of 15 mm width, and each bifurcated end was attached to a tensile tester to measure the peel strength (N/15 mm) under the conditions described below, and the pass/fail judgment was made according to the pass/fail judgment criteria described below.
Heat sealing conditions Temperature: 160°C
Pressure: 1 kgf/ cm2
Time: 1 second Test conditions Test speed: 300 mm/min Load range: 50 N
Pass/fail criteria: ◯: 30N/15mm or more, passed.
×: Less than 30N/15mm, not acceptable.

[TOC濃度]
樹脂フィルムを用いて作製されたパウチに、充填水を充填及び封止して、35℃2週間保管後に、該充填水のTOC濃度を測定して、充填水のTOC濃度の増加分を求めた。
パウチのサイズ:内寸15cm×44cm×50μm厚。
充填水:純正化学(株)社製高速液体クロマトグラフィー用蒸留水。65℃1000g。
TOC濃度測定器:(株)島津製作所社製TOC-L全有機体炭素計。
次に、上記で得られた充填水中のTOCの増加濃度から、次式によって樹脂フィルム中に含まれる溶出性のTOC濃度を算出した。
C=X×W1/W2
=X×W1/(6.6×S)
C:樹脂フィルム中に含まれる溶出性TOCの濃度[ppm]
X:充填水のTOC濃度の増加分[ppm]
W1:充填水重量=1000[g]
W2:パウチ重量=15×44×50×10-4×2×S=6.6×S[g]
S:樹脂フィルムの密度[g/cm3
[TOC concentration]
A pouch made of a resin film was filled with water and sealed, and after storing at 35° C. for 2 weeks, the TOC concentration of the filled water was measured to determine the increase in the TOC concentration of the filled water.
Pouch size: inner dimensions 15 cm x 44 cm x 50 μm thickness.
Filling water: Distilled water for high performance liquid chromatography manufactured by Junsei Chemical Co., Ltd. 65°C, 1000 g.
TOC concentration measuring device: TOC-L total organic carbon meter manufactured by Shimadzu Corporation.
Next, the concentration of leachable TOC contained in the resin film was calculated from the increased concentration of TOC in the filling water obtained above according to the following formula.
C = X × W1/W2
=X×W1/(6.6×S)
C: concentration of soluble TOC contained in the resin film [ppm]
X: Increase in TOC concentration of filling water [ppm]
W1: Filled water weight = 1000 [g]
W2: Pouch weight = 15 x 44 x 50 x 10 -4 x 2 x S = 6.6 x S [g]
S: Density of resin film [g/cm 3 ]

Figure 0007635527000005
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Figure 0007635527000006
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Figure 0007635527000007
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Figure 0007635527000008
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<結果まとめ>
全実施例の本発明の低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルムは、良好な製膜性、低ガス放出性、並びに各種ガス成分に対する優れた吸着性を示した。
しかしながら、低ガス放出性樹脂の含有量が十分でない比較例1~3は、ガス放出量が多く、ガス吸着剤を含まない比較例1は、各種ガス成分に対する吸着効果が低い傾向を示
した。
また、ガス吸着層におけるガス吸着剤含有量が多過ぎる比較例4は、ガス吸着効果は良好であるが、製膜性が劣る結果となった。
<Summary of results>
The low gas-releasing, gas-adsorbing sealant films of the present invention in all the Examples exhibited good film-forming properties, low gas-releasing properties, and excellent adsorption properties for various gas components.
However, Comparative Examples 1 to 3, which contained an insufficient amount of low gas-releasing resin, tended to release a large amount of gas, and Comparative Example 1, which did not contain a gas adsorbent, tended to have a low adsorption effect on various gas components.
In addition, in Comparative Example 4, in which the gas adsorbent content in the gas adsorption layer was too high, the gas adsorption effect was good, but the film formability was poor.

1 低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルム
2 低ガス放出性ガス吸着積層体
3 低ガス放出性ガス吸着包装材料
4a ガス吸着層
4b ガス吸着剤
4c ヒートシール層
7 ガスバリア基材層
8 低ガス放出性ガス吸着シーラント層
9 接着層
10 低ガス放出性ガス吸着包装体
11 内容物一次容器または構造支持材
12 ヒートシール接合部
REFERENCE SIGNS LIST 1 Low outgassing gas adsorbing sealant film 2 Low outgassing gas adsorbing laminate 3 Low outgassing gas adsorbing packaging material 4a Gas adsorption layer 4b Gas adsorbent 4c Heat seal layer 7 Gas barrier substrate layer 8 Low outgassing gas adsorbing sealant layer 9 Adhesive layer 10 Low outgassing gas adsorbing packaging body 11 Primary container for contents or structural support material 12 Heat seal joint

Claims (9)

シーラントフィルムそれ自体から発生するガス及び該シーラントフィルムが接する空間からのガスを吸着する、低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルムであって、
該低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルムは、ヒートシール層と、ガス吸着層と、ヒートシール層とをこの順に積層して有し(但し、ヒートシール層が、スリップ剤とアンチブロッキング剤とからなる摩擦抵抗低減剤を含有する場合を除く。)、
該ガス吸着層は、低ガス放出性樹脂と、ガス吸着剤とを含有する層であり、
該ヒートシール層は、低ガス放出性樹脂を含有し、ヒートシール性を有する層であり、
該ガス吸着層に含有される該低ガス放出性樹脂と、該ヒートシール層に含有される該低ガス放出性樹脂とは同一であり、
該ガスは、炭化水素類、アルデヒド類、ケトン類、カルボン酸類、エステル類、アルコール類、二酸化炭素からなる群から選ばれる1種又は2種以上の組み合わせであり、
該低ガス放出性樹脂は、密度が0.915g/cm3以上、0.935g/cm3以下であり、
該低ガス放出性樹脂の含有量が、全低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルム中に、70質量%以上、99.9質量%以下であり、
該低ガス放出性樹脂は、ポリエチレン系樹脂であり、
該ガス吸着剤は、疎水性ゼオライト、モレキュラーシーブ、金属有機構造体(MOF)、活性炭からなる群から選ばれる1種又は2種以上の組み合わせを含み、
該ガス吸着剤の含有量が、該ガス吸着剤を含有する層中に、0.1質量%以上、30質量%以下であり、
該低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルムは、空気中で90℃、60分間加熱した際に放出される炭素数16の有機ガス成分の、該低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルム単位体積当たりの量が、10μg/cm3以上、1000μg/cm3以下である、
前記の低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルム。
A low gas-releasing gas-adsorbing sealant film that adsorbs gas generated from the sealant film itself and gas from a space that the sealant film contacts,
The low gas release gas adsorption sealant film has a heat seal layer, a gas adsorption layer, and a heat seal layer laminated in this order (excluding the case where the heat seal layer contains a friction resistance reducing agent consisting of a slip agent and an antiblocking agent),
The gas adsorption layer is a layer containing a low gas release resin and a gas adsorbent,
the heat seal layer contains a low gas releasing resin and has heat sealability;
the low gas-releasing resin contained in the gas adsorption layer is the same as the low gas-releasing resin contained in the heat seal layer,
the gas is one or a combination of two or more selected from the group consisting of hydrocarbons, aldehydes, ketones, carboxylic acids, esters, alcohols, and carbon dioxide;
The low gas release resin has a density of 0.915 g/ cm3 or more and 0.935 g/ cm3 or less,
The content of the low gas release resin in the entire low gas release gas adsorption sealant film is 70% by mass or more and 99.9% by mass or less,
The low gas emission resin is a polyethylene resin,
The gas adsorbent comprises one or a combination of two or more selected from the group consisting of hydrophobic zeolite, molecular sieve, metal-organic framework (MOF), and activated carbon;
the content of the gas adsorbent in the layer containing the gas adsorbent is 0.1% by mass or more and 30% by mass or less,
The low outgassing gas adsorption sealant film has an organic gas component having 16 carbon atoms that is released when heated in air at 90° C. for 60 minutes, and the amount of the organic gas component per unit volume of the low outgassing gas adsorption sealant film is 10 μg/cm 3 or more and 1000 μg/cm 3 or less.
The low outgassing gas adsorbing sealant film.
前記低ガス放出性樹脂からなるフィルムに含まれる、溶出性の全有機体炭素(TOC)の濃度は、1.5ppm以上、250ppm以下であることを特徴とする、請求項1に記載の低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルム。 2. The low gas emission gas adsorption sealant film according to claim 1 , characterized in that the concentration of elutable total organic carbon (TOC) contained in the film made of the low gas emission resin is 1.5 ppm or more and 250 ppm or less. 前記低ガス放出性樹脂が、中密度ポリエチレン、低密度ポリエチレン及び線状低密度ポリエチレンからなる群から選ばれる1種又は2種以上の組み合わせであることを特徴とする、請求項1または2に記載の低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルム。 The low gas release gas adsorption sealant film according to claim 1 or 2 , characterized in that the low gas release resin is one or a combination of two or more selected from the group consisting of medium density polyethylene, low density polyethylene and linear low density polyethylene. 前記低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルムは、酸化防止剤をさらに含有することを特徴とする、請求項1~のいずれか1項に記載の低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルム。 The gas adsorbing sealant film with low outgassing property according to any one of claims 1 to 3 , further comprising an antioxidant. 前記酸化防止剤の含有量が、全低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルム中に、0.005質量%以上、0.5質量%以下であることを特徴とする、請求項に記載の低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルム。 5. The gas adsorbing sealant film with low outgassing property according to claim 4 , characterized in that the content of the antioxidant is 0.005 mass % or more and 0.5 mass % or less in the total gas adsorbing sealant film with low outgassing property. 前記酸化防止剤が、前記ガス吸着層及び/又は前記ヒートシール層に含有されており、
該ガス吸着層に含有される前記酸化防止剤と、該ヒートシール層に含有される前記酸化防止剤とは、同一又は異なっていることを特徴とする、
請求項又はに記載の低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルム。
the antioxidant is contained in the gas adsorption layer and/or the heat seal layer,
The antioxidant contained in the gas adsorption layer and the antioxidant contained in the heat seal layer are the same or different.
6. The low outgassing gas adsorbent sealant film according to claim 4 or 5 .
請求項1~のいずれか1項に記載の低ガス放出性ガス吸着シーラントフィルムを用いて作製された、低ガス放出性ガス吸着積層体。 A gas adsorbing laminate with low outgassing properties, produced using the gas adsorbing sealant film with low outgassing properties according to any one of claims 1 to 6 . 請求項に記載のガス吸着積層体を用いて作製された、低ガス放出性ガス吸着包装材料。 A gas adsorbing packaging material with low outgassing properties, produced using the gas adsorbing laminate according to claim 7 . 請求項に記載のガス吸着包装材料を用いて作製された、低ガス放出性ガス吸着包装体。 A gas adsorbing package with low gas emission, produced using the gas adsorbing packaging material according to claim 8 .
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