JP7637568B2 - Supply liquid production device - Google Patents
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Description
本発明は、原料ガスと原料液体を混合してガス溶解液（供給液体）を製造する供給液体製造装置に関する。 The present invention relates to a supply liquid manufacturing device that mixes a raw material gas and a raw material liquid to manufacture a gas-dissolved liquid (supply liquid).
近年、半導体デバイス工場や液晶などの電子部品製造工場における製品の洗浄は、製造プロセスの複雑化、回路パターンの微細化に伴なってますます高度化している。例えば、機能水（超純水など）に高純度ガスまたは高純度ガスと薬品を溶解した特殊な液体（洗浄液と呼ばれる）を使用して、シリコンウエハに付着した微粒子、金属、有機物などを除去している。 In recent years, cleaning of products in semiconductor device factories and electronic component manufacturing factories for liquid crystal and other products has become increasingly sophisticated as manufacturing processes become more complex and circuit patterns become finer. For example, special liquids (called cleaning liquids) made by dissolving high-purity gases or high-purity gases and chemicals in functional water (such as ultrapure water) are used to remove fine particles, metals, organic matter, and other substances adhering to silicon wafers.
洗浄処理方式としては、複数のシリコンウエハを同時に浸漬及び洗浄する操作を繰り返す“バッチ処理方式”のほかに、多品種少量生産の製品に対応して１枚のウエハごとに薬品洗浄及び超純水洗浄を行う“枚葉処理方式”が採用される。枚葉処理方式は、バッチ処理方式と比べて、ウエハ１枚当たりの洗浄工程時間（タクトタイム）が長く、洗浄液の使用量が多くなるために、タクトタイムの短縮及び洗浄液使用量の低減が求められている。現状、短時間での効果的な洗浄及び洗浄液使用量を低減するために、複数の機能水及び薬品を単独でまたは同時に使用して、短時間で洗浄工程を切り替える高度な洗浄プロセスが行われている。 Cleaning methods include the "batch processing method," in which multiple silicon wafers are simultaneously immersed and cleaned repeatedly, as well as the "single wafer processing method," in which chemical cleaning and ultrapure water cleaning are performed on each wafer individually to accommodate small-lot production of a wide variety of products. Compared to the batch processing method, the single wafer processing method requires a longer cleaning process time (takt time) per wafer and requires more cleaning fluid, so there is a demand to shorten the takt time and reduce the amount of cleaning fluid used. Currently, in order to achieve effective cleaning in a short time and reduce the amount of cleaning fluid used, advanced cleaning processes are being carried out in which multiple functional waters and chemicals are used alone or simultaneously, and the cleaning process is switched between in a short time.
機能水としては、例えば、超純水にオゾンガスを溶解したオゾン水が用いられる。超純水に溶解させたオゾンは、低い濃度（数ｐｐｍ）でも酸化力が非常に強いため、有機物や金属の除去を行うことが可能である。このオゾン水は、一般的にオゾン水製造装置で製造される。例えば、従来の供給液体製造装置は、気液混合部でオゾンガス（原料ガス）と超純水（原料液体）を混合してオゾン水（供給液体）が生成される（例えば特許文献１参照）。 As functional water, for example, ozone water, which is made by dissolving ozone gas in ultrapure water, is used. Ozone dissolved in ultrapure water has a very strong oxidizing power even at a low concentration (a few ppm), so it is possible to remove organic matter and metals. This ozone water is generally produced in an ozone water production device. For example, in a conventional supply liquid production device, ozone gas (raw material gas) and ultrapure water (raw material liquid) are mixed in a gas-liquid mixing section to produce ozone water (supply liquid) (see, for example, Patent Document 1).
しかしながら、従来の供給液体製造装置においては、気液混合部で原料ガスと原料液体を混合してオゾン水（供給液体）が生成されてから気液分離部に送られるまでに、オゾンガスと水が分離してしまい、オゾンガスの溶解効率をさらに高める（オゾン水をさらに高濃度化する）ことが困難であった。 However, in conventional supply liquid manufacturing devices, after the raw material gas and raw material liquid are mixed in the gas-liquid mixing section to generate ozone water (supply liquid), the ozone gas and water separate before being sent to the gas-liquid separation section, making it difficult to further increase the dissolution efficiency of the ozone gas (to further increase the concentration of ozone water).
本発明は、上記の課題に鑑みてなされたもので、原料ガスと原料液体を混合してガス溶解液（供給液体）を製造する供給液体製造装置において、ガス溶解液（供給液体）を高濃度化することのできる供給液体製造装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made in consideration of the above problems, and aims to provide a supply liquid manufacturing device that can produce a gas-dissolved liquid (supply liquid) by mixing a raw material gas and a raw material liquid, and that can increase the concentration of the gas-dissolved liquid (supply liquid).
本発明の供給液体製造装置は、ガス溶解液の原料となる原料ガスを供給する原料ガス供給部と、前記ガス溶解液の原料となる原料液体を供給する原料液体供給部と、前記原料ガスと前記原料液体を混合して前記ガス溶解液を生成する気液混合部と、前記気液混合部により生成された前記ガス溶解液を、ユースポイントに供給される供給液体と、排気口から排出される未溶解ガスとに分離する気液分離部と、前記気液混合部と前記気液分離部との間に配置されている気液接触部と、を備え、前記気液接触部は、前記気液混合部により生成された前記ガス溶解液が導入されるガス溶解液入口部と、前記気液分離部により分離された前記未溶解ガスが導入される未溶解ガス入口部と、前記ガス溶解液入口部から導入された前記ガス溶解液と前記未溶解ガス入口部から導入された前記未溶解ガスとを接触させて前記ガス溶解液に前記未溶解ガスを溶解させる充填物が充填されている充填部と、前記充填部によって前記未溶解ガスが溶解された前記ガス溶解液を前記気液分離部へ送出するガス溶解液出口部と、前記充填部によっても前記ガス溶解液に溶解されなかった前記未溶解ガスを前記排気口へ送出する未溶解ガス出口部と、を備えている。 The supply liquid manufacturing device of the present invention includes a raw material gas supply unit that supplies a raw material gas that is a raw material for a gas-dissolved liquid, a raw material liquid supply unit that supplies a raw material liquid that is a raw material for the gas-dissolved liquid, a gas-liquid mixing unit that mixes the raw material gas and the raw material liquid to generate the gas-dissolved liquid, a gas-liquid separation unit that separates the gas-dissolved liquid generated by the gas-liquid mixing unit into a supply liquid that is supplied to a point of use and undissolved gas that is discharged from an exhaust port, and a gas-liquid contact unit that is disposed between the gas-liquid mixing unit and the gas-liquid separation unit, and the gas-liquid contact unit is configured to receive the gas-dissolved liquid generated by the gas-liquid mixing unit. the gas-dissolved liquid inlet section, an undissolved gas inlet section into which the undissolved gas separated by the gas-liquid separation section is introduced, a filling section filled with a filling material that brings the gas-dissolved liquid introduced from the gas-dissolved liquid inlet section into contact with the undissolved gas introduced from the undissolved gas inlet section to dissolve the undissolved gas in the gas-dissolved liquid, a gas-dissolved liquid outlet section that delivers the gas-dissolved liquid in which the undissolved gas has been dissolved by the filling section to the gas-liquid separation section, and an undissolved gas outlet section that delivers the undissolved gas that has not been dissolved in the gas-dissolved liquid by the filling section to the exhaust port.
この構成によれば、気液混合部と気液分離部との間に配置された気液接触部によって、気液混合部により生成されたガス溶解液（ガス溶解液入口部から導入されたガス溶解液）に気液分離部により分離された未溶解ガス（未溶解ガス入口部から導入された未溶解ガス）を溶解させることができる。これにより、気液分離部で分離された未溶解ガスを再びガス溶解液に溶解させることができ、ガス溶解液の高濃度化が可能となる。また、未溶解ガスの再利用が可能なため、原料ガス供給部から供給する原料ガスの量を削減することができ、さらに、排気口から排出される排出ガス（未溶解ガス）の量を削減することができる。 According to this configuration, the gas-liquid contact section disposed between the gas-liquid mixing section and the gas-liquid separation section can dissolve the undissolved gas (undissolved gas introduced from the undissolved gas inlet section) separated by the gas-liquid separation section in the gas-dissolved liquid (gas-dissolved liquid introduced from the gas-dissolved liquid inlet section) generated by the gas-liquid mixing section. This allows the undissolved gas separated by the gas-liquid separation section to be dissolved again in the gas-dissolved liquid, making it possible to increase the concentration of the gas-dissolved liquid. In addition, since the undissolved gas can be reused, the amount of raw gas supplied from the raw gas supply section can be reduced, and further, the amount of exhaust gas (undissolved gas) discharged from the exhaust port can be reduced.
また、本発明の供給液体製造装置は、前記未溶解ガス出口部から送出された前記未溶解ガスを昇圧するポンプを備え、前記気液分離部は、前記ユースポイントに供給される供給液体が溜められる供給液体貯蔵部と、前記供給液体に溶解していない前記未溶解ガスが溜められる未溶解ガス貯蔵部と、を備え、前記供給液体貯蔵部には、前記ポンプにより昇圧された前記未溶解ガスが導入される昇圧ガス入口部が設けられてもよい。 The supply liquid manufacturing device of the present invention further includes a pump that pressurizes the undissolved gas discharged from the undissolved gas outlet, and the gas-liquid separation section includes a supply liquid storage section in which the supply liquid to be supplied to the use point is stored, and an undissolved gas storage section in which the undissolved gas that is not dissolved in the supply liquid is stored, and the supply liquid storage section may be provided with a pressurized gas inlet section into which the undissolved gas pressurized by the pump is introduced.
この構成によれば、気液接触部の未溶解ガス出口部から送出された未溶解ガスがポンプによって昇圧されて、気液分離部の供給液体貯蔵部に設けられた昇圧ガス入口部から気液分離部に導入される。これにより、気液接触部から排出された未溶解ガスを気液分離部で再び供給液体（ガス溶解液）に溶解させることができ、供給液体（ガス溶解液）の高濃度化が可能となる。 According to this configuration, the undissolved gas discharged from the undissolved gas outlet of the gas-liquid contact section is pressurized by the pump and introduced into the gas-liquid separation section from the pressurized gas inlet provided in the supply liquid storage section of the gas-liquid separation section. This allows the undissolved gas discharged from the gas-liquid contact section to be dissolved again in the supply liquid (gas-dissolved liquid) in the gas-liquid separation section, making it possible to increase the concentration of the supply liquid (gas-dissolved liquid).
また、本発明の供給液体製造装置は、前記未溶解ガス出口部から送出された前記未溶解ガスを昇圧するポンプを備え、前記気液分離部は、前記ユースポイントに供給される供給液体が溜められる供給液体貯蔵部と、前記供給液体に溶解していない前記未溶解ガスが溜められる未溶解ガス貯蔵部と、を備え、前記未溶解ガス貯蔵部には、前記ポンプにより昇圧された前記未溶解ガスが導入される昇圧ガス入口部が設けられ、前記昇圧ガス入口部から導入された前記未溶解ガスは、前記未溶解ガス入口部から前記気液接触部に導入されてもよい。 The supply liquid manufacturing device of the present invention further comprises a pump for pressurizing the undissolved gas discharged from the undissolved gas outlet, and the gas-liquid separation section comprises a supply liquid storage section for storing the supply liquid to be supplied to the use point, and an undissolved gas storage section for storing the undissolved gas that is not dissolved in the supply liquid, and the undissolved gas storage section is provided with a pressurized gas inlet section into which the undissolved gas pressurized by the pump is introduced, and the undissolved gas introduced from the pressurized gas inlet section may be introduced into the gas-liquid contact section from the undissolved gas inlet section.
この構成によれば、気液接触部の未溶解ガス出口部から送出された未溶解ガスがポンプによって昇圧されて、気液分離部の未溶解ガス貯蔵部に設けられた昇圧ガス入口部から気液分離部に導入される。そして、昇圧ガス入口部から導入された未溶解ガスは、未溶解ガス入口部から気液接触部に導入される。これにより、気液接触部から排出された未溶解ガスを再び気液接触部に戻してガス溶解液に溶解させることができ、ガス溶解液の高濃度化が可能となる。 According to this configuration, the undissolved gas discharged from the undissolved gas outlet of the gas-liquid contact section is pressurized by the pump and introduced into the gas-liquid separation section from the pressurized gas inlet provided in the undissolved gas storage section of the gas-liquid separation section. The undissolved gas introduced from the pressurized gas inlet is then introduced into the gas-liquid contact section from the undissolved gas inlet. This allows the undissolved gas discharged from the gas-liquid contact section to be returned to the gas-liquid contact section and dissolved in the gas-dissolved liquid, making it possible to increase the concentration of the gas-dissolved liquid.
また、本発明の供給液体製造装置は、前記充填部を冷却する冷却部を備えてもよい。 The supply liquid manufacturing device of the present invention may also include a cooling section that cools the filling section.
この構成によれば、冷却部により充填部を冷却することができる。したがって、原料液体に対する原料ガスの溶解度が温度が高いほど低くなる場合に、充填部を冷却することにより低温状態を保つことができ、原料液体に対する原料ガスの溶解度を高く維持することができる。これにより、ガス溶解液の高濃度化が可能となる。 According to this configuration, the cooling section can cool the filling section. Therefore, in cases where the solubility of the source gas in the source liquid decreases as the temperature increases, a low temperature state can be maintained by cooling the filling section, and the solubility of the source gas in the source liquid can be maintained high. This makes it possible to increase the concentration of the gas-dissolved liquid.
また、本発明の供給液体製造装置では、前記気液接触部と前記気液分離部は、一体に構成され、前記気液接触部は、前記気液分離部の上部に配置されてもよい。 In addition, in the supply liquid manufacturing device of the present invention, the gas-liquid contact section and the gas-liquid separation section may be integrally constructed, and the gas-liquid contact section may be disposed above the gas-liquid separation section.
この構成によれば、気液接触部と気液分離部を一体に構成することにより、省スペース化を図ることができる。この場合、気液接触部は、気液分離部の上部に配置することができる。 According to this configuration, the gas-liquid contact section and the gas-liquid separation section are integrated to save space. In this case, the gas-liquid contact section can be placed above the gas-liquid separation section.
本発明の供給液体製造方法は、供給液体製造装置で行われる供給液体製造方法であって、前記供給液体製造装置は、ガス溶解液の原料となる原料ガスを供給する原料ガス供給部と、前記ガス溶解液の原料となる原料液体を供給する原料液体供給部と、前記原料ガスと前記原料液体を混合して前記ガス溶解液を生成する気液混合部と、前記気液混合部により生成された前記ガス溶解液を、ユースポイントに供給される供給液体と、排気口から排出される未溶解ガスとに分離する気液分離部と、前記気液混合部と前記気液分離部との間に配置されている気液接触部と、を備え、前記供給液体製造方法は、前記気液混合部により生成された前記ガス溶解液を、前記気液接触部に導入することと、前記気液分離部により分離された前記未溶解ガスを、前記気液接触部に導入することと、前記気液接触部の充填部に充填されている充填物を用いて、前記気液接触部に導入された前記ガス溶解液と前記未溶解ガスとを接触させて前記ガス溶解液に前記未溶解ガスを溶解させることと、前記充填部によって前記未溶解ガスが溶解された前記ガス溶解液を前記気液分離部へ送出することと、前記充填部によっても前記ガス溶解液に溶解されなかった前記未溶解ガスを前記排気口へ送出することと、を含んでいる。 The supply liquid manufacturing method of the present invention is a supply liquid manufacturing method carried out in a supply liquid manufacturing apparatus, the supply liquid manufacturing apparatus comprising: a raw material gas supplying section for supplying a raw material gas that is a raw material for a gas-dissolved liquid; a raw material liquid supplying section for supplying a raw material liquid that is a raw material for the gas-dissolved liquid; a gas-liquid mixing section for mixing the raw material gas and the raw material liquid to produce the gas-dissolved liquid; a gas-liquid separation section for separating the gas-dissolved liquid produced by the gas-liquid mixing section into a supply liquid that is supplied to a point-of-use and undissolved gas that is discharged from an exhaust port; and a gas-liquid contact section disposed between the gas-liquid mixing section and the gas-liquid separation section, and the supply liquid manufacturing method is , introducing the gas-dissolved liquid produced by the gas-liquid mixing section into the gas-liquid contact section; introducing the undissolved gas separated by the gas-liquid separation section into the gas-liquid contact section; using a filler filled in the filling section of the gas-liquid contact section to bring the gas-dissolved liquid introduced into the gas-liquid contact section into contact with the undissolved gas, thereby dissolving the undissolved gas in the gas-dissolved liquid; sending the gas-dissolved liquid in which the undissolved gas has been dissolved by the filling section to the gas-liquid separation section; and sending the undissolved gas that has not been dissolved in the gas-dissolved liquid by the filling section to the exhaust port.
この供給液体製造方法によっても、上記の装置と同様に、気液混合部と気液分離部との間に配置された気液接触部によって、気液混合部により生成されたガス溶解液（ガス溶解液入口部から導入されたガス溶解液）に気液分離部により分離された未溶解ガス（未溶解ガス入口部から導入された未溶解ガス）を溶解させることができる。これにより、気液分離部で分離された未溶解ガスを再びガス溶解液に溶解させることができ、ガス溶解液の高濃度化が可能となる。また、未溶解ガスの再利用が可能なため、原料ガス供給部から供給する原料ガスの量を削減することができ、さらに、排気口から排出される排出ガス（未溶解ガス）の量を削減することができる。 In this supply liquid production method, as in the above device, the undissolved gas (undissolved gas introduced from the undissolved gas inlet) separated by the gas-liquid separation section can be dissolved in the gas-dissolved liquid (gas-dissolved liquid introduced from the gas-dissolved liquid inlet) generated by the gas-liquid mixing section by the gas-liquid contact section arranged between the gas-liquid mixing section and the gas-liquid separation section. This allows the undissolved gas separated by the gas-liquid separation section to be dissolved again in the gas-dissolved liquid, making it possible to increase the concentration of the gas-dissolved liquid. In addition, since the undissolved gas can be reused, the amount of raw material gas supplied from the raw material gas supply section can be reduced, and further, the amount of exhaust gas (undissolved gas) discharged from the exhaust port can be reduced.
本発明によれば、ガス溶解液（供給液体）を高濃度化することができる。 According to the present invention, the gas-dissolved liquid (supply liquid) can be made highly concentrated.
以下、本発明の実施の形態の供給液体製造装置について、図面を用いて説明する。本実施の形態では、半導体デバイスや液晶などの電子部品の洗浄に用いられるオゾン水などの製造に用いられる供給液体製造装置の場合を例示する。 The following describes a supply liquid manufacturing device according to an embodiment of the present invention with reference to the drawings. In this embodiment, an example of a supply liquid manufacturing device used to manufacture ozone water, which is used to clean electronic components such as semiconductor devices and liquid crystal displays, is described.
（第１の実施の形態）
本発明の第１の実施の形態の供給液体製造装置の構成を、図面を参照して説明する。図１は、本実施の形態の供給液体製造装置の構成を示す説明図である。図１に示すように、供給液体製造装置１は、ガス溶解液の原料となる原料ガスを供給する原料ガス供給部２と、ガス溶解液の原料となる原料液体を供給する原料液体供給部３と、原料ガスと原料液体を混合してガス溶解液を生成する気液混合部４を備えている。本実施の形態では、オゾン水（ガス溶解液）の原料ガスとしてオゾンガスが用いられ、原料液体として超純水が用いられる。また、気液混合部４としては、溶解ノズルが用いられる。
(First embodiment)
The configuration of a supply liquid manufacturing apparatus according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is an explanatory diagram showing the configuration of the supply liquid manufacturing apparatus according to this embodiment. As shown in FIG. 1, the supply liquid manufacturing apparatus 1 includes a raw material gas supply section 2 for supplying a raw material gas that is a raw material for the gas-dissolved liquid, a raw material liquid supply section 3 for supplying a raw material liquid that is a raw material for the gas-dissolved liquid, and a gas-liquid mixing section 4 for mixing the raw material gas and the raw material liquid to generate the gas-dissolved liquid. In this embodiment, ozone gas is used as the raw material gas for the ozone water (gas-dissolved liquid), and ultrapure water is used as the raw material liquid. In addition, a dissolving nozzle is used as the gas-liquid mixing section 4.
原料ガス供給部２から気液混合部４までの配管５には、原料ガスの供給を開始／停止するためのバルブ６と、原料ガスの流量を測定するための流量計７と、原料ガスの圧力を測定するための圧力センサ８と、原料ガスの圧力を調整する圧力調整バルブ９と、原料ガスの圧力を上昇させるためのポンプ１０が設けられている。 The piping 5 from the raw gas supply section 2 to the gas-liquid mixing section 4 is provided with a valve 6 for starting/stopping the supply of raw gas, a flowmeter 7 for measuring the flow rate of the raw gas, a pressure sensor 8 for measuring the pressure of the raw gas, a pressure adjustment valve 9 for adjusting the pressure of the raw gas, and a pump 10 for increasing the pressure of the raw gas.
また、供給液体製造装置１は、気液混合部４により生成されたガス溶解液を、ユースポイントに供給される供給液体と、排気口から排出される未溶解ガスとに分離する気液分離部１１を備えている。ここで、供給液体はオゾン水であり、未溶解ガスはオゾンガスである。そして、気液混合部４と気液分離部１１との間には、気液接触部１２が配置されている。また、気液混合部４から気液接触部１２までの配管１３には、気液混合部４で生成されたガス溶解水の供給を開始／停止するためのバルブ１４が設けられている。なお、本実施の形態では、気液接触部１２と気液分離部１１は、一体に構成されており、より具体的には、気液接触部１２は、気液分離部１１の上部に配置されている。 The supply liquid manufacturing device 1 also includes a gas-liquid separation section 11 that separates the gas-dissolved liquid generated by the gas-liquid mixing section 4 into a supply liquid to be supplied to a use point and undissolved gas to be discharged from an exhaust port. Here, the supply liquid is ozone water, and the undissolved gas is ozone gas. A gas-liquid contact section 12 is disposed between the gas-liquid mixing section 4 and the gas-liquid separation section 11. A valve 14 is disposed in a pipe 13 from the gas-liquid mixing section 4 to the gas-liquid contact section 12 to start/stop the supply of the gas-dissolved water generated by the gas-liquid mixing section 4. In this embodiment, the gas-liquid contact section 12 and the gas-liquid separation section 11 are integrally configured, and more specifically, the gas-liquid contact section 12 is disposed above the gas-liquid separation section 11.
気液接触部１２は、気液混合部４により生成されたガス溶解液が導入されるガス溶解液入口部１５と、気液分離部１１により分離された未溶解ガスが導入される未溶解ガス入口部１６と、ガス溶解液（ガス溶解液入口部１５から導入されたガス溶解液）と未溶解ガス（未溶解ガス入口部１６から導入された未溶解ガス）とを接触させてガス溶解液に未溶解ガスを溶解させる充填物が充填されている充填部１７とを備えている。 The gas-liquid contact section 12 includes a gas-dissolved liquid inlet section 15 into which the gas-dissolved liquid produced by the gas-liquid mixing section 4 is introduced, an undissolved gas inlet section 16 into which the undissolved gas separated by the gas-liquid separation section 11 is introduced, and a filling section 17 filled with a filling material that brings the gas-dissolved liquid (the gas-dissolved liquid introduced from the gas-dissolved liquid inlet section 15) into contact with the undissolved gas (the undissolved gas introduced from the undissolved gas inlet section 16) to dissolve the undissolved gas in the gas-dissolved liquid.
充填物は、ガス溶解液や未溶解ガスの流れを乱して混合を激しくし、接触面積を増加させることにより、ガス溶解液に未溶解ガスを溶解させるものである。充填物には、空隙率が大きいこと、気体の流れに対する抵抗が少ないこと、気体と液体を向流で流したときにフラッティングや偏流を起こしにくいこと、流す気体や液体に対して耐食性があること、などが要求される。本実施の形態では、充填物として公知のものを利用することができるが、充填物の材料としては、オゾンガスやオゾン水に対して耐食性を有するテフロン（登録商標）などが用いられる。 The filler disturbs the flow of the gas-dissolved liquid and the undissolved gas, intensifying the mixing and increasing the contact area, thereby dissolving the undissolved gas in the gas-dissolved liquid. The filler is required to have a large porosity, low resistance to the gas flow, be unlikely to cause flooding or drift when the gas and liquid flow in countercurrents, and be corrosion-resistant to the gas and liquid being flowed. In this embodiment, any known filler can be used, but the filler material used is Teflon (registered trademark), which is corrosion-resistant to ozone gas and ozone water.
また、気液接触部１２は、充填部１７によって未溶解ガスが溶解されたガス溶解液を気液分離部１１へ送出するガス溶解液出口部１８と、充填部１７によってもガス溶解液に溶解されなかった未溶解ガスを排気口へ送出する未溶解ガス出口部１９を備えている。なお、本実施の形態では、未溶解ガス入口部１６とガス溶解液出口部１８は一体に構成されており、例えば、テフロン製の網などで構成することができる。さらに、気液接触部１２は、充填部１７を冷却する冷却部２０を備えている。冷却部２０としては、例えば、冷却水などの冷却媒体が流されている冷却パイプなどが用いられる。 The gas-liquid contact section 12 also includes a gas-dissolved liquid outlet section 18 that sends the gas-dissolved liquid in which the undissolved gas is dissolved by the filling section 17 to the gas-liquid separation section 11, and an undissolved gas outlet section 19 that sends the undissolved gas that is not dissolved in the gas-dissolved liquid by the filling section 17 to the exhaust port. In this embodiment, the undissolved gas inlet section 16 and the gas-dissolved liquid outlet section 18 are integrally configured and can be configured, for example, of a Teflon net. The gas-liquid contact section 12 also includes a cooling section 20 that cools the filling section 17. For example, a cooling pipe through which a cooling medium such as cooling water flows is used as the cooling section 20.
未溶解ガス出口部１９から排気口までの配管２１には、排気口への未溶解ガスの送出を開始／停止するためのバルブ２２と、排気口から排出される未溶解ガスを分解するガス分解器２３と、排気口から排出されるガス（ガス分解器２３により分解されたガス）の圧力を大気圧に調整する圧力調整バルブ２４を備えている。また、未溶解ガス出口部１９からの配管２１は途中で分岐して、気液分離部１１に接続されている。そして、未溶解ガス出口部１９から気液分離部１１までの配管２５（配管２１から分岐した配管２５）には、未溶解ガス出口部１９から送出された未溶解ガスを昇圧するポンプ２６が設けられている。 The piping 21 from the undissolved gas outlet 19 to the exhaust port is equipped with a valve 22 for starting/stopping the delivery of undissolved gas to the exhaust port, a gas decomposer 23 for decomposing the undissolved gas discharged from the exhaust port, and a pressure adjustment valve 24 for adjusting the pressure of the gas discharged from the exhaust port (gas decomposed by the gas decomposer 23) to atmospheric pressure. The piping 21 from the undissolved gas outlet 19 branches midway and is connected to the gas-liquid separation unit 11. The piping 25 from the undissolved gas outlet 19 to the gas-liquid separation unit 11 (piping 25 branched from the piping 21) is equipped with a pump 26 for pressurizing the undissolved gas sent from the undissolved gas outlet 19.
気液分離部１１は、ユースポイントに供給される供給液体が溜められる供給液体貯蔵部２７と、供給液体に溶解していない未溶解ガスが溜められる未溶解ガス貯蔵部２８を備えている。そして、供給液体貯蔵部２７には、ポンプ２６により昇圧された未溶解ガスが導入される昇圧ガス入口部２９が設けられている。また、供給液体貯蔵部２７には、供給液体貯蔵部２７に溜められた供給液体をユースポイントへ送出する供給液体出口３０が設けられている。 The gas-liquid separation section 11 includes a supply liquid storage section 27 that stores the supply liquid to be supplied to the use point, and an undissolved gas storage section 28 that stores undissolved gas that is not dissolved in the supply liquid. The supply liquid storage section 27 is provided with a pressurized gas inlet section 29 into which undissolved gas pressurized by the pump 26 is introduced. The supply liquid storage section 27 is also provided with a supply liquid outlet 30 that sends the supply liquid stored in the supply liquid storage section 27 to the use point.
供給液体出口３０からユースポイントまでの配管３１には、気液分離部１１からの供給液体の送出を開始／停止するためのバルブ３２と、気液分離部１１から送出される供給液体の圧力を測定する圧力センサ３３と、気液分離部１１から送出される供給液体の濃度（原料液体に対する原料ガスの溶解濃度）を測定する濃度計３４と、気液分離部１１から送出される供給液体の流量を測定する流量計３５と、ユースポイントへの送出を開始／停止するためのバルブ３６を備えている。 The piping 31 from the supply liquid outlet 30 to the use point is equipped with a valve 32 for starting/stopping the delivery of the supply liquid from the gas-liquid separation unit 11, a pressure sensor 33 for measuring the pressure of the supply liquid delivered from the gas-liquid separation unit 11, a concentration meter 34 for measuring the concentration of the supply liquid delivered from the gas-liquid separation unit 11 (the dissolved concentration of the raw material gas in the raw material liquid), a flow meter 35 for measuring the flow rate of the supply liquid delivered from the gas-liquid separation unit 11, and a valve 36 for starting/stopping delivery to the use point.
このような第１の実施の形態の供給液体製造装置１によれば、気液混合部４と気液分離部１１との間に配置された気液接触部１２によって、気液混合部４により生成されたガス溶解液（ガス溶解液入口部１５から導入されたガス溶解液）に気液分離部１１により分離された未溶解ガス（未溶解ガス入口部１６から導入された未溶解ガス）を溶解させることができる。これにより、気液分離部１１で分離された未溶解ガスを再びガス溶解液に溶解させることができ、ガス溶解液の高濃度化が可能となる。また、未溶解ガスの再利用が可能なため、原料ガス供給部２から供給する原料ガスの量を削減することができ、さらに、排気口から排出される排出ガス（未溶解ガス）の量を削減することができる。 According to the supply liquid manufacturing device 1 of the first embodiment, the gas-liquid contact section 12 arranged between the gas-liquid mixing section 4 and the gas-liquid separation section 11 can dissolve the undissolved gas (undissolved gas introduced from the undissolved gas inlet section 16) separated by the gas-liquid separation section 11 in the gas-dissolved liquid (gas-dissolved liquid introduced from the gas-dissolved liquid inlet section 15) generated by the gas-liquid mixing section 4. This allows the undissolved gas separated by the gas-liquid separation section 11 to be dissolved again in the gas-dissolved liquid, making it possible to increase the concentration of the gas-dissolved liquid. In addition, since the undissolved gas can be reused, the amount of raw material gas supplied from the raw material gas supply section 2 can be reduced, and further, the amount of exhaust gas (undissolved gas) discharged from the exhaust port can be reduced.
本実施の形態では、気液接触部１２の未溶解ガス出口部１９から送出された未溶解ガスがポンプ２６によって昇圧されて、気液分離部１１の供給液体貯蔵部２７に設けられた昇圧ガス入口部２９から気液分離部１１に導入される。これにより、気液接触部１２から排出された未溶解ガスを気液分離部１１で再び供給液体（ガス溶解液）に溶解させることができ、供給液体（ガス溶解液）の高濃度化が可能となる。 In this embodiment, the undissolved gas discharged from the undissolved gas outlet 19 of the gas-liquid contact section 12 is pressurized by the pump 26 and introduced into the gas-liquid separation section 11 from the pressurized gas inlet 29 provided in the supply liquid storage section 27 of the gas-liquid separation section 11. This allows the undissolved gas discharged from the gas-liquid contact section 12 to be dissolved again in the supply liquid (gas-dissolved liquid) in the gas-liquid separation section 11, making it possible to increase the concentration of the supply liquid (gas-dissolved liquid).
また、本実施の形態では、冷却部２０により充填部１７を冷却することができる。したがって、原料液体に対する原料ガスの溶解度が温度が高いほど低くなる場合に、充填部１７を冷却することにより低温状態を保つことができ、原料液体に対する原料ガスの溶解度を高く維持することができる。これにより、ガス溶解液の高濃度化が可能となる。 In addition, in this embodiment, the filling section 17 can be cooled by the cooling section 20. Therefore, in cases where the solubility of the source gas in the source liquid decreases as the temperature increases, a low temperature state can be maintained by cooling the filling section 17, and the solubility of the source gas in the source liquid can be maintained high. This makes it possible to increase the concentration of the gas-dissolved liquid.
また、本実施の形態では、気液接触部１２と気液分離部１１を一体に構成することにより、省スペース化を図ることができる。この場合、気液接触部１２は、気液分離部１１の上部に配置することができる。 In addition, in this embodiment, the gas-liquid contact section 12 and the gas-liquid separation section 11 are integrally configured to save space. In this case, the gas-liquid contact section 12 can be disposed above the gas-liquid separation section 11.
なお、本実施の形態では、気液接触部１２と気液分離部１１を一体に構成する例について説明したが、図２に示すように、気液接触部１２と気液分離部１１は別体として構成されてもよい。この場合、未溶解ガス入口部１６とガス溶解液出口部１８も別体として構成される。図２の気液接触部１２としては、公知の充填棟を用いることができる。 In this embodiment, an example in which the gas-liquid contact section 12 and the gas-liquid separation section 11 are configured as an integral unit has been described, but as shown in FIG. 2, the gas-liquid contact section 12 and the gas-liquid separation section 11 may be configured as separate bodies. In this case, the undissolved gas inlet section 16 and the gas-dissolved liquid outlet section 18 are also configured as separate bodies. A known filling tower can be used as the gas-liquid contact section 12 in FIG. 2.
（第２の実施の形態）
次に、本発明の第２の実施の形態の供給液体製造装置１について説明する。ここでは、第２の実施の形態の供給液体製造装置１が、第１の実施の形態と相違する点を中心に説明する。ここで特に言及しない限り、本実施の形態の構成および動作は、第１の実施の形態と同様である。
Second Embodiment
Next, a supply liquid producing apparatus 1 according to a second embodiment of the present invention will be described. Here, the differences between the supply liquid producing apparatus 1 according to the second embodiment and the first embodiment will be mainly described. Unless otherwise specified, the configuration and operation of this embodiment are the same as those of the first embodiment.
図３は、本実施の形態の供給液体製造装置１の構成を示す説明図である。図３に示すように、本実施の形態では、気液接触部１２の未溶解ガス出口部１９から排気口への配管２１は途中で分岐して、気液分離部１１の未溶解ガス貯蔵部２８に接続されている。そして、未溶解ガス出口部１９から気液分離部１１までの配管２５（配管２１から分岐した配管２５）には、未溶解ガス出口部１９から送出された未溶解ガスを昇圧するポンプ２６が設けられており、未溶解ガス貯蔵部２８には、ポンプ２６により昇圧された未溶解ガスが導入される昇圧ガス入口部２９が設けられ、昇圧ガス入口部２９から導入された未溶解ガスは、未溶解ガス入口部１６から気液接触部１２に導入される。 Figure 3 is an explanatory diagram showing the configuration of the supply liquid manufacturing device 1 of this embodiment. As shown in Figure 3, in this embodiment, the pipe 21 from the undissolved gas outlet 19 of the gas-liquid contact section 12 to the exhaust port branches midway and is connected to the undissolved gas storage section 28 of the gas-liquid separation section 11. A pump 26 that pressurizes the undissolved gas sent from the undissolved gas outlet 19 is provided in the pipe 25 (pipe 25 branched from the pipe 21) from the undissolved gas outlet 19 to the gas-liquid separation section 11, and a pressurized gas inlet section 29 into which the undissolved gas pressurized by the pump 26 is introduced is provided in the undissolved gas storage section 28, and the undissolved gas introduced from the pressurized gas inlet section 29 is introduced from the undissolved gas inlet section 16 to the gas-liquid contact section 12.
このような第２の実施の形態の供給液体製造装置１によっても、第１の実施の形態と同様の作用効果が奏される。 The supply liquid manufacturing device 1 of the second embodiment achieves the same effects as the first embodiment.
すなわち、本実施の形態によっても、気液混合部４と気液分離部１１との間に配置された気液接触部１２によって、気液混合部４により生成されたガス溶解液（ガス溶解液入口部１５から導入されたガス溶解液）に気液分離部１１により分離された未溶解ガス（未溶解ガス入口部１６から導入された未溶解ガス）を溶解させることができる。これにより、気液分離部１１で分離された未溶解ガスを再びガス溶解液に溶解させることができ、ガス溶解液の高濃度化が可能となる。また、未溶解ガスの再利用が可能なため、原料ガス供給部２から供給する原料ガスの量を削減することができ、さらに、排気口から排出される排出ガス（未溶解ガス）の量を削減することができる。 That is, even in this embodiment, the gas-liquid contact section 12 arranged between the gas-liquid mixing section 4 and the gas-liquid separation section 11 can dissolve the undissolved gas (undissolved gas introduced from the undissolved gas inlet section 16) separated by the gas-liquid separation section 11 in the gas-dissolved liquid (gas-dissolved liquid introduced from the gas-dissolved liquid inlet section 15) generated by the gas-liquid mixing section 4. This allows the undissolved gas separated by the gas-liquid separation section 11 to be dissolved again in the gas-dissolved liquid, making it possible to increase the concentration of the gas-dissolved liquid. In addition, since the undissolved gas can be reused, the amount of raw gas supplied from the raw gas supply section 2 can be reduced, and further, the amount of exhaust gas (undissolved gas) discharged from the exhaust port can be reduced.
本実施の形態では、気液接触部１２の未溶解ガス出口部１９から送出された未溶解ガスがポンプ２６によって昇圧されて、気液分離部１１の未溶解ガス貯蔵部２８に設けられた昇圧ガス入口部２９から気液分離部１１に導入される。そして、昇圧ガス入口部２９から導入された未溶解ガスは、未溶解ガス入口部１６から気液接触部１２に導入される。これにより、気液接触部１２から排出された未溶解ガスを再び気液接触部１２に戻してガス溶解液に溶解させることができ、ガス溶解液の高濃度化が可能となる。 In this embodiment, the undissolved gas discharged from the undissolved gas outlet 19 of the gas-liquid contact section 12 is pressurized by the pump 26 and introduced into the gas-liquid separation section 11 from the pressurized gas inlet 29 provided in the undissolved gas storage section 28 of the gas-liquid separation section 11. The undissolved gas introduced from the pressurized gas inlet 29 is then introduced into the gas-liquid contact section 12 from the undissolved gas inlet 16. This allows the undissolved gas discharged from the gas-liquid contact section 12 to be returned to the gas-liquid contact section 12 again and dissolved in the gas-dissolved liquid, making it possible to increase the concentration of the gas-dissolved liquid.
また、本実施の形態では、冷却部２０により充填部１７を冷却することができる。したがって、原料液体に対する原料ガスの溶解度が温度が高いほど低くなる場合に、充填部１７を冷却することにより低温状態を保つことができ、原料液体に対する原料ガスの溶解度を高く維持することができる。これにより、ガス溶解液の高濃度化が可能となる。 In addition, in this embodiment, the filling section 17 can be cooled by the cooling section 20. Therefore, in cases where the solubility of the source gas in the source liquid decreases as the temperature increases, a low temperature state can be maintained by cooling the filling section 17, and the solubility of the source gas in the source liquid can be maintained high. This makes it possible to increase the concentration of the gas-dissolved liquid.
また、本実施の形態では、気液接触部１２と気液分離部１１を一体に構成することにより、省スペース化を図ることができる。この場合、気液接触部１２は、気液分離部１１の上部に配置することができる。 In addition, in this embodiment, the gas-liquid contact section 12 and the gas-liquid separation section 11 are integrally configured to save space. In this case, the gas-liquid contact section 12 can be disposed above the gas-liquid separation section 11.
なお、本実施の形態では、気液接触部１２と気液分離部１１を一体に構成する例について説明したが、図４に示すように、気液接触部１２と気液分離部１１は別体として構成されてもよい。この場合、未溶解ガス入口部１６とガス溶解液出口部１８も別体として構成される。図４の気液接触部１２としては、公知の充填棟を用いることができる。 In this embodiment, an example in which the gas-liquid contact section 12 and the gas-liquid separation section 11 are constructed as an integral unit has been described, but as shown in FIG. 4, the gas-liquid contact section 12 and the gas-liquid separation section 11 may be constructed as separate bodies. In this case, the undissolved gas inlet section 16 and the gas-dissolved liquid outlet section 18 are also constructed as separate bodies. A known filling tower can be used as the gas-liquid contact section 12 in FIG. 4.
以上、本発明の実施の形態を例示により説明したが、本発明の範囲はこれらに限定されるものではなく、請求項に記載された範囲内において目的に応じて変更・変形することが可能である。 The above describes the embodiments of the present invention by way of example, but the scope of the present invention is not limited to these, and can be modified and altered according to the purpose within the scope of the claims.
例えば、上記の実施の形態では、オゾンガスと水を混合する場合について例示したが、本発明の範囲はこれに限定されるものではない。すなわち、原料となるガスはオゾンガスに限られず、また、原料となる液体も純水に限られない。例えば、純水に二酸化炭素を溶解させて炭酸水を製造してもよく、純水に窒素を溶解させて窒素水を製造してもよい。また、純水に水素を溶解させて水素水を製造してもよい。その他、本発明は、機能水を製造するためのガス溶解に適用することができる。 For example, in the above embodiment, the case of mixing ozone gas and water is illustrated, but the scope of the present invention is not limited to this. In other words, the raw material gas is not limited to ozone gas, and the raw material liquid is not limited to pure water. For example, carbon dioxide may be dissolved in pure water to produce carbonated water, and nitrogen may be dissolved in pure water to produce nitrogen water. Furthermore, hydrogen may be dissolved in pure water to produce hydrogen water. In addition, the present invention can be applied to gas dissolution for producing functional water.
以上のように、本発明にかかる供給液体製造装置は、ガス溶解液（供給液体）を高濃度化することができるという効果を有し、半導体デバイスや液晶などの電子部品の洗浄等に用いられ、有用である。 As described above, the supply liquid manufacturing device of the present invention has the effect of being able to increase the concentration of the gas-dissolved liquid (supply liquid), and is useful for cleaning electronic components such as semiconductor devices and liquid crystal displays.
１ 供給液体製造装置
２ 原料ガス供給部
３ 原料液体供給部
４ 気液混合部
５ 配管
６ バルブ
７ 流量計
８ 圧力センサ
９ 圧力調整バルブ
１０ ポンプ
１１ 気液分離部
１２ 気液接触部
１３ 配管
１４ バルブ
１５ ガス溶解液入口部
１６ 未溶解ガス入口部
１７ 充填部
１８ ガス溶解液出口部
１９ 未溶解ガス出口部
２０ 冷却部
２１ 配管
２２ バルブ
２３ ガス分解器
２４ 圧力調整バルブ
２５ 配管
２６ ポンプ
２７ 供給液体貯蔵部
２８ 未溶解ガス貯蔵部
２９ 昇圧ガス入口部
３０ 供給液体出口
３１ 配管
３２ バルブ
３３ 圧力センサ
３４ 濃度計
３５ 流量計
３６ バルブ
LIST OF SYMBOLS 1 Supply liquid manufacturing apparatus 2 Raw gas supply section 3 Raw liquid supply section 4 Gas-liquid mixing section 5 Pipe 6 Valve 7 Flow meter 8 Pressure sensor 9 Pressure regulating valve 10 Pump 11 Gas-liquid separation section 12 Gas-liquid contact section 13 Pipe 14 Valve 15 Gas-dissolved liquid inlet section 16 Undissolved gas inlet section 17 Filling section 18 Gas-dissolved liquid outlet section 19 Undissolved gas outlet section 20 Cooling section 21 Pipe 22 Valve 23 Gas decomposer 24 Pressure regulating valve 25 Pipe 26 Pump 27 Supply liquid storage section 28 Undissolved gas storage section 29 Pressurized gas inlet section 30 Supply liquid outlet section 31 Pipe 32 Valve 33 Pressure sensor 34 Concentration meter 35 Flow meter 36 Valve
Claims (6)
前記ガス溶解液の原料となる原料液体を供給する原料液体供給部と、
前記原料ガスと前記原料液体を混合して前記ガス溶解液を生成する気液混合部と、
前記気液混合部により生成された前記ガス溶解液を、ユースポイントに供給される供給液体と、排気口から排出される未溶解ガスとに分離する気液分離部と、
前記気液混合部と前記気液分離部との間に配置されている気液接触部と、
を備え、
前記気液接触部は、
前記気液混合部により生成された前記ガス溶解液が導入されるガス溶解液入口部と、
前記気液分離部により分離された前記未溶解ガスが導入される未溶解ガス入口部と、
前記ガス溶解液入口部から導入された前記ガス溶解液と前記未溶解ガス入口部から導入された前記未溶解ガスとを接触させて前記ガス溶解液に前記未溶解ガスを溶解させる充填物が充填されている充填部と、
前記充填部によって前記未溶解ガスが溶解された前記ガス溶解液を前記気液分離部へ送出するガス溶解液出口部と、
前記充填部によっても前記ガス溶解液に溶解されなかった前記未溶解ガスを前記排気口へ送出する未溶解ガス出口部と、
を備えることを特徴とする供給液体製造装置。 a raw material gas supply unit for supplying a raw material gas serving as a raw material for the gas solution;
a raw material liquid supply unit for supplying a raw material liquid serving as a raw material for the gas solution;
a gas-liquid mixing section for mixing the source gas and the source liquid to generate the gas-dissolved liquid;
a gas-liquid separation section that separates the gas-dissolved liquid generated by the gas-liquid mixing section into a supply liquid that is supplied to a point of use and an undissolved gas that is exhausted from an exhaust port;
a gas-liquid contact section disposed between the gas-liquid mixing section and the gas-liquid separation section;
Equipped with
The gas-liquid contact section is
a gas-dissolved liquid inlet portion into which the gas-dissolved liquid generated by the gas-liquid mixing portion is introduced;
an undissolved gas inlet portion into which the undissolved gas separated by the gas-liquid separation portion is introduced;
a filling section filled with a filling material that brings the gas-dissolved liquid introduced from the gas-dissolved liquid inlet section into contact with the undissolved gas introduced from the undissolved gas inlet section, thereby dissolving the undissolved gas in the gas-dissolved liquid;
a gas-dissolved liquid outlet portion for delivering the gas-dissolved liquid in which the undissolved gas is dissolved by the filling portion to the gas-liquid separation portion;
an undissolved gas outlet portion that delivers the undissolved gas that has not been dissolved in the gas dissolving liquid by the filling portion to the exhaust port;
A supply liquid producing device comprising:
前記未溶解ガス出口部から送出された前記未溶解ガスを昇圧するポンプを備え、
前記気液分離部は、
前記ユースポイントに供給される供給液体が溜められる供給液体貯蔵部と、
前記供給液体に溶解していない前記未溶解ガスが溜められる未溶解ガス貯蔵部と、
を備え、
前記供給液体貯蔵部には、前記ポンプにより昇圧された前記未溶解ガスが導入される昇圧ガス入口部が設けられている、請求項１に記載の供給液体製造装置。 The supply liquid producing device includes:
a pump for pressurizing the undissolved gas discharged from the undissolved gas outlet,
The gas-liquid separation section is
a supply liquid storage section for storing the supply liquid to be supplied to the point of use;
an undissolved gas storage section for storing the undissolved gas that is not dissolved in the supply liquid;
Equipped with
2. The supply liquid producing device according to claim 1, wherein the supply liquid storage section is provided with a pressurized gas inlet section into which the undissolved gas pressurized by the pump is introduced.
前記未溶解ガス出口部から送出された前記未溶解ガスを昇圧するポンプを備え、
前記気液分離部は、
前記ユースポイントに供給される供給液体が溜められる供給液体貯蔵部と、
前記供給液体に溶解していない前記未溶解ガスが溜められる未溶解ガス貯蔵部と、
を備え、
前記未溶解ガス貯蔵部には、前記ポンプにより昇圧された前記未溶解ガスが導入される昇圧ガス入口部が設けられ、
前記昇圧ガス入口部から導入された前記未溶解ガスは、前記未溶解ガス入口部から前記気液接触部に導入される、請求項１に記載の供給液体製造装置。 The supply liquid producing device includes:
a pump for pressurizing the undissolved gas discharged from the undissolved gas outlet,
The gas-liquid separation section is
a supply liquid storage section for storing the supply liquid to be supplied to the point of use;
an undissolved gas storage section for storing the undissolved gas that is not dissolved in the supply liquid;
Equipped with
the undissolved gas storage section is provided with a pressurized gas inlet section into which the undissolved gas pressurized by the pump is introduced,
2. The supply liquid manufacturing device according to claim 1, wherein the undissolved gas introduced from the pressurized gas inlet is introduced from the undissolved gas inlet into the gas-liquid contact section.
前記気液接触部は、前記気液分離部の上部に配置されている、請求項１～請求項４のいずれか一項に記載の供給液体製造装置。 The gas-liquid contact section and the gas-liquid separation section are integrally configured,
5. The supply liquid manufacturing device according to claim 1, wherein the gas-liquid contact section is disposed above the gas-liquid separation section.
前記供給液体製造装置は、
ガス溶解液の原料となる原料ガスを供給する原料ガス供給部と、
前記ガス溶解液の原料となる原料液体を供給する原料液体供給部と、
前記原料ガスと前記原料液体を混合して前記ガス溶解液を生成する気液混合部と、
前記気液混合部により生成された前記ガス溶解液を、ユースポイントに供給される供給液体と、排気口から排出される未溶解ガスとに分離する気液分離部と、
前記気液混合部と前記気液分離部との間に配置されている気液接触部と、
を備え、
前記供給液体製造方法は、
前記気液混合部により生成された前記ガス溶解液を、前記気液接触部に導入することと、
前記気液分離部により分離された前記未溶解ガスを、前記気液接触部に導入することと、
前記気液接触部の充填部に充填されている充填物を用いて、前記気液接触部に導入された前記ガス溶解液と前記未溶解ガスとを接触させて前記ガス溶解液に前記未溶解ガスを溶解させることと、
前記充填部によって前記未溶解ガスが溶解された前記ガス溶解液を前記気液分離部へ送出することと、
前記充填部によっても前記ガス溶解液に溶解されなかった前記未溶解ガスを前記排気口へ送出することと、
を含むことを特徴とする供給液体製造方法。 A supply liquid producing method carried out by a supply liquid producing device, comprising:
The supply liquid producing device includes:
a raw material gas supply unit for supplying a raw material gas serving as a raw material for the gas solution;
a raw material liquid supply unit for supplying a raw material liquid serving as a raw material for the gas solution;
a gas-liquid mixing section for mixing the source gas and the source liquid to generate the gas-dissolved liquid;
a gas-liquid separation section that separates the gas-dissolved liquid generated by the gas-liquid mixing section into a supply liquid that is supplied to a point of use and an undissolved gas that is exhausted from an exhaust port;
a gas-liquid contact section disposed between the gas-liquid mixing section and the gas-liquid separation section;
Equipped with
The supply liquid producing method includes:
introducing the gas-dissolved liquid produced by the gas-liquid mixing section into the gas-liquid contact section;
introducing the undissolved gas separated by the gas-liquid separation section into the gas-liquid contact section;
contacting the gas-dissolved liquid introduced into the gas-liquid contact section with the undissolved gas using a packing packed in a packed section of the gas-liquid contact section to dissolve the undissolved gas in the gas-dissolved liquid;
sending the gas-dissolved liquid in which the undissolved gas has been dissolved by the filling unit to the gas-liquid separation unit;
sending the undissolved gas that has not been dissolved in the gas dissolving liquid by the filling section to the exhaust port;
13. A method for producing a supply liquid comprising:
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